WO2019180545A1 - 発光素子、発光装置、電子機器および照明装置 - Google Patents

発光素子、発光装置、電子機器および照明装置 Download PDF

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WO2019180545A1
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layer
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organic compound
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瀬尾哲史
鈴木恒徳
滝田悠介
奥山拓夢
夛田杏奈
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株式会社半導体エネルギー研究所
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    • H10K85/631Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine

Definitions

  • One embodiment of the present invention relates to a light-emitting element, a display module, a lighting module, a display device, a light-emitting device, an electronic device, and a lighting device.
  • a light-emitting element a display module, a lighting module, a display device, a light-emitting device, an electronic device, and a lighting device.
  • the technical field of one embodiment of the invention disclosed in this specification and the like relates to an object, a method, or a manufacturing method.
  • one embodiment of the present invention relates to a process, a machine, a manufacture, or a composition (composition of matter).
  • the technical field of one embodiment of the present invention disclosed in this specification more specifically includes a semiconductor device, a display device, a liquid crystal display device, a light-emitting device, a lighting device, a power storage device, a memory device, an imaging device, A driving method or a manufacturing method thereof can be given as an example.
  • Such a light-emitting element is a self-luminous type, when used as a display pixel, it has advantages such as higher visibility than liquid crystal and the need for a backlight, and is suitable as a flat panel display element.
  • a display using such a light emitting element has a great advantage that it can be manufactured to be thin and light. Another feature is that the response speed is very fast.
  • these light emitting elements can continuously form a light emitting layer in two dimensions, light emission can be obtained in a planar shape. This is a feature that is difficult to obtain with a point light source typified by an incandescent bulb or LED, or a line light source typified by a fluorescent lamp, and therefore has a high utility value as a surface light source applicable to illumination or the like.
  • a display and a lighting device using a light-emitting element are suitable for application to various electronic devices.
  • research and development are being pursued for a light-emitting element having better efficiency and lifetime.
  • Patent Document 1 a HOMO level between the HOMO level of the first hole injection layer and the HOMO level of the host material is provided between the first hole transport layer in contact with the hole injection layer and the light emitting layer.
  • the structure which provides the hole transportable material which has this is disclosed.
  • an object of one embodiment of the present invention is to provide a novel light-emitting element. Another object is to provide a light-emitting element with favorable light emission efficiency. Another object is to provide a light-emitting element with favorable lifetime. Another object is to provide a light-emitting element with low driving voltage.
  • Another object of one embodiment of the present invention is to provide a highly reliable light-emitting device, electronic device, and display device. Another object of one embodiment of the present invention is to provide a light-emitting device, an electronic device, and a display device each with low power consumption.
  • the present invention should solve any one of the above-mentioned problems.
  • One embodiment of the present invention includes an anode, a cathode, and a layer containing an organic compound positioned between the anode and the cathode.
  • the layer containing the organic compound includes a first layer in order from the anode side. , A second layer, and a light emitting layer, wherein the first layer includes a first substance and a second substance, and the second layer includes a third substance.
  • the first substance is an organic compound having a HOMO level of ⁇ 5.8 eV or more and ⁇ 5.4 eV or less, and the second substance has an electron accepting property with respect to the first substance.
  • the light-emitting element is a substance
  • the third substance is an organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to a naphthalene ring.
  • another embodiment of the present invention includes an anode, a cathode, and a layer containing an organic compound positioned between the anode and the cathode, and the layer containing the organic compound is formed in order from the anode side.
  • 1 layer, a second layer, and a light emitting layer the first layer includes a first substance and a second substance, and the second layer includes a third layer.
  • the first substance is an aromatic amine having a substituent containing a dibenzofuran ring or a dibenzothiophene ring
  • the second substance has an electron accepting property with respect to the first substance.
  • the light-emitting element is a substance
  • the third substance is an organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to a naphthalene ring.
  • another embodiment of the present invention includes an anode, a cathode, and a layer containing an organic compound positioned between the anode and the cathode, and the layer containing the organic compound is formed in order from the anode side.
  • 1 layer, a second layer, and a light emitting layer the first layer includes a first substance and a second substance, and the second layer includes a third layer.
  • the first substance is an aromatic monoamine having a naphthalene ring
  • the second substance is a substance having an electron accepting property with respect to the first substance
  • the third substance In the light-emitting element, the substance is an organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to a naphthalene ring.
  • another embodiment of the present invention includes an anode, a cathode, and a layer containing an organic compound positioned between the anode and the cathode, and the layer containing the organic compound is formed in order from the anode side.
  • the first layer includes a first substance and a second substance
  • the second layer includes a third layer.
  • the first substance is an aromatic monoamine in which a 9-fluorenyl group is bonded to nitrogen via an arylene group
  • the second substance has an electron accepting property with respect to the first substance.
  • the third substance is an organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to a naphthalene ring.
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting element having the above structure, in which the first substance is an organic compound having an N, N-bis (4-biphenyl) amino group.
  • a third layer is provided between the first layer and the second layer, and the third layer has a fourth substance.
  • the fourth substance is a light emitting element that is an organic compound having a hole transporting property.
  • a third layer is provided between the first layer and the second layer, and the third layer has a fourth substance.
  • the fourth substance is a light-emitting element that is an organic compound having a HOMO level of ⁇ 5.8 eV or more and ⁇ 5.4 eV or less.
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting element having the above structure, in which the fourth substance and the first substance are the same substance.
  • another embodiment of the present invention includes an anode, a cathode, and a layer containing an organic compound positioned between the anode and the cathode, and the layer containing the organic compound is formed in order from the anode side.
  • the first layer has a third substance and a second substance
  • the second substance has electrons with respect to the third substance.
  • the light-emitting element is a substance having an acceptor property
  • the third substance is an organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to a naphthalene ring.
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting element having the above structure, in which a HOMO level of the third substance is ⁇ 5.8 eV or more and ⁇ 5.6 eV or less.
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting element having the above structure, in which the third substance is an organic compound represented by the following general formula (G1).
  • L represents a substituted or unsubstituted naphthalene-1,4-diyl group or a substituted or unsubstituted naphthalene-1,5-diyl group.
  • A represents a group represented by the following general formula (gA)
  • B represents a group represented by the following general formula (gB).
  • Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms forming a ring.
  • R 1 to R 7 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 25 carbon atoms. Represents. Of these, R 1 and R 2 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , and R 6 and R 7 may be condensed to form a benzene ring.
  • Ar 2 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms forming a ring.
  • R 11 to R 17 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 25 carbon atoms.
  • R 11 and R 12 , R 14 and R 15 , R 15 and R 16 , and R 16 and R 17 may be condensed to form a benzene ring.
  • Another embodiment of the present invention is the above structure, in which the third substance is an organic compound represented by the following general formula (G1).
  • L represents group represented by the following general formula (gL-1) or the following general formula (gL-2), and A is represented by the following general formula (gA). And B represents a group represented by the following general formula (gB).
  • R 41 to R 46 each independently form hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a ring. It represents either a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms.
  • R 51 to R 56 each independently form hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a ring. It represents either a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms.
  • Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms forming a ring.
  • R 1 to R 7 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 25 carbon atoms. Represents. However, R 1 and R 2 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , and R 6 and R 7 may be condensed to form a benzene ring.
  • Ar 2 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms forming a ring.
  • R 11 to R 17 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 25 carbon atoms.
  • R 11 and R 12 , R 14 and R 15 , R 15 and R 16 , and R 16 and R 17 may be condensed to form a benzene ring.
  • the third substance is 3,3 ′-(naphthalene-1,4-diyl) bis (9-phenyl-9H-carbazole), or 3,3 It is a light emitting element which is'-(naphthalene-1,5-diyl) bis (9-phenyl-9H-carbazole).
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting element having the above structure, in which the second substance is an organic compound.
  • Another embodiment of the present invention is an electronic device including a sensor, an operation button, a speaker, or a microphone in the above structure.
  • Another embodiment of the present invention is a light-emitting device having any of the above structures and a transistor or a substrate.
  • Another embodiment of the present invention is a lighting device including the housing in the above structure.
  • the light-emitting device in this specification includes an image display device using a light-emitting element.
  • a connector for example, an anisotropic conductive film or TCP (Tape Carrier Package) attached to a light emitting element, a module provided with a printed wiring board at the end of TCP, or a COG (Chip On Glass) method for a light emitting element.
  • a module on which an IC (integrated circuit) is directly mounted is included in the light emitting device.
  • a lighting fixture or the like may include a light emitting device.
  • a novel light-emitting element can be provided.
  • a light-emitting element with favorable lifetime can be provided.
  • a light-emitting element with favorable light emission efficiency can be provided.
  • a highly reliable light-emitting device, electronic device, and display device can be provided.
  • a light-emitting device, an electronic device, and a display device with low power consumption can be provided.
  • FIG. 10 illustrates an electronic device.
  • FIG. 10 illustrates an electronic device.
  • FIG. 10 illustrates an electronic device.
  • FIG. 10 illustrates an electronic device. Luminance-current density characteristics of the light-emitting element 1 and the comparative light-emitting element 1.
  • the luminance-voltage characteristics of the light-emitting element 1 and the comparative light-emitting element 1. 4 shows current-voltage characteristics of the light-emitting element 1 and the comparative light-emitting element 1.
  • the external quantum efficiency-luminance characteristics of the light-emitting element 1 and the comparative light-emitting element 1. 2 shows emission spectra of the light-emitting element 1 and the comparative light-emitting element 1.
  • FIG. 2 shows emission spectra of the light-emitting element 2 and the comparative light-emitting element 2. Normalized luminance-time change characteristics of the light-emitting element 2 and the comparative light-emitting element 2.
  • FIG. 2 shows emission spectra of the light-emitting element 3 and the comparative light-emitting element 3. Normalized luminance-time change characteristics of the light-emitting element 3 and the comparative light-emitting element 3. Luminance-current density characteristics of the light-emitting element 4 and the comparative light-emitting element 4.
  • the emission spectra of the light-emitting element 4 and the comparative light-emitting element 4. Normalized luminance-time change characteristics of the light-emitting element 4 and the comparative light-emitting element 4. Normalized luminance-time change characteristics of light-emitting elements and comparative light-emitting elements.
  • 1 H NMR chart of YGTBi1BP The absorption spectrum and emission spectrum in the toluene solution of YGTBi1BP. The absorption spectrum and emission spectrum in the thin film state of YGTBi1BP.
  • 1 H NMR chart of YGTBi ⁇ NB The absorption spectrum and emission spectrum in the toluene solution of YGTBi ⁇ NB. The absorption spectrum and emission spectrum in a thin film state of YGTBi ⁇ NB.
  • mpBBAFLBi 1 H NMR chart Absorption spectrum and emission spectrum of mpBBAFLBi in a toluene solution. The absorption spectrum and emission spectrum in the thin film state of mpBBAFLBi. TPBiA ⁇ NB 1 H NMR chart. The absorption spectrum and emission spectrum in the toluene solution of TPBiA ⁇ NB. The absorption spectrum and emission spectrum in the thin film state of TPBiA ⁇ NB. TPBiA ⁇ NBi 1 H NMR chart. The absorption spectrum and emission spectrum in the toluene solution of TPBiA ⁇ NBi. The absorption spectrum and emission spectrum in the thin film state of TPBiA ⁇ NBi. BBAP ⁇ NB-03 1 H NMR chart.
  • Absorption spectrum and emission spectrum of BBAP ⁇ NB-03 in a toluene solution The absorption spectrum and emission spectrum in a thin film state of BBAP ⁇ NB-03.
  • 1 H NMR chart of YGTBi1BP-02. The absorption spectrum and emission spectrum in a toluene solution of YGTBi1BP-02.
  • FIG. 1 illustrates a light-emitting element of one embodiment of the present invention.
  • the light-emitting element of one embodiment of the present invention includes the first electrode 101, the second electrode 102, and the EL layer 103, and the EL layer includes a hole-injection layer 111, a hole-transport layer 112, and A light emitting layer 113 is included.
  • the EL layer 103 in FIGS. 1A and 1B includes an electron transport layer 114 and an electron injection layer 115 in addition to these, but the structure of the light-emitting element is limited to this. There is no.
  • the hole injection layer 111 includes a first substance and a second substance.
  • the first substance is a substance having a HOMO level of ⁇ 5.8 eV or more and ⁇ 5.4 eV or less.
  • the second substance is a substance that exhibits an electron accepting property with respect to the first substance.
  • the third substance contained in the hole-transport layer 112 is an organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to a naphthalene ring.
  • the light-emitting element of the present invention having the above-described structure can be a light-emitting element with favorable emission efficiency and a long lifetime.
  • the first substance is preferably an organic compound having a hole transporting property.
  • the first substance be a substance having an N, N-bis (4-biphenyl) amino group because a light-emitting element having a long lifetime can be manufactured.
  • N- (4-biphenyl) -6, N-diphenylbenzo [b] naphtho [1,2-d] furan-8-amine abbreviation: BnfABP
  • BnfABP N-bis (4-biphenyl) -6-phenylbenzo [b] naphtho [1,2-d] furan-8-amine
  • BBABnf 4,4′-bis (6-phenylbenzo) [B] naphtho [1,2-d] furan-8-yl) -4 ′′ -phenyltriphenylamine
  • BnfBB1BP N, N-bis (4-biphenyl) benzo [b] naphtho [1, 2-d] furan-6-amine
  • BBABnf (6) N, N-bis (4-biphenyl) benzo [b] naphtho [1,2-d] furan-8-amine
  • the second substance may be an inorganic compound or an organic compound.
  • the second substance include transition metal oxides, oxides of metals belonging to Groups 4 to 8 in the periodic table, and organic compounds having electron-withdrawing groups (particularly, halogen groups such as fluoro groups or cyano groups).
  • a substance that exhibits an electron accepting property with respect to the first substance may be selected as appropriate.
  • transition metal oxide examples include vanadium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, and chromium oxide.
  • oxides, molybdenum oxides, tungsten oxides, manganese oxides, rhenium oxides, titanium oxides, ruthenium oxides, zirconium oxides, hafnium oxides, and silver oxides are preferable because of high acceptability.
  • molybdenum oxide is especially preferable because it is stable in the air, has a low hygroscopic property, and is easy to handle.
  • an organic compound having an electron withdrawing group (halogen group or cyano group) that can be used as the second substance
  • 7,7,8,8-tetracyano-2,3,5,6-tetrafluoroquinodimethane (Abbreviation: F 4 -TCNQ)
  • chloranil 2,3,6,7,10,11-hexacyano-1,4,5,8,9,12-hexaazatriphenylene (abbreviation: HAT-CN), 1, 3,4,5,7,8-hexafluorotetracyano-naphthoquinodimethane (abbreviation: F6-TCNNQ), 2- (7-dicyanomethylene-1,3,4,5,6,8,9,10) -Octafluoro-7H-pyrene-2-ylidene) malononitrile and the like.
  • F 4 -TCNQ 7,7,8,8-tetracyano-2,3,5,6-tetrafluoroquinodimethane
  • HAT-CN 2,3,
  • a compound in which an electron withdrawing group is bonded to a condensed aromatic ring having a plurality of heteroatoms such as HAT-CN is preferable because it is thermally stable.
  • Radialene derivatives having an electron withdrawing group are preferable because of their very high electron accepting properties.
  • ⁇ , ⁇ ′, ⁇ ′′ 1,2,3-cyclopropanetriylidenetris [4-cyano-2,3,5,6-tetrafluorobenzeneacetonitrile], ⁇ , ⁇ ′, ⁇ ′′ -1,2,3-cyclopropanetriylidenetris [2,6-dichloro-3,5-difluoro-4- (trifluoromethyl) benzeneacetonitrile], ⁇ , ⁇ ′, ⁇ ′′ -1,2,3-cyclopropanetriylidentris [2,3,4 , 5,6-pentafluorobenzeneacetonitrile] and the like.
  • the electron-accepting property tends to be stronger for inorganic compounds such as molybdenum oxide than the above-described organic compounds.
  • the second substance is an organic compound
  • the driving voltage is likely to increase or the lifetime may be shortened.
  • the light emitting element also has a feature that such inconvenience hardly occurs.
  • the third substance has a HOMO level of ⁇ 5.8 eV or more and ⁇ 5.6 eV or less because hole injection into a light emitting layer host having a deep HOMO level is facilitated.
  • This is particularly important when a blue fluorescent light emitting layer is used as the light emitting layer.
  • the band gap of the host material is required to be a wide gap larger than blue, and as a result, the HOMO level is deep. Tend to be.
  • the HOMO level of the third substance is preferably ⁇ 5.8 eV or more and ⁇ 5.6 eV or less for hole injection into the light emitting layer.
  • an organic compound having an anthracene skeleton is typically given.
  • the LUMO level of the third substance is ⁇ 2.4 eV or higher, preferably ⁇ 2.2 eV or higher, escape of electrons from the light-emitting layer can be effectively prevented, and luminous efficiency is improved. Connected. For the same reason, the difference between the LUMO level of the third substance and the LUMO level of the host material is 0.3 eV or more, preferably 0.5 eV or more.
  • the host material has an anthracene skeleton and a carbazole skeleton, particularly when the host material has an anthracene skeleton and a dibenzocarbazole skeleton, the host material has high electron mobility. Therefore, although the driving voltage can be reduced, the light emitting layer is likely to have an excessive amount of electrons, and the reliability may be reduced due to the reduction of the recombination region or the removal of electrons from the light emitting layer. However, this problem can be overcome in the light-emitting element of one embodiment of the present invention, because the hole injecting property of the third substance into the light-emitting layer as described above is favorable.
  • the third substance is preferably an organic compound represented by the following general formula (G1). These compounds are compounds that have a deep HOMO level, excellent hole injection into the light emitting layer, and high durability against electrons. Therefore, a light-emitting element with higher reliability can be provided.
  • L represents a substituted or unsubstituted naphthalene-1,4-diyl group or a substituted or unsubstituted naphthalene-1,5-diyl group.
  • the substituted or unsubstituted naphthalene-1,4-diyl group or the substituted or unsubstituted naphthalene-1,5-diyl group can also be represented by the following general formula (gL-1) or general formula (gL-2). .
  • R 41 to R 46 each independently form hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a ring. It represents either a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms.
  • R 51 to R 56 each independently form hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a ring. It represents either a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms.
  • R 41 to R 46 or R 51 to R 56 be hydrogen because synthesis is simple.
  • A represents a group represented by the following general formula (gA)
  • B represents a group represented by the following general formula (gB).
  • Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms forming a ring.
  • R 1 to R 7 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 25 carbon atoms. Represents. However, R 1 and R 2 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6 , and R 6 and R 7 may be condensed to form a benzene ring.
  • Ar 2 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms forming a ring.
  • R 11 to R 17 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 25 carbon atoms.
  • R 11 and R 12 , R 14 and R 15 , R 15 and R 16 , and R 16 and R 17 may be condensed to form a benzene ring.
  • R 1 to R 7 , R 11 to R 17 , R 21 to R 24 , R 25 to R 28 and R 31 to R 38 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 3 to 6 carbon atoms. Or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 25 carbon atoms, and examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and n-butyl.
  • aryl group having 6 to 25 carbon atoms examples include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, an anthryl group.
  • a triphenylenyl group a fluorenyl group, a 9,9-diphenylfluorenyl group, and a 9,9-spirobifluorenyl group.
  • a group that does not contain three or more rings of polyacene is preferable.
  • the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or An aryl group having 6 to 13 carbon atoms can be used.
  • Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, a hexyl group, a cyclopropyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group. be able to.
  • R 41 to R 46 and R 51 to R 56 each independently represent hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms forming a ring. 13 represents a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, and pentyl.
  • a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms forming a ring has a substituent
  • substituents include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a cyclohexane having 3 to 6 carbon atoms.
  • An alkyl group or an aryl group having 6 to 13 carbon atoms can be used.
  • Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, a hexyl group, a cyclopropyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group. be able to.
  • Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 13 carbon atoms forming a ring.
  • a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, a fluorenyl group examples thereof include a dimethylfluorenyl group, a diphenylfluorenyl group, a tert-butylphenyl group, a tolyl group, and a trimethylphenyl group.
  • the third substance is 3,3 ′-(naphthalene-1,4-diyl) bis (9-phenyl-9H-carbazole) or 3,3 ′-(naphthalene-1,5-diyl) bis ( 9-phenyl-9H-carbazole) is preferable because it can be a device with high emission efficiency.
  • the third substance that is, an organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to a naphthalene ring has a triarylamine skeleton so that the HOMO level is not too shallow. Preferably not.
  • the hole transport layer 112 may have a two-layer structure.
  • an organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to a naphthalene ring in the layer in contact with the light-emitting layer among the two layers it is preferable that the molecule does not contain polyacene having three or more rings.
  • the other layer on the hole injection layer side is a layer having an organic compound having a hole transporting property
  • the organic compound having the hole transporting property has a HOMO level of ⁇ 5.8 eV or more ⁇
  • the organic compound is preferably 5.4 eV or less. Further, the organic compound is more preferably the same substance as the first substance.
  • the light-emitting element of one embodiment of the present invention includes the EL layer 103 including a plurality of layers between the pair of electrodes of the first electrode 101 and the second electrode 102 as described above, and the EL layer 103 includes at least the first layer 1 includes a hole injection layer 111, a hole transport layer 112, and a light emitting layer 113 from the electrode 101 side.
  • the other layers included in the EL layer 103 such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a carrier block layer, an exciton block layer, and a charge generation layer.
  • Various layer structures can be applied.
  • the first electrode 101 is preferably formed using a metal, an alloy, a conductive compound, a mixture thereof, or the like having a high work function (specifically, 4.0 eV or more).
  • a metal an alloy, a conductive compound, a mixture thereof, or the like having a high work function (specifically, 4.0 eV or more).
  • ITO Indium Tin Oxide
  • IWZO indium oxide-tin oxide
  • These conductive metal oxide films are usually formed by a sputtering method, but may be formed by applying a sol-gel method or the like.
  • indium oxide-zinc oxide is formed by a sputtering method using a target in which 1 to 20 wt% of zinc oxide is added to indium oxide.
  • indium oxide (IWZO) containing tungsten oxide and zinc oxide is formed by sputtering using a target containing 0.5 to 5 wt% tungsten oxide and 0.1 to 1 wt% zinc oxide with respect to indium oxide.
  • the hole injection layer 111 includes an organic compound having a hole-transport property and the organic compound. Since a composite material including a substance that exhibits an electron accepting property with respect to a compound is used, an electrode material can be selected regardless of a work function.
  • the electron transport layer 114, the electron injection layer 115, and the charge generation layer Two types of configurations having the configuration 116 will be described. The materials constituting each layer are specifically shown below.
  • the hole injection layer 111 includes a first substance that is an organic compound having a HOMO level of ⁇ 5.8 eV or more and ⁇ 5.4 eV or less, and a second substance that has an electron accepting property with respect to the first substance. It is a layer containing.
  • the second substance may be an inorganic compound or an organic compound, but this structure is more preferable when the second substance is an organic compound.
  • the hole injecting layer 111 By forming the hole injecting layer 111, the hole injecting property is improved and a light emitting element with a low driving voltage can be obtained.
  • An organic compound having an electron acceptor property is an easy-to-use material because it can be easily deposited and formed into a film.
  • the hole transport layer 112 is formed including a hole transport material.
  • the hole transport material preferably has a hole mobility of 1 ⁇ 10 ⁇ 6 cm 2 / Vs or higher.
  • an organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to a naphthalene ring is used as a material for the hole transport layer. Note that the organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to the naphthalene ring has been described in detail in Embodiment 1, and thus repeated description is omitted.
  • the hole transport layer 112 may have a two-layer structure.
  • an organic compound having a structure in which at least two substituents having a carbazole ring are bonded to a naphthalene ring in the layer in contact with the light-emitting layer among the two layers it is preferable that the molecule does not contain polyacene having three or more rings.
  • the other layer is a layer having an organic compound having a hole transporting property
  • the organic compound having the hole transporting property is an organic compound having a HOMO level of ⁇ 5.8 eV or more and ⁇ 5.4 eV or less.
  • the organic compound is more preferably the same substance as the first substance.
  • the light emitting layer 113 is a layer containing a host material and a light emitting material.
  • the light emitting material may be a fluorescent light emitting material, a phosphorescent light emitting material, a material exhibiting thermally activated delayed fluorescence (TADF), or another light emitting material. Moreover, even if it is a single layer, it may consist of a plurality of layers containing different light emitting materials. Note that one embodiment of the present invention can be more suitably applied to the case where the light-emitting layer 113 is a layer that emits fluorescent light, particularly a layer that emits blue fluorescent light.
  • Examples of materials that can be used as the fluorescent light-emitting substance in the light-emitting layer 113 include the following. Other fluorescent materials can also be used.
  • condensed aromatic diamine compounds typified by pyrenediamine compounds such as 1,6FLPAPrn, 1,6mMemFLPAPrn, and 1,6BnfAPrn-03 are preferable because they have high hole trapping properties and are excellent in luminous efficiency and reliability.
  • Examples of materials that can be used as the phosphorescent material in the light-emitting layer 113 include the following.
  • a rare earth metal complex such as tris (acetylacetonato) (monophenanthroline) terbium (III) (abbreviation: [Tb (acac) 3 (Phen)]) can be given. These are compounds that mainly emit green phosphorescence, and have an emission peak at 500 nm to 600 nm. Note that an organometallic iridium complex having a pyrimidine skeleton is particularly preferable because of its outstanding reliability and luminous efficiency.
  • a known phosphorescent light emitting material may be selected and used.
  • TADF material fullerene and its derivatives, acridine and its derivatives, eosin derivatives and the like can be used.
  • metal-containing porphyrins including magnesium (Mg), zinc (Zn), cadmium (Cd), tin (Sn), platinum (Pt), indium (In), palladium (Pd), and the like can be given.
  • the metal-containing porphyrin include a protoporphyrin-tin fluoride complex (SnF 2 (Proto IX)), a mesoporphyrin-tin fluoride complex (SnF 2 (Meso IX)) represented by the following structural formula, and hematoporphyrin.
  • the heterocyclic compound has a ⁇ -electron rich heteroaromatic ring and a ⁇ -electron deficient heteroaromatic ring, both the electron transport property and the hole transport property are high, which is preferable.
  • a substance in which a ⁇ -electron rich heteroaromatic ring and a ⁇ -electron deficient heteroaromatic ring are directly bonded increases both the donor property of the ⁇ -electron rich heteroaromatic ring and the acceptor property of the ⁇ -electron deficient heteroaromatic ring. Since the energy difference between the S 1 level and the T 1 level is small, it is particularly preferable because thermally activated delayed fluorescence can be obtained efficiently.
  • an aromatic ring to which an electron withdrawing group such as a cyano group is bonded may be used.
  • various carrier transport materials such as a material having an electron transport property and a material having a hole transport property can be used.
  • NPB 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl
  • TPD 4,4′-bis [N- (spiro-9,9′-bifluoren-2-yl) ) -N-phenylamino] biphenyl
  • BSPB 4,4′-bis [N- (spiro-9,9′-bifluoren-2-yl) ) -N-phenylamino] biphenyl
  • BSPB 4,4′-bis [N- (spiro-9,9′-bifluoren-2-yl) ) -N-phenylamino] biphenyl
  • BPAFLP 4-phenyl-4 '-(9-phenylfluoren-9-yl) triphenylamine
  • mBPAFLP 4-phenyl-4 ′-(9-phenyl-9H-carbamate
  • bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinato) beryllium (II) (abbreviation: BeBq 2 ), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (4-phenylphenolato) Aluminum (III) (abbreviation: BAlq), bis (8-quinolinolato) zinc (II) (abbreviation: Znq), bis [2- (2-benzoxazolyl) phenolato] zinc (II) (abbreviation: ZnPBO), Metal complexes such as bis [2- (2-benzothiazolyl) phenolato] zinc (II) (abbreviation: ZnBTZ), 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4 -Oxadiazole (abbreviation: PBD), 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5- (4-tert-butylpheny
  • a heterocyclic compound having a diazine skeleton and a heterocyclic compound having a pyridine skeleton are preferable because of their good reliability.
  • a heterocyclic compound having a diazine (pyrimidine or pyrazine) skeleton has a high electron transporting property and contributes to a reduction in driving voltage.
  • a material having an anthracene skeleton is preferable as the host material.
  • a substance having an anthracene skeleton is used as a host material for a fluorescent light-emitting substance, a light-emitting layer with favorable emission efficiency and durability can be realized.
  • a substance having an anthracene skeleton used as a host material a diphenylanthracene skeleton, particularly a substance having a 9,10-diphenylanthracene skeleton, is preferable because it is chemically stable.
  • the host material has a carbazole skeleton because hole injection / transport properties are improved.
  • the HOMO is shallower by about 0.1 eV than carbazole.
  • the host material includes a dibenzocarbazole skeleton, HOMO is shallower than carbazole by about 0.1 eV, which facilitates the entrance of holes, and also has excellent hole transportability and high heat resistance. .
  • a substance having a 9,10-diphenylanthracene skeleton and a carbazole skeleton (or a benzocarbazole skeleton or a dibenzocarbazole skeleton) at the same time is more preferable as a host material.
  • a benzofluorene skeleton or a dibenzofluorene skeleton may be used instead of the carbazole skeleton.
  • Examples of such a substance include 9-phenyl-3- [4- (10-phenyl-9-anthryl) phenyl] -9H-carbazole (abbreviation: PCzPA), 3- [4- (1-naphthyl)- Phenyl] -9-phenyl-9H-carbazole (abbreviation: PCPN), 9- [4- (10-phenyl-9-anthracenyl) phenyl] -9H-carbazole (abbreviation: CzPA), 7- [4- (10- Phenyl-9-anthryl) phenyl] -7H-dibenzo [c, g] carbazole (abbreviation: cgDBCzPA), 6- [3- (9,10-diphenyl-2-anthryl) phenyl] -benzo [b] naphtho [1 , 2-d] furan (abbreviation: 2 mBnfPPA), 9-phenyl-10-
  • the host material may be a material in which a plurality of types of substances are mixed.
  • a mixed host material it is preferable to mix a material having an electron transporting property and a material having a hole transporting property. .
  • the exciplex selects a combination that forms an exciplex that emits light that overlaps with the wavelength of the absorption band on the lowest energy side of the light-emitting material, energy transfer becomes smooth and light can be emitted efficiently. preferable. Further, it is preferable to use the structure because the driving voltage is also reduced.
  • the electron transport layer 114 is a layer containing a substance having an electron transport property.
  • the substance having an electron transporting property those exemplified as the substance having an electron transporting property that can be used for the host material can be used.
  • an alkali metal or an alkali such as lithium fluoride (LiF), cesium fluoride (CsF), calcium fluoride (CaF 2 ), or the like is used as the electron injection layer 115.
  • a layer containing an earth metal or a compound thereof may be provided.
  • the electron injecting layer 115 a layer made of a substance having an electron transporting property, an alkali metal, an alkaline earth metal, or a compound thereof, or electride may be used. Examples of the electride include a substance obtained by adding a high concentration of electrons to a mixed oxide of calcium and aluminum.
  • a charge generation layer 116 may be provided instead of the electron injection layer 115.
  • the charge generation layer 116 is a layer that can inject holes into a layer in contact with the cathode side of the layer and inject electrons into a layer in contact with the anode side by applying a potential.
  • the charge generation layer 116 includes at least a P-type layer 117.
  • the P-type layer 117 is preferably formed using the composite material mentioned as the material that can form the hole injection layer 111 described above. Further, the P-type layer 117 may be formed by stacking the above-described film containing an acceptor material and a film containing a hole transport material as a material constituting the composite material. By applying a potential to the P-type layer 117, electrons are injected into the electron transport layer 114 and holes are injected into the second electrode 102 which is a cathode, so that the light-emitting element operates.
  • the charge generation layer 116 is preferably provided with one or both of an electron relay layer 118 and an electron injection buffer layer 119 in addition to the P-type layer 117.
  • the electron relay layer 118 includes at least a substance having an electron transporting property, and has a function of smoothly transferring electrons by preventing the interaction between the electron injection buffer layer 119 and the P-type layer 117.
  • the LUMO level of the substance having an electron transporting property contained in the electron relay layer 118 is the LUMO level of the acceptor substance in the P-type layer 117 and the substance contained in the layer in contact with the charge generation layer 116 in the electron transporting layer 114. It is preferably between the LUMO levels.
  • the specific energy level of the LUMO level in the substance having an electron transporting property used for the electron relay layer 118 is ⁇ 5.0 eV or more, preferably ⁇ 5.0 eV or more and ⁇ 3.0 eV or less. Note that as the substance having an electron transporting property used for the electron relay layer 118, a phthalocyanine-based material or a metal complex having a metal-oxygen bond and an aromatic ligand is preferably used.
  • the electron injection buffer layer 119 includes an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal, and a compound thereof (including an alkali metal compound (including an oxide such as lithium oxide, a halide, and a carbonate such as lithium carbonate and cesium carbonate).
  • Alkaline earth metal compounds (including oxides, halides, carbonates) or rare earth metal compounds (including oxides, halides, carbonates) can be used. It is.
  • the electron injection buffer layer 119 is formed to include an electron transporting substance and a donor substance, an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal, or a compound thereof (as a donor substance)
  • Alkali metal compounds including oxides such as lithium oxide, halides, carbonates such as lithium carbonate and cesium carbonate
  • alkaline earth metal compounds including oxides, halides, carbonates
  • rare earth metal compounds In addition to (including oxides, halides, and carbonates), organic compounds such as tetrathianaphthacene (abbreviation: TTN), nickelocene, and decamethyl nickelocene can also be used.
  • TTN tetrathianaphthacene
  • nickelocene nickelocene
  • decamethyl nickelocene can also be used.
  • the substance having an electron transporting property can be formed using a material similar to the material of the electron transport layer 114 described above.
  • a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like having a low work function (specifically, 3.8 eV or less) can be used as a material for forming the second electrode 102.
  • cathode materials include alkali metals such as lithium (Li) and cesium (Cs), and group 1 of the periodic table of elements such as magnesium (Mg), calcium (Ca), and strontium (Sr) Examples include elements belonging to Group 2, and alloys containing these (MgAg, AlLi), europium (Eu), ytterbium (Yb), and other rare earth metals, and alloys containing these.
  • indium oxide-tin oxide containing Al, Ag, ITO, silicon or silicon oxide regardless of the work function.
  • Various conductive materials such as the above can be used for the second electrode 102. These conductive materials can be formed by a dry method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method, an inkjet method, a spin coating method, or the like. Alternatively, a sol-gel method may be used for a wet method, or a metal material paste may be used for a wet method.
  • a formation method of the EL layer 103 various methods can be used regardless of a dry method or a wet method.
  • a vacuum deposition method a gravure printing method, an offset printing method, a screen printing method, an ink jet method, a spin coating method, or the like may be used.
  • each electrode or each layer described above may be formed by using different film forming methods.
  • the structure of the layers provided between the first electrode 101 and the second electrode 102 is not limited to the above. However, in order to suppress quenching caused by the proximity of the light emitting region and the metal used for the electrode and the carrier injection layer, holes and electrons are separated from the first electrode 101 and the second electrode 102. A structure in which a light emitting region in which recombinations are provided is preferable.
  • This light emitting element is a light emitting element having a plurality of light emitting units between an anode and a cathode.
  • One light-emitting unit has substantially the same structure as the EL layer 103 shown in FIG. That is, the light-emitting element illustrated in FIG. 1C is a light-emitting element having a plurality of light-emitting units, and the light-emitting element illustrated in FIG. 1A or 1B is a light-emitting element having one light-emitting unit. It can be said that there is.
  • a first light-emitting unit 511 and a second light-emitting unit 512 are stacked between an anode 501 and a cathode 502, and the first light-emitting unit 511 and the second light-emitting unit 512 are stacked.
  • a charge generation layer 513 is provided between the two.
  • the anode 501 and the cathode 502 correspond to the first electrode 101 and the second electrode 102 in FIG. 1A, respectively, and the same materials as those described in the description of FIG. Further, the first light emitting unit 511 and the second light emitting unit 512 may have the same configuration or different configurations.
  • the charge generation layer 513 has a function of injecting electrons into one light-emitting unit and injecting holes into the other light-emitting unit when a voltage is applied to the anode 501 and the cathode 502. That is, in FIG. 1C, when a voltage is applied so that the potential of the anode is higher than the potential of the cathode, the charge generation layer 513 injects electrons into the first light-emitting unit 511, and the second What is necessary is just to inject holes into the light emitting unit 512.
  • the charge generation layer 513 is preferably formed with a structure similar to that of the charge generation layer 116 described with reference to FIG. Since the composite material of an organic compound and a metal oxide is excellent in carrier injecting property and carrier transporting property, low voltage driving and low current driving can be realized. Note that in the case where the surface of the light emitting unit on the anode side is in contact with the charge generation layer 513, the charge generation layer 513 can also serve as a hole injection layer of the light emission unit. It does not have to be provided.
  • the electron injection buffer layer 119 plays a role of the electron injection layer in the light emitting unit on the anode side. There is no need to form.
  • FIG. 1C illustrates a light-emitting element having two light-emitting units
  • the present invention can be similarly applied to a light-emitting element in which three or more light-emitting units are stacked.
  • a plurality of light-emitting units are partitioned and arranged between the pair of electrodes by the charge generation layer 513, thereby enabling high-luminance light emission while keeping the current density low.
  • a long-life device can be realized.
  • a light-emitting device that can be driven at a low voltage and has low power consumption can be realized.
  • light emission of a desired color can be obtained as the whole light emitting element.
  • a light-emitting element having two light-emitting units a light-emitting element that emits white light as a whole is obtained by obtaining red and green light-emitting colors with a first light-emitting unit and blue light-emitting color with a second light-emitting unit. It is also possible to obtain.
  • each layer and electrode such as the EL layer 103, the first light emitting unit 511, the second light emitting unit 512, and the charge generation layer described above may be formed by, for example, a vapor deposition method (including a vacuum vapor deposition method) or a droplet discharge method (inkjet Or a coating method, a gravure printing method, or the like. They may also include low molecular weight materials, medium molecular weight materials (including oligomers and dendrimers), or polymeric materials.
  • FIGS. 2A is a top view illustrating the light-emitting device
  • FIG. 2B is a cross-sectional view taken along lines AB and CD of FIG. 2A.
  • This light-emitting device includes a drive circuit portion (source line drive circuit) 601, a pixel portion 602, and a drive circuit portion (gate line drive circuit) 603 indicated by dotted lines, which control light emission of the light-emitting elements.
  • Reference numeral 604 denotes a sealing substrate
  • reference numeral 605 denotes a sealing material
  • the inside surrounded by the sealing material 605 is a space 607.
  • the lead wiring 608 is a wiring for transmitting a signal input to the source line driver circuit 601 and the gate line driver circuit 603, and a video signal, a clock signal, an FPC (flexible printed circuit) 609 serving as an external input terminal, Receives start signal, reset signal, etc.
  • FPC flexible printed circuit
  • a printed wiring board PWB
  • the light-emitting device in this specification includes not only a light-emitting device body but also a state in which an FPC or a PWB is attached thereto.
  • a driver circuit portion and a pixel portion are formed over the element substrate 610.
  • a source line driver circuit 601 that is a driver circuit portion and one pixel in the pixel portion 602 are illustrated.
  • the element substrate 610 is manufactured using a substrate made of glass, quartz, organic resin, metal, alloy, semiconductor, or the like, or a plastic substrate made of FRP (Fiber Reinforced Plastics), PVF (polyvinyl fluoride), polyester, acrylic, or the like. That's fine.
  • FRP Fiber Reinforced Plastics
  • PVF polyvinyl fluoride
  • the structure of the transistor used for the pixel or the driver circuit there is no particular limitation on the structure of the transistor used for the pixel or the driver circuit.
  • an inverted staggered transistor or a staggered transistor may be used.
  • a top-gate transistor or a bottom-gate transistor may be used.
  • the semiconductor material used for the transistor is not particularly limited, and for example, silicon, germanium, silicon carbide, gallium nitride, or the like can be used.
  • an oxide semiconductor containing at least one of indium, gallium, and zinc, such as an In—Ga—Zn-based metal oxide, may be used.
  • crystallinity of a semiconductor material used for the transistor there is no particular limitation on the crystallinity of a semiconductor material used for the transistor, and any of an amorphous semiconductor and a semiconductor having crystallinity (a microcrystalline semiconductor, a polycrystalline semiconductor, a single crystal semiconductor, or a semiconductor partially including a crystal region) is used. May be used. It is preferable to use a crystalline semiconductor because deterioration of transistor characteristics can be suppressed.
  • an oxide semiconductor is preferably used for a semiconductor device such as a transistor used in a touch sensor described below.
  • an oxide semiconductor having a wider band gap than silicon is preferably used.
  • the oxide semiconductor preferably contains at least indium (In) or zinc (Zn).
  • the oxide semiconductor includes an oxide represented by an In-M-Zn-based oxide (M is a metal such as Al, Ti, Ga, Ge, Y, Zr, Sn, La, Ce, or Hf). Is more preferable.
  • the semiconductor layer has a plurality of crystal parts, and the crystal part has a c-axis oriented perpendicular to the formation surface of the semiconductor layer or the top surface of the semiconductor layer, and a grain boundary between adjacent crystal parts. It is preferable to use an oxide semiconductor film which does not contain any oxide.
  • the transistor having the above semiconductor layer can hold charge accumulated in the capacitor through the transistor for a long time due to the low off-state current.
  • the driving circuit can be stopped while maintaining the gradation of an image displayed in each display region. As a result, an electronic device with extremely low power consumption can be realized.
  • a base film In order to stabilize the characteristics of the transistor, it is preferable to provide a base film.
  • an inorganic insulating film such as a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, or a silicon nitride oxide film can be used, which can be formed as a single layer or a stacked layer.
  • the base film is formed by sputtering, CVD (Chemical Vapor Deposition) (plasma CVD, thermal CVD, MOCVD (Metal Organic CVD), etc.), ALD (Atomic Layer Deposition), coating, printing, etc. it can. Note that the base film is not necessarily provided if not necessary.
  • the FET 623 indicates one of the transistors formed in the drive circuit portion 601.
  • the driving circuit may be formed of various CMOS circuits, PMOS circuits, or NMOS circuits.
  • CMOS circuits complementary metal-oxide-semiconductor
  • PMOS circuits PMOS circuits
  • NMOS circuits NMOS circuits.
  • a driver integrated type in which a driver circuit is formed over a substrate is shown; however, this is not necessarily required, and the driver circuit can be formed outside the substrate.
  • the pixel portion 602 is formed by a plurality of pixels including the switching FET 611, the current control FET 612, and the first electrode 613 electrically connected to the drain thereof, but is not limited thereto.
  • the pixel portion may be a combination of two or more FETs and a capacitor.
  • an insulator 614 is formed so as to cover an end portion of the first electrode 613.
  • a positive photosensitive acrylic resin film can be used.
  • a curved surface having a curvature is formed at the upper end portion or the lower end portion of the insulator 614 in order to improve the coverage of an EL layer or the like to be formed later.
  • a curvature radius 0.2 ⁇ m to 3 ⁇ m.
  • the insulator 614 either a negative photosensitive resin or a positive photosensitive resin can be used.
  • An EL layer 616 and a second electrode 617 are formed over the first electrode 613.
  • a material used for the first electrode 613 functioning as an anode a material having a high work function is preferably used.
  • a stack of a titanium nitride film and a film containing aluminum as a main component, a three-layer structure including a titanium nitride film, a film containing aluminum as a main component, and a titanium nitride film can be used. Note that with a stacked structure, resistance as a wiring is low, good ohmic contact can be obtained, and a function as an anode can be obtained.
  • the EL layer 616 is formed by various methods such as an evaporation method using an evaporation mask, an inkjet method, and a spin coating method.
  • the EL layer 616 includes a structure as described in Embodiment Modes 1 and 2. Further, as another material forming the EL layer 616, a low molecular compound or a high molecular compound (including an oligomer and a dendrimer) may be used.
  • the second electrode 617 formed over the EL layer 616 and functioning as a cathode a material having a low work function (Al, Mg, Li, Ca, or an alloy or compound thereof (MgAg, MgIn, AlLi etc.) is preferred.
  • the second electrode 617 includes a thin metal film and a transparent conductive film (ITO, 2 to 20 wt% oxidation).
  • ITO transparent conductive film
  • a stack of indium oxide containing zinc, indium tin oxide containing silicon, zinc oxide (ZnO), or the like is preferably used.
  • a light-emitting element is formed using the first electrode 613, the EL layer 616, and the second electrode 617.
  • the light-emitting element is any of the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2. Note that a plurality of light-emitting elements are formed in the pixel portion. However, in the light-emitting device in this embodiment, the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 and other light-emitting elements are used. Both of the elements may be included.
  • the sealing substrate 604 is bonded to the element substrate 610 with the sealant 605, whereby the light-emitting element 618 is provided in the space 607 surrounded by the element substrate 610, the sealing substrate 604, and the sealant 605. Yes.
  • the space 607 is filled with a filler and may be filled with a sealing material in addition to the case of being filled with an inert gas (such as nitrogen or argon).
  • an epoxy resin or glass frit is preferably used for the sealant 605. Moreover, it is desirable that these materials are materials that do not transmit moisture and oxygen as much as possible.
  • a plastic substrate made of FRP (Fiber Reinforced Plastics), PVF (polyvinyl fluoride), polyester, acrylic, or the like can be used as a material used for the sealing substrate 604.
  • a protective film may be provided on the second electrode.
  • the protective film may be formed of an organic resin film or an inorganic insulating film. Further, a protective film may be formed so as to cover the exposed portion of the sealant 605. The protective film can be provided so as to cover the exposed side surfaces of the surface and side surfaces of the pair of substrates, the sealing layer, the insulating layer, and the like.
  • the protective film a material that hardly permeates impurities such as water can be used. Therefore, it is possible to effectively suppress the diffusion of impurities such as water from the outside to the inside.
  • oxide, nitride, fluoride, sulfide, ternary compound, metal or polymer can be used as a material constituting the protective film.
  • oxide, nitride, fluoride, sulfide, ternary compound, metal or polymer can be used.
  • the protective film is preferably formed by using a film formation method having good step coverage (step coverage).
  • a film formation method having good step coverage there is an atomic layer deposition (ALD: Atomic Layer Deposition) method.
  • a material that can be formed by an ALD method is preferably used for the protective film.
  • ALD method a dense protective film with reduced defects such as cracks and pinholes or a uniform thickness can be formed.
  • damage to the processed member when forming the protective film can be reduced.
  • a protective film that is uniform and has few defects can be formed on the surface having a complicated uneven shape, and the top surface, side surface, and back surface of the touch panel.
  • the light-emitting device described in Embodiment 1 and Embodiment 2 is used for the light-emitting device in this embodiment, a light-emitting device having favorable characteristics can be obtained. Specifically, since the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 are long-life light-emitting elements, a highly reliable light-emitting device can be obtained. In addition, since the light-emitting device using the light-emitting element described in Embodiments 1 and 2 has favorable light emission efficiency, it can be a light-emitting device with low power consumption.
  • FIG. 3 shows an example of a light-emitting device in which a light-emitting element that emits white light is formed and a full color is obtained by providing a colored layer (color filter) or the like.
  • 3A shows a substrate 1001, a base insulating film 1002, a gate insulating film 1003, gate electrodes 1006, 1007, and 1008, a first interlayer insulating film 1020, a second interlayer insulating film 1021, a peripheral portion 1042, and a pixel portion.
  • a driver circuit portion 1041 light emitting element first electrodes 1024W, 1024R, 1024G, and 1024B, a partition wall 1025, an EL layer 1028, a light emitting element second electrode 1029, a sealing substrate 1031, a sealant 1032, and the like are illustrated. ing.
  • colored layers are provided over a transparent base material 1033.
  • a black matrix 1035 may be further provided.
  • the transparent base material 1033 provided with the coloring layer and the black matrix is aligned and fixed to the substrate 1001. Note that the coloring layer and the black matrix 1035 are covered with an overcoat layer 1036.
  • there are a light emitting layer that emits light without passing through the colored layer and a light emitting layer that emits light through the colored layer of each color, and passes through the colored layer. Since the light that does not pass is white, and the light that passes through the colored layer is red, green, and blue, an image can be expressed by pixels of four colors.
  • FIG. 3B illustrates an example in which a colored layer (a red colored layer 1034R, a green colored layer 1034G, and a blue colored layer 1034B) is formed between the gate insulating film 1003 and the first interlayer insulating film 1020.
  • the coloring layer may be provided between the substrate 1001 and the sealing substrate 1031.
  • a light-emitting device having a structure in which light is extracted to the substrate 1001 side where the FET is formed bottom emission type
  • a structure in which light is extracted to the sealing substrate 1031 side top-emission type
  • FIG. 1 A cross-sectional view of a top emission type light emitting device is shown in FIG.
  • a substrate that does not transmit light can be used as the substrate 1001.
  • the connection electrode for connecting the FET and the anode of the light emitting element is manufactured, it is formed in the same manner as the bottom emission type light emitting device.
  • a third interlayer insulating film 1037 is formed so as to cover the electrode 1022. This insulating film may play a role of planarization.
  • the third interlayer insulating film 1037 can be formed using other known materials in addition to the same material as the second interlayer insulating film.
  • the first electrodes 1024W, 1024R, 1024G, and 1024B of the light-emitting element are anodes here, but may be cathodes. In the case of a top emission type light emitting device as shown in FIG. 4, the first electrode is preferably a reflective electrode.
  • the structure of the EL layer 1028 is as described for the EL layer 103 in Embodiments 1 and 2, and has an element structure in which white light emission can be obtained.
  • sealing can be performed with a sealing substrate 1031 provided with colored layers (red colored layer 1034R, green colored layer 1034G, and blue colored layer 1034B).
  • a black matrix 1035 may be provided on the sealing substrate 1031 so as to be positioned between the pixels.
  • the colored layer (red colored layer 1034R, green colored layer 1034G, blue colored layer 1034B) and the black matrix 1035 may be covered with an overcoat layer 1036.
  • the sealing substrate 1031 is a light-transmitting substrate.
  • full-color display is performed with four colors of red, green, blue, and white
  • full-color with four colors of red, yellow, green, and blue, and three colors of red, green, and blue. Display may be performed.
  • a microcavity structure can be suitably applied.
  • a light-emitting element having a microcavity structure is obtained by using a first electrode as a reflective electrode and a second electrode as a semi-transmissive / semi-reflective electrode. Between the reflective electrode and the semi-transmissive / semi-reflective electrode, at least an EL layer is provided, and at least a light-emitting layer serving as a light emitting region is provided.
  • the reflective electrode is a film having a visible light reflectance of 40% to 100%, preferably 70% to 100%, and a resistivity of 1 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ cm or less.
  • the semi-transmissive / semi-reflective electrode is a film having a visible light reflectance of 20% to 80%, preferably 40% to 70%, and a resistivity of 1 ⁇ 10 ⁇ 2 ⁇ cm or less. .
  • the light emitted from the light emitting layer included in the EL layer is reflected by the reflective electrode and the semi-transmissive / semi-reflective electrode and resonates.
  • the light-emitting element can change the optical distance between the reflective electrode and the semi-transmissive / semi-reflective electrode by changing the thickness of the transparent conductive film, the composite material, the carrier transporting material, or the like. Thereby, between the reflective electrode and the semi-transmissive / semi-reflective electrode, it is possible to strengthen the light having a wavelength that resonates and attenuate the light having a wavelength that does not resonate.
  • the light (first reflected light) reflected and returned by the reflective electrode causes a large interference with the light (first incident light) directly incident on the semi-transmissive / semi-reflective electrode from the light emitting layer, it is reflected.
  • the optical distance between the electrode and the light emitting layer is 2n-1) ⁇ / 4 (where n is a natural number of 1 or more and ⁇ is the wavelength of light emission to be amplified).
  • the EL layer may have a structure having a plurality of light emitting layers or a structure having a single light emitting layer.
  • a structure may be employed in which a plurality of EL layers are provided in one light-emitting element with a charge generation layer interposed therebetween, and one or a plurality of light-emitting layers are formed in each EL layer.
  • microcavity structure By having a microcavity structure, it becomes possible to increase the light emission intensity in the front direction of a specific wavelength, so that power consumption can be reduced.
  • a microcavity structure that matches the wavelength of each color in all sub-pixels, in addition to the effect of improving luminance by yellow light emission.
  • a light-emitting device having favorable characteristics can be obtained.
  • the light-emitting device described in Embodiment 1 and Embodiment 2 is used for the light-emitting device in this embodiment, a light-emitting device having favorable characteristics can be obtained. Specifically, since the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 are long-life light-emitting elements, a highly reliable light-emitting device can be obtained. In addition, since the light-emitting device using the light-emitting element described in Embodiments 1 and 2 has favorable light emission efficiency, it can be a light-emitting device with low power consumption.
  • FIG. 5 shows a passive matrix light-emitting device manufactured by applying the present invention.
  • 5A is a perspective view illustrating the light-emitting device
  • FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line XY in FIG. 5A.
  • an EL layer 955 is provided over the substrate 951 between the electrode 952 and the electrode 956.
  • An end portion of the electrode 952 is covered with an insulating layer 953.
  • a partition layer 954 is provided over the insulating layer 953.
  • the side wall of the partition wall layer 954 has an inclination such that the distance between one side wall and the other side wall becomes narrower as it approaches the substrate surface. That is, the cross section in the short side direction of the partition wall layer 954 has a trapezoidal shape, and the bottom side (the side facing the insulating layer 953 in the same direction as the surface direction of the insulating layer 953) is the top side (the surface of the insulating layer 953).
  • the direction is the same as the direction and is shorter than the side not in contact with the insulating layer 953. In this manner, by providing the partition layer 954, defects in the light-emitting element due to static electricity or the like can be prevented.
  • the light-emitting element described in Embodiments 1 and 2 is used, so that a light-emitting device with favorable reliability or a light-emitting device with low power consumption can be obtained. .
  • the light-emitting device described above is a light-emitting device that can be suitably used as a display device that expresses an image because it can control a large number of minute light-emitting elements arranged in a matrix.
  • FIGS. 6B is a top view of the lighting device
  • FIG. 6A is a cross-sectional view taken along line ef in FIG. 6B.
  • a first electrode 401 is formed over a light-transmitting substrate 400 which is a support.
  • the first electrode 401 corresponds to the first electrode 101 in Embodiment 2.
  • the first electrode 401 is formed using a light-transmitting material.
  • a pad 412 for supplying a voltage to the second electrode 404 is formed on the substrate 400.
  • the EL layer 403 is formed over the first electrode 401.
  • the EL layer 403 corresponds to the structure of the EL layer 103 in Embodiments 1 and 2, or a structure in which the light-emitting units 511 and 512 and the charge generation layer 513 are combined. For these configurations, refer to the description.
  • a second electrode 404 is formed so as to cover the EL layer 403.
  • the second electrode 404 corresponds to the second electrode 102 in Embodiment 2.
  • the second electrode 404 is formed using a highly reflective material.
  • a voltage is supplied to the second electrode 404 by being connected to the pad 412.
  • the lighting device described in this embodiment includes a light-emitting element including the first electrode 401, the EL layer 403, and the second electrode 404. Since the light-emitting element is a light-emitting element with high emission efficiency, the lighting device in this embodiment can be a lighting device with low power consumption.
  • the substrate 400 on which the light-emitting element having the above structure is formed and the sealing substrate 407 are fixed using sealing materials 405 and 406 and sealed, whereby the lighting device is completed. Either one of the sealing materials 405 and 406 may be used.
  • a desiccant can be mixed in the inner sealing material 406 (not shown in FIG. 6B), so that moisture can be adsorbed and reliability can be improved.
  • an external input terminal can be obtained.
  • an IC chip 420 mounted with a converter or the like may be provided thereon.
  • the lighting device described in this embodiment uses the light-emitting element described in Embodiments 1 and 2 as an EL element, and thus can be a light-emitting device with favorable reliability. Further, a light-emitting device with low power consumption can be obtained.
  • Embodiment 5 examples of electronic devices each including the light-emitting element described in Embodiments 1 and 2 will be described.
  • the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 have a long lifetime and are highly reliable.
  • the electronic device described in this embodiment can be an electronic device having a highly reliable light-emitting portion.
  • a television device also referred to as a television or a television receiver
  • a monitor for a computer a digital camera, a digital video camera, a digital photo frame
  • a mobile phone a mobile phone
  • Large-sized game machines such as portable telephones, portable game machines, portable information terminals, sound reproduction apparatuses, and pachinko machines. Specific examples of these electronic devices are shown below.
  • FIG. 7A illustrates an example of a television device.
  • a display portion 7103 is incorporated in a housing 7101.
  • a structure in which the housing 7101 is supported by a stand 7105 is shown.
  • An image can be displayed on the display portion 7103, and the display portion 7103 includes the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 arranged in a matrix.
  • the television device can be operated with an operation switch included in the housing 7101 or a separate remote controller 7110.
  • Channels and volume can be operated with an operation key 7109 provided in the remote controller 7110, and an image displayed on the display portion 7103 can be operated.
  • the remote controller 7110 may be provided with a display portion 7107 for displaying information output from the remote controller 7110.
  • the television device is provided with a receiver, a modem, and the like.
  • General TV broadcasts can be received by a receiver, and connected to a wired or wireless communication network via a modem, so that it can be unidirectional (sender to receiver) or bidirectional (sender and receiver). It is also possible to perform information communication between each other or between recipients).
  • FIG. 7B1 illustrates a computer, which includes a main body 7201, a housing 7202, a display portion 7203, a keyboard 7204, an external connection port 7205, a pointing device 7206, and the like. Note that this computer is manufactured by using the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 for the display portion 7203 in a matrix.
  • the computer shown in FIG. 7B1 may have a form as shown in FIG.
  • a computer in FIG. 7B2 includes a second display portion 7210 instead of the keyboard 7204 and the pointing device 7206.
  • the second display portion 7210 is a touch panel type, and input can be performed by operating a display for input displayed on the second display portion 7210 with a finger or a dedicated pen.
  • the second display portion 7210 can display not only an input display but also other images.
  • the display portion 7203 may also be a touch panel.
  • FIG. 7C illustrates an example of a mobile terminal.
  • the mobile phone includes a display portion 7402 incorporated in a housing 7401, operation buttons 7403, an external connection port 7404, a speaker 7405, a microphone 7406, and the like.
  • the cellular phone 7400 includes a display portion 7402 manufactured by arranging the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 in a matrix.
  • the portable terminal illustrated in FIG. 7C can have a structure in which information can be input by touching the display portion 7402 with a finger or the like. In this case, operations such as making a call or creating a mail can be performed by touching the display portion 7402 with a finger or the like.
  • the first mode is a display mode mainly for displaying an image.
  • the first is a display mode mainly for displaying images, and the second is an input mode mainly for inputting information such as characters.
  • the third is a display + input mode in which the display mode and the input mode are mixed.
  • the display portion 7402 may be set to a character input mode mainly for inputting characters, and an operation for inputting characters displayed on the screen may be performed. In this case, it is preferable to display a keyboard or number buttons on most of the screen of the display portion 7402.
  • the orientation (portrait or horizontal) of the mobile terminal is determined, and the screen display of the display portion 7402 is automatically displayed. Can be switched automatically.
  • the screen mode is switched by touching the display portion 7402 or operating the operation button 7403 of the housing 7401. Further, switching can be performed depending on the type of image displayed on the display portion 7402. For example, if the image signal to be displayed on the display unit is moving image data, the mode is switched to the display mode.
  • the screen mode is switched from the input mode to the display mode. You may control.
  • the display portion 7402 can function as an image sensor. For example, personal authentication can be performed by touching the display portion 7402 with a palm or a finger and capturing an image of a palm print, a fingerprint, or the like. In addition, if a backlight that emits near-infrared light or a sensing light source that emits near-infrared light is used for the display portion, finger veins, palm veins, and the like can be imaged.
  • the applicable range of the light-emitting device including the light-emitting element described in Embodiments 1 and 2 is extremely wide, and the light-emitting device can be applied to electronic devices in various fields.
  • a highly reliable electronic device can be obtained.
  • FIG. 8A is a schematic diagram illustrating an example of a cleaning robot.
  • the cleaning robot 5100 includes a display 5101 disposed on the upper surface, a plurality of cameras 5102 disposed on the side surface, brushes 5103, and operation buttons 5104. Although not shown, the lower surface of the cleaning robot 5100 is provided with a tire, a suction port, and the like. In addition, the cleaning robot 5100 includes various sensors such as an infrared sensor, an ultrasonic sensor, an acceleration sensor, a piezo sensor, an optical sensor, and a gyro sensor. Moreover, the cleaning robot 5100 includes a wireless communication unit.
  • the cleaning robot 5100 is self-propelled, can detect the dust 5120, and can suck the dust from the suction port provided on the lower surface.
  • the cleaning robot 5100 can analyze an image captured by the camera 5102 and determine whether there is an obstacle such as a wall, furniture, or a step. In addition, when an object that is likely to be entangled with the brush 5103 such as wiring is detected by image analysis, the rotation of the brush 5103 can be stopped.
  • the display 5101 can display the remaining battery level, the amount of dust sucked, and the like.
  • the route on which the cleaning robot 5100 has traveled may be displayed on the display 5101.
  • the display 5101 may be a touch panel, and the operation buttons 5104 may be provided on the display 5101.
  • the cleaning robot 5100 can communicate with a portable electronic device 5140 such as a smartphone.
  • An image captured by the camera 5102 can be displayed on the portable electronic device 5140. Therefore, the owner of the cleaning robot 5100 can know the state of the room even when away from home.
  • the display on the display 5101 can be confirmed with a portable electronic device 5140 such as a smartphone.
  • the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display 5101.
  • a robot 2100 illustrated in FIG. 8B includes an arithmetic device 2110, an illuminance sensor 2101, a microphone 2102, an upper camera 2103, a speaker 2104, a display 2105, a lower camera 2106, an obstacle sensor 2107, and a moving mechanism 2108.
  • the microphone 2102 has a function of detecting a user's speaking voice, environmental sound, and the like.
  • the speaker 2104 has a function of emitting sound.
  • the robot 2100 can communicate with the user using the microphone 2102 and the speaker 2104.
  • the display 2105 has a function of displaying various information.
  • the robot 2100 can display information desired by the user on the display 2105.
  • the display 2105 may be equipped with a touch panel. Further, the display 2105 may be an information terminal that can be removed, and is installed at a fixed position of the robot 2100 to enable charging and data transfer.
  • the upper camera 2103 and the lower camera 2106 have a function of imaging the surroundings of the robot 2100.
  • the obstacle sensor 2107 can detect the presence or absence of an obstacle in the traveling direction when the robot 2100 moves forward using the moving mechanism 2108.
  • the robot 2100 can recognize the surrounding environment using the upper camera 2103, the lower camera 2106, and the obstacle sensor 2107, and can move safely.
  • the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display 2105.
  • FIG. 8C illustrates an example of a goggle type display.
  • the goggle type display includes, for example, a housing 5000, a display unit 5001, a speaker 5003, an LED lamp 5004, operation keys 5005 (including a power switch or an operation switch), a connection terminal 5006, and a sensor 5007 (force, displacement, position, speed). , Acceleration, angular velocity, number of revolutions, distance, light, liquid, magnetism, temperature, chemical, sound, time, hardness, electric field, current, voltage, power, radiation, flow rate, humidity, gradient, vibration, smell, or infrared
  • the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display portion 5001 and the second display portion 5002.
  • FIG. 9 illustrates an example in which the light-emitting element described in Embodiments 1 and 2 is used for a table lamp which is a lighting device.
  • the desk lamp illustrated in FIG. 9 includes a housing 2001 and a light source 2002, and the lighting device described in Embodiment 3 may be used as the light source 2002.
  • FIG. 10 illustrates an example in which the light-emitting element described in Embodiments 1 and 2 is used for an indoor lighting device 3001. Since the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 are highly reliable light-emitting elements, a highly reliable lighting device can be obtained. Further, since the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 can have a large area, they can be used as a lighting device having a large area. In addition, since the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 are thin, they can be used as thinned lighting devices.
  • the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 can be mounted on a windshield or a dashboard of an automobile.
  • FIG. 11 illustrates one mode in which the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 are used for a windshield or a dashboard of an automobile.
  • Display regions 5200 to 5203 are display regions provided using the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2.
  • a display region 5200 and a display region 5201 are display devices on which the light-emitting elements described in Embodiments 1 and 2 provided on a windshield of an automobile are mounted.
  • the light-emitting element described in Embodiments 1 and 2 is a display device in a so-called see-through state in which the first electrode and the second electrode are formed using a light-transmitting electrode so that the opposite side can be seen through. It can be. If it is a see-through display, it can be installed without obstructing the field of view even if it is installed on the windshield of an automobile.
  • a light-transmitting transistor such as an organic transistor using an organic semiconductor material or a transistor using an oxide semiconductor is preferably used.
  • a display region 5202 is a display device on which the light-emitting element described in any of Embodiments 1 and 2 provided in a pillar portion is mounted.
  • the field of view blocked by the pillar can be complemented by projecting an image from the imaging means provided on the vehicle body.
  • the display area 5203 provided in the dashboard portion compensates for the blind spot by projecting the image from the imaging means provided outside the vehicle from the field of view blocked by the vehicle body, and improves safety. Can do. By displaying the video so as to complement the invisible part, it is possible to check the safety more naturally and without a sense of incongruity.
  • the display area 5203 can provide various information by displaying navigation information, a speedometer, a tachometer, a travel distance, fuel, a gear state, an air conditioner setting, and the like.
  • the display items and layout can be appropriately changed according to the user's preference. Note that these pieces of information can also be provided in the display areas 5200 to 5202.
  • the display areas 5200 to 5203 can also be used as lighting devices.
  • FIG. 12A and 12B show a foldable portable information terminal 5150.
  • FIG. A foldable portable information terminal 5150 includes a housing 5151, a display region 5152, and a bent portion 5153.
  • FIG. 12A shows the portable information terminal 5150 in a developed state.
  • FIG. 12B illustrates the portable information terminal 5150 in a folded state. Although the portable information terminal 5150 has a large display area 5152, the portable information terminal 5150 is compact and excellent in portability when folded.
  • the display region 5152 can be folded in half by a bent portion 5153.
  • the bent portion 5153 includes an extendable member and a plurality of support members. When the bent portion 5153 is folded, the extendable member extends, and the bent portion 5153 has a radius of curvature of 2 mm or more, preferably 3 mm or more. It can be folded.
  • the display area 5152 may be a touch panel (input / output device) equipped with a touch sensor (input device).
  • the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display region 5152.
  • FIG. 13A to 13C show a foldable portable information terminal 9310.
  • FIG. 13A illustrates the portable information terminal 9310 in a developed state.
  • FIG. 13B illustrates the portable information terminal 9310 in a state in which the state is changing from one of the developed state or the folded state to the other.
  • FIG. 13C illustrates the portable information terminal 9310 in a folded state.
  • the portable information terminal 9310 is excellent in portability in the folded state and excellent in display listability due to a seamless wide display area in the expanded state.
  • the display panel 9311 is supported by three housings 9315 connected by hinges 9313.
  • the display panel 9311 may be a touch panel (input / output device) equipped with a touch sensor (input device).
  • the display panel 9311 can be reversibly deformed from a developed state to a folded state by bending the two housings 9315 via the hinge 9313.
  • the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display panel 9311.
  • a display region 9312 in the display panel 9311 is a display region located on a side surface of the portable information terminal 9310 in a folded state. In the display area 9312, information icons, frequently used applications, program shortcuts, and the like can be displayed, so that information can be confirmed and applications can be activated smoothly.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed over a glass substrate by a sputtering method, so that the first electrode 101 was formed.
  • the film thickness was 70 nm, and the electrode area was 2 mm ⁇ 2 mm.
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • N, N-bis (4-biphenyl) -6-phenylbenzo [b] naphtho [1,2-d] furan-8 represented by the structural formula (i) is formed by a vapor deposition method using resistance heating.
  • the hole injection layer 111 was formed by vapor deposition.
  • the hole transport layer 112 is formed by vapor-depositing 3,3 ′-(naphthalene-1,4-diyl) bis (9-phenyl-9H-carbazole) (abbreviation: PCzN 2) represented by ii) to be 10 nm. Formed.
  • cgDBCzPA was deposited on the light-emitting layer 113 so as to have a film thickness of 15 nm, and then 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl- represented by the above structural formula (v). 1,10-phenanthroline (abbreviation: NBPhen) was deposited to a thickness of 10 nm to form an electron transport layer 114.
  • lithium fluoride (LiF) is deposited to a thickness of 1 nm to form the electron injection layer 115, and then aluminum is deposited to a thickness of 200 nm.
  • the second electrode 102 was formed to manufacture the light-emitting element 1 of this example.
  • the luminance-current density characteristics of the light-emitting element 1 and the comparative light-emitting element 1 are shown in FIG. 14, the current efficiency-luminance characteristics in FIG. 15, the brightness-voltage characteristics in FIG. 16, the current-voltage characteristics in FIG.
  • the luminance characteristics are shown in FIG. 18, and the emission spectrum is shown in FIG. Table 2 shows main characteristics of each light-emitting element around 1000 cd / m 2 .
  • the light-emitting element 1 which is one embodiment of the present invention is a favorable blue light-emitting element having low driving voltage and characteristics such as light-emitting efficiency which are equivalent to those of the comparative light-emitting element 1. It was.
  • FIG. 20 shows a graph showing a change in luminance with respect to driving time at a current density of 50 mA / cm 2 .
  • the light-emitting element 1 which is a light-emitting element of one embodiment of the present invention is a light-emitting element with a small lifetime due to accumulation of driving time and a favorable lifetime.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed over a glass substrate by a sputtering method, so that the first electrode 101 was formed.
  • the film thickness was 70 nm, and the electrode area was 2 mm ⁇ 2 mm.
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • N, N-bis (4-biphenyl) -6-phenylbenzo [b] naphtho [1,2-d] furan-8 represented by the structural formula (i) is formed by a vapor deposition method using resistance heating.
  • the hole injection layer 111 was formed by vapor deposition.
  • PCzN 2 3,3 ′-(naphthalene-1,4-diyl) bis (9-phenyl-9H-carbazole) (abbreviation: PCzN 2) represented by the above structural formula (ii) is formed over the hole injection layer 111.
  • the hole transport layer 112 was formed by vapor-depositing to a thickness of 30 nm.
  • cgDBCzPA was deposited on the light-emitting layer 113 so as to have a film thickness of 15 nm, and then 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl- represented by the above structural formula (v). 1,10-phenanthroline (abbreviation: NBPhen) was deposited to a thickness of 10 nm to form an electron transport layer 114.
  • lithium fluoride (LiF) is deposited to a thickness of 1 nm to form the electron injection layer 115, and then aluminum is deposited to a thickness of 200 nm.
  • the second electrode 102 was formed to manufacture the light-emitting element 2 of this example.
  • the luminance-current density characteristics of the light-emitting element 2 and the comparative light-emitting element 2 are shown in FIG. 21, the current efficiency-luminance characteristics in FIG. 22, the brightness-voltage characteristics in FIG. 23, and the current-voltage characteristics in FIG.
  • the luminance characteristics are shown in FIG. 25, and the emission spectrum is shown in FIG. Table 4 shows main characteristics of each light-emitting element around 1000 cd / m 2 .
  • the light-emitting element 2 which is one embodiment of the present invention is a favorable blue light-emitting element with low driving voltage and characteristics such as light-emitting efficiency which are equivalent to those of the comparative light-emitting element 2. It was.
  • FIG. 27 shows a graph showing a change in luminance with respect to driving time at a current density of 50 mA / cm 2 .
  • the light-emitting element 2 which is a light-emitting element of one embodiment of the present invention is a light-emitting element with a small lifetime due to accumulation of driving time and a favorable lifetime.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed over a glass substrate by a sputtering method, so that the first electrode 101 was formed.
  • the film thickness was 70 nm, and the electrode area was 2 mm ⁇ 2 mm.
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • N, N-bis (4-biphenyl) -6-phenylbenzo [b] naphtho [1,2-d] furan-8 represented by the structural formula (i) is formed by a vapor deposition method using resistance heating.
  • the hole injection layer 111 was formed by vapor deposition.
  • the hole transport layer 112 is formed by vapor-depositing 3,3 ′-(naphthalene-1,4-diyl) bis (9-phenyl-9H-carbazole) (abbreviation: PCzN 2) represented by ii) to be 10 nm. Formed.
  • 2- ⁇ 4- [9,10-di (naphthalen-2-yl) -2-anthryl] -1-phenyl-1H-benzimidazole represented by the structural formula (vii) is formed on the light-emitting layer 113.
  • ZADN 8-hydroxyquinolinolato-lithium
  • Liq 8-hydroxyquinolinolato-lithium
  • Liq is deposited to a thickness of 1 nm to form the electron injection layer 115, and then aluminum is deposited to a thickness of 200 nm to form the second electrode 102.
  • the light emitting element 3 of this example was manufactured.
  • the luminance-current density characteristics of the light-emitting element 3 and the comparative light-emitting element 3 are shown in FIG. 28, the current efficiency-luminance characteristics in FIG. 29, the brightness-voltage characteristics in FIG. 30, the current-voltage characteristics in FIG. FIG. 32 shows the luminance characteristics, and FIG. 33 shows the emission spectrum.
  • Table 6 shows main characteristics of each light-emitting element around 1000 cd / m 2 .
  • the light-emitting element 3 which is one embodiment of the present invention is a favorable blue light-emitting element having characteristics such as driving voltage and light emission efficiency which are the same as those of the comparative light-emitting element 3.
  • FIG. 34 shows a graph showing a change in luminance with respect to driving time at a current density of 50 mA / cm 2 .
  • the light-emitting element 3 which is a light-emitting element of one embodiment of the present invention maintains a luminance of 97% or more of the initial luminance even after 300 hours have elapsed, and the luminance is extremely lowered as the driving time accumulates. It was found that the light-emitting element had a small size and a long lifetime.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed over a glass substrate by a sputtering method, so that the first electrode 101 was formed.
  • the film thickness was 70 nm, and the electrode area was 2 mm ⁇ 2 mm.
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • N, N-bis (4-biphenyl) -6-phenylbenzo [b] naphtho [1,2-d] furan-8 represented by the structural formula (i) is formed by a vapor deposition method using resistance heating.
  • the hole injection layer 111 was formed by vapor deposition.
  • the hole transport layer 112 is formed by vapor-depositing 3,3 ′-(naphthalene-1,4-diyl) bis (9-phenyl-9H-carbazole) (abbreviation: PCzN 2) represented by ii) to be 10 nm. Formed.
  • cgDBCzPA was deposited on the light-emitting layer 113 so as to have a film thickness of 15 nm, and then 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl- represented by the above structural formula (v). 1,10-phenanthroline (abbreviation: NBPhen) was deposited to a thickness of 10 nm to form an electron transport layer 114.
  • lithium fluoride (LiF) is deposited to a thickness of 1 nm to form the electron injection layer 115, and then aluminum is deposited to a thickness of 200 nm.
  • the second electrode 102 was formed to manufacture the light-emitting element 4 of this example.
  • Comparative light-emitting element 4 is N- (1,1′-biphenyl) represented by the above structural formula (ix) in BBABnf used in hole-injection layer 111 and first hole-transport layer 112-1 in light-emitting element 4.
  • PCBBiF -9H-fluoren-2-amine
  • the luminance-current density characteristics of the light-emitting element 4 and the comparative light-emitting element 4 are shown in FIG. 35, the current efficiency-luminance characteristics in FIG. 36, the brightness-voltage characteristics in FIG. 37, and the current-voltage characteristics in FIG.
  • the luminance characteristics are shown in FIG. 39 and the emission spectrum is shown in FIG. Table 8 shows main characteristics of each light-emitting element around 1000 cd / m 2 .
  • the light-emitting element 4 which is one embodiment of the present invention uses a hole transport material having a deeper HOMO level than the comparative light-emitting element 4, and thus has a deep HOMO like PCzN2. Holes can be injected into a hole transport material having a level without a barrier. Therefore, it was found that the blue light emitting element had low driving voltage and good light emission efficiency.
  • FIG. 41 shows a graph showing a change in luminance with respect to driving time at a current density of 50 mA / cm 2 .
  • the light-emitting element 4 which is a light-emitting element of one embodiment of the present invention is a light-emitting element with a small lifetime due to accumulation of driving time and a favorable lifetime.
  • indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed over a glass substrate by a sputtering method, so that the first electrode 101 was formed.
  • the film thickness was 110 nm and the electrode area was 2 mm ⁇ 2 mm.
  • the surface of the substrate was washed with water, baked at 200 ° C. for 1 hour, and then subjected to UV ozone treatment for 370 seconds.
  • the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 ⁇ 4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate is released for about 30 minutes. Chilled.
  • N, N-bis (4-biphenyl) -6-phenylbenzo [b] naphtho [1,2-d] furan-8 represented by the structural formula (i) is formed by a vapor deposition method using resistance heating.
  • the hole injection layer 111 was formed by vapor deposition.
  • the hole transport layer 112 is formed by vapor-depositing 3,3 ′-(naphthalene-1,4-diyl) bis (9-phenyl-9H-carbazole) (abbreviation: PCzN2) represented by ii) to be 30 nm. Formed.
  • cgDBCzPA was deposited on the light-emitting layer 113 so as to have a film thickness of 15 nm, and then 2,9-bis (naphthalen-2-yl) -4,7-diphenyl- represented by the above structural formula (v). 1,10-phenanthroline (abbreviation: NBPhen) was deposited to a thickness of 10 nm to form an electron transport layer 114.
  • lithium fluoride (LiF) is deposited to a thickness of 1 nm to form the electron injection layer 115, and then aluminum is deposited to a thickness of 200 nm.
  • the second electrode 102 was formed to manufacture the light-emitting element 30 of this example.
  • the light-emitting element 50 was manufactured in the same manner as the light-emitting element 30 except that the thickness of the second hole transport layer 112-2 in the light-emitting element 30 was set to 50 nm.
  • the light-emitting element 70 was manufactured in the same manner as the light-emitting element 30 except that the thickness of the second hole transport layer 112-2 in the light-emitting element 30 was set to 70 nm.
  • the light-emitting element 80 was manufactured in the same manner as the light-emitting element 30 except that the thickness of the second hole transport layer 112-2 in the light-emitting element 30 was set to 80 nm.
  • the light-emitting element 90 was manufactured in the same manner as the light-emitting element 30 except that the thickness of the second hole transport layer 112-2 in the light-emitting element 30 was set to 90 nm.
  • the light-emitting element 100 was manufactured in the same manner as the light-emitting element 30 except that the thickness of the second hole transport layer 112-2 in the light-emitting element 30 was set to 100 nm.
  • the light-emitting element 110 was manufactured in the same manner as the light-emitting element 30 except that the thickness of the second hole transport layer 112-2 in the light-emitting element 30 was changed to 110 nm.
  • the light-emitting element 130 was manufactured in the same manner as the light-emitting element 30, except that the thickness of the second hole transport layer 112-2 in the light-emitting element 30 was 130 nm.
  • FIG. 42 A graph showing a change in luminance with respect to driving time at a current density of 50 mA / cm 2 of the light-emitting elements 30 to 130 is shown in FIG.
  • the light-emitting element of one embodiment of the present invention was found to be a light-emitting element that does not affect the lifetime even when the thickness of the second hole-transport layer 112-2 is increased. . Therefore, it was found that the light-emitting element of the present invention is a light-emitting element in which the optical path length inside the light-emitting element can be easily adjusted by changing the thickness of the second hole transport layer 112-2. .
  • FIGS. 43 (A) and 43 (B) Numerical data of 1 H-NMR of the obtained solid is shown below, and 1 H NMR charts are shown in FIGS. 43 (A) and 43 (B). Note that FIG. 43B is a chart in which the range of 7.1 ppm to 8.3 ppm in FIG. Thereby, it was found that YGTBi1BP was obtained in this synthesis example.
  • an ultraviolet-visible absorption spectrum (hereinafter simply referred to as “absorption spectrum”) and an emission spectrum of a toluene solution of YGTBi1BP and a solid thin film were measured.
  • the solid thin film was produced on a quartz substrate by a vacuum deposition method.
  • an ultraviolet-visible spectrophotometer (solution: manufactured by JASCO Corporation, V-550, thin film: manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, U-4100) was used.
  • the absorption spectrum of the solution was calculated by subtracting the absorption spectrum measured only by putting toluene in a quartz cell, and the absorption spectrum of the thin film was the absorbance ( ⁇ log 10 [%] obtained from the transmittance and reflectance including the substrate. T / (100-% R)], where% T represents transmittance,% R represents reflectance, and the emission spectrum was measured using a fluorometer (FS920, manufactured by Hamamatsu Photonics). Using.
  • FIG. 45 shows the measurement results of the absorption spectrum and emission spectrum of the solid thin film.
  • the HOMO level and LUMO level of YGTBi1BP were calculated based on cyclic voltammetry (CV) measurement. The calculation method is shown below.
  • an electrochemical analyzer manufactured by BAS Co., Ltd., model number: ALS model 600A or 600C
  • DMF dehydrated dimethylformamide
  • tetra-n-butylammonium perchlorate supporting electrolyte
  • n-Bu 4 NClO 4 tetra-n-butylammonium perchlorate
  • T0836 tetra-n-butylammonium perchlorate
  • a platinum electrode manufactured by BAS Co., Ltd., PTE platinum electrode
  • a platinum electrode manufactured by BAS Inc., Pt counter electrode for VC-3 ( 5 cm)
  • Ag / Ag + electrode manufactured by BAS Co., Ltd., RE7 non-aqueous solvent system reference electrode
  • the scanning speed during CV measurement was unified to 0.1 V / sec, and the oxidation potential Ea [V] and the reduction potential Ec [V] with respect to the reference electrode were measured.
  • Ea was an intermediate potential of the oxidation-reduction wave
  • Ec was an intermediate potential of the reduction-oxidation wave.
  • the HOMO level [eV] ⁇ 4.94 ⁇ Ea
  • the HOMO level of YGTBi1BP was ⁇ 5.47 eV.
  • the LUMO level was found to be -2.34 eV.
  • YGTBi1BP is prepared under the same conditions as in the above synthesis scheme, with the borane compound as 4′-bromotri (4-biphenylyl) amine and the halide as 4- (9H-carbazol-9-yl) as in the following synthesis scheme. It can also be synthesized by changing to phenylboronic acid.
  • Step 1 Synthesis of N- [4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) phenyl]-(1,1′-biphenyl) -4-amine > 6.4 g (20 mmol) of N- (4-bromophenyl) -4-biphenylamine, 5.1 g (20 mmol) of bis (pinacolato) diboron, 3.9 g (40 mmol) of potassium acetate, 100 mL of 1 , 4-Dioxane was put into a 200 mL three-necked flask equipped with a reflux tube, the mixture was degassed under reduced pressure, and the system was purged with nitrogen.
  • Step 2 Synthesis of 4- [4 ′-(carbazol-9-yl) biphenyl-4-yl] -4′-biphenylamine> 3.2 g (8.6 mmol) of N- [4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) phenyl]-(1, obtained in step 1 1′-biphenyl) -4-amine, 3.4 g (8.6 mmol) 9- (4′-bromo-4-biphenylyl) carbazole, 52 mg (0.17 mmol) tri (ortho-tolyl) phosphine 10 mL of potassium carbonate aqueous solution (2.0 mol / L), 60 mL of toluene, and 25 mL of ethanol were placed in a 200 mL three-necked flask equipped with a reflux tube, and the mixture was degassed under reduced pressure.
  • Step 2 The synthesis scheme of Step 2 is shown below.
  • FIGS. 46 (A) and 46 (B) Numerical data of 1 H NMR of the obtained solid is shown below, and 1 H NMR charts are shown in FIGS. 46 (A) and 46 (B). Note that FIG. 46B is a chart in which the range of 5.8 ppm to 8.3 ppm in FIG. Thus, it was found that 4- [4 ′-(carbazol-9-yl) biphenyl-4-yl] -4′-biphenylamine, which was the target compound, was obtained in this synthesis step.
  • Step 3 Synthesis of 4- [4 ′-(carbazol-9-yl) biphenyl-4-yl] -4 ′-(2-naphthyl) -4 ′′ -phenyltriphenylamine (abbreviation: YGTBi ⁇ NB)> 0.85 g (1.5 mmol) of 4- [4 ′-(carbazol-9-yl) biphenyl-4-yl] -4′-biphenylamine obtained in step 2 and 0.43 g (1.5 mmol).
  • Step 3 The synthesis scheme of Step 3 is shown below.
  • the obtained 0.83 g of solid was purified by sublimation by a train sublimation method.
  • the sublimation purification was performed by heating the solid at a pressure of 3.8 Pa and 345 ° C. for 15 hours while flowing argon at 15 mL / min. After sublimation purification, 0.49 g of the target pale yellow solid was obtained with a recovery rate of 59%.
  • FIGS. 47 (A) and 47 (B) Numerical data of 1 H NMR of the obtained solid is shown below, and 1 H NMR charts are shown in FIGS. 47 (A) and 47 (B). Note that FIG. 47B is a chart in which the range of 7.2 ppm to 8.3 ppm in FIG. 47A is enlarged. Thus, it was found that YGTBi ⁇ NB, which is the target compound, was obtained in this synthesis example.
  • FIG. 49 shows the measurement results of the absorption spectrum and emission spectrum of the solid thin film.
  • the HOMO level and LUMO level of YGTBi ⁇ NB were calculated based on cyclic voltammetry (CV) measurement.
  • the calculation method is the same as in Synthesis Example 1.
  • the HOMO level of YGTBi ⁇ NB was ⁇ 5.47 eV.
  • the LUMO level was found to be -2.35 eV.
  • CV measurement was repeated 100 times, and the peak intensity of the oxidation-reduction wave in the measurement at the 100th cycle was compared with the peak intensity of the oxidation-reduction wave in the first cycle. Since the peak intensity of 95% was maintained, it was confirmed that YGTBi ⁇ NB has very good resistance to oxidation and reduction.
  • the mixture was stirred at 110 ° C. for 5.5 hours under a nitrogen stream.
  • the mixture was allowed to cool to room temperature, 25 ml of toluene was added, and the mixture was reheated to dissolve the precipitated solid, followed by purification with celite / alumina / florisil / celite.
  • the obtained filtrate was concentrated and recrystallized with ethyl acetate to obtain 2.61 g of the objective white solid in a yield of 81%.
  • a synthesis scheme of the above synthesis method is shown below.
  • FIG. 50B is a chart in which the range of 6.9 ppm to 7.9 ppm in FIG. From this result, it was found that BBAFLP was obtained in this synthesis example.
  • Step 1 Synthesis of 4- (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) phenylboronic acid> After putting 15.89 g (40 mmol) of 9- (4-bromophenyl) -9-phenyl-9H-fluorene into a 500 mL three-necked flask, it was degassed by reducing the pressure, and the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen. 200 ml of dehydrated tetrahydrofuran (abbreviation: THF) was added to the container. The mixture was cooled to about ⁇ 78 ° C.
  • THF dehydrated tetrahydrofuran
  • Step 1 The synthesis scheme of Step 1 is shown below.
  • Step 2 Synthesis of BBAFLBi>
  • 2.53 g (7 mmol) of 4- (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) phenylboronic acid and 3.34 g (7 mmol) of 4-bromo-4 ′, 4 ′ '-Diphenyltriphenylamine, 2.90 g (7 mmol) of potassium carbonate, 70 mL of toluene, 12.5 mL of ethanol and 10.5 mL of water were added.
  • the mixture was degassed by stirring it under reduced pressure, and the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen.
  • FIG. 51B is a chart in which the range of 6.9 ppm to 7.9 ppm in FIG. From this result, it was found that BBAFLBi was obtained in this synthesis example.
  • Synthesis Example 5 >> In this synthesis example, 4,4′-diphenyl-3 ′′-(9-phenylfluorene-9, which is a substance that can be used as the organic compound of the hole-injection layer 111 in the light-emitting element of one embodiment of the present invention.
  • a method for synthesizing -yl) triphenylamine (abbreviation: mBBAFLP) will be described. The structure of mBBAFLP is shown below.
  • Sublimation purification of 2.00 g of the obtained white solid was performed by a train sublimation method.
  • the sublimation purification was performed by heating at 270 ° C. under the conditions of a pressure of 2.9 Pa and an argon flow rate of 5 mL / min.
  • After sublimation purification 1.87 g of mBBAFLP white solid was obtained with a recovery rate of 94%.
  • FIG. 52B is a chart in which the range of 6.5 ppm to 8.0 ppm in FIG. From this result, it was found that mBBAFLP was obtained by this synthesis example.
  • Sublimation purification of 2.6 g of the obtained white solid was performed by a train sublimation method.
  • the sublimation purification was performed by heating the white solid at 280 ° C. under the conditions of a pressure of 3.5 Pa and an argon flow rate of 5.0 mL / min. After sublimation purification, 2.3 g of a pale yellow solid was obtained with a recovery rate of 88%.
  • FIG. 53B is a chart in which the range of 7.0 ppm to 8.0 ppm in FIG. 53A is enlarged. From this result, it was found that mpBBAFLBi was obtained in this synthesis example.
  • the measurement results of the absorption spectrum and emission spectrum of the obtained toluene solution are shown in FIG.
  • the measurement results of the absorption spectrum and emission spectrum of the solid thin film are shown in FIG.
  • the HOMO level and LUMO level of mpBBAFLBi were calculated based on cyclic voltammetry (CV) measurement.
  • the calculation method is the same as in Synthesis Example 1.
  • CV measurement was repeated 100 times, and the peak intensity of the oxidation-reduction wave in the measurement at the 100th cycle was compared with the peak intensity of the oxidation-reduction wave in the first cycle. Since 93% was maintained, it was confirmed that mpBBAFLBi is an organic compound having very good resistance to oxidation and reduction.
  • Step 1 The synthesis scheme of Step 1 is shown below.
  • Step 2 Synthesis of 4- (4-biphenylyl) -4 ′-(2-naphthyl) -4 ′′ -phenyltriphenylamine (abbreviation: TPBiA ⁇ NB)> 1.5 g (2.7 mmol) of N- (1,1′-biphenyl) -4-yl- (1,1 ′: 4 ′, 1 ′′ -terphenyl) -4-4 obtained in Step 1 -Amine, 0.75 g (2.7 mmol) of 2- (4-bromophenyl) naphthalene and 18 mg (0.053 mmol) of di-tert-butyl (1-methyl-2,2-diphenylcyclopropyl) phosphine Then, 0.51 g (5.3 mmol) sodium tert-butoxide and 100 mL of toluene were placed in a 200 mL three-necked flask equipped with a reflux tube, and the mixture was degassed under reduced
  • the obtained 1.1 g of solid was purified by sublimation by a train sublimation method.
  • the sublimation purification was performed by heating the solid at a pressure of 3.7 Pa and 300 ° C. for 15 hours while flowing argon at 15 mL / min. After sublimation purification, 620 mg of the target pale yellow solid was obtained with a recovery rate of 56%.
  • FIGS. 56 (A) and 56 (B) Numerical data of the obtained solid is shown below, and a 1 H NMR chart is shown in FIGS. 56 (A) and 56 (B). Note that FIG. 56B is a chart in which the range of 7.2 ppm to 8.3 ppm in FIG. Thereby, in this synthesis example, it was found that the target compound, TPBiA ⁇ NB, was obtained.
  • FIG. 58 shows the measurement results of the absorption spectrum and emission spectrum of the solid thin film.
  • the HOMO level and LUMO level of TPBiA ⁇ NB were calculated based on cyclic voltammetry (CV) measurement.
  • the calculation method is the same as in Synthesis Example 1.
  • TPBiA ⁇ NB was found to have a HOMO level of ⁇ 5.47 eV and a LUMO level of ⁇ 2.29 eV.
  • Step 1 Synthesis of N- (1,1′-biphenyl) -4-yl- (1,1 ′: 4 ′, 1′-terphenyl) -4--4-amine> 2.4 g (7.4 mmol) N- (4-bromophenyl) -4-biphenylamine, 1.5 g (7.4 mmol) 4-biphenylboronic acid, 47 mg (0.15 mmol) tri (ortho) -Tolyl) phosphine, 7 mL of potassium carbonate aqueous solution (2.0 mol / L), 60 mL of toluene, and 20 mL of ethanol were placed in a 200 mL three-necked flask equipped with a reflux tube, and the mixture was degassed under reduced pressure.
  • Step 2 Synthesis of 2- (4-chloro-biphenyl-4-yl) naphthalene> 2.4 g (10 mmol) 1-chloro-4-iodobenzene, 2.5 g (10 mmol) 4- (2-naphthyl) phenylboronic acid and 61 mg (0.20 mmol) tri (ortho-tolyl) phosphine Then, 20 mL of an aqueous potassium carbonate solution (2.0 mol / L), 70 mL of toluene, and 30 mL of ethanol were placed in a 200 mL three-necked flask equipped with a reflux tube, and after degassing the solvent under reduced pressure, the interior was purged with nitrogen.
  • Step 2 The synthesis scheme of Step 2 is shown below.
  • Step 3 Synthesis of 4- (4-biphenylyl) -4 ′- ⁇ 4- (2-naphthyl) phenyl ⁇ -4 ′′ -phenyltriphenylamine (abbreviation: TPBiA ⁇ NBi)> 2.94 g (7.4 mmol) of N- (1,1′-biphenyl) -4-yl- (1,1 ′: 4 ′, 1 ′′ -terphenyl) -4-4 obtained in step 1
  • Step 3 The synthesis scheme of Step 3 is shown below.
  • the obtained 3.8 g of solid was purified by sublimation by a train sublimation method.
  • the sublimation purification was performed by heating the solid at a pressure of 3.8 Pa and 335 ° C. for 15 hours while flowing argon at 15 mL / min. After purification by sublimation, 2.8 g of the target pale yellow solid was obtained with a recovery rate of 74%.
  • FIGS. 59 (A) and 59 (B) Numerical data of the obtained solid is shown below, and a 1 H NMR chart is shown in FIGS. 59 (A) and 59 (B). Note that FIG. 59B is a chart in which the range of 7.2 ppm to 8.3 ppm in FIG. 59A is enlarged. Thereby, it was found that in this synthesis example, TPBiA ⁇ NBi which is the target compound was obtained.
  • FIG. 61 shows the measurement results of the absorption spectrum and emission spectrum of the solid thin film.
  • the HOMO level and LUMO level of TPBiA ⁇ NBi were calculated based on cyclic voltammetry (CV) measurement.
  • the calculation method is the same as in Synthesis Example 1.
  • TPBiA ⁇ NBi was found to have a HOMO level of ⁇ 5.47 eV and a LUMO level of ⁇ 2.38 eV.
  • Step 1 Synthesis of 7-bromo-2-phenylnaphthalene> 3.8 g (13 mmol) 2,7-dibromonaphthalene, 2.3 g (13 mmol) phenylboronic acid, 81 mg (27 ⁇ mol) tri (ortho-tolyl) phosphine, 65 mL toluene, 30 mL ethanol, Then, 15 mL of 2M potassium carbonate aqueous solution (2.0 mmol / L) was placed in a 200 mL three-necked flask, and after degassing the mixture under reduced pressure, the system was purged with nitrogen.
  • 2M potassium carbonate aqueous solution 2.0 mmol / L
  • Step 2 Synthesis of 4,4′-diphenyl-4 ′′-(7-phenyl) naphthyl-2-yltriphenylamine (abbreviation: BBAP ⁇ NB-03)> 1.8 g (6.5 mmol) of 7-bromo-2-phenylnaphthalene obtained in Step 1 and 3.5 g (6.5 mmol) of N, N-di (4-biphenyl) -4- (4 4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) aniline, 40 mg (0.13 mmol) of tri (ortho-tolyl) phosphine, and 6.5 mL of an aqueous potassium carbonate solution (2.
  • the obtained 1.9 g of brown solid was purified by sublimation by the train sublimation method.
  • the sublimation purification was performed by heating the solid at a pressure of 4.1 Pa and 280 ° C. for 24 hours while flowing argon at 15 mL / min. After purification by sublimation, 1.1 g of a target pale yellow solid was obtained with a recovery rate of 51%.
  • FIGS. 62 (A) and 62 (B) Numerical data of the obtained solid is shown below, and a 1 H NMR chart is shown in FIGS. 62 (A) and 62 (B). Note that FIG. 62B is a chart in which the range of 7.2 ppm to 8.3 ppm in FIG. Thereby, it was found that BBAP ⁇ NB-03, which is the target compound, was obtained in this synthesis example.
  • FIG. 64 shows the measurement results of the absorption spectrum and emission spectrum of the solid thin film.
  • the HOMO level and LUMO level of BBAP ⁇ NB-03 were calculated based on cyclic voltammetry (CV) measurement.
  • the calculation method is the same as in Synthesis Example 1.
  • Step 1 Synthesis of 4 ′-(4-chlorophenyl) tris (1,1′-biphenyl-4-yl) amine> 8.8 g (17 mmol) of 2- ⁇ 4- [di (4-biphenylyl) amino] phenyl ⁇ -4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane in a 200 mL three-neck flask; 4.5 g (17 mmol) of 4-bromo-4′-chlorobiphenyl, 0.15 g (0.50 mmol) of tri (ortho-tolyl) phosphine, 25 mL of an aqueous potassium carbonate solution (2.0 mmol / L), Toluene 128 mL and ethanol 32 mL were added, and this mixture was degassed under reduced pressure, and then the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen.
  • Step 1 A single yellow solid obtained by concentrating the filtrate was recrystallized from toluene to obtain 3.4 g of a white solid. Together, 9.5 g, a white solid was obtained with a yield of 95%.
  • the synthesis scheme of Step 1 is shown below.
  • Step 2 Synthesis of 4 ′-[4- (3-phenyl-9H-carbazol-9-yl) phenyl] tris (1,1′-biphenyl-4-yl) amine (abbreviation: YGTBi1BP-02)>
  • 4 ′-(4-chlorophenyl) tris (1,1′-biphenyl-4-yl) amine obtained in Step 1 and 0.83 g (3.
  • FIG. 65 shows 1 H NMR data of the obtained solid, and numerical data are shown below.
  • 4 ′-[4- (3-phenyl-9H-carbazol-9-yl) phenyl] tris (1,1′-biphenyl-4-yl) amine (abbreviation: YGTBi1BP-02) was obtained. I understood.
  • Sublimation purification of 1.9 g of the obtained solid was performed.
  • the sublimation purification was performed by heating the solid to 370 ° C. under the pressure of 1.9 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa. After purification by sublimation, a yellow solid of the target compound was obtained in a yield of 0.74 g and a recovery rate of 40%.
  • FIG. 66 shows the measurement results of the absorption spectrum and emission spectrum of the obtained toluene solution.
  • FIG. 67 shows the measurement results of the absorption spectrum and emission spectrum of the solid thin film.
  • the toluene solution of YGTBi1BP-02 showed an absorption peak at around 353 nm, and the emission wavelength peak was 419 nm (excitation wavelength: 353 nm).
  • the absorption thin film was observed in the vicinity of 356 nm, 290 nm, 251 nm, and 207 nm, and the emission wavelength peak was observed in the vicinity of 439 nm and 453 nm (excitation wavelength: 370 nm). From this result, it was confirmed that YGTBi1BP-02 emits blue light, and it was found that it can be used as a host of a luminescent substance or a fluorescent substance in the visible range.
  • the HOMO level and LUMO level of YGTBi1BP-02 were calculated based on cyclic voltammetry (CV) measurement.
  • the calculation method is the same as in Synthesis Example 1.
  • DSC differential scanning calorimetry
  • YGTBi1BP-02 was measured using Pyris1 DSC manufactured by PerkinElmer.
  • the temperature was raised from ⁇ 10 ° C. to 360 ° C. at a heating rate of 40 ° C./min, held at that temperature for 3 minutes, and then cooled to ⁇ 10 ° C. at a cooling rate of 100 ° C./min.
  • maintains for 3 minutes at -10 degreeC was performed twice continuously. From the DSC measurement result of the second cycle, it was revealed that the glass transition point of YGTBi1BP-02 was 142 ° C., indicating that the substance has very high heat resistance.
  • thermogravimetry-differential thermal analysis of YGTBi1BP-02 was performed.
  • a high vacuum differential type differential thermal balance manufactured by Bruker AXS Co., Ltd., TG-DTA2410SA was used. The measurement was performed under conditions of a temperature increase rate of 10 ° C./min and a nitrogen stream (flow rate of 200 mL / min) at atmospheric pressure.
  • thermogravimetry-differential thermal analysis YGTBi1BP-02 has a high temperature resistance because the temperature (decomposition temperature) at which the weight determined from thermogravimetry becomes -5% at the start of measurement is 500 ° C. or higher. It was shown to be a substance.

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Abstract

新規発光素子を提供する。 または、 発光効率の良好な発光素子を提供する。または、寿命の良好な発 光素子を提供する。または、駆動電圧の低い発光素子を提供する。陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、前記有機化合物を 含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、第2の層と、発光層とを有し、前記第1の層は、第1の 物質と、第2の物質とを有し、前記第2の層は、第3の物質を有し、前記第1の物質は、そのHOM O準位が-5.8eV以上-5.4eV以下である有機化合物であり、 前記第2の物質は、前記第1の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、 前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子を提供する。

Description

発光素子、発光装置、電子機器および照明装置
本発明の一態様は、発光素子、ディスプレイモジュール、照明モジュール、表示装置、発光装置、電子機器及び照明装置に関する。なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の一態様の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・マター)に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、液晶表示装置、発光装置、照明装置、蓄電装置、記憶装置、撮像装置、それらの駆動方法、または、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。
有機化合物を用いたエレクトロルミネッセンス(EL:Electroluminescence)を利用する発光素子(有機EL素子)の実用化が進んでいる。これら発光素子の基本的な構成は、一対の電極間に発光材料を含む有機化合物層(EL層)を挟んだものである。この素子に電圧を印加して、キャリアを注入し、当該キャリアの再結合エネルギーを利用することにより、発光材料からの発光を得ることができる。
このような発光素子は自発光型であるためディスプレイの画素として用いると、液晶に比べて視認性が高く、バックライトが不要である等の利点があり、フラットパネルディスプレイ素子として好適である。また、このような発光素子を用いたディスプレイは、薄型軽量に作製できることも大きな利点である。さらに非常に応答速度が速いことも特徴の一つである。
また、これらの発光素子は発光層を二次元に連続して形成することが可能であるため、面状に発光を得ることができる。これは、白熱電球やLEDに代表される点光源、あるいは蛍光灯に代表される線光源では得難い特色であるため、照明等に応用できる面光源としての利用価値も高い。
このように発光素子を用いたディスプレイや照明装置はさまざまな電子機器に適用好適であるが、より良好な効率、寿命を有する発光素子を求めて研究開発が進められている。
特許文献1では正孔注入層に接する第1の正孔輸送層と、発光層との間に、第1の正孔注入層のHOMO準位とホスト材料のHOMO準位の間のHOMO準位を有する正孔輸送性材料を設ける構成が開示されている。
発光素子の特性は、目覚ましく向上してきたが効率や耐久性をはじめ、あらゆる特性に対する高度な要求に対応するには未だ不十分と言わざるを得ない。
国際公開第2011/065136号パンフレット
そこで、本発明の一態様では、新規発光素子を提供することを目的とする。または、発光効率の良好な発光素子を提供することを目的とする。または、寿命の良好な発光素子を提供することを目的とする。または、駆動電圧の低い発光素子を提供することを目的とする。
または、本発明の他の一態様では、信頼性の高い発光装置、電子機器及び表示装置を各々提供することを目的とする。または、本発明の他の一態様では、消費電力の小さい発光装置、電子機器及び表示装置を各々提供することを目的とする。
本発明は上述の課題のうちいずれか一を解決すればよいものとする。
本発明の一態様は、陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、前記有機化合物を含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、第2の層と、発光層とを有し、前記第1の層は、第1の物質と、第2の物質とを有し、前記第2の層は、第3の物質を有し、前記第1の物質は、そのHOMO準位が−5.8eV以上−5.4eV以下である有機化合物であり、前記第2の物質は、前記第1の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、前記有機化合物を含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、第2の層と、発光層とを有し、前記第1の層は、第1の物質と、第2の物質とを有し、前記第2の層は、第3の物質を有し、前記第1の物質が、ジベンゾフラン環またはジベンゾチオフェン環を含む置換基を有する芳香族アミンであり、前記第2の物質は、前記第1の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、前記有機化合物を含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、第2の層と、発光層とを有し、前記第1の層は、第1の物質と、第2の物質とを有し、前記第2の層は、第3の物質を有し、前記第1の物質が、ナフタレン環を有する芳香族モノアミンであり、前記第2の物質は、前記第1の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、前記有機化合物を含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、第2の層と、発光層とを有し、前記第1の層は、第1の物質と、第2の物質とを有し、前記第2の層は、第3の物質を有し、前記第1の物質が、9−フルオレニル基がアリーレン基を介して窒素に結合する芳香族モノアミンであり、前記第2の物質は、前記第1の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、前記第1の物質がN,N−ビス(4−ビフェニル)アミノ基を有する有機化合物である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、前記第1の層と前記第2の層との間に第3の層を有し、前記第3の層は第4の物質を有し、前記第4の物質は正孔輸送性を有する有機化合物である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、前記第1の層と前記第2の層との間に第3の層を有し、前記第3の層は第4の物質を有し、前記第4の物質は、そのHOMO準位が−5.8eV以上−5.4eV以下である有機化合物である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、前記第4の物質と前記第1の物質が同じ物質である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、前記有機化合物を含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、発光層とを有し、前記第1の層は、第3の物質と、第2の物質とを有し、前記第2の物質は、前記第3の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、前記第3の物質のHOMO準位が、−5.8eV以上−5.6eV以下である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、前記第3の物質が下記一般式(G1)で表される有機化合物である発光素子である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
ただし、上記一般式(G1)において、Lは置換もしくは無置換のナフタレン−1,4−ジイル基または置換もしくは無置換のナフタレン−1,5−ジイル基を表す。また、Aは下記一般式(gA)で表される基を表し、Bは下記一般式(gB)で表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
ただし、上記一般式(gA)において、Arは環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表す。また、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。ただし、のうち、RおよびR、RおよびR、RおよびR、並びにRおよびRは縮合してベンゼン環を形成していても良い。
また、上記一般式(gB)において、Arは環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表す。また、R11乃至R17は、それぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。ただし、R11およびR12、R14およびR15、R15およびR16、並びにR16およびR17は縮合してベンゼン環を形成していても良い。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、前記第3の物質が下記一般式(G1)で表される有機化合物ある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
ただし、上記一般式(G1)において、Lは下記一般式(gL−1)または下記一般式(gL−2)で表される基を表し、また、Aは下記一般式(gA)で表される基を表し、Bは下記一般式(gB)で表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
但し、上記一般式(gL−1)において、R41乃至R46は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、環を形成する炭素の数が6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。
また、上記一般式(gL−2)において、R51乃至R56は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、環を形成する炭素の数が6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
ただし、上記一般式(gA)において、Arは環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表す。また、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。ただし、RおよびR、RおよびR、RおよびR、並びにRおよびRは縮合してベンゼン環を形成していても良い。
また、上記一般式(gB)において、Arは環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表す。また、R11乃至R17は、それぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。ただし、R11およびR12、R14およびR15、R15およびR16、並びにR16およびR17は縮合してベンゼン環を形成していても良い。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、前記第3の物質が3,3’−(ナフタレン−1,4−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)、または3,3’−(ナフタレン−1,5−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、前記第2の物質が有機化合物である発光素子である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、センサ、操作ボタン、スピーカ、または、マイクと、を有する電子機器である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、トランジスタ、または、基板と、を有する発光装置である。
または、本発明の他の一態様は、上記構成において、筐体と、を有する照明装置である。
なお、本明細書中における発光装置とは、発光素子を用いた画像表示デバイスを含む。また、発光素子にコネクター、例えば異方導電性フィルム又はTCP(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュール、TCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、又は発光素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集積回路)が直接実装されたモジュールも、発光装置に含む場合がある。さらに、照明器具等は、発光装置を有する場合がある。
本発明の一態様では、新規発光素子を提供することができる。または、寿命の良好な発光素子を提供することができる。または、発光効率の良好な発光素子を提供することができる。
または、本発明の他の一態様では、信頼性の高い発光装置、電子機器及び表示装置を各々提供することができる。または、本発明の他の一態様では、消費電力の小さい発光装置、電子機器及び表示装置を各々提供することができる。
なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
発光素子の概略図。 アクティブマトリクス型発光装置の概念図。 アクティブマトリクス型発光装置の概念図。 アクティブマトリクス型発光装置の概念図。 パッシブマトリクス型発光装置の概念図。 照明装置を表す図。 電子機器を表す図。 電子機器を表す図。 照明装置を表す図。 照明装置を表す図。 車載表示装置及び照明装置を表す図。 電子機器を表す図。 電子機器を表す図。 発光素子1および比較発光素子1の輝度−電流密度特性。 発光素子1および比較発光素子1の電流効率−輝度特性。 発光素子1および比較発光素子1の輝度−電圧特性。 発光素子1および比較発光素子1の電流−電圧特性。 発光素子1および比較発光素子1の外部量子効率−輝度特性。 発光素子1および比較発光素子1の発光スペクトル。 発光素子1および比較発光素子1の規格化輝度−時間変化特性。 発光素子2および比較発光素子2の輝度−電流密度特性。 発光素子2および比較発光素子2の電流効率−輝度特性。 発光素子2および比較発光素子2の輝度−電圧特性。 発光素子2および比較発光素子2の電流−電圧特性。 発光素子2および比較発光素子2の外部量子効率−輝度特性。 発光素子2および比較発光素子2の発光スペクトル。 発光素子2および比較発光素子2の規格化輝度−時間変化特性。 発光素子3および比較発光素子3の輝度−電流密度特性。 発光素子3および比較発光素子3の電流効率−輝度特性。 発光素子3および比較発光素子3の輝度−電圧特性。 発光素子3および比較発光素子3の電流−電圧特性。 発光素子3および比較発光素子3の外部量子効率−輝度特性。 発光素子3および比較発光素子3の発光スペクトル。 発光素子3および比較発光素子3の規格化輝度−時間変化特性。 発光素子4および比較発光素子4の輝度−電流密度特性。 発光素子4および比較発光素子4の電流効率−輝度特性。 発光素子4および比較発光素子4の輝度−電圧特性。 発光素子4および比較発光素子4の電流−電圧特性。 発光素子4および比較発光素子4の外部量子効率−輝度特性。 発光素子4および比較発光素子4の発光スペクトル。 発光素子4および比較発光素子4の規格化輝度−時間変化特性。 発光素子および比較発光素子の規格化輝度−時間変化特性。 YGTBi1BPのH NMRチャート。 YGTBi1BPのトルエン溶液における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 YGTBi1BPの薄膜状態における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 4−[4’−(カルバゾール−9−イル)ビフェニル−4−イル]−4’−ビフェニルアミンのH NMRチャート。 YGTBiβNBのH NMRチャート。 YGTBiβNBのトルエン溶液における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 YGTBiβNBの薄膜状態における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 BBAFLPH NMRチャート。 BBAFLBiH NMRチャート。 mBBAFLPH NMRチャート。 mpBBAFLBiH NMRチャート。 mpBBAFLBiのトルエン溶液における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 mpBBAFLBiの薄膜状態における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 TPBiAβNBH NMRチャート。 TPBiAβNBのトルエン溶液における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 TPBiAβNBの薄膜状態における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 TPBiAβNBiH NMRチャート。 TPBiAβNBiのトルエン溶液における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 TPBiAβNBiの薄膜状態における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 BBAPβNB−03H NMRチャート。 BBAPβNB−03のトルエン溶液における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 BBAPβNB−03の薄膜状態における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 YGTBi1BP−02のH NMRチャート。 YGTBi1BP−02のトルエン溶液における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。 YGTBi1BP−02の薄膜状態における吸収スペクトルおよび発光スペクトル。
以下、本発明の実施の態様について図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
(実施の形態1)
図1に、本発明の一態様の発光素子を表す図を示す。本発明の一態様の発光素子は、第1の電極101と、第2の電極102、EL層103を有しており、当該EL層は、正孔注入層111と正孔輸送層112、および発光層113を有している。
なお、図1(A)および図1(B)におけるEL層103には、これらに加えて電子輸送層114、電子注入層115が図示されているが、発光素子の構成はこれに限られることはない。
正孔注入層111には、第1の物質と第2の物質とが含まれる。第1の物質はHOMO準位が−5.8eV以上−5.4eV以下の物質である。また、第2の物質は、当該第1の物質に対し電子アクセプタ性を示す物質である。
また、正孔輸送層112に含まれる第3の物質は、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である。
以上のような構成を有する本発明の発光素子は、発光効率が良好で、且つ寿命も長い発光素子とすることができる。
上述の第1の物質は、正孔輸送性を有する有機化合物であることが好ましい。また、ジベンゾフラン環またはジベンゾチオフェン環を含む置換基を有する芳香族アミン、ナフタレン環を有する芳香族モノアミン、または9−フルオレニル基がアリーレン基を介してアミンの窒素に結合する芳香族モノアミンであっても良い。なお、これら第1の物質が、N,N−ビス(4−ビフェニル)アミノ基を有する物質であると、寿命の良好な発光素子を作製することができるため好ましい。以上のような第1の物質としては、具体的には、N−(4−ビフェニル)−6,N−ジフェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−アミン(略称:BnfABP)、N,N−ビス(4−ビフェニル)−6−フェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−アミン(略称:BBABnf)、4,4’−ビス(6−フェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−イル)−4’’−フェニルトリフェニルアミン(略称:BnfBB1BP)、N,N−ビス(4−ビフェニル)ベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−6−アミン(略称:BBABnf(6))、N,N−ビス(4−ビフェニル)ベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−アミン(略称:BBABnf(8))、N,N−ビス(4−ビフェニル)ベンゾ[b]ナフト[2,3−d]フラン−4−アミン(略称:BBABnf(II)(4))、N,N−ビス[4−(ジベンゾフラン−4−イル)フェニル]−4−アミノ−p−ターフェニル(略称:DBfBB1TP)、N−[4−(ジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]−N−フェニル−4−ビフェニルアミン(略称:ThBA1BP)、4−(2−ナフチル)−4’,4’’−ジフェニルトリフェニルアミン(略称:BBAβNB)、4−[4−(2−ナフチル)フェニル]−4’,4’’−ジフェニルトリフェニルアミン(略称:BBAβNBi)、4,4’−ジフェニル−4’’−(6;1’−ビナフチル−2−イル)トリフェニルアミン(略称:BBAαNβNB)、4,4’−ジフェニル−4’’−(7;1’−ビナフチル−2−イル)トリフェニルアミン(略称:BBAαNβNB−03)、4,4’−ジフェニル−4’’−(7−フェニル)ナフチル−2−イルトリフェニルアミン(略称:BBAPβNB−03)、4,4’−ジフェニル−4’’−(6;2’−ビナフチル−2−イル)トリフェニルアミン(略称:BBA(βN2)B)、4,4’−ジフェニル−4’’−(7;2’−ビナフチル−2−イル)トリフェニルアミン(略称:BBA(βN2)B−03)、4,4’−ジフェニル−4’’−(4;2’−ビナフチル−1−イル)トリフェニルアミン(略称:BBAβNαNB)、4,4’−ジフェニル−4’’−(5;2’−ビナフチル−1−イル)トリフェニルアミン(略称:BBAβNαNB−02)、4−(4−ビフェニリル)−4’−(2−ナフチル)−4’’−フェニルトリフェニルアミン(略称:TPBiAβNB)、4−(3−ビフェニリル)−4’−[4−(2−ナフチル)フェニル]−4’’−フェニルトリフェニルアミン(略称:mTPBiAβNBi)、4−(4−ビフェニリル)−4’−[4−(2−ナフチル)フェニル]−4’’−フェニルトリフェニルアミン(略称:TPBiAβNBi)、4−フェニル−4’−(1−ナフチル)トリフェニルアミン(略称:αNBA1BP)、4,4’−ビス(1−ナフチル)トリフェニルアミン(略称:αNBB1BP)、4,4’−ジフェニル−4’’−[4’−(カルバゾール−9−イル)ビフェニル−4−イル]トリフェニルアミン(略称:YGTBi1BP)、4’−[4−(3−フェニル−9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]トリス(1,1’−ビフェニル−4−イル)アミン(略称:YGTBi1BP−02)、4−ジフェニル−4’−(2−ナフチル)−4’’−{9−(4−ビフェニリル)カルバゾール}トリフェニルアミン(略称:YGTBiβNB)、N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]−N−[4−(1−ナフチル)フェニル]−9,9’−スピロビ(9H−フルオレン)−2−アミン(略称:PCBNBSF)、N,N−ビス(4−ビフェニリル)−9,9’−スピロビ[9H−フルオレン]−2−アミン(略称:BBASF)、N,N−ビス(1,1’−ビフェニル−4−イル)−9,9’−スピロビ[9H−フルオレン]−4−アミン(略称:BBASF(4))、N−(1,1’−ビフェニル−2−イル)−N−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)−9,9’−スピロ−ビ(9H−フルオレン)−4−アミン(略称:oFBiSF)、N−(4−ビフェニル)−N−(ジベンゾフラン−4−イル)−9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−アミン(略称:FrBiF)、N−[4−(1−ナフチル)フェニル]−N−[3−(6−フェニルジベンゾフラン−4−イル)フェニル]−1−ナフチルアミン(略称:mPDBfBNBN)、4−フェニル−4’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)、4−フェニル−3’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:mBPAFLP)、4−フェニル−4’−[4−(9−フェニルフルオレン−9−イル)フェニル]トリフェニルアミン(略称:BPAFLBi)、4−フェニル−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBA1BP)、4,4’−ジフェニル−4’’−(9−フェニル−9−H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBBi1BP)、4−(1−ナフチル)−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)−トリフェニルアミン(略称:PCBANB)、4、4’−ジ(1−ナフチル)−4’’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBNBB)、N−フェニル−N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]−スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−アミン(略称:PCBASF)等を挙げることができる。
第2の物質は、無機化合物でも有機化合物でも良い。第2の物質としては、遷移金属酸化物又は元素周期表における第4族乃至第8族に属する金属の酸化物、電子吸引基(特にフルオロ基のようなハロゲン基やシアノ基)を有する有機化合物等を用いることができ、そのような物質の中から、上記第1の物質に対して電子アクセプタ性を示す物質を適宜選択すれば良い。
上記第2の物質として用いることが可能な遷移金属酸化物、元素周期表における第4族乃至第8族に属する金属の酸化物としては、バナジウム酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物、クロム酸化物、モリブデン酸化物、タングステン酸化物、マンガン酸化物、レニウム酸化物、チタン酸化物、ルテニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物及び銀酸化物が高いアクセプタ性を示すため好ましい。中でも特に、モリブデン酸化物は大気中でも安定であり、吸湿性が低く、扱いやすいため好適である。
上記第2の物質として用いることが可能な電子吸引基(ハロゲン基やシアノ基)を有する有機化合物としては7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(略称:F−TCNQ)、クロラニル、2,3,6,7,10,11−ヘキサシアノ−1,4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレン(略称:HAT−CN)、1,3,4,5,7,8−ヘキサフルオロテトラシアノ−ナフトキノジメタン(略称:F6−TCNNQ)、2−(7−ジシアノメチレン−1,3,4,5,6,8,9,10−オクタフルオロ−7H−ピレン−2−イリデン)マロノニトリル等を挙げることができる。特に、HAT−CNのように複素原子を複数有する縮合芳香環に電子吸引基が結合している化合物が、熱的に安定であり好ましい。また、電子吸引基(特にフルオロ基のようなハロゲン基やシアノ基)を有する[3]ラジアレン誘導体は、電子アクセプタ性が非常に高いため好ましく、具体的にはα,α’,α’’−1,2,3−シクロプロパントリイリデントリス[4−シアノ−2,3,5,6−テトラフルオロベンゼンアセトニトリル]、α,α’,α’’−1,2,3−シクロプロパントリイリデントリス[2,6−ジクロロ−3,5−ジフルオロ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンアセトニトリル]、α,α’,α’’−1,2,3−シクロプロパントリイリデントリス[2,3,4,5,6−ペンタフルオロベンゼンアセトニトリル]などが挙げられる。
なお、電子アクセプタ性は上述の有機化合物よりも酸化モリブデンなどの無機化合物の方が強い傾向にある。第2の物質を有機化合物とした発光素子では、第1の物質のHOMO準位が深い(例えば−5.4eVより深い)場合、駆動電圧の上昇や寿命の低下が起こりやすいが、本発明の発光素子では、そのような不都合が生じにくいという特徴もある。
また、第3の物質は、そのHOMO準位が−5.8eV以上−5.6eV以下であると、深いHOMO準位を持つ発光層ホストへのホール注入も円滑となるため好ましい。このことは特に、青色蛍光発光層を発光層として用いる場合に重要である。例えば、発光層がホスト材料と発光材料とを有し、該発光材料が青色の蛍光を呈する場合、ホスト材料のバンドギャップは青色以上のワイドギャップが必要とされ、結果としてそのHOMO準位は深くなる傾向にある。したがって、第3の物質のHOMO準位が−5.8eV以上−5.6eV以下であることは、発光層へのホール注入にとって好ましい。なお、このようなワイドギャップなホスト材料としては、代表的にはアントラセン骨格を有する有機化合物が挙げられる。
なお、第3の物質のLUMO準位は、−2.4eV以上、好ましくは−2.2eV以上であると、発光層からの電子の抜けを有効に阻止することができ、発光効率の向上につながる。また、同じ理由から、第3の物質のLUMO準位とホスト材料のLUMO準位との差は0.3eV以上、好ましくは0.5eV以上であると良い。
また、ホスト材料がアントラセン骨格とカルバゾール骨格を有する場合、特に、アントラセン骨格とジベンゾカルバゾール骨格を有する場合、該ホスト材料は高い電子移動度を有する。そのため駆動電圧を低減させることができるが、一方でその分発光層は電子過多となりやすく、再結合領域の縮小や、電子の発光層からの抜けなどにより、信頼性の低下を招く場合がある。しかし、本発明の一態様の発光素子では上述のような第3の物質の発光層へのホール注入性が良好であることからこの問題を克服することができる。
また、上記第3の物質としては、下記一般式(G1)で表される有機化合物が好ましい。これらの化合物は、HOMO準位が深く、発光層へのホール注入性に優れているだけでなく、電子に対する耐久性も高い化合物である。そのため、より信頼性の良好な発光素子を提供することが可能となる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
ただし、上記一般式(G1)において、Lは置換もしくは無置換のナフタレン−1,4−ジイル基または置換もしくは無置換のナフタレン−1,5−ジイル基を表す。置換もしくは無置換のナフタレン−1,4−ジイル基または置換もしくは無置換のナフタレン−1,5−ジイル基は、下記一般式(gL−1)または一般式(gL−2)で表すこともできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
但し、上記一般式(gL−1)において、R41乃至R46は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、環を形成する炭素の数が6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。
また、上記一般式(gL−2)において、R51乃至R56は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、環を形成する炭素の数が6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。
なお、R41乃至R46または、R51乃至R56は、全て水素であると、合成が簡便であり好ましい。
また、上記一般式(G1)において、Aは下記一般式(gA)で表される基を表し、Bは下記一般式(gB)で表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
ただし、上記一般式(gA)において、Arは環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表す。また、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。ただし、RおよびR、RおよびR、RおよびR、並びにRおよびRは縮合してベンゼン環を形成していても良い。
また、上記一般式(gB)において、Arは環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表す。また、R11乃至R17は、それぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。ただし、R11およびR12、R14およびR15、R15およびR16、並びにR16およびR17は縮合してベンゼン環を形成していても良い。
乃至R、R11乃至R17、R21乃至R24、R25乃至R28およびR31乃至R38は、それぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基を表すが、炭素数1乃至6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などを、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としてはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基としてはフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、アントリル基、トリフェニレニル基、フルオレニル基、9,9−ジフェニルフルオレニル基、9,9−スピロビフルオレニル基などを挙げることができる。なお、電子輸送性の発現を抑制するには、これら例示した基のうち、3環以上のポリアセンを含まない基であることが好ましい。
また、上記炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至13のアリール基を用いることができる。これらの具体的な例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基、ビフェニル基等を挙げることができる。
41乃至R46およびR51乃至R56は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、環を形成する炭素の数が6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基を表すが、具体的には、炭素数1乃至6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などを、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としてはシクロプロピル基、シクロヘキシル基などを、環を形成する炭素の数が6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基としてはフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオレニル基などを挙げることができる。
また、環を形成する炭素の数が6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至13のアリール基を用いることができる。これらの具体的な例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基、ビフェニル基等を挙げることができる。
また、ArおよびArはそれぞれ独立に環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表すが、具体的にはフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基、ジメチルフルオレニル基、ジフェニルフルオレニル基、tert−ブチルフェニル基、トリル基、トリメチルフェニル基などを挙げることができる。
なお、上記第3の物質が3,3’−(ナフタレン−1,4−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)、または3,3’−(ナフタレン−1,5−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)である発光素子は、発光効率の高い素子とすることができるため好ましい。
なお、上記第3の物質、すなわち、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物は、HOMO準位が浅くなりすぎないように、トリアリールアミン骨格を有さないことが好ましい。
なお、正孔輸送層112は、2層構造であってもよい。この場合、当該2層のうち、発光層に接する方の層にナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物を用いることが好ましい。また、この際、当該有機化合物は、電子輸送性が小さいと素子の劣化を小さくすることが可能であるため、分子中に3環以上のポリアセンが含まれないことが好ましい。
また、この場合、正孔注入層側の他方の層は正孔輸送性を有する有機化合物を有する層であり、当該正孔輸送性を有する有機化合物は、HOMO準位が−5.8eV以上−5.4eV以下である有機化合物であることが好ましい。また、当該有機化合物は、第1の物質と同じ物質であることがさらに好ましい。
(実施の形態2)
続いて、上述の発光素子の詳細な構造や材料の例について説明する。本発明の一態様の発光素子は、上述のように第1の電極101と第2の電極102の一対の電極間に複数の層からなるEL層103を有し、当該EL層103は少なくとも第1の電極101側より、正孔注入層111正孔輸送層112及び発光層113を含む。
EL層103に含まれるそれ以外の層については特に限定はなく、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、キャリアブロック層、励起子ブロック層、電荷発生層など、様々な層構造を適用することができる。
第1の電極101は、仕事関数の大きい(具体的には4.0eV以上)金属、合金、導電性化合物、およびこれらの混合物などを用いて形成することが好ましい。具体的には、例えば、酸化インジウム−酸化スズ(ITO:Indium Tin Oxide)、ケイ素若しくは酸化ケイ素を含有した酸化インジウム−酸化スズ、酸化インジウム−酸化亜鉛、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウム(IWZO)等が挙げられる。これらの導電性金属酸化物膜は、通常スパッタリング法により成膜されるが、ゾル−ゲル法などを応用して作製しても構わない。作製方法の例としては、酸化インジウム−酸化亜鉛は、酸化インジウムに対し1~20wt%の酸化亜鉛を加えたターゲットを用いてスパッタリング法により形成する方法などがある。また、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウム(IWZO)は、酸化インジウムに対し酸化タングステンを0.5~5wt%、酸化亜鉛を0.1~1wt%含有したターゲットを用いてスパッタリング法により形成することもできる。この他、金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、または金属材料の窒化物(例えば、窒化チタン)等が挙げられる。グラフェンも用いることができる。なお、ここでは仕事関数が大きく、陽極を形成する材料として代表的な物質を列挙したが、本発明の一態様では、正孔注入層111に、正孔輸送性を有する有機化合物と、当該有機化合物に対し電子アクセプタ性を示す物質とを含む複合材料を用いるため、仕事関数に関わらず電極材料を選択することができる。
EL層103の積層構造については、本実施の形態では、図1(A)に示すように、正孔注入層111、正孔輸送層112、発光層113に加えて、電子輸送層114及び電子注入層115を有する構成、及び図1(B)に示すように、正孔注入層111、正孔輸送層112、発光層113に加えて、電子輸送層114及び電子注入層115、電荷発生層116を有する構成の2種類の構成について説明する。各層を構成する材料について以下に具体的に示す。
正孔注入層111は、HOMO準位が−5.8eV以上−5.4eV以下である有機化合物である第1の物質と、当該第1の物質に対して電子アクセプタ性を有する第2の物質を含む層である。本発明の一態様の構成では第2の物質が無機化合物であっても有機化合物であっても良いが、特に有機化合物である場合に、より好適な構成である。
第1の物質および第2の物質については実施の形態1で詳述したため、繰り返しとなる記載は省略する。該当の記載を参照されたい。
正孔注入層111を形成することによって、正孔の注入性が良好となり、駆動電圧の小さい発光素子を得ることができる。また、電子アクセプタ性を有する有機化合物は蒸着が容易で成膜がしやすいため、用いやすい材料である。
正孔輸送層112は、正孔輸送材料を含んで形成される。正孔輸送材料としては、1×10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有していることが好ましい。本発明の一態様では、当該正孔輸送層の材料として、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物を用いる。なお、ナフタレン環に、カルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物に関しては、実施の形態1に詳述したため、繰り返しとなる記載を省略する。
また、正孔輸送層112は、2層構造であってもよい。この場合、当該2層のうち、発光層に接する方の層にナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物を用いることが好ましい。この際、当該有機化合物は、電子輸送性が小さいと素子の劣化を小さくすることが可能であるため、分子中に3環以上のポリアセンが含まれないことが好ましい。
また、他方の層は正孔輸送性を有する有機化合物を有する層であり、当該正孔輸送性を有する有機化合物は、HOMO準位が−5.8eV以上−5.4eV以下である有機化合物であることが好ましい。また、当該有機化合物は、第1の物質と同じ物質であることがさらに好ましい。
発光層113は、ホスト材料と発光材料を含む層である。発光材料は蛍光発光物質であっても、りん光発光物質であっても、熱活性化遅延蛍光(TADF)を示す物質であっても、その他の発光材料であっても構わない。また、単層であっても、異なる発光材料が含まれる複数の層からなっていても良い。なお、本発明の一態様は、発光層113が蛍光発光を呈する層、特に、青色の蛍光発光を呈する層である場合により好適に適用することができる。
発光層113において、蛍光発光物質として用いることが可能な材料としては、例えば以下のようなものが挙げられる。また、これ以外の蛍光発光物質も用いることができる。
5,6−ビス[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−2,2’−ビピリジン(略称:PAP2BPy)、5,6−ビス[4’−(10−フェニル−9−アントリル)ビフェニル−4−イル]−2,2’−ビピリジン(略称:PAPP2BPy)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6FLPAPrn)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス[3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)、N,N’−ビス[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N,N’−ジフェニルスチルベン−4,4’−ジアミン(略称:YGA2S)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(10−フェニル−9−アントリル)トリフェニルアミン(略称:YGAPA)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)トリフェニルアミン(略称:2YGAPPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCAPA)、ペリレン、2,5,8,11−テトラ−tert−ブチルペリレン(略称:TBP)、4−(10−フェニル−9−アントリル)−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBAPA)、N,N’’−(2−tert−ブチルアントラセン−9,10−ジイルジ−4,1−フェニレン)ビス[N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン](略称:DPABPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPPA)、N−[4−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPAPPA)、N,N,N’,N’,N’’,N’’,N’’’,N’’’−オクタフェニルジベンゾ[g,p]クリセン−2,7,10,15−テトラアミン(略称:DBC1)、クマリン30、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N,9−ジフェニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,9−ジフェニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCABPhA)、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPABPhA)、9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−N−[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N−フェニルアントラセン−2−アミン(略称:2YGABPhA)、N,N,9−トリフェニルアントラセン−9−アミン(略称:DPhAPhA)クマリン545T、N,N’−ジフェニルキナクリドン、(略称:DPQd)、ルブレン、5,12−ビス(1,1’−ビフェニル−4−イル)−6,11−ジフェニルテトラセン(略称:BPT)、2−(2−{2−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]エテニル}−6−メチル−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:DCM1)、2−{2−メチル−6−[2−(2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCM2)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)テトラセン−5,11−ジアミン(略称:p−mPhTD)、7,14−ジフェニル−N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)アセナフト[1,2−a]フルオランテン−3,10−ジアミン(略称:p−mPhAFD)、2−{2−イソプロピル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCJTI)、2−{2−tert−ブチル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCJTB)、2−(2,6−ビス{2−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]エテニル}−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:BisDCM)、2−{2,6−ビス[2−(8−メトキシ−1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:BisDCJTM)、N,N’−ジフェニル−N,N’−(1,6−ピレン−ジイル)ビス[(6−フェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)などが挙げられる。特に、1,6FLPAPrnや1,6mMemFLPAPrn、1,6BnfAPrn−03のようなピレンジアミン化合物に代表される縮合芳香族ジアミン化合物は、ホールトラップ性が高く、発光効率や信頼性に優れているため好ましい。
発光層113において、りん光発光物質として用いることが可能な材料としては、例えば以下のようなものが挙げられる。
トリス{2−[5−(2−メチルフェニル)−4−(2,6−ジメチルフェニル)−4H−1,2,4−トリアゾール−3−イル−κN2]フェニル−κC}イリジウム(III)(略称:[Ir(mpptz−dmp)])、トリス(5−メチル−3,4−ジフェニル−4H−1,2,4−トリアゾラト)イリジウム(III)(略称:[Ir(Mptz)])、トリス[4−(3−ビフェニル)−5−イソプロピル−3−フェニル−4H−1,2,4−トリアゾラト]イリジウム(III)(略称:[Ir(iPrptz−3b)])のような4H−トリアゾール骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、トリス[3−メチル−1−(2−メチルフェニル)−5−フェニル−1H−1,2,4−トリアゾラト]イリジウム(III)(略称:[Ir(Mptz1−mp)])、トリス(1−メチル−5−フェニル−3−プロピル−1H−1,2,4−トリアゾラト)イリジウム(III)(略称:[Ir(Prptz1−Me)])のような1H−トリアゾール骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、fac−トリス[(1−2,6−ジイソプロピルフェニル)−2−フェニル−1H−イミダゾール]イリジウム(III)(略称:[Ir(iPrpmi)])、トリス[3−(2,6−ジメチルフェニル)−7−メチルイミダゾ[1,2−f]フェナントリジナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(dmpimpt−Me)])のようなイミダゾール骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)テトラキス(1−ピラゾリル)ボラート(略称:FIr6)、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)ピコリナート(略称:FIrpic)、ビス{2−[3’,5’−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ピリジナト−N,C2’}イリジウム(III)ピコリナート(略称:[Ir(CFppy)(pic)])、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:FIracac)のような電子吸引基を有するフェニルピリジン誘導体を配位子とする有機金属イリジウム錯体が挙げられる。これらは青色のりん光発光を示す化合物であり、440nmから520nmに発光のピークを有する化合物である。
また、トリス(4−メチル−6−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppm)])、トリス(4−t−ブチル−6−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tBuppm)])、(アセチルアセトナト)ビス(6−メチル−4−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppm)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(6−tert−ブチル−4−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tBuppm)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス[6−(2−ノルボルニル)−4−フェニルピリミジナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(nbppm)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス[5−メチル−6−(2−メチルフェニル)−4−フェニルピリミジナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(mpmppm)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(4,6−ジフェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(dppm)(acac)])のようなピリミジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、(アセチルアセトナト)ビス(3,5−ジメチル−2−フェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppr−Me)(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(5−イソプロピル−3−メチル−2−フェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppr−iPr)(acac)])のようなピラジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、トリス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジウム(III)(略称:[Ir(ppy)])、ビス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(ppy)(acac)])、ビス(ベンゾ[h]キノリナト)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(bzq)(acac)])、トリス(ベンゾ[h]キノリナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(bzq)])、トリス(2−フェニルキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)(略称:[Ir(pq)])、ビス(2−フェニルキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(pq)(acac)])のようなピリジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体の他、トリス(アセチルアセトナト)(モノフェナントロリン)テルビウム(III)(略称:[Tb(acac)(Phen)])のような希土類金属錯体が挙げられる。これらは主に緑色のりん光発光を示す化合物であり、500nm~600nmに発光のピークを有する。なお、ピリミジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体は、信頼性や発光効率にも際だって優れるため、特に好ましい。
また、(ジイソブチリルメタナト)ビス[4,6−ビス(3−メチルフェニル)ピリミジナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(5mdppm)(dibm)])、ビス[4,6−ビス(3−メチルフェニル)ピリミジナト](ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(5mdppm)(dpm)])、ビス[4,6−ジ(ナフタレン−1−イル)ピリミジナト](ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(d1npm)(dpm)])のようなピリミジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、(アセチルアセトナト)ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tppr)(acac)])、ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)(ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tppr)(dpm)])、(アセチルアセトナト)ビス[2,3−ビス(4−フルオロフェニル)キノキサリナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(Fdpq)(acac)])のようなピラジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、トリス(1−フェニルイソキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)(略称:[Ir(piq)])、ビス(1−フェニルイソキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(piq)(acac)])のようなピリジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体の他、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−21H,23H−ポルフィリン白金(II)(略称:PtOEP)のような白金錯体や、トリス(1,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオナト)(モノフェナントロリン)ユーロピウム(III)(略称:[Eu(DBM)(Phen)])、トリス[1−(2−テノイル)−3,3,3−トリフルオロアセトナト](モノフェナントロリン)ユーロピウム(III)(略称:[Eu(TTA)(Phen)])のような希土類金属錯体が挙げられる。これらは、赤色のりん光発光を示す化合物であり、600nmから700nmに発光のピークを有する。また、ピラジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体は、色度の良い赤色発光が得られる。
また、以上で述べたりん光性化合物の他、公知のりん光性発光材料を選択し、用いてもよい。
TADF材料としてはフラーレン及びその誘導体、アクリジン及びその誘導体、エオシン誘導体等を用いることができる。またマグネシウム(Mg)、亜鉛(Zn)、カドミウム(Cd)、スズ(Sn)、白金(Pt)、インジウム(In)、もしくはパラジウム(Pd)等を含む金属含有ポルフィリンが挙げられる。該金属含有ポルフィリンとしては、例えば、以下の構造式に示されるプロトポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Proto IX))、メソポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Meso IX))、ヘマトポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Hemato IX))、コプロポルフィリンテトラメチルエステル−フッ化スズ錯体(SnF(Copro III−4Me))、オクタエチルポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(OEP))、エチオポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF(Etio I))、オクタエチルポルフィリン−塩化白金錯体(PtClOEP)等も挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
また、以下の構造式に示される2−(ビフェニル−4−イル)−4,6−ビス(12−フェニルインドロ[2,3−a]カルバゾール−11−イル)−1,3,5−トリアジン(略称:PIC−TRZ)や、9−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−9’−フェニル−9H,9’H−3,3’−ビカルバゾール(略称:PCCzTzn)、9−[4−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)フェニル]−9’−フェニル−9H,9’H−3,3’−ビカルバゾール(略称:PCCzPTzn)、2−[4−(10H−フェノキサジン−10−イル)フェニル]−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン(略称:PXZ−TRZ)、3−[4−(5−フェニル−5,10−ジヒドロフェナジン−10−イル)フェニル]−4,5−ジフェニル−1,2,4−トリアゾール(略称:PPZ−3TPT)、3−(9,9−ジメチル−9H−アクリジン−10−イル)−9H−キサンテン−9−オン(略称:ACRXTN)、ビス[4−(9,9−ジメチル−9,10−ジヒドロアクリジン)フェニル]スルホン(略称:DMAC−DPS)、10−フェニル−10H,10’H−スピロ[アクリジン−9,9’−アントラセン]−10’−オン(略称:ACRSA)、等のπ電子過剰型複素芳香環とπ電子不足型複素芳香環の両方を有する複素環化合物も用いることができる。該複素環化合物は、π電子過剰型複素芳香環及びπ電子不足型複素芳香環を有するため、電子輸送性及び正孔輸送性が共に高く、好ましい。なお、π電子過剰型複素芳香環とπ電子不足型複素芳香環とが直接結合した物質は、π電子過剰型複素芳香環のドナー性とπ電子不足型複素芳香環のアクセプタ性が共に強くなり、S準位とT準位のエネルギー差が小さくなるため、熱活性化遅延蛍光を効率よく得られることから特に好ましい。なお、π電子不足型複素芳香環の代わりに、シアノ基のような電子吸引基が結合した芳香環を用いても良い。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
発光層のホスト材料としては、電子輸送性を有する材料や正孔輸送性を有する材料など様々なキャリア輸送材料を用いることができる。
正孔輸送性を有する材料としては、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:NPB)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4,4’−ビス[N−(スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−イル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BSPB)、4−フェニル−4’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)、4−フェニル−3’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:mBPAFLP)、4−フェニル−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBA1BP)、4,4’−ジフェニル−4’’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBBi1BP)、4−(1−ナフチル)−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)−トリフェニルアミン(略称:PCBANB)、4、4’−ジ(1−ナフチル)−4’’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBNBB)、9,9−ジメチル−N−フェニル−N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]−フルオレン−2−アミン(略称:PCBAF)、N−フェニル−N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]−スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−アミン(略称:PCBASF)などの芳香族アミン骨格を有する化合物や、1,3−ビス(N−カルバゾリル)ベンゼン(略称:mCP)、4,4’−ジ(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)、3,6−ビス(3,5−ジフェニルフェニル)−9−フェニルカルバゾール(略称:CzTP)、3,3’−ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)(略称:PCCP)などのカルバゾール骨格を有する化合物や、4,4’,4’’−(ベンゼン−1,3,5−トリイル)トリ(ジベンゾチオフェン)(略称:DBT3P−II)、2,8−ジフェニル−4−[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]ジベンゾチオフェン(略称:DBTFLP−III)、4−[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]−6−フェニルジベンゾチオフェン(略称:DBTFLP−IV)などのチオフェン骨格を有する化合物や、4,4’,4’’−(ベンゼン−1,3,5−トリイル)トリ(ジベンゾフラン)(略称:DBF3P−II)、4−{3−[3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]フェニル}ジベンゾフラン(略称:mmDBFFLBi−II)などのフラン骨格を有する化合物が挙げられる。上述した中でも、芳香族アミン骨格を有する化合物やカルバゾール骨格を有する化合物は、信頼性が良好であり、また、正孔輸送性が高く、駆動電圧低減にも寄与するため好ましい。
電子輸送性を有する材料としては、例えば、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)ベリリウム(II)(略称:BeBq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(4−フェニルフェノラト)アルミニウム(III)(略称:BAlq)、ビス(8−キノリノラト)亜鉛(II)(略称:Znq)、ビス[2−(2−ベンゾオキサゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(略称:ZnPBO)、ビス[2−(2−ベンゾチアゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(略称:ZnBTZ)などの金属錯体や、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、9−[4−(5−フェニル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CO11)、2,2’,2’’−(1,3,5−ベンゼントリイル)トリス(1−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール)(略称:TPBI)、2−[3−(ジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]−1−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール(略称:mDBTBIm−II)などのポリアゾール骨格を有する複素環化合物や、2−[3−(ジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mDBTPDBq−II)、2−[3’−(ジベンゾチオフェン−4−イル)ビフェニル−3−イル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mDBTBPDBq−II)、2−[3’−(9H−カルバゾール−9−イル)ビフェニル−3−イル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mCzBPDBq)、4,6−ビス[3−(フェナントレン−9−イル)フェニル]ピリミジン(略称:4,6mPnP2Pm)、4,6−ビス〔3−(4−ジベンゾチエニル)フェニル〕ピリミジン(略称:4,6mDBTP2Pm−II)などのジアジン骨格を有する複素環化合物や、3,5−ビス[3−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]ピリジン(略称:35DCzPPy)、1,3,5−トリ[3−(3−ピリジル)−フェニル]ベンゼン(略称:TmPyPB)などのピリジン骨格を有する複素環化合物が挙げられる。上述した中でも、ジアジン骨格を有する複素環化合物やピリジン骨格を有する複素環化合物は、信頼性が良好であり好ましい。特に、ジアジン(ピリミジンやピラジン)骨格を有する複素環化合物は、電子輸送性が高く、駆動電圧低減にも寄与する。
蛍光発光物質を発光材料として用いる場合、ホスト材料としては、アントラセン骨格を有する材料が好適である。アントラセン骨格を有する物質を蛍光発光物質のホスト材料として用いると、発光効率、耐久性共に良好な発光層を実現することが可能である。ホスト材料として用いるアントラセン骨格を有する物質としては、ジフェニルアントラセン骨格、特に9,10−ジフェニルアントラセン骨格を有する物質が化学的に安定であるため好ましい。また、ホスト材料がカルバゾール骨格を有する場合、正孔の注入・輸送性が高まるため好ましいが、カルバゾールにベンゼン環がさらに縮合したベンゾカルバゾール骨格を含む場合、カルバゾールよりもHOMOが0.1eV程度浅くなり、正孔が入りやすくなるためより好ましい。特に、ホスト材料がジベンゾカルバゾール骨格を含む場合、カルバゾールよりもHOMOが0.1eV程度浅くなり、正孔が入りやすくなる上に、正孔輸送性にも優れ、耐熱性も高くなるため好適である。したがって、さらにホスト材料として好ましいのは、9,10−ジフェニルアントラセン骨格およびカルバゾール骨格(あるいはベンゾカルバゾール骨格やジベンゾカルバゾール骨格)を同時に有する物質である。なお、上記の正孔注入・輸送性の観点から、カルバゾール骨格に換えて、ベンゾフルオレン骨格やジベンゾフルオレン骨格を用いてもよい。このような物質の例としては、9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:PCzPA)、3−[4−(1−ナフチル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPN)、9−[4−(10−フェニル−9−アントラセニル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)、7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)、6−[3−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−ベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン(略称:2mBnfPPA)、9−フェニル−10−{4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)ビフェニル−4’−イル}アントラセン(略称:FLPPA)等が挙げられる。特に、CzPA、cgDBCzPA、2mBnfPPA、PCzPAは非常に良好な特性を示すため、好ましい選択である。
なお、ホスト材料は複数種の物質を混合した材料であっても良く、混合したホスト材料を用いる場合は、電子輸送性を有する材料と、正孔輸送性を有する材料とを混合することが好ましい。電子輸送性を有する材料と、正孔輸送性を有する材料を混合することによって、発光層113の輸送性を容易に調整することができ、再結合領域の制御も簡便に行うことができる。正孔輸送性を有する材料と電子輸送性を有する材料の含有量の比は、正孔輸送性を有する材料:電子輸送性を有する材料=1:9~9:1とすればよい。
また、これら混合された材料同士で励起錯体を形成しても良い。当該励起錯体は発光材料の最も低エネルギー側の吸収帯の波長と重なるような発光を呈する励起錯体を形成するような組み合わせを選択することで、エネルギー移動がスムーズとなり、効率よく発光が得られるため好ましい。また、当該構成を用いることで駆動電圧も低下するため好ましい。
電子輸送層114は、電子輸送性を有する物質を含む層である。電子輸送性を有する物質としては、上記ホスト材料に用いることが可能な電子輸送性を有する物質として挙げたものを用いることができる。
電子輸送層114と第2の電極102との間に、電子注入層115として、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化カルシウム(CaF)等のようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属又はそれらの化合物を含む層を設けても良い。電子注入層115は、電子輸送性を有する物質からなる層中にアルカリ金属又はアルカリ土類金属又はそれらの化合物を含有させたものや、エレクトライドを用いてもよい。エレクトライドとしては、例えば、カルシウムとアルミニウムの混合酸化物に電子を高濃度添加した物質等が挙げられる。
また、電子注入層115の代わりに電荷発生層116を設けても良い。電荷発生層116は、電位をかけることによって当該層の陰極側に接する層に正孔を、陽極側に接する層に電子を注入することができる層のことである。電荷発生層116には、少なくともP型層117が含まれる。P型層117は、上述の正孔注入層111を構成することができる材料として挙げた複合材料を用いて形成することが好ましい。またP型層117は、複合材料を構成する材料として上述したアクセプタ材料を含む膜と正孔輸送材料を含む膜とを積層して構成しても良い。P型層117に電位をかけることによって、電子輸送層114に電子が、陰極である第2の電極102に正孔が注入され、発光素子が動作する。
なお、電荷発生層116はP型層117の他に電子リレー層118及び電子注入バッファ層119のいずれか一又は両方がもうけられていることが好ましい。
電子リレー層118は少なくとも電子輸送性を有する物質を含み、電子注入バッファ層119とP型層117との相互作用を防いで電子をスムーズに受け渡す機能を有する。電子リレー層118に含まれる電子輸送性を有する物質のLUMO準位は、P型層117におけるアクセプタ性物質のLUMO準位と、電子輸送層114における電荷発生層116に接する層に含まれる物質のLUMO準位との間であることが好ましい。電子リレー層118に用いられる電子輸送性を有する物質におけるLUMO準位の具体的なエネルギー準位は−5.0eV以上、好ましくは−5.0eV以上−3.0eV以下とするとよい。なお、電子リレー層118に用いられる電子輸送性を有する物質としてはフタロシアニン系の材料又は金属−酸素結合と芳香族配位子を有する金属錯体を用いることが好ましい。
電子注入バッファ層119には、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、およびこれらの化合物(アルカリ金属化合物(酸化リチウム等の酸化物、ハロゲン化物、炭酸リチウムや炭酸セシウム等の炭酸塩を含む)、アルカリ土類金属化合物(酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む)、または希土類金属の化合物(酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む))等の電子注入性の高い物質を用いることが可能である。
また、電子注入バッファ層119が、電子輸送性を有する物質とドナー性物質を含んで形成される場合には、ドナー性物質として、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、およびこれらの化合物(アルカリ金属化合物(酸化リチウム等の酸化物、ハロゲン化物、炭酸リチウムや炭酸セシウム等の炭酸塩を含む)、アルカリ土類金属化合物(酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む)、または希土類金属の化合物(酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む))の他、テトラチアナフタセン(略称:TTN)、ニッケロセン、デカメチルニッケロセン等の有機化合物を用いることもできる。なお、電子輸送性を有する物質としては、先に説明した電子輸送層114を構成する材料と同様の材料を用いて形成することができる。
第2の電極102を形成する物質としては、仕事関数の小さい(具体的には3.8eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることができる。このような陰極材料の具体例としては、リチウム(Li)やセシウム(Cs)等のアルカリ金属、およびマグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)等の元素周期表の第1族または第2族に属する元素、およびこれらを含む合金(MgAg、AlLi)、ユウロピウム(Eu)、イッテルビウム(Yb)等の希土類金属およびこれらを含む合金等が挙げられる。しかしながら、第2の電極102と電子輸送層との間に、電子注入層を設けることにより、仕事関数の大小に関わらず、Al、Ag、ITO、ケイ素若しくは酸化ケイ素を含有した酸化インジウム−酸化スズ等様々な導電性材料を第2の電極102として用いることができる。これら導電性材料は、真空蒸着法やスパッタリング法などの乾式法、インクジェット法、スピンコート法等を用いて成膜することが可能である。また、ゾル−ゲル法を用いて湿式法で形成しても良いし、金属材料のペーストを用いて湿式法で形成してもよい。
また、EL層103の形成方法としては、乾式法、湿式法を問わず、種々の方法を用いることができる。例えば、真空蒸着法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット法またはスピンコート法など用いても構わない。
また上述した各電極または各層を異なる成膜方法を用いて形成しても構わない。
なお、第1の電極101と第2の電極102との間に設けられる層の構成は、上記のものには限定されない。しかし、発光領域と電極やキャリア注入層に用いられる金属とが近接することによって生じる消光が抑制されるように、第1の電極101および第2の電極102から離れた部位に正孔と電子とが再結合する発光領域を設けた構成が好ましい。
また、発光層113に接する正孔輸送層や電子輸送層、特に発光層113における再結合領域に近いキャリア輸送層は、発光層で生成した励起子からのエネルギー移動を抑制するため、そのバンドギャップが発光層を構成する発光材料もしくは、発光層に含まれる発光材料が有するバンドギャップより大きいバンドギャップを有する物質で構成することが好ましい。
続いて、複数の発光ユニットを積層した構成の発光素子(積層型素子、タンデム型素子ともいう)の態様について、図1(C)を参照して説明する。この発光素子は、陽極と陰極との間に、複数の発光ユニットを有する発光素子である。一つの発光ユニットは、図1(A)で示したEL層103とほぼ同様な構成を有する。つまり、図1(C)で示す発光素子は複数の発光ユニットを有する発光素子であり、図1(A)又は図1(B)で示した発光素子は、1つの発光ユニットを有する発光素子であるということができる。
図1(C)において、陽極501と陰極502との間には、第1の発光ユニット511と第2の発光ユニット512が積層されており、第1の発光ユニット511と第2の発光ユニット512との間には電荷発生層513が設けられている。陽極501と陰極502はそれぞれ図1(A)における第1の電極101と第2の電極102に相当し、図1(A)の説明で述べたものと同じものを適用することができる。また、第1の発光ユニット511と第2の発光ユニット512は同じ構成であっても異なる構成であってもよい。
電荷発生層513は、陽極501と陰極502に電圧を印加したときに、一方の発光ユニットに電子を注入し、他方の発光ユニットに正孔を注入する機能を有する。すなわち、図1(C)において、陽極の電位の方が陰極の電位よりも高くなるように電圧を印加した場合、電荷発生層513は、第1の発光ユニット511に電子を注入し、第2の発光ユニット512に正孔を注入するものであればよい。
電荷発生層513は、図1(B)にて説明した電荷発生層116と同様の構成で形成することが好ましい。有機化合物と金属酸化物の複合材料は、キャリア注入性、キャリア輸送性に優れているため、低電圧駆動、低電流駆動を実現することができる。なお、発光ユニットの陽極側の面が電荷発生層513に接している場合は、電荷発生層513が発光ユニットの正孔注入層の役割も担うことができるため、発光ユニットは正孔注入層を設けなくとも良い。
また、電荷発生層513に電子注入バッファ層119を設ける場合、当該電子注入バッファ層119が陽極側の発光ユニットにおける電子注入層の役割を担うため、陽極側の発光ユニットには必ずしも電子注入層を形成する必要はない。
図1(C)では、2つの発光ユニットを有する発光素子について説明したが、3つ以上の発光ユニットを積層した発光素子についても、同様に適用することが可能である。本実施の形態に係る発光素子のように、一対の電極間に複数の発光ユニットを電荷発生層513で仕切って配置することで、電流密度を低く保ったまま、高輝度発光を可能とし、さらに長寿命な素子を実現できる。また、低電圧駆動が可能で消費電力が低い発光装置を実現することができる。
また、それぞれの発光ユニットの発光色を異なるものにすることで、発光素子全体として、所望の色の発光を得ることができる。例えば、2つの発光ユニットを有する発光素子において、第1の発光ユニットで赤と緑の発光色、第2の発光ユニットで青の発光色を得ることで、発光素子全体として白色発光する発光素子を得ることも可能である。
また、上述のEL層103や第1の発光ユニット511、第2の発光ユニット512及び電荷発生層などの各層や電極は、例えば、蒸着法(真空蒸着法を含む)、液滴吐出法(インクジェット法ともいう)、塗布法、グラビア印刷法等の方法を用いて形成することができる。また、それらは低分子材料、中分子材料(オリゴマー、デンドリマーを含む)、または高分子材料を含んでも良い。
(実施の形態3)
本実施の形態では、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いた発光装置について説明する。
本実施の形態では、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いて作製された発光装置について図2を用いて説明する。なお、図2(A)は、発光装置を示す上面図、図2(B)は図2(A)をA−BおよびC−Dで切断した断面図である。この発光装置は、発光素子の発光を制御するものとして、点線で示された駆動回路部(ソース線駆動回路)601、画素部602、駆動回路部(ゲート線駆動回路)603を含んでいる。また、604は封止基板、605はシール材であり、シール材605で囲まれた内側は、空間607になっている。
なお、引き回し配線608はソース線駆動回路601及びゲート線駆動回路603に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC(フレキシブルプリントサーキット)609からビデオ信号、クロック信号、スタート信号、リセット信号等を受け取る。なお、ここではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基板(PWB)が取り付けられていても良い。本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく、それにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。
次に、断面構造について図2(B)を用いて説明する。素子基板610上には駆動回路部及び画素部が形成されているが、ここでは、駆動回路部であるソース線駆動回路601と、画素部602中の一つの画素が示されている。
素子基板610はガラス、石英、有機樹脂、金属、合金、半導体などからなる基板の他、FRP(Fiber Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いて作製すればよい。
画素や駆動回路に用いられるトランジスタの構造は特に限定されない。例えば、逆スタガ型のトランジスタとしてもよいし、スタガ型のトランジスタとしてもよい。また、トップゲート型のトランジスタでもボトムゲート型トランジスタでもよい。トランジスタに用いる半導体材料は特に限定されず、例えば、シリコン、ゲルマニウム、炭化シリコン、窒化ガリウム等を用いることができる。または、In−Ga−Zn系金属酸化物などの、インジウム、ガリウム、亜鉛のうち少なくとも一つを含む酸化物半導体を用いてもよい。
トランジスタに用いる半導体材料の結晶性についても特に限定されず、非晶質半導体、結晶性を有する半導体(微結晶半導体、多結晶半導体、単結晶半導体、又は一部に結晶領域を有する半導体)のいずれを用いてもよい。結晶性を有する半導体を用いると、トランジスタ特性の劣化を抑制できるため好ましい。
ここで、上記画素や駆動回路に設けられるトランジスタの他、後述するタッチセンサ等に用いられるトランジスタなどの半導体装置には、酸化物半導体を適用することが好ましい。特にシリコンよりもバンドギャップの広い酸化物半導体を適用することが好ましい。シリコンよりもバンドギャップの広い酸化物半導体を用いることで、トランジスタのオフ状態における電流を低減できる。
上記酸化物半導体は、少なくともインジウム(In)又は亜鉛(Zn)を含むことが好ましい。また、In−M−Zn系酸化物(MはAl、Ti、Ga、Ge、Y、Zr、Sn、La、CeまたはHf等の金属)で表記される酸化物を含む酸化物半導体であることがより好ましい。
特に、半導体層として、複数の結晶部を有し、当該結晶部はc軸が半導体層の被形成面、または半導体層の上面に対し垂直に配向し、且つ隣接する結晶部間には粒界を有さない酸化物半導体膜を用いることが好ましい。
半導体層としてこのような材料を用いることで、電気特性の変動が抑制され、信頼性の高いトランジスタを実現できる。
また、上述の半導体層を有するトランジスタはその低いオフ電流により、トランジスタを介して容量に蓄積した電荷を長期間に亘って保持することが可能である。このようなトランジスタを画素に適用することで、各表示領域に表示した画像の階調を維持しつつ、駆動回路を停止することも可能となる。その結果、極めて消費電力の低減された電子機器を実現できる。
トランジスタの特性安定化等のため、下地膜を設けることが好ましい。下地膜としては、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜などの無機絶縁膜を用い、単層で又は積層して作製することができる。下地膜はスパッタリング法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法(プラズマCVD法、熱CVD法、MOCVD(Metal Organic CVD)法など)、ALD(Atomic Layer Deposition)法、塗布法、印刷法等を用いて形成できる。なお、下地膜は、必要で無ければ設けなくてもよい。
なお、FET623は駆動回路部601に形成されるトランジスタの一つを示すものである。また、駆動回路は、種々のCMOS回路、PMOS回路もしくはNMOS回路で形成すれば良い。また、本実施の形態では、基板上に駆動回路を形成したドライバ一体型を示すが、必ずしもその必要はなく、駆動回路を基板上ではなく外部に形成することもできる。
また、画素部602はスイッチング用FET611と、電流制御用FET612とそのドレインに電気的に接続された第1の電極613とを含む複数の画素により形成されているが、これに限定されず、3つ以上のFETと、容量素子とを組み合わせた画素部としてもよい。
なお、第1の電極613の端部を覆って絶縁物614が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用いることにより形成することができる。
また、後に形成するEL層等の被覆性を良好なものとするため、絶縁物614の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにする。例えば、絶縁物614の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場合、絶縁物614の上端部のみに曲率半径(0.2μm~3μm)を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物614として、ネガ型の感光性樹脂、或いはポジ型の感光性樹脂のいずれも使用することができる。
第1の電極613上には、EL層616、および第2の電極617がそれぞれ形成されている。ここで、陽極として機能する第1の電極613に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO膜、またはケイ素を含有したインジウム錫酸化物膜、2~20wt%の酸化亜鉛を含む酸化インジウム膜、窒化チタン膜、クロム膜、タングステン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好なオーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。
また、EL層616は、蒸着マスクを用いた蒸着法、インクジェット法、スピンコート法等の種々の方法によって形成される。EL層616は、実施の形態1および実施の形態2で説明したような構成を含んでいる。また、EL層616を構成する他の材料としては、低分子化合物、または高分子化合物(オリゴマー、デンドリマーを含む)であっても良い。
さらに、EL層616上に形成され、陰極として機能する第2の電極617に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Mg、Li、Ca、またはこれらの合金や化合物(MgAg、MgIn、AlLi等)等)を用いることが好ましい。なお、EL層616で生じた光が第2の電極617を透過させる場合には、第2の電極617として、膜厚を薄くした金属薄膜と、透明導電膜(ITO、2~20wt%の酸化亜鉛を含む酸化インジウム、ケイ素を含有したインジウム錫酸化物、酸化亜鉛(ZnO)等)との積層を用いるのが良い。
なお、第1の電極613、EL層616、第2の電極617でもって、発光素子が形成されている。当該発光素子は実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子である。なお、画素部は複数の発光素子が形成されてなっているが、本実施の形態における発光装置では、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子と、それ以外の構成を有する発光素子の両方が含まれていても良い。
さらにシール材605で封止基板604を素子基板610と貼り合わせることにより、素子基板610、封止基板604、およびシール材605で囲まれた空間607に発光素子618が備えられた構造になっている。なお、空間607には、充填材が充填されており、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材で充填される場合もある。封止基板には凹部を形成し、そこに乾燥材を設けることで水分の影響による劣化を抑制することができ、好ましい構成である。
なお、シール材605にはエポキシ系樹脂やガラスフリットを用いるのが好ましい。また、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板604に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiber Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。
図2には示されていないが、第2の電極上に保護膜を設けても良い。保護膜は有機樹脂膜や無機絶縁膜で形成すればよい。また、シール材605の露出した部分を覆うように、保護膜が形成されていても良い。また、保護膜は、一対の基板の表面及び側面、封止層、絶縁層、等の露出した側面を覆って設けることができる。
保護膜には、水などの不純物を透過しにくい材料を用いることができる。したがって、水などの不純物が外部から内部に拡散することを効果的に抑制することができる。
保護膜を構成する材料としては、酸化物、窒化物、フッ化物、硫化物、三元化合物、金属またはポリマー等を用いることができ、例えば、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、ハフニウムシリケート、酸化ランタン、酸化珪素、チタン酸ストロンチウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化スカンジウム、酸化エルビウム、酸化バナジウムまたは酸化インジウム等を含む材料や、窒化アルミニウム、窒化ハフニウム、窒化珪素、窒化タンタル、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化モリブデン、窒化ジルコニウムまたは窒化ガリウム等を含む材料、チタンおよびアルミニウムを含む窒化物、チタンおよびアルミニウムを含む酸化物、アルミニウムおよび亜鉛を含む酸化物、マンガンおよび亜鉛を含む硫化物、セリウムおよびストロンチウムを含む硫化物、エルビウムおよびアルミニウムを含む酸化物、イットリウムおよびジルコニウムを含む酸化物等を含む材料を用いることができる。
保護膜は、段差被覆性(ステップカバレッジ)の良好な成膜方法を用いて形成することが好ましい。このような手法の一つに、原子層堆積(ALD:Atomic Layer Deposition)法がある。ALD法を用いて形成することができる材料を、保護膜に用いることが好ましい。ALD法を用いることで緻密な、クラックやピンホールなどの欠陥が低減された、または均一な厚さを備える保護膜を形成することができる。また、保護膜を形成する際に加工部材に与える損傷を、低減することができる。
例えばALD法を用いて保護膜を形成することで、複雑な凹凸形状を有する表面や、タッチパネルの上面、側面及び裏面にまで均一で欠陥の少ない保護膜を形成することができる。
以上のようにして、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いて作製された発光装置を得ることができる。
本実施の形態における発光装置は、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いているため、良好な特性を備えた発光装置を得ることができる。具体的には、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子は寿命の長い発光素子であるため、信頼性の良好な発光装置とすることができる。また、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いた発光装置は発光効率が良好なため、消費電力の小さい発光装置とすることが可能である。
図3には白色発光を呈する発光素子を形成し、着色層(カラーフィルタ)等を設けることによってフルカラー化した発光装置の例を示す。図3(A)には基板1001、下地絶縁膜1002、ゲート絶縁膜1003、ゲート電極1006、1007、1008、第1の層間絶縁膜1020、第2の層間絶縁膜1021、周辺部1042、画素部1040、駆動回路部1041、発光素子の第1の電極1024W、1024R、1024G、1024B、隔壁1025、EL層1028、発光素子の第2の電極1029、封止基板1031、シール材1032などが図示されている。
また、図3(A)では着色層(赤色の着色層1034R、緑色の着色層1034G、青色の着色層1034B)は透明な基材1033に設けている。また、ブラックマトリクス1035をさらに設けても良い。着色層及びブラックマトリクスが設けられた透明な基材1033は、位置合わせし、基板1001に固定する。なお、着色層、及びブラックマトリクス1035は、オーバーコート層1036で覆われている。また、図3(A)においては、光が着色層を透過せずに外部へと出る発光層と、各色の着色層を透過して外部に光が出る発光層とがあり、着色層を透過しない光は白、着色層を透過する光は赤、緑、青となることから、4色の画素で映像を表現することができる。
図3(B)では着色層(赤色の着色層1034R、緑色の着色層1034G、青色の着色層1034B)をゲート絶縁膜1003と第1の層間絶縁膜1020との間に形成する例を示した。このように、着色層は基板1001と封止基板1031の間に設けられていても良い。
また、以上に説明した発光装置では、FETが形成されている基板1001側に光を取り出す構造(ボトムエミッション型)の発光装置としたが、封止基板1031側に発光を取り出す構造(トップエミッション型)の発光装置としても良い。トップエミッション型の発光装置の断面図を図4に示す。この場合、基板1001は光を通さない基板を用いることができる。FETと発光素子の陽極とを接続する接続電極を作製するまでは、ボトムエミッション型の発光装置と同様に形成する。その後、第3の層間絶縁膜1037を電極1022を覆って形成する。この絶縁膜は平坦化の役割を担っていても良い。第3の層間絶縁膜1037は第2の層間絶縁膜と同様の材料の他、他の公知の材料を用いて形成することができる。
発光素子の第1の電極1024W、1024R、1024G、1024Bはここでは陽極とするが、陰極であっても構わない。また、図4のようなトップエミッション型の発光装置である場合、第1の電極を反射電極とすることが好ましい。EL層1028の構成は、実施の形態1および実施の形態2においてEL層103として説明したような構成とし、且つ、白色の発光が得られるような素子構造とする。
図4のようなトップエミッションの構造では着色層(赤色の着色層1034R、緑色の着色層1034G、青色の着色層1034B)を設けた封止基板1031で封止を行うことができる。封止基板1031には画素と画素との間に位置するようにブラックマトリクス1035を設けても良い。着色層(赤色の着色層1034R、緑色の着色層1034G、青色の着色層1034B)やブラックマトリックス1035はオーバーコート層1036によって覆われていても良い。なお封止基板1031は透光性を有する基板を用いることとする。また、ここでは赤、緑、青、白の4色でフルカラー表示を行う例を示したが特に限定されず、赤、黄、緑、青の4色や赤、緑、青の3色でフルカラー表示を行ってもよい。
トップエミッション型の発光装置では、マイクロキャビティ構造の適用が好適に行える。マイクロキャビティ構造を有する発光素子は、第1の電極を反射電極、第2の電極を半透過・半反射電極とすることにより得られる。反射電極と半透過・半反射電極との間には少なくともEL層を有し、少なくとも発光領域となる発光層を有している。
なお、反射電極は、可視光の反射率が40%乃至100%、好ましくは70%乃至100%であり、かつその抵抗率が1×10−2Ωcm以下の膜であるとする。また、半透過・半反射電極は、可視光の反射率が20%乃至80%、好ましくは40%乃至70%であり、かつその抵抗率が1×10−2Ωcm以下の膜であるとする。
EL層に含まれる発光層から射出される発光は、反射電極と半透過・半反射電極とによって反射され、共振する。
当該発光素子は、透明導電膜や上述の複合材料、キャリア輸送材料などの厚みを変えることで反射電極と半透過・半反射電極の間の光学的距離を変えることができる。これにより、反射電極と半透過・半反射電極との間において、共振する波長の光を強め、共振しない波長の光を減衰させることができる。
なお、反射電極によって反射されて戻ってきた光(第1の反射光)は、発光層から半透過・半反射電極に直接入射する光(第1の入射光)と大きな干渉を起こすため、反射電極と発光層の光学的距離を(2n−1)λ/4(ただし、nは1以上の自然数、λは増幅したい発光の波長)に調節することが好ましい。当該光学的距離を調節することにより、第1の反射光と第1の入射光との位相を合わせ発光層からの発光をより増幅させることができる。
なお、上記構成においては、EL層に複数の発光層を有する構造であっても、単一の発光層を有する構造であっても良く、例えば、上述のタンデム型発光素子の構成と組み合わせて、一つの発光素子に電荷発生層を挟んで複数のEL層を設け、それぞれのEL層に単数もしくは複数の発光層を形成する構成を適用してもよい。
マイクロキャビティ構造を有することで、特定波長の正面方向の発光強度を強めることが可能となるため、低消費電力化を図ることができる。なお、赤、黄、緑、青の4色の副画素で映像を表示する発光装置の場合、黄色発光による輝度向上効果のうえ、全副画素において各色の波長に合わせたマイクロキャビティ構造を適用できるため良好な特性の発光装置とすることができる。
本実施の形態における発光装置は、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いているため、良好な特性を備えた発光装置を得ることができる。具体的には、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子は寿命の長い発光素子であるため、信頼性の良好な発光装置とすることができる。また、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いた発光装置は発光効率が良好なため、消費電力の小さい発光装置とすることが可能である。
ここまでは、アクティブマトリクス型の発光装置について説明したが、以下からはパッシブマトリクス型の発光装置について説明する。図5には本発明を適用して作製したパッシブマトリクス型の発光装置を示す。なお、図5(A)は、発光装置を示す斜視図、図5(B)は図5(A)をX−Yで切断した断面図である。図5において、基板951上には、電極952と電極956との間にはEL層955が設けられている。電極952の端部は絶縁層953で覆われている。そして、絶縁層953上には隔壁層954が設けられている。隔壁層954の側壁は、基板面に近くなるに伴って、一方の側壁と他方の側壁との間隔が狭くなっていくような傾斜を有する。つまり、隔壁層954の短辺方向の断面は、台形状であり、底辺(絶縁層953の面方向と同様の方向を向き、絶縁層953と接する辺)の方が上辺(絶縁層953の面方向と同様の方向を向き、絶縁層953と接しない辺)よりも短い。このように、隔壁層954を設けることで、静電気等に起因した発光素子の不良を防ぐことが出来る。また、パッシブマトリクス型の発光装置においても、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いており、信頼性の良好な発光装置、又は消費電力の小さい発光装置とすることができる。
以上、説明した発光装置は、マトリクス状に配置された多数の微小な発光素子をそれぞれ制御することが可能であるため、画像の表現を行う表示装置として好適に利用できる発光装置である。
また、本実施の形態は他の実施の形態と自由に組み合わせることができる。
(実施の形態4)
本実施の形態では、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を照明装置として用いる例を図6を参照しながら説明する。図6(B)は照明装置の上面図、図6(A)は図6(B)におけるe−f断面図である。
本実施の形態における照明装置は、支持体である透光性を有する基板400上に、第1の電極401が形成されている。第1の電極401は実施の形態2における第1の電極101に相当する。第1の電極401側から発光を取り出す場合、第1の電極401は透光性を有する材料により形成する。
第2の電極404に電圧を供給するためのパッド412が基板400上に形成される。
第1の電極401上にはEL層403が形成されている。EL層403は実施の形態1および実施の形態2におけるEL層103の構成、又は発光ユニット511、512及び電荷発生層513を合わせた構成などに相当する。なお、これらの構成については当該記載を参照されたい。
EL層403を覆って第2の電極404を形成する。第2の電極404は実施の形態2における第2の電極102に相当する。発光を第1の電極401側から取り出す場合、第2の電極404は反射率の高い材料によって形成される。第2の電極404はパッド412と接続することによって、電圧が供給される。
以上、第1の電極401、EL層403、及び第2の電極404を有する発光素子を本実施の形態で示す照明装置は有している。当該発光素子は発光効率の高い発光素子であるため、本実施の形態における照明装置は消費電力の小さい照明装置とすることができる。
以上の構成を有する発光素子が形成された基板400と、封止基板407とをシール材405、406を用いて固着し、封止することによって照明装置が完成する。シール材405、406はどちらか一方でもかまわない。また、内側のシール材406(図6(B)では図示せず)には乾燥剤を混ぜることもでき、これにより、水分を吸着することができ、信頼性の向上につながる。
また、パッド412と第1の電極401の一部をシール材405、406の外に伸張して設けることによって、外部入力端子とすることができる。また、その上にコンバーターなどを搭載したICチップ420などを設けても良い。
以上、本実施の形態に記載の照明装置は、EL素子に実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いており、信頼性の良好な発光装置とすることができる。また、消費電力の小さい発光装置とすることができる。
(実施の形態5)
本実施の形態では、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子をその一部に含む電子機器の例について説明する。実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子は寿命が良好であり、信頼性の良好な発光素子である。その結果、本実施の形態に記載の電子機器は、信頼性の良好な発光部を有する電子機器とすることが可能である。
上記発光素子を適用した電子機器として、例えば、テレビジョン装置(テレビ、またはテレビジョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置ともいう)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。これらの電子機器の具体例を以下に示す。
図7(A)は、テレビジョン装置の一例を示している。テレビジョン装置は、筐体7101に表示部7103が組み込まれている。また、ここでは、スタンド7105により筐体7101を支持した構成を示している。表示部7103により、映像を表示することが可能であり、表示部7103は、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子をマトリクス状に配列して構成されている。
テレビジョン装置の操作は、筐体7101が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機7110により行うことができる。リモコン操作機7110が備える操作キー7109により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部7103に表示される映像を操作することができる。また、リモコン操作機7110に、当該リモコン操作機7110から出力する情報を表示する表示部7107を設ける構成としてもよい。
なお、テレビジョン装置は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線または無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)または双方向(送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である。
図7(B1)はコンピュータであり、本体7201、筐体7202、表示部7203、キーボード7204、外部接続ポート7205、ポインティングデバイス7206等を含む。なお、このコンピュータは、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子をマトリクス状に配列して表示部7203に用いることにより作製される。図7(B1)のコンピュータは、図7(B2)のような形態であっても良い。図7(B2)のコンピュータは、キーボード7204、ポインティングデバイス7206の代わりに第2の表示部7210が設けられている。第2の表示部7210はタッチパネル式となっており、第2の表示部7210に表示された入力用の表示を指や専用のペンで操作することによって入力を行うことができる。また、第2の表示部7210は入力用表示だけでなく、その他の画像を表示することも可能である。また表示部7203もタッチパネルであっても良い。二つの画面がヒンジで接続されていることによって、収納や運搬をする際に画面を傷つける、破損するなどのトラブルの発生も防止することができる。
図7(C)は、携帯端末の一例を示している。携帯電話機は、筐体7401に組み込まれた表示部7402の他、操作ボタン7403、外部接続ポート7404、スピーカ7405、マイク7406などを備えている。なお、携帯電話機7400は、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子をマトリクス状に配列して作製された表示部7402を有している。
図7(C)に示す携帯端末は、表示部7402を指などで触れることで、情報を入力することができる構成とすることもできる。この場合、電話を掛ける、或いはメールを作成するなどの操作は、表示部7402を指などで触れることにより行うことができる。
表示部7402の画面は主として3つのモードがある。第1は、画像の表示を主とする表示モードであり、第2は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第3は表示モードと入力モードの2つのモードが混合した表示+入力モードである。
例えば、電話を掛ける、或いはメールを作成する場合は、表示部7402を文字の入力を主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場合、表示部7402の画面のほとんどにキーボードまたは番号ボタンを表示させることが好ましい。
また、携帯端末内部に、ジャイロ、加速度センサ等の傾きを検出するセンサを有する検出装置を設けることで、携帯端末の向き(縦か横か)を判断して、表示部7402の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。
また、画面モードの切り替えは、表示部7402を触れること、又は筐体7401の操作ボタン7403の操作により行われる。また、表示部7402に表示される画像の種類によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。
また、入力モードにおいて、表示部7402の光センサで検出される信号を検知し、表示部7402のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モードから表示モードに切り替えるように制御してもよい。
表示部7402は、イメージセンサとして機能させることもできる。例えば、表示部7402に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。また、表示部に近赤外光を発光するバックライトまたは近赤外光を発光するセンシング用光源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。
なお、本実施の形態に示す構成は、実施の形態1乃至実施の形態4に示した構成を適宜組み合わせて用いることができる。
以上の様に実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を備えた発光装置の適用範囲は極めて広く、この発光装置をあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いることにより信頼性の高い電子機器を得ることができる。
図8(A)は、掃除ロボットの一例を示す模式図である。
掃除ロボット5100は、上面に配置されたディスプレイ5101、側面に配置された複数のカメラ5102、ブラシ5103、操作ボタン5104を有する。また図示されていないが、掃除ロボット5100の下面には、タイヤ、吸い込み口等が備えられている。掃除ロボット5100は、その他に赤外線センサ、超音波センサ、加速度センサ、ピエゾセンサ、光センサ、ジャイロセンサなどの各種センサを備えている。また、掃除ロボット5100は、無線による通信手段を備えている。
掃除ロボット5100は自走し、ゴミ5120を検知し、下面に設けられた吸い込み口からゴミを吸引することができる。
また、掃除ロボット5100はカメラ5102が撮影した画像を解析し、壁、家具または段差などの障害物の有無を判断することができる。また、画像解析により、配線などブラシ5103に絡まりそうな物体を検知した場合は、ブラシ5103の回転を止めることができる。
ディスプレイ5101には、バッテリーの残量や、吸引したゴミの量などを表示することができる。掃除ロボット5100が走行した経路をディスプレイ5101に表示させてもよい。また、ディスプレイ5101をタッチパネルとし、操作ボタン5104をディスプレイ5101に設けてもよい。
掃除ロボット5100は、スマートフォンなどの携帯電子機器5140と通信することができる。カメラ5102が撮影した画像は、携帯電子機器5140に表示させることができる。そのため、掃除ロボット5100の持ち主は、外出先からでも、部屋の様子を知ることができる。また、ディスプレイ5101の表示をスマートフォンなどの携帯電子機器5140で確認することもできる。
本発明の一態様の発光装置はディスプレイ5101に用いることができる。
図8(B)に示すロボット2100は、演算装置2110、照度センサ2101、マイクロフォン2102、上部カメラ2103、スピーカ2104、ディスプレイ2105、下部カメラ2106、障害物センサ2107および移動機構2108を備える。
マイクロフォン2102は、使用者の話し声及び環境音等を検知する機能を有する。また、スピーカ2104は、音声を発する機能を有する。ロボット2100は、マイクロフォン2102およびスピーカ2104を用いて、使用者とコミュニケーションをとることが可能である。
ディスプレイ2105は、種々の情報の表示を行う機能を有する。ロボット2100は、使用者の望みの情報をディスプレイ2105に表示することが可能である。ディスプレイ2105は、タッチパネルを搭載していてもよい。また、ディスプレイ2105は取り外しのできる情報端末であっても良く、ロボット2100の定位置に設置することで、充電およびデータの受け渡しを可能とする。
上部カメラ2103および下部カメラ2106は、ロボット2100の周囲を撮像する機能を有する。また、障害物センサ2107は、移動機構2108を用いてロボット2100が前進する際の進行方向における障害物の有無を察知することができる。ロボット2100は、上部カメラ2103、下部カメラ2106および障害物センサ2107を用いて、周囲の環境を認識し、安全に移動することが可能である。本発明の一態様の発光装置はディスプレイ2105に用いることができる。
図8(C)はゴーグル型ディスプレイの一例を表す図である。ゴーグル型ディスプレイは、例えば、筐体5000、表示部5001、スピーカ5003、LEDランプ5004、操作キー5005(電源スイッチ、又は操作スイッチを含む)、接続端子5006、センサ5007(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、におい、又は赤外線を測定する機能を含むもの)、マイクロフォン5008、第2の表示部5002、支持部5012、イヤホン5013等を有する。
本発明の一態様の発光装置は表示部5001および第2の表示部5002に用いることができる。
図9は、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を、照明装置である電気スタンドに用いた例である。図9に示す電気スタンドは、筐体2001と、光源2002を有し、光源2002としては、実施の形態3に記載の照明装置を用いても良い。
図10は、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を、室内の照明装置3001として用いた例である。実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子は信頼性の高い発光素子であるため、信頼性の良い照明装置とすることができる。また、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子は大面積化が可能であるため、大面積の照明装置として用いることができる。また、実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子は、薄型であるため、薄型化した照明装置として用いることが可能となる。
実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子は、自動車のフロントガラスやダッシュボードにも搭載することができる。図11に実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を自動車のフロントガラスやダッシュボードに用いる一態様を示す。表示領域5200乃至表示領域5203は実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を用いて設けられた表示領域である。
表示領域5200と表示領域5201は自動車のフロントガラスに設けられた実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を搭載した表示装置である。実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子は、第1の電極と第2の電極を透光性を有する電極で作製することによって、反対側が透けて見える、いわゆるシースルー状態の表示装置とすることができる。シースルー状態の表示であれば、自動車のフロントガラスに設置したとしても、視界の妨げになることなく設置することができる。なお、駆動のためのトランジスタなどを設ける場合には、有機半導体材料による有機トランジスタや、酸化物半導体を用いたトランジスタなど、透光性を有するトランジスタを用いると良い。
表示領域5202はピラー部分に設けられた実施の形態1および実施の形態2に記載の発光素子を搭載した表示装置である。表示領域5202には、車体に設けられた撮像手段からの映像を映し出すことによって、ピラーで遮られた視界を補完することができる。また、同様に、ダッシュボード部分に設けられた表示領域5203は車体によって遮られた視界を、自動車の外側に設けられた撮像手段からの映像を映し出すことによって、死角を補い、安全性を高めることができる。見えない部分を補完するように映像を映すことによって、より自然に違和感なく安全確認を行うことができる。
表示領域5203はまたナビゲーション情報、速度計や回転計、走行距離、燃料、ギア状態、エアコンの設定などを表示することで、様々な情報を提供することができる。表示は使用者の好みに合わせて適宜その表示項目やレイアウトを変更することができる。なお、これら情報は表示領域5200乃至表示領域5202にも設けることができる。また、表示領域5200乃至表示領域5203は照明装置として用いることも可能である。
また、図12(A)、(B)に、折りたたみ可能な携帯情報端末5150を示す。折りたたみ可能な携帯情報端末5150は筐体5151、表示領域5152および屈曲部5153を有している。図12(A)に展開した状態の携帯情報端末5150を示す。図12(B)に折りたたんだ状態の携帯情報端末5150を示す。携帯情報端末5150は、大きな表示領域5152を有するにも関わらず、折りたためばコンパクトで可搬性に優れる。
表示領域5152は屈曲部5153により半分に折りたたむことができる。屈曲部5153は伸縮可能な部材と複数の支持部材とで構成されており、折りたたむ場合は、伸縮可能な部材が伸びて、屈曲部5153は2mm以上、好ましくは3mm以上の曲率半径を有して折りたたまれる。
なお、表示領域5152は、タッチセンサ(入力装置)を搭載したタッチパネル(入出力装置)であってもよい。本発明の一態様の発光装置を表示領域5152に用いることができる。
また、図13(A)~(C)に、折りたたみ可能な携帯情報端末9310を示す。図13(A)に展開した状態の携帯情報端末9310を示す。図13(B)に展開した状態又は折りたたんだ状態の一方から他方に変化する途中の状態の携帯情報端末9310を示す。図13(C)に折りたたんだ状態の携帯情報端末9310を示す。携帯情報端末9310は、折りたたんだ状態では可搬性に優れ、展開した状態では、継ぎ目のない広い表示領域により表示の一覧性に優れる。
表示パネル9311はヒンジ9313によって連結された3つの筐体9315に支持されている。なお、表示パネル9311は、タッチセンサ(入力装置)を搭載したタッチパネル(入出力装置)であってもよい。また、表示パネル9311は、ヒンジ9313を介して2つの筐体9315間を屈曲させることにより、携帯情報端末9310を展開した状態から折りたたんだ状態に可逆的に変形させることができる。本発明の一態様の発光装置を表示パネル9311に用いることができる。表示パネル9311における表示領域9312は折りたたんだ状態の携帯情報端末9310の側面に位置する表示領域である。表示領域9312には、情報アイコンや使用頻度の高いアプリやプログラムのショートカットなどを表示させることができ、情報の確認やアプリなどの起動をスムーズに行うことができる。
≪素子実施例1≫
本実施例では、本発明の一態様の発光素子1と、比較発光素子1について説明する。発光素子1、および比較発光素子1で用いた有機化合物の構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
(発光素子1の作製方法)
まず、ガラス基板上に、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法にて成膜し、第1の電極101を形成した。なお、その膜厚は70nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、抵抗加熱を用いた蒸着法により上記構造式(i)で表されるN,N−ビス(4−ビフェニル)−6−フェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−アミン(略称:BBABnf)と、NDP−9(分析工房株式会社、材料シリアル番号:1S20170124)とを、重量比で1:0.1(=BBABnf:NDP−9)となるように、10nm共蒸着して正孔注入層111を形成した。
次に、正孔注入層111上に、第1の正孔輸送層112−1として、BBABnfを20nmとなるように蒸着した後、第2の正孔輸送層112−2として、上記構造式(ii)で表される3,3’−(ナフタレン−1,4−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)(略称:PCzN2)を10nmとなるように蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(iii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(iv)で表されるN,N’−(ピレン−1,6−ジイル)ビス[(6,N−ジフェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)とを、重量比1:0.03(=cgDBCzPA:1,6BnfAPrn−03)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、cgDBCzPAを膜厚15nmとなるように蒸着した後、上記構造式(v)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚10nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、続いてアルミニウムを200nmの膜厚となるように蒸着することで第2の電極102を形成して本実施例の発光素子1を作製した。
(比較発光素子1の作製方法)
比較発光素子1は発光素子1における第2の正孔輸送層112−2で用いられるPCzN2を、上記構造式(vi)で表される3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)に変えた他は、発光素子1と同様に作製した。
発光素子1および比較発光素子1の素子構造を以下の表にまとめる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
発光素子1および比較発光素子1を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、これら発光素子の初期特性及び信頼性について測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子1および比較発光素子1の輝度−電流密度特性を図14に、電流効率−輝度特性を図15に、輝度−電圧特性を図16に、電流−電圧特性を図17に、外部量子効率−輝度特性を図18に、発光スペクトルを図19に示す。また、各発光素子の1000cd/m付近における主要な特性を表2に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
図14乃至図19及び表2より、本発明の一態様である発光素子1は、駆動電圧が低く、発光効率などの特性は比較発光素子1と同等の良好な青色発光素子であることがわかった。
また、電流密度50mA/cmにおける駆動時間に対する輝度の変化を表すグラフを図20に示す。図20で示すように、本発明一態様の発光素子である発光素子1は、駆動時間の蓄積に伴う輝度低下が小さく、寿命の良好な発光素子であることがわかった。
≪素子実施例2≫
本実施例では、本発明の一態様の発光素子2と、比較発光素子2について説明する。発光素子2、および比較発光素子2で用いた有機化合物の構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
(発光素子2の作製方法)
まず、ガラス基板上に、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法にて成膜し、第1の電極101を形成した。なお、その膜厚は70nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、抵抗加熱を用いた蒸着法により上記構造式(i)で表されるN,N−ビス(4−ビフェニル)−6−フェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−アミン(略称:BBABnf)と、NDP−9(分析工房株式会社、材料シリアル番号:1S20170124)とを、重量比で1:0.1(=BBABnf:NDP−9)となるように、10nm共蒸着して正孔注入層111を形成した。
次に、正孔注入層111上に、上記構造式(ii)で表される3,3’−(ナフタレン−1,4−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)(略称:PCzN2)を30nmとなるように蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(iii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(iv)で表されるN,N’−(ピレン−1,6−ジイル)ビス[(6,N−ジフェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)とを、重量比1:0.03(=cgDBCzPA:1,6BnfAPrn−03)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、cgDBCzPAを膜厚15nmとなるように蒸着した後、上記構造式(v)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚10nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、続いてアルミニウムを200nmの膜厚となるように蒸着することで第2の電極102を形成して本実施例の発光素子2を作製した。
(比較発光素子2の作製方法)
比較発光素子2は発光素子2における正孔輸送層112で用いられるPCzN2を、上記構造式(vi)で表される3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)に変えた他は、発光素子2と同様に作製した。
発光素子2および比較発光素子2の素子構造を以下の表にまとめる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
発光素子2および比較発光素子2を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、これら発光素子の初期特性及び信頼性について測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子2および比較発光素子2の輝度−電流密度特性を図21に、電流効率−輝度特性を図22に、輝度−電圧特性を図23に、電流−電圧特性を図24に、外部量子効率−輝度特性を図25に、発光スペクトルを図26に示す。また、各発光素子の1000cd/m付近における主要な特性を表4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
図21乃至図25及び表4より、本発明の一態様である発光素子2は、駆動電圧が低く、発光効率などの特性は比較発光素子2と同等の良好な青色発光素子であることがわかった。
また、電流密度50mA/cmにおける駆動時間に対する輝度の変化を表すグラフを図27に示す。図27で示すように、本発明一態様の発光素子である発光素子2は、駆動時間の蓄積に伴う輝度低下が小さく、寿命の良好な発光素子であることがわかった。
≪素子実施例3≫
本実施例では、本発明の一態様の発光素子3と、比較発光素子3について説明する。発光素子3、および比較発光素子3で用いた有機化合物の構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
(発光素子3の作製方法)
まず、ガラス基板上に、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法にて成膜し、第1の電極101を形成した。なお、その膜厚は70nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、抵抗加熱を用いた蒸着法により上記構造式(i)で表されるN,N−ビス(4−ビフェニル)−6−フェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−アミン(略称:BBABnf)と、NDP−9(分析工房株式会社、材料シリアル番号:1S20170124)とを、重量比で1:0.1(=BBABnf:NDP−9)となるように、10nm共蒸着して正孔注入層111を形成した。
次に、正孔注入層111上に、第1の正孔輸送層112−1として、BBABnfを20nmとなるように蒸着した後、第2の正孔輸送層112−2として、上記構造式(ii)で表される3,3’−(ナフタレン−1,4−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)(略称:PCzN2)を10nmとなるように蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(iii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(iv)で表されるN,N’−(ピレン−1,6−ジイル)ビス[(6,N−ジフェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)とを、重量比1:0.03(=cgDBCzPA:1,6BnfAPrn−03)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、上記構造式(vii)で表される2−{4−[9,10−ジ(ナフタレン−2−イル)−2−アントリル]−1−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール(略称:ZADN)と、上記構造式(viii)で表される8−ヒドロキシキノリノラト−リチウム(略称:Liq)とを重量比で1:1(=ZADN:Liq)となるように25nm蒸着して電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、Liqを膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、続いてアルミニウムを200nmの膜厚となるように蒸着することで第2の電極102を形成して本実施例の発光素子3を作製した。
(比較発光素子3の作製方法)
比較発光素子3は発光素子3における正孔輸送層112で用いられるPCzN2を、上記構造式(vi)で表される3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)に変えた他は、発光素子3と同様に作製した。
発光素子3および比較発光素子3の素子構造を以下の表にまとめる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
発光素子3および比較発光素子3を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、これら発光素子の初期特性及び信頼性について測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子3および比較発光素子3の輝度−電流密度特性を図28に、電流効率−輝度特性を図29に、輝度−電圧特性を図30に、電流−電圧特性を図31に、外部量子効率−輝度特性を図32に、発光スペクトルを図33に示す。また、各発光素子の1000cd/m付近における主要な特性を表6に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
図28乃至図32及び表6より、本発明の一態様である発光素子3は、駆動電圧や発光効率などの特性は比較発光素子3と同等の良好な青色発光素子であることがわかった。
また、電流密度50mA/cmにおける駆動時間に対する輝度の変化を表すグラフを図34に示す。図34で示すように、本発明一態様の発光素子である発光素子3は、300時間経過後も、初期輝度の97%以上の輝度を保っており、駆動時間の蓄積に伴う輝度低下が非常に小さく、寿命の良好な発光素子であることがわかった。
≪素子実施例4≫
本実施例では、本発明の一態様の発光素子4と、比較発光素子4について説明する。発光素子4、および比較発光素子4で用いた有機化合物の構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
(発光素子4の作製方法)
まず、ガラス基板上に、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法にて成膜し、第1の電極101を形成した。なお、その膜厚は70nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、抵抗加熱を用いた蒸着法により上記構造式(i)で表されるN,N−ビス(4−ビフェニル)−6−フェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−アミン(略称:BBABnf)と、NDP−9(分析工房株式会社、材料シリアル番号:1S20170124)とを、重量比で1:0.1(=BBABnf:NDP−9)となるように、10nm共蒸着して正孔注入層111を形成した。
次に、正孔注入層111上に、第1の正孔輸送層112−1として、BBABnfを20nmとなるように蒸着した後、第2の正孔輸送層112−2として、上記構造式(ii)で表される3,3’−(ナフタレン−1,4−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)(略称:PCzN2)を10nmとなるように蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(iii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(iv)で表されるN,N’−(ピレン−1,6−ジイル)ビス[(6,N−ジフェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)とを、重量比1:0.03(=cgDBCzPA:1,6BnfAPrn−03)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、cgDBCzPAを膜厚15nmとなるように蒸着した後、上記構造式(v)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚10nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、続いてアルミニウムを200nmの膜厚となるように蒸着することで第2の電極102を形成して本実施例の発光素子4を作製した。
(比較発光素子4の作製方法)
比較発光素子4は発光素子4において、正孔注入層111および第1の正孔輸送層112−1で使用したBBABnfを上記構造式(ix)で表されるN−(1,1’−ビフェニル−4−イル)−9,9−ジメチル−N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]−9H−フルオレン−2−アミン(略称:PCBBiF)に変えた他は、発光素子4と同様に作製した。
発光素子4および比較発光素子4の素子構造を以下の表にまとめる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
発光素子4および比較発光素子4を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、これら発光素子の初期特性及び信頼性について測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子4および比較発光素子4の輝度−電流密度特性を図35に、電流効率−輝度特性を図36に、輝度−電圧特性を図37に、電流−電圧特性を図38に、外部量子効率−輝度特性を図39に、発光スペクトルを図40に示す。また、各発光素子の1000cd/m付近における主要な特性を表8に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
図35乃至図39及び表8より、本発明の一態様である発光素子4は、比較発光素子4に比べてHOMO準位の深い正孔輸送材料を用いているため、PCzN2のように深いHOMO準位を持つ正孔輸送材料に対しても障壁なく正孔を注入できる。そのため、駆動電圧が低く、発光効率が良好な青色発光素子であることがわかった。
また、電流密度50mA/cmにおける駆動時間に対する輝度の変化を表すグラフを図41に示す。図41で示すように、本発明一態様の発光素子である発光素子4は、駆動時間の蓄積に伴う輝度低下が小さく、寿命の良好な発光素子であることがわかった。
≪素子実施例5≫
本実施例では、本発明の一態様の発光素子について説明する。本実施例の発光素子で用いた有機化合物の構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
(発光素子30の作製方法)
まず、ガラス基板上に、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法にて成膜し、第1の電極101を形成した。なお、その膜厚は110nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
次に、基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
次に、第1の電極101が形成された面が下方となるように、第1の電極101が形成された基板を真空蒸着装置内に設けられた基板ホルダーに固定し、第1の電極101上に、抵抗加熱を用いた蒸着法により上記構造式(i)で表されるN,N−ビス(4−ビフェニル)−6−フェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン−8−アミン(略称:BBABnf)と、NDP−9(分析工房株式会社、材料シリアル番号:1S20170124)とを、重量比で1:0.1(=BBABnf:NDP−9)となるように、10nm共蒸着して正孔注入層111を形成した。
次に、正孔注入層111上に、第1の正孔輸送層112−1として、BBABnfを10nmとなるように蒸着した後、第2の正孔輸送層112−2として、上記構造式(ii)で表される3,3’−(ナフタレン−1,4−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)(略称:PCzN2)を30nmとなるように蒸着して正孔輸送層112を形成した。
続いて、上記構造式(iii)で表される7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、上記構造式(iv)で表されるN,N’−(ピレン−1,6−ジイル)ビス[(6,N−ジフェニルベンゾ[b]ナフト[1,2−d]フラン)−8−アミン](略称:1,6BnfAPrn−03)とを、重量比1:0.03(=cgDBCzPA:1,6BnfAPrn−03)となるように25nm共蒸着して発光層113を形成した。
その後、発光層113上に、cgDBCzPAを膜厚15nmとなるように蒸着した後、上記構造式(v)で表される2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(略称:NBPhen)を膜厚10nmとなるように蒸着し、電子輸送層114を形成した。
電子輸送層114を形成した後、フッ化リチウム(LiF)を膜厚1nmとなるように蒸着して電子注入層115を形成し、続いてアルミニウムを200nmの膜厚となるように蒸着することで第2の電極102を形成して本実施例の発光素子30を作製した。
(発光素子50の作製方法)
発光素子50は発光素子30における第2の正孔輸送層112−2の膜厚を50nmとした他は、発光素子30と同様に作製した。
(発光素子70の作製方法)
発光素子70は発光素子30における第2の正孔輸送層112−2の膜厚を70nmとした他は、発光素子30と同様に作製した。
(発光素子80の作製方法)
発光素子80は発光素子30における第2の正孔輸送層112−2の膜厚を80nmとした他は、発光素子30と同様に作製した。
(発光素子90の作製方法)
発光素子90は発光素子30における第2の正孔輸送層112−2の膜厚を90nmとした他は、発光素子30と同様に作製した。
(発光素子100の作製方法)
発光素子100は発光素子30における第2の正孔輸送層112−2の膜厚を100nmとした他は、発光素子30と同様に作製した。
(発光素子110の作製方法)
発光素子110は発光素子30における第2の正孔輸送層112−2の膜厚を110nmとした他は、発光素子30と同様に作製した。
(発光素子130の作製方法)
発光素子130は発光素子30における第2の正孔輸送層112−2の膜厚を130nmとした他は、発光素子30と同様に作製した。
発光素子30乃至発光素子130を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素子が大気に曝されないようにガラス基板により封止する作業(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、80℃にて1時間熱処理)を行った後、これら発光素子の信頼性について測定を行った。なお、測定は室温で行った。
発光素子30乃至発光素子130の電流密度50mA/cmにおける駆動時間に対する輝度の変化を表すグラフを図42に示す。図42で示すように、本発明一態様の発光素子は、第2の正孔輸送層112−2の膜厚を厚膜化させても寿命に影響を及ぼさない発光素子であることがわかった。したがって、本発明の発光素子は、第2の正孔輸送層112−2の膜厚を変化させることで、発光素子内部の光路長を容易に調整することができる発光素子であることがわかった。
≪合成例1≫
本合成例では、本発明の一態様の発光素子における正孔注入層111の有機化合物として用いることが可能な物質である4−[4’−(カルバゾ−ル−9−イル)ビフェニル−4−イル]−4’,4’’−ジフェニルトリフェニルアミン(略称:YGTBi1BP)の合成方法について詳細に説明する。YGTBi1BPの構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
N,N−ジ(4−ビフェニル)−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)アニリン10g(20mmol)と、9−(4’−ブロモビフェニル−4−イル)カルバゾール8.0g(20mmol)、トリ(オルト−トリル)ホスフィン0.12g(0.40mmol)、30mLの炭酸カリウム水溶液(炭酸カリウム5.5g、40mmol)、トルエン120mL、エタノール40mLを、還流管を付けた200mL三口フラスコに入れ、混合し、混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。この混合物を60℃で加熱し、この混合物に酢酸パラジウム(II)44mg(0.20mmol)を加えた。この混合物を90℃で6時間撹拌した。得られた混合物を吸引ろ過した。得られたろ液に水を加え、水層と有機層を分離してから水層をトルエンにて抽出した。得られた抽出液と有機層を合わせて水と飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この混合物を自然濾過し、得られたろ液を濃縮して、淡褐色固体を得た。この固体を、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)(移動相:クロロホルム)により精製したところ、目的物の淡黄色固体を10g、収率70%で得た。
得られた10gの固体をトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、アルゴンを15mL/minで流しながら、圧力3.4Pa、365℃で上記固体を15時間加熱して行った。昇華精製後に目的物の淡黄色固体を8.7g、回収率87%で得た。本合成の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
得られた固体のH−NMRの数値データを以下に、H NMRチャートを図43(A)(B)に示す。なお、図43(B)は、図43(A)における7.1ppm~8.3ppmの範囲を拡大して表したチャートである。これにより、本合成例においてYGTBi1BPが得られたことがわかった。
H NMR(クロロホルム−d,500MHz):δ=8.17(d,J=7.5Hz,2H),7.88(d,J=8.5Hz,2H),7.78(d,J=,8.0Hz,2H),7.74(d,J=8.0Hz,2H),7.66(d,J=8.0Hz,2H),7.62−7.61(m,6H),7.55(d,J=8.5Hz,4H),7.50(d,J=8.0Hz,2H),7.46−7.43(m,6H),7.35−7.28(m,10H)
次に、YGTBi1BPのトルエン溶液および固体薄膜の紫外可視吸収スペクトル(以下、単に「吸収スペクトル」という)及び発光スペクトルを測定した。固体薄膜は石英基板上に真空蒸着法にて作製した。吸収スペクトルの測定には、紫外可視分光光度計(溶液:日本分光株式会社製、V−550、薄膜:(株)日立ハイテクノロジーズ製、U−4100)を用いた。なお溶液の吸収スペクトルは、石英セルにトルエンのみを入れて測定した吸収スペクトルを差し引いて算出し、薄膜の吸収スペクトルは、基板を含めた透過率と反射率から求めた吸光度(−log10 [%T/(100−%R)]より算出した。なお%Tは透過率、%Rは反射率を表す。また、発光スペクトルの測定には、蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製 FS920)を用いた。
得られたトルエン溶液の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図44に示す。また、固体薄膜の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図45に示す。
図44の結果より、YGTBi1BPのトルエン溶液では、351nm付近に吸収ピークが見られ、417nm(励起波長350nm)に発光波長のピークが見られた。また、図45の結果より、YGTBi1BPの固体薄膜では、356nm、296nm、245nm付近に吸収ピークが見られ、437nm付近(励起波長360nm)に発光波長のピークが見られた。
YGTBi1BPのHOMO準位およびLUMO準位をサイクリックボルタンメトリ(CV)測定を元に算出した。算出方法を以下に示す。
測定装置としては電気化学アナライザー(ビー・エー・エス(株)製、型番:ALSモデル600Aまたは600C)を用いた。CV測定における溶液は、溶媒として脱水ジメチルホルムアミド(DMF)((株)アルドリッチ製、99.8%、カタログ番号;22705−6)を用い、支持電解質である過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニウム(n−BuNClO)((株)東京化成製、カタログ番号;T0836)を100mmol/Lの濃度となるように溶解させ、さらに測定対象を2mmol/Lの濃度となるように溶解させて調製した。
また、作用電極としては白金電極(ビー・エー・エス(株)製、PTE白金電極)を、補助電極としては白金電極(ビー・エー・エス(株)製、VC−3用Ptカウンター電極(5cm))を、参照電極としてはAg/Ag電極(ビー・エー・エス(株)製、RE7非水溶媒系参照電極)をそれぞれ用いた。なお、測定は室温(20以上25℃以下)で行った。
また、CV測定時のスキャン速度は、0.1V/secに統一し、参照電極に対する酸化電位Ea[V]および還元電位Ec[V]を測定した。Eaは酸化−還元波の中間電位とし、Ecは還元−酸化波の中間電位とした。ここで、本実施例で用いる参照電極の真空準位に対するポテンシャルエネルギーは、−4.94[eV]であることが分かっているため、HOMO準位[eV]=−4.94−Ea、LUMO準位[eV]=−4.94−Ecという式から、HOMO準位およびLUMO準位をそれぞれ求めることができる。
この結果、YGTBi1BPのHOMO準位は−5.47eVであることがわかった。また、LUMO準位は−2.34eVであることがわかった。
また、CV測定を100回繰り返し行い、100サイクル目の測定での酸化−還元波と、1サイクル目の酸化−還元波のピーク強度を比較したところ、Ea測定においては83%、Ec測定においては83%を保っていたことから、YGTBi1BPは酸化及び還元に対する耐性が非常に良好な有機化合物であることが確認された。
なお、YGTBi1BPは、上記合成スキームと同様の条件で、下記合成スキームのように、ボラン化合物を4’−ブロモトリ(4−ビフェニリル)アミンに、ハロゲン化物を4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニルボロン酸に変えることでも合成することが可能である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
≪合成例2≫
本合成例では、本発明の一態様の発光素子における正孔注入層111の有機化合物として用いることが可能な物質である、4−[4’−(カルバゾール−9−イル)ビフェニル−4−イル]−4’−(2−ナフチル)−4’’−フェニルトリフェニルアミン(略称:YGTBiβNB)の合成方法について説明する。YGTBiβNBの構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
<ステップ1:N−[4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェニル]−(1,1’−ビフェニル)−4−アミンの合成>
6.4g(20mmol)のN−(4−ブロモフェニル)−4−ビフェニルアミンと、5.1g(20mmol)のビス(ピナコレート)ジボロンと、3.9g(40mmol)の酢酸カリウムと、100mLの1,4−ジオキサンを、還流管を付けた200mL三口フラスコに入れ、混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。得られた混合物に、0.16g(0.20mmol)の[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物を加えて7時間還流した。得られた混合物へ水を加え、水層と有機層を分離した後、水層をトルエンにて抽出した。得られた抽出液と有機層を合わせて水と飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この混合物を自然濾過し得られたろ液を濃縮し、褐色固体を得た。得られた固体を、エタノールを用いて再結晶したところ、淡褐色固体を3.2g、収率43%で得た。ステップ1の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
得られた固体のH NMRの数値データを以下に示す。これにより、本合成ステップにおいて目的化合物であるN−[4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェニル]−(1,1’−ビフェニル)−4−アミンが得られたことがわかった。
H NMR(クロロホルム−d,500MHz):δ=7.72(d,J=9.0Hz,2H),7.57(d,J=8.0Hz,2H),7.53(d,J=8.5Hz,2H),7.42(t,J=7.5Hz,2H),7.31(t,J=7.5Hz,1H),7.20(d,J=8.5Hz,2H),7.06(d,J=8.5Hz,2H),5.93(s,1H),1.34(s,12H)
<ステップ2:4−[4’−(カルバゾール−9−イル)ビフェニル−4−イル]−4’−ビフェニルアミンの合成>
ステップ1で得られた3.2g(8.6mmol)のN−[4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェニル]−(1,1’−ビフェニル)−4−アミンと、3.4g(8.6mmol)の9−(4’−ブロモ−4−ビフェニリル)カルバゾールと、52mg(0.17mmol)のトリ(オルト−トリル)ホスフィンと、10mLの炭酸カリウム水溶液(2.0mol/L)と、60mLのトルエンと、25mLのエタノールを、還流管を付けた容量200mLの三口フラスコに入れ、混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。得られた混合物に、24mg(0.11mmol)の酢酸パラジウム(II)を加えて11時間還流した。還流後、析出した固体を吸引ろ過で回収し、得られた固体をトルエンとエタノールと水を用いて洗浄したところ、灰色固体を4.6g、収率93%で得た。ステップ2の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
得られた固体のH NMRの数値データを以下に、H NMRチャートを図46(A)(B)に示す。なお、図46(B)は、図46(A)における5.8ppm~8.3ppmの範囲を拡大して表したチャートである。これにより、本合成ステップにおいて、目的化合物である4−[4’−(カルバゾール−9−イル)ビフェニル−4−イル]−4’−ビフェニルアミンが得られたことがわかった。
H NMR(クロロホルム−d,500MHz):δ=8.17(d,J=7.5Hz,2H),7.87(d,J=8.5Hz,2H),7.75(dd,J=9.5,8.0Hz,4H),7.66(d,J=8.0Hz,2H),7.63(d,J=8.5Hz,2H),7.59(d,J=7.0Hz,2H),7.56(d,J=8.0Hz,4H),7.50(d,J=8.5Hz,2H),7.45−7.42(m,4H),7.33−7.29(m,3H),7.24−7.21(m,4H),5.91(s,1H)
<ステップ3:4−[4’−(カルバゾール−9−イル)ビフェニル−4−イル]−4’−(2−ナフチル)−4’’−フェニルトリフェニルアミン(略称:YGTBiβNB)の合成>
ステップ2で得られた0.85g(1.5mmol)の4−[4’−(カルバゾール−9−イル)ビフェニル−4−イル]−4’−ビフェニルアミンと、0.43g(1.5mmol)の2−(4−ブロモフェニル)ナフタレンと、11mg(30μmol)のジ−tert−ブチル(1−メチル−2,2−ジフェニルシクロプロピル)ホスフィン(商品名:cBRIDP(登録商標))と、0.29g(3.0mmol)のナトリウム tert−ブトキシドと、100mLのトルエンを、還流管を付けた容量200mLの三口フラスコに入れ、混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。得られた混合物に、8mg(15μmol)のビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)を加え、この混合物を8時間還流した。得られた混合物へ水を加え、水層と有機層を分離した後、水層をトルエンにて抽出した。得られた抽出液と有機層を合わせて水と飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この混合物を自然濾過し得られたろ液を濃縮し、0.83gの褐色固体を得た。ステップ3の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
得られた0.83gの固体をトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、アルゴンを15mL/minで流しながら、圧力3.8Pa、345℃で固体を15時間加熱して行った。昇華精製後に目的物の淡黄色固体を0.49g、回収率59%で得た。
得られた固体のH NMRの数値データを以下に、H NMRチャートを図47(A)(B)に示す。なお、図47(B)は、図47(A)における7.2ppm~8.3ppmの範囲を拡大して表したチャートである。これにより、本合成例において、目的化合物であるYGTBiβNBが得られたことがわかった。
H NMR(クロロホルム−d,500MHz):δ=8.17(d,J=8.0Hz,2H),8.05(d,J=1.0Hz,1H),7.93−7.86(m,5H),7.79−7.75(m,5H),7.67(t,J=8.0Hz,4H),7.63−7.61(m,4H),7.56(d,J=8.5Hz,2H),7.52−7.42(m,8H),7.35−7.28(m,9H).
次に、YGTBiβNBのトルエン溶液および固体薄膜の吸収スペクトル及び発光スペクトルを測定した。測定方法、装置、条件に関しては、合成例1と同じであるため繰り返しの記載を省略する。
得られたトルエン溶液の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図48に示す。また、固体薄膜の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図49に示す。
図48の結果より、YGTBiβNBのトルエン溶液では、359nm付近に吸収ピークが見られ、419nm(励起波長350nm)に発光波長のピークが見られた。また、図49の結果より、YGTBiβNBの固体薄膜では、365nm、295nm、245nm付近に吸収ピークが見られ、437nm付近(励起波長360nm)に発光波長のピークが見られた。
YGTBiβNBのHOMO準位、LUMO準位をサイクリックボルタンメトリ(CV)測定を元に算出した。算出方法は合成例1と同様である。
この結果、YGTBiβNBのHOMO準位は−5.47eVであることがわかった。また、LUMO準位は−2.35eVであることがわかった。
また、CV測定を100回繰り返し行い、100サイクル目の測定での酸化−還元波と、1サイクル目の酸化−還元波のピーク強度を比較したところ、Ea測定においては85%、Ec測定においては95%のピーク強度を保っていたことから、YGTBiβNBは酸化及び還元に対する耐性が非常に良好であることが確認された。
≪合成例3≫
本合成例では、本発明の一態様の発光素子における正孔注入層111の有機化合物として用いることが可能な物質である、4,4’−ジフェニル−4’’−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BBAFLP)の合成方法について説明する。BBAFLPの構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
容量100mL三口フラスコに、1.62g(5.03mmol)のビス(4−ビフェニリル)アミンと、2.00g(5.03mmol)の9−(4−ブロモフェニル)−9−フェニルフルオレンと、0.97g(10.1mmol)のナトリウム tert−ブトキシドと29mg(0.050mmol)のビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)と31mg(0.10mmol)のトリス(o−トリル)ホスフィンと25mLのトルエンを入れた。この混合物を減圧しながら攪拌することで脱気し、フラスコ内を窒素置換した。この混合物を、窒素気流下、110℃で5.5時間攪拌した。この混合物を室温まで放冷後、トルエンを25ml加えた上で再加熱をして析出した固体を溶解させたあと、セライト/アルミナ/フロリジール/セライトで精製を行った。得られた濾液を濃縮したあと、酢酸エチルで再結晶を行い、目的の白色固体を2.61g、収率81%で得た。上記合成方法の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
得られた白色固体2.53gをトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、圧力2.4Pa、アルゴン流量10mL/minの条件において、275℃で加熱して行った。昇華精製後、BBAFLPの白色固体を1.29g、51%の回収率で得た。
得られた白色固体の核磁気共鳴分光法(H NMR)による分析結果を以下に示す。また、H NMRチャートを図50(A)(B)に示す。なお、図50(B)は、図50(A)における6.9ppm~7.9ppmの範囲を拡大して表したチャートである。この結果から、本合成例において、BBAFLPが得られたことがわかった。
H NMR(CDCl,500MHz):δ=7.00(d,J=8.6Hz,2H),δ=7.11(d,J=9.2Hz,2H),δ=7.16(d,J=8.6Hz,4H),δ=7.20−7.24(m,5H),δ=7.29(q,J=13.2Hz,7.5Hz,4H),δ=7.37(ddd,J=7.5Hz,1.1Hz,2H),δ=7.41−7.49(m,10H),δ=7.56(d,J=8.1Hz,4H),δ=7.77(d,J=7.5Hz,2H).
≪合成例4≫
本合成例では、本発明の一態様の発光素子における正孔注入層111の有機化合物として用いることが可能な物質である、4−[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]−4’,4’’−ジフェニルトリフェニルアミン(略称:BBAFLBi)の合成方法について説明する。なお、BBAFLBiの構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
<ステップ1:4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニルボロン酸の合成>
容量500mLの三口フラスコに、15.89g(40mmol)の9−(4−ブロモフェニル)−9−フェニル−9H−フルオレンを入れたあと、減圧することで脱気し、フラスコ内を窒素置換した。この容器内に脱水テトラヒドロフラン(略称:THF)を200ml加えた。この混合物を攪拌しながら約−78℃まで冷却したのち、1.59mol/Lのn−ブチルリチウムヘキサン溶液30mL(48mmol)を滴下し、−40℃まで昇温したのち1時間撹拌した。その後、脱水THFを50ml加えたあとで再び約−78℃まで冷却したのち、トリメチルボラートを6.4ml(57mmol)滴下した。この混合物を室温まで昇温したのち、16時間攪拌した。この溶液に水25mlと1規定の希塩酸30mlを加えて攪拌した後で水層と有機層を分離し、得られた有機層を飽和重曹水100mlで一回、飽和食塩水100mlで一回洗浄した。洗浄後、この溶液を硫酸マグネシウムにて乾燥し、濃縮したのちにトルエンで再結晶を行い、白色固体を10.1g、収率70%で得た。ステップ1の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
<ステップ2:BBAFLBiの合成>
容量200mLの三口フラスコに、2.53g(7mmol)の4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニルボロン酸と、3.34g(7mmol)の4−ブロモ−4’,4’’−ジフェニルトリフェニルアミンと、2.90g(7mmol)の炭酸カリウムと70mLのトルエンと12.5mLのエタノールと10.5mLの水を入れた。この混合物を減圧しながら攪拌することで脱気し、フラスコ内を窒素置換した。この混合物に15.7mg(0.07mmol)の酢酸パラジウムと42.2mg(0.07mmol)のトリス(o−トリル)ホスフィンを加え、窒素気流下、85℃で6時間攪拌した。この混合物を室温まで放冷後、析出した固体をろ別したあと、得られた溶液(ろ液)を水100mlで二回、飽和食塩水50mlで一回洗浄したのち、硫酸マグネシウムにて水分を取り除いた。これと先程反応後に濾別した固体とあわせ、トルエンを300ml加えた上で加熱をして固体を溶解させたあと、セライト/アルミナ/フロリジール/セライトで精製を行った。得られたろ液を濃縮したあと、エタノールを加えて再結晶を行い、白色固体を4.54g、収率89%で得た。ステップ2の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
得られた白色固体4.39gをトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、圧力3.5Pa、アルゴン流量15mL/minの条件において、320℃で加熱して行った。昇華精製後、BBAFLBiの白色固体を2.73g、62%の回収率で得た。
得られた白色固体の核磁気共鳴分光法(H NMR)による分析結果を下記に示す。また、H NMRチャートを図51(A)(B)に示す。なお、図51(B)は、図51(A)における6.9ppm~7.9ppmの範囲を拡大して表したチャートである。この結果から、本合成例において、BBAFLBiが得られたことがわかった。
H NMR(CDCl,500MHz):δ=7.17−7.28(m,13H),δ=7.31(dd,J=12.6Hz,7.4Hz,4H),δ=7.37(dd,J=7.5Hz,1.1Hz,4H),δ=7.40−7.47(m,10H),δ=7.51(d,J=8.6Hz,4H)δ=7.58(d,J=8.1Hz,4H)δ=7.78(d,J=7.4Hz,2H).
≪合成例5≫
本合成例では、本発明の一態様の発光素子における正孔注入層111の有機化合物として用いることが可能な物質である、4,4’−ジフェニル−3’’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:mBBAFLP)の合成方法について説明する。なお、mBBAFLPの構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
容量300mLの三口フラスコに、2.67g(8.31mmol)のビス(4−ビフェニリル)アミンと、3.00g(7.55mmol)の9−(3−ブロモフェニル)−9−フェニルフルオレンと、1.88g(16.8mmol)のナトリウム tert−ブトキシドと40mLのトルエンを入れた。この混合物を減圧しながら攪拌することで脱気し、フラスコ内を窒素置換した。この混合物に0.2mLのトリ−tert−ブチルホスフィン(10wt%ヘキサン溶液)と45mg(0.078mmol)のビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)を加え、窒素気流下、110℃で3時間攪拌した。攪拌後、混合物を室温まで冷やし、固形物を濾別した。得られた濾液をセライト、フロリジールを通して吸引濾過した。濾液を濃縮し、エタノールを加え、再結晶を行った。得られた白色結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:トルエン)により精製し、目的の白色固体を4.58g、収率95%で得た。上記合成方法の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
得られた白色固体2.00gをトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、圧力2.9Pa、アルゴン流量5mL/minの条件において、270℃で加熱して行った。昇華精製後、mBBAFLPの白色固体を1.87g、94%の回収率で得た。
得られた白色固体の核磁気共鳴分光法(H NMR)による分析結果を下記に示す。また、H NMRチャートを図52(A)(B)に示す。なお、図52(B)は、図52(A)における6.5ppm~8.0ppmの範囲を拡大して表したチャートである。この結果から、本合成例によってmBBAFLPが得られたことがわかった。
H NMR(CDCl,500MHz):δ=6.75(d,J=8.0Hz,1H),δ=6.99(d,J=7.0Hz,1H),δ=7.07(q,J=7.7Hz,1H),δ=7.13−7.20(m,11H),δ=7.23(d,J=7.5Hz,1H)δ=7.34(t,J=8.0Hz,6H),δ=7.42(s,1H),δ=7.45(t,J=8.3Hz,7H),δ=7.57(d,J=7.5,4H),δ=7.74(d,J=7.5,2H).
≪合成例6≫
本合成例では、本発明の一態様の発光素子における正孔注入層111の有機化合物として用いることが可能な物質である、4−[3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]−4’,4’’−ジフェニルトリフェニルアミン(略称:mpBBAFLBi)の合成方法について説明する。なお、mpBBAFLBiの構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
200mLの3口フラスコに9−(3−ブロモフェニル)−9−フェニル−9H−フルオレン2.0g(5.0mmol)、2−{4−[ジ(4−ビフェニルイル)アミノ]フェニル}−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン2.6g(5.0mmol)、トリ(オルト−トリル)ホスフィン30mg(0.10mmol)、炭酸カリウム2.8g(20mmol)を加え、フラスコ内を窒素置換した。この混合物にトルエン15mL、エタノール10mL、水10mLを加え、減圧下で攪拌する事で脱気した。この混合物に酢酸パラジウム(II)11mg(0.050mmol)を加え、窒素気流下、80℃で2時間攪拌した。
撹拌後、この混合物を吸引濾過して固体を回収した。この固体を熱したトルエンに溶解し、セライト・アルミナ・フロリジールを通して吸引濾過した。ろ液を濃縮して得られた固体をトルエンで再結晶した所、目的物の白色固体を収量2.7g、収率74%で得た。上記合成方法の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
得られた白色固体2.6gをトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、圧力3.5Pa、アルゴン流量5.0mL/minの条件で、白色固体を280℃で加熱して行った。昇華精製後、淡黄色固体を2.3g、回収率88%で得た。
得られた淡黄色固体の核磁気共鳴分光法(H NMR)による分析結果を下記に示す。また、H NMRチャートを図53(A)(B)に示す。なお、図53(B)は、図53(A)における7.0ppm~8.0ppmの範囲を拡大して表したチャートである。この結果から、本合成例において、mpBBAFLBiが得られたことがわかった。
H NMR(DMSO,300MHz):δ=7.06−7.49(m、29H),7.59−7.64(m,8H),7.90(d,J=7.8Hz,2H).
次に、mpBBAFLBiのトルエン溶液および固体薄膜の吸収スペクトル及び発光スペクトルを測定した。測定方法、装置、条件に関しては、合成例1と同じであるため繰り返しの記載を省略する。
得られたトルエン溶液の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図54に示す。また、固体薄膜の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図55に示す。
図54の結果より、mpBBAFLBiのトルエン溶液では、348nm付近に吸収ピークが見られ、394nm(励起波長353nm)に発光波長のピークが見られた。また、図55の結果より、mpBBAFLBiの固体薄膜では、352nm、313nm付近に吸収ピークが見られ、414nm付近(励起波長355nm)に発光波長のピークが見られた。
mpBBAFLBiのHOMO準位、LUMO準位をサイクリックボルタンメトリ(CV)測定を元に算出した。算出方法は合成例1と同様である。
この結果、mpBBAFLBiのHOMO準位は−5.49eVであることがわかった。また、LUMO準位は−2.12eVであることがわかった。
また、CV測定を100回繰り返し行い、100サイクル目の測定での酸化−還元波と、1サイクル目の酸化−還元波のピーク強度を比較したところ、Ea測定においては85%、Ec測定においては93%を保っていたことから、mpBBAFLBiは酸化及び還元に対する耐性が非常に良好な有機化合物であることが確認された。
≪合成例7≫
本合成例では、本発明の一態様の発光素子における正孔注入層111の有機化合物として用いることが可能な物質である、4−(4−ビフェニリル)−4’−(2−ナフチル)−4’’−フェニルトリフェニルアミン(略称:TPBiAβNB)の合成方法について説明する。TPBiAβNBの構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
<ステップ1;N−(1,1’−ビフェニル)−4−イル−(1,1’:4’,1’’−ターフェニル)−4−4−アミンの合成>
3.2g(10mmol)のN−(4−ブロモフェニル)−4−ビフェニルアミンと、2.5g(10mmol)の4−ビフェニルボロン酸と、61mg(0.20mmol)のトリ(オルト−トリル)ホスフィンと、10mLの炭酸カリウム水溶液(2.0mol/L)と、70mLのトルエンと、30mLのエタノールを、還流管を付けた200mLの三口フラスコに入れ、混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。得られた混合物に、22mg(0.10mol)の酢酸パラジウム(II)を加えて3時間還流した。撹拌後、析出した固体を吸引ろ過で回収し、得られた固体をトルエンとエタノールと水を用いて洗浄したところ、褐色固体を2.69g、収率86%で得た。ステップ1の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
<ステップ2:4−(4−ビフェニリル)−4’−(2−ナフチル)−4’’−フェニルトリフェニルアミン(略称:TPBiAβNB)の合成>
ステップ1で得られた1.5g(2.7mmol)のN−(1,1’−ビフェニル)−4−イル−(1,1’:4’,1’’−ターフェニル)−4−4−アミンと、0.75g(2.7mmol)の2−(4−ブロモフェニル)ナフタレンと、18mg(0.053mmol)のジ−tert−ブチル(1−メチル−2,2−ジフェニルシクロプロピル)ホスフィンと、0.51g(5.3mmol)ナトリウム tert−ブトキシドと、トルエン100mLを、還流管を付けた200mL三口フラスコに入れ、混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。得られた混合物に、15mg(0.027mmol)のビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)を加え、この混合物を8時間還流した。得られた混合物へ水を加え、水層と有機層を分離した後、水層をトルエンにて抽出した。得られた抽出液と有機層を合わせて水と飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この混合物を自然濾過し得られたろ液を濃縮し、1.1gの褐色固体を得た。ステップ2の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
得られた1.1gの固体をトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、アルゴンを15mL/minで流しながら、圧力3.7Pa、300℃で固体を15時間加熱して行った。昇華精製後に目的物の淡黄色固体を620mg、回収率56%で得た。
得られた固体の数値データを以下に、H NMRチャートを図56(A)(B)に示す。なお、図56(B)は、図56(A)における7.2ppm~8.3ppmの範囲を拡大して表したチャートである。これにより、本合成例において、目的化合物であるTPBiAβNBが得られたことがわかった。
H NMR(クロロホルム−d,500MHz):δ=8.04(d,J=1.5Hz,1H),7.91(d,J=8.5Hz,1H),7.89(d,J=9.5Hz,1H),7.86(d,J=8.0Hz,1H),7.77(dd,J=4.0Hz,1.5Hz,1H),7.70−7.65(m,8H),7.62−7.58(m,4H),7.55(d,J=9.0Hz,2H),7.52−7.43(m,6H),7.38−7.27(m,8H)
次に、TPBiAβNBのトルエン溶液および固体薄膜の吸収スペクトル及び発光スペクトルを測定した。測定方法、装置、条件に関しては、合成例1と同じであるため繰り返しの記載を省略する。
得られたトルエン溶液の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図57に示す。また、固体薄膜の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図58に示す。
図57の結果より、TPBiAβNBのトルエン溶液では、357nm付近に吸収ピークが見られ、409nm(励起波長357nm)に発光波長のピークが見られた。また、図58の結果より、TPBiAβNBの固体薄膜では、364nm、280nm、253nm付近に吸収ピークが見られ、430nm付近(励起波長370nm)に発光波長のピークが見られた。
TPBiAβNBのHOMO準位、LUMO準位をサイクリックボルタンメトリ(CV)測定を元に算出した。算出方法は合成例1と同様である。
この結果、TPBiAβNBのHOMO準位は−5.47eV、LUMO準位は−2.29eVであることがわかった。
また、CV測定を100回繰り返し行い、100サイクル目の測定での酸化−還元波と、1サイクル目の酸化−還元波のピーク強度を比較したところ、Ea測定においては89%、Ec測定においては98%のピーク強度を保っていたことから、TPBiAβNBは酸化及び還元に対する耐性が非常に良好であることが確認された。
≪合成例8≫
本合成例では、本発明の一態様の発光素子における正孔注入層111の有機化合物として用いることが可能な物質である、4−(4−ビフェニリル)−4’−{4−(2−ナフチル)フェニル}−4’’−フェニルトリフェニルアミン(略称:TPBiAβNBi)の合成方法について説明する。TPBiAβNBiの構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
<ステップ1:N−(1,1’−ビフェニル)−4−イル−(1,1’:4’,1’−ターフェニル)−4−4−アミンの合成>
2.4g(7.4mmol)のN−(4−ブロモフェニル)−4−ビフェニルアミンと、1.5g(7.4mmol)の4−ビフェニルボロン酸と、47mg(0.15mmol)のトリ(オルト−トリル)ホスフィンと、7mLの炭酸カリウム水溶液(2.0mol/L)と、60mLのトルエンと、20mLのエタノールを、還流管を付けた200mL三口フラスコに入れ、混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。得られた混合物に、16mg(74μmol)の酢酸パラジウム(II)を加えて3時間還流した。撹拌後、析出した固体を吸引ろ過で回収し、得られた固体をトルエンとエタノールと水を用いて洗浄したところ、目的物の灰色固体を2.94g、収率99%以上で得た。ステップ2の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
<ステップ2:2−(4−クロロ−ビフェニル−4−イル)ナフタレンの合成>
2.4g(10mmol)の1−クロロ−4−ヨードベンゼンと、2.5g(10mmol)の4−(2−ナフチル)フェニルボロン酸と、61mg(0.20mmol)のトリ(オルト−トリル)ホスフィンと、20mLの炭酸カリウム水溶液(2.0mol/L)、70mLのトルエン、30mLのエタノールを、還流管を付けた200mL三口フラスコに入れ、溶媒の減圧脱気をしたあとに内部を窒素置換した。60℃に加熱した後、酢酸パラジウム22mg(0.10mmol)を加え、50℃で3時間撹拌することで反応させた。撹拌後、析出した固体を吸引ろ過で回収し、トルエン、水、エタノールを用いて洗浄したところ、褐色固体を2.7g、収率86%で得た。ステップ2の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
得られた褐色固体の数値データを以下に示す。これにより、本合成ステップによって2−(4−クロロ−ビフェニル−4−イル)ナフタレンが得られたことがわかった。
H NMR(ジクロロメタン−d,500MHz):δ=8.13(s,1H),7.96(d,J=9.5Hz,1H),7.94(d,J=9.5Hz,1H),7.89(d,J=7.0Hz,1H),7.85−7.81(m,3H),7.72(d,J=8.0Hz,2H),7.64(d,J=8.5Hz,2H),7.55−7.49(m,2H),7.46(d,J=8.0Hz,2H)
<ステップ3:4−(4−ビフェニリル)−4’−{4−(2−ナフチル)フェニル}−4’’−フェニルトリフェニルアミン(略称:TPBiAβNBi)の合成>
ステップ1で得られた2.94g(7.4mmol)のN−(1,1’−ビフェニル)−4−イル−(1,1’:4’,1’’−ターフェニル)−4−4−アミンと、ステップ2で得られた2.32g(7.4mmol)の2−(4−クロロ−ビフェニル−4−イル)ナフタレンと、52mg(0.15mmol)のジ−tert−ブチル(1−メチル−2,2−ジフェニルシクロプロピル)ホスフィン(商品名:cBRIDP(登録商標))と、1.4g(15mmol)ナトリウム tert−ブトキシドと、140mLのキシレンを、還流管を付けた200mL三口フラスコに入れ、混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。得られた混合物に、43mg(74μmol)のビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)を加え、この混合物を5時間還流した。撹拌後、析出した固体を吸引ろ過で回収し、トルエン、水、エタノールを用いて洗浄したところ、灰色固体を3.8g得た。ステップ3の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
得られた3.8gの固体をトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、アルゴンを15mL/minで流しながら、圧力3.8Pa、335℃で固体を15時間加熱して行った。昇華精製後に目的物の淡黄色固体を2.8g、回収率74%で得た。
得られた固体の数値データを以下に、H NMRチャートを図59(A)(B)に示す。なお、図59(B)は、図59(A)における7.2ppm~8.3ppmの範囲を拡大して表したチャートである。これにより、本合成例において、目的化合物であるTPBiAβNBiが得られたことがわかった。
H NMR(クロロホルム−d,500MHz):δ=8.10(d,J=1.5Hz,1H),7.94(d,J=9.0Hz,1H),7.92(d,J=7.5Hz,1H),7.88(d,J=7.5Hz,1H),7.82−7.80(m,3H),7.73(d,J=8.5Hz,2H),7.68(s,4H),7.66(d,J=7.0Hz,2H),7.62−7.58(m,6H),7.55(d,J=8.5Hz,2H),7.52−7.43(m,6H),7.36(t,J=7.0Hz,1H),7.33(t,J=7.0Hz,1H),7.29−7.27(m,6H).
次に、TPBiAβNBiのトルエン溶液および固体薄膜の吸収スペクトル及び発光スペクトルを測定した。測定方法、装置、条件に関しては、合成例1と同じであるため繰り返しの記載を省略する。
得られたトルエン溶液の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図60に示す。また、固体薄膜の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図61に示す。
図60の結果より、TPBiAβNBiのトルエン溶液では、359nm付近に吸収ピークが見られ、420nm(励起波長410nm)に発光波長のピークが見られた。また、図61の結果より、TPBiAβNBiの固体薄膜では、368nm、295nm、272nm付近に吸収ピークが見られ、439nm付近(励起波長370nm)に発光波長のピークが見られた。
TPBiAβNBiのHOMO準位、LUMO準位をサイクリックボルタンメトリ(CV)測定を元に算出した。算出方法は合成例1と同様である。
この結果、TPBiAβNBiのHOMO準位は−5.47eV、LUMO準位は−2.38eVであることがわかった。
また、CV測定を100回繰り返し行い、100サイクル目の測定での酸化−還元波と、1サイクル目の酸化−還元波のピーク強度を比較したところ、Ea測定においては83%、Ec測定においては95%のピーク強度を保っていたことから、TPBiAβNBiは酸化及び還元に対する耐性が非常に良好であることが確認された。
≪合成例9≫
本合成例では、本発明の一態様の発光素子における正孔注入層111の有機化合物として用いることが可能な物質である、4,4’−ジフェニル−4’’−(7−フェニル)ナフチル−2−イルトリフェニルアミン(略称:BBAPβNB−03)の合成方法について説明する。BBAPβNB−03の構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
<ステップ1:7−ブロモ−2−フェニルナフタレンの合成>
3.8g(13mmol)の2,7−ジブロモナフタレンと、2.3g(13mmol)のフェニルボロン酸と、81mg(27μmol)のトリ(オルト−トリル)ホスフィンと、65mLのトルエンと、30mLのエタノールと、15mLの2M 炭酸カリウム水溶液(2.0mmol/L)を、200mL三口フラスコに入れ、この混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。その後、酢酸パラジウム30mg(0.13mmol)を加え、室温で3時間撹拌した。得られた反応混合物中に析出した固体を吸引ろ過にて除去した。得られたろ液に水を加え、水層と有機層を分離した後、トルエンにて水層を抽出した。得られた抽出液と有機層を合わせて水と飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた混合物を自然ろ過した後に濃縮し、得られた残渣を高速液体クロマトグラフィー(移動相:クロロホルム)にて精製した。目的化合物の白色固体を収量2.3g、収率52%で得た。ステップ1の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
<ステップ2:4,4’−ジフェニル−4’’−(7−フェニル)ナフチル−2−イルトリフェニルアミン(略称:BBAPβNB−03)の合成>
ステップ1で得られた1.8g(6.5mmol)の7−ブロモ−2−フェニルナフタレンと、3.5g(6.5mmol)のN,N−ジ(4−ビフェニル)−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)アニリンと、40mg(0.13mmol)のトリ(オルト−トリル)ホスフィンと、6.5mLの炭酸カリウム水溶液(2.0mol/L)と、60mLのトルエンと、35mLのエタノールを、還流管を付けた200mL三口フラスコに入れ、混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。得られた混合物に、14mg(65μmol)の酢酸パラジウム(II)を加えて4時間還流した。撹拌後、析出した固体を吸引ろ過で除去した。得られたろ液へ水を加え、水層と有機層を分離した後、水層をトルエンにて抽出した。得られた抽出液と有機層を合わせて水と飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。この混合物を自然濾過し得られたろ液を濃縮し、2.1gの褐色固体を得た。ステップ2の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
得られた1.9gの褐色固体をトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、アルゴンを15mL/minで流しながら、圧力4.1Pa、280℃で固体を24時間加熱して行った。昇華精製後に目的物の淡黄色固体を1.1g、回収率51%で得た。
得られた固体の数値データを以下に、H NMRチャートを図62(A)(B)に示す。なお、図62(B)は、図62(A)における7.2ppm~8.3ppmの範囲を拡大して表したチャートである。これにより、本合成例において、目的化合物であるBBAPβNB−03が得られたことがわかった。
H NMR(ジクロロメタン−d,500MHz):δ=8.13(d,J=2.0Hz,2H),7.95(d,J=8.5Hz,2H),7.80−7.76(m,4H),7.72(d,J=9.0Hz,2H),7.62(d,J=8.0Hz,4H),7.57(d,J=8.5Hz,4H),7.50(t,J=8.0Hz,2H),7.44(t,J=8.0Hz,4H),7.40(t,J=7.5Hz,1H),7.33(t,J=7.5Hz,2H),7.29(d,J=8.5Hz,2H),7.26(d,J=8.5Hz,4H)
次に、BBAPβNB−03のトルエン溶液および固体薄膜の吸収スペクトル及び発光スペクトルを測定した。測定方法、装置、条件に関しては、合成例1と同じであるため繰り返しの記載を省略する。
得られたトルエン溶液の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図63に示す。また、固体薄膜の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図64に示す。
図63の結果より、BBAPβNB−03のトルエン溶液では、352nm付近に吸収ピークが見られ、409nm(励起波長352nm)に発光波長のピークが見られた。また、図64の結果より、BBAPβNB−03の固体薄膜では、359nm、259nm、211nm付近に吸収ピークが見られ、430nm付近(励起波長360nm)に発光波長のピークが見られた。
BBAPβNB−03のHOMO準位、LUMO準位をサイクリックボルタンメトリ(CV)測定を元に算出した。算出方法は合成例1と同様である。
この結果、BBAPβNB−03のHOMO準位は−5.47eV、LUMO準位は−2.33eVであることがわかった。
また、CV測定を100回繰り返し行い、100サイクル目の測定での酸化−還元波と、1サイクル目の酸化−還元波のピーク強度を比較したところ、Ea測定においては91%、Ec測定においては85%のピーク強度を保っていたことから、BBAPβNB−03は酸化及び還元に対する耐性が非常に良好であることが確認された。
≪合成例10≫
本合成例では、本発明の一態様の発光素子における正孔注入層111の有機化合物として用いることが可能な物質である、4’−[4−(3−フェニル−9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]トリス(1,1’−ビフェニル−4−イル)アミン(略称:YGTBi1BP−02)の合成方法について説明する。YGTBi1BP−02の構造式を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
<ステップ1:4’−(4−クロロフェニル)トリス(1,1’−ビフェニル−4−イル)アミンの合成>
200mL三つ口フラスコへ8.8g(17mmol)の2−{4−[ジ(4−ビフェニリル)アミノ]フェニル}−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロランと、4.5g(17mmol)の4−ブロモ−4’−クロロビフェニルと、0.15g(0.50mmol)のトリ(オルト−トリル)ホスフィンと、25mLの炭酸カリウム水溶液(2.0mmol/L)と、トルエン128mL、エタノール32mLを入れ、この混合物の減圧脱気をした後、フラスコ内を窒素置換した。この混合物へ39mg(0.17mmol)の酢酸パラジウム(II)を加え、60℃で9.5時間撹拌した。撹拌後、析出した固体を吸引ろ過で回収し、得られた固体をトルエン、エタノール、水を用いて洗浄した。洗浄した固体を熱トルエンに溶解し、得られた溶液をアルミナ、フロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:066−05265)、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:537−02305)を通してろ過し、ろ液を放冷したところ、白色固体が析出した。この白色固体を吸引ろ過により回収したところ目的物を6.1g得た。ろ液を濃縮して得た単黄色固体をトルエンにより再結晶したところ、白色固体を3.4g得た。併せて9.5g、収率95%で白色固体を得た。ステップ1の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
<ステップ2:4’−[4−(3−フェニル−9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]トリス(1,1’−ビフェニル−4−イル)アミン(略称:YGTBi1BP−02)の合成>
200mL三口フラスコに、ステップ1で得られた2.0g(3.4mmol)の4’−(4−クロロフェニル)トリス(1,1’−ビフェニル−4−イル)アミンと、0.83g(3.4mmol)の3−フェニル−9H−カルバゾールと、36mg(0.10mmol)のジ−tert−ブチル(2,2−ジフェニル−1−メチル−1−シクロプロピル)ホスフィン(略称:cBRIDP)と、0.99g(10mmol)のナトリウム tertブトキシドと、35mLのメシチレンを入れ、この混合物の減圧脱気をした後、系内を窒素置換した。この混合物へ21mg(34μmol)のビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(II)を加え、この混合物を120℃で8.5時間撹拌した。撹拌後、薄層クロマトグラフィーで反応を確認したところ原料が残っていたので、この混合物へ37mg(0.10mmol)のcBRIDPと、20mg(33μmol)のビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(II)を加えてから150℃で6時間加熱撹拌した。加熱後、得られた混合物へトルエンと水を加えて撹拌後、この混合物の有機層を水と飽和食塩水を用いて洗浄した。得られた有機層を、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。この混合物を自然ろ過し、ろ液を濃縮したところ褐色固体を得た。得られた固体をトルエンに溶かし、この溶液をアルミナ、フロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:066−05265)、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:537−02305)を通してろ過し、得られたろ液を濃縮したところ、黄褐色固体を得た。この固体をトルエンで再結晶したところ、目的物の黄色固体を1.9g、収率69%で得た。ステップ2の合成スキームを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
得られた固体のH NMRデータを図65に、数値データを以下に示す。これにより、4’−[4−(3−フェニル−9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]トリス(1,1’−ビフェニル−4−イル)アミン(略称:YGTBi1BP−02)が得られたことがわかった。
H NMR(ジクロロメタン−d2,500MHz):δ=7.24(d,J=7.0Hz,3H),7.26(d,J=7.0Hz,3H),7.30−7.35(m,4H),7.41−7.52(m,8H),7.56(dt,J1=8.5Hz,J2=1.5Hz,5H),7.63(d,J=8.5Hz,4H),7.63(d,J=8.5Hz,2H),7.69−7.71(m,3H),7.73−7.76(m,4H),7.80(d,J=8.5Hz,2H),7.92(dt,J1=8.0Hz,J2=1.5Hz,2H),8.21(d,J=7.5Hz,1H),8.39(sd,J=1.0Hz,1H)
得られた固体1.9gの昇華精製を行なった。昇華精製は、圧力1.9×10−3Paの条件で、固体を370℃に加熱して行った。昇華精製後、目的化合物の黄色固体を収量0.74g、回収率40%で得た。
次に、YGTBi1BP−02のトルエン溶液および固体薄膜の吸収スペクトル及び発光スペクトルを測定した。測定方法、装置、条件に関しては、合成例1と同じであるため繰り返しの記載を省略する。
得られたトルエン溶液の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図66に示す。また、固体薄膜の吸収スペクトルおよび発光スペクトルの測定結果を図67に示す。
図66の結果より、YGTBi1BP−02のトルエン溶液は353nm付近に吸収ピークが見られ、発光波長のピークは419nm(励起波長353nm)であった。また、図67より、YGTBi1BP−02の固体薄膜は356nm、290nm、251nm、207nm付近に吸収ピークが見られ、発光波長のピークは439nm、453nm付近(励起波長370nm)に見られた。この結果から、YGTBi1BP−02が青色に発光することを確認し、発光物質や可視域の蛍光発光物質のホストとしても利用可能であることがわかった。
YGTBi1BP−02のHOMO準位、LUMO準位をサイクリックボルタンメトリ(CV)測定を元に算出した。算出方法は合成例1と同様である。
この結果、YGTBi1BP−02のHOMO準位は−5.47eV、LUMO準位は−2.35eVであることがわかった。
また、CV測定を100回繰り返し行い、100サイクル目の測定での酸化−還元波と、1サイクル目の酸化−還元波のピーク強度を比較したところ、Ea測定においては88%、Ec測定においては96%のピーク強度を保っていたことから、YGTBi1BP−02は酸化及び還元に対する耐性が非常に良好であることが確認された。
また、YGTBi1BP−02の示差走査熱量測定(Differential scanning calorimetry:DSC)を、パーキンエルマー社製、Pyris1DSCを用いて測定した。示差走査熱量測定は、昇温速度40℃/minにて、−10℃から360℃まで昇温した後、同温度で3分間保持してから降温速度100℃/minにて−10℃まで冷却し、−10℃で3分間保持する操作を2回連続で行った。2サイクル目のDSC測定結果から、YGTBi1BP−02のガラス転移点は142℃であることが明らかとなり、非常に高い耐熱性を有する物質であることが示された。
また、YGTBi1BP−02の熱重量測定−示差熱分析(Thermogravimetry−Differential Thermal Analysis:TG−DTA)を行った。測定には高真空差動型示差熱天秤(ブルカー・エイエックスエス株式会社製、TG−DTA2410SA)を用いた。測定は、大気圧において、昇温速度10℃/min、窒素気流下(流速200mL/min)の条件で行った。熱重量測定−示差熱分析においてYGTBi1BP−02は、熱重量測定から求めた重量が測定開始時の−5%となる温度(分解温度)が500℃以上であることがわかり、高い耐熱性を有する物質であることが示された。
101:第1の電極、102:第2の電極、103:EL層、111:正孔注入層、112:正孔輸送層、112−1:第1の正孔輸送層、112−2:第2の正孔輸送層、113:発光層、114:電子輸送層、115:電子注入層、116:電荷発生層、117:P型層、118:電子リレー層、119:電子注入バッファ層、400:基板、401:第1の電極、403:EL層、404:第2の電極、405:シール材、406:シール材、407:封止基板、412:パッド、420:ICチップ、501:陽極、502:陰極、511:第1の発光ユニット、512:第2の発光ユニット、513:電荷発生層、601:駆動回路部(ソース線駆動回路)、602:画素部、603:駆動回路部(ゲート線駆動回路)、604:封止基板、605:シール材、607:空間、608:配線、609:FPC(フレキシブルプリントサーキット)、610:素子基板、611:スイッチング用FET、612:電流制御用FET、613:第1の電極、614:絶縁物、616:EL層、617:第2の電極、618:発光素子、951:基板、952:電極、953:絶縁層、954:隔壁層、955:EL層、956:電極、1001 基板、1002 下地絶縁膜、1003 ゲート絶縁膜、1006 ゲート電極、1007 ゲート電極、1008 ゲート電極、1020 第1の層間絶縁膜、1021 第2の層間絶縁膜、1022 電極、1024W 第1の電極、1024R 第1の電極、1024G 第1の電極、1024B 第1の電極、1025 隔壁、1028 EL層、1029 第2の電極、1031 封止基板、1032 シール材、1033 透明な基材、1034R 赤色の着色層、1034G 緑色の着色層、1034B 青色の着色層、1035 ブラックマトリクス、1036 オーバーコート層、1037 第3の層間絶縁膜、1040 画素部、1041 駆動回路部、1042 周辺部、2001:筐体、2002:光源、2100:ロボット、2110:演算装置、2101:照度センサ、2102:マイクロフォン、2103:上部カメラ、2104:スピーカ、2105:ディスプレイ、2106:下部カメラ、2107:障害物センサ、2108:移動機構、3001:照明装置、5000:筐体、5001:表示部、5002:第2の表示部、5003:スピーカ、5004:LEDランプ、5005:操作キー、5006:接続端子、5007:センサ、5008:マイクロフォン、5012:支持部、5013:イヤホン、5100:掃除ロボット、5101:ディスプレイ、5102:カメラ、5103:ブラシ、5104:操作ボタン、5150:携帯情報端末、5151:筐体、5152:表示領域、5153:屈曲部、5120:ゴミ、5200:表示領域、5201:表示領域、5202:表示領域、5203:表示領域、7101:筐体、7103:表示部、7105:スタンド、7107:表示部、7109:操作キー、7110:リモコン操作機、7201:本体、7202:筐体、7203:表示部、7204:キーボード、7205:外部接続ポート、7206:ポインティングデバイス、7210:第2の表示部、7401:筐体、7402:表示部、7403:操作ボタン、7404:外部接続ポート、7405:スピーカ、7406:マイク、7400:携帯電話機、9310:携帯情報端末、9311:表示パネル、9312:表示領域、9313:ヒンジ、9315:筐体

Claims (22)

  1. 陽極と、
    陰極と、
    前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、
    前記有機化合物を含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、第2の層と、発光層とを有し、
    前記第1の層は、第1の物質と、第2の物質とを有し、
    前記第2の層は、第3の物質を有し、
    前記第1の物質は、そのHOMO準位が−5.8eV以上−5.4eV以下である有機化合物であり、
    前記第2の物質は、前記第1の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、
    前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子。
  2. 陽極と、
    陰極と、
    前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、
    前記有機化合物を含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、第2の層と、発光層とを有し、
    前記第1の層は、第1の物質と、第2の物質とを有し、
    前記第2の層は、第3の物質を有し、
    前記第1の物質が、ジベンゾフラン環またはジベンゾチオフェン環を含む置換基を有する芳香族アミンであり、
    前記第2の物質は、前記第1の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、
    前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子。
  3. 陽極と、
    陰極と、
    前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、
    前記有機化合物を含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、第2の層と、発光層とを有し、
    前記第1の層は、第1の物質と、第2の物質とを有し、
    前記第2の層は、第3の物質を有し、
    前記第1の物質が、ナフタレン環を有する芳香族モノアミンであり、
    前記第2の物質は、前記第1の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、
    前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子。
  4. 陽極と、
    陰極と、
    前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、
    前記有機化合物を含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、第2の層と、発光層とを有し、
    前記第1の層は、第1の物質と、第2の物質とを有し、
    前記第2の層は、第3の物質を有し、
    前記第1の物質が、9−フルオレニル基がアリーレン基を介して窒素に結合する芳香族モノアミンであり、
    前記第2の物質は、前記第1の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、
    前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一項において、
    前記第1の物質がN,N−ビス(4−ビフェニル)アミノ基を有する有機化合物である発光素子。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか一項において、
    前記第1の層と前記第2の層との間に第3の層を有し、
    前記第3の層は第4の物質を有し、
    前記第4の物質は正孔輸送性を有する有機化合物である発光素子。
  7. 請求項1乃至請求項5のいずれか一項において、
    前記第1の層と前記第2の層との間に第3の層を有し、
    前記第3の層は第4の物質を有し、
    前記第4の物質は、そのHOMO準位が−5.8eV以上−5.4eV以下である有機化合物である発光素子。
  8. 請求項6または請求項7において、
    前記第4の物質と前記第1の物質が同じ物質である発光素子。
  9. 陽極と、
    陰極と、
    前記陽極と前記陰極の間に位置する有機化合物を含む層を有し、
    前記有機化合物を含む層は、前記陽極側から順に第1の層と、発光層とを有し、
    前記第1の層は、第3の物質と、第2の物質とを有し、
    前記第2の物質は、前記第3の物質に対して電子アクセプタ性を有する物質であり、
    前記第3の物質が、ナフタレン環にカルバゾール環を有する置換基が少なくとも2つ結合した構造を有する有機化合物である発光素子。
  10. 請求項1乃至請求項9のいずれか一項において、
    前記第3の物質のHOMO準位が、−5.8eV以上−5.6eV以下である発光素子。
  11. 請求項1乃至請求項10のいずれか一項において、
    前記第3の物質が下記一般式(G1)で表される有機化合物である発光素子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (ただし、上記一般式(G1)において、Lは置換もしくは無置換のナフタレン−1,4−ジイル基または置換もしくは無置換のナフタレン−1,5−ジイル基を表す。また、Aは下記一般式(gA)で表される基を表し、Bは下記一般式(gB)で表される基を表す。)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    (ただし、上記一般式(gA)において、Arは環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表す。また、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。ただし、のうち、RおよびR、RおよびR、RおよびR、並びにRおよびRは縮合してベンゼン環を形成していても良い。
    また、上記一般式(gB)において、Arは環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表す。また、R11乃至R17は、それぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。ただし、R11およびR12、R14およびR15、R15およびR16、並びにR16およびR17は縮合してベンゼン環を形成していても良い。)
  12. 請求項1乃至請求項10のいずれか一項において、
    前記第3の物質が下記一般式(G1)で表される有機化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    (ただし、上記一般式(G1)において、Lは下記一般式(gL−1)または下記一般式(gL−2)で表される基を表し、また、Aは下記一般式(gA)で表される基を表し、Bは下記一般式(gB)で表される基を表す。)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    (但し、上記一般式(gL−1)において、R41乃至R46は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、環を形成する炭素の数が6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。
    また、上記一般式(gL−2)において、R51乃至R56は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、環を形成する炭素の数が6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    (ただし、上記一般式(gA)において、Arは環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表す。また、R乃至Rはそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。ただし、のうち、RおよびR、RおよびR、RおよびR、並びにRおよびRは縮合してベンゼン環を形成していても良い。
    また、上記一般式(gB)において、Arは環を形成する炭素の数が6乃至13の置換または無置換のアリール基を表す。また、R11乃至R17は、それぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または、炭素数6乃至25の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。ただし、R11およびR12、R14およびR15、R15およびR16、並びにR16およびR17は縮合してベンゼン環を形成していても良い。)
  13. 請求項1乃至請求項10のいずれか一項において、
    前記第3の物質が3,3’−(ナフタレン−1,4−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)、または3,3’−(ナフタレン−1,5−ジイル)ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)である発光素子。
  14. 請求項1乃至請求項13のいずれか一項において、
    前記第2の物質が有機化合物である発光素子。
  15. 請求項1乃至請求項14のいずれか一項において、
    前記発光素子が青色の蛍光を呈する発光素子。
  16. 請求項1乃至請求項15のいずれか一項において、
    前記発光層は、ホスト材料と発光材料とを有し、
    前記発光材料が青色の蛍光を呈する発光素子。
  17. 請求項16において、
    前記ホスト材料が、アントラセン骨格を有する有機化合物である発光素子。
  18. 請求項17において、
    前記ホスト材料がさらにカルバゾール骨格を有する発光素子。
  19. 請求項17において、
    前記ホスト材料がさらにジベンゾカルバゾール骨格を有する発光素子。
  20. 請求項1乃至請求項19のいずれか一項に記載の発光素子と、
    センサ、操作ボタン、スピーカ、または、マイクと、
    を有する電子機器。
  21. 請求項1乃至請求項19のいずれか一項に記載の発光素子と、
    トランジスタ、または、基板と、
    を有する発光装置。
  22. 請求項21に記載の発光装置と、
    筐体と、
    を有する照明装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021171130A1 (ja) * 2020-02-28 2021-09-02 株式会社半導体エネルギー研究所 発光デバイス、発光装置、電子機器および照明装置
US11678569B2 (en) 2020-03-31 2023-06-13 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Compound, material for organic electroluminescent elements, organic electroluminescent element, and electronic device

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11943944B2 (en) 2019-01-22 2024-03-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device, light-emitting apparatus, electronic device, and lighting device
KR20210031332A (ko) * 2019-09-11 2021-03-19 삼성에스디아이 주식회사 유기 광전자 소자용 화합물, 유기 광전자 소자 및 표시 장치
CN112038375B (zh) * 2020-09-02 2022-11-15 昆山国显光电有限公司 显示面板和显示装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015133493A (ja) * 2015-01-29 2015-07-23 ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド 有機電界発光素子
EP3010067A1 (en) * 2014-10-17 2016-04-20 Samsung Display Co., Ltd. Organic light-emitting device
JP2017076780A (ja) * 2015-08-28 2017-04-20 株式会社半導体エネルギー研究所 発光素子、発光装置、電子機器及び照明装置
JP2017139457A (ja) * 2016-01-29 2017-08-10 株式会社半導体エネルギー研究所 発光素子、発光装置、電子機器及び照明装置
JP2017532772A (ja) * 2014-09-05 2017-11-02 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ・コリア・リミテッド 正孔輸送材料及びそれを備える有機電界発光デバイス
JP2018026552A (ja) * 2016-07-28 2018-02-15 株式会社半導体エネルギー研究所 発光素子、発光装置、電子機器及び照明装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5475003B2 (ja) 2009-11-27 2014-04-16 シャープ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、およびその製造方法、ならびに有機エレクトロルミネッセンス表示装置
KR102577004B1 (ko) 2014-10-17 2023-09-13 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 소자

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017532772A (ja) * 2014-09-05 2017-11-02 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ・コリア・リミテッド 正孔輸送材料及びそれを備える有機電界発光デバイス
EP3010067A1 (en) * 2014-10-17 2016-04-20 Samsung Display Co., Ltd. Organic light-emitting device
JP2015133493A (ja) * 2015-01-29 2015-07-23 ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド 有機電界発光素子
JP2017076780A (ja) * 2015-08-28 2017-04-20 株式会社半導体エネルギー研究所 発光素子、発光装置、電子機器及び照明装置
JP2017139457A (ja) * 2016-01-29 2017-08-10 株式会社半導体エネルギー研究所 発光素子、発光装置、電子機器及び照明装置
JP2018026552A (ja) * 2016-07-28 2018-02-15 株式会社半導体エネルギー研究所 発光素子、発光装置、電子機器及び照明装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021171130A1 (ja) * 2020-02-28 2021-09-02 株式会社半導体エネルギー研究所 発光デバイス、発光装置、電子機器および照明装置
US11678569B2 (en) 2020-03-31 2023-06-13 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Compound, material for organic electroluminescent elements, organic electroluminescent element, and electronic device

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