WO2022130878A1 - 基板搬送システム及び基板搬送装置 - Google Patents

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WO2022130878A1
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moving body
line
contact force
actuator
along
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剛 山口
義昭 久保田
健輔 大仁
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株式会社安川電機
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    • B65G2203/04—Detection means
    • B65G2203/042—Sensors

Definitions

  • This disclosure relates to a board transfer system and a board transfer device.
  • Patent Document 1 discloses a substrate processing device that transports a substrate by a mobile robot that moves in a transport chamber by being driven by a linear motor.
  • the present disclosure provides a substrate transfer system that is effective in achieving both transfer accuracy and dust generation suppression.
  • the substrate transfer system includes a linear transfer device that transports a substrate along a transfer line, and a linear transfer device that receives a substrate from the linear transfer device and carries it into a processing unit, and then carries out the board from the processing unit to carry it linearly.
  • the linear transfer device includes a robot to be passed to the device, a first moving body that moves along the transfer line, a second moving body that supports the substrate, and a second moving body that is levitated with respect to the first moving body.
  • a non-contact force generating unit that exerts a non-contact force from the first moving body to the second moving body is provided so as to make the second moving body follow the movement of the first moving body.
  • the substrate transfer device includes a first moving body that moves along a transport line, a second moving body that supports the substrate, and a second moving body that floats with respect to the first moving body.
  • a non-contact force generating portion that generates a non-contact force between the first moving body and the second moving body is provided so as to make the second moving body follow the movement of the first moving body.
  • the generating portion faces the second moving body along the first crossing line that intersects the transport line, and intersects the transport line and the first crossing line with the first actuator that exerts a non-contact force on the second moving body.
  • It has a second actuator that faces the second moving body along the second crossing line and exerts a non-contact force on the second moving body, and the first actuator has a first non-contact force parallel to the transport line. Is applied to the second moving body, and the second actuator exerts a second non-contact force parallel to the transport line on the second moving body.
  • the substrate transfer system 1 shown in FIG. 1 is a system for transporting a substrate to be processed in the substrate processing system PS.
  • the substrate to be processed include a semiconductor substrate, a glass substrate, a mask substrate, an FPD (Flat Panel Display) substrate, and the like.
  • the board transfer system 1 includes a linear transfer device 2, a robot 3, and a controller 100.
  • the linear transfer device 2 (board transfer device) conveys the substrate W to be processed along the transfer line.
  • the robot 3 receives the board W from the linear transfer device 2 and carries it into the processing unit PU of the board processing system PS, and carries out the board W from the processing unit PU and passes it to the linear transfer device 2.
  • the controller 100 controls the linear transfer device 2 and the robot 3.
  • the robot 3 has a base 7, a hand 5, an articulated arm 4, and an elevating drive unit 6.
  • the base 7 is fixed between the processing unit PU and the linear transfer device 2.
  • the hand 5 supports the substrate W substantially horizontally.
  • the articulated arm 4 changes the position and posture of the hand 5 with respect to the base 7 along a horizontal plane.
  • the elevating drive unit 6 elevates the articulated arm 4 and the hand 5 with respect to the base 7.
  • the board processing system PS may include a plurality of processing units PU.
  • the substrate transfer system 1 may include a plurality of robots 3.
  • the substrate processing system PS includes a plurality of processing unit PUs arranged along the horizontal unit arrangement line L31.
  • the substrate transfer system 1 includes a plurality of robots 3 arranged along the robot arrangement line L32 parallel to the unit arrangement line L31.
  • FIG. 1 shows four processing unit PUs and two robots 3, but the number of processing unit PUs and the number of robots 3 are not limited to this.
  • the substrate transfer system 1 includes four processing units PU1, PU2, PU3, PU4 and two robots 3A, 3B.
  • the processing units PU1, PU2, PU3, and PU4 are arranged in order along the unit arrangement line L31.
  • the base 7 of the robot 3A is arranged so as to correspond to the processing units PU1 and PU2, and the base 7 of the robot 3B is arranged so as to correspond to the processing units PU3 and PU4.
  • the robot 3A receives the board W from the linear transfer device 2, carries it into the processing unit PU1 or the processing unit PU2, carries out the board W from the processing unit PU1 or the processing unit PU2, and passes it to the linear transfer device 2.
  • the robot 3B receives the board W from the linear transfer device 2, carries it into the processing unit PU3 or the processing unit PU4, carries out the board W from the processing unit PU3 or the processing unit PU4, and passes it to the linear transfer device 2.
  • the linear transfer device 2 moves along the transfer line TL in a state where the levitation unit supporting the substrate W is floated.
  • the transport line TL is horizontal is illustrated, but the transport line TL may be inclined with respect to the horizontal.
  • the linear transfer device 2 is provided so as to sandwich the robot arrangement line L32 with the unit arrangement line L31 when viewed from above, and is provided along the transfer line TL parallel to the unit arrangement line L31 and the robot arrangement line L32. Move the levitation unit.
  • the linear transfer device 2 has a levitation unit 10 and a drive unit 40.
  • the levitation unit 10 (second moving body) has a bottom frame 11, a side frame 12, a first support 13, and a second support 14.
  • the bottom frame 11 constitutes the bottom of the levitation unit 10.
  • the bottom frame 11 has side edges 11a and 11b along the longitudinal direction and edge edges 11c and 11d along the lateral direction.
  • the levitation unit 10 is arranged substantially horizontally on the drive unit 40 so that the side edges 11a and 11b are along the transport line TL. Seen from above, the side edge 11a is located opposite the robot array line L32 with respect to the side edge 11b.
  • the side frame 12 extends upward from the side edge 11a of the bottom frame 11 and constitutes a side portion of the levitation unit 10.
  • the side frame 12 has an edge 12a that faces the same direction as the edge 11c, an edge 12b that faces the same direction as the edge 11d, and an upper edge 12c.
  • the first support 13 and the second support 14 are fixed to the upper edge 12c of the side frame 12 so as to line up along the transport line TL, and each support the substrate W.
  • the first support 13 has support beams 13a and 13b arranged along the transport line TL.
  • Each of the support beams 13a and 13b projects from the upper edge 12c of the side frame 12 toward the robot array line L32 and supports the substrate W above the bottom frame 11.
  • the support beams 13a and 13b project to the distal side of the side edge 11b of the bottom frame 11.
  • the distance between the support beams 13a and 13b is larger than the width of the hand 5. Therefore, it is possible for the hand 5 to support the substrate W between the support beams 13a and 13b.
  • the second support 14 has support beams 14a and 14b arranged along the transport line TL. Each of the support beams 14a and 14b projects so as to extend above the bottom frame 11 from the upper edge of the side frame 12 to support the substrate W. With reference to the side frame 12, the support beams 14a and 14b project to the distal side of the side edge 11b of the bottom frame 11. The distance between the support beams 14a and 14b is larger than the width of the hand 5. Therefore, it is possible for the hand 5 to support the substrate W between the support beams 14a and 14b.
  • the levitation unit 10 has a first mover 21 and a second mover 22.
  • the first mover 21 and the second mover 22 are portions on which the non-contact force of the drive unit 40 acts.
  • a first non-contact force F01 at least parallel to the transport line TL acts on the first mover 21.
  • the first mover 21 is fixed to the lower surface of the bottom frame 11 near the side edge 11a.
  • the first mover 21 has a plurality of permanent magnets 21m arranged along an array line L01 parallel to the transport line TL, and a yoke 21c holding the plurality of permanent magnets 21m.
  • the first non-contact force F01 acts on the first mover 21 along the array line L01.
  • a second non-contact force F02 parallel to at least the transport line TL acts on the second mover 22.
  • the second mover 22 is fixed to the outer surface of the side frame 12.
  • the outer surface of the side frame 12 is a surface opposite to the direction in which the first support 13, the second support 14, and the bottom frame 11 project from the side frame 12 (direction toward the robot array line L32).
  • the second mover 22 has a plurality of permanent magnets 22m arranged along the arrangement line L02 parallel to the transport line TL, and a yoke 22c holding the plurality of permanent magnets 22m.
  • the second non-contact force F02 acts on the second mover 22 along the array line L02.
  • the levitation unit 10 may further have a third mover 23.
  • the third mover 23 is also a portion on which the non-contact force of the drive unit 40 acts.
  • a third non-contact force F03 at least parallel to the transport line TL acts on the third mover 23.
  • the third mover 23 is fixed to the lower surface of the bottom frame 11 near the side edge 11b.
  • the third mover 23 has a plurality of permanent magnets 23m arranged along the arrangement line L03 parallel to the transport line TL, and a yoke 23c holding the plurality of permanent magnets 23m.
  • the third non-contact force F03 acts on the third mover 23 along the array line L03.
  • the second mover 22 is separated upward from the virtual plane VP1 including the sequence line L01 and the sequence line L03.
  • the levitation unit 10 further has one or more positioning targets 30 to be detected for displacement.
  • one or more positioning targets 30 include a first positioning target 31, a second positioning target 32, a third positioning target 33, a fourth positioning target 34, a fifth positioning target 35, and a sixth positioning target 36. including.
  • the first positioning target 31 is fixed to the lower surface of the portion of the bottom frame 11 between the edge 11c and the first mover 21.
  • the first positioning target 31 is a positioning target by a linear sensor 82 described later, and includes a magnet for generating magnetostriction.
  • the second positioning target 32 is fixed to the lower surface of the portion of the bottom frame 11 between the edge 11d and the first mover 21.
  • the second positioning target 32 is a positioning target by the gap sensor 83a described later, and includes a conductive member through which an eddy current flows.
  • the third positioning target 33 is fixed to the lower surface of the portion of the bottom frame 11 between the edge 11c and the third mover 23.
  • the third positioning target 33 is a positioning target by the gap sensor 83c described later, and includes a conductive member through which an eddy current flows.
  • the fourth positioning target 34 is fixed to the lower surface of the portion of the bottom frame 11 between the edge 11d and the third mover 23.
  • the fourth positioning target 34 is a positioning target by the gap sensor 83d described later, and includes a conductive member through which an eddy current flows.
  • the fifth positioning target 35 is fixed to the outer surface of the portion of the side frame 12 between the end edge 12a and the second mover 22.
  • the fifth positioning target 35 is a positioning target by the gap sensor 83b described later, and includes a conductive member through which an eddy current flows.
  • the sixth positioning target 36 is fixed to the outer surface of the portion of the side frame 12 between the edge 12b and the second mover 22.
  • the sixth positioning target 36 is a positioning target by the gap sensor 83e described later, and includes a conductive member through which an eddy current flows.
  • the drive unit 40 is moved in a state where the levitation unit 10 is levitated.
  • the drive unit 40 has a moving base 50, a base drive unit 60, a non-contact force generating unit 70, a position / attitude detecting unit 80, and a housing 90.
  • the moving base 50 (first moving body) is located below the levitation unit 10 and moves along the transport line TL.
  • the moving base 50 has a bottom plate 51 and a side plate 52.
  • the bottom plate 51 constitutes the bottom of the moving base 50.
  • the bottom plate 51 has side edges 51a and 51b along the longitudinal direction and edge edges 51c and 51d along the lateral direction.
  • the side edge 51a faces the same direction as the side edge 11a of the bottom frame 11
  • the side edge 51b faces the same direction as the side edge 11b of the bottom frame 11
  • the edge 51c faces the edge 11c of the bottom frame 11.
  • the edge 51d is arranged substantially horizontally so as to face the same direction as the edge 11d of the bottom frame 11.
  • the side plate 52 extends upward from the side edge 51a of the bottom plate 51 and constitutes the side portion of the moving base 50.
  • the side plate 52 has an edge 52a that faces the same direction as the edge 51c and an edge 52b that faces the same direction as the edge 51d.
  • the base drive unit 60 moves the moving base 50 along the transport line TL.
  • the base drive unit 60 includes a base stage 61, linear guides 62 and 63, and a linear actuator 64.
  • the base stage 61 extends below the moving base 50 along the transport line TL.
  • the linear guides 62 and 63 guide the moving base 50 so as to move in parallel with the transport line TL.
  • the linear guides 62 and 63 are arranged in a direction perpendicular to the transport line TL.
  • the linear guide 62 has a rail 62r and a block 62b.
  • the rail 62r extends parallel to the transport line TL below the portion of the bottom plate 51 near the side edge 51a and is fixed to the upper surface of the base stage 61.
  • the block 62b is fixed to the lower surface of the bottom plate 51 near the side edge 51a.
  • the block 62b is attached to the rail 62r via a rolling element such as a ball so that the block 62b can move in parallel with the transport line TL.
  • the linear guide 63 has a rail 63r and a block 63b.
  • the rail 63r extends parallel to the transport line TL below the portion of the bottom plate 51 near the side edge 51b and is fixed to the upper surface of the base stage 61.
  • the block 63b is fixed to the lower surface of the bottom plate 51 near the side edge 51b.
  • the block 63b is attached to the rail 63r via a rolling element such as a ball so that the block 63b can move in parallel with the transport line TL.
  • the linear actuator 64 has a stator 64f and a mover 64m.
  • the mover 64m is fixed to the lower surface of the bottom plate 51 between the block 62b and the block 63b.
  • the stator 64f extends parallel to the transport line TL in a state of facing the mover 64m and is fixed to the upper surface of the base stage 61.
  • the stator 64f exerts a thrust along the transport line TL on the mover 64m.
  • the mover 64m has one or more permanent magnets.
  • the stator 64f has a plurality of coils arranged along a direction parallel to the transport line TL, and generates a moving magnetic field that moves parallel to the transport line TL according to the supply of electric power.
  • the thrust acts on the mover 64m by the moving magnetic field and the magnetic field of the permanent magnet.
  • the configuration of the linear actuator 64 is not particularly limited and can be changed as appropriate.
  • the linear actuator 64 may be configured to exert thrust on the moving base 50 by a rotary motor and a ball screw.
  • the non-contact force generating unit 70 applies a non-contact force from the moving base 50 to the floating unit 10 so that the floating unit 10 follows the movement of the moving base 50 while the floating unit 10 is levitated with respect to the moving base 50. ..
  • Non-contact force means a force acting between two objects even if they are not in contact with each other.
  • Specific examples of non-contact force include magnetic force, gravity, Coulomb force and the like.
  • the non-contact force generating unit 70 generates a magnetic force from the moving base 50 to the levitation unit 10.
  • the non-contact force generating unit 70 may be configured to change the position of the levitation unit 10 relative to the moving base 50 at least along the transport line TL. Further, the non-contact force generating unit 70 may be configured to change the posture of the levitation unit 10 relative to the moving base 50.
  • the non-contact force does not necessarily act in a concentrated manner at one point, but the "non-contact force" in the following means a force in which a group of non-contact forces is expressed as being concentrated in one point of action. ..
  • the non-contact force generating unit 70 may be configured to generate six non-contact forces independent of each other between the moving base 50 and the levitation unit 10.
  • the fact that three or more non-contact forces are independent of each other means a relationship in which each non-contact force cannot be combined with the remaining two or more non-contact forces in the three or more non-contact forces. do.
  • the three non-contact forces are parallel to each other in the same plane. In this case, it is possible to substitute the contact force of the remaining one by adjusting the magnitude of the contact force of two of the three non-contact forces.
  • the non-contact force generating unit 70 includes one or more actuators, and one or more actuators may include one actuator that generates two or more non-contact forces out of the above six non-contact forces.
  • the non-contact force generating unit 70 has a first actuator 71 and a second actuator 72.
  • the first actuator 71 faces the levitation unit 10 along the first intersection line that intersects (for example, orthogonally) the transfer line TL, and exerts a non-contact force on the levitation unit 10. "Cross" also includes cases where there is a twisting relationship such as so-called grade separation. The same applies to the following.
  • the first actuator 71 may apply a first non-contact force parallel to the transfer line TL to the levitation unit 10.
  • the first actuator 71 may further exert a first crossing non-contact force along the first crossing line on the levitation unit 10.
  • the first actuator 71 may be provided so as to face the levitation unit 10 from below.
  • the first actuator 71 is fixed to the upper surface of the bottom plate 51 near the side edge 51a, and is fixed from below along the vertical crossing line L11 (first crossing line) orthogonal to the transport line TL. Facing the first mover 21.
  • the first actuator 71 causes the first non-contact force F01 along the arrangement line L01 to act on the first mover 21 in parallel with the transport line TL, and causes the first cross-contact non-contact force F11 along the crossing line L11. 1 Further acts on the mover 21.
  • the first actuator 71 may be a linear motor that displaces the levitation unit 10 along the transfer line TL.
  • the first actuator 71 has a plurality of coils 71c arranged along the array line L04 parallel to the transfer line TL.
  • the plurality of coils 71c generate a moving magnetic field that moves parallel to the transport line TL along the array line L01 according to the supply of electric power.
  • the first non-contact force F01 and the first cross-contact non-contact force F11 act on the first mover 21 by the moving magnetic field and the magnetic fields of the plurality of permanent magnets 21 m of the first mover 21.
  • the second actuator 72 faces the levitation unit 10 along the second intersection line that intersects (for example, orthogonally) the transfer line TL and the intersection line L11, and exerts a non-contact force on the levitation unit 10.
  • the second actuator 72 may exert a second non-contact force parallel to the transport line TL on the levitation unit 10.
  • the second actuator 72 may further exert a second crossing non-contact force along the second crossing line on the levitation unit 10.
  • the second actuator 72 may be provided so as to face the levitation unit 10 from the direction opposite to the direction in which the robot 3 is arranged with respect to the linear transfer device 2.
  • the second actuator 72 is fixed to the inner surface of the side plate 52.
  • the inner surface of the side plate 52 is a surface facing the direction in which the bottom plate 51 projects from the side plate 52 (a surface facing the robot arrangement line L32).
  • the inner surface of the side plate 52 faces the outer surface of the side frame 12.
  • the second actuator 72 faces the second mover 22 along the horizontal crossing line L12 (second crossing line).
  • the second actuator 72 causes the second non-contact force F02 parallel to the transport line TL and along the array line L02 to act on the second mover 22, and causes the second non-contact force F12 along the cross line L12 to be second. Further act on the mover 22.
  • the second actuator 72 may be a linear motor that displaces the levitation unit 10 along the transfer line TL.
  • the second actuator 72 has a plurality of coils 72c arranged along the array line L05 parallel to the transfer line TL.
  • the plurality of coils 72c generate a moving magnetic field that moves parallel to the transport line TL along the array line L02 according to the supply of electric power.
  • the second non-contact force F02 and the second cross-contact non-contact force F12 act on the second mover 22 by the moving magnetic field and the magnetic fields of the plurality of permanent magnets 22 m of the second mover 22.
  • the non-contact force generating unit 70 may further have a third actuator 73.
  • the third actuator 73 faces the levitation unit 10 along a third intersection line that intersects (for example, is orthogonal to) the second intersection line and is parallel to the first intersection line, and exerts a non-contact force on the levitation unit 10.
  • the third actuator 73 may exert a third non-contact force parallel to the transport line TL on the levitation unit 10.
  • the third actuator 73 may further exert a third crossing non-contact force along the third crossing line on the levitation unit 10.
  • the third actuator 73 may be provided so as to face the levitation unit 10 from below.
  • the third actuator 73 is fixed to the upper surface of the bottom plate 51 near the side edge 51b, and is fixed from below along the vertical crossing line L13 (third crossing line) orthogonal to the transport line TL. Facing the third mover 23.
  • the third actuator 73 causes the third non-contact force F03 parallel to the transport line TL and along the arrangement line L03 to act on the third mover 23, and causes the third cross-contact non-contact force F13 along the crossing line L13. 3 Further acts on the mover 23.
  • the third actuator 73 may be a linear motor that displaces the levitation unit 10 along the transfer line TL.
  • the third actuator 73 has a plurality of coils 73c arranged along the array line L06 parallel to the transfer line TL.
  • the plurality of coils 73c generate a moving magnetic field that moves parallel to the transport line TL along the array line L03 according to the supply of electric power.
  • the third non-contact force F03 and the third cross-contact non-contact force F13 act on the third mover 23 by the moving magnetic field and the magnetic fields of the plurality of permanent magnets 23 m of the third mover 23.
  • the first actuator 71 and the third actuator 73 may be configured to generate a larger non-contact force than the second actuator 72.
  • the number of coils 71c of the first actuator 71 is larger than the number of coils 72c of the second actuator 72.
  • the number of coils 73c of the third actuator 73 is also larger than the number of coils 72c of the second actuator 72. Accordingly, the first actuator 71 is longer than the second actuator 72, and the third actuator 73 is also longer than the second actuator 72.
  • the number of permanent magnets 21 m of the first mover 21 is larger than the number of permanent magnets 22 m of the second mover 22.
  • the number of permanent magnets 23m of the third mover 23 is also larger than the number of permanent magnets 22m of the second mover 22. Accordingly, the first mover 21 is longer than the second mover 22, and the third mover 23 is also longer than the second mover 22.
  • the position / attitude detection unit 80 detects the relative position / attitude of the levitation unit 10 with respect to the moving base 50 in a non-contact manner.
  • the position / attitude detection unit 80 may be configured to detect the displacement of the levitation unit 10 along the six positioning lines independent of each other in a non-contact manner.
  • the fact that three or more positioning lines are independent of each other means that in the three or more positioning lines, the vector along each positioning line can be combined with the vector along the remaining two or more positioning lines. Means no relationship.
  • the vector along the positioning line means a vector located along the positioning line and on the positioning line.
  • the position / attitude detection unit 80 may include a linear sensor 82.
  • the linear sensor 82 faces the levitation unit 10 along a sensing line that intersects the transfer line TL, and detects a relative displacement of the levitation unit 10 with respect to the movement base 50 along the transfer line TL.
  • the linear sensor 82 is fixed to the upper surface of the portion of the bottom plate 51 between the edge 51c and the first actuator 71, and is fixed from below along the vertical sensing line L21 orthogonal to the transport line TL. Facing the first positioning target 31.
  • the linear sensor 82 detects the displacement of the first positioning target 31 along the array line L01 (positioning line) parallel to the transport line TL.
  • the linear sensor 82 is a magnetostrictive sensor and includes a magnetostrictive line along the array line L01.
  • the linear sensor 82 detects the displacement of the first positioning target 31 based on the torsional strain generated by the magnet of the first positioning target 31 on the magnetostrictive line.
  • the position / attitude detection unit 80 may include the gap sensor 83a.
  • the gap sensor 83a faces the levitation unit 10 along a second sensing line that intersects (for example, is orthogonal to) the transport line TL, and detects the distance from the movement base 50 to the levitation unit 10.
  • the position / attitude detection unit 80 may further include a gap sensor 83b.
  • the gap sensor 83b faces the levitation unit 10 along a third sensing line that intersects (for example, orthogonally) the transport line TL and the second sensing line, and detects the distance from the moving base 50 to the levitation unit 10.
  • the gap sensor 83a may be provided so as to face the levitation unit 10 from below.
  • the gap sensor 83a is fixed to the upper surface of the portion of the bottom plate 51 between the edge 51d and the first actuator 71, and is a vertical sensing line L22 (second sensing line) orthogonal to the transport line TL. Facing the second positioning target 32 from below.
  • the gap sensor 83a detects the distance to the second positioning target 32 along the sensing line L22 (positioning line).
  • the gap sensor 83b may be provided so as to face the levitation unit 10 from the direction opposite to the direction in which the robot 3 is arranged with respect to the linear transfer device 2.
  • the gap sensor 83b is fixed to the inner surface of the portion of the side plate 52 between the edge 52a and the second actuator 72, and is a horizontal sensing line L23 (third sensing line) orthogonal to the transport line TL. Facing the fifth positioning target 35 along the line.
  • the gap sensor 83b detects the distance to the fifth positioning target 35 along the sensing line L23 (positioning line).
  • the position / attitude detection unit 80 may further include the gap sensors 83c, 83d, 83e.
  • the gap sensors 83c and 83d may be provided so as to face the levitation unit 10 from below.
  • the gap sensor 83c is fixed to the upper surface of the portion of the bottom plate 51 between the edge 51c and the third actuator 73, and is a vertical sensing line L24 (second sensing line) orthogonal to the transport line TL. ), Facing the third positioning target 33 from below.
  • the gap sensor 83c detects the distance to the third positioning target 33 along the sensing line L24 (positioning line).
  • the gap sensor 83d is fixed to the upper surface of the portion of the bottom plate 51 between the edge 51d and the third actuator 73, and is attached to a vertical sensing line L25 (second sensing line) orthogonal to the transport line TL. Along the line, it faces the fourth positioning target 34 from below.
  • the gap sensor 83d detects the distance to the fourth positioning target 34 along the sensing line L25 (positioning line).
  • the gap sensor 83e may be provided so as to face the levitation unit 10 from the direction opposite to the direction in which the robot 3 is arranged with respect to the linear transfer device 2.
  • the gap sensor 83e is fixed to the inner surface of the portion of the side plate 52 between the edge 52b and the second actuator 72, and is a horizontal sensing line L26 (third sensing line) orthogonal to the transport line TL. Facing the sixth positioning target 36 along the line.
  • the gap sensor 83e detects the distance to the sixth positioning target 36 along the sensing line L26 (positioning line).
  • the gap sensors 83a, 83b, 83c, 83d, 83e are eddy current type sensors.
  • the eddy current type sensor includes a coil that generates a magnetic flux at a high frequency, and detects the distance to the positioning target based on the impedance change of the coil according to the eddy current generated in the conductive member of the positioning target.
  • the housing 90 accommodates the moving base 50, the base driving unit 60, the non-contact force generating unit 70, and the position / attitude detecting unit 80, and has an internal space 94 (first space) in which the moving base 50 moves. , Separate from the external space 95 (second space) to which the levitation unit 10 moves. In the internal space 94, dust may be generated by the linear guides 62, 63 and the like, but the generated dust is kept in the internal space 94 by the housing 90, so that the external space 95 is kept clean.
  • the housing 90 includes a partition wall 91 made of a non-magnetic material such as reinforced plastic.
  • the partition wall 91 partitions the internal space 94 and the external space 95 between the levitation unit 10 and the moving base 50.
  • the partition wall 91 may include a first partition wall 92 and a second partition wall 93.
  • the first partition wall 92 partitions between the first actuator 71 and the third actuator 73 and the levitation unit 10.
  • the first actuator 71 causes the first non-contact force F01 and the first cross-contact non-contact force F11 to act on the first mover 21 via the first partition wall 92.
  • the third actuator 73 causes the third non-contact force F03 and the third cross-contact non-contact force F13 to act on the third mover 23 via the first partition wall 92.
  • the first partition wall 92 also partitions between the linear sensor 82, the gap sensors 83a, 83c, 83d and the levitation unit 10.
  • the linear sensor 82 detects the displacement of the first positioning target 31 via the first partition wall 92
  • the gap sensor 83a detects the distance to the second positioning target 32 via the first partition wall 92
  • the gap sensor 83c detects the distance to the second positioning target 32.
  • the distance to the third positioning target 33 is detected via the first partition wall 92
  • the gap sensor 83d detects the distance to the fourth positioning target 34 via the first partition wall 92.
  • the second partition wall 93 stands up against the first partition wall 92 and partitions between the second actuator 72 and the levitation unit 10.
  • the second actuator 72 causes the second non-contact force F02 and the second cross-contact non-contact force F12 to act on the second mover 22 via the second partition wall 93.
  • the second partition wall 93 also partitions between the gap sensors 83b and 83e and the levitation unit 10.
  • the gap sensor 83b detects the distance to the fifth positioning target 35 via the second partition wall 93
  • the gap sensor 83e detects the distance to the sixth positioning target 36 via the second partition wall 93.
  • FIG. 6 is a schematic diagram summarizing the non-contact force and the positioning line.
  • the drive unit 40 has six independent first non-contact forces F01, a second non-contact force F02, a third non-contact force F03, a first crossing non-contact force F11, and a second crossing.
  • a non-contact force F12 and a third crossing non-contact force F13 are applied to the levitation unit 10.
  • the relative position of the levitation unit 10 on the X axis (relative position with respect to the movement base 50) in the figure along the transport line TL
  • the relative position of the levitation unit 10 on the vertical Z axis and perpendicular to the X axis and the Z axis.
  • the relative position of the levitation unit 10 on the X-axis can be changed.
  • the total of the first crossing non-contact force F11 and the third crossing non-contact force F13 the relative position of the levitation unit 10 on the Z axis can be changed.
  • the relative position of the levitation unit 10 on the Y axis can be changed.
  • the relative posture of the levitation unit 10 around the X axis can be changed.
  • the relative posture of the levitation unit 10 around the Y axis can be changed.
  • the relative posture of the levitation unit 10 around the Z axis can be changed.
  • the drive unit 40 detects the relative displacement (relative displacement with respect to the movement base 50) of the levitation unit 10 along the six positioning lines independent of each other.
  • the relative displacement of the levitation unit 10 on the X axis, the relative displacement of the levitation unit 10 on the Z axis, the relative displacement of the levitation unit 10 on the Y axis, the relative rotation of the levitation unit 10 around the X axis, and the levitation unit around the Y axis It is possible to detect all of the relative rotations of the 10 and the relative rotations of the levitation unit 10 around the Z axis.
  • the relative displacement on the X-axis can be detected based on the relative displacement along the array line L01 (positioning line).
  • Relative displacement in the Z axis can be detected based on the relative displacement along the sensing lines L22, L24, L25 (positioning line).
  • Relative displacement in the Y-axis can be detected based on the relative displacement along the sensing lines L23 and L26.
  • Detects relative posture around the X-axis and relative posture around the Y-axis based on the relationship between the relative displacement along the sensing line L22, the relative displacement along the sensing line L24, and the relative displacement along the sensing line L25. can do.
  • the relative posture around the Z axis can be detected based on the relationship between the relative displacement along the sensing line L23 and the relative displacement along the sensing line L26.
  • the configuration of the drive unit 40 for generating six non-contact forces independent of each other is not limited to the configuration exemplified above. There are innumerable configurations for generating six independent non-contact forces.
  • FIG. 7 shows the second actuator 22 provided on the side frame 12 and the second actuator 72 provided on the side plate 52 in the above-described configuration, the second mover 22A provided on the bottom frame 11 and the second actuator 72.
  • the configuration is shown in which the second actuator 72A provided on the bottom plate 51 is replaced.
  • the second mover 22A is fixed to the lower surface of the bottom frame 11 near the end edge 11c.
  • the second actuator 72A is fixed to the upper surface of the portion of the bottom plate 51 near the end edge 51c, and is located below the second mover 22A.
  • the second actuator 72A causes a second non-contact force F22 along the Y axis to act on the second mover 22A of the levitation unit 10. Further, the second actuator 72A causes a second crossing non-contact force F32 along the Z axis to act on the second mover 22A of the levitation unit 10.
  • the relative position of the levitation unit 10 on the X axis, the relative position of the levitation unit 10 on the Z axis, the relative position of the levitation unit 10 on the Y axis, the relative attitude of the levitation unit 10 around the X axis, and the relative position around the Y axis It is possible to change all of the relative postures of the levitation unit 10 and the relative stances of the levitation unit 10 around the Z axis.
  • the configuration of the drive unit 40 for detecting the relative displacement of the levitation unit 10 in the six positioning lines independent of each other is not limited to the configuration exemplified above. There are innumerable configurations for detecting the relative displacement of the levitation unit 10 in six positioning lines independent of each other.
  • FIG. 7 shows the bottom frame 11 with the third positioning target 33 and the sixth positioning target 36 provided on the side frame 12 and the gap sensors 83b and 83e provided on the side plate 52 in the above-described configuration.
  • the configuration is shown in which the third positioning target 33A and the sixth positioning target 36A provided in the bottom plate 51 are replaced with the linear sensors 84a and 84b provided in the bottom plate 51.
  • the third positioning target 33A is fixed to the lower surface of the portion of the bottom frame 11 between the end edge 11c and the second mover 22A.
  • the sixth positioning target 36A is fixed to the lower surface of the portion of the bottom frame 11 between the edge 11d and the first mover 21 and the third mover 23.
  • the linear sensor 84a is fixed to the upper surface of the portion of the bottom plate 51 between the edge 51c and the second actuator 72A.
  • the linear sensor 84b is fixed to the upper surface of the portion of the bottom plate 51 between the edge 51d and the first actuator 71 and the second actuator 72.
  • the linear sensor 84a detects the relative displacement of the third positioning target 33A in the carrier line TL and the positioning line perpendicular to the vertical line.
  • the linear sensor 84b detects the relative displacement of the sixth positioning target 36A in the carrier line TL and the positioning line perpendicular to the vertical line.
  • the relative displacement of the levitation unit 10 on the X axis, the relative displacement of the levitation unit 10 on the Z axis, the relative displacement of the levitation unit 10 on the Y axis, the relative rotation of the levitation unit 10 around the X axis, and the relative rotation around the Y axis It is possible to detect all of the relative rotation of the levitation unit 10 and the relative rotation of the levitation unit 10 around the Z axis.
  • the side frame 12 and the side plate 52 can be omitted.
  • the second partition wall 93 located between the side frame 12 and the side plate 52 can also be omitted.
  • the controller 100 controls the non-contact force generated by the non-contact force generating unit 70 based on the relative position of the levitation unit 10 with respect to the moving base 50. For example, the controller 100 controls the non-contact force generated by the non-contact force generating unit 70, at least based on the detection result by the linear sensor 82.
  • the controller 100 may control the non-contact force generated by the non-contact force generating unit 70 based on at least the detection result by the linear sensor 82 and the detection result by the gap sensor 83a. As an example, the controller 100 controls the non-contact force generated by the non-contact force generating unit 70 based on the detection result by the linear sensor 82 and the detection result by the gap sensors 83a, 83b, 83c, 83d, 83e. May be good.
  • FIG. 8 is a flowchart illustrating the force control procedure by the controller 100.
  • the controller 100 executes steps S01, S02, and S03.
  • Step S01 includes acquiring the detection result by the position / posture detection unit 80.
  • Step S02 includes generating six non-contact force target values so that the detection result by the position / attitude detection unit 80 approaches the target relative position and target relative attitude of the levitation unit 10 with respect to the movement base 50.
  • Step S03 includes controlling the first actuator 71, the second actuator 72, and the third actuator 73 so that the six non-contact forces are adjusted to the target values, respectively.
  • the controller 100 repeats the above procedure in a predetermined control cycle.
  • FIG. 9 is a diagram illustrating a hardware configuration of the controller 100.
  • the controller 100 includes one or more processors 191, a memory 192, a storage 193, an input / output circuit 194, and a driver circuit 195.
  • the storage 193 has a computer-readable storage medium, such as a non-volatile semiconductor memory.
  • the storage 193 stores the control programs of the linear transfer device 2 and the robot 3.
  • This control program includes a program for causing the controller 100 to change three or more non-contact forces to the non-contact force generating unit 70 based on the detection result by the position / attitude detecting unit 80.
  • the memory 192 temporarily stores the program loaded from the storage medium of the storage 193 and the calculation result by the processor 191.
  • the processor 191 executes the above program in cooperation with the memory 192.
  • the input / output circuit 194 inputs / outputs an electric signal to / from the linear sensor 82 and the gap sensors 83a, 83b, 83c, 83d, 83e according to a command from the processor 191.
  • the driver circuit 195 outputs drive power to the first actuator 71, the second actuator 72, and the third actuator 73 according to the command from the processor 191.
  • the substrate transport system 1 receives the linear transport device 2 that transports the substrate W along the transport line TL and the substrate W from the linear transport device 2 and carries the substrate W into the processing unit PU, and the processing unit PU.
  • the linear transfer device 2 includes a robot that carries out the board W from the substrate W and passes it to the linear transfer device 2, and the linear transfer device 2 has a moving base 50 (first moving body) that moves along the transfer line TL and a levitation that supports the substrate W.
  • a non-contact force is applied from the moving base 50 to the floating unit 10 so that the floating unit 10 follows the movement of the moving base 50 while the floating unit 10 is levitated with respect to the unit 10 (second moving body) and the moving base 50.
  • a non-contact force generating unit 70 to act is provided.
  • a non-contact force is generated between the moving base 50 that moves along the transfer line TL and the levitation unit 10 that moves following the moving base 50.
  • the relative displacement of the levitation unit 10 with respect to the moving base 50 remains in a small range with respect to the moving amount of the moving base 50 in the transport path. Therefore, the fluctuation of the non-contact force according to the relative position of the levitation unit 10 with respect to the moving base 50 can be substantially ignored. Therefore, it is easy to maintain high accuracy of the relative position of the levitation unit 10 with respect to the movement base 50 while levating the levitation unit 10 with respect to the movement base 50.
  • the levitation unit 10 Since the levitation unit 10 is levitated with respect to the movement base 50, the space where the levitation unit 10 moves and the space where the movement base 50 moves can be separated. In the space where the moving base 50 moves, the position accuracy can be prioritized over the dust generation suppression, and the position accuracy of the moving base 50 can be improved. Therefore, it is effective in achieving both transfer accuracy and dust generation suppression.
  • the linear transfer device may have a partition wall 91 that separates the internal space 94 (first space) in which the moving base 50 moves and the external space 95 (second space) in which the levitation unit 10 moves.
  • the configuration in which the levitation unit 10 is levitated with respect to the moving base 50 is more effective for suppressing dust generation.
  • the non-contact force generating unit 70 faces the levitation unit 10 along the intersection line L11 (first intersection line) intersecting the transfer line TL, and causes the levitation unit 10 to exert a non-contact force on the first actuator 71 and the transfer. Even if it has a second actuator 72 that faces the levitation unit 10 along the intersection line L12 (second intersection line) that intersects the line TL and the intersection line L11 and exerts a non-contact force on the levitation unit 10. good. In this case, by facing the first actuator 71 and the second actuator 72 from different directions, it is easy to secure a space for arranging the actuators.
  • the first actuator 71 exerts a first non-contact force F01 parallel to the transport line TL on the levitation unit 10
  • the second actuator 72 exerts a second non-contact force F02 parallel to the transport line TL on the levitation unit 10. You may let me. In this case, since the non-contact force parallel to the transport line TL is applied in double, the positioning accuracy of the levitation unit 10 along the transport line TL can be improved.
  • the first actuator 71 further acts the first crossing non-contact force F11 along the crossing line L11 on the levitation unit 10
  • the second actuator 72 further exerts the second crossing non-contact force F12 along the crossing line L12 on the levitation unit 10. 10 may be further acted upon.
  • the structure can be simplified.
  • the first actuator 71 and the second actuator 72 may be linear motors that displace the levitation unit 10 along the transfer line TL. In this case, the positioning accuracy can be further improved.
  • the substrate transfer system 1 is a third actuator that faces the levitation unit 10 along the intersection line L13 (third intersection line) that intersects the intersection line L12 and is parallel to the intersection line L11, and exerts a non-contact force on the levitation unit 10. 73 may be further possessed. In this case, the positioning accuracy can be further improved.
  • the third actuator 73 may apply a third non-contact force F03 parallel to the transport line TL to the levitation unit 10. In this case, the positioning accuracy of the levitation unit 10 along the transport line TL can be further improved.
  • the third actuator 73 may further exert a third crossing non-contact force F13 along the crossing line L13 (third crossing line) on the levitation unit 10.
  • the structure can be simplified.
  • the first actuator 71 and the third actuator 73 face the levitation unit 10 from below, and the second actuator 72 faces the levitation unit 10 from the direction opposite to the direction in which the robot 3 is arranged with respect to the linear transfer device 2. May be good. In this case, gravity can also be effectively used to adjust the attitude of the levitation unit 10.
  • the non-contact force generating unit 70 may generate six non-contact forces independent of each other between the moving base 50 and the levitation unit 10. In this case, the stability of the relative position of the levitation unit 10 with respect to the moving base 50 can be improved.
  • the substrate transfer system 1 may further include a controller 100 (force control unit) that controls the non-contact force generated by the non-contact force generation unit 70 based on the relative position of the levitation unit 10 with respect to the moving base 50. .. In this case, by controlling the non-contact force based on the relative position, it is possible to more accurately transfer the substrate to and from the robot 3.
  • a controller 100 force control unit
  • the substrate transfer system 1 further includes a linear sensor 82 that faces the levitation unit 10 along the sensing line L21 that intersects the transfer line TL and detects the relative displacement of the levitation unit 10 along the transfer line TL with respect to the moving base 50.
  • the controller 100 may control the non-contact force generated by the non-contact force generating unit 70, at least based on the detection result by the linear sensor 82. In this case, the relative displacement of the levitation unit 10 along the transport line TL can be accurately detected without hindering the movement of the levitation unit 10 along the transport line TL.
  • the substrate transfer system 1 faces the levitation unit 10 along the sensing lines L22, L24, L25 (second sensing line) intersecting the transfer line TL, and detects the distance from the moving base 50 to the levitation unit 10. Further provided with 83a, 83c, 83d, the controller 100 generates a non-contact force generated by the non-contact force generating unit 70 based on at least the detection result by the linear sensor 82 and the detection result by the gap sensors 83a, 83c, 83d. You may control it. In this case, by using the gap sensors 83a, 83c, 83d for the displacement in the direction intersecting the transport line TL, the device configuration can be simplified.
  • the substrate transfer system 1 faces the levitation unit 10 along the sensing lines L23, L26 (third sensing line) intersecting the transfer lines TL and the sensing lines L22, L24, L25, from the moving base 50 to the levitation unit 10.
  • Gap sensors 83b and 83e (second gap sensor) for detecting the distance may be further provided. In this case, by using the gap sensors 83a, 83b, 83c, 83d, 83e for the relative displacements in the two directions intersecting each other, the device configuration can be further simplified.

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Abstract

基板搬送システム１は、搬送ラインＴＬに沿って基板Ｗを搬送するリニア搬送装置２と、リニア搬送装置２から基板Ｗを受け取って処理ユニットＰＵに搬入し、処理ユニットＰＵから基板Ｗを搬出してリニア搬送装置２に渡すロボットと、を備え、リニア搬送装置２は、搬送ラインＴＬに沿って移動する移動ベース５０（第１移動体）と、基板Ｗを支持する浮上ユニット１０（第２移動体）と、移動ベース５０に対し浮上ユニット１０を浮上させつつ、移動ベース５０の移動に浮上ユニット１０を追従させるように、移動ベース５０から浮上ユニット１０に非接触力を作用させる非接触力発生部７０と、を備える。

Description

基板搬送システム及び基板搬送装置
　本開示は、基板搬送システム及び基板搬送装置に関する。
　特許文献１には、リニアモータによる駆動によって搬送室内を移動する移動式ロボットで基板を搬送する基板処理装置が開示されている。
特開２００８－０２８１７９号公報
　本開示は、搬送精度と、発塵抑制との両立に有効な基板搬送システムを提供する。
　本開示の一側面に係る基板搬送システムは、搬送ラインに沿って基板を搬送するリニア搬送装置と、リニア搬送装置から基板を受け取って処理ユニットに搬入し、処理ユニットから基板を搬出してリニア搬送装置に渡すロボットと、を備え、リニア搬送装置は、搬送ラインに沿って移動する第１移動体と、基板を支持する第２移動体と、第１移動体に対し第２移動体を浮上させつつ、第１移動体の移動に第２移動体を追従させるように、第１移動体から第２移動体に非接触力を作用させる非接触力発生部と、を備える。
　本開示の他の側面に係る基板搬送装置は、搬送ラインに沿って移動する第１移動体と、基板を支持する第２移動体と、第１移動体に対し第２移動体を浮上させつつ、第１移動体の移動に第２移動体を追従させるように、第１移動体と第２移動体との間に非接触力を発生させる非接触力発生部と、を備え、非接触力発生部は、搬送ラインに交差する第１交差ラインに沿って第２移動体に対向し、第２移動体に非接触力を作用させる第１アクチュエータと、搬送ライン及び第１交差ラインに交差する第２交差ラインに沿って第２移動体に対向し、第２移動体に非接触力を作用させる第２アクチュエータと、を有し、第１アクチュエータは、搬送ラインに平行な第１非接触力を第２移動体に作用させ、第２アクチュエータは、搬送ラインに平行な第２非接触力を第２移動体に作用させる。
　本開示によれば、搬送精度と、発塵抑制との両立に有効な基板搬送システムを提供することができる。
基板搬送システムの概略構成を例示する模式図である。 図１中のＩＩ－ＩＩ線に沿った断面図である。 図２中のＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿った断面図である。 図２中のＩＶ－ＩＶ線に沿った断面図である。 図２中のＶ－Ｖ線に沿った断面図である。 非接触力及び測位ラインをまとめた模式図である。 非接触力発生部及び位置・姿勢検出部の変形例を示す模式図である。 力制御手順を例示するフローチャートである。 コントローラのハードウェア構成を例示する図である。
　以下、実施形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
〔基板搬送システム〕
　図１に示す基板搬送システム１は、基板処理システムＰＳにおいて処理対象の基板を搬送するシステムである。処理対象の基板の具体例としては、半導体基板、ガラス基板、マスク基板、又はＦＰＤ（Ｆｌａｔ　Ｐａｎｅｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ）基板等が挙げられる。
　基板搬送システム１は、リニア搬送装置２と、ロボット３と、コントローラ１００とを備える。リニア搬送装置２（基板搬送装置）は、搬送ラインに沿って処理対象の基板Ｗを搬送する。ロボット３は、リニア搬送装置２から基板Ｗを受け取って基板処理システムＰＳの処理ユニットＰＵに搬入し、処理ユニットＰＵから基板Ｗを搬出してリニア搬送装置２に渡す。コントローラ１００は、リニア搬送装置２とロボット３とを制御する。
　ロボット３は、基台７と、ハンド５と、多関節アーム４と、昇降駆動部６とを有する。基台７は、処理ユニットＰＵとリニア搬送装置２との間に固定される。ハンド５は、基板Ｗを略水平に支持する。多関節アーム４は、水平な平面に沿って基台７に対するハンド５の位置・姿勢を変更する。昇降駆動部６は、基台７に対して多関節アーム４及びハンド５を昇降させる。
　基板処理システムＰＳは、複数の処理ユニットＰＵを備えてもよい。これに対応し、基板搬送システム１は複数のロボット３を備えてもよい。例えば基板処理システムＰＳは、水平なユニット配列ラインＬ３１に沿って並ぶ複数の処理ユニットＰＵを備える。基板搬送システム１は、ユニット配列ラインＬ３１に平行なロボット配列ラインＬ３２に沿って並ぶ複数のロボット３を備える。
　図１には、４つの処理ユニットＰＵと、２台のロボット３とが図示されているが、処理ユニットＰＵの数及びロボット３の数はこれに限られない。一例として、基板搬送システム１は、４つの処理ユニットＰＵ１，ＰＵ２，ＰＵ３，ＰＵ４と、２台のロボット３Ａ，３Ｂとを備える。処理ユニットＰＵ１，ＰＵ２，ＰＵ３，ＰＵ４は、ユニット配列ラインＬ３１に沿って順に並ぶ。
　ロボット３Ａの基台７は、処理ユニットＰＵ１，ＰＵ２に対応するように配置され、ロボット３Ｂの基台７は、処理ユニットＰＵ３，ＰＵ４に対応するように配置されている。ロボット３Ａは、リニア搬送装置２から基板Ｗを受け取って処理ユニットＰＵ１又は処理ユニットＰＵ２に搬入し、処理ユニットＰＵ１又は処理ユニットＰＵ２から基板Ｗを搬出してリニア搬送装置２に渡す。ロボット３Ｂは、リニア搬送装置２から基板Ｗを受け取って処理ユニットＰＵ３又は処理ユニットＰＵ４に搬入し、処理ユニットＰＵ３又は処理ユニットＰＵ４から基板Ｗを搬出してリニア搬送装置２に渡す。
　リニア搬送装置２は、基板Ｗを支持する浮上ユニットを浮上させた状態で、搬送ラインＴＬに沿って移動させる。以下においては、搬送ラインＴＬが水平である場合を例示するが、搬送ラインＴＬは水平に対して傾いていてもよい。
　リニア搬送装置２は、上方から見て、ユニット配列ラインＬ３１との間にロボット配列ラインＬ３２を挟むように設けられており、ユニット配列ラインＬ３１及びロボット配列ラインＬ３２に平行な搬送ラインＴＬに沿って浮上ユニットを移動させる。例えばリニア搬送装置２は、浮上ユニット１０と、駆動ユニット４０とを有する。
　浮上ユニット１０（第２移動体）は、ボトムフレーム１１と、サイドフレーム１２と、第１サポート１３と、第２サポート１４とを有する。ボトムフレーム１１は、浮上ユニット１０の底部を構成する。ボトムフレーム１１は、長手方向に沿った側縁１１ａ，１１ｂと、短手方向に沿った端縁１１ｃ，１１ｄとを有する。浮上ユニット１０は、側縁１１ａ，１１ｂが搬送ラインＴＬに沿うように、駆動ユニット４０上に略水平に配置される。上方から見て、側縁１１ａは、側縁１１ｂを基準にしてロボット配列ラインＬ３２の反対に位置する。
　図２に示すように、サイドフレーム１２は、ボトムフレーム１１の側縁１１ａから上方に延び、浮上ユニット１０の側部を構成する。サイドフレーム１２は、端縁１１ｃと同じ方向に向かう端縁１２ａと、端縁１１ｄと同じ方向に向かう端縁１２ｂと、上縁１２ｃとを有する。第１サポート１３及び第２サポート１４は、搬送ラインＴＬに沿って並ぶようにサイドフレーム１２の上縁１２ｃに固定され、それぞれ基板Ｗを支持する。
　第１サポート１３は、搬送ラインＴＬに沿って並ぶサポートビーム１３ａ，１３ｂを有する。サポートビーム１３ａ，１３ｂのそれぞれは、サイドフレーム１２の上縁１２ｃから、ロボット配列ラインＬ３２に向かって張り出し、ボトムフレーム１１の上方において基板Ｗを支持する。サイドフレーム１２を基準として、サポートビーム１３ａ、１３ｂは、ボトムフレーム１１の側縁１１ｂよりも遠位まで張り出している。サポートビーム１３ａ，１３ｂの間隔は、ハンド５の幅よりも大きい。このため、サポートビーム１３ａ，１３ｂの間において、ハンド５に基板Ｗを支持させることが可能である。
　第２サポート１４は、搬送ラインＴＬに沿って並ぶサポートビーム１４ａ，１４ｂを有する。サポートビーム１４ａ，１４ｂのそれぞれは、サイドフレーム１２の上縁からボトムフレーム１１の上方にかかるように張り出し、基板Ｗを支持する。サイドフレーム１２を基準として、サポートビーム１４ａ、１４ｂは、ボトムフレーム１１の側縁１１ｂよりも遠位まで張り出している。サポートビーム１４ａ，１４ｂの間隔は、ハンド５の幅よりも大きい。このため、サポートビーム１４ａ，１４ｂの間において、ハンド５に基板Ｗを支持させることが可能である。
　浮上ユニット１０は、第１可動子２１と、第２可動子２２とを有する。第１可動子２１，第２可動子２２は、駆動ユニット４０による非接触力が作用する部分である。図３に示すように、第１可動子２１には、少なくとも搬送ラインＴＬに平行な第１非接触力Ｆ０１が作用する。例えば第１可動子２１は、ボトムフレーム１１のうち、側縁１１ａ寄りの部分の下面に固定されている。第１可動子２１は、搬送ラインＴＬに平行な配列ラインＬ０１に沿って並ぶ複数の永久磁石２１ｍと、複数の永久磁石２１ｍを保持するヨーク２１ｃとを有する。第１非接触力Ｆ０１は、配列ラインＬ０１に沿って第１可動子２１に作用する。
　図４に示すように、第２可動子２２には、少なくとも搬送ラインＴＬに平行な第２非接触力Ｆ０２が作用する。例えば第２可動子２２は、サイドフレーム１２の外面に固定されている。サイドフレーム１２の外面は、サイドフレーム１２から第１サポート１３、第２サポート１４及びボトムフレーム１１が張り出す方向（ロボット配列ラインＬ３２に向かう方向）の反対に向かう面である。第２可動子２２は、搬送ラインＴＬに平行な配列ラインＬ０２に沿って並ぶ複数の永久磁石２２ｍと、複数の永久磁石２２ｍを保持するヨーク２２ｃとを有する。第２非接触力Ｆ０２は、配列ラインＬ０２に沿って第２可動子２２に作用する。
　浮上ユニット１０は、第３可動子２３を更に有してもよい。第３可動子２３も、駆動ユニット４０による非接触力が作用する部分である。図５に示すように、第３可動子２３には、少なくとも搬送ラインＴＬに平行な第３非接触力Ｆ０３が作用する。例えば第３可動子２３は、ボトムフレーム１１のうち、側縁１１ｂ寄りの部分の下面に固定されている。第３可動子２３は、搬送ラインＴＬに平行な配列ラインＬ０３に沿って並ぶ複数の永久磁石２３ｍと、複数の永久磁石２３ｍを保持するヨーク２３ｃとを有する。第３非接触力Ｆ０３は、配列ラインＬ０３に沿って第３可動子２３に作用する。この構成において、第２可動子２２は、配列ラインＬ０１及び配列ラインＬ０３を含む仮想平面ＶＰ１から上方に離れている。
　浮上ユニット１０は、変位の検出対象となる１以上の測位ターゲット３０を更に有する。例えば１以上の測位ターゲット３０は、第１測位ターゲット３１と、第２測位ターゲット３２と、第３測位ターゲット３３と、第４測位ターゲット３４と、第５測位ターゲット３５と、第６測位ターゲット３６とを含む。
　第１測位ターゲット３１は、ボトムフレーム１１のうち、端縁１１ｃと第１可動子２１との間の部分の下面に固定されている。例えば第１測位ターゲット３１は、後述するリニアセンサ８２による測位ターゲットであり、磁歪を発生させるための磁石を含んでいる。第２測位ターゲット３２は、ボトムフレーム１１のうち、端縁１１ｄと第１可動子２１との間の部分の下面に固定されている。例えば第２測位ターゲット３２は、後述するギャップセンサ８３ａによる測位ターゲットであり、渦電流が流れる導電部材を含んでいる。
　第３測位ターゲット３３は、ボトムフレーム１１のうち、端縁１１ｃと第３可動子２３との間の部分の下面に固定されている。例えば第３測位ターゲット３３は、後述するギャップセンサ８３ｃによる測位ターゲットであり、渦電流が流れる導電部材を含んでいる。第４測位ターゲット３４は、ボトムフレーム１１のうち、端縁１１ｄと第３可動子２３との間の部分の下面に固定されている。例えば第４測位ターゲット３４は、後述するギャップセンサ８３ｄによる測位ターゲットであり、渦電流が流れる導電部材を含んでいる。
　第５測位ターゲット３５は、サイドフレーム１２のうち、端縁１２ａと第２可動子２２との間の部分の外面に固定されている。例えば第５測位ターゲット３５は、後述するギャップセンサ８３ｂによる測位ターゲットであり、渦電流が流れる導電部材を含んでいる。第６測位ターゲット３６は、サイドフレーム１２のうち、端縁１２ｂと第２可動子２２との間の部分の外面に固定されている。例えば第６測位ターゲット３６は、後述するギャップセンサ８３ｅによる測位ターゲットであり、渦電流が流れる導電部材を含んでいる。
　駆動ユニット４０は、浮上ユニット１０を浮上させた状態で移動させる。例えば駆動ユニット４０は、移動ベース５０と、ベース駆動部６０と、非接触力発生部７０と、位置・姿勢検出部８０と、筐体９０とを有する。
　移動ベース５０（第１移動体）は、浮上ユニット１０の下方に位置し、搬送ラインＴＬに沿って移動する。移動ベース５０は、ボトムプレート５１と、サイドプレート５２とを有する。
　ボトムプレート５１は、移動ベース５０の底部を構成する。ボトムプレート５１は、長手方向に沿った側縁５１ａ，５１ｂと、短手方向に沿った端縁５１ｃ，５１ｄとを有する。ボトムプレート５１は、側縁５１ａがボトムフレーム１１の側縁１１ａと同じ方向に向かい、側縁５１ｂがボトムフレーム１１の側縁１１ｂと同じ方向に向かい、端縁５１ｃがボトムフレーム１１の端縁１１ｃと同じ方向に向かい、端縁５１ｄがボトムフレーム１１の端縁１１ｄと同じ方向に向かうように略水平に配置される。
　サイドプレート５２は、ボトムプレート５１の側縁５１ａから上方に延び、移動ベース５０の側部を構成する。サイドプレート５２は、端縁５１ｃと同じ方向に向かう端縁５２ａと、端縁５１ｄと同じ方向に向かう端縁５２ｂとを有する。
　ベース駆動部６０は、搬送ラインＴＬに沿って移動ベース５０を移動させる。ベース駆動部６０は、ベースステージ６１と、リニアガイド６２，６３と、リニアアクチュエータ６４とを有する。ベースステージ６１は、移動ベース５０の下方において、搬送ラインＴＬに沿って延びている。
　リニアガイド６２，６３は、搬送ラインＴＬに平行に移動するように移動ベース５０を案内する。リニアガイド６２，６３は、搬送ラインＴＬに垂直な方向に並ぶ。リニアガイド６２は、レール６２ｒと、ブロック６２ｂとを有する。レール６２ｒは、ボトムプレート５１のうち側縁５１ａ寄りの部分の下方において、搬送ラインＴＬに平行に延び、ベースステージ６１の上面に固定されている。ブロック６２ｂは、ボトムプレート５１のうち、側縁５１ａ寄りの部分の下面に固定されている。ブロック６２ｂは、搬送ラインＴＬに平行に移動し得るように、ボール等の転動体を介してレール６２ｒに取り付けられている。
　リニアガイド６３は、レール６３ｒと、ブロック６３ｂとを有する。レール６３ｒは、ボトムプレート５１のうち側縁５１ｂ寄りの部分の下方において、搬送ラインＴＬに平行に延び、ベースステージ６１の上面に固定されている。ブロック６３ｂは、ボトムプレート５１のうち、側縁５１ｂ寄りの部分の下面に固定されている。ブロック６３ｂは、搬送ラインＴＬに平行に移動し得るように、ボール等の転動体を介してレール６３ｒに取り付けられている。
　リニアアクチュエータ６４は、固定子６４ｆと、可動子６４ｍとを有する。可動子６４ｍは、ブロック６２ｂとブロック６３ｂとの間において、ボトムプレート５１の下面に固定されている。固定子６４ｆは、可動子６４ｍに対向した状態で搬送ラインＴＬに平行に延び、ベースステージ６１の上面に固定されている。固定子６４ｆは、搬送ラインＴＬに沿った推力を可動子６４ｍに作用させる。
　一例として、可動子６４ｍは、１以上の永久磁石を有する。固定子６４ｆは、搬送ラインＴＬに平行な方向に沿って並ぶ複数のコイルを有し、電力の供給に応じて搬送ラインＴＬに平行に移動する移動磁界を発生させる。この移動磁界と、永久磁石の磁界とによって、上記推力が可動子６４ｍに作用する。
　搬送ラインＴＬに平行な推力を移動ベース５０に作用させ得る限り、リニアアクチュエータ６４の構成に特に制限はなく、適宜変更可能である。例えばリニアアクチュエータ６４は、回転モータ及びボールねじによって移動ベース５０に推力を作用させるように構成されていてもよい。
　非接触力発生部７０は、移動ベース５０に対し浮上ユニット１０を浮上させつつ、移動ベース５０の移動に浮上ユニット１０を追従させるように、移動ベース５０から浮上ユニット１０に非接触力を作用させる。
　非接触力は、二つの物体が互いに接触していなくても、当該二つの物体間に作用する力を意味する。非接触力の具体例としては、磁力、重力、クーロン力等が挙げられる。例えば非接触力発生部７０は、移動ベース５０から浮上ユニット１０に磁力を発生させる。非接触力発生部７０は、少なくとも搬送ラインＴＬに沿って、浮上ユニット１０の位置を移動ベース５０に対して相対的に変化させるように構成されていてもよい。また、非接触力発生部７０は、浮上ユニット１０の姿勢を移動ベース５０に対して相対的に変化させるように構成されていてもよい。非接触力は、必ずしも一点に集中して作用するわけではないが、以下における「非接触力」は、一まとまりの非接触力を、一つの作用点に集中するものとして表した力を意味する。
　非接触力発生部７０は、互いに独立した６本の非接触力を移動ベース５０と浮上ユニット１０との間に発生させるように構成されていてもよい。ここで、３本以上の非接触力が互いに独立であるとは、当該３本以上の非接触力において、各非接触力を残りの２本以上の非接触力では合成し得ない関係を意味する。３本以上の非接触力が互いに独立でない場合の具体例として、３本の非接触力が同一面内で互いに平行である場合が挙げられる。この場合、３本の非接触力のうち、２本の接触力の大きさを調整することで、残りの１本の接触力を代替することが可能である。
　非接触力発生部７０は、１以上のアクチュエータを含み、１以上のアクチュエータは、上記６本の非接触力のうち２本以上の非接触力を発生させる一つのアクチュエータを含んでいてもよい。一例として、非接触力発生部７０は、第１アクチュエータ７１と、第２アクチュエータ７２とを有する。
　第１アクチュエータ７１は、搬送ラインＴＬに交差（例えば直交）する第１交差ラインに沿って浮上ユニット１０に対向し、浮上ユニット１０に非接触力を作用させる。「交差」は、所謂立体交差のようにねじれの関係にある場合も含む。以下においても同様である。第１アクチュエータ７１は、搬送ラインＴＬに平行な第１非接触力を浮上ユニット１０に作用させてもよい。第１アクチュエータ７１は、第１交差ラインに沿った第１交差非接触力を浮上ユニット１０に更に作用させてもよい。
　第１アクチュエータ７１は、下方から浮上ユニット１０に対向するように設けられていてもよい。例えば第１アクチュエータ７１は、ボトムプレート５１のうち、側縁５１ａ寄りの部分の上面に固定されており、搬送ラインＴＬに直交する鉛直な交差ラインＬ１１（第１交差ライン）に沿って、下方から第１可動子２１に対向する。第１アクチュエータ７１は、搬送ラインＴＬに平行で上記配列ラインＬ０１に沿った第１非接触力Ｆ０１を第１可動子２１に作用させ、交差ラインＬ１１に沿った第１交差非接触力Ｆ１１を第１可動子２１に更に作用させる。
　第１アクチュエータ７１は、搬送ラインＴＬに沿って浮上ユニット１０を変位させるリニアモータであってもよい。例えば第１アクチュエータ７１は、搬送ラインＴＬに平行な配列ラインＬ０４に沿って並ぶ複数のコイル７１ｃを有する。複数のコイル７１ｃは、電力の供給に応じて、配列ラインＬ０１に沿って搬送ラインＴＬに平行に移動する移動磁界を発生させる。この移動磁界と、第１可動子２１の複数の永久磁石２１ｍの磁界とによって、第１非接触力Ｆ０１及び第１交差非接触力Ｆ１１が第１可動子２１に作用する。
　第２アクチュエータ７２は、搬送ラインＴＬ及び交差ラインＬ１１に交差（例えば直交）する第２交差ラインに沿って浮上ユニット１０に対向し、浮上ユニット１０に非接触力を作用させる。第２アクチュエータ７２は、搬送ラインＴＬに平行な第２非接触力を浮上ユニット１０に作用させてもよい。第２アクチュエータ７２は、第２交差ラインに沿った第２交差非接触力を浮上ユニット１０に更に作用させてもよい。
　第２アクチュエータ７２は、リニア搬送装置２に対しロボット３が配置される方向の反対方向から浮上ユニット１０に対向するように設けられていてもよい。例えば第２アクチュエータ７２は、サイドプレート５２の内面に固定されている。サイドプレート５２の内面は、サイドプレート５２からボトムプレート５１が張り出す方向に向かう面（ロボット配列ラインＬ３２に向かう面）である。サイドプレート５２の内面は、サイドフレーム１２の外面に対向する。第２アクチュエータ７２は、水平な交差ラインＬ１２（第２交差ライン）に沿って第２可動子２２に対向する。第２アクチュエータ７２は、搬送ラインＴＬに平行で配列ラインＬ０２に沿った第２非接触力Ｆ０２を第２可動子２２に作用させ、交差ラインＬ１２に沿った第２交差非接触力Ｆ１２を第２可動子２２に更に作用させる。
　第２アクチュエータ７２は、搬送ラインＴＬに沿って浮上ユニット１０を変位させるリニアモータであってもよい。例えば第２アクチュエータ７２は、搬送ラインＴＬに平行な配列ラインＬ０５に沿って並ぶ複数のコイル７２ｃを有する。複数のコイル７２ｃは、電力の供給に応じて、配列ラインＬ０２に沿って搬送ラインＴＬに平行に移動する移動磁界を発生させる。この移動磁界と、第２可動子２２の複数の永久磁石２２ｍの磁界とによって、第２非接触力Ｆ０２及び第２交差非接触力Ｆ１２が第２可動子２２に作用する。
　非接触力発生部７０は、第３アクチュエータ７３を更に有してもよい。第３アクチュエータ７３は、第２交差ラインと交差（例えば直交）し第１交差ラインに平行な第３交差ラインに沿って浮上ユニット１０に対向し、浮上ユニット１０に非接触力を作用させる。第３アクチュエータ７３は、搬送ラインＴＬに平行な第３非接触力を浮上ユニット１０に作用させてもよい。第３アクチュエータ７３は、第３交差ラインに沿った第３交差非接触力を浮上ユニット１０に更に作用させてもよい。
　第３アクチュエータ７３は、下方から浮上ユニット１０に対向するように設けられていてもよい。例えば第３アクチュエータ７３は、ボトムプレート５１のうち、側縁５１ｂ寄りの部分の上面に固定されており、搬送ラインＴＬに直交する鉛直な交差ラインＬ１３（第３交差ライン）に沿って、下方から第３可動子２３に対向する。第３アクチュエータ７３は、搬送ラインＴＬに平行で上記配列ラインＬ０３に沿った第３非接触力Ｆ０３を第３可動子２３に作用させ、交差ラインＬ１３に沿った第３交差非接触力Ｆ１３を第３可動子２３に更に作用させる。
　第３アクチュエータ７３は、搬送ラインＴＬに沿って浮上ユニット１０を変位させるリニアモータであってもよい。例えば第３アクチュエータ７３は、搬送ラインＴＬに平行な配列ラインＬ０６に沿って並ぶ複数のコイル７３ｃを有する。複数のコイル７３ｃは、電力の供給に応じて、配列ラインＬ０３に沿って搬送ラインＴＬに平行に移動する移動磁界を発生させる。この移動磁界と、第３可動子２３の複数の永久磁石２３ｍの磁界とによって、第３非接触力Ｆ０３及び第３交差非接触力Ｆ１３が第３可動子２３に作用する。
　第１アクチュエータ７１及び第３アクチュエータ７３は、第２アクチュエータ７２に比較して大きな非接触力を発生し得るように構成されていてもよい。一例として、第１アクチュエータ７１のコイル７１ｃの数は、第２アクチュエータ７２のコイル７２ｃの数より多い。第３アクチュエータ７３のコイル７３ｃの数も、第２アクチュエータ７２のコイル７２ｃの数より多い。これに応じ、第１アクチュエータ７１は第２アクチュエータ７２より長く、第３アクチュエータ７３も第２アクチュエータ７２より長い。
　また、第１可動子２１の永久磁石２１ｍの数は、第２可動子２２の永久磁石２２ｍの数より多い。第３可動子２３の永久磁石２３ｍの数も、第２可動子２２の永久磁石２２ｍの数より多い。これに応じ、第１可動子２１は第２可動子２２より長く、第３可動子２３も第２可動子２２より長い。
　位置・姿勢検出部８０は、移動ベース５０に対する浮上ユニット１０の相対位置・相対姿勢を非接触で検出する。位置・姿勢検出部８０は、互いに独立した６本の測位ラインに沿った浮上ユニット１０の変位をそれぞれ非接触で検出するように構成されていてもよい。
　ここで、３本以上の測位ラインが互いに独立であるとは、当該３本以上の測位ラインにおいて、各測位ラインに沿ったベクトルを残りの２本以上の測位ラインに沿ったベクトルでは合成し得ない関係を意味する。なお、測位ラインに沿ったベクトルとは、測位ラインに沿い、且つ測位ライン上に位置するベクトルを意味する。
　３本以上の測位ラインが互いに独立でない場合の具体例として、３本の測位ラインが同一面内で互いに平行である場合が挙げられる。この場合、３本の測位ラインのうち、２本の測位ラインに沿ったベクトルの大きさを調整することで、残りの１本の測位ラインに沿ったベクトルを合成することが可能である。
　位置・姿勢検出部８０は、リニアセンサ８２を含んでいてもよい。リニアセンサ８２は、搬送ラインＴＬに交差するセンシングラインに沿って浮上ユニット１０に対向し、移動ベース５０に対する浮上ユニット１０の搬送ラインＴＬに沿った相対変位を検出する。
　例えばリニアセンサ８２は、ボトムプレート５１のうち、端縁５１ｃと第１アクチュエータ７１との間の部分の上面に固定されており、搬送ラインＴＬに直交する鉛直なセンシングラインＬ２１に沿って、下方から第１測位ターゲット３１に対向する。リニアセンサ８２は、搬送ラインＴＬに平行な配列ラインＬ０１（測位ライン）に沿った第１測位ターゲット３１の変位を検出する。
　一例として、リニアセンサ８２は、磁歪式センサであり、配列ラインＬ０１に沿った磁歪線を含む。リニアセンサ８２は、第１測位ターゲット３１の磁石が磁歪線に発生させるねじり歪みに基づいて第１測位ターゲット３１の変位を検出する。
　位置・姿勢検出部８０は、ギャップセンサ８３ａを含んでいてもよい。ギャップセンサ８３ａは、搬送ラインＴＬに交差（例えば直交）する第２センシングラインに沿って浮上ユニット１０に対向し、移動ベース５０から浮上ユニット１０までの距離を検出する。
　位置・姿勢検出部８０は、ギャップセンサ８３ｂを更に含んでいてもよい。ギャップセンサ８３ｂは、搬送ラインＴＬ及び第２センシングラインに交差（例えば直交）する第３センシングラインに沿って浮上ユニット１０に対向し、移動ベース５０から浮上ユニット１０までの距離を検出する。
　ギャップセンサ８３ａは、下方から浮上ユニット１０に対向するように設けられていてもよい。例えばギャップセンサ８３ａは、ボトムプレート５１のうち、端縁５１ｄと第１アクチュエータ７１との間の部分の上面に固定されており、搬送ラインＴＬに直交する鉛直なセンシングラインＬ２２（第２センシングライン）に沿って、下方から第２測位ターゲット３２に対向する。ギャップセンサ８３ａは、センシングラインＬ２２（測位ライン）に沿って第２測位ターゲット３２までの距離を検出する。
　ギャップセンサ８３ｂは、リニア搬送装置２に対しロボット３が配置される方向の反対方向から浮上ユニット１０に対向するように設けられていてもよい。例えばギャップセンサ８３ｂは、サイドプレート５２のうち、端縁５２ａと第２アクチュエータ７２との間の部分の内面に固定されており、搬送ラインＴＬに直交する水平なセンシングラインＬ２３（第３センシングライン）に沿って第５測位ターゲット３５に対向する。ギャップセンサ８３ｂは、センシングラインＬ２３（測位ライン）に沿って第５測位ターゲット３５までの距離を検出する。
　位置・姿勢検出部８０は、ギャップセンサ８３ｃ，８３ｄ，８３ｅを更に含んでいてもよい。ギャップセンサ８３ｃ，８３ｄは、下方から浮上ユニット１０に対向するように設けられていてもよい。
　例えば、ギャップセンサ８３ｃは、ボトムプレート５１のうち、端縁５１ｃと第３アクチュエータ７３との間の部分の上面に固定されており、搬送ラインＴＬに直交する鉛直なセンシングラインＬ２４（第２センシングライン）に沿って、下方から第３測位ターゲット３３に対向する。ギャップセンサ８３ｃは、センシングラインＬ２４（測位ライン）に沿って第３測位ターゲット３３までの距離を検出する。
　ギャップセンサ８３ｄは、ボトムプレート５１のうち、端縁５１ｄと第３アクチュエータ７３との間の部分の上面に固定されており、搬送ラインＴＬに直交する鉛直なセンシングラインＬ２５（第２センシングライン）に沿って、下方から第４測位ターゲット３４に対向する。ギャップセンサ８３ｄは、センシングラインＬ２５（測位ライン）に沿って第４測位ターゲット３４までの距離を検出する。
　ギャップセンサ８３ｅは、リニア搬送装置２に対しロボット３が配置される方向の反対方向から浮上ユニット１０に対向するように設けられていてもよい。例えばギャップセンサ８３ｅは、サイドプレート５２のうち、端縁５２ｂと第２アクチュエータ７２との間の部分の内面に固定されており、搬送ラインＴＬに直交する水平なセンシングラインＬ２６（第３センシングライン）に沿って第６測位ターゲット３６に対向する。ギャップセンサ８３ｅは、センシングラインＬ２６（測位ライン）に沿って第６測位ターゲット３６までの距離を検出する。
　一例として、ギャップセンサ８３ａ，８３ｂ，８３ｃ，８３ｄ，８３ｅは、渦電流式センサである。渦電流式センサは、高周波で磁束を生じるコイルを含み、測位ターゲットの導電部材に生じる渦電流に応じたコイルのインピーダンス変化に基づいて、測位ターゲットまでの距離を検出する。
　筐体９０は、移動ベース５０と、ベース駆動部６０と、非接触力発生部７０と、位置・姿勢検出部８０とを収容し、移動ベース５０が移動する内部空間９４（第１空間）と、浮上ユニット１０が移動する外部空間９５（第２空間）とを分ける。内部空間９４においては、リニアガイド６２，６３等による発塵が生じ得るが、発生した粉塵が筐体９０により内部空間９４内に留められるので、外部空間９５は清浄に保たれる。
　筐体９０は、強化プラスチック等の非磁性材料により構成された区画壁９１を含む。区画壁９１は、浮上ユニット１０と移動ベース５０との間において、内部空間９４と外部空間９５とを仕切る。区画壁９１は、第１隔壁９２と第２隔壁９３とを含んでもよい。
　第１隔壁９２は、第１アクチュエータ７１及び第３アクチュエータ７３と、浮上ユニット１０との間を仕切る。第１アクチュエータ７１は、第１隔壁９２を介して第１可動子２１に第１非接触力Ｆ０１及び第１交差非接触力Ｆ１１を作用させる。第３アクチュエータ７３は、第１隔壁９２を介して第３可動子２３に第３非接触力Ｆ０３及び第３交差非接触力Ｆ１３を作用させる。
　第１隔壁９２は、リニアセンサ８２、ギャップセンサ８３ａ，８３ｃ，８３ｄと浮上ユニット１０との間も仕切る。リニアセンサ８２は第１隔壁９２を介して第１測位ターゲット３１の変位を検出し、ギャップセンサ８３ａは第１隔壁９２を介して第２測位ターゲット３２までの距離を検出し、ギャップセンサ８３ｃは第１隔壁９２を介して第３測位ターゲット３３までの距離を検出し、ギャップセンサ８３ｄは第１隔壁９２を介して第４測位ターゲット３４までの距離を検出する。
　第２隔壁９３は、第１隔壁９２に対し起立して第２アクチュエータ７２と浮上ユニット１０との間を仕切る。第２アクチュエータ７２は、第２隔壁９３を介して第２可動子２２に第２非接触力Ｆ０２及び第２交差非接触力Ｆ１２を作用させる。第２隔壁９３は、ギャップセンサ８３ｂ，８３ｅと、浮上ユニット１０との間も仕切る。ギャップセンサ８３ｂは第２隔壁９３を介して第５測位ターゲット３５までの距離を検出し、ギャップセンサ８３ｅは第２隔壁９３を介して第６測位ターゲット３６までの距離を検出する。
　図６は、非接触力及び測位ラインをまとめた模式図である。図６に示すように、駆動ユニット４０は、互いに独立した６本の第１非接触力Ｆ０１、第２非接触力Ｆ０２、第３非接触力Ｆ０３、第１交差非接触力Ｆ１１、第２交差非接触力Ｆ１２及び第３交差非接触力Ｆ１３を浮上ユニット１０に作用させる。これにより、搬送ラインＴＬに沿った図中のＸ軸における浮上ユニット１０の相対位置（移動ベース５０に対する相対位置）、鉛直なＺ軸における浮上ユニット１０の相対位置、Ｘ軸及びＺ軸に垂直なＹ軸における浮上ユニット１０の相対位置、Ｘ軸まわりの浮上ユニット１０の相対姿勢（移動ベース５０に対する相対姿勢）、Ｙ軸まわりの浮上ユニット１０の相対姿勢、及びＺ軸まわりの浮上ユニット１０の相対姿勢の全てを変更することが可能である。
　例えば、第１非接触力Ｆ０１、第２非接触力Ｆ０２及び第３非接触力Ｆ０３の合計を変更することによって、Ｘ軸における浮上ユニット１０の相対位置を変更することができる。第１交差非接触力Ｆ１１及び第３交差非接触力Ｆ１３の合計を変更することによって、Ｚ軸における浮上ユニット１０の相対位置を変更することができる。第１交差非接触力Ｆ１１、第２交差非接触力Ｆ１２及び第３交差非接触力Ｆ１３を変更することによって、Ｙ軸における浮上ユニット１０の相対位置を変更することができる。
　第１交差非接触力Ｆ１１と第３交差非接触力Ｆ１３との関係を変更することによって、Ｘ軸まわりの浮上ユニット１０の相対姿勢を変更することができる。第１非接触力Ｆ０１と、第２非接触力Ｆ０２と、第３非接触力Ｆ０３との関係を変更することによって、Ｙ軸まわりの浮上ユニット１０の相対姿勢を変更することができる。第１非接触力Ｆ０１と、第３非接触力Ｆ０３との関係を変更することによって、Ｚ軸まわりの浮上ユニット１０の相対姿勢を変更することができる。
　また、駆動ユニット４０は、互いに独立した６本の測位ラインに沿った浮上ユニット１０の相対変位（移動ベース５０に対する相対変位）を検出する。これにより、Ｘ軸における浮上ユニット１０の相対変位、Ｚ軸における浮上ユニット１０の相対変位、Ｙ軸における浮上ユニット１０の相対変位、Ｘ軸まわりの浮上ユニット１０の相対回転、Ｙ軸まわりの浮上ユニット１０の相対回転、及びＺ軸まわりの浮上ユニット１０の相対回転の全てを検出することが可能である。
　例えば、配列ラインＬ０１（測位ライン）に沿った相対変位に基づいて、Ｘ軸における相対変位を検出することができる。センシングラインＬ２２，Ｌ２４，Ｌ２５（測位ライン）に沿った相対変位に基づいて、Ｚ軸における相対変位を検出することができる。センシングラインＬ２３，Ｌ２６に沿った相対変位に基づいて、Ｙ軸における相対変位を検出することができる。
　センシングラインＬ２２に沿った相対変位と、センシングラインＬ２４に沿った相対変位と、センシングラインＬ２５に沿った相対変位との関係に基づいて、Ｘ軸まわりの相対姿勢及びＹ軸まわりの相対姿勢を検出することができる。センシングラインＬ２３に沿った相対変位と、センシングラインＬ２６に沿った相対変位との関係に基づいて、Ｚ軸まわりの相対姿勢を検出することができる。
　互いに独立した６本の非接触力を発生させるための駆動ユニット４０の構成は、以上に例示した構成に限られない。互いに独立した６本の非接触力を発生させるための構成は無数に考えられる。
　一例として図７は、上述した構成において、サイドフレーム１２に設けられた第２可動子２２及びサイドプレート５２に設けられた第２アクチュエータ７２を、ボトムフレーム１１に設けられた第２可動子２２Ａ及びボトムプレート５１に設けられた第２アクチュエータ７２Ａに置き換えた構成を示している。
　第２可動子２２Ａは、ボトムフレーム１１のうち、端縁１１ｃ寄りの部分の下面に固定されている。
　第２アクチュエータ７２Ａは、ボトムプレート５１のうち、端縁５１ｃ寄りの部分の上面に固定されており、第２可動子２２Ａの下方に位置する。第２アクチュエータ７２Ａは、Ｙ軸に沿った第２非接触力Ｆ２２を浮上ユニット１０の第２可動子２２Ａに作用させる。また、第２アクチュエータ７２Ａは、Ｚ軸に沿った第２交差非接触力Ｆ３２を浮上ユニット１０の第２可動子２２Ａに作用させる。
　この構成によっても、Ｘ軸における浮上ユニット１０の相対位置、Ｚ軸における浮上ユニット１０の相対位置、Ｙ軸における浮上ユニット１０の相対位置、Ｘ軸まわりの浮上ユニット１０の相対姿勢、Ｙ軸まわりの浮上ユニット１０の相対姿勢、及びＺ軸まわりの浮上ユニット１０の相対姿勢の全てを変更することが可能である。
　互いに独立した６本の測位ラインにおける浮上ユニット１０の相対変位を検出するための駆動ユニット４０の構成も、以上に例示した構成に限られない。互いに独立した６本の測位ラインにおける浮上ユニット１０の相対変位を検出するための構成は無数に考えられる。
　一例として、図７は、上述した構成において、サイドフレーム１２に設けられた第３測位ターゲット３３及び第６測位ターゲット３６と、サイドプレート５２に設けられたギャップセンサ８３ｂ，８３ｅとを、ボトムフレーム１１に設けられた第３測位ターゲット３３Ａ及び第６測位ターゲット３６Ａと、ボトムプレート５１に設けられたリニアセンサ８４ａ，８４ｂとに置き換えた構成を示している。
　第３測位ターゲット３３Ａは、ボトムフレーム１１のうち、端縁１１ｃと第２可動子２２Ａとの間の部分の下面に固定されている。第６測位ターゲット３６Ａは、ボトムフレーム１１のうち、端縁１１ｄと、第１可動子２１及び第３可動子２３との間の部分の下面に固定されている。
　リニアセンサ８４ａは、ボトムプレート５１のうち、端縁５１ｃと第２アクチュエータ７２Ａとの間の部分の上面に固定されている。リニアセンサ８４ｂは、ボトムプレート５１のうち、端縁５１ｄと、第１アクチュエータ７１及び第２アクチュエータ７２との間の部分の上面に固定されている。リニアセンサ８４ａは、搬送ラインＴＬ及び鉛直ラインに垂直な測位ラインにおける第３測位ターゲット３３Ａの相対変位を検出する。リニアセンサ８４ｂは、搬送ラインＴＬ及び鉛直ラインに垂直な測位ラインにおける第６測位ターゲット３６Ａの相対変位を検出する。
　この構成によっても、Ｘ軸における浮上ユニット１０の相対変位、Ｚ軸における浮上ユニット１０の相対変位、Ｙ軸における浮上ユニット１０の相対変位、Ｘ軸まわりの浮上ユニット１０の相対回転、Ｙ軸まわりの浮上ユニット１０の相対回転、及びＺ軸まわりの浮上ユニット１０の相対回転の全てを検出することが可能である。なお、図７の構成においては、サイドフレーム１２及びサイドプレート５２を省略可能である。また、サイドフレーム１２とサイドプレート５２との間に位置する第２隔壁９３も省略可能である。
　コントローラ１００（力制御部）は、移動ベース５０に対する浮上ユニット１０の相対位置に基づいて、非接触力発生部７０が発生させる非接触力を制御する。例えばコントローラ１００は、少なくともリニアセンサ８２による検出結果に基づいて、非接触力発生部７０が発生させる非接触力を制御する。
　コントローラ１００は、少なくともリニアセンサ８２による検出結果と、ギャップセンサ８３ａによる検出結果とに基づいて、非接触力発生部７０が発生させる非接触力を制御してもよい。一例として、コントローラ１００は、リニアセンサ８２による検出結果と、ギャップセンサ８３ａ，８３ｂ，８３ｃ，８３ｄ，８３ｅによる検出結果とに基づいて、非接触力発生部７０が発生させる非接触力を制御してもよい。
　図８は、コントローラ１００による力制御手順を例示するフローチャートである。図８に示すように、コントローラ１００は、ステップＳ０１，Ｓ０２，Ｓ０３を実行する。ステップＳ０１は、位置・姿勢検出部８０による検出結果を取得することを含む。ステップＳ０２は、位置・姿勢検出部８０による検出結果を、移動ベース５０に対する浮上ユニット１０の目標相対位置及び目標相対姿勢に近付けるように、６本の非接触力の目標値を生成することを含む。ステップＳ０３は、６本の非接触力を、目標値にそれぞれ合わせるように、第１アクチュエータ７１、第２アクチュエータ７２及び第３アクチュエータ７３を制御することを含む。コントローラ１００は以上の手順を所定の制御周期で繰り返す。
　図９は、コントローラ１００のハードウェア構成を例示する図である。図９に示すように、コントローラ１００は、一つ又は複数のプロセッサ１９１と、メモリ１９２と、ストレージ１９３と、入出力回路１９４と、ドライバ回路１９５とを有する。ストレージ１９３は、例えば不揮発性の半導体メモリ等、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体を有する。ストレージ１９３は、リニア搬送装置２及びロボット３の制御プログラムを記憶する。この制御プログラムは、位置・姿勢検出部８０による検出結果に基づいて、３本以上の非接触力を非接触力発生部７０に変更させることをコントローラ１００に実行させるプログラムを含む。
　メモリ１９２は、ストレージ１９３の記憶媒体からロードしたプログラム及びプロセッサ１９１による演算結果を一時的に記憶する。プロセッサ１９１は、メモリ１９２と協働して上記プログラムを実行する。入出力回路１９４は、プロセッサ１９１からの指令に従って、リニアセンサ８２及びギャップセンサ８３ａ，８３ｂ，８３ｃ，８３ｄ，８３ｅとの間で電気信号の入出力を行う。ドライバ回路１９５は、プロセッサ１９１からの指令に従って、第１アクチュエータ７１、第２アクチュエータ７２及び第３アクチュエータ７３に駆動電力を出力する。
〔本実施形態の効果〕
　以上に説明したように、基板搬送システム１は、搬送ラインＴＬに沿って基板Ｗを搬送するリニア搬送装置２と、リニア搬送装置２から基板Ｗを受け取って処理ユニットＰＵに搬入し、処理ユニットＰＵから基板Ｗを搬出してリニア搬送装置２に渡すロボットと、を備え、リニア搬送装置２は、搬送ラインＴＬに沿って移動する移動ベース５０（第１移動体）と、基板Ｗを支持する浮上ユニット１０（第２移動体）と、移動ベース５０に対し浮上ユニット１０を浮上させつつ、移動ベース５０の移動に浮上ユニット１０を追従させるように、移動ベース５０から浮上ユニット１０に非接触力を作用させる非接触力発生部７０と、を備える。
　発塵を抑制するためには、移動体を浮上させつつ、浮上した移動体を非接触で移動させる搬送装置が有効である。しかしながら、浮上した移動体の位置・姿勢は変動し易いので、搬送精度と発塵抑制との両立が困難となる可能性がある。例えば、移動体に作用させる非接触力が、移動体の位置に応じて変動し、これに起因して搬送精度が低下する可能性がある。
　これに対し、本基板搬送システム１では、搬送ラインＴＬに沿って移動する移動ベース５０と、移動ベース５０に追従して移動する浮上ユニット１０との間に非接触力を発生させる。移動ベース５０に対する浮上ユニット１０の相対的な変位量は、搬送経路における移動ベース５０の移動量に対し微小範囲に留まる。このため、移動ベース５０に対する浮上ユニット１０の相対位置に応じた非接触力の変動は、実質的に無視し得る。従って、移動ベース５０に対して浮上ユニット１０を浮上させつつも、移動ベース５０に対する浮上ユニット１０の相対位置の精度を高く維持し易い。
　浮上ユニット１０が移動ベース５０に対して浮上しているので、浮上ユニット１０が移動する空間と、移動ベース５０が移動する空間とを区画できる。移動ベース５０が移動する空間においては、発塵抑制よりも位置精度を優先し、移動ベース５０の位置精度を高めることができる。従って、搬送精度と、発塵抑制との両立に有効である。
　リニア搬送装置は、移動ベース５０が移動する内部空間９４（第１空間）と、浮上ユニット１０が移動する外部空間９５（第２空間）とを仕切る区画壁９１を有していてもよい。この場合、移動ベース５０に対して浮上ユニット１０を浮上させる構成が、発塵抑制に対しより有効となる。
　非接触力発生部７０は、搬送ラインＴＬに交差する交差ラインＬ１１（第１交差ライン）に沿って浮上ユニット１０に対向し、浮上ユニット１０に非接触力を作用させる第１アクチュエータ７１と、搬送ラインＴＬ及び交差ラインＬ１１に交差する交差ラインＬ１２（第２交差ライン）に沿って浮上ユニット１０に対向し、浮上ユニット１０に非接触力を作用させる第２アクチュエータ７２と、を有していてもよい。この場合、互いに異なる方向から、第１アクチュエータ７１及び第２アクチュエータ７２を対向させることで、アクチュエータの配置スペースを確保し易い。
　第１アクチュエータ７１は、搬送ラインＴＬに平行な第１非接触力Ｆ０１を浮上ユニット１０に作用させ、第２アクチュエータ７２は、搬送ラインＴＬに平行な第２非接触力Ｆ０２を浮上ユニット１０に作用させてもよい。この場合、搬送ラインＴＬに平行な非接触力をダブルで付与するため、搬送ラインＴＬに沿った浮上ユニット１０の位置決め精度を向上させることができる。
　第１アクチュエータ７１は、交差ラインＬ１１に沿った第１交差非接触力Ｆ１１を浮上ユニット１０に更に作用させ、第２アクチュエータ７２は、交差ラインＬ１２に沿った第２交差非接触力Ｆ１２を浮上ユニット１０に更に作用させてもよい。この場合、第１アクチュエータ７１及び第２アクチュエータ７２を浮上にも併用するため、構造の簡素化を図ることができる。
　第１アクチュエータ７１及び第２アクチュエータ７２は、搬送ラインＴＬに沿って浮上ユニット１０を変位させるリニアモータであってもよい。この場合、位置決め精度の更なる向上を図ることができる。
　基板搬送システム１は、交差ラインＬ１２と交差し交差ラインＬ１１に平行な交差ラインＬ１３（第３交差ライン）に沿って浮上ユニット１０に対向し、浮上ユニット１０に非接触力を作用させる第３アクチュエータ７３を更に有していてもよい。この場合、位置決め精度の更なる向上を図ることができる。
　第３アクチュエータ７３は、搬送ラインＴＬに平行な第３非接触力Ｆ０３を浮上ユニット１０に作用させてもよい。この場合、搬送ラインＴＬに沿った浮上ユニット１０の位置決め精度の更なる向上を図ることができる。
　第３アクチュエータ７３は、交差ラインＬ１３（第３交差ライン）に沿った第３交差非接触力Ｆ１３を浮上ユニット１０に更に作用させてもよい。この場合、第３アクチュエータ７３も浮上に併用するため、構造の簡素化を図ることができる。
　第１アクチュエータ７１及び第３アクチュエータ７３は、下方から浮上ユニット１０に対向し、第２アクチュエータ７２は、リニア搬送装置２に対しロボット３が配置される方向の反対方向から浮上ユニット１０に対向してもよい。この場合、浮上ユニット１０の姿勢調整に重力も有効活用することができる。
　非接触力発生部７０は、互いに独立した６本の非接触力を移動ベース５０と浮上ユニット１０との間に発生させてもよい。この場合、移動ベース５０に対する浮上ユニット１０の相対位置の安定性を向上させることができる。
　基板搬送システム１は、移動ベース５０に対する浮上ユニット１０の相対位置に基づいて、非接触力発生部７０が発生させる非接触力を制御するコントローラ１００（力制御部）を更に有していてもよい。この場合、相対位置に基づいて非接触力を制御することで、ロボット３との間で基板の受け渡しをより正確に行うことができる。
　基板搬送システム１は、搬送ラインＴＬに交差するセンシングラインＬ２１に沿って浮上ユニット１０に対向し、移動ベース５０に対する浮上ユニット１０の搬送ラインＴＬに沿った相対変位を検出するリニアセンサ８２を更に備え、コントローラ１００は、少なくともリニアセンサ８２による検出結果に基づいて、非接触力発生部７０が発生させる非接触力を制御してもよい。この場合、搬送ラインＴＬに沿った浮上ユニット１０の移動を妨げることなく、搬送ラインＴＬに沿った浮上ユニット１０の相対変位を正確に検出することができる。
　基板搬送システム１は、搬送ラインＴＬに交差するセンシングラインＬ２２，Ｌ２４，Ｌ２５（第２センシングライン）に沿って浮上ユニット１０に対向し、移動ベース５０から浮上ユニット１０までの距離を検出するギャップセンサ８３ａ，８３ｃ，８３ｄを更に備え、コントローラ１００は、少なくともリニアセンサ８２による検出結果と、ギャップセンサ８３ａ，８３ｃ，８３ｄによる検出結果とに基づいて、非接触力発生部７０が発生させる非接触力を制御してもよい。この場合、搬送ラインＴＬに交差する方向の変位にはギャップセンサ８３ａ，８３ｃ，８３ｄを用いることで、装置構成の簡素化を図ることができる。
　基板搬送システム１は、搬送ラインＴＬ及びセンシングラインＬ２２，Ｌ２４，Ｌ２５に交差するセンシングラインＬ２３，Ｌ２６（第３センシングライン）に沿って浮上ユニット１０に対向し、移動ベース５０から浮上ユニット１０までの距離を検出するギャップセンサ８３ｂ，８３ｅ（第２ギャップセンサ）を更に備えていてもよい。この場合、互いに交差する２方向の相対変位のそれぞれにギャップセンサ８３ａ，８３ｂ，８３ｃ，８３ｄ，８３ｅを用いることで、装置構成の更なる簡素化を図ることができる。
　以上、実施形態について説明したが、本開示は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
　１…基板搬送システム、２…リニア搬送装置（基板搬送装置）、３…ロボット、１０…浮上ユニット（第２移動体）、Ｌ２１…センシングライン、５０…移動ベース（第１移動体）、７０…非接触力発生部、７１…第１アクチュエータ、７２…第２アクチュエータ、７３…第３アクチュエータ、８２…リニアセンサ、８３ａ，８３ｃ，８３ｄ…ギャップセンサ、８３ｂ，８３ｅ…ギャップセンサ（第２ギャップセンサ）、９１…区画壁、９４…内部空間（第１空間）、９５…外部空間（第２空間）、１００…コントローラ（力制御部）、Ｆ０１…第１非接触力、Ｆ０２…第２非接触力、Ｆ０３…第３非接触力、Ｆ１１…第１交差非接触力、Ｆ１２…第２交差非接触力、Ｆ１３…第３交差非接触力、Ｌ１１…交差ライン（第１交差ライン）、Ｌ１２…交差ライン（第２交差ライン）、Ｌ１３…交差ライン（第３交差ライン）、Ｌ２２，Ｌ２４，Ｌ２５…センシングライン（第２センシングライン）、Ｌ２３，Ｌ２６…センシングライン（第３センシングライン）、ＰＵ…処理ユニット、ＴＬ…搬送ライン、Ｗ…基板。

 

Claims (16)

  1. 　搬送ラインに沿って基板を搬送するリニア搬送装置と、
    　前記リニア搬送装置から基板を受け取って処理ユニットに搬入し、前記処理ユニットから前記基板を搬出して前記リニア搬送装置に渡すロボットと、を備え、
    　前記リニア搬送装置は、
    　前記搬送ラインに沿って移動する第１移動体と、
    　前記基板を支持する第２移動体と、
    　前記第１移動体に対し前記第２移動体を浮上させつつ、前記第１移動体の移動に前記第２移動体を追従させるように、前記第１移動体から前記第２移動体に非接触力を作用させる非接触力発生部と、を備える基板搬送システム。
  2. 　前記リニア搬送装置は、
    　前記第１移動体が移動する第１空間と、前記第２移動体が移動する第２空間とを仕切る区画壁を有する、請求項１記載の基板搬送システム。
  3. 　前記非接触力発生部は、
    　前記搬送ラインに交差する第１交差ラインに沿って前記第２移動体に対向し、前記第２移動体に非接触力を作用させる第１アクチュエータと、
    　前記搬送ライン及び前記第１交差ラインに交差する第２交差ラインに沿って前記第２移動体に対向し、前記第２移動体に非接触力を作用させる第２アクチュエータと、を有する、請求項１又は２記載の基板搬送システム。
  4. 　前記第１アクチュエータは、前記搬送ラインに平行な第１非接触力を前記第２移動体に作用させ、
    　前記第２アクチュエータは、前記搬送ラインに平行な第２非接触力を前記第２移動体に作用させる、請求項３記載の基板搬送システム。
  5. 　前記第１アクチュエータは、前記第１交差ラインに沿った第１交差非接触力を前記第２移動体に更に作用させ、
    　前記第２アクチュエータは、前記第２交差ラインに沿った第２交差非接触力を前記第２移動体に更に作用させる、請求項４記載の基板搬送システム。
  6. 　前記第１アクチュエータ及び前記第２アクチュエータは、前記搬送ラインに沿って前記第２移動体を変位させるリニアモータである、請求項５記載の基板搬送システム。
  7. 　前記第２交差ラインと交差し前記第１交差ラインに平行な第３交差ラインに沿って前記第２移動体に対向し、前記第２移動体に非接触力を作用させる第３アクチュエータを更に有する、請求項５又は６記載の基板搬送システム。
  8. 　前記第３アクチュエータは、前記搬送ラインに平行な第３非接触力を前記第２移動体に作用させる、請求項７記載の基板搬送システム。
  9. 　前記第３アクチュエータは、前記第３交差ラインに沿った第３交差非接触力を前記第２移動体に更に作用させる、請求項８記載の基板搬送システム。
  10. 　前記第１アクチュエータ及び前記第３アクチュエータは、下方から前記第２移動体に対向し、
    　前記第２アクチュエータは、前記リニア搬送装置に対し前記ロボットが配置される方向の反対方向から前記第２移動体に対向する、請求項９記載の基板搬送システム。
  11. 　前記非接触力発生部は、互いに独立した６本の非接触力を前記第１移動体と前記第２移動体との間に発生させる、請求項１～１０のいずれか一項記載の基板搬送システム。
  12. 　前記第１移動体に対する前記第２移動体の相対位置に基づいて、前記非接触力発生部が発生させる非接触力を制御する力制御部を更に有する、請求項１～１１のいずれか一項記載の基板搬送システム。
  13. 　前記搬送ラインに交差するセンシングラインに沿って前記第２移動体に対向し、前記第１移動体に対する前記第２移動体の前記搬送ラインに沿った相対変位を検出するリニアセンサを更に備え、
    　前記力制御部は、少なくとも前記リニアセンサによる検出結果に基づいて、前記非接触力発生部が発生させる非接触力を制御する、請求項１２記載の基板搬送システム。
  14. 　前記搬送ラインに交差する第２センシングラインに沿って前記第２移動体に対向し、前記第１移動体から前記第２移動体までの距離を検出するギャップセンサを更に備え、
    　前記力制御部は、少なくとも前記リニアセンサによる検出結果と、前記ギャップセンサによる検出結果とに基づいて、前記非接触力発生部が発生させる非接触力を制御する、請求項１３記載の基板搬送システム。
  15. 　前記搬送ライン及び前記第２センシングラインに交差する第３センシングラインに沿って前記第２移動体に対向し、前記第１移動体から前記第２移動体までの距離を検出する第２ギャップセンサを更に備える、請求項１４記載の基板搬送システム。
  16. 　搬送ラインに沿って移動する第１移動体と、
    　基板を支持する第２移動体と、
    　前記第１移動体に対し前記第２移動体を浮上させつつ、前記第１移動体の移動に前記第２移動体を追従させるように、前記第１移動体と前記第２移動体との間に非接触力を発生させる非接触力発生部と、を備え、
    　前記非接触力発生部は、
    　前記搬送ラインに交差する第１交差ラインに沿って前記第２移動体に対向し、前記第２移動体に非接触力を作用させる第１アクチュエータと、
    　前記搬送ライン及び前記第１交差ラインに交差する第２交差ラインに沿って前記第２移動体に対向し、前記第２移動体に非接触力を作用させる第２アクチュエータと、を有し、
    　前記第１アクチュエータは、前記搬送ラインに平行な第１非接触力を前記第２移動体に作用させ、
    　前記第２アクチュエータは、前記搬送ラインに平行な第２非接触力を前記第２移動体に作用させる、基板搬送装置。

     
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