WO2017208747A1 - Aggregate substrate for mounting piezoelectric vibration element thereon, manufacturing method therefor, and manufacturing method for piezoelectric vibrator - Google Patents

Aggregate substrate for mounting piezoelectric vibration element thereon, manufacturing method therefor, and manufacturing method for piezoelectric vibrator Download PDF

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博之 新家
道保 串田
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Abstract

The present invention comprises: preparing an aggregate substrate (10); and forming through-holes (20) and an electrode layer (400) in the aggregate substrate, wherein the electrode layer includes via electrodes respectively provided in the through-holes, back surface electrodes electrically connected to the via electrodes, a first wiring path and a second wiring path, the via electrodes have first and second via electrodes disposed in a first direction, the first wiring path includes a first extraction electrode provided in a first unit region and leading to a central part of a long side that touches a second unit region, and a second extraction electrode provided in the second unit region and leading to a central part of a long side that touches the first unit region, the first and second via electrodes are electrically insulated from via electrodes disposed in a second direction in a substrate disposition region, and by connecting the first extraction electrode and the second extraction electrode to each other by the central parts of the long sides, the back surface electrode electrically connected to the first via electrode and the back surface electrode electrically connected to the second via electrode are electrically connected to each other.

Description

圧電振動素子搭載用の集合基板及びその製造方法、並びに、圧電振動子の製造方法Aggregate substrate for mounting piezoelectric vibration element, manufacturing method thereof, and manufacturing method of piezoelectric vibrator
 本発明は、圧電振動素子搭載用の集合基板及びその製造方法、並びに、圧電振動子の製造方法に関する。 The present invention relates to a collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element, a manufacturing method thereof, and a manufacturing method of a piezoelectric vibrator.
 発振装置や帯域フィルタなどに用いられる圧電振動子が知られている(特許文献1及び2参照)。例えば、特許文献1には、圧電振動子における圧電振動素子を搭載するための基板の製造方法として、矩形形状の複数の個片基板が生成される多数個取り配線基板が、各個片基板の長辺及び短辺を越えて各電極を接続する接続用導体と、母基板外周に形成された環状の共通導体枠を備え、当該配線基板に電解めっき工法を施す方法が開示されている。 2. Description of the Related Art Piezoelectric vibrators used for oscillators and bandpass filters are known (see Patent Documents 1 and 2). For example, in Patent Document 1, as a method for manufacturing a substrate for mounting a piezoelectric vibration element in a piezoelectric vibrator, a multi-piece wiring substrate in which a plurality of rectangular individual substrates are generated is the length of each individual substrate. A method is disclosed in which a connection conductor for connecting each electrode across the side and the short side and an annular common conductor frame formed on the outer periphery of the mother board are provided, and an electrolytic plating method is applied to the wiring board.
特開2000-165004号公報JP 2000-165004 A 特開2012-222537号公報JP 2012-222537 A
 しかし、特許文献1に開示される製造方法においては、配線基板の切断において接続用導体の端面が露出するため、特に端子間の距離が短い短辺側においてマイグレーションが発生し得るという問題がある。一方、無電解めっき工法によれば給電用の配線を設けることなくめっきを施すことができるため、マイグレーションの発生は回避できる。しかし、無電解めっき工法は、電解めっき工法に比較してめっきの反応速度が遅いために加工時間が長くなり、加工の制御が複雑となる。また、形成されるめっき電極層の膜厚が電解めっき工法に比較して薄いため、下地の電極がめっき電極層に拡散し、電極の導通の信頼性が劣る。 However, the manufacturing method disclosed in Patent Document 1 has a problem that migration may occur particularly on the short side where the distance between the terminals is short because the end face of the connecting conductor is exposed when the wiring board is cut. On the other hand, according to the electroless plating method, plating can be performed without providing a power supply wiring, and therefore, occurrence of migration can be avoided. However, since the electroless plating method has a slower plating reaction speed than the electrolytic plating method, the processing time becomes longer and the control of the processing becomes complicated. Moreover, since the film thickness of the plated electrode layer to be formed is thinner than that of the electrolytic plating method, the underlying electrode diffuses into the plated electrode layer, and the reliability of electrode conduction is poor.
 本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、基板に形成される電極の信頼性が向上する圧電振動素子搭載用の集合基板及びその製造方法、並びに、圧電振動子の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an assembly substrate for mounting a piezoelectric vibration element that improves the reliability of electrodes formed on the substrate, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing a piezoelectric vibrator The purpose is to provide.
 本発明の一側面に係る圧電振動素子搭載用の集合基板の製造方法は、(a)互いに直交する第1方向及び第2方向に格子状に配列された複数の単位領域からなる基板配置領域と、基板配置領域の外側に位置する周辺領域とを含み、それぞれの単位領域が第1方向に沿ってのびる長辺と第2方向に沿ってのびる短辺とを有する矩形状をなしている、集合基板を用意すること、(b)複数の単位領域を区画する境界線が交差する交差位置に、集合基板の表面と裏面を貫通するスルーホールを形成すること、(c)集合基板に電気めっきを含む処理を行い、電極層を形成することを含み、電極層は、交差位置のスルーホール内に設けられたビア電極と、集合基板の裏面において単位領域の4つの角部に対応して設けられ、4つの角部に設けられたビア電極に電気的に接続された裏面電極と、基板配置領域に設けられ、第1方向に電気的に接続されて延在する一群のビア電極を形成するように複数のビア電極を第1方向に電気的に接続する第1配線経路と、周辺領域に設けられ、一群のビア電極を第2方向に電気的に接続する第2配線経路と、を含み、複数の単位領域は、第2方向に互いに隣接する第1単位領域及び第2単位領域を有し、複数のビア電極は、第1単位領域と第2単位領域の間の境界線上において第1方向に並んで配置される第1ビア電極及び第2ビア電極を有し、第1配線経路は、第1単位領域に設けられかつ第1単位領域における第2単位領域に接する長辺の中央部に至る第1引出電極と、第2単位領域に設けられかつ第2単位領域における第1単位領域に接する長辺の中央部に至る第2引出電極とを含み、第1ビア電極及び第2ビア電極は、それぞれ、第2方向に並んで配置される他のビア電極とは、周辺領域のみで互いに電気的に接続されるように基板配置領域では互いに電気的に絶縁されており、(c)において、第1引出電極と第2引出電極をそれぞれ長辺の中央部で互いに接続して形成することによって、第1ビア電極に電気的に接続された裏面電極と、第2ビア電極に電気的に接続された裏面電極とを互いに電気的に接続することを含む。 According to one aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element, comprising: (a) a substrate arrangement region composed of a plurality of unit regions arranged in a grid pattern in a first direction and a second direction orthogonal to each other; And a peripheral region located outside the substrate arrangement region, and each unit region has a rectangular shape having a long side extending along the first direction and a short side extending along the second direction. Preparing a substrate, (b) forming a through-hole penetrating the front and back surfaces of the collective substrate at the intersection where the boundary lines defining a plurality of unit regions intersect, and (c) electroplating the collective substrate The electrode layer is provided corresponding to the four corners of the unit region on the back surface of the collective substrate and the via electrode provided in the through hole at the intersecting position. Provided at four corners A plurality of via electrodes in the first direction so as to form a back surface electrode electrically connected to the first electrode and a group of via electrodes provided in the substrate arrangement region and electrically connected in the first direction. And a second wiring path that is provided in the peripheral region and electrically connects the group of via electrodes in the second direction, and the plurality of unit regions are arranged in the second direction. A first unit region and a second unit region adjacent to each other, and the plurality of via electrodes are arranged side by side in a first direction on a boundary line between the first unit region and the second unit region An electrode and a second via electrode, wherein the first wiring path is provided in the first unit region and extends to a central portion of a long side contacting the second unit region in the first unit region; A long side provided in the unit area and in contact with the first unit area in the second unit area A first lead electrode and a second via electrode, each of which is electrically connected to each other only in the peripheral region with the other via electrodes arranged side by side in the second direction. In (c), the first extraction electrode and the second extraction electrode are connected to each other at the central portion of the long side, thereby forming the first Electrically connecting the back electrode electrically connected to the via electrode and the back electrode electrically connected to the second via electrode to each other.
 上記方法によれば、各単位領域の短辺側の境界線上に引出電極を設けることなく、長辺側の境界線の中央部を接続する引出電極によって各電極を電気的に接続することができる。このため、各単位領域の短辺側では、引出電極の存在に起因するマイグレーションの発生を抑制することができ、また、各単位領域の長辺側では、引出電極の切断面と、スルーホール内に設けられたビア電極の切断面との距離が長いため、マイグレーション発生のリスクが低減される。したがって、電気的な接続の信頼性を向上させることができる。 According to the above method, each electrode can be electrically connected by the extraction electrode that connects the central part of the long-side boundary line without providing the extraction electrode on the short-side boundary line of each unit region. . For this reason, the occurrence of migration due to the presence of the extraction electrode can be suppressed on the short side of each unit region, and the cut surface of the extraction electrode and the inside of the through hole can be suppressed on the long side of each unit region. Since the distance from the cut surface of the via electrode provided in the is long, the risk of occurrence of migration is reduced. Therefore, the reliability of electrical connection can be improved.
 本発明の一側面に係る圧電振動素子搭載用の集合基板は、互いに直交する第1方向及び第2方向に格子状に配列された複数の単位領域からなり、それぞれの単位領域が第1方向に沿ってのびる長辺と第2方向に沿ってのびる短辺とを有する矩形状をなしている、基板配置領域と、基板配置領域の外側に位置する周辺領域と、基板配置領域及び周辺領域に設けられた電極層とを備えた集合基板であって、電極層は、複数の単位領域を区画する境界線が交差する交差位置における集合基板の表面と裏面を貫通するスルーホール内に設けられたビア電極と、集合基板の裏面において単位領域の4つの角部に対応して設けられ、4つの角部に設けられたビア電極に電気的に接続された裏面電極と、基板配置領域に設けられ、第1方向に電気的に接続されて延在する一群のビア電極を形成するように複数のビア電極を第1方向に電気的に接続する第1配線経路と、周辺領域に設けられ、一群のビア電極を第2方向に電気的に接続する第2配線経路と、を含み、複数の単位領域は、第2方向に互いに隣接する第1単位領域及び第2単位領域を有し、複数のビア電極は、第1単位領域と第2単位領域の間の境界線上において第1方向に並んで配置される第1ビア電極及び第2ビア電極を有し、第1配線経路は、第1単位領域に設けられかつ第1単位領域における第2単位領域に接する長辺の中央部に至る第1引出電極と、第2単位領域に設けられかつ第2単位領域における第1単位領域に接する長辺の中央部に至る第2引出電極とを含み、第1ビア電極及び第2ビア電極は、それぞれ、第2方向に並んで配置される他のビア電極とは、周辺領域のみで互いに電気的に接続されるように基板配置領域では互いに電気的に絶縁されており、第1引出電極と第2引出電極はそれぞれ長辺の中央部で互いに接続されることによって、第1ビア電極に電気的に接続された裏面電極と、第2ビア電極に電気的に接続された裏面電極とが互いに電気的に接続される。 A collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to one aspect of the present invention includes a plurality of unit regions arranged in a lattice pattern in a first direction and a second direction orthogonal to each other, and each unit region is in a first direction. A rectangular shape having a long side extending along the short side and a short side extending along the second direction, provided in the substrate arrangement region, a peripheral region located outside the substrate arrangement region, and the substrate arrangement region and the peripheral region The electrode layer is a via provided in a through-hole penetrating the front surface and the back surface of the collective substrate at the intersection where the boundary lines defining the plurality of unit regions intersect. An electrode, a back electrode provided corresponding to the four corners of the unit region on the back surface of the collective substrate, and electrically connected to a via electrode provided in the four corners, provided in the substrate placement region, Electrically connected in the first direction A plurality of via electrodes electrically connected in the first direction so as to form a group of via electrodes extending in the first direction and a peripheral region, and the group of via electrodes electrically connected in the second direction. A plurality of unit regions having a first unit region and a second unit region adjacent to each other in the second direction, and the plurality of via electrodes are connected to the first unit region. A first via electrode and a second via electrode arranged in a first direction on a boundary line between the second unit regions, the first wiring path being provided in the first unit region and the first unit region A first extraction electrode reaching the central portion of the long side in contact with the second unit region, and a second extraction electrode provided in the second unit region and reaching the central portion of the long side in contact with the first unit region in the second unit region Each of the first via electrode and the second via electrode in the second direction Other via electrodes arranged side by side are electrically insulated from each other in the substrate arrangement region so as to be electrically connected to each other only in the peripheral region, and the first extraction electrode and the second extraction electrode are respectively long. By being connected to each other at the central portion of the side, the back electrode electrically connected to the first via electrode and the back electrode electrically connected to the second via electrode are electrically connected to each other.
 上記構成によれば、各単位領域の短辺側の境界線には引出電極を有さず、長辺側の境界線の中央部を接続する引出電極によって各電極が電気的に接続される。このため、各単位領域の短辺側では、引出電極の存在に起因するマイグレーションの発生を抑制することができ、また、各単位領域の長辺側では、引出電極の切断面と、スルーホール内に設けられたビア電極の切断面との距離が長いため、マイグレーション発生のリスクが低減される。したがって、電気的な接続の信頼性を向上させることができる。 According to the above configuration, the boundary line on the short side of each unit region does not have an extraction electrode, and the electrodes are electrically connected by the extraction electrode that connects the center of the boundary line on the long side. For this reason, the occurrence of migration due to the presence of the extraction electrode can be suppressed on the short side of each unit region, and the cut surface of the extraction electrode and the inside of the through hole can be suppressed on the long side of each unit region. Since the distance from the cut surface of the via electrode provided in the is long, the risk of occurrence of migration is reduced. Therefore, the reliability of electrical connection can be improved.
 本発明によれば、基板に形成される電極の信頼性が向上する圧電振動素子搭載用の集合基板及びその製造方法、並びに、圧電振動子の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element in which reliability of an electrode formed on the substrate is improved, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing a piezoelectric vibrator.
図1は、本発明の第1実施形態に係る圧電振動子の分解斜視図である。FIG. 1 is an exploded perspective view of the piezoelectric vibrator according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第1実施形態に係る基板の第1面の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the first surface of the substrate according to the first embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第1実施形態に係る基板の第2面の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the second surface of the substrate according to the first embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第1実施形態に係る集合基板の製造方法を示すフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart showing the method for manufacturing the aggregate substrate according to the first embodiment of the present invention. 図5は、本発明の第1実施形態に係る集合基板の製造方法の手順を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing the procedure of the method for manufacturing the aggregate substrate according to the first embodiment of the present invention. 図6Aは、本発明の第1実施形態に係る集合基板の製造方法の手順を示す図である。FIG. 6A is a diagram illustrating the procedure of the method for manufacturing the aggregate substrate according to the first embodiment of the present invention. 図6Bは、本発明の第1実施形態に係る集合基板の製造方法の手順を示す図である。FIG. 6B is a diagram illustrating the procedure of the method for manufacturing the aggregate substrate according to the first embodiment of the present invention. 図6Cは、本発明の第1実施形態に係る集合基板の製造方法の手順を示す図である。FIG. 6C is a diagram illustrating a procedure of the manufacturing method of the collective substrate according to the first embodiment of the present invention. 図6Dは、本発明の第1実施形態に係る集合基板の製造方法の手順を示す図である。FIG. 6D is a diagram illustrating a procedure of the manufacturing method of the collective substrate according to the first embodiment of the present invention. 図6Eは、本発明の第1実施形態に係る集合基板の製造方法の手順を示す図である。FIG. 6E is a diagram illustrating a procedure of the manufacturing method of the collective substrate according to the first embodiment of the present invention. 図7は、本発明の第1実施形態に係る集合基板の第1面の平面図である。FIG. 7 is a plan view of the first surface of the collective substrate according to the first embodiment of the present invention. 図8は、本発明の第1実施形態に係る集合基板の第2面の平面図である。FIG. 8 is a plan view of the second surface of the collective substrate according to the first embodiment of the present invention. 図9は、本発明の第1実施形態に係る圧電振動子の製造方法を示すフローチャートである。FIG. 9 is a flowchart showing the method for manufacturing the piezoelectric vibrator according to the first embodiment of the invention. 図10は、本発明の第1実施形態の変形例に係る集合基板の第1面の平面図である。FIG. 10 is a plan view of the first surface of the collective substrate according to the modification of the first embodiment of the present invention. 図11は、本発明の第2実施形態に係る集合基板の第1面の平面図である。FIG. 11 is a plan view of the first surface of the collective substrate according to the second embodiment of the present invention. 図12は、本発明の第2実施形態に係る集合基板の第2面の平面図である。FIG. 12 is a plan view of the second surface of the collective substrate according to the second embodiment of the present invention.
 以下に本発明の実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の構成要素は同一又は類似の符号で表している。図面は例示であり、各部の寸法や形状は模式的なものであり、本願発明の技術的範囲を当該実施の形態に限定して解するべきではない。 Embodiments of the present invention will be described below. In the following description of the drawings, the same or similar components are denoted by the same or similar reference numerals. The drawings are exemplary, the dimensions and shapes of each part are schematic, and the technical scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments.
==第1実施形態==
<圧電振動子>
 図1~図3を参照しつつ、本実施形態に係る圧電振動子1を説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る圧電振動子の分解斜視図であり、図2は、本発明の第1実施形態に係る基板の第1面の平面図であり、図3は、本発明の第1実施形態に係る基板の第2面の平面図である。
== First Embodiment ==
<Piezoelectric vibrator>
The piezoelectric vibrator 1 according to this embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is an exploded perspective view of the piezoelectric vibrator according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the first surface of the substrate according to the first embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 3 is a plan view of a second surface of the substrate according to the first embodiment of the present invention.
 図1に示されるように、本実施形態に係る圧電振動子1は、圧電振動素子(Piezoelectric Resonator)100と、蓋部材200と、基板300とを備える。蓋部材200及び基板300は、圧電振動素子100を収容するための保持器(ケース又はパッケージ)の構成の一部である。 As shown in FIG. 1, the piezoelectric vibrator 1 according to the present embodiment includes a piezoelectric vibration element 100, a lid member 200, and a substrate 300. The lid member 200 and the substrate 300 are part of the structure of a holder (case or package) for housing the piezoelectric vibration element 100.
 圧電振動素子100は、圧電基板110と、圧電基板110の表裏面にそれぞれ設けられた励振電極(Excitation Electrodes)120,130(以下では、「第1励振電極120及び第2励振電極130」ともいう。)とを含む。第1励振電極120は、圧電基板110の主面である第1面112に設けられ、第2励振電極130は、圧電基板110の第1面112と対向する主面である第2面114に設けられている。 The piezoelectric vibration element 100 is also referred to as a “first excitation electrode 120 and a second excitation electrode 130” (hereinafter referred to as “excitation electrodes 120”), and excitation electrodes (Excitation Electrodes) 120 and 130 provided on the front and back surfaces of the piezoelectric substrate 110. .). The first excitation electrode 120 is provided on the first surface 112 that is the main surface of the piezoelectric substrate 110, and the second excitation electrode 130 is provided on the second surface 114 that is the main surface facing the first surface 112 of the piezoelectric substrate 110. Is provided.
 圧電基板110は、所与の圧電材料から形成され、その材料は特に限定されるものではない。図1に示される例では、圧電基板110は、三方晶系(Trigonal CrystalSystem)の結晶構造を有し、所定の結晶方位を有する水晶材料から形成されている。すなわち、圧電振動素子100は、水晶材料からなる水晶片(Quartz Crystal Element)を有する水晶振動素子(Quartz Crystal Resonator)であってもよい。圧電基板110は、例えば、ATカットの水晶片である。ATカットの水晶片は、人工水晶の結晶軸であるX軸、Y軸、Z軸のうち、Y軸及びZ軸をX軸の周りにY軸からZ軸の方向に35度15分±1分30秒分回転させた軸をそれぞれY´軸及びZ´軸とした場合、X軸及びZ´軸によって特定される面(以下、「XZ´面」と呼ぶ。他の軸によって特定される面についても同様である。)と平行な面を主面として切り出されたものである。なお、X軸、Y´軸及びZ´軸は互いに直交する。図1に示される例では、ATカットの水晶片である圧電基板110は、Z´軸に平行な長辺と、X軸に平行な短辺と、Y´軸に平行な厚み方向の辺を有しており、XZ´面の平面視において略矩形形状をなしている。ATカットの水晶片を用いた圧電振動素子は、広い温度範囲で高い周波数安定性を有し、また、経時変化特性にも優れて製造することが可能である。また、ATカット水晶片を用いた圧電振動素子は、主要振動として厚みすべり振動モード(Thickness Shear Mode)を含む。以下、ATカットの軸方向を基準として圧電振動子1の各構成を説明する。 The piezoelectric substrate 110 is formed from a given piezoelectric material, and the material is not particularly limited. In the example shown in FIG. 1, the piezoelectric substrate 110 has a trigonal crystal system and is made of a quartz material having a predetermined crystal orientation. That is, the piezoelectric vibrating element 100 may be a quartz vibrating element (Quartz Crystal Resonator) having a quartz piece (Quartz Crystal Element) made of a quartz material. The piezoelectric substrate 110 is, for example, an AT-cut crystal piece. The AT-cut crystal piece is 35 degrees 15 minutes ± 1 in the direction from the Y-axis to the Z-axis around the X-axis among the X-axis, Y-axis, and Z-axis which are crystal axes of the artificial quartz. When the axes rotated for 30 minutes are defined as the Y ′ axis and the Z ′ axis, respectively, they are planes specified by the X axis and the Z ′ axis (hereinafter referred to as “XZ ′ planes”. The same applies to the surface.) The surface parallel to the main surface is cut out. The X axis, the Y ′ axis, and the Z ′ axis are orthogonal to each other. In the example shown in FIG. 1, the piezoelectric substrate 110, which is an AT-cut crystal piece, has a long side parallel to the Z ′ axis, a short side parallel to the X axis, and a side in the thickness direction parallel to the Y ′ axis. And has a substantially rectangular shape in plan view of the XZ ′ plane. A piezoelectric vibration element using an AT-cut crystal piece has high frequency stability over a wide temperature range, and can be manufactured with excellent temporal change characteristics. In addition, the piezoelectric vibration element using the AT-cut crystal piece includes a thickness shear vibration mode (Thickness Shear Mode) as a main vibration. Hereinafter, each configuration of the piezoelectric vibrator 1 will be described with reference to the AT cut axial direction.
 なお、圧電基板は上記構成に限定されるものではなく、例えば、X軸に平行な長辺と、Z´軸に平行な短辺とを有するATカット水晶片を適用してもよい。あるいは、厚みすべり振動モードを含む主要振動であれば、ATカット以外の異なるカット(例えばBTカットなど)の水晶片であってもよい。また、圧電基板の材料は水晶に限定されるものではなく、例えば、圧電セラミック(例えばPZT)や酸化亜鉛などのその他の圧電材料を用いてもよい。また、圧電振動素子は、例えばMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)であってもよく、具体的にはシリコン基板にMEMSが形成されたSi-MEMSを用いてもよい。さらに、圧電振動素子は、AlN、LiTaO、LiNbO、PZTなどの所与の圧電材料を用いた圧電MEMSであってもよい。 The piezoelectric substrate is not limited to the above configuration, and for example, an AT cut crystal piece having a long side parallel to the X axis and a short side parallel to the Z ′ axis may be applied. Alternatively, as long as the main vibration includes the thickness shear vibration mode, a crystal piece having a different cut (for example, a BT cut) other than the AT cut may be used. The material of the piezoelectric substrate is not limited to quartz, and other piezoelectric materials such as piezoelectric ceramic (for example, PZT) and zinc oxide may be used. Further, the piezoelectric vibration element may be, for example, a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), and specifically, Si-MEMS in which a MEMS is formed on a silicon substrate may be used. Further, the piezoelectric vibrating element, AlN, LiTaO 3, LiNbO 3, a given piezoelectric material such as PZT may be a piezoelectric MEMS used.
 第1励振電極120は、矩形状の圧電基板110の第1面112の中央に形成され、第2励振電極130は、圧電基板110の第2面114の中央に形成されている。第1励振電極120及び第2励振電極130は一対の電極としてXZ´面を平面視した場合に略全体が重なり合うように配置されている。 The first excitation electrode 120 is formed at the center of the first surface 112 of the rectangular piezoelectric substrate 110, and the second excitation electrode 130 is formed at the center of the second surface 114 of the piezoelectric substrate 110. The first excitation electrode 120 and the second excitation electrode 130 are disposed as a pair of electrodes so that substantially the whole overlaps when the XZ ′ plane is viewed in plan.
 圧電基板110には、第1励振電極120に引出電極122を介して電気的に接続された接続電極124と、第2励振電極130に引出電極132を介して電気的に接続された接続電極134とが形成される。具体的には、引出電極122は、第1面112において第1励振電極120からZ´軸負方向側短辺に向かって引き出され、さらに圧電基板110のX軸負方向側の側面を通って、第2面114に形成された接続電極124に接続される。他方、引出電極132は、第2面114において第2励振電極130からZ´軸負方向側短辺に向かって引き出され、第2面114に形成された接続電極134に接続される。一対の接続電極124,134はZ´軸負方向側短辺に沿って配置され、導電性保持部材340,342を介して基板300に電気的導通を図るとともに機械的に保持される。なお、接続電極124,134及び引出電極122,132の配置やパターン形状は限定されるものではなく、他の部材との電気的接続を考慮して適宜変更することができる。 The piezoelectric substrate 110 has a connection electrode 124 electrically connected to the first excitation electrode 120 via the extraction electrode 122, and a connection electrode 134 electrically connected to the second excitation electrode 130 via the extraction electrode 132. And are formed. Specifically, the extraction electrode 122 is extracted from the first excitation electrode 120 toward the short side on the Z′-axis negative direction side on the first surface 112, and further passes through the side surface on the X-axis negative direction side of the piezoelectric substrate 110. , Connected to the connection electrode 124 formed on the second surface 114. On the other hand, the extraction electrode 132 is extracted from the second excitation electrode 130 toward the short side of the Z′-axis negative direction on the second surface 114 and connected to the connection electrode 134 formed on the second surface 114. The pair of connection electrodes 124 and 134 is disposed along the short side of the Z′-axis negative direction, and is electrically held and mechanically held by the substrate 300 via the conductive holding members 340 and 342. The arrangement and pattern shape of the connection electrodes 124 and 134 and the extraction electrodes 122 and 132 are not limited, and can be appropriately changed in consideration of electrical connection with other members.
 第1励振電極120及び第2励振電極130を含む上記各電極は、例えば、圧電基板110の表面に接合力を高めるためクロム(Cr)層が形成され、当該クロム層の下地の表面上に金(Au)層が形成されることにより構成される。なお、その材料は限定されるものではない。 In each of the electrodes including the first excitation electrode 120 and the second excitation electrode 130, for example, a chromium (Cr) layer is formed on the surface of the piezoelectric substrate 110 to increase the bonding force, and a gold layer is formed on the underlying surface of the chromium layer. It is configured by forming an (Au) layer. The material is not limited.
 蓋部材200は、基板300の第1面302(表面)に対向して開口した凹部を有する。なお、本実施形態において蓋部材200は、基板300に搭載されたときに圧電振動素子100を内部空間に収容することができる形状を備えていればよく、その形状は特に限定されるものではない。蓋部材200の材質は特に限定されるものではないが、例えば金属などの導電材料で構成されていてもよい。これによれば、蓋部材200を接地電位に電気的に接続させることによりシールド機能を付加することができる。あるいは、蓋部材200は、絶縁材料又は導電材料・絶縁材料の複合構造であってもよい。 The lid member 200 has a recess that opens to face the first surface 302 (front surface) of the substrate 300. In the present embodiment, the lid member 200 only needs to have a shape capable of accommodating the piezoelectric vibration element 100 in the internal space when mounted on the substrate 300, and the shape is not particularly limited. . The material of the lid member 200 is not particularly limited, but may be made of a conductive material such as metal. According to this, a shield function can be added by electrically connecting the lid member 200 to the ground potential. Alternatively, the lid member 200 may have a composite structure of an insulating material or a conductive material / insulating material.
 基板300は、圧電振動素子100を励振可能に支持するものである。図1に示される例では、圧電振動素子100が導電性保持部材340,342を介して基板300の第1面302(表面)に励振可能に支持されている。 The substrate 300 supports the piezoelectric vibration element 100 so that it can be excited. In the example shown in FIG. 1, the piezoelectric vibration element 100 is supported on the first surface 302 (front surface) of the substrate 300 via the conductive holding members 340 and 342 so as to be excited.
 図1に示される例では、基板300は、Z´軸に平行な長辺と、X軸に平行な短辺と、Y´軸に平行な厚み方向の辺を有しており、XZ´面の平面視において略矩形形状をなしている。基板300は、例えば単層の絶縁性セラミックで形成されている。別の実施形態として、基板300が、複数の絶縁性セラミックシートを積層して焼成することによって形成されてもよい。あるいは、基板300は、ガラス材料(例えばケイ酸塩ガラス、又はケイ酸塩以外を主成分とする材料であって、昇温によりガラス転移現象を有する材料)、水晶材料(例えばATカット水晶)又はガラス繊維にエポキシ系樹脂を含浸させたガラスエポキシ樹脂などで形成してもよい。基板300は耐熱性材料から構成されることが好ましい。基板300は、単層であっても複数層であってもよく、複数層である場合、第1面302の最表層に形成された絶縁層を含んでもよい。また、基板300は、平板な板状をなしてもよいし、あるいは、蓋部材200に対向する向きに開口した凹状をなしてもよい。なお、基板300の製造方法の詳細については後述する。 In the example shown in FIG. 1, the substrate 300 has a long side parallel to the Z′-axis, a short side parallel to the X-axis, and a side in the thickness direction parallel to the Y′-axis. It has a substantially rectangular shape in plan view. The substrate 300 is made of, for example, a single layer of insulating ceramic. As another embodiment, the substrate 300 may be formed by stacking and firing a plurality of insulating ceramic sheets. Alternatively, the substrate 300 is made of a glass material (for example, silicate glass or a material mainly composed of materials other than silicate and having a glass transition phenomenon due to a temperature rise), a crystal material (for example, an AT-cut crystal) or You may form with the glass epoxy resin etc. which impregnated the epoxy resin to the glass fiber. The substrate 300 is preferably made of a heat resistant material. The substrate 300 may be a single layer or a plurality of layers. In the case of a plurality of layers, the substrate 300 may include an insulating layer formed on the outermost layer of the first surface 302. The substrate 300 may have a flat plate shape, or may have a concave shape opened in a direction facing the lid member 200. Details of the manufacturing method of the substrate 300 will be described later.
 図2に示されるように、基板300の第1面302(表面)には、複数の電極から成る電極パターン310が形成されている。電極パターン310は、接続電極320,322と、接続電極320,322から第1面302の外縁に向かって引き出される引出電極320a,322aと、引出電極320a,322aから第1面302の各長辺に向かって引き出される引出電極350,352と、ダミー電極324,326と、を含む。 As shown in FIG. 2, an electrode pattern 310 composed of a plurality of electrodes is formed on the first surface 302 (front surface) of the substrate 300. The electrode pattern 310 includes connection electrodes 320 and 322, extraction electrodes 320 a and 322 a that are extracted from the connection electrodes 320 and 322 toward the outer edge of the first surface 302, and long sides of the first surface 302 from the extraction electrodes 320 a and 322 a. And lead electrodes 350 and 352 and dummy electrodes 324 and 326 which are led out toward the head.
 励振信号を伝送する接続電極320には、導電性保持部材340を介して、圧電振動素子100の接続電極124が接続され、他方、励振信号を伝送する接続電極322には、導電性保持部材342を介して、圧電振動素子100の接続電極134が接続される。導電性保持部材340,342は、例えば導電性接着剤が熱硬化されて形成される。引出電極320aは、接続電極320から基板300のいずれか1つの角部に設けられたビア電極330の近傍に引き出されている。引出電極322aは、接続電極322から基板300におけるビア電極330の対角位置にある角部に設けられたビア電極332に向かって、Z´軸方向に沿って引き出されている。引出電極350は、引出電極320a(接続電極320と電気的に接続されている)からZ´軸正方向側に向かってZ´軸方向の中央部付近まで引き出され、X軸負方向側長辺の中央部に接するように引き出されている。引出電極352は、引出電極322a(接続電極322と電気的に接続されている)のZ´軸方向の中央部付近から、X軸正方向側長辺の中央部に接するように引き出されている。引出電極350,352は後述する電解めっき工法のための電極(第1配線経路)である。 The connection electrode 320 of the piezoelectric vibration element 100 is connected to the connection electrode 320 that transmits the excitation signal via the conductive holding member 340, while the connection electrode 322 that transmits the excitation signal is connected to the conductive holding member 342. The connection electrode 134 of the piezoelectric vibration element 100 is connected via For example, the conductive holding members 340 and 342 are formed by thermally curing a conductive adhesive. The extraction electrode 320 a is extracted from the connection electrode 320 to the vicinity of the via electrode 330 provided at any one corner of the substrate 300. The extraction electrode 322 a is extracted along the Z′-axis direction from the connection electrode 322 toward the via electrode 332 provided at the corner of the substrate 300 at the diagonal position of the via electrode 330. The extraction electrode 350 is extracted from the extraction electrode 320a (electrically connected to the connection electrode 320) toward the Z′-axis positive direction side to the vicinity of the center in the Z′-axis direction, and the long side on the X-axis negative direction side It is pulled out to touch the center of The extraction electrode 352 is extracted from the vicinity of the central portion in the Z′-axis direction of the extraction electrode 322a (electrically connected to the connection electrode 322) so as to be in contact with the central portion of the long side on the X-axis positive direction side. . The extraction electrodes 350 and 352 are electrodes (first wiring paths) for an electrolytic plating method to be described later.
 本実施形態においては、残りの角部(接続電極320,322と電気的に接続された引出電極320a,322aが配置された角部以外の角部)にダミー電極324,326(又は浮き電極とも呼ばれる。)が形成されている。ダミー電極324,326は、第1励振電極120及び第2励振電極130のいずれとも電気的に接続されていない電極であり、他の電極と同じ導電材料によって形成されている。またダミー電極は、圧電振動子1が実装される実装基板(不図示)に設けられた端子に接続されてもよい。このようなダミー電極を形成することにより、外部電極を形成するための導電材料の付与が容易になる。 In this embodiment, dummy electrodes 324 and 326 (or floating electrodes) are formed on the remaining corners (corners other than the corners where the extraction electrodes 320a and 322a electrically connected to the connection electrodes 320 and 322 are disposed). Is called). The dummy electrodes 324 and 326 are electrodes that are not electrically connected to either the first excitation electrode 120 or the second excitation electrode 130 and are formed of the same conductive material as the other electrodes. The dummy electrode may be connected to a terminal provided on a mounting substrate (not shown) on which the piezoelectric vibrator 1 is mounted. By forming such a dummy electrode, it becomes easy to apply a conductive material for forming the external electrode.
 基板300の各角部の端面には、ビア電極330,332,334,336が形成されている(図1参照)。図1に示される例では、引出電極320aがX軸負方向及びZ´軸負方向側の角部に形成されたビア電極330に接続され、引出電極322aがX軸正方向及びZ´軸正方向側の角部に形成されたビア電極332に接続されている。また、ダミー電極324,326が残りの角部においてそれぞれビア電極334,336に接続されている。 Via electrodes 330, 332, 334, and 336 are formed on end surfaces of the respective corners of the substrate 300 (see FIG. 1). In the example shown in FIG. 1, the extraction electrode 320a is connected to a via electrode 330 formed at a corner on the X-axis negative direction and the Z′-axis negative direction side, and the extraction electrode 322a is connected to the X-axis positive direction and the Z′-axis positive direction. It is connected to a via electrode 332 formed at a corner on the direction side. The dummy electrodes 324 and 326 are connected to the via electrodes 334 and 336 at the remaining corners, respectively.
 図1に示される例では、基板300の角部は、その一部が円筒曲面状(キャスタレーション形状とも呼ばれる。)に切断して形成された切り欠き側面を有しており、ビア電極330,332,334,336は、このような切り欠き側面及び第2面304(裏面)にかけて連続的に形成されている。当該側面は、後述するスルーホールの内壁に対応する(図7参照)。なお、基板300の角部(すなわち、スルーホールの内壁)の形状はこれに限定されるものではなく、切り欠きの形状は平面状であってもよい。 In the example shown in FIG. 1, the corner portion of the substrate 300 has a cut-out side surface that is formed by cutting a part of the corner portion into a cylindrical curved surface shape (also referred to as a castellation shape). 332, 334, and 336 are continuously formed over such a cut-out side surface and the second surface 304 (back surface). The side surface corresponds to an inner wall of a through hole described later (see FIG. 7). Note that the shape of the corner of the substrate 300 (that is, the inner wall of the through hole) is not limited to this, and the shape of the notch may be a flat shape.
 図3に示されるように、基板300の第2面304(裏面)には、複数の電極から成る電極パターン312が形成されている。電極パターン312は、複数の外部電極(裏面電極)360,362,364,366を含む。 As shown in FIG. 3, an electrode pattern 312 composed of a plurality of electrodes is formed on the second surface 304 (back surface) of the substrate 300. The electrode pattern 312 includes a plurality of external electrodes (back surface electrodes) 360, 362, 364, 366.
 外部電極360,362,364,366は、基板300の第2面304上の各角部付近に形成され、各々、当該角部に向かって引き出され、当該角部の端面に形成されたビア電極330,332,334,336に電気的に接続される。これにより、外部電極360,362,364,366は、ビア電極330,332,334,336を介して基板300の第1面302側の電極に電気的に導通可能となる。 The external electrodes 360, 362, 364, 366 are formed in the vicinity of each corner on the second surface 304 of the substrate 300, are each drawn out toward the corner, and are via electrodes formed on the end surfaces of the corner. 330, 332, 334, 336 are electrically connected. As a result, the external electrodes 360, 362, 364, and 366 can be electrically connected to the electrodes on the first surface 302 side of the substrate 300 via the via electrodes 330, 332, 334, and 336.
 具体的には、外部電極360はX軸負方向及びZ´軸負方向側の角部に配置され、外部電極362はX軸正方向及びZ´軸正方向側の角部に配置され、各々、基板300の第1面302において接続電極320,322を介して第1励振電極120及び第2励振電極130に電気的に接続される。また、外部電極364はX軸負方向及びZ´軸正方向側の角部に配置され、外部電極366はX軸正方向及びZ´軸負方向側の角部に配置され、各々、基板300の第1面302においてダミー電極324,326と電気的に接続される。すなわち、外部電極364,366は、圧電振動素子100の第1励振電極120及び第2励振電極130とは電気的に接続されず、例えば、外部から接地電位が供給される接地用電極であってもよい。蓋部材200が導電性材料からなる場合、蓋部材200を接地用電極である外部電極364,366に電気的に接続することによって、蓋部材200にシールド機能を付加することができる。また、全ての角部に外部電極を形成することにより、圧電振動子1を他の部材に電気的に接続する処理工程が容易となる。 Specifically, the external electrode 360 is disposed at the corners on the X-axis negative direction and the Z′-axis negative direction side, and the external electrode 362 is disposed at the corners on the X-axis positive direction and the Z′-axis positive direction side, The first surface 302 of the substrate 300 is electrically connected to the first excitation electrode 120 and the second excitation electrode 130 via the connection electrodes 320 and 322. The external electrodes 364 are disposed at corners on the X-axis negative direction and the Z′-axis positive direction side, and the external electrodes 366 are disposed at corners on the X-axis positive direction and the Z′-axis negative direction side. The first surface 302 is electrically connected to the dummy electrodes 324 and 326. That is, the external electrodes 364 and 366 are not electrically connected to the first excitation electrode 120 and the second excitation electrode 130 of the piezoelectric vibration element 100, and are, for example, grounding electrodes to which a ground potential is supplied from the outside. Also good. When the lid member 200 is made of a conductive material, the lid member 200 can be added with a shielding function by electrically connecting the lid member 200 to the external electrodes 364 and 366 that are grounding electrodes. In addition, by forming external electrodes at all corners, the processing step for electrically connecting the piezoelectric vibrator 1 to another member is facilitated.
 なお、基板300の接続電極、引出電極、及び外部電極の各構成は、上述の例に限定されるものではなく、様々に変形して適用することができる。例えば、図1に示される例では、圧電振動素子100は一方端(導電性保持部材340,342が配置される側の端部)が固定端であり他方端が自由端となっているが、接続電極320,322は、一方がZ´軸正方向側に形成され、他方がZ´軸負方向側に形成されるなど、基板300の第1面302上において互いに異なる側に配置されていてもよい。このような構成においては、圧電振動素子100が、長手方向の一方端及び他方端の両方において基板300に支持されることになる。また、外部電極は矩形状に限らず、円形や多角形等の他の形状であってもよい。 In addition, each structure of the connection electrode of the board | substrate 300, an extraction electrode, and an external electrode is not limited to the above-mentioned example, It can apply in various deformation | transformation. For example, in the example shown in FIG. 1, the piezoelectric vibration element 100 has one end (the end on the side where the conductive holding members 340 and 342 are disposed) as a fixed end and the other end as a free end. The connection electrodes 320 and 322 are arranged on different sides on the first surface 302 of the substrate 300, such that one is formed on the Z′-axis positive direction side and the other is formed on the Z′-axis negative direction side. Also good. In such a configuration, the piezoelectric vibration element 100 is supported by the substrate 300 at both one end and the other end in the longitudinal direction. Further, the external electrode is not limited to a rectangular shape, and may be another shape such as a circle or a polygon.
 上述の蓋部材200及び基板300の両者が接合材250を介して接合されることによって、圧電振動素子100が、蓋部材200の凹部と基板300とによって囲まれた内部空間(キャビティ)に密封封止される。この場合、内部空間の圧力は大気圧力よりも低圧な真空状態であることが好ましく、これにより第1励振電極120及び第2励振電極130の酸化による経時変化などが低減される。 By joining both the lid member 200 and the substrate 300 through the bonding material 250, the piezoelectric vibration element 100 is hermetically sealed in an internal space (cavity) surrounded by the recess of the lid member 200 and the substrate 300. Stopped. In this case, it is preferable that the pressure in the internal space is a vacuum state lower than the atmospheric pressure, thereby reducing a change with time due to oxidation of the first excitation electrode 120 and the second excitation electrode 130.
 接合材250は、蓋部材200及び基板300のそれぞれの全周に亘って設けられ、蓋部材200の側壁部と、基板300の第1面302との間に介在している。接合材250は絶縁性材料により構成されていてもよい。絶縁性材料としては、低融点ガラス(例えば鉛ホウ酸系や錫リン酸系等)などのガラス接着材料であってもよく、あるいは、樹脂接着剤であってもよい。これらの絶縁性材料によれば、金属接合に比べて低コストであり、また加熱温度を抑えることができ、製造プロセスの簡易化を図ることができる。 The bonding material 250 is provided over the entire circumference of the lid member 200 and the substrate 300, and is interposed between the side wall portion of the lid member 200 and the first surface 302 of the substrate 300. The bonding material 250 may be made of an insulating material. The insulating material may be a glass adhesive material such as low-melting glass (for example, lead borate or tin phosphate) or a resin adhesive. According to these insulating materials, the cost is lower than that of metal bonding, the heating temperature can be suppressed, and the manufacturing process can be simplified.
 上述の構成により、圧電振動子1においては、基板300の外部電極360,362を介して、圧電振動素子100における一対の第1励振電極120及び第2励振電極130の間に交番電界が印加される。これにより、厚みすべり振動モードを含む振動モードによって圧電基板110が振動し、該振動に伴う共振特性が得られる。 With the above configuration, in the piezoelectric vibrator 1, an alternating electric field is applied between the pair of first excitation electrode 120 and second excitation electrode 130 in the piezoelectric vibration element 100 via the external electrodes 360 and 362 of the substrate 300. The Accordingly, the piezoelectric substrate 110 vibrates in vibration modes including the thickness shear vibration mode, and resonance characteristics associated with the vibration are obtained.
<圧電振動素子搭載用の集合基板及びその製造方法>
 次に、図4~図8を参照しつつ、本発明の第1実施形態に係る集合基板及びその製造方法について説明する。ここで、図4は、本発明の第1実施形態に係る集合基板の製造方法を示すフローチャートであり、図5及び図6A~図6Eは、本発明の第1実施形態に係る集合基板の製造方法の手順を示す図であり、図7は、本発明の第1実施形態に係る集合基板の第1面の平面図であり、図8は本発明の第1実施形態に係る集合基板の第2面の平面図である。なお、図6A~図6Eは、図5のVI-VI線断面図と同方向の断面図を工程ごとに示したものである。
<Aggregate substrate for mounting piezoelectric vibration element and method for manufacturing the same>
Next, the collective substrate and the manufacturing method thereof according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 4 is a flowchart showing a manufacturing method of the collective substrate according to the first embodiment of the present invention, and FIGS. 5 and 6A to 6E show the manufacture of the collective substrate according to the first embodiment of the present invention. FIG. 7 is a plan view of the first surface of the collective substrate according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a plan view of the collective substrate according to the first embodiment of the present invention. It is a top view of 2 surfaces. 6A to 6E are cross-sectional views in the same direction as the cross-sectional view taken along the line VI-VI in FIG. 5 for each process.
 まず集合基板10を用意する(図4のS10)。集合基板10は、複数の個片基板を形成するための基板である。当該複数の個片基板は、それぞれ、上述の圧電振動子1における圧電振動素子100を搭載するための基板300として適用され得る。集合基板10の材料は、上述の基板300と同様の材料とすることができる。図5に示されるように、集合基板10は、X軸及びZ´軸に平行な辺を有する略矩形形状をなし、Y´軸に平行な厚み方向の辺を有している。また、集合基板10は、Y´軸正方向側のXZ´面に平行な第1面12(表面)、及びY´軸負方向側のXZ´面に平行な第2面14(裏面)を有する。集合基板10は、XZ´面の平面視における中央部に基板配置領域Rinを有し、基板配置領域Rinの外縁部に周辺領域Routを有する(図5参照)。 First, the collective substrate 10 is prepared (S10 in FIG. 4). The collective substrate 10 is a substrate for forming a plurality of individual substrates. Each of the plurality of individual substrates can be applied as a substrate 300 for mounting the piezoelectric vibration element 100 in the piezoelectric vibrator 1 described above. The material of the collective substrate 10 can be the same material as the substrate 300 described above. As shown in FIG. 5, the collective substrate 10 has a substantially rectangular shape having sides parallel to the X axis and the Z ′ axis, and has sides in the thickness direction parallel to the Y ′ axis. Further, the collective substrate 10 has a first surface 12 (front surface) parallel to the XZ ′ surface on the Y′-axis positive direction side and a second surface 14 (back surface) parallel to the XZ ′ surface on the Y′-axis negative direction side. Have. The collective substrate 10 has a substrate placement region Rin at the center in the plan view of the XZ ′ plane, and has a peripheral region Rout at the outer edge of the substrate placement region Rin (see FIG. 5).
 基板配置領域Rinは、複数(例えば、M×N個(M,N:自然数))の個片基板P1,1,P1,2,・・・,PM,N(以下、これらの個片基板をまとめてPm,n(m=1,2,・・・,M;n=1,2,・・・,N)とも呼ぶ。)が形成される領域に対応する複数の単位領域r1,1,r1,2,・・・,rM,N(以下、これらの単位領域をまとめてrm,n(m=1,2,・・・,M;n=1,2,・・・,N)とも呼ぶ。)を含む。単位領域rm,nは、各々、Z´軸(第1方向)に平行な長辺と、X軸(第2方向)に平行な短辺を有する略矩形形状をなしており、Z´軸方向及びX軸方向に格子状に配列される。ここで、本明細書では、単位領域の長辺及び短辺がそれぞれ対応する軸に対して平行である態様を一例として説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、単位領域の各辺が軸に沿ってのびるものであれば、軸に対して厳密に平行である態様に限られるものではない。このことは、既に説明した圧電基板110、基板300及び集合基板10の各辺と軸との関係についても同様に当てはまることである。なお、以下の図5~図12においては、説明の便宜上、単位領域が9つ(M=3;N=3)の場合を例として説明するが、単位領域の個数はこれに限られない。周辺領域Routは、個片基板Pm,nが形成されない領域である。 A plurality of (for example, M × N (M, N: natural numbers)) individual substrates P 1,1 , P 1,2 ,..., P M, N (hereinafter, these pieces) A plurality of unit regions corresponding to a region where P m, n (m = 1, 2,..., M; n = 1, 2,..., N) is formed as a single substrate. r 1,1 , r 1,2 ,..., r M, N (hereinafter, these unit areas are collectively referred to as rm , n (m = 1, 2,..., M; n = 1, 2). , ..., N))). Each of the unit regions rm , n has a substantially rectangular shape having a long side parallel to the Z ′ axis (first direction) and a short side parallel to the X axis (second direction). Are arranged in a grid in the direction and the X-axis direction. Here, in this specification, a mode in which the long side and the short side of the unit region are parallel to the corresponding axes will be described as an example, but the present invention is not limited to this, and the unit region As long as each side extends along the axis, it is not limited to a mode in which the sides are strictly parallel to the axis. This also applies to the relationship between each side and axis of the piezoelectric substrate 110, the substrate 300, and the collective substrate 10 already described. 5 to 12, the case where there are nine unit areas (M = 3; N = 3) will be described as an example for convenience of explanation. However, the number of unit areas is not limited to this. The peripheral region Rout is a region where the individual substrates P m, n are not formed.
 次に、図5及び図6Aに示されるように、集合基板10に、第1面12から第2面14に貫通する複数のスルーホール201,1,201,2,・・・,20M+1,N+1(以下、これらのスルーホールをまとめて20k,l(k=1,2,・・・,M+1;l=1,2,・・・,N+1)とも呼ぶ。)を形成する(図4のS20)。スルーホール20k,lは、集合基板10における基板配置領域Rin内であって、単位領域rm,nを区画する境界線が交差する交差位置に形成され、Z´軸方向及びX軸方向に格子状に配列される。すなわち、スルーホール20k,lは、各単位領域の四隅に形成されつつ、隣接する4つの単位領域(例えば、スルーホール202,2に対し、単位領域r1,1,r1,2,r2,1,r2,2)に囲まれることとなる。なお、スルーホールの形状は特に限定されないが、例えば、略円柱形上であってもよい。 Next, as shown in FIGS. 5 and 6A, a plurality of through holes 20 1,1 , 20 1,2 ,..., 20 penetrating from the first surface 12 to the second surface 14 are formed in the collective substrate 10. M + 1, N + 1 (hereinafter, these through holes are collectively referred to as 20 k, l (k = 1, 2,..., M + 1; l = 1, 2,..., N + 1)). (S20 in FIG. 4). The through holes 20 k, l are formed in the substrate arrangement region Rin of the collective substrate 10 at intersections where the boundary lines defining the unit regions rm , n intersect, and in the Z′-axis direction and the X-axis direction. Arranged in a grid. That is, the through hole 20 k, l is being formed at the four corners of each unit region, four unit regions adjacent (e.g., to the through hole 20 2,2, unit regions r 1, 1, r 1, 2, r 2,1 , r 2,2 ). The shape of the through hole is not particularly limited, but may be a substantially cylindrical shape, for example.
 次に、図6Bに示されるように、集合基板10の第1面12及び第2面14と、スルーホール20k,lの内部とに導電ペースト30をスクリーン印刷する(図4のS30)。これにより、集合基板10が備える電極層400の下地が形成される。また、集合基板10に形成されたスルーホール20k,l内には、上述の基板300の側面に形成されるビア電極330,332,334,336に相当する導電ペースト30(以下、単にビア電極とも呼ぶ。)が充填される(図6B参照)。ビア電極がスルーホール20k,l内に設けられることにより、集合基板10の第1面12に形成された導電ペースト30と第2面14に形成された導電ペースト30とが、スルーホール20k,l内のビア電極を介して電気的に接続される。導電ペーストの材料は特に限定されないが、例えば、銀(Ag)、銀パラジウム(AgPd)等を用いることができる。なお、電極層の形成方法はスクリーン印刷によるペースト法に限られず、エッチングレジスト法やフォトレジスト法等を用いてもよい。導電ペーストの配置の詳細については後述する。 Next, as shown in FIG. 6B, the conductive paste 30 is screen-printed on the first surface 12 and the second surface 14 of the collective substrate 10 and the inside of the through holes 20k, l (S30 in FIG. 4). Thereby, the foundation | substrate of the electrode layer 400 with which the aggregate substrate 10 is provided is formed. Further, in the through holes 20 k, l formed in the collective substrate 10, the conductive paste 30 (hereinafter simply referred to as via electrode) corresponding to the via electrodes 330, 332, 334, 336 formed on the side surface of the substrate 300 described above. (Referred to as FIG. 6B). By providing the via electrode in the through holes 20 k, l , the conductive paste 30 formed on the first surface 12 of the collective substrate 10 and the conductive paste 30 formed on the second surface 14 become the through holes 20 k. , L are electrically connected via via electrodes. The material of the conductive paste is not particularly limited. For example, silver (Ag), silver palladium (AgPd), or the like can be used. Note that the method for forming the electrode layer is not limited to the paste method by screen printing, and an etching resist method, a photoresist method, or the like may be used. Details of the arrangement of the conductive paste will be described later.
 次に、図6Cに示されるように、集合基板10のスルーホール内に充填された導電ペーストの一部を吸引し、集合基板10のスルーホール内に筒状の導電ペーストを形成する(図4のS40)。集合基板10のスルーホール20内にスルーホール22を中心部に有する導電ペーストが集合基板10の第1面12から第2面14に貫通することにより、後の電解めっき工法(図4のS60)において、導電ペーストのスルーホール22の表面にもめっき処理を施すことができる。 Next, as shown in FIG. 6C, a part of the conductive paste filled in the through holes of the collective substrate 10 is sucked to form a cylindrical conductive paste in the through holes of the collective substrate 10 (FIG. 4). S40). A conductive paste having a through hole 22 at the center in the through hole 20 of the collective substrate 10 penetrates from the first surface 12 to the second surface 14 of the collective substrate 10, so that the subsequent electrolytic plating method (S 60 in FIG. 4). The surface of the through hole 22 of the conductive paste can also be plated.
 次に、導電ペーストを焼成する(図4のS50)。これにより、焼結電極層が形成される。 Next, the conductive paste is fired (S50 in FIG. 4). Thereby, a sintered electrode layer is formed.
 次に、図6Dに示されるように、集合基板10に電解めっき工法を施し、導電ペーストにめっき電極層50を形成する(図4のS60)。電解めっき工法は、めっき槽40内に設けられためっき液42に集合基板10を浸し、集合基板10の周辺領域Routに形成された後述する配線経路にプローブ44等を当接し、電圧を印加することを含む。これにより、集合基板10に形成された下地の導電ペースト30の表面に、上地のめっき電極層50が形成され、導電ペースト30がめっき電極層50により被覆される(図6E参照)。めっき電極層の材料は特に限定されないが、例えば、ニッケル(Ni)及び金(Au)を順に形成してもよい。この場合、集合基板10に形成される電極層400は、例えば、Ag、Ni、Auの三層構造となる。 Next, as shown in FIG. 6D, the collective substrate 10 is subjected to an electrolytic plating method to form a plating electrode layer 50 on the conductive paste (S60 in FIG. 4). In the electrolytic plating method, the collective substrate 10 is immersed in a plating solution 42 provided in the plating tank 40, and a probe 44 or the like is brought into contact with a later-described wiring path formed in the peripheral region Rout of the collective substrate 10 to apply a voltage. Including that. Thus, the upper plating electrode layer 50 is formed on the surface of the underlying conductive paste 30 formed on the collective substrate 10, and the conductive paste 30 is covered with the plating electrode layer 50 (see FIG. 6E). The material of the plating electrode layer is not particularly limited. For example, nickel (Ni) and gold (Au) may be formed in this order. In this case, the electrode layer 400 formed on the collective substrate 10 has, for example, a three-layer structure of Ag, Ni, and Au.
 次に、図7及び図8を参照しつつ、集合基板10に形成される電極層400の配置について、詳細に説明する。集合基板10の第1面12側の基板配置領域Rinには、単位領域rm,nごとに、上述の基板300の第1面302に形成される電極パターン310に相当する電極層(以下、単に電極パターンとも呼ぶ。)が格子状に連続して形成される(図2及び図7参照)。また、集合基板10の第2面14側の基板配置領域Rinには、単位領域rm,nごとに、上述の基板300の第2面304に形成される電極パターン312に相当する電極層(以下、単に電極パターンとも呼ぶ。)が格子状に連続して形成される(図3及び図8参照)。また、本実施形態においては、集合基板10の第1面12側の周辺領域Routに、電解めっき工法のための配線経路に対応する電極層が形成される(図7参照)。 Next, the arrangement of the electrode layers 400 formed on the collective substrate 10 will be described in detail with reference to FIGS. 7 and 8. In the substrate arrangement region Rin on the first surface 12 side of the collective substrate 10, an electrode layer corresponding to the electrode pattern 310 formed on the first surface 302 of the substrate 300 described above (hereinafter, referred to as “unit layer rm , n”) Simply referred to as an electrode pattern) is formed continuously in a lattice pattern (see FIGS. 2 and 7). Further, in the substrate arrangement region Rin on the second surface 14 side of the collective substrate 10, an electrode layer (corresponding to the electrode pattern 312 formed on the second surface 304 of the substrate 300 described above is provided for each unit region rm , n. Hereinafter, the electrode pattern is also simply formed in a lattice pattern (see FIGS. 3 and 8). In the present embodiment, an electrode layer corresponding to the wiring path for the electrolytic plating method is formed in the peripheral region Rout on the first surface 12 side of the collective substrate 10 (see FIG. 7).
 なお、以下においては、個片基板Pm,nに個片化する前の集合基板10に形成される電極層のうち、個片化した後の状態(図1に示される基板300に相当)の電極パターンに対応する電極層は、説明の便宜上、個片化した後の状態における説明において使用した符号に、各単位領域を示す添え字を付した符号を用いて説明する。例えば、単位領域ri,j(i=1,2,・・・,M;j=1,2,・・・,N)(個片基板Pi,jに対応)に形成される電極層のうち、図2に示される接続電極320に対応する電極層は、接続電極320i,jと呼ぶ。 In the following, of the electrode layers formed on the aggregate substrate 10 before being separated into individual substrates P m, n , the state after being separated (corresponding to the substrate 300 shown in FIG. 1). For convenience of explanation, the electrode layer corresponding to the electrode pattern will be described using the reference numerals used in the description in the state after being separated into pieces, and the subscripts indicating the unit regions. For example, the electrode layer formed in the unit region r i, j (i = 1, 2,..., M; j = 1, 2,..., N) (corresponding to the individual substrate P i, j ). Of these, the electrode layer corresponding to the connection electrode 320 shown in FIG. 2 is referred to as connection electrode 320 i, j .
 まず、集合基板10の第1面12について説明する。単位領域ごとに着目すると、単位領域ri,jの四隅には、スルーホール20i,j,20i+1,j+1,20i+1,j,20i,j+1が形成されている。各スルーホールにはその内部にビア電極が形成されており、単位領域ri,jには、四隅のビア電極のうち、対応するビア電極にそれぞれ電気的に接続された引出電極又はダミー電極が形成されている。 First, the first surface 12 of the collective substrate 10 will be described. Focusing on each unit region, through holes 20 i, j , 20 i + 1, j + 1 , 20 i + 1, j , 20 i, j + 1 are formed at the four corners of the unit region r i, j . Each through hole has a via electrode formed therein, and the unit region r i, j has a lead electrode or a dummy electrode electrically connected to the corresponding via electrode among the via electrodes at the four corners. Is formed.
 具体的には、単位領域ri,jには、スルーホール20i,jのビア電極に電気的に接続される引出電極320ai,jと、単位領域ri,jのXZ´面の中心を基準としてスルーホール20i,jとは相対する側のスルーホール20i+1,j+1のビア電極に電気的に接続される引出電極322ai,jとが設けられている。各引出電極320ai,j,322ai,jは、圧電振動素子100を搭載するための接続電極320,322(図2参照)に至るまで引き出されている。また、引出電極320ai,jには、単位領域ri,jの一方の長辺の中央部に至る引出電極350i,jが電気的に接続され、引出電極322ai,jには、単位領域ri,jの他方の長辺の中央部に至る引出電極352i,jが電気的に接続されている。引出電極350i,j及び引出電極352i,jはX軸方向に延在する部分である。 Specifically, the unit region r i, the j, the through-hole 20 i, the extraction electrode 320a i, which is electrically connected to the via electrodes of j, and j, the unit region r i, the center of XZ' surface of j through holes 20 i, j through hole 20 of the opposite side to the i + 1, j + 1 of the lead electrode 322a i, which is electrically connected to the via electrode, and a j is provided as a reference. Each extraction electrode 320 a i, j , 322 a i, j is extracted until reaching the connection electrodes 320, 322 (see FIG. 2) for mounting the piezoelectric vibration element 100. The extraction electrode 320a i, j is electrically connected to the extraction electrode 350 i, j reaching the center of one long side of the unit region r i, j , and the extraction electrode 322a i, j has a unit The extraction electrodes 352 i, j reaching the center of the other long side of the region r i, j are electrically connected. The extraction electrode 350 i, j and the extraction electrode 352 i, j are portions extending in the X-axis direction.
 さらに、単位領域ri,jには、スルーホール20i+1,jのビア電極に電気的に接続されるダミー電極324i,jと、スルーホール20i,j+1のビア電極に電気的に接続されるダミー電極326i,jとが設けられている。各ダミー電極324i,j,326i,jは、対応する隅付近に設けられている。 Further, the unit region r i, j is electrically connected to the dummy electrode 324 i, j electrically connected to the via electrode of the through hole 20 i + 1, j and the via electrode of the through hole 20 i, j + 1. Dummy electrodes 326 i, j are provided. Each dummy electrode 324 i, j , 326 i, j is provided near the corresponding corner.
 集合基板10においては、上述の単位領域の構成が、それぞれの単位領域が同じ向きを有するように、第1方向(図7のZ´軸方向)及び第2方向(図7のX軸方向)に格子状に配列される。 In the collective substrate 10, the configuration of the unit regions described above is such that each unit region has the same direction in the first direction (Z′-axis direction in FIG. 7) and the second direction (X-axis direction in FIG. 7). Arranged in a grid pattern.
 また、スルーホールごとに着目すると、例えばスルーホール20i,jは、互いに隣接した4つの単位領域ri,j,ri-1,j-1,ri-1,j,ri,j-1を区画する境界線が交差する交差位置に形成され、当該4つの単位領域がそれぞれ備える電極(表面ビア周囲電極)によって囲まれている。具体的には、スルーホール20i,j内に形成されたビア電極に対して、単位領域ri,jの引出電極320ai,j(第1部分)と、当該引出電極320ai,jとビア電極を挟んで相対する単位領域ri-1,j-1の引出電極322ai-1,j-1(第2部分)と、単位領域ri-1,jのダミー電極324i-1,j(第3部分)と、当該ダミー電極324i-1,jとビア電極を挟んで相対する単位領域ri,j-1のダミー電極326i,j-1(第4部分)とが設けられ、それぞれ電気的に接続される(図7参照)。 When attention is paid to each through hole, for example, the through hole 20 i, j has four unit regions r i, j , r i−1, j−1 , r i−1, j , r i, j adjacent to each other. -1 is formed at an intersecting position where the boundary lines dividing -1 intersect, and each of the four unit regions is surrounded by electrodes (surface via surrounding electrodes). Specifically, with respect to the via electrode formed in the through hole 20 i, j , the extraction electrode 320a i, j (first portion) of the unit region r i, j and the extraction electrode 320a i, j The extraction electrodes 322a i-1, j-1 (second portion) of the unit regions r i−1, j-1 and the dummy electrodes 324 i−1 of the unit regions r i−1, j that are opposed to each other with the via electrode interposed therebetween. , J (third portion) and the dummy electrodes 326 i, j-1 (fourth portion) of the unit region r i, j-1 facing the dummy electrode 324 i−1, j across the via electrode. Provided and electrically connected to each other (see FIG. 7).
 次に、X軸方向(第2方向)に隣接する単位領域ri,j(第1単位領域)及び単位領域ri,j-1(第2単位領域)に着目する。単位領域ri,jにおいて、接続電極320i,jと引出電極320ai,jを介して電気的に接続される引出電極350i,j(第1引出電極)は、単位領域ri,jにおける単位領域ri,j-1に接する長辺の中央部に向かってZ´軸正方向に引き出された後、L字型に曲げられてX軸負方向に引き出されて形成される。また、単位領域ri,jのX軸負方向側に隣接する単位領域ri,j-1において、接続電極322i,j-1と引出電極322ai,j-1を介して電気的に接続される引出電極352i,j-1(第2引出電極)は、単位領域ri,j-1における単位領域ri,jに接する長辺の中央部に向かって引き出されて形成される。すなわち、引出電極350i,jと引出電極352i,j-1は、単位領域ri,jと単位領域ri,j-1との境界線の中央部において、互いに接続して形成される(図7参照)。 Next, attention is focused on the unit region r i, j (first unit region) and the unit region r i, j-1 (second unit region) adjacent in the X-axis direction (second direction). Unit region r i, in j, the connection electrode 320 i, j and the extraction electrode 320a i, lead electrodes 350 i electrically connected through a j, j (first extraction electrode), the unit region r i, j Are drawn in the Z′-axis positive direction toward the central part of the long side in contact with the unit region r i, j−1 , bent into an L shape, and drawn in the X-axis negative direction. Also, the unit region r i, the unit area adjacent to the X-axis negative direction side of the j r i, in j-1, the connection electrode 322 i, j-1 and the extraction electrode 322a i, j-1 electrically via The extraction electrode 352 i, j-1 (second extraction electrode) to be connected is formed by being extracted toward the central portion of the long side in contact with the unit region r i, j in the unit region r i, j−1 . . That is, the extraction electrode 350 i, j and the extraction electrode 352 i, j-1 are formed to be connected to each other at the center of the boundary line between the unit region r i, j and the unit region r i, j-1. (See FIG. 7).
 上述の構成により、スルーホール20i,j内に設けられたビア電極(第1ビア電極)は、引出電極320ai,j、接続電極320i,j、引出電極350i,j、引出電極352i,j-1、引出電極322ai,j-1を介して、スルーホール20i+1,j内に設けられたビア電極(第2ビア電極)と電気的に接続される。また、ダミー電極324i,j,326i,j-1もまた、各々、スルーホール20i+1,j,20i,j内に設けられたビア電極と電気的に接続される。このようにして、Z´軸方向に配列されたスルーホール201,j,202,j,・・・,20M+1,j内に設けられたビア電極(一群のビア電極)は、集合基板10の第1面12上に設けられた引出電極3501,j,3502,j,・・・,350M,j及び引出電極3521,j-1,3522,j-1,・・・,352M,j-1(第1配線経路)を介して基板配置領域Rinにおいて単位領域を越えて互いに電気的に接続され、電極群60(h=1,2,・・・,N+1)(図7においては60)を形成する。なお、X軸方向(第2方向)に並んで配置されたスルーホール20i,1,20i,2,・・・,20i,N+1内に設けられたビア電極は、基板配置領域Rin(表面及び裏面を含む。)においては電気的に接続されない。例えば、スルーホール20i,j内に設けられたビア電極は、スルーホール20i,j-1及びスルーホール20i,j+1内に設けられたビア電極とは、基板配置領域Rinにおいては互いに電気的に絶縁されている。 The construction described above, the via electrode (first via electrode) provided in the through-hole 20 i, in j, the extraction electrode 320a i, j, the connection electrode 320 i, j, the extraction electrode 350 i, j, the extraction electrode 352 It is electrically connected to a via electrode (second via electrode) provided in the through hole 20 i + 1, j through i, j-1 and extraction electrode 322a i, j-1 . The dummy electrodes 324 i, j , 326 i, j−1 are also electrically connected to the via electrodes provided in the through holes 20 i + 1, j , 20 i, j , respectively. In this way, via electrodes (a group of via electrodes) provided in the through holes 20 1, j , 20 2, j ,..., 20 M + 1, j arranged in the Z′-axis direction are aggregated substrates. extraction electrode 350 1 provided on the first surface 12 on the 10, j, 350 2, j , ···, 350 M, j and the lead electrodes 352 1, j-1, 352 2, j-1, ·· .., 352 M, j−1 (first wiring path) and are electrically connected to each other across the unit region in the substrate placement region Rin, and the electrode group 60 h (h = 1, 2,..., N + 1) ) (60 j in FIG. 7). The via electrodes provided in the through holes 20 i, 1 , 20 i, 2 ,..., 20 i, N + 1 arranged side by side in the X-axis direction (second direction) are connected to the substrate arrangement region Rin ( Including the front surface and the back surface)) is not electrically connected. For example, a via electrode provided in the through-hole 20 i, in j, the through-hole 20 i, j-1 and the through-hole 20 i, the via electrodes provided in the j + 1, to each other in the circuit-board placement region Rin electric Is electrically insulated.
 なお、本実施形態においては、スルーホール20i,jに対して、ダミー電極324i-1,j及びダミー電極326i,j-1は、引出電極320ai,j及び引出電極322ai-1,j-1よりもXZ´面の平面視における面積が小さくてもよい。 In the present embodiment, the dummy electrodes 324 i−1, j and the dummy electrodes 326 i, j−1 are the extraction electrodes 320 a i, j and the extraction electrodes 322 a i−1 with respect to the through holes 20 i, j . , J−1 , the area of the XZ ′ plane in plan view may be smaller.
 集合基板10の第1面12側の周辺領域Routには、電極群60同士を互いに電気的に接続するための電極層が形成される。電極層は、配線経路32(第2配線経路)及び配線経路34を含む。本実施形態においては、配線経路32は、第1面12側の周辺領域Routにおいて全周に渡って枠状に形成される。具体的には、Z´軸負方向側の辺に形成された配線経路32は、第1面12においてZ´軸負方向側に配列されたスルーホール201,1,201,2,・・・,201,N+1内に設けられたビア電極と電気的に接続され、Z´軸正方向側の辺に形成された配線経路32は、第1面12においてZ´軸正方向側に配列されたスルーホール20M+1,1,20M+1,2,・・・,20M+1,N+1内に設けられたビア電極と電気的に接続される。これにより、X軸方向に配列された電極群60が、それぞれ、その両端において配線経路32と電気的に接続される。すなわち、各々の電極群60は、基板配置領域Rinにおいては互いに電気的に接続されないが、周辺領域Routにおける配線経路32を介して互いに電気的に接続される。また、基板配置領域Rinに形成された電極層のうち、X軸正方向側又は負方向側の端に配列された電極層は、それぞれ、X軸正方向側又は負方向側の辺に形成された配線経路32に接続される。従って、集合基板10の第1面12に形成された全ての電極層が電気的に接続されることとなる。また、配線経路34は、電解めっき工法(図4のS60)において配線経路32に電圧を印加するための配線経路である。具体的には、配線経路34は、集合基板10の第1面12の隅部(例えば、X軸正方向側の両隅部)に所定の領域(すなわち、プローブ等の当接面)を有し、さらに配線経路34の一部(例えば、Z´軸正負方向側の両辺に形成された配線経路32のうちX軸方向における中央部)に接続されるように引き出されて形成される。これにより、電解めっき工法(図4のS60)において配線経路34にプローブ等を当接することにより、全ての導電ペーストに電圧が印加され、めっき処理を施すことができる。なお、配線経路34が配線経路32のうちX軸方向における中央部に接続されることにより、プローブの当接面から各電極群60までの距離がより均一となり、めっき処理におけるめっきむらが低減される。 An electrode layer for electrically connecting the electrode groups 60 h to each other is formed in the peripheral region Rout on the first surface 12 side of the collective substrate 10. The electrode layer includes a wiring path 32 (second wiring path) and a wiring path 34. In the present embodiment, the wiring path 32 is formed in a frame shape over the entire circumference in the peripheral region Rout on the first surface 12 side. Specifically, the wiring path 32 formed on the side on the negative side of the Z′-axis has through- holes 20 1,1 , 20 1,2 ,... Arranged on the negative side of the Z′-axis on the first surface 12. .., 201, the wiring path 32 electrically connected to the via electrode provided in N + 1 and formed on the side on the Z′-axis positive direction side is on the Z′-axis positive direction side on the first surface 12. , 20 M + 1, N + 1 are electrically connected to via electrodes provided in the arranged through holes 20 M + 1,1 , 20 M + 1 , 2 ,. Thereby, the electrode groups 60 h arranged in the X-axis direction are electrically connected to the wiring path 32 at both ends thereof. That is, the electrode groups 60 h are not electrically connected to each other in the substrate arrangement region Rin, but are electrically connected to each other via the wiring path 32 in the peripheral region Rout. Of the electrode layers formed in the substrate arrangement region Rin, the electrode layers arranged at the end on the X axis positive direction side or the negative direction side are respectively formed on the sides on the X axis positive direction side or the negative direction side. Connected to the wiring path 32. Therefore, all the electrode layers formed on the first surface 12 of the collective substrate 10 are electrically connected. The wiring path 34 is a wiring path for applying a voltage to the wiring path 32 in the electrolytic plating method (S60 in FIG. 4). Specifically, the wiring path 34 has a predetermined region (that is, a contact surface of a probe or the like) at corners of the first surface 12 of the collective substrate 10 (for example, both corners on the X axis positive direction side). Further, the wiring path 34 is drawn and formed so as to be connected to a part of the wiring path 34 (for example, the central part in the X-axis direction among the wiring paths 32 formed on both sides on the Z′-axis positive / negative direction side). Thereby, in the electroplating method (S60 in FIG. 4), by bringing a probe or the like into contact with the wiring path 34, a voltage is applied to all the conductive pastes, and a plating process can be performed. Note that by wiring path 34 is connected to the central portion in the X-axis direction of the wiring path 32, the distance from the contact surface of the probe to the electrode group 60 h becomes more uniform, the plating unevenness in the plating process reduced Is done.
 なお、本実施形態においては、配線経路32は、集合基板10の周辺領域Routのうち、第1面12において全周に渡って枠状(例えば、四角枠状)に形成されているが、配線経路の配置はこれに限られず、電極群60のいずれもが配線経路によって電気的に接続されるように形成されればよい。例えば、配線経路は、周辺領域Routのうち、Z´軸正方向側及び負方向側の両辺のみに形成されていてもよい。 In the present embodiment, the wiring path 32 is formed in a frame shape (for example, a rectangular frame shape) over the entire circumference of the first surface 12 in the peripheral region Rout of the collective substrate 10. The arrangement of the path is not limited to this, and any electrode group 60 h may be formed so as to be electrically connected by the wiring path. For example, the wiring path may be formed only on both sides of the Z′-axis positive direction side and the negative direction side in the peripheral region Rout.
 次に、集合基板10の第2面14について説明する。単位領域ごとに着目すると、例えば単位領域ri,jの四隅に形成される外部電極360i,j,362i,j,364i,j,366i,j(裏面電極)は、各々、当該四隅に形成されているスルーホール20i,j,20i+1,j+1,20i+1,j,20i,j+1内に設けられたビア電極と電気的に接続されている。また、スルーホールごとに着目すると、例えばスルーホール20i,jは、互いに隣接した4つの領域ri,j,ri-1,j-1,ri-1,j,ri,j-1の境界線が交差する交差位置に形成され、当該4つの領域がそれぞれ備える外部電極(裏面電極)によって囲まれている。具体的には、スルーホール20i,j内に形成されたビア電極に対して、単位領域ri,jの外部電極360i,jと、単位領域ri-1,j-1の外部電極362i-1,j-1と、単位領域ri-1,jの外部電極364i-1,jと、単位領域ri,j-1の外部電極366i,j-1とが電気的に接続される(図8参照)。 Next, the second surface 14 of the collective substrate 10 will be described. When attention is paid to each unit region, for example, the external electrodes 360 i, j , 362 i, j , 364 i, j , 366 i, j (back electrodes) formed at the four corners of the unit region r i, j are respectively The through- holes 20 i, j , 20 i + 1, j + 1 , 20 i + 1, j , 20 i, j + 1 formed at the four corners are electrically connected to via electrodes. Further, when attention is paid to each through hole, for example, the through hole 20 i, j has four regions r i, j , r i−1, j−1 , r i−1, j , r i, j− adjacent to each other. One boundary line is formed at an intersecting position, and is surrounded by external electrodes (backside electrodes) included in the four regions. Specifically, through holes 20 i, against the via electrodes formed in j, the unit region r i, the external electrodes 360 i of j, and j, the unit region r i-1, j-1 of the outer electrode and 362 i-1, j-1 , and the external electrodes 364 i-1, j of the unit region r i-1, j, the unit region r i, the external electrodes 366 of the j-1 i, j-1 and the electrical (See FIG. 8).
 このようにして、集合基板10の第2面14に形成される全ての外部電極は、各々、いずれかのスルーホール20k,l内に設けられたビア電極と電気的に接続される。また、上述の通り、Z´軸方向(第1方向)に配列されたスルーホール201,j,202,j,・・・,20M+1,j内に設けられたビア電極は、集合基板10の第1面12上の各電極を介して互いに電気的に接続されている(図7参照)。従って、第2面14においても第1面12と同様に、スルーホール20i,j内に設けられたビア電極(第1ビア電極)と電気的に接続された外部電極360i,j,362i-1,j-1,364i-1,j,366i,j-1(裏面電極)と、スルーホール20i+1,j内に設けられたビア電極(第2ビア電極)と電気的に接続された外部電極360i+1,j,362i,j-1,364i,j,366i+1,j-1(裏面電極)とが、互いに電気的に接続される。 In this way, all the external electrodes formed on the second surface 14 of the collective substrate 10 are electrically connected to the via electrodes provided in any one of the through holes 20 k and l , respectively. In addition, as described above, the via electrodes provided in the through holes 20 1, j , 20 2, j ,..., 20 M + 1, j arranged in the Z′-axis direction (first direction) 10 are electrically connected to each other through the respective electrodes on the first surface 12 (see FIG. 7). Accordingly, on the second surface 14, as with the first surface 12, the external electrodes 360 i, j , 362 electrically connected to the via electrodes (first via electrodes) provided in the through holes 20 i, j . i-1, j- 1,364 i-1, j , 366 i, j-1 (back surface electrode) and via electrodes (second via electrodes) provided in the through holes 20 i + 1, j The connected external electrodes 360 i + 1, j , 362 i, j−1 , 364 i, j , 366 i + 1, j−1 (back electrode) are electrically connected to each other.
 上述の電極層の配置により、集合基板10の第1面12、第2面14、及びスルーホール20k,l内に形成される全ての電極層が電気的に接続されることとなる。 Due to the arrangement of the electrode layers described above, all the electrode layers formed in the first surface 12, the second surface 14, and the through holes 20k, l of the collective substrate 10 are electrically connected.
 上述の製造方法により製造される集合基板10は、複数の単位領域rm,nを備える基板配置領域Rinと、基板配置領域Rinの外側に位置する周辺領域Routと、基板配置領域Rin及び周辺領域Routに設けられた電極層400と、を備える。電極層400は、複数の単位領域rm,nの境界線の交差位置に形成されるスルーホール20k,l内に設けられたビア電極と、集合基板10の第2面における単位領域rm,nの4つの角部に設けられ、対応するビア電極に電気的に接続された外部電極360,362,364,366(裏面電極)と、基板配置領域Rinに設けられ、複数のビア電極をZ´軸方向に電気的に接続し電極群60を形成する引出電極350m,n,352m,n(第1配線経路)と、周辺領域Routに設けられ、電極群60をX軸方向に電気的に接続する配線経路32(第2配線経路)と、を含む。また、単位領域ri,j(第1単位領域)に設けられた引出電極350i,jと、単位領域ri,j-1(第2単位領域)に設けられた引出電極352i,j-1が、それぞれ、他方の単位領域に接する長辺の中央部において接続されることにより、ビア電極20i,j(第1ビア電極)に電気的に接続された外部電極と、ビア電極20i+1,j(第2ビア電極)に電気的に接続された外部電極とが互いに電気的に接続される。なお、X軸方向に配列された複数のビア電極は基板配置領域Rinにおいては互いに電気的に絶縁されている。 The collective substrate 10 manufactured by the above-described manufacturing method includes a substrate placement region Rin having a plurality of unit regions rm , n , a peripheral region Rout located outside the substrate placement region Rin, the substrate placement region Rin, and the peripheral region. And an electrode layer 400 provided on Rout. Electrode layer 400 includes a plurality of unit regions r m, the through hole 20 k formed at the intersection of the boundary of n, and via electrodes provided in l, the unit region r m of the second surface of the collective substrate 10 , N provided at the four corners and externally connected to the corresponding via electrode 360, 362, 364, 366 (back surface electrode) and the substrate placement region Rin, Lead electrodes 350 m, n , 352 m, n (first wiring paths) that are electrically connected in the Z′-axis direction to form the electrode group 60 h and the peripheral region Rout, and the electrode group 60 h is connected to the X-axis A wiring path 32 (second wiring path) electrically connected in the direction. Also, the unit region r i, j (first unit area) leading electrode provided on the 350 i, j and the unit region r i, j-1 lead electrode 352 provided on the (second unit area) i, j −1 are connected at the central part of the long side in contact with the other unit region, respectively, so that the external electrode electrically connected to the via electrode 20 i, j (first via electrode) and the via electrode 20 An external electrode electrically connected to i + 1, j (second via electrode) is electrically connected to each other. The plurality of via electrodes arranged in the X-axis direction are electrically insulated from each other in the substrate arrangement region Rin.
 上述の製造方法により製造された集合基板10は、各単位領域rm,nにおいて、短辺側の境界線上に引出電極を設けることなく、長辺側の境界線の中央部を接続する引出電極によって各電極を電気的に接続することができる。これにより、引出電極が短辺側にも設けられる場合に比べ、集合基板10の切断後における引出電極の端面(すなわち、導電ペーストがAgの場合はAgの露出部)と、スルーホール内に設けられたビア電極の端面(すなわち、導電ペーストがAgの場合はAgの露出部)との距離を長くとることができ、マイグレーション発生のリスクが低減される。 The collective substrate 10 manufactured by the above-described manufacturing method has an extraction electrode that connects the center of the long side boundary line without providing the extraction electrode on the short side boundary line in each unit region rm , n . Thus, the electrodes can be electrically connected. Thereby, compared with the case where the extraction electrode is provided also on the short side, the end surface of the extraction electrode after cutting of the collective substrate 10 (that is, the exposed portion of Ag when the conductive paste is Ag) and the through electrode are provided in the through hole. The distance from the end face of the formed via electrode (that is, the exposed portion of Ag when the conductive paste is Ag) can be increased, and the risk of occurrence of migration is reduced.
 また、引出電極により電極層を電気的に接続することにより、単位領域ごとに周囲を給電用の配線で囲む必要がなく、集合基板当たりの個片基板の取り個数が増加する。 In addition, by electrically connecting the electrode layers with the extraction electrode, it is not necessary to surround the power supply wiring for each unit region, and the number of individual substrates to be collected per collective substrate is increased.
 また、電解めっき工法を適用することにより、無電解めっき工法を適用する場合に比べ、短い加工時間で膜厚が厚いめっき電極層が形成され、下地の電極のめっき電極層への拡散が抑制され、電極の導通の信頼性が向上する。さらに、めっき処理をせずにAg,Au等の金属の焼付けのみにより電極層を形成する場合に比べ、安価に耐酸化性、耐硫化性に優れた電極層を形成することができる。 In addition, by applying the electroplating method, a thicker plating electrode layer is formed in a shorter processing time than when the electroless plating method is applied, and diffusion of the underlying electrode to the plating electrode layer is suppressed. The reliability of electrode conduction is improved. Furthermore, it is possible to form an electrode layer excellent in oxidation resistance and sulfidation resistance at a lower cost than in the case where the electrode layer is formed only by baking a metal such as Ag or Au without plating.
 さらに、本実施形態においては、集合基板10の第1面12(圧電振動素子の搭載面)に引出電極350,352が形成される。すなわち、集合基板10から得られる個片基板を圧電振動子に適用し、当該圧電振動子を実装基板に実装する場合に、引出電極350,352が基板の実装面とは反対側の面に残ることとなる。従って、特許文献1に開示されるように集合基板の第2面(実装基板への実装面)に引出電極が形成される構成に比べて、圧電振動子の実装時における実装基板の表面配線と引出電極との短絡の発生を抑制することができる。これにより、実装基板上の圧電振動子等の設計の自由度が向上する。 Furthermore, in the present embodiment, extraction electrodes 350 and 352 are formed on the first surface 12 (mounting surface of the piezoelectric vibration element) of the collective substrate 10. That is, when an individual substrate obtained from the collective substrate 10 is applied to a piezoelectric vibrator and the piezoelectric vibrator is mounted on a mounting substrate, the extraction electrodes 350 and 352 remain on the surface opposite to the mounting surface of the substrate. It will be. Therefore, as disclosed in Patent Document 1, the surface wiring of the mounting substrate at the time of mounting the piezoelectric vibrator is compared with the configuration in which the extraction electrode is formed on the second surface (the mounting surface on the mounting substrate) of the collective substrate. Generation | occurrence | production of the short circuit with an extraction electrode can be suppressed. Thereby, the freedom degree of design, such as a piezoelectric vibrator on a mounting board, improves.
<圧電振動子の製造方法>
 次に、図1及び図9を参照しつつ、本発明の第1実施形態に係る圧電振動子1の製造方法について説明する。ここで、図9は、本発明の第1実施形態に係る圧電振動子1の製造方法を示すフローチャートである。
<Method for manufacturing piezoelectric vibrator>
Next, a manufacturing method of the piezoelectric vibrator 1 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 9. Here, FIG. 9 is a flowchart showing a method of manufacturing the piezoelectric vibrator 1 according to the first embodiment of the present invention.
 まず、電極層400が形成された集合基板10を単位領域rm,nごとに分割し、複数の個片基板Pm,nを得る(図9のS100)。具体的には、集合基板10をダイシング等により切断し、個片基板Pm,nを得るとともに、周辺領域Routを加工除去する。 First, by dividing the assembled board 10 to the electrode layer 400 is formed a unit area r m, each n, obtained plurality of individual substrates P m, the n (S100 in FIG. 9). Specifically, the collective substrate 10 is cut by dicing or the like to obtain the individual substrates P m, n and the peripheral region Rout is processed and removed.
 次に、得られた任意の個片基板(以下、上述の基板300として説明する)の第1面302に、圧電振動素子100を搭載する(図9のS200)。圧電振動素子100は、例えば、導電性保持部材340,342を介して基板300の第1面302(表面)に励振可能に支持される(図1参照)。 Next, the piezoelectric vibration element 100 is mounted on the first surface 302 of the obtained arbitrary individual substrate (hereinafter described as the above-described substrate 300) (S200 in FIG. 9). For example, the piezoelectric vibration element 100 is supported on the first surface 302 (front surface) of the substrate 300 via the conductive holding members 340 and 342 so as to be excited (see FIG. 1).
 次に、接合材250を介して蓋部材200を基板300の第1面302に接合し、圧電振動素子100を蓋部材200と基板300とによって囲まれた内部空間(キャビティ)に密封封止する(図9のS300)。これにより、圧電振動子1が製造される。 Next, the lid member 200 is joined to the first surface 302 of the substrate 300 via the joining material 250, and the piezoelectric vibration element 100 is hermetically sealed in an internal space (cavity) surrounded by the lid member 200 and the substrate 300. (S300 in FIG. 9). Thereby, the piezoelectric vibrator 1 is manufactured.
==第1実施形態の変形例==
 次に、図10を参照して、第1実施形態に係る集合基板の変形例(集合基板10A)を説明する。なお、以降の変形例及び実施形態においては、第1実施形態と共通の事柄についての記述を省略し、異なる点についてのみ説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については実施形態毎には逐次言及しない。
== Modification of First Embodiment ==
Next, with reference to FIG. 10, a modified example of the collective substrate (collective substrate 10A) according to the first embodiment will be described. In the following modified examples and embodiments, description of matters common to the first embodiment is omitted, and only different points will be described. In particular, the same operation effect by the same configuration will not be sequentially described for each embodiment.
 図10は、本発明の第1実施形態の変形例に係る集合基板10Aの第1面12Aの平面図である。本実施例では、集合基板10Aは電極層400Aを備える。電極層400Aは、図7に示される集合基板10の第1面12に形成される電極層400に比べ、各単位領域rm,nにおけるダミー電極324m,n,326m,nを有さない点において相違する。 FIG. 10 is a plan view of the first surface 12A of the collective substrate 10A according to a modification of the first embodiment of the present invention. In this embodiment, the collective substrate 10A includes an electrode layer 400A. The electrode layer 400A has dummy electrodes 324 m, n , 326 m, n in each unit region rm , n compared to the electrode layer 400 formed on the first surface 12 of the collective substrate 10 shown in FIG. There is no difference.
 このような構成においても、上述の第1実施形態と同様の効果を得ることができる。 Even in such a configuration, the same effect as in the first embodiment described above can be obtained.
==第2実施形態==
 次に、図11及び図12を参照して、本発明の第2実施形態に係る集合基板(集合基板10B)を説明する。
== Second Embodiment ==
Next, with reference to FIG.11 and FIG.12, the collective substrate (collective substrate 10B) which concerns on 2nd Embodiment of this invention is demonstrated.
 図11は、本発明の第2実施形態に係る集合基板10Bの第1面12Bの平面図であり、図12は、本発明の第2実施形態に係る集合基板10Bの第2面14Bの平面図である。本実施形態では、図12に示されるように、集合基板10Bの第2面14B(裏面)において、Z´軸方向に並んで配置された複数のビア電極が電気的に接続される点において集合基板10と相違する。 FIG. 11 is a plan view of the first surface 12B of the collective substrate 10B according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 12 is a plan view of the second surface 14B of the collective substrate 10B according to the second embodiment of the present invention. FIG. In the present embodiment, as shown in FIG. 12, the second substrate 14 </ b> B (back surface) of the collective substrate 10 </ b> B is assembled at a point where a plurality of via electrodes arranged in the Z′-axis direction are electrically connected. Different from the substrate 10.
 図12に示されるように、集合基板10Bは電極層400Bを備える。電極層400Bは、集合基板10Bの第2面14B(裏面)において、外部電極370,372,374,376、引出電極380,382、及び配線経路36,38が形成されている。外部電極370,372,374,376、及び配線経路36,38の構造は、それぞれ、図8に示される外部電極360,362,364,366、及び図7に示される配線経路32,34と同様であるため、詳細な説明を省略する。 As shown in FIG. 12, the collective substrate 10B includes an electrode layer 400B. In the electrode layer 400B, external electrodes 370, 372, 374, 376, lead electrodes 380, 382, and wiring paths 36, 38 are formed on the second surface 14B (back surface) of the collective substrate 10B. The structures of the external electrodes 370, 372, 374, 376 and the wiring paths 36, 38 are the same as those of the external electrodes 360, 362, 364, 366 shown in FIG. 8 and the wiring paths 32, 34 shown in FIG. Therefore, detailed description is omitted.
 集合基板10の第1面12と同様に、X軸方向(第2方向)に隣接する単位領域ri,j(第1単位領域)及び単位領域ri,j-1(第2単位領域)に着目する。単位領域ri,jにおいて、外部電極374i,jと電気的に接続される引出電極380i,j(第1引出電極)は、Z´軸負方向に引き出された後、単位領域ri,jにおける単位領域ri,j-1に接する長辺の中央部に向かって引き出されて形成される。また、単位領域ri,jのX軸負方向側に隣接する単位領域ri,j-1において、外部電極376i,j-1と電気的に接続される引出電極382i,j-1(第2引出電極)は、Z´軸正方向に引き出された後、単位領域ri,j-1における単位領域ri,jに接する長辺の中央部に向かって引き出されて形成される。すなわち、引出電極380i,jと引出電極382i,j-1は、単位領域ri,jと単位領域ri,j-1との境界線の中央部において、互いに接続して形成される(図12参照)。 Similar to the first surface 12 of the collective substrate 10, the unit region r i, j (first unit region) and the unit region r i, j-1 (second unit region) adjacent in the X-axis direction (second direction). Pay attention to. In the unit region r i, j , the extraction electrode 380 i, j (first extraction electrode) electrically connected to the external electrode 374 i, j is extracted in the negative direction of the Z′-axis, and then the unit region r i. , J is drawn out toward the center of the long side in contact with the unit region r i, j−1 . Also, the unit region r i, the unit area adjacent to the X-axis negative direction side of the j r i, in j-1, the external electrodes 376 i, j-1 electrically connected to the lead electrode 382 i, j-1 The (second extraction electrode) is formed by being extracted toward the central portion of the long side contacting the unit region r i, j in the unit region r i, j-1 after being extracted in the positive direction of the Z ′ axis. . That is, the extraction electrode 380 i, j and the extraction electrode 382 i, j−1 are formed to be connected to each other at the center of the boundary line between the unit region r i, j and the unit region r i, j−1. (See FIG. 12).
 上述の構成により、スルーホール20i,j内に設けられたビア電極(第1ビア電極)は、外部電極376i,j-1、引出電極382i,j-1、引出電極380i,j、外部電極374i,jを介して、スルーホール20i+1,j内に設けられたビア電極(第2ビア電極)と電気的に接続される。このようにして、Z´軸方向に配列されたスルーホール201,j,202,j,・・・,20M+1,j内に設けられたビア電極(一群のビア電極)は、集合基板10Bの第2面14B上に設けられた引出電極3801,j,3802,j,・・・,380M,j及び引出電極3821,j-1,3822,j-1,・・・,382M,j-1(第1配線経路)を介して基板配置領域Rinにおいて単位領域を越えて互いに電気的に接続され、電極群62(h=1,2,・・・,N+1)(図12においては62)を形成する。 With the above-described configuration, the via electrodes (first via electrodes) provided in the through holes 20 i, j are the external electrodes 376 i, j−1 , the extraction electrodes 382 i, j−1 , and the extraction electrodes 380 i, j. Are electrically connected to via electrodes (second via electrodes) provided in the through holes 20 i + 1, j through the external electrodes 374 i, j . In this way, via electrodes (a group of via electrodes) provided in the through holes 20 1, j , 20 2, j ,..., 20 M + 1, j arranged in the Z′-axis direction are aggregated substrates. 380 M, j and extraction electrodes 382 1, j−1 , 382 2, j−1 ,... Provided on the second surface 14 </ b> B of 10 < / b > B. .., 382 M, j−1 (first wiring path) and are electrically connected to each other across the unit region in the substrate placement region Rin, and the electrode group 62 h (h = 1, 2,..., N + 1) ) (62 j in FIG. 12).
 また、集合基板10Bの第1面12Bに形成される電極については、いずれの電極についても、すでに説明した通り対応するスルーホール内に設けられたビア電極と電気的に接続されている。従って、集合基板10Bに形成される全ての電極層400Bが電気的に接続されている。なお、本実施形態においては、複数のビア電極が第2面14Bに形成された配線経路を介して電気的に接続されるため、集合基板10Bの第1面12Bにおいては、複数のビア電極を電気的に接続する必要がない。そのため、図11に示されるように、集合基板10Bの第1面12Bに形成される電極層400Bは、図7に示される引出電極350m,n,352m,nを有さなくてもよい。 As for the electrodes formed on the first surface 12B of the collective substrate 10B, all the electrodes are electrically connected to the via electrodes provided in the corresponding through holes as already described. Accordingly, all the electrode layers 400B formed on the collective substrate 10B are electrically connected. In the present embodiment, since the plurality of via electrodes are electrically connected via the wiring path formed on the second surface 14B, the plurality of via electrodes are formed on the first surface 12B of the collective substrate 10B. There is no need for electrical connection. Therefore, as shown in FIG. 11, the electrode layer 400B formed on the first surface 12B of the collective substrate 10B may not have the extraction electrodes 350 m, n , 352 m, n shown in FIG. .
 上述の構成により、本実施形態においても、上述の集合基板10と同様の効果を得ることができる。本実施形態においては、集合基板10Bの第2面14Bに引出電極380,382が形成されるが、当該引出電極は、個片基板に分割後、各個片基板の裏面(実装基板への実装面)の周辺領域に残ることとなる。従って、特許文献1に開示されるように個片基板の実装面全体を遮るように対角線上に引出電極が形成される構成に比べて、実装基板の表面配線と引出電極との短絡の発生のリスクが低減される。なお、本実施形態においては、集合基板10Bの第2面14Bにおいて、外部電極374,376(ダミー電極)が引出電極380,382を介して電気的に接続される構成を示しているが、他の外部電極370,372(すなわち、接続電極320,322と電気的に接続される外部電極)が引出電極を介して電気的に接続されていてもよい。また、本実施形態においても、図10に示される集合基板10Aと同様に、第1面12Bにおいてダミー電極324m,n,326m,nを有さない構成としてもよい。 With the above-described configuration, the same effect as that of the above-described collective substrate 10 can be obtained also in this embodiment. In the present embodiment, the extraction electrodes 380 and 382 are formed on the second surface 14B of the collective substrate 10B. The extraction electrodes are divided into individual substrates, and then the back surface of each individual substrate (the mounting surface on the mounting substrate). ) Will remain in the surrounding area. Therefore, compared to the configuration in which the extraction electrode is formed on the diagonal line so as to block the entire mounting surface of the individual substrate as disclosed in Patent Document 1, the occurrence of a short circuit between the surface wiring of the mounting substrate and the extraction electrode is reduced. Risk is reduced. In the present embodiment, the configuration is shown in which the external electrodes 374 and 376 (dummy electrodes) are electrically connected via the extraction electrodes 380 and 382 on the second surface 14B of the collective substrate 10B. The external electrodes 370 and 372 (that is, external electrodes electrically connected to the connection electrodes 320 and 322) may be electrically connected via the extraction electrode. Also in the present embodiment, as in the collective substrate 10A shown in FIG. 10, the first surface 12B may not have the dummy electrodes 324 m, n , 326 m, n .
 以上、本発明の例示的な実施形態について説明した。圧電振動素子搭載用の集合基板10,10A,10Bの製造方法は、単位領域ri,jに設けられた引出電極350i,j,380i,jと、単位領域ri,j-1に設けられた引出電極352i,j-1,382i,j-1とを、それぞれ、長辺の中央部で互いに接続して形成することによって、単位領域ri,j,ri,j-1の間の境界線上において長辺方向に並んで配置されるビア電極を電気的に接続することを含む。これにより、各単位領域の短辺側では、引出電極の存在に起因するマイグレーションの発生を抑制することができ、また、各単位領域の長辺側では、引出電極の切断面と、スルーホール内に設けられたビア電極の切断面との距離が長いため、マイグレーション発生のリスクが低減される。したがって、電気的な接続の信頼性を向上させることができる。 The exemplary embodiments of the present invention have been described above. Collective substrate 10,10A the piezoelectric vibrating element mounting method of 10B, the unit region r i, lead electrodes provided on the j 350 i, j, 380 i, and j, the unit region r i, in j-1 The provided extraction electrodes 352 i, j−1 , 382 i, j−1 are connected to each other at the center of the long side, thereby forming the unit regions r i, j , r i, j−. And electrically connecting via electrodes arranged side by side in the long side direction on the boundary line between the two. As a result, the occurrence of migration due to the presence of the extraction electrode can be suppressed on the short side of each unit region, and the cut surface of the extraction electrode and the inside of the through hole can be suppressed on the long side of each unit region. Since the distance from the cut surface of the via electrode provided in the is long, the risk of occurrence of migration is reduced. Therefore, the reliability of electrical connection can be improved.
 また、圧電振動素子搭載用の集合基板10,10Aの製造方法は、引出電極350i,j,352i,j-1を集合基板10,10Aの第1面12,12A(圧電振動素子の搭載面)に形成することを含む。これにより、集合基板の第2面14,14A(実装基板への実装面)に引出電極を形成する方法に比べて、圧電振動子の実装時における実装基板の表面配線と引出電極との短絡の発生を抑制することができる。 In addition, the manufacturing method of the collective substrates 10 and 10A for mounting the piezoelectric vibration elements is such that the extraction electrodes 350 i, j , 352 i, j-1 are connected to the first surfaces 12 and 12A of the collective substrates 10 and 10A (mounting of the piezoelectric vibration elements). Surface). As a result, compared to the method of forming the extraction electrode on the second surfaces 14 and 14A (the mounting surface on the mounting substrate) of the collective substrate, the short-circuit between the surface wiring of the mounting substrate and the extraction electrode when the piezoelectric vibrator is mounted Occurrence can be suppressed.
 また、圧電振動素子搭載用の集合基板10,10Aの製造方法は、集合基板10,10Aの第1面12,12Aにおいてビア電極20k,lに対応して表面ビア周囲電極を形成することを含む。 In addition, the manufacturing method of the collective substrates 10 and 10A for mounting the piezoelectric vibration elements includes forming surface via peripheral electrodes corresponding to the via electrodes 20k and l on the first surfaces 12 and 12A of the collective substrates 10 and 10A. Including.
 また、圧電振動素子搭載用の集合基板10,10Aの製造方法は、表面ビア周囲電極がビア電極を挟んで相対する単位領域に設けられた引出電極320a,322aを有し、当該引出電極320a,322aは、圧電振動素子を接続する接続電極320,322と接続されることを含む。なお、表面ビア周囲電極の構成はこれに限られない。 In addition, the method for manufacturing the collective substrates 10 and 10A for mounting the piezoelectric vibration element includes the extraction electrodes 320a and 322a provided in the unit regions where the surface via peripheral electrodes are opposed to each other with the via electrode interposed therebetween. 322a includes being connected to connection electrodes 320 and 322 for connecting the piezoelectric vibration element. The configuration of the surface via surrounding electrode is not limited to this.
 また、圧電振動素子搭載用の集合基板10,10Aの製造方法は、表面ビア周囲電極が、当該ビア電極を挟んで相対する他の単位領域に設けられ、引出電極320a,322aよりも面積が小さいダミー電極324,326を有することを含む。なお、表面ビア周囲電極の構成はこれに限られない。 Further, in the method of manufacturing the collective substrates 10 and 10A for mounting the piezoelectric vibration elements, the surface via peripheral electrodes are provided in other unit regions facing each other with the via electrodes interposed therebetween, and the area is smaller than the extraction electrodes 320a and 322a. Including having dummy electrodes 324 and 326. The configuration of the surface via surrounding electrode is not limited to this.
 また、集合基板10,10A,10Bに形成される電極層400,400A,400Bは、Agを主成分として含んでいてもよい。 Further, the electrode layers 400, 400A, 400B formed on the aggregate substrates 10, 10A, 10B may contain Ag as a main component.
 また、圧電振動子1の製造方法は、集合基板10,10A,10Bを分割して複数の個片基板を得ることと、得られた基板300に圧電振動素子100を搭載することと、基板300上で圧電振動素子100を封止するように蓋部材200を基板300に接合することを含む。なお、圧電振動子の製造方法はこれに限られない。 The piezoelectric vibrator 1 is manufactured by dividing the collective substrates 10, 10 </ b> A, and 10 </ b> B to obtain a plurality of individual substrates, mounting the piezoelectric vibration element 100 on the obtained substrate 300, and the substrate 300. It includes joining the lid member 200 to the substrate 300 so as to seal the piezoelectric vibration element 100 above. In addition, the manufacturing method of a piezoelectric vibrator is not restricted to this.
 また、圧電振動素子搭載用の集合基板10,10A,10Bは、単位領域ri,jに設けられた引出電極350i,j,380i,jと、単位領域ri,j-1に設けられた引出電極352i,j-1,382i,j-1とが、それぞれ、長辺の中央部で互いに接続して形成されることによって、単位領域ri,j,ri,j-1の間の境界線上において長辺方向に並んで配置されるビア電極が電気的に接続される。これにより、各単位領域の短辺側では、引出電極の存在に起因するマイグレーションの発生を抑制することができ、また、各単位領域の長辺側では、引出電極の切断面と、スルーホール内に設けられたビア電極の切断面との距離が長いため、マイグレーション発生のリスクが低減される。したがって、電気的な接続の信頼性を向上させることができる。 Also, a set of piezoelectric vibrating element mounting substrate 10, 10A, 10B is provided a unit region r i, lead electrodes provided on the j 350 i, j, 380 i, and j, the unit region r i, in j-1 The extracted electrodes 352 i, j−1 , 382 i, j−1 are connected to each other at the central part of the long side, so that the unit regions r i, j , r i, j− Via electrodes arranged side by side in the long side direction on the boundary line between 1 are electrically connected. As a result, the occurrence of migration due to the presence of the extraction electrode can be suppressed on the short side of each unit region, and the cut surface of the extraction electrode and the inside of the through hole can be suppressed on the long side of each unit region. Since the distance from the cut surface of the via electrode provided in the is long, the risk of occurrence of migration is reduced. Therefore, the reliability of electrical connection can be improved.
 また、圧電振動素子搭載用の集合基板10,10Aは、引出電極350i,j,352i,j-1が集合基板10,10Aの第1面12,12A(圧電振動素子の搭載面)に形成される。これにより、集合基板の第2面14,14A(実装基板への実装面)に引出電極を形成する方法に比べて、圧電振動子の実装時における実装基板の表面配線と引出電極との短絡の発生を抑制することができる。 Further, in the collective substrates 10 and 10A for mounting the piezoelectric vibration elements, the extraction electrodes 350 i, j , 352 i, j-1 are provided on the first surfaces 12 and 12A (mounting surfaces of the piezoelectric vibration elements) of the collective substrates 10 and 10A. It is formed. As a result, compared to the method of forming the extraction electrode on the second surfaces 14 and 14A (the mounting surface on the mounting substrate) of the collective substrate, the short-circuit between the surface wiring of the mounting substrate and the extraction electrode when the piezoelectric vibrator is mounted. Occurrence can be suppressed.
 また、圧電振動素子搭載用の集合基板10,10Aは、集合基板10,10Aの第1面12,12Aにおいてビア電極20k,lに対応した表面ビア周囲電極が形成されていてもよい。 In addition, in the collective substrates 10 and 10A for mounting the piezoelectric vibration elements, surface via peripheral electrodes corresponding to the via electrodes 20k and l may be formed on the first surfaces 12 and 12A of the collective substrates 10 and 10A.
 また、圧電振動素子搭載用の集合基板10,10Aは、表面ビア周囲電極がビア電極を挟んで相対する単位領域に設けられた引出電極320a,322aを有し、当該引出電極320a,322aが、圧電振動素子を接続する接続電極320,322と接続されていてもよい。なお、表面ビア周囲電極の構成はこれに限られない。 In addition, the collective substrates 10 and 10A for mounting the piezoelectric vibration element have extraction electrodes 320a and 322a provided in unit regions where the surface via peripheral electrodes face each other with the via electrode interposed therebetween, and the extraction electrodes 320a and 322a are You may connect with the connection electrodes 320 and 322 which connect a piezoelectric vibration element. The configuration of the surface via surrounding electrode is not limited to this.
 また、圧電振動素子搭載用の集合基板10,10Aは、表面ビア周囲電極が、当該ビア電極を挟んで相対する他の単位領域に設けられ、引出電極320a,322aよりも面積が小さいダミー電極324,326を有していてもよい。なお、表面ビア周囲電極の構成はこれに限られない。 The collective substrates 10 and 10A for mounting the piezoelectric resonator elements have dummy electrodes 324 having surface via peripheral electrodes provided in other unit regions facing each other with the via electrodes interposed therebetween, and having a smaller area than the extraction electrodes 320a and 322a. , 326 may be included. The configuration of the surface via surrounding electrode is not limited to this.
 なお、以上説明した各実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更/改良され得るととともに、本発明にはその等価物も含まれる。すなわち、各実施形態に当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。例えば、各実施形態が備える各要素およびその配置、材料、条件、形状、サイズなどは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。また、各実施形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。 Each embodiment described above is for facilitating understanding of the present invention, and is not intended to limit the present invention. The present invention can be changed / improved without departing from the spirit thereof, and the present invention includes equivalents thereof. That is, those in which the person skilled in the art appropriately changes the design of each embodiment is also included in the scope of the present invention as long as the features of the present invention are included. For example, each element included in each embodiment and its arrangement, material, condition, shape, size, and the like are not limited to those illustrated, and can be changed as appropriate. In addition, each element included in each embodiment can be combined as much as technically possible, and combinations thereof are included in the scope of the present invention as long as they include the features of the present invention.
 1 圧電振動子
 100 圧電振動素子
 110 圧電基板
 120,130 励振電極
 122,132 引出電極
 124,134 接続電極
 200 蓋部材
 250 接合材
 300 基板
 310,312 電極パターン
 320,322 接続電極
 320a,322a,350,352,380,382 引出電極
 324,326 ダミー電極
 330,332,334,336 ビア電極
 340,342 導電性保持部材
 360,362,364,366,370,372,374,376 外部電極
 400,400A,400B 電極層
 10,10A,10B 集合基板
 20,22 スルーホール
 30 導電ペースト
 32,34,36,38 配線経路
 40 めっき槽
 42 めっき液
 44 プローブ
 50 めっき電極層
 60,62 電極群
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Piezoelectric vibrator 100 Piezoelectric vibration element 110 Piezoelectric substrate 120,130 Excitation electrode 122,132 Extraction electrode 124,134 Connection electrode 200 Lid member 250 Bonding material 300 Substrate 310,312 Electrode pattern 320,322 Connection electrode 320a, 322a, 350, 352, 380, 382 Lead electrode 324, 326 Dummy electrode 330, 332, 334, 336 Via electrode 340, 342 Conductive holding member 360, 362, 364, 366, 370, 372, 374, 376 External electrode 400, 400A, 400B Electrode layer 10, 10A, 10B Collective substrate 20, 22 Through hole 30 Conductive paste 32, 34, 36, 38 Wiring path 40 Plating tank 42 Plating solution 44 Probe 50 Plating electrode layer 60, 62 Electrode group

Claims (13)

  1.  (a)互いに直交する第1方向及び第2方向に格子状に配列された複数の単位領域からなる基板配置領域と、前記基板配置領域の外側に位置する周辺領域とを含み、それぞれの前記単位領域が前記第1方向に沿ってのびる長辺と前記第2方向に沿ってのびる短辺とを有する矩形状をなしている、集合基板を用意すること、
     (b)複数の前記単位領域を区画する境界線が交差する交差位置に、前記集合基板の表面と裏面を貫通するスルーホールを形成すること、
     (c)前記集合基板に電気めっきを含む処理を行い、電極層を形成すること
    を含み、
     前記電極層は、前記交差位置の前記スルーホール内に設けられたビア電極と、前記集合基板の前記裏面において前記単位領域の4つの角部に対応して設けられ、前記4つの角部に設けられた前記ビア電極に電気的に接続された裏面電極と、前記基板配置領域に設けられ、前記第1方向に電気的に接続されて延在する一群のビア電極を形成するように複数の前記ビア電極を前記第1方向に電気的に接続する第1配線経路と、前記周辺領域に設けられ、前記一群のビア電極を前記第2方向に電気的に接続する第2配線経路と、を含み、
     複数の前記単位領域は、前記第2方向に互いに隣接する第1単位領域及び第2単位領域を有し、
     複数の前記ビア電極は、前記第1単位領域と前記第2単位領域の間の境界線上において前記第1方向に並んで配置される第1ビア電極及び第2ビア電極を有し、
     前記第1配線経路は、前記第1単位領域に設けられかつ前記第1単位領域における前記第2単位領域に接する長辺の中央部に至る第1引出電極と、前記第2単位領域に設けられかつ前記第2単位領域における前記第1単位領域に接する長辺の中央部に至る第2引出電極と、を含み、
     前記第1ビア電極及び前記第2ビア電極は、それぞれ、前記第2方向に並んで配置される他のビア電極とは、前記周辺領域のみで互いに電気的に接続されるように前記基板配置領域では互いに電気的に絶縁されており、
     前記(c)において、
     前記第1引出電極と前記第2引出電極をそれぞれ長辺の中央部で互いに接続して形成することによって、前記第1ビア電極に電気的に接続された前記裏面電極と、前記第2ビア電極に電気的に接続された前記裏面電極とを互いに電気的に接続することを含む、圧電振動素子搭載用の集合基板の製造方法。
    (A) including a substrate placement area composed of a plurality of unit areas arranged in a grid pattern in a first direction and a second direction orthogonal to each other, and a peripheral area located outside the substrate placement area, and each of the units Providing a collective substrate, wherein the region has a rectangular shape having a long side extending along the first direction and a short side extending along the second direction;
    (B) forming a through-hole penetrating the front surface and the back surface of the collective substrate at a crossing position where boundary lines defining a plurality of unit regions intersect;
    (C) performing a process including electroplating on the collective substrate to form an electrode layer;
    The electrode layer is provided corresponding to the four corners of the unit region on the back surface of the collective substrate and the via electrode provided in the through hole at the intersecting position, and provided at the four corners. A plurality of the back electrodes electrically connected to the via electrodes and a group of via electrodes provided in the substrate arrangement region and extending in an electrically connected manner in the first direction. A first wiring path that electrically connects via electrodes in the first direction; and a second wiring path that is provided in the peripheral region and electrically connects the group of via electrodes in the second direction. ,
    The plurality of unit regions have a first unit region and a second unit region adjacent to each other in the second direction,
    The plurality of via electrodes include a first via electrode and a second via electrode arranged side by side in the first direction on a boundary line between the first unit region and the second unit region,
    The first wiring path is provided in the first unit region and provided in the second unit region, and a first extraction electrode that reaches a central portion of a long side that contacts the second unit region in the first unit region. And a second extraction electrode reaching the center of the long side in contact with the first unit region in the second unit region,
    The first via electrode and the second via electrode are each disposed in the substrate arrangement region so as to be electrically connected to another via electrode arranged in the second direction only in the peripheral region. Are electrically isolated from each other,
    In the above (c),
    The back electrode and the second via electrode electrically connected to the first via electrode by forming the first lead electrode and the second lead electrode by connecting each other at the center of the long side. A method of manufacturing a collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element, comprising electrically connecting the back electrodes electrically connected to each other.
  2.  前記第1引出電極及び前記第2引出電極は、前記集合基板の前記表面に設けられた、請求項1記載の圧電振動素子搭載用の集合基板の製造方法。 2. The method of manufacturing a collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to claim 1, wherein the first lead electrode and the second lead electrode are provided on the surface of the collective substrate.
  3.  前記電極層は、前記集合基板の前記表面において前記ビア電極に対応して設けられた表面ビア周囲電極をさらに含む、請求項2記載の圧電振動素子搭載用の集合基板の製造方法。 3. The method of manufacturing a collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to claim 2, wherein the electrode layer further includes a surface via surrounding electrode provided corresponding to the via electrode on the surface of the collective substrate.
  4.  前記表面ビア周囲電極は、前記ビア電極を挟んで相対する単位領域に設けられた第1及び第2部分を有し、
     前記第1及び第2部分は、圧電振動素子を接続する接続電極と接続された、請求項3記載の圧電振動素子搭載用の集合基板の製造方法。
    The surface via surrounding electrode has first and second portions provided in unit regions facing each other with the via electrode interposed therebetween,
    The method for manufacturing a collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to claim 3, wherein the first and second portions are connected to a connection electrode for connecting the piezoelectric vibration element.
  5.  前記表面ビア周囲電極は、前記ビア電極を挟んで相対する他の単位領域に設けられた第3及び第4部分を有し、
     前記第3及び第4部分は、前記第1及び第2部分よりも面積が小さい、請求項4記載の圧電振動素子搭載用の集合基板の製造方法。
    The surface via peripheral electrode has third and fourth portions provided in other unit regions facing each other with the via electrode interposed therebetween,
    5. The method for manufacturing a collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to claim 4, wherein the third and fourth portions have a smaller area than the first and second portions.
  6.  前記電極層はAgを主成分として含む、請求項1から5のいずれか一項に記載の圧電振動素子搭載用の集合基板の製造方法。 The method for manufacturing a collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to any one of claims 1 to 5, wherein the electrode layer contains Ag as a main component.
  7.  請求項1から6のいずれか一項に記載の圧電振動素子搭載用の集合基板の製造方法を含み、
     前記(c)後、前記集合基板を分割して、前記複数の単位領域から圧電振動素子搭載用の複数の個片基板を得ること、
     前記個片基板に圧電振動素子を搭載すること、
     前記個片基板上で前記圧電振動素子を封止するように蓋部材を前記個片基板に接合すること
    を含む、圧電振動子の製造方法。
    A method for manufacturing a collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to any one of claims 1 to 6,
    After (c), dividing the collective substrate to obtain a plurality of individual substrates for mounting piezoelectric vibration elements from the plurality of unit regions,
    Mounting a piezoelectric vibration element on the individual substrate;
    A method for manufacturing a piezoelectric vibrator, comprising: joining a lid member to the individual substrate so as to seal the piezoelectric vibration element on the individual substrate.
  8.  互いに直交する第1方向及び第2方向に格子状に配列された複数の単位領域からなり、それぞれの前記単位領域が前記第1方向に沿ってのびる長辺と前記第2方向に沿ってのびる短辺とを有する矩形状をなしている、基板配置領域と、
     前記基板配置領域の外側に位置する周辺領域と、
     前記基板配置領域及び前記周辺領域に設けられた電極層と
    を備えた集合基板であって、
     前記電極層は、複数の前記単位領域を区画する境界線が交差する交差位置における前記集合基板の表面と裏面を貫通するスルーホール内に設けられたビア電極と、前記集合基板の前記裏面において前記単位領域の4つの角部に対応して設けられ、前記4つの角部に設けられた前記ビア電極に電気的に接続された裏面電極と、前記基板配置領域に設けられ、前記第1方向に電気的に接続されて延在する一群のビア電極を形成するように複数の前記ビア電極を前記第1方向に電気的に接続する第1配線経路と、前記周辺領域に設けられ、前記一群のビア電極を前記第2方向に電気的に接続する第2配線経路と、を含み、
     複数の前記単位領域は、前記第2方向に互いに隣接する第1単位領域及び第2単位領域を有し、
     複数の前記ビア電極は、前記第1単位領域と前記第2単位領域の間の境界線上において前記第1方向に並んで配置される第1ビア電極及び第2ビア電極を有し、
     前記第1配線経路は、前記第1単位領域に設けられかつ前記第1単位領域における前記第2単位領域に接する長辺の中央部に至る第1引出電極と、前記第2単位領域に設けられかつ前記第2単位領域における前記第1単位領域に接する長辺の中央部に至る第2引出電極と、を含み、
     前記第1ビア電極及び前記第2ビア電極は、それぞれ、前記第2方向に並んで配置される他のビア電極とは、前記周辺領域のみで互いに電気的に接続されるように前記基板配置領域では互いに電気的に絶縁されており、
     前記第1引出電極と前記第2引出電極はそれぞれ長辺の中央部で互いに接続されることによって、前記第1ビア電極に電気的に接続された前記裏面電極と、前記第2ビア電極に電気的に接続された前記裏面電極とが互いに電気的に接続された、圧電振動素子搭載用の集合基板。
    Composed of a plurality of unit regions arranged in a grid in a first direction and a second direction orthogonal to each other, each unit region has a long side extending along the first direction and a short side extending along the second direction. A substrate arrangement region having a rectangular shape with sides;
    A peripheral region located outside the substrate placement region;
    An assembly substrate comprising the substrate placement region and the electrode layer provided in the peripheral region,
    The electrode layer includes a via electrode provided in a through-hole penetrating a front surface and a back surface of the collective substrate at a crossing position where boundaries defining the plurality of unit regions intersect, and the back surface of the collective substrate on the back surface A back electrode provided corresponding to the four corners of the unit region and electrically connected to the via electrode provided in the four corners; provided in the substrate placement region; and in the first direction. A plurality of the via electrodes electrically connected in the first direction so as to form a group of via electrodes that are electrically connected and extended; A second wiring path that electrically connects the via electrode in the second direction,
    The plurality of unit regions have a first unit region and a second unit region adjacent to each other in the second direction,
    The plurality of via electrodes include a first via electrode and a second via electrode arranged side by side in the first direction on a boundary line between the first unit region and the second unit region,
    The first wiring path is provided in the first unit region and provided in the second unit region, and a first extraction electrode that reaches a central portion of a long side that contacts the second unit region in the first unit region. And a second extraction electrode reaching the center of the long side in contact with the first unit region in the second unit region,
    The first via electrode and the second via electrode are each disposed in the substrate arrangement region so as to be electrically connected to another via electrode arranged in the second direction only in the peripheral region. Are electrically isolated from each other,
    The first extraction electrode and the second extraction electrode are connected to each other at the center part of the long side, so that the back electrode electrically connected to the first via electrode and the second via electrode are electrically connected to each other. A collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element, wherein the back electrodes connected to each other are electrically connected to each other.
  9.  前記第1引出電極及び前記第2引出電極は、前記集合基板の前記表面に設けられた、請求項8記載の圧電振動素子搭載用の集合基板。 9. The collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to claim 8, wherein the first lead electrode and the second lead electrode are provided on the surface of the collective substrate.
  10.  前記電極層は、前記集合基板の前記表面において前記ビア電極に対応して設けられた表面ビア周囲電極をさらに含む、請求項9記載の圧電振動素子搭載用の集合基板。 10. The collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to claim 9, wherein the electrode layer further includes a surface via surrounding electrode provided corresponding to the via electrode on the surface of the collective substrate.
  11.  前記表面ビア周囲電極は、前記ビア電極を挟んで相対する単位領域に設けられた第1及び第2部分を有し、
     前記第1及び第2部分は、圧電振動素子を接続する接続電極と接続された、請求項10記載の圧電振動素子搭載用の集合基板。
    The surface via surrounding electrode has first and second portions provided in unit regions facing each other with the via electrode interposed therebetween,
    The collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to claim 10, wherein the first and second portions are connected to a connection electrode that connects the piezoelectric vibration element.
  12.  前記表面ビア周囲電極は、前記ビア電極を挟んで相対する他の単位領域に設けられた第3及び第4部分を有し、
     前記第3及び第4部分は、前記第1及び第2部分よりも面積が小さい、請求項11記載の圧電振動素子搭載用の集合基板。
    The surface via peripheral electrode has third and fourth portions provided in other unit regions facing each other with the via electrode interposed therebetween,
    The collective substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to claim 11, wherein the third and fourth portions have a smaller area than the first and second portions.
  13.  前記電極層はAgを主成分として含む、請求項8から12のいずれか一項に記載の圧電振動素子搭載用の集合基板。 The assembly substrate for mounting a piezoelectric vibration element according to any one of claims 8 to 12, wherein the electrode layer contains Ag as a main component.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020202966A1 (en) * 2019-03-29 2020-10-08 株式会社村田製作所 Electronic device and method for manufacturing same
JP2020188340A (en) * 2019-05-13 2020-11-19 株式会社大真空 Container for piezoelectric vibration device, and piezoelectric vibration device using the container
WO2022034716A1 (en) * 2020-08-12 2022-02-17 株式会社村田製作所 Circuit board, electronic device, circuit board manufacturing method, and motherboard for circuit board

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI747145B (en) * 2019-03-19 2021-11-21 日商村田製作所股份有限公司 Semiconductor device and amplifier module

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000165004A (en) * 1998-11-27 2000-06-16 Kyocera Corp Multiple-piece yielding wiring board
JP2013145964A (en) * 2012-01-13 2013-07-25 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd Piezoelectric device and manufacturing method of piezoelectric device
JP2015069980A (en) * 2013-09-26 2015-04-13 京セラ株式会社 Multi-cavity coil built-in wiring board

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5113819B2 (en) * 2009-02-10 2013-01-09 日本電波工業株式会社 Crystal oscillator with pedestal
JP2016072606A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 日本特殊陶業株式会社 Wiring board and multi-piece wiring board

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000165004A (en) * 1998-11-27 2000-06-16 Kyocera Corp Multiple-piece yielding wiring board
JP2013145964A (en) * 2012-01-13 2013-07-25 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd Piezoelectric device and manufacturing method of piezoelectric device
JP2015069980A (en) * 2013-09-26 2015-04-13 京セラ株式会社 Multi-cavity coil built-in wiring board

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020202966A1 (en) * 2019-03-29 2020-10-08 株式会社村田製作所 Electronic device and method for manufacturing same
JPWO2020202966A1 (en) * 2019-03-29 2021-10-21 株式会社村田製作所 Electronic device and its manufacturing method
JP7161709B2 (en) 2019-03-29 2022-10-27 株式会社村田製作所 Electronic device and its manufacturing method
US11689177B2 (en) 2019-03-29 2023-06-27 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electronic device and manufacturing method therefor
JP2020188340A (en) * 2019-05-13 2020-11-19 株式会社大真空 Container for piezoelectric vibration device, and piezoelectric vibration device using the container
JP7290062B2 (en) 2019-05-13 2023-06-13 株式会社大真空 Container for piezoelectric vibration device and piezoelectric vibration device using the container
WO2022034716A1 (en) * 2020-08-12 2022-02-17 株式会社村田製作所 Circuit board, electronic device, circuit board manufacturing method, and motherboard for circuit board

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