WO2019244997A1 - フッ素樹脂フィルム - Google Patents
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- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
Definitions
- the present invention relates to a fluororesin film whose surface has been modified and hydrophilically treated.
- the present invention also relates to a laminate using a fluororesin film.
- Fluororesin has excellent properties such as heat resistance, weather resistance, chemical resistance, peeling properties, and low dielectric properties.It is used not only as a single body in molded products, but also as a coating material. Lamination with materials has been considered. However, the surface energy of the fluororesin is small, and it is difficult to bond the fluororesin to a different material.
- the problem to be solved by the present invention is that at least one surface has high adhesiveness to different materials (especially addition type silicone rubber having a SiH group or rubber having a functional group such as a hydroxyl group or a carboxyl group),
- An object of the present invention is to provide a fluororesin film having excellent properties such as heat resistance, weather resistance, chemical resistance, releasability, and low dielectric properties peculiar to the fluororesin.
- Another object to be solved by the present invention is to provide a laminate in which the above-mentioned fluororesin film is arranged on the surface.
- the inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-described problems, and as a result, using a method of atmospheric pressure creeping discharge plasma treatment, silicon atoms, oxygen atoms, nitrogen atoms, and carbon atoms on the surface of the fluororesin film.
- Forming a composition containing the compound, and when the composition has a composition in which the atomic ratio of carbon atoms to silicon atoms and the atomic ratio of carbon atoms to oxygen atoms fall within specific ranges the above-mentioned problem is solved.
- the present invention has been completed.
- the present invention is a fluororesin film on which at least one surface is subjected to a hydrophilic treatment, wherein the treatment product formed on the hydrophilic treatment surface contains silicon atoms, oxygen atoms, nitrogen atoms, and carbon atoms.
- a composition comprising: a composition having an atomic ratio obtained by X-ray photoelectron spectroscopy, wherein the atomic number ratio of silicon atoms / the atomic number of carbon atoms (Si / C) is 0.2 or less;
- a fluorine resin film having a ratio of the number of oxygen atoms / the number of carbon atoms (O / C) of 0.1 or more.
- the above-mentioned hydrophilized surface is preferably formed by a plasma treatment in which an alkoxysilane coupling agent is introduced into a plasma excitation gas.
- the arithmetic average roughness Ra of the hydrophilized surface is 0.5 ⁇ m or less.
- Ra and RSm are defined in JIS B 0601-2001.
- the wettability of the above-mentioned hydrophilized surface is 40 mN / m or more.
- the wettability of the film is specified in JIS K6768: 1999.
- the present invention also relates to a tube-shaped fluororesin film having a thickness of 0.1 mm or less.
- the present invention also relates to a laminate in which a fluororesin film having at least one surface subjected to a hydrophilic treatment is disposed on a surface layer.
- the fluororesin film of the present invention has high adhesiveness to heterogeneous materials, in particular, an addition type silicone rubber having a SiH group, a rubber having a functional group such as a hydroxyl group or a carboxyl group, and has heat resistance and weather resistance specific to the fluororesin. It has excellent properties such as chemical resistance, peelability, and low dielectric properties.
- the fluororesin film of the present invention is suitable for laminating a fluororesin on a surface of rubber or the like.
- FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a discharge electrode. It is a figure explaining the example of arrangement of an inside diameter regulation member, a discharge electrode, and a fluororesin film.
- the fluororesin film of the present invention when the composition of the composition formed on the film surface by the hydrophilization treatment is represented by the atomic ratio obtained by measurement by X-ray photoelectron spectroscopy, the number of silicon atoms / carbon atoms Is characterized in that the atomic ratio (Si / C) is 0.2 or less and the atomic ratio of oxygen atoms / carbon atoms (O / C) is 0.1 or more.
- the surface of the fluororesin that is the target of the hydrophilizing treatment has a high affinity with rubber or the like. The purpose is to form a silane compound.
- the composition formed on the fluororesin film surface contains as little silane compound as possible.
- the fluororesin film of the present invention is preferably extruded in a tube shape.
- a molten resin is extruded from a mold (die) attached to the tip of the extruder to the outside, and is contacted with the inner surface of the tube-shaped resin and cooled. It is cooled and solidified by the inner diameter regulating member and molded.
- a discharge electrode for plasma-treating the inner surface of the tube-shaped fluororesin film is connected to the tip of the inner diameter regulating member, and further, a plasma is generated in a gap between the tube-shaped fluororesin film and the discharge electrode. Is introduced and maintained at a constant pressure.
- the inner surface of the extruded tube-shaped fluororesin film is subjected to a hydrophilic treatment while passing outside the discharge electrode.
- FIG. 1 is a schematic view showing an example of a discharge electrode for subjecting a fluororesin film formed into a tube to a hydrophilic treatment.
- FIG. 1A is a side view of the discharge electrode 1
- FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.
- the conductor 120 is arranged on the inner surface of the cylindrical dielectric 110.
- a high-voltage-side conductor 130 in which a pattern is formed by a conductor component is arranged.
- the pattern of the high-voltage-side conductor 130 may be in the form of a mesh, a bar, a spiral, or the like.
- the cylindrical dielectric 110 is not limited to a cylinder, and may have a cylindrical shape corresponding to the shape of the fluororesin film, such as an ellipse, a triangle, or a square.
- the material forming the dielectric 110 is a material having excellent heat resistance and dielectric properties, such as ceramics such as alumina and boron nitride, glass, and quartz.
- a resin having excellent heat resistance and dielectric properties, such as a fluororesin can be molded into a cylindrical shape and used as the dielectric 110.
- a conductive substance such as copper, silver, gold, platinum, palladium, tungsten, nickel, aluminum, or carbon can be used as a conductive substance such as copper, silver, gold, platinum, palladium, tungsten, nickel, aluminum, or carbon can be used.
- the above-described conductive substance can be used as a material forming the high-voltage-side conductor 130.
- a voltage is applied to the high voltage side conductor 130 disposed on the outer surface of the dielectric 110, and the conductor 120 on the inner surface of the dielectric 110 functions as a ground.
- the structure in which the inner and outer surfaces of the cylindrical dielectric 110 are sandwiched by a conductive substance enables the thickness of the dielectric 110 to be adjusted arbitrarily, and the range of adjustment of the conditions of the plasma processing by the atmospheric surface creeping discharge can be expanded. It is suitable for the hydrophilic treatment of the fluororesin film of the present invention.
- FIG. 2 is a side view showing an example of the discharge electrode 1 and the inner diameter regulating member 2 arranged inside the fluororesin tube A.
- the discharge electrode 1 is arranged before the inner diameter regulating member 2.
- the gap between the discharge electrode 1 and the fluororesin film A is determined by conditions such as the shape of the discharge electrode 1 and the voltage applied to the electrode, and is not limited to a specific range.
- a preferred gap is 0.1 to 8 mm, a particularly preferred gap is 0.1 to 5 mm, and a more preferred gap is 0.1 to 2.5 mm. The smaller the gap, the higher the plasma density, and the larger the gap, the lower the plasma density.
- a cooling medium flow path 310 for circulating a cooling medium inside the inner diameter regulating member 2 and the discharge electrode 1 may be provided to cool the cooling medium by flowing the cooling medium.
- a gas introduction path 320 for introducing a gas into the fluororesin film A is provided inside the inner diameter regulating member 2.
- the method of hydrophilizing the film surface is shown in the same step as the extrusion molding of the tubular fluororesin film. Hydrophilization treatment can also be performed by passing through a resin film.
- the discharge voltage in the hydrophilization treatment of the fluororesin film of the present invention is adjusted so that the temperature at which the fluororesin film is not deformed around the discharge electrode is maintained.
- the preferred voltage is 5 to 15 kV.
- the frequency in the hydrophilization treatment of the fluororesin film of the present invention is adjusted so that the dielectric of the discharge electrode is not damaged.
- Preferred such frequencies are between 5 and 50 kHz.
- the output in the hydrophilization treatment of the fluororesin film of the present invention is determined by the pattern, frequency and discharge voltage of the pressing-side conductor.
- the preferred output is 10-1000W.
- the two electrodes are arranged to face each other, a dielectric is arranged so as to cover the high-voltage side electrode, and a voltage is applied between the electrodes to generate a plasma to generate a plasma. It is also possible to perform treatment by electric discharge.
- the fluororesin film is not in the form of a tube, it can be subjected to a hydrophilization treatment by passing the film between two electrodes that have generated plasma by dielectric barrier discharge.
- An alkoxysilane coupling agent is used as a reaction gas to be mixed with a plasma excitation gas that is easily converted into plasma.
- a mixed gas of the plasma excitation gas and the vaporized alkoxysilane coupling agent is supplied to the gap between the fluororesin film and the discharge electrode, and when a voltage is applied to the discharge electrode, the plasma is generated from the conductor along the surface of the dielectric. Occurs.
- the lines of electric force reach far from the electrode surface, the lines of electric force in the space between the fluororesin film and the discharge electrode increase, and the plasma density increases.
- the hydrophilizing treatment of the fluororesin film of the present invention is preferably performed under atmospheric pressure, not under reduced pressure such as vacuum plasma treatment.By applying a high voltage under atmospheric pressure, the plasma is derived from an excited gas. Active species such as ions, radicals, and electrons are present at a high density, and the energy required for hydrophilization can be uniformly supplied to the film surface.
- the generated plasma comes into contact with the surface of the fluororesin film, and breaks the bond between the fluorine atom (F) and the carbon atom (C) to form radicals in the fluororesin on the surface of the fluororesin film.
- the plasma generated on the discharge electrode also acts on the alkoxysilane coupling agent mixed with the excitation gas.
- the bond is dissociated in a portion where the binding energy is low in the molecule, and a radical is formed.
- the radical generated on the surface of the fluororesin film reacts with the radical of the molecule derived from the silane coupling agent, and the molecules derived from the silane coupling agent undergo graft polymerization on the surface of the fluororesin film.
- the functional group on the side chain of the graft polymer chain derived from the silane coupling agent is hydrolyzed by water in the air to become a hydroxyl group.
- the surface of the fluororesin film of the present invention promotes graft polymerization of molecules derived from the silane coupling agent to form a long-chain polymerized chain, and further has a small number of bulky side chains. It reacts easily and has high adhesiveness. Conventionally, it was not possible to bond without a primer treatment, but it is possible to bond with a semi-cured rubber having a high hardness, and sufficient adhesiveness can be obtained.
- the alkoxysilane coupling agent used as a reaction gas has a molecular structure in which the bond of C-Si is easily dissociated by plasma, and when a molecular chain derived from the silane coupling agent in which a radical is formed by bond dissociation is graft-polymerized. Further, those having a reduced side chain bulk of the graft polymerization chain are preferred. Examples include p-styryltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, and the like.
- p-styryltrimethoxysilane when p-styryltrimethoxysilane is used as the alkoxysilane coupling agent for the hydrophilization treatment of the fluororesin film of the present invention, plasma acts on p-styryltrimethoxysilane, and the binding energy in the molecule is low. C-Si bonds and the like are dissociated to generate radicalized propylene groups. The radical generated on the surface of the fluororesin film reacts with the radicalized propylene group derived from p-styryltrimethoxysilane, where the graft polymerization proceeds.
- the propylene group derived from the silane coupling agent is highly reactive due to radicalization and has a small steric hindrance. Can be formed. Since the hydrophilization treatment of the fluororesin film of the present invention generates plasma under atmospheric pressure, the density of plasma active species is high, and the chance of contact with the fluororesin film surface increases, so that the amount of radical generation of the fluororesin increases. The number of starting points for the graft polymerization reaction increases. Therefore, the bond between the treatment product by the hydrophilic treatment and the surface of the fluororesin film becomes strong.
- the side chain of the graft polymerization chain of the molecule derived from the silane coupling agent reacts with water in the atmosphere to form an adhesive functional group such as a hydroxyl group or a carboxyl group. It is considered that the hydroxyl group and the carboxyl group adhere to the fluororesin film and the heterogeneous material by performing a dehydration condensation reaction with a functional group such as a SiH group, a hydroxyl group or a carboxyl group on the surface of the heterogeneous material such as rubber.
- a specific example of the plasma excitation gas is a rare gas such as hydrogen, helium, or argon, or a gas containing nitrogen.
- a rare gas such as hydrogen, helium, or argon
- a gas containing nitrogen such as hydrogen, helium, or argon
- One or more gas mixtures can be used.
- the introduction rate of the mixed gas of the plasma excitation gas and the alkoxysilane coupling agent into the gap between the fluororesin film and the discharge electrode is arbitrarily adjusted.
- the introduction speed of the mixed gas is preferably 0.1 to 10 L / min at normal temperature and atmospheric pressure. If the mixed gas is supplied so that the concentration becomes uniform, even if it is introduced in a pre-mixed state, the plasma excitation gas and the alkoxysilane coupling agent are separately introduced so that they are mixed in the reaction field. It may be.
- the fluororesin film extruded from the extruder and subjected to plasma treatment is taken by a take-up machine.
- the extrusion speed and the plasma processing time are determined by the speed of the take-off machine, and the take-off speed is appropriately adjusted.
- fluororesin constituting the fluororesin film of the present invention include tetrafluoroethylene / perfluoroalkylvinyl ether copolymer (PFA), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (FEP), and tetrafluoroethylene / ethylene. Copolymer (ETFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), polytetrafluoroethylene (PTFE), and tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene / vinylidene fluoride copolymer (THV).
- PFA perfluoroalkylvinyl ether copolymer
- FEP tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer
- TSV tetrafluoroethylene / ethylene.
- the surface of the fluororesin film that has been plasma-treated in the above-described process can be observed with a microscope, using IR, XPS, EDX, or the like, to confirm that a polymer composition of molecules derived from the silane coupling agent has been formed. it can.
- ⁇ XPS measurement of hydrophilic surface of fluororesin film The hydrophilized surface of the fluororesin film was measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).
- XPS X-ray photoelectron spectrometer
- An X-ray photoelectron spectrometer (ESCA-3400 manufactured by Shimadzu Corporation) was used for the measurement, and the spectrum was measured using an X-ray source of MgK ⁇ radiation, a voltage of 10 kV and a current of 20 mA.
- the peaks of the obtained spectrum are separated, and the peak areas corresponding to carbon atoms, silicon atoms, and oxygen atoms are relatively compared to obtain an atomic ratio, and the atomic ratio of silicon atoms / the atomic ratio of carbon atoms (Si / C ), Ratio of the number of oxygen atoms to the number of carbon atoms (O / C) Got.
- Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2 As the fluororesin of the fluororesin film, a tetrafluoroethylene / perfluoroalkylvinyl ether copolymer (PFA: 451HP-J manufactured by Du Pont-Mitsui Fluorochemicals Co., Ltd.) was used. A cylindrical alumina ceramics tube having an aluminum sheet adhered to the inner surface was connected to the tip of the inner diameter regulating member, and a comb-shaped aluminum sheet was adhered to the outer surface to form a discharge electrode.
- PFA tetrafluoroethylene / perfluoroalkylvinyl ether copolymer
- the inner diameter of the tubular film was regulated by an inner diameter regulating member, and the film was extruded into a tubular film having an outer diameter of 24.5 mm and a wall thickness of 30 ⁇ m.
- the outer diameter of the discharge electrode was set so that the distance between the outer surface of the discharge electrode and the inner surface of the fluororesin film was within 3 mm, and the length of the discharge electrode was 15 cm.
- plasma treatment Under the conditions of an applied voltage of 10 kV, a frequency of 18 kHz, and a flow rate of a mixed gas of an excitation gas and a silane coupling agent of 1 L / min, plasma is generated, PFA is extruded, and simultaneously, a hydrophilic treatment (plasma treatment) is performed on the inner surface of the tubular film. went.
- the tube take-up speed was 2 m / min (plasma processing time: 10 seconds).
- the wettability of the hydrophilized surface was evaluated in accordance with the above-described wettability evaluation method.
- the atomic ratio was determined by X-ray photoelectron spectroscopy, and the atomic ratio of silicon atoms / the atomic ratio of carbon atoms (Si / C), the atomic ratio of the oxygen atoms / the atomic ratio of the carbon atoms (O / C) ). Further, an adhesion test was performed according to the above method. Table 1 shows the results.
- the Si content on the fluororesin film was And Si / C was 0.2 or less.
- the O / C was 0.1 or more because the graft polymer chain was long and had many hydroxyl groups and carboxyl groups as side chains. In each case, the wettability was 40 mN / m or more, and the adhesion to silicone rubber was good.
- Comparative Example 1 is a fluororesin film that has not been subjected to a hydrophilic treatment, and Si, O ⁇ was not detected.
- Comparative Example 2 used vinylalkoxysilane used in Patent Document 2 as a silane coupling agent. Si / C was 0.47 and O / C was 1.0. It is considered that hydroxyl groups and carboxyl groups are formed by the hydrophilization treatment by the plasma treatment, and many oxygen atoms are present. However, it is considered that the alkoxysilane of the silane coupling agent is polymerized without dissociation, and the value of Si / C is large. Therefore, the wettability was 36 mN / m, and the adhesion to the silicone rubber used in the adhesion test of this evaluation was poor.
- the hydrophilicity-treated surface of the fluororesin film of the present invention has excellent adhesiveness, and even semi-cured silicone rubber can be bonded without using a primer.
- the outer surface does not have scratches or folds and has excellent release properties, and as a release layer on the surface of rolls and belts of printing machines, printers, copying machines, etc. Can be usefully used.
- a roll can be manufactured using a conventionally known method.
- an elastic layer of silicone rubber, silicone foam, urethane rubber, fluorine rubber, or the like having a certain thickness is provided on the outer periphery of a metallic core material at the center of the roll and semi-cured, and the fluororesin film of the present invention is further formed thereon. And heat-treated at a temperature not lower than the glass transition point and not higher than the melting point of the fluororesin film, whereby the fluororesin film can be firmly bonded.
- the fluororesin film of the present invention when formed into a tube shape, is suitable for use as a release layer on the surface of a printing machine, a printer, a roll of a copying machine, a belt, etc. After being cut open, it can be used.
- the film is useful as a laminate on a sliding surface, such as an oil seal or a piston ring, where a low coefficient of friction is required, or as a release layer of a coverlay film or a sheet for pressure bonding of an anisotropic conductive film (ACF). Yes, it can be used for various applications that require adhesion with other materials.
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Abstract
本発明は、少なくとも一方の面が親水化処理されており、異種材料(特にSiH基を有する付加型シリコーンゴムや水酸基、カルボキシル基等の官能基を有するゴム)に対する接着性が高いフッ素樹脂フィルムを提供すること を課題とする。本課題は、少なくとも一方の面が親水化処理されたフッ素樹脂フィルムであって、該親水化処理面に形成された処理生成物は、珪素原子と酸素原子と窒素原子と炭素原子とを含有する組成物を含み、該組成物は、 X線光電子分光法により測定して得られた原子数比が、硅素原子の原子数/炭素原子の原子数比(Si/C)が0.2以下かつ酸素原子の原子数/炭素原子の原子数比(O/C)が0.1以上の範囲であるフッ素樹脂フィルムによ って解決される。
Description
本発明は、表面が改質されて親水化処理されたフッ素樹脂フィルムに関するものである。本発明はまた、フッ素樹脂フィルムを使用した積層体に関するものである。
フッ素樹脂は、耐熱性、耐候性、耐薬品性、剥離性、低誘電特性等の優れた特性を有し、それ単体で成形体に使用されるだけでなく、被覆材料としても使用され、異種材料との積層が検討されてきた。しかしながら、フッ素樹脂の表面エネルギーは小さく、フッ素樹脂と異種材料の接着は困難である。
そこで、押出機から排出されるフッ素樹脂チューブ内表面に、インラインで大気圧延面放電プラズマ処理を行い、接着性を向上させたフッ素樹脂チューブの製造方法などが検討された(特許文献1参照)。しかし、プラズマ処理だけでは十分な接着性が得られず、シリコーンゴムとの十分な接着性を得るためには、プライマーが必要であった。
また、シランガス存在下で、フッ素樹脂チューブ内表面に大気圧延面放電プラズマ処理を行い、シリコーンゴムとの接着性を向上させたフッ素樹脂チューブが検討された(特許文献2参照)。しかし、硬度の高い、反応性の低いゴムなどに対しては十分な接着性が得られず、更なる接着性の向上が求められていた。
本発明が解決しようとする課題は、少なくとも一方の面が、異種材料(特にSiH基を有する付加型シリコーンゴムや、水酸基、カルボキシル基等の官能基を有するゴム)に対する高い接着性を有し、フッ素樹脂に特有の耐熱性、耐候性、耐薬品性、剥離性、低誘電特性等の優れた特性を有するフッ素樹脂フィルムを提供することである。本発明が解決しようとする別の課題は、上記フッ素樹脂フィルムを表面に配置する積層体の提供である。
本発明の発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、大気圧沿面放電プラズマ処理の方法を用いて、フッ素樹脂フィルム表面上に珪素原子と酸素原子と窒素原子と炭素原子とを含有する組成物を形成し、その組成物の組成が、炭素原子と硅素原子の原子数比および炭素原子と酸素原子の原子数比とが特定の範囲となるとき、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明は、少なくとも一方の面が親水化処理されたフッ素樹脂フィルムであって、該親水化処理面に形成された処理生成物は、珪素原子と酸素原子と窒素原子と炭素原子とを含有する組成物を含み、該組成物は、X線光電子分光法により測定して得られた原子数比が、硅素原子の原子数/炭素原子の原子数比(Si/C)が0.2以下、かつ酸素原子の原子数/炭素原子の原子数比(O/C)が0.1以上の範囲である、フッ素樹脂フィルムである。
上記親水化処理面は、アルコキシシランカップリング剤をプラズマ励起ガス中に導入したプラズマ処理により形成されることが好ましい。
また、上記親水化処理面の算術平均粗さRaが0.5μm以下であることが好ましい。なお、Ra及びRSmは、JIS B 0601‐2001に規定されている。
上記親水化処理面の濡れ性が、40mN/m以上であることが好ましい。フィルムの濡れ性に関しては、JIS K6768:1999に規定されている。
本発明はまた、厚さが0.1mm以下のチューブ形状であるフッ素樹脂フィルムに関する。
本発明はまた、少なくとも一方の面が親水化処理されたフッ素樹脂フィルムを表面層に配置する積層体に関する。
本発明のフッ素樹脂フィルムは、異種材料、特にSiH基を有する付加型シリコーンゴムや、水酸基、カルボキシル基等の官能基を有するゴムに対する接着性が高く、フッ素樹脂に特有の耐熱性、耐候性、耐薬品性、剥離性、低誘電特性等の優れた特性を有している。本発明のフッ素樹脂フィルムは、ゴムなどの表面にフッ素樹脂を積層するときに好適である。
本発明のフッ素樹脂フィルムは、親水化処理によってフィルム表面に形成される組成物の組成が、X線光電子分光法による測定で得られた原子数比で表すと、硅素原子の原子数/炭素原子の原子数比(Si/C)が0.2以下、かつ酸素原子の原子数/炭素原子の原子数比(O/C)が0.1以上の範囲であることを特長としている。フッ素樹脂の親水化処理を行うときに、珪素原子や窒素原子を含む処理剤を使用する場合、従来では、親水化処理の対象物であるフッ素樹脂の表面に、ゴムなどとの親和性が高いシラン化合物を製膜させることが目的とされる。しかし、本発明のフッ素樹脂フィルムの親水化処理では、フッ素樹脂フィルム表面に形成される組成物にシラン化合物はできるだけ含まれないようにすることが好ましい。
本発明のフッ素樹脂フィルムは、チューブ形状で押出成形することが好適である。例えば、従来公知の樹脂チューブ押出成形装置を使用して、押出機の先端に取り付けられた金型(ダイ)から溶融させた樹脂を外部に押出し、チューブ形状の樹脂の内面に接触して冷却する内径規制部材により冷却・固化して成形する。内径規制部材の先端には、チューブ形状のフッ素樹脂フィルム内面をプラズマ処理するための放電電極が接続されており、更に、チューブ形状のフッ素樹脂フィルムと放電電極の間隙には、プラズマを発生させるためのガスが導入されて一定の圧力に保持される。押出成形されたチューブ状のフッ素樹脂フィルムの内面は、放電電極の外側を通過する間に親水化処理される。
図1は、チューブ状に成形されたフッ素樹脂フィルムを親水化処理する放電電極の一例を表す概略図である。図1(A)は、放電電極1の側面図、図1(B)は、(A)のA‐A´断面図である。筒形状の誘電体110の内面に導電体120が配置される。誘電体110の外面には、導電体成分でパターン図柄が形成された高圧側導電体130が配されている。高圧側導電体130のパターンは、メッシュ状、棒状、スパイラル状等の態様であり得る。筒形状の誘電体110は、円筒に限定されず、断面が楕円形、三角形、四角形等のフッ素樹脂フィルムの形状に応じた筒形状であり得る。誘電体110を構成する材料は、アルミナ、窒化ホウ素などのセラミックス、ガラス、石英等の耐熱性及び誘電特性に優れる物質である。また、フッ素樹脂などの耐熱性及び誘電特性に優れる樹脂も筒形状に成型して誘電体110として用いることが可能である。導電体120を構成する材料として、銅、銀、金、白金、パラジウム、タングステン、ニッケル、アルミニウム、カーボン等の導電性物質を用いることができる。また、高圧側導電体130を構成する材料としても上記導電性物質を用いることができる。電圧が誘電体110の外面に配置した高圧側導電体130に印加され、誘電体110の内面の導電体120がアースとして機能する。この筒形状の誘電体110の内外面を導電性物質で挟む構造は、誘電体110の厚さの任意の調節を可能にし、大気圧沿面放電によるプラズマ処理の条件の調整範囲を広げることができ、本発明のフッ素樹脂フィルムの親水化処理に好適である。
図2は、フッ素樹脂チューブAの内部に配置される放電電極1と内径規制部材2の一例を表す側面図である。放電電極1は内径規制部材2の先に配置される。放電電極1と、フッ素樹脂フィルムAとの間隙は、放電電極1の形状、電極に印加する電圧などの条件によって定まり、特定の範囲に制限されない。好ましい当該間隙は0.1~8mmであり、特に好ましい当該間隙は0.1~5mmであり、更に好ましい当該間隔は0.1~2.5mmである。当該間隙が小さいほどプラズマ密度は高くなり、間隙が大きいとプラズマ密度が低くなる傾向がある。電極の温度上昇が問題になる場合は、例えば内径規制部材2および放電電極1の内部に冷却媒体を流通させる冷却媒体流路310を設けて冷却媒体を流して冷却することが可能である。図2では、内径規制部材2の内部には、他にもフッ素樹脂フィルムAの内部へガスを導入するガス導入路320が設けられている。
上述の説明ではチューブ状フッ素樹脂フィルムを押出成形するのと同工程で、フィルム表面を親水化処理する方法を示しているが、フィルムの押出成形を行った後に別工程で、放電電極上にフッ素樹脂フィルムを通過させて親水化処理することもできる。
本発明のフッ素樹脂フィルムの親水化処理における放電電圧は、放電電極周囲でフッ素樹脂フィルムが変形しない温度が保たれるように調整する。好ましい当該電圧は5~15kVである。
本発明のフッ素樹脂フィルムの親水化処理における周波数は、放電電極の誘電体が損傷しないように調整する。好ましい当該周波数は、5~50kHzである。
本発明のフッ素樹脂フィルムの親水化処理における出力は、加圧側導電体のパターン、周波数及び放電電圧により定まる。好ましい当該出力は10~1000Wである。
本発明のフッ素樹脂フィルムの親水化処理は、2つの電極を対向させて配置し高圧側電極を覆うように誘電体を配置して、その電極間に電圧を印加しプラズマを発生させる誘電体バリア放電で処理することも可能である。フッ素樹脂フィルムがチューブ形状ではない場合、誘電体バリア放電でプラズマを発生させた2つの電極の間にフィルムを通過させて親水化処理することができる。
以下、フッ素樹脂フィルムの親水化処理で、フィルム表面にプラズマが作用して起きていると推定される反応を示す。
プラズマ化されやすいプラズマ励起ガスに混合する反応ガスとして、アルコキシシランカップリング剤を使用する。プラズマ励起ガスと気化させたアルコキシシランカップリング剤の混合ガスが、フッ素樹脂フィルムと放電電極の間隙に供給され、放電電極に電圧が印加されると、導電体から誘電体の表面に沿ってプラズマが発生する。高電圧をかけることで、電気力線が電極表面から遠方まで到達するようになり、フッ素樹脂フィルムと放電電極の間隙の空間における電気力線が増加しプラズマ密度が高くなる。本発明のフッ素樹脂フィルムの親水化処理は、真空プラズマ処理のような減圧下ではなく大気圧下で行うことが好ましく、大気圧下で高電圧をかけることで、プラズマ中には励起ガス由来のイオン、ラジカル、電子などの活性種が高密度に存在することになり、親水化に必要なエネルギーを均一にフィルム表面に供給することが可能である。発生したプラズマがフッ素樹脂フィルム表面と接触し、フッ素原子(F)と炭素原子(C)との結合を切断するなどして、フッ素樹脂フィルム表面のフッ素樹脂にラジカルを形成する。放電電極上に発生したプラズマは、励起ガスに混合されたアルコキシシランカップリング剤にも作用する。アルコキシシランカップリング剤は、プラズマ活性種と接触することにより、分子内の結合エネルギーが低い部分で結合の解離が起こり、ラジカルを形成する。フッ素樹脂フィルム表面に生成したラジカルとシランカップリング剤由来の分子のラジカルが反応し、フッ素樹脂フィルム表面でシランカップリング剤由来の分子がグラフト重合する。シランカップリング剤由来のグラフト重合鎖の側鎖の官能基は、空気中の水により加水分解され水酸基になる。本発明のフッ素樹脂フィルム表面は、シランカップリング剤由来の分子のグラフト重合を速やかに進行させて長鎖の重合鎖を形成させ、さらに嵩高い側鎖が少ないことにより、ゴム表面の官能基と反応しやすく高い接着性を有する。従来はプライマー処理をしないと接着することができなかった、硬度が高く半硬化させた状態のゴムとも接着することが可能であり、十分な接着性を得ることができる。
反応ガスとして使用するアルコキシシランカップリング剤は、プラズマによりC‐Siの結合が解離されやすい分子構造を有し、結合解離によりラジカルが形成されたシランカップリング剤由来の分子鎖がグラフト重合したときに、グラフト重合鎖の側鎖の嵩が小さくなるものが好適である。例として、p‐スチリルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシランなどが挙げられる。
たとえば、アルコキシシランカップリング剤としてp‐スチリルトリメトキシシランを本発明のフッ素樹脂フィルムの親水化処理に用いた場合、p‐スチリルトリメトキシシランにプラズマが作用して、分子内で結合エネルギーが低いC‐Siの結合などが解離し、ラジカル化したプロピレン基を生成する。フッ素樹脂フィルム表面で生成したラジカルと、p‐スチリルトリメトキシシラン由来のラジカル化したプロピレン基とが反応し、そこでグラフト重合が進行する。上記のアルコキシシランとの結合の解離によって、シランカップリング剤由来のプロピレン基はラジカル化により反応性が高く、立体障害も小さい状態であるため、グラフト重合が速やかに進行して長鎖の重合鎖を形成することができる。本発明のフッ素樹脂フィルムの親水化処理は大気圧下でプラズマを発生させるため、プラズマ活性種の密度が高く、フッ素樹脂フィルム表面との接触機会が増えることでフッ素樹脂のラジカル生成量が多くなり、グラフト重合反応の開始点が多くなる。よって、親水化処理による処理生成物とフッ素樹脂フィルム表面との結合は、強固となる。
本発明のフッ素樹脂フィルム表面では、シランカップリング剤由来の分子のグラフト重合鎖の側鎖が大気中の水と反応し、水酸基やカルボキシル基などの接着性官能基が形成される。この水酸基やカルボキシル基は、ゴムなどの異種材料表面のSiH基や水酸基やカルボキシル基などの官能基と脱水縮合反応することにより、フッ素樹脂フィルムと異種材料とを接着すると考えられる。
上記プラズマ励起ガスの具体例は、水素、ヘリウムまたはアルゴン等の希ガス、または窒素を含むガスである。1種又は2種以上の混合ガスを使用することができる。
フッ素樹脂フィルムと放電電極の間隙への、プラズマ励起ガスとアルコキシシランカップリング剤の混合ガスの導入速度は、任意に調整される。前記混合ガスの導入速度は、常温、大気圧下で0.1~10L/minが好ましい。混合ガスは濃度が均一になるように供給されれば、あらかじめ混合された状態で導入しても、プラズマ励起ガスとアルコキシシランカップリング剤のそれぞれを別々に導入して反応場で混合されるようにしてもよい。
押出機から押し出され、プラズマ処理されたフッ素樹脂フィルムは、引取機により引き取られる。引取機の速度により押出成形速度およびプラズマ処理時間が決められ、引取速度は適宜調整される。
本発明のフッ素樹脂フィルムを構成するフッ素樹脂の具体例は、テトラフルオロエチレン/パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン/エチレン共重合体(ETFE)、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン/ビニリデンフロライド共重合体(THV)である。本発明のフッ素樹脂フィルムを、印刷機、プリンター、複写機のロール、ベルト等の表面の離型層として使用する場合、好ましいフッ素樹脂はPFAである。
先述の過程によりプラズマ処理されたフッ素樹脂フィルム表面は、顕微鏡による観察、IR、XPS、EDXなどを用いて、シランカップリング剤由来の分子の重合組成物が形成されていることを確認することができる。
以下、実施例により本発明が詳細に説明されるが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
<フッ素樹脂フィルム親水化処理面の濡れ性評価>
濡れ試薬を用いて、切り開いたフッ素樹脂フィルムの内面の濡れ性を確認した。JIS K6768:1999の記載に従い、綿棒を使用してフッ素樹脂チューブ内表面に試薬を塗布して2秒後の液膜の状態で判断した。
<フッ素樹脂フィルムの親水化処理面の接着試験>
加熱により半硬化させた付加型シリコーンゴムと、切り開いたフッ素樹脂フィルムの内面(親水化処理面)とが接触するように積層し、200℃の恒温槽で4時間加熱した。恒温槽から取り出し、室温に冷却された後に接着状態が確認された。フッ素樹脂フィルムの親水化処理面とシリコーンゴムとの接着面を剥離させたとき、接着面が凝集破壊されれば良好、界面で剥離されれば不良と判定した。
<フッ素樹脂フィルム親水化処理面のXPS測定>
フッ素樹脂フィルムの親水化処理面をX線光電子分光法(XPS)により測定した。測定にはX線光電子分光分析装置((株)島津製作所製ESCA‐3400)を使用し、X線源はMgKα線、電圧10kV、電流20mAとしてスペクトルが測定された。得られたスペクトルのピーク分離を行い、炭素原子、珪素原子、酸素原子に対応するピーク面積を相対比較して原子数比を求め、硅素原子の原子数/炭素原子の原子数比(Si/C)、酸素原子の原子数/炭素原子の原子数比(O/C)
を得た。
<フッ素樹脂フィルム親水化処理面の濡れ性評価>
濡れ試薬を用いて、切り開いたフッ素樹脂フィルムの内面の濡れ性を確認した。JIS K6768:1999の記載に従い、綿棒を使用してフッ素樹脂チューブ内表面に試薬を塗布して2秒後の液膜の状態で判断した。
<フッ素樹脂フィルムの親水化処理面の接着試験>
加熱により半硬化させた付加型シリコーンゴムと、切り開いたフッ素樹脂フィルムの内面(親水化処理面)とが接触するように積層し、200℃の恒温槽で4時間加熱した。恒温槽から取り出し、室温に冷却された後に接着状態が確認された。フッ素樹脂フィルムの親水化処理面とシリコーンゴムとの接着面を剥離させたとき、接着面が凝集破壊されれば良好、界面で剥離されれば不良と判定した。
<フッ素樹脂フィルム親水化処理面のXPS測定>
フッ素樹脂フィルムの親水化処理面をX線光電子分光法(XPS)により測定した。測定にはX線光電子分光分析装置((株)島津製作所製ESCA‐3400)を使用し、X線源はMgKα線、電圧10kV、電流20mAとしてスペクトルが測定された。得られたスペクトルのピーク分離を行い、炭素原子、珪素原子、酸素原子に対応するピーク面積を相対比較して原子数比を求め、硅素原子の原子数/炭素原子の原子数比(Si/C)、酸素原子の原子数/炭素原子の原子数比(O/C)
を得た。
実施例1~2及び比較例1~2
フッ素樹脂フィルムのフッ素樹脂としてテトラフルオロエチレン/パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA:三井デュポンフロロケミカル(株)製451HP-J)を使用した。内径規制部材の先端に、アルミシートを内面に接着した円筒形アルミナセラミックス管を接続し、その外面にくし型形状のアルミシートを張り付けて放電電極とした。押出機を使用して、内径規制部材でチューブ状フィルムの内径を規制し、外径24.5mm、肉厚30μmのチューブ状フィルムに押出成形した。放電電極の外径は、放電電極の外面とフッ素樹脂フィルムの内面との距離が3mm以内になるように設定し、放電電極の長さは15cmとした。印加電圧10kV、周波数18kHz、励起ガスとシランカップリング剤の混合ガス流量1L/minの条件で、プラズマを発生させ、PFAを押出成形すると同時にチューブ状フィルムの内面に親水化処理(プラズマ処理)を行った。 チューブの引取速度は2m/min(プラズマ処理時間10秒)とした。
フッ素樹脂フィルムのフッ素樹脂としてテトラフルオロエチレン/パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA:三井デュポンフロロケミカル(株)製451HP-J)を使用した。内径規制部材の先端に、アルミシートを内面に接着した円筒形アルミナセラミックス管を接続し、その外面にくし型形状のアルミシートを張り付けて放電電極とした。押出機を使用して、内径規制部材でチューブ状フィルムの内径を規制し、外径24.5mm、肉厚30μmのチューブ状フィルムに押出成形した。放電電極の外径は、放電電極の外面とフッ素樹脂フィルムの内面との距離が3mm以内になるように設定し、放電電極の長さは15cmとした。印加電圧10kV、周波数18kHz、励起ガスとシランカップリング剤の混合ガス流量1L/minの条件で、プラズマを発生させ、PFAを押出成形すると同時にチューブ状フィルムの内面に親水化処理(プラズマ処理)を行った。 チューブの引取速度は2m/min(プラズマ処理時間10秒)とした。
作成したフッ素樹脂フィルムについて、親水化処理面の濡れ性を先述の濡れ性評価の方法に従って評価した。また、X線光電子分光法による測定で原子数比を求め、硅素原子の原子数/炭素原子の原子数比(Si/C)、酸素原子の原子数/炭素原子の原子数比(O/C)を求めた。また、上記方法に従って接着試験を行った。それぞれの結果を表1に示す。
実施例1~2のフッ素樹脂フィルムの親水化処理面は、シランカップリング剤のトリメトキシシランと炭素鎖との結合が解離してグラフト重合しているため、フッ素樹脂フィルム上のSiの含有量が少なく、Si/Cが0.2以下であった。グラフト重合鎖が長くその側鎖として水酸基やカルボキシル基が多く存在するため、O/Cは0.1以上だった。いずれも濡れ性は40mN/m以上であり、シリコーンゴムに対する接着性が良好であった。
比較例1は、親水化処理されていないフッ素樹脂フィルムであり、Si、O は検出されなかった。比較例2は、シランカップリング剤として、特許文献2で使用されているビニルアルコキシシランを使用した。Si/Cは0.47であり、O/Cは1.0だった。プラズマ処理による親水化処理で水酸基やカルボキシル基が形成されていると考えられ、酸素原子が多く存在している。しかし、シランカップリング剤のアルコキシシランが解離しないまま重合していると考えられ、Si/Cの値が大きい。そのため濡れ性は36mN/mであり、本評価の接着試験で用いたシリコーンゴムに対する接着性は不良であった。
本発明のフッ素樹脂フィルムの親水化処理面の接着性は優れており、半硬化したシリコーンゴムでもプライマーを使用すること無しに接着することが可能である。フィルムをチューブ形状に成形したものでは、その外面はキズ、折り目を有しておらず、離型性に優れており、印刷機、プリンター、複写機のロール、ベルト等の表面の離型層として有用に用いることができる。本発明のフッ素樹脂フィルムをロールカバーとして使用する場合、従来公知の方法を用いてロールを製造することができる。たとえば、ロール中央部の金属性の芯材の外周に一定の厚さのシリコーンゴム、シリコーンフォーム、ウレタンゴム、フッ素ゴムなどの弾性層を設けて半硬化させ、その上に本発明のフッ素樹脂フィルムを被覆させ、該フッ素樹脂フィルムのガラス転移点以上融点以下の温度で熱処理することで強固に接着させることができる。
本発明のフッ素樹脂フィルムは、チューブ形状に成形したものでは印刷機、プリンター、複写機のロール、ベルト等の表面の離型層として用いるのに好適であり、また、チューブ形状で親水化処理をした後に切り開いて使用され得る。当該フィルムは、オイルシール、ピストンリング等の低摩擦係数が要求される摺動面に積層されたり、カバーレイフィルム、異方性導電膜(ACF)の圧着用シートの離型層としても有用であり、他材料との接着が必要な各用途に使用することができる。
1 放電電極
2 内径規制部材
2 内径規制部材
Claims (6)
- 少なくとも一方の面が親水化処理されたフッ素樹脂フィルムであって、
該親水化処理面に形成された処理生成物は、珪素原子と酸素原子と窒素原子と炭素原子とを含有する組成物を含み、該組成物は、X線光電子分光法による測定で得られた原子数比が、硅素原子の原子数/炭素原子の原子数比(Si/C)が0.2以下、かつ
酸素原子の原子数/炭素原子の原子数比(O/C)が0.1以上の範囲である、フッ素樹脂フィルム。 - 前記親水化処理面は、アルコキシシランカップリング剤をプラズマ励起ガス中に導入したプラズマ処理により形成される、請求項1に記載のフッ素樹脂フィルム。
- 前記親水化処理面の算術平均粗さRaが0.5μm以下である請求項1または2に記載のフッ素樹脂フィルム。
- 前記親水化処理面のJIS K6768:1999に基づいて評価した濡れ性が、40mN/m以上である請求項1乃至3に記載のフッ素樹脂フィルム。
- 厚さが0.1mm以下のチューブ形状である請求項1乃至4に記載のフッ素樹脂フィルム。
- 請求項1乃至5のフッ素樹脂フィルムを表面に配置した積層体。
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Citations (4)
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