WO2022270282A1 - Solder paste and method for producing electronic device - Google Patents

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愛 浅見
陽也 佐久間
久彦 吉田
晶子 ▲高▼木
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千住金属工業株式会社
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    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering

Definitions

  • a solder paste comprising a flux composition and a solder powder
  • the storage elastic modulus at 100° C. was measured using a rheometer under the following measurement conditions, G′ 100 and the loss elastic modulus were G′′ 100 .
  • G′ 100 and G′′ 100 are configured to satisfy G′ 100 >G′′ 100 ;
  • Solder paste is provided.
  • ⁇ Procedure for preparing flux residue> 1. Prepare two copper trays having a bottom surface of 45 mm ⁇ 45 mm, a height of 5 mm, and a thickness of 0.3 mm. 2.
  • Measuring device rheometer (manufactured by Malvern Panalytical, KINEXUS 1b+) Measurement temperature: 20°C to 180°C Geometry (upper): 25mm ⁇ , stainless steel, parallel plate Plate (lower): 60mm ⁇ Mode: 5°C/min Strain: 1% Frequency: 10Hz Gap: 0.2mm
  • the organic acid may contain an organic acid having 11 or less carbon atoms from the viewpoint of low residue.
  • organic acids having 11 or less carbon atoms include glycolic acid (2 carbon atoms), thioglycolic acid (2 carbon atoms), glycine (2 carbon atoms), malonic acid (3 carbon atoms), fumaric acid (3 carbon atoms), 4), maleic acid (4 carbon atoms), succinic acid (4 carbon atoms), diglycolic acid (4 carbon atoms), tartaric acid (4 carbon atoms), malic acid (4 carbon atoms), glutaric acid (5 carbon atoms) , 2,2-bis(hydroxymethyl)propionic acid (5 carbon atoms), adipic acid (6 carbon atoms), citric acid (6 carbon atoms), picolinic acid (6 carbon atoms), benzoic acid (7 carbon atoms), 2,2-bis(hydroxymethyl)butanoic acid (6 carbon atoms), salicylic acid (7 carbon atoms), dipicolinic acid (7 carbon atoms), 2,3-d

Abstract

A solder paste according to the present invention contains a flux composition and a solder powder and is configured such that, with respect to a flux residue that is obtained from this solder paste in accordance with a specific production procedure, if G'100 is the storage elastic modulus thereof at 100°C and G"100 is the loss elastic modulus thereof at 100°C as determined under specific measurement conditions with use of a rheometer, G'100 and G"100 satisfy G'100 > G"100.

Description

ソルダペーストおよび電子装置の製造方法Solder paste and electronic device manufacturing method
 本発明は、ソルダペーストおよび電子装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a solder paste and an electronic device manufacturing method.
 これまでソルダペーストについて様々な開発がなされてきた。この種の技術として、例えば、特許文献1に記載の技術が知られている。特許文献1には、軟化点が90℃以下のロジン系樹脂を含むソルダペーストが記載されている。 Various developments have been made on solder paste. As this type of technology, for example, the technology described in Patent Document 1 is known. Patent Document 1 describes a solder paste containing a rosin-based resin having a softening point of 90° C. or lower.
特開2018-140429公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-140429
 しかしながら、本発明者が検討した結果、上記特許文献1に記載のソルダペーストにおいて、高温マイグレーションの点で改善の余地があることが判明した。 However, as a result of investigation by the present inventors, it was found that there is room for improvement in terms of high-temperature migration in the solder paste described in Patent Document 1 above.
 近年、デバイスの高主力化に伴って、デバイス稼働時の温度も100℃以上の高温になってきている
 本発明者は、上記開発事情を踏まえて検討したところ、ソルダペーストをリフロー処理した後に残存するフラックス残渣に対して、デバイスの稼働時に生じる高温の熱履歴が長時間に亘って加わると、フラックス残渣中に溶出した錫イオンなどが、陰極へ移動して析出して、高温マイグレーションが起き、その結果、絶縁不良が発生する恐れがあることを見出した。
 このような知見に基づきさらに鋭意研究したところ、ソルダペースト中のフラックス残渣の粘弾特性を適切に制御することによって、高温マイグレーションを抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。
In recent years, with the increasing popularity of devices, the operating temperature of devices has risen to 100°C or higher. When the high-temperature heat history that occurs during the operation of the device is applied to the flux residue for a long time, the tin ions etc. eluted in the flux residue move to the cathode and precipitate, causing high-temperature migration. As a result, the inventors have found that insulation failure may occur.
As a result of further intensive research based on such knowledge, it was found that high-temperature migration can be suppressed by appropriately controlling the viscoelastic properties of the flux residue in the solder paste, leading to the completion of the present invention.
 本発明によれば、
 フラックス組成物と、はんだ粉末と、を含む、ソルダペーストであって、
 下記の作製手順に従って当該ソルダペーストから得られたフラックス残渣について、下記の測定条件に基づいてレオメータを用いて測定した、100℃における貯蔵弾性率をG'100、損失弾性率をG''100としたとき、
 G'100およびG''100が、G'100>G''100を満たすように構成される、
ソルダペーストが提供される。
<フラックス残渣の作製手順>
 1.底面が45mm×45mm、高さが5mm、厚み:0.3mmの銅製トレイを2つ準備する。
 2.一方の前記銅製トレイの底面上に、他方の前記銅製トレイの開口が一方の開口に対向するように重ねて、テープで固定し、高さが約10mmの銅製ボックスを準備する。
 3.当該ソルダペーストを、5g採取し、サンプルとする。このサンプルを、一方の前記銅製トレイの内側の底面上に、底面の80%の面積を被覆するように広げる。
 4.前記サンプル入りの前記銅製ボックスに対して、リフロー炉を用いて、大気下で、下記の温度プロファイルA~Eのリフロー処置を施す。
  (温度プロファイルA~E)
  A.室温25℃から150℃まで、1.9℃/secの昇温速度で加熱する。
  B.150℃~180℃温度域で、80sec保持する。
  C.220℃まで、1.2℃/secの昇温速度で加熱する。
  D.220℃以上を40sec保持し、ピーク温度は240℃で加熱する。
  E.その後、室温25℃まで冷却する。
 5.リフロー処理後、一方の前記銅製トレイの内側の底面上に残存するフラックス残渣を採取する。
<測定条件>
 測定装置:レオメータ
 測定温度:20℃~180℃
 ジオメトリー(上側):25mmφ、ステンレス製、パラレルプレート
 プレート(下側):60mmφ
 モード:5℃/min
 ひずみ:1%
 周波数:10Hz
 ギャップ:0.2mm
According to the invention,
A solder paste comprising a flux composition and a solder powder,
Regarding the flux residue obtained from the solder paste according to the following preparation procedure, the storage elastic modulus at 100° C. was measured using a rheometer under the following measurement conditions, G′ 100 and the loss elastic modulus were G″ 100 . when
G′ 100 and G″ 100 are configured to satisfy G′ 100 >G″ 100 ;
Solder paste is provided.
<Procedure for preparing flux residue>
1. Prepare two copper trays having a bottom surface of 45 mm×45 mm, a height of 5 mm, and a thickness of 0.3 mm.
2. A copper box having a height of about 10 mm is prepared by laying one of the copper trays on the bottom surface of the other copper tray so that the opening of the other copper tray faces the other opening and fixing with tape.
3. 5 g of the solder paste is taken as a sample. The sample is spread onto the bottom surface inside one of the copper trays to cover 80% of the area of the bottom surface.
4. Using a reflow furnace, the copper box containing the sample is subjected to reflow treatment in the atmosphere according to the following temperature profiles A to E.
(Temperature profile A to E)
A. It is heated from a room temperature of 25° C. to 150° C. at a heating rate of 1.9° C./sec.
B. The temperature is held in the temperature range of 150°C to 180°C for 80 seconds.
C. Heat up to 220° C. at a rate of temperature increase of 1.2° C./sec.
D. The temperature is maintained at 220°C or higher for 40 seconds, and the peak temperature is 240°C.
E. After that, it is cooled to room temperature of 25°C.
5. After the reflow process, the flux residue remaining on the inner bottom surface of one of the copper trays is collected.
<Measurement conditions>
Measuring device: Rheometer Measuring temperature: 20°C to 180°C
Geometry (upper): 25mmφ, stainless steel, parallel plate Plate (lower): 60mmφ
Mode: 5°C/min
Strain: 1%
Frequency: 10Hz
Gap: 0.2mm
 また本発明によれば、
 上記のソルダペーストを、電子回路基板のはんだ付け部位に印刷する工程と、
 前記はんだ付け部位に電子部品を実装する工程と、
 前記はんだ付け部位の周囲に密閉構造が存在する状態で、前記ソルダペースト中のはんだ粉末が溶融する温度まで前記はんだ付け部位を加熱して前記電子部品および前記電子回路基板を接合する工程と、
を含む、電子装置の製造方法が提供される。
Also according to the present invention,
a step of printing the solder paste on a soldering portion of an electronic circuit board;
a step of mounting an electronic component on the soldering portion;
joining the electronic component and the electronic circuit board by heating the soldering portion to a temperature at which the solder powder in the solder paste melts, in a state where a closed structure exists around the soldering portion;
A method of manufacturing an electronic device is provided, comprising:
 本発明によれば、高温マイグレーション耐性に優れたソルダペースト、およびそれを用いた電子装置の製造方法が提供される。 According to the present invention, a solder paste with excellent high-temperature migration resistance and a method for manufacturing an electronic device using the same are provided.
フラックス残渣の作製方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of a flux residue. 高温マイグレーション試験を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a high temperature migration test. フラックス残渣作製時の標準リフロープロファイルを示す。A standard reflow profile for producing flux residue is shown.
 以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。また、図は概略図であり、実際の寸法比率とは一致していない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, in all the drawings, the same constituent elements are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as appropriate. Also, the drawings are schematic diagrams and do not correspond to actual dimensional ratios.
 本実施形態のソルダペーストの概要を説明する。 The outline of the solder paste of this embodiment will be explained.
 本実施形態のソルダペーストは、フラックス組成物と、はんだ粉末と、を含み、
 下記の作製手順に従ってソルダペーストから得られたフラックス残渣について、下記の測定条件に基づいてレオメータを用いて測定した、100℃における貯蔵弾性率をG'100、損失弾性率をG''100としたとき、
 G'100およびG''100が、G'100>G''100を満たすように構成される。
The solder paste of the present embodiment contains a flux composition and solder powder,
Regarding the flux residue obtained from the solder paste according to the following preparation procedure, the storage elastic modulus at 100° C. was measured using a rheometer under the following measurement conditions, G′ 100 and the loss elastic modulus were G″ 100 . when
G′ 100 and G″ 100 are constructed such that G′ 100 >G″ 100 .
<フラックス残渣の作製手順>
 1.底面が43~45mm×43~45mm、高さが5~7mm、厚み:0.2~0.4mmの銅製トレイを2つ準備する。
 2.一方の銅製トレイの底面上に、他方の銅製トレイの開口が一方の開口に対向するように重ねて、テープで固定し、高さが10~14mmの銅製ボックスを準備する。
 3.当該ソルダペーストを、約5g採取し、サンプルとする。このサンプルを、一方の銅製トレイの内側の底面上に、底面の約80%の面積を被覆するように広げる。
 4.前記サンプル入りの銅製ボックスに対して、リフロー炉(千住金属工業社製、SNR-825)を用いて、大気下で、下記の温度プロファイルA~Eのリフロー処置を施す。
  (温度プロファイルA~E)
  A.室温25℃から150℃まで、1.9℃/secの昇温速度で加熱する。
  B.150℃~180℃温度域で、80sec保持する。
  C.220℃まで、1.2℃/secの昇温速度で加熱する。
  D.220℃以上を40sec保持し、ピーク温度は240℃で加熱する。
  E.その後、室温25℃まで冷却する。
 5.リフロー処理後、一方の前記銅製トレイの内側の底面上に残存するフラックス残渣を採取する。
<Procedure for preparing flux residue>
1. Two copper trays having a bottom surface of 43-45 mm×43-45 mm, a height of 5-7 mm, and a thickness of 0.2-0.4 mm are prepared.
2. A copper box having a height of 10 to 14 mm is prepared by laying one copper tray on the bottom surface of the other copper tray so that the opening of the other copper tray faces the opening of the other tray and fixing with tape.
3. About 5 g of the solder paste is sampled. The sample is spread on the bottom surface inside one of the copper trays to cover approximately 80% of the area of the bottom surface.
4. Using a reflow furnace (manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd., SNR-825), the copper box containing the sample is subjected to reflow treatment under the following temperature profiles A to E in the atmosphere.
(Temperature profile A to E)
A. It is heated from a room temperature of 25° C. to 150° C. at a heating rate of 1.9° C./sec.
B. The temperature is held in the temperature range of 150°C to 180°C for 80 seconds.
C. Heat up to 220° C. at a rate of temperature increase of 1.2° C./sec.
D. The temperature is maintained at 220°C or higher for 40 seconds, and the peak temperature is 240°C.
E. After that, it is cooled to room temperature of 25°C.
5. After the reflow process, the flux residue remaining on the inner bottom surface of one of the copper trays is collected.
<測定条件>
 測定装置:レオメータ(マルバーン・パナリティカル社製、KINEXUS 1b+)
 測定温度:20℃~180℃
 ジオメトリー(上側):25mmφ、ステンレス製、パラレルプレート
 プレート(下側):60mmφ
 モード:5℃/min
 ひずみ:1%
 周波数:10Hz
 ギャップ:0.2mm
<Measurement conditions>
Measuring device: rheometer (manufactured by Malvern Panalytical, KINEXUS 1b+)
Measurement temperature: 20°C to 180°C
Geometry (upper): 25mmφ, stainless steel, parallel plate Plate (lower): 60mmφ
Mode: 5°C/min
Strain: 1%
Frequency: 10Hz
Gap: 0.2mm
 近年の高出力デバイスでは、発熱部品の周囲の温度が100℃以上となることもある。通常、100℃以上の発熱部品の周囲は、常湿よりも湿度が低くなることから、イオンマイグレーションが発生し難い環境条件と考えられていたが、低湿度環境下でも、高出力デバイスにてイオンマイグレーションが発生し得る事が本発明者によって確認された。
 しかしながら、一般的なイオンマイグレーション試験は、温度85℃、湿度85%の条件下で実施されているため、上記の実情に対応しているとは言いがたい。
 そこで、本発明者は、100℃以上の温度環境下にて金属イオンのマイグレーションを評価する高温マイグレーション試験を新たに考案した。高温マイグレーション試験では、湿度が20%以下の低湿度環境や、湿度が85%以上の高湿度環境などの環境条件を採用できる。
 本発明者の知見によれば、ソルダペースト中のフラックス残渣の粘弾特性を適切に制御することによって、高温マイグレーションを抑制できることが見出された。また、更に厳しい高湿度環境下においても、高温マイグレーションを抑制することが可能であることも判明した。
 フラックス残渣の粘弾特性は、上記の作製手順で得られたフラックス残渣について、上記の下測定条件に基づいてレオメータを用いて測定した、100℃における貯蔵弾性率をG'100と、損失弾性率をG''100とを指標として用いることにより、安定的に評価することが可能である。この点、フラックス残渣における粘弾特性と、それと同一のフラックス残渣を用いた高温マイグレーション試験の評価結果との関係に基づいて裏付けられた。
 そして、フラックス残渣がG'100およびG''100が、G'100>G''100を満たすようにソルダペーストを構成することによって、高温マイグレーションを抑制できることが判明した。
In recent high-power devices, the ambient temperature of heat-generating components may reach 100° C. or more. Normally, the humidity around a heat-generating component of 100°C or higher is lower than normal humidity, so it was thought that ion migration was difficult to occur in the environment. The inventors have confirmed that migration can occur.
However, since a general ion migration test is performed under the conditions of a temperature of 85° C. and a humidity of 85%, it cannot be said that it corresponds to the actual situation described above.
Therefore, the present inventor newly devised a high-temperature migration test for evaluating migration of metal ions in a temperature environment of 100° C. or higher. In the high-temperature migration test, environmental conditions such as a low-humidity environment with a humidity of 20% or less and a high-humidity environment with a humidity of 85% or more can be used.
According to the findings of the present inventors, it was found that high-temperature migration can be suppressed by appropriately controlling the viscoelastic properties of the flux residue in the solder paste. It was also found that high-temperature migration can be suppressed even in a more severe high-humidity environment.
The viscoelastic properties of the flux residue were measured using a rheometer under the above-described measurement conditions for the flux residue obtained by the above preparation procedure. can be stably evaluated by using G″ 100 as an index. This point was supported based on the relationship between the viscoelastic properties of the flux residue and the evaluation results of the high-temperature migration test using the same flux residue.
Then, it was found that the high-temperature migration can be suppressed by forming the solder paste so that the flux residues G'100 and G''100 satisfy G'100 >G''100 .
 詳細なメカニズムは定かではないが、100℃における貯蔵弾性を損失弾性率よりも大きくすることにより、高温時における変形を抑制し、流動性が低い状態のフラックス残渣を実現できるため、錫イオンなどの金属イオンの高温マイグレーションを抑制できると、考えられる。 Although the detailed mechanism is not clear, by making the storage elasticity at 100°C larger than the loss elastic modulus, deformation at high temperatures can be suppressed and flux residue with low fluidity can be achieved, so tin ions and the like can be generated. It is considered that high-temperature migration of metal ions can be suppressed.
 上記フラックス残渣の作製手順において、温度プロファイルは、上記(温度プロファイルA~E)を採用するが、必要に応じて、図3の標準リフロープロファイルに準じて設定してもよい。温度プロファイル中の温度は、ワーク温度を指す。
 リフロー処置は、ヒータを用いて、熱風循環させる方式を採用してもよい。
In the procedure for producing the flux residue, the temperature profiles described above (temperature profiles A to E) are employed, but may be set according to the standard reflow profile shown in FIG. 3, if necessary. Temperatures in the temperature profile refer to work temperatures.
The reflow treatment may employ a method of circulating hot air using a heater.
 また、上記フラックス残渣の作製手順において、サンプル量は、約5gであればよく、4.5~5.5gを許容できる。銅製トレイ上に広げる面積は、約80%としてもよいが、約60%以上であれば、フラックス残渣を採取可能な量を取得できる。
 なお、銅製トレイは、厚み0.2~0.4mmの銅板を折り曲げて作成してもよい。
Moreover, in the procedure for producing the flux residue, the sample amount may be about 5 g, and 4.5 to 5.5 g is acceptable. The area spread on the copper tray may be about 80%, but if it is about 60% or more, a sufficient amount of flux residue can be obtained.
The copper tray may be made by bending a copper plate having a thickness of 0.2 to 0.4 mm.
 上記の測定条件に基づいてレオメータを用いて測定した、100℃における貯蔵弾性率および損失弾性率から求められる、100℃の位相角をδ100とし、140℃における貯蔵弾性率および損失弾性率から求められる、140℃の位相角をδ140とする。 The phase angle at 100°C is δ 100 , which is determined from the storage modulus and loss modulus at 100°C measured using a rheometer under the above measurement conditions, and the storage modulus and loss modulus at 140°C. Let δ 140 be the phase angle at 140°C.
 δ140の下限は、例えば、1°以上、好ましくは2°以上、より好ましくは3°以上である。
 一方、δ140の上限は、例えば、45°未満、好ましくは44°以下、より好ましくは30°以下である。これにより、100℃超えの高温動作環境下における高温マイグレーション耐性を向上できる。
The lower limit of δ140 is, for example, 1° or more, preferably 2° or more, more preferably 3° or more.
On the other hand, the upper limit of δ140 is, for example, less than 45°, preferably 44° or less, more preferably 30° or less. As a result, it is possible to improve high-temperature migration resistance in a high-temperature operating environment exceeding 100.degree.
 δ140およびδ100は、0.1≦δ140/δ100≦3.0を満たすように構成されてもよい。
 δ140/δ100の下限は、例えば、0.1以上、好ましくは0.15以上、より好ましくは0.2以上である。
 一方、δ140/δ100の上限は、例えば、3.0以下、好ましくは2.5以下、より好ましくは2.0以下である。
 上記の数値範囲内とすることにより、100℃超えの高温動作環境下における高温マイグレーション耐性を向上できる。
δ 140 and δ 100 may be configured to satisfy 0.1≦δ 140100 ≦3.0.
The lower limit of δ140 / δ100 is, for example, 0.1 or more, preferably 0.15 or more, and more preferably 0.2 or more.
On the other hand, the upper limit of δ140 / δ100 is, for example, 3.0 or less, preferably 2.5 or less, and more preferably 2.0 or less.
By setting the value within the above numerical range, it is possible to improve high-temperature migration resistance in a high-temperature operating environment exceeding 100°C.
 上記のレオメータを用いて、25℃におけるソルダペーストの粘度を測定し、ずり速度が6sec-1のときの粘度をη1、ずり速度が1.8sec-1のときの粘度をη2、ずり速度が18sec-1のときの粘度をη3とする。 Using the above rheometer , the viscosity of the solder paste was measured at 25°C. Let η3 be the viscosity at −1 .
 粘度η1の下限は、例えば、5Pa・s以上、好ましくは20Pa・s以上、より好ましくは50Pa・s以上である。
 一方、粘度η1の上限は、例えば、400Pa・s以下、好ましくは300Pa・s以下、より好ましくは280Pa・s以下である。
 上記の数値範囲内とすることにより、ソルダペーストの印刷特性を向上できる。
The lower limit of the viscosity η1 is, for example, 5 Pa·s or more, preferably 20 Pa·s or more, more preferably 50 Pa·s or more.
On the other hand, the upper limit of the viscosity η1 is, for example, 400 Pa·s or less, preferably 300 Pa·s or less, more preferably 280 Pa·s or less.
The printability of the solder paste can be improved by setting the value within the above numerical range.
 Log(η2/η3)で求められるチキソ比の下限は、例えば、0.3以上、好ましくは0.4以上、より好ましくは0.5以上である。
 一方、上記チキソ比の上限は、例えば、1.8以下、好ましくは1.5以下、より好ましくは1.0以下である。
 上記の数値範囲内とすることにより、ソルダペーストの印刷特性を向上できる。
The lower limit of the thixotropic ratio obtained by Log(η2/η3) is, for example, 0.3 or more, preferably 0.4 or more, and more preferably 0.5 or more.
On the other hand, the upper limit of the thixotropic ratio is, for example, 1.8 or less, preferably 1.5 or less, and more preferably 1.0 or less.
The printability of the solder paste can be improved by setting the value within the above numerical range.
 本実施形態では、たとえばソルダペースト中に含まれる各成分の種類や配合量、ソルダペーストの調製方法等を適切に選択することにより、上記100℃や140℃の貯蔵弾性率、損失弾性率、位相角、粘度η1およびチキソ比を制御することが可能である。これらの中でも、たとえば、高軟化点の第一ロジン系樹脂を用いること、高軟化点の第一ロジン系樹脂の含有量を適切に調整すること、低軟化点の第三ロジン系樹脂を使用しないこと、溶剤および/または活性剤の含有量を適切に調整すること等が、上記100℃や140℃の貯蔵弾性率、損失弾性率、位相角、粘度η1およびチキソ比を所望の数値範囲とするための要素として挙げられる。 In the present embodiment, for example, by appropriately selecting the type and amount of each component contained in the solder paste, the preparation method of the solder paste, and the like, the storage elastic modulus at 100° C. and 140° C., the loss elastic modulus, the phase It is possible to control the angle, the viscosity η1 and the thixotropic ratio. Among these, for example, using a first rosin-based resin with a high softening point, appropriately adjusting the content of the first rosin-based resin with a high softening point, and not using a third rosin-based resin with a low softening point By appropriately adjusting the content of the solvent and / or activator, the storage elastic modulus at 100 ° C. or 140 ° C., the loss elastic modulus, the phase angle, the viscosity η1 and the thixotropic ratio are in the desired numerical range. It can be cited as an element for
 本実施形態のソルダペーストは、電子回路基板と電子部品と接合するために用いることができるが、とくに、電子回路基板と電子部品とで構成される密閉構造の周囲で、これらを接合するために用いてもよい。密閉構造中にフラックス残渣が残存する場合でも、高温マイグレーションを抑制することが可能である。
 また、このようなソルダペーストは、電子回路基板と電子部品と接合部位におけるデバイス動作時の発熱温度が100℃以上となるデバイスの製造に好適に使用することができる。
The solder paste of the present embodiment can be used for bonding an electronic circuit board and electronic components. may be used. High-temperature migration can be suppressed even when flux residue remains in the sealed structure.
Moreover, such a solder paste can be suitably used for manufacturing a device in which the temperature of the heat generated at the junction between the electronic circuit board and the electronic component is 100° C. or higher during device operation.
 以下、本実施形態のソルダペーストの構成を詳述する。 The configuration of the solder paste of this embodiment will be described in detail below.
 ソルダペーストは、フラックス組成物と、はんだ粉と、を含む。 The solder paste contains a flux composition and solder powder.
 フラックス組成物は、活性剤、ベース樹脂、チキソ剤、および溶剤からなる群から選ばれる一又は二以上を含むように構成されてもよい。 The flux composition may be configured to contain one or more selected from the group consisting of activators, base resins, thixotropic agents, and solvents.
(活性剤)
 フラックス組成物は、金属酸化物を除去する特性を有する、活性剤を含んでもよい。
 活性剤を含むことによって、はんだ接合プロセス時のはんだ濡れ性を高めることが可能である。
(activator)
The flux composition may include an activator that has metal oxide removal properties.
Inclusion of an activator can enhance solder wettability during the solder bonding process.
 活性剤の具体例として、例えば、有機酸、アミン類、ハロゲン系活性剤、リン系活性剤等が挙げられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 これらの活性剤は、詳細なメカニズムは定かではないが、金属酸化物を還元し、金属との塩を形成することによって、はんだ及びはんだ付け対象の金属表面の金属酸化膜を除去できると考えられる。
Specific examples of activators include organic acids, amines, halogen-based activators, phosphorus-based activators, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
Although the detailed mechanism is not clear, these activators are thought to be able to remove the solder and the metal oxide film on the surface of the metal to be soldered by reducing the metal oxide and forming a salt with the metal. .
 フラックス組成物100重量%中の活性剤の含有量は、例えば、0~30重量%であってもよいし、1~20重量%であってもよい。
 なお、本明細書中、「~」は、特に明示しない限り、上限値と下限値を含むことを表す。
The content of the activator in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 30% by weight, or may be 1 to 20% by weight.
In the present specification, "-" means including upper and lower limits unless otherwise specified.
 有機酸としては、モノカルボン酸、ジカルボン酸、ジカルボン酸の無水物、オキシ酸等が挙げられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of organic acids include monocarboxylic acids, dicarboxylic acids, anhydrides of dicarboxylic acids, and oxyacids. These may be used alone or in combination of two or more.
 有機酸の具体例の一例としては、例えば、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、エイコサン二酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、サリチル酸、ジグリコール酸、ジピコリン酸、ジブチルアニリンジグリコール酸、スベリン酸、セバシン酸、チオグリコール酸、テレフタル酸、ドデカン二酸、パラヒドロキシフェニル酢酸、ピコリン酸、フェニルコハク酸、フタル酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、ラウリン酸、安息香酸、酒石酸、イソシアヌル酸トリス(2-カルボキシエチル)、グリシン、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、2,3-ジヒドロキシ安息香酸、2,4-ジエチルグルタル酸、2-キノリンカルボン酸、3-ヒドロキシ安息香酸、リンゴ酸、p-アニス酸、ステアリン酸、12-ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等が挙げられる。 Specific examples of organic acids include glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, eicosanedioic acid, citric acid, glycolic acid, succinic acid, salicylic acid, diglycolic acid, dipicolinic acid, dibutylaniline diglycolic acid, and suberin. acid, sebacic acid, thioglycolic acid, terephthalic acid, dodecanedioic acid, p-hydroxyphenylacetic acid, picolinic acid, phenylsuccinic acid, phthalic acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, lauric acid, benzoic acid, tartaric acid, isocyanuric acid tris(2-carboxyethyl), glycine, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,2-bis(hydroxymethyl)propionic acid, 2,2-bis(hydroxymethyl)butanoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-diethylglutaric acid, 2-quinolinecarboxylic acid, 3-hydroxybenzoic acid, malic acid, p-anisic acid, stearic acid, 12-hydroxystearic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid and the like.
 この中でも、低残渣性の観点から、有機酸は、炭素数が11以下の有機酸を含んでもよい。
 炭素数が11以下の有機酸としては、例えば、グリコール酸(炭素数2)、チオグリコール酸(炭素数2)、グリシン(炭素数2)、マロン酸(炭素数3)、フマル酸(炭素数4)、マレイン酸(炭素数4)、コハク酸(炭素数4)、ジグリコール酸(炭素数4)、酒石酸(炭素数4)、リンゴ酸(炭素数4)、グルタル酸(炭素数5)、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸(炭素数5)、アジピン酸(炭素数6)、クエン酸(炭素数6)、ピコリン酸(炭素数6)、安息香酸(炭素数7)、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸(炭素数6)、サリチル酸(炭素数7)、ジピコリン酸(炭素数7)、2,3-ジヒドロキシ安息香酸(炭素数7)、3-ヒドロキシ安息香酸(炭素数7)、スベリン酸(炭素数8)、フタル酸(炭素数8)、イソフタル酸(炭素数8)、テレフタル酸(炭素数8)、パラヒドロキシフェニル酢酸(炭素数8)、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸(炭素数8)、p-アニス酸(炭素数8)、アゼライン酸(炭素数9)、2,4-ジエチルグルタル酸(炭素数9)、セバシン酸(炭素数10)、フェニルコハク酸(炭素数10)、2-キノリンカルボン酸(炭素数10)、4-tert-ブチル安息香酸(炭素数11)等が挙げられる。
Among these, the organic acid may contain an organic acid having 11 or less carbon atoms from the viewpoint of low residue.
Examples of organic acids having 11 or less carbon atoms include glycolic acid (2 carbon atoms), thioglycolic acid (2 carbon atoms), glycine (2 carbon atoms), malonic acid (3 carbon atoms), fumaric acid (3 carbon atoms), 4), maleic acid (4 carbon atoms), succinic acid (4 carbon atoms), diglycolic acid (4 carbon atoms), tartaric acid (4 carbon atoms), malic acid (4 carbon atoms), glutaric acid (5 carbon atoms) , 2,2-bis(hydroxymethyl)propionic acid (5 carbon atoms), adipic acid (6 carbon atoms), citric acid (6 carbon atoms), picolinic acid (6 carbon atoms), benzoic acid (7 carbon atoms), 2,2-bis(hydroxymethyl)butanoic acid (6 carbon atoms), salicylic acid (7 carbon atoms), dipicolinic acid (7 carbon atoms), 2,3-dihydroxybenzoic acid (7 carbon atoms), 3-hydroxybenzoic acid (C 7), suberic acid (C 8), phthalic acid (C 8), isophthalic acid (C 8), terephthalic acid (C 8), parahydroxyphenylacetic acid (C 8), 1, 3-cyclohexanedicarboxylic acid (8 carbon atoms), p-anisic acid (8 carbon atoms), azelaic acid (9 carbon atoms), 2,4-diethylglutaric acid (9 carbon atoms), sebacic acid (10 carbon atoms), Phenylsuccinic acid (10 carbon atoms), 2-quinolinecarboxylic acid (10 carbon atoms), 4-tert-butylbenzoic acid (11 carbon atoms) and the like can be mentioned.
 また、有機酸としては、例えば、ダイマー酸、トリマー酸、ダイマー酸に水素を添加した水添物である水添ダイマー酸、トリマー酸に水素を添加した水添物である水添トリマー酸が挙げられる。 Examples of the organic acid include dimer acid, trimer acid, hydrogenated dimer acid which is a hydrogenated product obtained by adding hydrogen to dimer acid, and hydrogenated trimer acid which is a hydrogenated product obtained by adding hydrogen to trimer acid. be done.
 フラックス組成物100重量%中の有機酸の含有量は、例えば、0~25重量%であってもよいし、1~20重量%であってもよい。上記上限値以下とすることにより、フラックス残渣の粘弾特性を好適なものとすることができる。 The content of the organic acid in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 25% by weight, or may be 1 to 20% by weight. By setting the content to be equal to or less than the above upper limit value, the viscoelastic property of the flux residue can be made suitable.
 アミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジフェニルグアニジン、エチルアミン、トリエチルアミン、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、2-メチルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4-ジアミノ-6-[2′-メチルイミダゾリル-(1′)]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2′-ウンデシルイミダゾリル-(1′)]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2′-エチル-4′-メチルイミダゾリル-(1′)]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2′-メチルイミダゾリル-(1′)]-エチル-s-トリアジンイソシアヌル酸付加物、2-フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3-ジヒドロ-1H-ピロロ[1,2-a]ベンズイミダゾール、1-ドデシル-2-メチル-3-ベンジルイミダゾリウムクロライド、2-メチルイミダゾリン、2-フェニルイミダゾリン、2,4-ジアミノ-6-ビニル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-ビニル-s-トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4-ジアミノ-6-メタクリロイルオキシエチル-s-トリアジン、エポキシ-イミダゾールアダクト、2-メチルベンゾイミダゾール、2-オクチルベンゾイミダゾール、2-ペンチルベンゾイミダゾール、2-(1-エチルペンチル)ベンゾイミダゾール、2-ノニルベンゾイミダゾール、2-(4-チアゾリル)ベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール、2-(2′-ヒドロキシ-5′-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2′-ヒドロキシ-3′-tert-ブチル-5′-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2′-ヒドロキシ-3′,5′-ジ-tert-アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2′-ヒドロキシ-5′-tert-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2′-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-tert-オクチルフェノール]、6-(2-ベンゾトリアゾリル)-4-tert-オクチル-6′-tert-ブチル-4′-メチル-2,2′-メチレンビスフェノール、1,2,3-ベンゾトリアゾール、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2′-[[(メチル-1H-ベンゾトリアゾール-1-イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、1-(1′,2′-ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、1-(2,3-ジカルボキシプロピル)ベンゾトリアゾール、1-[(2-エチルヘキシルアミノ)メチル]ベンゾトリアゾール、2,6-ビス[(1H-ベンゾトリアゾール-1-イル)メチル]-4-メチルフェノール、5-メチルベンゾトリアゾール、5-フェニルテトラゾール等が挙げられる。 Examples of amines include monoethanolamine, diphenylguanidine, ethylamine, triethylamine, ethylenediamine, triethylenetetramine, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2- ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1- Cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2- phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6-[2'-methylimidazolyl-(1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-[2'-undecylimidazolyl- (1′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-[2′-ethyl-4′-methylimidazolyl-(1′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino- 6-[2′-methylimidazolyl-(1′)]-ethyl-s-triazine isocyanurate, 2-phenylimidazole isocyanurate, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl- 4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo[1,2-a]benzimidazole, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2-methylimidazoline, 2 -phenylimidazoline, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s- triazines, epoxy-imidazole adducts, 2-methylbenzimidazole, 2-octylbenzimidazole, 2-pentylbenzimidazole, 2-(1-ethylpentyl)benzimidazole, 2-nonylbenzimidazole, 2-(4-thiazolyl)benzo imidazole, benzimidazole, 2-(2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3' -tert-butyl-5'-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole, 2-(2'-hydroxy-3',5'-di-tert-amylphenyl)benzotriazole, 2-(2'-hydroxy- 5′-tert-octylphenyl)benzotriazole, 2,2′-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-tert-octylphenol], 6-(2-benzotriazolyl)-4 -tert-octyl-6'-tert-butyl-4'-methyl-2,2'-methylenebisphenol, 1,2,3-benzotriazole, 1-[N,N-bis(2-ethylhexyl)aminomethyl] benzotriazole, carboxybenzotriazole, 1-[N,N-bis(2-ethylhexyl)aminomethyl]methylbenzotriazole, 2,2'-[[(methyl-1H-benzotriazol-1-yl)methyl]imino] bisethanol, 1-(1',2'-dicarboxyethyl)benzotriazole, 1-(2,3-dicarboxypropyl)benzotriazole, 1-[(2-ethylhexylamino)methyl]benzotriazole, 2,6 -bis[(1H-benzotriazol-1-yl)methyl]-4-methylphenol, 5-methylbenzotriazole, 5-phenyltetrazole and the like.
 フラックス組成物100重量%中のアミン類の含有量は、例えば、0~15重量%であってもよいし、0.1~10重量%であってもよい。 The content of amines in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 15% by weight, or may be 0.1 to 10% by weight.
 ハロゲン系活性剤としては、有機ハロゲン化合物類またはアミンハロゲン化水素酸塩類等が挙げられる。 Examples of halogen-based activators include organic halogen compounds and amine hydrohalides.
 有機ハロゲン化合物類としては、例えば、trans-2,3-ジブロモ-1,4-ブテンジオール、トリアリルイソシアヌレート6臭化物、1-ブロモ-2-ブタノール、1-ブロモ-2-プロパノール、3-ブロモ-1-プロパノール、3-ブロモ-1,2-プロパンジオール、1,4-ジブロモ-2-ブタノール、1,3-ジブロモ-2-プロパノール、2,3-ジブロモ-1-プロパノール、2,3-ジブロモ-1,4-ブタンジオール、2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール等が挙げられる。
 その他の有機ハロゲン化合物としては、例えば、有機クロロ化合物であるクロロアルカン、塩素化脂肪酸エステル、ヘット酸、ヘット酸無水物等が挙げられる。さらに有機フルオロ化合物であるフッ素系界面活性剤、パーフルオロアルキル基を有する界面活性剤、ポリテトラフルオロエチレン等が挙げられる。
Examples of organic halogen compounds include trans-2,3-dibromo-1,4-butenediol, triallyl isocyanurate hexabromide, 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol, 3-bromo -1-propanol, 3-bromo-1,2-propanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 2,3- dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol and the like.
Other organic halogen compounds include, for example, chloroalkanes which are organic chloro compounds, chlorinated fatty acid esters, het acids, het acid anhydrides, and the like. Furthermore, fluorine-based surfactants which are organic fluoro compounds, surfactants having a perfluoroalkyl group, polytetrafluoroethylene, and the like are included.
 アミンハロゲン化水素酸塩類としては、例えば、ヨウ化水素酸(HI)、臭化水素酸(HBr)、塩化水素酸(HCl)、フッ化水素酸(HF)等のハロゲン化水素酸と、アニリン、ジフェニルグアニジン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン等のアミン化合物とを組合せた塩が挙げられる。
 また、アミンハロゲン化水素酸塩類同等物として、テトラフルオロホウ酸(HBF)と、アミン化合物とを組合せた塩も用いることができる。
Examples of amine hydrohalides include hydrohalic acids such as hydroiodic acid (HI), hydrobromic acid (HBr), hydrochloric acid (HCl) and hydrofluoric acid (HF), and aniline , diphenylguanidine, diethylamine, isopropylamine, and other amine compounds.
Further, as an amine hydrohalide equivalent, a salt obtained by combining tetrafluoroboric acid (HBF 4 ) and an amine compound can also be used.
 アミンハロゲン化水素酸塩類の例としては、ステアリルアミン塩酸塩、ジエチルアニリン塩酸塩、ジエタノールアミン塩酸塩、2-エチルヘキシルアミン臭化水素酸塩、ピリジン臭化水素酸塩、イソプロピルアミン臭化水素酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアミン臭化水素酸塩、モノエチルアミン臭化水素酸塩、1,3-ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩、ジメチルアミン臭化水素酸塩、ジメチルアミン塩酸塩、ロジンアミン臭化水素酸塩、2-エチルヘキシルアミン塩酸塩、イソプロピルアミン塩酸塩、シクロヘキシルアミン塩酸塩、2-ピペコリン臭化水素酸塩、1,3-ジフェニルグアニジン塩酸塩、ジメチルベンジルアミン塩酸塩、ヒドラジンヒドラート臭化水素酸塩、ジメチルシクロヘキシルアミン塩酸塩、トリノニルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアニリン臭化水素酸塩、2-ジエチルアミノエタノール臭化水素酸塩、2-ジエチルアミノエタノール塩酸塩、塩化アンモニウム、ジアリルアミン塩酸塩、ジアリルアミン臭化水素酸塩、モノエチルアミン塩酸塩、モノエチルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアミン塩酸塩、トリエチルアミン臭化水素酸塩、トリエチルアミン塩酸塩、ヒドラジン一塩酸塩、ヒドラジン二塩酸塩、ヒドラジン一臭化水素酸塩、ヒドラジン二臭化水素酸塩、ピリジン塩酸塩、アニリン臭化水素酸塩、ブチルアミン塩酸塩、へキシルアミン塩酸塩、n-オクチルアミン塩酸塩、ドデシルアミン塩酸塩、ジメチルシクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、エチレンジアミン二臭化水素酸塩、ロジンアミン臭化水素酸塩、2-フェニルイミダゾール臭化水素酸塩、4-ベンジルピリジン臭化水素酸塩、L-グルタミン酸塩酸塩、N-メチルモルホリン塩酸塩、ベタイン塩酸塩、2-ピペコリンヨウ化水素酸塩、シクロヘキシルアミンヨウ化水素酸塩、1,3-ジフェニルグアニジンフッ化水素酸塩、ジエチルアミンフッ化水素酸塩、2-エチルヘキシルアミンフッ化水素酸塩、シクロヘキシルアミンフッ化水素酸塩、エチルアミンフッ化水素酸塩、ロジンアミンフッ化水素酸塩、シクロヘキシルアミンテトラフルオロホウ酸塩、及びジシクロヘキシルアミンテトラフルオロホウ酸塩等が挙げられる。 Examples of amine hydrohalides include stearylamine hydrochloride, diethylaniline hydrochloride, diethanolamine hydrochloride, 2-ethylhexylamine hydrobromide, pyridine hydrobromide, isopropylamine hydrobromide, Cyclohexylamine hydrobromide, diethylamine hydrobromide, monoethylamine hydrobromide, 1,3-diphenylguanidine hydrobromide, dimethylamine hydrobromide, dimethylamine hydrochloride, rosin amine odor Hydrochloride, 2-ethylhexylamine hydrochloride, isopropylamine hydrochloride, cyclohexylamine hydrochloride, 2-pipecoline hydrobromide, 1,3-diphenylguanidine hydrochloride, dimethylbenzylamine hydrochloride, hydrazine hydrate odor Hydrochloride, dimethylcyclohexylamine hydrochloride, trinonylamine hydrobromide, diethylaniline hydrobromide, 2-diethylaminoethanol hydrobromide, 2-diethylaminoethanol hydrochloride, ammonium chloride, diallylamine hydrochloride salt, diallylamine hydrobromide, monoethylamine hydrochloride, monoethylamine hydrobromide, diethylamine hydrochloride, triethylamine hydrobromide, triethylamine hydrochloride, hydrazine monohydrochloride, hydrazine dihydrochloride, hydrazine monohydrochloride Hydrochloride, hydrazine dihydrobromide, pyridine hydrochloride, aniline hydrobromide, butylamine hydrochloride, hexylamine hydrochloride, n-octylamine hydrochloride, dodecylamine hydrochloride, dimethylcyclohexylamine bromide hydrochloride, ethylenediamine dihydrobromide, rosinamine hydrobromide, 2-phenylimidazole hydrobromide, 4-benzylpyridine hydrobromide, L-glutamic acid hydrochloride, N-methylmorpholine hydrochloride Salt, betaine hydrochloride, 2-pipecoline hydroiodide, cyclohexylamine hydroiodide, 1,3-diphenylguanidine hydrofluoride, diethylamine hydrofluoride, 2-ethylhexylamine hydrofluoride , cyclohexylamine hydrofluoride, ethylamine hydrofluoride, rosinamine hydrofluoride, cyclohexylamine tetrafluoroborate, and dicyclohexylamine tetrafluoroborate.
 フラックス組成物100重量%中のハロゲン系活性剤の含有量は、例えば、0~10重量%であってもよいし、0.1~5重量%であってもよい。
 フラックス組成物100重量%中の有機ハロゲン化合物類の含有量は、例えば、0~10重量%であってもよいし、0.1~5重量%であってもよい。
 フラックス組成物100重量%中のアミンハロゲン化水素酸塩類の含有量は、例えば、0~5重量%であってもよいし、0.1~3重量%であってもよい。
The content of the halogen-based activator in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 10% by weight, or may be 0.1 to 5% by weight.
The content of organic halogen compounds in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 10% by weight, or may be 0.1 to 5% by weight.
The content of amine hydrohalides in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 5% by weight, or may be 0.1 to 3% by weight.
 リン系活性剤としては、例えば、ホスホン酸エステル、フェニル置換ホスフィン酸ホスホン酸類、燐酸エステル類等が挙げられる。 Phosphorus-based activators include, for example, phosphonic acid esters, phenyl-substituted phosphinic acid phosphonic acids, and phosphoric acid esters.
 ホスホン酸エステルとしては、例えば、2-エチルヘキシル(2-エチルヘキシル)ホスホネート、n-オクチル(n-オクチル)ホスホネート、n-デシル(n-デシル)ホスホネート、及びn-ブチル(n-ブチル)ホスホネートが挙げられる。
 フェニル置換ホスフィン酸としては、例えば、フェニルホスフィン酸、及びジフェニルホスフィン酸が挙げられる。
Phosphonate esters include, for example, 2-ethylhexyl (2-ethylhexyl) phosphonate, n-octyl (n-octyl) phosphonate, n-decyl (n-decyl) phosphonate, and n-butyl (n-butyl) phosphonate. be done.
Phenyl-substituted phosphinic acids include, for example, phenylphosphinic acid and diphenylphosphinic acid.
 フラックス組成物100重量%中のリン系活性剤の含有量は、例えば、0~10重量%であってもよいし、0.1~5重量%であってもよい。 The content of the phosphorus-based activator in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 10% by weight, or may be 0.1 to 5% by weight.
(ベース樹脂)
 フラックス組成物は、ベース樹脂を含んでもよい。
 ベース樹脂としては、例えば、ロジン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、フェノキシ樹脂、ビニルエーテル系樹脂、テルペン樹脂、変性テルペン樹脂(例えば、芳香族変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂、水添芳香族変性テルペン樹脂等)、テルペンフェノール樹脂、変性テルペンフェノール樹脂(例えば、水添テルペンフェノール樹脂等)、スチレン樹脂、変性スチレン樹脂(例えば、スチレンアクリル樹脂、スチレンマレイン樹脂等)、キシレン樹脂、変性キシレン樹脂(例えば、フェノール変性キシレン樹脂、アルキルフェノール変性キシレン樹脂、フェノール変性レゾール型キシレン樹脂、ポリオール変性キシレン樹脂、ポリオキシエチレン付加キシレン樹脂等)等が挙げられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 なお、本明細書中、「(メタ)アクリル系樹脂」とは、メタクリル系樹脂及びアクリル系樹脂を包含する概念をいう。
(base resin)
The flux composition may contain a base resin.
Examples of base resins include rosin resins, (meth)acrylic resins, urethane resins, polyester resins, phenoxy resins, vinyl ether resins, terpene resins, modified terpene resins (e.g., aromatic modified terpene resins, hydrogenated terpene resin, hydrogenated aromatic modified terpene resin, etc.), terpene phenol resin, modified terpene phenol resin (e.g., hydrogenated terpene phenol resin, etc.), styrene resin, modified styrene resin (e.g., styrene acrylic resin, styrene maleic resin, etc.) , xylene resins, modified xylene resins (eg, phenol-modified xylene resins, alkylphenol-modified xylene resins, phenol-modified resol-type xylene resins, polyol-modified xylene resins, polyoxyethylene-added xylene resins, etc.). These may be used alone or in combination of two or more.
In addition, in this specification, "(meth)acrylic resin" means a concept including methacrylic resin and acrylic resin.
 これらの中でも、ベース樹脂は、ロジン系樹脂を含んでもよい。
 ロジン系樹脂としては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン、トール油ロジン等の原料ロジン、原料ロジンから得られる誘導体が挙げられる。誘導体としては、例えば、精製ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン、及びα,β不飽和カルボン酸変性物(アクリル化ロジン)、マレイン化ロジン、フマル化ロジン等、並びに重合ロジンの精製物、水素化物及び不均化物、並びにα,β不飽和カルボン酸変性物の精製物、水素化物、不均化物等が挙げられる。これらのロジン系樹脂は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。
Among these, the base resin may contain a rosin-based resin.
Examples of rosin-based resins include starting rosins such as gum rosin, wood rosin and tall oil rosin, and derivatives obtained from starting rosins. Derivatives include, for example, purified rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, polymerized rosin, α,β unsaturated carboxylic acid modified product (acrylated rosin), maleated rosin, fumarated rosin, etc., and polymerized rosin. Purified products, hydrides and disproportionated products, and purified products, hydrides and disproportionated products of α,β-unsaturated carboxylic acid-modified products are included. These rosin-based resins are used singly or in combination of two or more.
 フラックス組成物100重量%中のベース樹脂の含有量は、例えば、0~50重量%でもよく、10~49重量%でもよく、15~48重量%でもよい。ベース樹脂の含有量を上記15重量%以上とすることにより、フラックス残渣の粘弾特性を好適なものとすることができる。 The content of the base resin in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 50% by weight, 10 to 49% by weight, or 15 to 48% by weight. By setting the content of the base resin to 15% by weight or more, the viscoelastic properties of the flux residue can be made suitable.
 フラックス組成物は、軟化点が135℃以上の第一ロジン系樹脂を含むことが好ましい。第一ロジン系樹脂の軟化点は、好ましくは138℃以上、より好ましくは140℃以上である。
 必要に応じて、フラックス組成物は、軟化点が120℃以上135℃未満の第二ロジン系樹脂を含んでもよい。
 なお、フラックス組成物は、軟化点が90℃以下の第三ロジン系樹脂を含まないことが好ましい。
 第一ロジン系樹脂を含むこと、および/または第二ロジン系樹脂を含むか第三ロジン系樹脂を含まない構成とすることにより、フラックス残渣の粘弾特性を好適なものとすることができる。
 なお、軟化点は、JIS K 2207:1996の軟化点試験方法(環球法)に準拠して測定できる。
The flux composition preferably contains a first rosin-based resin having a softening point of 135° C. or higher. The softening point of the first rosin-based resin is preferably 138°C or higher, more preferably 140°C or higher.
If necessary, the flux composition may contain a second rosin-based resin having a softening point of 120°C or higher and lower than 135°C.
The flux composition preferably does not contain a third rosin-based resin having a softening point of 90° C. or lower.
By including the first rosin-based resin and/or including the second rosin-based resin or not including the third rosin-based resin, the viscoelastic properties of the flux residue can be made suitable.
The softening point can be measured according to the softening point test method (ring and ball method) of JIS K 2207:1996.
 フラックス組成物100重量%中の第一ロジン系樹脂の含有量は、例えば、1~50重量%でもよく、3~30重量%でもよく、5~30重量%でもよい。上記下限値以上とすることにより、フラックス残渣の粘弾特性を好適なものとすることができる。上記上限値以下とすることにより、ソルダペーストの印刷特性が低下することを抑制できる。
 全ロジン系樹脂100重量%中の第一ロジン系樹脂の含有量は、例えば、3~100重量%でもよく、10~90重量%でもよく、12~80重量%でもよい。上記下限値以上とすることにより、フラックス残渣の粘弾特性を好適なものとすることができる。
The content of the first rosin resin in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 1 to 50% by weight, 3 to 30% by weight, or 5 to 30% by weight. By making the amount equal to or higher than the above lower limit, the viscoelastic property of the flux residue can be made suitable. By making it equal to or less than the above upper limit, it is possible to suppress deterioration of the printing characteristics of the solder paste.
The content of the first rosin-based resin in 100% by weight of the total rosin-based resin may be, for example, 3 to 100% by weight, 10 to 90% by weight, or 12 to 80% by weight. By making the amount equal to or higher than the above lower limit, the viscoelastic property of the flux residue can be made suitable.
(溶剤)
 フラックス組成物は、溶剤を含んでもよい。
 溶剤は、25℃環境下、固形または液状の溶剤を用いることができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(solvent)
The flux composition may contain a solvent.
A solid or liquid solvent can be used as the solvent in a 25° C. environment. These may be used alone or in combination of two or more.
 固形溶剤としては、例えば、アルコール系固形溶剤やフェノール系固形溶剤等が用いられる。
 これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
As the solid solvent, for example, an alcohol-based solid solvent, a phenol-based solid solvent, or the like is used.
These may be used alone or in combination of two or more.
 アルコール系固形溶剤は、分子内に1個または2個以上のヒドロキシ基を有する固形溶剤であればよく、2個または3個以上の複数のヒドロキシ基を有する多価アルコール系固形溶剤が好ましい。 The alcohol-based solid solvent may be a solid solvent having one or more hydroxy groups in the molecule, preferably a polyhydric alcohol-based solid solvent having two or more than three hydroxy groups.
 多価アルコール系固形溶剤の具体例としては、例えば、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等が挙げられる。 Specific examples of polyhydric alcohol-based solid solvents include pentaerythritol, trimethylolpropane, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, and neopentyl glycol.
 フェノール系固形溶剤は、分子内に1個または2個以上のフェノール基を有する固形溶剤であればよく、フェノール基のベンゼン環には、1または2個以上のヒドロキシ基が結合してもよい。 The phenol-based solid solvent may be a solid solvent having one or two or more phenol groups in the molecule, and one or two or more hydroxy groups may be bonded to the benzene ring of the phenol group.
 液状溶剤は、例えば、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、テルピネオール類、炭化水素類、エステル類、水等などが用いられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。この中でも、液状溶剤として、アルコール系溶剤及びグリコールエーテル系溶剤の少なくとも一方を用いてもよい。 For liquid solvents, for example, alcohol solvents, glycol ether solvents, terpineols, hydrocarbons, esters, water, etc. are used. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, at least one of an alcohol-based solvent and a glycol ether-based solvent may be used as the liquid solvent.
 アルコール系溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、1,2-ブタンジオール、イソボルニルシクロヘキサノール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、2,5-ジメチル-3-ヘキシン-2,5-ジオール、2,3-ジメチル-2,3-ブタンジオール、1,1,1-トリス(ヒドロキシメチル)エタン、2-エチル-2-ヒドロキシメチル-1,3-プロパンジオール、2,2'-オキシビス(メチレン)ビス(2-エチル-1,3-プロパンジオール)、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1,3-プロパンジオール、1,2,6-トリヒドロキシヘキサン、ビス[2,2,2-トリス(ヒドロキシメチル)エチル]エーテル、1-エチニル-1-シクロヘキサノール、1,4-シクロヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、エリトリトール、トレイトール、グアヤコールグリセロールエーテル、3,6-ジメチル-4-オクチン-3,6-ジオール、2,4,7,9-テトラメチル-5-デシン-4,7-ジオール等が挙げられる。 Examples of alcohol solvents include isopropyl alcohol, 1,2-butanediol, isobornylcyclohexanol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol, 2,3-dimethyl-2,3-butanediol, 1,1,1-tris ( hydroxymethyl)ethane, 2-ethyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2,2′-oxybis(methylene)bis(2-ethyl-1,3-propanediol), 2,2-bis( hydroxymethyl)-1,3-propanediol, 1,2,6-trihydroxyhexane, bis[2,2,2-tris(hydroxymethyl)ethyl]ether, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 1,4 -cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, erythritol, threitol, guaiacol glycerol ether, 3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol, 2,4,7,9-tetramethyl-5- Decyne-4,7-diol and the like can be mentioned.
 グリコールエーテル系溶剤としては、例えば、ヘキシルジグリコール、ジエチレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、2-メチルペンタン-2,4-ジオール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。 Examples of glycol ether solvents include hexyl diglycol, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, 2-methylpentane-2,4-diol, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, and triethylene glycol. monobutyl ether, tetraethylene glycol monomethyl ether, and the like.
 フラックス組成物100重量%中の溶剤の含有量は、例えば、0~65重量%でもよく、1~50重量%でもよく、5~40重量%でもよい。上記上限値以下とすることにより、フラックス残渣の粘弾特性を好適なものとすることができる。
 フラックス組成物100重量%中の液状溶剤の含有量は、例えば、0~65重量%でもよく、1~50重量%でもよく、5~40重量%でもよい。
The solvent content in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 65% by weight, 1 to 50% by weight, or 5 to 40% by weight. By setting the content to be equal to or less than the above upper limit value, the viscoelastic property of the flux residue can be made suitable.
The content of the liquid solvent in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 65% by weight, 1 to 50% by weight, or 5 to 40% by weight.
(チキソ剤)
 フラックス組成物は、チキソ剤を含んでもよい。
 チキソ剤としては、例えば、ワックス系チキソ剤、アマイド系チキソ剤、ソルビトール系チキソ剤等が挙げられる。
 ワックス系チキソ剤としては、例えば、ヒマシ硬化油等が挙げられる。
 マイド系チキソ剤としては、モノアミド、ビスアミド、ポリアミドが挙げられる。例えば、ラウリン酸アマイド、パルミチン酸アマイド、ステアリン酸アマイド、ベヘン酸アマイド、ヒドロキシステアリン酸アマイド、飽和脂肪酸アマイド、オレイン酸アマイド、エルカ酸アマイド、不飽和脂肪酸アマイド、p-トルエンメタンアマイド、芳香族アマイド、メチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスラウリン酸アマイド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アマイド、飽和脂肪酸ビスアマイド、メチレンビスオレイン酸アマイド、不飽和脂肪酸ビスアマイド、m-キシリレンビスステアリン酸アマイド、芳香族ビスアマイド、脂肪族ポリアマイド(飽和脂肪酸ポリアマイド、不飽和脂肪酸ポリアマイド)、芳香族ポリアマイド、置換アマイド、メチロールステアリン酸アマイド、メチロールアマイド、脂肪酸エステルアマイド、環状アミドオリゴマー、非環状アミドオリゴマー等が挙げられる。
(thixotropic agent)
The flux composition may contain a thixotropic agent.
Examples of thixotropic agents include wax-based thixotropic agents, amide-based thixotropic agents, and sorbitol-based thixotropic agents.
Examples of wax-based thixotropic agents include castor hardened oil.
Examples of amide thixotropic agents include monoamides, bisamides and polyamides. For example, lauric acid amide, palmitic acid amide, stearic acid amide, behenic acid amide, hydroxystearic acid amide, saturated fatty acid amide, oleic acid amide, erucic acid amide, unsaturated fatty acid amide, p-toluenemethanamide, aromatic amide, methylenebisstearic acid amide, ethylenebislauric acid amide, ethylenebishydroxystearic acid amide, saturated fatty acid bisamide, methylenebisoleic acid amide, unsaturated fatty acid bisamide, m-xylylene bisstearic acid amide, aromatic bisamide, aliphatic polyamide (saturated fatty acid polyamide, unsaturated fatty acid polyamide), aromatic polyamide, substituted amide, methylol stearamide, methylol amide, fatty acid ester amide, cyclic amide oligomer, non-cyclic amide oligomer and the like.
 フラックス組成物100重量%中のチキソ剤の含有量は、例えば、0~20重量%でもよく、1~15重量%でもよい。 The content of the thixotropic agent in 100% by weight of the flux composition may be, for example, 0 to 20% by weight or 1 to 15% by weight.
(添加剤)
 フラックス組成物は、本発明の効果を損なわない限り、フラックスに通常添加される添加剤を含んでもよい。
 添加剤としては、例えば、酸化防止剤、防錆剤、消泡剤、つや消し剤、界面活性剤、着色剤等が挙げられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤等が挙げられる。
(Additive)
The flux composition may contain additives that are commonly added to flux as long as they do not impair the effects of the present invention.
Examples of additives include antioxidants, rust inhibitors, antifoaming agents, matting agents, surfactants, colorants, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
For example, antioxidants include hindered phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and the like.
 はんだ粉末は、Sn単体、または、Sn-Ag系、Sn-Cu系、Sn-Ag-Cu系、Sn-Bi系、Sn-In系等、あるいは、これらの合金にPb、Sb、Bi、In、Cu、Zn、As、Ag、Cd、Fe、Ni、Co、Au、Ge、P等を添加したはんだ粉体で構成されてもよい。 The solder powder can be Sn alone, Sn--Ag-based, Sn--Cu-based, Sn--Ag--Cu-based, Sn--Bi-based, Sn--In-based, etc., or alloys thereof containing Pb, Sb, Bi, In , Cu, Zn, As, Ag, Cd, Fe, Ni, Co, Au, Ge, P or the like may be added to the solder powder.
 はんだ粉末は、JIS Z 3284:2014に準拠して粒度分布測定試験で測定される所定の粒度分布を有してもよい。
 はんだ粉末は、例えば、粒子径が2~150μmの範囲にある粉末の質量分率が80%以上、好ましくは粒子径が5~75μmの範囲にある粉末の質量分率が80%以上、より好ましくは粒子径が5~45μmの範囲にある粉末の質量分率が80%以上となるように構成されてもよい。
The solder powder may have a predetermined particle size distribution measured by a particle size distribution measurement test according to JIS Z 3284:2014.
In the solder powder, for example, the mass fraction of powder having a particle diameter in the range of 2 to 150 μm is 80% or more, preferably the mass fraction of powder having a particle diameter in the range of 5 to 75 μm is 80% or more, more preferably may be configured such that the mass fraction of powder having a particle size in the range of 5 to 45 μm is 80% or more.
 JIS Z 3284:2017に準拠して粒度分布測定試験により、はんだ粉末は、粒度分布におうじて、タイプ1~タイプ8に分類できる。
 本実施形態では、この中でも、タイプ2~タイプ7のはんだ粉末が好ましく、タイプ3~タイプ6のはんだ粉末がより好ましい。
 タイプ3では、粒子径が25~45μmの範囲にある粉末の質量分率が80%以上を満たす。
 タイプ4では、粒子径が20~38μmの範囲にある粉末の質量分率が80%以上を満たす。
 タイプ5では、粒子径が15~25μmの範囲にある粉末の質量分率が80%以上を満たす。
 タイプ6では、粒子径が5~15μmの範囲にある粉末の質量分率が80%以上を満たす。
According to a particle size distribution measurement test according to JIS Z 3284:2017, the solder powder can be classified into types 1 to 8 according to the particle size distribution.
In the present embodiment, among these, type 2 to type 7 solder powders are preferred, and type 3 to type 6 solder powders are more preferred.
Type 3 satisfies 80% or more by mass fraction of powder having a particle size in the range of 25 to 45 μm.
Type 4 satisfies 80% or more by mass fraction of powder having a particle size in the range of 20 to 38 μm.
Type 5 satisfies 80% or more by mass fraction of powder having a particle size in the range of 15 to 25 μm.
In type 6, the mass fraction of powder having a particle size in the range of 5 to 15 μm satisfies 80% or more.
 はんだ粉末及びフラックス組成物を含むソルダペースト100重量%中のフラックス組成物の含有量は、例えば、7~30重量%、好ましくは8~25重量%、より好ましくは10~20重量%である。 The content of the flux composition in 100% by weight of solder paste containing solder powder and flux composition is, for example, 7 to 30% by weight, preferably 8 to 25% by weight, more preferably 10 to 20% by weight.
 フラックス組成物及びソルダペーストの製造方法に限定はなく、原料を同時に又は順次、任意の方法で混合することにより製造することができる。 The manufacturing method of the flux composition and solder paste is not limited, and they can be manufactured by mixing raw materials simultaneously or sequentially by any method.
 フラックス組成物の製造は、最終的にフラックス組成物の全成分が混合されればよく、溶剤に他の成分を順次混合してもよいし、他の成分を混合したものを溶剤に添加してもよいし、溶剤と他の全成分を同時に混合してもよい。
 また、ソルダペーストの製造は、必ずしも、フラックス組成物を予め調製して、これをはんだ粉末と混合する必要はなく、最終的にフラックス組成物の全成分、はんだ粉末及び必要に応じてソルダペーストに添加される添加剤とが混合されるのであれば混合の順番は問わず、フラックス組成物の成分の一部とはんだ粉末とを混合した後、フラックス組成物の残りの成分を添加するなどしてもよい。
The flux composition can be produced by finally mixing all the components of the flux composition, and the other components may be sequentially mixed with the solvent, or the mixture of the other components may be added to the solvent. Alternatively, the solvent and all other ingredients may be mixed simultaneously.
Also, in the manufacture of solder paste, it is not always necessary to prepare a flux composition in advance and mix it with solder powder. As long as the additives to be added are mixed, the order of mixing does not matter. For example, after mixing some of the components of the flux composition with the solder powder, the remaining components of the flux composition are added. good too.
 本実施形態のソルダペーストは、一例として、半導体装置などの電子装置の製造方法に用いることができる。
 電子装置の製造方法は、上記のソルダペーストを電極に塗布する工程と、例えば、リードフレームやプリント配線基板などの基板と半導体素子とを加熱処理して、溶融したはんだを介してこれらを接合する工程とを含んでもよい。
The solder paste of this embodiment can be used, for example, in a method for manufacturing an electronic device such as a semiconductor device.
The method of manufacturing an electronic device includes the step of applying the solder paste to the electrodes, and heat-treating a substrate such as a lead frame or a printed wiring board and a semiconductor element, and joining them via molten solder. and a step.
 電子装置の製造方法の一例は、上記のソルダペーストを、電子回路基板のはんだ付け部位に印刷する工程と、はんだ付け部位に電子部品を実装する工程と、はんだ付け部位の周囲に密閉構造が存在する状態で、ソルダペースト中のはんだ粉末が溶融する温度まではんだ付け部位を加熱して電子部品および電子回路基板を接合する工程と、を含んでもよい。
 電子部品は、パワー半導体などの高出力デバイスが用いられてもよい。
An example of a method for manufacturing an electronic device includes the steps of printing the above solder paste on a soldering portion of an electronic circuit board, mounting an electronic component on the soldering portion, and forming a sealing structure around the soldering portion. heating the soldering portion to a temperature at which the solder powder in the solder paste melts to join the electronic component and the electronic circuit board.
A high output device such as a power semiconductor may be used as the electronic component.
 ソルダペーストの印刷方法として、スクリーン印刷、フィルム印刷等が挙げられ、ジェットディスペンス以外の方法を用いて印刷してもよい。 Screen printing, film printing, etc. can be cited as methods for printing the solder paste, and printing may be performed using methods other than jet dispensing.
 以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
 以下、参考形態の例を付記する。
1. フラックス組成物と、はんだ粉末と、を含む、ソルダペーストであって、
 下記の作製手順に従って当該ソルダペーストから得られたフラックス残渣について、下記の測定条件に基づいてレオメータを用いて測定した、100℃における貯蔵弾性率をG'100、損失弾性率をG''100としたとき、
 G'100およびG''100が、G'100>G''100を満たすように構成される、
ソルダペースト。
<フラックス残渣の作製手順>
 1.底面が45mm×45mm、高さが5mm、厚み:0.3mmの銅製トレイを2つ準備する。
 2.一方の前記銅製トレイの底面上に、他方の前記銅製トレイの開口が一方の開口に対向するように重ねて、テープで固定し、高さが約10mmの銅製ボックスを準備する。
 3.当該ソルダペーストを、5g採取し、サンプルとする。このサンプルを、一方の前記銅製トレイの内側の底面上に、前記底面の80%の面積を被覆するように広げる。
 4.前記サンプル入りの前記銅製ボックスに対して、リフロー炉を用いて、大気下で、下記の温度プロファイルA~Eのリフロー処置を施す。
  (温度プロファイルA~E)
  A.室温25℃から150℃まで、1.9℃/secの昇温速度で加熱する。
  B.150℃~180℃温度域で、80sec保持する。
  C.220℃まで、1.2℃/secの昇温速度で加熱する。
  D.220℃以上を40sec保持し、ピーク温度は240℃で加熱する。
  E.その後、室温25℃まで冷却する。
 5.リフロー処理後、一方の前記銅製トレイの内側の底面上に残存するフラックス残渣を採取する。
<測定条件>
 測定装置:レオメータ
 測定温度:20℃~180℃
 ジオメトリー(上側):25mmφ、ステンレス製、パラレルプレート
 プレート(下側):60mmφ
 モード:5℃/min
 ひずみ:1%
 周波数:10Hz
 ギャップ:0.2mm
2. 1.に記載のソルダペーストであって、
 上記の測定条件に基づいてレオメータを用いて測定した、140℃における貯蔵弾性率および損失弾性率から求められる、140℃の位相角をδ140としたとき、δ140が1°以上45°未満である、ソルダペースト。
3. 2.に記載のソルダペーストであって、
 上記の測定条件に基づいてレオメータを用いて測定した、100℃における貯蔵弾性率および損失弾性率から求められる、100℃の位相角をδ100としたとき、δ140およびδ100が、0.1≦δ140/δ100≦3.0を満たすように構成される、ソルダペースト。
4. 1.~3.のいずれか一つに記載のソルダペーストであって、
 前記フラックス組成物が、軟化点が135℃以上のロジン系樹脂を含む、ソルダペースト。
5. 1.~4.のいずれか一つに記載のソルダペーストであって、
 前記フラックス組成物の含有量が、当該ソルダペーストの100重量%中、7重量%以上20重量%以下である、ソルダペースト。
6. 1.~5.のいずれか一つに記載のソルダペーストであって、
 上記のレオメータを用いて、ずり速度:6sec-1、25℃の条件で測定したときの粘度η1が、5Pa・s以上400Pa・s以下である、ソルダペースト。
7. 1.~6.のいずれか一つに記載のソルダペーストであって、
 上記のレオメータを用いて、25℃における当該ソルダペーストの粘度を測定し、ずり速度が1.8sec-1のときの粘度をη2、ずり速度が18sec-1のときの粘度をη3としたとき、Log(η2/η3)で求められるチキソ比が、0.3以上1.8以下である、ソルダペースト。
8. 1.~7.のいずれか一つに記載のソルダペーストであって、
 電子回路基板と電子部品とで構成される密閉構造の周囲で、これらを接合するために用いる、ソルダペースト。
9. 1.~8.のいずれか一つに記載のソルダペーストであって、
 前記フラックス組成物が、活性剤、ベース樹脂、チキソ剤、および溶剤からなる群から選ばれる一又は二以上を含む、ソルダペースト。
10. 9.に記載のソルダペーストであって、
 前記活性剤が、有機酸、アミン類、ハロゲン系活性剤、及びリン系活性剤からなる群から選ばれる一または二以上を含む、ソルダペースト。
11. 1.~10.のいずれか一つに記載のソルダペーストであって、
 前記はんだ粉末は、粒子径が2~150μmの範囲にある粉末の質量分率が80%以上である、ソルダペースト。
12. 1.~11.のいずれか一つに記載のソルダペーストを、電子回路基板のはんだ付け部位に印刷する工程と、
 前記はんだ付け部位に電子部品を実装する工程と、
 前記はんだ付け部位の周囲に密閉構造が存在する状態で、前記ソルダペースト中のはんだ粉末が溶融する温度まで前記はんだ付け部位を加熱して前記電子部品および前記電子回路基板を接合する工程と、
を含む、電子装置の製造方法。
Although the embodiments of the present invention have been described above, these are examples of the present invention, and various configurations other than those described above can be adopted. Moreover, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes modifications, improvements, etc. within the scope of achieving the object of the present invention.
Examples of reference forms are added below.
1. A solder paste comprising a flux composition and a solder powder,
Regarding the flux residue obtained from the solder paste according to the following preparation procedure, the storage elastic modulus at 100° C. was measured using a rheometer under the following measurement conditions, G′ 100 and the loss elastic modulus were G″ 100 . when
G′ 100 and G″ 100 are configured to satisfy G′ 100 >G″ 100 ;
solder paste.
<Procedure for preparing flux residue>
1. Prepare two copper trays having a bottom surface of 45 mm×45 mm, a height of 5 mm, and a thickness of 0.3 mm.
2. A copper box having a height of about 10 mm is prepared by laying one of the copper trays on the bottom surface of the other copper tray so that the opening of the other copper tray faces the other opening and fixing with tape.
3. 5 g of the solder paste is taken as a sample. The sample is spread on the bottom surface inside one of the copper trays to cover 80% of the area of the bottom surface.
4. Using a reflow furnace, the copper box containing the sample is subjected to reflow treatment in the atmosphere according to the following temperature profiles A to E.
(Temperature profile A to E)
A. It is heated from a room temperature of 25° C. to 150° C. at a heating rate of 1.9° C./sec.
B. The temperature is held in the temperature range of 150°C to 180°C for 80 seconds.
C. Heat up to 220° C. at a rate of temperature increase of 1.2° C./sec.
D. The temperature is maintained at 220°C or higher for 40 seconds, and the peak temperature is 240°C.
E. After that, it is cooled to room temperature of 25°C.
5. After the reflow process, the flux residue remaining on the inner bottom surface of one of the copper trays is collected.
<Measurement conditions>
Measuring device: Rheometer Measuring temperature: 20°C to 180°C
Geometry (upper): 25mmφ, stainless steel, parallel plate Plate (lower): 60mmφ
Mode: 5°C/min
Strain: 1%
Frequency: 10Hz
Gap: 0.2mm
2. 1. The solder paste according to
When δ140 is the phase angle at 140 °C obtained from the storage modulus and loss modulus at 140 °C measured using a rheometer under the above measurement conditions, δ140 is 1° or more and less than 45°. Yes, solder paste.
3. 2. The solder paste according to
When the phase angle at 100 °C is δ100, which is obtained from the storage modulus and loss modulus at 100°C measured using a rheometer under the above measurement conditions, δ140 and δ100 are 0.1. A solder paste configured to satisfy ≤ δ 140100 ≤ 3.0.
4. 1. ~3. The solder paste according to any one of
The solder paste, wherein the flux composition contains a rosin-based resin having a softening point of 135° C. or higher.
5. 1. ~ 4. The solder paste according to any one of
A solder paste in which the content of the flux composition is 7% by weight or more and 20% by weight or less in 100% by weight of the solder paste.
6. 1. ~ 5. The solder paste according to any one of
A solder paste having a viscosity η1 of 5 Pa·s or more and 400 Pa·s or less when measured using the above rheometer at a shear rate of 6 sec −1 and 25°C.
7. 1. ~6. The solder paste according to any one of
Using the above rheometer , the viscosity of the solder paste was measured at 25°C. A solder paste having a thixotropic ratio calculated by Log(η2/η3) of 0.3 or more and 1.8 or less.
8. 1. ~7. The solder paste according to any one of
Solder paste used to join an electronic circuit board and electronic components around a sealed structure.
9. 1. ~8. The solder paste according to any one of
A solder paste, wherein the flux composition contains one or more selected from the group consisting of an activator, a base resin, a thixotropic agent, and a solvent.
10. 9. The solder paste according to
A solder paste, wherein the activator contains one or more selected from the group consisting of organic acids, amines, halogen-based activators, and phosphorus-based activators.
11. 1. ~ 10. The solder paste according to any one of
A solder paste, wherein the solder powder has a mass fraction of 80% or more of powder having a particle diameter in the range of 2 to 150 μm.
12. 1. ~ 11. A step of printing the solder paste according to any one of 1 to a soldering portion of an electronic circuit board;
a step of mounting an electronic component on the soldering portion;
joining the electronic component and the electronic circuit board by heating the soldering portion to a temperature at which the solder powder in the solder paste melts, in a state where a closed structure exists around the soldering portion;
A method of manufacturing an electronic device, comprising:
 以下、本発明について実施例を参照して詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。 Although the present invention will be described in detail below with reference to examples, the present invention is not limited to the description of these examples.
 以下、表1中の原料成分の情報を示す。
(ベース樹脂)
・ロジン系樹脂1:アクリル酸変性水添ロジン(軟化点:131℃、荒川化学工業社製、KE-604)
・ロジン系樹脂2:水添ロジン(軟化点:74℃、EASTMAN CHEMICAL社製、FORAL AX-E)
・ロジン系樹脂3:重合ロジン(軟化点:141℃、荒川化学工業社製、KR-140)
 なお、ロジン系樹脂の軟化点は、JIS K 2207:1996の軟化点試験方法(環球法)に準拠して測定し、2回の測定値の平均値(小数点第一位の値を四捨五入)とした。
・アクリル系樹脂1:アクリル樹脂
(活性剤)
・有機酸1:ダイマー酸
・有機酸2:アジピン酸
・有機酸3:アゼライン酸
・アミン類1:2-フェニル-4-メチルイミダゾール(略称:2P4MZ)
・アミンハロゲン化水素酸塩類1:ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩
・有機ハロゲン化合物1:2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール
(溶剤)
・溶剤1:グリコールエーテル系溶剤(ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル)
(チキソ剤)
・チキソ剤1:ポリアミド
(添加剤)
・酸化防止剤1:ヒンダードフェノール系酸化防止剤
(はんだ粉末)
・はんだ粉末1:はんだ粉末(SEC305:Sn-3.0Ag-0.5Cu、タイプ4、千住金属工業社製)
Information on raw material components in Table 1 is shown below.
(base resin)
・ Rosin resin 1: acrylic acid-modified hydrogenated rosin (softening point: 131 ° C., manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., KE-604)
· Rosin resin 2: hydrogenated rosin (softening point: 74 ° C., manufactured by EASTMAN CHEMICAL, FORAL AX-E)
・ Rosin resin 3: Polymerized rosin (softening point: 141 ° C., manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., KR-140)
The softening point of the rosin resin is measured according to the softening point test method (ring and ball method) of JIS K 2207: 1996, and the average value of two measurements (rounded to the first decimal place) and did.
・Acrylic resin 1: acrylic resin (activator)
・Organic acid 1: dimer acid ・Organic acid 2: adipic acid ・Organic acid 3: azelaic acid ・Amines 1: 2-phenyl-4-methylimidazole (abbreviation: 2P4MZ)
・Amine hydrohalides 1: diphenylguanidine hydrobromide ・Organic halogen compound 1: 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol (solvent)
・Solvent 1: Glycol ether solvent (diethylene glycol monohexyl ether)
(thixotropic agent)
・Thixotropic agent 1: Polyamide (additive)
・Antioxidant 1: Hindered phenolic antioxidant (solder powder)
Solder powder 1: Solder powder (SEC305: Sn-3.0Ag-0.5Cu, type 4, manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd.)
<ソルダペーストの調製>
 下記表1に示す配合割合で、原料成分を混合することにより、フラックス組成物を得た。
 その後、得られたフラックス組成物11.5重量%およびはんだ粉末88.5重量%を混合し、ソルダペースト得た。
<Preparation of Solder Paste>
A flux composition was obtained by mixing the raw material components at the blending ratios shown in Table 1 below.
After that, 11.5% by weight of the obtained flux composition and 88.5% by weight of solder powder were mixed to obtain a solder paste.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 得られたソルダペーストについて、以下の評価項目について評価を行った。 The obtained solder paste was evaluated for the following evaluation items.
<貯蔵弾性率、損失弾性率の測定>
 下記の作製手順に従ってソルダペーストからフラックス残渣を採取した。
(フラックス残渣の作製手順)
 1.図1に示すように、底面が45mm×45mm、高さが5mm、厚み:0.3mmの銅製トレイ12,14を2つ準備した。
 2.一方の銅製トレイ12の底面上に、他方の銅製トレイ14の開口が一方の開口に対向するように重ねて、テープで固定し、高さが10mmの銅製ボックス10を準備した。
 3.得られたソルダペーストを、5g採取し、サンプルとする。このサンプルを、一方の銅製トレイ12の内側の底面上に、底面の80%の面積を被覆するように広げた。
 4.サンプル入りの銅製ボックス10に対して、リフロー炉(千住金属工業社製、SNR-825)を用いて、大気下で、下記の温度プロファイルA~Eのリフロー処置を施した。
  (温度プロファイルA~E)
  A.室温25℃から150℃まで、1.9℃/secの昇温速度で加熱する。
  B.150℃~180℃温度域で、80sec保持する。
  C.220℃まで、1.2℃/secの昇温速度で加熱する。
  D.220℃以上を40sec保持し、ピーク温度は240℃で加熱する。
  E.その後、室温25℃まで冷却する。
 5.リフロー処理後、一方の銅製トレイ12の内側の底面上に残存するフラックス残渣を採取した。
<Measurement of storage modulus and loss modulus>
Flux residue was collected from the solder paste according to the following preparation procedure.
(Procedure for preparing flux residue)
1. As shown in FIG. 1, two copper trays 12 and 14 having a bottom surface of 45 mm×45 mm, a height of 5 mm, and a thickness of 0.3 mm were prepared.
2. A copper box 10 having a height of 10 mm was prepared by laying one of the copper trays 12 on the bottom surface of the other copper tray 14 so that the opening of the other copper tray 14 faced the one opening, and fixing them with tape.
3. 5 g of the obtained solder paste is sampled. The sample was spread onto the bottom surface inside one of the copper trays 12 so as to cover 80% of the area of the bottom surface.
4. Using a reflow furnace (SNR-825, manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd.), the copper box 10 containing the sample was subjected to reflow treatment under the following temperature profiles A to E in the atmosphere.
(Temperature profile A to E)
A. It is heated from a room temperature of 25° C. to 150° C. at a heating rate of 1.9° C./sec.
B. The temperature is held in the temperature range of 150°C to 180°C for 80 seconds.
C. Heat up to 220° C. at a rate of temperature increase of 1.2° C./sec.
D. The temperature is maintained at 220°C or higher for 40 seconds, and the peak temperature is 240°C.
E. After that, it is cooled to room temperature of 25°C.
5. After the reflow treatment, the residual flux remaining on the inner bottom surface of one of the copper trays 12 was collected.
 得られたフラックス残渣について、下記の測定条件に基づいてレオメータを用いて、25℃~180℃における貯蔵弾性率を測定した。
(測定条件)
 測定装置:レオメータ(マルバーン・パナリティカル社製、KINEXUS 1b+)
 測定温度:20℃~180℃
 ジオメトリー(上側):25mmφ、ステンレス製、パラレルプレート
 プレート(下側):60mmφ
 モード:5℃/min
 ひずみ:1%
 周波数:10Hz
 ギャップ:0.2mm
The storage modulus of the obtained flux residue was measured at 25° C. to 180° C. using a rheometer under the following measurement conditions.
(Measurement condition)
Measuring device: rheometer (manufactured by Malvern Panalytical, KINEXUS 1b+)
Measurement temperature: 20°C to 180°C
Geometry (upper): 25mmφ, stainless steel, parallel plate Plate (lower): 60mmφ
Mode: 5°C/min
Strain: 1%
Frequency: 10Hz
Gap: 0.2mm
 上記レオメータを用いて測定した、100℃における貯蔵弾性率をG'100、損失弾性率をG''100、140℃における貯蔵弾性率をG'140、損失弾性率をG''140とした。
 tanδ=G'/G''の関係式に基づいて、G'100およびG''100から求められる100℃における位相角をδ100、G'140およびG''140から求められる140℃における位相角をδ140とした。結果を表1に示す。
The storage modulus at 100° C. was G′ 100 , the loss modulus was G″ 100 , the storage modulus at 140° C. was G′ 140 , and the loss modulus was G″ 140 , measured using the rheometer.
Based on the relational expression tan δ=G′/G″, the phase angle at 100° C. obtained from G′ 100 and G″ 100 is defined as δ 100 , the phase at 140° C. obtained from G′ 140 and G″ 140 The angle was taken as δ140 . Table 1 shows the results.
<粘度の測定>
 上記のレオメータを用いて、25℃におけるソルダペーストの粘度を測定し、ずり速度が6sec-1のときの粘度をη1、ずり速度が1.8sec-1のときの粘度をη2、ずり速度が18sec-1のときの粘度をη3とし、η1、η2、η3を求めた。また、Log(η2/η3)で求められるチキソ比を算出した。結果を表1に示す
<Measurement of viscosity>
Using the above rheometer , the viscosity of the solder paste was measured at 25°C. Taking the viscosity at −1 as η3, η1, η2 and η3 were obtained. Also, a thixotropic ratio obtained by Log (η2/η3) was calculated. The results are shown in Table 1
<高温マイグレーション試験>
 得られたソルダペーストを、実プロセスを模して、プリント基板上の銅電極30上にソルダペーストを印刷し、240℃のリフロー処理を施して、銅電極30にはんだ50を接合した。続いて、印刷部分の周辺に残存するフラックス残渣を洗浄し、除去した。これにより、図2に示す評価用装置(プリント基板、銅電極30、はんだ50による構造体)作製した。
 続いて、高温マイグレーション試験を、図2に示す評価用装置を用いて、次のようにして行った。
 図2に示す評価用装置は、基板と、基板上に設けられた銅電極30と、銅電極30上に設けられた錫を含むはんだ50とを備える。
 上記(フラックス残渣の作製手順)で採取したフラックス残渣22の0.002~0.005gを用いて、微細間隔で隣接配置された銅電極30の離間部に隙間無く充填し、充填したフラックス残渣22が基板及びはんだ50により密閉されるようにガラスカバー60を配置した。
 銅電極30の間に10Vの定電圧を印可し、評価用装置を105℃の温度環境中に保管した。
 その後、銅電極30の離間部におけるフラックス残渣22に金属マイグレーションについて観察した(高温マイグレーション試験)。
 離間部におけるフラックス残渣22中に灰色樹状の析出が確認できた場合、はんだ中に含まれる錫がマイグレーションしたと判断した。
 高温マイグレーション試験を3回実施し、各試験における析出の有無を確認した。
 表1中、3回中3回とも析出が確認されない場合を「優」、3回中1回析出が確認された場合を「良」、3回中2回以上析出が確認された場合を「不可」と表記する。
<High temperature migration test>
The obtained solder paste was printed on the copper electrodes 30 on the printed circuit board by imitating an actual process, and subjected to a reflow treatment at 240° C. to join the solder 50 to the copper electrodes 30 . Subsequently, the residual flux remaining around the printed portion was cleaned and removed. As a result, a device for evaluation (a structure including a printed circuit board, copper electrodes 30, and solder 50) shown in FIG. 2 was produced.
Subsequently, a high-temperature migration test was performed using the evaluation apparatus shown in FIG. 2 as follows.
The evaluation device shown in FIG. 2 includes a substrate, a copper electrode 30 provided on the substrate, and a tin-containing solder 50 provided on the copper electrode 30 .
Using 0.002 to 0.005 g of the flux residue 22 collected in the above (procedure for producing flux residue), the gap between the copper electrodes 30 adjacently arranged at fine intervals is filled without gaps, and the filled flux residue 22 is The glass cover 60 was placed so that the was sealed by the substrate and the solder 50 .
A constant voltage of 10 V was applied between the copper electrodes 30, and the device for evaluation was stored in a temperature environment of 105.degree.
After that, metal migration was observed in the flux residue 22 in the spaced portion of the copper electrode 30 (high temperature migration test).
When gray dendritic precipitation was confirmed in the flux residue 22 in the spaced portion, it was determined that the tin contained in the solder had migrated.
A high-temperature migration test was performed three times to confirm the presence or absence of precipitation in each test.
In Table 1, "excellent" when precipitation is not confirmed 3 out of 3 times, "good" when precipitation is confirmed 1 time out of 3 times, and "good" when precipitation is confirmed 2 or more times out of 3 times. Impossible.”
 各実施例のソルダペーストは、各比較例のソルダペーストと比べて、高温マイグレーション試験における析出が抑制されていたため、高温マイグレーション耐性に優れる結果を示した。 The solder paste of each example showed better resistance to high-temperature migration than the solder paste of each comparative example because precipitation in the high-temperature migration test was suppressed.
 この出願は、2021年6月25日に出願された日本出願特願2021-105629号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。 This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2021-105629 filed on June 25, 2021, and the entire disclosure thereof is incorporated herein.
10 銅製ボックス
12 銅製トレイ
14 銅製トレイ
20 ソルダペースト
22 フラックス残渣
30 銅電極
50 はんだ
60 ガラスカバー
10 copper box 12 copper tray 14 copper tray 20 solder paste 22 flux residue 30 copper electrode 50 solder 60 glass cover

Claims (11)

  1.  フラックス組成物と、はんだ粉末と、を含む、ソルダペーストであって、
     前記フラックス組成物が、ベース樹脂、活性剤、溶剤、およびチキソ剤を含み、
     前記ベース樹脂が、ロジン系樹脂を含み、
     下記の作製手順に従って当該ソルダペーストから得られたフラックス残渣について、下記の測定条件に基づいてレオメータを用いて測定した、100℃における貯蔵弾性率をG'100、損失弾性率をG''100としたとき、
     G'100およびG''100が、G'100>G''100を満たすように構成される、
    ソルダペースト。
    <フラックス残渣の作製手順>
     1.底面が45mm×45mm、高さが5mm、厚み:0.3mmの銅製トレイを2つ準備する。
     2.一方の前記銅製トレイの底面上に、他方の前記銅製トレイの開口が一方の開口に対向するように重ねて、テープで固定し、高さが約10mmの銅製ボックスを準備する。
     3.当該ソルダペーストを、5g採取し、サンプルとする。このサンプルを、一方の前記銅製トレイの内側の底面上に、前記底面の80%の面積を被覆するように広げる。
     4.前記サンプル入りの前記銅製ボックスに対して、リフロー炉を用いて、大気下で、下記の温度プロファイルA~Eのリフロー処置を施す。
      (温度プロファイルA~E)
      A.室温25℃から150℃まで、1.9℃/secの昇温速度で加熱する。
      B.150℃~180℃温度域で、80sec保持する。
      C.220℃まで、1.2℃/secの昇温速度で加熱する。
      D.220℃以上を40sec保持し、ピーク温度は240℃で加熱する。
      E.その後、室温25℃まで冷却する。
     5.リフロー処理後、一方の前記銅製トレイの内側の底面上に残存するフラックス残渣を採取する。
    <測定条件>
     測定装置:レオメータ
     測定温度:20℃~180℃
     ジオメトリー(上側):25mmφ、ステンレス製、パラレルプレート
     プレート(下側):60mmφ
     モード:5℃/min
     ひずみ:1%
     周波数:10Hz
     ギャップ:0.2mm
    A solder paste comprising a flux composition and a solder powder,
    the flux composition comprises a base resin, an activator, a solvent, and a thixotropic agent;
    The base resin contains a rosin-based resin,
    Regarding the flux residue obtained from the solder paste according to the following preparation procedure, the storage elastic modulus at 100° C. was measured using a rheometer under the following measurement conditions, G′ 100 and the loss elastic modulus were G″ 100 . when
    G′ 100 and G″ 100 are configured to satisfy G′ 100 >G″ 100 ;
    solder paste.
    <Procedure for preparing flux residue>
    1. Prepare two copper trays having a bottom surface of 45 mm×45 mm, a height of 5 mm, and a thickness of 0.3 mm.
    2. A copper box having a height of about 10 mm is prepared by laying one of the copper trays on the bottom surface of the other copper tray so that the opening of the other copper tray faces the other opening and fixing with tape.
    3. 5 g of the solder paste is taken as a sample. The sample is spread on the bottom surface inside one of the copper trays to cover 80% of the area of the bottom surface.
    4. Using a reflow furnace, the copper box containing the sample is subjected to reflow treatment in the atmosphere according to the following temperature profiles A to E.
    (Temperature profile A to E)
    A. It is heated from a room temperature of 25° C. to 150° C. at a heating rate of 1.9° C./sec.
    B. The temperature is held in the temperature range of 150°C to 180°C for 80 seconds.
    C. Heat up to 220° C. at a rate of temperature increase of 1.2° C./sec.
    D. The temperature is maintained at 220°C or higher for 40 seconds, and the peak temperature is 240°C.
    E. After that, it is cooled to room temperature of 25°C.
    5. After the reflow process, the flux residue remaining on the inner bottom surface of one of the copper trays is collected.
    <Measurement conditions>
    Measuring device: Rheometer Measuring temperature: 20°C to 180°C
    Geometry (upper): 25mmφ, stainless steel, parallel plate Plate (lower): 60mmφ
    Mode: 5°C/min
    Strain: 1%
    Frequency: 10Hz
    Gap: 0.2mm
  2.  請求項1に記載のソルダペーストであって、
     上記の測定条件に基づいてレオメータを用いて測定した、上記の作製手順に従って当該ソルダペーストから得られたフラックス残渣における140℃における貯蔵弾性率および損失弾性率から求められる、140℃の位相角をδ140としたとき、δ140が1°以上45°未満である、ソルダペースト。
    The solder paste according to claim 1,
    δ is the phase angle at 140° C. obtained from the storage modulus and loss modulus at 140° C. of the flux residue obtained from the solder paste according to the above preparation procedure, measured using a rheometer under the above measurement conditions. 140 , δ140 is 1° or more and less than 45°.
  3.  請求項2に記載のソルダペーストであって、
     上記の測定条件に基づいてレオメータを用いて測定した、上記の作製手順に従って当該ソルダペーストから得られたフラックス残渣における100℃における貯蔵弾性率および損失弾性率から求められる、100℃の位相角をδ100としたとき、δ140およびδ100が、0.1≦δ140/δ100≦3.0を満たすように構成される、ソルダペースト。
    The solder paste according to claim 2,
    δ is the phase angle at 100° C. obtained from the storage modulus and loss modulus at 100° C. of the flux residue obtained from the solder paste according to the above preparation procedure, measured using a rheometer under the above measurement conditions. A solder paste configured such that δ140 and δ100 , when 100 , satisfy 0.1≤δ140 / δ100≤3.0 .
  4.  請求項1~3のいずれか一項に記載のソルダペーストであって、
     前記フラックス組成物が、軟化点が135℃以上のロジン系樹脂を含む、ソルダペースト。
    The solder paste according to any one of claims 1 to 3,
    The solder paste, wherein the flux composition contains a rosin-based resin having a softening point of 135° C. or higher.
  5.  請求項1~4のいずれか一項に記載のソルダペーストであって、
     前記フラックス組成物の含有量が、当該ソルダペーストの100重量%中、7重量%以上20重量%以下である、ソルダペースト。
    The solder paste according to any one of claims 1 to 4,
    A solder paste in which the content of the flux composition is 7% by weight or more and 20% by weight or less in 100% by weight of the solder paste.
  6.  請求項1~5のいずれか一項に記載のソルダペーストであって、
     上記のレオメータを用いて、当該ソルダペーストについて、ずり速度:6sec-1、25℃の条件で測定したときの粘度η1が、5Pa・s以上400Pa・s以下である、ソルダペースト。
    The solder paste according to any one of claims 1 to 5,
    A solder paste having a viscosity η1 of 5 Pa·s or more and 400 Pa·s or less when measured using the above rheometer at a shear rate of 6 sec −1 and 25°C.
  7.  請求項1~6のいずれか一項に記載のソルダペーストであって、
     上記のレオメータを用いて、25℃における当該ソルダペーストの粘度を測定し、ずり速度が1.8sec-1のときの粘度をη2、ずり速度が18sec-1のときの粘度をη3としたとき、Log(η2/η3)で求められるチキソ比が、0.3以上1.8以下である、ソルダペースト。
    The solder paste according to any one of claims 1 to 6,
    Using the above rheometer , the viscosity of the solder paste was measured at 25°C. A solder paste having a thixotropic ratio calculated by Log(η2/η3) of 0.3 or more and 1.8 or less.
  8.  請求項1~7のいずれか一項に記載のソルダペーストであって、
     電子回路基板と電子部品とで構成される密閉構造の周囲で、これらを接合するために用いる、ソルダペースト。
    The solder paste according to any one of claims 1 to 7,
    Solder paste used to join an electronic circuit board and electronic components around a sealed structure.
  9.  請求項1~8のいずれか一項に記載のソルダペーストであって、
     前記活性剤が、有機酸、アミン類、ハロゲン系活性剤、及びリン系活性剤からなる群から選ばれる一または二以上を含む、ソルダペースト。
    The solder paste according to any one of claims 1 to 8,
    A solder paste in which the activator contains one or more selected from the group consisting of organic acids, amines, halogen-based activators, and phosphorus-based activators.
  10.  請求項1~9のいずれか一項に記載のソルダペーストであって、
     前記はんだ粉末は、粒子径が2~150μmの範囲にある粉末の質量分率が80%以上である、ソルダペースト。
    The solder paste according to any one of claims 1 to 9,
    A solder paste, wherein the solder powder has a mass fraction of 80% or more of powder having a particle diameter in the range of 2 to 150 μm.
  11.  請求項1~10のいずれか一項に記載のソルダペーストを、電子回路基板のはんだ付け部位に印刷する工程と、
     前記はんだ付け部位に電子部品を実装する工程と、
     前記はんだ付け部位の周囲に密閉構造が存在する状態で、前記ソルダペースト中のはんだ粉末が溶融する温度まで前記はんだ付け部位を加熱して前記電子部品および前記電子回路基板を接合する工程と、
    を含む、電子装置の製造方法。
    A step of printing the solder paste according to any one of claims 1 to 10 on a soldering portion of an electronic circuit board;
    a step of mounting an electronic component on the soldering portion;
    joining the electronic component and the electronic circuit board by heating the soldering portion to a temperature at which the solder powder in the solder paste melts, in a state where a closed structure exists around the soldering portion;
    A method of manufacturing an electronic device, comprising:
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