WO2020208808A1

WO2020208808A1 - 加工システム、加工方法、ロボットシステム、接続装置及びエンドエフェクタ装置

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Publication number: WO2020208808A1
Application number: PCT/JP2019/015966
Authority: WO
Inventors: 真路佐藤
Original assignee: 株式会社ニコン
Priority date: 2019-04-12
Filing date: 2019-04-12
Publication date: 2020-10-15
Also published as: EP3954493A4; EP3954493A1; JP7298681B2; CN113727804A; TW202042987A; JP2023116669A; US20220281104A1; JPWO2020208808A1

Abstract

加工システムは、物体の一部との相対的な位置関係が変更可能な可動部材と、物体に向けて加工光を照射する照射装置と、可動部材と照射装置との相対的な位置関係が変更可能になるように、可動部材と照射装置とを接続する接続装置とを備え、接続装置は、可動部材および照射装置のうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、可動部材と照射装置とを結合する弾性部材とを備える。

Description

加工システム、加工方法、ロボットシステム、接続装置及びエンドエフェクタ装置

　本発明は、加工光で物体を加工可能な加工システム及び加工方法の技術分野、ロボットシステム、エンドエフェクタ装置及びロボットとエンドエフェクタとを接続する接続装置に関する。

　物体を加工可能な加工システムとして、特許文献１には、物体の表面に加工光を照射して構造を形成する加工システムが記載されている。この種の加工システムでは、物体に対して加工光を照射する照射装置と物体との相対的な位置関係を適切にすることが要求されている。

米国特許第４，９９４，６３９号

　第１の態様によれば、加工光で物体を加工する加工システムにおいて、前記物体の一部との相対的な位置関係が変更可能な可動部材と、前記物体に向けて前記加工光を照射する照射装置と、前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記照射装置とを接続する接続装置とを備え、前記接続装置は、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記照射装置とを結合する弾性部材とを備える加工システムが提供される。

　第２の態様によれば、加工光で物体を加工する加工システムにおいて、前記物体の一部との相対的な位置関係が変更可能な可動部材と、前記物体に向けて前記加工光を照射する照射装置と、前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記照射装置とを接続する接続装置と、前記可動部材から前記照射装置へ向かう振動を低減する振動低減装置とを備える加工システムが提供される。

　第３の態様によれば、加工光で物体を加工する加工システムにおいて、前記物体の一部との相対的な位置関係が変更可能な可動部材と、前記物体に向けて前記加工光を照射する照射装置と、前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記照射装置とを接続する接続装置と、前記物体又は基準位置に対する前記照射装置の位置を計測する位置計測装置とを備え、前記接続装置は、前記位置計測装置による位置計測結果に基づいて、前記可動部材に対する前記照射装置の位置を変更する位置変更部材を備える加工システムが提供される。

　第４の態様によれば、加工光で物体を加工する加工方法において、可動部材の位置と前記物体の一部の位置との位置関係を変更することと、照射装置を用いて前記物体に向けて前記加工光を照射することと、前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係を変更することと、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記照射装置とを結合する弾性部材とを備える接続部によって、前記可動部材と前記照射装置とを接続することとを含む加工方法が提供される。

　第５の態様によれば、加工光で物体を加工する加工方法において、可動部材の位置と前記物体の一部の位置との位置関係を変更することと、照射装置を用いて前記物体に向けて前記加工光を照射することと、前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係を変更することと、前記可動部材から前記照射装置へ向かう振動を低減することとを含む加工方法が提供される。

　第６の態様によれば、加工光で物体を加工する加工方法において、可動部材の位置と前記物体の一部の位置との位置関係を変更することと、照射装置を用いて前記物体に向けて前記加工光を照射することと、前記物体又は基準位置に対する前記照射装置の位置を計測することと、計測された前記照射装置の前記位置に基づいて、前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係を変更することとを含む加工方法が提供される。

　第７の態様によれば、物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と、前記可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置とを備え、前記接続装置は、前記可動部材および前記エンドエフェクタのうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを結合する弾性部材とを備えるロボットシステムが提供される。

　第８の態様によれば、物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と、前記可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置と、前記可動部材から前記エンドエフェクタへ向かう振動を低減する振動低減装置とを備えるロボットシステムが提供される。

　第９の態様によれば、物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と、前記可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置と、前記物体又は基準位置に対する前記エンドエフェクタの位置を計測する位置計測装置とを備え、前記接続装置は、前記位置計測装置による位置計測結果に基づいて、前記可動部材に対する前記エンドエフェクタの位置を変更する位置変更部材を備えるロボットシステムが提供される。

　第１０の態様によれば、物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材とを接続する接続装置であって、前記可動部材および前記エンドエフェクタのうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを結合する弾性部材とを備え、前記可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置が提供される。

　第１１の態様によれば、物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材とを接続する接続装置であって、前記可動部材から前記エンドエフェクタへ向かう振動を低減する振動低減装置を備え、前記可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置が提供される。

　第１２の態様によれば、物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材とを接続する接続装置であって、前記物体又は基準位置に対する前記接続装置及び／又は前記エンドエフェクタの位置を計測する位置計測装置による位置計測結果に基づいて、前記可動部材に対する前記エンドエフェクタの位置を変更する位置変更部材を備える接続装置が提供される。

　第１３の態様によれば、物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置とを備え、前記接続装置は、前記可動部材および前記エンドエフェクタのうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを結合する弾性部材とを備えるエンドエフェクタ装置が提供される。

　第１４の態様によれば、物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置と、前記可動部材から前記エンドエフェクタへ向かう振動を低減する振動低減装置とを備えるエンドエフェクタ装置が提供される。

　第１５の態様によれば、物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置と、前記物体又は基準位置に対する前記エンドエフェクタの位置を計測する位置計測装置とを備え、前記接続装置は、前記位置計測装置による位置計測結果に基づいて、前記可動部材に対する前記エンドエフェクタの位置を変更する位置変更部材を備えるエンドエフェクタ装置が提供される。

図１は、第１実施形態の加工システムの全体構造を模式的に示す断面図である。図２（ａ）及び図２（ｂ）のそれぞれは、加工対象物の表面に形成された塗装膜の加工の様子を模式的に示す断面図である。図３（ａ）は、第１実施形態の加工システムが備える光照射装置を模式的に示す断面図であり、図３（ｂ）及び図３（ｃ）のそれぞれは、光照射装置が備える光源系の構成を示す断面図である。図４は、光源系を備えていない光照射装置の構図を模式的に示す断面図である。図５は、第１駆動系の構造を示す断面図である。図６は、第２駆動系の構造を示す断面図である。図７（ａ）は、第１実施形態の加工装置が形成するリブレット構造の断面を示す断面図であり、図７（ｂ）は、第１実施形態の加工装置が形成するリブレット構造を示す斜視図である。図８（ａ）及び図８（ｂ）のそれぞれは、リブレット構造が形成される加工対象物の一例である航空機を示す正面図であり、図８（ｃ）は、リブレット構造が形成される加工対象物の一例である航空機を示す側面図である。図９は、塗装膜の表面に設定される複数の加工ショット領域を示す平面図である。図１０は、リブレット構造を形成するための加工動作の一工程を行う加工装置を示す断面図である。図１１（ａ）は、リブレット構造を形成するための加工動作の一工程を行う加工装置を示す断面図であり、図１１（ｂ）は、図１１（ａ）に示す加工動作の一工程が行われている塗装膜の表面を示す平面図である。図１２は、スキャン動作とステップ動作とが繰り返される期間中の加工光の走査軌跡（つまり、目標照射領域の移動軌跡）を示す平面図である。図１３は、リブレット構造を形成するための加工動作の一工程を行う加工装置を示す断面図である。図１４（ａ）は、リブレット構造を形成するための加工動作の一工程を行う加工装置を示す断面図であり、図１４（ｂ）は、図１４（ａ）に示す加工動作の一工程が行われている塗装膜の表面を示す平面図である。図１５は、リブレット構造を形成するための加工動作の一工程を行う加工装置を示す断面図である。図１６は、リブレット構造を形成するための加工動作の一工程を行う加工装置を示す断面図である。図１７は、リブレット構造を形成するための加工動作の一工程を行う加工装置を示す断面図である。図１８は、リブレット構造を形成するための加工動作の一工程を行う加工装置を示す断面図である。図１９は、リブレット構造を形成するための加工動作の一工程を行う加工装置を示す断面図である。図２０は、リブレット構造を形成するための加工動作の一工程を行う加工装置を示す断面図である。図２１は、第２実施形態の加工システムの全体構造を模式的に示す断面図である。図２２は、第３実施形態の加工システムの全体構造を模式的に示す断面図である。図２３（ａ）及び図２３（ｂ）のそれぞれは、位置計測装置の計測結果に基づいて駆動系が制御された場合に形成されるテスト構造を示す平面図である。図２４（ａ）及び図２４（ｂ）のそれぞれは、位置計測装置の計測結果に基づいて、テスト構造を形成する場合と同様に駆動系を制御しながら加工光を照射した場合に感応性部材に形成される特性変化パターンを示す平面図である。図２５は、第４実施形態の加工システムの構造を模式的に示す断面図である。図２６は、第５実施形態の加工システムの構造を模式的に示す斜視図である。図２７は、第５実施形態の加工システムの構造を模式的に示す正面図である。図２８は、第５実施形態の加工システムの構造を模式的に示す側面図である。図２９は、第５実施形態の加工システムの構造の一部を拡大して示す正面図である。図３０は、第６実施形態の駆動系の構造を示す断面図である。図３１は、第６実施形態の駆動系の構造を示す断面図である。図３２は、加工対象物である航空機の斜め下方から斜め上方に向けて加工光を照射するように姿勢が変わった光照射装置を示す正面図である。図３３は、図３２に示す光照射装置と第１駆動系とを接続する複数の第２駆動系を示す断面図である。図３４は、第７実施形態の加工システムの構造を模式的に示す断面図である。図３５は、エンドエフェクタの一例を示す。図３６（ａ）から図３６（ｅ）のそれぞれは、エンドエフェクタの一例を示す。

　以下、図面を参照しながら、加工システム、加工方法、ロボットシステム、接続装置及びエンドエフェクタ装置の実施形態について説明する。以下では、加工光ＥＬを用いて加工対象物Ｓの表面に形成された塗装膜ＳＦを加工する加工システムＳＹＳを用いて、加工システム、加工方法、ロボットシステム、接続装置及びエンドエフェクタ装置の実施形態を説明する。但し、本発明が以下に説明する実施形態に限定されることはない。

　また、以下の説明では、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸から定義されるＸＹＺ直交座標系を用いて、加工システムＳＹＳを構成する各種構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、説明の便宜上、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれが水平方向（つまり、水平面内の所定方向）であり、Ｚ軸方向が鉛直方向（つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向）であるものとする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転方向（言い換えれば、傾斜方向）を、それぞれ、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向と称する。ここで、Ｚ軸方向を重力方向としてもよい。また、ＸＹ平面を水平方向としてもよい。

　（１）第１実施形態の加工システムＳＹＳａ
　初めに、第１実施形態の加工システムＳＹＳ（以降、第１実施形態の加工システムＳＹＳを、“加工システムＳＹＳａ”と称する）について説明する。

　（１－１）加工システムＳＹＳａの構造
　初めに、図１を参照しながら、第１実施形態の加工システムＳＹＳａの構造について説明する。図１は、第１実施形態の加工システムＳＹＳａの構造を模式的に示す断面図である。

　図１に示すように、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓの表面に形成された（例えば、塗布された）塗装膜ＳＦを加工する。加工対象物Ｓは、例えば、金属であってもよいし、合金（例えば、ジュラルミン等）であってもよいし、樹脂（例えば、ＣＦＲＰ（Ｃａｒｂｏｎ　Ｆｉｂｅｒ　Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ　Ｐｌａｓｔｉｃ）等）であってもよいし、ガラスであってもよいし、それ以外の任意の材料から構成される物体であってもよい。塗装膜ＳＦは、加工対象物Ｓの表面を覆う塗料の膜である。このため、塗装膜ＳＦは、塗料層と称してもよい。加工対象物Ｓは、塗装膜ＳＦに対する基材となる。塗装膜ＳＦの厚みは、例えば数十マイクロメートルから数百マイクロメートルであるが、その他の任意のサイズであってもよい。塗装膜ＳＦを構成する塗料は、例えば、樹脂性の塗料を含んでいてもよいし、それ以外の種類の塗料を含んでいてもよい。樹脂製の塗料は、例えば、アクリル系の塗料（例えば、アクリルポリオールを含む塗料）、ポリウレタン系の塗料（例えば、ポリウレタンポリオールを含む塗料）、ポリエステル系の塗料（例えば、ポリエステルポリオールを含む塗料）、ビニル系の塗料、フッ素系の塗料（例えば、フッ素系ポリオールを含む塗料）、シリコン系の塗料及びエポキシ系の塗料のうちの少なくとも一つを含んでいてもよい。

　図１は、水平面（つまり、ＸＹ平面）に沿った表面を有する加工対象物Ｓ上に加工システムＳＹＳａ（特に、加工システムＳＹＳａが備える後述の加工装置１）が配置されている例を示している。しかしながら、加工システムＳＹＳａは、水平面に沿った表面を有する加工対象物Ｓ上に配置されるとは限らない。例えば、図８等を参照しながら後に詳述するように、加工システムＳＹＳａは、水平面に交差する表面を有する加工対象物Ｓ上に配置されてもよい。加工システムＳＹＳａは、加工対象物Ｓから吊り下がるように配置されてもよい。この場合には、Ｘ軸方向及びＹ軸方向は、便宜上、加工対象物Ｓの表面に沿った方向（典型的には、平行な方向）として定義されてもよく、Ｚ軸方向は、便宜上、加工対象物Ｓの表面に交差する方向（典型的には、直交する方向）として定義されてもよい。

　加工システムＳＹＳａは、塗装膜ＳＦを加工するために、塗装膜ＳＦに対して加工光ＥＬを照射する。加工光ＥＬは、塗装膜ＳＦに照射されることで塗装膜ＳＦを加工可能である限りは、どのような種類の光であってもよい。一例として、加工光ＥＬは、レーザ光であってもよい。更に、加工光ＥＬは、塗装膜ＳＦに照射されることで塗装膜ＳＦを加工可能である限りは、どのような波長の光であってもよい。第１実施形態では、加工光ＥＬが不可視光（例えば、赤外光及び紫外光の少なくとも一方等）である例を用いて説明を進める。つまり、第１実施形態では、加工光ＥＬが、可視光の波長帯域よりも短い波長帯域に含まれる波長の光、及び、可視光の波長帯域よりも長い波長帯域に含まれる波長の光の少なくとも一方である例を用いて説明を進める。但し、加工光ＥＬは、可視光であってもよい。

　ここで、図２（ａ）及び図２（ｂ）を参照しながら、加工光ＥＬを用いた塗装膜ＳＦの加工の様子について説明する。図２（ａ）及び図２（ｂ）のそれぞれは、加工対象物Ｓの表面に形成された塗装膜ＳＦの加工の様子を模式的に示す断面図である。

　図２（ａ）に示すように、加工システムＳＹＳａは、塗装膜ＳＦの表面に設定される目標照射領域ＥＡに対して加工光ＥＬを照射する。尚、目標照射領域ＥＡは、加工システムＳＹＳａが加工光ＥＬを照射することが予定されている領域である。図２（ａ）に示すように、目標照射領域ＥＡに加工光ＥＬが照射されると、目標照射領域ＥＡと重なる塗装膜ＳＦ（つまり、目標照射領域ＥＡの－Ｚ側に位置する塗装膜）の一部が加工光ＥＬによって蒸発する。このとき、塗装膜ＳＦの厚み方向において、目標照射領域ＥＡに重なる塗装膜ＳＦの全てが蒸発しない。つまり、塗装膜ＳＦの厚み方向において、目標照射領域ＥＡに重なる塗装膜ＳＦの一部（具体的には、塗装膜ＳＦのうち目標照射領域ＥＡに相対的に近い部分）が蒸発する一方で、目標照射領域ＥＡに重なる塗装膜ＳＦの他の一部（具体的には、塗装膜ＳＦのうち目標照射領域ＥＡから相対的に遠い部分）が蒸発しない。言い換えれば、塗装膜ＳＦは、塗装膜ＳＦから加工対象物Ｓが露出しない程度にしか蒸発しない。このため、加工光ＥＬの特性は、塗装膜ＳＦから加工対象物Ｓが露出しない程度にしか塗装膜ＳＦを蒸発させることがない所望の特性に設定されていてもよい。加工光ＥＬの特性は、加工光ＥＬの照射によって加工対象物Ｓに影響を与えない所望の特性に設定されていてもよい。加工光ＥＬの特性は、加工光ＥＬの照射によって塗装膜ＳＦのみに影響を与える所望の特性に設定されていてもよい。尚、加工光ＥＬの特性は、加工光ＥＬの波長、塗装膜ＳＦの表面に対して加工光ＥＬから伝達される単位時間当たりの及び／又は単位面積当たりのエネルギー量、塗装膜ＳＦの表面における加工光ＥＬの強度分布、塗装膜ＳＦの表面に対する加工光ＥＬの照射時間、及び、塗装膜ＳＦの表面における加工光ＥＬのサイズ（一例として、スポット径や面積）の少なくとも一つを含んでいてもよい。

　このとき、塗装膜ＳＦに照射される加工光ＥＬのエネルギー（つまり、強度）は、加工光ＥＬの照射によって加工対象物Ｓに影響を与えないように定められる。加工光ＥＬのエネルギーは、加工光ＥＬが塗装膜ＳＦを貫通して加工対象物Ｓに到達しないように定められる。言い換えると、加工光ＥＬのエネルギーは、加工光ＥＬの照射によって塗装膜ＳＦのみに影響を与えるように定められる。

　その結果、塗装膜ＳＦが蒸発した部分では、塗装膜ＳＦが除去される。一方で、塗装膜ＳＦが蒸発しなかった部分では、塗装膜ＳＦがそのまま残留する。つまり、図２（ｂ）に示すように、加工光ＥＬが照射された部分において、塗装膜ＳＦが部分的に除去される。その結果、図２（ｂ）に示すように、加工光ＥＬが照射された部分において、加工光ＥＬが照射されていない部分と比較して、塗装膜ＳＦの厚みが薄くなる。言い換えれば、図２（ｂ）に示すように、加工対象物Ｓの表面上には、加工光ＥＬが照射されていないがゆえに相対的に厚いままの塗装膜ＳＦと、加工光ＥＬが照射されたがゆえに相対的に薄くなった塗装膜ＳＦとが存在することになる。つまり、加工光ＥＬの照射により、塗装膜ＳＦの厚みが少なくとも部分的に調整される。加工光ＥＬの照射により、厚さ方向（図２（ｂ）に示す例では、Ｚ軸方向）において塗装膜ＳＦの一部が除去される。その結果、塗装膜ＳＦの表面に、塗装膜ＳＦが相対的に薄い部分に相当する凹部（言い換えれば、溝部）Ｃが形成される。従って、第１実施形態における「塗装膜ＳＦを加工する動作」は、塗装膜ＳＦの厚みを調整する動作、塗装膜ＳＦの一部を除去する動作、及び、塗装膜ＳＦに凹部Ｃを形成する動作の少なくとも一つを含む。

　塗装膜ＳＦは、加工光ＥＬを吸収することで蒸発する。つまり、塗装膜ＳＦは、加工光ＥＬのエネルギーが塗装膜ＳＦに伝達されることで、例えば光化学的に分解されて除去される。尚、加工光ＥＬがレーザ光である場合には、加工光ＥＬのエネルギーが塗装膜ＳＦに伝達されることで塗装膜ＳＦ等が光化学的に分解されて除去される現象を、レーザーアブレーションと称することもある。このため、塗装膜ＳＦは、加工光ＥＬを吸収可能な材料を含んでいる。具体的には、例えば、塗装膜ＳＦは、加工光ＥＬに関する吸収率（例えば、加工光ＥＬが不可視光である場合には、可視光の波長帯域とは異なる波長を含む波長帯域の光に関する吸収率）が所定の第１吸収閾値以上となる材料を含んでいてもよい。逆に言えば、塗装膜ＳＦによる吸収率が所定の第１吸収閾値以上となる波長帯域の光が、加工光ＥＬとして用いられてもよい。

　塗装膜ＳＦを構成する材料は、色素（具体的には、例えば、顔料及び染料の少なくとも一方）を含んでいてもよい。塗装膜ＳＦが色素を含む場合には、当該色素は、可視光の照射時に所望色を呈する色素であってもよい。その結果、このような色素を含む塗装膜ＳＦは、所望色を呈することとなる。この場合、当該色素は、塗装膜ＳＦが所望色を呈するように、可視光の波長帯域のうち塗装膜ＳＦによって反射されることで所望色の光として人間に認識される波長を含む第１波長帯域の光の吸収率と、可視光のうち第１波長帯域とは異なる第２波長帯域の光の吸収率とが異なるという特性を有していてもよい。例えば、色素は、第１波長帯域の光の吸収率が第２波長帯域の光の吸収率よりも小さくなるという特性を有していてもよい。例えば、色素は、第１波長帯域の光の吸収率が所定の第２吸収閾値（但し、第２吸収閾値は、第１吸収閾値よりも小さい）以下になり、且つ、第２波長帯域の光の吸収率が所定の第３吸収閾値（但し、第３吸収閾値は、第２吸収閾値よりも大きい）以上になるという特性を有していてもよい。このような不可視光である加工光ＥＬを相応に吸収可能である一方で所望色を呈する色素の一例として、例えば、ウクライナ国キエフに所在するスペクトラムインフォ社製の近赤外線吸収色素（一例として、テトラフルオロホウ素化４－（（Ｅ）－２－｛（３Ｅ）－２－クロロ－３－［２－（２，６－ジフェニル－４Ｈ－チオピラン－４－イリデン）エチリデン］シクロヘキサ－１－エン－１－イル｝ビニル）－２，６－ジフェニルチオピリリウム）があげられる。尚、塗装膜ＳＦが透明である場合、塗装膜ＳＦは色素を含んでいなくてもよい。

　塗装膜ＳＦが色素を含む場合には、当該色素は、可視光に対して透明な色素であってもよい。その結果、このような色素を含む塗装膜ＳＦは、透明な膜（いわゆる、クリアコート）となる。尚、ここでいう「透明な膜」は、可視光の波長帯域のうちの少なくとも一部の波長帯域の光が通過することが可能な膜を意味していてもよい。この場合、当該色素は、塗装膜ＳＦが透明になるように、可視光をあまり吸収しない（つまり、相応に反射する）という特性を有していてもよい。例えば、色素は、可視光の吸収率が所定の第４吸収閾値よりも小さくなるという特性を有していてもよい。このような不可視光である加工光ＥＬを相応に吸収可能である一方で可視光に対して透明になる色素の一例として、例えば、スペクトラムインフォ社製の近赤外線吸収色素（一例として、テトラフルオロホウ素化６－クロロ－２－［（Ｅ）－２－（３－｛（Ｅ）－２－［６－クロロ－１－エチルベンゾ［ｃｄ］インドール－２（１Ｈ）－イリデン］エチリデン｝－２－フェニル－１－シクロペンテン－１－イル)エテニル］－１－エチルベンゾ［ｃｄ］インドリウム）があげられる。

　再び図１において、塗装膜ＳＦを加工するために、加工システムＳＹＳａは、加工装置１と、制御装置２とを備えている。更に、加工装置１は、光照射装置１１と、駆動系１２と、収容装置１３と、支持装置１４と、駆動系１５と、排気装置１６と、気体供給装置１７と、位置計測装置１８とを備える。

　光照射装置１１は、制御装置２の制御下で、塗装膜ＳＦに対して加工光ＥＬを照射可能である。塗装膜ＳＦに対して加工光ＥＬを照射するために、光照射装置１１は、光照射装置１１の構造を模式的に示す断面図である図３（ａ）に示すように、加工光ＥＬを射出可能な光源系１１１と、光源系１１１から射出された加工光ＥＬを塗装膜ＳＦに導く光学系１１２とを備える。

　光源系１１１は、例えば複数の加工光ＥＬを同時に射出する。但し、光源系１１１は、単一の加工光ＥＬを射出してもよい。このとき、光照射装置１１は、単一の加工光ＥＬを射出してもよい。複数の加工光ＥＬを射出するために、光源系１１１は、光源系１１１の構造の一例を模式的に示す断面図である図３（ｂ）に示すように、複数の光源１１１１を備えている。複数の光源１１１１は、等間隔で一列に配列される。各光源１１１１は、パルス光を加工光ＥＬとして射出する。パルス光の発光時間幅（以下、“パルス幅”と称する）が短くなると、加工精度（例えば、後述するリブレット構造の形成精度）が向上する。従って、各光源１１１１は、パルス幅が相対的に短いパルス光を、加工光ＥＬとして射出してもよい。例えば、各光源１１１１は、パルス幅が１０００ナノ秒以下となるパルス光を、加工光ＥＬとして射出してもよい。例えば、各光源１１１１は、パルス幅がピコ秒のオーダーとなるパルス光を、加工光ＥＬとして射出してもよく、パルス幅がフェムト秒のオーダーとなるパルス光を、加工光ＥＬとして射出してもよい。或いは、光源系１１１の構造の他の例を模式的に示す断面図である図３（ｃ）に示すように、光源系１１１は、単一の光源１１１１と、当該単一の光源１１１１からの光を複数の加工光ＥＬに分岐する分岐器１１１２とを備えていてもよい。分岐器１１１２が分岐した複数の加工光ＥＬがそれぞれ射出される複数の射出口は、等間隔で一列に配列される。分岐器１１１２の一例として、光ファイバカプラ、導波路型スプリッタ、レンズアレイ、回折光学素子及び空間光変調器等の少なくとも一つがあげられる。

　光学系１１２は、フォーカスレンズ１１２１と、ガルバノミラー１１２２と、ｆθレンズ１１２３とを備える。複数の加工光ＥＬは、フォーカスレンズ１１２１と、ガルバノミラー１１２２と、ｆθレンズ１１２３とを介して、塗装膜ＳＦに照射される。

　フォーカスレンズ１１２１は、１以上のレンズで構成され、その少なくとも一部のレンズの光軸方向に沿った位置を調整することで、複数の加工光ＥＬの収斂位置ＢＦ（言い換えれば、集光位置、或いは光軸方向における照射位置であり、つまりは光学系１１２の焦点位置）を調整するための光学素子である。ガルバノミラー１１２２は、複数の加工光ＥＬが塗装膜ＳＦの表面を走査する（つまり、複数の加工光ＥＬがそれぞれ照射される複数の目標照射領域ＥＡが塗装膜ＳＦの表面を移動する）ように、複数の加工光ＥＬを偏向する。つまり、ガルバノミラー１１２２は、塗装膜ＳＦ上での複数の加工光ＥＬの照射位置を、光照射装置１１に対して変更する照射位置変更装置として機能可能である。尚、ガルバノミラー１１２２によって、光学系１１２が射出する複数の加工光ＥＬｋが塗装膜ＳＦの表面を掃引してもよい。ガルバノミラー１１２は、Ｘ走査ミラー１１２２Ｘと、Ｙ走査ミラー１１２２Ｙとを備える。Ｘ走査ミラー１１２２Ｘは、複数の加工光ＥＬをＹ走査ミラー１１２２Ｙに向けて反射する。Ｘ走査ミラー１１２２Ｘは、θＹ方向（つまり、Ｙ軸周りの回転方向）に揺動又は回転可能である。Ｘ走査ミラー１１２２Ｘの揺動又は回転により、複数の加工光ＥＬは、塗装膜ＳＦの表面をＸ軸方向に沿って走査する。Ｘ走査ミラー１１２２Ｘの揺動又は回転により、複数の目標照射領域ＥＡは、塗装膜ＳＦ上をＸ軸方向に沿って移動する。Ｘ走査ミラー１１２２Ｘは、複数の目標照射領域ＥＡと塗装膜ＳＦとの間のＸ軸方向に沿った相対的な位置関係を変更する。Ｙ走査ミラー１１２２Ｙは、複数の加工光ＥＬをｆθレンズ１１２３に向けて反射する。Ｙ走査ミラー１１２２Ｙは、θＸ方向（つまり、Ｘ軸周りの回転方向）に揺動又は回転可能である。Ｙ走査ミラー１１２２Ｙの揺動又は回転により、複数の加工光ＥＬは、塗装膜ＳＦの表面をＹ軸方向に沿って走査する。Ｙ走査ミラー１１２２Ｙの揺動又は回転により、複数の目標照射領域ＥＡは、塗装膜ＳＦ上をＹ軸方向に沿って移動する。Ｙ走査ミラー１１２２Ｙは、複数の目標照射領域ＥＡと塗装膜ＳＦとの間のＹ軸方向に沿った相対的な位置関係を変更する。ｆθレンズ１１２３は、ガルバノミラー１１２２からの複数の加工光ＥＬを塗装膜ＳＦ上に集光するための光学素子である。

　ｆθレンズ１１２３は、光学系１１２が備える光学素子のうち光学系１１２の最も光射出側に位置する（言い換えれば、塗装膜ＳＦに最も近い、又は、複数の加工光ＥＬの光路の終端に位置する）終端光学素子である。但し、光学系１１２は、ｆθレンズ１１２３よりも光射出側に設けられた光学素子（例えば、カバーレンズ等）を備えていてもよい。ｆθレンズ１１２３は、光学系１１２に対して脱着可能なように構成されていてもよい。その結果、光学系１１２から古いｆθレンズ１１２３を取り外した後に、光学系１１２に別のｆθレンズ１１２３を取り付けることが可能となる。但し、ｆθレンズ１１２３よりも射出側に設けられた光学素子（例えば、カバーレンズ等）を光学系１１２が備えている場合には、当該光学素子が終端光学素子となり、当該光学素子が光学系１１２に対して脱着可能なように構成されていてもよい。

　光学系１１２からの複数の加工光ＥＬの進行方向は、例えば互いに平行になる。その結果、第１実施形態では、塗装膜ＳＦに、進行方向が互いに平行な複数の加工光ＥＬが同時に照射される。つまり、塗装膜ＳＦ上には、複数の目標照射領域ＥＡが同時に設定される。このため、塗装膜ＳＦに単一の加工光ＥＬが照射される場合と比較して、塗装膜ＳＦの加工に関するスループットが向上する。尚、光学系１１２からの複数の加工光ＥＬの進行方向は、互いに平行でなくてもよい。

　尚、光照射装置１１は、光源系１１１を備えていなくてもよい。この場合、光照射装置１１は、光照射装置１１の外部に配置される光源系１１１から射出される複数の加工光ＥＬを、光学系１１２を用いて塗装膜ＳＦに照射してもよい。具体的には、例えば、光源系１１１を備えていない光照射装置１１の構造を模式的に示す断面図である図４に示すように、光照射装置１１には、光照射装置１１の外部に配置される光源系１１１から、光ファイバ等の光伝送部材１１３を介して、複数の加工光ＥＬが入射してもよい。光照射装置１１は、伝送部材１１３を介して光照射装置１１に入射した複数の加工光ＥＬを、光学系１１２を用いて塗装膜ＳＦに照射してもよい。尚、図４は、光学系１１２が筐体１１４に収容される例を示しているが、光学系１１２が筐体１１４に収容されていなくてもよい。つまり、光照射装置１１は、筐体１１４を備えていてもよいし、筐体１１４を備えていなくてもよい。また、光照射装置１１が光源系１１１を備えている場合であっても、光学系１１２が筐体１１４に収容されていてもよいし、光学系１１２が筐体１１４に収容されていなくてもよい。光源系１１１が筐体１１４に収容されていてもよいし、光源系１１１が筐体１１１に収容されていなくてもよい。ここで、光伝送部材１１３として、ライトパイプや、一以上のレンズやミラーを含むリレー光学系等を用いてもよい。

　再び図１において、駆動系１２は、制御装置２の制御下で、光照射装置１１を、塗装膜ＳＦに対して（つまり、塗装膜ＳＦが表面に形成された加工対象物Ｓに対して）移動させる。つまり、駆動系１２は、光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対的な位置関係を変更するように、光照射装置１１を塗装膜ＳＦに対して移動させる。光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの間の相対的な位置関係が変更されると、複数の加工光ＥＬがそれぞれ照射される複数の目標照射領域ＥＡと塗装膜ＳＦとの間の相対的な位置関係もまた変更される。このため、駆動系１２は、複数の目標照射領域ＥＡと塗装膜ＳＦとの相対的な位置関係を変更するように、光照射装置１１を塗装膜ＳＦに対して移動させるとも言える。

　駆動系１２は、塗装膜ＳＦの表面に沿って、光照射装置１１を移動させてもよい。図１に示す例では、塗装膜ＳＦの表面は、Ｘ軸及びＹ軸のうち少なくとも一方に平行な平面であるため、駆動系１２は、Ｘ軸及びＹ軸の少なくとも一方に沿って、光照射装置１１を移動させてもよい。その結果、塗装膜ＳＦ上で目標照射領域ＥＡがＸ軸及びＹ軸の少なくとも一方に沿って移動する。つまり、光照射装置１１が加工光ＥＬを照射可能な範囲が変更される。駆動系１２は、塗装膜ＳＦの厚み方向（つまり、塗装膜ＳＦの表面に交差する方向）に沿って、光照射装置１１を移動させてもよい。図１に示す例では、塗装膜ＳＦの厚み方向は、Ｚ軸に沿った方向であるため、駆動系１２は、Ｚ軸方向に沿って、光照射装置１１を移動させてもよい。駆動系１２は、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸の少なくとも一つに加えて、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向の少なくとも一つの回転方向に沿って、光照射装置１１を移動させてもよい。

　駆動系１２は、光照射装置１１を支持すると共に、当該支持している光照射装置１１を移動させる。この場合、駆動系１２は、例えば、光照射装置１１を支持する第１支持部材と、当該第１支持部材を移動させる第１移動機構とを備えていてもよい。

　第１実施形態では、駆動系１２は、第１駆動系１２１と、第２駆動系１２２とを備える。第１駆動系１２１には、第２駆動系１２１が取り付けられている。第１駆動系１２１は、第２駆動系１２２を支持する。第２駆動系１２２には、取付部材１９を介して光照射装置１１が取り付けられている。第２駆動系１２２は、取付部材１９を介して光照射装置１１を支持する。このため、第２駆動系１２２は、実質的には、第１駆動系１２１と光照射装置１１とを接続する接続装置として機能してもよい。尚、第２駆動系１２２は、取付部材１９を介することなく光照射装置１１を支持してもよい。例えば、第２駆動系１２２は、図４に示す筐体１１４を支持することで、光照射装置１１を支持してもよい。

　第１駆動系１２１は、制御装置２の制御下で、第２駆動系１２２を塗装膜ＳＦに対して移動させる。つまり、第１駆動系１２１は、第２駆動系１２２を塗装膜ＳＦに対して移動させる移動装置として機能する。第２駆動系１２２に光照射装置１１が取り付けられているため、第１駆動系１２１は、第２駆動系１２２を移動させることで、光照射装置１１を塗装膜ＳＦに対して移動させていると言える。つまり、第１駆動系１２１は、第２駆動系１２２と共に光照射装置１１を移動させる。第２駆動系１２２は、制御装置２の制御下で、第２駆動系１２２を塗装膜ＳＦに対して移動させる。つまり、第２駆動系１２２は、光照射装置１１を塗装膜ＳＦに対して移動させる移動装置として機能する。

　尚、第１駆動系１２１及び第２駆動系１２２の具体的な構造については後に詳述するため（図５及び図６参照）、ここでの詳細な説明は省略する。

　収容装置１３は、天井部材１３１と、隔壁部材１３２とを備えている。天井部材１３１は、光照射装置１１の＋Ｚ側に配置される。天井部材１３１は、ＸＹ平面に沿った板状の部材である。天井部材１３１は、駆動系１２を支持する。具体的には、天井部材１３１には、第１駆動系１２１が取り付けられている。つまり、天井部材１３１は、第１駆動系１２１を支持する。また、上述したように第１駆動系１２１に第２駆動系１２２が取り付けられているため、天井部材１３１には、第１駆動系１２１を介して第２駆動系１２２が取り付けられる。つまり、天井部材１３１は、第１駆動系１２１を介して第２駆動系１２２を支持する。また、上述したように第２駆動系１２２に光照射装置１１が取り付けられているため、天井部材１３１には、第１駆動系１２１及び第２駆動系１２２を介して光照射装置１１が取り付けられる。天井部材１３１は、第１駆動系１２１及び第２駆動系１２２を介して光照射装置１１を支持する。天井部材１３１の－Ｚ側の面の外縁（或いは、その近傍）には、隔壁部材１３２が配置されている。隔壁部材１３２は、天井部材１３１から－Ｚ側に向かって延伸する筒状（例えば、円筒状の又は矩形筒状の）の部材である。天井部材１３１と隔壁部材１３２とによって囲まれた空間は、光照射装置１１及び駆動系１２を収容するための収容空間ＳＰとなる。従って、上述した駆動系１２は、収容空間ＳＰ内で光照射装置１１を移動させる。更に、収容空間ＳＰは、光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの間の空間（特に、加工光ＥＬの光路を含む空間）を含んでいる。より具体的には、収容空間ＳＰは、光照射装置１１が備える終端光学素子（例えば、ｆθレンズ１１２３）と塗装膜ＳＦとの間の空間（特に、加工光ＥＬの光路を含む空間）を含んでいる。

　天井部材１３１及び隔壁部材１３２のそれぞれは、加工光ＥＬを遮光可能な部材である。つまり、天井部材１３１及び隔壁部材１３２のそれぞれは、加工光ＥＬの波長に対して不透明である。その結果、収容空間ＳＰ内を伝搬する加工光ＥＬが収容空間ＳＰの外部（つまり、収容装置１３の外部）に漏れ出てくることはない。尚、天井部材１３１及び隔壁部材１３２のそれぞれは、加工光ＥＬを減光可能な部材であってもよい。つまり、天井部材１３１及び隔壁部材１３２のそれぞれは、加工光ＥＬの波長に対して半透明であってもよい。更に、天井部材１３１及び隔壁部材１３２のそれぞれは、加工光ＥＬの照射によって発生した不要物質を透過させない（つまり、遮蔽可能な）部材である。不要物質の一例として、塗装膜ＳＦの蒸気があげられる。その結果、収容空間ＳＰ内で発生した不要物質が収容空間ＳＰの外部（つまり、収容装置１３の外部）に漏れ出てくることはない。

　隔壁部材１３２の端部（具体的には、塗装膜ＳＦ側の端部であり、図１に示す例では、－Ｚ側の端部）１３４は、塗装膜ＳＦの表面に接触可能である。端部１３４が塗装膜ＳＦに接触する場合には、収容装置１３（つまり、天井部材１３１及び隔壁部材１３２）は、塗装膜ＳＦと協働して収容空間ＳＰの密閉性を維持する。端部１３４は、塗装膜ＳＦと接触した場合に、塗装膜ＳＦの表面の形状に応じてその形状（特に、端部１３４のうち塗装膜ＳＦに接触する接触面（図１に示す例では、－Ｚ側の面）の形状、以下同じ）を変化させることが可能である。例えば、表面が平面形状の塗装膜ＳＦに端部１３４が接触する場合には、端部１３４の形状は、塗装膜ＳＦと同様に平面形状になる。例えば、表面が曲面形状の塗装膜ＳＦに端部１３４が接触する場合には、端部１３４の形状は、塗装膜ＳＦと同様に曲面形状になる。その結果、端部１３４が塗装膜ＳＦの表面の形状に応じてその形状を変化させることができない場合と比較して、収容空間ＳＰの密閉性が向上する。形状を変化させることが可能な端部１３４の一例として、ゴム等の弾性を有する部材（言い換えれば、柔軟な部材）から形成されている端部１３４があげられる。尚、形状を変化させることが可能な端部１３４として、例えば弾性を有する構造である蛇腹状の端部が用いられてもよい。

　端部１３４は、塗装膜ＳＦに接触した状態で塗装膜ＳＦに付着可能であってもよい。例えば、端部１３４は、塗装膜ＳＦに吸着可能な吸着機構を備えていてもよい。端部１３４が塗装膜ＳＦに付着すると、端部１３４が塗装膜ＳＦに付着していない場合と比較して、収容空間ＳＰの密閉性がより一層向上する。但し、端部１３４が塗装膜ＳＦに付着可能でなくてもよい。この場合であっても、端部１３４が塗装膜ＳＦに接触する限りは、収容空間ＳＰの密閉性が相応に維持されることに変わりはない。

　隔壁部材１３２は、制御装置２の制御下で動作する不図示の駆動系（例えば、アクチュエータ）によって、Ｚ軸方向に沿って伸縮可能な部材である。例えば、隔壁部材１３２は、蛇腹状の部材（いわゆる、ベローズ）であってもよい。この場合、隔壁部材１３２は、蛇腹部分の伸縮によって伸縮可能である。或いは、例えば、隔壁部材１３２は、異なる径を有する複数の中空状の円筒部材が組み合わせられたテレスコピックパイプを備えていてもよい。この場合、隔壁部材１３２は、複数の円筒部材の相対的な移動によって伸縮可能である。隔壁部材１３２の状態は、少なくとも、隔壁部材１３２がＺ軸方向に沿って伸びることでＺ軸方向の長さが相対的に長い第１伸長状態と、隔壁部材１３２がＺ軸方向に沿って縮小することでＺ軸方向の長さが相対的に短い第１縮小状態とに設定可能である。

　隔壁部材１３２が第１伸長状態にある場合には、端部１３４は、塗装膜ＳＦに接触可能な第１接触状態にある。一方で、隔壁部材１３２が第１縮小状態にある場合には、端部１３４は、塗装膜ＳＦに接触しない第１非接触状態にある。つまり、隔壁部材１３２が第１縮小状態にある場合には、端部１３４は、塗装膜ＳＦから＋Ｚ側に離れている第１非接触状態にある。尚、端部１３４の状態を第１接触状態と第１非接触状態との間で切り換えるための構成は、隔壁部材１３２を伸縮する構成には限定されない。例えば、収容装置１３自体を±Ｚ方向に沿って移動可能な構成とすることで、端部１３４の状態を第１接触状態と第１非接触状態との間で切り換えてもよい。

　収容装置１３は更に、検出装置１３５を備えている。検出装置１３５は、収容空間ＳＰ内の不要物質（つまり、加工光ＥＬの照射によって発生した物質）を検出する。検出装置１３５の検出結果は、後に詳述するように、隔壁部材１３２の状態を第１伸長状態から第１縮小状態へと変える際に制御装置２によって参照される。

　支持装置１４は、収容装置１３を支持する。収容装置１３が駆動系１２及び光照射装置１１を支持しているため、支持装置１４は、実質的には、収容装置１３を介して駆動系１２及び光照射装置１１を支持している。収容装置１３を支持するために、支持装置１４は、梁部材１４１と、複数の脚部材１４２とを備えている。梁部材１４１は、収容装置１３の＋Ｚ側に配置される。梁部材１４１は、ＸＹ平面に沿って延伸する梁状の部材である。梁部材１４１は、支持部材１４３を介して収容装置１３を支持する。梁部材１４１には、複数の脚部材１４２が配置されている。脚部材１４２は、梁部材１４１から－Ｚ側に向かって延伸する棒状の部材である。

　脚部材１４２の端部（具体的には、塗装膜ＳＦ側の端部であり、図１に示す例では、－Ｚ側の端部）１４４は、塗装膜ＳＦの表面に接触可能である。その結果、支持装置１４は、塗装膜ＳＦによって（つまり、加工対象物Ｓによって）支持される。つまり、支持装置１４は、端部１４４が塗装膜ＳＦに接触した状態で（言い換えれば、支持装置１４が塗装膜Ｓによって支持された状態で）収容装置１３を支持する。端部１４４は、収容装置１３の端部１３４と同様に、塗装膜ＳＦと接触した場合に、塗装膜ＳＦの表面の形状に応じてその形状（特に、端部１４４のうち塗装膜ＳＦに接触する接触面（図１に示す例では、－Ｚ側の面）の形状、以下同じ）を変化させることが可能であってもよい。端部１４４は、塗装膜ＳＦに接触した状態で塗装膜ＳＦに付着可能であってもよい。例えば、端部１４４は、塗装膜ＳＦに吸着可能な吸着機構を備えていてもよい。端部１４４が塗装膜ＳＦに付着すると、端部１４４が塗装膜ＳＦに付着していない場合と比較して、支持装置１４の安定性が向上する。但し、端部１４４が塗装膜ＳＦに付着可能でなくてもよい。

　梁部材１４１は、制御装置２の制御下で動作する駆動系１５によって、Ｘ軸及びＹ軸の少なくとも一方に沿って（或いは、ＸＹ平面に沿った任意の方向に沿って）伸縮可能な部材である。例えば、梁部材１４１は、異なる径を有する複数の筒部材が組み合わせられたテレスコピックパイプを備えていてもよい。この場合、梁部材１４１は、複数の筒部材の相対的な移動によって伸縮可能である。

　脚部材１４２は、制御装置２の制御下で動作する駆動系１５によって、Ｚ軸方向に沿って伸縮可能な部材である。例えば、脚部材１４２は、異なる径を有する複数の筒部材が組み合わせられたテレスコピックパイプを備えていてもよい。この場合、脚部材１４２は、複数の筒部材の相対的な移動によって伸縮可能である。脚部材１４２の状態は、少なくとも、脚部材１４２がＺ軸方向に沿って伸びることでＺ軸方向の長さが相対的に長い第２伸長状態と、脚部材１４２がＺ軸方向に沿って縮小することでＺ軸方向の長さが相対的に短い第２縮小状態とに設定可能である。脚部材１４２が第２伸長状態にある場合には、端部１４４は、塗装膜ＳＦに接触可能な第２接触状態にある。一方で、脚部材１４２が第２縮小状態にある場合には、端部１４４は、塗装膜ＳＦに接触しない第２非接触状態にある。つまり、脚部材１４２が第２縮小状態にある場合には、端部１４４は、塗装膜ＳＦから＋Ｚ側に離れている第２非接触状態にある。

　駆動系１５は、制御装置２の制御下で、支持装置１４を塗装膜ＳＦに対して（つまり、塗装膜ＳＦが表面に形成された加工対象物Ｓに対して）移動させる。つまり、駆動系１５は、支持装置１４と塗装膜ＳＦとの相対的な位置関係を変更するように、支持装置１４を塗装膜ＳＦに対して移動させる。支持装置１４が収容装置１３を支持しているため、駆動系１５は、実質的には、支持装置１４を移動させることで、収容装置１３を塗装膜ＳＦに対して移動させる。つまり、駆動系１５は、実質的には、収容装置１３と塗装膜ＳＦとの相対的な位置関係を変更するように、支持装置１４を塗装膜ＳＦに対して移動させる。更に、収容装置１３は、駆動系１２を介して光照射装置１１を支持している。このため、駆動系１５は、実質的には、支持装置１４を移動させることで、光照射装置１１を塗装膜ＳＦに対して移動させることができる。つまり、駆動系１５は、実質的には、光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対的な位置関係を変更するように、支持装置１４を塗装膜ＳＦに対して移動させることができる。言い換えれば、駆動系１５は、実質的には、複数の目標照射領域ＥＡと塗装膜ＳＦとの相対的な位置関係を変更するように、支持装置１４を塗装膜ＳＦに対して移動させることができる。

　駆動系１５は、支持装置１４を移動させるために、制御装置２の制御下で、梁部材１４１を伸縮させる。更に、駆動系１５は、支持装置１４を移動させるために、制御装置２の制御下で、複数の脚部材１４２を伸縮させる。尚、駆動系１５による支持装置１４の移動態様については、図９から図２０を参照しながら後に詳述する。

　排気装置１６は、排気管１６１を介して収容空間ＳＰに連結されている。排気装置１６は、収容空間ＳＰ内の気体を排気可能である。特に、排気装置１６は、収容空間ＳＰ内の気体を排気することで、加工光ＥＬの照射によって発生した不要物質を、収容空間ＳＰから収容空間ＳＰの外部に吸引可能である。特に、この不要物質が加工光ＥＬの光路上に存在する場合、塗装膜ＳＦに対する加工光ＥＬの照射に影響を与える可能性がある。このため、排気装置１６は特に、光学系１１２の終端光学素子と塗装膜ＳＦとの間の加工光ＥＬの光路を含む空間から、当該空間内の気体と共に不要物質を吸引する。排気装置１６が収容空間ＳＰから吸引した不要物質は、フィルタ１６２を介して加工装置１の外部へと排出される。フィルタ１６２は、不要物質を吸着する。尚、フィルタ１６２は、着脱可能であってもよいし、交換可能であってもよい。

　気体供給装置１７は、吸気管１７１を介して収容空間ＳＰに連結されている。気体供給装置１７は、収容空間ＳＰに気体を供給可能である。収容空間ＳＰに供給する気体としては、大気、ＣＤＡ（クリーン・ドライ・エア）及び不活性ガスの少なくとも一つがあげられる。不活性ガスの一例として、窒素ガスがあげられる。第１実施形態では、気体供給装置１７はＣＤＡを供給するものとする。このため、収容空間ＳＰは、ＣＤＡによってパージされた空間となる。収容空間ＳＰに供給されたＣＤＡの少なくとも一部は、排気装置１６によって吸引される。排気装置１６が収容空間ＳＰから吸引したＣＤＡは、フィルタ１６２を通過して加工システムＳＹＳａの外部へと排出される。

　気体供給装置１７は特に、図３に示すｆθレンズ１１２３の収容空間ＳＰ側の光学面１１２４（つまり、光学系１１２の終端光学素子の収容空間ＳＰ側の光学面）にＣＤＡ等の気体を供給する。光学面１１２４は、収容空間ＳＰに面しているがゆえに、加工光ＥＬの照射によって発生した不要物質にさらされる可能性がある。その結果、光学面１１２４に不要物質が付着してしまう可能性がある。更に、加工光ＥＬが光学面１１２４を通過するがゆえに、光学面１１２４を通過する加工光ＥＬによって光学面１１２４に付着した不要物質が焼き付けられる（つまり、固着してしまう）可能性がある。光学面１１２４に付着した（更には、固着した）不要物質は、光学面１１２４の汚れとなって加工光ＥＬの特性に影響を与えかねない。しかるに、光学面１１２４にＣＤＡ等の気体が供給されると、光学面１１２４と不要物質との接触が防止される。このため、光学面１１２４への汚れの付着が防止される。従って、気体供給装置１７は、光学面１１２４への汚れの付着を防止する付着防止装置としても機能する。更には、光学面１１２４に汚れが付着（更には、固着）してしまった場合であっても、光学面１１２４に供給されたＣＤＡによって汚れが除去される（例えば、吹き飛ばされる）可能性がある。従って、気体供給装置１７は、光学面１１２４に付着した汚れを除去する付着防止装置としても機能し得る。

　位置計測装置１８は、塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対的な位置関係を計測する。つまり、位置計測装置１８は、加工対象物Ｓと光照射装置１１との相対的な位置関係を計測する。第１実施形態では、位置計測装置１８は、光照射装置１１に対する塗装膜ＳＦの位置を計測する。つまり、位置計測装置１８は、光照射装置１１に対する加工対象物Ｓの位置を計測する。

　光照射装置１１に対する塗装膜ＳＦの位置（つまり、加工対象物Ｓの位置、以下同じ）を計測するために、位置計測装置１８は、塗装膜ＳＦを計測してもよい。つまり、位置計測装置１８は、加工対象物ＳＦを計測してもよい。この場合、位置計測装置１８は、塗装膜ＳＦ及び加工対象物Ｓの少なくとも一方を含む物体を計測するがゆえに、物体計測装置と称されてもよい。

　位置計測装置１８は、光照射装置１１（特に、光学系１１２）に対して固定された位置に配置されてもよい。位置計測装置１８は、光照射装置１１に対する相対位置が固定された位置に配置されてもよい。位置計測装置１８は、駆動系１２が光照射装置１１を移動させたとしても光照射装置１１と位置計測装置１８との相対位置が変わらない位置に配置されてもよい。例えば、図１は、位置計測装置１８が、光照射装置１１が取り付けられる取付部材１９に取り付けられている例を示している。但し、位置計測装置１８は、取付部材１９とは異なる部材に取り付けられてもよい。例えば、位置計測装置１８は、光照射装置１１に取り付けられてもよい。例えば、位置計測装置１８は、上述した筐体１１４（図４参照）に取り付けられてもよい。

　光照射装置１１に対して固定された位置に位置計測装置１８が配置される場合には、位置計測装置１８からの出力（つまり、位置計測装置１８の計測結果）は、光照射装置１１に対する塗装膜ＳＦの位置に関する情報を含むことになる。具体的には、位置計測装置１８の計測結果は、位置計測装置１８に対する塗装膜ＳＦの位置に関する情報を含む。つまり、位置計測装置１８の計測結果は、位置計測装置１８の計測座標系における塗装膜ＳＦの位置に関する情報を含む。ここで、光照射装置１１に対して固定された位置に位置計測装置１８が配置されている場合には、位置計測装置１８に対する塗装膜ＳＦの位置に関する情報は、実質的には、位置計測装置１８に対して固定された位置に配置されている光照射装置１１に対する塗装膜ＳＦの位置に関する情報を含むことになる。従って、制御装置２は、光照射装置１１に対する塗装膜ＳＦの位置を適切に特定することができる。

　位置計測装置１８は、塗装膜ＳＦを計測可能である限りは、どのような種類の計測装置であってもよい。例えば、位置計測装置１８は、塗装膜ＳＦ等の物体を撮像可能な撮像装置（つまり、カメラ）を含んでいてもよい。位置計測装置１８は、塗装膜ＳＦ上で所定のパターンを描く計測光を塗装膜ＳＦに照射する照射装置と、計測光によって塗装膜ＳＦに描かれたパターンを撮像する撮像装置とを含んでいてもよい。このように、位置計測装置１８は、非接触方式（一例として、光検出方式、音波検出方式及び電波検出方式等の少なくとも一つ）で塗装膜ＳＦを計測する計測装置であってもよい。尚、複数の位置計測装置１８が設けられていてもよい。この場合、各々の位置計測装置１８の計測軸（撮像方式等の光計測方式では、典型的には光軸）は、互いに交差する（或いはねじれ）関係であってもよく、互いに平行（又は同軸）であってもよい。

　制御装置２は、加工システムＳＹＳａの全体の動作を制御する。特に、制御装置２は、後に詳述するように、所望の形状の凹部Ｃが所望の位置に形成されるように、光照射装置１１、駆動系１２、収容装置１３及び駆動系１５を制御する。

　制御装置２は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　Ｕｎｉｔ）（或いは、ＣＰＵに加えて又は代えてＧＰＵ（Ｇｒａｐｈｉｃｓ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　Ｕｎｉｔ））と、メモリとを含んでいてもよい。制御装置２は、ＣＰＵがコンピュータプログラムを実行することで、加工システムＳＹＳａの動作を制御する装置として機能する。このコンピュータプログラムは、制御装置２が行うべき後述する動作を制御装置２（例えば、ＣＰＵ）に行わせる（つまり、実行させる）ためのコンピュータプログラムである。つまり、このコンピュータプログラムは、加工システムＳＹＳａに後述する動作を行わせるように制御装置２を機能させるためのコンピュータプログラムである。ＣＰＵが実行するコンピュータプログラムは、制御装置２が備えるメモリ（つまり、記録媒体）に記録されていてもよいし、制御装置２に内蔵された又は制御装置２に外付け可能な任意の記憶媒体（例えば、ハードディスクや半導体メモリ）に記録されていてもよい。或いは、ＣＰＵは、実行するべきコンピュータプログラムを、ネットワークインタフェースを介して、制御装置２の外部の装置からダウンロードしてもよい。

　制御装置２は、加工システムＳＹＳａの内部に設けられていなくてもよく、例えば、加工システムＳＹＳａ外にサーバ等として設けられていてもよい。この場合、制御装置２と加工システムＳＹＳａとは、有線及び／又は無線のネットワーク（或いは、データバス及び／又は通信回線）で接続されていてもよい。有線のネットワークとして、例えばＩＥＥＥ１３９４、ＲＳ－２３２ｘ、ＲＳ－４２２、ＲＳ－４２３、ＲＳ－４８５及びＵＳＢの少なくとも一つに代表されるシリアルバス方式のインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。有線のネットワークとして、パラレルバス方式のインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。有線のネットワークとして、１０ＢＡＳＥ－Ｔ、１００ＢＡＳＥ－ＴＸ及び１０００ＢＡＳＥ－Ｔの少なくとも一つに代表されるイーサネット（登録商標）に準拠したインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。無線のネットワークとして、電波を用いたネットワークが用いられてもよい。電波を用いたネットワークの一例として、ＩＥＥＥ８０２．１ｘに準拠したネットワーク（例えば、無線ＬＡＮ及びＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）の少なくとも一方）があげられる。無線のネットワークとして、赤外線を用いたネットワークが用いられてもよい。無線のネットワークとして、光通信を用いたネットワークが用いられてもよい。この場合、制御装置２と加工システムＳＹＳａとはネットワークを介して各種の情報の送受信が可能となるように構成されていてもよい。また、制御装置２は、ネットワークを介して加工システムＳＹＳａにコマンドや制御パラメータ等の情報を送信可能であってもよい。加工システムＳＹＳａは、制御装置２からのコマンドや制御パラメータ等の情報を、上記ネットワークを介して受信する受信装置を備えていてもよい。或いは、制御装置２が行う処理のうちの一部を行う第１制御装置が加工システムＳＹＳａの内部に設けられている一方で、制御装置２が行う処理のうちの他の一部を行う第２制御装置が加工システムＳＹＳａの外部に設けられていてもよい。

　尚、ＣＰＵが実行するコンピュータプログラムを記録する記録媒体としては、ＣＤ－ＲＯＭ、ＣＤ－Ｒ、ＣＤ－ＲＷやフレキシブルディスク、ＭＯ、ＤＶＤ－ＲＯＭ、ＤＶＤ－ＲＡＭ、ＤＶＤ－Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ－ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ及びＢｌｕ－ｒａｙ（登録商標）等の光ディスク、磁気テープ等の磁気媒体、光磁気ディスク、ＵＳＢメモリ等の半導体メモリ、及び、その他プログラムを格納可能な任意の媒体の少なくとも一つが用いられてもよい。記録媒体には、コンピュータプログラムを記録可能な機器（例えば、コンピュータプログラムがソフトウェア及びファームウェア等の少なくとも一方の形態で実行可能な状態に実装された汎用機器又は専用機器）が含まれていてもよい。更に、コンピュータプログラムに含まれる各処理や機能は、制御装置２（つまり、コンピュータ）がコンピュータプログラムを実行することで制御装置２内に実現される論理的な処理ブロックによって実現されてもよいし、制御装置２が備える所定のゲートアレイ（ＦＰＧＡ、ＡＳＩＣ）等のハードウェアによって実現されてもよいし、論理的な処理ブロックとハードウェアの一部の要素を実現する部分的ハードウェアモジュールとが混在する形式で実現してもよい。

　（１－２）駆動系１２の構造
　続いて、駆動系１２の構造について説明する。上述したように、駆動系１２が第１駆動系１２１と第２駆動系１２２とを備えているがゆえに、以下では、第１駆動系１２１の構造と第２駆動系１２２の構造とを順に説明する。

　（１－２－１）駆動系１２１の構造
　はじめに、図５を参照しながら、第１駆動系１２１の構造について説明する。図５は、第１駆動系１２１の構造を示す断面図である。

　図５に示すように、第１駆動系１２１は、基台１２１１と、アーム駆動系１２１２とを備えている。

　基台１２１１は、収容装置１３の天井部材１３１に取り付けられている。基台１２１１には、アーム駆動系１２１２が取り付けられている。基台１２１１は、アーム駆動系１２１１を支持する。基台１２１１は、アーム駆動系１２１１を支持するためのベース部材として用いられる。

　アーム駆動系１２１２は、複数のアーム部材１２１２１を備えている。複数のアーム部材１２１２１は、少なくとも一つのジョイント部材１２１２２を介して揺動自在に連結されている。従って、アーム駆動系１２１２は、いわゆる垂直多関節構造を有するロボットである。アーム駆動系１２１２は、単一の関節（つまり、ジョイント部材１２１２２によって規定される駆動軸）を備えていてもよい。或いは、アーム駆動系１２１２は、複数の関節を備えていてもよい。図５は、アーム駆動系１２１２が三つの関節を備えている例を示している。各関節を介して連結されている二つのアーム部材１２１２１は、各関節に対応するアクチュエータ１２１２３によって揺動する。図５は、三つの関節に対応してアーム駆動系１２１２が三つのアクチュエータ１２１２３を備えている例を示している。その結果、少なくとも一つのアーム部材１２１２１が移動する。このため、少なくとも一つのアーム部材１２１２１は、塗装膜ＳＦに対して移動可能である。つまり、少なくとも一つのアーム部材１２１２１は、少なくとも一つのアーム部材１２１２１と塗装膜ＳＦとの相対的な位置関係が変更されるように移動可能である。

　アーム駆動系１２１２には、第２駆動系１２２が取り付けられている。具体的には、複数のアーム部材１２１２１のうちの基台１２１１から最も遠い位置に位置する一のアーム部材１２１２１に、第２駆動系１２２が取り付けられている。以下、説明の便宜上、第２駆動系１２２が取り付けられる一のアーム部材１２１２１を、先端アーム部材１２１２４と称する。第２駆動系１２２は、先端アーム部材１２１２４に直接取り付けられていてもよいし、他の部材（例えば、後述する第６実施形態において図３０を参照しながら説明する取付部材１２１３等）を介して先端アーム部材１２１２４に間接的に取り付けられていてもよい。

　上述したアクチュエータ１２１２３によって先端アーム部材１２１２４が移動すると、先端アーム部材１２１２４に取り付けられている第２駆動系１２２もまた移動する。このため、アーム駆動系１２１２（つまり、第１駆動系１２１）は、第２駆動系１２２を移動させることができる。具体的には、アーム駆動系１２１２は、塗装膜ＳＦに対して第２駆動系１２２を移動させることができる。アーム駆動系１２１２は、第２駆動系１２２と塗装膜ＳＦとの相対的な位置関係が変更されるように、第２駆動系１２２を移動させることができる。また、第２駆動系１２２が移動すると、第２駆動系１２２に取り付けられている光照射装置１１もまた移動する。このため、アーム駆動系１２１２（つまり、第１駆動系１２１）は、光照射装置１１を移動させることができる。

　制御装置２は、位置計測装置１８の計測結果に基づいて、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。具体的には、制御装置２は、位置計測装置１８の計測結果に基づいて塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対的な位置関係に関する情報を取得し、塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対的な位置関係に関する情報に基づいて、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。尚、位置計測装置１８が撮像装置を備えている場合には、制御装置２は、位置計測装置１８の計測結果（つまり、撮像装置が撮像した画像）に基づく視覚サーボ（ビジュアルサーボ）を利用して、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。尚、視覚サーボをビジョンサーボと称してもよい。また、光照射装置１１は、その振動を計測するための運動計測センサとしての加速度センサを備えていてもよい。この場合、制御装置２は、加速度センサの計測結果に基づいて、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。

　一例として、例えば、制御装置２は、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１が移動するように、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。つまり、制御装置２は、光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対位置を変更するように、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。この際、制御装置２は、塗装膜ＳＦと光照射装置１１との位置合わせを行うように、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。制御装置２は、塗装膜ＳＦと光照射装置１１から加工光ＥＬが照射される目標照射領域ＥＡとの位置合わせを行うように、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。一例として、制御装置２は、塗装膜ＳＦ上の所望位置に目標照射領域ＥＡが設定される（つまり、加工光ＥＬが照射される）ように、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。制御装置２は、塗装膜ＳＦ上の所望経路を目標照射領域ＥＡが移動するように、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。尚、制御装置２は、アーム駆動系１２１２の関節部分に設けられ複数のアーム部材１２１２１間の角度を検出するエンコーダからの出力を用いて、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。

　尚、第１実施形態における「光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対位置」は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、Ｘ軸の回転周り（つまり、θＸ方向に相当する回転方向）、Ｙ軸の回転周り（つまり、θＹ方向に相当する回転方向）及びＺ軸の回転周り（つまり、θＺ方向に相当する回転方向）の少なくとも一つにおける光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対位置を意味する。つまり、第１実施形態における「光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対位置」は、光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対姿勢をも含んでいてもよい。

　光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対位置が変更されると目標照射領域ＥＡと塗装膜ＳＦとの相対位置が変更されるがゆえに、位置計測装置１８は、光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対的な位置関係を計測することに加えて又は代えて、塗装膜ＳＦと加工光ＥＬの照射位置との相対的な位置関係（例えば、塗装膜ＳＦ上での加工光ＥＬの照射位置）を計測してもよい。例えば、位置計測装置１８は、光照射装置１１が塗装膜ＳＦに加工光ＥＬを照射している期間の少なくとも一部において、塗装膜ＳＦに対する加工光ＥＬの照射位置を計測してもよい。例えば、位置計測装置１８は、光照射装置１１が塗装膜ＳＦに加工光ＥＬを照射し終わった後に、塗装膜ＳＦにおける加工光ＥＬの照射位置（つまり、加工光ＥＬが実際に照射された位置であって、例えば、加工光ＥＬによって加工された部分の位置）を計測してもよい。例えば、位置計測装置１８は、塗装膜ＳＦ上に形成された感応性部材（具体的には、加工光ＥＬの照射によって特性が変化する部材であり、例えば、後述の第３実施形態で説明する感応性部材ＰＥ）に対して光照射装置１１が加工光ＥＬを照射し終わった後に、感応性部材における加工光ＥＬの照射位置（つまり、感応性部材のうち加工光ＥＬの照射によって特性が変化した部分の位置）を計測してもよい。この場合であっても、制御装置２は、位置計測装置１８の計測結果に基づいて、塗装膜ＳＦと光照射装置１１との位置合わせ（つまり、塗装膜ＳＦと目標照射領域ＥＡとの位置合わせ）を行うように、アーム駆動系１２１２を制御してもよい。尚、位置計測装置１８は加工光ＥＬの照射位置そのものを計測してもよい。この場合、位置計測装置１８が加工光ＥＬの波長の光を計測してもよい。

　尚、第１駆動系１２１は、多関節ロボットには限定されず、第２駆動系１２２を塗装膜ＳＦに対して移動させることが可能である限りは、どのような構造を有していてもよい。例えば、第１駆動系１２１は、複数のリニアガイドを組み合わせた直交多軸移動体であってもよい。例えば、所定の平面内の第１方向に沿って第１のリニアガイドを設け、当該第１のリニアガイドの移動体（第１移動ブロック）上に、第１方向と交差する（典型的には直交する）第２方向に沿って第２のリニアガイドを設けた直交２軸移動体であってもよい。このとき、第２のリニアガイドの移動体（第２移動ブロック）に第２駆動系が取り付けられてもよい。また、上述の直交２軸移動体における第２のリニアガイドの移動体（第２移動ブロック）に、上記所定の平面と交差する第３方向に沿って第３のリニアガイドを設けてもよい。このような直交３軸移動体においては、第３のリニアガイドの移動体（第３移動ブロック）に第２駆動系１２２が取り付けられてもよい。

　（１－２－２）第２駆動系１２２の構造
　続いて、図６を参照しながら、第２駆動系１２２の構造について説明する。図６は、第２駆動系１２２の構造を示す断面図である。

　図６に示すように、第２駆動系１２２は、支持部材１２２１と、支持部材１２２２と、エアスプリング１２２３と、ダンパ部材１２２４と、駆動部材１２２５とを備える。

　支持部材１２２１は、第１駆動系１２１に取り付けられている。具体的には、支持部材１２２１は、第１駆動系１２１の先端アーム部材１２１２４に取り付けられている。支持部材１２２１の被取付面１２２１ａと先端アーム部材１２１２４の最先端に形成された取付面１２１２４ａとが互いに接触するように、支持部材１２２１が先端アーム部材１２１２４に固定されている。ここで、取付面１２１２４ａは、物体としての塗装膜ＳＦに対して移動する部位とみなすことができる。支持部材１２２２は、取付部材１９を介して光照射装置１１に取り付けられている。支持部材１２２２の被取付面１２２２ａと取付部材１９の第１取付面１９ａとが互いに接触するように、支持部材１２２２が取付部材１９に固定されている。そして、取付部材１９の第２取付面１９ｂと光照射装置１１の外面の一部に形成された被取付面１１ａとが互いに接触するように、光照射装置１１が取付部材１９に固定されている。

　支持部材１２２１と支持部材１２２２とは、エアスプリング１２２３、ダンパ部材１２２４及び駆動部材１２２５を介して結合されている（言い換えれば、連結されている、或いは、接続されている）。具体的には、支持部材１２２１のうちの第１駆動系１２１が取り付けられている第１面（図６に示す例では、＋Ｚ側の面）と反対側の第２面（図６に示す例では、－Ｚ側の面）と、支持部材１２２２のうちの取付部材１９が取り付けられている第３面（図６に示す例では、－Ｚ側の面）と反対側の第４面（図６に示す例では、＋Ｚ側の面）との間に、支持部材１２２１と支持部材１２２２とを結合するように、エアスプリング１２２３、ダンパ部材１２２４及び駆動部材１２２５が配置されている。つまり、エアスプリング１２２３、ダンパ部材１２２４及び駆動部材１２２５のそれぞれは、支持部材１２２１と支持部材１２２２とを結合するように、支持部材１２２１及び１２２２に取り付けられている。支持部材１２２１に第１駆動系１２１が取り付けられ且つ支持部材１２２２に光照射装置１１が取り付けられているため、エアスプリング１２２３、ダンパ部材１２２４及び駆動部材１２２５のそれぞれは、実質的には、第１駆動系１２１と光照射装置１１とを結合するように、支持部材１２２１及び１２２２に取り付けられているとも言える。

　エアスプリング１２２３は、制御装置２の制御下で、気体（一例として空気）の圧力に起因した弾性力を、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方に付与する。エアスプリング１２２３は、制御装置２の制御下で、気体の圧力に起因した弾性力を、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方を介して第１駆動系１２１及び光照射装置１１の少なくとも一方に付与する。特に、エアスプリング１２２３は、支持部材１２２１と支持部材１２２２とが並ぶ方向（図６に示す例では、Ｚ軸方向であり、重力方向）に沿って、気体の圧力に起因した弾性力を、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方に付与してもよい。つまり、エアスプリング１２２３は、第１駆動系１２１（特に、先端アーム部材１２１２４）と光照射装置１１とが並ぶ方向（図６に示す例では、Ｚ軸方向であり、重力方向）に沿って、気体の圧力に起因した弾性力を、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方を介して第１駆動系１２１及び光照射装置１１の少なくとも一方に付与してもよい。尚、エアスプリング１２２３は、弾性部材と称されてもよい。

　気体の圧力に起因した弾性力を付与するために、エアスプリング１２２３には、気体供給装置１２２６１から配管１２２６２及びバルブ１２２６３を介して気体が供給される。制御装置２は、エアスプリング１２２３内の機体の圧力を計測する圧力計１２２６の計測結果に基づいて、気体供給装置１２２６１及びバルブ１２２６３の少なくとも一方を制御する。尚、気体供給装置１２２６１、配管１２２６２及びバルブ１２２６３は無くてもかまわない。この場合、エアスプリング１２２３は、制御装置２の制御とは無関係に、内部の気体の圧力に起因した弾性力を、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方に付与してもよい。

　エアスプリング１２２３は、制御装置２の制御下で、弾性力を利用して、支持部材１２２２の重量を支持してもよい。具体的には、エアスプリング１２２３は、弾性力を利用して、支持部材１２２１と支持部材１２２２とが並ぶ方向に沿って支持部材１２２２の重量を支持してもよい。支持部材１２２２に光照射装置１１が取り付けられているため、エアスプリング１２２３は、弾性力を利用して、支持部材１２２２に取り付けられた光照射装置１１の重量を支持してもよい。具体的には、エアスプリング１２２３は、弾性力を利用して、第１駆動系１２１（特に、先端アーム部材１２１２４）と光照射装置１１とが並ぶ方向に沿って光照射装置１１の重量を支持してもよい。この場合、エアスプリング１２２３は、光照射装置１１の自重をキャンセルする自重キャンセラとして機能してもよい。尚、エアスプリング１２２３は、制御装置２の制御とは無関係に、弾性力を利用して、支持部材１２２２の重量を支持してもよい。

　エアスプリング１２２３は、制御装置２の制御下で、弾性力を利用して、第１駆動系１２１と光照射装置１１との間で第２駆動系１２２を介して伝達される振動を低減してもよい。つまり、エアスプリング１２２３は、弾性力を利用して、第１駆動系１２１と光照射装置１１との間で第２駆動系１２２を介して伝達される振動を減衰してもよい。具体的には、エアスプリング１２２３は、弾性力を利用して、第１駆動系１２１から第２駆動系１２２を介して光照射装置１１へと向かう（つまり、伝達される）振動を低減（減衰）してもよい。つまり、エアスプリング１２２３は、弾性力を利用して、第１駆動系１２１のうち第２駆動系１２２が取り付けられている部分（つまり、先端アーム部分１２１２４）から、光照射装置１１のうち第２駆動系１２２が取り付けられている部分へと向かう振動を低減（減衰）してもよい。この場合、制御装置２は、圧力計１２２６の計測結果に基づいて、第１駆動系１２１と光照射装置１１との間で第２駆動系１２２を介して伝達される振動が低減される（つまり、減衰される）ように、気体供給装置１２２６１及びバルブ１２２６３の少なくとも一方を制御してもよい。尚、エアスプリング１２２３（或いは、エアスプリング１２２３を含む第２駆動系１２２）は、振動低減装置又は振動減衰装置と称されてもよい。尚、エアスプリング１２２３は、制御装置２の制御とは無関係に、弾性力を利用して、第１駆動系１２１と光照射装置１１との間で第２駆動系１２２を介して伝達される振動を低減してもよい。

　第１駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動を低減することは、第１駆動系１２１の振動量（つまり、振動の振幅）よりも、光照射装置１１の振動量を低減する（つまり、小さくする）ことを含んでいてもよい。第１駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動を低減することは、第１駆動系１２１のうち第２駆動系１２２が取り付けられている部分（つまり、先端アーム部分１２１２４）の振動量よりも、光照射装置１１のうち第２駆動系１２２が取り付けられている部分の振動量を低減することを含んでいてもよい。第１駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動を低減することは、第１駆動系１２１が取り付けられる支持部材１２２１の振動量よりも、光照射装置１１が取り付けられる支持部材１２２２の振動量を低減することを含んでいてもよい。尚、第１駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動をエアスプリング１２２３が低減しない場合には、第１駆動系１２１の振動量と光照射装置１１の振動量とが実質的に同じになる。つまり、支持部材１１２１の振動量と支持部材１１２２の振動量とが実質的に同じになる。このため、第１駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動を低減することは、第１駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動が低減されない場合と比較して光照射装置１１の振動量を低減することを含んでいてもよい。第１駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動を低減することは、第１駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動が低減されない場合と比較して支持部材１１２２の振動量を低減することを含んでいてもよい。また、ここで言う振動量は、何らかの物体に対する振動量を意味していてもよい。例えば、第１駆動系１２１の振動量、光照射装置１１の振動量、支持部材１２２１の振動量及び支持部材１２２２の振動量は、それぞれ、塗装膜ＳＦ（或いは、加工対象物ＳＦ、以下同じ）に対する第１駆動系１２１の振動量、塗装膜ＳＦに対する光照射装置１１の振動量、塗装膜ＳＦに対する支持部材１２２１の振動量及び塗装膜ＳＦに対する支持部材１２２２の振動量を意味していてもよい。

　ダンパ部材１２２４は、空気の圧力とは異なる要因に起因した弾性力を、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方に付与する。ダンパ部材１２２４は、空気の圧力とは異なる要因に起因した弾性力を、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方を介して第１駆動系１２１及び光照射装置１１の少なくとも一方に付与する。特に、ダンパ部材１２２４は、支持部材１２２１と支持部材１２２２とが並ぶ方向（図６に示す例では、Ｚ軸方向であり、重力方向）に沿って、弾性力を、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方に付与してもよい。つまり、ダンパ部材１２２４は、第１駆動系１２１（特に、先端アーム部材１２１２４）と光照射装置１１とが並ぶ方向（図６に示す例では、Ｚ軸方向であり、重力方向）に沿って、弾性力を、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方を介して第１駆動系１２１及び光照射装置１１の少なくとも一方に付与してもよい。尚、ダンパ部材１２２４は、弾性部材と称されてもよい。

　ダンパ部材１２２４は、弾性力を付与可能である限りはどのような部材であってもよい。例えば、ダンパ部材１２２４は、圧縮バネコイルを含んでいてもよい。例えば、ダンパ部材１２２４は、板バネを含んでいてもよい。

　ダンパ部材１２２４は、弾性力を利用して、支持部材１２２２の重量を支持してもよい。具体的には、ダンパ部材１２２４は、弾性力を利用して、支持部材１２２１と支持部材１２２２とが並ぶ方向に沿って支持部材１２２２の重量を支持してもよい。支持部材１２２２に光照射装置１１が取り付けられているため、ダンパ部材１２２４は、弾性力を利用して、支持部材１２２２に取り付けられた光照射装置１１の重量を支持してもよい。具体的には、ダンパ部材１２２４は、弾性力を利用して、第１駆動系１２１（特に、先端アーム部材１２１２４）と光照射装置１１とが並ぶ方向に沿って光照射装置１１の重量を支持してもよい。この場合、ダンパ部材１２２４は、光照射装置１１の自重をキャンセルする自重キャンセラとして機能してもよい。

　ダンパ部材１２２４は、弾性力を利用して、第１駆動系１２１と光照射装置１１との間で第２駆動系１２２を介して伝達される振動を低減してもよい。つまり、ダンパ部材１２２４は、弾性力を利用して、第１駆動系１２１と光照射装置１１との間で第２駆動系１２２を介して伝達される振動を減衰してもよい。具体的には、ダンパ部材１２２４は、弾性力を利用して、第１駆動系１２１から第２駆動系１２２を介して光照射装置１１へと向かう（つまり、伝達される）振動を低減（減衰）してもよい。このため、ダンパ部材１２２４（或いは、ダンパ部材１２２４を含む第２駆動系１２２）は、振動低減装置又は振動減衰装置と称されてもよい。

　ダンパ部材１２２４は、弾性力を利用して、エアスプリング１２２３の振動を減衰振動に変換してもよい。つまり、ダンパ部材１２２４は、弾性力を利用して、第１駆動系１２１と光照射装置１１との間で第２駆動系１２２を介して伝達される振動を減衰振動に変換してもよい。

　駆動部材１２２５は、制御装置２の制御下で、駆動力を発生可能である。駆動部材１２２５は、発生させた駆動力を支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方に付与可能である。駆動部材１２２５は、発生させた駆動力を、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方を介して、第１駆動系１２１及び光照射装置１１の少なくとも一方に付与可能である。駆動部材１２２５は、駆動力を発生可能である限りは、どのような構造を有していてもよい。例えば、駆動部材１２２５は、電気的に駆動力を発生可能な構造を有していてもよい。例えば、駆動部材１２２５は、磁気的に駆動力を発生可能な構造を有していてもよい。一例として、図６は、駆動部材１２２５が、電気的に駆動力を発生可能なボイスコイルモータ（ＶＣＭ：Ｖｏｉｃｅ　Ｃｏｉｌ　Ｍｏｔｏｒ）である例を示している。尚、ボイスコイルモータがリニアモータの一種であるところ、駆動部材１２２５はボイスコイルモータと異なるリニアモータであってもよい。駆動部材１２２５は、直線状の軸に沿った駆動力を発生させるものであってもよい。

　尚、駆動部材１２２５は、駆動部材１２２５のうちの支持部材１２２１に取り付けられる部材と、駆動部材１２２５のうちの支持部材１２２２に取り付けられる部材とが物理的に接触しない構造を有していてもよい。例えば、駆動部材１２２５がボイスコイルモータである場合には、駆動部材１２２５のうちの支持部材１２２１に取り付けられる部材（例えば、コイル及び磁極のいずれか一方を含む部材）と、駆動部材１２２５のうちの支持部材１２２２に取り付けられる部材（例えば、コイル及び磁極のいずれか他方を含む部材）とが物理的に接触することはない。

　駆動部材１２２５は、制御装置２の制御下で、駆動力を利用して、支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方を移動させてもよい。駆動部材１２２５は、制御装置２の制御下で、駆動力を利用して支持部材１２２１及び１２２２の少なくとも一方を移動させることで、第１駆動系１２１及び光照射装置１１の少なくとも一方を移動させてもよい。この場合、駆動部材１２２５は、駆動力を利用して第１駆動系１２１及び光照射装置１１の少なくとも一方を移動させることで、第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置を変更してもよい。尚、第１実施形態における「第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置」は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、Ｘ軸の回転周り、Ｙ軸の回転周り及びＺ軸の回転周りの少なくとも一つにおける第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置を意味する。つまり、第１実施形態における「第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置」は、第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対姿勢をも含んでいてもよい。この場合、駆動部材１２２５を含む第２駆動系１２２は、第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置が変更可能になるように第１駆動系１２１と光照射装置１１とを結合していると言える。つまり、上述したエアスプリング１２２３及びダンパ部材１２２４（更には、駆動部材１２２５）は、第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置が駆動部材１２２５によって変更可能となるように、第１駆動系１２１と光照射装置１１とを結合していると言える。尚、駆動部材１２２５は、位置変更装置と称されてもよい。

　駆動部材１２２５は、制御装置２の制御下で、第２駆動系１２２が備える位置計測装置１２２７の計測結果に基づいて、第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置を変更してもよい。位置計測装置１２２６は、第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置を計測する。例えば、位置計測装置１２２６は、支持部材１２２１に取り付けられた検出部１２２６１と、支持部材１２２２に取り付けられたスケール部１２２６２とを含むエンコーダであってもよい。位置計測装置１２２６の計測結果は、支持部材１２２１と支持部材１２２２との相対位置に関する情報を含む。支持部材１２２１に第１駆動系１２１が取り付けられ且つ支持部材１２２２に光照射装置１１が取り付けられているため、支持部材１２２１と支持部材１２２２との相対位置に関する情報は、第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置に関する情報を含む。従って、制御装置２は、第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置を適切に特定することができる。その結果、制御装置２は、位置計測装置１２２７の計測結果に基づいて、第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置を適切に変更することができる。

　駆動部材１２２５は、制御装置２の制御下で、第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置を変更する（典型的には、第１駆動系１２１に対して光照射装置１１を移動させる）ことで、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を移動させてもよい。駆動部材１２２５は、光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対的な位置関係が変更されるように、光照射装置１１を移動させてもよい。この場合、制御装置２は、位置計測装置１２２７の計測結果に加えて位置計測装置１８の計測結果に基づいて、駆動部材１２２５を制御してもよい。具体的には、制御装置２は、位置計測装置１８の計測結果に基づいて塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対的な位置関係に関する情報を取得し、塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対的な位置関係に関する情報に基づいて、駆動部材１２２５を制御してもよい。例えば、制御装置２は、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１が移動するように、駆動部材１２２５を制御してもよい。つまり、制御装置２は、光照射装置１１と塗装膜ＳＦとの相対位置を変更するように、駆動部材１２２５を制御してもよい。この際、制御装置２は、塗装膜ＳＦと光照射装置１１との位置合わせを行うように、駆動部材１２２５を制御してもよい。制御装置２は、塗装膜ＳＦと光照射装置１１から加工光ＥＬが照射される目標照射領域ＥＡとの位置合わせを行うように、駆動部材１２２５を制御してもよい。一例として、制御装置２は、塗装膜ＳＦ上の所望位置に目標照射領域ＥＡが設定される（つまり、加工光ＥＬが照射される）ように、駆動部材１２２５を制御してもよい。制御装置２は、塗装膜ＳＦ上の所望経路を目標照射領域ＥＡが移動するように、駆動部材１２２５を制御してもよい。

　ここで、上述したように、第１駆動系１２１もまた、第２駆動系１２２と同様に、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を移動させることができる。つまり、加工装置１は、第１駆動系１２１及び第２駆動系１２２の双方又はいずれか一方を用いて光照射装置１１を移動させることができる。この場合、第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動態様は、第２駆動系１２２による光照射装置１１の移動態様と異なっていてもよい。例えば、第１駆動系１２１による光照射装置１１の位置決め精度は、第２駆動系１２２による光照射装置１１の位置決め精度よりも低くてもよい。つまり、第２駆動系１２２による光照射装置１１の位置決め精度は、第１駆動系１２１による光照射装置１１の位置決め精度よりも高くてもよい。例えば、第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動精度（つまり、塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対位置の変更精度）は、第２駆動系１２２による光照射装置１１の移動精度よりも低くてもよい。つまり、第２駆動系１２２による光照射装置１１の移動精度は、第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動精度よりも高くてもよい。例えば、第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動範囲は、第２駆動系１２２による光照射装置１１の移動範囲よりも大きくてもよい。つまり、第２駆動系１２２による光照射装置１１の移動範囲は、第１駆動系１２１による光照射装置１１の第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動範囲よりも小さくてもよい。例えば、第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動量（つまり、塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対位置の変更量）は、第２駆動系１２２による光照射装置１１の移動量よりも多くてもよい。つまり、第２駆動系１２２による光照射装置１１の移動量は、第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動量よりも少なくてもよい。この場合、制御装置２は、第１駆動系１２１を制御して塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を第１の精度で位置合わせし、第２駆動系１２２を制御して塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を第１の精度よりも高い第２の精度で位置合わせしてもよい。つまり、制御装置２は、第１駆動系１２１を制御して塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を相対的に大まかに位置合わせし、第２駆動系１２２を制御して塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を高い精度で位置合わせしてもよい。尚、第１駆動系１２１による光照射装置１１の位置決め精度は、第１駆動系１２１による先端アーム部材１２１２４の位置決め精度と実質的に等価とみなせる。第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動精度は、第１駆動系１２１による先端アーム部材１２１２４の移動精度と実質的に等価とみなせる。第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動範囲は、第１駆動系１２１による先端アーム部材１２１２４の移動範囲と実質的に等価とみなせる。第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動量は、第１駆動系１２１による先端アーム部材１２１２４の移動量と実質的に等価とみなせる。

　駆動部材１２２５は、制御装置２の制御下で、駆動力を利用して第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置を変更することで、第１駆動系１２１と光照射装置１１との間で第２駆動系１２２を介して伝達される振動を低減してもよい。つまり、駆動部材１２２５は、駆動力を利用して、第１駆動系１２１と光照射装置１１との間で第２駆動系１２２を介して伝達される振動を減衰してもよい。具体的には、駆動部材１２２５は、駆動力を利用して、第１駆動系１２１から第２駆動系１２２を介して光照射装置１１へと向かう（つまり、伝達される）振動を低減（減衰）してもよい。このため、駆動部材１２２５（或いは、駆動部材部材１２２５を含む第２駆動系１２２）は、振動低減装置又は振動減衰装置と称されてもよい。

　駆動部材１２２５は、駆動力を利用して第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対位置を変更することで、エアスプリング１２２３の振動を減衰振動に変換してもよい。つまり、駆動部材１２２５は、駆動力を利用して、第１駆動系１２１と光照射装置１１との間で第２駆動系１２２を介して伝達される振動を減衰振動に変換してもよい。この場合、駆動部材１２２５は、駆動力を利用して、第１駆動系１２１から光照射装置１１に向かう振動に起因した第１駆動系１２１と光照射装置１１との相対的な変位量を低減していると言える。具体的には、駆動部材１２２５は、駆動力を利用して、第１駆動系１２１から光照射装置１１に向かう振動に起因した、第１駆動系１２１のうち第２駆動系１２２が接続されている部分（つまり、先端アーム部分１２１２４）と光照射装置１１のうち第２駆動系１２２が接続されている部分との相対的な変位量を低減していると言える。尚、駆動部材１２２５がエアスプリング１２２３の振動を減衰振動に変換可能である場合には、第２駆動系１２２は、ダンパ部材１２２４を備えていなくてもよい。但し、駆動部材１２２５がエアスプリング１２２３の振動を減衰振動に変換可能でない場合であっても、第２駆動系１２２は、ダンパ部材１２２４を備えていなくてもよい。また、エアスプリング１２２３の数と、ダンパ部材１２２４の数と、駆動部材１２２５の数とは、互いに等しくなくてもよい。

　ここで、上述したように加工装置１が第１駆動系１２１及び第２駆動系１２２の双方又はいずれか一方を用いて光照射装置１１を移動させることができることを考慮すれば、加工装置１は、第１駆動系１２１及び第２駆動系１２２の双方又はいずれか一方を用いて、第１駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動を低減することができるとも言える。この場合、上述したように第１駆動系１２１による光照射装置１１の移動態様が第２駆動系１２２による光照射装置１１の移動態様と異なる場合には、制御装置２は、低減するべき振動の特性に基づいて、第１駆動系１２１を用いて振動を低減するべきか否か及び／又は第２駆動系１２２を用いて振動を低減するべきか否かを判定してもよい。例えば、制御装置２は、低減するべき振動の周波数に基づいて、第１駆動系１２１を用いて振動を低減するべきか否か及び／又は第２駆動系１２２を用いて振動を低減するべきか否かを判定してもよい。具体的には、制御装置２は、低減するべき振動に第１周波数範囲の振動が含まれる場合には、第１駆動系１２１を用いて振動を低減するべきと判定してもよい。第１周波数範囲は、典型的には、第１駆動系１２１によって低減可能な振動が含まれる周波数範囲に設定される。この場合、制御装置２は、第１駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動の少なくとも一部を低減するように、第１駆動系１２１を制御してもよい。また、制御装置２は、低減するべき振動に第１周波数範囲とは異なる第２周波数範囲の振動が含まれる場合には、第２駆動系１２２を用いて振動を低減するべきと判定してもよい。第２周波数範囲は、典型的には、第２駆動系１２２によって低減可能な振動が含まれる周波数範囲に設定される。この場合、制御装置２は、第駆動系１２１から光照射装置１１へと向かう振動の少なくとも一部を低減するように、第２駆動系１２２を制御してもよい。尚、上述したように第１駆動系１２１による光照射装置１１の位置決め精度が第２駆動系１２２による光照射装置１１の位置決め精度よりも低い場合には、典型的には、第２周波数範囲は、第１周波数範囲よりも高い周波数を含む。

　駆動部材１２２５は、エアスプリング１２２３及び／又はダンパ部材１２２４が弾性力を付与する方向の成分を含む方向に沿って作用する駆動力を付与してもよい。図６に示す例で言えば、エアスプリング１２２３及び／又はダンパ部材１２２４がＺ軸方向に沿った弾性力を付与しているため、駆動部材１２２５は、Ｚ軸方向の成分を含む方向に沿って作用する駆動力を付与してもよい。エアスプリング１２２３及び／又はダンパ部材１２２４が弾性力を付与する方向の成分を含む方向に沿って作用する駆動力を駆動部材１２２５が発生する場合には、駆動部材１２２５は、この駆動力を利用して、エアスプリング１２２３の振動を減衰振動に変換することができる。エアスプリング１２２３の振動を減衰振動にする際には、駆動部材１２２５は、駆動力を利用して、エアスプリング１２２３の共振周波数を変更してもよい。典型的には、駆動部材１２２５は、駆動力を利用して、エアスプリング１２２３の共振周波数を高くしてもよい。

　駆動部材１２２５は、エアスプリング１２２３及び／又はダンパ部材１２２４が弾性力を付与する方向に交差する方向に沿って作用する駆動力を付与してもよい。図６に示す例で言えば、エアスプリング１２２３及び／又はダンパ部材１２２４がＺ軸方向に沿った弾性力を付与しているため、駆動部材１２２５は、Ｚ軸方向に交差する方向（例えば、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方）に沿って作用する駆動力を付与してもよい。エアスプリング１２２３及び／又はダンパ部材１２２４が弾性力を付与する方向に交差する方向に沿って作用する駆動力を駆動部材１２２５が発生する場合には、駆動部材１２２５は、この駆動力を利用してエアスプリング１２２３の振動を減衰振動にするための動作を行わなくてもよい。このため、駆動部材１２２５の負荷が相対的に軽減される。

　エアスプリング１２２３等の弾性部材と駆動部材１２２５とを用いて能動的に振動を低減する装置は、能動型防振装置と称されてもよい。このため、第２駆動系１２２は、能動型防振装置と称されてもよい。能動型防振装置は、能動型振動分離システム（ＡＶＩＳ：Ａｃｔｉｖｅ　Ｖｉｂｒａｔｉｏｎ　Ｉｓｏｌａｔｉｏｎ　Ｓｙｓｔｅｍ）と称されてもよい。

　（１－３）加工システムＳＹＳａによる加工動作の具体例
　（１－３－１）加工動作によって形成される構造の具体例
　図２を用いて説明したように、第１実施形態では、加工システムＳＹＳａは、塗装膜ＳＦに凹部Ｃを形成する。凹部Ｃは、塗装膜ＳＦのうち加工光ＥＬが実際に照射された部分に形成される。このため、塗装膜ＳＦ上で加工光ＥＬが実際に照射される位置（つまり、加工光ＥＬが照射されることが予定されている目標照射領域ＥＡが設定される位置）を適切に設定すれば、塗装膜ＳＦの所望位置に凹部Ｃが形成可能となる。つまり、加工対象物Ｓ上に、塗装膜ＳＦによる構造を形成可能となる。

　具体的には、加工システムＳＹＳａは、上述したように、ガルバノミラー１１２２及び駆動系１２の少なくとも一方を用いて、目標照射領域ＥＡに塗装膜ＳＦの表面を移動させる。加工システムＳＹＳａは、塗装膜ＳＦの表面を目標照射領域ＥＡが移動する期間中に、塗装膜ＳＦの表面のうち加工光ＥＬを実際に照射するべき領域（つまり、加工するべき領域）に目標照射領域ＥＡが重なるタイミングで加工光ＥＬを照射する。一方で、加工システムＳＹＳａは、塗装膜ＳＦの表面を目標照射領域ＥＡが移動する期間中に、塗装膜ＳＦの表面のうち加工光ＥＬを実際に照射するべき領域に目標照射領域ＥＡが重ならないタイミングでは加工光ＥＬを照射しない。つまり、加工システムＳＹＳａは、塗装膜ＳＦの表面を目標照射領域ＥＡが移動する期間中に、塗装膜ＳＦの表面のうち加工光ＥＬを実際に照射するべきでない領域（つまり、加工すべきでない領域）に目標照射領域ＥＡが重なるタイミングでは加工光ＥＬを照射しない。その結果、加工対象物Ｓ上に、塗装膜ＳＦのうち加工光ＥＬが実際に照射された領域のパターン（或いは分布）に応じた塗装膜ＳＦによる構造が形成される。

　第１実施形態では、加工システムＳＹＳａは、制御装置２の制御下で、このような塗装膜ＳＦによる構造の一例であるリブレット構造を加工対象物Ｓ上に形成する。リブレット構造は、塗装膜ＳＦの表面の流体に対する抵抗（特に、摩擦抵抗、乱流摩擦抵抗）を低減可能な構造である。リブレット構造が形成された加工対象物Ｓの表面の流体に対する抵抗は、リブレット構造が形成されていない加工対象物Ｓの表面の流体に対する抵抗よりも小さくなる。このため、リブレット構造は、加工対象物Ｓの表面の流体に対する抵抗を低減可能な構造であるとも言える。尚、ここでいう流体とは、塗装膜ＳＦの表面に対して相対的に流れている媒質（気体、液体）であればよい。例えば、静止している加工対象物ＳＦに対して流れている媒質、及び、移動している加工対象物ＳＦの周囲に分布する静止している媒質のそれぞれは、流体の一例である。

　リブレット構造の一例が図７（ａ）及び図７（ｂ）に示されている。図７（ａ）及び図７（ｂ）に示すように、リブレット構造は、例えば、第１の方向（図７（ａ）及び図７（ｂ）に示す例では、Ｙ軸方向）に沿って凹部Ｃを連続的に形成することで形成される凹状構造ＣＰ１（つまり、第１の方向に沿って延伸するように直線状に形成された凹状構造ＣＰ１）が、第１の方向に交差する第２方向（図７（ａ）及び図７（ｂ）に示す例では、Ｘ軸方向）に沿って複数配列された構造である。つまり、リブレット構造は、例えば、第１の方向に沿って延びる複数の凹状構造ＣＰ１が、第１の方向に交差する第２方向に周期方向を有する構造である。隣り合う２つの凹状構造ＣＰ１の間には、周囲から突き出た凸状構造ＣＰ２が実質的に存在する。従って、リブレット構造は、例えば、第１の方向（例えば、Ｙ軸方向）に沿って直線状に延伸する凸状構造ＣＰ２が、第１の方向に交差する第２方向（例えば、Ｘ軸方向）に沿って複数配列された構造であるとも言える。つまり、リブレット構造は、例えば、第１の方向に沿って延びる複数の凸状構造ＣＰ２が、第１の方向に交差する第２方向に周期方向を有する構造であるとも言える。図７（ａ）及び図７（ｂ）に示されるリブレット構造は、周期的な構造である。尚、リブレット構造は、非周期的な構造であってもよい。

　隣り合う２つの凹状構造ＣＰ１の間隔（つまり、凹状構造ＣＰ１の配列ピッチＰ１）は、例えば、数ミクロンから数百ミクロンであるが、その他のサイズであってもよい。更に、各凹状構造ＣＰ１の深さ（つまり、Ｚ軸方向の深さ）Ｄは、例えば、数ミクロンから数百ミクロンであるが、その他のサイズであってもよい。各凹状構造ＣＰ１の深さＤは、凹状構造ＣＰ１の配列ピッチＰ１以下であってもよい。各凹状構造ＣＰ１の深さＤは、凹状構造ＣＰ１の配列ピッチＰ１の半分以下であってもよい。各凹状構造ＣＰ１のＺ軸を含む断面（具体的には、ＸＺ平面に沿った断面）の形状は、お椀型の曲線形状であるが、三角形であってもよいし、四角形であってもよいし、五角形以上の多角形であってもよい。

　隣り合う２つの凸状構造ＣＰ２の間隔（つまり、凸状構造ＣＰ２の配列ピッチＰ２）は、例えば、数ミクロンから数百ミクロンであるが、その他のサイズであってもよい。更に、各凸状構造ＣＰ２の高さ（つまり、Ｚ軸方向の高さ）Ｈは、例えば、数ミクロンから数百ミクロンであるが、その他のサイズであってもよい。各凸状構造ＣＰ２の高さＨは、凸状構造ＣＰ２の配列ピッチＰ２以下であってもよい。各凸状構造ＣＰ２の高さＨは、凸状構造ＣＰ２の配列ピッチＰ２の半分以下であってもよい。各凸状構造ＣＰ２のＺ軸を含む断面（具体的には、ＸＺ平面に沿った断面）の形状は、斜面が曲線となる山形の形状であるが、三角形であってもよいし、四角形であってもよいし、五角形以上の多角形であってもよい。

　尚、加工システムＳＹＳａが形成するリブレット構造自体は、例えば、日本機械学会編『機械工学便覧基礎編　α４流体工学』第５章に記述されるような既存のリブレット構造であってもよいため、リブレット構造そのものについての詳細な説明は省略する。

　このようなリブレット構造は、上述したように、リブレット構造が形成された加工対象物Ｓの表面の流体に対する抵抗を低減可能である。このため、加工対象物Ｓは、流体に対する抵抗を低減することが望まれる物体（例えば、構造体）であってもよい。例えば、加工対象物Ｓは、少なくとも一部が流体（例えば、気体及び液体の少なくとも一方）内を進むように移動可能な物体（つまり、移動体）を含んでいてもよい。具体的には、例えば、加工対象物Ｓは、図８（ａ）から図８（ｃ）に示すように、航空機ＰＬの機体（例えば、胴体ＰＬ１、主翼ＰＬ２、垂直尾翼ＰＬ３及び水平尾翼ＰＬ４のうち少なくとも１つ）を含んでいてもよい。この場合、図８（ａ）及び図８（ｃ）に示すように、加工装置１（或いは、加工システムＳＹＳａ、以下この段落において同じ）は、支持装置１４により航空機ＰＬの機体上で自立していてもよい。或いは、支持装置１４の脚部材１４２の端部１４４が塗装膜ＳＦに付着可能であるがゆえに、図８（ｂ）に示すように、加工装置１は、支持装置１４により航空機ＰＬの機体から吊り下がる（つまり、ぶら下がる）ように航空機ＰＬの機体に付着してもよい。更に、支持装置１４の脚部材１４２の端部１４４が塗装膜ＳＦに付着可能であり且つ収容装置１３の隔壁部材１３２の端部１３４が塗装膜ＳＦに付着可能であるがゆえに、加工装置１は、塗装膜ＳＦの表面が上方を向いている状態で水平面に対して傾斜している場合であっても、塗装膜ＳＦ上で自立可能である。更には、加工装置１は、塗装膜ＳＦの表面が下方を向いている状態で水平面に対して傾斜している場合であっても、塗装膜ＳＦから吊り下がるように塗装膜ＳＦに付着可能である。いずれの場合であっても、光照射装置１１は、駆動系１２により及び／又は支持装置１４の移動により、機体の表面に沿って移動可能である。従って、加工システムＳＹＳａは、航空機の機体のような加工対象物Ｓ（つまり、表面が曲面となる、表面が水平面に対して傾斜している又は表面が下方を向いている加工対象物Ｓ）にも、塗装膜ＳＦによるリブレット構造を形成可能である。

　その他、例えば、加工対象物Ｓは、自動車の車体や空力パーツを含んでいてもよい。例えば、加工対象物Ｓは、船舶の船体を含んでいてもよい。例えば、加工対象物Ｓは、ロケットの機体を含んでいてもよい。例えば、加工対象物Ｓは、タービン（例えば、水力タービン及び風力タービン等の少なくとも一つであり、特にそのタービンブレード）を含んでいてもよい。例えば、加工対象物Ｓは、少なくとも一部が流体内を進むように移動可能な物体を構成する部品を含んでいてもよい。例えば、加工対象物Ｓは、流動している流体内に少なくとも一部が固定される物体を含んでいてもよい。具体的には、例えば、加工対象物Ｓは、川又は海の中に設置される橋桁を含んでいてもよい。例えば、加工対象物Ｓは、内部を流体が流れる配管を含んでいてもよい。この場合、配管の内壁が上述した加工対象物Ｓの表面となり得る。

　尚、ここにあげた加工対象物Ｓの一例は、比較的に大きな物体（例えば、数メートルから数百メートルのオーダーのサイズの物体）である。この場合、図８（ａ）から図８（ｃ）に示すように、光照射装置１１の大きさは、加工対象物Ｓの大きさよりも小さい。しかしながら、加工対象物Ｓは、どのようなサイズの物体であってもよい。例えば、加工対象物Ｓは、キロメートル、センチメートル、ミリメートル又はマイクロメートルのオーダーのサイズの物体であってもよい。

　上述したリブレット構造の特性は、加工対象物Ｓがどのような物体であるかに応じて、摩擦の低減効果が適切に得られるような適切な特性に設定されてもよい。つまり、上述したリブレット構造の特性は、加工対象物Ｓがどのような物体であるかに応じて、摩擦の低減効果が適切に得られるように最適化されてもよい。より具体的には、リブレット構造の特性は、使用中の（つまり、運用中）の加工対象物Ｓの周囲に分布する流体の種類、加工対象物Ｓの流体に対する相対速度、及び、加工対象物Ｓの形状等の少なくとも一つに応じて、摩擦の低減効果が適切に得られる適切な特性に設定されてもよい。更に、上述したリブレット構造の特性は、加工対象物Ｓがどのような物体であり且つその物体のどの部分にリブレット構造が形成されるかに応じて、摩擦の低減効果が適切に得られるような適切な特性に設定されてもよい。例えば、加工対象物Ｓが航空機ＰＬの機体である場合には、胴体ＰＬ１に形成されるリブレット構造の特性と、主翼ＰＬ２に形成されるリブレット構造の特性とが異なっていてもよい。

　リブレット構造の特性は、リブレット構造のサイズを含んでいてもよい。リブレット構造のサイズは、凹状構造ＣＰ１の配列ピッチＰ１、各凹状構造ＣＰ１の深さＤ、凸状構造ＣＰ２の配列ピッチＰ２、各凸状構造ＣＰ２の高さＨ等の少なくとも一つを含んでいてもよい。リブレット構造の特性は、リブレット構造の形状（例えば、Ｚ軸を含む断面（具体的には、ＸＺ平面に沿った断面）の形状）を含んでいてもよい。リブレット構造の特性は、リブレット構造の延伸方向（つまり、凹状構造ＣＰ１の延伸方向）を含んでいてもよい。リブレット構造の特性は、リブレット構造の形成位置を含んでいてもよい。

　一例として、例えば、加工対象物Ｓが、巡航時に１０ｋｍの高度を時速１０００ｋｍで飛行する航空機の機体である場合には、凹状構造ＣＰ１の配列ピッチＰ１（つまり、凸状構造ＣＰ２の配列ピッチＰ２）は、例えば約７８マイクロメートルに設定されてもよい。

　（１－３－２）加工動作の流れ
　続いて、図９から図２０を参照しながら、リブレット構造を形成するための加工動作の流れについて説明する。

　まず、上述したように、複数の加工光ＥＬは、ガルバノミラー１１２２によって偏向される。リブレット構造を形成するためには、ガルバノミラー１１２２は、塗装膜ＳＦの表面上で複数の目標照射領域ＥＡをＹ軸方向に沿って移動させながら所望のタイミングで複数の加工光ＥＬのそれぞれを対応する目標照射領域ＥＡに照射するスキャン動作と、塗装膜ＳＦの表面上で複数の目標照射領域ＥＡを少なくともＸ軸方向に沿って所定量だけ移動させるステップ動作とを交互に繰り返すように、複数の加工光ＥＬを偏向する。この場合、Ｙ軸を、スキャン軸と称してもよいし、Ｘ軸を、ステップ軸と称してもよい。

　ここで、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を静止させたままガルバノミラー１１２２の制御で複数の加工光ＥＬを走査させることができる塗装膜ＳＦの表面上の領域のサイズには限界がある。従って、第１実施形態では、図９に示すように、制御装置２は、塗装膜ＳＦの表面（特に、塗装膜ＳＦのうちリブレット構造を形成するべき領域）に、複数の加工ショット領域ＳＡを設定する。各加工ショット領域ＳＡは、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を静止させたままガルバノミラー１１２２の制御で複数の加工光ＥＬを走査させることができる塗装膜ＳＦ上の領域に相当する。各加工ショット領域ＳＡの形状は四角形であるが、その形状は任意である。

　制御装置２は、ガルバノミラー１１２２によって偏向される複数の加工光ＥＬを一の加工ショット領域ＳＡ（例えばＳＡ１）の一部に照射するように光照射装置１１を制御することで、当該一の加工ショット領域ＳＡ（ＳＡ１）にリブレット構造を形成する。その後、制御装置２は、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を移動させるように駆動系１２及び１５の少なくとも一方を制御することで、光照射装置１１を、他の加工ショット領域ＳＡ（例えばＳＡ２）に複数の加工光ＥＬを照射することが可能な位置に配置する。その後、制御装置２は、ガルバノミラー１１２２によって偏向される複数の加工光ＥＬを他の加工ショット領域ＳＡ（ＳＡ２）に照射するように光照射装置１１を制御することで、当該他の加工ショット領域ＳＡにリブレット構造を形成する。制御装置２は以下の動作を全ての加工ショット領域ＳＡ１からＳＡ１６を対象に繰り返すことで、リブレット構造を形成する。

　以下、図９に示す加工ショット領域ＳＡ１からＳＡ４にリブレット構造を形成する動作を例にあげて説明を続ける。尚、以下では、Ｘ軸方向に沿って隣接する２つの加工ショット領域ＳＡが収容空間ＳＰ内に位置する例を用いて説明をする。しかしながら、収容空間ＳＰ内に任意の数の加工ショット領域ＳＡが位置する場合においても、同様の動作が行われることに変わりはない。また、以下に示すリブレット構造を形成する動作は、あくまで一例であって、加工システムＳＹＳは、以下に示す動作とは異なる動作を行ってリブレット構造を形成してもよい。要は、加工システムＳＹＳは、複数の加工光ＥＬを加工対象物Ｓに照射して加工対象物Ｓにリブレット構造を形成することができる限りは、どのような動作を行ってもよい。

　図１０に示すように、まず、制御装置２は、収容空間ＳＰ内に加工ショット領域ＳＡ１及びＳＡ２が位置する第１収容位置に収容装置１３が配置されるように、駆動系１５を制御して塗装膜ＳＦに対して支持装置１４を移動させる。つまり、制御装置２は、収容装置１３により加工ショット領域ＳＡ１及びＳＡ２が覆われるように、支持装置１４が支持する収容装置１３を移動させる。更に、制御装置２は、光照射装置１１が加工ショット領域ＳＡ１に複数の加工光ＥＬを照射することが可能な第１照射位置に配置されるように、駆動系１２を制御して（つまり、第１駆動系１２１及び／又は第２駆動系１２２）塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を移動させる。収容装置１３が第１収容位置に配置され且つ光照射装置１１が第１照射位置に配置された後は、隔壁部材１３２は、第１伸長状態になる。従って、隔壁部材１３２の端部１３４は、塗装膜ＳＦに接触し且つ付着する。同様に、複数の脚部材１４２は、第２伸長状態になる。従って、複数の脚部材１４２の端部１４４は、塗装膜ＳＦに接触し且つ付着する。

　その後、図１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示すように、制御装置２は、複数の加工光ＥＬが加工ショット領域ＳＡ１を走査するように、光照射装置１１（特に、ガルバノミラー１１２２）を制御する。具体的には、制御装置２は、上述したスキャン動作を行うために、加工ショット領域ＳＡ１内のある領域を複数の加工光ＥＬがＹ軸方向に沿って走査するように、ガルバノミラー１１２２のＹ走査ミラー１１２２Ｙを制御する。スキャン動作が行われている間は、光源系１１１は、複数の加工光ＥＬを射出する。その後、制御装置２は、上述したステップ動作を行うために、少なくともガルバノミラー１１２２のＸ走査ミラー１１２２Ｘを単位ステップ量だけ回転させる。ステップ動作が行われている間は、光源系１１１は、複数の加工光ＥＬを射出しない。その後、制御装置２は、上述したスキャン動作を行うために、加工ショット領域ＳＡ１内のある領域を複数の加工光ＥＬがＹ軸方向に沿って走査するように、ガルバノミラー１１２２のＹ走査ミラー１１２２Ｙを制御する。このように、制御装置２は、スキャン動作とステップ動作とを交互に繰り返して加工ショット領域ＳＡ１の全体（或いは、加工ショット領域ＳＡ１のうちリブレット構造を形成するべき一部の領域）を複数の加工光ＥＬが走査するように、ガルバノミラー１１２２を制御する。尚、ステップ動作が行われている間において、複数の加工光ＥＬを射出してもよい。

　つまり、第１実施形態では、スキャン動作とステップ動作とが繰り返される期間中の加工光ＥＬの走査軌跡（つまり、目標照射領域ＥＡの移動軌跡）を示す平面図である図１２に示すように、加工装置１は、加工ショット領域ＳＡ内に設定される複数のスキャン領域ＳＣＡに対して順にスキャン動作を行う。図１２は、加工ショット領域ＳＡ内に６個のスキャン領域ＳＣＡ＃１からＳＣＡ＃６が設定される例を示している。各スキャン領域ＳＣＡは、１回のスキャン動作（つまり、ステップ動作を挟まない一連のスキャン動作）で照射される複数の加工光ＥＬによって走査される領域である。各スキャン領域ＳＣＡは、１回のスキャン動作で複数の目標照射領域ＥＡが移動する領域である。この場合、１回のスキャン動作で、目標照射領域ＥＡは、各スキャン領域ＳＣＡのスキャン開始位置ＳＣ＿ｓｔａｒｔからスキャン終了位置ＳＣ＿ｅｎｄに向かって移動する。このようなスキャン領域ＳＣＡは、典型的には、Ｙ軸方向（つまり、複数の加工光ＥＬの走査方向）に沿って延びる領域となる。複数のスキャン領域ＳＣＡは、Ｘ軸方向（つまり、複数の加工光ＥＬの走査方向に交差する方向）に沿って並ぶ。

　この場合、加工システムＳＹＳａは、例えば、ある加工ショット領域ＳＡに設定される複数のスキャン領域ＳＣＡのうち最も＋Ｘ側又は最も－Ｘ側に位置する一のスキャン領域ＳＣＡからスキャン動作を開始する。例えば、図１２は、加工システムＳＹＳａが、最も－Ｘ側に位置するショット領域ＳＣＡ＃１からスキャン動作を開始する例を示している。この場合、制御装置２は、スキャン領域ＳＣＡ＃１のスキャン開始位置ＳＣ＿ｓｔａｒｔ＃１（例えば、スキャン領域ＳＣＡ＃１内の－Ｙ側の端部又はその近傍）に対して加工光ＥＬを照射可能となるように、ガルバノミラー１１２２を制御する。つまり、制御装置２は、スキャン領域ＳＣＡ＃１のスキャン開始位置ＳＣ＿ｓｔａｒｔ＃１に目標照射領域ＥＡが設定されるように、ガルバノミラー１１２２を制御する。その後、加工システムＳＹＳａは、スキャン領域ＳＣＡ＃１に対してスキャン動作を行う。具体的には、制御装置２は、スキャン領域ＳＣＡ＃１のスキャン開始位置ＳＣ＿ｓｔａｒｔ＃１からスキャン領域ＳＣＡ＃１のスキャン終了位置ＳＣ＿ｅｎｄ＃１（例えば、スキャン領域ＳＣＡ＃１内の＋Ｙ側の端部又はその近傍）に向かって複数の目標照射領域ＥＡが移動するように、ガルバノミラー１１２２を制御する。更に、制御装置２は、所望のタイミングで複数の加工光ＥＬのそれぞれが対応する目標照射領域ＥＡに照射されるように光照射装置１１を制御する。その結果、複数の加工光ＥＬによってスキャン領域ＳＣＡ＃１が走査される。尚、図１２では、図面の簡略化のために、各スキャン領域ＳＣＡ内における１つの目標照射領域ＥＡの移動軌跡を示しているが、実際には、各スキャン領域ＳＣＡ内で複数の目標照射領域ＥＡが移動する。つまり、図１２では、図面の簡略化のために、各スキャン領域ＳＣＡ内における１つの加工光ＥＬの走査軌跡を示しているが、実際には、各スキャン領域ＳＣＡは複数の加工光ＥＬによって走査される。

　スキャン領域ＳＣＡ＃１に対するスキャン動作が完了した後、加工システムＳＹＳａは、スキャン領域ＳＣＡ＃１とは異なる他のスキャン領域ＳＣＡに対してスキャン動作を行うために、ステップ動作を行う。具体的には、制御装置２は、スキャン領域ＳＣＡ＃１に対してＸ軸方向に沿って隣接するスキャン領域ＳＣＡ＃２のスキャン開始位置ＳＣ＿ｓｔａｒｔ＃２（例えば、スキャン領域ＳＣＡ＃２内の－Ｙ側の端部又はその近傍）に対して加工光ＥＬを照射可能となるように、ガルバノミラー１１２２を制御する。つまり、制御装置２は、スキャン領域ＳＣＡ＃２のスキャン開始位置ＳＣ＿ｓｔａｒｔ＃２に目標照射領域ＥＡが設定されるように、ガルバノミラー１１２２を制御する。その結果、図１２に示すように、目標照射位置ＥＡは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに沿って移動する。この際、Ｘ軸方向における目標照射位置ＥＡの移動量は、Ｘ軸方向におけるスキャン領域ＳＣＡのサイズと同じであってもよい。Ｙ軸方向における目標照射位置ＥＡの移動量は、Ｙ軸方向におけるスキャン領域ＳＣＡのサイズと同じであってもよい。

　その後、加工システムＳＹＳａは、スキャン領域ＳＣＡ＃２に対してスキャン動作を行う。具体的には、制御装置２は、スキャン領域ＳＣＡ＃２のスキャン開始位置ＳＣ＿ｓｔａｒｔ＃２からスキャン領域ＳＣＡ＃２のスキャン終了位置ＳＣ＿ｅｎｄ＃２（例えば、スキャン領域ＳＣＡ＃２内の＋Ｙ側の端部又はその近傍）に向かって複数の目標照射領域ＥＡが移動するように、ガルバノミラー１１２２を制御する。更に、制御装置２は、所望のタイミングで複数の加工光ＥＬのそれぞれが対応する目標照射領域ＥＡに照射されるように光照射装置１１を制御する。その結果、複数の加工光ＥＬによってスキャン領域ＳＣＡ＃２が走査される。

　以降、スキャン領域ＳＣＡ＃３からＳＣＡ＃６に対するスキャン動作が完了するまで、同様の動作が繰り返される。

　図１２に示す例では、スキャン動作による加工光ＥＬの走査方向は、＋Ｙ軸方向に固定されている。スキャン動作による目標照射領域ＥＡの移動方向は、＋Ｙ軸方向に固定されている。つまり、図１２に示す例では、加工ショット領域ＳＡ内で複数回行われるスキャン動作による加工光ＥＬの走査方向（つまり、目標照射領域ＥＡの移動方向、以下同じ）は、互いに同じになる。複数のスキャン領域ＳＣＡをそれぞれ走査する複数の加工光ＥＬの走査方向は、互いに同じになる。複数のスキャン領域ＳＣＡ内での目標照射領域ＥＡの移動方向は、互いに同じになる。具体的には、スキャン領域ＳＣＡ＃１に対して行われるスキャン動作による加工光ＥＬの走査方向と、スキャン領域ＳＣＡ＃２に対して行われるスキャン動作による加工光ＥＬの走査方向と、・・・、スキャン領域ＳＣＡ＃６に対して行われるスキャン動作による加工光ＥＬの走査方向とは互いに同一である。

　このようなスキャン動作とステップ動作との繰り返しによって、加工ショット領域ＳＡ１にリブレット構造が形成される。尚、図１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示すように、加工光ＥＬが走査する領域の幅（つまり、加工ショット領域ＳＡの幅、特にＸ軸方向の幅）は、光照射装置１１の幅（特に、Ｘ軸方向の幅）よりも大きい。

　このようなスキャン動作とステップ動作とが繰り返される過程で、ガルバノミラー１１２２の動作に起因して、目標照射領域ＥＡの位置ずれが発生することがある。例えば、ガルバノミラー１１２２が動作し続けると、ガルバノミラー１１２２の温度が変わる（典型的には、上昇する）可能性がある。ガルバノミラー１１２２の温度が変わると、ガルバノミラー１１２２の温度が変わる前と比較して、ガルバノミラー１１２２の特性が変わる可能性がある。その結果、ガルバノミラー１１２２に対する目標照射領域ＥＡの位置が変わる（つまり、目標照射領域ＥＡの位置ずれが発生する）可能性がある。このような目標照射領域ＥＡの位置ずれは、塗装膜ＳＦの適切な加工の妨げとなる可能性がある。そこで、制御装置２は、目標照射領域ＥＡの位置ずれを低減する（つまり、目標照射領域ＥＡを本来の位置に近づける）ように、駆動系１２を制御して塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を移動させてもよい。例えば、制御装置２は、目標照射領域ＥＡの位置ずれを低減する（例えば、位置ずれ量を少なくする）ように、第１駆動系１２１を制御して塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を移動させてもよい。例えば、制御装置２は、目標照射領域ＥＡの位置ずれを低減するように、第２駆動系１２２（特に、駆動部材１２２５）を制御して塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を移動させてもよい。

　制御装置２は、光照射装置１１が加工光ＥＬを照射している期間中は、複数の脚部材１４２が第２伸長状態のまま維持されるように、駆動系１５を制御する。その結果、複数の脚部材１４２の端部１４４は、塗装膜ＳＦに付着し続ける。その結果、支持装置１４の安定性が向上するため、支持装置１４の不安定性に起因して加工光ＥＬの目標照射領域ＥＡが塗装膜ＳＦ上で意図せずにずれてしまう可能性が小さくなる。但し、光照射装置１１が光ＥＬを照射している期間の少なくとも一部において、支持装置１４が塗装膜ＳＦ上で自立可能（或いは、塗装膜ＳＦから吊り下がるように塗装膜ＳＦに付着可能）である限りは、複数の脚部材１４２の一部が第２縮小状態にあってもよい。

　制御装置２は、光照射装置１１が加工光ＥＬを照射している期間中は、隔壁部材１３２が第１伸長状態のまま維持されるように、隔壁部材１３２を伸縮させる不図示の駆動系を制御する。その結果、隔壁部材１３２の端部１３４は、塗装膜ＳＦに付着し続ける。その結果、収容空間ＳＰの密閉性が維持されるため、収容空間ＳＰ内を伝搬する加工光ＥＬが収容空間ＳＰの外部（つまり、収容装置１３の外部）に漏れ出てくることはない。更には、収容空間ＳＰ内で発生した不要物質が収容空間ＳＰの外部（つまり、収容装置１３の外部）に漏れ出てくることはない。

　尚、塗装膜ＳＦに付着しているはずの端部１３４の少なくとも一部が、何らかの要因によって塗装膜ＳＦから離れてしまう事態が生ずる可能性がある。この場合に光照射装置１１が加工光ＥＬを照射し続けると、加工光ＥＬ及び不要物質の少なくとも一方が収容装置１３の外部に漏れ出てしまう可能性がある。そこで、制御装置２は、光照射装置１１が加工光ＥＬを照射している期間中に端部１３４の少なくとも一部が塗装膜ＳＦから離れたことを検出した場合には、加工光ＥＬの照射を停止するように光照射装置１１を制御してもよい。

　その後、図１３に示すように、制御装置２は、光照射装置１１が、第１照射位置から、光照射装置１１が加工ショット領域ＳＡ２に複数の加工光ＥＬを照射することが可能な第２照射位置へと移動するように、駆動系１２を制御する。光照射装置１１が移動している期間中は、制御装置２は、光照射装置１１が加工光ＥＬを照射しないように、光照射装置１１を制御する。

　その後、図１４（ａ）及び図１４（ｂ）に示すように、制御装置２は、複数の加工光ＥＬが加工ショット領域ＳＡ２を走査するように、光照射装置１１（特に、ガルバノミラー１１２２）を制御する。具体的には、制御装置２は、上述したスキャン動作と上述したステップ動作とを交互に繰り返して加工ショット領域ＳＡ２の全体（或いは、加工ショット領域ＳＡ２のうちリブレット構造を形成するべき一部の領域）を複数の加工光ＥＬが走査するように、光照射装置１１（特に、ガルバノミラー１１２２）を制御する。その結果、加工ショット領域ＳＡ２にリブレット構造が形成される。尚、加工ショット領域ＳＡ１内のリブレット構造を構成する複数の凹部ＣＰ１は、加工ショット領域ＳＡ１に隣接する加工ショット領域ＳＡ２（或いは、その他の加工ショット領域ＳＡ）内のリブレット構造を構成する複数の凹部ＣＰ１のそれぞれと、互いに連続に連結されるように形成されてもよい。或いは、加工ショット領域ＳＡ１内のリブレット構造を構成する複数の凹部ＣＰ１は、加工ショット領域ＳＡ２内のリブレット構造を構成する複数の凹部ＣＰ１のそれぞれと、互いに連結されないように形成されてもよい。例えば、加工ショット領域ＳＡ内で加工光ＥＬを走査した結果として形成される１本の凹部ＣＰ１の連続長は、加工ショット領域ＳＡのサイズ（特に、加工光ＥＬの走査方向であるＹ軸方向のサイズ）に依存する。従って、加工ショット領域ＳＡのサイズが、リブレット構造が上述した機能を果たしうる連続長を実現できるだけのサイズとなる場合には、加工ショット領域ＳＡ１内のリブレット構造を構成する複数の凹部ＣＰ１は、加工ショット領域ＳＡ２内のリブレット構造を構成する複数の凹部ＣＰ１のそれぞれと、互いに連結されないように形成されてもよい。一例として、加工対象物Ｓが航空機である場合には、リブレット構造が上述した機能を果たしうる連続長は、航空機の使用時（典型的には、巡航時）における対気速度と乱流現象の周波数とに基づく演算によれば、およそ数ｍｍとなる。このため、Ｙ軸方向のサイズがおよそ数ｍｍよりも大きい加工ショット領域ＳＡを塗装膜ＳＦの表面に設定することができる場合には、加工ショット領域ＳＡ１内のリブレット構造を構成する複数の凹部ＣＰ１は、加工ショット領域ＳＡ２内のリブレット構造を構成する複数の凹部ＣＰ１のそれぞれと、互いに連結されないように形成されてもよい。

　加工ショット領域ＳＡ２にリブレット構造が形成された時点で、収容空間ＳＰには、リブレット構造が未だ形成されていない加工ショット領域ＳＡが残っていない。このため、駆動系１２によって収容空間ＳＰ内で光照射装置１１を移動させるだけでは、光照射装置１１は、未だリブレット構造が形成されていない加工ショット領域ＳＡに複数の加工光ＥＬを照射してリブレット構造を形成することができない。そこで、リブレット構造が未だ形成されていない加工ショット領域ＳＡが収容空間ＳＰに残っていない状態になった場合には、制御装置２は、支持装置１４を移動させることで（つまり、収容装置１３を移動させることで）、リブレット構造が未だ形成されていない加工ショット領域ＳＡが収容空間ＳＰ内に新たに位置するように、駆動系１５を制御する。

　具体的には、まず、図１５に示すように、制御装置２は、隔壁部材１３２の状態が第１伸長状態から第１縮小状態に切り替わるように、隔壁部材１３２を伸縮させる不図示の駆動系を制御する。その結果、隔壁部材１３２の端部１３４が塗装膜ＳＦから離れる。尚、支持装置１４が移動する期間中は、制御装置２は、光照射装置１１が加工光ＥＬを照射しないように、光照射装置１１を制御する。このため、端部１３４が塗装膜ＳＦから離れたとしても、加工光ＥＬ及び不要物質の少なくとも一方が収容装置１３の外部に漏れ出てくる可能性はない。

　但し、収容空間ＳＰに存在していた不要物質は、上述した排気装置１６によって収容空間ＳＰの外部に吸引されるものの、何らかの要因によって、収容空間ＳＰに存在していた不要物質の全てが排気装置１６によって吸引されていない（つまり、収容空間ＳＰに不要物質が残留してしまう）可能性がある。この場合には、端部１３４が塗装膜ＳＦから離れると、不要物質が収容装置１３の外部に漏れ出てくる可能性がある。このため、制御装置２は、収容空間ＳＰ内の不要物質を検出する検出装置１３５の検出結果に基づいて、隔壁部材１３２を第１伸長状態から第１縮小状態へと切り替えるか否かを判定してもよい。収容空間ＳＰに不要物質が残留している場合には、制御装置２は、隔壁部材１３２を第１伸長状態から第１縮小状態へと切り替えなくてもよい。この場合、排気装置１６によって、収容空間ＳＰに残留している不要物質が吸引され続ける。一方で、収容空間ＳＰに不要物質が残留していない場合には、制御装置２は、隔壁部材１３２を第１伸長状態から第１縮小状態へと切り替えてもよい。

　更に、制御装置２は、複数の脚部材１４２のうち支持装置１４の移動（特に、後述するように、縮小していた梁部材１４１の伸長）に伴って塗装膜ＳＦに対して移動する少なくとも一部の脚部材１４２の状態が、第２伸長状態から第２縮小状態に切り替わるように、駆動系１５を制御する。縮小していた梁部材１４１の伸長に伴って塗装膜ＳＦに対して移動する脚部材１４２は、典型的には、複数の脚部材１４２のうち支持装置１４の移動方向（つまり、収容装置１３の移動方向）の前方側に位置する脚部材１４２である。図１５に示す例では、支持装置１４が＋Ｘ側に向かって移動し、支持装置１４の移動方向の前方側に位置する脚部材１４２は、＋Ｘ側に位置する脚部材１４２である。以下、支持装置１４の移動方向の前方側に位置する脚部材１４２を、“前方脚部材１４２”と称する。その結果、前方脚部材１４２の端部１４４が塗装膜ＳＦから離れる。

　その後、図１６に示すように、制御装置２は、収容装置１３が、第１収容位置から、収容空間ＳＰ内に加工ショット領域ＳＡ３及ＳＡ４が位置する第２収容位置へと移動するように、駆動系１５を制御する。具体的には、制御装置２は、支持装置１４の移動方向に沿って梁部材１４１が伸長するように、駆動系１５を制御する。その結果、梁部材１４１は、収容装置１３を支持したまま（更には、収容装置１３が支持する光照射装置１１を支持したまま）伸長する。更に、支持装置１４の移動と並行して、制御装置２は、光照射装置１１が、第２照射位置から、光照射装置１１が加工ショット領域ＳＡ３に複数の加工光ＥＬを照射することが可能な第３照射位置へと移動するように、駆動系１２を制御する。このように、第１実施形態では、支持装置１４は、加工対象物Ｓによって支持された状態で自走可能である。このため、支持装置１４は、自走装置と称されてもよい。

　支持装置１４が移動している（つまり、縮小していた梁部材１４１が伸びている）期間中は、制御装置２は、隔壁部材１３２が第１縮小状態のまま維持されるように、隔壁部材１３２を伸縮させる不図示の駆動系を制御する。その結果、隔壁部材１３２の端部１３４と塗装膜ＳＦとの接触によって支持装置１４の移動（つまり、収容装置１３の移動）が妨げられることはない。更には、支持装置１４の移動中に端部１３４と塗装膜ＳＦとの接触によって塗装膜ＳＦが傷つけられることはない。但し、端部１３４と塗装膜ＳＦとの接触によって支持装置１４の移動が妨げられることがない場合には、支持装置１４が移動している期間の少なくとも一部において、端部１３４の少なくとも一部が塗装膜ＳＦに接触していてもよい。支持装置１４の移動中に端部１３４と塗装膜ＳＦとの接触によって塗装膜ＳＦが傷つけられることがない場合には、支持装置１４が移動している期間の少なくとも一部において、端部１３４の少なくとも一部が塗装膜ＳＦに接触していてもよい。

　更に、支持装置１４が移動している期間中は、制御装置２は、前方脚部材１４２が第２縮小状態のまま維持されるように、駆動系１５を制御する。その結果、前方脚部材１４２の端部１４４と塗装膜ＳＦとの接触によって支持装置１４の移動（つまり、収容装置１３の移動）が妨げられることはない。更には、支持装置１４の移動中に端部１４４と塗装膜ＳＦとの接触によって塗装膜ＳＦが傷つけられることはない。但し、端部１４４と塗装膜ＳＦとの接触によって支持装置１４の移動が妨げられることがない場合には、支持装置１４が移動している期間の少なくとも一部において、端部１４４の少なくとも一部が塗装膜ＳＦに接触していてもよい。支持装置１４の移動中に端部１４４と塗装膜ＳＦとの接触によって塗装膜ＳＦが傷つけられることがない場合には、支持装置１４が移動している期間の少なくとも一部において、端部１４４の少なくとも一部が塗装膜ＳＦに接触していてもよい。

　更に、支持装置１４が移動している期間中は、制御装置２は、複数の脚部材１４２のうち前方脚部材１４２以外の他の脚部材１４２が第１伸長状態のまま維持されるように、駆動系１５を制御する。その結果、前方脚部材１４２の端部１４４が塗装膜ＳＦから離れたとしても、前方脚部材１４２以外の他の脚部材１４２の端部１４４が塗装膜ＳＦに接触している。このため、複数の脚部材１４２の全ての端部１４４が塗装膜ＳＦに接触している場合と同様に、支持装置１４が塗装膜ＳＦ上で自立可能（或いは、塗装膜ＳＦから吊り下がるように塗装膜ＳＦに付着可能）であることに変わりはない。

　更に、支持装置１４が移動している期間中は、制御装置２は、光照射装置１１が加工光ＥＬを照射しないように、光照射装置１１を制御する。

　収容装置１３が第２収容位置に配置された後、図１７に示すように、制御装置２は、隔壁部材１３２が第１縮小状態から第１伸長状態に切り替わるように、隔壁部材１３２を伸縮させる不図示の駆動系を制御する。その結果、隔壁部材１３２の端部１３４が塗装膜ＳＦに接触し且つ付着する。更に、制御装置２は、前方脚部材１４２が第２縮小状態から第２伸長状態に切り替わるように、駆動系１５を制御する。その結果、前方脚部材１４２の端部１４４が塗装膜ＳＦに接触し且つ付着する。ここで、隔壁部材１３２の伸長動作と前方脚部材１４２の伸長動作とは同時に行われてもよいし、時間差をもって行われてもよい。

　その後、図１８に示すように、制御装置２は、複数の脚部材１４２のうち支持装置１４の移動（特に、後述するように、伸長していた梁部材１４１の縮小）に伴って塗装膜ＳＦに対して移動する少なくとも一部の脚部材１４２の状態が、第２伸長状態から第２縮小状態に切り替わるように、駆動系１５を制御する。伸長していた梁部材１４１の縮小に伴って塗装膜ＳＦに対して移動する脚部材１４２は、典型的には、複数の脚部材１４２のうち支持装置１４の移動方向の後方側に位置する脚部材１４２である。図１８に示す例では、支持装置１４の移動方向の後方側に位置する脚部材１４２は、－Ｘ側に位置する脚部材１４２である。以下、支持装置１４の移動方向の後方側に位置する脚部材１４２を、“後方脚部材１４２”と称する。その結果、後方脚部材１４２の端部１４４が塗装膜ＳＦから離れる。

　その後、図１９に示すように、制御装置２は、支持装置１４の移動方向に沿って伸長していた梁部材１４１が縮小するように、駆動系１５を制御する。

　梁部材１４１の縮小が完了した後、図２０に示すように、制御装置２は、後方脚部材１４２が第２縮小状態から第２伸長状態に切り替わるように、駆動系１５を制御する。その結果、後方脚部材１４２の端部１４４が塗装膜ＳＦに接触して付着する。

　その後は、制御装置２は、複数の加工光ＥＬが加工ショット領域ＳＡ１及びＳＡ２を走査する場合と同様に、複数の加工光ＥＬが加工ショット領域ＳＡ３及びＳＡ４を走査するように、光照射装置１１を制御する。以下、同様の動作が繰り返されることで、塗装膜ＳＦの表面（特に、塗装膜ＳＦのうちリブレット構造を形成するべき領域）に複数の加工光ＥＬが照射される。その結果、加工対象物Ｓ上に、塗装膜ＳＦによるリブレット構造が形成される。

　（１－４）加工システムＳＹＳａの技術的効果
　以上説明したように、第１実施形態の加工システムＳＹＳａは、加工光ＥＬを加工対象物Ｓ（特に、その表面に形成された塗装膜ＳＦ）に照射することで、加工対象物Ｓの表面に、塗装膜ＳＦによるリブレット構造を形成することができる。このため、加工システムＳＹＳａは、加工対象物Ｓの表面をエンドミル等の切削工具で削り取ることでリブレット構造を形成する加工装置と比較して、比較的容易に且つ相対的に短時間でリブレット構造を形成することができる。

　更に、加工システムＳＹＳａは、複数の加工光ＥＬを同時に照射して複数の凹状構造ＣＰ１を同時に形成することができる。このため、単一の加工光ＥＬを照射して一度に単一の凹状構造ＣＰ１しか形成することができない加工装置と比較して、リブレット構造の形成に関するスループットが向上する。

　更に、加工システムＳＹＳａは、ガルバノミラー１１２２で複数の加工光ＥＬを偏向して、塗装膜ＳＦを相対的に高速に走査することができる。このため、リブレット構造の形成に関するスループットが向上する。

　更に、加工システムＳＹＳａは、加工対象物Ｓを直接的に加工することに代えて、加工対象物Ｓの表面に形成されている塗装膜ＳＦを加工することで、加工対象物Ｓの表面にリブレット構造を形成することができる。このため、リブレット構造を形成するための特別な材料を加工対象物Ｓの表面（つまり、塗装膜ＳＦの表面）に新たに付加する（例えば、貼り付ける）ことでリブレット構造を形成する加工システムと比較して、リブレット構造の形成に起因した加工対象物Ｓの重量の増加が回避可能である。

　更に、加工システムＳＹＳａは、加工対象物Ｓを直接的に加工しないがゆえに、リブレット構造を比較的容易に再形成することができる。具体的には、リブレット構造の再形成の際には、まずは、塗装膜ＳＦによるリブレット構造が一旦剥離され、その後、新たな塗装膜ＳＦが塗布される。その後、加工システムＳＹＳａは、新たに塗布された塗装膜ＳＦを加工することで、新たなリブレット構造を形成することができる。従って、リブレット構造の劣化（例えば、破損等）に対して、リブレット構造の再形成によって相対的に容易に対処可能となる。

　更に、加工システムＳＹＳａは、加工対象物Ｓを直接的に加工しないがゆえに、直接の加工が困難な又はリブレット構造がもともと形成されていない加工対象物Ｓの表面にもリブレット構造を形成することができる。つまり、加工対象物Ｓの表面に塗装膜ＳＦが塗布された後に加工システムＳＹＳａが塗装膜ＳＦを加工すれば、リブレット構造を比較的容易に形成可能である。

　尚、加工対象物Ｓに塗装膜ＳＦを塗布した後に塗装膜ＳＦを加工する場合には、加工対象物Ｓを加工する動作は、加工対象物Ｓに塗装膜ＳＦを塗布する（つまり、形成する）動作と、塗装膜ＳＦを加工する（例えば、塗装膜ＳＦを部分的に除去する）動作とを含んでいてもよい。加工対象物Ｓに塗装膜ＳＦを塗布する動作は、加工システムＳＹＳａによって行われてもよい。この場合、加工システムＳＹＳａは、加工対象物Ｓに塗装膜ＳＦを塗布するための塗布装置を備えていてもよい。或いは、加工対象物Ｓに塗装膜ＳＦを塗布する動作は、加工システムＳＹＳａの外部で行われてもよい。例えば、加工対象物Ｓに塗装膜ＳＦを塗布する動作は、加工システムＳＹＳａの外部の塗布装置によって行われてもよい。

　更に、加工システムＳＹＳａは、塗装膜ＳＦによるリブレット構造を形成することができる。塗装膜ＳＦは、通常は、外部環境（例えば、熱、光、及び風等の少なくとも一つ）に対して相対的に高い耐久性を有している。このため、加工システムＳＹＳａは、相対的に高い耐久性を有するリブレット構造を、比較的容易に形成することができる。

　更に、第１実施形態では、光学系１１２の終端光学素子と塗装膜ＳＦとの間における加工光ＥＬの光路が収容空間ＳＰ内に含まれている。このため、加工光ＥＬの光路が収容空間ＳＰに含まれていない（つまり、開放空間に開放されている）加工システムと比較して、塗装膜ＳＦに照射された加工光ＥＬ（或いは、当該加工光ＥＬの塗装膜ＳＦからの散乱光ないしは反射光等）が加工システムＳＹＳａの周囲へ伝搬する（言い換えれば、散乱してしまう）ことを適切に防止可能である。更には、加工光ＥＬの照射によって発生した不要物質が加工システムＳＹＳａの周囲へ伝搬する（言い換えれば、飛散してしまう）ことを適切に防止可能である。

　更に、第１実施形態では、塗装膜ＳＦ上を移動可能な支持装置１４によって光照射装置１１が支持されている。このため、加工システムＳＹＳａは、相対的に広範囲に広がる塗装膜ＳＦを比較的容易に加工することができる。つまり、加工システムＳＹＳａは、加工対象物Ｓの表面の相対的に広い範囲に渡って塗装膜ＳＦによるリブレット構造を形成することができる。更には、加工システムＳＹＳａは、加工対象物Ｓを移動させなくてもよいため、相対的に大きな又は重い加工対象物Ｓの表面にも、相対的に容易にリブレット構造を形成することができる。

　更に、加工システムＳＹＳａは、排気装置１６を用いて、加工光ＥＬの照射によって発生した不要物質を、収容空間ＳＰの外部に吸引可能である。このため、塗装膜ＳＦへの加工光ＥＬの照射が、不要物質によって妨げられることは殆どない。このため、排気装置１６を備えていない（つまり、塗装膜ＳＦへの加工光ＥＬの照射が不要物質によって妨げられる可能性がある）加工システムと比較して、加工光ＥＬの照射精度が向上する。その結果、リブレット構造の形成精度が向上する。

　更に、加工装置１は、気体供給装置１７を用いて、光学面１１２４（つまり、光学系１１２の終端光学素子の収容空間ＳＰ側の光学面）への汚れの付着を防止することができる。このため、気体供給装置１７を備えていない加工装置と比較して、塗装膜ＳＦへの加工光ＥＬの照射が、光学面１１２４に付着してしまった汚れによって妨げられる可能性が小さくなる。このため、加工光ＥＬの照射精度が向上する。その結果、リブレット構造の形成精度が向上する。

　また、第１実施形態では、加工装置１は、第１駆動系１２１及び第２駆動系１２２を備える駆動系１２を用いて、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を移動させることができる。このため、加工装置１は、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を適切に移動させることができる。具体的には、仮に第１駆動系１２１のみを用いて（つまり、第２駆動系１２２を用いることなく）光照射装置１１を移動させる場合には、光照射装置１１の位置決め精度を相応に高くすることが難しくなる。なぜならば、第１駆動系１２１による光照射装置１１の位置決め精度は、第１駆動系１２１の複数の関節の移動精度（つまり、揺動精度又は回転精度）を積算した精度となるからである。しかるに、第１実施形態では、第１駆動系１２１による光照射装置１１の位置決め精度を相応に高くすることができない場合であっても、光照射装置１１の位置決め精度は、第１駆動系１２１よりも位置決め精度が高い第２駆動系１２２によって高められる。つまり、第２駆動系１２２を用いて、第１駆動系１２１及び第２駆動系１２２を備える駆動系１２全体としての光照射装置１１の位置決め精度を、第１駆動系１２１による光照射装置１１の位置決め精度よりも高くすることができる。このため、加工装置１は、第２駆動系１２２を備えていない場合と比較して、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を適切に（例えば、精度よく）移動させることができる。

　また、駆動系１２が、第２駆動系１２２に加えて、第２駆動系１２２よりも光照射装置１１の移動範囲を大きくすることが可能な第１駆動系１２１を備えているため、第１駆動系１２１を備えることなく第２駆動系１２２を備える比較例の駆動装置と比較して、光照射装置１１の移動範囲が大きくなるという利点もある。

　つまり、第１実施形態では、加工システムＳＹＳａは、主として第１駆動系１２１を用いて光照射装置１１の移動範囲を相応に大きくしつつ、主として第２駆動系１２２を用いて光照射装置１１の移動精度を相応に高めることができる。つまり、加工システムＳＹＳａは、光照射装置１１の移動範囲の広大化及び光照射装置１１の移動精度の向上を両立することができる。

　加えて、第１実施形態では、第１駆動系１２１による光照射装置１１の位置決め精度を相応に高くする必要性が小さくなる。このため、第１駆動系１２１による光照射装置１１の位置決め精度を相応に高くするために、第１駆動系１２１の剛性（例えば、アーム部材１２１２１の剛性）を高くしなくともよくなる。その結果、第１駆動系１２１の軽量化が可能となる。更には、第１駆動系１２１の軽量化に伴い、アーム部材１２１２１を移動させるためのアクチュエータ１２１２３の小型化も可能となる。

　また、第１実施形態では、第１駆動系１２１の移動に伴う振動が光照射装置１１に伝わる可能性を低めることができる、或いは第１駆動系１２１の移動に伴う振動量よりも光照射装置１１の振動量の方を小さくすることができる。その結果、光照射装置１１の整定時間の短縮を図ることができ、トータルのスループットの向上を図ることができる。或いは、光照射装置１１の振動に起因する位置決め精度の劣化を低減できるため、リブレット構造の形成精度の向上を図ることができる。

　そして、第１実施形態では、位置計測装置１８の計測結果に基づいて、アーム駆動系１２１２を制御しているため、光照射装置１１の位置決め精度を高めることができる。

　（２）第２実施形態の加工システムＳＹＳｂ
　続いて、図２１を参照しながら、第２実施形態の加工システムＳＹＳ（以降、第２実施形態の加工システムＳＹＳを、“加工システムＳＹＳｂ”と称する）について説明する。図２１は、第２実施形態の加工システムＳＹＳｂの全体構造を模式的に示す断面図である。

　図２１に示すように、第２実施形態の加工システムＳＹＳｂは、第１実施形態の加工システムＳＹＳａと比較して、加工装置１に代えて、加工装置１ｂを備えているという点で異なる。加工システムＳＹＳｂのその他の特徴は、加工システムＳＹＳａのその他の特徴と同一であってもよい。加工装置１ｂは、加工装置１と比較して、位置計測装置１８に代えて、位置計測装置１８ｂを備えているという点で異なる。加工装置１ｂのその他の特徴は、加工装置１のその他の特徴と同一であってもよい。

　位置計測装置１８ｂは、位置計測装置１８と同様に、塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対的な位置関係を計測する。位置計測装置１８ｂは、上述した位置計測装置１８と比較して、所定の基準位置に対する光照射装置１１の位置を計測する。具体的には、位置計測装置１８ｂは、基準位置が規定された基準座標系における光照射装置１１の位置を計測する。基準位置は、例えば、基準座標系の原点であってもよい。基準座標系として、例えば、位置計測装置１８ｂが塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対的な位置関係を計測するために用いる計測座標系が用いられる。但し、基準座標系として、その他の座標系が用いられてもよい。尚、塗装膜ＳＦの基準座標系における位置が既知であれば、位置計測装置１８ｂによる基準座標系における基準位置と光照射装置１１との相対的な位置関係の計測によって、塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対的な位置関係が求められる。すなわち、位置計測装置１８ｂは、間接的に塗装膜ＳＦと光照射装置１１との相対的な位置関係を計測するものといえる。

　基準位置に対する光照射装置１１の位置を計測するために、位置計測装置１８ｂは、指標部材１８１ｂと、指標計測装置１８２ｂとを備えている。

　指標部材１８１ｂは、基準位置に対する光照射装置１１の位置を計測する際の指標となる部材である。指標部材１８１ｂは、光照射装置１１（特に、光学系１１２）に対して固定された位置に配置される。指標部材１８１ｂは、光照射装置１１に対する相対位置が固定された位置に配置される。指標部材１８１ｂは、駆動系１２が光照射装置１１を移動させたとしても光照射装置１１と指標部材１８１ｂとの相対位置が変わらない位置に配置される。例えば、図２１は、指標部材１８１ｂが、光照射装置１１が取り付けられる取付部材１９に配置されている例を示している。但し、指標部材１８１ｂは、取付部材１９とは異なる部材に取り付けられてもよい。例えば、指標部材１８１ｂは、光照射装置１１に取り付けられてもよい。例えば、指標部材１８１ｂは、上述した筐体１１４（図４参照）に取り付けられてもよい。

　指標計測装置１８２ｂは、指標部材１８１ｂの位置を計測する。指標計測装置１８２ｂは、指標計測部材１８１ｂの位置を計測可能である限りは、どのような計測装置であってもよい。指標計測装置１８２ｂは、指標計測部材１８１ｂの位置を計測可能である限りは、どのような位置に配置されていてもよい。

　指標計測装置１８２ｂからの出力（つまり、指標計測装置１８２ｂの計測結果）は、基準位置に対する光照射装置１１の位置に関する情報を含むことになる。具体的には、指標計測装置１８２ｂの計測結果は、基準位置に対する指標部材１８１ｂの位置に関する情報を含む。つまり、指標計測装置１８２ｂの計測結果は、基準座標系における指標部材１８１ｂの位置に関する情報を含む。ここで、光照射装置１１に対して固定された位置に指標部材１８１ｂが配置されているがゆえに、基準座標系における指標部材１８１ｂの位置に関する情報は、実質的には、基準座標系における光照射装置１１の位置に関する情報を含んでいる。従って、制御装置２は、基準位置に対する光照射装置１１の位置を適切に特定することができる。

　指標部材１８１ｂの一例として、マーカがあげられる。マーカは、物理的な形状によって識別可能なマーカ（例えば、刻印、凸部又は凹部）を含んでいてもよい。マーカは、視覚的特徴（例えば、色等）によって識別可能なマーカ（例えば、を含んでいてもよい。マーカは、マーカ自身が発する光によって識別可能なマーカ（例えば、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）等）を含んでいてもよい。この場合、指標計測装置１８２ｂは、マーカを撮像可能な撮像装置（例えば、カメラ）を含んでいてもよい。或いは、指標計測装置１８２ｂは、マーカに対して計測光（或いは、任意の計測ビーム）を照射する照射装置と、マーカからの計測光を受光する受光装置とを含んでいてもよい。

　指標部材１８１ｂの一例として、信号を発信可能な発信装置があげられる。信号の一例として、電波信号及び光信号の少なくとも一方があげられる。この場合、指標計測装置１８２ｂは、信号を受信可能な受信装置を含んでいてもよい。

　位置計測装置１８ｂは、単一の指標部材１８１ｂを備えていてもよい。この場合、制御装置２は、指標計測装置１８２ｂの計測結果（つまり、単一の指標部材１８１ｂの位置に関する情報）に基づいて、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向のそれぞれにおける光照射装置１１の位置を特定することができる。位置計測装置１８ｂは、二つの指標部材１８１ｂを備えていてもよい。この場合、制御装置２は、指標計測装置１８２ｂの計測結果（つまり、二つの指標部材１８１ｂの位置に関する情報）に基づいて、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向のそれぞれにおける光照射装置１１の位置に加えて、θＺ方向に相当する回転方向における光照射装置１１の位置（つまり、Ｚ軸周りにおける光照射装置１１の回転量）を特定することができる。位置計測装置１８ｂは、三つ以上の指標部材１８１ｂを備えていてもよい。この場合、制御装置２は、指標計測装置１８２ｂの計測結果（つまり、三つ以上の指標部材１８１ｂの位置に関する情報）に基づいて、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向のそれぞれにおける光照射装置１１の位置に加えて、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のそれぞれの回転方向における光照射装置１１の位置（つまり、Ｘ軸周り、Ｙ軸周り及びＺ軸周りのそれぞれにおける光照射装置１１の回転量）を特定することができる。

　尚、指標部材１８１ｂに代えて或いは加えて、（指標）計測装置１８２ｂからの計測光を反射する反射部材を設けてもよい。この場合、反射部材はコーナーキューブレフレクタやキャッツアイレフレクタであってもよい。

　また、位置計測装置１８ｂによって、塗装膜ＳＦ上（加工対象物Ｓ上）で特徴点となる部分の基準座標系における位置を計測してもよい。ここで、加工対象物Ｓ（塗装膜ＳＦ）の３Ｄデータを用いれば、当該３Ｄデータの座標系における特徴点の座標が既知となる。基準座標系における特徴点の座標と３Ｄデータの座標系における特徴点の座標とを整合させれば、位置計測装置１８ｂによって、加工対象物Ｓ（塗装膜ＳＦ）の任意の位置と、指標部材１８１ｂとの位置関係を求めることができる。尚、ある加工対象物Ｓの特徴点は、加工対象物Ｓの表面（塗装膜ＳＦ）上の位置を示す点の集合である点群データによって示される物体の３次元形状のうちの特徴的な位置の点を含んでいてもよい。特徴点の一例として、加工対象物Ｓにおける頂点、角、境界、最も＋Ｚ側に位置する点、最も－Ｚ側に位置する点、最も＋Ｘ側に位置する点、最も－Ｘ側に位置する点、最も＋Ｙ側に位置する点、及び、最も－Ｙ側に位置する点の少なくとも一つを挙げてもよい。

　尚、複数の位置計測装置１８ｂが設けられていてもよい。この場合、各々の位置計測装置１８ｂの計測軸は互いに交差していてもよい。

　また、位置計測装置１８ｂは、非接触方式（一例として光検出方式、音波検出方式及び電波検出方式等の少なくとも一つ）で光照射装置１１の位置を計測するものであってもよい。

　このような第２実施形態の加工システムＳＹＳｂは、上述した第１実施形態の加工システムＳＹＳａが享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。

　（３）第３実施形態の加工システムＳＹＳｃ
　続いて、図２２を参照しながら、第３実施形態の加工システムＳＹＳ（以降、第３実施形態の加工システムＳＹＳを、“加工システムＳＹＳｃ”と称する）について説明する。図２２は、第３実施形態の加工システムＳＹＳｃの全体構造を模式的に示す断面図である。

　図２２に示すように、第３実施形態の加工システムＳＹＳｃは、第１実施形態の加工システムＳＹＳａと比較して、加工装置１に代えて、加工装置１ｃを備えているという点で異なる。加工システムＳＹＳｃのその他の特徴は、加工システムＳＹＳａのその他の特徴と同一であってもよい。加工装置１ｃは、加工装置１と比較して、位置計測装置１８に加えて、第２実施形態で説明した位置計測装置１８ｂを更に備えているという点で異なる。加工装置１ｃのその他の特徴は、加工装置１のその他の特徴と同一であってもよい。

　制御装置２は、位置計測装置１８及び１８ｂの少なくとも一方の計測結果に基づいて、駆動系１２（つまり、第１駆動系１２１及び第２駆動系１２２）を制御してもよい。その結果、第３実施形態の加工システムＳＹＳｂは、上述した第１実施形態の加工システムＳＹＳａ及び第２実施形態の加工システムＳＹＳｂのそれぞれが享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。

　但し、加工システムＳＹＳｃが位置計測装置１８及び１８ｂ（つまり、複数の位置計測装置）を備えている場合には、加工動作が行われる過程で、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置が変化する可能性がある。具体的には、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置が、本来の理想的な相対位置からずれてしまう可能性がある。その結果、ある構造物を形成するように位置計測装置１８の計測結果に基づいて駆動系１２が制御された場合に塗装膜ＳＦに形成される構造と、同じ構造物を形成するように位置計測装置１８ｂの計測結果に基づいて駆動系１２が制御された場合に塗装膜ＳＦに形成される構造とが一致しなくなる可能性がある。そこで、第３実施形態では、制御装置２は、位置計測装置１８及び１８ｂの少なくとも一方の計測結果に加えて、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置に関する情報に基づいて、駆動系１２を制御してもよい。

　具体的には、制御装置２は、まず、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置に関する情報を取得する。位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置に関する情報を取得するために、制御装置２は、例えば、テスト加工を行う（具体的には、テスト用の構造（以下、“テスト構造”と称する）ＳＴを形成する）ように加工装置１ｃを制御してもよい。具体的には、制御装置２は、位置計測装置１８の計測結果に基づいて駆動系１２を制御することでテスト構造ＳＴを形成し、位置計測装置１８ｂの計測結果に基づいて駆動系１２を制御することで同じテスト構造ＳＴを形成するように、加工装置１ｃを制御してもよい。この際、制御装置２は、実際の塗装膜ＳＦにテスト構造ＳＴを形成するように、加工装置１ｃを制御してもよい。或いは、制御装置２は、不図示の塗装装置によって塗装膜ＳＦ上にテスト加工用の被膜が塗布された後に、塗布されたテスト加工用の被膜にテスト構造ＳＴを形成するように、加工装置１ｃを制御してもよい。或いは、制御装置２は、テスト構造ＳＴを形成するためのテスト用の物体（つまり、加工対象物ＳＦとは異なる物体）にテスト構造ＳＴを形成するように、加工装置１ｃを制御してもよい。

　その結果、図２３（ａ）及び図２３（ｂ）に示すように、塗装膜ＳＦ（或いは、テスト用の被膜又はテスト用の物体）には、位置計測装置１８の計測結果に基づいて駆動系１２が制御された場合に形成されるテスト構造ＳＴ（以降、“テスト構造ＳＴ１”と称する）と、位置計測装置１８ｂの計測結果に基づいて駆動系１２が制御された場合に形成されるテスト構造ＳＴ（以降、“テスト構造ＳＴ２”と称する）とが形成される。尚、図２３（ａ）は、位置計測装置１８の計測結果に基づいて駆動系１２が制御された場合に形成されるテスト構造ＳＴ１を示す平面図である。図２３（ｂ）は、位置計測装置１８ｂの計測結果に基づいて駆動系１２が制御された場合に形成されるテスト構造ＳＴ２を示す平面図である。尚、図２３（ａ）及び図２３（ｂ）に示したテスト構造ＳＴ１、ＳＴ２は、一次元方向に伸びたライン・アンド・スペース構造であるが、テスト構造はこれには限定されない。例えば、二次元方向に広がった構造（一例として一以上の十字形状やボックス形状）であってもよい。

　その後、制御装置２は、位置計測装置１８及び１８ｂの少なくとも一方（例えば、撮像装置）又は不図示の撮像装置等を用いて、形成された二つのテスト構造ＳＴ１及びＳＴ２を計測する。その後、制御装置２は、位置計測装置１８及び１８ｂの少なくとも一方の計測結果に基づいて、テスト構造ＳＴ１及びＳＴ２の形成位置に関する情報を取得する。ここで、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置が変化していなければ（つまり、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置が、本来の理想的な相対位置からずれていなければ）、テスト構造ＳＴ１を形成した領域内でのテスト構造ＳＴ１の相対的な形成位置と、テスト構造ＳＴ２を形成した領域内でのテスト構造ＳＴ２の相対的な形成位置とが一致するはずである。一方で、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置が変化していれば（つまり、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置が、本来の理想的な相対位置からずれていれば）、テスト構造ＳＴ１を形成した領域内でのテスト構造ＳＴ１の相対的な形成位置と、テスト構造ＳＴ２を形成した領域内でのテスト構造ＳＴ２の相対的な形成位置とが一致しない可能性が高い。尚、図２３（ａ）及び図２３（ｂ）は、テスト構造ＳＴ１の相対的な形成位置と、テスト構造ＳＴ２を形成した領域内でのテスト構造ＳＴ２の相対的な形成位置とが一致しない例を示している。このため、テスト構造ＳＴ１及びＳＴ２の形成位置に関する情報は、実質的には、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置に関する情報を含んでいる。

　その結果、制御装置２は、テスト構造ＳＴ１及びＳＴ２の形成位置に関する情報に基づいて、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置の変化に起因した影響が低減されるように、駆動系１２を制御することができる。例えば、制御装置２は、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置の変化に起因した影響が低減されるように位置計測装置１８及び１８ｂの少なくとも一方の計測結果を補正し、補正した計測結果に基づいて駆動系１２を制御してもよい。例えば、制御装置２は、位置計測装置１８及び１８ｂの少なくとも一方の計測結果に基づいて駆動系１２を制御する際に、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置の変化に起因した影響が低減されるように、駆動系１２による光照射装置１１の移動態様（例えば、移動方向及び移動量の少なくとも一つ）を制御してもよい。例えば、制御装置２は、位置計測装置１８及び１８ｂの少なくとも一方の計測結果に基づいて、塗装膜ＳＦ（加工対象物Ｓ）上での一以上の加工光ＥＬの照射位置を制御して、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置の変化に起因した影響を低減させてもよい。このとき、加工光ＥＬの照射位置は、塗装膜ＳＦ（加工対象物Ｓ）の表面内の位置及び当該表面と交差する方向における位置のうち少なくとも一方であってもよい。この場合、光照射装置１１が用いる加工データ（加工光ＥＬの照射位置の移動経路や加工光ＥＬの強度等が含まれるデータ）を、位置計測装置１８及び１８ｂの少なくとも一方の計測結果を用いて補正してもよい。

　或いは、テスト構造ＳＴが加工光ＥＬの照射による塗装膜ＳＦ（或いは、テスト用の被膜又はテスト用の物体）の特性の変化に起因して形成されることを考慮すれば、制御装置２は、テスト構造ＳＴを実際に形成することに代えて、テスト構造ＳＴを形成するための加工光ＥＬを、加工光ＥＬの照射によって特性が変更される感応性部材ＰＥに照射するように、加工装置１ｃを制御してもよい。具体的には、制御装置２は、位置計測装置１８の計測結果に基づいて、テスト構造ＳＴを形成する場合と同様に駆動系１２を制御しながら加工光ＥＬを感応性部材ＰＥに照射し、位置計測装置１８ｂの計測結果に基づいて、同じテスト構造ＳＴを形成する場合と同様に駆動系１２を制御しながら加工光ＥＬを感応性部材ＰＥに照射するように、加工装置１ｃを制御してもよい。或いは、制御装置２は、不図示の貼付装置によって塗装膜ＳＦ上に感応性部材ＰＥ（例えば、シート状の感応性部材ＰＥ）が貼り付けられた後に、貼り付けられた感応性部材ＰＥに加工光ＥＬを照射するように、加工装置１ｃを制御してもよい。尚、感応性部材ＰＥは、塗装膜ＳＦとの位置関係が加工光ＥＬの照射時とテスト構造ＳＴの計測時との間で変動しなければ、塗装膜ＳＦに貼り付けられる必要はない。例えば、感応性部材ＰＥは、塗装膜ＳＦ上に載置されていてもよい。

　その結果、図２４（ａ）及び図２４（ｂ）に示すように、感応性部材ＰＥには、加工光ＥＬが照射されたことで特性が変化した特性変化パターンＰＶが形成される。尚、図２４（ａ）は、位置計測装置１８の計測結果に基づいて、テスト構造ＳＴを形成する場合と同様に駆動系１２を制御しながら加工光ＥＬを照射した場合に形成される特性変化パターンＰＶ（以降、“特性変化パターンＰＶ１”と称する）を示す平面図である。図２４（ｂ）は、位置計測装置１８ｂの計測結果に基づいて、テスト構造ＳＴを形成する場合と同様に駆動系１２を制御しながら加工光ＥＬを照射した場合に形成される特性変化パターンＰＶ（以降、“特性変化パターンＰＶ２”と称する）を示す平面図である。

　その後、制御装置２は、位置計測装置１８及び１８ｂの少なくとも一方（例えば、撮像装置）又は不図示の撮像装置等を用いて、形成された二つの特性変化パターンＰＶ１及びＰＶ２を計測する。その後、制御装置２は、位置計測装置１８及び１８ｂの少なくとも一方の計測結果に基づいて、特性変化パターンＰＶ１及びＰＶ２の形成位置に関する情報を取得する。ここで、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置が変化していなければ、特性変化パターンＰＶ１を形成した領域内での特性変化パターンＰＶ１の相対的な形成位置と、特性変化パターンＰＶ２を形成した領域内での特性変化パターンＰＶ２の相対的な形成位置とが一致するはずである。一方で、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置が変化していれば、特性変化パターンＰＶ１を形成した領域内での特性変化パターンＰＶ１の相対的な形成位置と、特性変化パターンＰＶ２を形成した領域内での特性変化パターンＰＶ２の相対的な形成位置とが一致しない可能性が高い。尚、図２４（ａ）及び図２４（ｂ）は、特性変化パターンＰＶ１の相対的な形成位置と、特性変化パターンＰＶ２を形成した領域内でのテスト構造ＳＴ２の相対的な形成位置とが一致する例を示している。このため、特性変化パターンＰＶ１及びＰＶ２の形成位置に関する情報は、実質的には、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置に関する情報を含んでいる。

　その結果、制御装置２は、特性変化パターンＰＶ１及びＰＶ２の形成位置に関する情報に基づいて、位置計測装置１８の計測基準位置と位置計測装置１８ｂの計測基準位置との相対位置の変化に起因した影響が低減されるように、駆動系１２を制御することができる。

　尚、特性変化パターンＰＶ１及びＰＶ２の線幅を計測すれば、塗装膜ＳＦ（加工対象物Ｓ）の表面と交差する方向における加工光ＥＬの照射位置に関する情報を得ることができる。

　また、複数の位置計測装置１８及び複数の位置計測装置１８ｂが設けられていてもよい。この場合、各々の位置計測装置１８の計測軸は、互いに交差する（或いはねじれの）関係であってもよく、互いに平行（又は同軸）であってもよい。そして、各々の位置計測装置１８ｂの計測軸は互いに交差する関係であってもよい。

　（４）第４実施形態の加工システムＳＹＳｄ
　続いて、図２５を参照しながら、第４実施形態の加工システムＳＹＳ（以降、第４実施形態の加工システムＳＹＳを、“加工システムＳＹＳｄ”と称する）について説明する。図２５は、第４実施形態の加工システムＳＹＳｄの構造を模式的に示す斜視図である。

　図２５に示すように、第４実施形態の加工システムＳＹＳｄは、第１実施形態の加工システムＳＹＳａと比較して、加工装置１に代えて、加工装置１ｄを備えているという点で異なる。加工システムＳＹＳｄのその他の特徴は、加工システムＳＹＳａのその他の特徴と同一であってもよい。加工装置１ｄは、加工装置１と比較して、支持装置１４に代えて、支持装置１４ｄを備えているという点で異なる。加工装置１ｄのその他の特徴は、加工装置１のその他の特徴と同一であってもよい。尚、図２５では、図面の見やすさを重視するために、加工システムＳＹＳｄが備える構成要件の一部（例えば、収容装置１３、駆動系１５、排気装置１６、気体供給装置１７及び制御装置２）の記載を省略している。

　支持装置１４ｄは、支持装置１４と同様に、収容装置１３を支持する。つまり、支持装置１４ｄは、支持装置１４と同様に、収容装置１３を介して駆動系１２及び光照射装置１１を支持する。支持装置１４ｄは、加工対象物ＳＦに支持されることなく自走可能であるという点で、加工対象物ＳＦに支持された状態で自走可能な支持装置１４とは異なる。支持装置１４ｄは、加工対象物ＳＦに接触することなく（つまり、干渉することなく）自走可能であるという点で、加工対象物ＳＦに接触した状態で自走可能な支持装置１４とは異なる。支持装置１４ｄのその他の特徴は、支持装置１４のその他の特徴と同一であってもよい。

　加工対象物Ｓに干渉することなく自走するために、支持装置１４ｄは、支持装置１４が備える梁部材１４１及び脚部材１４２に代えて、ガントリー部材１４１ｄと、移動ブロック１４２ｄとを備えている。

　ガントリー部材１４１ｄは、直線形状を有する複数の脚部材１４１１ｄの上部に、直線形状を有する梁部材１４１２ｄが配置された門型の部材である。図２５に示す例では、複数の脚部材１４１１ｄは、Ｚ軸方向に延びる直線形状の部材であり、梁部材１４１２ｄは、Ｘ軸方向に延びる直線形状の部材である。ガントリー部材１４１ｄは、加工対象物Ｓに接触することなく、加工対象物ＳＦを少なくとも部分的に取り囲むことが可能な程度に大きなサイズを有している。具体的には、ガントリー部材１４１ｄは、複数の脚部材１４１１ｄが加工対象物Ｓをその間に挟み込むことが可能な程度に大きなサイズを有してもよい。ガントリー部材１４１ｄは、梁部材１４１２ｄが加工対象物Ｓの上方に位置することが可能な程度に大きなサイズを有してもよい。例えば、図２５に示す例では、ガントリー部材１４１ｄは、加工対象物Ｓの一具体例である航空機の機体を跨ぐことが可能な程度に大きなサイズを有している。

　ガントリー部材１４１ｄは、加工対象物Ｓが配置された支持面（或いは、その他の面）に形成された不図示のレールに沿って自走可能である。図２５に示す例では、ガントリー部材１４１ｄは、例えば、Ｙ軸方向に延伸する不図示のレールに沿って自走可能である。つまり、図２５に示す例では、ガントリー部材１４１ｄは、Ｙ軸方向に沿って自走可能である。

　移動ブロック１４２ｄは、ガントリー部材１４１ｄの梁部材１４１２ｄに取り付けられている。移動ブロック１４２ｄは、梁部材１４１２ｄに沿って移動可能となるように梁部材１４１２ｄに取り付けられている。例えば、移動ブロック１４２ｄは、梁部材１４１２ｄに形成された不図示のレールに沿って移動可能となるように、当該レールに取り付けられていてもよい。図２５に示す例では、梁部材１４１２ｄがＸ軸方向に延びる部材であるがゆえに、移動ブロック１４２ｄは、Ｘ軸方向に沿って移動可能である。移動ブロック１４２ｄは更に、ガントリー部材１４１ｄが自走する方向及び梁部材１４１２ｄが延びる方向に交差する方向に沿って移動可能である。図２５に示す例では、移動ブロック１４２ｄは、ガントリー部材１４１ｄが自走するＹ軸方向及び梁部材１４１２ｄが延びるＸ軸方向に交差するＺ軸方向に沿って移動可能である。

　移動ブロック１４２ｄには、不図示の収容装置１３を介して駆動系１２及び光照射装置１１が取り付けられている。つまり、移動ブロック１４２ｄは、不図示の収容装置１３を介して駆動系１２及び光照射装置１１を支持する。このため、ガントリー部材１４１ｄ及び移動ブロック１４２ｄの移動により、光照射装置１１もまた移動する。具体的には、ガントリー部材１４１ｄのＹ軸方向に沿った移動により、光照射装置１１は、Ｙ軸方向に沿って移動する。移動ブロック１４２ｄのＸ軸方向及びＺ軸方向のそれぞれに沿った移動により、光照射装置１１は、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に沿って移動する。

　尚、ガントリー部材１４１ｄは、加工対象物Ｓへの加工時における光照射装置１１の位置ずれを低減するために、ガントリー部材１４１ｄを支持面に対して固定する固定部材を備えていてもよい。

　このような第４実施形態の加工システムＳＹＳｄは、上述した第１実施形態の加工システムＳＹＳａが享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。

　尚、ガントリー部材１４１ｄは、異なる複数の方向のそれぞれに沿って自走可能であってもよい。移動ブロック１４２ｄは、梁部材１４１２ｄに加えて又は代えて、少なくとも一つの脚部材１４１１ｄに取り付けられていてもよい。移動ブロック１４２ｄは、少なくとも一つの脚部材１４１１ｄに沿って移動可能となるように、少なくとも一つの脚部材１４１１ｄに取り付けられていてもよい。移動ブロック１４２ｄは、梁部材１４１２ｄに沿って移動することに加えて又は代えて、少なくとも一つの脚部材１４１１ｄに沿って移動してもよい。移動ブロック１４２ｄは、単一の方向に沿って移動可能であってもよい。移動ブロック１４２ｄは、移動可能でなくてもよい。

　第４実施形態の加工システムＳＹＳｄは、上述した第２実施形態の加工システムＳＹＳｂから第３実施形態の加工システムＳＹＳｄの少なくとも一つに特有の構成要件を更に備えていてもよい。第２実施形態の加工システムＳＹＳｂに特有の構成要件は、位置計測装置１８ｂに関する構成要件を含む。第３実施形態の加工システムＳＹＳｃに特有の構成要件は、位置計測装置１８及び１８ｂに関する構成要件を含む。

　（５）第５実施形態の加工システムＳＹＳｅ
　続いて、図２６から図２９を参照しながら、第５実施形態の加工システムＳＹＳ（以降、第５実施形態の加工システムＳＹＳを、“加工システムＳＹＳｅ”と称する）について説明する。図２６は、第５実施形態の加工システムＳＹＳｅの構造を模式的に示す斜視図である。図２７は、第５実施形態の加工システムＳＹＳｅの構造を模式的に示す正面図である。図２８は、第５実施形態の加工システムＳＹＳｅの構造を模式的に示す側面図である。図２９は、第５実施形態の加工システムＳＹＳｅの構造の一部を拡大して示す正面図である。

　図２６から図２９に示すように、第５実施形態の加工システムＳＹＳｅは、第４実施形態の加工システムＳＹＳｄと比較して、加工装置１に代えて、加工装置１ｅを備えているという点で異なる。加工システムＳＹＳｅのその他の特徴は、加工システムＳＹＳｄのその他の特徴と同一であってもよい。加工装置１ｅは、加工装置１ｄと比較して、支持装置１４ｄに代えて、支持装置１４ｅを備えているという点で異なる。加工装置１ｅのその他の特徴は、加工装置１ｄのその他の特徴と同一であってもよい。尚、図２６から図２９では、図面の見やすさを重視するために、加工システムＳＹＳｅが備える構成要件の一部（例えば、収容装置１３、駆動系１５、排気装置１６、気体供給装置１７及び制御装置２）の記載を省略している。

　支持装置１４ｅは、支持装置１４ｄと同様に、収容装置１３を支持する。つまり、支持装置１４ｅは、支持装置１４ｄと同様に、収容装置１３を介して駆動系１２及び光照射装置１１を支持する。支持装置１４ｅは、支持装置１４ｄと同様に、加工対象物ＳＦに支持されることなく自走可能である。支持装置１４ｅは、支持装置１４ｄと比較して、ガントリー部材１４１ｄ及び移動ブロック１４２ｄに代えてアーチ部材１４１ｅ及び移動ブロック１４２ｅを備えているという点で異なる。支持装置１４ｅのその他の特徴は、支持装置１４ｄのその他の特徴と同一であってもよい。

　アーチ部材１４１ｅは、直線形状を有する複数の脚部材１４１１ｅの上部に、曲線形状を有する（例えば、アーチ形状を有する）梁部材１４１２ｅが配置されたアーチ型の部材である。図２６から図２９に示す例では、複数の脚部材１４１１ｅは、Ｚ軸方向に延びる直線形状の部材であり、梁部材１４ｅは、Ｘ軸方向に沿って延び且つＸ軸方向の位置に応じてＺ軸方向の位置（つまり、高さ）が変わる曲線形状の部材である。アーチ部材１４１ｅは、加工対象物Ｓに接触することなく、加工対象物ＳＦを少なくとも部分的に取り囲むことが可能な程度に大きなサイズを有している。具体的には、アーチ部材１４１ｅは、複数の脚部材１４１１ｅが加工対象物Ｓをその間に挟み込むことが可能な程度に大きなサイズを有してもよい。アーチ部材１４１ｅは、梁部材１４１２ｅが加工対象物Ｓの上方に位置することが可能な程度に大きなサイズを有してもよい。例えば、図２６から図２９に示す例では、アーチ部材１４１ｅは、加工対象物Ｓの一具体例である航空機の機体を跨ぐことが可能な程度に大きなサイズを有している。

　アーチ部材１４１ｅは、第４実施形態のガントリー部材１４１ｄと同様に、加工対象物Ｓが配置された支持面（或いは、その他の面）に形成された不図示のレールに沿って自走可能である。図２６に示す例では、アーチ部材１４１ｅは、例えば、Ｙ軸方向に延伸する不図示のレールに沿って自走可能である。つまり、図２６に示す例では、アーチ部材１４１ｅは、Ｙ軸方向に沿って自走可能である。但し、アーチ部材１４１ｅは、異なる複数の方向のそれぞれに沿って自走可能であってもよい。

　移動ブロック１４２ｅは、アーチ部材１４１ｅに取り付けられている。例えば、移動ブロック１４２ｅは、アーチ部材１４１ｅの梁部材１４１２ｅに取り付けられていてもよい。例えば、移動ブロック１４２ｅは、アーチ部材１４１ｅの少なくとも一つの脚部材１４１１ｅに取り付けられていてもよい。移動ブロック１４２ｅは、アーチ部材１４１ｅに沿って移動可能となるようにアーチ部材１４１ｅに取り付けられている。例えば、移動ブロック１４２ｅは、アーチ部材１４１ｅに形成されたレール１４３ｅ（図２９参照）に沿って移動可能となるように、当該レール１４３ｅに取り付けられていてもよい。レール１４３ｅは、アーチ部材１４１ｅの梁部材１４１２ｅに形成される。レール１４３ｅは、アーチ部材１４１ｅの少なくとも一つの脚部材１４１１ｅに形成されていてもよい。図２６から図２９に示す例では、梁部材１４１２ｄがＸ軸方向に沿って延び且つＸ軸方向の位置に応じてＺ軸方向の位置（つまり、高さ）が変わる曲線形状の部材であるがゆえに、移動ブロック１４２ｅは、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に沿って移動可能である。

　移動ブロック１４２ｅには、不図示の収容装置１３を介して駆動系１２及び光照射装置１１が取り付けられている。つまり、移動ブロック１４２ｅは、不図示の収容装置１３を介して駆動系１２及び光照射装置１１を支持する。このため、アーチ部材１４１ｅ及び移動ブロック１４ｅの移動により、光照射装置１１もまた移動する。具体的には、アーチ部材１４１ｅのＹ軸方向に沿った移動により、光照射装置１１は、Ｙ軸方向に沿って移動する。移動ブロック１４２ｅのＸ軸方向及びＺ軸方向のそれぞれに沿った移動により、光照射装置１１は、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に沿って移動する。尚、図２６から図２９に示す例では、駆動系１２が第１駆動系１２１を備えていないが、駆動系１２が第１駆動系１２１を備えていてもよい。

　このような第５実施形態の加工システムＳＹＳｅは、上述した第４実施形態の加工システムＳＹＳｄが享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。

　第５実施形態の加工システムＳＹＳｅは、第４実施形態の加工システムＳＹＳｄと同様に、上述した第２実施形態の加工システムＳＹＳｂから第３実施形態の加工システムＳＹＳｃの少なくとも一つに特有の構成要件を更に備えていてもよい。

　（６）第６実施形態の加工システムＳＹＳｆ
　続いて、第６実施形態の加工システムＳＹＳ（以降、第６実施形態の加工システムＳＹＳを、“加工システムＳＹＳｆ”と称する）について説明する。第６実施形態の加工システムＳＹＳｆは、第１実施形態の加工システムＳＹＳａと比較して、加工装置１に代えて、加工装置１ｆを備えているという点で異なる。加工システムＳＹＳｆのその他の特徴は、加工システムＳＹＳａのその他の特徴と同一であってもよい。加工装置１ｆは、加工装置１と比較して、駆動系１２に代えて、駆動系１２ｆを備えているという点で異なる。加工装置１ｆのその他の特徴は、加工装置１のその他の特徴と同一であってもよい。このため、以下では、図３０及び図３１を参照しながら、第６実施形態の駆動系１２ｆについて説明する。図３０及び図３１のそれぞれは、第６実施形態の駆動系１２ｆの構造を示す断面図である。

　図３０及び図３１に示すように、駆動系１２ｆは、駆動系１２と比較して、複数の第２駆動系１２２を備えているという点で異なる。図３０は、駆動系１２ｆが二つの第２駆動系１２２を備えている例を示しているが、駆動系１２ｆは、三つ以上の第２駆動系１２２を備えていてもよい。駆動系１２ｆのその他の特徴は、駆動系１２のその他の特徴と同一であってもよい。尚、図３０は、第２駆動系１２２が、取付部材１２１３を介して第１駆動系１２１の先端アーム部材１２１２４に取り付けられている例を示している。しかしながら、上述したように、第２駆動系１２２は、先端アーム部材１２１２４に直接取り付けられていてもよい。

　複数の第２駆動系１２２は、複数の第２駆動系１２２のうちの一の第２駆動系１２２のエアスプリング１２２３が付与する弾性力の方向が、複数の第２駆動系１２２のうちの他の第２駆動系１２２のエアスプリング１２２３が付与する弾性力の方向と異なるように配置されてもよい。例えば、図３０及び図３１に示す例では、第２駆動系１２２＃１のエアスプリング１２２３＃１は、Ｘ軸方向に沿って弾性力を付与するように配置され、第２駆動系１２２＃２のエアスプリング１２２３＃２は、Ｚ軸方向に沿って弾性力を付与するように配置されている。この場合、複数の第２駆動系１２２のうちの少なくとも一つのエアスプリング１２２３は、重力方向成分を含む方向に沿って弾性力を付与するように配置されてもよい。図３０及び図３１に示す例では、第２駆動系１２２＃２のエアスプリング１２２３＃２が、重力方向成分を含む方向であるＺ軸方向に沿って弾性力を付与するように配置されている。

　但し、図３２及び図３３に示すように、駆動系１２による光照射装置１１の移動態様によっては、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸から構成される座標系内において光照射装置１１の姿勢が変わる（つまり、Ｘ軸周りの回転量、Ｙ軸周りの回転量及びＺ軸周りの回転量の少なくとも一つ）が変わる可能性がある。尚、図３２は、加工対象物Ｓである航空機の斜め下方から斜め上方に向けて加工光ＥＬを照射するように姿勢が変わった光照射装置１１を示す正面図であり、図３３は、図３２に示す光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する複数の第２駆動系１２２を示す断面図である。その結果、図３２及び図３３に示すように、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸から構成される座標系内において、エアスプリング１２２３が付与する弾性力の方向が変わる可能性がある。第６実施形態では、複数の第２駆動系１２２は、光照射装置１１の姿勢が変わる場合においても、一の第２駆動系１２２のエアスプリング１２２３が付与する弾性力の方向が、他の第２駆動系１２２のエアスプリング１２２３が付与する弾性力の方向と異なるように配置されてもよい。例えば、複数の第２駆動系１２２は、一の第２駆動系１２２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向と他の第２駆動系１２２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向とが異なるように配置されてもよい。更に、各第２駆動系１２２のエアスプリング１２２３は、各第２駆動系１２２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向に沿って弾性力を付与してもよい。この場合、光照射装置１１の姿勢が変わる場合においても、一の第２駆動系１２２のエアスプリング１２２３が付与する弾性力の方向が、他の第２駆動系１２２のエアスプリング１２２３が付与する弾性力の方向と異なるものとなる。例えば、図３２及び図３３に示す例では、第２駆動系１２２＃１のエアスプリング１２２３＃１は、第２駆動系１２２＃１が光照射装置１１（特に、筐体１１４）と第１駆動系１２１（特に、取付部材１２１３）とを接続する方向（例えば、図３３の左下から右上に向かう方向Ａ１）に沿って弾性力を付与し、第２駆動系１２２＃２のエアスプリング１２２３＃２は、第２駆動系１２２＃２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向（例えば、図３３の左上から右下に向かう方向Ａ２）に沿って弾性力を付与している。

　複数の第２駆動系１２２は、複数の第２駆動系１２２のうちの一の第２駆動系１２２のダンパ部材１２２４が付与する弾性力の方向が、複数の第２駆動系１２２のうちの他の第２駆動系１２２のダンパ部材１２２４が付与する弾性力の方向と異なるように配置されてもよい。例えば、図３０及び図３１に示す例では、第２駆動系１２２＃１のダンパ部材１２２４＃１は、Ｘ軸方向に沿って弾性力を付与するように配置され、第２駆動系１２２＃２のダンパ部材１２２４＃２は、Ｚ軸方向に沿って弾性力を付与するように配置されている。この場合、複数の第２駆動系１２２のうちの少なくとも一つのダンパ部材１２２４は、重力方向成分を含む方向に沿って弾性力を付与するように配置されてもよい。図３０及び図３１に示す例では、第２駆動系１２２＃２のダンパ部材１２２４＃２が、重力方向成分を含む方向であるＺ軸方向に沿って弾性力を付与するように配置されている。

　但し、図３２及び図３３に示すように、エアスプリング１２２３が付与する弾性力の方向が変わる場合と同様の理由から、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸から構成される座標系内において、ダンパ部材１２２４が付与する弾性力の方向が変わる可能性がある。第６実施形態では、複数の第２駆動系１２２は、光照射装置１１の姿勢が変わる場合においても、一の第２駆動系１２２のダンパ部材１２２４が付与する弾性力の方向が、他の第２駆動系１２２のダンパ部材１２２４が付与する弾性力の方向と異なるように配置されてもよい。例えば、一の第２駆動系１２２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向と他の第２駆動系１２２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向とが異なっていてもよい。更に、各第２駆動系１２２のダンパ部材１２２４は、各第２駆動系１２２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向に沿って弾性力を付与してもよい。この場合、光照射装置１１の姿勢が変わる場合においても、一の第２駆動系１２２のダンパ部材１２２４が付与する弾性力の方向が、他の第２駆動系１２２のダンパ部材１２２４が付与する弾性力の方向と異なるものとなる。例えば、図３２及び図３３に示す例では、第２駆動系１２２＃１のダンパ部材１２２４＃１は、第２駆動系１２２＃１が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向（例えば、図３３の左下から右上に向かう方向Ａ１）に沿って弾性力を付与し、第２駆動系１２２＃２のダンパ部材１２２４＃２は、第２駆動系１２２＃２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向（例えば、図３３の左上から右下に向かう方向Ａ２）に沿って弾性力を付与している。

　複数の第２駆動系１２２は、複数の第２駆動系１２２のうちの一の第２駆動系１２２の駆動部材１２２５が付与する駆動力の方向が、複数の第２駆動系１２２のうちの他の第２駆動系１２２の駆動部材１２２５が付与する駆動力の方向と異なるように配置されてもよい。例えば、図３０及び図３１に示す例では、第２駆動系１２２＃１の駆動部材１２２５＃１は、Ｘ軸に交差する方向（例えば、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の少なくとも一つ）に沿って駆動力を付与するように配置され、第２駆動系１２２＃２の駆動部材１２２５＃２は、Ｚ軸に交差する方向（例えば、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一つ）に沿って駆動力を付与するように配置されている。この場合、複数の第２駆動系１２２のうちの少なくとも一つの駆動部材１２２５は、重力方向に交差する方向成分を含む方向に沿って駆動力を付与するように配置されてもよい。図３０及び図３１に示す例では、第２駆動系１２２＃２の駆動部材１２２５＃２が、重力方向に交差する方向成分を含む方向であるＸ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方に沿って弾性力を付与するように配置されている。

　但し、図３２及び図３３に示すように、エアスプリング１２２３が付与する弾性力の方向が変わる場合と同様の理由から、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸から構成される座標系内において、駆動部材１２２５が付与する駆動力の方向が変わる可能性がある。第６実施形態では、複数の第２駆動系１２２は、光照射装置１１の姿勢が変わる場合であっても、一の第２駆動系１２２の駆動部材１２２５が付与する駆動力の方向が、他の第２駆動系１２２の駆動部材１２２５が付与する駆動力の方向とは異なるように配置されてもよい。例えば、一の第２駆動系１２２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向と他の第２駆動系１２２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向とが異なっていてもよい。更に、各第２駆動系１２２の駆動部材１２２５は、各第２駆動系１２２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向に交差する方向に沿って駆動力を付与してもよい。この場合、光照射装置１１の姿勢が変わる場合であっても、一の第２駆動系１２２の駆動部材１２２５が付与する駆動力の方向が、他の第２駆動系１２２の駆動部材１２２５が付与する駆動力の方向とは異なるものとなる。例えば、図３２及び図３３に示す例では、第２駆動系１２２＃１の駆動部材１２２５＃１は、第２駆動系１２２＃１が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向に交差する方向（例えば、図３３の左上から右下に向かう方向Ａ２）に沿って駆動力を付与し、第２駆動系１２２＃２の駆動部材１２２５＃２は、第２駆動系１２２＃２が光照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する方向に交差する方向（例えば、図３３の左下から右上に向かう方向Ａ１）に沿って駆動力を付与している。

　また、図３０及び図３１に示す例において、エアスプリング１２２３の数と、ダンパ部材１２２４の数と、駆動部材１２２５の数とは、互いに等しくなくてもよい。例えば、エアスプリング１２２３の数は、駆動部材１２２５の数よりも少なくてもよい。

　このような第６実施形態の加工システムＳＹＳｆは、上述した第１実施形態の加工システムＳＹＳａが享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。加えて、加工システムＳＹＳｆは、複数の第２駆動系１２２を備えているがゆえに、単一の第２駆動系１２２を備えている加工システムＳＹＳａと比較して、光照射装置１１の姿勢の自由度が向上する。例えば、加工システムＳＹＳｆでは、光照射装置１１は、加工対象物Ｓの上方から下方に向けて加工光ＥＬを照射する第１姿勢のみならず、加工対象物Ｓの斜め上方から斜め下方に向けて加工光ＥＬを照射する第２姿勢、加工対象物Ｓの側方から側方に向けて加工光ＥＬを照射する第３姿勢、加工対象物Ｓの斜め下方から斜め上方に向けて加工光ＥＬを照射する第４姿勢、及び、加工対象物Ｓの下方から上方に向けて加工光ＥＬを照射する第５姿勢を有するように移動可能となる。従って、加工システムＳＹＳｆは、複雑な形状を有する加工対象物Ｓの塗装膜ＳＦに適切に構造を形成することができる。

　尚、第６実施形態では、第２駆動系１２２による第１駆動系１２１と光照射装置１１との接続箇所は、光照射装置１１の第１の表面と光照射装置１１の第１の表面とは反対側緒向いた第２の表面との間に位置していてもよい。例えば、図３０に示すように、光照射装置１１が筐体１１４を備える場合には、第２駆動系１２２による第１駆動系１２１と光照射装置１１との接続箇所ＣＰは、筐体１１４の第１の表面（例えば、筐体１１４の加工対象物Ｓとは反対側を向いた面１１４１）と筐体１１４の第２の表面（例えば、筐体１１４の加工対象物Ｓ側を向いた面１１４２）との間に位置していてもよい。このように接続箇所ＣＰが光照射装置１１の第１の表面と第２の表面との間（例えば、筐体１１４の面１１４１と面１１４２との間）に配置される場合には、接続箇所ＣＰが光照射装置１１の第１の表面と第２の表面との間（例えば、筐体１１４の面１１４１と面１１４２との間）に配置されない場合と比較して、光照射装置１１の位置決め精度が向上する。この場合、第２駆動系１２２による第１駆動系１２１と光照射装置１１との接続箇所ＣＰは、光照射装置１１の重心位置ＧＰ（図３０参照）に位置していてもよい。接続箇所ＣＰが重心位置ＧＰに位置する場合には、接続箇所ＣＰが重心位置ＧＰに位置しない場合と比較して、光照射装置１１の位置決め精度が向上する。尚、第６実施形態に限らず、第１実施形態から第５実施形態の少なくとも一つにおいても、接続箇所ＣＰが光照射装置１１の第１の表面と第２の表面との間（例えば、筐体１１４の面１１４１と面１１４２との間）に配置されていてもよい。第１実施形態から第５実施形態の少なくとも一つにおいても、接続箇所ＣＰが重心位置ＧＰに配置されていてもよい。

　第６実施形態の加工システムＳＹＳｆは、上述した第２実施形態の加工システムＳＹＳｂから第５実施形態の加工システムＳＹＳｅの少なくとも一つに特有の構成要件を更に備えていてもよい。第４実施形態の加工システムＳＹＳｄに特有の構成要件は、支持装置１４ｄに関する構成要件を含む。第５実施形態の加工システムＳＹＳｅに特有の構成要件は、支持装置１４ｅに関する構成要件を含む。

　（７）第７実施形態の加工システムＳＹＳｇ
　続いて、図３４を参照しながら、第７実施形態の加工システムＳＹＳ（以降、第７実施形態の加工システムＳＹＳを、“加工システムＳＹＳｇ”と称する）について説明する。図３４は、第７実施形態の加工システムＳＹＳｇの構造を模式的に示す断面図である。

　図３４に示すように、第７実施形態の加工システムＳＹＳｇは、第１実施形態の加工システムＳＹＳａと比較して、加工装置１に代えて、加工装置１ｇを備えているという点で異なる。加工システムＳＹＳｇのその他の特徴は、加工システムＳＹＳａのその他の特徴と同一であってもよい。加工装置１ｇは、加工装置１と比較して、支持装置１４に代えて、支持装置１４ｇを備えているという点で異なる。加工装置１ｇのその他の特徴は、加工装置１のその他の特徴と同一であってもよい。尚、図３４では、図面の見やすさを重視するために、加工システムＳＹＳｇが備える構成要件の一部（例えば、収容装置１３、駆動系１５、排気装置１６、気体供給装置１７及び制御装置２）の記載を省略している。

　支持装置１４ｇは、支持装置１４と同様に、収容装置１３を支持する。つまり、支持装置１４ｇは、支持装置１４と同様に、収容装置１３を介して駆動系１２及び光照射装置１１を支持する。支持装置１４ｇは、加工対象物ＳＦから離れた位置を飛行可能であるという点で、飛行可能でなくてもよい支持装置１４とは異なる。飛行可能な支持装置１４ｇの一例として、航空機等の飛行体があげられる。飛行体は、遠隔操縦可能であってもよいし、飛行体に搭乗している操縦者が操縦可能であってもよいし、自律飛行可能であってもよい。飛行体の一例として、航空機、ドローン（図３４参照）、ヘリコプター、気球及び飛行船の少なくとも一つがあげられる。

　このような第７実施形態の加工システムＳＹＳｇは、上述した第１実施形態の加工システムＳＹＳａが享受可能な効果と同様の効果を享受することができる。

　尚、第７実施形態の加工システムＳＹＳｇは、上述した第２実施形態の加工システムＳＹＳｂから第６実施形態の加工システムＳＹＳｆの少なくとも一つに特有の構成要件を更に備えていてもよい。第６実施形態の加工システムＳＹＳｆに特有の構成要件は、駆動系１２ｆに関する構成要件を含む。

　（８）その他の変形例
　上述した説明では、駆動系１２が第１駆動系１２１と第２駆動系１２２とを備えている。しかしながら、駆動系１２は、第１駆動系１２１を備えていなくてもよい。この場合、第２駆動系１２２は、第１駆動系１２１を介することなく収容装置１３に取り付けられていてもよい。第２駆動系１２２は、第１駆動系１２１を介することなく支持装置１４（或いは、支持装置１４ｄ、１４ｅ又は１４ｇ）に取り付けられていてもよい。

　上述した説明では、加工システムＳＹＳは、複数の加工光ＥＬに塗装膜ＳＦの表面を走査させるために、ガルバノミラー１１２２で加工光ＥＬを偏向している。しかしながら、加工装置１は、ガルバノミラー１１２２で加工光ＥＬを偏向することに加えて又は代えて、塗装膜ＳＦに対して光照射装置１１を相対的に移動させることで、複数の加工光ＥＬに塗装膜ＳＦの表面を走査させてもよい。つまり、制御装置２は、駆動系１２を制御して、塗装膜ＳＦの表面を加工光ＥＬが走査するように光照射装置１１を塗装膜ＳＦに対して相対的に移動させてもよい。

　駆動系１２が光照射装置１１を塗装膜ＳＦに対して相対的に移動させる目的の一つは、上述したように加工光ＥＬに塗装膜ＳＦの表面を走査させることである。このため、光照射装置１１が移動しなくても加工光ＥＬによる塗装膜ＳＦの走査が実現できる場合には、光照射装置１１は移動しなくてもよい。つまり、加工システムＳＹＳは、駆動系１２を備えていなくてもよい。

　駆動系１２が光照射装置１１を塗装膜ＳＦに対して相対的に移動させる目的の一つは、収容装置１３の収容空間ＳＰに複数の加工ショット領域ＳＡが収容される場合において、収容装置１３及び支持装置１４を移動させることなく、複数の加工ショット領域ＳＡを順に加工光ＥＬで走査するためである。このため、収容空間ＳＰに単一の加工ショット領域ＳＡが収容される場合には、光照射装置１１は移動しなくてもよい。つまり、加工装置１は、駆動系１２を備えていなくてもよい。

　上述した説明では、加工装置１は、収容装置１３と、支持装置１４と、駆動系１５と、排気装置１６と、気体供給装置１７とを備えている。しかしながら、加工装置１は、加工対象物Ｓを加工可能である限りは、収容装置１３、支持装置１４、駆動系１５、排気装置１６及び気体供給装置１７の少なくとも一つを備えていなくてもよい。加工装置１は、加工対象物Ｓを加工可能である限りは、収容装置１３、支持装置１４、駆動系１５、排気装置１６及び気体供給装置１７の少なくとも一部を備えていなくてもよい。加工装置１が収容装置１３を備えていない場合には、駆動系１２は、支持装置１４に取り付けられていてもよい。更に、上述した収容装置１３、支持装置１４、駆動系１５、排気装置１６及び気体供給装置１７のそれぞれの構造は一例に過ぎず、加工装置１は、上述した構造とは異なる構造を有する収容装置１３、支持装置１４、駆動系１５、排気装置１６及び気体供給装置１７の少なくとも一つを備えてもよい。

　上述した説明では、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓの表面上に、塗装膜ＳＦによるリブレット構造を形成している。しかしながら、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓの表面上に、任意の形状を有する塗装膜ＳＦによる任意の構造を形成してもよい。この場合であっても、形成するべき構造に応じた走査軌跡に沿って塗装膜ＳＦの表面を加工光ＥＬが走査するように制御装置２が光照射装置１１等を制御すれば、任意の形状を有する任意の構造が形成可能である。任意の構造の一例としては、規則的又は不規則的に形成されたマイクロ・ナノメートルオーダの微細テクスチャ構造（典型的には凹凸構造）があげられる。このような微細テクスチャ構造は、流体（気体及び／又は液体）による抵抗を低減させる機能を有するサメ肌構造及びディンプル構造の少なくとも一方を含んでいてもよい。微細なテクスチャ構造は、撥液機能及びセルフクリーニング機能の少なくとも一方を有する（例えば、ロータス効果を有する）ハスの葉表面構造を含んでいてもよい。微細なテクスチャ構造は、液体輸送機能を有する微細突起構造（米国特許公開第２０１７／００４４００２号公報参照）、親液性機能を有する凹凸構造、防汚機能を有する凹凸構造、反射率低減機能及び撥液機能の少なくとも一方を有するモスアイ構造、特定波長の光のみを干渉で強めて構造色を呈する凹凸構造、ファンデルワールス力を利用した接着機能を有するピラーアレイ構造、空力騒音低減機能を有する凹凸構造、及び、液滴捕集機能を有するハニカム構造等の少なくとも一つを含んでいてもよい。

　上述した説明では、加工システムＳＹＳは、加工光ＥＬの照射によって塗装膜ＳＦを蒸発させることで、塗装膜ＳＦを除去している。しかしながら、加工システムＳＹＳは、加工光ＥＬの照射によって塗装膜ＳＦを蒸発させることに加えて又は代えて、加工光ＥＬの照射によって塗装膜ＳＦの性質を変えることで塗装膜ＳＦを除去してもよい。例えば、加工システムＳＹＳは、加工光ＥＬの照射によって塗装膜ＳＦを溶融させ、溶融させた塗装膜ＳＦを除去することで塗装膜ＳＦを除去してもよい。例えば、加工システムＳＹＳは、加工光ＥＬの照射によって塗装膜ＳＦを脆くし、脆くした塗装膜ＳＦを剥離することで塗装膜ＳＦを除去してもよい。上述した説明では、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓの表面に形成された塗装膜ＳＦをアブレーション加工している。しかしながら、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓの表面に形成された塗装膜ＳＦの一部を熱加工によって除去してもよい。

　上述した説明では、加工システムＳＹＳは、塗装膜ＳＦを除去することで凹部Ｃ（或いは、凹状構造ＣＰ１、又は、当該凹状構造ＣＰ１によるリブレット構造等の任意の構造）を形成している。つまり、加工システムＳＹＳは、塗装膜ＳＦを部分的に薄くするように塗装膜ＳＦを加工している。しかしながら、加工システムＳＹＳは、塗装膜ＳＦを部分的に薄くすることに加えて又は代えて、塗装膜ＳＦを部分的に厚くするように塗装膜ＳＦを加工してもよい。つまり、加工システムＳＹＳは、塗装膜ＳＦを除去することで凹部Ｃを形成することに加えて又は代えて、塗装膜ＳＦを付加することで凸部（或いは、凸状構造ＣＰ２又は、当該凸状構造ＣＰ２による任意の構造）を形成してもよい。例えば、加工システムＳＹＳは、塗装膜ＳＦの第１部分に加工光ＥＬを照射することで第１部分の塗装膜ＳＦを除去し、その後、除去した塗装膜ＳＦを塗装膜ＳＦの第２部分に定着させることで、当該第２部分における塗装膜ＳＦを相対的に厚くしてもよい（つまり、第２部分に凸部を形成してもよい）。

　上述した説明では、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓの表面に形成された塗装膜ＳＦを加工している。しかしながら、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓの表面に形成された、塗装膜ＳＦ以外の任意の被膜を加工してもよい。或いは、加工システムＳＹＳは、複数の層が積層された構造体を加工してもよい。具体的には、加工システムＳＹＳは、構造体を構成する複数の層のうちの少なくとも一つの層（典型的には、最も表面側の層を含む少なくとも一つの層）を加工してもよい。加工システムＳＹＳは、構造体を構成する複数の層のうちの少なくとも一つの層を加工して、当該層による構造を形成してもよい。この場合、加工される少なくとも一つの層が上述した塗装膜ＳＦに相当し、当該少なくとも一つの層以外の他の層が加工対象物Ｓに相当する。或いは、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓそのものを加工してもよい。つまり、加工システムＳＹＳは、表面に塗装膜ＳＦ又は任意の被膜が形成されていない加工対象物Ｓを加工してもよい。

　上述した説明では、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓの表面の流体に対する抵抗を低減させるためのリブレット構造を加工対象物Ｓに形成している。しかしながら、加工システムＳＹＳは、表面の流体に対する抵抗を低減させるためのリブレット構造とは異なるその他の構造を加工対象物Ｓに形成してもよい。例えば、加工システムＳＹＳは、流体と加工対象物Ｓの表面とが相対的に移動するときに発生する騒音を低減するためのリブレット構造を加工対象物Ｓに形成してもよい。例えば、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓの表面上の流体の流れに対して渦を発生する構造を加工対象物Ｓに形成してもよい。例えば、加工システムＳＹＳは、加工対象物Ｓの表面に疎水性を与えるための構造を加工対象物Ｓに形成してもよい。

　上述した説明では、加工光ＥＬで物体を加工する加工システムＳＹＳについて説明されている。つまり、上述した説明では、第２駆動系１２２が照射装置１１と第１駆動系１２１とを接続する例について説明されている。しかしながら、加工システムＳＹＳにおける光照射装置１１に加えて又は代えて、物体に対して作用するエンドエフェクタを用いてもよい。例えば、第２駆動系１２２は、エンドエフェクタと第１駆動系１２１とを接続してもよい。ここで、エンドエフェクタは、作業対象（例えば、物体）に直接働きかける機能を持つ部分であってもよい。また、エンドエフェクタは、作業対象（例えば、物体）のプロパティを得る部分であってもよい。ここで、物体（例えば、作業対象）のプロパティは、物体の形状、物体の位置、物体の特徴点の位置、物体の姿勢、物体の表面性状（例えば、反射率、分光反射率、表面粗さ及び色等の少なくとも一つ）、及び、物体の硬さ等の少なくとも一つを含んでいてもよい。尚、上述の説明における光照射装置１１や位置計測装置１８は、エンドエフェクタの一種であるとみなすことができる。

　このようなエンドエフェクタを備える装置の一例として、エンドエフェクタと、物体の一部との相対的な位置関係が変更可能な可動部材としての第１駆動系１２１と、第１駆動系１２１とエンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、第１駆動系１２１とエンドエフェクタとを接続する接続装置としての第２駆動系１２２とを備える第１の装置があげられる。第１の装置は、ロボットシステムと称されてもよい。また、エンドエフェクタを備える装置の一例として、エンドエフェクタと第２駆動系１２２とを備える第２の装置が構成されていてもよい。第２の装置は、エンドエフェクタ装置と称されてもよい。尚、第１駆動系１２１とエンドエフェクタとを接続する接続装置としての第２駆動系１２２で装置が構成されていてもよい。

　エンドエフェクタの一例であるエンドエフェクタＥｆａが図３５に示されている。エンドエフェクタＥｆａは、図３５に示すように、接続装置（例えば、第２駆動系１２２）に取り付けられる被取付部Ｅｆ１と、被取付部Ｅｆ１の軸（典型的には、被取付部Ｅｆ１と接続装置とを結ぶ軸）に対して傾斜した複数の取付面（図３５に示す例では３つの取付面）に取り付けられた複数の指モジュールを備えている。各指モジュールは、被取付部Ｅｆ１の第１関節軸回りで回転可能な第１リンクモジュールＥｆ２１と、第１リンクモジュールＥｆ２１に設けられ且つ第１リンクモジュールＥｆ２１を第１関節軸回りで回転駆動する第１駆動モジュールＥｆ３１と、第１リンクモジュールＥｆ２１に設けられ且つ第１関節軸と直交する第２関節軸回りに回転可能な第２リンクモジュールＥｆ２２と、第２リンクモジュールＥｆ２２を第２関節軸回りに回転駆動する第２駆動モジュールＥｆ３２と、第３関節軸回りに回転可能に第２リンクモジュールＥｆ２２に設けられた第３リンクモジュールＥｆ２３と、第３リンクモジュールＥｆ２３を第３関節軸回りに回転駆動する第３駆動部Ｅｆ３３とを備えている。ここで、エンドエフェクタＥｆａはハンドと称されてもよい。また、第３リンクモジュールＥｆ２３の一部（典型的には先端部）は、物体を把持する把持部と見なされてもよく、ハンドの指先と称されてもよい。

　尚、被取付部Ｅｆ１に、位置計測装置１８を取り付けてもよい。このとき、位置計測装置の計測軸は、被取付部Ｅｆ１の軸に沿った方向、被取付部Ｅｆ１の軸と平行な方向、又は、被取付部Ｅｆ１の軸に対して傾斜する方向であってもよい。位置計測装置１８は、物体の少なくとも一部とエンドエフェクタＥｆａの一部（典型的には、把持部又は指先）との少なくとも一方を計測してもよい。また、被取付部Ｅｆ１に、位置計測装置１８ｂの一部（典型的には指標部材１８１ｂ）を取り付けてもよい。

　尚、エンドエフェクタは、図３５に示した物体を把持可能なハンドとしてのエンドエフェクタＥｆａや位置計測装置には限定されない。例えば、エンドエフェクタは、図３６（ａ）に示すような物体を吸着保持する吸着保持装置Ｅｆｂ、図３６（ｂ）に示すスプレー式の塗装装置Ｅｆｃ、図３６（ｃ）に示すローラ式の塗装装置Ｅｆｄ、図３６（ｄ）に示すドリル等の刃物を備えた機械加工ヘッド装置Ｅｆｅ、及び、図３６（ｅ）に示す溶接ガン装置Ｅｆｆ等の少なくとも一つを含んでいてもよい。例えば、エンドエフェクタは、溶融した金属、溶融した樹脂又はブラスト加工用の粒子等を射出するインジェクタ、マニピュレータ及びエアブローの少なくとも一つを含んでいてもよい。

　なお、エンドエフェクタが電力を必要とする際には、接続装置は、エンドエフェクタに対して非接触給電を行ってもよい。また、エンドエフェクタからの出力は、無線、光伝送等の非接触方式で外部（典型的には、制御装置２）に出力されてもよい。

　（９）付記
　以上説明した実施形態に関して、更に以下の付記を開示する。
［付記１］
　能動型防振装置と、
　前記能動型防振装置に取り付けられ且つ物体を加工するための加工光を前記物体に照射する照射装置と、
　前記能動型防振装置を制御して、前記物体と前記照射装置との相対位置を変更する制御装置と
　を備える加工システム。
［付記２］
　前記制御装置は、前記物体と前記加工光の照射領域との位置合わせを行うように、前記能動型防振装置を制御して前記物体と前記照射装置との相対位置を変更する
　付記１に記載の加工システム。
［付記３］
　前記制御装置は、前記物体の所望位置に前記加工光が照射されるように、前記能動型防振装置を制御して前記物体と前記照射装置との相対位置を変更する
　付記１又は２に記載の加工システム。
［付記４］
　前記制御装置は、前記能動型防振装置を制御しない場合と比較して前記物体に対する前記照射装置の振動量が小さくなるように、前記能動型防振装置を制御して前記物体と前記照射装置との相対位置を変更する
　付記１から３のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記５］
　前記照射装置は、前記能動型防振装置を介して別の部材に取り付けられ、
　前記制御装置は、前記物体に対する前記別の部材の振動量よりも、前記物体に対する前記照射装置の振動量が小さくなるように、前記能動型防振装置を制御して前記物体と前記照射装置との相対位置を変更する
　付記１から４のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記６］
　前記能動型防振装置を移動させる移動装置を更に備える
　付記１から５のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記７］
　前記移動装置は、前記能動型防振装置と共に前記照射装置を移動させる
　付記６に記載の加工システム。
［付記８］
　前記能動型防振装置は、前記移動装置に取り付けられている
　付記６又は７に記載の加工システム。
［付記９］
　前記照射装置は、前記能動型防振装置を介して前記移動装置に取り付けられる
　付記６から８のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記１０］
　前記移動装置は、複数のアーム部材と前記複数のアーム部材を揺動自在に接続するジョイント部材とを含む
　付記６から９のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記１１］
　前記移動装置は、前記物体に干渉することなく自走可能な自走装置を含む
　付記６から１０のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記１２］
　前記移動装置は、前記物体に支持された状態で自走可能な自走装置を含む
　付記６から１１のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記１３］
　前記移動装置は、物体から離れた位置を飛行可能な飛行装置を含む
　付記６から１２のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記１４］
　前記制御装置は、前記移動装置を制御して、前記物体と前記照射装置との相対位置を変更する
　付記６から１３のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記１５］
　前記制御装置は、前記物体と前記加工光の照射領域との位置合わせを行うように、前記移動装置を制御して前記物体と前記照射装置との相対位置を変更する
　付記１４に記載の加工システム。
［付記１６］
　前記制御装置は、前記物体の所望位置に前記加工光が照射されるように、前記移動装置を制御して前記物体と前記照射装置との相対位置を変更する
　付記１４又は１５に記載の加工システム。
［付記１７］
　前記能動型防振装置による前記物体と前記照射装置との相対位置の変更量は、前記移動装置による前記物体と前記照射装置との相対位置の変更量よりも少ない
　付記１４から１６のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記１８］
　前記能動型防振装置による前記物体と前記照射装置との相対位置の変更精度は、前記移動装置による前記物体と前記照射装置との相対位置の変更精度よりも高い
　付記１４から１７のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記１９］
　前記制御装置は、前記能動型防振装置及び前記移動装置を制御しない場合と比較して前記物体に対する前記照射装置の振動量が小さくなるように、前記能動型防振装置及び前記移動装置の少なくとも一方を制御して前記物体と前記照射装置との相対位置を変更する
　付記１４から１８のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記２０］
　前記制御装置は、前記物体に対する前記照射装置の振動の周波数に基づいて、前記物体に対する前記照射装置の振動量が小さくなるように、前記能動型防振装置及び前記移動装置の少なくとも一方を制御する
　付記１９に記載の加工システム。
［付記２１］
　前記制御装置は、前記周波数が第１の周波数範囲に含まれる場合には、前記物体に対する前記照射装置の振動量が小さくなるように、前記移動装置を制御し、
　前記制御装置は、前記周波数が前記第１の周波数範囲よりも高い第２の周波数範囲に含まれる場合には、前記物体に対する前記照射装置の振動量が小さくなるように、前記能動型防振装置を制御する
　付記２０に記載の加工システム。
［付記２２］
　前記照射装置は、前記能動型防振装置を介して別の部材に取り付けられ、
　前記能動型防振装置は、前記別の部材と前記照射装置との相対位置を変更する位置変更装置と、前記別の部材と前記照射装置との間で伝達される振動を減衰する振動減衰装置とを備える
　付記１から２１のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記２３］
　前記制御装置は、前記位置変更装置を用いて前記別の部材と前記照射装置との相対位置を変更することで、前記物体と前記照射装置との相対位置を変更する
　付記２２に記載の加工システム。
［付記２４］
　前記位置変更装置は、電気的な力により前記別の部材と前記照射装置との相対位置を変更し、
　前記振動減衰装置は、空気の圧力により前記別の部材と前記照射装置との間で伝達される振動を減衰する
　付記２２又は２３に記載の加工システム。
［付記２５］
　前記物体と前記照射装置との相対位置を計測する位置計測装置を更に備える
　付記１から２４のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記２６］
　前記制御装置は、前記位置計測装置の計測結果に基づいて、前記能動型防振装置を制御する
　付記２５に記載の加工システム。
［付記２７］
　複数の前記位置計測装置を備え、
　前記制御装置は、前記複数の位置計測装置のうちの第１の位置計測装置の計測基準位置と前記複数の位置計測装置のうちの第２の位置計測装置の計測基準位置との相対位置に関する情報と、前記第１及び第２の位置計測装置の計測結果とに基づいて、前記能動型防振装置を制御する
　付記２５又は２６に記載の加工システム。
［付記２８］
　前記位置計測装置は、前記照射装置に対する相対位置が固定された指標部材と、前記指標部材の位置を計測する指標計測装置とを含む
　付記２５から２７のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記２９］
　前記指標部材は、マーカを含み、
　前記指標計測装置は、前記マーカを撮像可能な撮像装置及び前記マーカからの光を受光可能な受光装置の少なくとも一方を含む
　付記２８に記載の加工システム。
［付記３０］
　前記指標部材は、信号を発信可能な発信装置を含み、
　前記指標計測装置は、前記信号を受信可能な受信装置を含む
　付記２８又は２９に記載の加工システム。
［付記３１］
　前記位置計測装置は、前記物体を計測する物体計測装置を含む
　付記２５から３０のいずれか一項に記載の加工システム。
［付記３２］
　能動型防振装置に取り付けられた照射装置から、物体を加工するための加工光を前記物体に照射することと、
　前記能動型防振装置を用いて、前記物体と前記照射装置との相対位置を変更することと
　を含む加工方法。
［付記３３］
　能動型防振装置と、
　前記能動型防振装置に取り付けられ且つ物体に対して作用するエンドエフェクタと、
　前記能動型防振装置を制御して、前記物体と前記エンドエフェクタとの相対位置を変更する制御装置と
　を備えるロボットシステム。

　上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の要件のうちの一部が用いられなくてもよい。上述の各実施形態の要件は、適宜他の実施形態の要件と置き換えることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

　また、本発明は、請求の範囲及び明細書全体から読み取るこのできる発明の要旨又は思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う加工システム、加工方法、ロボットシステム、接続装置及びエンドエフェクタ装置もまた本発明の技術思想に含まれる。

　１　加工装置
　１１　光照射装置
　１１１　光源系
　１１１１　光源
　１１２　光学系
　１１４　筐体
　１１２２　ガルバノミラー
　１２　駆動系
　１２１　第１駆動系
　１２１２　アーム駆動系
　１２１２１　アーム部材
　１２１２２　ジョイント部材
　１２１２３　アクチュエータ
　１２１２４　先端アーム部材
　１２２　第２駆動系
　１２２３　エアスプリング
　１２２４　ダンパ部材
　１２２５　駆動部材
　１４、１４ｄ、１４ｅ、１４ｇ　支持装置
　１８、１８ｂ　位置計測装置
　１８１ｂ　指標部材
　１８２ｂ　指標計測装置
　１９　取付部材
　２　制御装置
　Ｃ　凹部
　ＣＰ１　凹状構造
　ＣＰ２　凸状構造
　ＥＡ　目標照射領域
　ＥＬ　加工光
　Ｓ　加工対象物
　ＳＦ　塗装膜
　ＰＥ　感応性部材
　ＳＹＳ　加工システム
　ＳＡ　加工ショット領域
　Ｅｆａ～Ｅｆｆ　エンドエフェクタ

Claims

　加工光で物体を加工する加工システムにおいて、
　前記物体の一部との相対的な位置関係が変更可能な可動部材と、
　前記物体に向けて前記加工光を照射する照射装置と、
　前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記照射装置とを接続する接続装置と
　を備え、
　前記接続装置は、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記照射装置とを結合する弾性部材とを備える
　加工システム。
　前記駆動部材は、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方に第１方向に沿った駆動力を与え、
　前記弾性部材は、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方に前記第１方向と交差する第２方向に沿って弾性力を与える
　請求項１に記載の加工システム。
　前記弾性部材は、前記照射装置による重量を支持する
　請求項２に記載の加工システム。
　前記弾性部材は、前記第２方向において前記重量を支持する
　請求項３に記載の加工システム。
　前記駆動部材は、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方に第１方向に沿った駆動力を与え、
　前記弾性部材は、前記第１方向に沿った成分を有する第２方向に沿って、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方に弾性力を与える
　請求項１から４のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記駆動部材は、前記弾性部材の共振周波数を変更するように前記駆動力を与える
　請求項５に記載の加工システム。
　前記弾性部材は、前記可動部材に対して前記照射装置の位置及び姿勢の少なくとも一方が変更可能となるように、前記可動部材と前記照射装置とを結合する
　請求項１から４のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記接続装置は、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方に第１方向に沿って弾性力を与える第１弾性部材と、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方に前記第１方向と異なる第２方向に沿って弾性力を与える第２弾性部材とを備える
　請求項１から７のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記接続部材は、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方に重力方向成分を含む第１方向に沿って弾性力を与える第１弾性部材と、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方に前記第１方向と異なる第２方向に沿って弾性力を与える第２弾性部材とを備える
　請求項１から７のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記接続装置は、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方に第３方向に沿った駆動力を与える第１駆動部材と、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方に前記第３方向と異なる第４方向に沿った駆動力を与える第２駆動部材とを備える
　請求項８又は９に記載の加工システム。
　前記接続装置は、前記可動部材のうち前記物体の一部との相対的な位置関係が変更可能な第１部分と、前記照射装置の一部である第２部分とを接続する
　請求項１から１０のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記第１部分の振動量よりも前記照射装置の振動量の方が小さくなるように、前記駆動部材を制御する制御装置をさらに備える
　請求項１１に記載の加工システム。
　前記可動部材の前記第１部分の位置を前記物体の前記一部に対して移動させる移動装置をさらに備える
　請求項１１または１２に記載の加工システム。
　前記駆動部材による前記第２部分の位置決め精度は、前記移動装置による前記第１部分の位置決め精度よりも高い
　請求項１３に記載の加工システム。
　前記移動装置による前記第１部分の移動範囲は、前記駆動部材による前記第２部分の移動範囲よりも大きい
　請求項１３または１４に記載の加工システム。
　前記物体と前記照射装置との相対的な位置関係を計測する位置計測装置を備え、
　前記位置計測装置からの出力を用いて、前記駆動部材が制御される
　を備える請求項１から１５のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記物体と前記照射装置との相対的な位置関係を計測する位置計測装置を備え、
　前記位置計測装置からの出力を用いて、前記移動装置が制御される
　を備える請求項１３から１５のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記位置計測装置は、前記照射装置に対する前記物体の位置を計測する
　請求項１６又は１７に記載の加工システム。
　前記位置計測装置は、基準位置に対する前記照射装置の位置を計測する
　請求項１６から１８のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記照射装置によって前記加工光を照射可能な範囲は、前記照射装置の移動によって変更される
　請求項１から１９のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記接続装置は、前記可動部材のうち前記物体の一部との相対的な位置関係が変更可能な第１部分と、前記照射装置の一部である第２部分とを接続し、
　前記弾性部材は、前記第１部分から前記第２部分に向かう振動を低減し、
　前記駆動部材は、前記第１部分から前記第２部分に向かう前記振動による前記第１部分と前記第２部分との相対的な変位を低減する
　請求項１から２０のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記照射装置は、前記物体上での前記加工光の照射位置を前記照射装置に対して変更する照射位置変更装置を備える
　請求項１から２１のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記駆動部材は、前記照射位置変更装置の動作に起因する前記照射位置の位置ずれを低減する
　請求項２２に記載の加工システム。
　複数の位置計測装置と、
　前記複数の位置計測装置のうちの第１の位置計測装置の計測基準位置と前記複数の位置計測装置のうちの第２の位置計測装置の計測基準位置との相対位置に関する情報と、前記第１及び第２の位置計測装置の計測結果とに基づいて、前記駆動部材を制御する制御装置と
　を備える請求項１から２３のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記位置計測装置は、前記照射装置に対する相対位置が固定された指標部材と、前記指標部材の位置を計測する指標計測装置とを含む
　請求項１６から１９及び２４のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記指標部材は、マーカを含み、
　前記指標計測装置は、前記マーカを撮像可能な撮像装置及び前記マーカからの光を受光可能な受光装置の少なくとも一方を含む
　請求項２５に記載の加工システム。
　前記指標部材は、信号を発信可能な発信装置を含み、
　前記指標計測装置は、前記信号を受信可能な受信装置を含む
　請求項２５又は２６に記載の加工システム。
　前記位置計測装置は、前記物体を計測する物体計測装置を含む
　請求項１６から１９及び２４から２７のいずれか一項に記載の加工システム。
　加工光で物体を加工する加工システムにおいて、
　前記物体の一部との相対的な位置関係が変更可能な可動部材と、
　前記物体に向けて前記加工光を照射する照射装置と、
　前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記照射装置とを接続する接続装置と、
　前記可動部材から前記照射装置へ向かう振動を低減する振動低減装置と
　を備える加工システム。
　前記振動低減装置は、前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記照射装置とを結合する弾性部材とを備える
　請求項２９に記載の加工システム。
　前記振動低減装置は、前記可動部材の振動量よりも前記照射装置の振動量の方が小さくなるように、前記駆動部材を制御する制御装置を備える
　請求項３０に記載の加工システム。
　前記物体と前記照射装置との相対的な位置関係を計測する位置計測装置をさらに備え、
　前記制御装置は、前記位置計測装置からの出力を用いて、前記駆動部材を制御する
　請求項３１に記載の加工システム。
　前記位置計測装置は、前記物体に対する前記照射装置の位置を計測する
　請求項３２に記載の加工システム。
　前記位置計測装置は、基準位置に対する前記照射装置の位置を計測する
　請求項３２または３３に記載の加工システム。
　前記照射装置は、前記物体上での前記加工光の照射位置を前記照射装置に対して変更する照射位置変更装置を備える
　請求項２９から３４のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記振動低減装置は、前記照射位置変更装置の動作に起因する前記照射装置の位置ずれを低減する
　請求項３５に記載の加工システム。
　前記物体と前記照射位置との相対的な位置関係を計測する位置計測装置をさらに備える
　請求項２２、２３、３５又は３６に記載の加工システム。
　前記位置計測装置は、前記物体に対する前記照射位置を計測する
　請求項３７に記載の加工システム。
　前記加工光の照射により特性が変化する感応性部材に対して、前記照射装置から前記加工光を照射して、前記感応性部材における前記特性が変化した部位を前記位置計測装置によって計測する
　請求項３８に記載の加工システム。
　複数の位置計測装置と、
　前記複数の位置計測装置のうちの第１の位置計測装置の計測基準位置と前記複数の位置計測装置のうちの第２の位置計測装置の計測基準位置との相対位置に関する情報と、前記第１及び第２の位置計測装置の計測結果とに基づいて、前記振動低減装置を制御する制御装置と
　を備える請求項２９から３９のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記位置計測装置は、前記照射装置に対する相対位置が固定された指標部材と、前記指標部材の位置を計測する指標計測装置とを含む
　請求項３２から３４及び４０のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記指標部材は、マーカを含み、
　前記指標計測装置は、前記マーカを撮像可能な撮像装置及び前記マーカからの光を受光可能な受光装置の少なくとも一方を含む
　請求項４１に記載の加工システム。
　前記指標部材は、信号を発信可能な発信装置を含み、
　前記指標計測装置は、前記信号を受信可能な受信装置を含む
　請求項４１または４２に記載の加工システム。
　前記位置計測装置は、前記物体を計測する物体計測装置を含む
　請求項３２から３４及び４０から４３のいずれか一項に記載の加工システム。
　加工光で物体を加工する加工システムにおいて、
　前記物体の一部との相対的な位置関係が変更可能な可動部材と、
　前記物体に向けて前記加工光を照射する照射装置と、
　前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記照射装置とを接続する接続装置と、
　前記物体又は基準位置に対する前記照射装置の位置を計測する位置計測装置と
　を備え、
　前記接続装置は、前記位置計測装置による位置計測結果に基づいて、前記可動部材に対する前記照射装置の位置を変更する位置変更部材を備える
　加工システム。
　前記接続装置は、前記可動部材と前記照射装置とを結合する弾性部材を備える
　請求項４５に記載の加工システム。
　前記可動部材は、複数のアーム部材と前記複数のアーム部材を揺動自在に接続するジョイント部材とを含む
　請求項１から４６のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記可動部材は、前記物体に干渉することなく自走可能な自走装置を含む
　請求項１から４７のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記可動部材は、前記物体に支持された状態で自走可能な自走装置を含む
　請求項１から４８のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記可動部材は、物体から離れた位置を飛行可能な飛行装置を含む
　請求項１から４９のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記移動装置は、前記物体に干渉することなく自走可能な自走装置を含む
　請求項１３から１５及び１７のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記移動装置は、前記物体に支持された状態で自走可能な自走装置を含む
　請求項１３から１５、１７及び５１のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記移動装置は、物体から離れた位置を飛行可能な飛行装置を含む
　請求項１３から１５、１７及び５１から５２のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記照射装置は、第１側に向けられた第１表面と、前記第１側とは反対側の第２側に向けられた第２表面とを有する筐体を備え、
　前記接続部材による前記可動部材と前記照射装置との接続箇所は、前記第１表面と前記第２表面との間に位置する
　請求項１から５３のいずれか一項に記載の加工システム。
　前記接続箇所は、前記照射装置の重心位置に位置する
　請求項５４に記載の加工システム。
　加工光で物体を加工する加工方法において、
　可動部材の位置と前記物体の一部の位置との位置関係を変更することと、
　照射装置を用いて前記物体に向けて前記加工光を照射することと、
　前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係を変更することと、
　前記可動部材および前記照射装置のうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記照射装置とを結合する弾性部材とを備える接続部によって、前記可動部材と前記照射装置とを接続することと
　を含む加工方法。
　加工光で物体を加工する加工方法において、
　可動部材の位置と前記物体の一部の位置との位置関係を変更することと、
　照射装置を用いて前記物体に向けて前記加工光を照射することと、
　前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係を変更することと、
　前記可動部材から前記照射装置へ向かう振動を低減することと
　を含む加工方法。
　加工光で物体を加工する加工方法において、
　可動部材の位置と前記物体の一部の位置との位置関係を変更することと、
　照射装置を用いて前記物体に向けて前記加工光を照射することと、
　前記物体又は基準位置に対する前記照射装置の位置を計測することと、
　計測された前記照射装置の前記位置に基づいて、前記可動部材と前記照射装置との相対的な位置関係を変更することと
　を含む加工方法。
　物体に対して作用するエンドエフェクタと、
　前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と、
　前記可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置と
　を備え、
　前記接続装置は、前記可動部材および前記エンドエフェクタのうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを結合する弾性部材とを備える
　ロボットシステム。
　物体に対して作用するエンドエフェクタと、
　前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と、
　前記可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置と、
　前記可動部材から前記エンドエフェクタへ向かう振動を低減する振動低減装置と
　を備えるロボットシステム。
　物体に対して作用するエンドエフェクタと、
　前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と、
　前記可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置と、
　前記物体又は基準位置に対する前記エンドエフェクタの位置を計測する位置計測装置と
　を備え、
　前記接続装置は、前記位置計測装置による位置計測結果に基づいて、前記可動部材に対する前記エンドエフェクタの位置を変更する位置変更部材を備える
　ロボットシステム。
　前記可動部材は、複数のアーム部材と前記複数のアーム部材を揺動自在に接続するジョイント部材とを含む
　請求項５９から６１のいずれか一項に記載のロボットシステム。
　前記可動部材は、前記物体に干渉することなく自走可能な自走装置を含む
　請求項５９から６２のいずれか一項に記載のロボットシステム。
前記可動部材は、前記物体に支持された状態で自走可能な自走装置を含む
　請求項５９から６３のいずれか一項に記載のロボットシステム。
前記可動部材は、物体から離れた位置を飛行可能な飛行装置を含む
　請求項５９から６４のいずれか一項に記載のロボットシステム。
　物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材とを接続する接続装置において、
　前記可動部材および前記エンドエフェクタのうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを結合する弾性部材とを備え、
　前記可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する
　接続装置。
　物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材とを接続する接続装置において、
　前記可動部材から前記エンドエフェクタへ向かう振動を低減する振動低減装置を備え、
　前記可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する
　接続装置。
　物体に対して作用するエンドエフェクタと、前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材とを接続する接続装置において、
　前記物体又は基準位置に対する前記接続装置及び／又は前記エンドエフェクタの位置を計測する位置計測装置による位置計測結果に基づいて、前記可動部材に対する前記エンドエフェクタの位置を変更する位置変更部材を備える
　接続装置。
　物体に対して作用するエンドエフェクタと、
　前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置と
　を備え、
　前記接続装置は、前記可動部材および前記エンドエフェクタのうち少なくとも一方を移動させる駆動部材と、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを結合する弾性部材とを備える
　エンドエフェクタ装置。
　物体に対して作用するエンドエフェクタと、
　前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置と、
　前記可動部材から前記エンドエフェクタへ向かう振動を低減する振動低減装置と
　を備えるエンドエフェクタ装置。
　物体に対して作用するエンドエフェクタと、
　前記物体の一部との相対的な関係が変更可能な可動部材と前記エンドエフェクタとの相対的な位置関係が変更可能になるように、前記可動部材と前記エンドエフェクタとを接続する接続装置と、
　前記物体又は基準位置に対する前記エンドエフェクタの位置を計測する位置計測装置と
　を備え、
　前記接続装置は、前記位置計測装置による位置計測結果に基づいて、前記可動部材に対する前記エンドエフェクタの位置を変更する位置変更部材を備える
　エンドエフェクタ装置。