JP2022051425A - 電子機器及び表示装置 - Google Patents

電子機器及び表示装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2022051425A
JP2022051425A JP2020157904A JP2020157904A JP2022051425A JP 2022051425 A JP2022051425 A JP 2022051425A JP 2020157904 A JP2020157904 A JP 2020157904A JP 2020157904 A JP2020157904 A JP 2020157904A JP 2022051425 A JP2022051425 A JP 2022051425A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
region
incident light
liquid crystal
light control
crystal panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020157904A
Other languages
English (en)
Inventor
良朗 青木
Yoshiaki Aoki
昭雄 瀧本
Akio Takimoto
裕之 木村
Hiroyuki Kimura
美晴 松嶋
Miharu Matsushima
博人 仲戸川
Hiroto Nakatogawa
仁 田中
Hitoshi Tanaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Display Inc
Original Assignee
Japan Display Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Display Inc filed Critical Japan Display Inc
Priority to JP2020157904A priority Critical patent/JP2022051425A/ja
Publication of JP2022051425A publication Critical patent/JP2022051425A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Stroboscope Apparatuses (AREA)
  • Blocking Light For Cameras (AREA)
  • Camera Bodies And Camera Details Or Accessories (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

【課題】 良好に撮影することが可能な電子機器及び表示装置を提供する。【解決手段】 電子機器は、表示領域及び入射光制御領域ＰＣＡを有する液晶パネルと、撮像装置と、を備える。上記液晶パネルは、画素電極と、入射光制御領域ＰＣＡに位置した複数の電極と、を有する。上記複数の電極は、第１領域に位置した第１電極と、第２領域に位置した第２電極と、を有する。上記第２領域は、上記第１領域からずれて位置している。【選択図】図８７

Description

本発明の実施形態は、電子機器及び表示装置に関する。
近年、表示部及び受光部を同一面側に備えたスマートフォン等の電子機器が広く実用化されている。このような電子機器は、液晶パネルと、液晶パネルの外側に位置するカメラと、を備えている。上記のような電子機器において、鮮明な画像を撮影することが要望されている。
特開２０１７－４０９０８号公報 米国特許出願公開第２０１６／０１６１６６４号明細書 特開２０１８－９８７５８号公報
本実施形態は、良好に撮影することが可能な電子機器及び表示装置を提供する。
一実施形態に係る電子機器は、
表示領域及び入射光制御領域を有する液晶パネルと、
前記液晶パネルの前記入射光制御領域に重なって配置した撮像装置と、を備え、
前記液晶パネルは、前記表示領域に位置した画素電極と、前記入射光制御領域に位置した複数の電極と、を有し、
前記複数の電極は、前記入射光制御領域の第１領域に位置した第１電極と、第２領域に位置した第２電極と、を有し、
前記第２領域は、前記第１領域からずれて位置し、
平面視において、前記第１電極の面積及び前記第２電極の面積は、それぞれ、前記画素電極の面積より大きい。
また、一実施形態に係る電子機器は、
表示領域及び入射光制御領域を有する液晶パネルと、
前記液晶パネルの前記入射光制御領域に重なって配置した撮像装置と、を備え、
前記液晶パネルは、前記表示領域に位置した画素電極と、前記入射光制御領域に位置した複数の電極と、を有し、
前記入射光制御領域は、周方向に複数に分割された複数の第１分割領域を含む第１環状領域と、周方向に複数に分割された複数の第２分割領域を含み前記第１環状領域で囲まれた第２環状領域と、を有し、
前記複数の電極は、前記複数の第１分割領域及び前記複数の第２分割領域を含む複数の分割領域毎に独立して設けられ、前記複数の分割領域毎に電気的に独立し、
複数の分割領域のうち、一の分割領域、又は前記一の分割領域を含む隣合う複数の分割領域は、第１領域であり、
複数の分割領域のうち、他の一の分割領域、又は前記他の一の分割領域を含む隣合う複数の分割領域は、第２領域である。
また、一実施形態に係る電子機器は、
表示領域及び入射光制御領域を有する液晶パネルと、
前記液晶パネルの前記入射光制御領域に対向する第１撮像装置と、
前記液晶パネル及び前記第１撮像装置の駆動を制御する制御回路と、を備え、
前記液晶パネルは、前記入射光制御領域の透過状態及び非透過状態を制御し、
前記第１撮像装置は、前記入射光制御領域を透過した光の情報を取得し、
前記第１撮像装置で検出した光の情報は、前記第１撮像装置から前記被写体までの距離情報を含み、
前記制御回路は、前記第１撮像装置で取得した情報に基づいて、前記第１撮像装置から前記被写体までの距離を導出する。
また、一実施形態に係る表示装置は、
表示領域及び入射光制御領域を有する液晶パネルを備え、
前記液晶パネルは、前記表示領域に位置した画素電極と、前記入射光制御領域に位置した複数の電極と、を有し、
前記複数の電極は、前記入射光制御領域の第１領域に位置した第１電極と、第２領域に位置した第２電極と、を有し、
前記第２領域は、前記第１領域からずれて位置し、
平面視において、前記第１電極の面積及び前記第２電極の面積は、それぞれ、前記画素電極の面積より大きい。
図１は、第１の実施形態に係る電子機器の一構成例を示す分解斜視図である。 図２は、上記電子機器のカメラ周辺を示す断面図である。 図３は、図２に示した液晶パネル及び複数のカメラの配置等を示す平面図であり、一画素の等価回路を併せて示す図である。 図４は、上記液晶パネルにおける画素配列を示す平面図である。 図５は、上記液晶パネルの１個の単位画素を示す平面図であり、走査線、信号線、画素電極、及び遮光部を示す図である。 図６は、上記第１の実施形態と異なる主画素を示す平面図であり、走査線、信号線、画素電極、及び遮光部を示す図である。 図７は、図５に示した画素を含む液晶パネルを示す断面図である。 図８は、上記液晶パネルの入射光制御領域における遮光層を示す平面図である。 図９は、上記液晶パネルの複数の制御電極構造及び複数の引き回し配線を示す平面図である。 図１０は、上記液晶パネルの上記入射光制御領域を示す断面図である。 図１１は、上記液晶パネルが第１条件で駆動された場合の入射光制御領域を示す平面図である。 図１２は、第２の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの一部を示す断面図である。 図１３は、上記第２の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域における遮光層を示す平面図である。 図１４は、上記第２の実施形態に係る第１基板の複数の制御電極構造及び複数の引き回し配線を示す平面図である。 図１５は、上記第２の実施形態に係る第２基板の対向電極及び引き回し配線を示す平面図である。 図１６は、上記第２の実施形態の複数の第１制御電極、複数の第２制御電極、及び複数の線状対向電極を示す平面図である。 図１７は、図１６の線ＸＶＩＩ－ＸＶＩＩに沿った液晶パネルを示す断面図であり、絶縁基板、複数の第１制御電極、複数の第２制御電極、複数の線状対向電極、及び第１制御液晶層を示す図である。 図１８は、上記第２の実施形態の第３制御電極構造、及び第４制御電極構造を示す平面図である。 図１９は、図１８の線ＸＩＸ－ＸＩＸに沿った液晶パネルを示す断面図であり、絶縁基板、第３制御電極構造、第４制御電極構造、線状対向電極、及び第２制御液晶層を示す図である。 図２０は、上記第２の実施形態の第５制御電極構造及び第６制御電極構造を示す平面図である。
図２１は、図２０の線ＸＸＩ－ＸＸＩに沿った液晶パネルを示す断面図であり、絶縁基板、複数の第５制御電極、複数の第６制御電極、複数の線状対向電極、及び第３制御液晶層を示す図である。 図２２は、第３の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの第１制御電極構造及び第２制御電極構造を示す平面図である。 図２３は、上記第３の実施形態に係る第３制御電極構造、第４制御電極構造、第５制御電極、第６制御電極、第３引き回し配線、及び第４引き回し配線を示す平面図である。 図２４は、第４の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの第１制御電極構造及び第２制御電極構造を示す平面図である。 図２５は、上記第４の実施形態に係る第３制御電極構造、第４制御電極構造、第５制御電極構造、第６制御電極構造、第３引き回し配線、及び第４引き回し配線を示す平面図である。 図２６は、第５の実施形態に係る電子機器の液晶パネルを示す平面図である。 図２７は、第６の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの入射光制御領域における走査線及び信号線を示す平面図である。 図２８は、第７の実施形態に係る電子機器の液晶パネルにおいて、液晶層のギャップに対する光の透過率の変化と、上記ギャップに対する液晶の応答速度の変化と、をグラフで示す図である。 図２９は、上記第７の実施形態において、液晶層に印加する電圧に対する液晶の応答速度の変化をグラフで示す図である。 図３０は、第８の実施形態に係る電子機器の液晶パネル及び複数のカメラの配置等を示す平面図である。 図３１は、上記第８の実施形態に係る液晶パネルの一部及びカメラを示す平面図である。 図３２は、第９の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図３３は、上記第９の実施形態の液晶パネルの複数の制御電極構造を示す平面図であり、第２入射光制御領域、第７入射光制御領域、及び第６入射光制御領域のそれぞれの一部の領域を示す図である。 図３４は、上記第９の実施形態の液晶パネルの一部を示す断面図であり、第２入射光制御領域、第７入射光制御領域、及び第６入射光制御領域を示す図である。 図３５は、上記第９の実施形態の液晶パネルの複数の制御電極構造を示す平面図であり、第５入射光制御領域、第４入射光制御領域、第３入射光制御領域、及び第１入射光制御領域のそれぞれの一部の領域を示す図である。 図３６は、第１０の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの複数の制御電極構造を示す平面図であり、第２入射光制御領域、第７入射光制御領域、及び第６入射光制御領域のそれぞれの一部の領域を示す図である。 図３７は、上記第１０の実施形態の液晶パネルの一部を示す断面図であり、第２入射光制御領域、第７入射光制御領域、及び第６入射光制御領域を示す図である。 図３８は、上記第１０の実施形態の液晶パネルの一部の変形例を示す断面図であり、第２入射光制御領域、第７入射光制御領域、及び第６入射光制御領域を示す図である。 図３９は、第１１の実施形態に係る電子機器の一部を示す断面図であり、入射光制御領域の周辺を示す図である。 図４０は、第１２の実施形態に係る電子機器の一部を示す断面図であり、２つの入射光制御領域の周辺を示す図である。
図４１は、第１３の実施形態に係る電子機器を示すブロック図である。 図４２は、上記第１３の実施形態に係る電子機器の一構成例を示す分解斜視図である。 図４３は、上記第１３の実施形態に係る電子機器の液晶パネルを示す平面図である。 図４４は、上記第１３の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、絞りを最大に開いた状態を示す図である。 図４５は、上記第１３の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、絞りを最大に開いた状態と最小に絞った状態の中間の状態を示す図である。 図４６は、上記第１３の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、絞りを最小に絞った状態を示す図である。 図４７は、上記第１３の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、絞りを閉じた状態を示す図である。 図４８は、上記第１３の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、第１領域が非透過状態に設定され、入射光制御領域のうち第１領域以外の領域が透過状態に設定されている図である。 図４９は、上記第１３の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、第２領域が非透過状態に設定され、入射光制御領域のうち第２領域以外の領域が透過状態に設定されている図である。 図５０は、上記第１３の実施形態の実施例１に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図５１は、図５０の液晶パネルの第１入射光制御領域を示す拡大平面図であり、第１線状電極及び第２線状電極を示す図である。 図５２は、図５０の液晶パネルの第２入射光制御領域を示す拡大平面図であり、第３線状電極及び第４線状電極を示す図である。 図５３は、上記第１３の実施形態の実施例２に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図５４は、上記第１３の実施形態の実施例３に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図５５は、上記第１３の実施形態の実施例４に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図５６は、上記第１３の実施形態の実施例５に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図５７は、上記第１３の実施形態の実施例６に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図５８は、上記第１３の実施形態の実施例７に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図５９は、上記第１３の実施形態の実施例８に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図６０は、上記第１３の実施形態の実施例９に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。
図６１は、上記第１３の実施形態の実施例１０に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図６２は、上記実施例１０に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、複数の電極及び複数の配線を示す図である。 図６３は、上記実施例１０に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、複数の配線の変形例を示す図である。 図６４は、上記実施例１０に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、第１領域が非透過状態に設定され、入射光制御領域のうち第１領域以外の領域が透過状態に設定されている図である。 図６５は、上記実施例１０に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、第２領域が非透過状態に設定され、入射光制御領域のうち第２領域以外の領域が透過状態に設定されている図である。 図６６は、上記第１３の実施形態の実施例１１に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図６７は、上記第１３の実施形態の実施例１２に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図６８は、上記第１３の実施形態の実施例１３に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図６９は、上記第１３の実施形態の実施例１４に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図７０は、上記第１３の実施形態の実施例１５に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、入射光制御領域に非透過状態及び中間調の第１領域が設定されている図である。 図７１は、上記実施例１５に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、入射光制御領域に非透過状態及び中間調の第２領域が設定されている図である。 図７２は、上記第１３の実施形態の実施例１６に係る液晶パネルの入射光制御領域、非表示領域等を示す平面図であり、複数の入射光制御領域、複数の走査線、複数の信号線、走査線駆動回路、及び信号線駆動回路を示す図である。 図７３は、上記実施例１６に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、複数の入射光制御領域を示す図である。 図７４は、上記第１３の実施形態の実施例１７に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図７５は、上記第１３の実施形態の実施例１８に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図７６は、上記第１３の実施形態の実施例１９に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図７７は、上記第１３の実施形態の実施例２０に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図７８は、上記第１３の実施形態の実施例２１に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図７９は、上記第１３の実施形態の実施例２２に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図８０は、上記第１３の実施形態の実施例２３に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。
図８１は、上記第１３の実施形態の実施例２４に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図８２は、上記実施例２４に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、第１領域が非透過状態に設定され、入射光制御領域のうち第１領域以外の領域が透過状態に設定されている図である。 図８３は、上記実施例２４に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、第２領域が非透過状態及び中間調に設定され、入射光制御領域のうち第２領域以外の領域が透過状態に設定されている図である。 図８４は、上記第１３の実施形態の実施例２５に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図８５は、上記第１３の実施形態の実施例２６に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図８６は、上記第１３の実施形態の実施例２７に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図８７は、第１４の実施形態に係る電子機器の液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図８８は、上記第１４の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、第１領域が非透過状態に設定され、入射光制御領域のうち第１領域以外の領域が透過状態に設定されている図である。 図８９は、上記第１４の実施形態に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図であり、第２領域が非透過状態に設定され、入射光制御領域のうち第２領域以外の領域が透過状態に設定されている図である。 図９０は、上記第１４の実施形態の変形例１に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図９１は、上記第１４の実施形態の変形例２に係る液晶パネルの入射光制御領域を示す平面図である。 図９２は、第１５の実施形態に係る電子機器の一部を示す断面図であり、撮像素子、光学系のレンズ、及び液晶パネルを示す図である。 図９３は、上記第１５の実施形態の変形例に係る電子機器の一部を示す断面図であり、撮像素子、光学系のレンズ、及び液晶パネルを示す図である。 図９４は、第１６の実施形態に係るカメラモジュールを示す断面図である。 図９５は、上記第１６の実施形態の変形例に係るカメラモジュールを示す断面図である。 図９６は、上記電子機器をユーザが操作している様子を説明するための図である。
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
（第１の実施形態）
まず、本第１の実施形態について説明する。図１は、本第１の実施形態の電子機器１００の一構成例を示す分解斜視図である。
図１に示すように、方向Ｘ、方向Ｙ、及び方向Ｚは、互いに直交しているが、９０度以外の角度で交差していてもよい。
電子機器１００は、表示装置としての液晶表示装置ＤＳＰと、カメラ１と、を備えている。液晶表示装置ＤＳＰは、表示パネルとしての液晶パネルＰＮＬと、照明装置（バックライト）ＩＬと、を備えている。カメラ１は、第１カメラとしてのカメラ（カメラモジュール）１ａを有している。本実施形態において、第２カメラとしてのカメラ１ｂの全てを図示していないが、電子機器１００は、２個のカメラ１ｂをさらに備えている。なお、カメラ１は、カメラ１ａのみ含んでもよい。
照明装置ＩＬは、導光体ＬＧ１と、光源ＥＭ１と、ケースＣＳと、を備えている。このような照明装置ＩＬは、例えば、図１において破線で簡略化して示す液晶パネルＰＮＬを照明するものである。
導光体ＬＧ１は、方向Ｘ及び方向Ｙによって規定されるＸ－Ｙ平面と平行な平板状に形成されている。導光体ＬＧ１は液晶パネルＰＮＬに対向している。導光体ＬＧ１は、側面ＳＡと、側面ＳＡの反対側の側面ＳＢと、カメラ１ａを囲んだ貫通孔ｈ１と、を有している。導光体ＬＧ１は、複数のカメラ１ｂと対向している。側面ＳＡ及びＳＢはそれぞれ方向Ｘに沿って延出している。例えば、側面ＳＡ及びＳＢは、方向Ｘ及び方向Ｚによって規定されるＸ－Ｚ平面と平行な面である。貫通孔ｈ１は、導光体ＬＧ１を方向Ｚに沿って貫通している。貫通孔ｈ１は、方向Ｙにおいて、側面ＳＡ及びＳＢとの間に位置し、側面ＳＡよりも側面ＳＢに近接している。
複数の光源ＥＭ１は、方向Ｘに間隔を置いて並んでいる。各々の光源ＥＭ１は、配線基板Ｆ１に実装され、配線基板Ｆ１と電気的に接続されている。光源ＥＭ１は、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）であり、白色の照明光を出射する。光源ＥＭ１から出射される照明光は、側面ＳＡから導光体ＬＧ１へ入射し、側面ＳＡから側面ＳＢに向かって導光体ＬＧ１の内部を進行する。
ケースＣＳは、導光体ＬＧ１及び光源ＥＭ１を収容している。ケースＣＳは、側壁Ｗ１乃至Ｗ４と、底板ＢＰと、貫通孔ｈ２と、突部ＰＰと、貫通孔ｈ３と、を有している。側壁Ｗ１及びＷ２は、方向Ｘに延出し、方向Ｙに対向している。側壁Ｗ３及びＷ４は、方向Ｙに延出し、方向Ｘに対向している。貫通孔ｈ２は、方向Ｚにおいて、貫通孔ｈ１に重なっている。突部ＰＰは、底板ＢＰに固定されている。突部ＰＰは、方向Ｚに沿って底板ＢＰから液晶パネルＰＮＬに向かって突出し、貫通孔ｈ２を囲んでいる。
本実施形態において、ケースＣＳは、カメラ１ｂと同数の２個の貫通孔ｈ３を有している。貫通孔ｈ３は、方向Ｚに底板ＢＰを貫通して形成されている。平面視において、複数の貫通孔ｈ３は、貫通孔ｈ２とともに分散して設けられている。また、底板ＢＰが赤外光を透過する材料で形成されている場合、貫通孔ｈ３は底板ＢＰに形成されていなくともよい。その他、電子機器１００の方向Ｚの厚みを低減する観点から、底板ＢＰに貫通孔ｈ３を形成し、貫通孔ｈ３によってカメラ１ｂを囲んだ方が望ましい。
導光体ＬＧ１は、液晶パネルＰＮＬに重なっている。
カメラ１ａ，１ｂは、配線基板Ｆ２に実装され、配線基板Ｆ２と電気的に接続されている。カメラ１ａは、貫通孔ｈ２、突部ＰＰの内部、及び貫通孔ｈ１を通り、液晶パネルＰＮＬと対向している。カメラ１ｂは、貫通孔ｈ３を通り導光体ＬＧ１と対向している。
図２は、電子機器１００のカメラ１ａ周辺を示す断面図である。
図２に示すように、照明装置ＩＬは、さらに、光反射シートＲＳ、光拡散シートＳＳ、並びにプリズムシートＰＳ１，ＰＳ２を備えている。
光反射シートＲＳ、導光体ＬＧ１、光拡散シートＳＳ、プリズムシートＰＳ１、及びプリズムシートＰＳ２は、方向Ｚに順に配置され、ケースＣＳに収容されている。ケースＣＳは、金属製のケースＣＳ１と、周辺部材としての樹脂製の遮光壁ＣＳ２とを備えている。遮光壁ＣＳ２は、カメラ１と隣合い、ケースＣＳ１とともに突部ＰＰを形成している。遮光壁ＣＳ２は、カメラ１と導光体ＬＧ１と間に位置し筒状の形状を持っている。遮光壁ＣＳ２は、黒色樹脂など、光を吸収する樹脂で形成されている。光拡散シートＳＳ、プリズムシートＰＳ１、及びプリズムシートＰＳ２は、それぞれ、貫通孔ｈ１に重ねられた貫通孔を有している。突部ＰＰは、貫通孔ｈ１の内側に位置している。
液晶パネルＰＮＬは、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２をさらに有している。液晶パネルＰＮＬ及びカバー部材としてのカバーガラスＣＧは、方向Ｚに配置され、方向Ｚに進行する光に対して、光学的なスイッチ機能を備えた液晶素子ＬＣＤを構成している。液晶素子ＬＣＤは、粘着テープＴＰ１により照明装置ＩＬに張り付けられている。粘着テープＴＰ１は、突部ＰＰ、プリズムシートＰＳ２、及び偏光板ＰＬ１に粘着されている。
液晶パネルＰＮＬは、基板主面に沿った横電界を利用する表示モード、基板主面の法線に沿った縦電界を利用する表示モード、基板主面に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モード、さらには、上記の横電界、縦電界、及び傾斜電界を適宜組み合わせて利用する表示モードに対応したいずれの構成を備えていてもよい。ここでの基板主面とは、Ｘ－Ｙ平面に平行な面である。
液晶パネルＰＮＬは、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの外側の非表示領域ＮＤＡと、表示領域ＤＡに囲まれ円形の形状を持つ入射光制御領域ＰＣＡと、を備えている。液晶パネルＰＮＬは、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２と、液晶層ＬＣと、シール材ＳＥと、を備えている。シール材ＳＥは、非表示領域ＮＤＡに位置し、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とを接合している。液晶層ＬＣは、表示領域ＤＡ及び入射光制御領域ＰＣＡに位置し、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との間に保持されている。液晶層ＬＣは、第１基板ＳＵＢ１、第２基板ＳＵＢ２、及びシール材ＳＥで囲まれた空間に形成されている。
照明装置ＩＬから照射された光の透過量を液晶パネルＰＮＬで制御することで、表示領域ＤＡには画像が表示される。電子機器１００の使用者はカバーガラスＣＧの方向Ｚ側（図中上側）に位置し、液晶パネルＰＮＬからの出射光を画像として観ることになる。
対して、入射光制御領域ＰＣＡにおいても液晶パネルＰＮＬによって光の透過量が制御されるが、光はカバーガラスＣＧの方向Ｚ側から液晶パネルＰＮＬを経てカメラ１に入射する。
本明細書では、照明装置ＩＬから液晶パネルＰＮＬを経てカバーガラスＣＧ側に向かう光を出射光と呼び、カバーガラスＣＧ側から液晶パネルＰＮＬを経てカメラ１に向かう光を入射光と呼ぶ。
ここで、第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２の主要部について説明する。
第１基板ＳＵＢ１は、絶縁基板１０と、配向膜ＡＬ１と、を備えている。第２基板ＳＵＢ２は、絶縁基板２０と、カラーフィルタＣＦと、遮光層ＢＭと、透明層ＯＣと、配向膜ＡＬ２と、を備えている。
絶縁基板１０及び絶縁基板２０は、ガラス基板や可撓性の樹脂基板などの透明基板である。配向膜ＡＬ１，ＡＬ２は、液晶層ＬＣに接している。
カラーフィルタＣＦ、遮光層ＢＭ、及び透明層ＯＣは、絶縁基板２０と液晶層ＬＣとの間に位置している。なお、図示した例では、カラーフィルタＣＦは、第２基板ＳＵＢ２に設けられているが、第１基板ＳＵＢ１に設けられてもよい。カラーフィルタＣＦは、表示領域ＤＡに位置している。
入射光制御領域ＰＣＡは、少なくとも、最外周に位置し円環の形状を持つ第１遮光領域ＬＳＡ１と、第１遮光領域ＬＳＡ１で囲まれ第１遮光領域ＬＳＡ１に接した第１入射光制御領域ＴＡ１と、を有している。
遮光層ＢＭは、表示領域ＤＡに位置し画素を区画する遮光部と、非表示領域ＮＤＡに位置した枠状の遮光部ＢＭＢと、を含んでいる。入射光制御領域ＰＣＡにおいて、遮光層ＢＭは、少なくとも、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し円環の形状を持つ第１遮光部ＢＭ１と、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置した第１開口ＯＰ１と、を含んでいる。
表示領域ＤＡと非表示領域ＮＤＡとの境界は、例えば、遮光部ＢＭＢの内端（表示領域ＤＡ側の端部）によって規定されている。シール材ＳＥは、遮光部ＢＭＢに重なっている。
透明層ＯＣは、表示領域ＤＡにおいてはカラーフィルタＣＦに接し、非表示領域ＮＤＡにおいては遮光部ＢＭＢに接し、第１遮光領域ＬＳＡ１においては第１遮光部ＢＭ１に接し、第１入射光制御領域ＴＡ１においては絶縁基板２０に接している。配向膜ＡＬ１及び配向膜ＡＬ２は、表示領域ＤＡ、入射光制御領域ＰＣＡ、及び非表示領域ＮＤＡにわたって設けられている。
カラーフィルタＣＦの詳細については、ここでは省略するが、カラーフィルタＣＦは、例えば、赤画素に配置される赤色の着色層、緑画素に配置される緑色の着色層、及び青画素に配置される青色の着色層を備えている。また、カラーフィルタＣＦは、白画素に配置される透明樹脂層を備えている場合もある。透明層ＯＣは、カラーフィルタＣＦ及び遮光層ＢＭを覆っている。透明層ＯＣは、例えば、透明な有機絶縁層である。
カメラ１は、ケースＣＳの貫通孔ｈ２の内部に位置している。カメラ１は、方向Ｚにおいて、カバーガラスＣＧ及び液晶パネルＰＮＬに重なっている。なお、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにて、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２以外の光学シートをさらに備えてもよい。上記光学シートとしては、位相差板、光散乱層、光反射防止層などが挙げられる。液晶パネルＰＮＬ、カメラ１ａなどを有する電子機器１００において、電子機器１００の使用者からみて、カメラ１ａは、液晶パネルＰＮＬの奥側に設けられている。
カメラ１ａは、例えば、少なくとも一つのレンズを含む光学系２と、撮像素子（イメージセンサ）３と、ケース４と、を備えている。撮像素子３は、液晶パネルＰＮＬ側を向いた撮像面３ａを含んでいる。光学系２は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡに対向している。光学系２は、撮像面３ａと液晶パネルＰＮＬとの間に位置し、液晶パネルＰＮＬ側を向いた入光面２ａを含んでいる。入光面２ａは、入射光制御領域ＰＣＡに重なっている。光学系２は、液晶パネルＰＮＬに隙間を空けて位置している。ケース４は、光学系２及び撮像素子３を収容している。
ケース４の上部には第１光源としての光源ＥＭ２と、第２光源としての光源ＥＭ３と、が配置されている。光源ＥＭ２は、液晶パネルＰＮＬ側に赤外光を出射するように構成されている。光源ＥＭ３は、液晶パネルＰＮＬ側に可視光を出射するように構成されている。光源ＥＭ２，ＥＭ３はカメラ１ａで撮影する被写体を照明する目的で設けられている。
カメラ１ａの撮像素子３は、カバーガラスＣＧ、液晶パネルＰＮＬ、及び光学系２を介して受光する。撮像素子３は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ、光学系２等を透過した光を画像データに変換するように構成されている。例えば、カメラ１ａは、カバーガラスＣＧ及び液晶パネルＰＮＬを透過した可視光（例えば、４００ｎｍ乃至７００ｎｍの波長範囲の光）を受光する。また、可視光と同時に赤外光（例えば、８００ｎｍ乃至１５００ｎｍの波長範囲の光）を受光することも可能である。
なお、カメラ１ｂは、光源ＥＭ３を有していない点でカメラ１ａと相違している。カメラ１ｂは、貫通孔ｈ３（図１）を通り、光反射シートＲＳと対向している。カメラ１ｂは、カバーガラスＣＧ、液晶パネルＰＮＬ、プリズムシートＰＳ２、プリズムシートＰＳ１、光拡散シートＳＳ、導光体ＬＧ１、光反射シートＲＳ、及び光学系２を介して赤外光を受光することができる。反射シートＲＳは、ＩＲセンサに重なった位置で光反射シートに孔が開いている。但し、光反射シートがＩＲ透過できる程度の薄膜である場合は、光反射シートに孔が開いていなくともよく、光反射シートを透過した赤外光をＩＲセンサで受光してもよい。その場合、画像の視認性への悪影響を低減することができる。また、カメラ１ｂを、カメラ１ａ同様に、導光体ＬＧ１の貫通孔ｈ１及び底板ＢＰの貫通孔ｈ２に収納することもできる。
偏光板ＰＬ１は、絶縁基板１０に接着されている。偏光板ＰＬ２は、絶縁基板２０に接着されている。カバーガラスＣＧは、透明接着層ＡＤによって偏光板ＰＬ２に張り付けられている。
また、液晶層ＬＣが外部からの電界等の影響を受けないようにするため、偏光板ＰＬ２と絶縁基板２０との間に透明導電層を設ける場合がある。上記透明導電層は、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）等の透明な導電材料で形成されている。
また、偏光板ＰＬ１または偏光板ＰＬ２に、超複屈折フィルムを含めることも可能である。超複屈折フィルムは、直線偏光が入射したときに透過光を非偏光化（自然光化）することが知られており、被写体に偏光を発するものが含まれていても違和感なく撮影が可能となる。例えば、カメラ１ａの被写体に電子機器１００等が映り込んだ場合に、電子機器１００からは直線偏光が出射されているので、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２と、被写体となっている電子機器１００の偏光板との角度との関係で、カメラ１ａに入射する被写体の電子機器１００の明るさが変化し、撮影時に違和感を生ずるおそれがある。しかしながら、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２に超複屈折フィルムを備えることで、違和感を生じさせる明るさの変化を抑えることが可能である。
超複屈折性を示すフィルムとしては、例えば東洋紡（株）のコスモシャイン（登録商標）などが好適に用いられる。ここで超複屈折性とは、可視域、例えば５００ｎｍの光に対する面内方向のリタデーションが８００ｎｍ以上のものを言う。
液晶パネルＰＮＬは、画像を表示する側の第１面Ｓ１と、第１面Ｓ１とは反対側の第２面Ｓ２と、を有している。本実施形態において、偏光板ＰＬ２は第１面Ｓ１を有し、偏光板ＰＬ１は第２面Ｓ２を有している。
光源ＥＭ２，ＥＭ３は、液晶パネルＰＮＬの第２面Ｓ２側に位置している。
表示領域ＤＡ、入射光制御領域ＰＣＡ、及び後述する出射光制御領域ＩＣＡは、それぞれ第１基板ＳＵＢ１、第２基板ＳＵＢ２、及び液晶層ＬＣに重なった領域である。
図２に示した照明装置ＩＬ及びカメラは後述する各実施形態における液晶パネルＰＮＬに適用できる。
図３は、図２に示した液晶パネルＰＮＬ及び複数のカメラ１ａ，１ｂの配置等を示す平面図であり、一画素ＰＸの等価回路を併せて示す図である。図３において、液晶層ＬＣ及びシール材ＳＥを、異なる斜線を付して示している。
図３に示すように、表示領域ＤＡは、実質的に四角形の領域であるが、４つの角が丸みを有していてもよく、四角形以外の多角形や円形であってもよい。表示領域ＤＡは、シール材ＳＥで囲まれている。
液晶パネルＰＮＬは、方向Ｘに沿って延出した一対の短辺Ｅ１１及びＥ１２と、方向Ｙに沿って延出した一対の長辺Ｅ１３及びＥ１４と、を有している。液晶パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて、方向Ｘ及び方向Ｙにマトリクス状に配列された複数の画素ＰＸを備えている。表示領域ＤＡにおける各画素ＰＸは、同一の回路構成を有している。図３において拡大して示すように、各画素ＰＸは、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、共通電極ＣＥ、液晶層ＬＣ等を備えている。
スイッチング素子ＳＷは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）によって構成されている。スイッチング素子ＳＷは、複数の走査線Ｇのうち対応する一の走査線Ｇと、複数の信号線Ｓのうち対応する一の信号線Ｓと、画素電極ＰＥと、に電気的に接続されている。走査線Ｇには、スイッチング素子ＳＷを制御するための制御信号が与えられる。信号線Ｓには、制御信号とは異なる信号として、映像信号などの画像信号が与えられる。共通電極ＣＥには、コモン電圧が与えられる。液晶層ＬＣは、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電圧（電界）によって駆動されている。容量ＣＰは、例えば、共通電極ＣＥと同電位の電極と、画素電極ＰＥと同電位の電極と、の間に形成される。
電子機器１００は、配線基板５及びＩＣチップ６をさらに備えている。
配線基板５は、第１基板ＳＵＢ１の延出部Ｅｘに実装され、延出部Ｅｘに連結されている。ＩＣチップ６は、配線基板５に実装され、配線基板５に電気的に接続されている。なお、ＩＣチップ６は、延出部Ｅｘに実装され、延出部Ｅｘに電気的に接続されてもよい。ＩＣチップ６は、例えば、画像表示に必要な信号を出力するディスプレイドライバなどを内蔵している。配線基板５は、折り曲げ可能なフレキシブルプリント回路基板であってもよい。
図３において、電子機器１００は表示領域ＤＡ内にカメラ１を３台備えている。その中で、図中、上部中央のカメラ１ａに重ねて入射光制御領域ＰＣＡが形成されている。なお、入射光制御領域ＰＣＡは、表示領域ＤＡに接した外周を含んでいる。その他のカメラ１ｂには通常の画素ＰＸが重なっており、カメラ１ｂと重なる画素ＰＸでは通常の表示が行われる。
偏光板ＰＬ１と偏光板ＰＬ２とは、赤外光の波長領域での透過率が高く、赤外光を透過するため、画素ＰＸとカメラ１ａ，１ｂが重なっていても、カメラ１ａ，１ｂでは赤外光を受光することが可能である。カメラ１ｂと重なる画素ＰＸで通常の表示を行うことにより、使用者はカメラ１ｂの位置を意識することなく電子機器１００を使用することが可能となる。また、表示領域ＤＡの面積が減少しないため多数のカメラ１ｂの配置が可能となる。また、多数のカメラ１ｂが配置されていることを使用者に意識させることもない。特に、電子機器１００を現金自動預け入れ払い出し機（ＡＴＭ）等で使用する場合には、カメラ１ｂを黒表示に固定された部分に配置することで、より使用者にカメラ１ｂの存在を認識させ難くすることが可能である。
符号３００はインジケータで、使用者にカメラ１ａ，１ｂの状態を直観的に通知することが可能である。例えば、指紋認証の場合などに指の最適な位置をインジケータ３００で使用者に通知可能である。また、矢印４００は、あえてカメラ１ｂの位置を使用者に通知する場合に表示する印（マーク）である。表示する図形は矢印４００だけではなく、カメラ１ｂの周辺を円形に囲むなど、適切な形状を選ぶことが可能である。
図４は、液晶パネルＰＮＬにおける画素ＰＸの配列を示す平面図である。
図４に示すように、各々の主画素ＭＰＸは、複数の画素ＰＸで構成されている。複数の主画素ＭＰＸは、２種類の主画素ＭＰＸａ，ＭＰＸｂに分類される。方向Ｙに隣合う２個の主画素ＭＰＸａ，ＭＰＸｂは、単位画素ＵＰＸを構成している。主画素ＭＰＸａ，ＭＰＸｂは、それぞれカラー画像を表示するための最小単位に相当する。主画素ＭＰＸａは、画素ＰＸ１ａ、画素ＰＸ２ａ、及び画素ＰＸ３ａを含んでいる。主画素ＭＰＸｂは、画素ＰＸ１ｂ、画素ＰＸ２ｂ、及び画素ＰＸ３ｂを含んでいる。また、上記の画素ＰＸの形状は、図示したような略平行四辺形である。
主画素ＭＰＸａ及び主画素ＭＰＸｂは、それぞれ方向Ｘに並んだ複数色の画素ＰＸを含んでいる。画素ＰＸ１ａ及び画素ＰＸ１ｂは、第１色の画素であり、第１色の着色層ＣＦ１を備えている。画素ＰＸ２ａ及び画素ＰＸ２ｂは、第１色とは異なる第２色の画素であり、第２色の着色層ＣＦ２を備えている。画素ＰＸ３ａ及び画素ＰＸ３ｂは、第１色及び第２色とは異なる第３色の画素であり、第３色の着色層ＣＦ３を備えている。
主画素ＭＰＸａ及び主画素ＭＰＸｂは、それぞれ方向Ｘに繰り返し配置されている。方向Ｘに並ぶ主画素ＭＰＸａの行と、方向Ｘに並ぶ主画素ＭＰＸｂの行は、方向Ｙに交互に繰り返し配置されている。主画素ＭＰＸａの各々の画素ＰＸは第１延在方向ｄ１に延在し、主画素ＭＰＸｂの各々の画素ＰＸは第２延在方向ｄ２に延在している。なお、第１延在方向ｄ１は、方向Ｘ及び方向Ｙと異なる方向である。第２延在方向ｄ２は、方向Ｘ、方向Ｙ、及び第１延在方向ｄ１と異なる方向である。図５に示した例において、第１延在方向ｄ１は右斜め下方向であり、第２延在方向ｄ２は左斜め下方向である。
画素ＰＸの形状が図示したような略平行四辺形の場合、ダイレクタの回転方向が互いに異なる複数のドメインを単位画素ＵＰＸに設定することができる。すなわち、２個の主画素ＭＰＸａ，ＭＰＸｂを組み合わせることにより、各色の画素に関しても多くのドメインを形成することが可能となり、視野角特性に関して補償することができる。このため、視野角特性に注目すると、主画素ＭＰＸａ及び主画素ＭＰＸｂの組み合わせた１個の単位画素ＵＰＸが、カラー画像を表示するための最小単位に相当する。
図５は、液晶パネルＰＮＬの１個の単位画素ＵＰＸを示す平面図であり、走査線Ｇ、信号線Ｓ、画素電極ＰＥ、及び遮光部ＢＭＡを示す図である。なお、図５では、説明に必要な構成のみを図示しており、スイッチング素子ＳＷ、共通電極ＣＥ、カラーフィルタＣＦなどの図示を省略している。
図５に示すように、複数の画素ＰＸは、横電界を利用する表示モードの一つであるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードに対応した構成を有している。走査線Ｇ及び信号線Ｓは、上記の第１基板ＳＵＢ１に配置される一方で、遮光部ＢＭＡ（遮光層ＢＭ）は、上記の第２基板ＳＵＢ２に配置される。走査線Ｇ及び信号線Ｓは、互いに交差して表示領域（ＤＡ）を延在している。なお、遮光部ＢＭＡは、表示領域ＤＡに位置し画素ＰＸを区画する格子状の遮光部であり、図中に二点鎖線で示されている。
遮光部ＢＭＡは、少なくとも上述した照明装置（ＩＬ）から照射される光を遮蔽する機能を有している。遮光部ＢＭＡは、黒色の樹脂などの光吸収率の高い材料で形成されている。遮光部ＢＭＡは格子状に形成されている。遮光部ＢＭＡは、方向Ｘに延在した複数の遮光部ＢＭＡ１と、第１延在方向ｄ１及び第２延在方向ｄ２に沿って屈曲しつつ延在した複数の遮光部ＢＭＡ２と、が一体となって形成されている。
各々の走査線Ｇは、方向Ｘに延在している。各々の走査線Ｇは、対応する遮光部ＢＭＡ１と対向し、対応する遮光部ＢＭＡ１に沿って延在している。遮光部ＢＭＡ１は、走査線Ｇ、画素電極ＰＥの端部などと対向している。各々の信号線Ｓは、方向Ｙ、第１延在方向ｄ１、及び第２延在方向ｄ２に沿って屈曲しつつ延在している。各々の信号線Ｓは、対応する遮光部ＢＭＡ２と対向し、対応する遮光部ＢＭＡ２に沿って延在している。
遮光層ＢＭは、複数の開口領域ＡＰを有している。開口領域ＡＰは、遮光部ＢＭＡ１及び遮光部ＢＭＡ２によって区画されている。主画素ＭＰＸａの開口領域ＡＰは、第１延在方向ｄ１に延在している。主画素ＭＰＸｂの開口領域ＡＰは、第２延在方向ｄ２に延在している。
主画素ＭＰＸａの画素電極ＰＥは、開口領域ＡＰに位置した複数の線状画素電極ＰＡを含んでいる。複数の線状画素電極ＰＡは、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、第１延在方向ｄ１に直交する直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。主画素ＭＰＸｂの画素電極ＰＥは、開口領域ＡＰに位置した複数の線状画素電極ＰＢを含んでいる。複数の線状画素電極ＰＢは、第２延在方向ｄ２に直線状に延在し、第２延在方向ｄ２に直交する直交方向ｄｃ２に間隔を置いて並べられている。
表示領域ＤＡにおいて、上述した配向膜ＡＬ１，ＡＬ２は方向Ｙに平行な配向軸ＡＡを有している。配向膜ＡＬ１の配向方向ＡＤ１は方向Ｙと平行であり、配向膜ＡＬ２の配向方向ＡＤ２は配向方向ＡＤ１と平行である。
上述した液晶層（ＬＣ）への電圧印加時において、主画素ＭＰＸａの開口領域ＡＰにおける液晶分子の回転状態（配向状態）と、主画素ＭＰＸｂの開口領域ＡＰにおける液晶分子の回転状態（配向状態）とは、互いに異なっている。そのため、視野角特性を補償することが可能である。
上述したように、図４及び図５において、１個の単位画素ＵＰＸで視野角特性に関して補償する構成について説明した。しかしながら、本第１の実施形態と異なり、１個の主画素ＭＰＸで視野角特性に関して補償するものであってもよい。図６は、本第１の実施形態と異なる主画素ＭＰＸを示す平面図であり、走査線Ｇ、信号線Ｓ、画素電極ＰＥ、及び遮光部ＢＭＡを示す図である。
図６に示すように、各々の開口領域ＡＰは、第２延在方向ｄ２に延在し、途中で屈曲して第１延在方向ｄ１に延在している。各々の開口領域ＡＰは、＜の記号の形状を有し、第１開口領域ＡＰ１と、第２開口領域ＡＰ２と、を有している。第１開口領域ＡＰ１は第１延在方向ｄ１に延在し、第２開口領域ＡＰ２は第２延在方向ｄ２に延在している。
画素電極ＰＥは、第２延在方向ｄ２に延在し、途中で屈曲して第１延在方向ｄ１に延在している。画素電極ＰＥは、複数の線状画素電極ＰＡ及び複数の線状画素電極ＰＢを備えている。複数の線状画素電極ＰＡは、第１開口領域ＡＰ１に位置し、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。複数の線状画素電極ＰＢは、第２開口領域ＡＰ２に位置し、第２延在方向ｄ２に直線状に延在し、直交方向ｄｃ２に間隔を置いて並べられている。連続する一の線状画素電極ＰＡと一の線状画素電極ＰＢとは、＜の記号の形状を有している。
画素ＰＸ１が左側に位置し、画素ＰＸ３が右側に位置する平面視において、連続する一の線状画素電極ＰＡと一の線状画素電極ＰＢとが＞の記号の形状を有し、かつ、開口領域ＡＰが＞の記号の形状を有してもよい。
上述した液晶層（ＬＣ）への電圧印加時において、第１開口領域ＡＰ１における液晶分子の回転状態と、第２開口領域ＡＰ２における液晶分子の回転状態とは、互いに異なっている。各々の開口領域ＡＰは、ダイレクタの回転方向が互いに異なる４種類のドメインを有している。そのため、液晶パネルＰＮＬは良好な視野角特性を得ることができる。
なお、本第１の実施形態において、画素電極ＰＥは表示電極として機能し、線状画素電極ＰＡ及び線状画素電極ＰＢは線状表示電極として機能している。
図７は、図５に示した画素ＰＸ１、ＰＸ２を含む液晶パネルＰＮＬを示す断面図である。液晶パネルＰＮＬは、横電界を利用する表示モードの一つであるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードに対応した構成を有している。
図７に示すように、第１基板ＳＵＢ１は、絶縁基板１０と配向膜ＡＬ１との間に、絶縁層１１、信号線Ｓ、絶縁層１２、共通電極ＣＥ、金属層ＭＬ、絶縁層１３、画素電極ＰＥなどを備えている。また、第１基板ＳＵＢ１の外側には、偏光板ＰＬ１が形成されている。
絶縁層１１は、絶縁基板１０の上に設けられている。なお、詳述しないが、絶縁基板１０と絶縁層１１との間には、上述した走査線（Ｇ）、スイッチング素子ＳＷのゲート電極及び半導体層、他の絶縁層などが配置されている。信号線Ｓは、絶縁層１１の上に形成されている。絶縁層１２は、絶縁層１１及び信号線Ｓの上に設けられている。
共通電極ＣＥは、絶縁層１２の上に設けられている。金属層ＭＬは、共通電極ＣＥの上に設けられ、共通電極ＣＥに接している。金属層ＭＬは、信号線Ｓの直上に位置している。なお、図示した例で、第１基板ＳＵＢ１は金属層ＭＬを備えているが、金属層ＭＬは省略されてもよい。絶縁層１３は、共通電極ＣＥ及び金属層ＭＬの上に設けられている。
画素電極ＰＥは、絶縁層１３の上に形成されている。各画素電極ＰＥは、隣合う信号線Ｓの間にそれぞれ位置し、共通電極ＣＥと対向している。また、各画素電極ＰＥは、共通電極ＣＥ（開口領域ＡＰ）と対向する位置にスリットを有している。共通電極ＣＥ及び画素電極ＰＥは、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電材料によって形成されている。絶縁層１３は、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとで挟まれている。配向膜ＡＬ１は、絶縁層１３及び画素電極ＰＥの上に設けられ、画素電極ＰＥなどを覆っている。
一方、第２基板ＳＵＢ２は、絶縁基板２０の第１基板ＳＵＢ１に対向する側に、遮光部ＢＭＡ２を含む遮光層ＢＭ、着色層ＣＦ１，ＣＦ２，ＣＦ３を含むカラーフィルタＣＦ、透明層ＯＣ、配向膜ＡＬ２などを備えている。遮光部ＢＭＡ２は、絶縁基板２０の内面に形成されている。遮光部ＢＭＡ２は、信号線Ｓ及び金属層ＭＬの直上に位置している。着色層ＣＦ１，ＣＦ２は、それぞれ絶縁基板２０の内面に形成され、それらの一部が遮光部ＢＭＡ２に重なっている。透明層ＯＣは、カラーフィルタＣＦを覆っている。配向膜ＡＬ２は、透明層ＯＣを覆っている。また、第２基板ＳＵＢ２の外側には偏光板ＰＬ２が形成されている。
なお、液晶パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて、遮光部ＢＭＡ２及び遮光部ＢＭＡ１（図６）無しに構成されてもよい。その場合、表示領域ＤＡにおいて、金属層ＭＬを格子状に形成し、遮光部ＢＭＡ１，ＢＭＡ２の替わりに、金属層ＭＬに遮光機能を持たせてもよい。
液晶層ＬＣは、表示領域ＤＡに位置した表示液晶層ＬＣＩを有している。例えば、偏光板ＰＬ１と偏光板ＰＬ２の透過軸が直交しており、画素ＰＸ１において、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電圧（電界）が生じておらず、表示液晶層ＬＣＩに電圧が印加されていないオフ状態では、表示液晶層ＬＣＩに含まれる液晶分子は、配向膜ＡＬ１及び配向膜ＡＬ２の間で偏光板ＰＬ１の透過軸方向に初期配向している。従って、液晶層ＬＣにおいて位相差が生じず、偏光板ＰＬ１と偏光板ＰＬ２の透過軸が直交しているために、画素ＰＸ１は最小透過率となり、黒を表示する。つまり、画素ＰＸ１において、液晶パネルＰＮＬは、遮光機能を発揮する。
一方、画素ＰＸ１ａにおいて、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に生じる電圧（電界）が表示液晶層ＬＣＩに印加されたオン状態では、液晶分子は初期配向方向とは異なる方向に配向し、その配向方向は電界によって制御される。従って、液晶層ＬＣにおいて位相差が生じ、画素ＰＸ１において、液晶パネルＰＮＬは、透光機能を発揮する。このため、オン状態の画素ＰＸ１は、着色層ＣＦ１に応じた色を呈する。
液晶パネルＰＮＬの方式は、オフ状態で黒を表示する、いわゆるノーマリーブラック方式であるが、オン状態で黒を表示する（オフ状態で白を表示する）、いわゆるノーマリーホワイト方式であってもよい。
画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥのうち表示液晶層ＬＣＩ（液晶層ＬＣ）に近接した方の電極は画素電極ＰＥであり、画素電極ＰＥは上述したように表示電極として機能している。但し、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥのうち表示液晶層ＬＣＩ（液晶層ＬＣ）に近接した方の電極は共通電極ＣＥであってもよい。その場合、共通電極ＣＥは、開口領域ＡＰに位置したスリットを有し、上述したように表示電極として機能し、画素電極ＰＥの替わりに線状表示電極を有している。
図８は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡにおける遮光層ＢＭを示す平面図である。図中、遮光層ＢＭにはドットパターンを付している。図８に示すように、入射光制御領域ＰＣＡは、中心に第２入射光制御領域ＴＡ２を備えており、外側から中心に向けて、第１遮光領域ＬＳＡ１と、第１入射光制御領域ＴＡ１と、第３遮光領域ＬＳＡ３と、第３入射光制御領域ＴＡ３と、第２遮光領域ＬＳＡ２と、第２入射光制御領域ＴＡ２と、を備えている。
第１遮光領域ＬＳＡ１は、入射光制御領域ＰＣＡの最外周に位置し、円環の形状を持っている。第１遮光領域ＬＳＡ１は、表示領域ＤＡに接した外周を有している。第１入射光制御領域ＴＡ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１で囲まれ、第１遮光領域ＬＳＡ１に接する外周を有し、円環の形状を持っている。第２入射光制御領域ＴＡ２は、入射光制御領域ＰＣＡの中心に位置し、第２遮光領域ＬＳＡ２に接する外周を有し、円形の形状を持っている。
第２遮光領域ＬＳＡ２は、第２入射光制御領域ＴＡ２に接する内周を有し、第２入射光制御領域ＴＡ２を囲み、円環の形状を持っている。第３遮光領域ＬＳＡ３は、第１入射光制御領域ＴＡ１で囲まれ、第１入射光制御領域ＴＡ１に接する外周を有し、円環の形状を持っている。第３入射光制御領域ＴＡ３は、第３遮光領域ＬＳＡ３で囲まれ、第３遮光領域ＬＳＡ３に接する外周及び第２遮光領域ＬＳＡ２に接する内周を有し、円環の形状を持っている。
第１遮光領域ＬＳＡ１、第２遮光領域ＬＳＡ２、及び第３遮光領域ＬＳＡ３を、環状遮光領域と称することができる。第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、環状入射光制御領域と称することができる。第２入射光制御領域ＴＡ２を、円形入射光制御領域と称することができる。
入射光制御領域ＰＣＡにおいて、遮光層ＢＭは、第１遮光部ＢＭ１と、第１開口ＯＰ１と、第２遮光部ＢＭ２と、第２開口ＯＰ２と、第３遮光部ＢＭ３と、第３開口ＯＰ３と、を備えている。第１遮光部ＢＭ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、円環の形状を持っている。第２遮光部ＢＭ２は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、円環の形状を持っている。第３遮光部ＢＭ３は、第３遮光領域ＬＳＡ３に位置し、円環の形状を持っている。
第１遮光部ＢＭ１、第２遮光部ＢＭ２、及び第３遮光部ＢＭ３の各々の遮光部を、環状遮光部と称することができる。第１開口ＯＰ１及び第３開口ＯＰ３は、円環の形状を持ち、第２開口ＯＰ２は、円形の形状を持っている。
入射光制御領域ＰＣＡは、第４遮光領域ＬＳＡ４及び第５遮光領域ＬＳＡ５をさらに備えている。第４遮光領域ＬＳＡ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２から第３遮光領域ＬＳＡ３まで第１延在方向ｄ１に直線状に延在している。第５遮光領域ＬＳＡ５は、第３遮光領域ＬＳＡ３から第１遮光領域ＬＳＡ１まで第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、第１延在方向ｄ１に第４遮光領域ＬＳＡ４と揃っている。上記のことから、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３は、それぞれ、実質的にＣ形の形状を持っている。
なお、第１遮光領域ＬＳＡ１、第２遮光領域ＬＳＡ２、第３遮光領域ＬＳＡ３、第４遮光領域ＬＳＡ４、第５遮光領域ＬＳＡ５は、表示領域ＤＡに形成される遮光層ＢＭと、同じ層に、同じ工程で、及び同じ材料で形成することが可能である。
本第１の実施形態において、遮光層ＢＭは、第４遮光部ＢＭ４と、第５遮光部ＢＭ５と、をさらに備えている。第４遮光部ＢＭ４は、第４遮光領域ＬＳＡ４に位置し、第２遮光部ＢＭ２から第３遮光部ＢＭ３まで第１延在方向ｄ１に直線状に延在している。第５遮光部ＢＭ５は、第５遮光領域ＬＳＡ５に位置し、第３遮光部ＢＭ３から第１遮光部ＢＭ１まで第１延在方向ｄ１に直線状に延在している。
第１遮光部ＢＭ１の外周円、第１入射光制御領域ＴＡ１の外周円、第２遮光部ＢＭ２の外周円、第２入射光制御領域ＴＡ２、第３遮光部ＢＭ３の外周円、及び第３入射光制御領域ＴＡ３の外周円は、同心円である。
液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第４遮光領域ＬＳＡ４、第５遮光領域ＬＳＡ５、第４遮光部ＢＭ４、及び第５遮光部ＢＭ５無しに構成されてもよい。なぜなら、第４遮光部ＢＭ４及び第５遮光部ＢＭ５を設け無くても、後述する引き回し配線Ｌによる受光光量に与える影響は軽微であり、補正可能なレベルのためである。
また、液晶パネルＰＮＬは、第３遮光領域ＬＳＡ３、第３遮光部ＢＭ３、及び第３入射光制御領域ＴＡ３無しに構成されてもよい。その場合、第１入射光制御領域ＴＡ１の内周が第２遮光領域ＬＳＡ２に接していればよい。
図９は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡの電極構造を示しており、複数の制御電極構造ＲＥ及び複数の引き回し配線Ｌを示す平面図である。図９及び図８に示すように、液晶パネルＰＮＬは、第１制御電極構造ＲＥ１、第２制御電極構造ＲＥ２、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、第１制御電極構造ＲＥ１に接続された第１引き回し配線Ｌ１、第２制御電極構造ＲＥ２に接続された第２引き回し配線Ｌ２、第３制御電極構造ＲＥ３に接続された第３引き回し配線Ｌ３、第４制御電極構造ＲＥ４に接続された第４引き回し配線Ｌ４、第５制御電極構造ＲＥ５に接続された第５引き回し配線Ｌ５、及び第６制御電極構造ＲＥ６に接続された第６引き回し配線Ｌ６を備えている。入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、第１延在方向ｄ１に延在している。
なお、図９は入射光制御領域ＰＣＡにおいて、電極がＩＰＳ（In-Plane-Switching）モードに対応した構成を有していることを示す概略図である。
第１制御電極構造ＲＥ１は、第１給電配線ＣＬ１と、第１制御電極ＲＬ１と、を有している。
第１給電配線ＣＬ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、第１配線ＷＬ１を含んでいる。本第１の実施形態において、第１配線ＷＬ１は、Ｃ形の形状を持ち、第２引き回し配線Ｌ２乃至第６引き回し配線Ｌ６が通る領域において分断されている。
複数の第１制御電極ＲＬ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第１入射光制御領域ＴＡ１に位置し、第１配線ＷＬ１に電気的に接続され、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。第１制御電極ＲＬ１は、第１配線ＷＬ１の内側に配置されている。
複数の第１制御電極ＲＬ１は、両端部で第１配線ＷＬ１と接続する第１制御電極ＲＬ１と、一方の端部で第１配線ＷＬ１と接続し、他方の端部は第１配線ＷＬ１と接続しない第１制御電極ＲＬ１と、を有している。
第２制御電極構造ＲＥ２は、第２給電配線ＣＬ２と、第２制御電極ＲＬ２と、を有している。第２給電配線ＣＬ２は、第２配線ＷＬ２を含んでいる。第２制御電極構造ＲＥ２は、第１制御電極構造ＲＥ１と同様の構造をしている。第２配線ＷＬ２は、第１配線ＷＬ１より内側に位置しているが、第１配線ＷＬ１より外側に位置してもよい。
複数の第１制御電極ＲＬ１と、複数の第２制御電極ＲＬ２とは、直交方向ｄｃ１に交互に並べられている。
第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第２入射光制御領域ＴＡ２に位置している。第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４は、それぞれ第１延在方向ｄ１に平行な辺を有する半円の形状で示している。第３制御電極構造ＲＥ３の上記辺と、第４制御電極構造ＲＥ４の上記辺とは、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて位置している。なお、第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４は、概形を半円の形状で表しているが、詳細な構造については後述する。
第５制御電極構造ＲＥ５は、第５給電配線ＣＬ５と、第５制御電極ＲＬ５と、を有している。第５給電配線ＣＬ５は、第５配線ＷＬ５を含んでいる。第５給電配線ＣＬ５は、第３遮光領域ＬＳＡ３に位置し、Ｃ形の形状を持っている。
複数の第５制御電極ＲＬ５は、第３遮光領域ＬＳＡ３及び第３入射光制御領域ＴＡ３に位置し、第５配線ＷＬ５に電気的に接続され、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。第５配線ＷＬ５及び第５制御電極ＲＬ５は、一体に形成されている。第５制御電極ＲＬ５は、第５配線ＷＬ５の内側に配置されている。
複数の第５制御電極ＲＬ５は、両端部で第５配線ＷＬ５と接続する第５制御電極ＲＬ５と、一方の端部で第５配線ＷＬ５と接続し、他方の端部は第５配線ＷＬ５と接続しない第５制御電極ＲＬ５と、を有している。
第６制御電極構造ＲＥ６は、第６給電配線ＣＬ６と、第６制御電極ＲＬ６と、を有している。第６給電配線ＣＬ６は、第６配線ＷＬ６を含んでいる。第６制御電極構造ＲＥ６は、第５制御電極構造ＲＥ５と同様の構造をしている。第６配線ＷＬ６は、第５配線ＷＬ５より内側に位置しているが、第５配線ＷＬ５より外側に位置してもよい。
複数の第５制御電極ＲＬ５と、複数の第６制御電極ＲＬ６とは、直交方向ｄｃ１に交互に並べられている。
第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、金属で形成されている。例えば、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、上記金属層ＭＬと同一層に位置し、上記金属層ＭＬと同一の金属で形成されている。
第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、束ねられ、表示領域ＤＡにおいて一の遮光部（ＢＭＡ２）で覆われた領域を延在している。但し、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は束ねられていなくともよく、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６の各々は、表示領域ＤＡにおいて、遮光部ＢＭＡ１及び遮光部ＢＭＡ２の少なくとも一を延在していればよい。
なお、第１給電配線ＣＬ１、第２給電配線ＣＬ２、第５給電配線ＣＬ５、第６給電配線ＣＬ６、及び第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、透明な導電層及び金属層の積層体で構成されてもよい。
図７を用いて説明したように、表示領域ＤＡの画素電極ＰＥと共通電極ＣＥは透明な導電材料（透明導電膜）で形成されており、画素ＰＸは異なる２層の透明導電膜を有している。後述するように、第１配線ＷＬ１乃至第６配線ＷＬ６は、２層の透明導電膜の一方の透明導電膜で形成され、第１制御電極ＲＬ１乃至第６制御電極ＲＬ６は他方の透明導電膜で形成し、第１制御電極ＲＬ１乃至第６制御電極ＲＬ６を同層に形成することが可能である。なお、第１配線ＷＬ１乃至第６配線ＷＬ６は透明導電膜と金属膜の多層膜で形成することも可能である。
液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、横電界を利用する表示モードの一つであるＩＰＳモードに対応した構成を有している。上述した第１制御電極ＲＬ１乃至第６制御電極ＲＬ６は、それぞれ、前述したＦＦＳモードに対応した画素電極ＰＥの形状と異なる形状を有している。
第１制御電極ＲＬ１と第２制御電極ＲＬ２とに代表されるように、交互に配置された制御電極に電圧が供給され、電極間に生じた電位差により液晶分子が駆動される。例えば、表示領域ＤＡから配線を延長して、第１制御電極ＲＬ１に画素電極と同様の映像信号を供給し、第２制御電極ＲＬ２に共通電極と同様のコモン電圧を供給することが可能である。また、第１制御電極ＲＬ１にコモン電圧に対して正極性の信号を供給し、第２制御電極ＲＬ２に負極性の信号を供給することも可能である。
入射光制御領域ＰＣＡにおいて、上述した配向膜ＡＬ１，ＡＬ２は方向Ｙに平行な配向軸ＡＡを有している。すなわち、配向膜ＡＬ１，ＡＬ２の配向軸ＡＡは、表示領域ＤＡと入射光制御領域ＰＣＡとで平行である。入射光制御領域ＰＣＡにおいて、配向膜ＡＬ１の配向方向ＡＤ１は方向Ｙと平行であり、配向膜ＡＬ２の配向方向ＡＤ２は配向方向ＡＤ１と平行である。
液晶層ＬＣに電圧が印加されていない状態において、表示領域ＤＡの液晶分子の初期配向方向と、入射光制御領域ＰＣＡの液晶分子の初期配向方向とは、同一である。上記線状画素電極（線状表示電極）ＰＡと、制御電極ＲＬとは、平行に延在している。Ｘ－Ｙ平面において、第１延在方向ｄ１及び第２延在方向ｄ２は、それぞれ方向Ｙに対して１０°傾斜している。そのため、表示領域ＤＡと入射光制御領域ＰＣＡとで、液晶分子の回転方向を揃えることが可能である。なお、線状画素電極ＰＡで傾斜について説明した。但し、上述したことは、線状画素電極ＰＡで傾斜を共通電極のスリットの傾きに置き換えた場合でも同様である。
図１０は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す断面図である。図１０において、信号線Ｓ及び走査線Ｇなどの図示を省略している。
図１０に示すように、絶縁層１３を挟んで形成される２つの導体のうち一方の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの一方の電極と同一層に設けられ、上記一方の電極と同一材料で形成されている。上記２つの導体のうち他方の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの他方の電極と同一層に設けられ、上記他方の電極と同一材料で形成されている。
図１０において、第２配線ＷＬ２、第２制御電極ＲＬ２、第４制御電極構造ＲＥ４、第６配線ＷＬ６、及び第６制御電極ＲＬ６は、絶縁層１２の上に設けられ、絶縁層１３で覆われている。第２配線ＷＬ２、第２制御電極ＲＬ２、第４制御電極構造ＲＥ４、第６配線ＷＬ６、及び第６制御電極ＲＬ６は、共通電極ＣＥと同一層に設けられ、共通電極ＣＥと同一の透明な導電材料で形成されている。
第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第３制御電極構造ＲＥ３、第５配線ＷＬ５、及び第５制御電極ＲＬ５は、絶縁層１３の上に設けられ、配向膜ＡＬ１で覆われている。第１制御電極ＲＬ１、第３制御電極構造ＲＥ３、第５配線ＷＬ５、及び第５制御電極ＲＬ５は、画素電極ＰＥと同一層に設けられ、画素電極ＰＥと同一の透明な導電材料で形成されている。
例えば、絶縁層１３は、第１制御電極ＲＬ１（第１制御電極構造ＲＥ１）と第２制御電極ＲＬ２（第２制御電極構造ＲＥ２）とで挟まれている。なお、第１制御電極ＲＬ１、第２制御電極ＲＬ２、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５制御電極ＲＬ５、及び第６制御電極ＲＬ６は、同層に形成されてもよい。
入射光制御領域ＰＣＡにおいて、配向膜ＡＬ１は、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、第２制御電極ＲＬ２、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５配線ＷＬ５、第５制御電極ＲＬ５、第６配線ＷＬ６、及び第６制御電極ＲＬ６を覆い、液晶層ＬＣに接している。
ここで、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２の直交方向ｄｃ１のピッチをピッチｐｉ１とし、第５制御電極ＲＬ５及び第６制御電極ＲＬ６の直交方向ｄｃ１のピッチをピッチｐｉ２とする。別の言い方をすると、ピッチｐｉ１は、第１制御電極ＲＬ１の中心と第２制御電極ＲＬ２の中心との直交方向ｄｃ１のピッチである。ピッチｐｉ２は、第５制御電極ＲＬ５の中心と第６制御電極ＲＬ６の中心との直交方向ｄｃ１のピッチである。
ピッチｐｉ１及びピッチｐｉ２は、それぞれ一定でもよいが、それぞれランダムに設定されている方が望ましい。これにより、ピッチｐｉ１，ｐｉ２を一定にした場合に生じる光の干渉を防止することができる。
第２基板ＳＵＢ２において、カラーフィルタＣＦは入射光制御領域ＰＣＡに設けられていない。
液晶層ＬＣは、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置した第１制御液晶層ＬＣ１と、第２入射光制御領域ＴＡ２に位置した第２制御液晶層ＬＣ２と、第３入射光制御領域ＴＡ３に位置した第３制御液晶層ＬＣ３と、を有している。
第１制御液晶層ＬＣ１には、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２によって生じる電圧が印加される。第２制御液晶層ＬＣ２には、第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４によって生じる電圧が印加される。第３制御液晶層ＬＣ３には、第５制御電極ＲＬ５及び第６制御電極ＲＬ６によって生じる電圧が印加される。
第１制御電極構造ＲＥ１に第１引き回し配線Ｌ１を介して第１制御電圧が与えられ、第２制御電極構造ＲＥ２に第２引き回し配線Ｌ２を介して第２制御電圧が与えられ、第３制御電極構造ＲＥ３に第３引き回し配線Ｌ３を介して第３制御電圧が与えられ、第４制御電極構造ＲＥ４に第４引き回し配線Ｌ４を介して第４制御電圧が与えられ、第５制御電極構造ＲＥ５に第５引き回し配線Ｌ５を介して第５制御電圧が与えられ、第６制御電極構造ＲＥ６に第６引き回し配線Ｌ６を介して第６制御電圧が与えられる。
第１制御電圧、第３制御電圧、及び第５制御電圧は、画像信号及びコモン電圧の一方と電圧レベルが同一であってもよく、第２制御電圧、第４制御電圧、及び第６制御電圧は、画像信号及びコモン電圧の他方と電圧レベルが同一であってもよい。
又は、第１制御電圧、第３制御電圧、及び第５制御電圧は、コモン電圧に対して第１極性の電圧レベルを有してもよく、第２制御電圧、第４制御電圧、及び第６制御電圧は、コモン電圧に対して第２極性の電圧レベルを有してもよい。なお、上記第１極性及び上記第２極性において、一方は正極性であり、他方は負極性である。
入射光制御領域ＰＣＡを絞りＤＰとして説明するにあたり、絞りＤＰの開口の状態について定義する。図１１は、上記液晶パネルＰＮＬが第１条件で駆動された場合の入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。なお、図１１において、第４遮光部ＢＭ４及び第５遮光部ＢＭ５の図示を省略している。
図１１に示すように、液晶表示装置ＤＳＰは、第１条件での駆動により、絞りＤＰを最大に開いた状態（開放状態）に設定する。
又は、液晶表示装置ＤＳＰは、第２条件での駆動により、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に切替え、絞りＤＰを最小に絞った状態に設定する。
又は、液晶表示装置ＤＳＰは、第３条件での駆動により、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に切替え、絞りＤＰを最大に開いた状態と最小に絞った状態の中間の状態に設定する。
又は、液晶表示装置ＤＳＰは、第４条件での駆動により、第１入射光制御領域ＴＡ１、第３入射光制御領域ＴＡ３、及び第２入射光制御領域ＴＡ２を非透過状態に切替え、絞りＤＰを閉じた状態に設定する。
前述したように、入射光制御領域ＰＣＡは、外側から中心に向けて、第１入射光制御領域ＴＡ１と、第３入射光制御領域ＴＡ３と、第２入射光制御領域ＴＡ２と、を備えており、第１条件乃至第４条件に対応する第１入射光制御領域ＴＡ１、第３入射光制御領域ＴＡ３、及び第２入射光制御領域ＴＡ２の透過状態及び非透過状態は以下のようになる。
例えば、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３が第１条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３を透過状態に設定する。
第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３が第２条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に設定する。
第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３が第３条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第３入射光制御領域ＴＡ３及び第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に設定する。
第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３が第４条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１、第３入射光制御領域ＴＡ３、及び第２入射光制御領域ＴＡ２を非透過状態に設定する。ここで、非透過状態とは、可視光における遮光状態、又は上記透過状態より透過率の低い状態を言う。
さらに、前述した第１条件から第４条件に加えて、以下の第５条件から第７条件での駆動が可能である。
第５条件では、第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態にすることで、絞りＤＰを最小に絞った開口を形成すると共に、第１入射光制御領域ＴＡ１を透過状態とし、第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に設定することで、絞りＤＰは環状の開口ＲＯ１を形成する。環状の開口ＲＯ１に対向するように、カメラ１ａ側には光源ＥＭ２，ＥＭ３が設けられている（図２）。例えば、開口ＲＯ１の周方向に、複数の光源ＥＭ２及び複数の光源ＥＭ３は交互に並べられている。
液晶パネルＰＮＬは、出射光制御領域ＩＣＡを有している。本実施形態において、出射光制御領域ＩＣＡは、第１入射光制御領域ＴＡ１に含まれている。光源ＥＭ３は、出射光制御領域ＩＣＡ（第１入射光制御領域ＴＡ１）に重なっている。なお、光源ＥＭ２も出射光制御領域ＩＣＡに重なっているが、これに限らず、光源ＥＭ２は第１遮光部ＢＭ１等に重なってもよい。
第６条件では、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１を透過状態とすることで、絞りＤＰは環状の開口ＲＯ１を単独で形成する。
第７条件では、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に設定し、第３入射光制御領域ＴＡ３を透過状態に設定することで、絞りＤＰは第３遮光部ＢＭ３の内側に環状の開口ＲＯ２を単独で形成する。
上述したことから、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡは、カメラ１ａの絞りを構成している。そのため、絞りを開いたり（第１条件）、絞りを絞ったり（第３条件）、絞りをさらに絞ったり（第２条件）、絞りを閉じたり（第４条件）、することができ、焦点深度を変えてカメラ１ａで撮影することができる。液晶パネルＰＮＬは、絞りを同心円状に、開いたり、絞ったり、することができる。言い換えると、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、同心円状に光透過領域を制御することができる。
さらに、第５条件では、第１入射光制御領域ＴＡ１を透過状態にしてカメラ１ａ側に設けた光源ＥＭ３からの可視光により被写体を照明し、第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態にして、最も小さい開口からの可視光をカメラ１ａに入射させることができる。
また、第６条件では、第１入射光制御領域ＴＡ１を透過した可視光による像を得ることが出来、第７条件では、第３入射光制御領域ＴＡ３を透過した可視光による像を得ることが出来る。第６条件及び第７条件で撮像することで、同心円状に配置された複数の環状の開口ＲＯを通過した光による像を得ることができる。第１条件から第３条件、第５条件から第７条件で、同心円状の開口を用いて撮像することで、焦点深度を調整するための信号を得ることが可能である。
偏光板ＰＬ１，ＰＬ２の赤外光に対する透過率が高いため、カメラ１ａで赤外光を受光する場合には、第４条件として可視光を遮光状態としながら、カメラ１ａ側に設けた光源ＥＭ２から赤外光を照射し、カメラ１ａで赤外光を受光することも可能である。カメラ１ｂにおいては、カメラ１ｂ側に設けた光源ＥＭ２から赤外光を照射し、カメラ１ｂで赤外光を受光することが可能である。
第２条件における絞りは、カメラ１ａに入射する光量を調整するピンホールとして機能することができる。カメラ１ａと被写体の距離が数ｃｍの場合にカメラ１ａの解像力が向上し、被写体と至近距離における鮮明な写真を撮影することができる。被写体とカメラ１ａが近接した撮影の一例として、指紋認証のために指紋を撮影することができる。また、光量の多い場合においても、ピンホールを用いた撮影は有効である。
なお、第２条件における絞りをピンホールとして機能させて、近接撮影する場合に、被写体からの光量が減少するという問題がある場合には、第５条件で、第１入射光制御領域ＴＡ１を透過状態にし、カメラ１ａ側に設けた光源ＥＭ３からの可視光で被写体を照明することができる。
上記のように構成された第１の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、良好に撮影することが可能であり、入射光制御領域ＰＣＡの光透過領域を制御することが可能である液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００を得ることができる。
液晶パネルＰＮＬは、出射光制御領域ＩＣＡにおいて光源ＥＭ３から出射された可視光を選択的に透過させるように構成されている。液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて外部からの可視光をカメラ１ａに入射させるために外部からの可視光を選択的に透過させるように構成されている。
カメラ１ａと液晶パネルＰＮＬを組合わせることで、超近接撮影を行うことができ、例えば、指紋を撮影することができる。超近接撮影は、ピンホールカメラの原理を利用するものであり、ピント合わせを不要とすることができ、指をカバーガラスＣＧに近接させて指紋認証が可能となる。光源ＥＭ３から可視光を出射させることができるため、指をカバーガラスＣＧに接触させた状態で指紋を撮影することも可能である。
カメラ１ａは、赤外光を受光し、液晶表示装置ＤＳＰの画面の前方を撮影することができる。
電子機器１００は、可視光の検出と、赤外光の検出と、を別期間に実施することができる。液晶パネルＰＮＬは、光源ＥＭ２から赤外光を出射させずに可視光を検出する第１検出期間に、入射光制御領域ＰＣＡにおいて外部からの可視光を透過させるように構成されている。液晶パネルＰＮＬは、第１検出期間に、出射光制御領域ＩＣＡから外部への可視光の出射を許可ように構成されている。そのため、第１検出期間に、赤外光をノイズになり難くしつつ可視光にて撮影することができる。
液晶パネルＰＮＬは、第１検出期間とは異なる期間であり光源ＥＭ２から赤外光を出射させて赤外光を検出する第２検出期間に、赤外光をカメラ１ａ，１ｂに入射させるように構成されている。液晶パネルＰＮＬは、第２検出期間に、出射光制御領域ＩＣＡから外部への可視光の出射を休止し、入射光制御領域ＰＣＡにおいて外部からの可視光を透過させないように構成されている。そのため、第２検出期間に、可視光をノイズになり難くしつつ赤外光にて撮影することができる。
（第２の実施形態）
次に、本第２の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第２の実施形態で説明する縦電界モードに関連する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。ここでは、入射光制御領域ＰＣＡを縦電界モードの電極で構成する場合を説明する。図１２は、本第２の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの一部を示す断面図である。なお、図１２において、表示領域ＤＡと入射光制御領域ＰＣＡとの境界近傍を示している。また、液晶パネルＰＮＬのうち説明に必要な部材のみを示し、上述した配向膜ＡＬ１，ＡＬ２等の図示を省略している。
図１２に示すように、縦電界モードの構成では、絶縁基板１０に設けられた制御電極構造ＲＥに加えて、絶縁基板２０にも対向電極ＯＥが設けられている。縦電界モードでは入射光制御領域ＰＣＡの液晶層ＬＣは制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に印加される電圧によって駆動される。
絶縁基板１０及び絶縁基板２０の間に複数のスペーサＳＰが設けられている。表示領域ＤＡにおける第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との第１ギャップＧａ１、及び入射光制御領域ＰＣＡにおける第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２との第２ギャップＧａ２は、複数のスペーサＳＰにより保持されている。表示領域ＤＡにおいて、スペーサＳＰは、遮光部ＢＭＡ２（遮光部ＢＭＡ）で覆われている。入射光制御領域ＰＣＡにおいて、スペーサＳＰは、第２遮光部ＢＭ２又は第３遮光部ＢＭ３で覆われている。
入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３は、縦電界モードのうちのＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）モードで駆動されるため、偏光板ＰＬ２と絶縁基板２０との間にλ/４板ＱＰ２が挟まれ、偏光板ＰＬ１と絶縁基板１０との間にλ/４板ＱＰ１が挟まれている。
表示領域ＤＡ及び入射光制御領域ＰＣＡにおいて、偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２はそれぞれ共通である。偏光板ＰＬ１及び偏光板ＰＬ２は、それぞれ、表示領域ＤＡ及び入射光制御領域ＰＣＡにおいて同じ方向に透過容易軸（偏光軸）が向いている。偏光板ＰＬ１の透過容易軸と、偏光板ＰＬ２の透過容易軸とは、直交している。
一方、表示領域ＤＡにおいて、表示液晶層ＬＣＩは、横電界モードで駆動される。表示液晶層ＬＣＩは、ＦＦＳモードで駆動されるが、ＩＰＳモードで駆動されてもよい。表示領域ＤＡにおいて、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電圧がかからない状態で、偏光板ＰＬ１（又は偏光板ＰＬ２）の透過容易軸に対して、液晶分子の配向軸（進相軸）が直交し、又は平行である。そのため、表示液晶層ＬＣＩに電圧がかからない状態では、表示液晶層ＬＣＩにおいて位相差が生じないため、偏光板ＰＬ２と偏光板ＰＬ１の透過容易軸が直交していることから光が遮蔽される（ノーマリーブラック方式）。
画素電極ＰＥと共通電極ＣＥの間に電圧をかけると、液晶分子が回転し、液晶分子の進相軸が直線偏光の偏光方向に対して角度を有することとなり、位相差が生じる。表示液晶層ＬＣＩでは、液晶分子が回転した（進相軸が偏光方向に対して４５°傾いた）場合に、位相差がπとなるように、複屈折率ΔｎとギャップＧａが調整されている（Δｎ×Ｇａ＝１／２λ）。表示液晶層ＬＣＩを透過した光は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸と平行な直線偏光から、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対し９０°傾いた直線偏光に変化する。従って、表示領域ＤＡでは、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に電圧がかかることで光を透過する。
表示領域ＤＡ及び入射光制御領域ＰＣＡにおいて、共に同じ液晶層ＬＣと偏光板ＰＬ１，ＰＬ２を用いており、液晶分子の配向軸も同じ方向である。従って、液晶層ＬＣの位相差も同じで、偏光板ＰＬ１，ＰＬ２の透過容易軸に対する液晶分子の配向軸の方向も同じである。
従って、入射光制御領域ＰＣＡでは、λ/４板ＱＰ２及びλ/４板ＱＰ１は、偏光板ＰＬ２と偏光板ＰＬ１とで挟まれている。λ/４板ＱＰ２の遅相軸は、偏光板ＰＬ２の透過容易軸に対して４５°で傾いており、λ/４板ＱＰ１の遅相軸は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対して４５°で傾いている。λ/４板ＱＰ２及びλ/４板ＱＰ１を透過した光は、直線偏光から円偏光に変化し、又は円偏光から直線偏光に変化する。
λ/４板ＱＰ１の遅相軸は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対して、＋４５°傾いており、偏光板ＰＬ１から出た直線偏光は右回りの円偏光に変化する。第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３では、位相差がπとなるように、複屈折率Δｎと第２ギャップＧａ２が調整されており（Δｎ×Ｇａ２＝１／２λ）、右回り円偏光から左回りの円偏光に変化する。
λ/４板ＱＰ２の遅相軸は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対して、－４５°傾いており、λ/４板ＱＰ２を通過した光は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対して９０°傾いた直線偏光となり、偏光板ＰＬ２を透過する。
第１基板ＳＵＢ１は、入射光制御領域ＰＣＡに位置し、複数の制御電極構造ＲＥを含む制御電極構造群ＲＥＧが設けられている。第２基板ＳＵＢ２は、入射光制御領域ＰＣＡに位置し、制御電極構造群ＲＥＧと対向した対向電極ＯＥを有している。従って、入射光制御領域ＰＣＡでは、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に電圧がかからない状態で光が透過する（ノーマリーホワイト方式）。なお、第２基板ＳＵＢ２は、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、カラーフィルタＣＦの替わりに透明層ＴＬを有している。
ＥＣＢモードでは、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に電圧を印加し、液晶分子を第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２と垂直な方向に沿うよう配向させることで、液晶分子の複屈折（Δｎ）が変化することを利用して透過光の量を制御する。
制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に電圧を印加し、液晶分子の長軸方向が第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２と垂直な方向に沿うことで、透過する光に対して複屈折が小さくなり透過光量が減少する。
例えば、複屈折Δｎが０となり、位相差が０となると、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３を透過した光は、右回りの円偏光のままで、λ/４板ＱＰ２を通過した右回りの円偏光は、偏光板ＰＬ１の透過容易軸に対して平行な直線偏光となり、偏光板ＰＬ２を透過しない。従って、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に電圧を印加することで、絞りＤＰでカメラ１に入射する光を減少させることができる（非透過状態）。
図１３は、本第２の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡにおける遮光層ＢＭを示す平面図である。第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３が、それぞれ２つの範囲に分けられている。
図１３に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１は、第１範囲ＴＡ１ａと、第１範囲ＴＡ１ａ以外の第２範囲ＴＡ１ｂと、を含んでいる。第２入射光制御領域ＴＡ２は、第３範囲ＴＡ２ａと、第３範囲ＴＡ２ａ以外の第４範囲ＴＡ２ｂと、を含んでいる。第３入射光制御領域ＴＡ３は、第５範囲ＴＡ３ａと、第５範囲ＴＡ３ａ以外の第６範囲ＴＡ３ｂと、を含んでいる。
本第２の実施形態において、第１範囲ＴＡ１ａ及び第２範囲ＴＡ１ｂは方向Ｙに隣合い、第３範囲ＴＡ２ａ及び第４範囲ＴＡ２ｂは方向Ｙに隣合い、第５範囲ＴＡ３ａ及び第６範囲ＴＡ３ｂは方向Ｙに隣合っている。そして、第１範囲ＴＡ１ａ及び第２範囲ＴＡ１ｂの境界、第３範囲ＴＡ２ａ及び第４範囲ＴＡ２ｂの境界、及び第５範囲ＴＡ３ａ及び第６範囲ＴＡ３ｂの境界は、方向Ｘに揃っている。
入射光制御領域ＰＣＡは、第１遮光部ＢＭ１の外周によって形成される円の直径により、第１領域Ａ１と、第２領域Ａ２と、に分けることができる。本第２の実施形態において、第１領域Ａ１は、第１範囲ＴＡ１ａ、第３範囲ＴＡ２ａ、及び第６範囲ＴＡ３ｂを含んでいる。第２領域Ａ２は、第２範囲ＴＡ１ｂ、第４範囲ＴＡ２ｂ、及び第５範囲ＴＡ３ａを含んでいる。
但し、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３の各々における、２つの範囲への分け方は、本第２の実施形態において例示したものであり、種々変形可能である。
次に、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、縦電界モードで第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３を駆動する場合の第１制御電極構造ＲＥ１、第２制御電極構造ＲＥ２、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、及び対向電極ＯＥの構成について説明する。図１４は、本第２の実施形態に係る第１基板ＳＵＢ１の複数の制御電極構造ＲＥ及び複数の引き回し配線Ｌを示す平面図である。
図１４及び図１３に示すように、第１制御電極構造ＲＥ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置した第１給電配線ＣＬ１と、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第１範囲ＴＡ１ａに位置した第１制御電極ＲＬ１と、を有している。第１給電配線ＣＬ１は、第１配線ＷＬ１を含んでいる。本第２の実施形態において、第１配線ＷＬ１及び第１制御電極ＲＬ１は、一体に形成されている。
第２制御電極構造ＲＥ２は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置した第２給電配線ＣＬ２と、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第２範囲ＴＡ１ｂに位置した第２制御電極ＲＬ２と、を有している。第２給電配線ＣＬ２は、第２配線ＷＬ２を含んでいる。本第２の実施形態において、第２配線ＷＬ２及び第２制御電極ＲＬ２は、一体に形成されている。
第３制御電極構造ＲＥ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置した第３給電配線ＣＬ３と、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第３範囲ＴＡ２ａに位置した第３制御電極ＲＬ３と、を有している。第３給電配線ＣＬ３は、第３配線ＷＬ３を含んでいる。
第４制御電極構造ＲＥ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置した第４給電配線ＣＬ４と、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第４範囲ＴＡ２ｂに位置した第４制御電極ＲＬ４と、を有している。第４給電配線ＣＬ４は、第４配線ＷＬ４を含んでいる。
第５制御電極構造ＲＥ５は、第３遮光領域ＬＳＡ３に位置した第５給電配線ＣＬ５と、第３遮光領域ＬＳＡ３及び第５範囲ＴＡ３ａに位置した第５制御電極ＲＬ５と、を有している。第５給電配線ＣＬ５は、第５配線ＷＬ５を含んでいる。本第２の実施形態において、第５配線ＷＬ５及び第５制御電極ＲＬ５は、一体に形成されている。
第６制御電極構造ＲＥ６は、第３遮光領域ＬＳＡ３に位置した第６給電配線ＣＬ６と、第３遮光領域ＬＳＡ３及び第６範囲ＴＡ３ｂに位置した第６制御電極ＲＬ６と、を有している。第６給電配線ＣＬ６は、第６配線ＷＬ６を含んでいる。本第２の実施形態において、第６配線ＷＬ６及び第６制御電極ＲＬ６は、一体に形成されている。
なお、本第２の実施形態において、第１制御電極構造ＲＥ１、第３制御電極構造ＲＥ３、及び第５制御電極構造ＲＥ５は、絶縁層１３と配向膜ＡＬ１との間に位置している。第２制御電極構造ＲＥ２、第４制御電極構造ＲＥ４、及び第６制御電極構造ＲＥ６は、絶縁層１２と絶縁層１３との間に位置している。
図１５は、本第２の実施形態に係る第２基板ＳＵＢ２の対向電極ＯＥ及び引き回し配線Ｌｏを示す平面図である。図１５及び図１３に示すように、対向電極ＯＥは、入射光制御領域ＰＣＡに位置している。対向電極ＯＥは、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置した対向給電配線ＣＬｏと、入射光制御領域ＰＣＡに位置した対向電極本体ＯＭと、を有している。対向給電配線ＣＬｏは、円環の形状を持つ対向配線ＷＬｏを含んでいる。本第２の実施形態において、対向配線ＷＬｏ及び対向電極本体ＯＭは、ＩＴＯ等の透明な導電材料で形成されている。
対向電極本体ＯＭは、複数の線状対向電極ＯＭＬを含んでいる。複数の線状対向電極ＯＭＬは、入射光制御領域ＰＣＡに位置し、対向配線ＷＬｏに電気的に接続され、第３延在方向ｄ３に直線状に延在し、第３延在方向ｄ３に直交する直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。
本第２の実施形態において、対向配線ＷＬｏ及び線状対向電極ＯＭＬは、一体に形成されている。また、第３延在方向ｄ３は方向Ｘと同一方向を向き、直交方向ｄｃ３は方向Ｙと同一方向を向いている。上記のことから、対向電極ＯＥは、第３延在方向ｄ３に延在し直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並んだ複数のスリットＯＳを有する電極である。
入射光制御領域ＰＣＡにおいて引き回し配線Ｌｏは、第１延在方向ｄ１に延在している。引き回し配線Ｌｏは、金属で形成され、対向配線ＷＬｏに電気的に接続されている。引き回し配線Ｌｏは、表示領域ＤＡにおいて一の遮光部（ＢＭＡ２）で覆われた領域を延在している。但し、引き回し配線Ｌｏは、表示領域ＤＡにおいて、遮光部ＢＭＡ１及び遮光部ＢＭＡ２の少なくとも一を延在していればよい。
なお、対向給電配線ＣＬｏ及び引き回し配線Ｌｏは、それぞれ、透明な導電層及び金属層の積層体で構成されてもよい。
ここで、引き回し配線Ｌｏを介して対向電極ＯＥに印加される電圧を対向電圧とする。なお、対向電極（第２共通電極）ＯＥに印加される電圧を共通電圧と称する場合もある。
図１６は、本第２の実施形態の複数の第１制御電極ＲＬ１、複数の第２制御電極ＲＬ２、及び複数の線状対向電極ＯＭＬを示す平面図である。
図１６に示すように、複数の第１制御電極ＲＬ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第１範囲ＴＡ１ａに位置し、第１配線ＷＬ１に電気的に接続され、第３延在方向ｄ３に直線状に延在し、直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。複数の第２制御電極ＲＬ２は、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第２範囲ＴＡ１ｂに位置し、第２配線ＷＬ２に電気的に接続され、第３延在方向ｄ３に直線状に延在し、直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。
第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２は、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２とを分ける上記直径に沿った辺を持つストライプ形状部を有している。
図１７は、図１６の線ＸＶＩＩ－ＸＶＩＩに沿った液晶パネルＰＮＬを示す断面図であり、絶縁基板１０，２０、複数の第１制御電極ＲＬ１、複数の第２制御電極ＲＬ２、複数の線状対向電極ＯＭＬ、及び第１制御液晶層ＬＣ１を示す図である。なお、図１７では、説明に必要な構成のみを図示している。
図１７に示すように、隣合う一対の第１制御電極ＲＬ１の第１隙間ＳＣ１は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。隣合う一対の第２制御電極ＲＬ２の第２隙間ＳＣ２は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。隣合う第１制御電極ＲＬ１と第２制御電極ＲＬ２との第３隙間ＳＣ３は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。隣合う一対の線状対向電極ＯＭＬの第４隙間ＳＣ４は、対応する一の第１制御電極ＲＬ１又は対応する一の第２制御電極ＲＬ２と対向している。
直交方向ｄｃ３において、第１制御電極ＲＬ１の幅ＷＤ１及び第２制御電極ＲＬ２の幅ＷＤ２はそれぞれ３９０μｍであり、第１隙間ＳＣ１、第２隙間ＳＣ２、及び第３隙間ＳＣ３はそれぞれ１０μｍである。また、直交方向ｄｃ３において、線状対向電極ＯＭＬの幅ＷＤｏは３９０μｍであり、第４隙間ＳＣ４は１０μｍである。
なお、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２の直交方向ｄｃ３のピッチ、並びに線状対向電極ＯＭＬのピッチは、上記第１の実施形態（図１０）のように、それぞれランダムに設定されてもよい。
第１制御電極構造ＲＥ１、第２制御電極構造ＲＥ２、及び対向電極ＯＥが第１条件（絞りＤＰを開くための条件）で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１を透過状態に設定する。第１制御電極構造ＲＥ１に印加する第１制御電圧及び第２制御電極構造ＲＥ２に印加する第２制御電圧は、それぞれ対向電極ＯＥに印加する対向電圧と同一である。
一方、第１制御電極構造ＲＥ１、第２制御電極構造ＲＥ２、及び対向電極ＯＥが、第３条件（絞りＤＰを絞るための条件）、第２条件（絞りＤＰをさらに絞るための条件）、及び第４条件（絞りＤＰを閉じるための条件）で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に設定する。
第１制御液晶層ＬＣ１を駆動する期間のうち一部の期間に注目すると、第１制御電圧及び第２制御電圧の一方の制御電圧は、対向電圧より正となる。その期間、第１制御電圧及び第２制御電圧の他方の制御電圧は、対向電圧より負となる。対向電圧に対して、第１制御電圧の極性と第２制御電圧の極性とは異なる。
そのため、第１制御電極構造ＲＥ１と対向電極ＯＥとの間に生じ第１制御液晶層ＬＣ１に印加される電圧の極性と、第２制御電極構造ＲＥ２と対向電極ＯＥとの間に生じ第１制御液晶層ＬＣ１に印加される電圧の極性とは、互いに異なる。第１制御電極構造ＲＥ１の電位変動に起因した対向電極ＯＥの電位変動の影響と、第２制御電極構造ＲＥ２の電位変動に起因した対向電極ＯＥの電位変動の影響とは、互いに打ち消し合うこととなる。これにより、対向電極ＯＥの不所望な電位変動を抑制することができる。
本第２の実施形態において、対向電圧と第１制御電圧との差の絶対値と、対向電圧と第２制御電圧との差の絶対値とは、同一である。そのため、対向電極ＯＥの不所望な電位変動を、一層、抑制することができる。
なお、本第２の実施形態と異なり、対向電圧に対する第１制御電圧及び第２制御電圧のそれぞれの極性が同一である場合、対向電極ＯＥの不所望な電位変動を招くため、望ましくない。
上記のように、第２乃至第４条件で第１制御液晶層ＬＣ１を駆動する期間、第１制御電圧の極性と、第２制御電圧の極性とを、対向電圧を基準として反転する極性反転駆動を行ってもよい。上記の期間、対向電圧は、定電圧である。
また、第１隙間ＳＣ１、第２隙間ＳＣ２、及び第３隙間ＳＣ３の各々と、線状対向電極ＯＭＬと、の位置関係は上述した通りである。第４隙間ＳＣ４と、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２の各々と、の位置関係は上述した通りである。第２乃至第４条件で第１制御液晶層ＬＣ１を駆動する期間、第１制御電極ＲＬ１と線状対向電極ＯＭＬとの間に斜め電界を発生させたり、第２制御電極ＲＬ２と線状対向電極ＯＭＬとの間に斜め電界を発生させたり、することができる。そのため、上記電界が方向Ｚに平行な場合と比較して、第１制御液晶層ＬＣ１の液晶分子の立ち上がる方向を、一層、制御することができる。なお、図中、上記電界を、破線で示している。
図１８は、本第２の実施形態の第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４を示す平面図である。
図１８に示すように、第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４は、それぞれ、第３延在方向ｄ３に平行な辺を有する半円状の形状を持っている。第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４の上記辺は、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２とを分ける上記直径に沿っている。第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４は、直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。
図１８及び図１４に示すように、第３配線ＷＬ３の内径は、第６配線ＷＬ６の内径より小さい。第４配線ＷＬ４の内径は、第３配線ＷＬ３の内径より小さい。
図１９は、図１８の線ＸＩＸ－ＸＩＸに沿った液晶パネルＰＮＬを示す断面図であり、絶縁基板１０，２０、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、線状対向電極ＯＭＬ、及び第２制御液晶層ＬＣ２を示す図である。なお、図１９では、説明に必要な構成のみを図示している。
図１９に示すように、隣合う第３制御電極ＲＬ３と第４制御電極ＲＬ４との第５隙間ＳＣ５は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。第５隙間ＳＣ５は、上記第３隙間ＳＣ３と第３延在方向ｄ３に揃っている（図１４及び図１７）。
第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、及び対向電極ＯＥが第１条件、第２条件、及び第３条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態に設定する。第３制御電極構造ＲＥ３に印加する第３制御電圧及び第４制御電極構造ＲＥ４に印加する第４制御電圧は、それぞれ対向電極ＯＥに印加する対向電圧と同一である。
一方、第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、及び対向電極ＯＥが、第４条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２を非透過状態に設定する。
第２制御液晶層ＬＣ２を駆動する期間のうち一部の期間に注目すると、第３制御電圧及び第４制御電圧の一方の制御電圧は、対向電圧より正となる。その期間、第３制御電圧及び第４制御電圧の他方の制御電圧は、対向電圧より負となる。
そのため、第３制御電極構造ＲＥ３と対向電極ＯＥとの間に生じ第２制御液晶層ＬＣ２に印加される電圧の極性と、第４制御電極構造ＲＥ４と対向電極ＯＥとの間に生じ第２制御液晶層ＬＣ２に印加される電圧の極性とは、互いに異なる。本第２の実施形態において、対向電圧と第３制御電圧との差の絶対値と、対向電圧と第４制御電圧との差の絶対値とは、同一である。
なお、本第２の実施形態と異なり、対向電圧に対する第３制御電圧及び第４制御電圧のそれぞれの極性が同一である場合、対向電極ＯＥの不所望な電位変動を招くため、望ましくない。
上記のように、第４条件で第２制御液晶層ＬＣ２を駆動する期間、第３制御電圧の極性と、第４制御電圧の極性とを、対向電圧を基準として反転する極性反転駆動を行ってもよい。上記の期間、対向電圧は、定電圧である。また、第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４を第１条件で駆動する際、第３制御電極構造ＲＥ３及び第４制御電極構造ＲＥ４の極性反転駆動を、第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２の極性反転駆動と同期して行ってもよい。
また、第５隙間ＳＣ５と、線状対向電極ＯＭＬと、の位置関係は上述した通りである。そのため、第３制御電極ＲＬ３と線状対向電極ＯＭＬとの間に生じる電界、及び第４制御電極ＲＬ４と線状対向電極ＯＭＬとの間に生じる電界が方向Ｚに平行な場合と比較して、第２制御液晶層ＬＣ２の液晶分子の立ち上がる方向を、一層、制御することができる。
図２０は、本第２の実施形態の第５制御電極構造ＲＥ５及び第６制御電極構造ＲＥ６を示す平面図である。
図２０に示すように、複数の第５制御電極ＲＬ５は、第３遮光領域ＬＳＡ３及び第５範囲ＴＡ３ａに位置し、第５配線ＷＬ５に電気的に接続され、第３延在方向ｄ３に直線状に延在し、直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。複数の第６制御電極ＲＬ６は、第１遮光領域ＬＳＡ１及び第６範囲ＴＡ３ｂに位置し、第６配線ＷＬ６に電気的に接続され、第３延在方向ｄ３に直線状に延在し、直交方向ｄｃ３に間隔を置いて並べられている。
第５配線ＷＬ５及び第６制御電極ＲＬ６は、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２とを分ける上記直径に沿った辺を持つストライプ形状部を有している。
図２１は、図２０の線ＸＸＩ－ＸＸＩに沿った液晶パネルＰＮＬを示す断面図であり、絶縁基板１０，２０、複数の第５制御電極ＲＬ５、複数の第６制御電極ＲＬ６、複数の線状対向電極ＯＭＬ、及び第３制御液晶層ＬＣ３を示す図である。なお、図２１では、説明に必要な構成のみを図示している。
図２１に示すように、隣合う一対の第５制御電極ＲＬ５の第６隙間ＳＣ６は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。隣合う一対の第６制御電極ＲＬ６の第７隙間ＳＣ７は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。隣合う第５制御電極ＲＬ５と第６制御電極ＲＬ６との第８隙間ＳＣ８は、対応する一の線状対向電極ＯＭＬと対向している。第４隙間ＳＣ４は、対応する一の第５制御電極ＲＬ５又は対応する一の第６制御電極ＲＬ６と対向している。
第８隙間ＳＣ８は、上記第３隙間ＳＣ３及び上記第５隙間ＳＣ５と第３延在方向ｄ３に揃っている（図１４、図１７、及び図１９）。第６隙間ＳＣ６は、上記第２隙間ＳＣ２と第３延在方向ｄ３に揃っている（図１４及び図１７）。第７隙間ＳＣ７は、上記第１隙間ＳＣ１と第３延在方向ｄ３に揃っている（図１４及び図１７）。
直交方向ｄｃ３において、第５制御電極ＲＬ５の幅ＷＤ５及び第６制御電極ＲＬ６の幅ＷＤ６はそれぞれ３９０μｍであり、第６隙間ＳＣ６、第７隙間ＳＣ７、及び第８隙間ＳＣ８はそれぞれ１０μｍである。
なお、第５制御電極ＲＬ５及び第６制御電極ＲＬ６の直交方向ｄｃ３のピッチは、上記第１の実施形態（図１０）のように、それぞれランダムに設定されてもよい。
第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、及び対向電極ＯＥが第１条件及び第３条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第３入射光制御領域ＴＡ３を透過状態に設定する。第５制御電極構造ＲＥ５に印加する第５制御電圧及び第６制御電極構造ＲＥ６に印加する第６制御電圧は、それぞれ対向電極ＯＥに印加する対向電圧と同一である。
一方、第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、及び対向電極ＯＥが、第２条件及び第４条件で駆動された際、液晶パネルＰＮＬは、第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に設定する。
第３制御液晶層ＬＣ３を駆動する期間のうち一部の期間に注目すると、第５制御電圧及び第６制御電圧の一方の制御電圧は、対向電圧より正となる。その期間、第５制御電圧及び第６制御電圧の他方の制御電圧は、対向電圧より負となる。
そのため、第５制御電極構造ＲＥ５と対向電極ＯＥとの間に生じ第３制御液晶層ＬＣ３に印加される電圧の極性と、第６制御電極構造ＲＥ６と対向電極ＯＥとの間に生じ第３制御液晶層ＬＣ３に印加される電圧の極性とは、互いに異なる。本第２の実施形態において、対向電圧と第５制御電圧との差の絶対値と、対向電圧と第６制御電圧との差の絶対値とは、同一である。
なお、本第２の実施形態と異なり、対向電圧に対する第５制御電圧及び第６制御電圧のそれぞれの極性が同一である場合、対向電極ＯＥの不所望な電位変動を招くため、望ましくない。
上記のように、第２条件及び第４条件で第３制御液晶層ＬＣ３を駆動する期間、第５制御電圧の極性と、第６制御電圧の極性とを、対向電圧を基準として反転する極性反転駆動を行ってもよい。上記の期間、対向電圧は、定電圧である。また、第５制御電極構造ＲＥ５及び第６制御電極構造ＲＥ６を第２条件及び第４条件で駆動する際、第５制御電極構造ＲＥ５及び第６制御電極構造ＲＥ６の極性反転駆動を、第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２の極性反転駆動と同期して行ってもよい。
また、第６隙間ＳＣ６、第７隙間ＳＣ７、及び第８隙間ＳＣ８の各々と、線状対向電極ＯＭＬと、の位置関係は上述した通りである。そのため、第５制御電極ＲＬ５と線状対向電極ＯＭＬとの間に生じる電界、及び第６制御電極ＲＬ６と線状対向電極ＯＭＬとの間に生じる電界が方向Ｚに平行な場合と比較して、第３制御液晶層ＬＣ３の液晶分子の立ち上がる方向を、一層、制御することができる。
上記のように構成された第２の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、入射光制御領域ＰＣＡの光透過領域を制御可能な液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００を得ることができる。また、良好に撮影することが可能である電子機器１００を得ることができる。
（第３の実施形態）
次に、本第３の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第３の実施形態で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図２２は、本第３の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２を示す平面図である。第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２は、同一の導電層で形成されている。なお、図２２では、説明に必要な構成のみを図示している。
図２２に示すように、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２は、それぞれ、ＩＴＯ等の透明な導電材料で形成されている。絶縁層１３は、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２のうちの一以上の導体と、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２のうちの残りの導体と、で挟まれている（図１０）。
上記一以上の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの一方の電極と同一層に設けられ、上記一方の電極と同一材料で形成されている（図７）。上記残りの導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの他方の電極と同一層に設けられ、上記他方の電極と同一材料で形成されている（図７）。
本第３の実施形態において、絶縁層１３は、第１配線ＷＬ１及び第２配線ＷＬ２の配線群と、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２の電極群と、で挟まれている（図１０）。言い換えると、配線ＷＬと制御電極ＲＬとは、絶縁層１３を挟んで異なる層に形成されている。
第１配線ＷＬ１及び第２配線ＷＬ２は、共通電極ＣＥと同一層に設けられ、共通電極ＣＥと同一の透明な導電材料で形成され、互いに隙間を置いて配置されている（図７）。第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２は、画素電極ＰＥと同一層に設けられ、画素電極ＰＥと同一の透明な導電材料で形成され、直交方向ｄｃ１にて互いに隙間を置いて配置されている（図７）。上記のことから、第１制御電極ＲＬ１、第２制御電極ＲＬ２、及び画素電極ＰＥは、第１の導電層（透明導電層）で形成されている。第１配線ＷＬ１、第２配線ＷＬ２、及び共通電極ＣＥは、第２の導電層（透明導電層）で形成されている。
第１制御電極構造ＲＥ１は、一以上の第１金属層ＭＥ１をさらに有している。第１金属層ＭＥ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、第１配線ＷＬ１に接し、第１配線ＷＬ１とともに第１給電配線ＣＬ１を構成している。第１金属層ＭＥ１は、第１給電配線ＣＬ１の低抵抗化に寄与している。
第２制御電極構造ＲＥ２は、一以上の第２金属層ＭＥ２をさらに有している。第２金属層ＭＥ２は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、第２配線ＷＬ２に接し、第２配線ＷＬ２とともに第２給電配線ＣＬ２を構成している。第２金属層ＭＥ２は、第２給電配線ＣＬ２の低抵抗化に寄与している。
なお、本第３の実施形態において、上記第１金属層ＭＥ１及び第２金属層ＭＥ２は、金属層ＭＬと同一層に設けられ、金属層ＭＬと同一の金属材料で形成されている。
第１制御電極ＲＬ１は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ１を通り、第１配線ＷＬ１にコンタクトしている。第２制御電極ＲＬ２は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ２を通り、第２配線ＷＬ２にコンタクトしている。第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２は、直交方向ｄｃ１に交互に配置されている。第１制御電極ＲＬ１は、第２配線ＷＬ２と交差して第１延在方向ｄ１に延在している。
直交方向ｄｃ１において、第１制御電極ＲＬ１の幅ＷＴ１は２μｍであり、第２制御電極ＲＬ２の幅ＷＴ２は２μｍであり、複数の隙間ＳＦは、一定ではない。ここで、上記隙間ＳＦは、第１制御電極ＲＬ１と第２制御電極ＲＬ２との隙間を言い、第１入射光制御領域ＴＡ１においてランダムに変化している。
例えば、隙間ＳＦは、８μｍを中心にして０．２５μｍ単位でランダムに変化している。そして、直交方向ｄｃ１に並ぶ隙間ＳＦは、７．７５μｍ、６．２５μｍ、１０．２５μｍ、８．７５μｍ、７．２５μｍ、５．７５μｍ、６．７５μｍ、９．２５μｍ、８．２５μｍ、９．７５μｍと順に変化している。
第１制御電極ＲＬ１と第２制御電極ＲＬ２とのピッチは、一定でもよいが、本第３の実施形態のように、ランダムに設定されている方が望ましい。これにより、上記ピッチを一定にした場合に生じる光の回折及び干渉の発生を防止することができる。なお、隙間ＳＦは、８μｍから１８μｍまでを中心にして０．２５μｍ単位でランダムに変化させてもよい。
上記のように図２２を用いて第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２について説明したが、図２２を用いて説明した技術は、第５制御電極構造ＲＥ５及び第６制御電極構造ＲＥ６にも適用可能である。
図２３は、本第３の実施形態に係る第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５制御電極ＲＬ５、第６制御電極ＲＬ６、第３引き回し配線Ｌ３、及び第４引き回し配線Ｌ４を示す平面図である。
図２３に示すように、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２においても、ＩＰＳモードに対応した構成を有している。
第３制御電極構造ＲＥ３は、第３給電配線ＣＬ３と、第３制御電極ＲＬ３と、を有している。
第３給電配線ＣＬ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、円環の形状を持つ第３配線ＷＬ３と、第３金属層ＭＥ３と、を含んでいる（図８）。本第３の実施形態において、第３配線ＷＬ３は、Ｃ形の形状を持ち、第４引き回し配線Ｌ４が通る領域において分断して形成されている。第３金属層ＭＥ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、第３配線ＷＬ３に接し、第３配線ＷＬ３とともに第３給電配線ＣＬ３を構成している。第３金属層ＭＥ３は、第３給電配線ＣＬ３の低抵抗化に寄与している。
複数の第３制御電極ＲＬ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第２入射光制御領域ＴＡ２に位置し、第３配線ＷＬ３に電気的に接続され、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている（図８）。
複数の第３制御電極ＲＬ３は、両端部で第３配線ＷＬ３と接続されている。しかしながら、複数の第３制御電極ＲＬ３は、一方の端部で第３配線ＷＬ３と接続し、他方の端部は第３配線ＷＬ３と接続しない第３制御電極ＲＬ３を有してもよい。
第４制御電極構造ＲＥ４は、第４給電配線ＣＬ４と、第４制御電極ＲＬ４と、を有している。
第４給電配線ＣＬ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、円環の形状を持つ第４配線ＷＬ４と、第４金属層ＭＥ４と、を含んでいる（図８）。第４配線ＷＬ４は、第３配線ＷＬ３に隣接している。本第４の実施形態において、第４配線ＷＬ４は、第３配線ＷＬ３より内側に位置しているが、第３配線ＷＬ３より外側に位置してもよい。第４金属層ＭＥ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、第４配線ＷＬ４に接し、第４配線ＷＬ４とともに第４給電配線ＣＬ４を構成している。第４金属層ＭＥ４は、第４給電配線ＣＬ４の低抵抗化に寄与している。
複数の第４制御電極ＲＬ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第２入射光制御領域ＴＡ２に位置し、第４配線ＷＬ４に電気的に接続され、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている（図８）。
複数の第４制御電極ＲＬ４は、両端部で第４配線ＷＬ４と接続されている。しかしながら、複数の第４制御電極ＲＬ４は、一方の端部で第４配線ＷＬ４と接続し、他方の端部は第４配線ＷＬ４と接続しない第４制御電極ＲＬ４を有してもよい。
第３制御電極ＲＬ３は、第４配線ＷＬ４と交差している。複数の第３制御電極ＲＬ３と、複数の第４制御電極ＲＬ４とは、直交方向ｄｃ１に交互に並べられている。第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４は、それぞれ、ＩＴＯ等の透明な導電材料で形成されている。絶縁層１３は、第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４のうちの一以上の導体と、第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４のうちの残りの導体と、で挟まれている（図１０）。
上記一以上の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの一方の電極と同一層に設けられ、上記一方の電極と同一材料で形成されている（図７）。上記残りの導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの他方の電極と同一層に設けられ、上記他方の電極と同一材料で形成されている（図７）。
本第３の実施形態において、絶縁層１３は、第３配線ＷＬ３及び第４配線ＷＬ４の配線群と、第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４の電極群と、で挟まれている（図１０）。
第３配線ＷＬ３及び第４配線ＷＬ４は、共通電極ＣＥと同一層に設けられ、共通電極ＣＥと同一の透明な導電材料で形成され、互いに隙間を置いて配置されている（図７）。第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４は、画素電極ＰＥと同一層に設けられ、画素電極ＰＥと同一の透明な導電材料で形成されている（図７）。
第３制御電極ＲＬ３は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ３を通り、第３配線ＷＬ３にコンタクトしている。第４制御電極ＲＬ４は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ４を通り、第４配線ＷＬ４にコンタクトしている。
なお、本第３の実施形態において、第２遮光部ＢＭ２の内径ＤＩ４は、２００μｍである（図８）。直交方向ｄｃ１において、複数の第３制御電極ＲＬ３及び複数の第４制御電極ＲＬ４は、１０μｍを中心としたランダムなピッチで並べられている。
本第４の実施形態において、第３引き回し配線Ｌ３及び第４引き回し配線Ｌ４は、透明な導電層及び金属層の積層体で構成されている。
上記のように構成された第３の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、入射光制御領域ＰＣＡの光透過領域を制御可能な液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００を得ることができる。また、良好に撮影することが可能である電子機器１００を得ることができる。
（第４の実施形態）
次に、本第４の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第４の実施形態で説明する構成以外、上記第２の実施形態（図１４）と同様に構成されている。図２４は、本第４の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２を示す平面図である。ここでは、図１４に示す縦電界モードの電極構造における、第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２の接続部について説明する。なお、図２４では、説明に必要な構成のみを図示している。
図２４に示すように、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２は、それぞれ、ＩＴＯ等の透明な導電材料で形成されている。絶縁層１３は、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２のうちの一以上の導体と、第１配線ＷＬ１、第１制御電極ＲＬ１、第２配線ＷＬ２、及び第２制御電極ＲＬ２のうちの残りの導体と、で挟まれている（図１０）。
上記一以上の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの一方の電極と同一層に設けられ、上記一方の電極と同一材料で形成されている（図７）。上記残りの導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの他方の電極と同一層に設けられ、上記他方の電極と同一材料で形成されている（図７）。
本第４の実施形態において、絶縁層１３は、第１配線ＷＬ１及び第２配線ＷＬ２の配線群と、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２の電極群と、で挟まれている（図１０）。
第１配線ＷＬ１及び第２配線ＷＬ２は、図７に示す画素ＰＸに設けられる共通電極ＣＥと同一層に設けられ、共通電極ＣＥと同一の透明な導電材料で形成され、互いに隙間を置いて配置されている（図７）。第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２は、画素電極ＰＥと同一層に設けられ、画素電極ＰＥと同一の透明な導電材料で形成され、直交方向ｄｃ３にて互いに隙間を置いて配置されている（図７）。
第１制御電極構造ＲＥ１は、一以上の第１金属層ＭＥ１をさらに有している。第１金属層ＭＥ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、第１配線ＷＬ１に接し、第１配線ＷＬ１とともに第１給電配線ＣＬ１を構成している（図１３）。第１金属層ＭＥ１は、第１給電配線ＣＬ１の低抵抗化に寄与している。
第２制御電極構造ＲＥ２は、一以上の第２金属層ＭＥ２をさらに有している。第２金属層ＭＥ２は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置し、第２配線ＷＬ２に接し、第２配線ＷＬ２とともに第２給電配線ＣＬ２を構成している（図１３）。第２金属層ＭＥ２は、第２給電配線ＣＬ２の低抵抗化に寄与している。
なお、本第４の実施形態において、上記第１金属層ＭＥ１及び第２金属層ＭＥ２は、金属層ＭＬと同一層に設けられ、金属層ＭＬと同一の金属材料で形成されている。
第１制御電極ＲＬ１は、第１範囲ＴＡ１ａに位置し、第２配線ＷＬ２と交差し、第３延在方向ｄ３に延在している。第２制御電極ＲＬ２は、第２範囲ＴＡ１ｂに位置し、第３延在方向ｄ３に延在している。
第１制御電極ＲＬ１は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ１を通り、第１配線ＷＬ１にコンタクトしている。第２制御電極ＲＬ２は、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ２を通り、第２配線ＷＬ２にコンタクトしている。本第５の実施形態において、第１制御電極ＲＬ１及び第２制御電極ＲＬ２は、それぞれ２個所で対応する配線ＷＬにコンタクトしている。
なお、第１給電配線ＣＬ１に第１金属層ＭＥ１を含み、第２給電配線ＣＬ２に第２金属層ＭＥ２を含む場合を説明したが、制御電極構造ＲＥ及び引き回し配線Ｌを遮光層ＢＭで覆わない場合などは、第１給電配線ＣＬ１、第２給電配線ＣＬ２、及び引き回し配線Ｌを透明な導電層のみで形成することも可能である。
上記のように図２４を用いて第１制御電極構造ＲＥ１及び第２制御電極構造ＲＥ２について説明したが、図２４を用いて説明した技術は、第５制御電極構造ＲＥ５及び第６制御電極構造ＲＥ６にも適用可能である。
図２５は、本第４の実施形態に係る第３制御電極構造ＲＥ３、第４制御電極構造ＲＥ４、第５制御電極構造ＲＥ５、第６制御電極構造ＲＥ６、第３引き回し配線Ｌ３、及び第４引き回し配線Ｌ４を示す平面図である。
図２５に示すように、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２においても、縦電界モードに対応した構成を有している。
第３制御電極構造ＲＥ３は、第３給電配線ＣＬ３と、第３制御電極ＲＬ３と、を有している。
第３給電配線ＣＬ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、円環の形状を持つ第３配線ＷＬ３と、第３金属層ＭＥ３と、を含んでいる（図１３）。本第４の実施形態において、第３配線ＷＬ３は、Ｃ形の形状を持ち、第４引き回し配線Ｌ４が通る領域において分断して形成されている。第３金属層ＭＥ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、第３配線ＷＬ３に接し、第３配線ＷＬ３とともに第３給電配線ＣＬ３を構成している。第３金属層ＭＥ３は、第３給電配線ＣＬ３の低抵抗化に寄与している。第３制御電極ＲＬ３は、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第３範囲ＴＡ２ａに位置し、第３配線ＷＬ３に電気的に接続されている（図１３）。
第４制御電極構造ＲＥ４は、第４給電配線ＣＬ４と、第４制御電極ＲＬ４と、を有している。
第４給電配線ＣＬ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、円環の形状を持つ第４配線ＷＬ４と、第４金属層ＭＥ４と、を含んでいる（図１３）。本第４の実施形態において、第４配線ＷＬ４は、第３配線ＷＬ３より内側に位置しているが、第３配線ＷＬ３より外側に位置してもよい。第４金属層ＭＥ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２に位置し、第４配線ＷＬ４に接し、第４配線ＷＬ４とともに第４給電配線ＣＬ４を構成している。第４金属層ＭＥ４は、第４給電配線ＣＬ４の低抵抗化に寄与している。第４制御電極ＲＬ４は、第２遮光領域ＬＳＡ２及び第４範囲ＴＡ２ｂに位置し、第４配線ＷＬ４に電気的に接続されている（図１３）。
第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４は、それぞれ、ＩＴＯ等の透明な導電材料で形成されている。絶縁層１３は、第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４のうちの一以上の導体と、第３配線ＷＬ３、第３制御電極ＲＬ３、第４配線ＷＬ４、及び第４制御電極ＲＬ４のうちの残りの導体と、で挟まれている（図１０）。
上記一以上の導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの一方の電極と同一層に設けられ、上記一方の電極と同一材料で形成されている（図７）。上記残りの導体は、画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの他方の電極と同一層に設けられ、上記他方の電極と同一材料で形成されている（図７）。
本第４の実施形態において、絶縁層１３は、第３配線ＷＬ３及び第４配線ＷＬ４の配線群と、第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４の電極群と、で挟まれている（図１０）。
第３配線ＷＬ３及び第４配線ＷＬ４は、共通電極ＣＥと同一層に設けられ、共通電極ＣＥと同一の透明な導電材料で形成され、互いに隙間を置いて配置されている（図７）。第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４は、画素電極ＰＥと同一層に設けられ、画素電極ＰＥと同一の透明な導電材料で形成されている（図７）。
なお、本第４の実施形態において、第２遮光部ＢＭ２の内径（ＤＩ４）は、２００μｍである。図２４に示した幅ＷＤ１及び幅ＷＤ２は、上述したように実質的に４００μｍである。そのため、第３範囲ＴＡ２ａにおいて、第３制御電極ＲＬ３は、分断されたり、スリットを有したり、していない。同様に、第４範囲ＴＡ２ｂにおいて、第４制御電極ＲＬ４は、分断されたり、スリットを有したり、していない。
第３制御電極ＲＬ３は、延出部ＲＬ３ａを有している。本第４の実施形態において、第３制御電極ＲＬ３は、複数の延出部ＲＬ３ａを有している。各々の延出部ＲＬ３ａは、第４配線ＷＬ４と交差し、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ３を通り、第３配線ＷＬ３にコンタクトしている。
第４制御電極ＲＬ４は、延出部ＲＬ４ａを有している。本第５の実施形態において、第４制御電極ＲＬ４は、複数の延出部ＲＬ４ａを有している。各々の延出部ＲＬ４ａは、絶縁層１３に形成されたコンタクトホールｈｏ４を通り、第４配線ＷＬ４にコンタクトしている。
本第４の実施形態において、第３引き回し配線Ｌ３及び第４引き回し配線Ｌ４は、透明な導電層及び金属層の積層体で構成されている。
上記のように構成された第４の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、入射光制御領域ＰＣＡの光透過領域を制御可能な液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００を得ることができる。また、良好に撮影することが可能である電子機器１００を得ることができる。
（第５の実施形態）
次に、本第５の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第５の実施形態で説明する構成以外、上記第２の実施形態（図１２）と同様に構成されている。図２６は、本第５の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬを示す平面図である。なお、図２６では、説明に必要な構成のみを図示している。
図２６に示すように、非表示領域ＮＤＡは、第１基板ＳＵＢ１の延出部Ｅｘが位置する領域を含む第１非表示領域ＮＤＡ１と、表示領域ＤＡを挟んで第１非表示領域ＮＤＡ１の反対側に位置した第２非表示領域ＮＤＡ２と、第１非表示領域ＮＤＡ１と第２非表示領域ＮＤＡ２との間に位置した第３非表示領域ＮＤＡ３と、表示領域ＤＡを挟んで第３非表示領域ＮＤＡ３の反対側に位置した第４非表示領域ＮＤＡ４と、を有している。
本第５の実施形態において、図中、第１非表示領域ＮＤＡ１は下側に位置し、第２非表示領域ＮＤＡ２は上側に位置し、第３非表示領域ＮＤＡ３は右側に位置し、第４非表示領域ＮＤＡ４は左側に位置している。
第１基板ＳＵＢ１は、第１パッドＰＤ１、第２パッドＰＤ２、第３パッドＰＤ３、第４パッドＰＤ４、第５パッドＰＤ５、第６パッドＰＤ６、第７パッドＰＤ７などを含む複数のパッドＰＤをさらに有している。これらのパッドＰＤは、第１基板ＳＵＢ１の第１非表示領域ＮＤＡ１のうち延出部Ｅｘに位置し、方向Ｘに揃っている。
第１引き回し配線Ｌ１、第２引き回し配線Ｌ２、第３引き回し配線Ｌ３、第４引き回し配線Ｌ４、第５引き回し配線Ｌ５、及び第６引き回し配線Ｌ６は、入射光制御領域ＰＣＡ、表示領域ＤＡ、及び非表示領域ＮＤＡを延在している。本第５の実施形態において、絞りＤＰ（入射光制御領域ＰＣＡ）は、第１乃至第４非表示領域ＮＤＡ１乃至ＮＤＡ４のうち第２非表示領域ＮＤＡ２の近傍の位置に設けられている。そのため、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、表示領域ＤＡを延在する距離が、極力、短くなるように、表示領域ＤＡを迂回し、非表示領域ＮＤＡを延在している。
ここで、制御電極構造ＲＥとパッド（接続端子）ＰＤとの接続関係について説明する。
図２６及び図１４に示すように、第１引き回し配線Ｌ１は、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置した第１制御電極構造ＲＥ１を第１パッドＰＤ１に電気的に接続している。第２引き回し配線Ｌ２は、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置した第２制御電極構造ＲＥ２を第２パッドＰＤ２に電気的に接続している。
第３引き回し配線Ｌ３は、第２入射光制御領域ＴＡ２に位置した第３制御電極構造ＲＥ３を第３パッドＰＤ３に電気的に接続している。第４引き回し配線Ｌ４は、第２入射光制御領域ＴＡ２に位置した第４制御電極構造ＲＥ４を第４パッドＰＤ４に電気的に接続している。
第５引き回し配線Ｌ５は、第３入射光制御領域ＴＡ３に位置した第５制御電極構造ＲＥ５を第５パッドＰＤ５に電気的に接続している。第６引き回し配線Ｌ６は、第３入射光制御領域ＴＡ３に位置した第６制御電極構造ＲＥ６を第６パッドＰＤ６に電気的に接続している。
本第５の実施形態において、第１引き回し配線Ｌ１、第３引き回し配線Ｌ３、及び第６引き回し配線Ｌ６は、それぞれ、第２非表示領域ＮＤＡ２、第３非表示領域ＮＤＡ３、及び第１非表示領域ＮＤＡ１を延在している。第２引き回し配線Ｌ２、第４引き回し配線Ｌ４、及び第５引き回し配線Ｌ５は、それぞれ、第２非表示領域ＮＤＡ２、第４非表示領域ＮＤＡ４、及び第１非表示領域ＮＤＡ１を延在している。
入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第３引き回し配線Ｌ３及び第４引き回し配線Ｌ４は、第５引き回し配線Ｌ５及び第６引き回し配線Ｌ６で挟まれている。第５引き回し配線Ｌ５及び第６引き回し配線Ｌ６は、第１引き回し配線Ｌ１及び第２引き回し配線Ｌ２で挟まれている。
第２非表示領域ＮＤＡ２、第３非表示領域ＮＤＡ３、及び第１非表示領域ＮＤＡ１において、第１引き回し配線Ｌ１は第６引き回し配線Ｌ６より表示領域ＤＡ側に位置し、第６引き回し配線Ｌ６は第３引き回し配線Ｌ３より表示領域ＤＡ側に位置している。
第２非表示領域ＮＤＡ２、第４非表示領域ＮＤＡ４、及び第１非表示領域ＮＤＡ１において、第２引き回し配線Ｌ２は第５引き回し配線Ｌ５より表示領域ＤＡ側に位置し、第５引き回し配線Ｌ５は第４引き回し配線Ｌ４より表示領域ＤＡ側に位置している。
上述した第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６の各々において、非表示領域ＮＤＡから入射光制御領域ＰＣＡの間の表示領域ＤＡに位置する部分を引き回し配線と称し、非表示領域ＮＤＡに位置する部分を周辺配線と称する場合がある。その場合、上記引き回し配線は、対応する配線ＷＬを介して対応する制御電極ＲＬに接続される。また、上記周辺配線は、非表示領域ＮＤＡにて対応するパッドＰＤから対応する上記引き回し配線までの間を延在し、対応するパッドＰＤと対応する上記引き回し配線とに接続されている。
なお、絞りＤＰ（入射光制御領域ＰＣＡ）は、第２非表示領域ＮＤＡ２の近傍の位置に設けられていなくともよい。例えば、絞りＤＰ（入射光制御領域ＰＣＡ）は、第１乃至第４非表示領域ＮＤＡ１乃至ＮＤＡ４のうち第３非表示領域ＮＤＡ３の近傍の位置に設けられてもよい。その場合、第１乃至第６引き回し配線Ｌ１乃至Ｌ６は、非表示領域ＮＤＡのうち、第３非表示領域ＮＤＡ３及び第１非表示領域ＮＤＡ１のみを延在してもよい。
上記のように、本第５の実施形態では、制御電極構造ＲＥに電圧を与えるために引き回し配線Ｌを用いているが、液晶パネルＰＮＬは、制御電極構造ＲＥに電圧を与えることができればよく、引き回し配線Ｌ無しに構成されてもよい。例えば、複数の信号線Ｓ（図３）のうちのいくつかの信号線Ｓを用いて制御電極構造ＲＥとＩＣチップ６とを電気的に接続し、制御電極構造ＲＥ専用の信号線Ｓを介して制御電極構造ＲＥを駆動してもよい。
第１基板ＳＵＢ１は、非表示領域ＮＤＡに位置した第８パッドＰＤ８と、非表示領域ＮＤＡに位置し第８パッドＰＤ８を第７パッドＰＤ７に電気的に接続した接続配線ＣＯと、をさらに有している。第２基板ＳＵＢ２は、非表示領域ＮＤＡに位置し第８パッドＰＤ８に重なった第９パッドＰＤ９をさらに有している。第９パッドＰＤ９には、引き回し配線Ｌｏが電気的に接続されている（図１５）。
例えば、引き回し配線Ｌｏは、第２引き回し配線Ｌ２等と同様に、第２非表示領域ＮＤＡ２、第４非表示領域ＮＤＡ４、及び第１非表示領域ＮＤＡ１を延在し、対向電極ＯＥを第９パッドＰＤ９に電気的に接続している。第８パッドＰＤ８と第９パッドＰＤ９とは、図示しない導電部材により電気的に接続されている。これにより、第７パッドＰＤ７、接続配線ＣＯ、第８パッドＰＤ８、第９パッドＰＤ９、引き回し配線Ｌｏ等を介して対向電極ＯＥに対向電圧を印加することができる。
ここで、対向電極ＯＥに印加する対向電圧と、第１乃至第６制御電極構造ＲＥ１乃至ＲＥ６に印加する第１乃至第６制御電圧と、の関係について説明する。
図２６、図１７、図１９、及び図２１に示すように、上記第１条件において、第１乃至第６制御電圧は、それぞれ対向電圧と同一である。例えば、上記第１条件における任意の期間において、第１乃至第６制御電圧、及び対向電圧は、それぞれ０Ｖである。液晶パネルＰＮＬは、第１乃至第３入射光制御領域ＴＡ１乃至ＴＡ３を透過状態に設定することができる。
その場合、第１引き回し配線Ｌ１、第３引き回し配線Ｌ３、及び第６引き回し配線Ｌ６により第３非表示領域ＮＤＡ３に与える電圧の影響、並びに第２引き回し配線Ｌ２、第４引き回し配線Ｌ４、及び第５引き回し配線Ｌ５により第４非表示領域ＮＤＡ４に与える電圧の影響は、実質的にない。
上記第２条件において、第１制御電圧の極性及び第２制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。すなわち、第１制御電圧の極性及び第２制御電圧の極性は逆極性である。第５制御電圧の極性及び第６制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。第３制御電圧及び第４制御電圧は、対向電圧と同一である。例えば、上記第２条件における任意の期間において、第３制御電圧、第４制御電圧、及び対向電圧はそれぞれ０Ｖであり、第１制御電圧及び第５制御電圧はそれぞれ＋αＶであり、第２制御電圧及び第６制御電圧はそれぞれ－αＶである。液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に設定することができる。
その場合、第１引き回し配線Ｌ１及び第６引き回し配線Ｌ６は逆極性に設定され、第２引き回し配線Ｌ２及び第５引き回し配線Ｌ５は逆極性に設定される。そのため、第１引き回し配線Ｌ１の極性及び第６引き回し配線Ｌ６の極性が同一であり、第２引き回し配線Ｌ２の極性及び第５引き回し配線Ｌ５の極性が同一である場合と比較して、第３非表示領域ＮＤＡ３及び第４非表示領域ＮＤＡ４に及ぼし得る電圧の影響を抑制することができる。
上記第３条件において、第１制御電圧の極性及び第２制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。第３制御電圧、第４制御電圧、第５制御電圧、及び第６制御電圧は、対向電圧と同一である。例えば、上記第３条件における任意の期間において、第３制御電圧、第４制御電圧、第５制御電圧、第６制御電圧、及び対向電圧はそれぞれ０Ｖであり、第１制御電圧は＋αＶであり、第２制御電圧は－αＶである。液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第３入射光制御領域ＴＡ３を透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に設定することができる。
その場合、第３引き回し配線Ｌ３及び第６引き回し配線Ｌ６は０Ｖに設定され、第４引き回し配線Ｌ４及び第５引き回し配線Ｌ５は０Ｖに設定される。そのため、上記第３条件においても、引き回し配線Ｌが第３非表示領域ＮＤＡ３及び第４非表示領域ＮＤＡ４に及ぼし得る電圧の影響は小さい。
上記第４条件において、第１制御電圧の極性及び第２制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。第５制御電圧の極性及び第６制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。第３制御電圧の極性及び第４制御電圧の極性は、対向電圧に対して互いに異なっている。例えば、上記第４条件における任意の期間において、第１制御電圧、第３制御電圧、及び第５制御電圧はそれぞれ＋αＶであり、第２制御電圧、第４制御電圧、及び第６制御電圧はそれぞれ－αＶである。液晶パネルＰＮＬは、第１乃至第３入射光制御領域ＴＡ１乃至ＴＡ３を非透過状態に設定することができる。
その場合、第１引き回し配線Ｌ１の極性、第３引き回し配線Ｌ３の極性、及び第６引き回し配線Ｌ６の極性は同一ではなく、第２引き回し配線Ｌ２の極性、第４引き回し配線Ｌ４の極性、及び第５引き回し配線Ｌ５の極性も同一ではない。そのため、上記極性が同一となる場合と比較して、第３非表示領域ＮＤＡ３及び第４非表示領域ＮＤＡ４に及ぼし得る電圧の影響を抑制することができる。
上述したように、引き回し配線Ｌに起因した容量は、第３非表示領域ＮＤＡ３と第４非表示領域ＮＤＡ４とでバランスされている。例えば、第３非表示領域ＮＤＡ３及び第４非表示領域ＮＤＡ４に位置する回路への悪影響を抑制することができる。
上記のように構成された第５の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、入射光制御領域ＰＣＡの光透過領域を制御可能な液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００を得ることができる。また、良好に撮影することが可能である電子機器１００を得ることができる。
（第６の実施形態）
次に、本第６の実施形態について説明する。図２７は、本第６の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡにおける走査線Ｇ及び信号線Ｓを示す平面図である。図２７において、走査線Ｇを実線で示し、信号線Ｓを破線で示し、第１遮光領域ＬＳＡ１の内周及び外周をそれぞれ二点鎖線で示している。なお、図２７では、説明に必要な構成のみを図示している。本第６の実施形態の電子機器１００は、入射光制御領域ＰＣＡにおける走査線Ｇ及び信号線Ｓの配線以外、上述した第１乃至第５の実施形態の何れかの実施形態の電子機器１００と同様に構成されている。
図２７に示すように、複数の走査線Ｇは、表示領域ＤＡにおいて、６０乃至１８０μｍの間隔を置いて方向Ｙに並べられている。複数の信号線Ｓは、２０乃至６０μｍの間隔を置いて方向Ｘに並べられている。走査線Ｇ及び信号線Ｓは、それぞれ入射光制御領域ＰＣＡにおいても延在している。
複数の走査線Ｇ及び複数の信号線Ｓのうち、第１入射光制御領域ＴＡ１に向かって表示領域ＤＡを延在する一以上の配線は、第１入射光制御領域ＴＡ１を迂回し、入射光制御領域ＰＣＡのうち第１遮光領域ＬＳＡ１を延在している。従って、第１遮光領域ＬＳＡ１（第１遮光部ＢＭ１）の外周の直径が６乃至７ｍｍの場合に、走査線Ｇで３０乃至１２０本、信号線Ｓで１００乃至３５０本が、第１入射光制御領域ＴＡ１を回避し、第１遮光部ＢＭ１に覆われる第１遮光領域ＬＳＡ１に配置される。そのため、表示領域ＤＡで囲まれる入射光制御領域ＰＣＡが存在しても、走査線Ｇ、信号線Ｓなどを良好に配線することができる。
上記のように構成された第６の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰ及び電子機器１００によれば、電子機器１００は上述した実施形態の電子機器１００と同様に構成されているため、上述した実施形態と同様の効果を得ることができる。また、良好に撮影することが可能である電子機器１００を得ることができる。
（第７の実施形態）
次に、本第７の実施形態について説明する。ここでは、絞りＤＰをシャッタとして使用する場合について説明する。まず、液晶層ＬＣのギャップＧａと、透過率及び応答速度と、の関係について説明する。図２８は、本第７の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬにおいて、液晶層ＬＣのギャップＧａに対する光（可視光）の透過率の変化と、ギャップＧａに対する液晶の応答速度の変化と、をグラフで示す図である。電子機器１００は、本第８の実施形態で説明する構成以外、上記第２の実施形態（図１２）と同様に構成されている。
図２８に、図１２に示すギャップＧａと液晶の応答速度の関係を示す。ギャップＧａを狭くする程、液晶の応答速度が速くなることが分かる。なお、本明細書において、液晶の応答速度とは、液晶分子が初期配向から所定の状態に変移する速度を言い、いわゆる立ち上がり時の速度を言う。そこで、本第７の実施形態において、第２ギャップＧａ２を第１ギャップＧａ１未満としている（Ｇａ２＜Ｇａ１）。例示すると、第２ギャップＧａ２を第１ギャップＧａ１の半分とすることができる（Ｇａ２＝Ｇａ１／２）。
これにより、表示領域ＤＡの表示液晶層ＬＣＩにおける液晶の応答速度より、入射光制御領域ＰＣＡの第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３の各々における液晶の応答速度を高くすることができる。例えば、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）を液晶シャッタとして機能させることができる。
シャッタ速度は０．００１秒以下が求められる場合もあり、液晶シャッタとして機能するためには、制御電極ＲＬに電圧が印加されている時間は、画素電極ＰＥに電圧が印加される時間に比べて短くなる。従って、制御電極ＲＬに駆動される液晶の応答速度も速くすることが求められる。
但し、第２ギャップＧａ２を狭くする程、入射光制御領域ＰＣＡにおける光の透過率は低くなるため留意する必要がある。
なお、第１ギャップＧａ１を狭くしてもよく、表示液晶層ＬＣＩにおける液晶の応答速度を高くすることができる。しかしながら、表示領域ＤＡにおける光の透過率は低くなり、表示画像が暗くなるため留意する必要がある。
次に、液晶層ＬＣに印加する電圧と、応答速度と、の関係について説明する。図２９は、本第７の実施形態において、液晶層ＬＣに印加する電圧に対する液晶の応答速度の変化と、をグラフで示す図である。なお、図２９において、第２ギャップＧａ２を１．７μｍに設定している。
図２９に示すように、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間の電位差を大きくする程、液晶の応答速度が高くなることが分かる。入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）を液晶シャッタとして機能させる場合、液晶の応答速度は１．０ｍｓ以下である方が望ましい。１．０ｍｓ以下の液晶の応答速度を得る場合、制御電極構造ＲＥと対向電極ＯＥとの間に印加する電圧（電圧の絶対値）は１３Ｖ以上必要であることが分かる。
例えば、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、それぞれ、透過状態から非透過状態に高速で変える場合、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３に１３Ｖ以上の電圧を印加すればよい。
なお、入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）を液晶シャッタとして機能させる場合、第１制御液晶層ＬＣ１に印加される電圧の絶対値、第２制御液晶層ＬＣ２に印加される電圧の絶対値、及び第３制御液晶層ＬＣ３に印加される電圧の絶対値は、それぞれ、表示液晶層ＬＣＩに印加される電圧の絶対値より高い。
上記のことから、電圧によっても、表示領域ＤＡの表示液晶層ＬＣＩにおける液晶の応答速度より、入射光制御領域ＰＣＡの第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３の各々における液晶の応答速度を高くすることができる。
液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）は、上記第４条件から第１条件を経て第４条件に戻すことにて、第１液晶シャッタとして機能することができる。液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、同時に、非透過状態から透過状態に切替えた後、非透過状態に戻すことで第１液晶シャッタを得ることができる。
第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、上記のように透過状態から非透過状態に戻す際、液晶パネルＰＮＬは、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３に同時に１３Ｖ以上の電圧を、同時に印加し、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３を、同時に駆動するものである。
液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）は、上記第４条件から第２条件を経て第４条件に戻すことにて、第２液晶シャッタとして機能することができる。液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に保持した状態で、第２入射光制御領域ＴＡ２を非透過状態から透過状態に切替えた後非透過状態に戻すことで第２液晶シャッタを得ることができる。第２液晶シャッタでは、絞りＤＰにピンホールとシャッタの機能を兼ね備えさせることが可能となっている。
なお、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第３入射光制御領域ＴＡ３を非透過状態に保持する期間、第１制御液晶層ＬＣ１及び第３制御液晶層ＬＣ３に印加する電圧は、１３Ｖ未満であってもよい。例えば、非透過状態に保持するために第１制御液晶層ＬＣ１及び第３制御液晶層ＬＣ３に印加する上記電圧は、表示液晶層ＬＣＩに印加する電圧と、同一のレベルであってもよい。
第２入射光制御領域ＴＡ２を、上記のように透過状態から非透過状態に戻す際、液晶パネルＰＮＬは、第２制御液晶層ＬＣ２に１３Ｖ以上の電圧を印加し、第２制御液晶層ＬＣ２を駆動するものである。
液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）は、上記第４条件から第３条件を経て第４条件に戻すことにて、第３液晶シャッタとして機能することができる。液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に保持した状態で、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、同時に、非透過状態から透過状態に切替えた後、非透過状態に戻すことで第３液晶シャッタを得ることができる。第３液晶シャッタでは、絞りＤＰに入射光を絞る機能とシャッタの機能を兼ね備えさせることが可能となっている。
なお、希望の画像を得るためには、絞りとシャッタスピードとを調節する必要があることから、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に保持する期間、第１制御液晶層ＬＣ１に印加する電圧は、１３Ｖ未満であってもよい。
第２入射光制御領域ＴＡ２及び第３入射光制御領域ＴＡ３を、上記のように透過状態から非透過状態に戻す際、液晶パネルＰＮＬは、第２制御液晶層ＬＣ２及び第３制御液晶層ＬＣ３に同時に１３Ｖ以上の電圧を、同時に印加し、第２制御液晶層ＬＣ２及び第３制御液晶層ＬＣ３を、同時に駆動するものである。
上記のように、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（絞りＤＰ）を液晶シャッタとして機能させることで、静止状態の被写体に限らず、動く被写体であっても良好に撮影することができる。液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、同心円状に光透過領域を制御しつつ、入射光制御領域ＰＣＡを液晶シャッタとして機能させることができる。
上記のように構成された第７の実施形態に係る電子機器１００によれば、良好に撮影することが可能な電子機器１００を得ることができる。
本第７の実施形態に示した技術は、他の実施形態にも適用可能である。例えば、本第７の実施形態の技術を上記第１実施形態に適用することができる。上記第１実施形態において、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡの方式は、ノーマリーブラック方式である。そのため、非透過状態から透過状態に切替える際に、液晶パネルＰＮＬは、第１制御液晶層ＬＣ１、第２制御液晶層ＬＣ２、及び第３制御液晶層ＬＣ３に１３Ｖ以上の電圧を印加すればよい。
（第８の実施形態）
次に、本第８の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第８の実施形態で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図３０は、本第８の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬ及び複数のカメラ１ｂの配置等を示す平面図である。
図３０に示すように、電子機器１００は、液晶パネルＰＮＬ、複数のカメラ１ｂ等を備えている。液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡを備えていない。複数のカメラ１ｂは、表示領域ＤＡに重ねられ、外部からの赤外光が液晶パネルＰＮＬを介して入射されるように構成されている。カメラ１ｂは、液晶パネルＰＮＬに向けて赤外光を出射するように構成された光源ＥＭ２を備えている。光源ＥＭ２からの赤外光により、画面（上記第１面Ｓ１）側に位置する被写体を照明することができる。
カメラ１ｂは液晶パネルＰＮＬの表示領域ＤＡに隠れて配置されているため、電子機器１００の使用者にカメラ１ｂは見えない。電子機器１００の使用時に、使用者の警戒感を下げることができる。また、赤外線を用いて被写体をカメラ１ｂで撮影することで、監視セキュリティの向上を図ることができる。さらに、ヒューマンインターフェースとしてハードウエアに対する使用者側の敷居を下げることが可能である。
図３１に示すように、液晶パネルＰＮＬの表示領域ＤＡは、対象領域ＯＡと、対象領域以外の一以上の非対象領域ＮＯＡと、を含んでいる。対象領域ＯＡ及び非対象領域ＮＯＡに、複数の画素ＰＸが位置している。複数の画素ＰＸは、複数色の画素を含んでいる。複数の画素ＰＸは、表示領域ＤＡにおいて一様に配置されている。対象領域ＯＡにおける画素ＰＸの配置と、非対象領域ＮＯＡにおける画素ＰＸの配置とは、同一である。例えば、対象領域ＯＡに位置する画素電極ＰＥの形状は、非対象領域ＮＯＡに位置する画素電極ＰＥの形状と同一である。
カメラ１ｂは、非対象領域ＮＯＡに重ねられている。液晶パネルＰＮＬは、対象領域ＯＡにおいて画像を表示し、非対象領域ＮＯＡにおいて白色以外の色の画像を表示するように構成されてもよい。これにより、画面のデザインに合わせてカメラ１ｂを配置することができ、カメラ１ｂを、一層、使用者に見えなくすることができる。
液晶パネルＰＮＬは、非対象領域ＮＯＡにおいて常に黒色を表示するように構成されてもよい。
例えば、ＶＡ方式や横電界方式の液晶パネルでは電圧がかかっていない状態で黒表示する、所謂ノーマリーブラックモードのパネルが使用される。このような液晶パネルでは非対象領域ＮＯＡに画素電極ＰＥや制御電極構造ＲＥの電極を形成しないことで、常に黒表示にすることができる。非対象領域ＮＯＡは赤外線を透過するので、カメラ１ｂで赤外光を受光することができ、赤外線撮影が可能となる。非対象領域ＮＯＡを常に黒表示にする場合は、底板ＢＰ、導光体ＬＧ１、反射シートＲＳに貫通孔を設けても画像の視認性への悪影響は無い。
これにより、カメラ１ｂを一層、使用者に見えなくすることができる。使用者が殆ど意識することなく、電子機器１００は、ＩＲ関係（顔認証、静脈認証等）の情報を画面操作に並行して収集することができる。その際、電子機器１００は、複数種類の認証データを同時に収集することもできる。
また非対象領域ＮＯＡに画素電極ＰＥを設けず、制御電極構造ＲＥの電極を設け、背後にカメラ１ａを配置することで、絞り効果が必要な撮影が可能となる。
上記のように構成された第８の実施形態に係る電子機器１００によれば、良好に撮影することが可能な電子機器１００を得ることができる。本第８の実施形態のように、電子機器１００による撮影がＩＲ撮影のみである場合、表示パネルは、液晶パネルＰＮＬに限定されるものではなく、有機ＥＬ表示パネル等、液晶パネルＰＮＬ以外の表示パネルであってもよい。
（第９の実施形態）
次に、本第９の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第９の実施形態で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図３２は、本第９の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。
図３２に示すように、光シャッタパネルとしての液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第７入射光制御領域ＴＡ７を有している。第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第７入射光制御領域ＴＡ７は、第１遮光部ＢＭ１で囲まれた領域に位置している。
第１入射光制御領域ＴＡ１、及び第３入射光制御領域ＴＡ３乃至第７入射光制御領域ＴＡ７は、第１遮光部ＢＭ１（第１遮光領域ＬＳＡ１）と第２入射光制御領域ＴＡ２との間に位置し、多重になっている。第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第７入射光制御領域ＴＡ７は、同心多重円状に位置している。
なお、図３２に入射光制御領域ＰＣＡを例示的に示したが、入射光制御領域ＰＣＡが有する入射光制御領域ＴＡの数は６つに限定されるものではない。入射光制御領域ＰＣＡは、多重になっている複数の入射光制御領域ＴＡを有していればよく、７つ以上の入射光制御領域ＴＡを有してもよい。
本第９の実施形態において、第１遮光部ＢＭ１で囲まれた領域に、他の遮光部ＢＭは設けられていない。そのため、本第９の実施形態では、第１遮光部ＢＭ１で囲まれた領域に、非透過状態（遮光状態）に、常時、固定される環状領域は存在しない。
本実施形態においても図２に示すように、入射光制御領域ＰＣＡを備えた液晶パネルＰＮＬの背面には照明装置ＩＬは配置されている。照明装置ＩＬにはレンズを含む光学系２を備えたカメラ１ａが配置されている。
次に、本第９の実施形態の特徴の撮影方法について説明する。なお、上述した第１乃至第８の実施形態では、第１撮影及び第２撮影について説明した。第１撮影では、可視光による通常撮影及び超近接撮影により、画像データが得られるものであった。第２撮影では、赤外光による撮影により、画像データが得られるものであった。本第９の実施形態において、電子機器１００は、第１撮影及び第２撮影を行うことができ、さらに、第３撮影を行うことができるものである。
なお、例えば、第１撮影では、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを、フレネルゾーンプレートとして機能させることができる。
第１撮影では、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡをピンホールとして機能させることも可能である。その場合、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態に設定し、全ての環状の入射光制御領域ＴＡ（ＴＡ１，ＴＡ３～ＴＡ７）を非透過状態に設定する。
第３撮影では、電子機器１００は、可視光による複数種類の撮影により複数種類の画像データを取得する。そして、電子機器１００は、複数種類の画像データに基づいて、撮像素子３から被写体までの距離の情報を得るものである。例えば、被写体が顔である場合、電子機器１００は顔の凹凸の情報（奥行情報）を得ることができるため、顔認証が可能となる。
次に、電子機器１００にて複数種類の撮影を時分割的に行うため、入射光制御領域ＰＣＡに形成する複数種類の光透過パターンについて個別に説明する。なお、第３撮影において、電子機器１００による撮影の種類の数は、光透過パターンの種類の数と一致している。本第９の実施形態では、電子機器１００が入射光制御領域ＰＣＡに、第１光透過パターン乃至第４光透過パターンの４種類の光透過パターンを時分割的に形成する例について説明する。なお、電子機器１００が入射光制御領域ＰＣＡに形成する光透過パターンは、４種類に限らず、２種類、３種類、又は５種類以上であってもよい。
第１光透過パターンにおいて、電子機器１００は、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第６入射光制御領域ＴＡ６を透過状態に設定し、第３入射光制御領域ＴＡ３、第５入射光制御領域ＴＡ５、及び第７入射光制御領域ＴＡ７を非透過状態に設定している。
撮像素子３は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡのうち、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第６入射光制御領域ＴＡ６を透過した光（可視光）を画像データに変換することができ、電子機器１００は、１種類目の画像データを取得することができる。
第２光透過パターンにおいて、電子機器１００は、第１入射光制御領域ＴＡ１、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第６入射光制御領域ＴＡ６を透過状態に設定し、第２入射光制御領域ＴＡ２、第３入射光制御領域ＴＡ３、第５入射光制御領域ＴＡ５、及び第７入射光制御領域ＴＡ７を非透過状態に設定している。
撮像素子３は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡのうち、第１入射光制御領域ＴＡ１、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第６入射光制御領域ＴＡ６を透過した光を画像データに変換することができ、電子機器１００は、２種類目の画像データを取得することができる。
第３光透過パターンにおいて、電子機器１００は、第３入射光制御領域ＴＡ３、第５入射光制御領域ＴＡ５、及び第７入射光制御領域ＴＡ７を透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第６入射光制御領域ＴＡ６を非透過状態に設定している。
撮像素子３は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡのうち、第３入射光制御領域ＴＡ３、第５入射光制御領域ＴＡ５、及び第７入射光制御領域ＴＡ７を透過した光を画像データに変換することができ、電子機器１００は、３種類目の画像データを取得することができる。
第４光透過パターンにおいて、電子機器１００は、第２入射光制御領域ＴＡ２、第３入射光制御領域ＴＡ３、第５入射光制御領域ＴＡ５、及び第７入射光制御領域ＴＡ７を透過状態に設定し、第１入射光制御領域ＴＡ１、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第６入射光制御領域ＴＡ６を非透過状態に設定している。
撮像素子３は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡのうち、第２入射光制御領域ＴＡ２、第３入射光制御領域ＴＡ３、第５入射光制御領域ＴＡ５、及び第７入射光制御領域ＴＡ７を透過した光を画像データに変換することができ、電子機器１００は、４種類目の画像データを取得することができる。
液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第７入射光制御領域ＴＡ７において、複数種類の光透過パターンを時分割的に形成し、各々の光透過パターンにて外部からの光（可視光）の強度を変調することができる。
なお、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第７入射光制御領域ＴＡ７での透過領域及び非透過領域の組み合わせは、光透過パターンの種類毎に異なる。複数種類の光透過パターンによる光（可視光）の強度の変調は、互いに異なっている。
次に、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡの電極構造について説明する。本第９の実施形態の入射光制御領域ＰＣＡの電極構造は、上述した複数の実施形態の電極構造の何れか一と類似していてもよい。図３３は、本第９の実施形態の液晶パネルＰＮＬの複数の制御電極構造ＲＥを示す平面図であり、第２入射光制御領域ＴＡ２、第７入射光制御領域ＴＡ７、及び第６入射光制御領域ＴＡ６のそれぞれの一部の領域を示す図である。
図３３に示すように、本第９の実施形態の入射光制御領域ＰＣＡの電極構造は、上記第４の実施形態（図２２，２３）の入射光制御領域ＰＣＡの電極構造と類似し、ＩＰＳモードに対応している。液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにて、第１制御電極構造ＲＥ１乃至第７制御電極構造ＲＥ７を備えている。図３３には、複数の制御電極構造ＲＥのうち、第２制御電極構造ＲＥ２、第７制御電極構造ＲＥ７、及び第６制御電極構造ＲＥ６を示している。
各々の第２入射光制御領域ＴＡ２、第７入射光制御領域ＴＡ７、及び第６入射光制御領域ＴＡ６に、第１制御電極構造ＲＥａ及び第２制御電極構造ＲＥｂが位置している。
第２入射光制御領域ＴＡ２に位置する第１制御電極構造ＲＥａ２は、第１給電配線ＣＬａ２と、第１給電配線ＣＬａ２にコンタクトしている複数の第１制御電極ＲＬａ２と、を有している。第２入射光制御領域ＴＡ２に位置する第２制御電極構造ＲＥｂ２は、第２給電配線ＣＬｂ２と、第２給電配線ＣＬｂ２にコンタクトしている複数の第２制御電極ＲＬｂ２と、を有している。
第１給電配線ＣＬａ２及び第２給電配線ＣＬｂ２は、第２入射光制御領域ＴＡ２の外周側に位置している。第１給電配線ＣＬａ２及び第２給電配線ＣＬｂ２は、透明導電膜で形成されているが、透明導電膜と金属膜の多層膜で形成されてもよい。例えば、第１給電配線ＣＬａ２及び第２給電配線ＣＬｂ２は、共通電極ＣＥと同一の導電材料で形成されてもよい。
複数の第１制御電極ＲＬａ２及び複数の第２制御電極ＲＬｂ２は、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて交互に並べられている。なお、第１制御電極ＲＬａ２及び第２制御電極ＲＬｂ２は、第１延在方向ｄ１以外の方向に延在してもよい。第１制御電極ＲＬａ２及び第２制御電極ＲＬｂ２は、透明導電膜で形成されている。例えば、第１制御電極ＲＬａ２及び第２制御電極ＲＬｂ２は、画素電極ＰＥと同一の導電材料で形成されてもよい。
第１制御電極構造ＲＥａ２及び第２制御電極構造ＲＥｂ２に関して説明した技術は、第７入射光制御領域ＴＡ７に位置する第１制御電極構造ＲＥａ７及び第２制御電極構造ＲＥｂ７にも適用可能である。第１制御電極構造ＲＥａ７は、第１給電配線ＣＬａ７と、複数の第１制御電極ＲＬａ７と、を有している。第２制御電極構造ＲＥｂ７は、第２給電配線ＣＬｂ７と、複数の第２制御電極ＲＬｂ７と、を有している。
但し、第１給電配線ＣＬａ７は第７入射光制御領域ＴＡ７の外周側に位置し、第２給電配線ＣＬｂ７は第７入射光制御領域ＴＡ７の内周側に位置している。
第１制御電極構造ＲＥａ７及び第２制御電極構造ＲＥｂ７に関して説明した技術は、第６入射光制御領域ＴＡ６に位置する第１制御電極構造ＲＥａ６及び第２制御電極構造ＲＥｂ６にも適用可能である。第１制御電極構造ＲＥａ６は、第１給電配線ＣＬａ６と、複数の第１制御電極ＲＬａ６と、を有している。第２制御電極構造ＲＥｂ６は、第２給電配線ＣＬｂ６と、複数の第２制御電極ＲＬｂ６と、を有している。
図３４は、本第９の実施形態の液晶パネルＰＮＬの一部を示す断面図であり、第２入射光制御領域ＴＡ２、第７入射光制御領域ＴＡ７、及び第６入射光制御領域ＴＡ６を示す図である。
図３４に示すように、複数の給電配線ＣＬは、絶縁層１２と絶縁層１３との間に位置している。複数の制御電極ＲＬは、絶縁層１３と配向膜ＡＬ１との間に位置している。
液晶層ＬＣは複数の制御液晶層を有している。複数の制御液晶層は、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第７入射光制御領域ＴＡ７に一対一で設けられ、互いに独立して駆動される。例えば、第２制御液晶層ＬＣ２は第２入射光制御領域ＴＡ２に位置し、第７制御液晶層ＬＣ７は第７入射光制御領域ＴＡ７に位置し、第６制御液晶層ＬＣ６は第６入射光制御領域ＴＡ６に位置している。
図３５は、本第９の実施形態の液晶パネルＰＮＬの複数の制御電極構造ＲＥを示す平面図であり、第５入射光制御領域ＴＡ５、第４入射光制御領域ＴＡ４、第３入射光制御領域ＴＡ３、及び第１入射光制御領域ＴＡ１のそれぞれの一部の領域を示す図である。
図３５に示すように、
第１制御電極構造ＲＥａ７及び第２制御電極構造ＲＥｂ７に関して説明した技術は、
（１）第５入射光制御領域ＴＡ５に位置する第１制御電極構造ＲＥａ５及び第２制御電極構造ＲＥｂ５、
（２）第４入射光制御領域ＴＡ４に位置する第１制御電極構造ＲＥａ４及び第２制御電極構造ＲＥｂ４、
（３）第３入射光制御領域ＴＡ３に位置する第１制御電極構造ＲＥａ３及び第２制御電極構造ＲＥｂ３、並びに
（４）第１入射光制御領域ＴＡ１に位置する第１制御電極構造ＲＥａ１及び第２制御電極構造ＲＥｂ１、のそれぞれにも適用可能である。
第１制御電極構造ＲＥａ５は、第１給電配線ＣＬａ５と、複数の第１制御電極ＲＬａ５と、を有している。第２制御電極構造ＲＥｂ５は、第２給電配線ＣＬｂ５と、複数の第２制御電極ＲＬｂ５と、を有している。
第１制御電極構造ＲＥａ４は、第１給電配線ＣＬａ４と、複数の第１制御電極ＲＬａ４と、を有している。第２制御電極構造ＲＥｂ４は、第２給電配線ＣＬｂ４と、複数の第２制御電極ＲＬｂ４と、を有している。
第１制御電極構造ＲＥａ３は、第１給電配線ＣＬａ３と、複数の第１制御電極ＲＬａ３と、を有している。第２制御電極構造ＲＥｂ３は、第２給電配線ＣＬｂ３と、複数の第２制御電極ＲＬｂ３と、を有している。
第１制御電極構造ＲＥａ１は、第１給電配線ＣＬａ１と、複数の第１制御電極ＲＬａ１と、を有している。第２制御電極構造ＲＥｂ１は、第２給電配線ＣＬｂ１と、複数の第２制御電極ＲＬｂ１と、を有している。本第９の実施形態において、第１給電配線ＣＬａ１は、第１遮光領域ＬＳＡ１に位置しているが、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置してもよい。
第１電極としての第１制御電極ＲＬａ及び第２電極としての第２制御電極ＲＬｂは、入射光制御領域ＴＡ毎に物理的に独立し、電気的に独立して駆動される。例えば、第１制御電極ＲＬａ及び第２制御電極ＲＬｂを極性反転駆動することができ、低消費電力化に寄与することができる。
入射光制御領域ＰＣＡの第１制御電極ＲＬａ及び第２制御電極ＲＬｂの駆動周波数は、例えば、表示領域ＤＡの画素電極ＰＥの駆動周波数と同一であってもよい。この場合、第１制御電極ＲＬａ及び第２制御電極ＲＬｂの駆動と、画素電極ＰＥの駆動とを同期して行うことができ、例えば６０Ｈｚで行うことができる。
但し、第１制御電極ＲＬａ及び第２制御電極ＲＬｂの駆動周波数は、画素電極ＰＥの駆動周波数より高くともよいし、画素電極ＰＥの駆動周波数より低くともよい。
入射光制御領域ＰＣＡを、第１光透過パターンＰＴ１乃至第４光透過パターンＰＴ４の間で切替える頻度は、第１制御電極ＲＬａ及び第２制御電極ＲＬｂを一回駆動する度であってもよく、第１制御電極ＲＬａ及び第２制御電極ＲＬｂを複数回駆動する度であってもよい。例えば、入射光制御領域ＰＣＡの光透過パターンＰＴを、１６．７［ｍｓ］毎に切替えてもよい。
上記のように構成された第９の実施形態に係る電子機器１００によれば、良好に撮影することが可能な電子機器１００を得ることができる。本第９の実施形態では、電子機器１００は、第１撮影、第２撮影、及び第３撮影の何れかを選択して撮影することができるため、用途に応じた様々な撮影を行うことができる。
入射光制御領域ＰＣＡに同時に形成されるパターンは、単個の多重円状のパターンであり、言い換えると単眼パターンである。そのため、第３撮影の際、入射光制御領域ＰＣＡに同時に複眼パターンを形成する場合と比較し、撮像素子３で得られる被写体の画像データの解像度の低下を抑制することができる。
（第１０の実施形態）
次に、本第１０の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第１０の実施形態で説明する構成以外、上記第９の実施形態と同様に構成されている。図３６は、本第１０の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの複数の制御電極構造ＲＥを示す平面図であり、第２入射光制御領域ＴＡ２、第７入射光制御領域ＴＡ７、及び第６入射光制御領域ＴＡ６のそれぞれの一部の領域を示す図である。
図３６に示すように、光シャッタパネルとしての液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、ＩＰＳモードの一つであるＦＦＳモードに対応した構成を有している。そのため、入射光制御領域ＰＣＡにおける電極の形状は、上記第９の実施形態と比較して相違している。
液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡに、複数の制御電極構造ＲＥを備えている。図３６には、複数の制御電極構造ＲＥのうち、第２制御電極構造ＲＥ２、第７制御電極構造ＲＥ７、及び第６制御電極構造ＲＥ６を示している。
各々の第２入射光制御領域ＴＡ２、第７入射光制御領域ＴＡ７、及び第６入射光制御領域ＴＡ６に、第１制御電極構造ＲＥａが位置している。
第２入射光制御領域ＴＡ２に位置する第１制御電極構造ＲＥａ２は、第１給電配線ＣＬａ２と、第１給電配線ＣＬａ２と一体に形成された複数の第１制御電極ＲＬａ２と、を有している。第１給電配線ＣＬａ２は、第２入射光制御領域ＴＡ２の外周側に位置している。
複数の第１制御電極ＲＬａ２は、第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて並べられている。なお、第１制御電極ＲＬａ２は、第１延在方向ｄ１以外の方向に延在してもよい。
第１制御電極構造ＲＥａ２に関して説明した技術は、第７入射光制御領域ＴＡ７に位置する第１制御電極構造ＲＥａ７にも適用可能である。第１制御電極構造ＲＥａ７は、第１給電配線ＣＬａ７と、第２給電配線ＣＬｂ７と、第１給電配線ＣＬａ７及び第２給電配線ＣＬｂ７と一体に形成された複数の第１制御電極ＲＬａ７と、を有している。第１給電配線ＣＬａ７は第７入射光制御領域ＴＡ７の外周側に位置し、第２給電配線ＣＬｂ７は第７入射光制御領域ＴＡ７の内周側に位置している。
第１制御電極構造ＲＥａ７に関して説明した技術は、第６入射光制御領域ＴＡ６に位置する第１制御電極構造ＲＥａ６にも適用可能である。第１制御電極構造ＲＥａ６は、第１給電配線ＣＬａ６と、第２給電配線ＣＬｂ６と、第１給電配線ＣＬａ６及び第２給電配線ＣＬｂ６と一体に形成された複数の第１制御電極ＲＬａ６と、を有している。
図３７は、本第１０の実施形態の液晶パネルＰＮＬの一部を示す断面図であり、第２入射光制御領域ＴＡ２、第７入射光制御領域ＴＡ７、及び第６入射光制御領域ＴＡ６を示す図である。
図３７に示すように、複数の制御電極構造ＲＥは、第２電極としての第２制御電極ＲＬｂを共用している。第２制御電極ＲＬｂは、絶縁層１２と絶縁層１３との間に位置している。第２制御電極ＲＬｂは、円形の形状を有し、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第７入射光制御領域ＴＡ７に位置している。複数の第１制御電極ＲＬａは、絶縁層１３と配向膜ＡＬ１との間に位置している。
なお、本第１０の実施形態と異なり、第２制御電極ＲＬｂは、入射光制御領域ＴＡ毎に分割されてもよい。
図３８に示すように、第２制御電極ＲＬｂは、第２入射光制御領域ＴＡ２に位置した円形の第２制御電極ＲＬｂ２、第７入射光制御領域ＴＡ７に位置した環状の第２制御電極ＲＬｂ７、第６入射光制御領域ＴＡ６に位置した環状の第２制御電極ＲＬｂ６等を有している。第２制御電極ＲＬｂ２、第２制御電極ＲＬｂ７、及び第２制御電極ＲＬｂ６は、物理的に独立し、互いに間隔を置いて位置している。
例えば、第１制御電極ＲＬａ及び第２制御電極ＲＬｂを極性反転駆動することができ、低消費電力化に寄与することができる。
上記のように構成された第１０の実施形態に係る電子機器１００によれば、良好に撮影することが可能な電子機器１００を得ることができる。また、本第１０の実施形態では、上述した第９の実施形態と同様の効果を得ることができる。
（第１１の実施形態）
次に、本第１１の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第１１の実施形態で説明する構成以外、上記第９の実施形態と同様に構成されている。図３９は、本第１１の実施形態に係る電子機器１００の一部を示す断面図であり、入射光制御領域ＰＣＡの周辺を示す図である。
図３９に示すように、電子機器１００は、上記光学系２無しに構成されてもよい。例えば、ピント合わせを不要とする撮影方法において、上記光学系２を使用しない場合の悪影響が低いものである。
例えば、上記第１撮影の際に液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡをピンホールとして機能させる場合や、上記第３撮影の際に液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡに複数種類の光透過パターンＰＴを時分割的に形成する場合に、ピント合わせを不要とすることができる。
上記のように構成された第１１の実施形態に係る電子機器１００によれば、良好に撮影することが可能な電子機器１００を得ることができる。また、本第１１の実施形態では、上述した第９の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、上記光学系２の分、撮像素子３を液晶パネルＰＮＬに近づけることができ、電子機器１００の薄型化に寄与することができる。
また、本第１１の実施形態においても、上記第９の実施形態と同様、第１撮影、第２撮影、及び第３撮影の何れも行うことが可能である。
（第１２の実施形態）
次に、本第１２の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第１２の実施形態で説明する構成以外、上記第１１の実施形態と同様に構成されている。図４０は、本第１６の実施形態に係る電子機器１００の一部を示す断面図であり、２つの入射光制御領域ＰＣＡ，ＰＣＡαの周辺を示す図である。
図４０に示すように、電子機器１００の液晶パネルＰＮＬは、２つの入射光制御領域ＰＣＡ，ＰＣＡαを有してもよい。入射光制御領域ＰＣＡαは第１入射光制御領域として機能し、入射光制御領域ＰＣＡは第２入射光制御領域として機能する。電子機器１００は、撮像素子を含む撮像モジュールを、２組、備えている。各々の撮像モジュールは、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡα又は入射光制御領域ＰＣＡに対向している。液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡαに対向した撮像素子３αは第１撮像素子として機能し、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡに対向した撮像素子３は第２撮像素子として機能する。
例えば、撮像素子３αは、撮像素子３と同様に構成されている。撮像素子３αは、入射光制御領域ＰＣＡαに対向し、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡαを透過した光を画像データに変換するように構成されている。また、撮像素子３αを含む撮像モジュールには、第１光源としての光源ＥＭ２と、第２光源としての光源ＥＭ３と、が配置されている。
ここで、本第１２の実施形態の電子機器１００の使用方法について説明する。例えば、入射光制御領域ＰＣＡα、撮像素子３α等を用いた第３撮影と、入射光制御領域ＰＣＡ、撮像素子３等を用いた第１撮影と、を同時に行うことができる。例えば、第３撮影による顔認証と、第１撮影（ピンホール撮影）による指紋認証とを同時行うことができる。
その際、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡαの複数の入射光制御領域ＴＡにおいて、複数種類の光透過パターンＰＴを時分割的に形成し、各々の光透過パターンＰＴにて外部からの光の強度を変調する。また、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて、第２入射光制御領域ＴＡ２を透過状態に設定し、全ての環状の入射光制御領域ＴＡを非透過状態に設定する。
上記のように構成された第１２の実施形態に係る電子機器１００によれば、良好に撮影することが可能な電子機器１００を得ることができる。また、本第１２の実施形態では、上述した第１１の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、電子機器１００にて、第１撮影、第２撮影、及び第３撮影の２つの撮影を同時に行うことができる。
なお、図９に示したように、直線状に延在した制御電極ＲＬを線状電極と称することができ、円環の形状を持つ給電配線ＣＬを環状配線と称することができる。
上述した絶縁層を絶縁膜と称することができる。
上述した入射光制御領域を入射光制限領域と称することができる。
上述した非表示領域ＮＤＡを周辺領域と称することができる。
上述した光学系２を光学部材と称することができる。
（第１３の実施形態）
次に、本第１３の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第１３の実施形態で説明する構成以外、上述した実施形態と同様に構成されている。図４１は、第１３の実施形態に係る電子機器１００を示すブロック図である。
図４１に示すように、電子機器１００は、制御回路ＣＣ、記憶媒体ＳＭ、及び光センサＳＮをさらに備えている。制御回路ＣＣは、液晶パネルＰＮＬ、光源ＥＭ１、撮像装置としてのカメラ１、記憶媒体ＳＭ、及び光センサＳＮに接続されている。
電子機器１００は、制御回路ＣＣ及び液晶パネルＰＮＬがＩＣチップ６を介して接続される電気系統を有している。なお、電子機器１００は、制御回路ＣＣ及び液晶パネルＰＮＬが直に接続される別の電気系統を有してもよい。制御回路ＣＣは、液晶パネルＰＮＬ、ＩＣチップ６、光源ＥＭ１、カメラ１、及び光センサＳＮの駆動を制御する。
制御回路ＣＣは、カメラ１で検出したデータ（例えば、画像データ）を記憶媒体ＳＭに記憶させることができる。
光センサＳＮは、環境光の明るさを検出することができる。制御回路ＣＣによる制御の下、液晶パネルＰＮＬは、光センサＳＮで検出した環境光の明るさに基づいて、入射光制御領域ＰＣＡの透過状態及び非透過状態を調整することができる。例えば、絞りＤＰを調整したり、後述する第１領域（Ｂ１）の面積及び第２領域（Ｂ２）の面積を調整したり、することができる。
図４２は、第１３の実施形態に係る電子機器１００の一構成例を示す分解斜視図である。図４２に示すように、電子機器１００は、カメラ１ａ及び２個のカメラ１ｃを備えている。カメラ１ｃはカメラ１ａと同様に構成されている。ケースＣＳは、カメラ１と同数の貫通孔ｈ２及び突部ＰＰを有している。導光体ＬＧ１は、カメラ１と同数の貫通孔ｈ１を有し、それぞれ対応する突部ＰＰに重なっている。各々のカメラ１は、貫通孔ｈ２、突部ＰＰの内部、及び貫通孔ｈ１を通り、液晶パネルＰＮＬと対向している。
図４３は、第１３の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬを示す平面図である。図４３に示すように、液晶パネルＰＮＬは、上部に、入射光制御領域ＰＣＡ及び２つの入射光制御領域ＰＣＣを備えている。上記カメラ１ａは入射光制御領域ＰＣＡに重なり、上記カメラ１ｃは入射光制御領域ＰＣＣに重なっている。例えば、カメラ１ａは、被写体から向かい液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを透過した光の情報を取得することができる。
上述した実施形態と同様、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡに、液晶層ＬＣ、配向膜ＡＬ、電極、偏光板ＰＬ等は存在している。一方、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＣに、液晶層ＬＣ及び配向膜ＡＬは存在しているが、電極及び偏光板ＰＬは存在していない。そのため、入射光制御領域ＰＣＣの光透過率は、入射光制御領域ＰＣＡの光透過率は高い。例えば、入射光制御領域ＰＣＣの光透過率が８０％であり、入射光制御領域ＰＣＡの光透過率が３５％である。
入射光制御領域ＰＣＣは、常時、透過状態である。上記カメラ１ｃは、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＣを透過した光の情報を取得する。そのため、光透過率の高い入射光制御領域ＰＣＣ及び上記カメラ１ｃを用いて画像（通常の画像）を撮影することができ、被写体を撮影することができる。
次に、入射光制御領域ＰＣＡの透過状態及び非透過状態について説明する。
図４４に示すように、液晶パネルＰＮＬは、第１遮光部ＢＭ１の内側に別の遮光部を設けていない。液晶パネルＰＮＬは、第１遮光部ＢＭ１の内側の全領域を透過領域Ｔ１に設定することができる。
図４５に示すように、液晶パネルＰＮＬは、第１遮光部ＢＭ１の内側に非透過領域Ｔ２を設け、透過領域Ｔ１の面積を小さくすることができる。
入射光制御領域ＰＣＡでは、絞りを開いたり、絞りを閉じたり、することができる。そのため、入射光制御領域ＰＣＡ及び上記カメラ１ａを用いて、画像（通常の画像）を撮影することができる。
図４６に示すように、液晶パネルＰＮＬは、透過領域Ｔ１の面積をさらに小さくすることで、ピンホールを用いた撮影に寄与することができる。そのため、入射光制御領域ＰＣＡ及び上記カメラ１ａを用いて、指紋認証のために指紋を撮影することができる。
図４７に示すように、液晶パネルＰＮＬは、第１遮光部ＢＭ１の内側の全領域を非透過領域Ｔ２に設定することができる。液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡは、可視光を遮蔽することができ、赤外光を透過させることができる。上記カメラ１ａは、被写体から向かう赤外光の情報を取得することができる。被写体は、例えば静脈である。そのため、入射光制御領域ＰＣＡ及び上記カメラ１ａを用いて、赤外光による静脈認証のために静脈を撮影することができる。
なお、静脈等、赤外光にて撮影を行う際、液晶パネルＰＮＬは、第１遮光部ＢＭ１の内側に透過領域Ｔ１を存在させてもよい。
図４８及び図４９に示すように、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにおいて非透過領域Ｔ２の位置をずらして、入射光制御領域ＰＣＡに複数種類のパターンを設定してもよい。本実施形態において、入射光制御領域ＰＣＡは円形であるため、入射光制御領域ＰＣＡの重心ＣＮは入射光制御領域ＰＣＡの中心である。
図４８の非透過領域Ｔ２は重心ＣＮから第１方向にずれて位置した第１領域Ｂ１であり、図４９の非透過領域Ｔ２は重心ＣＮから第１方向と異なる第２方向にずれて位置した第２領域Ｂ２である。図４８の入射光制御領域ＰＣＡと図４９の入射光制御領域ＰＣＡとは、互いにパターンの異なる一対の符号化開口（ＣＡＰ：Coded Aperture Pair）を形成している。そのため、上記カメラ１ａは、図４８の符号化開口を透過した光の情報と、図４９の符号化開口を透過した光の情報と、を取得することができる。カメラ１ａで検出した光の情報は、カメラ１ａから被写体までの距離の情報を含んでいる。これにより、上述した制御回路ＣＣは、カメラ１ａで２種類（複数種類）取得した情報に基づいて、カメラ１ａから被写体までの距離を導出（測定）することができる。
また、制御回路ＣＣは、カメラ１ｃで取得した被写体の画像情報と、カメラ１ａから被写体までの距離のデータと、を関連付けて記憶媒体ＳＭに記憶させることができる。
入射光制御領域ＰＣＡに形成する符号化開口のパターンは、カメラ１ａから被写体までの距離及び解像度の要求にあうように適宜選択可能である。次に、入射光制御領域ＰＣＡに形成する符号化開口のパターンについて例示的に列挙する。
（第１３の実施形態の実施例１）
図５０は、第１３の実施形態の実施例１に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図５０に示すように、入射光制御領域ＰＣＡは、第１入射光制御領域ＴＡ１と、第２入射光制御領域ＴＡ２と、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２以外の第３入射光制御領域ＴＡ３と、を備えている。なお、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第３入射光制御領域ＴＡ３は、第１遮光部ＢＭ１の内側の領域である。
第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、同一サイズの円形（真円）である。第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２のそれぞれの直径は、第１遮光部ＢＭ１の内径の半分である。第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、方向Ｘに並べられ、互いに接している。
第１の期間に、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１のみを非透過状態に切替えて第１入射光制御領域ＴＡ１を第１領域Ｂ１に設定することができる。なお、第１の期間に、第２入射光制御領域ＴＡ２は透過状態に切替えられる。
第１期間から外れた第２期間に、液晶パネルＰＮＬは、第２入射光制御領域ＴＡ２のみを非透過状態に切替えて第２入射光制御領域ＴＡ２を第２領域Ｂ２に設定することができる。なお、第２の期間に、第１入射光制御領域ＴＡ１は透過状態に切替えられる。そのため、図５０の入射光制御領域ＰＣＡに、ＣＡＰを形成することができる。
図５１は、図５０の液晶パネルＰＮＬの第１入射光制御領域ＴＡ１を示す拡大平面図であり、第１線状電極ＬＥ１及び第２線状電極ＬＥ２を示す図である。図５２は、図５０の液晶パネルＰＮＬの第２入射光制御領域ＴＡ２を示す拡大平面図であり、第３線状電極ＬＥ３及び第４線状電極ＬＥ４を示す図である。
図５０、図５１及び図５２に示すように、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡに位置した複数の電極を有している。上記複数の電極は、第１領域Ｂ１に位置した第１電極と、入射光制御領域ＰＣＡのうち第１領域Ｂ１と異なる第２領域Ｂ２に位置した第２電極と、を有している。入射光制御領域ＰＣＡにおいて、電極はＩＰＳモードに対応した構成を有している。入射光制御領域ＰＣＡに位置した複数の電極は、上述した制御回路ＣＣが出力するコマンドに従って駆動され得る。
上記第１電極は、第１領域Ｂ１に位置した複数の第１線状電極ＬＥ１と、第１領域Ｂ１に位置し複数の第１線状電極ＬＥ１と電気的に独立した複数の第２線状電極ＬＥ２と、を有している。上記第２電極は、第２領域Ｂ２に位置した複数の第３線状電極ＬＥ３と、第２領域Ｂ２に位置し複数の第３線状電極ＬＥ３と電気的に独立した複数の第４線状電極ＬＥ４と、を有している。
平面視において、第１電極（複数の第１線状電極ＬＥ１及び複数の第２線状電極ＬＥ２）の総面積及び第２電極（複数の第３線状電極ＬＥ３及び複数の第４線状電極ＬＥ４）の総面積は、それぞれ、上記画素電極ＰＥの総面積より大きい。
複数の第３線状電極ＬＥ３と複数の第４線状電極ＬＥ４とは、それぞれ、液晶パネルＰＮＬの液晶分子の初期配向方向ＢＢから時計回りに第１角度θ１傾斜した第１延在方向ｄ１に直線状に延在し、直交方向ｄｃ１に間隔を置いて交互に並べられている。
複数の第１線状電極ＬＥ１と複数の第２線状電極ＬＥ２とは、それぞれ、初期配向方向ＢＢから反時計回りに第２角度θ２傾斜した第２延在方向ｄ２に直線状に延在し、直交方向ｄｃ２に間隔を置いて交互に並べられている。
第１角度θ１及び第２角度θ２は、それぞれ、鋭角である。本実施形態において、第１角度θ１の大きさと、第２角度θ２の大きさとは、同一である。
第１領域Ｂ１と第２領域Ｂ２とで、初期配向方向ＢＢに対する電極の傾きを変えることで、それぞれの領域を通って撮影される画像に含まれる光の干渉によるゴーストの発生方向が異なる。Ｂ１、Ｂ２を使用して得られる画像データを比較処理することにより、画像データからゴーストのみを除外、もしくは軽減する事ができる。なお、第１角度θ１の大きさと第２角度θ２の大きさとは、同一でなくともよく、例えば３０°以内で互いに異なっていても画像データからゴースト情報を除去することが容易となる。
第３入射光制御領域ＴＡ３に、電極（第３電極）が設けられてもよく、又は電極が設けられていなくともよい。例えば、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡがノーマリーホワイト方式で駆動される場合、第３入射光制御領域ＴＡ３に電極が存在しなくともよい。その場合、第３入射光制御領域ＴＡ３は、常時、透過状態となる。
液晶パネルＰＮＬにおいて、第１入射光制御領域ＴＡ１（第１領域Ｂ１）と第３入射光制御領域ＴＡ３（第３領域）との間、及び第２入射光制御領域ＴＡ２（第２領域Ｂ２）と第３入射光制御領域ＴＡ３（第３領域）との間に遮光層は設けられていない。
但し、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１と第３入射光制御領域ＴＡ３との間、及び第２入射光制御領域ＴＡ２と第３入射光制御領域ＴＡ３との間に位置した遮光層をさらに備えてもよい。
なお、入射光制御領域ＰＣＡにおける電極はＦＦＳモードに対応した構成としても良い。その場合、第１電極は複数の第１線状電極を有している。第１領域Ｂ１には、上記第１電極に対向した第１共通電極が備えられている。第２電極は複数の第３線状電極を有している。第２領域Ｂ２には、第２電極に対向した第２共通電極が備えられている。
（第１３の実施形態の実施例２）
図５３は、第１３の実施形態の実施例２に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図５３に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、上記実施例１（図５０）と異なり、方向Ｙに並べられてもよい。
（第１３の実施形態の実施例３）
図５４は、第１３の実施形態の実施例３に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図５４に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、上記実施例１（図５０）と異なり、方向Ｘから時計回りに４５°傾斜した方向に並べられてもよい。
建物や道路などの人工物や、人間等を撮影する場合、一般的には、上下方向（垂直方向）と左右方向（水平方向）に物体が並ぶ、若しくはそれらの方向に平行な成分の多い形状を持っている場合が多い。そのため、符号開口を垂直方向、若しくは水平方向に並べると、撮影時に符号情報がデータに組み込まれる際に、上下左右に偏った成分となりやすい。このような偏ったデータから奥行情報（深度情報）を計算しようとすると、対象物の配置、形状に近い方向となり奥行情報の計算が困難になる。映像データに組み込まれる符号パターンの成分が似た方向に重なってしまうと、計算結果の誤差が大きくなる可能性がある。
図５４のように斜め方向、例えば45度にずらして符号開口を並べると、上下、左右の方向に沿った成分の情報だけとは、なにくいため、 奥行情報（深度情報）の計算がやり易い。
（第１３の実施形態の実施例４）
図５５は、第１３の実施形態の実施例４に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図５５に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、上記実施例３（図５４）と異なり、真円以外の円形として、例えば楕円の形状を有してもよい。第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、サイズ（面積）及び形状に関して同一である。
（第１３の実施形態の実施例５）
図５６は、第１３の実施形態の実施例５に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図５６に示すように、入射光制御領域ＰＣＡの複数の入射光制御領域ＴＡは、方向Ｘから時計回りに４５°傾斜した方向に並べられてもよい。第３入射光制御領域ＴＡ３は、第１入射光制御領域ＴＡ１と第２入射光制御領域ＴＡ２との間に位置している。複数の入射光制御領域ＴＡの境界は、それぞれ方向Ｘから反時計回りに４５°傾斜した方向に延在している。第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、サイズ及び形状に関して同一である。
（第１３の実施形態の実施例６）
図５７は、第１３の実施形態の実施例６に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図５７に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、上記実施例３（図５４）と異なり、四分円の形状を有してもよい。第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は点対称であり、その場合入射光制御領域ＰＣＡの重心ＣＮが対称の中心である。第１入射光制御領域ＴＡ１の角及び第２入射光制御領域ＴＡ２の角は、接していないが、接してもよい。
（第１３の実施形態の実施例７）
図５８は、第１３の実施形態の実施例７に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図５８に示すように、第１遮光部ＢＭ１の内側において、入射光制御領域ＰＣＡは、第１入射光制御領域ＴＡ１と、第２入射光制御領域ＴＡ２と、第３入射光制御領域ＴＡ３と、第４入射光制御領域ＴＡ４と、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第４入射光制御領域ＴＡ４以外の第５入射光制御領域ＴＡ５と、を有している。第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第４入射光制御領域ＴＡ４は、同一サイズの円形（真円）である。
第１入射光制御領域ＴＡ１は、方向Ｘにて第４入射光制御領域ＴＡ４に接し、方向Ｙにて第３入射光制御領域ＴＡ３に接している。第２入射光制御領域ＴＡ２は、方向Ｘにて第３入射光制御領域ＴＡ３に接し、方向Ｙにて第４入射光制御領域ＴＡ４に接している。
液晶パネルＰＮＬは、少なくとも第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第４入射光制御領域ＴＡ４の各々を、独立して透過状態又は非透過状態に設定することができる。
液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡに２種類を超えるパターンの符号化開口を形成することができる。そして、第１領域Ｂ１及び第２領域Ｂ２を任意に設定することができる。入射光制御領域ＰＣＡに第１領域Ｂ１及び第２領域Ｂ２と異なる第３の領域を設定することもできる。これにより、制御回路ＣＣは、カメラ１ａで３種類以上（複数種類）取得した情報に基づいて、カメラ１ａから被写体までの距離を導出することができる（図４１）。
（第１３の実施形態の実施例８）
図５９は、第１３の実施形態の実施例８に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図５９に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第４入射光制御領域ＴＡ４は、上記実施例７（図５８）と異なり、同一サイズの四分円の形状を有してもよい。この場合も、第１領域Ｂ１及び第２領域Ｂ２を任意に設定可能である。第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第４入射光制御領域ＴＡ４は、互いに接していないが、隣合う入射光制御領域ＴＡ同士が接してもよい。
（第１３の実施形態の実施例９）
図６０は、第１３の実施形態の実施例９に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図６０に示すように、上記実施例３（図５４）と異なり、入射光制御領域ＰＣＡは、第４入射光制御領域ＴＡ４をさらに有している。なお、第１遮光部ＢＭ１の内側において、第３入射光制御領域ＴＡ３は、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第４入射光制御領域ＴＡ４以外の領域である。
方向Ｘから時計回りに４５°傾斜した方向において、第４入射光制御領域ＴＡ４は、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２の間に位置し、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２に接している。第４入射光制御領域ＴＡ４は、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２と異なる領域である。
第４入射光制御領域ＴＡ４は、ピンホール領域であり、円形の形状を有している。第４入射光制御領域ＴＡ４の中心は、入射光制御領域ＰＣＡの重心ＣＮと一致している。サイズ（面積）に関し、第４入射光制御領域ＴＡ４は、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２のそれぞれより小さい。液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡに位置する複数の電極は、第４入射光制御領域ＴＡ４に位置するピンホール電極を有している。例えば、ピンホール電極は、図１８に示した第３制御電極ＲＬ３及び第４制御電極ＲＬ４に相当する。
液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡのうち第４入射光制御領域ＴＡ４のみを透過状態に切替えることで、入射光制御領域ＰＣＡをピンホールとして機能させることができる。勿論、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにＣＡＰを形成することもできる。
（第１３の実施形態の実施例１０）
図６１は、第１３の実施形態の実施例１０に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図６１を示すように、第１領域Ｂ１と第２領域Ｂ２とは一部重畳してもよい。入射光制御領域ＰＣＡは、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第５入射光制御領域ＴＡ５を備えている。
方向Ｘから時計回りに４５°傾斜した方向にて、第５入射光制御領域ＴＡ５は、第１入射光制御領域ＴＡ１と第２入射光制御領域ＴＡ２との間に位置している。第４入射光制御領域ＴＡ４は、ピンホール領域であり、円形の形状を有し、第５入射光制御領域ＴＡ５で囲まれている。第４入射光制御領域ＴＡ４の中心は、入射光制御領域ＰＣＡの重心ＣＮと一致している。
図６２は、実施例１０に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図であり、複数の電極及び複数の配線を示す図である。図６２に示すように、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡに複数の電極ＡＥを備えている。複数の電極ＡＥは、第１入射光制御領域ＴＡ１に位置した第１電極ＡＥ１、第２入射光制御領域ＴＡ２に位置した第２電極ＡＥ２、第４入射光制御領域ＴＡ４に位置した第３電極ＡＥ３、及び第５入射光制御領域ＴＡ５に位置した第４電極ＡＥ４、を備えている。複数の電極ＡＥは、第３入射光制御領域ＴＡ３に位置した第５電極ＡＥ５をさらに備えてもよい。第１電極ＡＥ１乃至第５電極ＡＥ５は、物理的に独立して設けられ、電気的に独立している。
各々の電極ＡＥは、ＴＮ（Twisted Nematic）モードに対応した構成を有してもよく、ＩＰＳモードに対応した構成を有してもよい。後者の場合、各々の電極ＡＥは、図５１及び図５２に示した電極構造を有してもよい。
各々の電極ＡＥには、引き回し配線Ｌが接続されている。入射光制御領域ＰＣＡを延在する複数の引き回し配線Ｌのうち、第２電極ＡＥ２乃至第５電極ＡＥ５に接続された複数の引き回し配線Ｌは、束ねられ、入射光制御領域ＰＣＡ及びその周りの領域（表示領域ＤＡ）を延在している。
図６３に示すように、但し、複数の引き回し配線Ｌは、束ねられること無しに、入射光制御領域ＰＣＡ及びその周りの領域を延在してもよい。
また、引き回し配線Ｌを引き出す方向は、図６２及び図６３に示した例に限定されるものではなく、種々変形可能である。
図６４は、実施例１０に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図であり、第１領域Ｂ１が非透過状態に設定され、入射光制御領域ＰＣＡのうち第１領域Ｂ１以外の領域が透過状態に設定されている図である。図６５は、実施例１０に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図であり、第２領域Ｂ２が非透過状態に設定され、入射光制御領域ＰＣＡのうち第２領域Ｂ２以外の領域が透過状態に設定されている図である。
図６４及び図６５に示すように、実施例１０においても、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにＣＡＰを形成することができる。
第１の期間に、第１入射光制御領域ＴＡ１、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第５入射光制御領域ＴＡ５は、楕円形の第１領域Ｂ１を構成することができる。第２の期間に、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第５入射光制御領域ＴＡ５は、楕円形の第２領域Ｂ２を構成することができる。第１領域Ｂ１の輪郭及び第２領域Ｂ２の輪郭は、サイズ及び形状に関して同一である。
第１領域Ｂ１の面積は、第２領域Ｂ２の面積と同一である。ここで言う面積が同一には、第１領域Ｂ１と第２領域Ｂ２とで、面積が完全に同一である場合だけでなく誤差が５％以内である場合も含んでいる。
電極の面積に関しても同様である。第１領域Ｂ１に位置した第１電極の総面積は、第２領域Ｂ２に位置した第２電極の総面積と同一である。第１電極と第２電極とで、総面積が完全に同一である場合だけでなく誤差が５％以内である場合も、総面積を同一としている。
（第１３の実施形態の実施例１１）
図６６は、第１３の実施形態の実施例１１に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図６６に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、上記実施例３（図５４）と異なり、離れて位置してもよい。第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、同一サイズの円形（真円）である。
第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、同一の半径ｒを有している。方向Ｘから時計回りに４５°傾斜した方向において、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、距離ｄｎ離れている。実施例１１において、長さに関し、距離ｄｎは、半径ｒ以上である。
第１領域Ｂ１（第１入射光制御領域ＴＡ１）は円形であるため、第１領域Ｂ１の重心ＣＲ１は第１領域Ｂ１の中心である。同様に、第２領域Ｂ２（第２入射光制御領域ＴＡ２）の重心ＣＲ２は第２領域Ｂ２の中心である。入射光制御領域ＰＣＡの重心ＣＮ、第１領域Ｂ１の重心ＣＲ１、及び第２領域Ｂ２の重心ＣＲ２は、同一直線上に位置している。そして、第１領域Ｂ１及び第２領域Ｂ２は点対称である。
平面視において、重心ＣＲ１は重心ＣＮから第１方向にずれて位置し、重心ＣＲ２は重心ＣＮから上記第１方向と異なる第２方向にずれて位置している。重心ＣＲ２は、重心ＣＮ及び重心ＣＲ１からずれて位置している。
（第１３の実施形態の実施例１２）
図６７は、第１３の実施形態の実施例１２に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図６７に示すように、第１領域Ｂ１と第２領域Ｂ２とは一部重畳してもよい。入射光制御領域ＰＣＡは、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第４入射光制御領域ＴＡ４を備えている。
方向Ｘから時計回りに４５°傾斜した方向にて、第４入射光制御領域ＴＡ４は、第１入射光制御領域ＴＡ１と第２入射光制御領域ＴＡ２との間に位置している。第４入射光制御領域ＴＡ４の重心は、入射光制御領域ＰＣＡの重心ＣＮと一致している。
第１の期間に、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第４入射光制御領域ＴＡ４は、円形の第１領域Ｂ１を構成することができる。第２の期間に、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第４入射光制御領域ＴＡ４は、円形の第２領域Ｂ２を構成することができる。第１領域Ｂ１及び第２領域Ｂ２は、同一サイズの円形（真円）である。第１領域Ｂ１及び第２領域Ｂ２は点対称であり、重心ＣＮが対称の中心である。
（第１３の実施形態の実施例１３）
図６８は、第１３の実施形態の実施例１３に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図６８に示すように、上記実施例１２（図６７）と異なり、入射光制御領域ＰＣＡは、第５入射光制御領域ＴＡ５及び第６入射光制御領域ＴＡ６をさらに備えている。なお、第１入射光制御領域ＴＡ１の輪郭及び第２入射光制御領域ＴＡ２の輪郭は、サイズ及び形状に関して同一である。第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、それぞれ円環の一部の形状を有している。
第５入射光制御領域ＴＡ５は、円形の形状を有し、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第４入射光制御領域ＴＡ４で囲まれている。第６入射光制御領域ＴＡ６は、第５入射光制御領域ＴＡ５よりサイズの小さい円形の形状を有し、第２入射光制御領域ＴＡ２及び第４入射光制御領域ＴＡ４で囲まれている。第６入射光制御領域ＴＡ６は、例えば、ピンホール領域である。
例えば、第１の期間に、第１入射光制御領域ＴＡ１、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第５入射光制御領域ＴＡ５は、円形の第１領域Ｂ１を構成することができる。第２の期間に、第２入射光制御領域ＴＡ２、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第６入射光制御領域ＴＡ６は、円形の第２領域Ｂ２を構成することができる。
また、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第６入射光制御領域ＴＡ６の透過状態及び非透過状態を調整することで、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡに、サイズの異なる複数種類の円形の透過領域を設定することができる。そのため、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを絞りＤＰとして使用することもできる。
（第１３の実施形態の実施例１４）
図６９は、第１３の実施形態の実施例１４に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図６９に示すように、上記実施例１３（図６８）と異なり、第１入射光制御領域ＴＡ１、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第５入射光制御領域ＴＡ５を含む円形の領域のサイズは、第２入射光制御領域ＴＡ２、第４入射光制御領域ＴＡ４、及び第６入射光制御領域ＴＡ６含む円形の領域のサイズと異なっている。そのため、液晶パネルＰＮＬが入射光制御領域ＰＣＡに設定する円形の透過領域の種類を増やすことができ、絞りＤＰをさらに細かく調整することができる。
（第１３の実施形態の実施例１５）
図７０は、第１３の実施形態の実施例１５に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図であり、入射光制御領域ＰＣＡに非透過状態及び中間調の第１領域Ｂ１が設定されている図である。図７１は、実施例１５に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図であり、入射光制御領域ＰＣＡに非透過状態及び中間調の第２領域Ｂ２が設定されている図である。図中、中間調の入射光制御領域ＴＡには斜線を付している。
図７０及び図７１に示すように、入射光制御領域ＰＣＡにて、複数の入射光制御領域ＴＡは、方向Ｘ及び方向Ｙにマトリクス状に配列している。各々の入射光制御領域ＴＡは、独立して透過状態、非透過状態等に設定される。入射光制御領域ＰＣＡにおける入射光制御領域ＴＡの個数、サイズ、形状などは実施例１５に限定されるものではなく種々変形可能である。
図７０において、第１領域Ｂ１は、複数の入射光制御領域ＴＡで構成されている。第１領域Ｂ１は、非透過状態（最小階調値となる状態）の入射光制御領域ＴＡ（ｂ）だけでなく、中間調状態（最小階調値と最大階調値の間の中間調となる状態）の入射光制御領域ＴＡ（ｃ）も含んでいる。第１領域Ｂ１に含まれない入射光制御領域ＴＡ（ａ）は、透過状態（最大階調値となる状態）となる。
図７１において、第２領域Ｂ２も、入射光制御領域ＴＡ（ｂ）及び入射光制御領域ＴＡ（ｃ）の両方を含んでいる。
入射光制御領域ＰＣＡに形成する符号化開口のパターンを、非透過状態及び透過状態を含めて３階調で設定することができる。中間調のレベルを２以上用意することで、符号化開口のパターンを４階調以上で設定することもできる。カメラ１ａから被写体までの距離及び解像度の要求にあうように、入射光制御領域ＴＡ（ｃ）の階調レベルを適宜選択可能である。
なお、本実施例１５と異なり、各々の入射光制御領域ＴＡ（ｃ）を、中間調状態ではなく、非透過状態及び透過状態の一方に設定してもよい。
又は、各々の入射光制御領域ＴＡ（ｃ）を、非透過状態、中間調状態、及び透過状態の一方に設定してもよい。
（第１３の実施形態の実施例１６）
図７２は、第１３の実施形態の実施例１６に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ、非表示領域ＮＤＡ等を示す平面図であり、複数の入射光制御領域ＴＡ、複数の走査線Ｇ、複数の信号線Ｓ、走査線駆動回路ＧＤ、及び信号線駆動回路ＳＤを示す図である。図７３は、実施例１６に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図であり、複数の入射光制御領域ＴＡを示す図である。
図７２に示すように、実施例１６においても、複数の入射光制御領域ＴＡは、方向Ｘ及び方向Ｙにマトリクス状に配列している。入射光制御領域ＰＣＡにおける入射光制御領域ＴＡの個数、サイズ、形状等は種々変形可能である。複数の信号線Ｓ及び複数の走査線Ｇは、表示領域ＤＡだけでなく入射光制御領域ＰＣＡも延在している。複数の走査線Ｇは、非表示領域ＮＤＡに位置した走査線駆動回路ＧＤに電気的に接続されている。複数の信号線Ｓは、非表示領域ＮＤＡに位置した信号線駆動回路ＳＤに電気的に接続されている。
走査線駆動回路ＧＤは、画素電極ＰＥに接続されたスイッチング素子ＳＷに、複数の走査線Ｇのうち対応する一の走査線Ｇを介して制御信号を与える。信号線駆動回路ＳＤは、画素電極ＰＥに、複数の信号線Ｓのうち対応する一の信号線Ｓ及びスイッチング素子ＳＷを介して画像信号（映像信号）を与える。
一方、走査線駆動回路ＧＤは、入射光制御領域ＰＣＡに位置した複数の電極のそれぞれに接続されたスイッチング素子に、複数の走査線Ｇのうち対応する他の一の走査線Ｇを介して制御信号を与える。信号線駆動回路ＳＤは、入射光制御領域ＰＣＡに位置した複数の電極のそれぞれに、複数の信号線Ｓのうち対応する他の一の信号線Ｓ及びスイッチング素子を介して制御信号を与える。
走査線駆動回路ＧＤ及び信号線駆動回路ＳＤは、表示領域ＤＡの画素電極ＰＥを駆動するための駆動回路である。実施例１６において、走査線駆動回路ＧＤ及び信号線駆動回路ＳＤは、入射光制御領域ＰＣＡに位置した複数の電極をさらに駆動するものである。
走査線駆動回路ＧＤ及び信号線駆動回路ＳＤは、画素電極ＰＥの駆動と、入射光制御領域ＰＣＡの電極の駆動との両方に用いられる。
入射光制御領域ＰＣＡは、アクティブマトリクス駆動により駆動されるがパッシブ駆動により駆動されてもよい。後者の場合、入射光制御領域ＰＣＡにスイッチング素子を設けなくともよく、走査線駆動回路ＧＤ及び走査線Ｇを用いること無しに入射光制御領域ＰＣＡを駆動することができる。
図７３に示すように、上述した実施例と異なり、実施例１６では、非透過領域が纏まっていない。透過状態の入射光制御領域ＴＡ（ａ）及び非透過状態の入射光制御領域ＴＡ（ｂ）は、特定のパターンを形成している。カメラ１ａは、図７３に示す入射光制御領域ＰＣＡを透過した光の情報を取得する。図７３に示す特定のパターンを用いることで、例えば、上述した制御回路ＣＣは、カメラ１ａで１種類取得した情報に基づいて、カメラ１ａから被写体までの距離を導出することもできる。
（第１３の実施形態の実施例１７）
図７４は、第１３の実施形態の実施例１７に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図７４に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、円形（真円）である。但し、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、上記実施例１（図５０）と異なり、互いに異なるサイズを有している。例えば、第２入射光制御領域ＴＡ２の直径は、第１入射光制御領域ＴＡ１の直径の１．５倍である。実施例１７においても、入射光制御領域ＰＣＡに、ＣＡＰを形成することができる。
（第１３の実施形態の実施例１８）
図７５は、第１３の実施形態の実施例１８に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図７５に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、上記実施例２（図５３）と異なり、互いに異なるサイズを有してもよい。
（第１３の実施形態の実施例１９）
図７６は、第１３の実施形態の実施例１９に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図７６に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、上記実施例３（図５４）と異なり、互いに異なるサイズを有してもよい。
（第１３の実施形態の実施例２０）
図７７は、第１３の実施形態の実施例２０に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図７７に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第４入射光制御領域ＴＡ４は、円形（真円）である。但し、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第４入射光制御領域ＴＡ４のサイズは、上記実施例７（図５８）と異なり、全て異なっている。液晶パネルＰＮＬは、絞りＤＰを細かく調整することができる。
第１の期間に、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１のみを非透過状態に切替えて第１入射光制御領域ＴＡ１を第１領域Ｂ１に設定することができる。第２期間に、液晶パネルＰＮＬは、第４入射光制御領域ＴＡ４のみを非透過状態に切替えて第４入射光制御領域ＴＡ４を第２領域Ｂ２に設定することができる。そのため、図７７の入射光制御領域ＰＣＡに、ＣＡＰを形成することができる。
第１領域Ｂ１の重心ＣＲ１は第１領域Ｂ１の中心である。同様に、第２領域Ｂ２の重心ＣＲ２は第２領域Ｂ２の中心である。入射光制御領域ＰＣＡの重心ＣＮ、第１領域Ｂ１の重心ＣＲ１、及び第２領域Ｂ２の重心ＣＲ２は、同一直線上に位置していなくともよい。
（第１３の実施形態の実施例２１）
図７８は、第１３の実施形態の実施例２１に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図７８に示すように、第１領域Ｂ１及び第２領域Ｂ２は、円形（真円）である。第１領域Ｂ１と第２領域Ｂ２とは一部重畳してもよく、互いに異なるサイズを有してもよい。
（第１３の実施形態の実施例２２）
図７９は、第１３の実施形態の実施例２２に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図７９に示すように、上記実施例１（図５０）と比較し、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、左方向（方向Ｘに平行な方向）にオフセットしている。第２入射光制御領域ＴＡ２は円形（真円）であるが、第１入射光制御領域ＴＡ１は、円形（真円）の一部が欠けた形状を有している。第１入射光制御領域ＴＡ１の輪郭の一部は、第１遮光部ＢＭ１の内周Ｉ１の一部（円弧）と一致している。第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２は、サイズ及び形状に関して互いに異なっている。
（第１３の実施形態の実施例２３）
図８０は、第１３の実施形態の実施例２３に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図８０に示すように、上記実施例１（図５０）と比較し、第２入射光制御領域ＴＡ２は、円形（真円）の一部が欠けた形状を有している。第２入射光制御領域ＴＡ２の輪郭は、円弧と、直線とで構成されている。
（第１３の実施形態の実施例２４）
図８１は、第１３の実施形態の実施例２４に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図８２は、実施例２４に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図であり、第１領域Ｂ１が非透過状態に設定され、入射光制御領域ＰＣＡのうち第１領域Ｂ１以外の領域が透過状態に設定されている図である。図８３は、実施例２４に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図であり、第２領域Ｂ２が非透過状態及び中間調に設定され、入射光制御領域ＰＣＡのうち第２領域Ｂ２以外の領域が透過状態に設定されている図である。
図７６に示した第２入射光制御領域ＴＡ２は、２つの半円に分割されてもよい。
図８１に示すように、入射光制御領域ＰＣＡは、第４入射光制御領域ＴＡ４をさらに備えている。第３入射光制御領域ＴＡ３は、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第４入射光制御領域ＴＡ４以外の領域である。半円形の第２入射光制御領域ＴＡ２と、半円形の第４入射光制御領域ＴＡ４とは、方向Ｘから時計回りに４５°傾斜した方向に隣合い、円形（真円）の形状を呈している。
図８２に示すように、第１の期間に、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１を非透過状態に切替えて第１入射光制御領域ＴＡ１を第１領域Ｂ１に設定することができる。
図８３に示すように、第２期間に、液晶パネルＰＮＬは、第４入射光制御領域ＴＡ４を非透過状態に切替え、第２入射光制御領域ＴＡ２を中間調状態に切替え、第４入射光制御領域ＴＡ４及び第２入射光制御領域ＴＡ２の両方を含む領域を第２領域Ｂ２に設定することができる。上記のように、第２領域Ｂ２を最大階調（透明）を除く２階調で設定してもよい。
（第１３の実施形態の実施例２５）
図８４は、第１３の実施形態の実施例２５に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図８４に示すように、第１領域Ｂ１と第２領域Ｂ２とは、
上記実施例２４（図８１）と異なり、方向Ｘから反時計回りに４５°傾斜した方向に並んでもよい。
（第１３の実施形態の実施例２６）
図８５は、第１３の実施形態の実施例２６に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図８５に示すように、第１領域Ｂ１と第２領域Ｂ２とは、重畳しておらず、サイズ及び形状に関して互いに異なってもよい。入射光制御領域ＰＣＡは、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第４入射光制御領域ＴＡ４を備えている。
第４入射光制御領域ＴＡ４は、ピンホール領域であり、四角形（正方形）の形状を有している。第１入射光制御領域ＴＡ１と、第４入射光制御領域ＴＡ４とは、隣合い、四角形（正方形）の形状を呈している。第２入射光制御領域ＴＡ２と、第４入射光制御領域ＴＡ４とは、隣合い、四分円の形状を呈している。
第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第４入射光制御領域ＴＡ４のサイズは、全て異なっている。液晶パネルＰＮＬは、絞りＤＰを細かく調整することができる。
液晶パネルＰＮＬは、例えば、第１の期間に第１入射光制御領域ＴＡ１を第１領域Ｂ１に設定し、第２期間に第２入射光制御領域ＴＡ２を第２領域Ｂ２に設定することができる。
（第１３の実施形態の実施例２７）
図８６は、第１３の実施形態の実施例２７に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図８６に示すように、第１領域Ｂ１及び第２領域Ｂ２は、それぞれ、円形、多角形、又はその他の形状を有してもよい。実施例２７において、第１領域Ｂ１は四角形（正方形）の形状を有し、第２領域Ｂ２は円形（真円）の形状を有している。
上記のように構成された第１３の実施形態に係る電子機器１００によれば、良好に撮影することが可能な電子機器１００及び電子機器１００に用いられる液晶表示装置ＤＳＰを得ることができる。また、本第１３の実施形態では、さらに、カメラ１ａから被写体までの距離を測定することができる。
（第１４の実施形態）
次に、本第１４の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第１４の実施形態で説明する構成以外、上述した第１３の実施形態と同様に構成されている。図８７は、第１４の実施形態に係る電子機器１００の液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。
図８７に示すように、入射光制御領域ＰＣＡは、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２を備えている。本第１４の実施形態において、入射光制御領域ＰＣＡは、第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第６入射光制御領域ＴＡ６を備えている。例えば、第１入射光制御領域ＴＡ１は円環状の第１環状領域として機能し、第２入射光制御領域ＴＡ２は第１入射光制御領域ＴＡ１で囲まれた第２環状領域として機能し、第３入射光制御領域ＴＡ３は第２入射光制御領域ＴＡ２で囲まれた円形領域として機能している。第４入射光制御領域ＴＡ４乃至第６入射光制御領域ＴＡ６は、それぞれ環状領域として機能している。
第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第４入射光制御領域ＴＡ４乃至第６入射光制御領域ＴＡ６は、それぞれ、周方向に複数に分割された複数の分割領域を含んでいる。第１入射光制御領域ＴＡ１は複数の第１分割領域ＶＩ１を含み、第２入射光制御領域ＴＡ２は複数の第２分割領域ＶＩ２を含み、第４入射光制御領域ＴＡ４は複数の第４分割領域ＶＩ４を含み、第５入射光制御領域ＴＡ５は複数の第５分割領域ＶＩ５を含み、第６入射光制御領域ＴＡ６は複数の第６分割領域ＶＩ６を含んでいる。
本実施形態において、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第４入射光制御領域ＴＡ４乃至第６入射光制御領域ＴＡ６の分割数は、それぞれ、４であり、同数である。この例では、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第４入射光制御領域ＴＡ４乃至第６入射光制御領域ＴＡ６は、それぞれ４等分されている。第１分割領域ＶＩ１の境界、第２分割領域ＶＩ２の境界、第４分割領域ＶＩ４の境界、第５分割領域ＶＩ５の境界、及び第６分割領域ＶＩ６の境界は、入射光制御領域ＰＣＡの半径方向に揃っている。
図６２に示したように、本第１４の実施形態においても、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡに複数の電極を備えている。上記複数の電極は、複数の第１分割領域ＶＩ１、複数の第２分割領域ＶＩ２、複数の第４分割領域ＶＩ４、複数の第５分割領域ＶＩ５、及び複数の第６分割領域ＶＩ６を含む複数の分割領域ＶＩ毎に独立して設けられ、複数の分割領域ＶＩ毎に電気的に独立している。
図５１、図５２等に示すように、各々の分割領域ＶＩに２種類の線状電極が設けられてもよい。
入射光制御領域ＰＣＡの複数の電極の一は、第３入射光制御領域ＴＡ３にも独立して設けられ、上記複数の電極の残りと電気的に独立している。第３入射光制御領域ＴＡ３をピンホール領域として利用することができる。
液晶パネルＰＮＬにおいて、半径方向に隣合う入射光制御領域ＴＡの間に遮光層は設けられていない。
第１入射光制御領域ＴＡ１乃至第６入射光制御領域ＴＡ６は、同心多重円状に位置している。そのため、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにて、絞りＤＰを開いたり閉じたりすることができる。
ここで、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２に注目する。液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１の全体を非透過状態に設定する期間、第２入射光制御領域ＴＡ２の全体を透過状態又は非透過状態に設定することができる。また、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１の全体を透過状態に設定する期間、第２入射光制御領域ＴＡ２の全体を透過状態に設定することができる。
また、液晶パネルＰＮＬは、第１入射光制御領域ＴＡ１及び第２入射光制御領域ＴＡ２の少なくとも一方を透過状態に設定することで、カメラ１ａは、被写体から向かい入射光制御領域ＰＣＡを透過した可視光の情報を取得することができる。これにより、カメラ１ａは、被写体を撮影することができる。制御回路ＣＣは、カメラ１ａから、距離情報（カメラ１ａから被写体までの距離情報）だけではなく被写体の画像情報も取得することができる。
図８８は、第１４の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図であり、第１領域Ｂ１が非透過状態に設定され、入射光制御領域ＰＣＡのうち第１領域Ｂ１以外の領域が透過状態に設定されている図である。図８８に示すように、複数の分割領域ＶＩのうち、一の分割領域ＶＩ、又は一の分割領域ＶＩを含む隣合う複数の分割領域ＶＩは、第１領域Ｂ１である。この例では、左下に位置する第１分割領域ＶＩ１、及び第４分割領域ＶＩ４乃至第６分割領域ＶＩ６は、第１領域Ｂ１である。平面視において、第１領域Ｂ１の重心ＣＲ１は、入射光制御領域ＰＣＡの重心ＣＮから第１方向にずれて位置している。
図８９は、第１４の実施形態に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図であり、第２領域Ｂ２が非透過状態に設定され、入射光制御領域ＰＣＡのうち第２領域Ｂ２以外の領域が透過状態に設定されている図である。図８９に示すように、複数の分割領域ＶＩのうち、他の一の分割領域ＶＩ、又は他の一の分割領域ＶＩを含む隣合う複数の分割領域ＶＩは、第２領域Ｂ２である。この例では、右上に位置する第４分割領域ＶＩ４及び第５分割領域ＶＩ５は、第２領域Ｂ２である。平面視において、第２領域Ｂ２の重心ＣＲ２は、入射光制御領域ＰＣＡの重心ＣＮから第１方向と異なる第２方向にずれて位置している。
図８８及び図８９に示す例では、液晶パネルＰＮＬは、第１領域Ｂ１を非透過状態に設定する期間に第２領域Ｂ２等を透過状態に設定し、第１領域Ｂ１等を透過状態に設定する期間に第２領域Ｂ２を非透過状態に設定することができる。そのため、液晶パネルＰＮＬは、入射光制御領域ＰＣＡにＣＡＰを形成することができる。
上記のように構成された第１４の実施形態に係る電子機器１００によれば、上記第１３の実施形態と同様の効果を得ることができる。
次に、上記第１４の実施形態の変形例について説明する。
（第１４の実施形態の変形例１）
図９０は、第１４の実施形態の変形例１に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図９０に示すように、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第４入射光制御領域ＴＡ４乃至第６入射光制御領域ＴＡ６の分割数は、それぞれ、５であり、同数である。この例では、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第４入射光制御領域ＴＡ４乃至第６入射光制御領域ＴＡ６は、それぞれ５等分されている。
なお、第１入射光制御領域ＴＡ１等の分割数は、５以外の奇数であってもよい。また、第１入射光制御領域ＴＡ１等の分割数は、４以外の偶数であってもよい。
（第１４の実施形態の変形例２）
図９１は、第１４の実施形態の変形例２に係る液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡを示す平面図である。図９１に示すように、第１分割領域ＶＩ１の境界、第２分割領域ＶＩ２の境界、第４分割領域ＶＩ４の境界、第５分割領域ＶＩ５の境界、及び第６分割領域ＶＩ６の境界は、入射光制御領域ＰＣＡの半径方向に揃っていなくともよい。
第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第４入射光制御領域ＴＡ４乃至第６入射光制御領域ＴＡ６の分割数は、同数でなくともよい。例えば、第１入射光制御領域ＴＡ１、第２入射光制御領域ＴＡ２、及び第４入射光制御領域ＴＡ４の分割数は４であり、相対的に外周側に位置した第５入射光制御領域ＴＡ５及び第６入射光制御領域ＴＡ６の分割数は８である。
（第１５の実施形態）
次に、本第１５の実施形態について説明する。電子機器１００は、本第１５の実施形態で説明する構成以外、上述した第１３の実施形態又は第１４の実施形態と同様に構成されている。図９２は、第１５の実施形態に係る電子機器１００の一部を示す断面図であり、撮像素子３、光学系２のレンズＬＮ、及び液晶パネルＰＮＬを示す図である。図中、光の光路を、実線及び破線で示している。
図９２に示すように、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡのうち、第１遮光部ＢＭ１の内周Ｉ１より内側の領域を領域ＦＦ１とする。レンズＬＮは、領域ＦＦ１の範囲内に収まっている。入射光制御領域ＰＣＡに形成する符号化開口を透過した光は、撮像素子３の有効領域ＥＥの範囲内に全て収まっている必要がある。有効領域ＥＥのサイズや、液晶パネルＰＮＬとレンズＬＮの距離は、カメラ１ａで撮影可能な範囲ＧＧに影響している。
上記のように構成された第１５の実施形態に係る電子機器１００によれば、上記第１３の実施形態と同様の効果を得ることができる。また、符号化開口を透過した光の全体を、撮像素子３で確実に検出することができる。
（第１５の実施形態の変形例）
図９３は、第１５の実施形態の変形例に係る電子機器１００の一部を示す断面図であり、撮像素子３、光学系２のレンズＬＮ、及び液晶パネルＰＮＬを示す図である。図９３に示すように、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡのうち、第１遮光部ＢＭ１の内周Ｉ１より内側の領域を領域ＦＦ２とする。
撮像素子３の有効領域ＥＥが相対的に小さくなると、カメラ１ａで撮影可能な範囲ＧＧも狭くなる。
なお、液晶パネルＰＮＬとレンズＬＮとが近接している場合、領域ＦＦ２は領域ＦＦ１から実質的に変化せず、領域ＦＦ２は実質的にレンズＬＮの円形に近い形状となる。
上述したことから、符号化開口のパターンを円形に近い形状に設定することで、符号化開口を透過した光を撮像素子３の有効領域ＥＥの内側に収め易くなる。
（第１６の実施形態）
次に、本第１６の実施形態について説明する。図９４は、第１６の実施形態に係るカメラモジュールＣＭを示す断面図である。
図９４に示すように、カメラモジュールＣＭは、撮像素子３と、入射光制御領域ＰＣＡを有する液晶パネルＰＮＬと、撮像素子３と液晶パネルＰＮＬとの間に位置したレンズＬＮと、を備えている。カメラモジュールＣＭは、例えば複数枚のレンズＬＮを備えている。カメラモジュールＣＭの駆動体ＭＤは、複数枚のレンズＬＮの相対的な位置関係等を調整することができ、例えばピント調整に寄与することができる。駆動体ＭＤは、レンズＬＮとともにケース４に収容されている。ケース４は、例えば樹脂で形成されている。
撮像素子３は、基板ＳＲに支持体ＳＯを介して固定されている。基板ＳＲは、リジッド基板である。これにより、基板ＳＲは、撮像素子３と液晶パネルＰＮＬの相対的な位置関係等を良好に固定することができる。但し、基板ＳＲは、フレキシブルプリント回路基板でもよい。撮像素子３もケース４に収容されている。ケース４は、基板ＳＲに固定されている。
液晶パネルＰＮＬは上述した表示領域ＤＡを備えていないが、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡは上述した実施形態と同様に構成されている。液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡのうち、第１遮光部ＢＭ１の内周Ｉ１より内側の領域ＦＦは、ケース４の開口ＯＮの内側に収まっている。液晶パネルＰＮＬは、両面テープ等の固定手段により、ケース４に取付けられている。本実施形態において、液晶パネルＰＮＬは、ケース４に収容されている。
撮像素子３は、液晶パネルＰＮＬの入射光制御領域ＰＣＡ（領域ＦＦ）及びレンズＬＮを透過した光の情報を取得することができる。
カメラモジュールＣＭは、第１回路基板ＣＴ１及び第２回路基板ＣＴ２をさらに備えている。第１回路基板ＣＴ１及び第２回路基板ＣＴ２は、例えばフレキシブルプリント回路基板である。第１回路基板ＣＴ１は、撮像素子３に接続されている。第２回路基板ＣＴ２は、液晶パネルＰＮＬに接続されている。本実施形態において、第１回路基板ＣＴ１及び第２回路基板ＣＴ２は、互いに物理的に独立している。但し、第１回路基板ＣＴ１及び第２回路基板ＣＴ２は、一体に形成されてもよい。
カメラモジュールＣＭは、第１駆動回路ＤＲ１及び第２駆動回路ＤＲ２をさらに備えている。第１駆動回路ＤＲ１は、第１回路基板ＣＴ１に設けられ、撮像素子３を駆動することができる。第２駆動回路ＤＲ２は、第２回路基板ＣＴ２に設けられ液晶パネルＰＮＬを駆動することができる。
本実施形態において、第１回路基板ＣＴ１及び第２回路基板ＣＴ２は、それぞれ基板ＳＲの配線に電気的に接続されている。第１回路基板ＣＴ１及び第２回路基板ＣＴ２は、基板ＳＲを介して互いに電気的に接続されている。その場合、第１駆動回路ＤＲ１及び第２駆動回路ＤＲ２は、一体に形成され、第１回路基板ＣＴ１又は第２回路基板ＣＴ２に設けられてもよい。
上記のように構成された第１６の実施形態に係るカメラモジュールＣＭによれば、良好に撮影することが可能なカメラモジュールＣＭを得ることができる。また、液晶パネルＰＮＬにＣＡＰを形成することができるため、カメラモジュールＣＭ単体で、カメラモジュールＣＭから被写体までの距離の情報を取得することができる。
（第１６の実施形態の変形例）
図９５は、第１６の実施形態の変形例に係るカメラモジュールＣＭを示す断面図である。図９５に示すように、液晶パネルＰＮＬは、ケース４の外側に位置し、ＣＳケースに取付けられてもよい。第１回路基板ＣＴ１及び第２回路基板ＣＴ２は、互いに電気的に接続されている。本変形例において、第１駆動回路ＤＲ１及び第２駆動回路ＤＲ２は、一体に形成され、第１回路基板ＣＴ１に設けられている。
例えば、カメラモジュールＣＭを電子機器１００の背面に搭載されるアウトカメラとして使用することができる。図９６に示すように、その場合、電子機器１００のインカメラとアウトカメラの両方で、入射光制御領域ＰＣＡのＣＡＰを用い、電子機器１００の周囲の空間を、上下左右、３６０°スキャンすることができる。例えば、電子機器１００を用い、ユーザの部屋等の活動場所のＶＲ（Vertual Reality）空間を創ることができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。必要に応じて、複数の実施形態を組合せることも可能である。
例えば、電子機器１００は、液晶パネルＰＮＬの替わりに、液晶パネルＰＮＬ以外の光シャッタパネルを備えてもよい。光シャッタパネルは、光（可視光）の透過及び非透過を制御可能に構成されていればよい。
カラーフィルタＣＦの着色層は、入射光制御領域ＰＣＡに設けられてもよい。その場合、各々の入射光制御領域ＴＡに位置する電極の個数、形状、及びサイズを調整し、各々の入射光制御領域ＴＡを細分化し、各々の入射光制御領域ＴＡのうち独立して駆動可能な領域を複数に分けてもよい。
カメラ１において、光学系２と撮像素子３とは一体となっている。しかし、電子機器１００は、物理的に独立した光学系２と撮像素子３とを個別に備えてもよい。
１００…電子機器、１ａ，１ｂ，１ｃ…カメラ、ＣＭ…カメラモジュール、
２…光学系、ＬＮ…レンズ、３…撮像素子、ＥＭ２，ＥＭ３…光源、４…ケース、
ＣＴ１，ＣＴ２…回路基板、ＤＲ１，ＤＲ２…駆動回路、５…配線基板、
６…ＩＣチップ、ＤＳＰ…液晶表示装置、ＩＬ…照明装置、ＬＧ１…導光体、
ｈ１…貫通孔、ＣＳ…ケース、ＰＮＬ…液晶パネル、ＳＵＢ１…第１基板、
１０…絶縁基板、ＰＸ…画素、Ｇ…走査線、Ｓ…信号線、ＳＷ…スイッチング素子、
ＣＥ…共通電極、ＰＥ…画素電極、ＰＡ，ＰＢ…線状画素電極、ＡＬ１…配向膜、
ＲＥ，ＲＥ１～ＲＥ６…制御電極構造、ＲＬ，ＲＬ１～ＲＬ６…制御電極、
Ｌ，Ｌ１～Ｌ６…引き回し配線、ＳＵＢ２…第２基板、２０…絶縁基板、ＢＭ…遮光層、
Ｉ１…内周、ＢＭ１～ＢＭ５，ＢＭＡ，ＢＭＡ１，ＢＭＡ２，ＢＭＢ…遮光部、
ＡＬ２…配向膜、ＯＥ…対向電極、ＯＭ…対向電極本体、ＯＭＬ…線状対向電極、
ＣＬｏ…対向給電配線、ＷＬｏ…対向配線、Ｌｏ…引き回し配線、ＡＥ…電極、
ＬＥ…線状電極、ＬＣ…液晶層、ＧＤ，ＳＤ…駆動回路、ＣＣ…制御回路、
ＳＮ…光センサ、ＳＭ…記憶媒体、ＤＡ…表示領域、Ｂ１，Ｂ２…領域、
ＶＩ…分割領域、ＰＣＡ，ＰＣＣ，ＴＡ，ＴＡ１～ＴＡ３…入射光制御領域、
ＬＳＡ，ＬＳＡ１～ＬＳＡ５…遮光領域、ＣＮ，ＣＲ…重心、θ１，θ２…角度、
Ｘ，Ｙ，Ｚ，ｄ１～ｄ３，ｄｃ１～ｄｃ３…方向。

Claims (36)

  1. 表示領域及び入射光制御領域を有する液晶パネルと、
    前記液晶パネルの前記入射光制御領域に重なって配置した撮像装置と、を備え、
    前記液晶パネルは、前記表示領域に位置した画素電極と、前記入射光制御領域に位置した複数の電極と、を有し、
    前記複数の電極は、前記入射光制御領域の第１領域に位置した第１電極と、第２領域に位置した第２電極と、を有し、
    前記第２領域は、前記第１領域からずれて位置し、
    平面視において、前記第１電極の面積及び前記第２電極の面積は、それぞれ、前記画素電極の面積より大きい、
    電子機器。
  2. 平面視において、
    前記第１領域の重心は、前記入射光制御領域の重心からずれて位置し、
    前記第２領域の重心は、前記入射光制御領域の重心及び前記第１領域の重心からにずれて位置している、
    請求項１に記載の電子機器。
  3. 前記入射光制御領域の重心、前記第１領域の重心、及び前記第２領域の重心は、同一直線上に位置している、
    請求項２に記載の電子機器。
  4. 前記第１領域の重心は、前記入射光制御領域の重心から第１方向にずれて位置し、
    前記第２領域の重心は、前記入射光制御領域の重心から前記第１方向と異なる第２方向にずれて位置している、
    請求項２に記載の電子機器。
  5. 前記第１領域及び前記第２領域は、それぞれ、円形又は多角形の形状を有する、
    請求項１に記載の電子機器。
  6. 前記第１領域の形状は、前記第２領域の形状と同一である、
    請求項５に記載の電子機器。
  7. 前記第１領域の面積は、前記第２領域の面積と同一である、
    請求項１に記載の電子機器。
  8. 前記複数の電極は、前記入射光制御領域のうち前記第１領域と前記第２領域との間であって前記第１領域及び前記第２領域と異なる領域に位置したピンホール領域に位置したピンホール電極をさらに有し、
    前記ピンホール領域は、前記第１領域及び前記第２領域のそれぞれより小さい、
    請求項１に記載の電子機器。
  9. 前記液晶パネルは、
    前記第１領域を非透過状態に設定する期間、前記第２領域を透過状態に設定し、
    前記第１領域を透過状態に設定する期間、前記第２領域を非透過状態に設定する、
    請求項１に記載の電子機器。
  10. 前記第１電極は複数の第１線状電極を有し、
    前記第２電極は複数の第３線状電極を有し、
    前記第１領域には、前記第１電極に対向した第１共通電極を備え、
    前記第２領域には、前記第２電極に対向した第２共通電極を備える、
    請求項１に記載の電子機器。
  11. 平面視にて、
    前記複数の第３線状電極は、前記液晶パネルの液晶分子の初期配向方向から時計回りに第１角度傾斜した第１延在方向に延在し、
    前記複数の第１線状電極は、前記液晶パネルの液晶分子の初期配向方向から反時計回りに第２角度傾斜した第２延在方向に延在し、
    前記第１角度及び前記第２角度は、それぞれ、鋭角である、
    請求項１０に記載の電子機器。
  12. 前記複数の電極は、前記入射光制御領域のうち前記第１領域及び前記第２領域と異なる第３領域に位置した第３電極と、を有し、
    前記液晶パネルは、前記第１領域と前記第３領域との間、及び前記第２領域と前記第３領域との間に位置した遮光層をさらに備える、
    請求項１に記載の電子機器。
  13. 前記複数の電極は、前記入射光制御領域のうち前記第１領域及び前記第２領域と異なる第３領域に位置した第３電極と、を有し、
    前記液晶パネルにおいて、前記第１領域と前記第３領域との間、及び前記第２領域と前記第３領域との間に遮光層は設けられていない、
    請求項１に記載の電子機器。
  14. 表示領域及び入射光制御領域を有する液晶パネルと、
    前記液晶パネルの前記入射光制御領域に重なって配置した撮像装置と、を備え、
    前記液晶パネルは、前記表示領域に位置した画素電極と、前記入射光制御領域に位置した複数の電極と、を有し、
    前記入射光制御領域は、周方向に複数に分割された複数の第１分割領域を含む第１環状領域と、周方向に複数に分割された複数の第２分割領域を含み前記第１環状領域で囲まれた第２環状領域と、を有し、
    前記複数の電極は、前記複数の第１分割領域及び前記複数の第２分割領域を含む複数の分割領域毎に独立して設けられ、前記複数の分割領域毎に電気的に独立し、
    複数の分割領域のうち、一の分割領域、又は前記一の分割領域を含む隣合う複数の分割領域は、第１領域であり、
    複数の分割領域のうち、他の一の分割領域、又は前記他の一の分割領域を含む隣合う複数の分割領域は、第２領域である、
    電子機器。
  15. 前記入射光制御領域は、前記第２環状領域で囲まれた円形領域をさらに有し、
    前記複数の電極の一は、前記円形領域に独立して設けられ、前記複数の電極の残りと電気的に独立している、
    請求項１４に記載の電子機器。
  16. 前記液晶パネルにおいて、前記第１環状領域と前記第２環状領域との間に遮光層は設けられていない、
    請求項１４に記載の電子機器。
  17. 前記複数の第１分割領域の個数及び前記複数の第２分割領域の個数は、同一である、
    請求項１４に記載の電子機器。
  18. 平面視において、
    前記第１領域の重心は、前記入射光制御領域の重心から第１方向にずれて位置し、
    前記第２領域の重心は、前記入射光制御領域の重心から前記第１方向と異なる第２方向にずれて位置し、
    前記液晶パネルは、
    前記第１領域を透過状態又は非透過状態に設定し、
    前記第２領域を前記透過状態又は前記非透過状態に設定する、
    請求項１４に記載の電子機器。
  19. 前記液晶パネルは、
    前記第１領域を非透過状態に設定する期間、前記第２領域を透過状態に設定し、
    前記第１領域を透過状態に設定する期間、前記第２領域を非透過状態に設定する、
    請求項１８に記載の電子機器。
  20. 前記液晶パネルは、
    前記第１環状領域の全体を非透過状態に設定する期間、前記第２環状領域の全体を透過状態又は前記非透過状態に設定し、
    前記第１環状領域の全体を前記透過状態に設定する期間、前記第２環状領域の全体を前記透過状態に設定する、
    請求項１４に記載の電子機器。
  21. 前記画素電極を駆動するための駆動回路をさらに備え、
    前記駆動回路は、前記入射光制御領域に位置した前記複数の電極をさらに駆動する、
    請求項１又は１４に記載の電子機器。
  22. 前記液晶パネルは、前記表示領域を延在し前記駆動回路に電気的に接続された複数の信号線をさらに有し、
    前記駆動回路は、
    前記画素電極に、前記複数の信号線のうち対応する一の信号線を介して画像信号を与え、
    前記入射光制御領域に位置した前記複数の電極のそれぞれに、前記複数の信号線のうち対応する他の一の信号線を介して制御信号を与える、
    請求項２１に記載の電子機器。
  23. 前記液晶パネル及び前記撮像装置の駆動を制御する制御回路をさらに備え、
    前記入射光制御領域に位置した前記複数の電極は、前記制御回路が出力するコマンドに従って駆動される、
    請求項１又は１４に記載の電子機器。
  24. 環境光の明るさを検出するための光センサをさらに備え、
    前記液晶パネルは、前記光センサで検出した環境光の明るさに基づいて、前記第１領域の面積及び前記第２領域の面積を調整する、
    請求項１又は１４に記載の電子機器。
  25. 表示領域及び入射光制御領域を有する液晶パネルと、
    前記液晶パネルの前記入射光制御領域に対向する第１撮像装置と、
    前記液晶パネル及び前記第１撮像装置の駆動を制御する制御回路と、を備え、
    前記液晶パネルは、前記入射光制御領域の透過状態及び非透過状態を制御し、
    前記第１撮像装置は、前記入射光制御領域を透過した光の情報を取得し、
    前記第１撮像装置で検出した光の情報は、前記第１撮像装置から被写体までの距離情報を含み、
    前記制御回路は、前記第１撮像装置で取得した情報に基づいて、前記第１撮像装置から前記被写体までの距離を導出する、
    電子機器。
  26. 前記入射光制御領域は、第１環状領域と、前記第１環状領域で囲まれた第２環状領域と、を有し、
    前記液晶パネルは、
    前記第１環状領域を非透過状態に設定する期間、前記第２環状領域を透過状態又は前記非透過状態に設定し、
    前記第１環状領域を前記透過状態に設定する期間、前記第２環状領域を前記透過状態に設定する、
    請求項２５に記載の電子機器。
  27. 前記液晶パネルは、前記第１環状領域及び前記第２環状領域の少なくとも一方を透過状態に設定し、
    前記第１撮像装置は、前記入射光制御領域を透過した可視光の情報を取得し、
    前記第１撮像装置は、前記被写体を撮影する、
    請求項２６に記載の電子機器。
  28. 前記制御回路は、前記第１撮像装置から前記距離情報だけではなく前記被写体の画像情報も取得する、
    請求項２７に記載の電子機器。
  29. 記憶媒体をさらに備え、
    前記制御回路は、前記画像情報と前記距離のデータとを関連付けて前記記憶媒体に記憶させる、
    請求項２８に記載の電子機器。
  30. 前記第１撮像装置は、赤外光の情報を取得する、
    請求項２５に記載の電子機器。
  31. 第２撮像装置をさらに備え、
    前記第２撮像装置は、可視光の情報を取得する、
    請求項２５に記載の電子機器。
  32. 前記液晶パネルは、他の入射光制御領域をさらに有し、
    前記第２撮像装置は、前記液晶パネルの前記他の入射光制御領域と対向し、
    前記液晶パネルは、液晶層と、前記液晶層に接する配向膜と、をさらに有し、
    前記液晶層及び前記配向膜は、それぞれ、前記表示領域、前記入射光制御領域、及び前記他の入射光制御領域に位置している、
    請求項３１に記載の電子機器。
  33. 前記液晶パネルは、前記表示領域に位置した画素電極と、前記入射光制御領域に位置した複数の電極と、を有し、
    前記液晶パネルにおいて、前記他の入射光制御領域に電極は設けられていない、
    請求項３２に記載の電子機器。
  34. 前記他の入射光制御領域は、第１環状領域と、前記第１環状領域で囲まれた第２環状領域と、を有し、
    前記液晶パネルは、
    前記第１環状領域を非透過状態に設定する期間、前記第２環状領域を透過状態又は前記非透過状態に設定し、
    前記第１環状領域を前記透過状態に設定する期間、前記第２環状領域を前記透過状態又は前記非透過状態に設定する、
    請求項３２に記載の電子機器。
  35. 前記第２撮像装置は、赤外光の情報を取得する、
    請求項３２に記載の電子機器。
  36. 表示領域及び入射光制御領域を有する液晶パネルを備え、
    前記液晶パネルは、前記表示領域に位置した画素電極と、前記入射光制御領域に位置した複数の電極と、を有し、
    前記複数の電極は、前記入射光制御領域の第１領域に位置した第１電極と、第２領域に位置した第２電極と、を有し、
    前記第２領域は、前記第１領域からずれて位置し、
    平面視において、前記第１電極の面積及び前記第２電極の面積は、それぞれ、前記画素電極の面積より大きい、
    表示装置。
JP2020157904A 2020-09-18 2020-09-18 電子機器及び表示装置 Pending JP2022051425A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020157904A JP2022051425A (ja) 2020-09-18 2020-09-18 電子機器及び表示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020157904A JP2022051425A (ja) 2020-09-18 2020-09-18 電子機器及び表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2022051425A true JP2022051425A (ja) 2022-03-31

Family

ID=80854963

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020157904A Pending JP2022051425A (ja) 2020-09-18 2020-09-18 電子機器及び表示装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2022051425A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023238749A1 (ja) * 2022-06-06 2023-12-14 株式会社ジャパンディスプレイ 電子機器

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023238749A1 (ja) * 2022-06-06 2023-12-14 株式会社ジャパンディスプレイ 電子機器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2022059279A1 (ja) カメラモジュール
WO2021152994A1 (ja) 電子機器
WO2021029135A1 (ja) 電子機器
JP7330809B2 (ja) 電子機器
WO2021029137A1 (ja) 電子機器
US20220365389A1 (en) Electronic device
JP2020076921A (ja) 電子機器
JP2020101686A (ja) カメラ及び表示装置を組み込んだ電子機器
JP2020098245A (ja) 電子機器
TWI759951B (zh) 電子機器
JP2020118791A (ja) 表示装置、及び、表示装置を組み込んだ電子機器
JP2022051425A (ja) 電子機器及び表示装置
WO2020158123A1 (ja) 電子機器
CN115116405B (zh) 电平移位电路、显示面板及电子设备
WO2021029134A1 (ja) 電子機器
WO2021029133A1 (ja) 電子機器
CN115602128A (zh) 显示面板和电子设备
WO2021029136A1 (ja) 電子機器