WO2021095230A1 - 光音響分析方法および装置 - Google Patents

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photoacoustic
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雄次郎 田中
卓郎 田島
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日本電信電話株式会社
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    • G01N2291/02809—Concentration of a compound, e.g. measured by a surface mass change

Definitions

  • the present invention relates to a photoacoustic analysis method and an apparatus by a photoacoustic method.
  • the photoacoustic method is a method of knowing the light absorption characteristics of a substance by utilizing the fact that when a substance is irradiated with light, sound waves are generated by local thermal expansion according to the absorption wavelength range of the substance (patented). Reference 1). Further, the photoacoustic method has a feature that the sound wave generated by the above is a kind of ultrasonic wave and has a longer wavelength than light, so that it is not easily affected by scattering with respect to the measurement target. Because of this feature, the photoacoustic method is attracting attention as a technique for visualizing the light absorption characteristics of a measurement target in a measurement site with large scattering such as a living body.
  • the light generated by the semiconductor laser is focused, the focused light spot is scanned to irradiate the measurement site including the measurement target, and the light spot (beam light) being scanned is scanned.
  • the ultrasonic waves (photoacoustic waves) generated at each position irradiated with light are detected by an acoustic sensor or the like.
  • ultrasonic waves are generated when an absorbent substance is present at each irradiated position.
  • the light absorption characteristic of the measurement target can be measured (analyzed).
  • ultrasonic waves photoacoustic waves
  • the measurement is performed by lock-in detection that narrows down the frequency band.
  • this technology first requires a resonator to selectively extract the frequency to be measured. As described above, the device becomes complicated in the configuration that requires an external resonator.
  • the light spot that generates ultrasonic waves that is, the sound source region (region of the sound wave distribution) is a distribution in which light is absorbed. Will be in the same area as, and will generate complex and wide-band ultrasonic waves. In such measurements, it becomes necessary to use a wide band transducer because of band-dependent distance attenuation and ultrasonic wave attenuation due to interference due to phase difference.
  • the present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to carry out analysis by a photoacoustic method with high sensitivity.
  • the measurement site is irradiated with beam light having a frequency absorbed by the substance to be measured generated from the light source, and the measurement unit emits beam light from the irradiated measurement site.
  • It is a photoacoustic analysis method that measures the photoacoustic signal generated in the direction orthogonal to the optical axis.
  • the beam light is the frequency of the photoacoustic signal that can be measured by the measuring unit, and the inverse of the frequency is the pulse width.
  • the first step of forming the pulsed light and in the second step and the first step of forming the beam light so that the beam radius of the beam light becomes a value obtained by the sound velocity / ( ⁇ ⁇ f) with the frequency as f. It is generated as pulsed light in the direction orthogonal to the optical axis of the beam light from the third step of irradiating the measurement site with the beam light shaped in the second step and the measurement site irradiated with the beam light in the third step. It is provided with a fourth step of measuring the photoacoustic signal to be performed by the measuring unit.
  • the photoacoustic analyzer has a frequency of a light source that emits beam light having a wavelength absorbed by the substance to be measured and a beam light that is emitted from the light source and is applied to a measurement site at a set frequency.
  • the beam radius of the pulse control unit that uses the inverse of twice the pulse width as the pulsed light of the pulse width and the beam light emitted from the light source and applied to the measurement site is obtained by the sound velocity / ( ⁇ ⁇ f) with the frequency as f.
  • a beam forming part that forms a beam light and a frequency photoacoustic signal can be measured so as to be a value, and the pulse control part converts the beam light into a pulsed light, and the beam forming part irradiates the shaped beam light. It is provided with a measuring unit for measuring an electroacoustic signal generated from a portion in a direction orthogonal to the optical axis of the beam light.
  • the beam light is the frequency of the photoacoustic signal that can be measured by the measuring unit, and the inverse of the frequency is defined as the pulsed light of the pulse width, and the beam radius of the beam light.
  • the beam light is molded and irradiated so that the frequency is f and the value is obtained by the sound velocity / ( ⁇ ⁇ f), the analysis by the photoacoustic method can be performed with high sensitivity.
  • FIG. 1 is a configuration diagram showing a configuration of a photoacoustic analyzer according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a flowchart for explaining a photoacoustic analysis method according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating two pulses generated when an optical pulse longer than the stress confinement time is irradiated.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating a state in which the irradiated beam light penetrates into the inside from the surface of the measurement site and the light intensity distribution is immediately converted into a sound source distribution.
  • FIG. 5 is a characteristic diagram showing a sound source distribution (solid line) and a sound pressure distribution (dotted line) of propagating ultrasonic waves.
  • FIG. 1 is a configuration diagram showing a configuration of a photoacoustic analyzer according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a flowchart for explaining a photoacoustic analysis method according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a characteristic diagram showing an example of the relationship between the frequency f of the ultrasonic wave to be generated and the beam waist w of the light.
  • FIG. 7 shows an ultrasonic wave of 955 kHz measured by the measuring unit 104 when the beam waist is formed to 0.5 mm by the beam forming unit 102 and light is irradiated by the pulse control unit 103 with a pulse width of 0.52 ⁇ sec. It is a characteristic diagram which shows the waveform of a photoacoustic wave).
  • FIG. 8 is a characteristic diagram showing the relationship between the signal and the light absorption coefficient when the ultrasonic wave (photoacoustic wave) measured according to the embodiment is locked in detected.
  • FIG. 9 is an explanatory diagram showing a state of distribution of the irradiated light from the surface of a measurement site having a structure such as a bone.
  • This photoacoustic analyzer includes a light source 101 that emits beam light, a beam forming unit 102 that forms beam light, a pulse control unit 103 that uses beam light as pulsed light, and a measuring unit 104 that measures photoacoustic signals. To be equipped with.
  • the light source 101 emits beam light 121 having a wavelength absorbed by the substance to be measured.
  • the light source 101 emits beam light 121 having a wavelength absorbed by glucose as a measurement target.
  • the light source 101 can be composed of, for example, a semiconductor laser.
  • the pulse control unit 103 sets the beam light 123 emitted from the light source 101 and irradiating the measurement site 151 at a set frequency with the reciprocal of twice the frequency as the pulse light having a pulse width.
  • the beam forming unit 102 sets the beam light 121 so that the beam radius of the beam light 123 emitted from the light source 101 and applied to the measurement site 151 becomes a value obtained by the speed of sound / ( ⁇ ⁇ f) with the frequency as f. To mold.
  • the beam forming unit 102 forms the beam light 121 to form the forming beam light 122
  • the pulse control unit 103 uses the forming beam light 122 as the pulsed light to form the beam light 123.
  • the pulse control unit 103 may use the beam light 121 as the pulse light, and the beam forming unit 102 may form the beam light 121 to irradiate the measurement site 151.
  • the measurement unit 104 is a photoacoustic signal generated in a direction orthogonal to the optical axis of the beam light from the measurement site 151 irradiated with the beam light 123 shaped by the beam forming unit 102 and converted into pulse light by the pulse control unit 103.
  • the measuring unit 104 can be composed of a transducer (narrow band transducer) that detects a photoacoustic wave that is an ultrasonic wave and converts it into an electric signal (photoacoustic signal).
  • the measuring unit 104 can measure the photoacoustic signal of the frequency, and this frequency becomes the frequency set in the beam forming unit 102 and the pulse control unit 103.
  • An acoustic matching layer 106 for adjusting the acoustic impedance is arranged between the measurement site 151 and the measurement unit 104 in order to suppress the reflection of the photoacoustic signal between the measurement site 151 and the measurement unit 104. You can also do it.
  • the analysis unit 105 obtains the characteristics of the substance from the photoacoustic signal measured by the measurement unit 104.
  • the analysis unit 105 obtains the concentration of the substance from the photoacoustic signal measured by the measurement unit 104.
  • the measurement site 151 is irradiated with beam light having a wavelength absorbed by the substance to be measured generated from the light source 101, and the measurement unit 104 emits beam light from the measurement site 151 irradiated with the beam light.
  • the photoacoustic signal generated in the direction orthogonal to the optical axis of is measured.
  • the pulse control unit 103 makes the beam light the frequency of the photoacoustic signal that can be measured by the measurement unit 104, and the reciprocal of twice the frequency is the pulse light of the pulse width. Further, in the second step S102, the beam forming unit 102 forms the beam light so that the beam radius of the beam light becomes a value obtained by the speed of sound / ( ⁇ ⁇ f) with the frequency as f.
  • the first step S101 can also be performed after the second step S102.
  • the measurement site 151 is irradiated with the beam light that is made into pulsed light in the first step S101 and shaped in the second step S102.
  • the measurement unit 104 measures the photoacoustic signal generated from the measurement site 151 irradiated with the beam light in the direction orthogonal to the optical axis of the beam light.
  • the analysis unit 105 obtains the characteristics of the substance (for example, the concentration of the substance) from the measured photoacoustic signal.
  • the collimated light corresponds to the light absorption coefficient according to Veil's law and is gradually absorbed from the surface of the measurement site.
  • the distribution is as shown in (1) (see FIG. 9).
  • the generation of ultrasonic waves is proportional to the absorption of light as shown in the equation (2).
  • ⁇ is the Gruneisen coefficient
  • ⁇ is the light absorption coefficient at the measurement target (measurement site)
  • F is the light energy
  • F 0 is the light energy at the surface of the measurement site
  • w is the beam waist (beam radius).
  • r is the distance of the irradiated light from the optical axis
  • z is the distance from the surface of the measurement site in the optical axis direction
  • I is the light intensity distribution (pulse shape) in the time region.
  • pulsed light (beam light) is applied to the measurement target (measurement site) (see the right side of Table 1).
  • the light energy irradiated within the stress confinement time (representative length / sound velocity, in this case the representative length is the diameter of the beam) is emitted as ultrasonic waves.
  • the stress confinement time is the time until the stress generated inside the measurement site due to the irradiation of the beam light is transmitted in the direction orthogonal to the optical axis of the beam light in the irradiation region of the beam light. Therefore, as shown in FIG. 3A, when an optical pulse longer than the stress confinement time is irradiated, two pulses are generated as shown in FIG. 3B and FIG. 3C. .. As shown in the equation (2), the generated sound pressure is proportional to the time change of the light intensity, so that the two generated waves have a symmetrical sound pressure distribution with the sign inverted.
  • the band of the ultrasonic wave obtained with the even-order harmonics set to zero is further narrowed to make it closer to a sine wave.
  • the sound source distribution which is the distribution of photoacoustic waves (PA waves) generated by the photoacoustic (PA) effect and propagating in the orthogonal direction away from the optical axis (z-axis), is "exp (-". 2r 2 / w 2 ) exp ( ⁇ z) ... (3) ”.
  • the ultrasonic wave of the frequency to be generated can be represented by "exp ⁇ i2 ⁇ f (r / c) ⁇ ... (6)".
  • "i” represents an imaginary unit.
  • "c” is the speed of sound.
  • FIG. 7 shows an ultrasonic wave of 955 kHz measured by the measuring unit 104 when the beam waist is formed to 0.5 mm by the beam forming unit 102 and the pulse control unit 103 irradiates light with a pulse width of 0.52 ⁇ sec.
  • the waveform of the photoacoustic wave) is shown.
  • FIG. 8 shows the relationship between the signal and the light absorption coefficient when the above-mentioned ultrasonic wave is locked in.
  • the initial signal S0 as a reference
  • the signal S1 after the component concentration has changed is used, and the value standardized by (S1-S0) / S0 is taken on the vertical axis.
  • Ultrasonic waves of a specific frequency are generated without using a resonator, etc., a linear response to the light absorption coefficient of the substance to be measured is obtained, and the change in the component concentration of the measurement target inside the measurement site is measured. You can see that you can.
  • the beam light is the frequency of the photoacoustic signal that can be measured by the measuring unit
  • the inverse of the frequency is the pulsed light of the pulse width
  • the beam radius of the beam light is Since the beam light is molded and irradiated so that the frequency is f and the value is obtained by the sound velocity / ( ⁇ ⁇ f), for example, a narrow band transducer can be used for the measurement.
  • a narrow band transducer having increased sensitivity can be used, the analysis by the photoacoustic method can be performed with high sensitivity according to the present invention.

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Abstract

ビーム光を出射する光源（１０１）と、ビーム光を成形するビーム成形部（１０２）と、ビーム光をパルス光とするパルス制御部（１０３）と、光音響信号を測定する測定部（１０４）とを備える。光源（１０１）は、測定対象の物質が吸収する波長のビーム光（１２１）を出射する。パルス制御部（１０３）は、光源（１０１）から出射されて測定部位（１５１）に照射されるビーム光（１２３）を、設定されている周波数で、周波数の２倍の逆数をパルス幅のパルス光とする。ビーム成形部（１０２）は、光源（１０１）から出射されて測定部位（１５１）に照射されるビーム光（１２３）のビーム半径が、周波数をｆとして音速／（π×ｆ）により求められる値となるように、ビーム光（１２１）を成形する。

Description

光音響分析方法および装置
　本発明は、光音響法による光音響分析方法および装置に関する。
　間質液の成分（例えばグルコースなどの糖）や血管などの空間的な情報は、糖尿病や悪性新生物の早期発見に対して有用である。光音響法は、物質に光を照射したときに、この物質の吸収波長域に応じて局所的な熱膨張により音波が生じることを利用して、物質の光吸収特性を知る方法である（特許文献１参照）。また、光音響法は、上述したことにより発生する音波が、超音波の一種であり、光に比べて波長が長いため、測定対象に対して散乱の影響を受けにくいという特徴がある。この特徴のため、光音響法は、生体などの散乱の大きい測定部位における測定対象の光の吸収特性を可視化する技術として注目されている。
特開２０１７－２１７２０３号公報
　光音響法による測定では、一般に、半導体レーザにより生成した光を集光し、集光した光スポットを走査して測定対象が含まれる測定部位に照射し、走査している光スポット（ビーム光）が照射された各位置で発生する超音波（光音響波）を、音響センサなどで検出している。ビーム光を走査により、照射された各位置に吸収物質が存在すると超音波が発生する。この超音波を測定することにより、測定対象の光吸収特性を計測（分析）することができる。また、生体内の血糖値測定などでは、細かな光吸収特性を求める必要があることから、一定周波数で連続的に光照射することで超音波（光音響波）を発生させ、長い時定数で周波数帯域を絞ったロックイン検出により測定が行われている。
　しかし、この技術では、第１に、測定する周波数を選択的に抽出するための共振器が必要となる。このように、外部に共振器が必要となる構成では、装置が複雑になる。
　第２に、共振器を用いない場合は、測定部位の中で超音波の共振をさせることが必要となる。しかしながら、測定部位の表面（Arm surface）から測定部位の内部に入射した光（Light）を内部で共振させる場合、骨（Bone）などの構造物がある部分では測定が難しく、耳たぶなどきわめて限られた部位での測定を強いられる（図９参照）。
　第３に、血糖などにおける測定対象となる成分は、測定部位の内部において光コントラストが小さいため、超音波を発生する光スポット、すなわち音源領域（音源分布の領域）は、光が吸収される分布と同じ領域となり、複雑で帯域の広い超音波を生じることになる。このような測定では、帯域依存の距離減衰や位相差による干渉での超音波の減衰のため、広帯域なトランスデューサを用いる必要が発生する。
　ところが、広帯域なトランスデューサでは、感度を高めることが容易ではなく、高い感度で測定するためには、感度が高められる狭帯域なトランスデューサを用いることが重要となる。しかしながら、上述したように、従来は、測定装置として、狭帯域なトランスデューサを用いることができず、光音響法による分析を、高感度に行うことが容易ではないという問題があった。
　本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、光音響法による分析を、高感度に実施することを目的とする。
　本発明に係る光音響分析方法は、光源から生成された測定対象の物質が吸収する波長のビーム光を測定部位に照射し、測定部で、ビーム光が照射された測定部位から、ビーム光の光軸に直交する方向に発生する光音響信号を測定する光音響分析方法であって、ビーム光を、測定部で測定可能な光音響信号の周波数で、周波数の２倍の逆数をパルス幅のパルス光とする第１ステップと、ビーム光のビーム半径が、周波数をｆとして音速／（π×ｆ）により求められる値となるように、ビーム光を成形する第２ステップと、第１ステップでパルス光とされ、第２ステップで整形されたビーム光を測定部位に照射する第３ステップと、第３ステップでビーム光が照射された測定部位から、ビーム光の光軸に直交する方向に発生する光音響信号を、測定部で測定する第４ステップとを備える。
　本発明に係る光音響分析装置は、測定対象の物質が吸収する波長のビーム光を出射する光源と、光源から出射されて測定部位に照射されるビーム光を、設定されている周波数で、周波数の２倍の逆数をパルス幅のパルス光とするパルス制御部と、光源から出射されて測定部位に照射されるビーム光のビーム半径が、周波数をｆとして音速／（π×ｆ）により求められる値となるように、ビーム光を成形するビーム成形部と、周波数の光音響信号が測定可能とされ、パルス制御部でパルス光とされ、ビーム成形部で整形されたビーム光が照射された測定部位から、ビーム光の光軸に直交する方向に発生する光音響信号を測定する測定部とを備える。
　以上説明したように、本発明によれば、ビーム光を、測定部で測定可能な光音響信号の周波数で、周波数の２倍の逆数をパルス幅のパルス光とし、また、ビーム光のビーム半径が、周波数をｆとして音速／（π×ｆ）により求められる値となるように、ビーム光を成形して照射するので、光音響法による分析を、高感度に実施することができる。
図１は、本発明の実施の形態に係る光音響分析装置の構成を示す構成図である。 図２は、本発明の実施の形態に係る光音響分析方法を説明するためのフローチャートである。 図３は、応力閉じ込め時間より長い光パルスを照射した場合に生じる２つのパルスについて説明する説明図である。 図４は、照射されたビーム光が、測定部位の表面より内部に浸入し、光の強度分布が直ちに音源分布に変換される状態を説明する説明図である。 図５は、音源分布（実線）と伝播する超音波の音圧分布（点線）を示す特性図である。 図６は、生成したい超音波の周波数ｆと、光のビームウェストｗとの関係の一例を示す特性図である。 図７は、ビーム成形部１０２でビームウェストを０．５ｍｍに成形し、パルス制御部１０３で、パルス幅０．５２μｓｅｃで光を照射したときに、測定部１０４で測定される９５５ｋＨｚの超音波（光音響波）の波形を示す特性図である。 図８は、実施の形態により測定された超音波（光音響波）をロックイン検出した際の信号と光吸収係数の関係を示す特性図である。 図９は、照射された光の、骨（Bone）などの構造物がある測定部位の表面からの分布の状態を示す説明図である。
　以下、本発明の実施の形態に係る光音響分析装置について図１を参照して説明する。この光音響分析装置は、ビーム光を出射する光源１０１と、ビーム光を成形するビーム成形部１０２と、ビーム光をパルス光とするパルス制御部１０３と、光音響信号を測定する測定部１０４とを備える。
　光源１０１は、測定対象の物質が吸収する波長のビーム光１２１を出射する。光源１０１は、測定対象としてのグルコースが吸収する波長のビーム光１２１を出射する。光源１０１は、例えば、半導体レーザから構成することができる。
　パルス制御部１０３は、光源１０１から出射されて測定部位１５１に照射されるビーム光１２３を、設定されている周波数で、周波数の２倍の逆数をパルス幅のパルス光とする。ビーム成形部１０２は、光源１０１から出射されて測定部位１５１に照射されるビーム光１２３のビーム半径が、周波数をｆとして音速／（π×ｆ）により求められる値となるように、ビーム光１２１を成形する。例えば、ビーム成形部１０２でビーム光１２１を成形して成形ビーム光１２２とし、パルス制御部１０３で、成形ビーム光１２２をパルス光としたビーム光１２３とする。また、例えば、パルス制御部１０３で、ビーム光１２１をパルス光とし、このパルス光をビーム成形部１０２で成形して測定部位１５１に照射することもできる。
　測定部１０４は、パルス制御部１０３でパルス光とされ、ビーム成形部１０２で整形されたビーム光１２３が照射された測定部位１５１から、ビーム光の光軸に直交する方向に発生する光音響信号を測定する。測定部１０４は、超音波である光音響波を検出して電気信号（光音響信号）に変換するトランスデューサ（狭帯域なトランスデューサ）から構成することができる。
　ここで、測定部１０４は、周波数の光音響信号が測定可能とされており、この周波数が、ビーム成形部１０２、パルス制御部１０３に設定される周波数となる。なお、測定部位１５１と、測定部１０４との間での光音響信号の反射を抑制するために、音響インピーダンスを調整する音響整合層１０６を、測定部位１５１と測定部１０４との間に配置することもできる。
　また、この光音響分析装置では、測定部１０４が測定した光音響信号により、分析部１０５が物質の特性を求める。分析部１０５は、測定部１０４が測定した光音響信号より、物質の濃度を求める。
　次に、本発明の実施の形態に係る光音響分析方法について、図２のフローチャートを参照して説明する。この光音響分析方法は、光源１０１から生成された測定対象の物質が吸収する波長のビーム光を測定部位１５１に照射し、測定部１０４で、ビーム光が照射された測定部位１５１から、ビーム光の光軸に直交する方向に発生する光音響信号を測定する。
　まず、第１ステップＳ１０１で、パルス制御部１０３により、ビーム光を、測定部１０４で測定可能な光音響信号の周波数で、周波数の２倍の逆数をパルス幅のパルス光とする。また、第２ステップＳ１０２で、ビーム成形部１０２により、ビーム光のビーム半径が、周波数をｆとして音速／（π×ｆ）により求められる値となるように、ビーム光を成形する。なお、第２ステップＳ１０２の後に、第１ステップＳ１０１を実施することもできる。
　次に、第３ステップＳ１０３で、第１ステップＳ１０１でパルス光とされ、第２ステップＳ１０２で整形されたビーム光を測定部位１５１に照射する。この後、第４ステップＳ１０４で、ビーム光が照射された測定部位１５１から、ビーム光の光軸に直交する方向に発生する光音響信号を、測定部１０４で測定する。また、第５ステップＳ１０５で、分析部１０５が、測定された光音響信号より、物質の特性（例えば物質の濃度）を求める。
　以下、より詳細に説明する。前述したように、光照射によって複雑で帯域の広い光音響波（超音波）が生じる状態では、広帯域なトランスデューサを用いることが必要となり、感度を高めることができない。感度を高めるためには、狭帯域なトランスデューサを用いることが重要となる。このためには、光音響法による測定においては、光照射により、特定の周波数にエネルギーが集められた超音波、言い換えると、特定の周波数となる超音波が生成されるようにすることが重要となる。
　ここで、測定部位の内部における測定対象の光吸収コントラストが小さい場合、コリメートされた光（ビーム光）は、ベール則に従い、光吸収係数に対応し、測定部位の表面から徐々に吸収され、式（１）に示す分布となる（図９参照）。また、超音波の発生は式（２）のように光の吸収に比例する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　なお、Γは、グリュナイゼン係数、μは、測定対象（測定部位）における光吸収係数、Ｆは、光のエネルギー、Ｆ0は、測定部位表面における光エネルギー、ｗは、ビームウェスト（ビーム半径）、ｒは、照射される光の光軸からの距離、ｚは、光軸方向の測定部位の表面からの距離、Ｉは、時間領域の光強度分布（パルスの形）である。
　以上のことより、光照射により発生する超音波源の分布により光強度を正弦波状に変調して照射しても、超音波源と伝播していく超音波の干渉で複雑な波面やさまざまな周波数成分が生じ、また減衰を生じてしまう。また、光音響効果により発生する超音波の音圧は、光強度の時間微分に比例する。このため、なだらかな変化となる正弦波（Harmonic）での変調は、変換効率の観点で不利となる（表１参照）。なお、表１では、有利不利の判定結果を、「○」、「△」、「×」の順に示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　そこで、本発明では、パルス状の光（ビーム光）を測定対象（測定部位）に照射する（表１の右参照）。
　次に、光音響波は、応力閉じ込め時間（代表長さ／音速、この場合では代表長さはビームの直径となる）内において照射された光エネルギーが超音波として放出される。なお、応力閉じ込め時間は、ビーム光の照射によって測定部位の内部で発生した応力が、ビーム光の照射領域の、ビーム光の光軸に直交する方向に伝わるまでの時間である。このため、図３の（ａ）に示すように、応力閉じ込め時間より長い光パルスを照射した場合は、図３の（ｂ）および図３の（ｃ）に示すような、２つのパルスを生じる。生じる音圧は、式（２）に示すとおり、光強度の時間変化に比例するため、生じる２つの波は符号が反転した対称の音圧分布となる。
　従って、測定の感度を高めるために、光音響効果により発生させる超音波を、ある特定の周波数ｆとするためには、パルス幅１／２ｆの光パルスを周波数ｆで照射すればよいことになる。このように長いパルス幅の光パルスの照射により発生するの正負の波を組み合わせることにより、ナノ秒パルスの繰り返しを利用する場合に生じる偶次の高調波をゼロにすることができる。しかし、この段階では、得られる超音波は、まだ広い周波数の帯域を持ったものである。
　次に、上述したように偶次の高調波をゼロにした状態で得られた超音波の帯域を、以下に示すように、さらに狭くし、より正弦波に近づけていく。
　先に説明したように、照射されたビーム光（Light irradiation）が、測定部位の表面（Sample surface）より内部に浸入すると、光の強度分布は、直ちに音源分布に変換される（図４参照）。この、光音響（Photoacoustic：PA）効果により発生して、光軸（ｚ軸）より離れる直交方向に伝搬（propagation）する光音響波（PA wave）の分布である音源分布は、「ｅｘｐ（－２ｒ2／ｗ2）ｅｘｐ（－μｚ）・・・（３）」で表すことができる。
　ここで、式（３）の「ｅｘｐ（－２ｒ2／ｗ2）・・・（４）」で示される、光軸直交方向の音圧分布に着目する。この式（４）を、光軸直交方向の距離ｒに関してテイラー展開すると、「１－（２ｒ2）／（ｗ2）・・・（５）」となる。
　また、生成したい周波数の超音波は、「ｅｘｐ｛ｉ２πｆ（ｒ／ｃ）｝・・・（６）」で表すことができる。なお、「ｉ」は、虚数単位を示す。また、「ｃ」は、音速である。この式（６）を光軸直交方向の距離ｒに関してテイラー展開すると、「１－１／２｛２πｆ（ｒ／ｃ）｝2・・・（７）」となる。
　ここで、図５に示すように、音源分布（実線）と伝播する超音波の音圧分布（点線）は非常によく近似でき、式（６）と式（７）とは等しいものとすることができる。これより、生成したい超音波の周波数ｆと、光のビームウェストｗとの関係を示す「ｆ＝ｃ／（πｗ）・・・（８）」が得られる。式（８）で示される関係より、光音響効果により生成させたい周波数の超音波に対応させて、ビームウェスト（ビーム半径）と適切なパルス幅を決定することができる。この関係について、図６に一例を示す。
　図７に、ビーム成形部１０２でビームウェストを０．５ｍｍに成形し、パルス制御部１０３で、パルス幅０．５２μｓｅｃで光を照射したときに、測定部１０４で測定される９５５ｋＨｚの超音波（光音響波）の波形を示す。このように超音波が得られる状態において、測定対象の成分濃度が変化して光吸収係数が変化すると、この超音波の振幅が、濃度変化に伴って変化する。この変化を元に、分析部１０５により測定対象の物質の濃度を求めることができる。
　図８に、上述した超音波をロックイン検出した際の信号と光吸収係数の関係を示す。初期の信号Ｓ０を基準として、成分濃度が変化した後の信号Ｓ１とし、（Ｓ１－Ｓ０）／Ｓ０によって規格化した値を縦軸にとっている。共振器などを利用せずに特定の周波数の超音波が生成され、測定対象の物質の光吸収係数に対して線形な応答が得られ、測定部位内部における測定対象の成分濃度変化を測定することができることがわかる。
　以上に説明したように、本発明では、ビーム光を、測定部で測定可能な光音響信号の周波数で、周波数の２倍の逆数をパルス幅のパルス光とし、また、ビーム光のビーム半径が、周波数をｆとして音速／（π×ｆ）により求められる値となるように、ビーム光を成形して照射するので、測定に、例えば、狭帯域なトランスデューサを用いることが可能となる。このように、感度が高められる狭帯域なトランスデューサを用いることができるので、本発明によれは、光音響法による分析を、高感度に実施することができる。
　なお、本発明は以上に説明した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で、当分野において通常の知識を有する者により、多くの変形および組み合わせが実施可能であることは明白である。
　１０１…光源、１０２…ビーム成形部、１０３…パルス制御部、１０４…測定部、１０５…分析部、１０６…音響整合層、１２１…ビーム光、１２２…成形ビーム光、１２３…ビーム光、１５１…測定部位。

Claims (6)

  1. 　光源から生成された測定対象の物質が吸収する波長のビーム光を測定部位に照射し、測定部で、前記ビーム光が照射された前記測定部位から、前記ビーム光の光軸に直交する方向に発生する光音響信号を測定する光音響分析方法であって、
    　前記ビーム光を、前記測定部で測定可能な光音響信号の周波数で、前記周波数の２倍の逆数をパルス幅のパルス光とする第１ステップと、
    　前記ビーム光のビーム半径が、前記周波数をｆとして音速／（π×ｆ）により求められる値となるように、前記ビーム光を成形する第２ステップと、
    　前記第１ステップでパルス光とされ、前記第２ステップで整形された前記ビーム光を前記測定部位に照射する第３ステップと、
    　前記第３ステップで前記ビーム光が照射された前記測定部位から、前記ビーム光の光軸に直交する方向に発生する光音響信号を、前記測定部で測定する第４ステップと
    　を備える光音響分析方法。
  2. 　請求項１記載の光音響分析方法において、
    　前記第４ステップで測定された光音響信号より、前記物質の特性を求める第５ステップをさらに備えることを特徴とする光音響分析方法。
  3. 　請求項２記載の光音響分析方法において、
    　前記第５ステップは、前記第４ステップで測定された光音響信号より、前記物質の濃度を求めることを特徴とする光音響分析方法。
  4. 　測定対象の物質が吸収する波長のビーム光を出射する光源と、
    　前記光源から出射されて測定部位に照射される前記ビーム光を、設定されている周波数で、前記周波数の２倍の逆数をパルス幅のパルス光とするパルス制御部と、
    　前記光源から出射されて前記測定部位に照射される前記ビーム光のビーム半径が、前記周波数をｆとして音速／（π×ｆ）により求められる値となるように、前記ビーム光を成形するビーム成形部と、
    　前記周波数の光音響信号が測定可能とされ、前記パルス制御部でパルス光とされ、前記ビーム成形部で整形された前記ビーム光が照射された前記測定部位から、前記ビーム光の光軸に直交する方向に発生する光音響信号を測定する測定部と
    　を備える光音響分析装置。
  5. 　請求項４記載の光音響分析装置において、
    　前記測定部が測定した光音響信号より、前記物質の特性を求める分析部をさらに備えることを特徴とする光音響分析装置。
  6. 　請求項５記載の光音響分析装置において、
    　前記分析部は、前記測定部が測定した光音響信号より、前記物質の濃度を求めることを特徴とする光音響分析装置。
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