WO2017142150A1 - Laser soldering repairing process, laser soldering process and laser soldering system - Google Patents

Laser soldering repairing process, laser soldering process and laser soldering system Download PDF

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WO2017142150A1
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laser
cleaning
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정대호
정태오
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(주)이오테크닉스
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    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads

Definitions

  • the present invention relates to laser soldering, in particular a laser soldering repair process. It relates to a laser soldering process and a laser soldering system comprising the same.
  • a process of bonding a semiconductor chip to a substrate such as a printed circuit board (PCB) using a solder is performed.
  • Such a process may include a soldering process of printing a solder ball containing a tin component at a predetermined position on the substrate and then attaching the solder ball to the substrate by heating the solder ball to a high temperature.
  • This soldering process is generally referred to as a reflow soldering process and is widely applied throughout the industry.
  • a soldering apparatus using heat has been used, but this has a problem that the size is large and the soldering process takes a lot of time. Therefore, in order to solve this problem, a soldering apparatus using a laser has recently been developed.
  • a laser beam may be focused on a narrow area of a substrate to melt a solder ball having a small size, and the process may be performed using less power than a method using heat. Then, the solder ball can be melted in a short time by using the high energy of the laser beam.
  • a soldering process may not be performed on a portion of the substrate. Therefore, in order to solve this problem, it is necessary to print the solder ball on the area to be repaired in the substrate and then perform the soldering process again by using the laser, that is, the laser soldering repair process.
  • the laser soldering process and the laser soldering process are performed separately from each other, when the substrate is transported or stored after the laser soldering process is first performed, contaminants may adhere to the surface of the substrate and become contaminated. Therefore, when the laser soldering repair process is performed while the contaminant is attached to the substrate, the contaminant may act as a ignition material and burn or explosion may occur when the laser beam is radiated. Ultrasonic cleaning can be used to remove contaminants prior to laser soldering repairs to solve this substrate contamination problem, but this adds to the time and cost associated with adding new processes. have.
  • Laser soldering repair process according to an embodiment of the present invention. It provides a laser soldering process and a laser soldering system comprising the same.
  • a laser cleaning process may be performed on the repair region of the substrate, and then flux may be applied.
  • the method may further include attaching the solder ball to the repair region using the soldering laser beam and then performing a water cleaning process on the substrate.
  • the cleaning laser beam and the soldering laser beam may have the same wavelength.
  • the cleaning laser beam and the soldering laser beam may have wavelengths in the near infrared range, for example.
  • the cleaning laser beam and the soldering laser beam may have a wavelength of 915 nm.
  • the cleaning laser beam may have a smaller output than the soldering laser beam.
  • the cleaning laser beam and the soldering laser beam may have outputs of 2W and 5W, respectively.
  • the cleaning laser beam and the soldering laser beam may be defocused and irradiated to the repair region.
  • the first soldering process may include providing solder balls in a soldering region on the substrate; And attaching the solder ball to the soldering area by irradiating and heating a soldering laser beam on the solder ball.
  • the laser cleaning process may be performed by irradiating a cleaning laser beam to the repair region of the substrate.
  • the second soldering process may include providing solder balls in the cleaned repair region on the substrate; And attaching the solder ball to the repair area by heating the solder ball by irradiating a soldering laser beam.
  • the method may further include performing a water cleaning process on the substrate after the second soldering process.
  • the cleaning laser beam and the soldering laser beam may have the same wavelength.
  • the cleaning laser beam may have a smaller output than the soldering laser beam.
  • the cleaning laser beam and the soldering laser beam may be defocused and irradiated.
  • a solder ball supply unit providing solder balls to solder areas of the substrate
  • a laser irradiation device for irradiating the solder ball to the solder ball and irradiating the cleaning laser beam to the repair region of the substrate.
  • the laser soldering system may further include a flux applying unit to apply flux to the soldering region of the substrate.
  • the laser soldering system may further include a washing water supply unit supplying the washing water to the substrate to perform a water cleaning process.
  • a cleaning process is first performed by using a laser on the repair region of the substrate on which the soldering process is not performed, and then soldering is performed on the repaired repair region. Accordingly, foreign matters that may be present in the repair region of the substrate may be effectively removed, and as a result, burn or explosion that may be caused by contamination of the foreign matters may be prevented.
  • the cleaning process using a laser, it is possible to reduce the time or cost required for the cleaning process.
  • the cleaning laser beam and the soldering laser beam can be generated from the same laser light source without providing separate cleaning equipment, the laser soldering system can be configured more simply.
  • FIGS. 1A to 1D are views illustrating a general laser soldering repair process.
  • FIGS. 2A through 2E are diagrams illustrating a laser soldering repair process according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 3A is a photograph showing a contaminant adhered to a repair area of the substrate, and FIG. 3B shows a burn phenomenon caused by performing a laser soldering process in the state shown in FIG. 3A. It is a photograph.
  • FIG. 4A is a photograph of a contaminant adhered to the repair region of the substrate
  • FIG. 4B is a photograph of incomplete soldering by performing a laser soldering process in the state of FIG. 4A.
  • 5A is a photograph showing a state in which contaminants are attached to the repair region of the substrate.
  • FIG. 5B illustrates a state in which the contaminants are removed from the repair region of the substrate by laser cleaning in accordance with an exemplary embodiment of the present invention in the state shown in FIG. 5A.
  • FIG. 5C is a photograph of soldering being completely performed by performing a laser soldering process in the state shown in FIG. 5B.
  • FIG. 6 shows a laser soldering system according to another exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 7A to 7H are views illustrating a process of performing a laser soldering process using the laser soldering system shown in FIG. 6.
  • FIGS. 1A to 1D are views illustrating a general laser soldering repair process.
  • FIG. 1A illustrates a soldering process performed on the substrate W.
  • the substrate W is provided with a soldering region, and the soldering region includes a pad 50 to which solder 60 is attached thereto by a soldering process using a laser. That is, the solder 60 may be attached to the pad in the soldering region of the substrate W by this soldering process. Meanwhile, the solder 60 may not be attached to some of the soldering regions of the substrate W even by the soldering process, and the region may be the repair region 65 that requires soldering repair later.
  • solder ball 61 is provided in the repair region 65 of the substrate W, and then FIG. 1C.
  • the solder ball 61 is irradiated with a soldering laser beam L and heated. Accordingly, the solder 60 may be attached to the pad 50 in the repair region 65 of the substrate W as shown in FIG. 1D.
  • the repair area 65 of the substrate W may be contaminated with foreign substances. have.
  • the contaminant acts as a ignition material and burn or explosion phenomenon occurs. It is likely to occur.
  • FIGS. 2A-2E illustrate a laser soldering repair process in accordance with an exemplary embodiment of the present invention.
  • the soldering process is performed on the substrate W.
  • the substrate W may include, for example, a printed circuit board (PCB).
  • the substrate W is provided with a soldering region, and the soldering region includes a pad 50 to which the solder 60 is attached thereto by a soldering process using a laser. Accordingly, the solder 60 may be attached to the pad 50 of the substrate by the soldering process. Meanwhile, the solder 60 may not be attached to some of the soldering regions of the substrate W even by the soldering process, and this region may be the repair region 65 which requires soldering repair in a subsequent process.
  • PCB printed circuit board
  • a laser cleaning process is performed on the repair region 65 of the substrate W.
  • This laser cleaning process may be performed by defocusing and irradiating the cleaning laser beam L 'onto the repair region 65 of the substrate W.
  • the cleaning laser beam L ' may have, for example, a wavelength in the near infrared range.
  • the cleaning laser beam L ' may have a wavelength of approximately 915 nm. However, it is not limited thereto.
  • the cleaning laser beam L ' may have a smaller output than the soldering laser beam L described later.
  • the cleaning laser beam L ' may have an output of approximately 2W, but is not limited thereto.
  • the cleaning laser beam L ' may be defocused and irradiated to the repair region of the substrate W.
  • the defocusing distance (d2 of FIG. 7D) of the cleaning laser beam L ' may be about 15 mm, but is not limited thereto.
  • solder balls 61 are provided on the pads 50 in the repair region 65 of the substrate W cleaned by the above-described laser cleaning process.
  • the solder ball 61 may include, for example, a Sn component.
  • a flux (not shown) may be further applied on the pad 50. have.
  • a soldering laser beam L is irradiated to the solder balls 61 provided in the repair region 65 of the substrate W to be heated.
  • the heated solder balls 61 are melted and adhered to the pads 50 in the repair region 65 of the substrate W to form the solder 60.
  • the soldering laser beam L for heating the solder ball 61 may have the same wavelength as the above-described cleaning laser beam L '.
  • the soldering laser beam L may have a wavelength in the near infrared range.
  • the cleaning laser beam L ' may have a wavelength of approximately 915 nm, but is not limited thereto.
  • the soldering laser beam L may have a higher output than the cleaning laser beam L '.
  • the cleaning laser beam L ' has an output of about 2W
  • the soldering laser beam L may have an output of about 5W, but is not necessarily limited thereto.
  • the soldering laser beam L may be defocused and irradiated onto the solder ball 61.
  • the defocusing distance (d1 of FIG. 7B) of the soldering laser beam L may be smaller than the defocusing distance (d2 of FIG. 7D) of the cleaning laser beam L ′.
  • the defocusing distance d1 of the soldering laser beam ⁇ may be about 4 mm, but is not limited thereto. Do not.
  • the soldering laser beam L having a predetermined wavelength and output is defocused and irradiated to the solder ball 61, the solder ball 61 is melted by heating, and as shown in FIG. 2E, the substrate ( It is deposited on the pad 50 in the repair region 65 of W) to form the solder 60.
  • a water cleaning process may be further performed on the substrate W.
  • FIG. 1 In the water cleaning process, by spraying the washing water onto the substrate W, the flux or the foreign matter remaining on the substrate W can be removed using the washing water.
  • a cleaning process is first performed using a laser on the repair region 65 of the substrate W on which the soldering process has not been performed, and then soldering is performed on the cleaned repair region 65. Done. Accordingly, foreign matters that may be present in the repair region 65 of the substrate W may be effectively removed, and as a result, burn or explosion that may be caused by contamination of the foreign matters may be prevented. .
  • the cleaning process using a laser, it is possible to reduce the time or cost required for the cleaning process. As described below, since the cleaning laser beam L 'and the soldering laser beam L may be generated from the same laser light source without providing separate cleaning equipment, the laser soldering system may be configured more simply.
  • FIG. 3A is a photograph showing a contaminant adhered to a pad in the repair region of the substrate
  • FIG. 3B is a photograph showing a laser soldering operation in a state where the repair region is contaminated as shown in FIG. 3A. to be.
  • a burn phenomenon may occur when a soldering operation using a laser is performed while the repair region of the substrate is contaminated.
  • FIG. 4A is a photograph of a contaminant attached to a repair region of a substrate
  • FIG. 4B is a photograph of a laser soldering operation performed in a contaminated region of a repair region as illustrated in FIG. 4A.
  • the soldering process may be incompletely completed.
  • FIG. 5A is a photograph showing a state in which contaminants are attached to the repair region of the substrate.
  • 5B is a photograph of a state in which laser cleaning is performed according to an exemplary embodiment of the present invention in the state shown in FIG. 5A. Referring to FIG. 5B, it can be seen that this material has been removed from the repair region of the substrate by a laser cleaning process.
  • FIG. 5C is a photograph of a laser soldering process performed in a state where the repair region of the substrate is cleaned as shown in FIG. 5B. Referring to FIG. 5C, it can be seen that soldering is completely completed in the repair region of the substrate.
  • FIG. 6 shows a laser soldering system according to another exemplary embodiment of the present invention.
  • the laser soldering system performs a soldering process using a soldering laser beam L1 in the soldering region of the substrate W, and the soldering process of the soldering region of the substrate W is performed.
  • a laser soldering repair process is performed on the repair area 65 that is not performed.
  • the laser soldering repair process may include a laser cleaning process of cleaning the repair region 65 of the substrate using the cleaning laser beam L2.
  • the substrate W may include, for example, a printed circuit board, and the substrate W may be mounted on a stage S provided to be movable.
  • the laser soldering system includes a solder ball supply unit 150 and a laser irradiation apparatus.
  • the solder ball supply unit 150 supplies the solder balls (61 of FIG. 7A) onto a pad (50 of FIG. 7A) positioned in the soldering region of the substrate W loaded on the stage S in the soldering process.
  • the solder ball 61 may include, for example, a Sn component.
  • the laser soldering system may further include a flux applying unit 160.
  • the flux applying unit 160 may apply a flux (not shown) on the pad 50 before the solder ball supply unit 150 supplies the solder ball 61 on the pad 50.
  • the flux may serve to prevent the solder ball 61 from being oxidized when it is heated and melted by the soldering laser beam L1.
  • the laser irradiation apparatus is a device which irradiates the soldering laser beam L1 and the cleaning laser beam L2 to the soldering region and the repair region (65 of FIG. 7A) of the substrate W in the soldering process and the laser cleaning process, respectively.
  • the laser irradiation apparatus may include a laser light source 110, a mirror 120, a focusing lens 140, and a controller 115.
  • the laser light source 110 emits the first laser beam L1 in the soldering process and emits the second laser beam L2 in the laser cleaning process.
  • the first laser beam L1 may be a soldering laser beam for heating and melting the solder ball 61 provided in the soldering region of the substrate W.
  • the second laser beam L2 may be a cleaning laser beam used to clean the repair region 65 of the substrate W.
  • the first and second laser beams L1 and L2 may have the same wavelength.
  • the first and second laser beams L1 and L2 may have wavelengths in the near infrared region.
  • the first and second laser beams L1.L2 may have a wavelength of approximately 915 nm, but are not limited thereto.
  • the first laser beam L1, which is a soldering laser beam may have a larger output than the second laser beam L2, which is a cleaning laser beam.
  • the first and second laser beams L1, L2 may have an output of approximately 5W and 2W, respectively, but is not limited thereto.
  • the traveling path of the first and second laser beams L1 and L2 emitted from the laser light source 110 may be changed to a desired position by the mirror 120.
  • the first and second laser beams L1 and L2 reflected by the mirror 120 are irradiated to the soldering region of the substrate W mounted on the stage S via the focusing lens 140.
  • a beam expanding telescope (BET) 130 for expanding the sizes of the first and second laser beams L1 and L2 may be further provided on the optical path between the mirror 120 and the focusing lens 140. have.
  • the first and second laser beams L1 and L2 via the focusing lens 140 may be irradiated to the soldering region of the substrate W in a defocused state.
  • the defocusing distance (d1 of FIG. 7B) of the first laser beam L1 which is the soldering laser beam may be smaller than the defocusing distance (d2 of FIG. 7D) of the second laser beam L2 which is the cleaning laser beam.
  • the defocusing distances d1 and d2 of the first and second laser beams L1 and L2 may be about 4 mm and 15 mm, respectively, but are not limited thereto.
  • the controller 115 controls the laser light source 110 and the mirror 120.
  • the controller 115 may adjust an output emitted from the laser light source 110, and may also control the movement of the mirror 120.
  • the laser soldering system may further include a washing water supply unit 170.
  • the washing water supply unit 170 may perform a water cleaning process of washing the substrate W by supplying the washing water onto the substrate W after the soldering process is completed.
  • FIGS. 7A to 7H are diagrams for describing a laser soldering process according to another exemplary embodiment of the present invention.
  • the laser soldering process illustrated in FIGS. 7A to 7H may include a first soldering process, a laser cleaning process, and a second soldering process.
  • the soldering region includes a pad 50 to which the solder 60 formed by melting the solder ball 61 thereon is attached by a soldering process using a laser to be described later.
  • the solder balls 61 are supplied to the pads 50 positioned in the soldering regions of the substrate W by using the solder ball supply unit 150 illustrated in FIG. 6.
  • the solder ball 61 may include, for example, a Sn component.
  • a step of applying flux on the pads 50 may be further included by using the flux applying unit 160 illustrated in FIG. 6. In this case, some of the pads 50 provided in the soldering region of the substrate W may not be supplied with the solder balls 61, which may be repaired in the subsequent process as described later. 65).
  • the solder 60 is formed by irradiating and heating the first solder beam L1 on the solder ball 61 provided on the pad 50 using the laser irradiation apparatus illustrated in FIG. 6.
  • the first laser beam L1 may be emitted from the laser light source 110 as a soldering laser beam, via the mirror 120, the focusing lens 140, and then irradiated onto the solder ball 61.
  • the first laser beam L1 may have a wavelength in the near infrared region.
  • the first laser beam L1 may have a wavelength of approximately 915 nm, but is not limited thereto.
  • the first laser beam L1 may have a higher output than the second laser beam L2, which is a cleaning laser beam described later.
  • the first laser beam L1 may have an output of approximately 5W, but is not limited thereto.
  • the first laser beam L1 which is the soldering laser beam, may be defocused by a predetermined distance d1 after the focusing lens 140 and irradiated onto the solder ball 61.
  • the defocusing distance d1 of the first laser beam L1 may be, for example, about 4 mm, but is not limited thereto.
  • the solder balls 61 are melted and adhered to the pad 50, thereby soldering the solder 60.
  • the first soldering process is completed by irradiating the solder balls 61 on the pads 50 while moving the first laser beam L1 with respect to the substrate W.
  • FIG. 7C illustrates a state in which the first soldering process is completed in the soldering region of the substrate W. As shown in FIG. Referring to FIG. 7C, some of the soldering regions of the substrate W may be the repair regions 65 requiring the soldering repair process because the first soldering process is not performed.
  • a laser cleaning process may be performed.
  • the repair area 65 is cleaned by irradiating the pad 50 in the repair area 65 with the second laser beam L2 using the laser irradiation device shown in FIG. 6.
  • the second laser beam L2 may be emitted from the laser light source 110 as a cleaning laser beam, and may be irradiated to the repair area 65 after passing through the mirror 120, the focusing lens 140, or the like.
  • the second laser beam L2 which is a cleaning laser beam, may have the same wavelength as the first laser beam L1.
  • the second laser beam L2 may have a wavelength in the near infrared region.
  • the second laser beam L2 may have a wavelength of approximately 915 nm, but is not limited thereto.
  • the second laser beam L2 may have a lower output than the first laser beam L1, which is a soldering laser beam.
  • the output of the second laser beam L2 may be about 2W, but is not limited thereto.
  • the second laser beam L2 which is a cleaning laser beam, may be defocused for a predetermined distance d2 via the focusing lens 140, and then irradiated to the repair area 65.
  • the defocusing distance d2 of the second laser beam L2 may be greater than the defocusing distance d1 of the first laser beam L1 described above.
  • the defocusing distance d2 of the second laser beam L2 may be about 15 mm.
  • the present invention is not limited thereto, and the defocusing distances d1 and d2 of the first and second laser beams L1 and L2 may be variously modified.
  • the second laser beam L2 which is a cleaning laser beam
  • the second laser beam L2 which is a cleaning laser beam
  • the solder balls 61 are supplied to the pads 50 positioned in the repair region 65 of the substrate W using the solder ball supply unit 150 illustrated in FIG. 6. do. Meanwhile, before supplying the solder balls 61, the method may further include applying flux (not shown) on the pads 50 using the flux applying unit 160 illustrated in FIG. 6.
  • the first laser beam L1 is irradiated to the solder ball 61 provided on the pad 50 of the repair region 65 and heated by using the laser irradiation apparatus illustrated in FIG. 6. 60).
  • the first laser beam L1 may be a soldering laser beam.
  • the first laser beam L1 may have the same wavelength as the second laser beam L2 as described above. It may have a wavelength in the near infrared region.
  • the first laser beam L1 may have a higher output than the second laser beam L2, which is a cleaning laser beam.
  • the first laser beam L1 which is a soldering laser beam
  • the first laser beam L1 is defocused by a predetermined distance d1 after passing through the focusing lens 140 to irradiate the solder ball 61 on the pad 50 of the repair region 65.
  • the defocusing distance d1 of the first laser beam L1 may be smaller than the defocusing distance d2 of the second laser beam L2 as described above.
  • the solder balls 61 are melted to form a pad.
  • the solder 60 is formed.
  • the second soldering process is completed by irradiating the solder balls 61 on the pads 50 of the repair region 65 while moving the first laser beam L1 with respect to the substrate W.
  • the solder 60 may be provided on all the pads 50 in the soldering region of the substrate W.
  • the cleaning process is first performed using a laser on the repair region of the substrate on which the soldering process is not performed, and then the soldering operation is performed on the cleaned repair region. Accordingly, foreign matters that may be present in the repair region of the substrate may be effectively removed, and as a result, burn or explosion that may be caused by contamination of the foreign matters may be prevented.
  • the cleaning process using a laser it is possible to reduce the time or cost required for the cleaning process. As described below, since the cleaning laser beam and the soldering laser beam can be generated from the same laser light source without providing separate cleaning equipment, the laser soldering system can be configured more simply.

Abstract

Disclosed are a laser soldering repairing process, a laser soldering process and a laser soldering system. The laser soldering repairing process is a repairing process performed, by means of a laser, on a repair area on which a soldering process has not been performed of a solder area on a substrate. The laser soldering repairing process comprises the steps of: performing laser cleaning by means of radiating a cleaning laser beam on a repair area of a substrate; preparing a solder ball on the cleaned repair area of the substrate; and radiating a soldering laser beam on the solder ball and thus heating the solder ball and attaching same to the repair area.

Description

레이저 솔더링 수선 공정, 레이저 솔더링 공정 및 레이저 솔더링 시스템Laser soldering repair process, laser soldering process and laser soldering system
본 발명은 레이저 솔더링에 관한 것으로, 상세하게는 레이저 솔더링 수선 공정. 이를 포함하는 레이저 솔더링 공정 및 레이저 솔더링 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to laser soldering, in particular a laser soldering repair process. It relates to a laser soldering process and a laser soldering system comprising the same.
일반적으로, 반도체 공정에서는 솔더(solder)를 이용하여 인쇄회로 기판(PCB; Printed Circuit Board) 등과 같은 기판에 반도체 칩을 접합시키는 공정이 이루어진다. 이러한 공정에는 기판의 소정 위치에 주석 성분을 포함하는 솔더 볼(solder ball)을 인쇄한 다음, 이 솔더 볼을 고온으로 가열함으로써 기판에 부착시키는 솔더링 공정이 포함될 수 있다. 이러한 솔더링 공정은 일반적으로 리플로우 솔더링 공정(reflow soldering process)으로 불리는 것으로, 산업계 전반에 널리 적용되고 있다. 기존에는 열을 이용한 솔더링 장치가 사용되었으나, 이는 크기가 크고, 솔더링 공정 시간이많이 소요되는 문제점이 있다. 따라서, 이를 해결하기 위한 방안으로, 최근에는 레이저를 이용한 솔더링 장치가 개발되고 있다. 레이저를 이용한 솔더링 장치는 기판의 좁은 영역에 레이저 빔을 집광시켜 작은 크기의 솔더 볼을 용융시킬 수 있고, 열을 이용한 방식보다 적은 출력을 이용하여 공정을 수행할 수 있다. 그리고, 레이저 빔의 높은 에너지를 이용하여 짧은 시간에 솔더 볼을 용융시킬 수 있다. In general, in a semiconductor process, a process of bonding a semiconductor chip to a substrate such as a printed circuit board (PCB) using a solder is performed. Such a process may include a soldering process of printing a solder ball containing a tin component at a predetermined position on the substrate and then attaching the solder ball to the substrate by heating the solder ball to a high temperature. This soldering process is generally referred to as a reflow soldering process and is widely applied throughout the industry. Conventionally, a soldering apparatus using heat has been used, but this has a problem that the size is large and the soldering process takes a lot of time. Therefore, in order to solve this problem, a soldering apparatus using a laser has recently been developed. In the soldering apparatus using a laser, a laser beam may be focused on a narrow area of a substrate to melt a solder ball having a small size, and the process may be performed using less power than a method using heat. Then, the solder ball can be melted in a short time by using the high energy of the laser beam.
레이저를 이용하여 솔더링 공정을 진행한 다음에는 기판의 일부 영역에 솔더링 공정이 수행되지 못한 경우가 발생될 수 있다. 따라서, 이를 해결하기 위해서는 기판 중 수선되어야 할 영역에 솔더 볼을 인쇄한 다음 이를 레이저를 이용하여 다시 솔더링 공정을 수행하는 공정, 즉 레이저 솔더링 수선 공정을 수행하는 것이 필요하게 된다. 그러나, 레이저 솔더링 공정과 레이저 솔더링 공정은 서로 분리되어 수행됨으로써 일차적으로 레이저 솔더링 공정이 수행된 다음에 기판이 운반이나 또는 보관되는 경우 오염 물질이 기판의 표면에 부착되어 오염될 염려가 있다. 따라서, 기판에 오염 물질이 부착된 상태에서 레이저 솔더링 수선 공정을 수행하게 되면 오염 물질이 발화물질로 작용하여 레이저 빔의 방사 시 번(burn) 이나 폭발(explosion) 현상이 발생될 가능성이 있다. 이러한 기판의 오염 문제를 해결하기 위해서 레이저 솔더링 수선 공정을 수행하기 전에 초음파 세척(ultrasonic cleaning)을 통해 오염 물질을 제거할 수는 있지만, 이는 새로운 공정이 추가됨으로써 소용되는 시간이나 비용이 증가하는 문제가 있다. After the soldering process is performed using a laser, a soldering process may not be performed on a portion of the substrate. Therefore, in order to solve this problem, it is necessary to print the solder ball on the area to be repaired in the substrate and then perform the soldering process again by using the laser, that is, the laser soldering repair process. However, since the laser soldering process and the laser soldering process are performed separately from each other, when the substrate is transported or stored after the laser soldering process is first performed, contaminants may adhere to the surface of the substrate and become contaminated. Therefore, when the laser soldering repair process is performed while the contaminant is attached to the substrate, the contaminant may act as a ignition material and burn or explosion may occur when the laser beam is radiated. Ultrasonic cleaning can be used to remove contaminants prior to laser soldering repairs to solve this substrate contamination problem, but this adds to the time and cost associated with adding new processes. have.
본 발명의 일 실시예에 따르면 레이저 솔더링 수선 공정. 이를 포함하는 레이저 솔더링 공정 및 레이저 솔더링 시스템을 제공한다.Laser soldering repair process according to an embodiment of the present invention. It provides a laser soldering process and a laser soldering system comprising the same.
본 발명의 일 측면에 있어서, In one aspect of the invention,
기판 상의 솔더링 영역 중 솔더링 공정이 수행되지 않은 수선 영역에 레이저를 이용하여 수선 공정을 수행하는 레이저 솔더링 수선 공정에 있어서, In the laser soldering repair process of performing a repair process by using a laser in the repair region of the soldering region on the substrate is not performed,
상기 기판의 수선 영역에 클리닝 레이저 빔을 조사하여 레이저 클리닝 공정을 수행하는 단계;Irradiating a cleaning laser beam to the repair region of the substrate to perform a laser cleaning process;
상기 기판의 클리닝된 수선 영역에 솔더 볼(solder ball)을 마련하는 단계; 및Providing a solder ball in the cleaned repair region of the substrate; And
상기 솔더 볼에 솔더링 레이저 빔을 조사함으로써 상기 솔더 볼을 가열하여 상기 수선 영역에 부착시키는 단계;를 포함하는 레이저 솔더링 수선 공정이 제공된다. And irradiating a soldering laser beam to the solder balls to heat the solder balls and attach them to the repair region.
상기 기판의 수선 영역에 레이저 클리닝 공정을 수행한 다음, 플럭스(flux)를 도포하는 단계가 포함될 수 있다. 그리고, 상기 솔더링 레이저 빔을 이용하여 상기 솔더 볼을 상기 수선 영역에 부착시킨 다음 상기 기판에 워터 클리닝 공정을 수행하는 단계가 더 포함될 수 있다. A laser cleaning process may be performed on the repair region of the substrate, and then flux may be applied. The method may further include attaching the solder ball to the repair region using the soldering laser beam and then performing a water cleaning process on the substrate.
상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 동일한 파장을 가질 수있다. 상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 예를 들면 근적외선 범위의 파장을 가질 수 있다. 구체적인 예로서, 상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 915nm의 파장을 가질 수 있다. The cleaning laser beam and the soldering laser beam may have the same wavelength. The cleaning laser beam and the soldering laser beam may have wavelengths in the near infrared range, for example. As a specific example, the cleaning laser beam and the soldering laser beam may have a wavelength of 915 nm.
상기 클리닝 레이저 빔은 상기 솔더링 레이저 빔 보다 작은 출력을 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 각각 2W 및 5W의 출력을 가질 수 있다. The cleaning laser beam may have a smaller output than the soldering laser beam. For example, the cleaning laser beam and the soldering laser beam may have outputs of 2W and 5W, respectively.
상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 디포커싱되어 상기 수선 영역에 조사될 수 있다. The cleaning laser beam and the soldering laser beam may be defocused and irradiated to the repair region.
다른 측면에 있어서, In another aspect,
기판 상의 솔더링 영역에 제1 솔더링 공정을 수행하는 단계: Performing a first soldering process on the soldering region on the substrate:
기판 상의 솔더링 영역 중 솔더링 공정이 수행되지 않은 수선 영역에 레이저 클리닝 공정을 수행하는 단계; 및Performing a laser cleaning process on a repair region in which the soldering process is not performed among the soldering regions on the substrate; And
상기 기판의 클리닝된 수선 영역에 제2 솔더링 공정을 수행하는 단계;를 포함하는 레이저 솔더링 공정이 제공된다.And performing a second soldering process on the cleaned repair region of the substrate.
상기 제1 솔더링 공정은, 상기 기판 상의 솔더링 영역에 솔더 볼을 마련하는 단계; 및 상기 솔더 볼에 솔더링 레이저 빔을 조사하여 가열함으로써 상기 솔더 볼을 상기 솔더링 영역에 부착시키는 단계;를 포함할 수 있다. The first soldering process may include providing solder balls in a soldering region on the substrate; And attaching the solder ball to the soldering area by irradiating and heating a soldering laser beam on the solder ball.
상기 레이저 클리닝 공정은, 상기 기판의 수선 영역에 클리닝 레이저 빔을 조사함으로써 수행될 수 있다. The laser cleaning process may be performed by irradiating a cleaning laser beam to the repair region of the substrate.
상기 제2 솔더링 공정은, 상기 기판 상의 클리닝된 수선 영역에 솔더 볼을 마련하는 단계; 및 상기 솔더 볼에 솔더링 레이저 빔을 조사하여 가열함으로써 상기 솔더 볼을 상기 수선 영역에 부착시키는 단계;를 포함할 수 있다. The second soldering process may include providing solder balls in the cleaned repair region on the substrate; And attaching the solder ball to the repair area by heating the solder ball by irradiating a soldering laser beam.
상기 제2 솔더링 공정 후 상기 기판에 워터 클리닝 공정을 수행하는 단계가 더 포함될 수 있다. The method may further include performing a water cleaning process on the substrate after the second soldering process.
상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 동일한 파장을 가질 수있다. 상기 클리닝 레이저 빔은 상기 솔더링 레이저 빔 보다 작은 출력을 가질 수 있다. 상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 디포커싱되어 조사될 수 있다. The cleaning laser beam and the soldering laser beam may have the same wavelength. The cleaning laser beam may have a smaller output than the soldering laser beam. The cleaning laser beam and the soldering laser beam may be defocused and irradiated.
또 다른 측면에 있어서,In another aspect,
기판의 솔더링 영역에 솔더링 레이저 빔을 이용하여 솔더링 공정을 수행하며, 상기 기판의 솔더링 영역 중 상기 솔더링 공정이 수행되지 않은 수선 영역에 레이저 솔더링 수선 공정을 수행하는 레이저 솔더링 시스템에 있어서, In the laser soldering system performing a soldering process using a soldering laser beam in the soldering region of the substrate, and performing a laser soldering repair process in the repair region of the soldering region of the substrate is not performed.
상기 기판의 솔더링 영역에 솔더 볼을 제공하는 솔더 볼 공급 유닛; 및A solder ball supply unit providing solder balls to solder areas of the substrate; And
상기 솔더링 레이저 빔을 상기 솔더 볼에 조사하고, 상기 클리닝 레이저 빔을 상기 기판의 수선 영역에 조사하는 레이저 조사 장치;을 포함하는 레이저 솔더링 시스템이 제공된다.And a laser irradiation device for irradiating the solder ball to the solder ball and irradiating the cleaning laser beam to the repair region of the substrate.
상기 레이저 솔더링 시스템은 상기 기판의 솔더링 영역에 플럭스를 도포하는 플럭스 도포 유닛을 더 포함할 수 있다. 그리고, 상기 레이저 솔더링 시스템은 상기 기판에 세정수를 공급하여 워터 클리닝 공정을 수행하는 세정수 공급 유닛을 더 포함할 수 있다. The laser soldering system may further include a flux applying unit to apply flux to the soldering region of the substrate. The laser soldering system may further include a washing water supply unit supplying the washing water to the substrate to perform a water cleaning process.
본 발명의 실시예에 의하면, 솔더링 공정이 수행되지 못한 기판의 수선 영역에 먼저 레이저를 이용하여 클리닝 공정을 수행한 다음, 클리닝된 수선 영역에 솔더링 작업을 하게 된다. 이에 따라, 기판의 수선 영역에 있을 수 있는 이물질 등이 효과적으로 제거될 수 있으며, 그 결과 이물질의 오염에 의해 발생될 수 있는 번(burn) 현상이나 폭발 현상이 방지될 수 있다. 또한, 레이저를 이용하여 클리닝 공정을 수행함으로써 클리닝 공정에 소요되는 시간이나 비용을 줄일 수 있다. 그리고, 별도의 클리닝 장비를 마련하지 않고 동일한 레이저 광원으로부터 클리닝 레이저 빔 및 솔더링 레이저 빔을 발생시킬 수 있으므로 레이저 솔더링 시스템을 보다 간단하게 구성할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, a cleaning process is first performed by using a laser on the repair region of the substrate on which the soldering process is not performed, and then soldering is performed on the repaired repair region. Accordingly, foreign matters that may be present in the repair region of the substrate may be effectively removed, and as a result, burn or explosion that may be caused by contamination of the foreign matters may be prevented. In addition, by performing the cleaning process using a laser, it is possible to reduce the time or cost required for the cleaning process. In addition, since the cleaning laser beam and the soldering laser beam can be generated from the same laser light source without providing separate cleaning equipment, the laser soldering system can be configured more simply.
도 1a 내지 도 1d는 일반적인 레이저 솔더링 수선 공정을 보여주는 도면들이다.1A to 1D are views illustrating a general laser soldering repair process.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 레이저 솔더링 수선공정을 보여주는 도면들이다. 2A through 2E are diagrams illustrating a laser soldering repair process according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 3a는 기판의 수선 영역(repair area)에 오염 물질이 부착된 상태를 찍은 사진이고, 도 3b는 도 3a에 도시된 상태에서 레이저 솔더링 공정을 수행함으로써 번(burn) 현상이 발생된 모습을 찍은 사진이다. 3A is a photograph showing a contaminant adhered to a repair area of the substrate, and FIG. 3B shows a burn phenomenon caused by performing a laser soldering process in the state shown in FIG. 3A. It is a photograph.
도 4a는 기판의 수선 영역에 오염 물질이 부착된 상태를 찍은 사진이고, 도 4b는 도 4a에 도시된 상태에서 레이저 솔더링 공정을 수행함으로써 솔더링이 불완전하게 수행된 모습을 찍은 사진이다. 4A is a photograph of a contaminant adhered to the repair region of the substrate, and FIG. 4B is a photograph of incomplete soldering by performing a laser soldering process in the state of FIG. 4A.
도 5a는 기판의 수선 영역에 오염 물질이 부착된 상태를 찍은 사진이다.5A is a photograph showing a state in which contaminants are attached to the repair region of the substrate.
도 5b는 도 5a에 도시된 상태에서 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 레이저 클리닝에 의해 기판의 수선 영역에서 오염 물질이 제거된 상태를 도시한 것이다. 5B illustrates a state in which the contaminants are removed from the repair region of the substrate by laser cleaning in accordance with an exemplary embodiment of the present invention in the state shown in FIG. 5A.
도 5c는 도 5b에 도시된 상태에서 레이저 솔더링 공정을 수행함으로써 솔더링이 완전하게 수행된 모습을 찍은 사진이다. FIG. 5C is a photograph of soldering being completely performed by performing a laser soldering process in the state shown in FIG. 5B.
도 6은 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 레이저 솔더링 시스템을 도시한 것이다. 6 shows a laser soldering system according to another exemplary embodiment of the present invention.
도 7a 내지 도 7h는 도 6에 도시된 레이저 솔더링 시스템을 이용하여 레이저솔더링 공정을 수행하는 과정을 설명하는 도면들이다. 7A to 7H are views illustrating a process of performing a laser soldering process using the laser soldering system shown in FIG. 6.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 아래에 예시되는 실시예는 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니며, 본 발명을 이 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 각 구성요소의 크기나 두께는 설명의 명료성을 위하여 과장되어 있을 수 있다. 또한, 소정의 물질층이 기판이나 다른 층에 존재한다고 설명될 때, 그 물질층은 기판이나 다른 층에 직접 접하면서 존재할 수도 있고, 그 사이에 다른 제3의 층이 존재할 수도 있다. 그리고, 아래의 실시예에서 각 층을 이루는 물질은 예시적인 것이므로, 이외에 다른 물질이 사용될 수도 있다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention; The examples illustrated below are not intended to limit the scope of the invention, but are provided to explain the invention to those skilled in the art. Like reference numerals in the drawings refer to like elements, and the size or thickness of each element may be exaggerated for clarity. Also, when a given layer of material is described as being in a substrate or other layer, the material layer may be in direct contact with the substrate or another layer, and another third layer may be present therebetween. In addition, in the examples below, the materials forming each layer are exemplary, and other materials may be used.
도 1a 내지 도 1d는 일반적인 레이저 솔더링 수선 공정을 보여주는 도면들이다.1A to 1D are views illustrating a general laser soldering repair process.
도 1a에는 기판(W) 상에 솔더링 공정이 수행된 모습이 도시되어있다. 기판(W)에는 솔더링 영역이 마련되어 있으며, 이러한 솔더링 영역은 레이저를 이용한 솔더링 공정에 의해 그 위에 솔더(solder, 60)가 부착될 패드(50)를 포함한다. 즉, 이 솔더링 공정에 의해 기판(W)의 솔더링 영역에 있는 패드 상에는 솔더(60)가 부착될 수 있다. 한편, 솔더링 공정에 의해서도 기판(W)의 솔더링 영역 중 일부에는 솔더(60)가 부착되지 않는 경우가 발생될 수 있으며, 이러한 영역은 이후에 솔더링 수선이 필요한 수선 영역(65)이 될 수 있다. FIG. 1A illustrates a soldering process performed on the substrate W. As shown in FIG. The substrate W is provided with a soldering region, and the soldering region includes a pad 50 to which solder 60 is attached thereto by a soldering process using a laser. That is, the solder 60 may be attached to the pad in the soldering region of the substrate W by this soldering process. Meanwhile, the solder 60 may not be attached to some of the soldering regions of the substrate W even by the soldering process, and the region may be the repair region 65 that requires soldering repair later.
기판(W)의 수선 영역(65)에 솔더링 수선 공정을 수행하기 위해서는 먼저, 도 1b에 도시된 바와 같이, 기판(W)의 수선 영역(65)에 솔더 볼(61)을 마련한 다음, 도 1c에 도시된 바와 같이 솔더 볼(61)에 솔더링 레이저 빔(L)을 조사하여 가열한다. 이에 따라, 기판(W)의 수선 영역(65)에 있는 패드(50) 상에는 도 1d에 도시된 바와 같이 솔더(60)가 부착될 수 있다. In order to perform a soldering repair process on the repair region 65 of the substrate W, first, as shown in FIG. 1B, a solder ball 61 is provided in the repair region 65 of the substrate W, and then FIG. 1C. As shown in the figure, the solder ball 61 is irradiated with a soldering laser beam L and heated. Accordingly, the solder 60 may be attached to the pad 50 in the repair region 65 of the substrate W as shown in FIG. 1D.
그러나, 상기와 같은 공정에서는 솔더링 공정이 수행된 다음, 레이저 솔더링 수선 공정이 수행되기 전에 기판(W)이 운반되거나 또는 보관되는 경우 기판(W)의 수선 영역(65)이 이물질로 오염될 염려가 있다. 이와 같이 기판(W)의 수선 영역(65)에 이 물질이 부착된 상태에서 레이저를 이용한 솔더링 수선 공정을 수행하게 되면 오염 물질이 발화물질로 작용하여 번(burn) 현상 이나 폭발(explosion) 현상이 발생될 가능성이 있다.However, in the above process, if the substrate W is transported or stored after the soldering process is performed and before the laser soldering repair process is performed, the repair area 65 of the substrate W may be contaminated with foreign substances. have. As described above, when the soldering repair process using the laser is performed while the material is attached to the repair region 65 of the substrate W, the contaminant acts as a ignition material and burn or explosion phenomenon occurs. It is likely to occur.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 레이저 솔더링 수선 공정을 보여주는 도면들이다.2A-2E illustrate a laser soldering repair process in accordance with an exemplary embodiment of the present invention.
도 2a를 참조하면, 기판(W)에 솔더링 공정이 수행된 모습이 도시되어있다. 여기서, 기판(W)은 예를 들면, 인쇄회로 기판(PCB; Printed Circuit Board) 등을 포함할 수 있다. 기판(W)에는 솔더링 영역이 마련되어 있으며, 이러한 솔더링 영역은 레이저를 이용한 솔더링 공정에 의해 그 위에 솔더(60)가 부착될 패드(50)를 포함한다. 이에 따라, 솔더링 공정에 의해 기판의 패드(50)에는 솔더(60)가 부착될 수 있다. 한편, 솔더링 공정에 의해서도 기판(W)의 솔더링 영역 중 일부에는 솔더(60)가 부착되지 않을 수 있으며, 이러한 영역은 이후의 공정에서 솔더링 수선이 필요한 수선 영역(65)이 될 수 있다.Referring to FIG. 2A, the soldering process is performed on the substrate W. Referring to FIG. Here, the substrate W may include, for example, a printed circuit board (PCB). The substrate W is provided with a soldering region, and the soldering region includes a pad 50 to which the solder 60 is attached thereto by a soldering process using a laser. Accordingly, the solder 60 may be attached to the pad 50 of the substrate by the soldering process. Meanwhile, the solder 60 may not be attached to some of the soldering regions of the substrate W even by the soldering process, and this region may be the repair region 65 which requires soldering repair in a subsequent process.
도 2b를 참조하면, 기판(W)의 수선 영역(65)에 레이저 클리닝 공정을 수행한다. 이러한 레이저 클리닝 공정은 기판(W)의 수선 영역(65)에 클리닝 레이저 빔(L')을 디포커싱하여 조사함으로써 수행될 수 있다. 여기서, 클리닝 레이저 빔(L')은 예를 들면, 근적외선 범위의 파장을 가질 수 있다. 구체적인 예로서, 클리닝 레이저 빔(L')은 대략 915nm의 파장을 가질 수 있다. 하지만, 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 2B, a laser cleaning process is performed on the repair region 65 of the substrate W. Referring to FIG. This laser cleaning process may be performed by defocusing and irradiating the cleaning laser beam L 'onto the repair region 65 of the substrate W. FIG. Here, the cleaning laser beam L 'may have, for example, a wavelength in the near infrared range. As a specific example, the cleaning laser beam L 'may have a wavelength of approximately 915 nm. However, it is not limited thereto.
그리고, 클리닝 레이저 빔(L')은 후술하는 솔더링 레이저 빔(L)보다 작은 출력을 가질 수 있다. 예를 들면, 클리닝 레이저 빔(L')은 대략 2W의 출력을 가질 수 있지만 이에 한정되지는 않는다. 이러한 클리닝 레이저 빔(L')은 디포커싱되어 기판(W)의 수선 영역에 조사될 수 있다. 예를 들어, 클리닝 레이저 빔(L')의 디포커싱 거리(도 7d의 d2)는 대략 15mm 정도가 될 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.The cleaning laser beam L 'may have a smaller output than the soldering laser beam L described later. For example, the cleaning laser beam L 'may have an output of approximately 2W, but is not limited thereto. The cleaning laser beam L 'may be defocused and irradiated to the repair region of the substrate W. FIG. For example, the defocusing distance (d2 of FIG. 7D) of the cleaning laser beam L 'may be about 15 mm, but is not limited thereto.
이상과 같이, 소정 파장 및 출력을 가지는 클리닝 레이저 빔(L')을 디포커싱하여 기판(W)의 수선 영역(65)에 조사하게 되면 수선 영역(65)에 있을 수 있는 이물질 등이 제거될 수 있다.As described above, when the cleaning laser beam L 'having a predetermined wavelength and output is defocused and irradiated to the repair region 65 of the substrate W, foreign substances that may be present in the repair region 65 may be removed. have.
도 2c를 참조하면, 전술한 레이저 클리닝 공정에 의해 클리닝된 기판(W)의 수선 영역(65)에 있는 패드(50) 상에 솔더 볼(61)을 마련한다. 이러한 솔더 볼(61)은 예를 들어 Sn 성분을 포함할 수 있다. 한편, 후술하는 솔더링 레이저 빔(L)에 의해 가열되어 용융된 솔더 볼(61)이 산화되는 것을 방지하기 위해서 패드(50) 상에 플럭스(flux, 미도시)를 도포하는 단계가 더 수행될 수 있다. Referring to FIG. 2C, solder balls 61 are provided on the pads 50 in the repair region 65 of the substrate W cleaned by the above-described laser cleaning process. The solder ball 61 may include, for example, a Sn component. Meanwhile, in order to prevent the solder balls 61 melted by being heated by the soldering laser beam L, which will be described later, are oxidized, a flux (not shown) may be further applied on the pad 50. have.
도 2d를 참조하면, 기판(W)의 수선 영역(65)에 마련된 솔더 볼(61)에 솔더링 레이저 빔(L)을 조사하여 가열한다. 이렇게 가열된 솔더 볼(61)은 용융되어 기판(W)의 수선 영역(65)에 있는 패드(50) 상에 부착됨으로써 솔더(60)를 형성한다. 여기서, 솔더 볼(61)을 가열시키기 위한 솔더링 레이저 빔(L)은 전술한 클리닝 레이저 빔(L')과 동일한 파장을 가질 수 있다. 구체적으로, 솔더링 레이저 빔(L)은 근적외선 범위의 파장을 가질 수 있다. 예를 들면, 클리닝 레이저 빔(L')은 대략 915nm의 파장을 가질 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 2D, a soldering laser beam L is irradiated to the solder balls 61 provided in the repair region 65 of the substrate W to be heated. The heated solder balls 61 are melted and adhered to the pads 50 in the repair region 65 of the substrate W to form the solder 60. Here, the soldering laser beam L for heating the solder ball 61 may have the same wavelength as the above-described cleaning laser beam L '. Specifically, the soldering laser beam L may have a wavelength in the near infrared range. For example, the cleaning laser beam L 'may have a wavelength of approximately 915 nm, but is not limited thereto.
솔더링 레이저 빔(L)은 클리닝 레이저 빔(L')보다 높은 출력을 가질 수 있다. 에를 들어, 클리닝 레이저 빔(L')이 대략 2W의 출력을 가지는 경우에 솔더링 레이저 빔(L)은 대략 5W 정도의 출력을 가질 수 있지만 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The soldering laser beam L may have a higher output than the cleaning laser beam L '. For example, when the cleaning laser beam L 'has an output of about 2W, the soldering laser beam L may have an output of about 5W, but is not necessarily limited thereto.
솔더링 레이저 빔(L)은 클리닝 레이저 빔(L')과 마찬가지로 디포커싱되어 솔더 볼(61)에 조사될 수 있다. 여기서, 솔더링 레이저 빔(L)의 디포커싱 거리(도 7b의 d1)는 클리닝 레이저 빔(L')의 디포커싱 거리(도 7d의 d2)보다 작을 수 있다. 예를 들어, 클리닝 레이저 빔(L')의 디포커싱 거리(d2)가 대략 15mm 인 경우에 솔더링 레이저 빔(ㅣ)의 디포커싱 거리(d1)는 대략 4mm 정도가 될 수 있지만, 이에 한정되지는 않는다. Like the cleaning laser beam L ', the soldering laser beam L may be defocused and irradiated onto the solder ball 61. Here, the defocusing distance (d1 of FIG. 7B) of the soldering laser beam L may be smaller than the defocusing distance (d2 of FIG. 7D) of the cleaning laser beam L ′. For example, when the defocusing distance d2 of the cleaning laser beam L 'is about 15 mm, the defocusing distance d1 of the soldering laser beam ㅣ may be about 4 mm, but is not limited thereto. Do not.
이상과 같이, 소정 파장 및 출력을 가지는 솔더링 레이저 빔(L)이 디포커싱되어 솔더 볼(61)에 조사되면, 솔더 볼(61)은 가열에 의해 용융되면서 도 2e에 도시된 바와 같이, 기판(W)의 수선 영역(65)에 있는 패드(50) 상에 부착되어 솔더(60)를 형성한다. 한편, 도 2e를 참조하면, 기판(W) 상에 워터 클리닝 공정이 더 수행될 수 있다. 워터 클리닝 공정에서는 기판(W)에 세정수를 분사함으로써 기판(W) 상에 남아 있는 플럭스나 이물질 등을 세정수를 이용하여 제거할 수 있다. As described above, when the soldering laser beam L having a predetermined wavelength and output is defocused and irradiated to the solder ball 61, the solder ball 61 is melted by heating, and as shown in FIG. 2E, the substrate ( It is deposited on the pad 50 in the repair region 65 of W) to form the solder 60. Meanwhile, referring to FIG. 2E, a water cleaning process may be further performed on the substrate W. FIG. In the water cleaning process, by spraying the washing water onto the substrate W, the flux or the foreign matter remaining on the substrate W can be removed using the washing water.
본 발명의 예시적인 실시예에 의하면, 솔더링 공정이 수행되지 못한 기판(W)의 수선 영역(65)에 먼저 레이저를 이용하여 클리닝 공정을 수행한 다음, 클리닝된 수선 영역(65)에 솔더링 작업을 하게 된다. 이에 따라, 기판(W)의 수선 영역(65)에 있을 수 있는 이물질 등이 효과적으로 제거될 수 있으며, 그 결과 이물질의 오염에 의해 발생될 수 있는 번(burn) 현상이나 폭발 현상이 방지될 수 있다. 또한, 레이저를 이용하여 클리닝 공정을 수행함으로써 클리닝 공정에 소요되는 시간이나 비용을 줄일 수 있다. 그리고, 후술하는 바와 같이 별도의 클리닝 장비를 마련하지 않고 동일한 레이저 광원으로부터 클리닝 레이저 빔(L') 및 솔더링 레이저 빔(L)을 발생시킬 수 있으므로 레이저 솔더링 시스템을 보다 간단하게 구성할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, a cleaning process is first performed using a laser on the repair region 65 of the substrate W on which the soldering process has not been performed, and then soldering is performed on the cleaned repair region 65. Done. Accordingly, foreign matters that may be present in the repair region 65 of the substrate W may be effectively removed, and as a result, burn or explosion that may be caused by contamination of the foreign matters may be prevented. . In addition, by performing the cleaning process using a laser, it is possible to reduce the time or cost required for the cleaning process. As described below, since the cleaning laser beam L 'and the soldering laser beam L may be generated from the same laser light source without providing separate cleaning equipment, the laser soldering system may be configured more simply.
도 3a는 기판의 수선 영역에 있는 패드 상에 오염 물질이 부착된 상태를 찍은 사진이고, 도 3b는 도 3a에 도시된 바와 같이 수선 영역이 오염된 상태에서 레이저 솔더링 작업을 진행한 모습을 찍은 사진이다. 도 3a 및 도 3b를 참조보면, 기판의 수선 영역이 오염된 상태에서 레이저를 이용한 솔더링 작업을 진행하게 되면 번(burn) 현상이 발생될 수 있음을 알 수 있다. FIG. 3A is a photograph showing a contaminant adhered to a pad in the repair region of the substrate, and FIG. 3B is a photograph showing a laser soldering operation in a state where the repair region is contaminated as shown in FIG. 3A. to be. Referring to FIGS. 3A and 3B, it can be seen that a burn phenomenon may occur when a soldering operation using a laser is performed while the repair region of the substrate is contaminated.
도 4a는 기판의 수선 영역에 오염 물질이 부착된 상태를 찍은 사진이고, 도 4b는 도 4a에 도시된 바와 같이 수선 영역이 오염된 상태에서 레이저 솔더링 작업을 진행한 모습을 찍은 사진이다. 도 4a 및 도 4b를 참조하면, 기판의 수선 영역이 오염된 상태에서 레이저를 이용한 솔더링 작업을 진행하게 되면 솔더링 공정이 불완전하게 완료되었음을 알 수 있다. FIG. 4A is a photograph of a contaminant attached to a repair region of a substrate, and FIG. 4B is a photograph of a laser soldering operation performed in a contaminated region of a repair region as illustrated in FIG. 4A. Referring to FIGS. 4A and 4B, when the soldering operation using the laser is performed while the repair region of the substrate is contaminated, the soldering process may be incompletely completed.
도 5a는 기판의 수선 영역에 오염 물질이 부착된 상태를 찍은 사진이다. 그리고, 도 5b는 도 5a에 도시된 상태에서 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 레이저 클리닝을 수행한 상태를 찍은 사진이다. 도 5b를 참조하면, 레이저 클리닝 공정에 의해 기판의 수선 영역에서 이 물질이 제거되었음을 알 수 있다. 도 5c는 도 5b에 도시된 바와 같이 기판의 수선 영역이 클리닝된 상태에서 레이저 솔더링 작업을 진행한 모습을 찍은 사진이다. 도 5c를 참조하면, 기판의 수선 영역에 솔더링이 완전하게 완료되었음을 알 수 있다. 5A is a photograph showing a state in which contaminants are attached to the repair region of the substrate. 5B is a photograph of a state in which laser cleaning is performed according to an exemplary embodiment of the present invention in the state shown in FIG. 5A. Referring to FIG. 5B, it can be seen that this material has been removed from the repair region of the substrate by a laser cleaning process. FIG. 5C is a photograph of a laser soldering process performed in a state where the repair region of the substrate is cleaned as shown in FIG. 5B. Referring to FIG. 5C, it can be seen that soldering is completely completed in the repair region of the substrate.
도 6은 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 레이저 솔더링 시스템을 도시한 것이다. 6 shows a laser soldering system according to another exemplary embodiment of the present invention.
도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 레이저 솔더링 시스템은 기판(W)의 솔더링 영역에 솔더링 레이저 빔(L1)을 이용하여 솔더링 공정을 수행하며, 기판(W)의 솔더링 영역 중 상기 솔더링 공정이 수행되지 않은 수선 영역(65)에 레이저 솔더링 수선 공정을 수행한다. 여기서, 레이저 솔더링 수선 공정에는 기판의(W) 수선 영역(65)을 클리닝 레이저 빔(L2)을 이용하여 클리닝하는 레이저 클리닝 공정이 포함될 수 있다. 기판(W)은 예를 들면 인쇄 회로 기판 등을 포함할 수 있으며, 이러한 기판(W)은 이동 가능하게 마련되는 스테이지(S)에 적재될 수 있다.Referring to FIG. 6, the laser soldering system according to the present exemplary embodiment performs a soldering process using a soldering laser beam L1 in the soldering region of the substrate W, and the soldering process of the soldering region of the substrate W is performed. A laser soldering repair process is performed on the repair area 65 that is not performed. The laser soldering repair process may include a laser cleaning process of cleaning the repair region 65 of the substrate using the cleaning laser beam L2. The substrate W may include, for example, a printed circuit board, and the substrate W may be mounted on a stage S provided to be movable.
레이저 솔더링 시스템은 솔더 볼 공급 유닛(150) 및 레이저 조사 장치를 포함한다. 솔더 볼 공급 유닛(150)은 솔더링 공정에서 스테이지(S)에 적재된 기판(W)의 솔더링 영역에 위치하는 패드(도 7a의 50) 상에 솔더 볼(도 7a의 61)을 공급한다. 여기서, 솔더 볼(61)은 예를 들면 Sn 성분을 포함할 수 있다. 또한, 레이저 솔더링 시스템은 플럭스 도포 유닛(160)을 더 포함할 수 있다. 플럭스 도포 유닛(160)은 솔더 볼 공급 유닛(150)이 패드(50) 상에 솔더 볼(61)을 공급하기 전에 패드(50) 상에 플럭스(미도시)를 미리 도포할 수 있다. 여기서, 플럭스는 솔더 볼(61)이 솔더링 레이저 빔(L1)에 의해 가열되어 용융된 경우에 산화되는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다.The laser soldering system includes a solder ball supply unit 150 and a laser irradiation apparatus. The solder ball supply unit 150 supplies the solder balls (61 of FIG. 7A) onto a pad (50 of FIG. 7A) positioned in the soldering region of the substrate W loaded on the stage S in the soldering process. Here, the solder ball 61 may include, for example, a Sn component. In addition, the laser soldering system may further include a flux applying unit 160. The flux applying unit 160 may apply a flux (not shown) on the pad 50 before the solder ball supply unit 150 supplies the solder ball 61 on the pad 50. Here, the flux may serve to prevent the solder ball 61 from being oxidized when it is heated and melted by the soldering laser beam L1.
레이저 조사 장치는 솔더링 공정 및 레이저 클리닝 공정에서 각각 솔더링 레이저 빔(L1)과 클리닝 레이저 빔(L2)을 기판(W)의 솔더링 영역 및 수선 영역(도 7a의 65)에 조사하는 장치이다. 이를 위해 레이저 조사 장치는 레이저 광원(110)과, 미러(120)와, 집속 렌즈(140) 및 제어부(115)를 포함할 수 있다. The laser irradiation apparatus is a device which irradiates the soldering laser beam L1 and the cleaning laser beam L2 to the soldering region and the repair region (65 of FIG. 7A) of the substrate W in the soldering process and the laser cleaning process, respectively. To this end, the laser irradiation apparatus may include a laser light source 110, a mirror 120, a focusing lens 140, and a controller 115.
레이저 광원(110)은 솔더링 공정에서는 제1 레이저 빔(L1)을 방출하고, 레이저 클리닝 공정에서는 제2 레이저 빔(L2)을 방출한다. 여기서, 제1 레이저 빔(L1)은 기판(W)의 솔더링 영역에 마련된 솔더 볼(61)을 가열하여 용융시키기 위한 솔더링 레이저 빔이 될 수 있다. 그리고, 제2 레이저 빔(L2)은 기판(W)의 수선 영역(65)을 클리닝하기 위해 사용되는 클리닝 레이저 빔이 될 수 있다.The laser light source 110 emits the first laser beam L1 in the soldering process and emits the second laser beam L2 in the laser cleaning process. Here, the first laser beam L1 may be a soldering laser beam for heating and melting the solder ball 61 provided in the soldering region of the substrate W. FIG. The second laser beam L2 may be a cleaning laser beam used to clean the repair region 65 of the substrate W.
제1 및 제2 레이저 빔(L1,L2)은 동일한 파장을 가질 수 있다. 예를 들면, 제1 및 제2 레이저 빔(L1,L2)은 근적외선 영역의 파장을 가질 수 있다. 구체적인 예로서, 제1 및 제2 레이저 빔(L1.L2)은 대략 915nm의 파장을 가질 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 솔더링 레이저 빔인 제1 레이저 빔(L1)은 클리닝 레이저 빔인 제2 레이저 빔(L2)에 비해 큰 출력을 가질 수 있다. 예를 들면, 제1 및 제2 레이저 빔(L1,L2)은 각각 대략 5W 및 2W의 출력을 가질 수 있다, 하지만 이에 한정되지는 않는다. The first and second laser beams L1 and L2 may have the same wavelength. For example, the first and second laser beams L1 and L2 may have wavelengths in the near infrared region. As a specific example, the first and second laser beams L1.L2 may have a wavelength of approximately 915 nm, but are not limited thereto. In addition, the first laser beam L1, which is a soldering laser beam, may have a larger output than the second laser beam L2, which is a cleaning laser beam. For example, the first and second laser beams L1, L2 may have an output of approximately 5W and 2W, respectively, but is not limited thereto.
레이저 광원(110)으로부터 방출된 제1, 제2 레이저 빔(L1, L2)은 미러(120)에 의해 원하는 위치로 그 진행 경로가 변경될 수 있다. 그리고, 미러(120)에서 반사된 제1, 제2 레이저 빔(L1,L2)은 집속 렌즈(140)를 경유하여 스테이지(S)에 적재된 기판(W)의 솔더링 영역에 조사된다. 여기서, 미러(120)와 집속 렌즈(140) 사이의 광경로 상에는 제1, 제2 레이저 빔(L1,L2)의 크기를 확대시키는 빔 확대기(BET: Beam Expanding Telescope, 130)가 더 마련될 수 있다.The traveling path of the first and second laser beams L1 and L2 emitted from the laser light source 110 may be changed to a desired position by the mirror 120. The first and second laser beams L1 and L2 reflected by the mirror 120 are irradiated to the soldering region of the substrate W mounted on the stage S via the focusing lens 140. Here, a beam expanding telescope (BET) 130 for expanding the sizes of the first and second laser beams L1 and L2 may be further provided on the optical path between the mirror 120 and the focusing lens 140. have.
집속 렌즈(140)를 경유한 제1 및 제2 레이저 빔(L1,L2)은 디포커싱된 상태로 기판(W)의 솔더링 영역에 조사될 수 있다. 여기서, 솔더링 레이저 빔인 제1 레이저 빔(L1)의 디포커싱 거리(도 7b의 d1)는 클리닝 레이저 빔인 제2 레이저 빔(L2)의 디포커싱 거리(도 7d의 d2) 보다 작을 수 있다. 예를 들어, 제1 및 제2 레이저 빔(L1,L2)의 디포커싱 거리들(d1, d2)은 각각 4mm 및 15mm 정도가 될 수 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.The first and second laser beams L1 and L2 via the focusing lens 140 may be irradiated to the soldering region of the substrate W in a defocused state. Here, the defocusing distance (d1 of FIG. 7B) of the first laser beam L1 which is the soldering laser beam may be smaller than the defocusing distance (d2 of FIG. 7D) of the second laser beam L2 which is the cleaning laser beam. For example, the defocusing distances d1 and d2 of the first and second laser beams L1 and L2 may be about 4 mm and 15 mm, respectively, but are not limited thereto.
제어부(115)는 레이저 광원(110) 및 미러(120)를 제어하는 역할읋 한다. 구체적으로, 제어부(115)는 레이저 광원(110)으로부터 방출되는 출력 등을 조절할 수 있으며, 미러(120)의 움직임을 제어하는 역할도 할 수 있다. The controller 115 controls the laser light source 110 and the mirror 120. In detail, the controller 115 may adjust an output emitted from the laser light source 110, and may also control the movement of the mirror 120.
한편, 레이저 솔더링 시스템은 세정수 공급 유닛(170)을 더 포함할 수 있다. 세정수 공급 유닛(170)은 솔더링 공정이 완료된 후에 기판(W) 상에 세정수를 공급함으로써 기판(W)을 세척하는 워터 클리닝 공정을 수행할 수 있다.Meanwhile, the laser soldering system may further include a washing water supply unit 170. The washing water supply unit 170 may perform a water cleaning process of washing the substrate W by supplying the washing water onto the substrate W after the soldering process is completed.
이하에서는 도 6에 도시된 레이저 솔더링 시스템을 이용하여 레이저 솔더링 공정을 수행하는 과정을 상세히 설명한다. 도 7a 내지 도 7h는 본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 레이저 솔더링 공정을 설명하기 위한 도면들이다. 도 7a 내지 도 7h에 도시된 레이저 솔더링 공정은 제1 솔더링 공정, 레이저 클리닝 공정 및 제2 솔더링 공정을 포함할 수 있다. Hereinafter, a process of performing a laser soldering process using the laser soldering system shown in FIG. 6 will be described in detail. 7A to 7H are diagrams for describing a laser soldering process according to another exemplary embodiment of the present invention. The laser soldering process illustrated in FIGS. 7A to 7H may include a first soldering process, a laser cleaning process, and a second soldering process.
먼저, 기판(W)의 솔더링 영역에 제1 솔더링 공정을 수행한다. 여기서, 솔더링 영역은 후술하는 레이저를 이용한 솔더링 공정에 의해 그 위에 솔더 볼(61)이 용융되어 형성된 솔더(60)가 부착될 패드(50를 포함한다. First, a first soldering process is performed on the soldering region of the substrate W. Here, the soldering region includes a pad 50 to which the solder 60 formed by melting the solder ball 61 thereon is attached by a soldering process using a laser to be described later.
구체적으로, 도 7a를 참조하면, 도 6에 도시된 솔더 볼 공급 유닛(150)을 이용하여 기판(W)의 솔더링 영역에 위치하는 패드들(50)에 솔더 볼(61)을 공급한다. 여기서, 솔더 볼(61)은 예를 들면 Sn 성분을 포함할 수 있다. 한편, 이러한 솔더 볼(61)을 공급하기 전에 도 6에 도시된 플럭스 도포 유닛(160)을 이용하여 패드들(50) 상에 플럭스를 도포하는 단계가 더 포함될 수 있다. 이 경우, 기판(W)의 솔더링 영역에 마련되는 패드들(50) 중 일부는 솔더 볼(61)이 공급되지 않을 수 있으며, 이는 후술하는 바와 같이 이후의 공정에서 수선을 필요로 하는 수선 영역(65)이 될 수 있다. Specifically, referring to FIG. 7A, the solder balls 61 are supplied to the pads 50 positioned in the soldering regions of the substrate W by using the solder ball supply unit 150 illustrated in FIG. 6. Here, the solder ball 61 may include, for example, a Sn component. Meanwhile, before supplying the solder balls 61, a step of applying flux on the pads 50 may be further included by using the flux applying unit 160 illustrated in FIG. 6. In this case, some of the pads 50 provided in the soldering region of the substrate W may not be supplied with the solder balls 61, which may be repaired in the subsequent process as described later. 65).
도 7b를 참조하면, 도 6에 도시된 레이저 조사장치를 이용하여 제1 레이저 빔(L1)을 패드(50) 상에 마련된 솔더 볼(61)에 조사하여 가열시킴으로써 솔더(60)를 형성한다. 여기서, 제1 레이저 빔(L1)은 솔더링 레이저 빔으로서 레이저 광원(110)으로부터 방출되어 미러(120), 집속 렌즈(140) 등을 경유한 다음, 솔더 볼(61)에 조사될 수 있다. Referring to FIG. 7B, the solder 60 is formed by irradiating and heating the first solder beam L1 on the solder ball 61 provided on the pad 50 using the laser irradiation apparatus illustrated in FIG. 6. Here, the first laser beam L1 may be emitted from the laser light source 110 as a soldering laser beam, via the mirror 120, the focusing lens 140, and then irradiated onto the solder ball 61.
제1 레이저 빔(L1)은 근적외선 영역의 파장을 가질 수 있다. 예를 들면, 제1 레이저 빔(L1)은 대략 915nm의 파장을 가질 수 있지만, 이에 한정되지는 않는다. 그리고, 이러한 제1 레이저 빔(L1)은 후술하는 클리닝 레이저 빔인 제2 레이저 빔(L2)보다 높은 출력을 가질 수 있다. 예를 들면, 제1 레이저 빔(L1)은 대략 5W의 출력을 가질 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.The first laser beam L1 may have a wavelength in the near infrared region. For example, the first laser beam L1 may have a wavelength of approximately 915 nm, but is not limited thereto. The first laser beam L1 may have a higher output than the second laser beam L2, which is a cleaning laser beam described later. For example, the first laser beam L1 may have an output of approximately 5W, but is not limited thereto.
이러한 솔더링 레이저 빔인 제1 레이저 빔(L1)은 집속 렌즈(140)를 경유한 다음 소정 거리(d1)만큼 디포커싱되어 솔더 볼(61)에 조사될 수 있다. 여기서, 제1 레이저 빔(L1)의 디포커싱 거리(d1)는 예를 들면 대략 4mm 정도가 될 수 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.The first laser beam L1, which is the soldering laser beam, may be defocused by a predetermined distance d1 after the focusing lens 140 and irradiated onto the solder ball 61. Here, the defocusing distance d1 of the first laser beam L1 may be, for example, about 4 mm, but is not limited thereto.
이와 같이, 레이저 조사장치를 이용하여 솔더링 레이저 빔인 제1 레이저 빔(L1)을 솔더 볼(61)에 조사하게 되면 솔더 볼(61)은 용융되어 패드(50) 상에 부착됨으로써 솔더(60)를 형성한다. 이러한 제1 레이저 빔(L1)을 기판(W)에 대해 이동시키면서 패드들(50) 위에 있는 솔더 볼(61)에 조사함으로써 제1 솔더링 공정을 완료한다. As such, when the first laser beam L1, which is a soldering laser beam, is irradiated onto the solder balls 61 using the laser irradiation apparatus, the solder balls 61 are melted and adhered to the pad 50, thereby soldering the solder 60. Form. The first soldering process is completed by irradiating the solder balls 61 on the pads 50 while moving the first laser beam L1 with respect to the substrate W. FIG.
도 7c에는 기판(W)의 솔더링 영역에 제1 솔더링 공정이 완료된 상태가 도시되어있다. 도 7c를 참조하면, 기판(W)의 솔더링 영역 중 일부는 제1 솔더링 공정이 수행되지 않아 솔더링 수선 공정이 필요한 수선 영역(65)이 될 수 있다.FIG. 7C illustrates a state in which the first soldering process is completed in the soldering region of the substrate W. As shown in FIG. Referring to FIG. 7C, some of the soldering regions of the substrate W may be the repair regions 65 requiring the soldering repair process because the first soldering process is not performed.
제1 솔더링 공정이 수행된 다음에는 레이저 클리닝 공정이 수행될 수 있다. After the first soldering process is performed, a laser cleaning process may be performed.
구체적으로, 도 7d를 참조하면, 도 6에 도시된 레이저 조사장치를 이용하여 제2 레이저 빔(L2)을 수선 영역(65)에 있는 패드(50)에 조사함으로써 수선 영역(65)을 클리닝한다. 여기서, 제2 레이저 빔(L2)은 클리닝 레이저 빔으로서 레이저 광원(110)으로부터 방출되어 미러(120), 집속 렌즈(140) 등을 경유한 다음, 수선 영역(65)에 조사될 수 있다.Specifically, referring to FIG. 7D, the repair area 65 is cleaned by irradiating the pad 50 in the repair area 65 with the second laser beam L2 using the laser irradiation device shown in FIG. 6. . Here, the second laser beam L2 may be emitted from the laser light source 110 as a cleaning laser beam, and may be irradiated to the repair area 65 after passing through the mirror 120, the focusing lens 140, or the like.
클리닝 레이저 빔인 제2 레이저 빔(L2)은 제1 레이저 빔(L1)과 동일한 파장을 가질 수 있다. 제2 레이저 빔(L2)은 근적외선 영역의 파장을 가질 수 있다. 예를 들면, 제2 레이저 빔(L2)은 대략 915nm의 파장을 가질 수 있지만, 이에 한정되지는 않는다. 제2 레이저 빔(L2)은 솔더링 레이저 빔인 제1 레이저 빔(L1) 보다 낮은 출력을 가질 수 있다. 예를 들면, 제1 레이저 빔(L1)의 출력이 5W 인 경우 제2 레이저 빔(L2)의 출력은 대략 2W 정도가 될 수 있지만 이에 한정되는 것은 아니다.The second laser beam L2, which is a cleaning laser beam, may have the same wavelength as the first laser beam L1. The second laser beam L2 may have a wavelength in the near infrared region. For example, the second laser beam L2 may have a wavelength of approximately 915 nm, but is not limited thereto. The second laser beam L2 may have a lower output than the first laser beam L1, which is a soldering laser beam. For example, when the output of the first laser beam L1 is 5W, the output of the second laser beam L2 may be about 2W, but is not limited thereto.
클리닝 레이저 빔인 제2 레이저 빔(L2)은 집속 렌즈(140)를 경유한 다음 소정 거리(d2)만큼 디포커싱되어 수선 영역(65)에 조사될 수 있다. 여기서, 제2 레이저 빔(L2)의 디포커싱 거리(d2)는 전술한 제1 레이저 빔(L1)의 디포커싱 거리(d1) 보다 클 수 있다. 예를 들면, 제1 레이저 빔(L1)의 디포커싱 거리(d1)가 대략 4mm 정도인 경우에 제2 레이저 빔(L2)의 디포커싱 거리(d2)는 대략 15mm 정도가 될 수 있다. 하지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 제1 및 제2 레이저 빔(L1,L2)의 디포커싱 거리들(d1,d2)은 다양하게 변형될 수 있다.The second laser beam L2, which is a cleaning laser beam, may be defocused for a predetermined distance d2 via the focusing lens 140, and then irradiated to the repair area 65. Here, the defocusing distance d2 of the second laser beam L2 may be greater than the defocusing distance d1 of the first laser beam L1 described above. For example, when the defocusing distance d1 of the first laser beam L1 is about 4 mm, the defocusing distance d2 of the second laser beam L2 may be about 15 mm. However, the present invention is not limited thereto, and the defocusing distances d1 and d2 of the first and second laser beams L1 and L2 may be variously modified.
이와 같이, 레이저 조사장치를 이용하여 클리닝 레이저 빔인 제2 레이저 빔(L2)을 기판(W)의 수선 영역(65)에 있는 패드(50)에 조사하게 되면 패드(50)에 부착되어 있는 이물질 등이 제거될 수 있다. 이러한 제2 레이저 빔(L)을 기판(W)에 대해 이동시키면서 수선 영역(65)에 있는 패드들(50)에 조사함으로써 레이저 클리닝 공정을 완료한다. As described above, when the second laser beam L2, which is a cleaning laser beam, is irradiated to the pad 50 in the repair region 65 of the substrate W by using the laser irradiation device, the foreign matter attached to the pad 50, and the like. This can be removed. The laser cleaning process is completed by irradiating the pads 50 in the repair region 65 while moving the second laser beam L with respect to the substrate W. FIG.
전술한 레이저 클리닝 공정을 완료한 다음에는 기판(W)의 클리닝된 수선 영역(65)에 제2 솔더링 공정을 수행한다. After the above-described laser cleaning process is completed, a second soldering process is performed on the cleaned repair region 65 of the substrate W. FIG.
구체적으로, 도 7e를 참조하면, 도 6에 도시된 솔더 볼 공급 유닛(150)을 이용하여 기판(W)의 수선 영역(65)에 위치하는 패드들(50)에 솔더 볼(61)을 공급한다. 한편, 이러한 솔더 볼(61)을 공급하기 전에 도 6에 도시된 플럭스 도포 유닛(160)을 이용하여 패드들(50) 상에 플럭스(미도시)를 도포하는 단계가 더 포함될 수 있다. Specifically, referring to FIG. 7E, the solder balls 61 are supplied to the pads 50 positioned in the repair region 65 of the substrate W using the solder ball supply unit 150 illustrated in FIG. 6. do. Meanwhile, before supplying the solder balls 61, the method may further include applying flux (not shown) on the pads 50 using the flux applying unit 160 illustrated in FIG. 6.
도 7f를 참조하면, 도 6에 도시된 레이저 조사장치를 이용하여 제1 레이저 빔(L1)을 수선 영역(65)의 패드(50) 상에 마련된 솔더 볼(61)에 조사하여 가열시킴으로써 솔더(60)를 형성한다. 여기서, 제1 레이저 빔(L1)은 솔더링 레이저 빔이 될 수 있다, 이러한 제1 레이저 빔(L1)은 전술한 바와 같이 제2 레이저 빔(L2)과 동일한 파장을 가질 수 있으며, 예를 들면, 근적외선 영역의 파장을 가질 수 있다. 그리고, 제1 레이저 빔(L1)은 클리닝 레이저 빔인 제2 레이저 빔(L2)보다 높은 출력을 가질 수 있다. Referring to FIG. 7F, the first laser beam L1 is irradiated to the solder ball 61 provided on the pad 50 of the repair region 65 and heated by using the laser irradiation apparatus illustrated in FIG. 6. 60). Here, the first laser beam L1 may be a soldering laser beam. The first laser beam L1 may have the same wavelength as the second laser beam L2 as described above. It may have a wavelength in the near infrared region. The first laser beam L1 may have a higher output than the second laser beam L2, which is a cleaning laser beam.
또한, 솔더링 레이저 빔인 제1 레이저 빔(L1)은 집속 렌즈(140)를 경유한 다음 소정 거리(d1)만큼 디포커싱되어 수선 영역(65)의 패드(50) 위에 있는 솔더 볼(61)에 조사될 수 있다. 여기서, 제1 레이저 빔(L1)의 디포커싱 거리(d1)는 전술한 바와 같이 제2 레이저 빔(L2)의 디포커싱 거리(d2)보다 작을 수 있다. In addition, the first laser beam L1, which is a soldering laser beam, is defocused by a predetermined distance d1 after passing through the focusing lens 140 to irradiate the solder ball 61 on the pad 50 of the repair region 65. Can be. Here, the defocusing distance d1 of the first laser beam L1 may be smaller than the defocusing distance d2 of the second laser beam L2 as described above.
이와 같이, 레이저 조사장치를 이용하여 솔더링 레이저 빔인 제1 레이저 빔(L1)을 수선 영역(65)의 패드(50) 위에 있는 솔더 볼(61)에 조사하게 되면 솔더 볼(61)은 용융되어 패드(50) 상에 부착됨으로써 솔더(60)를 형성하게 된다. 그리고, 제1 레이저 빔(L1)을 기판(W)에 대해 이동시키면서 수선 영역(65)의 패드들(50) 위에 있는 솔더 볼(61)에 조사함으로써 제2 솔더링 공정을 완료한다. 이러한 제2 솔더링 공정을 통해 기판(W)의 솔더링 영역에 있는 모든 패드들(50)에 솔더(60)를 마련할 수 있다.As such, when the first laser beam L1, which is a soldering laser beam, is irradiated to the solder balls 61 on the pads 50 of the repair region 65 using the laser irradiation apparatus, the solder balls 61 are melted to form a pad. By attaching on the 50, the solder 60 is formed. The second soldering process is completed by irradiating the solder balls 61 on the pads 50 of the repair region 65 while moving the first laser beam L1 with respect to the substrate W. FIG. Through the second soldering process, the solder 60 may be provided on all the pads 50 in the soldering region of the substrate W. FIG.
전술한 제2 솔더링 공정이 완료된 다음에는 기판(W) 상에는 플럭스 등과 같은 이물질이 남아 있을 수 있으므로, 이러한 이물질을 제거하기 위해 기판(W)을 세정수로 세척하는 워터 클리닝 공정이 더 수행될 수 있다. After the above-described second soldering process is completed, foreign matter such as flux may remain on the substrate W, and thus, a water cleaning process of washing the substrate W with washing water may be further performed to remove such foreign matter. .
구체적으로, 도 7g를 참조하면 도 6에 도시된 세정수 공급 유닛(170)을 통해 솔더링 공정이 완료된 기판(W)에 세정수를 분사하게 되면, 기판(W)에 남아 있는 플럭스 등과 같은 이물질에 제거될 수 있으며, 이러한 워터 클리닝 공정이 완료된 모습이 도 7h에 도시되어 있다. Specifically, referring to FIG. 7G, when the washing water is sprayed onto the substrate W on which the soldering process is completed through the washing water supply unit 170 illustrated in FIG. 6, foreign substances such as flux remaining on the substrate W may be applied. It can be removed, and this water cleaning process is completed is shown in Figure 7h.
이상에서 설명된 본 발명의 실시예들에 따르면, 솔더링 공정이 수행되지 못한기판의 수선 영역에 먼저 레이저를 이용하여 클리닝 공정을 수행한 다음, 클리닝된 수선 영역에 솔더링 작업을 하게 된다. 이에 따라, 기판의 수선 영역에 있을 수 있는 이물질 등이 효과적으로 제거될 수 있으며, 그 결과 이물질의 오염에 의해 발생될 수 있는 번(burn) 현상이나 폭발 현상이 방지될 수 있다. 또한, 레이저를 이용하여 클리닝 공정을 수행함으로써 클리닝 공정에 소요되는 시간이나 비용을 줄일 수 있다. 그리고, 후술하는 바와 같이 별도의 클리닝 장비를 마련하지 않고 동일한 레이저 광원으로부터 클리닝 레이저 빔 및 솔더링 레이저 빔을 발생시킬 수 있으므로 레이저 솔더링 시스템을 보다 간단하게 구성할 수 있다. According to the embodiments of the present invention described above, the cleaning process is first performed using a laser on the repair region of the substrate on which the soldering process is not performed, and then the soldering operation is performed on the cleaned repair region. Accordingly, foreign matters that may be present in the repair region of the substrate may be effectively removed, and as a result, burn or explosion that may be caused by contamination of the foreign matters may be prevented. In addition, by performing the cleaning process using a laser, it is possible to reduce the time or cost required for the cleaning process. As described below, since the cleaning laser beam and the soldering laser beam can be generated from the same laser light source without providing separate cleaning equipment, the laser soldering system can be configured more simply.
이상에서 본 발명의 실시예가 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. Although embodiments of the present invention have been described above, these are merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom.

Claims (20)

  1. 기판 상의 솔더링 영역 중 솔더링 공정이 수행되지 않은 수선 영역에 레이저를 이용하여 수선 공정을 수행하는 레이저 솔더링 수선 공정에 있어서,In the laser soldering repair process of performing a repair process by using a laser in the repair region of the soldering region on the substrate is not performed,
    상기 기판의 수선 영역에 클리닝 레이저 빔을 조사하여 레이저 클리닝 공정을 수행하는 단계;Irradiating a cleaning laser beam to the repair region of the substrate to perform a laser cleaning process;
    상기 기판의 클리닝된 수선 영역에 솔더 볼(solder ball)을 마련하는 단계; 및Providing a solder ball in the cleaned repair region of the substrate; And
    상기 솔더 볼에 솔더링 레이저 빔을 조사함으로써 상기 솔더 볼을 가열하여 상기 수선 영역에 부착시키는 단계;를 포함하는 레이저 솔더링 수선 공정. And soldering the solder ball to the repair area by irradiating a soldering laser beam on the solder ball.
  2. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 기판의 수선 영역에 레이저 클리닝 공정을 수행한 다음, 플럭스(flux)를 도포하는 단계를 더 포함하는 레이저 솔더링 수선 공정.And performing a laser cleaning process on the repair region of the substrate, and then applying flux.
  3. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 솔더링 레이저 빔을 이용하여 상기 솔더 볼을 상기 수선 영역에 부착시킨 다음 상기 기판에 워터 클리닝 공정을 수행하는 단계를 더 포함하는 레이저 솔더링 수선 공정.Attaching the solder ball to the repair region using the soldering laser beam, and then performing a water cleaning process on the substrate.
  4. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 동일한 파장을 가지는 레이저 솔더링 수선 공정.And the cleaning laser beam and the soldering laser beam have the same wavelength.
  5. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein
    상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 근적외선 범위의 파장을 가지는 레이저 솔더링 수선 공정.And the cleaning laser beam and the soldering laser beam have a wavelength in the near infrared range.
  6. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein
    상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 915nm의 파장을 가지는 레이저 솔더링 수선 공정.And the cleaning laser beam and the soldering laser beam have a wavelength of 915 nm.
  7. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 클리닝 레이저 빔은 상기 솔더링 레이저 빔 보다 작은 출력을 가지는 레이저 솔더링 수선 공정.And said cleaning laser beam has a smaller output than said soldering laser beam.
  8. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein
    상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 각각 2W 및 5W의 출력을 가지는 레이저 솔더링 수선 공정.And the cleaning laser beam and the soldering laser beam have outputs of 2W and 5W, respectively.
  9. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1,
    상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 디포커싱되어 상기 수선 영역에 조사되는 레이저 솔더링 수선 공정.And the cleaning laser beam and the soldering laser beam are defocused and irradiated to the repair region.
  10. 기판 상의 솔더링 영역에 제1 솔더링 공정을 수행하는 단계: Performing a first soldering process on the soldering region on the substrate:
    기판 상의 솔더링 영역 중 솔더링 공정이 수행되지 않은 수선 영역에 레이저 클리닝 공정을 수행하는 단계; 및Performing a laser cleaning process on a repair region in which the soldering process is not performed among the soldering regions on the substrate; And
    상기 기판의 클리닝된 수선 영역에 제2 솔더링 공정을 수행하는 단계;를 포함하는 레이저 솔더링 공정.And performing a second soldering process on the cleaned repair region of the substrate.
  11. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10,
    상기 제1 솔더링 공정은, 상기 기판 상의 솔더링 영역에 솔더 볼을 마련하는 단계; 및 상기 솔더 볼에 솔더링 레이저 빔을 조사하여 가열함으로써 상기 솔더 볼을 상기 솔더링 영역에 부착시키는 단계;를 포함하는 레이저 솔더링 공정.The first soldering process may include providing solder balls in a soldering region on the substrate; And attaching the solder ball to the soldering area by irradiating and heating a soldering laser beam on the solder ball.
  12. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11,
    상기 레이저 클리닝 공정은, 상기 기판의 수선 영역에 클리닝 레이저 빔을 조사함으로써 수행되는 레이저 솔더링 공정.The laser cleaning process is performed by irradiating a cleaning laser beam to the repair region of the substrate.
  13. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12,
    상기 제2 솔더링 공정은, 상기 기판 상의 클리닝된 수선 영역에 솔더 볼을 마련하는 단계; 및 상기 솔더 볼에 솔더링 레이저 빔을 조사하여 가열함으로써 상기 솔더 볼을 상기 수선 영역에 부착시키는 단계;를 포함하는 레이저 솔더링 공정.The second soldering process may include providing solder balls in the cleaned repair region on the substrate; And attaching the solder ball to the repair area by irradiating and heating a soldering laser beam on the solder ball.
  14. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13,
    상기 제2 솔더링 공정 후 상기 기판에 워터 클리닝 공정을 수행하는 단계를 더 포함하는 레이저 솔더링 공정.And performing a water cleaning process on the substrate after the second soldering process.
  15. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13,
    상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 동일한 파장을 가지는 레이저 솔더링 공정.And the cleaning laser beam and the soldering laser beam have the same wavelength.
  16. 제 13 항에 있어서, The method of claim 13,
    상기 클리닝 레이저 빔은 상기 솔더링 레이저 빔 보다 작은 출력을 가지는 레이저 솔더링 공정.And the cleaning laser beam has a smaller output than the soldering laser beam.
  17. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13,
    상기 클리닝 레이저 빔 및 상기 솔더링 레이저 빔은 디포커싱되어 조사되는 레이저 솔더링 공정.And the cleaning laser beam and the soldering laser beam are defocused and irradiated.
  18. 기판의 솔더링 영역에 솔더링 레이저 빔을 이용하여 솔더링 공정을 수행하며, 상기 기판의 솔더링 영역 중 상기 솔더링 공정이 수행되지 않은 수선 영역에 레이저 솔더링 수선 공정을 수행하는 레이저 솔더링 시스템에 있어서, In the laser soldering system performing a soldering process using a soldering laser beam in the soldering region of the substrate, and performing a laser soldering repair process in the repair region of the soldering region of the substrate is not performed.
    상기 기판의 솔더링 영역에 솔더 볼을 제공하는 솔더 볼 공급 유닛; 및A solder ball supply unit providing solder balls to solder areas of the substrate; And
    상기 솔더링 레이저 빔을 상기 솔더 볼에 조사하고, 상기 클리닝 레이저 빔을 상기 기판의 수선 영역에 조사하는 레이저 조사 장치;을 포함하는 레이저 솔더링 시스템.And a laser irradiation device for irradiating the soldering laser beam to the solder ball and irradiating the cleaning laser beam to the repair region of the substrate.
  19. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18,
    상기 기판의 솔더링 영역에 플럭스를 도포하는 플럭스 도포 유닛을 더 포함하는 레이저 솔더링 시스템.And a flux applying unit to apply flux to the soldering region of the substrate.
  20. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18,
    상기 기판에 세정수를 공급하여 워터 클리닝 공정을 수행하는 세정수 공급 유닛을 더 포함하는 레이저 솔더링 시스템. And a cleaning water supply unit supplying the cleaning water to the substrate to perform a water cleaning process.
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