WO2022210926A1

WO2022210926A1 - 加工液、加工液用組成物及び脆性材料加工液組成物

Info

Publication number: WO2022210926A1
Application number: PCT/JP2022/016154
Authority: WO
Inventors: 友彦北村
Original assignee: 出光興産株式会社
Priority date: 2021-03-31
Filing date: 2022-03-30
Publication date: 2022-10-06
Also published as: CN117083365A; TW202248406A; KR20230161441A; EP4317383A1; JP2022157907A

Abstract

成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物；成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物；成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上；並びに、成分（Ｄ）：水；を含む加工液であって、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を特定の含有量で含む、加工液に関する。

Description

加工液、加工液用組成物及び脆性材料加工液組成物

　本発明は、加工液、加工液用組成物及び脆性材料加工液組成物に関する。

　半導体製品の製造では脆性材料であるシリコンインゴットを精度よく切削加工することが重要であり、シリコンインゴットの切削加工では、加工精度及び生産性の観点から、一般にワイヤソー加工が利用されている。
　また、ワイヤソー加工は、セラミックス、石英、サファイア、ガラス等の材料の加工でも利用されている。
　一般に、ワイヤソーを用いた加工方法としては、ワイヤと被加工物との摺動部に遊離砥粒を供給しながら加工を行う遊離砥粒方式と、ワイヤの表面に予め砥粒が固定されたワイヤを用いて加工を行う固定砥粒方式とが挙げられる。
　また、両方式のワイヤソー加工では、切削加工時の加工効率の向上、被加工材と被加工材を加工する工具との摩擦抑制、加工により発生する摩擦熱の低減、工具の寿命延長効果、切り屑の除去等を目的として加工液（クーラント）が使用されている。
　前述の用途等で用いられる加工液としては、鉱物油、動植物油、合成油等を主成分とした油系の加工液と、界面活性能を持つ化合物を配合して水溶性を付与した水系の加工液とが含まれる。
　近年、作業時の安全性や環境問題の観点から水溶性を付与した加工液が用いられるようになってきている。

　例えば、特許文献１には、数平均分子量が５００以下であり特定の構造を有するポリオキシアルキレン付加物と、炭素数（カルボニル基の炭素を含める）が４～１０の１価もしくは２価の脂肪族カルボン酸又はその塩を必須成分として含有することを特徴とするシリコンインゴットスライス用水溶性切削液が開示されている。
　特許文献２には、希土類磁石の切断に用いられる固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液組成物であって、グリコール類と、カルボン酸と、水に溶解して塩基性を示す化合物と、水とを、それぞれ特定の含有量で含有してなる（但し、これらの成分の合計は１００重量部である）ことを特徴とする固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液組成物が開示されている。
　特許文献３には、ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上と、ＨＬＢ値が６以上であり、分子構造中のエチレンオキサイドの付加モル数が５以上であるエチレンオキサイド付加物であって、かつアセチレン基を有しない非イオン界面活性剤とカルボン酸とを、それぞれ特定の含有量で含有する、脆性材料加工液が開示されている。

特開２０１１－６８８８４号公報特開２００３－８２３３５号公報特開２０１８－１５４７６２号公報

　一般に、前述した両方式のワイヤソー加工方法は、前述のシリコンインゴットから、複数のシリコンウェハを一度に切り出すため、マルチワイヤソー装置が用いられている。マルチワイヤソー装置では、一定間隔で複数の溝が彫られた２以上のガイドローラー上の各溝に１本ずつワイヤを巻きつけ、各ワイヤが一定の張力で平行に保持されている。そして、切断加工時には、各ガイドローラーを回転させ、ノズル等から吐出した加工液をワイヤに付着させながら、該ワイヤを一方向又は双方向に走行させ、加工液が付着したワイヤにシリコンインゴットを押し当てて切断を行っている。
　当該ワイヤソー加工に使用される加工液は、ワイヤソー装置が備えるタンクに投入され、当該タンクからワイヤソー装置が備えるポンプによって加工室ノズルに供給され、当該ノズルから吐出される。ノズルから吐出された加工液は、加工間隙（ワイヤとシリコンインゴットとの間隙）を狙って供給されて、加工間隙の潤滑等に使用された後、再び前記タンクに戻る。このようにシリコンインゴットの切断中、加工液はワイヤソー装置内を循環している。
　当該切断加工時、ワイヤ高線速化に伴うガイドローラーの高速回転などにより加工液が激しく飛散する場合があり、加工液の泡立ちに繋がる。また、当該切断加工時、加工液がワイヤソー装置下部にあるタンクに流れ落ちることによって、タンク内の加工液が激しく泡立ち、タンクからオーバーフローする場合がある。更に、当該切断加工中に発生する微細な切粉が加工液の泡立ちを助長してしまう問題、並びにワイヤソー及び切断したウェハ等が当該切粉により著しく汚染され、それらを洗浄するための負荷が大きくなるといった問題があった。
　また、例えば、近年、前述のシリコンインゴットからシリコンウェハを生産する分野では、更なる生産性の向上が要求されており、遊離砥粒方式より短時間での切断が可能であり、また、より細いワイヤ工具を使用して歩留まりを向上できる等の理由から、固定砥粒方式がよく用いられるようになってきている。

　このように、加工液には、適度な潤滑性という従来からの要求に加え、加工液を用いた際の泡立ちを抑制し、切粉の清浄性を向上することができれば、より安定した生産や加工精度の向上にも繋がる。また、前述のとおり、近年、水溶性を付与した加工液が要求されている。
　したがって、潤滑性、消泡性、及び清浄性のバランスにより優れる加工液が求められている。

　本発明は、以上の問題点を鑑みてなされたものであり、本発明の課題は、潤滑性、消泡性、及び清浄性に優れる加工液を提供することである。

　本発明者は、鋭意検討の結果、水と、特定の成分とを含有し、各成分の含有量が特定の範囲を満たす加工液が、前記課題を解決し得ることを見出した。本発明の各実施形態はかかる知見に基づいて完成したものである。すなわち、本発明の各実施形態によれば、以下の［１］～［１７］が提供される。
［１］　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を含む加工液であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．０１０質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００５質量％以上０．０９０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００６質量％以上である、
加工液。
［２］　成分（Ａ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．２００質量％以下である、前記［１］に記載の加工液。
［３］　成分（Ｃ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．１００質量％以下である、前記［１］又は［２］に記載の加工液。
［４］　成分（Ａ）が、１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物である、前記［１］～［３］のいずれか一つに記載の加工液。
［５］　成分（Ｂ）が、１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物である、前記［１］～［４］のいずれか一つに記載の加工液。
［６］　成分（Ａ）の含有量と成分（Ｂ）の含有量との比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が、質量比で１．００以上である、前記［１］～［５］のいずれか一つに記載の加工液。
［７］　成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計含有量と成分（Ｃ）の含有量との比〔（Ａ）＋（Ｂ）／（Ｃ）〕が、質量比で１．００以上である、前記［１］～［６］のいずれか一つに記載の加工液。
［８］　成分（Ｄ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で９５．０００質量％以上９９．９７９質量％以下である、前記［１］～［７］のいずれか一つに記載の加工液。
［９］　ｐＨが３．０以上９．０以下である、前記［１］～［８］のいずれか一つに記載の加工液。
［１０］　ワイヤを用いて脆性材料からなる被加工材を加工する時に用いる、前記［１］～［９］のいずれか一つに記載の加工液。
［１１］　前記ワイヤが、固定砥粒ワイヤである、前記［１０］に記載の加工液。
［１２］　前記脆性材料が、結晶シリコン、サファイア、炭化ケイ素、窒化ガリウム、ネオジム磁石、水晶、又は、ガラスである、前記［１０］又は［１１］に記載の加工液。
［１３］　少なくとも、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を配合する、加工液の製造方法であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．０１０質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００５質量％以上０．０９０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００６質量％以上、
となるように配合して加工液を得る、前記［１］～［１２］のいずれか一つに記載の加工液の製造方法。
［１４］　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を含む加工液用組成物であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．２００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１００質量％以上９２．０００質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１２０質量％以上である、
加工液用組成物。
［１５］　少なくとも、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を配合する、加工液用組成物の製造方法であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．２００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１００質量％以上９２．０００質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１２０質量％以上、
となるように配合して加工液用組成物を得る、前記［１４］に記載の脆性材料加工液用組成物の製造方法。
［１６］　下記成分（Ａ）～（Ｃ）を含む添加剤混合物、及び成分（Ｄ）：水を含む、脆性材料加工液組成物であって、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、
　前記添加剤混合物中、
　成分（Ａ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で２０．００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上５３．５０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上である、
脆性材料加工液組成物。
［１７］　少なくとも、下記成分（Ａ）～（Ｃ）を含む添加剤混合物、及び成分（Ｄ）：水を配合する、脆性材料加工液組成物の製造方法であって、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下でであって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、
　前記添加剤混合物中、
　成分（Ａ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で２０．００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上５３．５０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上、
となるように配合して脆性材料加工液組成物を得る、前記［１６］に記載の脆性材料加工液組成物の製造方法。

　本発明によれば、潤滑性、消泡性、及び清浄性に優れる加工液を提供することができる。

［加工液］
　本発明の一実施形態に係る加工液は、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水を含む加工液であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．０１０質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００５質量％以上０．０９０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００６質量％以上である。
　前述した全ての要件を満たす加工液は、潤滑性、消泡性、及び清浄性のバランスに優れる。

　なお、本明細書中、特に言及しない限り、「アルキレンオキサイド（以下、単に「ＡＯ」ともいう。）付加物」とは、単体のアルキレンオキサイドが付加した化合物だけでなく、複数のアルキレンオキサイド、すなわち、ポリアルキレンオキサイドが付加した化合物も含む。以下、「エチレンオキサイド（以下、単に「ＥＯ」ともいう。）付加物」、「プロピレンオキサイド（以下、単に「ＰＯ」ともいう。）付加物」も同様である。
　また、本明細書中で用いる「ＨＬＢ値」は、グリフィン法により算出されるＨＬＢ（Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｉｃ－Ｌｉｐｏｐｈｉｌｉｃ　Ｂａｌａｎｃｅ）の値を意味する。
　なお、本明細書において、好ましい数値範囲（例えば、含有量等の範囲）について、段階的に記載された下限値及び上限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。例えば、該当する数値範囲について「好ましくは１０以上、より好ましくは２０以上、更に好ましくは３０以上」という下限値の記載と、「好ましくは９０以下、より好ましくは８０以下、更に好ましくは６０以下」という記載から、「好ましい下限値（１０）」と「更に好ましい上限値（６０）」とを組み合わせて、好適範囲を「１０以上、６０以下」とすることもできる。同様に、「更に好ましい下限値（３０）」と「好ましい上限値（９０）」とを組み合わせて好適範囲を「３０以上、９０以下」とすることもできる。
　同様に、例えば、「好ましくは１０～９０、より好ましくは２０～８０、更に好ましくは３０～６０」という記載から、「１０～６０」、「３０～９０」とすることもできる。
　なお、特に言及しない限り、好ましい数値範囲として単に「１０～９０」と記載する場合、１０以上９０以下の範囲を表す。
　また、同様に、満たすべき数値範囲と、段階的に記載された好ましい数値範囲のそれぞれとを組み合わせることもできる。例えば、満たすべき数値範囲が５以上１００以下である場合、満たすべき下限値「５」と前述の「更に好ましい上限値（６０）」とを組み合わせて、好適範囲を「５以上、６０以下」とすることもできる。同様に、「好ましい下限値（１０）」と満たすべき上限値「１００」とを組み合わせて好適範囲を「１０以上、１００以下」とすることもできる。これら満たすべき数値範囲と好ましい数値範囲の組み合わせについて、前述した好ましい数値範囲同士の組み合わせと同様に、数値範囲及び好ましい数値範囲として単に「５～１００」、「好ましくは１０～９０」といったように記載されている場合も、同様に組み合わせることができる。
　以下、当該加工液に含有される各成分について説明する。

＜成分（Ａ）＞
　成分（Ａ）は、１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物であり、好ましくは１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物である。
　成分（Ａ）の１質量％水溶液の曇点が２０℃未満であると、成分（Ａ）の水への溶解性が低下する。一方、成分（Ａ）の１質量％水溶液の曇点が５０℃超であって８０℃以下のものとは、後述する成分（Ｂ）に該当するが、前記加工液が、成分（Ａ）を含まない場合、加工液の潤滑性が低下する。
　したがって、潤滑性に優れる加工液を得る観点から、成分（Ａ）の１質量％水溶液の曇点は、好ましくは２２℃以上、より好ましくは２５℃以上、更に好ましくは３０℃以上、より更に好ましくは３５℃以上であり、そして、好ましくは４９℃以下、より好ましくは４８℃以下、更に好ましくは４７℃以下、より更に好ましくは４６℃以下である。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、成分（Ａ）の一態様として、成分（Ａ）の１質量％水溶液の曇点は、好ましくは２２℃以上４９℃以下、より好ましくは２５℃以上４８℃以下、更に好ましくは３０℃以上４７℃以下、より更に好ましくは３５℃以上４６℃以下である。
　また、成分（Ａ）の１質量％水溶液の曇点の値は、後述する実施例に記載の方法を用いて測定される値である。

　成分（Ａ）に係るエチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物としては、例えば、ＥＯとＥＯ以外のＡＯとの共重合体、又は、ポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテルからなる群より選ばれる１種以上が挙げられる。

　成分（Ａ）に係るＥＯとＥＯ以外のＡＯとの共重合体としては、ＥＯと後述するＥＯ以外のＡＯとの共重合体であり、当該ＥＯとＥＯ以外のＡＯとの付加の態様は、ランダム付加又はブロック付加のいずれでもよく、ランダム付加とブロック付加とが混在していてもよいが、好ましくはブロック付加した共重合体である。
　成分（Ａ）に係るＥＯ以外のＡＯとしては、例えば、炭素数３又は４のアルキレンオキサイドが挙げられ、プロピレンオキサイド（ＰＯ）、オキセタン、１，２－ブチレンオキサイド、２，３－ブチレンオキサイド、１，３－ブチレンオキサイド、テトラヒドロフランが挙げられる。
　成分（Ａ）に係るＥＯとＥＯ以外のＡＯとの共重合体としては、より好ましくはＥＯとＰＯとの共重合体であり、更に好ましくはＥＯとＰＯとのブロック共重合体（「ポリエチレングリコールユニットとポリプロピレングリコールユニットとを有するブロック共重合体」ともいう。）であり、より更に好ましくはＥＯとＰＯとのトリブロック共重合体（「ポリエチレングリコールユニットとポリプロピレングリコールユニットとを有するトリブロック共重合体」ともいう。）である。また、ＥＯとＰＯとのトリブロック共重合体としては、末端ブロックがＥＯから構成され、かつ、中間ブロックがＰＯから構成されるトリブロック共重合体（ＥＯ／ＰＯ／ＥＯ型。）でもよく、末端ブロックがＰＯから構成され、かつ、中間ブロックがＥＯから構成されるトリブロック共重合体（いわゆる、リバース型。ＰＯ／ＥＯ／ＰＯ型。）であってもよい。

　成分（Ａ）に係るポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテルとしては、アルコールのＥＯ及びＥＯ以外のＡＯ付加物が挙げられ、アルコールのＥＯ及びＰＯ付加物であることが好ましい。
　当該アルコールとしては、例えば、炭素数１以上２４以下の脂肪族アルコールが挙げられる。当該アルコールの炭素数としては、親水性と親油性のバランスの観点から、好ましくは１～１４、より好ましくは１～１０、更に好ましくは１～６、より更に好ましくは１～４、より更に好ましくは１又は２であり、そして、より更に好ましくは１である。
　当該脂肪族アルコールとしては、好ましくは１級アルコール又は２級アルコール、より好ましくは１級アルコールである。また、直鎖状でもよく、分岐状でもよく、環状であってもよく、好ましくは直鎖である。
　当該脂肪族アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、２－メチル－２ブタノール、ペンタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、３－メチル－１－ペンタノール、ヘプタノール、２－ヘプタノール、３－ヘプタノール、オクタノール、２－エチルヘキサノール、ノナノール、デカノール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、トリデシルアルコール、イソトリデシルアルコール、ミリスチルアルコール、ペンタデシルアルコール、パルミチルアルコール、ヘプタデカノール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、ノナデシルアルコール、エイコサノール等の飽和脂肪族アルコール；オクテニルアルコール、デセニルアルコール、ドデセニルアルコール、トリデセニルアルコール、テトラデセニルアルコール、パルミトレイルアルコール、オレイルアルコール、ガドレイルアルコール、リノレイルアルコール等の不飽和脂肪族アルコール；エチルシクロヘキシルアルコール、プロピルシクロヘキシルアルコール、オクチルシクロヘキシルアルコール、ノニルシクロヘキシルアルコール、アダマンチルアルコール等の環状脂肪族アルコール；が挙げられる。

　成分（Ａ）に係るポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテル中の、前記ＥＯ以外のＡＯとしては、例えば、炭素数３又は４のアルキレンオキサイドが挙げられ、プロピレンオキサイド（ＰＯ）、オキセタン、１，２－ブチレンオキサイド、２，３－ブチレンオキサイド、１，３－ブチレンオキサイド、テトラヒドロフランが挙げられる。これらの中では、ＰＯが好ましい。
　また、成分（Ａ）に係るポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテル中、前記ＥＯとＥＯ以外のＡＯとの共重合部位において、当該ＥＯとＥＯ以外のＡＯとの付加の態様は、ランダム付加又はブロック付加のいずれでもよく、ランダム付加とブロック付加とが混在していてもよい。

　なお、前記ポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテルは、前記アルコールにＥＯ及びＡＯを付加して合成することができるが、アルコールへのＥＯ及びＡＯの付加は、公知の方法で行うことができ、無触媒又は触媒の存在下、常圧又は加圧下、１段階又は多段階で行ってもよい。

　また、成分（Ａ）に係るＥＯとＥＯ以外のＡＯとの共重合部位中、ＥＯに由来する構成単位の含有量は、前記共重合部位を構成する構成単位の全量１００モル％中、好ましくは１５モル％以上、より好ましくは２０モル％以上、更に好ましくは２５モル％以上であり、そして、好ましくは８５モル％以下、より好ましくは８０モル％以下、更に好ましくは７５モル％以下である。

　また、成分（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、潤滑性を向上させる観点から、好ましくは５００以上、より好ましくは１，０００以上、更に好ましくは１，５００以上、より更に好ましくは２，０００以上である。一方、ワークへの砥粒の食いつき性を向上させる観点から、成分（Ａ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１０，０００以下、より好ましくは９，０００以下、更に好ましくは８，０００以下、より更に好ましくは６，０００以下である。
　また、当該質量平均分子量（Ｍｗ）の値は、後述する実施例に記載の方法を用いて測定される値である。

　成分（Ａ）は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　成分（Ａ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、０．０１０質量％以上である。当該含有量が０．０１０質量％未満であると、加工液の潤滑性に劣る。
　したがって、加工液の潤滑性を向上させる観点から、成分（Ａ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．０１５質量％以上、より好ましくは０．０２０質量％以上、更に好ましくは０．０２５質量％以上、より更に好ましくは０．０３０質量％以上、より更に好ましくは０．０３５質量％以上である。
　一方、加工液の消泡性を向上させる観点から、成分（Ａ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．２００質量％以下、より好ましくは０．１００質量％以下、更に好ましくは０．０８０質量％以下、より更に好ましくは０．０７５質量％以下である。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、前記加工液の一態様としては、成分（Ａ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．０１０質量％以上０．２００質量％以下、より好ましくは０．０１５質量％以上０．２００質量％以下、更に好ましくは０．０２０質量％以上０．２００質量％以下、より更に好ましくは０．０２５質量％以上０．１００質量％以下、より更に好ましくは０．０３０質量％以上０．０８０質量％以下、より更に好ましくは０．０３５質量％以上０．０７５質量％以下である。

＜成分（Ｂ）＞
　成分（Ｂ）は、１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物であり、好ましくは１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物である。
　成分（Ｂ）の１質量％水溶液の曇点が５０℃以下であって２０℃以上のものとは、前述した成分（Ａ）に該当するが、加工液が、成分（Ｂ）を含まない場合、加工液の清浄性が低下する。したがって、清浄性に優れる加工液を得る観点から、成分（Ｂ）の１質量％水溶液の曇点は、好ましくは５５℃以上、より好ましくは５８℃以上、更に好ましくは６０℃以上である。
　一方、成分（Ｂ）の１質量％水溶液の曇点が８０℃を超えると、加工液の清浄性が低下する。したがって、清浄性に優れる加工液を得る観点から、成分（Ｂ）の１質量％水溶液の曇点は、好ましくは７５℃以下、より好ましくは７０℃以下、より更に好ましくは６５℃以下である。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、成分（Ｂ）の一態様として、成分（Ｂ）の１質量％水溶液の曇点は、好ましくは５５℃以上７５℃以下、より好ましくは５８℃以上７０℃以下、更に好ましくは６０℃以上６５℃以下である。
　また、成分（Ｂ）の１質量％水溶液の曇点の値は、後述する実施例に記載の方法を用いて測定される値である。

　前記成分（Ｂ）に係るエチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物としては、例えば、ＥＯとＥＯ以外のＡＯとの共重合体、又は、ポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテルからなる群より選ばれる１種以上が挙げられる。これらの中では、好ましくはＥＯとＥＯ以外のＡＯとの共重合体である。

　前記成分（Ｂ）に係るＥＯとＥＯ以外のＡＯとの共重合体において、当該ＥＯとＥＯ以外のＡＯとの付加の態様は、ランダム付加又はブロック付加のいずれでもよく、ランダム付加とブロック付加とが混在していてもよいが、好ましくはブロック付加した共重合体である。
　前記成分（Ｂ）に係るＥＯ以外のＡＯとしては、例えば、炭素数３又は４のアルキレンオキサイドが挙げられ、プロピレンオキサイド（ＰＯ）、オキセタン、１，２－ブチレンオキサイド、２，３－ブチレンオキサイド、１，３－ブチレンオキサイド、テトラヒドロフランが挙げられる。
　前記成分（Ｂ）に係るＥＯとＥＯ以外のＡＯとの共重合体としては、より好ましくはＥＯとＰＯとの共重合体であり、更に好ましくはＥＯとＰＯとのブロック共重合体であり、より更に好ましくはＥＯとＰＯとのトリブロック共重合体であり、より更に好ましくはポリプロピレングリコールにエチレンオキサイドを付加したプルロニック型共重合体（ＥＯ－ＰＯ－ＥＯ型のトリブロック共重合体）である。

　また、前記成分（Ｂ）に係るＥＯとＥＯ以外のＡＯとの共重合体中、ＥＯに由来する構成単位の含有量は、前記共重合体を構成する構成単位の全量１００モル％中、好ましくは２５モル％以上、より好ましくは３０モル％以上、更に好ましくは３５モル％以上、より更に好ましくは４０モル％以上であり、そして、好ましくは７５モル％以下、より好ましくは７０モル％以下、更に好ましくは６５モル％以下、より更に好ましくは６０モル％以下である。

　成分（Ｂ）に係るポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテルとしては、曇点が異なる点を除いては、成分（Ａ）に係るポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテルについて説明したものと同様であり、その好適な態様も同様である。

　また、成分（Ｂ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、潤滑性を向上させる観点から、好ましくは５００以上、より好ましくは１，０００以上、更に好ましくは１，５００以上、より更に好ましくは２，０００以上である。一方、ワークへの砥粒食いつき性を向上させる観点から、成分（Ｂ）の質量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１０，０００以下、より好ましくは９，０００以下、更に好ましくは８，０００以下、より更に好ましくは６，０００以下である。
　また、当該質量平均分子量（Ｍｗ）の値は、後述する実施例に記載の方法を用いて測定される値である。

　成分（Ｂ）は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　成分（Ｂ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、０．００５質量％以上である。当該含有量が０．００５質量％未満であると、加工液の清浄性に劣る。
　したがって、加工液の清浄性を向上させる観点から、成分（Ｂ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．０１０質量％以上、より好ましくは０．０１２質量％以上、更に好ましくは０．０１５質量％以上である。
　一方、成分（Ｂ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、０．０９０質量％以下である。当該含有量が０．０９０質量％を超えると、加工液の潤滑性が劣る。
　したがって、加工液の潤滑性を向上させる観点から、成分（Ｂ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．０８０質量％以下、より好ましくは０．０５０質量％以下、更に好ましくは０．０３０質量％以下である。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、前記加工液の一態様としては、成分（Ｂ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．０１０質量％以上０．０８０質量％以下、より好ましくは０．０１２質量％以上０．０５０質量％以下、更に好ましくは０．０１５質量％以上０．０３０質量％以下である。

　また、加工液の潤滑性を向上させる観点から、前記加工液中、前記成分（Ａ）の含有量と前記成分（Ｂ）の含有量との比〔（Ａ）／（Ｂ）〕は、質量比で、好ましくは１．００以上、より好ましくは１．５０以上、更に好ましくは２．００以上である。
　一方、加工液の清浄性及び加工精度を向上させる観点から、前記加工液中、前記成分（Ａ）の含有量と前記成分（Ｂ）の含有量との比〔（Ａ）／（Ｂ）〕は、質量比で、好ましくは２０．００以下、より好ましくは１５．００以下、更に好ましくは１０．００以下である。

＜成分（Ｃ）＞
　成分（Ｃ）は、ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上である。
　前記加工液が成分（Ｃ）を含まない場合、加工液の消泡性及び清浄性が悪化する。
　ここで、前述のとおり、成分（Ｂ）を含まない場合にも、加工液の清浄性は悪化するが、いずれか一つの成分を含むだけでは良好な清浄性を有する加工液を得ることはできない。すなわち、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）の両方を含むことによって、良好な清浄性を有する加工液を得ることが可能となる。
　したがって、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）の全てを、特定の量を満たすように含むことで、潤滑性、消泡性及び清浄性のいずれにも優れる加工液を得ることが可能となる。

　また、成分（Ｃ）のＨＬＢ値は４未満であると、成分（Ｃ）の水への溶解性が劣る。したがって、成分（Ｃ）の水への溶解性を向上させる観点から、成分（Ｃ）のＨＬＢ値は、好ましくは５以上、より好ましくは６以上、更に好ましくは７以上である。
　一方、当該成分（Ｃ）のＨＬＢ値が１２を超えると、加工液の消泡性及び清浄性が悪化する。したがって、加工液の消泡性及び清浄性を向上させる観点から、成分（Ｃ）のＨＬＢ値は、好ましくは１１以下、より好ましくは１０以下、更に好ましくは９以下である。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、成分（Ｃ）の一態様として、成分（Ｃ）のＨＬＢ値は、好ましくは５以上１１以下、より好ましくは６以上１０以下、更に好ましくは７以上９以下である。
　また、成分（Ｃ）のＨＬＢ値は、前述のとおり、グリフィン法により算出される値である。

　前記アセチレングリコールとしては、例えば、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。

　一般式（１）中、Ｒ^１～Ｒ^４は、それぞれ独立に、炭素数１以上５以下のアルキル基を示す。
　Ｒ^１～Ｒ^４が取り得る炭素数１以上５以下のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１，１－ジメチルプロピル基、１，２－ジメチルプロピル基、２，２－ジメチルプロピル基が挙げられる。
　これらの中でも、Ｒ^１及びＲ^３としては、好ましくはイソブチル基又は３－メチルブチル基である。また、Ｒ^２及びＲ^４としては、好ましくはメチル基である。
　また、一般式（１）で表される化合物としては、好ましくはＲ^１及びＲ^３とが互いに同一である構造又はＲ^２及びＲ^４とが互いに同一である構造を有する化合物であり、より好ましくはＲ^１及びＲ^３とが互いに同一であり、かつ、Ｒ^２及びＲ^４とが互いに同一である構造を有する化合物である。

　また、前記アセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物としては、好ましくは、一般式（１）で表される化合物の各水酸基に、ＡＯが付加した一般式（１）で表される化合物のアルキレンオキサイド付加物が挙げられ、より好ましくはＥＯ及び／又はＰＯが付加した一般式（１）で表される化合物のアルキレンオキサイド付加物、更に好ましくはＥＯが付加した一般式（１）で表される化合物のアルキレンオキサイド付加物である。なお、当該アセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物を形成するアセチレングリコールの好適な態様は、前述の一般式（１）で表される化合物の好適な態様と同様である。
　なお、ＥＯに由来する構造（例えば、エチレンオキシ基又はポリ（オキシエチレン）構造）及びＰＯに由来する構造（例えば、プロピレンオキシ基又はポリ（オキシプロピレン）構造）が結合した構造を含む場合、各構造は互いにランダム型で結合していてもよく、ブロック型で結合していてもよく、好ましくはブロック型である。

　成分（Ｃ）としては、２，５，８，１１－テトラメチル－６－ドデシン－５，８－ジオール、５，８－ジメチル－６－ドデシン－５，８－ジオール、２，４，７，９－テトラメチル－５－ドデシン－４，７－ジオール、８－ヘキサデシン－７，１０－ジオール、７－テトラデシン－６，９－ジオール、２，３，６，７－テトラメチル－４－オクチン－３，６－ジオール、３，６－ジエチル－４－オクチン－３，６－ジオール、２，５－ジメチル－３－ヘキシン－２，５－ジオール、２，４，７，９－テトラメチル－５－デシン－４，７－ジオール、及び３，６－ジメチル－４－オクチン－３，６－ジオール等の一般式（１）で表されるアセチレングリコール；並びに一般式（１）で表されるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物；等が挙げられる。当該アルキレンオキサイドとしては、ＥＯ及び／又はＰＯ等が挙げられる。
　これらの中では、好ましくは２，５，８，１１－テトラメチル－６－ドデシン－５，８－ジオール、５，８－ジメチル－６－ドデシン－５，８－ジオール、２，４，７，９－テトラメチル－５－ドデシン－４，７－ジオール、８－ヘキサデシン－７，１０－ジオール、７－テトラデシン－６，９－ジオール、２，３，６，７－テトラメチル－４－オクチン－３，６－ジオール、３，６－ジエチル－４－オクチン－３，６－ジオール、２，５－ジメチル－３－ヘキシン－２，５－ジオール、２，４，７，９－テトラメチル－５－デシン－４，７－ジオール及び３，６－ジメチル－４－オクチン－３，６－ジオールからなる群より選ばれる１種以上のアルキレンオキサイド付加物、より好ましくは２，５，８，１１－テトラメチル－６－ドデシン－５，８－ジオール、５，８－ジメチル－６－ドデシン－５，８－ジオール、２，４，７，９－テトラメチル－５－ドデシン－４，７－ジオール、８－ヘキサデシン－７，１０－ジオール、７－テトラデシン－６，９－ジオール、２，３，６，７－テトラメチル－４－オクチン－３，６－ジオール、３，６－ジエチル－４－オクチン－３，６－ジオール、２，５－ジメチル－３－ヘキシン－２，５－ジオール、２，４，７，９－テトラメチル－５－デシン－４，７－ジオール及び３，６－ジメチル－４－オクチン－３，６－ジオールからなる群より選ばれる１種以上のエチレンオキサイド付加物、更に好ましくは２，５，８，１１－テトラメチル－６－ドデシン－５，８－ジオールのエチレンオキサイド付加物及び２，４，７，９－テトラメチル－５－デシン－４，７－ジオールのエチレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、より更に好ましくは２，５，８，１１－テトラメチル－６－ドデシン－５，８－ジオールのエチレンオキサイド付加物である。
　なお、成分（Ｃ）は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　成分（Ｃ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、０．００６質量％以上である。当該含有量が０．００６質量％未満であると加工液の清浄性が悪化する。
　加工液の優れた清浄性を得る観点から、成分（Ｃ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．００７質量％以上、より好ましくは０．００８質量％以上、更に好ましくは０．００９質量％以上である。
　一方、成分（Ｃ）の水への溶解性を良好にする観点から、成分（Ｃ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．１００質量％以下、より好ましくは０．０７０質量％以下、更に好ましくは０．０５０質量％以下、より更に好ましくは０．０３０質量％以下である。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、前記加工液の一態様としては、成分（Ｃ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．００６質量％以上０．１００質量％以下、より好ましくは０．００７質量％以上０．０７０質量％以下、更に好ましくは０．００８質量％以上０．０５０質量％以下、より更に好ましくは０．００９質量％以上０．０３０質量％以下である。

　また、前記加工液中、前記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計含有量と成分（Ｃ）の含有量との比〔（Ａ）＋（Ｂ）／（Ｃ）〕は、質量比で、好ましくは１．００以上、より好ましくは１．２０以上、更に好ましくは１．３０以上であり、そして、好ましくは２０．００以下、より好ましくは１５．００以下、更に好ましくは１２．００以下である。

＜成分（Ｄ）＞
　成分（Ｄ）である水は、特に限定されず、蒸留水、イオン交換水（脱イオン水）等の精製水；水道水；工業用水；等を用いることができ、好ましくは精製水、より好ましくはイオン交換水（脱イオン水）である。

　例えば、前記加工液の難燃性を向上させ安全性を高める観点、及び加工液を低粘度化してハンドリング性を向上させる観点から、成分（Ｄ）の含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは９５．０００質量％以上、より好ましくは９７．５００質量％以上、より更に好ましくは９９．５００質量％以上、より更に好ましくは９９．６００質量％以上である。そして、前記加工液中の成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）の量を確保する観点から、９９．９７９質量％以下であり、好ましくは９９．９６５質量％以下、より好ましくは９９．９５０質量％以下、更に好ましくは９９．９４５質量％以下、より更に好ましくは９９．９３０質量％以下である。
　ここで、本明細書中、「加工液中の添加剤混合物」とは、前記加工液から成分（Ｄ）である水を除いた全成分を指す。

＜その他の成分＞
　前記加工液は、本発明の目的を阻害しない範囲で、前述の成分（Ａ）～（Ｄ）に加えて、更に、その他の成分を含有していてもよい。
　その他の成分としては、成分（Ａ）～（Ｃ）に該当する化合物以外の界面活性剤、ｐＨ調整剤、保水性向上剤、消泡剤、金属不活性化剤、殺菌剤・防腐剤、防錆剤、酸化防止剤等の添加剤が挙げられる。これらの添加剤は、それぞれ、単独で用いてもよく、又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。また、これらの添加剤の中では、成分（Ａ）～（Ｃ）以外の界面活性剤、ｐＨ調整剤、並びに、保水性向上剤からなる群より選ばれる１種以上が好ましく、保水性向上剤及びｐＨ調整剤からなる群より選ばれる１種以上がより好ましく、ｐＨ調整剤が更に好ましい。
　なお、これらの添加剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　成分（Ａ）～（Ｃ）に該当する化合物以外の界面活性剤としては、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、成分（Ａ）～（Ｃ）に該当する化合物以外の非イオン界面活性剤、及び両性界面活性剤等が挙げられる。
　アニオン界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルファオレフィンスルホン酸塩等が挙げられる。カチオン界面活性剤としては、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、アルキルジメチルベンジルアンモニウム塩などの四級アンモニウム塩等が挙げられる。
　成分（Ａ）～（Ｃ）に該当する化合物以外の非イオン界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル；ポリオキシアルキレンアルキルエーテル（ただし、ポリオキシアルキレン部位が、エチレンオキシド基に由来する構成を含まない）；ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等のエーテル；１質量％水溶液の曇点が２０℃未満８０℃超であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物；ＨＬＢ値が４未満１２超であるアセチレングリコール；ＨＬＢ値が４未満１２超であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物；脂肪酸アルカノールアミドのようなアミド等が挙げられる。
　両性界面活性剤としては、ベタイン系としてアルキルベタインなどが挙げられる。

　ｐＨ調整剤は、主に加工液のｐＨを調整するために用いられる。当該ｐＨ調整剤としては、各種酸成分や塩基成分が挙げられ、これら成分の含有量比を調整することで、適宜、加工液のｐＨを調整することができる。
　なお、当該酸成分と塩基成分は互いに反応して塩を形成し得る。
　そのため、ｐＨ調整剤として酸成分及び塩基成分を用いる場合、前記加工液中に当該酸成分と塩基成分との反応物が存在する場合、前述のとおり、当該酸成分及び塩基成分の反応物の含有量から算出される当該反応に寄与した当該酸成分及び塩基成分の各含有量を算出することもできる。また、その場合、当該反応物に代えて、反応前の当該酸成分及び塩基成分を含有しているものとみなすことができる。

　ｐＨ調整剤として用いられる酸成分としては、例えば、ラウリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ネオデカン酸、イソノナン酸、カプリン酸、イソステアリン酸等の各種脂肪酸；酢酸、リンゴ酸、クエン酸等のカルボン酸；ポリアクリル酸等の高分子酸及びその塩；リン酸等の無機酸；が挙げられる。これらの中では、脂肪酸が好ましく、ネオデカン酸、イソノナン酸、カプリン酸、ドデカン二酸等の炭素数１２以下の脂肪酸がより好ましく、ネオデカン酸、イソノナン酸、カプリン酸、及びドデカン二酸からなる群より選ばれる１種以上が更に好ましい。

　ｐＨ調整剤として用いられる塩基成分としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリ－ｎ－プロパノールアミン、トリ－ｎ－ブタノールアミン、トリイソブタノールアミン、トリ－ｔｅｒｔ－ブタノールアミン、Ｎ－メチルエタノールアミン、Ｎ－エチルエタノールアミン、Ｎ－ブチルエタノールアミン、Ｎ－シクロヘキシルエタノールアミン、Ｎ－メチルジエタノールアミン、Ｎ－エチルジエタノールアミン、Ｎ－シクロヘキシルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチルエタノールアミン等のアルカノールアミン；メチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン等のアルキルアミン；アンモニアが挙げられる。これらの中では、３級アミンが好ましく、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、Ｎ－メチルジエタノールアミン、及びＮ－シクロヘキシルジエタノールアミンからなる群より選ばれる少なくとも１種がより好ましい。

　保水性向上剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４－ブタンジオール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、グリセリン、これらのエステル誘導体、これらのエーテル誘導体；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等が挙げられる。
　消泡剤としては、例えば、シリコーン油、フルオロシリコーン油、ポリエーテルポリシロキサン及びフルオロアルキルエーテルが挙げられる。
　金属不活性化剤としては、例えば、イミダゾリン、ピリミジン誘導体、チアジアゾール及びベンゾトリアゾールが挙げられる。
　殺菌剤・防腐剤としては、例えば、パラオキシ安息香酸エステル類（パラベン類）の他、安息香酸、サリチル酸、ソルビン酸、デヒドロ酢酸、ｐ－トルエンスルホン酸及びそれらの塩類、並びにフェノキシエタノールが挙げられる。
　防錆剤としては、例えば、アルキルベンゼンスルフォネート、ジノニルナフタレンスルフォネート、アルケニルコハク酸エステル、多価アルコールエステルが挙げられる。
　酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤及びアミン系酸化防止剤が挙げられる。

　前記加工液がその他の成分を含有する場合、前記加工液中、その他の成分の合計含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．０００１質量％以上、より好ましくは０．０００２質量％以上、更に好ましくは０．０００３質量％以上、より更に好ましくは０．０００４質量％以上であり、そして、好ましくは０．０８００質量％以下、より好ましくは０．０５００質量％以下、更に好ましくは０．０１００質量％以下、より更に好ましくは０．００５０質量％以下、より更に好ましくは０．００１０質量％以下である。

　また、前記加工液がその他の成分としてｐＨ調整剤を含有する場合、前記加工液中、ｐＨ調整剤の合計含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは０．０００１質量％以上、より好ましくは０．０００２質量％以上、更に好ましくは０．０００３質量％以上であり、そして、好ましくは０．０１００質量％以下、より好ましくは０．００５０質量％以下、更に好ましくは０．００１０質量％以下、より更に好ましくは０．０００８質量％以下である。

　また、潤滑性、消泡性及び清浄性を向上させる観点から、前記加工液中、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）の合計含有量は、前記加工液の全量１００質量％基準で、好ましくは９９．９２００質量％以上、より好ましくは９９．９５００質量％以上、更に好ましくは９９．９９００質量％以上、より更に好ましくは９９．９９５０質量％以上、より更に好ましくは９９．９９９０質量％以上であり、そして、好ましくは１００．００００質量％以下、より好ましくは９９．９９９９量％以下、更に好ましくは９９．９９９８質量％以下、より更に好ましくは９９．９９９７質量％以下、より更に好ましくは９９．９９９６質量％以下である。

　また、前記加工液を脆性材料の加工に使用する場合、前記加工液のｐＨは、加工液の用途の欄で後述する各ワイヤや加工装置等の腐食を抑制できる観点から、好ましくは３．０以上、より好ましくは４．０以上、更に好ましくは５．０以上である。一方、前記加工液のｐＨは、例えば、シリコン等を加工する際に切粉から水素が大量に発生することを抑制できる観点から、好ましくは９．０以下、より好ましくは８．０以下、更に好ましくは７．０以下である。
　また、当該加工液のｐＨ値は、後述する実施例に記載の方法を用いて測定される値である。

　また、例えば、後述するように、前記加工液を、ワイヤを用いて脆性材料からなる被加工材を加工する用途で用いる場合、脆性材料の切断中に生じるワイヤの断線を抑制し易くする観点から、前記加工液の表面張力は、好ましくは３５ｍＮ／ｍ以下、より好ましくは３４ｍＮ／ｍ以下、更に好ましくは３３ｍＮ／ｍ以下である。
　一方、前記加工液の前記加工液の表面張力は、好ましくは１ｍＮ／ｍ以上、より好ましくは５ｍＮ／ｍ以上、更に好ましくは１０ｍＮ／ｍ以上である。
　また、当該加工液の表面張力は、後述する実施例に記載の方法を用いて測定される値である。

［加工液の製造方法］
　前記加工液の製造方法は、
　少なくとも、成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を配合する、加工液の製造方法であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．０１０質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００５質量％以上０．０９０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００６質量％以上、
となるように配合して加工液を得る製造方法である。

　成分（Ａ）～成分（Ｄ）を配合する順序は特に制限はなく、例えば、成分（Ｄ）である水に対して、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を逐次又は同時に配合してもよく、予め成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を配合して、その混合物を成分（Ｄ）である水に配合してもよい。
　また、当該製造方法では、成分（Ａ）～成分（Ｄ）を配合し、更に必要に応じてその他の成分を配合してもよく、その場合、配合する各成分の配合順、配合方法等は特に限定されない。
　なお、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、成分（Ｄ）及びその他の成分は、それぞれ、加工液の欄で前述したものと同様であり、その好適な態様も同様であるため、その詳細な説明は省略する。また、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、成分（Ｄ）及びその他の成分の好適な配合量及び各成分間の好適な配合量比についても、それぞれ、加工液の欄で前述した前記加工液中の各含有量及び各含有量比と同様であるため、その詳細な説明は省略する。

［加工液の用途］
　前記加工液は、前述したワイヤソー、好ましくは固定砥粒ワイヤソーを用いてシリコンインゴット等の脆性材料からなる被加工材をワイヤソー加工する際に好適に用いることができる。すなわち、前記加工液は、ワイヤを用いて脆性材料からなる被加工材を加工する時に好適に用いることができ、固定砥粒ワイヤを用いて脆性材料からなる被加工材を加工する時により好適に用いることができる。
　前記脆性材料としては、例えば、結晶シリコン、サファイア、窒化ガリウム、炭化ケイ素、ネオジム磁石、水晶及びガラスが挙げられる。前記加工液が有する優れた清浄性を有効に利用できる観点から、前記加工液は、結晶シリコン、サファイア、炭化ケイ素、窒化ガリウム、ネオジム磁石、水晶、又はガラスを加工する際により好適に用いることができ、結晶シリコン、サファイア、又は炭化ケイ素を加工する際に更に好適に用いることができる。

［脆性材料の加工方法］
　本発明の一実施形態に係る脆性材料の加工方法は、前記加工液を用いてシリコンインゴット等の前記脆性材料からなる被加工材を加工する方法である。
　ここで、前記加工液は、当該加工液を被加工材に供給して、被加工材に接触させて使用するものである。前記加工液は、前記被加工材と前記ワイヤソー等の加工具との間を潤滑する。更には、切り屑（切粉）の除去、被加工材の錆止め、工具及び被加工材の冷却等のためにも使用される。
　前記加工液を使用して行う脆性材料の加工は、具体的には、切削加工、研削加工、打抜き加工、研摩、絞り加工、抽伸加工、圧延加工などの各種の加工が挙げられるが、これらの中では、切削加工、研削加工が好ましく、切削加工がより好ましい。
　被加工材としての脆性材料は、前述した材料が挙げられる。
　なお、前述のとおり、前記加工液は、シリコンインゴットの切断加工に用いるものとして好適に使用されるものである。

　ここで、より具体的には、前述したように遊離砥粒方式と固定砥粒方式という両方式のワイヤソー加工方法は、前述のシリコンインゴットから、複数のシリコンウェハを一度に切り出すため、マルチワイヤソー装置が用いられている。マルチワイヤソー装置では、一定間隔で複数の溝が彫られた２以上のガイドローラー上の各溝に１本ずつワイヤを巻きつけ、各ワイヤが一定の張力で平行に保持されている。そして、切断加工時には、各ガイドローラーを回転させ、ノズル等から吐出した加工液をワイヤに付着させながら、該ワイヤを一方向又は双方向に走行させ、加工液が付着したワイヤにシリコンインゴットを押し当てて切断を行っている。また、必要に応じてシリコンインゴット等の被加工物自体に加工液をかけながら加工を行うこともある。
　加工に使用される加工液は、タンク等に貯蔵され、そこから配管等で前述の加工室ノズルまで運ばれる。また、切断時に使用された加工液は、切断装置下部の使用済み加工液受けタンク等で回収される。また、場合によっては、装置内を循環させて再利用されることもある。

　そして、前記本発明の一実施形態である加工液は、潤滑性、消泡性、及び清浄性のバランスに優れるため、高い加工精度と生産性（歩留まり向上）に貢献できるものである。
　したがって、前記本発明の一実施形態である加工液は、このような脆性材料の加工方法で用いる加工液としてより好適に使用され、このうち、固定砥粒ワイヤにより、シリコンインゴットからシリコンウェハを切り出す加工方法に用いる加工液として更に好適に使用され、固定砥粒ワイヤソーを用いたマルチワイヤー装置を用いて、シリコンインゴットからシリコンウェハを切り出す加工方法により更に好適に使用される。
　また、前記本発明の一実施形態である加工液は、より細い線径（素線形）を有するワイヤ（好ましくは固定砥粒ワイヤ）を用いてシリコンインゴットからシリコンウェハを切り出す場合にも、前述した優れた効果を奏する。そのため、例えば、シリコンインゴットから、太陽電池向けシリコンウェハを切り出す加工方法に、更に好適に使用されるものである。

　ここで、脆性材料の加工に用いるワイヤの素線径は、その用途により、適宜、選択することができるが、例えば、好ましくは５５μｍ以下、より好ましくは５４μｍ以下、更に好ましくは５３μｍ以下であり、そして、好ましくは３０μｍ以上、より好ましくは３５μｍ以上、更に好ましくは３８μｍ以上である。

［加工装置］
　本発明の一実施形態に係る脆性材料の加工装置は、前記本発明の一実施形態である加工液を用いる加工装置であり、好ましくはマルチワイヤー切断加工装置であり、より好ましくは固定砥粒ワイヤソーを備えたマルチワイヤー切断加工装置であり、更に好ましくはシリコンインゴット切断用の固定砥粒ワイヤソーを備えたマルチワイヤー切断加工装置である。

［加工液用組成物］
　また、本発明の一実施形態に係る加工液は、例えば、加工液中の水を減量して２０倍以上２，０００倍以下に濃縮した濃縮液又は当該濃縮液と同一の組成である組成物を、水で希釈することによって得られるものであってもよい。
　すなわち、前述の加工を行う際、前記加工液の濃縮液又は当該濃縮液と同一の組成である前記加工液用の組成物（以下、単に「加工液用組成物」ともいう。）を水で２０倍以上２，０００倍以下に希釈して、前記加工液として使用することができる。
　例えば、前記加工液を加工液用組成物とし、保管・輸送等に適した態様として用いることもできる。
　ここで、本明細書中、当該「加工液用組成物」とは、前述のとおり、加工液から水を減量して濃縮したものに限らず、水で希釈して加工液とされることを前提として調製された組成物も含む。なお、水で希釈して加工液とされることを前提として調製された組成物としては、単に、水で希釈するだけで前記加工液とならなくとも、前述の加工を行う前に、当該組成物に対して、前述の加工液について前述した各成分範囲となるように、後から一部の成分を添加してその量を調整して用いられるものも含まれる。

　前記加工液用組成物の一実施形態としては、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を含む加工液用組成物であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．２００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１００質量％以上９２．０００質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１２０質量％以上である、加工液用組成物が挙げられる。

　また、前記加工液用組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、前述の成分（Ａ）～（Ｄ）に加えて、更に、その他の成分を含有していてもよい。
　また、前記加工液用組成物中、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）、並びに、任意に添加してもよいその他の成分は、それぞれ、前記加工液の欄で前述したものと同様であり、その好適な態様も同様であるため、その詳細な説明は省略する。
　また、前記加工液用組成物中、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）、並びに、その他の成分の好適な含有量の範囲は、特に制限はないが、当該加工液用組成物を水で２０倍以上２，０００倍以下に希釈して用いる際、それぞれ、前記加工液の欄で前述した各成分の好適な含有量の範囲を満たすように含有していることが好ましい。

　例えば、前記本発明の一実施形態に係る加工液用組成物として、以下の各実施形態を挙げることができる。
［２－１］
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を含む加工液用組成物であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．２００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１００質量％以上９２．０００質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１２０質量％以上である、
加工液用組成物。
［２－２］
　成分（Ａ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で、好ましくは１．０００質量％以上、より好ましくは２．５００質量％以上、更に好ましくは５．０００質量％以上であり、そして、好ましくは９１．７８０質量％以下、より好ましくは９０．９００質量％以下、更に好ましくは８９．２５０質量％以下、より更に好ましくは８６．５００質量％以下である、前記［２－１］に記載の加工液用組成物。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、前記［２－１］に記載の加工液用組成物の一態様としては、成分（Ａ）の含有量は、前記加工液用組成物の全量１００質量％基準で、好ましくは０．２００質量％以上９１．７８０質量％以下、より好ましくは１．０００質量％以上９０．９００質量％以下、更に好ましくは２．５００質量％以上８９．２５０質量％以下、より更に好ましくは５．０００質量％以上８６．５００質量％以下である。
［２－３］
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で、好ましくは０．５００質量％以上、より好ましくは１．２５０質量％以上、更に好ましくは２．５００質量％以上であり、そして、好ましくは９１．６８０質量％以下、より好ましくは９０．４００質量％以下、更に好ましくは８８．０００質量％以下、より更に好ましくは８４．０００質量％以下である、前記［２－１］又は［２－２］に記載の加工液用組成物。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、前記［２－１］又は［２－２］に記載の加工液用組成物の一態様としては、成分（Ｂ）の含有量は、前記加工液用組成物の全量１００質量％基準で、好ましくは０．１００質量％以上９１．６８０質量％以下、より好ましくは０．５００質量％以上９０．４００質量％以下、更に好ましくは１．２５０質量％以上８８．０００質量％以下、より更に好ましくは２．５００質量％以上８４．０００質量％以下である。
［２－４］
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で、好ましくは０．６００質量％以上、より好ましくは１．５００質量％以上、更に好ましくは３．０００質量％以上であり、そして、好ましくは９１．７００質量％以下、より好ましくは９０．５００質量％以下、更に好ましくは８８．２５０質量％以下、より更に好ましくは８４．５００質量％以下である、前記［２－１］～［２－３］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、前記［２－１］～［２－３］のいずれか一つに記載の加工液用組成物の一態様としては、成分（Ｃ）の含有量は、前記加工液用組成物の全量１００質量％基準で、好ましくは０．１２０質量％以上９１．７００質量％以下、より好ましくは０．６００質量％以上９０．５００質量％以下、更に好ましくは１．５００質量％以上８８．２５０質量％以下、より更に好ましくは３．０００質量％以上８４．５００質量％以下である。
［２－５］
　成分（Ａ）が、１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物である、前記［２－１］～［２－４］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。
［２－６］
　成分（Ｂ）が、１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物である、前記［２－１］～［２－５］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。
［２－７］
　成分（Ａ）の含有量と成分（Ｂ）の含有量との比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が、質量比で、好ましくは１．００以上、より好ましくは１．５０以上、更に好ましくは２．００以上であり、そして、好ましくは２０．００以下、より好ましくは１５．００以下、更に好ましくは１０．００以下である、前記［２－１］～［２－６］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。
［２－８］
　成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計含有量と成分（Ｃ）の含有量との比〔（Ａ）＋（Ｂ）／（Ｃ）〕が、質量比で、好ましくは１．００以上、より好ましくは１．２０以上、更に好ましくは１．３０以上であり、そして、好ましくは２０．００以下、より好ましくは１５．００以下、更に好ましくは１２．００以下である、前記［２－１］～［２－７］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。
［２－９］
　成分（Ｄ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で、好ましくは８．０００質量％以上、より好ましくは９．０００質量％以上、より好ましくは１０．０００質量％以上、更に好ましくは１２．０００質量％以上であり、そして、好ましくは９９．５８０質量％以下、より好ましくは９７．９００質量％以下、更に好ましくは９４．７５０質量％以下、より更に好ましくは８９．５００質量％以下である、前記［２－１］～［２－８］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。
［２－１０］
　前記加工液用組成物が、更に、その他の成分を含む場合、前記加工液用組成物中、その他の成分の合計含有量は、加工液用組成物の全量１００質量％基準で、好ましくは０．００２質量％以上、より好ましくは０．００４質量％以上、更に好ましくは０．００６質量％以上、より更に好ましくは０．００８質量％以上であり、そして、好ましくは４０．０００質量％以下、より好ましくは３５．０００質量％以下、更に好ましく３０．０００質量％以下、より更に好ましくは２７．０００質量％以下、より更に好ましくは２５．０００質量％以下である、前記［２－１］～［２－９］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。

［２－１１］
　前記加工液用組成物が、更に、その他の成分としてｐＨ調整剤を含有する場合、前記加工液用組成物中、ｐＨ調整剤の合計含有量は、前記加工液用組成物の全量１００質量％基準で、好ましくは０．００２質量％以上、より好ましくは０．００３質量％以上、更に好ましくは０．００４質量％以上であり、そして、好ましくは２０．０００質量％以下、より好ましくは１０．０００質量％以下、更に好ましくは２．０００質量％以下、より更に好ましくは１．６００質量％以下である、前記［２－１］～［２－１０］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。
［２－１２］
　前記加工液用組成物中、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）の合計含有量は、前記加工液用組成物の全量１００質量％基準で、好ましくは６０．０００質量％以上、より好ましくは６５．０００質量％以上、更に好ましくは７０．０００質量％以上、より更に好ましくは７３．０００質量％以上、より更に好ましくは７５．０００質量％以上であり、そして、好ましくは１００．０００質量％以下、より好ましくは９９．９９８量％以下、更に好ましくは９９．９９６質量％以下、より更に好ましくは９９．９９４質量％以下、より更に好ましくは９９．９９２質量％以下である、前記［２－１］～［２－１１］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。
［２－１３］
　ｐＨが、好ましくは３．０以上、より好ましくは４．０以上、更に好ましくは５．０以上であり、そして、好ましくは９．０以下、より好ましくは８.５以下、更に好ましくは８．０以下である、前記［２－１］～［２－１２］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。
［２－１４］
　ワイヤを用いて脆性材料からなる被加工材を加工する時に用いる、前記［２－１］～［２－１３］のいずれか一つに記載の加工液用組成物。
［２－１５］
　前記ワイヤが、固定砥粒ワイヤである、前記［２－１４］に記載の加工液用組成物。
［２－１６］
　前記脆性材料が、結晶シリコン、サファイア、炭化ケイ素、窒化ガリウム、ネオジム磁石、水晶、又は、ガラスである、前記［２－１４］又は［２－１５］に記載の加工液用組成物。

［加工液用組成物の製造方法］
　前記加工液用組成物は、例えば、以下の製造方法によって製造することができる。
　すなわち、前記［２－１］～［２－１６］のいずれか一つに記載の加工液用組成物の製造方法は、
　少なくとも、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下でであって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を配合する、加工液用組成物の製造方法であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．２００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１００質量％以上９２．０００質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１２０質量％以上、
となるように配合して加工液用組成物を得る加工液用組成物の製造方法である。

　成分（Ａ）～成分（Ｄ）を配合する順序は特に制限はなく、例えば、成分（Ｄ）である水に対して、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を逐次又は同時に配合してもよく、予め成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を配合して、その混合物を成分（Ｄ）である水に配合してもよい。
　また、当該製造方法では、成分（Ａ）～成分（Ｄ）を配合し、更に必要に応じてその他の成分を配合してもよく、その場合、配合する各成分の配合順、配合方法等は特に限定されない。
　なお、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、成分（Ｄ）及びその他の成分は、それぞれ、加工液の欄で前述したものと同様であり、その好適な態様も同様であるため、その詳細な説明は省略する。また、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、成分（Ｄ）及びその他の成分の好適な配合量及び各成分間の好適な配合量比についても、それぞれ、前記［２－１］～［２－１６］の欄で前述した前記加工液用組成物中の各含有量及び各含有量比と同様であるため、その詳細な説明は省略する。

［加工液用組成物の使用方法］
　前記加工液用組成物は、前述のとおり、主に、水で希釈して前記加工液を調製するために用いることができる。
　すなわち、本発明の一実施形態に係る加工液用組成物の使用方法としては、例えば、前記加工液用組成物を、水で希釈して、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を含む加工液であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．０１０質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００５質量％以上０．０９０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００６質量％以上、
となるように、前記加工液を調製し、
　当該加工液を前記加工液の欄で説明した加工液の用途及び脆性材料の加工方法に使用する、加工液用組成物の使用方法が挙げられる。

　したがって、前記［２－１］～[２－１６]に記載の実施形態に係る加工液用組成物は、更に、水で希釈し、必要に応じて、成分（Ａ）～（Ｃ）の含有量を調整することによって、前記本発明の一実施形態に係る加工液として用いることができる。
　当該加工液の一実施形態としては、例えば、前記［２－１］～[２－１６]に記載の実施形態に係る加工液用組成物を、水で希釈し、必要に応じて、成分（Ａ）～（Ｃ）の含有量を調整して得られる、前記［１］～［１２］に記載の実施形態に係る加工液が挙げられる。
　前記加工液用組成物を成分（Ｄ）である水で希釈する時の希釈倍率は、前記加工液を調製することができれば、特に制限はないが、前記加工液用組成物の全量（質量）換算で、好ましくは２０倍以上、より好ましくは１００倍以上、更に好ましくは２５０倍以上、より更に好ましくは５００倍以上であり、そして、好ましくは２，０００倍以下、より好ましくは１，８００倍以下、更に好ましくは１，５００倍以下、より更に好ましくは１，０００倍以下である。

　一方で、前述のとおり、例えば、前記［２－１］～[２－１６]に記載の実施形態に係る加工液用組成物自体が、前記本発明の一実施形態係る加工液中の成分（Ｄ）である水を減量して濃縮した濃縮液として得られるものであってもよい。当該加工液用組成物の一実施形態としては、例えば、前記［１］～［１２］に記載の実施形態に係る加工液を、成分（Ｄ）を蒸留等の操作により減量する等して、２０倍以上２，０００倍以下に濃縮して得られる、前記［２－１］～[２－１６]に記載の実施形態に係る加工液用組成物が挙げられる。
　前記加工液から成分（Ｄ）である水を減量して濃縮する時の濃縮倍率は、特に制限はないが、前記加工液の全量（質量）換算で、好ましくは２０倍以上、より好ましくは１００倍以上、更に好ましくは２５０倍以上、より更に好ましくは５００倍以上であり、そして、好ましくは２，０００倍以下、より好ましくは１，８００倍以下、更に好ましくは１，５００倍以下、より更に好ましくは１，０００倍以下である。

　また、前記［２－１］～［２－１６］に記載の加工液用組成物を用いて得られる加工液の用途、当該加工液用組成物を用いて得られる加工液を用いる脆性材料の加工方法、及び加工装置についても、それぞれ、本発明の一実施形態である前記加工液の欄の対応する項目で説明した内容と同様であるため、詳細な説明は省略する。

［脆性材料加工液組成物］
　また、本発明の一実施形態に関連する脆性材料加工液組成物として、以下の脆性材料加工液組成物を挙げることができる。
　下記成分（Ａ）～（Ｃ）を含む添加剤混合物、及び成分（Ｄ）：水を含む、脆性材料加工液組成物であって、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、
　前記添加剤混合物中、
　成分（Ａ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で２０．００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上５３．５０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上である、
脆性材料加工液組成物。

　また、前記脆性材料加工液組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、前述の成分（Ａ）～（Ｄ）に加えて、更に、その他の成分を含有していてもよい。
　また、当該脆性材料加工液組成物中、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）、並びに、任意に添加してもよいその他の成分は、それぞれ、前記加工液の欄で前述したものと同様であり、その好適な態様も同様であるため、その詳細な説明は省略する。

　前記、本発明の一実施形態に関連する脆性材料加工液組成物の例として、より具体的には、以下の各実施形態を挙げることができる。
［３－１］
　下記成分（Ａ）～（Ｃ）を含む添加剤混合物、及び成分（Ｄ）：水を含む、脆性材料加工液組成物であって、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、
　前記添加剤混合物中、
　成分（Ａ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で２０．００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上５３．５０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上である、
脆性材料加工液組成物。
［３－２］
　成分（Ａ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で、好ましくは２４．００質量％以上、より好ましくは２７．００質量％以上、更に好ましくは３０．００質量％以上、より更に好ましくは４０．００質量％以上であり、そして、好ましくは８０．５０質量％以下、より好ましくは７９．５０質量％以下、更に好ましくは７８．５０質量％以下である、前記［３－１］に記載の脆性材料加工液組成物。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、前記［３－１］に記載の脆性材料加工液組成物の一態様としては、成分（Ａ）の含有量は、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で、好ましくは２０．００質量％以上８０．５０質量％以下、より好ましくは２４．００質量％以上８０．５０質量％以下、更に好ましくは２７．００質量％以上８０．５０質量％以下、より更に好ましくは３０．００質量％以上８０．５０質量％以下、より更に好ましくは４０．００質量％以上７９．５０質量％以下、より更に好ましくは４０．００質量％以上７８．５０質量％以下である。
［３－３］
　成分（Ｂ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で、好ましくは６．５０質量％以上、より好ましくは８．００質量％以上、更に好ましくは１０．００質量％以上であり、そして、好ましくは５０．００質量％以下、より好ましくは４７．５０質量％以下、更に好ましくは４５．００質量％以下である、前記［３－１］又は［３－２］に記載の脆性材料加工液組成物。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、前記［３－１］又は［３－２］に記載の脆性材料加工液組成物の一態様としては、成分（Ｂ）の含有量は、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で、好ましくは６．５０質量％以上５０．００質量％以下、より好ましくは８．００質量％以上４７．５０質量％以下、更に好ましくは１０．００質量％以上４５．００質量％以下である。
［３－４］
　成分（Ｃ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で、好ましくは６．００質量％以上、より好ましくは６．５０質量％以上、更に好ましくは７．００質量％以上であり、そして、好ましくは５５．００質量％以下、より好ましくは５０．００質量％以下、更に好ましくは４７．００質量％以下、より更に好ましくは４２．００質量％以下である、前記［３－１］～［３－３］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
　また、前述したとおり、これらの数値範囲の上限値及び下限値は、それぞれ独立して組み合わせることができる。そのため、それらの組み合わせ方は特に制限はないが、例えば、前記［３－１］～［３－３］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物の一態様としては、成分（Ｃ）の含有量は、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で、好ましくは５．００質量％以上５５．００質量％以下、より好ましくは６．００質量％以上５０．００質量％以下、更に好ましくは６．５０質量％以上４７．００質量％以下、より更に好ましくは７．００質量％以上４２．００質量％以下である。
［３－５］
　成分（Ａ）が、１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物である、前記［３－１］～［３－４］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
［３－６］
　成分（Ｂ）が、１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物である、前記［３－１］～［３－５］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
［３－７］
　成分（Ａ）の含有量と成分（Ｂ）の含有量との比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が、質量比で、好ましくは１．００以上、より好ましくは１．５０以上、更に好ましくは２．００以上であり、そして、好ましくは２０．００以下、より好ましくは１５．００以下、更に好ましくは１０．００以下である、前記［３－１］～［３－６］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
［３－８］
　成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計含有量と成分（Ｃ）の含有量との比〔（Ａ）＋（Ｂ）／（Ｃ）〕が、質量比で、好ましくは１．００以上、より好ましくは１．２０以上、更に好ましくは１．３０以上であり、そして、好ましくは２０．００以下、より好ましくは１５．００以下、更に好ましくは１２．００以下である、前記［３－１］～［３－７］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
［３－９］
　前記添加剤混合物中、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）の合計含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で、好ましくは８０．００質量％以上、より好ましくは８５．００質量％以上、更に好ましくは９０．００質量％以上、より更に好ましくは９５．００質量％以上、より更に好ましくは９９．００質量％以上であり、そして、１００．００質量％以下、好ましくは９９．９０質量％以下、より好ましくは９９．８０質量％以下、更に好ましくは９９．７５質量％以下、より更に好ましくは９９．７０質量％以下である、前記［３－１］～［３－８］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
［３－１０］
　前記脆性材料加工液組成物が、更に、その他の成分を含む場合、前記脆性材料加工液組成物中、その他の成分の合計含有量は、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で、好ましくは０．１０質量％以上、より好ましくは０．２０質量％以上、更に好ましくは０．２５質量％以上、より更に好ましくは０．３０質量％以上であり、そして、好ましくは２０．００質量％以下、より好ましくは１５．００質量％以下、更に好ましくは１０．００質量％以下、より更に好ましくは５．００質量％以下、より更に好ましくは１．００質量％以下である、前記［３－１］～［３－９］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。

［３－１１］
　前記添加剤混合物１００質量部に対し、成分（Ｄ）を、好ましくは８質量部以上、より好ましくは９質量部以上、更に好ましくは１０質量部以上、より更に好ましくは１１質量部以上、より更に好ましくは１２質量部以上であり、そして、好ましくは１，０００，０００質量部以下、より好ましくは５００，０００質量部以下、更に好ましくは２５０，０００質量部以下、より更に好ましくは２００，０００質量部以下で含有する、前記［３－１］～［３－１０］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
［３－１２］
　前記添加剤混合物１００質量部に対し、成分（Ｄ）を、好ましくは１，０００質量部以上、より好ましくは２，０００質量部以上、更に好ましくは５，０００質量部以上、より更に好ましくは１０，０００質量部以上、より更に好ましくは２０，０００質量部以上、より更に好ましくは２５，０００質量部以上であり、そして、好ましくは１，０００，０００質量部以下、より好ましくは５００，０００質量部以下、更に好ましくは２５０，０００質量部以下、より更に好ましくは２００，０００質量部以下で含有する、前記［３－１］～［３－１１］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
［３－１３］
　前記添加剤混合物１００質量部に対し、成分（Ｄ）を、好ましくは８質量部以上、より好ましくは９質量部以上、更に好ましくは１０質量部以上、より更に好ましくは１１質量部以上、より更に好ましくは１２質量部以上であり、そして、好ましくは１００，０００質量部以下、より好ましくは５０，０００質量部以下、更に好ましくは２５，０００質量部以下、より更に好ましくは１０，０００質量部以下、より更に好ましくは５，０００質量部以下、より更に好ましくは２，０００質量部以下、より更に好ましくは１，０００質量部以下で含有する、前記［３－１］～［３－１１］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
［３－１４］
　ｐＨが、好ましくは３．０以上、より好ましくは４．０以上、更に好ましくは５．０以上であり、そして、好ましくは９．０以下、より好ましくは８．０以下、更に好ましくは７．０以下である、前記［３－１］～［３－１３］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
［３－１５］
　ワイヤを用いて脆性材料からなる被加工材を加工する時に用いる、前記［３－１］～［３－１４］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物。
［３－１６］
　前記ワイヤが、固定砥粒ワイヤである、前記［３－１５］に記載の脆性材料加工液組成物。
［３－１７］
　前記脆性材料が、結晶シリコン、サファイア、炭化ケイ素、窒化ガリウム、ネオジム磁石、水晶、又は、ガラスである、前記［３－１５］又は［３－１６］に記載の脆性材料加工液組成物。

［脆性材料加工液組成物の製造方法］
　前記脆性材料加工液組成物は、例えば、以下の製造方法によって製造することができる。
　すなわち、前記［３－１］～［３－１７］のいずれか一つに記載の脆性材料加工液組成物の製造方法は、
　少なくとも、下記成分（Ａ）～（Ｃ）を含む添加剤混合物、及び成分（Ｄ）：水を配合する、脆性材料加工液組成物の製造方法であって、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、
　前記添加剤混合物中、
　成分（Ａ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で２０．００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上５３．５０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上、
となるように配合して脆性材料加工液組成物を得る、脆性材料加工液組成物の製造方法である。

　成分（Ａ）～成分（Ｄ）を配合する順序は特に制限はなく、例えば、成分（Ｄ）である水に対して、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を逐次又は同時に配合してもよく、予め成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を配合して、その混合物を成分（Ｄ）である水に配合してもよい。
　また、当該製造方法では、成分（Ａ）～成分（Ｄ）を配合し、更に必要に応じてその他の成分を配合してもよく、その場合、配合する各成分の配合順、配合方法等は特に限定されない。
　なお、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、成分（Ｄ）及びその他の成分は、それぞれ、加工液の欄で前述したものと同様であり、その好適な態様も同様であるため、その詳細な説明は省略する。また、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、成分（Ｄ）及びその他の成分の好適な配合量及び各成分間の好適な配合量比についても、それぞれ、前記［３－１］～［３－１７］の欄で前述した各含有量及び各含有量比と同様であるため、その詳細な説明は省略する。

　また、前記［３－１］～［３－１７］に記載の脆性材料加工液組成物の用途、当該脆性加工液組成物を用いる脆性材料の加工方法、及び加工装置についても、それぞれ、本発明の一実施形態である前記加工液の欄の対応する項目で説明した内容と同様であるため、詳細な説明は省略する。

　以下に、本発明の一実施形態を、実施例により、更に具体的に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
　なお、各成分及び加工液に関する各物性は、以下に示す要領に従って評価した。

［１質量％水溶液の曇点］
　成分（Ａ）及び（Ｂ）の１質量％水溶液の曇点は、２００ｍＬ容量のビーカーに、測定する成分の１質量％水溶液１００ｍＬを導入し、当該水溶液をマグネティックスターラー（攪拌子の長さ：３０ｍｍ）を使用して回転速度４００ｒｐｍの条件で攪拌しながら、当該水溶液の温度が１５℃から曇点に至るまで、５℃／分の昇温速度で加熱して、水溶液の外観が曇る時の液温を測定した。
　なお、下記表１及び表２中に示す化合物の「曇点」は、当該化合物の「１質量％水溶液の曇点」を指す。

［ＨＬＢ値］
　成分（Ｃ）のＨＬＢ値は、グリフィン法により算出される値を用いた。

［質量平均分子量］
　質量平均分子量（Ｍｗ）を、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて測定した。ＧＰＣは、カラムとして、東ソー株式会社製「ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）　ＳｕｐｅｒＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨＺ－Ｍ」２本を用い、テトラヒドロフランを溶離液として、検出器に屈折率検出器を用いて測定を行い、ポリスチレンを標準試料として質量平均分子量（Ｍｗ）を求めた。

［表面張力］
　実施例及び比較例で得られた各加工液の表面張力を、JＩＳ　Ｋ　２２４１：２０１７に記載の白金プレート法に準拠して測定した。

［ｐＨ値］
　実施例及び比較例で得られた各加工液のｐＨを、東亜ディーケーケー株式会社製のガラス電極式水素イオン濃度示指計（型式：ＨＭ－２５Ｒ）を用いて評価した。

［シリコン（Ｓｉ）摩擦係数］
　実施例及び比較例で得られた各加工液を用いて、次の試験条件に従って往復動摩擦試験を行い、摩擦係数を測定した。
往復動摩擦試験機：株式会社オリエンテック製「Ｆ－２１００」
球：３／１６インチＳＵＪ２
試験温度：５０℃
試験板：多結晶シリコン（表面を鏡面に研磨）
試験板温度：５０℃
摺動速度：２０ｍｍ／秒
摺動距離：２ｃｍ
往復回数：５０回
荷重：２００ｇ

［消泡性の評価］
　実施例及び比較例で得られた各加工液を用いて、次の手順に従って評価した。
　容量１００ｍＬのメスシリンダーに、加工液９０ｍＬを導入し、メスシリンダーに蓋をし、激しく上下に１０回振とうして、２０秒間静置した後の液面高さを計測した。
　なお、液面高さは、メスシリンダーの目盛りを利用して、単位「ｍＬ」（０．５ｍＬ刻み）で対比している。
　この時、泡立ちが発生すると当該液面高さが高くなる、すなわち、「ｍＬ」の値が大きくなることから、当該液面高さの値（ｍＬ）が小さいほど、消泡性に優れる。例えば、泡立ちの発生により液面高さが９３．５ｍＬとなった場合、メスシリンダーの振とう前の高さ９０．０ｍＬからの増加分である３．５ｍＬを液面高さとし、下記表１及び２に示した。

［清浄性の評価］
　実施例及び比較例で得られた各加工液を用いて、次の手順に従って評価した。
（シリンダー壁面の汚れ評価）
　容量１００ｍＬのメスシリンダーに、加工液９０ｍＬと、微粉（「グラファイト粉末」、富士フィルム和光純薬工業株式会社製、特級）０．５ｇとを導入し、メスシリンダーに蓋をし、激しく上下に１０回振とうし、メスシリンダー内壁上部の汚れ具合を、以下の基準により評価した。
・Ａ：微粉によるシリンダー壁面の汚れが軽度であり、液面付近の背景が透けて見える。
・Ｂ：微粉によるシリンダー壁面の汚れが重度であり、液面付近の背景が透けて見えない。

［実施例１～８、並びに、比較例１～８］
　下記の表１及び２に示す組成となるように各成分を配合し、実施例１～８、並びに、比較例１～８の各加工液を調製した。前記評価方法に従って、各実施例及び比較例の加工液を評価した。得られた結果を下記表１及び２に示す。

　なお、下記表１及び２に示す各成分は、それぞれ以下の化合物を表す。
＜成分（Ａ）＞
・化合物Ａ１：ポリオキシアルキレン部分が、エチレンオキサイド（ＥＯ）とプロピレンオキサイド（ＰＯ）とのランダム共重合体からなる、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル（末端メチル基（末端のアルキル基部分）、質量平均分子量（Ｍｗ）＝４，５９７、ＥＯ／ＰＯ比（モル比）＝４２／５８、１質量％水溶液の曇点＝４３℃）
・化合物Ａ２：ポリ（プロピレンオキサイド）－ポリ（エチレンオキサイド）－ポリ（プロピレンオキサイド）型ブロック共重合体（質量平均分子量（Ｍｗ）＝４，２６１、ＥＯ／ＰＯ比（モル比）＝３０／７０、１質量％水溶液の曇点＝３８℃）
・化合物Ａ３：ポリ（エチレンオキサイド）－ポリ（プロピレンオキサイド）－ポリ（エチレンオキサイド）型ブロック共重合体（１質量％水溶液の曇点＝２３℃）

＜成分（Ｂ）＞
・化合物Ｂ１：ポリ（エチレンオキサイド）－ポリ（プロピレンオキサイド）－ポリ（エチレンオキサイド）型ブロック共重合体（質量平均分子量（Ｍｗ）＝５，６５４、ＥＯ／ＰＯ比（モル比）＝４８／５２、１質量％水溶液の曇点＝６３℃）
・化合物Ｂ２：ポリ（エチレンオキサイド）－ポリ（プロピレンオキサイド）－ポリ（エチレンオキサイド）型ブロック共重合体（質量平均分子量（Ｍｗ）＝５，４９８、ＥＯ／ＰＯ比（モル比）＝５２／４８、１質量％水溶液の曇点＝６１℃）

＜成分（Ｃ）＞
・化合物Ｃ１：２，５，８，１１－テトラメチル－６－ドデシン－５，８－ジオールのＥＯ付加物（アセチレングリコールのＥＯ付加物、ＨＬＢ＝８）
＜成分（Ｄ）＞
・イオン交換水

＜その他の成分＞
・化合物Ｓ１：２，４，７，９－テトラメチル－５－デシン－４，７－ジオールのＥＯ付加物（アセチレングリコールのＥＯ付加物、ＨＬＢ＝１３）
・ｐＨ調整剤１：イソノナン酸
・ｐＨ調整剤２：トリイソプロパノールアミン

　表１に示すとおり、実施例１～８の加工液は、成分（Ａ）～成分（Ｄ）を含み、かつ成分（Ａ）～成分（Ｃ）を、それぞれ、所定の含有量で含むため、いずれの加工液も、潤滑性、消泡性及び清浄性が優れており、潤滑性、消泡性及び清浄性のバランスに優れた加工液であることが確認された。
　一方で、表２に示すとおり、比較例１～８の加工液は、成分（Ａ）、成分（Ｂ）又は成分（Ｃ）のいずれかを含まないか（比較例１、３、６及び７）、又は、成分（Ａ）～（Ｃ）を、それぞれ、所定の含有量で含むという要件を満たしていない（比較例２、４、５及び８）ため、潤滑性、消泡性、又は清浄性のいずれかの特性に劣ることが確認された。
　実施例１に記載の加工液を用い、固定砥粒方式のマルチワイヤソー装置を用いて、素線径５２μｍの固定砥粒ワイヤを用いて、シリコンインゴットを切断加工した結果、加工時に当該加工液の消泡性及び清浄性が優れていることが確認された。また、当該シリコンインゴットの切断精度が良好であり、ワイヤの断線率も５％未満であることも確認された。
　なお、前記「切断精度」は、切り出されたシリコンウェハの厚さの偏差であるＴＴＶ（Ｔｏｔａｌ　Ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ　Ｖａｒｉａｔｉｏｎ）を測定して評価した。実施例１では、インゴット１本の切断で得られたシリコンウェハのＴＴＶ平均値が１５μｍ以下であり良好であった。それに対して、比較例１では、インゴット１本の切断で得られたシリコンウェハのＴＴＶ平均値が１５μｍ超であった。
　また、前記「ワイヤの断線率（単位：％）」は、「ワイヤの断線が発生した回数／インゴットの切断本数×１００」で算出される値であり、例えば、１００本のシリコンインゴットを切断加工した際に、そのうち５本のシリコンインゴットの加工時にワイヤの断線が生じた場合、断線率は５％であるとして評価した。

　前記本発明の一実施形態である加工液は、潤滑性、消泡性、及び清浄性のバランスに優れる。
　潤滑性に優れているため、シリコンインゴット等の脆性材料からなる被加工材を切断加工する際の加工効率の向上、被加工材と被加工材を加工する工具との摩擦抑制、加工により発生する摩擦熱の低減、工具の寿命延長効果が期待できる。更に、より細いワイヤを用いて加工する場合にも、優れた加工精度を得ることが可能となる。
　また、例えば、前述した被加工材を切断加工する際の加工時に、当該加工液の泡立ちを抑制することができ、泡立ちが原因で当該加工液を受けるタンクから当該加工液が溢れだす（オーバーフローの発生）不具合、又は泡立ちが原因で発生する加工精度の低下等の悪影響を防止することができる。
　また、清浄性に優れているため、例えば、前述した被加工材を切断加工する際の加工時に、当該加工に用いる切断機等の加工機や被切削材等の被加工材の切粉等の微粉による汚染を抑制できる。結果、加工機や加工物の洗浄が容易となる。
　以上のとおり、前記本発明の一実施形態である加工液は、潤滑性、消泡性、及び清浄性のバランスに優れるため、シリコンインゴット等の脆性材料からなる被加工材を切断加工して得られる製品の生産性向上に貢献できる。
　そして、前述のとおり、前記本発明の一実施形態である加工液は、シリコンインゴット等の脆性材料の切断加工に用いる加工液として好適に使用されるものである。そして、前記本発明の一実施形態である加工液は、潤滑性、消泡性、及び清浄性のバランスに優れ、ワイヤ断線も抑制できる等、高い加工精度と生産性（歩留まり向上）に貢献できるため、より好適には、固定砥粒ワイヤを用いて、シリコンインゴットからシリコンウェハを切り出す加工のクーラントとして使用されるものである。

Claims

　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を含む加工液であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．０１０質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００５質量％以上０．０９０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００６質量％以上である、
加工液。
　成分（Ａ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．２００質量％以下である、請求項１に記載の加工液。
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．１００質量％以下である、請求項１又は２に記載の加工液。
　成分（Ａ）が、１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物である、請求項１～３のいずれか一項に記載の加工液。
　成分（Ｂ）が、１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物である、請求項１～４のいずれか一項に記載の加工液。
　成分（Ａ）の含有量と成分（Ｂ）の含有量との比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が、質量比で１．００以上である、請求項１～５のいずれか一項に記載の加工液。
　成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計含有量と成分（Ｃ）の含有量との比〔（Ａ）＋（Ｂ）／（Ｃ）〕が、質量比で１．００以上である、請求項１～６のいずれか一項に記載の加工液。
　成分（Ｄ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で９５．０００質量％以上９９．９７９質量％以下である、請求項１～７のいずれか一項に記載の加工液。
　ｐＨが３．０以上９．０以下である、請求項１～８のいずれか一項に記載の加工液。
　ワイヤを用いて脆性材料からなる被加工材を加工する時に用いる、請求項１～９のいずれか一項に記載の加工液。
　前記ワイヤが、固定砥粒ワイヤである、請求項１０に記載の加工液。
　前記脆性材料が、結晶シリコン、サファイア、炭化ケイ素、窒化ガリウム、ネオジム磁石、水晶、又は、ガラスである、請求項１０又は１１に記載の加工液。
　少なくとも、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を配合する、加工液の製造方法であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．０１０質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００５質量％以上０．０９０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液の全量１００質量％基準で０．００６質量％以上、
となるように配合して加工液を得る、請求項１～１２のいずれか一項に記載の加工液の製造方法。
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を含む加工液用組成物であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．２００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１００質量％以上９２．０００質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１２０質量％以上である、
加工液用組成物。
　少なくとも、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下でであって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、並びに、
　成分（Ｄ）：水
を配合する、加工液用組成物の製造方法であって、
　成分（Ａ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．２００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１００質量％以上９２．０００質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、加工液用組成物の全量１００質量％基準で０．１２０質量％以上、
となるように配合して加工液用組成物を得る、請求項１４に記載の加工液用組成物の製造方法。
　下記成分（Ａ）～（Ｃ）を含む添加剤混合物、及び成分（Ｄ）：水を含む、脆性材料加工液組成物であって、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、
　前記添加剤混合物中、
　成分（Ａ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で２０．００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上５３．５０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上である、
脆性材料加工液組成物。
　少なくとも、下記成分（Ａ）～（Ｃ）を含む添加剤混合物、及び成分（Ｄ）：水を配合する、脆性材料加工液組成物の製造方法であって、
　成分（Ａ）：１質量％水溶液の曇点が２０℃以上５０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｂ）：１質量％水溶液の曇点が５０℃超８０℃以下であって、エチレンオキサイドとエチレンオキサイド以外のアルキレンオキサイドとの共重合部位を含み、かつ、アセチレン基を有しない化合物、
　成分（Ｃ）：ＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコール、及びＨＬＢ値が４以上１２以下であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物からなる群より選ばれる１種以上、
　前記添加剤混合物中、
　成分（Ａ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で２０．００質量％以上であり、
　成分（Ｂ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上５３．５０質量％以下であり、かつ、
　成分（Ｃ）の含有量が、前記添加剤混合物の全量１００質量％基準で５．００質量％以上、
となるように配合して脆性材料加工液組成物を得る、請求項１６に記載の脆性材料加工液組成物の製造方法。