WO2018062568A1 - 個別認証媒体とその製造方法、及びそれを用いた認証システム - Google Patents

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WO2018062568A1
WO2018062568A1 PCT/JP2017/035865 JP2017035865W WO2018062568A1 WO 2018062568 A1 WO2018062568 A1 WO 2018062568A1 JP 2017035865 W JP2017035865 W JP 2017035865W WO 2018062568 A1 WO2018062568 A1 WO 2018062568A1
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authentication medium
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porous glass
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長澤 浩
四方 順司
公紀 伊藤
史記 長澤
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株式会社環境レジリエンス
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Definitions

  • the present invention relates to an individual authentication medium, a method for producing the same, and an authentication system using the same, and more particularly, an individual authentication medium that can be applied to individual authentication of an object, a method for producing the same, and an authentication using the same. About the system.
  • artifact metrics For the authentication of artifacts, the idea of a verification medium corresponding to biometrics used to identify an individual: artifact metrics is effective. However, finding materials that meet the requirements of artifact metrics in an ideal way is a major challenge in the field.
  • a typical disorder in the material production is the production of an amorphous material, that is, an amorphous material such as glass or plastic.
  • amorphous materials are disordered at the molecular and atomic level, and when used for authentication, the unit is too small to be observed. That is, it is necessary that a structure capable of being observed is formed and the structure thereof is random.
  • read stability is also a necessary element for practical use.
  • the artifact metric element after registering the artifact metric element, when the artifact metric element is read again, it is necessary to satisfy the property that information equivalent to that at the time of registration can be read stably.
  • an object that gives an image is preferable.
  • the unit of change of the individual structure is 10 nm or more which is the lower limit of the measuring means when using a normal reading, an optical camera, a scanning electron microscope, a laser microscope, a scanning microscope such as an AFM, or the like.
  • the unit of change of the individual structure must be changed in at least a plurality of units. For this reason, a very large mutation unit is not preferred, and is preferably a unit of mm or less, more preferably a structure unit of 200 ⁇ m or less.
  • particles or a group of structures rather than molecular atoms
  • disordering of the fiber structure is preferably considered, and non-woven materials such as paper made of fibers, which are the prior art, are considered as candidates.
  • ordering also occurs, and so much disorder is unlikely to occur.
  • H. Matsumoto I. Takeuchi, H. Hoshino, T. Sugahara, and T. Matsumoto, “An Artifact-metric System Which Utilizes Inherent Texture”, IPSJ Journal, 42 (8), pp. 139-152 (2001).
  • Kiyohisa Eguchi “Use of Porous Glass”, ⁇ Journal of the Japan Institute of Metals, Vol. 23, No. 12, pp. 89989-995, 1984. Kiyohisa Eguchi, “How to make porous glass, how to use it”, Surface, Vol. 25, No. 3, pp. H. Tanaka, T. Yazawa, K. Eguchi, H. Nagasawa, N. Matuda, and T. Einishi, “Precipitation of colloidal silica and pore size distribution in high silica porous glass”, Journal of Non-lid 65 301-309 (1984). H. Nagasawa, Y. Matumoto, N. Oi, S. Yokoyama, T. Yazawa, H.
  • Non-Patent Documents 2, 4, 5, 6, and 7 In order not to satisfy the above requirements such as durability, finding a material that satisfies the above four requirements is a major issue in the field. That is, it is a problem to be solved to find a material that satisfies the above four requirements and that can be supplied stably and economically, establish a manufacturing method thereof, and apply it to an authentication system.
  • Spinodal decomposition is phase separation corresponding to a state change from an unstable state to an equilibrium state.
  • Phase separation is, for example, rapid cooling and holding of a single-phase alloy or polymer solution at a temperature in a multiphase region.
  • the state after quenching is in a non-equilibrium state, and if the free energy G is defined, the state is classified into two types according to the sign of the second derivative with respect to the free energy composition C.
  • the positive state is called the metastable state. In this case, free energy increases due to concentration fluctuations, and nucleation is required for phase separation.
  • phase separation proceeds by fluctuation growth, which is called spinodal decomposition.
  • the generation of hemorrhoids is not required, and even with small concentration fluctuations, the concentration difference expands due to atomic diffusion.
  • the wave of soot concentration fluctuation has a high growth rate at a specific wavelength, and thus the tissue generated by spinodal decomposition often exhibits a periodic modulation structure.
  • a droplet structure may be formed (binodal phase separation).
  • spinodal phase separation a case where a continuous phase is formed and a structure in which two phases are intertwined is divided.
  • the thing that forms this spinodal phase separation structure includes single-layer alloys and polymer solutions. And as a thing with a typical structure of a spinodal phase separation structure, there exists phase separation method porous glass (porous glass).
  • the spinodal phase separation structure has a certain periodicity. For example, in the case of porous glass, the spinodal phase separation structure is formed of two phases having different compositions as shown in FIG.
  • the tissue generated by this spinodal decomposition exhibits a periodic modulation structure, but the size unit of this modulation structure is relatively large and often has several tens of atoms or more.
  • the size is about 10 nm to several tens of ⁇ m, which is almost the target size.
  • this spinodal phase separation structure has the following ideal structure for imparting randomness in authentication.
  • the spinodal phase separation structure is a structure having periodicity, but the direction of the continuous structure to the next period is random every period and there is no regularity in a certain direction like crystallization.
  • feature points derived from this structure are generated every period, and by observing the surface, at least in the region having the length of N period angle, the feature of N square A point is generated.
  • the number of feature points for each period is not limited to a branch but is a large number if it is an irregular shape such as a change.
  • the spinodal phase-separated structure is a three-dimensional solid object, and more irregular shapes are formed in consideration of three-dimensional randomness. From this, it is considered that the spinodal phase-separated structure has sufficient possibility to satisfy the individuality first required for the artifact metric.
  • an advantage of the spinodal phase separation structure is that it can control the periodic unit of periodicity.
  • the period unit can be arbitrarily controlled from 1 nm to 100 ⁇ m. Therefore, in the case of a spinodal phase-separated structure, different regions can be defined by changing the period unit. In the future, not only can a large number of different authentication materials be provided, but by changing the cycle unit, it is possible to prevent confusion between authentications in different areas.
  • an individual authentication medium having a spinodal phase separation structure and having at least one plane is used as a material for individual authentication.
  • Examples of materials having a spinodal phase separation structure include alloys in metal materials (for example, see Non-Patent Document 15) and polymer solutions in organic materials (for example, see Patent Document 5).
  • As an organic-inorganic composite material there is also a sol-gel method porous glass (see, for example, Patent Document 6) having a spinodal phase separation structure created by using a polymer phase separation structure by including a polymer. Further, as a typical structure, there is a phase separation method porous glass (porous glass).
  • the spinodal phase-separated structure formed from a polymer solution that is an organic material is relatively soft and lacks long-term stability, and is a material with excellent durability that is preferable as a material for certification. It's hard to say.
  • a sol-gel porous glass made from a polymer-containing material and having a spinodal phase separation structure is also a brittle material and has a slight difficulty in durability.
  • the skeleton contains fine pores composed of primary particles. Therefore, there is a feature that is vulnerable to contamination of moisture.
  • alloy spinodal phase-separated structures have the potential for malleability and ductility, which are the characteristics of metals, and are difficult to make into fine media.
  • phase-separated porous glass is a material that is highly stable and difficult to change, and has favorable characteristics as an authentication material.
  • this material has already been established to accurately control the pore size to an arbitrary pore size from 1 nm to 100 ⁇ m, and as an authentication material, an authentication using an optical microscope from a measuring method using an electron microscope or a laser microscope is established. Is also a possible material.
  • an individual authentication medium made of a phase separation method porous glass produced using a phase separation structure of borosilicate glass is a more preferable material for individual authentication.
  • the base material is a glass material
  • heat resistance is several hundred degrees, does not burn and does not melt, is not deteriorated by ultraviolet rays, etc., is excellent in weather resistance, does not dissolve in most chemicals and organic solvents, and physically Since it is strong, it is ideal in terms of durability.
  • the structure consisting of the pore part and the skeletal phase is clearly different, so not only can it be observed with sufficient contrast even with reflected light or transmitted light, but it will not deteriorate even with strong light, It is considered that reading stability can be ensured over a long period of time.
  • the material is a fine structure of glass, it is extremely difficult to directly process other glass materials to create the same object. Since it is a three-dimensional object, it is difficult to make a copy as an authentication material including a three-dimensional structure.
  • the periodic structure can be controlled at the time of spinodal phase separation, but its bifurcation structure is composed of self-organized complex systems and naturally occurring, so it cannot be effectively replicated. Therefore, the clone resistance (Clone Resistance) is considered to be the highest level at present.
  • the phase-separated porous glass that has just been created is basically a glass sponge structure, which is a transparent material, and thus it is difficult to obtain an image due to lighting or the like. Therefore, for example, if the pores are filled with a black filler or the surface is smoothed so that the surface can be easily observed, the authentication operation becomes easier. Therefore, phase separation with an arbitrary pore structure with an average pore diameter of 1 nm to 100 ⁇ m, which has been subjected to at least one of the process of attaching a filler to the pores of the individual authentication medium or the process of smoothing the surface of the individual authentication medium An individual authentication medium made of legal porous glass is a preferred medium form.
  • a production method including a raw material mixing step, a melting step, a molding step, a phase separation step, a chemical treatment step, and a step for stabilization by resin sealing has been devised.
  • the raw material mixing step glass raw materials are mixed.
  • the melting step the mixed material is melted to form a borosilicate glass base material.
  • the molding process the produced borosilicate glass base material is molded.
  • the phase separation step the formed borosilicate glass base material is subjected to heat treatment for phase separation.
  • a porous glass is prepared by subjecting the phase-separated borosilicate glass base material to chemical treatment. And the produced porous glass can be stabilized by resin sealing or the like.
  • FIG. 2 illustrates an individual authentication system using the above individual authentication medium.
  • the individual authentication system and apparatus includes an individual authentication medium, a data processor, and an observation device connected to the data processor.
  • the individual authentication medium can be the individual authentication medium described above.
  • the observation apparatus can acquire the surface image of the individual authentication medium and transmit it to the data processor.
  • the data processor can perform individual authentication by comparing the feature point information calculated from the surface image with the feature point information of the individual authentication medium previously stored in the database.
  • a smartphone which is a typical network device.
  • a porous glass sealed with resin having a pore structure of 50 ⁇ m, a thickness of 100 ⁇ m, and 8 mm * 8 mm * 1.1 mm (FIG. 3) is attached to a smartphone.
  • This smartphone is set as not being allowed to connect to the Internet in a state where the authentication material is not held.
  • the carrier holds the image information of the porous glass medium for authentication as a database.
  • the carrier specifies several sections on the medium and requests its image information.
  • the device side transmits image information and receives authentication. 2.
  • When used for important authentication for example, when functioning as an authentication device at a bank ATM, hold the artifact metrics itself over the sensor of the ATM side, perform image recognition, and perform authentication.
  • the mobile phone is divided into a 50 ⁇ m pattern
  • the home appliance is divided into a 10 ⁇ m pattern
  • an authentication pattern is given. Random numbers can be assigned spontaneously.
  • media information such as images is cloned by some method, it may be possible to perform individual authentication more deeply using a three-dimensional structure.
  • authentication can be performed using electromagnetic or CT scanning techniques by filling the porous glass pores with a dielectric material or metal member. It becomes.
  • the individual authentication according to the present invention is I. Phase-branching method
  • the pore branching structure in porous glass is randomly constructed and has a large randomness when used as an artifact metric.
  • III. Phase separation method Porous glass is physically strong, so it has sufficient practical durability, and since it is a glass material, it can be incorporated naturally into various devices (smartphones, etc.) and sensors. It is.
  • IV. Although a highly specialized technique is required for manufacturing a phase separation method porous glass, the manufacturing cost is low, so that it can be incorporated into various devices and sensors at a low cost.
  • the individual authentication medium of the present invention can be applied to certificates such as various cards and passports in the future.
  • 2 is a scanning electron micrograph of porous glass having a pore diameter of 200 nm used for evaluation of an embodiment of the present invention.
  • Glass is an inorganic material with an amorphous network.
  • amorphous material it is “organized” or “ordered” as a material that represents “disorder” from the viewpoint of atoms and molecules at the angstrom level. Can be seen as a game. On the other hand, from a nano-level perspective, it can be understood as a uniform material.
  • borosilicate glass which has a low expansion coefficient, is resistant to heat shock, and has excellent chemical stability, suddenly becomes chemically weak and prone to cracking when used under certain conditions.
  • boric acid abnormality This is due to a phenomenon called “phase separation” of glass, and if this phenomenon is used well, an expensive quartz glass can be produced at a low cost.
  • phase separation method porous glass was invented as an intermediate.
  • phase separation method porous glass
  • a high silicate type having a final composition of SiO2: 96% or more and a borosilicate type containing alumina or zirconia have been reported. These two types have different pore diameter ranges that can be produced: high silicate type: 1 nm to 300 nm, borosilicate type: 200 nm to 50 ⁇ m.
  • mold porous glass is shown below.
  • raw materials are mixed using silica sand and borax, boric acid and sodium carbonate, alumina or the like.
  • the raw material mixed in the raw material mixing step 402 is melted at about 1200 ° C. to 1500 ° C. to prepare a borosilicate glass base material mainly composed of SiO 2, B 2 O 3 and Na 2 O.
  • the molding step 406 the borosilicate glass base material prepared in the melting step 404 is molded at about 800 ° C to 1100 ° C.
  • phase separation is caused by performing a heat treatment in which the borosilicate glass base material molded in the molding step 406 is held at a temperature equal to or higher than the glass transition point.
  • each constituent atom fluctuates and moves inside. It is very similar to crystallization, but it is separated into two glass phases that remain in an amorphous glass and take a more stable state at that temperature. Form an ordered structure.
  • the two phases are silica phases, one of which is almost composed of silicic acid, and the remainder is a sodium borate phase composed of boric acid, sodium oxide and silicic acid.
  • a spinodal structure in which tissues are intertwined like a sponge there are a case where a spinodal structure in which tissues are intertwined like a sponge and a case where a single phase forms an isolated droplet structure like a droplet.
  • Porous glass is obtained from a spinodal phase separated product having a continuous phase structure.
  • the two phases If the two phases are continuously exposed to a temperature above a certain level, the two phases undergo rearrangement and an ordered structure grows. In addition, when it exceeds the temperature range which causes this phase separation, it returns to a uniform glass composition again. In this phase separation phenomenon, the component molecules constituting the glass repeat self-assembly and dissipative structures in search of stabilization, and the two most stable phases at that temperature tend to have the smallest interface area. It can be considered as a self-organizing phenomenon. This is pattern formation by spinodal phase separation of liquid, but since the reaction of glass has a very long time axis, it is none other than formation of a structure by self-organization in which the liquid can be frozen and taken out.
  • the characteristic of structure formation by spinodal phase separation is orderly, but unlike crystal growth, random formation in order formation is included, and a structure consisting of many branched structures is similar but all different. Conceivable.
  • the creation of a pore structure by external control can control the pore diameter but cannot control the branched structure. Moreover, this structure can also obtain random structures of various modes by changing the pore diameter.
  • the random structure by phase separation always exhibits randomness in the distance unit indicated by the pore diameter, and finally the next randomness is generated in the next unit distance, so that very large randomness is finally obtained.
  • the spinodal structure of porous glass has a two-dimensional surface structure and a three-dimensional complex structure as a whole.
  • the phase separation structure is determined by the coefficient of temperature and time, but the characteristics of the resulting porous glass differ if the temperature is different even under the same structure conditions, but the difference is inconspicuous because it is similar. Is also a feature.
  • the borosilicate glass base material phase-separated in the phase separation step 408 is subjected to chemical treatment using an acid solution.
  • an acid solution usually, several specified sulfuric acid or nitric acid is used, and the sodium borate phase is dissolved by maintaining the temperature at 90 ° C. or higher.
  • the pore structure of the A-type porous glass does not reflect the phase separation structure, and is actually a structure in which silica gel derived from sodium borate phase is deposited in a skeleton structure made of silica glass. Furthermore, in the chemical treatment step 410 of FIG. 4, B-type porous glass reflecting the phase separation structure is obtained by removing the silica gel by some method such as removing the silica gel with an alkaline aqueous solution.
  • this porous glass is characterized by a glass that has a skeleton that supports the structure and is strong and hard, and it is harder to break than ordinary glass because it is distorted during phase separation, and it is mechanically and chemically strong. It is. Furthermore, once the chemical treatment is performed to form a porous glass, the phase separation does not continue and the material is thermally stable.
  • the main raw materials are silicic acid (silica sand), boric acid, sodium carbonate, alumina, zirconia and the like, and since it is not different from ordinary borosilicate glass, the material cost is not expensive.
  • the preparation process is: raw material mixing / melting / molding / phase separation / chemical treatment.
  • Equipment required for preparation is a mixer, melting crucible, electric furnace (in the atmosphere), chemical treatment reactor (about flask). Especially expensive equipment is not required, but the price of porous glass is high at this time. However, this is mainly a process cost and a labor cost for small-scale production.
  • the processing of porous glass is the same as ordinary glass processing, and already established facilities and methods can be used. Large quantities of porous glass can be easily supplied as needed.
  • the phase separation method porous glass thus produced is finished as a medium of 1 mm square and a thickness of 50 ⁇ m, stabilized by resin sealing or the like, and firmly fixed to the object.
  • An authentication system that implements artifact metrics is called an artifact metric system (see, for example, Non-Patent Document 2).
  • the artifact metric system is basically composed of the following two phases. Registration phase: In order to register a target artifact, data representing its characteristics (randomness) (hereinafter referred to as registration data) is acquired by a sensor and recorded in a database. ⁇ Verification phase: In order to authenticate the target artifact, data representing its characteristics (hereinafter referred to as verification data) is acquired by the sensor. Then, verification is performed using the verification data and registration data recorded in the database, and finally a verification result (acceptance or rejection) is output.
  • Registration phase In order to register a target artifact, data representing its characteristics (randomness) (hereinafter referred to as registration data) is acquired by a sensor and recorded in a database.
  • Verification phase In order to authenticate the target artifact, data representing its characteristics (hereinafter referred to as verification data) is acquired by the sensor.
  • the purpose of the artifact metric system is to determine whether the artifact presented in the registration phase and the artifact presented in the verification phase are the same thing. If it is determined that they are the same, “accept” is output, and if not, “reject” is output.
  • FAR or FMR: False Match Rate
  • FRR or FNMR: False Non-Match Rate
  • ⁇ FAR False Acceptance Rate
  • ⁇ FRR False Rejection Rate
  • error probabilities for determining false as true and error probabilities for determining true as false are not limited to the artifact metric system. Generally, it can be considered in all authentication systems (such as biometric systems), judgment systems, and testing systems (such as hypothesis testing), and is an index for measuring the basic accuracy of these systems.
  • CAR Cosmetic Acceptance Rate
  • FIG. 2 shows an embodiment of the individual authentication system 200.
  • the individual authentication system 200 includes an individual authentication medium 202, a data processor 206, and an observation device 204 connected to the data processor.
  • the feature point information of the image of the individual authentication medium 202 is registered in the database 214 in advance.
  • the observation device 204 acquires a surface image of the individual authentication medium 202 at 220.
  • the observation device 204 transmits the acquired surface image to the connected data processor 206.
  • the data processor 206 can include a feature point calculation unit 210 that calculates feature points from the surface image received from the observation device 204. Further, it is possible to provide a feature point collating unit 212 that collates the calculated feature point with the feature point information of the individual authentication medium 202 registered in the database in advance and performs authentication.
  • the observation device 204 can be an arbitrary device such as an optical camera, a scanning electron microscope, a laser microscope, or a scanning microscope such as an AFM.
  • the data processor 206 can be an arbitrary device such as a server or a personal computer (PC).
  • the feature point calculation means 210 can be any calculation method.
  • this authentication system acquires an image of the surface of an individual authentication medium by an optical camera, a scanning electron microscope, a laser microscope, a scanning microscope such as an AFM, etc., and authenticates individuality using image feature point information. It consists of an individual authentication system and device. It is possible to use an individual authentication system and apparatus selected according to the security level required by the various observation systems as described above and adapted to the material.
  • Sift Scale-Invariant Feature Transform
  • Sift Scale-Invariant Feature Transform
  • Sift is a feature point detection and description method published by D. Lowe in 1999.
  • Sift is invariant to image rotation and scale changes, and is resistant to lighting changes.
  • Sift is an open source image processing library that is implemented in OpenCV and is a feature detection method widely used for image identification.
  • the concept of local features is also used in the verification of the parent image and the child image.
  • the local feature amount is a point where a large shade of an image is detected, and a differential from the periphery is expressed by a vector (for example, see Non-Patent Document 11).
  • the feature values of the feature points obtained by the above method are compared with respect to an arbitrary combination of a parent image and a child image to find a pair of feature points having the smallest difference d, and d is a distance. Thereafter, the distance d was compared with respect to all the obtained pairs, n pieces were taken in ascending order of d, and the average of them was taken as the distance between both images. As a result, pattern matching between the parent image and the child image is performed, and the following three types are considered as the value of n described above.
  • a threshold a certain value
  • Table 1 shows the distances (rounded down to the nearest decimal place) by 1-MNN for the parent images I, II, ..., VIII and the child images i, ii, ..., viii.
  • the value located in the diagonal component indicates the same photographing part in the porous glass, and thus is a distance value when it is determined to be accepted, and the other values are distance values when it is determined to be rejected. .
  • all the values located in the diagonal component are less than 20, while the other values are 100 or more. For this reason, the high uniqueness of the image can be confirmed, which indicates that the randomness of the pore distribution of the porous glass is large.
  • Fig. 6 is a graph of FAR and FRR in the case of 1-MNN.
  • the horizontal axis of FIG. 6 represents “distance threshold”, and the vertical axis represents “error probability”.
  • a total of 64 distances are calculated for eight parent images and eight child images, and a graph is drawn. This result is considered to show good accuracy for the number of experimental data 64. If the difference in magnification between the parent image and the child image is almost the same, the accuracy will be higher than the result of this experiment.
  • the experimental results are considered to show good accuracy. Therefore, we believe that porous glass can be expected as an application material for artifact metrics.
  • Fig. 7 is a graph of FAR and FRR for the above 10-MNN.
  • the horizontal axis of FIG. 7 represents “distance threshold”, and the vertical axis represents “error probability”.
  • a total of 64 distances are calculated for eight parent images and eight child images, and a graph is drawn.
  • Fig. 8 is a graph of FAR and FRR for the 100-MNN.
  • the horizontal axis of FIG. 8 represents “distance threshold”, and the vertical axis represents “error probability”.
  • a total of 64 distances are calculated for eight parent images and eight child images, and a graph is drawn.
  • the present invention relates to individual authentication required for performing credit acts such as network environment and various commercial transactions and contracts in the explosive spread of mobile devices and IoT society.
  • it has been created in a self-organized manner on various computers used for social acts such as economic acts, mobile phones, automobiles, etc. and cards (artifacts) that do not have reliable individual identification at the present time.
  • Artifact metrics with a spinodal phase separation structure can be used.
  • the ultimate individual authentication system can be provided.
  • forgery and tampering are made difficult by cooperating with biometrics that identify individuals.

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Abstract

経済行為等社会行為に用いられる機器類やカード類(人工物)の認証において、バイオメトリクスに相当する人工物メトリクスの考え方が有効である。そこで、人工物メトリクスの要件を満たし、好ましくは安定的、経済的にも供給可能な材料を見出し、その製造方法を確立し、人工物の個別認証システムに適用することを課題とする。スピノーダル分相構造を持つポーラスガラスを人工物メトリクスとしての個別認証媒体とする。その製造方法と、個別認証媒体を利用した個別認証システムを提供する。

Description

個別認証媒体とその製造方法、及びそれを用いた認証システム
 本発明は、個別認証媒体とその作成法、及びそれを用いた認証システムに関し、より詳細には、物の個別認証に適用することができる個別認証媒体とその作成法、及びそれを用いた認証システムに関する。
 今日のモバイルデバイスの爆発的普及やIoT(Internet of Things)社会に於いて、ネットワーク環境及び各種商取引、契約等信用行為を行うに当たり、個別認証が基本要件となっている。例えば、社会生活における個人の特定は、経済行為等社会行為に於いて根本であり、保証するためには、顔写真や最終的には指紋や虹彩パターン等のバイオメトリクスにより個別認証される。しかし、経済行為等社会行為に用いられる各種コンピュータを始め、携帯電話、自動車等の機器類やカード類は、現状に於いては究極的な個別認証システムを有しない。即ち、例えれば、今盗まれたスマートフォンのSIMカードが差し替えられたら、そのスマートフォンが、本来のスマートフォンである事を証明する事は難しい。また、自動運転車に於いても、個別識別は、安全な自動運転の基本となる技術である。
 人工物の認証に対しては、個人の特定に使用されるバイオメトリクスに相当する証明媒体:人工物メトリクスという考えが有効である。しかしながら、人工物メトリクスの要件を理想的な形で満たす材料を発見することは当該分野の大きな課題となっている。
 ある人工物の物理的特徴が人工物メトリクス要素として利用でき、人工物メトリック・システムが成り立ち得るための要件として以下の4つの性質が挙げられる(例えば、非特許文献1参照)。
・個別性(Individuality)
各個体の人工物メトリクス要素が、互いに十分異なっていると認められる性質
・読取安定性(Stability)
人工物メトリクス要素の登録後に、再度、人工物メトリクス要素を読み取ったときに、安定して登録時と同等の情報が読み取れる性質
・耐久性(Stability)
人工物の利用に伴う外的要因によって変化・劣化した人工物メトリクス要素から、安定して登録時と同等の情報が読み取れる性質
・耐クローン性(Clone Resistance)
読み取り装置を欺く偽物(これをクローンという)を作ることが極めて困難である性質
 個別認証媒体として、必要条件を考えると、まず、個別性(Individuality)が絶対必要である。これは、各個体の人工物メトリクス要素が互いに十分異なっていると認められる性質であり、確立する為には、乱数表の如くランダム性が形成されなければならない。この場合、人為的でなく、媒体の製造過程で生じ得るランダムネスを生かした人工物メトリクスの考え方が有効であると考えられるが、製造工程で秩序ではなくランダムネスが発生する過程を選ばねばならない。媒体材料を製造する場合、例えば、結晶成長は秩序の再構築であり、ランダムが解消される過程となるため目的とは反する。材料作成における代表的な無秩序化は、非晶質材料、即ちガラス・プラスチック等のアモルファス材料作成である。しかし、アモルファス材料は、分子・原子レベルの無秩序化であり、認証に用いる場合には単位が小さすぎて観測が出来ない。即ち、観測できる程度の構造物が形成され、かつその組織がランダムになっている必要がある。
 さらに、読取安定性(Stability)も、実用的には必要な要素となる。即ち、人工物メトリクス要素の登録後に、再度、人工物メトリクス要素を読み取ったときに、安定して登録時と同等の情報が読み取れる性質を満たす必要がある。このためには、観測できるだけではなく、コントラストが明瞭な、例えば、画像を与える物が好ましい。
 この個別性(Individuality) 、読取安定性(Stability)は、認証媒体として、絶対必要な要件である。ここで、読取可能な事は、観測手段による限定を掛ける事となる。その個別構造の変化の単位は、通常の読み取り、光学カメラ、走査型電子顕微鏡、レーザー顕微鏡、AFM等走査顕微鏡等を用いるとなると、測定手段の下限である、10nm以上である。上限は、媒体の大きさが1cm角までとしても、ランダム性の変化性を考えると、個別構造の変化の単位を少なくとも複数単位で変化させなければならない。そのため、あまり大きな変異単位は好ましくなく、mm単位以下であり、より好ましくは200μm以下の構造物単位であることが好ましい。
 これらの事から考えると、製造工程で秩序ではなくランダムネスが発生する過程としては、分子原子単位ではなく、粒子やある程度まとまった組織体が好ましい。例えば、繊維構造物の無秩序化が好ましく考えられ、先行技術である繊維による紙などの不織材が候補として考えられる。しかし、紙漉き等では、秩序化も発生する為、あまり大きな無秩序化が起こりにくい。
特開2002-226740号公報 特開昭49-131142号公報 特開2006-123174号公報 特開平10-049647号公報 特許5292571号 特許5263721号 特許1617152号 特許1757525号 米国特許USP 216744 (1938). H. P. Hood and M. E. Nordberg:
松本弘之, 宇根正志, 松本勉, 岩下直行, 菅原嗣高, "人工物メトリクスの評価における現状と課題", 金融研究, 第23巻第1号, pp. 61-140, 日本銀行金融研究所, 2014年6月. H. Matsumoto, I. Takeuchi, H. Hoshino, T. Sugahara, and T. Matsumoto, "An Artifact-metric System Which Utilizes Inherent Texture", IPSJ Journal, 42 (8), pp. 139-152 (2001). H. Matsumoto and T. Matsumoto, "Clone match rate evaluation for an artifact-metric system", IPSJ Journal 44, pp. 1991-2001 (2003). M. Yamakoshi, J. Tanaka, M. Furuie, M. Hirabayashi, and T. Matsumoto, "Individuality evaluation for paper based artifact-metrics using transmitted light image", Proc. SPIE 6819, 68190H-1-68190H-10 (2008). 吉田直樹, 横山雄紀, 西村和夫, 松本勉, "金属箔人工物メトリクス", 電子情報通信学会論文誌A, Vol. J99-A, No. 8, pp. 341-350 (Aug. 2016). T. Matsumoto, M. Hoga, Y. Ohyagi, M. Ishikawa, M. Naruse, K. Hanaki, R. Suzuki, D. Sekiguchi, N. Tate, M. Ohtsu, "Nano-artifact metrics based on random collapse of resist", Scientific Reports 4, Article number: 6142 (2014). 藤川真樹, 小田史彦, 森安研吾, 渕真悟, 竹田美和, "有価陶磁器に対する人工物メトリクス適用のための研究", Computer Security Symposium 2013, 3D3-4 (Oct. 2013). 江口清久, "ポーラスガラスの利用", 日本金属学会会報, 第23巻, 第12号, pp. 989-995, 1984. 江口清久, "多孔質ガラスの作り方, 使い方", 表面, Vol. 25, No. 3, pp. 184-194 (1987). H. Tanaka, T. Yazawa, K. Eguchi, H. Nagasawa, N. Matuda, and T. Einishi, "Precipitation of colloidal silica and pore size distribution in high silica porous glass", Journal of Non-Crystalline Solids 65 pp. 301-309 (1984). H. Nagasawa, Y. Matumoto, N. Oi, S. Yokoyama, T. Yazawa, H. Tanaka, and K. Eguchi, "Effects of pore size on the retention time of octadescyl silanaized porous glass in high performance liquid chromatography", Analytical Science, vol. 7 (Suppl) pp. 181-182  (1991). 長澤浩, "分相法ポーラスガラスのセンサーへの応用", Chemical Sensors, Vol. 31, No. 1, pp. 10-20 (2015). D. G. Lowe, "Object recognition from local scale-invariant features", Proc. of the International Conference on Computer Vision, Corfu (Sept. 1999). 佐々木栄祐, 今野俊一, 恒川佳隆. "エッジ画像と色情報を用いた SURF アルゴリズムの検討", 計測自動制御学会東北支部 第280 回研究集会, No. 280-4, pp. 1-7 (2013). Tohru NOBUKI, Synthesis of Laves phase related bcc alloys and their hydrogenation,Journal  of  Advanced  Science, Vo l . 1 9, No.1&2, 2007
 これまでに、人工物メトリクスとして、紙、金属箔(アルミ箔)、磁性ファイバー、ナノ構造のレジスト倒壊を対象にしたシステムや、有価陶磁器の真贋判定のためのシステム等が提案されている(例えば、非特許文献2、4、5、6、7参照)。しかしながら、上記の耐久性等の要件を満たさないため、上記4つの要件を満たす材料を発見することが当該分野の大きな課題となっている。即ち、上記4つの要件を満たし、かつ、好ましくは安定的、経済的にも供給可能な材料を見出し、かつその製造方法を確立し、認証システムに適用する事が解決しようとする課題である。
 この課題に対し、スピノーダル分解とそれに伴うスピノーダル分相構造が、解として考えられた。スピノーダル分解は、不安定状態から平衡状態への状態変化に対応する相分離のことであり、相分離は、例えば単相の合金や高分子溶液を多相領域のある温度に急冷・保持することにより起こる。ここで急冷後の状態は非平衡状態にあり、自由エネルギーGが定義されたとすると、その状態は自由エネルギーの組成Cに対する2階微分の符号により2つのタイプに分類される。正の状態は準安定状態と呼ばれる。この場合、自由エネルギーは濃度のゆらぎにより増加し、相分離には核生成を必要とする。
 負の状態は不安定状態であり、濃度ゆらぎによって自由エネルギーが減少する。つまりゆらぎの成長によって相分離が進み、スピノーダル分解と呼ばれる。 核の発生を必要とせず、小さな濃度ゆらぎでも原子の拡散によって濃度差が拡大していく。 濃度ゆらぎの波は、特定の波長のとき成長速度が大きくなるため、スピノーダル分解によって生成した組織は周期的な変調構造を呈することが多い。また、相分離に於いては、液滴構造を形成する場合(バイノーダル分相)もあるが、連続相を形成し、絡み合った2相に分かれた構造をとる場合を特にスピノーダル分相と言う。
 このスピノーダル分相構造を形成する物には、単層の合金や高分子溶液がある。そして、スピノーダル分相構造の典型構造を持つものとして分相法多孔質ガラス(ポーラスガラス)がある。スピノーダル分相構造は、一定の周期性を持ち、例えば、ポーラスガラスの場合、図1に示すような、異なる組成からなる二つの相から形成される。
 このスピノーダル分解によって生成した組織は周期的な変調構造を呈するが、この変調構造の大きさ単位は、比較的大きく、原子数数十以上である事が多い。例えば、代表的なスピノーダル分相構造である分相法ポーラスガラスの場合、10nmから数十μm単位であり、ほぼ目的とする大きさとなる。
 更に、このスピノーダル分相構造は、認証に於けるランダム性付与として、以下の理想的な構造を持つ。
・スピノーダル分相構造は、周期性を持つ構造であるが、1周期ごとに次の周期への連続構造の向きがランダムであり、結晶化のように一定方向への規則性が無い。
・従って、スピノーダル分相構造の表面には、この構造から由来する、特徴点が周期毎に発生し、表面を観察する事で、少なくともN周期角の長さを持つ領域では、N二乗の特徴点が発生する。ここで、少なくともと言うのは、周期毎の特徴点が、分岐だけでなく変化等の異形であれば、なお多数となる。
・かつ、スピノーダル分相構造物は、三次元立体物であり、三次元的ランダム性を考慮すると、更に多くの異形が形成される。
このことから、スピノーダル分相構造物は、人工物メトリクスに第一に求められる個別性を満たす充分な可能性を有すると考えられる。
 更に、スピノーダル分相構造物の有利な点は、周期性の周期単位を制御しうる特長がある。例えば、ポーラスガラスの場合、その周期単位は、1nmから100μmまで、任意に制御できる事が報告されている。従って、スピノーダル分相構造物であれば、周期単位を変更する事により、異なる領域の認識領域を定義できる事となる。今後、多数の異なる認証材を提供できるだけではなく、周期単位を変えることにより、異なった領域の認証の混同を防ぐ事ができる。
 加えて、三次元構造であることは、二次元画像認識以上の可能性を含有しており、将来的には、三次元の認証を行いうる。
 上記の理由をもって、スピノーダル分相構造を持つ材料の欠片であって、少なくとも1つの平面を有する個別認証媒体を個別認証に於ける材料とする。
 スピノーダル分相構造を持つ材料としては、金属材料における合金類(例えば、非特許文献15参照)や有機材料における高分子溶液(例えば、特許文献5参照)がある。有機無機複合材料としては、高分子を含むことで高分子の分相構造を利用し作成されたスピノーダル分相構造を持つゾルゲル法ポーラスガラス(例えば、特許文献6参照)も存在する。更に、典型構造を持つものとして、分相法多孔質ガラス(ポーラスガラス)がある。
 これらの内、有機材料である高分子溶液から形成されたスピノーダル分相構造物は、比較的柔らかく長期安定性に欠ける点があり、認証に於ける材料として好ましい耐久性(Stability)が優れた材料とは言いがたい。
 高分子含有材料から作成された、スピノーダル分相構造を持つゾルゲル法ポーラスガラスも脆い材料であり、耐久性には些か難があると同時に、微細構造として骨格は一次粒子からなる微細孔を含有する為、水分等の汚染に弱い特長がある。
 更に、合金系スピノーダル分相構造物は、金属の特性である展性・延性の可能性があり微細媒体にするのは難しい側面がある。
 しかしながら、同じスピノーダル分相構造物の中で、分相法ポーラスガラスは、耐久性に於いて安定が高く変化しにくい材料であり、認証材として好ましい特性を有している。しかも、この材料は、既に、正確に細孔径を1nmから100μmまでの任意の細孔径とする制御が確立されており、認証材として、電子顕微鏡やレーザー顕微鏡を用いる測定法から光学顕微鏡を用いる認証も可能な材料である。
 その為、好ましいスピノーダル分相構造物として、ホウケイ酸ガラスの分相構造を用いて作成される分相法ポーラスガラスからなる、個別認証媒体がより好ましい個別認証に於ける材料となる。
 ここで、改めてスピノーダル分相構造物としての分相法ポーラスガラスの特性を考えたとき、人工物メトリクスとしての必要条件を考えると、スピノーダル分相構造物であることから個別性(Individuality)の条件は、十二分に満たしている。
 また、基材が、ガラス材料であり、耐熱性は数百度に耐え燃えず熔けず、紫外線等での劣化も無く耐候性に優れ、殆どの薬品や有機溶剤にも溶けず、物理的にも強固であるので耐久性(Stability)において、理想的である。
 また、細孔部分と骨格相からなる構造は、明瞭に差があることから、反射光や透過光でも充分なコントラストで観測が可能なだけでなく、強い光でも劣化する事が無いことから、長期に渡って読取安定性(Stability)が確保できると考えられる。
 更に、素材がガラスの微細構造であるので、直接的に他のガラス素材を加工して同一物を作成することは極めて困難である。立体物であるので、立体構造までを含めた認証材としてコピー物を作る事は困難である。スピノーダル分相時に、周期構造は制御可能であるが、その分岐構造は、自己組織的複雑系・自然発生により構成される為、事実上複製は出来ない。従って耐クローン性(Clone Resistance)においても、現時点で最高レベルと考えられる。
 しかしながら、作成しただけの分相法ポーラスガラスは、基本的には透明素材であるガラスのスポンジ構造物である為、画像取得には、照明等で若干の困難さがある。そこで、例えば、細孔に黒色の充填物を詰めたり、表面を観察し易いように平滑にしたりする加工を施すと、認証作業がより容易になる。よって、個別認証媒体の細孔に充填物を付着させる加工または個別認証媒体の表面を平滑にする加工の少なくとも1つを施した、平均細孔径1nmから100μmまでの任意細孔構造を持つ分相法ポーラスガラスからなる、個別認証媒体が好ましい媒体形態である。
 また、個別認証媒体の製造方法として、原料混合工程、熔解工程、成型工程、分相工程、化学処理工程、および樹脂封止等により安定化する工程を含む製造方法が考案された。原料混合工程は、ガラスの原料を混合する。熔解工程は、混合された材料を熔解してホウケイ酸ガラス母材を作成する。成型工程は、作成されたホウケイ酸ガラス母材を成型する。分相工程は、成型されたホウケイ酸ガラス母材を熱処理して分相する。化学処理工程は、分相されたホウケイ酸ガラス母材に化学処理を施してポーラスガラスを作成する。そして、作成されたポーラスガラスは、樹脂封止等により安定化することができる。
 図2において、上記の個別認証媒体を利用した個別認証システムを例示する。個別認証システム及び装置は、個別認証媒体、データ処理機、およびデータ処理機に接続された観測装置を含む。個別認証媒体は、上述した個別認証媒体とすることができる。観測装置は、個別認証媒体の表面画像を取得してデータ処理機に送信することができる。データ処理機は、表面画像から計算した特徴点情報と、予めデータベースに保持している個別認証媒体の特徴点情報とを照合して、個別認証を行うことができる。
 請求項に記載された発明を代表的なネットワーク機器であるスマートフォンに適応した場合とする。例えば、細孔構造50μm、厚さ100μm、8mm*8mm*1.1mm(図3)の樹脂封止したポーラスガラスをスマートフォンに貼り付けたものを想定する。このスマートフォンは、この認証材を保有していない状態では、ネットへの接続が許されない事として設定される。キャリアは、この認証用ポーラスガラス媒体の画像情報をデータベースとして保有する。この機器がネット上で認証される必要があるとき、
1、例えば、キャリアは、媒体上の数区画を指定し、その画像情報を要求する。これに対して、機器側は画像情報を送信し、認証を受ける。
2、重要な認証に用いる場合、例えば、銀行ATMにて認証機器として機能させる場合、ATM側が持つセンサーに、人工物メトリクスそのものをかざし、画像認識を行い、認証を行う。
 尚、個別の機器に付く認証媒体は、厳密に一個だけであると考えられるので、例えば、スマートフォンが盗難にあったとき、これを本来の所有者の了解無しに使用することは、ほぼ不可能になる。つまり、盗難した機器を利用しようとすると、当然認証媒体の貼付が必要であり、認証媒体と機器が完全に1対1対応で紐付けられていれば、事実上の盗難が不可能となる。
 同じく、自動運転車を想定した場合、常に個別認証が厳密におこなわれるため、運転の乗っ取り等が不可能になり、サイバーテロから安全にコントロールが可能になる。
 更に、個人識別であるバイオメトリクスとリンクさせ、厳密に紐付けする事により、ネットバンキング等のセキュリティの安全性が格段に高まる。
 加えて、IoT においては、全ての機器類やカード類に個別番号を重ならないように与えなければならない。本発明の場合、携帯電話は、50μmパターン、家電機器は、10μmパターンと区分けして、認証パターンを与えるなど、重複が起こらない工夫が出来るだけではなく、そこに人為的な偏りを排除し、自然発生的に乱数を割り当てる事が可能となる。
 尚、それでも、何らかの手法で画像等の媒体情報のクローン作成がなされた場合、三次元構造により、より深く個別認証する事も考えられる。
 また、認証に当たっては、上に挙げた画像取得以外にも、ポーラスガラス細孔内に、誘電物質や、金属部材等を充填する事により、電磁気的やCTスキャンのような手法での認証も可能となる。
 以上から、本発明による個別認証は
I.分相法ポーラスガラスにおける孔の分岐構造はランダムに構成され、人工物メトリクスとして利用する上で大きなランダムネスをもつ。
II.10nmから100μmまでの分岐した孔構造のスケーリングを制御できるため、人工物メトリクスにおける幅広い精度の認証に利用できる。
III.分相法ポーラスガラスは物理的に強固であるため、実用上十分な耐久性をもち、またガラス材料であることから自然な形で様々なデバイス(スマートフォン等)やセンサーに組み込むことが可能である。
IV.分相法ポーラスガラス製造に対しては高度に専門的な技術が要求されるものの、製造コストは安価であるため、様々なデバイスやセンサーに安価に組み込むことが可能である。
 このことから、本発明の個別認証媒体は、将来的には、各種カードやパスポートなどの証明書にも適応可能である。
 また、上記に加えて、ポーラスガラスの孔構造のスケーリングを小さくしていけばいくほど、クローンを作成することは困難であると考えられ、クローン製造困難性に関しても期待できる。
本発明の一実施形態の代表的ポーラスガラスの走査型電子顕微鏡写真であり、3種の異なった細孔径のポーラスガラスが相似構造であることを示す写真である。 本発明の一実施形態の評価装置概念図である。 本発明の一実施形態のポーラスガラス媒体の外観写真である(8mm*8mm*1.1mm)。 本発明の一実施形態のポーラスガラス媒体の製造工程を示す図である。 本発明の一実施形態の評価に使った細孔径200nmのポーラスガラスの走査型電子顕微鏡写真である。 本発明の一実施形態の1-MNN:最も小さい距離のみで測定する場合(n=1)のFAR及びFRRのグラフである。 本発明の一実施形態の10-MNN:小さい順に10個の距離をとり、それらの平均で測定する場合(n=10)のFAR及びFRRのグラフである。 本発明の一実施形態の100-MNN:小さい順に100個の距離をとり、それらの平均で測定する場合(n=100)のFAR及びFRRのグラフである。
(製造方法)
 以下に、より詳しくこの分相法ポーラスガラスを用いた個別認証に於ける材料の作成方法と特徴を説明する。「ガラス」は、非晶質のネットワークを持つ無機質の材料であり、アモルファス材料として、オングストロームレベルである原子・分子の目から見れば「無秩序」を代表する材料として「組織化」あるいは「秩序化」の対局として見る事が出来る。他方、ナノレベル以上の視点から見れば、均一な素材として理解することが出来る。
 我々が通常目にするガラスは、「ソーダライムガラス」、「鉛ガラス」、「ホウケイ酸ガラス」、および「石英ガラス」である。「ソーダライムガラス」は、主にケイ酸と酸化ナトリウム、酸化カルシュウムの3成分からなる一番ありふれたガラスである。「鉛ガラス」は、クリスタルガラスとして知られる酸化鉛を主成分とするガラスである。「ホウケイ酸ガラス」は、理化学ガラスとも呼ばれるガラスである。「石英ガラス」は、ケイ酸のみで形成されるガラスである。
 このなかで、膨張係数が低く、熱ショックに強く、化学的安定性も非常に優れたホウケイ酸ガラスは、特定の条件で使用されると、突然化学的に弱く割れやすくなる現象があり、昔は「ホウ酸異常」として知られていた。この原因が、ガラスの「分相」と言われる現象によるものであり、この現象を上手く使えば、高価な石英ガラスが安価に作成できるとして1934年に米国コーニング社により合成石英ガラス:バイコールガラスが発明された。そして、中間物として分相法ポーラスガラスが発明された。
 分相法ポーラスガラスには、最終組成がSiO2:96%以上になる高ケイ酸型のものと、アルミナやジルコニアを含有するホウケイ酸型の物が報告されている。この二種は作成できる細孔径範囲が異なり、高ケイ酸型:1 nm ~300 nm、ホウケイ酸型:200 nm ~50μmとなる。
 図4を参照して、高ケイ酸型ポーラスガラスの作成工程を以下に示す。
・原料混合工程402において、珪砂と硼砂、ホウ酸と炭酸ソーダ、アルミナ等を用いて原料を混合する。
・熔解工程404において、原料混合工程402で混合した原料を1200℃~1500℃程度で熔解し、SiO2、B2O3、Na2Oを主成分とするホウケイ酸ガラス母材を作成する。
・成型工程406において、熔解工程404で作成したホウケイ酸ガラス母材を800℃~1100℃程度で成型する。
・分相工程408において、成型工程406で成型したホウケイ酸ガラス母材をガラス転移点以上の温度で保持する、熱処理を行うことにより分相を起こさせる。この際、ホウケイ酸ガラス母材は、ガラス転移点以上の温度にさらされると内部で各構成原子が揺らぎ、移動をおこす。結晶化とよく似ているが、アモルファスなガラスのまま、その温度でより安定な状態を取る二つのガラス相に分離し、微細な原子配列はランダムなアモルファス相のまま、もう少しマクロな塊としては、秩序構造を形成する。
 二つの相は、一つがほとんどケイ酸からなるシリカ相であり、残りがホウ酸と酸化ナトリウムとケイ酸からなるホウ酸ソーダ相である。この時、出発ガラスの組成と温度により、スポンジのように組織が絡み合ったスピノーダル構造を作る場合と、一つの相が液滴のように孤立したドロップレット構造を作る場合がある。ポーラスガラスは、連続相構造であるスピノーダル分相物から得られる。
 二つの相に分かれた状態で、引き続き一定以上の温度にさらされ続けると、この二つの相が再配列を起こし、秩序構造が成長する。なお、この相分離を起こす温度領域を越えると再度均一なガラス組成に戻る。この分相現象は、ガラスを構成している成分分子が、安定化を求めて自己集合と散逸構造を繰り返して、その温度での最も安定な二つの相が、最も界面面積が小さくなる方向へ自己組織化している現象と考えることが出来る。これは、液体のスピノーダル分相によるパターン形成であるが、ガラスの反応は時間軸が極めて長いために、液体を凍結して取り出すことが出来る自己組織化による構造形成に他ならない。
 スピノーダル分相による構造形成の特徴は、大きく見ると秩序化であるが、結晶成長と異なり、秩序形成におけるランダム形成が含まれ、多数の分岐構造からなる構造は、相似形であるが全て異なると考えられる。外部からの制御による細孔構造の作りこみは、細孔径をコントロールすることは出来るが、分岐構造を制御することまでは出来ない。また、この構造は細孔径を変えることにより、多様なモードのランダム構造を得ることもできる。
 分相によるランダム構造は、細孔径で示される距離単位で必ずランダム性が発現し、次の単位距離で次のランダム性が発生することにより、最終的に非常に大きなランダム性を獲得する。
 ポーラスガラスのスピノーダル構造は表面的には二次元、全体構造としては三次元の複雑構造となる。分相構造は、温度と時間の係数により決定されるが、同じ構造を持つ条件でも温度が異なれば、できあがるポーラスガラスの特性が異なるが、相似形であるため、その相違性は一見目立たないのも特徴となる。
 図4の化学処理工程410において、分相工程408で分相させたホウケイ酸ガラス母材を、酸溶液を用いた化学処理を施す。通常、数規定の硫酸、若しくは硝酸が用いられ、90 ℃以上に保持してホウ酸ソーダ相を溶かし出す。この処理が終わり、水洗後乾燥すると、図5で示すAタイプのSiO2:約96 %のポーラスガラスが得られる。
 Aタイプのポーラスガラスの細孔構造は、分相構造を反映しておらず、実際は、シリカガラスからなる骨格構造の中にホウ酸ソーダ相由来のシリカゲルが堆積した構造になっている。さらに、図4の化学処理工程410において、シリカゲルをアルカリ水溶液で除去するなど、何らかの方法で取り除く事により、分相構造を反映したBタイプのポーラスガラスが得られる。
 更に、このポーラスガラスの特徴としては、構造を支える骨格はガラスであり強固で固く、また、分相時に歪が取れることから通常のガラスより割れにくく、機械的にも化学的にも強固な材料である。更に、一度化学処理をして、ポーラスガラスになった後は、分相が継続することは無く、熱的にも安定な材料である。
 上記の作成方法において、主原料は、ケイ酸(珪砂)、ホウ酸、炭酸ナトリウム、アルミナ、ジルコニア等であり、通常のホウケイ酸ガラスと変わらないので、材料費は高価ではない。
 また、作成工程は・原料混合・熔解・成型・分相・化学処理であり、作成に必要な機材は混合器、熔解ルツボ、電気炉(大気下)、化学処理反応器(フラスコ程度)であり、特に高価な機器は必要としないが、現時点でのポーラスガラスの価格は高い。しかしながら、これは主に工程費であり、少量生産での人件費が主である。更に、ポーラスガラスの加工は、通常のガラス加工と変わりなく、既に確立された設備・手法が利用できる。必要に応じポーラスガラスは、容易に大量の供給が可能である。この様にして作成される分相法ポーラスガラスは、例えば、1mm角、厚さ50μmの媒体として仕上げられ樹脂封止等により安定化され、対象物に強固に固定される。
(具体的認証方法)
 人工物メトリクスを実現する認証システムは人工物メトリック・システムとよばれている(例えば、非特許文献2参照)。ここで、人工物メトリック・システムは、基本的に次の2つのフェーズにより構成される。
・登録フェーズ:対象の人工物の登録を行うため、その特徴(ランダムネス)を表すデータ(以降、登録データとよぶ)をセンサーによって取得し、データベースに記録する。
・検証フェーズ:対象の人工物の認証を行うため、その特徴を表すデータ(以降、検証データとよぶ)をセンサーによって取得する。そして、この検証データと、データベースに記録されている登録データを用いて検証を行い、最終的に検証結果(受理または拒否)を出力する。
 人工物メトリック・システムの目的は、登録フェーズで提示された人工物と、検証フェーズで提示された人工物が同一のモノであるかを判定することである。同一と判定する場合には「受理」を出力し、そうでないと判定する場合には「拒否」を出力するのである。人工物メトリック・システムの基本的な精度を客観的に測る指標として、以下のFAR (またはFMR: False Match Rate), FRR (またはFNMR: False Non-Match Rate) が知られている。
・FAR (False Acceptance Rate: 誤受理率):異なる人工物に対し、誤って受理と判定する確率
・FRR (False Rejection Rate: 誤拒否率) :同一の人工物に対し、誤って拒否と判定する確率
上記の2種類の誤り確率(偽を真に判定する誤り確率と、真を偽に判定する誤り確率)は、人工物メトリック・システムだけではない。一般的に、すべての認証システム(バイオメトリック・システム等)、判定システム、検定システム(仮説検定等)で考えることができ、これらシステムの基本的な精度を測る指標である。
 また、人工物メトリック・システムに対する強固なセキュリティを測る指標として、以下の指標が知られている(例えば、非特許文献3参照)。
・CAR (Clone Acceptance Rate: クローン受理率) :偽の人工物であるクローンを誤って受理する確率
一般的にすべてのクローン製造可能性に対して、網羅的にCARを解析することは困難であるが、出来るだけ幅広く解析することが望ましいであろう。
 図2において、個別認証システム200の一実施形態を示す。個別認証システム200は、個別認証媒体202、データ処理機206、およびデータ処理機に接続された観測装置204を含む。認証において、予め、個別認証媒体202の画像の特徴点情報等をデータベース214に登録する。個別認証時、観測装置204は、220で、個別認証媒体202の表面画像を取得する。観測装置204は、取得した表面画像を接続したデータ処理機206に送信する。データ処理機206は、観測装置204から受信した表面画像から特徴点を計算する特徴点計算手段210を備えることができる。また、計算した特徴点と、予めデータベースに登録された個別認証媒体202の特徴点情報とを照合し、認証を実施する特徴点照合手段212を備えることができる。
 ここで、観測装置204は、光学カメラ、走査型電子顕微鏡、レーザー顕微鏡、AFM等走査顕微鏡等、任意の装置とすることができる。データ処理機206は、サーバ、パーソナルコンピュータ(PC)等、任意の機器とすることができる。また、特徴点計算手段210は、任意の計算手法とすることができる。
 しかしながら、この作業を全ての認証に於いて行う事は測定を伴うので、絶対的認証を行う場合を除いて通常は、画像から得られるデジタル情報を機器に登録しておき、その中の情報を照合するシステムとすることが考えられる。
 即ち、本認証システムに於いては、莫大な数のランダム情報が、人工物メトリクスである分相法ポーラスガラスが有する事から、これを自然が与えた乱数表とみなすことができる。そして、照合元からの要求に合わせ、機器側が持つポーラスガラス情報の一部を乱数的に与える事で、通常の認証をきわめて高い安定度で実施することができる。
 尚、絶対的認証に於いては、人工物メトリクス自体へのアクセスを用いるほうが好ましい。即ち、本認証システムは、個別認証媒体の表面の画像を、光学カメラ、走査型電子顕微鏡、レーザー顕微鏡、AFM等走査顕微鏡等によって取得し、画像の特徴点情報を用いて個別性を認証する、個別認証システム及び装置から構成される。上記のような各種観測システムにより要求されるセキュリティレベルに応じて選択し、材料に合わせた個別認証システム及び装置を用いることができる。
 特許文献7、8に記載のホウケイ酸タイプの分相法ポーラスガラスにより、細孔径200nmの板状物を6枚作成する。そして、それぞれを走査型電子顕微鏡(SEM)により5,000倍と、10,000倍で観察した画像を元にポーラスガラスの孔の分布のランダムネスを調べるために簡易的な実験を行った。
 このポーラスガラスの画像に対し、孔の分布パターンの一致・不一致を判定するのに、特徴量を用いたパターンマッチングによる手法を利用した。その詳細については次節以降で説明する。
(ポーラスガラス作成と画像取得方法)
 サンプルとして、典型的なホウケイ酸型ポーラスガラス(平均細孔径200nm)を作成し、その異なる8か所をSEM(倍率10,000倍)で撮影し、8枚の元画像I, II, …, VIII(以降、これらを親画像とよぶ)を得た。同様に、同じ8か所に対し、倍率を変えてSEMで撮影し(倍率5,000倍)、さらに8枚の元画像i, ii, …, viii(以降、これらを子画像とよぶ)を得た。ここでは、人工物メトリック・システムにおいて、登録フェーズと検証フェーズで画像を取得する際の精度が異なる場合を想定する。画像取得センサーの精度が異なるという劣悪な状況でも検証が有効に働くかを調べるため、倍率を変えた画像を実験対象とした。例えば、親画像が登録データ、子画像が検証データと考えた。
(人工物メトリック・システムにおける検証方法)
 親画像と子画像の検証方法として、Sift特徴量を利用したパターンマッチングによる手法を利用した。ここで、Sift (Scale-Invariant Feature Transform) (例えば、非特許文献6参照) は1999年にD. Lowe によって発表された特徴点検出およびその記述方法である。Siftは画像の回転やスケール変化に不変、かつ照明の変化に強いという特徴がある。Siftはオープンソースの画像処理ライブラリであるOpenCV に実装され、画像識別などで広く用いられている特徴量検出手法である。更に、親画像と子画像の検証において、局所特徴量の考え方も利用している。ここで、局所特徴量とは、画像の濃淡の大きい点を検出し、その周辺との微分をベクトルで表現したものである(例えば、非特許文献11参照)。
 任意の親画像と子画像の組み合わせに対して、上記の方法で求めた特徴点の特徴量を総当たりで比較し、最も差dの小さい特徴点のペアを見つけ出し、そのdを距離とする。その後、すべての求めたペアに対して距離dを比較し、dが小さい順にn個とり、それらの平均を両画像間の距離とした。これにより、親画像と子画像間のパターンマッチングを行うが、上記のnの値として、以下の3種類を考察の対象とした。
・1-MNN:最も小さい距離のみで測定する場合(n=1)
・10-MNN:小さい順に10個の距離をとり、それらの平均で測定する場合(n=10)
・100-MNN:小さい順に100個の距離をとり、それらの平均で測定する場合(n=100)
上記の考察対象の距離を利用して、対象の両画像(親画像と子画像)の距離が、ある値(以降、閾値とよぶ)未満であれば、受理と判定し、閾値以上ならば拒否と判定する。
(実験結果)
 親画像 I, II, …, VIIIと子画像 i, ii, …, viii に対して、1-MNNによる距離(小数点以下切り捨て)の値を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1において、対角成分に位置する値は、ポーラスガラスにおける同一の撮影部を指すため、受理と判定すべき場合の距離値であり、それ以外は拒否と判定すべき場合の距離値である。ここで、対角成分に位置する値はすべて20未満であるのに対して、それ以外の値は100以上である。このため、画像の高い固有性が確認でき、この事はポーラスガラスの孔の分布のランダムネスが大きいことを示している。
 図6は、上記1-MNNの場合のFAR及びFRRのグラフである。ここで、図6の横軸は「距離の閾値」を表し、縦軸は「誤り確率」を表している。図6では、親画像8つ、子画像8つ、計64通りの距離を計算し、グラフを描いている。本結果は、実験データ数64に対して、良い精度を示していると考えられる。もしも、親画像と子画像の倍率の差がほとんど同じであれば、今回の実験結果よりも更に高い精度を示すであろう。本稿では、ポーラスガラスを人工物メトリクスに適用する場合の最初の実験として、僅かな実験データ数で、登録データと検証データを取得するセンサーに精度差があり、簡易的な検証方法を想定したシナリオで実験した。それでも実験結果は良好な精度を示していると考えられる。そのため、ポーラスガラスは人工物メトリクスへの応用材料として期待できると考えている。
 図7は、上記10-MNNの場合のFAR及びFRRのグラフである。ここで、図7の横軸は「距離の閾値」を表し、縦軸は「誤り確率」を表している。図7では、親画像8つ、子画像8つ、計64通りの距離を計算し、グラフを描いている。
 図8は、上記100-MNNの場合のFAR及びFRRのグラフである。ここで、図8の横軸は「距離の閾値」を表し、縦軸は「誤り確率」を表している。図8では、親画像8つ、子画像8つ、計64通りの距離を計算し、グラフを描いている。
 本明細書および図面に記述された実施形態は一例であり、添付の特許請求の範囲に対する限定または制限として解釈されるべきではない。
 本発明は、モバイルデバイスの爆発的普及やIoT社会に於いて、ネットワーク環境及び各種商取引、契約等信用行為を行うに当たり必要とされる、個別認証に関わるものである。特に、現時点に於いて確実な個別識別性を持たない、経済行為等社会行為に用いられる各種コンピュータを始め、携帯電話、自動車等の機器類やカード類(人工物)に、自己組織的に作成されたスピノーダル分相構造を持つ人工物メトリクスを利用することができる。これにより、究極的な個別認証システムを与える事が可能となる。また、個人の特定となるバイオメトリクスと連携する事により偽造や改竄を困難にする。さらに個別識別を行なうネットワークシステムに不正行為があるものを判別し易くし、より精度良く認証ができ、低コストで安全なネットワーク環境を提供できる。

Claims (9)

  1.  スピノーダル分相構造を持つ材料の欠片であって、少なくとも1つの平面を有する個別認証媒体。
  2.  ホウケイ酸ガラスの分相構造を用いて作成される分相法ポーラスガラスからなる、請求項1に記載の個別認証媒体。
  3.  前記個別認証媒体の細孔に充填物を付着させる加工または前記個別認証媒体の表面を平滑にする加工の少なくとも1つを施した、平均細孔径1nmから100μmまでの任意細孔構造を持つ分相法ポーラスガラスからなる、請求項1に記載の個別認証媒体。
  4.  前記個別認証媒体の細孔に充填物を付着させる加工または前記個別認証媒体の表面を平滑にする加工の少なくとも1つを施した、平均細孔径1nmから100μmまでの任意細孔構造を持つ分相法ポーラスガラスからなる、請求項2に記載の個別認証媒体。
  5.  ガラスの原料を混合する原料混合工程と、混合された材料を熔解してホウケイ酸ガラス母材を作成する熔解工程と、作成されたホウケイ酸ガラス母材を成型する成型工程と、成型されたホウケイ酸ガラス母材を熱処理して分相する分相工程と、分相されたホウケイ酸ガラス母材に化学処理を施してポーラスガラスを作成する化学処理工程と、樹脂封止等により安定化する工程を含む個別認証媒体の製造方法。
  6.  スピノーダル分相構造を持つ材料の欠片であって、少なくとも1つの平面を有する個別認証媒体と、
     データ処理機と、
     前記データ処理機に接続された観測装置と
    を備えた個別認証システムであって、
     前記個別認証媒体は、請求項1に記載の個別認証媒体であり、
     前記観測装置は、前記個別認証媒体の表面画像を取得して前記データ処理機に送信し、
     前記データ処理機は、前記表面画像から計算した特徴点情報と、予めデータベースに保持している前記個別認証媒体の特徴点情報とを照合して、個別認証を行う
    ことを特徴とする個別認証システム。
  7.  前記個別認証媒体は、ホウケイ酸ガラスの分相構造を用いて作成される分相法ポーラスガラスからなる、請求項6に記載の個別認証システム。
  8.  前記個別認証媒体は、前記個別認証媒体の細孔に充填物を付着させる加工または前記個別認証媒体の表面を平滑にする加工の少なくとも1つを施した、平均細孔径1nmから100μmまでの任意細孔構造を持つ分相法ポーラスガラスからなる、請求項6に記載の個別認証システム。
  9.  前記個別認証媒体は、前記個別認証媒体は、前記個別認証媒体の細孔に充填物を付着させる加工または前記個別認証媒体の表面を平滑にする加工の少なくとも1つを施した、平均細孔径1nmから100μmまでの任意細孔構造を持つ分相法ポーラスガラスからなる、請求項7に記載の個別認証システム。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220138305A1 (en) * 2019-02-05 2022-05-05 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Authentication object, authentication system, and authentication medium production method

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003521717A (ja) * 2000-02-04 2003-07-15 ソシエテ ノヴァテク ソシエテ アノニム 認証方法の工程と、そのための読取り装置、および、それに適合する識別手段
JP2007504520A (ja) * 2003-07-22 2007-03-01 エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ 対象物を識別する方法及び識別情報を有するタグ
JP2009516790A (ja) * 2005-11-23 2009-04-23 ノヴァテク エス.ア. 改ざん防止および再使用可能な高安全性シール
US20100195916A1 (en) * 2007-05-07 2010-08-05 CSEM Centre Suisse d'Electronique ef de Microtechn Unique security device for the identification or authentication of valuable goods, fabrication process and method for securing valuable goods using such a unique security device
WO2016185977A1 (ja) * 2015-05-19 2016-11-24 日本電気硝子株式会社 真贋認証用ガラスチップ及びその製造方法
JP2017052217A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 日本電気硝子株式会社 真贋認証用部材

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6140841A (ja) * 1984-07-31 1986-02-27 Miyazakiken 多孔質ガラス成形物及びその製造方法
JPS62289925A (ja) * 1986-06-09 1987-12-16 Toshiba Glass Co Ltd ガラス板磁気デイスク
US7424618B2 (en) * 2001-03-14 2008-09-09 Paladin Electronic Services, Inc. Biometric access control and time and attendance network including configurable system-on-chip (CSOC) processors with embedded programmable logic
JP2007206916A (ja) * 2006-02-01 2007-08-16 Konica Minolta Business Technologies Inc 情報記録装置、画像処理装置、情報記録処理プログラム及び画像処理プログラム
JP5037272B2 (ja) * 2007-09-06 2012-09-26 国立大学法人横浜国立大学 印刷物のセキュリティ管理方法、印刷物判定装置、および印刷物のセキュリティ管理システム
US20120070614A1 (en) * 2009-05-21 2012-03-22 Hiroshi Takahashi Anti-newton-ring film and touch panel
JP2012193067A (ja) * 2011-03-16 2012-10-11 Canon Inc ホウケイ酸塩ガラス、多孔質ガラスおよびその製造方法
JP2013203554A (ja) * 2012-03-27 2013-10-07 Nitta Corp 多孔質ガラスの成形体とその作製方法
JP6080386B2 (ja) * 2012-05-23 2017-02-15 キヤノン株式会社 光学部材、撮像装置及び光学部材の製造方法
US20150071648A1 (en) * 2013-09-10 2015-03-12 Qualcomm Incorporated Display-to-display data transmission
JP6234262B2 (ja) * 2014-02-12 2017-11-22 昌栄印刷株式会社 ランダムパターン認証用カード
JP6395489B2 (ja) * 2014-07-29 2018-09-26 キヤノン株式会社 ガラス組成物及びその製造方法、並びにガラス部材及び撮像装置
US9731996B1 (en) * 2014-10-07 2017-08-15 Intergrated Dna Technologies, Inc. Method of making controlled pore glass
JP2017178631A (ja) * 2016-03-28 2017-10-05 日本電気硝子株式会社 真贋認証用ガラスチップの製造方法
JP2017217849A (ja) * 2016-06-09 2017-12-14 日本電気硝子株式会社 真贋認証用部材

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003521717A (ja) * 2000-02-04 2003-07-15 ソシエテ ノヴァテク ソシエテ アノニム 認証方法の工程と、そのための読取り装置、および、それに適合する識別手段
JP2007504520A (ja) * 2003-07-22 2007-03-01 エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ 対象物を識別する方法及び識別情報を有するタグ
JP2009516790A (ja) * 2005-11-23 2009-04-23 ノヴァテク エス.ア. 改ざん防止および再使用可能な高安全性シール
US20100195916A1 (en) * 2007-05-07 2010-08-05 CSEM Centre Suisse d'Electronique ef de Microtechn Unique security device for the identification or authentication of valuable goods, fabrication process and method for securing valuable goods using such a unique security device
WO2016185977A1 (ja) * 2015-05-19 2016-11-24 日本電気硝子株式会社 真贋認証用ガラスチップ及びその製造方法
JP2017052217A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 日本電気硝子株式会社 真贋認証用部材

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NAGASAWA HIROSHI ET AL.: "Application of phase-separated method porous glass to artifact-metrics", PROCEEDINGS OF COMPUTER SECURITY SYMPOSIUMS 2016, vol. 2016, no. 2, 4 October 2016 (2016-10-04), pages 349 - 354 *

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