WO2019196177A1 - 一种oled显示装置及其制备方法 - Google Patents

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Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Definitions

  • the present invention relates to the field of display technologies, and in particular, to an OLED display device and a method for fabricating the same.
  • OLED Organic Light-Emitting Diode
  • the structure of the OLED display device is performed by using a thin film package as shown in FIG. 1, and 1', 2', 3', 4', 5', 6', 7', 8' respectively represent a glass substrate and a TFT.
  • TFT Thin Film Transistor
  • pixel layer first barrier layer, first buffer layer, second barrier layer, second buffer layer, third barrier layer, but due to film encapsulation barrier layer and buffer layer It is thin, and there is stress between the layers. Therefore, the barrier layer and the buffer layer do not achieve the desired effect of blocking water oxygen. The water and oxygen permeability is high, and the barrier layer and the buffer layer are more likely to be broken. The package is invalid.
  • the present invention provides an OLED display device and a method for fabricating the same, which reduce the permeability of water and oxygen, reduce the risk of breakage of the barrier layer and the buffer layer, and improve the service life of the OLED display device.
  • the invention provides a method for preparing an OLED display device, comprising the following steps:
  • Preparing an OLED device layer on the TFT layer preparing a barrier layer and a buffer layer on the glass substrate, and the barrier layer covers the OLED device layer;
  • a plurality of grooves are prepared on the barrier layer, and a layer of water absorbing material is prepared in the plurality of grooves.
  • a barrier layer and a buffer layer are prepared on the glass substrate, including:
  • Preparing a barrier layer and a buffer layer on the glass substrate further comprising:
  • a second buffer layer and a third barrier layer are prepared on the second barrier layer.
  • an OLED device layer is prepared on the TFT layer, specifically:
  • a plurality of OLED devices are fabricated on the TFT layer, and the plurality of OLED devices are spaced apart.
  • a plurality of grooves are prepared on the barrier layer, specifically:
  • a plurality of grooves are formed in the non-light-emitting region on the barrier layer; wherein the non-light-emitting region is a region on the barrier layer that is outside the region directly above the OLED device.
  • a layer of water absorbing material is prepared in the plurality of grooves, specifically:
  • the water absorbing material layer is prepared in the plurality of grooves by one of coating, spray coating, and ink jet printing.
  • the water absorbing material layer is a polyvinyl alcohol material and/or a polyoxyethylene material
  • the barrier layer is SiNx and/or SiOx.
  • the invention also provides a preparation method of an OLED display device, comprising the following steps:
  • Preparing an OLED device layer on the TFT layer preparing a barrier layer and a buffer layer on the glass substrate, and the barrier layer covers the OLED device layer;
  • Preparing a barrier layer and a buffer layer on the glass substrate including:
  • Preparing a barrier layer and a buffer layer on the glass substrate further comprising:
  • the water absorbing material layer is a polyvinyl alcohol material and/or a polyoxyethylene material
  • the barrier layer is SiNx and/or SiOx.
  • an OLED device layer is prepared on the TFT layer, specifically:
  • a plurality of OLED devices are fabricated on the TFT layer, and the plurality of OLED devices are spaced apart.
  • a plurality of grooves are prepared on the barrier layer, specifically:
  • a plurality of grooves are formed in the non-light-emitting region on the barrier layer; wherein the non-light-emitting region is a region on the barrier layer that is outside the region directly above the OLED device.
  • a layer of water absorbing material is prepared in the plurality of grooves, specifically:
  • the water absorbing material layer is prepared in the plurality of grooves by one of coating, spray coating, and ink jet printing.
  • the present invention also provides an OLED display device comprising a glass substrate, a TFT layer on the glass substrate, an OLED device layer on the TFT layer, a barrier layer and a buffer layer on the glass substrate, and The barrier layer covers the OLED device layer;
  • a plurality of grooves are disposed on the barrier layer, and a layer of water absorbing material is disposed in the plurality of grooves.
  • the barrier layer comprises a first barrier layer, a second barrier layer, the buffer layer comprising a first buffer layer and a second buffer layer;
  • the first barrier layer, the first buffer layer, the second barrier layer, the second buffer layer, and the third barrier layer are sequentially arranged in a direction away from the OLED device layer, A plurality of grooves are disposed on the second barrier layer.
  • the OLED device layer comprises a plurality of spaced-apart OLED devices, each of the grooves being located in a non-light-emitting region on the barrier layer; wherein the non-light-emitting region is located on the barrier layer An area outside the area directly above the OLED device.
  • the water absorbing material layer is a polyvinyl alcohol material and/or a polyoxyethylene material
  • the barrier layer is SiNx and/or SiOx.
  • the present invention has the following beneficial effects: the present invention can prevent water and oxygen from penetrating into the OLED display device by providing a water absorbing material layer on the barrier layer, thereby reducing water oxygen permeability, and reducing water oxygen penetration into the TFT layer and the OLED layer. It can avoid the breakage caused by the water-oxygen permeability of the barrier layer and the buffer layer being too high, avoiding package failure, and improving the service life of the OLED display device.
  • FIG. 1 is a schematic structural view of an OLED display device in the background art provided by the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic view of a TFT layer and an OLED device layer prepared on a glass substrate provided by the present invention.
  • FIG 3 is a schematic diagram of preparing a first barrier layer, a first buffer layer, and a second barrier layer on a glass substrate provided by the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic view of the preparation of a plurality of grooves on a second barrier layer provided by the present invention.
  • Figure 5 is a schematic illustration of the preparation of a layer of water absorbing material in a recess provided by the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic diagram of preparing a second buffer layer and a third barrier layer on a second barrier layer provided by the present invention.
  • the invention provides a preparation method of an OLED display device, comprising the following steps:
  • a TFT (Thin Film Transistor) layer 2 is prepared on the glass substrate 1; the TFT layer 2 includes a plurality of TFTs to form a driving circuit, which can drive the OLED device to emit light;
  • An OLED (Organic Light-Emitting Diode) device layer 30 is prepared on the TFT layer 2, a barrier layer and a buffer layer are prepared on the glass substrate 1, and the barrier layer covers the OLED device layer 30; in general, the barrier layer is used Shielding water vapor and oxygen; here, the barrier layer and the buffer layer constitute a thin film encapsulation layer;
  • a plurality of grooves 61 are prepared on the barrier layer, and a water absorbing material layer 7 is prepared in the plurality of grooves 61; here, the water absorbing material layer 7 can be used to adsorb water oxygen.
  • a barrier layer and a buffer layer are prepared on the glass substrate 1, including:
  • the first barrier layer 4, the first buffer layer 5, and the second barrier layer 6 are sequentially formed on the glass substrate 1 by chemical vapor deposition.
  • a plurality of grooves 61 are prepared on the barrier layer, specifically:
  • the second barrier layer 6 is patterned to form a plurality of grooves 61 on the second barrier layer 6; as shown in FIG. 5, in the plurality of grooves 61 of the second barrier layer 6.
  • a layer 7 of water absorbing material is prepared.
  • a second buffer layer 8 and a third barrier layer 9 are prepared on the second barrier layer 6.
  • an OLED device layer 30 is prepared on the TFT layer 2, specifically:
  • a plurality of OLED devices 3 are prepared on the TFT layer 2, and the plurality of OLED devices 3 are equally spaced apart.
  • the OLED device 3 may be an OLED device 3 that emits white light, or may be an OLED device 3 that emits other colors of light such as red light, green light, or blue light.
  • a plurality of grooves 61 are prepared on the barrier layer, specifically:
  • non-light-emitting region is a region on the barrier layer outside the region directly above the OLED device 3, as shown by the dotted frame region in FIG. 3; correspondingly, illuminating
  • the area is the area on the barrier layer directly above the OLED device 3.
  • the light emitting region is also a pixel region corresponding to the OLED display device.
  • the water absorbing material layer 7 is prepared in the plurality of grooves 61, specifically:
  • the water absorbing material layer 7 is prepared in the plurality of grooves 61 by one of coating, spray coating, and ink jet printing.
  • the water absorbing material layer 7 is a polyvinyl alcohol-based material and/or a polyoxyethylene-based material
  • the barrier layer is SiNx and/or SiOx, x>0.
  • the present invention also provides an OLED display device comprising a glass substrate 1, a TFT layer 2 on the glass substrate 1, an OLED device layer 30 on the TFT layer 2, a barrier layer on the glass substrate 1, and a buffer.
  • the layer and the barrier layer cover the OLED device layer 30.
  • a plurality of grooves 61 are provided on the barrier layer, and a layer 7 of water absorbing material is disposed in the plurality of grooves 61.
  • the barrier layer comprises a first barrier layer 4, a second barrier layer 6, and the buffer layer comprises a first buffer layer 5 and a second buffer layer 8.
  • the first barrier layer 4, the first buffer layer 5, the second barrier layer 6, the second buffer layer 8, and the third barrier layer 9 are sequentially arranged in a direction away from the OLED device layer 30, and the plurality of grooves 61 are disposed in the first On the second barrier layer 6.
  • the OLED device layer 30 comprises a plurality of spaced-apart OLED devices 3, each of which is located in a non-light-emitting region on the barrier layer; wherein the non-emissive region is located on the barrier layer directly above the OLED device 3. Outside area.
  • the water absorbing material layer 7 is a polyvinyl alcohol-based material and/or a polyoxyethylene-based material
  • the barrier layer is SiNx and/or SiOx.
  • the OLED display device of the present invention prepares the water absorbing material layer 7 in the film encapsulation layer composed of the barrier layer and the buffer layer, thereby preventing water and oxygen from penetrating into the OLED display device and reducing water and oxygen penetration.
  • the water absorbing material layer 7 is disposed on the non-light emitting region on the barrier layer.
  • the water oxygen penetrates into the barrier layer, it may be adsorbed first when it has not entered the light emitting region, so that the service life of the OLED display device can be improved.
  • the present invention Under the premise of improving the effect of the thin film encapsulation of the OLED display device, the luminescent performance of the OLED display device is not affected.

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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明提供一种OLED显示装置及其制备方法，该方法包括下述步骤：在玻璃基板上制备TFT层；在TFT层上制备OLED器件层，在玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，且屏障层覆盖OLED器件层；在屏障层上制备多个凹槽，并在多个凹槽中制备吸水材料层。本发明降低水氧的渗透率，降低屏障层和缓冲层断裂的风险，提高OLED显示装置的使用寿命。

Description

一种OLED显示装置及其制备方法
本申请要求于2018年4月10日提交中国专利局、申请号为201810317687.X、发明名称为“一种OLED显示装置及其制备方法”的中国专利申请的优先权，上述专利的全部内容通过引用结合在本申请中。
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种OLED显示装置及其制备方法。
背景技术
在目前照明和显示领域中，由于OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)自身的特点，如低启动电压，轻薄，自发光等特点，越来越多的被广泛研究用于开发照明产品以及面板行业中，以达到低能耗，轻薄和面光源等需求。目前OLED柔性显示面板由于可挠，轻薄，且自发光的特点，导致越来越多的OLED柔性显示产品诞生。
而目前OLED显示装置的结构是采用如图1所示的薄膜封装的方式进行，1’、2’、3’、4’、5’、6’、7’、8’分别表示玻璃基板、TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)层、像素层、第一屏障层、第一缓冲层、第二屏障层、第二缓冲层、第三屏障层，但是由于薄膜封装屏障层和缓冲层等膜层较薄，且存在膜层间的应力，因此，屏障层和缓冲层阻隔水氧的能力并没有达到需要的效果，水氧渗透率较高，且屏障层和缓冲层膜层较容易出现断裂导致封装失效。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明提供一种OLED显示装置及其制备方法，降低水氧的渗透率，降低屏障层和缓冲层断裂的风险，提高OLED显示装置的使用寿命。
本发明提供的一种OLED显示装置的制备方法，包括下述步骤：
在玻璃基板上制备TFT层；
在所述TFT层上制备OLED器件层，在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，且所述屏障层覆盖所述OLED器件层；
在所述屏障层上制备多个凹槽，并在所述多个凹槽中制备吸水材料层。
优选地，在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，包括：
在所述玻璃基板上依次制备第一屏障层、第一缓冲层、第二屏障层；
在所述屏障层上制备多个凹槽，具体为：
在所述第二屏障层上制备多个凹槽；
在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，还包括：
在所述第二屏障层上制备第二缓冲层和第三屏障层。
优选地，在所述TFT层上制备OLED器件层，具体为：
在所述TFT层上制备多个OLED器件，且所述多个OLED器件间隔排布。
优选地，在所述屏障层上制备多个凹槽，具体为：
在所述屏障层上的非发光区域制备多个凹槽；其中，所述非发光区域为所述屏障层上位于所述OLED器件正上方区域之外的区域。
优选地，在所述多个凹槽中制备吸水材料层，具体为：
通过涂布、喷涂、喷墨打印中的一种方式在所述多个凹槽中制备所述吸水材料层。
优选地，所述吸水材料层为聚乙烯醇类材料和/或聚氧乙烯类材料，所述屏障层为SiNx和/或SiOx。
本发明还提供一种OLED显示装置的制备方法，包括下述步骤：
在玻璃基板上制备TFT层；
在所述TFT层上制备OLED器件层，在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，且所述屏障层覆盖所述OLED器件层；
在所述屏障层上制备多个凹槽，并在所述多个凹槽中制备吸水材料层；
在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，包括：
在所述玻璃基板上依次制备第一屏障层、第一缓冲层、第二屏障层；
在所述屏障层上制备多个凹槽，具体为：
在所述第二屏障层上制备多个凹槽；
在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，还包括：
在所述第二屏障层上制备第二缓冲层和第三屏障层；
所述吸水材料层为聚乙烯醇类材料和/或聚氧乙烯类材料，所述屏障层为SiNx和/或SiOx。
优选地，在所述TFT层上制备OLED器件层，具体为：
在所述TFT层上制备多个OLED器件，且所述多个OLED器件间隔排布。
优选地，在所述屏障层上制备多个凹槽，具体为：
在所述屏障层上的非发光区域制备多个凹槽；其中，所述非发光区域为所述屏障层上位于所述OLED器件正上方区域之外的区域。
优选地，在所述多个凹槽中制备吸水材料层，具体为：
通过涂布、喷涂、喷墨打印中的一种方式在所述多个凹槽中制备所述吸水材料层。
本发明还提供一种OLED显示装置，包括玻璃基板、位于所述玻璃基板上的TFT层、位于所述TFT层上的OLED器件层、位于所述玻璃基板上的屏障层和缓冲层，且所述屏障层覆盖所述OLED器件层；
在所述屏障层上设置有多个凹槽，在所述多个凹槽中设置有吸水材料层。
优选地，所述屏障层包括第一屏障层、第二屏障层，所述缓冲层包括第一缓冲层和第二缓冲层；
所述第一屏障层、所述第一缓冲层、所述第二屏障层、所述第二缓冲层以及所述第三屏障层在远离所述OLED器件层的方向上依次排布，所述多个凹槽设置在所述第二屏障层上。
优选地，所述OLED器件层包含多个间隔排布的OLED器件，每一个所述凹槽均位于所述屏障层上的非发光区域；其中，所述非发光区域为所述屏障层上位于所述OLED器件正上方区域之外的区域。
优选地，所述吸水材料层为聚乙烯醇类材料和/或聚氧乙烯类材料，所述屏障层为SiNx和/或SiOx。
实施本发明，具有如下有益效果：本发明通过在屏障层上设置吸水材料层， 可以防止水氧渗透到OLED显示装置里，降低水氧的渗透率，可以减少水氧渗透进入TFT层以及OLED层，可以避免因屏障层和缓冲层的水氧渗透率过高而导致断裂，避免封装失效，还可以提高OLED显示装置的使用寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明提供的背景技术中OLED显示装置的结构示意图。
图2是本发明提供的在玻璃基板上制备TFT层和OLED器件层的示意图。
图3是本发明提供的在玻璃基板上制备第一屏障层、第一缓冲层以及第二屏障层的示意图。
图4是本发明提供的在第二屏障层上制备多个凹槽的示意图。
图5是本发明提供的在凹槽中制备吸水材料层的示意图。
图6是本发明提供的在第二屏障层上制备第二缓冲层和第三屏障层的示意图。
具体实施方式
本发明提供一种OLED显示装置的制备方法，包括下述步骤：
如图2所示，在玻璃基板1上制备TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)层2；TFT层2上包含多个TFT，构成驱动电路，可以驱动OLED器件发光；
在TFT层2上制备OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)器件层30，在玻璃基板1上制备屏障层和缓冲层，且屏障层覆盖OLED器件层30；一般而言，屏障层用于屏蔽水汽和氧气；这里，屏障层和缓冲层构成薄膜封装层；
在屏障层上制备多个凹槽61，并在多个凹槽61中制备吸水材料层7；这里，吸水材料层7可用于吸附水氧。
进一步地，在玻璃基板1上制备屏障层和缓冲层，包括：
如图3所示，通过化学气相沉积的方式在玻璃基板1上依次制备第一屏障层4、第一缓冲层5、第二屏障层6。
在屏障层上制备多个凹槽61，具体为：
如图4所示，对第二屏障层6进行图案化处理，在第二屏障层6上制备多个凹槽61；如图5所示，在第二屏障层6的多个凹槽61中制备吸水材料层7。
在玻璃基板1上制备屏障层和缓冲层，还包括：
如图6所示，在第二屏障层6上制备第二缓冲层8和第三屏障层9。
当然，在第一屏障层4和第三屏障层9上制备多个凹槽61也可以，还可以在第一屏障层4和第三屏障层9的多个凹槽61中制备吸水材料层7。
进一步地，在TFT层2上制备OLED器件层30，具体为：
在TFT层2上制备多个OLED器件3，且多个OLED器件3等间距间隔排布。这里，OLED器件3可以是发射白光的OLED器件3，也可以是发射红光、绿光、蓝光等其他颜色光的OLED器件3。
在屏障层上制备多个凹槽61，具体为：
在屏障层上的非发光区域制备多个凹槽61；其中，非发光区域为屏障层上位于OLED器件3正上方区域之外的区域，如图3中虚线框区域所示；相应的，发光区域为屏障层上位于OLED器件3正上方的区域。发光区域也即是对应了OLED显示装置的像素区域。
在多个凹槽61中制备吸水材料层7，具体为：
通过涂布、喷涂、喷墨打印中的一种方式在多个凹槽61中制备吸水材料层7。
进一步地，吸水材料层7为聚乙烯醇类材料和/或聚氧乙烯类材料，屏障层为SiNx和/或SiOx，x>0。
本发明还提供一种OLED显示装置，该OLED显示装置包括玻璃基板1、位于玻璃基板1上的TFT层2、位于TFT层2上的OLED器件层30、位于玻璃基板1上的屏障层和缓冲层，且屏障层覆盖OLED器件层30。
在屏障层上设置有多个凹槽61，在多个凹槽61中设置有吸水材料层7。
进一步地，屏障层包括第一屏障层4、第二屏障层6，缓冲层包括第一 缓冲层5和第二缓冲层8。
第一屏障层4、第一缓冲层5、第二屏障层6、第二缓冲层8以及第三屏障层9在远离OLED器件层30的方向上依次排布，多个凹槽61设置在第二屏障层6上。
进一步地，OLED器件层30包含多个间隔排布的OLED器件3，每一个凹槽61均位于屏障层上的非发光区域；其中，非发光区域为屏障层上位于OLED器件3正上方区域之外的区域。
进一步地，吸水材料层7为聚乙烯醇类材料和/或聚氧乙烯类材料，屏障层为SiNx和/或SiOx。
综上所述，本发明提出的一种OLED显示装置，在屏障层和缓冲层构成的薄膜封装层的里面制备吸水材料层7，可以防止水氧渗透到OLED显示装置里，降低水氧的渗透率，在对屏障层上的非发光区域设置吸水材料层7，当水氧渗透进入屏障层后，在还没有进入发光区域时，可以先被吸附，因此可以提高OLED显示装置的使用寿命。同时，由于将吸水材料层7制备在屏障层上的非发光区域，可以防止吸水材料层7在吸附后水氧后透过率下降，进而影响到OLED显示装置的正常出光效率；因此，本发明在提高了OLED显示装置的薄膜封装的效果前提下，对OLED显示装置的发光性能也不会造成影响。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (14)

  1. 一种OLED显示装置的制备方法，其中，包括下述步骤：
    在玻璃基板上制备TFT层；
    在所述TFT层上制备OLED器件层，在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，且所述屏障层覆盖所述OLED器件层；
    在所述屏障层上制备多个凹槽，并在所述多个凹槽中制备吸水材料层。
  2. 根据权利要求1所述的OLED显示装置的制备方法，其中，在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，包括：
    在所述玻璃基板上依次制备第一屏障层、第一缓冲层、第二屏障层；
    在所述屏障层上制备多个凹槽，具体为：
    在所述第二屏障层上制备多个凹槽；
    在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，还包括：
    在所述第二屏障层上制备第二缓冲层和第三屏障层。
  3. 根据权利要求1所述的OLED显示装置的制备方法，其中，在所述TFT层上制备OLED器件层，具体为：
    在所述TFT层上制备多个OLED器件，且所述多个OLED器件间隔排布。
  4. 根据权利要求3所述的OLED显示装置的制备方法，其中，在所述屏障层上制备多个凹槽，具体为：
    在所述屏障层上的非发光区域制备多个凹槽；其中，所述非发光区域为所述屏障层上位于所述OLED器件正上方区域之外的区域。
  5. 根据权利要求1所述的OLED显示装置的制备方法，其中，在所述多个凹槽中制备吸水材料层，具体为：
    通过涂布、喷涂、喷墨打印中的一种方式在所述多个凹槽中制备所述吸水材料层。
  6. 根据权利要求1所述的OLED显示装置的制备方法，其中，所述吸水材料层为聚乙烯醇类材料和/或聚氧乙烯类材料，所述屏障层为SiNx和/或SiOx。
  7. 一种OLED显示装置的制备方法，其中，包括下述步骤：
    在玻璃基板上制备TFT层；
    在所述TFT层上制备OLED器件层，在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，且所述屏障层覆盖所述OLED器件层；
    在所述屏障层上制备多个凹槽，并在所述多个凹槽中制备吸水材料层；
    在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，包括：
    在所述玻璃基板上依次制备第一屏障层、第一缓冲层、第二屏障层；
    在所述屏障层上制备多个凹槽，具体为：
    在所述第二屏障层上制备多个凹槽；
    在所述玻璃基板上制备屏障层和缓冲层，还包括：
    在所述第二屏障层上制备第二缓冲层和第三屏障层；
    所述吸水材料层为聚乙烯醇类材料和/或聚氧乙烯类材料，所述屏障层为SiNx和/或SiOx。
  8. 根据权利要求7所述的OLED显示装置的制备方法，其中，在所述TFT层上制备OLED器件层，具体为：
    在所述TFT层上制备多个OLED器件，且所述多个OLED器件间隔排布。
  9. 根据权利要求8所述的OLED显示装置的制备方法，其中，在所述屏障层上制备多个凹槽，具体为：
    在所述屏障层上的非发光区域制备多个凹槽；其中，所述非发光区域为所述屏障层上位于所述OLED器件正上方区域之外的区域。
  10. 根据权利要求7所述的OLED显示装置的制备方法，其中，在所述多个凹槽中制备吸水材料层，具体为：
    通过涂布、喷涂、喷墨打印中的一种方式在所述多个凹槽中制备所述吸水材料层。
  11. 一种OLED显示装置，其中，包括玻璃基板、位于所述玻璃基板上的TFT层、位于所述TFT层上的OLED器件层、位于所述玻璃基板上的屏障层和缓冲层，且所述屏障层覆盖所述OLED器件层；
    在所述屏障层上设置有多个凹槽，在所述多个凹槽中设置有吸水材料 层。
  12. 根据权利要求11所述的OLED显示装置，其中，所述屏障层包括第一屏障层、第二屏障层，所述缓冲层包括第一缓冲层和第二缓冲层；
    所述第一屏障层、所述第一缓冲层、所述第二屏障层、所述第二缓冲层以及所述第三屏障层在远离所述OLED器件层的方向上依次排布，所述多个凹槽设置在所述第二屏障层上。
  13. 根据权利要求11所述的OLED显示装置，其中，所述OLED器件层包含多个间隔排布的OLED器件，每一个所述凹槽均位于所述屏障层上的非发光区域；其中，所述非发光区域为所述屏障层上位于所述OLED器件正上方区域之外的区域。
  14. 根据权利要求11所述的OLED显示装置，其中，所述吸水材料层为聚乙烯醇类材料和/或聚氧乙烯类材料，所述屏障层为SiNx和/或SiOx。
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