WO2022054119A1 - 狭帯域化モジュール、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 - Google Patents

狭帯域化モジュール、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 Download PDF

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WO2022054119A1
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淳一 前川
博志 古里
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ギガフォトン株式会社
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    • H01S3/2251—ArF, i.e. argon fluoride is comprised for lasing around 193 nm

Definitions

  • the present disclosure relates to a method for manufacturing a narrow band module, a gas laser device, and an electronic device.
  • a KrF excimer laser apparatus that outputs a laser beam having a wavelength of about 248 nm and an ArF excimer laser apparatus that outputs a laser beam having a wavelength of about 193 nm are used.
  • the spectral line width of the naturally oscillated light of the KrF excimer laser device and the ArF excimer laser device is as wide as 350 pm to 400 pm. Therefore, if the projection lens is made of a material that transmits ultraviolet rays such as KrF and ArF laser light, chromatic aberration may occur. As a result, the resolving power may decrease. Therefore, it is necessary to narrow the spectral line width of the laser beam output from the gas laser device to a extent that chromatic aberration can be ignored.
  • the laser resonator of the gas laser apparatus is provided with a narrow band module (Line Now Module: LNM) including a narrow band element (etalon, grating, etc.) in order to narrow the spectral line width.
  • LNM Line Now Module
  • the gas laser device in which the spectral line width is narrowed is referred to as a narrow band gas laser device.
  • the narrowing band module includes a housing, a prism arranged in the internal space of the housing to transmit light, a mounting portion arranged in the internal space on which the prism is mounted, and the inside. It includes a fixed unit arranged in a space and fixing a prism to a mounting portion, and a light-shielding member arranged in an internal space and blocking scattered light generated from light and traveling to the fixed unit in the internal space.
  • the gas laser apparatus includes a narrowing band module, and the narrowing band module is arranged in a housing, a prism that transmits light, and a prism that is arranged in the internal space.
  • a light-shielding member for light-shielding is provided.
  • the method for manufacturing an electronic device includes a housing, a prism arranged in the internal space of the housing and transmitting light, a mounting portion arranged in the internal space and on which the prism is mounted, and a mounting portion.
  • a narrow band including a fixed unit arranged in the internal space and fixing the prism to the mounting portion, and a light shielding member arranged in the internal space and shielding the scattered light generated from the light and traveling to the fixed unit in the internal space.
  • the present invention includes incidenting a laser beam emitted from a gas laser apparatus including a prism to an exposure apparatus and exposing the laser beam onto a photosensitive substrate in the exposure apparatus in order to manufacture an electronic device.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration example of the entire electronic device manufacturing apparatus.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration example of the entire gas laser device.
  • FIG. 3 is an enlarged view of the narrow band module shown in FIG.
  • FIG. 4 is a view of the internal space of the housing of the narrow band module shown in FIG. 3 as viewed from the lid side of the housing toward the bottom surface side of the housing on the opposite side of the lid.
  • FIG. 5 is a view of how the prism is fixed to the main body of the mounting portion by the fixing unit from a direction perpendicular to the side surface of the prism.
  • FIG. 6 is a view of a cross section taken along the line AA shown in FIG. 5 viewed from the lid side to the bottom surface side of the housing along the side surface of the prism.
  • FIG. 7 is a diagram showing a light-shielding member of the first embodiment surrounding the fixed unit shown in FIG.
  • FIG. 8 is a view of a cross section taken along the line BB shown in FIG. 7 viewed from the lid side to the bottom surface side of the housing along the side surface of the prism.
  • FIG. 9 is a diagram showing a light-shielding member of a modified example of the first embodiment surrounding the fixed unit shown in FIG.
  • FIG. 10 is an enlarged view of a band narrowing module of a modification of the first embodiment.
  • FIG. 11 is a diagram showing a light-shielding member of the second embodiment surrounding the fixed unit shown in FIG.
  • FIG. 12 is a view of a cross section taken along the line CC shown in FIG. 11 as viewed from the lid side to the bottom surface side of the housing along the side surface of the prism.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an overall schematic configuration example of the electronic device manufacturing equipment used in the electronic device exposure process.
  • the manufacturing apparatus used in the exposure process includes a gas laser apparatus 100 and an exposure apparatus 200.
  • the exposure apparatus 200 includes an illumination optical system 210 including a plurality of mirrors 211, 212, 213 and a projection optical system 220.
  • the illumination optical system 210 illuminates the reticle pattern of the reticle stage RT with the laser beam incident from the gas laser device 100.
  • the projection optical system 220 reduces-projects the laser beam transmitted through the reticle and forms an image on a workpiece (not shown) arranged on the workpiece table WT.
  • the workpiece is a photosensitive substrate such as a semiconductor wafer coated with a photoresist.
  • the exposure apparatus 200 exposes the workpiece to a laser beam reflecting the reticle pattern by moving the reticle stage RT and the workpiece table WT in parallel in synchronization with each other.
  • a semiconductor device which is an electronic device, can be manufactured by transferring a device pattern to a semiconductor wafer by the exposure process as described above.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration example of the entire gas laser apparatus 100 of this example.
  • the gas laser apparatus 100 of this example includes a housing 10, a laser oscillator LO, a wavelength measurement module 20, and a processor 70 as main configurations.
  • the gas laser apparatus 100 of this example is an ArF excimer laser apparatus using a mixed gas containing, for example, argon (Ar), fluorine (F 2 ), and neon (Ne). In this case, the gas laser apparatus 100 emits a pulsed laser beam having a center wavelength of about 193 nm.
  • the gas laser device 100 may be a gas laser device other than the ArF excimer laser device, and is, for example, a KrF excimer laser device using a mixed gas containing krypton (Kr), fluorine (F 2 ), and neon (Ne). May be.
  • the gas laser apparatus 100 emits a pulsed laser beam having a center wavelength of about 248 nm.
  • a mixed gas containing the laser media Ar, F 2 , and Ne and a mixed gas containing the laser media Kr, F 2 , and Ne may be referred to as a laser gas.
  • the processor 70 of the present disclosure is a processing device including a storage device in which a control program is stored and a CPU for executing the control program.
  • the processor 70 is specially configured or programmed to perform the various processes contained in the present disclosure.
  • the processor 70 controls some configurations of the gas laser device 100. Further, the processor 70 controls the entire gas laser apparatus 100.
  • the laser oscillator LO mainly includes a chamber device CH, a charger BC, a narrow band module 60, and an output coupling mirror OC.
  • the chamber device CH includes a housing 30, a pair of windows 31a and 31b, a pair of electrodes 32a and 32b, an insulating portion 33, a pulse power module 35, an electrode holder portion 36, a cross flow fan 38, and a motor. It is equipped with 38M as the main configuration.
  • the window 31a and the window 31b are provided at positions facing each other in the housing 30.
  • the window 31a is located on one end side in the traveling direction of the laser beam in the housing 30, and the window 31b is located on the other end side in the traveling direction of the laser beam in the housing 30.
  • the light oscillates on the optical path including the housing 30 and the laser light is emitted. Therefore, the laser light generated in the internal space of the housing 30 passes through the window 31a and the window 31b. It emits light to the outside of the housing 30.
  • the windows 31a and 31b are tilted so as to form a Brewster angle with respect to the traveling direction of the laser beam so that the reflection of the P polarization of the laser beam is suppressed.
  • the window 31a may be fitted into a hole in the housing 30 or may be held by a cylindrical holder.
  • one end of the holder is connected to the wall surface of the housing 30, and the hollow portion of the holder communicates with the hole of the housing 30 and the other end surface of the holder faces the hollow portion.
  • a window 31a is arranged in the window 31a.
  • the window 31b may be fitted into a hole or may be held in a cylindrical holder.
  • the housing 30 includes an internal space in which light is generated by the excitation of the laser gas.
  • the laser gas is supplied from a laser gas supply source (not shown) arranged in the housing 10 to the internal space of the housing 30 via a pipe (not shown).
  • a laser gas supply source not shown
  • the gas laser device 100 is an ArF excimer laser device, for example, a mixed gas containing Ar, F 2 , and Ne is supplied from the laser gas supply source to the internal space of the housing 30.
  • the gas laser device 100 is a KrF excimer laser, for example, a mixed gas containing Kr, F 2 , and Ne is supplied from the laser gas supply source to the internal space of the housing 30.
  • the above-mentioned light generated by the excitation of the laser gas travels to the windows 31a and 31b.
  • the longitudinal direction of the pair of electrodes 32a and 32b is along the traveling direction of the laser beam, and the pair of electrodes 32a and 32b are arranged so as to face each other in the internal space of the housing 30.
  • the space between the electrodes 32a and 32b in the housing 30 is sandwiched between the windows 31a and the windows 31b.
  • the electrodes 32a and 32b are discharge electrodes for exciting the laser medium by glow discharge.
  • the electrode 32a is the cathode and the electrode 32b is the anode.
  • An opening is formed in the housing 30, and this opening is closed by an insulating portion 33 formed including an insulator.
  • the electrode 32a is supported by the insulating portion 33.
  • a feedthrough 34 made of a conductive member is embedded in the insulating portion 33. The feedthrough 34 applies a voltage supplied from the pulse power module 35 to the electrode 32a.
  • the electrode 32b is supported by the electrode holder portion 36 and is electrically connected to the electrode holder portion 36.
  • the electrode holder portion 36 is electrically connected to the housing 30 via wiring (not shown).
  • a charger BC arranged outside the housing 30 is connected to the pulse power module 35.
  • the charger BC is a DC power supply device that charges a capacitor (not shown) provided in the pulse power module 35 with a predetermined voltage.
  • the pulse power module 35 includes a switch controlled by the processor 70. When the switch is turned from off to on, the pulse power module 35 boosts the voltage applied from the charger BC to generate a pulsed high voltage, and applies this high voltage to the pair of electrodes 32a and 32b.
  • a cross flow fan 38 is arranged in the internal space of the housing 30 on the side opposite to the electrode 32b side with respect to the electrode holder portion 36.
  • the space in which the cross flow fan 38 is arranged in the internal space of the housing 30 communicates with the space between the pair of electrodes 32a and 32b in the internal space of the housing 30. Therefore, as the cross-flow fan 38 rotates, the laser gas enclosed in the internal space of the housing 30 circulates in a predetermined direction.
  • a motor 38M arranged outside the housing 30 is connected to the cross-flow fan 38. As the motor 38M rotates, the cross flow fan 38 rotates. The motor 38M is turned on, off, and the rotation speed is adjusted by the control of the processor 70. Therefore, the processor 70 can adjust the circulation speed of the laser gas circulating in the internal space of the housing 30 by controlling the motor 38M.
  • a heat exchanger (not shown) is placed beside the cross flow fan 38. At least a part of the laser gas circulated by the cross flow fan 38 passes through this heat exchanger, and the temperature of the laser gas is regulated by the heat exchanger.
  • An optical path tube 51 is connected to one end side of the housing 30 where the window 31a is provided.
  • the output coupling mirror OC is provided on one end side of the housing 30 as a reference, and is arranged in the internal space of the optical path tube 51.
  • the output coupling mirror OC is an optical element to which the laser beam emitted from the window 31a is incident, and transmits a part of the light emitted from the window 31a and reflects the other part through the window 31a. Return to the internal space of the housing 30.
  • the output coupling mirror OC is composed of, for example, an element in which a dielectric multilayer film is formed on a calcium fluoride substrate. A film that partially reflects the laser beam may be formed on the surface of the output coupling mirror OC.
  • the narrowing band module 60 is connected to the optical path tube 52. Therefore, the narrowing band module 60 is provided on the other end side of the housing 30 as a reference, and is provided on the opposite side of the output coupling mirror OC with respect to the housing 30.
  • the narrow band module 60 includes a housing 61, a grating 62, and prisms 63, 64, 65, 66.
  • FIG. 3 is an enlarged view of the narrow band module 60 shown in FIG.
  • FIG. 4 is a view showing the internal space of the housing 61 shown in FIG. 3 from the lid body portion 61L side of the housing 61 toward the bottom surface side of the housing 61 on the opposite side of the lid body portion 61L.
  • the direction from the lid portion 61L side to the bottom surface side is the direction from the electrode 32a to the electrode 32b.
  • the housing 61 includes a main body portion 61M and a lid body portion 61L that closes the top of the main body portion 61M.
  • An opening 61H is formed on the side surface of the main body portion 61M, and the internal space of the housing 61 and the internal space of the optical path tube 52 communicate with each other through the opening 61H.
  • the grating 62 and the prisms 63, 64, 65, 66 are arranged in the internal space of the housing 61.
  • the grating 62 and the prisms 63, 64, 65, 66 are optical elements to which the laser beam emitted from the window 31b is incident.
  • the grating 62 is retrowed so that the incident angle and the diffraction angle of the laser beam substantially match.
  • the grating 62 may be an escher grating blazeed for a wavelength of about 193.4 nm.
  • the grating 62 is fixed to the mounting portion 62D, and the mounting portion 62D is fixed to the housing 61. Therefore, the grating 62 does not move with respect to the housing 61.
  • the prisms 63, 64, 65, 66 of this example have a triangular columnar shape, and specifically, the prism has a right triangle shape with a bottom surface having a right triangle shape.
  • the prism 63 includes a pair of bottom surfaces 63B, 63T and side surfaces 63H, 63X, 63Y perpendicular to the bottom surfaces 63B, 63T.
  • the side surface 63H is a side surface including the hypotenuse of the bottom surfaces 63B and 63T, and the side surfaces 63X and 63Y are side surfaces perpendicular to each other.
  • the prism 64 includes a pair of bottom surfaces 64B, 64T and side surfaces 64H, 64X, 64Y perpendicular to the bottom surfaces 64B, 64T.
  • the side surface 64H is a side surface including the hypotenuse of the bottom surfaces 64B and 64T, and the side surfaces 64X and 64Y are side surfaces perpendicular to each other.
  • the prism 65 includes a pair of bottom surfaces 65B, 65T and side surfaces 65H, 65X, 65Y perpendicular to the bottom surfaces 65B, 65T.
  • the side surface 65H is a side surface including the hypotenuse of the bottom surfaces 65B and 65T, and the side surfaces 65X and 65Y are side surfaces perpendicular to each other.
  • the prism 66 includes a pair of bottom surfaces 66B, 66T and side surfaces 66H, 66X, 66Y perpendicular to the bottom surfaces 66B, 66T.
  • the side surface 66H is a side surface including the hypotenuse of the bottom surfaces 66B and 66T, and the side surfaces 66X and 66Y are side surfaces perpendicular to each other.
  • a film is formed on the side surfaces 63H, 64H, 65H, and 66H so as to suppress the reflection of the P-polarized light of the laser beam traveling from the outside of the prism to these side surfaces. Further, a film is formed on the side surfaces 63X, 64X, 65X, 66X, and the side surfaces 63Y, 64Y, 65Y, 66Y so as to suppress the reflection of the laser light traveling from the outside of the prism to these side surfaces.
  • These films may be films containing at least one of SiO 2 , MgF 2 , LaF 3 , and GdF 3 .
  • a fluoride-based material that is resistant to ultraviolet rays may be used.
  • the material of the film it is preferable to use a material similar to the material of the prisms 63, 64, 65, 66.
  • Each prism 63, 64, 65, 66 is composed of, for example, calcium fluoride.
  • the prisms 63, 64, 65, 66 include an incident side surface on which light is incident and an exit side surface on which the incident light is emitted, and the light incident from the incident side surface is wavelength-dispersed and emitted from the exit side surface.
  • the light propagating from the CH side of the chamber device is incident on the side surfaces 63H, 64H, 65H, 66H of the prisms 63, 64, 65, 66, respectively.
  • the light incident from the side surfaces 63H, 64H, 65H, 66H is emitted from the side surfaces 63X, 64X, 65X, 66X in the prisms 63, 64, 65, 66, respectively. Therefore, for the light incident from the CH side of the chamber device, the side surfaces 63H, 64H, 65H, 66H are the incident side surfaces, and the side surfaces 63X, 64X, 65X, 66X are the emission side surfaces.
  • the light propagating from the grating 62 side is incident from the side surfaces 66X, 65X, 64X, 63X of the respective prisms 66, 65, 64, 63.
  • the light incident from the side surfaces 66X, 65X, 64X, 63X is emitted from the side surfaces 66H, 65H, 64H, 63H of the respective prisms 66, 65, 64, 63. Therefore, for the light propagating from the grating 62 side, the side surfaces 66X, 65X, 64X, 63X are the incident side surfaces, and the side surfaces 66H, 65H, 64H, 63H are the exit side surfaces.
  • the prism 63 is fixed to the mounting portion 63D with one bottom surface 63B facing the mounting portion 63D.
  • the prism 64 is fixed to the mounting portion 64D with one bottom surface 64B facing the mounting portion 64D.
  • the prism 66 is fixed to the mounting portion 66D with one bottom surface 66B facing the mounting portion 66D.
  • the mounting portions 63D, 64D, 66D are fixed to the housing 61. Therefore, the prisms 63, 64, 66 do not move with respect to the housing 61 and the grating 62.
  • the prism 65 is fixed to the mounting portion 65D.
  • the mounting portion 65D slightly rotates the prism 65 about an axis perpendicular to the dispersion plane of the light emitted from the prism 65.
  • the details of the mounting unit 65D will be described later.
  • the bottom surface 63T of the prism 63 is the other surface on the opposite side of the one bottom surface 63B mounted on the mounting portion 63D with the prism 63 as a reference.
  • the bottom surface 64T of the prism 64 is the other surface on the opposite side of the one bottom surface 64B mounted on the mounting portion 64D with the prism 64 as a reference.
  • the bottom surface 65T of the prism 65 is the other surface on the opposite side of the one bottom surface 65B mounted on the mounting portion 65D with the prism 65 as a reference.
  • the bottom surface 66T of the prism 66 is the other surface on the opposite side of the one bottom surface 66B mounted on the mounting portion 66D with the prism 66 as a reference.
  • the number of prisms arranged in the narrow band module 60 is four in this example, but may be three or less if at least one rotating prism such as the prism 65 is included. It may be 5 or more.
  • a laser resonator is configured by an output coupling mirror OC provided with the housing 30 interposed therebetween and a grating 62, and the housing 30 is arranged on the optical path of the laser resonator. Therefore, the light from the internal space of the housing 30 reciprocates between the grating 62 of the narrowing module 60 and the output coupling mirror OC via the windows 31a, 31b and the prisms 63, 64, 65, 66. The reciprocating light is amplified each time it passes through the laser gain space between the electrodes 32a and 32b. A part of the amplified light passes through the output coupling mirror OC through the window 31a and is emitted as pulsed laser light.
  • the wavelength measurement module 20 is arranged on the optical path of the pulsed laser light emitted from the output coupling mirror OC of the laser oscillator LO.
  • the wavelength measurement module 20 includes a housing 21, a beam splitter 22, and a wavelength monitor 23.
  • the housing 21 is connected to the optical path tube 51.
  • An opening is formed in the housing 21, and the internal space of the housing 21 and the internal space of the optical path tube 51 communicate with each other through the opening.
  • a beam splitter 22 and a wavelength monitor 23 are arranged in the internal space of the housing 21.
  • the beam splitter 22 and the wavelength monitor 23 are optical elements to which the pulsed laser light emitted from the output coupling mirror OC is incident.
  • the beam splitter 22 transmits the pulsed laser light emitted from the laser oscillator LO with high transmittance, and reflects a part of the pulsed laser light toward the light receiving surface of the wavelength monitor 23.
  • the wavelength monitor 23 detects the wavelength of the pulsed laser light incident on the light receiving surface, and outputs data related to the detected wavelength to the processor 70.
  • the wavelength monitor 23 includes a spectroscope such as an etalon and an image sensor, and detects interference fringes generated by the etalon by the image sensor or the like.
  • An opening is formed on the side of the housing 21 of the wavelength measurement module 20 opposite to the side to which the optical path tube 51 is connected, and the optical path tube 53 is connected so as to surround the opening. Therefore, the internal space of the optical path tube 51, the internal space of the housing 21, and the internal space of the optical path tube 53 communicate with each other.
  • the optical path tube 53 is connected to the housing 10.
  • a laser beam emitting window OW is provided at a position surrounded by the optical path tube 53 in the housing 10. Therefore, the light transmitted through the beam splitter 22 of the wavelength measurement module 20 is emitted to the outside of the housing 10 from the laser beam emission window OW via the optical path tube 53.
  • the internal spaces of the optical path tubes 51, 52, 53 and the housings 21, 61 are filled with purge gas.
  • the purge gas contains an inert gas such as high-purity nitrogen having few impurities such as oxygen.
  • the purge gas is supplied from a purge gas supply source (not shown) arranged outside the housing 10 to the internal spaces of the optical path tubes 51, 52, 53 and the housings 21, 61 through a pipe (not shown).
  • an exhaust device for exhausting the laser gas exhausted from the internal space of the housing 30 of the chamber device CH is arranged.
  • the exhaust device performs a process of removing the F 2 gas from the gas exhausted from the internal space of the housing 30 by a halogen filter, and discharges the gas to the housing 10.
  • FIG. 5 is a view of how the prism 65 is fixed to the main body 81 of the mounting portion 65D by the fixing unit 300 from a direction perpendicular to the side surface 65H of the prism 65.
  • FIG. 6 is a view showing a cross section taken along the line AA shown in FIG. 5 from the lid body portion 61L side toward the bottom surface side of the housing 61 along the side surface of the prism 65.
  • the description of the fixed unit 300 is omitted for the sake of clarity in the illustration.
  • the main body 81 is a plate-shaped member, and the shape of the main surface is substantially rectangular.
  • One main surface of the main body 81 is a fixed surface 81F to which the prism 65 is fixed.
  • the fixed unit 300 is arranged in the internal space of the housing 61.
  • the fixing unit 300 includes a pair of column members 301a and 301b, a beam member 303, a plate member 305, and a pair of pressing members 307a and 307b that are coil springs. Further, the fixing unit 300 further includes a pair of fixing members 309a and 309b, each of which is a bolt wound around the shaft portion of the pair of pressing members 307a and 307b.
  • the pillar members 301a and 301b are fixed to the fixed surface 81F. Further, the pillar members 301a and 301b extend to a position higher than the bottom surface 65T of the prism 65 along the direction orthogonal to the fixed surface 81F. Therefore, the pillar members 301a and 301b extend to the side opposite to the bottom surface 65B with respect to the bottom surface 65T.
  • the pillar members 301a and 301b are arranged so as to sandwich the prism 65 with each other.
  • the pillar members 301a and 301b are arranged at positions deviated from the traveling path of the light incident on the incident side surface of the prism 65 and the traveling path of the light emitted from the exit side surface of the prism 65 so as not to hinder the traveling of the light.
  • the pillar members 301a and 301b are arranged outside the region where the light travels on each of the incident side surface and the exit side surface of the prism 65.
  • the pillar members 301a and 301b have a columnar shape, but the shapes of the pillar members 301a and 301b are not particularly limited.
  • the beam member 303 is bridged between the column member 301a and the column member 301b at the end opposite to the bottom surface 65B with the bottom surface 65T of the column members 301a and 301b as a reference.
  • One end of the beam member 303 is fixed to the end of the column member 301a, and the other end of the beam member 303 is fixed to the end of the column member 301b. Since the column members 301a and 301b are longer than the prism 65 in the direction orthogonal to the fixed surface 81F, the beam member 303 is located above the bottom surface 65T.
  • the beam member 303 is substantially parallel to the fixed surface 81F.
  • the shape of the main surface of the beam member 303 is generally rectangular. In FIG. 6, the beam member 303 is shown by a broken line.
  • the plate member 305 is arranged on the bottom surface 65T of the prism 65. Further, the plate member 305 has a triangular columnar shape. The main surface of the plate member 305 has the same shape as the bottom surface 65T, and the area of the main surface of the plate member 305 is smaller than the area of the bottom surface 65T.
  • the fixing members 309a and 309b penetrate the beam member 303, and their respective ends are in contact with the plate member 305.
  • the pressing members 307a and 307b are wound around the shaft portions of the fixing members 309a and 309b so that the central axes of the pressing members 307a and 307b are located coaxially with the central axes of the fixing members 309a and 309b. Further, the pressing members 307a and 307b can be expanded and contracted in the longitudinal direction of the pressing members 307a and 307b.
  • the pressing members 307a and 307b are arranged between the plate member 305 and the beam member 303.
  • the pressing members 307a and 307b extend toward the plate member 305 with reference to the ends of the pressing members 307a and 307b on the beam member 303 side, and press the plate member 305 toward the prism 65.
  • the bottom surface 65B of the prism 65 is in contact with the fixed surface 81F in a state where the fixing members 309a and 309b and the pressing members 307a and 307b are in contact with the plate member 305 placed on the bottom surface 65T of the prism 65.
  • the plate member 305 presses the prism 65 toward the fixed surface 81F of the main body 81 by the elastic force of the pressing members 307a and 307b. Therefore, the prism 65 is sandwiched between the plate member 305 of the fixing unit 300 and the main body 81 of the mounting portion 65D in a state of being pressed against the fixed surface 81F by the plate member 305 and the pressing members 307a and 307b.
  • the prism 65 is restricted from moving along the in-plane direction of the fixed surface 81F, and is fixed to the main body 81.
  • the fixing unit 300 is also arranged to fix the prisms 63, 64, 66 to the mounting portions 63D, 64D, 66D, respectively.
  • the arrangement of the fixed unit 300 with respect to the prisms 63, 64, 66 and the mounting portions 63D, 64D, 66D is the same as the arrangement of the fixed unit 300 with respect to the main body portion 81 of the prism 65 and the mounting portion 65D. Omit. Further, for clarity of illustration, the description of the fixed unit 300 for the prisms 63, 64, 66 and the mounting portions 63D, 64D, 66D is omitted in FIGS. 3 and 4.
  • the mounting portion 65D includes a main body portion 81 which is a stage and a rotation mechanism portion 82.
  • the main body portion 81 is fixed to the rotation mechanism portion 82.
  • the rotation mechanism portion 82 of this example includes a fixing plate 82a and a rotation stage 82b.
  • the main body 81 is fixed to the rotary stage 82b.
  • the fixing plate 82a is fixed to the main body 61M of the housing 61.
  • the rotary stage 82b is a circular plate-shaped member, and is a member that rotates about a predetermined axis in the in-plane direction of the main surface of the fixed plate 82a.
  • the fixing plate 82a and the rotary stage 82b are connected via, for example, a cross roller bearing.
  • the in-plane direction of the main surface of the fixing plate 82a is parallel to the bottom surface 65B of the prism 65. Therefore, the rotation axis RA5 of the rotation stage 82b is perpendicular to the dispersion plane of the light emitted from the prism 65.
  • the rotary stage 82b rotates, the main body 81 fixed to the rotary stage 82b, the prism 65 fixed to the main body 81, and the fixed unit 300 together with the rotary stage 82b have a rotation axis perpendicular to the dispersion plane of the light emitted from the prism 65. It rotates around RA5.
  • the fixing plate 82a projects from the inside to the outside of the housing 61.
  • a housing 87 is provided at a portion of the fixing plate 82a on the outer side of the housing 61.
  • the inside of the housing 87 and the inside of the housing 61 are spatially connected, and airtightness is maintained.
  • a stepping motor 84 is fixed to a portion of the fixing plate 82a outside the housing 61.
  • the stepping motor 84 includes a predetermined shaft portion, and one tip of the shaft portion is located in the housing 87. This shaft portion moves along the longitudinal direction by the operation of the stepping motor 84.
  • a piezo actuator 85 is movably arranged in the housing 87.
  • the piezo actuator 85 is in contact with one tip of the shaft portion of the stepping motor 84. Therefore, the piezo actuator 85 moves as the shaft portion of the stepping motor 84 moves.
  • a lever 86 is connected to the rotary stage 82b.
  • the lever 86 projects from the inside to the outside of the housing 61, and the end portion of the lever 86 opposite to the rotation stage 82b side is located in the housing 87.
  • the piezo actuator 85 is in contact with the lever 86. Therefore, the piezo actuator 85 is sandwiched between the shaft portion of the stepping motor 84 and the lever 86, and when the piezo actuator 85 operates, the distance between the tip of the shaft portion of the stepping motor 84 and the lever 86 changes due to the piezoelectric effect. Further, the side opposite to the side where the piezo actuator 85 of the lever 86 contacts is in contact with the plunger 89.
  • the plunger 89 is fixed to the housing 87 and presses the lever 86. Therefore, the lever 86 is sandwiched between the piezo actuator 85 and the plunger 89, and is pressed by the piezo actuator 85 and the plunger 89.
  • the inclination of the lever 86 changes due to the movement of the piezo actuator 85 due to the operation of the stepping motor 84 and the change in the distance from the tip of the shaft portion of the stepping motor 84 to the lever 86 due to the operation of the piezo actuator 85.
  • the rotation stage 82b rotates due to the change in the inclination of the lever 86. Therefore, in this example, the stepping motor 84 and the piezo actuator 85 are drive units for rotating the rotary stage 82b.
  • the change in the inclination of the lever 86 due to the operation of the piezo actuator 85 is smaller than the change in the inclination of the lever 86 due to the operation of the stepping motor 84. That is, the stepping motor 84 is a drive unit for coarse movement, and the piezo actuator 85 is a drive unit for fine movement. Therefore, the optical path is roughly adjusted by the operation of the stepping motor 84, and the optical path is finely adjusted by the operation of the piezo actuator 85.
  • a driver 72 is electrically connected to the stepping motor 84 and the piezo actuator 85.
  • the driver 72 is electrically connected to the processor 70, and the processor 70 is electrically connected to the exposure apparatus 200 and the wavelength monitor 23.
  • a signal relating to the wavelength of light to be emitted by the gas laser apparatus 100 is input to the processor 70 from the exposure apparatus 200.
  • a signal based on the energy intensity of the laser light received by the wavelength monitor 23 is input to the processor 70 from the wavelength monitor 23.
  • the processor 70 outputs a signal for driving the driver 72 based on these signals to the driver 72, and when the signal from the processor 70 is input, the driver 72 drives the stepping motor 84 and the piezo actuator 85.
  • the internal space of the optical path tubes 51, 52, 53 and the internal space of the housings 21, 61 are filled with purge gas from a purge gas supply source (not shown). Further, laser gas is supplied to the internal space of the housing 30 from a laser gas supply source (not shown). When the laser gas is supplied, the processor 70 controls the motor 38M to rotate the cross flow fan 38, and the rotation of the cross flow fan 38 circulates the laser gas.
  • the processor 70 controls a switch in the charger BC and the pulse power module 35 to apply a high voltage between the electrodes 32a and 32b.
  • a high voltage is applied between the electrodes 32a and 32b, the insulation between the electrodes 32a and 32b is destroyed and a discharge occurs. Due to the energy of this discharge, the laser medium contained in the laser gas between the electrodes 32a and 32b is brought into an excited state and emits spontaneous emission light when returning to the ground state. Part of this light is ultraviolet light, which passes through the window 31b.
  • the transmitted light is magnified in the traveling direction of the light each time it passes through the prisms 63, 64, 65, 66.
  • the light is wavelength-dispersed each time it passes through the respective prisms 63, 64, 65, 66 and is guided to the grating 62.
  • the light is incident on the grating 62 at a predetermined angle and diffracted, and the light having a predetermined wavelength is reflected by the grating 62 at the same reflection angle as the incident angle.
  • the light reflected by the grating 62 propagates from the window 31b to the internal space of the housing 30 again via the prisms 66, 65, 64, and 63, respectively.
  • the light propagating in the internal space of the housing 30 has a narrow band. Due to this narrowed band light, the excited laser medium causes stimulated emission and the light is amplified.
  • the light passes through the window 31a and travels to the output coupling mirror OC.
  • a part of the light is transmitted through the output coupling mirror OC, and the remaining part of the light is reflected by the output coupling mirror OC and is transmitted through the window 31a and propagated to the internal space of the housing 30.
  • the light propagating in the internal space of the housing 30 passes through the window 31b and the prisms 63, 64, 65, 66 and travels to the grating 62 as described above. In this way, light of a predetermined wavelength reciprocates between the grating 62 and the output coupling mirror OC.
  • the light is amplified each time it passes through the discharge space in the internal space of the housing 30, and laser oscillation occurs. Then, a part of the laser beam passes through the output coupling mirror OC and is emitted from the laser beam emission window OW.
  • a part of the laser light transmitted through the output coupling mirror OC is reflected by the beam splitter 22.
  • the reflected laser light is received by the wavelength monitor 23, and the wavelength monitor 23 outputs a signal based on the energy intensity of the received laser light to the processor 70.
  • a signal related to the wavelength of light is input to the processor 70 from the exposure apparatus 200. Therefore, the processor 70 controls the driver 72 based on the signal input from the wavelength monitor 23 and the signal input from the exposure apparatus 200.
  • the driver 72 drives the stepping motor 84 and the piezo actuator 85. By driving the stepping motor 84 and the piezo actuator 85, the inclination of the lever 86 changes, and the rotary stage 82b rotates.
  • the angle of this rotation is, for example, in the range of ⁇ 2.5 degrees.
  • the processor 70 adjusts the rotation angle of the prism 65 based on the signal from the wavelength monitor 23 and the signal from the exposure device 200, and the wavelength of the light emitted from the gas laser device 100 is the wavelength required by the exposure device 200. Control the feedback so that it becomes.
  • the fixed unit 300 for fixing the prism 65 has been described, but even in the fixed unit 300 for fixing the prisms 63, 64, 66, scattered light from another prism may irradiate the fixed unit 300.
  • the fixed unit 300 When the scattered light irradiates the fixed unit 300, the fixed unit 300 generates heat and thermally expands. In this case, the fixed unit 300 may be deformed due to thermal expansion, and the prism 65 may be tilted due to the deformation of the fixed unit 300. In such a case, the traveling direction of the light emitted from the gas laser apparatus 100 may change with time.
  • the gas laser device 100 capable of suppressing the change in the traveling direction of the light emitted from the gas laser device 100 by suppressing the irradiation of the fixed unit 300 with the scattered light is exemplified.
  • the fixed unit 300 for fixing the prism 65 will be described, but the fixed unit 300 for fixing the prisms 63, 64, 66 will also be described using the fixed unit 300 for fixing the prism 65. The same action and effect as above can be obtained.
  • FIG. 7 is a diagram showing a light-shielding member 400 of the first embodiment surrounding the fixed unit 300 shown in FIG.
  • the narrow band module 60 is different from the narrow band module 60 of the comparative example in that it further includes a light shielding member 400 that shields the scattered light traveling to the fixed unit 300 fixing the prism 65. ..
  • the light-shielding member 400 surrounds the fixed unit 300, and in FIG. 7, the portion of the fixed unit 300 surrounded by the light-shielding member 400 is shown by a broken line.
  • the light-shielding member 400 is arranged in the internal space of the housing 61.
  • the light-shielding member 400 is a tubular member whose one end is closed. Therefore, the light-shielding member 400 includes an upper wall 401 fixed to the lid portion 61L and a side wall 403 extending from the peripheral edge of the upper wall 401 toward the main body portion 81 and being integrated with the upper wall 401.
  • Such a light-shielding member 400 is open on the bottom surface opposite to the upper wall 401.
  • the upper wall 401 of the light-shielding member 400 is fixed to the lid body portion 61L by a fixing member 420 which is a bolt in a state of being in contact with the lid body portion 61L of the housing 61, and the light-shielding member 400 is fixed to the lid body portion 61L from the lid body portion 61L to the main body portion. Suspended towards 81.
  • the side wall 403 extends from the lid portion 61L to at least the fixing surface 81F side of the heads of the fixing members 309a and 309b. Further, it is preferable that the side wall 403 extends to the same height position as the bottom surface 65T.
  • the side wall 403 of the light-shielding member 400 surrounds the portion of the fixed unit 300 located on the side opposite to the bottom surface 65B with respect to the bottom surface 65T over the entire circumference.
  • This part includes a part of the column members 301a and 301b located on the opposite side of the bottom surface 65T with respect to the bottom surface 65T, the beam member 303, the plate member 305, the pressing members 307a and 307b, and the fixing members 309a and 309b. It is a part of the fixed unit 300 including.
  • the remaining part of the column members 301a and 301b located on the bottom surface 65B side of the bottom surface 65T and the side surfaces 65H, 65X and 65Y of the prism 65 are not surrounded by the light shielding member 400 and are exposed. ..
  • the side wall 403 is located between the portion and the inner peripheral surface of the housing 61 on the portion side of the inner peripheral surface. In the light-shielding member 400 as described above, since the side wall 403 of the light-shielding member 400 is irradiated before the scattered light reaches a part of the fixed unit 300, the light-shielding member 400 before the scattered light reaches a part of the fixed unit 300. 400 blocks scattered light.
  • the light-shielding member 400 is made of a metal having high thermal conductivity such as stainless steel, aluminum, or copper.
  • the light-shielding member 400 conducts heat generated from the scattered light irradiating the light-shielding member 400 to the lid portion 61L.
  • FIG. 8 is a view of a cross section taken along the line BB shown in FIG. 7 from the side of the lid portion 61L toward the bottom side of the housing 61 along the side surface of the prism 65.
  • the beam member 303 is shown by a broken line.
  • the outer shape of the side wall 403 and the upper wall 401 have, for example, a trapezoidal shape, but these shapes are not particularly limited. Further, the outer shape of the side wall 403 and the upper wall 401 are larger than the main body portion 81, the prism 65, and the fixed unit 300.
  • the light blocking member 400 shields the scattered light traveling to the fixed unit 300 before the scattered light reaches a part of the fixed unit 300.
  • the light-shielding member 400 blocks the scattered light, the irradiation of the scattered light to the fixed unit 300 is suppressed, and the thermal expansion of the fixed unit 300 due to the scattered light is suppressed.
  • the thermal expansion is suppressed, the deformation of the fixed unit 300 is suppressed, and the inclination of the prism 65 due to the deformation is suppressed. As a result, changes over time in the traveling direction of the light emitted from the gas laser apparatus 100 can be suppressed.
  • the scattered light not only travels at the same height position as the light traveling on the incident side surface of the prisms 63, 64, 65, 66, but also travels toward a position lower or higher than the position. Further, the scattered light is also generated from the emission surface when the light is emitted from the emission side surface of the prisms 63, 64, 65, 66. Further, of the light traveling inside the prisms 63, 64, 65, 66, a part of the light may be reflected toward the side surfaces 63Y, 64Y, 65Y, 66Y by the emission side surface. When light travels to the sides 63Y, 64Y, 65Y, 66Y and is emitted from these sides, scattered light may be generated.
  • the scattered light as described above travels to the fixed unit 300 from various directions. Since the light-shielding member 400 of the present embodiment surrounds the fixed unit 300, it can block the scattered light traveling to the fixed unit 300 from various directions. Further, the light-shielding member 400 of the present embodiment surrounds the fixed unit 300 to which the scattered light irradiates the most among the plurality of fixed units 300, and the light emitted from the gas laser device 100 is higher than the case where the other fixed units 300 are surrounded. Changes in the traveling direction of the light over time can be suppressed.
  • the light-shielding member 400 surrounds the portion of the fixed unit 300 located on the opposite side of the bottom surface 65T with respect to the bottom surface 65T.
  • This part includes a part of the column members 301a and 301b located on the opposite side of the bottom surface 65T with respect to the bottom surface 65T, the beam member 303, the plate member 305, the pressing members 307a and 307b, and the fixing members 309a and 309b. And include.
  • the light-shielding member 400 shields the scattered light traveling to the above portion without hindering the progress of the light incident on the incident side surface of the prism 65 and the light emitted from the exit side surface of the prism 65. Therefore, the deformation of the portion can be suppressed without hindering the progress of the light, and the inclination of the prism 65 due to the deformation can be suppressed.
  • the light shielding member 400 is fixed to the housing 61.
  • the heat is transferred from the light-shielding member 400 to the housing 61.
  • the temperature rise in the internal space of the light-shielding member 400 where the fixed unit 300 is located can be suppressed, and the thermal expansion of the fixed unit 300 due to the temperature rise can be suppressed.
  • the light shielding member 400 is made of metal. As a result, heat can be easily transferred from the light-shielding member 400 to the housing 61.
  • the metal is stainless steel, aluminum, or copper. As a result, heat can be more easily transferred from the light-shielding member 400 to the housing 61 than with metals other than the above.
  • a nickel plating layer that absorbs at least a part of light having the same wavelength as the scattered light may be arranged on the aluminum.
  • the volume of the mounting portion 65D including the main body portion 81 of the present embodiment is larger than the total volume of each member of the fixed unit 300, and the heat capacity of the mounting portion 65D is larger than the heat capacity of the fixed unit 300. There is. Therefore, even if the scattered light irradiates the mounting portion 65D, the mounting portion 65D is less likely to thermally expand than the fixed unit 300 and is less likely to be deformed than the fixed unit 300. Since the mounting portion 65D is not easily deformed, the inclination of the prism 65 due to the deformation can be suppressed.
  • FIG. 9 is a diagram showing a light-shielding member 400 of a modified example of the first embodiment surrounding the fixed unit 300 shown in FIG.
  • the light is not incident on the prism 65 from the incident side surface of the prism 65, for example, the entire side surface 65H, but is incident on a part of the incident side surface.
  • the region is referred to as an incident region 65e and is hatched in FIG.
  • the light is not emitted from the entire exit side surface of the prism 65 to the outside of the prism 65, but is emitted from a part of the emission side surface.
  • the region is referred to as an emission region.
  • the incident side surface is the side surface 65H
  • the emission side surface becomes the side surface 65X
  • the emission region becomes a part of the side surface 65X.
  • the incident region 65e and the emitted region are arranged so as to face each other via the prism 65, and are located at substantially the same position in the height direction of the prism 65.
  • the side wall 403 of the light-shielding member 400 is located on the side opposite to the lower edge 65g of the incident region 65e and the lower edge of the emission region with respect to the upper edge 65f of the incident region 65e and the upper edge of the emission region of the fixed unit 300. You may enclose the part.
  • Each upper edge is located on the bottom surface 65B side of the bottom surface 65T of the prism 65.
  • the portion is fixed to a part of the column members 301a and 301b located on the opposite side of the lower edge with respect to the upper edge, the beam member 303, the plate member 305, and the pressing members 307a and 307b. It is a part of the fixing unit 300 including the members 309a and 309b.
  • the portion of the prism 65 and the fixed unit 300 surrounded by the light-shielding member 400 is shown by a broken line.
  • the light-shielding member 400 does not hinder the progress of the light incident on the incident region 65e of the prism 65 and the light emitted from the emission region of the prism 65, and is opposite to the bottom surface 65B with respect to the bottom surface 65T of the fixed unit 300. It blocks more scattered light than it does when enclosing the side location. Therefore, the thermal expansion of the fixed unit 300 due to scattered light can be further suppressed, and the deformation of the fixed unit 300 can be further suppressed.
  • the light-shielding member 400 surrounds the fixed unit 300 over the entire circumference, but may surround at least a part of the fixed unit 300. Therefore, for example, a notch may be provided in a part of the light-shielding member 400, and the light-shielding member 400 may surround a part of the fixing unit 300 in the direction around the central axis and not the rest. In this case, in the cross section of the light-shielding member 400, the straight line connecting both ends of the light-shielding member 400 in the direction around the central axis of the light-shielding member 400 passes through the central axis of the fixed unit 300.
  • the straight line connecting both ends of the light-shielding member 400 may pass outside the central axis of the fixed unit 300 among the fixed units 300. In this way, the light-shielding member 400 can block scattered light even if it surrounds only a part of the fixed unit 300.
  • the light-shielding member 400 surrounds the fixed unit 300 for fixing the prism 65, but the light-shielding member 400 is not limited to this.
  • the light-shielding member 400 may individually enclose a fixing unit 300 for fixing any of the prisms 63, 64, 66 other than the prism 65.
  • the light-shielding member 400 is arranged in the same number as the fixed units 300 for individually fixing each of the prisms 63, 64, 65, 66 arranged in the internal space of the housing 61 of the narrow band module 60.
  • Each of the light-shielding members 400 may individually enclose a fixing unit 300 for fixing each of the prisms 63, 64, 65, 66.
  • the description of the fixed unit 300 is omitted as in FIG.
  • only one fixing member 420 is designated by a reference numeral, and the reference numerals of the other fixing member 420 are omitted.
  • one light-shielding member may collectively enclose the fixing unit 300 for fixing each of the prisms 63, 64, 65, 66.
  • one light-shielding member may collectively surround the fixing unit 300 for fixing each of the adjacent prisms among the prisms 63, 64, 65, 66.
  • FIG. 11 is a diagram showing a light-shielding member 400 of the second embodiment surrounding the fixed unit 300 shown in FIG.
  • the portion of the fixed unit 300 surrounded by the light-shielding member 400 is shown by a broken line.
  • the narrow band module 60 of the present embodiment has the narrow band of the first embodiment in that the light-shielding member 400 further surrounds the portion of the pillar members 301a and 301b on the bottom surface 65B side of the bottom surface 65T. It is different from the conversion module 60.
  • the side wall 403 of the light-shielding member 400 includes a pair of extending portions 405 extending from the bottom surface 65T side toward the bottom surface 65B side.
  • the extending portion 405 is arranged over substantially the entire length of the pillar members 301a and 301b.
  • the end portion of the extending portion 405 is arranged slightly away from the fixed surface 81F.
  • FIG. 12 is a view of the cross section taken along the line CC of FIG. 11 from the side of the lid portion 61L toward the bottom side of the housing 61 along the side surface of the prism 65.
  • the extending portion 405 has, for example, a C-shape, but the shape is not particularly limited.
  • One extending portion 405 surrounding the pillar member 301a surrounds the outer peripheral surface of the outer peripheral surface of the pillar member 301a other than the outer peripheral surface facing the outer peripheral surface of the pillar member 301b via the prism 65.
  • the extending portion 405 is arranged on the side opposite to a part of the prism 65 located on the line connecting the pillar member 301a and the pillar member 301b with reference to the pillar member 301a, and the pillar member of the outer peripheral surface of the pillar member 301a is arranged. Surrounding the outer peripheral surface on the opposite side of the prism 65 with reference to 301a. Further, when the pillar member 301b side is viewed from the extending portion 405 side via the pillar member 301a and the prism 65, the pillar member 301a is covered and hidden by the extending portion 405.
  • the extending portion 405 is arranged away from the pillar member 301a so that the pillar member 301a does not come into contact with the extending portion 405 when the pillar member 301a is rotated by the rotation mechanism portion 82 via the main body portion 81 as described above.
  • the extension portion 405 on the column member 301a side has been described, but the same applies to the extension portion 405 on the column member 301b side.
  • the extending portion 405 of the light-shielding member 400 surrounds the portion of the pillar members 301a and 301b on the bottom surface 65B side of the bottom surface 65T. As a result, the extending portion 405 blocks the scattered light traveling to the portion.
  • the thermal expansion of the column members 301a and 301b due to the scattered light can be further suppressed, and the deformation of the column members 301a and 301b can be further suppressed.
  • the straight line connecting both ends of the extending portion 405 may pass through the central axis of the pillar member 301a.
  • the extending portion 405 may surround the pillar member 301a over the entire circumference.
  • the description is made using the column member 301a side, but the same applies to the column member 301b side.
  • the extending portion 405 may abut on the fixed surface 81F. As a result, even if the extending portion 405 generates heat due to the scattered light irradiating the extending portion 405, the heat is transferred from the extending portion 405 to the mounting portion 65D via the fixed surface 81F. Therefore, the temperature rise in the space inside the extending portion 405 where the pillar members 301a and 301b are located can be suppressed, and the thermal expansion of the pillar members 301a and 301b due to the temperature rise can be suppressed.
  • the light-shielding member 400 of the present embodiment does not need to be fixed to the lid portion 61L, and may be fixed to the fixing surface 81F.

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Abstract

狭帯域化モジュールは、筐体と、筐体の内部空間に配置され、光が透過するプリズムと、内部空間に配置され、プリズムが載置される載置部と、内部空間に配置され、プリズムを載置部に固定する固定ユニットと、遮光部材とを備える。遮光部材は、内部空間に配置され、内部空間において光から発生して固定ユニットに進行する散乱光を遮光する。

Description

狭帯域化モジュール、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
　本開示は、狭帯域化モジュール、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法に関する。
　近年、半導体露光装置においては、半導体集積回路の微細化及び高集積化につれて、解像力の向上が要請されている。このため、露光用光源から放出される光の短波長化が進められている。例えば、露光用のガスレーザ装置としては、波長約２４８ｎｍのレーザ光を出力するＫｒＦエキシマレーザ装置、ならびに波長約１９３ｎｍのレーザ光を出力するＡｒＦエキシマレーザ装置が用いられる。
　ＫｒＦエキシマレーザ装置及びＡｒＦエキシマレーザ装置の自然発振光のスペクトル線幅は、３５０ｐｍ～４００ｐｍと広い。そのため、ＫｒＦ及びＡｒＦレーザ光のような紫外線を透過する材料で投影レンズを構成すると、色収差が発生してしまう場合がある。その結果、解像力が低下し得る。そこで、ガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を、色収差が無視できる程度となるまで狭帯域化する必要がある。そのため、ガスレーザ装置のレーザ共振器内には、スペクトル線幅を狭帯域化するために、狭帯域化素子（エタロンやグレーティング等）を含む狭帯域化モジュール（Ｌｉｎｅ　Ｎａｒｒｏｗ　Ｍｏｄｕｌｅ：ＬＮＭ）が備えられる場合がある。以下では、スペクトル線幅が狭帯域化されるガスレーザ装置を狭帯域化ガスレーザ装置という。
特開平１１－２３３８５８号公報 特開平２－１９４６７７号公報 米国特許第９１３０３３８号明細書 特開２００２－３７４０２５号公報
概要
　本開示の一態様による狭帯域化モジュールは、筐体と、筐体の内部空間に配置され、光が透過するプリズムと、内部空間に配置され、プリズムが載置される載置部と、内部空間に配置され、プリズムを載置部に固定する固定ユニットと、内部空間に配置され、内部空間において光から発生して固定ユニットに進行する散乱光を遮光する遮光部材と、を備える。
　本開示の一態様によるガスレーザ装置は、狭帯域化モジュールを備え、狭帯域化モジュールは、筐体と、筐体の内部空間に配置され、光が透過するプリズムと、内部空間に配置され、プリズムが載置される載置部と、内部空間に配置され、プリズムを載置部に固定する固定ユニットと、内部空間に配置され、内部空間において光から発生して固定ユニットに進行する散乱光を遮光する遮光部材と、を備える。
　本開示の一態様による電子デバイスの製造方法は、筐体と、筐体の内部空間に配置され、光が透過するプリズムと、内部空間に配置され、プリズムが載置される載置部と、内部空間に配置され、プリズムを載置部に固定する固定ユニットと、内部空間に配置され、内部空間において光から発生して固定ユニットに進行する散乱光を遮光する遮光部材と、を備える狭帯域化モジュールを備えるガスレーザ装置から出射されるレーザ光を露光装置に入射させ、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板上にレーザ光を露光することを含む。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、電子デバイスの製造装置の全体の概略構成例を示す模式図である。 図２は、ガスレーザ装置の全体の概略構成例を示す模式図である。 図３は、図２に示す狭帯域化モジュールの拡大図である。 図４は、図３に示す狭帯域化モジュールの筐体の内部空間を筐体の蓋体部側から蓋体部とは逆側の筐体の底面側に向かって見る図である。 図５は、プリズムが固定ユニットによって載置部の本体部に固定される様子をプリズムの側面に垂直な方向から見る図である。 図６は、図５に示すＡ－Ａ線における断面をプリズムの側面に沿って蓋体部側から筐体の底面側に向かって見る図である。 図７は、図５に示す固定ユニットを囲う実施形態１の遮光部材を示す図である。 図８は、図７に示すＢ－Ｂ線における断面をプリズムの側面に沿って蓋体部側から筐体の底面側に向かって見る図である。 図９は、図５に示す固定ユニットを囲う実施形態１の変形例の遮光部材を示す図である。 図１０は、実施形態１の変形例の狭帯域化モジュールの拡大図である。 図１１は、図５に示す固定ユニットを囲う実施形態２の遮光部材を示す図である。 図１２は、図１１に示すＣ－Ｃ線における断面をプリズムの側面に沿って蓋体部側から筐体の底面側に向かって見る図である。
実施形態
１．電子デバイスの露光工程で使用される電子デバイスの製造装置の説明
２．比較例のガスレーザ装置の説明
　２．１　構成
　２．２　動作
　２．３　課題
３．実施形態１の狭帯域化モジュールの説明
　３．１　構成
　３．２　作用・効果
４．実施形態２の狭帯域化モジュールの説明
　４．１　構成
　４．２　作用・効果
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。
　以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．電子デバイスの露光工程で使用される電子デバイスの製造装置の説明
　図１は、電子デバイスの露光工程で使用される電子デバイスの製造装置の全体の概略構成例を示す模式図である。図１に示すように、露光工程で使用される製造装置は、ガスレーザ装置１００及び露光装置２００を含む。露光装置２００は、複数のミラー２１１，２１２，２１３を含む照明光学系２１０と、投影光学系２２０とを含む。照明光学系２１０は、ガスレーザ装置１００から入射したレーザ光によって、レチクルステージＲＴのレチクルパターンを照明する。投影光学系２２０は、レチクルを透過したレーザ光を、縮小投影してワークピーステーブルＷＴ上に配置された不図示のワークピースに結像させる。ワークピースは、フォトレジストが塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。露光装置２００は、レチクルステージＲＴとワークピーステーブルＷＴとを同期して平行移動させることにより、レチクルパターンを反映したレーザ光をワークピースに露光する。以上のような露光工程によって半導体ウエハにデバイスパターンを転写することで電子デバイスである半導体デバイスを製造することができる。
２．比較例のガスレーザ装置の説明
　２．１　構成
　比較例のガスレーザ装置１００について説明する。なお、本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。
　図２は、本例のガスレーザ装置１００の全体の概略構成例を示す模式図である。図２に示すように、本例のガスレーザ装置１００は、筐体１０と、レーザ発振器ＬＯと、波長計測モジュール２０と、プロセッサ７０とを主な構成として含む。本例のガスレーザ装置１００は、例えば、アルゴン（Ａｒ）、フッ素（Ｆ２）、及びネオン（Ｎｅ）を含む混合ガスを使用するＡｒＦエキシマレーザ装置である。この場合、ガスレーザ装置１００は、中心波長が約１９３ｎｍのパルスレーザ光を出射する。なお、ガスレーザ装置１００は、ＡｒＦエキシマレーザ装置以外のガスレーザ装置であってもよく、例えば、クリプトン（Ｋｒ）、フッ素（Ｆ２）、及びネオン（Ｎｅ）を含む混合ガスを使用するＫｒＦエキシマレーザ装置であってもよい。この場合、ガスレーザ装置１００は、中心波長が約２４８ｎｍのパルスレーザ光を出射する。レーザ媒質であるＡｒ、Ｆ２、及びＮｅを含む混合ガスやレーザ媒質であるＫｒ、Ｆ２、及びＮｅを含む混合ガスは、レーザガスと呼ばれる場合がある。
　本開示のプロセッサ７０は、制御プログラムが記憶された記憶装置と、制御プログラムを実行するＣＰＵとを含む処理装置である。プロセッサ７０は、本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。プロセッサ７０は、ガスレーザ装置１００の幾つかの構成を制御する。また、プロセッサ７０は、ガスレーザ装置１００全体を制御する。
　レーザ発振器ＬＯは、チャンバ装置ＣＨと、充電器ＢＣと、狭帯域化モジュール６０と、出力結合ミラーＯＣと、を主な構成として含む。
　チャンバ装置ＣＨは、筐体３０と、一対のウインドウ３１ａ，３１ｂと、一対の電極３２ａ，３２ｂと、絶縁部３３と、パルスパワーモジュール３５と、電極ホルダ部３６と、クロスフローファン３８と、モータ３８Ｍとを主な構成として備える。
　ウインドウ３１ａ及びウインドウ３１ｂは、筐体３０における互いに対向する位置に設けられている。ウインドウ３１ａは筐体３０におけるレーザ光の進行方向における一端側に位置し、ウインドウ３１ｂは筐体３０におけるレーザ光の進行方向における他端側に位置している。後述のようにガスレーザ装置１００では、筐体３０を含む光路上で光が発振してレーザ光が出射するため、筐体３０の内部空間で発生したレーザ光は、ウインドウ３１ａ及びウインドウ３１ｂを介して筐体３０の外部に出射する。それぞれのウインドウ３１ａ，３１ｂは、レーザ光のＰ偏光の反射が抑制されるように、レーザ光の進行方向に対してブリュースター角をなすように傾けられている。ウインドウ３１ａは、筐体３０の孔に嵌め込まれてもよいし、筒状のホルダによって保持されてもよい。ウインドウ３１ａがホルダに保持される場合、ホルダの一端は筐体３０の壁面に接続されており、ホルダの中空部は筐体３０の孔に連通し、中空部に対向するようにホルダの他端面にウインドウ３１ａが配置されている。ウインドウ３１ｂは、ウインドウ３１ａと同様に、孔に嵌め込まれてもよいし、筒状のホルダに保持されてもよい。
　筐体３０は、上記のレーザガスの励起によって光が発生する内部空間を含む。レーザガスは、筐体１０に配置される不図示のレーザガス供給源から不図示の配管を介して筐体３０の内部空間に供給される。本例では、ガスレーザ装置１００がＡｒＦエキシマレーザ装置であるため、例えば、Ａｒ、Ｆ２、及びＮｅを含む混合ガスがレーザガス供給源から筐体３０の内部空間に供給される。なお、ガスレーザ装置１００がＫｒＦエキシマレーザである場合、例えば、Ｋｒ、Ｆ２、及びＮｅを含む混合ガスがレーザガス供給源から筐体３０の内部空間に供給される。レーザガスの励起によって発生する上記した光は、ウインドウ３１ａ，３１ｂに進行する。
　一対の電極３２ａ，３２ｂの長手方向はレーザ光の進行方向に沿っており、一対の電極３２ａ，３２ｂは、筐体３０の内部空間において互いに対向して配置されている。筐体３０における電極３２ａと電極３２ｂとの間の空間は、ウインドウ３１ａとウインドウ３１ｂとにより挟まれている。それぞれの電極３２ａ，３２ｂは、グロー放電によりレーザ媒質を励起するための放電電極である。本例では、電極３２ａがカソードであり、電極３２ｂがアノードである。
　筐体３０には開口が形成され、この開口は絶縁体を含んで形成される絶縁部３３により塞がれている。電極３２ａは絶縁部３３に支持されている。絶縁部３３には、導電部材からなるフィードスルー３４が埋め込まれている。フィードスルー３４は、パルスパワーモジュール３５から供給される電圧を電極３２ａに印加する。電極３２ｂは電極ホルダ部３６に支持され、電極ホルダ部３６と電気的に接続されている。この電極ホルダ部３６は不図示の配線を介して筐体３０と電気的に接続されている。
　パルスパワーモジュール３５には、筐体３０の外に配置される充電器ＢＣが接続されている。充電器ＢＣは、パルスパワーモジュール３５の中に設けられる不図示のコンデンサを所定の電圧で充電する直流電源装置である。パルスパワーモジュール３５は、プロセッサ７０によって制御されるスイッチを含んでいる。スイッチがオフからオンになると、パルスパワーモジュール３５は、充電器ＢＣから印加される電圧を昇圧してパルス状の高電圧を生成し、この高電圧を一対の電極３２ａ，３２ｂに印加する。
　電極ホルダ部３６を基準として電極３２ｂ側と反対側における筐体３０の内部空間にはクロスフローファン３８が配置されている。筐体３０の内部空間においてクロスフローファン３８が配置される空間は、筐体３０の内部空間において一対の電極３２ａ，３２ｂ間の空間と連通している。このため、クロスフローファン３８が回転することで、筐体３０の内部空間に封入されたレーザガスは所定の方向に循環する。クロスフローファン３８には、筐体３０の外に配置されているモータ３８Ｍが接続されている。このモータ３８Ｍが回転することで、クロスフローファン３８は回転する。モータ３８Ｍは、プロセッサ７０による制御によりオン、オフや回転数の調節がなされる。従って、プロセッサ７０は、モータ３８Ｍを制御することで、筐体３０の内部空間を循環するレーザガスの循環速度を調節することができる。
　なお、クロスフローファン３８の脇には不図示の熱交換器が配置されている。クロスフローファン３８により循環されるレーザガスの少なくとも一部はこの熱交換器を通過し、熱交換器によりレーザガスの温度が調節される。
　筐体３０におけるウインドウ３１ａが設けられる上記一端側には、光路管５１が接続されている。出力結合ミラーＯＣは、筐体３０を基準とした上記一端側に設けられ、光路管５１の内部空間に配置されている。出力結合ミラーＯＣは、ウインドウ３１ａから出射するレーザ光が入射する光学素子であり、ウインドウ３１ａから出射される光のうちの一部を透過させ、他の一部を反射させてウインドウ３１ａを介して筐体３０の内部空間に戻す。出力結合ミラーＯＣは、例えば、フッ化カルシウムの基板に誘電体多層膜が成膜された素子で構成される。出力結合ミラーＯＣの表面には、レーザ光を部分反射する膜が成膜されてもよい。
　筐体３０におけるウインドウ３１ｂが設けられる上記他端側には、光路管５２が接続されている。狭帯域化モジュール６０は、光路管５２に接続されている。従って、狭帯域化モジュール６０は、筐体３０を基準として上記他端側に設けられ、筐体３０を基準として出力結合ミラーＯＣとは反対側に設けられている。狭帯域化モジュール６０は、筐体６１と、グレーティング６２と、プリズム６３，６４，６５，６６とを含む。
　図３は、図２に示す狭帯域化モジュール６０の拡大図である。また、図４は、図３に示す筐体６１の内部空間を筐体６１の蓋体部６１Ｌ側から蓋体部６１Ｌとは逆側の筐体６１の底面側に向かって見る図である。蓋体部６１Ｌ側から底面側に向かう方向は、電極３２ａから電極３２ｂに向かう方向である。筐体６１は、本体部６１Ｍと、本体部６１Ｍの上を塞ぐ蓋体部６１Ｌとを含む。本体部６１Ｍの側面には開口６１Ｈが形成されており、この開口６１Ｈを通じて筐体６１の内部空間と光路管５２の内部空間とが連通している。
　グレーティング６２及びプリズム６３，６４，６５，６６は、筐体６１の内部空間に配置されている。グレーティング６２及びプリズム６３，６４，６５，６６は、ウインドウ３１ｂから出射するレーザ光が入射する光学素子である。グレーティング６２は、レーザ光の入射角度と回折角度とが概ね一致するようにリトロー配置されている。本例では、グレーティング６２は、約１９３．４ｎｍの波長に対してブレーズドされたエシェールグレーティングであってもよい。なお、グレーティング６２は載置部６２Ｄに固定されており、載置部６２Ｄは筐体６１に固定されている。従って、グレーティング６２は、筐体６１に対して動かない。
　本例のプリズム６３，６４，６５，６６は、三角柱状の形状をしており、具体的には底面が直角三角形の形状をした直角三角柱状の形状をしている。プリズム６３は、一対の底面６３Ｂ，６３Ｔと、底面６３Ｂ，６３Ｔに垂直な側面６３Ｈ，６３Ｘ，６３Ｙとを含む。側面６３Ｈは底面６３Ｂ，６３Ｔの斜辺を含む側面であり、側面６３Ｘ，６３Ｙは互いに垂直な側面である。プリズム６４は、一対の底面６４Ｂ，６４Ｔと、底面６４Ｂ，６４Ｔに垂直な側面６４Ｈ，６４Ｘ，６４Ｙとを含む。側面６４Ｈは底面６４Ｂ，６４Ｔの斜辺を含む側面であり、側面６４Ｘ，６４Ｙは互いに垂直な側面である。プリズム６５は、一対の底面６５Ｂ，６５Ｔと、底面６５Ｂ，６５Ｔに垂直な側面６５Ｈ，６５Ｘ，６５Ｙとを含む。側面６５Ｈは底面６５Ｂ，６５Ｔの斜辺を含む側面であり、側面６５Ｘ，６５Ｙは互いに垂直な側面である。プリズム６６は、一対の底面６６Ｂ，６６Ｔと、底面６６Ｂ，６６Ｔに垂直な側面６６Ｈ，６６Ｘ，６６Ｙとを含む。側面６６Ｈは底面６６Ｂ，６６Ｔの斜辺を含む側面であり、側面６６Ｘ，６６Ｙは互いに垂直な側面である。側面６３Ｈ，６４Ｈ，６５Ｈ，６６Ｈには、プリズムの外部からこれら側面に進行するレーザ光のＰ偏光の反射が抑制されるように、膜が成膜される。また、側面６３Ｘ，６４Ｘ，６５Ｘ，６６Ｘ、及び側面６３Ｙ，６４Ｙ，６５Ｙ，６６Ｙには、プリズムの外部からこれら側面に進行するレーザ光の反射が抑制されるように、膜が成膜される。これら膜は、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＬａＦ３、及びＧｄＦ３のうち少なくとも１つを含む膜であってもよい。特に、膜の材料には、紫外線に強い、フッ化物系の材料が用いられるとよい。また、膜の材料には、プリズム６３，６４，６５，６６の材料と同系の材料が用いられるとよい。
　それぞれのプリズム６３，６４，６５，６６は、例えば、フッ化カルシウムで構成されている。プリズム６３，６４，６５，６６は、光が入射する入射側面と入射した光が出射する出射側面とを含み、入射側面から入射する光を波長分散して出射側面から出射する。本例では、チャンバ装置ＣＨ側から伝搬する光が、それぞれのプリズム６３，６４，６５，６６における側面６３Ｈ，６４Ｈ，６５Ｈ，６６Ｈから入射する。また、側面６３Ｈ，６４Ｈ，６５Ｈ，６６Ｈから入射する光は、それぞれのプリズム６３，６４，６５，６６における側面６３Ｘ，６４Ｘ，６５Ｘ，６６Ｘから出射する。従って、チャンバ装置ＣＨ側から入射する光に対しては、側面６３Ｈ，６４Ｈ，６５Ｈ，６６Ｈが入射側面となり、側面６３Ｘ，６４Ｘ，６５Ｘ，６６Ｘが出射側面となる。逆に、グレーティング６２側から伝搬する光は、それぞれのプリズム６６，６５，６４，６３の側面６６Ｘ，６５Ｘ，６４Ｘ，６３Ｘから入射する。また、側面６６Ｘ，６５Ｘ，６４Ｘ，６３Ｘから入射する光は、それぞれのプリズム６６，６５，６４，６３の側面６６Ｈ，６５Ｈ，６４Ｈ，６３Ｈから出射する。従って、グレーティング６２側から伝搬する光に対しては、側面６６Ｘ，６５Ｘ，６４Ｘ，６３Ｘが入射側面となり、側面６６Ｈ，６５Ｈ，６４Ｈ，６３Ｈが出射側面となる。
　本例では、図３に示すように、プリズム６３は、一方の底面６３Ｂが載置部６３Ｄ側を向いた状態で、載置部６３Ｄに固定されている。プリズム６４は、一方の底面６４Ｂが載置部６４Ｄ側を向いた状態で、載置部６４Ｄに固定されている。プリズム６６は、一方の底面６６Ｂが載置部６６Ｄ側を向いた状態で、載置部６６Ｄに固定されている。載置部６３Ｄ，６４Ｄ，６６Ｄは筐体６１に固定されている。従って、プリズム６３，６４，６６は、筐体６１及びグレーティング６２に対して動かない。一方、プリズム６５は載置部６５Ｄに固定されている。載置部６５Ｄは、プリズム６５から出射する光の分散平面に垂直な軸を中心としてプリズム６５を僅かに回転させる。載置部６５Ｄの詳細については後述する。なお、プリズム６３の底面６３Ｔは、プリズム６３を基準として載置部６３Ｄに載置されている一方の底面６３Ｂとは反対側の他方の面となる。プリズム６４の底面６４Ｔは、プリズム６４を基準として載置部６４Ｄに載置されている一方の底面６４Ｂとは反対側の他方の面となる。プリズム６５の底面６５Ｔは、プリズム６５を基準として載置部６５Ｄに載置されている一方の底面６５Ｂとは反対側の他方の面となる。プリズム６６の底面６６Ｔは、プリズム６６を基準として載置部６６Ｄに載置されている一方の底面６６Ｂとは反対側の他方の面となる。
　プリズム６５が僅かに回転して向きが変化することで、プリズム６５から出射する光の向きが変化し、グレーティング６２へ入射する光の入射角度が調節される。グレーティング６２への光の入射角度が調節されることで、グレーティング６２で反射されてチャンバ装置ＣＨに入射する光の波長が調節される。従って、筐体３０のウインドウ３１ｂから出射する光がプリズム６３，６４，６５，６６を介してグレーティング６２で反射されることで、筐体３０に入射する光の波長は、所望の波長に調節される。なお、狭帯域化モジュール６０に配置されるプリズムの数は、本例では４つであるが、プリズム６５のように回転するプリズムを少なくとも１つを含めば、３つ以下であってもよく、５つ以上であってもよい。
　図２に戻り、本例のガスレーザ装置１００の説明を続ける。筐体３０を挟んで設けられる出力結合ミラーＯＣとグレーティング６２とでレーザ共振器が構成され、筐体３０は、このレーザ共振器の光路上に配置される。従って、筐体３０の内部空間からの光は、ウインドウ３１ａ，３１ｂ及びプリズム６３，６４，６５，６６を介して狭帯域化モジュール６０のグレーティング６２と出力結合ミラーＯＣとの間で往復する。往復する光は、電極３２ａと電極３２ｂとの間のレーザゲイン空間を通過する度に増幅される。増幅された光の一部が、ウインドウ３１ａを介して出力結合ミラーＯＣを透過して、パルスレーザ光として出射される。
　波長計測モジュール２０は、レーザ発振器ＬＯの出力結合ミラーＯＣから出射するパルスレーザ光の光路上に配置されている。波長計測モジュール２０は、筐体２１と、ビームスプリッタ２２と、波長モニタ２３とを含む。筐体２１は、光路管５１に接続されている。筐体２１には開口が形成されており、この開口を通じて筐体２１の内部空間と光路管５１の内部空間とが連通している。筐体２１の内部空間には、ビームスプリッタ２２及び波長モニタ２３が配置されている。ビームスプリッタ２２及び波長モニタ２３は、出力結合ミラーＯＣから出射するパルスレーザ光が入射する光学素子である。
　ビームスプリッタ２２は、レーザ発振器ＬＯから出射したパルスレーザ光を高い透過率で透過させると共に、パルスレーザ光の一部を、波長モニタ２３の受光面に向けて反射する。波長モニタ２３は、受光面に入射したパルスレーザ光の波長を検出し、検出された波長に係るデータをプロセッサ７０に出力する。波長モニタ２３は、エタロン等の分光器とイメージセンサとを備え、エタロンによって生成された干渉縞をイメージセンサなどで検出する。
　波長計測モジュール２０の筐体２１における光路管５１が接続される側と反対側には、開口が形成されており、この開口を囲むように光路管５３が接続されている。このため、光路管５１の内部空間と、筐体２１の内部空間と、光路管５３の内部空間とが互いに連通している。光路管５３は筐体１０に接続されている。筐体１０における光路管５３に囲まれる位置には、レーザ光出射ウインドウＯＷが設けられている。従って、波長計測モジュール２０のビームスプリッタ２２を透過する光は、光路管５３を介して、レーザ光出射ウインドウＯＷから筐体１０の外部に出射される。
　光路管５１，５２，５３や、筐体２１，６１の内部空間には、パージガスが充填されている。パージガスには、酸素等の不純物の少ない高純度窒素等の不活性ガスが含まれる。パージガスは、筐体１０の外に配置されている不図示のパージガス供給源から、不図示の配管を通じて光路管５１，５２，５３や筐体２１，６１の内部空間に供給される。
　なお、筐体１０の内部空間には、チャンバ装置ＣＨの筐体３０の内部空間から排気されるレーザガスを排気するための不図示の排気装置が配置されている。排気装置は、筐体３０の内部空間から排気されるガスに対してハロゲンフィルタによってＦ２ガスを除去する処理をして、筐体１０にガスを放出する。
　次に、載置部６５Ｄにプリズム６５を固定する固定ユニット３００について説明する。
　図５は、プリズム６５が固定ユニット３００によって載置部６５Ｄの本体部８１に固定される様子をプリズム６５の側面６５Ｈに垂直な方向から見る図である。図６は、図５に示すＡ－Ａ線における断面をプリズム６５の側面に沿って蓋体部６１Ｌ側から筐体６１の底面側に向かって見る図である。なお、図３、及び図４では、図示の明瞭化のために、固定ユニット３００の記載が省略されている。図５、及び図６に示すように、本体部８１は板状の部材であり、主面の形状は概ね長方形である。本体部８１の一方の主面は、プリズム６５が固定される固定面８１Ｆである。
　固定ユニット３００は、筐体６１の内部空間に配置されている。固定ユニット３００は、一対の柱部材３０１ａ，３０１ｂと、梁部材３０３と、板部材３０５と、巻きばねである一対の押圧部材３０７ａ，３０７ｂとを含む。また、固定ユニット３００は、一対の押圧部材３０７ａ，３０７ｂのそれぞれが軸部に巻回しているボルトである一対の固定部材３０９ａ，３０９ｂをさらに含む。
　柱部材３０１ａ，３０１ｂは、固定面８１Ｆに固定されている。また、柱部材３０１ａ，３０１ｂは、固定面８１Ｆに直交する方向に沿ってプリズム６５の底面６５Ｔよりも高い位置にまで延在している。従って、柱部材３０１ａ，３０１ｂは、底面６５Ｔを基準にして底面６５Ｂとは反対側に延在している。柱部材３０１ａ，３０１ｂは、互いにプリズム６５を挟み込むように配置されている。柱部材３０１ａ，３０１ｂは、プリズム６５の入射側面に入射する光の進行経路及びプリズム６５の出射側面から出射する光の進行経路からずれた位置に配置されており、当該光の進行を妨げないよう当該光を避けるように配置されている。具体的には、柱部材３０１ａ，３０１ｂは、プリズム６５の入射側面及び出射側面のそれぞれにおける光が進行する領域の外側に配置されている。柱部材３０１ａ，３０１ｂは円柱状の形状であるが、柱部材３０１ａ，３０１ｂの形状は特に限定されない。
　梁部材３０３は、柱部材３０１ａ，３０１ｂのうちの底面６５Ｔを基準として底面６５Ｂとは反対側の端部において柱部材３０１ａと柱部材３０１ｂとに架け渡されている。梁部材３０３の一端は柱部材３０１ａの端部に固定され、梁部材３０３の他端は柱部材３０１ｂの端部に固定されている。固定面８１Ｆに直交する方向において、柱部材３０１ａ，３０１ｂがプリズム６５よりも長いため、梁部材３０３は底面６５Ｔよりも上方に位置する。梁部材３０３は、固定面８１Ｆと概ね平行である。梁部材３０３の主面の形状は、概ね長方形である。図６では、梁部材３０３は、破線で示されている。
　板部材３０５は、プリズム６５の底面６５Ｔに配置されている。また、板部材３０５は、三角柱状の形状をしている。板部材３０５の主面は底面６５Ｔと同じ形状であり、板部材３０５の主面の面積は底面６５Ｔの面積よりも小さくされている。
　固定部材３０９ａ，３０９ｂは、梁部材３０３を貫通しており、それぞれの端部は板部材３０５に当接している。
　押圧部材３０７ａ，３０７ｂは、押圧部材３０７ａ，３０７ｂの中心軸が固定部材３０９ａ，３０９ｂの中心軸と同軸上に位置するように、固定部材３０９ａ，３０９ｂの軸部を巻回している。また、押圧部材３０７ａ，３０７ｂは、押圧部材３０７ａ，３０７ｂの長手方向において伸縮可能である。押圧部材３０７ａ，３０７ｂは、板部材３０５と梁部材３０３との間に配置されている。押圧部材３０７ａ，３０７ｂは、梁部材３０３側の押圧部材３０７ａ，３０７ｂの端部を基準として、板部材３０５に向かって伸び、板部材３０５をプリズム６５に向かって押圧する。
　プリズム６５の底面６５Ｂは、固定部材３０９ａ，３０９ｂ及び押圧部材３０７ａ，３０７ｂがプリズム６５の底面６５Ｔに載置される板部材３０５に接した状態で、固定面８１Ｆに接している。押圧部材３０７ａ，３０７ｂの弾性力によって、板部材３０５は、プリズム６５を本体部８１の固定面８１Ｆに向かって押圧している。従って、プリズム６５は、板部材３０５及び押圧部材３０７ａ，３０７ｂにより固定面８１Ｆに押し付けられた状態で、固定ユニット３００の板部材３０５と載置部６５Ｄの本体部８１とによって挟持される。これによって、プリズム６５は、固定面８１Ｆの面内方向に沿った移動が規制され、本体部８１に固定される。
　上記の固定ユニット３００は、プリズム６３，６４，６６のそれぞれを載置部６３Ｄ，６４Ｄ，６６Ｄに固定するためにも配置されている。プリズム６３，６４，６６及び載置部６３Ｄ，６４Ｄ，６６Ｄに対する固定ユニット３００の配置は、プリズム６５及び載置部６５Ｄの本体部８１に対する固定ユニット３００の配置と同様であるため、詳細な説明を省略する。また、図示の明瞭化のために、図３、及び図４ではプリズム６３，６４，６６及び載置部６３Ｄ，６４Ｄ，６６Ｄに対する固定ユニット３００の記載が省略されている。
　次に、載置部６５Ｄについて説明する。載置部６５Ｄは、ステージである本体部８１と、回転機構部８２とを含む。本体部８１は、回転機構部８２に固定されている。本例の回転機構部８２は、固定プレート８２ａと回転ステージ８２ｂとを含む。本体部８１は、回転ステージ８２ｂに固定されている。固定プレート８２ａは、筐体６１の本体部６１Ｍに固定されている。回転ステージ８２ｂは、円形の板状の部材であり、固定プレート８２ａの主面の面内方向で所定の軸を中心に回転する部材である。固定プレート８２ａと回転ステージ８２ｂとは、例えば、クロスローラベアリングを介して接続されている。この固定プレート８２ａの主面の面内方向は、プリズム６５の底面６５Ｂと平行である。このため、回転ステージ８２ｂの回転軸ＲＡ５は、プリズム６５から出射する光の分散平面に垂直である。回転ステージ８２ｂが回転すると、回転ステージ８２ｂに固定された本体部８１及び本体部８１に固定されたプリズム６５及び固定ユニット３００は回転ステージ８２ｂと共にプリズム６５から出射する光の分散平面に垂直な回転軸ＲＡ５を中心に回転する。
　図４に示すように、固定プレート８２ａは、筐体６１の内側から外側に突出している。固定プレート８２ａにおける筐体６１の外側の部位には、筐体８７が設けられている。筐体８７内と筐体６１内とは空間的に接続されており、気密性が保たれている。固定プレート８２ａにおける筐体６１の外側の部位には、ステッピングモータ８４が固定されている。このステッピングモータ８４は所定の軸部を含み、軸部の一方の先端は筐体８７内に位置している。この軸部はステッピングモータ８４の動作により長手方向に沿って移動する。
　筐体８７にはピエゾアクチュエータ８５が移動可能に配置されている。ピエゾアクチュエータ８５は、ステッピングモータ８４の軸部の一方の先端に接している。従って、ステッピングモータ８４の軸部が移動することで、ピエゾアクチュエータ８５は移動する。
　回転ステージ８２ｂにはレバー８６が接続されている。レバー８６は、筐体６１の内側から外側に突出しており、レバー８６の回転ステージ８２ｂ側と反対側の端部は筐体８７内に位置している。レバー８６にはピエゾアクチュエータ８５が接している。従って、ピエゾアクチュエータ８５は、ステッピングモータ８４の軸部とレバー８６とに挟まれ、ピエゾアクチュエータ８５が動作すると、圧電効果により、ステッピングモータ８４の軸部の先端とレバー８６との距離が変化する。また、レバー８６のピエゾアクチュエータ８５が接する側と反対側は、プランジャ８９に接している。プランジャ８９は、筐体８７に固定されておりレバー８６を押圧する。従って、レバー８６は、ピエゾアクチュエータ８５とプランジャ８９とに挟まれて、ピエゾアクチュエータ８５とプランジャ８９とから押圧される。レバー８６の傾きは、ステッピングモータ８４の動作によるピエゾアクチュエータ８５の移動や、ピエゾアクチュエータ８５の動作によるステッピングモータ８４の軸部の先端からレバー８６までの距離の変化により変化する。このレバー８６の傾きの変化により回転ステージ８２ｂは回転する。従って、本例では、ステッピングモータ８４及びピエゾアクチュエータ８５は、回転ステージ８２ｂを回転させる駆動部である。ピエゾアクチュエータ８５の動作によるレバー８６の傾きの変化は、ステッピングモータ８４の動作によるレバー８６の傾きの変化よりも小さい。つまり、ステッピングモータ８４は粗動用の駆動部であり、ピエゾアクチュエータ８５は微動用の駆動部である。従って、ステッピングモータ８４の動作により光路が粗調節され、ピエゾアクチュエータ８５の動作により光路が微調節される。
　ステッピングモータ８４及びピエゾアクチュエータ８５には、ドライバ７２が電気的に接続されている。ドライバ７２はプロセッサ７０に電気的に接続されており、プロセッサ７０は露光装置２００及び波長モニタ２３に電気的に接続されている。プロセッサ７０には、ガスレーザ装置１００が出射すべき光の波長に係る信号が露光装置２００から入力される。また、プロセッサ７０には、波長モニタ２３が受光するレーザ光のエネルギーの強度に基づく信号が波長モニタ２３から入力される。プロセッサ７０はこれら信号を入力されるとこれら信号を基にドライバ７２を駆動させる信号をドライバ７２に出力し、ドライバ７２はプロセッサ７０からの信号を入力されるとステッピングモータ８４及びピエゾアクチュエータ８５を駆動させる。
　２．２　動作
　次に、比較例のガスレーザ装置１００の動作について説明する。
　ガスレーザ装置１００がレーザ光を出射する前の状態で、光路管５１，５２，５３の内部空間や、筐体２１，６１の内部空間には、不図示のパージガス供給源からパージガスが充填される。また、筐体３０の内部空間には、不図示のレーザガス供給源からレーザガスが供給される。レーザガスが供給されると、プロセッサ７０は、モータ３８Ｍを制御してクロスフローファン３８を回転させ、クロスフローファン３８の回転によりレーザガスが循環される。
　ガスレーザ装置１００がレーザ光を出射する際には、プロセッサ７０は、充電器ＢＣ及びパルスパワーモジュール３５内のスイッチを制御して、電極３２ａと電極３２ｂとの間に高電圧を印加する。電極３２ａ，３２ｂ間に高電圧が印加されると、電極３２ａ，３２ｂ間の絶縁が破壊され放電が起こる。この放電のエネルギーにより、電極３２ａ，３２ｂ間のレーザガスに含まれるレーザ媒質は励起状態とされて、基底状態に戻る際に自然放出光を放出する。この光の一部は、紫外線であり、ウインドウ３１ｂを透過する。透過した光は、プリズム６３，６４，６５，６６を透過するごとに光の進行方向に拡大される。また、光は、それぞれのプリズム６３，６４，６５，６６を透過するごとに波長分散され、グレーティング６２に導かれる。光は所定の角度でグレーティング６２に入射して回折し、所定波長の光が入射角度と同じ反射角度でグレーティング６２で反射される。グレーティング６２で反射された光は、それぞれのプリズム６６，６５，６４，６３を介して、再びウインドウ３１ｂから筐体３０の内部空間に伝搬する。筐体３０の内部空間に伝搬する光は、狭帯域化されている。この狭帯域化された光により、励起状態のレーザ媒質は誘導放出を起こし、光が増幅される。光は、ウインドウ３１ａを透過して、出力結合ミラーＯＣに進行する。光の一部は出力結合ミラーＯＣを透過して、光の残りの一部は出力結合ミラーＯＣによって反射されてウインドウ３１ａを透過して筐体３０の内部空間に伝搬する。筐体３０の内部空間に伝搬した光は、上記したようにウインドウ３１ｂ及びプリズム６３，６４，６５，６６を透過してグレーティング６２に進行する。こうして、所定の波長の光がグレーティング６２と出力結合ミラーＯＣとの間を往復する。光は筐体３０の内部空間における放電空間を通過するたびに増幅され、レーザ発振が起こる。そして、レーザ光の一部は、出力結合ミラーＯＣを透過して、レーザ光出射ウインドウＯＷから出射する。
　なお、出力結合ミラーＯＣを透過したレーザ光のうちの一部は、ビームスプリッタ２２で反射される。反射されたレーザ光は波長モニタ２３で受光され、波長モニタ２３は受光したレーザ光のエネルギーの強度に基づく信号をプロセッサ７０に出力する。また、プロセッサ７０には、露光装置２００から光の波長に係る信号が入力されている。このため、プロセッサ７０は、波長モニタ２３から入力される信号と、露光装置２００から入力される信号とに基づいてドライバ７２を制御する。これにより、ドライバ７２は、ステッピングモータ８４及びピエゾアクチュエータ８５を駆動させる。ステッピングモータ８４及びピエゾアクチュエータ８５の駆動により、レバー８６の傾きが変化し、回転ステージ８２ｂが回転する。この回転の角度は、例えば、±２．５度の範囲である。回転ステージ８２ｂが回転することで、回転ステージ８２ｂに固定された本体部８１及び本体部８１に固定されたプリズム６５は回転ステージ８２ｂと共に回転し、プリズム６５の向きが変化する。
　プリズム６５の向きが変化することで、グレーティング６２で反射されてチャンバ装置ＣＨの筐体３０内に戻る光の波長が調節される。つまり、プロセッサ７０は、波長モニタ２３からの信号と露光装置２００からの信号とに基づいて、プリズム６５の回転角度を調節し、ガスレーザ装置１００から出射する光の波長が露光装置２００が求める波長となるようフィードバック制御をする。
　２．３　課題
　比較例のガスレーザ装置１００では、光が例えばプリズム６３，６４，６５，６６を透過する際に、プリズム６３，６４，６５，６６の入射側面での光の一部の予期せぬ反射により、散乱光が発生することがある。散乱光は、筐体６１の内周面で反射されて、例えばプリズム６５を固定する固定ユニット３００を照射することがある。或いは、プリズム６４，６６からの散乱光は、プリズム６５を固定する固定ユニット３００を直接照射することがある。ここでは、プリズム６５を固定する固定ユニット３００について説明したが、プリズム６３，６４，６６を固定する固定ユニット３００においても、他のプリズムからの散乱光が当該固定ユニット３００を照射することがある。散乱光が固定ユニット３００を照射すると、固定ユニット３００は発熱し熱膨張してしまう。この場合、固定ユニット３００は熱膨張によって変形してしまい、プリズム６５は固定ユニット３００の変形によって傾いてしまうことがある。このような場合、ガスレーザ装置１００から出射する光の進行方向が経時的に変化することが起こり得る。
　そこで、以下の実施形態では、固定ユニット３００への散乱光の照射を抑制することで、ガスレーザ装置１００から出射する光の進行方向の経時的な変化を抑制し得るガスレーザ装置１００が例示される。
　以下の実施形態では、プリズム６５を固定する固定ユニット３００を用いて説明するが、プリズム６３，６４，６６を固定する固定ユニット３００についても、プリズム６５を固定する固定ユニット３００を用いて説明した場合と同様の作用・効果を得ることができる。
３．実施形態１の狭帯域化モジュールの説明
　次に、実施形態１の狭帯域化モジュール６０について説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　３．１　構成
　図７は、図５に示す固定ユニット３００を囲う実施形態１の遮光部材４００を示す図である。図７に示すように、狭帯域化モジュール６０は、プリズム６５を固定する固定ユニット３００に進行する散乱光を遮光する遮光部材４００をさらに含む点において、比較例の狭帯域化モジュール６０とは異なる。遮光部材４００は固定ユニット３００を囲っており、図７では固定ユニット３００のうち遮光部材４００によって囲われている部分を破線で示している。
　遮光部材４００は、筐体６１の内部空間に配置されている。遮光部材４００は、一方の端部が塞がれた筒状の部材である。従って、遮光部材４００は、蓋体部６１Ｌに固定される上壁４０１と、上壁４０１の周縁から本体部８１に向かって延在し上壁４０１と一体である側壁４０３とを含む。このような遮光部材４００は、上壁４０１とは逆側の底面において開口している。
　遮光部材４００の上壁４０１は筐体６１の蓋体部６１Ｌに当接した状態でボルトである固定部材４２０によって蓋体部６１Ｌに固定されており、遮光部材４００は蓋体部６１Ｌから本体部８１に向かって吊り下げられている。このような遮光部材４００において、側壁４０３は、蓋体部６１Ｌから少なくとも固定部材３０９ａ，３０９ｂの頭部よりも固定面８１Ｆ側にまで延在している。また、側壁４０３は、底面６５Ｔと同じ高さ位置まで延在していることが好ましい。従って、遮光部材４００の側壁４０３は、固定ユニット３００のうち底面６５Ｔを基準として底面６５Ｂとは反対側に位置する部分を全周に亘って囲っている。当該部分は、底面６５Ｔを基準として底面６５Ｂとは反対側に位置する柱部材３０１ａ，３０１ｂの一部と、梁部材３０３と、板部材３０５と、押圧部材３０７ａ，３０７ｂと、固定部材３０９ａ，３０９ｂとを含む固定ユニット３００の一部である。従って、底面６５Ｔよりも底面６５Ｂ側に位置する柱部材３０１ａ，３０１ｂの残りの一部と、プリズム６５の側面６５Ｈ，６５Ｘ，６５Ｙとは、遮光部材４００によって囲まれておらず、露出している。側壁４０３は、上記部分と筐体６１の内周面との間において、内周面よりも上記部分側に位置する。上記のような遮光部材４００では、散乱光が固定ユニット３００の一部に到達する前に遮光部材４００の側壁４０３を照射するため、散乱光が固定ユニット３００の一部に到達する前に遮光部材４００は散乱光を遮光する。
　遮光部材４００は、例えば、ステンレス、アルミニウム、または銅等の熱伝導性の高い金属で形成される。遮光部材４００は、遮光部材４００を照射する散乱光から生じる熱を蓋体部６１Ｌに伝導する。
　図８は、図７に示すＢ－Ｂ線における断面をプリズム６５の側面に沿って蓋体部６１Ｌ側から筐体６１の底面側に向かって見る図である。図８では、図６と同様に、梁部材３０３は破線で示されている。側壁４０３の外形及び上壁４０１は例えば台形の形状であるが、これらの形状は特に限定されない。また、側壁４０３の外形及び上壁４０１は、本体部８１、プリズム６５、及び固定ユニット３００よりも大きくされている。これにより、プリズム６５及び固定ユニット３００が本体部８１を介して回転機構部８２によって回転しても、プリズム６５、本体部８１、及び固定ユニット３００に対する側壁４０３の接触が抑制される。
　３．２　作用・効果
　本実施形態の狭帯域化モジュール６０では、遮光部材４００は、散乱光が固定ユニット３００の一部に到達する前に固定ユニット３００に進行する散乱光を遮光する。
　遮光部材４００が散乱光を遮光すると、固定ユニット３００への散乱光の照射が抑制され、散乱光による固定ユニット３００の熱膨張が抑制される。熱膨張が抑制されると、固定ユニット３００の変形が抑制され、当該変形によるプリズム６５の傾きが抑制される。これにより、ガスレーザ装置１００から出射する光の進行方向の経時的な変化が抑制され得る。
　散乱光は、プリズム６３，６４，６５，６６の入射側面に進行する光と同じ高さ位置で進行するだけでなく、当該位置よりも低い位置または高い位置に向かっても進行する。また、散乱光は、光がプリズム６３，６４，６５，６６の出射側面から出射する際にも当該出射面から発生する。また、プリズム６３，６４，６５，６６の内部を進行する光のうち、光の一部は出射側面によって側面６３Ｙ，６４Ｙ，６５Ｙ，６６Ｙに向かって反射されることがある。光が側面６３Ｙ，６４Ｙ，６５Ｙ，６６Ｙに進行してこれら側面から出射すると、散乱光が発生することがある。上記のような散乱光は、様々な方向から固定ユニット３００に進行する。本実施形態の遮光部材４００は、固定ユニット３００を囲うため、様々な方向から固定ユニット３００に進行する散乱光を遮光し得る。また、本実施形態の遮光部材４００は、複数の固定ユニット３００のうち散乱光が最も多く照射する固定ユニット３００を囲っており、他の固定ユニット３００を囲う場合よりもガスレーザ装置１００から出射する光の進行方向の経時的な変化が抑制され得る。
　また、本実施形態の狭帯域化モジュール６０では、遮光部材４００は、固定ユニット３００のうち底面６５Ｔを基準として底面６５Ｂとは反対側に位置する部分を囲う。当該部分は、底面６５Ｔを基準として底面６５Ｂとは反対側に位置する柱部材３０１ａ，３０１ｂの一部と、梁部材３０３と、板部材３０５と、押圧部材３０７ａ，３０７ｂと、固定部材３０９ａ，３０９ｂとを含む。これにより、遮光部材４００は、プリズム６５の入射側面に入射する光及びプリズム６５の出射側面から出射する光の進行を妨げずに上記部分に進行する散乱光を遮光する。従って、当該光の進行を妨げずに、上記部分の変形が抑制され、当該変形によるプリズム６５の傾きが抑制され得る。
　また、本実施形態の狭帯域化モジュール６０では、遮光部材４００は、筐体６１に固定される。これにより、遮光部材４００が遮光部材４００を照射する散乱光によって発熱しても、熱は遮光部材４００から筐体６１に伝達される。熱が筐体６１に伝達されと、固定ユニット３００が位置する遮光部材４００の内部空間の温度上昇が抑制され、当該温度上昇による固定ユニット３００の熱膨張が抑制され得る。
　また、本実施形態の狭帯域化モジュール６０では、遮光部材４００は金属である。これにより、熱は、遮光部材４００から筐体６１に伝達され易くなり得る。
　また、本実施形態の狭帯域化モジュール６０では、金属は、ステンレス、アルミニウム、または銅である。これにより、熱は、上記以外の金属に比べて、遮光部材４００から筐体６１により伝達され易くなり得る。
　また、本実施形態の狭帯域化モジュール６０では、アルミニウムには、散乱光と同じ波長の光の少なくとも一部を吸収するニッケルめっき層が配置されてもよい。
　本実施形態の本体部８１を含む載置部６５Ｄの体積は固定ユニット３００の各部材の体積の合計よりも大きくされており、載置部６５Ｄの熱容量は固定ユニット３００の熱容量よりも大きくされている。従って、散乱光が載置部６５Ｄを照射しても、載置部６５Ｄは、固定ユニット３００よりも熱膨張し難く、固定ユニット３００よりも変形し難くなる。載置部６５Ｄが変形し難くいため、当該変形によるプリズム６５の傾きが抑制され得る。
　本実施形態の遮光部材４００は、固定ユニット３００のうち底面６５Ｔを基準として底面６５Ｂとは反対側に位置する部分を側壁４０３によって全周に亘って囲っているが、これに限定される必要はない。図９は、図５に示す固定ユニット３００を囲う実施形態１の変形例の遮光部材４００を示す図である。光は、プリズム６５の入射側面である例えば側面６５Ｈ全体からプリズム６５に入射するのではなく、入射側面のうちの一部の領域から入射する。当該領域を入射領域６５ｅと称し、図９においてハッチングを付している。また、光は、プリズム６５の出射側面全体からプリズム６５の外部に出射するのではなく、出射側面のうちの一部の領域から出射する。当該領域を、出射領域と称する。入射側面が側面６５Ｈである場合、出射側面は側面６５Ｘとなり、出射領域は側面６５Ｘの一部となる。入射領域６５ｅと出射領域とは互いにプリズム６５を介して向かい合って配置され、プリズム６５の高さ方向において概ね同じ位置に位置する。遮光部材４００の側壁４０３は、固定ユニット３００のうち当該入射領域６５ｅの上縁６５ｆ及び出射領域の上縁を基準として入射領域６５ｅの下縁６５ｇ及び出射領域の下縁とは反対側に位置する部分を囲ってもよい。それぞれの上縁は、プリズム６５の底面６５Ｔよりも底面６５Ｂ側に位置する。また、当該部分は、それぞれの上縁を基準として下縁とは反対側に位置する柱部材３０１ａ，３０１ｂの一部と、梁部材３０３と、板部材３０５と、押圧部材３０７ａ，３０７ｂと、固定部材３０９ａ，３０９ｂとを含む固定ユニット３００の一部である。図９では、プリズム６５及び固定ユニット３００のうち遮光部材４００によって囲われている部分を破線で示している。これにより、遮光部材４００は、プリズム６５の入射領域６５ｅに入射する光及びプリズム６５の出射領域から出射する光の進行を妨げずに、固定ユニット３００のうち底面６５Ｔを基準として底面６５Ｂとは反対側に位置する部分を囲う場合よりも多くの散乱光を遮光する。従って、散乱光による固定ユニット３００の熱膨張がより抑制され得、固定ユニット３００の変形がより抑制され得る。
　遮光部材４００は、固定ユニット３００を全周に亘って囲っているが、固定ユニット３００の少なくとも一部を囲ってもよい。従って、例えば、遮光部材４００の一部に切り欠きが設けられ、遮光部材４００は固定ユニット３００の中心軸周り方向における一部を囲い残りの一部を囲っていなくてもよい。この場合、遮光部材４００の横断面において、遮光部材４００の中心軸周り方向における遮光部材４００の両端を結ぶ直線は、固定ユニット３００の中心軸を通る。或いは、遮光部材４００の横断面において、遮光部材４００の両端を結ぶ直線は、固定ユニット３００のうち固定ユニット３００の中心軸よりも外側を通ってもよい。このように、遮光部材４００は、固定ユニット３００の一部のみを囲っても、散乱光を遮光し得る。
　本実施形態の狭帯域化モジュール６０では、遮光部材４００は、プリズム６５を固定する固定ユニット３００を囲っているが、これに限定される必要はない。例えば、遮光部材４００は、プリズム６５以外の他のプリズム６３，６４，６６のいずれかを固定する固定ユニット３００を個別に囲ってもよい。或いは、図１０に示すように、遮光部材４００は狭帯域化モジュール６０の筐体６１の内部空間に配置されるプリズム６３，６４，６５，６６のそれぞれを個別に固定する固定ユニット３００と同数配置され、遮光部材４００のそれぞれは、プリズム６３，６４，６５，６６のそれぞれを固定する固定ユニット３００を個別に囲ってもよい。図１０では、図３と同様に固定ユニット３００の記載が省略されている。また、図１０では、見易さのため、１つの固定部材４２０のみに符号を付し、他の固定部材４２０の符号は省略されている。或いは、１つの遮光部材は、プリズム６３，６４，６５，６６のそれぞれを固定する固定ユニット３００をまとめて囲ってもよい。或いは、１つの遮光部材は、プリズム６３，６４，６５，６６のうち隣り合うプリズムのそれぞれを固定する固定ユニット３００をまとめて囲ってもよい。
４．実施形態２の狭帯域化モジュールの説明
　次に、実施形態２の狭帯域化モジュール６０について説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　４．１　構成
　図１１は、図５に示す固定ユニット３００を囲う実施形態２の遮光部材４００を示す図である。図１１では、固定ユニット３００のうち遮光部材４００によって囲われている部分を破線で示している。図１１に示すように、本実施形態の狭帯域化モジュール６０は、遮光部材４００が柱部材３０１ａ，３０１ｂのうち底面６５Ｔよりも底面６５Ｂ側の部分をさらに囲う点において、実施形態１の狭帯域化モジュール６０とは異なる。
　遮光部材４００の側壁４０３は、底面６５Ｔ側から底面６５Ｂ側に向かって延在している一対の延在部４０５を含む。延在部４０５は、柱部材３０１ａ，３０１ｂの概ね全長に亘って配置されている。本体部８１が回転機構部８２によって回転する場合に延在部４０５と固定面８１Ｆとの接触を抑制するために、延在部４０５の端部は固定面８１Ｆから微小に離れて配置される。
　図１２は、図１１のＣ－Ｃ線における断面をプリズム６５の側面に沿って蓋体部６１Ｌ側から筐体６１の底面側に向かって見る図である。図１２に示すように、延在部４０５は、例えばＣ字形状であるが、特に形状は限定されない。柱部材３０１ａを囲う一方の延在部４０５は、柱部材３０１ａの外周面のうちプリズム６５を介して柱部材３０１ｂの外周面と向かい合う外周面以外の外周面を囲う。従って、延在部４０５は、柱部材３０１ａを基準として柱部材３０１ａ及び柱部材３０１ｂを結ぶ線上に位置するプリズム６５の一部とは反対側に配置され、柱部材３０１ａの外周面のうち柱部材３０１ａを基準としてプリズム６５とは反対側の外周面を囲う。また、延在部４０５側から柱部材３０１ａ及びプリズム６５を介して柱部材３０１ｂ側を見る場合、柱部材３０１ａは延在部４０５によって覆われて隠れる。延在部４０５は、柱部材３０１ａが上記のように本体部８１を介して回転機構部８２によって回転する場合に柱部材３０１ａが延在部４０５に接触しないように柱部材３０１ａから離れて配置される。延在部４０５の横断面において、遮光部材４００の両端を結ぶ直線は、柱部材３０１ａのうち柱部材３０１ａの中心軸よりもプリズム６５側を通る。ここでは、柱部材３０１ａ側の延在部４０５を用いて説明したが、柱部材３０１ｂ側の延在部４０５についても同様である。
　４．２　作用・効果
　本実施形態の狭帯域化モジュール６０では、遮光部材４００の延在部４０５は、柱部材３０１ａ，３０１ｂのうち底面６５Ｔよりも底面６５Ｂ側の部分を囲う。これにより、延在部４０５は、当該部分に進行する散乱光を遮光する。延在部４０５が散乱光を遮光すると、散乱光による柱部材３０１ａ，３０１ｂの熱膨張がより抑制され得、柱部材３０１ａ，３０１ｂの変形がより抑制され得る。
　なお、延在部４０５の横断面において、延在部４０５の両端を結ぶ直線は、柱部材３０１ａの中心軸を通ってもよい。或いは、延在部４０５は、柱部材３０１ａを全周に亘って囲ってもよい。ここでは、柱部材３０１ａ側を用いて説明したが、柱部材３０１ｂ側についても同様である。
　延在部４０５は、固定面８１Ｆに当接してもよい。これにより、延在部４０５が延在部４０５を照射する散乱光によって発熱しても、熱は延在部４０５から固定面８１Ｆを介して載置部６５Ｄに伝達される。従って、柱部材３０１ａ，３０１ｂが位置する延在部４０５の内側の空間の温度上昇が抑制され、当該温度上昇による柱部材３０１ａ，３０１ｂの熱膨張が抑制され得る。
　本実施形態の遮光部材４００は、蓋体部６１Ｌに固定される必要はなく、固定面８１Ｆに固定されてもよい。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
　本明細書及び請求の範囲全体で使用される用語は、明記が無い限り「限定的でない」用語と解釈されるべきである。たとえば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。また、「Ａ、Ｂ及びＣの少なくとも１つ」という用語は、「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」「Ａ＋Ｂ」「Ａ＋Ｃ」「Ｂ＋Ｃ」又は「Ａ＋Ｂ＋Ｃ」と解釈されるべきである。さらに、それらと「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」以外のものとの組み合わせも含むと解釈されるべきである。

Claims (16)

  1. 　筐体と、
    　前記筐体の内部空間に配置され、光が透過するプリズムと、
    　前記内部空間に配置され、前記プリズムが載置される載置部と、
    　前記内部空間に配置され、前記プリズムを前記載置部に固定する固定ユニットと、
    　前記内部空間に配置され、前記内部空間において前記光から発生して前記固定ユニットに進行する散乱光を遮光する遮光部材と、
    　を備える
    　狭帯域化モジュール。
  2. 　請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記遮光部材は、前記固定ユニットの少なくとも一部を囲う。
  3. 　請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記固定ユニットは、
    　　前記プリズムの入射側面に入射する前記光の進行経路及び前記プリズムの出射側面から出射する前記光の進行経路からずれた位置において互いに前記プリズムを挟み込むように前記載置部に配置され、前記プリズムを基準として前記プリズムのうち前記載置部に載置されている一方の底面とは反対側の他方の底面よりも高い位置にまで延在する一対の柱部材と、
    　　前記他方の底面を基準として前記一方の底面側とは反対側において前記一対の柱部材に掛け渡される梁部材と、
    　　前記他方の底面に載置される板部材と、
    　　前記梁部材と前記板部材との間に配置され、前記板部材を前記プリズムに向かって押圧する押圧部材と、
    　を含み、
    　前記遮光部材は、前記固定ユニットのうち前記他方の底面を基準として前記一方の底面側とは反対側に位置する部分を囲う。
  4. 　請求項３に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記遮光部材は、前記柱部材のうち前記他方の底面よりも前記一方の底面側の部分をさらに囲う。
  5. 　請求項４に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記遮光部材は、前記柱部材のうち前記柱部材を基準として前記プリズムとは反対側の外周面を囲う。
  6. 　請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記固定ユニットは、
    　　前記プリズムの入射側面に入射する前記光の進行経路及び前記プリズムの出射側面から出射する前記光の進行経路からずれた位置において互いに前記プリズムを挟み込むように前記載置部に配置され、前記プリズムを基準として前記プリズムのうち前記載置部に載置されている一方の底面とは反対側の他方の底面よりも高い位置にまで延在する一対の柱部材と、
    　　前記他方の底面を基準として前記一方の底面側とは反対側において前記一対の柱部材に掛け渡される梁部材と、
    　　前記他方の底面に載置される板部材と、
    　　前記梁部材と前記板部材との間に配置され、前記板部材を前記プリズムに向かって押圧する押圧部材と、
    　を含み、
    　前記入射側面及び前記出射側面は、前記光が進行する領域を含み、
    　前記遮光部材は、前記固定ユニットのうち前記領域の上縁を基準として前記領域の下縁側とは反対側に位置する部分を囲う。
  7. 　請求項６に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記遮光部材は、前記柱部材のうち前記他方の底面よりも前記一方の底面側の部分をさらに囲う。
  8. 　請求項７に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記遮光部材は、前記柱部材のうち前記柱部材を基準として前記プリズムとは反対側の外周面を囲う。
  9. 　請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記遮光部材は、前記筐体に固定される。
  10. 　請求項９に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記遮光部材は、金属である。
  11. 　請求項１０に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記金属は、ステンレス、アルミニウム、または銅を含む。
  12. 　請求項１１に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記金属が前記アルミニウムである場合、前記遮光部材のうちの前記散乱光が照射される部分には、ニッケルめっき層が配置される。
  13. 　請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記プリズムから出射する前記光の分散平面に垂直な軸を中心に、前記載置部を前記プリズムと共に回転させる回転機構部をさらに備える。
  14. 　請求項１に記載の狭帯域化モジュールであって、
    　前記プリズム、前記載置部、前記固定ユニット、及び前記遮光部材のそれぞれは複数設けられ、
    　前記遮光部材のそれぞれは、前記固定ユニットのそれぞれを個別に囲う。
  15. 　狭帯域化モジュールを備えるガスレーザ装置であって、
    　前記狭帯域化モジュールは、
    　筐体と、
    　前記筐体の内部空間に配置され、光が透過するプリズムと、
    　前記内部空間に配置され、前記プリズムが載置される載置部と、
    　前記内部空間に配置され、前記プリズムを前記載置部に固定する固定ユニットと、
    　前記内部空間に配置され、前記内部空間において前記光から発生して前記固定ユニットに進行する散乱光を遮光する遮光部材と、
    　を備える。
  16. 　電子デバイスの製造方法であって、
    　筐体と、
    　前記筐体の内部空間に配置され、光が透過するプリズムと、
    　前記内部空間に配置され、前記プリズムが載置される載置部と、
    　前記内部空間に配置され、前記プリズムを前記載置部に固定する固定ユニットと、
    　前記内部空間に配置され、前記内部空間において前記光から発生して前記固定ユニットに進行する散乱光を遮光する遮光部材と、
    　を備える狭帯域化モジュールを備えるガスレーザ装置から出射されるレーザ光を露光装置に入射させ、
    　電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記レーザ光を露光すること
    　を含む電子デバイスの製造方法。
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