WO2020004761A1 - Brush device - Google Patents

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WO2020004761A1
WO2020004761A1 PCT/KR2019/001264 KR2019001264W WO2020004761A1 WO 2020004761 A1 WO2020004761 A1 WO 2020004761A1 KR 2019001264 W KR2019001264 W KR 2019001264W WO 2020004761 A1 WO2020004761 A1 WO 2020004761A1
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WO
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brush
semiconductor package
brush structure
planar
unit
Prior art date
Application number
PCT/KR2019/001264
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French (fr)
Korean (ko)
Inventor
한복우
조윤기
Original Assignee
제너셈(주)
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    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00Cleaning by methods involving the use of tools
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
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Definitions

  • the present application relates to a brush device.
  • the semiconductor package manufacturing system includes a cutting process of cutting a semiconductor package cut into strips in which a plurality of semiconductor packages are formed, a washing process of washing the semiconductor package cut in the cutting process, a drying process of drying the cleaned semiconductor package in the washing process, and a drying process.
  • the semiconductor package inspection process for inspecting the completed semiconductor package for defects and the offload process for classifying the semiconductor package that passed the defect inspection and the semiconductor package that did not pass according to the inspection result are sequentially performed. Individual semiconductor packages can be manufactured.
  • An object of the present invention is to provide a brush device that can effectively remove foreign substances such as burrs on the surface of a semiconductor package before the inspection process of the semiconductor package.
  • the vibration can be a predetermined time.
  • the planar brush structure the base portion; And a plurality of brush units protruding upward from the base part and disposed along a length direction and a width direction of the base part, wherein the first holding part contacts the held semiconductor package with the brush unit.
  • the planar brush structure, the vibration in the longitudinal direction, the vibration in the width direction and the vibration in the circumferential direction of the axis in the vertical direction is possible.
  • the first grip portion when the planar brush structure vibrates in the longitudinal direction, the first grip portion is in the width direction so that the gripped semiconductor package in contact with the planar brush structure vibrates in the width direction.
  • the gripped semiconductor package vibrates in the longitudinal direction so as to vibrate in the longitudinal direction, and when the flat brush structure vibrates with movement in the circumferential direction.
  • the gripped semiconductor package may vibrate to rotate in a direction opposite to the movement direction of the planar brush structure.
  • the brush unit comprises: a first linear drive unit for moving the base unit in the longitudinal direction; A second linear drive unit which moves the base part in the width direction; And a rotating unit rotating the base part in the circumferential direction.
  • the roll brush structure the shaft portion is disposed so that the longitudinal direction is parallel to the longitudinal direction of the base portion; And including a brush unit extending in a spiral form along the circumference of the shaft portion, it may be provided at the rear of the flat brush structure.
  • the alignment portion is formed recessed downward from the upper surface
  • the first gripper may include a recessed portion in which the semiconductor package held by the first gripper is individually stacked.
  • the inner side surface of the recess may include an inclined surface that is inclined so that the semiconductor package placed into the recess is shifted to the bottom surface to be offset from the bottom surface of the recess.
  • the brush device may further include a second gripping part which grips the semiconductor package separately loaded on the alignment part and transfers the semiconductor package to the vision inspection part.
  • Brush apparatus may further include a dust collector provided on the lower side of the flat brush structure and the roll brush structure to suck the falling foreign matter.
  • the semiconductor package may be brushed by one or more vibrations of the planar brush structure and the roll brush structure. Accordingly, foreign matter such as burrs on the surface of the semiconductor package can be removed by brushing, so that inspection can be performed accurately and easily during the inspection process.
  • FIG. 1 is a perspective view of a brush device according to one embodiment of the present application in which a part of the configuration of the brush part is omitted so that the inside of the brush part is shown.
  • FIG. 2 is a perspective view of a brush part of the brush device according to an exemplary embodiment of the present disclosure, in which a part of the brush part is omitted so that the inside of the brush part is shown.
  • FIG 3 is a side view viewed from an oblique angle of a brush part of the brush device according to an exemplary embodiment of the present disclosure, in which a part of the brush part is not illustrated so that the inside of the brush part is shown.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a gripping portion of a brush device according to an embodiment of the present application in which the position of the held semiconductor package is in a fixed position.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a gripping portion of a brush device according to an embodiment of the present application in which the position of the held semiconductor package is out of position.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of an alignment of the brush device according to an embodiment of the present application on which the semiconductor package is placed.
  • the present application relates to a brush device.
  • a brush device (hereinafter referred to as a 'bone brush device') according to an embodiment of the present application will be described.
  • the brush device can be applied to a semiconductor package cutting and inspection device.
  • the brush device may be provided to be brushed by the brush device before the semiconductor package is transferred to the inspection apparatus, for example, between the drying process after the cleaning process and the inspection process.
  • FIG. 1 is a perspective view of a brush device according to an embodiment of the present application in which the illustration of a portion of the brush portion is omitted so that the inside of the brush portion is shown
  • FIG. 3 is a perspective view of the brush part of the brush device according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a gripping portion of a brush device according to an embodiment of the present application in which the position of the held semiconductor package is in a correct position
  • FIG. 5 is a state in which the position of the held semiconductor package is out of position.
  • 6 is a schematic cross-sectional view of a gripping portion of a brush device according to one embodiment of the present invention
  • FIG. Exemplary is a schematic cross-section aligned portion of the brush device according to the example.
  • the brush device includes a brush unit 1.
  • the brush portion 1 includes a planar brush structure 11 and a roll brush structure 12. 2 and 3, the planar brush structure 11 protrudes upward from the base portion 112 and the base portion 112 and is disposed along the longitudinal and width directions of the base portion 112.
  • Unit 111 may be included. As will be described later, the brush unit 111 of the planar brush structure 11 may contact the semiconductor package P to brush the semiconductor package P. FIG. Therefore, the brush unit 111 of the planar brush structure 11 may be made of a material that does not damage the semiconductor package P when brushing the semiconductor package P.
  • the roll brush structure 12 may be provided at the rear of the planar brush structure 11, and the shaft part 121 may be disposed such that the longitudinal direction thereof is parallel to the longitudinal direction of the base part 112. It may include a brush unit 122 extending in the form of a spiral along the circumference of the shaft portion (121).
  • the brush unit 122 of the roll brush structure 12 may brush the semiconductor package P while rotating about the shaft 121. Therefore, the brush unit 122 of the roll brush structure 12 may be made of a material that does not damage the semiconductor package P when brushing the semiconductor package P.
  • the brush device includes a first gripping portion 3.
  • the first gripping portion 3 grips the semiconductor package P.
  • the first holding part 3 is a device for holding a plurality of dried semiconductor packages P from a predetermined table provided in the semiconductor package cutting device and moving the upper portion of the brush device.
  • the first gripper 3 may grip and transfer the semiconductor package P, release the grip, and load the semiconductor package P.
  • the first gripping portion 3 may grasp the semiconductor package P by vacuum suction.
  • the first gripping portion 3 can release the gripping by releasing the vacuum suction to the semiconductor package P.
  • the first gripper 3 may grip and transfer or release a plurality of semiconductor packages P (for example, eight) individually.
  • the first holding part 3 may hold the semiconductor package P, which has been dried.
  • the brush device may be used to brush the semiconductor package P between the drying process and the inspection process. Accordingly, the semiconductor package P held by the first gripper 3 may be a semiconductor package P transferred to an inspection apparatus for an inspection process after a drying process.
  • the first gripping portion 3 may hold at least one of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 that hold the semiconductor package P (the portion including at least a portion of the lower surface of the semiconductor package P). Contact with. In other words, the first gripper 3 grips (adsorbs) the dried semiconductor package P, and then moves to the top of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 to planar brush structure 11. And one or more of the roll brush structures 12 for a predetermined time.
  • the contact of the semiconductor package P held by the first holding part 3 to the planar brush structure 11 may be a contact between the semiconductor package P and the brush unit 111 of the planar brush structure 11. Can mean.
  • contact of the semiconductor package P held by the first gripper 3 with the roll brush structure 12 means contact between the semiconductor package P and the brush unit 122 of the roll brush structure 12. can do.
  • the first holding part 3 may hold the semiconductor package P and make contact with the brush unit 111 of the planar brush structure 11 for a predetermined time, and then move the alignment part 2 to be described later.
  • the first gripper 3 may grip the semiconductor package P to contact the brush unit 122 of the roll brush structure 12 for a predetermined time, and then move it to the alignment unit 2 to be described later.
  • the first gripper 3 grips the semiconductor package P and makes contact with the brush unit 111 of the planar brush structure 11 for a predetermined time, and then uniformly contacts the brush unit 122 of the roll brush structure 12. Time contact (or contact the brush unit 122 of the roll brush structure 12 for a predetermined time, and then contact the brush unit 111 of the planar brush structure 11 for a predetermined time) to move to the alignment unit 2 to be described later. You can.
  • Each of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 vibrates for a predetermined time when the semiconductor package is in contact.
  • Each of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 may vibrate while the semiconductor package P is in contact with each other, thereby removing foreign matters such as burrs on the surface of the semiconductor package P.
  • the term “predetermined time” may mean a time set by a user so that foreign matter on the surface of the semiconductor package P may be removed by each of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12. Since each of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 may vibrate for a predetermined time when the semiconductor package P is in contact, the first gripping portion 3 may move the semiconductor package P to the brush portion at a predetermined time. 1) can be set to a predetermined time or less.
  • the planar brush structure 11 can vibrate in the longitudinal direction (the longitudinal direction of the base portion 112).
  • the brush part 1 may include a first linear driving unit 113 which vibrates the base part 112 in the longitudinal direction.
  • the first linear drive unit 113 may include a first linear drive guide 1132 connected to the base part 112 and a first linear drive guide 1132 to move in the longitudinal direction of the base part 112.
  • 1 may include a guide rail 1131.
  • the first guide rail 1131 may extend in a direction parallel to the longitudinal direction of the base portion 112, and the first linear driving guide 1132 may reciprocate on the first guide rail 1131.
  • the base portion 112 may reciprocate in its longitudinal direction and oscillate in its longitudinal direction
  • the brush unit 111 may reciprocate in the longitudinal direction of the base portion 112 and oscillate.
  • the planar brush structure 11 vibrates in the longitudinal direction of the base portion 112 so that the bottom surface of the semiconductor package P held by the upper side of the brush unit 111 is held.
  • foreign matter on the side may be removed.
  • the first linear driving guide 1132 may be connected to the base portion 112 by the auxiliary plate 1133.
  • the lower portion of the base portion 112 and the auxiliary plate 1133 are connected, and the lower portion of the auxiliary plate 1133 is connected to the first linear drive guide 1132, and the first linear drive guide 1132.
  • the first linear driving guide 1132 may be directly connected to the base portion 112.
  • the first linear driving guide 1132 and the first guide rails 1131 may be paired. Referring to FIG. 3, the pair may be provided in plural in the length direction of the base part 112. In exemplary embodiments, two pairs of the first linear driving guide 1132 and the first guide rail 1131 may be provided at intervals.
  • the first grip part 3 holds the semiconductor package P held in contact with the planar brush structure 11 in the width direction. It can vibrate in the width direction so as to vibrate in the (width direction of the base portion 112).
  • the semiconductor package P may vibrate in the width direction perpendicular to the longitudinal direction when the planar brush structure 11 vibrates in the longitudinal direction while being in contact with the planar brush structure 11.
  • the semiconductor package P is also perpendicular to the longitudinal direction by the first holding part 3 in a situation in which foreign matter on the surface of the semiconductor package P is removed due to vibration in the longitudinal direction of the planar brush structure 11. Since it may vibrate with respect to the planar brush structure 11 in the width direction, the effect of removing foreign substances on the surface of the semiconductor package P may be improved.
  • the planar brush structure 11 may vibrate in the width direction (the width direction of the base portion 112).
  • the brush part 1 may include a second linear driving unit 114 which vibrates the base part 112 in the width direction of the base part 112.
  • the second linear drive unit 114 includes a second linear drive guide 1142 and a second linear drive guide 1142 connected to the base part 112 to move in the width direction of the base part 112. It may include a guide rail 1141.
  • the second guide rail 1141 may be provided to extend in a direction parallel to the width direction of the base portion 112, and the second linear drive guide 1142 may reciprocate on the second guide rail 1141.
  • the base portion 112 may reciprocate in its longitudinal direction and vibrate in the width direction thereof, and the brush unit 111 may reciprocate in the width direction of the base portion 112 and vibrate.
  • the planar brush structure 11 may vibrate in the width direction of the base portion 112 to remove foreign substances on the semiconductor package P.
  • the second linear driving unit 114 may be provided below the first linear driving unit 113.
  • the second linear drive guide 1142 of the second linear drive unit 114 may be connected to the lower portion of the plate 1143 provided with the first guide rail 1131.
  • the first linear drive unit 113 is connected to the base portion 112 through the auxiliary plate 1133, and the second linear drive unit 114 is connected to the first through the plate 1143.
  • the second linear drive guide 1142 may be connected to the base portion 112.
  • the first linear drive unit 113 and the first linear drive unit 1114 and the second linear drive guide 1142 are connected to each other through the plate 1143.
  • the base 112 connected to the first linear drive unit 113 may be moved together, and thus, the first linear drive unit 113 and the planar brush structure during the widthwise reciprocation by the second linear drive unit 114. 11 can be moved together in the width direction.
  • the second linear driving guide 1142 and the second guide rail 1141 may be paired, and a plurality of such pairs may be provided in the longitudinal direction of the base part 112.
  • two pairs of the second linear driving guide 1142 and the second guide rail 1141 may be provided at intervals.
  • the first linear drive unit 113 may include a motor that provides power for linear movement of the first linear drive guide 1132.
  • the second linear drive unit 114 may include a motor that provides power for linear movement of the second linear drive guide 1142.
  • a motor that provides a common movement power to the first linear drive unit 113 and the second linear drive unit 114 may be included. As such, each of the first linear drive guide 1132 and the second linear drive guide 1142 may be linearly moved by receiving power from a motor.
  • the first gripper 3 holds the semiconductor package P held in contact with the planar brush structure 11 in the longitudinal direction. It may vibrate in the longitudinal direction so as to vibrate in the (length direction of the base portion 112). In other words, the semiconductor package P may vibrate in the longitudinal direction perpendicular to the width direction when the flat brush structure 11 vibrates in the width direction while being in contact with the planar brush structure 11.
  • the semiconductor package P is also perpendicular to the width direction by the first holding part 3 in a situation in which foreign matter on the surface of the semiconductor package P is removed due to vibration in the width direction of the planar brush structure 11. Since it may vibrate with respect to the planar brush structure 11 in the longitudinal direction, the effect of removing foreign substances on the surface of the semiconductor package P may be improved.
  • planar brush structure 11 may rotate in the circumferential direction of the axis in the vertical direction.
  • the brush part 1 may include a rotation unit 115 that rotates the base part 112 in the circumferential direction of the axis in the vertical direction.
  • the rotating unit 115 may include a rotating part 1153 which receives rotational force from a motor and an auxiliary rotating axis extending upward from the rotating part 1153 (in FIG. 3, the auxiliary rotating axis may be accommodated inside the housing 1151). And a main rotation shaft 1152 extending upwardly from the auxiliary rotation shaft and connected to the base portion 112.
  • the primary axis of rotation 1152 may be provided such that its center is eccentric with respect to the center of the secondary axis of rotation. Accordingly, when the auxiliary rotation shaft is rotated, the main rotation shaft 1152 can move in the circumferential direction of the auxiliary rotation shaft.
  • the main rotation axis 1152 may move in a circle along the circumferential direction of the axis in the vertical direction, and the planar brush structure 11 in which the base portion 112 is connected to the main rotation axis 1152 may move in a circle.
  • the planar brush structure 11 may vibrate by moving in a circle.
  • the main axis of rotation 1152 can move in a circle with a circumference of 4 ⁇ mm.
  • the planar brush structure 11 may move in a circle having a circumference of 4 ⁇ mm.
  • the rotating unit 1153 and the auxiliary rotating shaft are provided. May be positioned below the first and second linear drive units 113 and 114, and the main axis of rotation 1152 is the first and second linear drive units 113 and 114 to ensure a moving path that draws a circle thereof. Passing through it may be connected to the lower side of the base portion (112).
  • the first gripper 3 holds the held semiconductor package in a state of being in contact with the planar brush structure 11 ( P) may be oscillated to rotate in the reverse direction of the moving direction of the planar brush structure 11.
  • the planar brush structure 11 may move in a circle as described above.
  • the planar brush structure 11 may move by drawing a clockwise or counterclockwise direction of the circle in a moving direction to draw a circle.
  • the first gripping portion 3 may rotate to rotate the semiconductor package P in the reverse direction (counterclockwise or clockwise) of the movement direction (clockwise or counterclockwise) of the planar brush structure 11 as described above. Can be.
  • the first gripping portion 3 may be formed in the first gripping portion 3 in the reverse direction (counterclockwise or clockwise) of the movement direction (clockwise or counterclockwise) of the planar brush structure 11. Can be vibrated by driving the central axis of and the semiconductor package P held therein to move in a circle.
  • the planar brush structure 11 may vibrate in the vertical direction.
  • the planar brush structure 11 may include a vertical driving unit for vertically moving the vertical portion 112 (vertically up and down).
  • the brush part 1 may include a rotation force transmission structure 123 that transmits a rotational force to the shaft part 121 so that the roll brush structure 12 is rotated.
  • the rotational force transmission structure 123 may include an external force receiving unit 1232, which receives an external force from the motor, and a belt structure 1231 that converts the rotational force of the external force receiving unit 1232 into the rotational force of the shaft 121.
  • the axis of rotation of the external force receiving unit 1232 may be parallel to the shaft portion 121.
  • the external force receiving unit 1232 of the roll brush structure 12 may share an external force of a motor for rotating the rotating part 1153 of the planar brush structure 11.
  • the brush unit 1 extends from the motor to transmit the external force of the belt 1239 for rotating the rotating unit 1153 to the external force receiving unit 1232. It may include.
  • the auxiliary external force receiving unit 1243 may have its axis of rotation parallel to the axis of rotation of the rotating part 1153, and the belt 1239 extending from the motor rotates through the rotating part 1153 and the auxiliary external force receiving unit 1234 and rotates the rotating part ( 1153 and the auxiliary external force receiving unit 1234 may be rotated.
  • the rotational force of the auxiliary external force receiving unit 1234 may be transmitted to the external force receiving unit 1232 through a gear 1233 provided in the external force receiving unit 1232 and engaged with the auxiliary external force receiving unit 1234.
  • the external force of the motor transmitted by the belt 1239 extending from the motor may be transmitted to the external force receiving unit 1232 via the auxiliary external force receiving unit 1234 and the gear 1233, and to the external force receiving unit 1232.
  • the transmitted external force may rotate the shaft 121.
  • the brush device may include a dust collector 13 provided at a lower side of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 to suck foreign substances that fall.
  • the dust collector 13 may include an accommodating part 131 for dropping foreign matters and a suction part 132 for sucking foreign matters falling on the accommodating part.
  • the receiving part 131 may have a hole connected to the suction part 132 so that foreign matter may be sucked by the suction part 132.
  • the hole may be formed in the bottom surface of the receiving portion 131.
  • the brush device may also include an alignment unit 2.
  • the alignment unit 2 may be located at one side of the brush unit 1 in the semiconductor package cutting and inspection apparatus.
  • the alignment unit 2 may be loaded with a semiconductor package P in which contact with the brush unit 1 is completed, that is, contact with one or more of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 is completed. have.
  • the first gripper 3 may grip the semiconductor package P through adsorption.
  • the first gripper 3 may grip the semiconductor in the brushing process by the brush 1.
  • the package P may have shifted outwardly (see FIG. 5) from the home position (initial position) (see FIG. 4) it had before brushing.
  • the efficiency and accuracy of the inspection process may be degraded due to the misaligned position of the semiconductor package P.
  • the brush device includes a semiconductor in which contact with the brush part 1 is completed so that the state in which the semiconductor package P, which is moved to the upper part of the vision inspection apparatus after brushing, is held in the grip part can be aligned.
  • the semiconductor package P may be aligned by loading the package P into the alignment unit 2.
  • the alignment part 2 is recessed downwardly from an upper surface thereof, such that the recessed part 21 in which the semiconductor package P held by the first holding part 3 is individually loaded is provided. It may include.
  • the first gripper 3 holds the grip on the semiconductor package P such that each of the plurality of semiconductor packages P held by the first gripper 3 is seated inside each of the plurality of recesses 21 of the alignment unit 2. Can be released individually.
  • the first gripping portion 3 may transfer the plurality of semiconductor packages P, and the number of the recesses 21 is the number of the semiconductor packages P that the first gripping portion 3 transfers. It may be equal to or greater than the number.
  • the inner surface of the recess 21 may include an inclined surface inclined so that the semiconductor package P placed in the recess 21 may be shifted to the bottom of the recess 21.
  • the semiconductor package P in a state of being gripped by the first gripper 3 at a position offset from the initial position described above may be placed in a position that is offset from the bottom of the recess 21 when placed in the recess 21.
  • the inner side surface of the recessed part 21 may include the inclined surface, even if the semiconductor package P is located in the position which shifted from the bottom face of the recessed part 21, it moves along a sloped surface. (Eg, slide movement) to be seated on the bottom surface of the depression 21.
  • a part of the bottom of the recess 21 may be formed with a vacuum passage 22 for applying or releasing a vacuum pressure. Therefore, when the semiconductor package P held by the gripper 3 is placed in the recess 21, the semiconductor package P is quickly recessed by a vacuum pressure applied from the bottom of the recess 21. Can be placed in the position of (21).
  • the brush device may include a second gripping portion.
  • the second gripper may hold the semiconductor package P, which is individually stacked on the alignment unit 2 and aligned, and may be transferred to the inspection apparatus. Therefore, the shape and the area of the bottom surface of the recess 21 are such that the semiconductor package P is in the correct position (for example, when the second gripper grips the semiconductor package P on the bottom of the recess 21).
  • the semiconductor package P may be formed to be gripped by the second gripper with a position that can be inspected by the inspection apparatus while being held by the second gripper.
  • the second gripping portion may hold a plurality of semiconductor packages P, for example, may hold eight semiconductor packages P. FIG.
  • the first holding part 3 grips a plurality of semiconductor packages P having a drying process completed from a predetermined table, and the semiconductor package P is brushed through brushing of the brush part 1.
  • the gripping position of the first gripping portion (3) can be shifted in the brushing process, the vision due to the position recognition error of the semiconductor package (P) of the vision inspection device The accuracy of the test is reduced. Therefore, the brush device does not perform the vision inspection immediately after the brushing process, and in order to align the gripping positions of the gripping parts, the plurality of brushed semiconductor packages P are placed in the alignment part 2 and then the second The gripping portion may move the upper portion of the vision inspection device by holding the semiconductor package in place.
  • the brush part 1 in the brush apparatus, the brush part 1 is movable.
  • the brush device may include a rail portion 5 for guiding the movement of the brush portion 1. Therefore, the brush part 1 moves along the rail part 5 while the plurality of semiconductor packages P are held by the first holding part 3, thereby brushing the bottom and side surfaces of the semiconductor package P. Can be.

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Abstract

Disclosed is a brush device. The brush device comprises: a brush part including a planar brush structure and a roll brush structure; and a first holding part for holding a semiconductor package and contacting the held semiconductor package with at least one of the planar brush structure and the roll brush structure, wherein each the planar brush structure and the roll brush structure vibrate for a predetermined time when making contact with the semiconductor package.

Description

브러쉬 장치Brush device
본원은 브러쉬 장치에 관한 것이다.The present application relates to a brush device.
반도체 패키지 제조 시스템은, 복수개의 반도체 패키지들이 형성된 스트립에서 개별 반도체 패키지로 절단하는 절단 공정, 절단 공정에서 절단된 반도체 패키지를 세척하는 세척 공정, 세척 공정에서 세척된 반도체 패키지를 건조하는 건조 공정, 건조가 완료된 반도체 패키지의 불량 여부를 검사하는 반도체 패키지 검사 공정 및 검사 결과에 따라 불량 여부 검사를 통과한 반도체 패키지와 통과하지 못한 반도체 패키지를 분류하는 오프로드 공정 등을 순차적으로 수행하여 반도체 자재에서 검사 완료된 개별 반도체 패키지가 제조될 수 있다.The semiconductor package manufacturing system includes a cutting process of cutting a semiconductor package cut into strips in which a plurality of semiconductor packages are formed, a washing process of washing the semiconductor package cut in the cutting process, a drying process of drying the cleaned semiconductor package in the washing process, and a drying process. The semiconductor package inspection process for inspecting the completed semiconductor package for defects and the offload process for classifying the semiconductor package that passed the defect inspection and the semiconductor package that did not pass according to the inspection result are sequentially performed. Individual semiconductor packages can be manufactured.
그런데, 종래의 반도체 패키지 제조 시스템은, 반도체 패키지가 세척 및 건조되었음에도 반도체 패키지의 표면에 버(burr) 등과 같은 이물질이 잔류하는 경우가 있어, 검사 공정 시 오류가 발생할 수 있었다.However, in the conventional semiconductor package manufacturing system, even when the semiconductor package is washed and dried, foreign matters such as burrs may remain on the surface of the semiconductor package, and an error may occur during the inspection process.
본원의 배경이 되는 기술은 한국등록특허공보 제10-0904496호에 개시되어 있다.Background art of the present application is disclosed in Korea Patent Publication No. 10-0904496.
본원은 전술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 반도체 패키지의 검사 공정 전에 반도체 패키지의 표면 상의 버 등과 같은 이물질을 효과적으로 제거할 수 있는 브러쉬 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a brush device that can effectively remove foreign substances such as burrs on the surface of a semiconductor package before the inspection process of the semiconductor package.
다만, 본원의 실시예가 이루고자 하는 기술적 과제는 상기된 바와 같은 기술적 과제들도 한정되지 않으며, 또 다른 기술적 과제들이 존재할 수 있다.However, the technical problem to be achieved by the embodiments of the present application is not limited to the technical problems as described above, and other technical problems may exist.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치는, 평면 브러쉬 구조체 및 롤 브러쉬 구조체를 포함하는 브러쉬부; 및 반도체 패키지를 파지하고, 파지한 반도체 패키지를 상기 평면 브러쉬 구조체 및 상기 롤 브러쉬 구조체 중 하나 이상에 접촉시키는 제1 파지부를 포함하되, 상기 평면 브러쉬 구조체 및 상기 롤 브러쉬 구조체 각각은 반도체 패키지가 접촉되면 소정 시간 진동할 수 있다.As a technical means for achieving the above technical problem, a brush device according to an embodiment of the present application, a brush unit including a planar brush structure and a roll brush structure; And a first gripping portion for holding the semiconductor package and contacting the held semiconductor package with at least one of the planar brush structure and the roll brush structure, wherein each of the planar brush structure and the roll brush structure is in contact with the semiconductor package. When the vibration can be a predetermined time.
본원의 일 실시예에 따르면, 상기 평면 브러쉬 구조체는, 베이스부; 및 상기 베이스부로부터 상측으로 돌출되어, 상기 베이스부의 길이 방향 및 폭 방향을 따라 배치되는 복수의 브러쉬 유닛을 포함하고, 상기 제1 파지부는 파지한 반도체 패키지를 상기 브러쉬 유닛에 접촉시킬 수 있다.According to one embodiment of the present application, the planar brush structure, the base portion; And a plurality of brush units protruding upward from the base part and disposed along a length direction and a width direction of the base part, wherein the first holding part contacts the held semiconductor package with the brush unit.
본원의 일 실시예에 따르면, 상기 평면 브러쉬 구조체는, 상기 길이 방향으로의 진동, 상기 폭 방향으로의 진동 및 상하 방향으로의 축의 둘레 방향으로의 이동에 따른 진동이 가능하다.According to one embodiment of the present application, the planar brush structure, the vibration in the longitudinal direction, the vibration in the width direction and the vibration in the circumferential direction of the axis in the vertical direction is possible.
본원의 일 실시예에 따르면, 상기 제1 파지부는, 상기 평면 브러쉬 구조체가 상기 길이 방향으로 진동 하는 경우, 상기 평면 브러쉬 구조체에 접촉된 상태인 파지한 반도체 패키지가 상기 폭 방향으로 진동되도록 상기 폭 방향으로 진동하고, 상기 평면 브러쉬 구조체가 상기 폭 방향으로 진동 하는 경우, 파지한 반도체 패키지가 상기 길이 방향으로 진동되도록 상기 길이 방향으로 진동하며, 평면 브러쉬 구조체가 상기 둘레 방향으로의 이동에 따라 진동하는 경우, 파지한 반도체 패키지가 상기 평면 브러쉬 구조체의 이동 방향의 역 방향으로 회전되도록 진동할 수 있다.According to one embodiment of the present application, when the planar brush structure vibrates in the longitudinal direction, the first grip portion is in the width direction so that the gripped semiconductor package in contact with the planar brush structure vibrates in the width direction. When the flat brush structure vibrates in the width direction, the gripped semiconductor package vibrates in the longitudinal direction so as to vibrate in the longitudinal direction, and when the flat brush structure vibrates with movement in the circumferential direction. The gripped semiconductor package may vibrate to rotate in a direction opposite to the movement direction of the planar brush structure.
본원의 일 실시예에 따르면, 상기 브러쉬부는, 상기 베이스부를 상기 길이 방향으로 이동시키는 제1 선형 구동 유닛; 상기 베이스부를 상기 폭 방향으로 이동시키는 제2 선형 구동 유닛; 및 상기 베이스부를 상기 둘레 방향으로 회전시키는 회전 유닛을 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present application, the brush unit comprises: a first linear drive unit for moving the base unit in the longitudinal direction; A second linear drive unit which moves the base part in the width direction; And a rotating unit rotating the base part in the circumferential direction.
본원의 일 실시예에 따르면, 상기 롤 브러쉬 구조체는, 길이 방향이 상기 베이스부의 길이 방향과 평행하도록 배치되는 축부; 및 상기 축부의 둘레를 따라 나선 형태로 연장 구비되는 브러쉬 유닛을 포함하되, 상기 평면 브러쉬 구조체의 후방에 구비될 수 있다.According to one embodiment of the present application, the roll brush structure, the shaft portion is disposed so that the longitudinal direction is parallel to the longitudinal direction of the base portion; And including a brush unit extending in a spiral form along the circumference of the shaft portion, it may be provided at the rear of the flat brush structure.
본원의 일 실시예에 따르면, 상기 상기 평면 브러쉬 구조체 및 상기 롤 브러쉬 구조체 중 하나 이상에 대한 접촉이 완료된 반도체 패키지가 적재되는 정렬부를 더 포함하되, 상기 정렬부는 그의 상면으로부터 하측으로 함몰 형성되어, 상기 제1 파지부가 파지한 반도체 패키지가 개별적으로 적재되는 함몰부를 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present application, further comprising an alignment portion on which the semiconductor package is completed contact with at least one of the flat brush structure and the roll brush structure is loaded, the alignment portion is formed recessed downward from the upper surface, The first gripper may include a recessed portion in which the semiconductor package held by the first gripper is individually stacked.
본원의 일 실시예에 따르면, 상기 함몰부의 내측면은, 상기 함몰부의 저면과 어긋나게 상기 함몰부 내로 놓여지는 반도체 패키지가 상기 저면으로 이동되도록 비스듬한 경사면을 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present disclosure, the inner side surface of the recess may include an inclined surface that is inclined so that the semiconductor package placed into the recess is shifted to the bottom surface to be offset from the bottom surface of the recess.
본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치는, 상기 정렬부에 개별적으로 적재되는 반도체 패키지를 파지하여 비전 검사부로 이송시키는 제2 파지부를 더 포함할 수 있다.The brush device according to the exemplary embodiment of the present disclosure may further include a second gripping part which grips the semiconductor package separately loaded on the alignment part and transfers the semiconductor package to the vision inspection part.
본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치는, 상기 평면 브러쉬 구조체 및 상기 롤 브러쉬 구조체의 하측에 구비되어 낙하하는 이물질을 흡입하는 집진기를 더 포함할 수 있다. Brush apparatus according to an embodiment of the present application may further include a dust collector provided on the lower side of the flat brush structure and the roll brush structure to suck the falling foreign matter.
상술한 과제 해결 수단은 단지 예시적인 것으로서, 본원을 제한하려는 의도로 해석되지 않아야 한다. 상술한 예시적인 실시예 외에도, 도면 및 발명의 상세한 설명에 추가적인 실시예가 존재할 수 있다.The above-mentioned means for solving the problems are merely exemplary and should not be construed as limiting the present application. In addition to the above-described exemplary embodiments, additional embodiments may exist in the drawings and detailed description of the invention.
전술한 본원의 과제 해결 수단에 의하면, 반도체 패키지가 평면 브러쉬 구조체 및 롤 브러쉬 구조체 중 하나 이상의 진동에 의해 브러쉬될 수 있다. 이에 따라, 반도체 패키지 표면 상의 버 등과 같은 이물질이 브러쉬질에 의해 제거될 수 있어, 검사 공정시에 검사가 정확하며 용이하게 수행될 수 있다.According to the aforementioned problem solving means of the present application, the semiconductor package may be brushed by one or more vibrations of the planar brush structure and the roll brush structure. Accordingly, foreign matter such as burrs on the surface of the semiconductor package can be removed by brushing, so that inspection can be performed accurately and easily during the inspection process.
도 1은 브러쉬부의 내부가 도시되도록 브러쉬부의 일부 구성의 도시가 생략된 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 사시도이다.1 is a perspective view of a brush device according to one embodiment of the present application in which a part of the configuration of the brush part is omitted so that the inside of the brush part is shown.
도 2는 브러쉬부의 내부가 도시되도록 브러쉬부의 일부 구성의 도시가 생략된 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 브러쉬부의 사시도이다.2 is a perspective view of a brush part of the brush device according to an exemplary embodiment of the present disclosure, in which a part of the brush part is omitted so that the inside of the brush part is shown.
도 3은 브러쉬부의 내부가 도시되도록 브러쉬부의 일부 구성의 도시가 생략된 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 브러쉬부를 비스듬한 각도에서 바라본 측면도이다.3 is a side view viewed from an oblique angle of a brush part of the brush device according to an exemplary embodiment of the present disclosure, in which a part of the brush part is not illustrated so that the inside of the brush part is shown.
도 4는 파지한 반도체 패키지의 위치가 정위치 상태인 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 파지부의 개략적인 단면도이다.4 is a schematic cross-sectional view of a gripping portion of a brush device according to an embodiment of the present application in which the position of the held semiconductor package is in a fixed position.
도 5는 파지한 반도체 패키지의 위치가 정위치에서 벗어난 상태인 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 파지부의 개략적인 단면도이다.5 is a schematic cross-sectional view of a gripping portion of a brush device according to an embodiment of the present application in which the position of the held semiconductor package is out of position.
도 6은 반도체 패키지가 놓이는 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 정렬부의 개략적인 단면도이다.6 is a schematic cross-sectional view of an alignment of the brush device according to an embodiment of the present application on which the semiconductor package is placed.
아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본원의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본원은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본원을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present disclosure. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted for simplicity of explanation, and like reference numerals designate like parts throughout the specification.
본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. Throughout this specification, when a portion is "connected" to another portion, this includes not only "directly connected" but also "electrically connected" with another element in between. do.
본원 명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에", "상부에", "상단에", "하에", "하부에", "하단에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.Throughout this specification, when a member is said to be located on another member "on", "upper", "top", "bottom", "bottom", "bottom", this means that any member This includes not only the contact but also the presence of another member between the two members.
본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout this specification, when a part is said to "include" a certain component, it means that it can further include other components, without excluding the other components unless specifically stated otherwise.
또한, 본원의 실시예에 관한 설명 중 방향이나 위치와 관련된 용어(상측, 하측, 전방, 후방 등)는 도면에 나타나 있는 각 구성의 배치 상태를 기준으로 설정한 것이다. 예를 들면, 도 1을 보았을 때 전반적으로 12시 방향이 상측, 전반적으로 6시 방향이 하측, 전반적으로 4시 방향이 전방, 전반적으로 10시 방향이 후방 등이 될 수 있다.In addition, in the description of the embodiments of the present application, terms related to directions or positions (upper, lower, front, rear, etc.) are set based on the arrangement state of each component shown in the drawings. For example, as shown in FIG. 1, the 12 o'clock direction is generally higher, the 6 o'clock direction is generally lower, the 4 o'clock is generally forward, and the 10 o'clock is generally backward.
본원은 브러쉬 장치에 관한 것이다.The present application relates to a brush device.
이하에서는, 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치(이하 '본 브러쉬 장치'라 함)에 대해 설명한다.Hereinafter, a brush device (hereinafter referred to as a 'bone brush device') according to an embodiment of the present application will be described.
본 브러쉬 장치는 반도체 패키지 절단 및 검사 장치에 적용 가능하다. 예를 들어, 본 브러쉬 장치는 반도체 패키지가 검사 장치로 이송되기 전, 예를 들어, 세척공정 이후의 건조공정과 검사 공정 사이에 본 브러쉬 장치에 의해 브러쉬질 될 수 있도록 구비될 수 있다. The brush device can be applied to a semiconductor package cutting and inspection device. For example, the brush device may be provided to be brushed by the brush device before the semiconductor package is transferred to the inspection apparatus, for example, between the drying process after the cleaning process and the inspection process.
도 1은 브러쉬부의 내부가 도시되도록 브러쉬부의 일부 구성의 도시가 생략된 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 사시도이고, 도 2는 브러쉬부의 내부가 도시되도록 브러쉬부의 일부 구성의 도시가 생략된 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 브러쉬부의 사시도이며, 도 3은 브러쉬부의 내부가 도시되도록 브러쉬부의 일부 구성의 도시가 생략된 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 브러쉬부를 비스듬한 각도에서 바라본 측면도이며, 도 4는 파지한 반도체 패키지의 위치가 정위치 상태인 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 파지부의 개략적인 단면도이고, 도 5는 파지한 반도체 패키지의 위치가 정위치에서 벗어난 상태인 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 파지부의 개략적인 단면도이며, 도 6은 반도체 패키지가 놓이는 본원의 일 실시예에 따른 브러쉬 장치의 정렬부의 개략적인 단면도이다.1 is a perspective view of a brush device according to an embodiment of the present application in which the illustration of a portion of the brush portion is omitted so that the inside of the brush portion is shown, and FIG. 3 is a perspective view of the brush part of the brush device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a gripping portion of a brush device according to an embodiment of the present application in which the position of the held semiconductor package is in a correct position, and FIG. 5 is a state in which the position of the held semiconductor package is out of position. 6 is a schematic cross-sectional view of a gripping portion of a brush device according to one embodiment of the present invention, and FIG. Exemplary is a schematic cross-section aligned portion of the brush device according to the example.
도 1을 참조하면, 본 브러쉬 장치는 브러쉬부(1)를 포함한다. 브러쉬부(1)는 평면 브러쉬 구조체(11) 및 롤 브러쉬 구조체(12)를 포함한다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 평면 브러쉬 구조체(11)는 베이스부(112) 및 베이스부(112)로부터 상측으로 돌출되어 베이스부(112)의 길이 방향 및 폭 방향을 따라 배치되는 복수의 브러쉬 유닛(111)을 포함할 수 있다. 후술하겠지만, 평면 브러쉬 구조체(11)의 브러쉬 유닛(111)은 반도체 패키지(P)와 접촉하여 반도체 패키지(P)를 브러쉬질할 수 있다. 따라서, 평면 브러쉬 구조체(11)의 브러쉬 유닛(111)은 반도체 패키지(P)에 대한 브러쉬질 시 반도체 패키지(P)를 손상시키지 않는 재질일 수 있다.Referring to FIG. 1, the brush device includes a brush unit 1. The brush portion 1 includes a planar brush structure 11 and a roll brush structure 12. 2 and 3, the planar brush structure 11 protrudes upward from the base portion 112 and the base portion 112 and is disposed along the longitudinal and width directions of the base portion 112. Unit 111 may be included. As will be described later, the brush unit 111 of the planar brush structure 11 may contact the semiconductor package P to brush the semiconductor package P. FIG. Therefore, the brush unit 111 of the planar brush structure 11 may be made of a material that does not damage the semiconductor package P when brushing the semiconductor package P.
또한, 도 3을 참조하면, 롤 브러쉬 구조체(12)는 평면 브러쉬 구조체(11)의 후방에 구비될 수 있으며, 길이 방향이 베이스부(112)의 길이 방향과 평행하도록 배치되는 축부(121) 및 축부(121)의 둘레를 따라 나선 형태로 연장 구비되는 브러쉬 유닛(122)을 포함할 수 있다. 롤 브러쉬 구조체(12)의 브러쉬 유닛(122)은 축부(121)를 중심으로 회전하면서 반도체 패키지(P)를 브러쉬질할 수 있다. 따라서, 롤 브러쉬 구조체(12)의 브러쉬 유닛(122)은 반도체 패키지(P)에 대한 브러쉬질 시 반도체 패키지(P)를 손상시키지 않는 재질일 수 있다.In addition, referring to FIG. 3, the roll brush structure 12 may be provided at the rear of the planar brush structure 11, and the shaft part 121 may be disposed such that the longitudinal direction thereof is parallel to the longitudinal direction of the base part 112. It may include a brush unit 122 extending in the form of a spiral along the circumference of the shaft portion (121). The brush unit 122 of the roll brush structure 12 may brush the semiconductor package P while rotating about the shaft 121. Therefore, the brush unit 122 of the roll brush structure 12 may be made of a material that does not damage the semiconductor package P when brushing the semiconductor package P.
또한, 도 4를 참조하면, 본 브러쉬 장치는 제1 파지부(3)를 포함한다. 제1 파지부(3)는 반도체 패키지(P)를 파지한다. 제1파지부(3)는 건조가 완료된 복수의 반도체 패키지(P)를 반도체 패키지 절단 장치에 구비된 소정의 테이블로부터 파지하여 본 브러쉬 장치의 상부로 이동하는 장치이다. 제1 파지부(3)는 반도체 패키지(P)를 파지하여 이송시키고 파지 해제하여 적재할 수 있다. 예를 들어, 제1 파지부(3)는 반도체 패키지(P)를 진공 흡착하여 파지할 수 있다. 또한, 제1 파지부(3)는 반도체 패키지(P)에 대한 진공 흡착을 해제함으로써 파지를 해제할 수 있다. 또한, 제1 파지부(3)는 복수 개의 반도체 패키지(P)(예를 들어, 8 개)를 개별적으로 파지하여 이송시키거나 파지 해제할 수 있다.4, the brush device includes a first gripping portion 3. The first gripping portion 3 grips the semiconductor package P. The first holding part 3 is a device for holding a plurality of dried semiconductor packages P from a predetermined table provided in the semiconductor package cutting device and moving the upper portion of the brush device. The first gripper 3 may grip and transfer the semiconductor package P, release the grip, and load the semiconductor package P. For example, the first gripping portion 3 may grasp the semiconductor package P by vacuum suction. In addition, the first gripping portion 3 can release the gripping by releasing the vacuum suction to the semiconductor package P. FIG. In addition, the first gripper 3 may grip and transfer or release a plurality of semiconductor packages P (for example, eight) individually.
또한, 제1 파지부(3)는 건조가 완료된 반도체 패키지(P)를 파지할 수 있다. 상술한 바와 같이, 본 브러쉬 장치는 건조 공정과 검사 공정 사이에 반도체 패키지(P)가 브러쉬질되도록 사용될 수 있다. 따라서, 제1 파지부(3)가 파지하는 반도체 패키지(P)는 건조 공정 이후에 검사 공정을 위한 검사 장치로 이송되는 반도체 패키지(P)일 수 있다.In addition, the first holding part 3 may hold the semiconductor package P, which has been dried. As described above, the brush device may be used to brush the semiconductor package P between the drying process and the inspection process. Accordingly, the semiconductor package P held by the first gripper 3 may be a semiconductor package P transferred to an inspection apparatus for an inspection process after a drying process.
또한, 제1 파지부(3)는 파지한 반도체 패키지(P)(반도체 패키지(P)의 하면의 적어도 일부를 포함하는 부분)를 평면 브러쉬 구조체(11) 및 롤 브러쉬 구조체(12) 중 하나 이상에 접촉시킨다. 다시 말해, 제1 파지부(3)는 건조가 완료된 반도체 패키지(P)를 파지(흡착)한 후 평면 브러쉬 구조체(11) 및 롤 브러쉬 구조체(12)의 상부로 이동하여 평면 브러쉬 구조체(11) 및 롤 브러쉬 구조체(12) 중 하나 이상에 일정 시간 접촉시킬 수 있다. 참고로, 제1 파지부(3)가 파지한 반도체 패키지(P)의 평면 브러쉬 구조체(11)에 대한 접촉은 반도체 패키지(P)와 평면 브러쉬 구조체(11)의 브러쉬 유닛(111)의 접촉을 의미할 수 있다. 또한, 제1 파지부(3)가 파지한 반도체 패키지(P)의 롤 브러쉬 구조체(12)에 대한 접촉은 반도체 패키지(P)와 롤 브러쉬 구조체(12)의 브러쉬 유닛(122)의 접촉을 의미할 수 있다.In addition, the first gripping portion 3 may hold at least one of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 that hold the semiconductor package P (the portion including at least a portion of the lower surface of the semiconductor package P). Contact with. In other words, the first gripper 3 grips (adsorbs) the dried semiconductor package P, and then moves to the top of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 to planar brush structure 11. And one or more of the roll brush structures 12 for a predetermined time. For reference, the contact of the semiconductor package P held by the first holding part 3 to the planar brush structure 11 may be a contact between the semiconductor package P and the brush unit 111 of the planar brush structure 11. Can mean. Also, contact of the semiconductor package P held by the first gripper 3 with the roll brush structure 12 means contact between the semiconductor package P and the brush unit 122 of the roll brush structure 12. can do.
또한, 제1 파지부(3)는 반도체 패키지(P)를 파지하여 평면 브러쉬 구조체(11)의 브러쉬 유닛(111)에 일정 시간 접촉시킨 후 후술할 정렬부(2)로 이동시킬 수 있다. 또는, 제1 파지부(3)는 반도체 패키지(P)를 파지하여 롤 브러쉬 구조체(12)의 브러쉬 유닛(122)에 일정 시간 접촉시킨 후 후술할 정렬부(2)로 이동시킬 수 있다. 또는, 제1 파지부(3)는 반도체 패키지(P)를 파지하여 평면 브러쉬 구조체(11)의 브러쉬 유닛(111)에 일정 시간 접촉시킨 후 롤 브러쉬 구조체(12)의 브러쉬 유닛(122)에 일정 시간 접촉시켜(또는 롤 브러쉬 구조체(12)의 브러쉬 유닛(122)에 일정 시간 접촉 시킨 후 평면 브러쉬 구조체(11)의 브러쉬 유닛(111)에 일정 시간 접촉시켜) 후술할 정렬부(2)로 이동시킬 수 있다. In addition, the first holding part 3 may hold the semiconductor package P and make contact with the brush unit 111 of the planar brush structure 11 for a predetermined time, and then move the alignment part 2 to be described later. Alternatively, the first gripper 3 may grip the semiconductor package P to contact the brush unit 122 of the roll brush structure 12 for a predetermined time, and then move it to the alignment unit 2 to be described later. Alternatively, the first gripper 3 grips the semiconductor package P and makes contact with the brush unit 111 of the planar brush structure 11 for a predetermined time, and then uniformly contacts the brush unit 122 of the roll brush structure 12. Time contact (or contact the brush unit 122 of the roll brush structure 12 for a predetermined time, and then contact the brush unit 111 of the planar brush structure 11 for a predetermined time) to move to the alignment unit 2 to be described later. You can.
평면 브러쉬 구조체(11) 및 롤 브러쉬 구조체(12) 각각은 반도체 패키지가 접촉되면 소정 시간 진동한다. 평면 브러쉬 구조체(11) 및 롤 브러쉬 구조체(12) 각각은 반도체 패키지(P)가 접촉된 상태로 진동함으로써, 반도체 패키지(P) 표면 상의 버(burr) 등과 같은 이물질을 제거할 수 있다. 따라서, 여기서 소정 시간이라 함은 반도체 패키지(P) 표면 상의 이물질이 평면 브러쉬 구조체(11) 및 롤 브러쉬 구조체(12) 각각에 의해 제거될 수 있도록 사용자가 설정한 시간을 의미할 수 있다. 평면 브러쉬 구조체(11) 및 롤 브러쉬 구조체(12) 각각은 반도체 패키지(P)가 접촉되면 소정 시간 진동할 수 있으므로, 소정 시간은 제1 파지부(3)가 반도체 패키지(P)를 브러쉬부(1)에 접촉시키는 일정 시간 이하로 설정될 수 있다.Each of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 vibrates for a predetermined time when the semiconductor package is in contact. Each of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 may vibrate while the semiconductor package P is in contact with each other, thereby removing foreign matters such as burrs on the surface of the semiconductor package P. Accordingly, the term “predetermined time” may mean a time set by a user so that foreign matter on the surface of the semiconductor package P may be removed by each of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12. Since each of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 may vibrate for a predetermined time when the semiconductor package P is in contact, the first gripping portion 3 may move the semiconductor package P to the brush portion at a predetermined time. 1) can be set to a predetermined time or less.
예를 들면, 평면 브러쉬 구조체(11)는 길이 방향(베이스부(112)의 길이 방향)으로 진동을 할 수 있다. 도 3을 참조하면, 브러쉬부(1)는 베이스부(112)를 길이 방향으로 진동시키는 제1 선형 구동 유닛(113)을 포함할 수 있다. 제1 선형 구동 유닛(113)은 베이스부(112)와 연결되는 제1 선형 구동 가이드(1132), 제1 선형 구동 가이드(1132)가 베이스부(112)의 길이 방향으로 이동 될 수 있게 하는 제1 가이드 레일(1131)을 포함할 수 있다. 제1 가이드 레일(1131)은 베이스부(112)의 길이 방향과 평행한 방향으로 연장 구비될 수 있고, 제1 선형 구동 가이드(1132)는 제1 가이드 레일(1131) 상에서 왕복 이동할 수 있다. 이에 따라, 베이스부(112)는 그의 길이 방향으로 왕복 이동하며 그의 길이 방향으로 진동할 수 있고, 브러쉬 유닛(111)은 베이스부(112)의 길이 방향으로 왕복 이동되며 진동할 수 있다. 이와 같이, 반도체 패키지(P)가 접촉된 상태일 때 평면 브러쉬 구조체(11)가 베이스부(112)의 길이 방향으로 진동함으로써 브러쉬 유닛(111)의 상측에서 파지되어 있는 반도체 패키지(P)의 하면 또는 측면 상의 이물질이 제거될 수 있다.For example, the planar brush structure 11 can vibrate in the longitudinal direction (the longitudinal direction of the base portion 112). Referring to FIG. 3, the brush part 1 may include a first linear driving unit 113 which vibrates the base part 112 in the longitudinal direction. The first linear drive unit 113 may include a first linear drive guide 1132 connected to the base part 112 and a first linear drive guide 1132 to move in the longitudinal direction of the base part 112. 1 may include a guide rail 1131. The first guide rail 1131 may extend in a direction parallel to the longitudinal direction of the base portion 112, and the first linear driving guide 1132 may reciprocate on the first guide rail 1131. Accordingly, the base portion 112 may reciprocate in its longitudinal direction and oscillate in its longitudinal direction, and the brush unit 111 may reciprocate in the longitudinal direction of the base portion 112 and oscillate. As such, when the semiconductor package P is in contact, the planar brush structure 11 vibrates in the longitudinal direction of the base portion 112 so that the bottom surface of the semiconductor package P held by the upper side of the brush unit 111 is held. Alternatively, foreign matter on the side may be removed.
참고로, 도 3을 참조하면, 제1 선형 구동 가이드(1132)는 보조 플레이트(1133)에 의해 베이스부(112)와 연결될 수 있다. 다시 말해, 베이스부(112)의 하부와 보조 플레이트(1133)가 연결되고, 보조 플레이트(1133)의 하부가 제1 선형 구동 가이드(1132)와 연결되는 형태로, 제1 선형 구동 가이드(1132)는 베이스부(112)와 연결될 수 있다. 또는, 다른 예로서, 제1 선형 구동 가이드(1132)는 베이스부(112)와 직접 연결될 수도 있다. 또한, 제1 선형 구동 가이드(1132) 및 제1 가이드 레일(1131)은 쌍을 이룰 수 있는데, 도 3을 참조하면, 이러한 쌍은 베이스부(112)의 길이 방향으로 복수 개 구비될 수 있다. 예시적으로, 제1 선형 구동 가이드(1132) 및 제1 가이드 레일(1131)로 이루어진 쌍 2 개가 간격을 두고 구비될 수 있다.For reference, referring to FIG. 3, the first linear driving guide 1132 may be connected to the base portion 112 by the auxiliary plate 1133. In other words, the lower portion of the base portion 112 and the auxiliary plate 1133 are connected, and the lower portion of the auxiliary plate 1133 is connected to the first linear drive guide 1132, and the first linear drive guide 1132. May be connected to the base portion 112. Alternatively, as another example, the first linear driving guide 1132 may be directly connected to the base portion 112. In addition, the first linear driving guide 1132 and the first guide rails 1131 may be paired. Referring to FIG. 3, the pair may be provided in plural in the length direction of the base part 112. In exemplary embodiments, two pairs of the first linear driving guide 1132 and the first guide rail 1131 may be provided at intervals.
또한, 제1 파지부(3)는, 평면 브러쉬 구조체(11)가 상술한 바와 같이 길이 방향으로 진동하는 경우, 평면 브러쉬 구조체(11)에 접촉된 상태인 파지한 반도체 패키지(P)가 폭 방향(베이스부(112)의 폭 방향)으로 진동되도록 폭 방향으로 진동할 수 있다. 다시 말해, 반도체 패키지(P)는 평면 브러쉬 구조체(11)에 접촉된 상태에서, 평면 브러쉬 구조체(11)가 길이 방향으로 진동할 때 길이 방향과 수직하는 폭 방향으로 진동할 수 있다. 이와 같이, 평면 브러쉬 구조체(11)의 길이 방향으로의 진동에 따라 반도체 패키지(P)의 표면 상의 이물질이 제거되는 상황에서 반도체 패키지(P) 또한 제1 파지부(3)에 의해 길이 방향과 수직하는 폭 방향으로 평면 브러쉬 구조체(11)에 대해 진동할 수 있으므로, 반도체 패키지(P) 표면 상의 이물질 제거 효과가 향상될 수 있다.In addition, when the planar brush structure 11 vibrates in the longitudinal direction as described above, the first grip part 3 holds the semiconductor package P held in contact with the planar brush structure 11 in the width direction. It can vibrate in the width direction so as to vibrate in the (width direction of the base portion 112). In other words, the semiconductor package P may vibrate in the width direction perpendicular to the longitudinal direction when the planar brush structure 11 vibrates in the longitudinal direction while being in contact with the planar brush structure 11. As described above, the semiconductor package P is also perpendicular to the longitudinal direction by the first holding part 3 in a situation in which foreign matter on the surface of the semiconductor package P is removed due to vibration in the longitudinal direction of the planar brush structure 11. Since it may vibrate with respect to the planar brush structure 11 in the width direction, the effect of removing foreign substances on the surface of the semiconductor package P may be improved.
또한, 평면 브러쉬 구조체(11)는 폭 방향(베이스부(112)의 폭 방향)으로 진동 할 수 있다. 도 3을 참조하면, 브러쉬부(1)는 베이스부(112)를 베이스부(112)의 폭 방향으로 진동시키는 제2 선형 구동 유닛(114)을 포함할 수 있다. 제2 선형 구동 유닛(114)은 베이스부(112)와 연결되는 제2 선형 구동 가이드(1142) 및 제2 선형 구동 가이드(1142)가 베이스부(112)의 폭 방향으로 이동 가능하게 하는 제2 가이드 레일(1141)을 포함할 수 있다. 제2 가이드 레일(1141)은 베이스부(112)의 폭 방향과 평행한 방향으로 연장 구비될 수 있고, 제2 선형 구동 가이드(1142)는 제2 가이드 레일(1141) 상에서 왕복 이동할 수 있다. 이에 따라, 베이스부(112)는 그의 길이 방향으로 왕복 이동하며 그의 폭 방향으로 진동할 수 있고, 브러쉬 유닛(111)은 베이스부(112)의 폭 방향으로 왕복 이동되며 진동할 수 있다. 이와 같이, 반도체 패키지(P)가 접촉된 상태일 때 평면 브러쉬 구조체(11)가 베이스부(112)의 폭 방향으로 진동함으로써 반도체 패키지(P) 상의 이물질이 제거될 수 있다.In addition, the planar brush structure 11 may vibrate in the width direction (the width direction of the base portion 112). Referring to FIG. 3, the brush part 1 may include a second linear driving unit 114 which vibrates the base part 112 in the width direction of the base part 112. The second linear drive unit 114 includes a second linear drive guide 1142 and a second linear drive guide 1142 connected to the base part 112 to move in the width direction of the base part 112. It may include a guide rail 1141. The second guide rail 1141 may be provided to extend in a direction parallel to the width direction of the base portion 112, and the second linear drive guide 1142 may reciprocate on the second guide rail 1141. Accordingly, the base portion 112 may reciprocate in its longitudinal direction and vibrate in the width direction thereof, and the brush unit 111 may reciprocate in the width direction of the base portion 112 and vibrate. As such, when the semiconductor package P is in contact with each other, the planar brush structure 11 may vibrate in the width direction of the base portion 112 to remove foreign substances on the semiconductor package P.
참고로, 제2 선형 구동 유닛(114)은 제1 선형 구동 유닛(113)의 하측에 구비될 수 있다. 예를 들어, 제2 선형 구동 유닛(114)의 제2 선형 구동 가이드(1142)는 제1 가이드 레일(1131)이 구비된 플레이트(1143)의 하부와 연결될 수 있다. 이에 따르면, 상술한 바와 같이, 제1 선형 구동 유닛(113)이 보조 플레이트(1133)를 통해 베이스부(112)와 연결되고, 제2 선형 구동 유닛(114)이 플레이트(1143)를 통해 제1 선형 구동 유닛(113)과 연결되는 형태로, 제2 선형 구동 가이드(1142)는 베이스부(112)와 연결될 수 있다. 이러한 경우, 제2 선형 구동 가이드(1142)가 제2 가이드 레일(1141) 상에서 이동하면, 제2 선형 구동 가이드(1142)와 플레이트(1143)를 통해 연결되는 제1 선형 구동 유닛(113) 및 제1 선형 구동 유닛(113)과 연결되는 베이스부(112)가 함께 이동 될 수 있고, 따라서, 제2 선형 구동 유닛(114)에 의한 폭 방향 왕복시 제1 선형 구동 유닛(113) 및 평면 브러쉬 구조체(11)가 함께 폭 방향으로 이동될 수 있다.For reference, the second linear driving unit 114 may be provided below the first linear driving unit 113. For example, the second linear drive guide 1142 of the second linear drive unit 114 may be connected to the lower portion of the plate 1143 provided with the first guide rail 1131. According to this, as described above, the first linear drive unit 113 is connected to the base portion 112 through the auxiliary plate 1133, and the second linear drive unit 114 is connected to the first through the plate 1143. In the form of being connected to the linear drive unit 113, the second linear drive guide 1142 may be connected to the base portion 112. In this case, when the second linear drive guide 1142 moves on the second guide rail 1141, the first linear drive unit 113 and the first linear drive unit 1114 and the second linear drive guide 1142 are connected to each other through the plate 1143. The base 112 connected to the first linear drive unit 113 may be moved together, and thus, the first linear drive unit 113 and the planar brush structure during the widthwise reciprocation by the second linear drive unit 114. 11 can be moved together in the width direction.
또한, 도 3을 참조하면, 제2 선형 구동 가이드(1142) 및 제2 가이드 레일(1141)은 쌍을 이룰 수 있는데, 이러한 쌍은 베이스부(112)의 길이 방향으로 복수 개 구비될 수 있다. 예시적으로, 제2 선형 구동 가이드(1142) 및 제2 가이드 레일(1141)로 이루어진 쌍 2 개가 간격을 두고 구비될 수 있다.In addition, referring to FIG. 3, the second linear driving guide 1142 and the second guide rail 1141 may be paired, and a plurality of such pairs may be provided in the longitudinal direction of the base part 112. For example, two pairs of the second linear driving guide 1142 and the second guide rail 1141 may be provided at intervals.
또한, 도면에는 자세히 도시되지 않았지만, 제1 선형 구동 유닛(113)은 제1 선형 구동 가이드(1132)의 선형 이동의 동력을 제공하는 모터를 포함할 수 있다. 또한, 제2 선형 구동 유닛(114)은 제2 선형 구동 가이드(1142)의 선형 이동의 동력을 제공하는 모터를 포함할 수 있다. 또한, 다른 실시예에 따르면, 제1선형구동 유닛(113)과 제2선형 구동 유닛(114)에 이동 동력을 공통으로 제공하는 모터가 포함될 수 있다. 이와 같이, 제1 선형 구동 가이드(1132) 및 제2 선형 구동 가이드(1142) 각각은 모터로부터 동력을 공급받아 선형 이동할 수 있다.In addition, although not shown in detail in the drawings, the first linear drive unit 113 may include a motor that provides power for linear movement of the first linear drive guide 1132. In addition, the second linear drive unit 114 may include a motor that provides power for linear movement of the second linear drive guide 1142. In addition, according to another embodiment, a motor that provides a common movement power to the first linear drive unit 113 and the second linear drive unit 114 may be included. As such, each of the first linear drive guide 1132 and the second linear drive guide 1142 may be linearly moved by receiving power from a motor.
또한, 제1 파지부(3)는, 평면 브러쉬 구조체(11)가 상술한 바와 같이 폭 방향으로 진동하는 경우, 평면 브러쉬 구조체(11)에 접촉된 상태인 파지한 반도체 패키지(P)가 길이 방향(베이스부(112)의 길이 방향)으로 진동되도록 길이 방향으로 진동할 수 있다. 다시 말해, 반도체 패키지(P)는 평면 브러쉬 구조체(11)에 접촉된 상태에서, 평면 브러쉬 구조체(11)가 폭 방향으로 진동할 때 폭 방향과 수직하는 길이 방향으로 진동할 수 있다. 이와 같이, 평면 브러쉬 구조체(11)의 폭 방향으로의 진동에 따라 반도체 패키지(P)의 표면 상의 이물질이 제거되는 상황에서 반도체 패키지(P) 또한 제1 파지부(3)에 의해 폭 방향과 수직하는 길이 방향으로 평면 브러쉬 구조체(11)에 대해 진동할 수 있으므로, 반도체 패키지(P) 표면 상의 이물질 제거 효과가 향상될 수 있다.In addition, when the planar brush structure 11 vibrates in the width direction as described above, the first gripper 3 holds the semiconductor package P held in contact with the planar brush structure 11 in the longitudinal direction. It may vibrate in the longitudinal direction so as to vibrate in the (length direction of the base portion 112). In other words, the semiconductor package P may vibrate in the longitudinal direction perpendicular to the width direction when the flat brush structure 11 vibrates in the width direction while being in contact with the planar brush structure 11. As described above, the semiconductor package P is also perpendicular to the width direction by the first holding part 3 in a situation in which foreign matter on the surface of the semiconductor package P is removed due to vibration in the width direction of the planar brush structure 11. Since it may vibrate with respect to the planar brush structure 11 in the longitudinal direction, the effect of removing foreign substances on the surface of the semiconductor package P may be improved.
또한, 평면 브러쉬 구조체(11)는 상하 방향으로의 축의 둘레 방향으로 회전할 수 있다. 도 3을 참조하면, 브러쉬부(1)는 베이스부(112)를 상하 방향으로의 축의 둘레 방향으로 회전시키는 회전 유닛(115)을 포함할 수 있다.In addition, the planar brush structure 11 may rotate in the circumferential direction of the axis in the vertical direction. Referring to FIG. 3, the brush part 1 may include a rotation unit 115 that rotates the base part 112 in the circumferential direction of the axis in the vertical direction.
예시적으로, 회전 유닛(115)은 모터로부터 회전력을 제공받는 회전부(1153), 회전부(1153)로부터 상측 방향으로 연장되는 보조 회전축(도 3에서 보조 회전축은 하우징(1151) 내부에 수용되어 있을 수 있음) 및 보조 회전축으로부터 상측으로 돌출 연장되어 베이스부(112)와 연결되는 주 회전축(1152)을 포함할 수 있다. 주 회전축(1152)은 그의 중심이 보조 회전축의 중심에 대하여 편심되도록 구비될 수 있다. 이에 따라, 보조 회전축의 회전시, 주 회전축(1152)은 보조 회전축의 둘레 방향으로 이동할 수 있다. 이에 따라, 주 회전축(1152)은 상하 방향으로의 축의 둘레 방향을 따라 원을 그리며 이동할 수 있고, 베이스부(112)가 주 회전축(1152)과 연결된 평면 브러쉬 구조체(11)는 원을 그리며 이동할 수 있다. 이와 같이, 평면 브러쉬 구조체(11)는 원을 그리며 이동함으로써 진동할 수 있다. 예를 들어, 주 회전축(1152)은 둘레의 길이가 4π mm인 원을 그리며 이동할 수 있다. 이에 따라, 평면 브러쉬 구조체(11)는 둘레의 길이가 4π mm인 원을 그리며 이동할 수 있다. 참고로, 도 3을 참조하면, 브러쉬부(1)가 제1 선형 구동 유닛(113), 제2 선형 구동 유닛(114) 및 회전 유닛(115)을 포함하는 경우, 회전부(1153) 및 보조 회전축은 제1 및 제2 선형 구동 유닛(113, 114)의 하측에 위치할 수 있고, 주 회전축(1152)은 그의 원을 그리는 이동 경로가 확보되도록 제1 및 제2 선형 구동 유닛(113, 114)을 통과하며 베이스부(112)의 하측에 연결될 수 있다.For example, the rotating unit 115 may include a rotating part 1153 which receives rotational force from a motor and an auxiliary rotating axis extending upward from the rotating part 1153 (in FIG. 3, the auxiliary rotating axis may be accommodated inside the housing 1151). And a main rotation shaft 1152 extending upwardly from the auxiliary rotation shaft and connected to the base portion 112. The primary axis of rotation 1152 may be provided such that its center is eccentric with respect to the center of the secondary axis of rotation. Accordingly, when the auxiliary rotation shaft is rotated, the main rotation shaft 1152 can move in the circumferential direction of the auxiliary rotation shaft. Accordingly, the main rotation axis 1152 may move in a circle along the circumferential direction of the axis in the vertical direction, and the planar brush structure 11 in which the base portion 112 is connected to the main rotation axis 1152 may move in a circle. have. As such, the planar brush structure 11 may vibrate by moving in a circle. For example, the main axis of rotation 1152 can move in a circle with a circumference of 4π mm. Accordingly, the planar brush structure 11 may move in a circle having a circumference of 4π mm. For reference, referring to FIG. 3, when the brush unit 1 includes the first linear driving unit 113, the second linear driving unit 114, and the rotating unit 115, the rotating unit 1153 and the auxiliary rotating shaft are provided. May be positioned below the first and second linear drive units 113 and 114, and the main axis of rotation 1152 is the first and second linear drive units 113 and 114 to ensure a moving path that draws a circle thereof. Passing through it may be connected to the lower side of the base portion (112).
또한, 제1 파지부(3)는, 평면 브러쉬 구조체(11)가 상술한 바와 같이 둘레 방향으로의 회전 이동에 따라 진동하는 경우, 평면 브러쉬 구조체(11)에 접촉된 상태인 파지한 반도체 패키지(P)가 평면 브러쉬 구조체(11)의 이동 방향의 역 방향으로 회전되도록 진동할 수 있다. 예를 들어, 평면 브러쉬 구조체(11)는 상술한 바와 같이 원을 그리며 이동할 수 있는데, 이 과정에서, 그리는 원의 시계 방향 또는 반시계 방향을 이동 방향으로 설정하여 이동하며 원을 그릴 수 있다. 제1 파지부(3)는 상기와 같은 평면 브러쉬 구조체(11)의 이동 방향(시계 방향 또는 반시계 방향)의 역 방향(반시계 방향 또는 시계 방향)으로 반도체 패키지(P)가 회전하도록 회전할 수 있다. 또는, 다른 예로서, 제1 파지부(3)는 평면 브러쉬 구조체(11)의 이동 방향(시계 방향 또는 반시계 방향)의 역 방향(반시계 방향 또는 시계 방향)으로 제1파지부(3)의 중심축 및 그가 파지한 반도체 패키지(P)가 원을 그리며 이동하도록 구동함으로써 진동할 수 있다. In addition, when the planar brush structure 11 vibrates according to the rotational movement in the circumferential direction as described above, the first gripper 3 holds the held semiconductor package in a state of being in contact with the planar brush structure 11 ( P) may be oscillated to rotate in the reverse direction of the moving direction of the planar brush structure 11. For example, the planar brush structure 11 may move in a circle as described above. In this process, the planar brush structure 11 may move by drawing a clockwise or counterclockwise direction of the circle in a moving direction to draw a circle. The first gripping portion 3 may rotate to rotate the semiconductor package P in the reverse direction (counterclockwise or clockwise) of the movement direction (clockwise or counterclockwise) of the planar brush structure 11 as described above. Can be. Alternatively, as another example, the first gripping portion 3 may be formed in the first gripping portion 3 in the reverse direction (counterclockwise or clockwise) of the movement direction (clockwise or counterclockwise) of the planar brush structure 11. Can be vibrated by driving the central axis of and the semiconductor package P held therein to move in a circle.
또한, 본원의 일 실시예에 따르면, 평면 브러쉬 구조체(11)는 상하 방향으로 진동할 수 있다. 이러한 경우, 평면 브러쉬 구조체(11)는 베이스부(112)를 상하 이동(상하 왕복 이동)시키는 상하 구동 유닛을 포함할 수 있다.In addition, according to one embodiment of the present application, the planar brush structure 11 may vibrate in the vertical direction. In this case, the planar brush structure 11 may include a vertical driving unit for vertically moving the vertical portion 112 (vertically up and down).
또한, 도 3을 참조하면, 브러쉬부(1)는 롤 브러쉬 구조체(12)가 회전되도록, 축부(121)에 회전력을 전달하는 회전력 전달 구조체(123)를 포함할 수 있다. 회전력 전달 구조체(123)는 모터로부터의 외력을 제공받는 외력 수용 유닛(1232) 및 외력 수용 유닛(1232)의 회전력을 축부(121)의 회전력으로 전환하는 벨트 구조체(1231)를 포함할 수 있다. 외력 수용 유닛(1232)의 회전축은 축부(121)와 평행할 수 있다.In addition, referring to FIG. 3, the brush part 1 may include a rotation force transmission structure 123 that transmits a rotational force to the shaft part 121 so that the roll brush structure 12 is rotated. The rotational force transmission structure 123 may include an external force receiving unit 1232, which receives an external force from the motor, and a belt structure 1231 that converts the rotational force of the external force receiving unit 1232 into the rotational force of the shaft 121. The axis of rotation of the external force receiving unit 1232 may be parallel to the shaft portion 121.
또한, 도 3을 참조하면, 롤 브러쉬 구조체(12)의 외력 수용 유닛(1232)은 평면 브러쉬 구조체(11)의 회전부(1153)를 회전시키는 모터의 외력을 공용할 수 있다. 예를 들어, 도 3을 참조하면, 브러쉬부(1)는 모터로부터 연장되어 회전부(1153)를 회전시키는 벨트(1239)의 외력을 외력 수용 유닛(1232)에 전달하는 보조 외력 수용 유닛(1234)을 포함할 수 있다. 보조 외력 수용 유닛(1243)은 그의 회전축이 회전부(1153)의 회전축과 평행할 수 있고, 모터로부터 연장되는 벨트(1239)는 회전부(1153) 및 보조 외력 수용 유닛(1234)을 거쳐 회주하며 회전부(1153) 및 보조 외력 수용 유닛(1234)을 회전시킬 수 있다. 보조 외력 수용 유닛(1234)의 회전력은, 외력 수용 유닛(1232)에 구비되어 보조 외력 수용 유닛(1234)과 맞물리는 기어(1233)를 통해 외력 수용 유닛(1232)에 전달될 수 있고, 이에 따라, 모터로부터 연장되는 벨트(1239)에 의해 전달되는 모터의 외력은 보조 외력 수용 유닛(1234) 및 기어(1233)를 거쳐 외력 수용 유닛(1232)에 전달될 수 있고, 외력 수용 유닛(1232)에 전달된 외력은 축부(121)를 회전시킬 수 있다.In addition, referring to FIG. 3, the external force receiving unit 1232 of the roll brush structure 12 may share an external force of a motor for rotating the rotating part 1153 of the planar brush structure 11. For example, referring to FIG. 3, the brush unit 1 extends from the motor to transmit the external force of the belt 1239 for rotating the rotating unit 1153 to the external force receiving unit 1232. It may include. The auxiliary external force receiving unit 1243 may have its axis of rotation parallel to the axis of rotation of the rotating part 1153, and the belt 1239 extending from the motor rotates through the rotating part 1153 and the auxiliary external force receiving unit 1234 and rotates the rotating part ( 1153 and the auxiliary external force receiving unit 1234 may be rotated. The rotational force of the auxiliary external force receiving unit 1234 may be transmitted to the external force receiving unit 1232 through a gear 1233 provided in the external force receiving unit 1232 and engaged with the auxiliary external force receiving unit 1234. The external force of the motor transmitted by the belt 1239 extending from the motor may be transmitted to the external force receiving unit 1232 via the auxiliary external force receiving unit 1234 and the gear 1233, and to the external force receiving unit 1232. The transmitted external force may rotate the shaft 121.
또한, 도 3을 참조하면, 본 브러쉬 장치는 평면 브러쉬 구조체(11) 및 롤 브러쉬 구조체(12)의 하측에 구비되어 낙하하는 이물질을 흡입하는 집진기(13)를 포함할 수 있다. 집진기(13)는 이물질이 낙하되는 수용부(131) 및 수용부에 낙하되는 이물질을 흡입하는 흡입부(132)를 포함할 수 있다. 수용부(131)는 흡입부(132)에 의해 이물질이 흡입될 수 있도록, 흡입부(132)와 연결되는 홀이 형성될 수 있다. 예를 들어, 홀은 수용부(131)의 바닥면에 형성될 수 있다.In addition, referring to FIG. 3, the brush device may include a dust collector 13 provided at a lower side of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 to suck foreign substances that fall. The dust collector 13 may include an accommodating part 131 for dropping foreign matters and a suction part 132 for sucking foreign matters falling on the accommodating part. The receiving part 131 may have a hole connected to the suction part 132 so that foreign matter may be sucked by the suction part 132. For example, the hole may be formed in the bottom surface of the receiving portion 131.
또한, 본 브러쉬 장치는 정렬부(2)를 포함할 수 있다. 정렬부(2)는 반도체 패키지 절단 및 검사 장치에서 브러쉬부(1)의 일측에 위치할 수 있다. 정렬부(2)는 브러쉬부(1)에 대한 접촉이 완료된, 다시 말해, 평면 브러쉬 구조체(11) 및 롤 브러쉬 구조체(12) 중 하나 이상에 대한 접촉이 완료된 반도체 패키지(P)가 적재될 수 있다. The brush device may also include an alignment unit 2. The alignment unit 2 may be located at one side of the brush unit 1 in the semiconductor package cutting and inspection apparatus. The alignment unit 2 may be loaded with a semiconductor package P in which contact with the brush unit 1 is completed, that is, contact with one or more of the planar brush structure 11 and the roll brush structure 12 is completed. have.
상술한 바와 같이, 제1 파지부(3)는 흡착을 통해 반도체 패키지(P)를 파지할 수 있는데, 도 4와 도 5를 비교하여 참조하면, 브러쉬부(1)에 의한 브러쉬질 과정에서 반도체 패키지(P)는 브러쉬질 전에 가졌던 정위치(초기 위치)(도 4 참조)에서 어긋나게 외측으로 이동(도 5 참조)했을 수 있다. 그런데, 이와 같이, 반도체 패키지(P)가 초기 위치에서 어긋나게 파지된 상태로 비전 검사 장치로 이동되면, 반도체 패키지(P)의 어긋난 위치로 인하여 검사 공정의 효율 및 정확성이 저하될 수 있다. 본 브러쉬 장치는 이를 방지하기 위해, 브러쉬질 후에 비전 검사 장치의 상부로 이동하게 되는 반도체 패키지(P)가 파지부에 파지된 상태가 정렬될 수 있도록, 브러쉬부(1)에 대한 접촉이 완료된 반도체 패키지(P)를 정렬부(2)에 적재하여 반도체 패키지(P)를 정렬할 수 있다.As described above, the first gripper 3 may grip the semiconductor package P through adsorption. Referring to FIG. 4 and FIG. 5, the first gripper 3 may grip the semiconductor in the brushing process by the brush 1. The package P may have shifted outwardly (see FIG. 5) from the home position (initial position) (see FIG. 4) it had before brushing. However, when the semiconductor package P is moved to the vision inspection apparatus in a state in which the semiconductor package P is deviated from the initial position, the efficiency and accuracy of the inspection process may be degraded due to the misaligned position of the semiconductor package P. In order to prevent this, the brush device includes a semiconductor in which contact with the brush part 1 is completed so that the state in which the semiconductor package P, which is moved to the upper part of the vision inspection apparatus after brushing, is held in the grip part can be aligned. The semiconductor package P may be aligned by loading the package P into the alignment unit 2.
예를 들어, 도 6을 참조하면, 정렬부(2)는 그의 상면으로부터 하측으로 함몰 형성되어, 제1 파지부(3)가 파지한 반도체 패키지(P)가 개별적으로 적재되는 함몰부(21)를 포함할 수 있다. 다시 말해, 제1 파지부(3)는 그가 파지한 복수의 반도체 패키지(P) 각각이 정렬부(2)의 복수의 함몰부(21) 각각 내부에 안착되도록 반도체 패키지(P)에 대한 파지를 개별적으로 해제할 수 있다. 상술한 바와 같이, 제1 파지부(3)는 복수 개의 반도체 패키지(P)를 이송시킬 수 있는데, 함몰부(21)의 개수는 제1 파지부(3)가 이송시키는 반도체 패키지(P)의 개수와 동일하거나 그를 초과할 수 있다. For example, referring to FIG. 6, the alignment part 2 is recessed downwardly from an upper surface thereof, such that the recessed part 21 in which the semiconductor package P held by the first holding part 3 is individually loaded is provided. It may include. In other words, the first gripper 3 holds the grip on the semiconductor package P such that each of the plurality of semiconductor packages P held by the first gripper 3 is seated inside each of the plurality of recesses 21 of the alignment unit 2. Can be released individually. As described above, the first gripping portion 3 may transfer the plurality of semiconductor packages P, and the number of the recesses 21 is the number of the semiconductor packages P that the first gripping portion 3 transfers. It may be equal to or greater than the number.
또한, 도 6을 참조하면, 함몰부(21)의 내측면은 함몰부의 저면과 어긋나게 함몰부(21) 내로 놓여지는 반도체 패키지(P)가 저면으로 이동되도록 비스듬한 경사면을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상술한 초기 위치에서 어긋나게 제1 파지부(3)에 파지된 상태의 반도체 패키지(P)는 함몰부(21)에 놓일때 함몰부(21)의 저면과 어긋난 위치에 놓여질 수 있다. 그런데, 본 브러쉬 장치에 의하면, 함몰부(21)의 내측면이 비스듬한 경사면을 포함할 수 있기 때문에, 반도체 패키지(P)가 함몰부(21)의 저면과 어긋난 위치에 놓이더라도, 경사면을 따라 이동(예를 들어, 슬라이드 이동)되어 함몰부(21)의 저면에 안착될 수 있다.In addition, referring to FIG. 6, the inner surface of the recess 21 may include an inclined surface inclined so that the semiconductor package P placed in the recess 21 may be shifted to the bottom of the recess 21. For example, the semiconductor package P in a state of being gripped by the first gripper 3 at a position offset from the initial position described above may be placed in a position that is offset from the bottom of the recess 21 when placed in the recess 21. . By the way, according to this brush apparatus, since the inner side surface of the recessed part 21 may include the inclined surface, even if the semiconductor package P is located in the position which shifted from the bottom face of the recessed part 21, it moves along a sloped surface. (Eg, slide movement) to be seated on the bottom surface of the depression 21.
또한, 함몰부(21)의 저면 중 일부(예를 들어, 함몰부(21)의 저면의 중앙)에는 진공압을 가하거나 해제하기 위한 진공통로(22)가 형성될 수 있다. 따라서, 파지부(3)에 파지된 상태의 반도체 패키지(P)는 함몰부(21)에 놓일때 함몰부(21)의 저면으로부터 인가되는 진공압에 의하여 반도체 패키지(P)가 신속하기 함몰부(21)의 정 위치에 놓일 수 있다.In addition, a part of the bottom of the recess 21 (for example, a center of the bottom of the recess 21) may be formed with a vacuum passage 22 for applying or releasing a vacuum pressure. Therefore, when the semiconductor package P held by the gripper 3 is placed in the recess 21, the semiconductor package P is quickly recessed by a vacuum pressure applied from the bottom of the recess 21. Can be placed in the position of (21).
또한, 본 브러쉬 장치는 제2 파지부를 포함할 수 있다. 제2 파지부는 정렬부(2)에 개별적으로 적재되어 위치가 정렬된 반도체 패키지(P)를 파지하여 검사 장치로 이송할 수 있다. 따라서, 함몰부(21)의 저면의 형상 및 면적은 제2 파지부가 함몰부(21)의 저면 상에 놓이는 반도체 패키지(P)를 파지하였을 때 반도체 패키지(P)가 정위치(예를 들어, 반도체 패키지(P)가 제2 파지부에 파지된 상태로 검사 장치에 의해 검사될 수 있는 위치)를 가지고 제2 파지부에 파지될 수 있도록 형성될 수 있다. 또한, 제2 파지부는 복수 개의 반도체 패키지(P)를 파지할 수 있는데, 예를 들어 8 개의 반도체 패키지(P)를 파지할 수 있다.In addition, the brush device may include a second gripping portion. The second gripper may hold the semiconductor package P, which is individually stacked on the alignment unit 2 and aligned, and may be transferred to the inspection apparatus. Therefore, the shape and the area of the bottom surface of the recess 21 are such that the semiconductor package P is in the correct position (for example, when the second gripper grips the semiconductor package P on the bottom of the recess 21). The semiconductor package P may be formed to be gripped by the second gripper with a position that can be inspected by the inspection apparatus while being held by the second gripper. In addition, the second gripping portion may hold a plurality of semiconductor packages P, for example, may hold eight semiconductor packages P. FIG.
이와 같이, 본 브러쉬 장치에 따르면, 건조 공정이 마무리된 복수의 반도체 패키지(P)를 소정의 테이블로부터 제1파지부(3)가 파지하여 브러쉬부(1)의 브러쉬질을 통해 반도체 패키지(P)에 부착되어 있는 이물질을 제거하며, 다만, 브러쉬질 과정에서 제1파지부(3)의 파지위치가 어긋날 수 있고, 그로 인해 비전 검사 장치의 반도체 패키지(P)의 위치 인식 오류 등으로 인해 비전 검사의 정확도가 저하된다. 따라서, 본 브러쉬 장치는 브러쉬질 과정 후 곧바로 비전 검사를 수행하지 않고, 파지부의 파지 위치를 정렬하기 위하여 브러쉬질이 완료된 복수의 반도체 패키지(P)를 정렬부(2)에 재치한 후 제2파지부가 반도체 패키지를 정위치에 파지하여 비전 검사 장치의 상부로 이동할 수 있다.As described above, according to the present brush apparatus, the first holding part 3 grips a plurality of semiconductor packages P having a drying process completed from a predetermined table, and the semiconductor package P is brushed through brushing of the brush part 1. ), But the gripping position of the first gripping portion (3) can be shifted in the brushing process, the vision due to the position recognition error of the semiconductor package (P) of the vision inspection device The accuracy of the test is reduced. Therefore, the brush device does not perform the vision inspection immediately after the brushing process, and in order to align the gripping positions of the gripping parts, the plurality of brushed semiconductor packages P are placed in the alignment part 2 and then the second The gripping portion may move the upper portion of the vision inspection device by holding the semiconductor package in place.
또한, 도 1을 참조하면, 본 브러쉬 장치에 있어서, 브러쉬부(1)는 이동이 가능하다. 이를 위해, 본 브러쉬 장치는 브러쉬부(1)의 이동을 가이드하는 레일부(5)를 포함할 수 있다. 따라서, 제1파지부(3)에 의해 복수의 반도체 패키지(P)가 파지된 상태에서 브러쉬부(1)가 레일부(5)를 따라 이동함으로써 반도체 패키지(P)의 하면 및 측면이 브러쉬질 될 수 있다. 1, in the brush apparatus, the brush part 1 is movable. To this end, the brush device may include a rail portion 5 for guiding the movement of the brush portion 1. Therefore, the brush part 1 moves along the rail part 5 while the plurality of semiconductor packages P are held by the first holding part 3, thereby brushing the bottom and side surfaces of the semiconductor package P. Can be.
전술한 본원의 설명은 예시를 위한 것이며, 본원이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본원의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present application is intended for illustration, and it will be understood by those skilled in the art that the present invention may be easily modified in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present application. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.
본원의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present application is indicated by the following claims rather than the above description, and it should be construed that all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are included in the scope of the present application.

Claims (10)

  1. 반도체 패키지 검사 장치에 적용 가능한 브러쉬 장치로서,A brush device applicable to a semiconductor package inspection device,
    평면 브러쉬 구조체 및 롤 브러쉬 구조체를 포함하는 브러쉬부; 및A brush unit including a planar brush structure and a roll brush structure; And
    반도체 패키지를 파지하고, 파지한 반도체 패키지를 상기 평면 브러쉬 구조체 및 상기 롤 브러쉬 구조체 중 하나 이상에 접촉시키는 제1 파지부를 포함하되,A first holding part for holding a semiconductor package and contacting the held semiconductor package with at least one of the planar brush structure and the roll brush structure,
    상기 평면 브러쉬 구조체 및 상기 롤 브러쉬 구조체 각각은 반도체 패키지가 접촉되면 소정 시간 진동하는 것인, 브러쉬 장치.And each of the planar brush structure and the roll brush structure vibrate a predetermined time when the semiconductor package is in contact.
  2. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 평면 브러쉬 구조체는,The flat brush structure,
    베이스부; 및A base portion; And
    상기 베이스부로부터 상측으로 돌출되어, 상기 베이스부의 길이 방향 및 폭 방향을 따라 배치되는 복수의 브러쉬 유닛을 포함하고,A plurality of brush units protruding upward from the base part and disposed along a length direction and a width direction of the base part,
    상기 제1 파지부는 파지한 반도체 패키지를 상기 브러쉬 유닛에 접촉시키는 것인, 브러쉬 장치.And the first gripping portion contacts the gripping semiconductor package with the brush unit.
  3. 제2항에 있어서,The method of claim 2,
    상기 평면 브러쉬 구조체는, 상기 길이 방향으로의 진동, 상기 폭 방향으로의 진동 및 상하 방향으로의 축의 둘레 방향으로의 이동에 따른 진동이 가능한 것인, 브러쉬 장치.The brush device of the planar brush structure, the vibration in the longitudinal direction, the vibration in the width direction and the vibration in the circumferential direction of the axis in the vertical direction is possible.
  4. 제3항에 있어서,The method of claim 3,
    상기 제1 파지부는,The first gripping portion,
    상기 평면 브러쉬 구조체가 상기 길이 방향으로 진동 하는 경우, 상기 평면 브러쉬 구조체에 접촉된 상태인 파지한 반도체 패키지가 상기 폭 방향으로 진동되도록 상기 폭 방향으로 진동하고,When the planar brush structure vibrates in the longitudinal direction, the gripped semiconductor package in contact with the planar brush structure vibrates in the width direction so as to vibrate in the width direction,
    상기 평면 브러쉬 구조체가 상기 폭 방향으로 진동 하는 경우, 파지한 반도체 패키지가 상기 길이 방향으로 진동되도록 상기 길이 방향으로 진동하며,When the planar brush structure vibrates in the width direction, the gripped semiconductor package vibrates in the longitudinal direction to vibrate in the longitudinal direction,
    평면 브러쉬 구조체가 상기 둘레 방향으로의 이동에 따라 진동하는 경우, 파지한 반도체 패키지가 상기 평면 브러쉬 구조체의 이동 방향의 역 방향으로 회전되도록 진동하는 것인, 브러쉬 장치.And when the planar brush structure vibrates with movement in the circumferential direction, the gripping semiconductor package vibrates so as to rotate in a direction opposite to the moving direction of the planar brush structure.
  5. 제3항에 있어서,The method of claim 3,
    상기 브러쉬부는,The brush unit,
    상기 베이스부를 상기 길이 방향으로 이동시키는 제1 선형 구동 유닛; A first linear drive unit which moves the base part in the longitudinal direction;
    상기 베이스부를 상기 폭 방향으로 이동시키는 제2 선형 구동 유닛; 및A second linear drive unit which moves the base part in the width direction; And
    상기 베이스부를 상기 둘레 방향으로 회전시키는 회전 유닛을 더 포함하는 것인, 브러쉬 장치. And a rotating unit for rotating the base portion in the circumferential direction.
  6. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 롤 브러쉬 구조체는,The roll brush structure,
    길이 방향이 상기 베이스부의 길이 방향과 평행하도록 배치되는 축부; 및An axis portion disposed such that a longitudinal direction thereof is parallel to a longitudinal direction of the base portion; And
    상기 축부의 둘레를 따라 나선 형태로 연장 구비되는 브러쉬 유닛을 포함하되,Including a brush unit extending in the form of a spiral along the circumference of the shaft,
    상기 평면 브러쉬 구조체의 후방에 구비되는 것인, 브러쉬 장치.Will be provided in the rear of the flat brush structure, the brush device.
  7. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 상기 평면 브러쉬 구조체 및 상기 롤 브러쉬 구조체 중 하나 이상에 대한 접촉이 완료된 반도체 패키지가 적재되는 정렬부를 더 포함하되,The semiconductor device may further include an alignment unit in which a semiconductor package having contact with at least one of the planar brush structure and the roll brush structure is loaded.
    상기 정렬부는 그의 상면으로부터 하측으로 함몰 형성되어, 상기 제1 파지부가 파지한 반도체 패키지가 개별적으로 적재되는 함몰부를 포함하는 것인, 브러쉬 장치.And the alignment portion is recessed downward from an upper surface thereof, and includes a recess in which the semiconductor package held by the first grip portion is individually stacked.
  8. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein
    상기 함몰부의 내측면은, 상기 함몰부의 저면과 어긋나게 상기 함몰부 내로 놓여지는 반도체 패키지가 상기 저면으로 이동되도록 비스듬한 경사면을 포함하는 것인, 브러쉬 장치.The inner side surface of the recessed portion, the brush device comprising a slanted inclined surface so as to move the semiconductor package placed in the recessed portion to the bottom surface to deviate from the bottom surface of the recessed portion.
  9. 제7항에 있어서, The method of claim 7, wherein
    상기 정렬부에 개별적으로 적재되는 반도체 패키지를 파지하여 비전 검사부로 이송시키는 제2 파지부를 더 포함하는, 브러쉬 장치.And a second gripping part for gripping and transporting the semiconductor packages individually stacked on the alignment part to the vision inspection part.
  10. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 평면 브러쉬 구조체 및 상기 롤 브러쉬 구조체의 하측에 구비되어 낙하하는 이물질을 흡입하는 집진기를 더 포함하는, 브러쉬 장치.And a dust collector provided under the planar brush structure and the roll brush structure to suck foreign matter falling.
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