WO2023027134A1 - 組成物 - Google Patents

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WO2023027134A1
WO2023027134A1 PCT/JP2022/031963 JP2022031963W WO2023027134A1 WO 2023027134 A1 WO2023027134 A1 WO 2023027134A1 JP 2022031963 W JP2022031963 W JP 2022031963W WO 2023027134 A1 WO2023027134 A1 WO 2023027134A1
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acid
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radical
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愛美 太田
梨加 浅井
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アース製薬株式会社
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    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides

Definitions

  • the present invention relates to compositions, and more particularly to compositions that generate radicals.
  • Radicals are important chemical species that are widely used due to their high reactivity and strong oxidizing power. For example, when bacteria and viruses come into contact with radicals, they are extinguished (also called inactivation) due to their oxidative power, so effects such as sterilization and deodorization can be obtained. It's being used.
  • Patent Document 1 includes a radical generation catalyst and a radical generation source, and the radical generation catalyst is at least one of ammonium and its salt, and Lewis acidity and Bronsted acidity. Substances with at least one and drugs containing one or both have been proposed.
  • Cited Document 1 The drug described in Cited Document 1 is mixed with water, an organic solvent, etc., and is used by spraying or applying to an object, and is used as a liquid preparation.
  • formulation design has diversified in order to create a suitable dosage form according to the place of use, purpose of use, application, etc. It is demanded to use the product in a new dosage form.
  • an object of the present invention is to provide a new form of a composition containing a radical generation source and a radical generation catalyst.
  • the present invention is achieved by the following (1) to (7).
  • a composition containing (a) a radical generating catalyst, (b) a radical generating source, (c) a thickening agent and (d) water.
  • the radical generating catalyst is a Lewis acid having a Lewis acidity of 0.4 eV or more.
  • the radical generating catalyst contains an ammonium salt represented by the following chemical formula (I).
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group, an ether bond, a carbonyl group, an ester bond or an amide bond, or an aromatic ring. and X ⁇ is an anion.
  • the ammonium salt represented by the chemical formula (I) is an ammonium salt represented by the following chemical formula (II).
  • R 11 is an alkyl group having 5 to 40 carbon atoms, which may contain an ether bond, a carbonyl group, an ester bond, an amide bond, or an aromatic ring, and R 2 and X 1 - is the same as in the chemical formula (I).
  • R 11 and X - are the same as in the chemical formula (II).
  • the radical-generating source is at least one selected from the group consisting of halogenous acid, halogenous acid ions and halogenous salts.
  • the composition is neutral or alkaline.
  • compositions of the present invention are easy to handle, for example, easy to spread over the application.
  • FIG. 1 is a diagram showing the results of a temporal test of sodium chlorite content in the sample composition of Test Example 3, FIG. 1(a) is Example 11, FIG. 1(c) is Example 13, FIG. 1(d) is Example 14, and FIG. 1(e) is Example 15.
  • FIG. FIG. 2 is a diagram showing the results of the viscosity test over time of the sample composition of Test Example 4, FIG. 2(a) is Example 11, FIG. 2(b) is Example 12, and FIG. is Example 13, FIG. 2(d) is Example 14, and FIG. 2(e) is Example 15.
  • FIG. 1 is a diagram showing the results of a temporal test of sodium chlorite content in the sample composition of Test Example 3
  • FIG. 1(a) is Example 11
  • FIG. 1(d) is Example 13
  • FIG. 1(e) is Example 15.
  • FIG. 2 is a diagram showing the results of the viscosity test over time of the sample composition of Test Example 4
  • FIG. 2(a) is Example 11
  • FIG. 2(b)
  • composition of the present invention contains (a) a radical generation catalyst, (b) a radical generation source, (c) a thickener and (d) water. Each component will be described below.
  • the radical-generating catalyst contained in the composition of the present invention (hereinafter sometimes referred to as "the radical-generating catalyst of the present invention") is not particularly limited as long as it catalyzes radical generation from a radical-generating source. can be used.
  • the radical generating catalyst may be used alone or in combination of two or more.
  • a Lewis acid is preferably used as the radical generation catalyst, and a Lewis acid having a Lewis acidity of 0.4 eV or more is more preferable.
  • the upper limit of the Lewis acidity is not particularly limited, it is preferably 20 eV or less.
  • the Lewis acidity is described, for example, in Ohkubo, K.; Fukuzumi, S. Chem. Eur. J., 2000, 6, 4532, J. AM. CHEM. SOC. Org. Chem. 2003, 68, 4720-4726. Specifically, it can be measured by the following method.
  • CoTPP Cobalt tetraphenylporphyrin
  • saturated O2 and Lewis acidity measurands e.g. cations such as metals, represented by Mn + in Reaction Scheme (A) below
  • MeCN Acetonitrile
  • a ⁇ E value (eV) which is an index of Lewis acidity, can be calculated from the obtained reaction rate constant (kcat).
  • kcat reaction rate constant
  • a larger value of kcat indicates stronger Lewis acidity.
  • the Lewis acidity of an organic compound can also be estimated from the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) energy level calculated by quantum chemical calculation. A larger value on the positive side indicates stronger Lewis acidity.
  • LUMO unoccupied molecular orbital
  • the radical generation catalyst of the present invention is preferably ammonium or a salt thereof having properties as a Lewis acid.
  • ammonium may be, for example, quaternary ammonium, tertiary, secondary, primary or zero-class ammonium.
  • ammonium and its salts examples include cationic surfactants, among which quaternary ammonium-type cationic surfactants are preferred.
  • quaternary ammonium cationic surfactants include benzalkonium chloride, benzethonium chloride, cetylpyridinium chloride, hexadecyltrimethylammonium bromide, decalinium chloride, edrophonium, didecyldimethylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, Tetrabutylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, oxitropium, carbachol, glycopyrronium, safranin, sinapine, tetraethylammonium bromide, hexadecyltrimethylammonium bromide, suxamethonium, sphingomyelin, denatonium, trigonelline, neostigmine, paraquat, pyridostigmine , ferrodendrin, pralidoxime methyl iodide, betaine, betanin, bethane
  • the quaternary ammonium is not limited to surfactants only.
  • the ammonium may be, for example, ammonium represented by the following chemical formula (I).
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group, an ether bond, a ketone (carbonyl group), an ester bond or an amide bond, Or it may contain an aromatic ring and X 1 — is an anion.
  • the alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 40 carbon atoms.
  • Ammonium represented by the chemical formula (I) is preferably ammonium represented by the following chemical formula (II).
  • R 11 is an alkyl group having 5 to 40 carbon atoms, which may contain an ether bond, a ketone (carbonyl group), an ester bond, an amide bond, or an aromatic ring; R 2 and X - are the same as in the chemical formula (I).
  • R 2 is preferably a methyl group or a benzyl group, and the benzyl group is unsubstituted even if one or more of the hydrogen atoms in the benzene ring are substituted with arbitrary substituents.
  • the optional substituents are, for example, alkyl groups, unsaturated aliphatic hydrocarbon groups, aryl groups, heteroaryl groups, halogens, hydroxy groups (--OH), mercapto groups (--SH), alkylthio groups ( —SR, R is an alkyl group).
  • Ammonium represented by the chemical formula (II) is preferably ammonium represented by the following chemical formula (III).
  • ammonium represented by the chemical formula (I) examples include benzethonium chloride, benzalkonium chloride, hexadecyltrimethylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, ammonium chloride, and tetrabutylammonium chloride. It is preferably at least one selected from the group consisting of Among them, the benzethonium chloride represented by the formula (II) is particularly preferred.
  • Benzethonium chloride (Bzn + Cl ⁇ ) can be represented, for example, by the following chemical formula (IV).
  • Me is a methyl group and t Bu is a tertiary butyl group.
  • benzalkonium chloride can be expressed as a compound in which R 11 is an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms and X 1 - is a chloride ion in the chemical formula (III).
  • X 1 ⁇ is an arbitrary anion and is not particularly limited. Also, X 1 ⁇ is not limited to a monovalent anion, and may be an anion of any valence such as divalent or trivalent.
  • the anion has a plurality of charges such as divalent and trivalent, for example, the number of molecules of ammonium (monovalent) in the chemical formulas (I), (II) and (III) is the number of anion molecules x the valence of the anion. number (for example, when the anion is divalent, the number of molecules of ammonium (monovalent) is twice the number of molecules of the anion).
  • Examples of X ⁇ include halogen ions (fluoride ion, chloride ion, bromide ion, iodide ion), acetate ion, nitrate ion, sulfate ion and the like.
  • the ammonium may contain a plurality of ammonium structures (N + ) in one molecule. Further, the ammonium may form a dimer, trimer, or the like by, for example, association of a plurality of molecules through ⁇ -electron interaction.
  • a compound e.g., the organic ammonium, etc.
  • isomers such as tautomers or stereoisomers (e.g., geometric isomers, conformational isomers, and optical isomers)
  • Any isomer can be used in the present invention unless otherwise indicated.
  • the salt when the compound (eg, the organic ammonium, etc.) can form a salt, the salt may be an acid addition salt or a base addition salt.
  • the acid forming the acid addition salt may be an inorganic acid or an organic acid
  • the base forming the base addition salt may be an inorganic base or an organic base.
  • inorganic acid examples include, but are not limited to, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, hypofluorous acid, hypochlorous acid, hypobromous acid, Hypoiodous acid, fluorous acid, chlorous acid, bromous acid, iodous acid, fluoric acid, chloric acid, bromic acid, iodic acid, perfluoric acid, perchloric acid, perbromic acid, periodic acid, etc. is mentioned.
  • the organic acid is also not particularly limited, and examples thereof include p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, oxalic acid, p-bromobenzenesulfonic acid, carbonic acid, succinic acid, citric acid, benzoic acid and acetic acid.
  • the inorganic base is not particularly limited, but includes, for example, ammonium hydroxide, alkali metal hydroxide, alkaline earth metal hydroxide, carbonate and hydrogen carbonate.
  • the organic base is also not particularly limited, and examples thereof include ethanolamine, triethylamine and tris(hydroxymethyl)aminomethane.
  • the method for producing these salts is not particularly limited, either, and they can be produced, for example, by adding an acid or base as described above to the above compounds as appropriate by a known method.
  • chain substituents e.g., hydrocarbon groups such as alkyl groups and unsaturated aliphatic hydrocarbon groups
  • chain substituents may be linear or branched unless otherwise specified, and the number of carbon atoms thereof is , but not particularly limited, in the following order of preference, 1 to 40, 1 to 32, 1 to 24, 1 to 18, 1 to 12, 1 to 6, or 1 to 2 (2 or more in the case of an unsaturated hydrocarbon group) is.
  • the number of ring members (the number of atoms constituting the ring) of the cyclic group eg, aryl group, heteroaryl group, etc.
  • any isomer may be used unless otherwise specified.
  • naphthyl group it may be a 1-naphthyl group or a 2-naphthyl group.
  • the content of the radical generation catalyst is preferably 0.01 to 1500 mass ppm. If the concentration of the radical-generating catalyst in the composition is too low, the generation of radicals will be suppressed, and there is a risk that the bactericidal effect and the like will not be obtained. Moreover, it is preferable that the content of the radical generation catalyst is 1500 ppm by mass or less because safety can be ensured.
  • the content of the radical generation catalyst in the composition is more preferably 0.1 to 1000 mass ppm, still more preferably 0.1 to 500 mass ppm, particularly preferably 1 to 200 mass ppm, and 1 to 100 mass ppm. ppm is most preferred. From the viewpoint of preventing the bactericidal effect from being lost due to micelle formation, it is preferable that the concentration of the radical generating catalyst is equal to or lower than the micelle limit concentration.
  • Radical generating sources include, for example, halogen ions, hypohalite ions, halous ions, halogen ions, perhalogen ions, etc., and preferably contain at least one selected from the group consisting of these.
  • Radical generators may include, for example, oxoacids or salts thereof (eg, halogen oxoacids or salts thereof).
  • oxoacid examples include boric acid, carbonic acid, orthocarbonic acid, carboxylic acid, silicic acid, nitrous acid, nitric acid, phosphorous acid, phosphoric acid, arsenic, sulfurous acid, sulfuric acid, sulfonic acid, sulfinic acid, chromic acid, and nichrome. acid, permanganic acid, and the like.
  • Halogen oxoacids include chloroxoacids such as hypochlorous, chlorous, chloric and perchloric acids; bromine oxoacids such as hypobromous, bromous, bromic and perbromic; Iodine oxoacids such as hypoiodous acid, iodous acid, iodic acid, and periodic acid.
  • these salts include alkali metal salts such as sodium and potassium.
  • the radical generating source is at least one selected from the group consisting of halogenous acid, halogenous acid ion and halogenous acid salt, and has moderate reactivity with the radical generating catalyst to control the reaction.
  • At least one selected from the group consisting of chlorous acid, chlorite ions, and chlorites is more preferable because it is easy to remove. Specifically, sodium chlorite is preferred.
  • the content of the radical generating source is preferably 0.01 to 1500 mass ppm. If the concentration of the radical-generating source in the composition is too low, the amount of radicals generated is too small, and there is a risk that the bactericidal effect and the like cannot be obtained. Further, the higher the concentration of the radical generating source, the better the bactericidal effect and the like.
  • the content of the radical generating source is more preferably 1 to 1000 mass ppm, still more preferably 10 to 500 mass ppm, and particularly preferably 50 to 250 mass ppm in the composition.
  • the concentration ratio of the radical generation source and the radical generation catalyst (radical generation source/radical generation catalyst) in the composition is not particularly limited and can be set as appropriate.
  • a water-soluble thickener can be suitably used as the thickener.
  • nonionic thickeners and amphoteric thickeners are preferred.
  • water-soluble thickeners include cellulose-based thickeners such as hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, and methylcellulose, polysaccharides such as glucomannan, tamarind gum, xanthan gum, guar gum, gum arabic, locust bean gum, and agar ( natural polymers); inorganic polymers such as smectite; acrylic polymers (synthetic polymers) such as sodium polyacrylate and crosslinked sodium polyacrylate; These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
  • Chlorous acid which is suitably used as a radical generation source, is a highly useful radical generation source, but it may decompose and decrease depending on the coexisting components.
  • cellulose-based thickeners such as hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose and methylcellulose, polysaccharides (natural polymers) such as glucomannan and tamarind gum, Acrylic polymers such as sodium polyacrylate and smectite are found to be less likely to cause the decomposition of chlorous acid, and are selected from the group consisting of chlorous acid, chlorite ions, and chlorite as radical generation sources.
  • cellulose-based thickeners such as hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, and methylcellulose are particularly suitable because they are excellent in long-term thickening stability of the composition.
  • the content of the thickening agent may be appropriately adjusted according to the type of thickening agent used and the desired viscosity of the composition. is preferred.
  • the content of the thickener is 0.1% by mass or more, excessive decrease in the viscosity of the composition is suppressed, thereby improving handling properties, and when the content is 20% by mass or less, excessive increase in viscosity. is suppressed, so the usability can be improved.
  • composition of the present invention contains water as a solvent for dissolving or dispersing the radical generating catalyst, radical generating source and thickener.
  • Examples of water include purified water, ion-exchanged water, distilled water, filtered water, and sterilized water.
  • composition of the present invention may contain, as additives, components other than the above-described radical generating catalyst, radical generating source, thickener and water as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • Other components include, for example, organic solvents and pH adjusters.
  • organic solvent examples include ketones such as acetone, nitrile solvents such as acetonitrile, alcohol solvents such as ethanol and propylene glycol, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. may
  • pH adjusters examples include potassium dihydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, trishydroxymethylaminomethane, trishydroxymethylaminomethane hydrochloride, ethylenediaminetetraacetic acid, and the like. is mentioned. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
  • composition of the present invention is prepared by sequentially mixing (a) a radical-generating catalyst, (b) a radical-generating source, (c) a thickening agent, (d) water, and, if desired, other components, and uniformly dissolving them. can.
  • the composition of the present invention may be appropriately adjusted according to the purpose of application, but preferably has a viscosity of 0.005 to 600 Pa ⁇ s at 20°C.
  • the viscosity at 20°C is 0.005 Pa ⁇ s or more, the object can be uniformly treated, and the composition tends to stay on the treated surface. Further, when the viscosity is 600 Pa ⁇ s or less, formulation design is easy and production efficiency is good.
  • the difference between the viscosity at 20° C. before standing and the viscosity at 20° C. after standing is 50% or less. preferable.
  • the viscosity difference in the test is 50% or less, the composition has excellent stability over time, and the quality of the product can be maintained.
  • the difference in viscosity in the test is more preferably 20% or less, more preferably 10% or less.
  • the composition of the present invention is preferably neutral or alkaline in nature.
  • the radical generating source and the radical generating catalyst react rapidly to generate radicals, making it difficult to stably generate radicals for a long period of time.
  • the aqueous radicals (active species) generated in the composition are maintained in a neutral or alkaline environment.
  • bacteria, viruses, or the like to be reacted are present, the aqueous radicals present in the composition act to eliminate these radicals, but new radicals are generated from the composition. Thereby, radicals can be generated when necessary.
  • the pH of the composition is more preferably 7-10, even more preferably 7-9.
  • composition of the present invention can be used as, for example, a disinfectant, a deodorant, an antibacterial agent, an oral care agent, a human cleaning agent, a disinfectant, and the like.
  • composition of the present invention may be applied to an object to be treated and spread directly by hand or by using a tool such as a spoon, spatula, or toothbrush.
  • compositions of the present invention are not particularly limited, and can be applied to anything such as metal, plastic, glass, wood, paper, cloth, soil, stone, leaves, and the like. It can also be safely applied to humans and animals.
  • the subject or site to be treated with the composition of the present invention is not particularly limited, but for example, medical instruments, human or animal skin, oral mucosa, hair, etc., furniture, home appliances, tableware, etc. Used in general homes and offices, etc. Examples include articles to be used, door knobs, window glass, fittings such as piping, and the like.
  • the treatment amount of the composition of the present invention may be appropriately adjusted according to the object to be treated.
  • it should be about 150 ⁇ g/cm 2 to 0.1 g/cm 2 . should be used.
  • each component was mixed to prepare sample compositions of Examples 1-19.
  • the viscosity of each sample composition was adjusted to 3 to 30 Pa ⁇ s.
  • Example 7 2.0% by mass of propylene glycol was further added to the formulation of Table 2, and glucomannan was dissolved in propylene glycol and added to the composition.
  • Sodium chlorite content (ppm) T x 0.22610 x f x 1000/collected amount of sample composition (g) (1)
  • T is the amount (mL) of 0.01 mol/L sodium thiosulfate solution required for titration
  • f is the factor of 0.01 mol/L sodium thiosulfate solution
  • 0.01 mol/ 1 mL of L sodium thiosulfate solution corresponds to 0.22610 mg of sodium chlorite.
  • the sample composition was stored at 40° C. for 2 weeks, and then the sodium chlorite content was quantified in the same manner (content after storage).
  • Table 5 shows the content (initial content) of sodium chlorite in the sample composition before composition storage and the content after composition storage.
  • Guard column "CAPCELL PAK C18 SG120 Cartridge Column S5" manufactured by Osaka Soda Co., Ltd. (inner diameter 4.0 mm, length 10 mm)
  • Column temperature Constant temperature around 37°C
  • Flow rate 1.0 mL/min
  • Injection volume 50 ⁇ L
  • Mobile phase 400 mL of water, 6.73 g of tetradecyltrimethylammonium bromide and 0.61 g of 2-amino-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol were dissolved in 600 mL of methanol and adjusted to pH 7 with phosphoric acid.
  • Example 4 (Confirmation of change in composition viscosity over time: Examples 11 to 15)
  • the sample compositions of Examples 11 to 15 were stored at 25° C. and 40° C. for 3 months, respectively. Viscosity was measured over time during the storage period.
  • an RB viscometer (“RB-85H” manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) was used to measure the viscosity that stabilized at 20°C.

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Abstract

本発明は、ラジカル発生源とラジカル発生触媒を含む組成物の新たな形態を提供することを課題とする。本発明の組成物は、（ａ）ラジカル発生触媒、（ｂ）ラジカル発生源、（ｃ）増粘剤及び（ｄ）水を含有するものである。

Description

組成物
　本発明は、組成物に関し、さらに詳しくはラジカルを発生させる組成物に関する。
　ラジカルは、反応性に富み、強い酸化力を持つことから、広く利用されている重要な化学種である。例えば、細菌やウイルスがラジカルと接触すると、その酸化力により消滅（不活化ともいう）するため、除菌、脱臭等の効果が得られ、医療、衛生、食品加工、水処理等様々な分野に利用されている。
　ラジカルを利用した殺菌技術として、例えば、特許文献１には、ラジカル発生触媒と、ラジカル発生源とを含み、前記ラジカル発生触媒が、アンモニウムおよびその塩の少なくとも一方と、ルイス酸性およびブレーンステッド酸性の少なくとも一方を有する物質との、一方または両方を含む薬剤が提案されている。
日本国特開２０１７－１０９９７８号公報
　引用文献１記載の薬剤は、水、有機溶媒等と混合し、対象物にスプレーや塗布して使用するとされており、液体製剤で用いられる。
　近年、適用対象となる使用場所や使用目的、用途等に応じて適した剤型とするために製剤設計は多様化しており、このような多様化した要求に対応するため、ラジカルを発生させる組成物を新たな剤型で利用することが求められている。
　そこで本発明は、ラジカル発生源とラジカル発生触媒を含む組成物の新たな形態を提供することを課題とする。
　本発明は以下の（１）～（７）によって達成される。
（１）（ａ）ラジカル発生触媒、（ｂ）ラジカル発生源、（ｃ）増粘剤及び（ｄ）水を含有する組成物。
（２）前記ラジカル発生触媒が、ルイス酸性度が０．４ｅＶ以上のルイス酸である、前記（１）に記載の組成物。
（３）前記ラジカル発生触媒が、下記化学式（Ｉ）で表されるアンモニウム塩を含む、前記（１）又は（２）に記載の組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　前記化学式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、同一又は異なって、それぞれ水素原子またはアルキル基であり、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、Ｘ－は、アニオンである。
（４）前記化学式（Ｉ）で表されるアンモニウム塩が、下記化学式（ＩＩ）で表されるアンモニウム塩である、前記（３）に記載の組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　前記化学式（ＩＩ）中、Ｒ１１は、炭素数が５～４０のアルキル基であり、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、Ｒ２およびＸ－は、前記化学式（Ｉ）と同じである。
（５）前記化学式（ＩＩ）で表されるアンモニウム塩が、下記化学式（ＩＩＩ）で表されるアンモニウム塩である、前記（４）に記載の組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　前記化学式（ＩＩＩ）中、Ｒ１１およびＸ－は、前記化学式（ＩＩ）と同じである。
（６）前記ラジカル発生源が、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオン及び亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも１種である、前記（１）に記載の組成物。
（７）前記組成物の性状が、中性又はアルカリ性である、前記（１）に記載の組成物。
　本発明によれば、ラジカルを発生させる、ジェルなどの粘性のある新たな組成物を提供できる。本発明の組成物は取り扱いがしやすく、例えば、適用対象に対して塗り広げやすい。
図１は試験例３の検体組成物における亜塩素酸ナトリウム含有量の経時試験結果を示す図であり、図１の（ａ）は実施例１１、図１の（ｂ）は実施例１２、図１の（ｃ）は実施例１３、図１の（ｄ）は実施例１４、図１の（ｅ）は実施例１５である。 図２は試験例４の検体組成物の粘度の経時試験結果を示す図であり、図２の（ａ）は実施例１１、図２の（ｂ）は実施例１２、図２の（ｃ）は実施例１３、図２の（ｄ）は実施例１４、図２の（ｅ）は実施例１５である。
　以下、本発明の実施形態について更に詳しく説明する。
　尚、本明細書において、「質量」は「重量」と同義である。
　本発明の組成物は、（ａ）ラジカル発生触媒、（ｂ）ラジカル発生源、（ｃ）増粘剤及び（ｄ）水を含有する。以下、各成分について説明する。
＜（ａ）ラジカル発生触媒＞
　本発明の組成物に含まれるラジカル発生触媒（以下、「本発明のラジカル発生触媒」ということがある。）は、ラジカル発生源からのラジカル発生を触媒するものであれば特に限定されず、既知の化合物を用いることができる。ラジカル発生触媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　本発明では、ラジカル発生触媒としてルイス酸を用いるのが好ましく、ルイス酸性度が０．４ｅＶ以上のルイス酸がより好ましい。
　ルイス酸性度の上限値は、特に限定されないが、２０ｅＶ以下であるのが好ましい。なお、ルイス酸性度は、例えば、Ohkubo, K.; Fukuzumi, S. Chem. Eur. J., 2000, 6, 4532、J. AM. CHEM. SOC. 2002, 124, 10270-10271、またはJ. Org. Chem. 2003, 68, 4720-4726に記載の方法により測定することができ、具体的には、下記の方法により測定することができる。
（ルイス酸性度の測定方法）
　下記反応スキーム（Ａ）中のコバルトテトラフェニルポルフィリン（ＣｏＴＰＰ）、飽和Ｏ２およびルイス酸性度の測定対象物（例えば金属等のカチオンであり、下記反応スキーム（Ａ）ではＭｎ＋で表される）を含むアセトニトリル（ＭｅＣＮ）を、室温において紫外可視吸収スペクトル変化の測定をする。得られた反応速度定数（ｋｃａｔ）からルイス酸性度の指標であるΔＥ値（ｅＶ）を算出することができる。ｋｃａｔの値は大きいほど強いルイス酸性度を示す。また、有機化合物のルイス酸性度は、量子化学計算によって算出される最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギー準位からも、見積もることができる。正側に大きい値であるほど強いルイス酸性度を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
　なお、上記測定方法により測定（算出）されるルイス酸性度の指標となる、ルイス酸存在下におけるＣｏＴＰＰと酸素の反応速度定数の例を以下に示す。下記表１において、「ｋｃａｔ，Ｍ－２ｓ－１」で表される数値が、ルイス酸存在下におけるＣｏＴＰＰと酸素である。「ＬＵＭＯ，ｅＶ」で表される数値が、ＬＵＭＯのエネルギー準位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
　本発明のラジカル発生触媒は、ルイス酸としての性質を有するアンモニウム又はその塩であるのが好ましい。このようなアンモニウムは、例えば、４級アンモニウムでもよいし、３級、２級、１級または０級のアンモニウムでもよい。
　アンモニウム及びその塩としては、例えば、陽イオン界面活性剤が挙げられ、中でも、第４級アンモニウム型陽イオン界面活性剤が好ましい。
　第４級アンモニウム型陽イオン界面活性剤としては、例えば、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化セチルピリジニウム、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化デカリニウム、エドロホニウム、塩化ジデシルジメチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、オキシトロピウム、カルバコール、グリコピロニウム、サフラニン、シナピン、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、スキサメトニウム、スフィンゴミエリン、デナトニウム、トリゴネリン、ネオスチグミン、パラコート、ピリドスチグミン、フェロデンドリン、プラリドキシムヨウ化メチル、ベタイン、ベタニン、ベタネコール、ベタレイン、レシチン、及びコリン類（ベンゾイルコリンクロリド、及びラウロイルコリンクロリド水和物などのコリンクロリド、ホスホコリン、アセチルコリン、コリン、ジパルミトイルホスファチジルコリン、及び重酒石酸コリンなど）が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　ただし、本発明において、前記第４級アンモニウムは、界面活性剤のみには限定されない。
　本発明のラジカル発生触媒において、前記アンモニウムは、例えば、下記化学式（Ｉ）で表されるアンモニウムであってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　前記化学式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、同一又は異なって、それぞれ水素原子またはアルキル基であり、エーテル結合、ケトン（カルボニル基）、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、Ｘ－は、アニオンである。
　前記アルキル基は、炭素数１～４０の直鎖または分枝アルキル基であるのが好ましい。
　前記化学式（Ｉ）で表されるアンモニウムは、下記化学式（ＩＩ）で表されるアンモニウムであるのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　前記化学式（ＩＩ）中、Ｒ１１は、炭素数が５～４０のアルキル基であり、エーテル結合、ケトン（カルボニル基）、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、Ｒ２およびＸ－は、前記化学式（Ｉ）と同じである。
　前記化学式（ＩＩ）中、Ｒ２は、メチル基またはベンジル基であるのが好ましく、前記ベンジル基は、ベンゼン環の水素原子の１以上が任意の置換基で置換されていても置換されていなくてもよく、前記任意の置換基は、例えば、アルキル基、不飽和脂肪族炭化水素基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン、ヒドロキシ基（－ＯＨ）、メルカプト基（－ＳＨ）、アルキルチオ基（－ＳＲ、Ｒはアルキル基）が挙げられる。
　前記化学式（ＩＩ）で表されるアンモニウムは、下記化学式（ＩＩＩ）で表されるアンモニウムであるのが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　前記化学式（ＩＩＩ）中、Ｒ１１およびＸ－は、前記化学式（ＩＩ）と同じである。
　前記化学式（Ｉ）で表されるアンモニウムの具体例としては、例えば、塩化ベンゼトニウム、塩化ベンザルコニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、塩化アンモニウム、および塩化テトラブチルアンモニウムが挙げられ、これらからなる群から選択される少なくとも一つであるのが好ましい。中でも、式（ＩＩ）で表される塩化ベンゼトニウムであるのが特に好ましい。
　なお、塩化ベンゼトニウム（Ｂｚｎ＋Ｃｌ－）は、例えば、下記化学式（ＩＶ）で表すことができる。式（ＩＶ）中、Ｍｅはメチル基であり、ｔＢｕはターシャリーブチル基である。
　また、塩化ベンザルコニウムは、例えば、前記化学式（ＩＩＩ）中、Ｒ１１が炭素数８～１８のアルキル基であり、Ｘ－が塩化物イオンである化合物として表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　なお、前記化学式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）中、Ｘ－は、任意のアニオンであり、特に限定されない。また、Ｘ－は、１価のアニオンに限定されるものではなく、２価、３価等の任意の価数のアニオンでもよい。アニオンの電荷が２価、３価等の複数の場合、例えば、前記化学式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）中のアンモニウム（１価）の分子数は、アニオンの分子数×アニオンの価数（例えば、アニオンが２価の場合、アンモニウム（１価）の分子数は、アニオンの分子数の２倍）となる。Ｘ－としては、例えば、ハロゲンイオン（フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン）、酢酸イオン、硝酸イオン、硫酸イオン等が挙げられる。
　また、本発明において、前記アンモニウムは、１分子中にアンモニウム構造（Ｎ＋）を複数含んでいてもよい。さらに、前記アンモニウムは、例えば、π電子相互作用により複数の分子が会合し、二量体または三量体等を形成していてもよい。
　また、本発明において、化合物（例えば、前記有機アンモニウム等）に互変異性体または立体異性体（例：幾何異性体、配座異性体および光学異性体）等の異性体が存在する場合は、特に断らない限り、いずれの異性体も本発明に用いることができる。
　また、化合物（例えば、前記有機アンモニウム等）が塩を形成し得る場合は、前記塩は、酸付加塩でもよいが、塩基付加塩でもよい。さらに、前記酸付加塩を形成する酸は無機酸でも有機酸でもよく、前記塩基付加塩を形成する塩基は無機塩基でも有機塩基でもよい。前記無機酸としては、特に限定されないが、例えば、硫酸、リン酸、フッ化水素酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、次亜フッ素酸、次亜塩素酸、次亜臭素酸、次亜ヨウ素酸、亜フッ素酸、亜塩素酸、亜臭素酸、亜ヨウ素酸、フッ素酸、塩素酸、臭素酸、ヨウ素酸、過フッ素酸、過塩素酸、過臭素酸、および過ヨウ素酸等が挙げられる。前記有機酸も特に限定されないが、例えば、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、ｐ－ブロモベンゼンスルホン酸、炭酸、コハク酸、クエン酸、安息香酸および酢酸等が挙げられる。前記無機塩基としては、特に限定されないが、例えば、水酸化アンモニウム、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、炭酸塩および炭酸水素塩等が挙げられ、より具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシウムおよび炭酸カルシウム等が挙げられる。前記有機塩基も特に限定されないが、例えば、エタノールアミン、トリエチルアミンおよびトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン等が挙げられる。これらの塩の製造方法も特に限定されず、例えば、前記化合物に、前記のような酸や塩基を公知の方法により適宜付加させる等の方法で製造することができる。
　また、本発明において、鎖状置換基（例えば、アルキル基、不飽和脂肪族炭化水素基等の炭化水素基）は、特に断らない限り、直鎖状でも分枝状でもよく、その炭素数は、特に限定されないが、以下好ましい順に、１～４０、１～３２、１～２４、１～１８、１～１２、１～６、または１～２（不飽和炭化水素基の場合は２以上）である。また、本発明において、環状の基（例えば、アリール基、ヘテロアリール基等）の環員数（環を構成する原子の数）は、特に限定されないが、以下好ましい順に、５～３２、５～２４、６～１８、６～１２、または６～１０である。また、置換基等に異性体が存在する場合は、特に断らない限り、どの異性体でもよく、例えば、単に「ナフチル基」という場合は、１－ナフチル基でも２－ナフチル基でもよい。
　本発明の組成物において、ラジカル発生触媒の含有量は、０．０１～１５００質量ｐｐｍであるのが好ましい。組成物中のラジカル発生触媒の濃度が低すぎると、ラジカルの発生が抑制されてしまい殺菌効果等が得られなくなる虞がある。また、ラジカル発生触媒の含有量が１５００質量ｐｐｍ以下であると、安全性が確保できるので好ましい。
　ラジカル発生触媒の含有量は、組成物中、０．１～１０００質量ｐｐｍであるのがより好ましく、０．１～５００質量ｐｐｍがさらに好ましく、１～２００質量ｐｐｍが特に好ましく、１～１００質量ｐｐｍが最も好ましい。
　なお、ミセル形成により殺菌効果等が得られなくなることを防止する観点からは、ラジカル発生触媒の濃度が、ミセル限界濃度以下であることが好ましい。
＜（ｂ）ラジカル発生源＞
　ラジカル発生源は、例えば、ハロゲンイオン、次亜ハロゲン酸イオン、亜ハロゲン酸イオン、ハロゲン酸イオン、過ハロゲン酸イオン等が挙げられ、これらからなる群から選択される少なくとも一つを含むのが好ましい。
　ラジカル発生源は、例えば、オキソ酸またはその塩（例えば、ハロゲンオキソ酸またはその塩）を含んでいてもよい。前記オキソ酸としては、例えば、ホウ酸、炭酸、オルト炭酸、カルボン酸、ケイ酸、亜硝酸、硝酸、亜リン酸、リン酸、ヒ素、亜硫酸、硫酸、スルホン酸、スルフィン酸、クロム酸、ニクロム酸、及び過マンガン酸などが挙げられる。ハロゲンオキソ酸は、次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、及び過塩素酸などの塩素オキソ酸；次亜臭素酸、亜臭素酸、臭素酸、及び過臭素酸などの臭素オキソ酸；及び次亜ヨウ素酸、亜ヨウ素酸、ヨウ素酸、及び過ヨウ素酸などのヨウ素オキソ酸が挙げられる。また、これらの塩としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩が挙げられる。
　中でも、ラジカル発生源が、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオン及び亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも１種であるのがより好ましく、ラジカル発生触媒との反応性が穏やかで反応の制御がしやすいという点から、亜塩素酸、亜塩素酸イオン及び亜塩素酸塩からなる群から選択される少なくとも１種であるのがさらに好ましい。
　具体的には、亜塩素酸ナトリウムが好ましい。
　本発明の組成物において、ラジカル発生源の含有量は、０．０１～１５００質量ｐｐｍであるのが好ましい。組成物中のラジカル発生源の濃度が低すぎると、ラジカルの発生量が少なくなり過ぎて殺菌効果等が得られなくなる虞がある。また、ラジカル発生源の濃度が高いほど殺菌効果等は得られるが、安全性の確保の観点から１５００質量ｐｐｍ以下とするのが好ましい。
　ラジカル発生源の含有量は、組成物中、１～１０００質量ｐｐｍであるのがより好ましく、１０～５００質量ｐｐｍがさらに好ましく、５０～２５０質量ｐｐｍが特に好ましい。
　本発明の組成物において、ラジカル発生源とラジカル発生触媒の組成物中の濃度比（ラジカル発生源／ラジカル発生触媒）は、特に限定されず、適宜設定可能である。
＜（ｃ）増粘剤＞
　増粘剤としては、水溶性増粘剤が好適に使用できる。その中でも、ノニオン性増粘剤、両性増粘剤がよい。水溶性増粘剤としては、例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロースなどのセルロース系増粘剤、グルコマンナン、タマリンドガム、キサンタンガム、グァーガム、アラビアゴム、ローカストビーンガム、寒天等の多糖類（天然高分子）；スメクタイトなどの無機高分子；ポリアクリル酸ナトリウム、架橋型ポリアクリル酸ナトリウム等のアクリル系高分子（合成高分子）などが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　ラジカル発生源として好適に用いられる亜塩素酸は、有用性の高いラジカル発生源であるが、共存する成分によっては分解し、減少することがある。本発明者らの検討により、上記増粘剤のうち、特にヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロースなどのセルロース系増粘剤や、グルコマンナン、タマリンドガム、などの多糖類（天然高分子）、ポリアクリル酸ナトリウムなどのアクリル系高分子、並びにスメクタイトは、亜塩素酸の分解を引き起こし難いことがわかり、ラジカル発生源として亜塩素酸、亜塩素酸イオン及び亜塩素酸塩からなる群から選択される少なくとも１つを含むときには、これらを好適に使用できる。さらに、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロースなどのセルロース系増粘剤は、組成物の長期増粘安定性にも優れるので、特に好適である。
　本発明の組成物において、増粘剤の含有量は使用する増粘剤の種類や所望する組成物の粘度等に応じて適宜調整すればよいが、例えば、０．１～２０質量％であるのが好ましい。増粘剤の含有量が０．１質量％以上であると、組成物の粘度の過度な低下を抑制するのでハンドリング性が向上し、また、２０質量％以下であると、粘度の過度な増加を抑制するので使用感を向上できる。
（ｄ）水
　本発明の組成物は、ラジカル発生触媒、ラジカル発生源及び増粘剤を溶解又は分散させるための溶媒として、水を含む。
　水としては、例えば、精製水、イオン交換水、蒸留水、ろ過処理した水、滅菌処理した水等が挙げられる。
　本発明の組成物には、本発明の効果を妨げない範囲において、添加剤として上記したラジカル発生触媒、ラジカル発生源、増粘剤及び水以外の他の成分を含有していてもよい。
　他の成分としては、例えば、有機溶剤、ｐＨ調整剤等が挙げられる。
　有機溶媒としては、例えば、アセトン等のケトン、アセトニトリル等のニトリル溶媒、エタノール、プロピレングリコール等のアルコール溶媒等が挙げられ、これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　ｐＨ調整剤としては、例えば、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン塩酸塩、エチレンジアミン四酢酸等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　本発明の組成物は、（ａ）ラジカル発生触媒、（ｂ）ラジカル発生源、（ｃ）増粘剤、（ｄ）水、及び所望により他の成分を順次混合し均一に溶解させることにより調製できる。
（物性）
　本発明の組成物は、適用する目的に応じて適宜調整すればよいが、例えば、２０℃における粘度が０．００５～６００Ｐａ・ｓであるのが好ましい。２０℃における粘度が０．００５Ｐａ・ｓ以上であると、対象に対して均一に処理でき、組成物が処理面にとどまりやすい。また、粘度が６００Ｐａ・ｓ以下であると、製剤設計がしやすく製造効率もよい。
　また、本発明の組成物は、該組成物を４０℃で２週間静置したとき、静置前の２０℃における粘度と静置後の２０℃における粘度の差が５０％以下であるのが好ましい。前記試験における粘度の差が５０％以下であると、組成物の経時安定性に優れるので製品としての品質を維持できる。
　前記試験における粘度の差は、２０％以下であるのがより好ましく、１０％以下がさらに好ましい。
　また、本発明の組成物は、該組成物の性状が、中性又はアルカリ性であるのが好ましい。組成物が酸性であると、ラジカル発生源とラジカル発生触媒が急激に反応し、ラジカルが発生するので、長時間安定的にラジカルを発生させることが困難である。本発明では、組成物中に生成された水性ラジカル（活性種）が中性又はアルカリ性環境下にてその状態が維持される。そして、反応の対象となる細菌やウイルスなどが存在したときに組成物中に存在する水性ラジカルが作用してこのラジカルは無くなるが、組成物中から新たなラジカルが生成される。これにより、要時においてラジカルを発生させることができる。
　組成物のｐＨは、７～１０であるのがより好ましく、７～９がさらに好ましい。
（組成物の使用方法）
　本発明の組成物は、例えば、殺菌剤、消臭剤、抗菌剤、口腔ケア剤、人体用清浄剤、消毒剤等として用いることができる。
　そして、その使用方法としては、従来公知の方法で行えばよい。例えば、本発明の組成物を処理対象に付着させ、手で直接、或いはスプーン、へら、歯ブラシ等の道具を用いて塗り広げればよい。
　本発明の組成物を適用する素材・材質としては、特に限定されず、金属、プラスチック、ガラス、木材、紙、布、土、石、葉等あらゆるものに適用できる。また、人間や動物に対しても安全に適用できる。
　本発明の組成物を処理する対象・部位としては、特に限定されないが、例えば、医療器具、人間や動物の皮膚や口腔粘膜、毛髪等、家具や家電、食器等の一般家庭やオフィス等で使用する物品、ドアノブや窓ガラス、配管等の建具等が挙げられる。
　本発明の組成物の処理量は、処理対象に応じて適宜調整すればよく、例えば、人間の皮膚や口腔に処理する場合は、１５０μｇ／ｃｍ２～０．１ｇ／ｃｍ２程度となるように使用すればよい。
　以下、本発明を実施例により更に説明するが、本発明は下記例に制限されるものではない。なお、下記例において、単位「％」、「ｐｐｍ」はそれぞれ、「質量％」、「質量ｐｐｍ」である。
（検体組成物の作製）
　表２及び表３に示す処方に従い、各成分を混合し、実施例１～１９の検体組成物を作製した。
　なお、各検体組成物の粘度は、３～３０Ｐａ・ｓとなるようにした。
　実施例７については、表２の処方にプロピレングリコール２．０質量％をさらに加え、グルコマンナンはプロピレングリコールに溶解させた状態で組成物に添加した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
＜試験例１＞
（組成物の外観確認：実施例１～１４）
　実施例１～１４の検体組成物について、調合直後に外観の変化を観察した。対照として、各増粘剤について表３に記載されたのと同濃度の水溶液を用い、色の比較を行った。
　色の変化の見られないものを「Ａ（良好）」、黄変や白濁があり、色の変化が見られたものを「Ｂ（不良）」とした。
　結果を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
　表４に示したように、いずれの検体組成物も色の変化が無く、亜塩素酸ナトリウムの分解等が無いことが確認できた。
＜試験例２＞
（組成物中のラジカル発生源の含有量変化の確認：実施例１～１９）
　実施例１～１９の検体組成物１０ｇを正確に量り取り、それぞれに水７０ｍＬを加え、よく攪拌した。そこにヨウ化カリウム１ｇを加え、溶解させた。３％硫酸２０ｍＬを加えて、直ちに密栓し、冷暗所に１５分静置し、０．０１ｍｏｌ／Ｌチオ硫酸ナトリウム溶液で滴定し、以下の式（１）により、亜塩素酸ナトリウムの含有量を定量した（初期含有量）。
　亜塩素酸ナトリウム含量（ｐｐｍ）＝Ｔ×０．２２６１０×ｆ×１０００／検体組成物の採取量（ｇ）　・・・（１）
　式（１）中、Ｔは滴定までに要した０．０１ｍｏｌ／Ｌチオ硫酸ナトリウム溶液の量（ｍＬ）であり、ｆは０．０１ｍｏｌ／Ｌチオ硫酸ナトリウム溶液のファクターであり、０．０１ｍｏｌ／Ｌチオ硫酸ナトリウム溶液１ｍＬは亜塩素酸ナトリウム０．２２６１０ｍｇに相当する。
　続いて、検体組成物を、４０℃で２週間、静置保存した後、同様に、亜塩素酸ナトリウムの含有量を定量した（保存後含有量）。
　検体組成物中の亜塩素酸ナトリウムの、組成物保存前の含有量（初期含有量）と組成物保存後の含有量を表５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
　表５の結果より、経時的に亜塩素酸ナトリウムの含有量が大きく変化したものはなく、増粘剤の亜塩素酸ナトリウムとの反応性が低いことが確認できた。
＜試験例３＞
（ラジカル発生源の含有量の経時変化の確認：実施例１１～１５）
　実施例１１～１５の検体組成物を、２５℃及び４０℃でそれぞれ３ヶ月間、静置保存した。保存期間中、経時的に、下記条件にてＨＰＬＣ分析を行い、亜塩素酸ナトリウムの含有量を定量した。
　〔ＨＰＬＣ分析条件〕
　　分析機器：株式会社島津製作所製ＨＰＬＣ
　　検出器：株式会社島津製作所製紫外吸光光度計「ＳＰＤ－２０Ａ」（波長２７０ｎｍ）
　　分析カラム：株式会社大阪ソーダ製「ＣＡＰＣＥＬＬ　ＰＡＫ　Ｃ１８　ＳＧ１２０」（内径４．６ｍｍ、長さ２５０ｍｍ）
　　ガードカラム：株式会社大阪ソーダ製「ＣＡＰＣＥＬＬ　ＰＡＫ　Ｃ１８　ＳＧ１２０カートリッジカラムＳ５」（内径４．０ｍｍ、長さ１０ｍｍ）
　　カラム温度：３７℃付近の一定温度
　　流速：１．０ｍL／ｍｉｎ
　　注入量：５０μＬ
　　移動相：メタノール６００ｍＬに水４００ｍＬ、テトラデシルトリメチルアンモニウム臭化物６．７３ｇ及び２－アミノ－２－ヒドロキシメチル－１，３－プロパンジオール０．６１ｇを溶解し、リン酸でｐＨ７に調整した。
　結果を図１に示す。なお、図１中、（ａ）は実施例１１、（ｂ）は実施例１２、（ｃ）は実施例１３、（ｄ）は実施例１４、（ｅ）は実施例１５の結果である。
　図１の結果より、実施例１１～１５のいずれも、経時的な亜塩素酸ナトリウムの含有量の大きな変化はなかった。なお、保存温度が高いほど、亜塩素酸ナトリウムは経時的に減少する傾向がみられたが、いずれも３ヶ月後において亜塩素酸ナトリウムは７０％以上残存しており、長期保存が可能であると判断できる。
＜試験例４＞
（組成物の粘度の経時変化の確認：実施例１１～１５）
　実施例１１～１５の検体組成物を、２５℃及び４０℃でそれぞれ３ヶ月間、静置保存した。保存期間中、経時的に、粘度を測定した。
　粘度の測定には、ＲＢ型粘度計（東機産業株式会社製「ＲＢ－８５Ｈ」）を用いて、２０℃で安定となる粘度を測定した。
　結果を図２に示す。なお、図２中、（ａ）は実施例１１、（ｂ）は実施例１２、（ｃ）は実施例１３、（ｄ）は実施例１４、（ｅ）は実施例１５の結果である。
　図２の結果より、実施例１１～１４では、２５℃及び４０℃のいずれにおいても粘度に大きな変化は見られなかった。実施例１５は２５℃の保存では粘度に大きな変化は見られなかったが、４０℃の保存では粘度が高くなることがわかった。
　これらより、セルロース系増粘剤が組成物粘度を安定させるのに優れていることがわかった。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。本出願は、２０２１年８月２５日出願の日本特許出願（特願２０２１－１３７５５６）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

Claims (7)

  1. 　（ａ）ラジカル発生触媒、（ｂ）ラジカル発生源、（ｃ）増粘剤及び（ｄ）水を含有する組成物。
  2. 　前記ラジカル発生触媒が、ルイス酸性度が０．４ｅＶ以上のルイス酸である、請求項１に記載の組成物。
  3. 　前記ラジカル発生触媒が、下記化学式（Ｉ）で表されるアンモニウム塩を含む、請求項１又は２に記載の組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    　前記化学式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、同一又は異なって、それぞれ水素原子またはアルキル基であり、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、Ｘ－は、アニオンである。
  4. 　前記化学式（Ｉ）で表されるアンモニウム塩が、下記化学式（ＩＩ）で表されるアンモニウム塩である、請求項３に記載の組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    　前記化学式（ＩＩ）中、Ｒ１１は、炭素数が５～４０のアルキル基であり、エーテル結合、カルボニル基、エステル結合、若しくはアミド結合、または芳香環が含まれていてもよく、Ｒ２およびＸ－は、前記化学式（Ｉ）と同じである。
  5. 　前記化学式（ＩＩ）で表されるアンモニウム塩が、下記化学式（ＩＩＩ）で表されるアンモニウム塩である、請求項４に記載の組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    　前記化学式（ＩＩＩ）中、Ｒ１１およびＸ－は、前記化学式（ＩＩ）と同じである。
  6. 　前記ラジカル発生源が、亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸イオン及び亜ハロゲン酸塩からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１に記載の組成物。
  7. 　前記組成物の性状が、中性又はアルカリ性である、請求項１に記載の組成物。
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