WO2019156330A1 - 반사방지필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치 - Google Patents

반사방지필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치 Download PDF

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antireflection film
hollow particles
reflectance
polarizing plate
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강서영
김유진
김한수
신동윤
정연주
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Definitions

  • the present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate including the same, and an optical display device including the same.
  • an anti-reflection film that can suppress reflection on the outermost surface of the optical display device is formed. The lower the reflectance, the more the image quality can be obtained when the screen is suppressed by suppressing the reflection.
  • the antireflection film is generally a film in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially laminated on a substrate layer.
  • a hard coat layer may be formed between the base layer and the high refractive layer. Since the low refractive layer is at the outermost side of the antireflective film, the reflectance of the antireflective film mainly depends on the low refractive layer.
  • the low refractive index layer is generally constituted by applying a double layer of hollow silica having a particle diameter of about 50 nm.
  • the antireflection film having such a low refractive index layer is vulnerable to moisture and thus has a problem in that the expected appearance blocking effect is lowered due to an increase in reflectance upon long-term exposure at high temperature, high humidity or high humidity.
  • An object of the present invention is to provide an antireflection film that can not increase the reflectance or minimize the increase in reflectance even after long time standing at high temperature and high humidity or high humidity.
  • Another object of the present invention is to provide an antireflection film in which the polarization degree and transmittance are not changed as compared with the conventional antireflection film in which hollow particles are applied as a double layer.
  • a substrate layer, a high refractive layer, and a low refractive layer are sequentially stacked, and the low refractive layer includes inorganic hollow particles having an average particle diameter of about 70 nm to about 150 nm, and the low refractive layer is the inorganic hollow layer. It may comprise a monolayer arrangement of particles.
  • the thickness of the monolayer may be about Xnm to about Xnm + 3nm when the average particle diameter of the inorganic hollow particles is about Xnm.
  • the inorganic hollow particles may comprise hollow silica.
  • the thickness of the low refractive layer may be about 100% to about 120% of the average particle diameter of the inorganic hollow particles.
  • the inorganic hollow particles may be included in about 20% to about 70% by weight of the low refractive index layer.
  • the inorganic hollow particles may be arranged continuously without being spaced apart from each other.
  • the inorganic hollow particles may be to form the outermost surface of the anti-reflection film.
  • the monolayer arrangement of the inorganic hollow particles may be formed in direct contact with the high refractive layer.
  • a hard coating layer may be further formed between the base layer and the high refractive layer.
  • the antireflection film may have a reflectance change rate of about 100% or less in Formula 1 below:
  • Reflectance change factor ⁇ R 1 -R 0 ⁇ / R 0 x 100
  • R 0 is the initial reflectance of the antireflection film (unit:%)
  • R 1 is the reflectance of the antireflection film after leaving the antireflection film at 60 °C and 95% relative humidity for 72 hours (Unit:%)).
  • R 1 may be about 0.7% or less.
  • Polarizing plate of the present invention is a polarizer; And it may include an anti-reflection film of the present invention formed on at least one surface of the polarizer.
  • the polarizer may have a reflectance change rate of about 100% or less in Formula 2 below:
  • Reflectance change rate R 3 -R 2 / R 2 x 100
  • Equation 2 R 2 is the initial reflectance (unit:%) of the polarizing plate, R 3 is the reflectance (unit:%) of the polarizing plate after leaving the polarizing plate at 60 °C and 95% relative humidity for 72 hours. ).
  • the polarizer may further include a polarizer protective layer formed on a light incident surface of the polarizer.
  • the optical display device of the present invention may include the polarizing plate of the present invention.
  • the present invention provides an antireflection film that can not increase the reflectance or minimize the increase in the reflectance even after long time standing at high temperature or high humidity.
  • the present invention provides an antireflection film in which polarization degree and transmittance are not changed as compared with the conventional antireflection film in which hollow particles are applied as a double layer.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of the anti-reflection film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the anti-reflection film according to another embodiment of the present invention.
  • FIG 3 is a cross-sectional view of the anti-reflection film according to another embodiment of the present invention.
  • (meth) acryl refers to acrylic and / or methacryl.
  • average particle diameter refers to a particle size of 50% by weight of the percent passed mass when the particle diameter of the inorganic hollow particles is measured and a cumulative curve of the mass according to the particle diameter is drawn.
  • the particle size of the inorganic hollow particles may be measured using a particle size analyzer (Microtrac, Nanotrac Wave), but is not limited thereto.
  • in-plane retardation (Re) is a value represented by the following Equation 3:
  • nx and ny are refractive indexes of the base material layer in the x-axis direction and the y-axis direction, respectively, and d is the thickness (unit: nm) of the base material layer).
  • the low refractive layer comprises an inorganic hollow particles having an average particle diameter of about 70nm to about 150nm, the low refractive layer
  • the reflectance is low, there is no increase in the reflectance even in high temperature or high temperature and high humidity, or it can minimize the increase in the reflectivity can be excellent in reliability and external light blocking effect, including the inorganic hollow particles in a double layer
  • the polarization and light transmittance is not lowered, and completed the present invention.
  • the antireflection film 100 may include a base layer 10, and a high refractive layer 20 and a low refractive layer 30A sequentially stacked from the base layer 10.
  • the low refractive layer may comprise inorganic hollow particles having an average particle diameter of about 70 nm to about 150 nm, and the low refractive layer may comprise a single layer arrangement of inorganic hollow particles.
  • the antireflection film includes inorganic hollow particles having the average particle diameter in a single layer arrangement, thereby maintaining a reflectance compared to an antireflection film including a low refractive layer having a double layer arrangement of inorganic hollow particles, and having a water influence on the reflectance.
  • the "single layer arrangement” may include a structure in which inorganic hollow particles are arranged in one layer.
  • the monolayer arrangement may comprise a case where the maximum thickness of the monolayer, ie, the inorganic hollow particle layer, is from about Xnm to about Xnm + 3nm when the average particle diameter of the inorganic hollow particles is about Xnm.
  • the antireflective film may have a reflectance of about 0.5% or less, for example about 0.2% to about 0.5%. In the above range, it is possible to obtain the screen quality improvement effect by the anti-reflection film.
  • the antireflection film may have a reflectance of about 0.2, 0.3, 0.4 or 0.5%.
  • the antireflection film may have a reflectance change rate of about 100% or less, for example about 75% or less, for example about 70% or less, according to Formula 1 below:
  • Reflectance change factor ⁇ R 1 -R 0 ⁇ / R 0 x 100
  • Equation 1 R 0 is the initial reflectance of the antireflection film (unit:%), R 1 is the reflectance of the antireflection film after leaving the antireflection film at 60 °C and 95% relative humidity for 72 hours Unit:%)).
  • the increase in reflectance is small even by high temperature, high humidity or high humidity, and thus reliability can be improved.
  • R 1 may be about 0.7% or less, for example, about 0.2% to about 0.7%, and for example, about 0.2% to 0.6%. In the above range, it is possible to obtain the screen quality improvement effect by the anti-reflection film.
  • the antireflection film may have a thickness of about 10 ⁇ m to about 150 ⁇ m, specifically about 30 ⁇ m to about 120 ⁇ m, and more specifically about 40 ⁇ m to about 100 ⁇ m. It can be used in the antireflection film in the above range.
  • the base layer 10 may support the antireflection film and increase the mechanical strength of the antireflection film.
  • the substrate layer may have a refractive index of about 1.40 to about 1.80, for example about 1.45 to about 1.70, and for example about 1.48 to about 1.60. In the above range, when the high refractive index layer and the low refractive layer are laminated sequentially, the reflectance of the antireflection film may be lowered.
  • the base layer may have a moisture permeability of about 10 g / m 2 ⁇ day or more, for example, about 10 g / m 2 ⁇ day to about 50 g / m 2 ⁇ day.
  • the inorganic hollow particles are arranged in a single layer, thereby preventing moisture from affecting the reflectance from remaining between the inorganic hollow particles. Even under the environment of high temperature and high humidity, there is no increase in reflectivity or the increase in reflectance is minimized, thereby improving reliability and blocking of external light.
  • the moisture permeability is not particularly limited and may mean, for example, a value measured at 40 ° C. and 90% relative humidity according to KS A1013.
  • the base layer may have a light transmittance of about 80% or more, specifically about 85% to about 95% in the visible light region. In the above range, it can be used for the polarizing plate.
  • the base layer may include a film formed of an optically transparent resin.
  • the resin may be a cellulose ester resin including triacetyl cellulose (TAC) and the like, a polyester resin including a polyethylene terephthalate, a polyethylene naphthalate, a polybutylene terephthalate, a polybutylene naphthalate, and the like, and a polycarbonate resin and a poly It may include one or more of poly (meth) acrylate resin, polystyrene resin, polyamide resin, polyimide resin, including methyl methacrylate.
  • it may be a cellulose ester resin including triacetyl cellulose or the like, or a polyester resin including polyethylene terephthalate or the like.
  • the base layer may be a non-stretched film, but may be a retardation film or an isotropic optical film having a predetermined range of phase difference by stretching the resin by a predetermined method.
  • the substrate layer may have a Re of about 8,000 nm or more, specifically about 10,000 nm or more, more specifically about 10,000 nm or more, and more specifically about 10,100 nm to about 15,000 nm. Within this range, rainbow spots can be prevented from being seen, and the diffusion effect of light diffused through the contrast ratio improving layer can be greater.
  • the substrate layer may be an isotropic optical film having a Re of about 60 nm or less, specifically about 0 nm to about 60 nm, more specifically about 40 nm to about 60 nm. It is possible to improve the image quality by compensating the viewing angle in the above range.
  • isotropic optical film means a film in which nx, ny, and nz are substantially the same, and the term “substantially the same” includes both cases where the error is not only the same but also includes some errors.
  • the substrate layer may have a thickness of about 10 ⁇ m to about 150 ⁇ m, specifically about 30 ⁇ m to about 120 ⁇ m, and more specifically about 40 ⁇ m to about 100 ⁇ m. It can be used in the antireflection film in the above range.
  • the high refractive index layer 20 may be formed on the base layer to increase the hardness of the antireflection film and lower the reflectance of the antireflection film together with the low refractive index layer.
  • the high refractive layer may be a single layer or two or more high refractive layers having different refractive indices may be stacked.
  • the high refractive layer has a higher refractive index than the low refractive layer.
  • the high refractive index layer may have a refractive index of about 1.53 to about 1.70, for example about 1.56 to about 1.65. In the above range, it is possible to lower the reflectance of the antireflection film when the low refractive layer is laminated.
  • the high refractive layer may have a thickness of about 30 nm to about 200 nm, specifically about 50 nm to about 150 nm, more specifically about 70 nm to about 120 nm. In the above range, it can be used in the antireflection film, it can ensure the hardness.
  • the high refractive index layer may be formed of a composition for a high refractive index layer that may provide a refractive index of about 1.53 to about 1.70 after curing.
  • the composition for the high refractive index layer may have a refractive index of about 1.53 to about 1.70, for example, about 1.55 to about 1.65.
  • the composition for a high refractive index layer may include a high refractive index compound, a UV curable compound having a lower refractive index than the high refractive index compound, an initiator, and inorganic particles.
  • the high refractive index compound is a UV curable compound and may include at least one of a fluorene-based, biphenyl-based, bisphenol-based, thiophenyl-based, thiobenzyl-based, phenylsulfide-based, thionaphthalene-based, high refractive index resin, and a high refractive index monomer.
  • the high refractive index compound by using at least one of fluorene-based, biphenyl-based compound, it is possible to increase the refractive index of the high refractive index layer to further lower the reflectance of the antireflection film.
  • UV curable compounds have a lower refractive index than high refractive compounds.
  • a UV curable compound can form the matrix of a high refractive layer, and can raise the hardness of a high refractive layer.
  • the composition containing only a high refractive index compound cannot be used in an optical display device because the hardness of the antireflection film is low.
  • the UV curable compound may be preferably a compound having a UV curable group such as a (meth) acrylate group or an epoxy group.
  • the UV curable compound may include at least one of a bifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate-based monomer, an oligomer formed therefrom, or a resin formed therefrom.
  • the UV curable compound may be a bifunctional to 10 functional (meth) acrylate-based compound.
  • the UV curable compound is a polyfunctional urethane (meth) synthesized from a polyfunctional (meth) acrylate such as an ester of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, or a hydroxy ester of a polyhydric alcohol, an isocyanate compound or a (meth) acrylic acid. It may comprise one or more of acrylates.
  • the UV curable compound may comprise a bifunctional or more (meth) acrylate compound.
  • bifunctional (meth) acrylate compound for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate , Nonanediol di (meth) acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylic Rate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth And di (meth) acryl
  • trifunctional or more than (meth) acrylate compound For example, trimethylol propane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylol propane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylol propane tri (meth) acrylate, Tri (meth) acrylates such as tris2-hydroxyethylisocyanurate tri (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylic Trifunctional (meth) acrylate compounds such as acrylate and ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra ( Meth) acrylate, dipentaerythritol
  • An initiator can harden a high refractive index compound and a UV curable compound, and can form a high refractive layer.
  • the initiator may comprise one or more of conventional photo radical initiators, photo cationic initiators known to those skilled in the art. Although not particularly limited, the initiator can enable the production of a high refractive index layer only by photocuring by using an initiator having an absorption wavelength of about 400 nm or less.
  • the radical radical initiator generates a radical by light irradiation to catalyze curing, and includes at least one of phosphorus, triazine, acetophenone, benzophenone, thioxanthone, benzoin, oxime, and phenyl ketone. can do.
  • Photo cationic initiators may include salts of cations and anions.
  • anionic examples include borate (BF 4 -) tetrafluoroborate, phosphate (PF 6 -) hexafluoropropane, antimonate hexafluorophosphate (SbF 6 -), are Senate hexafluorophosphate (AsF 6 -), hexamethylene Chloro antimonate (SbCl 6 ⁇ ) and the like.
  • the inorganic particles may add a refractive index increase and a hardness increase function to the high refractive layer.
  • the inorganic particles may be untreated, but may be surface treated (eg, a (meth) acrylate group) to improve compatibility with other components in the composition and further increase the hardness of the high refractive layer.
  • Surface treatment can be from about 5% to about 50% of the total surface area of the inorganic particles. In the above range, there may be a hardness increase effect through the combination with the UV curable compound, high refractive index resin.
  • the inorganic particles are non-hollow inorganic particles, and may include one or more of silica, zirconia, titania, and alumina, and zirconia may be preferably used.
  • the inorganic particles may have an average particle diameter (D50) of about 1 nm to about 50 nm, specifically about 5 nm to about 20 nm. In the above range, there may be a hardness increase effect without deterioration in the optical properties of the antireflection film.
  • D50 average particle diameter
  • the composition for the high refractive index layer may further include conventional additives known to those skilled in the art.
  • antistatic agents, antifoaming agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, leveling agents and the like may be further included, but are not limited thereto.
  • the additives may include conventional kinds known to those skilled in the art.
  • the composition for the high refractive index layer may further include a solvent to improve the coating property of the composition for the high refractive index layer.
  • the solvent may comprise one or more of propylene glycol monomethyl ether, methylethylketone.
  • the low refractive layer 30A is formed on the high refractive layer, and the refractive index of the high refractive layer is lower than that of the antireflection film to lower the reflectance.
  • the low refractive layer is formed directly on the high refractive layer.
  • the difference in refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer (the refractive index of the high refractive index layer—the refractive index of the low refractive layer) may be about 0.25 or more, for example, about 0.25 to about 0.5. In the above range, it is possible to lower the reflectance of the antireflection film and to improve optical properties such as haze.
  • the low refractive index layer may have a refractive index of about 1.35 or less, for example, about 1.25 to about 1.32.
  • the low refractive layer may comprise inorganic hollow particles 31 having an average particle diameter of about 70 nm to about 150 nm, and the low refractive layer may comprise a single layer arrangement of inorganic hollow particles.
  • the low refractive layer including the inorganic hollow particles arranged in a double layer with a total thickness of about 70 nm to about 150 nm thereby preventing the external moisture from penetrating through the voids between the inorganic hollow particles, thereby significantly increasing the reflectance. .
  • the "double layer arrangement of inorganic hollow particles” means that when one of the double layers is called the first layer and the other is the second layer, the centers of the inorganic hollow particles included in the first layer and the second layer are coaxial with each other. This includes not only the cases in which they are but also the cases in which they are offset from each other.
  • the inorganic hollow particles have an average particle diameter of about 70, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 77, 78, 79, 80, 81, 82, 83, 84, 85, 86, 87, 88, 89, 90, 91, 92, 93, 94, 95, 96, 97, 98, 99, 100, 101, 102, 103, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 110, 111, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 121, 122, 123, 124, 125, 126, 127, 128, 129, 130, 131, 132, 133, 134, 135, 136, 137, 138, 139, 140, 141, 142, 143, 144, 145, 146, 147, 148, 149 or 150 nm.
  • the inorganic hollow particles may be arranged continuously without being spaced apart from each other.
  • the penetration of external moisture from the outermost surface of the low refractive index layer, ie, the outermost surface of the antireflection film can be suppressed, as well as the increase in reflectance due to moisture that can penetrate from the base layer and / or the high refractive layer.
  • the inorganic hollow particles may be arranged continuously without being spaced apart from each other and form the outermost surface of the antireflective film. As a result, the external light is reflected directly to the hollow inorganic particles, thereby lowering the reflectance.
  • a monolayer arrangement of inorganic hollow particles may be formed in direct contact with the high refractive layer.
  • the inorganic hollow particles are fixed in the low refractive layer by hardened
  • the thickness of the low refractive layer may be about 100% to about 120% of the average particle diameter of the inorganic hollow particles. In the above range, even at high humidity or high temperature and high humidity, the effect of lowering the reflectance rising width and the reflectance can be lowered. 1 shows a case where the thickness of the low refractive layer and the average diameter of the hollow inorganic particles are substantially the same.
  • the low refractive layer may have a thickness of about 70 nm to about 153 nm, specifically about 70 nm to about 150 m. It can be used in the antireflection film in the above range.
  • the "thickness of the low refractive layer" means the distance from the bottom surface of the low refractive layer to the outermost surface.
  • the inorganic hollow particles may include spherical or non-spherical particles, but by using spherical particles, the reflectivity is uniformly emitted from the outermost surface of the antireflection film and surface uniformity may be increased.
  • the inorganic hollow particles can have a hollow structure and a low refractive index can lower the refractive index of the low refractive layer.
  • the refractive index of the inorganic hollow particles may be about 1.4 or less, for example about 1.2 to about 1.38.
  • Hollow silica may be used for the inorganic hollow particles.
  • the inorganic hollow particles may be untreated hollow particles that have not been surface treated, or may be surface treated with a UV curable functional group.
  • the inorganic hollow particles may be included in about 20% to about 70% by weight of the total refractive layer, preferably about 40% to about 60% by weight. In the above range, it is possible to reduce the refractive index of the antireflection film by lowering the refractive index of the low refractive index layer.
  • the low refractive index layer may be formed of a composition for low refractive layers including inorganic hollow particles.
  • the composition for the low refractive index layer is inorganic hollow particles; And a binder comprising a UV curable compound.
  • the low refractive index composition may further include a fluorine-containing monomer or an oligomer thereof in order to lower the refractive index.
  • the composition for the low refractive index layer may further include an initiator to cure the binder and / or the fluorine-containing monomer or the oligomer thereof.
  • the UV curable compound may form a matrix of the low refractive layer and fix inorganic hollow particles to the low refractive layer.
  • the UV curable compound may comprise a fluorine free monomer or an oligomer thereof.
  • the fluorine-free monomer or the oligomer thereof may be a bifunctional or more than, for example, a (meth) acrylate-based compound of bifunctional to 10 functional.
  • the fluorine-free monomer may include a polyfunctional (meth) acrylate such as the ester of the polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid described above.
  • the initiator may be the same or different from those described above in the composition for the high refractive index layer.
  • the additive adds antifouling function and slimness to the low refractive layer, and conventional additives known to those skilled in the art can be used.
  • the additive may include one or more of fluorine-containing additives and silicone-based additives. (Difficult to check on the weight of contents)
  • the composition for the low refractive index layer is about 20% to about 70% by weight inorganic hollow particles, about 10% to about 50% by weight UV curable compound, about 5% to about 25% by weight fluorine-containing monomer or oligomer thereof, initiator About 2% to about 5% by weight, and about 1% to about 10% by weight additives.
  • the pencil hardness of about 2H or more, the anti-fingerprint effect can be obtained.
  • the composition for the low refractive index layer is about 40% to about 60% by weight of the inorganic hollow particles based on solids, about 20% to about 40% by weight of the UV curable compound, about 5% to about 15% of the fluorine-containing monomer or oligomer thereof Weight percent, about 2 weight percent to about 4 weight percent initiator, and about 2 weight percent to about 7 weight percent additive.
  • composition for the low refractive index layer may further include conventional additives known to those skilled in the art.
  • antifoaming agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, leveling agents and the like may further include, but are not limited thereto.
  • the composition for the low refractive index layer may further include a solvent to improve the coating property.
  • the solvent may comprise one or more of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethylene glycol dimethyl ether.
  • the antireflection film 200 includes a single layer array of inorganic hollow particles 31, and a cured product 32 such as a binder is further formed on the single layer array of inorganic hollow particles. Except that it is substantially the same as the anti-reflection film of an embodiment of the present invention.
  • the antireflection film 300 is the same as the antireflection film of the present invention except that a hard coating layer 40 is further formed between the base layer 10 and the high refractive layer 20. .
  • the hard coating layer 40 may have a refractive index of about 1.50 or more but less than about 1.60, for example, about 1.50 to about 1.599. In the above range, it is possible to lower the reflectance of the antireflection film.
  • the hard coating layer 40 may be formed of a resin such as polyurethane, urethane (meth) acrylate, epoxy, or silicone, but is not limited thereto.
  • the hard coating layer 40 may have a thickness of about 5 ⁇ m to about 20 ⁇ m, for example, about 7 ⁇ m to about 15 ⁇ m. In the above range, it can be used in the antireflection film.
  • the polarizing plate of the present invention may include the antireflection film of the present invention described above.
  • the polarizer may include a polarizer, an antireflection film of the present invention formed on the light exit surface of the polarizer, and a polarizer protective layer formed on the light incident surface of the polarizer.
  • the polarizing plate may have a reflectance of about 0.5% or less, for example, about 0.2% to about 0.5% by including the antireflective film of the present invention, and a reflectance change rate of Equation 2 below about 100%, for example about 75% Up to%, for example up to about 70%:
  • Reflectance change rate R 3 -R 2 / R 2 x 100
  • Equation 2 R 2 is the initial reflectance (unit:%) of the polarizing plate, R 3 is the reflectance (unit:%) of the polarizing plate after leaving the polarizing plate at 60 °C and 95% relative humidity for 72 hours. ).
  • the increase in reflectance is small even by high humidity or high temperature and high humidity, thereby improving reliability.
  • R 3 may be about 0.7% or less, for example, about 0.2% to about 0.7%, and for example, about 0.2% to about 0.6%. In the above range, the screen quality improvement effect by the polarizing plate can be obtained.
  • the polarizer may polarize and transmit light incident from the liquid crystal panel.
  • the polarizer may include a polyvinyl alcohol polarizer manufactured by uniaxially stretching the polyvinyl alcohol film, or a polyene polarizer manufactured by dehydrating the polyvinyl alcohol film.
  • the polarizer may have a thickness of about 5 ⁇ m to about 40 ⁇ m. Within this range, it can be used for an optical display device.
  • the polarizer protective layer may comprise one or more of an optically clear, protective film or protective coating layer.
  • the protective layer may include a protective film formed of an optically transparent resin.
  • the protective film may be formed by melting and extruding the resin. If necessary, additional stretching processes may be added.
  • the resin may be a cellulose ester resin including triacetyl cellulose (TAC) or the like, a cyclic polyolefin resin including a cyclic olefin polymer (COP), a polycarbonate resin, a polyethylene terephthalate (PET), or the like.
  • Polyacrylate including polyester resin, polyether sulfone resin, polysulfone resin, polyamide resin, polyimide resin, acyclic-polyolefin resin, polymethyl methacrylate resin, etc. It may include one or more of a resin, polyvinyl alcohol-based resin, polyvinyl chloride-based resin, polyvinylidene chloride-based resin, acrylic resin.
  • the protective coating layer may be formed of an active energy ray curable resin composition comprising an active energy ray curable compound and a polymerization initiator.
  • the active energy ray curable compound may include at least one of a cationically polymerizable curable compound, a radically polymerizable curable compound, a urethane resin, and a silicone resin.
  • the cationically polymerizable curable compound may be an epoxy compound having at least one epoxy group in a molecule, or an oxetane compound having at least one oxetane ring in a molecule.
  • the radically polymerizable curable compound may be a (meth) acrylic compound having at least one (meth) acryloyloxy group in a molecule.
  • the protective layer may have a thickness of about 5 ⁇ m to about 200 ⁇ m, specifically about 30 ⁇ m to about 120 ⁇ m, and about 30 ⁇ m to about 100 ⁇ m for the protective film type, and about 5 ⁇ m to about 100 ⁇ m for the protective coating layer type. 50 ⁇ m. It can be used in the light emitting display device within the above range.
  • the liquid crystal display of the present invention may include the polarizing plate of the present invention as a viewing side polarizing plate with respect to the liquid crystal panel.
  • the "viewing side polarizing plate” is arranged to face the screen side, that is, the light source side with respect to the liquid crystal panel.
  • the liquid crystal display device may be sequentially stacked with the backlight unit, the first polarizing plate, the liquid crystal panel, the second polarizing plate, the second polarizing plate may comprise a polarizing plate of the present invention.
  • the liquid crystal panel may employ a VA (vertical alignment) mode, an IPS mode, a patterned vertical alignment (PVA) mode, or a super-patterned vertical alignment (S-PVA) mode, but is not limited thereto.
  • the polyvinyl alcohol film was stretched three times at 60 ° C., adsorbed with iodine, and stretched six times in an aqueous boric acid solution at 40 ° C. to prepare a polarizer (thickness: 23 ⁇ m).
  • the antireflection film 40CXR20 (Toppan) was adhered to one surface of the prepared polarizer using a UV adhesive. On the other side of the polarizer was bonded ZF12 film (ZEON Co.) using a UV-based adhesive to prepare a polarizing plate. Specific specifications of the antireflection film 40CXR20 are shown in Table 1 below.
  • a polarizing plate was manufactured in the same manner except for using an antireflection film having the specifications shown in Table 1 below.
  • a polarizing plate was prepared in the same manner.
  • Example 1 Except for using 40GXR20 (Toppan Co., Ltd.) as DSG-17 (Z) TG60 (DNP Co., Ltd.) in Example 1, a polarizing plate was prepared in the same manner.
  • Example 2 Except for using 40CXR20 (Toppan, Inc.) as an antireflection film in Example 1, a polarizing plate was manufactured in the same manner except for using an antireflection film having the specifications of Table 3 below.
  • Thickness total thickness of hollow silica layer among low refractive layers
  • the double layer I is shifted from each other when the centers of the inorganic hollow particles contained in the first layer and the second layer are coaxial with each other.
  • the case is represented by double layer II.
  • Reflectance (unit:%): A specimen was prepared by laminating a black acrylic plate (PH10) using an acrylic pressure-sensitive adhesive on a ZF12 film among polarizing plates of Examples and Comparative Examples.
  • the spectrophotometer (Spectrophotometer, Konica Minolta, CM-2600D) was used to obtain reflectance at the full-wave field in the SCI reflection mode (light source: C light source, light source aperture: ⁇ 4 mm, measurement viewing angle: 2 °).
  • Polarization degree, transmittance (unit:%): About the polarizing plate of an Example and a comparative example, the polarization degree and the transmittance
  • the polarizing plate according to the present embodiment may not increase the reflectance or minimize the increase in reflectance even after long time standing at high temperature, high humidity or high humidity, and the degree of polarization compared to the conventional antireflection film in which hollow particles are applied as a double layer. And permeability did not change.

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Abstract

기재층, 고굴절층 및 저굴절층이 순차적으로 적층되고, 상기 저굴절층은 평균 입경 약 70nm 내지 약 150nm의 무기 중공 입자를 포함하고, 상기 저굴절층은 상기 무기 중공 입자의 단일층 배열을 포함하는 반사방지필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치가 제공된다.

Description

반사방지필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치
본 발명은 반사방지필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치에 관한 것이다.
광학표시장치 구동시 실외 광이나 실내 조명 등이 화면에서 반사되어 화면을 제대로 볼 수 없게 되는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 광학표시장치 최외곽 표면에 반사를 억제할 수 있는 반사방지필름을 형성한다. 반사율이 낮을수록 반사를 억제시켜 화면 구동 시 좋은 화질을 얻을 수 있다.
반사방지필름은 기재층에 고굴절층, 저굴절층이 순차적으로 적층된 필름이 일반적이다. 반사방지필름의 강도를 높이기 위해 기재층과 고굴절층 사이에 하드코팅층이 형성될 수도 있다. 저굴절층이 반사방지필름의 최외곽에 있기 때문에 반사방지필름의 반사율은 저굴절층에 의해 주로 좌우된다.
저굴절층은 일반적으로 입경 약 50nm의 중공 실리카가 이중층으로 도포되어 구성되어 있다. 그런데 이러한 저굴절층을 갖는 반사방지필름이 수분에 취약하여 고온 고습 또는 고습에서 장시간 노출시 반사율이 상승함으로써 기대하던 외관 차단 효과가 저하되는 문제점이 있음을 알게 되었다.
본 발명의 배경기술은 한국공개특허 제2005-0087312호에 개시되어 있다.
본 발명의 목적은 고온 고습 또는 고습에서 장시간 방치 후에도 반사율이 상승되지 않거나 반사율 상승을 최소화시킬 수 있는 반사방지필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 중공 입자가 이중층으로 도포된 종전 반사방지필름에 비해 편광도 및 투과도가 변화되지 않는 반사방지필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 반사방지필름은 기재층, 고굴절층 및 저굴절층이 순차적으로 적층되고, 상기 저굴절층은 평균 입경 약 70nm 내지 약 150nm의 무기 중공 입자를 포함하고, 상기 저굴절층은 상기 무기 중공 입자의 단일층 배열을 포함할 수 있다.
일 구체예에서, 상기 단일층의 두께는 상기 무기 중공 입자의 평균 입경을 약 Xnm라고 할 때 약 Xnm 내지 약 Xnm + 3nm일 수 있다.
일 구체예에서, 상기 무기 중공 입자는 중공 실리카를 포함할 수 있다.
일 구체예에서, 상기 저굴절층의 두께는 상기 무기 중공 입자의 평균 입경의 약 100% 내지 약 120% 일 수 있다.
일 구체예에서, 상기 무기 중공 입자는 상기 저굴절층 중 약 20중량% 내지 약 70중량%로 포함될 수 있다.
일 구체예에서, 상기 무기 중공 입자는 서로 이격되지 않고 연속적으로 배열된 것일 수 있다.
일 구체예에서, 상기 무기 중공 입자는 상기 반사방지필름의 최외곽 표면을 형성하는 것일 수 있다.
일 구체예에서, 상기 무기 중공 입자의 상기 단일층 배열은 상기 고굴절층에 직접적으로 접하여 형성된 것일 수 있다.
일 구체예에서, 상기 기재층과 상기 고굴절층 사이에 하드코팅층이 더 형성된 것일 수 있다.
일 구체예에서, 상기 반사방지필름은 하기 식 1의 반사율 변화율이 약 100% 이하일 수 있다:
<식 1>
반사율 변화율 = │R1 - R0│/ R0 x 100
(상기 식 1에서, R0은 반사방지필름의 최초 반사율(단위:%) 이며, R1은 상기 반사방지필름을 60℃ 및 95% 상대습도에서 72시간 동안 방치한 후 상기 반사방지필름의 반사율(단위:%) 이다).
일 구체예에서, 상기 식 1에서 R1은 약 0.7% 이하일 수 있다.
본 발명의 편광판은 편광자; 및 상기 편광자의 적어도 일면에 형성된 본 발명의 반사방지필름을 포함할 수 있다.
일 구체예에서 상기 편광판은 하기 식 2의 반사율 변화율이 약 100% 이하일 수 있다:
<식 2>
반사율 변화율 = │R3 - R2│/ R2 x 100
(상기 식 2에서, R2는 편광판의 최초 반사율(단위:%) 이며, R3는 상기 편광판을 60℃ 및 95% 상대습도에서 72시간 동안 방치한 후 상기 편광판의 반사율(단위:%) 이다).
일 구체예에서 상기 편광자는, 상기 편광자의 광입사면에 형성된 편광자 보호층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 광학표시장치는 본 발명의 편광판을 포함할 수 있다.
본 발명은 고온 고습 또는 고습에서 장시간 방치 후에도 반사율이 상승되지 않거나 반사율 상승을 최소화시킬 수 있는 반사방지필름을 제공하였다.
본 발명은 중공 입자가 이중층으로 도포된 종전 반사방지필름에 비해 편광도 및 투과도가 변화되지 않는 반사방지필름을 제공하였다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지필름의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반사방지필름의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반사방지필름의 단면도이다.
첨부한 도면을 참고하여 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.
본 명세서에서 "(메트)아크릴"은 아크릴 및/또는 메타아크릴을 의미한다.
본 명세서에서 "평균 입경"은 무기 중공 입자의 입경을 측정하고 입경에 따른 질량의 누적 곡선을 그렸을 때 통과 질량 백분율이 50중량%에 해당되는 입경을 의미한다. 무기 중공 입자의 입경은 입도 분석 장치(Microtrac社, Nanotrac Wave)를 사용하여 측정할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
본 명세서에서 "면내 위상차(Re)"는 하기 식 3으로 표시되는 값이다:
<식 3>
Re = (nx - ny) x d
(상기 식 3에서, nx, ny는 각각 기재층의 x축 방향, y축 방향의 굴절률이고, d는 상기 기재층의 두께(단위:nm)이다).
본원 발명의 발명자는 기재층, 고굴절층 및 저굴절층이 순차적으로 적층된 반사방지필름에 있어서, 상기 저굴절층에 평균 입경 약 70nm 내지 약 150nm의 무기 중공 입자를 포함하고, 상기 저굴절층은 상기 무기 중공 입자의 단일층 배열을 포함함으로써, 반사율이 낮고, 고온 또는 고온 고습에도 반사율 상승이 없거나 반사율 상승을 최소화할 수 있어서 신뢰성 및 외광 차단 효과가 우수할 수 있으며, 무기 중공 입자를 이중층으로 포함하는 종래 반사방지필름에 비해 편광도와 광투과도가 낮아지지 않음을 발견하고, 본 발명을 완성하였다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지필름을 도 1을 참고하여 설명한다.
도 1을 참고하면, 반사방지필름(100)은 기재층(10), 및 기재층(10)으로부터 순차적으로 적층된 고굴절층(20) 및 저굴절층(30A)을 포함할 수 있다. 저굴절층은 평균 입경 약 70nm 내지 약 150nm의 무기 중공 입자를 포함하고, 저굴절층은 무기 중공 입자의 단일층 배열을 포함할 수 있다. 반사방지필름은 상기 평균 입경을 갖는 무기 중공 입자를 단일층 배열로 포함함으로써, 무기 중공 입자의 이중층 배열을 갖는 저굴절층을 포함하는 반사방지필름 대비 반사율을 유지할 수 있고, 반사율에 영향을 주는 수분이 머무르는 것을 차단함으로써 고온 또는 고온 고습 하에서도 반사율 상승이 없거나 반사율 상승을 최소화하여 신뢰성 및 외광 차단 효과를 높일 수 있다. 상기 "단일층 배열"은 무기 중공 입자가 하나의 층으로 배열된 구조를 포함할 수 있다. 구체예에서, 단일층 배열은 무기 중공 입자의 평균 입경을 약 Xnm라고 할 때 단일층 즉 무기 중공 입자층의 최대 두께가 약 Xnm 내지 약 Xnm + 3nm인 경우를 포함할 수 있다.
일 구체예에서, 반사방지필름은 반사율이 약 0.5% 이하, 예를 들면 약 0.2% 내지 약 0.5%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지필름에 의한 화면 품질 개선 효과를 얻을 수 있다. 예를 들면, 상기 반사방지필름은 반사율이 약 0.2, 0.3, 0.4 또는 0.5%가 될 수 있다.
일 구체예에서, 반사방지필름은 하기 식 1의 반사율 변화율이 약 100% 이하, 예를 들면 약 75% 이하, 예를 들면 약 70% 이하가 될 수 있다:
<식 1>
반사율 변화율 = │R1 - R0│/ R0 x 100
(상기 식 1에서, R0은 반사방지필름의 최초 반사율(단위:%), R1은 상기 반사방지필름을 60℃ 및 95% 상대습도에서 72시간 동안 방치한 후 상기 반사방지필름의 반사율(단위:%) 이다).
상기 범위에서, 고온 고습 또는 고습에 의해서도 반사율 상승이 적어서 신뢰성을 높일 수 있다.
상기 식 1에서 R1은 약 0.7% 이하, 예를 들면 약 0.2% 내지 약 0.7%, 다른 예를 들면 0.2% 내지 0.6%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지필름에 의한 화면 품질 개선 효과를 얻을 수 있다.
반사방지필름은 두께가 약 10 ㎛ 내지 약 150㎛, 구체적으로 약 30㎛ 내지 약 120㎛, 더 구체적으로 약 40㎛ 내지 약 100㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서 반사방지필름에 사용될 수 있다.
기재층(10)은 반사방지필름을 지지하고 반사방지필름의 기계적 강도를 높일 수 있다.
기재층은 굴절률이 약 1.40 내지 약 1.80, 예를 들면 약 1.45 내지 약 1.70, 다른 예를 들면 약 1.48 내지 약 1.60이 될 수 있다. 상기 범위에서, 고굴절층과 저굴절층이 순차적으로 적층될 경우 반사방지필름의 반사율을 낮출 수 있다.
기재층은 수분투과도가 약 10g/m2·day 이상, 예를 들면 약 10g/m2·day 내지 약 50 g/m2·day이 될 수 있다. 본 발명의 반사방지필름은 상기 수분투과도를 갖는 기재층을 포함하는 경우에도 무기 중공 입자들이 단일층 배열로 되어 있어서 반사율에 영향을 주는 수분이 무기 중공 입자들 사이에 머무르는 것을 원천적으로 차단함으로써 고습 또는 고온 고습의 환경 하에서도 반사율 상승이 없거나 반사율 상승을 최소화하여 신뢰성 및 외광 차단 효과를 높일 수 있다. 상기 수분투과도는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 KS A1013에 준하여 40℃ 및 90% 상대습도에서 측정된 값을 의미할 수 있다.
기재층은 가시광 영역에서 광 투과도가 약 80% 이상, 구체적으로 약 85% 내지 약 95%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 편광판에 사용될 수 있다. 기재층은 광학적으로 투명한 수지로 형성된 필름을 포함할 수 있다. 구체적으로, 수지는 트리아세틸셀룰로스(TAC) 등을 포함하는 셀룰로스 에스테르 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리메틸메타아크릴레이트 등을 포함하는 폴리(메트)아크릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 트리아세틸셀룰로스 등을 포함하는 셀룰로스 에스테르 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르 수지가 될 수 있다.
기재층은 무연신 필름일 수도 있으나, 상기 수지를 소정의 방법으로 연신시켜 소정 범위의 위상차를 갖는 위상차 필름 또는 등방성 광학 필름이 될 수도 있다. 일 구체예에서, 기재층은 Re가 약 8,000 nm 이상, 구체적으로 약 10,000nm 이상, 더 구체적으로 약 10,000nm 초과, 더 구체적으로 약 10,100nm 내지 약 15,000nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 무지개 얼룩이 시인되지 않게 할 수 있고, 명암비 개선층를 통해 확산된 광의 확산 효과가 더 커질 수 있다. 다른 구체예에서, 기재층은 Re가 약 60nm 이하, 구체적으로 약 0nm 내지 약 60nm, 더 구체적으로 약 40nm 내지 약 60nm의 등방성 광학필름이 될 수도 있다. 상기 범위에서 시야각을 보상하여 화상 품질을 좋게 할 수 있다. 상기 "등방성 광학필름"은 nx, ny, nz가 실질적으로 동일한 필름을 의미하며, 상기 "실질적으로 동일한"은 완전히 동일한 경우뿐만 아니라 약간의 오차를 포함하는 경우를 모두 포함한다.
기재층은 두께가 약 10 ㎛ 내지 약 150㎛, 구체적으로 약 30㎛ 내지 약 120㎛, 더 구체적으로 약 40㎛ 내지 약 100㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서 반사방지필름에 사용될 수 있다.
고굴절층(20)은 기재층 상에 형성되어, 반사방지필름의 경도를 높이고 저굴절층과 함께 반사방지필름의 반사율을 낮출 수 있다. 고굴절층은 단일층일 수도 있고 서로 다른 굴절률을 갖는 고굴절층이 2층 이상 적층될 수도 있다.
고굴절층은 저굴절층 대비 굴절률이 높다. 고굴절층은 굴절률이 약 1.53 내지 약 1.70, 예를 들면 약 1.56 내지 약 1.65가 될 수 있다. 상기 범위에서, 저굴절층이 적층될 경우 반사방지필름의 반사율을 낮출 수 있다.
고굴절층은 두께가 약 30 nm 내지 약 200 nm, 구체적으로 약 50 nm 내지 약 150 nm, 더 구체적으로 약 70 nm 내지 약 120 nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지필름에 사용될 수 있고, 경도를 확보할 수 있다.
고굴절층은 경화 후 굴절률 약 1.53 내지 약 1.70의 굴절률을 제공할 수 있는 고굴절층용 조성물로 형성될 수 있다. 고굴절층용 조성물은 굴절률이 약 1.53 내지 약 1.70, 예를 들면 약 1.55 내지 약 1.65가 될 수 있다.
일 구체예에서, 고굴절층용 조성물은 고굴절률 화합물, 상기 고굴절률 화합물보다 굴절률이 낮은 UV 경화성 화합물, 개시제, 및 무기 입자를 포함할 수 있다.
고굴절률 화합물은 UV 경화성 화합물이고, 플루오렌계, 바이페닐계, 비스페놀계, 티오페닐계, 티오벤질계, 페닐설파이드계, 티오나프탈렌계의, 고굴절률 수지, 고굴절률 모노머 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 고굴절률 화합물은 플루오렌계, 바이페닐계 화합물 중 하나 이상을 사용함으로써, 고굴절층의 굴절률을 높여 반사방지필름의 반사율을 더 낮출 수 있다.
UV 경화성 화합물은 고굴절률 화합물 대비 굴절률은 낮다. 그러나, UV 경화성 화합물은 고굴절층의 매트릭스를 형성하고, 고굴절층의 경도를 높일 수 있다. 고굴절률 화합물만 포함하는 조성물은 반사 방지 필름의 경도가 낮아져서 광학표시장치에 사용할 수 없다. UV 경화성 화합물은 UV 경화성기 예를 들면 (메트)아크릴레이트기 또는 에폭시기를 갖는 화합물이 바람직할 수 있다. UV 경화성 화합물은 2관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트계 모노머, 이로부터형성된 올리고머, 이로부터 형성된 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 예를 들면, UV 경화성 화합물은 2관능 내지 10관능의 (메트)아크릴레이트계 화합물일 수 있다.
UV 경화성 화합물은 다가 알코올과 (메트)아크릴산의 에스테르와 같은 다관능의 (메트)아크릴레이트, 또는 다가 알코올, 이소시아네이트계 화합물, (메트)아크릴산의 히드록시 에스테르로부터 합성되는 다관능의 우레탄 (메트)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있다. UV 경화성 화합물은 2관능 이상의 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함할 수 있다. 2관능의 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들어, 에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 노난디올 디(메트)아크릴레이트, 에톡시화헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 프로폭시화헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 에톡시화네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 히드록시피발린산네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 3관능 이상의 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들어, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리스2-히드록시에틸이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트, 글리세린 트리(메트)아크릴레이트 등의 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트 등의 3관능의 (메트)아크릴레이트 화합물이나, 펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 헥사(메트)아크릴레이트 등의 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물이나, 이들 (메트)아크릴레이트의 일부를 알킬기나 ε-카프로락톤으로 치환한 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다.
개시제는 고굴절률 화합물, UV 경화성 화합물을 경화시켜 고굴절층을 형성할 수 있다. 개시제는 당업자에게 알려진 통상의 광 라디칼 개시제, 광 양이온 개시제 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 특별히 제한되는 것은 아니지만, 개시제는 흡수 파장이 약 400nm 이하의 개시제를 사용함으로써, 광경화 만으로도 고굴절층의 제조가 가능하게 할 수 있다.
광 라디칼 개시제는 광 조사에 의해 라디칼을 발생시켜 경화를 촉매하는 것으로, 인계, 트리아진계, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 벤조인계, 옥심계, 페닐케톤계 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 광 양이온 개시제는 양이온과 음이온의 염을 포함할 수 있다. 양이온의 구체예로서는 디페닐요오드늄, 4-메톡시디페닐요오드늄, 비스(4-메틸페닐)요오드늄, (4-메틸페닐)[4-(2-메틸프로필)페닐]요오드늄, 비스(4-터트-부틸페닐)요오드늄, 비스(도데실페닐)요오드늄 등의 디아릴요오드늄, 트리페닐술포늄, 디페닐-4-티오페녹시페닐술포늄 등의 트리아릴술포늄, 비스[4-(디페닐술포니오)-페닐]술피드, 비스[4-(디(4-(2-히드록시에틸)페닐)술포니오)-페닐]술피드, (η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)[(1,2,3,4,5,6-η)-(1-메틸에틸)벤젠]철(1+) 등을 들 수 있다. 음이온의 구체예로서는, 테트라플루오로보레이트(BF4 -), 헥사플루오로포스페이트(PF6 -), 헥사플루오로안티모네이트(SbF6 -), 헥사플루오로아르세네이트(AsF6 -), 헥사클로로안티모네이트(SbCl6 -) 등을 들 수 있다.
무기 입자는 고굴절층에 굴절률 증가 및 경도 증가 기능을 부가할 수 있다. 무기 입자는 표면 처리되지 않은 것일 수도 있으나 표면 처리(예:(메트)아크릴레이트기)됨으로써 조성물 중 다른 성분과의 상용성을 좋게 하고 고굴절층의 경도를 더 높일 수 있다. 표면 처리는 무기 입자의 전체 표면적 중 약 5% 내지 약 50%가 될 수 있다. 상기 범위에서, UV 경화성 화합물, 고굴절률 수지와의 결합을 통해 경도 증가 효과가 있을 수 있다. 무기 입자는 비 중공의 무기 입자로서, 실리카, 지르코니아, 티타니아, 알루미나 중 하나 이상을 포함할 수 있고, 바람직하게는 지르코니아를 사용할 수 있다. 무기 입자는 평균 입경(D50)이 약 1nm 내지 약 50nm, 구체적으로 약 5nm 내지 약 20nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사 방지 필름의 광 특성 저하가 없으면서 경도 증가 효과가 있을 수 있다.
고굴절층용 조성물은 당업자에게 알려진 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 대전방지제, 소포제, 산화방지제, 자외선흡수제, 광안정제, 레벨링제 등을 더 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 첨가제는 당업자에게 알려진 통상의 종류를 포함할 수 있다. 고굴절층용 조성물은 용매를 더 포함하여 고굴절층용 조성물의 코팅성을 더 좋게 할 수 있다. 용매는 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 메틸에틸케톤 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
저굴절층(30A)은 고굴절층 상에 형성되고, 고굴절층 대비 굴절률이 낮아서 반사방지필름의 반사율을 낮출 수 있다. 저굴절층은 고굴절층에 직접적으로 형성되어 있다. 고굴절층과 저굴절층의 굴절률 차이(고굴절층의 굴절률 - 저굴절층의 굴절률)는 약 0.25 이상, 예를 들면 약 0.25 내지 약 0.5가 될 수 있다. 상기 범위에서 반사방지필름의 반사율을 낮추고 헤이즈 등의 광 특성을 좋게 할 수 있다. 저굴절층은 굴절률이 약 1.35 이하, 예를 들면 약 1.25 내지 약 1.32가 될 수 있다.
저굴절층은 평균 입경 약 70nm 내지 약 150nm의 무기 중공 입자(31)를 포함하고, 저굴절층은 무기 중공 입자의 단일층 배열을 포함할 수 있다. 이를 통해 총 두께 약 70nm 내지 약 150nm이고 이중층으로 배열된 무기 중공 입자를 포함하는 저굴절층 대비 공극이 없어 무기 중공 입자 사이의 공극에 외부의 수분이 침투하여 반사율이 상승되는 것을 현저하게 차단할 수 있다. 이때 상기 "무기 중공 입자의 이중층 배열"은 이중층 중 어느 하나를 제1층, 다른 하나를 제2층이라고 할 때 제1층과 제2층에 포함된 각각의 무기 중공 입자의 중심이 서로 동축 상에 있는 경우뿐만 아니라 서로 어긋나 있는 경우도 포함한다.
예를 들면 상기 무기 중공 입자는 평균입경이 약 70, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 77, 78, 79, 80, 81, 82, 83, 84, 85, 86, 87, 88, 89, 90, 91, 92, 93, 94, 95, 96, 97, 98, 99, 100, 101, 102, 103, 104, 105, 106, 107, 108, 109, 110, 111, 112, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 121, 122, 123, 124, 125, 126, 127, 128, 129, 130, 131, 132, 133, 134, 135, 136, 137, 138, 139, 140, 141, 142, 143, 144, 145, 146, 147, 148, 149 또는 150nm 일 수 있다.
일 구체예에서, 무기 중공 입자는 서로 이격되지 않고 연속적으로 배열될 수 있다. 이를 통해 저굴절층의 최표면 즉 반사방지필름의 최표면으로부터 외부의 수분이 침투하는 것을 억제할 뿐만 아니라 기재층 및/또는 고굴절층으로부터 침투될 수 있는 수분에 의한 반사율 상승도 억제할 수 있다.
일 구체예에서, 무기 중공 입자는 서로 이격되지 않고 연속적으로 배열되고 반사방지필름의 최외곽 표면을 형성할 수 있다. 이를 통해 외부광이 중공 무기 입자에 직접적으로 반사되므로 반사율을 더 낮출 수 있다.
일 구체예에서, 무기 중공 입자의 단일층 배열은 상기 고굴절층에 직접적으로 접하여 형성될 수 있다.
무기 중공 입자는 하기 상술되는 바인더 등의 경화물(32)에 의해 저굴절층 내에 고정되어 있다.
저굴절층의 두께는 무기 중공 입자의 평균 입경의 약 100% 내지 약 120%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 고습 또는 고온 고습 시에도 반사율 상승폭을 낮추는 효과 및 반사율을 낮출 수 있다. 도 1은 저굴절층의 두께와 중공 무기 입자의 평균 직경이 실질적으로 동일한 경우를 나타낸 것이다. 일 구체예에서, 저굴절층은 두께가 약 70nm 내지 약 153nm, 구체적으로 약 70nm 내지 약 150m가 될 수 있다. 상기 범위에서 반사방지 필름에 사용될 수 있다. 상기 "저굴절층의 두께"는 저굴절층의 최하부면에서부터 최외곽표면까지의 거리를 의미한다.
무기 중공 입자는 구형 또는 비구형의 입자를 포함할 수 있으나 바람직하게는 구형 입자를 사용함으로써 반사방지필름의 최표면에서 반사율이 균일하게 나오고 표면 균일도를 높일 수 있다.
무기 중공 입자는 중공 구조를 가져 굴절률이 낮음으로써 저굴절층의 굴절률을 낮출 수 있다. 무기 중공 입자의 굴절률은 약 1.4 이하, 예를 들면 약 1.2 내지 약 1.38이 될 수 있다. 무기 중공 입자는 중공 실리카를 사용할 수 있다. 무기 중공 입자는 표면 처리되지 않은 무처리 중공 입자를 사용하거나, UV 경화성 작용기로 표면 처리된 것일 수 있다.
무기 중공 입자는 총 굴절층 중 약 20중량% 내지 약 70중량%, 바람직하게는 약 40중량% 내지 약 60중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 저굴절층의 굴절률을 낮추어 반사방지필름의 반사율을 저감시킬 수 있다.
저굴절층은 무기 중공 입자를 포함하는 저굴절층용 조성물로 형성될 수 있다. 일 구체예에서, 저굴절층용 조성물은 무기 중공 입자; 및 UV 경화성 화합물을 포함하는 바인더를 포함할 수 있다. 저굴절층용 조성물은 굴절률을 낮추기 위해 불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머를 더 포함할 수도 있다. 저굴절층용 조성물은 바인더 및/또는 불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머를 경화시키기 위해 개시제를 더 포함할 수도 있다.
UV 경화성 화합물은 저굴절층의 매트릭스를 형성하고 저굴절층에 무기 중공 입자를 고정시켜 줄 수 있다. UV 경화성 화합물은 불소 비함유 모노머 또는 그의 올리고머를 포함할 수 있다. 불소 비함유 모노머 또는 그의 올리고머는 2관능 이상 예를 들면 2관능 내지 10관능의 (메트)아크릴레이트계 화합물일 수 있다. 구체적으로, 불소 비함유 모노머는 상술한 다가 알코올과 (메트)아크릴산의 에스테르와 같은 다관능의 (메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다.
개시제는 상기 고굴절층용 조성물에서 상술된 것과 동일 또는 이종을 사용할 수 있다.
첨가제는 저굴절층에 방오성 기능 및 슬림성을 부가하는 것으로, 당업자에게 알려진 통상의 첨가제를 사용할 수 있다. 첨가제는 불소 함유 첨가제, 실리콘계 첨가제 중 하나 이상을 포함할 수 있다. (함유 중량에 대하여는 확인이 어려움)
저굴절층용 조성물은 고형분 기준 무기 중공 입자 약 20중량% 내지 약 70중량%, UV 경화성 화합물 약 10중량% 내지 약 50중량%, 불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머 약 5중량% 내지 약 25중량%, 개시제 약 2중량% 내지 약 5중량%, 및 첨가제 약 1중량% 내지 약 10중량%를 포함할 수 있다. 상기 범위에서, 연필 경도 약 2H 이상, 지문방지 효과를 얻을 수 있다. 바람직하게는, 저굴절층용 조성물은 고형분 기준 무기 중공 입자 약 40중량% 내지 약 60중량%, UV 경화성 화합물 약 20중량% 내지 약 40중량%, 불소 함유 모노머 또는 그의 올리고머 약 5중량% 내지 약 15중량%, 개시제 약 2중량% 내지 약 4중량%, 및 첨가제 약 2중량% 내지 약 7중량%를 포함할 수 있다.
저굴절층용 조성물은 당업자에게 알려진 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 소포제, 산화방지제, 자외선흡수제, 광안정제, 레벨링제 등을 더 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
저굴절층용 조성물은 용매를 더 포함하여 코팅성을 좋게 할 수 있다. 용매는 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
이하, 본 발명의 다른 실시예의 반사방지필름을 도 2를 참고하여 설명한다.
도 2를 참조하면, 반사방지필름(200)은 무기 중공 입자(31)의 단일층 배열을 포함하고, 무기 중공 입자의 단일층 배열 상에 바인더 등의 경화물(32)이 더 형성되어 있는 점을 제외하고는 본 발명의 일 실시예의 반사방지필름과 실질적으로 동일하다.
이하, 본 발명의 또 다른 실시예의 반사방지필름을 도 3을 참고하여 설명한다.
도 3을 참고하면, 반사방지필름(300)은 기재층(10)과 고굴절층(20) 사이에 하드코팅층(40)이 더 형성되어 있는 점을 제외하고는 본 발명의 반사방지필름과 동일하다.
하드코팅층(40)은 굴절률이 약 1.50 이상 약 1.60 미만, 예를 들면 약 1.50 내지 약 1.599가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지필름의 반사율을 낮출 수 있다.
하드코팅층(40)은 폴리우레탄계, 우레탄 (메트)아크릴레이트계, 에폭시계, 실리콘계 등의 수지로 형성될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
하드코팅층(40)은 두께가 약 5㎛ 내지 약 20㎛, 예를 들면 약 7㎛ 내지 약 15㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지필름에 사용될 수 있다.
이하, 본 발명의 편광판을 설명한다.
본 발명의 편광판은 상술한 본 발명의 반사방지필름을 포함할 수 있다.
일 구체예에서, 편광판은 편광자, 상기 편광자의 광출사면에 형성된 본 발명의 반사방지필름, 및 상기 편광자의 광입사면에 형성된 편광자 보호층을 포함할 수 있다. 편광판은 본 발명의 반사방지필름을 포함함으로써 반사율이 약 0.5% 이하, 예를 들면 약 0.2% 내지 약 0.5%가 될 수 있고, 하기 식 2의 반사율 변화율이 약 100% 이하, 예를 들면 약 75% 이하, 다른 예를 들면 약 70% 이하가 될 수 있다:
<식 2>
반사율 변화율 = │R3 - R2│/ R2 x 100
(상기 식 2에서, R2은 편광판의 최초 반사율(단위:%) 이며, R3는 상기 편광판을 60℃ 및 95% 상대습도에서 72시간 동안 방치한 후 상기 편광판의 반사율(단위:%) 이다).
상기 범위에서, 고습 또는 고온 고습에 의해서도 반사율 상승이 적어서 신뢰성을 높일 수 있다.
상기 식 2에서 R3은 약 0.7% 이하, 예를 들면 약 0.2% 내지 약 0.7%, 다른 예를 들면 약 0.2% 내지 약 0.6%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 편광판에 의한 화면 품질 개선 효과를 얻을 수 있다.
편광자는 액정패널로부터 입사된 광을 편광시켜 투과시킬 수 있다.
편광자는 폴리비닐알콜계 필름을 1축 연신하여 제조되는 폴리비닐알콜계 편광자, 또는 폴리비닐알콜계 필름을 탈수하여 제조되는 폴리엔계 편광자를 포함할 수 있다. 편광자는 두께가 약 5㎛ 내지 약 40㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학표시장치에 사용될 수 있다.
편광자 보호층은 광학적으로 투명한, 보호 필름 또는 보호 코팅층 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 보호층이 보호 필름 타입일 경우 광학적으로 투명한 수지로 형성된 보호 필름을 포함할 수 있다. 보호 필름은 수지를 용융 및 압출하여 형성될 수 있다. 필요할 경우에는 연신 공정을 더 추가할 수도 있다. 상기 수지는 트리아세틸셀룰로스(TAC) 등을 포함하는 셀룰로스 에스테르계 수지, 비정성 환상 폴리올레핀(cyclic olefin polymer, COP) 등을 포함하는 고리형 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등을 포함하는 폴리에스테르계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리술폰계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 비환형-폴리올레핀계 수지, 폴리메틸메타아크릴레이트 수지 등을 포함하는 폴리아크릴레이트계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 아크릴계 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
보호층이 보호 코팅층 타입일 경우는 편광자에 대한 양호한 밀착성, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 내구성을 높일 수 있다. 일 구체예에서, 보호 코팅층은 활성 에너지선 경화성 화합물과 중합 개시제를 포함하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물로 형성될 수 있다. 활성 에너지선 경화성 화합물은 양이온 중합성의 경화성 화합물, 라디칼 중합성의 경화성 화합물, 우레탄 수지, 실리콘계 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 양이온 중합성 경화성 화합물은 분자 내에 적어도 하나의 에폭시기를 갖는 에폭시계 화합물, 분자 내에 적어도 하나의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄계 화합물이 될 수 있다. 라디칼 중합성의 경화성 화합물은 분자 내에 적어도 하나의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴계 화합물이 될 수 있다.
보호층의 두께는 약 5㎛ 내지 약 200㎛, 구체적으로 약 30㎛ 내지 약 120㎛, 보호 필름 타입의 경우 약 30㎛ 내지 약 100㎛가 될 수가 있고, 보호코팅층 타입의 경우 약 5㎛ 내지 약 50㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서 발광표시장치에 사용할 수 있다.
본 발명의 액정표시장치는 본 발명의 편광판을 액정패널에 대해 시인측 편광판으로 포함할 수 있다. 상기 "시인측 편광판"은 액정패널에 대해 화면쪽 즉 광원쪽에 대향하여 배치되는 것이다.
일 구체예에서, 액정표시장치는 백라이트 유닛, 제1편광판, 액정패널, 제2편광판이 순차적으로 적층되고, 제2편광판은 본 발명의 편광판을 포함할 수 있다. 액정패널은 VA(vertical alignment) 모드, IPS 모드, PVA(patterned vertical alignment) 모드 또는 S-PVA(super-patterned vertical alignment) 모드를 채용할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
이하, 본 발명의 바람직한 실방시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되지는 않는다.
실시예 1
폴리비닐알콜 필름을 60℃에서 3배 연신하고 요오드를 흡착시킨 후 40℃의 붕산 수용액에서 6배 연신하여 편광자(두께: 23㎛)를 제조하였다.
제조한 편광자의 일면에 반사방지필름 40CXR20(Toppan社)를 UV 접착제를 사용하여 접착시켰다. 편광자의 다른 일면에는 ZF12 필름(ZEON社)를 UV계 접착제를 사용하여 접착시켜 편광판을 제조하였다. 반사방지필름 40CXR20의 구체적인 사양을 하기 표 1에 나타내었다.
실시예 2
실시예 1에서 반사방지필름으로 40CXR20(Toppan社) 대신에 하기 표 1의 사양을 갖는 반사방지필름을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
비교예 1
실시예 1에서 반사방지필름으로 40CXR20(Toppan社) 대신에 DSG-17(Z)PET(DNP社)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
비교예 2
실시예 1에서 반사방지필름으로 40CXR20(Toppan社) 대신에 DSG-17(Z)TG60(DNP社)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
비교예 3
실시예 1에서 반사방지필름으로 40CXR20(Toppan社) 대신에 하기 표 3의 사양을 갖는 반사방지 필름(DNP社)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 편광판을 제조하였다.
하기 표 1에서 반사방지필름의 반사율, 고온 고습 후 반사율은 하기 (1), (2)에서 편광판 대신에 반사방지필름을 사용하여 동일한 방법으로 평가하였다.
Figure PCTKR2018015858-appb-T000001
* 두께: 저굴절층 중 중공 실리카층의 전체 두께
* 이중층 중 어느 하나를 제1층, 다른 하나를 제2층이라고 할 때 제1층과 제2층에 포함된 각각의 무기 중공 입자의 중심이 서로 동축 상에 있는 경우를 이중층 I, 서로 어긋나 있는 경우를 이중층 II로 표시함.
실시예와 비교예에서 제조한 편광판에 대하여 하기 표 2의 물성을 평가하였다.
(1) 반사율(단위: %): 실시예와 비교예의 편광판 중 ZF12 필름에 아크릴계 점착제를 사용하여 블랙 아크릴 판(PH10)를 라미네이트하여 시편을 제조하였다. 분광광도계(Spectrophotometer, Konica Minolta, CM-2600D)로 SCI 반사 모드(광원: C광원, 광원 구경: Φ4mm, 측정 시야각: 2°)에서 전파장에서의 반사율을 얻었다.
(2) 고온 고습 후 반사율(단위: %): (1)과 동일한 방법으로 제조한 시편을 60℃ 및 95% 상대습도에서 72시간 동안 방치한 후 (1)과 동일한 방법으로 반사율을 측정하였다.
(3) 편광도, 투과율(단위: %): 실시예와 비교예의 편광판에 대하여 V-7100 분광 광도계를 사용해서 편광판의 편광도와 투과율을 측정하였다.
Figure PCTKR2018015858-appb-T000002
상기 표 2에서와 같이, 본 실시예에 따른 편광판은 고온 고습 또는 고습에서 장시간 방치 후에도 반사율이 상승되지 않거나 반사율 상승을 최소화시킬 수 있으며, 중공 입자가 이중층으로 도포된 종전 반사방지필름에 비해 편광도 및 투과도가 변화되지 않았다.
반면에, 저굴절층 중 중공 실리카층의 전체 두께가 실시예 대비 유사하지만 중공 입자가 이중층으로 적층된 비교예 1 내지 비교예 3은 고온 고습 또는 고습에서 장시간 방치 후 투과율 변화가 발생하였으며, 반사율 변화율이 상대적으로 높았다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims (15)

  1. 기재층, 고굴절층 및 저굴절층이 순차적으로 적층되고,
    상기 저굴절층은 평균 입경 약 70nm 내지 약 150nm의 무기 중공 입자를 포함하고, 상기 저굴절층은 상기 무기 중공 입자의 단일층 배열을 포함하는 것인, 반사방지필름.
  2. 제1항에 있어서, 상기 단일층의 두께는 상기 무기 중공 입자의 평균 입경을 약 Xnm라고 할 때 약 Xnm 내지 약 Xnm + 3nm인 것인, 반사방지필름.
  3. 제1항에 있어서, 상기 무기 중공 입자는 중공 실리카를 포함하는 것인, 반사방지필름.
  4. 제1항에 있어서, 상기 저굴절층의 두께는 상기 무기 중공 입자의 평균 입경의 약 100% 내지 약 120%인 것인, 반사방지필름.
  5. 제1항에 있어서, 상기 무기 중공 입자는 상기 저굴절층 중 약 20중량% 내지 약 70중량%로 포함되는 것인, 반사방지필름.
  6. 제1항에 있어서, 상기 무기 중공 입자는 서로 이격되지 않고 연속적으로 배열된 것인, 반사방지필름.
  7. 제1항에 있어서, 상기 무기 중공 입자는 상기 반사방지필름의 최외곽 표면을 형성하는 것인, 반사방지필름.
  8. 제1항에 있어서, 상기 무기 중공 입자의 상기 단일층 배열은 상기 고굴절층에 직접적으로 접하여 형성된 것인, 반사방지필름.
  9. 제1항에 있어서, 상기 기재층과 상기 고굴절층 사이에 하드코팅층이 더 형성된 것인, 반사방지필름.
  10. 제1항에 있어서, 상기 반사방지필름은 하기 식 1의 반사율 변화율이 약 100% 이하인 것인, 반사방지필름:
    <식 1>
    반사율 변화율 = │R1 - R0│/ R0 x 100
    (상기 식 1에서, R0은 반사방지필름의 최초 반사율(단위:%),
    R1은 상기 반사방지필름을 60℃ 및 95% 상대습도에서 72시간 동안 방치한 후 상기 반사방지필름의 반사율(단위:%) 이다).
  11. 제10항에 있어서, 상기 식 1에서 R1은 약 0.7% 이하인 것인, 반사방지필름.
  12. 편광자; 및 상기 편광자의 광출사면에 형성된 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항의 반사방지필름을 포함하는 것인, 편광판.
  13. 제12항에 있어서, 상기 편광판은 하기 식 2의 반사율 변화율이 약 100% 이하인 것인, 편광판.
    <식 2>
    반사율 변화율 = │R3 - R2│/ R2 x 100
    (상기 식 2에서, R2는 편광판의 최초 반사율(단위:%),
    R3는 상기 편광판을 60℃ 및 95% 상대습도에서 72시간 동안 방치한 후 상기 편광판의 반사율(단위:%) 이다).
  14. 제12항에 있어서, 상기 편광자의 광입사면에 형성된 편광자 보호층을 더 포함하는 것인, 편광판.
  15. 제12항의 편광판을 포함하는 것인, 광학표시장치.
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