WO2020169439A1 - Assembly for electrically contacting a microchip substrate - Google Patents

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WO2020169439A1
WO2020169439A1 PCT/EP2020/053716 EP2020053716W WO2020169439A1 WO 2020169439 A1 WO2020169439 A1 WO 2020169439A1 EP 2020053716 W EP2020053716 W EP 2020053716W WO 2020169439 A1 WO2020169439 A1 WO 2020169439A1
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Markus Hacksteiner
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Markus Hacksteiner
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    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/001Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells
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    • C25D17/06Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • C25D17/08Supporting racks, i.e. not for suspending

Definitions

  • the invention relates to an arrangement having the features of the introductory part of claim 1.
  • Microchips are for example based on wafers or
  • the metal structures consist e.g. made of copper and serve
  • the microchip substrate e.g. a wafer or a panel
  • the microchip substrate must be fixed on a holder.
  • the front side of the microchip substrate must be electrically contacted at the edge of the microchip substrate.
  • the back of the microchip substrate must be protected from the electrolyte.
  • the surface of the holder and the surface of the microchip substrate and the anode should be aligned with one another as well as possible and be aligned planar and parallel to one another. The surface of the
  • the microchip substrate and the surface of the holder should form a plane.
  • the surface of the anode is parallel to it.
  • microchip substrates result in a topography level that contradicts the required flatness.
  • Metallizing with at least one electrical contact being provided in the area of the outer edge of the substrate, which is in electrically conductive connection with the front side of the substrate.
  • the electrical contact is held in contact with the front side of the substrate by a layer lying on its side facing away from the substrate.
  • US 2015/0068890 Al shows not that the substrate is a microchip substrate.
  • the invention is based on the object of proposing an arrangement for contacting microchip substrates in which the aforementioned topography level is reduced in size or avoided at all.
  • At least one electrical contact is provided, which is arranged in the area of the outer edge of the microchip substrate and which is connected to the
  • Front of the microchip substrate is in an electrically conductive connection.
  • the electrical contact is established by a side facing away from the microchip substrate
  • the layer is a polymer film.
  • the electrical connector in one embodiment of the invention, the electrical connector
  • Microchip substrate protruding and for example resting on this, has projections.
  • the electrical Contact through several, over the outer edge of the
  • Microchip substrate distributed strips formed from electrically conductive material. With a circular microchip substrate, these strips are preferred with respect to the
  • Microchip substrate aligned radially.
  • the material (“conductor track”) as well as the (radially inner) ends of the strips that lie on the front side of the microchip substrate can have ends bent towards the microchip substrate or burrs or prongs protruding towards the microchip substrate. If the free ends of the projections or the ends of the strips that rest on the microchip substrate are bent, the result is a particularly good electrical contact. The same applies if edges of the projections and / or edges of the strips have ridges or prongs protruding towards the microchip substrate.
  • the ridges or prongs can, for example, when punching
  • electrical contacts are formed in the form of the ring or strips.
  • the arrangement comprises a holder for the microchip substrate which has a recess in which the microchip substrate is received.
  • Microchip substrate in the recess is provided, for example, an opening that can be acted upon by negative pressure.
  • the opening can be designed to communicate with grooves.
  • the grooves comprise, for example, two or more concentric, circular grooves which are connected to one another by at least one radially extending connecting groove. So is a
  • FIG. 1 shows an electrolyte bath with several anodes and one above it
  • Fig. 2 shows the electrolyte bath from FIG. 1, the
  • Substrate column is immersed in the electrolyte bath
  • Fig. 3 shows a first embodiment of an arrangement for
  • FIG. 4 shows an enlarged detail of FIG. 3
  • FIG. 5 shows a further enlarged detail of FIG. 3,
  • FIG. 6 shows a detail of FIG. 5 on an enlarged scale
  • Fig. 7 shows a single protrusion of the arrangement of FIG. 3
  • Fig. 8 shows an alternative arrangement according to the invention
  • FIG. 9 shows a detail of the arrangement of FIG. 8 on an enlarged scale
  • Fig. 11 shows in more detail part of the arrangement of Fig.
  • FIG. 1 shows how several microchip substrates 2 - held by holders 6 - are combined to form a substrate column 3, are electrically contacted and are polarized as working electrodes, for example as cathodes.
  • Several anodes 5 are provided in the electrolyte bath 4, with the electrolyte bath 4
  • Process modules 25 are provided.
  • FIG. 2 shows that the microchip substrates 2 polarized as working electrodes, for example cathodes, with their holders 6 are immersed in the electrolyte bath 4 in such a way that a working electrode, for example an anode 5, is assigned to each microchip substrate.
  • the arrows 7 shown in FIG. 2 indicate a flow generated in the electrolyte bath symbolizes.
  • a contact 8 in the form of a ring 16 made of electrically conductive material is provided.
  • the contact 8 is electrically conductive with a
  • Busbar 9 connected so that the front of the
  • Microchip substrate 2 can be polarized during electrolytic metallization as working electrodes, for example as cathodes.
  • the busbar 9 is laterally out of the holder 6
  • microchip substrate 2 is received in a recess 10 of the holder 6 (cf. FIGS. 5 and 6), with grooves 12 and 13 which are open to the recess 10 being provided in the bottom 11 of the recess 10 which can be acted upon with negative pressure via an opening 14 (cf. FIGS. 10 and 11).
  • a layer 15 Arranged on the ring-shaped contact 8 is a layer 15, which is ring-shaped in the example, in the form of a polymer film, which in one embodiment has adhesive on its side facing the microchip substrate 2 so that it connects to the top of the microchip substrate 2 and to the ring-shaped contact 8
  • the formed in the form of a ring 16 contact 8 has not only projections 17 that radially outward on the Point out busbar 9, but also projections 18 which point inward and rest on the front side of the microchip substrate 2.
  • the ring 16 ("conductor track") forming the electrical contact 8 is a copper foil.
  • the edges, in particular the projections 18 of the electrical contact 8 can be formed.
  • a front, free end 20 of the projections 18 in the form of a prong 19 bent towards the top of the microchip substrate 2 is also contemplated the ridges result in a good electrically conductive connection between the front side of the microchip substrate 2 of the busbar 9.
  • the electrical contact 8 is formed by several strips 21.
  • the strips 21 are arranged distributed over the circumference of the microchip substrate 2 and are oriented essentially radially to the latter.
  • the strips 21 are covered by a layer 15, e.g. in the form of a polymer film, both held in contact with the top of the microchip substrate 2 and pressed against the busbar 9, so that there is a good electrically conductive connection here.
  • the layer 15 made of polymer film is also annular in the embodiment shown in FIGS. 8 and 9, extends on the inside to the microchip substrate 2 and on the outside to over the
  • Busbar 9 and, in one embodiment, is connected to both the microchip substrate 2 and to the busbar 9 with the aid of an adhesive.
  • the opening 14 is provided, through which the grooves 12 and 13 can be subjected to negative pressure.
  • the recess 10 has a height that is the thickness of the
  • Microchip substrate 2 corresponds or substantially
  • the disruptive topography level is avoided.
  • a layer 15 in the form of a laminate or in the form of a lacquer layer can also be provided in the arrangement 1 according to the invention.
  • the electrical contact 8 e.g. the ring 16 or the strips 21
  • the electrical contact 8 is also held in electrically conductive contact on the front side of the microchip substrate 2 and on the busbar 9 by the laminate or the lacquer layer.
  • the layer 15 provided with conductor tracks, for example the polymer film is coated with an electrically conductive adhesive and then on the
  • Microchip substrate 2 can be detached. If the electrical contact 8 (for example the ring 16 or the
  • pressing layer 15 is a laminate, this can be attached to the microchip substrate 2 and to the busbar 9 by heating (at least) the side of the laminate facing the microchip substrate 2 in order to connect the electrical contact 8 to the
  • the holder 6 for the microchip substrate 2 has a recess 10 to which negative pressure can be applied, there is also the advantage that the layer 15 pressing the electrical contact 8 onto the microchip substrate 2 and onto the busbar 9 can easily be pulled off, since the
  • Microchip substrate 2 is held on the holder 6 by negative pressure.
  • the layer 15 can be any material.
  • the layer 15 can be any material.
  • the arrangement 1 according to the invention can also be designed as so-called “organic electronics", in which case (only) the organic (e.g. multilayered) substrate is present on which conductor tracks are applied (e.g. printed).
  • microchip substrates 2 are on both sides of the holder 6 are arranged and are metallized at the same time.
  • the holder 6 can be on both sides
  • the layer 15 adheres to the front side of the microchip substrate 2 by adhesive structures, in particular by Van der Waal forces. It can be provided that the electrical contacts 8 are applied to the adhesive structures, in particular by sputtering.
  • Microchip substrate 2 during electrolytic metallization comprises a holder 6 with a vacuum
  • An electrical contact 8 is provided, which is arranged in the area of the outer edge of the microchip substrate 2 and is in electrically conductive connection with the front side of the microchip substrate 2 and with the busbar 9.
  • the electrical contact 8 formed by a plurality of strips 21 is held in contact with the microchip substrate 2 and the busbar 9 by a layer 15 resting on its side facing away from the microchip substrate 2.
  • the layer 15 extends over the edge of the microchip substrate 2 and the busbar 9 and extends to the holder 6.
  • the layer 15 can be detached from the microchip substrate 2 by metallization.

Abstract

The invention relates to an assembly (1) for electrically contacting a microchip substrate (2) during electrolytic metallization comprising: - a holder (6) having a recess (10), to which negative pressure can be applied, for receiving the microchip substrate (2); and - a bus bar (9). An electrical contact (8) is provided, which is arranged in the region of the outer edge of the microchip substrate (2) and is electrically conductively connected to the front side of the microchip substrate (2) and to the bus bar (9). The electrical contact (8), which is designed as a ring (16) or as a plurality of strips (21), is held in contact with the microchip substrate (2) and the bus bar (9) by a layer (15), which abuts the side of the electrical contact that faces away from the microchip substrate (2). The layer (15) extends beyond the edge of the microchip substrate (2) and beyond the bus bar (9) and up to the holder (6). After the metallization, the layer (15) can be removed from the microchip substrate (2).

Description

ANORDNUNG ZUM ELEKTRISCHEN KONTAKTIEREN EINES ARRANGEMENT FOR ELECTRICALLY CONTACTING A
MIKROCHIPSUBSTRATES MICROCHIP SUBSTRATES
Die Erfindung betrifft eine Anordnung mit den Merkmalen des einleitenden Teils von Anspruch 1. The invention relates to an arrangement having the features of the introductory part of claim 1.
Für Mikrochips werden verschiedene Metallstrukturen, die durch elektrolytische Prozesse erzeugt werden, benötigt. Die Various metal structures that are generated by electrolytic processes are required for microchips. The
Mikrochips werden beispielsweise auf Basis von Wafern oder Microchips are for example based on wafers or
Panels erzeugt. Panels generated.
Die Metallstrukturen bestehen z.B. aus Kupfer und dienen The metal structures consist e.g. made of copper and serve
beispielsweise zum elektrischen Verdrahten von Bauelementen. for example for the electrical wiring of components.
Bekannte Metallisierungsanlagen erfüllen zwar die technischen Erfordernisse, allerdings sind die Verfahrenskosten, Known metallization systems meet the technical requirements, but the process costs are
insbesondere bei langen Verfahrenszeiten oder bei dicken especially with long process times or with thick ones
Metallschichten (Through Silicon Via-Metallisierung) , sehr hoch. Metal layers (through silicon via metallization), very high.
Es ist schon vorgeschlagen worden, zum Senken der Prozesskosten die Anzahl der je Zeiteinheit und je Metallisierungsbecken It has already been proposed to lower the process costs the number of per time unit and per metallization basin
(Elektrolytbad) zu metallisierenden Mikrochipsubstrate zu erhöhen . (Electrolyte bath) to increase the metalized microchip substrates.
In diesem Zusammenhang ist vorgeschlagen worden, die In this context it has been suggested that
Mikrochipsubstrate in einer Kolonne („Batch") anzuordnen und die gesamte Kolonne auf einmal zu metallisieren. Arrange microchip substrates in a column ("batch") and metallize the entire column at once.
Für das elektrolytische Metallisieren muss das Mikrochipsubstrat (z.B. ein Wafer oder ein Panel) auf einer Halterung fixiert werden. Die Vorderseite des Mikrochipsubstrates muss an dem Rand des Mikrochipsubstrates elektrisch kontaktiert werden. Die For electrolytic metallization, the microchip substrate (e.g. a wafer or a panel) must be fixed on a holder. The front side of the microchip substrate must be electrically contacted at the edge of the microchip substrate. The
Rückseite des Mikrochipsubstrates muss vor dem Elektrolyt geschützt werden. Um das Metallisieren von mehreren Mikrochipsubstraten gleichzeitig zu ermöglichen, sollen die Oberfläche der Halterung und die Oberfläche des Mikrochipsubstrates und die Anode so gut wie möglich miteinander fluchten und zueinander planar und parallel ausgerichtet sein. Die Oberfläche des The back of the microchip substrate must be protected from the electrolyte. In order to enable the metallization of several microchip substrates at the same time, the surface of the holder and the surface of the microchip substrate and the anode should be aligned with one another as well as possible and be aligned planar and parallel to one another. The surface of the
Mikrochipsubstrates und die Oberfläche der Halterung sollen im besten Fall eine Ebene bilden. Die Oberfläche der Anode ist parallel dazu. In the best case, the microchip substrate and the surface of the holder should form a plane. The surface of the anode is parallel to it.
Die nötigen Funktionalitäten The necessary functionalities
- Fixieren des Mikrochipsubstrates, - fixing the microchip substrate,
- Kontaktieren der Vorderseite des Mikrochipsubstrates und - Contacting the front of the microchip substrate and
- Schützen der Kontakte auf der Vorderseite des - Protect the contacts on the front of the
Mikrochipsubstrates ergeben im Stand der Technik allerdings eine Topographiestufe, die mit der geforderten Planheit im Widerspruch steht. In the prior art, however, microchip substrates result in a topography level that contradicts the required flatness.
Häufig werden im Stand der Technik aufwändige Maßnahmen mit Klemmen verwendet (vgl. KR 2013/0018633 A) . In the state of the art, complex measures with terminals are often used (cf. KR 2013/0018633 A).
Einschlägige Vorschläge sind weiters aus JP 2014210923 A, US 2018197729 Al und US 2016240504 Al bekannt. Relevant proposals are also known from JP 2014210923 A, US 2018197729 A1 and US 2016240504 A1.
US 2015/0068890 Al zeigt eine Anordnung zum elektrischen US 2015/0068890 Al shows an arrangement for electrical
Kontaktieren eines Substrates beim elektrolytischen Contacting a substrate in the electrolytic
Metallisieren, wobei im Bereich des Außenrandes des Substrates wenigstens ein elektrischer Kontakt vorgesehen ist, der mit der Vorderseite des Substrates in elektrisch leitender Verbindung steht. Der elektrische Kontakt ist durch eine auf seiner vom Substrat abgewandten Seite anliegende Schicht in Anlage an die Vorderseite des Substrates gehalten. US 2015/0068890 Al zeigt nicht, dass es sich bei dem Substrat um ein Mikrochipsubstrat handelt . Metallizing, with at least one electrical contact being provided in the area of the outer edge of the substrate, which is in electrically conductive connection with the front side of the substrate. The electrical contact is held in contact with the front side of the substrate by a layer lying on its side facing away from the substrate. US 2015/0068890 Al shows not that the substrate is a microchip substrate.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Anordnung zum Kontaktieren von Mikrochipsubstraten vorzuschlagen, bei der die zuvor erwähnte Topographiestufe verkleinert oder überhaupt vermieden ist. The invention is based on the object of proposing an arrangement for contacting microchip substrates in which the aforementioned topography level is reduced in size or avoided at all.
Gelöst wird diese Aufgabe erfindungsgemäß mit einer Anordnung, welche die Merkmale von Anspruch 1 aufweist. This object is achieved according to the invention with an arrangement which has the features of claim 1.
Bevorzugte und vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche. Preferred and advantageous embodiments of the invention are the subject of the subclaims.
Bei der erfindungsgemäßen Anordnung zum elektrischen In the inventive arrangement for electrical
Kontaktieren eines Mikrochipsubstrates ist wenigstens ein elektrischer Kontakt vorgesehen, der im Bereich des Außenrandes des Mikrochipsubstrates angeordnet ist und der mit der Contacting a microchip substrate, at least one electrical contact is provided, which is arranged in the area of the outer edge of the microchip substrate and which is connected to the
Vorderseite des Mikrochipsubstrates in elektrisch leitender Verbindung steht. Der elektrische Kontakt wird durch eine auf seiner vom Mikrochipsubstrat abgewandten Seite aufliegende Front of the microchip substrate is in an electrically conductive connection. The electrical contact is established by a side facing away from the microchip substrate
Schicht in Anlage an die Vorderseite des Mikrochipsubstrates gehalten. Das ergibt nicht nur einen guten elektrischen Kontakt, sondern auch eine Anordnung, welche die im Stand der Technik gegebene, nachteilige Topographiestufe vermeidet. Layer held in contact with the front of the microchip substrate. This not only results in a good electrical contact, but also an arrangement which avoids the disadvantageous topography step given in the prior art.
Bei der Erfindung ist die Schicht eine Polymerfolie . In the invention the layer is a polymer film.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist der elektrische In one embodiment of the invention, the electrical
Kontakt ein Ring aus elektrisch leitendem Werkstoff Contact a ring made of electrically conductive material
(„Leiterbahn"), der bevorzugt auf die Vorderseite des ("Conductor"), which is preferably on the front of the
Mikrochipsubstrates ragende, und beispielsweise auf dieser anliegende, Vorsprünge aufweist. Microchip substrate protruding, and for example resting on this, has projections.
In einer alternativen Ausführungsform wird der elektrische Kontakt durch mehrere, über den Außenrand des In an alternative embodiment, the electrical Contact through several, over the outer edge of the
Mikrochipsubstrates verteilt angeordnete Streifen aus elektrisch leitendem Werkstoff gebildet. Diese Streifen sind bei einem kreisrunden Mikrochipsubstrat bevorzugt bezüglich des Microchip substrate distributed strips formed from electrically conductive material. With a circular microchip substrate, these strips are preferred with respect to the
Mikrochipsubstrates radial ausgerichtet. Microchip substrate aligned radially.
Sowohl die auf der Vorderseite des Mikrochipsubstrates Both the one on the front of the microchip substrate
anliegenden Vorsprünge des Ringes aus elektrisch leitendem adjacent projections of the ring made of electrically conductive
Werkstoff („Leiterbahn") als auch die (radial inneren) Enden der Streifen, die auf der Vorderseite des Mikrochipsubstrates anliegen, können auf das Mikrochipsubstrat hin abgebogene Enden oder auf das Mikrochipsubstrat hin abstehende Grate oder Zacken aufweisen. Wenn die freien Enden der Vorsprünge oder die Enden der Streifen, die auf dem Mikrochipsubstrat anliegen, abgebogen sind, ergibt sich ein besonders guter elektrischer Kontakt. Das Gleiche gilt, wenn Ränder der Vorsprünge und/oder Ränder der Streifen auf das Mikrochipsubstrat hin abstehende Grate oder Zacken aufweisen. The material ("conductor track") as well as the (radially inner) ends of the strips that lie on the front side of the microchip substrate can have ends bent towards the microchip substrate or burrs or prongs protruding towards the microchip substrate. If the free ends of the projections or the ends of the strips that rest on the microchip substrate are bent, the result is a particularly good electrical contact. The same applies if edges of the projections and / or edges of the strips have ridges or prongs protruding towards the microchip substrate.
Die Grate oder Zacken können beispielsweise beim Stanzen The ridges or prongs can, for example, when punching
elektrischer Kontakte in Form des Ringes oder der Streifen gebildet werden. electrical contacts are formed in the form of the ring or strips.
Im Rahmen der Erfindung umfasst die Anordnung eine Halterung für das Mikrochipsubstrat, die eine Vertiefung aufweist, in welcher das Mikrochipsubstrat aufgenommen ist. Zum Fixieren des In the context of the invention, the arrangement comprises a holder for the microchip substrate which has a recess in which the microchip substrate is received. To fix the
Mikrochipsubstrates in der Vertiefung ist beispielsweise eine mit Unterdrück beaufschlagbare Öffnung vorgesehen. Die Öffnung kann mit Nuten kommunizierend ausgebildet sein. Die Nuten umfassen beispielsweise zwei oder mehrere konzentrische, kreisförmige Nuten, die miteinander durch wenigstens eine radial verlaufende Verbindungsnut verbunden sind. So ist ein Microchip substrate in the recess is provided, for example, an opening that can be acted upon by negative pressure. The opening can be designed to communicate with grooves. The grooves comprise, for example, two or more concentric, circular grooves which are connected to one another by at least one radially extending connecting groove. So is a
gleichmäßiges Beaufschlagen der Vertiefung mit Unterdrück und ein sicheres Halten des Mikrochipsubstrates in der Vertiefung der Halterung gewährleistet. Weitere Einzelheiten und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der nachstehenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Zeichnungen. Es zeigt: Uniform application of negative pressure to the recess and secure holding of the microchip substrate in the recess of the holder are guaranteed. Further details and features of the invention emerge from the following description of preferred exemplary embodiments with reference to the drawings. It shows:
Fig. 1 ein Elektrolytbad mit mehreren Anoden und darüber eine 1 shows an electrolyte bath with several anodes and one above it
Substratkolonne, Substrate column,
Fig . 2 das Elektrolytbad aus Fig. 1, wobei die Fig. 2 shows the electrolyte bath from FIG. 1, the
Substratkolonne in das Elektrolytbad eingetaucht ist, Substrate column is immersed in the electrolyte bath,
Fig . 3 eine erste Ausführungsform einer Anordnung zum Fig. 3 shows a first embodiment of an arrangement for
Kontaktieren eines Mikrochipsubstrates, Contacting a microchip substrate,
Fig. 4 eine vergrößerte Einzelheit von Fig. 3, FIG. 4 shows an enlarged detail of FIG. 3,
Fig . 5 eine weiter vergrößerte Einzelheit von Fig. 3, Fig. 5 shows a further enlarged detail of FIG. 3,
Fig . 6 ein Detail von Fig. 5 in vergrößertem Maßstab, Fig. 6 shows a detail of FIG. 5 on an enlarged scale,
Fig . 7 einen einzelnen Vorsprung der Anordnung der Fig. 3 Fig. 7 shows a single protrusion of the arrangement of FIG. 3
bis 6, until 6,
Fig . 8 eine alternative Anordnung gemäß der Erfindung, Fig. 8 shows an alternative arrangement according to the invention,
Fig . 9 in vergrößertem Maßstab eine Einzelheit der Anordnung von Fig. 8, Fig. 9 shows a detail of the arrangement of FIG. 8 on an enlarged scale,
Fig. 10 eine Halterung für ein Mikrochipsubstrat und 10 shows a holder for a microchip substrate and
Fig. 11 in mehr Einzelheiten einen Teil der Anordnung von Fig. Fig. 11 shows in more detail part of the arrangement of Fig.
8 mit der Halterung. 8 with the bracket.
Fig. 1 zeigt, wie mehrere Mikrochipsubstrate 2 - von Halterungen 6 gehalten - zu einer Substratkolonne 3 zusammengefasst, elektrisch kontaktiert und als Arbeitselektroden, beispielsweise als Kathoden, gepolt sind. In dem Elektrolytbad 4 sind mehrere Anoden 5 vorgesehen, wobei neben dem Elektrolytbad 4 1 shows how several microchip substrates 2 - held by holders 6 - are combined to form a substrate column 3, are electrically contacted and are polarized as working electrodes, for example as cathodes. Several anodes 5 are provided in the electrolyte bath 4, with the electrolyte bath 4
Prozessmodule 25 vorgesehen sind. Process modules 25 are provided.
Fig. 2 zeigt, dass die als Arbeitselektroden, beispielsweise als Kathoden, gepolten Mikrochipsubstrate 2 mit ihren Halterungen 6 so in das Elektrolytbad 4 eingetaucht sind, dass jeweils einem Mikrochipsubstrat eine Arbeitselektrode, beispielsweise eine Anode 5, zugeordnet ist. Durch die in Fig. 2 eingezeichneten Pfeile 7 wird eine im Elektrolytbad erzeugte Strömung symbolisiert. Sobald die elektrolytische Metallisierung der Mikrochipsubstrate 2 erledigt ist, werden die Mikrochipsubstrate 2 aus dem Elektrolytbad 4 (Metallisierungsbecken) wieder 2 shows that the microchip substrates 2 polarized as working electrodes, for example cathodes, with their holders 6 are immersed in the electrolyte bath 4 in such a way that a working electrode, for example an anode 5, is assigned to each microchip substrate. The arrows 7 shown in FIG. 2 indicate a flow generated in the electrolyte bath symbolizes. As soon as the electrolytic metallization of the microchip substrates 2 is done, the microchip substrates 2 are removed from the electrolyte bath 4 (metallization basin) again
herausgehoben . lifted out.
Bei der in den Fig. 3 bis 7 gezeigten Anordnung 1 ist die In the arrangement 1 shown in FIGS. 3 to 7, the
Halterung 6 für ein Mikrochipsubstrat 2 vorgesehen. Um das Mikrochipsubstrat 2 elektrisch zu kontaktieren, ist ein Kontakt 8 in Form eines Ringes 16 aus elektrisch leitendem Werkstoff vorgesehen. Der Kontakt 8 ist elektrisch leitend mit einer Holder 6 for a microchip substrate 2 is provided. In order to make electrical contact with the microchip substrate 2, a contact 8 in the form of a ring 16 made of electrically conductive material is provided. The contact 8 is electrically conductive with a
Stromschiene 9 verbunden, so dass die Vorderseite des Busbar 9 connected so that the front of the
Mikrochipsubstrates 2 beim elektrolytischen Metallisieren als Arbeitselektroden, beispielsweise als Kathoden, gepolt werden kann . Microchip substrate 2 can be polarized during electrolytic metallization as working electrodes, for example as cathodes.
Die Stromschiene 9 ist seitlich aus der Halterung 6 The busbar 9 is laterally out of the holder 6
herausgeführt . led out.
Es ist darauf hinzuweisen, dass das Mikrochipsubstrat 2 in einer Vertiefung 10 der Halterung 6 (vgl. Fig. 5 und 6) aufgenommen ist, wobei im Boden 11 der Vertiefung 10 Nuten 12 und 13, die zur Vertiefung 10 hin offen sind, vorgesehen sind, die über eine Öffnung 14 mit Unterdrück beaufschlagt werden können (vgl. Fig. 10 und 11) . It should be pointed out that the microchip substrate 2 is received in a recess 10 of the holder 6 (cf. FIGS. 5 and 6), with grooves 12 and 13 which are open to the recess 10 being provided in the bottom 11 of the recess 10 which can be acted upon with negative pressure via an opening 14 (cf. FIGS. 10 and 11).
Auf dem ringförmigen Kontakt 8 ist eine im Beispiel ringförmige Schicht 15 in Form einer Polymerfolie angeordnet, die in einer Ausführungsform auf ihrer dem Mikrochipsubstrat 2 zugekehrten Seite Klebstoff aufweist, sodass sie mit der Oberseite des Mikrochipsubstrates 2 und mit dem ringförmigen Kontakt 8 Arranged on the ring-shaped contact 8 is a layer 15, which is ring-shaped in the example, in the form of a polymer film, which in one embodiment has adhesive on its side facing the microchip substrate 2 so that it connects to the top of the microchip substrate 2 and to the ring-shaped contact 8
(„Leiterbahn") sowie mit der Stromschiene 9 verklebt werden kann . ("Conductor track") and can be glued to the power rail 9.
Der in Form eines Ringes 16 ausgebildete Kontakt 8 weist nicht nur Vorsprünge 17 auf, die radial nach außen auf die Stromschiene 9 hinweisen, sondern auch Vorsprünge 18, die nach innen weisen und auf der Vorderseite des Mikrochipsubstrates 2 aufliegen. In einer bevorzugten Ausführungsform ist der den elektrischen Kontakt 8 bildende Ring 16 („Leiterbahn") eine Kupferfolie. Durch das Herstellen des elektrischen Kontaktes 8, z.B. durch Stanzen oder Lasern, kann das Ausbilden der Kanten, insbesondere der Vorsprünge 18 des elektrischen Kontaktes 8, so gesteuert werden, dass die Kanten gezackt oder mit Graten ausgebildet werden. Dabei ist auch ein auf die Oberseite des Mikrochipsubstrates 2 hin umgebogenes vorderes, freies Ende 20 der Vorsprünge 18 in Form einer Zacke 19 in Betracht gezogen. Durch die Zacken 19 ebenso wie durch die Grate ergibt sich eine gut elektrisch leitende Verbindung zwischen der Vorderseite des Mikrochipsubstrates 2 der Stromschiene 9. The formed in the form of a ring 16 contact 8 has not only projections 17 that radially outward on the Point out busbar 9, but also projections 18 which point inward and rest on the front side of the microchip substrate 2. In a preferred embodiment, the ring 16 ("conductor track") forming the electrical contact 8 is a copper foil. By producing the electrical contact 8, for example by punching or laser cutting, the edges, in particular the projections 18 of the electrical contact 8, can be formed. In this case, a front, free end 20 of the projections 18 in the form of a prong 19 bent towards the top of the microchip substrate 2 is also contemplated the ridges result in a good electrically conductive connection between the front side of the microchip substrate 2 of the busbar 9.
Bei der in den Fig. 8 und 9 gezeigten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Anordnung 1 wird der elektrische Kontakte 8 durch mehrere Streifen 21 gebildet. Die Streifen 21 sind über den Umfang des Mikrochipsubstrates 2 verteilt angeordnet und im Wesentlichen radial zu diesem ausgerichtet. Die Streifen 21 werden durch eine Schicht 15, z.B. in Form einer Polymerfolie, sowohl in Anlage an die Oberseite des Mikrochipsubstrates 2 gehalten als auch gegen die Stromschiene 9 gedrückt, sodass hier eine gut elektrisch leitende Verbindung gegeben ist. In the embodiment of an arrangement 1 according to the invention shown in FIGS. 8 and 9, the electrical contact 8 is formed by several strips 21. The strips 21 are arranged distributed over the circumference of the microchip substrate 2 and are oriented essentially radially to the latter. The strips 21 are covered by a layer 15, e.g. in the form of a polymer film, both held in contact with the top of the microchip substrate 2 and pressed against the busbar 9, so that there is a good electrically conductive connection here.
Die Schicht 15 aus Polymerfolie ist so wie bei der in Fig. 3 bis 7 gezeigten Ausführungsform auch bei der in Fig. 8 und 9 gezeigten Ausführungsform ringförmig ausgebildet, reicht innen bis auf das Mikrochipsubstrat 2 und außen bis über die As in the embodiment shown in FIGS. 3 to 7, the layer 15 made of polymer film is also annular in the embodiment shown in FIGS. 8 and 9, extends on the inside to the microchip substrate 2 and on the outside to over the
Stromschiene 9 und ist in einer Ausführungsform sowohl mit dem Mikrochipsubstrat 2 als auch mit der Stromschiene 9 mit Hilfe eines Klebers verbunden. Busbar 9 and, in one embodiment, is connected to both the microchip substrate 2 and to the busbar 9 with the aid of an adhesive.
In den Fig. 10 und 11 ist eine Halterung 6 für ein 10 and 11 is a holder 6 for a
Mikrochipsubstrat 2 gezeigt, wobei in der Vertiefung 10, in welcher das Mikrochipsubstrat 2 aufgenommen wird, ringförmige Nuten 12 vorgesehen sind, die zur Vertiefung 10 hin offen sind. Die ringförmigen Nuten 12 sind miteinander durch radial Microchip substrate 2 shown, wherein in the recess 10, in which the microchip substrate 2 is received, annular grooves 12 are provided which are open towards the recess 10. The annular grooves 12 are radially through with one another
ausgerichtete Verbindungsnuten 13 verbunden. In der Mitte der Vertiefung 10 ist die Öffnung 14 vorgesehen, über die die Nuten 12 und 13 mit Unterdrück beaufschlagt werden können. aligned connecting grooves 13 connected. In the middle of the recess 10, the opening 14 is provided, through which the grooves 12 and 13 can be subjected to negative pressure.
Da die Vertiefung 10 eine Höhe hat, die der Dicke des Since the recess 10 has a height that is the thickness of the
Mikrochipsubstrates 2 entspricht oder im Wesentlichen Microchip substrate 2 corresponds or substantially
entspricht, ist die störende Topographiestufe vermieden. corresponds, the disruptive topography level is avoided.
Anstelle der Schicht 15 in Form einer Polymerfolie kann bei der erfindungsgemäßen Anordnung 1 auch eine Schicht 15 in Form von Laminat oder in Form einer Lackschicht vorgesehen sein. Auch durch das Laminat oder die Lackschicht wird der elektrische Kontakt 8 (z.B. der Ring 16 oder die Streifen 21) in elektrisch leitender Anlage an der Vorderseite des Mikrochipsubstrates 2 und an der Stromschiene 9 gehalten. Instead of the layer 15 in the form of a polymer film, a layer 15 in the form of a laminate or in the form of a lacquer layer can also be provided in the arrangement 1 according to the invention. The electrical contact 8 (e.g. the ring 16 or the strips 21) is also held in electrically conductive contact on the front side of the microchip substrate 2 and on the busbar 9 by the laminate or the lacquer layer.
Im Rahmen der Erfindung ist in Betracht gezogen, den In the context of the invention is considered, the
elektrischen Kontakt 8 so zu erzeugen, dass eine Schicht 15, beispielsweise eine Polymerfolie, ohne mit Klebstoff beschichtet zu sein, mit den Kontakt 8 bildenden Leiterbahnen beschichtet wird. Im Anschluss daran wird die mit Leiterbahnen versehene Schicht 15, beispielsweis die Polymerfolie, mit einem elektrisch leitfähigen Kleber beschichtet und dann auf dem to produce electrical contact 8 so that a layer 15, for example a polymer film, without being coated with adhesive, is coated with the conductor tracks forming the contact 8. Subsequently, the layer 15 provided with conductor tracks, for example the polymer film, is coated with an electrically conductive adhesive and then on the
Mikrochipsubstrat 2 und der Stromschiene 9 durch Ankleben befestigt, so dass das angestrebte elektrische Kontaktieren der Vorderseite des Mikrochipsubstrates 2 gegeben ist. Microchip substrate 2 and the busbar 9 attached by gluing, so that the desired electrical contact with the front of the microchip substrate 2 is given.
Im Rahmen der Erfindung ist in Betracht gezogen, die in der erfindungsgemäßen Anordnung 1 vorgesehene Schicht 15 ablösbar auszubilden, damit sie nach dem Metallisieren wieder vom In the context of the invention, consideration is given to designing the layer 15 provided in the arrangement 1 according to the invention so that it can be removed so that it can be removed again after the metallization
Mikrochipsubstrat 2 abgelöst werden kann. Wenn die den elektrischen Kontakt 8 (z.B. der Ring 16 oder dieMicrochip substrate 2 can be detached. If the electrical contact 8 (for example the ring 16 or the
Streifen 21) an die Vorderseite des Mikrochipsubstrates Strip 21) on the front of the microchip substrate
drückende Schicht 15 ein Laminat ist, kann dieses durch Erwärmen (wenigstens) der dem Mikrochipsubstrat 2 zugekehrten Seite des Laminates an dem Mikrochipsubstrat 2 und an der Stromschiene 9 befestigt werden, um den elektrischen Kontakt 8 an die pressing layer 15 is a laminate, this can be attached to the microchip substrate 2 and to the busbar 9 by heating (at least) the side of the laminate facing the microchip substrate 2 in order to connect the electrical contact 8 to the
Vorderseite des Mikrochipsubstrates 2 und an die Stromschiene 9 zu drücken. To press the front of the microchip substrate 2 and the power rail 9.
Wenn die Halterung 6 für das Mikrochipsubstrat 2 eine Vertiefung 10 aufweist, die mit Unterdrück beaufschlagbar ist, ergibt sich weiters der Vorteil, dass das Abziehen der den elektrischen Kontakt 8 an das Mikrochipsubstrat 2 und an die Stromschiene 9 drückenden Schicht 15 einfach möglich ist, da das If the holder 6 for the microchip substrate 2 has a recess 10 to which negative pressure can be applied, there is also the advantage that the layer 15 pressing the electrical contact 8 onto the microchip substrate 2 and onto the busbar 9 can easily be pulled off, since the
Mikrochipsubstrat 2 an der Halterung 6 durch Unterdrück gehalten wird . Microchip substrate 2 is held on the holder 6 by negative pressure.
Im Rahmen der Erfindung kann die Schicht 15 der In the context of the invention, the layer 15 can
erfindungsgemäßen Anordnung 1 auch als sogenannte „organische Elektronik" ausgebildet sein, wobei in diesem Fall (nur) das organische (z.B. mehrschichtig ausgebildete) Substrat vorliegt, auf dem Leiterbahnen aufgebracht (z.B. aufgedruckt) sind. The arrangement 1 according to the invention can also be designed as so-called "organic electronics", in which case (only) the organic (e.g. multilayered) substrate is present on which conductor tracks are applied (e.g. printed).
Im Rahmen der Erfindung ist es von Vorteil, dass die Schicht 15, welche den elektrischen Kontakt 8 (Ring 16 oder Streifen 21) gegen das Mikrochipsubstrat 2 und die Stromschiene drückt, außen über die Stromschiene bis auf die Halterung 9 reicht und mit der Halterung 6 für das Mikrochipsubstrat 2 verklebt sein kann, sodass die Rückseite des Mikrochipsubstrates 2 vor dem Zutritt von Elektrolyt geschützt ist. In the context of the invention, it is advantageous that the layer 15, which presses the electrical contact 8 (ring 16 or strip 21) against the microchip substrate 2 and the power rail, extends outside over the power rail to the holder 9 and with the holder 6 can be glued for the microchip substrate 2, so that the back of the microchip substrate 2 is protected from the ingress of electrolyte.
Wenngleich in den Ausführungsbeispielen an der Halterung 6 jeweils (nur) ein Mikrochipsubstrat 2 angeordnet ist, ist im Rahmen der Erfindung auch eine Ausführungsform umfasst, bei welcher Mikrochipsubstrate 2 auf beiden Seiten der Halterung 6 angeordnet sind und gleichzeitig metallisiert werden. Bei dieser Ausführungsform kann die Halterung 6 auf beiden Seiten Although (only) one microchip substrate 2 is arranged on the holder 6 in each of the exemplary embodiments, an embodiment is also included in the scope of the invention in which microchip substrates 2 are on both sides of the holder 6 are arranged and are metallized at the same time. In this embodiment, the holder 6 can be on both sides
Vertiefungen 10, in welchen die Mikrochipsubstrate 2 aufgenommen sind, aufweisen. Depressions 10 in which the microchip substrates 2 are received.
Im Rahmen der Erfindung ist auch eine Ausführungsform in In the context of the invention, an embodiment in
Betracht gezogen, bei der die Schicht 15 durch Haftstrukturen an der Vorderseite des Mikrochipsubstrates 2, insbesondere durch Van der Waal-Kräfte, haftet. Dabei kann vorgesehen sein, dass die elektrischen Kontakte 8 auf den Haftstrukturen, insbesondere durch Aufsputtern, aufgebracht sind. Considered in which the layer 15 adheres to the front side of the microchip substrate 2 by adhesive structures, in particular by Van der Waal forces. It can be provided that the electrical contacts 8 are applied to the adhesive structures, in particular by sputtering.
Zusammenfassend kann ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wie folgt beschrieben werden: In summary, an embodiment of the invention can be described as follows:
Eine Anordnung 1 zum elektrischen Kontaktieren eines An arrangement 1 for electrically contacting a
Mikrochipsubstrates 2 beim elektrolytischen Metallisieren umfasst eine Halterung 6 mit einer mit Unterdrück Microchip substrate 2 during electrolytic metallization comprises a holder 6 with a vacuum
beaufschlagbaren Vertiefung 10 für die Aufnahme des actable recess 10 for receiving the
Mikrochipsubstrates 2 und eine Stromschiene 9. Es ist ein im Bereich des Außenrandes des Mikrochipsubstrates 2 angeordneter elektrischer Kontakt 8 vorgesehen, der mit der Vorderseite des Mikrochipsubstrates 2 und mit der Stromschiene 9 in elektrisch leitender Verbindung steht. Der als Ring 16 oder als eine Microchip substrate 2 and a busbar 9. An electrical contact 8 is provided, which is arranged in the area of the outer edge of the microchip substrate 2 and is in electrically conductive connection with the front side of the microchip substrate 2 and with the busbar 9. As a ring 16 or as one
Mehrzahl von Streifen 21 ausgebildete elektrische Kontakt 8 ist durch eine an seiner vom Mikrochipsubstrat 2 abgewandten Seite anliegende Schicht 15 in Anlage an das Mikrochipsubstrat 2 und die Stromschiene 9 gehalten. Die Schicht 15 erstreckt sich über den Rand des Mikrochipsubstrates 2 und über die Stromschiene 9 hinaus und reicht bis auf die Halterung 6. Nach dem The electrical contact 8 formed by a plurality of strips 21 is held in contact with the microchip substrate 2 and the busbar 9 by a layer 15 resting on its side facing away from the microchip substrate 2. The layer 15 extends over the edge of the microchip substrate 2 and the busbar 9 and extends to the holder 6. After
Metallisieren kann die Schicht 15 vom Mikrochipsubstrat 2 abgelöst werden. The layer 15 can be detached from the microchip substrate 2 by metallization.

Claims

Ansprüche : Expectations :
1. Anordnung (1) zum elektrischen Kontaktieren wenigstens 1. Arrangement (1) for electrical contacting at least
eines Mikrochipsubstrates (2), wie Wafer oder Panel, beim elektrolytischen Metallisieren eines Mikrochipsubstrates (2), wobei wenigstens ein im Bereich des Außenrandes des a microchip substrate (2), such as wafer or panel, during the electrolytic metallization of a microchip substrate (2), at least one in the area of the outer edge of the
Mikrochipsubstrates (2) angeordneter elektrischer Kontakt (8) vorgesehen ist, der mit der Vorderseite des Microchip substrate (2) arranged electrical contact (8) is provided which is connected to the front of the
Mikrochipsubstrates (2) in elektrisch leitender Verbindung steht, dadurch gekennzeichnet, dass der elektrische Microchip substrate (2) is in an electrically conductive connection, characterized in that the electrical
Kontakt (8) durch eine auf seiner vom Mikrochipsubstrat (2) abgewandten Seite anliegende Schicht (15) in Anlage an die Vorderseite des Mikrochipsubstrates (2) gehalten ist, dass die Schicht (15) eine Polymerfolie ist, dass das Mikrochipsubstrat (2) in einer Halterung (6) angeordnet ist, dass die Halterung (6) eine Vertiefung (10) aufweist, in der das Mikrochipsubstrat (2) aufgenommen ist, und dass die Vertiefung (10) eine Höhe hat, welche im Wesentlichen der Dicke des Mikrochipsubstrates (2) entspricht. Contact (8) is held in contact with the front side of the microchip substrate (2) by a layer (15) lying on its side facing away from the microchip substrate (2), so that the layer (15) is a polymer film that the microchip substrate (2) in a holder (6) is arranged, that the holder (6) has a recess (10) in which the microchip substrate (2) is received, and that the recess (10) has a height which essentially corresponds to the thickness of the microchip substrate ( 2) corresponds.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die auf dem elektrischen Kontakt (8) anliegende Schicht (15) ringförmig ist. 2. Arrangement according to claim 1, characterized in that the layer (15) resting on the electrical contact (8) is annular.
3. Anordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Form der Schicht (15) im Wesentlichen der Umrissform des Mikrochipsubstrates (2) entspricht. 3. Arrangement according to claim 2, characterized in that the shape of the layer (15) essentially corresponds to the outline shape of the microchip substrate (2).
4. Anordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (15) kreisringförmig ist. 4. Arrangement according to claim 3, characterized in that the layer (15) is circular.
5. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch 5. Arrangement according to one of claims 1 to 4, characterized
gekennzeichnet, dass der elektrische Kontakt (8) über den Außenrand des Mikrochipsubstrates (2) übersteht. characterized in that the electrical contact (8) projects beyond the outer edge of the microchip substrate (2).
6. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch 6. Arrangement according to one of claims 1 to 5, characterized
gekennzeichnet, dass die Schicht (15) über den Außenrand des Mikrochipsubstrates (2) übersteht. characterized in that the layer (15) protrudes beyond the outer edge of the microchip substrate (2).
7. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch 7. Arrangement according to one of claims 1 to 6, characterized
gekennzeichnet, dass die Schicht (15) vom Mikrochipsubstrat (2) ablösbar ist. characterized in that the layer (15) can be removed from the microchip substrate (2).
8. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch 8. Arrangement according to one of claims 1 to 7, characterized
gekennzeichnet, dass die Polymerfolie mit wenigstens einer Leiterbahn belegt, insbesondere beschichtet, ist. characterized in that the polymer film is covered, in particular coated, with at least one conductor track.
9. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch 9. Arrangement according to one of claims 1 to 8, characterized
gekennzeichnet, dass die Polymerfolie mit Hilfe eines Klebers, vorzugsweise mit Hilfe eines elektrisch leitenden Klebers, mit der Vorderseite des Mikrochipsubstrates (2) verbunden ist. characterized in that the polymer film is connected to the front side of the microchip substrate (2) with the aid of an adhesive, preferably with the aid of an electrically conductive adhesive.
10. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch 10. Arrangement according to one of claims 1 to 9, characterized
gekennzeichnet, dass die Schicht ein Laminat ist, das auf seiner dem Mikrochipsubstrat zugewandten Seite eine durch Erwärmen erweichende Lage, insbesondere eine Lage aus einem thermoplastischen Kunststoff, aufweist. characterized in that the layer is a laminate which, on its side facing the microchip substrate, has a layer which is softened by heating, in particular a layer made of a thermoplastic material.
11. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch 11. Arrangement according to one of claims 1 to 10, characterized
gekennzeichnet, dass der elektrische Kontakt (8) durch einen Ring (16) aus elektrisch leitendem Werkstoff gebildet ist . characterized in that the electrical contact (8) is formed by a ring (16) made of electrically conductive material.
12. Anordnung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass der innere Rand des Ringes (16) auf der Vorderseite des Mikrochipsubstrates (2) aufliegende Vorsprünge (18) aufweist . 12. The arrangement according to claim 11, characterized in that the inner edge of the ring (16) has projections (18) resting on the front side of the microchip substrate (2).
13. Anordnung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Ränder und/oder die freien Enden der Vorsprünge (18) auf das Mikrochipsubstrat (2) hin abgebogen sind oder auf das Mikrochipsubstrat (2) hin abstehende Grate oder Zacken aufweisen . 13. Arrangement according to claim 12, characterized in that the edges and / or the free ends of the projections (18) are bent towards the microchip substrate (2) or have ridges or prongs protruding towards the microchip substrate (2).
14. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch 14. Arrangement according to one of claims 1 to 13, characterized
gekennzeichnet, dass der elektrische Kontakt (8) durch mehrere, über den Außenrand des Mikrochipsubstrates (2) verteilt angeordnete Streifen (21) aus elektrisch leitendem Werkstoff gebildet ist und dass ein Ende (20) jedes characterized in that the electrical contact (8) is formed by a plurality of strips (21) of electrically conductive material distributed over the outer edge of the microchip substrate (2) and that one end (20) each
Streifens (21) auf der Vorderseite des Mikrochipsubstrates (2) aufliegt. Strip (21) rests on the front of the microchip substrate (2).
15. Anordnung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Streifen (21) bezüglich des Mikrochipsubstrates (2) radial ausgerichtet sind und dass die radial inneren Enden (20) der Streifen (21) auf der Vorderseite des 15. The arrangement according to claim 14, characterized in that the strips (21) with respect to the microchip substrate (2) are aligned radially and that the radially inner ends (20) of the strips (21) on the front side of the
Mikrochipsubstrates aufliegen. Microchip substrate rest.
16. Anordnung nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, dass die auf dem Mikrochipsubstrat (2) aufliegenden Enden (20) der Streifen (21) auf das Mikrochipsubstrat (2) hin abgebogen sind oder auf das Mikrochipsubstrat (2) hin abstehende Grate oder Zacken aufweisen. 16. The arrangement according to claim 14 or 15, characterized in that the ends (20) of the strips (21) resting on the microchip substrate (2) are bent towards the microchip substrate (2) or burrs or protruding towards the microchip substrate (2) Have prongs.
17. Anordnung nach einem der Ansprüche 5 bis 16, dadurch 17. Arrangement according to one of claims 5 to 16, characterized
gekennzeichnet, dass der über den Außenrand des marked that the over the outer edge of the
Mikrochipsubstrates (2) überstehende Bereich des Microchip substrate (2) protruding area of the
elektrischen Kontaktes (8) mit einer Stromschiene (9) in elektrisch leitender Verbindung steht. electrical contact (8) is in electrically conductive connection with a busbar (9).
18. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch 18. Arrangement according to one of claims 1 to 17, characterized
gekennzeichnet, dass die Schicht (15) und der wenigstens eine elektrische Kontakt (8) mit ihren außerhalb des characterized in that the layer (15) and the at least one electrical contact (8) with their outside of the
Mikrochipsubstrates (2) liegenden Bereichen auf der Halterung (6) und/oder der Stromschiene (9) aufliegen, Microchip substrate (2) lying areas on the The bracket (6) and / or the busbar (9) rest,
19. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch 19. Arrangement according to one of claims 1 to 18, characterized
gekennzeichnet, dass die Halterung (6) im Bereich des in ihm angeordneten Mikrochipsubstrates (2) wenigstens eine mit Unterdrück beaufschlagbare Öffnung (14) aufweist. characterized in that the holder (6) has at least one opening (14) that can be acted upon by negative pressure in the region of the microchip substrate (2) arranged in it.
20. Anordnung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass die mit Unterdrück beaufschlagbare Öffnung (14) im Bereich der Vertiefung (10) der Halterung (6) angeordnet ist. 20. The arrangement according to claim 19, characterized in that the opening (14) which can be acted upon by negative pressure is arranged in the region of the recess (10) of the holder (6).
21. Anordnung nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Öffnung (14) mit wenigstens einer Nut (12, 13), die zur Vertiefung (10) hin offen ist, 21. Arrangement according to claim 20, characterized in that the at least one opening (14) with at least one groove (12, 13) which is open towards the recess (10),
kommuniziert . communicates.
22. Anordnung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass zwei oder mehr als zwei ringförmige Nuten (12) vorgesehen sind und dass die Nuten (12) miteinander durch 22. Arrangement according to claim 21, characterized in that two or more than two annular grooves (12) are provided and that the grooves (12) with each other
Verbindungsnuten (13), die beispielsweise radial zur Vertiefung (10) ausgerichtet sind, verbunden sind. Connecting grooves (13), which are for example aligned radially to the recess (10), are connected.
23. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 22, dadurch 23. Arrangement according to one of claims 1 to 22, characterized
gekennzeichnet, dass die Halterung (6) auf beiden Seiten zur Aufnahme von Mikrochipsubstraten (2) ausgebildet ist und insbesondere auf beiden Seiten Vertiefungen (10) aufweist . characterized in that the holder (6) is designed on both sides to accommodate microchip substrates (2) and in particular has recesses (10) on both sides.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022184440A1 (en) 2021-03-02 2022-09-09 Mti Gmbh Method, holder and adapter for treating microchip substrates

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130018633A (en) 2011-08-15 2013-02-25 노벨러스 시스템즈, 인코포레이티드 Lipseals and contact elements for semiconductor electroplating appratuses
JP2014210923A (en) 2009-03-18 2014-11-13 積水化学工業株式会社 Masking tape and surface treatment method for wafer
US20150068890A1 (en) 2012-04-20 2015-03-12 Jcu Corporation Substrate plating jig and plating device using same
US20150218726A1 (en) * 2011-08-15 2015-08-06 Novellus Systems, Inc. Lipseals and contact elements for semiconductor electroplating apparatuses
US20160240504A1 (en) 2015-02-17 2016-08-18 Fuji Electric Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device
WO2017007754A1 (en) * 2015-07-09 2017-01-12 Applied Materials, Inc. Wafer electroplating chuck assembly
US20170073832A1 (en) * 2015-09-11 2017-03-16 Lam Research Corporation Durable low cure temperature hydrophobic coating in electroplating cup assembly
US20170275776A1 (en) * 2016-03-24 2017-09-28 Applied Materials, Inc. Electroplating contact ring with radially offset contact fingers
US20180197729A1 (en) 2017-01-06 2018-07-12 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014210923A (en) 2009-03-18 2014-11-13 積水化学工業株式会社 Masking tape and surface treatment method for wafer
KR20130018633A (en) 2011-08-15 2013-02-25 노벨러스 시스템즈, 인코포레이티드 Lipseals and contact elements for semiconductor electroplating appratuses
US20150218726A1 (en) * 2011-08-15 2015-08-06 Novellus Systems, Inc. Lipseals and contact elements for semiconductor electroplating apparatuses
US20150068890A1 (en) 2012-04-20 2015-03-12 Jcu Corporation Substrate plating jig and plating device using same
US20160240504A1 (en) 2015-02-17 2016-08-18 Fuji Electric Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device
WO2017007754A1 (en) * 2015-07-09 2017-01-12 Applied Materials, Inc. Wafer electroplating chuck assembly
US20170073832A1 (en) * 2015-09-11 2017-03-16 Lam Research Corporation Durable low cure temperature hydrophobic coating in electroplating cup assembly
US20170275776A1 (en) * 2016-03-24 2017-09-28 Applied Materials, Inc. Electroplating contact ring with radially offset contact fingers
US20180197729A1 (en) 2017-01-06 2018-07-12 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022184440A1 (en) 2021-03-02 2022-09-09 Mti Gmbh Method, holder and adapter for treating microchip substrates

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