WO2018113842A1 - Verfahren zum verbinden einer glasschicht mit einem metallischen substrat - Google Patents

Verfahren zum verbinden einer glasschicht mit einem metallischen substrat Download PDF

Info

Publication number
WO2018113842A1
WO2018113842A1 PCT/DE2017/101073 DE2017101073W WO2018113842A1 WO 2018113842 A1 WO2018113842 A1 WO 2018113842A1 DE 2017101073 W DE2017101073 W DE 2017101073W WO 2018113842 A1 WO2018113842 A1 WO 2018113842A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
glass
metallic substrate
thin
thin glass
electrically insulating
Prior art date
Application number
PCT/DE2017/101073
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Daniel Albrecht
Jürgen GIERL
Yashar Musayev
Pavlo LYUBARSKYY
Leonhard POHL
Philipp VON WITZENDORFF
Oliver SUTTMANN
Original Assignee
Schaeffler Technologies AG & Co. KG
Laser Zentrum Hannover E. V.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schaeffler Technologies AG & Co. KG, Laser Zentrum Hannover E. V. filed Critical Schaeffler Technologies AG & Co. KG
Publication of WO2018113842A1 publication Critical patent/WO2018113842A1/de

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/04—Joining glass to metal by means of an interlayer
    • C03C27/042—Joining glass to metal by means of an interlayer consisting of a combination of materials selected from glass, glass-ceramic or ceramic material with metals, metal oxides or metal salts
    • C03C27/044—Joining glass to metal by means of an interlayer consisting of a combination of materials selected from glass, glass-ceramic or ceramic material with metals, metal oxides or metal salts of glass, glass-ceramic or ceramic material only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
    • C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/02—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing by fusing glass directly to metal
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L1/00—Measuring force or stress, in general
    • G01L1/20—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress
    • G01L1/22—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges
    • G01L1/2287—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges constructional details of the strain gauges
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/02—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
    • H01B3/08—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances quartz; glass; glass wool; slag wool; vitreous enamels
    • H01B3/088—Shaping of glass or deposition of glass

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Verbinden einer Glasschicht mit einem metallischen Substrat (2), wobei als Glasschicht ein Dünnglas mit einer Dicke von weniger als 200 μm verwendet wird, wobei das Dünnglas auf das metallische Substrat (2) gepresst wird, und wobei Laserstrahlung zur Herstellung einer zumindest stoffschlüssigen Verbindung zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat (2) verwendet wird. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer elektrisch isolierenden Schicht (1) für eine Dünnschicht-Messanordnung sowie eine Dünnschicht-Messanordnung mit mindestens einer elektrisch isolierenden Schicht (1) aus Glas.

Description

Verfahren zum Verbinden einer Glasschicht mit einem metallischen Substrat
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Verbinden einer Glasschicht mit einem metallischen Substrat. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer elektrisch isolierenden Schicht für eine Dünnschicht-Messanordnung sowie eine
Dünnschicht-Messanordnung mit mindestens einer elektrisch isolierenden Schicht aus Glas.
Aus dem Stand der Technik ist das Verschweißen von Glas mit Metallen bekannt, wo- bei die thermischen Ausdehnungskoeffizienten der beiden zu verbindenden Werkstoffe aufeinander angepasst werden. Durch die Anpassung der thermischen Ausdehnungskoeffizienten wird verhindert, dass nach dem Schweißvorgang oder bei einem nachträglichen Wärmeeintrag die Verbindung zwischen Glas und Metall versagt. Beispielsweise geht aus der DE 10 2012 206 201 A1 ein Bauteil hervor, das ein erstes Teil aus Glas und ein zweites Teil aus Metall sowie eine Glas-Metall-Verbindung enthält. Das Glas weist dabei die folgende Zusammensetzung auf: 0-3 Gew.-% B2O3, 1- 4 Gew.-% AI2O3, 8-16 Gew.-% Na20, 1-9 Gew.-% K2O, 0-5 Gew.-% CaO, 0-5 Gew.- % MgO, 0-2 Gew.-% BaO, 0-4 Gew.-% SrO und der Rest ist S1O2. Ferner beträgt der Eisenanteil im Glas weniger als 400 ppm. Darüber hinaus unterscheiden sich das Glas und Metall im thermischen Ausdehnungskoeffizienten um nicht mehr als 10%.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren zum Verbinden einer Glasschicht mit einem metallischen Substrat derart weiterzuentwickeln, dass die thermischen Ausdehnungskoeffizienten der beiden Werkstoffe, nämlich des Glases und des Metalls nicht aufeinander angepasst werden müssen.
Diese Aufgabe wird ausgehend vom Oberbegriff des Anspruchs 1 in Verbindung mit dessen kennzeichnenden Merkmalen gelöst. Die hierauf folgenden, abhängigen An- sprüche geben jeweils vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung wieder.
Im Rahmen des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Verbinden einer Glasschicht mit einem metallischen Substrat wird als Glasschicht ein Dünnglas mit einer Dicke von weniger als 200 pm verwendet, wobei das Dünnglas auf das metallische Substrat ge- presst wird, und wobei Laserstrahlung zur Herstellung einer zumindest stoffschlüssigen Verbindung zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat verwendet wird. Dabei wird unter einem„Dünnglas" eine Lage aus Glas verstanden, die selbst- tragend ist und als eine Einheit gehandhabt und auf das metallische Substrat aufgelegt werden kann. Derzeit ist solches Dünnglas in einer minimalen Dicke von etwa 20 pm verfügbar.
Eine Anpassung der thermischen Ausdehnungskoeffizienten der beiden Werkstoffe, nämlich des Glases und des Metalls, ist aufgrund der Verwendung der Laserstrahlung und des Dünnglases nicht notwendig. Es erfolgt ein kraft- und vibrationsfreies Fügen von Metall und Dünnglas. Zumindest einer der beiden Fügepartner oder beide Fügepartner werden mittels Laserstrahlung erwärmt und in eine teils stoff- und teils formschlüssige Verbindung miteinander gebracht. Die Verwendung von Laserstrahlung zum Fügen der beiden Werkstoffe ermöglicht deutliche kürzere Prozesszeiten, wobei die Verbindung zwischen den beiden Werkstoffen präzise und ortsgenau hergestellt wird.
Insbesondere weist das Dünnglas eine Dicke von weniger als 50 m auf. Derart dün- ne selbsttragende Lagen aus Glas werden auch als„Dünnstglas" bezeichnet. Der Einsatz von derart dünnen Gläsern kann es ermöglichen, dass bis zu einem höheren Grad Unterschiede in der thermischen Längenausdehnungen der unterschiedlichen zu verbindenden Werkstoffe toleriert werden. Durch die Laserstrahlung und die Verwendung von Dünnglas, insbesondere Dünnstglas, sind auch Verbindungen mit nicht-ebenen Oberflächen von metallischen Substraten möglich. Insbesondere weist das metallische Substrat mindestens eine gekrümmte Oberfläche auf, mit welcher das Dünnglas, insbesondere Dünnstglas, verbunden wird. Beispielsweise kann das Dünnglas mittels des erfindungsgemäßen Ver- fahrens auf eine gekrümmte metallische Oberfläche aufgebracht werden.
Vorzugsweise wird das Dünnglas, insbesondere Dünnstglas, berührungslos auf das metallische Substrat gepresst. Insbesondere wird das Dünnglas, insbesondere Dünnstglas, berührungslos mittels Druckluft auf das metallische Substrat gepresst. Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel wird die Laserstrahlung von einem C02-Laser bereitgestellt. Bevorzugt wird das Dünnglas mittels der Laserstrahlung des C02-Lasers erwärmt. Durch Wärmeleitung zwischen dem Dünnglas und dem metalli- sehen Substrat wird indirekt auch das metallische Substrat erwärmt. Die Prozesszeit zur Herstellung der Verbindung zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat mittels der Laserstrahlung des C02-Lasers beträgt insbesondere weniger als 10 Sekunden. Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel wird die Laserstrahlung von einem Festkörperlaser bereitgestellt.
Vorzugsweise wird eine an dem Dünnglas und/oder an dem metallischen Substrat ausgebildete Zwischenschicht, die zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat angeordnet wird, mittels der Laserstrahlung direkt oder indirekt erwärmt. Die Prozesszeit zur Herstellung der Verbindung zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat beispielsweise mittels der Laserstrahlung des Festkörperlasers, wobei die Zwischenschicht direkt erwärmt wird, beträgt insbesondere weniger als eine halbe Sekunde.
Bevorzugt wird die Zwischenschicht an dem Dünnglas und/oder an dem metallischen Substrat vor dem Fügen, insbesondere durch Materialabtrag mittels Laserstrahlung, aufgeraut. Dabei erfolgt eine Veränderung, insbesondere laserbasierte Ablation, vorzugsweise an der Oberfläche des metallischen Substrats, sodass eine Art Verzahnung ausgebildet wird, die eine zumindest teilweise formschlüssige Verbindung der beiden Fügepartner ermöglicht. Mithin wird durch diese Veränderung der Oberfläche^) die stoffschlüssige Verbindung zwischen den beiden Fügepartnern unterstützt.
Ferner bevorzugt wird zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat eine Zwischenschicht in Form eines Glaslots vorgesehen, wobei das Glaslot mittels der Laserstrahlung erwärmt wird. Insbesondere wird das Glaslot zur Verringerung der Fügetemperatur zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat verwendet. Zur Erwärmung des Glaslotes wird die Wellenlänge der Laserstrahlung derart eingestellt, dass diese für das Dünnglas transparent ist und somit das Dünnglas nicht erwärmt. Mithin wird vorzugsweise nur das Glaslot erwärmt, wobei eine Schmelztemperatur des Glaslotes kleiner als eine jeweilige Schmelztemperatur der beiden Fügepartner ist. Das Glaslot ist insbesondere als Vermittlerschicht zwischen dem metallischen Substrat und dem Dünnglas vorgesehen und verringert zusätzlich den Einfluss der beiden unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten der beiden Fügepartner.
Glaslote besitzen eine niedrige Erweichungstemperatur, so dass eine Verbindung von unterschiedlichen Werkstoffen hergestellt werden kann, ohne dass die zu verbindenden Bauteile dabei thermisch geschädigt werden. Ein hier geeignetes Glaslot ist beispielsweise unter der Bezeichnung G018-249 von der Fa. Schott AG erhältlich. Es handelt sich um ein bleifreies Lotglas mit einem linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten a2o-3oo (IS07991 ) von 10, 1 * 10"6 Κ"1 und enthält AI2O3, B2O3, S 1O2, ZnO
Im Rahmen des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer elektrisch iso- lierenden Schicht für eine Dünnschicht-Messanordnung wird als elektrisch isolierende Schicht eine Glasschicht aus Dünnglas mit einer Dicke von weniger als 200 pm verwendet, wobei die elektrisch isolierende Schicht auf ein metallisches Substrat ge- presst wird, und wobei Laserstrahlung zur Herstellung einer zumindest stoffschlüssigen Verbindung zwischen der elektrisch isolierenden Schicht und dem metallischen Substrat verwendet wird, wobei die elektrisch isolierende Schicht dazu vorgesehen ist, an einer von dem metallischen Substrat abgewandten Seite mindestens einen Dehnungsmessstreifen aufzunehmen.
Ein solcher Dehnungsmessstreifen ist insbesondere durch eine strukturierte metallische Dünnschicht auf der elektrisch isolierenden Schicht gebildet. Als Verfahren zur Ausbildung eines Dehnungsmessstreifens in Dünnschichttechnik kommt beispielsweise ein PVD-, CVD- oder PACVD-Verfahren in Betracht.
Eine erfindungsgemäße Dünnschicht-Messanordnung weist mindestens eine elektrisch isolierende Schicht aus Dünnglas mit einer Dicke von weniger als 200 pm auf, wobei die Dünnschicht-Messanordnung nach dem zuvor genannten Verfahren hergestellt ist. Weiterhin weist die Dünnschicht-Messanordnung mindestens einen Dehnungsmesstreifen und das metallische Substrat auf, optional weiterhin eine Zwischenschicht zwischen Dünnglas und Substrat. Das erfindungsgemäße Verfahren wir somit bevorzugt für die Herstellung von Senso- rik verwendet, beispielsweise zur Herstellung von Isolatorschichten auf Glasbasis. Insbesondere kann die Isolatorschicht aus Dünnglas zur Aufnahme von Dehnungs- messstreifen auf Stahlwellen eingesetzt werden. Ferner ist es aber auch denkbar, das erfindungsgemäße Verfahren zur Verkapselung von organischen LEDs zu verwenden. Dadurch kann insbesondere die Lebensdauer der organischen LEDs verlängert werden.
Weitere die Erfindung verbessernde Maßnahmen werden nachstehend gemeinsam mit der Beschreibung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung anhand der Figuren näher dargestellt.
Dabei zeigt
Figur 1 eine schematische Schnittdarstellung zur Veranschaulichung des
Aufbaus einer erfindungsgemäßen Dünnschicht-Messanordnung;
Figur 2 eine Dünnschicht-Messanordnung auf einem gekrümmten metallischen
Substrat; und
Figur 3 eine weitere schematische Schnittdarstellung zur Veranschaulichung des
Aufbaus einer erfindungsgemäßen Dünnschicht-Messanordnung.
Gemäß der Figur 1 weist die erfindungsgemäße Dünnschicht-Messanordnung ein metallisches Substrat 2 (gezeigt im Schnittbild) auf, wobei auf dem metallischen Substrat 2 eine elektrisch isolierende Schicht 1 aus Glas ausgebildet ist. Ferner sind an einer von dem metallischen Substrat 2 abgewandten Seite der elektrisch isolierenden Schicht 1 mehrere Dehnungsmessstreifen 3 angeordnet.
Vorliegend ist das metallische Substrat 2 als - nicht weiter dargestellte - Getriebewelle ausgebildet. Mittels der Dünnschicht-Messanordnung, die auf der Getriebewelle integriert ist, können auf die Getriebewelle einwirkende Kräfte oder Drehmomente schnell und mit einer hohen Präzision erfasst werden. Insbesondere werden durch die erfindungsgemäße Dünnschicht-Messanordnung Möglichkeiten der Dehnungs- und Kraftmessung möglich, die mit geklebten Dehnungsmessstreifen auf Grund der begrenzten Lebensdauer unmöglich sind. Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung der elektrisch isolierenden Schicht 1 für die Dünnschicht-Messanordnung, wird Dünnglas mit einer Dicke von weniger als 200 pm berührungslos mittels Druckluft auf das metallische Substrat 2 gepresst. Laserstrahlung wird zur Herstellung einer stoffschlüssigen Verbindung zwi- sehen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat 2 verwendet. Beispielsweise wird die Laserstrahlung von einem C02-Laser bereitgestellt, wobei das Dünnglas mittels der Laserstrahlung des C02-Lasers erwärmt wird, um die stoffschlüssige Verbindung zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat 2 auszubilden. Im Falle einer alternativen Erwärmung über Festkörperlaser erfolgt eine Erwärmung indirekt über das Substrat. Mithin wird die Verbindung zwischen dem metallischen Substrat 2 und der elektrisch isolierenden Schicht 1 aus Glas mittels Laserfügen hergestellt. Ferner werden auch die Dehnungsmessstreifen 3 mittels Laserfügen mit der elektrisch isolierenden Schicht 1 verbunden.
Die Figur 2 zeigt eine weitere Dünnschicht-Messanordnung mit einem metallischen Substrat 2, wobei auf einer gekrümmten Oberfläche 2a des metallischen Substrats 2 eine elektrisch isolierende Schicht 1 aus Dünnglas ausgebildet ist. Das metallische Substrat 2 ist hier in Form eines Lagerrings für ein Wälz- oder Gleitlager ausgebildet. Das metallische Substrat kann aber auch als Wälzkörperkäfig oder Wälzkörper vorliegen, beispielsweise als Wälzkörper in Kugelform, Tonnenform, Kegelstumpfform, Zylinderform und dergleichen. Ferner ist an einer von dem metallischen Substrat 2 abgewandten Seite der elektrisch isolierenden Schicht 1 ein mäanderförmig ausgebildeter Dehnungsmessstreifen 3 angeordnet. Der Dehnungsmessstreifen 3 ist in Dünnschichttechnik mittels eines PVD- oder CVD- oder PACVD-Verfahrens auf der elektrisch isolierenden Schicht 1 aufgebracht.
Figur 3 zeigt eine Dünnschicht-Messanordnung mit einem metallischen Substrat 2 im Schnittbild, wobei auf dem metallischen Substrat 2 eine elektrisch isolierende Schicht 1 aus Glas ausgebildet ist. Ferner sind an einer von dem metallischen Substrat 2 ab- gewandten Seite der elektrisch isolierenden Schicht 1 mehrere Dehnungsmessstreifen 3 angeordnet. Zwischen der elektrisch isolierenden Schicht 1 aus Dünnglas und dem metallischen Substrat 2 ist eine Zwischenschicht 4, hier aus einem Glaslot angeordnet. Das Glaslot wurde mittels eines Festkörperlasers direkt erwärmt und erschmolzen, um das elektrische Substrat 2 und das Dünnglas zu fügen. Bezugszeichenliste
1 elektrisch isolierende Schicht
2 metallisches Substrat
2a gekrümmte Oberfläche
3 Dehnungsmessstreifen
4 Zwischenschicht

Claims

Patentansprüche
1 . Verfahren zum Verbinden einer Glasschicht mit einem metallischen Substrat
(2),
dadurch gekennzeichnet, dass als Glasschicht ein Dünnglas mit einer Dicke von weniger als 200 pm verwendet wird, wobei das Dünnglas auf das metallische Substrat (2) gepresst wird, und wobei Laserstrahlung zur Herstellung einer zumindest stoffschlüssigen Verbindung zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat (2) verwendet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 ,
dadurch gekennzeichnet, dass das Dünnglas mit einer Dicke von weniger als 50 pm verwendet wird.
3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass das metallische Substrat (2) mindestens eine gekrümmte Oberfläche (2a) aufweist, mit welcher das Dünnglas verbunden wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass das Dünnglas berührungslos auf das metallische Substrat (2) gepresst wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass die Laserstrahlung von einem CO2-Laser bereitge- stellt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, dass das Dünnglas mittels der Laserstrahlung des CO2- Lasers erwärmt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, dass die Laserstrahlung von einem Festkörperlaser bereitgestellt wird.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass eine an dem Dünnglas und/oder an dem metallischen Substrat (2) ausgebildete Zwischenschicht, die zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat (2) angeordnet wird, mittels der Laserstrahlung direkt oder indirekt erwärmt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet, dass die Zwischenschicht an dem Dünnglas und/oder an dem metallischen Substrat (2) vor dem Fügen aufgeraut wird.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem Dünnglas und dem metallischen Substrat (2) eine Zwischenschicht in Form eines ein Glaslots vorgesehen wird, wobei das Glaslot mittels der Laserstrahlung direkt oder indirekt erwärmt wird.
1 1 . Verfahren zur Herstellung einer elektrisch isolierenden Schicht (1 ) für eine Dünnschicht-Messanordnung, wobei die elektrisch isolierende Schicht (1 ) aus Dünnglas mit einer Dicke von weniger als 200 pm ausgebildet ist und gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10 mit einem metallischen Substrat (2) verbunden wird, wobei die elektrisch isolierende Schicht (1 ) dazu vorgesehen ist, an einer von dem metallischen Substrat (2) abgewandten Seite mindestens einen Dehnungsmessstreifen (3) aufzunehmen.
12. Dünnschicht-Messanordnung mit mindestens einer elektrisch isolierenden Schicht (1 ) aus Glas, die nach einem Verfahren gemäß Anspruch 1 1 hergestellt ist.
PCT/DE2017/101073 2016-12-19 2017-12-14 Verfahren zum verbinden einer glasschicht mit einem metallischen substrat WO2018113842A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016124842 2016-12-19
DE102016124842.8 2016-12-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2018113842A1 true WO2018113842A1 (de) 2018-06-28

Family

ID=62568082

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/DE2017/101073 WO2018113842A1 (de) 2016-12-19 2017-12-14 Verfahren zum verbinden einer glasschicht mit einem metallischen substrat

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102017129877B4 (de)
WO (1) WO2018113842A1 (de)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2052170A1 (de) * 1969-10-28 1971-05-06 Itt Ind Gmbh Deutsche Verfahren zur Herstellung von Wandlersystemen
DE2226843A1 (de) * 1971-06-07 1972-12-28 Itt Ind Gmbh Deutsche Verfahren zur Herstellung von Wandlersystemen
US4418326A (en) * 1980-11-20 1983-11-29 Commissariat A L'energie Atomique Measuring device using a strain gauge
DE102012206201A1 (de) 2012-04-16 2013-10-17 Osram Gmbh Bauteil, enthaltend eine Glas-Metall-Verbindung
US20160289111A1 (en) * 2013-05-10 2016-10-06 Corning Incorporated Laser welding transparent glass sheets using low melting glass or thin absorbing films

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3217088A (en) 1962-11-30 1965-11-09 Owens Illinois Glass Co Joining glass members and encapsulation of small electrical components
JP6429465B2 (ja) 2013-03-07 2018-11-28 株式会社半導体エネルギー研究所 装置及びその作製方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2052170A1 (de) * 1969-10-28 1971-05-06 Itt Ind Gmbh Deutsche Verfahren zur Herstellung von Wandlersystemen
DE2226843A1 (de) * 1971-06-07 1972-12-28 Itt Ind Gmbh Deutsche Verfahren zur Herstellung von Wandlersystemen
US4418326A (en) * 1980-11-20 1983-11-29 Commissariat A L'energie Atomique Measuring device using a strain gauge
DE102012206201A1 (de) 2012-04-16 2013-10-17 Osram Gmbh Bauteil, enthaltend eine Glas-Metall-Verbindung
US20160289111A1 (en) * 2013-05-10 2016-10-06 Corning Incorporated Laser welding transparent glass sheets using low melting glass or thin absorbing films

Also Published As

Publication number Publication date
DE102017129877A1 (de) 2018-07-05
DE102017129877B4 (de) 2022-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2715301B1 (de) Drucksensor und verfahren zur herstellung eines drucksensors
DE102014206608A1 (de) Verfahren zum Montieren eines elektrischen Bauelements, bei der eine Haube zum Einsatz kommt, und zur Anwendung in diesem Verfahren geeignete Haube
DE102014206601A1 (de) Verfahren zum Montieren eines elektrischen Bauelements, bei der eine Haube zum Einsatz kommt, und zur Anwendung in diesem Verfahren geeignete Haube
DE19545422C2 (de) Verfahren zum anodischen Bonden von Siliziumkomponenten mit Glaskomponenten
DE19817478B4 (de) Flache Entladungslampe und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP3145896A2 (de) Ansprengen von keramik
DE102009051593B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Werkstoffverbundes zwischen einer Oxidkeramik und einem auf diese aufzubringenden Verblendwerkstoff, Verwendung des Werkstoffverbundes sowie Kit für den Haftvermittler
DE102015202664A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Sensors und Sensor
DE102006023724B4 (de) Messzellenanordnung für einen Drucksensor mit Kraftmesselement aus Glas
EP3265265B1 (de) Verfahren zum herstellen eines werkstoffverbunds und provisorischer verbund
WO2018113842A1 (de) Verfahren zum verbinden einer glasschicht mit einem metallischen substrat
DE102014108060A1 (de) Glaselement mit einem chemisch vorgespannten Substrat und einer Kompensationsschicht sowie Verfahren zu dessen Herstellung
DE102010025784A1 (de) Dämmelement und Verfahren zur Herstellung eines Dämmelementes
DE102016112200A1 (de) Druckaufnehmer
DE10348946B4 (de) Bearbeitungsverbund für ein Substrat
WO2009146818A1 (de) Verfahren zur herstellung eines vakuumdichten verbundes zwischen einer glasscheibe und einem metallrahmen sowie glassscheibenverbund
EP3717236B1 (de) Verfahren zur herstellung eines metall-keramik-substrats
DE102016112198A1 (de) Druckaufnehmer
DE1266937B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer unmittelbar mit einer Glasschicht durch Pressdruck verbundenen Metallfolie
EP2043110A2 (de) Manteldraht und Schichtwiderstand
DE102017213527A1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Drucksensoreinrichtung zum Messen eines Drucks eines Fluids und Drucksensoreinrichtung zum Messen eines Drucks eines Fluids
DE10221876B4 (de) Verfahren zum Herstellen eines Keramik-Kupfer-Verbundsubstrats
DE102015209683A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Sensors und Sensor
EP3078644B1 (de) Verfahren zu herstellung einer glasdurchführung mit kontaktstiften
DE1644983C2 (de) Schmiermittel zur Wärmebearbeitung von Metallen und Legierungen

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17829592

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 17829592

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1