WO2018116839A1 - 電極体および高圧放電ランプ - Google Patents

電極体および高圧放電ランプ Download PDF

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electrode
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昌広 下里
北川　鉄也
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ウシオ電機株式会社
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    • H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/04—Manufacture of electrodes or electrode systems of thermionic cathodes

Definitions

  • the present invention relates to an electrode body for a high-pressure discharge lamp and a high-pressure discharge lamp using the same, and particularly to an exposure light source, a projection light source for a projector, or a light source for analysis in the field of manufacturing semiconductors and liquid crystals.
  • the present invention relates to an electrode body for a high-pressure discharge lamp to be applied.
  • a high-pressure discharge lamp is used as a light source for an exposure apparatus or a projection machine by combining with an optical system because the tip distance between a pair of electrodes opposed to each other in the arc tube is short and close to a point light source.
  • FIG. 9 shows the conventional high-pressure discharge lamp.
  • An arc tube 10 of the high-pressure discharge lamp includes a light emitting portion 11 formed in a substantially spherical shape at the center and sealing portions 12 at both ends thereof.
  • a cathode 21 and an anode 31 made of tungsten or the like are disposed so as to face each other, and a light emitting material such as mercury or xenon is enclosed in the light emitting space S.
  • the sealing portions 12 and 12 are connected to the core wires 22 and 32 connected to the cathode 21 and the anode 31 via a metal foil (not shown) or a structure in which the arc tube and the core wire are connected with a material having a slightly different thermal expansion coefficient. It is sealed with.
  • the anode When lighting, current flows between both electrodes, and the electrodes become extremely hot due to radiation from plasma and resistance heating.
  • the anode since the anode reaches a high temperature of 2000 degrees or more, the anode is made of a metal having a low vapor pressure at a high temperature, and it is necessary to use one having a large heat capacity in order to suppress the temperature rise of the anode.
  • the whole is made of tungsten.
  • Such an electrode body 30 is manufactured by drilling a core wire insertion hole 33 at the rear end of the electrode 31 and inserting and fixing the core wire 32 therein.
  • the difference between the inner diameter of the core wire insertion hole of the electrode and the outer diameter of the core wire is designed to be extremely small so that the core wire does not fall out. Therefore, it is difficult to insert the core wire due to the processing of the core wire and the core wire insertion hole, in particular, the dimensional variation when processing the core wire insertion hole, the center wire and the center position of the core wire insertion hole during the core wire insertion work, etc. If insertion of the specified length was not possible, or if the press-fitting strength during insertion work was increased, there was a problem such as excessive stress applied to the end of the core wire insertion hole, resulting in chipping or cracking. .
  • the problem to be solved by the present invention is an electrode body comprising an electrode and a core wire inserted into the core wire insertion hole of the electrode, and a high-pressure discharge lamp using the electrode body.
  • an electrode body that can perform a smooth core wire insertion operation and eliminate the occurrence of chipping or cracking of the core wire insertion hole, and a high-pressure discharge lamp using the electrode body.
  • the electrode body according to the present invention is characterized in that a low friction layer is provided on the inner surface of the core wire insertion hole of the electrode and / or the outer periphery of the insertion region of the core wire. Further, the low friction layer is a carbonized layer. The low friction layer is a nitride layer. Further, the coefficient of friction of the low friction layer is 0.2 to 0.35 when evaluated by a ball-on-disk friction test.
  • the low friction layer may be provided in a partial region on the inner surface of the core wire insertion hole of the electrode and / or the outer periphery of the core wire insertion region.
  • the low friction layer is provided on the outer periphery of the core wire, and is provided in a wider range than the insertion region of the core wire.
  • tip part of the said core wire is chamfered, It is characterized by the above-mentioned.
  • a space is formed between the tip of the core wire and the bottom surface of the core wire insertion hole.
  • a metal foil is interposed in a gap between the core wire and the core wire insertion hole of the electrode.
  • a low friction layer is provided on the inner surface of the core wire insertion hole and / or the outer periphery of the core wire insertion region.
  • the low friction layer is provided on the inner surface of the core wire insertion hole and / or the outer periphery of the core wire insertion region, so that the core wire insertion operation is extremely smooth. As a result, the workability is improved and the core wire insertion hole is not chipped or cracked.
  • Sectional drawing of 1st Example of the electrode body which concerns on this invention Sectional drawing of 2nd Example. Sectional drawing of 3rd Example. Sectional drawing of 4th Example. Sectional drawing (A) of 5th Example, and its XX sectional drawing (B). Sectional drawing of 6th Example. Sectional drawing of 7th Example. Sectional drawing of 8th Example. Overall view of high-pressure discharge lamp (A), sectional view of a conventional electrode body.
  • FIG. 1A and 1B are cross-sectional views of the first embodiment, in which FIG. 1A is a side cross-sectional view and FIG.
  • an electrode body 1 includes an electrode 2 and a core wire 4 inserted into a core wire insertion hole 3 drilled at the rear end thereof.
  • a low friction layer 5 is formed on the inner surface of the core wire insertion hole 3.
  • the low friction layer 5 is made of a carbide compound such as tungsten carbide (tungsten carbide), a nitride compound such as tungsten nitride, or the like.
  • An example of a method for forming the low friction layer 5 on the inner surface of the core wire insertion hole 3 is as follows.
  • a carbide layer is formed as the low friction layer 5 and tungsten carbide which is a carbide compound of tungsten is used.
  • Carbon powder is added to a mixed solution in which an organic binder such as nitrocellulose is dissolved in butyl acetate to prepare a solution containing carbon.
  • ink may be used.
  • This solution is applied to the inner surface of the core wire insertion hole with a brush, a brush, or a spray.
  • coat by pouring and filling a solution in a core wire insertion hole, and emptying an excess solution after that. After the solution thus applied has dried, the electrode is heated to 1500 to 1800 ° C. in a vacuum high-temperature furnace and held for about 30 minutes for sintering.
  • the low friction layer 5 is formed on the inner surface of the core wire insertion hole 3.
  • the friction coefficient of the low friction layer made of metal carbide formed by such a method is 0.2 to 0.35 when evaluated by a ball-on-disk friction test.
  • the friction coefficient of metallic tungsten not including the carbide layer (low friction layer) can be reduced to about half or less as compared with being about 0.5.
  • the electrode When a nitride layer is formed as the low friction material of the low friction layer 5 and tungsten nitride which is a nitride compound of tungsten is used, the electrode is placed in an atmosphere containing ammonia or nitrogen and heated. As a result, nitrogen is infiltrated near the surface to make a compound. At this time, a portion that is not to be nitrided, that is, a portion other than the core wire insertion hole 3 is masked, so that the low friction layer 5 made of tungsten nitride such as WN and WN 2 is provided only on the inner surface of the core wire insertion hole 3. it can.
  • FIG. 2 shows a second embodiment in which the tip end portion 4a of the core wire 4 is chamfered to facilitate the operation of inserting the electrode 2 into the core wire insertion hole 3.
  • the core wire 4 does not need to reach the entire region of the core wire insertion hole 3, that is, the bottom surface portion, and is inserted with the space S formed at the tip thereof. Also good.
  • the low friction layer 5 on the inner surface of the core wire insertion hole 3 may be formed only in the region where the core wire 4 is inserted, or the core wire in consideration of the workability of forming the low friction layer. You may form in the whole area
  • the low friction layer 5 is formed on the entire circumference in the circumferential direction of the inner surface of the core wire insertion hole 3.
  • the fourth embodiment of FIG. What was formed is shown.
  • the low friction layer 5 may be formed in a partial region of the inner surface of the core wire insertion hole 3 in the axial direction.
  • the low friction layer 5 is formed on the inner surface of the core wire insertion hole 3, but in the sixth embodiment of FIG. 6, the core wire 4 is formed with the low friction layer 6.
  • a low friction layer 6 is formed on the outer periphery of the insertion region at the tip of the core wire 4. At this time, it is not essential that the formation region of the low friction layer 6 exactly coincides with only the insertion region of the core wire 4, and as shown in FIG. 6, it is formed in a slightly wider range than the insertion region. May be.
  • the low-friction layer 6 is formed on the core wire 4 by applying a carbon-containing solution to the tip of the core wire 4 with a brush, brush, or spray, as described in the first embodiment. It can be formed by dipping the tip of the core wire 4 and lifting it, drying it and heating it.
  • the low friction layer 6 is formed on the core wire 4 side as shown in FIG. 6, as shown in FIGS. 4 and 5, the low friction layer 6 is arranged in the circumferential direction on the outer peripheral surface in the insertion region of the core wire 4. Or you may form in the partial area
  • the low friction layers 5 and 6 may be formed in both the core wire insertion hole 3 and the core wire 4, and an example thereof is shown as a seventh embodiment in FIG. That is, the low friction layer 5 is formed on the inner surface of the core wire insertion hole 3 of the electrode 2, and the low friction layer 6 is formed on the outer periphery of the insertion region on the distal end side of the core wire 4.
  • FIG. 8 shows an eighth embodiment in which the metal foil 7 is filled in the gap between the core wire 4 and the core wire insertion hole 3.
  • a metal foil 7 is wound around the tip of the core wire 4 and is press-fitted into the core wire insertion hole 3.
  • the metal foil 7 is made of a high melting point metal such as Mo or Ta, and has a thickness of about 0.15 mm, for example. By doing so, there is no gap between the core wire 4 and the core wire insertion hole 3, and secure fixing is performed.
  • the electrode body having such a structure may be used for both an anode and a cathode in a high pressure discharge lamp having a structure having sealing portions at both ends of the light emitting portion, or may be provided on either one.

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Abstract

電極（２）と、電極（２）の芯線挿入孔（３）に挿入された芯線（４）とからなる電極体（１）において、電極（２）の芯線挿入孔（３）に芯線（４）を挿入する際に、円滑な芯線挿入作業ができて、芯線挿入孔（３）の欠けや割れの発生をなくした電極体（１）およびこれを用いた高圧放電ランプを提供することである。電極（２）の芯線挿入孔（３）の内面および／または芯線の挿入領域の外周に、低摩擦層（５）が設けられていることを特徴とする。

Description

電極体および高圧放電ランプ
　本発明は、高圧放電ランプ用の電極体およびこれを用いた高圧放電ランプに関するものであり、特に、半導体や液晶の製造分野などの露光用光源や映写機の投影用光源、あるいは分析用の光源に適用される高圧放電ランプ用の電極体に係る。
　高圧放電ランプは、発光管内に対向配置された一対の電極の先端距離が短く点光源に近いことから、光学系と組み合わせることによって露光装置用あるいは映写機の投影用の光源として利用されている。
　このような高圧放電ランプの一例が特開昭６０－７９６５９号公報（特許文献１）に開示されている。
　図９に該従来の高圧放電ランプが示されており、高圧放電ランプの発光管１０は、中央に位置する略球状に形成された発光部１１と、その両端の封止部１２を備える。発光部１１内には、タングステン等からなる陰極２１と陽極３１とが互いに向き合うように対向配置されるとともに、その発光空間Ｓには水銀、キセノン等の発光物質が封入されている。
　上記陰極２１及び陽極３１に連設された芯線２２、３２が図示しない金属箔或いは発光管と芯線の間を熱膨張係数が少しずつ異なる材料でつないだ構造部を介して封止部１２、１２で封止されている。
　点灯時には両電極間に電流が流れ、プラズマからの輻射や抵抗加熱により電極は極めて高温になる。特に、陽極は温度が２０００度以上にも達する高温になることから、陽極としては高温における蒸気圧が小さい金属より構成され、しかも陽極の温度上昇を抑制するために熱容量の大きなものを用いる必要があり、例えば図９（Ｂ）に示すように全体がタングステンで構成されたものが用いられている。
　このような電極体３０は、電極３１の後端に芯線挿入孔３３を穿設し、芯線３２をこれに挿入して固定することで製作されている。このため、電極の芯線挿入孔の内径と芯線の外径の差は、芯線の抜け落ちが発生しないように、極めて小さく設計されている。
　そのために、芯線および芯線挿入孔の加工、とりわけ芯線挿入孔の加工時の寸法バラツキや、芯線挿入作業時の芯線と芯線挿入孔の中心位置のバラツキなどにより、芯線の挿入が困難であったり、所定長さの挿入ができなかったり、また、挿入作業時の圧入の強さを強くすると、芯線挿入孔の端部に過度に応力がかかり、欠けや割れが発生するなどの不具合が生じていた。
特開昭６０－７９６５９号公報
　この発明が解決しようとする課題は、上記従来技術の問題点に鑑みて、電極と、当該電極の芯線挿入孔に挿入された芯線とからなる電極体およびこれを用いた高圧放電ランプにおいて、電極の芯線挿入孔に芯線を挿入する際に、円滑な芯線挿入作業ができて、芯線挿入孔の欠けや割れの発生をなくした電極体およびこれを用いた高圧放電ランプを提供することである。
　上記課題を解決するために、この発明に係る電極体は、前記電極の芯線挿入孔の内面および／または前記芯線の挿入領域の外周に、低摩擦層が設けられていることを特徴とする。
　また、前記低摩擦層は、炭化層であることを特徴とする。
　また、前記低摩擦層は、窒化層であることを特徴とする。
　また、前記低摩擦層の摩擦係数は、ボールオンディスク摩擦試験で評価したときに、０．２～０．３５であることを特徴とする。
　また、前記低摩擦層は、前記電極の芯線挿入孔の内面および／または前記芯線の挿入領域の外周において、部分的な領域に設けられていることを特徴とする。
　また、前記低摩擦層は、前記芯線の外周に設けられており、当該芯線の挿入領域よりも広い範囲に設けられていることを特徴とする。
　また、前記芯線の先端部が面取りされていることを特徴とする。
　また、芯線の先端と前記芯線挿入孔の底面部との間に、空間が形成されていることを特徴とする。
　また、前記芯線と前記電極の芯線嵌入孔との間隙に金属箔を介在させたことを特徴とする。
　また、発光部の両端に封止部を有する高圧放電ランプにおいて、電極の芯線挿入孔の内面および／または芯線の挿入領域の外周に、低摩擦層が設けられていることを特徴とする。
　この発明の電極体およびこれを用いた高圧放電ランプによれば、電極の芯線挿入孔の内面および／または芯線の挿入領域の外周に低摩擦層を設けたことにより、芯線の挿入作業が極めて円滑に行われて作業性が向上するとともに、芯線挿入孔の欠けや割れを生じることがない。
本発明に係る電極体の第１実施例の断面図。 第２実施例の断面図。 第３実施例の断面図。 第４実施例の断面図。 第５実施例の断面図（Ａ）とそのＸ－Ｘ断面図（Ｂ）。 第６実施例の断面図。 第７実施例の断面図。 第８実施例の断面図。 高圧放電ランプの全体図（Ａ）、従来の電極体の断面図。
　図１は、第1実施例の断面図であり、（Ａ）は側断面図、（Ｂ）はそのＡ－Ａ断面図である。
　図１において、電極体１は、電極２と、その後端に穿設された芯線挿入孔３に挿入された芯線４とからなる。芯線挿入孔３の内面には低摩擦層５が形成されている。この低摩擦層５は、タングステンカーバイト（炭化タングステン）等の炭化化合物、窒化タングステン等の窒化化合物、等からなる。
　芯線挿入孔３内面への低摩擦層５の形成方法の一例を挙げれば以下の通りである。ここでは、低摩擦層５として炭化層を形成し、タングステンの炭化化合物である炭化タングステンを用いた例である。
　ニトロセルロースのような有機系のバインダを酢酸ブチルに溶解した混合溶液に炭素粉末を加え、炭素を含有する溶液を調製する。または墨汁を利用してもよい。
　この溶液を筆や刷毛、あるいはスプレーなどによって、芯線挿入孔の内面に塗布する。また、溶液を芯線挿入孔に注入充填し、その後、余分な溶液を空けることで塗布することもできる。
　このように塗布された溶液が乾燥した後に、電極を真空高温炉で１５００～１８００℃に昇温し、約３０分程度保持して焼結する。こうして、芯線挿入孔３内面に低摩擦層５が形成される。
　このような方法で形成した金属炭化物からなる低摩擦層の摩擦係数は、ボールオンディスク摩擦試験で評価したときに、０．２～０．３５である。炭化物層（低摩擦層）を含まない金属タングステンの摩擦係数は、０．５程度であることに比較すれば、半分以下程度にすることができる。
　また、低摩擦層５の低摩擦材として窒化層を形成し、タングステンの窒化化合物である窒化タングステンを用いる場合は、アンモニアまたは窒素を含んだ雰囲気中に電極を置き加熱する。これにより表面近傍に窒素を浸透させて化合物を作る。このとき、窒化したくない場所、つまり芯線挿入孔３以外の部分は、マスクしておくことで芯線挿入孔３の内面にのみＷＮ、ＷＮ２などの窒化タングステンによる低摩擦層５を設けることができる。
　図２は、第２実施例で、芯線４の先端部４ａが面取りされていて、電極２の芯線挿入孔３への挿入作業を円滑にする。
　また、図３に示すように、芯線４は、芯線挿入孔３の全領域、すなわち、底面部にまで到達していなくてもよく、その先端に空間Ｓが形成された状態で挿入されていてもよい。なお、この場合に、芯線挿入孔３内面の低摩擦層５は、芯線４が挿入される領域のみに形成されるものであってもよいし、低摩擦層形成の作業性を勘案して芯線挿入孔３内面の全領域に形成されていてもよい。
　上記の各実施例では、低摩擦層５は、芯線挿入孔３の内面の円周方向の全周に形成したが、図４の第４実施例では、内面の円周方向の部分的な領域に形成したものが示されている。
　また、図５に示す第５実施例のように、低摩擦層５は、芯線挿入孔３の内面の軸線方向の部分的な領域に形成されたものであってもよい。
　以上の第１～５実施例では、芯線挿入孔３の内面に低摩擦層５を形成したが、図６の第６実施例では、芯線４に低摩擦層６を形成したものが示され、芯線４の先端の挿入領域の外周に低摩擦層６が形成されている。なお、このとき、低摩擦層６の形成領域は、厳密に芯線４の挿入領域のみに一致していることは必須ではなく、図６に示すように、挿入領域よりも若干広い範囲に形成してもよい。
　芯線４への低摩擦層６の形成は、前述した第１実施例で記述したと同様の、炭素を含有する溶液を芯線４の先端部に筆や刷毛、あるいはスプレーで塗布するか、溶液中に芯線４の先端部を漬けて引き上げることで塗布し、これを乾燥し加熱することで形成できる。
　なお、図６に示すような芯線４側に低摩擦層６を形成する場合にも、図４、図５に示すように、低摩擦層６を芯線４の挿入領域における外周面において円周方向あるいは軸線方向の部分的な領域に形成するものであってもよい。
　また、低摩擦層５、６は、芯線挿入孔３と芯線４の両者に形成してもよく、その例が図７に第７実施例として示されている。
　即ち、電極２の芯線挿入孔３の内面に低摩擦層５が形成されるとともに、芯線４の先端側の挿入領域の外周に低摩擦層６が形成されているものである。
　図８に第８実施例が示されており、芯線４と芯線挿入孔３との隙間に金属箔７を充填したものである。芯線４の先端部に金属箔７を巻き付けて、これを芯線挿入孔３内に圧入するものである。金属箔７は、ＭｏやＴａ等の高融点金属からなり、例えば、厚さは０．１５ｍｍ程度である。こうすることで、芯線４と芯線挿入孔３との間に空隙がなくなり、確実な固定がなされる。
　このような構造の電極体は、発光部の両端に封止部を有する構造の高圧放電ランプにおける陽極および陰極の両者に用いられてもよいし、いずれか一方に設けられてもよい。
　以上説明したように、本発明では、電極と、当該電極の芯線挿入孔に挿入された芯線とからなる電極体およびこれを用いた高圧放電ランプにおいて、前記電極の芯線挿入孔の内面および／または前記芯線の挿入領域の外周に、低摩擦層が設けられていることにより、芯線を電極の芯線挿入孔に挿入する際に、その挿入作業が円滑に行われ、電極に無理な応力が掛かることがなく、欠損等の事故を防止できるものである。
　１　　　電極体
　２　　　電極
　３　　　芯線挿入孔
　４　　　芯線
　４ａ　　先端面取り部
　５，６　低摩擦層
　７　　　金属箔
　Ｓ　　　空間
 
 
 

Claims (10)

  1. 　電極と、当該電極の芯線挿入孔に挿入された芯線とからなる電極体において、
    　前記電極の芯線挿入孔の内面および／または前記芯線の挿入領域の外周に、低摩擦層が設けられていることを特徴とする電極体。
  2. 　前記低摩擦層は、炭化層であることを特徴とする請求項１に記載の電極体。
  3. 　前記低摩擦層は、窒化層であることを特徴とする請求項１に記載の電極体。
  4. 　前記低摩擦層の摩擦係数は、ボールオンディスク摩擦試験で評価したときに、０．２～０．３５であることを特徴とする請求項１に記載の電極体。
  5. 　前記低摩擦層は、前記電極の芯線挿入孔の内面および／または前記芯線の挿入領域の外周において、部分的な領域に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電極体。
  6. 　前記低摩擦層は、前記芯線の外周に設けられており、当該芯線の挿入領域よりも広い範囲に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電極体。
  7. 　前記芯線の先端部が面取りされていることを特徴とする請求項１～６のいずれかに記載の電極体。
  8. 　前記芯線の先端と前記芯線挿入孔の底面部との間に、空間が形成されていることを特徴とする請求項１～７のいずれかに記載の電極体。
  9. 　前記芯線と前記電極の芯線嵌入孔との間隙に金属箔を介在させたことを特徴とする請求項１～８のいずれかに記載の電極体。
  10. 　発光部の両端に封止部を有し、前記請求項１～９のいずれかに記載の電極体を少なくとも一つ備えたことを特徴とする高圧放電ランプ。
     
     
     
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