WO2022009952A1 - シール装置およびワイヤ放電加工機 - Google Patents

シール装置およびワイヤ放電加工機 Download PDF

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WO2022009952A1
WO2022009952A1 PCT/JP2021/025788 JP2021025788W WO2022009952A1 WO 2022009952 A1 WO2022009952 A1 WO 2022009952A1 JP 2021025788 W JP2021025788 W JP 2021025788W WO 2022009952 A1 WO2022009952 A1 WO 2022009952A1
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WO
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seal
hole
sealing device
seal base
flow path
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Application number
PCT/JP2021/025788
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English (en)
French (fr)
Inventor
富岡竜之介
國府田尚徳
Original Assignee
ファナック株式会社
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23HWORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
    • B23H7/00Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
    • B23H7/02Wire-cutting

Definitions

  • the present invention relates to a sealing device for sealing a window formed on a side wall of a processing tank, and a wire electric discharge machine having the sealing device.
  • the wire electric discharge machine processes an workpiece by generating an electric discharge between the wire electrode and the workpiece arranged inside the processing tank.
  • the wire electrode is supported by an upper arm and a lower arm.
  • the processing tank can move in each of the first direction (X direction) with respect to the machine base and the second direction (Y direction) intersecting with the first direction.
  • a window portion through which the lower arm is inserted is formed on the side wall of the processing tank.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-52497 is available as a sealing device for sealing the window portion of the processing tank.
  • a seal base and a seal plate are provided.
  • the seal base is fixed to the outer surface of the processing tank.
  • the seal base has a through hole that communicates with the window portion of the processing tank.
  • the seal plate closes the through hole of the seal base from the outer surface side of the seal base.
  • the seal plate is movable relative to the seal base.
  • the lower arm through which the window portion of the processing tank and the through hole of the seal base are inserted penetrates through the seal plate.
  • the seal plate is provided with a seal member that seals the gap between the lower arm (arm cover) and the seal plate.
  • a pre-seal device suppresses sludge (pollutant) generated by processing the workpiece from adhering to the seal member or the like.
  • the pre-seal device has a bellows member (pre-seal bellows cover) and a guide rail member (pre-seal bellows rail).
  • the bellows member is arranged so as to cover the window portion of the processing tank from the inside of the processing tank.
  • the guide rail member guides the bellows member.
  • a processing liquid having a pressure higher than the pressure in the processing tank is supplied between the bellows member and the seal plate.
  • the processing liquid supplied between the bellows member and the seal plate flows out from a slight gap between the bellows member and the guide rail member. Therefore, sludge is suppressed from entering between the bellows member and the sealing plate. As a result, sludge is suppressed from adhering to the sealing member or the like.
  • an object of the present invention is to provide a sealing device and a wire electric discharge machine capable of suppressing sludge accumulation.
  • the first aspect of the present invention is The lower arm that supports the wire electrode for processing the workpiece is inserted into the side wall of the processing tank that stores the machining fluid for immersing the workpiece, and the extending direction of the inserted arm.
  • a sealing device that seals a window portion formed so that the processing tank can move in the intersecting directions.
  • a seal base that is fixed to the outer surface of the processing tank and has a through hole that communicates with the window portion.
  • a seal plate provided so as to close the through hole from the outer surface side of the seal base and to move relative to the seal base.
  • a bellows member which is arranged so as to cover the window portion in the inward direction from the outside to the inside of the window portion along the stretching direction and expands and contracts along the crossing direction from the sealing plate.
  • the processing liquid is discharged toward the seal plate from between the sliding portion on the lower side of the through hole and the through hole.
  • the second aspect of the present invention is It is a wire electric discharge machine With the above sealing device, With the processing tank With the arm To prepare for.
  • sludge accumulated in a portion surrounded by the seal base, the seal plate, and the sliding portion provided between the seal base and the seal plate is supplied between the bellows member and the seal plate. It can be poured out with the processed liquid. As a result, sludge accumulation can be suppressed.
  • FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a wire electric discharge machine.
  • FIG. 2 is a perspective view showing a state of the periphery including the sealing device of the first embodiment.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG.
  • FIG. 4 is a diagram showing the sealing device of the modified example 1 from the same viewpoint as that of FIG.
  • FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a wire electric discharge machine 10.
  • the wire electric discharge machine 10 processes an workpiece by generating an electric discharge between the wire electrode 14 and the workpiece in the machining fluid stored in the machining tank 12.
  • the wire electric discharge machine 10 has a processing tank 12, a movable table 16, an upper arm 18, and a lower arm 20.
  • the arm 18 is referred to as an upper arm 18, and the arm 20 is referred to as a lower arm 20.
  • the processing tank 12 stores the liquid (processing liquid) used when processing the workpiece.
  • the processing tank 12 is provided on the movable table 16.
  • the movable table 16 has a saddle 16X and a table 16Y.
  • the saddle 16X moves relative to the machine base 10X of the wire electric discharge machine 10 in the first direction DX.
  • the table 16Y moves relative to the saddle 16X in the second direction DY that intersects the first direction DX.
  • the processing tank 12 is installed on the installation surface of the table 16Y.
  • the first direction DX corresponds to the X axis of the machine axis defined by the wire electric discharge machine 10
  • the second direction DY corresponds to the Y axis of the machine axis.
  • the upper arm 18 supports the wire electrode 14 and supplies the wire electrode 14 to the workpiece immersed in the machining fluid in the machining tank 12.
  • the upper arm 18 has a roller or the like that supports and feeds the wire electrode 14.
  • the lower arm 20 collects the wire electrode 14 that has passed through the workpiece while supporting the wire electrode 14.
  • the lower arm 20 has a roller or the like that winds up while supporting the wire electrode 14.
  • the lower arm 20 extends along the second direction DY.
  • the lower arm 20 passes through the window portion 12W formed on the side wall 12A of the processing tank 12.
  • the processing tank 12 is installed on the movable table 16 (table 16Y). Therefore, when the movable table 16 moves to at least one of the first direction DX and the second direction DY, the processing tank 12 moves together with the movable table 16.
  • the window portion 12W of the processing tank 12 extends in the first direction DX so that the processing tank 12 can move along the first direction DX. Therefore, it is avoided that the lower arm 20 passing through the window portion 12W prevents the processing tank 12 from moving to the first direction DX.
  • the second direction DY coincides with the extension direction of the lower arm 20.
  • the first direction DX coincides with the crossing direction intersecting the extending direction of the lower arm 20.
  • the direction from the outside to the inside of the window portion 12W along the second direction DY is the inward direction DY1.
  • the direction from the inside to the outside of the window portion 12W along the second direction DY is the outward direction DY2.
  • FIG. 2 is a perspective view showing a state of the periphery including the sealing device 30 of the first embodiment.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG.
  • the sealing device 30 has a sealing base 32 and a sealing plate 34.
  • the seal base 32 is fixed to the outer surface of the side wall 12A on which the window portion 12W is formed in the processing tank 12.
  • the seal base 32 has a through hole 32H (FIG. 3) communicating with the window portion 12W of the processing tank 12.
  • the through hole 32H is arranged so as to overlap the window portion 12W.
  • the through hole 32H is formed to have the same shape and size as the window portion 12W.
  • the through hole 32H may be formed to have a size larger than that of the window portion 12W. Further, the through hole 32H may have a shape different from that of the window portion 12W.
  • a groove 32G is formed on the seal base 32 on the surface opposite to the surface facing the processing tank 12.
  • the groove 32G is formed so as to surround the entire circumference of the through hole 32H.
  • a sliding portion 36 is fitted in the groove 32G.
  • the sliding portion 36 comes into contact with the seal plate 34.
  • the sliding portion 36 is fitted in the groove 32G so that the seal plate 34 can slide. That is, the sliding portion 36 is provided so as to be slidable with respect to the seal plate 34 while sealing the gap between the seal base 32 and the seal plate 34.
  • the sliding portion 36 has elasticity. Examples of the sliding portion 36 include an elastomer such as rubber.
  • the seal plate 34 closes the through hole 32H of the seal base 32 from the outer surface side of the seal base 32.
  • the seal plate 34 is supported by the support portion 40 so as to be relatively movable with respect to the seal base 32 through the sliding portion 36.
  • the support portion 40 has an upper seal base 40A (FIG. 3), a lower seal base 40B (FIG. 3), an upper roller 40C (FIG. 3), and a lower roller 40D (FIG. 3).
  • the upper seal base 40A is fixed to the seal base 32 above the through hole 32H.
  • the upper seal base 40A extends outward DY2.
  • the lower seal base 40B is fixed to the seal base 32 below the through hole 32H.
  • the lower seal base 40B extends outward DY2.
  • the upper roller 40C is attached to the upper seal base 40A.
  • the lower roller 40D is attached to the lower seal base 40B.
  • the upper roller 40C and the lower roller 40D are attached to the seal base 32 in a state where the seal plate 34 is pressed via the sliding portion 36. Therefore, the upper roller 40C and the lower roller 40D regulate the movement of the seal plate 34 in the second direction DY, and allow the seal plate 34 to move relative to the seal base 32 in the first direction DX. ..
  • a plurality of upper rollers 40C and lower rollers 40D may be arranged at intervals in the first direction DX.
  • the seal plate 34 is provided with a seal member 42 (FIG. 2).
  • the seal member 42 seals between the seal plate 34 and the lower arm 20 passing through the through hole formed in the seal plate 34.
  • the sealing member 42 may seal between the sealing plate 34 and the lower arm 20 using oil.
  • the bellows member 44 is arranged in the area of DY1 inward from the seal plate 34.
  • the bellows member 44 expands and contracts along the first direction DX.
  • the bellows member 44 is arranged so as to cover the window portion 12W of the processing tank 12.
  • the bellows member 44 is located inside the through hole 32H of the seal base 32.
  • the bellows member 44 is arranged on one side and the other side of the seal member 42 (FIG. 2) along the first direction DX.
  • the seal member 42 (FIG. 2) is sandwiched between the two bellows members 44. Note that FIG. 2 shows only the bellows member 44 arranged on one side of the seal member 42 (FIG. 2).
  • first direction DX of the bellows member 44 is fixed to the seal member 42.
  • the other end of the first direction DX of the bellows member 44 is fixed to the seal base 32.
  • the upper part of the bellows member 44 is supported by the guide rail member 46.
  • the lower part of the bellows member 44 is supported by the guide rail member 48.
  • the guide rail member 46 is referred to as an upper guide rail member 46
  • the guide rail member 48 is referred to as a lower guide rail member 48.
  • the upper guide rail member 46 is fixed to the seal base 32.
  • the upper guide rail member 46 guides the telescopic bellows member 44.
  • the upper guide rail member 46 has a top portion 46A, a side portion 46B, and a side portion 46C.
  • the top 46A is located above the top of the bellows member 44 and extends in the first direction DX.
  • the side portion 46B is connected to the end portion of the top portion 46A on the inward DY1 side.
  • the side portion 46C is connected to the end portion of the top portion 46A on the outward DY2 side.
  • the upper part of the bellows member 44 is sandwiched between the side portion 46B and the side portion 46C.
  • the top portion 46A may or may not be in contact with the inner peripheral surface of the seal base 32. In the case of the present embodiment, the top portion 46A abuts on the upper sheet member 50.
  • the upper sheet member 50 covers the inner peripheral surface of the seal base 32 and a part of the outer peripheral surface of the seal base 32 on the DY2 side.
  • the upper sheet member 50 is provided on the seal base 32.
  • the lower guide rail member 48 is fixed to the seal base 32.
  • the lower guide rail member 48 guides the telescopic bellows member 44.
  • the lower guide rail member 48 has a bottom portion 48A, a side portion 48B, and a side portion 48C.
  • the bottom 48A is located below the lower part of the bellows member 44 and extends in the first direction DX.
  • the side portion 48B is connected to the end portion of the bottom portion 48A on the inward DY1 side.
  • the side portion 48C is connected to the end portion of the bottom portion 48A on the outward DY2 side.
  • the lower part of the bellows member 44 is sandwiched between the side portion 48B and the side portion 48C.
  • the bottom portion 48A may or may not be in contact with the inner peripheral surface of the seal base 32. In the case of the present embodiment, the bottom portion 48A abuts on the lower sheet member 52.
  • the lower sheet member 52 covers the inner peripheral surface of the seal base 32 and a part of the outer peripheral DY2 side surface of the seal base 32.
  • the lower sheet member 52 is provided on the seal base 32. The lower sheet member 52 may not be provided.
  • An opening 48O is formed in the side portion 48B.
  • the number of openings 48O may be one or a plurality.
  • the plurality of openings 48O are formed at intervals in the first direction DX. Note that FIG. 2 shows a case where there are a plurality of openings 48O.
  • a quasi-closed space SP (FIG. 3) is formed between the sealing plate 34 and the bellows member 44.
  • the semi-closed space SP (FIG. 3) is surrounded by a seal base 32, a seal plate 34, and a bellows member 44.
  • a flow path 54 (FIG. 3) for supplying the machining liquid to the semi-closed space SP is provided.
  • the flow path 54 has an upper flow path 54A and a lower flow path 54B.
  • the upper flow path 54A is formed in the seal base 32 on the upper side of the through hole 32H.
  • the lower flow path 54B is formed in the seal base 32 on the lower side of the through hole 32H.
  • the upper flow path 54A has an outlet on the surface of the seal base 32 in the outward direction DY2.
  • the upper flow path 54A discharges the processing liquid toward the seal plate 34 from between the through hole 32H and the sliding portion 36 arranged on the upper side of the through hole 32H.
  • the upper flow path 54A may have one outlet or a plurality of outlets. When there are a plurality of outlets of the upper flow path 54A, the plurality of outlets are formed on the seal base 32 at intervals in the first direction DX.
  • the lower flow path 54B has an outlet on the surface of the seal base 32 on the outward DY2 side.
  • the lower flow path 54B discharges the processing liquid toward the seal plate 34 from between the through hole 32H and the sliding portion 36 arranged below the through hole 32H.
  • the lower flow path 54B may have one outlet or a plurality of outlets. When there are a plurality of outlets of the lower flow path 54B, the plurality of outlets are formed on the seal base 32 at intervals in the first direction DX.
  • a machining fluid supply source is connected to the inlets of the upper flow path 54A and the lower flow path 54B.
  • the machining fluid supply source connected to the inlet of the upper flow path 54A and the machining fluid supply source connected to the inlet of the lower flow path 54B may be the same or different.
  • the machining fluid supply source continues to supply the machining fluid to the semi-closed space SP via the upper flow path 54A and the lower flow path 54B.
  • the processing liquid supplied to the semi-closed space SP is a clean liquid containing no sludge.
  • the pressure of the machining fluid supplied to the semi-closed space SP exceeds the pressure of the machining fluid existing in the machining tank 12. Therefore, when the semi-closed space SP is filled with the working liquid, it passes through the gap between the bellows member 44 and the upper guide rail member 46 and the gap between the bellows member 44 and the lower guide rail member 48. The machining fluid in the semi-closed space SP flows out into the machining tank 12. As a result, it is possible to prevent the processing liquid in the processing tank 12 from flowing back into the semi-closed space SP filled with the processing liquid having a clean liquid quality. As a result, it is possible to prevent sludge from entering the semi-closed space SP.
  • the flow path 54 (lower flow path 54B) of the seal device 30 of the present embodiment is formed between the through hole 32H of the seal base 32 and the sliding portion 36 arranged below the through hole 32H.
  • the processing liquid is discharged toward the seal plate 34.
  • sludge accumulated in the portion surrounded by the seal base 32, the seal plate 34, and the sliding portion 36 can be discharged from the portion.
  • sludge can be discharged to the processing tank 12 through the gap between the upper guide rail member 46 and the bellows member 44 and the gap between the lower guide rail member 48 and the bellows member 44. Therefore, even if sludge invades the quasi-closed space SP, sludge does not accumulate in the lower part of the quasi-closed space SP. As a result, sludge accumulation can be suppressed.
  • FIG. 4 is a diagram showing the sealing device 30 of the modified example 1 from the same viewpoint as that of FIG.
  • the same reference numerals are given to the configurations equivalent to the configurations described in the first embodiment.
  • the description overlapping with the first embodiment will be omitted.
  • the bellows member 44 of this modification is arranged in the region of the inward DY1 from the through hole 32H of the seal base 32. Further, in this modification, the upper seat member 50 and the lower seat member 52 are omitted. Further, in this modification, the support base member 58 is newly provided.
  • the support base member 58 supports the upper part of the bellows member 44.
  • the support base member 58 is arranged between the side wall 12A of the processing tank 12 and the seal base 32 above the through hole 32H.
  • the support base member 58 extends along the first direction DX.
  • the inward DY1 side of the support base member 58 is fixed to the processing tank 12.
  • the outward DY2 side of the support base member 58 is fixed to the seal base 32.
  • the support base member 58 is provided with a protrusion 58P.
  • the protrusion 58P projects downward from the lower surface of the support base member 58.
  • the upper portion of the bellows member 44 is sandwiched between the protrusion 58P and the side wall 12A of the processing tank 12.
  • the upper guide rail member 46 (FIG. 3) is omitted.
  • the support base member 58 of this modification corresponds to the top 46A of the upper guide rail member 46 of the embodiment.
  • the side wall 12A of this modification corresponds to the side portion 46B of the upper guide rail member 46 of the embodiment.
  • the protrusion 58P of this modification corresponds to the side portion 46C of the upper guide rail member 46.
  • the upper flow path 54A is formed in the support base member 58. Further, an opening 58O is formed on the outward DY2 side of the support base member 58.
  • the number of openings 58O may be one or a plurality. When there are a plurality of openings 58O, the plurality of openings 58O are formed at intervals in the first direction DX.
  • the opening 58O is communicated with the semi-closed space SP through the communication portion 32C formed in the seal base 32. That is, in this modification, the opening 58O formed in the support base member 58 and the communication portion 32C formed in the seal base 32 are a part of the upper flow path 54A.
  • the processing liquid can be supplied to the semi-closed space SP as in the embodiment.
  • a groove 32G may be formed in the seal plate 34 instead of the seal base 32.
  • the sliding portion 36 is provided so as to be slidable with respect to the seal base 32 while sealing the seal base 32 and the seal plate 34. That is, the sliding portion 36 may be a member that can slide with respect to the seal base 32 or the seal plate 34 while sealing between the seal base 32 and the seal plate 34.
  • the number of bellows members 44 was two in the embodiment, but may be one. When there is only one bellows member 44, for example, the bellows member 44 is arranged in a region on the inward DY1 side of the seal member 42. The bellows member 44 may be supported by the seal member 42 or a support member attached to the seal member 42.
  • the upper guide rail member 46 may be omitted.
  • a guide groove extending in the first direction DX is formed on the inner peripheral upper surface of the upper seat member 50 and the seal base 32.
  • the upper part of the bellows member 44 is fitted into the guide groove in a state where the bellows member 44 can be expanded and contracted.
  • the upper flow path 54A may be omitted.
  • the processing is performed on the semi-closed space SP as compared with the case where only the lower flow path 54B is provided.
  • the liquid can be stored faster. As a result, it is possible to further suppress the invasion of the processing liquid in the processing tank 12 into the semi-closed space SP.
  • the first invention is a lower arm that supports a wire electrode (14) for processing a workpiece with respect to a side wall (12A) of a processing tank (12) for storing a machining fluid for immersing the workpiece.
  • a window portion (12W) formed so that the processing tank (12) can move in an intersecting direction (DX) intersecting the extending direction (DY) of the inserted arm (20) through which the (20) is inserted.
  • It is a sealing device (30) for sealing.
  • the sealing device (30) has a seal base (32) fixed to the outer surface of the processing tank (12) and having a through hole (32H) communicating with the window portion (12W), and a seal base (32H).
  • a seal plate (34) provided so as to be closed from the outer surface side of 32) and to move relative to the seal base (32), and a window portion along the stretching direction (DY) rather than the seal plate (34).
  • a bellows member (44) arranged so as to cover the window portion (12W) in the inward direction (DY1) from the outside to the inside of (12W) and expands and contracts along the crossing direction (DX), and a seal base (32).
  • a flow path (54) for supplying a processing liquid having a pressure higher than the pressure in the processing tank (12) is provided between the bellows member (44) and the seal plate (34).
  • the flow path (54) has a through hole (32H) so that it can slide with respect to the seal base (32) or the seal plate (34) while sealing between the seal base (32) and the seal plate (34).
  • processing is performed from between the sliding portion (36) on the lower side of the through hole (32H) and the through hole (32H) toward the seal plate (34). Drain the liquid.
  • the flow path (54) is formed in the upper flow path (54A) formed in the upper seal base (32) of the through hole (32H) and in the lower seal base (32) of the through hole (32H).
  • the lower flow path (54B) has a lower flow path (54B), and the lower flow path (54B) is sealed from between the lower sliding portion (36) of the through hole (32H) and the through hole (32H).
  • the processing liquid may be discharged toward the plate (34).
  • the processing liquid can be stored more quickly between the bellows member (44) and the seal plate (34) as compared with the case where only the lower flow path (54B) is provided, and as a result, the processing tank (as a result) It is possible to prevent the processing liquid in 12) from entering between the bellows member (44) and the seal plate (34).
  • the bellows member (44) may be arranged in the through hole (32H).
  • the bellows member (44) is arranged in the inward direction (DY1) from the outside to the inside of the window portion (12W) along the stretching direction (DY) with respect to the seal base (32).
  • the space between the bellows member (44) and the seal plate (34) can be made compact. Therefore, the machining fluid can be stored more quickly between the bellows member (44) and the seal plate (34), and as a result, the machining fluid in the machining tank (12) is stored between the bellows member (44) and the seal plate (34). ) Can be suppressed from invading. Further, the number of parts of the sealing device (30) can be easily reduced as compared with the case where the bellows member (44) is arranged inward (DY1) with respect to the sealing base (32).
  • the second invention is a wire electric discharge machine (10).
  • the wire electric discharge machine (10) includes the above-mentioned sealing device (30), a processing tank (12), and an arm (20). By providing the above-mentioned sealing device (30), sludge accumulation can be suppressed.

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Abstract

スラッジの堆積を抑制し得るシール装置およびワイヤ放電加工機を提供する。一実施形態のシール装置(30)は、シールベース(32)と、シール板(34)と、蛇腹部材(44)と、流路(54)と、を備える。流路(54)は、シールベース(32)とシール板(34)との間をシールしながらシール板(34)に対して摺動できるように貫通孔(32H)の周囲に設けられた摺動部(36)のうち、貫通孔(32H)の下側の摺動部(36)と、貫通孔(32H)との間から、シール板(34)に向けて加工液を排出する。

Description

シール装置およびワイヤ放電加工機
 本発明は、加工槽の側壁に形成された窓部をシールするシール装置、および、そのシール装置を有するワイヤ放電加工機に関する。
 ワイヤ放電加工機は、ワイヤ電極と、加工槽の内部に配置された被加工物との間に放電を生じさせて被加工物を加工する。ワイヤ電極は、上側のアームと下側のアームとで支持される。加工槽は、機台に対して第1方向(X方向)と、第1方向に対して交差する第2方向(Y方向)との各々に移動可能である。加工槽の側壁には、下側のアームが挿通する窓部が形成される。
 加工槽の窓部をシールするシール装置として、特開2013-52497号公報がある。特開2013-52497号公報では、シールベースと、シール板とが設けられる。シールベースは、加工槽の外側面に固定される。シールベースは、加工槽の窓部と連通する貫通孔を有する。シール板は、シールベースの貫通孔をシールベースの外側面側から塞ぐ。シール板は、シールベースと相対移動可能である。シール板には、加工槽の窓部およびシールベースの貫通孔を挿通する下側のアームが貫通する。シール板には、下側のアーム(アームカバー)とシール板との間の隙間をシールするシール部材が設けられる。
 また、特開2013-52497号公報では、プレシール装置が設けられる。プレシール装置は、被加工物の加工により生じるスラッジ(汚染物質)がシール部材等に付着することを抑制する。プレシール装置は、蛇腹部材(プレシール蛇腹カバー)と、案内レール部材(プレシール蛇腹レール)と、を有する。蛇腹部材は、加工槽の窓部を加工槽の内部側から覆うように配置される。案内レール部材は、蛇腹部材を案内する。蛇腹部材とシール板との間には、加工槽内の圧力を上回る圧力の加工液が供給される。蛇腹部材とシール板との間に供給された加工液は、蛇腹部材と案内レール部材との僅かな隙間から流出する。したがって、蛇腹部材とシール板との間にスラッジが侵入することが抑制される。その結果、スラッジがシール部材等に付着することが抑制される。
 ところで、特開2013-52497号公報であっても、蛇腹部材とシール板との間にスラッジが侵入する場合がある。この場合、蛇腹部材とシール板との間に侵入したスラッジが、当該蛇腹部材とシール板との間の下部に堆積することが懸念される。
 そこで、本発明は、スラッジの堆積を抑制し得るシール装置およびワイヤ放電加工機を提供することを目的とする。
 本発明の第1の態様は、
 被加工物を浸漬するための加工液を貯める加工槽の側壁に対して、前記被加工物を加工するワイヤ電極を支持する下側のアームが挿通し、かつ、挿通した前記アームの延伸方向とは交差する交差方向に前記加工槽が移動できるように形成された窓部をシールするシール装置であって、
 前記加工槽の外側面に固定され、前記窓部と連通する貫通孔を有するシールベースと、
 前記貫通孔を前記シールベースの外側面側から塞ぎ、かつ、前記シールベースと相対移動できるように設けられたシール板と、
 前記シール板よりも、前記延伸方向に沿って前記窓部の外側から内側に向かう内方向に、前記窓部を覆うように配置され、前記交差方向に沿って伸縮する蛇腹部材と、
 前記シールベースに形成され、前記蛇腹部材と前記シール板との間に、前記加工槽内の圧力を上回る圧力の前記加工液を供給するための流路と、
 を備え、
 前記流路は、前記シールベースと前記シール板との間をシールしながら前記シールベースまたは前記シール板に対して摺動できるように前記貫通孔の周囲に設けられた摺動部のうち、前記貫通孔の下側の前記摺動部と、前記貫通孔との間から、前記シール板に向けて前記加工液を排出する。
 本発明の第2の態様は、
 ワイヤ放電加工機であって、
 上記のシール装置と、
 前記加工槽と、
 前記アームと、
 を備える。
 本発明の態様によれば、シールベースと、シール板と、シールベースとシール板との間に設けられる摺動部とで囲まれる部位に溜まるスラッジを、蛇腹部材とシール板との間に供給された加工液で流し出すことができる。この結果、スラッジの堆積を抑制することができる。
図1は、ワイヤ放電加工機の構成を示す図である。 図2は、第1実施形態のシール装置を含む周辺の様子を示す斜視図である。 図3は、図2のIII-III矢視断面図である。 図4は、変形例1のシール装置を、図3と同じ視点で示す図である。
 本発明について、好適な実施形態を掲げ、添付の図面を参照しながら以下、詳細に説明する。
 図1は、ワイヤ放電加工機10の構成を示す図である。ワイヤ放電加工機10は、加工槽12に貯留された加工液中でワイヤ電極14と被加工物との間に放電を生じさせることで被加工物を加工する。ワイヤ放電加工機10は、加工槽12と、可動テーブル16と、上側のアーム18と、下側のアーム20とを有する。以下、アーム18は上アーム18と称し、アーム20は下アーム20と称する。
 加工槽12は、被加工物を加工する際に用いる液体(加工液)を貯める。加工槽12は、可動テーブル16に設けられる。
 可動テーブル16は、サドル16Xと、テーブル16Yとを有する。サドル16Xは、ワイヤ放電加工機10の機台10Xに対して、第1方向DXに相対移動する。テーブル16Yは、サドル16Xに対して、第1方向DXとは交差する第2方向DYに相対移動する。テーブル16Yの設置面には加工槽12が設置される。なお、第1方向DXは、ワイヤ放電加工機10で定義される機械軸のX軸に相当し、第2方向DYは、当該機械軸のY軸に相当する。
 上アーム18は、ワイヤ電極14を支持しながら、加工槽12内の加工液に浸漬された被加工物に向けてワイヤ電極14を供給する。上アーム18は、ワイヤ電極14を支持しながら送り出すローラ等を有する。
 下アーム20は、ワイヤ電極14を支持しながら、被加工物を通過したワイヤ電極14を回収する。下アーム20は、ワイヤ電極14を支持しながら巻き取るローラ等を有する。下アーム20は、第2方向DYに沿って延びている。
 下アーム20は、加工槽12の側壁12Aに形成された窓部12Wを通る。加工槽12は、可動テーブル16(テーブル16Y)に設置される。このため、可動テーブル16が第1方向DXおよび第2方向DYの少なくとも一方に移動した場合には、加工槽12は、可動テーブル16と一緒に移動する。加工槽12が第1方向DXに沿って移動できるように、加工槽12の窓部12Wは第1方向DXに延びている。したがって、窓部12Wを通る下アーム20によって加工槽12の第1方向DXへの移動を妨げることが回避される。
 なお、第2方向DYは下アーム20の延伸方向と一致する。第1方向DXは下アーム20の延伸方向と交差する交差方向と一致する。第2方向DYのうち、第2方向DYに沿って窓部12Wの外側から内側に向かう方向は内方向DY1とする。また、第2方向DYのうち、第2方向DYに沿って窓部12Wの内側から外側に向かう方向は外方向DY2とする。
 次に、窓部12Wをシールするシール装置30に関して説明する。シール装置30は、加工槽12が移動可能な状態で、加工槽12の窓部12Wをシールする。図2は第1実施形態のシール装置30を含む周辺の様子を示す斜視図である。図3は図2のIII-III矢視断面図である。シール装置30は、シールベース32と、シール板34と、を有する。
 シールベース32は、加工槽12において窓部12Wが形成された側壁12Aの外側面に固定される。加工槽12が第1方向DXに沿って移動するために、シールベース32は、加工槽12の窓部12Wと連通する貫通孔32H(図3)を有する。貫通孔32Hは、窓部12Wと重なり合うように配置される。貫通孔32Hは、窓部12Wと同形同寸に形成される。なお、貫通孔32Hは、窓部12Wよりも大きい寸法に形成されてもよい。また、貫通孔32Hは、窓部12Wと異なる形状であってもよい。
 シールベース32には、加工槽12に向く面とは逆の面に、溝32Gが形成される。溝32Gは、貫通孔32Hの全周囲を囲むように形成される。溝32Gには、摺動部36が嵌合される。摺動部36は、シール板34に当接する。摺動部36は、シール板34を摺動できるように溝32Gに嵌合される。つまり、摺動部36は、シールベース32とシール板34との間の隙間をシールしながら、シール板34に対して摺動できるように設けられる。摺動部36は弾性を有する。摺動部36として、例えば、ゴム等のエラストマーが挙げられる。
 シール板34は、シールベース32の外側面側からシールベース32の貫通孔32Hを塞ぐ。シール板34は、摺動部36を通じてシールベース32に対して相対移動できるように支持部40に支持される。支持部40は、上側シールベース40A(図3)と、下側シールベース40B(図3)と、上側ローラ40C(図3)と、下側ローラ40D(図3)と、を有する。
 上側シールベース40Aは、貫通孔32Hよりも上側のシールベース32に固定される。上側シールベース40Aは、外方向DY2に延びている。下側シールベース40Bは、貫通孔32Hよりも下側のシールベース32に固定される。下側シールベース40Bは、外方向DY2に延びている。
 上側ローラ40Cは、上側シールベース40Aに取り付けられる。下側ローラ40Dは、下側シールベース40Bに取り付けられる。上側ローラ40Cおよび下側ローラ40Dは、摺動部36を介してシール板34を押し付けている状態で、シールベース32に取り付けられる。したがって、上側ローラ40Cおよび下側ローラ40Dは、シール板34の第2方向DYへの動きを規制するとともに、シールベース32に対してシール板34が第1方向DXへ相対移動することを許容する。なお、上側ローラ40Cおよび下側ローラ40Dは、第1方向DXに間隔をあけて複数配置されてもよい。
 シール板34には、シール部材42(図2)が設けられる。シール部材42は、シール板34と、シール板34に形成された貫通孔を通る下アーム20との間をシールする。シール部材42は、オイルを用いてシール板34と下アーム20との間をシールしてもよい。
 シール板34よりも内方向DY1の領域には、蛇腹部材44が配置される。蛇腹部材44は、第1方向DXに沿って伸縮する。蛇腹部材44は、加工槽12の窓部12Wを覆うように配置される。本実施形態の場合、蛇腹部材44は、シールベース32の貫通孔32Hの内部に位置する。本実施形態の場合、蛇腹部材44は、第1方向DXに沿って、シール部材42(図2)の一方側と他方側とに配置される。シール部材42(図2)は、2つの蛇腹部材44の間に挟まれる。なお、図2では、シール部材42(図2)の一方側に配置される蛇腹部材44のみが示される。蛇腹部材44の第1方向DXの一端部はシール部材42に固定される。蛇腹部材44の第1方向DXの他端部はシールベース32に固定される。蛇腹部材44の上部は案内レール部材46に支持される。蛇腹部材44の下部は案内レール部材48に支持される。以下、案内レール部材46は上側案内レール部材46と称し、案内レール部材48は下側案内レール部材48と称する。
 上側案内レール部材46は、シールベース32に固定される。上側案内レール部材46は、伸縮する蛇腹部材44を案内する。上側案内レール部材46は、頂部46Aと、側部46Bと、側部46Cとを有する。頂部46Aは、蛇腹部材44の上部よりも上方に配置され、第1方向DXに延びている。側部46Bは、頂部46Aの内方向DY1側の端部に連結される。側部46Cは、頂部46Aの外方向DY2側の端部に連結される。側部46Bと側部46Cとの間に蛇腹部材44の上部が挟み込まれる。
 なお、頂部46Aは、シールベース32の内周面に当接していてもよいし、当接していなくてもよい。本実施形態の場合、頂部46Aは、上側シート部材50に当接する。上側シート部材50は、シールベース32の内周面と、シールベース32の外方向DY2側の面の一部とをカバーする。上側シート部材50は、シールベース32に設けられる。
 下側案内レール部材48は、シールベース32に固定される。下側案内レール部材48は、伸縮する蛇腹部材44を案内する。下側案内レール部材48は、底部48Aと、側部48Bと、側部48Cとを有する。底部48Aは、蛇腹部材44の下部よりも下方に配置され、第1方向DXに延びている。側部48Bは、底部48Aの内方向DY1側の端部に連結される。側部48Cは、底部48Aの外方向DY2側の端部に連結される。側部48Bと側部48Cとの間に蛇腹部材44の下部が挟み込まれる。
 なお、底部48Aは、シールベース32の内周面に当接していてもよいし、当接していなくてもよい。本実施形態の場合、底部48Aは、下側シート部材52に当接する。下側シート部材52は、シールベース32の内周面と、シールベース32の外方向DY2側の面の一部とをカバーする。下側シート部材52は、シールベース32に設けられる。なお、下側シート部材52はなくてもよい。
 側部48Bには、開口部48Oが形成される。開口部48Oは、1つであってもよいし、複数であってもよい。開口部48Oが複数である場合、複数の開口部48Oは、第1方向DXに間隔をあけて形成される。なお、図2では、開口部48Oが複数である場合が示される。
 シール装置30では、シール板34と蛇腹部材44との間に準閉塞空間SP(図3)が形成される。準閉塞空間SP(図3)は、シールベース32と、シール板34と、蛇腹部材44とで囲まれる。シール装置30では、準閉塞空間SPに加工液を供給するための流路54(図3)が設けられる。流路54は、上側流路54Aと、下側流路54Bとを有する。上側流路54Aは、貫通孔32Hの上側のシールベース32に形成される。下側流路54Bは、貫通孔32Hの下側のシールベース32に形成される。
 上側流路54Aは、シールベース32の外方向DY2の面に流出口を有する。上側流路54Aは、貫通孔32Hと、当該貫通孔32Hの上側に配置される摺動部36との間から、シール板34に向けて加工液を排出する。上側流路54Aの流出口は、1つであってもよく、複数であってもよい。上側流路54Aの流出口が複数である場合、複数の流出口は、第1方向DXに間隔をあけてシールベース32に形成される。
 下側流路54Bは、シールベース32における外方向DY2側の面に流出口を有する。下側流路54Bは、貫通孔32Hと、当該貫通孔32Hの下側に配置される摺動部36との間から、シール板34に向けて加工液を排出する。下側流路54Bの流出口は、1つであってもよく、複数であってもよい。下側流路54Bの流出口が複数である場合、複数の流出口は、第1方向DXに間隔をあけてシールベース32に形成される。
 上側流路54Aおよび下側流路54Bの流入口には、加工液供給源が接続される。上側流路54Aの流入口に接続される加工液供給源と、下側流路54Bの流入口に接続される加工液供給源とは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。加工液供給源は、被加工物を加工しているときには、上側流路54Aおよび下側流路54Bを介して、準閉塞空間SPに加工液を供給し続ける。なお、準閉塞空間SPに供給される加工液は、スラッジを含まない清浄な液質である。
 準閉塞空間SPに供給される加工液の圧力は、加工槽12内に存在する加工液の圧力を上回る。このため、準閉塞空間SPが加工液で満たされた場合には、蛇腹部材44と上側案内レール部材46との間隙、および、蛇腹部材44と下側案内レール部材48との間隙を通って、準閉塞空間SPの加工液が加工槽12に流出する。これにより、清浄な液質の加工液で満たされた準閉塞空間SPに加工槽12内の加工液が逆流することを抑制できる。その結果、準閉塞空間SPにスラッジが侵入することを抑制できる。
 また、本実施形態のシール装置30の流路54(下側流路54B)は、シールベース32の貫通孔32Hと、当該貫通孔32Hの下側に配置される摺動部36との間から、シール板34に向けて加工液を排出する。これにより、シールベース32と、シール板34と、摺動部36とで囲まれる部位に溜まるスラッジを、当該部位から流し出すことができる。更に、上側案内レール部材46と蛇腹部材44との間隙、および、下側案内レール部材48と蛇腹部材44との間隙を介して、スラッジを加工槽12に排出することができる。したがって、準閉塞空間SPにスラッジが侵入したとしても、当該準閉塞空間SPの下部にスラッジが堆積することがなくなる。その結果、スラッジの堆積を抑制することができる。
[変形例]
 上記の実施形態は、以下のように変形してもよい。
(変形例1)
 図4は、変形例1のシール装置30を、図3と同じ視点で示す図である。なお、図4では、第1実施形態において説明した構成と同等の構成には同一の符号が付される。なお、本変形例では、第1実施形態と重複する説明は省略する。
 本変形例の蛇腹部材44は、シールベース32の貫通孔32Hよりも内方向DY1の領域に配置される。また、本変形例では、上側シート部材50および下側シート部材52が省かれる。更に、本変形例では、支持ベース部材58が新たに設けられる。
 支持ベース部材58は、蛇腹部材44の上部を支持する。支持ベース部材58は、貫通孔32Hよりも上側において、加工槽12の側壁12Aとシールベース32との間に配置される。支持ベース部材58は、第1方向DXに沿って延びている。支持ベース部材58の内方向DY1側は加工槽12に固定される。支持ベース部材58の外方向DY2側はシールベース32に固定される。
 支持ベース部材58には、突起58Pが設けられる。突起58Pは、支持ベース部材58の下面から下方に突出する。突起58Pと加工槽12の側壁12Aとの間に、蛇腹部材44の上部が挟み込まれる。本変形例では、上側案内レール部材46(図3)が省かれる。本変形例の支持ベース部材58は、実施形態の上側案内レール部材46の頂部46Aに相当する。また、本変形例の側壁12Aは、実施形態の上側案内レール部材46の側部46Bに相当する。更に、本変形例の突起58Pは、上側案内レール部材46の側部46Cに相当する。
 支持ベース部材58には、上側流路54Aが形成される。また、支持ベース部材58の外方向DY2側には、開口部58Oが形成される。開口部58Oは、1つであってもよいし、複数であってもよい。開口部58Oが複数である場合、複数の開口部58Oは、第1方向DXに間隔をあけて形成される。開口部58Oは、シールベース32に形成された連通部32Cを通じて、準閉塞空間SPと連通される。つまり、本変形例では、支持ベース部材58に形成される開口部58Oと、シールベース32に形成される連通部32Cとは、上側流路54Aの一部である。
 このように、蛇腹部材44がシールベース32の貫通孔32Hよりも内方向DY1側の領域に配置されていても、実施形態と同様に、準閉塞空間SPに加工液を供給することができる。
(変形例2)
 シールベース32に代えて、シール板34に溝32Gが形成されていてもよい。シール板34に溝32Gが形成される場合、摺動部36は、シールベース32とシール板34とをシールしながら、シールベース32に対して摺動できるように設けられる。つまり、摺動部36は、シールベース32とシール板34との間をシールしながら、シールベース32またはシール板34に対して摺動できる部材であればよい。
(変形例3)
 蛇腹部材44は、実施形態では2つであったが、1つであってもよい。蛇腹部材44が1つである場合、例えば、蛇腹部材44は、シール部材42よりも内方向DY1側の領域に配置される。なお、蛇腹部材44は、シール部材42またはシール部材42に取り付けられる支持部材で支持されてもよい。
(変形例4)
 上側案内レール部材46は、省かれてもよい。上側案内レール部材46が省かれる場合、例えば、上側シート部材50およびシールベース32の内周上面に第1方向DXに延びる案内溝が形成される。この案内溝に、蛇腹部材44の上部が、蛇腹部材44が伸縮できる状態で、嵌合される。
(変形例5)
 上側流路54Aは、省かれてもよい。なお、実施形態のように、流路54として上側流路54Aと下側流路54Bとが設けられる場合、下側流路54Bだけが設けられる場合に比べて、準閉塞空間SPに対して加工液をより早く貯めることができる。その結果、加工槽12内の加工液が準閉塞空間SPに侵入することをより一段と抑制することができる。
(変形例6)
 上記の実施形態および変形例は、矛盾の生じない範囲で任意に組み合わされてもよい。
[発明]
 下記は、上記の実施形態および変形例から把握しうる発明として、第1の発明および第2の発明を記載する。
(第1の発明)
 第1の発明は、被加工物を浸漬するための加工液を貯める加工槽(12)の側壁(12A)に対して、被加工物を加工するワイヤ電極(14)を支持する下側のアーム(20)が挿通し、かつ、挿通したアーム(20)の延伸方向(DY)とは交差する交差方向(DX)に加工槽(12)が移動できるように形成された窓部(12W)をシールするシール装置(30)である。シール装置(30)は、加工槽(12)の外側面に固定され、窓部(12W)と連通する貫通孔(32H)を有するシールベース(32)と、貫通孔(32H)をシールベース(32)の外側面側から塞ぎ、かつ、シールベース(32)と相対移動できるように設けられたシール板(34)と、シール板(34)よりも、延伸方向(DY)に沿って窓部(12W)の外側から内側に向かう内方向(DY1)に、窓部(12W)を覆うように配置され、交差方向(DX)に沿って伸縮する蛇腹部材(44)と、シールベース(32)に形成され、蛇腹部材(44)とシール板(34)との間に、加工槽(12)内の圧力を上回る圧力の加工液を供給するための流路(54)と、を備える。流路(54)は、シールベース(32)とシール板(34)との間をシールしながらシールベース(32)またはシール板(34)に対して摺動できるように貫通孔(32H)の周囲に設けられた摺動部(36)のうち、貫通孔(32H)の下側の摺動部(36)と、貫通孔(32H)との間から、シール板(34)に向けて加工液を排出する。
 これにより、シールベース(32)と、シール板(34)と、摺動部(36)とで囲まれる部位に溜まるスラッジを、蛇腹部材(44)とシール板(34)との間に供給された加工液により、当該部位から流し出すことができる。したがって、蛇腹部材(44)とシール板(34)との間の下部にスラッジが堆積することがなくなり、この結果、スラッジの堆積を抑制することができる。
 流路(54)は、貫通孔(32H)の上側のシールベース(32)に形成される上側流路(54A)と、貫通孔(32H)の下側のシールベース(32)に形成される下側流路(54B)と、を有し、下側流路(54B)は、貫通孔(32H)の下側の摺動部(36)と、貫通孔(32H)との間から、シール板(34)に向けて加工液を排出してもよい。これにより、下側流路(54B)のみが設けられる場合に比べて、蛇腹部材(44)とシール板(34)との間に加工液をより早く貯めることができ、この結果、加工槽(12)内の加工液が蛇腹部材(44)とシール板(34)との間に侵入することを抑制することができる。
 蛇腹部材(44)は、貫通孔(32H)に配置されてもよい。これにより、蛇腹部材(44)が、シールベース(32)よりも、延伸方向(DY)に沿って窓部(12W)の外側から内側に向かう内方向(DY1)に配置される場合に比べて、蛇腹部材(44)とシール板(34)との間をコンパクトにできる。したがって、蛇腹部材(44)とシール板(34)との間に加工液をより早く貯めることができ、この結果、加工槽(12)内の加工液が蛇腹部材(44)とシール板(34)との間に侵入することを抑制することができる。また、蛇腹部材(44)が、シールベース(32)よりも内方向(DY1)に配置される場合に比べて、シール装置(30)の部品点数を抑え易い。
(第2の発明)
 第2の発明は、ワイヤ放電加工機(10)である。ワイヤ放電加工機(10)は、上記のシール装置(30)と、加工槽(12)と、アーム(20)と、を備える。上記のシール装置(30)を備えることにより、スラッジの堆積を抑制することができる。

Claims (4)

  1.  被加工物を浸漬するための加工液を貯める加工槽(12)の側壁(12A)に対して、前記被加工物を加工するワイヤ電極(14)を支持する下側のアーム(20)が挿通し、かつ、挿通した前記アームの延伸方向(DY)とは交差する交差方向(DX)に前記加工槽が移動できるように形成された窓部(12W)をシールするシール装置(30)であって、
     前記加工槽の外側面に固定され、前記窓部と連通する貫通孔(32H)を有するシールベース(32)と、
     前記貫通孔を前記シールベースの外側面側から塞ぎ、かつ、前記シールベースと相対移動できるように設けられたシール板(34)と、
     前記シール板よりも、前記延伸方向に沿って前記窓部の外側から内側に向かう内方向(DY1)に、前記窓部を覆うように配置され、前記交差方向に沿って伸縮する蛇腹部材(44)と、
     前記シールベースに形成され、前記蛇腹部材と前記シール板との間に、前記加工槽内の圧力を上回る圧力の前記加工液を供給するための流路(54)と、
     を備え、
     前記流路は、前記シールベースと前記シール板との間をシールしながら前記シールベースまたは前記シール板に対して摺動できるように前記貫通孔の周囲に設けられた摺動部(36)のうち、前記貫通孔の下側の前記摺動部と、前記貫通孔との間から、前記シール板に向けて前記加工液を排出する、シール装置。
  2.  請求項1に記載のシール装置であって、
     前記流路は、前記貫通孔の上側の前記シールベースに形成される上側流路(54A)と、前記貫通孔の下側の前記シールベースに形成される下側流路(54B)と、を有し、
     前記下側流路は、前記貫通孔の下側の前記摺動部と、前記貫通孔との間から、前記シール板に向けて前記加工液を排出する、シール装置。
  3.  請求項1または2に記載のシール装置であって、
     前記蛇腹部材は、前記貫通孔に配置される、シール装置。
  4.  請求項1~3のいずれか1項に記載のシール装置と、
     前記加工槽と、
     前記アームと、
     を備えるワイヤ放電加工機(10)。
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JP2013052497A (ja) * 2011-09-06 2013-03-21 Fanuc Ltd ワイヤカット放電加工機のプレシール装置

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