WO2020235410A1 - 半導体装置 - Google Patents

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WO2020235410A1
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drive
wire
pad
semiconductor device
end portion
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林 健二
沢水 神田
英俊 安部
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ローム株式会社
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Priority to DE112020002460.1T priority patent/DE112020002460T5/de
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    • H01L2924/18301Connection portion, e.g. seal being an anchoring portion, i.e. mechanical interlocking between the encapsulation resin and another package part

Definitions

  • This disclosure relates to semiconductor devices.
  • the semiconductor device includes a substrate, a semiconductor element such as a power transistor mounted on the substrate, a drive lead having a drive pad connected to a source electrode of the semiconductor element via a plurality of drive wires, and a gate electrode of the semiconductor element.
  • a control lead having a control pad connected via a control wire and a sealing resin for at least sealing a semiconductor element are provided (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
  • the drive lead includes a drive terminal protruding from the sealing resin.
  • the semiconductor element is connected to the substrate by soldering.
  • the heat dissipation property of the semiconductor element is improved by exposing the substrate from the back surface of the sealing resin.
  • the substrate is exposed from the back surface of the sealing resin, there is room for improvement in improving the dielectric strength between the drive terminal and the substrate.
  • An object of the present disclosure is to provide a semiconductor device capable of reducing inductance, and to provide a semiconductor device capable of improving withstand voltage while suppressing a decrease in heat dissipation of a semiconductor element.
  • the semiconductor device is formed on a substrate having a main surface, a surface mounted on the main surface and facing the same direction as the main surface, and the surface. It includes a semiconductor element containing SiC, a drive pad, and a plurality of drive wires that connect the drive electrode and the drive pad in a state of being separated from each other.
  • the plurality of drive wires include a first drive wire and a second drive wire that form the most distant combination.
  • the first drive wire and the second drive wire are the drive electrode and the drive electrode so that the drive pad side is separated from the drive electrode side when viewed from the first direction which is a direction perpendicular to the main surface. It is connected to the drive pad.
  • the inductance between the drive electrode and the drive pad is reduced.
  • the inductance between the drive electrode and the drive pad can be reduced.
  • the semiconductor device has a substrate having a main surface, a surface mounted on the main surface and facing the same direction as the main surface, and a drive electrode formed on the surface.
  • the semiconductor element has an insulating film formed on the driving electrode and an opening formed in a part of the insulating film so as to expose the driving electrode.
  • the direction perpendicular to the main surface is defined as the first direction
  • the direction orthogonal to the first direction is defined as the second direction
  • the directions orthogonal to the first direction and the second direction are defined as the third direction.
  • the opening is formed in a rectangular shape with the second direction as the short side direction and the third direction as the long side direction when viewed from the first direction.
  • the plurality of drive wires include a first drive wire and a second drive wire that form the most distant combination.
  • the drive electrode has an exposed area exposed by the opening.
  • the exposed region has a first exposed end portion and a second exposed end portion which are both ends in the third direction.
  • the first drive wire is connected to the first exposed end portion side of the central portion of the exposed region in the third direction.
  • the second drive wire is connected to the second exposed end portion side of the central portion of the exposed region in the third direction.
  • the inductance between the drive electrode and the drive pad is reduced.
  • the inductance between the drive electrode and the drive pad can be reduced.
  • the semiconductor device is mounted on a substrate having a main surface and a back surface facing opposite sides and the main surface of the substrate, and seals the semiconductor element containing SiC and the semiconductor element. It includes a sealing resin and terminals projecting from the first side surface of the sealing resin facing a direction parallel to the main surface. A recess from the back surface to the main surface is formed in a portion of the back surface of the substrate on the first side surface side. When a part of the sealing resin enters the recess, the distance from the first side surface to the exposed surface of the back surface of the substrate that is exposed from the sealing resin is increased from the other side surface of the sealing resin. It is longer than the distance to the exposed surface.
  • the sealing resin by forming an exposed surface exposed from the back surface of the sealing resin on the substrate, it is possible to suppress a decrease in the ability of the substrate to dissipate heat from the semiconductor element.
  • the recess formed on the back surface of the substrate allows a long distance along the back surface of the sealing resin from the first side surface of the sealing resin to the exposed surface, the sealing resin from the terminal to the exposed surface can be taken. It is possible to take a long creepage distance, which is the distance along the surface of. Therefore, the withstand voltage of the semiconductor device can be improved. In this way, the dielectric strength can be improved while suppressing the decrease in heat dissipation of the semiconductor element.
  • the inductance can be reduced. Further, according to the above-mentioned semiconductor device, it is possible to improve the dielectric strength while suppressing the decrease in heat dissipation of the semiconductor element.
  • the back view of the semiconductor device of FIG. Schematic cross-sectional view of line 4-4 of FIG. Schematic cross-sectional view of line 5-5 of FIG.
  • An enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the first embodiment An enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the first embodiment.
  • the perspective view of the semiconductor device of 2nd Embodiment. The plan view which shows the internal structure of the semiconductor device of FIG.
  • the back view of the semiconductor device of FIG. An enlarged view of the semiconductor element of FIG. 13 and its periphery.
  • An enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the second embodiment An enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the second embodiment.
  • FIG. 2 is a plan view showing the internal structure of the semiconductor device of FIG. 22.
  • An enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the third embodiment An enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the third embodiment.
  • An enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the third embodiment An enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the third embodiment.
  • FIG. 41 is a schematic cross-sectional view of FIG. FIG.
  • FIG. 5 is an enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the fifth embodiment.
  • FIG. 5 is an enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the fifth embodiment.
  • FIG. 5 is an enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the fifth embodiment.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view taken along the line 49-49 of FIG.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view taken along the line 50-50 of FIG.
  • FIG. 6 is an enlarged view of a semiconductor element and its surroundings with respect to a modified example of the semiconductor device of the sixth embodiment.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the semiconductor device with respect to a modified example of the semiconductor device of the sixth embodiment.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view taken along the line 58-58 of FIG.
  • FIGS. 1 to 11 A first embodiment of the semiconductor device will be described with reference to FIGS. 1 to 11. Note that the cross-sectional views of FIGS. 4 and 5 are shown without hatching for convenience.
  • the semiconductor device 1 seals the substrate 10, the drive lead 20, the control lead 30, the semiconductor element 40 mounted on the main surface 10a of the substrate 10, and the semiconductor element 40. It includes a resin 50.
  • the drive lead 20 has an outer lead 20A protruding from the sealing resin 50 and an inner lead 20B provided in the sealing resin 50 and electrically connected to the outer lead 20A.
  • the outer lead 20A and the inner lead 20B are an integrated single component.
  • the control lead 30 has an outer lead 30A protruding from the sealing resin 50 and an inner lead 30B provided in the sealing resin 50 and electrically connected to the outer lead 30A.
  • the outer lead 30A and the inner lead 30B are an integrated single component.
  • the horizontal dimension L2 of the sealing resin 50 of the semiconductor device 1 is preferably 10 mm or less.
  • the semiconductor device 1 of the present embodiment is a package whose package outer standard (JEITA standard) is TO (Transistor Outline) -252.
  • the vertical dimension L1 of the semiconductor device 1 is 9.5 mm to 10.50 mm
  • the horizontal dimension L2 is 6.4 mm to 6.8 mm
  • the thickness dimension L3 is 2.1 mm to 2.3 mm.
  • the semiconductor device 1 is a so-called SIP (Single Inline Package) type in which the outer lead 20A of the drive lead 20 and the outer lead 30A of the control lead 30 extend from one surface of the sealing resin 50, respectively.
  • SIP Single Inline Package
  • the shape of the sealing resin 50 is a rectangular parallelepiped.
  • the sealing resin 50 is a synthetic resin having electrical insulation.
  • the sealing resin 50 is an epoxy resin.
  • the sealing resin 50 includes a first sealing resin side surface 51, a second sealing resin side surface 52, a third sealing resin side surface 53, a fourth sealing resin side surface 54, a sealing resin back surface 55, and a sealing resin top surface. It has 56 faces.
  • the first sealing resin side surface 51 and the second sealing resin side surface 52 face each other at intervals.
  • the third sealing resin side surface 53 and the fourth sealing resin side surface 54 face each other at intervals.
  • the sealing resin back surface 55 and the sealing resin top surface 56 face each other at intervals.
  • the direction in which the sealing resin back surface 55 and the sealing resin top surface 56 are arranged is the thickness direction Z, and the first sealing resin side surface 51 and the second sealing resin side surface 52 are arranged.
  • the direction is the vertical direction X
  • the direction in which the third sealing resin side surface 53 and the fourth sealing resin side surface 54 are arranged is the horizontal direction Y.
  • the vertical direction X and the horizontal direction Y are directions orthogonal to the thickness direction Z.
  • the vertical direction X is a direction orthogonal to the horizontal direction Y.
  • the thickness direction Z corresponds to the first direction
  • the vertical direction X corresponds to the second direction
  • the horizontal direction Y corresponds to the third direction.
  • the sealing resin 50 is formed by molding.
  • Each side surface 51 to 54 of the sealing resin 50 is provided with an inclined surface that is inclined with respect to the thickness direction Z in order to provide a draft so as to facilitate the die removal during molding of the sealing resin 50.
  • each side surface 51 to 54 is provided with a first inclined surface having a draft that makes it easy to pull out the upper die of the mold, and a draft that makes it easier to pull out the lower die of the mold. It has a second inclined surface.
  • the upper mold of the mold forms the sealing resin top surface 56 and the portion of each side surface 51 to 54 on the sealing resin top surface 56 side.
  • the lower mold forms a sealing resin back surface 55 and a portion of each side surface 51 to 54 on the sealing resin back surface 55 side. In one example, as shown in FIGS.
  • the first sealing resin side surface 51 has a first inclined surface 51a and a second inclined surface 51b.
  • the first inclined surface 51a is inclined toward the second sealing resin side surface 52 toward the sealing resin top surface 56.
  • the second inclined surface 51b is inclined toward the second sealing resin side surface 52 toward the sealing resin back surface 55.
  • the length of the first inclined surface 51a is longer than the length of the second inclined surface 51b.
  • the second sealing resin side surface 52 has a first inclined surface 52a and a second inclined surface 52b.
  • the first inclined surface 52a is inclined toward the first sealing resin side surface 51 toward the sealing resin top surface 56.
  • the second inclined surface 52b is inclined toward the first sealing resin side surface 51 toward the sealing resin back surface 55.
  • the length of the first inclined surface 52a is longer than the length of the second inclined surface 52b.
  • the second inclined surface 52b is formed over the sealing resin top surface 56 side with respect to the substrate 10.
  • the length of the first inclined surface 51a and the length of the second inclined surface 51b can be changed arbitrarily. Further, the length of the first inclined surface 52a and the length of the second inclined surface 52b can be arbitrarily changed.
  • FIG. 2 is a view of the semiconductor device 1 as viewed from the top surface 56 of the sealing resin in the thickness direction Z.
  • the sealing resin 50 is shown by a chain double-dashed line, and the parts inside the sealing resin 50 are shown by a solid line.
  • the shape of the sealing resin 50 is such that the vertical direction X is the long side direction. It has a substantially rectangular shape in which the lateral direction Y is the short side direction.
  • the first sealing resin side surface 51 and the second sealing resin side surface 52 are side surfaces along the horizontal direction Y
  • the third sealing resin side surface 53 and the fourth sealing resin side surface 54 are along the vertical direction X. It is a side.
  • the substrate 10 has a main surface 10a and a back surface 10b (see FIG. 3) facing opposite sides in the thickness direction Z.
  • the main surface 10a faces the same direction as the sealing resin top surface 56
  • the back surface 10b faces the same direction as the sealing resin back surface 55.
  • the substrate 10 is made of, for example, aluminum (Al) or copper (Cu).
  • the substrate 10 has a flat plate-shaped substrate main body portion 11 and a lead portion 16. In the present embodiment, the substrate main body 11 and the lead 16 are integrated into a single component.
  • the substrate main body 11 can be divided into an inner main body 12 covered with the sealing resin 50 and a protruding portion 13 protruding from the sealing resin 50.
  • the inner main body portion 12 and the protruding portion 13 are adjacent to each other in the vertical direction X.
  • the protruding portion 13 projects from the side surface 51 of the first sealing resin in the vertical direction X.
  • the size of the protruding portion 13 in the lateral direction Y is smaller than the size of the inner main body portion 12 in the lateral direction Y.
  • the size of the protruding portion 13 in the lateral direction Y can be arbitrarily changed. In one example, the size of the protruding portion 13 in the lateral direction Y may be equal to the size of the inner main body portion 12 in the lateral direction Y.
  • the inner main body portion 12 is arranged so that the center of the inner main body portion 12 is closer to the side surface 51 of the first sealing resin than the center of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • the inner main body portion 12 has a main surface 12a, a back surface 12b (see FIG. 3), a first side surface 12c, a second side surface 12d, and a third side surface 12e.
  • the main surface 12a and the back surface 12b face each other in the thickness direction Z.
  • the main surface 12a constitutes a part of the main surface 10a of the substrate 10, and the back surface 12b constitutes the back surface 10b of the substrate 10. Therefore, the main surface 12a faces the sealing resin top surface 56 side, and the back surface 12b faces the sealing resin back surface 55 side.
  • first side surface 12c faces the second sealing resin side surface 52
  • second side surface 12d faces the third sealing resin side surface 53
  • third side surface 12e faces the fourth sealing resin side surface 54.
  • the first side surface 12c extends along the lateral direction Y.
  • the second side surface 12d and the third side surface 12e face each other with a gap in the lateral direction Y.
  • the second side surface 12d and the third side surface 12e extend along the vertical direction X.
  • a narrow portion 14 is formed at the end of the inner main body portion 12 on the protruding portion 13 side.
  • the narrow portion 14 has a curved recess 14a recessed from the second side surface 12d toward the fourth sealing resin side surface 54 side in the lateral direction Y, and a third sealing resin side surface 53 in the lateral direction Y from the third side surface 12e. It is formed by a curved recess 14b that is recessed toward the side.
  • the size of the narrow portion 14 in the lateral direction Y is smaller than the size of the portion of the inner main body portion 12 other than the narrow portion 14 in the lateral direction. Further, the size of the narrow portion 14 in the lateral direction Y is smaller than the size of the protruding portion 13 in the lateral direction Y.
  • the narrow portion 14 is provided so as to be adjacent to the first sealing resin side surface 51 of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • the narrow portion 14 is provided with a through hole 15 penetrating the narrow portion 14 in the thickness direction Z.
  • the shape of the through hole 15 in a plan view is an oval with the lateral direction Y in the longitudinal direction.
  • the inner main body 12 is provided with a plurality of flanges 19 projecting from the side surface of the inner main body 12.
  • the plurality of flange portions 19 include a first flange portion 19a, a second flange portion 19b, a third flange portion 19c, and a fourth flange portion 19d.
  • the first flange portion 19a projects from the first side surface 12c of the inner main body portion 12 toward the second sealing resin side surface 52.
  • the second flange portion 19b projects from the second side surface 12d of the inner main body portion 12 toward the third sealing resin side surface 53.
  • the third flange portion 19c projects from the third side surface 12e of the inner main body portion 12 toward the fourth sealing resin side surface 54.
  • the fourth flange portion 19d is provided at both ends of the narrow portion 14 in the lateral direction Y and a portion of the through hole 15 on the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the first flange portion 19a, the second flange portion 19b, the third flange portion 19c, and the fourth flange portion 19d are provided so as to be flush with the main surface 12a of the inner main body portion 12, respectively. Therefore, the main surface 10a of the substrate 10 is composed of the main surface 12a of the inner main body portion 12, the first flange portion 19a, the second flange portion 19b, the third flange portion 19c, and the fourth flange portion 19d. There is. Further, the first flange portion 19a, the second flange portion 19b, the third flange portion 19c, and the fourth flange portion 19d are each provided so as to be on the main surface 12a side of the back surface 12b of the inner main body portion 12. .. Therefore, the back surface 10b of the substrate 10 is composed of the back surface 12b of the inner main body 12. According to the configuration of each of the flange portions 19a to 19d, the separation of the substrate 10 and the sealing resin 50 can be suppressed.
  • the back surface 10b of the substrate 10 (the back surface 12b of the inner main body 12) is exposed from the back surface 55 of the sealing resin.
  • the sealing resin 50 has entered the recesses 14a and 14b and the through holes 15 of the narrow portion 14 of the inner main body portion 12. As a result, the separation between the substrate 10 and the sealing resin 50 can be further suppressed.
  • the lead portion 16 extends from the end portion of the inner main body portion 12 on the first side surface 12c side toward the second sealing resin side surface 52 and the second sealing resin side surface 52. Protruding from.
  • the lead portion 16 can be divided into a terminal portion 17 protruding from the side surface 52 of the second sealing resin and a connecting portion 18 connecting the terminal portion 17 and the inner main body portion 12.
  • the connecting portion 18 is located on the second side surface 12d side of the central portion of the inner main body portion 12 in the lateral direction Y.
  • the connecting portion 18 is continuous from the first flange portion 19a. That is, the thickness of the portion of the connecting portion 18 connected to the first flange portion 19a is equal to the thickness of the first flange portion 19a.
  • the connecting portion 18 has an inclined portion 18a.
  • the inclined portion 18a is inclined toward the sealing resin top surface 56 from the first flange portion 19a toward the second sealing resin side surface 52.
  • the intermediate portion 18b between the inclined portion 18a and the terminal portion 17 of the connecting portion 18 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 12a of the inner main body portion 12.
  • the intermediate portion 18b has a bent portion 18c that bends toward the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the portion of the intermediate portion 18b that comes into contact with the second sealing resin side surface 52 is located at the central portion of the second sealing resin side surface 52 in the lateral direction Y.
  • the terminal portion 17 protrudes from the central portion of the second sealing resin side surface 52 in the lateral direction Y. In the thickness direction Z, the position of the terminal portion 17 is the same as the position of the intermediate portion 18b. That is, the terminal portion 17 is located closer to the sealing resin top surface 56 than the main surface 12a of the inner main body portion 12.
  • the drive lead 20 and the control lead 30 are separated from the substrate 10 in the vertical direction X on the second sealing resin side surface 52 side of the sealing resin 50. It is arranged in the state.
  • the drive lead 20 and the control lead 30 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • a lead portion 16 is arranged between the drive lead 20 and the control lead 30 in the lateral direction Y.
  • the drive lead 20 has a drive pad 21, a drive terminal 22, and a connecting portion 23 that connects the drive pad 21 and the drive terminal 22.
  • the drive pad 21 and the connecting portion 23 form an inner lead 20B, and the drive terminal 22 constitutes an outer lead 20A.
  • the drive pad 21 and the connecting portion 23 are arranged between the substrate 10 and the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X.
  • the drive pad 21 and the connecting portion 23 are arranged on the side surface 54 side of the fourth sealing resin in the lateral direction Y with respect to the central portion of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the shape of the drive pad 21 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the drive pad 21 has a first end portion 21a and a second end portion 21b which are both end portions in the lateral direction Y.
  • the first end portion 21a is an end portion of the drive pad 21 on the side surface 53 of the third sealing resin.
  • the second end portion 21b is an end portion of the drive pad 21 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin.
  • the first end portion 21a is arranged so as to overlap the bent portion 18c of the lead portion 16 when viewed from the vertical direction X.
  • the second end portion 21b is located closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the third side surface 12e of the inner main body portion 12.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is smaller than the size of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y.
  • the drive pad 21 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 12a of the inner main body portion 12 in the thickness direction Z. Further, the drive pad 21 is located on the sealing resin top surface 56 side of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the drive pad 21 is at the same position as the intermediate portion 18b of the lead portion 16 in the thickness direction Z.
  • the connecting portion 23 is continuous from the end portion of the drive pad 21 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the connecting portion 23 is located on the side surface 54 side of the fourth sealing resin with respect to the central portion of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive terminal 22 constitutes a source terminal. As shown in FIG. 5, the drive terminal 22 projects from the first inclined surface 52a of the second sealing resin side surface 52.
  • the control lead 30 has a control pad 31, a control terminal 32, and a connecting portion 33 that connects the control pad 31 and the control terminal 32.
  • the control pad 31 and the connecting portion 33 form an inner lead 30B, and the control terminal 32 constitutes an outer lead 30A.
  • the control pad 31 and the connecting portion 33 are arranged between the substrate 10 and the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X.
  • the control pad 31 and the connecting portion 33 are arranged on the side surface 53 side of the third sealing resin in the lateral direction Y with respect to the central portion of the sealing resin 50.
  • the shape of the control pad 31 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the size of the control pad 31 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y. Therefore, the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y can be increased.
  • the control pad 31 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 12a of the inner main body portion 12 in the thickness direction Z. Further, the control pad 31 is located on the sealing resin top surface 56 side of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z. In the present embodiment, the control pad 31 is at the same position as the intermediate portion 18b of the lead portion 16 in the thickness direction Z.
  • the connecting portion 33 is continuous from the end portion of the control pad 31 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the connecting portion 33 is located closer to the third sealing resin side surface 53 of the control pad 31 in the lateral direction Y.
  • the control terminal 32 constitutes a gate terminal.
  • the control terminal 32 projects from the first inclined surface 52a of the second sealing resin side surface 52.
  • the semiconductor element 40 is mounted on the main surface 12a of the inner main body portion 12 by the solder SD. As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the semiconductor element 40 is arranged in the central portion of the inner main body portion 12. Specifically, in a plan view, the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin, and the semiconductor element 40. The second distance D2 between the inner body portion 12 and the narrow portion 14 of the inner main body portion 12 is equal to each other.
  • the fourth distance D4 between the third flange portion 19c and the edge of the third flange portion 19c on the side surface 54 side of the fourth sealing resin is equal to each other.
  • the fact that the first distance D1 and the second distance D2 are equal to each other includes, for example, an error of 5% of the first distance D1.
  • the amount of deviation between the first distance D1 and the second distance D2 is, for example, within 5% of the first distance D1, it can be said that the first distance D1 and the second distance D2 are equal to each other.
  • the amount of deviation between the third distance D3 and the fourth distance D4 is, for example, within 5% of the third distance D3, it can be said that the third distance D3 and the fourth distance D4 are equal to each other.
  • the semiconductor element 40 and the drive pad 21 are displaced in the vertical direction X.
  • the semiconductor element 40 and the control pad 31 are displaced in the vertical direction X.
  • the semiconductor element 40 contains silicon carbide (SiC).
  • SiC MOSFET metal-oxide-semiconductor field-effect transistor
  • the semiconductor element 40 (SiCMOSFT) is an element capable of high-speed switching in response to a drive signal having a frequency of 1 kHz or more and several hundred kHz or less.
  • the semiconductor element 40 is an element capable of high-speed switching in response to a drive signal having a frequency of 1 kHz or more and 100 kHz or less.
  • the semiconductor element 40 performs high-speed switching according to a drive signal having a frequency of 100 kHz.
  • the semiconductor element 40 is formed in a flat plate shape. Specifically, in a plan view, the shape of the semiconductor element 40 is a rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction. In the present embodiment, the size of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y is 3 mm. Here, the size of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y includes a 5% error ( ⁇ 0.15 mm) of 3 mm.
  • the semiconductor element 40 has a front surface 40a, a back surface 40b, a first side surface 40c, a second side surface 40d, a third side surface 40e, and a fourth side surface 40f.
  • the front surface 40a and the back surface 40b face each other in the thickness direction Z.
  • the surface 40a faces the sealing resin top surface 56. That is, the surface 40a faces the same direction as the main surface 10a of the substrate 10.
  • the back surface 40b faces the back surface 55 of the sealing resin.
  • the back surface 40b faces the main surface 12a of the inner main body 12.
  • the first side surface 40c faces the first sealing resin side surface 51
  • the second side surface 40d faces the second sealing resin side surface 52
  • the third side surface 40e faces the third sealing resin side surface 53
  • the fourth The side surface 40f faces the fourth sealing resin side surface 54.
  • a main surface side drive electrode 41 and a control electrode 43 are formed on the surface 40a.
  • a back surface side drive electrode 42 (see FIG. 4) is formed on the back surface 40b.
  • the main surface side drive electrode 41 constitutes the source electrode
  • the back surface side drive electrode 42 constitutes the drain electrode.
  • the control electrode 43 constitutes a gate electrode.
  • the back surface side drive electrode 42 is electrically connected to the inner main body portion 12 by the solder SD.
  • the main surface side drive electrode 41 is formed over most of the surface 40a.
  • the shape of the main surface side drive electrode 41 is a substantially rectangular shape with the vertical direction X as the short side direction and the horizontal direction Y as the long side direction.
  • the main surface side drive electrode 41 is formed with a recess 41a that opens toward the third sealing resin side surface 53.
  • the recess 41a is formed at the end of the main surface side drive electrode 41 on the side surface 53 side of the third sealing resin and at the center portion in the vertical direction X.
  • a control electrode 43 is formed in the recess 41a.
  • the semiconductor element 40 has a passivation film 44, which is an insulating film formed on the main surface side drive electrode 41 and the control electrode 43.
  • the passivation film 44 is formed with an opening 45 that exposes a part of the main surface side drive electrode 41 and a part of the control electrode 43.
  • the shape of the opening 45 in a plan view is a rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the size of the opening 45 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y. In other words, the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the opening 45 in the lateral direction Y.
  • the opening 45 is provided at the center of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the vertical direction X. Specifically, a first distance DC1 between the opening 45 and the first side surface 40c of the semiconductor element 40, a second distance DC2 between the opening 45 and the second side surface 40d of the semiconductor element 40, and an opening. The third distance DC3 between the portion 45 and the third side surface 40e of the semiconductor element 40 and the fourth distance DC4 between the opening 45 and the fourth side surface 40f of the semiconductor element 40 are equal to each other.
  • the maximum deviation amount of the first distance DC1, the second distance DC2, the third distance DC3, and the fourth distance DC4 is within 5% of, for example, the first distance DC1, the first distance DC1, the second distance It can be said that the DC2, the third distance DC3, and the fourth distance DC4 are equal to each other.
  • the main surface side drive electrode 41 has an exposed region 46 exposed by the opening 45.
  • the exposed region 46 has a first exposed end portion 46a and a second exposed end portion 46b, which are both ends in the lateral direction Y.
  • the first exposed end portion 46a is an end portion of the exposed region 46 on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40.
  • the second exposed end portion 46b is an end portion of the exposed region 46 on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40.
  • the semiconductor device 1 includes a plurality of drive wires 60 and one control wire 70.
  • the plurality of drive wires 60 are composed of two drive wires, a first drive wire 61 and a second drive wire 62. That is, the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61 is arranged on the control wire 70 side with respect to the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are made of the same metal.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 include aluminum.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 is equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 Can be said to be equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are equal to the wire diameter of the control wire 70.
  • the amount of deviation between the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 and the wire diameter of the control wire 70 is within 5% of the wire diameter of the control wire 70, for example, the first drive wire 61 and It can be said that the wire diameter of the second drive wire 62 is equal to the wire diameter of the control wire 70.
  • An example of the wire diameters of the first drive wire 61, the second drive wire 62, and the control wire 70 is 125 ⁇ m to 250 ⁇ m. In the present embodiment, the wire diameters of the first drive wire 61, the second drive wire 62, and the control wire 70 are 125 ⁇ m, respectively.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21 in a state of being separated from each other.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are each connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 by wire bonding, for example.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21 side.
  • the configurations of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 will be described in detail.
  • the first drive wire 61 has a drive electrode side end portion 61a and a drive pad side end portion 61b.
  • the second drive wire 62 has a drive electrode side end portion 62a and a drive pad side end portion 62b.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a.
  • the distance DW1 is the minimum value of the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62
  • the distance DW2 is the first drive wire 61 and the second drive wire 62. The maximum value of the distance between.
  • the distance between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end 61a and the horizontal direction Y from the drive pad side end 61b to the auxiliary line LS2 along the vertical direction X is defined as the distance DY1.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the portion 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end portion 62b is defined as the distance DY2. In this case, the distance DY2 is larger than the distance DY1.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to the first exposed end portion 46a.
  • the drive electrode side end portion 61a is a portion of the main surface side drive electrode 41 adjacent to the control electrode 43 in the lateral direction Y, that is, a portion constituting the bottom portion of the recess 41a of the main surface side drive electrode 41. It is connected to the.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end portion 21a side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to the first end portion 21a of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged as the first end portion 21a of the drive pad 21 so as to be a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed. ..
  • the drive pad side end portion so that the capillary for supplying the first drive wire 61 in the wire bonding device is located at the end edge of the first end portion 21a of the drive pad 21 on the third sealing resin side surface 53 side.
  • the position of the lateral Y with respect to the first end 21a of 61b is set.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 61a.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is connected to the second exposed end portion 46b side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b.
  • the drive electrode side end portion 62a is on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed as the end portion on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y. It is arranged so as to be the limit position.
  • the second exposure of the exposed region 46 of the drive electrode side end portion 62a is located at the edge of the exposed region 46 on the fourth side surface 40f side of the capillary that supplies the second drive wire 62 in the wire bonding apparatus.
  • the position of the lateral Y with respect to the end portion 46b is set.
  • the drive electrode side end portion 62a is arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the state in which the drive electrode side end portion 62a and the drive electrode side end portion 61a are aligned means that the drive electrode side end portions 61a and 62a in the vertical direction X overlap each other, and a manufacturing error due to wire bonding occurs. Including overlapping parts accordingly. In other words, if the amount of deviation in the vertical direction X at the end portions 61a and 62a on both drive electrode sides is about the same as the variation in wire bonding, the end portions 61a and 62a on both drive electrode sides are aligned in the vertical direction X. It can be said that it is.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged as the second end portion 21b of the drive pad 21 so as to be a limit position on the fourth sealing resin side surface 54 side in the region where wire bonding can be performed. ..
  • the drive pad side end portion so that the capillary for supplying the second drive wire 62 in the wire bonding device is located at the end edge of the second end portion 21b of the drive pad 21 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin.
  • the position of the lateral Y with respect to the second end portion 21b of 62b is set.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 62a.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged on the side surface 54 side of the fourth sealing resin with respect to the semiconductor element 40 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portions 62b are arranged in the horizontal direction Y in the vertical direction X in a state of being aligned with the drive pad side end portions 61b.
  • the state in which the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 61b are aligned in the vertical direction X is caused by the fact that both drive pad side end portions 61b and 62b in the vertical direction X overlap each other and wire bonding. Includes partial overlap depending on the manufacturing error.
  • the control wire 70 connects the control electrode 43 of the semiconductor element 40 and the control pad 31.
  • the control wire 70 is connected to the control electrode 43 and the control pad 31 by, for example, wire bonding.
  • the control wire 70 is made of the same material as the plurality of drive wires 60.
  • the control wire 70 has a control electrode side end portion 71 and a control pad side end portion 72.
  • the control electrode side end 71 is an end connected to the control electrode 43 of the control wire 70.
  • the control pad side end 72 is an end connected to the control pad 31 of the control wires 70.
  • the distance DW3 between the control electrode side end 71 of the control wire 70 and the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 of the control electrode side end 71 is smaller than the distance DW1.
  • the distance DY3 between the auxiliary line LS5 along the vertical direction X from the control electrode side end 71 and the auxiliary line LS6 along the vertical direction X from the control pad side end 72 is larger than the distance DY1 and larger than the distance DY2. small.
  • the size of the distance DY3 can be changed arbitrarily. In one example, the distance DY3 is less than or equal to the distance DY1.
  • the inductance contained from the source electrode to the source terminal decreases as the width of the conductor connecting the source electrode and the source terminal increases in a plan view.
  • the width between the two drive wires forming the most distant combination of the plurality of drive wires is defined as the width of the conductor in a plan view.
  • the two drive wires constituting the most distant combination of the plurality of drive wires are two drive wires 60 as in the present embodiment, the two drive wires 61 and 62 Consists of the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the drive pad 21 (source terminal) side of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 is separated from the main surface side drive electrode 41 (source electrode) side. Specifically, the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a. As a result, the width of the conductor in the plan view can be increased as compared with the configuration in which the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are parallel in the plan view.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to a portion of the main surface side drive electrode 41 adjacent to the control electrode 43 in the lateral direction Y to drive the second drive wire 62.
  • the electrode side end portion 62a is connected to the end portion on the fourth side surface 40f side of the main surface side drive electrode 41 exposed by the opening 45.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are the main surface side drive electrode 41 and the drive pad so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. It is connected to 21.
  • the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the inductance is reduced by 5 to 7 (nH) as compared with the configuration in which the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are parallel in a state of being separated by a distance DW1 in a plan view.
  • the distance DW1 is the distance between the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 and the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the opening 45 in the lateral direction Y. According to this configuration, the distance DW2 between the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 can be increased. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the drive pad side end 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end 21a of the drive pad 21, and the drive pad side end 62b of the second drive wire 62 is a drive pad. It is connected to the second end portion 21b of 21. According to this configuration, the distance DW2 between the drive pad side end portion 61b and the drive pad side end portion 62b can be increased. Therefore, since the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41, and the drive electrode side end portion of the second drive wire 62. 62a is connected to the second exposed end 46b of the exposed region 46.
  • the distance DW1 between the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 62a can be increased. Therefore, since the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 are each closer to the semiconductor element 40 than the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X. It is connected to the part. According to this configuration, since the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be shortened, the distance from the main surface side drive electrode 41 (source electrode) to the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 is reached. The inductance between them can be further reduced.
  • the same material is used for the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 and the wire diameter of the second drive wire 62 are equal to each other. According to this configuration, the work of connecting the drive wires 61 and 62 to the main surface side drive electrodes 41 and the drive pads 21 can be performed with the same wire, so that the work process can be simplified.
  • the same material is used for the plurality of drive wires 60 and control wires 70.
  • the wire diameters of the plurality of drive wires 60 and the wire diameters of the control wires 70 are equal to each other. According to this configuration, the work of connecting the plurality of drive wires 60 to the main surface side drive electrodes 41 and the drive pads 21 and the work of connecting the control wires 70 to the control electrodes 43 and the control pads 31 are carried out with the same wire. Therefore, those work processes can be simplified.
  • the semiconductor device 1 of the first embodiment can be changed as follows, for example.
  • the following modifications can be combined with each other as long as there is no technical conflict.
  • the parts common to the first embodiment are designated by the same reference numerals as those in the first embodiment, and the description thereof will be omitted.
  • the number of drive wires 60 is not limited to two and can be changed arbitrarily.
  • the plurality of drive wires 60 may be composed of three drive wires, a first drive wire 61, a second drive wire 62, and a third drive wire 63.
  • the third drive wire 63 is arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the most distant combination is the two drive wires at the most distant positions.
  • the most distant combination is the combination of the drive wires at both ends of the lateral direction Y.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the drive electrode side end portion 63a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end 63b is an end connected to the drive pad 21 of the third drive wire 63.
  • the distance DW5 is equal to each other.
  • the distance DW4 and the distance DW5 are equal to each other.
  • the distances DW4 and DW5 are larger than the distance DW3 between the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 and the control electrode side end portion 71 of the control wire 70.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61, the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62, and the drive electrode side end portion 63a of the third drive wire 63 are mutually connected. They are arranged in the horizontal direction Y in the aligned state.
  • the state in which the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a are aligned with each other in the vertical direction X means that the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a in the vertical direction X overlap each other, and the manufacturing is caused by wire bonding. Includes partial overlap depending on the error.
  • the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a will be the vertical X. It can be said that they are all in line.
  • the drive pad side end portion 63b of the third drive wire 63 is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW6 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 63b of the first drive wire 61 is larger than the distance DW4.
  • the distance DW7 between the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 63b of the second drive wire 62 is larger than the distance DW5.
  • the distance DW6 is equal to the distance DW7.
  • the amount of deviation between the distance DW6 and the distance DW7 is, for example, within 5% of the distance DW6, it can be said that the distance DW6 and the distance DW7 are equal to each other.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side.
  • the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the third drive wire 63 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side.
  • the distance between the third drive wire 63 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the position of the drive pad side end 63b with respect to the drive pad 21 can be arbitrarily changed.
  • the drive pad side end 63b may be connected to the drive pad 21 so that the distance DW 6 is smaller than the distance DW 7.
  • the size of the semiconductor element 40 can be changed arbitrarily.
  • the size of the semiconductor element 40 may be larger than the size of the semiconductor element 40 of the first embodiment.
  • the size of the semiconductor element 40 in the vertical direction X and the size in the horizontal direction Y are each larger than the size of the semiconductor element 40 of the first embodiment.
  • the sizes of the main surface side drive electrode 41 and the opening 45 formed on the surface 40a can be increased in the vertical direction X and the horizontal direction Y, respectively.
  • the size of the opening 45 in the lateral direction Y is larger than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the semiconductor element 40 is arranged in the central portion of the inner main body portion 12. Specifically, in a plan view, the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin, and the semiconductor element 40.
  • the third distance D3 between them and the fourth distance D4 between the semiconductor element 40 and the edge of the third flange portion 19c of the inner main body portion 12 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin are equal to each other.
  • the maximum deviation amount of the first distance D1, the second distance D2, the third distance D3, and the fourth distance D4 is within 5% of, for example, the first distance D1, the first distance D1 and the second distance It can be said that D2, the third distance D3, and the fourth distance D4 are equal to each other.
  • the semiconductor device 1 has a first drive wire 61 and a second drive wire 62 as a plurality of drive wires 60.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41, similarly to the drive electrode side end portion 61a of the first embodiment.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end portion 21a of the drive pad 21 as in the drive pad side end portion 61b of the first embodiment.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is connected to the second exposed end portion 46b of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41, similarly to the drive electrode side end portion 62a of the first embodiment. There is.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21 as in the drive pad side end portion 62b of the first embodiment.
  • the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 62a are arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with each other.
  • the drive pad side end portion 61b and the drive pad side end portion 62b are each connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is smaller than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a.
  • the distance DY1 between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end portion 61a and the auxiliary line LS2 along the vertical direction X from the drive pad side end portion 61b is the drive electrode side.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the end 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end 62b is larger than the distance DY2.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are attached to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is closer than the main surface side drive electrode 41 side. It is connected. Further, in a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 gradually narrows from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased, so that the drive terminal 22 (source) of the drive lead 20 from the main surface side drive electrode 41 (source electrode) can be increased.
  • the inductance between the terminals) can be reduced.
  • the relationship between the distance DW1 and the distance DW2 can be changed arbitrarily.
  • the distance DW1 may be equal to the distance DW2.
  • the first drive wire 61 is parallel to the second drive wire 62.
  • the number of drive wires 60 is not limited to two and can be arbitrarily changed.
  • the plurality of drive wires 60 may be composed of three drive wires, a first drive wire 61, a second drive wire 62, and a third drive wire 63.
  • the third drive wire 63 is arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the distance DW5 is equal to each other.
  • the amount of deviation between the distance DW4 and the distance DW5 is, for example, within 5% of the distance DW4, it can be said that the distance DW4 and the distance DW5 are equal to each other.
  • the drive electrode side ends 63a of 63 are arranged so as to be aligned with each other.
  • the drive pad side end portion 63b of the third drive wire 63 is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW6 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 63b of the first drive wire 61 is smaller than the distance DW4.
  • the distance DW7 between the drive pad side end 62b and the drive pad side end 63b of the second drive wire 62 is equal to the distance DW5.
  • the amount of deviation between the distance DW7 and the distance DW5 is, for example, within 5% of the distance DW7, it can be said that the distance DW7 is equal to the distance DW5.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is closer than the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually narrows from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the third drive wire 63 is parallel to the second drive wire 62.
  • the semiconductor element 40 may be arranged in a portion of the inner main body portion 12 near the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin is the semiconductor element 40 and the inner main body portion 12. It is smaller than the second distance D2 between the narrow portion 14 and the narrow portion 14.
  • the semiconductor element 40 is arranged in the central portion of the inner main body portion 12.
  • the fourth distance D4 between the third flange portion 19c and the edge of the third flange portion 19c on the side surface 54 side of the fourth sealing resin is equal to each other.
  • the amount of deviation between the third distance D3 and the fourth distance D4 is, for example, within 5% of the third distance D3, it can be said that the third distance D3 and the fourth distance D4 are equal to each other.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be shortened, respectively, by reducing the distance between the opening 45 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21. Therefore, the inductance between the main surface side drive electrode 41 (source electrode) and the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 can be further reduced.
  • the semiconductor element 40 may be arranged in a portion of the inner main body portion 12 closer to the side surface 52 of the second sealing resin and closer to the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin is the semiconductor element 40 and the inner main body portion 12. It is smaller than the second distance D2 with the narrow portion 14.
  • the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the edge of the second flange portion 19b of the inner main body portion 12 on the side surface 53 side of the third sealing resin is the third distance D3 of the semiconductor element 40 and the inner main body portion 12. It is larger than the fourth distance D4 between the third flange portion 19c and the edge of the fourth sealing resin side surface 54 side.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be further shortened by further reducing the distance between the opening 45 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21. Therefore, the inductance between the main surface side drive electrode 41 (source electrode) and the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 can be further reduced.
  • the lead portion 16 may be omitted from the substrate 10 of the semiconductor device 1 of the first embodiment.
  • the drive pad 21 and the control pad 31 are adjacent to each other in the lateral direction Y.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y may be increased by the amount that the lead portion 16 is omitted.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end 62b of the second drive wire 62 can be made large, so that the main surface side drive electrode can be increased.
  • the inductance from 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • FIGS. 12 to 21 A second embodiment of the semiconductor device 1 will be described with reference to FIGS. 12 to 21.
  • the semiconductor device 1 of the present embodiment is different from the semiconductor device 1 of the first embodiment in the shapes of the substrate 10, the drive lead 20, the control lead 30, and the sealing resin 50, and the sense lead 80. The difference is that is added.
  • the same components as those in the first embodiment may be designated by the same reference numerals, and the description thereof may be omitted.
  • the semiconductor device 1 of the present embodiment is a package whose package external standard (JEITA standard) is TO-263. Specifically, the vertical dimension L1 of the semiconductor device 1 is 14.7 mm to 15.5 mm, the horizontal dimension L2 is 10.06 mm to 10.26 mm, and the thickness dimension L3 is 4.40 mm to 4.70 mm. Further, the semiconductor device 1 is a SIP type. As described above, the size of the semiconductor device 1 of the present embodiment is larger than the size of the semiconductor device 1 of the first embodiment.
  • the shape of the sealing resin 50 is a rectangular parallelepiped.
  • the sealing resin 50 is formed by molding.
  • Each side surface 51 to 54 of the sealing resin 50 is provided with an inclined surface that is inclined with respect to the thickness direction Z in order to provide a draft so as to facilitate the die removal during molding of the sealing resin 50.
  • each side surface 51 to 54 is provided with a first inclined surface having a draft that makes it easy to pull out the upper die of the mold, and a draft that makes it easier to pull out the lower die of the mold. It has a second inclined surface.
  • the upper mold of the mold forms the sealing resin top surface 56 and the portion of each side surface 51 to 54 on the sealing resin top surface 56 side.
  • the lower mold forms a sealing resin back surface 55 and a portion of each side surface 51 to 54 on the sealing resin back surface 55 side.
  • An inclined surface 57 having an inclination angle larger than the draft is formed between the first sealing resin side surface 51 and the sealing resin top surface 56.
  • Recesses 58 are formed at both ends of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the recess 58 on the side surface 53 of the third sealing resin of the sealing resin 50 is recessed in a lateral direction Y from the side surface 53 of the third sealing resin.
  • the recess 58 on the side surface 54 of the fourth sealing resin of the sealing resin 50 is recessed in a lateral direction Y from the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the recess 58 is formed from the top surface 56 of the sealing resin to the main surface 10a of the substrate 10. That is, a part of the main surface 10a of the substrate 10 is exposed by the recess 58.
  • the recess 58 is provided closer to the side surface 52 of the second sealing resin than the center of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • FIG. 13 is a view of the semiconductor device 1 as viewed from the top surface 56 of the sealing resin in the thickness direction Z.
  • the sealing resin 50 is shown by a two-dot chain line, and the parts inside the sealing resin 50 are shown by a solid line.
  • the shape of the sealing resin 50 is a rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the substrate 10 can be divided into an inner main body portion 12 arranged in the sealing resin 50 and a protruding portion 13 protruding from the sealing resin 50.
  • the inner main body portion 12 and the protruding portion 13 are adjacent to each other in the vertical direction X.
  • the substrate 10 is made of, for example, aluminum (Al) or copper (Cu).
  • a first wide portion 12f is formed at the end of the inner main body portion 12 on the protruding portion 13 side.
  • the size of the first wide portion 12f in the lateral direction Y is larger than the size of the portion of the inner main body portion 12 other than the first wide portion 12f in the lateral direction Y.
  • the first wide portion 12f is provided so as to be adjacent to the first sealing resin side surface 51 of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • a second wide portion 12g is formed at the end of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the size of the second wide portion 12g in the lateral direction Y is larger than the size of the portion of the inner main body portion 12 other than the first wide portion 12f in the lateral direction.
  • the size of the second wide portion 12g in the lateral direction Y is smaller than the size of the first wide portion 12f in the lateral direction Y.
  • the protruding portion 13 protrudes from the side surface 51 of the first sealing resin in the vertical direction X.
  • the size of the protruding portion 13 in the lateral direction Y is equal to the size of the first wide portion 12f of the inner main body portion 12 in the lateral direction Y.
  • the size of the protruding portion 13 in the lateral direction Y can be arbitrarily changed. In one example, the size of the protruding portion 13 in the lateral direction Y may be smaller than the size of the first wide portion 12f of the inner main body portion 12 in the lateral direction Y.
  • the inner main body 12 is provided with a plurality of flanges 19 protruding from the side surface of the inner main body 12.
  • the inner main body portion 12 and the plurality of flange portions 19 are integrated single parts.
  • the plurality of flange portions 19 include a first flange portion 19a, a second flange portion 19b, and a third flange portion 19c.
  • the first flange portion 19a projects from the first side surface 12c of the inner main body portion 12 toward the second sealing resin side surface 52.
  • the first flange portion 19a constitutes a part of the second wide portion 12g.
  • the second flange portion 19b projects from the second side surface 12d of the inner main body portion 12 toward the third sealing resin side surface 53.
  • a part of the second flange portion 19b constitutes a part of the second wide portion 12g.
  • the third flange portion 19c projects from the third side surface 12e of the inner main body portion 12 toward the fourth sealing resin side surface 54.
  • the third flange portion 19c constitutes a part of the second wide portion 12g.
  • the first flange portion 19a, the second flange portion 19b, and the third flange portion 19c are provided so as to be flush with the main surface 12a of the inner main body portion 12, respectively. Therefore, the main surface 10a of the substrate 10 is composed of the main surface 12a of the inner main body portion 12, the first flange portion 19a, the second flange portion 19b, and the third flange portion 19c. Further, the first flange portion 19a, the second flange portion 19b, and the third flange portion 19c are each provided so as to be on the main surface 12a side of the back surface 12b (see FIG. 13) of the inner main body portion 12. Therefore, the back surface 10b (see FIG. 13) of the substrate 10 is composed of the back surface 12b of the inner main body 12. According to the configuration of each of the flange portions 19a to 19c, the separation of the substrate 10 and the sealing resin 50 can be suppressed.
  • the back surface 10b of the substrate 10 (the back surface 12b of the inner main body 12) is exposed from the back surface 55 of the sealing resin.
  • the back surface 12b of a part of the inner main body portion 12 other than the first wide portion 12f and the second wide portion 12g is exposed from the sealing resin back surface 55.
  • the heat dissipation of the substrate 10 can be improved.
  • the back surface 10b of the substrate 10 and the sealing resin back surface 55 of the sealing resin 50 are flush with each other.
  • the drive lead 20, the control lead 30, and the sense lead 80 are arranged on the second sealing resin side surface 52 side of the sealing resin 50 with respect to the substrate 10 in a plan view.
  • the edge of each of the drive lead 20, the control lead 30, and the sense lead 80 on the first sealing resin side surface 51 side is the second sealing resin side surface 52 side of the inner main body portion 12. It overlaps with the edge of.
  • the drive lead 20, the control lead 30, and the sense lead 80 are arranged apart from each other in the lateral direction Y.
  • a sense lead 80 is arranged between the drive lead 20 and the control lead 30 in the lateral direction Y.
  • the drive lead 20 has a drive pad 21, a plurality of drive terminals 22, and a plurality of connecting portions 23 for connecting the drive pad 21 and the plurality of drive terminals 22.
  • the shape of the drive pad 21 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the first end portion 21a of the drive pad 21 is located closer to the side surface 53 of the third sealing resin than the central portion in the lateral direction Y of the inner main body portion 12.
  • the second end portion 21b of the drive pad 21 is provided so as to overlap the end portion of the inner main body portion 12 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than 1/2 the size of the inner main body portion 12 in the lateral direction Y.
  • the drive pad 21 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z. Further, the drive pad 21 is located closer to the sealing resin top surface 56 than the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the plurality of drive terminals 22 include five drive terminals 22a, 22b, 22c, 22d, and 22e.
  • the plurality of connecting portions 23 include five connecting portions 23a, 23b, 23c, 23d, and 23e.
  • the drive terminals 22a to 22e are arranged apart from each other in the lateral direction Y.
  • the drive terminals 22a to 22e are arranged in the order of the drive terminals 22a, 22b, 22c, 22d, 22e from the first end 21a to the second end 21b of the drive pad 21.
  • the connecting portions 23a to 23e are arranged apart from each other in the lateral direction Y.
  • the connecting portion 23a connects the drive pad 21 and the drive terminal 22a
  • the connecting portion 23b connects the drive pad 21 and the drive terminal 22b
  • the connecting portion 23c connects the drive pad 21 and the drive terminal 22c.
  • the 23d connects the drive pad 21 and the drive terminal 22d
  • the connecting portion 23e connects the drive pad 21 and the drive terminal 22e.
  • the drive terminals 22a to 22e, the control terminal 32, and the sense terminal 82 described later have equal pitches.
  • the drive terminal 22a is arranged so as to include a portion on the side surface 53 of the third sealing resin with respect to the first end 21a of the drive pad 21.
  • the drive terminal 22a is arranged on the side surface 53 side of the third sealing resin with respect to the central portion of the inner main body portion 12 in the lateral direction Y.
  • the drive terminal 22b is arranged so as to be at the same position as the central portion of the inner main body portion 12 in the lateral direction Y. Specifically, the virtual line LV1 along the vertical direction X at the central portion of the drive terminal 22b in the horizontal direction Y coincides with the virtual line LV2 along the vertical direction X at the central portion of the inner main body portion 12 in the horizontal direction Y. ..
  • the drive terminals 22c to 22e are arranged so as to be on the side surface 54 side of the fourth sealing resin with respect to the central portion of the inner main body portion 12 in the lateral direction Y. In the present embodiment, the drive terminals 22d and 22e are arranged so as to be closer to the side surface 54 of the fourth sealing resin than the semiconductor element 40.
  • the drive terminals 22a, 22c to 22e have the same shape as each other.
  • the drive terminal 22b is shorter than the drive terminals 22a, 22c to 22e.
  • the control lead 30 is arranged so as to overlap the end portion of the inner main body portion 12 on the side surface 53 side of the third sealing resin when viewed from the vertical direction X.
  • the control lead 30 is arranged so as to be closer to the side surface 53 of the third sealing resin than the semiconductor element 40.
  • the control pad 31 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z. Further, the control pad 31 is located on the sealing resin top surface 56 side of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the shape of the control pad 31 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the vertical direction X is the long side direction and the horizontal direction Y is the short side direction.
  • the size of the control pad 31 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y. Therefore, the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y can be increased.
  • the control terminal 32 of the control lead 30 constitutes a gate terminal.
  • the control terminal 32 has the same shape as the drive terminals 22a, 22c to 22e.
  • the sense lead 80 is a lead for electrically connecting the control electrode 43 (gate electrode) and the main surface side drive electrode 41 (source electrode). In a plan view, the sense lead 80 is arranged closer to the side surface 53 of the third sealing resin than the semiconductor element 40.
  • the sense lead 80 has a sense pad 81, a sense terminal 82, and a connecting portion 83 that connects the sense pad 81 and the sense terminal 82.
  • the sense pad 81 is arranged apart from the semiconductor element 40 in the vertical direction X.
  • the sense pad 81 is arranged between the substrate 10 and the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X.
  • the sense pad 81 is arranged between the drive pad 21 and the control pad 31 in the lateral direction Y.
  • the shape of the sense pad 81 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the vertical direction X is the long side direction and the horizontal direction Y is the short side direction.
  • the size of the sense pad 81 in the lateral direction Y is equal to the size of the control pad 31 in the lateral direction Y. That is, the size of the sense pad 81 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y can be increased.
  • the sense pad 81 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z. Further, the sense pad 81 is located on the sealing resin top surface 56 side of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the size of the sense pad 81 in the lateral direction Y and the size of the control pad 31 in the lateral direction Y can be arbitrarily changed. In one example, the size of the sense pad 81 in the lateral direction Y may be smaller than the size of the control pad 31 in the lateral direction Y.
  • the connecting portion 83 is continuous from the end portion of the sense pad 81 on the side surface 52 side of the second sealing resin in the vertical direction X.
  • the connecting portion 83 is located at the end of the sense pad 81 on the side surface 53 of the third sealing resin in the lateral direction Y.
  • the sense terminal 82 protrudes from the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the sense terminal 82 has the same shape as the drive terminals 22a, 22c to 22e and the control terminal 32.
  • the semiconductor element 40 As the semiconductor element 40, a SiC MOSFET is used as in the first embodiment. Further, the semiconductor element 40 is an element capable of high-speed switching in response to a drive signal having a frequency of 1 kHz or more and several hundred kHz or less, as in the first embodiment. Preferably, the semiconductor element 40 is an element capable of high-speed switching in response to a drive signal having a frequency of 1 kHz or more and 100 kHz or less. In the present embodiment, the semiconductor element 40 performs high-speed switching according to a drive signal having a frequency of 100 kHz.
  • the shape and size of the semiconductor element 40 are the same as the shape and size of the semiconductor element 40 of the first embodiment.
  • the semiconductor element 40 is arranged closer to the side surface 52 of the second sealing resin with respect to the inner main body portion 12 in the vertical direction X. Specifically, in a plan view, the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin in the vertical direction X is It is smaller than the second distance D2 between the semiconductor element 40 and the first wide portion 12f of the inner main body portion 12 in the vertical direction X.
  • the semiconductor element 40 is arranged in the central portion of the inner main body portion 12 in the lateral direction Y. Specifically, the semiconductor element 40 and the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the edge of the second flange portion 19b of the inner main body portion 12 on the side surface 53 side of the third sealing resin in the lateral direction Y, and the semiconductor element 40. And the fourth distance D4 between the inner main body portion 12 and the edge of the third flange portion 19c on the side surface 54 side of the fourth sealing resin in the lateral direction Y are equal to each other.
  • the amount of deviation between the third distance D3 and the fourth distance D4 is, for example, within 5% of the third distance D3, it can be said that the third distance D3 and the fourth distance D4 are equal to each other.
  • the semiconductor device 1 includes a plurality of drive wires 60, a control wire 70, and a sense wire 90.
  • the plurality of drive wires 60 are composed of two drive wires, a first drive wire 61 and a second drive wire 62. That is, the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y.
  • the control wire 70, the first drive wire 61, and the second drive wire 62 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 is arranged on the control wire 70 side with respect to the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are made of the same metal.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 include aluminum.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 is equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 Can be said to be equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are equal to the wire diameter of the control wire 70.
  • the amount of deviation between the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 and the wire diameter of the control wire 70 is within 5% of the wire diameter of the control wire 70, for example, the first drive wire 61 and It can be said that the wire diameter of the second drive wire 62 is equal to the wire diameter of the control wire 70.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are each connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 by wire bonding, for example.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21 side.
  • the configurations of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 will be described in detail.
  • the distance DW2 between the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is the distance DW2 of the first drive wire 61.
  • the distance between the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is larger than the distance DW1.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged on the third sealing resin side surface 53 side with respect to the drive electrode side end portion 61a in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged on the fourth sealing resin side surface 54 side with respect to the drive electrode side end portion 62a in the lateral direction Y.
  • the inclination direction of the first drive wire 61 with respect to the vertical direction X is opposite to the inclination direction of the second drive wire 62 with respect to the vertical direction X.
  • the distance between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end 61a and the horizontal direction Y from the drive pad side end 61b to the auxiliary line LS2 along the vertical direction X is defined as the distance DY1.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the portion 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end portion 62b is defined as the distance DY2. In this case, the distance DY2 is larger than the distance DY1.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the main surface side drive electrode 41 is connected to the central portion side of the exposed region 46 with respect to the first exposed end portion 46a of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to a portion of the exposed region 46 that is separated from the control electrode 43, that is, a portion of the main surface side drive electrode 41 that is separated from the bottom portion of the recess 41a.
  • the drive electrode side end portion 61a overlaps with the connecting portion 23b of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end portion 21a side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to the first end portion 21a of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to a portion of the drive pad 21 on the side surface 53 side of the third sealing resin with respect to the connecting portion 23b in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 61b overlaps with the connecting portion 23a of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 61b is set to a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed as the first end portion 21a of the drive pad 21 in the lateral direction Y. It may be connected to the first end portion 21a.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is connected to the second exposed end portion 46b side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 62a overlaps the portion between the connecting portion 23b and the connecting portion 23c in the horizontal direction Y when viewed from the vertical direction X.
  • the drive electrode side end portion 62a is located at the limit position on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed as the second exposed end portion 46b of the exposed region 46 in the lateral direction Y.
  • the position of the side end portion 62a with respect to the exposed region 46 is set.
  • the drive electrode side end portion 62a is arranged so as to be aligned with the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the state in which the drive electrode side end 62a and the drive electrode side end 61a are aligned in the vertical direction X is caused by the fact that both drive electrode side ends 61a and 62a in the vertical direction X overlap each other and wire bonding. Includes partial overlap depending on manufacturing error.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the semiconductor element 40.
  • the drive pad side end portion 62b overlaps with the connecting portion 23e when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 62b is positioned with respect to the drive pad 21 so as to be a limit position on the side surface 54 side of the fourth sealing resin in the region where wire bonding can be performed as the second end portion 21b of the drive pad 21. May be set.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the control wire 70 connects the control electrode 43 of the semiconductor element 40 and the control pad 31.
  • the control wire 70 is connected to the control electrode 43 and the control pad 31 by, for example, wire bonding.
  • the control wire 70 is made of the same material as the plurality of drive wires 60.
  • the wire diameter of the control wire 70 is equal to the wire diameter of the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the amount of deviation between the wire diameter of the control wire 70 and the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 is within 5% of the wire diameter of the control wire 70, for example, the wire diameter of the control wire 70 It can be said that the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are equal to each other.
  • the control wire 70 has a control electrode side end portion 71 and a control pad side end portion 72.
  • the distance DW3 between the control electrode side end portion 71 and the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is smaller than the distance DW1.
  • the distance DY3 between the auxiliary line LS5 along the vertical direction X from the control electrode side end 71 and the auxiliary line LS6 along the vertical direction X from the control pad side end 72 is larger than the distance DY1 and larger than the distance DY2. Slightly small.
  • the distance DY3 can be changed arbitrarily. In one example, the distance DY3 may be greater than or equal to the distance DY2.
  • the sense wire 90 connects the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40 and the sense pad 81.
  • the sense wire 90 is connected to the main surface side drive electrode 41 and the sense pad 81 by wire bonding, for example.
  • the sense wire 90 is made of the same material as the first drive wire 61, the second drive wire 62, and the control wire 70.
  • the wire diameter of the sense wire 90 is equal to, for example, the wire diameter of the control wire 70.
  • the amount of deviation between the wire diameter of the sense wire 90 and the wire diameter of the control wire 70 is within 5% of the wire diameter of the sense wire 90, for example, the wire diameter of the sense wire 90 and the wire diameter of the control wire 70 are different. It can be said that they are equal to each other.
  • the sense wire 90 has a drive electrode side end portion 91 and a sense pad side end portion 92.
  • the drive electrode side end 91 is an end connected to the main surface side drive electrode 41 of the sense wire 90.
  • the sense pad side end 92 is an end connected to the sense pad 81 of the sense wires 90.
  • the sense pad side end portion 92 is arranged on the third sealing resin side surface 53 side with respect to the drive electrode side end portion 91 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end 91 is connected to a portion of the main surface side drive electrode 41 between the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 and the control electrode 43 in the lateral direction Y.
  • the distance DW8 between the drive electrode side end 91 and the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is the distance DW9 between the drive electrode side end 91 and the control electrode side end 71 of the control wire 70.
  • the distance DY4 between the auxiliary line LS7 along the vertical direction X from the drive electrode side end 91 and the auxiliary line LS8 along the vertical direction X from the sense pad side end 92 is larger than the distance DY1 and larger than the distance DY2. small. Further, the distance DY4 is smaller than the distance DY3.
  • the semiconductor device 1 includes a sense lead 80 and a sense wire 90 for electrically connecting the main surface side drive electrode 41 (source electrode) of the semiconductor element 40 and the control electrode 43 (gate electrode). Be prepared. According to this configuration, even if the voltage of the main surface side drive electrode 41 fluctuates, the voltage of the control electrode 43 follows and fluctuates, so that the fluctuation of the voltage between the source and the gate of the semiconductor element 40 is suppressed. Therefore, fluctuations in the threshold voltage of the semiconductor element 40 can be suppressed.
  • the semiconductor element 40 is located closer to the side surface 52 of the second sealing resin with respect to the inner main body portion 12 of the substrate 10. According to this configuration, the distance between the opening 45 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21 can be shortened, so that the lengths of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be shortened, respectively. it can. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y. According to this configuration, the distance between the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 can be further increased. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be further reduced.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than 1/2 of the inner main body portion 12 of the substrate 10. According to this configuration, the distance DW2 between the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 can be increased. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the semiconductor element 40 and the drive pad 21 are arranged so that all the openings 45 of the semiconductor element 40 overlap with the drive pad 21 when viewed from the vertical direction X. According to this configuration, the length of the first drive wire 61 can be shortened, and the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the same material is used for the plurality of drive wires 60, the control wire 70, and the sense wire 90. Further, the wire diameters of the plurality of drive wires 60, the control wire 70, and the sense wire 90 are equal to each other. According to this configuration, the work of connecting the plurality of drive wires 60 to the main surface side drive electrodes 41 and the drive pads 21, the work of connecting the control wires 70 to the control electrodes 43 and the control pads 31, and the main surface of the sense wires 90. Since the connection work to the side drive electrode 41 and the sense pad 81 can be performed with the same wire, those work processes can be simplified.
  • the semiconductor device 1 of the second embodiment can be changed as follows, for example. The following modifications can be combined as long as there is no technical conflict.
  • the parts common to the second embodiment are designated by the same reference numerals as those in the second embodiment, and the description thereof will be omitted.
  • the number of drive wires 60 is not limited to two and can be changed arbitrarily.
  • the plurality of drive wires 60 may be composed of three drive wires, a first drive wire 61, a second drive wire 62, and a third drive wire 63.
  • the third drive wire 63 is arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the most distant combination is the two drive wires at the most distant positions.
  • the most distant combination is the combination of the drive wires at both ends of the lateral direction Y.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the drive electrode side end portion 63a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end 63b is an end connected to the drive pad 21 of the third drive wire 63.
  • the drive electrode side end portion 63a overlaps with the connecting portion 23b of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 63b overlaps with the connecting portion 23c of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X. That is, the drive pad side end portion 63b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 63a.
  • the distance DW4 between the drive electrode side end portion 63a and the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is such that the drive electrode side end portion 63a and the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62
  • the distance DW4 and the distance DW5 are larger than the distance DW8 between the drive electrode side end portion 91 and the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the position of the drive electrode side end portion 63a in the lateral direction Y can be arbitrarily changed.
  • the drive electrode side end portion 63a may be connected to the main surface side drive electrode 41 so that the distance DW4 and the distance DW5 are equal to each other.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61, the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62, and the drive electrode side end portion 63a of the third drive wire 63 are mutually connected. They are arranged in a uniform state.
  • the state in which the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a are aligned with each other in the vertical direction X means that the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a in the vertical direction X overlap each other, and the manufacturing is caused by wire bonding. Includes partial overlap depending on the error.
  • the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a will be the vertical X. It can be said that they are all in line.
  • the drive pad side end portion 63b of the third drive wire 63 is connected to the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW6 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 63b of the first drive wire 61 is larger than the distance DW4.
  • the distance DW7 between the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 63b of the second drive wire 62 is larger than the distance DW5. In FIG. 16, the distance DW7 is larger than the distance DW6.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21. In a plan view, the third drive wire 63 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the third drive wire 63 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the size of the semiconductor element 40 can be changed arbitrarily.
  • the size of the semiconductor element 40 may be larger than the size of the semiconductor element 40 of the second embodiment.
  • the size of the semiconductor element 40 may be larger than the size of the semiconductor element 40 in FIG.
  • the size of the semiconductor element 40 in the vertical direction X and the size in the horizontal direction Y are each larger than the size of the semiconductor element 40 of the second embodiment. Further, as the size of the semiconductor element 40 increases, the size of the opening 45 formed on the surface 40a can be increased in each of the vertical direction X and the horizontal direction Y.
  • the size of the opening 45 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the semiconductor element 40 in the horizontal direction Y.
  • the opening 45 overlaps with the first end 21a of the drive pad 21 when viewed from the vertical direction X. More specifically, the edge of the opening 45 on the third side surface 40e side is located closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad 21. Further, the opening 45 overlaps with the connecting portion 23c of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the third side surface 40e of the semiconductor element 40 overlaps with the end portion of the sense lead 80 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin when viewed from the vertical direction X.
  • the fourth side surface 40f of the semiconductor element 40 overlaps the portion of the drive pad 21 between the connecting portion 23c and the connecting portion 23d in the horizontal direction Y when viewed from the vertical direction X.
  • the semiconductor device 1 has a first drive wire 61 and a second drive wire 62 as a plurality of drive wires 60.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is located at a portion of the main surface side drive electrode 41 separated from the control electrode 43 in the lateral direction Y, similarly to the drive electrode side end portion 61a of the second embodiment. It is connected.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end portion 21a of the drive pad 21 as in the drive pad side end portion 61b of the second embodiment.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is the end on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y, similarly to the drive electrode side end portion 62a of the second embodiment. It is connected to the part.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21 as in the drive pad side end portion 62b of the second embodiment.
  • the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 62a are arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with each other.
  • the drive pad side end portion 61b and the drive pad side end portion 62b are each connected to a portion of the drive pad 21 closer to the semiconductor element 40 than the central portion in the vertical direction X.
  • the distance DY1 between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end portion 61a and the auxiliary line LS2 along the vertical direction X from the drive pad side end portion 61b is the drive electrode side.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the end 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end 62b is smaller than the distance DY2.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are separated from the main surface side drive electrode 41 on the drive pad 21 side so that the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 are separated from each other. Is connected to.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased, so that the drive terminal 22 (source) of the drive lead 20 from the main surface side drive electrode 41 (source electrode) can be increased.
  • the inductance between the terminals) can be reduced.
  • the number of drive wires 60 is not limited to two and can be arbitrarily changed.
  • the plurality of drive wires 60 may be composed of three drive wires of the first drive wire 61, the second drive wire 62, and the third drive wire 63.
  • the third drive wire 63 is arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62. In this case, the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the distance DW4 between the drive electrode side end 63a and the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is between the drive electrode side end 63a and the drive electrode side end 62a of the second drive wire 62. Greater than the distance DW5.
  • the arrangement position of the drive electrode side end portion 63a with respect to the main surface side drive electrode 41 can be arbitrarily changed.
  • the drive electrode side end portion 63a may be connected to the main surface side drive electrode 41 so that the distance DW4 and the distance DW5 are equal to each other.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61, the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62, and the drive electrode side end portion 63a of the third drive wire 63 are mutually connected. They are arranged in a uniform state.
  • the state in which the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a are aligned with each other in the vertical direction X means that the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a in the vertical direction X overlap each other, and the manufacturing is caused by wire bonding. Includes partial overlap depending on the error.
  • the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a will be the vertical X. It can be said that they are all in line.
  • the drive pad side end portion 63b of the third drive wire 63 is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW6 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 63b of the first drive wire 61 is larger than the distance DW4.
  • the distance DW7 between the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 63b of the second drive wire 62 is larger than the distance DW5. In FIG. 18, the distance DW7 is larger than the distance DW6.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21. In a plan view, the third drive wire 63 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the third drive wire 63 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the inclination angle of the third drive wire 63 with respect to the vertical direction X can be arbitrarily changed.
  • the tilt angle of the third drive wire 63 with respect to the vertical direction X may be equal to the tilt angle of the first drive wire 61 with respect to the vertical direction X or the tilt angle of the second drive wire 62 with respect to the vertical direction X. ..
  • the shape of the semiconductor element 40 in a plan view is a square.
  • the shape of the main surface side drive electrode 41 (source electrode) formed on the surface 40a of the semiconductor element 40 in a plan view is substantially square.
  • a notch 41b is formed at an end of the semiconductor element 40 on the second side surface 40d and the third side surface 40e side.
  • the control electrode 43 is formed in the notch 41b.
  • the shape of the opening 45 formed in the passivation film 44 in a plan view is square. Similar to the second embodiment, the opening 45 exposes a part of the main surface side drive electrode 41 and a part of the control electrode 43.
  • the main surface side drive electrode 41 has an exposed region 46 exposed by the opening 45.
  • the semiconductor device 1 of the second example shown in FIG. 19 has a first drive wire 61, a second drive wire 62, a third drive wire 63, and a fourth drive wire 64 as a plurality of drive wires 60.
  • the third drive wire 63 and the fourth drive wire 64 are arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61, the second drive wire 62, the third drive wire 63, and the fourth drive wire 64 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 is arranged on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40 with respect to the second drive wire 62, the third drive wire 63, and the fourth drive wire 64 in the lateral direction Y.
  • the second drive wire 62 is arranged on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 with respect to the first drive wire 61, the third drive wire 63, and the fourth drive wire 64 in the lateral direction Y.
  • the third drive wire 63 is arranged on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40 with respect to the fourth drive wire 64.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 constituting the most distant combination of the plurality of drive wires 60 are the drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y. is there.
  • the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end 61b of the first drive wire 61. Specifically, the drive electrode side end portion 61a overlaps with the connecting portion 23a of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X. The drive pad side end portion 61b overlaps the portion of the drive pad 21 between the connecting portion 23a and the connecting portion 23b when viewed from the vertical direction X.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62. Specifically, the drive electrode side end portion 62a overlaps the portion of the drive pad 21 between the connecting portion 23c and the connecting portion 23d when viewed from the vertical direction X. The drive pad side end portion 62b overlaps with the connecting portion 23e of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the drive electrode side end portion 63a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end 63b is an end connected to the drive pad 21 of the third drive wire 63.
  • the drive electrode side end portion 63a is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portion 63b. Specifically, the drive electrode side end portion 63a overlaps with the connecting portion 23b of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 63b overlaps the portion of the drive pad 21 between the connecting portion 23b and the connecting portion 23c when viewed from the vertical direction X.
  • the fourth drive wire 64 has a drive electrode side end portion 64a and a drive pad side end portion 64b.
  • the drive electrode side end portion 64a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the fourth drive wire 64.
  • the drive pad side end 64b is an end connected to the drive pad 21 of the fourth drive wire 64.
  • the drive electrode side end portion 64a is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portion 64b. Specifically, the drive electrode side end portion 64a overlaps the portion between the connecting portion 23b and the connecting portion 23c of the drive pad 21 when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 64b overlaps the portion of the drive pad 21 between the connecting portion 23c and the connecting portion 23d when viewed from the vertical direction X.
  • the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 63a are connected to the first exposed end portion 46a side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to the first exposed end portion 46a side of the drive electrode side end portion 63a in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 64a and the drive electrode side end portion 62a are connected to the second exposed end portion 46b side of the central portion of the exposed region 46 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b side of the drive electrode side end portion 64a.
  • the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 and the drive electrode side end 64a of the fourth drive wire 64 are the drive electrode side end 62a of the second drive wire 62 and the drive electrode side end of the third drive wire 63. It is deviated from the portion 63a in the vertical direction X. Specifically, the drive electrode side ends 61a and 64a are arranged so as to be on the first side surface 40c side of the semiconductor element 40 with respect to the drive electrode side ends 62a and 63a. Therefore, the lengths of the first drive wire 61 and the fourth drive wire 64 are longer than the lengths of the second drive wire 62 and the third drive wire 63.
  • the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 64a are arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with each other in the vertical direction X.
  • the drive electrode side end portion 62a and the drive electrode side end portion 63a are arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with each other in the vertical direction X.
  • the state in which the drive electrode side end portions 61a and 64a are aligned in the vertical direction X means that the drive electrode side end portions 61a and 64a in the vertical direction X overlap each other and a manufacturing error due to wire bonding. Includes overlapping parts.
  • the drive electrode side end portions 61a, 64a are aligned in the vertical direction X. It can be said that. Further, the state in which the drive electrode side ends 62a and 63a are aligned with each other in the vertical direction X depends on the fact that the drive electrode side ends 62a and 63a in the vertical direction X overlap each other and the manufacturing error due to wire bonding. Includes overlapping parts.
  • the arrangement position of the drive electrode side end portions 61a to 64a in the vertical direction X can be arbitrarily changed.
  • the drive electrode side ends 61a to 64a may be displaced from each other.
  • the drive electrode side ends 61a to 64a may be arranged in the lateral direction Y in a state where they are aligned with each other.
  • the distance DW10 between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end 61a and the auxiliary line LS9 along the vertical direction X from the drive electrode side end 63a is the auxiliary line LS9 and the drive electrode side end 64a.
  • the distance from the distance to the auxiliary line LS11 along the vertical direction X is smaller than the distance DW11.
  • the distance DW12 between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X and the auxiliary line LS11 in the horizontal direction Y from the drive electrode side end portion 62a is slightly smaller than the distance DW10.
  • the drive electrode side end portions 61a to 64a are arranged in the lateral direction Y so that the drive electrode side end portion 61a is located on the most third sealing resin side surface 53 side of the drive electrode side end portions 61a to 64a. It can be arbitrarily changed as long as the drive electrode side end portion 62a is located on the side surface 54 side of the fourth sealing resin.
  • the drive electrode side ends 61a to 64a may be arranged so that the distance DW12 and the distance DW10 are equal to each other.
  • the distance DY1 between the auxiliary line LS1 and the auxiliary line LS2 along the vertical direction X from the drive pad side end 61b is the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the auxiliary line LS3 and the drive pad side end 62b.
  • the distance between and in the lateral direction Y is smaller than DY2.
  • the distance DY3 between the auxiliary line LS9 and the auxiliary line LS10 along the vertical direction X from the drive pad side end 63b is the auxiliary line LS12 along the vertical direction X from the auxiliary line LS11 and the drive pad side end 64b.
  • the distance between and in the lateral direction Y is smaller than DY4.
  • the distance DY1 is smaller than the distance DY3.
  • the distance DY2 is larger than the distance DY4.
  • the drive electrode side end portion 61a is a limit on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed as an end portion on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y. It may be arranged so as to be in a position.
  • the drive pad side end portion 61b may be arranged as the first end portion 21a of the drive pad 21 so as to be a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed.
  • the drive electrode side end portion 62a is a limit on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed as an end portion on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y. It may be arranged so as to be in a position.
  • the drive pad side end portion 62b may be arranged as the second end portion 21b of the drive pad 21 so as to be a limit position on the side surface 54 side of the fourth sealing resin in the region where wire bonding can be performed.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21. In a plan view, the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing.
  • the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 in the lateral direction Y gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the third drive wire 63 and the fourth drive wire 64 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing.
  • the distance between the third drive wire 63 and the fourth drive wire 64 in the lateral direction Y gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the fourth drive wire 64 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the fourth drive wire 64 and the second drive wire 62 in the lateral direction Y gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21. In a plan view, the third drive wire 63 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the third drive wire 63 and the second drive wire 62 in the lateral direction Y gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the drive electrode side end 91 of the sense wire 90 is formed by the control electrode side end 71 of the control wire 70 and the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 in the lateral direction Y of the main surface side drive electrodes 41. It is connected to the part between. Further, the drive electrode side end portion 91 is connected to the end portion of the main surface side drive electrode 41 on the second side surface 40d side. That is, the drive electrode side end portion 91 is connected to a portion of the main surface side drive electrode 41 adjacent to the control electrode 43 in the lateral direction Y. According to this configuration, the length of the sense wire 90 can be shortened.
  • the semiconductor element 40 may be arranged in a portion of the inner main body portion 12 near the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin in the vertical direction X is inside the semiconductor element 40. It is smaller than 1/2 of the second distance D2 between the first wide portion 12f of the main body portion 12 and the vertical direction X.
  • the first distance D1 is smaller than 1/3 of the second distance D2. In FIG. 20, the first distance D1 is about 1/6 of the second distance D2.
  • the semiconductor element 40 is arranged in the central portion of the inner main body portion 12.
  • the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the edge of the second flange portion 19b of the inner main body portion 12 on the side surface 53 side of the third sealing resin in the lateral direction Y is the semiconductor element 40.
  • the amount of deviation between the third distance D3 and the fourth distance D4 is, for example, within 5% of the third distance D3, it can be said that the third distance D3 is equal to the fourth distance D4.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be shortened, respectively, by reducing the distance between the opening 45 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21. Therefore, the inductance between the main surface side drive electrode 41 (source electrode) and the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 can be further reduced.
  • the length of the sense wire 90 can be shortened by reducing the distance between the opening 45 of the semiconductor element 40 and the sense pad 81, the main surface side drive electrode 41 and the back surface side drive electrode 42 can be shortened. The inductance of the electrical connection path can be reduced.
  • the semiconductor element 40 may be arranged in a portion of the inner main body portion 12 closer to the side surface 52 of the second sealing resin and closer to the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin in the vertical direction X is inside the semiconductor element 40. It is smaller than 1/2 of the second distance D2 between the main body 12 and the first wide portion 12f.
  • the first distance D1 is smaller than 1/3 of the second distance D2. In FIG. 20, the first distance D1 is about 1/6 of the second distance D2.
  • the semiconductor element 40 is arranged in a portion of the inner main body portion 12 closer to the third side surface 12e.
  • the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the edge of the second flange portion 19b of the inner main body portion 12 on the side surface 53 side of the third sealing resin in the lateral direction Y is the semiconductor element 40.
  • the fourth distance D4 is smaller than 1/2 of the third distance D3.
  • the fourth distance D4 is smaller than one-third of the third distance D3. In FIG. 21, the fourth distance D4 is about 1/6 of the third distance D3.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be further shortened by further reducing the distance between the opening 45 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21. Therefore, the inductance between the main surface side drive electrode 41 (source electrode) and the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 can be further reduced.
  • the materials and wire diameters of the drive wire 60, the control wire 70, and the sense wire 90 can be arbitrarily changed.
  • at least one wire diameter of the drive wire 60, the control wire 70, and the sense wire 90 may be different from the other wire diameters.
  • at least one material of the drive wire 60, the control wire 70, and the sense wire 90 may be different from the other materials.
  • the arrangement position of the sense pad 81 in the thickness direction Z can be arbitrarily changed.
  • the sense pad 81 may be displaced with respect to at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 in the thickness direction Z.
  • the sense pad 81 is arranged in a state of being aligned with the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the first wide portion 12f may be omitted from the inner main body portion 12 of the substrate 10.
  • the protruding portion 13 and the first sealing resin side surface 51 of the sealing resin 50 may come into contact with each other.
  • the second wide portion 12g may be omitted from the inner main body portion 12 of the substrate 10.
  • a third embodiment of the semiconductor device 1 will be described with reference to FIGS. 22 to 31.
  • the semiconductor device 1 of the present embodiment has different shapes of the substrate 10, the drive lead 20, the control lead 30, and the sealing resin 50 as compared with the semiconductor device 1 of the first embodiment.
  • the same components as those in the first embodiment may be designated by the same reference numerals, and the description thereof may be omitted.
  • the semiconductor device 1 of the present embodiment is a package whose package external standard (JEITA standard) is TO-247. Specifically, the vertical dimension L1 of the semiconductor device 1 is 19.18 mm to 20.57 mm, the horizontal dimension L2 is 15.75 mm to 16.13 mm, and the thickness dimension L3 is 4.83 mm to 5.21 mm. Further, the semiconductor device 1 is a SIP type. As described above, the size of the semiconductor device 1 of the present embodiment is larger than the size of the semiconductor device 1 of the first embodiment.
  • each side surface 51 to 54 of the sealing resin 50 is provided with an inclined surface that is inclined with respect to the thickness direction Z in order to provide a draft so as to facilitate the die removal during molding of the sealing resin 50.
  • each side surface 51 to 54 is provided with a first inclined surface having a draft that makes it easy to pull out the upper die of the mold, and a draft that makes it easier to pull out the lower die of the mold. It has a second inclined surface.
  • the upper mold of the mold forms the sealing resin top surface 56 and the portion of each side surface 51 to 54 on the sealing resin top surface 56 side.
  • the lower mold forms a sealing resin back surface 55 and a portion of each side surface 51 to 54 on the sealing resin back surface 55 side.
  • Recesses 58 are formed at both ends of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the recess 58 on the side surface 53 of the third sealing resin of the sealing resin 50 is recessed in a lateral direction Y from the side surface 53 of the third sealing resin.
  • the recess 58 on the side surface 54 of the fourth sealing resin of the sealing resin 50 is curved in the lateral direction Y from the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the recess 58 is formed from the top surface 56 of the sealing resin to the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z. That is, the main surface 10a of the substrate 10 is exposed by the recess 58.
  • the recess 58 is provided closer to the side surface 51 of the first sealing resin than the center of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • a through hole 59 is formed in the central portion of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the through hole 59 penetrates the sealing resin 50 in the thickness direction Z.
  • the through hole 59 is provided closer to the side surface 51 of the first sealing resin than the center of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • the shape of the through hole 59 in a plan view is circular.
  • the through hole 59 is provided so as to be at the same position as the recess 58 in the vertical direction X.
  • FIG. 23 is a view of the semiconductor device 1 as viewed from the top surface 56 of the sealing resin in the thickness direction Z.
  • the sealing resin 50 is shown by a chain double-dashed line, and the parts inside the sealing resin 50 are shown by a solid line.
  • the shape of the sealing resin 50 is a substantially rectangular shape in which the vertical direction X is the long side direction and the horizontal direction Y is the short side direction.
  • the substrate 10 has a substrate main body portion 11 arranged in the sealing resin 50 and a lead portion 16.
  • the substrate 10 is made of, for example, aluminum (Al) or copper (Cu).
  • the substrate main body 11 is provided with a through hole 10c.
  • the through hole 10c is provided closer to the side surface 51 of the first sealing resin than the center of the substrate 10 in the vertical direction X.
  • the shape of the through hole 10c in a plan view is circular.
  • the through hole 10c is provided so as to be concentric with the through hole 59 of the sealing resin 50.
  • the diameter of the through hole 10c is larger than the diameter of the through hole 59.
  • the substrate main body 11 is provided with a pair of first recesses 10d recessed in a semicircular shape in a plan view and a second recess 10e recessed in a rectangular shape in a plan view.
  • the pair of first recesses 10d are provided closer to the side surface 51 of the first sealing resin than the center of the substrate 10 in the vertical direction X.
  • the pair of first recesses 10d are exposed to the outside by the recesses 58 of the sealing resin 50.
  • the second recess 10e is provided at the end of the substrate main body 11 on the side surface 51 of the first sealing resin.
  • a plurality of flange portions 19 are provided on the substrate main body portion 11.
  • the plurality of flange portions 19 include a first flange portion 19a, a second flange portion 19b, and a third flange portion 19c.
  • the first flange portion 19a protrudes from the first side surface 11a of the substrate main body 11 toward the second sealing resin side surface 52.
  • the second flange portion 19b is formed from the second side surface 11b to the third sealing resin of the substrate main body 11 in the region of the substrate main body 11 on the side 52 side of the second sealing resin with respect to the through hole 10c in the vertical direction X. It protrudes toward the side surface 53.
  • the third flange portion 19c is formed from the third side surface 11c to the fourth sealing resin of the substrate main body 11 in the region of the substrate main body 11 on the side 52 side of the second sealing resin with respect to the through hole 10c in the vertical direction X. It protrudes toward the side surface 54.
  • the back surface 10b of the substrate 10 (the back surface of the substrate body 11) is exposed from the back surface 55 of the sealing resin. As a result, the heat dissipation of the substrate 10 can be improved.
  • the outer peripheral side of the through hole 10c of the substrate 10 is covered with the sealing resin 50.
  • the lead portion 16 extends from the end portion of the substrate main body portion 11 on the first side surface 12c side toward the second sealing resin side surface 52 and protrudes from the second sealing resin side surface 52. There is.
  • the lead portion 16 can be divided into a terminal portion 17 protruding from the side surface 52 of the second sealing resin and a connecting portion 18 connecting the terminal portion 17 and the substrate main body portion 11.
  • the connecting portion 18 is located at the center of the substrate main body portion 11 in the lateral direction Y.
  • the connecting portion 18 has an inclined portion 18a.
  • the inclined portion 18a is inclined toward the sealing resin top surface 56 from the substrate main body portion 11 toward the second sealing resin side surface 52.
  • the intermediate portion 18b between the inclined portion 18a and the terminal portion 17 of the connecting portion 18 is located closer to the sealing resin top surface 56 than the substrate main body portion 11. In a plan view, the intermediate portion 18b extends along the vertical direction X.
  • the portion of the intermediate portion 18b that comes into contact with the second sealing resin side surface 52 is located at the central portion of the second sealing resin side surface 52 in the lateral direction Y.
  • the terminal portion 17 protrudes from the central portion of the second sealing resin side surface 52 in the lateral direction Y.
  • the terminal portion 17 is at the same position as the intermediate portion 18b in the thickness direction Z. That is, the terminal portion 17 is located closer to the top surface 56 of the sealing resin than the substrate main body portion 11.
  • the drive lead 20 and the control lead 30 are separated from the substrate 10 in the vertical direction X on the second sealing resin side surface 52 side of the sealing resin 50. It is arranged in the state.
  • the drive lead 20 and the control lead 30 are arranged apart from each other in the lateral direction Y.
  • a lead portion 16 is arranged between the drive lead 20 and the control lead 30 in the lateral direction Y.
  • the drive lead 20 and the control lead 30 have a shape symmetrical with respect to the center line C along the vertical direction X from the central portion of the semiconductor device 1 in the vertical direction X.
  • the shapes of the drive lead 20 and the control lead 30 in a plan view can be arbitrarily changed. In one example, the shape of the drive lead 20 in the plan view and the shape of the control lead 30 in the plan view may be different from each other.
  • the drive pad 21 and the connecting portion 23 of the drive lead 20 are arranged between the substrate 10 and the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X.
  • the drive pad 21 and the connecting portion 23 are arranged on the side surface 54 of the fourth sealing resin with respect to the central portion of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the drive pad 21 is arranged on the side surface 54 side of the fourth sealing resin with respect to the semiconductor element 40.
  • the shape of the drive pad 21 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the opening 45 in the lateral direction Y.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y.
  • the drive pad 21 is located closer to the sealing resin top surface 56 than the substrate main body 11. Further, in the thickness direction Z, the drive pad 21 is located closer to the sealing resin top surface 56 than the semiconductor element 40. In the present embodiment, the drive pad 21 is at the same position as the intermediate portion 18b of the lead portion 16 in the thickness direction Z.
  • the connecting portion 23 is continuous from the end portion of the drive pad 21 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the connecting portion 23 is located on the side surface 54 side of the fourth sealing resin with respect to the central portion of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive terminal 22 constitutes a source terminal.
  • the drive terminal 22 projects from the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the control pad 31 and the connecting portion 33 are arranged between the substrate 10 and the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X.
  • the control pad 31 and the connecting portion 33 are arranged on the side surface 53 side of the third sealing resin in the lateral direction Y with respect to the central portion of the sealing resin 50.
  • the control pad 31 is located closer to the top surface 56 of the sealing resin than the substrate main body 11. Further, in the thickness direction Z, the control pad 31 is located closer to the sealing resin top surface 56 than the semiconductor element 40.
  • the control pad 31 is at the same position as the intermediate portion 18b of the lead portion 16 in the thickness direction Z.
  • the connecting portion 33 is continuous from the end portion of the control pad 31 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the connecting portion 33 is located closer to the third sealing resin side surface 53 of the control pad 31 in the lateral direction Y.
  • the control terminal 32 constitutes a gate terminal.
  • the control terminal 32 projects from the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the semiconductor element 40 As the semiconductor element 40, a SiC MOSFET is used as in the first embodiment. Further, the semiconductor element 40 is an element capable of high-speed switching in response to a drive signal having a frequency of 1 kHz or more and several hundred kHz or less, as in the first embodiment. Preferably, the semiconductor element 40 is an element capable of high-speed switching in response to a drive signal having a frequency of 1 kHz or more and 100 kHz or less. In the present embodiment, the semiconductor element 40 performs high-speed switching according to a drive signal having a frequency of 100 kHz.
  • the shape and size of the semiconductor element 40 are the same as the shape and size of the semiconductor element 40 of the first embodiment.
  • the semiconductor element 40 is mounted on the substrate main body 11 (main surface 10a of the substrate 10) by solder SD. As shown in FIG. 23, in the present embodiment, the semiconductor element 40 is arranged so as to be closer to the lead portion 16 than the central portion in the vertical direction X of the substrate main body portion 11. Specifically, the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the substrate main body 11 on the side surface 52 side of the second sealing resin is the semiconductor element 40 and the substrate main body 11. It is smaller than the second distance D2 between the through hole 10c and the edge on the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the semiconductor element 40 is arranged in the central portion of the substrate main body portion 11 in the lateral direction Y. Specifically, a third distance D3 between the semiconductor element 40 and the second side surface 11b of the substrate body 11, and a fourth distance D4 between the semiconductor element 40 and the third side surface 11c of the board body 11. Are equal to each other.
  • the amount of deviation between the third distance D3 and the fourth distance D4 is, for example, within 5% of the third distance D3, it can be said that the third distance D3 and the fourth distance D4 are equal to each other.
  • the semiconductor device 1 includes a plurality of drive wires 60 and one control wire 70.
  • the plurality of drive wires 60 are composed of two drive wires, a first drive wire 61 and a second drive wire 62. That is, the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61 is arranged on the control wire 70 side with respect to the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21 in a state of being separated from each other.
  • first drive wire 61 and the second drive wire 62 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are made of the same metal.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 include aluminum.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 is equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 Can be said to be equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are equal to the wire diameter of the control wire 70.
  • the amount of deviation between the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 and the wire diameter of the control wire 70 is within 5% of the wire diameter of the control wire 70, for example, the first drive wire 61 and It can be said that the wire diameter of the second drive wire 62 is equal to the wire diameter of the control wire 70.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 each connect the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are each connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 by wire bonding, for example.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21 side.
  • the configurations of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 will be described in detail.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is arranged on the third sealing resin side surface 53 side with respect to the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is arranged closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a.
  • the distance between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end 61a and the horizontal direction Y from the drive pad side end 61b to the auxiliary line LS2 along the vertical direction X is defined as the distance DY1.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the portion 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end portion 62b is defined as the distance DY2. In this case, the distance DY2 is larger than the distance DY1.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to the first exposed end portion 46a.
  • the drive electrode side end portion 61a is a portion of the main surface side drive electrode 41 adjacent to the control electrode 43 in the lateral direction Y, that is, a recess 41a (see FIG. 2) of the main surface side drive electrode 41. It is connected to the parts that make up the bottom.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end portion 21a side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to the first end portion 21a of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged as the first end portion 21a of the drive pad 21 so as to be a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed. ..
  • the drive pad side end portion 61b is connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is connected to the second exposed end portion 46b side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b.
  • the drive electrode side end portion 62a is on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed as the end portion on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y. It is arranged so as to be the limit position.
  • the drive electrode side end portion 62a is arranged in a state of being aligned with the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the state in which the drive electrode side end 62a and the drive electrode side end 61a are aligned in the vertical direction X is caused by the fact that both drive electrode side ends 61a and 62a in the vertical direction X overlap each other and wire bonding. Includes partial overlap depending on manufacturing error. In other words, if the amount of deviation in the vertical direction X at the drive electrode side end portions 61a, 62a is about the same as the variation in wire bonding, the drive electrode side end portions 61a, 62a are aligned in the vertical direction X. It can be said that.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged as the second end portion 21b of the drive pad 21 so as to be a limit position on the fourth sealing resin side surface 54 side in the region where wire bonding can be performed. ..
  • the drive pad side end portion 62b is arranged at a portion closer to the semiconductor element 40 than the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X.
  • the control wire 70 connects the control electrode 43 of the semiconductor element 40 and the control pad 31.
  • the control wire 70 is connected to the control electrode 43 and the control pad 31 by, for example, wire bonding. Similar to the first embodiment, the control wire 70 is made of the same material as the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the wire diameter of the control wire 70 is equal to the wire diameter of the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the control wire 70 has a control electrode side end portion 71 and a control pad side end portion 72.
  • the control electrode side end portion 71 is arranged on the side surface 54 side of the fourth sealing resin with respect to the control pad side end portion 72.
  • the distance DW3 between the control electrode side end 71 and the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is smaller than the distance DW1.
  • the distance DY3 between the auxiliary line LS5 along the vertical direction X from the control electrode side end 71 and the auxiliary line LS6 along the vertical direction X from the control pad side end 72 is larger than the distance DY1 and larger than the distance DY2. small. According to the semiconductor device 1 of the present embodiment, the same effects as those of (1-1) to (1-7) of the first embodiment can be obtained.
  • the semiconductor device 1 of the third embodiment can be changed as follows, for example. The following modifications can be combined as long as there is no technical conflict.
  • the parts common to the third embodiment are designated by the same reference numerals as those in the third embodiment, and the description thereof will be omitted.
  • the plurality of drive wires 60 may be composed of three drive wires, a first drive wire 61, a second drive wire 62, and a third drive wire 63.
  • the third drive wire 63 is arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21 in a state of being separated from each other.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 constituting the most distant combination of the plurality of drive wires 60 are the drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y. is there.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the drive electrode side end portion 63a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end 63b is an end connected to the drive pad 21 of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end portion 63b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 63a.
  • the distance DW4 between the drive electrode side end portion 63a and the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is such that the drive electrode side end portion 63a and the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62
  • the amount of deviation between the distance DW4 and the distance DW5 is, for example, within 5% of the distance DW4, it can be said that the distance DW4 and the distance DW5 are equal.
  • the distance DW4 and the distance DW5 are larger than the distance DW3 between the control electrode side end portion 71 of the control wire 70 and the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the position of the drive electrode side end 63a in the lateral direction Y can be arbitrarily changed.
  • the drive electrode side end portion 63a may be connected to the main surface side drive electrode 41 so that the distance DW4 and the distance DW5 are different from each other.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61, the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62, and the drive electrode side end portion 63a of the third drive wire 63 are mutually connected. They are arranged in a uniform state.
  • the state in which the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a are aligned with each other in the vertical direction X means that the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a in the vertical direction X overlap each other, and the manufacturing is caused by wire bonding. Includes partial overlap depending on the error.
  • the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a will be the vertical X. It can be said that they are all in line.
  • the drive pad side end portion 63b of the third drive wire 63 is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW6 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 63b of the first drive wire 61 is larger than the distance DW4.
  • the distance DW7 between the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 63b of the second drive wire 62 is larger than the distance DW5.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21. In a plan view, the third drive wire 63 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the third drive wire 63 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the size of the semiconductor element 40 can be changed arbitrarily.
  • the size of the semiconductor element 40 may be larger than the size of the semiconductor element 40 of the third embodiment.
  • the size of the semiconductor element 40 may be larger than the size of the semiconductor element 40 in FIG. 27.
  • the size of the semiconductor element 40 in the vertical direction X and the size in the horizontal direction Y are each larger than the size of the semiconductor element 40 of the third embodiment. Further, as the size of the semiconductor element 40 increases, the size of the opening 45 formed on the surface 40a can be increased in each of the vertical direction X and the horizontal direction Y. In FIG. 27, the size of the opening 45 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y. The size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the semiconductor element 40 in the horizontal direction Y.
  • the semiconductor device 1 has a first drive wire 61 and a second drive wire 62 as a plurality of drive wires 60.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a of the exposed region 46, similarly to the drive electrode side end portion 61a of the third embodiment.
  • the drive pad side end 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end 21a of the drive pad 21 in the same manner as the drive pad side end 61b of the third embodiment.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is the end on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y, similarly to the drive electrode side end portion 62a of the third embodiment.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21 as in the drive pad side end portion 62b of the third embodiment. Similar to the third embodiment, in the vertical direction X, the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 62a are arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with each other. The drive pad side end portion 61b and the drive pad side end portion 62b are each connected to a portion of the drive pad 21 closer to the semiconductor element 40 than the central portion in the vertical direction X.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a in the lateral direction Y. large.
  • the distance DY1 between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end portion 61a and the auxiliary line LS2 along the vertical direction X from the drive pad side end portion 61b is the drive electrode side.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the end 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end 62b is smaller than the distance DY2.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are separated from the main surface side drive electrode 41 on the drive pad 21 side so that the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 are separated from each other. Is connected to.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased, so that the drive terminal 22 (source) of the drive lead 20 from the main surface side drive electrode 41 (source electrode) can be increased.
  • the inductance between the terminals) can be reduced.
  • the number of drive wires 60 is not limited to two and can be arbitrarily changed.
  • the plurality of drive wires 60 may be composed of three drive wires of a first drive wire 61, a second drive wire 62, and a third drive wire 63.
  • the third drive wire 63 is arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21 in a state of being separated from each other.
  • first drive wire 61 and the second drive wire 62 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the distance DW4 between the drive electrode side end 63a and the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is between the drive electrode side end 63a and the drive electrode side end 62a of the second drive wire 62.
  • the amount of deviation between the distance DW4 and the distance DW5 is, for example, within 5% of the distance DW4, it can be said that the distance DW4 and the distance DW5 are equal.
  • the arrangement position of the drive electrode side end portion 63a with respect to the main surface side drive electrode 41 can be arbitrarily changed.
  • the drive electrode side end portion 63a may be connected to the main surface side drive electrode 41 so that the distance DW4 and the distance DW5 are different from each other.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61, the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62, and the drive electrode side end portion 63a of the third drive wire 63 are mutually connected. They are arranged in a uniform state.
  • the state in which the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a are aligned with each other in the vertical direction X means that the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a in the vertical direction X overlap each other, and the manufacturing is caused by wire bonding. Includes partial overlap depending on the error.
  • the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a will be the vertical X. It can be said that they are all in line.
  • the drive pad side end 63b of the third drive wire 63 is arranged on the semiconductor element 40 side of the center of the drive pad 21 in the vertical direction X.
  • the distance DW6 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 63b of the first drive wire 61 is larger than the distance DW4.
  • the distance DW7 between the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 63b of the second drive wire 62 is larger than the distance DW5.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21. In a plan view, the third drive wire 63 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the third drive wire 63 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the inclination angle of the third drive wire 63 with respect to the vertical direction X can be arbitrarily changed.
  • the tilt angle of the third drive wire 63 with respect to the vertical direction X may be equal to the tilt angle of the first drive wire 61 with respect to the vertical direction X or the tilt angle of the second drive wire 62 with respect to the vertical direction X.
  • the shape of the semiconductor element 40 in a plan view is a square.
  • the main surface side drive electrode 41 (source electrode) formed on the surface 40a of the semiconductor element 40 has a notch 41b formed at an end portion of the semiconductor element 40 on the second side surface 40d and the third side surface 40e side.
  • the control electrode 43 is formed in the notch 41b.
  • the semiconductor device 1 of the second example shown in FIG. 29 has a first drive wire 61, a second drive wire 62, a third drive wire 63, and a fourth drive wire 64 as a plurality of drive wires 60.
  • the third drive wire 63 and the fourth drive wire 64 are arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y.
  • the drive wires 61 to 64 are arranged so as to overlap each other.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 intersect.
  • the fourth drive wire 64 and the second drive wire 62 intersect.
  • the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end 61b of the first drive wire 61.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the drive electrode side end portion 63a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end 63b is an end connected to the drive pad 21 of the third drive wire 63.
  • the fourth drive wire 64 has a drive electrode side end portion 64a and a drive pad side end portion 63b.
  • the drive electrode side end portion 64a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the fourth drive wire 64.
  • the drive pad side end 64b is an end connected to the drive pad 21 of the fourth drive wire 64.
  • the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is arranged so as to be on the third side surface 40e side of the drive electrode side ends 61b to 61d of the drive wires 62 to 64.
  • the drive electrode side end 63a of the third drive wire 63 is closer to the third side surface 40e than the drive electrode side end 64a of the fourth drive wire 64 and the drive electrode side end 62a of the second drive wire 62. Have been placed.
  • the drive electrode side end portion 64a is arranged so as to be on the third side surface 40e side of the drive electrode side end portion 62a.
  • the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 63a are connected to the first exposed end portion 46a side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to the first exposed end portion 46a side of the drive electrode side end portion 63a in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 64a and the drive electrode side end portion 62a are connected to the second exposed end portion 46b side of the central portion of the exposed region 46 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b side of the drive electrode side end portion 64a.
  • the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 and the drive electrode side end 64a of the fourth drive wire 64 are the drive electrode side end 62a of the second drive wire 62 and the drive electrode side end of the third drive wire 63. There is a deviation from the portion 63a in the vertical direction X. Further, the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 64a are arranged in a state of being aligned with each other in the vertical direction X. The drive electrode side end portion 62a and the drive electrode side end portion 63a are arranged in a state of being aligned with each other in the vertical direction X.
  • the drive electrode side ends 61a and 64a are arranged so as to be on the first side surface 40c side of the semiconductor element 40 with respect to the drive electrode side ends 62a and 63a. Therefore, the lengths of the first drive wire 61 and the fourth drive wire 64 are longer than the lengths of the second drive wire 62 and the third drive wire 63.
  • the state in which the drive electrode side end portions 61a and 64a are aligned in the vertical direction X means that the drive electrode side end portions 61a and 64a in the vertical direction X overlap each other and a manufacturing error due to wire bonding. Includes overlapping parts.
  • the drive electrode side end portions 61a, 64a are aligned in the vertical direction X. It can be said that. Further, the state in which the drive electrode side ends 62a and 63a are aligned with each other in the vertical direction X depends on the fact that the drive electrode side ends 62a and 63a in the vertical direction X overlap each other and the manufacturing error due to wire bonding. Includes overlapping parts.
  • the arrangement position of the drive electrode side end portions 61a to 64a in the vertical direction X can be arbitrarily changed.
  • the drive electrode side ends 61a to 64a may be displaced from each other.
  • the drive electrode side ends 61a to 64a may be arranged in the lateral direction Y in a state where they are aligned with each other.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portions 62b to 64b of the drive wires 62 to 64.
  • the drive pad side end 63b of the third drive wire 63 is closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end 64b of the fourth drive wire 64 and the drive pad side end 62b of the second drive wire 62. It is arranged so as to be.
  • the drive pad side end portion 64b is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portion 62b.
  • the drive pad side end portion 61b and the drive pad side end portion 63b are connected to the first end portion 21a side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end 61b is connected to the first end 21a side of the drive pad side end 63b.
  • the drive pad side end portion 64b and the drive pad side end portion 62b are connected to the second end portion 21b side of the center portion in the lateral direction Y of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to the second end portion 21b side with respect to the drive pad side end portion 62b.
  • the distance DW10 between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end 61a and the auxiliary line LS9 along the vertical direction X from the drive electrode side end 63a is the distance DW10 between the auxiliary line LS9 and the drive electrode.
  • the distance from the side end portion 64a to the auxiliary line LS11 along the vertical direction X in the horizontal direction Y is smaller than the distance DW11.
  • the distance DW12 between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X and the auxiliary line LS11 in the horizontal direction Y from the drive electrode side end portion 62a is slightly smaller than the distance DW10.
  • the drive electrode side end portions 61a to 64a are arranged in the lateral direction Y so that the drive electrode side end portion 61a is located on the most third sealing resin side surface 53 side of the drive electrode side end portions 61a to 64a. It can be arbitrarily changed as long as the drive electrode side end portion 62a is located on the side surface 54 side of the fourth sealing resin.
  • the drive electrode side ends 61a to 64a may be arranged so that the distance DW12 and the distance DW10 are equal to each other.
  • the distance DY1 between the auxiliary line LS1 and the auxiliary line LS2 along the vertical direction X from the drive pad side end 61b is the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the auxiliary line LS3 and the drive pad side end 62b.
  • the distance between and in the lateral direction Y is smaller than DY2.
  • the distance DY3 between the auxiliary line LS9 and the auxiliary line LS10 along the vertical direction X from the drive pad side end 63b is the auxiliary line LS12 along the vertical direction X from the auxiliary line LS11 and the drive pad side end 64b.
  • the distance between and in the lateral direction Y is smaller than DY4.
  • the distance DY1 is smaller than the distance DY3.
  • the distance DY2 is larger than the distance DY4.
  • the drive electrode side end portion 61a is located on the fourth side surface 40f side of the first exposed end portion 46a of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction where wire bonding can be performed. It may be arranged so as to be a limit position.
  • the drive pad side end portion 61b may be arranged as the first end portion 21a of the drive pad 21 so as to be a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed.
  • the drive electrode side end portion 62a is located on the fourth side surface 40f side of the second exposed end portion 46b of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y where wire bonding can be performed. It may be arranged so as to be a limit position.
  • the drive pad side end portion 62b may be arranged as the second end portion 21b of the drive pad 21 so as to be a limit position on the side surface 54 side of the fourth sealing resin in the region where wire bonding can be performed.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 in the lateral direction Y gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the semiconductor element 40 may be arranged in a portion of the substrate main body 11 near the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the substrate main body 11 on the side surface 52 side of the second sealing resin in the vertical direction X is the semiconductor element 40 and the substrate. It is smaller than 1/2 of the second distance D2 between the end portion of the through hole 10c of the main body 11 on the side surface 52 side of the second sealing resin and the vertical direction X.
  • the first distance D1 is smaller than 1/3 of the second distance D2. In FIG. 30, the first distance D1 is about 1/7 of the second distance D2.
  • the semiconductor element 40 is arranged at the center of the substrate main body 11. Specifically, the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the edge of the second flange portion 19b of the substrate main body 11 on the side surface 53 side of the third sealing resin in the lateral direction Y is the semiconductor element 40. It is equal to the fourth distance D4 between the edge of the third flange portion 19c of the substrate main body portion 11 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be shortened, respectively, by reducing the distance between the opening 45 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21. Therefore, the inductance between the main surface side drive electrode 41 (source electrode) and the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 can be further reduced.
  • the semiconductor element 40 may be arranged in the portion of the substrate main body 11 closer to the side surface 52 of the second sealing resin and closer to the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the substrate main body 11 on the side surface 52 side of the second sealing resin in the vertical direction X is the semiconductor element 40 and the substrate. It is smaller than 1/2 of the second distance D2 between the end portion of the through hole 10c of the main body 11 on the side surface 52 side of the second sealing resin and the vertical direction X.
  • the first distance D1 is smaller than 1/3 of the second distance D2. In FIG. 31, the first distance D1 is about 1/7 of the second distance D2.
  • the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the edge of the second flange portion 19b of the substrate main body 11 on the side surface 53 side of the third sealing resin in the lateral direction Y is the semiconductor element 40 and the substrate main body. It is larger than the fourth distance D4 between the edge of the third flange portion 19c of 11 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin in the lateral direction Y.
  • the fourth distance D4 is smaller than 1/2 of the third distance D3.
  • the fourth distance D4 is smaller than one-third of the third distance D3. In FIG. 31, the fourth distance D4 is about 1/10 of the third distance D3.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be further shortened by further reducing the distance between the semiconductor element 40 and the drive pad 21. Therefore, the inductance between the main surface side drive electrode 41 (source electrode) and the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 can be further reduced.
  • the lead portion 16 may be omitted from the substrate 10 of the semiconductor device 1 of the third embodiment.
  • the drive pad 21 and the control pad 31 are adjacent to each other in the lateral direction Y.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y may be increased by the amount that the lead portion 16 is omitted.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end 62b of the second drive wire 62 can be made large, so that the main surface side drive electrode can be increased.
  • the inductance from 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • a fourth embodiment of the semiconductor device 1 will be described with reference to FIG. 32.
  • the semiconductor device 1 of the present embodiment is equipped with a Schottky barrier diode instead of the MOSFET as the semiconductor element 40, and instead of the drive lead 20 and the control lead 30.
  • the main difference is that the first drive lead 20C and the second drive lead 20D are provided.
  • the same components as those in the first embodiment may be designated by the same reference numerals, and the description thereof may be omitted.
  • the first drive lead 20C and the second drive lead 20D are vertically oriented with respect to the substrate 10 on the second encapsulating resin side surface 52 side of the encapsulating resin 50 with respect to the substrate 10. It is arranged in a state of being separated from X.
  • the first drive lead 20C and the second drive lead 20D are arranged apart from each other in the lateral direction Y.
  • a lead portion 16 is arranged between the first drive lead 20C and the second drive lead 20D in the lateral direction Y.
  • the first drive lead 20C and the second drive lead 20D have a shape symmetrical with respect to the center line C along the vertical direction X from the central portion of the semiconductor device 1 in the vertical direction X.
  • each component of the first drive lead 20C and the second drive lead 20D will be described by adding alphabets C and D after the reference numerals.
  • the first drive lead 20C is arranged so as to be on the side surface 53 side of the third sealing resin with respect to the lead portion 16.
  • the first drive lead 20C has a first drive pad 21C, a first drive terminal 22C, and a first connecting portion 23C that connects the first drive pad 21C and the first drive terminal 22C.
  • the first drive pad 21C and the first connecting portion 23C are arranged between the substrate 10 and the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X.
  • the first drive pad 21C and the first connecting portion 23C are arranged on the side surface 53 side of the third sealing resin with respect to the central portion of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the first drive terminal 22C constitutes an anode terminal.
  • the shape of the first drive pad 21C in a plan view is a substantially rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the first drive pad 21C has a first end portion 21c and a second end portion 21d which are both end portions in the lateral direction Y.
  • the first end portion 21c is an end portion of the first drive pad 21C on the side surface 53 side of the third sealing resin.
  • the second end portion 21d is an end portion of the first drive pad 21C on the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the second drive lead 20D is arranged so as to be on the side surface 54 side of the fourth sealing resin with respect to the lead portion 16.
  • the second drive lead 20D has a second drive pad 21D, a second drive terminal 22D, and a second connecting portion 23D that connects the second drive pad 21D and the second drive terminal 22D.
  • the second drive pad 21D and the second connecting portion 23D are arranged between the substrate 10 and the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X.
  • the second drive pad 21D and the second connecting portion 23D are arranged on the side surface 54 side of the fourth sealing resin with respect to the central portion of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the second drive terminal 22D constitutes an anode terminal.
  • the second drive pad 21D has a first end portion 21e and a second end portion 21f which are both ends in the lateral direction Y.
  • the first end portion 21e is an end portion of the second drive pad 21D on the side surface 53 side of the third sealing resin.
  • the second end portion 21f is an end portion of the second drive pad 21D on the side surface 54 side of the fourth sealing resin.
  • the first drive pad 21C and the second drive pad 21D are respectively arranged on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z.
  • the first drive pad 21C and the second drive pad 21D are respectively arranged on the sealing resin top surface 56 side of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the semiconductor element 40 includes SiC.
  • a Schottky barrier diode is used as the semiconductor element 40.
  • the semiconductor element 40 is formed in a flat plate shape. Specifically, in a plan view, the shape of the semiconductor element 40 is a rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction. In the present embodiment, the semiconductor element 40 is arranged in the central portion of the inner main body portion 12. Specifically, in a plan view, the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin, and the semiconductor element 40.
  • the second distance D2 between the inner body portion 12 and the narrow portion 14 of the inner main body portion 12 is equal to each other.
  • the fourth distance D4 between the third flange portion 19c and the edge of the third flange portion 19c on the side surface 54 side of the fourth sealing resin is equal to each other.
  • the amount of deviation between the first distance D1 and the second distance D2 is, for example, within 5% of the first distance D1
  • the amount of deviation between the third distance D3 and the fourth distance D4 is, for example, within 5% of the third distance D3, it can be said that the third distance D3 and the fourth distance D4 are equal to each other.
  • a main surface side drive electrode 41 is formed on the front surface 40a of the semiconductor element 40, and a back surface side drive electrode (not shown) is formed on the back surface facing the side opposite to the front surface 40a in the thickness direction Z.
  • the main surface side drive electrode 41 constitutes an anode electrode
  • the back surface side drive electrode constitutes a cathode electrode.
  • a passivation film 44 as an insulating film is formed on the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40.
  • An opening 45 is formed in the passivation film 44. The opening 45 exposes the main surface side drive electrode 41.
  • the shape of the opening 45 in a plan view is a rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the size of the opening 45 in the lateral direction Y is smaller than the size of the first drive pad 21C in the lateral direction Y and the size of the second drive pad 21D in the lateral direction Y.
  • the size of the first drive pad 21C in the lateral direction Y and the size of the second drive pad 21D in the lateral direction Y are larger than the size of the opening 45 in the lateral direction Y.
  • the opening 45 is provided at the center of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the vertical direction X. Specifically, a first distance DC1 between the opening 45 and the first side surface 40c of the semiconductor element 40, a second distance DC2 between the opening 45 and the second side surface 40d of the semiconductor element 40, and an opening. The third distance DC3 between the portion 45 and the third side surface 40e of the semiconductor element 40 and the fourth distance DC4 between the opening 45 and the fourth side surface 40f of the semiconductor element 40 are equal to each other.
  • the maximum deviation amount of the first distance DC1, the second distance DC2, the third distance DC3, and the fourth distance DC4 is within 5% of, for example, the first distance DC1, the first distance DC1, the second distance It can be said that the DC2, the third distance DC3, and the fourth distance DC4 are equal to each other.
  • the main surface side drive electrode 41 has an exposed region 46 exposed by the opening 45.
  • the exposed region 46 has a first exposed end portion 46a and a second exposed end portion 46b, which are both ends in the lateral direction Y.
  • the first exposed end portion 46a is an end portion of the exposed region 46 on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40.
  • the second exposed end portion 46b is an end portion of the exposed region 46 on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40.
  • the semiconductor device 1 includes a plurality of drive wires 60.
  • the plurality of drive wires 60 are composed of two drive wires, a first drive wire 61 and a second drive wire 62. That is, the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61 is arranged on the control wire 70 side with respect to the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21 in a state of being separated from each other.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are made of the same metal.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 include aluminum.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 is equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 Can be said to be equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 connects the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40 and the first drive pad 21C.
  • the second drive wire 62 connects the main surface side drive electrode 41 and the second drive pad 21D.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pads 21C and 21D, respectively, by wire bonding, for example.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21 side.
  • the configurations of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 will be described in detail.
  • the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is arranged closer to the fourth sealing resin side surface 54 than the drive pad side end 61b of the first drive wire 61.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is arranged closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a.
  • the distance between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end 61a and the horizontal direction Y from the drive pad side end 61b to the auxiliary line LS2 along the vertical direction X is the distance DY1 and the drive electrode side end.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the portion 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end 62b is equal to the distance DY2.
  • the amount of deviation between the distance DY1 and the distance DY2 is, for example, within 5% of the distance DY1, it can be said that the distance DY1 and the distance DY2 are equal to each other.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to the first exposed end portion 46a.
  • the drive electrode side end portion 61a is set to a limit position on the third side surface 40e side of the region where wire bonding can be performed as the first exposed end portion 46a of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41. It is located in.
  • the drive pad side end 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end 21c side of the center of the first drive pad 21C in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to the first end portion 21c of the first drive pad 21C.
  • the drive pad side end 61b is arranged as the first end 21c of the first drive pad 21C so as to be a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed. ing.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to a portion of the first drive pad 21C on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is connected to the second exposed end portion 46b side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b.
  • the drive electrode side end portion 62a is on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed as the end portion on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y. It is arranged so as to be the limit position.
  • the drive electrode side end portion 62a is arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the state in which the drive electrode side end portion 62a and the drive electrode side end portion 61a are aligned in the vertical direction X is caused by the fact that both drive electrode side end portions 61a and 62a in the vertical direction X overlap each other and wire bonding. Includes partial overlap depending on the manufacturing error.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21f side of the center portion of the second drive pad 21D in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to the second end portion 21f of the second drive pad 21D.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged as the second end portion 21f of the second drive pad 21D so as to be a limit position on the fourth sealing resin side surface 54 side in the region where wire bonding can be performed. ing.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the semiconductor device 1 of the present embodiment in addition to the effects of (1-1), (1-5), and (1-7) of the first embodiment, the following effects can be obtained.
  • (4-1) The first drive pad 21C of the first drive lead 20C and the second drive pad 21D of the second drive lead 20D are arranged in a laterally separated state in Y. According to this configuration, the distance DW2 between the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 can be increased. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the drive pad side end 61b is connected to the first end 21e of the first drive pad 21C, and the drive pad side end 62b is the second end of the second drive pad 21D. It is connected to 21f. According to this configuration, the distance DW2 between the drive pad side end portion 61b and the drive pad side end portion 62b can be made larger. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be further reduced.
  • the semiconductor device 1 of the fourth embodiment can be changed as follows, for example. The following modifications can be combined as long as there is no technical conflict.
  • the parts common to the third embodiment are designated by the same reference numerals as those in the fourth embodiment, and the description thereof will be omitted.
  • the plurality of drive wires 60 are composed of four drive wires of a first drive wire 61, a second drive wire 62, a third drive wire 63, and a fourth drive wire 64. May be good.
  • the third drive wire 63 and the fourth drive wire 64 are arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61, the second drive wire 62, the third drive wire 63, and the fourth drive wire 64 are arranged apart from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 forming the most distant combination of the plurality of drive wires 60 are the drive wires at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y. ..
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the drive electrode side end portion 63a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end 63b is an end connected to the first drive pad 21C of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end portion 63b is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive electrode side end portion 63a.
  • the fourth drive wire 64 has a drive electrode side end portion 64a and a drive pad side end portion 64b.
  • the drive electrode side end portion 64a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the fourth drive wire 64.
  • the drive pad side end portion 64b is an end portion connected to the second drive pad 21D of the fourth drive wire 64.
  • the drive pad side end portion 64b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 64a.
  • the drive pad side end 63b is connected to the second end 21d of the first drive pad 21C.
  • the drive pad side end 64b is connected to the first end 21e of the second drive pad 21D.
  • the drive electrode side end portions 64a of the four drive wires 64 are arranged in the lateral direction Y in a state of being aligned with each other.
  • the state in which the drive electrode side end portion 61a, the drive electrode side end portion 62a, the drive electrode side end portion 63a, and the drive electrode side end portion 64a are aligned with each other in the vertical direction X means the drive electrode side in the vertical direction X.
  • the ends 61a, 62a, 63a, 64a overlap each other, and that some of the ends overlap depending on the manufacturing error caused by wire bonding. In other words, if the amount of deviation in the vertical direction X at the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a, 64a is about the variation in wire bonding, the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a, 64a Can be said to be aligned in the vertical direction X.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are separated from the main surface side drive electrode 41 on the first drive pad 21C side so that the main surface side drive electrode 41 and the first drive pad 21C are separated from each other. Is connected to.
  • the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the fourth drive wire 64 and the second drive wire 62 are the main surface side drive electrode 41 and the second drive pad 21D so that the second drive pad 21D side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. Is connected to.
  • the distance between the fourth drive wire 64 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the third drive wire 63 and the fourth drive wire 64 are the main surface side drive electrode 41 and the first drive so that the first drive pad 21C and the second drive pad 21D side are separated from the main surface side drive electrode 41 side. It is connected to the pad 21C and the second drive pad 21D.
  • the distance between the third drive wire 63 and the fourth drive wire 64 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the first drive pad 21C and the second drive pad 21D.
  • the size of the semiconductor element 40 can be changed arbitrarily.
  • the size of the semiconductor element 40 may be larger than the size of the semiconductor element 40 of the fourth embodiment in at least one of the vertical direction X and the horizontal direction Y.
  • the arrangement position of the semiconductor element 40 with respect to the substrate 10 can be arbitrarily changed.
  • the semiconductor element 40 may be arranged in a portion of the inner main body portion 12 near the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin in the vertical direction X is inside the semiconductor element 40. It is smaller than the second distance D2 between the narrow portion 14 of the main body portion 12 and the vertical direction X.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be shortened, respectively, by reducing the distance between the opening 45 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21. Therefore, the inductance between the main surface side drive electrode 41 (source electrode) and the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 can be further reduced.
  • the semiconductor element 40 may be arranged in a portion of the inner main body portion 12 closer to the side surface 52 of the second sealing resin and closer to the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the edge of the first flange portion 19a of the inner main body portion 12 on the side surface 52 side of the second sealing resin in the vertical direction X is inside the semiconductor element 40. It is smaller than the second distance D2 between the narrow portion 14 of the main body portion 12 and the vertical direction X.
  • the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the edge of the second flange portion 19b of the inner main body portion 12 on the side surface 53 side of the third sealing resin in the lateral direction Y is the semiconductor element 40 and the inner main body portion.
  • the third flange portion 19c is larger than the fourth distance D4 between the edge of the fourth sealing resin side surface 54 side and the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be further shortened by further reducing the distance between the semiconductor element 40 and the drive pad 21. Therefore, the inductance between the main surface side drive electrode 41 (source electrode) and the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 can be further reduced.
  • the semiconductor device 1 of each of the above embodiments can be changed as follows, for example. -In each of the above embodiments, the positions of the drive pad 21 and the control pad 31 in the thickness direction Z can be arbitrarily changed. In one example, at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 may be aligned with the semiconductor element 40 in the thickness direction Z. Further, in one example, at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 may be aligned with the substrate 10 in the thickness direction Z.
  • the arrangement positions of the drive pad 21 and the control pad 31 in a plan view can be arbitrarily changed.
  • at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 may be laterally displaced with respect to the substrate 10. That is, at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 may be arranged on the third sealing resin side surface 53 side or the fourth sealing resin side surface 54 side of the sealing resin 50 with respect to the substrate 10.
  • at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 is displaced in the lateral direction Y with respect to the semiconductor element 40.
  • a plurality of flange portions 19 may be omitted from the substrate 10.
  • the plurality of drive wires 60 and the control wire 70 may be formed of different metals.
  • the plurality of drive wires 60 are made of aluminum and the control wire 70 is made of gold (Au).
  • the wire diameters of the plurality of drive wires 60 and the wire diameters of the control wires 70 may be different from each other.
  • the wire diameter of the plurality of drive wires 60 is larger than the wire diameter of the control wire 70.
  • the wire diameters of the plurality of drive wires 60 are not limited to 125 ⁇ m to 250 ⁇ m, and can be arbitrarily changed. In one example, the wire diameters of the plurality of drive wires 60 are 250 ⁇ m to 400 ⁇ m.
  • the semiconductor element 40 is configured so that the main surface side drive electrode 41 and the control electrode 43 are exposed by one rectangular opening 45 in a plan view, but the number of openings 45 is large. Not limited to this.
  • a first opening 45A that exposes the main surface side drive electrode 41 and a second opening 45B that exposes the control electrode 43 are formed on the surface 40a of the semiconductor element 40. May be good.
  • the shape of the first opening 45A in a plan view is a rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the shape of the second opening 45B in a plan view is a rectangular shape in which the vertical direction X is the long side direction and the horizontal direction Y is the short side direction.
  • the first opening 45A is provided so as to be closer to the first side surface 40c of the semiconductor element 40 in the vertical direction X.
  • the first opening 45A opens most of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y.
  • the second opening 45B is provided at the end of the semiconductor element 40 on the second side surface 40d side and the end portion on the third side surface 40e side.
  • the main surface side drive electrode 41 has an exposed region 46 exposed by the first opening 45A.
  • the exposed region 46 has a first exposed end portion 46a and a second exposed end portion 46b, which are both ends in the lateral direction Y.
  • the first exposed end portion 46a is an end portion of the exposed region 46 on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40.
  • the second exposed end portion 46b is an end portion of the exposed region 46 on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 of the drive lead 20.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are parallel to each other in a plan view.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 may gradually increase from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21, or the distance between the main surface side drive electrode 41 may gradually increase. It may gradually become narrower toward the drive pad 21.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is equal to the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a.
  • the amount of deviation between the distance DW1 and the distance DW2 is, for example, within 5% of the distance DW2, it can be said that the distance DW2 and the distance DW1 are equal to each other.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is arranged closer to the first exposed end portion 46a than the central portion in the lateral direction Y of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to the first exposed end portion 46a of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 61a is arranged as the first exposed end portion 46a of the exposed region 46 so as to be a limit position on the third side surface 40e side of the region where wire bonding can be performed.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end portion 21a side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to the first end portion 21a of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged as the first end portion 21a of the drive pad 21 so as to be a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed. ..
  • the drive pad side end portion 61b is connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 61a.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is arranged closer to the second exposed end portion 46b than the central portion in the lateral direction Y of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 62a is arranged as the second exposed end portion 46b of the exposed region 46 so as to be a limit position on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed.
  • the drive electrode side end portion 62a is arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the state in which the drive electrode side end portion 62a and the drive electrode side end portion 61a are aligned in the vertical direction X is caused by the fact that both drive electrode side end portions 61a and 62a in the vertical direction X overlap each other and wire bonding. Includes partial overlap depending on the manufacturing error. In other words, if the amount of deviation in the vertical direction X at the drive electrode side end portions 61a, 62a is about the same as the variation in wire bonding, the drive electrode side end portions 61a, 62a are aligned in the vertical direction X. It can be said that.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged as the second end portion 21b of the drive pad 21 so as to be a limit position on the fourth sealing resin side surface 54 side in the region where wire bonding can be performed. ..
  • the drive pad side end portion 62b is connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 62a. Further, in FIG. 34, the drive pad side end portions 62b are arranged in the horizontal direction Y in the vertical direction X in a state of being aligned with the drive pad side end portions 61b.
  • the state in which the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 61b are aligned in the vertical direction X is caused by the fact that both drive pad side end portions 61b and 62b in the vertical direction X overlap each other and wire bonding. Includes partial overlap depending on the manufacturing error.
  • the distance DW1 between the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 and the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 can be made large, so that the main surface side drive electrode The inductance between the 41 and the drive pad 21 can be reduced.
  • the positional relationship between the first opening 45A and the second opening 45B in the vertical direction X may be reversed. That is, the first opening 45A may be formed on the second side surface 40d side of the semiconductor element 40 with respect to the second opening 45B.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be shortened by reducing the distance between the first opening 45A and the drive pad 21. Therefore, the inductance between the main surface side drive electrode 41 (source electrode) and the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 can be further reduced.
  • a semiconductor element having a substrate having a main surface, a surface mounted on the main surface and facing the same direction as the main surface, and a drive electrode formed on the surface, and driving.
  • a first drive wire comprising a pad and a plurality of drive wires that connect the drive electrode and the drive pad in a state of being separated from each other, and forming the most separated combination of the plurality of drive wires.
  • the second drive wire is connected to the drive electrode and the drive pad so that the drive pad side is closer than the drive electrode side when viewed from the first direction, which is a direction perpendicular to the main surface.
  • Appendix 2 Assuming that the direction orthogonal to the first direction is the second direction and the direction orthogonal to the first direction and the second direction is the third direction, the semiconductor element and the drive pad are at least the first.
  • the plurality of drive wires are displaced in two directions, the plurality of drive wires are arranged apart from each other in the third direction, and the first drive wire and the second drive wire are the first of the plurality of drive wires.
  • the semiconductor device has an insulating film formed on the driving electrode and an opening formed in a part of the insulating film so as to expose the driving electrode. Is formed in a rectangular shape with the second direction as the short side direction and the third direction as the long side direction when viewed from the first direction, and the size of the opening in the third direction is the first.
  • the semiconductor device according to Appendix 1 or 2 which is larger than the size of the drive pad in three directions.
  • the semiconductor device has an insulating film formed on the driving electrode and an opening formed in a part of the insulating film so as to expose the driving electrode. Is formed in a rectangular shape with the second direction as the short side direction and the third direction as the long side direction when viewed from the first direction, and the drive electrode is an exposed region exposed by the opening.
  • the exposed region has a first exposed end portion and a second exposed end portion which are both ends of the third direction, and the first drive wire is the center of the exposed region in the third direction.
  • the second drive wire is connected to the first exposed end side of the exposed region, and the second drive wire is connected to the second exposed end side of the exposed region in the third direction in the third direction. 4.
  • the semiconductor device according to any one of 4.
  • the first drive wire and the second drive wire each have a drive electrode side end portion connected to the drive electrode and a drive pad side end portion connected to the drive pad.
  • the drive pad has a first end portion and a second end portion which are both ends in the third direction, and the drive pad side end portion of the first drive wire is the third direction of the drive pad.
  • the second drive wire is connected to the first end side of the drive pad, and the drive pad side end of the second drive wire is connected to the second end side of the drive pad in the third direction.
  • a substrate having a main surface, a surface mounted on the main surface and facing the same direction as the main surface, and a drive electrode formed on the surface, and a semiconductor element containing SiC and driving.
  • the pad is provided with a plurality of drive wires that connect the drive electrode and the drive pad in a state of being separated from each other, and the plurality of drive wires are the most separated combination of the plurality of drive wires.
  • the first drive wire and the second drive wire are included, and the first drive wire and the second drive wire are connected to the drive electrode side end portion connected to the drive electrode and the drive pad, respectively.
  • the drive pad side end is provided, the direction perpendicular to the main surface is the first direction, the direction orthogonal to the first direction is the second direction, and the first direction and the second direction are When the orthogonal direction is the third direction, the semiconductor element and the drive pad are displaced at least in the second direction, and the first drive wire and the second drive wire are separated from each other in the third direction.
  • the drive pad is arranged, and the drive pad has a first end portion and a second end portion which are both ends in the third direction, and the drive pad side end portion of the first drive wire is the drive pad. It is connected to the first end portion side of the central portion in the third direction, and the drive pad side end portion of the second drive wire is the third portion of the drive pad in the third direction.
  • a semiconductor device connected to two ends.
  • the semiconductor device has an insulating film formed on the driving electrode and an opening formed in a part of the insulating film so as to expose the driving electrode. Is formed in a rectangular shape with the second direction as the short side direction and the third direction as the long side direction when viewed from the first direction, and the size of the drive pad in the third direction is the first.
  • the drive pad includes a first drive pad and a second drive pad, and a drive pad side end portion of the first drive wire is connected to the first drive pad, and the second drive pad is connected to the second drive pad.
  • the semiconductor device 1 seals the substrate 10, the drive lead 20, the control lead 30, the semiconductor element 40 mounted on the main surface 10a of the substrate 10, and the semiconductor element 40. It includes a resin 50.
  • the substrate 10, the drive lead 20, and the control lead 30 are formed by pressing the same metal base material.
  • the drive lead 20 has an outer lead 20A protruding from the first side surface of the sealing resin 50, and an inner lead 20B provided in the sealing resin 50 and electrically connected to the outer lead 20A.
  • the outer lead 20A and the inner lead 20B are an integrated single component.
  • the control lead 30 has an outer lead 30A protruding from the first side surface of the sealing resin 50, and an inner lead 30B provided in the sealing resin 50 and electrically connected to the outer lead 30A.
  • the outer lead 30A and the inner lead 30B are an integrated single component.
  • the horizontal dimension LY of the semiconductor device 1 is preferably 10 mm or less.
  • the semiconductor device 1 of the present embodiment is a package having a package outline standard (JEITA standard) of TO (Transistor Outline) -252. Specifically, the vertical dimension LX of the semiconductor device 1 is 9.5 mm to 10.50 mm, the horizontal dimension LY is 6.4 mm to 6.8 mm, and the thickness dimension LZ is 2.1 mm to 2.3 mm.
  • the horizontal dimension LY and the thickness dimension LZ correspond to the horizontal dimension LRY and the thickness dimension LRZ of the sealing resin 50.
  • the vertical dimension LRX of the sealing resin 50 is 6.0 mm to 6.4 mm.
  • the semiconductor device 1 is a so-called SIP (Single Inline Package) type in which the outer lead 20A of the drive lead 20 and the outer lead 30A of the control lead 30 extend from one surface of the sealing resin 50, respectively.
  • the shape of the sealing resin 50 is a substantially rectangular parallelepiped.
  • the sealing resin 50 is a synthetic resin having electrical insulation.
  • the sealing resin 50 is an epoxy resin.
  • the sealing resin 50 includes a first sealing resin side surface 51, a second sealing resin side surface 52, a third sealing resin side surface 53, a fourth sealing resin side surface 54, a sealing resin back surface 55, and a sealing resin top surface. It has 56 faces.
  • the drive terminal 22 described later of the drive lead 20 and the control terminal 32 described later of the control lead 30 each project from the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the second sealing resin side surface 52 is an example of the first side surface of the sealing resin.
  • the first sealing resin side surface 51 and the second sealing resin side surface 52 face each other at intervals.
  • the first sealing resin side surface 51 is an example of the second side surface of the sealing resin.
  • the third sealing resin side surface 53 and the fourth sealing resin side surface 54 face each other at intervals.
  • the sealing resin back surface 55 and the sealing resin top surface 56 face each other at intervals.
  • the sealing resin top surface 56 faces in the same direction as the main surface 10a of the substrate 10.
  • the back surface 55 of the sealing resin faces the same direction as the back surface 10b (see FIG. 37) of the substrate 10.
  • the direction in which the sealing resin back surface 55 and the sealing resin top surface 56 are arranged is the thickness direction Z, and the first sealing resin side surface 51 and the second sealing resin side surface 52 are arranged.
  • the direction is the vertical direction X
  • the direction in which the third sealing resin side surface 53 and the fourth sealing resin side surface 54 are arranged is the horizontal direction Y.
  • the vertical direction X and the horizontal direction Y are directions orthogonal to the thickness direction Z.
  • the vertical direction X is a direction orthogonal to the horizontal direction Y.
  • the thickness direction Z corresponds to the first direction
  • the vertical direction X corresponds to the second direction
  • the horizontal direction Y corresponds to the third direction.
  • the sealing resin 50 is formed by molding.
  • Each side surface 51 to 54 of the sealing resin 50 is provided with an inclined surface that is inclined with respect to the thickness direction Z in order to provide a draft so as to facilitate the die removal during molding of the sealing resin 50.
  • each side surface 51 to 54 is provided with a first inclined surface having a draft that makes it easy to pull out the upper die of the mold, and a draft that makes it easier to pull out the lower die of the mold. It has a second inclined surface.
  • the upper mold of the mold forms the sealing resin top surface 56 and the portion of each side surface 51 to 54 on the sealing resin top surface 56 side.
  • the lower mold forms a sealing resin back surface 55 and a portion of each side surface 51 to 54 on the sealing resin back surface 55 side. In one example, as shown in FIGS.
  • the first sealing resin side surface 51 has a first inclined surface 51a and a second inclined surface 51b.
  • the first inclined surface 51a is inclined toward the second sealing resin side surface 52 toward the sealing resin top surface 56.
  • the second inclined surface 51b is inclined toward the second sealing resin side surface 52 toward the sealing resin back surface 55.
  • the length of the first inclined surface 51a is longer than the length of the second inclined surface 51b.
  • the second sealing resin side surface 52 has a first inclined surface 52a and a second inclined surface 52b.
  • the first inclined surface 52a is inclined toward the first sealing resin side surface 51 toward the sealing resin top surface 56.
  • the second inclined surface 52b is inclined toward the first sealing resin side surface 51 toward the sealing resin back surface 55.
  • the length of the first inclined surface 52a is longer than the length of the second inclined surface 52b.
  • the second inclined surface 52b is formed over the sealing resin top surface 56 side with respect to the substrate 10.
  • the third sealing resin side surface 53 has a first inclined surface 53a and a second inclined surface 53b.
  • the first inclined surface 53a is inclined toward the fourth sealing resin side surface 54 toward the sealing resin top surface 56.
  • the second inclined surface 53b is inclined toward the fourth sealing resin side surface 54 toward the sealing resin back surface 55.
  • the length of the first inclined surface 53a is longer than the length of the second inclined surface 53b.
  • the fourth sealing resin side surface 54 has a first inclined surface 54a and a second inclined surface 54b.
  • the first inclined surface 54a is inclined toward the third sealing resin side surface 53 toward the sealing resin top surface 56.
  • the second inclined surface 54b is inclined toward the third sealing resin side surface 53 toward the sealing resin back surface 55.
  • the length of the first inclined surface 51a and the length of the second inclined surface 51b can be changed arbitrarily. Further, the length of the first inclined surface 52a and the length of the second inclined surface 52b can be arbitrarily changed. Further, the length of the first inclined surface 53a and the length of the second inclined surface 53b can be arbitrarily changed. Further, the length of the first inclined surface 54a and the length of the second inclined surface 54b can be arbitrarily changed.
  • FIG. 36 is a view of the semiconductor device 1 as viewed from the top surface 56 of the sealing resin in the thickness direction Z.
  • the sealing resin 50 is shown by a chain double-dashed line, and the parts inside the sealing resin 50 are shown by a solid line.
  • the shape of the sealing resin 50 is such that the vertical direction X is the long side direction. It has a substantially rectangular shape in which the lateral direction Y is the short side direction.
  • the first sealing resin side surface 51 and the second sealing resin side surface 52 are side surfaces along the horizontal direction Y, and the third sealing resin side surface 53 and the fourth sealing resin side surface 54 are side surfaces along the vertical direction X.
  • the substrate 10 has a main surface 10a and a back surface 10b (see FIG. 37) facing opposite sides in the thickness direction Z.
  • the main surface 10a faces the same direction as the sealing resin top surface 56
  • the back surface 10b faces the same direction as the sealing resin back surface 55 (see FIG. 37).
  • the substrate 10 is made of, for example, aluminum (Al) or copper (Cu).
  • the substrate 10 can be divided into an inner main body portion 111 covered with the sealing resin 50 and a protruding portion 112 protruding from the sealing resin 50.
  • the inner main body portion 111 and the protruding portion 112 are adjacent to each other in the vertical direction X.
  • the protruding portion 112 protrudes from the side surface 51 of the first sealing resin in the vertical direction X.
  • the size of the protruding portion 112 in the lateral direction Y is smaller than the size of the inner main body portion 111 in the lateral direction Y.
  • the size of the protrusion 112 in the lateral direction Y can be arbitrarily changed.
  • the size of the protruding portion 112 in the lateral direction Y may be equal to the size of the inner main body portion 111 in the lateral direction Y.
  • the inner body portion 111 is arranged so that the center of the inner main body portion 111 is closer to the side surface 51 of the first sealing resin than the center of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • the inner main body 111 has a main surface 111a, a back surface 111b (see FIG. 37), a first side surface 111c, a second side surface 111d, and a third side surface 111e.
  • the main surface 111a and the back surface 111b face each other in the thickness direction Z.
  • the main surface 111a constitutes the main surface 10a of the substrate 10
  • the back surface 111b constitutes the back surface 10b of the substrate 10.
  • the main surface 111a faces the sealing resin top surface 56 side
  • the back surface 111b faces the sealing resin back surface 55 side.
  • the first side surface 111c faces the second sealing resin side surface 52
  • the second side surface 111d faces the third sealing resin side surface 53
  • the third side surface 111e faces the fourth sealing resin side surface 54.
  • the first side surface 111c extends along the lateral direction Y.
  • the second side surface 111d and the third side surface 111e face each other with a gap in the lateral direction Y.
  • the second side surface 111d and the third side surface 111e extend along the vertical direction X.
  • a narrow portion 113 is formed at the end of the inner main body portion 111 on the protruding portion 112 side.
  • the narrow portion 113 has a curved recess 113a recessed from the second side surface 111d toward the fourth sealing resin side surface 54 side in the lateral direction Y, and a third sealing resin side surface 53 in the lateral direction Y from the third side surface 111e. It is formed by a curved recess 113b that is recessed toward the side.
  • the size of the narrow portion 113 in the lateral direction Y is smaller than the size of the portion of the inner main body portion 111 other than the narrow portion 113 in the lateral direction.
  • the size of the narrow portion 113 in the lateral direction Y is smaller than the size of the protruding portion 112 in the lateral direction Y.
  • the narrow portion 113 is provided so as to be adjacent to the first sealing resin side surface 51 of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • the narrow portion 113 is provided with a through hole 114 penetrating the narrow portion 113 in the thickness direction Z.
  • the shape of the through hole 114 in a plan view is a substantially oval circle in which the lateral direction Y is the longitudinal direction.
  • the exposed surface 111x which is the surface exposed from the sealing resin back surface 55 of the back surface 111b of the inner main body 111, is the portion of the back surface 111b of the inner main body 111 on the first sealing resin side surface 51 side. ..
  • the edge 111xe of the exposed surface 111x on the side surface 52 of the second sealing resin is formed so as to be closer to the side surface 51 of the first sealing resin than the central portion of the sealing resin 50 in the vertical direction X. In the present embodiment, the edge 111xe of the exposed surface 111x extends along the lateral direction Y.
  • the exposed surface 111x is flush with the sealing resin back surface 55.
  • the portion of the back surface 111b of the inner main body 111 other than the exposed surface 111x constitutes a non-exposed surface 111y that is not exposed from the sealing resin back surface 55.
  • the drive lead 20 and the control lead 30 are separated from the substrate 10 in the vertical direction X on the second sealing resin side surface 52 side of the sealing resin 50. It is arranged in the state.
  • the drive lead 20 and the control lead 30 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the drive lead 20 has a drive pad 21, a drive terminal 22, and a connecting portion 23 that connects the drive pad 21 and the drive terminal 22.
  • the drive pad 21 and the connecting portion 23 form an inner lead 20B, and the drive terminal 22 constitutes an outer lead 20A.
  • the drive pad 21 and the connecting portion 23 are arranged between the substrate 10 and the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X. More specifically, the drive pad 21 and the connecting portion 23 are arranged so as to be closer to the side surface 52 of the second sealing resin than the central portion of the sealing resin 50 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive pad 21 is arranged so that the central portion of the drive pad 21 in the lateral direction Y is closer to the side surface 54 of the fourth sealing resin than the central portion of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the connecting portion 23 is arranged on the side surface 54 side of the fourth sealing resin in the lateral direction Y with respect to the central portion of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the shape of the drive pad 21 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than 1/2 the size of the inner main body portion 111 in the lateral direction Y.
  • the drive pad 21 has a first end portion 21a and a second end portion 21b as end portions in the lateral direction Y.
  • the first end portion 21a is an end portion of the drive pad 21 on the side surface 53 of the third sealing resin.
  • the first end portion 21a is arranged so as to be closer to the side surface 53 of the third sealing resin than the central portion in the lateral direction Y of the inner main body portion 111.
  • the second end portion 21b is an end portion of the drive pad 21 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin.
  • the second end portion 21b is located closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the third side surface 111e of the inner main body portion 111. As shown in FIG.
  • the drive pad 21 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 111a of the inner main body portion 111 in the thickness direction Z. Further, the drive pad 21 is located on the sealing resin top surface 56 side of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the connecting portion 23 is continuous from the end portion of the drive pad 21 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the connecting portion 23 is located on the side surface 54 side of the fourth sealing resin with respect to the central portion of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive terminal 22 constitutes a source terminal.
  • the drive terminal 22 projects from the first inclined surface 52a of the second sealing resin side surface 52. That is, the drive terminal 22 has a terminal base end portion 22x which is an end portion of the drive terminal 22 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the terminal base end portion 22x projects from the first inclined surface 52a. In the thickness direction Z, the terminal base end portion 22x is provided so as to be aligned with the drive pad 21 and the connecting portion 23.
  • the control lead 30 has a control pad 31, a control terminal 32, and a connecting portion 33 that connects the control pad 31 and the control terminal 32.
  • the control pad 31 and the connecting portion 33 form an inner lead 30B, and the control terminal 32 constitutes an outer lead 30A.
  • the control pad 31 and the connecting portion 33 are arranged between the substrate 10 and the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X.
  • the control pad 31 and the connecting portion 33 are arranged on the third sealing resin side surface 53 side of the center of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the shape of the control pad 31 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the size of the control pad 31 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y. Therefore, the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y can be increased.
  • the control pad 31 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 111a of the inner main body portion 111 in the thickness direction Z. Further, the control pad 31 is located on the sealing resin top surface 56 side of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the connecting portion 33 is continuous from the end portion of the control pad 31 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the connecting portion 33 is located closer to the third sealing resin side surface 53 of the control pad 31 in the lateral direction Y.
  • the control terminal 32 constitutes a gate terminal. As shown in FIG. 35, the control terminal 32 projects from the first inclined surface 52a of the second sealing resin side surface 52.
  • the semiconductor element 40 is mounted on the main surface 111a of the inner main body 111 by the solder SD. As shown in FIG. 36, the semiconductor element 40 is arranged in a portion of the inner main body portion 111 near the side surface 51 of the first sealing resin. Specifically, in a plan view, the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the first side surface 111c of the inner main body 111 is the second distance between the semiconductor element 40 and the narrow portion 113 of the inner main body 111. Greater than the distance D2. In one example, the semiconductor element 40 is arranged in a portion of the inner main body portion 111 adjacent to the narrow portion 113 in the vertical direction X. In the present embodiment, the semiconductor element 40 is arranged in a portion of the inner main body portion 111 adjacent to the narrow portion 113 in the vertical direction X.
  • the semiconductor element 40 is arranged at the center of the inner main body 111 in the lateral direction Y.
  • the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the second side surface 111d of the inner main body 111, and the fourth distance D4 between the semiconductor element 40 and the third side surface 111e of the inner main body 111. are equal to each other.
  • the amount of deviation between the third distance D3 and the fourth distance D4 is, for example, within 5% of the third distance D3, it can be said that the third distance D3 and the fourth distance D4 are equal to each other.
  • the first distance D1 is larger than the third distance D3 and the fourth distance D4.
  • the second distance D2 is smaller than the third distance D3 and the fourth distance D4.
  • the semiconductor element 40 contains silicon carbide (SiC).
  • SiC MOSFET metal-oxide-semiconductor field-effect transistor
  • the semiconductor element 40 (SiCMOSFT) is an element capable of high-speed switching in response to a drive signal having a frequency of 1 kHz or more and several hundred kHz or less.
  • the semiconductor element 40 is an element capable of high-speed switching in response to a drive signal having a frequency of 1 kHz or more and 100 kHz or less.
  • the semiconductor element 40 performs high-speed switching according to a drive signal having a frequency of 100 kHz.
  • the semiconductor element 40 is formed in a flat plate shape. Specifically, in a plan view, the shape of the semiconductor element 40 is a rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction. In the present embodiment, the size of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y is 3 mm. Here, the size of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y includes a 5% error ( ⁇ 0.15 mm) of 3 mm.
  • the semiconductor element 40 has a front surface 40a, a back surface 40b, a first side surface 40c, a second side surface 40d, a third side surface 40e, and a fourth side surface 40f.
  • the front surface 40a and the back surface 40b face each other in the thickness direction Z.
  • the surface 40a faces the sealing resin top surface 56. That is, the surface 40a faces the same direction as the main surface 10a of the substrate 10.
  • the back surface 40b faces the back surface 55 of the sealing resin.
  • the back surface 40b faces the main surface 111a of the inner main body 111.
  • the first side surface 40c faces the first sealing resin side surface 51
  • the second side surface 40d faces the second sealing resin side surface 52
  • the third side surface 40e faces the third sealing resin side surface 53
  • the fourth The side surface 40f faces the fourth sealing resin side surface 54.
  • a main surface side drive electrode 41 and a control electrode 43 are formed on the surface 40a.
  • a back surface side drive electrode 42 is formed on the back surface 40b.
  • the main surface side drive electrode 41 constitutes the source electrode
  • the back surface side drive electrode 42 constitutes the drain electrode.
  • the control electrode 43 constitutes a gate electrode.
  • the back surface side drive electrode 42 is electrically connected to the inner main body 111 by the solder SD.
  • the main surface side drive electrode 41 is formed over most of the surface 40a.
  • the shape of the main surface side drive electrode 41 is a substantially rectangular shape with the vertical direction X as the short side direction and the horizontal direction Y as the long side direction.
  • the main surface side drive electrode 41 is formed with a recess 41a that opens toward the third sealing resin side surface 53.
  • the recess 41a is formed at the end of the main surface side drive electrode 41 on the side surface 53 side of the third sealing resin and at the center portion in the vertical direction X.
  • a control electrode 43 is formed in the recess 41a.
  • the semiconductor element 40 has a passivation film 44, which is an insulating film formed on the main surface side drive electrode 41 and the control electrode 43.
  • the passivation film 44 is formed with an opening 45 that exposes a part of the main surface side drive electrode 41 and a part of the control electrode 43.
  • the shape of the opening 45 in a plan view is a rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the size of the opening 45 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y. In other words, the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the opening 45 in the lateral direction Y.
  • the opening 45 is provided at the center of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the vertical direction X. Specifically, a first distance DC1 between the opening 45 and the first side surface 40c of the semiconductor element 40, a second distance DC2 between the opening 45 and the second side surface 40d of the semiconductor element 40, and an opening. The third distance DC3 between the portion 45 and the third side surface 40e of the semiconductor element 40 and the fourth distance DC4 between the opening 45 and the fourth side surface 40f of the semiconductor element 40 are equal to each other.
  • the maximum deviation amount of the first distance DC1, the second distance DC2, the third distance DC3, and the fourth distance DC4 is within 5% of, for example, the first distance DC1, the first distance DC1, the second distance It can be said that the DC2, the third distance DC3, and the fourth distance DC4 are equal to each other.
  • the main surface side drive electrode 41 has an exposed region 46 exposed by the opening 45.
  • the exposed region 46 has a first exposed end portion 46a and a second exposed end portion 46b, which are both ends in the lateral direction Y.
  • the first exposed end portion 46a is an end portion of the exposed region 46 on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40.
  • the second exposed end portion 46b is an end portion of the exposed region 46 on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40.
  • the semiconductor device 1 includes a plurality of drive wires 60 and one control wire 70.
  • the plurality of drive wires 60 are composed of two drive wires, a first drive wire 61 and a second drive wire 62. That is, the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61 is arranged on the control wire 70 side with respect to the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are made of the same metal.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 include aluminum.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 is equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 Can be said to be equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are equal to the wire diameter of the control wire 70.
  • the amount of deviation between the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 and the wire diameter of the control wire 70 is within 5% of the wire diameter of the control wire 70, for example, the first drive wire 61 and It can be said that the wire diameter of the second drive wire 62 is equal to the wire diameter of the control wire 70.
  • An example of the wire diameters of the first drive wire 61, the second drive wire 62, and the control wire 70 is 125 ⁇ m to 250 ⁇ m. In the present embodiment, the wire diameters of the first drive wire 61, the second drive wire 62, and the control wire 70 are 125 ⁇ m, respectively.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 each connect the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are each connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 by wire bonding, for example.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21 side.
  • the configurations of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 will be described in detail.
  • the first drive wire 61 has a drive electrode side end portion 61a and a drive pad side end portion 61b.
  • the second drive wire 62 has a drive electrode side end portion 62a and a drive pad side end portion 62b.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a.
  • the distance DW1 is the minimum value of the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62
  • the distance DW2 is the maximum distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62. The value.
  • the distance between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end 61a and the horizontal direction Y from the drive pad side end 61b to the auxiliary line LS2 along the vertical direction X is defined as the distance DY1.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the portion 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end portion 62b is defined as the distance DY2. In this case, the distance DY2 is larger than the distance DY1.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to the first exposed end portion 46a.
  • the drive electrode side end portion 61a is a portion of the main surface side drive electrode 41 adjacent to the control electrode 43 in the lateral direction Y, that is, a portion constituting the bottom portion of the recess 41a of the main surface side drive electrode 41. It is connected to the.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end portion 21a side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to the first end portion 21a of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged as the first end portion 21a of the drive pad 21 so as to be a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed. ..
  • the drive pad side end portion so that the capillary for supplying the first drive wire 61 in the wire bonding device is located at the end edge of the first end portion 21a of the drive pad 21 on the third sealing resin side surface 53 side.
  • the position of the lateral Y with respect to the first end 21a of 61b is set.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 61a.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is connected to the second exposed end portion 46b side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b.
  • the drive electrode side end portion 62a is on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed as the end portion on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y. It is arranged so as to be the limit position.
  • the second exposure of the exposed region 46 of the drive electrode side end portion 62a is located at the edge of the exposed region 46 on the fourth side surface 40f side of the capillary that supplies the second drive wire 62 in the wire bonding apparatus.
  • the position of the lateral Y with respect to the end portion 46b is set.
  • the drive electrode side end portion 62a is arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the state in which the drive electrode side end portion 62a and the drive electrode side end portion 61a are aligned means that the drive electrode side end portions 61a and 62a in the vertical direction X overlap each other, and a manufacturing error due to wire bonding occurs. Including overlapping parts accordingly. In other words, if the amount of deviation in the vertical direction X at the end portions 61a and 62a on both drive electrode sides is about the same as the variation in wire bonding, the end portions 61a and 62a on both drive electrode sides are aligned in the vertical direction X. It can be said that it is.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged as the second end portion 21b of the drive pad 21 so as to be a limit position on the fourth sealing resin side surface 54 side in the region where wire bonding can be performed. ..
  • the drive pad side end portion so that the capillary for supplying the second drive wire 62 in the wire bonding device is located at the end edge of the second end portion 21b of the drive pad 21 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin.
  • the position of the lateral Y with respect to the second end portion 21b of 62b is set.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 62a.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged on the side surface 54 side of the fourth sealing resin with respect to the semiconductor element 40 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portions 62b are arranged in the horizontal direction Y in the vertical direction X in a state of being aligned with the drive pad side end portions 61b.
  • the state in which the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 61b are aligned in the vertical direction X is caused by the fact that both drive pad side end portions 61b and 62b in the vertical direction X overlap each other and wire bonding. Includes partial overlap depending on the manufacturing error.
  • the control wire 70 connects the control electrode 43 of the semiconductor element 40 and the control pad 31.
  • the control wire 70 is connected to the control electrode 43 and the control pad 31 by, for example, wire bonding.
  • the control wire 70 is made of the same material as the plurality of drive wires 60.
  • the control wire 70 has a control electrode side end portion 71 and a control pad side end portion 72.
  • the control electrode side end 71 is an end connected to the control electrode 43 of the control wire 70.
  • the control pad side end 72 is an end connected to the control pad 31 of the control wires 70.
  • the distance DW3 between the control electrode side end 71 of the control wire 70 and the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 of the control electrode side end 71 is smaller than the distance DW1.
  • the distance DY3 between the auxiliary line LS5 along the vertical direction X from the control electrode side end 71 and the auxiliary line LS6 along the vertical direction X from the control pad side end 72 is larger than the distance DY1 and larger than the distance DY2. small.
  • the size of the distance DY3 can be changed arbitrarily. In one example, the distance DY3 is less than or equal to the distance DY1.
  • a recess 115a is provided on the portion of the back surface 10b of the substrate 10 (the back surface 111b of the inner main body 111) on the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the recess 115a is formed by recessing the inner main body 111 from the back surface 111b toward the main surface 111a in a stepped shape.
  • the recess 115a is formed in the vertical direction X from the first side surface 111c of the inner main body 111 to the portion of the inner main body 111 closer to the second sealing resin side surface 52 than the central portion in the vertical direction X.
  • the recess 115a is formed so that the edge on the side surface 51 side of the first sealing resin is aligned with the second side surface 40d of the semiconductor element 40 in the vertical direction X.
  • the semiconductor element 40 is mounted on the main surface 111a of the inner main body 111 so that the edge of the recess 115a on the side surface 51 side of the first sealing resin and the second side surface 40d of the semiconductor element 40 are aligned in the vertical direction X. Has been done.
  • the edge of the recess 115a on the side surface 51 side of the first sealing resin coincides with the edge 111xe of the exposed surface 111x. Further, in the present embodiment, the recess 115a is formed over the entire lateral direction Y of the portion on the back surface 111b of the inner main body portion 111 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the depth H1 of the recess 115a is 1 ⁇ 2 or less of the thickness of the substrate 10 (thickness T of the inner main body 111). In the present embodiment, the depth H1 is 1/3 of the thickness T of the inner main body 111. Here, if the amount of deviation between the depth H1 and 1/3 of the thickness T is, for example, within 5% of the depth H1, it can be said that the depth H1 is 1/3 of the thickness T. In this embodiment, the depth H1 is 0.9 mm. A part of the sealing resin 50 is contained in the recess 115a.
  • a recess 115b is provided at the end of the back surface 111b of the inner main body 111 on the side 51 side of the first sealing resin with respect to the recess 115a on the side surface 53 of the third sealing resin.
  • a recess 115c is provided at the end of the back surface 111b of the inner main body 111 on the side 51 side of the first sealing resin with respect to the recess 115a on the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the recesses 115b and 115c are formed by recessing the inner main body 111 from the back surface 111b toward the main surface 111a, respectively. As shown in FIG.
  • the recess 115b is formed from the second side surface 111d of the inner main body 111 to the portion on the third sealing resin side surface 53 side of 1/2 of the third distance D3 in the lateral direction Y.
  • the recess 115c is formed in the lateral direction Y from the third side surface 111e of the inner main body 111 to the portion 54 side of the fourth sealing resin side surface from 1/2 of the fourth distance D4.
  • the third distance D3 is the distance between the semiconductor element 40 and the second side surface 111d of the inner main body 111
  • the fourth distance D4 is the third side surface of the semiconductor element 40 and the inner main body 111. The distance from 111e.
  • the recess 115b is connected to an end portion of the recess 115a on the second side surface 111d side in the lateral direction Y.
  • the recess 115c is connected to the end of the recess 115a on the third side surface 111e side in the lateral direction Y.
  • the depth H2 of the recess 115b is equal to the depth H3 of the recess 115c.
  • the depths H2 and H3 are 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the inner main body 111. In this embodiment, the depths H2 and H3 are 1/3 of the thickness T. That is, the depths H2 and H3 are equal to the depth H1. In the present embodiment, the depths H2 and H3 are 0.9 mm, respectively.
  • a part of the sealing resin 50 is contained in the recesses 115b and 115c.
  • recesses 115d are provided in the recesses 113a and 113b of the inner main body 111 and a part of the through holes 114, respectively.
  • the recesses 115d provided in the recesses 113a and 113b are formed along the recesses 113a and 113b.
  • the recess 115d provided in the through hole 114 is provided in the second sealing resin side surface 52 and the central portion in the lateral direction Y of the inner side surfaces constituting the through hole 114.
  • the depth H4 of these depressions 115d is equal to the depths H2 and H3 of the depressions 115b and 115c.
  • the depth H4 is equal to the depths H2 and H3. It can be said that. A part of the sealing resin 50 is contained in each of these recesses 115d.
  • recesses 115a, 115b, 115c, 115d are formed by pressing (punching) the substrate 10. Therefore, the recesses 115a, 115b, 115c, 115d are formed at the same time in one step.
  • the inner main body portion 111 includes a first thin-walled portion 116a which is a portion between the recess 115a and the main surface 111a in the thickness direction Z, and the recess 115b and the main surface 111a in the thickness direction Z.
  • the second thin-walled portion 116b which is a portion between
  • the third thin-walled portion 116c which is a portion between the recess 115c and the main surface 111a in the thickness direction Z, and the recess 115d and the main surface 111a in the thickness direction Z.
  • It has a fourth thin-walled portion 116d which is a portion between. As shown in FIGS.
  • the thickness T1 of the first thin portion 116a and the thickness of the second thin portion 116b T2 are equal to each other.
  • the thickness T3 of the third thin portion 116c, and the thickness T4 of the fourth thin portion 116d are equal to each other.
  • the maximum deviation amount of the thicknesses T1, T2, T3, and T4 is within 5% of the thickness T1, it can be said that the thicknesses T1, T2, T3, and T4 are equal to each other.
  • the length L1 of the first thin-walled portion 116a in the vertical direction X is longer than the length L2 of the second thin-walled portion 116b in the horizontal direction Y and the length L3 of the third thin-walled portion 116c in the horizontal direction Y. Further, the length L1 is longer than the length L4 of the fourth thin-walled portion 116d.
  • the length L1 is at least twice the lengths L2, L3, and L4.
  • the length L1 is three times or more the lengths L2, L3, and L4.
  • the length L1 is about 10 times the lengths L2, L3, and L4.
  • the lengths L2, L3, and L4 are equal to each other.
  • the maximum deviation amount of the lengths L2, L3, and L4 is, for example, within 5% of the length L2, it can be said that the lengths L2, L3, and L4 are equal to each other.
  • the unexposed surface 111y of the back surface 111b of the inner main body 111 is the first unexposed surface 111ya and the second thin portion 116b facing the same side as the exposed surface 111x in the first thin portion 116a.
  • the second unexposed surface 111yb facing the same side as the exposed surface 111x, the third non-exposed surface 111yc facing the same side as the exposed surface 111x in the third thin-walled portion 116c, and the same side as the exposed surface 111x in the fourth thin-walled portion 116d. Includes a fourth unexposed surface 111yd facing.
  • the shortest distance from the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X to the back surface 10b of the substrate 10 (exposed surface 111x of the inner main body 111) is defined as the distance DP1, and the third sealing in the horizontal direction Y.
  • the shortest distance from the stop resin side surface 53 to the back surface 10b of the substrate 10 (exposed surface 111x of the inner main body 111) is defined as the distance DP2, and the fourth sealing resin side surface 54 in the lateral direction Y to the back surface 10b of the substrate 10 (inner main body)
  • the shortest distance to the exposed surface 111x) of 111 is defined as the distance DP3.
  • the distance DP1 is longer than the distance DP2 and the distance DP3.
  • the distance DP1 is at least twice the distance DP2 and the distance DP3. More preferably, the distance DP1 is three times or more the distance DP2 and the distance DP3. More preferably, the distance DP1 is four times or more the distance DP2 and the distance DP3. Even more preferably, the distance DP1 is 5 times or more the distance DP2 and the distance DP3. In the present embodiment, the distance DP1 is about 6 times the distance DP2 and the distance DP3.
  • the terminal base end portion 22x in contact with the second sealing resin side surface 52 at the drive terminal 22 is aligned with the drive pad 21 and the connecting portion 23 of the drive lead 20 in the thickness direction Z. It is arranged so as to be. That is, the terminal base end portion 22x is arranged so as to be closer to the sealing resin top surface 56 side than the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z. Further, the terminal base end portion 22x is arranged so as to be on the sealing resin top surface 56 side of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z. In the present embodiment, the terminal base end portion 22x is arranged so as to be closer to the sealing resin top surface 56 side than the central portion of the sealing resin 50 in the thickness direction Z in the thickness direction Z.
  • the creepage distance DP between the drain terminal (back surface 10b of the substrate 10) and the source terminal (drive terminal 22) in the semiconductor device 1 is the second sealing resin side surface from the drive terminal 22 to the sealing resin back surface 55. It is defined by the sum of the distance DP4 along 52 and the above-mentioned distance DP1.
  • the distance DP4 is a distance DPA along the second inclined surface 52b from the terminal base end portion 22x to the edge of the second inclined surface 52b on the side of the first inclined surface 52a, and the first inclined surface 52a.
  • the drive terminal 22 is arranged so as to be on the sealing resin top surface 56 side of the surface 40a of the semiconductor element 40, the drive terminal 22 and the substrate 10 are aligned in the thickness direction Z.
  • the distance DP4 is longer than the configuration in which the drive terminals 22 are arranged so as to be in the state.
  • the length of the first thin-walled portion 116a is longer than the length of the second thin-walled portion 116b and the third thin-walled portion 116c, the length of the first thin-walled portion 116a of the second thin-walled portion 116b and the third thin-walled portion 116c
  • the distance DP1 is longer than the configuration of length or less.
  • 41 and 42 show the configuration of the semiconductor device 200 of the comparative example.
  • the semiconductor device 200 of the comparative example is mainly different in the shape of the substrate 210 from the semiconductor device 1 of the present embodiment. Therefore, in the semiconductor device 200 of the comparative example, even if the components other than the substrate 210 have a shape slightly different from the shape of the components of the semiconductor device 1, they are common to the semiconductor device 1 of the present embodiment for convenience. Reference numerals are given, and the description thereof will be omitted.
  • the substrate 210 is formed with recesses 211a, 211b, 211c, 211d as in the substrate 10 of the present embodiment. That is, the substrate 210 is formed by the first thin-walled portion 212a formed by the recess 211a, the second thin-walled portion 212b formed by the recess 211b, the third thin-walled portion 212c formed by the recess 211c, and the fourth thin-walled portion 211d formed by the recess 211d. It has a thin-walled portion 212d.
  • the length LR1 of the first thin-walled portion 212a, the length LR2 of the second thin-walled portion 212b, the length LR3 of the third thin-walled portion 212c, and the fourth thin-walled portion 212c are different.
  • the length LR4 of 212d is equal to each other.
  • the distance DR from the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X to the back surface 210b of the substrate 210 is smaller than the distance DP1 (see FIG. 37). That is, the creepage distance DP of the semiconductor device 1 of the present embodiment is longer than the creepage distance DPR of the semiconductor device 200 of the comparative example. As a result, the semiconductor device 1 of the present embodiment has a higher withstand voltage than the semiconductor device 200 of the comparative example.
  • the withstand voltage indicates the voltage until the drive terminal and the back surface of the substrate are short-circuited.
  • the creepage distance DPR is defined by the sum of the distance DP4 and the distance DR.
  • the back surface 111b of the inner main body 111 is exposed from the back surface 55 of the sealing resin. Further, a recess 115a is formed in a portion of the back surface 111b of the inner main body 111 on the side surface 52 of the second sealing resin, and a part of the sealing resin 50 is contained in the recess 115a.
  • the distance DP1 which is the shortest distance from the second sealing resin side surface 52 of the sealing resin 50 to the back surface 111b of the inner main body 111, is from the third sealing resin side surface 53 to the back surface 111b of the inner main body 111.
  • the creepage distance DP from the protruding portion of the drive terminal 22 in the sealing resin 50 to the back surface 10b of the substrate 10 can be lengthened. Therefore, the dielectric strength of the semiconductor device 1 can be improved.
  • the first thin-walled portion 116a is formed by forming the recess 115a in the portion on the back surface 111b of the inner main body portion 111 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the sealing resin 50 is arranged on the side surface 51 side of the first sealing resin with respect to the center of the sealing resin 50 in the vertical direction X. According to this configuration, the distance DP1 can be increased, so that the dielectric strength of the semiconductor device 1 can be improved.
  • the semiconductor element 40 is arranged on the main surface 10a of the substrate 10 at a portion on the side surface 51 side of the first sealing resin with respect to the recess 115a. According to this configuration, since the thickness of the portion of the substrate 10 immediately below the semiconductor element 40 is not thinned by the recess 115a, the semiconductor element 40 can effectively dissipate heat.
  • the first side surface 40c of the semiconductor element 40 is located on the main surface 10a of the substrate 10 on the side surface 51 of the first sealing resin with respect to the center of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • the recess 115a can be formed on the side surface 51 side of the first sealing resin in the vertical direction X
  • the edge (edge 111xe) on the side surface 52 of the second sealing resin of 111x) can be formed closer to the side surface 51 of the first sealing resin. Therefore, the distance DP1 can be increased, and the dielectric strength of the semiconductor device 1 can be improved.
  • the depth H1 of the recess 115a is 1 ⁇ 2 or less of the thickness of the substrate 10 (thickness T of the inner main body 111). According to this configuration, since the decrease in the volume of the inner main body 111 can be suppressed, the decrease in the heat dissipation capacity of the semiconductor element 40 due to the substrate 10 can be suppressed.
  • the depth H1 of the recess 115a is 1/3 or less of the thickness of the substrate 10 (thickness T of the inner main body 111). According to this configuration, the decrease in the volume of the inner main body 111 can be further suppressed, so that the decrease in the heat dissipation capacity of the semiconductor element 40 due to the substrate 10 can be further suppressed.
  • the substrate 10 has a first thin-walled portion 116a formed by the recess 115a, a second thin-walled portion 116b formed by the recess 115b, and a third thin-walled portion 116c formed by the recess 115c. According to this configuration, the separation between the substrate 10 and the sealing resin 50 can be suppressed by allowing a part of the sealing resin 50 to enter each of the recesses 115a, 115b, and 115c.
  • the terminal base end portion 22x of the drive terminal 22 in contact with the second sealing resin side surface 52 is closer to the sealing resin top surface 56 than the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z. It is provided so as to be. According to this configuration, the distance DP4 from the terminal base end portion 22x to the sealing resin back surface 55 can be increased, so that the dielectric strength of the semiconductor device 1 can be improved.
  • the terminal base end portion 22x of the drive terminal 22 in contact with the second sealing resin side surface 52 is closer to the sealing resin top surface 56 than the surface 40a of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z. It is provided so as to be. According to this configuration, the distance DP4 from the terminal base end portion 22x to the sealing resin back surface 55 can be made larger, so that the dielectric strength of the semiconductor device 1 can be further improved.
  • the terminal base end portion 22x in contact with the second sealing resin side surface 52 of the drive terminal 22 is sealed in the thickness direction Z from the central portion of the sealing resin 50 in the thickness direction Z. It is provided so as to be on the top surface 56 side of the stop resin. According to this configuration, the distance DP4 from the terminal base end portion 22x to the sealing resin back surface 55 can be increased, so that the dielectric strength of the semiconductor device 1 can be improved.
  • the inductance contained from the source electrode to the source terminal decreases as the width of the conductor connecting the source electrode and the source terminal increases in a plan view.
  • the width between the two drive wires forming the most distant combination of the plurality of drive wires is defined as the width of the conductor in a plan view.
  • the two drive wires constituting the most distant combination of the plurality of drive wires are two drive wires 60 as in the present embodiment, the two drive wires 61 and 62 Consists of the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are driven with the main surface side drive electrode 41 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. It is connected to the pad 21.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a. According to this configuration, the width of the conductor in the plan view can be increased as compared with the configuration in which the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are parallel in the plan view.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased, so that the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the inductance is reduced by 5 to 7 (nH) as compared with the configuration in which the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are parallel in a state of being separated by a distance DW1 in a plan view.
  • the distance DW1 is the distance between the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 and the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the opening 45 in the lateral direction Y. According to this configuration, the distance DW2 between the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 can be increased. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the drive pad side end 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end 21a of the drive pad 21, and the drive pad side end 62b of the second drive wire 62 is a drive pad. It is connected to the second end portion 21b of 21. According to this configuration, the distance DW2 between the drive pad side end portion 61b and the drive pad side end portion 62b can be increased. Therefore, since the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41, and the drive electrode side end portion of the second drive wire 62. 62a is connected to the second exposed end 46b of the exposed region 46.
  • the distance DW1 between the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 62a can be increased. Therefore, since the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 are each closer to the semiconductor element 40 than the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X. It is connected to the part. According to this configuration, since the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be shortened, the distance from the main surface side drive electrode 41 (source electrode) to the drive terminal 22 (source terminal) of the drive lead 20 is reached. The inductance between them can be further reduced.
  • the same material is used for the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 and the wire diameter of the second drive wire 62 are equal to each other. According to this configuration, the work of connecting the drive wires 61 and 62 to the main surface side drive electrodes 41 and the drive pads 21 can be performed with the same wire, so that the work process can be simplified.
  • the same material is used for the plurality of drive wires 60 and control wires 70.
  • the wire diameters of the plurality of drive wires 60 and the wire diameters of the control wires 70 are equal to each other. According to this configuration, the work of connecting the plurality of drive wires 60 to the main surface side drive electrodes 41 and the drive pads 21 and the work of connecting the control wires 70 to the control electrodes 43 and the control pads 31 are carried out with the same wire. Therefore, those work processes can be simplified.
  • the drive lead 20 and the substrate 10 are formed by, for example, pressing the same metal plate. According to this configuration, the processing process of the drive lead 20 and the substrate 10 can be simplified as compared with the case where the drive lead 20 and the substrate 10 are formed of individual metal plates.
  • the drive lead 20, the control lead 30, and the substrate 10 are formed by, for example, pressing the same metal plate. According to this configuration, the processing steps of the drive lead 20, the control lead 30, and the substrate 10 can be simplified as compared with the case where the drive lead 20, the control lead 30, and the substrate 10 are formed of individual metal plates.
  • the semiconductor device 1 of the fifth embodiment can be changed as follows, for example.
  • the following modifications can be combined with each other as long as there is no technical conflict.
  • the parts common to the fifth embodiment are designated by the same reference numerals as those in the fifth embodiment, and the description thereof will be omitted.
  • the number of drive wires 60 is not limited to two and can be changed arbitrarily.
  • the plurality of drive wires 60 may be composed of three drive wires, a first drive wire 61, a second drive wire 62, and a third drive wire 63.
  • the third drive wire 63 is arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the most distant combination is the two drive wires at the most distant positions.
  • the most distant combination is the combination of the drive wires at both ends of the lateral direction Y.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the drive electrode side end portion 63a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end 63b is an end connected to the drive pad 21 of the third drive wire 63.
  • the distance DW5 is equal to each other.
  • the distance DW4 and the distance DW5 are equal to each other.
  • the distances DW4 and DW5 are larger than the distance DW3 between the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 and the control electrode side end portion 71 of the control wire 70.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61, the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62, and the drive electrode side end portion 63a of the third drive wire 63 are mutually connected. They are arranged in the horizontal direction Y in the aligned state.
  • the state in which the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a are aligned with each other in the vertical direction X means that the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a in the vertical direction X overlap each other, and the manufacturing is caused by wire bonding. Includes partial overlap depending on the error.
  • the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a will be the vertical X. It can be said that they are all in line.
  • the drive pad side end portion 63b of the third drive wire 63 is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW6 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 63b of the first drive wire 61 is larger than the distance DW4.
  • the distance DW7 between the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 63b of the second drive wire 62 is larger than the distance DW5. In FIG. 43, the distance DW6 is larger than the distance DW7.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side.
  • the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the third drive wire 63 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side.
  • the distance between the third drive wire 63 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the arrangement position of the drive pad side end 63b with respect to the drive pad 21 can be arbitrarily changed.
  • the drive pad side end 63b may be connected to the drive pad 21 so that the distance DW 6 is equal to or less than the distance DW 7.
  • the size of the semiconductor element 40 can be changed arbitrarily.
  • the size of the semiconductor element 40 may be larger than the size of the semiconductor element 40 of the fifth embodiment.
  • the size of the semiconductor element 40 in the vertical direction X and the size in the horizontal direction Y are larger than the size of the semiconductor element 40 of the fifth embodiment.
  • the sizes of the main surface side drive electrode 41 and the opening 45 formed on the surface 40a can be increased in the vertical direction X and the horizontal direction Y, respectively.
  • the size of the opening 45 in the lateral direction Y is larger than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the semiconductor element 40 is arranged in a portion of the inner main body 111 near the side surface 51 of the first sealing resin. Specifically, in a plan view, the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the first side surface 111c of the inner main body 111 is the second distance between the semiconductor element 40 and the narrow portion 113 of the inner main body 111. Greater than the distance D2. In one example, the semiconductor element 40 is arranged in a portion of the inner main body portion 111 adjacent to the narrow portion 113 in the vertical direction X. In the present embodiment, the semiconductor element 40 is arranged in a portion of the inner main body portion 111 adjacent to the narrow portion 113 in the vertical direction X.
  • the semiconductor element 40 is arranged at the center of the inner main body 111 in the lateral direction Y.
  • the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the second side surface 111d of the inner main body 111, and the fourth distance D4 between the semiconductor element 40 and the third side surface 111e of the inner main body 111. are equal to each other.
  • the amount of deviation between the third distance D3 and the fourth distance D4 is, for example, within 5% of the third distance D3, it can be said that the third distance D3 and the fourth distance D4 are equal to each other.
  • the first distance D1 is larger than the third distance D3 and the fourth distance D4.
  • the second distance D2 is smaller than the third distance D3 and the fourth distance D4.
  • the semiconductor device 1 has a first drive wire 61 and a second drive wire 62 as a plurality of drive wires 60.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41, similarly to the drive electrode side end portion 61a of the fifth embodiment.
  • the drive pad side end 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end 21a of the drive pad 21 in the same manner as the drive pad side end 61b of the fifth embodiment.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is connected to the second exposed end portion 46b of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41, similarly to the drive electrode side end portion 62a of the fifth embodiment. There is.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21 as in the drive pad side end portion 62b of the fifth embodiment.
  • the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 62a are arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with each other.
  • the drive pad side end portion 61b and the drive pad side end portion 62b are each connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a.
  • the distance DY1 between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end portion 61a and the auxiliary line LS2 along the vertical direction X from the drive pad side end portion 61b is the drive electrode side.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the end 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end 62b is smaller than the distance DY2.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are attached to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. It is connected. Further, in a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased, so that the drive terminal 22 (source) of the drive lead 20 from the main surface side drive electrode 41 (source electrode) can be increased.
  • the inductance between the terminals) can be reduced.
  • the distance DW1 may be equal to the distance DW2.
  • the first drive wire 61 is parallel to the second drive wire 62.
  • the distance DW1 may be larger than the distance DW2.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is closer than the main surface side drive electrode 41 side. There is.
  • the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually narrows from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the number of drive wires 60 is not limited to two and can be arbitrarily changed.
  • the plurality of drive wires 60 may be composed of three drive wires of a first drive wire 61, a second drive wire 62, and a third drive wire 63.
  • the third drive wire 63 is arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the distance DW5 is equal to each other.
  • the amount of deviation between the distance DW4 and the distance DW5 is, for example, within 5% of the distance DW4, it can be said that the distance DW4 and the distance DW5 are equal to each other.
  • the drive electrode side ends 63a of 63 are arranged so as to be aligned with each other.
  • the drive pad side end portion 63b of the third drive wire 63 is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW6 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 63b of the first drive wire 61 is larger than the distance DW4.
  • the distance DW7 between the drive pad side end 62b and the drive pad side end 63b of the second drive wire 62 is equal to the distance DW5.
  • the amount of deviation between the distance DW7 and the distance DW5 is, for example, within 5% of the distance DW7, it can be said that the distance DW7 is equal to the distance DW5.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the third drive wire 63 is parallel to the second drive wire 62.
  • the depths H1, H2, H3, and H4 of the recesses 115a, 115b, 115c, and 115d can be changed arbitrarily.
  • at least one of the depths H1, H2, H3, and H4 of the recesses 115a, 115b, 115c, and 115d is at least one-third of the thickness T of the substrate 10 and even thinner than the thickness T. Good.
  • a part of the sealing resin 50 easily enters at least one of the recesses 115a, 115b, 115c, and 115d. Therefore, since the moldability of the sealing resin 50 is improved, the yield rate of the semiconductor device 1 can be improved.
  • At least one of the depths H1, H2, H3, and H4 of the recesses 115a, 115b, 115c, and 115d may be 1/3 or more and 1/2 or less of the thickness T of the substrate 10. According to this configuration, it is possible to improve both the yield rate of the semiconductor device 1 and the heat dissipation performance of the inner main body 111.
  • the depth H1 of the depression 115a may be different from the depths H2, H3, H4 of the depressions 115b, 115c, 115d.
  • the depth H1 is shallower than the depths H2, H3, H4.
  • the thickness T1 of the first thin portion 116a is larger than the thickness T2 of the second thin portion 116b, the thickness T3 of the third thin portion 116c, and the thickness T4 of the fourth thin portion 116d. Since it is thicker, the volume of the inner main body 111 can be increased as compared with the configuration in which the thicknesses T1, T2, T3, and T4 are equal to each other. Therefore, the heat dissipation performance of the inner main body 111 can be improved.
  • the depth H1 is deeper than the depths H2, H3, and H4. According to this configuration, a part of the sealing resin 50 easily enters the recess 115a. Therefore, since the moldability of the sealing resin 50 is improved, the yield rate of the semiconductor device 1 can be improved.
  • At least one of the recesses 115b and 115c may be omitted. Further, at least one of the recess 115d formed in the recess 113a, the recess 115d formed in the recess 113b, and the recess 115d formed in the through hole 114 may be omitted.
  • the substrate 10, the drive pad 21, and the control pad 31 may be formed of another metal plate.
  • the substrate 10 and the drive pad 21 may be formed of the same metal plate, and the control pad 31 may be formed of another metal plate.
  • FIGS. 46 to 58 A sixth embodiment of the semiconductor device 1 will be described with reference to FIGS. 46 to 58.
  • the semiconductor device 1 of the present embodiment is different from the semiconductor device 1 of the fifth embodiment in the shapes of the substrate 10, the drive lead 20, the control lead 30, and the sealing resin 50, and the sense lead 80. The difference is that is added.
  • the same components as those in the fifth embodiment may be designated by the same reference numerals, and the description thereof may be omitted.
  • the semiconductor device 1 of the present embodiment is a package whose package external standard (JEITA standard) is TO-263. Specifically, the vertical dimension LX of the semiconductor device 1 is 14.7 mm to 15.5 mm, the horizontal dimension LY is 10.06 mm to 10.26 mm, and the thickness dimension LZ is 4.40 mm to 4.70 mm. Further, the semiconductor device 1 is a SIP type. As described above, the size of the semiconductor device 1 of the present embodiment is larger than the size of the semiconductor device 1 of the fifth embodiment.
  • the shape of the sealing resin 50 is a rectangular parallelepiped.
  • the sealing resin 50 is formed by molding.
  • Each of the sealing resin side surfaces 51 to 54 of the sealing resin 50 is provided with an inclined surface that is inclined with respect to the thickness direction Z in order to provide a draft so as to facilitate the die removal during molding of the sealing resin 50.
  • the first sealing resin side surface 51 has a first inclined surface provided with a draft so as to facilitate the removal of the upper mold of the mold, and the respective sealing resin side surfaces 52 to 54 are the mold. It has a first inclined surface provided with a draft that makes it easy to remove the upper die, and a second inclined surface provided with a draft that makes it easy to remove the lower die of the mold.
  • the upper mold of the mold forms the sealing resin top surface 56 and the portion of each side surface 51 to 54 on the sealing resin top surface 56 side.
  • the lower mold forms a sealing resin back surface 55 and a portion of each side surface 51 to 54 on the sealing resin back surface 55 side.
  • the first sealing resin side surface 51 has a first inclined surface 51a.
  • the first inclined surface 51a is inclined toward the second sealing resin side surface 52 toward the sealing resin top surface 56.
  • the first inclined surface 51a is formed from the sealing resin top surface 56 to the main surface 10a of the substrate 10.
  • the second sealing resin side surface 52 has a first inclined surface 52a and a second inclined surface 52b.
  • the first inclined surface 52a is inclined toward the first sealing resin side surface 51 toward the sealing resin top surface 56.
  • the second inclined surface 52b is inclined toward the first sealing resin side surface 51 toward the sealing resin back surface 55.
  • the length of the first inclined surface 52a is shorter than the length of the second inclined surface 52b.
  • the second inclined surface 52b is formed over the sealing resin top surface 56 side with respect to the substrate 10.
  • the second inclined surface 52b is formed over the sealing resin top surface 56 side with respect to the surface 40a of the semiconductor element 40.
  • the first inclined surface 52a is provided so as to be closer to the sealing resin top surface 56 side than the surface 40a of the semiconductor element 40.
  • the third sealing resin side surface 53 has a first inclined surface 53a and a second inclined surface 53b.
  • the first inclined surface 53a is inclined toward the fourth sealing resin side surface 54 toward the sealing resin top surface 56.
  • the second inclined surface 53b is inclined toward the fourth sealing resin side surface 54 toward the sealing resin back surface 55.
  • the length of the first inclined surface 53a is longer than the length of the second inclined surface 53b.
  • the fourth sealing resin side surface 54 has a first inclined surface 54a and a second inclined surface 54b.
  • the first inclined surface 54a is inclined toward the third sealing resin side surface 53 toward the sealing resin top surface 56.
  • the second inclined surface 54b is inclined toward the third sealing resin side surface 53 toward the sealing resin back surface 55.
  • the length of the first inclined surface 54a is longer than the length of the second inclined surface 53b.
  • the length of the first inclined surface 51a can be changed arbitrarily. Further, the length of the first inclined surface 52a and the length of the second inclined surface 52b can be arbitrarily changed. Further, the length of the first inclined surface 53a and the length of the second inclined surface 53b can be arbitrarily changed. Further, the length of the first inclined surface 54a and the length of the second inclined surface 54b can be arbitrarily changed.
  • An inclined surface 57 having an inclination angle larger than the draft is formed between the first sealing resin side surface 51 and the sealing resin top surface 56.
  • recesses 58 are formed at both ends of the sealing resin 50 in the lateral direction Y.
  • the recess 58 on the side surface 53 of the third sealing resin of the sealing resin 50 is recessed in a lateral direction Y from the side surface 53 of the third sealing resin.
  • the recess 58 on the side surface 54 of the fourth sealing resin of the sealing resin 50 is curved in the lateral direction Y from the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the recess 58 is formed from the top surface 56 of the sealing resin to the main surface 10a of the substrate 10. That is, a part of the main surface 10a of the substrate 10 is exposed by the recess 58.
  • the recess 58 is provided closer to the side surface 52 of the second sealing resin than the center of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • FIG. 47 is a view of the semiconductor device 1 as viewed from the top surface 56 of the sealing resin in the thickness direction Z.
  • the sealing resin 50 is shown by a chain double-dashed line, and the parts inside the sealing resin 50 are shown by a solid line.
  • the shape of the sealing resin 50 is a substantially rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the substrate 10 can be divided into an inner main body portion 111 arranged in the sealing resin 50 and a protruding portion 112 protruding from the sealing resin 50.
  • the inner main body portion 111 and the protruding portion 112 are adjacent to each other in the vertical direction X.
  • the substrate 10 is made of, for example, aluminum (Al) or copper (Cu).
  • a first wide portion 111f is formed at the end of the inner main body portion 111 on the protruding portion 112 side.
  • the size of the first wide portion 111f in the lateral direction Y is larger than the size of the portion of the inner main body portion 111 other than the first wide portion 111f in the lateral direction Y.
  • the first wide portion 111f is provided so as to be adjacent to the first sealing resin side surface 51 of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • a second wide portion 111 g is formed at the end of the inner main body portion 111 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the size of the second wide portion 111g in the lateral direction Y is larger than the size of the portion of the inner main body portion 111 other than the first wide portion 111f in the lateral direction.
  • the size of the second wide portion 111g in the lateral direction Y is smaller than the size of the first wide portion 111f in the lateral direction Y.
  • the protruding portion 112 protrudes from the side surface 51 of the first sealing resin in the vertical direction X.
  • the size of the protruding portion 112 in the lateral direction Y is equal to the size of the first wide portion 111f of the inner main body portion 111 in the lateral direction Y.
  • the size of the protrusion 112 in the lateral direction Y can be arbitrarily changed.
  • the size of the protruding portion 112 in the lateral direction Y may be smaller than the size of the first wide portion 111f of the inner main body portion 111 in the lateral direction Y.
  • the exposed surface 111x which is the surface exposed from the sealing resin back surface 55 of the back surface 111b of the inner main body 111, is the portion of the back surface 111b of the inner main body 111 on the first sealing resin side surface 51 side. ..
  • the edge 111xe of the exposed surface 111x on the side surface 52 of the second sealing resin is formed so as to be closer to the side surface 52 of the second sealing resin than the central portion of the sealing resin 50 in the vertical direction X.
  • the edge 111xe of the exposed surface 111x extends along the lateral direction Y.
  • the exposed surface 111x is flush with the sealing resin back surface 55.
  • the portion of the back surface 111b of the inner main body 111 other than the exposed surface 111x constitutes a non-exposed surface 111y that is not exposed from the sealing resin back surface 55.
  • the drive lead 20, the control lead 30, and the sense lead 80 are arranged on the second sealing resin side surface 52 side of the sealing resin 50 with respect to the substrate 10 in a plan view.
  • the edge of each of the drive lead 20, the control lead 30, and the sense lead 80 on the first sealing resin side surface 51 side is the second sealing resin side surface 52 side of the inner main body portion 111. It overlaps with the edge of.
  • the drive lead 20, the control lead 30, and the sense lead 80 are arranged apart from each other in the lateral direction Y.
  • a sense lead 80 is arranged between the drive lead 20 and the control lead 30 in the lateral direction Y.
  • the substrate 10, the drive lead 20, the control lead 30, and the sense lead 80 are formed by pressing the same metal base material.
  • the drive lead 20 has a drive pad 21, a plurality of drive terminals 22, and a plurality of connecting portions 23 for connecting the drive pad 21 and the plurality of drive terminals 22.
  • the shape of the drive pad 21 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the first end portion 21a of the drive pad 21 is located closer to the side surface 53 of the third sealing resin than the central portion in the lateral direction Y of the inner main body portion 111.
  • the second end portion 21b of the drive pad 21 is provided so as to overlap the end portion of the inner main body portion 111 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than 1/2 the size of the inner main body portion 111 in the lateral direction Y.
  • the drive pad 21 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z. Further, the drive pad 21 is located closer to the sealing resin top surface 56 than the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the plurality of drive terminals 22 include five drive terminals 22a, 22b, 22c, 22d, and 22e.
  • the plurality of connecting portions 23 include five connecting portions 23a, 23b, 23c, 23d, and 23e.
  • the drive terminals 22a to 22e are arranged apart from each other in the lateral direction Y.
  • the drive terminals 22a to 22e are arranged in the order of the drive terminals 22a, 22b, 22c, 22d, 22e from the first end 21a to the second end 21b of the drive pad 21.
  • the connecting portions 23a to 23e are arranged apart from each other in the lateral direction Y.
  • the connecting portion 23a connects the drive pad 21 and the drive terminal 22a
  • the connecting portion 23b connects the drive pad 21 and the drive terminal 22b
  • the connecting portion 23c connects the drive pad 21 and the drive terminal 22c.
  • the 23d connects the drive pad 21 and the drive terminal 22d
  • the connecting portion 23e connects the drive pad 21 and the drive terminal 22e.
  • the drive terminals 22a to 22e, the control terminal 32, and the sense terminal 82 described later are arranged so as to have an equal pitch.
  • the drive terminal 22a is arranged so as to include a portion on the side surface 53 of the third sealing resin with respect to the first end 21a of the drive pad 21.
  • the drive terminal 22a is arranged on the side surface 53 side of the third sealing resin with respect to the central portion of the inner main body portion 111 in the lateral direction Y.
  • the drive terminal 22b is arranged so as to be at the same position as the central portion of the inner main body portion 111 in the lateral direction Y. Specifically, the virtual line LV1 along the vertical direction X at the central portion of the drive terminal 22b in the horizontal direction Y coincides with the virtual line LV2 along the vertical direction X at the central portion of the inner main body portion 111 in the horizontal direction Y. ..
  • the drive terminals 22c to 22e are arranged so as to be closer to the side surface 54 of the fourth sealing resin than the central portion in the lateral direction Y of the inner main body portion 111. In the present embodiment, the drive terminals 22d and 22e are arranged so as to be closer to the side surface 54 of the fourth sealing resin than the semiconductor element 40.
  • the drive terminals 22a, 22c to 22e have the same shape as each other.
  • the drive terminal 22b is shorter than the drive terminals 22a, 22c to 22e.
  • the drive terminal 22a has a terminal base end portion 22xa which is a portion in contact with the second sealing resin side surface 52, and the drive terminal 22b is a portion in contact with the second sealing resin side surface 52.
  • the terminal base end portion 22xb is provided
  • the drive terminal 22c has a terminal base end portion 22xc which is a portion in contact with the second sealing resin side surface 52
  • the drive terminal 22d is a portion in contact with the second sealing resin side surface 52.
  • the drive terminal 22e has a terminal base end portion 22xd, which is a portion that comes into contact with the second sealing resin side surface 52.
  • the terminal base end portions 22xa to 22xe are arranged so as to be aligned with each other and separated from each other in the lateral direction Y.
  • the terminal base end portion 22xc is in contact with the first inclined surface 52a of the second sealing resin side surface 52.
  • the terminal base end portions 22xa, 22xb, 22xd, and 22xe are also in contact with the first inclined surface 52a, similarly to the terminal base end portion 22xc.
  • control lead 30 is arranged so as to overlap the end portion of the inner main body portion 111 on the side surface 53 side of the third sealing resin when viewed from the vertical direction X.
  • the control lead 30 is arranged so as to be closer to the side surface 53 of the third sealing resin than the semiconductor element 40.
  • the control pad 31 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z. Further, the control pad 31 is located on the sealing resin top surface 56 side of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the shape of the control pad 31 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the vertical direction X is the long side direction and the horizontal direction Y is the short side direction.
  • the size of the control pad 31 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y. Therefore, the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y can be increased.
  • the control terminal 32 of the control lead 30 constitutes a gate terminal.
  • the control terminal 32 has the same shape as the drive terminals 22a, 22c to 22e.
  • the sense lead 80 is a lead for electrically connecting the control electrode 43 (gate electrode) and the main surface side drive electrode 41 (source electrode). In a plan view, the sense lead 80 is arranged closer to the side surface 53 of the third sealing resin than the semiconductor element 40.
  • the sense lead 80 has a sense pad 81, a sense terminal 82, and a connecting portion 83 that connects the sense pad 81 and the sense terminal 82.
  • the sense pad 81 is arranged apart from the semiconductor element 40 in the vertical direction X.
  • the sense pad 81 is arranged between the substrate 10 and the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X.
  • the sense pad 81 is arranged between the drive pad 21 and the control pad 31 in the lateral direction Y.
  • the shape of the sense pad 81 in a plan view is a substantially rectangular shape in which the vertical direction X is the long side direction and the horizontal direction Y is the short side direction.
  • the size of the sense pad 81 in the lateral direction Y is equal to the size of the control pad 31 in the lateral direction Y. That is, the size of the sense pad 81 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y can be increased.
  • the sense pad 81 is located on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z. Further, the sense pad 81 is located on the sealing resin top surface 56 side of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the size of the sense pad 81 in the lateral direction Y and the size of the control pad 31 in the lateral direction Y can be arbitrarily changed. In one example, the size of the sense pad 81 in the lateral direction Y may be smaller than the size of the control pad 31 in the lateral direction Y.
  • the connecting portion 83 is continuous from the end portion of the sense pad 81 on the side surface 52 side of the second sealing resin in the vertical direction X.
  • the connecting portion 83 is located at the end of the sense pad 81 on the side surface 53 of the third sealing resin in the lateral direction Y.
  • the sense terminal 82 protrudes from the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the sense terminal 82 has the same shape as the drive terminals 22a, 22c to 22e and the control terminal 32.
  • the semiconductor element 40 As the semiconductor element 40, a SiC MOSFET is used as in the fifth embodiment. Further, the semiconductor element 40 is an element capable of high-speed switching in response to a drive signal having a frequency of 1 kHz or more and several hundred kHz or less, as in the fifth embodiment. Preferably, the semiconductor element 40 is an element capable of high-speed switching in response to a drive signal having a frequency of 1 kHz or more and 100 kHz or less. In the present embodiment, the semiconductor element 40 performs high-speed switching according to a drive signal having a frequency of 100 kHz.
  • the shape and size of the semiconductor element 40 are the same as the shape and size of the semiconductor element 40 of the fifth embodiment.
  • the semiconductor element 40 is arranged closer to the side surface 52 of the second sealing resin with respect to the inner main body portion 111 in the vertical direction X.
  • the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the first side surface 111c of the inner main body 111 in the vertical direction X is the first wide portion 111f of the semiconductor element 40 and the inner main body 111. It is smaller than the second distance D2 between the vertical directions X of.
  • the semiconductor element 40 is arranged in the central portion of the inner main body portion 111 in the lateral direction Y. Specifically, the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the second side surface 111d of the inner body portion 111 in the lateral direction D3 and the lateral direction Y between the semiconductor element 40 and the third side surface 111e of the inner body portion 111.
  • the fourth distance D4 between them is equal to each other.
  • the amount of deviation between the third distance D3 and the fourth distance D4 is, for example, within 5% of the third distance D3, it can be said that the third distance D3 and the fourth distance D4 are equal to each other.
  • the semiconductor device 1 includes a plurality of drive wires 60, a control wire 70, and a sense wire 90.
  • the plurality of drive wires 60 are composed of two drive wires, a first drive wire 61 and a second drive wire 62. That is, the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y.
  • the control wire 70, the first drive wire 61, and the second drive wire 62 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 is arranged on the control wire 70 side with respect to the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are made of the same metal.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 include aluminum.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 is equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameter of the first drive wire 61 Can be said to be equal to the wire diameter of the second drive wire 62.
  • the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are equal to the wire diameter of the control wire 70.
  • the amount of deviation between the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 and the wire diameter of the control wire 70 is within 5% of the wire diameter of the control wire 70, for example, the first drive wire 61 and It can be said that the wire diameter of the second drive wire 62 is equal to the wire diameter of the control wire 70.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are each connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 by wire bonding, for example.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21 side.
  • the configurations of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 will be described in detail.
  • the distance DW2 between the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is the distance DW2 of the first drive wire 61.
  • the distance between the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is larger than the distance DW1.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged on the third sealing resin side surface 53 side with respect to the drive electrode side end portion 61a in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged on the fourth sealing resin side surface 54 side with respect to the drive electrode side end portion 62a in the lateral direction Y.
  • the inclination direction of the first drive wire 61 with respect to the vertical direction X is opposite to the inclination direction of the second drive wire 62 with respect to the vertical direction X.
  • the distance between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end 61a and the horizontal direction Y from the drive pad side end 61b to the auxiliary line LS2 along the vertical direction X is defined as the distance DY1.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the portion 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end portion 62b is defined as the distance DY2. In this case, the distance DY2 is larger than the distance DY1.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is connected to the first exposed end portion 46a side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the main surface side drive electrode 41 is connected to the central portion side of the exposed region 46 with respect to the first exposed end portion 46a of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to a portion of the exposed region 46 that is separated from the control electrode 43, that is, a portion of the main surface side drive electrode 41 that is separated from the bottom portion of the recess 41a.
  • the drive electrode side end portion 61a overlaps with the connecting portion 23b of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end portion 21a side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to the first end portion 21a of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to a portion of the drive pad 21 on the side surface 53 side of the third sealing resin with respect to the connecting portion 23b in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 61b overlaps with the connecting portion 23a of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 61b is set to a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed as the first end portion 21a of the drive pad 21 in the lateral direction Y. It may be connected to the first end portion 21a.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is connected to the second exposed end portion 46b side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 62a overlaps the portion between the connecting portion 23b and the connecting portion 23c in the horizontal direction Y when viewed from the vertical direction X.
  • the drive electrode side end portion 62a is located at the limit position on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed as the second exposed end portion 46b of the exposed region 46 in the lateral direction Y.
  • the position of the side end portion 62a with respect to the exposed region 46 is set.
  • the drive electrode side end portion 62a is arranged so as to be aligned with the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the state in which the drive electrode side end 62a and the drive electrode side end 61a are aligned in the vertical direction X is caused by the fact that both drive electrode side ends 61a and 62a in the vertical direction X overlap each other and wire bonding. Includes partial overlap depending on manufacturing error.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the semiconductor element 40.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 62b overlaps with the connecting portion 23e when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 62b is positioned with respect to the drive pad 21 so as to be a limit position on the side surface 54 side of the fourth sealing resin in the region where wire bonding can be performed as the second end portion 21b of the drive pad 21. May be set.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the control wire 70 connects the control electrode 43 of the semiconductor element 40 and the control pad 31.
  • the control wire 70 is connected to the control electrode 43 and the control pad 31 by, for example, wire bonding.
  • the control wire 70 is made of the same material as the plurality of drive wires 60.
  • the wire diameter of the control wire 70 is equal to the wire diameter of the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the amount of deviation between the wire diameter of the control wire 70 and the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 is within 5% of the wire diameter of the control wire 70, for example, the wire diameter of the control wire 70 It can be said that the wire diameters of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are equal to each other.
  • the control wire 70 has a control electrode side end portion 71 and a control pad side end portion 72.
  • the distance DW3 between the control electrode side end portion 71 and the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is smaller than the distance DW1.
  • the distance DY3 between the auxiliary line LS5 along the vertical direction X from the control electrode side end 71 and the auxiliary line LS6 along the vertical direction X from the control pad side end 72 is larger than the distance DY1 and larger than the distance DY2. Slightly small.
  • the distance DY3 can be changed arbitrarily. In one example, the distance DY3 may be greater than or equal to the distance DY2.
  • the sense wire 90 connects the main surface side drive electrode 41 of the semiconductor element 40 and the sense pad 81.
  • the sense wire 90 is connected to the main surface side drive electrode 41 and the sense pad 81 by wire bonding, for example.
  • the sense wire 90 is made of the same material as the first drive wire 61, the second drive wire 62, and the control wire 70.
  • the wire diameter of the sense wire 90 is equal to, for example, the wire diameter of the control wire 70.
  • the amount of deviation between the wire diameter of the sense wire 90 and the wire diameter of the control wire 70 is within 5% of the wire diameter of the sense wire 90, for example, the wire diameter of the sense wire 90 and the wire diameter of the control wire 70 are different. It can be said that they are equal to each other.
  • the sense wire 90 has a drive electrode side end portion 91 and a sense pad side end portion 92.
  • the drive electrode side end 91 is an end connected to the main surface side drive electrode 41 of the sense wire 90.
  • the sense pad side end 92 is an end connected to the sense pad 81 of the sense wires 90.
  • the sense pad side end portion 92 is arranged on the third sealing resin side surface 53 side with respect to the drive electrode side end portion 91 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end 91 is connected to a portion of the main surface side drive electrode 41 between the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 and the control electrode 43 in the lateral direction Y.
  • the distance DW8 between the drive electrode side end 91 and the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is the distance DW9 between the drive electrode side end 91 and the control electrode side end 71 of the control wire 70.
  • the distance DY4 between the auxiliary line LS7 along the vertical direction X from the drive electrode side end 91 and the auxiliary line LS8 along the vertical direction X from the sense pad side end 92 is larger than the distance DY1 and larger than the distance DY2. small. Further, the distance DY4 is smaller than the distance DY3.
  • a recess 115a is provided on the portion of the back surface 10b of the substrate 10 (the back surface 111b of the inner main body 111) on the side surface 52 of the second sealing resin.
  • the recess 115a is formed by recessing the inner main body 111 from the back surface 111b toward the main surface 111a in a stepped shape.
  • the recess 115a is formed in the vertical direction X from the first side surface 111c of the inner main body 111 to the portion of the inner main body 111 closer to the second sealing resin side surface 52 than the central portion in the vertical direction X.
  • the edge of the recess 115a on the side surface 51 side of the first sealing resin coincides with the edge 111xe of the exposed surface 111x.
  • the recess 115a is in a state in which the edge on the side surface 51 of the first sealing resin (the edge 111xe of the exposed surface 111x) is aligned with the second side surface 40d of the semiconductor element 40 in the vertical direction X. Is formed in.
  • the semiconductor element 40 is inside so that the edge of the recess 115a on the side surface 51 side of the first sealing resin (the edge 111xe of the exposed surface 111x) and the second side surface 40d of the semiconductor element 40 are aligned in the vertical direction X. It is mounted on the main surface 111a of the main body 111. Further, in the present embodiment, the recess 115a is formed over the entire lateral direction Y of the portion on the back surface 111b of the inner main body portion 111 on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the depth H1 of the recess 115a is 1 ⁇ 2 or less of the thickness of the substrate 10 (thickness T of the inner main body 111). Preferably, the depth H1 is 1/3 or less of the thickness T of the inner main body 111. In the present embodiment, the depth H1 is 1/4 or less of the thickness T of the inner main body 111. A part of the sealing resin 50 is contained in the recess 115a.
  • FIGS. 47 and 50 there is a recess 115b at the end of the back surface 111b of the inner main body 111 on the side 51 side of the first sealing resin side of the recess 115a on the side surface 53 of the third sealing resin.
  • a recess 115c is provided at the end of the back surface 111b of the inner main body 111 on the side surface 51 side of the first sealing resin with respect to the recess 115a on the side surface 54 of the fourth sealing resin.
  • the recesses 115b and 115c are formed by recessing the inner main body 111 from the back surface 111b toward the main surface 111a, respectively.
  • the recess 115b is formed in the lateral direction Y from the second side surface 111d of the inner main body portion 111 to the portion closer to the third sealing resin side surface 53 side than 1/2 of the third distance D3.
  • the recess 115c is formed in the lateral direction Y from the third side surface 111e of the inner main body 111 to the portion 54 side of the fourth sealing resin side surface from 1/2 of the fourth distance D4.
  • the third distance D3 is the distance between the semiconductor element 40 and the second side surface 111d of the inner main body 111
  • the fourth distance D4 is the third side surface of the semiconductor element 40 and the inner main body 111. The distance from 111e.
  • the recess 115b is connected to an end portion of the recess 115a on the second side surface 111d side in the lateral direction Y.
  • the recess 115c is connected to the end of the recess 115a on the third side surface 111e side in the lateral direction Y.
  • the depth H2 of the recess 115b is equal to the depth H3 of the recess 115c.
  • the depths H2 and H3 are 1 ⁇ 2 or less of the thickness T of the inner main body 111.
  • the depths H2 and H3 are 1/3 or less of the thickness T of the inner main body 111.
  • the depths H2 and H3 are 1/4 or less of the thickness T of the inner main body 111.
  • Depths H2 and H3 are equal to depth H1.
  • a part of the sealing resin 50 is contained in the recesses 115b and 115c.
  • the inner main body portion 111 includes a first thin-walled portion 116a which is a portion between the recess 115a and the main surface 111a in the thickness direction Z, and the recess 115b and the main surface 111a in the thickness direction Z. It has a second thin-walled portion 116b which is a portion between the two, and a third thin-walled portion 116c which is a portion between the recess 115c and the main surface 111a in the thickness direction Z. As shown in FIGS.
  • the thickness T1 of the first thin portion 116a, the thickness T2 of the second thin portion 116b, and The thickness T3 of the third thin portion 116c is equal to each other.
  • the maximum deviation amount of the thicknesses T1, T2, and T3 is within 5% of the thickness T1, it can be said that the thicknesses T1, T2, and T3 are equal to each other.
  • the length L1 of the first thin-walled portion 116a in the vertical direction X is longer than the length L2 of the second thin-walled portion 116b in the horizontal direction Y and the length L3 of the third thin-walled portion 116c in the horizontal direction Y.
  • the length L1 is more than twice the lengths L2 and L3.
  • the length L1 is three times or more the lengths L2 and L3. In this embodiment, the length L1 is about 10 times the lengths L2 and L3.
  • the unexposed surface 111y of the back surface 111b of the inner main body 111 faces the same side as the exposed surface 111x in the first thin-walled portion 116a and the first unexposed surface 111ya facing the same side as the exposed surface 111x, and the second thin-walled portion 116b facing the same side as the exposed surface 111x.
  • the unexposed surface 111yb and the third non-exposed surface 111yc facing the same side as the exposed surface 111x in the third thin portion 116c are included.
  • a recess 115e is formed at the end of the first thin-walled portion 116a on the side surface 52 side of the second sealing resin.
  • the recess 115e is formed over the entire lateral direction Y of the inner main body 111.
  • the recess 115e is formed on the first surface 115f extending along the thickness direction Z and the first side surface 111c side of the first surface 115f and extending along the vertical direction X. It has a surface of 115 g.
  • a curved surface portion 115h is formed at the connecting portion between the first surface 115f and the second surface 115g.
  • the depth H5 of the recess 115e is deeper than, for example, the depth H1 of the recess 115a.
  • a fifth thin-walled portion 116e is formed by a recess 115d.
  • the fifth thin-walled portion 116e is a portion between the second surface 115g and the main surface 111a of the recess 115e in the thickness direction Z.
  • the thickness T5 of the fifth thin-walled portion 116e is 1 ⁇ 2 or more of the thickness T1 of the first thin-walled portion 116a.
  • the depth H5 can be changed arbitrarily.
  • the depth H5 may be equal to the depth H1.
  • the amount of deviation between the depth H5 and the depth H1 is, for example, within 5% of the depth H1, it can be said that the depth H5 is equal to the depth H1.
  • the shortest distance from the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X to the back surface 10b of the substrate 10 (the back surface 111b of the inner main body 111) is defined as the distance DP1, and the third sealing in the horizontal direction Y.
  • the shortest distance from the resin side surface 53 to the back surface 10b of the substrate 10 (the back surface 111b of the inner main body 111) is the distance DP2, and the fourth sealing resin side surface 54 in the lateral direction Y to the back surface 10b of the substrate 10 (inner main body 111).
  • the shortest distance to the back surface 111b) is defined as the distance DP3.
  • the distance DP1 is longer than the distance DP2 and the distance DP3.
  • the distance DP1 is at least twice the distance DP2 and the distance DP3. More preferably, the distance DP1 is three times or more the distance DP2 and the distance DP3. In the present embodiment, the distance DP1 is about four times the distance DP2 and the distance DP3.
  • the creepage distance DP between the drain terminal (back surface 10b of the substrate 10) and the source terminal (drive terminals 22a to 22e) in the semiconductor device 1 is a sealing resin from the drive terminals 22a to 22e to the edge 111xe of the exposed surface 111x. This is the shortest distance among the distances along the second sealing resin side surface 52 and the sealing resin back surface 55 of 50.
  • the terminal base end portions 22xa to 22xe in contact with the second sealing resin side surface 52 at the drive terminals 22a to 22e are the drive pads 21 and the connecting portions 23a to 23e of the drive lead 20, respectively, in the thickness direction. They are arranged so that they are aligned in Z. That is, the terminal base end portions 22xa to 22xe are arranged so as to be on the sealing resin top surface 56 side of the main surface 10a of the substrate 10 in the thickness direction Z, respectively. Further, the terminal base end portions 22xa to 22xe are arranged so as to be on the sealing resin top surface 56 side of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the thickness direction Z, respectively.
  • the terminal base end portions 22xa to 22xe are arranged so as to be closer to the sealing resin top surface 56 side than the central portion of the sealing resin 50 in the thickness direction Z in the thickness direction Z.
  • the edge 111xe of the exposed surface 111x extends along the lateral direction Y.
  • the creepage distance DP from the drive terminal to the edge 111xe of the exposed surface 111x is equal to each other, for example, on the second sealing resin side surface 52 from the driving terminal 22a to the sealing resin back surface 55. It is defined by the sum of the distance DP4 along and the distance DP1 described above.
  • the terminal base end portions 22xa to 22xe of the drive terminals 22a to 22e are arranged so as to be closer to the sealing resin top surface 56 side than the surface 40a of the semiconductor element 40, and thus are arranged in the thickness direction Z.
  • the distance DP4 is longer than that in the configuration in which the drive terminals 22a to 22e are arranged so that the terminal base end portions 22xa to 22xe and the substrate 10 are aligned.
  • the length L1 of the first thin-walled portion 116a is longer than the length L2 of the second thin-walled portion 116b and the length L3 of the third thin-walled portion 116c, the length L1 of the first thin-walled portion 116a is the second thin-walled portion.
  • the distance DP1 is longer than the configuration of the length L2 of 116b and the length L3 or less of the third thin-walled portion 116c.
  • the semiconductor device 1 includes a sense lead 80 and a sense wire 90 for electrically connecting the main surface side drive electrode 41 (source electrode) of the semiconductor element 40 and the control electrode 43 (gate electrode). Be prepared. According to this configuration, even if the voltage of the main surface side drive electrode 41 fluctuates, the voltage of the control electrode 43 follows and fluctuates, so that the fluctuation of the voltage between the source and the gate of the semiconductor element 40 is suppressed. Therefore, fluctuations in the threshold voltage of the semiconductor element 40 can be suppressed.
  • the semiconductor element 40 is located closer to the side surface 52 of the second sealing resin with respect to the inner main body 111 of the substrate 10. According to this configuration, the distance between the opening 45 of the semiconductor element 40 and the drive pad 21 can be shortened, so that the lengths of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be shortened, respectively. it can. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y. According to this configuration, the distance between the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 and the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 can be further increased. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be further reduced.
  • the semiconductor element 40 and the drive pad 21 are arranged so that all the openings 45 of the semiconductor element 40 overlap with the drive pad 21 when viewed from the vertical direction X. According to this configuration, the length of the first drive wire 61 can be shortened, and the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased. Therefore, the inductance from the main surface side drive electrode 41 to the drive pad 21 can be reduced.
  • the same material is used for the plurality of drive wires 60, the control wire 70, and the sense wire 90. Further, the wire diameters of the plurality of drive wires 60, the control wire 70, and the sense wire 90 are equal to each other. According to this configuration, the work of connecting the plurality of drive wires 60 to the main surface side drive electrodes 41 and the drive pads 21, the work of connecting the control wires 70 to the control electrodes 43 and the control pads 31, and the main surface of the sense wires 90. Since the connection work to the side drive electrode 41 and the sense pad 81 can be performed with the same wire, those work processes can be simplified.
  • the drive lead 20, the control lead 30, the sense pad 81, and the substrate 10 are formed by, for example, pressing the same metal plate. According to this configuration, the drive lead 20, the control lead 30, the sense pad 81, and the substrate 10 are compared with the case where the drive lead 20, the control lead 30, the sense pad 81, and the substrate 10 are formed of individual metal plates. Processing process can be simplified.
  • the semiconductor device 1 of the sixth embodiment can be changed as follows, for example. The following modifications can be combined as long as there is no technical conflict.
  • the parts common to the sixth embodiment are designated by the same reference numerals as those of the sixth embodiment, and the description thereof will be omitted.
  • the number of drive wires 60 is not limited to two and can be changed arbitrarily.
  • the plurality of drive wires 60 may be composed of three drive wires, a first drive wire 61, a second drive wire 62, and a third drive wire 63.
  • the third drive wire 63 is arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the most distant combination is the two drive wires at the most distant positions.
  • the most distant combination is the combination of the drive wires at both ends of the lateral direction Y.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the drive electrode side end portion 63a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end 63b is an end connected to the drive pad 21 of the third drive wire 63.
  • the drive electrode side end portion 63a overlaps with the connecting portion 23b of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 63b overlaps with the connecting portion 23c of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X. That is, the drive pad side end portion 63b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 63a.
  • the distance DW4 between the drive electrode side end portion 63a and the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is such that the drive electrode side end portion 63a and the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62
  • the distance DW4 and the distance DW5 are larger than the distance DW8 between the drive electrode side end portion 91 and the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the position of the drive electrode side end portion 63a in the lateral direction Y can be arbitrarily changed.
  • the drive electrode side end portion 63a may be connected to the main surface side drive electrode 41 so that the distance DW4 and the distance DW5 are equal to each other.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61, the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62, and the drive electrode side end portion 63a of the third drive wire 63 are mutually connected. They are arranged in a uniform state.
  • the state in which the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a are aligned with each other in the vertical direction X means that the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a in the vertical direction X overlap each other, and the manufacturing is caused by wire bonding. Includes partial overlap depending on the error.
  • the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a will be the vertical X. It can be said that they are all in line.
  • the drive pad side end portion 63b of the third drive wire 63 is connected to the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW6 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 63b of the first drive wire 61 is larger than the distance DW4.
  • the distance DW7 between the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 63b of the second drive wire 62 is larger than the distance DW5. In FIG. 52, the distance DW7 is larger than the distance DW6.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21. In a plan view, the third drive wire 63 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the third drive wire 63 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the size of the semiconductor element 40 can be changed arbitrarily.
  • the size of the semiconductor element 40 may be larger than the size of the semiconductor element 40 of the sixth embodiment.
  • the size of the semiconductor element 40 may be larger than the size of the semiconductor element 40 in FIG. 53.
  • the size of the semiconductor element 40 in the vertical direction X and the size in the horizontal direction Y are each larger than the size of the semiconductor element 40 of the sixth embodiment. Further, as the size of the semiconductor element 40 increases, the size of the opening 45 formed on the surface 40a can be increased in each of the vertical direction X and the horizontal direction Y.
  • the size of the opening 45 in the lateral direction Y is smaller than the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the size of the drive pad 21 in the lateral direction Y is larger than the size of the semiconductor element 40 in the horizontal direction Y.
  • the opening 45 overlaps with the first end 21a of the drive pad 21 when viewed from the vertical direction X. More specifically, the edge of the opening 45 on the third side surface 40e side is located closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad 21. Further, the opening 45 overlaps with the connecting portion 23c of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the third side surface 40e of the semiconductor element 40 overlaps with the end portion of the sense lead 80 on the side surface 54 side of the fourth sealing resin when viewed from the vertical direction X.
  • the fourth side surface 40f of the semiconductor element 40 overlaps the portion of the drive pad 21 between the connecting portion 23c and the connecting portion 23d in the horizontal direction Y when viewed from the vertical direction X.
  • the semiconductor device 1 has a first drive wire 61 and a second drive wire 62 as a plurality of drive wires 60.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is located at a portion of the main surface side drive electrode 41 separated from the control electrode 43 in the lateral direction Y, similarly to the drive electrode side end portion 61a of the sixth embodiment. It is connected.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end portion 21a of the drive pad 21 as in the drive pad side end portion 61b of the sixth embodiment.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is the end on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y, similarly to the drive electrode side end portion 62a of the sixth embodiment. It is connected to the part.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21 as in the drive pad side end portion 62b of the sixth embodiment.
  • the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 62a are arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with each other.
  • the drive pad side end portion 61b and the drive pad side end portion 62b are each connected to a portion of the drive pad 21 closer to the semiconductor element 40 than the central portion in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a.
  • the distance DY1 between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end portion 61a and the auxiliary line LS2 along the vertical direction X from the drive pad side end portion 61b is the drive electrode side.
  • the distance between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X from the end 62a and the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the drive pad side end 62b is smaller than the distance DY2.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are separated from the main surface side drive electrode 41 on the drive pad 21 side so that the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 are separated from each other. Is connected to.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be increased, so that the drive terminal 22 (source) of the drive lead 20 from the main surface side drive electrode 41 (source electrode) can be increased.
  • the inductance between the terminals) can be reduced.
  • the number of drive wires 60 is not limited to two and can be arbitrarily changed.
  • the plurality of drive wires 60 may be composed of three drive wires, a first drive wire 61, a second drive wire 62, and a third drive wire 63.
  • the third drive wire 63 is arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the distance DW4 between the drive electrode side end 63a and the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is between the drive electrode side end 63a and the drive electrode side end 62a of the second drive wire 62. Greater than the distance DW5.
  • the arrangement position of the drive electrode side end portion 63a with respect to the main surface side drive electrode 41 can be arbitrarily changed.
  • the drive electrode side end portion 63a may be connected to the main surface side drive electrode 41 so that the distance DW4 and the distance DW5 are equal to each other.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61, the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62, and the drive electrode side end portion 63a of the third drive wire 63 are mutually connected. They are arranged in a uniform state.
  • the state in which the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a are aligned with each other in the vertical direction X means that the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a in the vertical direction X overlap each other, and the manufacturing is caused by wire bonding. Includes partial overlap depending on the error.
  • the drive electrode side ends 61a, 62a, 63a will be the vertical X. It can be said that they are all in line.
  • the drive pad side end portion 63b of the third drive wire 63 is arranged in the portion on the semiconductor element 40 side of the central portion of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the distance DW6 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 63b of the first drive wire 61 is larger than the distance DW4.
  • the distance DW7 between the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 63b of the second drive wire 62 is larger than the distance DW5. In FIG. 54, the distance DW7 is larger than the distance DW6.
  • the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21. In a plan view, the third drive wire 63 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the third drive wire 63 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the inclination angle of the third drive wire 63 with respect to the vertical direction X can be arbitrarily changed.
  • the tilt angle of the third drive wire 63 with respect to the vertical direction X may be equal to the tilt angle of the first drive wire 61 with respect to the vertical direction X or the tilt angle of the second drive wire 62 with respect to the vertical direction X. ..
  • the shape of the semiconductor element 40 in a plan view is a square.
  • the shape of the main surface side drive electrode 41 (source electrode) formed on the surface 40a of the semiconductor element 40 in a plan view is substantially square.
  • a notch 41b is formed at an end of the semiconductor element 40 on the second side surface 40d and the third side surface 40e side.
  • the control electrode 43 is formed in the notch 41b.
  • the shape of the opening 45 formed in the passivation film 44 in a plan view is square. Similar to the sixth embodiment, the opening 45 exposes a part of the main surface side drive electrode 41 and a part of the control electrode 43.
  • the main surface side drive electrode 41 has an exposed region 46 exposed by the opening 45.
  • the semiconductor device 1 of the second example shown in FIG. 55 has a first drive wire 61, a second drive wire 62, a third drive wire 63, and a fourth drive wire 64 as a plurality of drive wires 60.
  • the third drive wire 63 and the fourth drive wire 64 are arranged between the first drive wire 61 and the second drive wire 62.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 form the most distant combination of the plurality of drive wires 60.
  • the first drive wire 61, the second drive wire 62, the third drive wire 63, and the fourth drive wire 64 are arranged so as to be separated from each other in the lateral direction Y.
  • the first drive wire 61 is arranged on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40 with respect to the second drive wire 62, the third drive wire 63, and the fourth drive wire 64 in the lateral direction Y.
  • the second drive wire 62 is arranged on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 with respect to the first drive wire 61, the third drive wire 63, and the fourth drive wire 64 in the lateral direction Y.
  • the third drive wire 63 is arranged on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40 with respect to the fourth drive wire 64.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 constituting the most distant combination of the plurality of drive wires 60 are the drive wires located at both ends of the plurality of drive wires 60 in the lateral direction Y. is there.
  • the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end 61b of the first drive wire 61. Specifically, the drive electrode side end portion 61a overlaps with the connecting portion 23a of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X. The drive pad side end portion 61b overlaps the portion of the drive pad 21 between the connecting portion 23a and the connecting portion 23b when viewed from the vertical direction X.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62. Specifically, the drive electrode side end portion 62a overlaps the portion of the drive pad 21 between the connecting portion 23c and the connecting portion 23d when viewed from the vertical direction X. The drive pad side end portion 62b overlaps with the connecting portion 23e of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the third drive wire 63 has a drive electrode side end portion 63a and a drive pad side end portion 63b.
  • the drive electrode side end portion 63a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the third drive wire 63.
  • the drive pad side end 63b is an end connected to the drive pad 21 of the third drive wire 63.
  • the drive electrode side end portion 63a is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portion 63b. Specifically, the drive electrode side end portion 63a overlaps with the connecting portion 23b of the drive lead 20 when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 63b overlaps the portion of the drive pad 21 between the connecting portion 23b and the connecting portion 23c when viewed from the vertical direction X.
  • the fourth drive wire 64 has a drive electrode side end portion 64a and a drive pad side end portion 64b.
  • the drive electrode side end portion 64a is an end portion connected to the main surface side drive electrode 41 of the fourth drive wire 64.
  • the drive pad side end 64b is an end connected to the drive pad 21 of the fourth drive wire 64.
  • the drive electrode side end portion 64a is arranged so as to be closer to the third sealing resin side surface 53 side than the drive pad side end portion 64b. Specifically, the drive electrode side end portion 64a overlaps the portion between the connecting portion 23b and the connecting portion 23c of the drive pad 21 when viewed from the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 64b overlaps the portion of the drive pad 21 between the connecting portion 23c and the connecting portion 23d when viewed from the vertical direction X.
  • the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 63a are connected to the first exposed end portion 46a side of the central portion of the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to the first exposed end portion 46a side of the drive electrode side end portion 63a in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 64a and the drive electrode side end portion 62a are connected to the second exposed end portion 46b side of the central portion of the exposed region 46 in the lateral direction Y.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b side of the drive electrode side end portion 64a.
  • the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 and the drive electrode side end 64a of the fourth drive wire 64 are the drive electrode side end 62a of the second drive wire 62 and the drive electrode side end of the third drive wire 63. It is deviated from the portion 63a in the vertical direction X. Specifically, the drive electrode side ends 61a and 64a are arranged so as to be on the first side surface 40c side of the semiconductor element 40 with respect to the drive electrode side ends 62a and 63a. Therefore, the lengths of the first drive wire 61 and the fourth drive wire 64 are longer than the lengths of the second drive wire 62 and the third drive wire 63.
  • the drive electrode side end portion 61a and the drive electrode side end portion 64a are arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with each other in the vertical direction X.
  • the drive electrode side end portion 62a and the drive electrode side end portion 63a are arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with each other in the vertical direction X.
  • the state in which the drive electrode side end portions 61a and 64a are aligned in the vertical direction X means that the drive electrode side end portions 61a and 64a in the vertical direction X overlap each other and a manufacturing error due to wire bonding. Includes overlapping parts.
  • the drive electrode side end portions 61a, 64a are aligned in the vertical direction X. It can be said that. Further, the state in which the drive electrode side ends 62a and 63a are aligned with each other in the vertical direction X depends on the fact that the drive electrode side ends 62a and 63a in the vertical direction X overlap each other and the manufacturing error due to wire bonding. Includes overlapping parts.
  • the arrangement position of the drive electrode side end portions 61a to 64a in the vertical direction X can be arbitrarily changed.
  • the drive electrode side ends 61a to 64a may be displaced from each other.
  • the drive electrode side ends 61a to 64a may be arranged in the lateral direction Y in a state where they are aligned with each other.
  • the distance DW10 between the auxiliary line LS1 along the vertical direction X from the drive electrode side end 61a and the auxiliary line LS9 along the vertical direction X from the drive electrode side end 63a is the auxiliary line LS9 and the drive electrode side end 64a.
  • the distance from the distance to the auxiliary line LS11 along the vertical direction X is smaller than the distance DW11.
  • the distance DW12 between the auxiliary line LS3 along the vertical direction X and the auxiliary line LS11 in the horizontal direction Y from the drive electrode side end portion 62a is slightly smaller than the distance DW10.
  • the drive electrode side end portions 61a to 64a are arranged in the lateral direction Y so that the drive electrode side end portion 61a is located on the most third sealing resin side surface 53 side of the drive electrode side end portions 61a to 64a. It can be arbitrarily changed as long as the drive electrode side end portion 62a is located on the side surface 54 side of the fourth sealing resin.
  • the drive electrode side ends 61a to 64a may be arranged so that the distance DW12 and the distance DW10 are equal to each other.
  • the distance DY1 between the auxiliary line LS1 and the auxiliary line LS2 along the vertical direction X from the drive pad side end 61b is the auxiliary line LS4 along the vertical direction X from the auxiliary line LS3 and the drive pad side end 62b.
  • the distance between and in the lateral direction Y is smaller than DY2.
  • the distance DY3 between the auxiliary line LS9 and the auxiliary line LS10 along the vertical direction X from the drive pad side end 63b is the auxiliary line LS12 along the vertical direction X from the auxiliary line LS11 and the drive pad side end 64b.
  • the distance between and in the lateral direction Y is smaller than DY4.
  • the distance DY1 is smaller than the distance DY3.
  • the distance DY2 is larger than the distance DY4.
  • the drive electrode side end portion 61a is a limit on the third side surface 40e side of the region where wire bonding can be performed as an end portion on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y. It may be arranged so as to be in a position.
  • the drive pad side end portion 61b may be arranged as the first end portion 21a of the drive pad 21 so as to be a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed.
  • the drive electrode side end portion 62a is a limit on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed as an end portion on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40 in the opening 45 in the lateral direction Y. It may be arranged so as to be in a position.
  • the drive pad side end portion 62b may be arranged as the second end portion 21b of the drive pad 21 so as to be a limit position on the side surface 54 side of the fourth sealing resin in the region where wire bonding can be performed.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21. In a plan view, the first drive wire 61 and the third drive wire 63 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing.
  • the distance between the first drive wire 61 and the third drive wire 63 in the lateral direction Y gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the third drive wire 63 and the fourth drive wire 64 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing.
  • the distance between the third drive wire 63 and the fourth drive wire 64 in the lateral direction Y gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the fourth drive wire 64 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the fourth drive wire 64 and the second drive wire 62 in the lateral direction Y gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21. In a plan view, the third drive wire 63 and the second drive wire 62 are connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. ing. In a plan view, the distance between the third drive wire 63 and the second drive wire 62 in the lateral direction Y gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the drive electrode side end 91 of the sense wire 90 is formed by the control electrode side end 71 of the control wire 70 and the drive electrode side end 61a of the first drive wire 61 in the lateral direction Y of the main surface side drive electrodes 41. It is connected to the part between. Further, the drive electrode side end portion 91 is connected to the end portion of the main surface side drive electrode 41 on the second side surface 40d side. That is, the drive electrode side end portion 91 is connected to a portion of the main surface side drive electrode 41 adjacent to the control electrode 43 in the lateral direction Y. According to this configuration, the length of the sense wire 90 can be shortened.
  • the materials and wire diameters of the drive wire 60, the control wire 70, and the sense wire 90 can be arbitrarily changed.
  • at least one wire diameter of the drive wire 60, the control wire 70, and the sense wire 90 may be different from the other wire diameters.
  • at least one material of the drive wire 60, the control wire 70, and the sense wire 90 may be different from the other materials.
  • the arrangement position of the sense pad 81 in the thickness direction Z can be arbitrarily changed.
  • the sense pad 81 may be displaced with respect to at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 in the thickness direction Z.
  • the sense pad 81 is arranged in a state of being aligned with the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the first wide portion 111f may be omitted from the inner main body portion 111 of the substrate 10.
  • the protruding portion 112 and the first sealing resin side surface 51 of the sealing resin 50 may come into contact with each other in the vertical direction X.
  • the second wide portion 111g may be omitted from the inner main body portion 111 of the substrate 10.
  • the sealing portion 59 which is a portion on the back surface 55 side of the sealing resin, may be provided with a recess 59a.
  • the recess 59a is provided apart from the first side surface 111c of the inner main body 111 in the vertical direction X.
  • the recess 59a is recessed from the back surface 55 of the sealing resin toward the top surface 56 of the sealing resin in the thickness direction Z.
  • the recess 59a is formed from the third sealing resin side surface 53 to the fourth sealing resin side surface 54 in the lateral direction Y. Seen from the thickness direction Z, the recess 59a overlaps the drive pad 21, the control pad 31, and the sense pad 81.
  • the shape of the recess 59a in a cross-sectional view cut along a plane along the vertical direction X and the thickness direction Z is rectangular.
  • the depth Hr1 of the recess 59a is deeper than, for example, the depth H1 of the recess 115a. Further, the depth Hr1 is deeper than the depths H2 and H3 (see FIG. 50) of the recesses 115b and 115c.
  • the recess 59a has a bottom surface 59b.
  • the bottom surface 59b is provided so as to be closer to the sealing resin top surface 56 than the second surface 115g of the recess 115e.
  • the bottom surface 59b is provided so as to be on the back surface 55 side of the sealing resin with respect to the main surface 111a of the inner main body 111.
  • the position of the bottom surface 59b in the thickness direction Z, that is, the depth Hr1 of the recess 59a can be arbitrarily changed.
  • the bottom surface 59b may be aligned with the main surface 111a of the inner main body 111 in the thickness direction Z, or may be provided so as to be closer to the sealing resin top surface 56 than the main surface 111a. ..
  • the shape of the recess 59a in a cross-sectional view cut along a plane along the vertical direction X and the thickness direction Z can be arbitrarily changed.
  • the shape of the recess 59a in a cross-sectional view cut along a plane along the vertical direction X and the thickness direction Z may be curved or V-shaped.
  • the arrangement position of the semiconductor element 40 in the vertical direction X can be arbitrarily changed.
  • the semiconductor element 40 is arranged on the side portion 51 of the main surface 111a of the inner main body portion 111 in the vertical direction X on the side surface 51 of the first sealing resin.
  • the first distance D1 between the semiconductor element 40 and the first side surface 111c of the inner body portion 111 is larger than the second distance D2 between the semiconductor element 40 and the first wide portion 111f. large.
  • the semiconductor element 40 is arranged at the center of the inner main body 111 in the lateral direction Y.
  • the third distance D3 between the semiconductor element 40 and the second side surface 111d of the inner main body 111, and the fourth distance D4 between the semiconductor element 40 and the third side surface 111e of the inner main body 111. are equal to each other.
  • the amount of deviation between the third distance D3 and the fourth distance D4 is, for example, within 5% of the third distance D3, it can be said that the third distance D3 and the fourth distance D4 are equal to each other.
  • the first distance D1 is larger than the third distance D3 and the fourth distance D4.
  • the second distance D2 is smaller than the third distance D3 and the fourth distance D4.
  • a groove 117A is provided in a portion of the main surface 111a of the inner main body 111 on the side surface 51 side of the first sealing resin with respect to the semiconductor element 40.
  • a groove 117B is provided in a portion of the main surface 111a of the inner main body 111 on the side surface 52 side of the second sealing resin with respect to the semiconductor element 40.
  • the grooves 117A and 117B are adjacent to the solder SD in the vertical direction X.
  • the grooves 117A and 117B are formed from the second side surface 111d to the third side surface 111e of the inner main body portion 111 in the lateral direction Y.
  • solder SD entering the groove 117A it is possible to prevent the solder SD from entering the first sealing resin side surface 51 side of the groove 117A. Further, when the solder SD enters the groove 117B, it is possible to prevent the solder SD from entering the second sealing resin side surface 52 side of the groove 117B.
  • the grooves 117A and 117B have the same shape.
  • the groove 117A will be described, and the groove 117B will be designated by the same reference numerals as the groove 117A, and the description thereof will be omitted.
  • the groove 117A has a first groove portion 117a and a second groove portion 117b.
  • the first groove portion 117a is recessed from the main surface 111a of the inner main body portion 111 toward the back surface 111b.
  • the shape of the first groove portion 117a in a cross-sectional view obtained by cutting the semiconductor device 1 in a plane along the vertical direction X and the thickness direction Z is rectangular.
  • the second groove portion 117b is recessed from the bottom surface 117c of the first groove portion 117a toward the back surface 111b.
  • the shape of the second groove portion 117b in a cross-sectional view obtained by cutting the semiconductor device 1 in a plane along the vertical direction X and the thickness direction Z is a tapered shape that tapers from the back surface 111b toward the main surface 111a.
  • a part of the sealing resin 50 is contained in the grooves 117A and 117B. According to this configuration, the sealing resin 50 that has entered the grooves 117A and 117B can further suppress the separation between the substrate 10 and the sealing resin 50. In addition, the sealing resin 50 enters the tapered second groove portion 117b that tapers from the back surface 111b toward the main surface 111a, so that the substrate 10 and the sealing resin 50 are more difficult to separate in the thickness direction Z. Become.
  • the shapes of the grooves 117A and 117B can be changed arbitrarily.
  • the shape of the first groove portion 117a in a cross-sectional view obtained by cutting the semiconductor device 1 in a plane along the longitudinal direction X and the thickness direction Z may be curved. It may have a tapered shape that tapers from the main surface 111a to the back surface 111b.
  • the shape of the second groove portion 117b in a cross-sectional view obtained by cutting the semiconductor device 1 in a plane along the longitudinal direction X and the thickness direction Z may be rectangular or curved. It may be V-shaped, which tapers from the main surface 111a to the back surface 111b.
  • the second groove portion 117b may be omitted from at least one of the grooves 117A and 117B.
  • At least one of the recesses 115b and 115c may be omitted.
  • the depths H1, H2, and H3 of the recesses 115a, 115b, and 115c can be changed arbitrarily.
  • at least one of the depths H1, H2, and H3 of the recesses 115a, 115b, and 115c may be one-third or more of the thickness T of the substrate 10 and thinner than the thickness T. According to this configuration, a part of the sealing resin 50 easily enters at least one of the recesses 115a, 115b, 115c. Therefore, since the moldability of the sealing resin 50 is improved, the yield rate of the semiconductor device 1 can be improved.
  • At least one of the depths H1, H2, and H3 of the recesses 115a, 115b, and 115c may be 1/3 or more and 1/2 or less of the thickness T of the substrate 10. According to this configuration, it is possible to improve both the yield rate of the semiconductor device 1 and the heat dissipation performance of the inner main body 111.
  • the depth H1 of the recess 115a may be different from the depths H2 and H3 of the recesses 115b and 115c.
  • the depth H1 is shallower than the depths H2 and H3.
  • the thickness T1 of the first thin-walled portion 116a is thicker than the thickness T2 of the second thin-walled portion 116b and the thickness T3 of the third thin-walled portion 116c, so that the thicknesses T1, T2,
  • the volume of the inner body 111 can be increased as compared to a configuration in which T3s are equal to each other. Therefore, the heat dissipation performance of the inner main body 111 can be improved.
  • the depth H1 is deeper than the depths H2 and H3. According to this configuration, a part of the sealing resin 50 easily enters the recess 115a. Therefore, since the moldability of the sealing resin 50 is improved, the yield rate of the semiconductor device 1 can be improved.
  • the substrate 10, the drive pad 21, the control pad 31, and the sense pad 81 may be formed from another metal plate. Further, for example, the substrate 10 and the drive pad 21 may be formed of the same metal plate, and the control pad 31 and the sense pad 81 may be formed of another metal plate.
  • the semiconductor device 1 of each of the above embodiments can be changed as follows, for example.
  • the following modification examples can be combined with each other as long as there is no technical contradiction, and can be combined with the modification example of the fifth embodiment or the modification example of the sixth embodiment.
  • the positions of the drive pad 21 and the control pad 31 in the thickness direction Z can be arbitrarily changed.
  • at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 may be aligned with the semiconductor element 40 in the thickness direction Z.
  • the arrangement positions of the drive pad 21 and the control pad 31 in a plan view can be arbitrarily changed.
  • at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 may be laterally displaced with respect to the substrate 10. That is, at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 may be arranged on the third sealing resin side surface 53 side or the fourth sealing resin side surface 54 side of the sealing resin 50 with respect to the substrate 10.
  • at least one of the drive pad 21 and the control pad 31 is displaced in the lateral direction Y with respect to the semiconductor element 40.
  • the plurality of drive wires 60 and the control wire 70 may be formed of different metals.
  • the plurality of drive wires 60 are made of aluminum and the control wire 70 is made of gold (Au).
  • the wire diameters of the plurality of drive wires 60 and the wire diameters of the control wires 70 may be different from each other.
  • the wire diameter of the plurality of drive wires 60 is larger than the wire diameter of the control wire 70.
  • the wire diameters of the plurality of drive wires 60 are not limited to 125 ⁇ m to 250 ⁇ m, and can be arbitrarily changed. In one example, the wire diameters of the plurality of drive wires 60 are 250 ⁇ m to 400 ⁇ m.
  • the semiconductor element 40 is configured so that the main surface side drive electrode 41 and the control electrode 43 are exposed by one rectangular opening 45 in a plan view.
  • the number of is not limited to this.
  • a first opening 45A that exposes the main surface side drive electrode 41 and a second opening 45B that exposes the control electrode 43 are formed on the surface 40a of the semiconductor element 40. May be good.
  • the shape of the first opening 45A in a plan view is a rectangular shape in which the horizontal direction Y is the long side direction and the vertical direction X is the short side direction.
  • the shape of the second opening 45B in a plan view is a rectangular shape in which the vertical direction X is the long side direction and the horizontal direction Y is the short side direction.
  • the first opening 45A is provided so as to be closer to the first side surface 40c of the semiconductor element 40 in the vertical direction X.
  • the first opening 45A opens most of the surface 40a of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y.
  • the second opening 45B is provided at the end of the semiconductor element 40 on the second side surface 40d side and the end portion on the third side surface 40e side.
  • the main surface side drive electrode 41 has an exposed region 46 exposed by the first opening 45A.
  • the exposed region 46 has a first exposed end portion 46a and a second exposed end portion 46b, which are both ends in the lateral direction Y.
  • the first exposed end portion 46a is an end portion of the exposed region 46 on the third side surface 40e side of the semiconductor element 40.
  • the second exposed end portion 46b is an end portion of the exposed region 46 on the fourth side surface 40f side of the semiconductor element 40.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are connected to the exposed region 46 of the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 of the drive lead 20.
  • the distance DW2 between the drive pad side end 61b and the drive pad side end 62b is larger than the distance DW1 between the drive electrode side end 61a and the drive electrode side end 62a.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21 so that the drive pad 21 side is separated from the main surface side drive electrode 41 side. Is connected to.
  • the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 gradually increases from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the first drive wire 61 and the second drive wire 62 are gradually narrowed as the distance between the first drive wire 61 and the second drive wire 62 gradually narrows from the main surface side drive electrode 41 toward the drive pad 21.
  • the 62 may be connected to the main surface side drive electrode 41 and the drive pad 21, respectively.
  • the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 is arranged closer to the first exposed end portion 46a than the central portion in the lateral direction Y of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to the first exposed end portion 46a of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 61a is arranged as the first exposed end portion 46a of the exposed region 46 so as to be a limit position on the third side surface 40e side of the region where wire bonding can be performed.
  • the drive pad side end portion 61b of the first drive wire 61 is connected to the first end portion 21a side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 61b is connected to the first end portion 21a of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged as the first end portion 21a of the drive pad 21 so as to be a limit position on the third sealing resin side surface 53 side in the region where wire bonding can be performed. ..
  • the drive pad side end portion 61b is connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the center of the drive pad 21 in the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 61b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 61a.
  • the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 is arranged closer to the second exposed end portion 46b than the central portion in the lateral direction Y of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 62a is connected to the second exposed end portion 46b of the exposed region 46.
  • the drive electrode side end portion 62a is arranged as the second exposed end portion 46b of the exposed region 46 so as to be a limit position on the fourth side surface 40f side of the region where wire bonding can be performed.
  • the drive electrode side end portion 62a is arranged in the horizontal direction Y in a state of being aligned with the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61.
  • the state in which the drive electrode side end portion 62a and the drive electrode side end portion 61a are aligned in the vertical direction X is caused by the fact that both drive electrode side end portions 61a and 62a in the vertical direction X overlap each other and wire bonding. Includes partial overlap depending on the manufacturing error. In other words, if the amount of deviation in the vertical direction X at the drive electrode side end portions 61a, 62a is about the same as the variation in wire bonding, the drive electrode side end portions 61a, 62a are aligned in the vertical direction X. It can be said that.
  • the drive pad side end portion 62b of the second drive wire 62 is connected to the second end portion 21b side of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • the drive pad side end portion 62b is connected to the second end portion 21b of the drive pad 21.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged as the second end portion 21b of the drive pad 21 so as to be a limit position on the fourth sealing resin side surface 54 side in the region where wire bonding can be performed. ..
  • the drive pad side end portion 62b is connected to a portion of the drive pad 21 on the semiconductor element 40 side of the center of the drive pad 21 in the vertical direction X in the vertical direction X.
  • the drive pad side end portion 62b is arranged so as to be closer to the fourth sealing resin side surface 54 side than the drive electrode side end portion 62a. Further, in FIG. 59, the drive pad side end portions 62b are arranged in the horizontal direction Y in the vertical direction X in a state of being aligned with the drive pad side end portions 61b.
  • the state in which the drive pad side end portion 62b and the drive pad side end portion 61b are aligned in the vertical direction X is caused by the fact that both drive pad side end portions 61b and 62b in the vertical direction X overlap each other and wire bonding. Includes partial overlap depending on the manufacturing error.
  • the distance DW1 between the drive electrode side end portion 61a of the first drive wire 61 and the drive electrode side end portion 62a of the second drive wire 62 can be made large, so that the main surface side drive electrode The inductance between the 41 and the drive pad 21 can be reduced.
  • the shape of the inner main body 111 can be arbitrarily changed.
  • the inner body portion 111 may further include extension portions 118A, 118B.
  • the extension portions 118A and 118B are provided on the first wide portion 111f side of the inner main body portion 111, respectively, with respect to the recess 115a.
  • the extension portion 118A extends from the second side surface 111d of the inner main body portion 111 toward the third sealing resin side surface 53 along the lateral direction Y.
  • the extension portion 118B extends from the third side surface 111e of the inner main body portion 111 toward the fourth sealing resin side surface 54 along the lateral direction Y.
  • the shapes of the extension portions 118A and 118B in a plan view are rectangular.
  • the extension portion 118B is exposed from the side surface 54 of the fourth sealing resin. Specifically, the extension portion 118B is exposed from the end portion of the second inclined surface 54b of the fourth sealing resin side surface 54 on the first inclined surface 54a side in the thickness direction Z. The extension portion 118B may be flush with the fourth sealing resin side surface 54.
  • the extension portion 118A is also exposed from the side surface 53 of the third sealing resin. Specifically, the extension portion 118A is exposed from the end portion of the second inclined surface 53b of the third sealing resin side surface 53 on the first inclined surface 53a side in the thickness direction Z. The extension portion 118A may be flush with the third sealing resin side surface 53.
  • the positions of the extension portions 118A and 118B in the vertical direction X can be changed arbitrarily. At least one of the extension portions 118A and 118B may be provided at a position overlapping the recess 115a of the inner main body portion 111 when viewed from the lateral direction Y.
  • the first thin-walled portion 116a may be provided with one or a plurality of through holes 119 penetrating the first thin-walled portion 116a in the thickness direction Z.
  • the first thin-walled portion 116a is provided with three through holes 119.
  • the three through holes 119 are provided apart in the lateral direction Y.
  • the shape of each through hole 119 in a plan view is circular.
  • a part of the sealing resin 50 is inserted into each through hole 119. According to this configuration, the sealing resin 50 that has entered each through hole 119 can further suppress the separation between the substrate 10 and the sealing resin 50.
  • the shape of the through hole 119 in a plan view can be arbitrarily changed. Further, the position of the through hole 119 with respect to the first thin wall portion 116a can be arbitrarily changed.
  • the shape of the recess 115a can be arbitrarily changed.
  • the recess 115a includes a drive lead side recess 115i and a control lead side recess 115j.
  • the drive lead side recess 115i is formed in an arc shape with the central portion in the lateral direction Y at the terminal base end portion 22x of the drive terminal 22 of the drive lead 20 as the center C1.
  • the control lead side recess 115j is formed in an arc shape with the central portion in the lateral direction Y at the terminal base end portion 32x of the control terminal 32 of the control lead 30 as the center C2.
  • the radius R1 of the drive lead side recess 115i and the radius R2 of the control lead side recess 115j are equal to each other.
  • the amount of deviation between the radius R1 and the radius R2 is within 5%, it can be said that the radius R1 and the radius R2 are equal to each other.
  • the distance DP1 which is the shortest distance from the second sealing resin side surface 52 in the vertical direction X to the back surface 10b of the substrate 10 (exposed surface 111x of the inner main body 111), is the radius of the drive lead side recess 115i. It is substantially equal to R1 and can be approximately the same length as each of the above embodiments. Therefore, similarly to each of the above embodiments, the volume of the inner main body 111 can be increased as compared with each of the above embodiments with the creepage distance DP extended. Therefore, the heat dissipation of the substrate 10 can be improved.
  • the radius R1 of the drive lead side recess 115i and the radius R2 of the control lead side recess 115j can be arbitrarily changed.
  • the radius R1 may be set to the distance from the center C1 in the vertical direction X to the second side surface 40d of the semiconductor element 40.
  • the radius R2 may be set to the distance from the center C1 in the vertical direction X to the second side surface 40d.
  • the contact portion between the drive lead side recess 115i and the control lead side recess 115j (the intersection of the drive lead side recess 115i and the control lead side recess 115j in a plan view) is the first of the inner main body portion 111 in the vertical direction X. It is located closer to the semiconductor element 40 than the side surface 111c. According to this configuration, the creepage distance DP can be lengthened, so that the dielectric strength of the semiconductor device 1 can be improved.
  • the length L2 of the second thin-walled portion 116b and the length L3 of the third thin-walled portion 116c can be arbitrarily changed within the range of less than the length L1 of the first thin-walled portion 116a, respectively. is there.
  • the length L2 may be longer than 1/2 of the second distance D2.
  • the length L3 may be longer than 1/2 of the third distance D3.
  • the recess 115b constituting the second thin-walled portion 116b is in a state of being aligned with the third side surface 40e of the semiconductor element 40 or third sealed than the third side surface 40e of the semiconductor element 40 when viewed from the thickness direction Z. It is preferably located on the resin side surface 53 side.
  • the recess 115c constituting the third thin-walled portion 116c is aligned with the fourth side surface 40f of the semiconductor element 40 or the side surface of the fourth sealing resin with respect to the fourth side surface 40f of the semiconductor element 40 when viewed from the thickness direction Z. It is preferably located on the 54 side.
  • the number of drive wires 60 is not limited to a plurality of wires, and may be one.
  • the drive wire 60 includes the first drive wire 61
  • the drive electrode side end portion 61a is connected to the central portion of the exposed region 46 of the semiconductor element 40 in the lateral direction Y
  • the drive pad side end portion 61b is connected. It is connected to the central portion of the drive pad 21 in the lateral direction Y.
  • a ribbon-shaped connecting member may be used instead of the drive wire 60.
  • the arrangement position of the semiconductor element 40 in the X direction with respect to the substrate 10 can be arbitrarily changed.
  • the semiconductor element 40 may be arranged at a position where a part thereof overlaps with the first thin-walled portion 116a. That is, the second side surface 40d of the semiconductor light emitting element 40 is located closer to the second sealing resin side surface 52 than the recess 115a of the substrate 10 on the main surface 10a of the substrate 10, and the first side surface 40c is the recess 115a on the main surface 10a. It may be located closer to the side surface 51 of the first sealing resin. As shown in FIG. 64, the semiconductor element 40 has a portion closer to the first sealing resin side surface 51 than the recess 115a and a portion closer to the second sealing resin side surface 52 than the recess 115a in the X direction. There is.
  • the entire semiconductor element 40 may be arranged at a position where it overlaps with the first thin-walled portion 116a. That is, the first side surface 40c of the semiconductor light emitting element 40 may be located closer to the second sealing resin side surface 52 than the recess 115a of the substrate 10 on the main surface 10a of the substrate 10.
  • each of the first drive wire 61 and the second drive wire 62 can be shortened. Therefore, the inductance caused by the lengths of the drive wires 61 and 62 can be reduced.
  • a substrate having a main surface and a back surface facing opposite sides, a surface mounted on the main surface of the substrate and facing the same direction as the main surface, and a drive electrode formed on the surface.
  • the first drive wire and the second drive wire which include a terminal protruding from the first side surface of the sealing resin facing in a parallel direction and which constitutes the most distant combination of the plurality of drive wires, are
  • the drive electrode and the drive pad are connected to each other so that the drive pad side is closer to the drive electrode side than the drive electrode side when viewed from the first direction which is the direction perpendicular to the main surface.
  • a recess from the back surface to the main surface is formed in the portion of the back surface of the surface on the first side surface, and a part of the sealing resin enters the recess to allow the substrate from the first side surface.
  • a semiconductor device in which the distance from the sealing resin to the exposed surface of the back surface of the semiconductor device is longer than the distance from the other side surface of the sealing resin to the exposed surface.
  • the semiconductor device has an insulating film formed on the driving electrode and an opening formed in a part of the insulating film so as to expose the driving electrode. Is formed in a rectangular shape with the second direction as the short side direction and the third direction as the long side direction when viewed from the first direction, and the size of the opening in the third direction is the first.
  • the semiconductor device has an insulating film formed on the driving electrode and an opening formed in a part of the insulating film so as to expose the driving electrode. Is formed in a rectangular shape with the second direction as the short side direction and the third direction as the long side direction when viewed from the first direction, and the drive electrode is an exposed region exposed by the opening.
  • the exposed region has a first exposed end portion and a second exposed end portion which are both ends of the third direction, and the first drive wire is the center of the exposed region in the third direction.
  • the second drive wire is connected to the first exposed end portion side of the exposed region, and the second drive wire is connected to the second exposed end portion side of the central portion of the exposed region in the third direction.
  • the first drive wire and the second drive wire each have a drive electrode side end portion connected to the drive electrode and a drive pad side end portion connected to the drive pad.
  • the drive pad has a first end portion and a second end portion which are both ends in the third direction, and the drive pad side end portion of the first drive wire is the third direction of the drive pad.
  • the second drive wire is connected to the first end side of the drive pad, and the drive pad side end of the second drive wire is connected to the second end side of the drive pad in the third direction.
  • the sealing resin has a second side surface facing the side opposite to the first side surface, and the semiconductor element is a portion of the main surface of the substrate on the second side surface side of the recess.
  • the semiconductor device according to any one of Supplementary note 13 to 18, which is mounted on the above.
  • the direction perpendicular to the main surface of the substrate is set as the first direction, and the arrangement direction of the first side surface and the second side surface is set as the second direction in the direction orthogonal to the first direction.
  • the substrate With the direction orthogonal to the first direction and the second direction as the third direction, the substrate is formed in the first thin-walled portion formed by the recess and the portion on the second side surface side of the recess in the substrate.
  • the semiconductor device according to any one of Supplementary note 13 to 21, which has a second thin-walled portion and a third thin-walled portion formed by recesses formed at both ends in the third direction.
  • the length of the first thin-walled portion in the second direction is longer than the length of the second thin-walled portion in the third direction and the length of the third thin-walled portion in the third direction. 22. The semiconductor device.
  • the sealing resin has a sealing resin top surface facing the same direction as the main surface and a sealing resin back surface facing the same direction as the back surface, and the first side surface side of the terminals.
  • the semiconductor device according to any one of Supplementary note 13 to 23, wherein the terminal base end portion, which is the base end portion of the above, is arranged on the top surface side of the sealing resin with respect to the main surface.
  • a first drive comprising a terminal projecting from the first side surface of the sealing resin facing in a parallel direction, the plurality of drive wires forming the most distant combination of the plurality of drive wires.
  • the first drive wire and the second drive wire include a wire and a second drive wire, respectively, a drive electrode side end connected to the drive electrode and a drive pad side end connected to the drive pad, respectively.
  • the direction perpendicular to the main surface is the first direction
  • the direction orthogonal to the first direction is the second direction
  • the first direction and the direction orthogonal to the second direction are the first directions.
  • the semiconductor element and the drive pad are displaced at least in the second direction
  • the first drive wire and the second drive wire are arranged apart from each other in the third direction.
  • the drive pad has a first end portion and a second end portion which are both ends in the third direction, and the drive pad side end portion of the first drive wire is in the third direction of the drive pad. It is connected to the first end portion side from the central portion, and the drive pad side end portion of the second drive wire is closer to the second end portion side than the central portion in the third direction of the drive pad.
  • a recess is formed in the portion of the back surface of the substrate on the first side surface side from the back surface to the main surface, and a part of the sealing resin enters the recess.
  • a semiconductor device in which the distance from the first side surface to the exposed surface of the back surface of the substrate that is exposed from the sealing resin is longer than the distance from the other side surface of the sealing resin to the exposed surface.
  • the semiconductor device has an insulating film formed on the driving electrode and an opening formed in a part of the insulating film so as to expose the driving electrode. Is formed in a rectangular shape with the second direction as the short side direction and the third direction as the long side direction when viewed from the first direction, and the size of the drive pad in the third direction is the first.
  • the drive pad includes a first drive pad and a second drive pad, and a drive pad side end portion of the first drive wire is connected to the first drive pad, and the second drive pad is connected to the second drive pad.
  • the semiconductor device according to Appendix 26 wherein the drive pad side end of the second drive wire is connected, and the first drive pad and the second drive pad are arranged apart from each other in the third direction.
  • the sealing resin has a second side surface facing the side opposite to the first side surface, and the semiconductor element is a portion of the main surface of the substrate on the second side surface side of the recess.
  • the semiconductor device according to any one of Supplementary note 26 to 31, which is mounted on the above.
  • the direction perpendicular to the main surface of the substrate is set as the first direction, and the first side surface of the first side surface and the side surface of the sealing resin face the first side surface in a direction orthogonal to the first direction.
  • the arrangement direction of the second side surface is the second direction, the direction orthogonal to the first direction and the second direction is the third direction, and the substrate is formed by the first thin portion formed by the recess and the substrate.
  • 26 to 34 which has a second thin-walled portion and a third thin-walled portion formed by the recesses formed at both ends of the substrate in the third direction in the portion on the second side surface side of the recess.
  • the length of the first thin-walled portion in the second direction is longer than the length of the second thin-walled portion in the third direction and the length of the third thin-walled portion in the third direction. 35. The semiconductor device.
  • the sealing resin has a sealing resin top surface facing the same direction as the main surface and a sealing resin back surface facing the same direction as the back surface, and the first side surface side of the terminals.

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Abstract

半導体装置は、主面を有する基板と、基板の主面に実装される半導体素子と、駆動パッドと、複数の駆動ワイヤと、を含む。半導体素子は、基板の主面と同じ方向を向く表面と、表面に形成された駆動電極とを有し、SiCを含む。複数の駆動ワイヤは、互いに離間した状態で駆動電極と駆動パッドとを接続する。複数の駆動ワイヤは、最も離間している組み合せを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤを含む。第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤは、基板の主面に対して垂直な方向である第1方向からみて、駆動電極側よりも駆動パッド側の方が離れるように駆動電極と駆動パッドとに接続されている。

Description

半導体装置
 本開示は、半導体装置に関する。
 半導体装置は、基板と、基板に実装されたパワートランジスタ等の半導体素子と、半導体素子のソース電極と複数の駆動ワイヤを介して接続される駆動パッドを有する駆動リードと、半導体素子のゲート電極と制御ワイヤを介して接続される制御パッドを有する制御リードと、半導体素子を少なくとも封止する封止樹脂とを備える(例えば、特許文献1及び2参照)。また、特許文献2において、駆動リードは、封止樹脂から突出する駆動端子を備える。半導体素子は、半田によって基板に接続されている。
特開2017-174951号公報 特開2016-152242号公報
 例えば特許文献1の半導体装置では、3本の駆動ワイヤが僅かに離間した状態で隣り合うように配置されている。このため、3本の駆動ワイヤがソース電極と駆動パッドとに接続されることにより、1本の駆動ワイヤの構成と比較して、インダクタンスを低減できるものの、複数の駆動ワイヤの配置関係に起因するインダクタンスの低減についてはなお改善の余地がある。なお、このような問題は、スイッチング素子に限られず、スイッチング素子に代えてダイオードを備える半導体装置についても同様に生じる場合がある。
 また、例えば特許文献2の半導体装置では、基板が封止樹脂の裏面から露出することによって半導体素子の放熱性を向上させている。しかし、基板が封止樹脂の裏面から露出しているため、駆動端子と基板との間の絶縁耐力の向上について改善の余地がある。
 本開示の目的は、インダクタンスを低減できる半導体装置を提供すること、および半導体素子の放熱性の低下を抑制しつつ、絶縁耐圧を向上できる半導体装置を提供することにある。
 上記目的を達成するため、本開示の第1の態様に係る半導体装置は、主面を有する基板と、前記主面に実装され、前記主面と同じ方向を向く表面と、前記表面に形成された駆動電極とを有し、SiCを含む半導体素子と、駆動パッドと、互いに離間した状態で前記駆動電極と前記駆動パッドとを接続する複数の駆動ワイヤと、を含む。前記複数の駆動ワイヤは、最も離間している組み合せを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤを含む。該第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤは、前記主面に対して垂直な方向である第1方向からみて、前記駆動電極側よりも前記駆動パッド側の方が離れるように前記駆動電極と前記駆動パッドとに接続されている。
 複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合わせを構成する第1駆動ワイヤと第2駆動ワイヤの間の距離が大きくなると、駆動電極と駆動パッドとの間のインダクタンスが低減される。この点、本半導体装置によれば、両駆動ワイヤ間の距離を大きく取ることができるため、駆動電極と駆動パッドとの間のインダクタンスを低減できる。
 本開示の第2の態様に係る半導体装置は、主面を有する基板と、前記主面に実装され、前記主面と同じ方向を向く表面と、前記表面に形成された駆動電極とを有し、SiCを含む半導体素子と、駆動パッドと、互いに離間した状態で前記駆動電極と前記駆動パッドとを接続する複数の駆動ワイヤと、を含む。前記半導体素子は、前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、を有する。前記主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とする。前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成される。前記複数の駆動ワイヤは、最も離間している組み合わせを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤを含む。前記駆動電極は、前記開口部によって露出している露出領域を有する。前記露出領域は、前記第3方向の両端部である第1露出端部及び第2露出端部を有する。前記第1駆動ワイヤは、前記露出領域の前記第3方向の中央部よりも前記第1露出端部側に接続される。前記第2駆動ワイヤは、前記露出領域の前記第3方向の中央部よりも前記第2露出端部側に接続されている。
 複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合わせを構成する第1駆動ワイヤと第2駆動ワイヤの間の距離が大きくなると、駆動電極と駆動パッドとの間のインダクタンスが低減される。この点、本半導体装置によれば、両駆動ワイヤ間の距離を大きく取ることができるため、駆動電極と駆動パッドとの間のインダクタンスを低減できる。
 本開示の第3の態様に係る半導体装置は、互いに反対側を向く主面及び裏面を有する基板と、前記基板の主面に実装され、SiCを含む半導体素子と、前記半導体素子を封止する封止樹脂と、前記主面と平行な方向を向く前記封止樹脂の第1側面から突出している端子と、を含む。前記基板の裏面における前記第1側面側の部分には、前記裏面から前記主面に向かう窪みが形成されている。前記封止樹脂の一部が前記窪みに入り込むことによって、前記第1側面から前記基板の裏面のうちの前記封止樹脂から露出する露出面までの距離が、前記封止樹脂の他の側面から前記露出面までの距離よりも長い。
 この構成によれば、基板には封止樹脂の裏面から露出する露出面が形成されることによって、基板による半導体素子を放熱する能力の低下を抑制できる。加えて、基板の裏面に形成された窪みによって封止樹脂の第1側面から露出面までの封止樹脂の裏面に沿った距離を長く取ることができるため、端子から露出面までの封止樹脂の表面に沿った距離である沿面距離を長く取ることができる。このため、半導体装置の絶縁耐圧を向上できる。このように、半導体素子の放熱性の低下を抑制しつつ、絶縁耐圧を向上できる。
 上記半導体装置によれば、インダクタンスを低減できる。また、上記半導体装置によれば、半導体素子の放熱性の低下を抑制しつつ、絶縁耐圧を向上できる。
第1実施形態の半導体装置の斜視図。 図1の半導体装置の内部構造を示す平面図。 図1の半導体装置の裏面図。 図1の4-4線の模式的な断面図。 図1の5-5線の模式的な断面図。 図2の半導体素子及びその周辺の拡大図。 第1実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第1実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第1実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第1実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第1実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第2実施形態の半導体装置の斜視図。 図12の半導体装置の内部構造を示す平面図。 図12の半導体装置の裏面図。 図13の半導体素子及びその周辺の拡大図。 第2実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第2実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第2実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第2実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第2実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第2実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第3実施形態の半導体装置の斜視図。 図22の半導体装置の内部構造を示す平面図。 図22の半導体装置の裏面図。 図23の半導体素子及びその周辺の拡大図。 第3実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第3実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第3実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第3実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第3実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第3実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第4実施形態の半導体装置について、その内部構造を示す平面図。 第4実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 各実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第5実施形態の半導体装置の斜視図。 図35の半導体装置の内部構造を示す平面図。 図35の半導体装置の裏面図。 図35の38-38線の模式的な断面図。 図35の39-39線の模式的な断面図。 図36の半導体素子及びその周辺の拡大図。 比較例の半導体装置の平面図。 図41の模式的な断面図。 第5実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第5実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第5実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第5実施形態の半導体装置の斜視図。 図46の半導体装置の内部構造を示す平面図。 図46の半導体装置の裏面図。 図46の49-49線の模式的な断面図。 図46の50-50線の模式的な断面図。 図47の半導体素子及びその周辺の拡大図。 第6実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第6実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第6実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第6実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 第6実施形態の半導体装置の変更例について、半導体装置の模式的な断面図。 第6実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 図57の58-58線の模式的な断面図。 各実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 各実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 図60の半導体装置の側面図。 各実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 各実施形態の半導体装置の変更例について、半導体素子及びその周辺の拡大図。 各実施形態の半導体装置の変更例について、半導体装置の模式的な断面図。 各実施形態の半導体装置の変更例について、半導体装置の模式的な断面図。
 以下、半導体装置の実施形態について図面を参照して説明する。以下に示す実施形態は、技術的思想を具体化するための構成や方法を例示するものであり、各構成部品の材質、形状、構造、配置、寸法等を下記のものに限定するものではない。以下の実施形態は、種々の変更を加えることができる。
 (第1実施形態)
 図1~図11を参照して、半導体装置の第1実施形態について説明する。なお、図4及び図5の断面図について、便宜上、ハッチングを省略して示している。
 図1に示すように、半導体装置1は、基板10と、駆動リード20と、制御リード30と、基板10の主面10aに実装された半導体素子40と、半導体素子40を封止する封止樹脂50とを備える。駆動リード20は、封止樹脂50から突出したアウターリード20A、及び封止樹脂50内に設けられ、アウターリード20Aと電気的に接続されたインナーリード20Bを有する。本実施形態では、アウターリード20A及びインナーリード20Bは一体化された単一部品である。制御リード30は、封止樹脂50から突出したアウターリード30A、及び封止樹脂50内に設けられ、アウターリード30Aと電気的に接続されたインナーリード30Bを有する。本実施形態では、アウターリード30A及びインナーリード30Bは一体化された単一部品である。半導体装置1の封止樹脂50の横寸法L2は、10mm以下が好ましい。本実施形態の半導体装置1は、パッケージ外形規格(JEITA規格)がTO(Transistor Outline)-252のパッケージである。詳細には、半導体装置1の縦寸法L1が9.5mm~10.50mm、横寸法L2が6.4mm~6.8mm、厚さ寸法L3が2.1mm~2.3mmである。また、半導体装置1は、封止樹脂50の1つの面から駆動リード20のアウターリード20A及び制御リード30のアウターリード30Aがそれぞれ延びる、いわゆるSIP(Single Inline Package)タイプである。
 図1に示すとおり、封止樹脂50の形状は、直方体である。封止樹脂50は、電気絶縁性を有する合成樹脂である。一例では、封止樹脂50は、エポキシ樹脂である。封止樹脂50は、第1封止樹脂側面51、第2封止樹脂側面52、第3封止樹脂側面53、第4封止樹脂側面54、封止樹脂裏面55、及び封止樹脂天面56の6面を有する。第1封止樹脂側面51及び第2封止樹脂側面52は、間隔をあけて互いに反対側を向いている。第3封止樹脂側面53及び第4封止樹脂側面54は、間隔をあけて互いに反対側を向いている。封止樹脂裏面55及び封止樹脂天面56は、間隔をあけて互いに反対側を向いている。以降の説明において、封止樹脂裏面55と封止樹脂天面56とが配列される方向を厚さ方向Zとし、第1封止樹脂側面51と第2封止樹脂側面52とが配列される方向を縦方向Xとし、第3封止樹脂側面53と第4封止樹脂側面54とが配列される方向を横方向Yとする。縦方向X及び横方向Yは、厚さ方向Zと直交する方向である。縦方向Xは、横方向Yと直交する方向である。ここで、厚さ方向Zは第1方向に相当し、縦方向Xは第2方向に相当し、横方向Yは第3方向に相当する。
 封止樹脂50は、モールド成形によって形成されている。封止樹脂50の各側面51~54は、封止樹脂50の成形時に金型を抜き易くするような抜き勾配を設けるため、厚さ方向Zに対して傾斜する傾斜面が設けられている。具体的には、各側面51~54は、金型の上型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第1傾斜面と、金型の下型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第2傾斜面とを有する。金型の上型は、封止樹脂天面56と各側面51~54のうちの封止樹脂天面56側の部分を形成する。下型は、封止樹脂裏面55と各側面51~54のうちの封止樹脂裏面55側の部分を形成する。一例では、図4及び図5に示すように、第1封止樹脂側面51は、第1傾斜面51a及び第2傾斜面51bを有する。第1傾斜面51aは、封止樹脂天面56に向かうにつれて第2封止樹脂側面52に向けて傾斜している。第2傾斜面51bは、封止樹脂裏面55に向かうにつれて第2封止樹脂側面52に向けて傾斜している。第1傾斜面51aの長さは、第2傾斜面51bの長さよりも長い。第2封止樹脂側面52は、第1傾斜面52a及び第2傾斜面52bを有する。第1傾斜面52aは、封止樹脂天面56に向かうにつれて第1封止樹脂側面51に向けて傾斜している。第2傾斜面52bは、封止樹脂裏面55に向かうにつれて第1封止樹脂側面51に向けて傾斜している。第1傾斜面52aの長さは、第2傾斜面52bの長さよりも長い。第2傾斜面52bは、基板10よりも封止樹脂天面56側にわたり形成されている。なお、第1傾斜面51aの長さ及び第2傾斜面51bの長さはそれぞれ任意に変更可能である。また第1傾斜面52aの長さ及び第2傾斜面52bの長さはそれぞれ任意に変更可能である。
 図2は、半導体装置1を厚さ方向Zの封止樹脂天面56からみた図である。図2では、便宜上、封止樹脂50を二点鎖線にて示し、封止樹脂50内の部品を実線で示している。
 図2に示すとおり、半導体装置1を厚さ方向Zの封止樹脂天面56からみて(以下、「平面視」という)、封止樹脂50の形状は、縦方向Xが長辺方向となり、横方向Yが短辺方向となる略矩形状である。平面視において、第1封止樹脂側面51及び第2封止樹脂側面52は横方向Yに沿う側面であり、第3封止樹脂側面53及び第4封止樹脂側面54は縦方向Xに沿う側面である。
 基板10は、厚さ方向Zにおいて互いに反対側を向く主面10a及び裏面10b(図3参照)を有する。主面10aは、封止樹脂天面56と同じ方向を向き、裏面10bは、封止樹脂裏面55と同じ方向を向いている。基板10は、例えばアルミニウム(Al)又は銅(Cu)によって形成されている。基板10は、平板状の基板本体部11と、リード部16とを有する。本実施形態では、基板本体部11とリード部16とが一体化した単一部品である。
 基板本体部11は、封止樹脂50に覆われた内側本体部12と、封止樹脂50から突出した突出部13とに区分できる。内側本体部12及び突出部13は、縦方向Xに隣り合っている。突出部13は、第1封止樹脂側面51から縦方向Xに突出している。本実施形態では、突出部13の横方向Yの大きさは、内側本体部12の横方向Yの大きさよりも小さい。なお、突出部13の横方向Yの大きさは任意に変更可能である。一例では、突出部13の横方向Yの大きさは、内側本体部12の横方向Yの大きさと等しくてもよい。
 平面視において、内側本体部12は、その縦方向Xの中心が封止樹脂50の縦方向Xの中心よりも第1封止樹脂側面51寄りとなるように配置されている。内側本体部12は、主面12a、裏面12b(図3参照)、第1側面12c、第2側面12d、及び第3側面12eを有する。主面12aと裏面12bとは、厚さ方向Zにおいて互いに反対側を向いている。主面12aは基板10の主面10aの一部を構成し、裏面12bは基板10の裏面10bを構成している。このため、主面12aは封止樹脂天面56側に面し、裏面12bは封止樹脂裏面55側を面している。また、第1側面12cは第2封止樹脂側面52に面し、第2側面12dは第3封止樹脂側面53に面し、第3側面12eは第4封止樹脂側面54に面している。第1側面12cは横方向Yに沿って延びている。第2側面12d及び第3側面12eは、横方向Yにおいて間隔をあけて対向している。第2側面12d及び第3側面12eは、縦方向Xに沿って延びている。
 内側本体部12において突出部13側の端部には、幅狭部14が形成されている。幅狭部14は、第2側面12dから横方向Yの第4封止樹脂側面54側に向けて凹む湾曲状の凹部14aと、第3側面12eから横方向Yの第3封止樹脂側面53側に向けて凹む湾曲状の凹部14bとによって形成されている。幅狭部14の横方向Yの大きさは、内側本体部12のうちの幅狭部14以外の部分の横方向Yの大きさよりも小さい。また幅狭部14の横方向Yの大きさは、突出部13の横方向Yの大きさよりも小さい。幅狭部14は、封止樹脂50の第1封止樹脂側面51と縦方向Xに隣り合うように設けられている。幅狭部14には、厚さ方向Zにおいて幅狭部14を貫通している貫通孔15が設けられている。平面視における貫通孔15の形状は、横方向Yが長手方向となる長円である。
 内側本体部12には、内側本体部12の本体側面から突出する複数のフランジ部19が設けられている。
 複数のフランジ部19は、第1フランジ部19a、第2フランジ部19b、第3フランジ部19c、及び第4フランジ部19dを含む。第1フランジ部19aは、内側本体部12の第1側面12cから第2封止樹脂側面52に向けて突出している。第2フランジ部19bは、内側本体部12の第2側面12dから第3封止樹脂側面53に向けて突出している。第3フランジ部19cは、内側本体部12の第3側面12eから第4封止樹脂側面54に向けて突出している。第4フランジ部19dは、幅狭部14の横方向Yの両端部と、貫通孔15の第2封止樹脂側面52側の部分とに設けられている。
 第1フランジ部19a、第2フランジ部19b、第3フランジ部19c、及び第4フランジ部19dはそれぞれ、内側本体部12の主面12aと面一となるように設けられている。このため、基板10の主面10aは、内側本体部12の主面12aと、第1フランジ部19a、第2フランジ部19b、第3フランジ部19c、及び第4フランジ部19dとによって構成されている。また、第1フランジ部19a、第2フランジ部19b、第3フランジ部19c、及び第4フランジ部19dはそれぞれ、内側本体部12の裏面12bよりも主面12a側となるように設けられている。このため、基板10の裏面10bは、内側本体部12の裏面12bによって構成されている。このような各フランジ部19a~19dの構成によれば、基板10と封止樹脂50との分離を抑制できる。
 図3に示すように、基板10の裏面10b(内側本体部12の裏面12b)は、封止樹脂裏面55から露出している。これにより、基板10の放熱性を向上できる。封止樹脂50は、内側本体部12の幅狭部14の凹部14a,14b及び貫通孔15のそれぞれに入り込んでいる。これにより、基板10と封止樹脂50との分離を一層抑制できる。
 図2及び図4に示すように、リード部16は、内側本体部12の第1側面12c側の端部から第2封止樹脂側面52に向けて延びているとともに第2封止樹脂側面52から突出している。リード部16は、第2封止樹脂側面52から突出した端子部17と、端子部17と内側本体部12とを連結している連結部18とに区分できる。
 連結部18は、横方向Yにおいて内側本体部12の中央部よりも第2側面12d側の部分に位置している。連結部18は、第1フランジ部19aから連続している。すなわち、連結部18のうちの第1フランジ部19aに接続されている部分の厚さは、第1フランジ部19aの厚さと等しい。連結部18は、傾斜部18aを有する。傾斜部18aは、第1フランジ部19aから第2封止樹脂側面52に向かうにつれて封止樹脂天面56に向けて傾斜している。連結部18のうちの傾斜部18aと端子部17との間の中間部18bは、内側本体部12の主面12aよりも封止樹脂天面56側に位置している。平面視において、中間部18bは、第4封止樹脂側面54側に屈曲する屈曲部18cを有する。中間部18bのうちの第2封止樹脂側面52と接触する部分は、横方向Yにおいて第2封止樹脂側面52の中央部に位置している。
 端子部17は、第2封止樹脂側面52の横方向Yの中央部から突出している。厚さ方向Zにおいて、端子部17の位置は、中間部18bの位置と同じである。すなわち端子部17は、内側本体部12の主面12aよりも封止樹脂天面56側に位置している。
 図2に示すように、平面視において、基板10よりも封止樹脂50の第2封止樹脂側面52側には、駆動リード20及び制御リード30が基板10に対して縦方向Xに離間した状態で配置されている。駆動リード20及び制御リード30は、横方向Yにおいて互いに離間した状態で配置されている。駆動リード20と制御リード30との横方向Yの間には、リード部16が配置されている。
 駆動リード20は、駆動パッド21、駆動端子22、及び、駆動パッド21と駆動端子22とを連結する連結部23を有する。駆動パッド21及び連結部23はインナーリード20Bを構成し、駆動端子22はアウターリード20Aを構成している。駆動パッド21及び連結部23は、縦方向Xにおいて基板10と第2封止樹脂側面52との間に配置されている。駆動パッド21及び連結部23は、横方向Yにおいて封止樹脂50の横方向Yの中央部よりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。
 平面視における駆動パッド21の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる略矩形状である。駆動パッド21は、横方向Yの両端部である第1端部21a及び第2端部21bを有する。第1端部21aは、駆動パッド21のうちの第3封止樹脂側面53側の端部である。第2端部21bは、駆動パッド21のうちの第4封止樹脂側面54側の端部である。第1端部21aは、縦方向Xからみて、リード部16の屈曲部18cと重なるように配置されている。第2端部21bは、内側本体部12の第3側面12eよりも第4封止樹脂側面54側に位置している。本実施形態では、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける半導体素子40の大きさよりも小さい。図5に示すように、駆動パッド21は、厚さ方向Zにおいて、内側本体部12の主面12aよりも封止樹脂天面56側に位置している。また駆動パッド21は、厚さ方向Zにおいて、半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側に位置している。図4及び図5に示すように、本実施形態では、駆動パッド21は、厚さ方向Zにおいてリード部16の中間部18bと同じ位置である。
 図2に示すように、連結部23は、駆動パッド21のうちの第2封止樹脂側面52側の端部から連続している。連結部23は、横方向Yにおいて駆動パッド21の中央部よりも第4封止樹脂側面54側に位置している。駆動端子22は、ソース端子を構成している。図5に示すように、駆動端子22は、第2封止樹脂側面52の第1傾斜面52aから突出している。
 図2に示すように、制御リード30は、制御パッド31、制御端子32、及び、制御パッド31と制御端子32とを連結する連結部33を有する。制御パッド31及び連結部33はインナーリード30Bを構成し、制御端子32はアウターリード30Aを構成している。制御パッド31及び連結部33は、縦方向Xにおいて基板10と第2封止樹脂側面52との間に配置されている。制御パッド31及び連結部33は、横方向Yにおいて封止樹脂50の中央部よりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。
 平面視における制御パッド31の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる略矩形状である。横方向Yにおける制御パッド31の大きさは、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさよりも小さい。このため、駆動パッド21の横方向Yの大きさを大きくすることができる。制御パッド31は、厚さ方向Zにおいて、内側本体部12の主面12aよりも封止樹脂天面56側に位置している。また制御パッド31は、厚さ方向Zにおいて、半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側に位置している。本実施形態では、制御パッド31は、厚さ方向Zにおいてリード部16の中間部18bと同じ位置である。
 連結部33は、制御パッド31のうちの第2封止樹脂側面52側の端部から連続している。連結部33は、横方向Yにおいて制御パッド31のうちの第3封止樹脂側面53寄りに位置している。制御端子32は、ゲート端子を構成している。制御端子32は、第2封止樹脂側面52の第1傾斜面52aから突出している。
 図4及び図5に示すように、半導体素子40は、内側本体部12の主面12aに半田SDによって実装されている。図2に示すように、本実施形態では、半導体素子40は、内側本体部12の中央部に配置されている。具体的には、平面視において、半導体素子40と内側本体部12のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との間の第1距離D1と、半導体素子40と内側本体部12の幅狭部14との間の第2距離D2とが互いに等しい。また、半導体素子40と内側本体部12のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との間の第3距離D3と、半導体素子40と内側本体部12のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との間の第4距離D4とが互いに等しい。ここで、第1距離D1と第2距離D2とが互いに等しいとは、例えば第1距離D1の5%の誤差を含む。ここで、第1距離D1と第2距離D2とのずれ量が例えば第1距離D1の5%以内であれば、第1距離D1と第2距離D2とが互いに等しいと言える。また、第3距離D3と第4距離D4のずれ量が例えば第3距離D3の5%以内であれば、第3距離D3と第4距離D4とが互いに等しいと言える。また、図2に示すとおり、半導体素子40と駆動パッド21とは縦方向Xにずれている。また半導体素子40と制御パッド31とは縦方向Xにずれている。
 半導体素子40は、炭化シリコン(SiC)を含む。本実施形態では、半導体素子40はSiCMOSFET(metal-oxide-semiconductor field-effect transistor)が用いられている。半導体素子40(SiCMOSFT)は、1kHz以上かつ数百kHz以下の周波数の駆動信号に応答した高速スイッチングが可能な素子である。好ましくは、半導体素子40は、1kHz以上かつ100kHz以下の周波数の駆動信号に応答した高速スイッチングが可能な素子である。本実施形態では、半導体素子40は、100kHzの周波数の駆動信号に応じて高速スイッチングを行う。
 半導体素子40は、平板状に形成されている。具体的には、平面視において、半導体素子40の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる矩形状である。本実施形態では、横方向Yにおける半導体素子40の大きさは、3mmである。ここで、横方向Yにおける半導体素子40の大きさは、3mmの5%の誤差(±0.15mm)を含む。
 図2及び図4に示すように、半導体素子40は、表面40a、裏面40b、第1側面40c、第2側面40d、第3側面40e、及び第4側面40fを有する。表面40a及び裏面40bは、厚さ方向Zにおいて互いに反対方向を向いている。表面40aは、封止樹脂天面56に面している。すなわち、表面40aは、基板10の主面10aと同じ方向を向いている。裏面40bは、封止樹脂裏面55に面している。裏面40bは、内側本体部12の主面12aに対向している。第1側面40cは第1封止樹脂側面51に面し、第2側面40dは第2封止樹脂側面52に面し、第3側面40eは第3封止樹脂側面53に面し、第4側面40fは第4封止樹脂側面54に面している。
 表面40aには、主面側駆動電極41及び制御電極43が形成されている。裏面40bには、裏面側駆動電極42(図4参照)が形成されている。本実施形態では、主面側駆動電極41がソース電極を構成し、裏面側駆動電極42がドレイン電極を構成している。制御電極43はゲート電極を構成している。裏面側駆動電極42は、半田SDによって内側本体部12に電気的に接続されている。
 主面側駆動電極41は、表面40aの大部分にわたり形成されている。平面視において、主面側駆動電極41の形状は、縦方向Xを短辺方向とし、横方向Yを長辺方向とする略矩形状である。主面側駆動電極41は、第3封止樹脂側面53に向けて開口する凹部41aが形成されている。凹部41aは、主面側駆動電極41のうちの第3封止樹脂側面53側の端部かつ縦方向Xの中央部に形成されている。凹部41a内には、制御電極43が形成されている。
 半導体素子40は、主面側駆動電極41及び制御電極43上に形成された絶縁膜であるパッシベーション膜44を有する。パッシベーション膜44には、主面側駆動電極41の一部及び制御電極43の一部を露出する開口部45が形成されている。
 平面視における開口部45の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる矩形状である。横方向Yにおける開口部45の大きさは、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさよりも小さい。言い換えれば、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける開口部45の大きさよりも大きい。
 開口部45は、半導体素子40の表面40aの縦方向Xの中央部に設けられている。具体的には、開口部45と半導体素子40の第1側面40cとの間の第1距離DC1と、開口部45と半導体素子40の第2側面40dとの間の第2距離DC2と、開口部45と半導体素子40の第3側面40eとの間の第3距離DC3と、開口部45と半導体素子40の第4側面40fとの間の第4距離DC4とは互いに等しい。ここで、第1距離DC1、第2距離DC2、第3距離DC3、及び第4距離DC4の最大のずれ量が例えば第1距離DC1の5%以内であれば、第1距離DC1、第2距離DC2、第3距離DC3、及び第4距離DC4が互いに等しいと言える。
 主面側駆動電極41は、開口部45によって露出している露出領域46を有する。露出領域46は、横方向Yの両端部である第1露出端部46a及び第2露出端部46bを有する。第1露出端部46aは、露出領域46のうちの半導体素子40の第3側面40e側の端部である。第2露出端部46bは、露出領域46のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部である。
 半導体装置1は、複数の駆動ワイヤ60と1本の制御ワイヤ70を備える。本実施形態では、複数の駆動ワイヤ60は、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の2本の駆動ワイヤから構成されている。すなわち、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離間している組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61は、第2駆動ワイヤ62に対して制御ワイヤ70側に配置されている。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、同一の金属からなる。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、アルミニウムを含む。第1駆動ワイヤ61の線径は、第2駆動ワイヤ62の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61の線径と第2駆動ワイヤ62の線径とのずれ量が例えば第1駆動ワイヤ61の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61の線径が第2駆動ワイヤ62の線径と等しいと言える。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径は、制御ワイヤ70の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径と制御ワイヤ70の線径とのずれ量が例えば制御ワイヤ70の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径が制御ワイヤ70の線径と等しいと言える。第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び制御ワイヤ70のそれぞれの線径の一例は、125μm~250μmである。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び制御ワイヤ70のそれぞれの線径は、125μmである。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、互いに離間した状態で半導体素子40の主面側駆動電極41と駆動パッド21とを接続している。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62はそれぞれ、例えばワイヤボンディングによって主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、横方向Yに離間して配列されている。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21側に向かうにつれて広がっている。以下、このような第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の構成について詳細に説明する。
 図6に示すように、第1駆動ワイヤ61は、駆動電極側端部61a及び駆動パッド側端部61bを有する。第2駆動ワイヤ62は、駆動電極側端部62a及び駆動パッド側端部62bを有する。平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも大きい。図6に示すとおり、平面視において、距離DW1は第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離の最小値であり、距離DW2は第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離の最大値である。
 駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と、駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離を距離DY1とし、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と、駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離を距離DY2とする。この場合、距離DY2は、距離DY1よりも大きい。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部61aは、第1露出端部46aに接続されている。具体的には、駆動電極側端部61aは、横方向Yにおいて主面側駆動電極41のうちの制御電極43と隣り合う部分、すなわち主面側駆動電極41の凹部41aの底部を構成する部分に接続されている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第1端部21a側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。一例では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように配置されている。具体的には、ワイヤボンディング装置における第1駆動ワイヤ61を供給するキャピラリが駆動パッド21の第1端部21aの第3封止樹脂側面53側の端縁に位置するように駆動パッド側端部61bの第1端部21aに対する横方向Yの位置が設定される。駆動パッド側端部61bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。駆動パッド側端部61bは、駆動電極側端部61aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。
 第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部62aは、第2露出端部46bに接続されている。一例では、駆動電極側端部62aは、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部としてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されている。具体的には、ワイヤボンディング装置における第2駆動ワイヤ62を供給するキャピラリが露出領域46の第4側面40f側の端縁に位置するように駆動電極側端部62aの露出領域46の第2露出端部46bに対する横方向Yの位置が設定される。縦方向Xにおいて、駆動電極側端部62aは、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、駆動電極側端部62aと駆動電極側端部61aとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,62aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、両駆動電極側端部61a,62aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、両駆動電極側端部61a,62aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第2端部21b側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。一例では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように配置されている。具体的には、ワイヤボンディング装置における第2駆動ワイヤ62を供給するキャピラリが駆動パッド21の第2端部21bの第4封止樹脂側面54側の端縁に位置するように駆動パッド側端部62bの第2端部21bに対する横方向Yの位置が設定される。駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。駆動パッド側端部62bは、駆動電極側端部62aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。駆動パッド側端部62bは、横方向Yにおいて半導体素子40よりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。また、本実施形態では、駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド側端部61bと揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部61bとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動パッド側端部61b,62bが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、両駆動パッド側端部61b,62bにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、両駆動パッド側端部61b,62bが縦方向Xに揃っていると言える。
 制御ワイヤ70は、半導体素子40の制御電極43と制御パッド31とを接続している。制御ワイヤ70は、例えばワイヤボンディングによって制御電極43と制御パッド31とに接続されている。制御ワイヤ70は、複数の駆動ワイヤ60と同一の材料が用いられている。制御ワイヤ70は、制御電極側端部71と制御パッド側端部72とを有する。制御電極側端部71は、制御ワイヤ70のうちの制御電極43に接続される端部である。制御パッド側端部72は、制御ワイヤ70のうちの制御パッド31に接続される端部である。制御電極側端部71は、制御ワイヤ70のうちの制御電極側端部71と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW3は、距離DW1よりも小さい。制御電極側端部71から縦方向Xに沿う補助線LS5と、制御パッド側端部72から縦方向Xに沿う補助線LS6との間の距離DY3は、距離DY1よりも大きく、距離DY2よりも小さい。なお、距離DY3の大きさは任意に変更可能である。一例では、距離DY3は、距離DY1以下である。
 本実施形態の作用について説明する。
 SiCを含む半導体素子を備える半導体装置では、インダクタンスがナノヘンリー(nH)のオーダーであっても半導体装置の特性に対する影響が大きい。このため、半導体装置におけるインダクタンスを低減できる構成が望まれている。
 ところで、半導体装置においてソース電極からソース端子までに含まれるインダクタンスは、ソース電極とソース端子とを接続する導体の平面視における幅が広くなるにつれて低下する。導体が複数の駆動ワイヤから構成される場合、複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合わせを構成する2つの駆動ワイヤの間を導体の平面視における幅として規定される。
 ちなみに、複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合わせを構成する2つの駆動ワイヤとは、本実施形態のように駆動ワイヤ60が2本であれば、当該2本の駆動ワイヤ61,62が複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離間している組み合わせを構成する。
 そして、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41(ソース電極)側よりも駆動パッド21(ソース端子)側の方が離れている。詳細には、駆動パッド側端部61b及び駆動パッド端部62b間の距離DW2は、駆動電極側端部61a及び駆動電極側端部62a間の距離DW1よりも大きい。これにより、平面視において第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62が平行となる構成と比較して、導体の平面視における幅を広くすることができる。
 また本実施形態では、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aが主面側駆動電極41のうちの制御電極43と横方向Yに隣り合う部分に接続され、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aが開口部45によって露出された主面側駆動電極41のうちの第4側面40f側の端部に接続されている。これにより、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離の最小値である距離DW1を大きく取ることができるため、導体の平面視における幅を広くすることができる。
 本実施形態の半導体装置1によれば、以下の効果が得られる。
 (1-1)平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きく取ることができるため、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。本実施形態では、平面視において第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62とが距離DW1だけ離間した状態で平行となる構成と比較して、インダクタンスが5~7(nH)減少する結果が得られた。なお、距離DW1は、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離である。
 (1-2)横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける開口部45の大きさよりも大きい。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2を大きく取ることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (1-3)第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aに接続されており、第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。この構成によれば、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2を大きく取ることができる。したがって、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きく取ることができるため、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (1-4)第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aが主面側駆動電極41の露出領域46の第1露出端部46aに接続され、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aが露出領域46の第2露出端部46bに接続されている。この構成によれば、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1を大きく取ることができる。したがって、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きく取ることができるため、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (1-5)第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61b及び第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bはそれぞれ、縦方向Xにおいて駆動パッド21の中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれ短くすることができるため、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより低減できる。
 (1-6)第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は同一の材料が用いられている。第1駆動ワイヤ61の線径と第2駆動ワイヤ62の線径とは互いに等しい。この構成によれば、各駆動ワイヤ61,62の主面側駆動電極41及び駆動パッド21への接続作業を同一のワイヤにて実施できるため、その作業工程を簡素化できる。
 (1-7)複数の駆動ワイヤ60及び制御ワイヤ70は同一の材料が用いられている。複数の駆動ワイヤ60の線径と制御ワイヤ70の線径とは互いに等しい。この構成によれば、複数の駆動ワイヤ60の主面側駆動電極41及び駆動パッド21への接続作業、及び制御ワイヤ70の制御電極43及び制御パッド31への接続作業を同一のワイヤにて実施できるため、それらの作業工程を簡素化できる。
 (第1実施形態の変更例)
 第1実施形態の半導体装置1は例えば以下のように変更できる。以下の各変更例は、技術的な矛盾が生じない限り、互いに組み合せることができる。なお、以下の変更例において、第1実施形態と共通する部分については、第1実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
 ・駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図7に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び第3駆動ワイヤ63の3本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離間している組み合わせを構成している。
 すなわち、駆動ワイヤの数が3本以上である場合、最も離間している組み合わせとは、最も離れた位置にある2つの駆動ワイヤである。例えば、3本以上の駆動ワイヤが横方向Yに配列されている場合には、最も離間している組み合わせとは、横方向Yの両端にある駆動ワイヤの組み合わせである。
 第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aは、第3駆動ワイヤ63のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、第3駆動ワイヤ63のうちの駆動パッド21に接続される端部である。駆動電極側端部63aと第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW4と、駆動電極側端部63aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW5とは互いに等しい。ここで、距離DW4と距離DW5とのずれ量が例えば距離DW4の5%以内であれば、距離DW4と距離DW5とが互いに等しいと言える。図7では、距離DW4,DW5は、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと制御ワイヤ70の制御電極側端部71との間の距離DW3よりも大きい。
 また図7では、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW6は、距離DW4よりも大きい。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW7は、距離DW5よりも大きい。図7では、距離DW6は、距離DW7と等しい。ここで、距離DW6と距離DW7とのずれ量が例えば距離DW6の5%以内であれば、距離DW6と距離DW7とが互いに等しいと言える。
 第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。第3駆動ワイヤ63及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。なお、駆動パッド側端部63bの駆動パッド21に対する位置は任意に変更可能である。一例では、距離DW6が距離DW7よりも小さくなるように駆動パッド側端部63bが駆動パッド21に接続されてもよい。
 ・半導体素子40のサイズは任意に変更可能である。一例では、図8に示すように、半導体素子40のサイズを第1実施形態の半導体素子40のサイズよりも大きくしてもよい。図8では、半導体素子40の縦方向Xのサイズ及び横方向Yのサイズのそれぞれが第1実施形態の半導体素子40のサイズよりも大きい。また、半導体素子40のサイズが大きくなることに伴い表面40aに形成された主面側駆動電極41及び開口部45の大きさをそれぞれ縦方向X及び横方向Yのそれぞれに大きくすることができる。図8では、開口部45の横方向Yの大きさは、駆動パッド21の横方向Yの大きさよりも大きい。
 半導体素子40は、内側本体部12の中央部に配置されている。具体的には、平面視において、半導体素子40と内側本体部12のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との間の第1距離D1と、半導体素子40と内側本体部12の幅狭部14との間の第2距離D2と、半導体素子40と内側本体部12のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との間の第3距離D3と、半導体素子40と内側本体部12のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との間の第4距離D4とが互いに等しい。ここで、第1距離D1、第2距離D2、第3距離D3、及び第4距離D4の最大のずれ量が例えば第1距離D1の5%以内であれば、第1距離D1、第2距離D2、第3距離D3、及び第4距離D4が互いに等しいと言える。
 半導体装置1は、第1実施形態と同様に、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62を有する。第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、第1実施形態の駆動電極側端部61aと同様に、主面側駆動電極41の露出領域46の第1露出端部46aに接続されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、第1実施形態の駆動パッド側端部61bと同様に、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、第1実施形態の駆動電極側端部62aと同様に、主面側駆動電極41の露出領域46の第2露出端部46bに接続されている。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、第1実施形態の駆動パッド側端部62bと同様に、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。また第1実施形態と同様に、縦方向Xにおいて、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとは互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。駆動パッド側端部61b及び駆動パッド側端部62bはそれぞれ、縦方向Xにおいて駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも小さい。図8では、駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離DY1は、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離DY2よりも大きい。また、平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が近づくように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。また、平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に狭くなっている。
 この構成によれば、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きくすることができるため、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスを低減できる。
 なお、距離DW1と距離DW2との関係は任意に変更可能である。一例では、距離DW1は、距離DW2と等しくてもよい。この場合、平面視において、第1駆動ワイヤ61は、第2駆動ワイヤ62と平行となる。
 ・図8の変更例において、駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図9に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び第3駆動ワイヤ63の3本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62が、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離間している組み合わせを構成している。第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aと第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW4と、駆動電極側端部63aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW5とは互いに等しい。ここで、距離DW4と距離DW5とのずれ量が例えば距離DW4の5%以内であれば、距離DW4と距離DW5とが互いに等しいと言える。
 また図9では、図7の半導体装置1と同様に、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは互いに揃った状態で配列されている。
 第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW6は、距離DW4よりも小さい。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW7は、距離DW5と等しい。ここで、距離DW7と距離DW5とのずれ量が例えば距離DW7の5%以内であれば、距離DW7が距離DW5と等しいと言える。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が近づくように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に狭くなっている。第3駆動ワイヤ63は、第2駆動ワイヤ62と平行となる。
 ・半導体素子40の内側本体部12に対する配置位置は任意に変更可能である。第1例では、図10に示すように、半導体素子40を内側本体部12のうちの第2封止樹脂側面52寄りの部分に配置してもよい。詳細には、半導体素子40と内側本体部12のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との間の第1距離D1が半導体素子40と内側本体部12の幅狭部14との間の第2距離D2よりも小さくなる。
 横方向Yにおいて、半導体素子40は、内側本体部12の中央部に配置されている。具体的には、半導体素子40と内側本体部12のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との間の第3距離D3と、半導体素子40と内側本体部12のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との間の第4距離D4とが互いに等しい。ここで、第3距離D3と第4距離D4とのずれ量が例えば第3距離D3の5%以内であれば、第3距離D3と第4距離D4とが互いに等しいと言える。
 このような構成によれば、半導体素子40の開口部45と駆動パッド21との間の距離が小さくなることによって、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれ短くできる。したがって、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより低減できる。
 第2例では、図11に示すように、半導体素子40を内側本体部12のうちの第2封止樹脂側面52寄りかつ第4封止樹脂側面54寄りの部分に配置してもよい。詳細には、半導体素子40と内側本体部12のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との間の第1距離D1が半導体素子40と内側本体部12の幅狭部14との間の第2距離D2よりも小さい。また、半導体素子40と内側本体部12のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との間の第3距離D3が半導体素子40と内側本体部12のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との間の第4距離D4よりも大きい。
 このような構成によれば、半導体素子40の開口部45と駆動パッド21との間の距離がさらに小さくなることによって、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれさらに短くできる。したがって、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより一層低減できる。
 ・第1実施形態の半導体装置1の基板10からリード部16を省略してもよい。この場合、横方向Yにおいて、駆動パッド21と制御パッド31とが隣り合っている。また、リード部16を省略した分、駆動パッド21の横方向Yの大きさを大きくしてもよい。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2を大きく取ることができるため、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (第2実施形態)
 図12~図21を参照して、半導体装置1の第2実施形態について説明する。本実施形態の半導体装置1は、第1実施形態の半導体装置1と比較して、基板10、駆動リード20、制御リード30、及び封止樹脂50の形状がそれぞれ異なる点、並びに、センスリード80が追加された点が異なる。本実施形態では、便宜上、第1実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する場合がある。
 図12に示すように、本実施形態の半導体装置1は、パッケージ外形規格(JEITA規格)がTO-263のパッケージである。詳細には、半導体装置1の縦寸法L1が14.7mm~15.5mm、横寸法L2が10.06mm~10.26mm、厚さ寸法L3が4.40mm~4.70mmである。また、半導体装置1は、SIPタイプである。このように、本実施形態の半導体装置1のサイズは、第1実施形態の半導体装置1のサイズよりも大きい。
 図12に示すとおり、封止樹脂50の形状は、直方体である。封止樹脂50は、モールド成形によって形成されている。封止樹脂50の各側面51~54は、封止樹脂50の成形時に金型を抜き易くするような抜き勾配を設けるため、厚さ方向Zに対して傾斜する傾斜面が設けられている。具体的には、各側面51~54は、金型の上型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第1傾斜面と、金型の下型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第2傾斜面とを有する。金型の上型は、封止樹脂天面56と各側面51~54のうちの封止樹脂天面56側の部分を形成する。下型は、封止樹脂裏面55と各側面51~54のうちの封止樹脂裏面55側の部分を形成する。第1封止樹脂側面51と封止樹脂天面56との間には、抜き勾配よりも傾斜角度が大きい傾斜面57が形成されている。
 封止樹脂50の横方向Yの両端部には、凹部58が形成されている。封止樹脂50の第3封止樹脂側面53側の凹部58は、第3封止樹脂側面53から横方向Yに湾曲状に凹んでいる。封止樹脂50の第4封止樹脂側面54側の凹部58は、第4封止樹脂側面54から横方向Yに湾曲状に凹んでいる。凹部58は、封止樹脂天面56から基板10の主面10aまでにわたり形成されている。すなわち、凹部58によって、基板10の主面10aの一部が露出している。凹部58は、封止樹脂50の縦方向Xの中心よりも第2封止樹脂側面52寄りに設けられている。
 図13は、半導体装置1を厚さ方向Zの封止樹脂天面56からみた図である。図13では、便宜上、封止樹脂50を二点鎖線で示し、封止樹脂50内の部品を実線で示している。図13に示すとおり、平面視において、封止樹脂50の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる矩形状である。
 図12及び図13に示すように、基板10は、封止樹脂50内に配置された内側本体部12と、封止樹脂50から突出した突出部13とに区分できる。内側本体部12及び突出部13は、縦方向Xに隣り合っている。基板10は、例えばアルミニウム(Al)又は銅(Cu)によって形成されている。
 内側本体部12において突出部13側の端部には、第1幅広部12fが形成されている。第1幅広部12fの横方向Yの大きさは、内側本体部12のうちの第1幅広部12f以外の部分の横方向Yの大きさよりも大きい。第1幅広部12fは、封止樹脂50の第1封止樹脂側面51と縦方向Xに隣り合うように設けられている。
 内側本体部12において第2封止樹脂側面52側の端部には、第2幅広部12gが形成されている。第2幅広部12gの横方向Yの大きさは、内側本体部12のうちの第1幅広部12f以外の部分の横方向Yの大きさよりも大きい。また第2幅広部12gの横方向Yの大きさは、第1幅広部12fの横方向Yの大きさよりも小さい。
 突出部13は、第1封止樹脂側面51から縦方向Xに突出している。本実施形態では、突出部13の横方向Yの大きさは、内側本体部12の第1幅広部12fの横方向Yの大きさと等しい。なお、突出部13の横方向Yの大きさは任意に変更可能である。一例では、突出部13の横方向Yの大きさは、内側本体部12の第1幅広部12fの横方向Yの大きさよりも小さくてもよい。
 内側本体部12には、内側本体部12の本体側面から突出する複数のフランジ部19が設けられている。本実施形態では、内側本体部12及び複数のフランジ部19は一体化された単一部品である。
 複数のフランジ部19は、第1フランジ部19a、第2フランジ部19b、及び第3フランジ部19cを含む。第1フランジ部19aは、内側本体部12の第1側面12cから第2封止樹脂側面52に向けて突出している。第1フランジ部19aは、第2幅広部12gの一部を構成している。第2フランジ部19bは、内側本体部12の第2側面12dから第3封止樹脂側面53に向けて突出している。第2フランジ部19bの一部は、第2幅広部12gの一部を構成している。第3フランジ部19cは、内側本体部12の第3側面12eから第4封止樹脂側面54に向けて突出している。第3フランジ部19cは、第2幅広部12gの一部を構成している。
 第1フランジ部19a、第2フランジ部19b、及び第3フランジ部19cはそれぞれ、内側本体部12の主面12aと面一となるように設けられている。このため、基板10の主面10aは、内側本体部12の主面12aと、第1フランジ部19a、第2フランジ部19b、及び第3フランジ部19cとによって構成されている。また、第1フランジ部19a、第2フランジ部19b、及び第3フランジ部19cはそれぞれ、内側本体部12の裏面12b(図13参照)よりも主面12a側となるように設けられている。このため、基板10の裏面10b(図13参照)は、内側本体部12の裏面12bによって構成されている。このような各フランジ部19a~19cの構成によれば、基板10と封止樹脂50との分離を抑制できる。
 図14に示すように、基板10の裏面10b(内側本体部12の裏面12b)は、封止樹脂裏面55から露出している。具体的には、内側本体部12のうちの第1幅広部12fの一部及び第2幅広部12g以外の部分の裏面12bが封止樹脂裏面55から露出している。これにより、基板10の放熱性を向上できる。また、基板10の裏面10bと封止樹脂50の封止樹脂裏面55とは面一である。
 図13に示すように、平面視において、基板10よりも封止樹脂50の第2封止樹脂側面52側には、駆動リード20、制御リード30、及びセンスリード80が配置されている。本実施形態では、平面視において、駆動リード20、制御リード30、及びセンスリード80のそれぞれの第1封止樹脂側面51側の端縁は、内側本体部12の第2封止樹脂側面52側の端縁と重なっている。駆動リード20、制御リード30、及びセンスリード80は、横方向Yにおいて互いに離間して配置されている。駆動リード20と制御リード30との横方向Yの間には、センスリード80が配置されている。
 駆動リード20は、駆動パッド21、複数の駆動端子22、及び駆動パッド21と複数の駆動端子22とを接続する複数の連結部23を有する。
 平面視における駆動パッド21の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる略矩形状である。駆動パッド21の第1端部21aは、内側本体部12の横方向Yの中央部よりも第3封止樹脂側面53側に位置している。縦方向Xからみて、駆動パッド21の第2端部21bは、内側本体部12のうちの第4封止樹脂側面54側の端部と重なるように設けられている。このように、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける内側本体部12の大きさの1/2よりも大きい。図12に示すように、駆動パッド21は、厚さ方向Zにおいて、基板10の主面10aよりも封止樹脂天面56側に位置している。また駆動パッド21は、厚さ方向Zにおいて、半導体素子40よりも封止樹脂天面56側に位置している。
 図13に示すように、本実施形態では、複数の駆動端子22は、駆動端子22a,22b,22c,22d,22eの5つの駆動端子を含む。複数の連結部23は、連結部23a,23b,23c,23d,23eの5つの連結部を含む。駆動端子22a~22eは、横方向Yに互いに離間して配置されている。駆動端子22a~22eは、駆動パッド21の第1端部21aから第2端部21bに向けて、駆動端子22a,22b,22c,22d,22eの順に配置されている。連結部23a~23eは、横方向Yに互いに離間して配置されている。連結部23aは駆動パッド21と駆動端子22aとを連結し、連結部23bは駆動パッド21と駆動端子22bとを連結し、連結部23cは駆動パッド21と駆動端子22cとを連結し、連結部23dは駆動パッド21と駆動端子22dとを連結し、連結部23eは駆動パッド21と駆動端子22eとを連結している。
 図13に示すとおり、駆動端子22a~22e、制御端子32、及び後述するセンス端子82が等ピッチとなる。駆動端子22aは、駆動パッド21の第1端部21aよりも第3封止樹脂側面53側の部分を含むように配置されている。駆動端子22aは、内側本体部12の横方向Yの中央部よりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。
 駆動端子22bは、内側本体部12の横方向Yの中央部と同じ位置となるように配置されている。具体的には、駆動端子22bの横方向Yの中央部において縦方向Xに沿う仮想線LV1が内側本体部12の横方向Yの中央部において縦方向Xに沿う仮想線LV2と一致している。駆動端子22c~22eは、内側本体部12の横方向Yの中央部よりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。本実施形態では、駆動端子22d,22eは、半導体素子40よりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。駆動端子22a,22c~22eは、互いに同一形状である。駆動端子22bは、駆動端子22a,22c~22eよりも短い。
 制御リード30は、縦方向Xからみて、内側本体部12のうちの第3封止樹脂側面53側の端部と重なるように配置されている。制御リード30は、半導体素子40よりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。
 図12に示すように、制御パッド31は、厚さ方向Zにおいて、基板10の主面10aよりも封止樹脂天面56側に位置している。また制御パッド31は、厚さ方向Zにおいて、半導体素子40よりも封止樹脂天面56側に位置している。図13に示すように、平面視における制御パッド31の形状は、縦方向Xが長辺方向となり、横方向Yが短辺方向となる略矩形状である。横方向Yにおける制御パッド31の大きさは、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさよりも小さい。このため、駆動パッド21の横方向Yの大きさを大きくすることができる。制御リード30の制御端子32は、ゲート端子を構成している。制御端子32は、駆動端子22a,22c~22eと同一形状である。
 センスリード80は、本実施形態では制御電極43(ゲート電極)と主面側駆動電極41(ソース電極)とを電気的に接続するためのリードである。平面視において、センスリード80は、半導体素子40よりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。センスリード80は、センスパッド81、センス端子82、及び、センスパッド81とセンス端子82とを連結する連結部83を有する。
 センスパッド81は、縦方向Xにおいて半導体素子40に離間して配置されている。センスパッド81は、縦方向Xにおいて基板10と第2封止樹脂側面52との間に配置されている。センスパッド81は、横方向Yにおいて、駆動パッド21と制御パッド31との間に配置されている。平面視におけるセンスパッド81の形状は、縦方向Xが長辺方向となり、横方向Yが短辺方向となる略矩形状である。横方向Yにおけるセンスパッド81の大きさは、横方向Yにおける制御パッド31の大きさと等しい。すなわち横方向Yにおけるセンスパッド81の大きさは、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさよりも小さい。このため、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさを大きくすることができる。図12に示すように、センスパッド81は、厚さ方向Zにおいて、基板10の主面10aよりも封止樹脂天面56側に位置している。またセンスパッド81は、厚さ方向Zにおいて、半導体素子40よりも封止樹脂天面56側に位置している。なお、横方向Yにおけるセンスパッド81の大きさ、及び横方向Yにおける制御パッド31の大きさはそれぞれ、任意に変更可能である。一例では、横方向Yにおけるセンスパッド81の大きさが横方向Yにおける制御パッド31の大きさよりも小さくてもよい。
 図13に示すように、連結部83は、縦方向Xにおいてセンスパッド81のうちの第2封止樹脂側面52側の端部から連続している。連結部83は、横方向Yにおいてセンスパッド81のうちの第3封止樹脂側面53側の端部に位置している。センス端子82は、第2封止樹脂側面52から突出している。センス端子82は、駆動端子22a,22c~22e及び制御端子32と同一形状である。
 半導体素子40は、第1実施形態と同様に、SiCMOSFETが用いられている。また半導体素子40は、第1実施形態と同様に、1kHz以上かつ数百kHz以下の周波数の駆動信号に応答した高速スイッチングが可能な素子である。好ましくは、半導体素子40は、1kHz以上かつ100kHz以下の周波数の駆動信号に応答した高速スイッチングが可能な素子である。本実施形態では、半導体素子40は、100kHzの周波数の駆動信号に応じて高速スイッチングを行う。半導体素子40の形状及びサイズは、第1実施形態の半導体素子40の形状及びサイズと同様である。
 半導体素子40は、縦方向Xにおいて、内側本体部12に対して第2封止樹脂側面52寄りに配置されている。具体的には、平面視において、半導体素子40と内側本体部12のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との縦方向Xの間の第1距離D1が半導体素子40と内側本体部12の第1幅広部12fとの縦方向Xの間の第2距離D2よりも小さい。
 半導体素子40は、横方向Yにおいて、内側本体部12の中央部に配置されている。具体的には、半導体素子40と内側本体部12のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との横方向Yの間の第3距離D3と、半導体素子40と内側本体部12のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との横方向Yの間の第4距離D4とが互いに等しい。ここで、第3距離D3と第4距離D4とのずれ量が例えば第3距離D3の5%以内であれば、第3距離D3及び第4距離D4が互いに等しいと言える。
 半導体装置1は、複数の駆動ワイヤ60と、制御ワイヤ70と、センスワイヤ90とを備える。本実施形態では、複数の駆動ワイヤ60は、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の2本の駆動ワイヤから構成されている。すなわち、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、横方向Yに離間して配列されている。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。制御ワイヤ70と、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、横方向Yに離間して配列されている。第1駆動ワイヤ61は、第2駆動ワイヤ62に対して制御ワイヤ70側に配置されている。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、同一の金属からなる。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、アルミニウムを含む。第1駆動ワイヤ61の線径は、第2駆動ワイヤ62の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61の線径と第2駆動ワイヤ62の線径とのずれ量が例えば第1駆動ワイヤ61の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61の線径が第2駆動ワイヤ62の線径と等しいと言える。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径は、制御ワイヤ70の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径と制御ワイヤ70の線径とのずれ量が例えば制御ワイヤ70の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径が制御ワイヤ70の線径と等しいと言える。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62はそれぞれ、例えばワイヤボンディングによって主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21側に向かうにつれて広がっている。以下、このような第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の構成について詳細に説明する。
 図15に示すように、平面視において、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも大きい。本実施形態では、駆動パッド側端部61bは、横方向Yにおいて駆動電極側端部61aよりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。駆動パッド側端部62bは、横方向Yにおいて駆動電極側端部62aよりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。このように、平面視において、第1駆動ワイヤ61の縦方向Xに対する傾斜方向と、第2駆動ワイヤ62の縦方向Xに対する傾斜方向とは逆になる。
 駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と、駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離を距離DY1とし、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と、駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離を距離DY2とする。この場合、距離DY2は、距離DY1よりも大きい。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に接続されている。本実施形態では、横方向Yにおいて主面側駆動電極41の露出領域46の第1露出端部46aよりも露出領域46の中央部側に接続されている。換言すれば、駆動電極側端部61aは、露出領域46のうちの制御電極43から離間した部分、すなわち主面側駆動電極41の凹部41aの底部から離間した部分に接続されている。また、駆動電極側端部61aは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23bと重なっている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第1端部21a側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21のうちの横方向Yにおいて連結部23bよりも第3封止樹脂側面53側の部分に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部61bは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23aと重なっている。駆動パッド側端部61bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 なお、駆動パッド側端部61bは、横方向Yにおいて、駆動パッド21の第1端部21aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように第1端部21aに接続されてもよい。
 第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部62aは、露出領域46の第2露出端部46bに接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部62aは、縦方向Xからみて、連結部23bと連結部23cとの横方向Yの間の部分と重なっている。一例では、駆動電極側端部62aは、横方向Yにおいて露出領域46の第2露出端部46bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように駆動電極側端部62aの露出領域46に対する位置が設定されている。縦方向Xにおいて、駆動電極側端部62aは、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと揃った状態となるように配置されている。なお、縦方向Xにおいて駆動電極側端部62aと駆動電極側端部61aとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,62aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、両駆動電極側端部61a,62aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、両駆動電極側端部61a,62aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第2端部21b側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。駆動パッド側端部62bは、半導体素子40よりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。本実施形態では、駆動パッド側端部62bは、縦方向Xからみて、連結部23eと重なっている。なお、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように駆動パッド21に対する位置が設定されてもよい。駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 制御ワイヤ70は、半導体素子40の制御電極43と制御パッド31とを接続している。制御ワイヤ70は、例えばワイヤボンディングによって制御電極43と制御パッド31とに接続されている。第1実施形態と同様に、制御ワイヤ70は、複数の駆動ワイヤ60と同一の材料が用いられている。制御ワイヤ70の線径は、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径と等しい。ここで、制御ワイヤ70の線径と第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径とのずれ量が例えば制御ワイヤ70の線径の5%以内であれば、制御ワイヤ70の線径と第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径とが等しいと言える。
 制御ワイヤ70は、制御電極側端部71と制御パッド側端部72とを有する。制御電極側端部71と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW3は、距離DW1よりも小さい。制御電極側端部71から縦方向Xに沿う補助線LS5と、制御パッド側端部72から縦方向Xに沿う補助線LS6との間の距離DY3は、距離DY1よりも大きく、距離DY2よりも僅かに小さい。なお、距離DY3は任意に変更可能である。一例では、距離DY3は、距離DY2以上であってもよい。
 センスワイヤ90は、半導体素子40の主面側駆動電極41とセンスパッド81とを接続している。センスワイヤ90は、例えばワイヤボンディングによって主面側駆動電極41とセンスパッド81とに接続されている。センスワイヤ90は、第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び制御ワイヤ70と同一の材料が用いられている。センスワイヤ90の線径は、例えば制御ワイヤ70の線径と等しい。ここで、センスワイヤ90の線径と制御ワイヤ70の線径のずれ量が例えばセンスワイヤ90の線径の5%以内であれば、センスワイヤ90の線径と制御ワイヤ70の線径とが互いに等しいと言える。
 センスワイヤ90は、駆動電極側端部91とセンスパッド側端部92とを有する。駆動電極側端部91は、センスワイヤ90のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。センスパッド側端部92は、センスワイヤ90のうちのセンスパッド81に接続される端部である。センスパッド側端部92は、横方向Yにおいて駆動電極側端部91よりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。
 駆動電極側端部91は、主面側駆動電極41のうちの第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと制御電極43との横方向Yの間の部分に接続されている。駆動電極側端部91と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW8は、駆動電極側端部91と制御ワイヤ70の制御電極側端部71との間の距離DW9よりも小さい。
 駆動電極側端部91から縦方向Xに沿う補助線LS7と、センスパッド側端部92から縦方向Xに沿う補助線LS8との間の距離DY4は、距離DY1よりも大きく、距離DY2よりも小さい。また距離DY4は、距離DY3よりも小さい。
 本実施形態の半導体装置1によれば、第1実施形態の(1-1)~(1-7)の効果と同様の効果に加え、以下の効果が得られる。
 (2-1)半導体装置1は、半導体素子40の主面側駆動電極41(ソース電極)と、制御電極43(ゲート電極)とを電気的に接続するためのセンスリード80及びセンスワイヤ90を備える。この構成によれば、主面側駆動電極41の電圧が変動しても、制御電極43の電圧が追従して変動するため、半導体素子40のソース-ゲート間の電圧の変動が抑制される。したがって、半導体素子40のしきい値電圧の変動を抑制できる。
 (2-2)半導体素子40が基板10の内側本体部12に対して第2封止樹脂側面52寄りに位置している。この構成によれば、半導体素子40の開口部45と駆動パッド21との間の距離を短くすることができるため、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の長さをそれぞれ短くすることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (2-3)横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける半導体素子40の大きさよりも大きい。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bとの間の距離を一層大きく取ることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを一層低減できる。
 (2-4)駆動パッド21の横方向Yの大きさは、基板10の内側本体部12の1/2よりも大きい。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2を大きく取ることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (2-5)縦方向Xからみて、半導体素子40の開口部45の全てが駆動パッド21と重なるように、半導体素子40及び駆動パッド21が配置されている。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の長さを短くすることができるとともに、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きく取ることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (2-6)複数の駆動ワイヤ60、制御ワイヤ70、及びセンスワイヤ90は、同一の材料が用いられている。また複数の駆動ワイヤ60、制御ワイヤ70、及びセンスワイヤ90の線径は互いに等しい。この構成によれば、複数の駆動ワイヤ60の主面側駆動電極41及び駆動パッド21への接続作業、制御ワイヤ70の制御電極43及び制御パッド31への接続作業、及びセンスワイヤ90の主面側駆動電極41及びセンスパッド81への接続作業を同一のワイヤにて実施できるため、それらの作業工程を簡素化できる。
 (第2実施形態の変更例)
 第2実施形態の半導体装置1は例えば以下のように変更できる。以下の各変更例は、技術的な矛盾が生じない限り、組み合せることができる。なお、以下の変更例において、第2実施形態と共通する部分については、第2実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
 ・駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図16に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び第3駆動ワイヤ63の3本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。
 すなわち、駆動ワイヤの数が3本以上である場合、最も離間している組み合わせとは、最も離れた位置にある2つの駆動ワイヤである。例えば、3本以上の駆動ワイヤが横方向Yに配列されている場合には、最も離間している組み合わせとは、横方向Yの両端にある駆動ワイヤの組み合わせである。
 第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aは、第3駆動ワイヤ63のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、第3駆動ワイヤ63のうちの駆動パッド21に接続される端部である。図16では、駆動電極側端部63aは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23bと重なっている。駆動パッド側端部63bは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23cと重なっている。すなわち、駆動パッド側端部63bは、駆動電極側端部63aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。
 図16では、駆動電極側端部63aと第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW4は、駆動電極側端部63aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW5よりも小さい。距離DW4及び距離DW5は、駆動電極側端部91と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW8よりも大きい。なお、駆動電極側端部63aの横方向Yの位置は任意に変更可能である。一例では、距離DW4及び距離DW5が互いに等しくなるように駆動電極側端部63aが主面側駆動電極41に接続されてもよい。
 また図16では、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは互いに揃った状態で配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW6は、距離DW4よりも大きい。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW7は、距離DW5よりも大きい。図16では、距離DW7は、距離DW6よりも大きい。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第3駆動ワイヤ63及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。
 ・半導体素子40のサイズは任意に変更可能である。第1例では、図17に示すように、半導体素子40のサイズを第2実施形態の半導体素子40のサイズよりも大きくしてもよい。第2例では、図19に示すように、半導体素子40のサイズを図17の半導体素子40のサイズよりも大きくしてもよい。
 図17に示す第1例では、半導体素子40の縦方向Xのサイズ及び横方向Yのサイズのそれぞれが第2実施形態の半導体素子40のサイズよりも大きい。また、半導体素子40のサイズが大きくなることに伴い表面40aに形成された開口部45の大きさを縦方向X及び横方向Yのそれぞれに大きくすることができる。図17では、開口部45の横方向Yの大きさは、駆動パッド21の横方向Yの大きさよりも小さい。駆動パッド21の横方向Yの大きさは、半導体素子40の横方向Yの大きさよりも大きい。開口部45は、縦方向Xからみて、駆動パッド21の第1端部21aと重なっている。より詳細には、開口部45のうちの第3側面40e側の端縁は、駆動パッド21よりも第3封止樹脂側面53側に位置している。また開口部45は、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23cと重なっている。
 また図17では、半導体素子40の第3側面40eは、縦方向Xからみて、センスリード80のうちの第4封止樹脂側面54側の端部と重なっている。半導体素子40の第4側面40fは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23cと連結部23dとの横方向Yの間の部分と重なっている。
 半導体装置1は、第2実施形態と同様に、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62を有する。第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、第2実施形態の駆動電極側端部61aと同様に、主面側駆動電極41のうちの横方向Yにおいて制御電極43と離間した部分に接続されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、第2実施形態の駆動パッド側端部61bと同様に、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、第2実施形態の駆動電極側端部62aと同様に、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部に接続されている。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、第2実施形態の駆動パッド側端部62bと同様に、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。縦方向Xにおいて、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとは互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。駆動パッド側端部61b及び駆動パッド側端部62bはそれぞれ、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 図17では、駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離DY1は、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離DY2よりも小さい。平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも大きい。このように、平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広くなっている。
 この構成によれば、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きくすることができるため、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスを低減できる。
 ・図17の変更例において、駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図18に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び第3駆動ワイヤ63の3本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aと第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW4は、駆動電極側端部63aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW5よりも大きい。なお、主面側駆動電極41に対する駆動電極側端部63aの配置位置は任意に変更可能である。一例では、距離DW4と距離DW5とが互いに等しくなるように、駆動電極側端部63aが主面側駆動電極41に接続されてもよい。
 また図18では、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは互いに揃った状態で配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW6は、距離DW4よりも大きい。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW7は、距離DW5よりも大きい。図18では、距離DW7は、距離DW6よりも大きい。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広くなっている。平面視において、第3駆動ワイヤ63及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広くなっている。
 なお、平面視において、第3駆動ワイヤ63の縦方向Xに対する傾斜角度は任意に変更可能である。一例では、平面視において、第3駆動ワイヤ63の縦方向Xに対する傾斜角度は第1駆動ワイヤ61の縦方向Xに対する傾斜角度又は第2駆動ワイヤ62の縦方向Xに対する傾斜角度と等しくてもよい。
 図19に示す第2例では、平面視における半導体素子40の形状は、正方形である。半導体素子40の表面40aに形成された主面側駆動電極41(ソース電極)の平面視における形状は、略正方形である。半導体素子40の第2側面40dかつ第3側面40e側の端部に切欠部41bが形成されている。制御電極43は、切欠部41bに形成されている。また、パッシベーション膜44に形成された開口部45の平面視における形状は、正方形である。開口部45は、第2実施形態と同様に、主面側駆動電極41の一部及び制御電極43の一部を露出している。主面側駆動電極41は、開口部45によって露出された露出領域46を有する。
 図19に示す第2例の半導体装置1は、複数の駆動ワイヤ60として、第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64を有する。第3駆動ワイヤ63及び第4駆動ワイヤ64は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64は、横方向Yに離間して配列されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61は、横方向Yにおいて第2駆動ワイヤ62、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64よりも半導体素子40の第3側面40e側に配置されている。第2駆動ワイヤ62は、横方向Yにおいて第1駆動ワイヤ61、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64よりも半導体素子40の第4側面40f側に配置されている。第3駆動ワイヤ63は、第4駆動ワイヤ64よりも半導体素子40の第3側面40e側に配置されている。このように、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成する第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。具体的には、駆動電極側端部61aは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23aと重なっている。駆動パッド側端部61bは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23aと連結部23bとの間の部分と重なっている。
 第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。具体的には、駆動電極側端部62aは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23cと連結部23dとの間の部分と重なっている。駆動パッド側端部62bは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23eと重なっている。
 第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aは、第3駆動ワイヤ63のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、第3駆動ワイヤ63のうちの駆動パッド21に接続される端部である。駆動電極側端部63aは、駆動パッド側端部63bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。具体的には、駆動電極側端部63aは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23bと重なっている。駆動パッド側端部63bは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23bと連結部23cとの間の部分と重なっている。
 第4駆動ワイヤ64は、駆動電極側端部64a及び駆動パッド側端部64bを有する。駆動電極側端部64aは、第4駆動ワイヤ64のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部64bは、第4駆動ワイヤ64のうちの駆動パッド21に接続される端部である。駆動電極側端部64aは、駆動パッド側端部64bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。具体的には、駆動電極側端部64aは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23bと連結部23cとの間の部分と重なっている。駆動パッド側端部64bは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23cと連結部23dとの間の部分と重なっている。
 駆動電極側端部61a及び駆動電極側端部63aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に接続されている。駆動電極側端部61aは、横方向Yにおいて駆動電極側端部63aよりも第1露出端部46a側に接続されている。駆動電極側端部64a及び駆動電極側端部62aは、露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に接続されている。駆動電極側端部62aは、駆動電極側端部64aよりも第2露出端部46b側に接続されている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a及び第4駆動ワイヤ64の駆動電極側端部64aは、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aと縦方向Xにずれている。具体的には、駆動電極側端部61a,64aは、駆動電極側端部62a,63aよりも半導体素子40の第1側面40c側となるように配置されている。このため、第1駆動ワイヤ61及び第4駆動ワイヤ64の長さは、第2駆動ワイヤ62及び第3駆動ワイヤ63の長さよりも長い。また、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部64aとは、縦方向Xにおいて互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。駆動電極側端部62aと駆動電極側端部63aとは、縦方向Xにおいて互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,64aが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,64aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,64aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,64aが縦方向Xに揃っていると言える。また、縦方向Xにおいて駆動電極側端部62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 なお、駆動電極側端部61a~64aの縦方向Xにおける配置位置は任意に変更可能である。一例では、駆動電極側端部61a~64aが互いにずれてもよい。また、駆動電極側端部61a~64aが互いに揃った状態で横方向Yに配列されてもよい。
 駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と、駆動電極側端部63aから縦方向Xに沿う補助線LS9との間の距離DW10は、補助線LS9と駆動電極側端部64aから縦方向Xに沿う補助線LS11との間の距離DW11よりも小さい。駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と補助線LS11との横方向Yの間の距離DW12は、距離DW10よりも僅かに小さい。なお、駆動電極側端部61a~64aの横方向Yにおける配置位置は、駆動電極側端部61a~64aのうちの最も第3封止樹脂側面53側に駆動電極側端部61aが位置し、最も第4封止樹脂側面54側に駆動電極側端部62aが位置する限定において任意に変更可能である。一例では、駆動電極側端部61a~64aは、距離DW12と距離DW10とが互いに等しくなるように配置されてもよい。
 補助線LS1と駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離DY1は、補助線LS3と駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離DY2よりも小さい。補助線LS9と駆動パッド側端部63bから縦方向Xに沿う補助線LS10との横方向Yの間の距離DY3は、補助線LS11と駆動パッド側端部64bから縦方向Xに沿う補助線LS12との横方向Yの間の距離DY4よりも小さい。図19では、距離DY1は、距離DY3よりも小さい。距離DY2は、距離DY4よりも大きい。
 なお、駆動電極側端部61aは、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第3側面40e側の端部としてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されてもよい。駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように配置されてもよい。
 また、駆動電極側端部62aは、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部としてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されてもよい。駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように配置されてもよい。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との横方向Yの間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第3駆動ワイヤ63及び第4駆動ワイヤ64は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第4駆動ワイヤ64との横方向Yの間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第4駆動ワイヤ64及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第4駆動ワイヤ64と第2駆動ワイヤ62との横方向Yの間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第3駆動ワイヤ63及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第2駆動ワイヤ62との横方向Yの間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。
 センスワイヤ90の駆動電極側端部91は、主面側駆動電極41のうちの横方向Yにおいて制御ワイヤ70の制御電極側端部71と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の部分に接続されている。また、駆動電極側端部91は、主面側駆動電極41のうちの第2側面40d側の端部に接続されている。すなわち、駆動電極側端部91は、主面側駆動電極41のうちの制御電極43と横方向Yに隣り合う部分に接続されている。この構成によれば、センスワイヤ90の長さを短くできる。
 ・半導体素子40の内側本体部12に対する配置位置は任意に変更可能である。第1例では、図20に示すように、半導体素子40を内側本体部12のうちの第2封止樹脂側面52寄りの部分に配置してもよい。詳細には、半導体素子40と内側本体部12のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との縦方向Xの間の第1距離D1が半導体素子40と内側本体部12の第1幅広部12fとの縦方向Xの間の第2距離D2の1/2よりも小さい。第1距離D1は、第2距離D2の1/3よりも小さい。図20では、第1距離D1は、第2距離D2の約1/6である。
 横方向Yにおいて、半導体素子40は、内側本体部12の中央部に配置されている。具体的には、半導体素子40と内側本体部12のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との横方向Yの間の第3距離D3が半導体素子40の内側本体部12のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との横方向Yの間の第4距離D4と等しい。ここで、第3距離D3と第4距離D4とのずれ量が例えば第3距離D3の5%以内であれば、第3距離D3が第4距離D4と等しいと言える。
 このような構成によれば、半導体素子40の開口部45と駆動パッド21との間の距離が小さくなることによって、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれ短くできる。したがって、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより低減できる。加えて、半導体素子40の開口部45とセンスパッド81との間の距離が小さくなることによって、センスワイヤ90の長さを短くできるため、主面側駆動電極41と裏面側駆動電極42との電気的な接続経路のインダクタンスを低減できる。
 第2例では、図21に示すように、半導体素子40を内側本体部12のうちの第2封止樹脂側面52寄りかつ第4封止樹脂側面54寄りの部分に配置してもよい。詳細には、半導体素子40と内側本体部12のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との縦方向Xの間の第1距離D1が半導体素子40と内側本体部12の第1幅広部12fとの間の第2距離D2の1/2よりも小さい。第1距離D1は、第2距離D2の1/3よりも小さい。図20では、第1距離D1は、第2距離D2の約1/6である。
 横方向Yにおいて、半導体素子40は、内側本体部12のうちの第3側面12e寄りの部分に配置されている。具体的には、半導体素子40と内側本体部12のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との横方向Yの間の第3距離D3が半導体素子40と内側本体部12のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との横方向Yの間の第4距離D4よりも大きい。第4距離D4は、第3距離D3の1/2よりも小さい。第4距離D4は、第3距離D3の1/3よりも小さい。図21では、第4距離D4は、第3距離D3の約1/6である。
 このような構成によれば、半導体素子40の開口部45と駆動パッド21との間の距離がさらに小さくなることによって、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれさらに短くできる。したがって、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより一層低減できる。
 ・駆動ワイヤ60、制御ワイヤ70、及びセンスワイヤ90の材料及び線径は任意に変更可能である。一例では、駆動ワイヤ60、制御ワイヤ70、及びセンスワイヤ90の少なくとも1つの線径が他の線径と異なってもよい。また、駆動ワイヤ60、制御ワイヤ70、及びセンスワイヤ90の少なくとも1つの材料が他の材料と異なってもよい。
 ・厚さ方向Zにおけるセンスパッド81の配置位置は任意に変更可能である。センスパッド81は、厚さ方向Zにおいて駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方に対してずれていてもよい。一例では、センスパッド81は、厚さ方向Zにおいて半導体素子40と揃った状態で配置されている。
 ・基板10の内側本体部12から第1幅広部12fを省略してもよい。この場合、縦方向Xにおいて、突出部13と封止樹脂50の第1封止樹脂側面51とが当接してもよい。
 ・基板10の内側本体部12から第2幅広部12gを省略してもよい。
 (第3実施形態)
 図22~図31を参照して、半導体装置1の第3実施形態について説明する。本実施形態の半導体装置1は、第1実施形態の半導体装置1と比較して、基板10、駆動リード20、制御リード30、及び封止樹脂50の形状がそれぞれ異なる。本実施形態では、便宜上、第1実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する場合がある。
 図22に示すように、本実施形態の半導体装置1は、パッケージ外形規格(JEITA規格)がTO-247のパッケージである。詳細には、半導体装置1の縦寸法L1が19.18mm~20.57mm、横寸法L2が15.75mm~16.13mm、厚さ寸法L3が4.83mm~5.21mmである。また、半導体装置1は、SIPタイプである。このように、本実施形態の半導体装置1のサイズは、第1実施形態の半導体装置1のサイズよりも大きい。
 図22に示すように、封止樹脂50の形状は、平板状である。封止樹脂50は、モールド成形によって形成されている。封止樹脂50の各側面51~54は、封止樹脂50の成形時に金型を抜き易くするような抜き勾配を設けるため、厚さ方向Zに対して傾斜する傾斜面が設けられている。具体的には、各側面51~54は、金型の上型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第1傾斜面と、金型の下型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第2傾斜面とを有する。金型の上型は、封止樹脂天面56と各側面51~54のうちの封止樹脂天面56側の部分を形成する。下型は、封止樹脂裏面55と各側面51~54のうちの封止樹脂裏面55側の部分を形成する。
 封止樹脂50の横方向Yの両端部には、凹部58が形成されている。封止樹脂50の第3封止樹脂側面53側の凹部58は、第3封止樹脂側面53から横方向Yに湾曲状に凹んでいる。封止樹脂50の第4封止樹脂側面54側の凹部58は、第4封止樹脂側面54から横方向Yに湾曲状に凹んでいる。凹部58は、厚さ方向Zにおいて、封止樹脂天面56から基板10の主面10aまでにわたり形成されている。すなわち、凹部58によって、基板10の主面10aが露出している。凹部58は、封止樹脂50の縦方向Xの中心よりも第1封止樹脂側面51寄りに設けられている。
 封止樹脂50の横方向Yの中央部には、貫通孔59が形成されている。貫通孔59は、厚さ方向Zにおいて封止樹脂50を貫通している。貫通孔59は、封止樹脂50の縦方向Xの中心よりも第1封止樹脂側面51寄りに設けられている。平面視における貫通孔59の形状は円形である。本実施形態では、貫通孔59は、凹部58と縦方向Xに同じ位置となるように設けられている。貫通孔59にボルトやねじを挿通することによって、半導体装置1を回路基板又はヒートシンク(ともに図示略)に取り付けることができる。
 図23は、半導体装置1を厚さ方向Zの封止樹脂天面56からみた図である。図23では、便宜上、封止樹脂50を二点鎖線で示し、封止樹脂50内の部品を実線で示している。図23に示すとおり、平面視において、封止樹脂50の形状は、縦方向Xが長辺方向となり、横方向Yが短辺方向となる略矩形状である。
 図22及び図23に示すように、基板10は、封止樹脂50内に配置された基板本体部11と、リード部16とを有する。基板10は、例えばアルミニウム(Al)又は銅(Cu)によって形成されている。
 基板本体部11には、貫通孔10cが設けられている。貫通孔10cは、基板10の縦方向Xの中心よりも第1封止樹脂側面51寄りに設けられている。平面視における貫通孔10cの形状は円形である。貫通孔10cは、封止樹脂50の貫通孔59と同心円となるように設けられている。貫通孔10cの直径は、貫通孔59の直径よりも大きい。また基板本体部11には、平面視において半円状に凹む一対の第1凹部10dと、平面視において矩形状に凹む第2凹部10eとが設けられている。一対の第1凹部10dは、基板10の縦方向Xの中心よりも第1封止樹脂側面51寄りに設けられている。一対の第1凹部10dは、封止樹脂50の凹部58によって外部に露出されている。第2凹部10eは、基板本体部11のうちの第1封止樹脂側面51側の端部に設けられている。
 基板本体部11には、複数のフランジ部19が設けられている。複数のフランジ部19は、第1フランジ部19a、第2フランジ部19b、及び第3フランジ部19cを含む。第1フランジ部19aは、基板本体部11の第1側面11aから第2封止樹脂側面52に向けて突出している。第2フランジ部19bは、基板本体部11のうちの縦方向Xにおける貫通孔10cよりも第2封止樹脂側面52側の領域において、基板本体部11の第2側面11bから第3封止樹脂側面53に向けて突出している。第3フランジ部19cは、基板本体部11のうちの縦方向Xにおける貫通孔10cよりも第2封止樹脂側面52側の領域において、基板本体部11の第3側面11cから第4封止樹脂側面54に向けて突出している。
 図24に示すように、基板10の裏面10b(基板本体部11の裏面)は、封止樹脂裏面55から露出している。これにより、基板10の放熱性を向上できる。基板10の貫通孔10cの外周側には、封止樹脂50によって覆われている。
 図23に示すように、リード部16は、基板本体部11の第1側面12c側の端部から第2封止樹脂側面52に向けて延びているとともに第2封止樹脂側面52から突出している。リード部16は、第2封止樹脂側面52から突出した端子部17と、端子部17と基板本体部11とを連結している連結部18とに区分できる。
 連結部18は、横方向Yにおいて基板本体部11の中央部に位置している。連結部18は、傾斜部18aを有する。傾斜部18aは、基板本体部11から第2封止樹脂側面52に向かうにつれて封止樹脂天面56に向けて傾斜している。連結部18のうちの傾斜部18aと端子部17との間の中間部18bは、基板本体部11よりも封止樹脂天面56側に位置している。平面視において、中間部18bは、縦方向Xに沿って延びている。中間部18bのうちの第2封止樹脂側面52と接触する部分は、横方向Yにおいて第2封止樹脂側面52の中央部に位置している。
 端子部17は、第2封止樹脂側面52の横方向Yの中央部から突出している。端子部17は、厚さ方向Zにおいて中間部18bと同じ位置である。すなわち端子部17は、基板本体部11よりも封止樹脂天面56側に位置している。
 図23に示すように、平面視において、基板10よりも封止樹脂50の第2封止樹脂側面52側には、駆動リード20及び制御リード30が基板10に対して縦方向Xに離間した状態で配置されている。駆動リード20及び制御リード30は、横方向Yにおいて互いに離間して配置されている。駆動リード20と制御リード30との横方向Yの間には、リード部16が配置されている。本実施形態では、平面視において、駆動リード20及び制御リード30は、半導体装置1の縦方向Xの中央部から縦方向Xに沿う中心線Cに対して対称となる形状である。なお、平面視における駆動リード20及び制御リード30の形状は任意に変更可能である。一例では、平面視における駆動リード20の形状と平面視における制御リード30の形状とが互いに異なってもよい。
 駆動リード20の駆動パッド21及び連結部23は、縦方向Xにおいて基板10と第2封止樹脂側面52との間に配置されている。駆動パッド21及び連結部23は、横方向Yにおいて封止樹脂50の中央部よりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。駆動パッド21は、半導体素子40よりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。平面視における駆動パッド21の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる略矩形状である。本実施形態では、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける開口部45の大きさよりも大きい。また横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける半導体素子40の大きさよりも大きい。厚さ方向Zにおいて、駆動パッド21は、基板本体部11よりも封止樹脂天面56側に位置している。また、厚さ方向Zにおいて、駆動パッド21は、半導体素子40よりも封止樹脂天面56側に位置している。本実施形態では、駆動パッド21は、厚さ方向Zにおいてリード部16の中間部18bと同じ位置である。
 連結部23は、駆動パッド21のうちの第2封止樹脂側面52側の端部から連続している。連結部23は、横方向Yにおいて駆動パッド21の中央部よりも第4封止樹脂側面54側に位置している。駆動端子22は、ソース端子を構成している。駆動端子22は、第2封止樹脂側面52から突出している。
 制御パッド31及び連結部33は、縦方向Xにおいて基板10と第2封止樹脂側面52との間に配置されている。制御パッド31及び連結部33は、横方向Yにおいて封止樹脂50の中央部よりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。厚さ方向Zにおいて、制御パッド31は、基板本体部11よりも封止樹脂天面56側に位置している。また、厚さ方向Zにおいて、制御パッド31は、半導体素子40よりも封止樹脂天面56側に位置している。本実施形態では、制御パッド31は、厚さ方向Zにおいてリード部16の中間部18bと同じ位置である。
 連結部33は、制御パッド31のうちの第2封止樹脂側面52側の端部から連続している。連結部33は、横方向Yにおいて制御パッド31のうちの第3封止樹脂側面53寄りに位置している。制御端子32は、ゲート端子を構成している。制御端子32は、第2封止樹脂側面52から突出している。
 半導体素子40は、第1実施形態と同様に、SiCMOSFETが用いられている。また半導体素子40は、第1実施形態と同様に、1kHz以上かつ数百kHz以下の周波数の駆動信号に応答した高速スイッチングが可能な素子である。好ましくは、半導体素子40は、1kHz以上かつ100kHz以下の周波数の駆動信号に応答した高速スイッチングが可能な素子である。本実施形態では、半導体素子40は、100kHzの周波数の駆動信号に応じて高速スイッチングを行う。半導体素子40の形状及びサイズは、第1実施形態の半導体素子40の形状及びサイズと同様である。
 半導体素子40は、基板本体部11(基板10の主面10a)に半田SDによって実装されている。図23に示すように、本実施形態では、半導体素子40は、基板本体部11の縦方向Xの中央部よりもリード部16側となるように配置されている。具体的には、半導体素子40と基板本体部11のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との間の第1距離D1が半導体素子40と基板本体部11の貫通孔10cにおける第2封止樹脂側面52側の端縁との間の第2距離D2よりも小さくなる。
 半導体素子40は、横方向Yにおいて、基板本体部11の中央部に配置されている。具体的には、半導体素子40と基板本体部11の第2側面11bとの間の第3距離D3と、半導体素子40と基板本体部11の第3側面11cとの間の第4距離D4とが互いに等しい。ここで、第3距離D3と第4距離D4とのずれ量が例えば第3距離D3の5%以内であれば、第3距離D3及び第4距離D4が互いに等しいと言える。
 半導体装置1は、複数の駆動ワイヤ60と1本の制御ワイヤ70を備える。本実施形態では、複数の駆動ワイヤ60は、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の2本の駆動ワイヤから構成されている。すなわち、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61は、第2駆動ワイヤ62に対して制御ワイヤ70側に配置されている。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、互いに離間した状態で半導体素子40の主面側駆動電極41と駆動パッド21とを接続している。平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、横方向Yに離間して配列されている。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、同一の金属からなる。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、アルミニウムを含む。第1駆動ワイヤ61の線径は、第2駆動ワイヤ62の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61の線径と第2駆動ワイヤ62の線径とのずれ量が例えば第1駆動ワイヤ61の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61の線径が第2駆動ワイヤ62の線径と等しいと言える。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径は、制御ワイヤ70の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径と制御ワイヤ70の線径とのずれ量が例えば制御ワイヤ70の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径が制御ワイヤ70の線径と等しいと言える。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62はそれぞれ、半導体素子40の主面側駆動電極41と駆動パッド21とを接続している。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62はそれぞれ、例えばワイヤボンディングによって主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21側に向かうにつれて広がっている。以下、このような第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の構成について詳細に説明する。
 図25に示すように、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bよりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bよりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも大きい。
 駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と、駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離を距離DY1とし、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と、駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離を距離DY2とする。この場合、距離DY2は、距離DY1よりも大きい。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部61aは、第1露出端部46aに接続されている。具体的には、駆動電極側端部61aは、横方向Yにおいて主面側駆動電極41のうちの制御電極43と隣り合う部分、すなわち主面側駆動電極41の凹部41a(図2参照)の底部を構成する部分に接続されている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第1端部21a側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。一例では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように配置されている。駆動パッド側端部61bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部62aは、第2露出端部46bに接続されている。一例では、駆動電極側端部62aは、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部としてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されている。縦方向Xにおいて、駆動電極側端部62aは、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと揃った状態で配列されている。なお、縦方向Xにおいて駆動電極側端部62aと駆動電極側端部61aとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,62aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第2端部21b側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。一例では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように配置されている。駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。
 制御ワイヤ70は、半導体素子40の制御電極43と制御パッド31とを接続している。制御ワイヤ70は、例えばワイヤボンディングによって制御電極43と制御パッド31とに接続されている。第1実施形態と同様に、制御ワイヤ70は、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62と同一の材料が用いられている。制御ワイヤ70の線径は、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径と等しい。ここで、制御ワイヤ70の線径と第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径とのずれ量が例えば制御ワイヤ70の線径の5%以内であれば、制御ワイヤ70の線径が第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径と等しいと言える。制御ワイヤ70は、制御電極側端部71と制御パッド側端部72とを有する。制御電極側端部71は、制御パッド側端部72よりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。
 制御電極側端部71と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW3は、距離DW1よりも小さい。制御電極側端部71から縦方向Xに沿う補助線LS5と、制御パッド側端部72から縦方向Xに沿う補助線LS6との間の距離DY3は、距離DY1よりも大きく、距離DY2よりも小さい。なお、本実施形態の半導体装置1によれば、第1実施形態の(1-1)~(1-7)の効果と同様の効果が得られる。
 (第3実施形態の変更例)
 第3実施形態の半導体装置1は例えば以下のように変更できる。以下の各変更例は、技術的な矛盾が生じない限り、組み合せることができる。なお、以下の変更例において、第3実施形態と共通する部分については、第3実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
 ・駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図26に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び第3駆動ワイヤ63の3本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、互いに離間した状態で半導体素子40の主面側駆動電極41と駆動パッド21とを接続している。平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、横方向Yに離間して配列されている。このように、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成する第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。
 第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aは、第3駆動ワイヤ63のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、第3駆動ワイヤ63のうちの駆動パッド21に接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、駆動電極側端部63aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。
 図26では、駆動電極側端部63aと第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW4は、駆動電極側端部63aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW5と等しい。ここで、距離DW4と距離DW5とのずれ量が例えば距離DW4の5%以内であれば、距離DW4と距離DW5とが等しいと言える。距離DW4及び距離DW5は、制御ワイヤ70の制御電極側端部71と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW3よりも大きい。
 なお、駆動電極側端部63aの横方向Yの位置は任意に変更可能である。一例では、距離DW4及び距離DW5が互いに異なるように駆動電極側端部63aが主面側駆動電極41に接続されてもよい。
 また図26では、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは互いに揃った状態で配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW6は、距離DW4よりも大きい。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW7は、距離DW5よりも大きい。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第3駆動ワイヤ63及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。
 ・半導体素子40のサイズは任意に変更可能である。第1例では、図27に示すように、半導体素子40のサイズを第3実施形態の半導体素子40のサイズよりも大きくしてもよい。第2例では、図29に示すように、半導体素子40のサイズを図27の半導体素子40のサイズよりも大きくしてもよい。
 図27に示す第1例では、半導体素子40の縦方向Xのサイズ及び横方向Yのサイズのそれぞれが第3実施形態の半導体素子40のサイズよりも大きい。また、半導体素子40のサイズが大きくなることに伴い表面40aに形成された開口部45の大きさを縦方向X及び横方向Yのそれぞれに大きくすることができる。図27では、開口部45の横方向Yの大きさは、駆動パッド21の横方向Yの大きさよりも小さい。駆動パッド21の横方向Yの大きさは、半導体素子40の横方向Yの大きさよりも大きい。
 半導体装置1は、第3実施形態と同様に、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62を有する。第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、第3実施形態の駆動電極側端部61aと同様に、露出領域46の第1露出端部46aに接続されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、第3実施形態の駆動パッド側端部61bと同様に、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、第3実施形態の駆動電極側端部62aと同様に、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部に接続されている。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、第3実施形態の駆動パッド側端部62bと同様に、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。第3実施形態と同様に、縦方向Xにおいて、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとは互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。駆動パッド側端部61b及び駆動パッド側端部62bはそれぞれ、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの横方向Yの間の距離DW1よりも大きい。図27では、駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離DY1は、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離DY2よりも小さい。このように、平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広くなっている。
 この構成によれば、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きくすることができるため、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスを低減できる。
 ・図27の変更例において、駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図28に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び第3駆動ワイヤ63の3本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、互いに離間した状態で半導体素子40の主面側駆動電極41と駆動パッド21とを接続している。平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、横方向Yに離間して配列されている。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。
 第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aと第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW4は、駆動電極側端部63aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW5と等しい。ここで、距離DW4と距離DW5とのずれ量が例えば距離DW4の5%以内であれば、距離DW4と距離DW5とが等しいと言える。
 なお、主面側駆動電極41に対する駆動電極側端部63aの配置位置は任意に変更可能である。一例では、距離DW4と距離DW5とが互いに異なるように、駆動電極側端部63aが主面側駆動電極41に接続されてもよい。
 また図28では、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは互いに揃った状態で配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW6は、距離DW4よりも大きい。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW7は、距離DW5よりも大きい。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第3駆動ワイヤ63及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。
 なお、平面視において、第3駆動ワイヤ63の縦方向Xに対する傾斜角度は任意に変更可能である。一例では、第3駆動ワイヤ63の縦方向Xに対する傾斜角度は第1駆動ワイヤ61の縦方向Xに対する傾斜角度又は第2駆動ワイヤ62の縦方向Xに対する傾斜角度と等しくてもよい。
 図29に示す第2例では、平面視における半導体素子40の形状は、正方形である。半導体素子40の表面40aに形成された主面側駆動電極41(ソース電極)は、半導体素子40の第2側面40dかつ第3側面40e側の端部に切欠部41bが形成されている。制御電極43は、切欠部41bに形成されている。
 図29に示す第2例の半導体装置1は、複数の駆動ワイヤ60として、第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64を有する。第3駆動ワイヤ63及び第4駆動ワイヤ64は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。縦方向Xからみて、各駆動ワイヤ61~64は、互いに重なるように配置されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63とが交差している。第4駆動ワイヤ64と第2駆動ワイヤ62とが交差している。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。
 第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aは、第3駆動ワイヤ63のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、第3駆動ワイヤ63のうちの駆動パッド21に接続される端部である。第4駆動ワイヤ64は、駆動電極側端部64a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部64aは、第4駆動ワイヤ64のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部64bは、第4駆動ワイヤ64のうちの駆動パッド21に接続される端部である。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、各駆動ワイヤ62~64の駆動電極側端部61b~61dよりも第3側面40e側となるように配置されている。第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは、第4駆動ワイヤ64の駆動電極側端部64a及び第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aよりも第3側面40e側となるように配置されている。駆動電極側端部64aは、駆動電極側端部62aよりも第3側面40e側となるように配置されている。駆動電極側端部61a及び駆動電極側端部63aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に接続されている。駆動電極側端部61aは、横方向Yにおいて駆動電極側端部63aよりも第1露出端部46a側に接続されている。駆動電極側端部64a及び駆動電極側端部62aは、露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に接続されている。駆動電極側端部62aは、駆動電極側端部64aよりも第2露出端部46b側に接続されている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a及び第4駆動ワイヤ64の駆動電極側端部64aは、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aと縦方向Xにおいてずれている。また、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部64aとは、縦方向Xにおいて互いに揃った状態で配列されている。駆動電極側端部62aと駆動電極側端部63aとは、縦方向Xにおいて互いに揃った状態で配列されている。具体的には、駆動電極側端部61a,64aは、駆動電極側端部62a,63aよりも半導体素子40の第1側面40c側となるように配置されている。このため、第1駆動ワイヤ61及び第4駆動ワイヤ64の長さは、第2駆動ワイヤ62及び第3駆動ワイヤ63の長さよりも長い。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,64aが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,64aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,64aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,64aが縦方向Xに揃っていると言える。また、縦方向Xにおいて駆動電極側端部62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 なお、駆動電極側端部61a~64aの縦方向Xにおける配置位置は任意に変更可能である。一例では、駆動電極側端部61a~64aが互いにずれてもよい。また、駆動電極側端部61a~64aが互いに揃った状態で横方向Yに配列されてもよい。
 第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、各駆動ワイヤ62~64の駆動パッド側端部62b~64bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、第4駆動ワイヤ64の駆動パッド側端部64b及び第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。駆動パッド側端部64bは、駆動パッド側端部62bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。駆動パッド側端部61b及び駆動パッド側端部63bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第1端部21a側に接続されている。駆動パッド側端部61bは、駆動パッド側端部63bよりも第1端部21a側に接続されている。駆動パッド側端部64b及び駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第2端部21b側に接続されている。駆動パッド側端部62bは、駆動パッド側端部62bよりも第2端部21b側に接続されている。
 駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と、駆動電極側端部63aから縦方向Xに沿う補助線LS9との横方向Yの間の距離DW10は、補助線LS9と駆動電極側端部64aから縦方向Xに沿う補助線LS11との横方向Yの間の距離DW11よりも小さい。駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と補助線LS11との横方向Yの間の距離DW12は、距離DW10よりも僅かに小さい。なお、駆動電極側端部61a~64aの横方向Yにおける配置位置は、駆動電極側端部61a~64aのうちの最も第3封止樹脂側面53側に駆動電極側端部61aが位置し、最も第4封止樹脂側面54側に駆動電極側端部62aが位置する限定において任意に変更可能である。一例では、駆動電極側端部61a~64aは、距離DW12と距離DW10とが互いに等しくなるように配置されてもよい。
 補助線LS1と駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離DY1は、補助線LS3と駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離DY2よりも小さい。補助線LS9と駆動パッド側端部63bから縦方向Xに沿う補助線LS10との横方向Yの間の距離DY3は、補助線LS11と駆動パッド側端部64bから縦方向Xに沿う補助線LS12との横方向Yの間の距離DY4よりも小さい。図29では、距離DY1は、距離DY3よりも小さい。距離DY2は、距離DY4よりも大きい。
 なお、駆動電極側端部61aは、横方向Yの主面側駆動電極41の露出領域46の第1露出端部46aのうちのワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されてもよい。駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように配置されてもよい。
 また、駆動電極側端部62aは、横方向Yにおいて主面側駆動電極41の露出領域46の第2露出端部46bのうちのワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されてもよい。駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように配置されてもよい。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との横方向Yの間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。
 ・半導体素子40の基板本体部11に対する配置位置は任意に変更可能である。第1例では、図30に示すように、半導体素子40を基板本体部11のうちの第2封止樹脂側面52寄りの部分に配置してもよい。詳細には、半導体素子40と基板本体部11のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との縦方向Xの間の第1距離D1が半導体素子40と基板本体部11の貫通孔10cのうちの第2封止樹脂側面52側の端部との縦方向Xの間の第2距離D2の1/2よりも小さい。第1距離D1は、第2距離D2の1/3よりも小さい。図30では、第1距離D1は、第2距離D2の約1/7である。
 横方向Yにおいて、半導体素子40は、基板本体部11の中央部に配置されている。具体的には、半導体素子40と基板本体部11のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との横方向Yの間の第3距離D3が半導体素子40と基板本体部11のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との横方向Yの間の第4距離D4と等しい。
 このような構成によれば、半導体素子40の開口部45と駆動パッド21との間の距離が小さくなることによって、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれ短くできる。したがって、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより低減できる。
 第2例では、図31に示すように、半導体素子40を基板本体部11のうちの第2封止樹脂側面52寄りかつ第4封止樹脂側面54寄りの部分に配置してもよい。詳細には、半導体素子40と基板本体部11のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との縦方向Xの間の第1距離D1が半導体素子40と基板本体部11の貫通孔10cのうちの第2封止樹脂側面52側の端部との縦方向Xの間の第2距離D2の1/2よりも小さい。第1距離D1は、第2距離D2の1/3よりも小さい。図31では、第1距離D1は、第2距離D2の約1/7である。また、半導体素子40と基板本体部11のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との横方向Yの間の第3距離D3が半導体素子40と基板本体部11のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との横方向Yの間の第4距離D4よりも大きい。第4距離D4は、第3距離D3の1/2よりも小さい。第4距離D4は、第3距離D3の1/3よりも小さい。図31では、第4距離D4は、第3距離D3の約1/10である。
 このような構成によれば、半導体素子40と駆動パッド21との間の距離がさらに小さくなることによって、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれさらに短くできる。したがって、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより一層低減できる。
 ・第3実施形態の半導体装置1の基板10からリード部16を省略してもよい。この場合、横方向Yにおいて、駆動パッド21と制御パッド31とが隣り合っている。また、リード部16を省略した分、駆動パッド21の横方向Yの大きさを大きくしてもよい。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2を大きく取ることができるため、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (第4実施形態)
 図32を参照して、半導体装置1の第4実施形態について説明する。本実施形態の半導体装置1は、第1実施形態の半導体装置1と比較して、半導体素子40としてMOSFETに代えてショットキーバリアダイオードを搭載した点と、駆動リード20及び制御リード30に代えて第1駆動リード20C及び第2駆動リード20Dが設けられた点とが主に異なる。本実施形態では、便宜上、第1実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する場合がある。
 図32に示すように、平面視において、基板10よりも封止樹脂50の第2封止樹脂側面52側には、第1駆動リード20C及び第2駆動リード20Dが基板10に対して縦方向Xに離間した状態で配置されている。第1駆動リード20C及び第2駆動リード20Dは、横方向Yにおいて互いに離間して配置されている。第1駆動リード20Cと第2駆動リード20Dとの横方向Yの間には、リード部16が配置されている。平面視において、第1駆動リード20C及び第2駆動リード20Dは、半導体装置1の縦方向Xの中央部から縦方向Xに沿う中心線Cに対して対称となる形状である。以降の説明において、第1駆動リード20C及び第2駆動リード20Dの各構成要素には符号の後にアルファベットC,Dを付して説明する。
 第1駆動リード20Cは、リード部16に対して第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。第1駆動リード20Cは、第1駆動パッド21C、第1駆動端子22C、及び第1駆動パッド21Cと第1駆動端子22Cとを連結する第1連結部23Cを有する。第1駆動パッド21C及び第1連結部23Cは、縦方向Xにおいて基板10と第2封止樹脂側面52との間に配置されている。第1駆動パッド21C及び第1連結部23Cは、横方向Yにおいて封止樹脂50の中央部よりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。第1駆動端子22Cは、アノード端子を構成している。
 平面視における第1駆動パッド21Cの形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる略矩形状である。第1駆動パッド21Cは、横方向Yの両端部である第1端部21c及び第2端部21dを有する。第1端部21cは、第1駆動パッド21Cの第3封止樹脂側面53側の端部である。第2端部21dは、第1駆動パッド21Cの第4封止樹脂側面54側の端部である。
 第2駆動リード20Dは、リード部16に対して第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。第2駆動リード20Dは、第2駆動パッド21D、第2駆動端子22D、及び第2駆動パッド21Dと第2駆動端子22Dとを連結する第2連結部23Dを有する。第2駆動パッド21D及び第2連結部23Dは、縦方向Xにおいて基板10と第2封止樹脂側面52との間に配置されている。第2駆動パッド21D及び第2連結部23Dは、横方向Yにおいて封止樹脂50の中央部よりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。第2駆動端子22Dは、アノード端子を構成している。
 第2駆動パッド21Dは、横方向Yの両端部である第1端部21e及び第2端部21fを有する。第1端部21eは、第2駆動パッド21Dの第3封止樹脂側面53側の端部である。第2端部21fは、第2駆動パッド21Dの第4封止樹脂側面54側の端部である。
 第1駆動パッド21C及び第2駆動パッド21Dはそれぞれ、厚さ方向Zにおいて基板10の主面10aよりも封止樹脂天面56側に配置されている。第1駆動パッド21C及び第2駆動パッド21Dはそれぞれ、厚さ方向Zにおいて半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側に配置されている。
 半導体素子40は、SiCを含む。本実施形態では、半導体素子40は、ショットキーバリアダイオードが用いられている。半導体素子40は、平板状に形成されている。具体的には、平面視において、半導体素子40の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる矩形状である。本実施形態では、半導体素子40は、内側本体部12の中央部に配置されている。具体的には、平面視において、半導体素子40と内側本体部12のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との間の第1距離D1と、半導体素子40と内側本体部12の幅狭部14との間の第2距離D2とが互いに等しい。また、半導体素子40と内側本体部12のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との間の第3距離D3と、半導体素子40と内側本体部12のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との間の第4距離D4とが互いに等しい。ここで、第1距離D1と第2距離D2とのずれ量が例えば第1距離D1の5%以内であれば、第1距離D1と第2距離D2とが互いに等しいと言える。また、第3距離D3と第4距離D4とのずれ量が例えば第3距離D3の5%以内であれば、第3距離D3及び第4距離D4が互いに等しいと言える。
 半導体素子40の表面40aには主面側駆動電極41が形成され、厚さ方向Zにおいて表面40aとは反対側を向く裏面には裏面側駆動電極(図示略)が形成されている。主面側駆動電極41はアノード電極を構成し、裏面側駆動電極はカソード電極を構成している。
 半導体素子40の主面側駆動電極41上には絶縁膜としてのパッシベーション膜44が形成されている。パッシベーション膜44には開口部45が形成されている。開口部45は、主面側駆動電極41を露出している。
 平面視における開口部45の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる矩形状である。開口部45の横方向Yの大きさは、第1駆動パッド21Cの横方向Yの大きさ及び第2駆動パッド21Dの横方向Yの大きさよりも小さい。言い換えれば、第1駆動パッド21Cの横方向Yの大きさ及び第2駆動パッド21Dの横方向Yの大きさは、開口部45の横方向Yの大きさよりも大きい。
 開口部45は、半導体素子40の表面40aの縦方向Xの中央部に設けられている。具体的には、開口部45と半導体素子40の第1側面40cとの間の第1距離DC1と、開口部45と半導体素子40の第2側面40dとの間の第2距離DC2と、開口部45と半導体素子40の第3側面40eとの間の第3距離DC3と、開口部45と半導体素子40の第4側面40fとの間の第4距離DC4とは互いに等しい。ここで、第1距離DC1、第2距離DC2、第3距離DC3、及び第4距離DC4の最大のずれ量が例えば第1距離DC1の5%以内であれば、第1距離DC1、第2距離DC2、第3距離DC3、及び第4距離DC4が互いに等しいと言える。
 主面側駆動電極41は、開口部45によって露出している露出領域46を有する。露出領域46は、横方向Yの両端部である第1露出端部46a及び第2露出端部46bを有する。第1露出端部46aは、露出領域46のうちの半導体素子40の第3側面40e側の端部である。第2露出端部46bは、露出領域46のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部である。
 半導体装置1は、複数の駆動ワイヤ60を備える。本実施形態では、複数の駆動ワイヤ60は、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の2本の駆動ワイヤから構成されている。すなわち、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61は、第2駆動ワイヤ62に対して制御ワイヤ70側に配置されている。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、互いに離間した状態で半導体素子40の主面側駆動電極41と駆動パッド21とを接続している。平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、横方向Yに離間して配列されている。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、同一の金属からなる。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、アルミニウムを含む。第1駆動ワイヤ61の線径は、第2駆動ワイヤ62の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61の線径と第2駆動ワイヤ62の線径とのずれ量が例えば第1駆動ワイヤ61の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61の線径が第2駆動ワイヤ62の線径と等しいと言える。
 第1駆動ワイヤ61は、半導体素子40の主面側駆動電極41と第1駆動パッド21Cとを接続している。第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41と第2駆動パッド21Dとを接続している。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62はそれぞれ、例えばワイヤボンディングによって主面側駆動電極41と各駆動パッド21C,21Dとに接続されている。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21側に向かうにつれて広がっている。以下、このような第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の構成について詳細に説明する。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bよりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bよりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも大きい。
 駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と、駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離を距離DY1と、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と、駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離を距離DY2とは互いに等しい。ここで、距離DY1と距離DY2とのずれ量が例えば距離DY1の5%以内であれば、距離DY1と距離DY2とが互いに等しいと言える。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部61aは、第1露出端部46aに接続されている。一例では、駆動電極側端部61aは、主面側駆動電極41の露出領域46の第1露出端部46aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3側面40e側の限界位置となるように配置されている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、第1駆動パッド21Cの横方向Yの中央部よりも第1端部21c側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部61bは、第1駆動パッド21Cの第1端部21cに接続されている。一例では、駆動パッド側端部61bは、第1駆動パッド21Cの第1端部21cとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように配置されている。駆動パッド側端部61bは、縦方向Xにおいて、第1駆動パッド21Cの縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部62aは、第2露出端部46bに接続されている。一例では、駆動電極側端部62aは、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部としてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されている。縦方向Xにおいて、駆動電極側端部62aは、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部62aと駆動電極側端部61aとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,62aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、第2駆動パッド21Dの横方向Yの中央部よりも第2端部21f側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部62bは、第2駆動パッド21Dの第2端部21fに接続されている。一例では、駆動パッド側端部62bは、第2駆動パッド21Dの第2端部21fとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように配置されている。駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 本実施形態の半導体装置1によれば、第1実施形態の(1-1)、(1-5)、及び(1-7)の効果に加え、以下の効果が得られる。
 (4-1)第1駆動リード20Cの第1駆動パッド21Cと第2駆動リード20Dの第2駆動パッド21Dとが横方向Yにおいて離間した状態で配置されている。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2を大きく取ることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (4-2)駆動パッド側端部61bは、第1駆動パッド21Cのうちの第1端部21eに接続され、駆動パッド側端部62bは、第2駆動パッド21Dのうちの第2端部21fに接続されている。この構成によれば、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2をより大きく取ることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを一層低減できる。
 (第4実施形態の変更例)
 第4実施形態の半導体装置1は例えば以下のように変更できる。以下の各変更例は、技術的な矛盾が生じない限り、組み合せることができる。なお、以下の変更例において、第3実施形態と共通する部分については、第4実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
 ・駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図33に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64の4本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63及び第4駆動ワイヤ64は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64は、横方向Yにおいて離間して配列されている。このように、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成する第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端の駆動ワイヤである。
 第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aは、第3駆動ワイヤ63のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、第3駆動ワイヤ63のうちの第1駆動パッド21Cに接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、駆動電極側端部63aよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。第4駆動ワイヤ64は、駆動電極側端部64a及び駆動パッド側端部64bを有する。駆動電極側端部64aは、第4駆動ワイヤ64のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部64bは、第4駆動ワイヤ64のうちの第2駆動パッド21Dに接続される端部である。駆動パッド側端部64bは、駆動電極側端部64aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。図33では、駆動パッド側端部63bは、第1駆動パッド21Cの第2端部21dに接続されている。駆動パッド側端部64bは、第2駆動パッド21Dの第1端部21eに接続されている。
 また図33では、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63a、及び第4駆動ワイヤ64の駆動電極側端部64aは互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a、駆動電極側端部62a、駆動電極側端部63a、及び駆動電極側端部64aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける駆動電極側端部61a,62a,63a,64aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62a,63a,64aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62a,63a,64aが縦方向Xに揃っていると言える。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも第1駆動パッド21C側の方が離れるように主面側駆動電極41と第1駆動パッド21Cとに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第4駆動ワイヤ64及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも第2駆動パッド21D側の方が離れるように主面側駆動電極41と第2駆動パッド21Dとに接続されている。平面視において、第4駆動ワイヤ64と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。第3駆動ワイヤ63及び第4駆動ワイヤ64は、主面側駆動電極41側よりも第1駆動パッド21C及び第2駆動パッド21D側の方が離れるように主面側駆動電極41と第1駆動パッド21C及び第2駆動パッド21Dとに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第4駆動ワイヤ64との間隔は、主面側駆動電極41から第1駆動パッド21C及び第2駆動パッド21Dに向かうにつれて徐々に広がっている。
 ・半導体素子40のサイズは任意に変更可能である。半導体素子40のサイズを第4実施形態の半導体素子40のサイズよりも縦方向X及び横方向Yの少なくとも一方において大きくしてもよい。
 ・半導体素子40の基板10に対する配置位置は任意に変更可能である。
 第1例では、半導体素子40を内側本体部12のうちの第2封止樹脂側面52寄りの部分に配置してもよい。詳細には、半導体素子40と内側本体部12のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との縦方向Xの間の第1距離D1が半導体素子40と内側本体部12の幅狭部14との縦方向Xの間の第2距離D2よりも小さい。
 この構成によれば、半導体素子40の開口部45と駆動パッド21との間の距離が小さくなることによって、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれ短くできる。したがって、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより低減できる。
 第2例では、半導体素子40を内側本体部12のうちの第2封止樹脂側面52寄りかつ第4封止樹脂側面54寄りの部分に配置してもよい。詳細には、半導体素子40と内側本体部12のうちの第1フランジ部19aの第2封止樹脂側面52側の端縁との縦方向Xの間の第1距離D1が半導体素子40と内側本体部12の幅狭部14との縦方向Xの間の第2距離D2よりも小さい。また、半導体素子40と内側本体部12のうちの第2フランジ部19bの第3封止樹脂側面53側の端縁との横方向Yの間の第3距離D3が半導体素子40と内側本体部12のうちの第3フランジ部19cの第4封止樹脂側面54側の端縁との横方向Yの間の第4距離D4よりも大きい。
 このような構成によれば、半導体素子40と駆動パッド21との間の距離がさらに小さくなることによって、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれさらに短くできる。したがって、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより一層低減できる。
 (各実施形態に共通した変更例)
 上記各実施形態の半導体装置1は例えば以下のように変更できる。
 ・上記各実施形態において、厚さ方向Zにおける駆動パッド21及び制御パッド31の位置はそれぞれ任意に変更可能である。一例では、駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方は、厚さ方向Zにおいて半導体素子40に揃った状態であってもよい。また一例では、駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方は、厚さ方向Zにおいて基板10に揃った状態であってもよい。
 ・上記各実施形態において、平面視における駆動パッド21及び制御パッド31の配置位置はそれぞれ任意に変更可能である。一例では、駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方は、基板10に対して横方向Yにずれていてもよい。すなわち、駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方は、基板10よりも封止樹脂50の第3封止樹脂側面53側又は第4封止樹脂側面54側に配置されてもよい。これにより、駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方は、半導体素子40に対して横方向Yにずれることになる。
 ・上記各実施形態において、基板10から複数のフランジ部19を省略してもよい。
 ・上記各実施形態において、複数の駆動ワイヤ60と制御ワイヤ70とは異なる金属によって形成されてもよい。一例では、複数の駆動ワイヤ60は、アルミニウムからなり、制御ワイヤ70は金(Au)からなる。
 ・上記各実施形態において、複数の駆動ワイヤ60の線径と制御ワイヤ70の線径とは互いに異なってもよい。一例では、複数の駆動ワイヤ60の線径は、制御ワイヤ70の線径よりも大きい。
 ・上記各実施形態において、複数の駆動ワイヤ60の線径は、125μm~250μmに限られず、任意に変更可能である。一例では、複数の駆動ワイヤ60の線径は、250μm~400μmである。
 ・上記各実施形態において、半導体素子40は、平面視において矩形状の1つの開口部45によって主面側駆動電極41及び制御電極43を露出するように構成されたが、開口部45の数はこれに限られない。例えば、図34に示すように、半導体素子40の表面40aには、主面側駆動電極41を露出する第1開口部45Aと、制御電極43を露出する第2開口部45Bとが形成されてもよい。平面視における第1開口部45Aの形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる矩形状である。平面視における第2開口部45Bの形状は、縦方向Xが長辺方向となり、横方向Yが短辺方向となる矩形状である。第1開口部45Aは、縦方向Xにおいて半導体素子40の第1側面40c寄りとなるように設けられている。第1開口部45Aは、横方向Yにおいて半導体素子40の表面40aの大部分を開口している。第2開口部45Bは、半導体素子40の第2側面40d側の端部かつ第3側面40e側の端部に設けられている。
 主面側駆動電極41は、第1開口部45Aによって露出している露出領域46を有する。露出領域46は、横方向Yの両端部である第1露出端部46a及び第2露出端部46bを有する。第1露出端部46aは、露出領域46のうちの半導体素子40の第3側面40e側の端部である。第2露出端部46bは、露出領域46のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部である。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41の露出領域46と駆動リード20の駆動パッド21とに接続されている。図34では、平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62とは平行となる。なお、平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっていてもよいし、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に狭くなってもよい。
 平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1と等しい。ここで、距離DW1と距離DW2とのずれ量が例えば距離DW2の5%以内であれば、距離DW2と距離DW1とが互いに等しいと言える。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に配置されている。図34では、駆動電極側端部61aは、露出領域46の第1露出端部46aに接続されている。一例では、駆動電極側端部61aは、露出領域46の第1露出端部46aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3側面40e側の限界位置となるように配置されている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第1端部21a側に接続されている。図34では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。一例では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように配置されている。駆動パッド側端部61bは、縦方向Xにおいて駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。駆動パッド側端部61bは、駆動電極側端部61aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。
 第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に配置されている。図34では、駆動電極側端部62aは、露出領域46の第2露出端部46bに接続されている。一例では、駆動電極側端部62aは、露出領域46の第2露出端部46bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されている。縦方向Xにおいて、駆動電極側端部62aは、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部62aと駆動電極側端部61aとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,62aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第2端部21b側に接続されている。図34では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。一例では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように配置されている。駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。駆動パッド側端部62bは、駆動電極側端部62aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。また、図34では、駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド側端部61bと揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部61bとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動パッド側端部61b,62bが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動パッド側端部61b,62bにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動パッド側端部61b,62bが縦方向Xに揃っていると言える。
 この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW1を大きく取ることができるため、主面側駆動電極41と駆動パッド21との間のインダクタンスを低減できる。
 ・図34の変更例の半導体装置1において、縦方向Xにおける第1開口部45A及び第2開口部45Bの位置関係を逆にしてもよい。すなわち、第1開口部45Aが第2開口部45Bよりも半導体素子40の第2側面40d側に形成されてもよい。この構成によれば、第1開口部45Aと駆動パッド21との間の距離が小さくなることにより、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれ短くすることができる。したがって、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより低減できる。
 (付記)
 次に、上記各実施形態及び各変更例に基づく技術的思想を以下に記載する。
 (付記1)主面を有する基板と、前記主面に実装され、前記主面と同じ方向を向く表面と、前記表面に形成された駆動電極とを有し、SiCを含む半導体素子と、駆動パッドと、互いに離間した状態で前記駆動電極と前記駆動パッドとを接続する複数の駆動ワイヤと、を備え、前記複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合せを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤは、前記主面に対して垂直な方向である第1方向からみて、前記駆動電極側よりも前記駆動パッド側の方が近づくように前記駆動電極と前記駆動パッドとに接続されている、半導体装置。
 (付記2)前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、前記半導体素子と前記駆動パッドとは少なくとも前記第2方向にずれており、前記複数の駆動ワイヤは、前記第3方向に離間して配列されており、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤは、前記複数の駆動ワイヤのうちの前記第3方向の両端にある駆動ワイヤである、付記1に記載の半導体装置。
 (付記3)前記半導体装置は、前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、を有し、前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成され、前記第3方向における前記開口部の大きさは、前記第3方向における前記駆動パッドの大きさよりも大きい、付記1又は2に記載の半導体装置。
 (付記4)前記半導体装置は、前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、を有し、前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成され、前記駆動電極は、前記開口部によって露出している露出領域を有し、前記露出領域は、前記第3方向の両端部である第1露出端部及び第2露出端部を有し、前記第1駆動ワイヤは、前記露出領域の前記第3方向の中央部よりも前記第1露出端部側に接続され、前記第2駆動ワイヤは、前記露出領域の前記第3方向の中央部よりも前記第2露出端部側に接続されている、付記1~4のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記5)前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、前記駆動パッドは、前記第3方向の両端部である第1端部及び第2端部を有し、前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも第1端部側に接続されており、前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも第2端部側に接続されている、付記2~4のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記6)前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第1端部に接続されており、前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第2端部に接続されている、付記5に記載の半導体装置。
 (付記7)主面を有する基板と、前記主面に実装され、前記主面と同じ方向を向く表面と、前記表面に形成された駆動電極とを有し、SiCを含む半導体素子と、駆動パッドと、互いに離間した状態で前記駆動電極と前記駆動パッドとを接続する複数の駆動ワイヤと、を備え、前記複数の駆動ワイヤは、前記複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合わせを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤを含み、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、前記主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、前記半導体素子と前記駆動パッドとは少なくとも前記第2方向にずれており、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤは、前記第3方向に離間して配置されており、前記駆動パッドは、前記第3方向の両端部である第1端部及び第2端部を有し、前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第1端部側に接続されており、前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第2端部側に接続されている、半導体装置。
 (付記8)前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第1端部に接続されており、前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第2端部に接続されている、付記7に記載の半導体装置。
 (付記9)前記半導体装置は、前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、を有し、前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成され、前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記開口部の大きさよりも大きい、付記7又は8に記載の半導体装置。
 (付記10)前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記半導体素子の大きさよりも大きい、付記9に記載の半導体装置。
 (付記11)前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記基板の大きさの1/2よりも大きい、付記7又は8に記載の半導体装置。
 (付記12)前記駆動パッドは、第1駆動パッド及び第2駆動パッドを含み、前記第1駆動パッドには前記第1駆動ワイヤの駆動パッド側端部が接続され、前記第2駆動パッドには前記第2駆動ワイヤの駆動パッド側端部が接続され、前記第3方向において、前記第1駆動パッド及び前記第2駆動パッドは、離間して配置されている、付記7又は8に記載の半導体装置。
 (第5実施形態)
 図35~図45を参照して、半導体装置の第5実施形態について説明する。
 図35に示すように、半導体装置1は、基板10と、駆動リード20と、制御リード30と、基板10の主面10aに実装された半導体素子40と、半導体素子40を封止する封止樹脂50とを備える。本実施形態では、基板10、駆動リード20、及び制御リード30は、同一の金属製の母材をプレス加工することによって形成されている。駆動リード20は、封止樹脂50の第1側面から突出したアウターリード20A、及び封止樹脂50内に設けられ、アウターリード20Aと電気的に接続されたインナーリード20Bを有する。本実施形態では、アウターリード20A及びインナーリード20Bは一体化された単一部品である。制御リード30は、封止樹脂50の第1側面から突出したアウターリード30A、及び封止樹脂50内に設けられ、アウターリード30Aと電気的に接続されたインナーリード30Bを有する。本実施形態では、アウターリード30A及びインナーリード30Bは一体化された単一部品である。半導体装置1の横寸法LYは、10mm以下が好ましい。本実施形態の半導体装置1は、パッケージ外形規格(JEITA規格)がTO(Transistor Outline)-252のパッケージである。詳細には、半導体装置1の縦寸法LXが9.5mm~10.50mm、横寸法LYが6.4mm~6.8mm、厚さ寸法LZが2.1mm~2.3mmである。横寸法LY及び厚さ寸法LZは、封止樹脂50の横寸法LRY及び厚さ寸法LRZに相当する。また封止樹脂50の縦寸法LRXは、6.0mm~6.4mmである。また、半導体装置1は、封止樹脂50の1つの面から駆動リード20のアウターリード20A及び制御リード30のアウターリード30Aがそれぞれ延びる、いわゆるSIP(Single Inline Package)タイプである。
 図35に示すとおり、封止樹脂50の形状は、略直方体である。封止樹脂50は、電気絶縁性を有する合成樹脂である。一例では、封止樹脂50は、エポキシ樹脂である。封止樹脂50は、第1封止樹脂側面51、第2封止樹脂側面52、第3封止樹脂側面53、第4封止樹脂側面54、封止樹脂裏面55、及び封止樹脂天面56の6面を有する。駆動リード20の後述する駆動端子22及び制御リード30の後述する制御端子32はそれぞれ、第2封止樹脂側面52から突出している。本実施形態では、第2封止樹脂側面52は、封止樹脂の第1側面の一例である。第1封止樹脂側面51及び第2封止樹脂側面52は、間隔をあけて互いに反対側を向いている。本実施形態では、第1封止樹脂側面51は、封止樹脂の第2側面の一例である。第3封止樹脂側面53及び第4封止樹脂側面54は、間隔をあけて互いに反対側を向いている。封止樹脂裏面55及び封止樹脂天面56は、間隔をあけて互いに反対側を向いている。封止樹脂天面56は、基板10の主面10aと同じ方向を向いている。封止樹脂裏面55は、基板10の裏面10b(図37参照)と同じ方向を向いている。以降の説明において、封止樹脂裏面55と封止樹脂天面56とが配列される方向を厚さ方向Zとし、第1封止樹脂側面51と第2封止樹脂側面52とが配列される方向を縦方向Xとし、第3封止樹脂側面53と第4封止樹脂側面54とが配列される方向を横方向Yとする。縦方向X及び横方向Yは、厚さ方向Zと直交する方向である。縦方向Xは、横方向Yと直交する方向である。ここで、厚さ方向Zは第1方向に相当し、縦方向Xは第2方向に相当し、横方向Yは第3方向に相当する。
 封止樹脂50は、モールド成形によって形成されている。封止樹脂50の各側面51~54は、封止樹脂50の成形時に金型を抜き易くするような抜き勾配を設けるため、厚さ方向Zに対して傾斜する傾斜面が設けられている。具体的には、各側面51~54は、金型の上型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第1傾斜面と、金型の下型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第2傾斜面とを有する。金型の上型は、封止樹脂天面56と各側面51~54のうちの封止樹脂天面56側の部分を形成する。下型は、封止樹脂裏面55と各側面51~54のうちの封止樹脂裏面55側の部分を形成する。一例では、図38及び図39に示すように、第1封止樹脂側面51は、第1傾斜面51a及び第2傾斜面51bを有する。第1傾斜面51aは、封止樹脂天面56に向かうにつれて第2封止樹脂側面52に向けて傾斜している。第2傾斜面51bは、封止樹脂裏面55に向かうにつれて第2封止樹脂側面52に向けて傾斜している。第1傾斜面51aの長さは、第2傾斜面51bの長さよりも長い。第2封止樹脂側面52は、第1傾斜面52a及び第2傾斜面52bを有する。第1傾斜面52aは、封止樹脂天面56に向かうにつれて第1封止樹脂側面51に向けて傾斜している。第2傾斜面52bは、封止樹脂裏面55に向かうにつれて第1封止樹脂側面51に向けて傾斜している。第1傾斜面52aの長さは、第2傾斜面52bの長さよりも長い。第2傾斜面52bは、基板10よりも封止樹脂天面56側にわたり形成されている。第3封止樹脂側面53は、第1傾斜面53a及び第2傾斜面53bを有する。第1傾斜面53aは、封止樹脂天面56に向かうにつれて第4封止樹脂側面54に向けて傾斜している。第2傾斜面53bは、封止樹脂裏面55に向かうにつれて第4封止樹脂側面54に向けて傾斜している。第1傾斜面53aの長さは、第2傾斜面53bの長さよりも長い。第4封止樹脂側面54は、第1傾斜面54a及び第2傾斜面54bを有する。第1傾斜面54aは、封止樹脂天面56に向かうにつれて第3封止樹脂側面53に向けて傾斜している。第2傾斜面54bは、封止樹脂裏面55に向かうにつれて第3封止樹脂側面53に向けて傾斜している。
 なお、第1傾斜面51aの長さ及び第2傾斜面51bの長さはそれぞれ任意に変更可能である。また第1傾斜面52aの長さ及び第2傾斜面52bの長さはそれぞれ任意に変更可能である。また第1傾斜面53aの長さ及び第2傾斜面53bの長さはそれぞれ任意に変更可能である。また第1傾斜面54aの長さ及び第2傾斜面54bの長さはそれぞれ任意に変更可能である。
 図36は、半導体装置1を厚さ方向Zの封止樹脂天面56からみた図である。図36では、便宜上、封止樹脂50を二点鎖線にて示し、封止樹脂50内の部品を実線で示している。
 図36に示すとおり、半導体装置1を厚さ方向Zの封止樹脂天面56からみて(以下、「平面視」という)、封止樹脂50の形状は、縦方向Xが長辺方向となり、横方向Yが短辺方向となる略矩形状である。第1封止樹脂側面51及び第2封止樹脂側面52は横方向Yに沿う側面であり、第3封止樹脂側面53及び第4封止樹脂側面54は縦方向Xに沿う側面である。
 基板10は、厚さ方向Zにおいて互いに反対側を向く主面10a及び裏面10b(図37参照)を有する。主面10aは、封止樹脂天面56と同じ方向を向き、裏面10bは、封止樹脂裏面55(図37参照)と同じ方向を向いている。基板10は、例えばアルミニウム(Al)又は銅(Cu)によって形成されている。
 基板10は、封止樹脂50に覆われた内側本体部111と、封止樹脂50から突出した突出部112とに区分できる。内側本体部111及び突出部112は、縦方向Xに隣り合っている。突出部112は、第1封止樹脂側面51から縦方向Xに突出している。本実施形態では、突出部112の横方向Yの大きさは、内側本体部111の横方向Yの大きさよりも小さい。なお、突出部112の横方向Yの大きさは任意に変更可能である。一例では、突出部112の横方向Yの大きさは、内側本体部111の横方向Yの大きさと等しくてもよい。
 平面視において、内側本体部111は、その縦方向Xの中心が封止樹脂50の縦方向Xの中心よりも第1封止樹脂側面51寄りとなるように配置されている。内側本体部111は、主面111a、裏面111b(図37参照)、第1側面111c、第2側面111d、及び第3側面111eを有する。主面111aと裏面111bとは、厚さ方向Zにおいて互いに反対側を向いている。主面111aは基板10の主面10aを構成し、裏面111bは基板10の裏面10bを構成している。このため、主面111aは封止樹脂天面56側に面し、裏面111bは封止樹脂裏面55側を面している。第1側面111cは第2封止樹脂側面52に面し、第2側面111dは第3封止樹脂側面53に面し、第3側面111eは第4封止樹脂側面54に面している。第1側面111cは横方向Yに沿って延びている。第2側面111d及び第3側面111eは、横方向Yにおいて間隔をあけて対向している。第2側面111d及び第3側面111eは、縦方向Xに沿って延びている。
 内側本体部111において突出部112側の端部には、幅狭部113が形成されている。幅狭部113は、第2側面111dから横方向Yの第4封止樹脂側面54側に向けて凹む湾曲状の凹部113aと、第3側面111eから横方向Yの第3封止樹脂側面53側に向けて凹む湾曲状の凹部113bとによって形成されている。幅狭部113の横方向Yの大きさは、内側本体部111のうちの幅狭部113以外の部分の横方向Yの大きさよりも小さい。また幅狭部113の横方向Yの大きさは、突出部112の横方向Yの大きさよりも小さい。幅狭部113は、封止樹脂50の第1封止樹脂側面51と縦方向Xに隣り合うように設けられている。幅狭部113には、厚さ方向Zにおいて幅狭部113を貫通している貫通孔114が設けられている。平面視における貫通孔114の形状は、横方向Yが長手方向となる略長円である。
 図37に示すように、内側本体部111の裏面111bの一部は、封止樹脂裏面55から露出している。内側本体部111の裏面111bのうちの封止樹脂裏面55から露出している面である露出面111xは、内側本体部111の裏面111bのうちの第1封止樹脂側面51側の部分である。露出面111xのうちの第2封止樹脂側面52側の端縁111xeは、封止樹脂50の縦方向Xの中央部よりも第1封止樹脂側面51側となるように形成されている。本実施形態では、露出面111xの端縁111xeは、横方向Yに沿って延びている。露出面111xは、封止樹脂裏面55と面一となる。内側本体部111の裏面111bのうちの露出面111x以外の部分は、封止樹脂裏面55から露出しない非露出面111yを構成している。
 図36に示すように、平面視において、基板10よりも封止樹脂50の第2封止樹脂側面52側には、駆動リード20及び制御リード30が基板10に対して縦方向Xに離間した状態で配置されている。駆動リード20及び制御リード30は、横方向Yにおいて互いに離間した状態で配置されている。
 駆動リード20は、駆動パッド21、駆動端子22、及び、駆動パッド21と駆動端子22とを連結する連結部23を有する。駆動パッド21及び連結部23はインナーリード20Bを構成し、駆動端子22はアウターリード20Aを構成している。駆動パッド21及び連結部23は、縦方向Xにおいて基板10と第2封止樹脂側面52との間に配置されている。より詳細には、駆動パッド21及び連結部23は、縦方向Xにおいて封止樹脂50の縦方向Xの中央部よりも第2封止樹脂側面52側となるように配置されている。駆動パッド21は、その横方向Yの中央部が封止樹脂50の横方向Yの中央部よりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。連結部23は、横方向Yにおいて封止樹脂50の横方向Yの中央部よりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。
 平面視における駆動パッド21の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる略矩形状である。横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける半導体素子40の大きさよりも大きい。本実施形態では、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける内側本体部111の大きさの1/2よりも大きい。
 駆動パッド21は、横方向Yの端部として第1端部21a及び第2端部21bを有する。第1端部21aは、駆動パッド21のうちの第3封止樹脂側面53側の端部である。本実施形態では、第1端部21aは、内側本体部111の横方向Yの中央部よりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。第2端部21bは、駆動パッド21のうちの第4封止樹脂側面54側の端部である。第2端部21bは、内側本体部111の第3側面111eよりも第4封止樹脂側面54側に位置している。図38に示すように、駆動パッド21は、厚さ方向Zにおいて、内側本体部111の主面111aよりも封止樹脂天面56側に位置している。また駆動パッド21は、厚さ方向Zにおいて、半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側に位置している。
 図36に示すように、連結部23は、駆動パッド21のうちの第2封止樹脂側面52側の端部から連続している。連結部23は、横方向Yにおいて駆動パッド21の中央部よりも第4封止樹脂側面54側に位置している。駆動端子22は、ソース端子を構成している。図38に示すように、駆動端子22は、第2封止樹脂側面52の第1傾斜面52aから突出している。すなわち、駆動端子22は、駆動端子22のうちの第2封止樹脂側面52側の端部である端子基端部22xを有する。端子基端部22xは、第1傾斜面52aから突出している。厚さ方向Zにおいて、端子基端部22xは、駆動パッド21及び連結部23と揃った状態となるように設けられている。
 図36に示すように、制御リード30は、制御パッド31、制御端子32、及び、制御パッド31と制御端子32とを連結する連結部33を有する。制御パッド31及び連結部33はインナーリード30Bを構成し、制御端子32はアウターリード30Aを構成している。制御パッド31及び連結部33は、縦方向Xにおいて基板10と第2封止樹脂側面52との間に配置されている。制御パッド31及び連結部33は、横方向Yにおいて封止樹脂50の中央よりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。
 平面視における制御パッド31の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる略矩形状である。横方向Yにおける制御パッド31の大きさは、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさよりも小さい。このため、駆動パッド21の横方向Yの大きさを大きくすることができる。図35に示すように、制御パッド31は、厚さ方向Zにおいて、内側本体部111の主面111aよりも封止樹脂天面56側に位置している。また制御パッド31は、厚さ方向Zにおいて、半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側に位置している。
 図36に示すように、連結部33は、制御パッド31のうちの第2封止樹脂側面52側の端部から連続している。連結部33は、横方向Yにおいて制御パッド31のうちの第3封止樹脂側面53寄りに位置している。制御端子32は、ゲート端子を構成している。図35に示すように、制御端子32は、第2封止樹脂側面52の第1傾斜面52aから突出している。
 図38及び図39に示すように、半導体素子40は、内側本体部111の主面111aに半田SDによって実装されている。図36に示すとおり、半導体素子40は、内側本体部111のうちの第1封止樹脂側面51寄りの部分に配置されている。具体的には、平面視において、半導体素子40と内側本体部111の第1側面111cとの間の第1距離D1が半導体素子40と内側本体部111の幅狭部113との間の第2距離D2よりも大きい。一例では、半導体素子40は、内側本体部111において幅狭部113と縦方向Xに隣り合う部分に配置されている。本実施形態では、半導体素子40は、内側本体部111のうちの幅狭部113と縦方向Xに隣り合う部分に配置されている。
 半導体素子40は、内側本体部111の横方向Yの中央部に配置されている。具体的には、半導体素子40と内側本体部111の第2側面111dとの間の第3距離D3と、半導体素子40と内側本体部111の第3側面111eとの間の第4距離D4とが互いに等しい。ここで、第3距離D3と第4距離D4のずれ量が例えば第3距離D3の5%以内であれば、第3距離D3と第4距離D4とが互いに等しいと言える。本実施形態では、第1距離D1は、第3距離D3及び第4距離D4よりも大きい。第2距離D2は、第3距離D3及び第4距離D4よりも小さい。
 半導体素子40は、炭化シリコン(SiC)を含む。本実施形態では、半導体素子40はSiCMOSFET(metal-oxide-semiconductor field-effect transistor)が用いられている。半導体素子40(SiCMOSFT)は、1kHz以上かつ数百kHz以下の周波数の駆動信号に応答した高速スイッチングが可能な素子である。好ましくは、半導体素子40は、1kHz以上かつ100kHz以下の周波数の駆動信号に応答した高速スイッチングが可能な素子である。本実施形態では、半導体素子40は、100kHzの周波数の駆動信号に応じて高速スイッチングを行う。
 半導体素子40は、平板状に形成されている。具体的には、平面視において、半導体素子40の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる矩形状である。本実施形態では、横方向Yにおける半導体素子40の大きさは、3mmである。ここで、横方向Yにおける半導体素子40の大きさは、3mmの5%の誤差(±0.15mm)を含む。
 図36、図38、及び図39に示すように、半導体素子40は、表面40a、裏面40b、第1側面40c、第2側面40d、第3側面40e、及び第4側面40fを有する。表面40a及び裏面40bは、厚さ方向Zにおいて互いに反対方向を向いている。表面40aは、封止樹脂天面56に面している。すなわち、表面40aは、基板10の主面10aと同じ方向を向いている。裏面40bは、封止樹脂裏面55に面している。裏面40bは、内側本体部111の主面111aに対向している。第1側面40cは第1封止樹脂側面51に面し、第2側面40dは第2封止樹脂側面52に面し、第3側面40eは第3封止樹脂側面53に面し、第4側面40fは第4封止樹脂側面54に面している。
 表面40aには、主面側駆動電極41及び制御電極43が形成されている。裏面40bには、裏面側駆動電極42が形成されている。本実施形態では、主面側駆動電極41がソース電極を構成し、裏面側駆動電極42がドレイン電極を構成している。制御電極43はゲート電極を構成している。裏面側駆動電極42は、半田SDによって内側本体部111に電気的に接続されている。
 主面側駆動電極41は、表面40aの大部分にわたり形成されている。平面視において、主面側駆動電極41の形状は、縦方向Xを短辺方向とし、横方向Yを長辺方向とする略矩形状である。主面側駆動電極41は、第3封止樹脂側面53に向けて開口する凹部41aが形成されている。凹部41aは、主面側駆動電極41のうちの第3封止樹脂側面53側の端部かつ縦方向Xの中央部に形成されている。凹部41a内には、制御電極43が形成されている。
 半導体素子40は、主面側駆動電極41及び制御電極43上に形成された絶縁膜であるパッシベーション膜44を有する。パッシベーション膜44には、主面側駆動電極41の一部及び制御電極43の一部を露出する開口部45が形成されている。
 平面視における開口部45の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる矩形状である。横方向Yにおける開口部45の大きさは、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさよりも小さい。言い換えれば、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける開口部45の大きさよりも大きい。
 開口部45は、半導体素子40の表面40aの縦方向Xの中央部に設けられている。具体的には、開口部45と半導体素子40の第1側面40cとの間の第1距離DC1と、開口部45と半導体素子40の第2側面40dとの間の第2距離DC2と、開口部45と半導体素子40の第3側面40eとの間の第3距離DC3と、開口部45と半導体素子40の第4側面40fとの間の第4距離DC4とは互いに等しい。ここで、第1距離DC1、第2距離DC2、第3距離DC3、及び第4距離DC4の最大のずれ量が例えば第1距離DC1の5%以内であれば、第1距離DC1、第2距離DC2、第3距離DC3、及び第4距離DC4が互いに等しいと言える。
 主面側駆動電極41は、開口部45によって露出している露出領域46を有する。露出領域46は、横方向Yの両端部である第1露出端部46a及び第2露出端部46bを有する。第1露出端部46aは、露出領域46のうちの半導体素子40の第3側面40e側の端部である。第2露出端部46bは、露出領域46のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部である。
 半導体装置1は、複数の駆動ワイヤ60と1本の制御ワイヤ70を備える。本実施形態では、複数の駆動ワイヤ60は、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の2本の駆動ワイヤから構成されている。すなわち、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離間している組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61は、第2駆動ワイヤ62に対して制御ワイヤ70側に配置されている。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、同一の金属からなる。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、アルミニウムを含む。第1駆動ワイヤ61の線径は、第2駆動ワイヤ62の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61の線径と第2駆動ワイヤ62の線径とのずれ量が例えば第1駆動ワイヤ61の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61の線径が第2駆動ワイヤ62の線径と等しいと言える。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径は、制御ワイヤ70の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径と制御ワイヤ70の線径とのずれ量が例えば制御ワイヤ70の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径が制御ワイヤ70の線径と等しいと言える。第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び制御ワイヤ70のそれぞれの線径の一例は、125μm~250μmである。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び制御ワイヤ70のそれぞれの線径は、125μmである。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62はそれぞれ、半導体素子40の主面側駆動電極41と駆動パッド21とを接続している。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62はそれぞれ、例えばワイヤボンディングによって主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、横方向Yに離間して配列されている。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21側に向かうにつれて広がっている。以下、このような第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の構成について詳細に説明する。
 図40に示すように、第1駆動ワイヤ61は、駆動電極側端部61a及び駆動パッド側端部61bを有する。第2駆動ワイヤ62は、駆動電極側端部62a及び駆動パッド側端部62bを有する。平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも大きい。平面視において、距離DW1は第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離の最小値であり、距離DW2は第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離の最大値である。
 駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と、駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離を距離DY1とし、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と、駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離を距離DY2とする。この場合、距離DY2は、距離DY1よりも大きい。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部61aは、第1露出端部46aに接続されている。具体的には、駆動電極側端部61aは、横方向Yにおいて主面側駆動電極41のうちの制御電極43と隣り合う部分、すなわち主面側駆動電極41の凹部41aの底部を構成する部分に接続されている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第1端部21a側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。一例では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように配置されている。具体的には、ワイヤボンディング装置における第1駆動ワイヤ61を供給するキャピラリが駆動パッド21の第1端部21aの第3封止樹脂側面53側の端縁に位置するように駆動パッド側端部61bの第1端部21aに対する横方向Yの位置が設定される。駆動パッド側端部61bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。駆動パッド側端部61bは、駆動電極側端部61aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。
 第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部62aは、第2露出端部46bに接続されている。一例では、駆動電極側端部62aは、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部としてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されている。具体的には、ワイヤボンディング装置における第2駆動ワイヤ62を供給するキャピラリが露出領域46の第4側面40f側の端縁に位置するように駆動電極側端部62aの露出領域46の第2露出端部46bに対する横方向Yの位置が設定される。縦方向Xにおいて、駆動電極側端部62aは、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、駆動電極側端部62aと駆動電極側端部61aとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,62aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、両駆動電極側端部61a,62aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、両駆動電極側端部61a,62aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第2端部21b側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。一例では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように配置されている。具体的には、ワイヤボンディング装置における第2駆動ワイヤ62を供給するキャピラリが駆動パッド21の第2端部21bの第4封止樹脂側面54側の端縁に位置するように駆動パッド側端部62bの第2端部21bに対する横方向Yの位置が設定される。駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。駆動パッド側端部62bは、駆動電極側端部62aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。駆動パッド側端部62bは、横方向Yにおいて半導体素子40よりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。また、本実施形態では、駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド側端部61bと揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部61bとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動パッド側端部61b,62bが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、両駆動パッド側端部61b,62bにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、両駆動パッド側端部61b,62bが縦方向Xに揃っていると言える。
 制御ワイヤ70は、半導体素子40の制御電極43と制御パッド31とを接続している。制御ワイヤ70は、例えばワイヤボンディングによって制御電極43と制御パッド31とに接続されている。制御ワイヤ70は、複数の駆動ワイヤ60と同一の材料が用いられている。制御ワイヤ70は、制御電極側端部71と制御パッド側端部72とを有する。制御電極側端部71は、制御ワイヤ70のうちの制御電極43に接続される端部である。制御パッド側端部72は、制御ワイヤ70のうちの制御パッド31に接続される端部である。制御電極側端部71は、制御ワイヤ70のうちの制御電極側端部71と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW3は、距離DW1よりも小さい。制御電極側端部71から縦方向Xに沿う補助線LS5と、制御パッド側端部72から縦方向Xに沿う補助線LS6との間の距離DY3は、距離DY1よりも大きく、距離DY2よりも小さい。なお、距離DY3の大きさは任意に変更可能である。一例では、距離DY3は、距離DY1以下である。
 次に、半導体装置1におけるドレイン端子(基板10の裏面10b)とソース端子(駆動端子22)との間の沿面距離の延長構造について説明する。
 図36及び図38に示すように、基板10の裏面10b(内側本体部111の裏面111b)における第2封止樹脂側面52側の部分には、窪み115aが設けられている。窪み115aは、内側本体部111の裏面111bから主面111aに向けて段差状に凹むことによって形成されている。窪み115aは、縦方向Xにおいて内側本体部111の第1側面111cから内側本体部111の縦方向Xの中央部よりも第2封止樹脂側面52側の部分までにわたり形成されている。本実施形態では、窪み115aは、その第1封止樹脂側面51側の端縁が半導体素子40の第2側面40dと縦方向Xにおいて揃った状態となるように形成されている。換言すると、半導体素子40は、窪み115aの第1封止樹脂側面51側の端縁と半導体素子40の第2側面40dとが縦方向Xに揃うように内側本体部111の主面111aに実装されている。本実施形態では、窪み115aの第1封止樹脂側面51側の端縁は、露出面111xの端縁111xeと一致している。また、本実施形態では、窪み115aは、内側本体部111の裏面111bにおける第2封止樹脂側面52側の部分の横方向Yの全体にわたり形成されている。
 窪み115aの深さH1は、基板10の厚さ(内側本体部111の厚さT)の1/2以下である。本実施形態では、深さH1は、内側本体部111の厚さTの1/3である。ここで、深さH1と厚さTの1/3とのずれ量が例えば深さH1の5%以内であれば、深さH1が厚さTの1/3であると言える。本実施形態では、深さH1は、0.9mmである。窪み115aには、封止樹脂50の一部が入り込んでいる。
 図39に示すように、内側本体部111の裏面111bのうちの窪み115aよりも第1封止樹脂側面51側の部分における第3封止樹脂側面53側の端部には、窪み115bが設けられている。内側本体部111の裏面111bのうちの窪み115aよりも第1封止樹脂側面51側の部分における第4封止樹脂側面54側の端部には、窪み115cが設けられている。窪み115b,115cはそれぞれ、内側本体部111の裏面111bから主面111aに向けて段差状に凹むことによって形成されている。図36に示すように、窪み115bは、横方向Yにおいて内側本体部111の第2側面111dから第3距離D3の1/2よりも第3封止樹脂側面53側の部分までにわたり形成されている。窪み115cは、横方向Yにおいて内側本体部111の第3側面111eから第4距離D4の1/2よりも第4封止樹脂側面54側の部分までにわたり形成されている。ここで、上述のとおり、第3距離D3は半導体素子40と内側本体部111の第2側面111dとの間の距離であり、第4距離D4は半導体素子40と内側本体部111の第3側面111eとの間の距離である。また、窪み115bは、窪み115aの横方向Yの第2側面111d側の端部と繋がっている。窪み115cは、窪み115aの横方向Yの第3側面111e側の端部と繋がっている。
 窪み115bの深さH2は窪み115cの深さH3と等しい。ここで、深さH2と深さH3とのずれ量が例えば深さH2の5%以内であれば、深さH2が深さH3と等しいと言える。深さH2,H3は、内側本体部111の厚さTの1/2以下である。本実施形態では、深さH2,H3は、厚さTの1/3である。すなわち、深さH2,H3は、深さH1と等しい。本実施形態では、深さH2,H3はそれぞれ、0.9mmである。窪み115b,115cには、封止樹脂50の一部が入り込んでいる。
 図36及び図38に示すように、内側本体部111の凹部113a,113b及び貫通孔114の一部にはそれぞれ、窪み115dが設けられている。凹113a,113bに設けられた窪み115dは、凹部113a,113bに沿って形成されている。貫通孔114に設けられた窪み115dは、貫通孔114を構成する内側面のうちの第2封止樹脂側面52かつ横方向Yの中央部に設けられている。これら窪み115dの深さH4は窪み115b,115cの深さH2,H3と等しい。ここで、深さH4と深さH2とのずれ量及び深さH4と深さH3とのずれ量が例えば深さH4の5%以内であれば、深さH4が深さH2,H3と等しいと言える。これら窪み115dにはそれぞれ、封止樹脂50の一部が入り込んでいる。
 これら窪み115a,115b,115c,115dは、基板10をプレス加工(パンチング)することによって形成されている。このため、窪み115a,115b,115c,115dは、一工程において同時に形成される。
 図36に示すように、内側本体部111は、厚さ方向Zにおける窪み115aと主面111aとの間の部分である第1薄肉部116aと、厚さ方向Zにおける窪み115bと主面111aとの間の部分である第2薄肉部116bと、厚さ方向Zにおける窪み115cと主面111aとの間の部分である第3薄肉部116cと、厚さ方向Zにおける窪み115dと主面111aとの間の部分である第4薄肉部116dとを有する。図38及び図39に示すように、窪み115a,115b,115c,115dの深さH1,H2,H3,H4が互いに等しいため、第1薄肉部116aの厚さT1、第2薄肉部116bの厚さT2、第3薄肉部116cの厚さT3、及び第4薄肉部116dの厚さT4は互いに等しい。ここで、厚さT1,T2,T3,T4のうちの最大のずれ量が例えば厚さT1の5%以内であれば、厚さT1,T2,T3,T4が互いに等しいと言える。
 縦方向Xにおける第1薄肉部116aの長さL1は、横方向Yにおける第2薄肉部116bの長さL2及び横方向Yにおける第3薄肉部116cの長さL3よりも長い。また、長さL1は、第4薄肉部116dの長さL4よりも長い。長さL1は、長さL2,L3,L4の2倍以上である。好ましくは、長さL1は、長さL2,L3,L4の3倍以上である。本実施形態では、長さL1は、長さL2,L3,L4の約10倍である。また本実施形態では、長さL2,L3,L4は互いに等しい。ここで、長さL2,L3,L4のうちの最大のずれ量が例えば長さL2の5%以内であれば、長さL2,L3,L4は互いに等しいと言える。
 図38及び図39に示すように、内側本体部111の裏面111bの非露出面111yは、第1薄肉部116aにおいて露出面111xと同じ側を向く第1非露出面111ya、第2薄肉部116bにおいて露出面111xと同じ側を向く第2非露出面111yb、第3薄肉部116cにおいて露出面111xと同じ側を向く第3非露出面111yc、及び第4薄肉部116dにおいて露出面111xと同じ側を向く第4非露出面111ydを含む。
 図37に示すように、縦方向Xにおける第2封止樹脂側面52から基板10の裏面10b(内側本体部111の露出面111x)までの最短距離を距離DP1とし、横方向Yにおける第3封止樹脂側面53から基板10の裏面10b(内側本体部111の露出面111x)までの最短距離を距離DP2とし、横方向Yにおける第4封止樹脂側面54から基板10の裏面10b(内側本体部111の露出面111x)までの最短距離を距離DP3とする。この場合、距離DP1は、距離DP2及び距離DP3よりも長い。好ましくは、距離DP1は、距離DP2及び距離DP3の2倍以上である。さらに好ましくは、距離DP1は、距離DP2及び距離DP3の3倍以上である。より好ましくは、距離DP1は、距離DP2及び距離DP3の4倍以上である。より一層好ましくは、距離DP1は、距離DP2及び距離DP3の5倍以上である。本実施形態では、距離DP1は、距離DP2及び距離DP3の約6倍である。
 図38に示すように、駆動端子22において第2封止樹脂側面52と接触している端子基端部22xは、駆動リード20の駆動パッド21及び連結部23と厚さ方向Zにおいて揃った状態となるように配置されている。すなわち、端子基端部22xは、厚さ方向Zにおいて基板10の主面10aよりも封止樹脂天面56側となるように配置されている。また端子基端部22xは、厚さ方向Zにおいて半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側となるように配置されている。本実施形態では、端子基端部22xは、厚さ方向Zにおいて、封止樹脂50の厚さ方向Zの中央部よりも封止樹脂天面56側となるように配置されている。
 ここで、半導体装置1におけるドレイン端子(基板10の裏面10b)とソース端子(駆動端子22)との間の沿面距離DPは、駆動端子22から封止樹脂裏面55までの第2封止樹脂側面52に沿う距離DP4と、上述の距離DP1との合計によって規定される。なお、距離DP4は、端子基端部22xから第2傾斜面52bのうちの第1傾斜面52a側の端縁までの第2傾斜面52bに沿う距離DPAと、第1傾斜面52aのうちの第2傾斜面52b側の端縁から封止樹脂裏面55のうちの第2傾斜面52b側の端縁までの第1傾斜面52aに沿う距離DPBとの合計の距離(DP4=DPA+DPB)である。
 本実施形態では、駆動端子22は、半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側となるように配置されているため、厚さ方向Zにおいて駆動端子22と基板10とが揃った状態となるように駆動端子22が配置される構成と比較して、距離DP4が長くなる。また第1薄肉部116aの長さが第2薄肉部116b及び第3薄肉部116cの長さよりも長くなるため、第1薄肉部116aの長さが第2薄肉部116b及び第3薄肉部116cの長さ以下の構成と比較して、距離DP1が長くなる。
 本実施形態の作用について説明する。
 図41及び図42は、比較例の半導体装置200の構成を示している。比較例の半導体装置200は、本実施形態の半導体装置1と比較して、基板210の形状が主に異なる。このため、比較例の半導体装置200では、基板210以外の構成要素について、半導体装置1の構成要素の形状と多少異なった形状であったとしても、便宜上、本実施形態の半導体装置1と共通の符号を付し、その説明を省略する。
 基板210には、本実施形態の基板10と同様に窪み211a,211b,211c,211dが形成されている。すなわち基板210は、窪み211aによって形成された第1薄肉部212a、窪み211bによって形成された第2薄肉部212b、窪み211cによって形成された第3薄肉部212c、及び窪み211dによって形成された第4薄肉部212dを有する。ここで、本実施形態の基板10とは異なり、第1薄肉部212aの長さLR1と、第2薄肉部212bの長さLR2と、第3薄肉部212cの長さLR3と、第4薄肉部212dの長さLR4とは、互いに等しい。
 このため、比較例の半導体装置200において縦方向Xにおける第2封止樹脂側面52から基板210の裏面210bまでの距離DRが、距離DP1(図37参照)よりも小さくなる。すなわち、本実施形態の半導体装置1の沿面距離DPは、比較例の半導体装置200の沿面距離DPRよりも長くなる。その結果、本実施形態の半導体装置1は、比較例の半導体装置200よりも高耐圧となる。ここで、耐圧は、駆動端子と基板の裏面とが短絡するまでの電圧を示している。なお、沿面距離DPRは、距離DP4と距離DRとの合計によって規定される。
 本実施形態の半導体装置1によれば、以下の効果が得られる。
 (1-1)内側本体部111の裏面111bは、封止樹脂裏面55から露出している。また、内側本体部111の裏面111bにおける第2封止樹脂側面52側の部分には窪み115aが形成されており、窪み115aには、封止樹脂50の一部が入り込んでいる。これにより、封止樹脂50の第2封止樹脂側面52から内側本体部111の裏面111bまでの最短距離である距離DP1は、第3封止樹脂側面53から内側本体部111の裏面111bまでの最短距離である距離DP2及び第4封止樹脂側面54から内側本体部111の裏面111bまでの最短距離である距離DP3よりも大きくなる。このため、封止樹脂50における駆動端子22が突出した部分から基板10の裏面10bまでの沿面距離DPを長くすることができる。したがって、半導体装置1の絶縁耐力を向上できる。
 ところで、距離DP1を距離DP2及び距離DP3よりも大きく取るため、内側本体部111の第1側面111cから第1封止樹脂側面51までの縦方向Xの長さを短くする構成が考えられる。しかし、内側本体部111の体積が小さくなるため、基板10による半導体素子40の放熱能力が低下してしまう。
 この点に鑑み、本実施形態では、内側本体部111の裏面111bにおける第2封止樹脂側面52側の部分に窪み115aが形成されることによって第1薄肉部116aが形成されている。これにより、内側本体部111の体積の減少を抑制できるため、基板10による半導体素子40の放熱能力の低下を抑制できる。
 (1-2)封止樹脂50の封止樹脂裏面55から露出した内側本体部111の裏面111b(露出面111x)のうちの第2封止樹脂側面52側の端縁(端縁111xe)は、縦方向Xにおいて封止樹脂50の縦方向Xの中心よりも第1封止樹脂側面51側に配置されている。この構成によれば、距離DP1を大きく取ることができるため、半導体装置1の絶縁耐力を向上できる。
 (1-3)半導体素子40は、基板10の主面10aにおいて窪み115aよりも第1封止樹脂側面51側の部分に配置されている。この構成によれば、基板10における半導体素子40直下の部分の厚さが窪み115aによって薄くなっていないため、半導体素子40を効果的に放熱できる。
 (1-4)半導体素子40の第1側面40cは、基板10の主面10aにおいて封止樹脂50の縦方向Xの中央よりも第1封止樹脂側面51側に位置している。この構成によれば、縦方向Xにおいて窪み115aをより第1封止樹脂側面51側に形成できるため、封止樹脂50の封止樹脂裏面55から露出した内側本体部111の裏面111b(露出面111x)のうちの第2封止樹脂側面52側の端縁(端縁111xe)をより第1封止樹脂側面51側に形成できる。したがって、距離DP1を大きく取ることができ、半導体装置1の絶縁耐力を向上できる。
 (1-5)窪み115aの深さH1は、基板10の厚さ(内側本体部111の厚さT)の1/2以下である。この構成によれば、内側本体部111の体積の減少を抑制できるため、基板10による半導体素子40の放熱能力の低下を抑制できる。
 (1-6)窪み115aの深さH1は、基板10の厚さ(内側本体部111の厚さT)の1/3以下である。この構成によれば、内側本体部111の体積の減少を一層抑制できるため、基板10による半導体素子40の放熱能力の低下を一層抑制できる。
 (1-7)基板10は、窪み115aによって形成された第1薄肉部116a、窪み115bによって形成された第2薄肉部116b、及び窪み115cによって形成された第3薄肉部116cを有する。この構成によれば、窪み115a,115b,115cのそれぞれに封止樹脂50の一部が入り込むことによって、基板10と封止樹脂50との分離を抑制できる。
 (1-8)駆動端子22のうちの第2封止樹脂側面52と接触している端子基端部22xは、厚さ方向Zにおいて基板10の主面10aよりも封止樹脂天面56側となるように設けられている。この構成によれば、端子基端部22xから封止樹脂裏面55までの距離DP4を大きく取ることができるため、半導体装置1の絶縁耐力を向上できる。
 (1-9)駆動端子22のうちの第2封止樹脂側面52と接触している端子基端部22xは、厚さ方向Zにおいて半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側となるように設けられている。この構成によれば、端子基端部22xから封止樹脂裏面55までの距離DP4をより大きく取ることができるため、半導体装置1の絶縁耐力を一層向上できる。
 (1-10)駆動端子22のうちの第2封止樹脂側面52と接触している端子基端部22xは、厚さ方向Zにおいて封止樹脂50の厚さ方向Zの中央部よりも封止樹脂天面56側となるように設けられている。この構成によれば、端子基端部22xから封止樹脂裏面55までの距離DP4を大きく取ることができるため、半導体装置1の絶縁耐力を向上できる。
 (1-11)SiCを含む半導体素子を備える半導体装置では、インダクタンスがナノヘンリー(nH)のオーダーであっても半導体装置の特性に対する影響が大きい。このため、半導体装置におけるインダクタンスを低減できる構成が望まれている。
 ところで、半導体装置においてソース電極からソース端子までに含まれるインダクタンスは、ソース電極とソース端子とを接続する導体の平面視における幅が広くなるにつれて低下する。導体が複数の駆動ワイヤから構成される場合、複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合わせを構成する2つの駆動ワイヤの間を導体の平面視における幅として規定される。
 ちなみに、複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合わせを構成する2つの駆動ワイヤとは、本実施形態のように駆動ワイヤ60が2本であれば、当該2本の駆動ワイヤ61,62が複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離間している組み合わせを構成する。
 そして本実施形態では、平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。詳細には、駆動パッド側端部61b及び駆動パッド端部62b間の距離DW2は、駆動電極側端部61a及び駆動電極側端部62a間の距離DW1よりも大きい。この構成によれば、平面視において第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62が平行となる構成と比較して、導体の平面視における幅を広くすることができる。これにより、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きく取ることができるため、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。本実施形態では、平面視において第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62とが距離DW1だけ離間した状態で平行となる構成と比較して、インダクタンスが5~7(nH)減少する結果が得られた。なお、距離DW1は、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離である。
 (1-12)横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける開口部45の大きさよりも大きい。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2を大きく取ることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (1-13)第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aに接続されており、第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。この構成によれば、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2を大きく取ることができる。したがって、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きく取ることができるため、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (1-14)第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aが主面側駆動電極41の露出領域46の第1露出端部46aに接続され、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aが露出領域46の第2露出端部46bに接続されている。この構成によれば、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1を大きく取ることができる。したがって、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きく取ることができるため、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (1-15)第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61b及び第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bはそれぞれ、縦方向Xにおいて駆動パッド21の中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62をそれぞれ短くすることができるため、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスをより低減できる。
 (1-16)第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は同一の材料が用いられている。第1駆動ワイヤ61の線径と第2駆動ワイヤ62の線径とは互いに等しい。この構成によれば、各駆動ワイヤ61,62の主面側駆動電極41及び駆動パッド21への接続作業を同一のワイヤにて実施できるため、その作業工程を簡素化できる。
 (1-17)複数の駆動ワイヤ60及び制御ワイヤ70は同一の材料が用いられている。複数の駆動ワイヤ60の線径と制御ワイヤ70の線径とは互いに等しい。この構成によれば、複数の駆動ワイヤ60の主面側駆動電極41及び駆動パッド21への接続作業、及び制御ワイヤ70の制御電極43及び制御パッド31への接続作業を同一のワイヤにて実施できるため、それらの作業工程を簡素化できる。
 (1-18)駆動リード20及び基板10は、同一の金属板を例えばプレス加工することによって形成されている。この構成によれば、駆動リード20及び基板10を個別の金属板によって形成する場合と比較して、駆動リード20及び基板10の加工工程を簡素化できる。
 (1-19)駆動リード20、制御リード30、及び基板10は、同一の金属板を例えばプレス加工することによって形成されている。この構成によれば、駆動リード20、制御リード30、及び基板10を個別の金属板によって形成する場合と比較して、駆動リード20、制御リード30、及び基板10の加工工程を簡素化できる。
 (第5実施形態の変更例)
 第5実施形態の半導体装置1は例えば以下のように変更できる。以下の各変更例は、技術的な矛盾が生じない限り、互いに組み合せることができる。なお、以下の変更例において、第5実施形態と共通する部分については、第5実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
 ・駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図43に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び第3駆動ワイヤ63の3本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離間している組み合わせを構成している。
 すなわち、駆動ワイヤの数が3本以上である場合、最も離間している組み合わせとは、最も離れた位置にある2つの駆動ワイヤである。例えば、3本以上の駆動ワイヤが横方向Yに配列されている場合には、最も離間している組み合わせとは、横方向Yの両端にある駆動ワイヤの組み合わせである。
 第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aは、第3駆動ワイヤ63のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、第3駆動ワイヤ63のうちの駆動パッド21に接続される端部である。駆動電極側端部63aと第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW4と、駆動電極側端部63aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW5とは互いに等しい。ここで、距離DW4と距離DW5とのずれ量が例えば距離DW4の5%以内であれば、距離DW4と距離DW5とが互いに等しいと言える。図43では、距離DW4,DW5は、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと制御ワイヤ70の制御電極側端部71との間の距離DW3よりも大きい。
 また図43では、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW6は、距離DW4よりも大きい。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW7は、距離DW5よりも大きい。図43では、距離DW6は、距離DW7よりも大きい。
 第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。第3駆動ワイヤ63及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。なお、駆動パッド側端部63bの駆動パッド21に対する配置位置は任意に変更可能である。一例では、距離DW6が距離DW7以下となるように駆動パッド側端部63bが駆動パッド21に接続されてもよい。
 ・半導体素子40のサイズは任意に変更可能である。一例では、図44に示すように、半導体素子40のサイズを第5実施形態の半導体素子40のサイズよりも大きくしてもよい。図44では、半導体素子40の縦方向Xのサイズ及び横方向Yのサイズのそれぞれが第5実施形態の半導体素子40のサイズよりも大きい。また、半導体素子40のサイズが大きくなることに伴い表面40aに形成された主面側駆動電極41及び開口部45の大きさをそれぞれ縦方向X及び横方向Yのそれぞれに大きくすることができる。図44では、開口部45の横方向Yの大きさは、駆動パッド21の横方向Yの大きさよりも大きい。
 半導体素子40は、内側本体部111のうちの第1封止樹脂側面51寄りの部分に配置されている。具体的には、平面視において、半導体素子40と内側本体部111の第1側面111cとの間の第1距離D1が半導体素子40と内側本体部111の幅狭部113との間の第2距離D2よりも大きい。一例では、半導体素子40は、内側本体部111において幅狭部113と縦方向Xに隣り合う部分に配置されている。本実施形態では、半導体素子40は、内側本体部111のうちの幅狭部113と縦方向Xに隣り合う部分に配置されている。
 半導体素子40は、内側本体部111の横方向Yの中央部に配置されている。具体的には、半導体素子40と内側本体部111の第2側面111dとの間の第3距離D3と、半導体素子40と内側本体部111の第3側面111eとの間の第4距離D4とが互いに等しい。ここで、第3距離D3と第4距離D4のずれ量が例えば第3距離D3の5%以内であれば、第3距離D3と第4距離D4とが互いに等しいと言える。本実施形態では、第1距離D1は、第3距離D3及び第4距離D4よりも大きい。第2距離D2は、第3距離D3及び第4距離D4よりも小さい。
 半導体装置1は、第5実施形態と同様に、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62を有する。第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、第5実施形態の駆動電極側端部61aと同様に、主面側駆動電極41の露出領域46の第1露出端部46aに接続されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、第5実施形態の駆動パッド側端部61bと同様に、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、第5実施形態の駆動電極側端部62aと同様に、主面側駆動電極41の露出領域46の第2露出端部46bに接続されている。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、第5実施形態の駆動パッド側端部62bと同様に、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。また第5実施形態と同様に、縦方向Xにおいて、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとは互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。駆動パッド側端部61b及び駆動パッド側端部62bはそれぞれ、縦方向Xにおいて駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも大きい。図44では、駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離DY1は、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離DY2よりも小さい。また、平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。また、平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広くなっている。
 この構成によれば、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きくすることができるため、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスを低減できる。
 なお、距離DW1と距離DW2との関係は任意に変更可能である。一例では、距離DW1は、距離DW2と等しくてもよい。この場合、平面視において、第1駆動ワイヤ61は、第2駆動ワイヤ62と平行となる。また、距離DW1は、距離DW2よりも大きくてもよい。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が近づくように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に狭くなっている。
 ・図44の変更例において、駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図45に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び第3駆動ワイヤ63の3本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62が、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離間している組み合わせを構成している。第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aと第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW4と、駆動電極側端部63aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW5とは互いに等しい。ここで、距離DW4と距離DW5とのずれ量が例えば距離DW4の5%以内であれば、距離DW4と距離DW5とが互いに等しいと言える。
 また図45では、図43の半導体装置1と同様に、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは互いに揃った状態で配列されている。
 第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW6は、距離DW4よりも大きい。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW7は、距離DW5と等しい。ここで、距離DW7と距離DW5とのずれ量が例えば距離DW7の5%以内であれば、距離DW7が距離DW5と等しいと言える。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広くなっている。第3駆動ワイヤ63は、第2駆動ワイヤ62と平行となる。
 ・窪み115a,115b,115c,115dの深さH1,H2,H3,H4は任意に変更可能である。一例では、窪み115a,115b,115c,115dの深さH1,H2,H3,H4の少なくとも1つは、基板10の厚さTの1/3以上であり、かつ厚さTよりも薄くてもよい。この構成によれば、封止樹脂50の一部が窪み115a,115b,115c,115dの少なくとも1つに入り込み易くなる。したがって、封止樹脂50の成形性が向上するため、半導体装置1の歩留まり率を向上できる。また一例では、窪み115a,115b,115c,115dの深さH1,H2,H3,H4の少なくとも1つは、基板10の厚さTの1/3以上かつ1/2以下であってもよい。この構成によれば、半導体装置1の歩留まり率の向上及び内側本体部111の放熱性能の向上を両立できる。
 ・窪み115aの深さH1は、窪み115b,115c,115dの深さH2,H3,H4と異なってもよい。一例では、深さH1は、深さH2,H3,H4よりも浅い。この構成によれば、第1薄肉部116aの厚さT1が第2薄肉部116bの厚さT2、第3薄肉部116cの厚さT3、及び第4薄肉部116dの厚さT4のそれぞれよりも厚くなるため、厚さT1,T2,T3,T4が互いに等しい構成と比較して、内側本体部111の体積を増加させることができる。したがって、内側本体部111の放熱性能を向上できる。また一例では、深さH1は、深さH2,H3,H4よりも深い。この構成によれば、封止樹脂50の一部が窪み115aに入り込み易くなる。したがって、封止樹脂50の成形性が向上するため、半導体装置1の歩留まり率を向上できる。
 ・窪み115b,115cの少なくとも一方を省略してもよい。また、凹部113aに形成された窪み115d、凹部113bに形成された窪み115d、及び貫通孔114に形成された窪み115dの少なくとも1つを省略してもよい。
 ・基板10、駆動パッド21、及び制御パッド31の少なくとも1つは、別の金属板から形成されてもよい。また例えば、基板10及び駆動パッド21が同一の金属板から形成され、制御パッド31が別の金属板から形成されてもよい。
 (第6実施形態)
 図46~図58を参照して、半導体装置1の第6実施形態について説明する。本実施形態の半導体装置1は、第5実施形態の半導体装置1と比較して、基板10、駆動リード20、制御リード30、及び封止樹脂50の形状がそれぞれ異なる点、並びに、センスリード80が追加された点が異なる。本実施形態では、便宜上、第5実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する場合がある。
 図46に示すように、本実施形態の半導体装置1は、パッケージ外形規格(JEITA規格)がTO-263のパッケージである。詳細には、半導体装置1の縦寸法LXが14.7mm~15.5mm、横寸法LYが10.06mm~10.26mm、厚さ寸法LZが4.40mm~4.70mmである。また、半導体装置1は、SIPタイプである。このように、本実施形態の半導体装置1のサイズは、第5実施形態の半導体装置1のサイズよりも大きい。
 図46に示すとおり、封止樹脂50の形状は、直方体である。封止樹脂50は、モールド成形によって形成されている。封止樹脂50の各封止樹脂側面51~54は、封止樹脂50の成形時に金型を抜き易くするような抜き勾配を設けるため、厚さ方向Zに対して傾斜する傾斜面が設けられている。具体的には、第1封止樹脂側面51は、金型の上型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第1傾斜面を有し、各封止樹脂側面52~54は、金型の上型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第1傾斜面と、金型の下型を抜き易くするような抜き勾配を設けた第2傾斜面とを有する。金型の上型は、封止樹脂天面56と各側面51~54のうちの封止樹脂天面56側の部分を形成する。下型は、封止樹脂裏面55と各側面51~54のうちの封止樹脂裏面55側の部分を形成する。一例では、図49及び図50に示すように、第1封止樹脂側面51は、第1傾斜面51aを有する。第1傾斜面51aは、封止樹脂天面56に向かうにつれて第2封止樹脂側面52に向けて傾斜している。第1傾斜面51aは、封止樹脂天面56から基板10の主面10aまでにわたり形成されている。第2封止樹脂側面52は、第1傾斜面52a及び第2傾斜面52bを有する。第1傾斜面52aは、封止樹脂天面56に向かうにつれて第1封止樹脂側面51に向けて傾斜している。第2傾斜面52bは、封止樹脂裏面55に向かうにつれて第1封止樹脂側面51に向けて傾斜している。第1傾斜面52aの長さは、第2傾斜面52bの長さよりも短い。第2傾斜面52bは、基板10よりも封止樹脂天面56側にわたり形成されている。第2傾斜面52bは、半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側にわたり形成されている。換言すれば、第1傾斜面52aは、半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側となるように設けられている。第3封止樹脂側面53は、第1傾斜面53a及び第2傾斜面53bを有する。第1傾斜面53aは、封止樹脂天面56に向かうにつれて第4封止樹脂側面54に向けて傾斜している。第2傾斜面53bは、封止樹脂裏面55に向かうにつれて第4封止樹脂側面54に向けて傾斜している。第1傾斜面53aの長さは、第2傾斜面53bの長さよりも長い。第4封止樹脂側面54は、第1傾斜面54a及び第2傾斜面54bを有する。第1傾斜面54aは、封止樹脂天面56に向かうにつれて第3封止樹脂側面53に向けて傾斜している。第2傾斜面54bは、封止樹脂裏面55に向かうにつれて第3封止樹脂側面53に向けて傾斜している。第1傾斜面54aの長さは、第2傾斜面53bの長さよりも長い。
 なお、第1傾斜面51aの長さは任意に変更可能である。また第1傾斜面52aの長さ及び第2傾斜面52bの長さはそれぞれ任意に変更可能である。また第1傾斜面53aの長さ及び第2傾斜面53bの長さはそれぞれ任意に変更可能である。また第1傾斜面54aの長さ及び第2傾斜面54bの長さはそれぞれ任意に変更可能である。
 第1封止樹脂側面51と封止樹脂天面56との間には、抜き勾配よりも傾斜角度が大きい傾斜面57が形成されている。
 図46及び図50に示すように、封止樹脂50の横方向Yの両端部には、凹部58が形成されている。封止樹脂50の第3封止樹脂側面53側の凹部58は、第3封止樹脂側面53から横方向Yに湾曲状に凹んでいる。封止樹脂50の第4封止樹脂側面54側の凹部58は、第4封止樹脂側面54から横方向Yに湾曲状に凹んでいる。凹部58は、封止樹脂天面56から基板10の主面10aまでにわたり形成されている。すなわち、凹部58によって、基板10の主面10aの一部が露出している。凹部58は、封止樹脂50の縦方向Xの中心よりも第2封止樹脂側面52寄りに設けられている。
 図47は、半導体装置1を厚さ方向Zの封止樹脂天面56からみた図である。図47では、便宜上、封止樹脂50を二点鎖線で示し、封止樹脂50内の部品を実線で示している。図47に示すとおり、平面視において、封止樹脂50の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる略矩形状である。
 図46及び図47に示すように、基板10は、封止樹脂50内に配置された内側本体部111と、封止樹脂50から突出した突出部112とに区分できる。内側本体部111及び突出部112は、縦方向Xに隣り合っている。基板10は、例えばアルミニウム(Al)又は銅(Cu)によって形成されている。
 内側本体部111において突出部112側の端部には、第1幅広部111fが形成されている。第1幅広部111fの横方向Yの大きさは、内側本体部111のうちの第1幅広部111f以外の部分の横方向Yの大きさよりも大きい。第1幅広部111fは、封止樹脂50の第1封止樹脂側面51と縦方向Xに隣り合うように設けられている。
 内側本体部111において第2封止樹脂側面52側の端部には、第2幅広部111gが形成されている。第2幅広部111gの横方向Yの大きさは、内側本体部111のうちの第1幅広部111f以外の部分の横方向Yの大きさよりも大きい。また第2幅広部111gの横方向Yの大きさは、第1幅広部111fの横方向Yの大きさよりも小さい。
 突出部112は、第1封止樹脂側面51から縦方向Xに突出している。本実施形態では、突出部112の横方向Yの大きさは、内側本体部111の第1幅広部111fの横方向Yの大きさと等しい。なお、突出部112の横方向Yの大きさは任意に変更可能である。一例では、突出部112の横方向Yの大きさは、内側本体部111の第1幅広部111fの横方向Yの大きさよりも小さくてもよい。
 図48に示すように、内側本体部111の裏面111bの一部は、封止樹脂裏面55から露出している。内側本体部111の裏面111bのうちの封止樹脂裏面55から露出している面である露出面111xは、内側本体部111の裏面111bのうちの第1封止樹脂側面51側の部分である。露出面111xのうちの第2封止樹脂側面52側の端縁111xeは、封止樹脂50の縦方向Xの中央部よりも第2封止樹脂側面52側となるように形成されている。本実施形態では、露出面111xの端縁111xeは、横方向Yに沿って延びている。露出面111xは、封止樹脂裏面55と面一となる。内側本体部111の裏面111bのうちの露出面111x以外の部分は、封止樹脂裏面55から露出しない非露出面111yを構成している。
 図47に示すように、平面視において、基板10よりも封止樹脂50の第2封止樹脂側面52側には、駆動リード20、制御リード30、及びセンスリード80が配置されている。本実施形態では、平面視において、駆動リード20、制御リード30、及びセンスリード80のそれぞれの第1封止樹脂側面51側の端縁は、内側本体部111の第2封止樹脂側面52側の端縁と重なっている。駆動リード20、制御リード30、及びセンスリード80は、横方向Yにおいて互いに離間して配置されている。駆動リード20と制御リード30との横方向Yの間には、センスリード80が配置されている。本実施形態では、基板10、駆動リード20、制御リード30、及びセンスリード80は、同一の金属製の母材をプレス加工することによって形成されている。
 駆動リード20は、駆動パッド21、複数の駆動端子22、及び駆動パッド21と複数の駆動端子22とを接続する複数の連結部23を有する。
 平面視における駆動パッド21の形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる略矩形状である。駆動パッド21の第1端部21aは、内側本体部111の横方向Yの中央部よりも第3封止樹脂側面53側に位置している。縦方向Xからみて、駆動パッド21の第2端部21bは、内側本体部111のうちの第4封止樹脂側面54側の端部と重なるように設けられている。このように、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける内側本体部111の大きさの1/2よりも大きい。図49に示すように、駆動パッド21は、厚さ方向Zにおいて、基板10の主面10aよりも封止樹脂天面56側に位置している。また駆動パッド21は、厚さ方向Zにおいて、半導体素子40よりも封止樹脂天面56側に位置している。
 図47に示すように、本実施形態では、複数の駆動端子22は、駆動端子22a,22b,22c,22d,22eの5つの駆動端子を含む。複数の連結部23は、連結部23a,23b,23c,23d,23eの5つの連結部を含む。駆動端子22a~22eは、横方向Yに互いに離間して配置されている。駆動端子22a~22eは、駆動パッド21の第1端部21aから第2端部21bに向けて、駆動端子22a,22b,22c,22d,22eの順に配置されている。連結部23a~23eは、横方向Yに互いに離間して配置されている。連結部23aは駆動パッド21と駆動端子22aとを連結し、連結部23bは駆動パッド21と駆動端子22bとを連結し、連結部23cは駆動パッド21と駆動端子22cとを連結し、連結部23dは駆動パッド21と駆動端子22dとを連結し、連結部23eは駆動パッド21と駆動端子22eとを連結している。
 駆動端子22a~22e、制御端子32、及び後述するセンス端子82は、等ピッチとなるように配置されている。駆動端子22aは、駆動パッド21の第1端部21aよりも第3封止樹脂側面53側の部分を含むように配置されている。駆動端子22aは、内側本体部111の横方向Yの中央部よりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。
 駆動端子22bは、内側本体部111の横方向Yの中央部と同じ位置となるように配置されている。具体的には、駆動端子22bの横方向Yの中央部において縦方向Xに沿う仮想線LV1が内側本体部111の横方向Yの中央部において縦方向Xに沿う仮想線LV2と一致している。駆動端子22c~22eは、内側本体部111の横方向Yの中央部よりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。本実施形態では、駆動端子22d,22eは、半導体素子40よりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。駆動端子22a,22c~22eは、互いに同一形状である。駆動端子22bは、駆動端子22a,22c~22eよりも短い。
 図48に示すように、駆動端子22aは第2封止樹脂側面52と接触する部分である端子基端部22xaを有し、駆動端子22bは第2封止樹脂側面52と接触する部分である端子基端部22xbを有し、駆動端子22cは第2封止樹脂側面52と接触する部分である端子基端部22xcを有し、駆動端子22dは第2封止樹脂側面52と接触する部分である端子基端部22xdを有し、駆動端子22eは第2封止樹脂側面52と接触する部分である端子基端部22xeを有する。厚さ方向Zにおいて、端子基端部22xa~22xeは互いに揃った状態で横方向Yに離間して配置されている。一例では、図49に示すように、端子基端部22xcは、第2封止樹脂側面52の第1傾斜面52aに接触している。端子基端部22xa,22xb,22xd,22xeも端子基端部22xcと同様に、第1傾斜面52aに接触している。
 図47に示すように、制御リード30は、縦方向Xからみて、内側本体部111のうちの第3封止樹脂側面53側の端部と重なるように配置されている。制御リード30は、半導体素子40よりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。
 図46に示すように、制御パッド31は、厚さ方向Zにおいて、基板10の主面10aよりも封止樹脂天面56側に位置している。また制御パッド31は、厚さ方向Zにおいて、半導体素子40よりも封止樹脂天面56側に位置している。図47に示すように、平面視における制御パッド31の形状は、縦方向Xが長辺方向となり、横方向Yが短辺方向となる略矩形状である。横方向Yにおける制御パッド31の大きさは、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさよりも小さい。このため、駆動パッド21の横方向Yの大きさを大きくすることができる。制御リード30の制御端子32は、ゲート端子を構成している。制御端子32は、駆動端子22a,22c~22eと同一形状である。
 センスリード80は、本実施形態では制御電極43(ゲート電極)と主面側駆動電極41(ソース電極)とを電気的に接続するためのリードである。平面視において、センスリード80は、半導体素子40よりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。センスリード80は、センスパッド81、センス端子82、及び、センスパッド81とセンス端子82とを連結する連結部83を有する。
 センスパッド81は、縦方向Xにおいて半導体素子40に離間して配置されている。センスパッド81は、縦方向Xにおいて基板10と第2封止樹脂側面52との間に配置されている。センスパッド81は、横方向Yにおいて、駆動パッド21と制御パッド31との間に配置されている。平面視におけるセンスパッド81の形状は、縦方向Xが長辺方向となり、横方向Yが短辺方向となる略矩形状である。横方向Yにおけるセンスパッド81の大きさは、横方向Yにおける制御パッド31の大きさと等しい。すなわち横方向Yにおけるセンスパッド81の大きさは、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさよりも小さい。このため、横方向Yにおける駆動パッド21の大きさを大きくすることができる。図46に示すように、センスパッド81は、厚さ方向Zにおいて、基板10の主面10aよりも封止樹脂天面56側に位置している。またセンスパッド81は、厚さ方向Zにおいて、半導体素子40よりも封止樹脂天面56側に位置している。なお、横方向Yにおけるセンスパッド81の大きさ、及び横方向Yにおける制御パッド31の大きさはそれぞれ、任意に変更可能である。一例では、横方向Yにおけるセンスパッド81の大きさが横方向Yにおける制御パッド31の大きさよりも小さくてもよい。
 図47に示すように、連結部83は、縦方向Xにおいてセンスパッド81のうちの第2封止樹脂側面52側の端部から連続している。連結部83は、横方向Yにおいてセンスパッド81のうちの第3封止樹脂側面53側の端部に位置している。センス端子82は、第2封止樹脂側面52から突出している。センス端子82は、駆動端子22a,22c~22e及び制御端子32と同一形状である。
 半導体素子40は、第5実施形態と同様に、SiCMOSFETが用いられている。また半導体素子40は、第5実施形態と同様に、1kHz以上かつ数百kHz以下の周波数の駆動信号に応答した高速スイッチングが可能な素子である。好ましくは、半導体素子40は、1kHz以上かつ100kHz以下の周波数の駆動信号に応答した高速スイッチングが可能な素子である。本実施形態では、半導体素子40は、100kHzの周波数の駆動信号に応じて高速スイッチングを行う。半導体素子40の形状及びサイズは、第5実施形態の半導体素子40の形状及びサイズと同様である。
 図47に示すように、半導体素子40は、縦方向Xにおいて、内側本体部111に対して第2封止樹脂側面52寄りに配置されている。具体的には、平面視において、半導体素子40と内側本体部111の第1側面111cとの縦方向Xの間の第1距離D1が半導体素子40と内側本体部111の第1幅広部111fとの縦方向Xの間の第2距離D2よりも小さい。
 半導体素子40は、横方向Yにおいて、内側本体部111の中央部に配置されている。具体的には、半導体素子40と内側本体部111の第2側面111dとの横方向Yの間の第3距離D3と、半導体素子40と内側本体部111の第3側面111eとの横方向Yの間の第4距離D4とが互いに等しい。ここで、第3距離D3と第4距離D4とのずれ量が例えば第3距離D3の5%以内であれば、第3距離D3及び第4距離D4が互いに等しいと言える。
 半導体装置1は、複数の駆動ワイヤ60と、制御ワイヤ70と、センスワイヤ90とを備える。本実施形態では、複数の駆動ワイヤ60は、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の2本の駆動ワイヤから構成されている。すなわち、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、横方向Yに離間して配列されている。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。制御ワイヤ70と、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、横方向Yに離間して配列されている。第1駆動ワイヤ61は、第2駆動ワイヤ62に対して制御ワイヤ70側に配置されている。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、同一の金属からなる。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、アルミニウムを含む。第1駆動ワイヤ61の線径は、第2駆動ワイヤ62の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61の線径と第2駆動ワイヤ62の線径とのずれ量が例えば第1駆動ワイヤ61の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61の線径が第2駆動ワイヤ62の線径と等しいと言える。本実施形態では、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径は、制御ワイヤ70の線径と等しい。ここで、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径と制御ワイヤ70の線径とのずれ量が例えば制御ワイヤ70の線径の5%以内であれば、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径が制御ワイヤ70の線径と等しいと言える。第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62はそれぞれ、例えばワイヤボンディングによって主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21側に向かうにつれて徐々に広がっている。以下、このような第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の構成について詳細に説明する。
 図51に示すように、平面視において、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも大きい。本実施形態では、駆動パッド側端部61bは、横方向Yにおいて駆動電極側端部61aよりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。駆動パッド側端部62bは、横方向Yにおいて駆動電極側端部62aよりも第4封止樹脂側面54側に配置されている。このように、平面視において、第1駆動ワイヤ61の縦方向Xに対する傾斜方向と、第2駆動ワイヤ62の縦方向Xに対する傾斜方向とは逆になる。
 駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と、駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離を距離DY1とし、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と、駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離を距離DY2とする。この場合、距離DY2は、距離DY1よりも大きい。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に接続されている。本実施形態では、横方向Yにおいて主面側駆動電極41の露出領域46の第1露出端部46aよりも露出領域46の中央部側に接続されている。換言すれば、駆動電極側端部61aは、露出領域46のうちの制御電極43から離間した部分、すなわち主面側駆動電極41の凹部41aの底部から離間した部分に接続されている。また、駆動電極側端部61aは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23bと重なっている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第1端部21a側に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21のうちの横方向Yにおいて連結部23bよりも第3封止樹脂側面53側の部分に接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部61bは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23aと重なっている。駆動パッド側端部61bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 なお、駆動パッド側端部61bは、横方向Yにおいて、駆動パッド21の第1端部21aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように第1端部21aに接続されてもよい。
 第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部62aは、露出領域46の第2露出端部46bに接続されている。本実施形態では、駆動電極側端部62aは、縦方向Xからみて、連結部23bと連結部23cとの横方向Yの間の部分と重なっている。一例では、駆動電極側端部62aは、横方向Yにおいて露出領域46の第2露出端部46bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように駆動電極側端部62aの露出領域46に対する位置が設定されている。縦方向Xにおいて、駆動電極側端部62aは、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと揃った状態となるように配置されている。なお、縦方向Xにおいて駆動電極側端部62aと駆動電極側端部61aとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,62aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、両駆動電極側端部61a,62aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、両駆動電極側端部61a,62aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第2端部21b側に接続されている。駆動パッド側端部62bは、半導体素子40よりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。本実施形態では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。本実施形態では、駆動パッド側端部62bは、縦方向Xからみて、連結部23eと重なっている。なお、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように駆動パッド21に対する位置が設定されてもよい。駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 制御ワイヤ70は、半導体素子40の制御電極43と制御パッド31とを接続している。制御ワイヤ70は、例えばワイヤボンディングによって制御電極43と制御パッド31とに接続されている。第5実施形態と同様に、制御ワイヤ70は、複数の駆動ワイヤ60と同一の材料が用いられている。制御ワイヤ70の線径は、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径と等しい。ここで、制御ワイヤ70の線径と第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径とのずれ量が例えば制御ワイヤ70の線径の5%以内であれば、制御ワイヤ70の線径と第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の線径とが等しいと言える。
 制御ワイヤ70は、制御電極側端部71と制御パッド側端部72とを有する。制御電極側端部71と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW3は、距離DW1よりも小さい。制御電極側端部71から縦方向Xに沿う補助線LS5と、制御パッド側端部72から縦方向Xに沿う補助線LS6との間の距離DY3は、距離DY1よりも大きく、距離DY2よりも僅かに小さい。なお、距離DY3は任意に変更可能である。一例では、距離DY3は、距離DY2以上であってもよい。
 センスワイヤ90は、半導体素子40の主面側駆動電極41とセンスパッド81とを接続している。センスワイヤ90は、例えばワイヤボンディングによって主面側駆動電極41とセンスパッド81とに接続されている。センスワイヤ90は、第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び制御ワイヤ70と同一の材料が用いられている。センスワイヤ90の線径は、例えば制御ワイヤ70の線径と等しい。ここで、センスワイヤ90の線径と制御ワイヤ70の線径のずれ量が例えばセンスワイヤ90の線径の5%以内であれば、センスワイヤ90の線径と制御ワイヤ70の線径とが互いに等しいと言える。
 センスワイヤ90は、駆動電極側端部91とセンスパッド側端部92とを有する。駆動電極側端部91は、センスワイヤ90のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。センスパッド側端部92は、センスワイヤ90のうちのセンスパッド81に接続される端部である。センスパッド側端部92は、横方向Yにおいて駆動電極側端部91よりも第3封止樹脂側面53側に配置されている。
 駆動電極側端部91は、主面側駆動電極41のうちの第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと制御電極43との横方向Yの間の部分に接続されている。駆動電極側端部91と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW8は、駆動電極側端部91と制御ワイヤ70の制御電極側端部71との間の距離DW9よりも小さい。
 駆動電極側端部91から縦方向Xに沿う補助線LS7と、センスパッド側端部92から縦方向Xに沿う補助線LS8との間の距離DY4は、距離DY1よりも大きく、距離DY2よりも小さい。また距離DY4は、距離DY3よりも小さい。
 次に、半導体装置1におけるドレイン端子(基板10の裏面10b)とソース端子(駆動端子22)との間の沿面距離の延長構造について説明する。
 図47~図49に示すように、基板10の裏面10b(内側本体部111の裏面111b)における第2封止樹脂側面52側の部分には、窪み115aが設けられている。窪み115aは、内側本体部111の裏面111bから主面111aに向けて段差状に凹むことによって形成されている。窪み115aは、縦方向Xにおいて内側本体部111の第1側面111cから内側本体部111の縦方向Xの中央部よりも第2封止樹脂側面52側の部分までにわたり形成されている。窪み115aのうちの第1封止樹脂側面51側の端縁は、露出面111xの端縁111xeと一致する。本実施形態では、窪み115aは、その第1封止樹脂側面51側の端縁(露出面111xの端縁111xe)が半導体素子40の第2側面40dと縦方向Xにおいて揃った状態となるように形成されている。換言すると、半導体素子40は、窪み115aの第1封止樹脂側面51側の端縁(露出面111xの端縁111xe)と半導体素子40の第2側面40dとが縦方向Xに揃うように内側本体部111の主面111aに実装されている。また、本実施形態では、窪み115aは、内側本体部111の裏面111bにおける第2封止樹脂側面52側の部分の横方向Yの全体にわたり形成されている。
 窪み115aの深さH1は、基板10の厚さ(内側本体部111の厚さT)の1/2以下である。好ましくは、深さH1は、内側本体部111の厚さTの1/3以下である。本実施形態では、深さH1は、内側本体部111の厚さTの1/4以下である。窪み115aには、封止樹脂50の一部が入り込んでいる。
 図47及び図50に示すように、内側本体部111の裏面111bのうちの窪み115aよりも第1封止樹脂側面51側の部分における第3封止樹脂側面53側の端部には窪み115bが設けられている。内側本体部111の裏面111bのうちの窪み115aよりも第1封止樹脂側面51側の部分における第4封止樹脂側面54側の端部には窪み115cが設けられている。窪み115b,115cはそれぞれ、内側本体部111の裏面111bから主面111aに向けて段差状に凹むことによって形成されている。窪み115bは、横方向Yにおいて内側本体部111の第2側面111dから第3距離D3の1/2よりも第3封止樹脂側面53側の部分までにわたり形成されている。窪み115cは、横方向Yにおいて内側本体部111の第3側面111eから第4距離D4の1/2よりも第4封止樹脂側面54側の部分までにわたり形成されている。ここで、上述のとおり、第3距離D3は半導体素子40と内側本体部111の第2側面111dとの間の距離であり、第4距離D4は半導体素子40と内側本体部111の第3側面111eとの間の距離である。また、窪み115bは、窪み115aの横方向Yの第2側面111d側の端部と繋がっている。窪み115cは、窪み115aの横方向Yの第3側面111e側の端部と繋がっている。
 窪み115bの深さH2は窪み115cの深さH3と等しい。ここで、深さH2と深さH3とのずれ量が例えば深さH2の5%以内であれば、深さH2が深さH3と等しいと言える。深さH2,H3は、内側本体部111の厚さTの1/2以下である。好ましくは、深さH2,H3は、内側本体部111の厚さTの1/3以下である。本実施形態では、深さH2,H3は、内側本体部111の厚さTの1/4以下である。深さH2,H3は、深さH1と等しい。窪み115b,115cには、封止樹脂50の一部が入り込んでいる。
 図47に示すように、内側本体部111は、厚さ方向Zにおける窪み115aと主面111aとの間の部分である第1薄肉部116aと、厚さ方向Zにおける窪み115bと主面111aとの間の部分である第2薄肉部116bと、厚さ方向Zにおける窪み115cと主面111aとの間の部分である第3薄肉部116cとを有する。図49及び図50に示すように、窪み115a,115b,115cの深さH1,H2,H3が互いに等しいため、第1薄肉部116aの厚さT1、第2薄肉部116bの厚さT2、及び第3薄肉部116cの厚さT3は互いに等しい。ここで、厚さT1,T2,T3のうちの最大のずれ量が例えば厚さT1の5%以内であれば、厚さT1,T2,T3が互いに等しいと言える。
 縦方向Xにおける第1薄肉部116aの長さL1は、横方向Yにおける第2薄肉部116bの長さL2及び横方向Yにおける第3薄肉部116cの長さL3よりも長い。長さL1は、長さL2,L3の2倍以上である。好ましくは、長さL1は、長さL2,L3の3倍以上である。本実施形態では、長さL1は、長さL2,L3の約10倍である。
 内側本体部111の裏面111bの非露出面111yは、第1薄肉部116aにおいて露出面111xと同じ側を向く第1非露出面111ya、第2薄肉部116bにおいて露出面111xと同じ側を向く第2非露出面111yb、及び第3薄肉部116cにおいて露出面111xと同じ側を向く第3非露出面111ycを含む。
 図49に示すように、第1薄肉部116aのうちの第2封止樹脂側面52側の端部には、窪み115eが形成されている。窪み115eは、内側本体部111の横方向Yの全体にわたり形成されている。図49に示す断面視において、窪み115eは、厚さ方向Zに沿って延びる第1面115fと、第1面115fよりも第1側面111c側に形成され、縦方向Xに沿って延びる第2面115gとを有する。第1面115fと第2面115gとの連結部分には、曲面部115hが形成されている。
 窪み115eの深さH5は、例えば窪み115aの深さH1よりも深い。第1薄肉部116aには、窪み115dによって第5薄肉部116eが形成されている。第5薄肉部116eは、厚さ方向Zにおける窪み115eの第2面115gと主面111aとの間の部分である。本実施形態では、第5薄肉部116eの厚さT5は、第1薄肉部116aの厚さT1の1/2以上である。
 なお、深さH5は任意に変更可能である。一例では、深さH5は、深さH1と等しくてもよい。ここで、深さH5と深さH1とのずれ量が例えば深さH1の5%以内であれば、深さH5が深さH1と等しいと言える。
 これら窪み115a,115b,115c,115eは、基板10をプレス加工(パンチング)することによって形成されている。このため、窪み115a,115b,115c,115eは、一工程において同時に形成される。
 図48に示すように、縦方向Xにおける第2封止樹脂側面52から基板10の裏面10b(内側本体部111の裏面111b)までの最短距離を距離DP1とし、横方向Yにおける第3封止樹脂側面53から基板10の裏面10b(内側本体部111の裏面111b)までの最短距離を距離DP2とし、横方向Yにおける第4封止樹脂側面54から基板10の裏面10b(内側本体部111の裏面111b)までの最短距離を距離DP3とする。この場合、距離DP1は、距離DP2及び距離DP3よりも長い。好ましくは、距離DP1は、距離DP2及び距離DP3の2倍以上である。さらに好ましくは、距離DP1は、距離DP2及び距離DP3の3倍以上である。本実施形態では、距離DP1は、距離DP2及び距離DP3の約4倍である。
 半導体装置1におけるドレイン端子(基板10の裏面10b)とソース端子(駆動端子22a~22e)との間の沿面距離DPは、駆動端子22a~22eから露出面111xの端縁111xeまでの封止樹脂50の第2封止樹脂側面52及び封止樹脂裏面55に沿う距離のうちの最短距離である。
 本実施形態では、駆動端子22a~22eにおいて第2封止樹脂側面52と接触している端子基端部22xa~22xeはそれぞれ、駆動リード20の駆動パッド21及び連結部23a~23eと厚さ方向Zにおいて揃った状態となるように配置されている。すなわち、端子基端部22xa~22xeはそれぞれ、厚さ方向Zにおいて基板10の主面10aよりも封止樹脂天面56側となるように配置されている。また端子基端部22xa~22xeはそれぞれ、厚さ方向Zにおいて半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側となるように配置されている。本実施形態では、端子基端部22xa~22xeは、厚さ方向Zにおいて、封止樹脂50の厚さ方向Zの中央部よりも封止樹脂天面56側となるように配置されている。加えて、露出面111xの端縁111xeは、横方向Yに沿って延びている。このように、駆動端子22a~22eについて、駆動端子から露出面111xの端縁111xeまでの沿面距離DPは互いに等しく、例えば駆動端子22aから封止樹脂裏面55までの第2封止樹脂側面52に沿う距離DP4と、上述の距離DP1との合計によって規定される。
 本実施形態では、駆動端子22a~22eの端子基端部22xa~22xeは、半導体素子40の表面40aよりも封止樹脂天面56側となるように配置されているため、厚さ方向Zにおいて端子基端部22xa~22xeと基板10とが揃った状態となるように駆動端子22a~22eが配置される構成と比較して、距離DP4が長くなる。また第1薄肉部116aの長さL1が第2薄肉部116bの長さL2及び第3薄肉部116cの長さL3よりも長くなるため、第1薄肉部116aの長さL1が第2薄肉部116bの長さL2及び第3薄肉部116cの長さL3以下の構成と比較して、距離DP1が長くなる。
 本実施形態の半導体装置1によれば、第5実施形態の(1-1)及び(1-5)~(1-19)の効果と同様の効果に加え、以下の効果が得られる。
 (2-1)半導体装置1は、半導体素子40の主面側駆動電極41(ソース電極)と、制御電極43(ゲート電極)とを電気的に接続するためのセンスリード80及びセンスワイヤ90を備える。この構成によれば、主面側駆動電極41の電圧が変動しても、制御電極43の電圧が追従して変動するため、半導体素子40のソース-ゲート間の電圧の変動が抑制される。したがって、半導体素子40のしきい値電圧の変動を抑制できる。
 (2-2)半導体素子40が基板10の内側本体部111に対して第2封止樹脂側面52寄りに位置している。この構成によれば、半導体素子40の開口部45と駆動パッド21との間の距離を短くすることができるため、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62の長さをそれぞれ短くすることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (2-3)横方向Yにおける駆動パッド21の大きさは、横方向Yにおける半導体素子40の大きさよりも大きい。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bとの間の距離を一層大きく取ることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを一層低減できる。
 (2-4)縦方向Xからみて、半導体素子40の開口部45の全てが駆動パッド21と重なるように、半導体素子40及び駆動パッド21が配置されている。この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の長さを短くすることができるとともに、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きく取ることができる。したがって、主面側駆動電極41から駆動パッド21までのインダクタンスを低減できる。
 (2-5)複数の駆動ワイヤ60、制御ワイヤ70、及びセンスワイヤ90は、同一の材料が用いられている。また複数の駆動ワイヤ60、制御ワイヤ70、及びセンスワイヤ90の線径は互いに等しい。この構成によれば、複数の駆動ワイヤ60の主面側駆動電極41及び駆動パッド21への接続作業、制御ワイヤ70の制御電極43及び制御パッド31への接続作業、及びセンスワイヤ90の主面側駆動電極41及びセンスパッド81への接続作業を同一のワイヤにて実施できるため、それらの作業工程を簡素化できる。
 (2-6)駆動リード20、制御リード30、センスパッド81、及び基板10は、同一の金属板を例えばプレス加工することによって形成されている。この構成によれば、駆動リード20、制御リード30、センスパッド81、及び基板10を個別の金属板によって形成する場合と比較して、駆動リード20、制御リード30、センスパッド81、及び基板10の加工工程を簡素化できる。
 (第6実施形態の変更例)
 第6実施形態の半導体装置1は例えば以下のように変更できる。以下の各変更例は、技術的な矛盾が生じない限り、組み合せることができる。なお、以下の変更例において、第6実施形態と共通する部分については、第6実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
 ・駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図52に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び第3駆動ワイヤ63の3本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。
 すなわち、駆動ワイヤの数が3本以上である場合、最も離間している組み合わせとは、最も離れた位置にある2つの駆動ワイヤである。例えば、3本以上の駆動ワイヤが横方向Yに配列されている場合には、最も離間している組み合わせとは、横方向Yの両端にある駆動ワイヤの組み合わせである。
 第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aは、第3駆動ワイヤ63のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、第3駆動ワイヤ63のうちの駆動パッド21に接続される端部である。図52では、駆動電極側端部63aは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23bと重なっている。駆動パッド側端部63bは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23cと重なっている。すなわち、駆動パッド側端部63bは、駆動電極側端部63aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。
 図52では、駆動電極側端部63aと第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW4は、駆動電極側端部63aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW5よりも小さい。距離DW4及び距離DW5は、駆動電極側端部91と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW8よりも大きい。なお、駆動電極側端部63aの横方向Yの位置は任意に変更可能である。一例では、距離DW4及び距離DW5が互いに等しくなるように駆動電極側端部63aが主面側駆動電極41に接続されてもよい。
 また図52では、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは互いに揃った状態で配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW6は、距離DW4よりも大きい。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW7は、距離DW5よりも大きい。図52では、距離DW7は、距離DW6よりも大きい。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第3駆動ワイヤ63及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。
 ・半導体素子40のサイズは任意に変更可能である。第1例では、図53に示すように、半導体素子40のサイズを第6実施形態の半導体素子40のサイズよりも大きくしてもよい。第2例では、図55に示すように、半導体素子40のサイズを図53の半導体素子40のサイズよりも大きくしてもよい。
 図53に示す第1例では、半導体素子40の縦方向Xのサイズ及び横方向Yのサイズのそれぞれが第6実施形態の半導体素子40のサイズよりも大きい。また、半導体素子40のサイズが大きくなることに伴い表面40aに形成された開口部45の大きさを縦方向X及び横方向Yのそれぞれに大きくすることができる。図53では、開口部45の横方向Yの大きさは、駆動パッド21の横方向Yの大きさよりも小さい。駆動パッド21の横方向Yの大きさは、半導体素子40の横方向Yの大きさよりも大きい。開口部45は、縦方向Xからみて、駆動パッド21の第1端部21aと重なっている。より詳細には、開口部45のうちの第3側面40e側の端縁は、駆動パッド21よりも第3封止樹脂側面53側に位置している。また開口部45は、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23cと重なっている。
 また図53では、半導体素子40の第3側面40eは、縦方向Xからみて、センスリード80のうちの第4封止樹脂側面54側の端部と重なっている。半導体素子40の第4側面40fは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23cと連結部23dとの横方向Yの間の部分と重なっている。
 半導体装置1は、第6実施形態と同様に、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62を有する。第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、第6実施形態の駆動電極側端部61aと同様に、主面側駆動電極41のうちの横方向Yにおいて制御電極43と離間した部分に接続されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、第6実施形態の駆動パッド側端部61bと同様に、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、第6実施形態の駆動電極側端部62aと同様に、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部に接続されている。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、第6実施形態の駆動パッド側端部62bと同様に、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。縦方向Xにおいて、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとは互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。駆動パッド側端部61b及び駆動パッド側端部62bはそれぞれ、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に接続されている。
 平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも大きい。図53では、駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離DY1は、駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離DY2よりも小さい。このように、平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広くなっている。
 この構成によれば、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間の距離を大きくすることができるため、主面側駆動電極41(ソース電極)から駆動リード20の駆動端子22(ソース端子)までの間のインダクタンスを低減できる。
 ・図53の変更例において、駆動ワイヤ60の数は、2本に限られず、任意に変更可能である。一例では、図54に示すように、複数の駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、及び第3駆動ワイヤ63の3本の駆動ワイヤから構成されてもよい。第3駆動ワイヤ63は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aと第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の距離DW4は、駆動電極側端部63aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW5よりも大きい。なお、主面側駆動電極41に対する駆動電極側端部63aの配置位置は任意に変更可能である。一例では、距離DW4と距離DW5とが互いに等しくなるように、駆動電極側端部63aが主面側駆動電極41に接続されてもよい。
 また図54では、縦方向Xにおいて第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a、及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aは互いに揃った状態で配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける駆動電極側端部61a,62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第3駆動ワイヤ63の駆動パッド側端部63bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド21の縦方向Xの中央部よりも半導体素子40側の部分に配置されている。第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW6は、距離DW4よりも大きい。第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部63bとの間の距離DW7は、距離DW5よりも大きい。図54では、距離DW7は、距離DW6よりも大きい。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広くなっている。平面視において、第3駆動ワイヤ63及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広くなっている。
 なお、平面視において、第3駆動ワイヤ63の縦方向Xに対する傾斜角度は任意に変更可能である。一例では、平面視において、第3駆動ワイヤ63の縦方向Xに対する傾斜角度は第1駆動ワイヤ61の縦方向Xに対する傾斜角度又は第2駆動ワイヤ62の縦方向Xに対する傾斜角度と等しくてもよい。
 図55に示す第2例では、平面視における半導体素子40の形状は、正方形である。半導体素子40の表面40aに形成された主面側駆動電極41(ソース電極)の平面視における形状は、略正方形である。半導体素子40の第2側面40dかつ第3側面40e側の端部に切欠部41bが形成されている。制御電極43は、切欠部41bに形成されている。また、パッシベーション膜44に形成された開口部45の平面視における形状は、正方形である。開口部45は、第6実施形態と同様に、主面側駆動電極41の一部及び制御電極43の一部を露出している。主面側駆動電極41は、開口部45によって露出された露出領域46を有する。
 図55に示す第2例の半導体装置1は、複数の駆動ワイヤ60として、第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64を有する。第3駆動ワイヤ63及び第4駆動ワイヤ64は、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間に配置されている。この場合、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成している。第1駆動ワイヤ61、第2駆動ワイヤ62、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64は、横方向Yに離間して配列されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61は、横方向Yにおいて第2駆動ワイヤ62、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64よりも半導体素子40の第3側面40e側に配置されている。第2駆動ワイヤ62は、横方向Yにおいて第1駆動ワイヤ61、第3駆動ワイヤ63、及び第4駆動ワイヤ64よりも半導体素子40の第4側面40f側に配置されている。第3駆動ワイヤ63は、第4駆動ワイヤ64よりも半導体素子40の第3側面40e側に配置されている。このように、複数の駆動ワイヤ60のうちの最も離れた組み合わせを構成する第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、複数の駆動ワイヤ60のうちの横方向Yの両端にある駆動ワイヤである。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。具体的には、駆動電極側端部61aは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23aと重なっている。駆動パッド側端部61bは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23aと連結部23bとの間の部分と重なっている。
 第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。具体的には、駆動電極側端部62aは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23cと連結部23dとの間の部分と重なっている。駆動パッド側端部62bは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23eと重なっている。
 第3駆動ワイヤ63は、駆動電極側端部63a及び駆動パッド側端部63bを有する。駆動電極側端部63aは、第3駆動ワイヤ63のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部63bは、第3駆動ワイヤ63のうちの駆動パッド21に接続される端部である。駆動電極側端部63aは、駆動パッド側端部63bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。具体的には、駆動電極側端部63aは、縦方向Xからみて、駆動リード20の連結部23bと重なっている。駆動パッド側端部63bは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23bと連結部23cとの間の部分と重なっている。
 第4駆動ワイヤ64は、駆動電極側端部64a及び駆動パッド側端部64bを有する。駆動電極側端部64aは、第4駆動ワイヤ64のうちの主面側駆動電極41に接続される端部である。駆動パッド側端部64bは、第4駆動ワイヤ64のうちの駆動パッド21に接続される端部である。駆動電極側端部64aは、駆動パッド側端部64bよりも第3封止樹脂側面53側となるように配置されている。具体的には、駆動電極側端部64aは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23bと連結部23cとの間の部分と重なっている。駆動パッド側端部64bは、縦方向Xからみて、駆動パッド21のうちの連結部23cと連結部23dとの間の部分と重なっている。
 駆動電極側端部61a及び駆動電極側端部63aは、主面側駆動電極41の露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に接続されている。駆動電極側端部61aは、横方向Yにおいて駆動電極側端部63aよりも第1露出端部46a側に接続されている。駆動電極側端部64a及び駆動電極側端部62aは、露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に接続されている。駆動電極側端部62aは、駆動電極側端部64aよりも第2露出端部46b側に接続されている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61a及び第4駆動ワイヤ64の駆動電極側端部64aは、第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62a及び第3駆動ワイヤ63の駆動電極側端部63aと縦方向Xにずれている。具体的には、駆動電極側端部61a,64aは、駆動電極側端部62a,63aよりも半導体素子40の第1側面40c側となるように配置されている。このため、第1駆動ワイヤ61及び第4駆動ワイヤ64の長さは、第2駆動ワイヤ62及び第3駆動ワイヤ63の長さよりも長い。また、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部64aとは、縦方向Xにおいて互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。駆動電極側端部62aと駆動電極側端部63aとは、縦方向Xにおいて互いに揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部61a,64aが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,64aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,64aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,64aが縦方向Xに揃っていると言える。また、縦方向Xにおいて駆動電極側端部62a,63aが互いに揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部62a,63aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部62a,63aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部62a,63aが縦方向Xに揃っていると言える。
 なお、駆動電極側端部61a~64aの縦方向Xにおける配置位置は任意に変更可能である。一例では、駆動電極側端部61a~64aが互いにずれてもよい。また、駆動電極側端部61a~64aが互いに揃った状態で横方向Yに配列されてもよい。
 駆動電極側端部61aから縦方向Xに沿う補助線LS1と、駆動電極側端部63aから縦方向Xに沿う補助線LS9との間の距離DW10は、補助線LS9と駆動電極側端部64aから縦方向Xに沿う補助線LS11との間の距離DW11よりも小さい。駆動電極側端部62aから縦方向Xに沿う補助線LS3と補助線LS11との横方向Yの間の距離DW12は、距離DW10よりも僅かに小さい。なお、駆動電極側端部61a~64aの横方向Yにおける配置位置は、駆動電極側端部61a~64aのうちの最も第3封止樹脂側面53側に駆動電極側端部61aが位置し、最も第4封止樹脂側面54側に駆動電極側端部62aが位置する限定において任意に変更可能である。一例では、駆動電極側端部61a~64aは、距離DW12と距離DW10とが互いに等しくなるように配置されてもよい。
 補助線LS1と駆動パッド側端部61bから縦方向Xに沿う補助線LS2との横方向Yの間の距離DY1は、補助線LS3と駆動パッド側端部62bから縦方向Xに沿う補助線LS4との横方向Yの間の距離DY2よりも小さい。補助線LS9と駆動パッド側端部63bから縦方向Xに沿う補助線LS10との横方向Yの間の距離DY3は、補助線LS11と駆動パッド側端部64bから縦方向Xに沿う補助線LS12との横方向Yの間の距離DY4よりも小さい。図55では、距離DY1は、距離DY3よりも小さい。距離DY2は、距離DY4よりも大きい。
 なお、駆動電極側端部61aは、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第3側面40e側の端部としてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3側面40e側の限界位置となるように配置されてもよい。駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように配置されてもよい。
 また、駆動電極側端部62aは、横方向Yにおいて開口部45のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部としてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されてもよい。駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように配置されてもよい。
 平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第3駆動ワイヤ63は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第3駆動ワイヤ63との横方向Yの間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第3駆動ワイヤ63及び第4駆動ワイヤ64は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第4駆動ワイヤ64との横方向Yの間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第4駆動ワイヤ64及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第4駆動ワイヤ64と第2駆動ワイヤ62との横方向Yの間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。平面視において、第3駆動ワイヤ63及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第3駆動ワイヤ63と第2駆動ワイヤ62との横方向Yの間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広がっている。
 センスワイヤ90の駆動電極側端部91は、主面側駆動電極41のうちの横方向Yにおいて制御ワイヤ70の制御電極側端部71と第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aとの間の部分に接続されている。また、駆動電極側端部91は、主面側駆動電極41のうちの第2側面40d側の端部に接続されている。すなわち、駆動電極側端部91は、主面側駆動電極41のうちの制御電極43と横方向Yに隣り合う部分に接続されている。この構成によれば、センスワイヤ90の長さを短くできる。
 ・駆動ワイヤ60、制御ワイヤ70、及びセンスワイヤ90の材料及び線径は任意に変更可能である。一例では、駆動ワイヤ60、制御ワイヤ70、及びセンスワイヤ90の少なくとも1つの線径が他の線径と異なってもよい。また、駆動ワイヤ60、制御ワイヤ70、及びセンスワイヤ90の少なくとも1つの材料が他の材料と異なってもよい。
 ・厚さ方向Zにおけるセンスパッド81の配置位置は任意に変更可能である。センスパッド81は、厚さ方向Zにおいて駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方に対してずれていてもよい。一例では、センスパッド81は、厚さ方向Zにおいて半導体素子40と揃った状態で配置されている。
 ・基板10の内側本体部111から第1幅広部111fを省略してもよい。この場合、縦方向Xにおいて、突出部112と封止樹脂50の第1封止樹脂側面51とが当接してもよい。
 ・基板10の内側本体部111から第2幅広部111gを省略してもよい。
 ・図56に示すように、封止樹脂50のうちの内側本体部111の第1側面111cよりも第2封止樹脂側面52側、かつ、駆動パッド21、制御パッド31、及びセンスパッド81よりも封止樹脂裏面55側の部分である封止部59には、凹部59aが設けられてもよい。凹部59aは、縦方向Xにおいて内側本体部111の第1側面111cから離間して設けられている。
 凹部59aは、厚さ方向Zにおいて封止樹脂裏面55から封止樹脂天面56に向けて凹んでいる。凹部59aは、横方向Yにおいて第3封止樹脂側面53から第4封止樹脂側面54までにわたり形成されている。厚さ方向Zからみて、凹部59aは、駆動パッド21、制御パッド31、及びセンスパッド81と重なっている。一例では、図56に示すとおり、縦方向X及び厚さ方向Zに沿う平面で切った断面視における凹部59aの形状は、矩形状である。凹部59aの深さHr1は、例えば窪み115aの深さH1よりも深い。また、深さHr1は、窪み115b,115cの深さH2,H3(図50参照)よりも深い。
 凹部59aは、底面59bを有する。底面59bは、窪み115eの第2面115gよりも封止樹脂天面56側となるように設けられている。底面59bは、内側本体部111の主面111aよりも封止樹脂裏面55側となるように設けられている。なお、厚さ方向Zにおける底面59bの位置、すなわち凹部59aの深さHr1は、任意に変更可能である。一例では、底面59bは、厚さ方向Zにおいて内側本体部111の主面111aと揃った状態としてもよいし、主面111aよりも封止樹脂天面56側となるように設けられてもよい。
 ・縦方向X及び厚さ方向Zに沿う平面で切った断面視における凹部59aの形状は任意に変更可能である。一例では、縦方向X及び厚さ方向Zに沿う平面で切った断面視における凹部59aの形状は湾曲状であってもよいし、V字状であってもよい。
 ・上記第6実施形態及び上記第6実施形態の変更例において、縦方向Xにおける半導体素子40の配置位置は任意に変更可能である。一例では、図57に示すように、半導体素子40は、縦方向Xにおいて内側本体部111の主面111aのうちの第1封止樹脂側面51側の部分に配置されている。具体的には、平面視において、半導体素子40と内側本体部111の第1側面111cとの間の第1距離D1が半導体素子40と第1幅広部111fとの間の第2距離D2よりも大きい。
 半導体素子40は、内側本体部111の横方向Yの中央部に配置されている。具体的には、半導体素子40と内側本体部111の第2側面111dとの間の第3距離D3と、半導体素子40と内側本体部111の第3側面111eとの間の第4距離D4とが互いに等しい。ここで、第3距離D3と第4距離D4のずれ量が例えば第3距離D3の5%以内であれば、第3距離D3と第4距離D4とが互いに等しいと言える。本実施形態では、第1距離D1は、第3距離D3及び第4距離D4よりも大きい。第2距離D2は、第3距離D3及び第4距離D4よりも小さい。
 図57に示すように、内側本体部111の主面111aのうちの半導体素子40よりも第1封止樹脂側面51側の部分には、溝117Aが設けられている。内側本体部111の主面111aのうちの半導体素子40よりも第2封止樹脂側面52側の部分には、溝117Bが設けられている。溝117A,117Bは、縦方向Xにおいて半田SDと隣接している。溝117A,117Bは、横方向Yにおいて内側本体部111の第2側面111dから第3側面111eまでにわたり形成されている。半田SDが溝117Aに入り込むことによって、半田SDが溝117Aよりも第1封止樹脂側面51側に進入することを抑制できる。また半田SDが溝117Bに入り込むことによって半田SDが溝117Bよりも第2封止樹脂側面52側に進入することを抑制できる。
 図57及び図58に示すように、溝117A,117Bは互いに同一形状である。以下、溝117Aの一例について説明し、溝117Bについては溝117Aと同一の符号を付し、その説明を省略する。
 図58に示すように、溝117Aは、第1溝部117a及び第2溝部117bを有する。第1溝部117aは、内側本体部111の主面111aから裏面111bに向けて凹んでいる。半導体装置1を縦方向X及び厚さ方向Zに沿う平面で切った断面視における第1溝部117aの形状は、矩形状である。第2溝部117bは、第1溝部117aの底面117cから裏面111bに向けて凹んでいる。半導体装置1を縦方向X及び厚さ方向Zに沿う平面で切った断面視における第2溝部117bの形状は、裏面111bから主面111aに向かうにつれて先細るテーパ状である。
 溝117A,117Bには、封止樹脂50の一部が入り込んでいる。この構成によれば、溝117A,117Bに入り込んだ封止樹脂50によって、基板10と封止樹脂50との分離を一層抑制できる。加えて、裏面111bから主面111aに向かうにつれて先細るテーパ状の第2溝部117bに封止樹脂50が入り込むことによって、基板10と封止樹脂50とが厚さ方向Zにおいてより一層分離し難くなる。
 なお、溝117A,117Bの形状はそれぞれ、任意に変更可能である。一例では、溝117A,117Bの少なくとも一方について、半導体装置1を縦方向X及び厚さ方向Zに沿う平面で切った断面視における第1溝部117aの形状は、湾曲状であってもよいし、主面111aから裏面111bに向かうにつれて先細るテーパ状であってもよい。溝117A,117Bの少なくとも一方について、半導体装置1を縦方向X及び厚さ方向Zに沿う平面で切った断面視における第2溝部117bの形状は、矩形状であってもよいし、湾曲状であってもよいし、主面111aから裏面111bに向かうにつれて先細るV字状であってもよい。溝117A,117Bの少なくとも一方から第2溝部117bを省略してもよい。
 ・窪み115b,115cの少なくとも一方を省略してもよい。
 ・窪み115a,115b,115cの深さH1,H2,H3は任意に変更可能である。一例では、窪み115a,115b,115cの深さH1,H2,H3の少なくとも1つは、基板10の厚さTの1/3以上であり、かつ厚さTよりも薄くてもよい。この構成によれば、封止樹脂50の一部が窪み115a,115b,115cの少なくとも1つに入り込み易くなる。したがって、封止樹脂50の成形性が向上するため、半導体装置1の歩留まり率を向上できる。また一例では、窪み115a,115b,115cの深さH1,H2,H3の少なくとも1つは、基板10の厚さTの1/3以上かつ1/2以下であってもよい。この構成によれば、半導体装置1の歩留まり率の向上及び内側本体部111の放熱性能の向上を両立できる。
 ・窪み115aの深さH1は、窪み115b,115cの深さH2,H3と異なってもよい。一例では、深さH1は、深さH2,H3よりも浅い。この構成によれば、第1薄肉部116aの厚さT1が第2薄肉部116bの厚さT2、及び第3薄肉部116cの厚さT3のそれぞれよりも厚くなるため、厚さT1,T2,T3が互いに等しい構成と比較して、内側本体部111の体積を増加させることができる。したがって、内側本体部111の放熱性能を向上できる。また一例では、深さH1は、深さH2,H3よりも深い。この構成によれば、封止樹脂50の一部が窪み115aに入り込み易くなる。したがって、封止樹脂50の成形性が向上するため、半導体装置1の歩留まり率を向上できる。
 ・基板10、駆動パッド21、制御パッド31、及びセンスパッド81の少なくとも1つは、別の金属板から形成されてもよい。また例えば、基板10及び駆動パッド21が同一の金属板から形成され、制御パッド31及びセンスパッド81が別の金属板から形成されてもよい。
 (各実施形態に共通した変更例)
 上記各実施形態の半導体装置1は例えば以下のように変更できる。なお、以下の変更例は、技術的な矛盾が生じない限り、互いに組み合せることができるし、第5実施形態の変更例又は第6実施形態の変更例と組み合せることができる。
 ・上記各実施形態において、厚さ方向Zにおける駆動パッド21及び制御パッド31の位置はそれぞれ任意に変更可能である。一例では、駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方は、厚さ方向Zにおいて半導体素子40に揃った状態であってもよい。
 ・上記各実施形態及び変更例において、平面視における駆動パッド21及び制御パッド31の配置位置はそれぞれ任意に変更可能である。一例では、駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方は、基板10に対して横方向Yにずれていてもよい。すなわち、駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方は、基板10よりも封止樹脂50の第3封止樹脂側面53側又は第4封止樹脂側面54側に配置されてもよい。これにより、駆動パッド21及び制御パッド31の少なくとも一方は、半導体素子40に対して横方向Yにずれることになる。
 ・上記各実施形態及び変更例において、複数の駆動ワイヤ60と制御ワイヤ70とは異なる金属によって形成されてもよい。一例では、複数の駆動ワイヤ60は、アルミニウムからなり、制御ワイヤ70は金(Au)からなる。
 ・上記各実施形態及び変更例において、複数の駆動ワイヤ60の線径と制御ワイヤ70の線径とは互いに異なってもよい。一例では、複数の駆動ワイヤ60の線径は、制御ワイヤ70の線径よりも大きい。
 ・上記各実施形態及び変更例において、複数の駆動ワイヤ60の線径は、125μm~250μmに限られず、任意に変更可能である。一例では、複数の駆動ワイヤ60の線径は、250μm~400μmである。
 ・上記各実施形態及び変更例において、半導体素子40は、平面視において矩形状の1つの開口部45によって主面側駆動電極41及び制御電極43を露出するように構成されたが、開口部45の数はこれに限られない。例えば、図59に示すように、半導体素子40の表面40aには、主面側駆動電極41を露出する第1開口部45Aと、制御電極43を露出する第2開口部45Bとが形成されてもよい。平面視における第1開口部45Aの形状は、横方向Yが長辺方向となり、縦方向Xが短辺方向となる矩形状である。平面視における第2開口部45Bの形状は、縦方向Xが長辺方向となり、横方向Yが短辺方向となる矩形状である。第1開口部45Aは、縦方向Xにおいて半導体素子40の第1側面40c寄りとなるように設けられている。第1開口部45Aは、横方向Yにおいて半導体素子40の表面40aの大部分を開口している。第2開口部45Bは、半導体素子40の第2側面40d側の端部かつ第3側面40e側の端部に設けられている。
 主面側駆動電極41は、第1開口部45Aによって露出している露出領域46を有する。露出領域46は、横方向Yの両端部である第1露出端部46a及び第2露出端部46bを有する。第1露出端部46aは、露出領域46のうちの半導体素子40の第3側面40e側の端部である。第2露出端部46bは、露出領域46のうちの半導体素子40の第4側面40f側の端部である。
 第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41の露出領域46と駆動リード20の駆動パッド21とに接続されている。平面視において、駆動パッド側端部61bと駆動パッド側端部62bとの間の距離DW2は、駆動電極側端部61aと駆動電極側端部62aとの間の距離DW1よりも大きい。図59では、平面視において、第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62は、主面側駆動電極41側よりも駆動パッド21側の方が離れるように主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されている。平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔は、主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に広くなる。なお、平面視において、第1駆動ワイヤ61と第2駆動ワイヤ62との間隔が主面側駆動電極41から駆動パッド21に向かうにつれて徐々に狭くなるように第1駆動ワイヤ61及び第2駆動ワイヤ62がそれぞれ主面側駆動電極41と駆動パッド21とに接続されてもよい。
 第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aは、露出領域46の横方向Yの中央部よりも第1露出端部46a側に配置されている。図59では、駆動電極側端部61aは、露出領域46の第1露出端部46aに接続されている。一例では、駆動電極側端部61aは、露出領域46の第1露出端部46aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3側面40e側の限界位置となるように配置されている。
 第1駆動ワイヤ61の駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第1端部21a側に接続されている。図59では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aに接続されている。一例では、駆動パッド側端部61bは、駆動パッド21の第1端部21aとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第3封止樹脂側面53側の限界位置となるように配置されている。駆動パッド側端部61bは、縦方向Xにおいて駆動パッド21の縦方向Xの中央よりも半導体素子40側の部分に接続されている。駆動パッド側端部61bは、駆動電極側端部61aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。
 第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aは、露出領域46の横方向Yの中央部よりも第2露出端部46b側に配置されている。図59では、駆動電極側端部62aは、露出領域46の第2露出端部46bに接続されている。一例では、駆動電極側端部62aは、露出領域46の第2露出端部46bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4側面40f側の限界位置となるように配置されている。縦方向Xにおいて、駆動電極側端部62aは、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動電極側端部62aと駆動電極側端部61aとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動電極側端部61a,62aが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動電極側端部61a,62aにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動電極側端部61a,62aが縦方向Xに揃っていると言える。
 第2駆動ワイヤ62の駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の横方向Yの中央部よりも第2端部21b側に接続されている。図59では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bに接続されている。一例では、駆動パッド側端部62bは、駆動パッド21の第2端部21bとしてワイヤボンディングが実行可能な領域のうちの第4封止樹脂側面54側の限界位置となるように配置されている。駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて駆動パッド21の縦方向Xの中央よりも半導体素子40側の部分に接続されている。駆動パッド側端部62bは、駆動電極側端部62aよりも第4封止樹脂側面54側となるように配置されている。また、図59では、駆動パッド側端部62bは、縦方向Xにおいて、駆動パッド側端部61bと揃った状態で横方向Yに配列されている。ここで、縦方向Xにおいて駆動パッド側端部62bと駆動パッド側端部61bとが揃った状態とは、縦方向Xにおける両駆動パッド側端部61b,62bが互いに重なり合うこと、ワイヤボンディングに起因する製造誤差に応じて一部分が重なり合うことを含む。換言すれば、駆動パッド側端部61b,62bにおける縦方向Xのずれ量が、ワイヤボンディングを行う上でのばらつき程度であれば、駆動パッド側端部61b,62bが縦方向Xに揃っていると言える。
 この構成によれば、第1駆動ワイヤ61の駆動電極側端部61aと第2駆動ワイヤ62の駆動電極側端部62aとの間の距離DW1を大きく取ることができるため、主面側駆動電極41と駆動パッド21との間のインダクタンスを低減できる。
 ・上記各実施形態及び変更例において、内側本体部111の形状は任意に変更可能である。一例では、図60に示すように、内側本体部111は、延長部118A,118Bをさらに有してもよい。縦方向Xにおいて、延長部118A,118Bはそれぞれ、内側本体部111のうちの窪み115aよりも第1幅広部111f側の部分に設けられている。延長部118Aは、内側本体部111の第2側面111dから第3封止樹脂側面53に向けて横方向Yに沿って延びている。延長部118Bは、内側本体部111の第3側面111eから第4封止樹脂側面54に向けて横方向Yに沿って延びている。平面視における延長部118A,118Bの形状は矩形状である。
 図61に示すように、延長部118Bは、第4封止樹脂側面54から露出している。詳細には、延長部118Bは、第4封止樹脂側面54の第2傾斜面54bのうちの厚さ方向Zの第1傾斜面54a側の端部から露出している。延長部118Bは、第4封止樹脂側面54と面一となってもよい。なお、図示していないが、延長部118Aも同様に、第3封止樹脂側面53から露出している。詳細には、延長部118Aは、第3封止樹脂側面53の第2傾斜面53bのうちの厚さ方向Zの第1傾斜面53a側の端部から露出している。延長部118Aは、第3封止樹脂側面53と面一となってもよい。
 なお、縦方向Xにおける延長部118A,118Bの位置はそれぞれ、任意に変更可能である。延長部118A,118Bの少なくとも一方は、横方向Yからみて、内側本体部111のうちの窪み115aと重なる位置に設けられてもよい。
 ・上記各実施形態及び変更例において、第1薄肉部116aには、厚さ方向Zにおいて第1薄肉部116aを貫通する1又は複数の貫通孔119が設けられてもよい。一例では、図62に示すように、第1薄肉部116aには、3個の貫通孔119が設けられている。3個の貫通孔119は、横方向Yにおいて離間して設けられている。平面視における各貫通孔119の形状は、円形である。各貫通孔119には、封止樹脂50の一部が入り込んでいる。この構成によれば、各貫通孔119に入り込んだ封止樹脂50により、基板10と封止樹脂50との分離を一層抑制できる。なお、平面視における貫通孔119の形状は任意に変更可能である。また第1薄肉部116aに対する貫通孔119の位置は任意に変更可能である。
 ・上記各実施形態及び変更例において、窪み115aの形状は任意に変更可能である。一例では、図63に示すように、窪み115aは、駆動リード側窪み115i及び制御リード側窪み115jを含む。平面視において、駆動リード側窪み115iは、駆動リード20の駆動端子22の端子基端部22xにおける横方向Yの中央部を中心C1とした円弧状に形成されている。平面視において、制御リード側窪み115jは、制御リード30の制御端子32の端子基端部32xにおける横方向Yの中央部を中心C2とした円弧状に形成されている。図63では、駆動リード側窪み115iの半径R1と制御リード側窪み115jの半径R2とは互いに等しい。ここで、半径R1と半径R2とのずれ量が5%以内であれば、半径R1と半径R2とは互いに等しいと言える。
 この構成によれば、縦方向Xにおける第2封止樹脂側面52から基板10の裏面10b(内側本体部111の露出面111x)までの最短距離である距離DP1は、駆動リード側窪み115iの半径R1と概ね等しく、上記各実施形態と概ね同じ長さとすることができる。このため、上記各実施形態と同様に、沿面距離DPを延長した状態で内側本体部111の体積を上記各実施形態よりも増加させることができる。したがって、基板10の放熱性を向上できる。
 なお、駆動リード側窪み115iの半径R1及び制御リード側窪み115jの半径R2はそれぞれ任意に変更可能である。一例では、半径R1は、縦方向Xにおける中心C1から半導体素子40の第2側面40dまでの距離に設定してもよい。また半径R2は、縦方向Xにおける中心C1から第2側面40dまでの距離に設定してもよい。この場合、駆動リード側窪み115iと制御リード側窪み115jとの接触部(平面視における駆動リード側窪み115iと制御リード側窪み115jとの交点)は、縦方向Xにおいて、内側本体部111の第1側面111cよりも半導体素子40側に位置する。この構成によれば、沿面距離DPを長くすることができるため、半導体装置1の絶縁耐力を向上できる。
 ・上記各実施形態及び変更例において、第2薄肉部116bの長さL2及び第3薄肉部116cの長さL3はそれぞれ、第1薄肉部116aの長さL1未満の範囲において任意に変更可能である。例えば、長さL2を第2距離D2の1/2よりも長くしてもよい。長さL3を第3距離D3の1/2よりも長くしてもよい。ここで、第2薄肉部116bを構成する窪み115bは、厚さ方向Zからみて、半導体素子40の第3側面40eと揃った状態、もしくは半導体素子40の第3側面40eよりも第3封止樹脂側面53側に位置することが好ましい。また第3薄肉部116cを構成する窪み115cは、厚さ方向Zからみて、半導体素子40の第4側面40fと揃った状態、もしくは半導体素子40の第4側面40fよりも第4封止樹脂側面54側に位置することが好ましい。
 ・上記各実施形態及び変更例において、駆動ワイヤ60は複数本に限られず、1本であってもよい。この場合、例えば、駆動ワイヤ60として第1駆動ワイヤ61を含む場合、駆動電極側端部61aは半導体素子40の露出領域46の横方向Yの中央部に接続され、駆動パッド側端部61bは駆動パッド21の横方向Yの中央部に接続されている。また、駆動ワイヤ60に代えて、リボン状の接続部材を用いてもよい。
 ・上記各実施形態において、基板10に対するX方向における半導体素子40の配置位置は任意に変更可能である。一例では、図64に示すように、半導体素子40は、その一部が第1薄肉部116aと重なる位置に配置されてもよい。つまり、半導体発光素子40の第2側面40dは基板10の主面10aにおいて基板10の窪み115aよりも第2封止樹脂側面52の近くに位置し、第1側面40cは主面10aにおいて窪み115aよりも第1封止樹脂側面51の近くに位置していてもよい。図64に示すとおり、半導体素子40は、X方向において窪み115aよりも第1封止樹脂側面51寄りの部分と、窪み115aよりも第2封止樹脂側面52寄りの部分と、を有している。
 また一例では、図65に示すように、半導体素子40の全体が第1薄肉部116aと重なる位置に配置されてもよい。つまり、半導体発光素子40の第1側面40cは、基板10の主面10aにおいて基板10の窪み115aよりも第2封止樹脂側面52の近くに位置していてもよい。
 このような構成によれば、半導体素子40と駆動パッド21との間の距離が短くなるため、第1駆動ワイヤ61および第2駆動ワイヤ62のそれぞれを短くすることができる。したがって、各駆動ワイヤ61,62の長さに起因するインダクタンスを低減できる。
 (付記)
 上記各実施形態及び上記各変更例から把握できる技術的思想を以下に記載する。
 (付記13)互いに反対側を向く主面及び裏面を有する基板と、前記基板の主面に実装され、前記主面と同じ方向を向く表面と、前記表面に形成された駆動電極とを有し、SiCを含む半導体素子と、駆動パッドと、互いに離間した状態で前記駆動電極と前記駆動パッドとを接続する複数の駆動ワイヤと、前記半導体素子を封止する封止樹脂と、前記主面と平行な方向を向く前記封止樹脂の第1側面から突出している端子と、を備え、前記複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合せを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤは、前記主面に対して垂直な方向である第1方向からみて、前記駆動電極側よりも前記駆動パッド側の方が近づくように前記駆動電極と前記駆動パッドとに接続されており、前記基板の裏面における前記第1側面側の部分には、前記裏面から前記主面に向かう窪みが形成されており、前記封止樹脂の一部が前記窪みに入り込むことによって、前記第1側面から前記基板の裏面のうちの前記封止樹脂から露出する露出面までの距離が、前記封止樹脂の他の側面から前記露出面までの距離よりも長い、半導体装置。
 (付記14)前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、前記半導体素子と前記駆動パッドとは少なくとも前記第2方向にずれており、前記複数の駆動ワイヤは、前記第3方向に離間して配列されており、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤは、前記複数の駆動ワイヤのうちの前記第3方向の両端にある駆動ワイヤである、付記13に記載の半導体装置。
 (付記15)前記半導体装置は、前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、を有し、前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成され、前記第3方向における前記開口部の大きさは、前記第3方向における前記駆動パッドの大きさよりも大きい、付記13又は14に記載の半導体装置。
 (付記16)前記半導体装置は、前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、を有し、前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成され、前記駆動電極は、前記開口部によって露出している露出領域を有し、前記露出領域は、前記第3方向の両端部である第1露出端部及び第2露出端部を有し、前記第1駆動ワイヤは、前記露出領域の前記第3方向の中央部よりも前記第1露出端部側に接続され、前記第2駆動ワイヤは、前記露出領域の前記第3方向の中央部よりも前記第2露出端部側に接続されている、付記13~15のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記17)前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、前記駆動パッドは、前記第3方向の両端部である第1端部及び第2端部を有し、前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも第1端部側に接続されており、前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも第2端部側に接続されている、付記14~16のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記18)前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第1端部に接続されており、前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第2端部に接続されている、付記17に記載の半導体装置。
 (付記19)前記封止樹脂は、前記第1側面と反対側を向く第2側面を有し、前記半導体素子は、前記基板の主面のうちの前記窪みよりも前記第2側面側の部分に実装されている、付記13~18のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記20)前記窪みの深さは、前記基板の厚さの1/2以下である、付記13~19のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記21)前記窪みの深さは、前記基板の厚さの1/3以下である、付記20に記載の半導体装置。
 (付記22)前記基板の主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向において前記第1側面及び前記第2側面の配列方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向として、前記基板は、前記窪みによって形成された第1薄肉部と、前記基板における前記窪みよりも前記第2側面側の部分において前記基板の前記第3方向の両端部に形成された窪みによって形成された第2薄肉部及び第3薄肉部とを有する、付記13~21のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記23)前記第2方向における前記第1薄肉部の長さは、前記第3方向における前記第2薄肉部の長さ及び前記第3方向における前記第3薄肉部の長さよりも長い、付記22に記載の半導体装置。
 (付記24)前記封止樹脂は、前記主面と同じ方向を向く封止樹脂天面、及び前記裏面と同じ方向を向く封止樹脂裏面を有し、前記端子のうちの前記第1側面側の基端部である端子基端部は、前記主面よりも前記封止樹脂天面側に配置されている、付記13~23のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記25)前記端子基端部は、前記半導体素子の前記表面よりも前記封止樹脂天面側に配置されている、付記24に記載の半導体装置。
 (付記26)互いに反対側を向く主面及び裏面を有する基板と、前記基板の主面に実装され、前記主面と同じ方向を向く表面と、前記表面に形成された駆動電極とを有し、SiCを含む半導体素子と、駆動パッドと、互いに離間した状態で前記駆動電極と前記駆動パッドとを接続する複数の駆動ワイヤと、前記半導体素子を封止する封止樹脂と、前記主面と平行な方向を向く前記封止樹脂の第1側面から突出している端子と、を備え、前記複数の駆動ワイヤは、前記複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合わせを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤを含み、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、前記主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、前記半導体素子と前記駆動パッドとは少なくとも前記第2方向にずれており、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤは、前記第3方向に離間して配置されており、前記駆動パッドは、前記第3方向の両端部である第1端部及び第2端部を有し、前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第1端部側に接続されており、前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第2端部側に接続されており、前記基板の裏面における前記第1側面側の部分には、前記裏面から前記主面に向かう窪みが形成されており、前記封止樹脂の一部が前記窪みに入り込むことによって、前記第1側面から前記基板の裏面のうちの前記封止樹脂から露出する露出面までの距離が、前記封止樹脂の他の側面から前記露出面までの距離よりも長い、半導体装置。
 (付記27)前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第1端部に接続されており、前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第2端部に接続されている、付記26に記載の半導体装置。
 (付記28)前記半導体装置は、前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、を有し、前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成され、前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記開口部の大きさよりも大きい、付記26又は27に記載の半導体装置。
 (付記29)前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記半導体素子の大きさよりも大きい、付記28に記載の半導体装置。
 (付記30)前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記基板の大きさの1/2よりも大きい、付記28又は29に記載の半導体装置。
 (付記31)前記駆動パッドは、第1駆動パッド及び第2駆動パッドを含み、前記第1駆動パッドには前記第1駆動ワイヤの駆動パッド側端部が接続され、前記第2駆動パッドには前記第2駆動ワイヤの駆動パッド側端部が接続され、前記第3方向において、前記第1駆動パッド及び前記第2駆動パッドは、離間して配置されている、付記26に記載の半導体装置。
 (付記32)前記封止樹脂は、前記第1側面と反対側を向く第2側面を有し、前記半導体素子は、前記基板の主面のうちの前記窪みよりも前記第2側面側の部分に実装されている、付記26~31のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記33)前記窪みの深さは、前記基板の厚さの1/2以下である、付記26~32のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記34)前記窪みの深さは、前記基板の厚さの1/3以下である、付記33に記載の半導体装置。
 (付記35)前記基板の主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向において前記第1側面及び前記封止樹脂の側面のうちの前記第1側面と対向する第2側面の配列方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向として、前記基板は、前記窪みによって形成された第1薄肉部と、前記基板における前記窪みよりも前記第2側面側の部分において前記基板の前記第3方向の両端部に形成された窪みによって形成された第2薄肉部及び第3薄肉部とを有する、付記26~34のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記36)前記第2方向における前記第1薄肉部の長さは、前記第3方向における前記第2薄肉部の長さ及び前記第3方向における前記第3薄肉部の長さよりも長い、付記35に記載の半導体装置。
 (付記37)前記封止樹脂は、前記主面と同じ方向を向く封止樹脂天面、及び前記裏面と同じ方向を向く封止樹脂裏面を有し、前記端子のうちの前記第1側面側の基端部である端子基端部は、前記主面よりも前記封止樹脂天面側に配置されている、付記26~36のいずれか1つに記載の半導体装置。
 (付記38)前記端子基端部は、前記半導体素子の前記表面よりも前記封止樹脂天面側に配置されている、付記37に記載の半導体装置。
1…半導体装置10…基板10a…主面10b…裏面21…駆動パッド21C…第1駆動パッド(駆動パッド)21D…第2駆動パッド(駆動パッド)21a…第1端部21b…第2端部21c…第1端部21d…第2端部21e…第1端部21f…第2端部31…制御パッド40…半導体素子40a…表面41…主面側駆動電極(駆動電極)43…制御電極44…パッシベーション膜(絶縁膜)45…開口部45A…第1開口部(開口部)46…露出領域46a…第1露出端部46b…第2露出端部50…封止樹脂55…封止樹脂裏面56…封止樹脂天面60…複数の駆動ワイヤ61…第1駆動ワイヤ(駆動ワイヤ)61a…駆動電極側端部61b…駆動パッド側端部62…第2駆動ワイヤ(駆動ワイヤ)62a…駆動電極側端部62b…駆動パッド側端部63…第3駆動ワイヤ(駆動ワイヤ)63a…駆動電極側端部63b…駆動パッド側端部64…第4駆動ワイヤ(駆動ワイヤ)64a…駆動電極側端部64b…駆動パッド側端部70…制御ワイヤ81…センスパッド90…センスワイヤX…縦方向(第2方向)Y…横方向(第3方向)Z…厚さ方向(第1方向)111x…露出面113…幅狭部115a…窪み115b…窪み115c…窪み116a…第1薄肉部116b…第2薄肉部116c…第3薄肉部118A,118B…延長部119…貫通孔22…駆動端子(端子)22x…端子基端部22xa~22xe…端子基端部51…第1封止樹脂側面(第2側面)52…第2封止樹脂側面(第1側面)59a…凹部

Claims (86)

  1.  主面を有する基板と、
     前記主面に実装され、前記主面と同じ方向を向く表面と、前記表面に形成された駆動電極とを有し、SiCを含む半導体素子と、
     駆動パッドと、
     互いに離間した状態で前記駆動電極と前記駆動パッドとを接続する複数の駆動ワイヤと、
    を備え、
     前記複数の駆動ワイヤは、最も離間している組み合せを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤを含み、
     該第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤは、前記主面に対して垂直な方向である第1方向からみて、前記駆動電極側よりも前記駆動パッド側の方が離れるように前記駆動電極と前記駆動パッドとに接続されている
     半導体装置。
  2.  前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記半導体素子と前記駆動パッドとは少なくとも前記第2方向にずれており、
     前記複数の駆動ワイヤは、前記第3方向に離間して配列されており、
     前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤは、前記複数の駆動ワイヤのうちの前記第3方向の両端にある駆動ワイヤである
     請求項1に記載の半導体装置。
  3.  前記半導体装置は、
     前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、
     前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、
    を有し、
     前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成され、
     前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記開口部の大きさよりも大きい
     請求項2に記載の半導体装置。
  4.  前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記半導体素子の大きさよりも大きい
     請求項3に記載の半導体装置。
  5.  前記第1駆動ワイヤは、前記第3方向における前記開口部の端部に露出した前記駆動電極に接続されている
     請求項3又は4に記載の半導体装置。
  6.  前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、
     前記第1方向からみて、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤのそれぞれの前記駆動電極側端部は、前記第2方向において揃った状態で前記第3方向に配列されている
     請求項2~5のいずれか一項に記載の半導体装置。
  7.  前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、
     前記第1方向からみて、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤのそれぞれの前記駆動電極側端部は、前記第2方向にずれている
     請求項2~5のいずれか一項に記載の半導体装置。
  8.  前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、
     前記駆動パッドは、前記第3方向の両端部である第1端部及び第2端部を有し、
     前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第1端部側に接続されており、
     前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第2端部側に接続されている
     請求項2~7のいずれか一項に記載の半導体装置。
  9.  前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第1端部に接続されており、
     前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第2端部に接続されている
     請求項8に記載の半導体装置。
  10.  前記駆動電極は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状である
     請求項2~9のいずれか一項に記載の半導体装置。
  11.  前記半導体装置は、前記半導体素子を封止する封止樹脂を備え、
     前記封止樹脂は、前記基板の裏面が露出する封止樹脂裏面と、前記第1方向において前記封止樹脂裏面と反対側を向く封止樹脂天面とを有し、
     前記第1方向において、前記駆動パッドは、前記半導体素子よりも前記封止樹脂天面側に配置されている
     請求項1~10のいずれか一項に記載の半導体装置。
  12.  主面を有する基板と、
     前記主面に実装され、前記主面と同じ方向を向く表面と、前記表面に形成された駆動電極とを有し、SiCを含む半導体素子と、
     駆動パッドと、
     互いに離間した状態で前記駆動電極と前記駆動パッドとを接続する複数の駆動ワイヤと、
    を備え、
     前記半導体素子は、
     前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、
     前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、
    を有し、
     前記主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成され、
     前記複数の駆動ワイヤは、最も離間している組み合わせを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤを含み、
     前記駆動電極は、前記開口部によって露出している露出領域を有し、
     前記露出領域は、前記第3方向の両端部である第1露出端部及び第2露出端部を有し、
     前記第1駆動ワイヤは、前記露出領域の前記第3方向の中央部よりも前記第1露出端部側に接続され、
     前記第2駆動ワイヤは、前記露出領域の前記第3方向の中央部よりも前記第2露出端部側に接続されている
     半導体装置。
  13.  前記半導体素子と前記駆動パッドとは少なくとも前記第2方向にずれており、
     前記複数の駆動ワイヤは、前記第3方向に離間して配列されており、
     前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤは、前記複数の駆動ワイヤのうちの前記第3方向の両端にある駆動ワイヤである
     請求項12に記載の半導体装置。
  14.  前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記開口部の大きさよりも大きい
     請求項12又は13に記載の半導体装置。
  15.  前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、
     前記第1方向からみて、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤのそれぞれの前記駆動電極側端部は、前記第2方向において揃った状態で前記第3方向に配列されている
     請求項12~14のいずれか一項に記載の半導体装置。
  16.  前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、
     前記駆動パッドは、前記第3方向の両端部である第1端部及び第2端部を有し、
     前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第1端部側に接続されており、
     前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第2端部側に接続されている
     請求項12~15のいずれか一項に記載の半導体装置。
  17.  前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第1端部に接続されており、
     前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第2端部に接続されている
     請求項16に記載の半導体装置。
  18.  前記第1方向からみて、前記駆動電極は、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状である
     請求項12~17のいずれか一項に記載の半導体装置。
  19.  前記半導体素子は、前記表面に形成された制御電極を有し、
     前記半導体装置は、
     制御パッドと、
     前記制御電極と前記制御パッドとを接続する制御ワイヤと、
     を備える
     請求項1~18のいずれか一項に記載の半導体装置。
  20.  前記複数の駆動ワイヤの線径はそれぞれ、前記制御ワイヤの線径と等しい
     請求項19に記載の半導体装置。
  21.  前記制御ワイヤは、前記制御電極に接続される制御電極側端部と、前記制御パッドに接続される制御パッド側端部とを有し、
     前記制御電極側端部と前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤのうちの前記制御ワイヤに近い側の駆動ワイヤの前記駆動電極側端部との間の距離は、前記第1駆動ワイヤの駆動電極側端部と前記第2駆動ワイヤの駆動電極側端部との間の距離よりも小さい
     請求項19又は20に記載の半導体装置。
  22.  前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記駆動パッド及び前記制御パッドと前記半導体素子とは、少なくとも前記第2方向にずれており、
     前記駆動パッドは、前記第3方向において前記制御パッドと隣り合っている
     請求項19~21のいずれか一項に記載の半導体装置。
  23.  前記半導体装置は、
     センスパッドと、
     前記駆動電極と前記センスパッドとを接続するセンスワイヤと、
    を有する
     請求項19~22のいずれか一項に記載の半導体装置。
  24.  前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記駆動パッド、前記制御パッド、及び前記センスパッドと前記半導体素子とは、少なくとも前記第2方向にずれており、
     前記センスパッドは、前記第3方向において前記駆動パッドと前記制御パッドとの間に配置されている
     請求項23に記載の半導体装置。
  25.  前記複数の駆動ワイヤの線径は、前記センスワイヤの線径と等しい
     請求項23又は24に記載の半導体装置。
  26.  前記複数の駆動ワイヤはそれぞれ、同一の金属からなる
     請求項1~25のいずれか一項に記載の半導体装置。
  27.  前記複数の駆動ワイヤ及び前記制御ワイヤはそれぞれ、同一の金属からなる
     請求項19~25のいずれか一項に記載の半導体装置。
  28.  前記複数の駆動ワイヤ、前記制御ワイヤ、及び前記センスワイヤはそれぞれ、同一の金属からなる
     請求項23~25のいずれか一項に記載の半導体装置。
  29.  前記複数の駆動ワイヤ、前記制御ワイヤ、及び前記センスワイヤの線径は互いに等しい
     請求項23~25及び28のいずれか一項に記載の半導体装置。
  30.  前記複数の駆動ワイヤは、アルミニウムを含む
     請求項1~29のいずれか一項に記載の半導体装置。
  31.  前記半導体素子は、SiCMOSFETである
     請求項1~30のいずれか一項に記載の半導体装置。
  32.  前記SiCMOSFETは、1kHz以上100kHz以下の信号にてスイッチングする
     請求項31に記載の半導体装置。
  33.  前記半導体素子は、ショットキーバリアダイオードである
     請求項1~19のいずれか一項に記載の半導体装置。
  34.  前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記第3方向における前記半導体装置の大きさは、10mm以下である
     請求項1~33のいずれか一項に記載の半導体装置。
  35.  互いに反対側を向く主面及び裏面を有する基板と、
     前記基板の主面に実装され、SiCを含む半導体素子と、
     前記半導体素子を封止する封止樹脂と、
     前記主面と平行な方向を向く前記封止樹脂の第1側面から突出している端子と、
    を備え、
     前記基板の裏面における前記第1側面側の部分には、前記裏面から前記主面に向かう窪みが形成されており、
     前記封止樹脂の一部が前記窪みに入り込むことによって、前記第1側面から前記基板の裏面のうちの前記封止樹脂から露出する露出面までの距離が、前記封止樹脂の他の側面から前記露出面までの距離よりも長い
     半導体装置。
  36.  前記封止樹脂は、前記第1側面と反対側を向く第2側面を有し、
     前記基板の主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向において前記第1側面及び前記第2側面の配列方向を第2方向とすると、
     前記第1方向からみて、前記露出面の前記第1側面側の端縁は、前記第2方向において、前記封止樹脂の前記第2方向の中央部よりも前記第2側面側に配置されている
     請求項35に記載の半導体装置。
  37.  前記封止樹脂は、前記第1側面と反対側を向く第2側面を有し、
     前記半導体素子は、前記基板の主面のうちの前記窪みよりも前記第2側面側の部分に実装されている
     請求項35又は36に記載の半導体装置。
  38.  前記基板の主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向において前記第1側面及び前記第2側面の配列方向を第2方向とすると、
     前記第1方向からみて、前記半導体素子のうちの前記第1側面側の端部は、前記第2方向において、前記基板の主面のうちの前記封止樹脂の前記第2方向の中央部よりも前記第2側面側の部分に位置している
     請求項37に記載の半導体装置。
  39.  前記基板の主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向において前記第1側面及び前記第2側面の配列方向を第2方向とすると、
     前記第1方向からみて、前記基板は、前記第2方向において前記第2側面と隣り合う幅狭部を有し、
     前記第1方向からみて、前記半導体素子は、前記第2方向において前記幅狭部と隣り合うように配置されている
     請求項37又は38に記載の半導体装置。
  40.  前記窪みの深さは、前記基板の厚さの1/2以下である
     請求項35~39のいずれか一項に記載の半導体装置。
  41.  前記窪みの深さは、前記基板の厚さの1/3以下である
     請求項40に記載の半導体装置。
  42.  前記窪みの深さは、前記基板の厚さの1/3以上であり、かつ前記基板の厚さよりも薄い
     請求項35~39のいずれか一項に記載の半導体装置。
  43.  前記基板の主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向において前記第1側面及び前記封止樹脂の側面のうちの前記第1側面と反対側を向く第2側面の配列方向を第2方向とすると、
     前記基板は、前記窪みによって形成された第1薄肉部と、前記第2方向において前記基板のうちの前記窪みよりも前記第2側面側の部分における前記基板の前記第3方向の両端部に形成された窪みによって形成された第2薄肉部及び第3薄肉部とを有する
     請求項35~42のいずれか一項に記載の半導体装置。
  44.  前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記第2方向における前記第1薄肉部の長さは、前記第3方向における前記第2薄肉部の長さ及び前記第3方向における前記第3薄肉部の長さよりも長い
     請求項43に記載の半導体装置。
  45.  前記第1薄肉部には、前記第1方向に前記第1薄肉部を貫通する貫通孔が設けられ、
     前記貫通孔には、前記封止樹脂の一部が入り込んでいる
     請求項43又は44に記載の半導体装置。
  46.  前記封止樹脂は、前記主面と同じ方向を向く封止樹脂天面を有し、
     前記基板の主面に対して垂直な方向を第1方向とすると、
     前記端子のうちの前記第1側面側の基端部である端子基端部は、前記第1方向において、前記主面よりも前記封止樹脂天面側に配置されている
     請求項35~45のいずれか一項に記載の半導体装置。
  47.  前記半導体素子は、前記主面と同じ方向を向く表面を有し、
     前記端子基端部は、前記第1方向において、前記半導体素子の前記表面よりも前記封止樹脂天面側に配置されている
     請求項46に記載の半導体装置。
  48.  前記基板の主面に対して垂直な方向を第1方向とすると、
     前記第1方向において、前記端子基端部は、前記封止樹脂の前記第1方向の中央部よりも前記封止樹脂天面側に配置されている
     請求項46に記載の半導体装置。
  49.  前記封止樹脂は、前記基板の裏面と同じ方向を向く封止樹脂裏面を有し、
     前記封止樹脂のうちの前記第1側面と前記露出面との間の部分には、前記封止樹脂裏面から凹む凹部が設けられている
     請求項35~48のいずれか一項に記載の半導体装置。
  50.  前記封止樹脂は、前記第1側面と反対側を向く第2側面を有し、
     前記基板は、前記封止樹脂の側面のうちの前記第1側面及び前記第2側面とは異なる側面に露出している延長部を有する
     請求項35~49のいずれか一項に記載の半導体装置。
  51.  前記延長部は、前記基板において前記窪みよりも前記第2側面側の部分に設けられている
     請求項50に記載の半導体装置。
  52.  前記半導体素子は、前記主面と同じ方向を向く表面と、前記表面に形成された駆動電極とを有し、
     前記半導体装置は、駆動パッドと、互いに離間した状態で前記駆動電極と前記駆動パッドとを接続する複数の駆動ワイヤを備え、
     前記複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合せを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤは、前記主面に対して垂直な方向である第1方向からみて、前記駆動電極側よりも前記駆動パッド側の方が離れるように前記駆動電極と前記駆動パッドとに接続されている
     請求項35~51のいずれか一項に記載の半導体装置。
  53.  前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記半導体素子と前記駆動パッドとは少なくとも前記第2方向にずれており、
     前記複数の駆動ワイヤは、前記第3方向に離間して配列されており、
     前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤは、前記複数の駆動ワイヤのうちの前記第3方向の両端にある駆動ワイヤである
     請求項52に記載の半導体装置。
  54.  前記基板及び前記駆動パッドは、同一の金属からなる
     請求項52又は53に記載の半導体装置。
  55.  前記半導体素子は、
     前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、
     前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、
    を有し、
     前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成され、
     前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記開口部の大きさよりも大きい
     請求項52~54のいずれか一項に記載の半導体装置。
  56.  前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記半導体素子の大きさよりも大きい
     請求項55に記載の半導体装置。
  57.  前記第1駆動ワイヤは、前記第3方向における前記開口部の端部に露出した前記駆動電極に接続されている
     請求項55又は56に記載の半導体装置。
  58.  前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、
     前記第1方向からみて、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤのそれぞれの前記駆動電極側端部は、前記第2方向において揃った状態で前記第3方向に配列されている
     請求項55~57のいずれか一項に記載の半導体装置。
  59.  前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、
     前記第1方向からみて、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤのそれぞれの前記駆動電極側端部は、前記第2方向にずれている
     請求項55~57のいずれか一項に記載の半導体装置。
  60.  前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、
     前記駆動パッドは、前記第3方向の両端部である第1端部及び第2端部を有し、
     前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第1端部側に接続されており、
     前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第2端部側に接続されている
     請求項55~59のいずれか一項に記載の半導体装置。
  61.  前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第1端部に接続されており、
     前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第2端部に接続されている
     請求項60に記載の半導体装置。
  62.  前記駆動電極は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状である
     請求項55~61のいずれか一項に記載の半導体装置。
  63.  前記半導体素子は、
     前記主面と同じ方向を向く表面と、
     前記表面に形成された駆動電極と、
     前記駆動電極上に形成された絶縁膜と、
     前記絶縁膜の一部に前記駆動電極を露出するように形成された開口部と、
    を有し、
     前記半導体装置は、駆動パッドと、互いに離間した状態で前記駆動電極と前記駆動パッドとを接続する複数の駆動ワイヤを備え、
     前記主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記開口部は、前記第1方向からみて、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状に形成され、
     前記複数の駆動ワイヤは、前記複数の駆動ワイヤのうちの最も離間している組み合わせを構成する第1駆動ワイヤ及び第2駆動ワイヤを含み、
     前記駆動電極は、前記開口部によって露出している露出領域を有し、
     前記露出領域は、前記第3方向の両端部である第1露出端部及び第2露出端部を有し、
     前記第1駆動ワイヤは、前記露出領域の前記第3方向の中央部よりも前記第1露出端部側に接続され、
     前記第2駆動ワイヤは、前記露出領域の前記第3方向の中央部よりも前記第2露出端部側に接続されている
     請求項35~51のいずれか一項に記載の半導体装置。
  64.  前記半導体素子と前記駆動パッドとは少なくとも前記第2方向にずれており、
     前記複数の駆動ワイヤは、前記第3方向に離間して配列されており、
     前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤは、前記複数の駆動ワイヤのうちの前記第3方向の両端にある駆動ワイヤである
     請求項63に記載の半導体装置。
  65.  前記第3方向における前記駆動パッドの大きさは、前記第3方向における前記開口部の大きさよりも大きい
     請求項63又は64に記載の半導体装置。
  66.  前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、
     前記第1方向からみて、前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤのそれぞれの前記駆動電極側端部は、前記第2方向において揃った状態で前記第3方向に配列されている
     請求項63~65のいずれか一項に記載の半導体装置。
  67.  前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤはそれぞれ、前記駆動電極に接続されている駆動電極側端部と、前記駆動パッドに接続されている駆動パッド側端部とを有し、
     前記駆動パッドは、前記第3方向の両端部である第1端部及び第2端部を有し、
     前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第1端部側に接続されており、
     前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記駆動パッドの前記第3方向の中央部よりも前記第2端部側に接続されている
     請求項63~66のいずれか一項に記載の半導体装置。
  68.  前記第1駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第1端部に接続されており、
     前記第2駆動ワイヤの前記駆動パッド側端部は、前記第2端部に接続されている
     請求項67に記載の半導体装置。
  69.  前記第1方向からみて、前記駆動電極は、前記第2方向を短辺方向とし、前記第3方向を長辺方向とする矩形状である
     請求項63~68のいずれか一項に記載の半導体装置。
  70.  前記半導体素子は、前記表面に形成された制御電極を有し、
     前記半導体装置は、
     制御パッドと、
     前記制御電極と前記制御パッドとを接続する制御ワイヤと、
     を備える
     請求項52~69のいずれか一項に記載の半導体装置。
  71.  前記複数の駆動ワイヤの線径はそれぞれ、前記制御ワイヤの線径と等しい
     請求項70に記載の半導体装置。
  72.  前記制御ワイヤは、前記制御電極に接続される制御電極側端部と、前記制御パッドに接続される制御パッド側端部とを有し、
     前記制御電極側端部と前記第1駆動ワイヤ及び前記第2駆動ワイヤのうちの前記制御ワイヤに近い側の駆動ワイヤの前記駆動電極側端部との間の距離は、前記第1駆動ワイヤの駆動電極側端部と前記第2駆動ワイヤの駆動電極側端部との間の距離よりも小さい
     請求項70又は71に記載の半導体装置。
  73.  前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記駆動パッド及び前記制御パッドと前記半導体素子とは、少なくとも前記第2方向にずれており、
     前記駆動パッドは、前記第3方向において前記制御パッドと隣り合っている
     請求項70~72のいずれか一項に記載の半導体装置。
  74.  前記基板、前記駆動パッド、及び前記制御パッドは、同一の金属からなる
     請求項70~73のいずれか一項に記載の半導体装置。
  75.  前記半導体装置は、
     センスパッドと、
     前記駆動電極と前記センスパッドとを接続するセンスワイヤと、
    を有する
     請求項70~74のいずれか一項に記載の半導体装置。
  76.  前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記駆動パッド、前記制御パッド、及び前記センスパッドと前記半導体素子とは、少なくとも前記第2方向にずれており、
     前記センスパッドは、前記第3方向において前記駆動パッドと前記制御パッドとの間に配置されている
     請求項75に記載の半導体装置。
  77.  前記基板、前記駆動パッド、前記制御パッド、及び前記センスパッドは、同一の金属からなる
     請求項75又は76に記載の半導体装置。
  78.  前記複数の駆動ワイヤの線径は、前記センスワイヤの線径と等しい
     請求項75~77のいずれか一項に記載の半導体装置。
  79.  前記複数の駆動ワイヤはそれぞれ、同一の金属からなる
     請求項52~78のいずれか一項に記載の半導体装置。
  80.  前記複数の駆動ワイヤ及び前記制御ワイヤはそれぞれ、同一の金属からなる
     請求項70~78のいずれか一項に記載の半導体装置。
  81.  前記複数の駆動ワイヤ、前記制御ワイヤ、及び前記センスワイヤはそれぞれ、同一の金属からなる
     請求項76~78のいずれか一項に記載の半導体装置。
  82.  前記複数の駆動ワイヤ、前記制御ワイヤ、及び前記センスワイヤの線径は互いに等しい
     請求項76~78及び81のいずれか一項に記載の半導体装置。
  83.  前記複数の駆動ワイヤは、アルミニウムを含む
     請求項52~82のいずれか一項に記載の半導体装置。
  84.   前記半導体素子は、SiCMOSFETである
     請求項35~83のいずれか一項に記載の半導体装置。
  85.  前記SiCMOSFETは、1kHz以上100kHz以下の信号にてスイッチングする
     請求項84に記載の半導体装置。
  86.  前記基板の主面に対して垂直な方向を第1方向とし、前記第1方向と直交する方向を第2方向とし、前記第1方向及び前記第2方向と直交する方向を第3方向とすると、
     前記第3方向における前記半導体装置の大きさは、10mm以下である
     請求項35~85のいずれか一項に記載の半導体装置。
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