WO2021027133A1 - 显示面板 - Google Patents

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曾维静
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深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
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Abstract

本申请提供了一种显示面板,所述显示面板包括:基板、薄膜晶体管层和发光结构。所述发光结构包括:阳极,所述阳极位于所述薄膜晶体管层上,并与所述薄膜晶体管层电连接;发光材料层,所述发光材料层位于所述阳极上;阴极,所述阴极覆盖所述发光材料层;其中,所述发光结构还包括阳极反射层,所述阳极反射层位于所述阳极下方,通过反射隔离层与所述阳极电绝缘。

Description

显示面板 技术领域
本申请涉及电子显示领域,尤其涉及一种显示面板。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode, OLED)显示面板具备自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性,被广泛应用在手机屏幕、显示器、全彩电视中。
技术问题
顶发射OLED结构的阳极一般采用由氧化铟锡(Indium tin oxide ITO)和银(Ag)构成的层叠结构。为了使阳极与有机发光材料层的能级匹配,阳极与有机材料直接接触的材料为ITO。同时由于阳极需要作为反射电极,阳极还需要设置具有高反射率的金属进行反光,例如Ag。
但是,Ag在空气中极易氧化,形成氧化银凸点,导致OLED器件的阳极和阴极短路,使像素点无法发光,影响显示画质。
技术解决方案
本申请提供了一种显示面板,以解决现有技术中的由于阳极氧化导致的显示异常。
为解决上述问题,本申请提供了一种显示面板,所述显示面板包括:基板、薄膜晶体管层和发光结构;所述发光结构包括:
阳极,所述阳极位于所述薄膜晶体管层上,并与所述薄膜晶体管层电连接;
发光材料层,所述发光材料层位于所述阳极上;
阴极,所述阴极覆盖所述发光材料层;其中,
所述发光结构还包括阳极反射层,所述阳极反射层位于所述阳极下方,通过反射隔离层与所述阳极电绝缘。
根据本申请的其中一个方面,形成所述阳极的材料为氧化铟锡、掺铝氧化锌或掺氟氧化锡。
根据本申请的其中一个方面,形成所述阳极反射层的材料为银、铜、铝、金、铁中的一种或多种的组合。
根据本申请的其中一个方面,形成所述阳极反射层的材料为银。
根据本申请的其中一个方面,所述阳极反射层与所述发光材料层之间的最小距离小于或等于所述阳极反射层的厚度的5倍。
根据本申请的其中一个方面,所述阳极反射层的表面为光滑的镜面结构。
根据本申请的其中一个方面,所述发光结构还包括像素定义层,所述像素定义层覆盖所述薄膜晶体管层,并具有暴露出所述阳极的开口,所述发光材料层位于所述开口中。
根据本申请的其中一个方面,所述反射隔离层位于所述像素定义层和所述薄膜晶体管层之间;其中,所述阳极反射层与所述发光材料层对应设置,且所述阳极反射层的面积大于所述发光材料层的面积。
根据本申请的其中一个方面,所述阳极反射层在所述显示面板的出光面上的投影完全覆盖所述发光材料层在所述显示面板的出光面上的投影。
根据本申请的其中一个方面,所述阳极反射层与所述阳极之间的最小距离大于或等于所述阳极反射层的厚度的2.5倍。
有益效果
本申请的显示面板的阳极为氧化铟锡,用于匹配发光材料层中的发光材料的功函数以提高显示面板的发光效率。同时,为了提高光线的利用率,本申请在发光结构的阳极下方设置了阳极反射层。相比于现有技术中将氧化铟锡和反光材料合并设置的阳极结构,本申请有效的避免了由于反光材料被氧化而导致的像素点失效现象。
附图说明
图1为现有技术中的显示面板的结构示意图;
图2为本申请的一个具体实施例中的显示面板的结构示意图。
本发明的实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本申请,而非用以限制本申请。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。
首先对现有技术进行简要说明。
参见图1,图1为现有技术中红的显示面板的结构示意图,其中,所述显示面板为顶发光式显示面板,即所述显示面板的出光面为发光结构的阴极的远离阳极的表面。
参见图1,现有技术中的显示面板包括基板10、薄膜晶体管20、平坦化层30和发光结构40。所述发光结构40位于所述平坦化层上方,包括阳极41、像素定义层42、发光材料层43以及阴极44。其中,所述阳极41位于所述平坦化层30上,并通过通孔与所述薄膜晶体管20电连接。所述像素定义层42覆盖所述平坦化层30,并具有暴露出所述阳极41的开口。所述发光材料层43位于所述开口中,所述阴极44覆盖所述发光材料层43。
由于所述阴极远离所述阳极的表面为出光面,因此所述阴极为透明电极。同时为了提高光线利用率,所述阳极为反射电极。现有技术中,为了使阳极与有机发光材料层的能级匹配,阳极与有机材料直接接触的材料为ITO。同时,由于阳极需要作为反射电极,阳极还需要设置具有高反射率的金属进行反光,通常作为反射材料的金属为Ag。但是Ag在空气中极易氧化,形成氧化银凸点。银凸点会导致OLED器件的阳极和阴极短路,使像素点无法发光,影响显示画质。
为解决上述问题,本申请提供了一种显示面板,参见图2,所述显示面板包括基板10、薄膜晶体管层20和发光结构40。所述发光结构40包括阳极45、像素定义层42、发光材料层43、阴极44和阳极反射层50。
所述阳极45通过通孔与所述薄膜晶体管20电连接。所述像素定义层42覆盖所述平坦化层30,并具有暴露出所述阳极41的开口。所述发光材料层43位于所述开口中,所述阴极44覆盖所述发光材料层43。
本申请中,所述阳极45和阴极44均为透光电极。形成所述阳极45和阴极44的材料均为透明导电材料,例如氧化铟锡、掺铝氧化锌或掺氟氧化锡中的一种或多种的组合。本申请采用透明材料形成阳极45,从而将反射金属从阳极45中剥离出去。透明导电材料不仅与发光材料的功函数更加匹配,同时避免了金属被氧化产生凸点导致阳极45和阴极44短路,改善了显示面板的质量。
由于将反射金属从阳极45中剥离了出来,为了不降低发光结构40的光线利用率,本申请在发光结构40中设置了阳极反射层50。本申请中,形成所述阳极反射层50的材料为具有高反射率的金属,例如银、铜、铝、金、铁中的一种或多种的组合。本实施例中,形成所述阳极反射层50的材料为银。优选的,为了增强所述阳极反射层对光线的反射能力所述阳极反射层的表面为光滑的镜面结构。镜面结构能够最大限度的减小漫反射带来的光线损失,进一步提高发光结构的光线利用率。在实践中,由于电镀形成的金属层的表面为镜面结构,优选的采用电镀的方式形成所述阳极反射层50。
参见图2,所述阳极反射层50位于所述阳极45下方,通过反射隔离层32与所述阳极45电绝缘。所述反射隔离层32设置在身上平坦化层31和像素定义层42之间,形成所述反射隔离层32的材料为绝缘材料,例如氮化硅、氧化硅等。所述反射隔离层32覆盖所述阳极反射层50,实现阳极45和阳极反射层59之间的电绝缘。
为了避免阳极反射层50 被氧化后产生的导电凸点与阳极45电连接,所述阳极反射层50与所述阳极45之间的最小距离大于或等于所述阳极反射层50的厚度的2.5倍。在本申请中,所述阳极反射层50与所述阳极45之间的最小距离指的是所述阳极反射层50朝向所述阳极45的表面与所述阳极45朝向所述阳极反射层50的表面之间的垂直距离。由于金属银被氧化后产生的氧化银的体积为原金属银的体积的2.47倍,因此,在实践中,为了避免阳极反射层50 被氧化后产生的导电凸点与阳极45电连接,有必要设置所述阳极反射层50与所述阳极45之间的最小距离大于或等于所述阳极反射层50的厚度的2.5倍。即,在本申请中,位于所述阳极反射层50正上方的反射隔离层32的厚度大于或等于所述阳极反射层50的厚度的2.5倍。
同时,由于所述阳极反射层50的厚度增加必然会导致显示面板的厚度增加,因此,所述阳极反射层50与所述阳极45之间的最小距离小于或等于所述阳极反射层50的厚度的5倍。
本申请中,所述阳极反射层50与所述发光材料层43对应设置,具体的,所述阳极反射层50位于所述发光材料层43的正下方。同时,为了保证所述阳极反射层能够将发光结构40发出的光线全部反射回出光面,所述阳极反射层50的面积大于所述发光材料层43的面积。在本实施例中,所述阳极反射层50在所述显示面板的出光面上的投影完全覆盖所述发光材料层43在所述显示面板的出光面上的投影。
通过上述实施例可以看出,本申请将现有技术中的反射阳极中的反射金属和透明导电材料剥离开来,分别设置,从而在保证阳极的反光效果的同时避免了由于反射金属被氧化而导致的阳极和阴极短路。
本申请的显示面板的阳极为氧化铟锡,用于匹配发光材料层中的发光材料的功函数以提高显示面板的发光效率。同时,为了提高光线的利用率,本申请在发光结构的阳极下方设置了阳极反射层。相比于现有技术中将氧化铟锡和反光材料合并设置的阳极结构,本申请有效的避免了由于反光材料被氧化而导致的像素点失效现象。
综上所述,虽然本申请已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本申请,本领域的普通技术人员,在不脱离本申请的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

  1. 一种显示面板,其中,所述显示面板包括:基板、薄膜晶体管层和发光结构;所述发光结构包括:
    阳极,所述阳极位于所述薄膜晶体管层上,并与所述薄膜晶体管层电连接;
    发光材料层,所述发光材料层位于所述阳极上;
    阴极,所述阴极覆盖所述发光材料层;其中,
    所述发光结构还包括阳极反射层,所述阳极反射层位于所述阳极下方,通过反射隔离层与所述阳极电绝缘。
  2. 根据权利要求1所述的显示面板,其中,形成所述阳极的材料为氧化铟锡、掺铝氧化锌或掺氟氧化锡中的一种或多种的组合。
  3. 根据权利要求2所述的显示面板,其中,形成所述阳极反射层的材料为银、铜、铝、金、铁中的一种或多种的组合。
  4. 根据权利要求3所述的显示面板,其中,形成所述阳极反射层的材料为银。
  5. 根据权利要求4所述的显示面板,其中,所述阳极反射层与所述发光材料层之间的最小距离小于或等于所述阳极反射层的厚度的5倍。
  6. 根据权利要求3所述的显示面板,其中,所述阳极反射层的表面为光滑的镜面结构。
  7. 根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述发光结构还包括像素定义层,所述像素定义层覆盖所述薄膜晶体管层,并具有暴露出所述阳极的开口,所述发光材料层位于所述开口中。
  8. 根据权利要求7所述的显示面板,其中,所述反射隔离层位于所述像素定义层和所述薄膜晶体管层之间;其中,所述阳极反射层与所述发光材料层对应设置,且所述阳极反射层的面积大于所述发光材料层的面积。
  9. 根据权利要求8所述的显示面板,其中,所述阳极反射层在所述显示面板的出光面上的投影完全覆盖所述发光材料层在所述显示面板的出光面上的投影。
  10. 根据权利要求1所述的显示面板,其中,所述阳极反射层与所述阳极之间的最小距离大于或等于所述阳极反射层的厚度的2.5倍。
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