WO2020124804A1 - 触控显示面板及其制作方法、触控显示装置 - Google Patents

触控显示面板及其制作方法、触控显示装置 Download PDF

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WO2020124804A1
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冯校亮
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Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
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    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
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    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Definitions

  • the present application relates to the field of display, and in particular to a touch display panel, a manufacturing method thereof, and a touch display device.
  • Capacitive touch screens are widely used due to their advantages such as fast response speed, high sensitivity, and good reliability.
  • the touch display panel is divided into add-on (Addon Mode), in-cell (In-cell) and on-cell (On-cell) structures. Taking into account factors such as process and yield, currently only mass production of display devices that will use on-cell technology can be achieved.
  • the organic light-emitting device in the touch display panel is sensitive to temperature and moisture. When preparing the touch layer on the upper glass substrate of the touch display panel, it is easily restricted by factors such as environment and temperature, which places high requirements on the material and preparation process of the touch layer.
  • a touch display panel including:
  • a touch control layer is provided on the substrate, and the touch control layer includes a touch pattern layer, a first insulating layer, and a bridge layer;
  • a protective layer disposed on the touch layer, the protective layer covering the bridge layer;
  • An array substrate is disposed above the protective layer, and the array substrate includes thin film transistors distributed in an array;
  • the organic light-emitting device includes an anode, a cathode, and a light-emitting layer provided between the anode and the cathode.
  • the touch display panel includes a light-emitting area and a non-light-emitting area between adjacent light-emitting areas;
  • the organic light emitting device is disposed in the light emitting area, and the thin film transistor is disposed in the non-light emitting area.
  • the thin film transistor includes;
  • An active layer disposed on the protective layer, the active layer includes an intermediate channel region, and source and drain doped regions located at both ends of the channel region;
  • a second insulating layer provided on the active layer
  • a first metal layer is provided on the second insulating layer, and the first metal layer is provided opposite to the channel region;
  • a third insulating layer disposed on the first metal layer and the anode, and covering the first metal layer and the anode;
  • a second metal layer disposed on the third insulating layer, the second metal layer includes a source metal and a drain metal, the source metal is electrically connected to the source doped region, the drain The metal is electrically connected to the drain doped region.
  • the touch display panel further includes:
  • the anode is provided on the second insulating layer and is separated from the first metal layer;
  • a first electrode layer is disposed on the anode, the first electrode layer is disposed opposite to the anode, a first via hole for accommodating a light emitting layer is provided in the first electrode layer, the first electrode layer Electrically connected to the drain metal;
  • a pixel definition layer is provided on the second metal layer, the pixel definition layer covers the second metal layer and the third insulating layer, and the pixel definition layer includes pixel definition bodies distributed at intervals;
  • the light-emitting layer is disposed between adjacent pixel definition bodies, and is electrically connected to the anode through the first via hole;
  • the cathode is provided on the pixel definition layer and the light-emitting layer.
  • the anode is a transparent anode.
  • the touch pattern layer includes a grid-shaped driving electrode and a sensing electrode, and the driving electrode and the sensing electrode are both grid-shaped structures;
  • One of the driving electrode and the sensing electrode is bridged through the bridge layer.
  • the orthographic projection pattern of the light-emitting layer on the touch pattern layer is located in the grid of the touch pattern layer.
  • both the driving electrode and the sensing electrode are diamond-shaped grid structures.
  • the touch display panel further includes a first encapsulation layer and a second encapsulation layer;
  • the first encapsulation layer is provided between the protective layer and the array substrate;
  • the second encapsulation layer is provided on the cathode.
  • a method for manufacturing a touch display panel includes the following steps:
  • the touch layer includes a touch pattern layer, a first insulating layer, and a bridge layer;
  • the array substrate includes thin-film transistors distributed in an array.
  • the organic light-emitting device includes an anode, a cathode, and light emitted between the anode and the cathode.
  • Floor
  • the touch pattern layer includes a grid-shaped driving electrode and a sensing electrode, and the driving electrode and the sensing electrode are both grid-shaped structures;
  • the orthographic projection pattern of the light-emitting layer on the touch pattern layer is located in the grid of the touch pattern layer.
  • a touch display device which includes a touch display panel and a polarizer.
  • the touch display panel includes:
  • a touch control layer is provided on the substrate, and the touch control layer includes a touch pattern layer, a first insulating layer, and a bridge layer;
  • a protective layer disposed on the touch layer, the protective layer covering the bridge layer;
  • An array substrate is disposed above the protective layer, and the array substrate includes thin film transistors distributed in an array;
  • the organic light-emitting device includes an anode, a cathode, and a light-emitting layer provided between the anode and the cathode.
  • the touch display panel includes a light-emitting area and a non-light-emitting area between adjacent light-emitting areas;
  • the organic light emitting device is disposed in the light emitting area, and the thin film transistor is disposed in the non-light emitting area.
  • the thin film transistor includes:
  • An active layer disposed on the protective layer, the active layer includes an intermediate channel region, and source and drain doped regions located at both ends of the channel region;
  • a second insulating layer provided on the active layer
  • a first metal layer is provided on the second insulating layer, and the first metal layer is provided opposite to the channel region;
  • a third insulating layer disposed on the first metal layer and the anode, and covering the first metal layer and the anode;
  • a second metal layer disposed on the third insulating layer, the second metal layer includes a source metal and a drain metal, the source metal is electrically connected to the source doped region, the drain The metal is electrically connected to the drain doped region.
  • the touch display device of the present application further includes:
  • the anode is provided on the second insulating layer and is separated from the first metal layer;
  • a first electrode layer is disposed on the anode, the first electrode layer is disposed opposite to the anode, a first via hole for accommodating a light emitting layer is provided in the first electrode layer, the first electrode layer Electrically connected to the drain metal;
  • a pixel definition layer is provided on the second metal layer, the pixel definition layer covers the second metal layer and the third insulating layer, and the pixel definition layer includes pixel definition bodies distributed at intervals;
  • the light-emitting layer is disposed between adjacent pixel definition bodies, and is electrically connected to the anode through the first via hole;
  • the cathode is provided on the pixel definition layer and the light-emitting layer.
  • the anode is a transparent anode.
  • the touch pattern layer includes a driving electrode and a sensing electrode, and the driving electrode and the sensing electrode are both grid-shaped structures;
  • One of the driving electrode and the sensing electrode is bridged through the bridge layer.
  • the orthographic projection pattern of the light-emitting layer on the touch pattern layer is located in the grid of the touch pattern layer.
  • the driving electrode and the sensing electrode are both diamond-shaped grid-like structures.
  • the touch display panel further includes a first encapsulation layer and a second encapsulation layer;
  • the first encapsulation layer is provided between the protective layer and the array substrate;
  • the second encapsulation layer is provided on the cathode.
  • the touch layer is provided between the substrate and the organic light-emitting device.
  • the process of the touch layer will not be affected by the organic light-emitting device, thereby improving Product yield.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a touch display panel provided by the first embodiment of this application.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a touch layer and a substrate provided by a second embodiment of this application;
  • FIG. 3 is a top view of electrodes of a touch layer provided by a third embodiment of the present application.
  • FIG. 4 is a schematic diagram of the positions of the electrode patterns of the touch layer and the light emitting layer provided by the third embodiment of the present application;
  • FIG. 5 is a schematic flowchart of a method for manufacturing a touch display panel according to a fourth embodiment of the present application.
  • the present application provides a touch display panel, a manufacturing method, and a touch display device, to solve the technical problem that the organic light emitting device in the existing touch display panel interferes with the preparation of the touch layer.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a touch display panel 100 provided by a first embodiment of the present application.
  • a touch display panel 100 including a substrate 11, a touch layer 12, a protective layer 13, an array substrate, and an organic light emitting device 15.
  • the preparation material of the substrate 11 includes one of polyimide and organic resin.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the touch layer 12 and the substrate 11 provided in the second embodiment of the present application.
  • FIG. 3 is a top view of the electrodes of the touch layer 12 provided in the third embodiment of the present application.
  • the touch layer 12 is disposed on the substrate 11.
  • the touch layer 12 includes a touch layer 121, a first insulating layer 123 and a bridge layer 122.
  • the touch layer 121 includes a sensing electrode and a driving electrode, and the sensing electrode and the driving electrode are both grid-shaped structures;
  • one of the driving electrode and the sensing electrode is bridged by the bridge layer 122.
  • Both the driving electrode and the sensing electrode are made of conductive metal.
  • the preparation material of the first insulating layer 123 may be either organic resin, silicon nitride or silicon oxide.
  • the bridge layer 122 includes a bridging metal.
  • the first insulating layer 123 is provided with a via hole for electrically connecting the driving electrode or the sensing electrode to the bridge layer 122.
  • the sensing electrode and the driving electrode are disposed in the same metal layer, the sensing electrode and the driving electrode are insulated from each other, but when the two need to "cross", the bridge layer 122 is needed.
  • the driving electrode and the sensing electrode are both diamond-shaped grid-like structures.
  • the protective layer 13 is disposed on the touch layer 121 and the bridge layer 122, and the preparation material of the protective layer 13 includes an organic resin; meanwhile, the protective layer 13 can function to flatten the bridge layer 122 The role.
  • the upper and lower relationships between the touch layer 121 and the bridge layer 122 are not specifically limited, and may be limited according to actual conditions.
  • the required processes are not limited by low temperature, so high temperature preparation can be used, which can enhance the reliability of the process.
  • the array substrate is disposed on the protective layer 13, and the array substrate includes thin film transistors 14 distributed in an array.
  • the organic light emitting device 15 is disposed above the protective layer 13.
  • the organic light emitting device 15 includes an anode 151, a cathode 153, and a light emitting layer 152 disposed between the anode 151 and the cathode 153.
  • the organic light emitting device 15 further includes a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.
  • the hole injection layer and the hole transport layer are disposed between the anode 151 and the light emitting layer 152, and the electron transport layer and the electron injection layer are disposed between the anode 151 and the light emitting layer 152 between.
  • the touch display panel 100 includes a light-emitting area and a non-light-emitting area between adjacent light-emitting areas;
  • the organic light emitting device 15 is disposed in the light emitting area, and the thin film transistor 14 is disposed in the non-light emitting area.
  • the thin film transistor 14 includes:
  • An active layer 141 is provided on the protective layer 13, and the active layer 141 includes an intermediate channel region, and source and drain doped regions located at both ends of the channel region;
  • the second insulating layer 142 is disposed on the active layer 141;
  • the first metal layer 143 is disposed on the second insulating layer 142, and the first metal layer 143 is disposed opposite to the channel region;
  • a third insulating layer is provided on the first metal layer 143 and the anode 151, and covers the first metal layer 143 and the anode 151;
  • a second metal layer is provided on the third insulating layer.
  • the second metal layer includes a source metal 146 and a drain metal 145.
  • the source metal 146 is electrically connected to the source doped region.
  • the drain metal 145 is electrically connected to the drain doped region.
  • the touch display panel 100 further includes a second via hole and a third via hole, and the second via hole and the third via hole are both disposed in the second insulating layer 142 and the third insulating layer
  • the drain metal 145 is electrically connected to the drain doped region through the second via
  • the source metal 146 is electrically connected to the source doped region through the third via.
  • the first metal layer 143 includes a gate metal.
  • the touch display panel 100 further includes a barrier layer 18 and a first buffer layer 19 disposed between the active layer 141 and the protective layer 13;
  • the barrier layer 18 is disposed on the protective layer 13, and the preparation material of the barrier layer 18 includes silicon nitride.
  • the first buffer layer 19 is disposed on the barrier layer 18, and the preparation material of the first buffer layer 19 includes one of silicon nitride, silicon oxide, and silicon oxynitride.
  • the touch display panel 100 further includes:
  • the anode 151 is disposed on the second insulating layer 142 and is separated from the first metal layer 143;
  • the first electrode layer 22 is disposed on the anode 151, the first electrode layer 22 is disposed opposite to the anode 151, and the first electrode layer 22 is provided with a first via hole for accommodating the light emitting layer 152, The first electrode layer 22 is electrically connected to the drain metal 145;
  • a pixel definition layer 16 is provided on the second metal layer, the pixel definition layer 16 covers the second metal layer and the third insulating layer, and the pixel definition layer 16 includes pixel definition bodies distributed at intervals;
  • the light emitting layer 152 is disposed between adjacent pixel defining bodies, and is electrically connected to the anode 151 through the first via hole;
  • the cathode 153 is provided on the pixel definition layer 16 and the light-emitting layer 152.
  • the touch display panel 100 further includes a fourth via hole, the fourth via hole is disposed in the first buffer layer 19, and the first electrode layer 22 passes through the fourth via hole and the source electrode
  • the metal 146 is electrically connected.
  • the thin film transistor 14 is disposed within the coverage of the pixel definition layer 16.
  • the anode 151 is a transparent anode, and the preparation material of the anode 151 includes indium zinc oxide, and the indium zinc oxide is a transparent metal material.
  • the light emitted by the light-emitting layer 152 passes through the anode 151 and is emitted.
  • the anode 151 made of indium zinc oxide has a higher transmittance than the cathode 153, which is beneficial to enhance the touch display panel 100 The brightness.
  • the metal layer and the light emitting layer 152 in the thin film transistor 14 are basically disposed in different areas on the same horizontal plane, the structure of the thin film transistor 14 can be prevented from affecting the light emission of the light emitting layer 152, which is beneficial to enhance touch The brightness of the display panel 100.
  • FIG. 4 is a schematic diagram of the positions of the electrode patterns of the touch layer 12 and the light-emitting layer 152 according to the third embodiment of the present application.
  • the orthographic projection pattern of the light emitting layer 152 on the touch layer 121 is located in the grid of the touch layer 121 . That is, the light emitted from the light-emitting layer 152 is emitted from the grid gap of the touch layer 121, so that the structure of the touch layer 12 does not block the light emitted.
  • the touch display panel 100 further includes a first encapsulation layer 171 and a second encapsulation layer 172;
  • the first encapsulation layer 171 is disposed between the protective layer 13 and the array substrate;
  • the second encapsulation layer 172 is disposed on the cathode 153.
  • the double encapsulation layer structure design of the touch display panel 100 is more conducive to enhancing the barrier of the organic light emitting device 15 to water and oxygen, and can prolong the service life of the organic light emitting device 15.
  • the touch display panel further includes a second buffer layer 20 disposed on the second encapsulation layer, and a flexible layer 21 disposed on the second buffer layer 20.
  • the flexible layer 21 is equivalent to the substrate at the other end of the touch display panel.
  • the touch display panel 100 further includes a polarizer and a cover plate;
  • the polarizer and the cover plate are both disposed on the side of the substrate 11 facing away from the touch control layer 12, and the polarizer is disposed between the cover plate and the substrate 11.
  • FIG. 5 is a schematic flowchart of a method for manufacturing the touch display panel 100 according to the fourth embodiment of the present application.
  • a method for manufacturing the touch display panel 100 includes the following steps:
  • the touch layer 12 includes a touch layer 121, a first insulating layer 123, and a bridge layer 122 ;
  • An array substrate and an organic light emitting device 15 are formed on the protective layer 13, the array substrate includes an array of thin film transistors 14, the organic light emitting device 15 includes an anode 151, a cathode 153, and the anode 151 and The light-emitting layer 152 between the cathodes 153;
  • the above embodiment adopts a transfer-like scheme mode, and the touch layer 12 is preferentially prepared, and then the organic light-emitting device 15 is prepared. Therefore, the preparation process of the touch layer 12 is not limited by the organic light-emitting device 15 and is beneficial to improve the yield And reliability.
  • the touch layer 121 includes grid-shaped driving electrodes and sensing electrodes
  • the orthographic projection pattern of the light-emitting layer 152 on the touch layer 121 is located in the grid of the touch layer 121.
  • the touch layer is provided between the substrate and the organic light-emitting device.
  • the process of the touch layer will not be affected by the organic light-emitting device, thereby improving Product yield.

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Abstract

本申请提出了一种触控显示面板及制作方法、触控显示装置。所述触控显示面板包括衬底、触控层、保护层、阵列基板和有机发光器件。所述触控层包括触控图案层、第一绝缘层和桥接层。所述有机发光器件包括阳极、阴极以及设置在所述阳极和所述阴极之间的发光层。

Description

触控显示面板及其制作方法、触控显示装置 技术领域
本申请涉及显示领域，特别涉及一种触控显示面板及其制作方法、触控显示装置。
 背景技术
随着信息时代的发展及生活节奏的加快，触控技术由于其人性化的设计及简单快捷的输入等特点，已逐渐取代传统的鼠标和键盘，广泛地应用到各种电子产品中，其中，电容式触摸屏由于具有反应速度快，灵敏度高，可靠性佳等优点而被广泛使用。
根据触控感测层在显示面板中的设置方式不同，触控显示面板分为外挂式(Addon Mode)、内嵌式(In-cell)和外嵌式(On-cell)等结构。考虑到工艺以及良品率等因素，目前仅能实现将采用on-cell技术的显示装置的量产。
由于触控显示面板中有机发光器件对温度和水汽比较敏感。在触控显示面板的上玻璃基板上制备触控层时容易受到环境和温度等因素的制约，这对触控层的材料和制备工艺提出了较高的要求。
因此，目前亟需一种显示装置及制作方法、触控显示装置以解决上述问题。
 技术问题
现有触控显示面板中有机发光器件对触控层的制备产生干扰的技术问题。
 技术解决方案
为实现上述目的，本申请提供的技术方案如下：
根据本申请的一个方面，提供了一种触控显示面板，包括：
衬底；
触控层，设置在所述衬底上，所述触控层包括触控图案层、第一绝缘层和桥接层；
保护层，设置在所述触控层上，所述保护层覆盖所述桥接层；
阵列基板，设置在所述保护层之上，所述阵列基板包括阵列分布的薄膜晶体管；
有机发光器件，设置在所述保护层之上，所述有机发光器件包括阳极、阴极以及设置在所述阳极和所述阴极之间的发光层。
在本申请的触控显示面板中，所述触控显示面板包括发光区域以及位于相邻所述发光区域之间的非发光区域；
其中，所述有机发光器件设置在所述发光区域，所述薄膜晶体管设置在所述非发光区域。
在本申请的触控显示面板中，所述薄膜晶体管包括；
有源层，设置在所述保护层上，所述有源层包括中间的沟道区以及位于所述沟道区两端的源极掺杂区和漏极掺杂区；
第二绝缘层，设置在所述有源层上；
第一金属层，设置在第二绝缘层上，所述第一金属层与所述沟道区相对设置；
第三绝缘层，设置在所述第一金属层和所述阳极上，并覆盖所述第一金属层和所述阳极；
第二金属层，设置在所述第三绝缘层上，所述第二金属层包括源极金属和漏极金属，所述源极金属与所述源极掺杂区电连接，所述漏极金属与所述漏极掺杂区电连接。
在本申请的触控显示面板中，所述触控显示面板还包括：
所述阳极，设置在所述第二绝缘层上，并与所述第一金属层分离；
第一电极层，设置在所述阳极上，所述第一电极层与所述阳极相对设置，所述第一电极层内设置有用以容纳发光层的第一过孔，所述第一电极层与所述漏极金属电连接；
像素定义层，设置在所述第二金属层上，所述像素定义层覆盖所述第二金属层和所述第三绝缘层，所述像素定义层包括间隔分布的像素定义体；
所述发光层，设置在相邻所述像素定义体之间，并通过所述第一过孔与所述阳极电连接；
所述阴极，设置在所述像素定义层和所述发光层上。
在本申请的触控显示面板中，所述阳极为透明阳极。
在本申请的触控显示面板中，所述触控图案层包括网格状的驱动电极和感应电极，所述驱动电极和所述感应电极均为网格状结构；
所述驱动电极和所述感应电极中的其中一者通过所述桥接层跨接。
在本申请的触控显示面板中，所述发光层在所述触控图案层上的正投影图案位于所述触控图案层的网格内。
在本申请的触控显示面板中，所述驱动电极和所述感应电极均为菱形网格状结构。
在本申请的触控显示面板中，所述触控显示面板还包括第一封装层和第二封装层；
所述第一封装层设置在所述保护层和所述阵列基板之间；
所述第二封装层设置在所述阴极上。
根据本申请的另一个方面，还提供了一种触控显示面板的制作方法，所述触控显示面板的制作方法包括以下步骤：
S10、提供基底，在所述基底上形成衬底，并在所述衬底上形成触控层，所述触控层包括触控图案层、第一绝缘层和桥接层；
S20、在所述触控层上形成保护层；
S30、在所述保护层上形成阵列基板和有机发光器件，所述阵列基板包括阵列分布的薄膜晶体管，所述有机发光器件包括阳极、阴极以及设置在所述阳极和所述阴极之间的发光层；
S40、剥离所述基底。
在本申请的触控显示面板的制作方法中，所述触控图案层包括网格状的驱动电极和感应电极，所述驱动电极和所述感应电极均为网格状结构；
其中，所述发光层在所述触控图案层上的正投影图案位于所述触控图案层的网格内。
根据本申请的又一个方面，还提供了一种触控显示装置，其包括触控显示面板及偏光片，所述触控显示面板包括：
衬底；
触控层，设置在所述衬底上，所述触控层包括触控图案层、第一绝缘层和桥接层；
保护层，设置在所述触控层上，所述保护层覆盖所述桥接层；
阵列基板，设置在所述保护层之上，所述阵列基板包括阵列分布的薄膜晶体管；
有机发光器件，设置在所述保护层之上，所述有机发光器件包括阳极、阴极以及设置在所述阳极和所述阴极之间的发光层。
在本申请的触控显示装置中，所述触控显示面板包括发光区域以及位于相邻所述发光区域之间的非发光区域；
其中，所述有机发光器件设置在所述发光区域，所述薄膜晶体管设置在所述非发光区域。
在本申请的触控显示装置中，所述薄膜晶体管包括；
有源层，设置在所述保护层上，所述有源层包括中间的沟道区以及位于所述沟道区两端的源极掺杂区和漏极掺杂区；
第二绝缘层，设置在所述有源层上；
第一金属层，设置在第二绝缘层上，所述第一金属层与所述沟道区相对设置；
第三绝缘层，设置在所述第一金属层和所述阳极上，并覆盖所述第一金属层和所述阳极；
第二金属层，设置在所述第三绝缘层上，所述第二金属层包括源极金属和漏极金属，所述源极金属与所述源极掺杂区电连接，所述漏极金属与所述漏极掺杂区电连接。
在本申请的触控显示装置中，还包括：
所述阳极，设置在所述第二绝缘层上，并与所述第一金属层分离；
第一电极层，设置在所述阳极上，所述第一电极层与所述阳极相对设置，所述第一电极层内设置有用以容纳发光层的第一过孔，所述第一电极层与所述漏极金属电连接；
像素定义层，设置在所述第二金属层上，所述像素定义层覆盖所述第二金属层和所述第三绝缘层，所述像素定义层包括间隔分布的像素定义体；
所述发光层，设置在相邻所述像素定义体之间，并通过所述第一过孔与所述阳极电连接；
所述阴极，设置在所述像素定义层和所述发光层上。
在本申请的触控显示装置中，所述阳极为透明阳极。
在本申请的触控显示装置中，所述触控图案层包括驱动电极和感应电极，所述驱动电极和所述感应电极均为网格状结构；
所述驱动电极和所述感应电极中的其中一者通过所述桥接层跨接。
在本申请的触控显示装置中，所述发光层在所述触控图案层上的正投影图案位于所述触控图案层的网格内。
在本申请的触控显示装置中，所述驱动电极和所述感应电极均为菱形网格状结构。
在本申请的触控显示装置中，所述触控显示面板还包括第一封装层和第二封装层；
所述第一封装层设置在所述保护层和所述阵列基板之间；
所述第二封装层设置在所述阴极上。
 有益效果
有益效果：本申请将触控层设置在衬底和有机发光器件之间，通过先制备触控层，再制备有机发光器件，使得触控层的工艺不会受到有机发光器件的影响，进而提升了产品良率。
 附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请第一实施例提供的触控显示面板的剖面图；
图2为本申请第二实施例提供的触控层和衬底的剖面图；
图3为本申请第三实施例提供的触控层的电极俯视图；
图4为本申请第三施例提供的触控层的电极图案与发光层的位置示意图；
图5为本申请第四施例提供的触控显示面板的制作方法的流程示意图.
 本发明的实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本申请提供了一种触控显示面板及制作方法、触控显示装置，以解决现有触控显示面板中有机发光器件对触控层的制备产生干扰的技术问题。
请参阅图1，图1为本申请第一实施例提供的触控显示面板100的剖面图。
根据本申请的一个方面，提供了一种触控显示面板100，包括衬底11、触控层12、保护层13、阵列基板和有机发光器件15。
所述衬底11的制备材料包括聚酰亚胺和有机树脂中的其中一者。
请参阅图2，图2为本申请第二实施例提供的触控层12和衬底11的剖面图。
请参阅图3，图3为本申请第三实施例提供的触控层12的电极俯视图。
所述触控层12设置在所述衬底11上，所述触控层12包括触控层121、第一绝缘层123和桥接层122。
在一种实施例中，所述触控层121包括感应电极和驱动电极，所述感应电极和所述驱动电极均为网格状结构；
其中，所述驱动电极和所述感应电极中的其中一者通过所述桥接层122跨接。
所述驱动电极和所述感应电极均采用导电金属制备。
所述第一绝缘层123的制备材料既可以为有机树脂，也可以为氮化硅和氧化硅。
所述桥接层122包括跨接金属。
所述第一绝缘层123内设置有用以将驱动电极或感应电极与所述桥接层122电连接的过孔。
这是由于当感应电极和驱动电极设置在同一金属层时，感应电极与驱动电极相互绝缘设计，但是当两者需要发生“跨越”时，需要借助桥接层122实现。
在一种实施例中，所述驱动电极和所述感应电极均为菱形网格状结构。
所述保护层13设置在所述触控层121和所述桥接层122上，所述保护层13的制备材料包括有机树脂；同时，所述保护层13能够起到平坦化所述桥接层122的作用。
在一种实施例中，所述触控层121和所述桥接层122的上下关系不做具体限制，具体可根据实际情况进行限定。
制备上述结构的触控层12，所需的工艺均没有低温的限制，因此可采用高温制备，能够提升工艺的信赖性。
所述阵列基板设置在所述保护层13上，所述阵列基板包括阵列分布的薄膜晶体管14。
所述有机发光器件15，设置在所述保护层13之上，所述有机发光器件15包括阳极151、阴极153以及设置在所述阳极151和所述阴极153之间的发光层152。
在一种实施例中，所述有机发光器件15还包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层。
所述空穴注入层和空穴传输层设置在所述阳极151和所述发光层152之间，所述电子传输层和所述电子注入层设置在所述阳极151和所述发光层152之间。
在一种实施例中，所述触控显示面板100包括发光区域以及位于相邻发光区域之间的非发光区域；
其中，所述有机发光器件15设置在所述发光区域，所述薄膜晶体管14设置在所述非发光区域。
在一种实施例中，薄膜晶体管14包括：
有源层141，设置在所述保护层13上，所述有源层141包括中间的沟道区以及位于所述沟道区两端的源极掺杂区和漏极掺杂区；
第二绝缘层142，设置在所述有源层141上；
第一金属层143，设置在第二绝缘层142上，所述第一金属层143与所述沟道区相对设置；
第三绝缘层，设置在所述第一金属层143和所述阳极151上，并覆盖所述第一金属层143和所述阳极151；
第二金属层，设置在所述第三绝缘层上，所述第二金属层包括源极金属146和漏极金属145，所述源极金属146与所述源极掺杂区电连接，所述漏极金属145与所述漏极掺杂区电连接。
其中，所述触控显示面板100还包括第二过孔和第三过孔，所述第二过孔和所述第三过孔均设置在第二绝缘层142和所述第三绝缘层内，所述漏极金属145通过所述第二过孔与所述漏极掺杂区电连接，所述源极金属146通过所述第三过孔与所述源极掺杂区电连接。
在一种实施例中，所述第一金属层143包括栅极金属。
在一种实施例中，所述触控显示面板100还包括设置在所述有源层141与所述保护层13之间的阻隔层18和第一缓冲层19；
其中，所述阻隔层18设置在所述保护层13之上，所述阻隔层18的制备材料包括氮化硅。
所述第一缓冲层19设置在所述阻隔层18上，所述第一缓冲层19的制备材料包括氮化硅、氧化硅和氮氧化硅的其中一者。
在一种实施例中，所述触控显示面板100还包括：
所述阳极151，设置在所述第二绝缘层142上，并与所述第一金属层143分离；
第一电极层22，设置在所述阳极151上，所述第一电极层22与所述阳极151相对设置，所述第一电极层22内设置有用以容纳发光层152的第一过孔，所述第一电极层22与所述漏极金属145电连接；
像素定义层16，设置在所述第二金属层上，所述像素定义层16覆盖所述第二金属层和所述第三绝缘层，所述像素定义层16包括间隔分布的像素定义体；
所述发光层152，设置在相邻所述像素定义体之间，并通过所述第一过孔与所述阳极151电连接；
所述阴极153，设置在所述像素定义层16和所述发光层152上。
其中，所述触控显示面板100还包括第四过孔，所述第四过孔设置在所述第一缓冲层19内，所述第一电极层22通过第四过孔与所述源极金属146电连接。
在一种实施例中，所述薄膜晶体管14设置在所述像素定义层16的覆盖范围内。
在一种实施例中，所述阳极151为透明阳极，所述阳极151的制备材料包括氧化铟锌，所述氧化铟锌为透明金属材料。
在一种实施例中，所述发光层152发出的光线穿透阳极151射出，采用氧化铟锌制备的阳极151相较于阴极153具有更高的透过率，有利于提升触控显示面板100的亮度。
再者，在本申请中，由于薄膜晶体管14中金属层与发光层152基本设置在同一水平面的不同区域，因此能够避免薄膜晶体管14的结构对发光层152的出光产生影响，有利于提升触控显示面板100的亮度。
请参阅图4，图4为本申请第三施例提供的触控层12的电极图案与发光层152的位置示意图。
在一种实施例中，为了避免触控层12对发光层152的出光产生影响，所述发光层152在所述触控层121上的正投影图案位于所述触控层121的网格内。即所述发光层152的出光从所述触控层121的网格空隙内射出，从而使得触控层12的结构不会对出光产生遮挡。
在一种实施例中，所述触控显示面板100还包括第一封装层171和第二封装层172；
所述第一封装层171设置在所述保护层13和所述阵列基板之间；
所述第二封装层172设置在所述阴极153上。
通过所述触控显示面板100的双封装层结构设计，更有利于提升有机发光器件15对水氧的阻隔，能够延长有机发光器件15的使用寿命。
在一种实施例中，所述触控显示面板还包括设置在所述第二封装层上的第二缓冲层20，以及设置在所述第二缓冲层20上的柔性层21。
所述柔性层21相当于所述触控显示面板另一端的衬底。
在一种实施例中，所述触控显示面板100还包括偏光片和盖板；
所述偏光片和所述盖板均设置在所述衬底11背离所述触控层12的一侧，且所述偏光片设置在所述盖板和所述衬底11之间。
请参阅图5，图5为本申请第四施例提供的触控显示面板100的制作方法的流程示意图。
根据本申请的另一个方面，还提供了一种触控显示面板100的制作方法，所述触控显示面板100的制作方法包括以下步骤：
S10、提供基底，在所述基底上形成衬底11，并在所述衬底11上形成触控层12，所述触控层12包括触控层121、第一绝缘层123和桥接层122；
S20、在所述触控层12上形成保护层13；
S30、在所述保护层13上形成阵列基板和有机发光器件15，所述阵列基板包括阵列分布的薄膜晶体管14，所述有机发光器件15包括阳极151、阴极153以及设置在所述阳极151和所述阴极153之间的发光层152；
S40、剥离所述基底。
上述实施例采用类似转印的方案模式，优先制备触控层12，再制备有机发光器件15，因此触控层12的制备工艺不会受到有机发光器件15的限制，有利于提升产品的良率和信赖性。
在一种实施例中，所述触控层121包括网格状的驱动电极和感应电极；
其中，所述发光层152在所述触控层121上的正投影图案位于所述触控层121的网格内。
有益效果：本申请将触控层设置在衬底和有机发光器件之间，通过先制备触控层，再制备有机发光器件，使得触控层的工艺不会受到有机发光器件的影响，进而提升了产品良率。
综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (20)

  1. 一种触控显示面板，其包括：
    衬底；
    触控层，设置在所述衬底上，所述触控层包括触控图案层、第一绝缘层和桥接层；
    保护层，设置在所述触控层上，所述保护层覆盖所述桥接层；
    阵列基板，设置在所述保护层之上，所述阵列基板包括阵列分布的薄膜晶体管；
    有机发光器件，设置在所述保护层之上，所述有机发光器件包括阳极、阴极以及设置在所述阳极和所述阴极之间的发光层。
  2. 根据权利要求1所述的触控显示面板，其中，所述触控显示面板包括发光区域以及位于相邻所述发光区域之间的非发光区域；
    其中，所述有机发光器件设置在所述发光区域，所述薄膜晶体管设置在所述非发光区域。
  3. 根据权利要求2所述的触控显示面板，其中，所述薄膜晶体管包括；
    有源层，设置在所述保护层上，所述有源层包括中间的沟道区以及位于所述沟道区两端的源极掺杂区和漏极掺杂区；
    第二绝缘层，设置在所述有源层上；
    第一金属层，设置在第二绝缘层上，所述第一金属层与所述沟道区相对设置；
    第三绝缘层，设置在所述第一金属层和所述阳极上，并覆盖所述第一金属层和所述阳极；
    第二金属层，设置在所述第三绝缘层上，所述第二金属层包括源极金属和漏极金属，所述源极金属与所述源极掺杂区电连接，所述漏极金属与所述漏极掺杂区电连接。
  4. 根据权利要求3所述的触控显示面板，其中，所述触控显示面板还包括：
    所述阳极，设置在所述第二绝缘层上，并与所述第一金属层分离；
    第一电极层，设置在所述阳极上，所述第一电极层与所述阳极相对设置，所述第一电极层内设置有用以容纳发光层的第一过孔，所述第一电极层与所述漏极金属电连接；
    像素定义层，设置在所述第二金属层上，所述像素定义层覆盖所述第二金属层和所述第三绝缘层，所述像素定义层包括间隔分布的像素定义体；
    所述发光层，设置在相邻所述像素定义体之间，并通过所述第一过孔与所述阳极电连接；
    所述阴极，设置在所述像素定义层和所述发光层上。
  5. 根据权利要求4所述的触控显示面板，其中，所述阳极为透明阳极。
  6. 根据权利要求1所述的触控显示面板，其中，所述触控图案层包括驱动电极和感应电极，所述驱动电极和所述感应电极均为网格状结构；
    所述驱动电极和所述感应电极中的其中一者通过所述桥接层跨接。
  7. 根据权利要求6所述的触控显示面板，其中，所述发光层在所述触控图案层上的正投影图案位于所述触控图案层的网格内。
  8. 根据权利要求6所述触的控显示面板，其中，所述驱动电极和所述感应电极均为菱形网格状结构。
  9. 根据权利要求4所述的触控显示面板，其中，所述触控显示面板还包括第一封装层和第二封装层；
    所述第一封装层设置在所述保护层和所述阵列基板之间；
    所述第二封装层设置在所述阴极上。
  10. 一种触控显示面板的制作方法，其包括以下步骤：
    S10、提供基底，在所述基底上形成衬底，并在所述衬底上形成触控层，所述触控层包括触控图案层、第一绝缘层和桥接层；
    S20、在所述触控层上形成保护层；
    S30、在所述保护层上形成阵列基板和有机发光器件，所述阵列基板包括阵列分布的薄膜晶体管，所述有机发光器件包括阳极、阴极以及设置在所述阳极和所述阴极之间的发光层；
    S40、剥离所述基底。
  11. 根据权利要求10所述的触控显示面板的制作方法，其中，所述触控图案层包括网格状的驱动电极和感应电极，所述驱动电极和所述感应电极均为网格状结构；
    其中，所述发光层在所述触控图案层上的正投影图案位于所述触控图案层的网格内。
  12. 一种触控显示装置，其包括触控显示面板及偏光片，所述触控显示面板包括：
    衬底；
    触控层，设置在所述衬底上，所述触控层包括触控图案层、第一绝缘层和桥接层；
    保护层，设置在所述触控层上，所述保护层覆盖所述桥接层；
    阵列基板，设置在所述保护层之上，所述阵列基板包括阵列分布的薄膜晶体管；
    有机发光器件，设置在所述保护层之上，所述有机发光器件包括阳极、阴极以及设置在所述阳极和所述阴极之间的发光层。
  13. 根据权利要求12所述的触控显示装置，其中，所述触控显示面板包括发光区域以及位于相邻所述发光区域之间的非发光区域；
    其中，所述有机发光器件设置在所述发光区域，所述薄膜晶体管设置在所述非发光区域。
  14. 根据权利要求13所述的触控显示装置，其中，所述薄膜晶体管包括；
    有源层，设置在所述保护层上，所述有源层包括中间的沟道区以及位于所述沟道区两端的源极掺杂区和漏极掺杂区；
    第二绝缘层，设置在所述有源层上；
    第一金属层，设置在第二绝缘层上，所述第一金属层与所述沟道区相对设置；
    第三绝缘层，设置在所述第一金属层和所述阳极上，并覆盖所述第一金属层和所述阳极；
    第二金属层，设置在所述第三绝缘层上，所述第二金属层包括源极金属和漏极金属，所述源极金属与所述源极掺杂区电连接，所述漏极金属与所述漏极掺杂区电连接。
  15. 根据权利要求14所述的触控显示装置，其中，所述触控显示面板还包括：
    所述阳极，设置在所述第二绝缘层上，并与所述第一金属层分离；
    第一电极层，设置在所述阳极上，所述第一电极层与所述阳极相对设置，所述第一电极层内设置有用以容纳发光层的第一过孔，所述第一电极层与所述漏极金属电连接；
    像素定义层，设置在所述第二金属层上，所述像素定义层覆盖所述第二金属层和所述第三绝缘层，所述像素定义层包括间隔分布的像素定义体；
    所述发光层，设置在相邻所述像素定义体之间，并通过所述第一过孔与所述阳极电连接；
    所述阴极，设置在所述像素定义层和所述发光层上。
  16. 根据权利要求15所述的触控显示装置，其中，所述阳极为透明阳极。
  17. 根据权利要求12所述的触控显示装置，其中，所述触控图案层包括驱动电极和感应电极，所述驱动电极和所述感应电极均为网格状结构；
    所述驱动电极和所述感应电极中的其中一者通过所述桥接层跨接。
  18. 根据权利要求17所述的触控显示装置，其中，所述发光层在所述触控图案层上的正投影图案位于所述触控图案层的网格内。
  19. 根据权利要求17所述的触控显示装置，其中，所述驱动电极和所述感应电极均为菱形网格状结构。
  20. 根据权利要求15所述的触控显示装置，其中，所述触控显示面板还包括第一封装层和第二封装层；
    所述第一封装层设置在所述保护层和所述阵列基板之间；
    所述第二封装层设置在所述阴极上。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109407893B (zh) * 2018-12-17 2021-01-01 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控显示面板及其制作方法
CN110187798A (zh) 2019-06-05 2019-08-30 京东方科技集团股份有限公司 一种触控显示基板及其制作方法、触控显示装置
CN110231888B (zh) * 2019-06-24 2022-05-03 信利（惠州）智能显示有限公司 触控显示模组及触控显示屏
CN110262694B (zh) * 2019-06-24 2023-03-07 信利（惠州）智能显示有限公司 触控显示模组及触控显示屏
CN110459547A (zh) * 2019-06-24 2019-11-15 福建华佳彩有限公司 一种面板显示器及其制备方法
CN110165085B (zh) * 2019-06-27 2020-09-11 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 一种显示面板及其制备方法
CN110489007B (zh) * 2019-07-24 2021-01-15 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控面板及有机发光显示器件
CN110580113A (zh) 2019-08-09 2019-12-17 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种oled显示面板
CN110658949B (zh) 2019-08-29 2021-08-24 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种触控显示面板及其制备方法和触控显示装置
US11508785B2 (en) 2020-04-08 2022-11-22 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Display panel and display device for improving touch effects
CN111475051B (zh) * 2020-04-08 2021-11-02 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及显示装置
CN112068732B (zh) * 2020-09-07 2024-01-23 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及显示装置
CN112838113B (zh) * 2021-01-22 2023-05-09 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示装置
CN119781636A (zh) * 2023-10-07 2025-04-08 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板和电子设备

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102468324A (zh) * 2010-10-28 2012-05-23 三星移动显示器株式会社 有机发光显示设备及其制造方法
KR20140062341A (ko) * 2012-11-14 2014-05-23 엘지디스플레이 주식회사 인셀-터치 타입 유기발광다이오드 표시장치
CN105742330A (zh) * 2016-03-16 2016-07-06 京东方科技集团股份有限公司 一种有机发光显示面板及其制作方法、显示装置
CN108664168A (zh) * 2018-05-14 2018-10-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种柔性基板及其制备方法、触控显示面板
CN108693994A (zh) * 2018-03-29 2018-10-23 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控结构、oled显示触控面板及触控显示设备
CN109407893A (zh) * 2018-12-17 2019-03-01 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控显示面板及其制作方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6724012B2 (en) * 2000-12-14 2004-04-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display matrix with pixels having sensor and light emitting portions
CN101154677A (zh) * 2006-09-27 2008-04-02 群康科技(深圳)有限公司 主动矩阵式有机电激发光显示器及其制造方法
US8368661B2 (en) * 2009-07-13 2013-02-05 Apple Inc. Method for fabricating touch sensor panels
KR101904012B1 (ko) * 2011-09-30 2018-10-04 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR101850951B1 (ko) * 2011-12-22 2018-04-23 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널 일체형 표시장치
CN103647028B (zh) * 2013-12-19 2016-11-09 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制作方法、显示装置
CN104777935B (zh) * 2015-04-13 2017-09-19 深圳市华星光电技术有限公司 触控感应面板及其触控感应方法、制作方法
CN105808005B (zh) * 2016-03-23 2019-03-12 上海天马微电子有限公司 柔性显示屏及其制造方法
CN106816460B (zh) * 2017-03-01 2020-04-24 上海天马微电子有限公司 一种柔性触控显示面板及柔性触控显示装置
CN107066160A (zh) * 2017-05-16 2017-08-18 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及其制作方法、显示装置
CN107977116B (zh) * 2017-12-15 2020-02-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 柔性触控面板、触控显示屏及触控显示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102468324A (zh) * 2010-10-28 2012-05-23 三星移动显示器株式会社 有机发光显示设备及其制造方法
KR20140062341A (ko) * 2012-11-14 2014-05-23 엘지디스플레이 주식회사 인셀-터치 타입 유기발광다이오드 표시장치
CN105742330A (zh) * 2016-03-16 2016-07-06 京东方科技集团股份有限公司 一种有机发光显示面板及其制作方法、显示装置
CN108693994A (zh) * 2018-03-29 2018-10-23 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控结构、oled显示触控面板及触控显示设备
CN108664168A (zh) * 2018-05-14 2018-10-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种柔性基板及其制备方法、触控显示面板
CN109407893A (zh) * 2018-12-17 2019-03-01 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控显示面板及其制作方法

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