WO2022075468A1 - ガスパージユニットおよびロードポート装置 - Google Patents

ガスパージユニットおよびロードポート装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2022075468A1
WO2022075468A1 PCT/JP2021/037448 JP2021037448W WO2022075468A1 WO 2022075468 A1 WO2022075468 A1 WO 2022075468A1 JP 2021037448 W JP2021037448 W JP 2021037448W WO 2022075468 A1 WO2022075468 A1 WO 2022075468A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
purge
gas
container
purge nozzle
nozzle
Prior art date
Application number
PCT/JP2021/037448
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
達裕 小番
淳 江本
拓哉 工藤
Original Assignee
Tdk株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tdk株式会社 filed Critical Tdk株式会社
Priority to CN202180068546.9A priority Critical patent/CN116325110A/zh
Priority to US18/030,576 priority patent/US20230420272A1/en
Priority to KR1020237011679A priority patent/KR20230061532A/ko
Publication of WO2022075468A1 publication Critical patent/WO2022075468A1/ja

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67775—Docking arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H01L21/67393—Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations

Definitions

  • the present invention relates to a load port device having a gas purge unit and a gas purge unit for introducing gas into a container or discharging gas from the container.
  • a gas purge unit for improving the cleanliness of the container for accommodating silicon wafers and other substrates has been proposed. Further, as a gas purge unit, a purge nozzle that communicates with a purge port formed at the bottom of a container is proposed to move up and down like a piston with respect to a mounting table (see Patent Document 1 and the like).
  • a cylindrical nozzle is arranged in a cylinder-shaped holder to form a sealed space surrounded by a nozzle flange, a nozzle outer peripheral surface, a cylinder inner peripheral surface, and a cylinder bottom wall, and the space is sealed.
  • the vertical movement mechanism of the nozzle that adjusts the pressure in the space is disclosed.
  • the present invention has been made in view of such an actual situation, and provides a gas purge unit or the like having a vertical movement mechanism of a nozzle with good maintainability.
  • the gas purge unit is A first purge nozzle, which has a gas flow path formed inside and communicates with a first purge port provided at the bottom of the container to introduce gas into the container or discharge gas from the container.
  • a first connecting portion having a first holding portion for holding the first purge nozzle at one end, and a first connecting portion.
  • the first connecting portion is connected to the first connecting portion, and has a first actuator for moving the first connecting portion and the first purge nozzle up and down.
  • the first purge nozzle and the first actuator are connected by the first connecting portion, the first purge nozzle and the first actuator are separate bodies. Such a gas purge unit does not need to disassemble the nozzle when the first actuator is repaired or malfunctions, and has good maintainability.
  • a gas flow path is formed inside, and the gas is communicated with a second purge port provided at the bottom of the container to introduce gas into the container or to introduce gas into the container. It may further have a second purge nozzle to drain from the container.
  • the first connecting portion may have a second holding portion that holds the second purge nozzle at the other end portion, and an arm portion that connects the first holding portion and the second holding portion.
  • the first connecting portion may be connected to the first actuator via the arm portion. The first actuator may move the first connecting portion, the first purge nozzle, and the second purge nozzle up and down.
  • Such a gas purge unit operates two purge nozzles with one actuator, the operations of the two purge nozzles can be easily synchronized, and poor connection between the purge nozzle and the purge port can be prevented. Further, by operating the two purge nozzles with one actuator, the number of parts can be reduced, and in this respect as well, the assembleability and maintainability are good.
  • a common gas flow path may be provided in which gas is supplied to both the first purge nozzle and the second purge nozzle, or gas discharged from both of them flows into the common gas flow path.
  • the first purge nozzle and the second purge nozzle may both introduce gas into the container or discharge gas from the container.
  • the gas flow path is simplified and maintainability is good. Further, since the total length of the gas flow path included in the entire gas purge unit can be shortened, the number of parts can be reduced and the ease of assembly and maintainability can be improved. Further, since the gas can be introduced or discharged from a plurality of nozzles, the gas in the container can be efficiently purged.
  • branch portion where the flow path branches from the common gas flow path to the first purge nozzle and the second purge nozzle may be arranged closer to the first actuator than the first and second purge nozzles.
  • the branch portion By arranging the branch portion closer to the first actuator in the horizontal direction, the difference between the flow path length from the common gas flow path to the first purge nozzle and the flow path length from the common gas flow path to the second purge nozzle is reduced. Then, the gas can be introduced into the container in a well-balanced manner from the two nozzles, and the gas can be discharged from the container. Further, by arranging the branch portion close to the first actuator in the horizontal direction and the vertical direction, the flow path from the common gas flow path to the first purge nozzle and the flow path from the common gas flow path to the second purge nozzle can be obtained. The total length of can be shortened. By shortening the flow path length, improvement of pressure transmission and reduction of gas leakage amount can be expected.
  • a gas flow path is formed inside, and a flexible tube portion connected to the lower end of the first purge nozzle and having flexibility is provided.
  • the flexible tube portion may be deformed according to the vertical movement of the first purge nozzle.
  • a gas flow path is formed inside, and the gas is communicated with a third purge port provided at the bottom of the container to introduce gas into the container or to introduce gas into the container.
  • the third purge nozzle that discharges from the container and A second connecting portion having a third holding portion for holding the third purge nozzle at one end, and a second connecting portion.
  • the second connecting portion is connected, and may further include the second connecting portion and a second actuator that moves the third purge nozzle up and down.
  • Such a gas purge unit can operate the third purge nozzle independently of the first purge nozzle by using the second actuator.
  • the first purge nozzle that is moved up and down by the first actuator is Gas may be introduced into the container.
  • the third purge nozzle, which is moved up and down by the second actuator, may discharge gas from the container.
  • the first purge nozzle for introducing gas and the third purge nozzle for discharging gas can be operated independently, so that only gas is introduced or only gas is discharged.
  • the purge port that is not used at that time can be closed.
  • the load port device includes any of the above gas purge units and It has a mounting table on which the container can be mounted and the gas purge unit is provided.
  • the first guide ring through which the first purge nozzle is inserted is detachably fixed to the above-mentioned stand.
  • a notch portion that regulates the rise of the stepped surface formed on the outer peripheral wall of the first purge nozzle is formed on the lower inner peripheral edge of the first guide ring.
  • the first guide ring can move the first purge nozzle with high positional accuracy.
  • a stopper with a notch and a stepped surface, it is possible to prevent the nozzle from tilting at the ascending position and realize good vertical movement.
  • the first guide ring is removable, the assembleability and maintainability are good.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a load port device having a gas purge unit according to an embodiment of the present invention and its peripheral devices.
  • FIG. 2 is a schematic perspective view of the mounting table and gas purge unit of the load port device shown in FIG. 1 as viewed from diagonally above.
  • FIG. 3 is a schematic perspective view of the mounting table and the gas purge unit of the load port device shown in FIG. 1 as viewed from diagonally below.
  • FIG. 4 is a perspective view of a main part showing a state in which the first and second purge nozzles shown in FIG. 3 are in the lowered position.
  • FIG. 5 is a perspective view of a main part showing a state in which the first and second purge nozzles shown in FIG. 3 are in the raised position.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a load port device having a gas purge unit according to an embodiment of the present invention and its peripheral devices.
  • FIG. 2 is a schematic perspective view of the mounting table and
  • FIG. 6 is a perspective view of a main part showing a state in which the third purge nozzle shown in FIG. 3 is in a lowered position.
  • FIG. 7 is a perspective view of a main part showing a state in which the third purge nozzle shown in FIG. 3 is in the ascending position.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing the first purge nozzle and the first guide ring in the descending position.
  • FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing the first purge nozzle and the first guide ring in the ascending position.
  • FIG. 1 is a schematic view of an EFEM 97 including a load port device 10 having a gas purge unit 20 (see FIG. 3) according to an embodiment of the present invention, and a container 90 mounted on the load port device 10.
  • the load port device 10 shown in FIG. 1 constitutes a part of EFEM 97.
  • the substrate transfer chamber 99 of the EFEM 97 to which the load port device 10 is connected is provided with a transfer robot or the like that conveys the substrate 96.
  • the transfer robot takes out a substrate 96 such as a silicon wafer housed in the container 90 from the container 90 connected to the substrate transfer chamber 99 by the load port device 10 and conveys the substrate 96 to a load lock chamber, a semiconductor processing device, or the like.
  • the container 90 is a container used when transporting the substrate 96 to be processed to each device in the semiconductor factory, and an example thereof is FOUP.
  • the container 90 can accommodate a plurality of substrates 96, and has a shelf (not shown) for arranging and accommodating the substrates 96, and a lid 94 for closing the main opening for inserting and removing the substrate 96.
  • the load port device 10 has a door 98 for opening and closing the lid 94 of the container 90, and the lid 94 can be removed from the main body portion of the container 90.
  • the bottom 90a of the container 90 is provided with a first purge port 91 and a third purge port 93.
  • the first purge nozzle 30 and the third purge nozzle 43 of the load port device 10 communicate with the first purge port 91 and the third purge port 93 of the container 90, and the cleaning gas is applied to the inside 88 of the container 90.
  • the second purge port through which the second purge nozzle 42 (see FIG. 3) communicates and the fourth purge port through which the fourth purge nozzle 44 (see FIG. 3) communicates are also the first and the first. Similar to the third purge ports 91 and 93, it is provided in the bottom 90a of the container 90.
  • FIG. 2 is a schematic perspective view of the periphery of the mounting table 80 of the load port device 10 as viewed from diagonally above.
  • the load port device 10 has a mounting table 80 on which a container 90 for accommodating the substrate 96 can be placed.
  • the mounting table 80 includes a positioning pin 85 for positioning the container 90 with respect to the mounting table 80, a fixing mechanism 86 for fixing the container 90 to the mounting table 80, and a mounting sensor for detecting that the container 90 is mounted. 87 etc. are provided.
  • FIG. 3 is a schematic perspective view of the mounting table 80 viewed from diagonally below
  • the mounting table 80 is provided with a gas purge unit 20.
  • the gas purge unit 20 has four purge nozzles, a first purge nozzle 30, a second purge nozzle 42, a third purge nozzle 43, and a fourth purge nozzle 44.
  • the number of purge nozzles included in the gas purge unit 20 is not limited to four, and may have one to three purge nozzles, and the gas purge unit 20 may have five or more purge nozzles. ..
  • the mounting table 80 is formed with a through hole 88 through which the first purge nozzle 30, the second purge nozzle 42, the third purge nozzle 43, and the fourth purge nozzle 44 are inserted. Further, each through hole 88 is provided with first to fourth guide rings 81 to 84 so as to correspond to the first to fourth purge nozzles 30, 42, 43 and 44. The first to fourth purge nozzles 30, 42, 43, and 44 are exposed above the mounting table 80 through the through holes 88.
  • the first to fourth purge nozzles 30, 42, 43, and 44 are provided below the vicinity of the upper surface of the mounting table 80.
  • actuators for moving the first to fourth purge nozzles 30, 42, 43, 44 up and down, and first to fourth purge nozzles 30, 42, 43, 44. Piping etc. (not shown) to connect are arranged.
  • FIG. 4 is a perspective view of a main part showing a state in which the first and second purge nozzles 30 and 42 of the gas purge unit 20 shown in FIG. 3 are in the lowered position.
  • the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42 shown in FIG. 4 communicate with the first purge port 91 and the second purge port of the container 90, respectively, and introduce gas into the container 90.
  • either one or both of the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42 may discharge the gas from the container 90.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing the first purge nozzle 30 and the first guide ring 81 in the descending position.
  • the first purge nozzle 30 is composed of a first portion 31, a second portion 32, and a third portion 33.
  • a gas flow path 30b is formed inside the first purge nozzle 30.
  • a gas flow path is formed inside as in the first purge nozzle 30 shown in FIG.
  • the gas purge unit 20 includes a first connecting portion 60, a first actuator 51, a bracket 54, a support portion 55, a common gas flow path 73, a branch portion 74, a first flexible pipe portion 71, and a first. 2 It has a flexible tube portion 72 and the like.
  • the first actuator 51 is fixed to the mounting table 80 shown in FIG. 3 via the bracket 54.
  • the first actuator 51 has a drive shaft 51a that moves up and down.
  • the first actuator 51 is not particularly limited as long as it moves the first connecting portion 60, the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42 up and down via the drive shaft 51a and the like.
  • examples of the first actuator 51 include a linear motor, a combination of a rotary motor and a gear or a cam mechanism, an air cylinder, an electromagnetic solenoid, and the like.
  • the first actuator 51 as a transmission means for transmitting the driving force to the first connecting portion 60, as shown in FIG. 4, the first connecting portion 60 is directly connected to the driving shaft 51a of the first actuator 51.
  • the first actuator 51 may be connected to the first connecting portion 60 via a link mechanism, a cam mechanism, a drive belt, or the like.
  • the first connecting portion 60 has a first holding portion 61, a second holding portion 62, and an arm portion 63.
  • the first holding portion 61 is provided at one end 60a of the first connecting portion 60 and holds the first purge nozzle 30.
  • the first holding portion 61 has a ring portion that can be opened and closed, and the first purge nozzle 30 has a connecting groove 32ab (see FIG. 8) formed in the outer peripheral wall 32a of the second portion 32. By engaging the ring structure, it is fixed to the first holding portion 61.
  • the second holding portion 62 is provided at the other end portion 60b on the opposite side of the one end portion 60a of the first connecting portion 60, and holds the second purge nozzle 42.
  • the second holding portion 62 also has a ring portion that can be opened and closed like the first holding portion 61, and holds the second purge nozzle 42 by the same mechanism as the first holding portion 61.
  • the arm portion 63 connects the first holding portion 61 and the second holding portion 62 in a substantially horizontal direction.
  • the first connecting portion 60 is connected to the first actuator 51 at substantially the center of the arm portion 63. As a result, the first actuator 51 moves the first connecting portion 60, the first purge nozzle 30, and the second purge nozzle 42 up and down.
  • connection structure between the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42 and the first actuator 51 is not limited to the use of the first connection portion 60 having the arm portion 63 as shown in FIG.
  • the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42 may be connected to the first actuator 51 via separate connecting portions, or may be further connected to individual actuators.
  • the gas purge unit 20 has a common gas flow path 73 that supplies gas to both the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42. Gas flows into the common gas flow path 73 from a gas supply unit (not shown), and the flow path branches from the branch portion 74 of the common gas flow path 73 to the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42. ing.
  • the branch portion 74 in which the flow path branches from the common gas flow path 73 to the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42 is closer to the first actuator 51 than the first and second purge nozzles 30 and 42.
  • the support portion 55 that supports the branch portion 74 from below is connected to the bottom portion of the first actuator 51. Therefore, these members are fixed to the mounting table 80 via the bracket 54.
  • the branch portion 74 By arranging the branch portion 74 near the first actuator 51 in the vertical direction, the flow path length from the branch portion 74 to the purge nozzles 30 and 42 can be shortened, so that the gas pressure propagation velocity and the gas pressure propagation velocity can be shortened. It is advantageous from the viewpoint of leak prevention.
  • the gas purge unit 20 has a first flexible pipe portion 71 that connects the branch portion 74 and the first purge nozzle 30, and a second flexible pipe portion 72 that connects the branch portion 74 and the second purge nozzle 42. ..
  • a gas flow path is formed inside the first flexible pipe portion 71, and the gas branched at the branch portion 74 flows into the first purge nozzle 30 through the first flexible pipe portion 71.
  • the first flexible tube portion 71 is connected to the lower end of the first purge nozzle 30 and has flexibility. Since the first flexible tube portion 71 is deformed in response to the vertical movement of the first purge nozzle 30, which will be described later, the gas with respect to the first purge nozzle 30 is generated at both the descending position (FIG. 4) and the ascending position (FIG. 5). The route is secured.
  • the first flexible tube portion 71 is not particularly limited as long as it has flexibility, and examples thereof include a resin tube, a metal bellows tube, and a knitting tube.
  • a gas flow path is also formed inside the second flexible tube portion 72, and the gas branched at the branch portion 74 is the second flexible tube portion. It flows into the second purge nozzle 42 through the portion 72.
  • the second flexible tube portion 72 is connected to the lower end of the second purge nozzle 42 and has flexibility like the first flexible tube portion 71.
  • the second flexible tube portion 72 has the same function as the first flexible tube portion 71, except that it is connected to the second purge nozzle 42.
  • the material of the second flexible tube portion 72 is the same as that of the first flexible tube portion 71.
  • FIG. 5 is a perspective view of a main part showing a state in which the first and second purge nozzles 30 and 42 of the gas purge unit 50 are in the raised position.
  • the first and second purge nozzles 30, 42 are moved up and down by the first actuator 51.
  • the drive shaft 51a of the first actuator 51 is retracted downward and the first connecting portion 60 connected to the drive shaft 51a. Is located below the state shown in FIG. As a result, the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42 held at both ends of the first connecting portion 60 are also located at the descending positions shown in FIG.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing the first purge nozzle 30 and the first guide ring 81 in the descending position.
  • the first guide ring 81 is fixed to the mounting table 80 (see FIG. 3) with bolts, and is not interlocked with the vertical movement of the first purge nozzle 30 with respect to the mounting table 80.
  • the first portion 31 which is the uppermost portion of the first purge nozzle 30 has a first portion upper portion 31a and a seal ring 31c.
  • the top portion 30a (see FIG. 5), which is a part of the first portion upper portion 31a, is exposed on the upper surface side of the mounting table 80 shown in FIG. Further, a part of the first portion upper portion 31a in the descending position protrudes upward with respect to the upper surface of the first guide ring 81 and the mounting table 80. However, unlike this, the entire upper portion 31a of the first portion in the descending position may be retracted flush or downward with respect to the upper surface of the first guide ring 81 and the mounting table 80.
  • the first portion 31 has a flange portion 31ab protruding in the outer diameter direction from an adjacent portion in the vertical direction in the upper portion 31a of the first portion.
  • an upper cutout portion 81aa to which the flange portion 31ab engages is formed on the upper inner peripheral edge of the first guide ring 81.
  • the flange portion 31ab is moved by the upper notch portion 81aa of the first guide ring 81.
  • the drive shaft 51a of the first actuator 51 projects upward, and the first connecting portion 60 connected to the drive shaft 51a is also shown in FIG. Move above the indicated state.
  • the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42 held at both ends of the first connecting portion 60 are also linked to the ascent of the drive shaft 51a and the first connecting portion 60 of the first actuator 51, and are in the ascending positions shown in FIG. To position.
  • the outer peripheral wall 32a of the second portion 32 of the first purge nozzle 30 is formed with a stepped surface 32aa protruding in the outer diameter direction from the portion above the outer peripheral wall 32a.
  • the lower inner peripheral edge 81a of the first guide ring 81 is formed with a lower notch portion 81ab with which the stepped surface 32aa is engaged.
  • the first purge nozzle 30 prevents the problem that the first purge nozzle 30 moves upward more than necessary by restricting the upward movement range of the stepped surface 32aa by the lower notch portion 81ab.
  • the first purge nozzle 30 and the first guide ring 80 can prevent the first purge nozzle 30 from tilting and realize smooth vertical operation by forming a stopper by the lower notch portion 81ab and the stepped surface 32aa. ..
  • the small diameter portion 32ac located between the flange portion 31ab and the stepped surface 32aa has a smaller outer diameter than the flange portion 31ab and the outer peripheral wall 32a below the stepped surface 32aa. ..
  • the inner diameter of the inner peripheral wall 81ac of the first guide ring 81 is substantially the same as or slightly larger than the outer diameter of the small diameter portion 32ac, and the inner peripheral wall 81ac faces the small diameter portion 32ac and guides the vertical movement of the small diameter portion 32ac. do.
  • the second purge nozzle 42 and the second guide ring 82 shown in FIGS. 4 and 5 also have the same shape as the first purge nozzle 30 and the first guide ring 81 shown in FIGS. 8 and 9.
  • the first purge nozzle 30 and the second purge nozzle 42 are arranged at positions separated from the door 98 shown in FIG. 1 with respect to the center of the mounting table 80.
  • the third purge nozzle 43 and the fourth purge nozzle 44 are arranged on the side close to the door 98 shown in FIG. 1 with respect to the center of the mounting table 80.
  • FIG. 6 is a perspective view of a main part showing a state in which the third purge nozzle 43 shown in FIG. 3 is in a lowered position.
  • the third purge nozzle 43 of the gas purge unit 20 communicates with the third purge port 93 (FIG. 1) of the container 90 at the ascending position shown in FIG. 7, and discharges the gas from the container 90.
  • the third purge port 93 may be capable of introducing gas into the container 90, or may be capable of switching between gas introduction and discharge.
  • the gas purge unit 20 has a second connecting portion 76, a second actuator 52, a third flexible pipe portion 75, and the like.
  • the second actuator 52 is fixed to the mounting table 80 via a bracket connected above the second actuator 52.
  • the third guide ring 83 through which the third purge nozzle 43 is inserted is fixed to the mounting table 80 and is not interlocked with the vertical movement of the third purge nozzle 43.
  • the second actuator 52 has a drive shaft 52a that moves up and down, similar to the first actuator 51 shown in FIG.
  • the second actuator 52 is not limited to the one shown in FIG. 4, and like the first actuator 51, it is also possible to adopt an actuator having a transmission means other than the drive shaft 52a.
  • the second connecting portion 76 has a third holding portion 77 that holds the third purge nozzle 43.
  • the third holding portion 77 is arranged at one end of the second connecting portion 76, and the other end of the second connecting portion 76 is connected to the drive shaft 52a of the second actuator 52. With such a structure, the second actuator 52 moves the second connecting portion 76 and the third purge nozzle 43 up and down.
  • the third holding portion 77 sandwiches and holds the third purge nozzle 43.
  • FIG. 7 is a perspective view of a main part showing a state in which the third purge nozzle 43 of the gas purge unit 20 is in the raised position.
  • the third purge nozzle 43 can be moved up and down independently of the first and second purge nozzles by the second actuator 52.
  • the drive shaft 52a of the second actuator 52 is retracted downward, and the second connecting portion 76 connected to the drive shaft 52a is also shown in FIG. It is located below the indicated state.
  • the third purge nozzle 43 held by the second connecting portion 76 is also located at the descending position shown in FIG.
  • the top 43a of the third purge nozzle 43 projects upward with respect to the upper surface of the third guide ring 83 and the mounting table 80, and the third purge nozzle 43 connects to the third purge port 93 of the container 90.
  • a third flexible tube portion 75 is connected to the lower end of the third purge nozzle 43, and the third flexible tube portion 75 is above and below the third purge nozzle 43. It can be deformed according to the movement.
  • the material and the like of the third flexible tube portion 75 are not particularly limited, and may be the same as those of the first and second flexible tube portions 71 and 72, for example.
  • a gas flow path is formed inside the third flexible pipe portion 75, and the gas discharged from the container 90 and passing through the third purge nozzle 43 enters the inside of the third flexible pipe portion 75. It is possible to flow in. It is preferable that the end portion of the third flexible pipe portion 75 opposite to the third purge nozzle 43 is connected to a space having a lower pressure than the container 90, such as a gas flow path or a discharge pump.
  • the mechanism for moving the fourth purge nozzle 44 up and down shown in FIG. 3 is the same as the mechanism for moving the third purge nozzle 43 shown in FIGS. 6 and 7, and thus the description thereof will be omitted.
  • the fourth purge nozzle 44 can be connected to the fourth purge port of the container 90 to introduce gas into the container 90.
  • the fourth purge nozzle 44 may be able to discharge the gas from the container 90 in the same manner as the third purge nozzle 43.
  • the gas purge unit 20 shown in FIG. 3 introduces gas into the container 90 by using the first and second purge nozzles 30 and 42 that are moved up and down by the first actuator 51. Further, the gas is discharged from the container 90 by using the third purge nozzle 43 that moves up and down by the second actuator 52.
  • the first and second purge nozzles 30 and 42 for introducing gas and the third purge nozzle 43 for discharging gas can be operated independently. As a result, when only gas is introduced or only gas is discharged, the purge port that is not used at that time can be closed and efficient purging can be performed.
  • the gas purge unit 20 has not only the first and second purge nozzles 30 and 42 but also the fourth purge nozzle 44 which is moved up and down by the third actuator 53 as a purge nozzle for introducing gas into the container 90.
  • the gas purge unit 20 changes the direction and speed of the gas flow in the container 90 by switching the connection / disconnection between the fourth purge nozzle 44 and the fourth purge port, and changes the purge speed or the container. The inside of 90 can be purged more evenly.
  • the gas introduced into the container 90 from the first, second and fourth purge nozzles 30, 42, 44 is not particularly limited, and examples thereof include dry air (CDA) and an inert gas, and nitrogen gas is preferable.
  • CDA dry air
  • nitrogen gas is preferable.
  • the gas purge unit 20 operates the two purge nozzles 30 and 42 with one first actuator 51, the operations of the two purge nozzles 30 and 42 can be easily synchronized, and the purge nozzles 30 and 42 and the purge port 91 can be easily synchronized. It is possible to prevent poor connection with. In addition, it is possible to prevent variations in operation for each nozzle, which has been a problem with conventional piston-type purge nozzles for air cylinders. Further, by operating the two purge nozzles 30 and 42 with one first actuator 51, the number of parts can be reduced, and in this respect as well, the assembleability and maintainability are good.
  • the gas purge unit 20 has a common gas flow path 73 for gas introduction, which simplifies the gas flow path and has good maintainability. Further, since the total length of the gas flow path included in the entire gas purge unit 20 can be shortened, the number of parts can be reduced and the ease of assembly and maintainability can be improved. Further, since the gas can be introduced or discharged from a plurality of nozzles, the gas in the container can be efficiently purged.
  • the present invention has been described above with reference to embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and many other embodiments and modifications are included in the technical scope of the present invention. Needless to say.
  • the number of actuators included in the gas purge unit 20 is not limited to three, and the purge nozzle and the actuator may have a one-to-one correspondence, and one actuator moves three or more purge nozzles up and down. You may.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】メンテナンス性の良好なノズルの上下動機構を有するガスパージユニット等を提供する。 【解決手段】内部にガスの流路が形成されており、容器の底部に備えられる第１パージポートに連通し、ガスを前記容器に導入またはガスを前記容器から排出する第１パージノズルと、一方の端部に前記第１パージノズルを保持する第１保持部を有する第１連結部と、前記第１連結部が接続しており、前記第１連結部および前記第１パージノズルを上下動させる第１アクチュエータと、を有するガスパージユニット。

Description

ガスパージユニットおよびロードポート装置
　本発明は、ガスを容器に導入またはガスを容器から排出するガスパージユニットおよびガスパージユニットを有するロードポート装置に関する。
　半導体工場などにおいて、シリコンウエハその他の基板を収容する容器に対して、容器内の清浄度を挙げるためのガスパージユニットが提案されている。また、ガスパージユニットとしては、容器の底部に形成されたパージポートに連通するパージノズルを、載置台に対してピストンのように上下動させるものが提案されている（特許文献１等参照）。
　従来のガスパージユニットは、例えば、シリンダ状のホルダ内に筒状のノズルを配置し、ノズルの鍔、ノズル外周面、シリンダの内周面およびシリンダの底壁に囲まれる密閉空間を形成し、密閉空間内の圧力を調整するノズルの上下動機構を開示している。
　しかしながら、従来のガスパージユニットでは、上下動機構の補修の際や故障時において、ノズル周辺の機構を分解する必要があり、メンテナンス性の点で課題を有する。
特開２０１７－１３９４８６号公報
　本発明は、このような実状に鑑みてなされ、メンテナンス性の良好なノズルの上下動機構を有するガスパージユニット等を提供する。
　上記目的を達成するために、本発明に係るガスパージユニットは、
　内部にガスの流路が形成されており、容器の底部に備えられる第１パージポートに連通し、ガスを前記容器に導入またはガスを前記容器から排出する第１パージノズルと、
　一方の端部に前記第１パージノズルを保持する第１保持部を有する第１連結部と、
　前記第１連結部が接続しており、前記第１連結部および前記第１パージノズルを上下動させる第１アクチュエータと、を有する。
　本発明に係るガスパージユニットは、第１パージノズルと第１アクチュエータとを第１連結部によって接続するため、第１パージノズルと第１アクチュエータが別体となっている。このようなガスパージユニットは、第１アクチュエータの補修・故障時において、ノズルを分解する必要がなく、メンテナンス性が良好である。
　また、たとえば、本発明に係るガスパージユニットは、内部にガスの流路が形成されており、前記容器の前記底部に備えられる第２パージポートに連通し、ガスを前記容器に導入またはガスを前記容器から排出する第２パージノズルをさらに有してもよく、
　前記第１連結部は、他方の端部に前記第２パージノズルを保持する第２保持部と、前記第１保持部と前記第２保持部を接続するアーム部と、を有してもよく、
　前記第１連結部は、前記アーム部を介して前記第１アクチュエータに接続してもよく、
　前記第１アクチュエータは、前記第１連結部、前記第１パージノズルおよび前記第２パージノズルを上下動させてもよい。
　このようなガスパージユニットは、１つのアクチュエータで２つのパージノズルを動作させるため、２つのパージノズルの動作を容易に同期させることができ、パージノズルとパージポートとの接続不良を防止できる。また、１つのアクチュエータで２つのパージノズルを動作させることにより、部品点数を削減することができ、この点でも組み立て性やメンテナンス性が良好である。
　また、たとえば、前記第１パージノズルと前記第２パージノズルの双方にガスを供給または双方から排出されたガスが流入する共通ガス流路を有してもよく、
　前記第１パージノズルと前記第２パージノズルとは、いずれもガスを前記容器に導入するか、または、いずれもガスを前記容器から排出してもよい。
　このようなガスパージユニットでは、ガス導入用またはガス排出用の共通ガス流路を有することにより、ガス流路がシンプルになり、メンテナンス性が良好である。また、ガスパージユニット全体に含まれる総ガス流路長を短くできるので、部品点数を削減できるとともに、組み立て性およびメンテナンス性の改善に寄与する。また、複数のノズルでガスの導入又は排出を行うことができるため、効率的に容器内のガスパージを行うことができる。
　また、たとえば、前記共通ガス流路から前記第１パージノズルおよび第２パージノズルへ流路が分岐する分岐部は、前記第１および第２パージノズルより前記第１アクチュエータの近くに配置されていてもよい。
　水平方向に関して分岐部を第１アクチュエータに近づけて配置することにより、共通ガス流路から第１パージノズルへの流路長と、共通ガス流路から第２パージノズルへの流路長との差を小さくして、２つのノズルからバランスよく容器内にガスを導入したり、ガスを容器内から排出したりすることができる。また、水平方向および垂直方向に関して、分岐部を第１アクチュエータに近づけて配置することにより、共通ガス流路から第１パージノズルへの流路と、共通ガス流路から第２パージノズルへの流路との合計長さを短くすることができる。流路長を短くすることにより、圧力の伝達性の向上や、ガスのリーク量の低減などが期待できる。
　また、たとえば、内部にガスの流路が形成されており、前記第１パージノズルの下端に接続しており可撓性を有する可撓性管部を有しており、
　前記可撓性管部は、前記第１パージノズルの上下動に応じて変形してもよい。
　このような可撓性管部を有することにより、上下動する第１パージノズルに対して、単純な構造で流路をつなぐことができる。
　また、たとえば、本発明に係るガスパージユニットは、内部にガスの流路が形成されており、前記容器の前記底部に備えられる第３パージポートに連通し、ガスを前記容器に導入またはガスを前記容器から排出する第３パージノズルと、
　一方の端部に前記第３パージノズルを保持する第３保持部を有する第２連結部と、
　前記第２連結部が接続しており、前記第２連結部および前記第３パージノズルを上下動させる第２アクチュエータと、をさらに有してもよい。
　このようなガスパージユニットは、第２アクチュエータを用いて、第１パージノズルとは独立して第３パージノズルを動作させることができる。
　また、たとえば、前記第１アクチュエータにより上下動する前記第１パージノズルは、
ガスを前記容器に導入してもよく、
　前記第２アクチュエータにより上下動する前記第３パージノズルは、ガスを前記容器から排出してもよい。
　このようなガスパージユニットは、ガスを導入する第１パージノズルと、ガスを排出する第３パージノズルとを独立して動作させることができるため、ガスの導入のみを行う場合や、ガスの排出のみを行う場合において、そのとき使用しないパージポートを、閉鎖状態とすることができる。
　本発明に係るロードポート装置は、上記いずれかのガスパージユニットと、
　前記容器を載置可能であって、前記ガスパージユニットが設けられる載置台と、を有し、
　前記載置台には、前記第１パージノズルが挿通する第１ガイドリングが着脱可能に固定されており、
　前記第１ガイドリングの下方内周縁には、前記第１パージノズルの外周壁に形成される段差面の上昇を規制する切り欠き部が形成されている。
　このようなロードポート装置では、第１ガイドリングにより、第１パージノズルを位置精度よく動かすことができる。また、切り欠き部と段差面によりストッパーを構成することにより、上昇位置でノズルが傾くことを防止し、良好な上下動作を実現できる。さらに、第１ガイドリングが着脱可能であるため、組み立て性やメンテナンス性が良好である。
図１は、本発明の一実施形態に係るガスパージユニットを有するロードポート装置およびその周辺機器の概略断面図である。 図２は、図１に示すロードポート装置の載置台およびガスパージユニットを斜め上方から見た概略斜視図である。 図３は、図１に示すロードポート装置の載置台およびガスパージユニットを斜め下方から見た概略斜視図である。 図４は、図３に示す第１および第２パージノズルが下降位置にある状態を示す要部斜視図である。 図５は、図３に示す第１および第２パージノズルが上昇位置にある状態を示す要部斜視図である。 図６は、図３に示す第３パージノズルが下降位置にある状態を示す要部斜視図である。 図７は、図３に示す第３パージノズルが上昇位置にある状態を示す要部斜視図である。 図８は、下降位置にある第１パージノズルと第１ガイドリングを示す概略断面図である。 図９は、上昇位置にある第１パージノズルと第１ガイドリングを示す概略断面図である。
　以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
　図１は、本発明の一実施形態に係るガスパージユニット２０（図３参照）を有するロードポート装置１０を備えるＥＦＥＭ９７と、ロードポート装置１０に載置される容器９０の概略図である。
　図１に示すロードポート装置１０は、ＥＦＥＭ（イーフェム）９７の一部を構成する。ロードポート装置１０が接続するＥＦＥＭ９７の基板搬送室９９には、基板９６を搬送する搬送ロボットなどが設けられる。搬送ロボットは、ロードポート装置１０によって基板搬送室９９に接続された容器９０内から、容器９０内に収容されるシリコンウエハなどの基板９６を取り出し、ロードロック室や半導体処理装置等へ搬送する。
　容器９０は、半導体工場内の各装置に、処理対象である基板９６を搬送する際に用いられる容器であり、一例としてＦＯＵＰ（フープ）などが挙げられる。容器９０は、複数の基板９６を収容することができ、基板９６を整列して収容するための棚（不図示）や、基板９６を出し入れするための主開口を塞ぐ蓋９４を有する。ロードポート装置１０は、容器９０の蓋９４を開閉するドア９８を有し、容器９０の本体部分から、蓋９４を取り外すことができる。
　また、図１に示すように、容器９０の底部９０ａには、第１パージポート９１および第３パージポート９３が備えられる。後述するように、ロードポート装置１０の第１パージノズル３０および第３パージノズル４３は、容器９０の第１パージポート９１および第３パージポート９３に連通し、容器９０の内部８８に、清浄化ガスを導入することができる。なお、図１では示されていないが、第２パージノズル４２（図３参照）が連通する第２パージポートと、第４パージノズル４４（図３参照）が連通する第４パージポートも、第１および第３パージポート９１、９３と同様に、容器９０の底部９０ａに備えられる。
　図２は、ロードポート装置１０の載置台８０周辺を斜め上方から見た概略斜視図である。図２に示すように、ロードポート装置１０は、基板９６を収容する容器９０を載置可能である載置台８０を有する。載置台８０には、容器９０を載置台８０に対して位置決めする位置決めピン８５や、容器９０を載置台８０に固定する固定機構８６や、容器９０が載置されたことを検出する載置センサー８７等が設けられている。
　また、載置台８０を斜め下方から見た概略斜視図である図３に示すように、載置台８０には、ガスパージユニット２０が設けられている。ガスパージユニット２０は、第１パージノズル３０、第２パージノズル４２、第３パージノズル４３および第４パージノズル４４の４つのパージノズルを有する。ただし、ガスパージユニット２０が有するパージノズルの数は４つのみには限定されず、１～３つのパージノズルを有していてもよく、ガスパージユニット２０は、５つ以上のパージノズルを有していてもよい。
　図２に示すように、載置台８０には、第１パージノズル３０、第２パージノズル４２、第３パージノズル４３および第４パージノズル４４を挿通させるための貫通孔８８が形成されている。また、各貫通孔８８には、第１～第４パージノズル３０、４２、４３、４４に対応するように、第１～第４ガイドリング８１～８４が設けられている。第１～第４パージノズル３０、４２、４３、４４は、貫通孔８８を挿通して、載置台８０の上方に露出する。
　図３に示すように、第１～第４パージノズル３０、４２、４３、４４は、載置台８０の上面近傍から下方に設けられている。載置台８０の下方側には、後述するように、第１～第４パージノズル３０、４２、４３、４４を上下動させるためのアクチュエータや、第１～第４パージノズル３０、４２、４３、４４へ繋がる配管等（不図示）が配置されている。
　図４は、図３に示すガスパージユニット２０のうち、第１および第２パージノズル３０、４２が下降位置にある状態を示す要部斜視図である。図４に示す第１パージノズル３０と第２パージノズル４２は、それぞれ容器９０の第１パージポート９１と第２パージポートに連通し、ガスを容器９０に導入する。なお、これとは異なり、第１パージノズル３０および第２パージノズル４２のいずれか一方または双方は、ガスを容器９０から排出するものであってもよい。
　図８は、下降位置にある第１パージノズル３０と第１ガイドリング８１を示す概略断面図である。第１パージノズル３０は、第１部分３１と、第２部分３２と、第３部分３３とで構成されている。第１パージノズル３０の内部には、ガスの流路３０ｂが形成されている。なお、第２～第４パージノズル４２～４４についても、図８に示す第１パージノズル３０と同様に、内部にガスの流路が形成されている。
　図４に示すように、ガスパージユニット２０は、第１連結部６０、第１アクチュエータ５１、ブラケット５４、サポート部５５、共通ガス流路７３、分岐部７４、第１可撓性管部７１、第２可撓性管部７２等を有する。第１アクチュエータ５１は、ブラケット５４を介して図３に示す載置台８０に固定されている。
　第１アクチュエータ５１は、上下に動く駆動軸５１ａを有する。第１アクチュエータ５１は、駆動軸５１ａ等を介して、第１連結部６０、第１パージノズル３０および第２パージノズル４２等を上下動させるものであれば、特に限定されない。たとえば、第１アクチュエータ５１としては、リニアモータ、回転モータとギアやカム機構との組み合わせ、エアシリンダ、電磁ソレノイドなどが挙げられる。
　また、第１アクチュエータ５１において、第１連結部６０に駆動力を伝達する伝達手段としては、図４に示すように、第１アクチュエータ５１の駆動軸５１ａに第１連結部６０が直接接続する態様のみには限定されない。たとえば、第１アクチュエータ５１は、リンク機構、カム機構、駆動ベルトなどを介して、第１連結部６０に接続するものであってもよい。
　図４に示すように、第１連結部６０は、第１保持部６１と、第２保持部６２と、アーム部６３とを有する。第１保持部６１は、第１連結部６０における一方の端部６０ａに備えられており、第１パージノズル３０を保持する。第１保持部６１は、開閉可能なリング部を有し、第１パージノズル３０は、第２部分３２の外周壁３２ａに形成された連結溝３２ａｂ（図８参照）に、第１保持部６１のリング構造を係合させることにより、第１保持部６１に固定される。
　第２保持部６２は、第１連結部６０の一方の端部６０ａとは反対側の他方の端部６０ｂに備えられており、第２パージノズル４２を保持する。第２保持部６２も、第１保持部６１と同様に、開閉可能なリング部を有し、第１保持部６１と同様の機構で、第２パージノズル４２を保持する。
　アーム部６３は、第１保持部６１と第２保持部６２とを、略水平方向に接続する。第１連結部６０は、アーム部６３の略中央で、第１アクチュエータ５１に接続している。これにより、第１アクチュエータ５１は、第１連結部６０、第１パージノズル３０および第２パージノズル４２を上下動させる。
　なお、第１パージノズル３０および第２パージノズル４２と第１アクチュエータ５１との連結構造は、図４に示すようなアーム部６３を有する第１連結部６０を用いるものみには限定されない。たとえば、第１パージノズル３０と第２パージノズル４２とは、別々の連結部を介して、第１アクチュエータ５１に接続してもよく、さらに、個別のアクチュエータに接続していてもよい。
　図４に示すように、ガスパージユニット２０は、第１パージノズル３０と第２パージノズル４２の双方にガスを供給する共通ガス流路７３を有する。共通ガス流路７３には、図示しないガス供給部からガスが流入するようになっており、共通ガス流路７３の分岐部７４から、第１パージノズル３０と第２パージノズル４２へ流路が分岐している。
　図４に示すように、共通ガス流路７３から第１パージノズル３０および第２パージノズル４２へ流路が分岐する分岐部７４は、第１および第２パージノズル３０、４２より第１アクチュエータ５１の近くに配置されている。また、分岐部７４を下方から支持するサポート部５５は、第１アクチュエータ５１の底部に接続している。したがって、これらの部材は、ブラケット５４を介して、載置台８０に固定されている。分岐部７４を第１アクチュエータ５１の近くに配置することにより、分岐部７４が、水平方向両側にある第１パージノズル３０および第２パージノズル４２の中央付近に位置する。これにより、分岐部７４から各パージノズル３０、４２までの流路長を均等にすることができる。また、分岐部７４を、垂直方向に関して第１アクチュエータ５１の近くに配置することにより、分岐部７４から各パージノズル３０、４２までの流路長を短くすることができるため、ガスの圧力伝搬速度およびリーク防止の観点で有利である。
　ガスパージユニット２０は、分岐部７４と第１パージノズル３０とを接続する第１可撓性管部７１と、分岐部７４と第２パージノズル４２とを接続する第２可撓性管部７２とを有する。第１可撓性管部７１の内部にはガスの流路が形成されており、分岐部７４で分岐したガスは、第１可撓性管部７１を通って第１パージノズル３０へ流入する。
　第１可撓性管部７１は、第１パージノズル３０の下端に接続しており可撓性を有する。第１可撓性管部７１は、後述する第１パージノズル３０の上下動に応じて変形するため、下降位置（図４）と上昇位置（図５）の両方で、第１パージノズル３０に対するガスの経路が確保される。なお、第１可撓性管部７１としては、可撓性を有するものであれば特に限定されないが、樹脂チューブや、金属の蛇腹チューブや編成チューブ等が挙げられる。
　第２可撓性管部７２の内部にも、第１可撓性管部７１と同様に、ガスの流路が形成されており、分岐部７４で分岐したガスは、第２可撓性管部７２を通って第２パージノズル４２へ流入する。第２可撓性管部７２は、第２パージノズル４２の下端に接続しており、第１可撓性管部７１と同様に、可撓性を有する。第２可撓性管部７２は、第２パージノズル４２に接続していることを除き、第１可撓性管部７１と同様の機能を有する。また、第２可撓性管部７２の材質は、第１可撓性管部７１と同様である。
　なお、図４および図５に示す実施形態では、第１パージノズル３０および第２パージノズル４２から容器９０へガスを導入する場合を例に挙げて説明を行うが、他の実施形態では、第１パージノズル３０および第２パージノズル４２を介して容器９０からガスの排出を行うこともあり得る。第１パージノズル３０と第２パージノズル４２とがいずれも容器９０からガスを排出する実施形態では、共通ガス流路７３には、第１パージノズル３０と第２パージノズル４２の双方から排出されたガスが流入する。この場合、共通ガス流路７３は、図示しない排気管部や排気ポンプなどに接続している。
　図５は、ガスパージユニット５０の第１および第２パージノズル３０、４２が上昇位置にある状態を示す要部斜視図である。図４および図５に示すように、第１および第２パージノズル３０、４２は、第１アクチュエータ５１によって上下動する。図４に示すように、第１および第２パージノズル３０、４２が下降位置にある状態では、第１アクチュエータ５１の駆動軸５１ａが下方に引っ込んでおり、駆動軸５１ａに接続する第１連結部６０も、図５に示す状態より下方に位置する。これにより、第１連結部６０の両端部に保持される第１パージノズル３０および第２パージノズル４２も、図４に示す下降位置に位置する。
　図８は、下降位置にある第１パージノズル３０と第１ガイドリング８１を示す概略断面図である。図８に示すように、第１ガイドリング８１は、ボルトで載置台８０（図３参照）に固定されており、第１パージノズル３０の載置台８０に対する上下動には連動しない。
　図８に示すように、第１パージノズル３０における最も上側の部分である第１部分３１は、第１部分上部３１ａとシールリング３１ｃとを有する。第１部分上部３１ａは、図２に示す載置台８０の上面側に、その一部である頂部３０ａ（図５参照）などが露出する。また、下降位置にある第１部分上部３１ａの一部は、第１ガイドリング８１および載置台８０の上表面に対して上方に突出している。ただし、これとは異なり、下降位置にある第１部分上部３１ａの全体が、第１ガイドリング８１および載置台８０の上表面に対して面一または下方に引っ込んでいてもよい。
　図８に示すように、第１部分３１は、その第１部分上部３１ａにおいて、上下方向の隣接する部分より外径方向へ突出する鍔部３１ａｂを有する。これに対して、第１ガイドリング８１の上方内周縁には、鍔部３１ａｂが係合する上切り欠き部８１ａａが形成されている。たとえば、第１アクチュエータ５１の交換時などにおいて、第１パージノズル３０が第１連結部６０によって下方から支持されないような場合においては、鍔部３１ａｂが第１ガイドリング８１の上切り欠き部８１ａａによって移動範囲を規制されることにより、第１パージノズル３０が必要以上に下方に移動したり、第１ガイドリング８１から下方に抜け落ちたりする問題を防止する。
　図５に示すように、第１および第２パージノズル３０、４２が上昇する場合、第１アクチュエータ５１の駆動軸５１ａが上方に突出し、駆動軸５１ａに接続する第１連結部６０も、図４に示す状態より上方に移動する。第１連結部６０の両端部に保持される第１パージノズル３０および第２パージノズル４２も、第１アクチュエータ５１の駆動軸５１ａおよび第１連結部６０の上昇に連動し、図５に示す上昇位置に位置する。
　図９は、上昇位置にある第１パージノズル３０と第１ガイドリング８１を示す概略断面図である。図９に示すように、上昇位置では、第１パージノズル３０の第１部分３１と第２部分３２の一部が、第１ガイドリング８１および載置台８０の上表面に対して上方に位置する。また、第１部分３１の上面に備えられるシールリング３１ｃは、容器９０の第１パージポート９１（図１参照）に接触し、第１パージノズル３０と第１パージポート９１との接続部分を、その部分からガスがリークしないようにシールする。
　図９に示すように、第１パージノズル３０における第２部分３２の外周壁３２ａには、それより上側の部分より外径方向に突出する段差面３２ａａが形成されている。これに対して、第１ガイドリング８１の下方内周縁８１ａには、段差面３２ａａが係合しする下切り欠き部８１ａｂが形成されている。第１パージノズル３０は、下切り欠き部８１ａｂによって段差面３２ａａの上方向への移動範囲を規制されることにより、第１パージノズル３０が必要以上に上方に移動する問題を防止する。また、第１パージノズル３０と第１ガイドリング８０とは、下切り欠き部８１ａｂと段差面３２ａａによってストッパーを形成することにより、第１パージノズル３０が傾くことを防止し、円滑な上下動作を実現できる。
　第１パージノズル３０の高さ方向に関して、鍔部３１ａｂと段差面３２ａａとの間に位置する小径部３２ａｃは、鍔部３１ａｂや、段差面３２ａａより下方の外周壁３２ａに比べて、外径が小さい。第１ガイドリング８１の内周壁８１ａｃの内径は、小径部３２ａｃの外径と略同一か、これより僅かに大きく、内周壁８１ａｃは、小径部３２ａｃに対向し、小径部３２ａｃの上下動をガイドする。なお、図４および図５に示す第２パージノズル４２および第２ガイドリング８２も、図８および図９に示す第１パージノズル３０および第１ガイドリング８１と同様の形状を有する。
　図３に示すように、第１パージノズル３０および第２パージノズル４２は、載置台８０の中央に対して、図１に示すドア９８から離間する位置に配置される。これに対して、第３パージノズル４３と第４パージノズル４４とは、載置台８０の中央に対して、図１に示すドア９８に近接する側に配置される。
　図６は、図３に示す第３パージノズル４３が下降位置にある状態を示す要部斜視図である。図６に示すように、ガスパージユニット２０の第３パージノズル４３は、図７に示す上昇位置において、容器９０の第３パージポート９３（図１）に連通し、ガスを容器９０から排出する。ただし、第３パージポート９３は、ガスを容器９０に導入できるものであってもよく、ガスの導入と排出を切り換え可能であってもよい。
　図６に示すように、ガスパージユニット２０は、第２連結部７６、第２アクチュエータ５２、第３可撓性管部７５等を有する。図６では図示を省略しているが、第２アクチュエータ５２は、第２アクチュエータ５２の上方に接続するブラケットを介して、載置台８０に固定されている。また、第３パージノズル４３が挿通する第３ガイドリング８３は、載置台８０に固定されており、第３パージノズル４３の上下動には連動しない。
　第２アクチュエータ５２は、図４に示す第１アクチュエータ５１と同様に、上下に動く駆動軸５２ａを有する。ただし、第２アクチュエータ５２としては、図４に示すもののみには限定されず、第１アクチュエータ５１と同様、駆動軸５２ａ以外の伝達手段を有するアクチュエータを採用することも可能である。
　第２連結部７６は、第３パージノズル４３を保持する第３保持部７７を有する。第３保持部７７は、第２連結部７６の一方の端部に配置されており、第２連結部７６の他方の端部は、第２アクチュエータ５２の駆動軸５２ａに接続している。このような構造により、第２アクチュエータ５２は、第２連結部７６および第３パージノズル４３を上下動させる。第３保持部７７は、第３パージノズル４３を挟み込んで保持する。
　図７は、ガスパージユニット２０の第３パージノズル４３が上昇位置にある状態を示す要部斜視図である。図６および図７に示すように、第３パージノズル４３は、第２アクチュエータ５２によって、第１および第２パージノズルとは独立して上下動することができる。図６に示すように、第３パージノズル４３が下降位置にある状態では、第２アクチュエータ５２の駆動軸５２ａが下方に引っ込んでおり、駆動軸５２ａに接続する第２連結部７６も、図７に示す状態より下方に位置する。これにより、第２連結部７６に保持される第３パージノズル４３も、図６に示す下降位置に位置する。
　図７に示すように、第３パージノズル４３が上昇する場合、第２アクチュエータ５２の駆動軸５２ａが上方に突出し、駆動軸５２ａに接続する第２連結部７６も、図６に示す状態より上方に移動する。第２連結部７６に保持される第３パージノズル４３も、第２アクチュエータ５２の駆動軸５２ａおよび第２連結部７６の上昇に連動し、図７に示す上昇位置に位置する。
　上昇位置では、第３パージノズル４３の頂部４３ａが、第３ガイドリング８３および載置台８０の上表面に対して上方に突出し、第３パージノズル４３が、容器９０の第３パージポート９３に接続する。図６および図７に示されるように、第３パージノズル４３の下端には、第３可撓性管部７５が接続されており、第３可撓性管部７５は、第３パージノズル４３の上下動に応じて変形可能である。第３可撓性管部７５の材質等については特に限定されず、たとえば、第１および第２可撓性管部７１、７２と同様とすることができる。
　第３可撓性管部７５の内部には、ガスの流路が形成されており、容器９０から排出され、第３パージノズル４３を通過したガスが、第３可撓性管部７５の内部へ流入できるようになっている。第３可撓性管部７５における第３パージノズル４３とは反対側の端部は、たとえば、ガス流路や排出ポンプなど、容器９０より低圧の空間に接続することが好ましい。
　図３に示す第４パージノズル４４を上下動させる機構については、図６および図７に示す第３パージノズル４３を上下動させる機構と同様であるため、説明は省略する。また、第４パージノズル４４は、容器９０の第４パージポートに接続し、ガスを容器９０内に導入することができる。ただし、第４パージノズル４４は、第３パージノズル４３と同様に、ガスを容器９０内から排出できてもよい。
　図３に示すガスパージユニット２０は、第１アクチュエータ５１により上下動する第１および第２パージノズル３０、４２を用いて、ガスを容器９０内に導入する。また、第２アクチュエータ５２により上下動する第３パージノズル４３を用いて、ガスを容器９０から排出する。このようなガスパージユニット２０は、ガスを導入する第１および第２パージノズル３０、４２と、ガスを排出する第３パージノズル４３とを独立して動作させることができる。これにより、ガスの導入のみを行う場合や、ガスの排出のみを行う場合において、そのとき使用しないパージポートを閉鎖状態とし、効率的なパージを行うことができる。
　また、ガスパージユニット２０は、容器９０内にガスを導入するパージノズルとして、第１および第２パージノズル３０、４２だけでなく、第３アクチュエータ５３により上下動する第４パージノズル４４を有する。ガスパージユニット２０は、第４パージノズル４４と第４パージポートとの接続・非接続を切り替えることにより、容器９０内のガスの流れの向きや速さを変更し、パージの速度を変更したり、容器９０内をより均一にパージしたりすることができる。
　第１、第２および第４パージノズル３０、４２、４４から容器９０内に導入されるガスとしては特に限定されないが、例えば乾燥空気（ＣＤＡ）や不活性ガスなどが挙げられ、窒素ガスが好ましい。
　図３に示すガスパージユニット２０は、各パージノズル３０、４２、４３，４４と各アクチュエータ５１、５２とを、連結部６０、７６によって接続するため、パージノズル３０、４２、４３，４４とアクチュエータ５１、５２とが別体となっている。このようなガスパージユニット２０は、アクチュエータ５１、５２の補修・故障時において、ノズルを分解する必要がなく、メンテナンス性が良好である。
　また、ガスパージユニット２０は、１つの第１アクチュエータ５１で２つのパージノズル３０、４２を動作させるため、２つのパージノズル３０、４２の動作を容易に同期させることができ、パージノズル３０，４２とパージポート９１との接続不良を防止できる。また、従来のエアシリンダのピストンタイプのパージノズルで問題となっていたノズル毎の動作のばらつきを防止できる。さらに、１つの第１アクチュエータ５１で２つのパージノズル３０、４２を動作させることにより、部品点数を削減することができ、この点でも組み立て性やメンテナンス性が良好である。
　ガスパージユニット２０では、ガス導入用の共通ガス流路７３を有することにより、ガス流路がシンプルになり、メンテナンス性が良好である。また、ガスパージユニット２０全体に含まれる総ガス流路長を短くできるので、部品点数を削減できるとともに、組み立て性およびメンテナンス性の改善に寄与する。また、複数のノズルでガスの導入又は排出を行うことができるため、効率的に容器内のガスパージを行うことができる。
　以上、実施形態を挙げて本発明を説明してきたが、本発明は上述した実施形態のみには限定されず、多くの他の実施形態および変形例が本発明の技術的範囲に含まれることは言うまでもない。たとえば、ガスパージユニット２０が有するアクチュエータの数は３つのみには限定されず、パージノズルとアクチュエータが１対１で対応していてもよく、また、１つのアクチュエータが３つ以上のパージノズルを上下動させてもよい。
　１０…ロードポート装置
　２０…ガスパージユニット
　３０…第１パージノズル
　３０ａ…頂部
　３０ｂ…流路
　３１…第１部分
　３１ａ…第１部分上部
　３１ｃ…シールリング
　３１ａｂ…鍔部
　３２…第２部分
　３２ａ…外周壁
　３２ａａ…段差面
　３２ａｂ…連結溝
　３３…第３部分
　４２…第２パージノズル
　４３…第３パージノズル
　４４…第４パージノズル
　４３ａ…頂部
　５１…第１アクチュエータ
　５１ａ…駆動軸
　５２…第２アクチュエータ
　５２ａ…駆動軸
　５３…第３アクチュエータ
　５４…ブラケット
　５５…サポート部
　６０…第１連結部
　６０ａ…一方の端部
　６１…第１保持部
　６０ｂ…他方の端部
　６２…第２保持部
　６３…アーム部
　７１…第１可撓性管部
　７２…第２可撓性管部
　７３…共通ガス流路
　７４…分岐部
　７５…第３可撓性管部
　７６…第２連結部
　７７…第３保持部
　８０…載置台
　８１…第１ガイドリング
　８１ａ…下方内周縁
　８１ａａ…上切り欠き部
　８１ａｂ…下切り欠き部
　８２…第２ガイドリング
　８３…第３ガイドリング
　８４…第４ガイドリング
　８５…位置決めピン
　８６…固定機構
　８７…載置センサー
　８８…貫通孔
　９０…容器
　９０ａ…底部
　９１…第１パージポート
　９３…第３パージポート
　９４…蓋
　９６…基板
　９７…ＥＦＥＭ
　９８…ドア
　９９…基板搬送室

Claims (8)

  1. 　内部にガスの流路が形成されており、容器の底部に備えられる第１パージポートに連通し、ガスを前記容器に導入またはガスを前記容器から排出する第１パージノズルと、
    　一方の端部に前記第１パージノズルを保持する第１保持部を有する第１連結部と、
    　前記第１連結部が接続しており、前記第１連結部および前記第１パージノズルを上下動させる第１アクチュエータと、
    　を有するガスパージユニット。
  2. 　内部にガスの流路が形成されており、前記容器の前記底部に備えられる第２パージポートに連通し、ガスを前記容器に導入またはガスを前記容器から排出する第２パージノズルをさらに有し、
    　前記第１連結部は、他方の端部に前記第２パージノズルを保持する第２保持部と、前記第１保持部と前記第２保持部を接続するアーム部と、を有し、
    　前記第１連結部は、前記アーム部を介して前記第１アクチュエータに接続しており、
    　前記第１アクチュエータは、前記第１連結部、前記第１パージノズルおよび前記第２パージノズルを上下動させることを特徴とする請求項１に記載のガスパージユニット。
  3. 　前記第１パージノズルと前記第２パージノズルの双方にガスを供給または双方から排出されたガスが流入する共通ガス流路を有し、
    　前記第１パージノズルと前記第２パージノズルとは、いずれもガスを前記容器に導入するか、または、いずれもガスを前記容器から排出する請求項２に記載のガスパージユニット。
  4. 　前記共通ガス流路から前記第１パージノズルおよび第２パージノズルへ流路が分岐する分岐部は、前記第１および第２パージノズルより前記第１アクチュエータの近くに配置されている請求項３に記載のガスパージユニット。
  5. 　内部にガスの流路が形成されており、前記第１パージノズルの下端に接続しており可撓性を有する可撓性管部を有しており、
    　前記可撓性管部は、前記第１パージノズルの上下動に応じて変形する請求項１から請求項４までのいずれかに記載のガスパージユニット。
  6. 　内部にガスの流路が形成されており、前記容器の前記底部に備えられる第３パージポートに連通し、ガスを前記容器に導入またはガスを前記容器から排出する第３パージノズルと、
    　一方の端部に前記第３パージノズルを保持する第３保持部を有する第２連結部と、
    　前記第２連結部が接続しており、前記第２連結部および前記第３パージノズルを上下動させる第２アクチュエータと、をさらに有する請求項１から請求項５までのいずれかに記載のガスパージユニット。
  7. 　前記第１アクチュエータにより上下動する前記第１パージノズルは、ガスを前記容器に導入し、
    　前記第２アクチュエータにより上下動する前記第３パージノズルは、ガスを前記容器から排出する請求項６に記載のガスパージユニット。
  8. 　請求項１から請求項７までのいずれかに記載のガスパージユニットと、
    　前記容器を載置可能であって、前記ガスパージユニットが設けられる載置台と、を有し、
    　前記載置台には、前記第１パージノズルが挿通する第１ガイドリングが固定されており、
    　前記第１ガイドリングの下方内周縁には、前記第１パージノズルの外周壁に形成される段差面の上昇を規制する切り欠き部が形成されているロードポート装置。
PCT/JP2021/037448 2020-10-08 2021-10-08 ガスパージユニットおよびロードポート装置 WO2022075468A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202180068546.9A CN116325110A (zh) 2020-10-08 2021-10-08 气体吹扫单元和装载口装置
US18/030,576 US20230420272A1 (en) 2020-10-08 2021-10-08 Gas purge unit and the load port device
KR1020237011679A KR20230061532A (ko) 2020-10-08 2021-10-08 가스 퍼지 유닛 및 로드 포트 장치

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020170479A JP2022062461A (ja) 2020-10-08 2020-10-08 ガスパージユニットおよびロードポート装置
JP2020-170479 2020-10-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022075468A1 true WO2022075468A1 (ja) 2022-04-14

Family

ID=81126076

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2021/037448 WO2022075468A1 (ja) 2020-10-08 2021-10-08 ガスパージユニットおよびロードポート装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20230420272A1 (ja)
JP (1) JP2022062461A (ja)
KR (1) KR20230061532A (ja)
CN (1) CN116325110A (ja)
WO (1) WO2022075468A1 (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015035612A (ja) * 2014-09-24 2015-02-19 シンフォニアテクノロジー株式会社 ノズル駆動ユニットおよびガス注入装置
JP2017092429A (ja) * 2015-11-17 2017-05-25 株式会社ダイフク 容器搬送設備
JP2017220561A (ja) * 2016-06-08 2017-12-14 ローツェ株式会社 ノズルユニット、およびノズルユニットを備える雰囲気置換装置、ならびに雰囲気置換方法
US20200201363A1 (en) * 2018-12-19 2020-06-25 Applied Materials, Inc. Selectable-rate bottom purge apparatus and methods

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6409898B2 (ja) 2017-04-04 2018-10-24 シンフォニアテクノロジー株式会社 パージノズルユニット、ロードポート、ストッカー

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015035612A (ja) * 2014-09-24 2015-02-19 シンフォニアテクノロジー株式会社 ノズル駆動ユニットおよびガス注入装置
JP2017092429A (ja) * 2015-11-17 2017-05-25 株式会社ダイフク 容器搬送設備
JP2017220561A (ja) * 2016-06-08 2017-12-14 ローツェ株式会社 ノズルユニット、およびノズルユニットを備える雰囲気置換装置、ならびに雰囲気置換方法
US20200201363A1 (en) * 2018-12-19 2020-06-25 Applied Materials, Inc. Selectable-rate bottom purge apparatus and methods

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022062461A (ja) 2022-04-20
KR20230061532A (ko) 2023-05-08
CN116325110A (zh) 2023-06-23
US20230420272A1 (en) 2023-12-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6347918B1 (en) Inflatable slit/gate valve
US7682454B2 (en) Perimeter partition-valve with protected seals and associated small size process chambers and multiple chamber systems
US7997851B2 (en) Apparatus and method for a multi-level load lock chamber, transfer chamber, and robot suitable for interfacing with same
KR20110101083A (ko) 가스 주입 장치, 가스 배출 장치, 가스 주입 방법 및 가스 배출 방법
US20090245978A1 (en) Apparatus and method for opening/closing lid of closed container, gas replacement apparatus using same, and load port apparatus
KR20120133998A (ko) 퍼지 장치 및 로드 포트
US8740011B2 (en) Vacuum processing apparatus
KR100702720B1 (ko) 반도체 처리 시스템용의 게이트 밸브 및 진공 용기
KR100196036B1 (ko) 플라즈마 처리장치 및 그 운전방법
KR101502130B1 (ko) 반송장치, 그가 설치된 반송챔버 및 이를 포함하는진공처리시스템
JP5926694B2 (ja) 基板中継装置，基板中継方法，基板処理装置
WO2022075468A1 (ja) ガスパージユニットおよびロードポート装置
KR101626035B1 (ko) 게이트밸브어셈블리와 이를 포함하는 기판처리시스템
KR101099603B1 (ko) 챔버 및 이를 이용한 기판 처리 방법
KR101020154B1 (ko) 측면개방형 진공챔버
CN115264099A (zh) 半导体及平板显示设备用闸阀
CN108807225B (zh) 气体供给装置、其控制方法、装载站、半导体制造装置
KR101217516B1 (ko) 클러스터 툴
US20060054854A1 (en) Vacuum processing apparatus
KR101308333B1 (ko) 기판 처리 장치 및 로드 로크 장치
KR20240038431A (ko) 기판처리장치
JP6614278B2 (ja) 容器パージ装置
KR20080058690A (ko) 기판 처리 장치
KR20240039243A (ko) 기판처리장치
KR101292806B1 (ko) 슬롯 밸브 어셈블리 및 그 작동 방법

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21877767

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20237011679

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 18030576

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 21877767

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1