WO2021140969A1 - レーザ出力制御方法及びレーザ加工装置 - Google Patents

レーザ出力制御方法及びレーザ加工装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2021140969A1
WO2021140969A1 PCT/JP2020/048897 JP2020048897W WO2021140969A1 WO 2021140969 A1 WO2021140969 A1 WO 2021140969A1 JP 2020048897 W JP2020048897 W JP 2020048897W WO 2021140969 A1 WO2021140969 A1 WO 2021140969A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
laser
output
execution
program
physical quantity
Prior art date
Application number
PCT/JP2020/048897
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
西尾　正敏
学 西原
嵩宙 小松
Original Assignee
パナソニックＩｐマネジメント株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by パナソニックＩｐマネジメント株式会社 filed Critical パナソニックＩｐマネジメント株式会社
Priority to JP2021570027A priority Critical patent/JP7557678B2/ja
Publication of WO2021140969A1 publication Critical patent/WO2021140969A1/ja
Priority to US17/806,285 priority patent/US20220297231A1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
    • B23K26/0626—Energy control of the laser beam
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4012—Beam combining, e.g. by the use of fibres, gratings, polarisers, prisms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/70—Auxiliary operations or equipment
    • B23K26/702—Auxiliary equipment
    • B23K26/705—Beam measuring device
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/0617—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium using memorised or pre-programmed laser characteristics
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/062—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying the potential of the electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/06804—Stabilisation of laser output parameters by monitoring an external parameter, e.g. temperature
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4018—Lasers electrically in series
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022—Mountings; Housings
    • H01S5/0235—Method for mounting laser chips
    • H01S5/02355—Fixing laser chips on mounts
    • H01S5/02365—Fixing laser chips on mounts by clamping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031—Edge-emitting structures

Definitions

  • the present disclosure relates to a laser output control method and a laser processing apparatus that control a drive current supplied to a laser oscillator so that the laser output of the laser beam emitted by the laser oscillator approaches a target value.
  • Patent Document 1 describes a laser oscillator, an output measuring unit that measures the laser output of the laser beam emitted by the laser oscillator, and a measured value of the output measuring unit so that the laser output approaches a target value.
  • a laser processing apparatus including a control unit for controlling an operation signal of a laser oscillator is disclosed.
  • the state of the laser processing apparatus changes from the measurement by the output measuring unit to the time when the measured value is reflected in the laser output.
  • Output fluctuations may occur that change and the difference between the laser output and the target value increases momentarily. Then, such output fluctuation causes a decrease in processing accuracy.
  • the present disclosure has been made in view of this point, and the purpose of the present disclosure is to suppress a decrease in processing accuracy due to output fluctuation.
  • the present disclosure includes a laser oscillator, an output measuring unit for measuring the amount of laser light emitted by the laser oscillator, and the laser output of the laser beam so as to approach a target value.
  • This is a laser output control process executed by the control unit in a laser processing apparatus including a control unit that performs feedback control of the drive current supplied to the laser oscillator based on the measured value of the output measurement unit, and is not updated.
  • the target value is set to the value specified by the pre-update program and the feedback control is performed, and the laser output and the target value during the execution of the first execution process.
  • the measured value within the predetermined monitoring time before the occurrence timing is the specific process that specifies the physical quantity that does not satisfy the predetermined condition as the abnormal physical quantity, and the abnormal physical quantity specified by the specific process during the execution of the updated program.
  • the appearance of a predetermined feature is detected as a fluctuation factor, and after the fluctuation factor is detected, a correction for reducing the difference between the laser output and the target value compared to the time when the output fluctuation occurs in the first execution process is driven.
  • the difference between the laser output and the target value is reduced by the correction processing compared to when the output fluctuation occurs in the first execution step, or the warning processing is performed. Since the user can stop the machining operation accordingly, it is possible to suppress a decrease in machining accuracy due to output fluctuation.
  • FIG. 1 is a schematic view showing the configuration of the laser processing apparatus according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a schematic view showing the configuration of the laser apparatus according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 3 is a schematic view showing the configuration of a plurality of laser modules.
  • FIG. 4 is a side view of the laser module.
  • FIG. 5 is a front view of the laser module.
  • FIG. 6 is a flowchart showing the operation of the control unit.
  • 7A and 7B are graphs showing a target value, a measured value, a pre-correction output, and a correction amount of laser output during execution of the pre-update machining program, and
  • FIG. 7B is a graph of the pre-update machining program.
  • FIG. 8A is a diagram corresponding to FIG. 7A during execution of the updated machining program
  • FIG. 8B is a diagram corresponding to FIG. 7B during execution of the updated machining program. It is a figure.
  • the laser processing apparatus 100 includes a laser oscillator 10, a laser beam emitting head 40, a transmission fiber 50, a control unit 60, a power supply 70, and a display device as an output device. It includes 80 and a controller 90.
  • the laser oscillator 10 and the end portion (incident end) of the transmission fiber 50 on the condensing unit 13 side are housed in the housing 11.
  • the laser oscillator 10 has a plurality of laser devices 20, a beam coupler 12, and a condensing unit 13.
  • the laser device 20 combines, for example, 10 laser modules 30 that emit laser light LB1 having different wavelengths from each other and laser light LB1 emitted from each of the 10 laser modules 30 to emit the laser light LB1.
  • the partially transmitted mirror 23 that transmits a part of the laser light emitted by the diffraction grating 22 as the laser light LB2, and reflects the rest as the reflected light LB3, and the partially transmitted mirror 23.
  • each laser module 30 has a laser diode bar (LD bar) 31, and the laser diode bar 31 is a semiconductor laser array having a plurality of emitters 31b arranged in parallel. is there.
  • the laser diode bar 31 is a semiconductor laser array composed of a plurality of laser diodes arranged in parallel having an emitter 31b.
  • the laser diode bar 31 has a flat plate shape having a rectangular shape in a plan view, and a plate-shaped positive electrode 32 is arranged on one surface thereof, and one surface of the positive electrode 32 is attached.
  • a plate-shaped negative electrode 33 wider than the positive electrode 32 is arranged on the other surface of the laser diode bar 31, and a part of one surface of the negative electrode 33 is attached.
  • One side surface of the laser diode bar 31 constitutes a laser beam emitting surface 31a that emits the laser beam LB1.
  • a wiring 35 is connected to each electrode (positive electrode 32, negative electrode 33), and a current (electric power) is supplied from a power source 70 described later via the wiring 35.
  • the number of emitters 31b included in one laser diode bar 31 is set to, for example, 50.
  • the laser diode bars 31 of the 10 laser modules 30 are connected in series with each other.
  • thermocouple 36 for measuring the temperature in the vicinity of the laser diode bar 31 is attached to the region where the laser diode bar 31 is not attached on the attachment surface of the laser diode bar 31 of the negative electrode 33.
  • a means for measuring the temperature in the vicinity of the laser diode bar 31 instead of the thermocouple 36, another means such as an RTD (Resistance Temperature Detector), a thermistor, or an IC (Integrated Circuit) sensor may be used. Good.
  • a semiconductor device such as a thermistor or an IC sensor may be integrally formed with the laser diode bar 31, whereby the internal temperature of the laser diode bar 31 can be indirectly or directly measured and measured. The temperature can be brought closer to the internal temperature of the laser diode bar 31.
  • the beam coupler 12 combines the laser light LB2 (see FIG. 2) emitted from each of the plurality of laser devices 20 with one laser light LB4 and emits the laser light LB4 to the condensing unit 13.
  • the beam coupler 12 includes a photodiode 12a that measures a part of the amount of light that occupies a certain proportion of the laser beam LB4, a temperature measuring unit 12b that measures the temperature inside the beam coupler 12, and the humidity inside the beam coupler 12.
  • a humidity measuring unit 12c for measuring the temperature is provided.
  • the condensing unit 13 condenses the incident laser beam LB4 by a condensing lens (not shown) arranged inside, reduces the beam diameter by a predetermined magnification, and emits it to the transmission fiber 50.
  • reference numeral LB5 is a laser beam emitted by the condensing unit 13.
  • the light collecting unit 13 has a connector (not shown), and the incident end of the transmission fiber 50 is connected to the connector.
  • the condensing unit 13 includes a photodiode 13a that measures a part of the amount of light that occupies a certain proportion of the laser beam LB 5, a temperature measuring unit 13b that measures the temperature inside the condensing unit 13, and humidity inside the condensing unit 13.
  • a humidity measuring unit 13c for measuring the light is provided.
  • the transmission fiber 50 guides the laser beam LB5 emitted by the laser oscillator 10 and incident on the incident end of the transmission fiber 50 to the laser beam emitting head 40.
  • the laser beam emitting head 40 irradiates the laser beam LB6 guided by the transmission fiber 50 toward the outside.
  • the laser light emitting head 40 emits the laser light LB 6 toward the work W, which is a processing object arranged at a predetermined position. By doing so, the work W is laser machined.
  • the laser beam emitting head 40 is provided with a photodiode 40a as an output measuring unit for measuring a part of the amount of light that occupies a certain ratio of the laser beam LB6.
  • the control unit 60 performs feedback control of the drive current supplied to the laser oscillator 10 based on the measured value of the photodiode 40a so that the laser output of the laser beam LB6 approaches a predetermined target value.
  • the control of the drive current by the control unit 60 is performed by outputting a command current value to the power supply 70.
  • the control unit 60 stores a machining program to be executed when performing a predetermined machining on the work W.
  • the machining program defines a target value of the laser output of the laser beam LB6 at each timing during machining. Details of the control by the control unit 60 will be described later.
  • the control unit 60 displays on the display device 80 the timing t2 (see FIG. 8) in which a fluctuation factor described later is detected during the execution of the machining program and the correction amount of the command current value immediately after the timing t2.
  • the power supply 70 supplies a drive current to each of the plurality of laser devices 20 based on the command current value output by the control unit 60.
  • the display device 80 determines the timing t2 (see FIG. 8) at which the fluctuation factor is detected during the execution of the machining program by the control unit 60 and the correction amount of the command current value immediately after the timing t2. Display by control.
  • the controller 90 receives an input for correcting the correction amount of the command current value immediately after the timing t2 from the user, and outputs a command instructing the correction to the control unit 60.
  • control unit 60 controls the drive current
  • the control unit 60 executes the stored machining program (pre-update program) so that the laser output of the laser beam LB6 approaches the target value of each timing specified in the machining program. Feedback control of the command current value is performed based on the measured value of the photodiode 40a (first execution step).
  • the control unit 60 stores the measured values of the photodiodes 12a, 13a, 24, 40a, the temperature measuring units 12b, 13b, 20a, the thermocouple 36, and the humidity measuring units 12c, 13c, 20b during the execution of the machining program as a data log. To do. FIG.
  • FIG. 7A shows a target value of the laser output of the laser beam LB6 during the execution of the machining program in S101, a measured value of the laser output of the laser beam LB6 during the execution of the machining program in S101, and a command current value.
  • Laser output of laser light LB6 when it is constant (output before correction), and laser light LB6 when the measured value and command current value of the laser output of laser light LB6 during execution of the processing program in S101 are constant.
  • the difference (correction amount) from the laser output is shown.
  • the measured value of the laser output of the laser beam LB6 is calculated by the control unit 60 based on the measured value of the photodiode 40a.
  • the control unit 60 refers to the data log stored in S101 to measure the laser output of the laser beam LB6 during execution of the machining program in S101 and the target defined by the machining program. Output fluctuations whose difference from the value exceeds a predetermined threshold value TH are detected (detection step). Then, the output fluctuation occurrence timing t1 (see FIG. 7) in which the output fluctuation is detected is stored.
  • the control unit 60 obtains a measured value within a predetermined monitoring time T before the output fluctuation occurrence timing t1 from a plurality of physical quantities measured by the laser machining apparatus during execution of the machining program in S101.
  • a physical quantity that does not satisfy a predetermined predetermined condition is specified as an abnormal physical quantity (specific step).
  • the plurality of physical quantities include the measured values of the temperature measuring units 12b, 13b, 20a, the thermocouple 36, and the humidity measuring units 12c, 13c, 20b.
  • the plurality of physical quantities are obtained by subtracting the amount of light of the laser beam LB6 specified based on the measured value of the photodiode 40a from the amount of light of the laser beam LB5 specified based on the measured value of the photodiode 13a.
  • the amount of loss in the transmission fiber 50 is also included. Specifically, when the humidity measured by the humidity measuring unit 20b within the monitoring time T does not fall within the numerical range of 0 to H%, the humidity is specified as an abnormal physical quantity. In the example of FIG. 7, since the humidity exceeds H within the monitoring time T, the humidity is specified as an abnormal physical quantity. Further, when the loss amount in the transmission fiber 50 obtained by subtracting the light amount of the laser light LB6 from the light amount of the laser light LB5 does not fall within a predetermined numerical range, the loss amount is specified as an abnormal physical quantity.
  • the control unit 60 stores the characteristics of the measured values within the monitoring time T of the abnormal physical quantity specified in S103. Specifically, when the abnormal physical quantity is the humidity measured by the humidity measuring unit 20b, the measured value VA of the humidity at a predetermined timing within the monitoring time T is stored as a feature of the measured value.
  • the predetermined timing within the monitoring time T may be, for example, the start timing of the monitoring time T or the timing after the lapse of a predetermined time from the start of the monitoring time T.
  • the control unit 60 updates the machining program (program update step) and stores the updated machining program (updated program).
  • the control unit 60 detects that the feature stored in S104 appears in the abnormal physical quantity specified in S103 as a variable factor, and after the detection of the variable factor, the machining program detects it.
  • the drive current is updated to be corrected to reduce the difference between the measured value of the laser output of the laser beam LB6 and the target value from the time when the output fluctuation occurs in S101.
  • the correction for the drive current is performed by correcting the command current value so as to reduce the laser output by the amount corresponding to the difference (threshold value TH) between the laser output of the laser beam LB6 and the target value (threshold value TH) when the output fluctuates.
  • the abnormal physical quantity is the humidity measured by the humidity measuring unit 20b, it is detected that the humidity reaches the measured value VA as a variable factor.
  • the drive current is corrected so that the difference between the laser output of the laser beam LB6 and the target value becomes the difference between the target value during the execution of the machining program before the update. Since it is reduced compared to when the output fluctuation is detected, it is possible to suppress a decrease in machining accuracy due to the output fluctuation.
  • the defect rate of the work W machined by executing the machining program in S101 can be gradually reduced.
  • the humidity does not fall within the predetermined numerical range, it is specified as an abnormal physical quantity, so that the output fluctuation of the laser output due to the fluctuation of the humidity can be suppressed.
  • it is possible to suppress a decrease in laser output due to an increase in the concentration of water molecules and volatile organic substances in the optical path, which reduces the dust collecting ability of the dust collector filter and causes a further decrease in laser output.
  • the loss amount in the transmission fiber 50 is specified as an abnormal physical quantity when it does not fall within the predetermined numerical range, it is possible to suppress the output fluctuation of the laser output due to the fluctuation in the loss amount in the transmission fiber 50.
  • the laser oscillator 10 is provided with a plurality of laser devices 20, but only one may be provided. In such a case, the laser beam LB2 output from the laser apparatus 20 is directly incident on the transmission fiber 50.
  • the number of laser modules 30 and laser diode bars 31 included in one laser device 20 is set to 10, but the maximum output required for the laser device 20 and the price of the laser device 20 are met. Other numbers may be set depending on the number.
  • the number of emitters 31b included in one laser diode bar 31 is set to 50, but other emitters 31b may be used depending on the maximum output required for the laser module 30, the price of the laser diode bar 31, and the like. It may be set to the number.
  • the abnormal physical quantity is specified from the measured values of the temperature measuring units 12b, 13b, 20a, the thermocouple 36, and the humidity measuring units 12c, 13c, 20b, and the loss amount of the transmission fiber 50.
  • the abnormal physical quantity may be specified from the voltage value and the current value of each part in the apparatus 100 and the loss amount of the laser beam in the portion other than the transmission fiber 50 in the laser processing apparatus 100.
  • the machining program is updated so that the drive current correction process is performed after the detection of the fluctuation factor during the execution of the updated machining program.
  • the machining program may be updated so that the warning process for displaying the warning output on the device 80 is performed. Further, in addition to the above correction processing, the machining program may be updated so that the above warning processing is performed. As a result, the user can stop the machining operation in response to the warning process after a fluctuation factor occurs during the execution of the updated machining program.
  • control unit 60 stores the measured value VA as a feature of the measured value of the humidity in the monitoring time T, but stores the slope of the measured value of the humidity in the monitoring time T. You may do so. Then, in S105, the displacement of humidity due to the inclination stored in S104 may be detected as a variable factor.
  • the present disclosure is useful as a laser output control method and a laser processing device that controls a drive current supplied to a laser oscillator so that the laser output of the laser light emitted by the laser oscillator approaches a target value.
  • Laser processing device 10 Laser oscillator 20 Laser device 12a, 13a, 24 Photodiode 40a Photodiode (output measuring unit) 60 Control unit 80 Display device (output device) TH threshold value T Monitoring time t1 Output fluctuation occurrence timing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

制御部に、加工プログラムの実行により、加工プログラムによって規定された値に目標値を設定してレーザ発振器の駆動電流のフィードバック制御を行う第１実行ステップと、第１実行ステップの実行中における出力変動を検出する検出ステップと、第１実行ステップの実行中に測定された複数の物理量から、出力変動の発生タイミングより前の所定の監視時間内における測定値が、所定の条件を満たさない物理量を異常物理量として特定する特定ステップと、更新後の加工プログラムの実行中に、異常物理量に所定の特徴が現れるのを変動要因として検出し、変動要因の検出後に、レーザ出力と目標値との差を第１実行ステップでの出力変動の発生時よりも減らす補正を駆動電流に対して行うように、加工プログラムを更新するプログラム更新ステップとを実行させる。

Description

レーザ出力制御方法及びレーザ加工装置
　本開示は、レーザ発振器により出射されるレーザ光のレーザ出力を目標値に近づけるように、レーザ発振器に供給する駆動電流を制御するレーザ出力制御方法及びレーザ加工装置に関する。
　特許文献１には、レーザ発振器と、前記レーザ発振器により出射されたレーザ光のレーザ出力を測定する出力測定部と、前記レーザ出力を目標値に近づけるように、前記出力測定部の測定値に基づいて、レーザ発振器の操作信号を制御する制御部とを備えたレーザ加工装置が開示されている。
特開２００３－５３５６４号公報
　ところで、特許文献１のようなフィードバック制御を行う場合、出力測定部による測定から、その測定値がレーザ出力に反映されるまでの間に、レーザ加工装置の状態、例えば装置内部の温度や湿度が変化し、レーザ出力と目標値との差が瞬間的に大きくなる出力変動（スパイク）が発生することがある。そして、このような出力変動は加工精度の低下を招く。
　本開示は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、出力変動に起因する加工精度の低下を抑制することにある。
　上記の目的を達成するため、本開示は、レーザ発振器と、前記レーザ発振器により出射されたレーザ光の光量を測定する出力測定部と、前記レーザ光のレーザ出力を目標値に近づけるように、前記出力測定部の測定値に基づいて、前記レーザ発振器に供給する駆動電流のフィードバック制御を行う制御部とを備えたレーザ加工装置において、前記制御部が実行するレーザ出力制御処理であって、更新前プログラムの実行により、当該更新前プログラムによって規定された値に前記目標値を設定して前記フィードバック制御を行う第１実行処理と、前記第１実行処理の実行中における前記レーザ出力と前記目標値との差が所定の閾値を超える出力変動を検出する検出処理と、前記第１実行処理の実行中に前記レーザ加工装置において測定された複数の物理量から、前記検出処理で検出された前記出力変動の発生タイミングより前の所定の監視時間内における測定値が、所定の条件を満たさない物理量を異常物理量として特定する特定処理と、更新後プログラムの実行中に、前記特定処理で特定された異常物理量に所定の特徴が現れるのを変動要因として検出し、当該変動要因の検出後に、前記レーザ出力と前記目標値との差を前記第１実行処理における前記出力変動の発生時よりも減らす補正を前記駆動電流に対して行う補正処理、及び出力装置に警告を出力させる警告処理のうちの少なくとも一方の処理を行うように、前記更新前プログラムを前記更新後プログラムに更新するプログラム更新処理とを実行することを特徴とする。
　これにより、更新後プログラムの実行中における変動要因の発生後に、補正処理によって、レーザ出力と目標値との差が第１実行ステップにおける出力変動の発生時よりも低減されるか、又は警告処理に応じてユーザが加工動作を停止できるようになるので、出力変動に起因する加工精度の低下を抑制できる。
　本開示によれば、出力変動に起因する加工精度の低下を抑制できる。
図１は、本開示の実施形態１に係るレーザ加工装置の構成を示す模式図である。 図２は、本開示の実施形態１に係るレーザ装置の構成を示す模式図である。 図３は、複数のレーザモジュールの構成を示す模式図である。 図４は、レーザモジュールの側面図である。 図５は、レーザモジュールの正面図である。 図６は、制御部の動作を示すフローチャートである。 図７は、（ａ）は、更新前の加工プログラムの実行中におけるレーザ出力の目標値、測定値、補正前出力、補正量を示すグラフであり、（ｂ）は、更新前の加工プログラムの実行中における湿度の測定値を示すグラフである。 図８は、（ａ）は、更新後の加工プログラムの実行中における図７の（ａ）相当図であり、（ｂ）は、更新後の加工プログラムの実行中における図７の（ｂ）相当図である。
　以下、本開示の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本開示、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものでは全くない。
　本実施形態に係るレーザ加工装置１００は、図１に示すように、レーザ発振器１０と、レーザ光出射ヘッド４０と、伝送ファイバ５０と、制御部６０と、電源７０と、出力装置としての表示装置８０と、コントローラ９０とを備えている。レーザ発振器１０と、伝送ファイバ５０の集光ユニット１３側の端部（入射端）とは筐体１１に収容されている。
　レーザ発振器１０は、複数のレーザ装置２０と、ビーム結合器１２と、集光ユニット１３とを有している。
　レーザ装置２０は、図２に示すように、互いに異なる波長のレーザ光ＬＢ１を発する例えば１０個のレーザモジュール３０と、１０個のレーザモジュール３０からそれぞれ出射されたレーザ光ＬＢ１を結合させて出射するレーザ光学系としての回折格子２２と、回折格子２２により出射されたレーザ光の一部をレーザ光ＬＢ２として透過させる一方、残りを反射光ＬＢ３として反射させる部分透過ミラー２３と、部分透過ミラー２３からの反射光ＬＢ３を受光し、反射光ＬＢ３の光量を測定するフォトダイオード２４と、レーザ装置２０内部の温度を測定する温度測定部２０ａと、レーザ装置２０内部の湿度を測定する湿度測定部２０ｂとを有している。
　各レーザモジュール３０は、図３～５に示すように、レーザダイオードバー（ＬＤバー）３１を有しており、レーザダイオードバー３１は、並列に配置された複数のエミッタ３１ｂを有する半導体レーザアレイである。言い換えるとレーザダイオードバー３１は、エミッタ３１ｂを有する並列に配置された複数のレーザダイオードからなる半導体レーザアレイである。レーザダイオードバー３１は、平面視矩形状の平板形状をなし、その一方の面には板状の正電極３２が配置され、正電極３２の一方の面が取り付けられている。また、レーザダイオードバー３１の他方の面には、正電極３２よりも広い板状の負電極３３が配置され、負電極３３の一方の面の一部が取り付けられている。レーザダイオードバー３１の一側面が、レーザ光ＬＢ１を出射するレーザ光出射面３１ａを構成している。各電極（正電極３２，負電極３３）には、配線３５が接続され、当該配線３５を介して後述する電源７０から電流（電力）が供給される。なお、一つのレーザダイオードバー３１に含まれるエミッタ３１ｂの個数は、例えば５０個に設定される。１０個のレーザモジュール３０のレーザダイオードバー３１は、互いに直列に接続されている。
　負電極３３のレーザダイオードバー３１の取付面におけるレーザダイオードバー３１の取り付けられていない領域には、レーザダイオードバー３１の近傍の温度を測定する熱電対３６が取り付けられている。レーザダイオードバー３１の近傍の温度を測定する手段として、熱電対３６に代えて、ＲＴＤ（Resistance Temperature Detector，測温抵抗体）、サーミスタ、ＩＣ(Integrated Circuit)センサ等の他の手段を用いてもよい。また、サーミスタ、ＩＣセンサ等の半導体デバイスをレーザダイオードバー３１と一体的に形成しても良く、これにより、レーザダイオードバー３１の内部温度を間接的または直接的に測定することができ、測定される温度を、レーザダイオードバー３１の内部温度により近付けることができる。
　ビーム結合器１２は、複数のレーザ装置２０からそれぞれ出射されたレーザ光ＬＢ２（図２参照）を一つのレーザ光ＬＢ４に結合して集光ユニット１３に出射する。ビーム結合器１２には、レーザ光ＬＢ４の一定の割合を占める一部の光量を測定するフォトダイオード１２ａ、ビーム結合器１２内部の温度を測定する温度測定部１２ｂ、及びビーム結合器１２内部の湿度を測定する湿度測定部１２ｃが設けられている。
　集光ユニット１３は、内部に配設された集光レンズ（図示せず）によって、入射されたレーザ光ＬＢ４を集光して所定の倍率でビーム径を縮小して伝送ファイバ５０に出射する。図２中、符号ＬＢ５は、集光ユニット１３によって出射されるレーザ光である。集光ユニット１３は図示しないコネクタを有し、コネクタには伝送ファイバ５０の入射端が接続されている。集光ユニット１３には、レーザ光ＬＢ５の一定の割合を占める一部の光量を測定するフォトダイオード１３ａ、集光ユニット１３内部の温度を測定する温度測定部１３ｂ、及び集光ユニット１３内部の湿度を測定する湿度測定部１３ｃが設けられている。
　レーザ発振器１０をこのような構成とすることで、レーザ出力が数ｋＷを超える高出力のレーザ光ＬＢ５を得ることができる。
　伝送ファイバ５０は、レーザ発振器１０により出射されて伝送ファイバ５０の入射端に入射されたレーザ光ＬＢ５をレーザ光出射ヘッド４０に導く。
　レーザ光出射ヘッド４０は、伝送ファイバ５０によって導かれたレーザ光ＬＢ６を外部に向けて照射する。例えば、図１に示すレーザ加工装置１００では、所定の位置に配置された加工対象物であるワークＷに向けて、レーザ光出射ヘッド４０によりレーザ光ＬＢ６を出射する。このようにすることで、ワークＷがレーザ加工される。レーザ光出射ヘッド４０には、レーザ光ＬＢ６の一定の割合を占める一部の光量を測定する出力測定部としてのフォトダイオード４０ａが設けられている。
　制御部６０は、レーザ光ＬＢ６のレーザ出力を所定の目標値に近づけるように、フォトダイオード４０ａの測定値に基づいて、レーザ発振器１０に供給する駆動電流のフィードバック制御を行う。ここで、制御部６０による駆動電流の制御は、電源７０に指令電流値を出力することによって行われる。また、制御部６０は、ワークＷに対して所定の加工を行うときに実行する加工プログラムを記憶している。加工プログラムは、加工中の各タイミングにおけるレーザ光ＬＢ６のレーザ出力の目標値を規定する。制御部６０による制御の詳細については、後述する。なお、制御部６０は、加工プログラムの実行中において後述する変動要因が検出されたタイミングｔ２（図８参照。）と、当該タイミングｔ２の直後における指令電流値の補正量とを表示装置８０に表示させる。
　電源７０は、制御部６０により出力された指令電流値に基づいて、駆動電流を複数のレーザ装置２０のそれぞれに対して供給する。
　表示装置８０は、制御部６０による加工プログラムの実行中において変動要因が検出されたタイミングｔ２（図８参照。）と、当該タイミングｔ２の直後における指令電流値の補正量とを、制御部６０の制御により表示する。
　コントローラ９０は、タイミングｔ２の直後における指令電流値の補正量を修正するための入力をユーザから受け付け、修正を指示する指令を制御部６０に出力する。
　以下、制御部６０が駆動電流を制御する動作について、図６を参照して説明する。
　まず、Ｓ１０１において、制御部６０は、記憶している加工プログラム（更新前プログラム）の実行により、レーザ光ＬＢ６のレーザ出力を、当該加工プログラムに規定された各タイミングの目標値に近づけるように、フォトダイオード４０ａの測定値に基づいて、指令電流値のフィードバック制御を行う（第１実行ステップ）。制御部６０は、加工プログラムの実行中におけるフォトダイオード１２ａ，１３ａ，２４，４０ａ、温度測定部１２ｂ，１３ｂ，２０ａ、熱電対３６、湿度測定部１２ｃ，１３ｃ，２０ｂの測定値をデータログとして記憶する。図７の（ａ）は、Ｓ１０１での加工プログラムの実行中におけるレーザ光ＬＢ６のレーザ出力の目標値、Ｓ１０１での加工プログラムの実行中におけるレーザ光ＬＢ６のレーザ出力の測定値、指令電流値を一定にしたときのレーザ光ＬＢ６のレーザ出力（補正前出力）、及びＳ１０１での加工プログラムの実行中におけるレーザ光ＬＢ６のレーザ出力の測定値と指令電流値を一定にしたときのレーザ光ＬＢ６のレーザ出力との差（補正量）を示す。ここで、レーザ光ＬＢ６のレーザ出力の測定値は、制御部６０によって、フォトダイオード４０ａの測定値に基づいて算出される。
　次に、Ｓ１０２において、制御部６０は、Ｓ１０１で記憶したデータログを参照することにより、Ｓ１０１での加工プログラムの実行中におけるレーザ光ＬＢ６のレーザ出力の測定値と、加工プログラムによって規定された目標値との差が所定の閾値ＴＨを超える出力変動を検出する（検出ステップ）。そして、出力変動を検出した出力変動発生タイミングｔ１（図７参照。）を記憶する。
　次に、Ｓ１０３において、制御部６０は、Ｓ１０１での加工プログラムの実行中にレーザ加工装置において測定される複数の物理量から、出力変動発生タイミングｔ１より前の所定の監視時間Ｔ内における測定値が、予め設定された所定の条件を満たさない物理量を異常物理量として特定する（特定ステップ）。前記複数の物理量には、温度測定部１２ｂ，１３ｂ，２０ａ、熱電対３６、及び湿度測定部１２ｃ，１３ｃ，２０ｂの測定値を含む。また、前記複数の物理量は、フォトダイオード１３ａの測定値に基づいて特定されるレーザ光ＬＢ５の光量から、フォトダイオード４０ａの測定値に基づいて特定されるレーザ光ＬＢ６の光量を引くことで得られる伝送ファイバ５０での損失量も含む。具体的には、湿度測定部２０ｂによって監視時間Ｔ内に測定された湿度が、０～Ｈ％の数値範囲内に収まらない場合、当該湿度が異常物理量として特定される。図７の例では、監視時間Ｔ内において、湿度がＨを超えているので、当該湿度が異常物理量として特定される。また、レーザ光ＬＢ５の光量からレーザ光ＬＢ６の光量を引くことで得られる伝送ファイバ５０での損失量が、所定の数値範囲に収まらない場合には、当該損失量が異常物理量として特定される。
　次に、Ｓ１０４において、制御部６０は、Ｓ１０３で特定された異常物理量の監視時間Ｔ内における測定値の特徴を記憶する。具体的には、異常物理量が湿度測定部２０ｂによって測定される湿度である場合、監視時間Ｔ内における所定のタイミングでの湿度の測定値ＶＡが、測定値の特徴として記憶される。監視時間Ｔ内における所定のタイミングとは、例えば、監視時間Ｔの開始タイミングでもよいし、監視時間Ｔの開始から所定時間経過後のタイミングであってもよい。
　次に、Ｓ１０５において、制御部６０は、加工プログラムを更新し（プログラム更新ステップ）、更新後の加工プログラム（更新後プログラム）を記憶する。加工プログラムは、更新後の加工プログラムの実行中に、制御部６０が、Ｓ１０４で記憶された特徴がＳ１０３において特定された異常物理量に現れるのを変動要因として検出し、当該変動要因の検出後の所定時間に、前記レーザ光ＬＢ６のレーザ出力の測定値と前記目標値との差をＳ１０１における出力変動の発生時よりも減らす補正を駆動電流に対して行うように更新される。駆動電流に対する補正は、出力変動時におけるレーザ光ＬＢ６のレーザ出力と目標値との差（閾値ＴＨ）に相当する分、レーザ出力を下げるように、指令電流値を補正することにより行われる。具体的には、異常物理量が湿度測定部２０ｂによって測定される湿度である場合には、湿度が測定値ＶＡに達するのを変動要因として検出する。
　したがって、更新後の加工プログラムの実行中に変動要因が発生すると、駆動電流が補正されることにより、レーザ光ＬＢ６のレーザ出力と前記目標値との差が、更新前の加工プログラムの実行中における出力変動の検出時よりも低減されるので、出力変動に起因する加工精度の低下を抑制できる。
　また、更新前の加工プログラムを更新後の加工プログラムに置換して、Ｓ１０１～Ｓ１０５の動作を繰り返すことにより、Ｓ１０１での加工プログラムの実行により加工されるワークＷの不具合率を徐々に低減できる。
　また、湿度が、所定の数値範囲に収まっていない場合に異常物理量として特定されるので、湿度の変動によるレーザ出力の出力変動を抑制できる。例えば、光路中の水分子や揮発性有機物の濃度の上昇によるレーザ出力の低下が、集塵機フィルタの集塵能力を低下させてさらなるレーザ出力の低下を招くのを抑制できる。
　また、伝送ファイバ５０での損失量が、所定の数値範囲に収まっていない場合に異常物理量として特定されるので、伝送ファイバ５０での損失量の変動によるレーザ出力の出力変動を抑制できる。
　なお、上記実施形態では、レーザ発振器１０にレーザ装置２０を複数設けたが、１つだけ設けてもよい。かかる場合、レーザ装置２０から出力されたレーザ光ＬＢ２がそのまま伝送ファイバ５０に入射される。
　また、上記実施形態では、１つのレーザ装置２０に含まれるレーザモジュール３０及びレーザダイオードバー３１の数を１０個に設定したが、レーザ装置２０に要求される最大出力やレーザ装置２０の価格等に応じて他の個数に設定してもよい。
　また、上記実施形態では、１つのレーザダイオードバー３１に含まれるエミッタ３１ｂの個数を５０個に設定したが、レーザモジュール３０に要求される最大出力やレーザダイオードバー３１の価格等に応じて他の個数に設定してもよい。
　また、上記実施形態では、温度測定部１２ｂ，１３ｂ，２０ａ、熱電対３６、及び湿度測定部１２ｃ，１３ｃ，２０ｂの測定値、及び伝送ファイバ５０の損失量から異常物理量を特定したが、レーザ加工装置１００における各部の電圧値、及び電流値や、レーザ加工装置１００における伝送ファイバ５０以外の部分でのレーザ光の損失量から異常物理量を特定できるようにしてもよい。
　また、上記実施形態では、Ｓ１０５において、更新後の加工プログラムの実行中において、変動要因の検出後に駆動電流の補正処理が行われるように加工プログラムを更新したが、上記補正処理に代えて、表示装置８０に警告を出力表示させる警告処理が行われるように加工プログラムを更新してもよい。また、上記補正処理に加えて、上記警告処理が行われるように加工プログラムを更新してもよい。これにより、更新後の加工プログラムの実行中に変動要因の発生後に、警告処理に応じてユーザが加工動作を停止できるようになる。
　また、上記実施形態では、Ｓ１０４で、制御部６０が、監視時間Ｔ内における湿度の測定値の特徴として、測定値ＶＡを記憶したが、監視時間Ｔ内における湿度の測定値の傾きを記憶するようにしてもよい。そして、Ｓ１０５において、Ｓ１０４で記憶された傾きで湿度が変位するのを、変動要因として検出するようにしてもよい。
　本開示は、レーザ発振器により出射されるレーザ光のレーザ出力を目標値に近づけるように、レーザ発振器に供給する駆動電流を制御するレーザ出力制御方法及びレーザ加工装置として有用である。
１００　　　レーザ加工装置
１０　　　レーザ発振器
２０　　　レーザ装置
１２ａ、１３ａ、２４　　　フォトダイオード
４０ａ　　　フォトダイオード（出力測定部）
６０　　　制御部
８０　　　表示装置（出力装置）
ＴＨ　　　閾値
Ｔ　　　監視時間
ｔ１　　　出力変動発生タイミング

Claims (5)

  1. 　レーザ発振器と、
    　前記レーザ発振器により出射されたレーザ光の光量を測定する出力測定部と、
    　前記レーザ光のレーザ出力を目標値に近づけるように、前記出力測定部の測定値に基づいて、前記レーザ発振器に供給する駆動電流のフィードバック制御を行う制御部とを備えたレーザ加工装置において、前記制御部が実行するレーザ出力制御方法であって、
    　更新前プログラムの実行により、当該更新前プログラムによって規定された値に前記目標値を設定して前記フィードバック制御を行う第１実行ステップと、
    　前記第１実行ステップの実行中における前記レーザ出力と前記目標値との差が所定の閾値を超える出力変動を検出する検出ステップと、
    　前記第１実行ステップの実行中に前記レーザ加工装置において測定された複数の物理量から、前記検出ステップで検出された前記出力変動の発生タイミングより前の所定の監視時間内における測定値が、所定の条件を満たさない物理量を異常物理量として特定する特定ステップと、
    　更新後プログラムの実行中に、前記特定ステップで特定された異常物理量に所定の特徴が現れるのを変動要因として検出し、当該変動要因の検出後に、前記レーザ出力と前記目標値との差を前記第１実行ステップにおける前記出力変動の発生時よりも減らす補正を前記駆動電流に対して行う補正処理、及び出力装置に警告を出力させる警告処理のうちの少なくとも一方の処理を行うように、前記更新前プログラムを前記更新後プログラムに更新するプログラム更新ステップとを実行することを特徴とするレーザ出力制御方法。
  2. 　請求項１に記載のレーザ出力制御方法において、
    　前記所定の条件は、所定の数値範囲内に収まることであることを特徴とするレーザ出力制御方法。
  3. 　請求項１又は２に記載のレーザ出力制御方法において、
    　前記所定の特徴は、前記異常物理量が前記監視時間内における所定のタイミングでの測定値となることであることを特徴とするレーザ出力制御方法。
  4. 　請求項１～３のいずれか１項に記載のレーザ出力制御方法において、
    　前記複数の物理量は、湿度を含むことを特徴とするレーザ出力制御方法。
  5. 　レーザ発振器と、
    　前記レーザ発振器により出射されたレーザ光の光量を測定する出力測定部と、
    　前記レーザ光のレーザ出力を目標値に近づけるように、前記出力測定部の測定値に基づいて、前記レーザ発振器に供給する駆動電流のフィードバック制御を行う制御部とを備えたレーザ加工装置であって、
    　前記制御部は、更新前プログラムの実行により、当該更新前プログラムによって規定された値に前記目標値を設定して前記フィードバック制御を行う第１実行ステップと、
    　前記第１実行ステップの実行中における前記レーザ出力と前記目標値との差が所定の閾値を超える出力変動を検出する検出ステップと、
    　前記第１実行ステップの実行中に前記レーザ加工装置において測定された複数の物理量から、前記検出ステップで検出された前記出力変動の発生タイミングより前の所定の監視時間内における測定値が、所定の条件を満たさない物理量を異常物理量として特定する特定ステップと、
    　更新後プログラムの実行中に、前記特定ステップで特定された異常物理量に所定の特徴が現れるのを変動要因として検出し、当該変動要因の検出後に、前記レーザ出力と前記目標値との差を前記第１実行ステップにおける前記出力変動の発生時よりも減らす補正を前記駆動電流に対して行う補正処理、及び出力装置に警告を出力させる警告処理のうちの少なくとも一方の処理を行うように、前記更新前プログラムを前記更新後プログラムに更新するプログラム更新ステップとを実行するように構成されていることを特徴とするレーザ加工装置。
PCT/JP2020/048897 2020-01-09 2020-12-25 レーザ出力制御方法及びレーザ加工装置 WO2021140969A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021570027A JP7557678B2 (ja) 2020-01-09 2020-12-25 レーザ出力制御方法及びレーザ加工装置
US17/806,285 US20220297231A1 (en) 2020-01-09 2022-06-10 Laser output power control method, and laser processing device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020001981 2020-01-09
JP2020-001981 2020-01-09

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US17/806,285 Continuation US20220297231A1 (en) 2020-01-09 2022-06-10 Laser output power control method, and laser processing device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2021140969A1 true WO2021140969A1 (ja) 2021-07-15

Family

ID=76787970

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2020/048897 WO2021140969A1 (ja) 2020-01-09 2020-12-25 レーザ出力制御方法及びレーザ加工装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20220297231A1 (ja)
JP (1) JP7557678B2 (ja)
WO (1) WO2021140969A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017129790A1 (de) * 2017-12-13 2019-06-13 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zum Betreiben einer Laservorrichtung und Laservorrichtung

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08168891A (ja) * 1994-04-27 1996-07-02 Mitsubishi Electric Corp レーザ加工装置およびその制御方法
JP2004025204A (ja) * 2002-06-21 2004-01-29 Fanuc Ltd レーザ加工機
JP2009055202A (ja) * 2007-08-24 2009-03-12 Kamikado Masayuki イヤホン
JP2009182193A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Sunx Ltd レーザ加工装置
JP2011240361A (ja) * 2010-05-18 2011-12-01 Omron Corp レーザ加工装置およびレーザ加工装置の異常監視方法
JP2018190905A (ja) * 2017-05-10 2018-11-29 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 レーザ装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08168891A (ja) * 1994-04-27 1996-07-02 Mitsubishi Electric Corp レーザ加工装置およびその制御方法
JP2004025204A (ja) * 2002-06-21 2004-01-29 Fanuc Ltd レーザ加工機
JP2009055202A (ja) * 2007-08-24 2009-03-12 Kamikado Masayuki イヤホン
JP2009182193A (ja) * 2008-01-31 2009-08-13 Sunx Ltd レーザ加工装置
JP2011240361A (ja) * 2010-05-18 2011-12-01 Omron Corp レーザ加工装置およびレーザ加工装置の異常監視方法
JP2018190905A (ja) * 2017-05-10 2018-11-29 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 レーザ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2021140969A1 (ja) 2021-07-15
JP7557678B2 (ja) 2024-09-30
US20220297231A1 (en) 2022-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1701589B1 (en) Electric circuit and method for monitoring a temperature of a light emitting diode
JP6050607B2 (ja) レーザ加工装置及びレーザ出力校正方法
US8193726B2 (en) Fluorescent light temperature sensor
WO2021140969A1 (ja) レーザ出力制御方法及びレーザ加工装置
JP7199034B2 (ja) レーザ装置
JP5118866B2 (ja) レーザマーカ及びレーザパワーの表示調整方法
JPWO2018179306A1 (ja) 光送信機
WO2020217355A1 (ja) 劣化診断装置および光トランシーバの劣化診断方法
JP2010251448A (ja) 第三高調波を出力する固体パルスレーザ装置
JP5338467B2 (ja) プラズマ測定装置
KR20030078864A (ko) 레이저 발진기
JP4491184B2 (ja) 発光モジュールの温度制御回路
US6931048B2 (en) Solid-state laser device
US20220238394A1 (en) Temperature control method, temperature control device, and optical heating device
CN113874151B (zh) 变动主要原因确定方法以及激光加工装置
CN113889834B (zh) 一种固态激光器的功率自优化方法
CN210572735U (zh) Tof传感器
JP5657292B2 (ja) 変位検出装置
JP7312956B2 (ja) レーザ加工装置
US20050271100A1 (en) System and method for controlling optical sources, such as laser diodes, and computer program product therefor
JP6466036B1 (ja) レーザ発振装置
JP4936398B2 (ja) レーザ樹脂溶着機
JP2005302874A (ja) 光信号制御装置及びその調整方法
CN116888428A (zh) 位移传感器以及状态监视方法
JP2023075545A (ja) 照明装置キャリブレーション方法及び照明システム

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 20912365

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2021570027

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 20912365

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1