WO2022225014A1 - パターン形成用組成物 - Google Patents

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pattern
forming composition
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直樹 中家
智規 古川
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    • H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources

Definitions

  • the present invention relates to a pattern forming composition.
  • liquid crystal displays organic electroluminescence (EL) displays, touch panels, optical semiconductor (light emitting diode (LED), etc.) elements, solid-state imaging elements, organic thin film solar cells, dye-sensitized solar cells, organic thin film transistors (TFT), etc.
  • high-performance polymer materials have come to be required. Specific properties required include 1) heat resistance, 2) transparency, 3) high refractive index, 4) high solubility, 5) low volume shrinkage, 6) high temperature and humidity resistance, and 7) high film hardness. etc.
  • a polymer containing a repeating unit having a triazine ring and an aromatic ring has a high refractive index, and the polymer alone has high heat resistance, high transparency, high refractive index, high solubility, It has already been found that it can achieve low volume shrinkage and is suitable as a film-forming composition for producing electronic devices (Patent Document 1).
  • organic electroluminescence displays generally have a problem of low light extraction efficiency, that is, the efficiency with which generated light exits the device.
  • various techniques have been developed in the past. , techniques using high refractive index layers and high refractive index patterns are known. Many negative photosensitive compositions have been proposed for this high refractive index pattern, and the present applicant has so far reported various materials capable of forming a negative high refractive index pattern (Patent Documents 2-4).
  • the pattern is formed by leaving the part that is cured by the light irradiated from above, so the shape after development generally tends to be inversely tapered, and undercuts are likely to occur.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a pattern-forming composition capable of forming a pattern having a high refractive index and excellent transparency even when it contains inorganic fine particles.
  • a composition containing a triazine ring-containing polymer in which at least a portion of the triazine ring terminal is blocked with a hydroxyl-substituted arylamino group and a cross-linking agent has a high refractive index and is transparent. It was found that a fine pattern can be formed.
  • the inventors of the present invention found that when inorganic fine particles are contained in the composition, inorganic fine particles having an alkali-reactive group on the surface thereof are used. The inventors have found that a transparent fine pattern can be formed with a high refractive index even when it is contained, and have completed the present invention.
  • a pattern-forming composition comprising a ring-containing polymer, a cross-linking agent, inorganic fine particles having an alkali-reactive group on their surface, and an organic solvent.
  • R and R′ independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group
  • Q is a divalent group having 3 to 30 carbon atoms and having a ring structure.
  • R 1 to R 92 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, represents a halogenated alkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms
  • R 93 and R 94 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms
  • W 1 and W 2 are each independently a single bond
  • CR 95 R 96 R 95 and R 96 are each independently a hydrogen atom, a C 1-10 alkyl group (provided that these may form a ring), or represents a halogenated alkyl group having 1 to
  • R 1 and R 2 each independently represent an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms which may have a branched structure. * represents a bond. .
  • [3] The pattern-forming composition according to [1] or [2], wherein the hydroxyl-substituted arylamino group is represented by formula (15).
  • [4] The pattern-forming composition according to [3], wherein the hydroxyl-substituted arylamino group is represented by formula (16).
  • An electronic device comprising a substrate and the cured product of [10] formed on the substrate.
  • An optical member comprising a substrate and the cured product of [10] formed on the substrate.
  • the pattern-forming composition according to any one of [1] to [9] is applied to a substrate, the organic solvent is evaporated, light is irradiated through a patterned mask, and then developed. , and further baking.
  • the composition of the present invention is masked, exposed to light, cured, developed with an alkali, and baked to give a fine pattern having a high refractive index and excellent transparency.
  • the pattern produced from the composition of the present invention can exhibit the characteristics of high heat resistance, high refractive index, and low volume shrinkage due to the triazine ring-containing polymer.
  • optical semiconductor devices solid-state image sensors, organic thin-film solar cells, dye-sensitized solar cells, organic thin-film transistors, lenses, prisms, cameras, binoculars, microscopes, semiconductor exposure equipment, etc. It can be suitably used in the field of materials.
  • FIG. 3 is an optical microscope photograph of a patterned film produced in Example 3-1.
  • 3 is an electron micrograph of a patterned film produced in Example 3-1.
  • 3 is an optical microscope photograph of a patterned film produced in Example 3-2.
  • 3 is an optical microscope photograph of a patterned film produced in Example 3-3.
  • the pattern-forming composition according to the present invention includes a repeating unit structure represented by the following formula (1) and has at least one triazine ring terminal, at least part of which is a hydroxyl-substituted arylamino It is characterized by containing a group-sealed triazine ring-containing polymer, a cross-linking agent, inorganic fine particles having an alkali-reactive group on the surface, and an organic solvent.
  • Triazine Ring-Containing Polymer The triazine ring-containing polymer used in the present invention contains a repeating unit structure represented by the following formula (1).
  • a triazine ring-containing polymer is, for example, a so-called hyperbranched polymer.
  • a hyperbranched polymer is a highly branched polymer having an irregularly branched structure.
  • the term "irregular" as used herein means that the branch structure is more irregular than that of a dendrimer, which is a highly branched polymer having a regular branch structure.
  • a triazine ring-containing polymer which is a hyperbranched polymer, has a structure larger than the repeating unit structure represented by formula (1), and each of the three bonds of the repeating unit structure represented by formula (1) has , and a structure (structure X) in which repeating unit structures represented by formula (1) are bonded.
  • the structure X is distributed throughout the triazine ring-containing polymer except for the terminals.
  • the repeating unit structure may consist essentially of the repeating unit structure represented by formula (1).
  • R and R′ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group. preferable.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is not particularly limited, but is preferably 1 to 20. Considering that the heat resistance of the polymer is further improved, the number of carbon atoms in the alkyl group is 1 to 10. More preferably, 1 to 3 are even more preferable.
  • the structure of the alkyl group is not particularly limited, and may be, for example, linear, branched, cyclic, or a combination of two or more thereof.
  • alkyl groups are methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, cyclopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, cyclobutyl, 1-methyl-cyclopropyl, 2-methyl-cyclopropyl.
  • n-pentyl 1-methyl-n-butyl, 2-methyl-n-butyl, 3-methyl-n-butyl, 1,1-dimethyl-n-propyl, 1,2-dimethyl-n-propyl, 2 , 2-dimethyl-n-propyl, 1-ethyl-n-propyl, cyclopentyl, 1-methyl-cyclobutyl, 2-methyl-cyclobutyl, 3-methyl-cyclobutyl, 1,2-dimethyl-cyclopropyl, 2,3- dimethyl-cyclopropyl, 1-ethyl-cyclopropyl, 2-ethyl-cyclopropyl, n-hexyl, 1-methyl-n-pentyl, 2-methyl-n-pentyl, 3-methyl-n-pentyl, 4-methyl -n-pentyl, 1,1-dimethyl-n-butyl, 1,2-dimethyl-n-butyl, 1,3-dimethyl-n-butyl,
  • the number of carbon atoms in the alkoxy group is not particularly limited, it is preferably 1 to 20, and in consideration of further increasing the heat resistance of the polymer, the number of carbon atoms in the alkoxy group is more preferably 1 to 10. 1 to 3 are even more preferred.
  • the structure of the alkyl moiety is not particularly limited, and may be, for example, linear, branched, cyclic, or a combination of two or more thereof.
  • alkoxy groups include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, s-butoxy, t-butoxy, n-pentoxy, 1-methyl-n-butoxy, 2-methyl-n -butoxy, 3-methyl-n-butoxy, 1,1-dimethyl-n-propoxy, 1,2-dimethyl-n-propoxy, 2,2-dimethyl-n-propoxy, 1-ethyl-n-propoxy, n -hexyloxy, 1-methyl-n-pentyloxy, 2-methyl-n-pentyloxy, 3-methyl-n-pentyloxy, 4-methyl-n-pentyloxy, 1,1-dimethyl-n-butoxy, 1,2-dimethyl-n-butoxy, 1,3-dimethyl-n-butoxy, 2,2-dimethyl-n-butoxy, 2,3-dimethyl-n-butoxy, 3,3-dimethyl-n-butoxy, 1-ethoxy,
  • the number of carbon atoms in the aryl group is not particularly limited, it is preferably 6 to 40, and in consideration of further increasing the heat resistance of the polymer, the number of carbon atoms in the aryl group is more preferably 6 to 16. 6 to 13 are even more preferred.
  • the aryl group includes an aryl group having a substituent. Examples of substituents include halogen atoms, alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, nitro groups, and cyano groups.
  • aryl groups include phenyl, o-chlorophenyl, m-chlorophenyl, p-chlorophenyl, o-fluorophenyl, p-fluorophenyl, o-methoxyphenyl, p-methoxyphenyl, p-nitrophenyl, p-cyanophenyl, ⁇ -naphthyl, ⁇ -naphthyl, o-biphenylyl, m-biphenylyl, p-biphenylyl, 1-anthryl, 2-anthryl, 9-anthryl, 1-phenanthryl, 2-phenanthryl, 3-phenanthryl, 4 -phenanthryl, 9-phenanthryl groups and the like.
  • the aralkyl group includes an aralkyl group having a substituent.
  • substituents include halogen atoms, alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, nitro groups, and cyano groups.
  • Specific examples include benzyl, p-methylphenylmethyl, m-methylphenylmethyl, o-ethylphenylmethyl, m-ethylphenylmethyl, p-ethylphenylmethyl, 2-propylphenylmethyl, 4-isopropylphenylmethyl, 4-isobutylphenylmethyl, ⁇ -naphthylmethyl group and the like.
  • Q in formula (1) is not particularly limited as long as it is a divalent group having 3 to 30 carbon atoms and having a ring structure.
  • the ring structure may be an aromatic ring structure or an alicyclic structure.
  • the above Q preferably represents at least one selected from the group represented by formulas (2) to (13).
  • R 1 to R 92 above each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom having 1 to 10 carbon atoms.
  • R 93 and R 94 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms
  • W 1 and W 2 are each independently a single bond
  • CR 95 R 96 R 95 and R 96 are each independently a hydrogen atom, a C 1-10 alkyl group (provided that these may form a ring), or represents a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • C ⁇ O, O, S, SO, SO 2 , or NR 97 R 97 is represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group).
  • Halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms. Examples of the alkyl group and alkoxy group are the same as those described above.
  • the halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is obtained by substituting at least one hydrogen atom in the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms with a halogen atom, and specific examples thereof include trifluoromethyl , 2,2,2-trifluoroethyl, perfluoroethyl, 3,3,3-trifluoropropyl, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl , 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl, perfluoropropyl, 4,4,4-trifluorobutyl, 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl, 2,2 , 3,3,4,4,4-heptafluorobutyl, perfluorobutyl, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl, 2,2,3,3,4 , 4,5,5-octafluoropenty
  • a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferred, particularly 1 to 5 carbon atoms, in consideration of enhancing the solubility of the triazine ring-containing polymer in low-polar solvents while maintaining the refractive index. is more preferred, and a trifluoromethyl group is even more preferred.
  • X 1 and X 2 each independently represent a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or a group represented by formula (14).
  • the structures of these alkyl groups, halogenated alkyl groups, alkoxy groups, and alkylene groups are not particularly limited, and may be, for example, linear, branched, cyclic, or combinations of two or more thereof.
  • R 98 to R 101 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a representing 10 alkoxy groups
  • Y 1 and Y 2 independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
  • halogen atoms, alkyl groups, halogenated alkyl groups and alkoxy groups include the same halogen atoms, alkyl groups, halogenated alkyl groups and alkoxy groups for R 1 to R 92 .
  • the structures of the alkyl groups and alkoxy groups in R 98 to R 101 are not particularly limited, and may be, for example, linear, branched, cyclic, or combinations of two or more thereof.
  • the structure of the alkylene group in Y 1 and Y 2 is not particularly limited, and may be linear, branched, cyclic, or a combination of two or more thereof.
  • Examples of alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms include methylene, ethylene, propylene, trimethylene, tetramethylene and pentamethylene groups.
  • the structure of the alkylene group is not particularly limited, and may be linear, branched, cyclic, or a combination of two or more thereof.
  • Q is preferably at least one represented by formulas (2) and (5) to (13), and formulas (2), (5), (7), (8), (11) to (13) ) is more preferred.
  • Specific examples of the divalent groups represented by the above formulas (2) to (13) include, but are not limited to, those represented by the following formulae.
  • Ph represents a phenyl group. * represents a bond.
  • Q is more preferably a divalent group represented by the following formula, since a polymer with a higher refractive index can be obtained.
  • Ph represents a phenyl group. * represents a bond.
  • Q is preferably an m-phenylene group represented by formula (17).
  • Q in formula (1) represents at least one selected from the group represented by formulas (102) to (115), for example. * represents a bond.
  • R 1 and R 2 above independently represent an optionally branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.
  • alkylene groups include methylene, ethylene, propylene, trimethylene, tetramethylene, and pentamethylene groups. is preferred, and an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms, more preferably a methylene or ethylene group, most preferably a methylene group.
  • ⁇ Hydroxyl group-substituted arylamino group In the triazine ring-containing polymer used in the present invention, at least a portion of the triazine ring terminal is hydroxyl-substituted arylamino, from the viewpoint of improving the solubility of the thin film or cured film obtained using the same in an alkaline developer. is capped with a group.
  • the hydroxyl group is a hydroxyl group directly bonded to an aryl group, and is a so-called phenolic hydroxyl group. Examples of the aryl group include the same groups as those exemplified above, and a phenyl group is particularly preferred.
  • the hydroxyl-substituted arylamino group is preferably a hydroxyl-substituted phenylamino group represented by formula (15), and a phenylamino group having a hydroxyl group at the meta-position of the amino group represented by formula (16). is more preferred.
  • the weight average molecular weight of the triazine ring-containing polymer in the present invention is not particularly limited, but is preferably 500 to 500,000, more preferably 500 to 100,000. is preferably 2,000 or more from the viewpoint of lowering the ,000 or less is more preferable, and 10,000 or less is more preferable.
  • the weight average molecular weight in the present invention is the average molecular weight obtained by standard polystyrene conversion by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as GPC) analysis.
  • triazine ring-containing polymer (hyperbranched polymer) of the present invention can be produced according to the method disclosed in International Publication No. 2010/128661 mentioned above.
  • triazine ring-containing polymer (19) can be obtained by reacting triazine compound (18) and aryldiamino compound (20) in a suitable organic solvent.
  • the charging ratio of the aryldiamino compound (20) is arbitrary as long as the desired polymer can be obtained. is preferred, and 0.7 to 5 equivalents is more preferred.
  • the aryldiamino compound (20) may be added neat or in the form of a solution dissolved in an organic solvent, but the latter method is preferred in consideration of ease of operation and ease of control of the reaction. .
  • the reaction temperature may be appropriately set within the range from the melting point to the boiling point of the solvent used, preferably about 30 to 150°C, more preferably -10 to 100°C.
  • organic solvent various solvents commonly used in this type of reaction can be used, such as tetrahydrofuran, dioxane, dimethylsulfoxide; N,N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, tetramethylurea, hexamethylphosphoramide, N,N-dimethylacetamide, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-dimethylpropanamide, N-methyl-2-piperidone, N,N'- Dimethylethylene urea, N,N,N',N'-tetramethylmalonic acid amide, N-methylcaprolactam, N-acetylpyrrolidine, N,N-diethylacetamide, N-ethyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethyl Amide solvents such as propionic acid amide, N,N-dimethylisobutyramide, N-methylformamide, N,N'-dimethyl
  • N,N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylacetamide, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-dimethylpropanamide, and mixed systems thereof are preferred, particularly N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-dimethylpropanamide, preferred.
  • various bases commonly used during or after polymerization may be added.
  • this base include potassium carbonate, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, sodium ethoxide, sodium acetate, lithium carbonate, lithium hydroxide, lithium oxide, potassium acetate, magnesium oxide, oxide calcium, barium hydroxide, trilithium phosphate, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, cesium fluoride, aluminum oxide, ammonia, n-propylamine, trimethylamine, triethylamine, diisopropylamine, diisopropylethylamine, N-methylpiperidine, 2,2,6,6-tetramethyl-N-methylpiperidine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, N-methylmorpholine, 2-aminoethanol, ethyldiethanolamine, diethylaminoethanol and the like.
  • the amount of the base to be added is preferably 1 to 100 equivalents, more preferably 1 to 10 equivalents, relative to 1 equivalent of the triazine compound (18).
  • These bases may be used in the form of an aqueous solution. Although it is preferable that no raw material components remain in the resulting polymer, some of the raw materials may remain as long as the effects of the present invention are not impaired. After completion of the reaction, the product can be easily purified by a reprecipitation method or the like.
  • the triazine ring-containing polymer of the present invention has at least one triazine ring terminal, and at least part of this triazine ring terminal is capped with a hydroxyl-substituted arylamino group.
  • this terminal blocking method a known method may be adopted.
  • the triazine ring-containing polymer (19) obtained by the above method is treated with an amino It may be treated with an arylamine compound having a phenolic hydroxyl group such as phenol.
  • the amount of the terminal blocking agent used is preferably about 0.05 to 10 equivalents, more preferably 0.1 to 5 equivalents, relative to 1 equivalent of halogen atoms derived from the surplus triazine compound that was not used in the polymerization reaction. Preferably, 0.5 to 2 equivalents is even more preferred.
  • the reaction solvent and the reaction temperature the same conditions as described in Scheme 1 above can be mentioned, and the terminal blocking agent may be charged simultaneously with the aryldiamino compound (20).
  • An arylamine compound having no substituent may be used together with the above hydroxyl-substituted arylamine compound, and the terminals may be blocked with two or more groups.
  • terminal blocking may also be performed using an arylamine compound having a specific heteroatom-containing substituent.
  • the refractive index of the resulting film can be further increased by end capping with an arylamino group having a specific heteroatom-containing substituent.
  • Particular heteroatom-containing substituents include cyano groups, amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, nitro groups, thiol groups, alkylmercapto groups, arylmercapto groups, alkoxycarbonyl groups, alkoxycarbonyloxy groups.
  • the arylamino group having a specific heteroatom-containing substituent includes those represented by the following formula (34).
  • Y is a "specific heteroatom-containing substituent" and is a cyano group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a nitro group, a thiol group, an alkylmercapto group, an arylmercapto group, an alkoxycarbonyl group. or represents an alkoxycarbonyloxy group.
  • m represents an integer of 1 to 5; When m is 2 or more, Y may be the same or different. * represents a bond.
  • Y is preferably a cyano group or a nitro group.
  • m is preferably 1.
  • Y is preferably substituted at the para- or meta-position.
  • the ratio of the arylamine compound having a phenolic hydroxyl group and the arylamine compound having a specific heteroatom-containing substituent is determined by alkali developability and high refractive index. From the viewpoint of achieving a good balance between efficiency and efficiency, 0.1 to 1.0 mol of an arylamine compound having a specific heteroatom-containing substituent per 1 mol of an arylamine compound having a phenolic hydroxyl group is preferable, and 0.1 ⁇ 0.5 mol is more preferred, and 0.1 to 0.3 mol is even more preferred.
  • triazine ring-containing polymers include, but are not limited to, those represented by formulas (21) to (24).
  • R 1 to R 4 have the same meanings as above.
  • the content of the triazine ring-containing polymer in the pattern forming composition is not particularly limited, but is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass.
  • cross-linking agent any compound capable of forming a cross-linked structure by causing a cross-linking reaction alone or together with the triazine ring-containing polymer described above can be used. is not particularly limited. Examples of such compounds include melamine-based compounds having cross-linking substituents such as methylol groups and methoxymethyl groups (e.g., phenoplast compounds, aminoplast compounds, etc.), substituted urea-based compounds, cross-linking groups such as epoxy groups and oxetane groups.
  • Compounds containing forming substituents e.g., polyfunctional epoxy compounds, polyfunctional oxetane compounds, etc.
  • compounds containing blocked isocyanate groups compounds having acid anhydride groups, compounds having (meth)acrylic groups, and the like.
  • compounds containing epoxy groups, blocked isocyanate groups, and (meth)acrylic groups are preferable.
  • compounds containing blocked isocyanate groups and photocurable without the use of initiators are preferable.
  • a polyfunctional epoxy compound and/or a polyfunctional (meth)acrylic compound, which gives a composition having a high molecular weight, are preferred.
  • the polyfunctional epoxy compound is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule. Specific examples thereof include tris(2,3-epoxypropyl) isocyanurate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,2-epoxy-4-(epoxyethyl) cyclohexane, glycerol triglycidyl ether, and diethylene glycol diglycidyl.
  • YH-434 and YH434L manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd.
  • Epolead GT-401 which is an epoxy resin having a cyclohexene oxide structure.
  • the polyfunctional (meth)acrylic compound is not particularly limited as long as it has two or more (meth)acrylic groups in one molecule.
  • Specific examples include ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, ethoxylated bisphenol A diacrylate, ethoxylated bisphenol A dimethacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, ethoxylated Trimethylolpropane trimethacrylate, ethoxylated glycerin triacrylate, ethoxylated glycerin trimethacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetramethacrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexaacrylate, polyglycerin monoethylene oxide polyacrylate, polygly
  • the polyfunctional (meth) acrylic compound is available as a commercial product, specific examples thereof include NK Ester A-200, A-400, A-600, A-1000, A- 9300 (tris(2-acryloyloxyethyl) isocyanurate), A-9300-1CL, A-TMPT, UA-53H, 1G, 2G, 3G, 4G, 9G, 14G, 23G, ABE-300, A-BPE-4, A-BPE-6, A-BPE-10, A-BPE-20, A-BPE-30, BPE-80N, BPE- 100N, BPE-200, BPE-500, BPE-900, BPE-1300N, A-GLY-3E, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMPT-3EO, A-TMPT-9EO, AT-20E, ATM-4E, ATM-35E, A-DPH, A-TMPT, A-DCP, A-HD-N, TMPT, DCP, NPG, HD-
  • the compound having an acid anhydride group is not particularly limited as long as it is a carboxylic acid anhydride obtained by dehydration condensation of two molecules of carboxylic acid.
  • Specific examples thereof include phthalic anhydride and tetrahydrophthalic anhydride. , hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, octyl succinic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, etc.
  • the compound containing a blocked isocyanate group has two or more blocked isocyanate groups in one molecule in which the isocyanate group (--NCO) is blocked with an appropriate protective group, and when exposed to a high temperature during thermosetting, ,
  • the protective group (blocking portion) is thermally dissociated and the resulting isocyanate group is not particularly limited as long as it causes a urethane bond reaction with the phenolic hydroxyl group of the triazine ring-containing polymer of the present invention.
  • Examples include compounds having two or more groups represented by the following formulas in one molecule (these groups may be the same or different).
  • Rb represents the organic group of the block portion.
  • Such a compound can be obtained, for example, by reacting a compound having two or more isocyanate groups in one molecule with an appropriate blocking agent.
  • compounds having two or more isocyanate groups in one molecule include polyisocyanates such as isophorone diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, methylenebis(4-cyclohexyl isocyanate), trimethylhexamethylene diisocyanate, and dimers thereof. , trimers, and reaction products thereof with diols, triols, diamines, or triamines.
  • blocking agents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, 2-ethoxyhexanol, 2-N,N-dimethylaminoethanol, 2-ethoxyethanol and cyclohexanol; phenol, o-nitrophenol , p-chlorophenol, o-, m- or p-cresol, etc.; lactams, such as ⁇ -caprolactam; Pyrazoles such as pyrazole, 3,5-dimethylpyrazole and 3-methylpyrazole; Thiols such as dodecanethiol and benzenethiol.
  • alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, 2-ethoxyhexanol, 2-N,N-dimethylaminoethanol, 2-ethoxyethanol and cyclohexanol
  • Compounds containing a blocked isocyanate group are also available as commercial products, and specific examples thereof include Takenate (registered trademark) B-830, B-815N, B-842N, B-870N, B-874N, B-882N, B-7005, B-7030, B-7075, B-5010 (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), Duranate (registered trademark) 17B-60PX, TPA-B80E, MF-B60X, MF-K60X, E402-B80T (manufactured by Asahi Kasei Corporation), Karenz MOI-BM (registered trademark) (manufactured by Showa Denko K.K.), TRIXENE (registered trademark) BI7950, 7951, 7960, No. 7961, No. 7982, No. 7990, No. 7991, No. 7992 (all manufactured by Baxenden Chemical) and the like.
  • the aminoplast compound is not particularly limited as long as it has two or more methoxymethylene groups in one molecule.
  • Cymel series such as tetramethoxymethylbenzoguanamine 1123 (manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd.), methylated melamine resin Nicalac (registered trademark) MW-30HM, MW-390, MW-100LM, the same Melamine compounds such as Nicalac series such as MX-750LM and methylated urea resins such as MX-270, MX-280 and MX-290 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.).
  • the oxetane compound is not particularly limited as long as it has two or more oxetanyl groups in one molecule. , manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like.
  • the phenoplast compound has two or more hydroxymethylene groups in one molecule, and when exposed to high temperatures during thermosetting, it undergoes a dehydration condensation reaction with the phenolic hydroxyl groups of the triazine ring-containing polymer of the present invention. The cross-linking reaction proceeds.
  • phenoplast compounds include 2,6-dihydroxymethyl-4-methylphenol, 2,4-dihydroxymethyl-6-methylphenol, bis(2-hydroxy-3-hydroxymethyl-5-methylphenyl)methane, Bis(4-hydroxy-3-hydroxymethyl-5-methylphenyl)methane, 2,2-bis(4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl)propane, bis(3-formyl-4-hydroxyphenyl)methane , bis(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)formylmethane, ⁇ , ⁇ -bis(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)-4-formyltoluene, and the like.
  • Phenoplast compounds are also commercially available, and specific examples thereof include 26DMPC, 46DMOC, DM-BIPC-F, DM-BIOC-F, TM-BIP-A, BISA-F, and BI25X-DF. , BI25X-TPA (manufactured by Asahi Yukizai Co., Ltd.) and the like.
  • a polyfunctional (meth)acrylic compound is preferable because it can suppress a decrease in the refractive index due to the addition of a cross-linking agent and the curing reaction proceeds rapidly. Therefore, dipentaerythritol hexaacrylate and its EO adduct are preferred.
  • examples of such polyfunctional (meth)acrylic compounds include NK Ester A-DPH and NK Ester A-DPH-12E (both manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).
  • the above-mentioned cross-linking agents may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the cross-linking agent in the pattern forming composition is preferably 1 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing polymer, but considering solvent resistance, the lower limit is preferably 2 parts by mass, It is more preferably 5 parts by mass, and considering controlling the refractive index and the residue in the unexposed area, the upper limit is preferably 150 parts by mass, more preferably 100 parts by mass, and even more preferably 90 parts by mass. Department.
  • Inorganic Fine Particles Inorganic fine particles have alkali-reactive groups on their surfaces. Since the inorganic fine particles have an alkali-reactive group on the surface, when the unexposed portion of the pattern film obtained from the pattern-forming composition is developed with an alkaline developer, the inorganic fine particles in the unexposed portion contain a triazine ring. It becomes easy to remove with an alkaline developer together with other components such as a polymer and a cross-linking agent. As a result, the pattern formability is good in spite of containing the inorganic fine particles.
  • Inorganic fine particles having alkali-reactive groups on their surfaces are, for example, organic silicon compounds having unmodified inorganic fine particles as core particles and having alkali-reactive groups. It is obtained by modifying the surface of the core particles.
  • Organosilicon compounds have hydrolyzable groups that generate Si—OH groups upon hydrolysis. Hydrolyzable groups include, for example, silicon-bonded alkoxy groups and silicon-bonded acetoxy groups. The number of hydrolyzable groups in the organosilicon compound is not particularly limited, but may be 1 to 3, for example.
  • alkali-reactive groups include acid anhydride groups, epoxy groups, and phenol groups.
  • Organosilicon compounds having an acid anhydride group include, for example, 3-trimethoxysilylpropylsuccinic anhydride, 3-triethoxysilylpropylsuccinic anhydride, 3-dimethylmethoxysilylpropylsuccinic anhydride, 3- succinic anhydrides such as dimethylethoxysilylpropyl succinic anhydride, 3-trimethoxysilylpropylcyclohexyldicarboxylic anhydride, 3-triethoxysilylpropylcyclohexyldicarboxylic anhydride, 3-dimethylmethoxysilylpropylcyclohexyldicarboxylic anhydride dicarboxylic anhydrides such as 3-dimethylethoxysilylpropylcyclohexyldicarboxylic anhydride, 3-trimethoxysilylpropy
  • the bonding amount of the organosilicon compound to the surface of the core particles is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, relative to the core particles.
  • the primary particle size of the surface-modified inorganic fine particles is preferably 20 nm or less from the viewpoints of dispersion stability, refractive index and transparency of the resulting film.
  • the secondary particle diameter (according to dynamic light scattering method) of the surface-modified inorganic fine particles is preferably 2 to 100 nm, more preferably 5 to 50 nm, from the viewpoint of dispersion stability, refractive index and transparency of the resulting thin film. ⁇ 20 nm is even more preferred.
  • the surface-modified inorganic fine particles are prepared by adding a predetermined amount of an organosilicon compound to an aqueous dispersion of core particles or a dispersion in a hydrophilic organic solvent, hydrolyzing the organosilicon compound with a catalyst such as dilute hydrochloric acid, and treating the surface of the core particles. It can be obtained by binding to
  • the aqueous dispersion or hydrophilic organic solvent dispersion of the core particles can be further replaced with a hydrophobic organic solvent.
  • This replacement method can be carried out by a conventional method such as a distillation method or an ultrafiltration method.
  • hydrophobic solvents include ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, cyclic ketones such as cyclopentanone and cyclohexanone, and esters such as ethyl acetate and butyl acetate.
  • the organic solvent dispersion of the core particles may contain optional components.
  • the dispersibility of the core particles can be further improved.
  • phosphoric acid derivatives include phenylphosphonic acid and metal salts thereof.
  • phosphoric acid-based surfactants include Disperbyk (manufactured by BYK-Chemie), Phosphanol (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.), and Nikkor (manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.).
  • Oxycarboxylic acids include, for example, lactic acid, tartaric acid, citric acid, gluconic acid, malic acid and glycolic acid.
  • the content of these optional components is preferably about 30% by mass or less with respect to all metal oxides in the core particles.
  • the concentration of the core particles in the organic solvent dispersion is preferably 10 to 60% by mass, more preferably 30 to 50% by mass.
  • inorganic fine particles serving as core particles of surface-modified inorganic fine particles include Be, Al, Si, Ti, V, Fe, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, In, Sn, Sb, Ta, W, It contains oxides, sulfides or nitrides of one or more metals selected from the group consisting of Pb, Bi and Ce, and it is particularly preferable to contain these metal oxides.
  • the inorganic fine particles may be used alone or in combination of two or more.
  • metal oxides include Al2O3 , ZnO, TiO2 , ZrO2, Fe2O3 , Sb2O5 , BeO , ZnO , SnO2 , CeO2 , SiO2 , and WO3 . is mentioned. It is also effective to use a plurality of metal oxides as a composite oxide.
  • a composite oxide is a mixture of two or more kinds of inorganic oxides in the production stage of fine particles.
  • composite oxides of TiO 2 and ZrO 2 , composite oxides of TiO 2 , ZrO 2 and SnO 2 , composite oxides of ZrO 2 and SnO 2 and the like can be mentioned. Further, it may be a compound of the above metals.
  • Examples include ZnSb 2 O 6 , BaTiO 3 , SrTiO 3 and SrSnO 3 . These compounds can be used alone or in admixture of two or more, and may also be used in admixture with the above oxides.
  • the inorganic fine particles serving as the core particles of the surface-modified inorganic fine particles are, for example, third metal oxide particles ( C).
  • the first metal oxide particles (A) can be produced by known methods such as ion exchange, deflocculation, hydrolysis, and reaction methods.
  • the ion exchange method include at least one metal selected from the group consisting of Ti, Fe, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, In, Sn, Sb, Ta, W, Pb, Bi and Ce. and a method of treating an acid salt of the metal with a hydrogen-type ion exchange resin, or a method of treating a basic salt of the metal with a hydroxyl-type anion exchange resin.
  • Examples of deflocculation include washing the gel obtained by neutralizing the acid salt of the metal with a base or neutralizing the basic salt of the metal with an acid, followed by peptization with an acid or a base.
  • Examples of the hydrolysis method include a method of hydrolyzing the alkoxide of the above metal, or a method of hydrolyzing the basic salt of the above metal under heating and then removing unnecessary acid.
  • Examples of the reaction method include a method of reacting the metal powder with an acid.
  • the first metal oxide particles (A) are preferably oxides of metals having a valence of 2 to 6, such as Ti, Fe, Cu, Zn, Y, Zr, Nb, Mo, In, Sn, Sb, Ta , W, Pb, Bi, Ba, Al, Sr, Hf and Ce.
  • metal oxides include, for example, TiO2 , Fe2O3 , CuO , ZnO, Y2O3 , ZrO2 , Nb2O5 , MoO3 , In2O3 , SnO2 , Sb2O5 .
  • metal oxides can be used singly or in combination of two or more.
  • the method of combining the metal oxides include a method of mixing several types of the metal oxides, a method of compounding the metal oxides, and a method of forming a solid solution of the metal oxides at the atomic level.
  • Combinations of the metal oxides include, for example, SnO 2 —TiO 2 composite particles in which SnO 2 particles and TiO 2 particles are chemically bonded at their interfaces, and SnO 2 particles and WO 3 particles.
  • 2 composite particles, and TiO 2 --ZrO 2 --SnO 2 composite particles obtained by forming a solid solution of TiO 2 , ZrO 2 and SnO 2 at the atomic level.
  • the first metal oxide particles ( A ) can also be used as a compound by combining metal components. ZnO, BaTiO 3 , SrTiO 3 , aluminum-doped zinc oxide, and the like.
  • the TiO 2 contained in the particles has any of anatase, rutile, anatase/rutile mixed, and brookite crystal structures.
  • those containing the rutile type are preferable in consideration of the refractive index and transparency of the resulting thin film.
  • the first metal oxide particles (A) form a thin film layer made of a metal oxide such as zirconium oxide, silicon oxide, and aluminum oxide on the surface from the viewpoint of suppressing the activity (for example, photocatalytic performance).
  • the thin film layer can be formed, for example, by adding a zirconium compound to an aqueous dispersion of the first metal oxide particles (A) and heating the mixture at 40 to 200.degree.
  • zirconium compound examples include zirconium oxychloride, zirconium chloride, zirconium hydroxide, zirconium sulfate, zirconium nitrate, zirconium oxynitrate, zirconium acetate, zirconyl carbonate, ammonium zirconium carbonate, potassium zirconium carbonate, zirconium ethylhexanoate, and stearic acid.
  • the amount of the zirconia compound used, as zirconium oxide, is preferably 3 to 50% by mass relative to the first metal oxide particles (A) used.
  • the primary particle size of the first metal oxide particles (A) is preferably 2 to 60 nm, more preferably 2 to 30 nm, from the viewpoints of dispersion stability, refractive index and transparency of the resulting thin film. More preferably, 2 to 20 nm is particularly preferred. From the viewpoint of dispersion stability, refractive index and transparency of the obtained thin film, 5 to 100 nm is preferred, 5 to 50 nm is more preferred, and 5 to 30 nm is particularly preferred.
  • the first metal oxide particles (A) can be synthesized, for example, according to the method described in International Publication No. 2013/081136.
  • the second metal oxide particles (B) are preferably oxide particles of at least one metal selected from the group consisting of Si, Al, Sn, Zr, Mo, Sb and W.
  • the second metal oxide particles (B) are in the form of metal oxides, for example, SiO 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , ZrO 2 , MoO 3 , Sb 2 O 5 , WO 3 and the like. can. And these metal oxides can be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more types. Examples of the method of combining the metal oxides include a method of mixing several types of the metal oxides, a method of compounding the metal oxides, and a method of forming a solid solution of the metal oxides at the atomic level.
  • the second metal oxide particles (B) include, for example, SnO 2 —WO 3 composite particles, SnO 2 particles in which SnO 2 particles and WO 3 particles are chemically bonded at their interface to form a composite.
  • SnO 2 —WO 3 SiO 2 composite particles produced and composited
  • SnO 2 —MoO 3 composited by chemical bonding of SnO 2 particles, MoO 3 particles and SiO 2 particles at their interfaces
  • Examples include SiO 2 composite particles, Sb 2 O 5 -SiO 2 composite particles in which Sb 2 O 5 particles and SiO 2 particles are chemically bonded at their interface to form a composite.
  • the ratio (mass ratio) of the metal oxides contained is not particularly limited, but for example, SnO 2 —SiO 2 composite
  • the particles preferably have a SiO 2 /SnO 2 mass ratio of 0.1 to 5, and the Sb 2 O 5 —SiO 2 composite particles preferably have a Sb 2 O 5 /SiO 2 mass ratio of 0.1 to 5.
  • the second metal oxide particles (B) can be produced by known methods such as an ion exchange method and an oxidation method.
  • the ion exchange method include a method of treating an acid salt of the above metal with a hydrogen ion exchange resin.
  • the oxidation method include a method of reacting the powder of the metal or the oxide of the metal with hydrogen peroxide.
  • the primary particle size of the second metal oxide particles (B) is preferably 5 nm or less, more preferably 1 to 5 nm, from the viewpoints of dispersion stability and the refractive index and transparency of the resulting thin film. preferable.
  • the third metal oxide particles (C) are metal oxide particles obtained by coating the surfaces of the first metal oxide particles (A) with the second metal oxide particles (B). Examples of the manufacturing method include the following first method and second method.
  • an aqueous dispersion containing the first metal oxide particles (A) and an aqueous dispersion containing the second metal oxide particles (B) are separated by (B)/(A).
  • the aqueous dispersion is heated.
  • An aqueous dispersion of the third metal oxide particles (C) in which the surfaces of the first metal oxide particles (A) are coated with the Sb 2 O 5 —SiO 2 composite particles is obtained.
  • an aqueous dispersion containing the first metal oxide particles (A), a water-soluble tin oxide alkali salt and a silicon oxide alkali salt as the second metal oxide particles (B), SnO 2 After mixing so that the mass ratio represented by /SiO 2 (value in terms of metal oxide) is 0.1 to 5, cation exchange is performed to remove alkali metal ions SnO 2 —SiO obtained by 2 and an aqueous dispersion of composite particles so that the mass ratio represented by (B)/(A) (in terms of metal oxide) is 0.05 to 0.5, and then mixed. It is a method of heating an aqueous dispersion.
  • an aqueous solution of sodium salt can be preferably used as the aqueous solution of water-soluble alkali salt used in the second method.
  • an aqueous solution of sodium salt can be preferably used.
  • aqueous dispersion containing the first metal oxide particles (A) and an aqueous solution of sodium stannate and sodium silicate as the second metal oxide particles (B) After mixing an aqueous dispersion containing the first metal oxide particles (A) and an aqueous solution of sodium stannate and sodium silicate as the second metal oxide particles (B), cation exchange is performed to obtain and an aqueous dispersion of SnO 2 —SiO 2 composite particles obtained above are mixed so that the mass ratio is 0.05 to 0.5, and the aqueous dispersion is heated at 70 to 350° C.
  • An aqueous dispersion of the third metal oxide particles (C) in which the surface of the metal oxide particles (A) as nuclei is coated with the second metal oxide particles (B) composed of SnO 2 —SiO 2 composite particles. can get.
  • the temperature at which the first metal oxide particles (A) and the second metal oxide particles (B) are mixed is usually 1 to 100°C, preferably 20 to 60°C.
  • the heating temperature after mixing is preferably 70 to 350°C, more preferably 70 to 150°C.
  • the heating time after mixing is usually 10 minutes to 5 hours, preferably 30 minutes to 4 hours.
  • the aqueous dispersion of the third metal oxide particles (C) may contain any component.
  • oxycarboxylic acids it is possible to further improve performance such as dispersibility of the third metal oxide particles (C).
  • the oxycarboxylic acid include lactic acid, tartaric acid, citric acid, gluconic acid, malic acid and glycolic acid.
  • the content of the oxycarboxylic acids is preferably about 30% by mass or less with respect to all metal oxides in the third metal oxide particles (C).
  • the dispersion of the third metal oxide particles (C) may contain an alkaline component.
  • alkali component include alkali metal hydroxides such as Li, Na, K, Rb, and Cs; ammonia; ethylamine, isopropylamine, n-propylamine, n-butylamine, diethylamine, di-n-propylamine, Diisopropylamine, di-n-butylamine, diisobutylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, triisobutylamine, triamylamine (tri-n-pentylamine), tri-n-hexylamine, tri-n-octylamine , dimethylpropylamine, dimethylbutylamine, dimethylhexylamine, etc.
  • alkali component include alkali metal hydroxides such as Li, Na, K, Rb, and Cs; ammonia; ethylamine,
  • alkali component is preferably about 30% by mass or less with respect to all metal oxides in the third metal oxide particles (C). Moreover, these alkali components can be used in combination with the above oxycarboxylic acid.
  • the aqueous dispersion of the third metal oxide particles (C) When it is desired to further increase the concentration of the aqueous dispersion of the third metal oxide particles (C), it can be concentrated to a maximum of about 65% by mass by a conventional method.
  • the method includes, for example, an evaporation method and an ultrafiltration method.
  • the alkali metal hydroxide, amine, quaternary ammonium salt, oxycarboxylic acid, etc. may be added.
  • the total metal oxide concentration of the solvent dispersion of the third metal oxide particles (C) is preferably 10 to 60% by mass, more preferably 20 to 50% by mass.
  • an organic solvent dispersion of the third metal oxide particles (C) is obtained.
  • This substitution can be carried out by an ordinary method such as a distillation method or an ultrafiltration method.
  • the hydrophilic organic solvent include lower alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and 1-propanol, ethers such as propylene glycol monomethyl ether, linear amides such as dimethylformamide and N,N'-dimethylacetamide, Cyclic amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, glycols such as ethyl cellosolve and ethylene glycol.
  • the primary particle size of the third metal oxide particles (C) is preferably 20 nm or less from the viewpoints of dispersion stability and the refractive index and transparency of the resulting film.
  • the dynamic light scattering particle diameter (according to the dynamic light scattering method), which is the secondary particle diameter of the third metal oxide particles (C), is determined by 2 to 100 nm is preferred.
  • the refractive index of the surface-modified inorganic fine particles is not particularly limited, but is preferably from 1.6 to 2.6, more preferably from 1.8 to 2.6, from the viewpoint of not lowering the refractive index of the resulting film.
  • the refractive index of the inorganic fine particles can be obtained, for example, by measuring the refractive index of a liquid of the surface-modified inorganic fine particles dispersed in a solvent or resin with a known refractive index with an Abbe refractometer and extrapolating from the value, or by extrapolating the measured value.
  • the refractive index of a film or cured product containing fine particles is measured with an Abbe refractometer or spectroscopic ellipsometry, and the refractive index can be extrapolated from the measured value.
  • the content of the surface-modified inorganic fine particles in the composition may be within a range that does not impair the dispersibility in the final composition obtained. It is possible to control accordingly. For example, it can be added in the range of 0.1 to 1,000 parts by mass, preferably 1 to 500 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing polymer. And from the viewpoint of obtaining solvent resistance, it is more preferably 10 to 300 parts by mass.
  • organic solvents include toluene, p-xylene, o-xylene, m-xylene, ethylbenzene, styrene, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol, propylene glycol.
  • the solid content concentration in the composition is not particularly limited as long as it does not affect storage stability, and may be appropriately set according to the thickness of the desired film. Specifically, from the viewpoint of solubility and storage stability, the solid content concentration is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 40% by mass.
  • composition of the present invention can also contain an initiator suitable for each cross-linking agent.
  • an initiator suitable for each cross-linking agent.
  • photocuring proceeds to give a cured film without using an initiator.
  • an initiator may be used.
  • a photoacid generator or a photobase generator can be used.
  • the photoacid generator may be appropriately selected from known ones and used.
  • onium salt derivatives such as diazonium salts, sulfonium salts and iodonium salts can be used.
  • aryldiazonium salts such as phenyldiazonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyldiazonium hexafluoroantimonate, and 4-methylphenyldiazonium hexafluorophosphate; diphenyliodonium hexafluoroantimonate, bis(4-methylphenyl) diaryliodonium salts such as iodonium hexafluorophosphate, bis(4-tert-butylphenyl)iodonium hexafluorophosphate; triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, tris(4-methoxyphenyl)sulfonium hexafluorophosphate, diphenyl-4-thiophenoxy phenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium hex
  • onium salts may be commercially available products, and specific examples include San-Aid SI-60, SI-80, SI-100, SI-60L, SI-80L, SI-100L, SI-L145, SI- L150, SI-L160, SI-L110, SI-L147 (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), UVI-6950, UVI-6970, UVI-6974, UVI-6990, UVI-6992 (manufactured by Union Carbide company), CPI-100P, CPI-100A, CPI-200K, CPI-200S (manufactured by San-Apro Co., Ltd.), Adeka Optomer SP-150, SP-151, SP-170, SP-171 (manufactured by San-Apro Co., Ltd.) Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Irgacure 261 (BASF), CI-2481, CI-2624, CI-2639, CI-2064
  • the photobase generator it may be appropriately selected from known ones and used. etc. can be used. Specific examples include 2-nitrobenzylcyclohexylcarbamate, triphenylmethanol, O-carbamoylhydroxylamide, O-carbamoyloxime, [[(2,6-dinitrobenzyl)oxy]carbonyl]cyclohexylamine, bis[[(2 -nitrobenzyl)oxy]carbonyl]hexane 1,6-diamine, 4-(methylthiobenzoyl)-1-methyl-1-morpholinoethane, (4-morpholinobenzoyl)-1-benzyl-1-dimethylaminopropane, N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl)pyrrolidine, hexaamminecobalt (III) tris(triphenylmethylborate), 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone, 2,6-dimethyl
  • a photoacid or base generator When a photoacid or base generator is used, it is preferably used in the range of 0.1 to 15 parts by mass, more preferably in the range of 1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the polyfunctional epoxy compound. If necessary, an epoxy resin curing agent may be blended in an amount of 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional epoxy compound.
  • a photoradical polymerization initiator when using a polyfunctional (meth)acrylic compound, a photoradical polymerization initiator can be used.
  • the radical photopolymerization initiator it may be appropriately selected and used from known ones. is mentioned.
  • a photocleavable photoradical polymerization initiator is preferred.
  • the photo-cleavable photoradical polymerization initiator is described in Latest UV Curing Techniques (page 159, published by: Kazuhiro Takasusu, published by: Technical Information Institute, 1991).
  • radical photopolymerization initiators include, for example, BASF trade name: Irgacure 127, 184, 369, 379, 379EG, 651, 500, 754, 819, 903, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850 , CG24-61, OXE01, OXE02, OXE03, OXE04, Darocure 1116, 1173, MBF, manufactured by BASF Product name: Lucirin TPO, manufactured by UCB Product name: Ebecryl P36, manufactured by Fratezuri Lamberti Product name: Ezacure KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KTO46, KIP75/B and the like.
  • BASF trade name Irgacure 127, 184, 369, 379, 379EG, 651, 500, 754, 819, 903, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850 ,
  • a photoradical polymerization initiator When using a photoradical polymerization initiator, it is preferable to use it in the range of 0.1 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate compound, and to use it in the range of 1 to 150 parts by weight. is more preferred.
  • composition of the present invention may contain other components other than the triazine ring-containing polymer, the cross-linking agent and the solvent, such as leveling agents, surfactants, Silane coupling agents, polymerization inhibitors, antioxidants, rust inhibitors, release agents, plasticizers, defoaming agents, thickeners, dispersants, antistatic agents, anti-settling agents, pigments, dyes, UV absorbers , additives such as light stabilizers may also be included.
  • leveling agents such as leveling agents, surfactants, Silane coupling agents, polymerization inhibitors, antioxidants, rust inhibitors, release agents, plasticizers, defoaming agents, thickeners, dispersants, antistatic agents, anti-settling agents, pigments, dyes, UV absorbers , additives such as light stabilizers may also be included.
  • surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, and polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene octylphenol ether, polyoxyethylene nonylphenol; Polyoxyethylene alkylallyl ethers such as ethers; polyoxyethylene/polyoxypropylene block copolymers; sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, sorbitan trioleate, sorbitan tristearate sorbitan fatty acid esters such as; Nonionic surfactants such as sorbitan fatty acid esters, trade names Ftop EF301, EF303, EF352 (manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.
  • surfactants may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the surfactant used is preferably 0.0001 to 5 parts by mass, more preferably 0.001 to 1 part by mass, and 0.01 to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing polymer. Even more preferable.
  • Pattern production method and cured product In the pattern production method using the composition of the present invention, the composition is applied to a substrate, and then heated as necessary to evaporate the solvent, followed by heating or light.
  • a desired cured film can be formed by irradiation, and in producing a cured film by light irradiation, light irradiation is performed through a mask on which a desired pattern is formed, and then development is performed with a developer to create a fine pattern. can be formed.
  • a cured product can be obtained by using the pattern forming composition of the present invention.
  • the method for applying the composition is arbitrary, and examples thereof include spin coating, dipping, flow coating, inkjet, jet dispenser, spraying, bar coating, gravure coating, slit coating, and roll coating.
  • method, transfer printing method, brush coating method, blade coating method, air knife coating method, and the like can be used.
  • the base material silicon, glass coated with indium tin oxide (ITO), glass coated with indium zinc oxide (IZO), polyethylene terephthalate (PET), plastic, glass, quartz, and ceramics. etc., and a flexible base material having flexibility can also be used.
  • the calcination temperature is not particularly limited for the purpose of evaporating the solvent, and can be carried out at, for example, 70 to 400°C.
  • the baking time may be any time for the solvent to evaporate, and for example, 1 to 600 seconds can be adopted.
  • the baking method is not particularly limited. For example, a hot plate or an oven may be used to evaporate under an appropriate atmosphere such as air, an inert gas such as nitrogen, or vacuum.
  • the sintering temperature and sintering time may be selected in accordance with the process steps of the target electronic device, and the sintering conditions may be selected such that the physical properties of the obtained film are suitable for the required characteristics of the electronic device.
  • the conditions for light irradiation are not particularly limited either, and suitable irradiation energy and time may be adopted according to the triazine ring-containing polymer and cross-linking agent to be used.
  • Development after exposure can be carried out, for example, by immersing the exposed resin in an organic solvent developer or an aqueous developer.
  • organic solvent developer include PGME, PGMEA, a mixed solvent of PGME and PGMEA, NMP, ⁇ -butyrolactone, DMSO, etc.
  • aqueous developer include sodium carbonate, potassium carbonate, Alkaline aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and tetramethylammonium hydroxide can be used.
  • the composition of the present invention may further contain an oxirane ring-containing compound and a photocurable catalyst.
  • the oxirane ring-containing compound include those having one or more, preferably two or more, oxirane rings in the molecule. Specific examples include glycidyl ether type epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, alicyclic epoxy resins Examples include resins, epoxy-modified polybutadiene resins, oxetane compounds, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the oxirane ring-containing compound is not particularly limited, it can be about 10 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing polymer.
  • Photocurable catalysts include photocation generators.
  • the photocation generator include triarylsulfonium salts such as triphenylsulfonium hexafluorophosphate and triphenylsulfonium hexafluoroantimonate; triarylselenium salts; diphenyliodonium hexafluorophosphate and diphenyliodonium hexafluoroantimonate. and diaryliodonium salts. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the photocurable catalyst to be added is not particularly limited, but can be about 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing polymer.
  • oxirane ring-containing compounds and photocurable catalysts can be blended in any order with each component constituting the composition of the present invention. Moreover, you may use the organic solvent mentioned above in that case.
  • the composition containing these by the above-described method for example, it can be cured by irradiating ultraviolet light or the like at 1 to 4000 mj/cm 2 .
  • Light irradiation may be performed using various known techniques such as a high-pressure mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp, LED, and laser light.
  • the film may be heated at about 110 to 180° C. before and after the exposure. Development after exposure can be carried out by immersing the exposed resin in the organic solvent developer or aqueous developer described above.
  • the cured product obtained as described above can achieve high heat resistance, high refractive index, and low volume shrinkage.
  • electronic devices and optical materials such as imaging devices, organic thin-film solar cells, dye-sensitized solar cells, organic thin-film transistors (TFTs), lenses, prism cameras, binoculars, microscopes, semiconductor exposure equipment, etc. available for
  • Apparatus OLYMPUS BX51 manufactured by Olympus Optical Co., Ltd.
  • Device JEOL JSM-7400F
  • Exposure Apparatus: Mask aligner MA6 manufactured by SUSS
  • developing Apparatus: Compact developing apparatus ADE-3000S manufactured by Actes Kyosan Co., Ltd.
  • 1,3-Phenylenediamine [2] (228.70 g, 2.115 mol, manufactured by Amino-Chem) and 3464.72 g of dimethylacetamide (DMAc, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) were placed in a 5,000 mL four-necked flask.
  • DMAc dimethylacetamide
  • 1,3-phenylenediamine [2] was dissolved in DMAc by stirring. Then, it is cooled to ⁇ 10° C. in an ethanol-dry ice bath, and 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine [1] (390.00 g, 2.115 mol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.).
  • Tetrahydrofuran (THF, 2,246 g), ammonium acetate (2,526 g) and ion-exchanged water (2,526 g) were added to the reaction solution and stirred for 30 minutes. After stopping the stirring, the solution was transferred to a separating funnel, separated into an organic layer and an aqueous layer, and the organic layer was recovered. The recovered organic layer was added dropwise to a mixed liquid of methanol (8,421 g) and ion-exchanged water (5,614 g) for reprecipitation. The resulting precipitate was filtered and dried in a vacuum dryer at 120° C. for 8 hours to obtain 536.2 g of the objective polymer compound [4] (hereinafter referred to as P-1).
  • Compound P-1 had a weight average molecular weight Mw of 5,970 and a polydispersity Mw/Mn of 2.5 as measured by GPC in terms of polystyrene.
  • FIG. 1 shows the measurement results of the 1 H-NMR spectrum of compound P-1.
  • Production Example 1 Production of First Metal Oxide Particles (A1) Put 126.2 g of pure water in a 1-liter container, add 17.8 g of metastannic acid (contains 15 g of SnO 2 , manufactured by Showa Kako Co., Ltd.), titanium Tetraisopropoxide 284 g (contains 80 g in terms of TiO2 , manufactured by Nippon Soda Co., Ltd. A-1), oxalic acid dihydrate 98 (contains 70 g in terms of oxalic acid, manufactured by Ube Industries, Ltd.), 35 mass% 438 g of an aqueous tetraethylammonium hydroxide solution (manufactured by Seichem Japan) was added with stirring.
  • metastannic acid contains 15 g of SnO 2 , manufactured by Showa Kako Co., Ltd.
  • titanium Tetraisopropoxide 284 g contains 80 g in terms of TiO2 , manufactured by Nippo
  • the resulting mixed solution had a molar ratio of oxalic acid/titanium atoms of 0.78 and a molar ratio of tetraethylammonium hydroxide/titanium atoms of 1.04.
  • 950 g of the mixed solution was held at 80° C. for 2 hours, and further reduced to 580 Torr and held for 2 hours to prepare a titanium mixed solution.
  • the titanium mixed solution after preparation had a pH of 4.7, an electrical conductivity of 27.2 mS/cm, and a metal oxide concentration of 10.0% by mass.
  • 950 g of the titanium mixed solution and 950 g of pure water were charged into a 3-liter glass-lined autoclave container, and hydrothermally treated at 140° C. for 5 hours.
  • the hydrothermally treated solution taken out was an aqueous dispersion of pale milky white titanium oxide-containing colloidal particles.
  • the resulting dispersion had a pH of 3.9, a conductivity of 19.7 mS/cm, a TiO2 concentration of 4.2 wt%, a tetraethylammonium hydroxide concentration of 8.0 wt%, an oxalic acid concentration of 3.7 wt%, a dynamic Oval particles with a primary particle diameter of 4 to 10 nm were observed by light scattering method particle diameter 16 nm and transmission electron microscope observation.
  • the obtained dispersion was dried at 110° C.
  • the obtained colloidal particles containing titanium oxide were used as core particles (A).
  • 70.8 g of zirconium oxychloride (containing 21.19% by mass as ZrO2, manufactured by Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd.) was diluted with 429.2 g of pure water to obtain 500 g of an aqueous zirconium oxychloride solution ( 3 as ZrO2). 0% by mass) was separately prepared, and 1,000 g of a dispersion (aqueous dispersion sol) of the core particles (A) was added thereto with stirring.
  • first metal oxide particles (A1)) having a thin film layer of zirconium oxide formed on the surface thereof is hydrolyzed by heating to 95°C. was gotten.
  • the resulting water-dispersed sol had a pH of 1.2 and a total metal oxide concentration of 20% by mass, and colloidal particles having a primary particle diameter of 4 to 10 nm were observed by transmission electron microscope observation.
  • Second Metal Oxide Particles (B1) 77.2 g of JIS No. 3 sodium silicate (containing 29.8% by mass of SiO 2 , manufactured by Fuji Chemical Co., Ltd.) was dissolved in 1,282 g of pure water, Then, 20.9 g of sodium stannate NaSnO 3 .H 2 O (contains 55.1% by mass as SnO 2 , manufactured by Showa Kako Co., Ltd.) was dissolved. The resulting aqueous solution is passed through a column filled with a hydrogen-type cation exchange resin (Amberlite (registered trademark) IR-120B) to obtain a water-dispersed sol of acidic silicon dioxide-stannic oxide composite colloidal particles (B1).
  • a hydrogen-type cation exchange resin Amberlite (registered trademark) IR-120B
  • Production Example 3 Production of Third Metal Oxide Particles (C1) 1,455 g of the water-dispersed sol of the first metal oxide particles (A1) obtained in Production Example 1 was prepared in Production Example 2 as the second metal oxide. It was added to 2,634 g of the water-dispersed sol of particles (B1) under stirring. Then, the solution was passed through a column packed with 500 ml of an anion exchange resin (Amberlite (registered trademark) IRA-410, manufactured by Organo Co., Ltd.). Next, after heating the water-dispersed sol after passing the liquid at 95 ° C.
  • an anion exchange resin Amberlite (registered trademark) IRA-410, manufactured by Organo Co., Ltd.
  • the liquid was passed through a column packed with a hydrogen-type cation exchange resin (Amberlite (registered trademark) IR-120B), and tri-n-pentyl Stabilized with amine and concentrated by an ultrafiltration membrane method, an intermediate thin film layer made of zirconium oxide is formed between the first metal oxide particles (A1) and the second metal oxide particles (B1).
  • a water-dispersed sol of silicon dioxide-stannic oxide composite oxide-coated titanium oxide-containing colloidal particles (C1) (hereinafter referred to as third metal oxide particles (C1)) was obtained.
  • the resulting water-dispersed sol had a total metal oxide concentration of 20% by mass, and a primary particle size of this sol was 4 to 10 nm when observed with a transmission electron microscope.
  • This methanol-dispersed sol had a total metal oxide concentration of 30.0% by mass, a viscosity of 1.5 mPa ⁇ s, a particle diameter of 18 nm as determined by the dynamic light scattering method, and a water content of 1.0% by mass.
  • Production Example 4 Production of Surface-Modified Inorganic Fine Particles (D1) ), trade name: KBM-403) was added, and heated under reflux at 70° C. for 5 hours. A methanol dispersion of surface-modified inorganic fine particles (D1) having 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane bound to the surface (hereinafter referred to as surface-modified inorganic fine particles (D1)) was obtained. Next, using an evaporator, methanol is distilled off while adding propylene glycol monomethyl ether at 80 Torr to replace methanol with propylene glycol monomethyl ether, and 530 g of the propylene glycol monomethyl ether dispersion of the surface-modified inorganic fine particles (D1) is obtained.
  • the obtained dispersion (hereinafter referred to as D-1 solution) has a specific gravity of 1.210, a viscosity of 3.8 mPa s, a total metal oxide concentration of 30.3% by mass, and a primary particle diameter of 4 as determined by transmission electron microscope observation. ⁇ 10 nm, and the dynamic light scattering particle size was 15 nm.
  • D-1 solution 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane bound to the surface of the third metal oxide particles (C1) is the total metal oxidation of the third metal oxide particles (C1). It was 4.7% by mass with respect to the product.
  • the film was developed with a 2.38% tetramethylammonium hydroxide (hereinafter abbreviated as TMAH) solution for 40 seconds, and then rinsed with ultrapure water for 30 seconds. After rinsing, it was dried at 100° C. for 10 minutes using a hot plate to obtain a cured film.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • the cured film obtained above was measured for refractive index, film thickness, b * , transmittance at 400 to 800 nm, and HAZE. Table 1 shows the results.
  • the transmittance an average transmittance of 400 to 800 nm was calculated.
  • the cured film obtained from the SP-1 solution has an excellent effect of maintaining a high transmittance and a low HAZE value while maintaining a high refractive index even after washing with an alkaline aqueous solution. Recognize.
  • Example 3-1 (2) Preparation of patterning film [Example 3-1]
  • the SP-1 solution prepared in Example 1-1 was spin-coated on a 50 mm ⁇ 50 mm ⁇ 0.7 mm non-alkali glass substrate with a spin coater at 200 rpm for 5 seconds and 500 rpm for 30 seconds, and a hot plate was used. After temporary drying at 100 ° C. for 5 minutes, a mask with circular openings with a diameter of 15 ⁇ m arranged at intervals of 15 ⁇ m and a space (ultraviolet shielding portion) corresponding to the remaining portion other than the openings using a mask aligner MA6 manufactured by SUSS Co., Ltd.
  • Example 3-2 In the same manner as in Example 3-1, except that the mask used was changed to a mask having a linear opening with a width of 10 ⁇ m and a linear space (ultraviolet shielding portion) with a width of 10 ⁇ m called line & space. A patterned film was obtained. An optical microscope photograph of the obtained patterned film is shown in FIG.
  • Example 3-3 In the same manner as in Example 3-1, except that the mask used was changed to a mask having a linear opening with a width of 15 ⁇ m and a linear space (ultraviolet shielding portion) with a width of 15 ⁇ m called line & space. A patterned film was obtained. An optical microscope photograph of the obtained patterned film is shown in FIG.

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Abstract

下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むとともに、少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、そのトリアジン環末端の少なくとも一部が水酸基置換アリールアミノ基で封止されているトリアジン環含有重合体と、架橋剤と、アルカリ反応性基を表面に有する無機微粒子と、有機溶媒とを含むパターン形成用組成物。 （式中、ＲおよびＲ'は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、Ｑは、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基を表す。＊は結合手を表す。）

Description

パターン形成用組成物
　本発明は、パターン形成用組成物に関する。
　近年、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、タッチパネル、光半導体（発光ダイオード（ＬＥＤ）等）素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、および有機薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の電子デバイスを開発する際に、高機能な高分子材料が要求されるようになってきた。
　求められる具体的な特性としては、１）耐熱性、２）透明性、３）高屈折率、４）高溶解性、５）低体積収縮率、６）高温高湿耐性、７）高膜硬度などが挙げられる。
　この点に鑑み、本出願人は、トリアジン環および芳香環を有する繰り返し単位を含む重合体が高屈折率を有し、ポリマー単独で高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、低体積収縮を達成でき、電子デバイスを作製する際の膜形成用組成物として好適であることを既に見出している（特許文献１）。
　ところで、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイは、一般的に、光取り出し効率、すなわち、発生した光がデバイスの外部に出てくる効率が低いという問題がある。
　この問題を解決する光取り出し法として、従来種々の技術が開発されており、その一つとして、光が外部に出るまでに損失されてしまう原因の一つである層間の屈折率差をなくすため、高屈折率層や高屈折率パターンを用いる技術が知られている。
　この高屈折率パターンには、多くのネガ型感光性組成物が提案されてきており、本出願人も、これまでネガ型の高屈折率パターンを形成できる各種材料を報告している（特許文献２～４参照）。
　しかし、ネガ型材料では、上部から照射された光で硬化した部分が残ってパターンが形成されるため、一般的に現像後の形状が逆テーパー状になりやすい上、アンダーカットが生じ易い。
国際公開第２０１０／１２８６６１号 国際公開第２０１６／０２４６１３号 国際公開第２０１６／１１４３３７号 国際公開第２０１９／０９３２０３号
　そのため、ネガ型の高屈折率パターンを形成しうる組成物が求められている。
　他方、パターン形成用組成物に無機微粒子を添加した場合、パターン形成性が劣る。
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、無機微粒子を含有する場合でも高屈折率で透明性に優れたパターンを形成し得るパターン形成用組成物を提供することを目的とする。
　本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、トリアジン環末端の少なくとも一部が水酸基置換アリールアミノ基で封止されたトリアジン環含有重合体および架橋剤を含む組成物によって、高屈折率で透明な微細パターンを形成できることを見出した。本発明者は、上記目的を達成するために更に鋭意検討を重ねた結果、当該組成物に無機微粒子を含有させる際に、アルカリ反応性基を表面に有する無機微粒子を用いることで、無機微粒子を含有する場合でも高屈折率で透明な微細パターンを形成し得ることを見出し、本発明を完成した。
　すなわち、本発明は、
　［１］　下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むとともに、少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、そのトリアジン環末端の少なくとも一部が水酸基置換アリールアミノ基で封止されているトリアジン環含有重合体と、架橋剤と、アルカリ反応性基を表面に有する無機微粒子と、有機溶媒とを含むことを特徴とするパターン形成用組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 （式中、ＲおよびＲ’は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、Ｑは、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基を表す。＊は結合手を表す。）
　［２］　前記式（１）中のＱが、式（２）～（１３）及び式（１０２）～（１１５）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す、［１］に記載のパターン形成用組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 〔式（２）～式（１３）中、Ｒ１～Ｒ９２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
　Ｒ９３およびＲ９４は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表し、
　Ｗ１およびＷ２は、互いに独立して、単結合、ＣＲ９５Ｒ９６（Ｒ９５およびＲ９６は、互いに独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）、または炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、またはＮＲ９７（Ｒ９７は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基またはフェニル基を表す。）を表し、
　Ｘ１およびＸ２は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または式（１４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 （式（１４）中、Ｒ９８～Ｒ１０１は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
　Ｙ１およびＹ２は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０のアルキレン基を表す。）で示される基を表す。
　＊は結合手を表す。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 （式（１０２）～式（１１５）中、Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、分岐構造を有していてもよい炭素数１～５のアルキレン基を表す。＊は結合手を表す。）
　［３］　前記水酸基置換アリールアミノ基が、式（１５）で示される［１］又は［２］に記載のパターン形成用組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 （式（１５）中、＊は結合手を表す。）
　［４］　前記水酸基置換アリールアミノ基が、式（１６）で示される［３］に記載のパターン形成用組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 （式（１６）中、＊は結合手を表す。）
　［５］　前記式（１）中のＱが、式（１７）で示される［１］～［４］のいずれかに記載のパターン形成用組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 （式（１７）中、＊は結合手を表す。）
　［６］　前記架橋剤が、多官能（メタ）アクリル化合物である［１］～［５］のいずれかに記載のパターン形成用組成物。
　［７］　前記無機微粒子が、金属酸化物、金属硫黄物または金属窒化物を含む［１］～［６］のいずれかに記載のパターン形成用組成物。
　［８］　前記アルカリ反応性基が、酸無水物基またはエポキシ基である［１］～［７］のいずれかに記載のパターン形成用組成物。
　［９］　有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し層用である［１］～［８］のいずれかに記載のパターン形成用組成物。
　［１０］　［１］～［９］のいずれかに記載のパターン形成用組成物から作製された硬化物。
　［１１］　基材と、前記基材上に形成された［１０］に記載の硬化物とを備える電子デバイス。
　［１２］　有機エレクトロルミネッセンスである［１１］に記載の電子デバイス。
　［１３］　基材と、前記基材上に形成された［１０］に記載の硬化物とを備える光学部材。
　［１４］　［１］～［９］のいずれかに記載のパターン形成用組成物を基材に塗布し、有機溶媒を蒸発させ、パターンが形成されたマスクを介して光照射した後、現像し、さらに焼成することを特徴とするパターンの作製方法。
　本発明の組成物は、マスキングして露光・硬化させた後、これをアルカリ現像した後、焼成することで、高屈折率で透明性に優れた微細パターンを与える。
　本発明の組成物から作製されたパターンは、トリアジン環含有重合体による、高耐熱性、高屈折率、低体積収縮という特性を発揮し得るため、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、タッチパネル、光半導体素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、有機薄膜トランジスタ、レンズ、プリズム、カメラ、双眼鏡、顕微鏡、半導体露光装置等を作製する際の一部材など、電子デバイスや光学材料の分野に好適に利用できる。
合成例１で得られた高分子化合物［４］の１Ｈ－ＮＭＲスペクトル図である。 実施例３－１で作製したパターニング膜の光学顕微鏡写真である。 実施例３－１で作製したパターニング膜の電子顕微鏡写真である。 実施例３－２で作製したパターニング膜の光学顕微鏡写真である。 実施例３－３で作製したパターニング膜の光学顕微鏡写真である。
　以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
　本発明に係るパターン形成用組成物は、下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むとともに、少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、そのトリアジン環末端の少なくとも一部が水酸基置換アリールアミノ基で封止されているトリアジン環含有重合体と、架橋剤と、アルカリ反応性基を表面に有する無機微粒子と、有機溶媒とを含むことを特徴とする。
（１）トリアジン環含有重合体
　本発明で用いるトリアジン環含有重合体は、下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含む。
　トリアジン環含有重合体は、例えば、いわゆるハイパーブランチポリマーである。ハイパーブランチポリマーとは、不規則な分岐構造を有する高分岐ポリマーである。ここでの不規則とは、規則的な分岐構造を有する高分岐ポリマーであるデンドリマーの分岐構造よりも不規則であることを意味する。
　例えば、ハイパーブランチポリマーであるトリアジン環含有重合体は、式（１）で表される繰り返し単位構造よりも大きな構造として、式（１）で表される繰り返し単位構造の３つの結合手のそれぞれに、式（１）で表される繰り返し単位構造が結合してなる構造（構造Ｘ）を含む。ハイパーブランチポリマーであるトリアジン環含有重合体においては、構造Ｘがトリアジン環含有重合体の末端を除く全体に分布している。
　ハイパーブランチポリマーであるトリアジン環含有重合体においては、繰り返し単位構造が、本質的に式（１）で表される繰り返し単位構造のみからであってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 　＊は結合手を表す。
＜＜Ｒ、及びＲ’＞＞
　上記式中、ＲおよびＲ’は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表すが、屈折率をより高めるという観点から、ともに水素原子であることが好ましい。
　本発明において、アルキル基の炭素数としては特に限定されるものではないが、１～２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、アルキル基の炭素数としては、１～１０がより好ましく、１～３がより一層好ましい。また、アルキル基の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。
　アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、シクロブチル、１－メチル－シクロプロピル、２－メチル－シクロプロピル、ｎ－ペンチル、１－メチル－ｎ－ブチル、２－メチル－ｎ－ブチル、３－メチル－ｎ－ブチル、１，１－ジメチル－ｎ－プロピル、１，２－ジメチル－ｎ－プロピル、２，２－ジメチル－ｎ－プロピル、１－エチル－ｎ－プロピル、シクロペンチル、１－メチル－シクロブチル、２－メチル－シクロブチル、３－メチル－シクロブチル、１，２－ジメチル－シクロプロピル、２，３－ジメチル－シクロプロピル、１－エチル－シクロプロピル、２－エチル－シクロプロピル、ｎ－ヘキシル、１－メチル－ｎ－ペンチル、２－メチル－ｎ－ペンチル、３－メチル－ｎ－ペンチル、４－メチル－ｎ－ペンチル、１，１－ジメチル－ｎ－ブチル、１，２－ジメチル－ｎ－ブチル、１，３－ジメチル－ｎ－ブチル、２，２－ジメチル－ｎ－ブチル、２，３－ジメチル－ｎ－ブチル、３，３－ジメチル－ｎ－ブチル、１－エチル－ｎ－ブチル、２－エチル－ｎ－ブチル、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロピル、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロピル、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロピル、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロピル、シクロヘキシル、１－メチル－シクロペンチル、２－メチル－シクロペンチル、３－メチル－シクロペンチル、１－エチル－シクロブチル、２－エチル－シクロブチル、３－エチル－シクロブチル、１，２－ジメチル－シクロブチル、１，３－ジメチル－シクロブチル、２，２－ジメチル－シクロブチル、２，３－ジメチル－シクロブチル、２，４－ジメチル－シクロブチル、３，３－ジメチル－シクロブチル、１－ｎ－プロピル－シクロプロピル、２－ｎ－プロピル－シクロプロピル、１－イソプロピル－シクロプロピル、２－イソプロピル－シクロプロピル、１，２，２－トリメチル－シクロプロピル、１，２，３－トリメチル－シクロプロピル、２，２，３－トリメチル－シクロプロピル、１－エチル－２－メチル－シクロプロピル、２－エチル－１－メチル－シクロプロピル、２－エチル－２－メチル－シクロプロピル、２－エチル－３－メチル－シクロプロピル基等が挙げられる。
　上記アルコキシ基の炭素数としては特に限定されるものではないが、１～２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、アルコキシ基の炭素数としては、１～１０がより好ましく、１～３がより一層好ましい。また、そのアルキル部分の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。
　アルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、イソブトキシ、ｓ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ｎ－ペントキシ、１－メチル－ｎ－ブトキシ、２－メチル－ｎ－ブトキシ、３－メチル－ｎ－ブトキシ、１，１－ジメチル－ｎ－プロポキシ、１，２－ジメチル－ｎ－プロポキシ、２，２－ジメチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－ｎ－プロポキシ、ｎ－ヘキシルオキシ、１－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、２－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、３－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、４－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、１，１－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１，２－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、２，２－ジメチル－ｎ－ブトキシ、２，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、３，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１－エチル－ｎ－ブトキシ、２－エチル－ｎ－ブトキシ、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロポキシ、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロポキシ基等が挙げられる。
　上記アリール基の炭素数としては特に限定されるものではないが、６～４０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、アリール基の炭素数としては、６～１６がより好ましく、６～１３がより一層好ましい。
　本発明において上記アリール基には、置換基を有するアリール基が含まれる。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基などが挙げられる。
　アリール基の具体例としては、フェニル、ｏ－クロルフェニル、ｍ－クロルフェニル、ｐ－クロルフェニル、ｏ－フルオロフェニル、ｐ－フルオロフェニル、ｏ－メトキシフェニル、ｐ－メトキシフェニル、ｐ－ニトロフェニル、ｐ－シアノフェニル、α－ナフチル、β－ナフチル、ｏ－ビフェニリル、ｍ－ビフェニリル、ｐ－ビフェニリル、１－アントリル、２－アントリル、９－アントリル、１－フェナントリル、２－フェナントリル、３－フェナントリル、４－フェナントリル、９－フェナントリル基等が挙げられる。
　アラルキル基の炭素数としては特に限定されるものではないが、炭素数７～２０が好ましく、そのアルキル部分の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖、分岐、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。
　本発明において、アラルキル基には、置換基を有するアラルキル基が含まれる。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基などが挙げられる。
　その具体例としては、ベンジル、ｐ－メチルフェニルメチル、ｍ－メチルフェニルメチル、ｏ－エチルフェニルメチル、ｍ－エチルフェニルメチル、ｐ－エチルフェニルメチル、２－プロピルフェニルメチル、４－イソプロピルフェニルメチル、４－イソブチルフェニルメチル、α－ナフチルメチル基等が挙げられる。
＜＜Ｑ＞＞
　式（１）中のＱとしては、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基であれば特に限定されるものではない。
　環構造は、芳香族環構造であってもよいし、脂環構造であってもよい。
　上記Ｑは、好ましくは、式（２）～（１３）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　上記Ｒ１～Ｒ９２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
　Ｒ９３およびＲ９４は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表し、
　Ｗ１およびＷ２は、互いに独立して、単結合、ＣＲ９５Ｒ９６（Ｒ９５およびＲ９６は、互いに独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）、または炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、またはＮＲ９７（Ｒ９７は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基またはフェニル基を表す。）を表す。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　なお、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
　炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基は、上記炭素数１～１０のアルキル基中の水素原子の少なくとも１つをハロゲン原子で置換したものであり、その具体例としては、例えば、トリフルオロメチル、２，２，２－トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、３，３，３－トリフルオロプロピル、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル、２，２，２－トリフルオロ－１－（トリフルオロメチル）エチル、パーフルオロプロピル、４，４，４－トリフルオロブチル、３，３，４，４，４－ペンタフルオロブチル、２，２，３，３，４，４，４－ヘプタフルオロブチル、パーフルオロブチル、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル、２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロペンチル、パーフルオロペンチル、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６－ウンデカフルオロヘキシル、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－デカフルオロヘキシル、３，３，４，４，５，５，６，６，６－ノナフルオロヘキシル、およびパーフルオロヘキシル基が挙げられる。本発明では、屈折率を維持しつつトリアジン環含有重合体の低極性溶媒等に対する溶解性を高めることを考慮すると、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基が好ましく、特に、炭素数１～５のパーフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基がより一層好ましい。
　また、Ｘ１およびＸ２は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または式（１４）で示される基を表す。
　これらのアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、及びアルキレン基の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 　＊は結合手を表す。
　上記Ｒ９８～Ｒ１０１は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
　Ｙ１およびＹ２は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０のアルキレン基を表す。
　これらハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基としては、Ｒ１～Ｒ９２におけるハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基と同様のものが挙げられる。
　Ｒ９８～Ｒ１０１におけるアルキル基、及びアルコキシ基の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。
　Ｙ１およびＹ２におけるアルキレン基の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。
　炭素数１～１０のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基等が挙げられる。
　上記アルキレン基の構造は、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、環状、およびこれらの２以上の組み合わせのいずれでもよい。
　特に、Ｑとしては、式（２）、（５）～（１３）で示される少なくとも１種が好ましく、式（２）、（５）、（７）、（８）、（１１）～（１３）で示される少なくとも１種がより好ましい。上記式（２）～（１３）で表される２価の基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 　「Ｐｈ」はフェニル基を表す。＊は結合手を表す。
　これらの中でも、より高い屈折率のポリマーが得られることから、Ｑは下記式で示される２価の基がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 　「Ｐｈ」はフェニル基を表す。＊は結合手を表す。
　特に、レジスト溶剤等の安全性の高い溶剤に対するトリアジン環含有重合体の溶解性をより高めることを考慮すると、Ｑとしては、式（１７）で示されるｍ－フェニレン基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 （式中、＊は結合手を表す。）
　また、式（１）中のＱは、例えば、式（１０２）～（１１５）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 　＊は結合手を表す。
　式（１０２）～（１１５）において、上記Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、分岐構造を有していてもよい炭素数１～５のアルキレン基を表す。
　このようなアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基等が挙げられるが、得られるポリマーの屈折率をより高めるということを考慮すると、炭素数１～３のアルキレン基が好ましく、炭素数１～２のアルキレン基、具体的には、メチレン、エチレン基がより好ましく、メチレン基が最適である。
＜水酸基置換アリールアミノ基＞
　なお、本発明で用いるトリアジン環含有重合体では、これを用いて得られる薄膜や硬化膜のアルカリ現像液に対する溶解性を向上させるという点から、そのトリアジン環末端の少なくとも一部が水酸基置換アリールアミノ基で封止されている。当該水酸基は、アリール基に直接結合した水酸基であり、いわゆるフェノール性水酸基である。
　このアリール基としては、上記で例示した基と同様のものが挙げられるが、特に、フェニル基が好ましい。
　アリール基上の水酸基の数は、特に限定されるものではないが、アルカリ現像液での現像性および有機溶媒に対する溶解性のバランスを考慮すると、１つが好適である。
　これらの観点から、本発明では、水酸基置換アリールアミノ基として、式（１５）で示される水酸基置換フェニルアミノ基が好ましく、式（１６）で示されるアミノ基のメタ位に水酸基を有するフェニルアミノ基がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 （式中、＊は結合手を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 （式中、＊は結合手を表す。）
　本発明におけるトリアジン環含有重合体の重量平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００～５００，０００が好ましく、さらに５００～１００，０００が好ましく、より耐熱性を向上させるとともに、収縮率を低くするという点から、２，０００以上が好ましく、より溶解性を高め、得られた組成物の粘度を低下させるという点から、５０，０００以下が好ましく、３０，０００以下がより好ましく、１５，０００以下がより一層好ましく、さらに１０，０００以下が好ましい。
　なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣという）分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。
　本発明のトリアジン環含有重合体（ハイパーブランチポリマー）は、上述した国際公開第２０１０／１２８６６１号に開示された手法に準じて製造することができる。
　例えば、下記スキーム１に示されるように、トリアジン環含有重合体（１９）は、トリアジン化合物（１８）、およびアリールジアミノ化合物（２０）を適当な有機溶媒中で反応させて得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 （式中、Ｘは、互いに独立してハロゲン原子を表す。）
　上記反応において、アリールジアミノ化合物（２０）の仕込み比は、目的とする重合体が得られる限り任意であるが、トリアジン化合物（１８）１当量に対し、ジアミノ化合物（２０）０．０１～１０当量が好ましく、０．７～５当量がより好ましい。
　アリールジアミノ化合物（２０）は、ニートで加えても、有機溶媒に溶かした溶液で加えてもよいが、操作の容易さや反応のコントロールのし易さなどを考慮すると、後者の手法が好適である。
　反応温度は、用いる溶媒の融点から溶媒の沸点までの範囲で適宜設定すればよいが、３０～１５０℃程度が好ましく、－１０～１００℃がより好ましい。
　有機溶媒としては、この種の反応において通常用いられる種々の溶媒を用いることができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、Ｎ－メチル－２－ピペリドン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルエチレン尿素、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルマロン酸アミド、Ｎ－メチルカプロラクタム、Ｎ－アセチルピロリジン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオン酸アミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソブチルアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチルプロピレン尿素等のアミド系溶媒、およびそれらの混合溶媒が挙げられる。
　中でもＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、およびそれらの混合系が好ましく、特に、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、が好適である。
　また、上記スキーム１の反応では、重合時または重合後に通常用いられる種々の塩基を添加してもよい。
　この塩基の具体例としては、炭酸カリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムエトキシド、酢酸ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化リチウム、酸化リチウム、酢酸カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、水酸化バリウム、リン酸三リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、フッ化セシウム、酸化アルミニウム、アンモニア、ｎ－プロピルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ－メチルピペリジン、２，２，６，６－テトラメチル－Ｎ－メチルピペリジン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、Ｎ－メチルモルホリン、２－アミノエタノール、エチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエタノール等が挙げられる。
　塩基の添加量は、トリアジン化合物（１８）１当量に対して１～１００当量が好ましく、１～１０当量がより好ましい。なお、これらの塩基は水溶液にして用いてもよい。
　得られる重合体には、原料成分が残存していないことが好ましいが、本発明の効果を損なわなければ一部の原料が残存していてもよい。
　反応終了後、生成物は再沈法等によって容易に精製できる。
　上述したとおり、本発明のトリアジン環含有重合体は、少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、このトリアジン環末端の少なくとも一部が、水酸基置換アリールアミノ基で封止されている。
　この末端封止方法としては、公知の方法を採用すればよく、例えば、上記の手法により得られたトリアジン環含有重合体（１９）を、末端封止基を与える末端封止剤である、アミノフェノール等のフェノール性水酸基を有するアリールアミン化合物で処理すればよい。
　この場合、末端封止剤の使用量は、重合反応に使われなかった余剰のトリアジン化合物由来のハロゲン原子１当量に対し、０．０５～１０当量程度が好ましく、０．１～５当量がより好ましく、０．５～２当量がより一層好ましい。
　反応溶媒や反応温度としては、上記スキーム１で述べたのと同様の条件が挙げられ、また、末端封止剤は、アリールジアミノ化合物（２０）と同時に仕込んでもよい。
　なお、上記水酸基置換アリールアミン化合物とともに、置換基を有しないアリールアミン化合物を用い、２種類以上の基で末端封止を行ってもよい。
　また、フェノール性水酸基を有するアリールアミン化合物を用いた末端封止に加えて、特定のヘテロ原子含有置換基を有するアリールアミン化合物を用いて末端封止を行ってもよい。特定のヘテロ原子含有置換基を有するアリールアミノ基で末端封止することで、得られる膜の屈折率を更に高くすることができる。
　特定のヘテロ原子含有置換基としては、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ニトロ基、チオール基、アルキルメルカプト基、アリールメルカプト基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基が挙げられる。
　特定のヘテロ原子含有置換基を有するアリールアミノ基としては、下記式（３４）で示されるものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 　式中、Ｙは、「特定のヘテロ原子含有置換基」であって、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ニトロ基、チオール基、アルキルメルカプト基、アリールメルカプト基、アルコキシカルボニル基又はアルコキシカルボニルオキシ基を表す。ｍは、１～５の整数を表す。ｍが２以上の場合、Ｙは同じであってもよいし、異なっていてもよい。＊は結合手を表す。
　これらの中でも、Ｙは、シアノ基、ニトロ基が好ましい。ｍは１が好ましい。ｍが１のとき、Ｙはパラ位又はメタ位に置換していることが好ましい。
　また、特定のヘテロ原子含有置換基を有するアリールアミノ基を導入する場合、フェノール性水酸基を有するアリールアミン化合物および特定のヘテロ原子含有置換基を有するアリールアミン化合物の比率は、アルカリ現像性と高屈折率化とをバランスよく発揮させる観点から、フェノール性水酸基を有するアリールアミン化合物１モルに対し、特定のヘテロ原子含有置換基を有するアリールアミン化合物０．１～１．０モルが好ましく、０．１～０．５モルがより好ましく、０．１～０．３モルがより一層好ましい。
　本発明において、特に好適なトリアジン環含有重合体としては、式（２１）～（２４）で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 （式中、Ｒ，Ｒ’，およびＲ１～Ｒ４は上記と同じ意味を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 （式中、Ｒ１～Ｒ４は、上記と同じ意味を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　パターン形成用組成物におけるトリアジン環含有重合体の含有量としては、特に制限されないが、１～５０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましい。
（２）架橋剤
　本発明で用いる架橋剤としては、単独で架橋反応を起こして、又は上述したトリアジン環含有重合体と一緒になって架橋反応を起こして、架橋構造を形成しうる化合物であれば特に限定されるものではない。
　そのような化合物としては、メチロール基、メトキシメチル基などの架橋形成置換基を有するメラミン系化合物（例えば、フェノプラスト化合物、アミノプラスト化合物など）、置換尿素系化合物、エポキシ基またはオキセタン基などの架橋形成置換基を含有する化合物（例えば、多官能エポキシ化合物、多官能オキセタン化合物など）、ブロックイソシアナート基を含有する化合物、酸無水物基を有する化合物、（メタ）アクリル基を有する化合物等が挙げられるが、耐熱性や保存安定性の観点からエポキシ基、ブロックイソシアネート基、（メタ）アクリル基を含有する化合物が好ましく、特に、ブロックイソシアネート基を有する化合物や、開始剤を用いなくとも光硬化可能な組成物を与える多官能エポキシ化合物および／または多官能（メタ）アクリル化合物が好ましい。
　多官能エポキシ化合物としては、エポキシ基を一分子中２個以上有するものであれば特に限定されるものではない。
　その具体例としては、トリス（２，３－エポキシプロピル）イソシアヌレート、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，２－エポキシ－４－（エポキシエチル）シクロヘキサン、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、２，６－ジグリシジルフェニルグリシジルエーテル、１，１，３－トリス［ｐ－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］プロパン、１，２－シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、４，４’－メチレンビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアニリン）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、ビスフェノール－Ａ－ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
　また、市販品として、少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂である、ＹＨ－４３４、ＹＨ４３４Ｌ（日鉄ケミカル＆マテリアル（株）製）、シクロヘキセンオキサイド構造を有するエポキシ樹脂である、エポリードＧＴ－４０１、同ＧＴ－４０３、同ＧＴ－３０１、同ＧＴ－３０２、セロキサイド２０２１、同３０００（（株）ダイセル製）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂である、ｊＥＲ１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、三菱ケミカル（株）製）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂である、ｊＥＲ８０７（三菱ケミカル（株）製）、フェノールノボラック型エポキシ樹脂である、ｊＥＲ１５２、同１５４（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂である、ＥＯＣＮ－１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、同１０２０、同１０２５、同１０２７（以上、日本化薬（株）製）、ｊＥＲ１８０Ｓ７５（三菱ケミカル（株）製）、脂環式エポキシ樹脂である、デナコールＥＸ－２５２（ナガセケムテックス（株）製）、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ　Ａ．Ｇ製）、アラルダイトＣＹ－１８２、同ＣＹ－１９２、同ＣＹ－１８４（以上、ＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ　Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、ＤＩＣ（株）製）、ｊＥＲ８７１、同８７２（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＥＤ－５６６１、ＥＤ－５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）、脂肪族ポリグリシジルエーテルである、デナコールＥＸ－６１１、同ＥＸ－６１２、同ＥＸ－６１４、同ＥＸ－６２２、同ＥＸ－４１１、同ＥＸ－５１２、同ＥＸ－５２２、同ＥＸ－４２１、同ＥＸ－３１３、同ＥＸ－３１４、同ＥＸ－３２１（ナガセケムテックス（株）製）等を用いることもできる。
　多官能（メタ）アクリル化合物としては、（メタ）アクリル基を一分子中２個以上有するものであれば特に限定されるものではない。
　その具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリメタクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリアクリレート、ポリグリセリンポリエチレングリコールポリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、多塩基酸変性アクリルオリゴマー等が挙げられる。
　また、多官能（メタ）アクリル化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステルＡ－２００、同Ａ－４００、同Ａ－６００、同Ａ－１０００、同Ａ－９３００（イソシアヌル酸トリス（２－アクリロイルオキシエチル））、同Ａ－９３００－１ＣＬ、同Ａ－ＴＭＰＴ、同ＵＡ－５３Ｈ、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＡＢＥ－３００、同Ａ－ＢＰＥ－４、同Ａ－ＢＰＥ－６、同Ａ－ＢＰＥ－１０、同Ａ－ＢＰＥ－２０、同Ａ－ＢＰＥ－３０、同ＢＰＥ－８０Ｎ、同ＢＰＥ－１００Ｎ、同ＢＰＥ－２００、同ＢＰＥ－５００、同ＢＰＥ－９００、同ＢＰＥ－１３００Ｎ、同Ａ－ＧＬＹ－３Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、同Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ、同Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ、同ＡＴ－２０Ｅ、同ＡＴＭ－４Ｅ、同ＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－ＤＰＨ、同Ａ－ＴＭＰＴ、同Ａ－ＤＣＰ、同Ａ－ＨＤ－Ｎ、同ＴＭＰＴ、同ＤＣＰ、同ＮＰＧ、同ＨＤ－Ｎ、同Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ、同Ａ－ＤＰＨ－４８Ｅ、同Ａ－ＤＰＨ－９６Ｅ、ＮＫオリゴ　Ｕ－１５ＨＡ、ＮＫポリマー　バナレジンＧＨ－１２０３（以上、新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ、同ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＴ３０、同ＤＰＥＡ－１２、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＴＨＥ－３３０、同ＲＰ－１０４０、ＤＮ－００７５（以上、日本化薬（株）製）、アロニックスＭ－２１０、同Ｍ－３０３、同Ｍ－３０５、同Ｍ－３０６、同Ｍ－３０９、同Ｍ－３０６、同Ｍ－３１０、同Ｍ－３１３、同Ｍ－３１５、同Ｍ－３２１、同Ｍ－３５０、同Ｍ－３６０、同Ｍ－４００、同Ｍ－４０２、同Ｍ－４０３、同Ｍ－４０４、同Ｍ－４０５、同Ｍ－４０６、同Ｍ－４０８、同Ｍ－４５０、同Ｍ－４５２、同Ｍ－４６０（以上、東亞合成（株）製）、ＤＰＧＤＡ、ＨＤＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＨＰＮＤＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＥＢＥＣＲＹＬ１１、同４０、同１３５、同１４０、同１４５、同１５０、同１８０、同１１４２、同２０４、同２０５、同２１０、同２１５、同２２０、同２３０、同２４４、同２４５、同２６５、同２７０、同２８０／１５ＩＢ、同２８４、同２９４／２５ＨＤ、同３０３、同４３６、同４３８、同４４６、同４５０、同５２４、同５２５、同６００、同６０５、同６４５、同６４８、同７６７、同７７０、同８００、同８１０、同８１１、同８１２、同８４６、同８５１、同８５２、同８５３、同８６０、同８８４、同８８５、同１２５９、同１２９０、同１６０６、同１８３０、同１８７０、同３５００、同３６０３、同３６０８、同３７００、同３７０１、同３７０２、同３７０３、同３７０８、同４８２０、同４８５８、同５１２９、同６０４０、同８２１０、同８４５４、同８３０１Ｒ、同８３０７、同８３１１、同８４０２、同８４０５、同８４１１、同８４６５、同８７０１、同８８００、同８８０４、同８８０７、同９２７０、同９２２７ＥＡ、同９３６、ＫＲＭ８２００、同８２００ＡＥ、同７７３５、同８２９６、同０８４５２、同８９０４、同８５２８、同８９１２、ＯＴＡ４８０、ＩＲＲ２１４－Ｋ、同６１６、同６７９、同７４２、同７９３、ＰＥＧ４００ＤＡ－Ｄ（ＡＣＡ）Ｚ２００Ｍ、同Ｚ２３０ＡＡ，同Ｚ２５０、同Ｚ２５１、同Ｚ３００、同Ｚ３２０、同Ｚ２５４Ｆ（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）等が挙げられる。
　上記多塩基酸変性アクリルオリゴマーも市販品として入手が可能であり、その具体例としては、アロニックスＭ－５１０，５２０（以上、東亞合成（株）製）等が挙げられる。
　酸無水物基を有する化合物としては、２分子のカルボン酸を脱水縮合させたカルボン酸無水物であれば、特に限定されるものではなく、その具体例としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、オクチル無水コハク酸、ドデセニル無水コハク酸等の分子内に１個の酸無水物基を有するもの；１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、３，４－ジカルボキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－１－ナフタレンコハク酸二無水物、ビシクロ［３．３．０］オクタン－２，４，６，８－テトラカルボン酸二無水物、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロ－３－フラニル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、１，３－ジメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等の分子内に２個の酸無水物基を有するもの等が挙げられる。
　ブロックイソシアネート基を含有する化合物としては、イソシアネート基（－ＮＣＯ）が適当な保護基によりブロックされたブロック化イソシアネート基を一分子中２個以上有し、熱硬化の際の高温に曝されると、保護基（ブロック部分）が熱解離して外れ、生じたイソシアネート基が本発明のトリアジン環含有重合体のフェノール性水酸基との間でウレタン結合反応を起こすものであれば特に限定されるものではなく、例えば、下記式で示される基を一分子中２個以上（なお、これらの基は同一のものでも、また各々異なっているものでもよい）有する化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 （式中、Ｒｂはブロック部の有機基を表す。）
　このような化合物は、例えば、一分子中２個以上のイソシアネート基を有する化合物に対して適当なブロック剤を反応させて得ることができる。
　一分子中２個以上のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビス（４－シクロヘキシルイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートのポリイソシアネートや、これらの二量体、三量体、および、これらとジオール類、トリオール類、ジアミン類、またはトリアミン類との反応物などが挙げられる。
　ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、２－エトキシヘキサノール、２－Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエタノール、２－エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；フェノール、ｏ－ニトロフェノール、ｐ－クロロフェノール、ｏ－、ｍ－またはｐ－クレゾール等のフェノール類；ε－カプロラクタム等のラクタム類、アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類；ピラゾール、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチルピラゾール等のピラゾール類；ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類などが挙げられる。
　ブロックイソシアネート基を含有する化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、タケネート（登録商標）Ｂ－８３０、Ｂ－８１５Ｎ、Ｂ－８４２Ｎ、Ｂ－８７０Ｎ、Ｂ－８７４Ｎ、Ｂ－８８２Ｎ、Ｂ－７００５、Ｂ－７０３０、Ｂ－７０７５、Ｂ－５０１０（以上、三井化学（株）製）、デュラネート（登録商標）１７Ｂ－６０ＰＸ、同ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、同ＭＦ－Ｂ６０Ｘ、同ＭＦ－Ｋ６０Ｘ、同Ｅ４０２－Ｂ８０Ｔ（以上、旭化成（株）製）、カレンズＭＯＩ－ＢＭ（登録商標）（以上、昭和電工（株）製）、ＴＲＩＸＥＮＥ（登録商標）　ＢＩ７９５０、同７９５１、同７９６０、同７９６１、同７９８２、同７９９０、同７９９１、同７９９２（以上、Ｂａｘｅｎｄｅｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製）等が挙げられる。
　アミノプラスト化合物としては、メトキシメチレン基を一分子中２個以上有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン　ＣＹＭＥＬ（登録商標）３０３、テトラブトキシメチルグリコールウリル　同１１７０、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン　同１１２３（以上、日本サイテックインダストリーズ（株）製）等のサイメルシリーズ、メチル化メラミン樹脂であるニカラック（登録商標）ＭＷ－３０ＨＭ、同ＭＷ－３９０、同ＭＷ－１００ＬＭ、同ＭＸ－７５０ＬＭ、メチル化尿素樹脂である同ＭＸ－２７０、同ＭＸ－２８０、同ＭＸ－２９０（以上、（株）三和ケミカル製）等のニカラックシリーズ等のメラミン系化合物が挙げられる。
　オキセタン化合物としては、オキセタニル基を一分子中２個以上有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、オキセタニル基を含有するＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ－Ｈ、ＯＸ－ＳＣ（以上、東亜合成（株）製）等が挙げられる。
　フェノプラスト化合物は、ヒドロキシメチレン基を一分子中２個以上有し、そして熱硬化の際の高温に曝されると、本発明のトリアジン環含有重合体のフェノール性水酸基との間で脱水縮合反応により架橋反応が進行するものである。
　フェノプラスト化合物としては、例えば、２，６－ジヒドロキシメチル－４－メチルフェノール、２，４－ジヒドロキシメチル－６－メチルフェノール、ビス（２－ヒドロキシ－３－ヒドロキシメチル－５－メチルフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－３－ヒドロキシメチル－５－メチルフェニル）メタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジヒドロキシメチルフェニル）プロパン、ビス（３－ホルミル－４－ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－２，５－ジメチルフェニル）ホルミルメタン、α，α－ビス（４－ヒドロキシ－２，５－ジメチルフェニル）－４－ホルミルトルエン等が挙げられる。
　フェノプラスト化合物は、市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、２６ＤＭＰＣ、４６ＤＭＯＣ、ＤＭ－ＢＩＰＣ－Ｆ、ＤＭ－ＢＩＯＣ－Ｆ、ＴＭ－ＢＩＰ－Ａ、ＢＩＳＡ－Ｆ、ＢＩ２５Ｘ－ＤＦ、ＢＩ２５Ｘ－ＴＰＡ（以上、旭有機材（株）製）等が挙げられる。
　これらの中でも、架橋剤配合による屈折率低下を抑制し得るとともに、硬化反応が速やかに進行するという点から、多官能（メタ）アクリル化合物が好適であり、その中でも、微細パターンの形状制御の点から、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびそのＥＯ付加体が好ましい。
　このような多官能（メタ）アクリル化合物としては、例えば、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ、同Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ（いずれも、新中村化学工業（株）製）等が挙げられる。
　上述した架橋剤は単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。
　パターン形成用組成物における架橋剤の含有量は、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して、１～２００質量部が好ましいが、溶剤耐性を考慮すると、その下限は、好ましくは２質量部、より好ましくは５質量部であり、さらには、屈折率および未露光部の残渣をコントロールすることを考慮すると、その上限は好ましくは１５０質量部、より好ましくは１００質量部、より一層好ましくは９０質量部である。
（３）．無機微粒子
　無機微粒子は、アルカリ反応性基を表面に有する。
　無機微粒子がアルカリ反応性基を表面に有することで、パターン形成用組成物から得られたパターン膜の未露光部分をアルカリ現像液により現像する際に、未露光部分の無機微粒子が、トリアジン環含有重合体、架橋剤等の他の成分とともにアルカリ現像液により除去されやすくなる。その結果、無機微粒子を含有しているにも関わらず、パターン形成性が良好である。
　アルカリ反応性基を表面に有する無機微粒子（以下、「表面修飾無機微粒子」と称することがある。）は、例えば、未修飾の無機微粒子を核粒子とし、アルカリ反応性基を有する有機ケイ素化合物で核粒子の表面を修飾することにより得られる。
　有機ケイ素化合物は、加水分解によりＳｉ－ＯＨ基を生成する加水分解性基を有する。加水分解性基としては、例えば、ケイ素原子に結合したアルコキシ基、ケイ素原子に結合したアセトキシ基などが挙げられる。有機ケイ素化合物における加水分解基の数としては、特に限定されないが、例えば、１～３個が挙げられる。
　アルカリ反応性基としては、例えば、酸無水物基、エポキシ基、フェノール基などが挙げられる。
　酸無水物基を有する有機ケイ素化合物としては、例えば、３－トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３－トリエトキシシシリルプロピルコハク酸無水物、３－ジメチルメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３－ジメチルエトキシシリルプロピルコハク酸無水物のようなコハク酸無水物、３－トリメトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、３－トリエトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、３－ジメチルメトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、３－ジメチルエトキシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物のようなジカルボン酸無水物、３－トリメトキシシリルプロピルフタル酸無水物、３－トリエトキシシリルプロピルフタル酸無水物、３－ジメチルメトキシシリルプロピルフタル酸無水物、３－ジメチルエトキシシリルプロピルフタル酸無水物のようなフタル酸無水物等のアルコキシシリル基含有アルキルカルボン酸無水物が挙げられる。
　エポキシ基を有する有機ケイ素化合物としては、例えば、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
　核粒子の表面への有機ケイ素化合物の結合量は、特に限定されないが、核粒子に対して、０．１～３０質量％が好ましく、１～１５質量％がより好ましい。
　表面修飾無機微粒子の一次粒子径（透過型電子顕微鏡観察による）は、分散安定性、得られる膜の屈折率および透明性の点から、２０ｎｍ以下が好ましい。
　表面修飾無機微粒子の二次粒子径（動的光散乱法による）は、分散安定性、得られる薄膜の屈折率および透明性の点から、２～１００ｎｍが好ましく、５～５０ｎｍがより好ましく、５～２０ｎｍがより一層好ましい。
　例えば、表面修飾無機微粒子は、核粒子の水分散液または親水性有機溶媒分散液に有機ケイ素化合物を所定量添加し、希塩酸等の触媒により該有機ケイ素化合物を加水分解させて、核粒子の表面に結合させることにより得ることができる。
　上記核粒子の水分散液または親水性有機溶媒分散液は、さらに疎水性有機溶媒へ置換することができる。この置換方法は、蒸留法、限外ろ過法等の通常の方法により行なうことができる。疎水性溶媒の例としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等の環状ケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類が挙げられる。
　上記核粒子の有機溶媒分散液は、任意成分を含有してもよい。特に、リン酸、リン酸誘導体、リン酸系界面活性剤、オキシカルボン酸等を含有させることにより、上記核粒子の分散性等をさらに向上させることができる。リン酸系誘導体としては、例えば、フェニルホスホン酸およびその金属塩が挙げられる。リン酸系界面活性剤としては、例えば、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（ビックケミー社製）、フォスファノール（東邦化学工業（株）製）、ニッコール（日光ケミカルズ（株）製）が挙げられる。オキシカルボン酸としては、例えば、乳酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、リンゴ酸およびグリコール酸が挙げられる。これら任意成分の含有量は、上記核粒子の全金属酸化物に対して、約３０質量％以下とすることが好ましい。
　上記核粒子の有機溶媒分散液の濃度は、その分散安定性を考慮すると、１０～６０質量％が好ましく、３０～５０質量％がより好ましい。
　表面修飾無機微粒子の核粒子となる無機微粒子としては、例えば、Ｂｅ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、ＢｉおよびＣｅからなる群から選ばれる１種または２種以上の金属の酸化物、硫化物または窒化物を含み、特に、これらの金属酸化物を含むことが好適である。なお、無機微粒子は単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
　金属酸化物の具体例としては、例えば、Ａｌ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＢｅＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、ＳｉＯ2、ＷＯ3などが挙げられる。
　また、複数の金属酸化物を複合酸化物として用いることも有効である。複合酸化物とは、微粒子の製造段階で２種以上の無機酸化物を混合させたものである。例えば、ＴｉＯ2とＺｒＯ2との複合酸化物、ＴｉＯ2とＺｒＯ2とＳｎＯ2との複合酸化物、ＺｒＯ2とＳｎＯ2との複合酸化物などが挙げられる。
　さらに、上記金属の化合物であってもよい。例えば、ＺｎＳｂ2Ｏ6、ＢａＴｉＯ3、ＳｒＴｉＯ3、ＳｒＳｎＯ3などが挙げられる。これらの化合物は、単独でまたは２種以上を混合して用いることができ、さらに上記の酸化物と混合して用いてもよい。
　また、表面修飾無機微粒子の核粒子となる無機微粒子は、例えば、第１金属酸化物粒子（Ａ）の表面を第２金属酸化物粒子（Ｂ）で被覆してなる第３金属酸化物粒子（Ｃ）であってもよい。
　第１金属酸化物粒子（Ａ）は、公知の方法、例えば、イオン交換法、解膠法、加水分解法、反応法により製造することができる。イオン交換法の例としては、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、ＢｉおよびＣｅからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸性塩を水素型イオン交換樹脂で処理する方法、または上記金属の塩基性塩を水酸基型陰イオン交換樹脂で処理する方法が挙げられる。解膠法の例としては、上記金属の酸性塩を塩基で中和するか、または上記金属の塩基性塩を酸で中和させることによって得られるゲルを洗浄した後、酸または塩基で解膠する方法が挙げられる。加水分解法の例としては、上記金属のアルコキシドを加水分解する方法、または上記金属の塩基性塩を加熱下加水分解した後、不要の酸を除去する方法が挙げられる。反応法の例としては、上記金属の粉末と酸とを反応させる方法が挙げられる。
　第１金属酸化物粒子（Ａ）は、原子価２～６の金属の酸化物であることが好ましく、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｂａ、Ａｌ、Ｓｒ、ＨｆおよびＣｅからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物であることがより好ましい。金属酸化物の形態としては、例えば、ＴｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｕＯ、ＺｎＯ、Ｙ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｏＯ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＷＯ３、ＰｂＯ、Ｂｉ２Ｏ３、ＢａＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｒＯ、ＨｆＯ２、ＣｅＯ２などが挙げられる。これらの金属酸化物は、１種を単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いることもできる。上記金属酸化物を組み合わせる方法としては、例えば、上記金属酸化物を数種類混合する方法、上記金属酸化物を複合化させる方法、または上記金属酸化物を原子レベルで固溶体化する方法が挙げられる。
　上記金属酸化物の組み合わせとしては、例えば、ＳｎＯ２粒子とＴｉＯ２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ２－ＴｉＯ２複合粒子、ＳｎＯ２粒子とＷＯ３粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ２－ＷＯ３複合粒子、ＳｎＯ２粒子とＺｒＯ２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ２－ＺｒＯ２複合粒子、ＴｉＯ２とＺｒＯ２とＳｎＯ２とが原子レベルで固溶体を形成して得られたＴｉＯ２－ＺｒＯ２－ＳｎＯ２複合粒子などが挙げられる。
　また、第１金属酸化物粒子（Ａ）は、金属成分の組み合わせにより化合物として用いることもでき、例えば、ＺｎＳｂ２Ｏ６、ＩｎＳｂＯ４、ＺｎＳｎＯ３、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、Ｉｎ２Ｏ３－ＺｎＯ、ＢａＴｉＯ３、ＳｒＴｉＯ３、アルミニウムドープ酸化亜鉛などが挙げられる。
　第１金属酸化物粒子（Ａ）がＴｉＯ２を含む場合、当該粒子に含まれるＴｉＯ２としては、アナタース型、ルチル型、アナタース・ルチル混合型、ブルッカイト型のいずれの結晶構造を有するものであってもよいが、これらの中でも、得られる薄膜の屈折率および透明性を考慮すると、ルチル型を含むものが好ましい。
　さらに、上記第１金属酸化物粒子（Ａ）は、その活性（例えば、光触媒性能）を抑制する点から、その表面に酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の金属酸化物からなる薄膜層を形成してもよい。上記薄膜層は、例えば、第１金属酸化物粒子（Ａ）の水分散液に、ジルコニウム化合物を加えて、４０～２００℃で加熱することにより形成することができる。上記ジルコニウム化合物としては、例えば、オキシ塩化ジルコニウム、塩化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、オキシ硝酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニウムアンモニウム、炭酸ジルコニウムカリウム、エチルヘキサン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、オクチル酸ジルコニウム、ジルコニウムエトキシド、ジルコニウム－ｎ－プロポキシド、ジルコニウムイソプロポキシド、ジルコニウム－ｎ－ブトキシド、ジルコニウム－イソプロポキシド、ジルコニウム－ｔ－ブトキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネートなどが挙げられ、オキシ塩化ジルコニウムが好ましい。上記ジルコニア化合物の使用量は、酸化ジルコニウムとして、用いる第１金属酸化物粒子（Ａ）に対して、好ましくは３～５０質量％である。
　第１金属酸化物粒子（Ａ）の一次粒子径（透過型電子顕微鏡観察による）は、分散安定性、得られる薄膜の屈折率および透明性の点から、２～６０ｎｍが好ましく、２～３０ｎｍがより好ましく、２～２０ｎｍが特に好ましい。
　第１金属酸化物粒子（Ａ）の二次粒子径である動的光散乱法粒子径（動的光散乱法による）は、分散安定性、得られる薄膜の屈折率および透明性の点から、５～１００ｎｍが好ましく、５～５０ｎｍがより好ましく、５～３０ｎｍが特に好ましい。
　なお、第１金属酸化物粒子（Ａ）は、例えば、国際公開第２０１３／０８１１３６号に記載の方法に従って合成することができる。
　第２金属酸化物粒子（Ｂ）は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、ＳｂおよびＷからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物粒子であることが好ましい。第２金属酸化物粒子（Ｂ）は、金属酸化物の形態として、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２、ＭｏＯ３、Ｓｂ２Ｏ５、ＷＯ３等を例示することができる。そして、これらの金属酸化物は、１種を単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いることもできる。上記金属酸化物を組み合わせる方法としては、例えば、上記金属酸化物を数種類混合する方法、上記金属酸化物を複合化させる方法、または上記金属酸化物を原子レベルで固溶体化する方法が挙げられる。
　第２金属酸化物粒子（Ｂ）の具体例としては、例えば、ＳｎＯ２粒子とＷＯ３粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ２－ＷＯ３複合粒子、ＳｎＯ２粒子とＳｉＯ２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ２－ＳｉＯ２複合粒子、ＳｎＯ２粒子とＷＯ３粒子とＳｉＯ２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ２－ＷＯ３－ＳｉＯ２複合粒子、ＳｎＯ２粒子とＭｏＯ３粒子とＳｉＯ２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｎＯ２－ＭｏＯ３－ＳｉＯ２複合粒子、Ｓｂ２Ｏ５粒子とＳｉＯ２粒子とがその界面で化学的な結合を生じて複合化されたＳｂ２Ｏ５－ＳｉＯ２複合粒子などが挙げられる。
　第２金属酸化物粒子（Ｂ）として複数種の金属酸化物を使用する場合、含有する金属酸化物の割合（質量比）は特に制限されるものではないが、例えば、ＳｎＯ２－ＳｉＯ２複合粒子では、ＳｉＯ２／ＳｎＯ２の質量比は０．１～５が好ましく、Ｓｂ２Ｏ５－ＳｉＯ２複合粒子では、Ｓｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２の質量比は０．１～５が好ましい。
　第２金属酸化物粒子（Ｂ）は、公知の方法、例えば、イオン交換法、酸化法により製造することができる。イオン交換法の例としては、上記金属の酸性塩を水素型イオン交換樹脂で処理する方法で処理する方法が挙げられる。酸化法の例としては、上記金属または上記金属の酸化物の粉末と過酸化水素とを反応させる方法が挙げられる。
　第２金属酸化物粒子（Ｂ）の一次粒子径（透過型電子顕微鏡観察による）は、分散安定性、得られる薄膜の屈折率および透明性の点から、５ｎｍ以下が好ましく、１～５ｎｍがより好ましい。
　第３金属酸化物粒子（Ｃ）は、第１金属酸化物粒子（Ａ）の表面を第２金属酸化物粒子（Ｂ）で被覆して得られる金属酸化物粒子である。その製造方法としては、例えば、下記の第１方法および第２方法が挙げられる。
　第１方法は、第１金属酸化物粒子（Ａ）を含有する水分散液と、第２金属酸化物粒子（Ｂ）を含有する水分散液とを、（Ｂ）／（Ａ）で表される質量比（金属酸化物換算値）が０．０５～０．５となるように混合した後、その水分散液を加熱する方法である。例えば、第１金属酸化物粒子（Ａ）を含有する水分散液と、第２金属酸化物粒子（Ｂ）として、Ｓｂ２Ｏ５－ＳｉＯ２複合粒子（Ｓｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２＝０．１～５）を含有する水分散液とを、上記質量比が０．０５～０．５となるように混合し、混合により得られた水分散液を７０～３５０℃で加熱することにより、第１金属酸化物粒子（Ａ）の表面が、Ｓｂ２Ｏ５－ＳｉＯ２複合粒子で被覆された第３金属酸化物粒子（Ｃ）の水分散液が得られる。
　第２方法は、第１金属酸化物粒子（Ａ）を含有する水分散液と、第２金属酸化物粒子（Ｂ）として、水溶性の酸化スズアルカリ塩と酸化ケイ素アルカリ塩とを、ＳｎＯ２／ＳｉＯ２で表される質量比（金属酸化物換算値）が０．１～５となるように混合した後、陽イオン交換を行って、アルカリ金属イオンを除去して得たＳｎＯ２－ＳｉＯ２複合粒子の水分散液とを、（Ｂ）／（Ａ）で表される質量比（金属酸化物換算値）が０．０５～０．５となるように混合した後、混合により得られた水分散液を加熱する方法である。この第２方法に用いられる水溶性アルカリ塩の水溶液は、ナトリウム塩の水溶液を好ましく用いることができる。例えば、第１金属酸化物粒子（Ａ）を含有する水分散液と、第２金属酸化物粒子（Ｂ）として、スズ酸ナトリウムと珪酸ナトリウムの水溶液を混合した後、陽イオン交換を行って得られるＳｎＯ２－ＳｉＯ２複合粒子の水分散液とを、上記質量比が０．０５～０．５となるように混合し、当該水分散液を７０～３５０℃で加熱することにより、第１金属酸化物粒子（Ａ）を核として、その表面をＳｎＯ２－ＳｉＯ２複合粒子からなる第２金属酸化物粒子（Ｂ）で被覆された第３金属酸化物粒子（Ｃ）の水分散液が得られる。
　上記第１金属酸化物粒子（Ａ）と上記第２金属酸化物粒子（Ｂ）とを混合する際の温度は、通常１～１００℃であり、２０～６０℃が好ましい。そして混合後の加熱温度は、７０～３５０℃が好ましく、７０～１５０℃がより好ましい。また、混合後の加熱時間は、通常１０分間～５時間であり、３０分間～４時間が好ましい。
　上記第３金属酸化物粒子（Ｃ）の水分散液は、任意の成分を含有してもよい。特に、オキシカルボン酸類を含有させることにより、第３金属酸化物粒子（Ｃ）の分散性等の性能をさらに向上させることができる。上記オキシカルボン酸としては、例えば、乳酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、リンゴ酸およびグリコール酸が挙げられる。上記オキシカルボン酸類の含有量は、第３金属酸化物粒子（Ｃ）の全金属酸化物に対して、約３０質量％以下とすることが好ましい。
　また、第3金属酸化物粒子(C)の分散液は、アルカリ成分を含有してもよい。上記アルカリ成分としては、例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ等のアルカリ金属水酸化物；アンモニア；エチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ－プロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、ジエチルアミン、ジ－ｎ－プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ－ｎ－ブチルアミン、ジイソブチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリアミルアミン（トリ－ｎ－ペンチルアミン）、トリ－ｎ－ヘキシルアミン、トリ－ｎ－オクチルアミン、ジメチルプロピルアミン、ジメチルブチルアミン、ジメチルヘキシルアミン等の第一級、第二級、及び第三級アルキルアミン；ベンジルアミン、ジメチルベンジルアミン等のアラルキルアミン；ピペリジン等の脂環式アミン；モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩が挙げられる。これらは１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記アルカリ成分の含有量は、第３金属酸化物粒子（Ｃ）の全金属酸化物に対して、約３０質量％以下とすることが好ましい。また、これらのアルカリ成分は、上記オキシカルボン酸と併用することができる。
　第３金属酸化物粒子（Ｃ）の水分散液の濃度をさらに高めたいときは、最大約６５質量％まで常法により濃縮することができる。その方法としては、例えば、蒸発法、限外ろ過法が挙げられる。また、この水分散液のｐＨを調整したいときには、上記アルカリ金属水酸化物、アミン、第四級アンモニウム塩、オキシカルボン酸等を加えればよい。
　第３金属酸化物粒子（Ｃ）の溶媒分散液の全金属酸化物濃度は、好ましくは１０～６０質量％であり、より好ましくは２０～５０質量％である。
　第３金属酸化物粒子（Ｃ）の水分散液に対して、その水媒体を親水性有機溶媒で置換することにより、第３金属酸化物粒子（Ｃ）の有機溶媒分散液が得られる。この置換は、蒸留法、限外ろ過法等の通常の方法により行うことができる。上記親水性有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールおよび１－プロパノール等の低級アルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミドおよびＮ，Ｎ’－ジメチルアセトアミド等の直鎖アミド類、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等の環状アミド類、エチルセロソルブおよびエチレングリコール等のグリコール類が挙げられる。
　第３金属酸化物粒子（Ｃ）の一次粒子径（透過型電子顕微鏡観察による）は、分散安定性、得られる膜の屈折率および透明性の点から、２０ｎｍ以下が好ましい。
　第３金属酸化物粒子（Ｃ）の二次粒子径である動的光散乱法粒子径（動的光散乱法による）は、分散安定性、得られる薄膜の屈折率および透明性の点から、２～１００ｎｍが好ましい。
　表面修飾無機微粒子の屈折率としては、特に限定されないが、得られる膜の屈折率を低下させない点から、１．６～２．６が好ましく、１．８～２．６がより好ましい。無機微粒子の屈折率は、例えば、屈折率が既知の溶媒または樹脂に分散した表面修飾無機微粒子の液体をアッベ屈折計にて屈折率を測定し、その値から外挿する方法、もしくは表面修飾無機微粒子を含有した膜や硬化物をアッベ屈折計や分光エリプソメトリーで屈折率を測定し、その値から外挿する方法により測定することができる。
　組成物における表面修飾無機微粒子の含有量としては、得られる最終的な組成物において、その分散性が損なわれない範囲であればよく、作製する膜の目的とする屈折率、透過率、耐熱性等に合わせてコントロールすることが可能である。例えば、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して、０．１～１，０００質量部の範囲で加えることができ、好ましくは１～５００質量部であり、膜質を保持し、安定した屈折率および耐溶剤性を得るという観点から、より好ましくは１０～３００質量部である。
（４）有機溶媒
　有機溶媒の具体例としては、トルエン、ｐ－キシレン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、エチルベンゼン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１－オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリメチレングリコール、１－メトキシ－２－ブタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、γ－ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ－ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ－ブチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、アリルアルコール、ｎ－プロパノール、２－メチル－２－ブタノール、イソブタノール、ｎ－ブタノール、２－メチル－１－ブタノール、１－ペンタノール、２－メチル－１－ペンタノール、２－エチルヘキサノール、１－メトキシ－２－プロパノール、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ－シクロヘキシル－２－ピロリジノン等が挙げられ、これらは単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。
　この際、組成物中の固形分濃度は、保存安定性に影響を与えない範囲であれば特に限定されず、目的とする膜の厚みに応じて適宜設定すればよい。具体的には、溶解性および保存安定性の観点から、固形分濃度０．１～５０質量％が好ましく、より好ましくは０．１～４０質量％である。
（５）開始剤
　本発明の組成物には、それぞれの架橋剤に応じた開始剤を配合することもできる。なお、上述のとおり、架橋剤として多官能エポキシ化合物および／または多官能（メタ）アクリル化合物を用いる場合、開始剤を使用せずとも光硬化が進行して硬化膜を与えるものであるが、その場合に開始剤を使用しても差し支えない。
　多官能エポキシ化合物を架橋剤として用いる場合には、光酸発生剤や光塩基発生剤を用いることができる。
　光酸発生剤としては、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩やヨードニウム塩などのオニウム塩誘導体を用いることができる。
　その具体例としては、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、４－メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－メチルフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等のジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（４－メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’－ビス（ジフェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４’－ビス（ジフェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロホスフェート、４，４’－ビス［ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４’－ビス［ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド－ビス－ヘキサフルオロホスフェート、４－［４’－（ベンゾイル）フェニルチオ］フェニル－ジ（４－フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－［４’－（ベンゾイル）フェニルチオ］フェニル－ビス（４－フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート等のトリアリールスルホニウム塩等が挙げられる。
　これらのオニウム塩は市販品を用いてもよく、その具体例としては、サンエイドＳＩ－６０、ＳＩ－８０、ＳＩ－１００、ＳＩ－６０Ｌ、ＳＩ－８０Ｌ、ＳＩ－１００Ｌ、ＳＩ－Ｌ１４５、ＳＩ－Ｌ１５０、ＳＩ－Ｌ１６０、ＳＩ－Ｌ１１０、ＳＩ－Ｌ１４７（以上、三新化学工業（株）製）、ＵＶＩ－６９５０、ＵＶＩ－６９７０、ＵＶＩ－６９７４、ＵＶＩ－６９９０、ＵＶＩ－６９９２（以上、ユニオンカーバイド社製）、ＣＰＩ－１００Ｐ、ＣＰＩ－１００Ａ、ＣＰＩ－２００Ｋ、ＣＰＩ－２００Ｓ（以上、サンアプロ（株）製）、アデカオプトマーＳＰ－１５０、ＳＰ－１５１、ＳＰ－１７０、ＳＰ－１７１（以上、旭電化工業（株）製）、イルガキュア　２６１（ＢＡＳＦ社製）、ＣＩ－２４８１、ＣＩ－２６２４、ＣＩ－２６３９、ＣＩ－２０６４（以上、日本曹達（株）製）、ＣＤ－１０１０、ＣＤ－１０１１、ＣＤ－１０１２（以上、サートマー社製）、ＤＳ－１００、ＤＳ－１０１、ＤＡＭ－１０１、ＤＡＭ－１０２、ＤＡＭ－１０５、ＤＡＭ－２０１、ＤＳＭ－３０１、ＮＡＩ－１００、ＮＡＩ－１０１、ＮＡＩ－１０５、ＮＡＩ－１０６、ＳＩ－１００、ＳＩ－１０１、ＳＩ－１０５、ＳＩ－１０６、ＰＩ－１０５、ＮＤＩ－１０５、ＢＥＮＺＯＩＮ　ＴＯＳＹＬＡＴＥ、ＭＢＺ－１０１、ＭＢＺ－３０１、ＰＹＲ－１００、ＰＹＲ－２００、ＤＮＢ－１０１、ＮＢ－１０１、ＮＢ－２０１、ＢＢＩ－１０１、ＢＢＩ－１０２、ＢＢＩ－１０３、ＢＢＩ－１０９（以上、ミドリ化学（株）製）、ＰＣＩ－０６１Ｔ、ＰＣＩ－０６２Ｔ、ＰＣＩ－０２０Ｔ、ＰＣＩ－０２２Ｔ（以上、日本化薬（株）製）、ＩＢＰＦ、ＩＢＣＦ（三和ケミカル（株）製）等を挙げることができる。
　一方、光塩基発生剤としても、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、Ｃｏ－アミン錯体系、オキシムカルボン酸エステル系、カルバミン酸エステル系、第四級アンモニウム塩系光塩基発生剤などを用いることができる。
　その具体例としては、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２’－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２’，４’－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン等が挙げられる。
　また、光塩基発生剤は市販品を用いてもよく、その具体例としては、ＴＰＳ－ＯＨ、ＮＢＣ－１０１、ＡＮＣ－１０１（いずれも製品名、みどり化学（株）製）等が挙げられる。
　光酸または塩基発生剤を用いる場合、多官能エポキシ化合物１００質量部に対して、０．１～１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１～１０質量部の範囲である。
　なお、必要に応じてエポキシ樹脂硬化剤を、多官能エポキシ化合物１００質量部に対して、１～１００質量部の量で配合してもよい。
　一方、多官能（メタ）アクリル化合物を用いる場合には、光ラジカル重合開始剤を用いることができる。
　光ラジカル重合開始剤としても、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、アミロキシムエステル、オキシムエステル類、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
　特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（１５９頁、発行人：高薄一弘、発行所：（株）技術情報協会、１９９１年発行）に記載されている。
　市販の光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ＢＡＳＦ社製　商品名：イルガキュア　１２７、１８４、３６９、３７９、３７９ＥＧ、６５１、５００、７５４、８１９、９０３、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４－６１、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３、ＯＸＥ０４、ダロキュア　１１１６、１１７３、ＭＢＦ、ＢＡＳＦ社製　商品名：ルシリン　ＴＰＯ、ＵＣＢ社製　商品名：エベクリル　Ｐ３６、フラテツリ・ランベルティ社製　商品名：エザキュアー　ＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等が挙げられる。
　光ラジカル重合開始剤を用いる場合、多官能（メタ）アクリレート化合物１００質量部に対して、０．１～２００質量部の範囲で使用することが好ましく、１～１５０質量部の範囲で使用することがより好ましい。
（６）その他の添加剤
　本発明の組成物には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、トリアジン環含有重合体、架橋剤および溶媒以外のその他の成分、例えば、レベリング剤、界面活性剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、酸化防止剤、防錆剤、離型剤、可塑剤、消泡剤、増粘剤、分散剤、帯電防止剤、沈降防止剤、顔料、染料、紫外線吸収剤、光安定剤などの添加剤が含まれていてもよい。
　界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類；ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類；ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類；ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤、商品名エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製（旧（株）ジェムコ製））、商品名メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ－０８、Ｒ－３０、Ｒ－４０、Ｒ－４１、Ｆ－１１４、Ｆ－４１０、Ｆ－４３０、Ｆ－４４４、Ｆ－４７７、Ｆ－５５２、Ｆ－５５３、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６１、Ｆ－５６２、Ｆ－５６３、ＲＳ－７５、ＲＳ－７２－Ｋ、ＲＳ－７６－Ｅ、ＲＳ－７６ＮＳ、ＲＳ－７７（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、商品名アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳ－３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（ＡＧＣ（株）製）等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０２、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３３３、ＢＹＫ－３７０、ＢＹＫ－３７５、ＢＹＫ－３７８（ビックケミー・ジャパン（株）製）等が挙げられる。
　これらの界面活性剤は、単独で使用しても、２種以上組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の使用量は、トリアジン環含有重合体１００質量部に対して０．０００１～５質量部が好ましく、０．００１～１質量部がより好ましく、０．０１～０．５質量部がより一層好ましい。
（７）パターンの作製方法、及び硬化物
　本発明の組成物を用いたパターンの作製方法では、基材に塗布し、その後、必要に応じて加熱して溶剤を蒸発させた後、加熱または光照射して所望の硬化膜とすることができ、光照射にて硬化膜を作製するにあたって、所望のパターンが形成されたマスクを介して光照射した後、現像液にて現像することで微細パターンを形成することができる。また、本発明のパターン形成用組成物を利用すると硬化物を得ることができる。
　この際、組成物の塗布方法は任意であり、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、ジェットディスペンサー法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の方法を採用できる。
　また、基材としては、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が成膜されたガラス、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が成膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材等が挙げられ、可撓性を有するフレキシブル基材を用いることもできる。
　焼成温度は、溶媒を蒸発させる目的では特に限定されず、例えば７０～４００℃で行うことができる。
　焼成時間は、溶媒が蒸発する時間であればよく、例えば、１～６００秒が採用できる。
　焼成方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレートやオーブンを用いて、大気、窒素等の不活性ガス、真空中等の適切な雰囲気下で蒸発させればよい。
　焼成温度および焼成時間は、目的とする電子デバイスのプロセス工程に適合した条件を選択すればよく、得られる膜の物性値が電子デバイスの要求特性に適合するような焼成条件を選択すればよい。
　光照射する場合の条件も特に限定されるものではなく、用いるトリアジン環含有重合体および架橋剤に応じて、適宜な照射エネルギーおよび時間を採用すればよい。
　露光後の現像は、例えば有機溶媒現像液または水性現像液中に露光樹脂を浸漬して行うことができる。
　有機溶媒現像液の具体例としては、ＰＧＭＥ、ＰＧＭＥＡ、ＰＧＭＥとＰＧＭＥＡの混合溶媒、ＮＭＰ、γ－ブチロラクトン、ＤＭＳＯ等が挙げられ、一方、水性現像液の具体例としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリ水溶液が挙げられる。
　なお、本発明の組成物には、さらにオキシラン環含有化合物と、光硬化型触媒とを配合してもよい。
　オキシラン環含有化合物としては、分子内にオキシラン環を１個以上、好ましくは２個以上有するものが挙げられ、その具体例としては、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、エポキシ変性ポリブタジエン樹脂、オキセタン化合物等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
　オキシラン環含有化合物の配合量は、特に限定されるものではないが、トリアジン環含有重合体１００質量部に対し、１０～４００質量部程度とすることができる。
　光硬化型触媒としては、光カチオン発生剤が挙げられる。光カチオン発生剤の具体例としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のトリアリールスルホニウム塩；トリアリールセレニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアリールヨードニウム塩などが挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
　光硬化型触媒の配合量は、特に限定されるものではないが、トリアジン環含有重合体１００質量部に対し、０．１～１００質量部程度とすることができる。
　これらオキシラン環含有化合物および光硬化型触媒は、任意の順序で本発明の組成物を構成する各成分と配合することができる。また、その際、上述した有機溶媒を用いてよい。
　これらを含む組成物も上述した手法によって塗布した後、例えば、紫外光等を１～４０００ｍｊ／ｃｍ2にて光照射して硬化させることができる。光照射は、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ、レーザー光等の公知の各種手法を用いて行えばよい。
　なお、必要に応じ、露光前後に１１０～１８０℃程度で加熱してもよい。
　露光後の現像は、上述した有機溶媒現像液または水性現像液中に露光樹脂を浸漬して行うことができる。
　以上のようにして得られた硬化物は、高耐熱性、高屈折率、および低体積収縮を達成できるため、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、タッチパネル、光半導体（ＬＥＤ）素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、有機薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、レンズ、プリズムカメラ、双眼鏡、顕微鏡、半導体露光装置などを作製する際の一部材など、電子デバイスや光学材料分野に好適に利用できる。
　以下、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例で用いた各測定装置は以下のとおりである。
［１Ｈ－ＮＭＲ］
　装置：Ｂｒｕｋｅｒ　ＮＭＲ　Ｓｙｓｔｅｍ　ＡＶＡＮＣＥ　ＩＩＩ　ＨＤ　５００（５００ＭＨｚ）
　測定溶媒：重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ－ｄ６）
　基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）（δ０．０ｐｐｍ）
［ＧＰＣ］
　装置：東ソー（株）製　ＨＬＣ－８２００　ＧＰＣ
　カラム：東ソーＴＳＫｇｅｌ　α－３０００　＋東ソーＴＳＫｇｅｌ　α－４０００
　カラム温度：４０℃
　溶媒：ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）
　検出器：ＵＶ（２７１ｎｍ）
　検量線：標準ポリスチレン
［エリプソメーター］
　装置：ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製　多入射角分光エリプソメーターＶＡＳＥ
［分光測色計］
　装置：コニカミノルタ製　ＣＭ－３７００Ａ
［濁度計］
　装置：日本電色工業株式会社製　ＨＡＺＥ　ＭＥＴＥＲ　ＮＤＨ　５０００
［光学顕微鏡］
　装置：オリンパス光学工業株式会社製　ＯＬＹＭＰＵＳ　ＢＸ５１
［電子顕微鏡］
　装置：日本電子製　ＪＳＭ－７４００Ｆ
［露光］
　装置：ＳＵＳＳ社製マスクアライナーＭＡ６
［現像］
　装置：アクテス京三（株）製　小型現像装置　ＡＤＥ－３０００Ｓ
［１］トリアジン環含有重合体の合成
［合成例１］高分子化合物［４］の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　５，０００ｍＬ四口フラスコに、１，３－フェニレンジアミン［２］（２２８．７０ｇ、２．１１５ｍｏｌ、Ａｍｉｎｏ－Ｃｈｅｍ社製）、およびジメチルアセトアミド３４６４．７２ｇ（ＤＭＡｃ、関東化学（株）製）を加え、窒素置換した後、撹拌して１，３－フェニレンジアミン［２］をＤＭＡｃに溶解させた。その後、エタノール－ドライアイス浴により－１０℃まで冷却し、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン［１］（３９０．００ｇ、２．１１５ｍｏｌ、東京化成工業（株）製）を内温が０℃以上にならないよう確認しながら投入した。３０分間撹拌後、１１０～１５０℃に設定したオイルバスへ反応容器ごと移し、内温が８５℃±５℃となるまで反応溶液を昇温させた。１時間撹拌後、ＤＭＡｃ６４９．６４ｇ（関東化学（株）製）に溶解させた３－アミノフェノール［３］（２７６．９５ｇ、２．５３８ｍｏｌ、東京化成工業（株）製）を滴下し、３時間撹拌した。その後、２－アミノエタノール（３８７．５３ｇ、東京化成工業（株）製）を滴下し、３０分撹拌後、撹拌を停止した。反応溶液に、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ、２，２４６ｇ）、酢酸アンモニウム（２，５２６ｇ）およびイオン交換水（２，５２６ｇ）を加え、３０分撹拌した。撹拌停止後、溶液を分液ロートに移し、有機層と水層に分け、有機層を回収した。回収した有機層をメタノール（８，４２１ｇ）およびイオン交換水（５，６１４ｇ）の混合液に滴下し、再沈殿させた。得られた沈殿物をろ別し、減圧乾燥機で１２０℃、８時間乾燥し、目的とする高分子化合物［４］（以下、Ｐ－１という）５３６．２ｇを得た。
　化合物Ｐ－１のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは５，９７０、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは２．５であった。化合物Ｐ－１の１Ｈ－ＮＭＲスペクトルの測定結果を図１に示す。
（１）溶解性の確認
　得られた化合物Ｐ－１（１０．０ｇ）を、シクロペンタノン（以下、ＣＰＮと略す）（１５．０ｇ）に溶解させたところ溶解し、４０質量％の均一なワニス（以下、Ｐ－１溶液という）が得られた。
［２］表面処理無機微粒子の調製
　以下の製造例１～４で実施した物性測定の方法および測定装置を以下に示す。
（１）水分量：カールフィッシャー滴定法にて求めた。
（２）一次粒子径：分散液を銅メッシュ上で乾燥させ、透過型電子顕微鏡にて観察し、１００個の粒子径を測定し、その平均値を一次粒子径として求めた。
（３）比重：浮き秤法にて求めた（２０℃）。
（４）粘度：オストワルド粘度計にて求めた（２０℃）。
（５）動的光散乱法による粒子径：Ｍａｌｖｅｒｎ製、Ｚｅｔａｓｉｚｅｒ　Ｎａｎｏで測定して求めた。
（６）固形分濃度：５００℃で焼成した際の残存固形物より求めた。
（７）有機シラン化合物の結合量：変性金属酸化物コロイド粒子に結合した有機シラン化合物の量は、元素分析により求めた。
　装置：ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ製、ＳｅｒｉｅｓＩＩ　ＣＨＮＳ／Ｏ　Ａｎａｌｙｚｅｒ　２４００
製造例１：第１金属酸化物粒子（Ａ１）の製造
　１リットルの容器に純水１２６．２ｇを入れ、メタスズ酸１７．８ｇ（ＳｎＯ２換算で１５ｇ含有、昭和化工（株）製）、チタンテトライソプロポキシド２８４ｇ（ＴｉＯ２換算で８０ｇ含有、日本曹達（株）製Ａ－１）、シュウ酸二水和物９８（シュウ酸換算で７０ｇ含有、宇部興産（株）製）、３５質量％水酸化テトラエチルアンモニウム水溶液４３８ｇ（セイケムジャパン製）を攪拌下で添加した。得られた混合溶液は、シュウ酸／チタン原子のモル比０．７８、水酸化テトラエチルアンモニウム／チタン原子のモル比１．０４であった。該混合溶液９５０ｇを、８０℃で２時間保持し、さらに５８０Ｔｏｒｒまで減圧して２時間保持し、チタン混合溶液を調製した。調製後のチタン混合溶液のｐＨは４．７、電導度は２７．２ｍＳ／ｃｍ、金属酸化物濃度１０．０質量％であった。３リットルのガラスライニングされたオートクレーブ容器に上記チタン混合溶液９５０ｇ、純水９５０ｇを投入し、１４０℃で５時間水熱処理を行った。室温に冷却後、取り出された水熱処理後の溶液は淡い乳白色の酸化チタン含有コロイド粒子の水分散液であった。得られた分散液は、ｐＨ３．９、電導度１９．７ｍＳ／ｃｍ、ＴｉＯ２濃度４．２質量％、水酸化テトラエチルアンモニウム濃度８．０質量％、シュウ酸濃度３．７質量％、動的光散乱法粒子径１６ｎｍ、透過型電子顕微鏡観察では、一次粒子径４～１０ｎｍの楕円粒子が観察された。得られた分散液を１１０℃で乾燥させた粉末のＸ線回折分析を行い、ルチル型結晶であることが確認された。得られた酸化チタン含有コロイド粒子を核粒子（Ａ）とした。次いで、オキシ塩化ジルコニウム（ＺｒＯ２として２１．１９質量％含有、第一稀元素化学工業（株）製）７０．８ｇを純水４２９．２ｇで希釈してオキシ塩化ジルコニウム水溶液５００ｇ（ＺｒＯ２として３．０質量％含有、）を別途調製し、これに核粒子（Ａ）の分散液（水分散ゾル）１，０００ｇを攪拌下で添加した。次いで、９５℃に加熱して加水分解を行って、表面に酸化ジルコニウムの薄膜層が形成された酸化チタン含有核粒子（Ａ１）（以下、第１金属酸化物粒子（Ａ１））の水分散ゾルが得られた。得られた水分散ゾルは、ｐＨ１．２、全金属酸化物濃度２０質量％であり、透過型電子顕微鏡観察では、一次粒子径４～１０ｎｍのコロイド粒子が観察された。
製造例２：第２金属酸化物粒子（Ｂ１）の製造
　ＪＩＳ３号珪酸ナトリウム（ＳｉＯ２として２９．８質量％含有、富士化学（株）製）７７．２ｇを純水１，２８２ｇに溶解し、次いで、スズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ３・Ｈ２Ｏ（ＳｎＯ２として５５．１質量％含有、昭和化工（株）製）２０．９ｇを溶解した。得られた水溶液を水素型陽イオン交換樹脂（アンバーライト（登録商標）ＩＲ－１２０Ｂ）を充填したカラムに通すことにより、酸性の二酸化珪素－酸化第二スズ複合コロイド粒子（Ｂ１）の水分散ゾル（ｐＨ２．４、ＳｎＯ２として０．４４質量％、ＳｉＯ２として０．８７質量％を含有、ＳｉＯ２／ＳｎＯ２質量比２．０）２，６３４ｇを得た。次いで、得られた水分散ゾルにジイソプロピルアミンを６．９ｇ添加した。得られたゾルは、アルカリ性の二酸化珪素－酸化第二スズ複合コロイド粒子（Ｂ１）（以下、第２金属酸化物粒子（Ｂ１））の水分散ゾルであり、ｐＨ８．０であった。該水分散ゾルでは、透過型電子顕微鏡により４ｎｍ以下の一次粒子径のコロイド粒子が観察された。
製造例３：第３金属酸化物粒子（Ｃ１）の製造
　製造例１で得られた第１金属酸化物粒子（Ａ１）の水分散ゾル１，４５５ｇを製造例２で調製した第２金属酸化物粒子（Ｂ１）の水分散ゾル２，６３４ｇに撹拌下で添加した。次いで、アニオン交換樹脂（アンバーライト（登録商標）ＩＲＡ－４１０、オルガノ（株）製）５００ミリリットルを詰めたカラムに通液した。次いで、通液後の水分散ゾルを９５℃で３時間加熱した後、水素型陽イオン交換樹脂（アンバーライト（登録商標）ＩＲ－１２０Ｂ）を充填したカラムに通液し、トリ－ｎ－ペンチルアミンで安定化させ、限外ろ過膜法で濃縮し、第１金属酸化物粒子（Ａ１）と第２金属酸化物粒子（Ｂ１）との間に酸化ジルコニウムからなる中間薄膜層が形成されている二酸化珪素－酸化第二スズ複合酸化物被覆酸化チタン含有コロイド粒子（Ｃ１）（以下、第３金属酸化物粒子（Ｃ１））の水分散ゾルを得た。得られた水分散ゾルの全金属酸化物濃度は２０質量％であり、このゾルの透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径は４～１０ｎｍであった。次いで、得られた水分散ゾルの分散媒をロータリーエバポレーターを用いてメタノールに置換して、第３金属酸化物粒子（Ｃ１）のメタノール分散ゾルを得た。このメタノール分散ゾルは、全金属酸化物濃度３０．０質量％、粘度１．５ｍＰａ・ｓ、動的光散乱法による粒子径１８ｎｍ、水分１．０質量％であった。
製造例４：表面修飾無機微粒子（Ｄ１）の製造
　製造例３で得られた第３金属酸化物粒子（Ｃ１）のメタノール分散ゾル５３３ｇに３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名：ＫＢＭ－４０３）を１２．６ｇ添加し、７０℃で還流加熱を５時間行った。３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランが表面に結合した表面修飾無機微粒子（Ｄ１）（以下、表面修飾無機微粒子（Ｄ１））のメタノール分散液を得た。次いで、エバポレータを用いて８０Ｔｏｒｒでプロピレングリコールモノメチルエーテルを添加しながらメタノールを留去することによりメタノールをプロピレングリコールモノメチルエーテルに置換して、表面修飾無機微粒子（Ｄ１）のプロピレングリコールモノメチルエーテル分散液を５３０ｇ得た。得られた分散液（以下、D－１溶液という）は、比重１．２１０、粘度３．８ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物濃度３０．３質量％、透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径は４～１０ｎｍ、動的光散乱法粒子径は１５ｎｍであった。得られた表面修飾無機微粒子（Ｄ１）において、第３金属酸化物粒子（Ｃ１）の表面に結合した３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランは、第３金属酸化物粒子（Ｃ１）の全金属酸化物に対して４．７質量％であった。
［２］パターン形成用組成物の調製およびパターンの作製
［実施例１－１］
　溶解性の確認にて得られたＰ－１溶液（５．１１６ｇ）、架橋剤として８０質量％プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）溶液のＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ（新中村化学社製）６．７５４ｇ、無機微粒子として３０．３質量％のＤ－１溶液６．７５４ｇ、光ラジカル発生剤として１０質量％ＣＰＮ溶液のＯＸＥ－０４（ＢＡＳＦ社製）０．６１４ｇ、界面活性剤として１０質量％ＰＧＭＥ溶液のメガファックＲ－４０（ＤＩＣ（株）製）０．０４１ｇ、およびＰＧＭＥ（０．１７３ｇ）を配合して目視で溶解したことを確認し、固形分４０質量％のワニスを調製した（以下、ＳＰ－１溶液という）。
（１）硬化膜の物性の確認
［実施例２－１］
　このＳＰ－１溶液を５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．７ｍｍの無アルカリガラス基板上に、スピンコーターにて２００ｒｐｍで５秒間、５００ｒｐｍで３０秒間スピンコートし、ホットプレートを用いて１００℃で５分間仮乾燥後、ＳＵＳＳ社製マスクアライナーＭＡ６を用いて、３６５ｎｍの波長の光にて、１５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量を照射した。
　ＵＶ照射後、２．３８％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（以下、ＴＭＡＨと略す）溶液を用いて４０秒間現像し、その後３０秒間超純水でリンスした。リンス後、ホットプレートを用いて１００℃で１０分間乾燥させ、硬化膜を得た。
　上記で得られた硬化膜について、屈折率、膜厚、ｂ＊、４００～８００ｎｍの透過率、ＨＡＺＥを測定した。結果を表１に示す。なお、透過率については４００～８００ｎｍの平均透過率を算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
　これらの結果より、ＳＰ－１溶液から得られた硬化膜は、アルカリ性水溶液洗浄後においても、高い屈折率を維持しつつ、高い透過率且つ低いＨＡＺＥ値を維持するという優れた効果を有することがわかる。
（２）パターニング膜の作製
［実施例３－１］
　実施例１－１で調製したＳＰ－１溶液を５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．７ｍｍの無アルカリガラス基板上に、スピンコーターにて２００ｒｐｍで５秒間、５００ｒｐｍで３０秒間スピンコートし、ホットプレートを用いて１００℃で５分間仮乾燥後、ＳＵＳＳ社製マスクアライナーＭＡ６を用いて、１５μｍ間隔で配置された直径１５μｍの円形の開口部と、開口部以外の残部にあたるスペース（紫外線遮蔽部）を設けたマスクを塗布膜上に設置し、３６５ｎｍの波長の光にて、１５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量を照射した。
　ＵＶ照射後、２．３８％のＴＭＡＨ溶液を用いて４０秒間現像し、その後３０秒間超純水でリンスした。リンス後、ホットプレートを用いて８５℃で１０分間乾燥させ、パターニング膜を得た。
　得られたパターニング膜の光学顕微鏡写真および電子顕微鏡写真を図２，３に示す。
［実施例３－２］
　用いたマスクをライン＆スペースと呼ばれる幅１０μｍの直線状の開口部と幅１０μｍの直線状のスペース（紫外線遮蔽部）を設けたマスクに変更した以外は、実施例３－１と同様にして、パターニング膜を得た。
　得られたパターニング膜の光学顕微鏡写真を図４に示す。
［実施例３－３］
　用いたマスクをライン＆スペースと呼ばれる幅１５μｍの直線状の開口部と幅１５μｍの直線状のスペース（紫外線遮蔽部）を設けたマスクに変更した以外は、実施例３－１と同様にして、パターニング膜を得た。
　得られたパターニング膜の光学顕微鏡写真を図５に示す。
　これらの結果より、ＳＰ－１溶液から得られた硬化膜は、優れたパターニング特性を有しているということがわかる。

Claims (14)

  1. 　下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含むとともに、少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、そのトリアジン環末端の少なくとも一部が水酸基置換アリールアミノ基で封止されているトリアジン環含有重合体と、架橋剤と、アルカリ反応性基を表面に有する無機微粒子と、有機溶媒とを含むことを特徴とするパターン形成用組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式（１）中、ＲおよびＲ’は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表し、Ｑは、環構造を有する炭素数３～３０の２価の基を表す。＊は結合手を表す。）
  2. 　前記式（１）中のＱが、式（２）～（１３）及び式（１０２）～（１１５）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す、請求項１に記載のパターン形成用組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     〔式（２）～式（１３）中、Ｒ１～Ｒ９２は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
    　Ｒ９３およびＲ９４は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表し、
    　Ｗ１およびＷ２は、互いに独立して、単結合、ＣＲ９５Ｒ９６（Ｒ９５およびＲ９６は、互いに独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）、または炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、またはＮＲ９７（Ｒ９７は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基またはフェニル基を表す。）を表し、
    　Ｘ１およびＸ２は、互いに独立して、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または式（１４）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式（１４）中、Ｒ９８～Ｒ１０１は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
    　Ｙ１およびＹ２は、互いに独立して、単結合または炭素数１～１０のアルキレン基を表す。）で示される基を表す。
    　＊は結合手を表す。〕
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式（１０２）～式（１１５）中、Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、分岐構造を有していてもよい炭素数１～５のアルキレン基を表す。＊は結合手を表す。）
  3. 　前記水酸基置換アリールアミノ基が、式（１５）で示される請求項１に記載のパターン形成用組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式（１５）中、＊は結合手を表す。）
  4. 　前記水酸基置換アリールアミノ基が、式（１６）で示される請求項３に記載のパターン形成用組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式（１６）中、＊は結合手を表す。）
  5. 　前記式（１）中のＱが、式（１７）で示される請求項１に記載のパターン形成用組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     （式（１７）中、＊は結合手を表す。）
  6. 　前記架橋剤が、多官能（メタ）アクリル化合物である請求項１に記載のパターン形成用組成物。
  7. 　前記無機微粒子が、金属酸化物、金属硫黄物または金属窒化物を含む請求項１に記載のパターン形成用組成物。
  8. 　前記アルカリ反応性基が、酸無水物基またはエポキシ基である請求項１に記載のパターン形成用組成物。
  9. 　有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し層用である請求項１に記載のパターン形成用組成物。
  10. 　請求項１～９のいずれかに記載のパターン形成用組成物から作製された硬化物。
  11. 　基材と、前記基材上に形成された請求項１０に記載の硬化物とを備える電子デバイス。
  12. 　有機エレクトロルミネッセンスである請求項１１に記載の電子デバイス。
  13. 　基材と、前記基材上に形成された請求項１０に記載の硬化物とを備える光学部材。
  14. 　請求項１～９のいずれかに記載のパターン形成用組成物を基材に塗布し、有機溶媒を蒸発させ、パターンが形成されたマスクを介して光照射した後、現像し、さらに焼成することを特徴とするパターンの作製方法。

     
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