WO2021215245A1 - 粒子群、粉体組成物、固体組成物、液体組成物、及び、成形体 - Google Patents
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- C04B35/645—Pressure sintering
Definitions
- the present invention relates to a particle group, a powder composition, a solid composition, a liquid composition, and a molded product.
- Patent Document 1 by using particles of tungsten zirconium phosphate, which is a material showing a negative coefficient of linear thermal expansion, as an additive, the coefficient of linear thermal expansion of a composition containing a resin is reduced to a desired coefficient of linear thermal expansion.
- the technology to control is disclosed.
- Patent Document 2 discloses manganese nitride as a material exhibiting a large negative thermal expansion characteristic.
- the coefficient of linear thermal expansion of the composition is not necessarily sufficiently lowered.
- the material disclosed in Patent Document 2 is a good conductor of electricity, and the composition may also be a good conductor.
- the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a particle group having excellent thermal expansion control characteristics and excellent electrical insulation.
- the particle group according to the present invention is composed of a core portion composed of a first inorganic compound containing a metal or a semi-metal element P and a second inorganic compound containing a metal or a semi-metal element Q, and is composed of a surface of the core portion. It contains a plurality of coating particles having a shell portion that covers at least a part thereof.
- the metal or metalloid element P and the metal or metalloid element Q are elements that are different from each other, or elements that are the same as each other but have different electronic states.
- the volume resistivity of the second inorganic compound is higher than the volume resistivity of the first inorganic compound.
- the first inorganic compound satisfies Requirement 1, and the coated particles satisfy Requirement 2 and Requirement 3.
- Requirement 1
- A is (the lattice constant of the a-axis (minor axis) of the crystal in the first inorganic compound) / (the lattice constant of the c-axis (major axis) of the crystal in the first inorganic compound).
- the lattice constant is obtained from the X-ray diffraction measurement of the first inorganic compound.
- Requirement 2 In the XPS measurement of the surface of the coated particles, the number of atoms of the metal or semi-metal element P contained in the core portion is P XPS, CORE , and the atom of the metal or semi-metal element Q contained in the shell portion.
- the ratio of the numbers Q XPS and SHELL Q XPS, SHELL / P XPS and CORE are 45 or more and 300 or less.
- the average particle size of the coated particles is 0.1 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
- the coated particles can further satisfy the requirement 4.
- Requirement 4 Ratio of total Q ALL of the total number of atoms of the metal or semi-metal element Q to P ALL of the total number of atoms of the metal or semi-metal element P in all the coated particles included in the particle group Q ALL / P ALL is 0.20 or more and 0.50 or less.
- the metal or metalloid element P can be a metal element having d electrons.
- metal or metalloid element P can be titanium.
- metal or metalloid element Q can be Al, Si, or Zr.
- the second inorganic compound can be at least one compound selected from the group consisting of oxides, hydroxide oxides and hydroxides.
- the second inorganic compound can be at least one compound selected from the group consisting of aluminum oxide, aluminum hydroxide oxide and aluminum hydroxide.
- the powder composition according to the present invention contains the above particle group.
- the solid composition according to the present invention contains the above-mentioned particle group or powder composition.
- the liquid composition according to the present invention contains the above-mentioned particle group or powder composition.
- the molded product according to the present invention is a molded product of the above particle group or powder composition.
- the particle group according to this embodiment includes a plurality of coated particles. As shown in FIG. 1, the coating particle 10 covers at least a part of the surface of the core portion 1 composed of the first inorganic compound containing the metal or the semi-metal element P and the surface of the core portion 1, and the metal or the semi-metal element. It has a shell portion 2 made of a second inorganic compound containing Q.
- the metal or metalloid element P and the metal or metalloid element Q are elements that are different from each other, or elements that are the same as each other but have different electronic states.
- the volume resistivity of the second inorganic compound is higher than the volume resistivity of the first inorganic compound.
- the first inorganic compound meets Requirement 1, and the coated particles meet Requirement 2 and Requirement 3.
- Requirement 1
- A is (the lattice constant of the a-axis (minor axis) of the crystal in the first inorganic compound) / (the lattice constant of the c-axis (major axis) of the crystal in the first inorganic compound).
- the lattice constant is obtained from the X-ray diffraction measurement of the first inorganic compound.
- Requirement 2 In the XPS measurement of the surface of the coated particles, the number of atoms of the metal or semi-metal element P contained in the core portion is P XPS, CORE , and the atom of the metal or semi-metal element Q contained in the shell portion.
- the ratio of the numbers Q XPS and SHELL Q XPS, SHELL / P XPS and CORE are 45 or more and 300 or less.
- the coated particles 10 have a core portion 1 made of the first inorganic compound and a shell portion 2 covering at least a part of the surface of the core portion 1 and made of the second inorganic compound.
- the shape of the core portion 1 is not particularly limited, and may be, for example, a single particle of a sphere, an ellipsoid, a cylinder, a polyhedron, or an amorphous shape, and a coagulation of a plurality of particles composed of a first inorganic compound having an arbitrary shape. It may be an aggregate.
- the shape of the shell portion 2 of the second inorganic compound is not particularly limited, and may be a dense film made of the second inorganic compound, and is an aggregate (aggregated layer) of a group of particles made of the second inorganic compound. There may be.
- the coated particle group according to the embodiment of the present application may include coated particles in which the shell portion 2 covers at least a part of the surface of the core portion 1, and the shell portion 2 is the core portion 1 as shown in FIG. It may contain coated particles that completely cover the surface.
- the first inorganic compound contains a metal or semi-metal element P
- the second inorganic compound contains a metal or semi-metal element Q.
- the metal or semi-metal element is referred to as "metal or semi-metal element P".
- metal or semi-metal element P the element occupying the maximum atomic number ratio among the metal or semi-metal element.
- the first inorganic compound occupies the maximum atomic number ratio. Any element among the elements can be "metal or semi-metal element P".
- the metal or semi-metal element When the second inorganic compound contains only one kind of metal or semi-metal element, the metal or semi-metal element is referred to as "metal or semi-metal element Q".
- the metal or semi-metal element Q When the second inorganic compound contains a plurality of types of metal or semi-metal element, the element occupying the maximum atomic number ratio among the metal or semi-metal element is referred to as "metal or semi-metal element Q".
- the second inorganic compound contains a plurality of metals or semi-metal elements and there are a plurality of elements occupying the maximum atomic number ratio among the metals or semi-metal elements, the second inorganic compound occupies the maximum atomic number ratio. Any element among the elements can be referred to as "metal or semi-metal element Q".
- Metal or metalloid element P" and “metal or metalloid element Q” can be different elements from each other. Further, the “metal or metalloid element P” and the “metal or metalloid element Q” may be the same element, but in that case, the electronic state of the element, for example, the valence of the element. Need to be different from each other.
- the first inorganic compound contains the "metal or semi-metal element Q" of the second inorganic compound as long as it is the non-maximum atomic number ratio of the metal or semi-metal element in the first inorganic compound. May be good.
- the second inorganic compound contains the "metal or semi-metal element P" of the first inorganic compound as long as it has a non-maximum atomic number ratio of the metal or semi-metal element in the second inorganic compound. May be good.
- the first inorganic compound and the second inorganic compound each consist of a group consisting of one or more metals or semi-metal elements consisting of hydrogen, carbon, nitrogen, oxygen, phosphorus, sulfur, selenium, fluorine, chlorine, bromine and iodine.
- it may be an oxo acid, a hydroxoic acid, an aqua acid or a salt thereof of a metal element or a metalloid element.
- the metal elements in the present specification are Li, Na, Mg, Al, K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Rb, Sr, Y, Zr. , Nb, Mo, Tc, Ag, Cd, In, Sn, Cs, Ba, Hf, Ta, W, Re, Au, Hg, Tl, Pb, Bi, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd , Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu.
- the metalloid elements in the present specification are B, Si, Ge, As, Sb, Te, Po and At.
- the metal or semi-metal element P is preferably a metal element having d-electrons among the metals or semi-metal elements in the above group, and the first inorganic compound is a metal oxide containing a metal element having d-electrons. Is preferable.
- the metal element having d-electrons is not particularly limited, but is, for example, a metal element of the 4th period selected from the group consisting of Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, and Cu; Y, Examples thereof include a metal element of the 5th period selected from the group consisting of Zr, Nb and Mo; and a metal element of the 6th period selected from the group consisting of Hf, Ta and W.
- the first inorganic compound is preferably a metal oxide containing the metal element of the 4th period or the 5th period as the metal element P, and contains the metal element of the 4th period. It is more preferably a metal oxide.
- the metal element of the 4th period is a metal element having only 3d electrons among d electrons.
- a metal oxide containing one metal element selected from the group consisting of Ti, V, Cr, Mn and Co as the metal element P is preferable to have.
- the first inorganic compound is preferably a metal oxide containing titanium as the metal element P.
- the metal oxide containing titanium may be an oxide containing titanium and a metal element other than titanium, such as LaTiO 3 , in addition to TiO x.
- the crystal structure of the first inorganic compound preferably has a perovskite structure or a corundum structure, and more preferably has a corundum structure.
- the first inorganic compound is a metal oxide containing a metal element having d electrons as the metal element P
- at -100 ° C to 1000 ° C is 10 ppm / at at least one temperature. It is preferably ° C or higher.
- the first inorganic compound is a metal oxide containing a metal element having only 3d electrons out of d electrons as the metal element P
- at -100 ° C to 800 ° C is at least one. It is preferably 10 ppm / ° C. or higher at one temperature.
- at 0 ° C. to 500 ° C. is 10 ppm / ° C. or higher at at least one temperature. It is preferable to have.
- the second inorganic compound preferably contains at least one compound selected from the group consisting of oxides, hydroxide oxides and hydroxides, and is a group consisting of oxides, hydroxide oxides and hydroxides. More preferably, it is composed of only at least one or more compounds selected from.
- the total amount of at least one or more compounds selected from the group consisting of oxides, hydroxide oxides and hydroxides is the oxides and hydroxide oxides contained in the second inorganic compound. It is preferable that the weight ratio is large with respect to all the compounds other than the hydroxide and the hydroxide.
- the second inorganic compound is Al, Si, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn among the metal elements or metalloid elements in the above group. It is preferable that one element selected from the group consisting of, Zr, Nb and Mo is contained as a metal or metalloid element Q.
- the second inorganic compound is one element selected from the group consisting of Al, Si and Zr from the viewpoint of thermal stability of oxides, hydroxide oxides and hydroxides, among the above, metal or metalloid. It is more preferable to include it as a metal element Q.
- Examples of such a second inorganic compound include aluminum oxide, aluminum hydroxide, aluminum hydroxide, silicon oxide, zirconium oxide and the like. From the viewpoint of the thermal stability of the coated particles according to the present embodiment, it is preferable that the compound is at least one compound selected from the group consisting of aluminum oxide, aluminum hydroxide oxide and aluminum hydroxide.
- the second inorganic compound may be crystalline or amorphous. When it is crystalline, its crystal structure is not particularly limited.
- the volume resistivity of the second inorganic compound is higher than the volume resistivity of the first inorganic compound.
- Second inorganic compound is preferably a volume resistivity is 10 3 [Omega] cm or higher, more preferably 10 5 [Omega] cm or more, more preferably 10 7 [Omega] cm or more.
- Requirement 1 Next, Requirement 1 will be described in detail.
- the lattice constant in the definition of A is specified by powder X-ray diffraction measurement.
- As an analysis method there are Rietveld method and analysis by fitting by the least squares method.
- the axis corresponding to the smallest lattice constant is defined as the a-axis
- the axis corresponding to the largest lattice constant is defined as the c-axis. do.
- the a-axis length and the c-axis length of the crystal lattice be the a-axis length and the c-axis length, respectively.
- the a-axis lattice constant of the titanium compound crystal grains is the a-axis length
- the c-axis lattice constant of the titanium compound crystal grains is the c-axis length.
- a (T) is a parameter indicating the magnitude of anisotropy of the length of the crystal axis, and is a function of the temperature T (unit: ° C.).
- T unit: ° C.
- dA (T) / dT represents the absolute value of dA (T) / dT
- dA (T) / dT represents the derivative of A (T) by T (temperature).
- is defined by the following equation (D).
- the first inorganic compound according to the present embodiment needs to have
- is defined within the range in which the first inorganic compound exists in the solid state. Therefore, the maximum temperature of T in the formula (D) is up to a temperature 50 ° C. lower than the melting point of the particles. That is, when the limitation of "at least one temperature T1 in ⁇ 200 ° C. to 1200 ° C.” is attached, the temperature range of T in the equation (D) is ⁇ 200 to 1150 ° C.
- At at least one temperature T1, dA (T) / dT may be positive or negative, but is preferably negative.
- the ratio M is the "metal or semi-metal element Q" contained in the shell portion 2 with respect to the number of atoms of the "metal or semi-metal element P" contained in the core portion 1 at a thickness of about 5 nm in the surface region of the coated particles. It represents the ratio of the number of atoms of the above, and is an index showing how much the surface of the core portion 1 made of the first inorganic compound is covered with the shell portion 2 made of the second inorganic compound.
- the "metal or semi-metal element P" contained in the core portion 1 composed of the first inorganic compound is not contained in the shell portion 2 composed of the second inorganic compound, and is contained in the shell portion 2 composed of the second inorganic compound.
- the "metal or semi-metal element Q" is not contained in the core portion 1 composed of the first inorganic compound, the number of atoms of the "metal or semi-metal element P" obtained by XPS measurement is derived only from the core portion 1.
- the electronic states of the elements are different, such as different valences. If they are different from each other, the element P and the element Q can be separated in the XPS measurement, and the ratio M can be calculated. For example, if the first inorganic compound is Ti 2 O 3 is a metal element P is Ti 3+, the second inorganic compound is in the case of TiO 2, which is a metal element Q is Ti 4+, this case It is measurable.
- the atomic number Q XPS and TOTAL of the element Q obtained by the XPS measurement can also be expressed by Eq. (2) in the same manner.
- Q XPS, TOTAL Q XPS, CORE + Q XPS, SHELL ...
- the ratio of the number of atoms of the element Q to the element P in the core portion 1 is R CORE and the ratio of the number of atoms of the element P to the element Q in the shell portion 2 is R SHELL , the number of atoms in the core portion 1 and the shell portion The following equation holds for the number of atoms in 2.
- Q XPS, CORE / P XPS, CORE R CORE ...
- P XPS, SHELL / Q XPS, SHELL R SHELL ... (4)
- R CORE and R SHELL can be measured by the method shown below, separately from the surface measurement by XPS. Therefore, in the equations (1) to (4), P XPS, TOTAL , Q XPS, TOTAL , R CORE , and R SHELL are known values, and by solving these simultaneous equations, the unknown P XPS , CORE , P XPS, SHELL , Q XPS, CORE , Q XPS, SHELL can be obtained.
- the atomic ratio R CORE of the element Q to the element P in the core portion 1 and the atomic ratio R SHELL of the element P to the element Q in the shell portion 2 are obtained by scanning the cross section of the coated particle with a scanning electron microscope (SEM). Alternatively, it can be determined by observing with a transmission electron microscope (TEM) or the like and performing energy dispersive X-ray analysis (EDX: Energy dispersive X-ray spectrum) for each of the core portion and the shell portion. can. From the viewpoint of increasing the spatial resolution, the method of observing with TEM is preferable.
- a cross section of the coated particles was prepared using a focused ion beam (FIB) device or an ion milling device, and the cross section of the coated particles obtained by the above processing was obtained.
- FIB focused ion beam
- the method of observing with an electron microscope is preferable.
- Satisfaction of the requirement 2 with the coated particles 10 indicates that much of the surface of the core portion 1 made of the first inorganic compound is covered with the shell portion 2 made of the second inorganic compound, and the core portion 1 It contributes to imparting electrical insulation to the coated particles 10 while exerting a high effect of suppressing thermal expansion.
- the average particle size of the coated particles in the particle group is 0.1 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
- the average particle size is obtained based on D50 of the volume-based cumulative particle size distribution curve of the coated particles measured by the laser diffraction / scattering method. The measurement method is shown below.
- the measurement is a volume-based particle size distribution measured by the laser diffraction / scattering method.
- the laser diffraction / scattering method For example, Malvern Instruments Ltd. A laser diffraction type particle size distribution measuring device manufactured by Mastersizer 2000 can be used.
- the core portion of the coated particles is Ti 2 O 3
- the refractive index of Ti 2 O 3 can be measured as 2.40.
- D50 is preferably 50 ⁇ m or less, more preferably 30 ⁇ m or less, and even more preferably 20 ⁇ m or less.
- D50 is in such a range, the particle interface increases, and the electrical insulating property when kneaded with a matrix material such as a resin tends to be improved.
- the ratio N is preferably 0.20 or more, more preferably 0.23 or more, and further preferably 0.25 or more. From the viewpoint that the coated particles exert a high effect of suppressing thermal expansion, the ratio N is preferably 0.50 or less, more preferably 0.47 or less, and further preferably 0.45 or less.
- the coated particles according to the present invention are a core composed of a first inorganic compound containing a metal or a semi-metal element P.
- the part is sufficiently covered with a shell part made of a second inorganic compound containing a metal or a semi-metal element Q.
- the ratio N can be calculated, for example, by inductively coupled plasma atomic emission spectrometry (ICP-AES) after solubilizing the entire coated particles.
- ICP-AES inductively coupled plasma atomic emission spectrometry
- Examples of the method for solvating the particles include acid dissolution and alkali melting.
- a crucible made of an appropriate material such as a nickel crucible or a platinum crucible, is selected depending on the composition of the coated particles.
- a certain amount of coated particles are weighed and placed in a crucible, and an acid such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, or hydrofluoric acid is added and then heated to dissolve the acid. From the viewpoint of further promoting dissolution, it may be placed in a pressurized acid decomposition container and heated and dissolved while being pressurized, or it may be heated and decomposed by applying microwaves.
- a certain amount of coating particles are weighed and placed in a pot, and then a flux such as sodium hydroxide or sodium carbonate or a mixed flux such as sodium carbonate and boric acid is added.
- Alkaline melting may be performed by heating at a high temperature.
- the coated particles can be solubilized by adding an acid such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, or hydrofluoric acid to make it acidic.
- the sample After appropriately diluting the solution sample according to the measurable concentration range of the ICP-AES device, the sample is introduced into the ICP-AES device and quantitative analysis of the elements contained in the sample is performed. From the result of ICP-AES measurement, the ratio N of the total number of atoms of the metal or semi-metal element Q to the total number of atoms of the metal or semi-metal element P in the entire coated particles is calculated.
- the raw material of the second inorganic compound refers to a compound containing a metal or metalloid element Q and capable of being converted into a precursor of the second inorganic compound in step (3).
- the raw material of the second inorganic compound is not limited to the inorganic compound, and may be an organic substance such as an organometallic complex.
- the type of solvent is not particularly limited and may be, for example, water or an organic solvent. Further, an inorganic compound or a solute of an organic substance may be dissolved in the solvent. After the raw material of the second inorganic compound is mixed with the solvent to prepare a solution, another substance may be further mixed with the solution.
- the method of mixing the particles of the first inorganic compound with the solution is not particularly limited, and for example, the particles of the first inorganic compound can be mixed by adding the particles of the first inorganic compound while the solution is agitated.
- the particle group of the first inorganic compound may be added alone or at the same time as another solvent or solute.
- the raw material of the second inorganic compound may be changed to another substance or precipitated as a solid.
- the precursor of the second inorganic compound refers to one that can be converted into the second inorganic compound by a step described later.
- the precursor of the second inorganic compound may be the same substance as the raw material of the second inorganic compound or a different substance.
- Examples of the method for precipitating the precursor of the second inorganic compound include a method of changing the pH and composition of the solvent to reduce the solubility of the raw material of the second inorganic compound, and a method of dissolving the raw material of the second inorganic compound in the solvent. There is a method of changing to a low substance.
- a mixture containing the particle group of the first inorganic compound and the precursor of the second inorganic compound can be obtained. It is desirable that the precursor of the second inorganic compound is precipitated on the surface of the particles of the first inorganic compound.
- Process (4) The method for separating the mixture containing the particles of the first inorganic compound and the precursor of the second inorganic compound from the solvent is not particularly limited, and the mixture is filtered using, for example, a filter paper or a membrane filter and a filtration device. Another method is mentioned.
- the method for converting the precursor of the second inorganic compound in the solvent-separated mixture into the second inorganic compound is not particularly limited, and for example, a method in which the solvent-separated mixture is placed in an electric furnace and heated. Can be mentioned.
- the core portion composed of the first inorganic compound and the shell portion composed of the second inorganic compound covering at least a part of the surface of the core portion. A group of particles containing coated particles having the above is obtained.
- the lump may be crushed if necessary.
- the crushing method is not particularly limited, and examples thereof include a method of putting a lump in a mortar and crushing with a pestle and a method of crushing with a ball mill.
- the average particle size of the obtained coated particles can be adjusted by appropriately changing the crushing conditions, for example, the strength of the applied force and the crushing time.
- One embodiment of the present invention is a powder composition containing the above-mentioned particle group of coated particles and other powders.
- a powder composition can be suitably used as a filler for controlling the coefficient of thermal expansion of the solid composition described later.
- the content of the coated particles in the powder composition is not limited, and the function of controlling the amount of thermal expansion according to the content can be exhibited. From the viewpoint of efficiently controlling the amount of thermal expansion, the content of the coating particles may be 75% by mass or more, 85% by mass or more, or 95% by mass or more.
- powders other than the particle group of coated particles in the powder composition include calcium carbonate, talc, mica, silica, clay, wollastonite, potassium titanate, zonotrite, gypsum fiber, aluminum volate, and aramid fiber.
- the D50 of the powder composition can be set in the same manner as the D50 of the particle group of the coated particles described above.
- the method for producing the powder composition is not particularly limited, but for example, the particle group of the coated particles is mixed with another powder, and if necessary, the particle size distribution is determined by crushing, sieving, crushing, or the like. You just have to adjust.
- the molded product according to the present embodiment is a molded product of the above-mentioned particle group of coated particles or a powder composition.
- the molded product in the present embodiment may be a sintered body obtained by sintering the above-mentioned particle group of coated particles or a powder composition.
- a molded product is obtained by sintering the above-mentioned particle group of coated particles or powder composition.
- Various known sintering methods can be applied to obtain a sintered body.
- a method for obtaining the sintered body a method such as ordinary heating, hot pressing, or discharge plasma sintering can be adopted.
- the molded body according to the present embodiment is not limited to the sintered body, and may be, for example, a green compact obtained by pressure molding of the above-mentioned particle group of coated particles or a powder composition.
- the molded product according to the present embodiment contains the above-mentioned particle group of coated particles and has a core portion composed of the first inorganic compound in which the coated particles satisfy the requirement 1, the case where the coated particles are not added is compared with the case where the coated particles are not added.
- the heat ray expansion coefficient of the molded body can be lowered. Therefore, according to this molded body, it is possible to obtain a member having extremely little dimensional change when the temperature changes. Therefore, it can be suitably used for optical members and members for semiconductor manufacturing equipment that are particularly sensitive to dimensional changes due to temperature.
- the coated particles have a shell portion made of a second inorganic compound having a higher volume resistivity than the first inorganic compound, the volume resistivity in the molded product can be sufficiently increased. Therefore, it is easy to adapt to a member that requires electrical insulation.
- the solid composition according to the present embodiment includes the above-mentioned particle group or powder composition of coated particles and a first material.
- resins are thermoplastic resins and cured products of heat or active energy ray-curable resins.
- thermosetting resins include epoxy resins, oxetane resins, unsaturated polyester resins, alkyd resins, phenol resins (novolac resins, resole resins, etc.), acrylic resins, urethane resins, silicone resins, polyimide resins, melamine resins, etc. be.
- the active energy ray-curable resin are an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and for example, a urethane acrylate resin, an epoxy acrylate resin, an acrylic acrylate resin, a polyester acrylate resin, and a phenol methacrylate resin can be used.
- resins are adhesives such as silicone-based, urethane-based, rubber-based, and acrylic-based.
- the first material may contain one kind of the above resin, or may contain two or more kinds of the above resins.
- the first material is preferably epoxy resin, polyether sulfone, liquid crystal polymer, polyimide, polyamide-imide, or silicone.
- alkali metal silicate examples include lithium silicate, sodium silicate, and potassium silicate.
- the first material may contain one kind of alkali metal silicate or two or more kinds. These materials are preferable because they have high heat resistance.
- the ceramics are not particularly limited, but oxide-based ceramics such as alumina, silica (including silicon oxide and silica glass), titania, zirconia, magnesia, ceria, itria, zinc oxide, iron oxide, etc .; silicon nitride, nitrided Nitride-based ceramics such as titanium and boron nitride; silicon carbide, calcium carbonate, aluminum sulfate, barium sulfate, aluminum hydroxide, potassium titanate, talc, kaolin clay, kaolinite, halloysite, pyrophyllite, montmorillonite, cericite, Examples thereof include ceramics such as mica, amesite, bentonite, asbestos, zeolite, calcium silicate, magnesium silicate, diatomaceous earth, and silica sand.
- the first material may contain one type of ceramics or two or more types. Ceramics are preferable because they can have high heat resistance.
- a sintered body can be
- the metal is not particularly limited, but is a simple substance such as aluminum, tantalum, niobium, titanium, molybdenum, iron, nickel, cobalt, chromium, copper, silver, gold, platinum, lead, tin, tungsten, etc., and stainless steel (SUS). ) And other alloys, and mixtures thereof.
- the first material may contain one kind of metal or two or more kinds. Such a metal is preferable because it can increase heat resistance.
- the solid composition may contain a first material and other components other than the particle group of the coated particles or the powder composition.
- this component include catalysts.
- the catalyst is not particularly limited, and examples thereof include acidic compounds, alkaline compounds, and organometallic compounds.
- acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, phosphoric acid, formic acid, acetic acid, and oxalic acid can be used.
- As the alkaline compound ammonium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide and the like can be used.
- the organometallic compound include those containing aluminum, zirconium, tin, titanium or zinc.
- the liquid composition according to the present embodiment includes the above-mentioned particle group or powder composition of coated particles and a second material.
- the liquid composition is a composition having fluidity at 25 ° C.
- This liquid composition can be a raw material for the solid composition described above. “Having fluidity at 25 ° C.” means that after supplying a liquid composition into a predetermined container and leveling the liquid level, the container is tilted 45 degrees and the liquid level moves or deforms after 1 hour. Say to do.
- the liquid composition of the present embodiment may contain a second material and other components other than the above-mentioned particle group of coated particles or the powder composition.
- a second material for example, other ingredients listed in the first material can be included.
- the content of the coating particles in the liquid composition is not particularly limited, and can be appropriately set from the viewpoint of controlling the coefficient of thermal expansion in the solid composition after curing. Specifically, it can be the same as the content of the coating particles in the solid composition.
- the second material contains an alkali metal silicate and a solvent capable of dissolving or dispersing the alkali metal silicate
- the thermoplastic resin and the thermoplastic resin can be dissolved or dispersed.
- a solvent that can be produced is contained, the liquid composition is formed into a desired shape, and then the solvent is removed from the liquid composition to obtain the above-mentioned particles of the coated particles and the first material (alkali metal salt or thermoplastic).
- a solid composition containing (resin) can be obtained.
- a method for removing the solvent a method of evaporating the solvent by natural drying, vacuum drying, heating or the like can be applied. From the viewpoint of suppressing the generation of coarse bubbles, when removing the solvent, it is preferable to remove the solvent while keeping the temperature of the mixture below the boiling point of the solvent.
- the liquid composition is formed into a desired shape and then cured by heat or active energy rays (UV, etc.). The process may be performed.
- a pulsed current is applied to the mixture while pressurizing the mixture of the raw material powder of the first material and the above-mentioned particle group of coated particles or a powder mixture.
- an electric discharge is generated between the raw material powders of the first material, and the raw material powder of the first material can be heated and sintered.
- the plasma sintering step is preferably carried out in an inert atmosphere such as argon, nitrogen or vacuum.
- the pressurizing pressure in the plasma sintering step is preferably in the range of more than 0 MPa and 100 MPa or less.
- the pressurizing pressure in the plasma sintering step is preferably 10 MPa or more, more preferably 30 MPa or more.
- the heating temperature in the plasma sintering step is preferably sufficiently lower than the melting point of the first material, which is the target product.
- the size and distribution of the pores can be adjusted by heat treatment of the obtained solid composition.
- the solid composition and the molded body according to the above embodiment are excellent in electrical insulation, they can be electronic device members, mechanical members, containers, optical members, and adhesives.
- the circuit board includes a metal layer and an electrically insulating layer provided on the metal layer.
- the coefficient of linear thermal expansion can be lowered while maintaining the electrical insulating property, and the difference from the coefficient of linear thermal expansion of the metal layer can be reduced, such as warpage and cracking. It becomes possible to eliminate the problem.
- Specific examples of the circuit board include a printed circuit board, a multilayer printed wiring board, a build-up board, a board with a built-in capacitor, and the like.
- the prepreg is a semi-cured product of an impregnated base material containing a reinforcing base material and a matrix material impregnated in the reinforcing base material.
- the cured prepreg can exhibit high dimensional stability even in an environment where a heat load is applied.
- An example of an insulating sheet is a resin sheet such as polyvinyl chloride.
- a resin sheet such as polyvinyl chloride.
- a mechanical member is a member that constitutes various mechanical devices.
- machinery are machine tools such as cutting equipment, process equipment, and semiconductor manufacturing equipment.
- mechanical members are fixing mechanisms, moving mechanisms, tools and the like. According to the heat radiating member using the solid composition and the molded product, dimensional deviation due to thermal expansion can be suppressed, and accuracy such as machining accuracy and machining accuracy can be improved. It is also suitable to be used for a joint portion between members of different materials.
- the mechanical member may be a rotating member.
- the rotating member refers to a member that exerts a mechanical action with another member while rotating, such as a gear.
- problems such as poor engagement and wear occur, so that the solid composition and the molded product are suitable for application.
- the mechanical member may be a substrate.
- the substrate if the dimensions change due to thermal expansion, problems such as misalignment occur, so that the solid composition and the molded product are suitable for application.
- a container is a member for containing a gas, a liquid, a solid, or the like.
- an example of a container is a mold for producing a molded product.
- problems such as the inability to maintain the dimensional accuracy of the molded product occur, so that the solid composition and the molded product are suitable for application.
- optical member examples of optical members are optical fibers, optical waveguides, lenses, reflectors, prisms, optical filters, diffraction gratings, fiber gratings, and wavelength conversion members.
- optical members are optical pickup lenses and camera lenses.
- optical waveguides are arrayed wave guides and planar optical circuits.
- the optical member has a problem that its characteristics change when the lattice spacing, the refractive index, the optical path length, etc. change with the change in temperature. According to the optical member using the solid composition and the molded product, or the fixing member or supporting base material of the optical member, it is possible to reduce the fluctuation of the characteristics of the optical member based on such temperature.
- the adhesive examples include a thermosetting resin such as an epoxy or a silicone resin as a matrix material, and the above-mentioned coated particles.
- the adhesive may be liquid or solid before curing. Since the cured product of this adhesive can have a low coefficient of linear thermal expansion, it is possible to suppress cracking. In particular, it is suitable for application to heat-resistant adhesive members that are subject to heat load.
- Crystal structure analysis of the first inorganic compound of the coated particles As an analysis of the crystal structure, a powder X-ray diffraction measuring device SmartLab (manufactured by Rigaku Co., Ltd.) was used, and the temperature was changed under the following conditions to change the particle group of the coated particles. was measured by powder X-ray diffraction to obtain a powder X-ray diffraction pattern.
- SmartLab manufactured by Rigaku Co., Ltd.
- PDXL2 manufactured by Rigaku Co., Ltd.
- the shaft length and the c-axis length were determined.
- Measuring device Powder X-ray diffraction measuring device SmartLab (manufactured by Rigaku Co., Ltd.)
- X-ray generator CuK ⁇ source Voltage 45kV, current 200mA
- Slit Slit width 2 mm
- Scan step 0.02 deg Scan range: 5-80 deg
- Scan speed 10 deg / min
- X-ray detector One-dimensional semiconductor detector Measurement atmosphere: Ar 100 mL / min Sample stand: Made of dedicated glass substrate SiO 2
- ICP-AES inductively coupled plasma emission spectrometry
- volume resistivity of coated particles As evaluation of volume resistivity of coated particles, powder resistivity measurement unit MCP-PD51 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) and low resistivity meter Loresta-GP MCP-T610 (Co., Ltd.) Measurements were performed using a manual hydraulic pump (manufactured by Enapak Co., Ltd.) and a manual hydraulic pump (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech). A group of 1.5 g of coated particles is placed in a cylinder with a radius of 10.0 mm of a resistance measuring unit, a pressure of 64 MPa is applied to the group of coated particles with a manual hydraulic pump, and the resistance value is measured with a low resistivity meter. bottom. The volume resistivity of the coated particles was calculated from the resistance value of the particle group of the coated particles, the distance between the terminals, and the cylinder diameter at this time.
- thermal expansion control characteristics (soda silicate composite material) The thermal expansion control characteristics were evaluated by the following method. A mixture was obtained by mixing 80 parts by weight of a group of coated particles, 20 parts by weight of No. 1 sodium silicate (manufactured by Fuji Chemical Co., Ltd.), and 10 parts by weight of pure water. The resulting mixture was placed in a polytetrafluoroethylene mold and cured with the following curing profile. The temperature was raised to 80 ° C. in 15 minutes and held at 80 ° C. for 20 minutes, then the temperature was raised to 150 ° C. in 20 minutes and held at 150 ° C. for 60 minutes. Further, after that, the temperature was raised to 320 ° C., held for 10 minutes, and the temperature was lowered to obtain a solid composition from the above steps.
- the coefficient of linear thermal expansion of the obtained solid composition was measured using the following apparatus. Measuring device: Thermo plus EVO2 TMA series Thermo plus 8310 The measurement conditions were a temperature range: 25 ° C. to 320 ° C., a temperature change rate: 10 ° C./min, and a sampling interval: 2.7 seconds. As a representative value, the value of the coefficient of linear thermal expansion at 190 to 210 ° C. was calculated.
- Reference solid Alumina
- the typical size of the measurement sample of the solid composition was 15 mm ⁇ 4 mm ⁇ 4 mm.
- the sample length L (T) at the temperature T was measured with the longest side of the measurement sample of the solid composition as the sample length L.
- the dimensional change rate ⁇ L (T) / L (30 ° C) is obtained in the temperature range of 190 ° C to 210 ° C, and the dimensional change rate ⁇ L (T) / L (30 ° C) is linearly approximated by the least squares method as a function of T.
- the slope in this case was defined as the heat ray expansion coefficient ⁇ (1 / ° C.) at 190 ° C. to 210 ° C.
- the particle size distribution of coated particles was measured by the following method. Pretreatment: 99 parts by weight of water was added to 1 part by weight of the particle group of the coated particles to dilute the particles, and ultrasonic treatment was performed with an ultrasonic cleaner. The ultrasonic treatment time was 10 minutes, and NS200-6U manufactured by Nissei Tokyo Office Co., Ltd. was used as the ultrasonic cleaner. The ultrasonic frequency was about 28 kHz. Measurement: The particle size distribution on a volume basis was measured by the laser diffraction / scattering method. Measurement conditions: The refractive index of Ti 2 O 3 particles was 2.40. Measuring device: Laser diffraction type particle size distribution measuring device Mastersizer 2000 (manufactured by Malvern Instruments Ltd.)
- Example 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 Core particles 1 and 2 of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 2 to 6 were obtained by the following methods.
- ⁇ Core particles 1 and 2> In a 1L plastic bottle (outer diameter 97.4mm) made of plastic, 1000g of 2mm ⁇ zirconia balls, 166.7g of TiO 2 (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., CR-EL) and 33.3g of Ti (high purity Co., Ltd.) A 1 L poly bottle was placed on a ball mill stand and mixed with a ball mill at a rotation speed of 60 rpm for 4 hours to prepare 200 g of a raw material mixed powder. The above operation was repeated 5 times to prepare 1000 g of the raw material mixed powder.
- 1000 g of the raw material mixed powder is filled in a baking container (manufactured by Nikkato Co., Ltd., SSA-T sheath 150 square) and placed in an electric furnace (manufactured by Nemus Co., Ltd., FD-40 ⁇ 40 ⁇ 60-1Z4-18 TMP).
- the atmosphere in the electric furnace was replaced with Ar, and the raw material mixed powder was fired.
- the firing program was set to raise the temperature from 0 ° C. to 1500 ° C. in 15 hours, hold it at 1500 ° C. for 3 hours, and lower the temperature from 1500 ° C. to 0 ° C. in 15 hours.
- Ar gas was flowed at 2 L / min during the firing program operation. After firing, powder 1 was obtained.
- Powder 1 was classified using a sieve having a 45 ⁇ m opening and a sieve having a 180 ⁇ m opening so that the particle size was 45 ⁇ m or more and 180 ⁇ m or less to obtain powder 2.
- the powder 2 was pulverized for 10 minutes using a mortar and a pestle to obtain core particles 1.
- Powder 1 was classified using a sieve having a mesh size of 20 ⁇ m so that the particle size was 20 ⁇ m or less to obtain powder 3.
- the powder 3 was immersed in an aqueous solution (1.0 mol / L) of sodium hydroxide (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) for 24 hours, and filtered and washed with pure water to obtain core particles 2.
- Ti was the only metal element contained in the core particles 1 and 2.
- the dispersion was mixed with the basic aluminum ion aqueous solution and stirred at 300 rpm for 10 minutes to prepare a mixed solution.
- Sulfuric acid (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 1.0 mol / L) was added dropwise while stirring the mixed solution to adjust the pH of the mixed solution to 8.0 to obtain a pH-adjusted mixed solution.
- the pH-adjusted mixed solution was suction-filtered using a filter paper (manufactured by Advantec Co., Ltd., No. 1, 90 mm ⁇ ) to obtain a residue.
- the residue was mixed with 200 mL of pure water, stirred for 10 minutes, and suction-filtered again under the same conditions to obtain a washed residue.
- the washed residue was placed on a drying dish and placed in a drying oven to dry the washed residue.
- the temperature raising program is to raise the temperature from 20 ° C. to 80 ° C. in 15 minutes, hold it at 80 ° C. for 20 minutes, raise the temperature from 80 ° C. to 150 ° C. in 30 minutes, hold it at 150 ° C. for 10 hours, and hold it from 150 ° C. It was set to cool naturally to 20 ° C. After drying, a massive solid was obtained.
- Example 1 the massive solid was crushed using a mortar and a pestle, and then further pulverized using a mortar and a pestle for 10 minutes to obtain a particle group of coated particles. ..
- Example 2 the massive solid was crushed using a mortar and a pestle to obtain a particle group of coated particles without crushing.
- Example 6 115 mL of ethanol (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is mixed with 15 mL of pure water and 6 mL of aqueous ammonia (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to form a solution. 2 was mixed to prepare a dispersion of core particles 2. While stirring the dispersion, 24 mL of tetraethyl orthosilicate (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was mixed, and mixing was continued at room temperature for 6 hours to prepare a mixed solution. The mixture was suction-filtered using a filter paper (No.
- the temperature raising program is to raise the temperature from 20 ° C. to 80 ° C. in 15 minutes, hold it at 80 ° C. for 20 minutes, raise the temperature from 80 ° C. to 150 ° C. in 30 minutes, hold it at 150 ° C. for 10 hours, and hold it from 150 ° C. It was set to cool naturally to 20 ° C. After drying, a particle group of coated particles was obtained.
- the core portion of the first inorganic compound of the coated particles obtained in Examples 1 to 6 was corundum-type titanium oxide. Further, using the obtained a-axis length and c-axis length,
- of titanium oxide of Examples 1 to 6 at T1 150 ° C. was determined by the following formula (D).
- the coating particles obtained in Examples 1 to 5 were compounds composed of titanium and aluminum.
- the second inorganic compound of the coating particles obtained in Examples 1 to 5 is a compound composed of aluminum, and the second inorganic compound is aluminum oxide, aluminum hydroxide and aluminum hydroxide. It was found to contain at least one compound selected from the group consisting of.
- Ti is the only metal or semi-metal element contained in the core portion composed of the first inorganic compound, and the metal or metal or semi-metal element contained in the shell portion composed of the second inorganic compound.
- Example 6 From the results of ICP-AES measurement, it was found that the coated particles obtained in Example 6 were compounds composed of titanium and silicon. From this, it was found that the second inorganic compound of the coated particles obtained in Example 6 was a compound composed of silicon, and the second inorganic compound contained silicon oxide.
- the core portion made of the first inorganic compound of the coated particles is made of the second inorganic compound. It was confirmed that the shell part was covered.
- Table 1 summarizes the results of each measurement of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 obtained.
- the coefficient of linear thermal expansion in the solid composition could be lowered and the volume resistivity could be increased. That is, it was a group of particles having excellent thermal expansion control characteristics and excellent electrical insulation.
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Abstract
粒子群は、金属/は半金属元素Pを含む第一の無機化合物から成るコア部、及び、金属/半金属元素Qを含む第二の無機化合物から成り、コア部の表面の少なくとも一部を覆うシェル部を有する被覆粒子を複数含む。第一の無機化合物は要件1を満たし、被覆粒子は要件2及び要件3を満たす。 要件1:-200~1200℃における少なくとも一つの温度T1で|dA(T)/dT|が10ppm/℃以上である。Aは(第一の無機化合物中の結晶のa軸の格子定数)/(第一の無機化合物中の結晶のc軸の格子定数)である。 要件2:被覆粒子の表面のXPS測定において、コア部に含まれる金属/半金属元素Pの原子数に対する、シェル部に含まれる金属/半金属元素Qの原子数の比が、45~300である。 要件3:被覆粒子の平均粒子径が0.1~100μmである。
Description
本発明は、粒子群、粉体組成物、固体組成物、液体組成物、及び、成形体に関する。
例えば、特許文献1において、負の熱線膨張係数を示す材料であるリン酸タングステンジルコニウムの粒子を添加剤として用いることにより、樹脂を含む組成物の熱線膨張係数を低減し、所望の熱線膨張係数に制御する技術が開示されている。また、特許文献2には、大きな負熱膨張特性を示す材料として、マンガン窒化物が開示されている。
しかしながら、特許文献1で開示されている材料では、必ずしも充分に組成物の熱線膨張係数を下げられているわけではない。また、特許文献2で開示されている材料は、電気の良導体であり、組成物も良導体となる可能性がある。例えば、半導体封止部材、回路基板といった電子デバイス用部材では、電気絶縁性が要求されるため適用が難しい。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、熱膨張制御特性に優れるとともに、電気絶縁性に優れる粒子群を提供することを目的とする。
本発明者らは、種々検討した結果、本発明に至った。すなわち本発明は、下記の発明を提供するものである。
本発明にかかる粒子群は、金属または半金属元素Pを含む第一の無機化合物から成るコア部、及び、金属または半金属元素Qを含む第二の無機化合物から成り、前記コア部の表面の少なくとも一部を覆うシェル部を有する被覆粒子を複数含む。前記金属または半金属元素Pと、前記金属または半金属元素Qとは、互いに異なる元素である、又は、互いに同一の元素であるが互いに電子状態が異なる。前記第二の無機化合物の体積抵抗率は前記第一の無機化合物の体積抵抗率よりも高い。前記第一の無機化合物は要件1を満たし、前記被覆粒子は、要件2及び要件3を満たす。
本発明にかかる粒子群は、金属または半金属元素Pを含む第一の無機化合物から成るコア部、及び、金属または半金属元素Qを含む第二の無機化合物から成り、前記コア部の表面の少なくとも一部を覆うシェル部を有する被覆粒子を複数含む。前記金属または半金属元素Pと、前記金属または半金属元素Qとは、互いに異なる元素である、又は、互いに同一の元素であるが互いに電子状態が異なる。前記第二の無機化合物の体積抵抗率は前記第一の無機化合物の体積抵抗率よりも高い。前記第一の無機化合物は要件1を満たし、前記被覆粒子は、要件2及び要件3を満たす。
要件1:-200℃~1200℃における少なくとも一つの温度T1で|dA(T)/dT|が10ppm/℃以上である。
Aは(前記第一の無機化合物中の結晶のa軸(短軸)の格子定数)/(前記第一の無機化合物中の結晶のc軸(長軸)の格子定数)であり、各前記格子定数は前記第一の無機化合物のX線回折測定から得られる。
Aは(前記第一の無機化合物中の結晶のa軸(短軸)の格子定数)/(前記第一の無機化合物中の結晶のc軸(長軸)の格子定数)であり、各前記格子定数は前記第一の無機化合物のX線回折測定から得られる。
要件2:前記被覆粒子の表面のXPS測定において、前記コア部に含まれる前記金属または半金属元素Pの原子数PXPS、COREに対する、前記シェル部に含まれる前記金属または半金属元素Qの原子数QXPS、SHELLの比QXPS、SHELL/PXPS、COREが、45以上300以下である。
要件3:前記被覆粒子の平均粒子径が0.1μm以上100μm以下である。
ここで、上記被覆粒子は、さらに、要件4を満たすことができる。
要件4:前記粒子群に含まれる全ての被覆粒子において、前記金属または半金属元素Pの原子数の合計PALLに対する、前記金属または半金属元素Qの原子数の合計QALLの比QALL/PALLが、0.20以上0.50以下である。
要件4:前記粒子群に含まれる全ての被覆粒子において、前記金属または半金属元素Pの原子数の合計PALLに対する、前記金属または半金属元素Qの原子数の合計QALLの比QALL/PALLが、0.20以上0.50以下である。
また、前記金属または半金属元素Pが、d電子を有する金属元素であることができる。
また、前記金属または半金属元素Pが、チタンであることができる。
また、前記第一の無機化合物が、TiOx(x=1.30~1.66)であることができる。
また、前記金属または半金属元素Qが、Al、Si、またはZrであることができる。
また、前記第二の無機化合物が、酸化物、水酸化酸化物及び水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物であることができる。
また、前記第二の無機化合物が、酸化アルミニウム、水酸化酸化アルミニウム及び水酸化アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも1つの化合物であることができる。
本発明にかかる粉体組成物は、上記粒子群を含む。
本発明にかかる固体組成物は、上記の粒子群又は粉体組成物を含有する。
本発明にかかる液体組成物は、上記の粒子群又は粉体組成物を含有する。
本発明にかかる成形体は、上記の粒子群又は粉体組成物の成形体である。
本発明によれば、熱膨張制御特性に優れるとともに、電気絶縁性に優れた被覆粒子の粒子群等を提供することができる。
<被覆粒子>
本実施形態にかかる粒子群は被覆粒子を複数含む。図1に示すように、被覆粒子10は、金属または半金属元素Pを含む第一の無機化合物から成るコア部1と、コア部1の表面の少なくとも一部を被覆し、金属または半金属元素Qを含む第二の無機化合物から成るシェル部2とを有する。
本実施形態にかかる粒子群は被覆粒子を複数含む。図1に示すように、被覆粒子10は、金属または半金属元素Pを含む第一の無機化合物から成るコア部1と、コア部1の表面の少なくとも一部を被覆し、金属または半金属元素Qを含む第二の無機化合物から成るシェル部2とを有する。
金属または半金属元素Pと、金属または半金属元素Qとは、互いに異なる元素である、又は、互いに同一の元素であるが互いに電子状態が異なる。第二の無機化合物の体積抵抗率は第一の無機化合物の体積抵抗率よりも高い。第一の無機化合物は要件1を満たし、被覆粒子は、要件2及び要件3を満たす。
要件1:-200℃~1200℃における少なくとも一つの温度T1で|dA(T)/dT|が10ppm/℃以上である。
Aは(前記第一の無機化合物中の結晶のa軸(短軸)の格子定数)/(前記第一の無機化合物中の結晶のc軸(長軸)の格子定数)であり、各前記格子定数は前記第一の無機化合物のX線回折測定から得られる。
Aは(前記第一の無機化合物中の結晶のa軸(短軸)の格子定数)/(前記第一の無機化合物中の結晶のc軸(長軸)の格子定数)であり、各前記格子定数は前記第一の無機化合物のX線回折測定から得られる。
要件2:前記被覆粒子の表面のXPS測定において、前記コア部に含まれる前記金属または半金属元素Pの原子数PXPS、COREに対する、前記シェル部に含まれる前記金属または半金属元素Qの原子数QXPS、SHELLの比QXPS、SHELL/PXPS、COREが、45以上300以下である。
要件3:前記被覆粒子の平均粒子径が0.1μm以上100μm以下である。
以下に、被覆粒子の詳細について説明する。
本実施形態にかかる被覆粒子10は、第一の無機化合物から成るコア部1と、コア部1の表面の少なくとも一部を被覆し第二の無機化合物から成るシェル部2とを有する。コア部1の形状は特に限定されず、例えば、球、楕円体、円柱、多面体及び不定形の単一粒子であってもよく、任意の形状の第一の無機化合物から成る複数の粒子の凝集体であってもよい。第二の無機化合物のシェル部2の形状も特に限定されず、第二の無機化合物から成る緻密な膜であってもよく、第二の無機化合物から成る粒子群の集合体(凝集層)であってもよい。本願実施形態にかかる被覆粒子群は、シェル部2がコア部1の表面の少なくとも一部を被覆している被覆粒子を含んでいればよく、図1のようにシェル部2がコア部1の表面を完全に被覆している被覆粒子を含んでもよい。
本実施形態にかかる被覆粒子10は、第一の無機化合物から成るコア部1と、コア部1の表面の少なくとも一部を被覆し第二の無機化合物から成るシェル部2とを有する。コア部1の形状は特に限定されず、例えば、球、楕円体、円柱、多面体及び不定形の単一粒子であってもよく、任意の形状の第一の無機化合物から成る複数の粒子の凝集体であってもよい。第二の無機化合物のシェル部2の形状も特に限定されず、第二の無機化合物から成る緻密な膜であってもよく、第二の無機化合物から成る粒子群の集合体(凝集層)であってもよい。本願実施形態にかかる被覆粒子群は、シェル部2がコア部1の表面の少なくとも一部を被覆している被覆粒子を含んでいればよく、図1のようにシェル部2がコア部1の表面を完全に被覆している被覆粒子を含んでもよい。
(第一の無機化合物及び第二の無機化合物)
第一の無機化合物は金属または半金属元素Pを含み、第二の無機化合物は金属または半金属元素Qを含む。
第一の無機化合物は金属または半金属元素Pを含み、第二の無機化合物は金属または半金属元素Qを含む。
第一の無機化合物及び第二の無機化合物は、それぞれ、「金属または半金属元素」を一種のみ含んでもよいが、「金属または半金属元素」を複数種含んでもよい。
第一の無機化合物が金属または半金属元素を1種のみ含む場合には、当該金属又は半金属元素を「金属または半金属元素P」とする。第一の無機化合物が金属または半金属元素を複数種含む場合には、当該金属又は半金属元素のうちの最大の原子数比を占める元素を「金属または半金属元素P」とする。なお、第一の無機化合物が金属または半金属元素を複数含み、かつ、当該金属又は半金属元素のうちの最大の原子数比を占める元素が複数ある場合には、最大の原子数比を占める元素の内の任意の元素を「金属または半金属元素P」とすることができる。
第二の無機化合物が金属または半金属元素を1種のみ含む場合には、当該金属又は半金属元素を「金属または半金属元素Q」とする。第二の無機化合物が金属または半金属元素を複数種含む場合には、当該金属又は半金属元素のうちの最大の原子数比を占める元素を「金属または半金属元素Q」とする。なお、第二の無機化合物が金属または半金属元素を複数含み、かつ、当該金属又は半金属元素のうちの最大の原子数比を占める元素が複数ある場合には、最大の原子数比を占める元素の内の任意の元素を「金属または半金属元素Q」とすることができる。
「金属または半金属元素P」と、「金属または半金属元素Q」とは、互いに異なる元素であることができる。また、「金属または半金属元素P」と、「金属または半金属元素Q」とは、互いに同一の元素であってもよいが、その場合には、元素の電子状態、例えば、元素の価数が互いに異なることが必要である。
第一の無機化合物は、第二の無機化合物の「金属または半金属元素Q」を、第一の無機化合物中における金属または半金属元素のうちの最大でない原子数比である限り含有していてもよい。
第二の無機化合物は、第一の無機化合物の「金属または半金属元素P」を、第二の無機化合物中における金属または半金属元素のうちの最大でない原子数比である限り含有していてもよい。
第一の無機化合物及び第二の無機化合物は、それぞれ、一種以上の金属または半金属元素が、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、セレン、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素からなる群から選択される一種類以上の元素と結びついた化合物又は二種以上の前記化合物のみからなる混合物である。例えば、金属または半金属元素の水素化物、炭化物、窒化物、酸化物、水酸化酸化物、水酸化物、リン化物、硫化物、セレン化物、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、リン酸塩、セレン酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜塩素酸塩、亜塩素酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩、次亜臭素酸塩、亜臭素酸塩、臭素酸塩、過臭素酸塩、次亜ヨウ素酸塩、亜ヨウ素酸塩、ヨウ素酸塩及び過ヨウ素酸塩が挙げられる。また、金属元素または半金属元素のオキソ酸、ヒドロキソ酸、アクア酸及びそれらの塩であってもよい。
本明細書における金属元素とは、Li、Na、Mg、Al、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ag、Cd、In、Sn、Cs、Ba、Hf、Ta、W、Re、Au、Hg、Tl、Pb、Bi、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びLuである。本明細書における半金属元素とは、B、Si、Ge、As、Sb、Te、Po及びAtである。
金属または半金属元素Pは、上記群中の金属または半金属元素の中でもd電子を有する金属元素であることが好ましく、第一の無機化合物はd電子を有する金属元素を含む金属酸化物であることが好ましい。d電子を有する金属元素としては、特に限定はされないが、例えば、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cuからなる群から選択される第4周期の金属元素;Y、Zr、Nb、Moからなる群から選択される第5周期の金属元素;及び、Hf、Ta、Wからなる群から選択される第6周期の金属元素が挙げられる。
上記の中でも、第一の無機化合物は、金属元素Pとして上記の第4周期又は上記の第5周期の金属元素を含む金属酸化物であることが好ましく、上記の第4周期の金属元素を含む金属酸化物であることがより好ましい。第4周期の金属元素は、d電子のうち3d電子のみを有する金属元素である。特に、3d電子の占有状態の観点から、第4周期の金属元素の中でも、Ti、V、Cr、Mn及びCoからなる群から選択される一つの金属元素を金属元素Pとして含む金属酸化物であることが好ましい。中でも、資源性の観点から、第一の無機化合物は、金属元素Pとしてチタンを含む金属酸化物であることが好ましい。
チタンを含む金属酸化物は、組成式としてTiOx(x=1.30~1.66)で表されることが好ましく、TiOx(x=1.40~1.60)という組成式で表されることがさらに好ましい。TiOxにおいて、Ti原子の一部が他の元素で置換されていてもよい。
なお、チタンを含む金属酸化物は、TiOx以外に、LaTiO3のようなチタン及びチタン以外の金属元素を含む酸化物であってもよい。
第一の無機化合物の結晶構造としては、ペロブスカイト構造またはコランダム構造を有することが好ましく、コランダム構造を有することがより好ましい。
結晶系としては特に限定はされないが、菱面体晶系であることが好ましい。空間群としては、R-3cに帰属されることが好ましい。
第一の無機化合物が、金属元素Pとしてd電子を有する金属元素を含む金属酸化物である場合、-100℃~1000℃における|dA(T)/dT|が、少なくとも一つの温度で10ppm/℃以上であることが好適である。
第一の無機化合物が、金属元素Pとしてd電子のうち3d電子のみを有する金属元素を含む金属酸化物である場合、-100℃~800℃における|dA(T)/dT|が、少なくとも一つの温度で10ppm/℃以上であることが好適である。
第一の無機化合物が、TiOx(x=1.30~1.66)である場合、0℃~500℃における|dA(T)/dT|が、少なくとも一つの温度で10ppm/℃以上であることが好適である。
第二の無機化合物は、酸化物、水酸化酸化物及び水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一つ以上の化合物を含むことが好ましく、酸化物、水酸化酸化物及び水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一つ以上の化合物のみから構成されることがより好ましい。
第二の無機化合物において、酸化物、水酸化酸化物及び水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一つ以上の化合物の合計量は、第二の無機化合物に含まれる酸化物、水酸化酸化物及び水酸化物以外の化合物の全てに対し、重量比が大きくなることが好ましい。第二の無機化合物が上記の化合物であると、後述の比Mの値を調整しやすく、熱膨張制御特性に優れるとともに、電気絶縁性に優れる粒子となりやすい。
第二の無機化合物において、酸化物、水酸化酸化物及び水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一つ以上の化合物の合計量は、第二の無機化合物に含まれる酸化物、水酸化酸化物及び水酸化物以外の化合物の全てに対し、重量比が大きくなることが好ましい。第二の無機化合物が上記の化合物であると、後述の比Mの値を調整しやすく、熱膨張制御特性に優れるとともに、電気絶縁性に優れる粒子となりやすい。
第二の無機化合物は、熱安定性の観点から、上記群中の金属元素または半金属元素の中でも、Al、Si、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Nb及びMoからなる群から選択される一つの元素を、金属または半金属元素Qとして含むことが好ましい。第二の無機化合物は、上記の中でも、酸化物、水酸化酸化物及び水酸化物の熱安定性の観点から、Al、Si及びZrからなる群から選択される一つの元素を、金属または半金属元素Qとして含むことがより好ましい。
このような第二の無機化合物の例は、酸化アルミニウム、水酸化酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化ケイ素、及び酸化ジルコニウム等が挙げられる。本実施形態にかかる被覆粒子の熱安定性の観点から、酸化アルミニウム、水酸化酸化アルミニウム及び水酸化アルミニウムからなる群から選択される少なくとも一つの化合物であることが好ましい。
第二の無機化合物は結晶質であっても、非晶質であってもよい。結晶質である場合、その結晶構造は特に限定されない。
被覆粒子に電気絶縁性を付与させる観点から、第二の無機化合物の体積抵抗率は第一の無機化合物の体積抵抗率よりも高い。第二の無機化合物は体積抵抗率が103Ωcm以上であることが好ましく、105Ωcm以上であることがより好ましく、107Ωcm以上であることがさらに好ましい。
(要件1)
次に、要件1について詳しく説明する。
Aの定義における格子定数は、粉末X線回折測定により特定される。解析法としてはRietveld法や、最小二乗法によるフィッティングによる解析がある。
次に、要件1について詳しく説明する。
Aの定義における格子定数は、粉末X線回折測定により特定される。解析法としてはRietveld法や、最小二乗法によるフィッティングによる解析がある。
本明細書においては、粉末X線回折測定により特定された、第一の無機化合物の結晶構造において、最も小さい格子定数に対応する軸をa軸、最も大きい格子定数に対応する軸をc軸とする。結晶格子のa軸の長さとc軸の長さを、それぞれ、a軸長、c軸長とする。本明細書において、チタン化合物結晶粒のa軸の格子定数とは、前記a軸長であり、チタン化合物結晶粒のc軸の格子定数とは、前記c軸長である。
A(T)は、結晶軸の長さの異方性の大きさを示すパラメータであり、温度T(単位は℃)の関数である。A(T)の値が大きいほど、a軸長がc軸長に対して大きく、Aの値が小さいほど、a軸長はc軸長に対して小さい。
ここで、|dA(T)/dT|は、dA(T)/dTの絶対値を表し、dA(T)/dTは、A(T)のT(温度)による微分を表す。
ここで、本明細書においては、|dA(T)/dT|は、以下の(D)式により定義される。
|dA(T)/dT|=|A(T+50)-A(T)|/50 …(D)
ここで、本明細書においては、|dA(T)/dT|は、以下の(D)式により定義される。
|dA(T)/dT|=|A(T+50)-A(T)|/50 …(D)
上述のように、本実施形態にかかる第一の無機化合物は、-200℃~1200℃における少なくとも一つの温度T1で|dA(T)/dT|が10ppm/℃以上を満たすことが必要である。ただし、|dA(T)/dT|は、第一の無機化合物が固体状態で存在する範囲内で定義される。したがって、(D)式におけるTの最高温度は、粒子の融点よりも50℃低い温度までである。すなわち、「-200℃~1200℃における少なくとも一つの温度T1」の限定が付された場合、(D)式におけるTの温度範囲は-200~1150℃となる。
-200℃~1200℃における少なくとも一つの温度T1で|dA(T)/dT|が20ppm/℃以上であることが好ましく、30ppm/℃以上であることがより好ましい。|dA(T)/dT|の上限は、1000ppm/℃以下であることが好ましく、500ppm/℃以下であることがより好ましい。
少なくとも一つの温度T1で|dA(T)/dT|の値が10ppm/℃以上であることは、温度変化に伴う結晶構造の異方性の変化が大きいことを意味する。
少なくとも一つの温度T1において、dA(T)/dTは正でも負でもよいが、負であることが好適である。
第一の無機化合物の結晶の種類によっては、或る温度範囲で構造相転移により結晶構造が変化する物が有る。本明細書においては、或る温度における結晶構造において、結晶格子定数が最も大きい軸をc軸、結晶格子定数が最も小さい軸をa軸とする。三斜晶系、単斜晶系、直方晶系、正方晶系、六方晶系、菱面体晶系いずれの晶系においても、a軸、c軸については上記の定義とする。
第一の無機化合物が要件1を満たすと、被覆粒子を含む固体組成物や成型体において、熱線膨張係数を低くし易い。
(要件2)
次に、要件2について説明する。
被覆粒子10の表面のXPS測定において、コア部1に含まれる「金属または半金属元素P」の原子数PXPS、COREに対する、シェル部2に含まれる「金属または半金属元素Q」の原子数QXPS、SHELLの比M=QXPS、SHELL/PXPS、COREが、45以上300以下である。
次に、要件2について説明する。
被覆粒子10の表面のXPS測定において、コア部1に含まれる「金属または半金属元素P」の原子数PXPS、COREに対する、シェル部2に含まれる「金属または半金属元素Q」の原子数QXPS、SHELLの比M=QXPS、SHELL/PXPS、COREが、45以上300以下である。
XPSは特定のエネルギーのX線を試料に照射し、光電効果によって生じた光電子の数とエネルギーを測定することで、試料の表面領域における構成元素の数とその電子状態を解析することができる定量・定性分析手法である。X線源としては、例えば、Al-Kα線やMg-Kα線などが用いられる。本願においては、Al-Kα線をX線源として用いたときに、試料中で発生した光電子がエネルギーを失うことなく試料の外に脱出することのできる領域を表面領域とする。発生した光電子のエネルギーによって多少の違いはあるが、表面領域の深さは約5nm程度である。
すなわち、比Mは、被覆粒子の表面領域の厚み5nm程度における、コア部1に含まれる「金属または半金属元素P」の原子数に対する、シェル部2に含まれる「金属または半金属元素Q」の原子数の比を表すものであり、第一の無機化合物から成るコア部1の表面がどの程度、第二の無機化合物から成るシェル部2で被覆されているかを表す指標である。
比Mが大きいことは、第一の無機化合物から成るコア部1の表面の多くが第二の無機化合物から成るシェル部2で被覆されていることを表す。被覆粒子10に電気絶縁性を付与する観点から、比Mは50以上であることが好ましく、60以上であることがより好ましく、70以上であることがさらに好ましく、80以上であることが特に好ましい。第一の無機化合物から成るコア部1の表面が第二の無機化合物から成るシェル部2で過度に被覆されないようにして、コア部1による高い熱膨張抑制効果を発揮させる観点から、比Mは280以下であることが好ましく、270以下であることがより好ましく、265以下であることがさらに好ましく、261以下であることが特に好ましい。
比Mは、コア部1及びシェル部2における金属または半金属元素P及び金属または半金属元素Qの存在状況に応じて、以下のようにして求めることができる。
(存在状況1)
第一の無機化合物から成るコア部1に含まれる「金属または半金属元素P」が第二の無機化合物から成るシェル部2に含まれず、かつ、第二の無機化合物から成るシェル部2含まれる「金属または半金属元素Q」が第一の無機化合物から成るコア部1に含まれない場合には、XPS測定により得られる「金属または半金属元素P」の原子数はコア部1のみに由来し、XPS測定により得られる「金属または半金属元素Q」の原子数はシェル部2のみに由来するため、比MはXPS測定により得られた元素Pの原子数に対する元素Qの原子数の比として直接算出できる。
第一の無機化合物から成るコア部1に含まれる「金属または半金属元素P」が第二の無機化合物から成るシェル部2に含まれず、かつ、第二の無機化合物から成るシェル部2含まれる「金属または半金属元素Q」が第一の無機化合物から成るコア部1に含まれない場合には、XPS測定により得られる「金属または半金属元素P」の原子数はコア部1のみに由来し、XPS測定により得られる「金属または半金属元素Q」の原子数はシェル部2のみに由来するため、比MはXPS測定により得られた元素Pの原子数に対する元素Qの原子数の比として直接算出できる。
具体的には、XPS測定により得られたスペクトルに存在する元素P及び元素Qに帰属されるピークの面積値をそれぞれ求め、各ピークの面積値に対して装置に依存する相対感度係数を掛け合わせて、元素Pの原子数PXPS、CORE及び元素Qの原子数QXPS、SHELLを求め、QXPS、SHELL/PXPS、COREにより原子数の比Mを算出することができる。
なお、上述のように、本実施形態において、「金属または半金属元素P」及び「金属または半金属元素Q」が同一の元素であっても、価数が互いに異なるなど、元素の電子状態が互いに異なる場合は、XPS測定において元素Pと元素Qとの分別が可能であり、比Mの算出が可能である。
例えば、第一の無機化合物がTi2O3の場合には金属元素PがTi3+であり、第二の無機化合物がTiO2の場合には金属元素QがTi4+であるが、この場合も測定可能である。
例えば、第一の無機化合物がTi2O3の場合には金属元素PがTi3+であり、第二の無機化合物がTiO2の場合には金属元素QがTi4+であるが、この場合も測定可能である。
(存在状況2)
第一の無機化合物から成るコア部1に含まれる「金属または半金属元素P」が第二の無機化合物から成るシェル部2に含まれる、及び/又は、第二の無機化合物から成るシェル部2に含まれる「金属または半金属元素Q」が第一の無機化合物から成るコア部1に含まれる場合には、XPS測定により得られる元素P及び元素Qの原子数が、コア部1及びシェル部2の両方に由来する。この場合は、以下のようにして比Mを算出することができる。
第一の無機化合物から成るコア部1に含まれる「金属または半金属元素P」が第二の無機化合物から成るシェル部2に含まれる、及び/又は、第二の無機化合物から成るシェル部2に含まれる「金属または半金属元素Q」が第一の無機化合物から成るコア部1に含まれる場合には、XPS測定により得られる元素P及び元素Qの原子数が、コア部1及びシェル部2の両方に由来する。この場合は、以下のようにして比Mを算出することができる。
XPS測定により得られた元素Pの原子数PXPS、TOTALは、コア部1とシェル部2の寄与に分けて(1)式のように表すことができる。ここで、原子数におけるコア部1の寄与を下付CORE、シェル部2の寄与を下付SHELL、コア部1及びシェル部2の両方の寄与を下付TOTALで表している。
PXPS、TOTAL=PXPS、CORE+PXPS、SHELL…(1)
PXPS、TOTAL=PXPS、CORE+PXPS、SHELL…(1)
XPS測定により得られた元素Qの原子数QXPS、TOTALも同様にして(2)式のように表すことができる。
QXPS、TOTAL=QXPS、CORE+QXPS、SHELL…(2)
QXPS、TOTAL=QXPS、CORE+QXPS、SHELL…(2)
また、コア部1における元素Pに対する元素Qの原子数の比をRCOREとし、シェル部2における元素Qに対する元素Pの原子数の比をRSHELLとすると、コア部1における原子数及びシェル部2における原子数において以下の式が成り立つ。
QXPS、CORE/PXPS、CORE=RCORE…(3)
PXPS、SHELL/QXPS、SHELL=RSHELL…(4)
QXPS、CORE/PXPS、CORE=RCORE…(3)
PXPS、SHELL/QXPS、SHELL=RSHELL…(4)
ここで、RCORE及びRSHELLは、XPSによる表面測定とは別に、下記に示す方法で測定できる。したがって、(1)~(4)の式において、PXPS、TOTAL、QXPS、TOTAL、RCORE、及び、RSHELLは既知の値であり、これらの連立方程式を解くことにより、未知のPXPS、CORE、PXPS、SHELL、QXPS、CORE、QXPS、SHELLを求めることができる。
また、第一の無機化合物から成るコア部1に含まれる「金属または半金属元素P」が第二の無機化合物から成るシェル部2に含まれるが、第二の無機化合物から成るシェル部2に含まれる「金属または半金属元素Q」が第一の無機化合物から成るコア部1に含まれない場合(場合1)、及び、第一の無機化合物から成るコア部1に含まれる「金属または半金属元素P」が第二の無機化合物から成るシェル部2に含まれないが、第二の無機化合物から成るシェル部2に含まれる「金属または半金属元素Q」が第一の無機化合物から成るコア部1に含まれる場合(場合2)には、上記式は以下のように簡略化される。
まず、要件2におけるMの定義は以下の(5)式であり、(1)及び(2)式を用いて(6)式が導かれる。
M=QXPS、SHELL/PXPS、CORE…(5)
=(QXPS、TOTAL-QXPS、CORE)/(PXPS、TOTAL-PXPS、SHELL)…(6)
M=QXPS、SHELL/PXPS、CORE…(5)
=(QXPS、TOTAL-QXPS、CORE)/(PXPS、TOTAL-PXPS、SHELL)…(6)
ここで、例えば上記の場合2を考える。
この場合、コア部1に含まれる元素Pはシェル部2に含まれないので、PXPS、SHELL=0となり、(6)式は以下の(7)式となり、(1)式は以下の(8)式となる。
M=(QXPS、TOTAL-QXPS、CORE)/PXPS、TOTAL…(7)
PXPS、TOTAL=PXPS、CORE…(8)
M=(QXPS、TOTAL-QXPS、CORE)/PXPS、TOTAL…(7)
PXPS、TOTAL=PXPS、CORE…(8)
したがって、(3)式から以下の(9)式が得られる。
QXPS、CORE=RCORE・PXPS、CORE=RCORE・PXPS、TOTAL…(9)
QXPS、CORE=RCORE・PXPS、CORE=RCORE・PXPS、TOTAL…(9)
したがって、(9)式を(7)式に代入して、以下の(10)式が得られる。
M=(QXPS、TOTAL-RCORE・PXPS、TOTAL)/PXPS、TOTAL…(10)
M=(QXPS、TOTAL-RCORE・PXPS、TOTAL)/PXPS、TOTAL…(10)
例えば、コア部1の第一の無機化合物がTi1.8Al0.2O3であり、シェル部2の第二の無機化合物がAl2O3の場合、「金属または半金属元素P」がTi、第二の無機化合物における「金属または半金属元素Q」がAlとなり、シェル部2の元素Qがコア部1にも含まれる一方、コア部1の元素Pはシェル部2には含まれない。また、RCOREは0.2/1.8=0.111である。
上記の計算は、QXPS、CORE=0として、シェル部2に含まれる元素Qがコア部1にふくまれない場合1でも同様にして行うことができる。
コア部1における元素Pに対する元素Qの原子比RCORE、及び、シェル部2における元素Qに対する元素Pの原子比RSHELLは、被覆粒子の断面を走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)、または透過型電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Microscope)などを用いて観察し、コア部及びシェル部のそれぞれに対するエネルギー分散型X線分析(EDX:Energy dispersive X-ray spectroscopy)を行うことにより求めることができる。空間分解能を高くする観点から、TEMで観察する方法が好ましい。より正確に原子数の比を算出するために、集束イオンビーム(FIB:Focused Ion Beam)装置やイオンミリング装置を用いて被覆粒子の断面を作製して、前記加工によって得た被覆粒子の断面を電子顕微鏡で観察する方法が好ましい。
被覆粒子10が要件2を満たすことは、第一の無機化合物から成るコア部1の表面の多くが、第二の無機化合物から成るシェル部2で被覆されていることを示し、コア部1による高い熱膨張抑制効果を発揮させつつ、被覆粒子10に電気絶縁性を付与させることに寄与する。
(要件3)
次に、要件3について説明する。粒子群における被覆粒子の平均粒子径は、0.1μm以上100μm以下である。平均粒子径は、レーザー回折散乱法により測定される被覆粒子の体積基準累積粒子径分布曲線のD50に基づいて得られる。測定方法を以下に示す。
次に、要件3について説明する。粒子群における被覆粒子の平均粒子径は、0.1μm以上100μm以下である。平均粒子径は、レーザー回折散乱法により測定される被覆粒子の体積基準累積粒子径分布曲線のD50に基づいて得られる。測定方法を以下に示す。
前処理として、被覆粒子の粒子群の粉体1重量部に対して水を99重量部加えて希釈し、超音波洗浄機により超音波処理を行う。超音波処理時間は10分間とする。超音波洗浄機としては、株式会社日本精機製作所製のNS200-6Uを用いることができる。超音波の周波数としては、28kHz程度で実施する。
測定はレーザー回折散乱法により、体積基準の粒子径分布を測定する。例えば、Malvern Instruments Ltd.製レーザー回折式粒度分布測定装置Mastersizer 2000を用いることができる。例えば、被覆粒子のコア部がTi2O3である場合、Ti2O3の屈折率を2.40として測定することができる。
本明細書では、体積基準累積粒子径分布曲線において、累積頻度を粒子径の小さい方から計算して、累積頻度が50%となる粒子径をD50とする。上述のように、本実施形態に係る粒子群において、D50は、0.1μm以上100μm以下である必要がある。D50は、0.5μm以上であることが好ましく、1μm以上であることがより好ましく、2μm以上であることがさらに好ましい。D50がこのような範囲であると、凝集粒を作りにくく、樹脂などのマトリックス材料と混錬した際の熱膨張抑制効果が向上しやすい。D50は、50μm以下であることが好ましく、30μm以下であることがより好ましく、20μm以下であることがさらに好ましい。D50がこのような範囲であると、粒子界面が増加し、樹脂などのマトリックス材料と混錬した際の電気絶縁性が向上しやすい。
(要件4)
次に、任意要件である要件4について説明する。
本実施形態の粒子群において、粒子群に含まれる全ての被覆粒子における、金属または半金属元素Pの原子数の合計PALLに対する、金属または半金属元素Qの原子数の合計QALLの比N=QALL/PALLが、0.20以上0.50以下である。
次に、任意要件である要件4について説明する。
本実施形態の粒子群において、粒子群に含まれる全ての被覆粒子における、金属または半金属元素Pの原子数の合計PALLに対する、金属または半金属元素Qの原子数の合計QALLの比N=QALL/PALLが、0.20以上0.50以下である。
被覆粒子に電気絶縁性を付与する観点から、比Nは0.20以上であることが好ましく、0.23以上であることがより好ましく、0.25以上であることがさらに好ましい。被覆粒子が高い熱膨張抑制効果を発揮する観点から、比Nは0.50以下であることが好ましく、0.47以下であることがより好ましく、0.45以下であることがさらに好ましい。
被覆粒子が要件4を満たすことにより、高い熱膨張抑制効果と、電気絶縁性を付与する効果とのバランスをとりやすい。
被覆粒子が要件2及び要件4満たし、かつ、比Nの値よりも比Mの値が大きい場合、本発明にかかる被覆粒子は、金属または半金属元素Pを含む第一の無機化合物から成るコア部が金属または半金属元素Qを含む第二の無機化合物から成るシェル部に十分に被覆されている。
比Nは、例えば、被覆粒子全体を溶液化した上で、誘導結合プラズマ発光分析(ICP-AES)により算出することができる。粒子を溶液化させる方法としては、酸溶解やアルカリ融解などが挙げられる。
まず、ニッケル製るつぼや白金製るつぼなど、被覆粒子の組成に依って適切な材質のるつぼを選択する。一定量の被覆粒子を秤量してるつぼに入れ、塩酸、硝酸、硫酸、またはフッ化水素酸などの酸を加えた後に加熱して酸溶解する。より溶解を促進する観点から、加圧酸分解容器に入れて加圧しながら加熱溶解したり、マイクロ波を当てて加熱分解したりしてもよい。
被覆粒子の組成に依っては、一定量の被覆粒子を秤量してるつぼに入れた後、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウムなどの融剤、または、炭酸ナトリウムとほう酸などの混合融剤を加えて、高温で加熱することでアルカリ融解してもよい。アルカリ融解した場合は、その後、塩酸、硝酸、硫酸、またはフッ化水素酸などの酸を加えて酸性にすることで、被覆粒子を溶液化することができる。
被覆粒子の組成に依っては、一定量の被覆粒子を秤量してるつぼに入れた後、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウムなどの融剤、または、炭酸ナトリウムとほう酸などの混合融剤を加えて、高温で加熱することでアルカリ融解してもよい。アルカリ融解した場合は、その後、塩酸、硝酸、硫酸、またはフッ化水素酸などの酸を加えて酸性にすることで、被覆粒子を溶液化することができる。
ICP-AES装置の測定可能な濃度領域に合わせて上記溶液化試料を適宜希釈したあと、ICP-AES装置に試料を導入して、試料中に含まれる元素の定量分析を行う。ICP-AES測定の結果から、被覆粒子全体における金属または半金属元素Pの原子数の合計に対する金属または半金属元素Qの原子数の合計の比Nを算出する。
<被覆粒子の製造方法>
本実施形態にかかる被覆粒子の粒子群の製造方法は、特に限定されない。例えば、下記の工程を含むことができる。
工程(1):第二の無機化合物の原料を溶媒に混合し溶液を調製する工程
工程(2):第一の無機化合物の粒子群を前記溶液に混合する工程
工程(3):溶液中で第二の無機化合物の前駆体を析出させる工程
工程(4):第一の無機化合物の粒子群及び第二の無機化合物の前駆体を含む混合物を溶媒より分離する工程
工程(5):第二の無機化合物の前駆体を第二の無機化合物に転化させる工程
工程(6):必要に応じて、第一の無機化合物及び第二の無機化合物を含む粒子群を解砕し被覆粒子を得る工程
本実施形態にかかる被覆粒子の粒子群の製造方法は、特に限定されない。例えば、下記の工程を含むことができる。
工程(1):第二の無機化合物の原料を溶媒に混合し溶液を調製する工程
工程(2):第一の無機化合物の粒子群を前記溶液に混合する工程
工程(3):溶液中で第二の無機化合物の前駆体を析出させる工程
工程(4):第一の無機化合物の粒子群及び第二の無機化合物の前駆体を含む混合物を溶媒より分離する工程
工程(5):第二の無機化合物の前駆体を第二の無機化合物に転化させる工程
工程(6):必要に応じて、第一の無機化合物及び第二の無機化合物を含む粒子群を解砕し被覆粒子を得る工程
工程(1)
第二の無機化合物の原料とは、金属または半金属元素Qを含み、工程(3)において第二の無機化合物の前駆体に転化できるものを指す。第二の無機化合物の原料は、無機化合物に限定されず、例えば有機金属錯体などの有機物であってもよい。溶媒の種類は、特に限定されず、例えば、水または有機溶媒であることができる。また、溶媒に無機化合物、有機物の溶質が溶解していてもよい。第二の無機化合物の原料を溶媒に混合し溶液を調製したのち、さらに他の物質を溶液に混合してもよい。
第二の無機化合物の原料とは、金属または半金属元素Qを含み、工程(3)において第二の無機化合物の前駆体に転化できるものを指す。第二の無機化合物の原料は、無機化合物に限定されず、例えば有機金属錯体などの有機物であってもよい。溶媒の種類は、特に限定されず、例えば、水または有機溶媒であることができる。また、溶媒に無機化合物、有機物の溶質が溶解していてもよい。第二の無機化合物の原料を溶媒に混合し溶液を調製したのち、さらに他の物質を溶液に混合してもよい。
工程(2)
第一の無機化合物の粒子群を前記溶液に混合する方法は、特に限定されず、例えば、前記溶液を撹拌した状態で、第一の無機化合物の粒子を投入することによって混合することができる。第一の無機化合物の粒子群は単独で投入してもよく、他の溶媒や溶質と同時に投入してもよい。第一の無機化合物の粒子群を混合することにより、第二の無機化合物の原料が別の物質に変化したり、固体として析出したりしてもよい。
第一の無機化合物の粒子群を前記溶液に混合する方法は、特に限定されず、例えば、前記溶液を撹拌した状態で、第一の無機化合物の粒子を投入することによって混合することができる。第一の無機化合物の粒子群は単独で投入してもよく、他の溶媒や溶質と同時に投入してもよい。第一の無機化合物の粒子群を混合することにより、第二の無機化合物の原料が別の物質に変化したり、固体として析出したりしてもよい。
工程(3)
第二の無機化合物の前駆体とは、後述の工程によって第二の無機化合物に転化できるものを指す。第二の無機化合物の前駆体は、第二の無機化合物の原料と同じ物質であっても、異なる物質であってもよい。第二の無機化合物の前駆体を析出させる方法としては、例えば、溶媒のpHや組成を変化させ第二の無機化合物の原料の溶解度を低下させる方法、第二の無機化合物の原料を溶媒に対する溶解度が低い物質に変化させる方法、が挙げられる。工程(2)で得られる溶液中で第二の無機化合物の前駆体を析出させることで、第一の無機化合物の粒子群及び第二の無機化合物の前駆体を含む混合物が得られる。第二の無機化合物の前駆体は、第一の無機化合物の粒子の表面に析出させることが望ましい。
第二の無機化合物の前駆体とは、後述の工程によって第二の無機化合物に転化できるものを指す。第二の無機化合物の前駆体は、第二の無機化合物の原料と同じ物質であっても、異なる物質であってもよい。第二の無機化合物の前駆体を析出させる方法としては、例えば、溶媒のpHや組成を変化させ第二の無機化合物の原料の溶解度を低下させる方法、第二の無機化合物の原料を溶媒に対する溶解度が低い物質に変化させる方法、が挙げられる。工程(2)で得られる溶液中で第二の無機化合物の前駆体を析出させることで、第一の無機化合物の粒子群及び第二の無機化合物の前駆体を含む混合物が得られる。第二の無機化合物の前駆体は、第一の無機化合物の粒子の表面に析出させることが望ましい。
工程(4)
第一の無機化合物の粒子群及び第二の無機化合物の前駆体を含む混合物を溶媒より分離する方法は、特に限定されず、例えば、ろ紙またはメンブレンフィルター及びろ過装置を用いて、前記混合物をろ別する方法が挙げられる。
第一の無機化合物の粒子群及び第二の無機化合物の前駆体を含む混合物を溶媒より分離する方法は、特に限定されず、例えば、ろ紙またはメンブレンフィルター及びろ過装置を用いて、前記混合物をろ別する方法が挙げられる。
工程(5)
溶媒を分離した前記混合物中の第二の無機化合物の前駆体を第二の無機化合物に転化させる方法は、特に限定されず、例えば、溶媒を分離した前記混合物を電気炉に入れ、加熱する方法が挙げられる。第二の無機化合物の前駆体を第二の無機化合物に転化させることによって、第一の無機化合物から成るコア部及び当該コア部の表面の少なくとも一部を覆う第二の無機化合物から成るシェル部を有する被覆粒子を含む粒子群が得られる。
溶媒を分離した前記混合物中の第二の無機化合物の前駆体を第二の無機化合物に転化させる方法は、特に限定されず、例えば、溶媒を分離した前記混合物を電気炉に入れ、加熱する方法が挙げられる。第二の無機化合物の前駆体を第二の無機化合物に転化させることによって、第一の無機化合物から成るコア部及び当該コア部の表面の少なくとも一部を覆う第二の無機化合物から成るシェル部を有する被覆粒子を含む粒子群が得られる。
工程(6)
第一の無機化合物及び第二の無機化合物を含む粒子群が塊状物を形成している場合には、必要に応じて、塊状物を解砕すればよい。解砕方法は、特に限定されず、例えば、塊状物を乳鉢に入れ乳棒を用いて解砕する方法及びボールミルを用いて解砕する方法が挙げられる。解砕の条件、例えば、加える力の強さ及び解砕を行う時間、を適宜変更することにより、得られる被覆粒子の平均粒子径を調整することができる。
第一の無機化合物及び第二の無機化合物を含む粒子群が塊状物を形成している場合には、必要に応じて、塊状物を解砕すればよい。解砕方法は、特に限定されず、例えば、塊状物を乳鉢に入れ乳棒を用いて解砕する方法及びボールミルを用いて解砕する方法が挙げられる。解砕の条件、例えば、加える力の強さ及び解砕を行う時間、を適宜変更することにより、得られる被覆粒子の平均粒子径を調整することができる。
<被覆粒子を含む粉体組成物>
本発明の一実施形態は、上記の被覆粒子の粒子群及び他の粉体を含有する粉体組成物である。このような粉体組成物は、後述する固体組成物の熱膨張率を制御するためのフィラーとして好適に利用することができる。粉体組成物における被覆粒子の含有量に限定はなく、含有量に応じて熱膨張量を制御する機能を発揮することができる。熱膨張量を効率よく制御する観点から、上記の被覆粒子の含有量は75質量%以上であっても良く、85%質量%以上であっても良く、95質量%以上であってもよい。
本発明の一実施形態は、上記の被覆粒子の粒子群及び他の粉体を含有する粉体組成物である。このような粉体組成物は、後述する固体組成物の熱膨張率を制御するためのフィラーとして好適に利用することができる。粉体組成物における被覆粒子の含有量に限定はなく、含有量に応じて熱膨張量を制御する機能を発揮することができる。熱膨張量を効率よく制御する観点から、上記の被覆粒子の含有量は75質量%以上であっても良く、85%質量%以上であっても良く、95質量%以上であってもよい。
粉体組成物における、被覆粒子の粒子群以外の他の粉体の例は、炭酸カルシウム、タルク、マイカ、シリカ、クレー、ウォラストナイト、チタン酸カリウム、ゾノトライト、石膏繊維、アルミボレート、アラミド繊維、炭素繊維、ガラス繊維、ガラスフレーク、ポリオキシベンゾイルウイスカー、ガラスバルーン、カーボンブラック、黒鉛、アルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、酸化ベリリウム、フェライト、酸化鉄、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸鉛、ゼオライト、鉄粉、アルミ粉、硫酸バリウム、ホウ酸亜鉛、赤燐、酸化マグネシウム、ハイドロタルサイト、酸化アンチモン、水酸化アルミ、水酸化マグネシウム、炭酸亜鉛、TiO2、TiOである。
粉体組成物のD50は、上記の被覆粒子の粒子群のD50と同様に設定することができる。
粉体組成物の製造方法は特に限定はされないが、例えば、上記被覆粒子の粒子群と、他の粉体とを混合し、必要に応じて、解砕、ふるい分け、粉砕等により粒子径分布を調整すればよい。
<成形体>
本実施形態にかかる成形体は、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物の成形体である。本実施形態における成形体は、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物の焼結により得られる焼結体であってよい。
本実施形態にかかる成形体は、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物の成形体である。本実施形態における成形体は、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物の焼結により得られる焼結体であってよい。
通常、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物を焼結することにより成形体を得る。この場合、被覆粒子中の第一の無機化合物の結晶構造が維持される温度範囲で焼結を行うことが好適である。
焼結体を得るためには公知の種々の焼結方法を適用できる。焼結体を得る方法としては、通常の加熱、ホットプレス、放電プラズマ焼結などの方法が採用できる。
なお、本実施形態にかかる成形体は、焼結体に限られず、例えば、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物の加圧成形により得られた圧粉体であってもよい。
本実施形態に係る上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物の成形体によれば、熱膨張の少ない部材を提供することができ、温度変化した際の部材の寸法変化を極めて小さくできる。したがって、温度による寸法変化に特に敏感な装置に用いられる種々の部材に好適に利用できる。
本実施形態に係る成型体は上記の被覆粒子の粒子群を含み、被覆粒子が要件1を満たす第一の無機化合物から成るコア部を有しているので、被覆粒子を添加しない場合と比べて成形体の熱線膨張係数を低くすることができる。したがって、この成形体によれば、温度変化した際の寸法変化が極めて少ない部材を得ることができる。このため、温度による寸法変化に特に敏感な光学部材や半導体製造装置用部材に好適に利用できる。
また、被覆粒子は、第一の無機化合物よりも体積抵抗率の高い第二の無機化合物から成るシェル部を有しているので、成形体における体積抵抗率を、十分高くできる。したがって、電気絶縁性が必要とされる部材への適応が容易である。
<固体組成物>
本実施形態に係る固体組成物は、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物と、第一の材料とを含む。
本実施形態に係る固体組成物は、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物と、第一の材料とを含む。
[第一の材料]
第一の材料としては、特に限定はされないが、樹脂、アルカリ金属珪酸塩、セラミックス、金属などを挙げることができる。第一の材料は、上記の被覆粒子同士を結合させるバインダ材料、又は、上記の被覆粒子の粒子群または粉体組成物を分散状態で保持するマトリクス材料であることができる。
第一の材料としては、特に限定はされないが、樹脂、アルカリ金属珪酸塩、セラミックス、金属などを挙げることができる。第一の材料は、上記の被覆粒子同士を結合させるバインダ材料、又は、上記の被覆粒子の粒子群または粉体組成物を分散状態で保持するマトリクス材料であることができる。
樹脂の例は、熱可塑性樹脂、及び、熱又は活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物である。
熱可塑性樹脂の例は、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレンなど)、ABS樹脂、ポリアミド(ナイロン6、ナイロン6,6など)、ポリアミドイミド、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、液晶ポリマー、ポリフェニレンエーテル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテサルフォン、ポリケトン、ポリスチレン、及びポリエーテルエーテルケトンである。
熱硬化型樹脂の例は、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂(ノボラック樹脂、レゾール樹脂など)、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、及びメラミン樹脂等である。
活性エネルギー線硬化型樹脂の例は、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂であり、例えば、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリルアクリレート樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂、フェノールメタクリレート樹脂であることができる。樹脂の他の例は、シリコーン系、ウレタン系、ゴム系、アクリル系などの粘着剤である。
活性エネルギー線硬化型樹脂の例は、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂であり、例えば、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、アクリルアクリレート樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂、フェノールメタクリレート樹脂であることができる。樹脂の他の例は、シリコーン系、ウレタン系、ゴム系、アクリル系などの粘着剤である。
第一の材料は、上記樹脂を1種含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
耐熱性を高くできる観点から、第一の材料は、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルフォン、液晶ポリマー、ポリイミド、ポリアミドイミド、シリコーンであることが好ましい。
アルカリ金属珪酸塩としては、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムが挙げられる。第一の材料は、アルカリ金属珪酸塩を1種含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。これらの材料は耐熱性が高いので好ましい。
セラミックスとしては、特に限定はされないが、アルミナ、シリカ(珪素酸化物、シリカガラスを含む)、チタニア、ジルコニア、マグネシア、セリア、イットリア、酸化亜鉛、酸化鉄等の酸化物系セラミックス;窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の窒化物系セラミックス;シリコンカーバイド、炭酸カルシウム、硫酸アルミニウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、チタン酸カリウム、タルク、カオリンクレー、カオリナイト、ハロイサイト、パイロフィライト、モンモリロナイト、セリサイト、マイカ、アメサイト、ベントナイト、アスベスト、ゼオライト、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ藻土、ケイ砂等のセラミックスが挙げられる。第一の材料は、セラミックスを1種含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
セラミックスは、耐熱性を高くできるので好ましい。放電プラズマ焼結などによって焼結体を作ることができる。
セラミックスは、耐熱性を高くできるので好ましい。放電プラズマ焼結などによって焼結体を作ることができる。
金属としては特に限定はされないが、アルミニウム、タンタル、ニオブ、チタン、モリブデン、鉄、ニッケル、コバルト、クロム、銅、銀、金、プラチナ、鉛、錫、タングステン、等の金属単体、ステンレス鋼(SUS)等の合金、及びこれらの混合物を挙げることができる。第一の材料は、金属を1種含んでいてもよく2種以上含んでいてもよい。このような金属は、耐熱性を高くできるので好ましい。
[その他の成分]
固体組成物は、第一の材料及び上記被覆粒子の粒子群又は粉体組成物以外のその他の成分を含んでいてもよい。この成分としては、例えば、触媒が挙げられる。触媒としては、特に限定はされないが、酸性化合物、アルカリ性化合物、有機金属化合物などが挙げられる。酸性化合物としては、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、燐酸、蟻酸、酢酸、蓚酸等の酸を用いることができる。アルカリ性化合物としては、水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム等を用いることができる。有機金属化合物としては、アルミニウム、ジルコニウム、スズ、チタン又は亜鉛を含むもの等が挙げられる。
固体組成物は、第一の材料及び上記被覆粒子の粒子群又は粉体組成物以外のその他の成分を含んでいてもよい。この成分としては、例えば、触媒が挙げられる。触媒としては、特に限定はされないが、酸性化合物、アルカリ性化合物、有機金属化合物などが挙げられる。酸性化合物としては、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、燐酸、蟻酸、酢酸、蓚酸等の酸を用いることができる。アルカリ性化合物としては、水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム等を用いることができる。有機金属化合物としては、アルミニウム、ジルコニウム、スズ、チタン又は亜鉛を含むもの等が挙げられる。
固体組成物中の上記被覆粒子の含有量は特に限定されず、含有量に応じて熱膨張を制御する機能を発揮できる。固体組成物中の上記被覆粒子の含有量は、例えば、1重量%以上とすることができ、3重量%以上であってもよく、5重量%以上であってもよく、10重量%以上であってもよく、20重量%以上であってもよく、40重量%以上であってもよく、70重量%以上であってもよい。上記被覆粒子の含有量が高くなると、熱線膨張係数の低減効果が発揮され易い。固体組成物中の上記被覆粒子の含有量は、例えば、99重量%以下とすることができる。固体組成物中の上記被覆粒子の含有量は、95重量%以下であってもよく、90重量%以下であってもよい。
固体組成物中の第一の材料の含有量は、例えば、1重量%以上とすることができる。固体組成物中の第一の材料の含有量は、5重量%以上であってもよく、10重量%以上であってもよい。固体組成物中の第一の材料の含有量は、例えば、99重量%以下とすることができる。固体組成物中の第一の材料の含有量は、97重量%以下であってもよく、95重量%以下であってもよく、90重量%以下であってもよく、80重量%以下であってもよく、60重量%以下であってもよく、30重量%以下であってもよい。
本実施形態に係る固体組成物は上記の被覆粒子の粒子群を含み、被覆粒子が要件1を満たす第一の無機化合物から成るコア部を有しているので、被覆粒子を添加しない場合と比べて固体組成物の熱線膨張係数を低くすることができる。したがって、この固体組成物によれば、温度変化した際の寸法変化が極めて少ない部材を得ることができる。このため、温度による寸法変化に特に敏感な光学部材や半導体製造装置用部材に好適に利用できる。
また、被覆粒子は、第一の無機化合物よりも体積抵抗率の高い第二の無機化合物から成るシェル部を有しているので、固体組成物における体積抵抗率を、被覆粒子を有しない場合に比べて減少させないことができる。
<液体組成物>
本実施形態に係る液体組成物は、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物と、第二の材料とを含む。液体組成物は25℃において流動性を有する組成物である。この液体組成物は、上記の固体組成物の原料であることができる。
「25℃において流動性を有する」とは、所定の容器内に液状組成物を供給して液面を水平とした後、当該容器を45度傾斜させ、1時間後に当該液面が移動又は変形することを言う。
本実施形態に係る液体組成物は、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物と、第二の材料とを含む。液体組成物は25℃において流動性を有する組成物である。この液体組成物は、上記の固体組成物の原料であることができる。
「25℃において流動性を有する」とは、所定の容器内に液状組成物を供給して液面を水平とした後、当該容器を45度傾斜させ、1時間後に当該液面が移動又は変形することを言う。
[第二の材料]
第二の材料は液状であり、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物を分散させられるものであってよい。第二の材料は、第一の材料の原料であることができる。
第二の材料は液状であり、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物を分散させられるものであってよい。第二の材料は、第一の材料の原料であることができる。
例えば、第一の材料がアルカリ金属珪酸塩である場合には、第二の材料は、アルカリ金属珪酸塩、及び、アルカリ金属珪酸塩を溶解又は分散することができる溶媒を含むことができる。第一の材料が熱可塑性樹脂である場合には、第二の材料は、熱可塑性樹脂、及び、熱可塑性樹脂を溶解又は分散することができる溶媒を含むことができる。第一の材料が、熱又は活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物である場合には、第二の材料は、硬化前の熱又は活性エネルギー線硬化型樹脂である。
硬化前の熱硬化型樹脂は、室温で流動性を有し、加熱すると架橋反応などにより硬化する。硬化前の熱硬化型樹脂は、樹脂を1種含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
硬化前の活性エネルギー線硬化型樹脂は、室温で流動性を有し、光(UVなど)又は電子線などの活性エネルギー線の照射により、架橋反応などが起こり硬化する。硬化前の活性エネルギー線硬化型樹脂は、硬化性モノマー及び/又は硬化性オリゴマーを含み、必要に応じて、さらに、溶媒、及び/又は、光開始剤を含むことができる。硬化性モノマー及び硬化性オリゴマーの例は、光硬化性モノマー及び光硬化性オリゴマーである。光硬化性モノマーの例は単官能又は多官能アクリレートモノマーである。光硬化性オリゴマーの例は、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、アクリルアクリレート、ポリエステルアクリレート、フェノールメタクリレートである。
溶媒の例は、アルコール溶媒、エーテル溶媒、ケトン溶媒、グリコール溶媒、炭化水素溶媒、非プロトン性極性溶媒などの有機溶媒、水が挙げられる。また、アルカリ金属珪酸塩の場合の溶媒は例えば水である。
[その他の成分]
本実施形態の液体組成物は、第二の材料及び上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物以外のその他の成分を含んでいてもよい。例えば、第一の材料で挙げたその他の成分を含むことができる。
本実施形態の液体組成物は、第二の材料及び上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物以外のその他の成分を含んでいてもよい。例えば、第一の材料で挙げたその他の成分を含むことができる。
液体組成物中の上記被覆粒子の含有量は特に限定されず、硬化後の固体組成物における熱膨張率の制御の観点から適宜設定できる。具体的には、固体組成物中の上記被覆粒子の含有量と同様にすることができる。
<液体組成物の製造方法>
液体組成物の製造方法は特に制限されない。例えば、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物と、第二の材料とを攪拌混合することで液体組成物を得ることができる。攪拌方法としては、例えばミキサーによる攪拌混合が挙げられる。あるいは、超音波処理により、被覆粒子を第二の材料中に分散させることが可能である。
液体組成物の製造方法は特に制限されない。例えば、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体組成物と、第二の材料とを攪拌混合することで液体組成物を得ることができる。攪拌方法としては、例えばミキサーによる攪拌混合が挙げられる。あるいは、超音波処理により、被覆粒子を第二の材料中に分散させることが可能である。
混合工程に用いられる混合方法としては、例えば、ボールミル法、自転・公転ミキサー、インペラ旋回法、ブレード旋回法、旋回薄膜法、ローター/ステーター式ミキサー法、コロイドミル法、高圧ホモジナイザー法、超音波分散法が挙げられる。混合工程においては、複数の混合方法を順番に行っても、同時に複数の混合方法を行ってもよい。
混合工程において組成物を均質化するとともに、せん断を与えることで、組成物の流動性及び変形性を高めることができる。
混合工程において組成物を均質化するとともに、せん断を与えることで、組成物の流動性及び変形性を高めることができる。
<固体組成物の製造方法>
上記の液体組成物を所望の形状に成形した後、液体組成物中の第二の材料を第一の材料に転化することにより、上記の被覆粒子の粒子群と第一材料とを複合化した固体組成物を製造することができる。
上記の液体組成物を所望の形状に成形した後、液体組成物中の第二の材料を第一の材料に転化することにより、上記の被覆粒子の粒子群と第一材料とを複合化した固体組成物を製造することができる。
例えば、第二の材料が、アルカリ金属珪酸塩、及び、アルカリ金属珪酸塩を溶解又は分散することができる溶媒を含む場合、及び、熱可塑性樹脂、及び、熱可塑性樹脂を溶解又は分散することができる溶媒を含む場合には、液体組成物を所望の形状にした上で、液体組成物から溶媒を除去することにより、上記の被覆粒子の粒子群と第一の材料(アルカリ金属塩又は熱可塑性樹脂)を含む固体組成物を得ることができる。
溶媒の除去方法は、自然乾燥、真空乾燥、加熱などにより溶媒を蒸発させる方法を適用できる。粗大な気泡の発生を抑制する観点から、溶媒を除去する際には、混合物の温度を溶媒の沸点以下に維持しつつ溶媒を除去することが好適である。
第二の材料が、硬化前の熱又は活性エネルギー線硬化型樹脂である場合には、液体組成物を所望の形状にした上で、熱又は活性エネルギー線(UV等)により液体組成物の硬化処理を行えばよい。
液体組成物を所定の形状にする方法の例は、型内に注ぎ込むこと、及び、基板表面に塗布してフィルム形状とすることである。
また、第一の材料がセラミックス又は金属の場合には、以下のようにすることができる。第一の材料の原料粉と、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体混合物との混合物を調製し、混合物を熱処理して第一の材料の原料粉を焼結することにより、焼結体としての第一の材料と、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体混合物と、を含む固体組成物が得られる。必要に応じて、アニーリング等の熱処理により、固体組成物の細孔の調整を行うことができる。焼結方法としては、通常の加熱、ホットプレス、放電プラズマ焼結などの方法が採用できる。
放電プラズマ焼結とは、第一の材料の原料粉と、上記の被覆粒子の粒子群又は粉体混合物との混合物を加圧しながら、混合物にパルス状の電流を通電させる。これにより、第一の材料の原料粉間で放電が生じ、第一の材料の原料粉を加熱させて焼結させることができる。
得られる化合物が空気と触れて変質することを防止するために、プラズマ焼結工程は、アルゴン、窒素、真空などの不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
プラズマ焼結工程における加圧圧力は、0MPaを超え100MPa以下の範囲が好ましい。高密度の第一の材料を得るため、プラズマ焼結工程における加圧圧力は10MPa以上とすることが好ましく、30MPa以上とすることがより好ましい。
プラズマ焼結工程の加熱温度は、目的物である第一の材料の融点よりも十分に低いことが好ましい。
さらに、得られた固体組成物の熱処理によって、細孔の大きさや分布などの調整を行うことができる。
続いて、上記の固体組成物及び成形体の具体的な使用形態について説明する。
上記実施形態にかかる固体組成物及び成形体は、電気絶縁性に優れるので、電子デバイス用部材、機械部材、容器、光学部材、接着剤であることができる。
上記実施形態にかかる固体組成物及び成形体は、電気絶縁性に優れるので、電子デバイス用部材、機械部材、容器、光学部材、接着剤であることができる。
[電子デバイス用部材]
電子デバイス用部材の例は、封止部材、導電性接着剤、回路基板、プリプレグ、絶縁シートである。
電子デバイス用部材の例は、封止部材、導電性接着剤、回路基板、プリプレグ、絶縁シートである。
封止部材の例は、半導体素子の封止部材、アンダーフィル部材、3D-LSI用インターチップフィルである。半導体素子の例は、パワートランジスタ、パワーICなどのパワー半導体;LED素子などの発光素子である。上記固体組成物及び成形体を用いた封止部材によれば、熱線膨張係数の差による割れを抑制することが可能になる。
導電性接着剤の例は、異方性導電フィルム、異方性導電ペーストである。導電性接着剤に本実施形態の被覆粒子を含有させることで、接着部材の熱線膨張を下げることができ、異種材料接触部分における、割れや反りの問題を無くすことが可能になり、また、電気絶縁性を高めることが可能になる。
回路基板は、金属層と、金属層上に設けられた電気絶縁層と、を備えている。電気絶縁層に、上記固体組成物及び成形体を用いることにより、電気絶縁性を維持したまま熱線膨張係数を下げ、金属層の熱線膨張係数との差を小さくすることができ、反りや割れといった問題を無くすことが可能になる。回路基板の具体例としては、プリント回路基板、多層プリント配線基板、ビルドアップ基板、キャパシタ内蔵基板等が挙げられる。
プリプレグは、補強基材と、当該補強基材に含浸させたマトリックス材と、を含有する含浸基材の半硬化物である。プリプレグに本実施形態の被覆粒子を含有させることにより、硬化後のプリプレグが熱負荷のかかる環境下においても高い寸法安定性を発揮することが可能になる。
絶縁シートの例は、ポリ塩化ビニルなどの樹脂シートである。絶縁シートに上記被覆粒子を含有させることにより、電気絶縁性を保ちつつ寸法精度を向上させることが可能になる。
[機械部材]
機械部材とは、種々の機械装置を構成する部材である。機械装置の例は、切削装置などの工作機械、プロセス機器、半導体製造装置である。機械部材の例は、固定機構、移動機構、工具などである。上記固体組成物及び成形体を用いた放熱部材によれば、熱膨張による寸法ずれを抑制することができ、工作精度、加工精度などの精度を向上させること可能になる。また、異なる材料の部材間の接合部分に用いることも好適である。
機械部材とは、種々の機械装置を構成する部材である。機械装置の例は、切削装置などの工作機械、プロセス機器、半導体製造装置である。機械部材の例は、固定機構、移動機構、工具などである。上記固体組成物及び成形体を用いた放熱部材によれば、熱膨張による寸法ずれを抑制することができ、工作精度、加工精度などの精度を向上させること可能になる。また、異なる材料の部材間の接合部分に用いることも好適である。
また、機械部材は回転部材であってもよい。回転部材とは、例えば歯車のように、回転しながら他の部材と力学的な作用を及ぼしあう部材を指す。回転部材においては、熱膨張によって寸法が変化すると、かみ合わせが悪く、摩耗するなどの問題が生じることから、上記固体組成物及び成形体を適用するのに好適である。
また、機械部材は基板であってもよい。基板においては、熱膨張によって寸法が変化すると、位置ずれを起こすなどの問題が生じることから、上記固体組成物及び成形体を適用するのに好適である。
[容器]
容器とは、気体、液体、固体などを収容するための部材である。例えば、容器の例は、成形体を作製するための金型である。例えば金型においては、熱膨張によって寸法が変化すると、成形体の寸法精度が保てないなどの問題が生じることから、上記固体組成物及び成形体を適用するのに好適である。
容器とは、気体、液体、固体などを収容するための部材である。例えば、容器の例は、成形体を作製するための金型である。例えば金型においては、熱膨張によって寸法が変化すると、成形体の寸法精度が保てないなどの問題が生じることから、上記固体組成物及び成形体を適用するのに好適である。
[光学部材]
光学部材の例は、光ファイバ、光導波路、レンズ、反射鏡、プリズム、光学フィルタ、回折格子、ファイバーグレーティング、波長変換部材である。レンズの例は、光ピックアップレンズ、カメラ用レンズである。光導波路の例は、アレイドウエーブガイドや平面光回路である。
光学部材の例は、光ファイバ、光導波路、レンズ、反射鏡、プリズム、光学フィルタ、回折格子、ファイバーグレーティング、波長変換部材である。レンズの例は、光ピックアップレンズ、カメラ用レンズである。光導波路の例は、アレイドウエーブガイドや平面光回路である。
光学部材は、温度の変化にともない格子間隔、屈折率、光路長等が変化すると、特性が変動するという問題を有している。上記固体組成物及び成形体を用いた光学部材又は光学部材の固定部材又は支持基材によれば、このような温度に基づく光学部材の特性の変動を小さくすることが可能になる。
[接着剤]
接着剤の例は、マトリックス材としてのエポキシ、シリコーン樹脂などの熱硬化性樹脂と、上記の被覆粒子とを含む。接着剤は、硬化前は液状であってもよいし、固体状であってもよい。この接着剤の硬化物は、低い熱線膨張係数を有することができるので、割れを抑制することが可能になる。特に、熱負荷のかかる耐熱接着部材への適用などに好適である。
接着剤の例は、マトリックス材としてのエポキシ、シリコーン樹脂などの熱硬化性樹脂と、上記の被覆粒子とを含む。接着剤は、硬化前は液状であってもよいし、固体状であってもよい。この接着剤の硬化物は、低い熱線膨張係数を有することができるので、割れを抑制することが可能になる。特に、熱負荷のかかる耐熱接着部材への適用などに好適である。
以下、本発明を実施例により更に詳しく説明する。
1.被覆粒子の第一の無機化合物の結晶構造解析
結晶構造の解析として、粉末X線回折測定装置SmartLab(株式会社リガク製)を用いて、下記の条件で、温度を変えて、被覆粒子の粒子群を粉末X線回折測定し、粉末X線回折パターンを得た。第一の無機化合物について、得られた粉末X線回折パターンに基づいて、PDXL2(株式会社リガク製)ソフトウェアを用い、最小二乗法による格子定数の精密化を行い、2つの格子定数、すなわち、a軸長、及び、c軸長を求めた。
1.被覆粒子の第一の無機化合物の結晶構造解析
結晶構造の解析として、粉末X線回折測定装置SmartLab(株式会社リガク製)を用いて、下記の条件で、温度を変えて、被覆粒子の粒子群を粉末X線回折測定し、粉末X線回折パターンを得た。第一の無機化合物について、得られた粉末X線回折パターンに基づいて、PDXL2(株式会社リガク製)ソフトウェアを用い、最小二乗法による格子定数の精密化を行い、2つの格子定数、すなわち、a軸長、及び、c軸長を求めた。
測定装置:粉末X線回折測定装置SmartLab(株式会社リガク製)
X線発生器:CuKα線源 電圧45kV、電流200mA
スリット:スリット幅2mm
スキャンステップ:0.02deg
スキャン範囲:5-80deg
スキャンスピード:10deg/min
X線検出器:一次元半導体検出器
測定雰囲気:Ar 100mL/min
試料台:専用のガラス基板SiO2製
X線発生器:CuKα線源 電圧45kV、電流200mA
スリット:スリット幅2mm
スキャンステップ:0.02deg
スキャン範囲:5-80deg
スキャンスピード:10deg/min
X線検出器:一次元半導体検出器
測定雰囲気:Ar 100mL/min
試料台:専用のガラス基板SiO2製
2.被覆粒子の表面のX線光電子分光(XPS)分析
後述の方法で製造した被覆粒子の表面のXPS測定(Quantera SXM、アルバック・ファイ株式会社製)を実施した。具体的には、得られた被覆粒子を専用の基板に充填し、Al-Kα線をX線源として用い、光電子取り出し角を45度、アパーチャー直径を100μmとして、電子とArイオンによる帯電中和を行うことで測定し、スペクトルを取得した。そして、XPSのデータ解析ソフトウェア「MuitiPak」(アルバック・ファイ株式会社製)を用い、炭素の1sスペクトルにおいて表面汚染炭化水素に帰属されるピークを284.6eVとして帯電補正を行った。その後、チタンの2pスペクトルの領域で検出されたピークと、アルミニウムまたはケイ素の2sスペクトルの領域で検出されたピークについて、それぞれピークフィッティングを行った。ピークフィッティングから各ピークの面積値が求まり、これに装置の相対感度係数を掛け合わせて、金属または半金属元素Pの原子数PXPS、COREに対する、金属または半金属元素Qの原子数QXPS、SHELLの比、つまり原子数の比M(QXPS、SHELL/PXPS、CORE)を算出した。
後述の方法で製造した被覆粒子の表面のXPS測定(Quantera SXM、アルバック・ファイ株式会社製)を実施した。具体的には、得られた被覆粒子を専用の基板に充填し、Al-Kα線をX線源として用い、光電子取り出し角を45度、アパーチャー直径を100μmとして、電子とArイオンによる帯電中和を行うことで測定し、スペクトルを取得した。そして、XPSのデータ解析ソフトウェア「MuitiPak」(アルバック・ファイ株式会社製)を用い、炭素の1sスペクトルにおいて表面汚染炭化水素に帰属されるピークを284.6eVとして帯電補正を行った。その後、チタンの2pスペクトルの領域で検出されたピークと、アルミニウムまたはケイ素の2sスペクトルの領域で検出されたピークについて、それぞれピークフィッティングを行った。ピークフィッティングから各ピークの面積値が求まり、これに装置の相対感度係数を掛け合わせて、金属または半金属元素Pの原子数PXPS、COREに対する、金属または半金属元素Qの原子数QXPS、SHELLの比、つまり原子数の比M(QXPS、SHELL/PXPS、CORE)を算出した。
3.被覆粒子全体に含まれる金属または半金属元素Pの原子数に対する金属または半金属元素Qの原子数の比の算出
後述の方法で製造した被覆粒子の粒子群を20mg秤量してニッケル製るつぼに入れた。金属または半金属元素QがAlの場合は融剤として水酸化ナトリウム(メルク株式会社製、(粒状)分析用)を3g、金属または半金属元素QがSiの場合は融剤として水酸化ナトリウム(富士フイルム和光純薬株式会社、試薬特級)を3g加えた後、ニッケル製るつぼを電気炉に入れて、600℃で20分間加熱してアルカリ融解した。得られた融解物に純水を30mL加えて溶解させた後、PTFE製のビーカーに溶液を移して、純水で2倍に希釈した塩酸(富士フイルム和光純薬株式会社製、精密分析用、濃度35~37%)を20mL加え、溶液を酸性とした。その後、ホットプレートに置いて酸性溶液が80℃になるようにして1時間加熱し、目視で残渣物が無いことを確認した。こうして被覆粒子を完全に溶解させた溶液に純水を加えて100mLとした後、10倍希釈してから、誘導結合プラズマ発光分析(ICP-AES)(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製、SPS3000)装置にこの試料溶液を導入して、試料溶液中に含まれる金属または半金属元素Pと金属または半金属元素Qを定量分析した。なお、上記試料溶液と同じ濃度になるようにアルカリと酸のみを加えたブランク溶液に、金属または半金属元素Pと金属または半金属元素Qの原子吸光用標準液(Tiの場合:富士フイルム和光純薬株式会社、チタン標準液(Ti 1000)、Alの場合:富士フイルム和光純薬株式会社、アルミニウム標準液(Al 100)、Siの場合:富士フイルム和光純薬株式会社、けい素標準液(Si 1000))をそれぞれ添加して標準溶液を作製した。この標準溶液を使用し、検量線法によって金属または半金属元素Pと金属または半金属元素Qを定量した。得られたICP-AES測定の結果から、被覆粒子全体に含まれる金属または半金属元素Pの原子数PALLに対する、金属または半金属元素Qの原子数QALLの比N(QALL/PALL)を算出した。
後述の方法で製造した被覆粒子の粒子群を20mg秤量してニッケル製るつぼに入れた。金属または半金属元素QがAlの場合は融剤として水酸化ナトリウム(メルク株式会社製、(粒状)分析用)を3g、金属または半金属元素QがSiの場合は融剤として水酸化ナトリウム(富士フイルム和光純薬株式会社、試薬特級)を3g加えた後、ニッケル製るつぼを電気炉に入れて、600℃で20分間加熱してアルカリ融解した。得られた融解物に純水を30mL加えて溶解させた後、PTFE製のビーカーに溶液を移して、純水で2倍に希釈した塩酸(富士フイルム和光純薬株式会社製、精密分析用、濃度35~37%)を20mL加え、溶液を酸性とした。その後、ホットプレートに置いて酸性溶液が80℃になるようにして1時間加熱し、目視で残渣物が無いことを確認した。こうして被覆粒子を完全に溶解させた溶液に純水を加えて100mLとした後、10倍希釈してから、誘導結合プラズマ発光分析(ICP-AES)(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製、SPS3000)装置にこの試料溶液を導入して、試料溶液中に含まれる金属または半金属元素Pと金属または半金属元素Qを定量分析した。なお、上記試料溶液と同じ濃度になるようにアルカリと酸のみを加えたブランク溶液に、金属または半金属元素Pと金属または半金属元素Qの原子吸光用標準液(Tiの場合:富士フイルム和光純薬株式会社、チタン標準液(Ti 1000)、Alの場合:富士フイルム和光純薬株式会社、アルミニウム標準液(Al 100)、Siの場合:富士フイルム和光純薬株式会社、けい素標準液(Si 1000))をそれぞれ添加して標準溶液を作製した。この標準溶液を使用し、検量線法によって金属または半金属元素Pと金属または半金属元素Qを定量した。得られたICP-AES測定の結果から、被覆粒子全体に含まれる金属または半金属元素Pの原子数PALLに対する、金属または半金属元素Qの原子数QALLの比N(QALL/PALL)を算出した。
4.被覆粒子の体積抵抗率の評価
被覆粒子の体積抵抗率の評価として、粉体抵抗測定ユニットMCP-PD51(株式会社三菱化学アナリテック製)と、低抵抗率計Loresta-GP MCP-T610(株式会社三菱化学アナリテック製)と、手動油圧ポンプ(エナパック株式会社製)を用いて測定を行った。1.5gの被覆粒子の粒子群を、抵抗測定ユニットの半径10.0mmのシリンダーに入れ、手動油圧ポンプで被覆粒子の粒子群に64MPaの圧力をかけて、低抵抗率計で抵抗値を測定した。このときの被覆粒子の粒子群の抵抗値、端子間距離及びシリンダー径から、被覆粒子の体積抵抗率を算出した。
被覆粒子の体積抵抗率の評価として、粉体抵抗測定ユニットMCP-PD51(株式会社三菱化学アナリテック製)と、低抵抗率計Loresta-GP MCP-T610(株式会社三菱化学アナリテック製)と、手動油圧ポンプ(エナパック株式会社製)を用いて測定を行った。1.5gの被覆粒子の粒子群を、抵抗測定ユニットの半径10.0mmのシリンダーに入れ、手動油圧ポンプで被覆粒子の粒子群に64MPaの圧力をかけて、低抵抗率計で抵抗値を測定した。このときの被覆粒子の粒子群の抵抗値、端子間距離及びシリンダー径から、被覆粒子の体積抵抗率を算出した。
被覆粒子の体積抵抗率が103Ωcm以上である場合に、電気絶縁性が良好であると評価した。
5.熱膨張制御特性(珪酸ソーダ複合材料)の評価
以下の方法により、熱膨張制御特性を評価した。
被覆粒子の粒子群を80重量部と、一号珪酸ソーダ(富士化学株式会社製)を20重量部と、純水を10重量部とを混合することで混合物を得た。得られた混合物をポリテトラフルオロエチレン製の鋳型に入れ、以下の硬化プロファイルで硬化させた。80℃まで15分で昇温、80℃で20分保持、その後、150℃まで20分で昇温、150℃で60分保持した。さらに、その後320℃まで昇温させ10分保持し、降温する処理を行い、以上の工程から固体組成物を得た。
以下の方法により、熱膨張制御特性を評価した。
被覆粒子の粒子群を80重量部と、一号珪酸ソーダ(富士化学株式会社製)を20重量部と、純水を10重量部とを混合することで混合物を得た。得られた混合物をポリテトラフルオロエチレン製の鋳型に入れ、以下の硬化プロファイルで硬化させた。80℃まで15分で昇温、80℃で20分保持、その後、150℃まで20分で昇温、150℃で60分保持した。さらに、その後320℃まで昇温させ10分保持し、降温する処理を行い、以上の工程から固体組成物を得た。
得られた固体組成物の熱線膨張係数を、以下の装置を用いて測定した。
測定装置:Thermo plus EVO2 TMAシリーズ Thermo plus 8310
測定条件は温度領域:25℃~320℃、温度変化速度:10℃/min、サンプリング間隔:2.7秒とした。代表値として190~210℃における熱線膨張係数の値を算出した。
リファレンス固体:アルミナ
測定装置:Thermo plus EVO2 TMAシリーズ Thermo plus 8310
測定条件は温度領域:25℃~320℃、温度変化速度:10℃/min、サンプリング間隔:2.7秒とした。代表値として190~210℃における熱線膨張係数の値を算出した。
リファレンス固体:アルミナ
固体組成物の測定試料の典型的な大きさとしては、15mm×4mm×4mmとした。
固体組成物の測定試料の最長辺を試料長Lとして温度Tにおける試料長L(T)を測定した。30℃の試料長(L(30℃)に対する寸法変化率ΔL(T)/L(30℃)を下記式により算出した。
ΔL(T)/L(30℃)=(L(T)-L(30℃))/L(30℃)
固体組成物の測定試料の最長辺を試料長Lとして温度Tにおける試料長L(T)を測定した。30℃の試料長(L(30℃)に対する寸法変化率ΔL(T)/L(30℃)を下記式により算出した。
ΔL(T)/L(30℃)=(L(T)-L(30℃))/L(30℃)
190℃~210℃の温度範囲で、寸法変化率ΔL(T)/L(30℃)を求め、寸法変化率ΔL(T)/L(30℃)をTの関数として最小二乗法により線形近似した場合の傾きを190℃~210℃における熱線膨張係数α(1/℃)とした。
熱線膨張係数の値が-10ppm/℃以下である場合に、熱膨張制御特性が良好であると評価した。
6.被覆粒子の粒子群の粒子径分布測定
以下の方法により被覆粒子の粒子群の粒子径分布について測定した。
前処理:被覆粒子の粒子群1重量部に対して水を99重量部加えて希釈し、超音波洗浄機により超音波処理を行った。超音波処理時間は10分間とし、超音波洗浄機としては、株式会社日本精機製作所製のNS200-6Uを用いた。超音波の周波数としては、約28kHzで実施した。
測定:レーザー回折散乱法により、体積基準の粒子径分布を測定した。
測定条件:Ti2O3粒子の屈折率を2.40とした。
測定装置:レーザー回折式粒度分布測定装置 Mastersizer 2000(Malvern Instruments Ltd.製)
以下の方法により被覆粒子の粒子群の粒子径分布について測定した。
前処理:被覆粒子の粒子群1重量部に対して水を99重量部加えて希釈し、超音波洗浄機により超音波処理を行った。超音波処理時間は10分間とし、超音波洗浄機としては、株式会社日本精機製作所製のNS200-6Uを用いた。超音波の周波数としては、約28kHzで実施した。
測定:レーザー回折散乱法により、体積基準の粒子径分布を測定した。
測定条件:Ti2O3粒子の屈折率を2.40とした。
測定装置:レーザー回折式粒度分布測定装置 Mastersizer 2000(Malvern Instruments Ltd.製)
(実施例1~6及び比較例1~6)
以下の方法により実施例1~6及び比較例2~6のコア粒子1及び2を得た。
<コア粒子1及び2>
プラスチック製の1Lポリボトル(外径97.4mm)に、1000gの2mmφジルコニアボールと、166.7gのTiO2(石原産業株式会社製、CR-EL)と、33.3gのTi(株式会社高純度化学研究所製、<38μm)とを入れて、ボールミル架台に1Lポリボトルを載せて回転数60rpmでボールミル混合を4時間行い、200gの原料混合粉を作製した。前記操作を5回繰り返して、1000gの前記原料混合粉を作製した。
以下の方法により実施例1~6及び比較例2~6のコア粒子1及び2を得た。
<コア粒子1及び2>
プラスチック製の1Lポリボトル(外径97.4mm)に、1000gの2mmφジルコニアボールと、166.7gのTiO2(石原産業株式会社製、CR-EL)と、33.3gのTi(株式会社高純度化学研究所製、<38μm)とを入れて、ボールミル架台に1Lポリボトルを載せて回転数60rpmでボールミル混合を4時間行い、200gの原料混合粉を作製した。前記操作を5回繰り返して、1000gの前記原料混合粉を作製した。
1000gの前記原料混合粉を焼成用容器(株式会社ニッカトー製、SSA-Tサヤ150角)に充填し、電気炉(ネムス株式会社製、FD-40×40×60-1Z4-18TMP)に入れ、電気炉内の雰囲気をArで置換して、原料混合粉を焼成した。焼成プログラムを、0℃から1500℃まで15時間で昇温させ、1500℃で3時間保持させ、1500℃から0℃まで15時間で降温させる設定にした。焼成プログラム作動中は2L/分でArガスをフローした。焼成後、粉末1を得た。粉末1を45μm目開きの篩及び180μm目開きの篩を用いて粒子径が45μm以上180μm以下となるように分級し、粉末2を得た。粉末2を乳鉢と乳棒を用いて10分間粉砕することによりコア粒子1を得た。粉末1を20μm目開きの篩を用いて粒子径が20μm以下となるように分級し、粉末3を得た。粉末3を水酸化ナトリウム(富士フイルム和光純薬株式会社製)の水溶液(1.0mol/L)に24時間浸漬させ、ろ過・純水洗浄してコア粒子2を得た。コア粒子1及び2に含まれる金属元素はTiのみであった。
<実施例1~5>
40mLの純水に、表1に示す量のアルミン酸ナトリウム(富士フイルム和光純薬株式会社製)を混合して溶液とし、前記溶液を撹拌しながら硫酸(富士フイルム和光純薬株式会社製、1.0mol/L)を滴下して、溶液のpHを表1に示す値に調整し、塩基性アルミニウムイオン水溶液を調製した。10mLの純水に、2.300gのコア粒子1を混合し、コア粒子1の分散液を作製した。前記塩基性アルミニウムイオン水溶液に前記分散液を混合し、300rpmで10分間撹拌し、混合液を作製した。前記混合液を撹拌しながら硫酸(富士フイルム和光純薬株式会社製、1.0mol/L)を滴下して、混合液のpHを8.0に調整し、pH調整混合液を得た。前記pH調整混合液に対してろ紙(株式会社アドバンテック製、No.1、90mmφ)を用いて吸引ろ過を行い、残渣を得た。200mLの純水に、前記残渣を混合し、10分間撹拌し、再度同じ条件で吸引ろ過を行い、洗浄済み残渣を得た。前記洗浄済み残渣を乾燥皿に乗せ、乾燥炉に入れ、洗浄済み残渣を乾燥した。昇温プログラムを、20℃から80℃まで15分で昇温させ、80℃で20分保持させ、80℃から150℃まで30分で昇温させ、150℃で10時間保持させ、150℃から20℃まで自然冷却させる設定にした。乾燥後、塊状固体を得た。
40mLの純水に、表1に示す量のアルミン酸ナトリウム(富士フイルム和光純薬株式会社製)を混合して溶液とし、前記溶液を撹拌しながら硫酸(富士フイルム和光純薬株式会社製、1.0mol/L)を滴下して、溶液のpHを表1に示す値に調整し、塩基性アルミニウムイオン水溶液を調製した。10mLの純水に、2.300gのコア粒子1を混合し、コア粒子1の分散液を作製した。前記塩基性アルミニウムイオン水溶液に前記分散液を混合し、300rpmで10分間撹拌し、混合液を作製した。前記混合液を撹拌しながら硫酸(富士フイルム和光純薬株式会社製、1.0mol/L)を滴下して、混合液のpHを8.0に調整し、pH調整混合液を得た。前記pH調整混合液に対してろ紙(株式会社アドバンテック製、No.1、90mmφ)を用いて吸引ろ過を行い、残渣を得た。200mLの純水に、前記残渣を混合し、10分間撹拌し、再度同じ条件で吸引ろ過を行い、洗浄済み残渣を得た。前記洗浄済み残渣を乾燥皿に乗せ、乾燥炉に入れ、洗浄済み残渣を乾燥した。昇温プログラムを、20℃から80℃まで15分で昇温させ、80℃で20分保持させ、80℃から150℃まで30分で昇温させ、150℃で10時間保持させ、150℃から20℃まで自然冷却させる設定にした。乾燥後、塊状固体を得た。
実施例1、実施例3及び実施例5では、前記塊状固体を乳鉢と乳棒を用いて解砕し、その後、さらに乳鉢と乳棒を用いて10分間粉砕して、被覆粒子の粒子群を得た。
実施例2及び実施例4では、前記塊状固体を乳鉢と乳棒を用いて解砕し、粉砕をしないで被覆粒子の粒子群を得た。
<比較例1>
コア粒子1を比較例1の粒子とした。
コア粒子1を比較例1の粒子とした。
<比較例2~6>
アルミン酸ナトリウムの量、塩基性アルミニウムイオン水溶液のpH及び粉砕の有無を変更した以外は、実施例1~5と同様の方法により比較例2~6の被覆粒子の粒子群を得た。
アルミン酸ナトリウムの量、塩基性アルミニウムイオン水溶液のpH及び粉砕の有無を変更した以外は、実施例1~5と同様の方法により比較例2~6の被覆粒子の粒子群を得た。
<実施例6>
115mLのエタノール(富士フイルム和光純薬株式会社製)に15mLの純水、6mLのアンモニア水(富士フイルム和光純薬株式会社製)を混合して溶液とし、前記溶液を撹拌しながら15gのコア粒子2を混合し、コア粒子2の分散液を作製した。前記分散液を撹拌しながら24mLのオルトケイ酸テトラエチル(富士フイルム和光純薬株式会社製)を混合し、室温で6時間混合を継続し混合液を作製した。ろ紙(株式会社アドバンテック製、No.1、90mmφ)を用いて混合液の吸引ろ過を行い、残渣を得た。100mLの純水に、前記残渣を混合し、10分間撹拌し、再度同じ条件で吸引ろ過を行い、洗浄済み残渣を得た。前記洗浄済み残渣を乾燥皿に乗せ、乾燥炉に入れ、洗浄済み残渣を乾燥した。昇温プログラムを、20℃から80℃まで15分で昇温させ、80℃で20分保持させ、80℃から150℃まで30分で昇温させ、150℃で10時間保持させ、150℃から20℃まで自然冷却させる設定にした。乾燥後、被覆粒子の粒子群を得た。
115mLのエタノール(富士フイルム和光純薬株式会社製)に15mLの純水、6mLのアンモニア水(富士フイルム和光純薬株式会社製)を混合して溶液とし、前記溶液を撹拌しながら15gのコア粒子2を混合し、コア粒子2の分散液を作製した。前記分散液を撹拌しながら24mLのオルトケイ酸テトラエチル(富士フイルム和光純薬株式会社製)を混合し、室温で6時間混合を継続し混合液を作製した。ろ紙(株式会社アドバンテック製、No.1、90mmφ)を用いて混合液の吸引ろ過を行い、残渣を得た。100mLの純水に、前記残渣を混合し、10分間撹拌し、再度同じ条件で吸引ろ過を行い、洗浄済み残渣を得た。前記洗浄済み残渣を乾燥皿に乗せ、乾燥炉に入れ、洗浄済み残渣を乾燥した。昇温プログラムを、20℃から80℃まで15分で昇温させ、80℃で20分保持させ、80℃から150℃まで30分で昇温させ、150℃で10時間保持させ、150℃から20℃まで自然冷却させる設定にした。乾燥後、被覆粒子の粒子群を得た。
粉末X線回折測定の結果より、実施例1~6で得られた被覆粒子の第一の無機化合物から成るコア部はコランダム型酸化チタンであった。また、得られたa軸長とc軸長を用いて、以下の(D)式により、実施例1~6の酸化チタンのT1=150℃における|dA(T)/dT|を求めた。
|dA(T)/dT|=|A(T+50)-A(T)|/50 … (D)
|dA(T)/dT|=|A(T+50)-A(T)|/50 … (D)
ICP-AES測定の結果より、実施例1~5で得られた被覆粒子は、チタンとアルミニウムから構成される化合物であることがわかった。このことから、実施例1~5で得られた被覆粒子の第二の無機化合物が、アルミニウムから構成される化合物であり、第二の無機化合物は、酸化アルミニウム、水酸化酸化アルミニウム及び水酸化アルミニウムからなる群から選択される少なくとも一つの化合物を含むことが分かった。
実施例1~5及び比較例2~6について、第一の無機化合物から成るコア部に含まれる金属または半金属元素はTiのみであり、第二の無機化合物から成るシェル部に含まれる金属または半金属元素はAlのみであった。従って、金属または半金属元素PはTiであり、金属または半金属元素QはAlであり、存在状況1に相当した。被覆粒子の表面のXPS測定の結果より、コア部に含まれるTiの原子数P(Ti)XPS、COREに対する、シェル部に含まれるAlの原子数Q(Al)XPS、SHELLの比M=Q(Al)XPS、SHELL/P(Ti)XPS、COREを求めた。
ICP-AES測定の結果より、実施例6で得られた被覆粒子は、チタンとケイ素から構成される化合物であることがわかった。このことから、実施例6で得られた被覆粒子の第二の無機化合物が、ケイ素から構成される化合物であり、第二の無機化合物は、酸化ケイ素を含むことが分かった。
実施例6について、第一の無機化合物から成るコア部に含まれる金属または半金属元素はTiのみであり、第二の無機化合物から成るシェル部に含まれる金属または半金属元素はSiのみであった。従って、金属または半金属元素PはTiであり、金属または半金属元素QはSiであり、存在状況1に相当した。被覆粒子の表面のXPS測定の結果より、コア部に含まれるTiの原子数P(Ti)XPS、COREに対する、シェル部に含まれるSiの原子数Q(Si)XPS、SHELLの比M=Q(Si)XPS、SHELL/P(Ti)XPS、COREを求めた。
ICP-AES測定の結果より、実施例1~5について、被覆粒子全体における、Tiの原子数P(Ti)ALLと、Alの原子数Q(Al)ALLの比N=Q(Al)ALL/P(Ti)ALLを求めた。
ICP-AES測定の結果より、実施例6について、被覆粒子全体における、Tiの原子数P(Ti)ALLと、Siの原子数Q(Si)ALLの比N=Q(Si)ALL/P(Ti)ALLを求めた。
比Mと比Nの値を比較し、比Nの値よりも比Mの値の方が十分に大きいことから、被覆粒子の第一の無機化合物から成るコア部が第二の無機化合物から成るシェル部に被覆されていることが確認された。
得られた実施例1~6及び比較例1~6の各測定の結果を表1にまとめる。
実施例にかかる被覆粒子によれば、固体組成物における熱線膨張係数を低くでき、かつ、体積抵抗率を高くできた。すなわち、熱膨張制御特性に優れるとともに、電気絶縁性に優れる粒子群であった。
1…コア部、2…シェル部、10…被覆粒子。
Claims (12)
- 金属または半金属元素Pを含む第一の無機化合物から成るコア部、及び、
金属または半金属元素Qを含む第二の無機化合物から成り、前記コア部の表面の少なくとも一部を覆うシェル部を有する被覆粒子を複数含む粒子群であって、
前記金属または半金属元素Pと、前記金属または半金属元素Qとは、互いに異なる元素である、又は、互いに同一の元素であるが互いに電子状態が異なり、
前記第二の無機化合物の体積抵抗率は前記第一の無機化合物の体積抵抗率よりも高く、
前記第一の無機化合物は要件1を満たし、
前記被覆粒子は、要件2及び要件3を満たす、粒子群。
要件1:-200℃~1200℃における少なくとも一つの温度T1で|dA(T)/dT|が10ppm/℃以上である。
Aは(前記第一の無機化合物中の結晶のa軸(短軸)の格子定数)/(前記第一の無機化合物中の結晶のc軸(長軸)の格子定数)であり、各前記格子定数は前記第一の無機化合物のX線回折測定から得られる。
要件2:前記被覆粒子の表面のXPS測定において、前記コア部に含まれる前記金属または半金属元素Pの原子数PXPS、COREに対する、前記シェル部に含まれる前記金属または半金属元素Qの原子数QXPS、SHELLの比QXPS、SHELL/PXPS、COREが、45以上300以下である。
要件3:前記被覆粒子の平均粒子径が0.1μm以上100μm以下である。 - さらに、要件4を満たす請求項1に記載の粒子群。
要件4:前記粒子群に含まれる全ての被覆粒子において、前記金属または半金属元素Pの原子数の合計PALLに対する、前記金属または半金属元素Qの原子数の合計QALLの比QALL/PALLが、0.20以上0.50以下である。 - 前記金属または半金属元素Pが、d電子を有する金属元素である請求項1または2に記載の粒子群。
- 前記金属または半金属元素Pが、チタンである請求項1~3のいずれか一項に記載の粒子群。
- 前記第一の無機化合物が、TiOx(x=1.30~1.66)である請求項1~4のいずれか一項に記載の粒子群。
- 前記金属または半金属元素Qが、Al、Si、またはZrである請求項1~5のいずれか一項に記載の粒子群。
- 前記第二の無機化合物が、酸化物、水酸化酸化物及び水酸化物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物である請求項1~6のいずれか一項に記載の粒子群。
- 前記第二の無機化合物が、酸化アルミニウム、水酸化酸化アルミニウム及び水酸化アルミニウムからなる群から選択される少なくとも一つの化合物である請求項1~7のいずれか一項に記載の粒子群。
- 請求項1~8のいずれか1項に記載の粒子群を含む粉体組成物。
- 請求項1~8のいずれか1項に記載の粒子群又は請求項9に記載の粉体組成物を含有する固体組成物。
- 請求項1~8のいずれか1項に記載の粒子群又は請求項9に記載の粉体組成物を含有する液体組成物。
- 請求項1~8のいずれか1項に記載の粒子群又は請求項9に記載の粉体組成物の成形体。
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