WO2019061885A1 - 显示面板和显示装置 - Google Patents

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李亚锋
邬金芳
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Abstract

一种显示面板（100）及显示装置，包括显示区（10）和位于显示区（10）两侧的非显示区（20）、衬底基板（11）、多个薄膜晶体管（12）、多条触控信号线（13）、第一测试信号线区域（23）、阵列基板行驱动电路（24）、第二测试信号线区域（25）和接地线区域（26）；薄膜晶体管（12）与触控信号线（13）之间有绝缘层（14）；薄膜晶体管（12）包括栅极（121）、栅极绝缘层（122）、源极（123）和漏极（124）；非显示区（20）包括第一侧边（21）和第二侧边（22）；第一测试信号线区（23）域包括第一侧（231）和第二侧（232）；第一侧（231）与第一侧边（21）相邻，阵列基板行驱动电路（24）分别与第一测试信号线区域（23）和第二测试信号线区域（24）形成第一间隙（27）和第二间隙（28），接地线区域（26）与第二侧边（22）之间有第三间隙（29），接地线区域（26）在衬底基板（11）上的正投影部分位于第二测试信号线区域（25）在衬底基板（11）的投影内。

Description

显示面板和显示装置
本发明要求2017年9月26日递交的发明名称为“显示面板和显示装置”的申请号2017108824484的在先申请优先权，上述在先申请的内容以引入的方式并入本文本中。
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
在目前照明和显示领域中，由于有低温多晶硅(Low Temperature Poly-Silicon，LIPS)高迁移率的特点，越来越多的被广泛研究用于开发照明产品以及面板行业中，以达到超窄边框的行业需求。
对于超窄边框的显示面板，抗静电击打能力是检测显示面板品质的一个重要因素。在目前的显示面板行业，主要通过在面板四周加一圈接地线，将驱动信号都包裹在接地线所围成的环路里面，在对面板进行抗静电能力测试时，静电会被接地线环路释放掉，但是因为抗静电击打能力与接地线距离面板边界的距离、接地线的宽度以及接地线与信号的距离成正比，超窄边框的设计则会导致三者的宽度向更窄发展，这也就大大降低了面板的抗静电击打能力。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示面板和显示装置，用于提高超窄边框显示面板和显示装置的抗静电击打能力。
本发明所述显示面板包括显示区和位于所述显示区两侧的非显示区；
所述显示面板还包括衬底基板、多个位于衬底基板上的薄膜晶体管、多条触控信号线、第一测试信号线区域、阵列基板行驱动电路、第二测试信号线区域和接地线区域；
其中，所述薄膜晶体管与所述触控信号线之间有绝缘层，所述薄膜晶体管包括栅极、栅极绝缘层、源极和漏极；
所述非显示区包括第一侧边及与第一侧边间隔设置的第二侧边；所述第一测试信号线区域包括第一侧及与第一侧相对设置的第二侧；位于所述非显示区内，所述第一侧边与所述第一测试信号线区域的第一侧相邻，所述第一测试信号线区域的第二侧与所述阵列基板行驱动电路之间形成有第一间隙，所述阵列基板行驱动电路与所述第二测试信号线区域之间形成有第二间隙，所述接地线区域与所述第二侧边之间形成有第三间隙；所述接地线区域在所述衬底基板上的正投影部分部分位于所述第二测试信号线区域在所述衬底基板的投影内。
其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域与所述源极和漏极形成于同一层。
其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域与所述触控信号线形成于同一层。
其中，所述第二测试信号线区域与所述源极和漏极形成于同一层，所述接地线区域与所述触控信号线形成于同一层。
其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域形成于所述源极和漏极与所述触控信号线双层的交叠处，所述源极和漏极与所述触控信号线通过钻孔短接双层交叠在一起。
本发明还提供一种显示装置，所述显示装置包括上述显示面板。
其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域与所述源极和漏极形成于同一层。
其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域与所述触控信号线形成于同一层。
其中，所述第二测试信号线区域与所述源极和漏极形成于同一层，所述接地线区域与所述触控信号线形成于同一层。
其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域形成于所述源极和漏极与所述触控信号线双层的交叠处，所述源极和漏极与所述触控信号线通过钻孔短接双层交叠在一起。
本发明提供的一种显示面板和显示装置将用于测试不影响面板最终显示效果的测试信号线区域移至外侧，通过接地线区域与这部分测试信号线区域交叠，在所述面板边框一定的情况下，增加接地线区域距离临近信号的距离，从 而提高了显示面板和显示装置的抗静电击打能力。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明的显示面板示意图。
图2是图1所述显示区侧面结构示意图。
图3是图1所述显示区中薄膜晶体管的侧面结构示意图。
图4是图1所示非显示区放大示意图。
图5是图4所示接地线和第二信号测试线区域第一种实施方式的侧面结构示意图。
图6是图4所示接地线和第二信号测试线区域第二种实施方式的侧面结构示意图。
图7是图4所示接地线和第二信号测试线区域第三种实施方式的侧面结构示意图。
图8是图4所示接地线和第二信号测试线区域第四种实施方式的侧面结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1，本发明实施例提供一种显示面板，用于提高窄边框面板的抗静电击打能力。显示面板100包括显示区10和非显示区20。其中，所述显示面板100包括且不限于低温多晶硅面板、非晶硅面板和金属氧化物面板。
请参阅图2，所述显示区10包括衬底基板11、多个位于所述衬底基板11 上的薄膜晶体管12(图2中仅示出一个)和多条触控信号线13。其中，所述衬底基板11可以是玻璃或者透明塑料，所述薄膜晶体管12在所述衬底基板上间隔设置且以阵列方式排列。所述显示区还包括平坦层14和绝缘层15，所述平坦层14位于所述薄膜晶体管12以及触控信号线13之间，所述绝缘层15覆盖所述触控信号线13。
请参阅图3，所述薄膜晶体管12包括：栅极121、栅极绝缘层122、源极123和漏极124，所述栅极绝缘层122位于所述栅极12与所述源极123和所述漏极133之间。其中，所述栅极121控制所述薄膜晶体管12的开关，所述源极123和漏极14之间形成导电沟道，用于所述薄膜晶体管12的电导作用。所述栅极121、源极123和漏极124的材质为金属，例如，可为铜、铝、铜合金或铝合金中的任一的单层或其中几种的叠层；所述栅极绝缘层122的材料包括氮化硅(SiNx)和氧化硅(SiOx)。
需要说明的是，为了便于描述，仅示出了与本发明实施例相关的显示区的部分结构，而非所述显示区的全部结构。
请参阅图4，所述非显示区20包括第一侧边21、第二侧边22、第一测试信号线区域23，阵列基板行驱动电路24、第二测试信号线区域25和接地线区域26。所述第一测试信号线区域23包括第一侧231及与第一侧相对设置的第二侧232，所述第一测试信号线区域23的第一侧231与所述第二侧边21接触，所述第一测试信号线区域23的第二侧232与所述阵列基板行驱动电路24之间形成有第一间隙27；所述阵列基板行驱动24与所述第二测试信号线区域25之间形成有第二间隙28；所述接地线区域26与所述第二侧边22之间形成有第三间隙29。其中，所述接地线区域26在所述衬底基板11上的正投影部分位于所述第二测试信号线区域25在所述衬底基板11的投影内。。
所述第一测试信号线区域23用于放置测试与所述显示面板100最终显示效果相关的信号的信号线；所述第二测试信号线区域25用于放置测试与所述显示面板100最终显示效果无关的信号(如阵列基板测试信号、显示面板测试信号和触控信号等)的信号线，这些信号即使被静电击伤，也不会对面板的最终显示效果产生影响。所述接地线区域26用于放置接地线，所述接地线区域26围绕所述显示区域10形成环路，将所述第一测试线号线区域23和所述阵 列基板行驱动电路24包裹在内，在对所述显示面板100进行抗静电击打能力的测试过程中，静电会被环路经所述接地线区域26内的接地线释放掉，从而保护所述显示面板100不被静电击伤。
一般来说，所述接地线区域26与所述阵列基板行驱动24之间的距离A、所述接地线区域26的宽度B以及所述第三间隙29的宽度C是影响所述显示面板100抗静电击打能力的重要因素。在B、C一定的情况下，A越大，面板抗静电击打能力就越强；在A、C一定的情况下，B越大，面板抗静电击打能力就越强；同样在A、B一定的情况下，C越大，面板抗静电击打能力就越强，其中，第三间隙29的宽度C对所述显示面板100抗静电击打能力的影响最大。本实施例中，将放置有不影响显示面板测试信号线的第二测试信号线区域25移动至外侧，通过接地线区域26与其交叠，在显示面板的边界一定的情况下，此时所述接地线区域26与所述阵列基板行驱动24之间的距离A和所述接地线区域26的宽度B没有发生变化，而增加了所述第三间隙29的宽度C，从而提高了所述显示面板100的抗静电击打能力。
本实施例第一种实施方式为所述第二测试信号线区域25与所述栅极121形成在同一层，所述接地线区域26与所述源极123和漏极124形成在同一层，如图5所示。
本实施例第二种实施方式为所述第二测试信号线区域25与所述栅极121形成于同一层，所述接地线区域26与所述触控信号线13形成于同一层，如图6所示。
本实施例第三种实施方式为所述第二测试信号线区域25与所述源极123和漏极124形成于同一层，所述接地线区域26连接与所述触控信号线13形成于同一层，如图7所示。
本实施例第四种实施方式为所述第二测试信号线区域25与所述栅极121形成在同一层，所述接地线区域26形成于所述源极123和漏极124与所述触控信号线13双层的交叠处。其中，所述源极123和漏极124与所述触控信号线13的走线通过钻孔短接双层交叠在一起，如图8所示。
与现有技术相比，本发明将显示面板中用于放置测试不影响面板最终显示效果的测试信号线区域移动至外侧，通过接地线区域与这部分测试信号线区域 交叠的方式，在所述显示面板边框一定的情况下，增加了接地线区域与显示面板边界的宽度，从而提高了显示面板的抗静电击打能力。
本发明还提供一种显示装置，所述显示装置包括上述显示面板100和背光模组。所述背光模组贴合于所述显示面板100背面，为所述显示面板100提供光源。
本发明提供的显示装置将原来显示面板中用于放置测试不影响显示面板最终显示效果的测试信号线区域移动至外侧，并将接地线区域与这部分测试信号线区域交叠，在显示面板边框一定的情况下，增加了接地线区域与显示面板边界的宽度，从而提高了显示装置的抗静电击打能力。以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。

Claims (10)

  1. 一种显示面板，其中，包括：显示区和位于所述显示区两侧的非显示区；
    所述显示面板还包括衬底基板、多个位于衬底基板上的薄膜晶体管、多条触控信号线、第一测试信号线区域、阵列基板行驱动电路、第二测试信号线区域和接地线区域；
    其中，位于显示区内，所述薄膜晶体管与所述触控信号线之间有绝缘层，所述薄膜晶体管包括栅极、栅极绝缘层、源极和漏极；
    所述非显示区包括第一侧边及与第一侧边间隔设置的第二侧边；所述第一测试信号线区域包括第一侧及与第一侧相对设置的第二侧；位于所述非显示区内，所述第一侧边与所述第一测试信号线区域的第一侧相邻，所述第一测试信号线区域的第二侧与所述阵列基板行驱动电路之间形成有第一间隙，所述阵列基板行驱动电路与所述第二测试信号线区域之间形成有第二间隙，所述接地线区域与所述第二侧边之间形成有第三间隙；
    所述接地线区域在所述衬底基板上的正投影部分位于所述第二测试信号线区域在所述衬底基板的正投影内。
  2. 如权利要求1所述的显示面板，其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域与所述源极和漏极形成于同一层。
  3. 如权利要求1所述的显示面板，其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域与所述触控信号线形成于同一层。
  4. 如权利要求1所述的显示面板，其中，所述第二测试信号线区域与所述源极和漏极形成于同一层，所述接地线区域与所述触控信号线形成于同一层。
  5. 如权利要求1所述的显示面板，其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域形成于所述源极和漏极与所述触控信号线双层的交叠处，所述源极和漏极与所述触控信号线通过钻孔短接双层交叠在一起。
  6. 一种显示装置，其中，包括显示面板，所述显示面板，包括：显示区 和位于所述显示区两侧的非显示区；
    所述显示面板还包括衬底基板、多个位于衬底基板上的薄膜晶体管和多条触控信号线、第一测试信号线区域、阵列基板行驱动电路、第二测试信号线区域、接地线区域；
    其中，位于显示区内，所述薄膜晶体管与所述触控信号线之间有绝缘层，所述薄膜晶体管包括栅极、栅极绝缘层、源极和漏极；
    所述非显示区包括第一侧边及与第一侧边间隔设置的第二侧边；
    所述第一测试信号线区域包括第一侧及与第一侧相对设置的第二侧；位于所述非显示区内，所述第一侧边与所述第一测试信号线区域的第一侧相邻，所述第一测试信号线区域的第二侧与所述阵列基板行驱动电路之间形成有第一间隙，所述阵列基板行驱动电路与所述第二测试信号线区域之间形成有第二间隙，所述接地线区域与所述第二侧边之间形成有第三间隙；
    所述接地线区域在所述衬底基板上的正投影部分位于所述第二测试信号线区域在所述衬底基板的正投影内。
  7. 如权利要求6所述的显示装置，其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域与所述源极和漏极形成于同一层。
  8. 如权利要求6所述的显示装置，其中，所述第二测试信号线区域与与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域与所述触控信号线形成于同一层。
  9. 如权利要求6所述的显示装置，其中，所述第二测试信号线区域与所述源极和漏极形成于同一层，所述接地线区域与所述触控信号线形成于同一层。
  10. 如权利要求6所述的显示装置，其中，所述第二测试信号线区域与所述栅极形成于同一层，所述接地线区域形成于所述源极和漏极与所述触控信号线双层的交叠处，所述源极和漏极与所述触控信号线通过钻孔短接双层交叠在一起。
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