WO2019196155A1 - 彩膜基板及其制造方法 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to the field of display technologies, and in particular, to a color film substrate and a method of fabricating the same.
  • a liquid crystal display panel reflects a portion of external ambient light that is directed toward the liquid crystal display panel.
  • the reflection of the external ambient light by the liquid crystal display panel reduces the contrast of the image displayed by the liquid crystal display panel and the visibility of the display content in a strong light environment, thereby reducing the reflection effect of the liquid crystal display panel on the external ambient light, thereby contributing to the improvement thereof. display effect.
  • a polarizer having a low reflectance is used to reduce the reflectance of the surface of the liquid crystal display panel.
  • a light shielding layer is provided in a color filter substrate of a conventional liquid crystal display panel.
  • the shading layer is also called BM (B lack Matrix).
  • the light shielding layer constitutes a non-opening area of the sub-pixel unit of the conventional liquid crystal display panel, and functions to block the edge area of the sub-pixel unit and the TFT (Thin Film Transistor) area to avoid dark state light leakage.
  • the light transmittance of the light shielding layer is very small (less than 0.01%), its light reflectance (2% to 3%) cannot be ignored, and the area ratio of the light shielding layer in a sub-pixel unit is usually 20%. ⁇ 30%, therefore, reducing the reflectance of the light-shielding layer to ambient light has a significant effect on reducing the ambient light reflectance of the conventional liquid crystal display panel as a whole.
  • a light shielding layer is in close contact with the glass substrate, and a color film layer is above the light shielding layer. Since the light shielding layer is in close contact with the glass substrate, incident external ambient light is reflected at the interface between the glass substrate and the light shielding layer.
  • An object of the present invention is to provide a color filter substrate and a method of manufacturing the same, which can effectively reduce the reflection effect of a light shielding layer of a liquid crystal display panel on external ambient light.
  • a color film substrate comprises: a substrate; a color film layer, the color film layer is disposed on the substrate, the color film layer comprises a first color block, a second color resist a block and a third color block, wherein the first color block, the second color block, and the third color block are different from each other in a red color block, a green color block, and a blue color block a color blocking layer; a light shielding layer, the light shielding layer is disposed on the color film layer, the light shielding layer includes a light shielding block; a common electrode layer, wherein the common electrode layer is disposed on the light shielding layer; a position at which the intersection between the red color block, the green color block, and the blue color block corresponds to a position at which the light block is located; disposed on the substrate and the The color filter layer between the light shielding layers is used to reduce the intensity of reflection of the ambient light by the area covered by the light shielding layer in the color filter substrate; the surface of the color film layer is
  • the common electrode layer is further provided on the planarization layer.
  • a color film substrate comprises: a substrate; a color film layer, the color film layer is disposed on the substrate, the color film layer comprises a first color block, a second color resist a block and a third color block, wherein the first color block, the second color block, and the third color block are different from each other in a red color block, a green color block, and a blue color block a color blocking layer; a light shielding layer, the light shielding layer is disposed on the color film layer, the light shielding layer includes a light shielding block; a common electrode layer, wherein the common electrode layer is disposed on the light shielding layer; A position at which the intersection between the red color block, the green color block, and the blue color block is located corresponds to a position at which the light block is located.
  • the color film layer disposed between the substrate and the light shielding layer is used to reduce an area of the light shielding layer covered in the color filter substrate to external ambient light The intensity of the reflection.
  • the surface of the color film layer is an uneven surface;
  • the color film substrate further includes: a planarization layer, the planarization layer is disposed on the color film layer and the Between the light shielding layers, the planarization layer is used to cover the uneven surface of the color film layer, so that the light shielding layer is disposed on a flat surface.
  • the common electrode layer is further provided on the planarization layer.
  • the surface of the color film layer is a flat surface, and the common electrode layer is further disposed on the color film layer.
  • an intersection between any one of the first color block, the second color block, and the third color block is used for shielding or absorbing
  • the surface of the substrate facing away from the color filter layer passes through the substrate and is directed toward the light shielding block to prevent the light from being in the first color block, the second color block, and the The intersection between any two of the third color block blocks is reflected.
  • the edge portions of any one of the first color block, the second color block, and the third color block are all overlapped or partially overlapped.
  • a portion where the first color resist block, the second color resist block, and the third color resist block overlap each other constitutes a light blocking block, and the light blocking block
  • the block is configured to block light rays from any one of the first color block, the second color block, and the third color block to the adjacent one.
  • a method for manufacturing a color filter substrate comprising the steps of: A. disposing a color film layer on a substrate, wherein the color film layer comprises a first color block, a second color block, and a third color block, the first color block, the second color block and the third color block are different colors of a red color block, a green color block and a blue color block
  • the block is disposed on the color film layer, wherein the light shielding layer includes a light shielding block;
  • C. the common electrode layer is disposed on the light shielding layer; wherein the red color block, A location where the intersection between the green color block and any of the blue color block corresponds to a position at which the light block is located.
  • the color film layer disposed between the substrate and the light shielding layer is used to reduce a region of the light shielding layer covered in the color filter substrate The intensity of the reflection of the external ambient light.
  • the surface of the color filter layer is an uneven surface; after the step A, and before the step B, the method further includes the following steps: D Providing a planarization layer between the color film layer and the light shielding layer, wherein the planarization layer is used to cover the uneven surface of the color film layer, so that the light shielding layer is disposed on a flat surface;
  • the step B is: B, the A light shielding layer is disposed on the planarization layer on the color film layer.
  • the common electrode layer is further provided on the planarization layer.
  • the surface of the color filter layer is a flat surface
  • the common electrode layer is further provided on the color film layer.
  • an intersection between any one of the first color block, the second color block, and the third color block is used for occlusion or Absorbing light that passes through the substrate from the back of the substrate toward the color film layer and is incident on the light blocking block to prevent the light from being in the first color block and the second color block Intersecting at the intersection with any of the third color block.
  • an edge portion of any one of the first color block, the second color block, and the third color block is overlapped or partially overlapped.
  • a portion where the first color resist block, the second color resist block, and the third color resist block overlap each other constitutes a light blocking block.
  • the light blocking block is configured to block light rays from any one of the first color block, the second color block, and the third color block to the adjacent one.
  • an edge portion of any one of the first color resist block, the second color resist block, and the third color resist block is adjacent to another adjacent one
  • the edge portion of the person is respectively provided with a first carding portion and a second carding portion, and the first carding portion is engaged with the second carding portion.
  • the color film layer is disposed between the substrate and the light shielding layer, since the color film layer absorbs external ambient light, the light shielding layer can be effectively reduced in the color film substrate.
  • the intensity of reflection of the area covered by the ambient light can effectively reduce the reflectivity of the liquid crystal display panel to external ambient light.
  • FIG. 1 is a schematic view of a first embodiment of a color filter substrate of the present invention.
  • FIG 2 is a schematic view of a second embodiment of the color filter substrate of the present invention.
  • FIG. 3 is a flow chart of a method of manufacturing a color filter substrate of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic view showing a first embodiment of a color filter substrate of the present invention.
  • the color filter substrate of the present invention is suitable for a TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display).
  • TFT-LCD Thin Film Transistor Liquid Crystal Display
  • the color film substrate of the present invention comprises a substrate 101, a color film layer 102, a light shielding layer 103, and a common electrode layer 104.
  • the substrate 101 is a rigid substrate or a flexible substrate.
  • the color film layer 102 is disposed on the substrate 101, and the color film layer 102 includes a first color block 1021, a second color block 1022, and a third color block 1023.
  • the blocking block 1021, the second color blocking block 102 2 and the third color blocking block 1023 are color blocking blocks different from each other in a red color blocking block, a green color blocking block and a blue color blocking block, the first
  • the color block 1021, the second color block 1022 and the third color block 1023 each include a body portion and an edge portion, the first color block 1021, the second color block 1022, and the Any one of the third color block blocks 1023 is adjacent to the adjacent one by the edge portion thereof, and the main body portion and the edge portion are in close contact with the substrate 101.
  • the light shielding layer 103 is disposed on the color film layer 102, and the light shielding layer 103 includes a light shielding block 1031.
  • the common electrode layer 104 is disposed on the light shielding layer 103.
  • the color film layer 102 disposed between the substrate 101 and the light shielding layer 103 is used to reduce the reflection intensity of the area covered by the light shielding layer 103 in the color filter substrate to external ambient light. That is, the color film layer 102 is for preventing the substrate 101 and the light shielding layer 103 from constituting a mirror.
  • the surface of the color film layer 102 is a flat surface, and the common electrode layer 104 is further disposed on the color film layer 102, that is, the common electrode is disposed on the color film layer 102 and the On the light shielding layer 103.
  • FIG. 2 is a schematic view of a second embodiment of the color filter substrate of the present invention.
  • the second embodiment of the present invention is similar to the first embodiment described above, except that:
  • the surface of the color film layer 102 is an uneven surface.
  • the color filter substrate further includes a planarization layer 201 disposed between the color film layer 102 and the light shielding layer 103, and the planarization layer 201 is used to cover the color
  • the unevenness of the film layer 102 is such that the light shielding layer 103 is disposed on a flat surface.
  • the planarization layer 201 is disposed to be fully transparent or translucent.
  • the common electrode layer 104 is further disposed on the planarization layer 201, that is, the common electrode layer 104 is disposed on the planarization layer 201 and the light shielding layer 103.
  • the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and the third color resist block 1023 are sequentially disposed on the substrate 101.
  • an intersection between any one of the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and the third color resist block 1023 is used to block or absorb the back from the substrate 101 Light passing through the substrate 101 to one side of the color film layer 102 and incident on the light blocking block 1031 to prevent the light from being in the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and The intersection between any two of the third color block blocks 1023 is reflected.
  • Edge portions of any two of the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and the third color resist block 1023 are all overlapped or partially overlapped.
  • a portion where the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and the third color resist block 1023 overlap each other constitutes a light blocking block, and the light blocking block is used to block Light rays from any one of the first color block 1021, the second color block 1022, and the third color block 1023 toward the adjacent one
  • an edge portion of any one of the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and the third color resist block 1023 and an edge portion of the adjacent other one are respectively provided with The first carding portion and the second carding portion are coupled to the second carding portion.
  • one of the first carding portion and the second carding portion is a groove, the first carding portion, the first
  • a region of the surface of the substrate 101 that is in contact with the color filter layer 102 corresponding to the light shielding layer 103 is disposed as a frosted surface, that is, the region is set to be non-smooth.
  • the region disposed as a frosted surface is used to diffusely reflect external ambient light that is irradiated to the region, thereby effectively reducing the reflectance of the liquid crystal display panel including the color filter substrate to external ambient light.
  • the region provided as a frosted surface is also used to enhance the adhesion strength of the color film layer 102 to the substrate 101.
  • FIG. 3 is a flow chart of a method of manufacturing a color filter substrate of the present invention.
  • the method for manufacturing a color filter substrate of the present invention comprises the following steps:
  • the color film layer 102 is disposed on the substrate 101, wherein the color film layer 102 includes a first color block 1021, a second color block 1022, and a third color block 1023.
  • the first color block block 1021, the second color block block 1022, and the third color block block 1023 are color block blocks different from each other in a red color block, a green color block, and a blue color block.
  • the first color block 1021, the second color block 1022, and the third color block 1023 each include a body portion and an edge portion, and the first color block 1021 and the second color block Any one of the 1022 and the third color block 1023 is adjacent to the adjacent one by the edge portion thereof, and the main body portion and the edge portion are in close contact with the substrate 101.
  • a light shielding layer 103 is disposed on the color film layer 102, wherein the light shielding layer 103 includes a light shielding block 1031.
  • the color film layer 102 disposed between the substrate 101 and the light shielding layer 103 is used to reduce the reflection intensity of the area covered by the light shielding layer 103 in the color film substrate to external ambient light. That is, the color film layer 102 is for preventing the substrate 101 and the light shielding layer 103 from constituting a mirror.
  • the common electrode layer 104 is further disposed on the color film layer 102, that is, the common electrode is disposed on the color film layer. 102 and the light shielding layer 103
  • the method further includes the following steps: [0067] D (Step 302), a planarization layer 201 is disposed between the color film layer 102 and the light shielding layer 103, and the planarization layer 201 is used to cover the uneven surface of the color film layer 102.
  • the light shielding layer 103 is disposed on a flat surface.
  • the step B is:
  • the light shielding layer 103 is disposed on the planarization layer 201 on the color film layer 102.
  • the common electrode layer 104 is further disposed on the planarization layer 201, that is, the common electrode layer 104 is disposed on the planarization layer 201 and the light shielding layer 103.
  • the step A includes:
  • the first color block 1021 is disposed on the substrate 101.
  • the second color block 1022 is disposed on the substrate 101 except for the portion where the first color block block 1021 is disposed.
  • the third color blocking block 1023 is disposed on the substrate 101 except for the portions other than the first color blocking block 1021 and the second color blocking block 1022.
  • an intersection between any one of the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and the third color resist block 1023 is used to block or absorb the back from the substrate 101 Light passing through the substrate 101 to one side of the color film layer 102 and incident on the light blocking block 1031 to prevent the light from being in the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and The intersection between any two of the third color block blocks 1023 is reflected.
  • edge portions of any two of the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and the third color resist block 1023 are all overlapped or partially overlapped.
  • a portion of the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and the third color resist block 1023 overlapping each other constitutes a light blocking block, and the light blocking block is used for blocking Light rays from any one of the first color block 1021, the second color block 1022, and the third color block 1023 toward the adjacent one
  • an edge portion of any one of the first color resist block 1021, the second color resist block 1022, and the third color resist block 1023 and an edge portion of the adjacent other one are respectively provided with The first carding portion and the second carding portion are coupled to the second carding portion.
  • one of the first carding portion and the second carding portion is a groove, the first carding portion, the first
  • the step A further includes:
  • a region corresponding to the light shielding layer 103 among the surfaces of the substrate 101 in contact with the color film layer 102 is set as a frosted surface, that is, the region is set to be non-smooth, and is set to The area of the frosted surface is used to diffusely reflect external ambient light that is irradiated to the area, thereby effectively reducing the reflectance of the liquid crystal display panel including the color filter substrate to external ambient light. Further, the region set as the frosted surface is also used to enhance the adhesion strength of the color film layer 102 to the substrate 101.
  • the color film layer is disposed between the substrate and the light shielding layer, since the color film layer absorbs external ambient light, the light shielding layer can be prevented from directly contacting the substrate, thereby effectively reducing the light shielding.

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板及其制造方法，彩膜基板包括基板、彩膜层、遮光层和共通电极层，彩膜层包括红色、绿色和蓝色色阻块；遮光层设置在彩膜层上，遮光层包括遮光块；共通电极层设置在遮光层上；红色、绿色和蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处与遮光块对应。本发明能有效地降低对液晶显示面板对外部环境光的反射强度。

Description

彩膜基板及其制造方法 技术领域
[0001] 本发明涉及显示技术领域， 特别涉及一种彩膜基板及其制造方法。
背景技术
[0002] 液晶显示面板会对部分射向该液晶显示面板的外部环境光进行反射。 液晶显示 面板对外部环境光的反射会降低该液晶显示面板所显示的图像的对比度和在强 光环境下的显示内容的可见度， 因此降低液晶显示面板对外部环境光的反射作 用有助于提升其显示效果。
[0003] 为解决上述技术问题， 传统的技术方案为：
[0004] 采用低反射率的偏光片， 以降低液晶显示面板的表面的反射率。
[0005] 然而， 传统的液晶显示面板的彩膜基板中设置有遮光层。 遮光层也称作 BM （B lack Matrix, 黑色矩阵） 。 遮光层构成了传统的液晶显示面板的子像素单元的非 开口区， 其作用是遮挡子像素单元的边缘区域和 TFT （Thin Film Transistor， 薄 膜晶体管） 区域， 避免暗态漏光。 虽然遮光层的透光率非常小 （小于 0.01%） ， 但是它的光反射率 （2%~3%） 却不能被忽略， 而且遮光层在一个子像素单元内 的面积占比通常达到 20%~30%， 因此， 降低遮光层对环境光的反射率对降低传 统的液晶显示面板整体的环境光反射率有明显的效果。
[0006] 在传统的液晶显示面板的彩膜基板中， 遮光层紧贴玻璃基板， 彩膜层在遮光层 上方。 由于遮光层紧贴玻璃基板， 入射的外部环境光会在玻璃基板和遮光层的 界面被反射。
[0007] 因此， 上述降低液晶显示面板对外部环境光的反射作用的技术方案的效果不够 理想。
[0008] 故， 有必要提出一种新的技术方案， 以解决上述技术问题。
[0009] 发明内容
[0010] 本发明的目的在于提供一种彩膜基板及其制造方法， 其能有效地降低液晶显示 面板的遮光层对外部环境光的反射作用。 [0011] 为解决上述问题， 本发明的技术方案如下：
[0012] 一种彩膜基板， 所述彩膜基板包括： 基板； 彩膜层， 所述彩膜层设置在所述基 板上， 所述彩膜层包括第一色阻块、 第二色阻块和第三色阻块， 所述第一色阻 块、 所述第二色阻块和所述第三色阻块为红色色阻块、 绿色色阻块和蓝色色阻 块中互不相同的色阻块； 遮光层， 所述遮光层设置在所述彩膜层上， 所述遮光 层包括遮光块； 共通电极层， 所述共通电极层设置在所述遮光层上； 其中， 所 述红色色阻块、 所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处 所处的位置与所述遮光块所处的位置对应； 设置于所述基板和所述遮光层之间 的所述彩膜层用于降低所述遮光层在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境 光的反射强度； 所述彩膜层的表面为凹凸不平的表面； 所述彩膜基板还包括： 平坦化层， 所述平坦化层设置在所述彩膜层与所述遮光层之间， 所述平坦化层 用于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面， 以使所述遮光层设置在平坦的表面上； 所述彩膜层的表面为平坦的表面， 所述共通电极层还设置于所述彩膜层上。
[0013] 在上述彩膜基板中， 所述共通电极层还设置于所述平坦化层上。
[0014] 一种彩膜基板， 所述彩膜基板包括： 基板； 彩膜层， 所述彩膜层设置在所述基 板上， 所述彩膜层包括第一色阻块、 第二色阻块和第三色阻块， 所述第一色阻 块、 所述第二色阻块和所述第三色阻块为红色色阻块、 绿色色阻块和蓝色色阻 块中互不相同的色阻块； 遮光层， 所述遮光层设置在所述彩膜层上， 所述遮光 层包括遮光块； 共通电极层， 所述共通电极层设置在所述遮光层上； 其中， 所 述红色色阻块、 所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处 所处的位置与所述遮光块所处的位置对应。
[0015] 在上述彩膜基板中， 设置于所述基板和所述遮光层之间的所述彩膜层用于降低 所述遮光层在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度。
[0016] 在上述彩膜基板中， 所述彩膜层的表面为凹凸不平的表面； 所述彩膜基板还包 括： 平坦化层， 所述平坦化层设置在所述彩膜层与所述遮光层之间， 所述平坦 化层用于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面， 以使所述遮光层设置在平坦的表面 上。
[0017] 在上述彩膜基板中， 所述共通电极层还设置于所述平坦化层上。 [0018] 在上述彩膜基板中， 所述彩膜层的表面为平坦的表面， 所述共通电极层还设置 于所述彩膜层上。
[0019] 在上述彩膜基板中， 所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所述第三色阻块中的 任意两者之间的交汇处用于遮挡或吸收从所述基板背向所述彩膜层的一面透过 所述基板并射向所述遮光块的光线， 以防止所述光线在所述第一色阻块、 所述 第二色阻块和所述第三色阻块中的任意两者之间的交汇处反射。
[0020] 在上述彩膜基板中， 所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所述第三色阻块中的 任意两者的边缘部全部重叠或部分重叠。
[0021] 在上述彩膜基板中， 所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所述第三色阻块中的 任意两者重叠的部分构成挡光块， 所述挡光块用于阻挡从所述第一色阻块、 所 述第二色阻块和所述第三色阻块中的任意一者射向相邻的另一者的光线。
[0022] 在上述彩膜基板中， 所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所述第三色阻块中的 任意一者的边缘部与相邻的另一者的边缘部分别设置有第一卡设部和第二卡设 部， 第一卡设部与第二卡设部相卡设。
[0023] 一种彩膜基板的制造方法， 所述方法包括以下步骤： A、 将彩膜层设置在基板 上， 其中， 所述彩膜层包括第一色阻块、 第二色阻块和第三色阻块， 所述第一 色阻块、 所述第二色阻块和所述第三色阻块为红色色阻块、 绿色色阻块和蓝色 色阻块中互不相同的色阻块； B、 将遮光层设置在所述彩膜层上， 其中， 所述遮 光层包括遮光块； C、 将共通电极层设置在所述遮光层上； 其中， 所述红色色阻 块、 所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处所处的位置 与所述遮光块所处的位置对应。
[0024] 在上述彩膜基板的制造方法中， 设置于所述基板和所述遮光层之间的所述彩膜 层用于降低所述遮光层在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强 度。
[0025] 在上述彩膜基板的制造方法中， 所述彩膜层的表面为凹凸不平的表面； 在所述 步骤 A之后， 以及在所述步骤 B之前， 所述方法还包括以下步骤： D、 在所述彩 膜层与所述遮光层之间设置平坦化层， 所述平坦化层用于覆盖所述彩膜层凹凸 不平的表面， 以使所述遮光层设置在平坦的表面上； 所述步骤 B为： B、 将所述 遮光层设置在位于所述彩膜层上的所述平坦化层上。
[0026] 在上述彩膜基板的制造方法中， 所述共通电极层还设置于所述平坦化层上。
[0027] 在上述彩膜基板的制造方法中， 所述彩膜层的表面为平坦的表面， 所述共通电 极层还设置于所述彩膜层上。
[0028] 在上述彩膜基板的制造方法中， 所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所述第三 色阻块中的任意两者之间的交汇处用于遮挡或吸收从所述基板背向所述彩膜层 的一面透过所述基板并射向所述遮光块的光线， 以防止所述光线在所述第一色 阻块、 所述第二色阻块和所述第三色阻块中的任意两者之间的交汇处反射。
[0029] 在上述彩膜基板的制造方法中， 所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所述第三 色阻块中的任意两者的边缘部全部重叠或部分重叠。
[0030] 在上述彩膜基板的制造方法中， 所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所述第三 色阻块中的任意两者重叠的部分构成挡光块， 所述挡光块用于阻挡从所述第一 色阻块、 所述第二色阻块和所述第三色阻块中的任意一者射向相邻的另一者的 光线。
[0031] 在上述彩膜基板的制造方法中， 所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所述第三 色阻块中的任意一者的边缘部与相邻的另一者的边缘部分别设置有第一卡设部 和第二卡设部， 第一卡设部与第二卡设部相卡设。
[0032] 相对现有技术， 本发明由于将彩膜层设置在基板与遮光层之间， 由于彩膜层对 外部环境光有吸收作用， 因此可以有效地降低遮光层在所述彩膜基板中所覆盖 区域对外部环境光的反射强度， 从而能够有效地降低液晶显示面板对外部环境 光的反射率。
[0033] 为让本发明的上述内容能更明显易懂， 下文特举优选实施例， 并配合所附图式 ， 作详细说明如下。
发明概述
技术问题
问题的解决方案
发明的有益效果 对附图的简要说明
附图说明
[0034] 图 1为本发明的彩膜基板的第一实施例的示意图。
[0035] 图 2为本发明的彩膜基板的第二实施例的示意图。
[0036] 图 3为本发明的彩膜基板的制造方法的流程图。
[0037] 具体实施方式
[0038] 本说明书所使用的词语“实施例”意指实例、 示例或例证。 此外， 本说明书和所 附权利要求中所使用的冠词“一”一般地可以被解释为“一个或多个”， 除非另外指 定或从上下文可以清楚确定单数形式。
[0039] 参考图 1， 图 1为本发明的彩膜基板的第一实施例的示意图。 本发明的彩膜基板 适用于 TFT-LCD （Thin Film Transistor Liquid Crystal Display， 薄膜晶体管液晶显 示面板） 。
[0040] 本发明的彩膜基板包括基板 101、 彩膜层 102、 遮光层 103和共通电极层 104。 所 述基板 101为刚性基板或柔性基板。
[0041] 所述彩膜层 102设置在所述基板 101上， 所述彩膜层 102包括第一色阻块 1021、 第二色阻块 1022和第三色阻块 1023， 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 102 2和所述第三色阻块 1023为红色色阻块、 绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的 色阻块， 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023均 包括主体部和边缘部， 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三 色阻块 1023中的任意一者通过其边缘部与相邻的另一者邻接， 所述主体部和所 述边缘部均紧贴所述基板 101。
[0042] 所述遮光层 103设置在所述彩膜层 102上， 所述遮光层 103包括遮光块 1031。
[0043] 所述共通电极层 104设置在所述遮光层 103上。
[0044] 其中， 所述红色色阻块、 所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间 的交汇处所处的位置与所述遮光块 1031所处的位置对应。
[0045] 设置于所述基板 101和所述遮光层 103之间的所述彩膜层 102用于降低所述遮光 层 103在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度， 即， 所述彩膜 层 102用于防止所述基板 101和所述遮光层 103构成反射镜。 [0046] 所述彩膜层 102的表面为平坦的表面， 所述共通电极层 104还设置于所述彩膜层 102上， 即， 所述共通电极设置于所述彩膜层 102和所述遮光层 103上。
[0047] 参考图 2, 图 2为本发明的彩膜基板的第二实施例的示意图。 本发明的第二实施 例与上述第一实施例相似， 不同之处在于：
[0048] 所述彩膜层 102的表面为凹凸不平的表面。
[0049] 所述彩膜基板还包括平坦化层 201， 所述平坦化层 201设置在所述彩膜层 102与 所述遮光层 103之间， 所述平坦化层 201用于覆盖所述彩膜层 102凹凸不平的表面 ， 以使所述遮光层 103设置在平坦的表面上。 所述平坦化层 201设置为全透明或 半透明。
[0050] 所述共通电极层 104还设置于所述平坦化层 201上， 即， 所述共通电极层 104设 置在所述平坦化层 201和所述遮光层 103上。
[0051] 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023是依次设置 于所述基板 101上的。
[0052] 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意两 者之间的交汇处用于遮挡或吸收从所述基板 101背向所述彩膜层 102的一面透过 所述基板 101并射向所述遮光块 1031的光线， 以防止所述光线在所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意两者之间的交汇处 反射。
[0053] 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意两 者的边缘部全部重叠或部分重叠。
[0054] 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意两 者重叠的部分构成挡光块， 所述挡光块用于阻挡从所述第一色阻块 1021、 所述 第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意一者射向相邻的另一者的光线
[0055] 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意一 者的边缘部与相邻的另一者的边缘部分别设置有第一卡设部和第二卡设部， 第 一卡设部与第二卡设部相卡设。
[0056] 所述第一卡设部、 所述第二卡设部中的一者为凹槽， 所述第一卡设部、 所述第
Figure imgf000009_0001
[0057] 作为一种改进， 所述基板 101与所述彩膜层 102相接触的表面中与所述遮光层 10 3对应的区域设置为磨砂面， 即， 所述区域设置为非光滑状， 设置为磨砂面的所 述区域用于使得照射至所述区域的外部环境光发生漫反射， 从而有效地降低包 括所述彩膜基板的液晶显示面板对外部环境光的反射率。 此外， 设置为磨砂面 的所述区域还用于增强所述彩膜层 102与所述基板 101的粘附强度。
[0058] 参考图 3 , 图 3为本发明的彩膜基板的制造方法的流程图。
[0059] 本发明的彩膜基板的制造方法包括以下步骤：
[0060] A （步骤 301） 、 将彩膜层 102设置在基板 101上， 其中， 所述彩膜层 102包括第 一色阻块 1021、 第二色阻块 1022和第三色阻块 1023， 所述第一色阻块 1021、 所 述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023为红色色阻块、 绿色色阻块和蓝色色 阻块中互不相同的色阻块， 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述 第三色阻块 1023均包括主体部和边缘部， 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻 块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意一者通过其边缘部与相邻的另一者邻接 ， 所述主体部和所述边缘部均紧贴所述基板 101。
[0061] B （步骤 303） 、 将遮光层 103设置在所述彩膜层 102上， 其中， 所述遮光层 103 包括遮光块 1031。
[0062] C （步骤 304） 、 将共通电极层 104设置在所述遮光层 103上。
[0063] 其中， 所述红色色阻块、 所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间 的交汇处所处的位置与所述遮光块 1031所处的位置对应。
[0064] 设置于所述基板 101和所述遮光层 103之间的所述彩膜层 102用于降低所述遮光 层 103在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度， 即， 所述彩膜 层 102用于防止所述基板 101和所述遮光层 103构成反射镜。
[0065] 在所述彩膜层 102的表面为平坦的表面的情况下， 所述共通电极层 104还设置于 所述彩膜层 102上， 即， 所述共通电极设置于所述彩膜层 102和所述遮光层 103上
[0066] 在所述彩膜层 102的表面为凹凸不平的表面的情况下， 在所述步骤 A之后， 以及 在所述步骤 B之前， 所述方法还包括以下步骤： [0067] D （步骤 302） 、 在所述彩膜层 102与所述遮光层 103之间设置平坦化层 201， 所 述平坦化层 201用于覆盖所述彩膜层 102凹凸不平的表面， 以使所述遮光层 103设 置在平坦的表面上。
[0068] 所述步骤 B为：
[0069] 将所述遮光层 103设置在位于所述彩膜层 102上的所述平坦化层 201上。
[0070] 所述共通电极层 104还设置于所述平坦化层 201上， 即， 所述共通电极层 104设 置在所述平坦化层 201和所述遮光层 103上。
[0071] 所述步骤 A包括：
[0072] al、 在所述基板 101上设置所述第一色阻块 1021。
[0073] a2、 在所述基板 101上除设置有所述第一色阻块 1021以外的部位设置所述第二 色阻块 1022。
[0074] a3、 在所述基板 101上除设置有所述第一色阻块 1021和所述第二色阻块 1022以 外的部位设置所述第三色阻块 1023。
[0075] 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意两 者之间的交汇处用于遮挡或吸收从所述基板 101背向所述彩膜层 102的一面透过 所述基板 101并射向所述遮光块 1031的光线， 以防止所述光线在所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意两者之间的交汇处 反射。
[0076] 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意两 者的边缘部全部重叠或部分重叠。
[0077] 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意两 者重叠的部分构成挡光块， 所述挡光块用于阻挡从所述第一色阻块 1021、 所述 第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意一者射向相邻的另一者的光线
[0078] 所述第一色阻块 1021、 所述第二色阻块 1022和所述第三色阻块 1023中的任意一 者的边缘部与相邻的另一者的边缘部分别设置有第一卡设部和第二卡设部， 第 一卡设部与第二卡设部相卡设。
[0079] 所述第一卡设部、 所述第二卡设部中的一者为凹槽， 所述第一卡设部、 所述第
Figure imgf000011_0001
[0080] 作为一种改进， 在所述步骤 al之前， 所述步骤 A还包括：
[0081] a4、 将所述基板 101与所述彩膜层 102相接触的表面中与所述遮光层 103对应的 区域设置为磨砂面， 即， 将所述区域设置为非光滑状， 设置为磨砂面的所述区 域用于使得照射至所述区域的外部环境光发生漫反射， 从而有效地降低包括所 述彩膜基板的液晶显示面板对外部环境光的反射率。 此外， 设置为磨砂面的所 述区域还用于增强所述彩膜层 102与所述基板 101的粘附强度。
[0082] 相对现有技术， 本发明由于将彩膜层设置在基板与遮光层之间， 由于彩膜层对 外部环境光有吸收作用， 因此可以避免遮光层与基板直接接触， 有效地降低遮 光层在所述彩膜基板中所覆盖区域 （非开口区） 对外部环境光的反射强度， 防 止基板和与基板直接接触的遮光层组成具有较高反射效率的器件， 从而能够有 效地降低包括所述彩膜基板的液晶显示面板对外部环境光的反射率。
[0083] 综上所述， 虽然本发明已以优选实施例揭露如上， 但上述优选实施例并非用以 限制本发明， 本领域的普通技术人员， 在不脱离本发明的精神和范围内， 均可 作各种更动与润饰， 因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims

权利要求书
[权利要求 i] 一种彩膜基板， 其中， 所述彩膜基板包括：
基板；
彩膜层， 所述彩膜层设置在所述基板上， 所述彩膜层包括第一色阻块 、 第二色阻块和第三色阻块， 所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所 述第三色阻块为红色色阻块、 绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的 色阻块；
遮光层， 所述遮光层设置在所述彩膜层上， 所述遮光层包括遮光块； 共通电极层， 所述共通电极层设置在所述遮光层上；
其中， 所述红色色阻块、 所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意 两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块所处的位置对应； 设置于所述基板和所述遮光层之间的所述彩膜层用于降低所述遮光层 在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度； 所述彩膜层的表面为凹凸不平的表面；
所述彩膜基板还包括：
平坦化层， 所述平坦化层设置在所述彩膜层与所述遮光层之间， 所述 平坦化层用于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面， 以使所述遮光层设置 在平坦的表面上；
所述彩膜层的表面为平坦的表面， 所述共通电极层还设置于所述彩膜 层上。
[权利要求 2] 根据权利要求 1所述的彩膜基板， 其中， 所述共通电极层还设置于所 述平坦化层上。
[权利要求 3] —种彩膜基板， 其中， 所述彩膜基板包括：
基板；
彩膜层， 所述彩膜层设置在所述基板上， 所述彩膜层包括第一色阻块 、 第二色阻块和第三色阻块， 所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所 述第三色阻块为红色色阻块、 绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的 色阻块； 遮光层， 所述遮光层设置在所述彩膜层上， 所述遮光层包括遮光块； 共通电极层， 所述共通电极层设置在所述遮光层上；
其中， 所述红色色阻块、 所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意 两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块所处的位置对应。
[权利要求 4] 根据权利要求 3所述的彩膜基板， 其中， 设置于所述基板和所述遮光 层之间的所述彩膜层用于降低所述遮光层在所述彩膜基板中所覆盖的 区域对外部环境光的反射强度。
[权利要求 5] 根据权利要求 3所述的彩膜基板， 其中， 所述彩膜层的表面为凹凸不 平的表面；
所述彩膜基板还包括：
平坦化层， 所述平坦化层设置在所述彩膜层与所述遮光层之间， 所述 平坦化层用于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面， 以使所述遮光层设置 在平坦的表面上。
[权利要求 6] 根据权利要求 5所述的彩膜基板， 其中， 所述共通电极层还设置于所 述平坦化层上。
[权利要求 7] 根据权利要求 3所述的彩膜基板， 其中， 所述彩膜层的表面为平坦的 表面， 所述共通电极层还设置于所述彩膜层上。
[权利要求 8] 根据权利要求 3所述的彩膜基板， 其中， 所述第一色阻块、 所述第二 色阻块和所述第三色阻块中的任意两者之间的交汇处用于遮挡或吸收 从所述基板背向所述彩膜层的一面透过所述基板并射向所述遮光块的 光线， 以防止所述光线在所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所述第 三色阻块中的任意两者之间的交汇处反射。
[权利要求 9] 根据权利要求 3所述的彩膜基板， 其中， 所述第一色阻块、 所述第二 色阻块和所述第三色阻块中的任意两者的边缘部全部重叠或部分重叠
[权利要求 10] 根据权利要求 3所述的彩膜基板， 其中， 所述第一色阻块、 所述第二 色阻块和所述第三色阻块中的任意两者重叠的部分构成挡光块， 所述 挡光块用于阻挡从所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所述第三色阻 块中的任意一者射向相邻的另一者的光线。
[权利要求 11] 根据权利要求 3所述的彩膜基板， 其中， 所述第一色阻块、 所述第二 色阻块和所述第三色阻块中的任意一者的边缘部与相邻的另一者的边 缘部分别设置有第一卡设部和第二卡设部， 第一卡设部与第二卡设部 相卡设。
[权利要求 12] 一种彩膜基板的制造方法， 其中， 所述方法包括以下步骤：
A、 将彩膜层设置在基板上， 其中， 所述彩膜层包括第一色阻块、 第
Figure imgf000014_0001
三色阻块为红色色阻块、 绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的色阻 块；
B、 将遮光层设置在所述彩膜层上， 其中， 所述遮光层包括遮光块；
C、 将共通电极层设置在所述遮光层上；
其中， 所述红色色阻块、 所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意 两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块所处的位置对应。
[权利要求 13] 根据权利要求 12所述的彩膜基板的制造方法， 其中， 设置于所述基板 和所述遮光层之间的所述彩膜层用于降低所述遮光层在所述彩膜基板 中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度。
[权利要求 14] 根据权利要求 12所述的彩膜基板的制造方法， 其中， 所述彩膜层的表 面为凹凸不平的表面；
在所述步骤 A之后， 以及在所述步骤 B之前， 所述方法还包括以下步 骤：
D、 在所述彩膜层与所述遮光层之间设置平坦化层， 所述平坦化层用 于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面， 以使所述遮光层设置在平坦的表 面上；
所述步骤 B为：
B、 将所述遮光层设置在位于所述彩膜层上的所述平坦化层上。
[权利要求 15] 根据权利要求 14所述的彩膜基板的制造方法， 其中， 所述共通电极层 还设置于所述平坦化层上。
[权利要求 16] 根据权利要求 12所述的彩膜基板的制造方法， 其中， 所述彩膜层的表 面为平坦的表面， 所述共通电极层还设置于所述彩膜层上。
[权利要求 17] 根据权利要求 12所述的彩膜基板的制造方法， 其中， 所述第一色阻块 、 所述第二色阻块和所述第三色阻块中的任意两者之间的交汇处用于 遮挡或吸收从所述基板背向所述彩膜层的一面透过所述基板并射向所 述遮光块的光线， 以防止所述光线在所述第一色阻块、 所述第二色阻 块和所述第三色阻块中的任意两者之间的交汇处反射。
[权利要求 18] 根据权利要求 12所述的彩膜基板的制造方法， 其中， 所述第一色阻块 、 所述第二色阻块和所述第三色阻块中的任意两者的边缘部全部重叠 或部分重叠。
[权利要求 19] 根据权利要求 12所述的彩膜基板的制造方法， 其中， 所述第一色阻块 、 所述第二色阻块和所述第三色阻块中的任意两者重叠的部分构成挡 光块， 所述挡光块用于阻挡从所述第一色阻块、 所述第二色阻块和所 述第三色阻块中的任意一者射向相邻的另一者的光线。
[权利要求 20] 根据权利要求 12所述的彩膜基板的制造方法， 其中， 所述第一色阻块 、 所述第二色阻块和所述第三色阻块中的任意一者的边缘部与相邻的 另一者的边缘部分别设置有第一卡设部和第二卡设部， 第一卡设部与 第二卡设部相卡设。
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