WO2020202868A1 - ガス分析装置およびガスサンプリング装置 - Google Patents

ガス分析装置およびガスサンプリング装置 Download PDF

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gas
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新士 内山
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株式会社島津製作所
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    • G—PHYSICS
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    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
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    • G01N30/04—Preparation or injection of sample to be analysed
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    • G01N30/20—Injection using a sampling valve
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    • G01N30/02—Column chromatography
    • G01N30/62—Detectors specially adapted therefor
    • G01N30/64—Electrical detectors

Definitions

  • the present invention relates to a gas analyzer and a gas sampling device.
  • a dielectric barrier discharge ionization detector (BID) utilizing ionization by a dielectric barrier discharge plasma is known (see Patent Document 1). Since the dielectric barrier discharge ionization detector can detect a wide range of organic compounds and inorganic compounds other than He and Ne with high sensitivity, there is also a need to analyze a trace amount of oxygen and nitrogen.
  • the sample gas is sampled by a gas sampling device, and the sampled sample gas is introduced into the gas chromatograph.
  • the gas sampling device uses a switching valve to sample the sample gas, but there is a problem that a small amount of air leaks from the sliding portion of the valve and accurate quantification cannot be performed.
  • the gas sampling device connects a measuring tube having a predetermined capacity having an inlet and an outlet, a sample gas supply path to which the sample gas is supplied, and the inlet of the measuring tube, and The first switching position that connects the outlet of the measuring tube and the sample gas discharge path, the inlet of the measuring tube and the carrier gas supply path are connected, and the outlet of the measuring tube and the sample gas are analyzed.
  • a switching valve having a second switching position for connecting to an introduction path leading to the gas, and a switching valve provided in the sample gas discharge path to maintain the gas pressure in the flow path of the sample gas at or higher than the leakage prevention pressure of the switching valve. It includes a flow path resistance element.
  • the gas analyzer includes an analysis unit for analyzing a sample gas and a gas sampling device according to the first aspect.
  • the leakage prevention pressure is preferably set to "atmospheric pressure + 5 kPa" or more.
  • the flow path resistance element is preferably a capillary tube.
  • the quantification of oxygen and nitrogen can be performed more accurately.
  • FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a gas analyzer.
  • FIG. 2 is a diagram showing a state of the switching position Y.
  • FIG. 3 is a diagram showing a sampling procedure.
  • FIG. 4 is a diagram showing detection data of oxygen and nitrogen in a standard gas.
  • FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of the gas analyzer of the present embodiment.
  • the gas analyzer 1 includes an analysis unit 10 and a sampling unit 20 that supplies a constant amount of sample gas to the analysis unit 10.
  • the analysis unit 10 includes a gas chromatograph unit (CG unit) 11 and a dielectric barrier discharge ionization detection unit (BID unit) 12.
  • the CG unit 11 is connected to the sampling unit 20 by the sample introduction path 30.
  • the sample gas SG sampled by the sampling unit 20 is introduced from the sampling unit 20 to the capillary column 111 provided in the CG unit 11 along with the flow of the carrier gas CG.
  • An inert gas such as helium is used as the carrier gas CG for carrying the sample gas SG.
  • the BID unit 12 detects the sample component separated by the CG unit 11.
  • the detailed configuration of the BID unit 12 is the same as that described in, for example, International Publication No. 2015/107688, and description thereof will be omitted here.
  • the sampling unit 20 includes a sample loop 21 that functions as a measuring tube for the sample gas SG, a switching valve 22, and a flow path resistance element 23. Further, the sampling unit 20 has a carrier gas supply port 201 to which the carrier gas CG is supplied, a sample gas supply port 202 to which the sample gas SG is supplied, and a sample for discharging the supplied sample gas SG from the sampling unit 20. A gas discharge port 203 is provided.
  • the switching valve 22 includes a valve stator 22S having six ports and a valve rotor 22R for switching the connection between the ports. As shown in FIG. 1, the switching valve 22 transfers the switching position X in which only the carrier gas CG is introduced into the CG section 11 and the sample gas SG held in the sample loop 21 into the CG section 11 as shown in FIG. Two switching states with the switching position Y to be introduced are possible.
  • port 2 and port 3, port 4 and port 5, and port 6 and port 1 are connected, respectively.
  • the sample introduction path 30 described above is connected to the port 1.
  • the carrier gas supply port 201 is connected to the port 6 via the carrier gas supply path 204.
  • the inlet 21a of the sample loop 21 is connected to the port 5, and the outlet 21b is connected to the port 2.
  • the sample gas supply port 202 is connected to the port 4 via the sample gas supply path 205.
  • the sample gas discharge port 203 is connected to the port 3 via the sample gas discharge path 206.
  • the carrier gas CG supplied to the carrier gas supply port 201 via the sample introduction path 30 is introduced into the CG unit 11. Further, the sample gas SG supplied to the sample gas supply port 202 flows through the sample loop 21 and is discharged from the sample gas discharge port 203 via the sample gas discharge path 206.
  • port 1 and port 2, port 3 and port 4, and port 5 and port 6 are connected, respectively.
  • the inlet 21a of the sample loop 21 is connected to the carrier gas supply path 204, and the outlet 21b is connected to the sample introduction path 30.
  • the sample gas SG held in the sample loop 21 is swept away by the carrier gas CG and supplied to the CG unit 11 via the sample introduction path 30.
  • the sample gas supply path 205 to which the sample gas SG is supplied is connected to the sample gas discharge path 206, the sample gas is discharged from the sample gas discharge port 203.
  • the flow path resistance element 23 is provided in the sample gas discharge path 206 in order to prevent the air (air) from leaking from the sliding portion of the switching valve 22.
  • the flow path resistance element 23 is for maintaining the gas pressure in the flow path through which the sample gas SG flows when the sample gas SG is supplied from the sample gas supply port 202 to be equal to or higher than the leakage prevention pressure.
  • a quartz or metal tube having a very small inner diameter called a capillary tube used in gas analysis is used as the flow path resistance element 23 .
  • the pipe used for the sample gas discharge path 206 is a tube having an inner diameter of about 1 mm, but for the flow path resistance element 23, for example, a capillary tube having an inner diameter of about 0.1 mm and a length of about 50 mm is used.
  • the pressure of the flow path of the sample gas SG that is, the sample gas supply path 205 at the switching position X in FIG. -Sample loop 21-The pressure of the flow path consisting of the sample gas discharge path 206, and at the switching position Y in FIG. 2, the pressure of the flow path consisting of the sample gas supply path 205-Sample gas discharge path 206 is maintained above the leakage prevention pressure. be able to.
  • As the leakage prevention pressure a pressure of "atmospheric pressure + 5 kPa" or more is preferable.
  • the pressure of the carrier gas CG supplied to the carrier gas supply port 201 is about "atmospheric pressure + 100 kPa".
  • the sample gas discharge port 203 is open to the atmosphere, so that the pressure of the sample gas supply path 205 depends on the pressure of the supply source.
  • the atmospheric pressure although it is slightly higher than the atmospheric pressure, it is about the atmospheric pressure. Therefore, when the switching valve 22 is switched, the atmosphere (air) leaks from the sliding portion of the switching valve 22.
  • the flow path resistance element 23 is provided for the pressure of the flow path from the sample gas supply port 202 through which the sample gas SG flows to the sample gas discharge port 203. It is maintained above the leak prevention pressure, which is higher than without it. As a result, it is possible to prevent leakage from the sliding portion when the switching valve 22 is switched.
  • the flow path resistance element 23 it is preferable that all of the sample gas flow paths connected to the switching valve 22 have a leakage prevention pressure higher than the atmospheric pressure. Since the sample gas discharge port 203 that is open to the atmosphere is provided on the downstream side of the flow path resistance element 23, the flow path from the sample gas supply port 202 to the flow path resistance element 23 becomes equal to or higher than the leakage prevention pressure and flows. The flow path on the downstream side of the road resistance element 23 is approximately atmospheric pressure. Therefore, the flow path resistance element 23 is preferably arranged in the sample gas discharge path 206 from the port 3 of the switching valve 22 to the sample gas discharge port 203.
  • the flow path resistance element 23 is a flow path structure in which the flow path resistance is larger than that of the pipe used for the sample gas discharge path 206 (for example, a pipe having an inner diameter of about 1 mm) and the pressure of the sample gas SG is equal to or higher than the leakage prevention pressure. If so, it is not limited to the capillary tube described above.
  • a flow rate control valve as a flow path resistance element 23 is arranged in the sample gas discharge path 206, and the opening degree of the flow rate control valve is adjusted to an opening degree at which the pressure of the sample gas flow path becomes equal to or higher than the leakage prevention pressure. Is also good.
  • an on-off valve is provided in the sample gas discharge path 206 to open and close, or the sample gas discharge port 203 is opened and closed by an on-off plug, and the sample gas flow is performed from immediately before the switching valve 22 is switched until the switching is completed.
  • the road pressure may be maintained above the leakage prevention pressure.
  • FIG. 3 is a diagram showing a procedure for sampling the sample gas SG when a flow rate control valve, an on-off valve, an on-off plug, etc. are provided as the flow path resistance element 23.
  • a flow rate control valve is used as the flow path resistance element 23 will be described as an example.
  • the switching of the switching valve 22 and the opening control of the flow rate control valve may be performed manually or may be driven by a motor or the like.
  • the flow rate control valve is controlled to an opening degree at which the pressure in the sample gas flow path becomes the leakage prevention pressure (hereinafter, referred to as a leakage prevention opening degree).
  • the switching valve 22 is set to the switching position X.
  • the sample gas SG supplied to the sample gas supply port 202 flows in the order of the sample gas supply path 205 ⁇ the sample loop 21 ⁇ the sample gas discharge path 206, and is discharged from the sample gas discharge port 203.
  • the switching valve 22 is set to the switching position Y.
  • the sample gas SG in the sample loop 21 is pushed out into the sample introduction path 30 by the carrier gas CG and supplied to the analysis unit 10.
  • the opening degree of the flow control valve is controlled from the leak prevention opening to the fully opened state.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining the effect of providing the flow path resistance element 23, and is a diagram showing detection data of oxygen and nitrogen in the standard gas when the standard gas is supplied to the sample gas supply port 202. ..
  • the line L1 is the data when the flow path resistance element 23 is provided, and the line L2 is the data when the flow path resistance element 23 is not provided.
  • the values at the tails of the peaks of oxygen (O 2 ) and nitrogen (N 2 ) indicated by reference numerals B1 and B2 are higher than those of line L1 due to the influence of air leakage.
  • line L1 there is no increase in the hem of the peaks of oxygen (O 2 ) and nitrogen (N 2 ). That is, air leakage is prevented and oxygen and nitrogen can be accurately quantified. Further, the heights of the peaks of oxygen (O 2 ), nitrogen (N 2 ) and CO are higher than those of the line L2, and the sensitivity of sample gas detection is improved by providing the flow path resistance element 23. ..
  • the gas sampling device connects a measuring tube having a predetermined capacity having an inlet and an outlet, a sample gas supply path to which the sample gas is supplied, and the inlet of the measuring tube, and the measuring tube.
  • Introduction that connects the first switching position that connects the outlet of the measuring tube and the sample gas discharge path, the inlet of the measuring tube and the carrier gas supply path, and guides the outlet of the measuring tube and the sample gas to the analysis unit.
  • a switching valve having a second switching position for connecting to the path, and a flow path resistance provided in the sample gas discharge path to maintain the gas pressure of the sample gas flow path at or higher than the leakage prevention pressure of the switching valve.
  • the flow path resistance element 23 is provided in the sample gas discharge path 206, the pressure of the flow path through which the sample gas flows between the sample gas supply port 202 and the flow path resistance element 23 in the state of the switching position X shown in FIG. Is maintained above the leakage prevention pressure of the switching valve 22.
  • the switching valve 22 is switched, it is possible to prevent atmospheric pressure air from leaking into the sample gas SG from the sliding portion of the switching valve 22, and the sample gas SG without air contamination is analyzed. Can be supplied to 10.
  • the gas analyzer includes an analysis unit that analyzes a sample gas and the gas sampling apparatus according to the above [1].
  • the flow path resistance element 23 in the sample gas discharge path 206 of the sampling unit 20 as shown in FIG. 1, it is possible to prevent atmospheric pressure air from leaking into the sample gas SG from the sliding portion of the switching valve 22. Therefore, the quantification of nitrogen and oxygen by the analysis unit 10 can be performed more accurately.
  • it is suitable for a gas chromatograph (CG-BID) using a dielectric barrier discharge ionization detector having a high detection accuracy on the order of ppm.
  • the flow path resistance element is a capillary tube.
  • 1 ... gas analyzer, 10 ... analysis unit, 11 ... gas chromatobluff unit (CG unit), 12 ... dielectric barrier discharge ionization detection unit (BID), 20 ... sampling unit, 21 ... sample loop, 22 ... switching valve, 23 ... Flow path resistance element, 30 ... Sample introduction path, 201 ... Carrier gas supply port, 202 ... Sample gas supply port, 203 ... Sample gas discharge port, 204 ... Carrier gas supply path, 205 ... Sample gas supply path, 206 ... Sample gas discharge path

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Abstract

ガスサンプリング装置は、入口および出口を有する所定容量の計量管と、試料ガスが供給される試料ガス供給路と前記計量管の入口とを接続し、かつ、前記計量管の出口と試料ガス排出路とを接続する第１の切替位置と、前記計量管の入口とキャリアガス供給路とを接続し、かつ、前記計量管の出口と前記試料ガスを分析部へ導く導入路とを接続する第２の切替位置とを有する切替バルブと、前記試料ガス排出路に設けられ、前記試料ガスの流路のガス圧力を前記切替バルブの漏れ防止圧力以上に維持する流路抵抗要素と、を備える。

Description

ガス分析装置およびガスサンプリング装置
　本発明は、ガス分析装置およびガスサンプリング装置に関する。
　ガスクロマトグラフ（ＧＣ）の検出器の一つとして、誘電体バリア放電プラズマによるイオン化を利用した誘電体バリア放電イオン化検出器（ＢＩＤ）が知られている（特許文献１参照）。誘電体バリア放電イオン化検出器は、Ｈｅ、Ｎｅ以外の幅広い有機化合物や無機化合物を高感度で検出することができるため、微量の酸素窒素を分析するというニーズもある。
国際公開第２０１５/１０７６８８号
　誘電体バリア放電イオン化検出器を用いたガスクロマトグラフ（ＣＧ－ＢＩＤ）に試料ガスを分析する際には、ガスサンプリング装置で試料ガスをサンプリングし、そのサンプリングされた試料ガスをガスクロマトグラフに導入する。ガスサンプリング装置は切替バルブを用いて試料ガスをサンプリングするが、バルブ摺動部からの微量の空気が漏れ込んで正確に定量できないという問題がある。
　本発明の第１の態様によると、ガスサンプリング装置は、入口および出口を有する所定容量の計量管と、試料ガスが供給される試料ガス供給路と前記計量管の入口とを接続し、かつ、前記計量管の出口と試料ガス排出路とを接続する第１の切替位置と、前記計量管の入口とキャリアガス供給路とを接続し、かつ、前記計量管の出口と前記試料ガスを分析部へ導く導入路とを接続する第２の切替位置とを有する切替バルブと、前記試料ガス排出路に設けられ、前記試料ガスの流路のガス圧力を前記切替バルブの漏れ防止圧力以上に維持する流路抵抗要素と、を備える。
　本発明の第２の態様によると、ガス分析装置は、試料ガスを分析する分析部と、第1の態様のガスサンプリング装置と、を備える。
　本発明の第３の態様によると、第２の態様のガス分析装置において、前記漏れ防止圧力は「大気圧＋５ｋＰａ」以上に設定されるのが好ましい。
　本発明の第４の態様によると、第２または３の態様のガス分析装置において、前記流路抵抗要素はキャピラリーチューブであるのが好ましい。
　本発明によれば、酸素窒素の定量をより正確に行うことができる。
図１は、ガス分析装置の概略構成を示すブロック図である。 図２は、切替位置Ｙの状態を示す図である。 図３は、サンプリングの手順を示す図である。 図４は、標準ガス中の酸素窒素の検出データを示す図である。
　以下、図を参照して本発明を実施するための形態について説明する。図１は、本実施の形態のガス分析装置の概略構成を示すブロック図である。ガス分析装置１は、分析部１０と、分析部１０に一定量の試料ガスを供給するサンプリング部２０とを備えている。
　分析部１０は、ガスクロマトグラフ部（ＣＧ部）１１と、誘電バリア放電イオン化検出部（ＢＩＤ部）１２とを備える。ＣＧ部１１は、試料導入路３０によりサンプリング部２０に接続されている。サンプリング部２０でサンプリングされた試料ガスＳＧは、キャリアガスＣＧの流れに乗ってサンプリング部２０からＣＧ部１１に設けられたキャピラリーカラム１１１に導入される。試料ガスＳＧを運ぶためのキャリアガスＣＧには、ヘリウムなどの不活性ガスが用いられる。
　キャピラリーカラム１１１に導入された試料ガスＳＧに含まれる各種試料成分は、キャピラリーカラム１１１によって時間的に分離される。ＢＩＤ部１２は、ＣＧ部１１により分離された試料成分を検出する。ＢＩＤ部１２の詳細構成は、例えば国際公開第２０１５/１０７６８８号に記載のものと同様の構成であり、ここでは説明を省略する。
　サンプリング部２０は、試料ガスＳＧの計量管として機能するサンプルループ２１と、切替バルブ２２と、流路抵抗要素２３とを備えている。また、サンプリング部２０には、キャリアガスＣＧが供給されるキャリアガス供給ポート２０１と、試料ガスＳＧが供給される試料ガス供給ポート２０２と、供給された試料ガスＳＧをサンプリング部２０から排出する試料ガス排出ポート２０３とが設けられている。
　切替バルブ２２は、６つのポートを有するバルブステータ２２Ｓと、ポート間の接続を切り替えるバルブロータ２２Ｒとを備えている。切替バルブ２２は、図１に示すようにキャリアガスＣＧのみがＣＧ部１１に導入される切替位置Ｘと、図２に示すようにサンプルループ２１内に保持された試料ガスＳＧをＣＧ部１１に導入する切替位置Ｙとの２つの切替状態が可能である。
　図１に示す切替位置Ｘにおいては、ポート２とポート３、ポート４とポート５、ポート６とポート１とがそれぞれ接続される。上述した試料導入路３０は、ポート１に接続される。キャリアガス供給ポート２０１は、キャリアガス供給路２０４を介してポート６に接続される。サンプルループ２１の入口２１ａはポート５に接続され、出口２１ｂはポート２に接続される。試料ガス供給ポート２０２は、試料ガス供給路２０５を介してポート４に接続される。試料ガス排出ポート２０３は、試料ガス排出路２０６を介してポート３に接続される。
　切替位置Ｘにおいては、ＣＧ部１１には、試料導入路３０を介してキャリアガス供給ポート２０１に供給されたキャリアガスＣＧが導入される。また、試料ガス供給ポート２０２に供給された試料ガスＳＧはサンプルループ２１を流れ、試料ガス排出路２０６を介して試料ガス排出ポート２０３から排出される。
　図２に示す切替位置Ｙにおいては、ポート１とポート２、ポート３とポート４、ポート５とポート６とがそれぞれ接続される。切替位置Ｙでは、サンプルループ２１の入口２１ａはキャリアガス供給路２０４に接続され、出口２１ｂは試料導入路３０に接続される。その結果、サンプルループ２１内に保持された試料ガスＳＧがキャリアガスＣＧに押し流され、試料導入路３０を介してＣＧ部１１に供給される。一方、試料ガスＳＧが供給される試料ガス供給路２０５は試料ガス排出路２０６に接続されるので、試料ガス排出ポート２０３から排出されることになる。
（流路抵抗要素２３）
　本実施の形態では、切替バルブ２２の摺動部からの大気（空気）の漏れ込みを防止するために、試料ガス排出路２０６に流路抵抗要素２３を設けた。流路抵抗要素２３は、試料ガス供給ポート２０２から試料ガスＳＧを供給した場合に、試料ガスＳＧが流れる流路のガス圧を漏れ防止圧力以上に維持するためのものである。例えば、流路抵抗要素２３には、ガス分析関係で使用されるキャピラリーチューブと呼ばれる内径が非常に小さな石英や金属のチューブが用いられる。
　試料ガス排出路２０６に用いられる配管は内径が１ｍｍ程度のチューブであるが、流路抵抗要素２３には例えば内径０．１ｍｍ、長さ５０ｍｍ程度のキャピラリーチューブを用いる。このような流路抵抗要素２３を設けることで、試料ガス排出ポート２０３が大気開放状態であっても、試料ガスＳＧの流路の圧力、すなわち、図１の切替位置Ｘでは試料ガス供給路２０５～サンプルループ２１～試料ガス排出路２０６から成る流路の圧力、図２の切替位置Ｙでは試料ガス供給路２０５～試料ガス排出路２０６から成る流路の圧力を、漏れ防止圧力以上に維持することができる。漏れ防止圧力としては、「大気圧＋５ｋＰａ」以上の圧力が好ましい。
　一般的に、キャリアガス供給ポート２０１に供給されるキャリアガスＣＧの圧力は「大気圧＋１００ｋＰａ」程度である。また、試料ガス排出路２０６に流路抵抗要素２３が設けられていない従来の構成では、試料ガス排出ポート２０３が大気開放されているので、試料ガス供給路２０５の圧力は供給源の圧力に依存するが、大気圧よりも若干高いがほぼ大気圧程度となっている。そのため、切替バルブ２２を切り替えた際に、大気（空気）が切替バルブ２２の摺動部から漏れ込んでしまうことになる。
　一方、本実施の形態では、流路抵抗要素２３を設けたことにより、試料ガスＳＧが流れる試料ガス供給ポート２０２から試料ガス排出ポート２０３までの流路の圧力は、流路抵抗要素２３を設けない場合よりも高い圧力である漏れ防止圧力以上に維持される。その結果、切替バルブ２２を切り替えた際の摺動部からの漏れ込みを防止することができる。
　なお、流路抵抗要素２３の配置としては、切替バルブ２２に接続している試料ガス流路の全てが大気圧よりも高い漏れ防止圧力以上となる配置が好ましい。流路抵抗要素２３の下流側には大気開放とされる試料ガス排出ポート２０３が設けられているので、試料ガス供給ポート２０２から流路抵抗要素２３までの流路は漏れ防止圧力以上となり、流路抵抗要素２３よりも下流側の流路はほぼ大気圧となる。そのため、流路抵抗要素２３は、切替バルブ２２のポート３から試料ガス排出ポート２０３までの試料ガス排出路２０６に配置するのが好ましい。
　流路抵抗要素２３としては、試料ガス排出路２０６に用いられる配管（例えば、内径１ｍｍ程度の配管）よりも流路抵抗が大きく、試料ガスＳＧの圧力が漏れ防止圧力以上となる流路構造体であれば、上述したキャピラリーチューブに限定されない。例えば、試料ガス排出路２０６に流路抵抗要素２３としての流量制御バルブを配置して、流量制御バルブの開度を、試料ガス流路の圧力が漏れ防止圧力以上となる開度に調整しても良い。また、開閉バルブを試料ガス排出路２０６に設けて開閉したり、試料ガス排出ポート２０３を開閉栓で開閉したりして、切替バルブ２２を切り替える直前から切り替え完了となるまでの間、試料ガス流路の圧力を漏れ防止圧力以上に保持するようにしても良い。これらの開閉バルブや開閉栓も流路抵抗要素２３として機能する。
　図３は、流路抵抗要素２３として流量制御バルブや開閉バルブや開閉栓などを設ける場合の、試料ガスＳＧのサンプリングの手順を示す図である。ここでは、流路抵抗要素２３として流量制御バルブを用いる場合を例に説明する。なお、切替バルブ２２の切り替えおよび流量制御バルブの開度制御は、手動で行っても良いし、モータ等により駆動しても良い。
　手順＃１では、流量制御バルブを、試料ガス流路の圧力が漏れ防止圧力となる開度（以下では、漏れ防止開度と呼ぶことにする）に制御する。手順＃２では、切替バルブ２２を切替位置Ｘに設定する。試料ガス供給ポート２０２に供給された試料ガスＳＧは、試料ガス供給路２０５→サンプルループ２１→試料ガス排出路２０６のように流れて、試料ガス排出ポート２０３から排出される。手順＃３では、切替バルブ２２を切替位置Ｙに設定する。サンプルループ２１内の試料ガスＳＧはキャリアガスＣＧによって試料導入路３０に押し出され、分析部１０に供給される。手順＃４では、流量制御バルブの開度を漏れ防止開度から全開状態に制御する。
　図４は、流路抵抗要素２３を設けたことによる効果を説明する図であり、試料ガス供給ポート２０２に標準ガスを供給した場合の、標準ガス中の酸素窒素の検出データを示す図である。ラインＬ１は流路抵抗要素２３を設けた場合のデータで、ラインＬ２は流路抵抗要素２３を設けなかった場合のデータである。ラインＬ２の場合、空気の漏れ込みの影響によって、符号Ｂ１，Ｂ２で示す酸素（Ｏ２）および窒素（Ｎ２）のピークの裾の部分の値がラインＬ１に比べて高くなっている。
　一方、ラインＬ１では、酸素（Ｏ２）および窒素（Ｎ２）のピークの裾の部分の上昇が見られない。すなわち、空気の漏れ込みが防止され、正確な酸素窒素の定量が可能となる。さらに、酸素（Ｏ２）、窒素（Ｎ２）およびＣＯのピークの高さがラインＬ２よりも高くなっており、流路抵抗要素２３を設けたことにより試料ガス検出の感度が向上している。
　上述した例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
［１］一態様に係るガスサンプリング装置は、入口および出口を有する所定容量の計量管と、試料ガスが供給される試料ガス供給路と前記計量管の入口とを接続し、かつ、前記計量管の出口と試料ガス排出路とを接続する第１の切替位置と、前記計量管の入口とキャリアガス供給路とを接続し、かつ、前記計量管の出口と前記試料ガスを分析部へ導く導入路とを接続する第２の切替位置とを有する切替バルブと、前記試料ガス排出路に設けられ、前記試料ガスの流路のガス圧力を前記切替バルブの漏れ防止圧力以上に維持する流路抵抗要素と、を備える。
　試料ガス排出路２０６に流路抵抗要素２３を設けたので、図１に示す切替位置Ｘの状態において、試料ガス供給ポート２０２と流路抵抗要素２３との間の試料ガスが流れる流路の圧力は、切替バルブ２２の漏れ防止圧力以上に維持される。その結果、切替バルブ２２を切り替えた際に、切替バルブ２２の摺動部から大気圧の空気が試料ガスＳＧに漏れ込むのを防止することができ、大気の混入の無い試料ガスＳＧを分析部１０へ供給することができる。
［２］一態様に係るガス分析装置は、試料ガスを分析する分析部と、上記［１］に記載のガスサンプリング装置と、を備える。
　図１のようにサンプリング部２０の試料ガス排出路２０６に流路抵抗要素２３を配置することで、切替バルブ２２の摺動部から大気圧の空気が試料ガスＳＧに漏れ込むのを防止することができ、分析部１０による窒素酸素の定量をより正確に行うことができる。特に、ｐｐｍオーダーの高検出精度を有する誘電体バリア放電イオン化検出器を用いたガスクロマトグラフ（ＣＧ－ＢＩＤ）において好適である。
［３］上記［２］に記載のガス分析装置において、前記漏れ防止圧力は「大気圧＋５ｋＰａ」以上に設定するのが好ましい。それにより、切替バルブ２２の摺動部からの大気（空気）の漏れ込みを確実に防止することができる。
［４］上記［２］または［３］に記載のガス分析装置において、流路抵抗要素はキャピラリーチューブである。流路抵抗要素２３をキャピラリーチューブで構成することにより、装置のコストアップを抑えることができる。
　上記では、種々の実施の形態および変形例を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。
　次の優先権基礎出願の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
　日本国特願２０１９－０７０１５３号（２０１９年４月１日出願）
　１…ガス分析装置、１０…分析部、１１…ガスクロマトブラフ部（ＣＧ部）、１２…誘電体バリア放電イオン化検出部（ＢＩＤ）、２０…サンプリング部、２１…サンプルループ、２２…切替バルブ、２３…流路抵抗要素、３０…試料導入路、２０１…キャリアガス供給ポート、２０２…試料ガス供給ポート、２０３…試料ガス排出ポート、２０４…キャリアガス供給路、２０５…試料ガス供給路、２０６…試料ガス排出路

Claims (4)

  1. 　入口および出口を有する所定容量の計量管と、
    　試料ガスが供給される試料ガス供給路と前記計量管の入口とを接続し、かつ、前記計量管の出口と試料ガス排出路とを接続する第１の切替位置と、前記計量管の入口とキャリアガス供給路とを接続し、かつ、前記計量管の出口と前記試料ガスを分析部へ導く導入路とを接続する第２の切替位置とを有する切替バルブと、
    　前記試料ガス排出路に設けられ、前記試料ガスの流路のガス圧力を前記切替バルブの漏れ防止圧力以上に維持する流路抵抗要素と、を備えるガスサンプリング装置。
  2. 　試料ガスを分析する分析部と、
    　請求項１に記載のガスサンプリング装置と、を備えるガス分析装置。
  3. 　請求項２に記載のガス分析装置において、
    　前記漏れ防止圧力は「大気圧＋５ｋＰａ」以上に設定される、ガス分析装置。
  4. 　請求項２または３に記載のガス分析装置において、
    　前記流路抵抗要素はキャピラリーチューブである、ガス分析装置。
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