WO2021029137A1 - 電子機器 - Google Patents

Abstract

良好に撮影することが可能な電子機器を提供する。　電子機器は、液晶パネルと、カメラと、を備える。前記液晶パネルは、表示領域と、入射光制御領域と、を備える。前記表示領域は画素電極を有する。前記カメラは、前記入射光制御領域と重なる。前記入射光制御領域は、環状配線と、制御電極と、を有する。前記画素電極に電圧が印加される時間より、前記制御電極に電圧が印加される時間が短い。

Description

電子機器

　本発明の実施形態は、電子機器に関する。

　近年、表示部及び受光部を同一面側に備えたスマートフォン等の電子機器が広く実用化されている。このような電子機器は、液晶パネルと、液晶パネルの外側に位置するカメラと、を備えている。上記のような電子機器において、鮮明な画像を撮影することが要望されている。

特開２０１７－４０９０８号公報

　本実施形態は、良好に撮影することが可能な電子機器を提供する。

　一実施形態に係る電子機器は、
　液晶パネルと、カメラと、を備え、前記液晶パネルは、表示領域と、入射光制御領域を備え、前記表示領域は画素電極を有し、前記カメラは、前記入射光制御領域と重なり、前記入射光制御領域は、環状配線と、前記環状配線の内側に形成され、前記環状配線に接続する制御電極とを有し、前記画素電極に電圧が印加される時間より、前記制御電極に電圧が印加される時間が短い。

　また、一実施形態に係る電子機器は、
　第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、を有する液晶パネルと、カメラと、を備え、前記液晶パネルは、画像を表示する表示領域と、入射光制御領域を有し、前記表示領域は画素電極を有し、外部からの光が前記入射光制御領域を通過して前記カメラに入射し、前記入射光制御領域は、環状配線と、前記環状配線の内側に形成され、前記環状配線に接続する制御電極とを有し、前記画素電極に電圧が印加される時間より、前記制御電極に電圧が印加される時間が短い。

　また、一実施形態に係る電子機器は、
　液晶パネルと照明装置を有する液晶表示装置と、前記照明装置に形成された開口に配置されたカメラを備え、前記液晶パネルは、画像を表示する表示領域と、入射光制御領域を備え、外部からの光が、前記入射光制御領域を通過し前記カメラに入射し、前記表示領域は画素電極を有し、前記入射光制御領域は、環状遮光部と、前記環状遮光部に外周が接する、環状入射光制御部を有し、前記環状遮光部は環状配線を有し、前記環状入射光制御部は、前記環状配線の内側に配置され、前記環状配線に接続する制御電極を有し、前記画素電極に電圧が印加開始され終了するまでの時間より、前記制御電極に電圧が印加開始され終了するまでの時間が短い。

図１は、第１の実施形態に係る電子機器の一構成例を示す分解斜視図である。 図２は、上記電子機器のカメラ周辺を示す断面図である。 図３は、図２に示した液晶パネルの一構成例を示す平面図であり、一画素の等価回路を併せて示す図である。 図４は、上記液晶パネルにおける画素配列を示す平面図である。 図５は、上記液晶パネルの１個の単位画素を示す平面図であり、走査線、信号線、画素電極、及び遮光部を示す図である。 図６は、上記第１の実施形態と異なる主画素を示す平面図であり、走査線、信号線、画素電極、及び遮光部を示す図である。 図７は、図５に示した画素を含む液晶パネルを示す断面図である。 図８は、上記液晶パネルの入射光制御領域における遮光層を示す平面図である。 図９は、上記液晶パネルの複数の制御電極構造及び複数の引き回し配線を示す平面図である。 図１０は、上記液晶パネルの上記入射光制御領域を示す断面図である。 図１１は、第２の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの一部及びカメラを示す図であり、液晶パネル及びカメラを示す平面図と、液晶パネル及びカメラを示す断面図とを併せて示す図である。 図１２は、上記第２の実施形態に係る液晶パネルの一部、照明装置の一部、及びカメラを示す断面図である。 図１３は、上記第２の実施形態に係る液晶パネルの一部、照明装置の一部、及びカメラを示す他の断面図である。 図１４は、上記第２の実施形態に係る液晶パネルの一部及びカメラを示す断面図である。 図１５は、上記第２の実施形態に係る液晶パネルの一部及びカメラを示す他の断面図である。 図１６は、上記第２の実施形態に係る液晶パネルの一部及びカメラの位置を示す断面図である。 図１７は、上記第２の実施形態に係る液晶パネルの一部及びカメラの位置を示す他の断面図である。 図１８は、上記第２の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域及びカメラを示す平面図である。 図１９は、上記第２の実施形態に係る液晶パネルの一部、照明装置の一部、及びカメラを示す断面図である。 図２０は、第３の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの一部を示す断面図である。 図２１は、上記第３の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域における遮光層を示す平面図である。 図２２は、上記第３の実施形態に係る第１基板の複数の制御電極構造及び複数の引き回し配線を示す平面図である。 図２３は、上記第３の実施形態に係る第２基板の対向電極及び引き回し配線を示す平面図である。 図２４は、上記第３の実施形態の複数の第１制御電極、複数の第２制御電極、及び複数の線状対向電極を示す平面図である。 図２５は、図２４の線ＸＸＶ－ＸＸＶに沿った液晶パネルを示す断面図であり、絶縁基板、複数の第１制御電極、複数の第２制御電極、複数の線状対向電極、及び第１制御液晶層を示す図である。 図２６は、上記第３の実施形態の第３制御電極構造、及び第４制御電極構造を示す平面図である。 図２７は、図２６の線ＸＸＶＩＩ－ＸＸＶＩＩに沿った液晶パネルを示す断面図であり、絶縁基板、第３制御電極構造、第４制御電極構造、線状対向電極、及び第２制御液晶層を示す図である。 図２８は、上記第３の実施形態の第５制御電極構造及び第６制御電極構造を示す平面図である。 図２９は、図２８の線ＸＸＩＸ－ＸＸＩＸに沿った液晶パネルを示す断面図であり、絶縁基板、複数の第５制御電極、複数の第６制御電極、複数の線状対向電極、及び第３制御液晶層を示す図である。 図３０は、第４の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの第１制御電極構造及び第２制御電極構造を示す平面図である。 図３１は、上記第４の実施形態に係る第３制御電極構造、第４制御電極構造、第５制御電極、第６制御電極、第３引き回し配線、及び第４引き回し配線を示す平面図である。 図３２は、第５の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの第１制御電極構造及び第２制御電極構造を示す平面図である。 図３３は、上記第５の実施形態に係る第３制御電極構造、第４制御電極構造、第５制御電極構造、第６制御電極構造、第３引き回し配線、及び第４引き回し配線を示す平面図である。 図３４は、第６の実施形態に係る電子機器の液晶パネルを示す平面図である。 図３５は、第７の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの入射光制御領域における走査線及び信号線を示す平面図である。 図３６は、第８の実施形態に係る電子機器の液晶パネルにおいて、液晶層のギャップに対する光の透過率の変化と、上記ギャップに対する液晶の応答速度の変化と、をグラフで示す図である。 図３７は、上記第８の実施形態において、液晶層に印加する電圧に対する液晶の応答速度の変化と、をグラフで示す図である。

　以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

　（第１の実施形態）
　まず、本第１の実施形態について説明する。図１は、本第１の実施形態の電子機器１００の一構成例を示す分解斜視図である。　
　図１に示すように、方向Ｘ、方向Ｙ、及び方向Ｚは、互いに直交しているが、９０度以外の角度で交差していてもよい。　
　電子機器１００は、液晶表示装置ＤＳＰと、カメラ（カメラユニット）１と、を備えている。液晶表示装置ＤＳＰは、液晶パネルＰＮＬと、照明装置（バックライト）ＩＬと、を備えている。

　照明装置ＩＬは、導光体ＬＧ１と、光源ＥＭ１と、ケースＣＳと、を備えている。このような照明装置ＩＬは、例えば、図１において破線で簡略化して示す液晶パネルＰＮＬを照明するものである。

　導光体ＬＧ１は、方向Ｘ及び方向Ｙによって規定されるＸ－Ｙ平面と平行な平板状に形成されている。導光体ＬＧ１は液晶パネルＰＮＬに対向している。導光体ＬＧ１は、側面ＳＡと、側面ＳＡの反対側の側面ＳＢと、カメラ１を囲んだ貫通孔ｈ１と、を有している。側面ＳＡ及びＳＢはそれぞれ方向Ｘに沿って延出している。例えば、側面ＳＡ及びＳＢは、方向Ｘ及び方向Ｚによって規定されるＸ－Ｚ平面と平行な面である。貫通孔ｈ１は、導光体ＬＧ１を方向Ｚに沿って貫通している。貫通孔ｈ１は、方向Ｙにおいて、側面ＳＡ及びＳＢとの間に位置し、側面ＳＡよりも側面ＳＢに近接している。

　複数の光源ＥＭ１は、方向Ｘに間隔を置いて並んでいる。各々の光源ＥＭ１は、配線基板Ｆ１に実装され、配線基板Ｆ１と電気的に接続されている。光源ＥＭ１は、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）であり、白色の照明光を出射する。光源ＥＭ１から出射される照明光は、側面ＳＡから導光体ＬＧ１へ入射し、側面ＳＡから側面ＳＢに向かって導光体ＬＧ１の内部を進行する。

　ケースＣＳは、導光体ＬＧ１及び光源ＥＭ１を収容している。ケースＣＳは、側壁Ｗ１乃至Ｗ４と、底板ＢＰと、貫通孔ｈ２と、突部ＰＰと、を有している。側壁Ｗ１及びＷ２は、方向Ｘに延出し、方向Ｙに対向している。側壁Ｗ３及びＷ４は、方向Ｙに延出し、方向Ｘに対向している。貫通孔ｈ２は、方向Ｚにおいて、貫通孔ｈ１に重なっている。突部ＰＰは、底板ＢＰに固定されている。突部ＰＰは、方向Ｚに沿って底板ＢＰから液晶パネルＰＮＬに向かって突出し、貫通孔ｈ２を囲んでいる。

　導光体ＬＧ１は、液晶パネルＰＮＬに重なっている。　
　カメラ１は、配線基板Ｆ２に実装され、配線基板Ｆ２と電気的に接続されている。カメラ１は、貫通孔ｈ２、突部ＰＰの内部、及び貫通孔ｈ１を通り、液晶パネルＰＮＬと対向している。

　図２は、電子機器１００のカメラ１周辺を示す断面図である。　
　図２に示すように、照明装置ＩＬは、さらに、光反射シートＲＳ、光拡散シートＳＳ、並びにプリズムシートＰＳ１，ＰＳ２を備えている。

　光反射シートＲＳ、導光体ＬＧ１、光拡散シートＳＳ、プリズムシートＰＳ１、及びプリズムシートＰＳ２は、方向Ｚに順に配置され、ケースＣＳに収容されている。ケースＣＳは、金属製のケースＣＳ１と、周辺部材としての樹脂製の遮光壁ＣＳ２とを備えている。遮光壁ＣＳ２は、カメラ１と隣合い、ケースＣＳ１とともに突部ＰＰを形成している。本第１の実施形態において、遮光壁ＣＳ２は、カメラ１と導光体ＬＧ１と間に位置し筒状の形状を持っている。遮光壁ＣＳ２は、黒色樹脂など、光を吸収する樹脂で形成されている。光拡散シートＳＳ、プリズムシートＰＳ１、及びプリズムシートＰＳ２は、それぞれ、貫通孔ｈ１に重ねられた貫通孔を有している。突部ＰＰは、貫通孔ｈ１の内側に位置している。

　液晶パネルＰＮＬは、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２をさらに有している。液晶パネルＰＮＬ及びカバー部材としてのカバーガラスＣＧは、方向Ｚに配置され、方向Ｚに進行する光に対して、光学的なスイッチ機能を備えた液晶素子ＬＣＤを構成している。液晶素子ＬＣＤは、粘着テープＴＰ１により照明装置ＩＬに張り付けられている。本第１の実施形態において、粘着テープＴＰ１は、突部ＰＰ、プリズムシートＰＳ２、及び偏光板ＰＬ１に粘着されている。

　液晶パネルＰＮＬは、基板主面に沿った横電界を利用する表示モード、基板主面の法線に沿った縦電界を利用する表示モード、基板主面に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モード、さらには、上記の横電界、縦電界、及び、傾斜電界を適宜組み合わせて利用する表示モードに対応したいずれの構成を備えていてもよい。ここでの基板主面とは、Ｘ－Ｙ平面に平行な面である。

　液晶パネルＰＮＬは、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの外側の非表示領域ＮＤＡと、表示領域ＤＡに囲まれ円形の形状を持つ入射光制御領域ＰＣＡと、を備えている。液晶パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２と、液晶層ＬＣと、シール材ＳＥと、を備えている。シール材ＳＥは、非表示領域ＮＤＡに位置し、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを接合している。液晶層ＬＣは、表示領域ＤＡ及び入射光制御領域ＰＣＡに位置し、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に保持されている。液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１、第２基板ＳＵＢ２、及びシール材ＳＥで囲まれた空間に形成されている。

　照明装置ＩＬから照射された光の透過量を液晶パネルＰＮＬで制御することで、表示領域ＤＡには画像が表示される。電子機器１００の使用者はカバーガラスＣＧのＺ方向側（図中上側）に位置し、液晶パネルＰＮＬからの出射光を画像として観ることになる。

　対して、入射光制御領域ＰＣＡにおいても液晶パネルＰＮＬによって光の透過量が制御されるが、光はカバーガラスＣＧのＺ方向側から液晶パネルＰＮＬを経てカメラ１に入射する。

　本明細書では、照射装置ＩＬから液晶パネルＰＮＬを経てカバーガラスＣＧ側に向かう光を出射光と呼び、カバーガラスＣＧ側から液晶パネルＰＮＬを経てカメラ１に向かう光を入射光と呼ぶ。

　ここで、第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２の主要部について説明する。　
　第１基板ＳＵＢ１は、絶縁基板１０と、配向膜ＡＬ１と、を備えている。第２基板ＳＵＢ２は、絶縁基板２０と、カラーフィルタＣＦと、遮光層ＢＭと、透明層ＯＣと、配向膜ＡＬ２と、を備えている。

　絶縁基板１０及び絶縁基板２０は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの透明基板である。配向膜ＡＬ１，ＡＬ２は、液晶層ＬＣに接している。　
　カラーフィルタＣＦ、遮光層ＢＭ、及び透明層ＯＣは、絶縁基板２０と液晶層ＬＣとの間に位置している。なお、図示した例では、カラーフィルタＣＦは、第２基板ＳＵＢ２に設けられているが、第１基板ＳＵＢ１に設けられてもよい。カラーフィルタＣＦは、表示領域ＤＡに位置している。

　入射光制御領域ＰＣＡは、少なくとも、最外周に位置し円環の形状を持つ第１遮光領域ＬＳＡ１と、第１遮光領域ＬＳＡ１で囲まれ第１遮光領域ＬＳＡ１に接した第１入射光制御領域ＴＡ１と、を有している。

　遮光層ＢＭは、表示領域ＤＡに位置し画素を区画する遮光部と、非表示領域ＮＤＡに位置した枠状の遮光部ＢＭＢと、を含んでいる。入射光制御領域ＰＣＡにおいて、遮光層ＢＭは、少なくとも、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し円環の形状を持つ第１遮光部ＢＭ１と、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置した第１開口ＯＰ１と、を含んでいる。　
　表示領域ＤＡと非表示領域ＮＤＡとの境界は、例えば、遮光部ＢＭＢの内端（表示領域ＤＡ側の端部）によって規定されている。シール材ＳＥは、遮光部ＢＭＢに重なっている。

　透明層ＯＣは、表示領域ＤＡにおいてはカラーフィルタＣＦに接し、非表示領域ＮＤＡにおいては遮光部ＢＭＢに接し、第１遮光領域ＬＳＡ１においては第１遮光部ＢＭ１に接し、第１入射光制御領域ＴＡ１においては絶縁基板２０に接している。配向膜ＡＬ１及び配向膜ＡＬ２は、表示領域ＤＡ、入射光制御領域ＰＣＡ、及び非表示領域ＮＤＡにわたって設けられている。

　カラーフィルタＣＦの詳細については、ここでは省略するが、カラーフィルタＣＦは、例えば、赤画素に配置される赤色の着色層、緑画素に配置される緑色の着色層、及び青画素に配置される青色の着色層を備えている。また、カラーフィルタＣＦは、白画素に配置される透明樹脂層を備えている場合もある。透明層ＯＣは、カラーフィルタＣＦ及び遮光層ＢＭを覆っている。透明層ＯＣは、例えば、透明な有機絶縁層である。

　カメラ１は、ケースＣＳの貫通孔ｈ２の内部に位置している。カメラ１は、方向Ｚにおいて、カバーガラスＣＧ及び液晶パネルＰＮＬに重なっている。なお、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにて、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２以外の光学シートをさらに備えてもよい。上記光学シートとしては、位相差板、光散乱層、光反射防止層などが挙げられる。液晶パネルＰＮＬ、カメラ１などを有する電子機器１００において、電子機器１００の使用者からみて、カメラ１は、液晶パネルＰＮＬの奥側に設けられている。

　カメラ１は、例えば、少なくとも一つのレンズを含む光学系２と、撮像素子（イメージセンサ）３と、ケース４と、を備えている。撮像素子３は、液晶パネルＰＮＬ側を向いた撮像面３ａを含んでいる。光学系２は、撮像面３ａと液晶パネルＰＮＬとの間に位置し、液晶パネルＰＮＬ側を向いた入光面２ａを含んでいる。光学系２は、液晶パネルＰＮＬに隙間を空けて位置している。ケース４は、光学系２及び撮像素子３を収容している。

　撮像素子３は、カバーガラスＣＧ、液晶パネルＰＮＬ、及び光学系２を介して受光する。例えば、カメラ１は、カバーガラスＣＧ及び液晶パネルＰＮＬを透過した可視光（例えば、４００ｎｍ乃至７００ｎｍの波長範囲の光）を受光する。

　偏光板ＰＬ１は、絶縁基板１０に接着されている。偏光板ＰＬ２は、絶縁基板２０に接着されている。カバーガラスＣＧは、透明接着層ＡＤによって偏光板ＰＬ２に張り付けられている。

　また、液晶層ＬＣが外部からの電界等の影響を受けないようにするため、偏光板ＰＬ２と絶縁基板２０との間に透明導電層を設ける場合がある。透明導電層は、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）等の透明な導電材料で形成されている。

　また、偏光板ＰＬ１または偏光板ＰＬ２に、超複屈折フィルムを含めることも可能である。超複屈折フィルムは、直線偏光が入射したときに透過光を非偏光化（自然光化）することが知られており、被写体に偏光を発するものが含まれていても違和感なく撮影が可能となる。例えば、カメラ１の被写体に電子機器１００等が映り込んだ場合に、電子機器１００からは直線偏光が出射されているので、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２と、被写体となっている電子機器１００の偏光板との角度との関係で、カメラ１に入射する被写体の電子機器１００の明るさが変化し、撮影時に違和感を生ずるおそれがある。しかしながら、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２に超複屈折フィルムを備えることで、違和感を生じさせる明るさの変化を抑えることが可能である。

　超複屈折性を示すフィルムとしては、例えば東洋紡（株）のコスモシャイン（登録商標）などが好適に用いられる。ここで超複屈折性とは、可視域、例えば５００ｎｍの光に対する面内方向のリタデーションが８００ｎｍ以上のものを言う。　
　上記のことから、外部からの光は、入射光制御領域ＰＣＡを通過してカメラ１に入射される。

　図３は、図２に示した液晶パネルＰＮＬの一構成例を示す平面図であり、一画素ＰＸの等価回路を併せて示す図である。図３において、液晶層ＬＣ及びシール材ＳＥを、異なる斜線を付して示している。　
　図３に示すように、表示領域ＤＡは、実質的に四角形の領域であるが、４つの角が丸みを有していてもよく、四角形以外の多角形や円形であってもよい。表示領域ＤＡは、シール材ＳＥで囲まれている。

　液晶パネルＰＮＬは、方向Ｘに沿って延出した一対の短辺Ｅ１１及びＥ１２と、方向Ｙに沿って延出した一対の長辺Ｅ１３及びＥ１４と、を有している。なお、短辺Ｅ１１を第１の辺、短辺Ｅ１２を第２の辺、長辺Ｅ１４を第３の辺、長辺Ｅ１３を第４の辺、とそれぞれ称する場合がある。液晶パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて、方向Ｘ及び方向Ｙにマトリクス状に配列された複数の画素ＰＸを備えている。表示領域ＤＡにおける各画素ＰＸは、同一の回路構成を有している。図３において拡大して示すように、各画素ＰＸは、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥ、液晶層ＬＣ等を備えている。

　スイッチング素子ＳＷは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって構成されている。スイッチング素子ＳＷは、複数の走査線Ｇのうち対応する一の走査線Ｇと、複数の信号線Ｓのうち対応する一の信号線Ｓと、画素電極ＰＥと、に電気的に接続されている。走査線Ｇには、スイッチング素子ＳＷを制御するための制御信号が与えられる。信号線Ｓには、制御信号とは異なる信号として、映像信号などの画像信号が与えられる。共通電極ＣＥには、コモン電圧（共通電圧）が与えられる。液晶層ＬＣは、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電圧（電界）によって駆動されている。容量ＣＰは、例えば、共通電極ＣＥと同電位の電極と、画素電極ＰＥと同電位の電極と、の間に形成される。

　電子機器１００は、配線基板５及びＩＣチップ６をさらに備えている。　
　配線基板５は、第１基板ＳＵＢ１の延出部Ｅｘに実装され、延出部Ｅｘに連結されている。ＩＣチップ６は、配線基板５に実装され、配線基板５に電気的に接続されている。なお、ＩＣチップ６は、延出部Ｅｘに実装され、延出部Ｅｘに電気的に接続されてもよい。ＩＣチップ６は、例えば、画像表示に必要な信号を出力するディスプレイドライバなどを内蔵している。配線基板５は、折り曲げ可能なフレキシブルプリント回路基板であってもよい。

　図４は、液晶パネルＰＮＬにおける画素ＰＸの配列を示す平面図である。　
　図４に示すように、各々の主画素ＭＰＸは、複数の画素ＰＸで構成されている。複数の主画素ＭＰＸは、２種類の主画素ＭＰＸａ，ＭＰＸｂに分類される。方向Ｙに隣合う２個の主画素ＭＰＸａ，ＭＰＸｂは、単位画素ＵＰＸを構成している。主画素ＭＰＸａ，ＭＰＸｂは、それぞれカラー画像を表示するための最小単位に相当する。主画素ＭＰＸａは、画素ＰＸ１ａ、画素ＰＸ２ａ、及び画素ＰＸ３ａを含んでいる。主画素ＭＰＸｂは、画素ＰＸ１ｂ、画素ＰＸ２ｂ、及び画素ＰＸ３ｂを含んでいる。また、上記の画素ＰＸの形状は、図示したような略平行四辺形である。

　主画素ＭＰＸａ及び主画素ＭＰＸｂは、それぞれ方向Ｘに並んだ複数色の画素ＰＸを含んでいる。画素ＰＸ１ａ及び画素ＰＸ１ｂは、第１色の画素であり、第１色の着色層ＣＦ１を備えている。画素ＰＸ２ａ及び画素ＰＸ２ｂは、第１色とは異なる第２色の画素であり、第２色の着色層ＣＦ２を備えている。画素ＰＸ３ａ及び画素ＰＸ３ｂは、第１色及び第２色とは異なる第３色の画素であり、第３色の着色層ＣＦ３を備えている。

　主画素ＭＰＸａ及び主画素ＭＰＸｂは、それぞれ方向Ｘに繰り返し配置されている。方向Ｘに並ぶ主画素ＭＰＸａの行と、方向Ｘに並ぶ主画素ＭＰＸｂの行は、方向Ｙに交互に繰り返し配置されている。主画素ＭＰＸａの各々の画素ＰＸは第１延在方向ｄ１に延在し、主画素ＭＰＸｂの各々の画素ＰＸは第２延在方向ｄ２に延在している。なお、第１延在方向ｄ１は、方向Ｘ及び方向Ｙと異なる方向である。第２延在方向ｄ２は、方向Ｘ、方向Ｙ、及び第１延在方向ｄ１と異なる方向である。図５に示した例において、第１延在方向ｄ１は右斜め下方向であり、第２延在方向ｄ２は左斜め下方向である。

　画素ＰＸの形状が図示したような略平行四辺形の場合、ダイレクタの回転方向が互いに異なる複数のドメインを単位画素ＵＰＸに設定することができる。すなわち、２個の主画素ＭＰＸａ，ＭＰＸｂを組み合わせることにより、各色の画素に関しても多くのドメインを形成することが可能となり、視野角特性に関して補償することができる。このため、視野角特性に注目すると、主画素ＭＰＸａ及び主画素ＭＰＸｂの組み合わせた１個の単位画素ＵＰＸが、カラー画像を表示するための最小単位に相当する。

　図５は、液晶パネルＰＮＬの１個の単位画素ＵＰＸを示す平面図であり、走査線Ｇ、信号線Ｓ、画素電極ＰＥ、及び遮光部ＢＭＡを示す図である。なお、図５では、説明に必要な構成のみを図示しており、スイッチング素子ＳＷ、共通電極ＣＥ、カラーフィルタＣＦなどの図示を省略している。

　図５に示すように、複数の画素ＰＸは、横電界を利用する表示モードの一つであるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードに対応した構成を有している。走査線Ｇ及び信号線Ｓは、上記の第１基板ＳＵＢ１に配置される一方で、遮光部ＢＭＡ（遮光層ＢＭ）は、上記の第２基板ＳＵＢ２に配置される。走査線Ｇ及び信号線Ｓは、互いに交差して表示領域（ＤＡ）を延在している。なお、遮光部ＢＭＡは、表示領域ＤＡに位置し画素ＰＸを区画する格子状の遮光部であり、図中に二点鎖線で示されている。

　遮光部ＢＭＡは、少なくとも上述した照明装置（ＩＬ）から照射される光を遮蔽する機能を有している。遮光部ＢＭＡは、黒色の樹脂などの光吸収率の高い材料で形成されている。遮光部ＢＭＡは格子状に形成されている。遮光部ＢＭＡは、方向Ｘに延在した複数の遮光部ＢＭＡ１と、第１延在方向ｄ１及び第２延在方向ｄ２に沿って屈曲しつつ延在した複数の遮光部ＢＭＡ２と、が一体となって形成されている。

　各々の走査線Ｇは、方向Ｘに延在している。各々の走査線Ｇは、対応する遮光部ＢＭＡ１と対向し、対応する遮光部ＢＭＡ１に沿って延在している。遮光部ＢＭＡ１は、走査線Ｇ、画素電極ＰＥの端部などと対向している。各々の信号線Ｓは、方向Ｙ、第１延在方向ｄ１、及び第２延在方向ｄ２に沿って屈曲しつつ延在している。各々の信号線Ｓは、対応する遮光部ＢＭＡ２と対向し、対応する遮光部ＢＭＡ２に沿って延在している。

　遮光層ＢＭは、複数の開口領域ＡＰを有している。開口領域ＡＰは、遮光部ＢＭＡ１及び遮光部ＢＭＡ２によって区画されている。主画素ＭＰＸａの開口領域ＡＰは、第１延在方向ｄ１に延在している。主画素ＭＰＸｂの開口領域ＡＰは、第２延在方向ｄ２に延在している。

　主画素ＭＰＸａの画素電極ＰＥは、開口領域ＡＰに位置した複数の線状画素電極ＰＡを含んでいる。複数の線状画素電極ＰＡは、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、第１延在方向ｄ１に直交する直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。主画素ＭＰＸｂの画素電極ＰＥは、開口領域ＡＰに位置した複数の線状画素電極ＰＢを含んでいる。複数の線状画素電極ＰＢは、第２延在方向ｄ２に直線状に延在し、第２延在方向ｄ２に直交する直交方向ｄｃ２に間隔を置いて並べられている。

　表示領域ＤＡにおいて、上述した配向膜ＡＬ１，ＡＬ２は方向Ｙに平行な配向軸ＡＡを有している。配向膜ＡＬ１の配向方向ＡＤ１は方向Ｙと平行であり、配向膜ＡＬ２の配向方向ＡＤ２は配向方向ＡＤ１と平行である。　
　上述した液晶層（ＬＣ）への電圧印加時において、主画素ＭＰＸａの開口領域ＡＰにおける液晶分子の回転状態（配向状態）と、主画素ＭＰＸｂの開口領域ＡＰにおける液晶分子の回転状態（配向状態）とは、互いに異なっている。

　上述したように、図４及び図５において、１個の単位画素ＵＰＸで視野角特性に関して補償する構成について説明した。しかしながら、本第１の実施形態と異なり、１個の主画素ＭＰＸで視野角特性に関して補償するものであってもよい。図６は、本第１の実施形態と異なる主画素ＭＰＸを示す平面図であり、走査線Ｇ、信号線Ｓ、画素電極ＰＥ、及び遮光部ＢＭＡを示す図である。

　図６に示すように、各々の開口領域ＡＰは、＜の記号の形状を有し、第１開口領域ＡＰ１と、第２開口領域ＡＰ２と、を有している。第１開口領域ＡＰ１は第１延在方向ｄ１に延在し、第２開口領域ＡＰ２は第２延在方向ｄ２に延在している。

　画素電極ＰＥは、複数の線状画素電極ＰＡ及び複数の線状画素電極ＰＢを備えている。複数の線状画素電極ＰＡは、第１開口領域ＡＰ１に位置し、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。複数の線状画素電極ＰＢは、第２開口領域ＡＰ２に位置し、第２延在方向ｄ２に直線状に延在し、直交方向ｄｃ２に間隔を置いて並べられている。連続する一の線状画素電極ＰＡと一の線状画素電極ＰＢとは、＜の記号の形状を有している。

　画素ＰＸ１が左側に位置し、画素ＰＸ３が右側に位置する平面視において、連続する一の線状画素電極ＰＡと一の線状画素電極ＰＢとが＞の記号の形状を有し、かつ、開口領域ＡＰが＞の記号の形状を有してもよい。

　上述した液晶層（ＬＣ）への電圧印加時において、第１開口領域ＡＰ１における液晶分子の回転状態と、第２開口領域ＡＰ２における液晶分子の回転状態とは、互いに異なっている。各々の開口領域ＡＰは、ダイレクタの回転方向が互いに異なる４種類のドメインを有している。そのため、液晶パネルＰＮＬは良好な視野角特性を得ることができる。　
　なお、本第１の実施形態において、画素電極ＰＥは表示電極として機能し、線状画素電極ＰＡ及び線状画素電極ＰＢは、線状表示電極として機能している。

　図７は、図５に示した画素ＰＸ１ａ，ＰＸ２ａを含む液晶パネルＰＮＬを示す断面図である。本第１の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬは、横電界を利用する表示モードに対応している。　
　図７に示すように、第１基板ＳＵＢ１は、絶縁基板１０と配向膜ＡＬ１との間に、絶縁層１１、信号線Ｓ、絶縁層１２、共通電極ＣＥ、金属層ＭＬ、絶縁層１３、画素電極ＰＥなどを備えている。

　絶縁層１１は、絶縁基板１０の上に設けられている。なお、詳述しないが、絶縁基板１０と絶縁層１１との間には、上述した走査線（Ｇ）、スイッチング素子ＳＷのゲート電極及び半導体層、他の絶縁層などが配置されている。信号線Ｓは、絶縁層１１の上に形成されている。絶縁層１２は、絶縁層１１及び信号線Ｓの上に設けられている。

　共通電極ＣＥは、絶縁層１２の上に設けられている。金属層ＭＬは、共通電極ＣＥの上に設けられ、共通電極ＣＥに接している。金属層ＭＬは、信号線Ｓの直上に位置している。なお、図示した例で、第１基板ＳＵＢ１は金属層ＭＬを備えているが、金属層ＭＬは省略されてもよい。絶縁層１３は、共通電極ＣＥ及び金属層ＭＬの上に設けられている。

　画素電極ＰＥは、絶縁層１３の上に形成されている。各画素電極ＰＥは、隣合う信号線Ｓの間にそれぞれ位置し、共通電極ＣＥと対向している。また、各画素電極ＰＥは、共通電極ＣＥと対向する位置にスリットを有している。共通電極ＣＥ及び画素電極ＰＥは、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電材料によって形成されている。絶縁層１３は、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとで挟まれている。配向膜ＡＬ１は、絶縁層１３及び画素電極ＰＥの上に設けられ、画素電極ＰＥなどを覆っている。

　一方、第２基板ＳＵＢ２は、絶縁基板２０の第１基板ＳＵＢ１に対向する側に、遮光部ＢＭＡ２を含む遮光層ＢＭ、着色層ＣＦ１，ＣＦ２，ＣＦ３を含むカラーフィルタＣＦ、透明層ＯＣ、配向膜ＡＬ２などを備えている。遮光部ＢＭＡ２は、絶縁基板２０の内面に形成されている。遮光部ＢＭＡ２は、信号線Ｓ及び金属層ＭＬの直上に位置している。着色層ＣＦ１，ＣＦ２は、それぞれ絶縁基板２０の内面に形成され、それらの一部が遮光部ＢＭＡ２に重なっている。透明層ＯＣは、カラーフィルタＣＦを覆っている。配向膜ＡＬ２は、透明層ＯＣを覆っている。

　なお、本第１の実施形態と異なり、液晶パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて、遮光部ＢＭＡ２及び遮光部ＢＭＡ１（図６）無しに構成されてもよい。その場合、表示領域ＤＡにおいて、金属層ＭＬを格子状に形成し、遮光部ＢＭＡ１，ＢＭＡ２の替わりに、金属層ＭＬに遮光機能を持たせてもよい。

　液晶層ＬＣは、表示領域ＤＡに位置した表示液晶層ＬＣＩを有している。例えば、画素ＰＸ１ａにおいて、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電圧（電界）が生じておらず、表示液晶層ＬＣＩに電圧が印加されていないオフ状態では、表示液晶層ＬＣＩに含まれる液晶分子は、配向膜ＡＬ１及び配向膜ＡＬ２の間で所定の方向に初期配向している。すなわち、画素ＰＸ１ａは最小透過率となり、黒を表示する。つまり、画素ＰＸ１ａにおいて、液晶パネルＰＮＬは、遮光機能を発揮する。　
　一方、画素ＰＸ１ａにおいて、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電圧（電界）が表示液晶層ＬＣＩに印加されたオン状態では、液晶分子は初期配向方向とは異なる方向に配向し、その配向方向は電界によって制御される。つまり、画素ＰＸ１ａにおいて、液晶パネルＰＮＬは、透光機能を発揮する。このため、オン状態の画素ＰＸ１ａは、着色層ＣＦ１に応じた色を呈する。　
　液晶パネルＰＮＬの方式は、オフ状態で黒を表示する、いわゆるノーマリーブラック方式であるが、オン状態で黒を表示する（オフ状態で白を表示する）、いわゆるノーマリーホワイト方式であってもよい。

　本第１の実施形態において、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥのうち表示液晶層ＬＣＩ（液晶層ＬＣ）に近接した方の電極は画素電極ＰＥであり、画素電極ＰＥは上述したように表示電極として機能している。但し、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥのうち表示液晶層ＬＣＩ（液晶層ＬＣ）に近接した方の電極は共通電極ＣＥであってもよい。その場合、共通電極ＣＥは、上述したように表示電極として機能し、画素電極ＰＥの替わりに線状表示電極を有している。

　図８は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡにおける遮光層ＢＭを示す平面図である。図８に示すように、入射光制御領域ＰＣＡは、中心に第２入射光制御領域ＴＡ２を備えており、外側から中心に向けて、第１遮光領域ＬＳＡ１と、第１入射光制御領域ＴＡ１と、第３遮光領域ＬＳＡ３と、第３入射光制御領域ＴＡ３と、第２遮光領域ＬＳＡ２と、第２入射光制御領域ＴＡ２と、を備えている。

　第１遮光領域ＬＳＡ１は、入射光制御領域ＰＣＡの最外周に位置し、円環の形状を持っている。第１入射光制御領域ＴＡ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１で囲まれ、第１遮光領域ＬＳＡ１に接し、円環の形状を持っている。第２入射光制御領域ＴＡ２は、入射光制御領域ＰＣＡの中心に位置し、円形の形状を持っている。第２遮光領域ＬＳＡ２は、第２入射光制御領域ＴＡ２に接して第２入射光制御領域ＴＡ２を囲んでおり、円環の形状を持っている。第３遮光領域ＬＳＡ３は、第１入射光制御領域ＴＡ１で囲まれ、第１入射光制御領域ＴＡ１に接し、円環の形状を持っている。第３入射光制御領域ＴＡ３は、第３遮光領域ＬＳＡ３で囲まれ、第３遮光領域ＬＳＡ３及び第２遮光領域ＬＳＡ２に接し、円環の形状を持っている。

　入射光制御領域ＰＣＡにおいて、遮光層ＢＭは、第１遮光部ＢＭ１と、第１開口ＯＰ１と、第２遮光部ＢＭ２と、第２開口ＯＰ２と、第３遮光部ＢＭ３と、第３開口ＯＰ３と、を備えている。第１遮光部ＢＭ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、円環の形状を持っている。第２遮光部ＢＭ２は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、円環の形状を持っている。第３遮光部ＢＭ３は、第３遮光領域ＬＳＡ３に位置し、円環の形状を持っている。

　第１遮光部ＢＭ１、第２遮光部ＢＭ２、及び第３遮光部ＢＭ３の各々の遮光部を、環状遮光部と称することができる。

　第１開口ＯＰ１は、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置し、円環の形状を持っている。第２開口ＯＰ２は、第２入射光制御領域ＴＡ２に位置し、円形の形状を持っている。第３開口ＯＰ３は、第３入射光制御領域ＴＡ３に位置し、円環の形状を持っている。

　入射光制御領域ＰＣＡは、第１開口ＯＰ１に位置し後述する第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２が形成される第１環状入射光制御部と、第２開口ＯＰ２に位置し後述する第３制御電極構造ＲＥ３（第３制御電極ＲＬ３）及び第４制御電極構造ＲＥ４（第４制御電極ＲＬ４）が形成される円形入射光制御部と、第３開口ＯＰ３に位置し後述する第５制御電極ＲＬ５及び第６制御電極ＲＬ６が形成される第２環状入射光制御部と、を有している。

　上記第１環状入射光制御部において、外周は第１遮光部ＢＭ１に接し、内周は第３遮光部ＢＭ３に接している。円形入射光制御部の外周は、第２遮光部ＢＭ２に接している。第２環状入射光制御部において、外周は第３遮光部ＢＭ３に接し、内周は第２遮光部ＢＭ２に接している。

　本第１の実施形態において、入射光制御領域ＰＣＡは、第４遮光領域ＬＳＡ４及び第５遮光領域ＬＳＡ５をさらに備えている。第４遮光領域ＬＳＡ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２から第３遮光領域ＬＳＡ３まで第１延在方向ｄ１に直線状に延在している。第５遮光領域ＬＳＡ５は、第３遮光領域ＬＳＡ３から第１遮光領域ＬＳＡ１まで第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、第１延在方向ｄ１に第４遮光領域ＬＳＡ４と揃っている。上記のことから、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第３入射光制御領域ＴＡ３は、それぞれ、実質的にＣ形の形状を持っている。

　本第１の実施形態において、遮光層ＢＭは、第４遮光部ＢＭ４と、第５遮光部ＢＭ５と、をさらに備えている。第４遮光部ＢＭ４は、第４遮光領域ＬＳＡ４に位置し、第２遮光部ＢＭ２から第３遮光部ＢＭ３まで第１延在方向ｄ１に直線状に延在している。第５遮光部ＢＭ５は、第５遮光領域ＬＳＡ５に位置し、第３遮光部ＢＭ３から第１遮光部ＢＭ１まで第１延在方向ｄ１に直線状に延在している。

　第１遮光部ＢＭ１の外周円、第１入射光制御領域ＴＡ１の外周円、第２遮光部ＢＭ２の外周円、第２入射光制御領域ＴＡ２、第３遮光部ＢＭ３の外周円、及び第３入射光制御領域ＴＡ３の外周円は、同心円である。

　但し、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第４遮光領域ＬＳＡ４、第５遮光領域ＬＳＡ５、第４遮光部ＢＭ４、及び第５遮光部ＢＭ５無しに構成されてもよい。なぜなら、第４遮光部ＢＭ４及び第５遮光部ＢＭ５を設け無くても、後述する引き回し配線Ｌによる受光光量に与える影響は軽微であり、補正可能なレベルのためである。　
　また、液晶パネルＰＮＬは、第３遮光領域ＬＳＡ３、第３遮光部ＢＭ３、及び第３入射光制御領域ＴＡ３無しに構成されてもよい。その場合、第１入射光制御領域ＴＡ１が第２遮光領域ＬＳＡ２に接していればよい。

　本第１の実施形態において、入射光制御領域ＰＣＡの半径方向において、第１遮光部ＢＭ１の幅ＷＩ１は８００乃至９００μｍであり、第３遮光部ＢＭ３の幅ＷＩ３は３０乃至４０μｍであり、第２遮光部ＢＭ２の幅ＷＩ２は３０乃至４０μｍであり、第５遮光部ＢＭ５の幅ＷＩ５は６０乃至７０μｍであり、第４遮光部ＢＭ４の幅ＷＩ４は３０乃至４０μｍである。　
　幅ＷＩ１は、幅ＷＩ３及び幅ＷＩ２のそれぞれより大きい。第１遮光部ＢＭ１の外径から内径を引いた第１の幅は、第３遮光部ＢＭ３の外径から内径を引いた第２の幅よりも大きい。また、上記第１の幅は、第２遮光部ＢＭ２の外径から内径を引いた第３の幅よりも大きい。

　図９は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡの電極構造を示しており、複数の制御電極構造ＲＥ及び複数の引き回し配線Ｌを示す平面図である。図９及び図８に示すように、液晶パネルＰＮＬは、第１制御電極構造ＲＥ１、第２制御電極構造ＲＥ２、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、第１引き回し配線Ｌ１、第２引き回し配線Ｌ２、第３引き回し配線Ｌ３、第４引き回し配線Ｌ４、第５引き回し配線Ｌ５、及び第６引き回し配線Ｌ６を備えている。

　なお、図９は入射光制御領域ＰＣＡにおいて、電極がＩＰＳ（In-Plane-Switching）モードに対応した構成を有していることを示す概略図である。

　第１制御電極構造ＲＥ１は、第１給電配線ＣＬ１と、第１制御電極ＲＬ１と、を有している。　
　第１給電配線ＣＬ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、円環の形状を持つ第１配線ＷＬ１を含んでいる。本第１の実施形態において、第１配線ＷＬ１は、Ｃ形の形状を持ち、第２引き回し配線Ｌ２乃至第６引き回し配線Ｌ６が通る領域において分断して形成されている。

　複数の第１制御電極ＲＬ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第１入射光制御領域ＴＡ１に位置し、第１配線ＷＬ１に電気的に接続され、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。本第１の実施形態において、第１配線ＷＬ１及び第１制御電極ＲＬ１は、一体に形成されている。第１制御電極ＲＬ１は、第１配線ＷＬ１の内側に配置されている。　
　複数の第１制御電極ＲＬ１は、両端部で第１配線ＷＬ１と接続する第１制御電極ＲＬ１と、一方の端部で第１配線ＷＬ１と接続し、他方の端部は第１配線ＷＬ１と接続しない第１制御電極ＲＬ１と、を有している。

　第２制御電極構造ＲＥ２は、第２給電配線ＣＬ２と、第２制御電極ＲＬ２と、を有している。　
　第２給電配線ＣＬ２は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、円環の形状を持つ第２配線ＷＬ２を含んでいる。本第１の実施形態において、第２配線ＷＬ２は、Ｃ形の形状を持ち、第３引き回し配線Ｌ３乃至第６引き回し配線Ｌ６が通る領域において分断して形成されている。第２配線ＷＬ２は、第１配線ＷＬ１に隣接している。第２配線ＷＬ２の内径は、第１配線ＷＬ１の内径より小さい。本第１の実施形態において、第２配線ＷＬ２は、第１配線ＷＬ１より内側に位置しているが、第１配線ＷＬ１より外側に位置してもよい。

　複数の第２制御電極ＲＬ２は、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第１入射光制御領域ＴＡ１に位置し、第２配線ＷＬ２に電気的に接続され、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。本第１の実施形態において、第２配線ＷＬ２及び第２制御電極ＲＬ２は、一体に形成されている。第２制御電極ＲＬ２は、第２配線ＷＬ２の内側に配置されている。　
　複数の第２制御電極ＲＬ２は、両端部で第２配線ＷＬ２と接続する第２制御電極ＲＬ２と、一方の端部で第２配線ＷＬ２と接続し、他方の端部は第２配線ＷＬ２と接続しない第２制御電極ＲＬ２と、を有している。

　複数の第１制御電極ＲＬ１と、複数の第２制御電極ＲＬ２とは、直交方向ｄｃ１に交互に並べられている。

　第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第２入射光制御領域ＴＡ２に位置している。第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４は、それぞれ第１延在方向ｄ１に平行な辺を有する半円の形状で表示している。第３制御電極構造ＲＥ３の上記辺と、第４制御電極構造ＲＥ４の上記辺とは、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて位置している。なお、第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４は、概形を半円の形状で表しているが、詳細な構造については後述する。

　第５制御電極構造ＲＥ５は、第５給電配線ＣＬ５と、第５制御電極ＲＬ５と、を有している。　
　第５給電配線ＣＬ５は、第３遮光領域ＬＳＡ３に位置し、円環の形状を持つ第５配線ＷＬ５を含んでいる。本第１の実施形態において、第５配線ＷＬ５は、Ｃ形の形状を持ち、第４引き回し配線Ｌ４乃至第６引き回し配線Ｌ６が通る領域において分断して形成されている。

　複数の第５制御電極ＲＬ５は、第３遮光領域ＬＳＡ３及び第３入射光制御領域ＴＡ３に位置し、第５配線ＷＬ５に電気的に接続され、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。本第１の実施形態において、第５配線ＷＬ５及び第５制御電極ＲＬ５は、一体に形成されている。第５制御電極ＲＬ５は、第５配線ＷＬ５の内側に配置されている。　
　複数の第５制御電極ＲＬ５は、両端部で第５配線ＷＬ５と接続する第５制御電極ＲＬ５と、一方の端部で第５配線ＷＬ５と接続し、他方の端部は第５配線ＷＬ５と接続しない第５制御電極ＲＬ５と、を有している。

　第６制御電極構造ＲＥ６は、第６給電配線ＣＬ６と、第６制御電極ＲＬ６と、を有している。　
　第６給電配線ＣＬ６は、第３遮光領域ＬＳＡ３に位置し、円環の形状を持つ第６配線ＷＬ６を含んでいる。本第１の実施形態において、第６配線ＷＬ６は、Ｃ形の形状を持ち、第５引き回し配線Ｌ５及び第６引き回し配線Ｌ６が通る領域において分断して形成されている。第６配線ＷＬ６は、第５配線ＷＬ５に隣接している。第５配線ＷＬ５の内径は、第２配線ＷＬ２の内径より小さい。第６配線ＷＬ６の内径は、第５配線ＷＬ５の内径より小さい。本第１の実施形態において、第６配線ＷＬ６は、第５配線ＷＬ５より内側に位置しているが、第５配線ＷＬ５より外側に位置してもよい。

　複数の第６制御電極ＲＬ６は、第３遮光領域ＬＳＡ３及び第３入射光制御領域ＴＡ３に位置し、第６配線ＷＬ６に電気的に接続され、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。本第１の実施形態において、第６配線ＷＬ６及び第６制御電極ＲＬ６は、一体に形成されている。第６制御電極ＲＬ６は、第６配線ＷＬ６の内側に配置されている。　
　複数の第６制御電極ＲＬ６は、両端部で第６配線ＷＬ６と接続する第６制御電極ＲＬ６と、一方の端部で第６配線ＷＬ６と接続し、他方の端部は第６配線ＷＬ６と接続しない第６制御電極ＲＬ６と、を有している。

　複数の第５制御電極ＲＬ５と、複数の第６制御電極ＲＬ６とは、直交方向ｄｃ１に交互に並べられている。

　液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、横電界を利用する表示モードの一つであるＩＰＳ（In-Plane-Switching）モードに対応した構成を有している。上述した第１制御電極ＲＬ１乃至第６制御電極ＲＬ６は、それぞれ、前述したＦＦＳモードに対応した画素電極ＰＥの形状と異なる形状を有している。

　第１制御電極ＲＬ１と第２制御電極ＲＬ２とに代表されるように、交互に配置された制御電極に電圧が供給され、電極間に生じた電位差により液晶分子が駆動される。例えば、表示領域ＤＡから配線を延長して、第１制御電極ＲＬ１に画素電極と同様の映像信号を供給し、第２制御電極ＲＬ２に共通電極と同様のコモン電圧を供給することが可能である。また、第１制御電極ＲＬ１にコモン電圧に対して正極性の信号を供給し、第２制御電極ＲＬ２に負極性の信号を供給することも可能である。

　入射光制御領域ＰＣＡにおいて、上述した配向膜ＡＬ１，ＡＬ２は方向Ｙに平行な配向軸ＡＡを有している。すなわち、配向膜ＡＬ１，ＡＬ２の配向軸ＡＡは、表示領域ＤＡと入射光制御領域ＰＣＡとで平行である。入射光制御領域ＰＣＡにおいて、配向膜ＡＬ１の配向方向ＡＤ１は方向Ｙと平行であり、配向膜ＡＬ２の配向方向ＡＤ２は配向方向ＡＤ１と平行である。

　液晶層ＬＣに電圧が印加されていない状態において、表示領域ＤＡの液晶分子の初期配向方向と、入射光制御領域ＰＣＡの液晶分子の初期配向方向とは、同一である。上記線状画素電極（線状表示電極）ＰＡと、制御電極ＲＬとは、平行に延在している。本第１の実施形態のＸ－Ｙ平面において、第１延在方向ｄ１及び第２延在方向ｄ２は、それぞれ方向Ｙに対して１０°傾斜している。そのため、表示領域ＤＡと入射光制御領域ＰＣＡとで、液晶分子の回転方向を揃えることが可能である。なお、線状画素電極ＰＡで傾斜について説明した。但し、上述したことは、線状画素電極ＰＡで傾斜を共通電極のスリットの傾きに置き換えた場合でも同様である。

　図１０は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す断面図である。図１０において、信号線Ｓ及び走査線Ｇなどの図示を省略している。図１０に示すように、絶縁層１３は、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、第２制御電極ＲＬ２、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５配線ＷＬ５、第５制御電極ＲＬ５、第６配線ＷＬ６、第６制御電極ＲＬ６のうちの一以上の導体と、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、第２制御電極ＲＬ２、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５配線ＷＬ５、第５制御電極ＲＬ５、第６配線ＷＬ６、第６制御電極ＲＬ６のうちの残りの導体と、で挟まれている。

　上記一以上の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの一方の電極と同一層に設けられ、上記一方の電極と同一材料で形成されている。上記残りの導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの他方の電極と同一層に設けられ、上記他方の電極と同一材料で形成されている。

　本第１の実施形態において、第２配線ＷＬ２、第２制御電極ＲＬ２、第４制御電極構造ＲＥ４、第６配線ＷＬ６、及び第６制御電極ＲＬ６は、絶縁層１２の上に設けられ、絶縁層１３で覆われている。第２配線ＷＬ２、第２制御電極ＲＬ２、第４制御電極構造ＲＥ４、第６配線ＷＬ６、及び第６制御電極ＲＬ６は、共通電極ＣＥと同一層に設けられ、共通電極ＣＥと同一の透明な導電材料で形成されている。

　第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第３制御電極構造ＲＥ３、第５配線ＷＬ５、及び第５制御電極ＲＬ５は、絶縁層１３の上に設けられ、配向膜ＡＬ１で覆われている。第１制御電極ＲＬ１、第３制御電極構造ＲＥ３、第５配線ＷＬ５、及び第５制御電極ＲＬ５は、画素電極ＰＥと同一層に設けられ、画素電極ＰＥと同一の透明な導電材料で形成されている。　
　例えば、絶縁層１３は、第１制御電極ＲＬ１（第１制御電極構造ＲＥ１）と第２制御電極ＲＬ２（第２制御電極構造ＲＥ２）とで挟まれている。

　入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、第１延在方向ｄ１に延在している。第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、金属で形成されている。例えば、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、上記金属層ＭＬと同一層に位置し、上記金属層ＭＬと同一の金属で形成されている。

　第１引き回し配線Ｌ１は、第１配線ＷＬ１（第１給電配線ＣＬ１）に電気的に接続されている。第２引き回し配線Ｌ２は、第１配線ＷＬ１の分断部を通り、第２配線ＷＬ２（第２給電配線ＣＬ２）に電気的に接続されている。

　第３引き回し配線Ｌ３は、第１配線ＷＬ１、第２配線ＷＬ２、第５配線ＷＬ５、及び第６配線ＷＬ６のそれぞれの分断部と、第１引き回し配線Ｌ１及び第２引き回し配線Ｌ２の間と、を通り、第３制御電極構造ＲＥ３に電気的に接続されている。第４引き回し配線Ｌ４は、第１配線ＷＬ１、第２配線ＷＬ２、第５配線ＷＬ５、及び第６配線ＷＬ６のそれぞれの分断部と、第２引き回し配線Ｌ２及び第３引き回し配線Ｌ３の間と、を通り、第４制御電極構造ＲＥ４に電気的に接続されている。

　第５引き回し配線Ｌ５は、第１配線ＷＬ１及び第２配線ＷＬ２のそれぞれの分断部と、第２引き回し配線Ｌ２及び第４引き回し配線Ｌ４の間と、を通り、第５配線ＷＬ５（第５給電配線ＣＬ５）に電気的に接続されている。第６引き回し配線Ｌ６は、第１配線ＷＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第５配線ＷＬ５のそれぞれの分断部と、第１引き回し配線Ｌ１及び第３引き回し配線Ｌ３の間と、を通り、第６配線ＷＬ６（第６給電配線ＣＬ６）に電気的に接続されている。

　第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、束ねられ、表示領域ＤＡにおいて一の遮光部（ＢＭＡ２）で覆われた領域を延在している。但し、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は束ねられていなくともよく、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６の各々は、表示領域ＤＡにおいて、遮光部ＢＭＡ１及び遮光部ＢＭＡ２の少なくとも一を延在していればよい。

　なお、第１給電配線ＣＬ１、第２給電配線ＣＬ２、第５給電配線ＣＬ５、第６給電配線ＣＬ６、及び第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、透明な導電層及び金属層の積層体で構成されてもよい。

　図７を用いて説明したように、表示領域ＤＡの画素電極ＰＥと共通電極ＣＥは透明な導電材料（透明導電膜）で形成されており、画素ＰＸは異なる２層の透明導電膜を有している。後述するように、第１配線ＷＬ１乃至第６配線ＷＬ６は、２層の透明導電膜の一方の透明導電膜で形成され、第１制御電極ＲＬ１乃至第６制御電極ＲＬ６は他方の透明導電膜で形成し、第１制御電極ＲＬ１乃至第６制御電極ＲＬ６を同層に形成することが可能である。なお、第１配線ＷＬ１乃至第６配線ＷＬ６は透明導電膜と金属膜の多層膜で形成することも可能である。

　入射光制御領域ＰＣＡにおいて、配向膜ＡＬ１は、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、第２制御電極ＲＬ２、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５配線ＷＬ５、第５制御電極ＲＬ５、第６配線ＷＬ６、第６制御電極ＲＬ６を覆い、液晶層ＬＣに接している。

　ここで、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２の直交方向ｄｃ１のピッチをピッチｐｉ１とし、第５制御電極ＲＬ５及び第６制御電極ＲＬ６の直交方向ｄｃ１のピッチをピッチｐｉ２とする。別の言い方をすると、ピッチｐｉ１は、第１制御電極ＲＬ１の中心と第２制御電極ＲＬ２の中心との直交方向ｄｃ１のピッチである。ピッチｐｉ２は、第５制御電極ＲＬ５の中心と第６制御電極ＲＬ６の中心との直交方向ｄｃ１のピッチである。

　ピッチｐｉ１及びピッチｐｉ２は、それぞれ一定でもよいが、それぞれランダムに設定されている方が望ましい。これにより、ピッチｐｉ１，ｐｉ２を一定にした場合に生じる光の干渉を防止することができる。

　第２基板ＳＵＢ２において、カラーフィルタＣＦは入射光制御領域ＰＣＡに設けられていない。　
　液晶層ＬＣは、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置した第１制御液晶層ＬＣ１と、第２入射光制御領域ＴＡ２に位置した第２制御液晶層ＬＣ２と、第３入射光制御領域ＴＡ３に位置した第３制御液晶層ＬＣ３と、を有している。

　第１制御液晶層ＬＣ１には、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２によって生じる電圧が印加される。第２制御液晶層ＬＣ２には、第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４によって生じる電圧が印加される。第３制御液晶層ＬＣ３には、第５制御電極ＲＬ５及び第６制御電極ＲＬ６によって生じる電圧が印加される。

　本第１の実施形態において、複数の第１制御電極ＲＬ１と複数の第２制御電極ＲＬ２との間に生じる電圧（電界）は、第１制御液晶層ＬＣ１に印加される。第３制御電極構造ＲＥ３と第４制御電極構造ＲＥ４との間に生じる電圧（電界）は、第２制御液晶層ＬＣ２に印加される。複数の第５制御電極ＲＬ５と複数の第６制御電極ＲＬ６との間に生じる電圧（電界）は、第３制御液晶層ＬＣ３に印加される。

　第１制御電極構造ＲＥ１に第１引き回し配線Ｌ１を介して第１制御電圧が与えられ、第２制御電極構造ＲＥ２に第２引き回し配線Ｌ２を介して第２制御電圧が与えられ、第３制御電極構造ＲＥ３に第３引き回し配線Ｌ３を介して第３制御電圧が与えられ、第４制御電極構造ＲＥ４に第４引き回し配線Ｌ４を介して第４制御電圧が与えられ、第５制御電極構造ＲＥ５に第５引き回し配線Ｌ５を介して第５制御電圧が与えられ、第６制御電極構造ＲＥ６に第６引き回し配線Ｌ６を介して第６制御電圧が与えられる。

　第１制御電圧、第３制御電圧、及び第５制御電圧は、画像信号及びコモン電圧の一方と電圧レベルが同一であってもよく、第２制御電圧、第４制御電圧、及び第６制御電圧は、画像信号及びコモン電圧の他方と電圧レベルが同一であってもよい。　
　又は、第１制御電圧、第３制御電圧、及び第５制御電圧は、コモン電圧に対して第１極性の電圧レベルを有してもよく、第２制御電圧、第４制御電圧、及び第６制御電圧は、コモン電圧に対して第２極性の電圧レベルを有してもよい。なお、上記第１極性及び上記第２極性において、一方は正極性であり、他方は負極性である。

　入射光制御領域ＰＣＡを絞りＤＰとして説明するにあたり、絞りＤＰの開口の状態について定義する。液晶表示装置ＤＳＰは、第１条件での駆動により、絞りＤＰを最大に開いた状態（開放状態）に設定する。液晶表示装置ＤＳＰは、第２条件での駆動により、絞りＤＰを最小に絞った状態に設定する。液晶表示装置ＤＳＰは、第３条件での駆動により、絞りＤＰを最大に開いた状態と最小に絞った状態の中間の状態に設定する。液晶表示装置ＤＳＰは、第４条件での駆動により、絞りＤＰを閉じた状態に設定する。

　前述したように、入射光制御領域ＰＣＡは、外側から中心に向けて、第１入射光制御領域ＴＡ１と、第３入射光制御領域ＴＡ３と、第２入射光制御領域ＴＡ２と、を備えており、第１条件乃至第４条件に対応する第１入射光制御領域ＴＡ１、第３入射光制御領域ＴＡ３、第２入射光制御領域ＴＡ２の透過状態／非透過状態は以下のようになる。

　例えば、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３が第１条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３を透過状態に設定する。　
　第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３が第２条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に設定する。

　第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３が第３条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第３入射光制御領域ＴＡ３及び第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に設定する。

　第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３が第４条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１、第３入射光制御領域ＴＡ３、及び第２入射光制御領域ＴＡ２を非透過状態に設定する。ここで、非透過状態とは、遮光状態、又は上記透過状態より透過率の低い状態を言う。

　上述したことから、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡは、カメラ１の絞りを構成している。そのため、絞りを開いたり（第１条件）、絞りを絞ったり（第３条件）、絞りをさらに絞ったり（第２条件）、絞りを閉じたり（第４条件）、することができ、焦点深度を変えてカメラ１で撮影することができる。液晶パネルＰＮＬは、絞りを同心円状に、開いたり、絞ったり、することができる。言い換えると、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、同心円状に光透過領域を制御することができる。

　第２条件における絞りは、カメラ１に入射する光量を調整するピンホールとして機能することができる。カメラ１と被写体の距離が数ｃｍの場合にカメラ１の解像力が向上し、被写体と至近距離における鮮明な写真を撮影することができる。被写体とカメラ１が近接した撮影の一例として、指紋認証のために指紋を撮影することができる。また、光量の多い場合においても、ピンホールを用いた撮影は有効である。

　上記のように構成された第１の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、入射光制御領域ＰＣＡの光透過領域を制御可能な液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００を得ることができる。

　（第２の実施形態）
　次に、本第２の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第２の実施形態で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図１１は、本第２の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの一部及びカメラ１を示す図であり、液晶パネルＰＮＬ及びカメラ１を示す平面図と、液晶パネルＰＮＬ及びカメラ１を示す断面図とを併せて示す図である。図中、カメラ１に関しては外形を示している。遮光層ＢＭは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて第１遮光部ＢＭ１のみ示している。

　図１１に示すように、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、同心円状に光透過領域を切替える絞りＤＰを構成している。絞りＤＰはカメラ１の手前に位置し、絞りＤＰを通った光がカメラ１に入射する。液晶パネルＰＮＬの透過光量を制御する機能を用いることで、絞りＤＰはカメラ１に入射する光量を制御することができる。後述するように、絞りＤＰの外径は光学系２（カメラ１）の有効開口ＥＡの直径ＤＩ２より定められ、第１遮光部ＢＭ１の内径ＤＩ１は、光学系２（カメラ１）の有効開口ＥＡの直径ＤＩ２よりも大きい。絞りＤＰの外周の外側には、不要な光を遮光するために第１遮光部ＢＭ１が形成される。以後、境界が明確であることから、絞りＤＰの外周を第１遮光部ＢＭ１の内周Ｉ１で説明する。絞りＤＰは、第１遮光部ＢＭ１の内周Ｉ１より内側を遮光することで、カメラ１に入射する光の量を増減することが可能である。幅ＷＩ１を持つ第１遮光部ＢＭ１は、有効開口ＥＡを取り囲み、カメラ１の周辺の表示に使用されない第１遮光領域ＬＳＡ１を覆っている。

　図１２は、本第２の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの一部、照明装置ＩＬの一部、及びカメラ１を示す断面図である。　
　液晶パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１、第２基板ＳＵＢ２、液晶層ＬＣ、偏光板ＰＬ１、偏光板ＰＬ２などを備えている。図中、液晶層ＬＣを第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間の線で示している。

　照明装置ＩＬは、上記光源ＥＭ１からの光を平面光として出射させる導光体ＬＧ１、導光体ＬＧ１からの光を液晶パネルＰＮＬ側へ反射する光反射シートＲＳ、導光体ＬＧ１からの光の向きを制御する光学シートなどを有している。上記光学シートは、例えば、光拡散シートＳＳと、プリズムシートＰＳとを含んでいる。プリズムシートＰＳは、図２に示したプリズムシートＰＳ１及びプリズムシートＰＳ２を含んでもよい。

　照明装置ＩＬには、カメラ１を配置する開口ＩＬＯが形成され、導光体ＬＧ１等と開口ＩＬＯの間には遮光壁ＣＳ２が配置されている。遮光壁ＣＳ２には、プリズムシートＰＳを固定するための粘着テープＴＰ１が張り付けられている。粘着テープＴＰ１は、遮光壁ＣＳ２近傍の不要な光を遮蔽する機能も有している。また、照明装置ＩＬは、照明装置ＩＬの周辺部に位置し導光体ＬＧ１等を収納する樹脂枠ＦＲを有している。　
　カメラ１は液晶パネルＰＮＬの端部近傍に配置されている。

　次に、カメラ１の有効開口ＥＡに入射する光の角度について説明する。ここでは、図１２に示したように、光学系２（カメラ１）の中心軸ＡＸ１と、中心軸ＡＸ１に直交する直交軸ＡＸ２と、を含む仮想平面上において、定義しつつ説明する。

　光学系２の有効開口ＥＡの最外周上の点を第１点Ｐ１とする。第１点Ｐ１を通る直線を第１基準線ＲＦ１とする。有効開口ＥＡの最外周上の別の点を第３点Ｐ３とする。第３点Ｐ３を通る直線を第２基準線ＲＦ２とする。第１点Ｐ１と、中心軸ＡＸ１と、第３点Ｐ３と、を通る直線を第３基準線ＲＦ３とする。第１基準線ＲＦ１と第２基準線ＲＦ２とが交わる点を第５点Ｐ５とする。中心軸ＡＸ１と第３基準線ＲＦ３とが交差する点を第６点Ｐ６とする。

　第６点Ｐ６は、有効開口ＥＡの中心でもある。中心軸ＡＸ１は、第３基準線ＲＦ３と直交している。また、中心軸ＡＸ１は、有効開口ＥＡが形成する面に対する垂線で、一般にカメラ１（光学系２）の光軸である。第１基準線ＲＦ１及び第２基準線ＲＦ２は、カメラ１の焦点距離や上述した撮像面３ａの大きさによって決まる撮像に用いられる光束の最外周光線の光路でもある。

　有効開口ＥＡは中心軸ＡＸ１に対して円対称である。中心軸ＡＸ１は第５点Ｐ５を通っている。第１基準線ＲＦ１と中心軸ＡＸ１とは、角度θで交差している。第２基準線ＲＦ２と中心軸ＡＸ１とも、角度θで交差している。なお、カメラ１によっては角度θの２倍である角度２θが画角である。　
　遮光壁ＣＳ２は、第３基準線ＲＦ３に平行な方向にカメラ１と隣合っている。遮光壁ＣＳ２は、カメラ１と導光体ＬＧ１と間に位置し筒状の形状を持っている。

　次に、第３距離ＤＴ３と、内径ＤＩ１と、について説明する。ここで、第３距離ＤＴ３は、第５点Ｐ５から遮光層ＢＭの開口（第２開口ＯＰ２）までの中心軸ＡＸ１上の直線距離である。図１３は、本第２の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの一部、照明装置ＩＬの一部、及びカメラ１を示す他の断面図である。ここでも、中心軸ＡＸ１及び直交軸ＡＸ２を含む仮想平面上において、定義しつつ説明する。

　図１３に示すように、第１点Ｐ１に近接する第１遮光部ＢＭ１の内周Ｉ１上の点を第２点Ｐ２とする。第３点Ｐ３に近接する第１遮光部ＢＭ１の内周Ｉ１上の点を第４点Ｐ４とする。第１基準線ＲＦ１は、第１点Ｐ１と、第２点Ｐ２と、を通る直線である。第２基準線ＲＦ２は、第３点Ｐ３と、第４点Ｐ４と、を通る直線である。

　第２点Ｐ２よりも外側（図中右側）からカメラ１に向かう光で、中心軸ＡＸ１に対して角度θ以下の角度で交差する光は、有効開口ＥＡの外側を通るため有効開口ＥＡに入射しない。また、第４点Ｐ４よりも外側（図中左側）からカメラ１に向かう光で、中心軸ＡＸ１に対して角度θ以下の角度で交差する光は、有効開口ＥＡに入射しない。第２点Ｐ２より右側及び第４点Ｐ４より左側に上記第１入射光制御領域（ＴＡ１）が位置しても、有効開口ＥＡに入射する光の量に影響が小さい。

　従って、第１基準線ＲＦ１に代表される、中心軸ＡＸ１に対して角度θで交差し、有効開口ＥＡの最外周を通過する線と、液晶層ＬＣとが交差する点によって形成される円周が絞りＤＰの実効最大内径となる。

　なお、液晶層ＬＣ単体では遮光の機能が無く、遮光するためには、液晶層ＬＣ、偏光板ＰＬ１、偏光板ＰＬ２などの機能が組み合わされる必要があり、厳密には液晶層ＬＣが絞りＤＰではないが、液晶層ＬＣに絞りＤＰが形成されるものと考え、さらに、境界が明確であることから、第１遮光部ＢＭ１が形成される平面内で、第１遮光部ＢＭ１の開口の内側が絞りＤＰを示すものとして説明する。なお、図７に示すように、液晶層ＬＣと遮光層ＢＭとの間には、カラーフィルタＣＦ及び透明層ＯＣ、配向膜ＡＬ２が存在するが、それらの層の厚みの合計は数μｍであるので、液晶層ＬＣと遮光層ＢＭとは同一平面にあるものとして説明する。幅ＷＩ１を持つ第１遮光部ＢＭ１は、入射光制御領域ＰＣＡの外周近傍の不要な光を遮光している。そのため、内周Ｉ１を絞りＤＰの最外周として考えることも可能である。

　さらに、最外周光線の光路を、第１基準線ＲＦ１上、及び第２基準線ＲＦ２上と考えることも可能である。すなわち最外周光線の光路は、絞りＤＰとして機能する構成の最外周と、カメラ１の有効開口ＥＡの最外周とを結ぶ線である。

　中心軸ＡＸ１上にて遮光層ＢＭの開口（第２開口ＯＰ２）に位置する点を第７点Ｐ７とする。第５点Ｐ５、第２点Ｐ２、及び第７点Ｐ７により形成される三角形、及び第５点Ｐ５、第４点Ｐ４、及び第７点Ｐ７により形成される三角形にそれぞれ注目すると、次の関係が成り立つ。　
　ＤＩ１／２＝ＤＴ３×ｔａｎθ
　第５点Ｐ５から第７点Ｐ７までの第３距離ＤＴ３が長くなるに従い、第１遮光部ＢＭ１の内径ＤＩ１も長くなる。従って、内径ＤＩ１を小さくしたい場合は、液晶パネルＰＮＬにカメラ１を近づける必要がある。

　遮光壁ＣＳ２で囲まれた領域の内部から液晶パネルＰＮＬには照明装置ＩＬからの光は照射されない。そのため、第１遮光領域ＬＳＡ１（第２点Ｐ２から粘着テープＴＰ１の光照射領域側の端部ＥＮ１までの幅ＷＩ１で示される範囲、及び第４点Ｐ４から粘着テープＴＰ１の光照射領域側の端部ＥＮ２までの幅ＷＩ１で示される範囲）には、第１遮光部ＢＭ１が配置されている。なぜなら、第１遮光領域ＬＳＡ１は、絞りＤＰにも表示にも利用されない領域となるためである。

　表示領域ＤＡをなるべく広く形成するためには、第１遮光部ＢＭ１をなるべく小さくする必要がある。カメラ１を液晶パネルＰＮＬに近接させることで、内径ＤＩ１を小さくすることができ、第１遮光部ＢＭ１で囲まれる領域を小さくすることが可能である。

　次に、第１遮光部ＢＭ１の内径ＤＩ１と、カメラ１の有効開口ＥＡの直径ＤＩ２と、の関係について説明する。図１４は、本第２の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの一部及びカメラ１を示す断面図である。なお、図を簡潔にするため、液晶パネルＰＮＬにおいて、第１遮光部ＢＭ１を実線で示し、第１遮光部ＢＭ１の開口内の液晶層ＬＣを破線で示している。ここでも、中心軸ＡＸ１及び直交軸ＡＸ２を含む仮想平面上において、定義しつつ説明する。

　図１４に示すように、第５点Ｐ５から第６点Ｐ６までの中心軸ＡＸ１上の直線距離を第１距離ＤＴ１とする。第６点Ｐ６から第７点Ｐ７（遮光層ＢＭの開口）までの中心軸ＡＸ１上の直線距離を第２距離ＤＴ２とする。内径ＤＩ１及び直径ＤＩ２は、それぞれ次の関係式で求めることができる。　
　ＤＩ１／２＝ＤＴ３×ｔａｎθ　
　ＤＩ２／２＝ＤＴ１×ｔａｎθ
　上記の関係式から、次の関係が成り立つ。　
　ＤＩ１／ＤＩ２＝ＤＴ３／ＤＴ１　
　例えば、内径ＤＩ１を直径ＤＩ２の２倍以下としたい場合は、第１距離ＤＴ１よりも第２距離ＤＴ２（ＤＴ３－ＤＴ１）を短くする必要がある。

　なお、図１４においては、絞りＤＰを開いた場合について説明した（第１条件）。そのため、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３の全ては透過状態に設定されている（図８）。

　次に、絞りＤＰを絞った場合について説明する（第３条件）。そのため、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第３入射光制御領域ＴＡ３は透過状態に設定され、第１入射光制御領域ＴＡ１は非透過状態に設定されている（図８）。図１５は、本第２の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの一部及びカメラ１を示す他の断面図である。なお、図を簡潔にするため、液晶パネルＰＮＬにおいて、第１遮光部ＢＭ１及び第３遮光部ＢＭ３を実線で示し、第１遮光部ＢＭ１及び第３遮光部ＢＭ３以外の液晶層ＬＣを破線で示している。ここでも、中心軸ＡＸ１及び直交軸ＡＸ２を含む仮想平面上において、定義しつつ説明する。

　図１５に示すように、絞りＤＰの開口を小さくしてカメラ１に入射する光を絞った場合、中心軸ＡＸ１に対して大きな角度で交差する斜入射光が、中心軸ＡＸ１に対して小さな角度で交差する入射光に対して減少する。そのため、カメラ１の撮像の周辺部の光量が減少する問題がある。

　そこで、上記斜入射光を極端に減少しなくするための、第３遮光部ＢＭ３の内径ＤＩ３について検討する。ここで、第２基準線ＲＦ２に平行で、第１点Ｐ１を通る直線を第４基準線ＲＦ４とする。第１基準線ＲＦ１に平行で、第３点Ｐ３を通る直線を第５基準線ＲＦ５とする。第４基準線ＲＦ４と遮光層ＢＭとが交差する点を第８点Ｐ８とする。第５基準線ＲＦ５と遮光層ＢＭとが交差する点を第９点Ｐ９とする。

　第４基準線ＲＦ４に注目すると、中心軸ＡＸ１に対して角度θで交差する光（斜光線ＯＬ１）の内で、第４基準線ＲＦ４よりも有効開口ＥＡに対して外側の光は、有効開口ＥＡに入射しない。そのため、第８点Ｐ８よりも外側（図中右側）を遮光しても、斜光線ＯＬ１の増減は無い。そこで、第３遮光部ＢＭ３の内周Ｉ３は、第８点Ｐ８に位置している。

　同様に、第５基準線ＲＦ５に注目すると、中心軸ＡＸ１に対して角度θで交差する光（斜光線ＯＬ２）の内で、第５基準線ＲＦ５よりも有効開口ＥＡに対して外側の光は、有効開口ＥＡに入射しない。そのため、第９点Ｐ９よりも外側（図中左側）を遮光しても、斜光線ＯＬ２の増減は無い。そこで、第３遮光部ＢＭ３の内周Ｉ３は、他方で、第９点Ｐ９に位置している。但し、第９点Ｐ９よりも外側を遮光すると、斜光線ＯＬ１の内で第９点Ｐ９よりも外側の光が遮光されることになる。　
　カメラ１の撮像の周辺部の光量が極端に減少することのないように、第３遮光部ＢＭ３の内径ＤＩ３は、第８点Ｐ８と第９点Ｐ９との間の距離と一致している。

　次に、絞りＤＰを絞った場合における内周Ｉ３の内側の面積ついて説明する（第３条件）。図１６は、本第２の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの一部及びカメラ１の位置を示す断面図である。なお、図を簡潔にするため、液晶パネルＰＮＬにおいて、第１遮光部ＢＭ１及び第３遮光部ＢＭ３を実線で示し、第１遮光部ＢＭ１及び第３遮光部ＢＭ３以外の液晶層ＬＣを破線で示している。ここでも、中心軸ＡＸ１及び直交軸ＡＸ２を含む仮想平面上において、定義しつつ説明する。

　図１６に示すように、第１点Ｐ１を通り中心軸ＡＸ１に平行な直線を第６基準線ＲＦ６とする。第３点Ｐ３を通り中心軸ＡＸ１に平行な直線を第７基準線ＲＦ７とする。第６基準線ＲＦ６と液晶層ＬＣとが交差する点を第１０点Ｐ１０とする。第７基準線ＲＦ７と液晶層ＬＣとが交差する点を第１１点Ｐ１１とする。

　第４基準線ＲＦ４は中心軸ＡＸ１と角度θで交差するので、第１点Ｐ１、第８点Ｐ８、及び第１０点Ｐ１０を頂点とする三角形と、第５点Ｐ５、第１点Ｐ１、及び第６点Ｐ６を頂点とする三角形とは、相似となる。なお、第５基準線ＲＦ５も中心軸ＡＸ１と角度θで交差するので、第３点Ｐ３、第９点Ｐ９、及び第１１点Ｐ１１を頂点とする三角形と、第５点Ｐ５、第３点Ｐ３、及び第６点Ｐ６を頂点とする三角形とは、相似となる。

　第１点Ｐ１と第１０点Ｐ１０との間の直線距離は、第２距離ＤＴ２である。また、第８点Ｐ８と第１０点Ｐ１０との間の直線距離、及び第９点Ｐ９と第１１点Ｐ１１との間の直線距離を、それぞれ距離ＤＴ４／２とする。距離ＤＴ４／２の２倍の直線距離を第４距離ＤＴ４とする。すると、
　ＤＴ４／ＤＴ２＝ＤＩ２／ＤＴ１の関係が成り立ち、
　ＤＴ４＝ＤＩ２×（ＤＴ２／ＤＴ１）となる。

　ＤＴ４＝ＤＩ２－ＤＩ３の関係より、
　ＤＩ２×（ＤＴ２／ＤＴ１）＝ＤＩ２－ＤＩ３となり、
　ＤＩ２（１－ＤＴ２／ＤＴ１）＝ＤＩ３となり、
　ＤＩ３／ＤＩ２＝１－（ＤＴ２／ＤＴ１）の関係が成り立つ。

　第２距離ＤＴ２を第１距離ＤＴ１の５０％にした場合、
　ＤＩ３／ＤＩ２＝０．５となる。　
　この場合、半径が５０％になるので、第３遮光部ＢＭ３の内周Ｉ３の内側の面積は、有効開口ＥＡの面積の０．２５％となる。

　さらに、第２距離ＤＴ２を第１距離ＤＴ１の６０％にした場合、
　ＤＩ３＝０．４×ＤＩ２となり、内周Ｉ３の内側の面積は、有効開口ＥＡの面積の０．１６％となる。

　なお、
　ＤＴ４＝ＤＩ２×（ＤＴ２／ＤＴ１）の関係が成り立つので、ＤＴ２＝ＤＴ１の場合に、ＤＴ４＝ＤＩ２となり、内周Ｉ３の内側の面積は０となる。そのため、内周Ｉ３の内側の開口を実現させるためには、第１距離ＤＴ１を第２距離ＤＴ２より長くする必要がある（ＤＴ１＞ＤＴ２）。

　次に、第１遮光部ＢＭ１の内径ＤＩ１と、第３遮光部ＢＭ３の内径ＤＩ３との関係について説明する。図１７は、本第２の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの一部及びカメラの位置を示す他の断面図である。なお、図を簡潔にするため、液晶パネルＰＮＬにおいて、第１遮光部ＢＭ１及び第３遮光部ＢＭ３を実線で示し、第１遮光部ＢＭ１及び第３遮光部ＢＭ３以外の液晶層ＬＣを破線で示している。ここでも、中心軸ＡＸ１及び直交軸ＡＸ２を含む仮想平面上において、定義しつつ説明する。

　図１７に示すように、第１点Ｐ１、第８点Ｐ８、及び第１０点Ｐ１０を頂点とする三角形と、第５点Ｐ５、第２点Ｐ２、及び第７点Ｐ７を頂点とする三角形とは、相似となる。なお、第３点Ｐ３、第９点Ｐ９、及び第１１点Ｐ１１を頂点とする三角形と、第５点Ｐ５、第４点Ｐ４、及び第７点Ｐ７を頂点とする三角形とは、相似となる。

　上記のことから、
　ＤＴ４／ＤＴ２＝ＤＩ１／ＤＴ３の関係が成り立ち、ＤＴ４＝（ＤＩ１×ＤＴ２）／ＤＴ３となる。

　ＤＩ３＝ＤＩ１－（２×ＤＴ４）の関係より、
　ＤＩ３＝ＤＩ１－（２×ＤＩ１×ＤＴ２）／ＤＴ３となり、
　ＤＩ３／ＤＩ１＝１－（２×ＤＴ２）／ＤＴ３の関係が成り立つ。

　例えば、第２距離ＤＴ２が第３距離ＤＴ３の２５％の場合、
　ＤＩ３＝０．５×ＤＩ１となる。　
　また、第２距離ＤＴ２が第１距離ＤＴ１の５０％の場合、第３距離ＤＴ３は第１距離ＤＴ１の１５０％となる。第２距離ＤＴ２は第３距離ＤＴ３の１／３となるため、
　ＤＩ３＝ＤＩ１／３となる。

　図１８は、本第２の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ及びカメラ１を示す平面図である。図中、液晶パネルＰＮＬは手前に位置し、カメラ１は奥に位置している。ここでは、第３遮光部ＢＭ３の内径ＤＩ３を、第１遮光部ＢＭ１の内径ＤＩ１の１／３とした場合を示している。

　図１８に示すように、例えば、内径ＤＩ１が１．８ｍｍである場合、内径ＤＩ３は０．６ｍｍである。図８にも示したが、第３遮光部ＢＭ３の内周Ｉ３の内側に、第２遮光部ＢＭ２で囲まれた第２開口ＯＰ２（第２入射光制御領域ＴＡ２）が設けられている。第２開口ＯＰ２は、例えば、ピンホール撮影に用いられる直径０．２ｍｍの開口である。そのため、図８に示した第２遮光部ＢＭ２の内径ＤＩ４は、０．２ｍｍとなる。第２開口ＯＰ２は、比較的小さな開口である。そのため、第２開口ＯＰ２を通過する光を用いて液晶パネルＰＮＬとカメラ１との位置合わせを行うことが可能である。

　次に、液晶パネルＰＮＬとカメラ１との位置合わせについて説明する。図１９は、本第２の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの一部、照明装置ＩＬの一部、及びカメラ１を示す断面図である。　
　図１９に示すように、光は、絞りＤＰによって限られた面積の開口からカメラ１に入射する。そのため、入射光制御領域ＰＣＡの中心が光学系２の中心軸ＡＸ１からずれると、撮像面３ａに必要とされる光が届かなくなる問題がある。そのため、入射光制御領域ＰＣＡの中心と中心軸ＡＸ１とを精度良く位置合わせする必要がある。

　従って、位置合わせの精度を高めるため、入射光制御領域ＰＣＡの開口のうち、最も開口の小さな第２開口ＯＰ２を用いている。すなわち、絞りＤＰをさらに絞り（第３条件）、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第２入射光制御領域ＴＡ２は透過状態に設定され、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３は非透過状態に設定されている（図８）。

　液晶パネルＰＮＬに垂直にレーザ光やＬＥＤの光等の平行光を照射することで、第２開口ＯＰ２（第２入射光制御領域ＴＡ２）を透過した光を撮像面３ａで検出することができる。そして、撮像面３ａのうち中心軸ＡＸ１が通る領域の光の強度に基づいて、入射光制御領域ＰＣＡの中心と中心軸ＡＸ１とが一致する度合いを測定し、位置合わせを行うことができる。

　入射光制御領域ＰＣＡの中心と中心軸ＡＸ１とを精度良く位置合わせすることが可能であれば、カメラ１と遮光壁ＣＳ２との間の周辺ギャップＰＧを狭くすることが可能となる。ここで、周辺ギャップＰＧは、第３基準線ＲＦ３に平行な方向において、カメラ１から遮光壁ＣＳ２までのギャップを言う。これにより、第１遮光部ＢＭ１を含む絞りＤＰ（入射光制御領域ＰＣＡ）のサイズを小さくすることができる。

　従って、周辺ギャップＰＧを狭くするため、第２遮光部ＢＭ２の内径ＤＩ４（第２開口ＯＰ２の直径）は、周辺ギャップＰＧより十分に短い方が望ましい（ＤＩ４＜ＰＧ）（図８）。　
　なお、内径ＤＩ４は、光の回折を防止するために０．１ｍｍ以上であった方が望ましい（０．１ｍｍ≦ＤＩ４）（図８）。

　上記のように構成された第２の実施形態に係る電子機器１００によれば、良好に撮影することが可能な電子機器１００を得ることができる。

　（第３の実施形態）
　次に、本第３の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第３の実施形態で説明する縦電界モードに関連する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図２０は、本第３の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの一部を示す断面図である。なお、図２０において、表示領域ＤＡと入射光制御領域ＰＣＡとの境界近傍を示している。また、液晶パネルＰＮＬのうち説明に必要な部材のみを示し、上述した配向膜ＡＬ１，ＡＬ２等の図示を省略している。

　図２０に示すように、縦電界モードの構成では、絶縁基板１０に設けられた制御電極構造ＲＥに加えて、絶縁基板２０にも対向電極ＯＥが設けられている。縦電界モードでは入射光制御領域ＰＣＡの液晶層ＬＣは制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に印加される電圧によって駆動される。なお、上記共通電極ＣＥを第１共通電極と称し、対向電極ＯＥを第２共通電極と称することができる。

　電極絶縁基板１０及び絶縁基板２０の間に複数のスペーサＳＰが設けられている。表示領域ＤＡにおける第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との第１ギャップＧａ１、及び入射光制御領域ＰＣＡにおける第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との第２ギャップＧａ２は、複数のスペーサＳＰにより保持されている。表示領域ＤＡにおいて、スペーサＳＰは、遮光部ＢＭＡ２（遮光部ＢＭＡ）で覆われている。入射光制御領域ＰＣＡにおいて、スペーサＳＰは、第２遮光部ＢＭ２又は第３遮光部ＢＭ３で覆われている。

　入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３は、縦電界モードのうちのＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）モードで駆動されるため、偏光板ＰＬ２と絶縁基板２０との間にλ/４板ＱＰ２が挟まれ、偏光板ＰＬ１と絶縁基板１０との間にλ/４板ＱＰ１が挟まれている。

　表示領域ＤＡ及び入射光制御領域ＰＣＡにおいて、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２はそれぞれ共通である。偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２は、それぞれ、表示領域ＤＡ及び入射光制御領域ＰＣＡにおいて同じ方向に透過容易軸（偏光軸）が向いている。偏光板ＰＬ１の透過容易軸と、偏光板ＰＬ２の透過容易軸とは、直交している。

　一方、表示領域ＤＡにおいて、表示液晶層ＬＣＩは、上述した第１の実施形態と同様、横電界モードで駆動される。本第３の実施形態において、表示液晶層ＬＣＩは、ＦＦＳモードで駆動されるが、ＩＰＳモードで駆動されてもよい。表示領域ＤＡにおいて、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電圧がかからない状態で、偏光板ＰＬ１（又は偏光板ＰＬ２）の透過容易軸に対して、液晶分子の配向軸（進相軸）が直交し、又は平行である。そのため、表示液晶層ＬＣＩに電圧がかからない状態では、表示液晶層ＬＣＩにおいて位相差が生じないため、偏光板ＰＬ２と偏光板ＰＬ１の透過容易軸が直交していることから光が遮蔽される（ノーマリーブラック方式）。

　画素電極ＰＥと共通電極ＣＥの間に電圧をかけると、液晶分子が回転し、液晶分子の進相軸が直線偏光の偏光方向に対して角度を有することとなり、位相差が生じる。表示液晶層ＬＣＩでは、液晶分子が回転した（進相軸が偏光方向に対して４５°傾いた）場合に、位相差がπとなるように、複屈折率ΔｎとギャップＧａが調整されている（Δｎ×Ｇａ＝１／２λ）。表示液晶層ＬＣＩを透過した光は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸と平行な直線偏光から、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対し９０°傾いた直線偏光に変化する。従って、表示領域ＤＡでは、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電圧がかかることで光を透過する。

　本第３の実施形態では、表示領域ＤＡ及び入射光制御領域ＰＣＡにおいて、共に同じ液晶層ＬＣと偏光板ＰＬ１，ＰＬ２を用いており、液晶分子の配向軸も同じ方向である。従って、液晶層ＬＣの位相差も同じで、偏光板ＰＬ１，ＰＬ２の透過容易軸に対する液晶分子の配向軸の方向も同じである。

　従って、入射光制御領域ＰＣＡでは、λ/４板ＱＰ２及びλ/４板ＱＰ１は、偏光板ＰＬ２と偏光板ＰＬ１とで挟まれている。λ/４板ＱＰ２の遅相軸は、偏光板ＰＬ２の透過容易軸に対して４５°で傾いており、λ/４板ＱＰ１の遅相軸は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対して４５°で傾いている。λ/４板ＱＰ２及びλ/４板ＱＰ１を透過した光は、直線偏光から円偏光に変化し、又は円偏光から直線偏光に変化する。

　本第３の実施形態では、λ/４板ＱＰ１の遅相軸は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対して、＋４５°傾いており、偏光板ＰＬ１から出た直線偏光は右回りの円偏光に変化する。第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３では、位相差がπとなるように、複屈折率Δｎと第２ギャップＧａ２が調整されており（Δｎ×Ｇａ２＝１／２λ）、右回り円偏光から左回りの円偏光に変化する。

　λ/４板ＱＰ２の遅相軸は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対して、－４５°傾いており、λ/４板ＱＰ２を通過した光は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対して９０°傾いた直線偏光となり、偏光板ＰＬ２を透過する。

　本第３の実施形態において、第１基板ＳＵＢ１は、入射光制御領域ＰＣＡに位置し、複数の制御電極構造ＲＥを含む制御電極構造群ＲＥＧが設けられている。第２基板ＳＵＢ２は、入射光制御領域ＰＣＡに位置し、制御電極構造群ＲＥＧと対向した対向電極ＯＥを有している。従って、入射光制御領域ＰＣＡでは、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に電圧がかからない状態で光が透過する（ノーマリーホワイト方式）。なお、本第３の実施形態の第２基板ＳＵＢ２は、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、カラーフィルタＣＦの替わりに透明層ＴＬを有している。

　ＥＣＢモードでは、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に電圧を印加し、液晶分子を第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２と垂直な方向に沿うよう配向させることで、液晶分子の複屈折（Δｎ）が変化することを利用して透過光の量を制御する。

　本第３の実施形態では、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に電圧を印加し、液晶分子の長軸方向が第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２と垂直な方向に沿うことで、透過する光に対して複屈折が小さくなり透過光量が減少する。

　例えば、複屈折Δｎが０となり、位相差が０となると、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３を透過した光は、右回りの円偏光のままで、λ/４板ＱＰ２を通過した右回りの円偏光は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対して平行な直線偏光となり、偏光板ＰＬ２を透過しない。従って、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に電圧を印加することで、絞りＤＰでカメラ１に入射する光を減少させることができる（非透過状態）。

　図２１は、本第３の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡにおける遮光層ＢＭを示す平面図である。本第３の実施形態において、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３が、それぞれ２つの範囲に分けられる点で、上記第１の実施形態（図８）と相違している。

　図２１に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１は、第１範囲ＴＡ１ａと、第１範囲ＴＡ１ａ以外の第２範囲ＴＡ１ｂと、を含んでいる。第２入射光制御領域ＴＡ２は、第３範囲ＴＡ２ａと、第３範囲ＴＡ２ａ以外の第４範囲ＴＡ２ｂと、を含んでいる。第３入射光制御領域ＴＡ３は、第５範囲ＴＡ３ａと、第５範囲ＴＡ３ａ以外の第６範囲ＴＡ３ｂと、を含んでいる。

　本第３の実施形態において、第１範囲ＴＡ１ａ及び第２範囲ＴＡ１ｂは方向Ｙに隣合い、第３範囲ＴＡ２ａ及び第４範囲ＴＡ２ｂは方向Ｙに隣合い、第５範囲ＴＡ３ａ及び第６範囲ＴＡ３ｂは方向Ｙに隣合っている。そして、第１範囲ＴＡ１ａ及び第２範囲ＴＡ１ｂの境界、第３範囲ＴＡ２ａ及び第４範囲ＴＡ２ｂの境界、及び第５範囲ＴＡ３ａ及び第６範囲ＴＡ３ｂの境界は、方向Ｘに揃っている。　
　入射光制御領域ＰＣＡは、第１遮光部ＢＭ１の外周によって形成される円の直径により、第１領域Ａ１と、第２領域Ａ２と、に分けることができる。本第３の実施形態において、第１領域Ａ１は、第１範囲ＴＡ１ａ、第３範囲ＴＡ２ａ、及び第６範囲ＴＡ３ｂを含んでいる。第２領域Ａ２は、第２範囲ＴＡ１ｂ、第４範囲ＴＡ２ｂ、及び第５範囲ＴＡ３ａを含んでいる。

　但し、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３の各々における、２つの範囲への分け方は、本第３の実施形態において例示したものであり、種々変形可能である。

　次に、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、縦電界モードで第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３を駆動する場合の第１制御電極構造ＲＥ１、第２制御電極構造ＲＥ２、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、及び対向電極ＯＥの構成について説明する。図２２は、本第３の実施形態に係る第１基板ＳＵＢ１の複数の制御電極構造ＲＥ及び複数の引き回し配線Ｌを示す平面図である。

　図２２及び図２１に示すように、第１制御電極構造ＲＥ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置した第１給電配線ＣＬ１と、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第１範囲ＴＡ１ａに位置した第１制御電極ＲＬ１と、を有している。第１給電配線ＣＬ１は、第１配線ＷＬ１を含んでいる。本第３の実施形態において、第１配線ＷＬ１及び第１制御電極ＲＬ１は、一体に形成されている。

　第２制御電極構造ＲＥ２は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置した第２給電配線ＣＬ２と、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第２範囲ＴＡ１ｂに位置した第２制御電極ＲＬ２と、を有している。第２給電配線ＣＬ２は、第２配線ＷＬ２を含んでいる。本第３の実施形態において、第２配線ＷＬ２及び第２制御電極ＲＬ２は、一体に形成されている。

　第３制御電極構造ＲＥ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置した第３給電配線ＣＬ３と、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第３範囲ＴＡ２ａに位置した第３制御電極ＲＬ３と、を有している。第３給電配線ＣＬ３は、第３配線ＷＬ３を含んでいる。　
　第４制御電極構造ＲＥ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置した第４給電配線ＣＬ４と、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第４範囲ＴＡ２ｂに位置した第４制御電極ＲＬ４と、を有している。第４給電配線ＣＬ４は、第４配線ＷＬ４を含んでいる。

　第５制御電極構造ＲＥ５は、第３遮光領域ＬＳＡ３に位置した第５給電配線ＣＬ５と、第３遮光領域ＬＳＡ３及び第５範囲ＴＡ３ａに位置した第５制御電極ＲＬ５と、を有している。第５給電配線ＣＬ５は、第５配線ＷＬ５を含んでいる。本第３の実施形態において、第５配線ＷＬ５及び第５制御電極ＲＬ５は、一体に形成されている。

　第６制御電極構造ＲＥ６は、第３遮光領域ＬＳＡ３に位置した第６給電配線ＣＬ６と、第３遮光領域ＬＳＡ３及び第６範囲ＴＡ３ｂに位置した第６制御電極ＲＬ６と、を有している。第６給電配線ＣＬ６は、第６配線ＷＬ６を含んでいる。本第３の実施形態において、第６配線ＷＬ６及び第６制御電極ＲＬ６は、一体に形成されている。

　なお、本第３の実施形態において、第１制御電極構造ＲＥ１、第３制御電極構造ＲＥ３、及び第５制御電極構造ＲＥ５は、絶縁層１３と配向膜ＡＬ１との間に位置している。第２制御電極構造ＲＥ２、第４制御電極構造ＲＥ４、及び第６制御電極構造ＲＥ６は、絶縁層１２と絶縁層１３との間に位置している。

　図２３は、本第３の実施形態に係る第２基板ＳＵＢ２の対向電極ＯＥ及び引き回し配線Ｌｏを示す平面図である。図２３及び図２１に示すように、対向電極ＯＥは、入射光制御領域ＰＣＡに位置している。対向電極ＯＥは、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置した対向給電配線ＣＬｏと、入射光制御領域ＰＣＡに位置した対向電極本体ＯＭと、を有している。対向給電配線ＣＬｏは、円環の形状を持つ対向配線ＷＬｏを含んでいる。本第３の実施形態において、対向配線ＷＬｏ及び対向電極本体ＯＭは、ＩＴＯ等の透明な導電材料で形成されている。

　対向電極本体ＯＭは、複数の線状対向電極ＯＭＬを含んでいる。複数の線状対向電極ＯＭＬは、入射光制御領域ＰＣＡに位置し、対向配線ＷＬｏに電気的に接続され、第３延在方向ｄ３に直線状に延在し、第３延在方向ｄ３に直交する直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。　
　本第３の実施形態において、対向配線ＷＬｏ及び線状対向電極ＯＭＬは、一体に形成されている。また、第３延在方向ｄ３は方向Ｘと同一方向を向き、直交方向ｄｃ３は方向Ｙと同一方向を向いている。上記のことから、対向電極ＯＥは、第３延在方向ｄ３に延在し直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並んだ複数のスリットＯＳを有する電極である。

　入射光制御領域ＰＣＡにおいて引き回し配線Ｌｏは、第１延在方向ｄ１に延在している。引き回し配線Ｌｏは、金属で形成され、対向配線ＷＬｏに電気的に接続されている。引き回し配線Ｌｏは、表示領域ＤＡにおいて一の遮光部（ＢＭＡ２）で覆われた領域を延在している。但し、引き回し配線Ｌｏは、表示領域ＤＡにおいて、遮光部ＢＭＡ１及び遮光部ＢＭＡ２の少なくとも一を延在していればよい。　
　なお、対向給電配線ＣＬｏ及び引き回し配線Ｌｏは、それぞれ、透明な導電層及び金属層の積層体で構成されてもよい。　
　ここで、引き回し配線Ｌｏを介して対向電極ＯＥに印加される電圧を対向電圧とする。なお、対向電極（第２共通電極）ＯＥに印加される電圧を共通電圧と称する場合もある。

　図２４は、本第３の実施形態の複数の第１制御電極ＲＬ１、複数の第２制御電極ＲＬ２、及び複数の線状対向電極ＯＭＬを示す平面図である。　
　図２４に示すように、複数の第１制御電極ＲＬ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第１範囲ＴＡ１ａに位置し、第１配線ＷＬ１に電気的に接続され、第３延在方向ｄ３に直線状に延在し、直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。複数の第２制御電極ＲＬ２は、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第２範囲ＴＡ１ｂに位置し、第２配線ＷＬ２に電気的に接続され、第３延在方向ｄ３に直線状に延在し、直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。　
　第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２は、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２とを分ける上記直径に沿った辺を持つストライプ形状部を有している。

　図２５は、図２４の線ＸＸＶ－ＸＸＶに沿った液晶パネルＰＮＬを示す断面図であり、絶縁基板１０，２０、複数の第１制御電極ＲＬ１、複数の第２制御電極ＲＬ２、複数の線状対向電極ＯＭＬ、及び第１制御液晶層ＬＣ１を示す図である。なお、図２５では、説明に必要な構成のみを図示している。

　図２５に示すように、隣合う一対の第１制御電極ＲＬ１の第１隙間ＳＣ１は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。隣合う一対の第２制御電極ＲＬ２の第２隙間ＳＣ２は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。隣合う第１制御電極ＲＬ１と第２制御電極ＲＬ２との第３隙間ＳＣ３は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。隣合う一対の線状対向電極ＯＭＬの第４隙間ＳＣ４は、対応する一の第１制御電極ＲＬ１又は対応する一の第２制御電極ＲＬ２と対向している。

　直交方向ｄｃ３において、第１制御電極ＲＬ１の幅ＷＤ１及び第２制御電極ＲＬ２の幅ＷＤ２はそれぞれ３９０μｍであり、第１隙間ＳＣ１、第２隙間ＳＣ２、及び第３隙間ＳＣ３はそれぞれ１０μｍである。また、直交方向ｄｃ３において、線状対向電極ＯＭＬの幅ＷＤｏは３９０μｍであり、第４隙間ＳＣ４は１０μｍである。　
　なお、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２の直交方向ｄｃ３のピッチ、並びに線状対向電極ＯＭＬのピッチは、上記第１の実施形態（図１０）のように、それぞれランダムに設定されてもよい。

　第１制御電極構造ＲＥ１、第２制御電極構造ＲＥ２、及び対向電極ＯＥが第１条件（絞りＤＰを開くための条件）で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１を透過状態に設定する。第１制御電極構造ＲＥ１に印加する第１制御電圧及び第２制御電極構造ＲＥ２に印加する第２制御電圧は、それぞれ対向電極ＯＥに印加する対向電圧と同一である。

　一方、第１制御電極構造ＲＥ１、第２制御電極構造ＲＥ２、及び対向電極ＯＥが、第３条件（絞りＤＰを絞るための条件）、第２条件（絞りＤＰをさらに絞るための条件）、及び第４条件（絞りＤＰを閉じるための条件）で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に設定する。　
　第１制御液晶層ＬＣ１を駆動する期間のうち一部の期間に注目すると、第１制御電圧及び第２制御電圧の一方の制御電圧は、対向電圧より正となる。その期間、第１制御電圧及び第２制御電圧の他方の制御電圧は、対向電圧より負となる。対向電圧に対して、第１制御電圧の極性と第２制御電圧の極性とは異なる。

　そのため、第１制御電極構造ＲＥ１と対向電極ＯＥとの間に生じ第１制御液晶層ＬＣ１に印加される電圧の極性と、第２制御電極構造ＲＥ２と対向電極ＯＥとの間に生じ第１制御液晶層ＬＣ１に印加される電圧の極性とは、互いに異なる。第１制御電極構造ＲＥ１の電位変動に起因した対向電極ＯＥの電位変動の影響と、第２制御電極構造ＲＥ２の電位変動に起因した対向電極ＯＥの電位変動の影響とは、互いに打ち消し合うこととなる。これにより、対向電極ＯＥの不所望な電位変動を抑制することができる。

　本第３の実施形態において、対向電圧と第１制御電圧との差の絶対値と、対向電圧と第２制御電圧との差の絶対値とは、同一である。そのため、対向電極ＯＥの不所望な電位変動を、一層、抑制することができる。　
　なお、本第３の実施形態と異なり、対向電圧に対する第１制御電圧及び第２制御電圧のそれぞれの極性が同一である場合、対向電極ＯＥの不所望な電位変動を招くため、望ましくない。

　上記のように、第２乃至第４条件で第１制御液晶層ＬＣ１を駆動する期間、第１制御電圧の極性と、第２制御電圧の極性とを、対向電圧を基準として反転する極性反転駆動を行ってもよい。上記の期間、対向電圧は、定電圧である。

　また、第１隙間ＳＣ１、第２隙間ＳＣ２、及び第３隙間ＳＣ３の各々と、線状対向電極ＯＭＬと、の位置関係は上述した通りである。第４隙間ＳＣ４と、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２の各々と、の位置関係は上述した通りである。第２乃至第４条件で第１制御液晶層ＬＣ１を駆動する期間、第１制御電極ＲＬ１と線状対向電極ＯＭＬとの間に斜め電界を発生させたり、第２制御電極ＲＬ２と線状対向電極ＯＭＬとの間に斜め電界を発生させたり、することができる。そのため、上記電界が方向Ｚに平行な場合と比較して、第１制御液晶層ＬＣ１の液晶分子の立ち上がる方向を、一層、制御することができる。なお、図中、上記電界を、破線で示している。

　図２６は、本第３の実施形態の第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４を示す平面図である。　
　図２６に示すように、第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４は、それぞれ、第３延在方向ｄ３に平行な辺を有する半円状の形状を持っている。第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４の上記辺は、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２とを分ける上記直径に沿っている。第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４は、直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。

　図２６及び図２２に示すように、第３配線ＷＬ３の内径は、第６配線ＷＬ６の内径より小さい。第４配線ＷＬ４の内径は、第３配線ＷＬ３の内径より小さい。

　図２７は、図２６の線ＸＸＶＩＩ－ＸＸＶＩＩに沿った液晶パネルＰＮＬを示す断面図であり、絶縁基板１０，２０、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、線状対向電極ＯＭＬ、及び第２制御液晶層ＬＣ２を示す図である。なお、図２７では、説明に必要な構成のみを図示している。　
　図２７に示すように、隣合う第３制御電極ＲＬ３と第４制御電極ＲＬ４との第５隙間ＳＣ５は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。第５隙間ＳＣ５は、上記第３隙間ＳＣ３と第３延在方向ｄ３に揃っている（図２２及び図２５）。

　第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、及び対向電極ＯＥが第１条件、第２条件、及び第３条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態に設定する。第３制御電極構造ＲＥ３に印加する第３制御電圧及び第４制御電極構造ＲＥ４に印加する第４制御電圧は、それぞれ対向電極ＯＥに印加する対向電圧と同一である。

　一方、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、及び対向電極ＯＥが、第４条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２を非透過状態に設定する。

　第２制御液晶層ＬＣ２を駆動する期間のうち一部の期間に注目すると、第３制御電圧及び第４制御電圧の一方の制御電圧は、対向電圧より正となる。その期間、第３制御電圧及び第４制御電圧の他方の制御電圧は、対向電圧より負となる。

　そのため、第３制御電極構造ＲＥ３と対向電極ＯＥとの間に生じ第２制御液晶層ＬＣ２に印加される電圧の極性と、第４制御電極構造ＲＥ４と対向電極ＯＥとの間に生じ第２制御液晶層ＬＣ２に印加される電圧の極性とは、互いに異なる。本第３の実施形態において、対向電圧と第３制御電圧との差の絶対値と、対向電圧と第４制御電圧との差の絶対値とは、同一である。　
　なお、本第３の実施形態と異なり、対向電圧に対する第３制御電圧及び第４制御電圧のそれぞれの極性が同一である場合、対向電極ＯＥの不所望な電位変動を招くため、望ましくない。

　上記のように、第４条件で第２制御液晶層ＬＣ２を駆動する期間、第３制御電圧の極性と、第４制御電圧の極性とを、対向電圧を基準として反転する極性反転駆動を行ってもよい。上記の期間、対向電圧は、定電圧である。また、第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４を第１条件で駆動する際、第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４の極性反転駆動を、第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２の極性反転駆動と同期して行ってもよい。

　また、第５隙間ＳＣ５と、線状対向電極ＯＭＬと、の位置関係は上述した通りである。そのため、第３制御電極ＲＬ３と線状対向電極ＯＭＬとの間に生じる電界、及び第４制御電極ＲＬ４と線状対向電極ＯＭＬとの間に生じる電界が方向Ｚに平行な場合と比較して、第２制御液晶層ＬＣ２の液晶分子の立ち上がる方向を、一層、制御することができる。

　図２８は、本第３の実施形態の第５制御電極構造ＲＥ５及び第６制御電極構造ＲＥ６を示す平面図である。　
　図２８に示すように、複数の第５制御電極ＲＬ５は、第３遮光領域ＬＳＡ３及び第５範囲ＴＡ３ａに位置し、第５配線ＷＬ５に電気的に接続され、第３延在方向ｄ３に直線状に延在し、直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。複数の第６制御電極ＲＬ６は、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第６範囲ＴＡ３ｂに位置し、第６配線ＷＬ６に電気的に接続され、第３延在方向ｄ３に直線状に延在し、直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。　
　第５配線ＷＬ５及び第６制御電極ＲＬ６は、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２とを分ける上記直径に沿った辺を持つストライプ形状部を有している。

　図２９は、図２８の線ＸＸＩＸ－ＸＸＩＸに沿った液晶パネルＰＮＬを示す断面図であり、絶縁基板１０，２０、複数の第５制御電極ＲＬ５、複数の第６制御電極ＲＬ６、複数の線状対向電極ＯＭＬ、及び第３制御液晶層ＬＣ３を示す図である。なお、図２９では、説明に必要な構成のみを図示している。

　図２９に示すように、隣合う一対の第５制御電極ＲＬ５の第６隙間ＳＣ６は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。隣合う一対の第６制御電極ＲＬ６の第７隙間ＳＣ７は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。隣合う第５制御電極ＲＬ５と第６制御電極ＲＬ６との第８隙間ＳＣ８は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。第４隙間ＳＣ４は、対応する一の第５制御電極ＲＬ５又は対応する一の第６制御電極ＲＬ６と対向している。

　第８隙間ＳＣ８は、上記第３隙間ＳＣ３及び上記第５隙間ＳＣ５と第３延在方向ｄ３に揃っている（図２２、図２５、及び図２７）。第６隙間ＳＣ６は、上記第２隙間ＳＣ２と第３延在方向ｄ３に揃っている（図２２及び図２５）。第７隙間ＳＣ７は、上記第１隙間ＳＣ１と第３延在方向ｄ３に揃っている（図２２及び図２５）。

　直交方向ｄｃ３において、第５制御電極ＲＬ５の幅ＷＤ５及び第６制御電極ＲＬ６の幅ＷＤ６はそれぞれ３９０μｍであり、第６隙間ＳＣ６、第７隙間ＳＣ７、及び第８隙間ＳＣ８はそれぞれ１０μｍである。　
　なお、第５制御電極ＲＬ５及び第６制御電極ＲＬ６の直交方向ｄｃ３のピッチは、上記第１の実施形態（図１０）のように、それぞれランダムに設定されてもよい。

　第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、及び対向電極ＯＥが第１条件及び第３条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第３入射光制御領域ＴＡ３を透過状態に設定する。第５制御電極構造ＲＥ５に印加する第５制御電圧及び第６制御電極構造ＲＥ６に印加する第６制御電圧は、それぞれ対向電極ＯＥに印加する対向電圧と同一である。

　一方、第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、及び対向電極ＯＥが、第２条件及び第４条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に設定する。　
　第３制御液晶層ＬＣ３を駆動する期間のうち一部の期間に注目すると、第５制御電圧及び第６制御電圧の一方の制御電圧は、対向電圧より正となる。その期間、第５制御電圧及び第６制御電圧の他方の制御電圧は、対向電圧より負となる。

　そのため、第５制御電極構造ＲＥ５と対向電極ＯＥとの間に生じ第３制御液晶層ＬＣ３に印加される電圧の極性と、第６制御電極構造ＲＥ６と対向電極ＯＥとの間に生じ第３制御液晶層ＬＣ３に印加される電圧の極性とは、互いに異なる。本第３の実施形態において、対向電圧と第５制御電圧との差の絶対値と、対向電圧と第６制御電圧との差の絶対値とは、同一である。　
　なお、本第３の実施形態と異なり、対向電圧に対する第５制御電圧及び第６制御電圧のそれぞれの極性が同一である場合、対向電極ＯＥの不所望な電位変動を招くため、望ましくない。

　上記のように、第２条件及び第４条件で第３制御液晶層ＬＣ３を駆動する期間、第５制御電圧の極性と、第６制御電圧の極性とを、対向電圧を基準として反転する極性反転駆動を行ってもよい。上記の期間、対向電圧は、定電圧である。また、第５制御電極構造ＲＥ５及び第６制御電極構造ＲＥ６を第２条件及び第４条件で駆動する際、第５制御電極構造ＲＥ５及び第６制御電極構造ＲＥ６の極性反転駆動を、第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２の極性反転駆動と同期して行ってもよい。

　また、第６隙間ＳＣ６、第７隙間ＳＣ７、及び第８隙間ＳＣ８の各々と、線状対向電極ＯＭＬと、の位置関係は上述した通りである。そのため、第５制御電極ＲＬ５と線状対向電極ＯＭＬとの間に生じる電界、及び第６制御電極ＲＬ６と線状対向電極ＯＭＬとの間に生じる電界が方向Ｚに平行な場合と比較して、第３制御液晶層ＬＣ３の液晶分子の立ち上がる方向を、一層、制御することができる。

　上記のように構成された第３の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、入射光制御領域ＰＣＡの光透過領域を制御可能な液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００を得ることができる。

　（第４の実施形態）
　次に、本第４の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第４の実施形態で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図３０は、本第４の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２を示す平面図である。なお、図３０では、説明に必要な構成のみを図示している。

　図３０に示すように、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２は、それぞれ、ＩＴＯ等の透明な導電材料で形成されている。絶縁層１３は、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２のうちの一以上の導体と、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２のうちの残りの導体と、で挟まれている（図１０）。

　上記一以上の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの一方の電極と同一層に設けられ、上記一方の電極と同一材料で形成されている（図７）。上記残りの導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの他方の電極と同一層に設けられ、上記他方の電極と同一材料で形成されている（図７）。　
　本第４の実施形態において、絶縁層１３は、第１配線ＷＬ１及び第２配線ＷＬ２の配線群と、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２の電極群と、で挟まれている（図１０）。言い換えると、配線ＷＬと制御電極ＲＬとは、絶縁層１３を挟んで異なる層に形成されている。

　第１配線ＷＬ１及び第２配線ＷＬ２は、共通電極ＣＥと同一層に設けられ、共通電極ＣＥと同一の透明な導電材料で形成され、互いに隙間を置いて配置されている（図７）。第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２は、画素電極ＰＥと同一層に設けられ、画素電極ＰＥと同一の透明な導電材料で形成され、直交方向ｄｃ３にて互いに隙間を置いて配置されている（図７）。上記のことから、第１制御電極ＲＬ１、第２制御電極ＲＬ２、及び画素電極ＰＥは、第１の導電層（透明導電層）で形成されている。第１配線ＷＬ１、第２配線ＷＬ２、及び共通電極ＣＥは、第２の導電層（透明導電層）で形成されている。

　第１制御電極構造ＲＥ１は、一以上の第１金属層ＭＥ１をさらに有している。第１金属層ＭＥ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、第１配線ＷＬ１に接し、第１配線ＷＬ１とともに第１給電配線ＣＬ１を構成している。第１金属層ＭＥ１は、第１給電配線ＣＬ１の低抵抗化に寄与している。

　第２制御電極構造ＲＥ２は、一以上の第２金属層ＭＥ２をさらに有している。第２金属層ＭＥ２は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、第２配線ＷＬ２に接し、第２配線ＷＬ２とともに第２給電配線ＣＬ２を構成している。第２金属層ＭＥ２は、第２給電配線ＣＬ２の低抵抗化に寄与している。　
　なお、本第４の実施形態において、上記第１金属層ＭＥ１及び第２金属層ＭＥ２は、金属層ＭＬと同一層に設けられ、金属層ＭＬと同一の金属材料で形成されている。

　第１制御電極ＲＬ１は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ１を通り、第１配線ＷＬ１にコンタクトしている。第２制御電極ＲＬ２は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ２を通り、第２配線ＷＬ２にコンタクトしている。第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２は、直交方向ｄｃ１に交互に配置されている。第１制御電極ＲＬ１は、第２配線ＷＬ２と交差して第１延在方向ｄ１に延在している。

　直交方向ｄｃ１において、第１制御電極ＲＬ１の幅ＷＴ１は２μｍであり、第２制御電極ＲＬ２の幅ＷＴ２は２μｍであり、複数の隙間ＳＦは、一定ではない。ここで、上記隙間ＳＦは、第１制御電極ＲＬ１と第２制御電極ＲＬ２との隙間を言い、第１入射光制御領域ＴＡ１においてランダムに変化している。

　例えば、隙間ＳＦは、８μｍを中心にして０．２５μｍ単位でランダムに変化している。そして、直交方向ｄｃ１に並ぶ隙間ＳＦは、７．７５μｍ、６．２５μｍ、１０．２５μｍ、８．７５μｍ、７．２５μｍ、５．７５μｍ、６．７５μｍ、９．２５μｍ、８．２５μｍ、９．７５μｍと順に変化している。

　第１制御電極ＲＬ１と第２制御電極ＲＬ２とのピッチは、一定でもよいが、本第４の実施形態のように、ランダムに設定されている方が望ましい。これにより、上記ピッチを一定にした場合に生じる光の回折及び干渉の発生を防止することができる。なお、隙間ＳＦは、８μｍから１８μｍまでを中心にして０．２５μｍ単位でランダムに変化させてもよい。

　上記のように図３０を用いて第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２について説明したが、図３０を用いて説明した技術は、第５制御電極構造ＲＥ５及び第６制御電極構造ＲＥ６にも適用可能である。

　図３１は、本第４の実施形態に係る第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、第３引き回し配線Ｌ３、及び第４引き回し配線Ｌ４を示す平面図である。

　図３１に示すように、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２においても、ＩＰＳモードに対応した構成を有している。　
　第３制御電極構造ＲＥ３は、第３給電配線ＣＬ３と、第３制御電極ＲＬ３と、を有している。　
　第３給電配線ＣＬ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、円環の形状を持つ第３配線ＷＬ３と、第３金属層ＭＥ３と、を含んでいる（図８）。本第４の実施形態において、第３配線ＷＬ３は、Ｃ形の形状を持ち、第４引き回し配線Ｌ４が通る領域において分断して形成されている。第３金属層ＭＥ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、第３配線ＷＬ３に接し、第３配線ＷＬ３とともに第３給電配線ＣＬ３を構成している。第３金属層ＭＥ３は、第３給電配線ＣＬ３の低抵抗化に寄与している。

　複数の第３制御電極ＲＬ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第２入射光制御領域ＴＡ２に位置し、第３配線ＷＬ３に電気的に接続され、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている（図８）。

　複数の第３制御電極ＲＬ３は、両端部で第３配線ＷＬ３と接続されている。しかしながら、複数の第３制御電極ＲＬ３は、一方の端部で第３配線ＷＬ３と接続し、他方の端部は第３配線ＷＬ３と接続しない第３制御電極ＲＬ３を有してもよい。

　第４制御電極構造ＲＥ４は、第４給電配線ＣＬ４と、第４制御電極ＲＬ４と、を有している。　
　第４給電配線ＣＬ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、円環の形状を持つ第４配線ＷＬ４と、第４金属層ＭＥ４と、を含んでいる（図８）。第４配線ＷＬ４は、第３配線ＷＬ３に隣接している。本第４の実施形態において、第４配線ＷＬ４は、第３配線ＷＬ３より内側に位置しているが、第３配線ＷＬ３より外側に位置してもよい。第４金属層ＭＥ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、第４配線ＷＬ４に接し、第４配線ＷＬ４とともに第４給電配線ＣＬ４を構成している。第４金属層ＭＥ４は、第４給電配線ＣＬ４の低抵抗化に寄与している。

　複数の第４制御電極ＲＬ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第２入射光制御領域ＴＡ２に位置し、第４配線ＷＬ４に電気的に接続され、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている（図８）。　
　複数の第４制御電極ＲＬ４は、両端部で第４配線ＷＬ４と接続されている。しかしながら、複数の第４制御電極ＲＬ４は、一方の端部で第４配線ＷＬ４と接続し、他方の端部は第４配線ＷＬ４と接続しない第４制御電極ＲＬ４を有してもよい。

　第３制御電極ＲＬ３は、第４配線ＷＬ４と交差している。複数の第３制御電極ＲＬ３と、複数の第４制御電極ＲＬ４とは、直交方向ｄｃ１に交互に並べられている。第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４は、それぞれ、ＩＴＯ等の透明な導電材料で形成されている。絶縁層１３は、第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４のうちの一以上の導体と、第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４のうちの残りの導体と、で挟まれている（図１０）。

　上記一以上の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの一方の電極と同一層に設けられ、上記一方の電極と同一材料で形成されている（図７）。上記残りの導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの他方の電極と同一層に設けられ、上記他方の電極と同一材料で形成されている（図７）。　
　本第４の実施形態において、絶縁層１３は、第３配線ＷＬ３及び第４配線ＷＬ４の配線群と、第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４の電極群と、で挟まれている（図１０）。

　第３配線ＷＬ３及び第４配線ＷＬ４は、共通電極ＣＥと同一層に設けられ、共通電極ＣＥと同一の透明な導電材料で形成され、互いに隙間を置いて配置されている（図７）。第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４は、画素電極ＰＥと同一層に設けられ、画素電極ＰＥと同一の透明な導電材料で形成されている（図７）。　
　第３制御電極ＲＬ３は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ３を通り、第３配線ＷＬ３にコンタクトしている。第４制御電極ＲＬ４は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ４を通り、第４配線ＷＬ４にコンタクトしている。

　なお、本第４の実施形態において、第２遮光部ＢＭ２の内径ＤＩ４は、２００μｍである（図８）。直交方向ｄｃ１において、複数の第３制御電極ＲＬ３及び複数の第４制御電極ＲＬ４は、１０μｍを中心としたランダムなピッチで並べられている。　
　本第４の実施形態において、第３引き回し配線Ｌ３及び第４引き回し配線Ｌ４は、透明な導電層及び金属層の積層体で構成されている。

　上記のように構成された第４の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、入射光制御領域ＰＣＡの光透過領域を制御可能な液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００を得ることができる。

　（第５の実施形態）
　次に、本第５の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第５の実施形態で説明する構成以外、上記第３の実施形態（図２２）と同様に構成されている。図３２は、本第５の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２を示す平面図である。なお、図３２では、説明に必要な構成のみを図示している。

　図３２に示すように、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２は、それぞれ、ＩＴＯ等の透明な導電材料で形成されている。絶縁層１３は、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２のうちの一以上の導体と、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２のうちの残りの導体と、で挟まれている（図１０）。

　上記一以上の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの一方の電極と同一層に設けられ、上記一方の電極と同一材料で形成されている（図７）。上記残りの導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの他方の電極と同一層に設けられ、上記他方の電極と同一材料で形成されている（図７）。　
　本第５の実施形態において、絶縁層１３は、第１配線ＷＬ１及び第２配線ＷＬ２の配線群と、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２の電極群と、で挟まれている（図１０）。

　第１配線ＷＬ１及び第２配線ＷＬ２は、共通電極ＣＥと同一層に設けられ、共通電極ＣＥと同一の透明な導電材料で形成され、互いに隙間を置いて配置されている（図７）。第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２は、画素電極ＰＥと同一層に設けられ、画素電極ＰＥと同一の透明な導電材料で形成され、直交方向ｄｃ３にて互いに隙間を置いて配置されている（図７）。

　第１制御電極構造ＲＥ１は、一以上の第１金属層ＭＥ１をさらに有している。第１金属層ＭＥ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、第１配線ＷＬ１に接し、第１配線ＷＬ１とともに第１給電配線ＣＬ１を構成している（図２１）。第１金属層ＭＥ１は、第１給電配線ＣＬ１の低抵抗化に寄与している。

　第２制御電極構造ＲＥ２は、一以上の第２金属層ＭＥ２をさらに有している。第２金属層ＭＥ２は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、第２配線ＷＬ２に接し、第２配線ＷＬ２とともに第２給電配線ＣＬ２を構成している（図２１）。第２金属層ＭＥ２は、第２給電配線ＣＬ２の低抵抗化に寄与している。　
　なお、本第５の実施形態において、上記第１金属層ＭＥ１及び第２金属層ＭＥ２は、金属層ＭＬと同一層に設けられ、金属層ＭＬと同一の金属材料で形成されている。

　第１制御電極ＲＬ１は、第１範囲ＴＡ１ａに位置し、第２配線ＷＬ２と交差し、第３延在方向ｄ３に延在している。第２制御電極ＲＬ２は、第２範囲ＴＡ１ｂに位置し、第３延在方向ｄ３に延在している。　
　第１制御電極ＲＬ１は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ１を通り、第１配線ＷＬ１にコンタクトしている。第２制御電極ＲＬ２は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ２を通り、第２配線ＷＬ２にコンタクトしている。本第５の実施形態において、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２は、それぞれ２個所で対応する配線ＷＬにコンタクトしている。

　なお、第１給電配線ＣＬ１に第１金属層ＭＥ１を含み、第２給電配線ＣＬ２に第２金属層ＭＥ２を含む場合を説明したが、制御電極構造ＲＥ及び引き回し配線Ｌを遮光層ＢＭで覆わない場合などは、第１給電配線ＣＬ１、第２給電配線ＣＬ２、及び引き回し配線Ｌを透明な導電層のみで形成することも可能である。

　上記のように図３２を用いて第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２について説明したが、図３２を用いて説明した技術は、第５制御電極構造ＲＥ５及び第６制御電極構造ＲＥ６にも適用可能である。

　図３３は、本第５の実施形態に係る第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、第３引き回し配線Ｌ３、及び第４引き回し配線Ｌ４を示す平面図である。　
　図３３に示すように、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２においても、縦電界モードに対応した構成を有している。

　第３制御電極構造ＲＥ３は、第３給電配線ＣＬ３と、第３制御電極ＲＬ３と、を有している。　
　第３給電配線ＣＬ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、円環の形状を持つ第３配線ＷＬ３と、第３金属層ＭＥ３と、を含んでいる（図２１）。本第５の実施形態において、第３配線ＷＬ３は、Ｃ形の形状を持ち、第４引き回し配線Ｌ４が通る領域において分断して形成されている。第３金属層ＭＥ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、第３配線ＷＬ３に接し、第３配線ＷＬ３とともに第３給電配線ＣＬ３を構成している。第３金属層ＭＥ３は、第３給電配線ＣＬ３の低抵抗化に寄与している。第３制御電極ＲＬ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第３範囲ＴＡ２ａに位置し、第３配線ＷＬ３に電気的に接続されている（図２１）。

　第４制御電極構造ＲＥ４は、第４給電配線ＣＬ４と、第４制御電極ＲＬ４と、を有している。　
　第４給電配線ＣＬ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、円環の形状を持つ第４配線ＷＬ４と、第４金属層ＭＥ４と、を含んでいる（図２１）。本第５の実施形態において、第４配線ＷＬ４は、第３配線ＷＬ３より内側に位置しているが、第３配線ＷＬ３より外側に位置してもよい。第４金属層ＭＥ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、第４配線ＷＬ４に接し、第４配線ＷＬ４とともに第４給電配線ＣＬ４を構成している。第４金属層ＭＥ４は、第４給電配線ＣＬ４の低抵抗化に寄与している。第４制御電極ＲＬ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第４範囲ＴＡ２ｂに位置し、第４配線ＷＬ４に電気的に接続されている（図２１）。

　第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４は、それぞれ、ＩＴＯ等の透明な導電材料で形成されている。絶縁層１３は、第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４のうちの一以上の導体と、第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４のうちの残りの導体と、で挟まれている（図１０）。

　上記一以上の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの一方の電極と同一層に設けられ、上記一方の電極と同一材料で形成されている（図７）。上記残りの導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの他方の電極と同一層に設けられ、上記他方の電極と同一材料で形成されている（図７）。　
　本第５の実施形態において、絶縁層１３は、第３配線ＷＬ３及び第４配線ＷＬ４の配線群と、第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４の電極群と、で挟まれている（図１０）。

　第３配線ＷＬ３及び第４配線ＷＬ４は、共通電極ＣＥと同一層に設けられ、共通電極ＣＥと同一の透明な導電材料で形成され、互いに隙間を置いて配置されている（図７）。第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４は、画素電極ＰＥと同一層に設けられ、画素電極ＰＥと同一の透明な導電材料で形成されている（図７）。

　なお、本第５の実施形態において、第２遮光部ＢＭ２の内径（ＤＩ４）は、２００μｍである。図３２に示した幅ＷＤ１及び幅ＷＤ２は、上述したように実質的に４００μｍである。そのため、第３範囲ＴＡ２ａにおいて、第３制御電極ＲＬ３は、分断されたり、スリットを有したり、していない。同様に、第４範囲ＴＡ２ｂにおいて、第４制御電極ＲＬ４は、分断されたり、スリットを有したり、していない。

　第３制御電極ＲＬ３は、延出部ＲＬ３ａを有している。本第５の実施形態において、第３制御電極ＲＬ３は、複数の延出部ＲＬ３ａを有している。各々の延出部ＲＬ３ａは、第４配線ＷＬ４と交差し、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ３を通り、第３配線ＷＬ３にコンタクトしている。　
　第４制御電極ＲＬ４は、延出部ＲＬ４ａを有している。本第５の実施形態において、第４制御電極ＲＬ４は、複数の延出部ＲＬ４ａを有している。各々の延出部ＲＬ４ａは、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ４を通り、第４配線ＷＬ４にコンタクトしている。　
　本第５の実施形態において、第３引き回し配線Ｌ３及び第４引き回し配線Ｌ４は、透明な導電層及び金属層の積層体で構成されている。

　上記のように構成された第５の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、入射光制御領域ＰＣＡの光透過領域を制御可能な液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００を得ることができる。

　（第６の実施形態）
　次に、本第６の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第６の実施形態で説明する構成以外、上記第３の実施形態（図２０）と同様に構成されている。図３４は、本第６の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬを示す平面図である。なお、図３４では、説明に必要な構成のみを図示している。

　図３４に示すように、非表示領域ＮＤＡは、第１基板ＳＵＢ１の延出部Ｅｘが位置する領域を含む第１非表示領域ＮＤＡ１と、表示領域ＤＡを挟んで第１非表示領域ＮＤＡ１の反対側に位置した第２非表示領域ＮＤＡ２と、第１非表示領域ＮＤＡ１と第２非表示領域ＮＤＡ２との間に位置した第３非表示領域ＮＤＡ３と、表示領域ＤＡを挟んで第３非表示領域ＮＤＡ３の反対側に位置した第４非表示領域ＮＤＡ４と、を有している。　
　本第６の実施形態において、図中、第１非表示領域ＮＤＡ１は下側に位置し、第２非表示領域ＮＤＡ２は上側に位置し、第３非表示領域ＮＤＡ３は右側に位置し、第４非表示領域ＮＤＡ４は左側に位置している。

　第１基板ＳＵＢ１は、第１パッドＰＤ１、第２パッドＰＤ２、第３パッドＰＤ３、第４パッドＰＤ４、第５パッドＰＤ５、第６パッドＰＤ６、第７パッドＰＤ７などを含む複数のパッドＰＤをさらに有している。これらのパッドＰＤは、第１基板ＳＵＢ１の第１非表示領域ＮＤＡ１のうち延出部Ｅｘに位置し、方向Ｘに揃っている。

　第１引き回し配線Ｌ１、第２引き回し配線Ｌ２、第３引き回し配線Ｌ３、第４引き回し配線Ｌ４、第５引き回し配線Ｌ５、及び第６引き回し配線Ｌ６は、入射光制御領域ＰＣＡ、表示領域ＤＡ、及び非表示領域ＮＤＡを延在している。本第６の実施形態において、絞りＤＰ（入射光制御領域ＰＣＡ）は、第１乃至第４非表示領域ＮＤＡ１乃至ＮＤＡ４のうち第２非表示領域ＮＤＡ２の近傍の位置に設けられている。そのため、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、表示領域ＤＡを延在する距離が、極力、短くなるように、表示領域ＤＡを迂回し、非表示領域ＮＤＡを延在している。

　ここで、制御電極構造ＲＥとパッド（接続端子）ＰＤとの接続関係について説明する。

　図３４及び図２２に示すように、第１引き回し配線Ｌ１は、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置した第１制御電極構造ＲＥ１を第１パッドＰＤ１に電気的に接続している。第２引き回し配線Ｌ２は、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置した第２制御電極構造ＲＥ２を第２パッドＰＤ２に電気的に接続している。

　第３引き回し配線Ｌ３は、第２入射光制御領域ＴＡ２に位置した第３制御電極構造ＲＥ３を第３パッドＰＤ３に電気的に接続している。第４引き回し配線Ｌ４は、第２入射光制御領域ＴＡ２に位置した第４制御電極構造ＲＥ４を第４パッドＰＤ４に電気的に接続している。　
　第５引き回し配線Ｌ５は、第３入射光制御領域ＴＡ３に位置した第５制御電極構造ＲＥ５を第５パッドＰＤ５に電気的に接続している。第６引き回し配線Ｌ６は、第３入射光制御領域ＴＡ３に位置した第６制御電極構造ＲＥ６を第６パッドＰＤ６に電気的に接続している。

　本第６の実施形態において、第１引き回し配線Ｌ１、第３引き回し配線Ｌ３、及び第６引き回し配線Ｌ６は、それぞれ、第２非表示領域ＮＤＡ２、第３非表示領域ＮＤＡ３、及び第１非表示領域ＮＤＡ１を延在している。第２引き回し配線Ｌ２、第４引き回し配線Ｌ４、及び第５引き回し配線Ｌ５は、それぞれ、第２非表示領域ＮＤＡ２、第４非表示領域ＮＤＡ４、及び第１非表示領域ＮＤＡ１を延在している。

　入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第３引き回し配線Ｌ３及び第４引き回し配線Ｌ４は、第５引き回し配線Ｌ５及び第６引き回し配線Ｌ６で挟まれている。第５引き回し配線Ｌ５及び第６引き回し配線Ｌ６は、第１引き回し配線Ｌ１及び第２引き回し配線Ｌ２で挟まれている。

　第２非表示領域ＮＤＡ２、第３非表示領域ＮＤＡ３、及び第１非表示領域ＮＤＡ１において、第１引き回し配線Ｌ１は第６引き回し配線Ｌ６より表示領域ＤＡ側に位置し、第６引き回し配線Ｌ６は第３引き回し配線Ｌ３より表示領域ＤＡ側に位置している。　
　第２非表示領域ＮＤＡ２、第４非表示領域ＮＤＡ４、及び第１非表示領域ＮＤＡ１において、第２引き回し配線Ｌ２は第５引き回し配線Ｌ５より表示領域ＤＡ側に位置し、第５引き回し配線Ｌ５は第４引き回し配線Ｌ４より表示領域ＤＡ側に位置している。　
　上述した第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６の各々において、非表示領域ＮＤＡから入射光制御領域ＰＣＡの間の表示領域ＤＡに位置する部分を引き回し配線と称し、非表示領域ＮＤＡに位置する部分を周辺配線と称する場合がある。その場合、上記引き回し配線は、対応する配線ＷＬを介して対応する制御電極ＲＬに接続される。また、上記周辺配線は、非表示領域ＮＤＡにて対応するパッドＰＤから対応する上記引き回し配線までの間を延在し、対応するパッドＰＤと対応する上記引き回し配線とに接続されている。

　なお、絞りＤＰ（入射光制御領域ＰＣＡ）は、第２非表示領域ＮＤＡ２の近傍の位置に設けられていなくともよい。例えば、絞りＤＰ（入射光制御領域ＰＣＡ）は、第１乃至第４非表示領域ＮＤＡ１乃至ＮＤＡ４のうち第３非表示領域ＮＤＡ３の近傍の位置に設けられてもよい。その場合、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、非表示領域ＮＤＡのうち、第３非表示領域ＮＤＡ３及び第１非表示領域ＮＤＡ１のみを延在してもよい。

　上記のように、本第６の実施形態では、制御電極構造ＲＥに電圧を与えるために引き回し配線Ｌを用いているが、液晶パネルＰＮＬは、制御電極構造ＲＥに電圧を与えることができればよく、引き回し配線Ｌ無しに構成されてもよい。例えば、複数の信号線Ｓ（図３）のうちのいくつかの信号線Ｓを用いて制御電極構造ＲＥとＩＣチップ６とを電気的に接続し、制御電極構造ＲＥ専用の信号線Ｓを介して制御電極構造ＲＥを駆動してもよい。

　第１基板ＳＵＢ１は、非表示領域ＮＤＡに位置した第８パッドＰＤ８と、非表示領域ＮＤＡに位置し第８パッドＰＤ８を第７パッドＰＤ７に電気的に接続した接続配線ＣＯと、をさらに有している。第２基板ＳＵＢ２は、非表示領域ＮＤＡに位置し第８パッドＰＤ８に重なった第９パッドＰＤ９をさらに有している。第９パッドＰＤ９には、引き回し配線Ｌｏが電気的に接続されている（図２３）。

　例えば、引き回し配線Ｌｏは、第２引き回し配線Ｌ２等と同様に、第２非表示領域ＮＤＡ２、第４非表示領域ＮＤＡ４、及び第１非表示領域ＮＤＡ１を延在し、対向電極ＯＥを第９パッドＰＤ９に電気的に接続している。第８パッドＰＤ８と第９パッドＰＤ９とは、図示しない導電部材により電気的に接続されている。これにより、第７パッドＰＤ７、接続配線ＣＯ、第８パッドＰＤ８、第９パッドＰＤ９、引き回し配線Ｌｏ等を介して対向電極ＯＥに対向電圧を印加することができる。

　ここで、対向電極ＯＥに印加する対向電圧と、第１乃至第６制御電極構造ＲＥ１乃至ＲＥ６に印加する第１乃至第６制御電圧と、の関係について説明する。　
　図３４、図２５、図２７、及び図２９に示すように、上記第１条件において、第１乃至第６制御電圧は、それぞれ対向電圧と同一である。例えば、上記第１条件における任意の期間において、第１乃至第６制御電圧、及び対向電圧は、それぞれ０Ｖである。液晶パネルＰＮＬは、第１乃至第３入射光制御領域ＴＡ１乃至ＴＡ３を透過状態に設定することができる。

　その場合、第１引き回し配線Ｌ１、第３引き回し配線Ｌ３、及び第６引き回し配線Ｌ６により第３非表示領域ＮＤＡ３に与える電圧の影響、並びに第２引き回し配線Ｌ２、第４引き回し配線Ｌ４、及び第５引き回し配線Ｌ５により第４非表示領域ＮＤＡ４に与える電圧の影響は、実質的にない。

　上記第２条件において、第１制御電圧の極性及び第２制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。すなわち、第１制御電圧の極性及び第２制御電圧の極性は逆極性である。第５制御電圧の極性及び第６制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。第３制御電圧及び第４制御電圧は、対向電圧と同一である。例えば、上記第２条件における任意の期間において、第３制御電圧、第４制御電圧、及び対向電圧はそれぞれ０Ｖであり、第１制御電圧及びは第５制御電圧はそれぞれ＋αＶであり、第２制御電圧及びは第６制御電圧はそれぞれ－αＶである。液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に設定することができる。

　その場合、第１引き回し配線Ｌ１及び第６引き回し配線Ｌ６は逆極性に設定され、第２引き回し配線Ｌ２及び第５引き回し配線Ｌ５は逆極性に設定される。そのため、第１引き回し配線Ｌ１の極性及び第６引き回し配線Ｌ６の極性が同一であり、第２引き回し配線Ｌ２の極性及び第５引き回し配線Ｌ５の極性が同一である場合と比較して、第３非表示領域ＮＤＡ３及び第４非表示領域ＮＤＡ４に及ぼし得る電圧の影響を抑制することができる。

　上記第３条件において、第１制御電圧の極性及び第２制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。第３制御電圧、第４制御電圧、第５制御電圧、及び第６制御電圧は、対向電圧と同一である。例えば、上記第３条件における任意の期間において、第３制御電圧、第４制御電圧、第５制御電圧、第６制御電圧、及び対向電圧はそれぞれ０Ｖであり、第１制御電圧は＋αＶであり、第２制御電圧は－αＶである。液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第３入射光制御領域ＴＡ３を透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に設定することができる。

　その場合、第３引き回し配線Ｌ３及び第６引き回し配線Ｌ６は０Ｖに設定され、第４引き回し配線Ｌ４及び第５引き回し配線Ｌ５は０Ｖに設定される。そのため、上記第３条件においても、引き回し配線Ｌが第３非表示領域ＮＤＡ３及び第４非表示領域ＮＤＡ４に及ぼし得る電圧の影響は小さい。

　上記第４条件において、第１制御電圧の極性及び第２制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。第５制御電圧の極性及び第６制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。第３制御電圧の極性及び第４制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。例えば、上記第４条件における任意の期間において、第１制御電圧、第３制御電圧、及びは第５制御電圧はそれぞれ＋αＶであり、第２制御電圧、第４制御電圧、及びは第６制御電圧はそれぞれ－αＶである。液晶パネルＰＮＬは、第１乃至第３入射光制御領域ＴＡ１乃至ＴＡ３を非透過状態に設定することができる。

　その場合、第１引き回し配線Ｌ１の極性、第３引き回し配線Ｌ３の極性、及び第６引き回し配線Ｌ６の極性は同一ではなく、第２引き回し配線Ｌ２の極性、第４引き回し配線Ｌ４の極性、及び第５引き回し配線Ｌ５の極性も同一ではない。そのため、上記極性が同一となる場合と比較して、第３非表示領域ＮＤＡ３及び第４非表示領域ＮＤＡ４に及ぼし得る電圧の影響を抑制することができる。

　上述したように、引き回し配線Ｌに起因した容量は、第３非表示領域ＮＤＡ３と第４非表示領域ＮＤＡ４とでバランスされている。例えば、第３非表示領域ＮＤＡ３及び第４非表示領域ＮＤＡ４に位置する回路への悪影響を抑制することができる。

　上記のように構成された第６の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、入射光制御領域ＰＣＡの光透過領域を制御可能な液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００を得ることができる。

　（第７の実施形態）
　次に、本第７の実施形態について説明する。図３５は、本第７の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡにおける走査線Ｇ及び信号線Ｓを示す平面図である。図３５において、走査線Ｇを実線で示し、信号線Ｓを破線で示し、第１遮光領域ＬＳＡ１の内周及び外周をそれぞれ二点鎖線で示している。なお、図３５では、説明に必要な構成のみを図示している。本第７の実施形態の電子機器１００は、入射光制御領域ＰＣＡにおける走査線Ｇ及び信号線Ｓの配線以外、上述した第１乃至第６の実施形態の何れかの実施形態の電子機器１００と同様に構成されている。

　図３５に示すように、複数の走査線Ｇは、表示領域ＤＡにおいて、６０乃至１８０μｍの間隔を置いて方向Ｙに並べられている。複数の信号線Ｓは、２０乃至６０μｍの間隔を置いて方向Ｘに並べられている。走査線Ｇ及び信号線Ｓは、それぞれ入射光制御領域ＰＣＡにおいても延在している。

　複数の走査線Ｇ及び複数の信号線Ｓのうち、第１入射光制御領域ＴＡ１に向かって表示領域ＤＡを延在する一以上の配線は、第１入射光制御領域ＴＡ１を迂回し、入射光制御領域ＰＣＡのうち第１遮光領域ＬＳＡ１を延在している。従って、第１遮光領域ＬＳＡ１（第１遮光部ＢＭ１）の外周の直径が６乃至７ｍｍの場合に、走査線Ｇで３０乃至１２０本、信号線Ｓで１００乃至３５０本が、第１入射光制御領域ＴＡ１を回避し、第１遮光部ＢＭ１に覆われる第１遮光領域ＬＳＡ１に配置される。そのため、表示領域ＤＡで囲まれる入射光制御領域ＰＣＡが存在しても、走査線Ｇ、信号線Ｓなどを良好に配線することができる。

　上記のように構成された第７の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、電子機器１００は上述した実施形態の電子機器１００と同様に構成されているため、上述した実施形態と同様の効果を得ることができる。

　（第８の実施形態）
　次に、本第８の実施形態について説明する。まず、液晶層ＬＣのギャップＧａと、透過率及び応答速度と、の関係について説明する。図３６は、本第８の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬにおいて、液晶層ＬＣのギャップＧａに対する光の透過率の変化と、ギャップＧａに対する液晶の応答速度の変化と、をグラフで示す図である。電子機器１００は、本第８の実施形態で説明する構成以外、上記第３の実施形態（図２０）と同様に構成されている。

　図３６に、図２０に示すギャップＧａと液晶の応答速度の関係を示す。ギャップＧａを狭くする程、液晶の応答速度が速くなることが分かる。なお、本明細書において、液晶の応答速度とは、液晶分子が初期配向から所定の状態に変移する速度を言い、いわゆる立ち上がり時の速度を言う。そこで、本第８の実施形態において、第２ギャップＧａ２を第１ギャップＧａ１未満としている（Ｇａ２＜Ｇａ１）。例示すると、第２ギャップＧａ２を第１ギャップＧａ１の半分とすることができる（Ｇａ２＝Ｇａ１／２）。

　これにより、表示領域ＤＡの表示液晶層ＬＣＩにおける液晶の応答速度より、入射光制御領域ＰＣＡの第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３の各々における液晶の応答速度を高くすることができる。例えば、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）を液晶シャッタとして機能させることができる。

　シャッタ速度は０．００１秒以下が求められる場合もあり、液晶シャッタとして機能するためには、制御電極ＲＬに電圧が印加されている時間は、画素電極ＰＥに電圧が印加される時間に比べて短くなる。従って、制御電極ＲＬに駆動される液晶の応答速度も速くすることが求められる。

　但し、第２ギャップＧａ２を狭くする程、入射光制御領域ＰＣＡにおける光の透過率は低くなるため留意する必要がある。　
　なお、第１ギャップＧａ１を狭くしてもよく、表示液晶層ＬＣＩにおける液晶の応答速度を高くすることができる。しかしながら、表示領域ＤＡにおける光の透過率は低くなり、表示画像が暗くなるため留意する必要がある。

　次に、液晶層ＬＣに印加する電圧と、応答速度と、の関係について説明する。図３７は、本第８の実施形態において、液晶層ＬＣに印加する電圧に対する液晶の応答速度の変化と、をグラフで示す図である。なお、図３７において、第２ギャップＧａ２を１．７μｍに設定している。

　図３７に示すように、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間の電位差を大きくする程、液晶の応答速度が高くなることが分かる。入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）を液晶シャッタとして機能させる場合、液晶の応答速度は１．０ｍｓ以下である方が望ましい。１．０ｍｓ以下の液晶の応答速度を得る場合、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に印加する電圧（電圧の絶対値）は１３Ｖ以上必要であることが分かる。

　例えば、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、それぞれ、透過状態から非透過状態に高速で変える場合、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３に１３Ｖ以上の電圧を印加すればよい。　
　なお、入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）を液晶シャッタとして機能させる場合、第１制御液晶層ＬＣ１に印加される電圧の絶対値、第２制御液晶層ＬＣ２に印加される電圧の絶対値、及び第３制御液晶層ＬＣ３に印加される電圧の絶対値は、それぞれ、表示液晶層ＬＣＩに印加される電圧の絶対値より高い。

　上記のことから、電圧によっても、表示領域ＤＡの表示液晶層ＬＣＩにおける液晶の応答速度より、入射光制御領域ＰＣＡの第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３の各々における液晶の応答速度を高くすることができる。

　液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）は、上記第４条件から第１条件を経て第４条件に戻すことにて、第１液晶シャッタとして機能することができる。液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、同時に、非透過状態から透過状態に切替えた後、非透過状態に戻すことで第１液晶シャッタを得ることができる。

　第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、上記のように透過状態から非透過状態に戻す際、液晶パネルＰＮＬは、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３に同時に１３Ｖ以上の電圧を、同時に印加し、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３を、同時に駆動するものである。

　液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）は、上記第４条件から第２条件を経て第４条件に戻すことにて、第２液晶シャッタとして機能することができる。液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に保持した状態で、第２入射光制御領域ＴＡ２を非透過状態から透過状態に切替えた後非透過状態に戻すことで第２液晶シャッタを得ることができる。第２液晶シャッタでは、絞りＤＰにピンホールとシャッタの機能を兼ね備えさせることが可能となっている。

　なお、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に保持する期間、第１制御液晶層ＬＣ１及び第３制御液晶層ＬＣ３に印加する電圧は、１３Ｖ未満であってもよい。例えば、非透過状態に保持するために第１制御液晶層ＬＣ１及び第３制御液晶層ＬＣ３に印加する上記電圧は、表示液晶層ＬＣＩに印加する電圧と、同一のレベルであってもよい。

　第２入射光制御領域ＴＡ２を、上記のように透過状態から非透過状態に戻す際、液晶パネルＰＮＬは、第２制御液晶層ＬＣ２に１３Ｖ以上の電圧を印加し、第２制御液晶層ＬＣ２を駆動するものである。

　液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）は、上記第４条件から第３条件を経て第４条件に戻すことにて、第３液晶シャッタとして機能することができる。液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に保持した状態で、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、同時に、非透過状態から透過状態に切替えた後、非透過状態に戻すことで第３液晶シャッタを得ることができる。第３液晶シャッタでは、絞りＤＰに入射光を絞る機能とシャッタの機能を兼ね備えさせることが可能となっている。

　なお、希望の画像を得るためには、絞りとシャッタスピードとを調節する必要があることから、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に保持する期間、第１制御液晶層ＬＣ１に印加する電圧は、１３Ｖ未満であってもよい。

　第２入射光制御領域ＴＡ２及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、上記のように透過状態から非透過状態に戻す際、液晶パネルＰＮＬは、第２制御液晶層ＬＣ２及び第３制御液晶層ＬＣ３に同時に１３Ｖ以上の電圧を、同時に印加し、第２制御液晶層ＬＣ２及び第３制御液晶層ＬＣ３を、同時に駆動するものである。

　上記のように、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）を液晶シャッタとして機能させることで、静止状態の被写体に限らず、動く被写体であっても良好に撮影することができる。液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、同心円状に光透過領域を制御しつつ、入射光制御領域ＰＣＡを液晶シャッタとして機能させることができる。

　上記のように構成された第８の実施形態に係る電子機器１００によれば、良好に撮影することが可能な電子機器１００を得ることができる。

　本第８の実施形態に示した技術は、他の実施形態にも適用可能である。例えば、本第８の実施形態の技術を上記第１実施形態に適用することができる。上記第１実施形態において、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡの方式は、ノーマリーブラック方式である。そのため、非透過状態から透過状態に切替える際に、液晶パネルＰＮＬは、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３に１３Ｖ以上の電圧を印加すればよい。

　なお、図９に示したように、直線状に延在した制御電極ＲＬを線状電極と称することができ、円環の形状を持つ給電配線ＣＬを環状配線と称することができる。　
　上述した絶縁層を絶縁膜と称することができる。　
　上述した入射光制御領域を入射光制限領域と称することができる。　
　上述した非表示領域ＮＤＡを周辺領域と称することができる。

　本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。必要に応じて、複数の実施形態を組合せることも可能である。

Claims (19)

1. 　液晶パネルと、
   　カメラと、を備え、
   　前記液晶パネルは、表示領域と、入射光制御領域を備え、
   　前記表示領域は画素電極を有し、
   　前記カメラは、前記入射光制御領域と重なり、
   　前記入射光制御領域は、環状配線と、前記環状配線の内側に形成され、前記環状配線に接続する制御電極とを有し、
   　前記画素電極に電圧が印加される時間より、前記制御電極に電圧が印加される時間が短い、電子機器。
2. 　前記入射光制御領域は、環状遮光部と、前記環状遮光部に外周が接する、環状入射光制御部を有し、
   　前記環状配線は前記環状遮光部に形成され、
   　前記制御電極は前記環状入射光制御部に形成される、請求項１に記載の電子機器。
3. 　前記液晶パネルは、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟まれた液晶層を有し、
   　前記表示領域は、前記第１基板と前記第２基板との間に第１ギャップを有し、
   　前記入射光制御領域は、前記第１基板と前記第２基板との間に第２ギャップを有し、
   　前記第２ギャップは、前記第１ギャップよりも小さい、請求項１に記載の電子機器。
4. 　前記入射光制御領域の液晶層に印加される電圧の絶対値は、
   　前記表示領域の液晶層に印加される電圧の絶対値より高い、請求項３に記載の電子機器。
5. 　前記環状配線は、第１環状配線と、前記第１環状配線の内側に隣接した第２環状配線と、を有する、請求項２に記載の電子機器。
6. 　前記制御電極は、
   　　前記第１環状配線と接続する第１制御電極と、
   　　前記第２環状配線と接続する第２制御電極とを有する、請求項５に記載の電子機器。
7. 　前記制御電極は、両端部で前記環状配線と接続する前記制御電極と、
   　一方の端部で前記環状配線と接続し、他方の端部は前記環状配線と接続しない前記制御電極とを有する、請求項１に記載の電子機器。
8. 　第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、を有する液晶パネルと、
   　カメラと、を備え、
   　前記液晶パネルは、画像を表示する表示領域と、入射光制御領域を有し、
   　前記表示領域は画素電極を有し、
   　外部からの光が前記入射光制御領域を通過して前記カメラに入射し、
   　前記入射光制御領域は、環状配線と、前記環状配線の内側に形成され、前記環状配線に接続する制御電極とを有し、
   　前記画素電極に電圧が印加される時間より、前記制御電極に電圧が印加される時間が短い、電子機器。
9. 　前記入射光制御領域は、環状遮光部と、前記環状遮光部に外周が接する、環状入射光制御部を有し、
   　前記環状配線は前記環状遮光部に形成され、
   　前記制御電極は前記環状入射光制御部に形成される、請求項８に記載の電子機器。
10. 　前記表示領域は、前記第１基板と前記第２基板との間に第１ギャップを有し、
    　前記入射光制御領域は、前記第１基板と前記第２基板との間に第２ギャップを有し、
    　前記第２ギャップは、前記第１ギャップよりも小さい、請求項８に記載の電子機器。
11. 　前記入射光制御領域の液晶層に印加される電圧の絶対値は、
    　前記表示領域の液晶層に印加される電圧の絶対値より高い、請求項１０に記載の電子機器。
12. 　前記環状配線は、第１環状配線と、前記第１環状配線の内側に隣接した第２環状配線と、を有する、
    　請求項９に記載の電子機器。
13. 　前記制御電極は、
    　　両端部で前記環状配線と接続する前記制御電極と、
    　　一方の端部で前記環状配線と接続し、他方の端部は前記環状配線と接続しない前記制御電極とを有する、請求項８に記載の電子機器。
14. 　液晶パネルと照明装置を有する液晶表示装置と、
    　前記照明装置に形成された開口に配置されたカメラを備え、
    　前記液晶パネルは、画像を表示する表示領域と、入射光制御領域を備え、
    　外部からの光が、前記入射光制御領域を通過し前記カメラに入射し、
    　前記表示領域は画素電極を有し、
    　前記入射光制御領域は、環状遮光部と、前記環状遮光部に外周が接する、環状入射光制御部を有し、
    　前記環状遮光部は環状配線を有し、
    　前記環状入射光制御部は、前記環状配線の内側に配置され、前記環状配線に接続する制御電極を有し、
    　前記画素電極に電圧が印加開始され終了するまでの時間より、前記制御電極に電圧が印加開始され終了するまでの時間が短い、電子機器。
15. 　前記液晶パネルは、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に挟まれた液晶層を有し、
    　前記表示領域は、前記第１基板と前記第２基板との間に第１ギャップを有し、
    　前記入射光制御領域は、前記第１基板と前記第２基板との間に第２ギャップを有し、
    　前記第２ギャップは、前記第１ギャップよりも小さい、請求項１４に記載の電子機器。
16. 　前記入射光制御領域の液晶層に印加される電圧の絶対値は、
    　前記表示領域の液晶層に印加される電圧の絶対値より高い、請求項１５に記載の電子機器。
17. 　前記環状配線は、第１環状配線と、前記第１環状配線の内側に隣接した第２環状配線と、を有する、請求項１５に記載の電子機器。
18. 　前記制御電極は、
    　　前記第１環状配線と接続する第１制御電極と、
    　　前記第２環状配線と接続する第２制御電極と、を有する、
    　請求項１７に記載の電子機器。
19. 　前記制御電極は、
    　　両端部で前記環状配線と接続する前記制御電極と、
    　　一方の端部で前記環状配線と接続し、他方の端部は前記環状配線と接続しない前記制御電極とを有する、請求項１４に記載の電子機器。

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