WO2019010909A1 - 光源装置及投影系统 - Google Patents

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胡飞
郭祖强
徐梦梦
李屹
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深圳市光峰光电技术有限公司
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Abstract

一种光源装置(100)及投影系统,光源装置(100)包括光源(110)和波长转换元件(130),波长转换元件(130)包括像素单元阵列,像素单元阵列包括与图像像素一一对应的像素单元(132),光源(110)发出照射至像素单元(132)的一条或多条激发光光束(L4),其中一条激发光光束(L4)在一个时刻仅照射至一个像素单元(132),像素单元(132)设置有波长转换材料,波长转换材料吸收照射至其上的激发光(L4),并产生受激光(L5)。光源装置(100)减小了激发光(L4)的损失,提高了激发光(L4)及波长转换材料的利用率。

Description

光源装置及投影系统 技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种光源装置及投影系统。
背景技术
本部分旨在为权利要求书中陈述的本发明的具体实施方式提供背景或上下文。此处的描述不因为包括在本部分中就承认是现有技术。
在目前的显示领域中,显示方法主要利用DMD(Digital Micro-mirror Device,微反射晶片)或LCD(Liquid Crystal Display,液晶屏)作为光调制器,对照明光进行调制从而得到图像光。此外,以DMD或LCD为技术基础的显示设备在使用时,损失大量光,制约了光亮度显示的上限。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种光利用率高的光源装置及投影系统。
一种光源装置,包括:光源和波长转换元件,所述波长转换元件包括像素单元阵列,所述像素单元阵列包括与图像像素一一对应的像素单元,所述光源发出照射至所述像素单元的一条或多条激发光光束,其中一条激发光光束在一个时刻仅照射至一个所述像素单元,所述像素单元设置有波长转换材料,所述波长转换材料吸收照射至其上的激发光,并产生受激光。
一种投影系统,包括如上所述的光源装置。
本发明提供所述光源装置及所述投影系统,所述光源发出的其中一条激发光光束在一个时刻仅照射至一个所述像素单元,并且每个所述像素单元与图像像素一一对应,减小了激发光的损失,提高了所述激发光及所述波长转换材料的利用率。
附图说明
图1为本发明提供的第一实施例中光源装置的结构示意图。
图2为如图1所示的波长转换元件的剖视图。
图3为如图1所示的光源出射的光源光发光截面发散角分布曲线示意图。
图4为如图1所示的第一柱面微透镜出射的第一校正光发光截面发散角分布曲线示意图。
图5为如图1所示的第二柱面微透镜出射的第二校正光发光截面发散角分布曲线示意图。
图6为如图1所示的光源出射的光源光光通量随驱动电流变化曲线。
图7为如图1所示的波长转换元件出射的受激光光通量随激发光光通量变化曲线。
图8为本发明提供的第二实施例中的波长转换元件的剖视图。
图9为本发明提供的第三实施例中光源装置的结构示意图。
图10为本发明提供的第四实施例中光源装置的结构示意图。
图11为本发明提供的第五实施例中光源装置的结构示意图。
主要元件符号说明
光源装置 100、300、400、500
光源 110、310、410、510
电路板 111、411
发光体阵列 112、312
发光体 112a、312a、512a
光学组件 120、220、320、420
聚集透镜组件 115、315
空间光调制器 415
震镜组件 515
第一柱面微透镜阵列 115a
第二柱面微透镜阵列 115b
中继透镜 115c
准直透镜 315a
震镜 421、422
波长转换元件 130、230、330、430
基板 131、231
像素单元 132、232、
光学膜片 133、233、333
光学耦合层 234
热沉 235
散热器 140
光源光 L1、N1、P1
光源光光束 Q1
第一校正光 L2
第二校正光 L3
激发光光束阵列 L4、M4、N4、P4
激发光光束 Q4
受激光 L5、M5、P5、Q5
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
第一实施例
请参阅图1,图1为本发明提供的第一实施例中光源装置100的结构示意图。光源装置100能够应用于投影系统以提供照明光。所述光源装置100包括光源110和波长转换元件130。光源110产生激发光光束阵列L4,激发光光束阵列L4激发波长转换元件130得到受激 光L5。
请结合图1进一步参阅图2,图2为如图1所示的波长转换元件130的剖视图。波长转换元件130包括基板131、像素单元阵列和光学膜片133。
基板131在紫外/可见光区域具有高反射率,可以为镜面反射材料如高反铝、银等高反射率金属,也可以为漫反射材料如含有散射粒子的硅胶、陶瓷等。基板131的主延伸平面上设置有阵列化的通孔,所述通孔贯穿基板131的厚度方向,所述通孔的截面形状可以为矩形、圆形、三角形或其他形状。
本实施例中,像素单元阵列包括10行10列的像素单元132,待显示图像具有10行10列的图像像素,像素单元132与图像像素一一对应。每行像素单元132在波长转换元件130表面的延伸方向为第一方向,每列像素单元132在波长转换元件130表面的延伸方向为第二方向。像素单元阵列中每个像素单元132包括波长转换材料,所述波长转换材料可吸收具有第一波长分布的入射光,并将其转换为第二波长分布的光。所述第一波长分布的光对应激发光光束阵列L4的颜色光,所述第二波长分布的光对应受激光L5的颜色光。本实施例中,激发光光束阵列L4为蓝色光,受激光L5为黄色光,所述第一波长分布的光为蓝色光但不限于蓝色光,所述第二波长分布的光为黄色光但不限于黄色光。在其他优选实施例中,不同像素单元132发出的受激光L5的波长分布可以相同或不同。即像素单元阵列可以分区段设置对应发出不同颜色受激光L5的波长转换材料,激发光光束阵列L4激发像素单元阵列并能够得到至少一种颜色的受激光L5。所述波长转换材料包括荧光粉、荧光陶瓷、单晶、量子点等发光材料中的一种或多种。
另外像素单元132与所述通孔也是一一对应的,包含所述波长转换材料的像素单元132容置于对应通孔中。每个像素单元132被基板 131包围,基板131反射激发光光束阵列L4及像素单元阵列发出的受激光L5,提高激发光光束阵列L4的利用率,并防止相邻的像素单元132之间的光相互串扰。本实施例中,像素单元132填满对应通孔,在其他优选实施例中,像素单元132填充对应通孔的一部分。
进一步地,基板131的激发光光束阵列L4入射的一侧表面覆盖有光学膜片133,光学膜片用于透射激发光光束阵列L4并反射受激光L5。即光学膜片133透射第一波长分布的光反射第二波长分布的光,以提高光利用率,提高了所述波长转换元件130的转换效率。本实施例中,光学膜片133为分光片,透射蓝色光,反射黄色光。在其他优选实施例中,对应像素单元阵列中发出不同颜色受激光的各个区段,光学膜片133包括与各个区段一一对应的多个分光片,以透射不同波长分布的受激光L5。
激发光光束阵列L4照射波长转换元件130上,激发光光束阵列L4经过光学膜片133透射至基板131与像素单元阵列上。激发光光束阵列L4经过基板131的反射及光学膜片133的透射自波长转换元件130的入光面出射;激发光光束阵列L4激发像素单元132并得到受激光L5,受激光L5经过基板131与光学膜片133的反射得到自波长转换元件130出光面出射的阵列化的受激光L5。受激光L5包括与像素单元132一一对应的第二波长分布的荧光光束。
请再次参阅图1,光源110包括电路板111及设置于电路板111上的发光体阵列112与控制系统。发光体阵列112与控制系统工作时容易容易出现高温,电路板111在对应位置设置有散热片以提高光源110的散热性能。
具体地,发光体阵列112为激光光源阵列并发出光源光L1。本实施例中,像素单元阵列包括100个像素单元132,发光体阵列112包括100个发光体122a,发光体122a为激光器,发光体122a与像素单元132一一对应。所述激光光源阵列中的激光器为蓝色激光器。发光体112a的发光面为长方形,尺寸为微米级。可以理解的是,光源 110不限于蓝色光源光源110也可以是紫光光源、红光光源或绿光光源。发光体阵列112可以包括LD阵列(Laser Diode Array,简写LDA,激光二极管阵列)、LED阵列(LED Array,发光二极管阵列)或OLED阵列(Organic Light-Emitting Diode,UIV OLED,有机发光二极管)中的一种。
请结合图1进一步参阅图3-图5,图3为如图1所示的光源出射的光源光发光截面发散角分布曲线示意图。图4为如图1所示的第一柱面微透镜出射的第一校正光发光截面发散角分布曲线示意图。图5为如图1所示的第二柱面微透镜出射的第二校正光发光截面发散角分布曲线示意图。
光源110包括聚集透镜组件115,一个发光体112a发出的光源光经过聚集透镜组件115的会聚后得到一条激发光光束。聚集透镜组件115包括依序设置的第一柱面微透镜阵列115a、第二柱面微透镜阵列115b及中继透镜115c,第一柱面微透镜阵列115a邻近发光体阵列112设置。本实施例中,第一柱面微透镜阵列115a包括10个第一柱面镜,所述第一柱面镜的轴向与所述第一方向同向,第二柱面微透镜阵列115b包括10个第二柱面镜,所述第二柱面镜的轴向与所述第二方向同向。一个第一柱面镜对应一行发光体112a,一个第二柱面镜对应一列发光体112a。
如图3所示,一个发光体112a发出的光源光L1的发光截面在互相垂直的方向上具有不同的发散角,光源光L1的发光截面在所述第一方向上(X轴方向)的发散角大于在所述第二方向上的发散角,因而光源光L1照射至对应第一柱面镜上的光斑呈椭圆形。
一第一柱面微透镜将对应一行发光体112a产生的光源光L1进行整形,出射第一校正光L2。如图4所示,在所述第一方向上第一校正光L2的发散角小于光源光L1的发散角。
第二柱面微透镜阵列115b对第一校正光L2进行整形,出射第二校正光L3。如图5所示,在所述第二方向上(Y轴方向),第二校正光L3的发散角小于第一校正光L2的发散角。第二校正光L3的发光 截面在各个方向具有相同的发散角,即第二校正光L3照射到中继透镜115c上的光斑为圆形。根据光学扩展量守恒,由于第二校正光L3发光截面的发散角小于光源光,从而第二校正光L3的光斑面积大于光源光L1。
第二校正光L3经过中继透镜115c后得到激发光光束阵列L4。中继透镜115c调整激发光光束阵列L4照射至所述像素单元阵列上的光斑大小,以使每条激发光光束的光斑尺寸与对应像素单元132匹配,避免激发光光束阵列L4照射至基板131上而无法转换为受激光L5,提高了光源光L1与激发光光束阵列L4的利用率。中继透镜115c出射包含多条激发光光束的激发光光束阵列L4,其中一条激发光光束对应一个像素单元132。
可以理解的是,聚集透镜组件115可以根据需要去掉特定的透镜,或增加微透镜阵列或其他结构的透镜。
光源装置100采用的聚集透镜组件115,其包括相互垂直的第一柱面微透镜阵列115a与第二柱面微透镜阵列115b,减小了光源光L1的发光截面在相互垂直的两个方向上的发散角,得到发光截面在各个方向上具有相同发散角的第二校正光L3,中继透镜115c将第二校正光L3成像为的光斑尺寸与像素单元阵列相匹配的激发光光束阵列L4,避免激发光光束阵列L4照射至基板131上而无法转换为受激光L5,提高了光源光L1与激发光光束阵列L4的利用率。
请结合图1进一步参图6-图7,图6为如图1所示的光源出射的光源光光通量随驱动电流变化曲线。图7为如图1所示的波长转换元件出射的受激光光通量随激发光光通量变化曲线。所述控制系统包括设置于电路板111上的用于控制发光体阵列112的控制电路。
所述控制系统根据图像像素的图像数据控制照射至对应像素单元132的激发光光束的亮度,使得波长转换元件130各像素单元132经激发光光束阵列L4激发而产生的受激光L5的亮度与对应图像像素的图像数据相匹配。具体地,所述控制系统根据各图像像素的图像数据中的灰阶值控制流过对应发光体112a的驱动电流,以控制照射至对应 像素单元132的一条激发光光束的亮度。
本实施例中,所述控制系统控制每个发光体112a发出光源光L1,光源光L1的光通量与所述驱动电流的变化成正比(图6)。光源光L1经过聚集透镜组件115得到激发光光束阵列L4,考虑到聚集透镜组件115的光学效率,可以计算相应的激发光光束阵列L4的光通量,激发光光束阵列L4经过波长转换元件130转换并出射得到受激光L5,根据所述波长转换材料的发光效率随入射光通量的变化曲线,并考虑光提取效率,可得到受激光L5的光通量随激发光光束阵列L4的光通量的变化曲线(图7),即受激光L5的光通量与激发光光束阵列L4的光通量正相关。根据图6-图7中的两条曲线,可得到光源装置100发出的受激光L5的光通量随所述驱动电流的变化曲线,由此可以通过调节所述驱动电流实现对所述光源装置100单个像素单元132发出的所述受激光L5的亮度的调控,从而得到图案化的光输出。
如图1所示,本实施例中光源装置100的工作原理如下:所述控制系统控制发光体阵列112发出阵列化的光源光L1,光源光L1经聚集透镜组件115整形得到与波长转换元件130的像素单元阵列对应的阵列化的激发光光束阵列L4,激发光光束阵列L4入射到所述像素单元阵列中并产生阵列化的受激光L5,受激光L5从波长转换元件130的出光面出射。光源装置100的减少了光源光L1的损失,光学利用率高。
第二实施例
请参阅图8,图8为本发明提供的第二实施例中的波长转换元件230的剖视图。第二实施例中的波长转换元件230包括热沉235、基板231、像素单元阵列、多个光学膜片233及光学耦合层234。其中,基板231及像素单元阵列与第一实施例中基板131及像素单元阵列的结构、功能及相对位置关系均相同,不再赘述。本实施例中,像素单元阵列中的波长转换材料包括荧光陶瓷或单晶。热沉235、光学膜片233、 像素单元阵列与光学耦合层234依序层叠设置。
基板231邻近光学膜片233的一侧设置有透明的热沉235,即热沉235设置于基板231的激发光光束阵列M4的入光面一侧。热沉235缓解了由于激发光光束阵列M4持续照射产生的高温现象,提高了波长转换元件230的散热性能。热沉235可以由蓝宝石玻璃或其他高热导高透光率的材料制成。
多个光学膜片233与像素单元232一一对应地设置于基板231上的通孔中,其中,光学膜片233用于透射激发光光束阵列M4并反射受激光M5,提高光利用率,提高波长转换元件230的转换效率。每一光学膜片233覆盖一对应通孔的激发光光束入射的一侧的开口。
所述通孔的与所述激发光光束阵列M4入射的一侧相对的另一侧开口覆盖有光学耦合层234。光学耦合层234可以为折射率低于像素单元232的透明光学胶,或用光学胶将折射率低于像素单元232的透明光学耦合元件粘附在像素单元232的上表面,使得光学耦合元件与像素单元232接触。也可以使用光学耦合结构代替光学耦合元件,此时,可将像素单元232的与光学膜片133相对的表面刻蚀为栅格结构,从而提高光提取率。
第三实施例
请参阅图9,图9为本发明提供的第三实施例中光源装置300的结构示意图。本实施例中,光源装置300中的波长转换元件330与第一实施例中的波长转换元件130的结构与功能相同,不做赘述。
光源310包括发光体阵列312、聚集透镜组件315与控制系统,所述控制系统与第一实施例中的控制系统相同,不做赘述。
发光体阵列312为LED光源阵列,LED光源阵列包括10行10列发光体312a,发光体312a为LED光源。进一步地,发光体312a与像素单元(图未示)一一对应。具体地,发光体阵列312可以为尺寸为微米级的Micro-LED(Micro light-emitting diode,微型发光二极 管阵列)阵列,发光体312a为朗伯光源,发出的光源光N1的发散角为180°。
聚集透镜组件315为准直透镜阵列,所述准直透镜阵列包括10行10列准直透镜315a。进一步地,准直透镜315a与发光体312a及像素单元一一对应,一个发光体312a发出的光源光N1经过对应准直透镜315a准直后得到一条发散角很小的激发光光束,每条激发光光束照射至对应像素单元上的光斑为圆形。
激发光光束阵列N4为与像素单元一一对应的阵列化光,激发光光束阵列N4以较小的发散角入射到波长转换元件230,由此可以降低光学膜片333的加工难度,避免激发光光束阵列N4照射至波长转换元件330的基板上而无法转换为受激光N5,提高了光源光N1与激发光光束阵列N4的利用率。
第四实施例
请参阅图10,图10为本发明提供的第四实施例中光源装置400的结构示意图。本实施例中,光源装置400中的波长转换元件430与第一实施例中的波长转换元件130的结构与功能相同,不做赘述。
光源410包括空间光调制器415、控制系统及至少为一个发光体412a。
本实施例中,发光体412a为蓝色激光器。发光体112a的发光面为长方形,尺寸为微米级。可以理解的是,发光体412a不限于蓝色光源,发光体412a也可以是紫光光源、红光光源或绿光光源。发光体412a还可以是LED或OLED(Organic Light-Emitting Diode,UIV OLED,有机发光二极管)中的一种。
空间光调制器415包括与像素单元(图未示)一一对应的多个调制单元(图未示)。发光体412a发出的光源光P1经过空间光调制器415调制后得到激发光光束阵列P4。本实施例中,空间光调制器415为包括多个与所述像素单元一一对应的微镜的DMD(Digital Micro-mirror Device,微反射晶片)。可以理解的是,在其他优选实施例中,空间光调制器415还可以是LCD和LCOS(Liquid Crystal on  Silicon,液晶附硅),LCD与LCOS包括与所述像素单元一一对应的调制单元。空间光调制器415发出的激发光光束阵列P4一一对应的照射至对一个像素单元上,减少了激发光光束阵列P4的损失,提高了光源装置400的光利用率。
光源410中的控制系统设置于固设有空间光调制器415的电路板411上,所述控制系统根据图像像素的图像数据输出控制信号至空间光调制器415,以控制照射至所述像素单元的激发光光束阵列P4的亮度。本实施例中,所述控制信号根据各图像像素的图像数据中的灰阶值控制对应微镜的开启持续时间,以控制照射至所述像素单元的激发光光束的亮度。在其他优选实施例中,空间光调制器415为LCD(Liquid Crystal Display,液晶屏)或LCOS(Liquid Crystal on Silicon,液晶附硅),控制系统根据图像像素的图像数据中的灰阶值输出控制信号至空间光调制器415,以控制对应调制单元的透光率或反射率,从而产生具有不同灰度层次及颜色的图像。
第五实施例
请参阅图11,图11为本发明提供的第五实施例中光源装置500的结构示意图。本实施例中,波长转换元件530与第一实施例中的波长转换元件130相同,不做赘述。
光源510包括一发光体512a、震镜组件515及控制系统。发光体512a可以选用单颗激光或单颗Micro-LED。震镜组件515包括两个通过电机或压电材料等控制偏转的震镜515a。所述控制系统根据各图像像素的图像数据(比如灰阶值)依序控制输出至对应发光体512a的驱动电流,发光体512a在所述驱动电流作用下发出一条光源光光束Q1,两个震镜515a依次反射及偏转发光体512a发出的一条光源光光束Q1得到一条激发光光束Q4,并使得一条激发光光束Q4依序扫描多个像素单元(图未示)。激发光光束Q4沿波长转换元件530延伸平面扫描,激发光光束Q4激发波长转换元件530上的像素单元阵列(图未示),得到受激光Q5。控制两个震镜515a的偏转角度,使得在特定时刻激发光光束Q4照射至对应像素单元,提高激发光光束Q4利用率。控制 两个震镜515a的偏转速率,使得激发光光束Q4高速扫描波长转换元件530,即可得到图案化的受激光Q5输出。
在另一优选实施例中,光源510包括多个发光体512a、震镜组件515与控制系统。多个发光体512a可以采用多颗激光或多个Micro-LED组成的阵列化光源。其中一个发光体512a对应一行或一列像素单元,震镜组件515包括与多个发光体512a一一对应的多个震镜515a。
所述控制系统根据每行或每列图像像素的图像数据中的灰阶值,依序控制输出驱动电流至对应发光体512a,对应发光体512a在所述驱动电流的作用下发出一条光源光光束Q1,对应震镜515a反射及偏转一条光源光光束Q1得到一条激发光光束Q4,并使得一条激发光光束Q4依序扫描一行或一列像素单元,每条激发光光束Q4依序激发对应一行或对应一列的像素单元,由此,可得到图案化的所述受激光Q5输出。多个发光体512a与震镜组件515提高了激发光光束Q4扫描效率,有利于提高光源装置500输出的画面质量。
可以理解的是,本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化等用在本发明的设计,只要其不偏离本发明的技术效果均可。这些依据本发明精神所做的变化,都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (24)

  1. 一种光源装置,其特征在于,包括:光源和波长转换元件;
    所述波长转换元件包括像素单元阵列,所述像素单元阵列包括与图像像素一一对应的像素单元;
    所述光源发出照射至所述像素单元的一条或多条激发光光束,其中一条激发光光束在一个时刻仅照射至一个所述像素单元;
    所述像素单元设置有波长转换材料,所述波长转换材料吸收照射至其上的激发光,并产生受激光。
  2. 如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述光源发出包含多条激发光光束的激发光光束阵列,其中一条激发光光束对应一个所述像素单元。
  3. 如权利要求2所述的光源装置,其特征在于,所述光源包括发光体阵列与聚集透镜组件,所述发光体阵列与所述像素单元阵列均为M行N列矩阵,所述发光体阵列中的发光体与所述像素单元阵列的像素单元一一对应,一个发光体发出的光源光经过所述聚集透镜组件的会聚后得到一条激发光光束。
  4. 如权利要求3所述的光源装置,其特征在于,所述发光体阵列包括激光光源阵列,所述激光光源阵列包括与所述像素单元一一对应的激光光源,每行像素单元在所述波长转换元件表面的延伸方向为第一方向,每列像素单元在所述波长转换元件表面的延伸方向为第二方向,所述聚集透镜组件包括依序设置的第一柱面微透镜阵列、第二柱面微透镜阵列及中继透镜,所述第一柱面微透镜阵列邻近所述发光体阵列设置,所述第一柱面微透镜阵列包括N个第一柱面镜,所述第一柱面镜的轴向与所述第一方向同向,所述第二柱面微透镜阵列包括M个第二柱面镜,所述第二柱面镜的轴向与所述第二方向同向,一个第一柱面镜对应一行激发光光源,一个第二柱面镜对应一列激发光光源,一个激发光光源发出的光源光光束照射至对应第一柱面镜上的光斑呈椭圆形,所述光源光光束依序通过对应第一柱面镜、对应第二柱面镜 分别得到第一校正光与第二校正光,所述第二校正光照射到所述中继透镜上的光斑呈圆形,所述第二校正光经过所述中继透镜后得到一条激发光光束,所述中继透镜调整所述一条激发光光束照射至像素单元上的光斑大小,以使所述光斑尺寸与所述对应像素单元匹配。
  5. 如权利要求3所述的光源装置,其特征在于,所述发光体阵列包括LED光源阵列,所述聚集透镜组件包括M行N列准直透镜阵列,所述LED光源阵列包括与所述像素单元阵列一一对应的LED光源,所述准直透镜阵列包括与所述LED光源一一对应的准直透镜,一个LED光源发出的光源光经过对应准直透镜准直后得到所述一条激发光光束。
  6. 如权利要求5所述的光源装置,其特征在于,所述激发光光束照射在所述像素单元上的光斑为圆形。
  7. 如权利要求2所述的光源装置,其特征在于,所述光源包括发光体与空间光调制器,所述空间光调制器包括与所述像素单元一一对应的多个调制单元,所述发光体发出的光源光经过所述空间光调制器调制后形成所述激发光光束阵列。
  8. 如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述光源包括发光体与震镜组件,所述发光体发出一条或多条光源光光束,所述震镜组件反射及偏转所述发光体发出的至少一条光源光光束得到至少一条激发光光束,并使得所述激发光光束依序扫描多个像素单元。
  9. 如权利要求8所述的光源装置,其特征在于,所述光源包括一发光体,所述震镜组件包括两个震镜,所述发光体发出一条光源光光束,所述两个震镜依次反射及偏转所述发光体发出的一条光源光光束得到所述一条激发光光束,并使得所述一条激发光光束依序扫描所述多个像素单元。
  10. 如权利要求8所述的光源装置,其特征在于,所述光源包括多个发光体,其中一个发光体对应一行或一列像素单元,所述震镜组件包括与所述多个发光体一一对应的多个震镜,每个发光体发出一条光源光光束,与所述发光体对应的震镜反射及偏转所述一条光源光光束 得到所述一条激发光光束,并使得所述一条激发光光束依序扫描一行或一列像素单元。
  11. 如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述光源包括控制系统,所述控制系统根据图像像素的图像数据控制照射至所述像素单元的激发光光束的亮度,使得所述波长转换元件各所述像素单元经激发光光束激发而产生的受激光的亮度与对应图像像素的图像数据相匹配。
  12. 如权利要求11所述的光源装置,其特征在于,所述光源还包括能够发出一条或多条光源光光束的发光体阵列,所述发光体阵列设置有与所述像素单元一一对应的发光体,所述控制系统根据各图像像素的图像数据中的灰阶值控制流过对应发光体的驱动电流,以控制照射至所述像素单元的激发光光束的亮度。
  13. 如权利要求11所述的光源装置,其特征在于,所述光源还包括发光体与震镜组件,所述控制系统根据各图像像素的图像数据中的灰阶值依序控制输出至对应发光体的驱动电流,所述发光体在所述驱动电流作用下发出一条或多条光源光光束,所述震镜组件反射及偏转所述发光体发出的至少一条光源光光束得到至少一条激发光光束,并使得所述激发光光束依序扫描多个像素单元。
  14. 如权利要求13所述的光源装置,其特征在于,所述光源包括一个发光体与两个震镜,所述控制系统根据各图像像素的图像数据中的灰阶值依序控制输出至所述发光体的驱动电流,所述一个发光体在所述驱动电流作用下发出一条光源光光束,所述两个震镜依次反射及偏转所述一个发光体发出的一条光源光光束得到一条激发光光束,使得所述一条激发光光束依序扫描所述波长转换元件上的每个像素单元。
  15. 如权利要求13所述的光源装置,其特征在于,所述光源包括多个发光体,其中一个发光体对应一行或一列像素单元,所述震镜组件包括与所述多个发光体一一对应的多个震镜,所述控制系统根据每行或每列图像像素的图像数据中的灰阶值依序控制输出至对应发光体 的驱动电流,所述对应发光体在所述驱动电流的作用下发出一条光源光光束,与所述发光体对应的震镜反射及偏转所述一条光源光光束得到所述一条激发光光束,并使得所述一条激发光光束依序扫描一行或一列像素单元。
  16. 如权利要求11所述的光源装置,其特征在于,所述光源还包括发光体与空间光调制器,所述空间光调制器包括与所述像素单元一一对应的多个调制单元,所述发光体发出的光源光经过所述空间光调制器调制后形成所述激发光光束阵列,所述控制系统根据图像像素的图像数据输出控制信号至所述空间光调制器,以控制照射至所述像素单元的激发光光束的亮度。
  17. 如权利要求16所述的光源装置,其特征在于,所述空间光调制器为包括多个与所述像素单元一一对应的微镜的数字微镜芯片,所述控制信号根据各图像像素的图像数据中的灰阶值控制对应微镜的开启持续时间,以控制照射至所述像素单元的激发光光束的亮度。
  18. 如权利要求11所述的光源装置,其特征在于,所述控制系统设置于包括散热器的电路板上。
  19. 如权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述波长转换元件还包括基板,所述基板上设置有通孔阵列,所述通孔阵列包括与所述像素单元一一对应的通孔,所述像素单元容置于对应通孔内。
  20. 如权利要求19所述的光源装置,其特征在于,所述波长转换元件还包括与所述像素单元一一对应的光学膜片,其中,一所述光学膜片用于透射所述光源发出的激发光光束并反射所述受激光,所述光学膜片覆盖一所述通孔的所述激发光光束入射的一侧的开口。
  21. 如权利要求20所述的光源装置,其特征在于,所述基板邻近所述光学膜片的一侧设置有热沉。
  22. 如权利要求20所述的光源装置,其特征在于,所述通孔的与所述激发光光束入射的一侧相对的另一侧开口覆盖有光学耦合层。
  23. 如权利要求19所述的光源装置,其特征在于,所述基板的所述激发光光束入射的一侧表面覆盖有光学膜片,所述光学膜片用于透 射所述光源发出的激发光光束并反射所述受激光。
  24. 一种投影系统,其特征在于,包括权利要求1至23任一所述的光源装置。
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