WO2021199738A1 - 判定装置及びそれを備えるスイッチシステム - Google Patents

判定装置及びそれを備えるスイッチシステム Download PDF

Info

Publication number
WO2021199738A1
WO2021199738A1 PCT/JP2021/005593 JP2021005593W WO2021199738A1 WO 2021199738 A1 WO2021199738 A1 WO 2021199738A1 JP 2021005593 W JP2021005593 W JP 2021005593W WO 2021199738 A1 WO2021199738 A1 WO 2021199738A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
gate
source
effect transistor
junction field
determination
Prior art date
Application number
PCT/JP2021/005593
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
雄介 木下
秀俊 石田
Original Assignee
パナソニックIpマネジメント株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by パナソニックIpマネジメント株式会社 filed Critical パナソニックIpマネジメント株式会社
Priority to US17/904,384 priority Critical patent/US20230082396A1/en
Priority to JP2022511636A priority patent/JPWO2021199738A1/ja
Publication of WO2021199738A1 publication Critical patent/WO2021199738A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/6871Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M1/00Details of apparatus for conversion
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/08Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage
    • H03K17/082Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage by feedback from the output to the control circuit
    • H03K17/0822Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage by feedback from the output to the control circuit in field-effect transistor switches
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/08Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage
    • H03K17/081Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit
    • H03K17/0812Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit by measures taken in the control circuit
    • H03K17/08122Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit by measures taken in the control circuit in field-effect transistor switches
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K2017/6878Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors using multi-gate field-effect transistors

Definitions

  • the present disclosure relates to a determination device used for a semiconductor switch and a switch system including the determination device. More specifically, the present invention relates to a determination device for detecting overcurrent used in a semiconductor switch, and a switch system including the determination device.
  • Patent Document 1 discloses a protection circuit for a semiconductor element for electric power.
  • the protection circuit for a power semiconductor element disclosed in Patent Document 1 includes a drive circuit for driving the power semiconductor element, a current detection unit including a first resistor and an inductor connected in parallel, and a power semiconductor element. It is provided with a detection unit for detecting a short-circuit state of the above.
  • One end of the first resistor and one end of the inductor are connected to one terminal of a power semiconductor element.
  • the detection unit detects the short-circuit state of the power semiconductor element by comparing the voltage of one terminal of the power semiconductor element, which changes according to the current flowing through the first resistor and the inductor, with the short-circuit detection voltage.
  • the reference potential of the drive circuit is connected to the other end of the first resistor and the other end of the inductor.
  • An object of the present disclosure is to provide a determination device for detecting overcurrent of a semiconductor switch capable of suppressing power loss, and a switch system including the determination device.
  • the determination device includes a resistor and a determination circuit.
  • the resistance has a first end and a second end.
  • the first end of the resistor is connected to the gate.
  • the determination circuit is a semiconductor switch when there is a predetermined change in the gate-source voltage of the junction field-effect transistor in a range smaller than the gate drive voltage given between the second end of the resistor and the source. It is determined that an overcurrent is flowing in.
  • Another aspect of the switch system according to the present disclosure includes a determination device and a semiconductor switch.
  • the determination device and the switch system of the present disclosure can suppress power loss.
  • FIG. 1 is a circuit diagram of a switch system including a determination device according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is an operation explanatory view of a switch system provided with the same determination device.
  • FIG. 3A is an operation explanatory view of a switch system provided with the same determination device, and is an operation explanatory diagram when the switch is on and in a normal state.
  • FIG. 3B is an operation explanatory view of a switch system provided with the same determination device, and is an operation explanatory diagram when the switch is on and an overcurrent flows.
  • FIG. 3C is an operation explanatory view of a switch system provided with the same determination device, and is an operation explanatory diagram when the switch is off and in a normal state.
  • FIG. 3A is an operation explanatory view of a switch system provided with the same determination device, and is an operation explanatory diagram when the switch is on and in a normal state.
  • FIG. 3B is an operation explanatory view of a switch system provided with the same determination device, and is
  • FIG. 4 is a circuit diagram of a switch system including the determination device according to the second embodiment.
  • FIG. 5A is a circuit diagram of the first determination circuit in the determination device of the same.
  • FIG. 5B is a circuit diagram of the second determination circuit in the determination device of the same.
  • FIG. 6A is a circuit diagram showing another configuration example of the first determination circuit in the determination device of the same.
  • FIG. 6B is a circuit diagram showing another configuration example of the second determination circuit in the determination device of the same.
  • FIG. 7 is an operation explanatory view of a switch system including the determination device according to the third embodiment.
  • FIG. 8 is an operation explanatory view of a switch system provided with the same determination device.
  • FIG. 9 is a circuit diagram of a switch system including the determination device according to the fourth embodiment.
  • FIG. 10 is an operation explanatory view of a switch system provided with the same determination device.
  • FIG. 11 is an operation explanatory view of a switch system including the same determination device.
  • FIG. 12 is a circuit diagram of a switch system including the determination device according to the fifth embodiment.
  • FIG. 13 is an operation explanatory view of a switch system including the same determination device.
  • FIG. 14 is a circuit diagram of a main part of the determination device of the same.
  • FIG. 15 is a circuit diagram of a switch system including the determination device according to the sixth embodiment.
  • FIG. 16 is a circuit diagram of a control circuit in the determination device according to the modified example.
  • FIG. 1 is a circuit diagram of a switch system 8 including a determination device 2 according to the first embodiment.
  • the determination device 2 according to the first embodiment and the switch system 8 including the determination device 2 will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
  • the semiconductor switch 1 includes a gate 10G and a junction field effect transistor 10 having a source 10S corresponding to the gate 10G.
  • the junction field effect transistor 10 has a drain 10D corresponding to the gate 10G.
  • the determination device 2 is used to determine whether or not an overcurrent is flowing between the pair of main terminals of the semiconductor switch 1.
  • the determination device 2 includes a resistor Rg and a determination circuit 3.
  • the resistor Rg has a first end and a second end. The first end of the resistor Rg is connected to the gate 10G.
  • the determination circuit 3 there was a predetermined change in the gate-source voltage Vgs of the junction field effect transistor 10 in a range smaller than the gate drive voltage Vo given between the second end of the resistor Rg and the source 10S. In this case, it is determined that an overcurrent is flowing through the semiconductor switch 1.
  • the switch system 8 includes a determination device 2 and a semiconductor switch 1. Further, the switch system 8 further includes a DC power supply 5 and a drive circuit 6. The drive circuit 6 supplies the gate drive voltage Vo to the junction field effect transistor 10 via the resistor Rg. Further, the determination device 2 further includes a control circuit 4. The control circuit 4 controls the semiconductor switch 1 based on the determination result of the determination circuit 3. Here, the control circuit 4 controls the semiconductor switch 1 by controlling the drive circuit 6 based on the determination result of the determination circuit 3.
  • the semiconductor switch 1 includes a junction field effect transistor 10 (hereinafter, also referred to as JFET 10).
  • the JFET 10 is, for example, a GaN-based GIT (Gate Injection Transistor).
  • JFET 10 does not include MOSFET (Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor).
  • the JFET 10 includes, for example, a substrate, a buffer layer, a first nitride semiconductor layer, a second nitride semiconductor layer, a source electrode, a gate electrode, a drain electrode, and a p-type layer.
  • the buffer layer is formed on the substrate.
  • the first nitride semiconductor layer is formed on the buffer layer.
  • the second nitride semiconductor layer is formed on the first nitride semiconductor layer.
  • the source electrode, gate electrode and drain electrode are formed on the second nitride semiconductor layer.
  • the p-type layer is interposed between the gate electrode and the second nitride semiconductor layer.
  • the diode Dgu see FIG.
  • the gate 10G in the JFET 10 includes a gate electrode and a p-type layer.
  • the source 10S in the JFET 10 includes a source electrode.
  • the drain 10D in the JFET 10 includes a drain electrode.
  • the substrate is, for example, a silicon substrate.
  • the buffer layer is, for example, an undoped GaN layer.
  • the first nitride semiconductor layer is, for example, an undoped GaN layer.
  • the second nitride semiconductor layer is, for example, an undoped AlGaN layer.
  • the p-type layer is, for example, a p-type AlGaN layer.
  • MOVPE Metal Organic Vapor Phase Epitaxy
  • (2.2) Drive circuit The drive circuit 6 is connected to the gate 10G of the JFET 10. In the switch system 8 according to the first embodiment, the drive circuit 6 is connected to the gate 10G of the JFET 10 via the resistor Rg.
  • the drive circuit 6 is a circuit that applies a gate voltage to the gate 10G of the JFET 10.
  • the drive circuit 6 outputs a gate drive voltage Vo corresponding to the DC voltage supplied from the DC power supply 5.
  • the drive circuit 6 has a power supply terminal and a ground terminal.
  • the ground terminal of the drive circuit 6 is connected to the source 10S of the JFET 10.
  • a DC power supply 5 having an output end on the high potential side and an output end on the low potential side is connected between the power supply terminal and the ground terminal of the drive circuit 6.
  • the output terminal on the high potential side of the DC power supply 5 is connected to the power supply terminal of the drive circuit 6.
  • the output terminal on the low potential side of the DC power supply 5 is connected to the ground terminal of the drive circuit 6.
  • the output voltage of the DC power supply 5 is, for example, 12V.
  • the DC power supply 5 is an insulated power supply.
  • the DC power supply 5 is not a component of the drive circuit 6.
  • the drive circuit 6 includes, for example, a driver IC (Integrated Circuit).
  • the driver IC is, for example, a CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor) inverter, and includes a reverse series circuit of a p-channel MOSFET and an n-channel MOSFET. This reverse series circuit is connected between the output end on the high potential side and the output end on the low potential side of the DC power supply 5.
  • the drains of the p-channel MOSFET and the n-channel MOSFET are connected to each other, the source of the p-channel MOSFET is connected to the output end on the high potential side of the DC power supply 5, and the source of the n-channel MOSFET is the DC power supply. It is connected to the output end on the low potential side of 5.
  • the judgment device 2 includes a resistor Rg and a determination circuit 3.
  • the resistor Rg is an element for determining the gate-source voltage Vgs applied between the gate 10G and the source 10S of the semiconductor switch 1 in the steady-on state of the semiconductor switch 1.
  • the resistance value of Rg is, for example, 800 ⁇ .
  • the first end of the resistor Rg is connected to the gate 10G of the JFET 10.
  • the second end of the resistor Rg is connected to the drive circuit 6.
  • the determination device 2 includes a resistor Rg connected between the drive circuit 6 and the gate 10G of the JFET 10.
  • the determination circuit 3 is a semiconductor switch when there is a predetermined change in the gate-source voltage Vgs of the JFET 10 in a range smaller than the gate drive voltage Vo given between the second end of the resistor Rg and the source 10S. It is determined that an overcurrent is flowing in 1.
  • a predetermined change in the gate-source voltage Vgs includes, for example, a change determined by a threshold.
  • the determination circuit 3 uses, for example, a reference voltage Vref smaller than the gate drive voltage Vo as a threshold value, and when the gate-source voltage Vgs becomes larger than the reference voltage Vref (condition of Vref ⁇ Vgs ⁇ Vo).
  • the overcurrent is a current having a magnitude exceeding the rated current of the main current I1 flowing between the pair of main terminals (drain 10D, source 10S) of the semiconductor switch 1, and is, for example, a short-circuit current.
  • the determination circuit 3 includes, for example, a comparator that compares the gate-source voltage Vgs with the reference voltage Vref.
  • the predetermined change in the gate-source voltage Vgs is not limited to the change determined by the threshold value, and may include the change determined by the amount of change in the gate-source voltage Vgs. Further, the amount of change may be the rate of change (dVgs / dt) of the gate-source voltage Vgs.
  • the control circuit 4 controls the drive circuit 6 based on the determination result of the determination circuit 3.
  • the execution body of the control circuit 4 includes a computer system.
  • the computer system has one or more computers.
  • the main configuration of a computer system is a processor and memory as hardware.
  • the processor executes the program recorded in the memory of the computer system, the function as the execution subject of the control circuit 4 (control unit) in the present disclosure is realized.
  • the program may be pre-recorded in the memory of the computer system, may be provided through a telecommunications line, or may be non-temporary, such as a memory card, optical disk, or hard disk drive (magnetic disk) readable by the computer system. It may be recorded and provided on a target recording medium.
  • a processor in a computer system is composed of one or more electronic circuits including a semiconductor integrated circuit (IC) or a large scale integrated circuit (LSI).
  • IC semiconductor integrated circuit
  • LSI large scale integrated circuit
  • a plurality of electronic circuits may be integrated on one chip, or may be distributed on a plurality of chips.
  • the plurality of chips may be integrated in one device, or may be distributed in a plurality of devices.
  • FIG. 2 on a schematic equivalent circuit of JFET 10, the voltage Vgu applied to the diode Dgu, the channel resistance Rchgd between the gate and drain of JFET 10, the channel resistance Rchgs between the gate and source of JFET 10, and the channel.
  • the voltage drop Vchgs at the resistor Rchgs and the main current I1 between the gate and the source are shown.
  • FIG. 3A is an operation explanatory diagram in a normal state when the semiconductor switch 1 is on and no overcurrent is flowing through the semiconductor switch 1.
  • FIG. 3B is an operation explanatory view when an overcurrent flows through the semiconductor switch 1.
  • FIG. 3C is an operation explanatory diagram in a normal state when the semiconductor switch 1 is in the off state and no overcurrent is flowing through the semiconductor switch.
  • the switch system 8 is used by connecting a load circuit between the drain 10D and the source 10S of the semiconductor switch 1.
  • a charging current Icha flows at a predetermined current value (for example, 10 mA).
  • the output voltage Vc of the DC power supply 5 is 12V
  • the gate drive voltage Vo is 12V
  • the threshold voltage of the JFET 10 is 3.2V
  • the predetermined voltage is 4V
  • the resistance of the resistor Rg is 1 k ⁇
  • the predetermined current value is 10 mA
  • the reference voltage Vref is 4.5 V, but is not limited to these values.
  • the control circuit 4 controls the semiconductor switch 1 by stopping the drive circuit 6 and setting the gate drive voltage Vo to 0V.
  • the determination circuit 3 determines the gate-source voltage Vgs of the junction field effect transistor 10 in a range smaller than the gate drive voltage Vo. When there is a change in, it is determined that an overcurrent is flowing through the semiconductor switch 1. Therefore, in the determination device 2 and the switch system 8 according to the first embodiment, it is possible to suppress the power loss.
  • the overcurrent can be detected without connecting the shunt resistor for overcurrent detection to the source 10S of the junction field effect transistor 10, and the power loss. Can be suppressed.
  • the determination device 2 can control the semiconductor switch 1 when an overcurrent flows through the semiconductor switch 1 by providing the control circuit 4.
  • FIG. 4 is a circuit diagram of a switch system 8a including the determination device 2a according to the second embodiment.
  • the switch system 8a according to the second embodiment includes a semiconductor switch 1a and a determination device 2a in place of the semiconductor switch 1 and the determination device 2 of the switch system 8 according to the first embodiment.
  • the same components as the determination device 2 and the switch system 8 according to the first embodiment are designated by the same reference numerals and description thereof will be omitted.
  • the semiconductor switch 1a is a bidirectional switch including two junction field effect transistors 10 (also referred to as JFET 10). In the semiconductor switch 1a, the drains 10D of the two JFETs 10 are connected to each other.
  • the two junction field effect transistors 10 include a first junction field effect transistor 11 and a second junction field effect transistor 12.
  • the first junction field effect transistor 11 is also referred to as a first JFET 11.
  • the second junction field effect transistor 12 is also referred to as a second JFET.
  • the gate 10G, the source 10S, and the drain 10D of the first JFET 11 are also referred to as the first gate 11G, the first source 11S, and the first drain 11D, respectively.
  • the gate 10G, the source 10S, and the drain 10D of the second JFET 12 are also referred to as the second gate 12G, the second source 12S, and the second drain 12D, respectively.
  • the gate-source voltage Vgs of the first JFET 11 is also referred to as a first gate-first source voltage Vgs1.
  • the gate-source voltage Vgs of the second JFET 12 is also referred to as a second gate-second source voltage Vgs2.
  • the first source 11S of the first JFET 11 and the second source 12S of the second JFET 12 form a pair of main terminals.
  • the switch system 8a is used by connecting a load circuit between the first source 11S and the second source 12S.
  • the determination device 2a includes two resistors Rg and two determination circuits 3.
  • the two resistors Rg include a first resistor Rg1 corresponding to the first JFET 11 and a second resistor Rg2 corresponding to the second JFET 12.
  • the resistance value of the second resistor Rg2 may be the same as or different from the resistance value of the first resistor Rg1.
  • the switch system 8a includes two drive circuits 6 and two DC power supplies 5.
  • the two drive circuits 6 include a first drive circuit 61 and a second drive circuit 62.
  • the two DC power supplies 5 include a first DC power supply 51 and a second DC power supply 52.
  • the first drive circuit 61 is connected to the first gate 11G of the first JFET 11 via the first resistor Rg1. Further, the first drive circuit 61 is supplied with the output voltage of the first DC power supply 51 (hereinafter, the first output voltage).
  • the first output voltage is, for example, 12V.
  • the output end on the high potential side of the first DC power supply 51 is connected to the power supply terminal of the first drive circuit 61.
  • the output end on the low potential side of the first DC power supply 51 is connected to the first source 11S of the first JFET 11.
  • the second drive circuit 62 is connected to the second gate 12G of the second JFET 12 via the second resistor Rg2. Further, the second drive circuit 62 is supplied with the output voltage of the second DC power supply 52 (hereinafter, the second output voltage).
  • the second output voltage is, for example, 12V.
  • the output end on the high potential side of the second DC power supply 52 is connected to the power supply terminal of the second drive circuit 62.
  • the output end on the low potential side of the second DC power supply 52 is connected to the second source 12S of the second JFET 12.
  • the gate drive voltage Vo output from the first drive circuit 61 is also referred to as a first gate drive voltage Vo1
  • the gate drive voltage Vo output from the second drive circuit 62 is also referred to as a second gate drive voltage Vo2.
  • the two determination circuits 3 include a first determination circuit 31 corresponding to the first JFET 11 and a second determination circuit 32 corresponding to the second JFET 12.
  • the voltage Vgs1 between the first gate and the first source at the first gate 11G of the first JFET 11 is higher than the first threshold voltage (for example, 3.2 V) of the first JFET 11. It is applied at a first predetermined voltage (for example, 4V), and a first charging current Icha1 flows at a predetermined current value in the first gate 11G of the first JFET 11. Further, the voltage Vgs2 between the second gate and the second source is applied to the second gate 12G of the second JFET 12 at a second predetermined voltage (for example, 4V) higher than the second threshold voltage (for example, 3.2V) of the second JFET 12. A second charging current, Icha2, flows through the second gate 12G of the second JFET 12 at a predetermined current value.
  • the diode Dgu of the second gate 12G (see FIG. 2) is used.
  • the voltage drop Vgu of is increased.
  • the second charging current Icha2 increases, and the voltage between the second source 12S and the second gate 12G decreases.
  • the voltage Vgs2 between the second gate and the second source of the second JFET 12 decreases.
  • the voltage Vgs1 between the first gate and the first source of the first JFET 11 increases. ..
  • the switch system 8a for example, when the main current I1 becomes an overcurrent while the main current I1 is flowing from the first source 11S to the second source 12S, the diode Dgu of the first gate 11G (see FIG. 2). ), The voltage drop Vgu increases. As a result, the first charging current Icha1 increases, and the voltage between the first source 11S and the first gate 11G decreases. As a result, the voltage Vgs1 between the first gate and the first source of the first JFET 11 decreases.
  • the voltage Vgs2 between the second gate and the second source of the second JFET 12 is increased. To increase.
  • FIG. 5A is a circuit diagram of the first determination circuit 31 in the determination circuit 2a.
  • the first determination circuit 31 includes, for example, the comparator Cp1 as shown in FIG. 5A.
  • the comparator Cp1 compares the voltage Vgs1 between the first gate and the first source with the first threshold value (reference voltage Vref1 + ⁇ V1).
  • ⁇ V1 is a constant voltage.
  • Vref1 + ⁇ V1) ⁇ Vo1.
  • the voltage Vgs1 between the first gate and the first source is input to the non-inverting input terminal of the comparator Cp1, and the first threshold value (reference voltage Vref1 + ⁇ V1) is input to the inverting input terminal of the comparator Cp1.
  • ⁇ V1 is not limited to a constant voltage and may be 0V.
  • FIG. 5B is a circuit diagram of the second determination circuit 32 in the determination circuit 2a.
  • the second determination circuit 32 includes a comparator Cp2, for example, as shown in FIG. 5B.
  • the comparator Cp2 compares the voltage Vgs2 between the second gate and the second source with the second threshold value (reference voltage Vref2 + ⁇ V2).
  • the second gate-second source voltage Vgs2 is input to the non-inverting input terminal of the comparator Cp2, and the second threshold value (reference voltage Vref2 + ⁇ V2) is input to the inverting input terminal of the comparator Cp2.
  • ⁇ V2 is not limited to a constant voltage and may be 0V.
  • the determination circuit 3 has a predetermined change in the gate-source voltage Vgs of the junction field effect transistor 10 in a range smaller than the gate drive voltage Vo. If this is the case, it is determined that an overcurrent is flowing through the semiconductor switch 1. Therefore, in the determination device 2a and the switch system 8a according to the second embodiment, it is possible to suppress the power loss.
  • FIG. 6A is a circuit diagram showing another configuration example of the first determination circuit 31 in the determination device 2a.
  • the voltage Vgs1 between the first gate and the first source is input to the non-inverting input terminal of the comparator Cp1, and the inverting input terminal of the comparator Cp1 is the steady state of the first JFET 11.
  • the first gate voltage Vg1 (at the time of normal) may be input.
  • the first gate voltage Vg1 in the steady state is, for example, a moving average value of the gate voltage (gate-source voltage Vgs) when the first JFET 11 is on.
  • FIG. 6B is a circuit diagram showing another configuration example of the second determination circuit 32 in the determination device 2a.
  • the voltage Vgs2 between the second gate and the second source is input to the non-inverting input terminal of the comparator Cp2, and the second JFET 12 is stationary at the inverting input terminal of the comparator Cp2.
  • the second gate voltage Vg2 (at the time of normal) may be input.
  • the constant second gate voltage Vg2 is, for example, a moving average value of the gate voltage (gate-source voltage Vgs) when the second JFET 11 is on.
  • FIG. 7 is an operation explanatory view of the switch system 8b including the determination device 2b according to the third embodiment.
  • the determination device 2b according to the third embodiment and the switch system 8b including the determination device 2b will be described with reference to FIG. 7.
  • the switch system 8b according to the third embodiment includes a determination device 2b instead of the determination device 2a of the switch system 8a according to the second embodiment.
  • the same components as the determination device 2a and the switch system 8a according to the second embodiment are designated by the same reference numerals and description thereof will be omitted.
  • the determination device 2b includes a third determination circuit 33 that determines whether or not there is an abnormality in the semiconductor switch 1a based on the determination result of the first determination circuit 31 and the determination result of the second determination circuit 32.
  • the determination device 2b further includes a control circuit 4b that controls the semiconductor switch 1a based on the determination result of the third determination circuit 33.
  • the third determination circuit 33 determines that there is an abnormality when the level of the output signal of the first comparator Cp1 and the level of the output signal of the second comparator Cp2 are different, and determines that there is an abnormality in the first comparator Cp1.
  • the level of the output signal and the level of the output signal of the second comparator Cp2 are the same, it is determined that there is no abnormality.
  • the switch system 8b when the voltage Vgs1 between the first gate and the first source increases in the first determination circuit 31, the logical value of the output signal is set to 1, and the voltage Vgs1 between the first gate and the first source decreases. In this case, the logical value of the output signal may be set to -1. Further, in the second determination circuit 32, when the voltage Vgs2 between the second gate and the second source increases, the logical value of the output signal is set to 1, and when the voltage Vgs2 between the second gate and the second source decreases, the logical value is set to 1. It may be configured so that the logical value of the output signal is -1.
  • the third determination circuit 33 determines that there is an abnormality when the logical value of the determination result of the first determination circuit 31 and the logical value of the determination result of the second determination circuit 32 are different from each other as shown in Table 2 below. , When the logical value of the determination result of the first determination circuit 31 and the logical value of the determination result of the second determination circuit 32 are the same, it may be configured to determine that there is no abnormality.
  • the control circuit 4b controls the first JFET 11 and the second JFET 12 based on the determination result of the third determination circuit 33.
  • the control circuit 4b controls the first JFET 11 and the second JFET 12 when the determination result in the third determination circuit 33 is abnormal. More specifically, the control circuit 4b controls the first drive circuit 61 to set the first gate drive voltage Vo1 to 0V and the second drive circuit when the determination result in the third determination circuit 33 is abnormal. 62 is controlled to set the second gate drive voltage Vo2 to 0V.
  • the determination device 2b and the switch system 8b according to the third embodiment can suppress power loss like the determination device 2a and the switch system 8a according to the second embodiment.
  • the overcurrent can be quickly cut off when the overcurrent flows through the semiconductor switch 1a.
  • the third determination circuit 33 determines the direction of the overcurrent when the level of the output signal of the first comparator Cp1 and the level of the output signal of the second comparator Cp2 are different, and determines the direction of the overcurrent, and the first comparator When the level of the output signal of Cp1 and the level of the output signal of the second comparator Cp2 are the same, it may be configured to determine that there is no abnormality.
  • FIG. 8 is an operation explanatory diagram of the switch system 8b including the determination device 2b.
  • the determination device 2b and the switch system 8b according to the third embodiment when the main current I1 of the semiconductor switch 1a flows from the second source 12S toward the first source 11S as shown in FIG. 7, FIG. As shown, the second JFET 12 is operating in diode mode.
  • the voltage Vgs1 between the first gate and the first source of the first JFET 11 is higher than the first reference voltage (Vref1 or Vref1 + ⁇ V1), and the voltage between the second gate and the second source of the second JFET 12 is increased.
  • the voltage Vgs2 is lower than the second reference voltage (Vref2 or Vref2 + ⁇ V2), the first JFET11 of the first JFET11 and the second JFET12 is turned off first.
  • the first JFET 11 is operating in the diode mode.
  • the voltage Vgs1 between the first gate and the first source of the first JFET 11 is lower than the first reference voltage
  • the voltage Vgs2 between the second gate and the second source of the second JFET 12 is second.
  • the second JFET 12 of the first JFET 11 and the second JFET 12 is turned off first.
  • the semiconductor switch 1a is turned off by making the timing at which the control circuit 4b turns off the first JFET 11 and the timing at which the second JFET 12 is turned off different as described above. It is possible to suppress heat generation in the semiconductor switch 1a at that time.
  • FIG. 9 is a circuit diagram of a switch system 8c including the determination device 2c according to the fourth embodiment.
  • the switch system 8c according to the fourth embodiment includes a semiconductor switch 1b and a determination device 2c instead of the semiconductor switch 1a and the determination device 2b of the switch system 8b according to the third embodiment.
  • the same components as the determination device 2b and the switch system 8b according to the third embodiment are designated by the same reference numerals and description thereof will be omitted.
  • the semiconductor switch 1b is a dual-gate type junction field effect transistor 10b (hereinafter, also referred to as JFET 10b) having two gates 10G and two sources 10S, and can be used as a bidirectional switch.
  • JFET 10b junction field effect transistor
  • one of the two gates 10G may be referred to as a first gate 11G, and the other may be referred to as a second gate 12G.
  • the source 10S corresponding to the first gate 11G may be referred to as the first source 11S
  • the source 10S corresponding to the second gate 12G may be referred to as the second source 12S.
  • the JFET10b is a type of GaN-based GIT.
  • the JFET 10b includes, for example, a substrate, a buffer layer, a first nitride semiconductor layer, a second nitride semiconductor layer, a first source electrode, a first gate electrode, a second gate electrode, and a second. It includes a source electrode, a first p-type layer, and a second p-type layer.
  • the buffer layer is formed on the substrate.
  • the first nitride semiconductor layer is formed on the buffer layer.
  • the second nitride semiconductor layer is formed on the first nitride semiconductor layer.
  • the first source electrode, the first gate electrode, the second gate electrode, and the second source electrode are formed on the second nitride semiconductor layer.
  • the first p-type layer is interposed between the first gate electrode and the second nitride semiconductor layer.
  • the second p-type layer is interposed between the second gate electrode and the second nitride semiconductor layer.
  • the first source 11S includes a first source electrode.
  • the first gate 11G includes a first gate electrode and a first p-type layer.
  • the second gate 12G includes a second gate electrode and a second p-type layer.
  • the second source 12S includes a second source electrode.
  • the substrate is, for example, a silicon substrate.
  • the buffer layer is, for example, an undoped GaN layer.
  • the first nitride semiconductor layer is, for example, an undoped GaN layer.
  • the second nitride semiconductor layer is, for example, an undoped AlGaN layer.
  • Each of the first p-type layer and the second p-type layer is, for example, a p-type AlGaN layer.
  • Impurities such as Mg, H, Si, C, and O that are inevitably mixed during growth by MOVPE and the like are present in each of the buffer layer, the first nitride semiconductor layer, and the second nitride semiconductor layer. May be good.
  • the second nitride semiconductor layer constitutes a heterojunction together with the first nitride semiconductor layer.
  • two-dimensional electron gas Two-Dimensional Electron Gas
  • the region containing the two-dimensional electron gas can function as an n-channel layer (electron conduction layer).
  • a state in which a voltage equal to or higher than the first threshold voltage (for example, 1.3 V) is not applied between the first gate 11G and the first source 11S is defined as a state in which the first gate 11G is off. say. Further, a state in which a voltage equal to or higher than the first threshold voltage is applied between the first gate 11G and the first source 11S with the first gate 11G as the high potential side is also referred to as an on state of the first gate 11G. Further, a state in which a voltage equal to or higher than the second threshold voltage (for example, 1.3 V) is not applied between the second gate 12G and the second source 12S is also referred to as an off state of the second gate 12G. Further, a state in which a voltage equal to or higher than the second threshold voltage is applied between the second gate 12G and the second source 12S with the second gate 12G as the high potential side is also referred to as an on state of the second gate 12G.
  • the JFET 10b realizes a normally-off type JFET by including the above-mentioned first p-type layer and second p-type layer.
  • the JFET 10b has a bidirectional on state, a bidirectional off state, a first diode state, and a bidirectional on state, a bidirectional off state, and a first diode state, depending on the combination of the first gate voltage and the second gate voltage given to the first gate 11G and the second gate 12G, respectively. It is possible to switch between the second diode state and the state.
  • the first gate voltage is a voltage applied between the first gate 11G and the first source 11S (voltage between the first gate and the first source Vgs1).
  • the second gate voltage is a voltage applied between the second gate 12G and the second source 12S (voltage between the second gate and the second source Vgs2).
  • the bidirectional on state is a state in which a bidirectional (first direction and a second direction opposite to the first direction) current is passed.
  • the bidirectional off state is a state in which bidirectional current is blocked.
  • the first diode state is a state in which a current in the first direction is passed.
  • the second diode state is a state in which a current in the second direction is passed.
  • the bidirectional ON state when the first gate 11G is in the ON state and the second gate 12G is in the ON state, the bidirectional ON state is set.
  • the bidirectional off state when the first gate 11G is in the off state and the second gate 12G is in the off state, the bidirectional off state is set.
  • the first diode state when the first gate 11G is in the off state and the second gate 12G is in the on state, the first diode state is set.
  • the second diode state when the first gate 11G is in the on state and the second gate 12G is in the off state.
  • the determination device 2c is provided with two resistors Rg and two determination circuits 3 as in the determination device 2b according to the third embodiment.
  • the two resistors Rg include a first resistor Rg1 connected to the first gate 11G and a second resistor Rg2 connected to the second gate 12G.
  • the two determination circuits 3 include a first determination circuit 31 corresponding to the first gate 11G and the first source 11S, and a second determination circuit 32 corresponding to the second gate 12G and the second source 12S.
  • the determination device 2c further includes a third determination circuit 33.
  • the third determination circuit 33 determines whether or not there is an abnormality in the semiconductor switch 1b based on the determination result of the first determination circuit 31 and the determination result of the second determination circuit 32.
  • the operation of the determination device 2c and the switch system 8c is the same as the operation of the determination device 2b and the switch system 8b according to the third embodiment.
  • FIGS. 10 and 11 are operation explanatory views of the switch system 8c including the determination device 2c. An operation example of the switch system 8c will be described with reference to FIGS. 10 and 11.
  • the voltage Vgu1, the voltage Vgu2, the channel resistance Rchgs1, the channel resistance Rchgs2, the internal resistance Rchgg, and the main current I1 are marked on the schematic equivalent circuit of the JFET 10b.
  • the voltage Vgu1 is the voltage applied to the diode of the first gate 11G.
  • the voltage Vgu2 is the voltage applied to the diode of the second gate 12G.
  • the channel resistance Rchgs1 is a channel resistance between the first gate and the first source of the JFET 10b.
  • the channel resistance Rchgs2 is a channel resistance between the second gate and the second source of the JFET 10b.
  • the internal resistance Rchgg is the internal resistance between the channel resistance Rchgs1 and the channel resistance Rchgs2.
  • the main current I1 is a current flowing from the second source 12S toward the first source 11S.
  • the main current I1 flowing from the second source 12S to the first source 11S is Is2s1, the voltage between the first gate and the first source is Vgs1, and the voltage between the second gate and the second source is Vgs2.
  • the first charging current flowing through the first resistance Rg1 is Icha1
  • the second charging current flowing through the second resistance Rg2 is Icha2, and these time changes are shown.
  • the semiconductor switch 1b is on and no overcurrent is flowing through the semiconductor switch 1b
  • Each of the first charging current Icha1 and the second charging current Icha2 is substantially constant.
  • the determination device 2c and the switch system 8c according to the fourth embodiment can suppress power loss like the determination device 2b and the switch system 8b according to the third embodiment.
  • the determination device 2c according to the fourth embodiment may include a control circuit similar to the control circuit 4b included in the determination device 2b according to the third embodiment.
  • FIG. 12 is a circuit diagram of a switch system 8d including the determination device 2d according to the fifth embodiment.
  • the determination device 2d and the switch system 8d including the determination device 2d according to the fifth embodiment will be described with reference to FIG.
  • the switch system 8d according to the fifth embodiment includes a semiconductor switch 1c and a determination device 2d instead of the semiconductor switch 1a and the determination device 2a of the switch system 8a according to the second embodiment.
  • the same components as the determination device 2a and the switch system 8a according to the second embodiment are designated by the same reference numerals and description thereof will be omitted.
  • the semiconductor switch 1a In the semiconductor switch 1a, the first drain 11D of the first JFET 11 and the second drain 12D of the second JFET 12 are connected, whereas in the semiconductor switch 1c, the first source 11S of the first JFET 11 and the second source 12S of the second JFET 12 are connected. Is connected.
  • one DC power supply 5 is shared by the first drive circuit 61 and the second drive circuit 62, and the output end on the low potential side of the DC power supply 5 is the first source 11S and the first source 11S of the first JFET 11. It is connected to the node between the 2JFET 12 and the second source 12S.
  • the first drain 11D of the first JFET 11 and the second drain 12D of the second JFET 12 form a pair of main terminals.
  • the switch system 8d is used by connecting a load circuit between the first drain 11D and the second drain 12D.
  • FIG. 13 is an operation explanatory diagram of the switch system 8d including the determination device 2d.
  • the main current flowing from the second drain 12D to the first drain 11D is I1
  • the voltage between the first gate and the first source is Vgs1
  • the voltage between the second gate and the second source is Vgs2.
  • the first discharge current flowing through the 1 resistor Rg1 is defined as Idis1
  • the second discharge current flowing through the second resistor Rg2 is defined as Idis2, and these time changes are shown.
  • the semiconductor switch 1c is on and no overcurrent is flowing through the semiconductor switch 1c, the main current I1, the first gate-first source voltage Vgs1, the second gate-second source voltage Vgs2, and so on.
  • Each of the first discharge current Idis1 and the second discharge current Idis2 is substantially constant.
  • the voltage Vgs1 between the first gate and the first source decreases, and the first discharge current Idis1 decreases.
  • the voltage Vgs2 between the second gate and the second source increases, and the second discharge current Idis2 increases.
  • the determination device 2d and the switch system 8d according to the fifth embodiment can suppress power loss like the determination device 2a and the switch system 8a according to the second embodiment.
  • FIG. 14 is a circuit diagram of a main part of the determination device 2a. As shown in FIG. 14, the first reference voltage Vref1 and the second reference voltage Vref2 can be made the same, and ⁇ V1 and ⁇ V2 can be made the same. As a result, in the determination device 2d, the circuit configuration can be simplified and the determination device 2d can be miniaturized.
  • the determination device 2d according to the fifth embodiment may include a third determination circuit similar to the third determination circuit 33 included in the determination device 2b according to the third embodiment.
  • the third determination circuit determines the direction of the overcurrent when the level of the output signal of the first comparator Cp1 and the level of the output signal of the second comparator Cp2 are different, and determines the direction of the overcurrent, and determines the direction of the overcurrent, and determines the direction of the overcurrent.
  • the level of the output signal of the second comparator and the level of the output signal of the second comparator Cp2 are the same, it may be configured to determine that there is no abnormality.
  • FIG. 15 is a circuit diagram of a switch system 8e including the determination device 2e according to the sixth embodiment.
  • the determination device 2e according to the sixth embodiment and the switch system 8e including the determination device 2e will be described with reference to FIG.
  • the determination device 2e and the switch system 8e according to the sixth embodiment are different from the determination device 2d and the switch system 8d according to the fifth embodiment in that they include the control circuit 4.
  • the same components as the determination device 2d and the switch system 8d according to the fifth embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.
  • the control circuit 4 controls the first JFET 11 and the second JFET 12 based on the determination result of the third determination circuit 33.
  • the control circuit 4 controls the first JFET 11 and the second JFET 12 when the determination result in the third determination circuit 33 is abnormal. More specifically, the control circuit 4 controls the first drive circuit 61 to set the first gate drive voltage Vo1 to 0V and the second drive circuit when the determination result in the third determination circuit 33 is abnormal. 62 is controlled to set the second gate drive voltage Vo2 to 0V.
  • the determination device 2e and the switch system 8e according to the sixth embodiment can suppress power loss like the determination device 2a and the switch system 8a according to the fifth embodiment.
  • the overcurrent can be quickly cut off when the overcurrent flows through the semiconductor switch 1c.
  • the first to sixth embodiments described above are only one of the various embodiments of the present disclosure.
  • the first to sixth embodiments described above can be variously modified according to the design and the like as long as the object of the present disclosure can be achieved.
  • the determination circuit 3 described above is composed of a Zener diode ZD, and the control circuit 4 includes a normally-off transistor Q1. It may be configured.
  • the potential Vcont of the path between the drive circuit 6 and the resistor Rg is usually at the H (High) level (for example, 12V), and an overcurrent flows through the semiconductor switch 1 between the gate and the source.
  • the level becomes L (Low) level (for example, 0V), and the operation of the drive circuit 6 is stopped.
  • the determination that the overcurrent is flowing includes the case where the output of the determination circuit 3 is different depending on whether the overcurrent is flowing or not.
  • the p-type layer in the semiconductor switches 1, 1a and 1c is not limited to the p-type AlGaN layer, and may be, for example, a p-type GaN layer or a p-type metal oxide semiconductor layer.
  • the p-type metal oxide semiconductor layer is, for example, a NiO layer.
  • the NiO layer may contain, for example, at least one alkali metal selected from the group of lithium, sodium, potassium, rubidium and cesium as an impurity. Further, the NiO layer may contain, for example, a transition metal such as silver or copper which becomes monovalent when added as an impurity.
  • each of the first p-type layer and the second p-type layer in the semiconductor switch 1b is the same as the p-type layer in the semiconductor switches 1, 1a and 1c.
  • Each of the semiconductor switches 1, 1a to 1c may include one or more nitride semiconductor layers between the buffer layer and the first nitride semiconductor layer.
  • the buffer layer is not limited to a single layer structure, and may have, for example, a superlattice structure.
  • the substrate in each of the semiconductor switches 1 and 1a to 1c is not limited to the silicon substrate, and may be, for example, a GaN substrate, a SiC substrate, a sapphire substrate, or the like.
  • the semiconductor switches 1 to 1c can be applied to electric devices such as circuit breakers, multi-level inverters, dimmers, and matrix converters that perform AC-AC power conversion.
  • the determination device (2; 2a; 2b; 2c; 2d; 2e) according to the first aspect is used for the semiconductor switch (1).
  • the semiconductor switch (1; 1a; 1b; 1c) includes a gate (10G) and a junction field effect transistor (10) having a source (10S) corresponding to the gate (10G).
  • the determination device (2) includes a resistor (Rg) and a determination circuit (3).
  • the resistance (Rg) has a first end and a second end.
  • the first end of the resistor (Rg) is connected to the gate (10G).
  • the determination circuit (3) has a gate drive voltage (Vo) applied between the second end of the resistor (Rg) and the source (10S) with respect to the gate-source voltage (Vgs) of the junction field effect transistor (10). ), It is determined that an overcurrent is flowing through the semiconductor switch (1; 1a; 1b; 1c).
  • the determination device (2; 2a; 2b; 2c; 2d; 2e) according to the first aspect can suppress power loss.
  • the predetermined change includes the change determined by the threshold value.
  • the determination circuit (3) can be configured by using a comparator.
  • the predetermined change includes a change determined by the amount of change.
  • the determination device (2; 2a; 2b; 2c; 2d) according to the third aspect can suppress erroneous detection of overcurrent.
  • the determination device (2a) is based on the first aspect.
  • the semiconductor switch (1a) is a bidirectional switch including two junction field effect transistors (10).
  • the two junction field effect transistors (10) include a first junction field effect transistor (11) and a second junction field effect transistor (12).
  • the determination device (2a) includes two resistors (Rg) and two determination circuits (3).
  • the two resistors (Rg) are a first resistor (Rg1) corresponding to the first junction field effect transistor (11) and a second resistor (Rg2) corresponding to the second junction field effect transistor (12).
  • the two determination circuits (3) are a first determination circuit (31) corresponding to the first junction field effect transistor (11) and a second determination circuit (32) corresponding to the second junction field effect transistor (12). ) And, including.
  • the determination device (2a) according to the fourth aspect can determine whether or not an overcurrent is flowing through the bidirectional switch.
  • the first determination circuit (31) is the gate-source voltage (Vgs1) of the first junction field effect transistor (11) and the first. Compare with the threshold (Vref1 + ⁇ V1).
  • the second determination circuit (32) compares the gate-source voltage (Vgs2) of the second junction field effect transistor (12) with the second threshold value (Vref2 + ⁇ V2).
  • the first determination circuit (31) can be configured by using the comparator (Cp1)
  • the second determination circuit (32) can be configured by using the comparator (Cp2). ..
  • the first determination circuit (31) has the gate-source voltage (Vgs1) of the first junction field effect transistor (11) and the first determination circuit (Vgs1). Compare with the moving average value (Vg1) of the gate voltage when the 1-junction field effect transistor (11) is on.
  • the second determination circuit (32) is the gate-source voltage (Vgs2) of the second junction field effect transistor (12) and the gate voltage when the second junction field effect transistor (12) is on. Compare with the moving average value (Vg2).
  • the first determination circuit (31) can be configured by using the comparator (Cp1)
  • the second determination circuit (32) can be configured by using the comparator (Cp2). ..
  • the determination device (2b) according to the seventh aspect is based on the determination result of the first determination circuit (31) and the determination result of the second determination circuit (32) in any one of the fourth to sixth aspects.
  • a third determination circuit (33) for determining the presence or absence of abnormality in the semiconductor switch (1a) is further provided.
  • the determination device (2b) according to the seventh aspect can determine the presence or absence of an abnormality in the semiconductor switch (1a).
  • the third determination circuit (33) determines the direction in which the overcurrent is flowing.
  • the determination device (2b) according to the eighth aspect can determine the direction in which the overcurrent is flowing.
  • the determination device (2b) further includes a control circuit (4b).
  • the control circuit (4b) controls the first junction field effect transistor (11) and the second junction field effect transistor (12) based on the determination result of the third determination circuit (33).
  • the gate-source voltage (Vgs1) of the first junction field-effect transistor (11) is higher than the first reference voltage, and the gate of the second junction field-effect transistor (12) is gated.
  • the source-to-source voltage (Vgs2) is lower than the second reference voltage, the first-junction field-effect transistor (11) of the first-junction field-effect transistor (11) and the second-junction field-effect transistor (12) 11) is turned off first.
  • the gate-source voltage (Vgs1) of the first junction field-effect transistor (11) is lower than the first reference voltage
  • the gate-source of the second junction field-effect transistor (12) is The second-junction field-effect transistor (12) of the first-junction field-effect transistor (11) and the second-junction field-effect transistor (12) when the inter-voltage (Vgs2) increases above the second reference voltage. ) Is turned off first.
  • the determination device (2b) is the semiconductor switch (1; 1a; 1c) when an overcurrent flows through the semiconductor switch (1; 1a; 1c) to turn off the semiconductor switch (1; 1a; 1c). ) Can suppress the temperature rise.
  • the semiconductor switch (1b) is a dual gate type junction field effect transistor having two gates (10G) and two sources (10S). Is.
  • the two gates (10G) include a first gate (11G) and a second gate (12G).
  • the two sources (10S) include a first source (11S) corresponding to the first gate (11G) and a second source (12S) corresponding to the second gate (12G).
  • the determination device (2c) includes two resistors (Rg) and two determination circuits (3).
  • the two resistors (Rg) include a first resistor (Rg1) connected to the first gate (11G) and a second resistor (Rg2) connected to the second gate (12G).
  • the two determination circuits (3) correspond to the first determination circuit (31) corresponding to the first gate (11G) and the first source (11S), and the second gate (12G) and the second source (12S).
  • the second determination circuit (32) is included.
  • the determination device (2c) further includes a third determination circuit (33).
  • the third determination circuit (33) determines whether or not there is an abnormality in the semiconductor switch (1b) based on the determination result of the first determination circuit (31) and the determination result of the second determination circuit (32).
  • the determination device (2) can determine the presence or absence of an abnormality in the semiconductor switch (1b).
  • the determination device (2e) is based on the seventh aspect.
  • the gate (10G) and the source (10S) of the first junction field effect transistor (11) are the first gate (11G) and the first source (11S), respectively.
  • the gate (10G) and source (10S) of the second junction field effect transistor (12) are the second gate (12G) and the second source (12S), respectively.
  • the first source (11S) of the first junction field effect transistor (11) and the second source (12S) of the second junction field effect transistor (12) are connected.
  • the determination device (2e) further includes a control circuit (4).
  • the control circuit (4) controls the first junction field effect transistor (11) and the second junction field effect transistor (12) based on the determination result of the third determination circuit (33).
  • the voltage between the second gate (12G) and the second source (12S) is higher than the first reference voltage, and the first gate (11G) and the first source (12G) When the voltage with 11S) decreases, it is determined that the semiconductor switch (c) is abnormal.
  • the determination device (2e) can determine the presence or absence of an abnormality in the semiconductor switch (1c).
  • the determination device (2) is based on the fifth aspect.
  • the gate (10G) and the source (10S) of the first junction field effect transistor (11) are the first gate (11G) and the first source (11S), respectively.
  • the gate (10G) and source (10S) of the second junction field effect transistor (12) are the second gate (12G) and the second source (12S), respectively.
  • the first source (11S) of the first junction field effect transistor (11) and the second source (12S) of the second junction field effect transistor (12) are connected.
  • the first threshold value (Vref1 + ⁇ V1) and the second threshold value (Vref2 + ⁇ V2) are the same.
  • the circuit configuration can be simplified and downsized.
  • the switch system (8; 8a; 8b; 8c; 8d; 8e) according to the thirteenth aspect can suppress power loss.
  • the determination device of the present disclosure and the switch system provided with the determination device can suppress power loss. Therefore, the determination device of the present disclosure and the switch system including the determination device are industrially useful because they lead to power saving of the semiconductor device and the electronic device using the semiconductor device.

Abstract

半導体スイッチの電力損失を抑制することが可能な判定装置及びスイッチシステムを提供する。判定装置(2)は、半導体スイッチ(1)に用いられる。半導体スイッチ(1)は、ゲート(10G)及びゲート(10G)に対応するソース(10S)を有する接合型電界効果トランジスタ(10)を含む。判定装置(2)は、抵抗(Rg)と、判定回路(3)と、を備える。抵抗(Rg)は、第1端及び第2端を有する。抵抗(Rg)の第1端がゲート(10G)に接続される。判定回路(3)は、接合型電界効果トランジスタ(10)のゲート-ソース間電圧(Vgs)について、抵抗(Rg)の第2端とソース(10S)との間に与えられるゲート駆動電圧(Vo)よりも小さい範囲で所定の変化があった場合に、半導体スイッチ(1)に過電流(I1)が流れていると判定する。

Description

判定装置及びそれを備えるスイッチシステム
 本開示は、半導体スイッチに用いられる判定装置及びそれを備えるスイッチシステムに関する。より詳細には、半導体スイッチに用いられる過電流検知用の判定装置、及び、それを備えるスイッチシステムに関する。
 特許文献1には、電力用半導体素子の保護回路が開示されている。特許文献1に開示された電力用半導体素子の保護回路は、電力用半導体素子を駆動する駆動回路と、並列に接続された第1の抵抗とインダクタとを含む電流検出部と、電力用半導体素子の短絡状態を検出する検出部と、を備える。第1の抵抗の一端及びインダクタの一端は、電力用半導体素子の一方の端子と接続される。検出部は、第1の抵抗及びインダクタに流れる電流に応じて変化する電力用半導体素子の一方の端子の電圧と短絡検出電圧とを比較することによって、電力用半導体素子の短絡状態を検出する。駆動回路の基準電位が、第1の抵抗の他端及びインダクタの他端と接続される。
国際公開第2019/225121号
 半導体スイッチに用いられる過電流検知用の判定装置では、半導体スイッチの主電流が流れる経路での電力損失の低減が望まれる場合がある。
 本開示の目的は、電力損失を抑制することが可能な半導体スイッチの過電流検知用の判定装置及びそれを備えるスイッチシステムを提供することにある。
 本開示に係る一態様の判定装置は、半導体スイッチに用いられる。半導体スイッチは、ゲート及びゲートに対応するソースを有する接合型電界効果トランジスタを含む。判定装置は、抵抗と、判定回路と、を備える。抵抗は、第1端及び第2端を有する。抵抗の第1端がゲートに接続される。判定回路は、接合型電界効果トランジスタのゲート-ソース間電圧について、抵抗の第2端と前記ソースとの間に与えられるゲート駆動電圧よりも小さい範囲で所定の変化があった場合に、半導体スイッチに過電流が流れていると判定する。
 本開示に係る別の一態様のスイッチシステムは、判定装置と、半導体スイッチと、を備える。
 本開示の判定装置、及びスイッチシステムは、電力損失を抑制することが可能となる。
図1は、第一の実施形態に係る判定装置を備えるスイッチシステムの回路図である。 図2は、同上の判定装置を備えるスイッチシステムの動作説明図である。 図3Aは、同上の判定装置を備えるスイッチシステムの動作説明図であり、スイッチがオンかつ正常な状態のときの動作説明図である。 図3Bは、同上の判定装置を備えるスイッチシステムの動作説明図であり、スイッチがオンかつ過電流が流れた状態のときの動作説明図である。 図3Cは、同上の判定装置を備えるスイッチシステムの動作説明図であり、スイッチがオフかつ正常な状態のときの動作説明図である。 図4は、第二の実施形態に係る判定装置を備えるスイッチシステムの回路図である。 図5Aは、同上の判定装置における第1判定回路の回路図である。 図5Bは、同上の判定装置における第2判定回路の回路図である。 図6Aは、同上の判定装置における第1判定回路の他の構成例を示す回路図である。 図6Bは、同上の判定装置における第2判定回路の他の構成例を示す回路図である。 図7は、第三の実施形態に係る判定装置を備えるスイッチシステムの動作説明図である。 図8は、同上の判定装置を備えるスイッチシステムの動作説明図である。 図9は、第四の実施形態に係る判定装置を備えるスイッチシステムの回路図である。 図10は、同上の判定装置を備えるスイッチシステムの動作説明図である。 図11は、同上の判定装置を備えるスイッチシステムの動作説明図である。 図12は、第五の実施形態に係る判定装置を備えるスイッチシステムの回路図である。 図13は、同上の判定装置を備えるスイッチシステムの動作説明図である。 図14は、同上の判定装置の要部回路図である。 図15は、第六の実施形態に係る判定装置を備えるスイッチシステムの回路図である。 図16は、変形例に係る判定装置における制御回路の回路図である。
 (第一の実施形態)
 図1は、第一の実施形態に係る判定装置2を備えるスイッチシステム8の回路図である。以下では、第一の実施形態に係る判定装置2及びそれを備えるスイッチシステム8について、図1及び図2に基づいて説明する。
 (1)概要
 判定装置2は、半導体スイッチ1に用いられる。
 半導体スイッチ1は、ゲート10G及びゲート10Gに対応するソース10Sを有する接合型電界効果トランジスタ10を含む。接合型電界効果トランジスタ10は、ゲート10Gに対応するドレイン10Dを有する。判定装置2は、半導体スイッチ1の一対の主端子の間に過電流が流れているか否かの判定に利用される。
 判定装置2は、抵抗Rgと、判定回路3と、を備える。抵抗Rgは、第1端及び第2端を有する。抵抗Rgの第1端がゲート10Gに接続される。判定回路3は、接合型電界効果トランジスタ10のゲート-ソース間電圧Vgsについて、抵抗Rgの第2端とソース10Sとの間に与えられるゲート駆動電圧Voよりも小さい範囲で所定の変化があった場合に、半導体スイッチ1に過電流が流れていると判定する。
 スイッチシステム8は、判定装置2と、半導体スイッチ1と、を備える。また、スイッチシステム8は、直流電源5と、駆動回路6と、を更に備える。駆動回路6は、ゲート駆動電圧Voを、抵抗Rgを介して接合型電界効果トランジスタ10に供給する。また、判定装置2は、制御回路4を更に備える。制御回路4は、判定回路3の判定結果に基づいて半導体スイッチ1を制御する。ここにおいて、制御回路4は、判定回路3の判定結果に基づいて駆動回路6を制御することによって、半導体スイッチ1を制御する。
 (2)スイッチシステムの各構成要素
 (2.1)半導体スイッチ
 半導体スイッチ1は、接合型電界効果トランジスタ10(以下、JFET10ともいう)を含む。JFET10は、例えば、GaN系GIT(Gate Injection Transistor)である。JFET10は、MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor)を含まない。
 JFET10は、例えば、基板と、バッファ層と、第1の窒化物半導体層と、第2の窒化物半導体層と、ソース電極と、ゲート電極と、ドレイン電極と、p型層と、を備える。バッファ層は、基板上に形成されている。第1の窒化物半導体層は、バッファ層上に形成されている。第2の窒化物半導体層は、第1の窒化物半導体層上に形成されている。ソース電極、ゲート電極及びドレイン電極は、第2の窒化物半導体層上に形成されている。p型層は、ゲート電極と第2の窒化物半導体層との間に介在している。JFET10では、第2の窒化物半導体層とp型層とでダイオードDgu(図2参照)を構成する。JFET10におけるゲート10Gは、ゲート電極と、p型層と、を含む。JFET10におけるソース10Sは、ソース電極を含む。JFET10におけるドレイン10Dは、ドレイン電極を含む。基板は、例えば、シリコン基板である。バッファ層は、例えば、アンドープのGaN層である。第1の窒化物半導体層は、例えば、アンドープのGaN層である。第2の窒化物半導体層は、例えば、アンドープのAlGaN層である。p型層は、例えば、p型AlGaN層である。バッファ層、第1の窒化物半導体層及び第2の窒化物半導体層の各々には、MOVPE(Metal Organic Vapor Phase Epitaxy)等による成長時に不可避的に混入されるMg、H、Si、C、O等の不純物が存在してもよい。
 (2.2)駆動回路
 駆動回路6は、JFET10のゲート10Gに接続される。実施形態1に係るスイッチシステム8では、駆動回路6は、抵抗Rgを介してJFET10のゲート10Gに接続される。
 駆動回路6は、JFET10のゲート10Gにゲート電圧を与える回路である。駆動回路6は、直流電源5から供給される直流電圧に応じたゲート駆動電圧Voを出力する。
 駆動回路6は、電源端子と、グランド端子と、を有する。駆動回路6のグランド端子は、JFET10のソース10Sに接続される。
 駆動回路6の電源端子とグランド端子との間には、高電位側の出力端と低電位側の出力端とを有する直流電源5が接続される。駆動回路6の電源端子には、直流電源5の高電位側の出力端が接続される。駆動回路6のグランド端子には、直流電源5の低電位側の出力端が接続される。直流電源5の出力電圧は、例えば、12Vである。直流電源5は、絶縁電源である。なお、直流電源5は、駆動回路6の構成要素ではない。
 駆動回路6は、例えば、ドライバIC(Integrated Circuit)を含む。ドライバICは、例えば、CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)インバータであり、pチャネルMOSFETとnチャネルMOSFETとの逆直列回路を含む。この逆直列回路は、直流電源5の高電位側の出力端と低電位側の出力端との間に接続されている。この逆直列回路では、pチャネルMOSFETとnチャネルMOSFETのドレイン同士が接続されており、pチャネルMOSFETのソースが直流電源5の高電位側の出力端に接続され、nチャネルMOSFETのソースが直流電源5の低電位側の出力端に接続されている。
 (2.3)判定装置
 判定装置2は、抵抗Rgと、判定回路3と、を備える。抵抗Rgは、半導体スイッチ1の定常オン状態において半導体スイッチ1のゲート10Gとソース10Sとの間に印加されるゲート-ソース間電圧Vgsを決めるための素子である。Rgの抵抗値は、例えば、800Ωである。判定装置2では、抵抗Rgの第1端がJFET10のゲート10Gに接続される。また、判定装置2では、抵抗Rgの第2端が駆動回路6に接続される。要するに、判定装置2は、駆動回路6とJFET10のゲート10Gとの間に接続される抵抗Rgを備える。判定回路3は、JFET10のゲート-ソース間電圧Vgsについて、抵抗Rgの第2端とソース10Sとの間に与えられるゲート駆動電圧Voよりも小さい範囲で所定の変化があった場合に、半導体スイッチ1に過電流が流れていると判定する。
 ゲート-ソース間電圧Vgsについての所定の変化は、例えば、閾値で判定される変化を含む。この場合、判定回路3は、例えば、ゲート駆動電圧Voよりも小さな参照電圧Vrefを閾値として用いて、ゲート-ソース間電圧Vgsが参照電圧Vrefよりも大きくなったとき(Vref<Vgs<Voの条件を満たしたとき)に、半導体スイッチ1に過電流が流れていると判定する。ここにおいて、過電流は、半導体スイッチ1の一対の主端子(ドレイン10D、ソース10S)間に流れる主電流I1の定格電流を超える大きさの電流であり、例えば、短絡電流である。判定回路3は、例えば、ゲート-ソース間電圧Vgsと参照電圧Vrefとを比較するコンパレータを含む。
 ゲート-ソース間電圧Vgsについての所定の変化は、閾値で判定される変化に限らず、ゲート-ソース間電圧Vgsの変化量で判定される変化を含んでもよい。また、変化量は、ゲート-ソース間電圧Vgsの変化率(dVgs/dt)であってもよい。
 制御回路4は、判定回路3の判定結果に基づいて駆動回路6を制御する。制御回路4(制御部)の実行主体は、コンピュータシステムを含んでいる。コンピュータシステムは、1又は複数のコンピュータを有している。コンピュータシステムは、ハードウェアとしてのプロセッサ及びメモリを主構成とする。コンピュータシステムのメモリに記録されたプログラムをプロセッサが実行することによって、本開示における制御回路4(制御部)の実行主体としての機能が実現される。プログラムは、コンピュータシステムのメモリに予め記録されていてもよいが、電気通信回線を通じて提供されてもよいし、コンピュータシステムで読み取り可能なメモリカード、光学ディスク、ハードディスクドライブ(磁気ディスク)等の非一時的記録媒体に記録されて提供されてもよい。コンピュータシステムのプロセッサは、半導体集積回路(IC)又は大規模集積回路(LSI)を含む1又は複数の電子回路で構成される。複数の電子回路は、1つのチップに集約されていてもよいし、複数のチップに分散して設けられていてもよい。複数のチップは、1つの装置に集約されていてもよいし、複数の装置に分散して設けられていてもよい。
 (3)動作
 スイッチシステム8の一動作例について、図2、図3A~図3Cを参照して説明する。図2、図3A~図3Cは、判定装置2を備えるスイッチシステム8の動作説明図である。
 図2では、JFET10の模式的な等価回路上で、ダイオードDguに印加されている電圧Vguと、JFET10のゲート-ドレイン間のチャネル抵抗Rchgdと、JFET10のゲート-ソース間のチャネル抵抗Rchgsと、チャネル抵抗Rchgsでの電圧降下Vchgsと、ゲート-ソース間の主電流I1と、を表記してある。
 図3Aは、半導体スイッチ1がオン状態で、半導体スイッチ1に過電流が流れていない正常時の動作説明図である。図3Bは、半導体スイッチ1に過電流が流れたときの動作説明図である。図3Cは、半導体スイッチ1がオフ状態で、半導体スイッチに過電流が流れていない正常時の動作説明図である。
 スイッチシステム8は、半導体スイッチ1のドレイン10Dとソース10Sとの間に負荷回路を接続して使用される。スイッチシステム8では、JFET10のゲート10Gにゲート-ソース間電圧VgsがJFET10の閾値電圧(例えば、3.2V)よりも高い所定電圧(4V)で印加された状態(つまり、Vgs=4Vの状態)において、JFET10のゲート10Gには、図3Aに示すように、充電電流Ichaが所定電流値(例えば、10mA)で流れている。スイッチシステム8では、例えば、直流電源5の出力電圧Vcが12Vであり、ゲート駆動電圧Voが12Vであり、JFET10の閾値電圧が3.2Vであり、所定電圧が4Vであり、抵抗Rgの抵抗値が1kΩであり、所定電流値が10mAであり、参照電圧Vrefが4.5Vであるが、これらの値に限定されない。
 JFET10のドレイン-ソース間に流れる主電流I1が過電流になると、チャネル抵抗Rchgsでの電圧降下Vchgsが増加する。その結果、JFET10では、ダイオードDguに印加されている電圧Vguが低下する。電圧Vguが低下すると、ダイオードDguを流れる順方向電流が低下するので、図3Bに示すように、充電電流Ichaが1mAに低下する。充電電流Ichaの低下分をΔIchaとすると、JFETのゲート-ソース間電圧Vgsは、正常時の値(4V)から、(抵抗Rgの抵抗値)×ΔIchaだけ増加した値(5V)となる。よって、判定回路3では、ゲート-ソース間電圧Vgsが参照電圧Vref(=4.5V)よりも大きくなったときに過電流が流れていると判定することができる。判定装置2では、判定回路3によって過電流が流れていると判定された場合、制御回路4が駆動回路6を停止させてゲート駆動電圧Voを0Vにすることで、半導体スイッチ1を制御する。
 スイッチシステム8では、直流電源5の出力電圧Vcが0Vの場合、図3Cに示すように、半導体スイッチ1が正常のオフ状態であれば、ゲート駆動電圧Vo=0Vとなり、ゲート-ソース間電圧Vgs=0Vとなる。
 (4)利点
 第一の実施形態に係る判定装置2及びスイッチシステム8では、判定回路3が、接合型電界効果トランジスタ10のゲート-ソース間電圧Vgsについて、ゲート駆動電圧Voよりも小さい範囲で所定の変化があった場合に、半導体スイッチ1に過電流が流れていると判定する。よって、実施形態1に係る判定装置2及びスイッチシステム8では、電力損失を抑制することが可能となる。ここにおいて、実施形態1に係る判定装置2及びスイッチシステム8では、接合型電界効果トランジスタ10のソース10Sに過電流検知用のシャント抵抗を接続することなく過電流を検知することができ、電力損失を抑制することができる。
 また、第一の実施形態に係る判定装置2は、制御回路4を備えることにより、半導体スイッチ1に過電流が流れたときに半導体スイッチ1を制御することができる。
 (第二の実施形態)
 以下、第二の実施形態に係る判定装置2a及びそれを備えるスイッチシステム8aについて、図4に基づいて説明する。図4は、第二の実施形態に係る判定装置2aを備えるスイッチシステム8aの回路図である。第二の実施形態に係るスイッチシステム8aは、第一の実施形態に係るスイッチシステム8の半導体スイッチ1及び判定装置2の代わりに半導体スイッチ1a及び判定装置2aを備えている。第二の実施形態に係る判定装置2a及びスイッチシステム8aに関し、第一の実施形態に係る判定装置2及びスイッチシステム8と同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
 半導体スイッチ1aは、接合型電界効果トランジスタ10(JFET10ともいう)を2つ備える双方向スイッチである。半導体スイッチ1aでは、2つのJFET10のドレイン10D同士が接続されている。2つの接合型電界効果トランジスタ10は、第1接合型電界効果トランジスタ11と、第2接合型電界効果トランジスタ12と、を含む。以下では、第1接合型電界効果トランジスタ11を、第1JFET11ともいう。また、第2接合型電界効果トランジスタ12を、第2JFETともいう。
 以下では、第1JFET11の有するゲート10G、ソース10S及びドレイン10Dを、それぞれ、第1ゲート11G、第1ソース11S及び第1ドレイン11Dともいう。また、第2JFET12の有するゲート10G、ソース10S及びドレイン10Dを、それぞれ、第2ゲート12G、第2ソース12S及び第2ドレイン12Dともいう。また、第1JFET11のゲート-ソース間電圧Vgsを第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1ともいう。また、第2JFET12のゲート-ソース間電圧Vgsを第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2ともいう。半導体スイッチ1aでは、第1JFET11の第1ソース11Sと第2JFET12の第2ソース12Sとが一対の主端子を構成している。スイッチシステム8aは、第1ソース11Sと第2ソース12Sとの間に負荷回路を接続して使用される。
 判定装置2aは、抵抗Rgを2つ備え、かつ、判定回路3を2つ備える。2つの抵抗Rgは、第1JFET11に対応する第1抵抗Rg1と、第2JFET12に対応する第2抵抗Rg2と、を含む。第2抵抗Rg2の抵抗値は、第1抵抗Rg1の抵抗値と同じであってもよいし、異なってもよい。
 スイッチシステム8aは、駆動回路6を2つ備え、直流電源5を2つ備える。2つの駆動回路6は、第1駆動回路61と、第2駆動回路62と、を含む。2つの直流電源5は、第1直流電源51と、第2直流電源52と、を含む。
 第1駆動回路61は、第1抵抗Rg1を介して第1JFET11の第1ゲート11Gに接続されている。また、第1駆動回路61は、第1直流電源51の出力電圧(以下、第1出力電圧)が供給される。第1出力電圧は、例えば、12Vである。第1直流電源51の高電位側の出力端は、第1駆動回路61の電源端子に接続されている。第1直流電源51の低電位側の出力端は、第1JFET11の第1ソース11Sに接続されている。
 第2駆動回路62は、第2抵抗Rg2を介して第2JFET12の第2ゲート12Gに接続されている。また、第2駆動回路62は、第2直流電源52の出力電圧(以下、第2出力電圧)が供給される。第2出力電圧は、例えば、12Vである。第2直流電源52の高電位側の出力端は、第2駆動回路62の電源端子に接続されている。第2直流電源52の低電位側の出力端は、第2JFET12の第2ソース12Sに接続されている。
 以下では、第1駆動回路61から出力されるゲート駆動電圧Voを第1ゲート駆動電圧Vo1ともいい、第2駆動回路62から出力されるゲート駆動電圧Voを第2ゲート駆動電圧Vo2ともいう。
 2つの判定回路3は、第1JFET11に対応する第1判定回路31と、第2JFET12に対応する第2判定回路32と、を含む。
 スイッチシステム8aでは、半導体スイッチ1aがオン状態の場合、第1JFET11の第1ゲート11Gに第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が第1JFET11の第1閾値電圧(例えば、3.2V)よりも高い第1所定電圧(例えば、4V)で印加されており、第1JFET11の第1ゲート11Gには、第1充電電流Icha1が所定電流値で流れている。また、第2JFET12の第2ゲート12Gに第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が第2JFET12の第2閾値電圧(例えば、3.2V)よりも高い第2所定電圧(例えば、4V)で印加されており、第2JFET12の第2ゲート12Gには、第2充電電流Icha2が所定電流値で流れている。
 スイッチシステム8aは、例えば、主電流I1が第2ソース12Sから第1ソース11Sに向かって流れている状態で主電流I1が過電流になると、第2ゲート12GのダイオードDgu(図2参照)での電圧降下Vguが増加する。これにより、第2充電電流Icha2が増加し、第2ソース12S-第2ゲート12G間の電圧が低下する。その結果、第2JFET12の第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が低下する。
 第1JFET11では、主電流I1が第2ソース12Sから第1ソース11Sに向かって流れている状態で主電流I1が過電流になると、第1JFET11の第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が増加する。
 また、スイッチシステム8aは、例えば、主電流I1が第1ソース11Sから第2ソース12Sに向かって流れている状態で主電流I1が過電流になると、第1ゲート11GのダイオードDgu(図2参照)での電圧降下Vguが増加する。これにより、第1充電電流Icha1が増加し、第1ソース11S-第1ゲート11G間の電圧が低下する。その結果、第1JFET11の第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が低下する。
 一方、第2JFET12では、主電流I1が第1ソース11Sから第2ソース12Sに向かって流れている状態で主電流I1が過電流になると、第2JFET12の第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が増加する。
 図5Aは、判定回路2aにおける第1判定回路31の回路図である。第1判定回路31は、例えば、図5Aに示すように、コンパレータCp1を含む。第1判定回路31では、コンパレータCp1において、第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1と第1閾値(参照電圧Vref1+ΔV1)とを比較する。ΔV1は、一定電圧である。(Vref1+ΔV1)<Vo1である。第1判定回路31では、コンパレータCp1の非反転入力端子に第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が入力され、コンパレータCp1の反転入力端子に第1閾値(参照電圧Vref1+ΔV1)が入力される。ΔV1は、一定電圧に限らず、0Vでもよい。
 図5Bは、判定回路2aにおける第2判定回路32の回路図である。第2判定回路32は、例えば、図5Bに示すように、コンパレータCp2を含む。第2判定回路32では、コンパレータCp2において、第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2と第2閾値(参照電圧Vref2+ΔV2)とを比較する。第2判定回路32では、コンパレータCp2の非反転入力端子に第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が入力され、コンパレータCp2の反転入力端子に第2閾値(参照電圧Vref2+ΔV2)が入力される。ΔV2は、一定電圧に限らず、0Vでもよい。
 第二の実施形態に係る判定装置2a及びスイッチシステム8aでは、判定回路3が、接合型電界効果トランジスタ10のゲート-ソース間電圧Vgsについて、ゲート駆動電圧Voよりも小さい範囲で所定の変化があった場合に、半導体スイッチ1に過電流が流れていると判定する。よって、実施形態2に係る判定装置2a及びスイッチシステム8aでは、電力損失を抑制することが可能となる。
 図6Aは、判定装置2aにおける第1判定回路31の他の構成例を示す回路図である。第1判定回路31は、例えば、図6Aに示すように、コンパレータCp1の非反転入力端子に第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が入力され、コンパレータCp1の反転入力端子に第1JFET11の定常時(正常時)の第1ゲート電圧Vg1が入力されてもよい。ここにおいて、定常時の第1ゲート電圧Vg1は、例えば、第1JFET11がオンしているときのゲート電圧(ゲート-ソース間電圧Vgs)の移動平均値である。
 図6Bは、判定装置2aにおける第2判定回路32の他の構成例を示す回路図である。第2判定回路32は、例えば、図6Bに示すように、コンパレータCp2の非反転入力端子に第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が入力され、コンパレータCp2の反転入力端子に第2JFET12の定常時(正常時)の第2ゲート電圧Vg2が入力されてもよい。定常時の第2ゲート電圧Vg2は、例えば、第2JFET11がオンしているときのゲート電圧(ゲート-ソース間電圧Vgs)の移動平均値である。
 (第三の実施形態)
 図7は、第三の実施形態に係る判定装置2bを備えるスイッチシステム8bの動作説明図である。以下、第三の実施形態に係る判定装置2b及びそれを備えるスイッチシステム8bについて、図7に基づいて説明する。第三の実施形態に係るスイッチシステム8bは、第二の実施形態に係るスイッチシステム8aの判定装置2aの代わりに判定装置2bを備えている。第三の実施形態に係る判定装置2b及びスイッチシステム8bに関し、第二の実施形態に係る判定装置2a及びスイッチシステム8aと同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
 判定装置2bは、第1判定回路31の判定結果と第2判定回路32の判定結果とに基づいて半導体スイッチ1aの異常の有無を判定する第3判定回路33を備える。判定装置2bは、第3判定回路33の判定結果に基づいて半導体スイッチ1aを制御する制御回路4bを更に備える。
 第3判定回路33は、下記の表1のように、第1コンパレータCp1の出力信号のレベルと第2コンパレータCp2の出力信号のレベルとが異なる場合に異常ありと判定し、第1コンパレータCp1の出力信号のレベルと第2コンパレータCp2の出力信号のレベルとが同じ場合に異常なしと判定する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 スイッチシステム8bでは、第1判定回路31において、第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が増加した場合に、出力信号の論理値を1とし、第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が減少した場合に、出力信号の論理値を-1とするように構成されていてもよい。また、第2判定回路32において、第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が増加した場合に、出力信号の論理値を1とし、第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が減少した場合に、出力信号の論理値を-1とするように構成されていてもよい。したがって、第3判定回路33は、下記の表2のように、第1判定回路31の判定結果の論理値と第2判定回路32の判定結果の論理値とが異なる場合に異常ありと判定し、第1判定回路31の判定結果の論理値と第2判定回路32の判定結果の論理値とが同じ場合に異常なしと判定するように構成されていてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 制御回路4bは、第3判定回路33の判定結果に基づいて第1JFET11及び第2JFET12を制御する。制御回路4bは、第3判定回路33での判定結果が異常ありの場合、第1JFET11及び第2JFET12を制御する。より詳細には、制御回路4bは、第3判定回路33での判定結果が異常ありの場合、第1駆動回路61を制御して第1ゲート駆動電圧Vo1を0Vにし、かつ、第2駆動回路62を制御して第2ゲート駆動電圧Vo2を0Vにする。
 第三の実施形態に係る判定装置2b及びスイッチシステム8bは、第二の実施形態に係る判定装置2a及びスイッチシステム8aと同様、電力損失を抑制することが可能となる。
 第三の実施形態に係る判定装置2b及びスイッチシステム8bでは、制御回路4bを備えるので、半導体スイッチ1aに過電流が流れたときに過電流を速やかに遮断することが可能となる。
 第3判定回路33は、下記の表3のように、第1コンパレータCp1の出力信号のレベルと第2コンパレータCp2の出力信号のレベルとが異なる場合に過電流の向きを判定し、第1コンパレータCp1の出力信号のレベルと第2コンパレータCp2の出力信号のレベルとが同じ場合に異常なしと判定するように構成されていてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 図8は、判定装置2bを備えるスイッチシステム8bの動作説明図である。第三の実施形態に係る判定装置2b及びスイッチシステム8bでは、図7に示すように半導体スイッチ1aの主電流I1が第2ソース12Sから第1ソース11Sに向かって流れている場合、図8に示すように、第2JFET12がダイオードモードで動作している。この状態において、制御回路4bは、第1JFET11の第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が第1基準電圧(Vref1又はVref1+ΔV1)よりも増加し、かつ、第2JFET12の第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が第2基準電圧(Vref2、又はVref2+ΔV2)よりも低下した場合、第1JFET11と第2JFET12とのうち第1JFET11を先にオフさせる。
 一方、半導体スイッチ1aの主電流I1が第1ソース11Sから第2ソース12Sに向かって流れている場合、第1JFET11がダイオードモードで動作している。この状態において、制御回路4bは、第1JFET11の第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が第1基準電圧よりも低下し、かつ、第2JFET12の第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が第2基準電圧よりも増加した場合に、第1JFET11と第2JFET12とのうち第2JFET12を先にオフさせる。
 第三の実施形態に係る判定装置2b及びスイッチシステム8bでは、制御回路4bが第1JFET11をオフさせるタイミングと第2JFET12をオフさせるタイミングとを上述のように異ならせることにより、半導体スイッチ1aをオフするときの半導体スイッチ1aでの発熱を抑制することが可能となる。
 (第四の実施形態)
 図9は、第四の実施形態に係る判定装置2cを備えるスイッチシステム8cの回路図である。以下、第四の実施形態に係る判定装置2c及びそれを備えるスイッチシステム8cについて、図9に基づいて説明する。第四の実施形態に係るスイッチシステム8cは、第三の実施形態に係るスイッチシステム8bの半導体スイッチ1a及び判定装置2bの代わりに半導体スイッチ1b及び判定装置2cを備えている。第四の実施形態に係る判定装置2c及びスイッチシステム8cに関し、第三の実施形態に係る判定装置2b及びスイッチシステム8bと同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
 半導体スイッチ1bは、ゲート10G及びソース10Sの各々を2つ有するデュアルゲート型の接合型電界効果トランジスタ10b(以下、JFET10bともいう)であり、双方向スイッチとして用いることができる。2つのゲート10Gと2つのソース10Sとは一対一に対応する。以下では、説明の便宜上、2つのゲート10Gの一方を第1ゲート11Gと称し、他方を第2ゲート12Gと称することもある。また、2つのソース10Sのうち第1ゲート11Gに対応するソース10Sを第1ソース11Sと称し、第2ゲート12Gに対応するソース10Sを第2ソース12Sと称することもある。
 以下、半導体スイッチ1bについて簡単に説明してから、判定装置2c及びスイッチシステム8cについて説明する。
 JFET10bは、GaN系GITの一種である。JFET10bは、例えば、基板と、バッファ層と、第1の窒化物半導体層と、第2の窒化物半導体層と、第1ソース電極と、第1ゲート電極と、第2ゲート電極と、第2ソース電極と、第1p型層と、第2p型層と、を備える。バッファ層は、基板上に形成されている。第1の窒化物半導体層は、バッファ層上に形成されている。第2の窒化物半導体層は、第1の窒化物半導体層上に形成されている。第1ソース電極、第1ゲート電極、第2ゲート電極及び第2ソース電極は、第2の窒化物半導体層上に形成されている。第1p型層は、第1ゲート電極と第2の窒化物半導体層との間に介在している。第2p型層は、第2ゲート電極と第2の窒化物半導体層との間に介在している。JFET10bでは、第1ソース11Sは、第1ソース電極を含む。第1ゲート11Gは、第1ゲート電極と、第1p型層と、を含む。第2ゲート12Gは、第2ゲート電極と、第2p型層と、を含む。第2ソース12Sは、第2ソース電極を含む。基板は、例えば、シリコン基板である。バッファ層は、例えば、アンドープのGaN層である。第1の窒化物半導体層は、例えば、アンドープのGaN層である。第2の窒化物半導体層は、例えば、アンドープのAlGaN層である。第1p型層及び第2p型層の各々は、例えば、p型AlGaN層である。バッファ層、第1の窒化物半導体層及び第2の窒化物半導体層の各々には、MOVPE等による成長時に不可避的に混入されるMg、H、Si、C、O等の不純物が存在してもよい。
 JFET10bでは、第2の窒化物半導体層は、第1の窒化物半導体層とともにヘテロ接合部を構成する。第1の窒化物半導体層においては、ヘテロ接合部の近傍に、2次元電子ガス(Two-Dimensional Electron Gas)が発生している。2次元電子ガスを含む領域(以下、「2次元電子ガス層」ともいう)は、nチャネル層(電子伝導層)として機能することが可能である。
 以下では、説明の便宜上、第1ゲート11Gと第1ソース11Sとの間に第1閾値電圧(例えば、1.3V)以上の電圧が印加されていない状態を、第1ゲート11Gがオフ状態ともいう。また、第1ゲート11Gと第1ソース11Sとの間に第1ゲート11Gを高電位側として第1閾値電圧以上の電圧が印加されている状態を、第1ゲート11Gがオン状態ともいう。また、第2ゲート12Gと第2ソース12Sとの間に第2閾値電圧(例えば、1.3V)以上の電圧が印加されていない状態を、第2ゲート12Gがオフ状態ともいう。また、第2ゲート12Gと第2ソース12Sとの間に第2ゲート12Gを高電位側として第2閾値電圧以上の電圧が印加されている状態を、第2ゲート12Gがオン状態ともいう。
 JFET10bは、上述の第1p型層及び第2p型層を備えることにより、ノーマリオフ型のJFETを実現している。
 JFET10bは、第1ゲート11G及び第2ゲート12Gそれぞれに与えられる第1ゲート電圧及び第2ゲート電圧の組み合わせに応じて、双方向オン状態と、双方向オフ状態と、第1のダイオード状態と、第2のダイオード状態と、を切替可能である。第1ゲート電圧は、第1ゲート11Gと第1ソース11Sとの間に印加される電圧(第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1)である。第2ゲート電圧は、第2ゲート12Gと第2ソース12Sとの間に印加される電圧(第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2)である。双方向オン状態は、双方向(第1方向及び第1方向とは反対の第2方向)の電流を通過させる状態である。双方向オフ状態は、双方向の電流を阻止する状態である。第1のダイオード状態は、第1方向の電流を通過させる状態である。第2のダイオード状態は、第2方向の電流を通過させる状態である。
 JFET10bでは、第1ゲート11Gがオン状態で、かつ第2ゲート12Gがオン状態である場合に双方向オン状態となる。JFET10bでは、第1ゲート11Gがオフ状態で、かつ第2ゲート12Gがオフ状態である場合に双方向オフ状態となる。JFET10bでは、第1ゲート11Gがオフ状態で、かつ第2ゲート12Gがオン状態である場合に第1のダイオード状態となる。JFET10bでは、第1ゲート11Gがオン状態で、かつ第2ゲート12Gがオフ状態である場合に第2のダイオード状態となる。
 次に、判定装置2c及びスイッチシステム8cについて説明する。
 判定装置2cは、第三の実施形態に係る判定装置2bと同様、抵抗Rgを2つ備え、かつ、判定回路3を2つ備える。2つの抵抗Rgは、第1ゲート11Gに接続する第1抵抗Rg1と、第2ゲート12Gに接続する第2抵抗Rg2と、を含む。2つの判定回路3は、第1ゲート11G及び第1ソース11Sに対応する第1判定回路31と、第2ゲート12G及び第2ソース12Sに対応する第2判定回路32と、を含む。判定装置2cは、第3判定回路33を更に備える。第3判定回路33は、第1判定回路31の判定結果と第2判定回路32の判定結果とに基づいて半導体スイッチ1bの異常の有無を判定する。
 判定装置2c及びスイッチシステム8cの動作は、第三の実施形態に係る判定装置2b及びスイッチシステム8bの動作と同様である。
 図10及び図11は、判定装置2cを備えるスイッチシステム8cの動作説明図である。スイッチシステム8cの一動作例について、図10及び図11を参照して説明する。
 図10では、JFET10bの模式的な等価回路上で、電圧Vgu1、電圧Vgu2、チャネル抵抗Rchgs1、チャネル抵抗Rchgs2、内部抵抗Rchggおよび主電流I1を標記してある。電圧Vgu1は、第1ゲート11Gのダイオードに印加されている電圧である。電圧Vgu2は、第2ゲート12Gのダイオードに印加されている電圧である。チャネル抵抗Rchgs1は、JFET10bの第1ゲート-第1ソース間のチャネル抵抗である。チャネル抵抗Rchgs2は、JFET10bの第2ゲート-第2ソース間のチャネル抵抗である。内部抵抗Rchggは、チャネル抵抗Rchgs1とチャネル抵抗Rchgs2との間の内部抵抗である。主電流I1は、第2ソース12Sから第1ソース11Sに向かって流れる電流である。
 図11では、第2ソース12Sから第1ソース11Sに向かって流れる主電流I1をIs2s1とし、第1ゲート-第1ソース間電圧をVgs1とし、第2ゲート-第2ソース間電圧をVgs2とし、第1抵抗Rg1を流れる第1充電電流をIcha1とし、第2抵抗Rg2を流れる第2充電電流をIcha2として、これらの時間変化を示している。半導体スイッチ1bがオン状態で、半導体スイッチ1bに過電流が流れていないときは、主電流Is2s1と、第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1と、第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2と、第1充電電流Icha1と、第2充電電流Icha2とのそれぞれは、略一定である。これに対し、第2ソース12Sから第1ソース11Sに向かう主電流Is2s1が増加すると、第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が増加し、第1充電電流Icha1が減少する。また、第2ソース12Sから第1ソース11Sに向かう主電流Is2s1が増加すると、第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が減少し、第2充電電流Icha2が増加する。
 第四の実施形態に係る判定装置2c及びスイッチシステム8cは、第三の実施形態に係る判定装置2b及びスイッチシステム8bと同様、電力損失を抑制することが可能となる。
 第四の実施形態に係る判定装置2cは、第三の実施形態に係る判定装置2bの備える制御回路4bと同様の制御回路を備えていてもよい。
 (第五の実施形態)
 図12は、第五の実施形態に係る判定装置2dを備えるスイッチシステム8dの回路図である。以下、第五の実施形態に係る判定装置2d及びそれを備えるスイッチシステム8dについて、図12に基づいて説明する。
 第五の実施形態に係るスイッチシステム8dは、第二の実施形態に係るスイッチシステム8aの半導体スイッチ1a及び判定装置2aの代わりに半導体スイッチ1c及び判定装置2dを備えている。第五の実施形態に係る判定装置2d及びスイッチシステム8dに関し、第二の実施形態に係る判定装置2a及びスイッチシステム8aと同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
 半導体スイッチ1aでは、第1JFET11の第1ドレイン11Dと第2JFET12の第2ドレイン12Dとが接続されているのに対し、半導体スイッチ1cでは、第1JFET11の第1ソース11Sと第2JFET12の第2ソース12Sとが接続されている。
 スイッチシステム8dでは、1つの直流電源5が第1駆動回路61と第2駆動回路62とに共用されており、直流電源5の低電位側の出力端が、第1JFET11の第1ソース11Sと第2JFET12の第2ソース12Sとの間のノードに接続されている。
 半導体スイッチ1cでは、第1JFET11の第1ドレイン11Dと第2JFET12の第2ドレイン12Dとが一対の主端子を構成している。スイッチシステム8dは、第1ドレイン11Dと第2ドレイン12Dとの間に負荷回路を接続して使用される。
 図13は、判定装置2dを備えるスイッチシステム8dの動作説明図である。図13では、第2ドレイン12Dから第1ドレイン11Dに向かって流れる主電流をI1とし、第1ゲート-第1ソース間電圧をVgs1とし、第2ゲート-第2ソース間電圧をVgs2とし、第1抵抗Rg1を流れる第1放電電流をIdis1とし、第2抵抗Rg2を流れる第2放電電流をIdis2として、これらの時間変化を示している。半導体スイッチ1cがオン状態で、半導体スイッチ1cに過電流が流れていないときは、主電流I1と、第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1と、第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2と、第1放電電流Idis1と、第2放電電流Idis2とのそれぞれは、略一定である。これに対し、第2ドレイン12Dから第1ドレイン11Dに向かう主電流I1が増加すると、第1ゲート-第1ソース間電圧Vgs1が減少し、第1放電電流Idis1が減少する。また、第2ドレイン12Dから第1ドレイン11Dに向かう主電流I1が増加すると、第2ゲート-第2ソース間電圧Vgs2が増加し、第2放電電流Idis2が増加する。
 第五の実施形態に係る判定装置2d及びスイッチシステム8dは、第二の実施形態に係る判定装置2a及びスイッチシステム8aと同様、電力損失を抑制することが可能となる。
 また、第五の実施形態に係る判定装置2dでは、第1駆動回路61の基準電位と第2駆動回路62の基準電位とを同じにできる。図14は、判定装置2aの要部回路図である。図14に示すように、第1参照電圧Vref1と第2参照電圧Vref2とを同じにでき、かつ、ΔV1とΔV2とを同じにできる。これにより、判定装置2dでは、回路構成の簡略化を図れ、判定装置2dの小型化を図れる。
 また、第五の実施形態に係る判定装置2dは、第三の実施形態に係る判定装置2bの備える第3判定回路33と同様の第3判定回路を備えていてもよい。
 第3判定回路は、下記の表4のように、第1コンパレータCp1の出力信号のレベルと第2コンパレータCp2の出力信号のレベルとが異なる場合に過電流の向きを判定し、第1コンパレータCp1の出力信号のレベルと第2コンパレータCp2の出力信号のレベルとが同じ場合に異常なしと判定するように構成されていてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 (第六の実施形態)
 図15は、第六の実施形態に係る判定装置2eを備えるスイッチシステム8eの回路図である。以下、第六の実施形態に係る判定装置2e及びそれを備えるスイッチシステム8eについて、図15に基づいて説明する。
 第六の実施形態に係る判定装置2e及びスイッチシステム8eは、制御回路4を備える点で、第五の実施形態に係る判定装置2d及びスイッチシステム8dと相違する。第六の実施形態に係る判定装置2e及びスイッチシステム8eに関し、第五の実施形態に係る判定装置2d及びスイッチシステム8dと同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
 制御回路4は、第3判定回路33の判定結果に基づいて第1JFET11及び第2JFET12を制御する。制御回路4は、第3判定回路33での判定結果が異常ありの場合、第1JFET11及び第2JFET12を制御する。より詳細には、制御回路4は、第3判定回路33での判定結果が異常ありの場合、第1駆動回路61を制御して第1ゲート駆動電圧Vo1を0Vにし、かつ、第2駆動回路62を制御して第2ゲート駆動電圧Vo2を0Vにする。
 第六の実施形態に係る判定装置2e及びスイッチシステム8eは、第五の実施形態に係る判定装置2a及びスイッチシステム8aと同様、電力損失を抑制することが可能となる。
 第六の実施形態に係る判定装置2e及びスイッチシステム8eでは、制御回路4を備えるので、半導体スイッチ1cに過電流が流れたときに過電流を速やかに遮断することが可能となる。
 上記の第一の実施形態~第六の実施形態は、本開示の様々な実施形態の一つに過ぎない。上記の第一の実施形態~第六の実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。
 例えば、第一の実施形態に係る判定装置2及びスイッチシステム8に関し、図16に示すように、上述の判定回路3がツェナダイオードZDにより構成され、制御回路4がノーマリオフ型のトランジスタQ1を含んで構成されてもよい。図16の回路では、駆動回路6と抵抗Rgとの間の経路の電位Vcontは、通常はH(High)レベル(例えば、12V)であり、半導体スイッチ1に過電流が流れてゲート-ソース間電圧Vgsが増加した場合にL(Low)レベル(例えば、0V)となり、駆動回路6の動作を停止させる。
 また、判定回路3において、過電流が流れていると判定するとは、過電流が流れているときと流れていないときとで、判定回路3の出力が異なる場合を含む。
 また、半導体スイッチ1、1a、1cにおけるp型層は、p型AlGaN層に限らず、例えば、p型GaN層であってもよいし、p型金属酸化物半導体層であってもよい。p型金属酸化物半導体層は、例えば、NiO層である。NiO層は、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムの群から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属を不純物として含んでいてもよい。また、NiO層は、例えば、不純物として添加されたときに一価となる銀、銅等の遷移金属を含んでいてもよい。また、半導体スイッチ1bにおける第1p型層及び第2p型層の各々についても、半導体スイッチ1、1a、1cにおけるp型層と同様である。
 半導体スイッチ1、1a~1cの各々は、バッファ層と第1の窒化物半導体層との間に、1層以上の窒化物半導体層を含んでいてもよい。また、バッファ層は、単層構造に限らず、例えば、超格子構造を有していてもよい。
 また、半導体スイッチ1、1a~1cの各々における基板は、シリコン基板に限らず、例えば、GaN基板、SiC基板、サファイア基板等であってもよい。
 半導体スイッチ1~1cは、例えば、遮断器、マルチレベルインバータ、調光器、交流-交流電力変換を行うマトリクスコンバータ等の電気装置に適用できる。
 (態様)
 以上説明した実施形態等から本明細書には以下の態様が開示されている。
 第1の態様に係る判定装置(2;2a;2b;2c;2d;2e)は、半導体スイッチ(1)に用いられる。半導体スイッチ(1;1a;1b;1c)は、ゲート(10G)及びゲート(10G)に対応するソース(10S)を有する接合型電界効果トランジスタ(10)を含む。判定装置(2)は、抵抗(Rg)と、判定回路(3)と、を備える。抵抗(Rg)は、第1端及び第2端を有する。抵抗(Rg)の第1端がゲート(10G)に接続される。判定回路(3)は、接合型電界効果トランジスタ(10)のゲート-ソース間電圧(Vgs)について、抵抗(Rg)の第2端とソース(10S)との間に与えられるゲート駆動電圧(Vo)よりも小さい範囲で所定の変化があった場合に、半導体スイッチ(1;1a;1b;1c)に過電流が流れていると判定する。
 第1の態様に係る判定装置(2;2a;2b;2c;2d;2e)は、電力損失を抑制することが可能となる。
 第2の態様に係る判定装置(2;2a;2b;2c;2d;2e)では、第1の態様において、所定の変化は、閾値で判定される変化を含む。
 第2の態様に係る判定装置(2;2a;2b;2c;2d)では、判定回路(3)を、コンパレータを用いて構成することが可能となる。
 第3の態様に係る判定装置(2;2a;2b;2c;2d)では、第1の態様において、所定の変化は、変化量で判定される変化を含む。
 第3の態様に係る判定装置(2;2a;2b;2c;2d)では、過電流の誤検知を抑制することが可能となる。
 第4の態様に係る判定装置(2a)は、第1の態様に基づく。半導体スイッチ(1a)は、接合型電界効果トランジスタ(10)を2つ備える双方向スイッチである。2つの接合型電界効果トランジスタ(10)は、第1接合型電界効果トランジスタ(11)と、第2接合型電界効果トランジスタ(12)と、を含む。判定装置(2a)は、抵抗(Rg)を2つ備え、かつ、判定回路(3)を2つ備える。2つの抵抗(Rg)は、第1接合型電界効果トランジスタ(11)に対応する第1抵抗(Rg1)と、第2接合型電界効果トランジスタ(12)に対応する第2抵抗(Rg2)と、を含む。2つの判定回路(3)は、第1接合型電界効果トランジスタ(11)に対応する第1判定回路(31)と、第2接合型電界効果トランジスタ(12)に対応する第2判定回路(32)と、を含む。
 第4の態様に係る判定装置(2a)は、双方向スイッチに過電流が流れているか否か判定することが可能となる。
 第5の態様に係る判定装置(2a)では、第4の態様において、第1判定回路(31)は、第1接合型電界効果トランジスタ(11)のゲート-ソース間電圧(Vgs1)と第1閾値(Vref1+ΔV1)とを比較する。第2判定回路(32)は、第2接合型電界効果トランジスタ(12)のゲート-ソース間電圧(Vgs2)と第2閾値(Vref2+ΔV2)とを比較する。
 第5の態様に係る判定装置(2a)では、第1判定回路(31)を、コンパレータ(Cp1)を用いて構成でき、第2判定回路(32)を、コンパレータ(Cp2)を用いて構成できる。
 第6の態様に係る判定装置(2a)では、第4の態様において、第1判定回路(31)は、第1接合型電界効果トランジスタ(11)のゲート-ソース間電圧(Vgs1)と、第1接合型電界効果トランジスタ(11)がオンしているときのゲート電圧の移動平均値(Vg1)とを比較する。第2判定回路(32)は、第2接合型電界効果トランジスタ(12)のゲート-ソース間電圧(Vgs2)と、第2接合型電界効果トランジスタ(12)がオンしているときのゲート電圧の移動平均値(Vg2)とを比較する。
 第6の態様に係る判定装置(2a)では、第1判定回路(31)を、コンパレータ(Cp1)を用いて構成でき、第2判定回路(32)を、コンパレータ(Cp2)を用いて構成できる。
 第7の態様に係る判定装置(2b)は、第4~6の態様のいずれか一つにおいて、第1判定回路(31)の判定結果と第2判定回路(32)の判定結果とに基づいて半導体スイッチ(1a)の異常の有無を判定する第3判定回路(33)を更に備える。
 第7の態様に係る判定装置(2b)では、半導体スイッチ(1a)の異常の有無を判定することができる。
 第8の態様に係る判定装置(2b)では、第7の態様において、第3判定回路(33)は、過電流の流れている向きを判定する。
 第8の態様に係る判定装置(2b)では、過電流の流れている向きを判定することができる。
 第9の態様に係る判定装置(2b)では、第8の態様において、判定装置(2b)は、制御回路(4b)を更に備える。制御回路(4b)は、第3判定回路(33)の判定結果に基づいて第1接合型電界効果トランジスタ(11)及び第2接合型電界効果トランジスタ(12)を制御する。制御回路(4b)は、第1接合型電界効果トランジスタ(11)のゲート-ソース間電圧(Vgs1)が第1基準電圧よりも増加し、かつ、第2接合型電界効果トランジスタ(12)のゲート-ソース間電圧(Vgs2)が第2基準電圧よりも低下した場合、第1接合型電界効果トランジスタ(11)と第2接合型電界効果トランジスタ(12)とのうち第1接合型電界効果トランジスタ(11)を先にオフさせる。制御回路4は、第1接合型電界効果トランジスタ(11)のゲート-ソース間電圧(Vgs1)が第1基準電圧よりも低下し、かつ、第2接合型電界効果トランジスタ(12)のゲート-ソース間電圧(Vgs2)が第2基準電圧よりも増加した場合に、第1接合型電界効果トランジスタ(11)と第2接合型電界効果トランジスタ(12)とのうち第2接合型電界効果トランジスタ(12)を先にオフさせる。
 第9の態様に係る判定装置(2b)は、半導体スイッチ(1;1a;1c)に過電流が流れて半導体スイッチ(1;1a;1c)をオフさせるときに半導体スイッチ(1;1a;1c)の温度上昇を抑制できる。
 第10の態様に係る判定装置(2c)では、第1の態様において、半導体スイッチ(1b)は、ゲート(10G)及びソース(10S)の各々を2つ有するデュアルゲート型の接合型電界効果トランジスタである。2つのゲート(10G)は、第1ゲート(11G)と、第2ゲート(12G)と、を含む。2つのソース(10S)は、第1ゲート(11G)に対応する第1ソース(11S)と、第2ゲート(12G)に対応する第2ソース(12S)と、を含む。判定装置(2c)は、抵抗(Rg)を2つ備え、かつ、判定回路(3)を2つ備える。2つの抵抗(Rg)は、第1ゲート(11G)に接続する第1抵抗(Rg1)と、第2ゲート(12G)に接続する第2抵抗(Rg2)と、を含む。2つの判定回路(3)は、第1ゲート(11G)及び第1ソース(11S)に対応する第1判定回路(31)と、第2ゲート(12G)及び第2ソース(12S)に対応する第2判定回路(32)と、を含む。判定装置(2c)は、第3判定回路(33)を更に備える。第3判定回路(33)は、第1判定回路(31)の判定結果と第2判定回路(32)の判定結果とに基づいて半導体スイッチ(1b)の異常の有無を判定する。
 第10の態様に係る判定装置(2)では、半導体スイッチ(1b)の異常の有無を判定することができる。
 第11の態様に係る判定装置(2e)は、第7の態様に基づく。半導体スイッチ(1c)では、第1接合型電界効果トランジスタ(11)のゲート(10G)及びソース(10S)がそれぞれ第1ゲート(11G)及び第1ソース(11S)である。第2接合型電界効果トランジスタ(12)のゲート(10G)及びソース(10S)がそれぞれ第2ゲート(12G)及び第2ソース(12S)である。第1接合型電界効果トランジスタ(11)の第1ソース(11S)と第2接合型電界効果トランジスタ(12)の第2ソース(12S)とが接続されている。判定装置(2e)は、制御回路(4)を更に備える。制御回路(4)は、第3判定回路(33)の判定結果に基づいて第1接合型電界効果トランジスタ(11)及び第2接合型電界効果トランジスタ(12)を制御する。第3判定回路(33)は、第2ゲート(12G)と第2ソース(12S)との間の電圧が第1基準電圧よりも増加し、かつ、第1ゲート(11G)と第1ソース(11S)との間の電圧が減少した場合に半導体スイッチ(c)が異常であると判定する。
 第11の態様に係る判定装置(2e)は、半導体スイッチ(1c)の異常の有無を判定することができる。
 第12の態様に係る判定装置(2)は、第5の態様に基づく。半導体スイッチ(1)では、第1接合型電界効果トランジスタ(11)のゲート(10G)及びソース(10S)がそれぞれ第1ゲート(11G)及び第1ソース(11S)である。第2接合型電界効果トランジスタ(12)のゲート(10G)及びソース(10S)がそれぞれ第2ゲート(12G)及び第2ソース(12S)である。第1接合型電界効果トランジスタ(11)の第1ソース(11S)と第2接合型電界効果トランジスタ(12)の第2ソース(12S)とが接続されている。第1閾値(Vref1+ΔV1)と第2閾値(Vref2+ΔV2)とが同じである。
 第12の態様に係る判定装置(2a)では、回路構成の簡略化及び小型化が可能となる。
 第13の態様に係るスイッチシステム(8;8a;8b;8c;8d;8e)は、第1~12の態様のいずれか一つの判定装置(2;2a;2b;2c;2d;2e)と、半導体スイッチ(1;1a;1b;1c)と、を備える。
 第13の態様に係るスイッチシステム(8;8a;8b;8c;8d;8e)は、電力損失を抑制することが可能となる。
 本開示の判定装置、及びそれを備えるスイッチシステムは、電力損失を抑制することが可能となる。そのため、本開示の判定装置、及びそれを備えるスイッチシステムは半導体装置やそれを用いる電子機器の省電力化につながり、産業上有用である。
 1、1a、1b、1c 半導体スイッチ
 2、2a、2b、2c、2d、2e 判定装置
 3 判定回路
 31 第1判定回路
 32 第2判定回路
 33 第3判定回路
 4 制御回路
 5 直流電源
 51 第1直流電源
 52 第2直流電源
 6 駆動回路
 61 第1駆動回路
 62 第2駆動回路
 8、8a、8b、8c、8d、8e スイッチシステム
 10、10b 接合型電界効果トランジスタ
 10D ドレイン
 10G ゲート
 10S ソース
 11 第1接合型電界効果トランジスタ
 11G 第1ゲート
 11S 第1ソース
 11D 第1ドレイン
 12 第2接合型電界効果トランジスタ
 12G 第2ゲート
 12S 第2ソース
 12D 第2ドレイン
 I1、Is2s1 主電流
 Icha 充電電流
 Icha1 第1充電電流
 Icha2 第2充電電流
 Vg1 第1ゲート電圧
 Vg2 第2ゲート電圧
 Vgs ゲート-ソース間電圧
 Vgs1 第1ゲート-第1ソース間電圧
 Vgs2 第2ゲート-第2ソース間電圧
 Vo ゲート駆動電圧
 Vo1 ゲート駆動電圧
 Vo2 ゲート駆動電圧

Claims (13)

  1.  ゲート及び前記ゲートに対応するソースを有する接合型電界効果トランジスタを含む半導体スイッチに用いられる判定装置であって、
     第1端及び第2端を有し、前記第1端が前記ゲートに接続される抵抗と、
     前記接合型電界効果トランジスタのゲート-ソース間電圧について、前記抵抗の第2端と前記ソースとの間に与えられるゲート駆動電圧よりも小さい範囲で所定の変化があった場合に、前記半導体スイッチに過電流が流れていると判定する判定回路と、を備える、
     判定装置。
  2.  前記所定の変化は、閾値で判定される変化を含む、
     請求項1に記載の判定装置。
  3.  前記所定の変化は、変化量で判定される変化を含む、
     請求項1に記載の判定装置。
  4.  前記半導体スイッチは、前記接合型電界効果トランジスタを2つ備える双方向スイッチであり、
     前記2つの接合型電界効果トランジスタは、第1接合型電界効果トランジスタと、第2接合型電界効果トランジスタと、を含み、
     前記判定装置は、前記抵抗を2つ備え、かつ、前記判定回路を2つ備え、
     前記2つの抵抗は、
      前記第1接合型電界効果トランジスタに対応する第1抵抗と、
      前記第2接合型電界効果トランジスタに対応する第2抵抗と、を含み、
     前記2つの判定回路は、
      前記第1接合型電界効果トランジスタに対応する第1判定回路と、
      前記第2接合型電界効果トランジスタに対応する第2判定回路と、を含む、
     請求項1に記載の判定装置。
  5.  前記第1判定回路は、前記第1接合型電界効果トランジスタの前記ゲート-ソース間電圧と第1閾値とを比較し、
     前記第2判定回路は、前記第2接合型電界効果トランジスタの前記ゲート-ソース間電圧と第2閾値とを比較する、
     請求項4に記載の判定装置。
  6.  前記第1判定回路は、前記第1接合型電界効果トランジスタの前記ゲート-ソース間電圧と前記第1接合型電界効果トランジスタがオンしているときのゲート電圧の移動平均値とを比較し、
     前記第2判定回路は、前記第2接合型電界効果トランジスタの前記ゲート-ソース間電圧と前記第2接合型電界効果トランジスタがオンしているときのゲート電圧の移動平均値とを比較する、
     請求項4に記載の判定装置。
  7.  前記第1判定回路の判定結果と前記第2判定回路の判定結果とに基づいて前記半導体スイッチの異常の有無を判定する第3判定回路を更に備える、
     請求項4~6のいずれか一項に記載の判定装置。
  8.  前記第3判定回路は、前記過電流の流れている向きを判定する、
     請求項7に記載の判定装置。
  9.  前記判定装置は、
      前記第3判定回路の判定結果に基づいて前記第1接合型電界効果トランジスタ及び前記第2接合型電界効果トランジスタを制御する制御回路を更に備え、
     前記制御回路は、
      前記第1接合型電界効果トランジスタの前記ゲート-前記ソース間電圧が第1基準電圧よりも増加し、かつ、前記第2接合型電界効果トランジスタの前記ゲート-前記ソース間電圧が第2基準電圧よりも低下した場合、前記第1接合型電界効果トランジスタと前記第2接合型電界効果トランジスタとのうち前記第1接合型電界効果トランジスタを先にオフさせ、
      前記第1接合型電界効果トランジスタの前記ゲート-前記ソース間電圧が第1基準電圧よりも低下し、かつ、前記第2接合型電界効果トランジスタの前記ゲート-前記ソース間電圧が第2基準電圧よりも増加した場合に、前記第1接合型電界効果トランジスタと前記第2接合型電界効果トランジスタとのうち前記第2接合型電界効果トランジスタを先にオフさせる、
     請求項8に記載の判定装置。
  10.  前記半導体スイッチは、前記ゲート及び前記ソースの各々を2つ有するデュアルゲート型の接合型電界効果トランジスタであり、
     前記2つのゲートは、第1ゲートと、第2ゲートと、を含み、
     前記2つのソースは、前記第1ゲートに対応する第1ソースと、前記第2ゲートに対応する第2ソースと、を含み、
     前記判定装置は、前記抵抗を2つ備え、かつ、前記判定回路を2つ備え、
     前記2つの抵抗は、
      前記第1ゲートに接続する第1抵抗と、
      前記第2ゲートに接続する第2抵抗と、を含み、
     前記2つの判定回路は、
      前記第1ゲート及び前記第1ソースに対応する第1判定回路と、
      前記第2ゲート及び前記第2ソースに対応する第2判定回路と、を含み、
     前記判定装置は、
     前記第1判定回路の判定結果と前記第2判定回路の判定結果とに基づいて前記半導体スイッチの異常の有無を判定する第3判定回路を更に備える、
     請求項1に記載の判定装置。
  11.  前記半導体スイッチでは、
      前記第1接合型電界効果トランジスタの前記ゲート及び前記ソースがそれぞれ第1ゲート及び第1ソースであり、
      前記第2接合型電界効果トランジスタの前記ゲート及び前記ソースがそれぞれ第2ゲート及び第2ソースであり、
      前記第1接合型電界効果トランジスタの前記第1ソースと前記第2接合型電界効果トランジスタの前記第2ソースとが接続されており、
     前記判定装置は、
      前記第3判定回路の判定結果に基づいて前記第1接合型電界効果トランジスタ及び前記第2接合型電界効果トランジスタを制御する制御回路を更に備え、
     前記第3判定回路は、
      前記第2ゲートと前記第2ソースとの間の電圧が第1基準電圧よりも増加し、かつ、前記第1ゲートと前記第1ソースとの間の電圧が減少した場合に前記半導体スイッチが異常であると判定する、
     請求項7に記載の判定装置。
  12.  前記半導体スイッチでは、
      前記第1接合型電界効果トランジスタの前記ゲート及び前記ソースがそれぞれ第1ゲート及び第1ソースであり、
      前記第2接合型電界効果トランジスタの前記ゲート及び前記ソースがそれぞれ第2ゲート及び第2ソースであり、
      前記第1接合型電界効果トランジスタの前記第1ソースと前記第2接合型電界効果トランジスタの前記第2ソースとが接続されており、
     前記第1閾値と前記第2閾値とが同じである、
     請求項5に記載の判定装置。
  13.  請求項1~12のいずれか1項の判定装置と、
     前記半導体スイッチと、を備える、
     スイッチシステム。
PCT/JP2021/005593 2020-03-30 2021-02-16 判定装置及びそれを備えるスイッチシステム WO2021199738A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US17/904,384 US20230082396A1 (en) 2020-03-30 2021-02-16 Determination device and switch system equipped therewith
JP2022511636A JPWO2021199738A1 (ja) 2020-03-30 2021-02-16

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020-061518 2020-03-30
JP2020061518 2020-03-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2021199738A1 true WO2021199738A1 (ja) 2021-10-07

Family

ID=77928344

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2021/005593 WO2021199738A1 (ja) 2020-03-30 2021-02-16 判定装置及びそれを備えるスイッチシステム

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20230082396A1 (ja)
JP (1) JPWO2021199738A1 (ja)
WO (1) WO2021199738A1 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010166793A (ja) * 2009-01-19 2010-07-29 Daikin Ind Ltd 双方向スイッチ及びスイッチング素子
JP2011182066A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Furukawa Electric Co Ltd:The 電源供給装置
US20130154391A1 (en) * 2009-04-30 2013-06-20 U.S. Army Research Laboratory Solid-state circuit breakers and related circuits
WO2018203422A1 (ja) * 2017-05-01 2018-11-08 三菱電機株式会社 半導体素子の駆動装置および電力変換装置
JP2019519182A (ja) * 2016-04-28 2019-07-04 マシイネンフアブリーク・ラインハウゼン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 結合部の温度と電流の検知

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010166793A (ja) * 2009-01-19 2010-07-29 Daikin Ind Ltd 双方向スイッチ及びスイッチング素子
US20130154391A1 (en) * 2009-04-30 2013-06-20 U.S. Army Research Laboratory Solid-state circuit breakers and related circuits
JP2011182066A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Furukawa Electric Co Ltd:The 電源供給装置
JP2019519182A (ja) * 2016-04-28 2019-07-04 マシイネンフアブリーク・ラインハウゼン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 結合部の温度と電流の検知
WO2018203422A1 (ja) * 2017-05-01 2018-11-08 三菱電機株式会社 半導体素子の駆動装置および電力変換装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20230082396A1 (en) 2023-03-16
JPWO2021199738A1 (ja) 2021-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7121236B2 (ja) トランジスタ電力スイッチのための電流感知及び制御
CN107615664B (zh) 功率晶体管驱动装置
TWI326974B (en) A current limited bilateral mosfet switch with reduced switch resistance and lower manufacturing cost
US10256811B2 (en) Cascode switch circuit including level shifter
US7995319B2 (en) Semiconductor device with overcurrent protection circuit
US20120229175A1 (en) Coupling Circuit, Driver Circuit and Method for Controlling a Coupling Circuit
US20130314834A1 (en) Semiconductor driving circuit and semiconductor device
TWI548184B (zh) 用於電子裝置之保護裝置及方法
JPH0580846B2 (ja)
CN110311664B (zh) 驱动装置以及功率模块
JPWO2013047005A1 (ja) 負荷駆動回路
US20240056071A1 (en) Semiconductor device
JP5124292B2 (ja) 電力スイッチ回路
WO2021199738A1 (ja) 判定装置及びそれを備えるスイッチシステム
US20050162189A1 (en) Current limiter of output transistor
JP4142429B2 (ja) 電流検出回路
JPH02278915A (ja) 電力用mosfetの保護回路
EP4005093A1 (en) Overcurrent protection for power transistors
US7741882B1 (en) Current-limited output buffer
US11641198B1 (en) Wide voltage gate driver using low gate oxide transistors
US7301745B2 (en) Temperature dependent switching circuit
US11196421B2 (en) Logic circuit and circuit chip
US11637552B2 (en) Driver circuit and switch system
US20230336171A1 (en) Circuit for switching device, switching system, and processing method for switching device
US6160387A (en) Power transistor current sensing and limiting apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21782415

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2022511636

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 21782415

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1