WO2023017831A1 - 粘着シートの膨張方法 - Google Patents

粘着シートの膨張方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2023017831A1
WO2023017831A1 PCT/JP2022/030512 JP2022030512W WO2023017831A1 WO 2023017831 A1 WO2023017831 A1 WO 2023017831A1 JP 2022030512 W JP2022030512 W JP 2022030512W WO 2023017831 A1 WO2023017831 A1 WO 2023017831A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
adhesive sheet
pressure
sensitive adhesive
layer
meth
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/030512
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
康彦 垣内
和恵 上村
Original Assignee
リンテック株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by リンテック株式会社 filed Critical リンテック株式会社
Priority to CN202280054912.XA priority Critical patent/CN117795027A/zh
Priority to JP2023541454A priority patent/JPWO2023017831A1/ja
Priority to KR1020237043260A priority patent/KR20240046114A/ko
Publication of WO2023017831A1 publication Critical patent/WO2023017831A1/ja

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J5/00Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J201/00Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J5/00Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • C09J5/06Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers involving heating of the applied adhesive
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/326Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors

Definitions

  • the present invention relates to a method for expanding an adhesive sheet.
  • Adhesive sheets are used not only for semi-permanently fixing parts, but also for parts to be processed and inspected (hereinafter referred to as "adherends") when processing or inspecting building materials, interior materials, electronic parts, etc. ”) may be used as a temporary fixing sheet for temporarily fixing.
  • adherends parts to be processed and inspected
  • processing such as grinding the back surface of a semiconductor wafer and singulation is performed. This is done with the temporary fixing sheet attached.
  • the temporary fixing sheet one having an adhesive layer and a substrate supporting the adhesive layer is usually used. After the pressure-sensitive adhesive layer of the temporary fixing sheet is attached to an adherend and subjected to a predetermined processing, the temporary fixing sheet is peeled off from the surface of the adherend.
  • the surface of the adherend of the temporary fixing sheet is not necessarily flat, and the temporary fixing sheet may be attached to a surface having projections or the like, for example. If the surface of the adherend to which the temporary fixing sheet is attached is not flat, the surface of the attached temporary fixing sheet on the side of the substrate opposite to the attachment surface is also affected by the shape of the surface of the adherend. and may not be flat.
  • a semiconductor wafer having a plurality of bumps having a height of about several tens to several hundreds of ⁇ m formed on the circuit surface (hereinafter also referred to as a “bumped wafer”).
  • a flip-chip bonding technique has been put into practical use, in which these bumps are directly bonded to a wiring substrate after back-grinding and individualizing the bumps.
  • the part covering the bumps of the temporary fixing sheet swells more than the other part, and the surface of the base material opposite to the attaching surface has convex portions. may occur. If the back surface of the semiconductor wafer is ground with the surface having the protrusions fixed, the thickness uniformity of the semiconductor wafer after back grinding is poor.
  • Patent Document 1 discloses, as a temporary fixing tape for grinding a substrate, a temporary fixing tape comprising a support base and an adhesive layer laminated on one surface of the support base, wherein the support base The material has a first layer that supports the substrate, and a second layer that is positioned between the first layer and the adhesive layer and has cushioning properties, and has projections on at least one surface.
  • the projections provided on the surface of the substrate penetrate the adhesive layer and are positioned within the second layer corresponding to the intermediate layer. As a result, it is possible to apply a uniform pressing force over the entire surface of the substrate, so that the substrate can be made thin with a uniform thickness.
  • Protrusions are generated on the surface of the temporary fixing sheet on the substrate side by forming an intermediate layer on the temporary fixing sheet and burying the protrusions of the adherend with the intermediate layer as in the technique of Patent Document 1. can be suppressed.
  • the height of the protrusion is large, or when the area of the protrusion is large, it may be difficult to suppress the occurrence of protrusions only by the method of embedding the protrusion in the intermediate layer.
  • the embedding property is enhanced, the mechanical strength of the intermediate layer is lowered, and the protection around the protrusion may become insufficient, and part of the intermediate layer may adhere to the periphery of the protrusion after peeling.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a method for expanding an adhesive sheet that can be partially expanded after being attached to an adherend.
  • a pressure-sensitive adhesive sheet having a base material and a pressure-sensitive adhesive layer, wherein at least one layer included in the pressure-sensitive adhesive sheet is a thermally expandable layer containing thermally expandable particles.
  • Step 1 A step of bringing a coolant into contact with a partial region (A) of the substrate-side surface (S ⁇ ) of the pasted pressure-sensitive adhesive sheet
  • Step 2 A state where the coolant is brought into contact with the region (A) Then, the adhesive sheet is heated from the adherend (W) side by heating the adherend (W) to the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles or higher, and the coolant a step of expanding a portion of the pressure-sensitive adhesive sheet having a surface area other than the area (A) while suppressing expansion of a portion of the pressure-sensitive adhesive sheet having the area (A) on the surface by a cooling effect [2] the coolant;
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of an adhesive sheet
  • FIG. 4 is a plan view for explaining a semiconductor wafer having protrusions
  • It is sectional drawing explaining an example of the sticking process of an adhesive sheet.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an example of the steps of the method for expanding the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an example of the steps of the method for expanding the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an example of a process of thinning a semiconductor wafer;
  • (meth)acrylic acid refers to both “acrylic acid” and “methacrylic acid”, and the same applies to other similar terms.
  • the term "energy ray” means an electromagnetic wave or charged particle beam that has an energy quantum, and examples thereof include ultraviolet rays, radiation, electron beams, and the like.
  • Ultraviolet rays can be applied by using, for example, an electrodeless lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a UV-LED, or the like as an ultraviolet light source.
  • the electron beam can be generated by an electron beam accelerator or the like.
  • energy ray-polymerizable means the property of polymerizing by irradiation with energy rays.
  • energy ray curability means the property of being cured by irradiation with an energy ray.
  • a "layer” is a "non-thermally expandable layer” or a “thermally expandable layer” is determined as follows.
  • the layer to be judged contains thermally expandable particles, the layer is heat-treated for 3 minutes at the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles. If the volume change rate calculated from the following formula is less than 5%, the layer is determined to be a "non-thermally expandable layer", and if it is 5% or more, the layer is a "thermally expandable layer”. judge there is.
  • ⁇ Volume change rate (%) ⁇ (volume of the layer after heat treatment - volume of the layer before heat treatment) / volume of the layer before heat treatment ⁇ x 100
  • a layer containing no thermally expandable particles is referred to as a "non-thermally expandable layer”.
  • the volume change rate (%) of the non-thermally expandable layer calculated from the above formula is less than 5%, preferably less than 2%. , more preferably less than 1%, more preferably less than 0.1%, even more preferably less than 0.01%.
  • the non-thermally expandable layer when the "layer" is a non-thermally expandable layer, the non-thermally expandable layer preferably does not contain thermally expandable particles. It may contain expandable particles.
  • the content is preferably as small as possible, and preferably less than 3% by mass, more than It is preferably less than 1% by mass, more preferably less than 0.1% by mass, even more preferably less than 0.01% by mass, and even more preferably less than 0.001% by mass.
  • circuit surface of the semiconductor wafer refers to the surface on which the circuits are formed
  • back surface refers to the surface on which the circuits are not formed
  • semiconductor device refers to all devices that can function by utilizing semiconductor characteristics.
  • a wafer comprising integrated circuits
  • a thinned wafer comprising integrated circuits
  • a chip comprising integrated circuits
  • a thinned chip comprising integrated circuits
  • electronic components comprising these chips, and electronic equipment comprising such electronic components and the like.
  • the thickness of each layer is the thickness at 23°C and means the value measured by the method described in Examples.
  • a method for expanding a pressure-sensitive adhesive sheet is a pressure-sensitive adhesive sheet having a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer, wherein at least one layer contained in the pressure-sensitive adhesive sheet contains thermally expandable particles.
  • Step 1 A step of bringing a coolant into contact with a partial region (A) of the substrate-side surface (S ⁇ ) of the pasted pressure-sensitive adhesive sheet
  • Step 2 A state where the coolant is brought into contact with the region (A) Then, the adhesive sheet is heated from the adherend (W) side by heating the adherend (W) to the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles or higher, and the coolant A step of expanding a portion of the pressure-sensitive adhesive sheet having a surface other than the region (A) while suppressing expansion of the portion having the region (A) on the surface by a cooling effect.
  • a pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention is a pressure-sensitive adhesive sheet having a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer, wherein at least one layer included in the pressure-sensitive adhesive sheet is a thermally expandable layer containing thermally expandable particles. It is an adhesive sheet.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention is attached to the surface (W ⁇ ), which is one surface of the adherend (W).
  • FIG. 1(a) shows a pressure-sensitive adhesive sheet 10a in which a substrate 1 and a pressure-sensitive adhesive layer 2 are laminated, which is a pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention may have only a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer like the pressure-sensitive adhesive sheet 10a, but may have other layers as necessary. Other layers include, for example, an intermediate layer provided between the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer, and a release sheet provided on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the substrate.
  • FIG. 1(b) shows a pressure-sensitive adhesive sheet 10b of one embodiment of the present invention having an intermediate layer 3 as another layer.
  • FIGS. 1(c) and 1(d) show an adhesive sheet 10c and an adhesive sheet 10d in which a release sheet 4 is laminated on the adhesive surface of the adhesive layer 2 in the adhesive sheets 10a and 10b. .
  • At least one layer included in the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention is a thermally expandable layer containing thermally expandable particles.
  • a thermally expandable layer included in the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention for example, when the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention has only a base material and a pressure-sensitive adhesive layer, at least the base material and the pressure-sensitive adhesive layer Any one of them may be a heat-expandable layer, and when the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention has a layer other than the base material and the pressure-sensitive adhesive layer, the other layer is the heat-expandable layer. good too.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet of one aspect of the present invention may have two or more thermally expandable layers, but preferably has only one layer.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention may have a layer other than the thermally expandable layer between the thermally expandable layers. It does not have to have any layers other than the thermally expandable layer.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention has a base material, an intermediate layer and a pressure-sensitive adhesive layer, one or more layers selected from the group consisting of the base material, the intermediate layer and the pressure-sensitive adhesive layer are thermally expandable layers.
  • the intermediate layer is a thermally expandable layer, and even more preferably, the intermediate layer is a thermally expandable layer, and the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer are non-thermally expandable layers.
  • the intermediate layer is a heat-expandable layer and the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer are non-heat-expandable layers, it is difficult for unevenness caused by the heat-expandable particles after thermal expansion to appear on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer or the substrate. As a result, the adhesiveness to the adherend (W) or the holding property by a support device such as a chuck table tends to be improved.
  • the thickness of the thermally expandable layer is not particularly limited, and may be appropriately determined according to which layer is the thermally expandable layer among the layers included in the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention.
  • thickness of the thermally expandable layer means the total thickness of all the thermally expandable layers included in the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention.
  • the thickness of the layer is equal to that of the thermally expandable layer. thickness.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention has a substrate, an intermediate layer and a pressure-sensitive adhesive layer, and two or more of these layers are thermally expandable layers, the total thickness of the two or more layers is thermally expanded. is the thickness of the sexual layer.
  • the thermally expandable particles may be particles that expand when heated.
  • the thermally expandable particles may be used singly or in combination of two or more.
  • the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles is preferably 50° C. or more and less than 125° C., more preferably 55 to 120° C., still more preferably 60 to 115° C., still more preferably 70 to 110° C., still more preferably is 75-105°C.
  • the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles is 50°C or higher, unintended expansion tends to be suppressed.
  • the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles is less than 125° C., the heating temperature at the time of heat peeling can be kept low.
  • the expansion start temperature (t) of thermally expandable particles means a value measured based on the following method.
  • the thermally expandable particles are microencapsulated foaming agents composed of an outer shell made of a thermoplastic resin and an encapsulated component that is encapsulated in the outer shell and vaporizes when heated to a predetermined temperature.
  • the thermoplastic resin constituting the outer shell of the microencapsulated foaming agent includes, for example, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, polyvinylidene chloride, polysulfone, or structural units contained in these thermoplastic resins. Examples thereof include copolymers obtained by polymerizing two or more of the monomers to be formed.
  • Examples of encapsulated components that are encapsulated in the outer shell of the microencapsulated foaming agent include propane, propylene, butene, n-butane, isobutane, isopentane, neopentane, n-pentane, n-hexane, isohexane, n- Low boiling point liquids such as heptane, n-octane, cyclopropane, cyclobutane, and petroleum ether are included.
  • the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles is 50 ° C.
  • the inclusion Preferred components are propane, isobutane, n-pentane and cyclopropane. These inclusion components may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles can be adjusted by appropriately selecting the type of inclusion component.
  • the average particle size of the thermally expandable particles before expansion at 23° C. is preferably 3 to 100 ⁇ m, more preferably 4 to 70 ⁇ m, still more preferably 6 to 60 ⁇ m, still more preferably 10 to 50 ⁇ m.
  • the average particle size of the thermally expandable particles before expansion is the volume-median particle size (D 50 ), and is measured by a laser diffraction particle size distribution analyzer (for example, manufactured by Malvern, product name "Mastersizer 3000").
  • D 50 volume-median particle size
  • the 90% particle diameter (D 90 ) of the thermally expandable particles before expansion at 23° C. is preferably 10 to 150 ⁇ m, more preferably 15 to 100 ⁇ m, still more preferably 20 to 90 ⁇ m, still more preferably 25 to 80 ⁇ m. .
  • the 90% particle diameter (D 90 ) of the thermally expandable particles before expansion is measured using a laser diffraction particle size distribution analyzer (for example, manufactured by Malvern, product name “Mastersizer 3000”). In the particle distribution of the thermally expandable particles before expansion, it means a particle size corresponding to a cumulative volume frequency of 90% calculated from the smaller particle size of the thermally expandable particles before expansion.
  • the maximum volume expansion coefficient when heated to a temperature equal to or higher than the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles used in one aspect of the present invention is preferably 1.5 to 200 times, more preferably 2 to 150 times, and further It is preferably 2.5 to 120 times, and more preferably 3 to 100 times.
  • the content of the thermally expandable particles is preferably 0.05 to 25% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, still more preferably 0, based on the total mass (100% by mass) of the thermally expandable layer. .2 to 10% by weight, more preferably 0.3 to 5% by weight.
  • the content of the thermally expandable particles is 0.05% by mass or more, it tends to be easy to obtain a sufficient amount of expansion in the portion of the adhesive sheet that is desired to be expanded.
  • the content of the thermally expandable particles is 25% by mass or less, the unevenness of the thermally expandable particles before thermal expansion is difficult to appear on the surface of the adhesive layer or substrate, and the adherend (W) and There is a tendency that the adhesiveness of the substrate or the holding property by a support device such as a chuck table tends to be improved.
  • the substrate used in one aspect of the present invention is not particularly limited as long as it is composed of a material capable of supporting the adherend (W).
  • the substrate is preferably a non-adhesive substrate.
  • the probe tack value on the surface of the substrate is usually less than 50 mN/5 mm ⁇ , preferably less than 30 mN/5 mm ⁇ , more preferably less than 10 mN/5 mm ⁇ , still more preferably less than 5 mN/5 mm ⁇ .
  • the probe tack value on the surface of the substrate means the value measured by the following method. ⁇ Probe tack value> After cutting the base material to be measured into a square with a side of 10 mm, a test sample was left to stand in an environment of 23 ° C. and 50% RH (relative humidity) for 24 hours.
  • the probe tack value on the surface of the test sample is measured in accordance with JIS Z0237: 1991. be able to. Specifically, a stainless steel probe with a diameter of 5 mm is brought into contact with the surface of the test sample for 1 second with a contact load of 0.98 N/cm 2 , and then the probe is moved at a speed of 10 mm/second to the test sample. The force required to remove it from the surface can be measured and the resulting value taken as the probe tack value for that test sample.
  • a tacking tester product name “NTS-4800” manufactured by Nippon Tokushu Sokki Co., Ltd.
  • Examples of materials for the substrate include resins, metals, paper materials, and the like.
  • resins include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-vinyl alcohol copolymer; polyethylene terephthalate, Polyester resins such as polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; Polystyrene; Acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer; Cellulose triacetate; Polycarbonate; ketone; polyether sulfone; polyphenylene sulfide; polyimide-based resin such as polyetherimide and polyimide; polyamide-based resin;
  • metals include aluminum, tin, chromium, and titanium.
  • the paper material examples include thin paper, medium quality paper, fine paper, impregnated paper, coated paper, art paper, parchment paper, and glassine paper.
  • polyester-based resins such as polyethylene terephthalate (hereinafter also referred to as “PET”), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate are preferred.
  • forming materials may be composed of one type, or two or more types may be used in combination.
  • substrates using two or more kinds of forming materials include those obtained by laminating a paper material with a thermoplastic resin such as polyethylene, a resin film or sheet containing a resin, and a metal film formed on the surface of the sheet. .
  • a method for forming the metal layer for example, a method of depositing the above metal by a PVD method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a method of attaching a metal foil made of the above metal using a general adhesive. and the like.
  • the surface of the base material is treated by an oxidation method, a roughening method, etc., and an easy adhesion Treatment or primer treatment may be applied.
  • the base material may contain base material additives as necessary.
  • base material additives include ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, antistatic agents, slip agents, antiblocking agents, colorants, and the like.
  • One of these base material additives may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
  • the substrate is a thermally expandable layer containing thermally expandable particles (hereinafter also referred to as "thermally expandable substrate”)
  • the substrate is treated with a substrate composition containing a resin and thermally expandable particles. can be formed.
  • Preferred aspects of the type and content of the thermally expandable particles are the same as the preferred aspects of the type and content of the thermally expandable particles in the description of the thermally expandable layer above.
  • urethane-based resins and olefin-based resins are preferable, urethane-based resins are more preferable, and acrylic-modified polyurethanes are even more preferable.
  • the base composition contains an acrylic-modified polyurethane
  • the base composition further contains an energy ray-polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, etc.
  • a non-solvent resin composition containing no solvent may also be used.
  • the solventless resin composition does not contain a solvent, the energy ray-polymerizable monomer contributes to the improvement of plasticity.
  • the acrylic-modified polyurethane, the energy ray-polymerizable monomer, and the like are polymerized to form a thermally expandable base material.
  • the energy ray-polymerizable monomer and photopolymerization initiator include the same polymerizable monomer and photopolymerization initiator that may be contained in the intermediate layer composition described below.
  • the substrate may be a substrate laminate in which a thermally expandable substrate and a substrate that is a non-thermally expandable layer (hereinafter also referred to as “non-thermally expandable substrate”) are laminated.
  • the thermally expandable substrate may be arranged on the adhesive layer side, and the non-thermally expandable substrate may be arranged on the side opposite to the adhesive layer.
  • the expandable substrate may be arranged on the pressure-sensitive adhesive layer side, and the thermally expandable substrate may be arranged on the side opposite to the pressure-sensitive adhesive layer.
  • the non-thermally expandable base material When the non-thermally expandable base material is arranged on the side opposite to the adhesive layer, it is difficult for the unevenness due to the expanded thermally expandable particles to appear on the surface opposite to the adhesive layer, and a support device such as a chuck table is used. There is a tendency that the retention property by using is likely to be good. On the other hand, when the non-thermally expandable substrate is placed on the adhesive layer side, the thermally expandable substrate is prevented from unintentionally expanding due to frictional heat or the like during processing of the adherend (W). tend to be easy.
  • the thickness of the substrate is preferably 5-500 ⁇ m, more preferably 15-300 ⁇ m, still more preferably 20-200 ⁇ m.
  • the thickness of the substrate is 5 ⁇ m or more, the deformation resistance of the pressure-sensitive adhesive sheet tends to be easily improved.
  • the thickness of the base material is 500 ⁇ m or less, the handleability of the pressure-sensitive adhesive sheet tends to be improved.
  • the thickness of a base material means the thickness of the whole base material.
  • the thickness of a base material composed of multiple layers means the total thickness of all layers constituting the base material.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention preferably further has an intermediate layer between the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer. Since the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention has an intermediate layer, even if the adherend (W) has protrusions, the protrusions of the adherend (W) can be embedded by the intermediate layer. Therefore, it tends to be easy to suppress the occurrence of protrusions on the surface of the base material due to the protrusions.
  • the composition of the intermediate layer is not particularly limited, the intermediate layer is preferably formed from an intermediate layer composition containing a resin.
  • Examples of resins contained in the intermediate layer composition include urethane (meth)acrylates and acrylic resins.
  • a urethane (meth)acrylate is a compound having at least a (meth)acryloyl group and a urethane bond, and has the property of being polymerized by irradiation with energy rays.
  • the intermediate layer composition contains urethane (meth)acrylate, the resulting intermediate layer tends to have good flexibility.
  • Urethane (meth)acrylates may be used alone or in combination of two or more.
  • the urethane (meth)acrylate may be a monofunctional urethane (meth)acrylate or a polyfunctional urethane (meth)acrylate. (Meth)acrylate is more preferred.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the urethane (meth)acrylate is preferably 10,000 to 100,000, more preferably 20,000 to 90,000, still more preferably 2,5000 to 70,000, still more preferably 30,000 to 60,000.
  • a urethane (meth)acrylate can be obtained, for example, by reacting a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting a polyol compound and a polyvalent isocyanate compound with a (meth)acrylate having a hydroxy group.
  • polyol compounds examples include alkylene-type polyols, ether-type polyols, ester-type polyols, esteramide-type polyols, ester/ether-type polyols, and carbonate-type polyols.
  • a polyol compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • polyvalent isocyanates examples include aromatic polyisocyanates, aliphatic polyisocyanates, and alicyclic polyisocyanates. Further, these polyvalent isocyanates may be trimethylolpropane adduct-type modified products, biuret-type modified products reacted with water, and isocyanurate-type modified products containing an isocyanurate ring. Polyvalent isocyanate may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • (Meth)acrylates having a hydroxy group include, for example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3 -hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate and the like.
  • the (meth)acrylates having a hydroxy group may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of urethane (meth)acrylate in the intermediate layer composition is preferably 20 to 90% by mass, more preferably 35 to 80% by mass, based on the total amount (100% by mass) of active ingredients in the intermediate layer composition. % by mass, more preferably 50 to 70% by mass.
  • acrylic resin examples of the acrylic resin that can be used as the resin contained in the intermediate layer composition include the same acrylic resins that can be used as the adhesive resin of the adhesive layer described below.
  • the intermediate layer composition more preferably contains the urethane (meth)acrylate and a polymerizable monomer other than the urethane (meth)acrylate.
  • the polymerizable monomer is preferably a polymerizable compound other than urethane (meth)acrylate and is polymerizable with other components by irradiation with energy rays.
  • the polymerizable monomer is preferably a compound having at least one (meth)acryloyl group.
  • the polymerizable monomers may be used singly or in combination of two or more.
  • polymerizable monomers examples include (meth)acrylates having an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms; (meth)acrylates having a functional group such as a hydroxyl group, an amide group, an amino group, and an epoxy group; (Meth)acrylates having a cyclic structure; (meth)acrylates having an aromatic structure; (meth)acrylates having a heterocyclic structure; styrene, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, N-vinylformamide, N-vinylpyrrolidone , vinyl compounds such as N-vinylcaprolactam; allyl compounds such as allyl glycidyl ether;
  • (Meth)acrylates having an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms include, for example, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (Meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate , nonyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate,
  • (Meth)acrylates having a functional group include, for example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 3 -Hydroxy group-containing (meth)acrylates such as hydroxybutyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate; (meth)acrylamide, N,N-dimethyl (meth)acrylamide, N-butyl (meth)acrylamide, N - amide group-containing compounds such as methylol (meth)acrylamide, N-methylolpropane (meth)acrylamide, N-methoxymethyl (meth)acrylamide, N-butoxymethyl (meth)acrylamide; primary amino group-containing (meth)acrylate , Secondary amino group-containing (meth) acrylate, amino group-containing (meth) acrylate such as tertiary amino group-containing (meth
  • (Meth)acrylates having an alicyclic structure include, for example, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxy (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, ) acrylate, trimethylcyclohexyl (meth)acrylate, adamantane (meth)acrylate, and the like.
  • isobornyl (meth)acrylate and trimethylcyclohexyl (meth)acrylate are preferred.
  • (Meth)acrylates having an aromatic structure include, for example, phenylhydroxypropyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate and the like.
  • (Meth)acrylates having a heterocyclic structure include, for example, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate and morpholine (meth)acrylate.
  • the intermediate layer composition should contain a (meth)acrylate having an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and a (meth)acrylate having an alicyclic structure. is preferred.
  • the content of the (meth)acrylate having an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms in the intermediate layer composition is preferably 1 with respect to the total amount (100% by mass) of the active ingredients in the intermediate layer composition. to 30% by mass, more preferably 3 to 20% by mass, and even more preferably 5 to 15% by mass.
  • the content of the (meth)acrylate having an alicyclic structure in the intermediate layer composition is preferably 5 to 50% by mass, more than It is preferably 10 to 40% by mass, more preferably 15 to 30% by mass.
  • the total content of the polymerizable monomers in the intermediate layer composition is preferably 8 to 70% by mass, more preferably 15 to 70% by mass, based on the total amount (100% by mass) of the active ingredients in the intermediate layer composition. 50% by mass, more preferably 30 to 40% by mass.
  • the ratio of the urethane (meth)acrylate content to the polymerizable monomer content (urethane (meth)acrylate/polymerizable monomer) in the intermediate layer composition is preferably 20/80 to 90/10, more preferably 40/60 to 80/20, still more preferably 60/40 to 70/30.
  • the intermediate layer composition preferably further contains a photopolymerization initiator together with the urethane (meth)acrylate and the polymerizable monomer.
  • a photopolymerization initiator in the intermediate layer composition, the curing reaction can be sufficiently advanced even by irradiation with relatively low-energy energy rays.
  • a photoinitiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • photopolymerization initiators include photopolymerization initiators such as benzoin compounds, acetophenone compounds, acylphosphine oxide compounds, titanocene compounds, thioxanthone compounds, peroxide compounds, and photosensitizers such as amines and quinones. . More specifically, for example, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, 2,2 -dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one and the like.
  • the content of the photopolymerization initiator in the intermediate layer composition is preferably 0.05 to 15 parts by mass, more preferably 0 parts by mass, with respect to the total of 100 parts by mass of the urethane (meth)acrylate and the polymerizable monomer. .5 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 5 parts by mass.
  • the intermediate layer composition preferably further contains a chain transfer agent together with the urethane (meth)acrylate and the polymerizable monomer.
  • a chain transfer agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • chain transfer agents include thiol group-containing compounds.
  • thiol group-containing compounds include nonyl mercaptan, 1-dodecanethiol, 1,2-ethanedithiol, 1,3-propanedithiol, triazinethiol, triazinedithiol, triazinetrithiol, and 1,2,3-propanetrithiol.
  • the content of the chain transfer agent in the intermediate layer composition is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, based on the total of 100 parts by mass of the urethane (meth)acrylate and the polymerizable monomer. 3 to 5 parts by mass, more preferably 0.5 to 3 parts by mass.
  • the intermediate layer is a thermally expandable layer containing thermally expandable particles
  • the intermediate layer can be formed from an intermediate layer composition containing thermally expandable particles.
  • Preferred aspects of the type and content of the thermally expandable particles are the same as the preferred aspects of the type and content of the thermally expandable particles in the description of the thermally expandable layer above.
  • the intermediate layer composition may contain intermediate layer additives in addition to the components described above, as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • additives for the intermediate layer include antioxidants, softeners (plasticizers), fillers, rust inhibitors, pigments, dyes, tackifiers and the like. These intermediate layer additives may be used singly or in combination of two or more.
  • the content of each intermediate layer additive is independently 100 mass in total of the urethane (meth)acrylate and the polymerizable monomer. 0.0001 to 20 parts by mass, more preferably 0.001 to 10 parts by mass.
  • the intermediate layer composition used in one aspect of the present invention may contain a solvent as long as the effects of the present invention are not impaired. It is preferably a solvent-free resin composition that does not contain. Although the solvent-free resin composition does not contain a solvent, the polymerizable monomer mentioned above contributes to the improvement of the plasticity of the resin. By irradiating the solvent-free resin composition with energy rays, the urethane (meth)acrylate, the polymerizable monomer, etc. are polymerized to form the intermediate layer.
  • the thickness of the intermediate layer is preferably 10-500 ⁇ m, more preferably 20-350 ⁇ m, still more preferably 30-200 ⁇ m.
  • the thickness of the intermediate layer is 10 ⁇ m or more, when the adherend (W) has projections, the projections tend to be easily embedded.
  • the thickness of the intermediate layer is 500 ⁇ m or less, the handleability of the pressure-sensitive adhesive sheet tends to be improved.
  • the thickness of the intermediate layer means the thickness of the entire intermediate layer.
  • the thickness of an intermediate layer composed of multiple layers means the total thickness of all the layers that make up the intermediate layer.
  • the pressure-sensitive adhesive layer is a layer provided on the side of the intermediate layer opposite to the substrate, and is a layer that is attached to one side (W ⁇ ) of the adherend (W).
  • the adhesive layer is preferably a layer having energy ray curability. Due to the energy ray curability of the pressure-sensitive adhesive layer, good adhesion to the adherend (W) is obtained due to sufficient adhesiveness before energy ray curing, and peeling force is reduced after energy ray curing. and can be easily peeled off from the adherend (W).
  • the adhesive layer can be formed from an adhesive composition containing an adhesive resin.
  • the pressure-sensitive adhesive composition include the following X-type pressure-sensitive adhesive composition, Y-type pressure-sensitive adhesive composition, and XY-type pressure-sensitive adhesive composition.
  • X-type adhesive composition Energy ray-curable containing a non-energy ray-curable adhesive resin (hereinafter also referred to as “adhesive resin I”) and an energy ray-curable compound other than the adhesive resin
  • Adhesive composition Y-type adhesive composition an energy ray-curable adhesive resin in which an unsaturated group is introduced into the side chain of a non-energy ray-curable adhesive resin (hereinafter, also referred to as "adhesive resin II" ) and does not contain an energy ray-curable compound other than the adhesive resin
  • XY-type adhesive composition the energy ray-curable adhesive resin II and other than the adhesive resin and an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition containing: and an energy ray-curable
  • tacky resin is used as a term indicating one or both of tacky resin I and tacky resin II.
  • the adhesive resin may be an adhesive resin having no functional group, but is preferably an adhesive resin having a functional group.
  • the adhesive resin can obtain, for example, reactivity with a cross-linking agent and energy ray curability, which will be described later.
  • functional groups possessed by the adhesive resin include unsaturated groups having energy beam polymerizability such as (meth)acryloyl groups, vinyl groups, and allyl groups; hydroxy groups, carboxy groups, amino groups, epoxy groups, and the like. . Among these, a (meth)acryloyl group and a hydroxy group are preferred.
  • the adhesive resin may have one type of functional group, or may have two or more types of functional groups.
  • adhesive resins examples include acrylic resins, urethane resins, rubber resins, and silicone resins. Among these, acrylic resins are preferred.
  • the acrylic resin is not particularly limited as long as it is a polymer containing an acrylic monomer as a monomer component, but preferably contains a structural unit derived from an alkyl (meth)acrylate.
  • alkyl (meth)acrylates include alkyl (meth)acrylates in which the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms.
  • the alkyl group of the alkyl (meth)acrylate may be linear or branched.
  • the acrylic resin preferably contains a structural unit derived from an alkyl (meth)acrylate having an alkyl group with 4 or more carbon atoms.
  • the structural unit derived from the alkyl (meth)acrylate having 4 or more carbon atoms in the alkyl group contained in the acrylic resin may be one type alone or two or more types.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group of the alkyl (meth)acrylate having 4 or more carbon atoms in the alkyl group is preferably 4 to 12, more preferably 4 to 8, and still more preferably 4 to 6.
  • alkyl (meth)acrylates in which the alkyl group has 4 or more carbon atoms include butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, nonyl ( meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate and the like.
  • 2-ethylhexyl (meth)acrylate is preferred, and 2-ethylhexyl acrylate is more preferred.
  • the content of the alkyl (meth)acrylate whose alkyl group has 4 or more carbon atoms is preferable among the structural units derived from acrylic monomers constituting the acrylic resin, from the viewpoint of further improving the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer. is 30 to 90% by mass, more preferably 40 to 80% by mass, and still more preferably 50 to 70% by mass.
  • the acrylic resin has a structural unit derived from an alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 4 or more carbon atoms, and an alkyl group having a carbon number of 4 or more. It preferably contains structural units derived from 1 to 3 alkyl (meth)acrylates.
  • the structural unit derived from the alkyl (meth)acrylate having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl group contained in the acrylic resin may be of one type or two or more types.
  • alkyl (meth)acrylates having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl group examples include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate and the like. . Among these, methyl (meth)acrylate and ethyl (meth)acrylate are preferred, and methyl methacrylate and ethyl acrylate are more preferred.
  • the content of structural units derived from alkyl (meth)acrylates having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 35% by mass, in the structural units derived from acrylic monomers constituting the acrylic resin. It is preferably 5 to 30% by mass, more preferably 15 to 25% by mass.
  • the acrylic resin preferably further contains structural units derived from functional group-containing monomers.
  • the acrylic resin contains a structural unit derived from a functional group-containing monomer, the functional group as a cross-linking starting point that reacts with the cross-linking agent or reacts with the unsaturated group-containing compound to create an unsaturated group in the side chain of the acrylic resin.
  • Functional groups can be introduced that allow the introduction of saturated groups.
  • the structural unit derived from the functional group-containing monomer contained in the acrylic resin may be one type alone or two or more types.
  • Examples of functional group-containing monomers include hydroxyl group-containing monomers, carboxy group-containing monomers, amino group-containing monomers, and epoxy group-containing monomers.
  • Examples of hydroxy group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl ( hydroxyalkyl (meth)acrylates such as meth)acrylate and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate; unsaturated alcohols such as vinyl alcohol and allyl alcohol;
  • Carboxy group-containing monomers include, for example, ethylenically unsaturated monocarboxylic acids such as (meth)acrylic acid and crotonic acid; ethylenically unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, itaconic acid, maleic acid and citraconic acid, and their anhydrides ; 2-carboxy
  • the content of the structural unit derived from the functional group-containing monomer is preferably 1 to 35% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, more preferably 15% by mass in the structural unit derived from the acrylic monomer constituting the acrylic resin. ⁇ 25% by mass.
  • the acrylic resin may contain, in addition to the above structural units, structural units derived from other monomers copolymerizable with acrylic monomers. Constituent units derived from other monomers contained in the acrylic resin may be one type alone or two or more types. Other monomers include, for example, styrene, ⁇ -methylstyrene, vinyltoluene, vinyl formate, vinyl acetate, acrylonitrile, acrylamide and the like.
  • the acrylic resin may further have an energy ray polymerizable unsaturated group introduced thereinto to impart energy ray curability.
  • the unsaturated group is, for example, a functional group of an acrylic resin containing structural units derived from a functional group-containing monomer, and a compound having a reactive substituent and an unsaturated group having reactivity with the functional group (hereinafter referred to as " (also referred to as "unsaturated group-containing compound").
  • the unsaturated group-containing compounds may be used singly or in combination of two or more. Examples of the unsaturated group that the unsaturated group-containing compound has include a (meth)acryloyl group, a vinyl group, and an allyl group.
  • a (meth)acryloyl group is preferred.
  • reactive substituents that the unsaturated group-containing compound has include an isocyanate group and a glycidyl group.
  • unsaturated group-containing compounds include 2-(meth)acryloyloxyethyl isocyanate, (meth)acryloylisocyanate, glycidyl (meth)acrylate and the like.
  • 2-(meth)acryloyloxyethyl isocyanate is preferred, and 2-methacryloyloxyethyl isocyanate is more preferred.
  • a functional group that reacts with the unsaturated group-containing compound is not particularly limited, but is preferably 30 to 90 mol%, more preferably 40 to 80 mol%, still more preferably 50 to 70 mol%.
  • the ratio of the functional group that reacts with the unsaturated group-containing compound is within the above range, sufficient energy ray curability can be imparted to the acrylic resin, and the functional group that has not reacted with the unsaturated group-containing compound is crosslinked.
  • the acrylic resin can be crosslinked by reacting with the agent.
  • the mass average molecular weight (Mw) of the acrylic resin is not particularly limited, but is preferably 300,000 to 1,500,000, more preferably 450,000 to 1,000,000, and still more preferably 600,000 to 900,000.
  • Mw mass average molecular weight
  • the content of the acrylic resin in the adhesive composition is preferably 70 to 99% by mass, more preferably 80 to 98% by mass, relative to the total amount (100% by mass) of the active ingredients of the adhesive composition. It is preferably 90 to 97% by mass.
  • the pressure-sensitive adhesive composition contains a pressure-sensitive adhesive resin having a functional group, it preferably further contains a cross-linking agent.
  • the cross-linking agent reacts with the adhesive resin having a functional group to cross-link the adhesive resins using the functional group as a cross-linking starting point.
  • the cross-linking agents may be used alone or in combination of two or more.
  • cross-linking agents examples include isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, aziridine-based cross-linking agents, and metal chelate-based cross-linking agents.
  • isocyanate-based cross-linking agents are preferable from the viewpoints of increasing cohesive strength and improving adhesive strength, and from the viewpoints of availability and the like.
  • isocyanate-based cross-linking agents include aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate; Alicyclic polyisocyanates such as methylcyclohexylene diisocyanate, methylenebis(cyclohexyl isocyanate), 3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate; hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate acyclic aliphatic polyisocyanates such as; polyvalent isocyanate compounds such as; Examples of isocyanate-based cross-linking agents include trimethylolpropane adduct-type modified products of the polyvalent isocyanate compounds, biuret-type modified products reacted with water, isocyanurate-type modified products containing an
  • trimethylolpropane adduct-type modified polyisocyanate compounds are preferred, trimethylolpropane adduct-type modified aromatic polyisocyanate compounds are more preferred, and trimethylolpropane adduct-type modified tolylene diisocyanate is even more preferred. .
  • the content of the cross-linking agent in the pressure-sensitive adhesive composition is appropriately adjusted according to the number of functional groups possessed by the pressure-sensitive adhesive resin, but is preferably 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive resin. parts, more preferably 0.03 to 7 parts by mass, and still more preferably 0.05 to 5 parts by mass.
  • the pressure-sensitive adhesive composition preferably further contains a photopolymerization initiator.
  • a photopolymerization initiator When the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive contains a photopolymerization initiator, the energy ray curing reaction tends to proceed sufficiently even with relatively low-energy energy rays such as ultraviolet rays.
  • a photoinitiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • photopolymerization initiators examples include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzylphenyl sulfide, tetramethylthiuram. monosulfide, azobisisobutyronitrile, dibenzyl, diacetyl, ⁇ -chloroanthraquinone, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide and the like.
  • 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone is preferred.
  • the content of the photopolymerization initiator in the adhesive composition is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.03 to 5 parts by mass, and still more preferably 100 parts by mass of the total amount of the adhesive resin. is 0.05 to 3 parts by mass.
  • the pressure-sensitive adhesive composition may further contain a tackifier from the viewpoint of further improving the adhesive strength.
  • the tackifier may be used alone or in combination of two or more.
  • tackifiers include rosin-based resins, terpene-based resins, styrene-based resins, pentene produced by thermal decomposition of petroleum naphtha, isoprene, piperine, obtained by copolymerizing C5 fractions such as 1,3-pentadiene. and C9 petroleum resins obtained by copolymerizing C9 fractions such as indene and vinyl toluene produced by thermal decomposition of petroleum naphtha, and hydrogenated resins obtained by hydrogenating these.
  • the content of the tackifier is preferably 0.01 to 65% by mass, relative to the total amount (100% by mass) of the active ingredients of the adhesive composition, and more It is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 1 to 40% by mass.
  • the pressure-sensitive adhesive composition may further contain an energy ray-curable compound other than the above components for the purpose of adjusting the cohesion of the pressure-sensitive adhesive layer.
  • the energy ray-curable compounds may be used singly or in combination of two or more. Examples of energy ray-curable compounds include monomers or oligomers that can be polymerized and cured by energy ray irradiation.
  • energy ray-curable compounds include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and 1,4-butylene glycol.
  • Polyvalent (meth)acrylate monomers such as di(meth)acrylate and 1,6-hexanediol (meth)acrylate; urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate oligomers such as acrylate; Among these, from the viewpoint of curability, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate is preferred, and dipentaerythritol hexaacrylate is more preferred.
  • the content of the energy ray-curable compound is not particularly limited, but is preferably 10 to 100 parts by mass, more preferably 10 to 100 parts by mass, based on 100 parts by mass of the adhesive resin. is 20 to 70 parts by mass, more preferably 30 to 40 parts by mass.
  • the adhesive layer is a thermally expandable layer containing thermally expandable particles
  • the adhesive layer can be formed from an adhesive composition containing thermally expandable particles.
  • Preferred aspects of the type and content of the thermally expandable particles are the same as the preferred aspects of the type and content of the thermally expandable particles in the description of the thermally expandable layer above.
  • the pressure-sensitive adhesive composition contains additives for pressure-sensitive adhesives that are commonly used in pressure-sensitive adhesives, in addition to the components described above, within a range that does not impair the effects of the present invention. good too.
  • adhesive additives include antioxidants, softeners (plasticizers), rust inhibitors, pigments, dyes, retarders, reaction accelerators (catalysts), and ultraviolet absorbers. These adhesive additives may be used singly or in combination of two or more.
  • the content of each adhesive additive is preferably 0.0001 to 0.0001 to 100 parts by mass of the adhesive resin independently. 20 parts by mass, more preferably 0.001 to 10 parts by mass.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1-80 ⁇ m, more preferably 2-60 ⁇ m, still more preferably 3-40 ⁇ m.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 ⁇ m or more, good adhesiveness is obtained, and sufficient adhesion to the adherend (W) tends to be easily obtained.
  • the thickness of the adhesive layer is 80 ⁇ m or less, it tends to be easy to suppress the generation of tape scraps when the adhesive sheet is cut.
  • the method for producing the adhesive sheet of one embodiment of the present invention is not particularly limited, and the adhesive sheet can be produced by a known method.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention can be produced, for example, by a method including step a of preparing a base material and step b of forming a pressure-sensitive adhesive layer. Further, when the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention has an intermediate layer, in addition to the above steps a and b, the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention having the intermediate layer is prepared by a method including step c of forming an intermediate layer. Adhesive sheets can be manufactured. Each step will be described below.
  • Step a is a step of preparing a substrate.
  • the base material of the pressure-sensitive adhesive sheet of one embodiment of the present invention a commercially available one may be used, and the base material may be formed by a known method.
  • the substrate laminate includes, for example, a thermally expandable substrate on one side of the non-thermally expandable substrate. It can be formed by applying the solventless resin composition for forming the substrate and then irradiating it with an energy ray.
  • known methods can be used, for example, spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, and die coating. method, gravure coating method, and the like.
  • Step b is a step of forming an adhesive layer.
  • the method of forming the pressure-sensitive adhesive layer may be, for example, a method in which the pressure-sensitive adhesive composition is directly applied to the surface of the layer to be laminated, and then dried.
  • a method may also be used in which a pressure-sensitive adhesive layer is formed by drying after application to the surface, and the pressure-sensitive adhesive layer is attached to the surface of the layer to be laminated.
  • the layer on which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated is determined according to the desired structure of the pressure-sensitive adhesive sheet.
  • the method of applying the pressure-sensitive adhesive composition includes the same method as the method of applying the solventless resin composition.
  • the conditions for drying the pressure-sensitive adhesive composition may be appropriately adjusted according to the type and content of the solvent in the pressure-sensitive adhesive composition.
  • Step c is a step of forming an intermediate layer.
  • the method for forming the intermediate layer may be, for example, a method in which the intermediate layer composition is applied directly to the surface of the substrate and then cured by irradiation with energy rays. may be applied to the release-treated surface of (1), irradiated with energy rays to form an intermediate layer, and the intermediate layer is attached to one surface of the base material.
  • the method for applying the intermediate layer composition includes the same method as the method for applying the solventless resin composition.
  • the intermediate layer composition may be irradiated with energy rays only once, it is preferable to irradiate the intermediate layer multiple times from the viewpoint of facilitating control of the degree of curing of the intermediate layer.
  • the energy beam is ultraviolet rays
  • the ultraviolet irradiation conditions for the first irradiation are such that the ultraviolet illuminance is preferably 30 to 500 mW/cm 2 , more preferably 50 to 340 mW/cm 2 , and the ultraviolet irradiation amount is It is preferably 100 to 2,500 mJ/cm 2 , more preferably 150 to 2,000 mJ/cm 2 .
  • the ultraviolet irradiation conditions for the second irradiation are such that the ultraviolet irradiation intensity is preferably 100 to 1,000 mW/cm 2 , more preferably 200 to 500 mW/cm 2 , and the ultraviolet irradiation amount is preferably 300 to 5,000 mW/cm 2 . 000 mJ/cm 2 , more preferably 500 to 3,000 mJ/cm 2 . It is preferable that the illuminance and the amount of irradiation be higher than the illuminance and the amount of irradiation in the irradiation of the first time. Irradiation with energy rays is preferably carried out in a state in which the coating film is shielded from oxygen. As a method of shielding the coating film from oxygen, for example, a method of sticking a release sheet on the coating film can be mentioned.
  • the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the intermediate layer in step b to produce a pressure-sensitive adhesive sheet having the base material, the intermediate layer and the pressure-sensitive adhesive layer in this order. can do.
  • the adherend (W) is not particularly limited, and examples thereof include building materials, interior materials, electronic parts, etc. to which the temporary fixing sheet can be applied.
  • the adherend (W) is preferably an electronic component, more preferably a semiconductor wafer.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet used in the pressure-sensitive adhesive sheet expansion method of one embodiment of the present invention is preferably a semiconductor processing pressure-sensitive adhesive sheet for processing a semiconductor wafer.
  • the method for expanding an adhesive sheet of one embodiment of the present invention is preferably applied to a method for manufacturing a semiconductor device in which a semiconductor wafer is processed using an adhesive sheet for semiconductor processing.
  • a semiconductor wafer is obtained by forming, for example, circuits, bumps, etc. on a substrate for a semiconductor wafer.
  • Substrates for semiconductor wafers include, for example, silicon wafers; wafers of gallium arsenide, silicon carbide, sapphire, lithium tantalate, lithium niobate, gallium nitride, indium phosphide, etc.; and glass wafers.
  • the shape of the semiconductor wafer in plan view is not particularly limited, but a disc-shaped one is usually used.
  • the size of the disk-shaped semiconductor wafer may be appropriately selected according to the equipment used in each process, the manufacturing method, etc. Examples thereof include those with a diameter of 8 inches (200 mm) and a diameter of 12 inches (300 mm). .
  • the thickness of the semiconductor wafer is not particularly limited, it is preferably 100 to 1,000 ⁇ m, more preferably 200 to 900 ⁇ m, and still more preferably 300 to 800 ⁇ m from the viewpoint of handling and processing of the semiconductor wafer. However, when the semiconductor wafer has protrusions, the thickness of the protrusions is not included in the thickness of the semiconductor wafer.
  • the adherend (W) may have projections on one surface (W ⁇ ).
  • Examples of the adherend (W) having protrusions include semiconductor wafers having circuits, bumps, and the like. Among these, the adherend (W) having protrusions is preferably a semiconductor wafer having bumps as protrusions.
  • Examples of bumps include bumps made of metals such as gold, silver, copper, nickel, tin, lead, and alloys containing these metals.
  • the shape of the bump is not particularly limited, and examples thereof include spherical, cylindrical, elliptical cylindrical, spheroidal, conical, elliptical conical, cubic, rectangular parallelepiped, and trapezoidal shapes.
  • the number of bumps formed on the semiconductor wafer is not particularly limited, and can be changed as appropriate according to design requirements.
  • the height of the protrusions of the adherend (W) is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 ⁇ m, more preferably 10 to 500 ⁇ m, from the viewpoint of significantly exhibiting the effects of the pressure-sensitive adhesive sheet expansion method of one embodiment of the present invention. is 15 to 400 ⁇ m, more preferably 20 to 300 ⁇ m.
  • FIG. 2 shows a schematic plan view of a semiconductor wafer W having bumps as projections (hereinafter also referred to as "bumped wafer W") as an example of an adherend (W) having projections.
  • bump wafer W bumps as projections
  • a plurality of devices 6 partitioned by dividing lines 5 are formed on the surface W ⁇ of the wafer W with bumps.
  • a circuit (not shown) is formed in each device 6, and as shown in the enlarged view of FIG. 2, a plurality of bumps 7 are formed as protrusions.
  • the surface W ⁇ of the wafer W with bumps has a device region 8 in which a plurality of devices 6 are arranged via the dividing lines 5 and a device non-formation region 9 which becomes a remaining portion when singulating.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet of one aspect of the present invention is prepared using the pressure-sensitive adhesive layer as a sticking surface on one side of the adherend (W). It is attached to the surface (W ⁇ ) which is a surface.
  • FIGS. 3A and 3B show cross-sectional views for explaining the process of attaching the pressure-sensitive adhesive sheet 10 of one embodiment of the present invention to the surface W ⁇ of the wafer W with bumps.
  • FIG. 3(a) corresponds to a cross-sectional view of the wafer W with bumps shown in FIG. That is, the wafer W with bumps has, on the surface W ⁇ , a plurality of devices 6 partitioned by the dividing lines 5, a plurality of bumps 7 formed on each device 6, a device region 8 and a device non-formation region 9.
  • FIG. FIG. 3B shows a state in which the adhesive sheet 10 is attached to the surface W ⁇ of the wafer W with bumps.
  • the adhesive sheet 10 is attached to the surface W ⁇ using the adhesive layer as the attachment surface, and the surface opposite to the attachment surface is the surface on the substrate side. S ⁇ .
  • the adhesive sheet 10 may be any adhesive sheet that is used in the method for expanding an adhesive sheet according to one embodiment of the present invention, such as the above-described adhesive sheet 10a and adhesive sheet 10b.
  • FIG. 3B on the substrate-side surface S ⁇ of the adhesive sheet 10 attached to the wafer W with bumps, there are convex portions 11 caused by the bumps 7 and portions other than the convex portions 11 .
  • a certain non-convex portion 12 is formed.
  • the area of the pressure-sensitive adhesive sheet 10 covering the device area 8 shown in FIG. is the non-convex portion 12 .
  • the method of sticking the adhesive sheet is not particularly limited, and for example, a conventionally known method using a laminator or the like can be applied.
  • Step 1 is a step of bringing a coolant into contact with a partial region (A) of the substrate-side surface (S ⁇ ) of the pasted pressure-sensitive adhesive sheet.
  • the region (A) is a partial region of the substrate-side surface (S ⁇ ) and is a region with which the coolant is brought into contact. That is, the pressure-sensitive adhesive sheet is usually suppressed in expansion at the portion having the region (A) on the surface.
  • the region (A) may be arbitrarily set according to the surface shape of the adhesive sheet after being attached to the adherend (W), the purpose of implementing the method for expanding the adhesive sheet of one embodiment of the present invention, and the like.
  • the coolant used in step 1 is brought into contact with a partial region (A) of the substrate-side surface (S ⁇ ) of the pressure-sensitive adhesive sheet, and when the heating in step 2 is performed, the region ( It is used for the purpose of suppressing the thermal expansion of the adhesive sheet in the portion having A) on the surface.
  • the material of the coolant is not particularly limited as long as it has a cooling effect, but it is preferably a heat conductor.
  • the coolant is a heat conductor
  • heat conduction from the region (A) of the adhesive sheet in contact with the heat conductor to the heat conductor causes a cooling effect on the portion having the region (A) on the surface. is obtained.
  • the heat conductor used as the coolant may have an artificial cooling mechanism such as a coolant or the like circulating inside in order to enhance the cooling effect. , it may be one that does not have an artificial cooling mechanism. That is, the heat conductor itself may be intentionally uncooled. Even in this case, the heat conductor can exhibit a cooling effect by naturally radiating the heat absorbed from the portion in contact with the area (A) of the adhesive sheet from the surface of the heat conductor itself.
  • Metal is preferable as a heat conductor.
  • metals include single metals such as copper, silver, gold, iron, zinc, lead, tin, nickel, chromium and aluminum; alloys such as stainless steel and brass.
  • copper and aluminum are preferred, and copper is more preferred, from the viewpoint of versatility and thermal conductivity.
  • the thermal conductivity of the heat conductor at 20°C is preferably 50 W/m ⁇ K or more, more preferably 100 W/m ⁇ K or more, still more preferably 200 W/m ⁇ K or more, from the viewpoint of enhancing the cooling effect. again.
  • the thermal conductivity of the coolant, which is a heat conductor, at 20 ° C. may be 1,000 W / m K or less, may be 700 W / m K or less, or may be 500 W / It may be m ⁇ K or less.
  • the coolant preferably has a flat surface as a surface (hereinafter also referred to as "surface (C ⁇ )") to be brought into contact with the surface (S ⁇ ) on the substrate side.
  • surface (C ⁇ ) a flat surface as a surface
  • the shape and size of the flat surface are not particularly limited. ) may be substantially the same in shape and size.
  • the shape and size of the surface (C ⁇ ) of the coolant are made substantially the same as the shape and size of the expansion suppression region, and the shape of the surface (C ⁇ ) and the shape of the expansion suppression region are aligned to form the expansion suppression region. It becomes easy to selectively suppress the thermal expansion of the adhesive sheet in the portion on the surface. That is, at this time, the surface of the expansion suppression region becomes the region (A) in step 1.
  • the shape and size of the surface (C ⁇ ) of the coolant are not limited to those described above, and may be smaller than the area of the expansion suppression region, for example.
  • the thermal conductivity of the coolant is high, the cooling effect is likely to be exhibited over a region wider than the region (A) in contact with the surface (C ⁇ ) of the coolant, so the area of the expansion suppression region Even in a mode in which the surface (C ⁇ ) of the coolant having a small area is brought into contact with part of the expansion suppression region, thermal expansion of the expansion suppression region tends to be suppressed.
  • the area of the coolant surface (C ⁇ ) is set to be larger than the area of the upper surface of the convex portion. You may contact the whole surface. Increasing the area of the coolant surface (C ⁇ ) tends to increase the cooling effect of the portion in contact with the coolant surface (C ⁇ ).
  • the thickness of the coolant is preferably 100 times or more, more preferably 500 times or more, and still more preferably 1,000 times or more the thickness of the thermally expandable layer.
  • the thickness of the coolant may be 10,000 times or less, 6,000 times or less, or 3,000 times the thickness of the thermally expandable layer from the viewpoint of ease of handling. It may be below.
  • the coolant 13 is brought into contact with the upper surface of the convex portions 11.
  • a cross-sectional view illustrating the process is shown. That is, in the embodiment of FIG. 4, the upper surface of the convex portion 11 corresponds to the region (A).
  • the coolant 13 is in contact with the entire upper surface of the convex portion 11, and the size of the surface C ⁇ that contacts the surface S ⁇ of the coolant 13 on the substrate side is substantially the same as the size of the convex portion 11. .
  • Step 2 the adherend (W) is heated to a temperature (t) at which the thermally expandable particles start to expand, while the coolant is in contact with the adherend, so that the pressure-sensitive adhesive sheet is heated to the adherend.
  • the cooling effect of the coolant suppresses the expansion of the portion of the adhesive sheet having the region (A) on the surface, while the region other than the region (A) is on the surface.
  • step 2 the adherend (W) is heated to the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles or higher, so that the pressure-sensitive adhesive sheet attached to the adherend (W) is transformed into the adherend (W ) side.
  • a method of heating the adherend (W) for example, a method of heating a surface (W ⁇ ) opposite to the surface (W ⁇ ) of the adherend (W) may be used. ) is exposed, the exposed surface (W ⁇ ) may be heated.
  • the adherend (W) having excellent thermal conductivity can heat the entire adherend (W) using heat conduction even by heating a part of the adherend (W).
  • a method of bringing a heated thermal conductor into contact with the adherend (W) is preferable from the viewpoint of facilitating control of the portion to be heated and the heating temperature.
  • a more preferred method is to bring a heated thermal conductor into contact with the surface (W ⁇ ) of the body (W).
  • the method of bringing the heated thermal conductor into contact with the adherend (W) is preferably a method of bringing a thermal conductor having a smooth surface into contact with the adherend (W) from the viewpoint of uniform heating. More preferred is the method of contact with a heating plate. Examples of the heating plate include metal plates and ceramic plates.
  • the surface temperature of the heated heat conductor that is brought into contact with the adherend (W) is equal to or higher than the expansion start temperature (t) of the thermally expandable particles, and is preferably "a temperature higher than the expansion start temperature (t)". It is preferably “expansion start temperature (t) + 2°C” or higher, more preferably “expansion start temperature (t) + 4°C” or higher, and even more preferably “expansion start temperature (t) + 5°C” or higher.
  • the surface temperature of the heated thermal conductor is preferably "expansion start temperature (t) + 50 ° C.” or less from the viewpoint of energy saving and suppression of thermal change of the adherend (W) during heat peeling.
  • the surface temperature of the heated heat conductor that is brought into contact with the adherend (W) is within the range of the expansion start temperature (t) or higher. It is preferably 130° C. or lower, more preferably 120° C. or lower, and still more preferably 115° C. or lower.
  • the surface W ⁇ of the wafer W with bumps opposite to the surface W ⁇ is expanded by the thermally expandable particles while the coolant 13 is in contact with the upper surfaces of the protrusions 11.
  • FIGS. The step of heating above temperature (t) is shown.
  • the adhesive sheet 10 is heated by bringing a heating plate 14 into contact with the surface W ⁇ of the wafer W with bumps.
  • the cooling effect of the coolant 13 suppresses the thermal expansion of the portion of the adhesive sheet 10 having the upper surfaces of the convex portions 11 with which the coolant 13 is in contact.
  • the height of the portion 12' where the non-convex portion 12 expands in FIG. the height difference between the convex portions 11 and the non-convex portions 12 is reduced, and the surface S ⁇ on the substrate side is flattened.
  • the amount of expansion of the portion having the non-convex portion 12 on the surface in step 2 can be adjusted, for example, by the content of the thermally expandable particles in the thermally expandable layer. That is, if the height difference between the convex portion and the non-convex portion is large before step 2, the amount of expansion may be increased by increasing the content of the thermally expandable particles in the thermally expandable layer. Moreover, if the height difference between the convex portion and the non-convex portion is small before step 2, the amount of expansion may be reduced by reducing the content of the thermally expandable particles in the thermally expandable layer.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet can be partially expanded after being attached to an adherend.
  • the adherend (W) to which the partially expanded pressure-sensitive adhesive sheet is attached may then be subjected to processing, inspection, and the like, if necessary.
  • Processing includes, for example, grinding of the adherend (W), singulation, and the like.
  • the inspection include defect inspection using an optical microscope and laser (for example, dust inspection, surface scratch inspection, wiring pattern inspection, etc.), visual surface inspection, and the like.
  • FIG. 6 shows a cross-sectional view for explaining the step of thinning the wafer W with bumps while the surface S ⁇ of the adhesive sheet 10 on the substrate side is fixed.
  • the substrate-side surface S ⁇ of the adhesive sheet 10 is fixed to a support device 15 such as a chuck table, and the back surface W ⁇ of the bumped wafer W is ground by a grinder 16 to a desired thickness. Since the substrate-side surface S ⁇ of the adhesive sheet 10 has excellent flatness, a uniform pressing force is applied to the entire back surface of the semiconductor wafer, and the semiconductor wafer can be thinned with a uniform thickness.
  • a peeling step of peeling the pressure-sensitive adhesive sheet from the adherend (W) after processing may be performed.
  • the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet is formed from an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive
  • the pressure-sensitive adhesive is cured by irradiation with energy rays to reduce the peel strength of the pressure-sensitive adhesive layer, and then the pressure-sensitive adhesive sheet is removed. exfoliate.
  • the present invention will be specifically described by the following examples, but the present invention is not limited to the following examples.
  • the physical property values in each example are values measured by the following methods.
  • Adhesive sheets 1 to 3 were produced by the method shown below.
  • the intermediate layer composition obtained above is coated on a substrate PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name “Cosmo Shine A4160", thickness 50 ⁇ m) using a knife method. An intermediate layer composition layer was formed by coating so that the thickness was 100 ⁇ m. Next, a PET-based release film (manufactured by Lintec Corporation, trade name “SP-PET381130”, thickness 38 ⁇ m) is laminated on the exposed surface of the formed intermediate layer composition layer. The layer was shielded from oxygen.
  • a PET-based release film manufactured by Lintec Corporation, trade name “SP-PET381130”, thickness 38 ⁇ m
  • the first UV irradiation is performed under the conditions of an illuminance of 80 mW/cm 2 and an irradiation amount of 200 mJ/cm 2 , and then using a high-pressure mercury lamp, an illuminance of 330 mW/cm 2 and an irradiation amount.
  • the intermediate layer composition layer was cured by performing a second UV irradiation under the condition of 1,260 mJ/cm 2 to produce a substrate with an intermediate layer having a release sheet.
  • EHA 2-ethylhexyl acrylate
  • EA ethyl acrylate
  • MMA methyl methacrylate
  • HOA 2-hydroxyethyl acrylate
  • MOI 2-methacryloyloxyethyl isocyanate
  • Polymer mass average molecular weight (Mw) 800,000) 100 parts by mass, trimethylolpropane adduct tolylene diisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, trade name “Coronate L”) 1.1 parts by mass as a cross-linking agent, and light 2.2 parts by mass of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (manufactured by IGM Resins B.V., trade name “Omnirad 651”) as a polymerization initiator was blended, and toluene was added to adjust the solid content concentration. After adjusting to 30% by mass, stirring was performed for 30 minutes to prepare an adhesive composition.
  • Mw mass average molecular weight
  • the prepared adhesive composition is applied to a PET release film (manufactured by Lintec Corporation, trade name “SP-PET381130”, thickness 38 ⁇ m), dried, and a 10 ⁇ m thick adhesive on the release film. A layer was formed to obtain a pressure-sensitive adhesive layer with a release film.
  • Production example 4 [Production of Adhesive Sheet 4] A pressure-sensitive adhesive sheet 4 was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the heat-expandable particles were not added to the intermediate layer composition.
  • the region including the protrusions may be referred to as the "projection forming region", and the region not including the protrusions may be referred to as the "projection non-forming region”.
  • the silicon wafer with the adhesive sheet before thermal expansion is hereinafter referred to as "wafer with adhesive sheet (1)".
  • the silicon wafer side surface of the adhesive sheet-attached wafer (1) is placed on a flat surface, and the substrate side surface is arranged so as to be the contact surface of the constant pressure thickness gauge, and the protrusion is
  • the thickness was measured at four points for each of the portion-formed region and the projection-non-formed region.
  • the thickness was measured at four points equidistant from each other on a circumference of a circle concentric with the projection forming region and having a diameter of about 1/2.
  • the projection non-formation region was set to four points equidistantly spaced from each other on a circle concentric with the projection non-formation region and having a diameter of about 2/3.
  • Table 1 shows the average thickness of the protrusion-formed region and the average thickness of the non-protrusion-formed region in the adhesive sheet-attached wafer (1). As shown in Table 1, the thickness of the projection-formed region is greater than the thickness of the projection-free region, indicating that the projections are formed on the base-side surface of the pressure-sensitive adhesive sheet.
  • the adhesive sheet-attached wafer (1) was placed on a flat surface so that the substrate side surface of the adhesive sheet faced upward, and a cylindrical copper (diameter: 60 mm, thickness: 200 mm) was placed as a coolant. was laminated on the adhesive sheet-attached wafer (1) so that the bottom surface was aligned with the projection forming region on the surface of the substrate side. Subsequently, the copper-laminated adhesive sheet-attached wafer (1) is placed so that the surface on the silicon wafer side comes into contact with the hot plate, and the surface on the substrate side of the copper-laminated adhesive sheet does not come into contact with the hot plate.
  • wafer with adhesive sheet (2) The wafer with the adhesive sheet after thermal expansion is hereinafter referred to as "wafer with adhesive sheet (2)".
  • the thickness difference [(B)-(A)] in the wafer with an adhesive sheet (1) before the heat expansion treatment is greater than the thickness difference [(B)-(A)] with the wafer with the adhesive sheet after the heat expansion treatment (
  • the thickness difference [(B)-(A)] in 2) is smaller, indicating that the pressure-sensitive adhesive sheet can be partially expanded.
  • the thickness difference to be reduced varies depending on the content of the thermally expandable particles. It can be seen that the amount of expansion in the desired region can be adjusted.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

基材と、粘着剤層と、を有する粘着シートであって、該粘着シートに含まれる少なくとも1層が、熱膨張性粒子を含有する熱膨張性層である粘着シートを、前記粘着剤層を貼付面として、被着体(W)の一方の面である面(Wα)に貼付した後に、部分的に膨張させる方法であって、工程1及び2を含む、粘着シートの膨張方法に関する。

Description

粘着シートの膨張方法
 本発明は、粘着シートの膨張方法に関する。
 粘着シートは、部材を半永久的に固定する用途だけでなく、建材、内装材、電子部品等を加工したり検査したりする際に、加工及び検査の対象となる部材(以下、「被着体」ともいう)を仮固定するための仮固定用シートとして使用される場合がある。例えば、半導体装置の製造方法においては、半導体ウエハの裏面研削、個片化等の加工が行われているが、これらの加工は、半導体ウエハの回路面を保護するため、半導体ウエハの回路面に仮固定用シートを貼付した状態で行われている。
 仮固定用シートとしては、通常、粘着剤層と、該粘着剤層を支持する基材と、を有するものが用いられる。該仮固定用シートの粘着剤層を被着体に貼付し、所定の加工を行った後、仮固定用シートは被着体の表面から剥離除去される。
 ところで、仮固定用シートの被着体の表面は必ずしも平面であるとは限らず、仮固定用シートは、例えば、突起等を有する表面に貼付される場合がある。仮固定用シートを貼付する被着体の表面が平面ではない場合、貼付した仮固定用シートの貼付面と反対側にある基材側の表面も、被着体の表面の形状に影響を受けて、平面にならないことがある。
 例えば、近年、半導体デバイスモジュールを小型化するための技術として、回路面に数十~数百μm程度の高さを有するバンプが複数形成された半導体ウエハ(以下、「バンプ付きウエハ」ともいう)を裏面研削及び個片化した後、これらのバンプを配線基板に直接接合するフリップチップボンディング技術が実用化されている。
 バンプ付きウエハのバンプ形成面に仮固定用シートを貼付すると、該仮固定用シートはバンプを覆う部分が他の部分よりも盛り上がり、貼付面とは反対側の基材側の表面に凸部が発生する場合がある。該凸部が発生した表面を固定して、半導体ウエハの裏面研削を行うと、裏面研削後の半導体ウエハは厚さの均一性に劣るものになる。
 上記の問題を緩和するために、突起部を有する表面に貼付される仮固定用シートには、突起部を埋め込むための中間層を設けられることがある。
 特許文献1には、基板の研削用の仮固定用テープとして、支持基材と、該支持基材の一方の面に積層された粘着層とを備える仮固定用テープであって、前記支持基材は、前記基板を支持する第1の層と、該第1の層と前記粘着層との間に位置し、クッション性を有する第2の層とを有し、突起物を少なくとも一方の面の表面に有する前記基板を、前記粘着層に接合したとき、前記突起物の先端が前記粘着層を貫通して、前記第2の層内に位置しており、前記エネルギー線の照射後における前記粘着層の粘着力をF1[N/25mm]とし、前記第2の層の粘着力をF2[N/25mm]としたとき、F1>F2なる関係を満足することを特徴とする仮固定用テープが開示されている。
特開2020-77799号公報
 特許文献1の仮固定用テープによると、基板の表面に設けられた突起物は粘着層を貫通し、中間層に相当する第2の層内に位置した状態となる。これによって基板の全面に亘って、均一な押圧力を付与することができるため均一な厚さで薄くすることができるとされている。
 特許文献1の技術のように、仮固定用シートに中間層を形成し、該中間層によって被着体の突起部を埋め込む方法によって、仮固定用シートの基材側の表面における凸部の発生を抑制できる傾向にある。
 しかしながら、例えば、突起部の高さが大きい場合、又は突起部の面積が広い場合には、中間層に突起部を埋め込む方法のみによって凸部の発生を抑制することが困難な場合がある。また、埋め込み性を高めると中間層の機械強度が低くなり、突起部周辺の保護が不十分となったり、剥離後に、中間層の一部が突起部周辺に付着する場合がある。さらに、被着体の表面が緩やかな曲面である場合等は、中間層によって埋め込むこと自体が困難である。これらの問題を解決するための方法として、被着体に貼付した後に、貼付した粘着シートの表面形状を、所望する形状に整える技術が望まれるが、当該技術は未だ確立されていない。
 本発明は、以上の実情に鑑みてなされたものであり、被着体に貼付した後に部分的に膨張させることができる粘着シートの膨張方法を提供することを目的とする。
 本発明者らは、鋭意検討の結果、基材と、粘着剤層と、を有する粘着シートを用い、特定の工程を行うことによって、上記課題を解決できることを見出し、以下の本発明を完成させた。
 すなわち、本発明は、下記[1]~[13]に関する。
[1]基材と、粘着剤層と、を有する粘着シートであって、該粘着シートに含まれる少なくとも1層が、熱膨張性粒子を含有する熱膨張性層である粘着シートを、前記粘着剤層を貼付面として、被着体(W)の一方の面である面(Wα)に貼付した後に、部分的に膨張させる方法であって、下記工程1及び2を含む、粘着シートの膨張方法。
工程1:前記貼付した粘着シートが有する前記基材側の表面(Sα)の一部の領域(A)に冷却材を接触させる工程
工程2:前記領域(A)に冷却材を接触させた状態で、前記被着体(W)を、前記熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上に加熱することによって、前記粘着シートを前記被着体(W)側から加熱し、前記冷却材の冷却効果によって、前記粘着シートのうち、前記領域(A)を表面に有する部分の膨張を抑制しながら、前記領域(A)以外の領域を表面に有する部分を膨張させる工程
[2]前記冷却材の20℃における熱伝導率が、50W/m・K以上である、上記[1]に記載の粘着シートの膨張方法。
[3]前記冷却材が、金属である、上記[1]又は[2]に記載の粘着シートの膨張方法。
[4]前記冷却材の厚さが、前記熱膨張性層の厚さの100倍以上である、上記[1]~[3]のいずれかに記載の粘着シートの膨張方法。
[5]前記粘着剤層の厚さが、1~80μmである、上記[1]~[4]のいずれかに記載の粘着シートの膨張方法。
[6]前記熱膨張性粒子の含有量が、前記熱膨張性層の全質量(100質量%)に対して、0.05~25質量%である、上記[1]~[5]のいずれかに記載の粘着シートの膨張方法。
[7]前記熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)が、50℃以上125℃未満である、上記[1]~[6]のいずれかに記載の粘着シートの膨張方法。
[8]前記粘着シートが、さらに、前記基材と前記粘着剤層との間に中間層を有するものである、上記[1]~[7]のいずれかに記載の粘着シートの膨張方法。
[9]前記中間層の厚さが、10~500μmである、上記[8]に記載の粘着シートの膨張方法。
[10]前記中間層が、前記熱膨張性層である、上記[8]又は[9]に記載の粘着シートの膨張方法。
[11]前記工程2における加熱を、前記被着体(W)の前記面(Wα)とは反対側の面(Wβ)を加熱することによって行う、上記[1]~[10]のいずれかに記載の粘着シートの膨張方法。
[12]前記粘着シートが、半導体加工用粘着シートであり、前記被着体(W)が半導体ウエハである、上記[1]~[11]のいずれかに記載の粘着シートの膨張方法。
[13]前記半導体ウエハが、突起部を有する半導体ウエハである、上記[12]に記載の粘着シートの膨張方法。
 本発明によると、被着体に貼付した後に部分的に膨張させることができる粘着シートの膨張方法を提供することができる。
粘着シートの構成の一例を示す断面図である。 突起部を有する半導体ウエハを説明するための平面図である。 粘着シートの貼付工程の一例を説明する、断面図である。 本発明の粘着シートの膨張方法の工程の一例を説明する、断面図である。 本発明の粘着シートの膨張方法の工程の一例を説明する、断面図である。 半導体ウエハを薄化させる工程の一例を説明する断面図である。
 本明細書において、好ましい数値範囲について、段階的に記載された下限値及び上限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。例えば、「好ましくは10~90、より好ましくは30~60」という記載から、「好ましい下限値(10)」と「より好ましい上限値(60)」とを組み合わせて、「10~60」とすることもできる。
 本明細書において、例えば、「(メタ)アクリル酸」とは、「アクリル酸」と「メタクリル酸」の双方を示し、他の類似用語も同様である。
 本明細書において、「エネルギー線」とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものを意味し、その例として、紫外線、放射線、電子線等が挙げられる。紫外線は、例えば、紫外線源として無電極ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、UV-LED等を用いることで照射できる。電子線は、電子線加速器等によって発生させたものを照射できる。
 本明細書において、「エネルギー線重合性」とは、エネルギー線を照射することにより重合する性質を意味する。また、「エネルギー線硬化性」とは、エネルギー線を照射することにより硬化する性質を意味する。
 本明細書において、「層」が「非熱膨張性層」であるか「熱膨張性層」であるかは、以下のように判断する。
 判断の対象となる層が熱膨張性粒子を含有する場合、当該層を熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)で、3分間加熱処理する。下記式から算出される体積変化率が5%未満である場合、当該層は「非熱膨張性層」であると判断し、5%以上である場合、当該層は「熱膨張性層」であると判断する。
・体積変化率(%)={(加熱処理後の前記層の体積-加熱処理前の前記層の体積)/加熱処理前の前記層の体積}×100
 なお、熱膨張性粒子を含有しない層は「非熱膨張性層」であるとする。
 本明細書において、「層」が非熱膨張性層である場合、上記式から算出される当該非熱膨張性層の体積変化率(%)は、5%未満であり、好ましくは2%未満、より好ましくは1%未満、更に好ましくは0.1%未満、より更に好ましくは0.01%未満である。
 また、本明細書において、「層」が非熱膨張性層である場合、当該非熱膨張性層は、熱膨張性粒子を含有しないことが好ましいが、本発明の目的に反しない範囲で熱膨張性粒子を含有していてもよい。当該非熱膨張性層が熱膨張性粒子を含有する場合、その含有量は少ないほど好ましく、当該非熱膨張性層の全質量(100質量%)に対して、好ましくは3質量%未満、より好ましくは1質量%未満、更に好ましくは0.1質量%未満、より更に好ましくは0.01質量%未満、より更に好ましくは0.001質量%未満である。
 本明細書において、半導体ウエハの「回路面」とは回路が形成された面を指し、半導体ウエハの「裏面」とは回路が形成されていない面を指す。
 本明細書において、「半導体装置」とは、半導体特性を利用することで機能し得る装置全般を指す。例えば、集積回路を備えるウエハ、集積回路を備える薄化されたウエハ、集積回路を備えるチップ、集積回路を備える薄化されたチップ、これらのチップを含む電子部品、及び当該電子部品を備える電子機器類等が挙げられる。
 本明細書において、各層の厚さは、23℃における厚さであり、実施例に記載の方法により測定された値を意味する。
 本明細書に記載されている作用機序は推測であって、本発明の効果を奏する機序を限定するものではない。
[粘着シートの膨張方法]
 本発明の一態様の粘着シートの膨張方法は、基材と、粘着剤層と、を有する粘着シートであって、該粘着シートに含まれる少なくとも1層が、熱膨張性粒子を含有する熱膨張性層である粘着シートを前記粘着剤層を貼付面として、被着体(W)の一方の面である面(Wα)に貼付した後に、部分的に膨張させる方法であって、下記工程1及び2を含む、粘着シートの膨張方法である。
工程1:前記貼付した粘着シートが有する前記基材側の表面(Sα)の一部の領域(A)に冷却材を接触させる工程
工程2:前記領域(A)に冷却材を接触させた状態で、前記被着体(W)を、前記熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上に加熱することによって、前記粘着シートを前記被着体(W)側から加熱し、前記冷却材の冷却効果によって、前記粘着シートのうち、前記領域(A)を表面に有する部分の膨張を抑制しながら、前記領域(A)以外の領域を表面に有する部分を膨張させる工程
 以下、初めに本発明の一態様の粘着シートの膨張方法に用いる粘着シートについて説明し、その後、本発明の一態様の粘着シートの膨張方法に含まれる各工程について詳細に説明する。
<粘着シート>
 本発明の一態様の粘着シートは、基材と、粘着剤層と、を有する粘着シートであって、該粘着シートに含まれる少なくとも1層が、熱膨張性粒子を含有する熱膨張性層である粘着シートである。
 本発明の一態様の粘着シートは、被着体(W)の一方の面である面(Wα)に貼付される。
 図1(a)には、本発明の一態様の粘着シートである、基材1及び粘着剤層2が積層された粘着シート10aが示されている。
 本発明の一態様の粘着シートは、粘着シート10aのように、基材及び粘着剤層のみを有するものであってもよいが、必要に応じて、他の層を有していてもよい。他の層としては、例えば、基材と粘着剤層との間に設けられる中間層、粘着剤層の基材とは反対側の面に設けられる剥離シート等が挙げられる。
 図1(b)には、他の層として中間層3を有する本発明の一態様の粘着シート10bが示されている。
 図1(c)及び(d)には、粘着シート10a及び粘着シート10bにおいて、粘着剤層2の粘着表面上に剥離シート4が積層されている粘着シート10c及び粘着シート10dが示されている。
 次に、本発明の一態様の粘着シートが有する各層の好適な態様について説明する。
(熱膨張性層)
 本発明の一態様の粘着シートに含まれる少なくとも1層は、熱膨張性粒子を含有する熱膨張性層である。
 本発明の一態様の粘着シートが有する熱膨張性層の態様としては、例えば、本発明の一態様の粘着シートが基材及び粘着剤層のみを有する場合は、基材及び粘着剤層の少なくともいずれかが熱膨張性層であればよく、本発明の一態様の粘着シートが、基材及び粘着剤層以外の他の層を有する場合は、当該他の層が熱膨張性層であってもよい。
 本発明の一態様の粘着シートは、熱膨張性層を2層以上有していてもよいが、1層のみ有する態様が好ましい。
 本発明の一態様の粘着シートが熱膨張性層を2層以上有する場合、熱膨張性層同士の間に熱膨張性層以外の層を有していてもよく、熱膨張性層同士の間に熱膨張性層以外の層を有していなくてもよい。
 本発明の一態様の粘着シートが基材、中間層及び粘着剤層を有する場合は、基材、中間層及び粘着剤層からなる群から選択される1層以上が熱膨張性層である態様が好ましく、中間層が熱膨張性層である態様がより好ましく、中間層が熱膨張性層であって、基材及び粘着剤層が非熱膨張性層である態様がさらに好ましい。
 中間層が熱膨張性層であって、基材及び粘着剤層が非熱膨張性層である場合、熱膨張後の熱膨張性粒子による凹凸が粘着剤層又は基材の表面に表出し難くなり、被着体(W)との密着性又はチャックテーブル等の支持装置による保持性が良好になり易い傾向にある。
 熱膨張性層の厚さは、特に限定されず、本発明の一態様の粘着シートが有する各層のうち、いずれの層が熱膨張性層であるかに応じて適宜決定すればよい。
 なお、本明細書中、単に「熱膨張性層の厚さ」という場合、これは本発明の一態様の粘着シートが有する全ての熱膨張性層の厚さの合計を意味する。例えば、本発明の一態様の粘着シートが基材、中間層及び粘着剤層を有し、これらのうち1層のみが熱膨張性層である場合、当該層の厚さが熱膨張性層の厚さである。また、本発明の一態様の粘着シートが基材、中間層及び粘着剤層を有し、これらのうち2層以上が熱膨張性層である場合、当該2層以上の合計厚さが熱膨張性層の厚さである。
〔熱膨張性粒子〕
 熱膨張性粒子は、加熱により膨張する粒子であればよい。
 熱膨張性粒子は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)は、好ましくは50℃以上125℃未満、より好ましくは55~120℃、更に好ましくは60~115℃、より更に好ましくは70~110℃、更になお好ましくは75~105℃である。熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)が50℃以上であると、意図しない膨張を抑制し易い傾向にある。また、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)が125℃未満であると、加熱剥離する際における加熱温度を低く抑えることができる。
 なお、本明細書において、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)は、以下の方法に基づき測定された値を意味する。
(熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)の測定法)
 直径6.0mm(内径5.65mm)、深さ4.8mmのアルミカップに、測定対象となる熱膨張性粒子0.5mgを加え、その上からアルミ蓋(直径5.6mm、厚さ0.1mm)をのせた試料を作製する。
 動的粘弾性測定装置を用いて、その試料にアルミ蓋上部から、加圧子により0.01Nの力を加えた状態で、試料の高さを測定する。そして、加圧子により0.01Nの力を加えた状態で、20℃から300℃まで10℃/minの昇温速度で加熱し、加圧子の垂直方向における変位量を測定し、正方向への変位開始温度を膨張開始温度(t)とする。
 熱膨張性粒子としては、熱可塑性樹脂から構成された外殻と、当該外殻に内包され、且つ所定の温度まで加熱されると気化する内包成分とから構成される、マイクロカプセル化発泡剤であることが好ましい。
 マイクロカプセル化発泡剤の外殻を構成する熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスルホン、もしくはこれらの熱可塑性樹脂に含まれる構成単位を形成する単量体の2種以上を重合して得られる共重合体等が挙げられる。
 マイクロカプセル化発泡剤の外殻に内包される成分である内包成分としては、例えば、プロパン、プロピレン、ブテン、n-ブタン、イソブタン、イソペンタン、ネオペンタン、n-ペンタン、n-ヘキサン、イソヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、シクロプロパン、シクロブタン、石油エーテル等の低沸点液体が挙げられる。これらの中でも、意図しない膨張を抑制しながらも、加熱剥離する際における加熱温度を低く抑えるという観点から、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)を50℃以上125℃未満とする場合、内包成分は、プロパン、イソブタン、n-ペンタン、シクロプロパンが好ましい。
 これらの内包成分は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)は、内包成分の種類を適宜選択することで調整可能である。
 熱膨張性粒子の23℃における膨張前の平均粒子径は、好ましくは3~100μm、より好ましくは4~70μm、更に好ましくは6~60μm、より更に好ましくは10~50μmである。
 なお、熱膨張性粒子の膨張前の平均粒子径とは、体積中位粒子径(D50)であり、レーザー回折式粒度分布測定装置(例えば、Malvern社製、製品名「マスターサイザー3000」)を用いて測定した、膨張前の熱膨張性粒子の粒子分布において、膨張前の熱膨張性粒子の粒子径の小さい方から計算した累積体積頻度が50%に相当する粒子径を意味する。
 熱膨張性粒子の23℃における膨張前の90%粒子径(D90)は、好ましくは10~150μm、より好ましくは15~100μm、更に好ましくは20~90μm、より更に好ましくは25~80μmである。
 なお、熱膨張性粒子の膨張前の90%粒子径(D90)とは、レーザー回折式粒度分布測定装置(例えば、Malvern社製、製品名「マスターサイザー3000」)を用いて測定した、膨張前の熱膨張性粒子の粒子分布において、膨張前の熱膨張性粒子の粒子径の小さい方から計算した累積体積頻度が90%に相当する粒子径を意味する。
 本発明の一態様で用いる熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上の温度まで加熱した際の体積最大膨張率は、好ましくは1.5~200倍、より好ましくは2~150倍、更に好ましくは2.5~120倍、より更に好ましくは3~100倍である。
 熱膨張性粒子の含有量は、熱膨張性層の全質量(100質量%)に対して、好ましくは0.05~25質量%、より好ましくは0.1~15質量%、更に好ましくは0.2~10質量%、より更に好ましくは0.3~5質量%である。熱膨張性粒子の含有量が0.05質量%以上であると、粘着シートのうち、膨張させたい部分の膨張量が十分に得られ易くなる傾向にある。また、熱膨張性粒子の含有量が25質量%以下であると、熱膨張前の熱膨張性粒子の凹凸が粘着剤層又は基材の表面に表出し難くなり、被着体(W)との密着性又はチャックテーブル等の支持装置による保持性が良好になり易い傾向にある。
(基材)
 本発明の一態様で用いる基材としては、被着体(W)を支持できる材料で構成されていれば特に制限されない。
 基材は、非粘着性の基材であることが好ましい。
 基材の表面におけるプローブタック値は、通常50mN/5mmφ未満であるが、好ましくは30mN/5mmφ未満、より好ましくは10mN/5mmφ未満、更に好ましくは5mN/5mmφ未満である。
 なお、本明細書において、基材の表面におけるプローブタック値は、以下の方法により測定された値を意味する。
<プローブタック値>
 測定対象となる基材を一辺10mmの正方形に切断した後、23℃、50%RH(相対湿度)の環境下で24時間静置したものを試験サンプルとして、23℃、50%RH(相対湿度)の環境下で、タッキング試験機(日本特殊測器株式会社製、製品名「NTS-4800」)を用いて、試験サンプルの表面におけるプローブタック値を、JIS Z0237:1991に準拠して測定することができる。具体的には、直径5mmのステンレス鋼製のプローブを、1秒間、接触荷重0.98N/cmで試験サンプルの表面に接触させた後、当該プローブを10mm/秒の速度で、試験サンプルの表面から離すのに必要な力を測定し、得られた値を、その試験サンプルのプローブタック値とすることができる。
 基材の材質としては、例えば、樹脂、金属、紙材等が挙げられる。
 樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-ビニルアルコール共重合体等のビニル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリスチレン;アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体;三酢酸セルロース;ポリカーボネート;ポリウレタン、アクリル変性ポリウレタン等のウレタン系樹脂;ポリメチルペンテン;ポリスルホン;ポリエーテルエーテルケトン;ポリエーテルスルホン;ポリフェニレンスルフィド;ポリエーテルイミド、ポリイミド等のポリイミド系樹脂;ポリアミド系樹脂;アクリル系樹脂;フッ素系樹脂等が挙げられる。
 金属としては、例えば、アルミニウム、スズ、クロム、チタン等が挙げられる。
 紙材としては、例えば、薄葉紙、中質紙、上質紙、含浸紙、コート紙、アート紙、硫酸紙、グラシン紙等が挙げられる。
 これらの中でも、ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」ともいう)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂が好ましい。
 これらの形成材料は、1種から構成されていてもよく、2種以上を併用してもよい。
 2種以上の形成材料を併用した基材としては、例えば、紙材をポリエチレン等の熱可塑性樹脂でラミネートしたもの、樹脂を含む樹脂フィルム又はシートの表面に金属膜を形成したもの等が挙げられる。なお、金属層の形成方法としては、例えば、上記金属を真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等のPVD法により蒸着する方法、又は、上記金属からなる金属箔を一般的な粘着剤を用いて貼付する方法等が挙げられる。
 なお、基材と積層する他の層との層間密着性を向上させる観点から、基材が樹脂を含む場合、基材の表面に対して、酸化法、凹凸化法等による表面処理、易接着処理、あるいはプライマー処理を施してもよい。
 基材は、必要に応じて、基材用添加剤を含有してもよい。基材用添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、着色剤等が挙げられる。なお、これらの基材用添加剤は、それぞれ1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 基材が熱膨張性粒子を含有する熱膨張性層(以下、「熱膨張性基材」ともいう)である場合、基材は、樹脂及び熱膨張性粒子を含有する基材用組成物によって形成することができる。熱膨張性粒子の種類及び含有量の好適な態様は、上記した熱膨張性層の説明における熱膨張性粒子の種類及び含有量の好適な態様と同じである。
 基材用組成物に含有される樹脂の種類は、上記した樹脂の種類の中でも、ウレタン系樹脂、オレフィン系樹脂が好ましく、ウレタン系樹脂がより好ましく、アクリル変性ポリウレタンが更に好ましい。
 基材用組成物がアクリル変性ポリウレタンを含有する場合、基材用組成物は、アクリル変性ポリウレタン及び熱膨張性粒子に加えて、さらに、エネルギー線重合性モノマー、光重合開始剤等を含有し、溶剤を配合しない、無溶剤型樹脂組成物であってもよい。
 無溶剤型樹脂組成物では、溶剤を配合しないが、エネルギー線重合性モノマーが、可塑性の向上に寄与するものである。無溶剤型樹脂組成物に対して、エネルギー線を照射することで、アクリル変性ポリウレタン、エネルギー線重合性モノマー等が重合し、熱膨張性基材を形成することができる。
 エネルギー線重合性モノマー及び光重合開始剤としては、後述する中間層用組成物が含有していてもよい重合性単量体及び光重合開始剤と同じものが挙げられる。
 基材は、熱膨張性基材と、非熱膨張性層である基材(以下、「非熱膨張性基材」ともいう)と、が積層された基材積層体であってもよい。
 基材が、上記の基材積層体である場合、熱膨張性基材が粘着剤層側、非熱膨張性基材が粘着剤層とは反対側に配置されていてもよいし、非熱膨張性基材が粘着剤層側、熱膨張性基材が粘着剤層とは反対側に配置されていてもよい。
 非熱膨張性基材が粘着剤層とは反対側に配置されると、膨張した熱膨張性粒子による凹凸が粘着剤層とは反対側の表面に表出し難くなり、チャックテーブル等の支持装置による保持性が良好になり易い傾向にある。一方、非熱膨張性基材が粘着剤層側に配置されると、被着体(W)を加工する際の摩擦熱等によって、熱膨張性基材が意図せずに膨張することを抑制し易い傾向にある。
 基材の厚さは、好ましくは5~500μm、より好ましくは15~300μm、更に好ましくは20~200μmである。基材の厚さが5μm以上であると、粘着シートの耐変形性を向上させ易い傾向にある。また、基材の厚さが500μm以下であると、粘着シートの取り扱い性を向上させ易い傾向にある。
 なお、基材の厚さは、基材全体の厚さを意味する。例えば、複数層から構成される基材の厚さは、基材を構成するすべての層の合計の厚さを意味する。
(中間層)
 本発明の一態様の粘着シートは、さらに、基材と粘着剤層との間に中間層を有するものが好ましい。本発明の一態様の粘着シートが中間層を有することによって、被着体(W)が突起部を有するものであっても、中間層によって被着体(W)の突起部を埋め込むことが可能になり、突起部に起因する基材側の表面における凸部の発生を抑制し易い傾向にある。
 中間層の組成は特に限定されないが、中間層は、樹脂を有する中間層用組成物から形成されるものが好ましい。
 中間層用組成物が含有する樹脂としては、ウレタン(メタ)アクリレート、アクリル系樹脂等が挙げられる。
〔ウレタン(メタ)アクリレート〕
 ウレタン(メタ)アクリレートは、少なくとも(メタ)アクリロイル基及びウレタン結合を有する化合物であり、エネルギー線の照射によって重合する性質を有するものである。中間層用組成物がウレタン(メタ)アクリレートを含有することによって、形成される中間層の柔軟性が良好になる傾向にある。
 ウレタン(メタ)アクリレートは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 ウレタン(メタ)アクリレートは、単官能ウレタン(メタ)アクリレートであってもよく、多官能ウレタン(メタ)アクリレートであってもよいが、多官能ウレタン(メタ)アクリレートであることが好ましく、2官能ウレタン(メタ)アクリレートであることがより好ましい。
 ウレタン(メタ)アクリレートの質量平均分子量(Mw)は、好ましくは10,000~100,000、より好ましくは20,000~90,000、更に好ましくは2,5000~70,000、より更に好ましくは30,000~60,000である。
 ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、ポリオール化合物と、多価イソシアネート化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレートを反応させて得ることができる。
 ポリオール化合物としては、例えば、アルキレン型ポリオール、エーテル型ポリオール、エステル型ポリオール、エステルアミド型ポリオール、エステル・エーテル型ポリオール、カーボネート型ポリオール等が挙げられる。
 ポリオール化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 多価イソシアネートとしては、例えば、芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、脂環式ポリイソシアネート等が挙げられる。また、これらの多価イソシアネートは、トリメチロールプロパンアダクト型変性体、水と反応させたビュウレット型変性体、イソシアヌレート環を含有させたイソシアヌレート型変性体であってもよい。
 多価イソシアネートは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
 ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレートは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 中間層用組成物中におけるウレタン(メタ)アクリレートの含有量は、中間層用組成物の有効成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは20~90質量%、より好ましくは35~80質量%、更に好ましくは50~70質量%である。
〔アクリル系樹脂〕
 中間層用組成物が含有する樹脂として使用することができるアクリル系樹脂としては、後述する粘着剤層の粘着性樹脂として使用することができるアクリル系樹脂と同じものが挙げられる。
 中間層用組成物は、上記ウレタン(メタ)アクリレートと、ウレタン(メタ)アクリレート以外の重合性単量体と、を含有することがより好ましい。
〔重合性単量体〕
 重合性単量体は、ウレタン(メタ)アクリレート以外の重合性化合物であって、エネルギー線の照射により他の成分と重合可能な化合物であることが好ましい。具体的には、重合性単量体は、少なくとも1つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。
 重合性単量体は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 重合性単量体としては、例えば、炭素数が1~30であるアルキル基を有する(メタ)アクリレート;ヒドロキシ基、アミド基、アミノ基、エポキシ基等の官能基を有する(メタ)アクリレート;脂環式構造を有する(メタ)アクリレート;芳香族構造を有する(メタ)アクリレート;複素環式構造を有する(メタ)アクリレート;スチレン、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、N-ビニルホルムアミド、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム等のビニル化合物;アリルグリシジルエーテル等のアリル化合物;等が挙げられる。 
 炭素数が1~30であるアルキル基を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、n-ペンチル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
 炭素数が1~30であるアルキル基を有する(メタ)アクリレートの炭素数は、好ましくは4~24、より好ましくは8~18、更に好ましくは10~14である。
 官能基を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート;(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-ブチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-メチロールプロパン(メタ)アクリルアミド、N-メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド等のアミド基含有化合物;第1級アミノ基含有(メタ)アクリレート、第2級アミノ基含有(メタ)アクリレート、第3級アミノ基含有(メタ)アクリレート等のアミノ基含有(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基含有(メタ)アクリレート等が挙げられる。
 脂環式構造を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシ(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、アダマンタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレートが好ましい。
 芳香族構造を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、フェニルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
 複素環式構造を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、モルホリン(メタ)アクリレート等が挙げられる。 
 以上の重合性単量体の選択肢の中でも、中間層用組成物は、炭素数が1~30であるアルキル基を有する(メタ)アクリレート及び脂環式構造を有する(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。
 中間層用組成物中における炭素数が1~30であるアルキル基を有する(メタ)アクリレートの含有量は、中間層用組成物の有効成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは1~30質量%、より好ましくは3~20質量%、更に好ましくは5~15質量%である。
 中間層用組成物中における脂環式構造を有する(メタ)アクリレートの含有量は、中間層用組成物の有効成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは5~50質量%、より好ましくは10~40質量%、更に好ましくは15~30質量%である。
 中間層用組成物中における重合性単量体の合計含有量は、中間層用組成物の有効成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは8~70質量%、より好ましくは15~50質量%、更に好ましくは30~40質量%である。
 中間層用組成物中における、ウレタン(メタ)アクリレートの含有量と、重合性単量体の含有量との比(ウレタン(メタ)アクリレート/重合性単量体)は、質量基準で、好ましくは20/80~90/10、より好ましくは40/60~80/20、更に好ましくは60/40~70/30である。
〔光重合開始剤〕
 中間層用組成物は、さらに、ウレタン(メタ)アクリレート及び重合性単量体と共に、光重合開始剤を含有することが好ましい。中間層用組成物が光重合開始剤を含有することによって、比較的低エネルギーのエネルギー線の照射によっても、十分に硬化反応を進行させることができる。
 光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物、アシルフォスフィンオキサイド化合物、チタノセン化合物、チオキサントン化合物、パーオキサイド化合物等の光重合開始剤、アミンやキノン等の光増感剤等が挙げられる。
 より具体的には、例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン等が挙げられる。
 中間層用組成物中における光重合開始剤の含有量は、ウレタン(メタ)アクリレート及び重合性単量体の合計100質量部に対して、好ましくは0.05~15質量部、より好ましくは0.5~10質量部、更に好ましくは1~5質量部である。
〔連鎖移動剤〕
 中間層用組成物は、さらに、ウレタン(メタ)アクリレート及び重合性単量体と共に、連鎖移動剤を含有することが好ましい。中間層用組成物が連鎖移動剤を含有することによって、硬化後においても分子鎖の短い成分が比較的残存することが可能となり、硬化後の重合体が柔軟性を有するものになる。
 連鎖移動剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 連鎖移動剤としては、例えば、チオール基含有化合物が挙げられる。チオール基含有化合物としては、例えば、ノニルメルカプタン、1-ドデカンチオール、1,2-エタンジチオール、1,3-プロパンジチオール、トリアジンチオール、トリアジンジチオール、トリアジントリチオール、1,2,3-プロパントリチオール、テトラエチレングリコール-ビス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキスチオグルコレート、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)、トリス[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)-エチル]-イソシアヌレート、1,4-ビス(3-メルカプトブチリルオキシ)ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)、1,3,5-トリス(3-メルカプトブチルオキシエチル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6-(1H,3H,5H)-トリオン等が挙げられる。これらの中でも、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)が好ましい。
 中間層用組成物中における連鎖移動剤の含有量は、ウレタン(メタ)アクリレート及び重合性単量体の合計100質量部に対して、好ましくは0.1~10質量部、より好ましくは0.3~5質量部、更に好ましくは0.5~3質量部である。
〔熱膨張性粒子〕
 中間層が、熱膨張性粒子を含有する熱膨張性層である場合、中間層は、熱膨張性粒子を含有する中間層用組成物によって形成することができる。熱膨張性粒子の種類及び含有量の好適な態様は、上記した熱膨張性層の説明における熱膨張性粒子の種類及び含有量の好適な態様と同じである。
〔中間層用添加剤〕
 中間層用組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、上述の各成分以外にも、中間層用添加剤を含有してもよい。中間層用添加剤としては、例えば、酸化防止剤、軟化剤(可塑剤)、充填剤、防錆剤、顔料、染料、粘着付与剤等が挙げられる。
 なお、これらの中間層用添加剤は、それぞれ1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 中間層用組成物がこれらの中間層用添加剤を含有する場合、それぞれの中間層用添加剤の含有量は、それぞれ独立して、ウレタン(メタ)アクリレート及び重合性単量体の合計100質量部に対して、好ましくは0.0001~20質量部、より好ましくは0.001~10質量部である。
 本発明の一態様で用いる中間層用組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において溶剤を含有していてもよいが、ウレタン(メタ)アクリレート及び重合性単量体を含有し、溶剤を含有しない無溶剤型樹脂組成物であることが好ましい。
 無溶剤型樹脂組成物は、溶剤を含有しないが、上記した重合性単量体が、樹脂の可塑性の向上に寄与するものである。
 無溶剤型樹脂組成物に対して、エネルギー線を照射することで、ウレタン(メタ)アクリレート、重合性単量体等が重合し、中間層が形成される。
〔中間層の厚さ〕
 本発明の一態様の粘着シートにおいて中間層の厚さは、好ましくは10~500μm、より好ましくは20~350μm、更に好ましくは30~200μmである。中間層の厚さが10μm以上であると、被着体(W)が突起部を有する場合、該突起部を埋め込み易くなる傾向にある。また、中間層の厚さが500μm以下であると、粘着シートの取り扱い性を向上させ易い傾向にある。
 なお、中間層の厚さは、中間層全体の厚さを意味する。例えば、複数層から構成される中間層の厚さは、中間層を構成するすべての層の合計の厚さを意味する。 
(粘着剤層)
 粘着剤層は、中間層の基材とは反対の面側に設けられる層であり、被着体(W)の一方の面である面(Wα)に貼付される層である。
 粘着剤層は、エネルギー線硬化性を有する層であることが好ましい。粘着剤層がエネルギー線硬化性を有することによって、エネルギー線硬化前においては十分な粘着性によって被着体(W)との良好な密着性が得られ、エネルギー線硬化後においては剥離力が低減され、被着体(W)から容易に剥離することができる。
 粘着剤層は、粘着性樹脂を含む粘着剤組成物から形成することができる。
 粘着剤組成物としては、例えば、下記のX型の粘着剤組成物、Y型の粘着剤組成物、XY型の粘着剤組成物等が挙げられる。
 X型の粘着剤組成物:非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂(以下、「粘着性樹脂I」ともいう)と、粘着性樹脂以外のエネルギー線硬化性化合物と、を含有するエネルギー線硬化性粘着剤組成物
 Y型の粘着剤組成物:非エネルギー線硬化性の粘着性樹脂の側鎖に不飽和基を導入したエネルギー線硬化性の粘着性樹脂(以下、「粘着性樹脂II」ともいう)を含有し、粘着性樹脂以外のエネルギー線硬化性化合物を含有しないエネルギー線硬化性粘着剤組成物
 XY型の粘着剤組成物:上記エネルギー線硬化性の粘着性樹脂IIと、粘着性樹脂以外のエネルギー線硬化性化合物と、を含有するエネルギー線硬化性粘着剤組成物
 これらの中でも、エネルギー線硬化性粘着剤は、XY型の粘着剤組成物であることが好ましい。
 次に、粘着剤層を構成する各成分について、より詳細に説明する。
 以下の説明において「粘着性樹脂」は、粘着性樹脂I及び粘着性樹脂IIの一方又は両方を指す用語として使用する。
 粘着性樹脂は、官能基を有さない粘着性樹脂であってもよいが、官能基を有する粘着性樹脂であることが好ましい。粘着性樹脂は官能基を有することによって、例えば、後述する架橋剤との反応性、エネルギー線硬化性等が得られる。
 粘着性樹脂が有する官能基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエネルギー線重合性を有する不飽和基;ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。これらの中でも、(メタ)アクリロイル基、ヒドロキシ基が好ましい。粘着性樹脂は、1種の官能基を有するものであってもよく、2種以上の官能基を有するものであってもよい。
 粘着性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、アクリル系樹脂が好ましい。
〔アクリル系樹脂〕
 アクリル系樹脂は、アクリル系モノマーをモノマー成分として含有する重合体であれば特に限定されないが、アルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を含有することが好ましい。
 アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、アルキル基の炭素数が1~20であるアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。
 アルキル(メタ)アクリレートが有するアルキル基は、直鎖状であってもよいし、分岐状であってもよい。
 アクリル系樹脂は、粘着剤層の粘着力をより向上させるという観点から、アルキル基の炭素数が4以上であるアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を含有することが好ましい。
 アクリル系樹脂に含有されるアルキル基の炭素数が4以上であるアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位は、1種単独又は2種以上であってもよい。
 アルキル基の炭素数が4以上であるアルキル(メタ)アクリレートが有するアルキル基の炭素数は、好ましくは4~12、より好ましくは4~8、更に好ましくは4~6である。
 アルキル基の炭素数が4以上であるアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましく、2-エチルヘキシルアクリレートがより好ましい。
 アルキル基の炭素数が4以上であるアルキル(メタ)アクリレートの含有量は、粘着剤層の粘着力をより向上させるという観点から、アクリル系樹脂を構成するアクリル系モノマー由来の構成単位中、好ましくは30~90質量%、より好ましくは40~80質量%、更に好ましくは50~70質量%である。
 アクリル系樹脂は、粘着剤層の弾性率及び粘着特性を良好にするという観点から、アルキル基の炭素数が4以上であるアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位と共に、アルキル基の炭素数が1~3であるアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を含有することが好ましい。
 アクリル系樹脂に含有されるアルキル基の炭素数が1~3であるアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位は、1種単独又は2種以上であってもよい。
 アルキル基の炭素数が1~3であるアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレートが好ましく、メチルメタクリレート、エチルアクリレートがより好ましい。
 アルキル基の炭素数が1~3であるアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位の含有量は、アクリル系樹脂を構成するアクリル系モノマー由来の構成単位中、好ましくは1~35質量%、より好ましくは5~30質量%、更に好ましくは15~25質量%である。
 アクリル系樹脂は、さらに、官能基含有モノマーに由来する構成単位を含有することが好ましい。
 アクリル系樹脂が官能基含有モノマーに由来する構成単位を含有することによって、架橋剤と反応する架橋起点としての官能基、又は不飽和基含有化合物と反応して、アクリル系樹脂の側鎖に不飽和基を導入することを可能とする官能基を導入することができる。
 アクリル系樹脂に含有される官能基含有モノマーに由来する構成単位は、1種単独又は2種以上であってもよい。
 官能基含有モノマーとしては、例えば、ヒドロキシ基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー等が挙げられる。
 ヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;ビニルアルコール、アリルアルコール等の不飽和アルコール;等が挙げられる。
 カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸等のエチレン性不飽和モノカルボン酸;フマル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和ジカルボン酸及びその無水物;2-カルボキシエチルメタクリレート;等が挙げられる。
 これらの中でも、ヒドロキシ基含有モノマーが好ましく、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートがより好ましく、2-ヒドロキシエチルアクリレートが更に好ましい。
 官能基含有モノマーに由来する構成単位の含有量は、アクリル系樹脂を構成するアクリル系モノマー由来の構成単位中、好ましくは1~35質量%、より好ましくは5~30質量%、更に好ましくは15~25質量%である。
 アクリル系樹脂は、上記の構成単位以外にも、アクリル系モノマーと共重合可能なその他のモノマーに由来する構成単位を含有していてもよい。
 アクリル系樹脂に含有されるその他のモノマーに由来する構成単位は、1種単独又は2種以上であってもよい。
 その他のモノマーとしては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、アクリロニトリル、アクリルアミド等が挙げられる。
 アクリル系樹脂は、さらに、エネルギー線硬化性を付与するために、エネルギー線重合性を有する不飽和基を導入したものであってもよい。
 不飽和基は、例えば、官能基含有モノマーに由来する構成単位を含有するアクリル系樹脂の官能基と、該官能基と反応性を有する反応性置換基及び不飽和基を有する化合物(以下、「不飽和基含有化合物」ともいう)の反応性置換基と、を反応させることによって導入することができる。不飽和基含有化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 不飽和基含有化合物が有する不飽和基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等が挙げられる。これらの中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
 不飽和基含有化合物が有する反応性置換基としては、例えば、イソシアネート基、グリシジル基等が挙げられる。
 不飽和基含有化合物としては、例えば、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート、グリシジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートが好ましく、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネートがより好ましい。
 官能基含有モノマーに由来する構成単位を含有するアクリル系樹脂と、不飽和基含有化合物と、を反応させる場合、アクリル系樹脂中の官能基の総数中、不飽和基含有化合物と反応する官能基の比率は、特に限定されないが、好ましくは30~90モル%、より好ましくは40~80モル%、更に好ましくは50~70モル%である。
 不飽和基含有化合物と反応する官能基の比率が上記範囲であると、アクリル系樹脂に対して十分なエネルギー線硬化性を付与できると共に、不飽和基含有化合物と反応しなかった官能基を架橋剤と反応させてアクリル系樹脂を架橋させることができる。
 アクリル系樹脂の質量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが、好ましくは30万~150万、より好ましくは45万~100万、更に好ましくは60万~90万である。アクリル系樹脂の質量平均分子量(Mw)が上記範囲であると、粘着剤層の粘着力及び凝集力がより良好になる傾向にある。
 粘着剤組成物中におけるアクリル系樹脂の含有量は、粘着剤組成物の有効成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは70~99質量%、より好ましくは80~98質量%、更に好ましくは90~97質量%である。
〔架橋剤〕
 粘着剤組成物は、官能基を有する粘着性樹脂を含有する場合、さらに架橋剤を含有することが好ましい。
 架橋剤は、官能基を有する粘着性樹脂と反応して、当該官能基を架橋起点として、粘着性樹脂同士を架橋するものである。
 架橋剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等が挙げられる。
 これらの架橋剤の中でも、凝集力を高めて粘着力を向上させる観点、入手し易さ等の観点から、イソシアネート系架橋剤が好ましい。
 イソシアネート系架橋剤としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート;ジシクロヘキシルメタン-4,4’-ジイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、3-イソシアネートメチル-3,5,5-トリメチルシクロヘキシルイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等の非環式脂肪族ポリイソシアネート;等の多価イソシアネート化合物等が挙げられる。
 また、イソシアネート系架橋剤としては、例えば、当該多価イソシアネート化合物のトリメチロールプロパンアダクト型変性体、水と反応させたビュウレット型変性体、イソシアヌレート環を含むイソシアヌレート型変性体等も挙げられる。
 これらの中でも、多価イソシアネート化合物のトリメチロールプロパンアダクト型変性体が好ましく、芳香族ポリイソシアネート化合物のトリメチロールプロパンアダクト型変性体がより好ましく、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト型変性体が更に好ましい。
 粘着剤組成物中における架橋剤の含有量は、粘着性樹脂が有する官能基の数により適宜調整されるものであるが、粘着性樹脂100質量部に対して、好ましくは0.01~10質量部、より好ましくは0.03~7質量部、更に好ましくは0.05~5質量部である。
〔光重合開始剤〕
 粘着剤組成物は、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。エネルギー線硬化性粘着剤が光重合開始剤を含有することによって、紫外線等の比較的低エネルギーのエネルギー線でも、エネルギー線硬化反応が十分に進行する傾向にある。
 光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 光重合開始剤としては、例えば、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β-クロロアンスラキノン、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキシド等が挙げられる。これらの中でも、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノンが好ましい。
 粘着剤組成物中における光重合開始剤の含有量は、粘着性樹脂の全量100質量部に対して、好ましくは0.01~10質量部、より好ましくは0.03~5質量部、更に好ましくは0.05~3質量部である。
〔粘着付与剤〕
 粘着剤組成物は、粘着力をより向上させる観点から、さらに粘着付与剤を含有していてもよい。
 粘着付与剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 粘着付与剤としては、例えば、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、スチレン系樹脂、石油ナフサの熱分解で生成するペンテン、イソプレン、ピペリン、1,3-ペンタジエン等のC5留分を共重合して得られるC5系石油樹脂、石油ナフサの熱分解で生成するインデン、ビニルトルエン等のC9留分を共重合して得られるC9系石油樹脂、及びこれらを水素化した水素化樹脂等が挙げられる。
 粘着剤組成物が粘着付与剤を含有する場合、粘着付与剤の含有量は、粘着剤組成物の有効成分の全量(100質量%)に対して、好ましくは0.01~65質量%、より好ましくは0.1~50質量%、更に好ましくは1~40質量%である。
〔エネルギー線硬化性化合物〕
 粘着剤組成物は、粘着剤層の凝集力を調整する目的で、さらに、上記各成分以外のエネルギー線硬化性化合物を含有していてもよい。
 エネルギー線硬化性化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 エネルギー線硬化性化合物としては、エネルギー線照射により重合硬化可能なモノマー又はオリゴマーが挙げられる。
 エネルギー線硬化性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-へキサンジオール(メタ)アクリレート等の多価(メタ)アクリレートモノマー;ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等のオリゴマー;等が挙げられる。これらの中でも、硬化性の観点から、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートがより好ましい。
 粘着剤組成物がエネルギー線硬化性化合物を含有する場合、エネルギー線硬化性化合物の含有量は、特に限定されないが、粘着性樹脂100質量部に対して、好ましくは10~100質量部、より好ましくは20~70質量部、更に好ましくは30~40質量部である。
〔熱膨張性粒子〕
 粘着剤層が、熱膨張性粒子を含有する熱膨張性層である場合、粘着剤層は、熱膨張性粒子を含有する粘着剤組成物によって形成することができる。熱膨張性粒子の種類及び含有量の好適な態様は、上記した熱膨張性層の説明における熱膨張性粒子の種類及び含有量の好適な態様と同じである。
〔粘着剤用添加剤〕
 本発明の一態様において、粘着剤組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、上述の各成分以外にも、一般的な粘着剤に使用される粘着剤用添加剤を含有していてもよい。
 このような粘着剤用添加剤としては、例えば、酸化防止剤、軟化剤(可塑剤)、防錆剤、顔料、染料、遅延剤、反応促進剤(触媒)、紫外線吸収剤等が挙げられる。
 なお、これらの粘着剤用添加剤は、それぞれ1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 粘着剤組成物がこれらの粘着剤用添加剤を含有する場合、それぞれの粘着剤用添加剤の含有量は、それぞれ独立して、粘着性樹脂100質量部に対して、好ましくは0.0001~20質量部、より好ましくは0.001~10質量部である。
〔粘着剤層の厚さ〕
 粘着剤層の厚さは、好ましくは1~80μm、より好ましくは2~60μm、更に好ましくは3~40μmである。粘着剤層の厚さが1μm以上であると、良好な粘着性が得られ、被着体(W)との十分な密着性が得られ易くなる傾向にある。また、粘着剤層の厚さが80μm以下であると、粘着シートの切断時におけるテープ屑の発生を抑制し易い傾向にある。
(粘着シートの製造方法)
 本発明の一態様の粘着シートの製造方法は特に制限されず、公知の方法によって製造することができる。
 本発明の一態様の粘着シートは、例えば、基材を準備する工程a、及び、粘着剤層を形成する工程bを含む方法によって製造することができる。また、本発明の一態様の粘着シートが中間層を有する場合は、上記工程a及び工程bに加えて、中間層を形成する工程cを含む方法によって、中間層を有する本発明の一態様の粘着シートを製造することができる。以下、各工程について説明する。
〔工程a〕
 工程aは、基材を準備する工程である。
 本発明の一態様の粘着シートが有する基材としては、商業的に入手可能なものを用いてもよく、公知の方法で形成してもよい。
 基材が、熱膨張性基材と非熱膨張性基材とが積層された基材積層体である場合、基材積層体は、例えば、非熱膨張性基材の片面に、熱膨張性基材を形成するための上記無溶剤型樹脂組成物を塗布した後、エネルギー線を照射することによって形成することができる。
 無溶剤型樹脂組成物を塗布する方法としては、公知の方法を利用することができ、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
〔工程b〕
 工程bは、粘着剤層を形成する工程である。
 粘着剤層を形成する方法は、例えば、粘着剤組成物を、積層する層の表面に直接塗布した後、乾燥させる方法であってもよく、粘着剤組成物を、剥離シートの剥離処理面上に塗布した後、乾燥させて粘着剤層を形成し、該粘着剤層を、積層する層の表面に貼付する方法であってもよい。
 粘着剤層を積層する層は、所望する粘着シートの構成に応じて決定されるものであり、例えば、熱膨張性基材、非熱膨張性基材、中間層等である。
 粘着剤組成物を塗布する方法としては、上記無溶剤型樹脂組成物を塗布する方法と同じ方法が挙げられる。粘着剤組成物を乾燥する条件は、粘着剤組成物中の溶剤の種類及び含有量に応じて適宜調整すればよい。
〔工程c〕
 工程cは、中間層を形成する工程である。
 中間層を形成する方法は、例えば、中間層用組成物を基材の表面に直接塗布した後、エネルギー線を照射して硬化させる方法であってもよく、中間層用組成物を、剥離シートの剥離処理面上に塗布した後、エネルギー線を照射して中間層を形成し、該中間層を基材の一方の面に貼付する方法であってもよい。
 中間層用組成物を塗布する方法としては、上記無溶剤型樹脂組成物を塗布する方法と同じ方法が挙げられる。
 中間層用組成物へのエネルギー線の照射は1回のみ行ってもよいが、中間層の硬化の度合いを制御し易いという観点から、複数回行うことが好ましい。
 エネルギー線が紫外線である場合、1回目に行う紫外線の照射条件は、紫外線の照度が、好ましくは30~500mW/cm、より好ましくは50~340mW/cmであり、紫外線の照射量が、好ましくは100~2,500mJ/cm、より好ましくは150~2,000mJ/cmである。
 2回目に行う紫外線の照射条件は、紫外線の照度が、好ましくは100~1,000mW/cm、より好ましくは200~500mW/cmであり、紫外線の照射量が、好ましくは300~5,000mJ/cm、より好ましくは500~3,000mJ/cmである。2回目に行う紫外線の照射条件は、照度及び照射量が、1回目の照射における照度及び照射量よりも大きいことが好ましい。
 エネルギー線の照射は、塗布膜が酸素から遮断された状態で行うことが好ましい。塗布膜を酸素から遮断する方法としては、例えば、塗布膜上に剥離シートを貼付する方法が挙げられる。
 上記のようにして、基材上に中間層を形成した後、工程bによって中間層に粘着剤層を積層することで、基材、中間層及び粘着剤層を、この順に有する粘着シートを製造することができる。
[粘着シートの膨張方法]
 次に、本発明の一態様の粘着シートの膨張方法の被着体(W)に関して説明した後、本発明の一態様の粘着シートの膨張方法の各工程について順に説明する。
<被着体(W)>
 被着体(W)としては、特に限定されず、例えば、仮固定用シートを適用し得る、建材、内装材、電子部品等が挙げられる。これらの中でも、被着体(W)は、電子部品であることが好ましく、半導体ウエハであることがより好ましい。
 すなわち、本発明の一態様の粘着シートの膨張方法に用いられる粘着シートは、半導体ウエハを加工するための半導体加工用粘着シートであることが好ましい。また、本発明の一態様の粘着シートの膨張方法は、半導体加工用粘着シートを用いて半導体ウエハを加工する半導体装置の製造方法に適用されることが好ましい。
 半導体ウエハは、半導体ウエハ用の基板に対して、例えば、回路、バンプ等を形成してなるものである。
 半導体ウエハ用の基板としては、例えば、シリコンウエハ;ガリウム砒素、炭化ケイ素、サファイア、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、窒化ガリウム、インジウム燐等のウエハ;ガラスウエハ等が挙げられる。
 半導体ウエハの平面視における形状は特に限定されないが、通常は円板状のものが用いられる。円板状の半導体ウエハのサイズは、各工程に用いる装置、製造方式等に合わせて適宜選択すればよいが、例えば、直径8インチ(200mm)、直径12インチ(300mm)のもの等が挙げられる。
 半導体ウエハの厚さは、特に限定されないが、半導体ウエハの取り扱い性及び加工性の観点から、好ましくは100~1,000μm、より好ましくは200~900μm、更に好ましくは300~800μmである。但し、半導体ウエハが突起部を有する場合、上記半導体ウエハの厚さに突起部の厚さは含まれない。
 被着体(W)は一方の面(Wα)に突起部を有するものであってもよい。
 突起部を有する被着体(W)としては、例えば、回路、バンプ等を有する半導体ウエハが挙げられる。これらの中でも、突起部を有する被着体(W)は、突起部としてバンプを有する半導体ウエハであることが好ましい。
 バンプとしては、例えば、金、銀、銅、ニッケル、錫、鉛、これらの金属を含む合金等の金属からなるバンプが挙げられる。
 バンプの形状は特に限定されず、例えば、球状、円柱状、楕円柱状、回転楕円体、円錐状、楕円錐状、立方体状、直方体状、台形状等が挙げられる。
 半導体ウエハに形成されるバンプの個数は、特に限定されず、設計上の要求に応じて適宜変更される。
 被着体(W)が有する突起部の高さは、特に限定されないが、本発明の一態様の粘着シートの膨張方法の効果を顕著に発現させるという観点から、好ましくは10~500μm、より好ましくは15~400μm、更に好ましくは20~300μmである。
 図2には、突起部を有する被着体(W)の一例として、突起部としてバンプを有する半導体ウエハW(以下、「バンプ付きウエハW」ともいう)の平面視における模式図が示されている。
 バンプ付きウエハWの面Wαには、分割予定ライン5によって区画された複数のデバイス6が形成されている。各デバイス6には、回路(図示せず)が形成され、図2の拡大図に示されるように、突起部である複数のバンプ7が形成されている。
 バンプ付きウエハWの面Wαは、複数のデバイス6が分割予定ライン5を介して配列しているデバイス領域8と、個片化する際の残余部となるデバイス非形成領域9と、を有する。
 次に、図面を参照しながら、本発明の一態様の方法の各工程について説明する。なお、以下の説明で用いる図は、本発明の特徴を分かり易くするために、便宜上、要部となる部分を拡大したり、簡略化して示している。そのため、各構成要素の寸法比率、数等は実際と同じであるとは限らない。
 なお、以下の説明は、被着体(W)としてバンプ付きウエハを用いて、本実施形態の粘着シートを、該バンプ付きウエハに貼付した後に部分的に膨張させ、粘着シートの基材側の表面を平坦化する実施の形態を例に挙げて詳細に説明する。但し、本発明の粘着シートの膨張方法は、これらの実施の形態により限定されるものではない。 
<貼付工程>
 本発明の一態様の粘着シートの膨張方法を実施するに当たって、工程1の前に、本発明の一態様の粘着シートは、前記粘着剤層を貼付面として、被着体(W)の一方の面である面(Wα)に貼付される。
 図3(a)及び(b)には、バンプ付きウエハWの面Wαに、本発明の一態様の粘着シート10を貼付する工程を説明する断面図が示されている。
 図3(a)は、図2に示したバンプ付きウエハWの断面図に相当するものである。すなわち、バンプ付きウエハWは、面Wαに、分割予定ライン5によって区画された複数のデバイス6、各デバイス6に形成された複数のバンプ7、デバイス領域8及びデバイス非形成領域9を有する。
 図3(b)には、バンプ付きウエハWの面Wαに粘着シート10を貼付された状態が示されている。なお、粘着シート10の各層の図示は省略しているが、粘着シート10は、粘着剤層を貼付面として面Wαに貼付されており、貼付面と反対側の表面が、基材側の表面Sαである。粘着シート10は、本発明の一態様の粘着シートの膨張方法に用いられる粘着シートであればよく、例えば、上述の粘着シート10a、粘着シート10b等である。
 図3(b)に示される通り、バンプ付きウエハWに貼付した粘着シート10の基材側の表面Sαには、バンプ7に起因して生じた凸部11と、凸部11以外の部分である非凸部12が形成されている。図3(b)の態様においては、粘着シート10のうち、図3(a)に示すデバイス領域8を覆う領域が凸部11となり、図3(a)に示すデバイス非形成領域9を覆う部分が非凸部12となっている。
 貼付工程において、粘着シートを貼付する方法は特に限定されず、例えば、ラミネーター等を使用する、従来公知の方法を適用することができる。
<工程1>
 工程1は、前記貼付した粘着シートが有する前記基材側の表面(Sα)の一部の領域(A)に冷却材を接触させる工程である。
 領域(A)は、基材側の表面(Sα)の一部の領域であって、冷却材を接触させる領域である。すなわち、粘着シートは、通常、該領域(A)を表面に有する部分において膨張が抑制される。
 領域(A)は、被着体(W)に貼付した後の粘着シートの表面形状、本発明の一態様の粘着シートの膨張方法を実施する目的等に応じて任意に設定してもよい。
(冷却材)
 工程1で用いる冷却材は、粘着シートの基材側の表面(Sα)の一部の領域(A)に接触させるものであって、工程2の加熱を行う際に、その冷却効果によって領域(A)を表面に有する部分の粘着シートの熱膨張を抑制する目的で使用される。
 冷却材の材質は、冷却効果を有するものであれば特に限定されないが、熱伝導体であることが好ましい。冷却材が熱伝導体である場合、熱伝導体を接触させている粘着シートの領域(A)から熱伝導体への熱伝導が生じることで、領域(A)を表面に有する部分の冷却効果が得られる。
 冷却材として用いる熱伝導体は、冷却効果を高めるために、例えば、内部に冷媒等を流通させる等の人工的な冷却機構を有するものであってもよいが、経済性及び生産性の観点から、人工的な冷却機構を有さないものであってもよい。すなわち、熱伝導体自体は意図的に冷却されていないものであってもよい。その場合においても、熱伝導体は、粘着シートの領域(A)と接触する箇所から吸熱した熱を、熱伝導体自体の表面から自然に放熱することによって冷却効果を奏することができる。
 熱伝導体としては、金属が好ましい。金属としては、例えば、銅、銀、金、鉄、亜鉛、鉛、錫、ニッケル、クロム、アルミニウム等の単金属;ステンレス鋼、真鍮等の合金等が挙げられる。これらの中でも、汎用性及び熱伝導性の観点から、銅、アルミニウムが好ましく、銅がより好ましい。
 熱伝導体の20℃における熱伝導率は、冷却効果を高める観点から、好ましくは50W/m・K以上、より好ましくは100W/m・K以上、更に好ましくは200W/m・K以上である。また。熱伝導体である冷却材の20℃における熱伝導率は、汎用性の観点から、1,000W/m・K以下であってもよく、700W/m・K以下であってもよく、500W/m・K以下であってもよい。
 冷却材は、基材側の表面(Sα)に接触させる面(以下、「面(Cα)」ともいう)として、平面を有しているものが好ましい。
 冷却材が面(Cα)として平面を有する場合、該平面の形状及び大きさは特に限定されないが、例えば、平面視で、膨張を抑制したい粘着シートの領域(以下、「膨張抑制領域」ともいう)の形状及び大きさと略同一としてもよい。冷却材の面(Cα)の形状及び大きさを、膨張抑制領域の形状及び大きさと略同一として、面(Cα)の形状と膨張抑制領域の形状を合わせて配置することによって、膨張抑制領域を表面に有する部分の粘着シートの熱膨張を選択的に抑制し易くなる。すなわち、このとき膨張抑制領域の表面が、工程1における領域(A)となる。
 冷却材の面(Cα)の形状及び大きさは上記態様に限られず、例えば、膨張抑制領域の面積よりも小さくしてもよい。冷却材の熱伝導率が高い場合は、冷却材の面(Cα)を接触させている領域(A)よりも広い領域に対して冷却効果が発揮され易くなるため、膨張抑制領域の面積よりも小さい面積を有する冷却材の面(Cα)を、膨張抑制領域の一部に接触させる態様であっても、膨張抑制領域の熱膨張を抑制できる傾向にある。
 一方、例えば、膨張抑制領域が粘着シートの基材側の表面に発生した凸部である場合、冷却材の面(Cα)の面積を凸部上面の面積よりも大きいものとして、凸部上面の全面に接触させてもよい。冷却材の面(Cα)の面積を大きくすることによって、冷却材の面(Cα)を接触させている部分の冷却効果が高まり易い傾向にある。
 冷却材の厚さは、十分な冷却効果を得るという観点から、熱膨張性層の厚さの、好ましくは100倍以上、より好ましくは500倍以上、更に好ましくは1,000倍以上である。また、冷却材の厚さは、取り扱い性の観点から、熱膨張性層の厚さの、10,000倍以下であってもよく、6,000倍以下であってもよく、3,000倍以下であってもよい。
 図4には、粘着シート10が有する基材側の表面Sαに生じた凸部11、及び凸部以外の部分である非凸部12のうち、凸部11の上面に冷却材13を接触させる工程を説明する断面図が示されている。すなわち、図4の態様において、凸部11の上面が領域(A)に相当する。
 図4において冷却材13は、凸部11の上面の全面に接触されており、冷却材13の基材側の表面Sαに接触させる面Cαの大きさは凸部11の大きさと略同一である。
<工程2>
 工程2は、前記冷却材を接触させた状態で、前記被着体(W)を、前記熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上に加熱することによって、前記粘着シートを前記被着体(W)側から加熱し、前記冷却材の冷却効果によって、前記粘着シートのうち、前記領域(A)を表面に有する部分の膨張を抑制しながら、前記領域(A)以外の領域を表面に有する部分を膨張させる工程である。
 工程2では、被着体(W)を熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上に加熱することによって、該被着体(W)に貼付されている粘着シートを、被着体(W)側から加熱する。
 被着体(W)を加熱する方法としては、例えば、被着体(W)の前記面(Wα)とは反対側の面(Wβ)を加熱する方法であってもよく、前記面(Wα)の一部が露出している場合は、当該露出している面(Wα)を加熱してもよい。熱伝導性に優れる被着体(W)は、その一部を加熱することによっても、熱伝導を利用して被着体(W)全体を加熱することができる。
 被着体(W)を加熱する方法としては、加熱する箇所及び加熱温度を制御し易いという観点から、被着体(W)に、加熱された熱伝導体を接触させる方法が好ましく、被着体(W)の面(Wβ)に、加熱された熱伝導体を接触させる方法がより好ましい。
 被着体(W)に加熱された熱伝導体を接触させる方法は、均一に加熱するという観点から、被着体(W)に、平滑な面を有する熱伝導体を接触させる方法が好ましく、加熱プレートを接触させる方法がより好ましい。加熱プレートとしては、例えば、金属プレート、セラミックスプレート等が挙げられる。
 被着体(W)に接触させる加熱された熱伝導体の表面温度は、熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上であり、好ましくは「膨張開始温度(t)より高い温度」、より好ましくは「膨張開始温度(t)+2℃」以上、更に好ましくは「膨張開始温度(t)+4℃」以上、より更に好ましくは「膨張開始温度(t)+5℃」以上である。また、加熱された熱伝導体の表面温度は、省エネルギー性及び加熱剥離時における被着体(W)の熱変化を抑制する観点からは、好ましくは「膨張開始温度(t)+50℃」以下、より好ましくは「膨張開始温度(t)+40℃」以下、更に好ましくは「膨張開始温度(t)+30℃」以下である。
 また、被着体(W)に接触させる加熱された熱伝導体の表面温度は、被着体(W)の熱変化を抑制する観点からは、膨張開始温度(t)以上の範囲内において、好ましくは130℃以下、より好ましくは120℃以下、さらに好ましくは115℃以下である。
 図5(a)及び(b)には、冷却材13を凸部11の上面に接触させた状態で、バンプ付きウエハWの面Wαとは反対側の面Wβを熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上に加熱する工程が示されている。
 図5(a)に示す通り、バンプ付きウエハWの面Wβに加熱プレート14を接触させることによって粘着シート10を加熱している。このとき、粘着シート10のうち、冷却材13を接触させている凸部11上面を表面に有する部分は、冷却材13の冷却効果によって熱膨張が抑制される。一方、冷却材13を接触させていない非凸部12を表面に有する部分は、冷却材13の冷却効果が及び難いため熱膨張する。
 その結果、図5(b)に示されるように、図5(a)における非凸部12が膨張した部分12’の高さは、図5(a)における凸部11であった部分11’の高さと近づき、凸部11と非凸部12の高低差は低減され、基材側の表面Sαが平坦化される。
 工程2における非凸部12を表面に有する部分の膨張量は、例えば、熱膨張性層中の熱膨張性粒子の含有量によって調整することができる。すなわち、工程2の前において凸部と非凸部の高低差が大きい場合は、熱膨張性層中の熱膨張性粒子の含有量を多くすることによって、膨張量を大きくすればよい。また、工程2の前において凸部と非凸部の高低差が小さい場合は、熱膨張性層中の熱膨張性粒子の含有量を少なくすることによって、膨張量を小さくすればよい。
 以上のようにして、本発明の一態様の粘着シートの膨張方法によると、被着体に貼付した後に粘着シートを部分的に膨張させることができる。
 部分的に膨張させた粘着シートが貼付された被着体(W)は、その後、必要に応じて、加工、検査等に供されてもよい。
 加工としては、例えば、被着体(W)の研削、個片化等が挙げられる。
 検査としては、例えば、光学顕微鏡、レーザーを利用した欠陥検査(例えば、ごみ検査、表面傷検査、配線パターン検査等)、目視による表面検査等が挙げられる。
 これらの中でも、部分的に膨張させた粘着シートが貼付された被着体(W)は、加工に供されることが好ましく、被着体(W)の研削に供されることがより好ましい。
 被着体(W)の研削としては、半導体ウエハの裏面研削であることが好ましく、突起部を有する半導体ウエハの裏面研削であることがより好ましく、バンプを有する半導体ウエハの裏面研削であることがさらに好ましい。
 図6には、粘着シート10の基材側の表面Sαを固定した状態で、バンプ付きウエハWを薄化させる工程を説明する断面図が示されている。
 図6において、粘着シート10の基材側の表面Sαは、チャックテーブル等の支持装置15に固定され、バンプ付きウエハWは、その裏面Wβをグラインダー16によって所望の厚さまで研削される。粘着シート10の基材側の表面Sαは平坦性に優れるため、半導体ウエハの裏面の全面に亘って、均一な押圧力が付与され、半導体ウエハを均一な厚さで薄くすることができる。
 上記加工を施した後、加工後の被着体(W)から粘着シートを剥離する剥離工程を行ってもよい。
 粘着シートの粘着剤層がエネルギー線硬化性粘着剤から形成される場合には、エネルギー線を照射することによって粘着剤を硬化させて、粘着剤層の剥離力を小さくしてから、粘着シートを剥離する。
 本発明について、以下の実施例により具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、各実施例における物性値は、以下の方法により測定した値である。
[質量平均分子量(Mw)]
 ゲル浸透クロマトグラフ装置(東ソー株式会社製、製品名「HLC-8020」)を用いて、下記の条件で測定し、標準ポリスチレン換算にて測定した値を用いた。
(測定条件)
・カラム:「TSK guard column HXL-L」「TSK gel G2500HXL」「TSK gel G2000HXL」「TSK gel G1000HXL」(いずれも東ソー株式会社製)を順次連結したもの
・カラム温度:40℃
・展開溶媒:テトラヒドロフラン
・流速:1.0mL/min
[各層の厚さ]
 株式会社テクロック製の定圧厚さ測定器(型番:「PG-02J」、標準規格:JIS K6783、Z1702、Z1709に準拠)を用いて、23℃にて測定した。
[熱膨張性粒子の平均粒子径(D50)、90%粒子径(D90)]
 レーザー回折式粒度分布測定装置(例えば、Malvern社製、製品名「マスターサイザー3000」)を用いて、23℃における膨張前の熱膨張性粒子の粒子分布を測定した。そして、粒子分布の粒子径の小さい方から計算した累積体積頻度が50%及び90%に相当する粒子径を、それぞれ「熱膨張性粒子の平均粒子径(D50)」及び「熱膨張性粒子の90%粒子径(D90)」とした。
[粘着シートの製造]
製造例1~3
〔粘着シート1~3の製造〕
 以下に示す方法によって粘着シート1~3を製造した。
 なお、以下の説明において、共重合体の組成を表す「X/Y/Z=A/B/C」等の記載は、当該共重合体がモノマーX、モノマーY及びモノマーZの共重合体であり、A質量部のモノマーXと、B質量部のモノマーYと、C質量部のモノマーZとを共重合させて得られたものであることを示す。
(中間層用組成物の調製)
 ウレタンアクリレート系オリゴマー(アルケマ株式会社製、商品名「CN9021 NS」)65質量部と、イソボルニルアクリレート25質量部と、ドデシルアクリレート10質量部と、光重合開始剤(IGM Resins B.V.製、商品名「Omnirad1173」、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン)3.4質量部と、連鎖移動剤(昭和電工株式会社製、商品名「カレンズMT PE1」、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート))1.0質量部と、形成される中間層全質量(100質量%)に対して、表1に記載の含有量になる熱膨張性粒子(Nouryon社製、製品名「Expancel(登録商標)031-40」(DUタイプ)、膨張開始温度(t)=88℃、平均粒子径(D50)=12.6μm、90%粒子径(D90)=26.2μm)と、を配合し、無溶剤型樹脂組成物である中間層用組成物を得た。
(中間層付き基材の作製)
 上記で得られた中間層用組成物を、ナイフ方式により、基材であるPETフィルム(東洋紡株式会社製、商品名「コスモシャイン A4160」、厚さ50μm)上に、形成される中間層の厚さが100μmになるように塗工して中間層用組成物層を形成した。
 次に、形成した中間層用組成物層の表出している表面に、PET系剥離フィルム(リンテック株式会社製、商品名「SP-PET381130」、厚さ38μm)をラミネートして、中間層用組成物層を酸素から遮断した。続いて、高圧水銀ランプを用いて、照度80mW/cm、照射量200mJ/cmの条件で1回目の紫外線照射を行った後、高圧水銀ランプを用いて、照度330mW/cm、照射量1,260mJ/cmの条件で2回目の紫外線照射を行うことによって中間層用組成物層を硬化させて、剥離シートを有する中間層付き基材を作製した。
(粘着剤組成物の調製)
 アクリル系共重合体(日本合成化学工業株式会社製、2-エチルヘキシルアクリレート(2EHA)/エチルアクリレート(EA)/メチルメタクリレート(MMA)/2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)=60/15/5/20(質量比)のアクリル共重合体であって、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)を、当該アクリル系共重合体の全ヒドロキシ基のうち60モル%のヒドロキシ基に付加するように反応させた重合体、質量平均分子量(Mw)800,000)100質量部と、架橋剤としてのトリメチロールプロパンアダクトトリレンジイソシアネート(東ソー株式会社製、商品名「コロネートL」)1.1質量部と、光重合開始剤としての2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン(IGM Resins B.V.製、商品名「Omnirad651」)2.2質量部と、を配合し、さらにトルエンを加えて固形分濃度を30質量%に調整した後、30分間撹拌を行って粘着剤組成物を調製した。
(剥離フィルム付き粘着剤層の作製)
 次いで、調製した粘着剤組成物を、PET系剥離フィルム(リンテック株式会社製、商品名「SP-PET381130」、厚さ38μm)に塗布し、乾燥させて、剥離フィルム上に厚さ10μmの粘着剤層を形成して、剥離フィルム付き粘着剤層を得た。
(粘着シートの作製)
 上記で得られた中間層付き基材の剥離フィルムを除去し、表出した中間層の表面に、上記で得られた剥離フィルム付き粘着剤層の粘着剤層を貼り合わせて、基材、中間層、粘着剤層及び剥離シートをこの順に有する粘着シート1~3を得た。
製造例4
〔粘着シート4の製造〕
 製造例1において、中間層用組成物に熱膨張性粒子を配合しなかったこと以外は、製造例1と同様にして、粘着シート4を得た。
[粘着シートの膨張方法の実施]
実施例1~3、比較例1
(1.突起部の形成)
 円板状(直径200mm、厚さ740μm)のシリコンウエハの一方の面の中央に、突起部として、直径60mmの円形に裁断したPET基材付き粘着シート(厚さ125μm)の粘着表面を貼付した。これによってシリコンウエハの中央に、高さ125μmの突起部を形成した。
(2.粘着シート付きシリコンウエハの作製)
 次に、各製造例で得られた粘着シートから剥離フィルムを除去し、表出した粘着剤層を貼付面として、シリコンウエハの突起部を形成した側の表面全体に、BGテープラミネーター(リンテック株式会社製、製品名「RAD 3510F/12」)を用いてテーブルを65℃に加熱しながら、ラミネート速度5mm/sec、ラミネート圧0.3MPaにて貼付した。
 上記の工程によって、一方の表面に突起部が形成されたシリコンウエハと、該シリコンウエハの突起部を形成した側の表面全体に貼付された粘着シートと、からなる、加熱膨張前の粘着シート付きシリコンウエハを得た。
 なお、以下、粘着シート付きシリコンウエハを平面視した場合に、突起部を含む領域を「突起部形成領域」、突起部を含まない領域を「突起部非形成領域」と称する場合がある。
 また、以下、加熱膨張前の粘着シート付きシリコンウエハを「粘着シート付きウエハ(1)」と称する。
(3.粘着シート付きウエハ(1)の厚さ測定)
 次に、上記の粘着シート付きウエハ(1)のシリコンウエハ側の表面を平坦面上に載置し、基材側の表面が定圧厚さ測定器の接触面になるように配置して、突起部形成領域及び突起部非形成領域の各々について4点の厚さを測定した。なお、厚さの測定点は、突起部形成領域は、突起部形成領域と同心であって直径が約1/2である円周上で互いに等間隔になる4点とした。また、突起部非形成領域は、突起部非形成領域と同心であって直径が約2/3である円周上で互いに等間隔になる4点とした。表1に、粘着シート付きウエハ(1)における、突起部形成領域の厚さの平均値、及び突起部非形成領域の厚さの平均値を示す。表1に示される通り、突起部形成領域の厚さは、突起部非形成領域の厚さよりも大きくなっており、粘着シートの基材側の表面に凸部が形成されていることが分かる。
(4.粘着シートの加熱膨張処理)
 次に、粘着シート付きウエハ(1)を、粘着シートの基材側の表面が上側になるように平坦面上に載置し、冷却材としての円柱形の銅(直径60mm、厚さ200mm)を、その底面が、基材側の表面のうち、突起部形成領域上に合わさるようにして粘着シート付きウエハ(1)の上に積層した。
 続いて、銅を積層した粘着シート付きウエハ(1)を、シリコンウエハ側の表面が、ホットプレートと接触し、銅を積層した粘着シートの基材側の表面がホットプレートと接触しない側になるようにホットプレート上に載置し、熱膨張性粒子の膨張開始温度以上である110℃で2分間加熱した。その後、標準環境(23℃、50%RH(相対湿度))にて60分間静置したものを、加熱膨張後の粘着シート付きウエハとした。以下、加熱膨張後の粘着シート付きウエハを「粘着シート付きウエハ(2)」と称する。
(5.粘着シート付きウエハ(2)の厚さ測定)
 次に、上記「3.粘着シート付きウエハ(1)の厚さ測定」と同様の方法で、粘着シート付きウエハ(2)の厚さを測定した。表1に、粘着シート付きウエハ(2)における、突起部形成領域の厚さの平均値、及び突起部非形成領域の厚さの平均値を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1から、実施例1~3では、加熱膨張処理前の粘着シート付きウエハ(1)における厚さの差〔(B)-(A)〕よりも、加熱膨張処理後の粘着シート付きウエハ(2)における厚さの差〔(B)-(A)〕の方が小さくなっており、粘着シートを部分的に膨張できていることが分かる。また、実施例1~3では、熱膨張性粒子の含有量に応じて、低減される厚さの差が変化していることから、熱膨張性粒子の含有量を調整することによって、膨張させたい領域の膨張量を調整できることが分かる。
1 基材
2 粘着剤層
3 中間層
4 剥離シート
5 分割予定ライン
6 デバイス
7 バンプ
8 デバイス領域
9 デバイス非形成領域
10、10a、10b、10c、10d 粘着シート
11 凸部
11’凸部11であった部分
12 非凸部
12’ 非凸部12が膨張した部分
13 冷却材
14 加熱プレート
15 支持装置
16 グラインダー
W  被着体
Wα 被着体Wの一方の面
Wβ 被着体Wの他方の面
Sα 粘着シート10が有する基材側の表面
Cα 基材側の表面Sαに接触させる冷却材の面

Claims (13)

  1.  基材と、粘着剤層と、を有する粘着シートであって、該粘着シートに含まれる少なくとも1層が、熱膨張性粒子を含有する熱膨張性層である粘着シートを、前記粘着剤層を貼付面として、被着体(W)の一方の面である面(Wα)に貼付した後に、部分的に膨張させる方法であって、下記工程1及び2を含む、粘着シートの膨張方法。
    工程1:前記貼付した粘着シートが有する前記基材側の表面(Sα)の一部の領域(A)に冷却材を接触させる工程
    工程2:前記領域(A)に冷却材を接触させた状態で、前記被着体(W)を、前記熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)以上に加熱することによって、前記粘着シートを前記被着体(W)側から加熱し、前記冷却材の冷却効果によって、前記粘着シートのうち、前記領域(A)を表面に有する部分の膨張を抑制しながら、前記領域(A)以外の領域を表面に有する部分を膨張させる工程
  2.  前記冷却材の20℃における熱伝導率が、50W/m・K以上である、請求項1に記載の粘着シートの膨張方法。
  3.  前記冷却材が、金属である、請求項1又は2に記載の粘着シートの膨張方法。
  4.  前記冷却材の厚さが、前記熱膨張性層の厚さの100倍以上である、請求項1又は2に記載の粘着シートの膨張方法。
  5.  前記粘着剤層の厚さが、1~80μmである、請求項1又は2に記載の粘着シートの膨張方法。
  6.  前記熱膨張性粒子の含有量が、前記熱膨張性層の全質量(100質量%)に対して、0.05~25質量%である、請求項1又は2に記載の粘着シートの膨張方法。
  7.  前記熱膨張性粒子の膨張開始温度(t)が、50℃以上125℃未満である、請求項1又は2に記載の粘着シートの膨張方法。
  8.  前記粘着シートが、さらに、前記基材と前記粘着剤層との間に中間層を有するものである、請求項1又は2に記載の粘着シートの膨張方法。
  9.  前記中間層の厚さが、10~500μmである、請求項8に記載の粘着シートの膨張方法。
  10.  前記中間層が、前記熱膨張性層である、請求項8に記載の粘着シートの膨張方法。
  11.  前記工程2における前記被着体(W)の加熱を、前記被着体(W)の前記面(Wα)とは反対側の面(Wβ)を加熱することによって行う、請求項1又は2に記載の粘着シートの膨張方法。
  12.  前記粘着シートが、半導体加工用粘着シートであり、前記被着体(W)が半導体ウエハである、請求項1又は2に記載の粘着シートの膨張方法。
  13.  前記半導体ウエハが、突起部を有する半導体ウエハである、請求項12に記載の粘着シートの膨張方法。
PCT/JP2022/030512 2021-08-13 2022-08-10 粘着シートの膨張方法 WO2023017831A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202280054912.XA CN117795027A (zh) 2021-08-13 2022-08-10 粘合片的膨胀方法
JP2023541454A JPWO2023017831A1 (ja) 2021-08-13 2022-08-10
KR1020237043260A KR20240046114A (ko) 2021-08-13 2022-08-10 점착 시트의 팽창 방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021132018 2021-08-13
JP2021-132018 2021-08-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023017831A1 true WO2023017831A1 (ja) 2023-02-16

Family

ID=85200688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/030512 WO2023017831A1 (ja) 2021-08-13 2022-08-10 粘着シートの膨張方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPWO2023017831A1 (ja)
KR (1) KR20240046114A (ja)
CN (1) CN117795027A (ja)
TW (1) TW202319496A (ja)
WO (1) WO2023017831A1 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005311031A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Nitto Denko Corp 被着物の加熱剥離方法及び被着物加熱剥離装置
WO2019031533A1 (ja) * 2017-08-09 2019-02-14 リンテック株式会社 加工検査対象物の加熱剥離方法
WO2020196756A1 (ja) * 2019-03-28 2020-10-01 リンテック株式会社 粘着シートの製造方法、半導体装置の製造方法及び粘着シート

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7259272B2 (ja) 2018-11-08 2023-04-18 住友ベークライト株式会社 仮固定用テープ

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005311031A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Nitto Denko Corp 被着物の加熱剥離方法及び被着物加熱剥離装置
WO2019031533A1 (ja) * 2017-08-09 2019-02-14 リンテック株式会社 加工検査対象物の加熱剥離方法
WO2020196756A1 (ja) * 2019-03-28 2020-10-01 リンテック株式会社 粘着シートの製造方法、半導体装置の製造方法及び粘着シート

Also Published As

Publication number Publication date
TW202319496A (zh) 2023-05-16
JPWO2023017831A1 (ja) 2023-02-16
CN117795027A (zh) 2024-03-29
KR20240046114A (ko) 2024-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7185638B2 (ja) 半導体装置の製造方法
WO2021117695A1 (ja) 粘着シート及び半導体装置の製造方法
WO2021200789A1 (ja) 両面粘着シート及び半導体装置の製造方法
WO2020196755A1 (ja) 粘着シート、粘着シートの製造方法及び半導体装置の製造方法
WO2020189568A1 (ja) 粘着シート及び半導体装置の製造方法
JP7273792B2 (ja) 加工品の製造方法及び粘着性積層体
WO2021049570A1 (ja) 半導体装置の製造方法
WO2020196757A1 (ja) 粘着シート、粘着シートの製造方法及び半導体装置の製造方法
WO2020196756A1 (ja) 粘着シートの製造方法、半導体装置の製造方法及び粘着シート
WO2020196758A1 (ja) 粘着シート、粘着シートの製造方法及び半導体装置の製造方法
WO2018181770A1 (ja) 粘着シート
WO2023017831A1 (ja) 粘着シートの膨張方法
JPWO2019112033A1 (ja) 粘着性積層体、粘着性積層体の使用方法、及び半導体装置の製造方法
WO2023017832A1 (ja) 半導体装置の製造方法及び半導体加工用粘着シート付き半導体ウエハ
WO2023054318A1 (ja) 半導体装置の製造方法
JP7157861B1 (ja) 半導体装置の製造方法
TWI846851B (zh) 黏著薄片之製造方法、半導體裝置之製造方法及黏著薄片
JP7185637B2 (ja) 半導体装置の製造方法
WO2022196752A1 (ja) 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置
TWI841705B (zh) 黏著薄片及半導體裝置之製造方法
WO2024058094A1 (ja) 半導体装置の製造方法
KR20230069910A (ko) 점착 시트 및 반도체 장치의 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22855893

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2023541454

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 202280054912.X

Country of ref document: CN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE