WO2017110580A1 - 機能性細線パターン及び機能性細線パターンの製造方法 - Google Patents

機能性細線パターン及び機能性細線パターンの製造方法 Download PDF

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WO2017110580A1
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functional
geometric
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fine line
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直人 新妻
大屋　秀信
正好 山内
小俣　猛憲
圭一郎 鈴木
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Konica Minolta Inc
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    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/10—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material
    • B32B3/12—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material characterised by a layer of regularly- arranged cells, e.g. a honeycomb structure
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24—Reinforcing of the conductive pattern

Definitions

  • the present invention relates to a functional thin line pattern and a method for manufacturing a functional thin line pattern, and more particularly to a functional thin line pattern and a method for manufacturing a functional thin line pattern that can improve low visibility of the pattern.
  • Patent Documents 1 to 3 when a droplet containing a conductive material applied on a substrate is dried, a conductive material is selectively applied to the peripheral portion of the droplet by utilizing a coffee stain phenomenon. Techniques for depositing are disclosed.
  • Patent Document 1 by applying droplets in the form of dots, ring-shaped conductive thin wires are formed on the periphery of the droplets.
  • Patent Documents 2 and 3 by applying droplets in a linear form, linear conductive thin wires are formed on the peripheral edge of the droplets.
  • the conventional technology has found room for further improvement from the viewpoint of improving the low visibility (the property of being difficult to be visually recognized) of the pattern constituted by the conductive thin wires.
  • an object of the present invention is to provide a functional fine line pattern and a method for producing the functional fine line pattern that can improve the low visibility of the pattern.
  • the shape of the geometric figure thin line adjacent to the gap part is different from the shape of the geometric figure thin line not adjacent to the gap part, thereby forming the gap part.
  • the pattern portion is formed by arranging the geometric figure thin lines each having a quadrangle whose sides are inclined with respect to the longitudinal direction of the base material in parallel in the longitudinal direction and the width direction of the base material. Functional thin line pattern in any one of. 6). 6.
  • the gap part is made different from the shape of the geometric figure thin line adjacent to the gap part from the shape of the geometric figure thin line not adjacent to the gap part.
  • the pattern portion is formed by arranging the geometric figure fine lines, each of which is a quadrangle whose sides are inclined with respect to the longitudinal direction of the base material, in parallel in the longitudinal direction and the width direction of the base material.
  • the method for producing a functional fine line pattern according to any one of 10. 12 On the substrate, a closed geometric figure is formed by the first linear liquid containing the functional material, and the first linear liquid is dried to deposit the functional material along the edge.
  • a first functional fine line pattern precursor comprising an inner fine line and an outer fine line containing the functional material
  • a closed geometric figure is formed on the substrate by the second line-shaped liquid containing the functional material, the second line-shaped liquid is dried, and the functional material is moved along the edge.
  • a second functional fine line pattern precursor composed of an inner fine line and an outer fine line containing the functional material
  • the outer fine line of the first functional fine line pattern precursor and the second functional fine line pattern precursor The first functional thin wire is connected so that the outer thin wire is connected and the inner thin wire of the first functional thin wire pattern precursor is not connected to the inner thin wire of the second functional thin wire pattern precursor.
  • Manufacturing method. 13 A conductive material is used as the functional material, and energization is performed through an energization path composed of the outer fine lines of the first functional fine line pattern precursors connected to each other and the outer fine lines of the second functional fine line pattern precursors. By applying electrolytic plating to the outer fine wire, 13.
  • the method of producing a functional fine line pattern according to 12, wherein the geometric figure fine line is formed by removing the inner fine line of the functional fine line pattern precursor, and leaving the outer fine line remaining without being removed. 14 The method for producing a functional fine line pattern according to any one of 7 to 13, wherein the functional fine line pattern is formed on both surfaces of the substrate.
  • the functional thin line pattern of the present invention comprises a plurality of pattern portions formed by combining a plurality of closed geometric figure thin lines including a functional material on a substrate, and a gap portion provided between the adjacent pattern portions. It is comprised by.
  • the pattern portion can be formed by arranging a plurality of the geometric figure thin lines in two dimensions. At this time, the geometric figure fine lines can be formed so that adjacent geometric figure fine lines are connected to each other at a plurality of intersections.
  • the present invention is characterized in that the gap portion is provided so as to hold the arrangement pitch of the geometric figure fine lines over the plurality of pattern portions.
  • FIGS. 1 to 3 by taking as an example a case where a functional thin line pattern is used for a touch panel sensor.
  • 1 to 3 are diagrams conceptually illustrating a first aspect of the functional thin line pattern of the present invention.
  • FIGS. 1 to 3 all show a state in which the base material 1 is viewed from the same side (surface side).
  • 1A is a perspective view of only the functional thin line pattern 2 provided on the surface of the base material 1
  • FIG. 1B is a perspective view of only the functional thin line pattern 2 provided on the back surface of the base material 1.
  • FIG. 3 shows a state in which the functional thin line patterns 2 and 2 provided on the front surface and the back surface of the substrate 1 overlap each other.
  • FIG. 2 is a main part enlarged view showing a state in which a region A surrounded by a broken line in FIG.
  • the functional fine line pattern 2 is composed of a plurality of pattern portions 3 provided on the substrate 1 and a gap portion 4 provided between adjacent pattern portions 3. Yes.
  • Each pattern portion 3 is predetermined two-dimensionally on the base material 1 so that the closed geometric figure fine lines 31 including the functional material are connected to each other so that the adjacent geometric figure fine lines 31 are connected to each other.
  • a plurality are arranged in parallel at a pitch.
  • the adjacent geometric figure fine lines 31 are preferably connected to each other at a plurality of intersections. Further, it is preferable that the geometric figure fine lines 31 adjacent in the X direction are connected to each other and the geometric figure fine lines 31 adjacent in the Y direction are also connected to each other.
  • the closed geometric figure thin line 31 is a geometric figure whose start point and end point coincide with each other and formed by a thin line containing a functional material.
  • a rectangular thin line that is a quadrangle in which each side is inclined with respect to the longitudinal direction of the substrate 1 (X direction in the illustrated example)
  • a plurality of patterns are arranged in each of the direction and the width direction (Y direction in the illustrated example) to form the pattern portion 3.
  • the adjacent geometric figure fine lines 31 are connected at two intersections by intersecting both sides sandwiching the apex of the quadrangle.
  • the adjacent geometric figure thin lines 31 are connected to each other at a plurality of intersections (two points in the illustrated example), and thus the function provided by the functional material is connected to each other.
  • the whole 31 can be suitably demonstrated.
  • a conductive material is used as the functional material, the electrical connection between the geometric figure thin wires 31 is ensured, and the resistance of the pattern portion 3 can be reduced.
  • Each pattern portion 3 is configured by arranging a plurality of geometric figure thin lines 31 in each of the X direction and the Y direction, and is provided in a strip shape extending in the X direction as a whole.
  • Each pattern portion 3 is separated from each other in the Y direction by a band-shaped gap portion 4 extending in the X direction, and is provided in an independent island shape.
  • the gap portion 4 can constitute an insulating portion that insulates between the pattern portions 3.
  • the functional thin line pattern 2 is characterized in that the gap portion 4 is provided so as to hold the arrangement pitch of the geometric figure thin wire 31 over the plurality of pattern portions 3.
  • “Holding the arrangement pitch of the geometric figure fine lines 31 over the plurality of pattern portions 3” means the direction over the plurality of pattern portions 3 (that is, the direction in which the plurality of pattern portions 3 are arranged in parallel).
  • the arrangement pitch of the geometric figure fine lines 31 constituting one pattern portion 3 is the same as the arrangement pitch of the geometric figure fine lines 31 constituting the other pattern portion 3, It means that the phase of these arrangement pitches is also the same.
  • the arrangement pitch and phase of all the geometric figure thin lines 31 constituting the plurality of pattern portions 3 do not have to be the same, and the arrangement pitch and phase may be different in some areas. From the viewpoint of remarkably exhibiting the effect of the present invention, the arrangement pitch and phase of more than half of the geometric figure fine lines 31 constituting each pattern part 3 are the same among the plurality of pattern parts 3. It is preferable that
  • the shape of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap part 4 is changed to a geometric figure not adjacent to the gap part 4.
  • the shape of the thin wire 31 is different. That is, in FIG. 2, the shape of the geometric figure fine line 31 not adjacent to the gap 4 is virtually overlapped with a broken line with respect to the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap 4.
  • the arrangement pitch and phase of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap part 4 are the same as the geometric figure fine line 31 arranged inside the pattern part 3 (that is, the geometric figure fine line 31 not adjacent to the gap part 4).
  • the arrangement pitch and phase of the geometric figure fine lines 31 arranged inside the pattern portion 3 are the same among the plurality of pattern portions 3, the effect of the present invention is remarkably different. It can be demonstrated.
  • the shape of the geometric figure thin line 31 ′ adjacent to the gap part 4 is changed to the shape of the geometric figure thin line 31 not adjacent to the gap part 4. It is preferable to make it different from the shape.
  • the geometric figure thin line 31 is arranged.
  • the gap portion 4 is formed so as to hold the arrangement pitch over the plurality of pattern portions 3.
  • the geometric figure fine lines 31 ′ adjacent to the gap 4 are not reduced in width, for example, one line or a plurality of rows of geometric figure fine lines 31 along the X direction are not provided (also referred to as omitted).
  • the part 4 can be formed.
  • the width of the gap 4 can only be set to a jump value corresponding to the width of the omitted geometric figure thin line 31.
  • the gap 4 when the gap 4 is formed by reducing the width in the Y direction of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap 4, the Y of the geometric figure thin line 31 ′ is formed.
  • the width of the gap 4 By setting the width in the direction, there is an effect that the width of the gap 4 can be set finely and freely.
  • variety narrower than the arrangement pitch of the Y direction of the geometric figure fine wire 31 can be formed suitably is also acquired.
  • the width of the gap 4 is a width at a portion where the width in the direction (Y direction in the example shown) orthogonal to the direction in which the gap 4 is formed as a whole (X direction in the example shown) is minimized. is there.
  • the functional thin line pattern 2 provided on the back surface of the base material 1 is basically provided on the surface of the base material 1 except that the relationship between the X direction and the Y direction is reversed. It has the same configuration as the functional thin line pattern 2 provided, and the explanation about the surface can be used.
  • the functional thin line pattern 2 provided on the back surface of the substrate 1 is also provided with a gap 4 so as to hold the pitch at which the geometric figure fine lines 31 are arranged over the plurality of pattern parts 3.
  • the arrangement pitch of the geometric figure fine lines 31 constituting one pattern part 3 is the geometric figure fine line constituting the other pattern part 3.
  • the arrangement pitch is the same as 31 and the phase of these arrangement pitches is also the same.
  • the virtual scale S X is extended in the direction of the plurality of pattern portions 3 (X direction in the illustrated example) at the arrangement pitch of the geometric figure fine lines 31 constituting one pattern portion 3.
  • the arrangement pitch of the geometric figure fine lines 31 constituting the other pattern portion 3 coincides with the scale S X.
  • the width in the X direction of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap part 4 is smaller than the width in the X direction of the geometric figure fine line 31 not adjacent to the gap part 4, thereby corresponding to the gap part 4.
  • a gap is formed.
  • the functional fine line pattern 2 provided on the front surface of the substrate 1 and the functional fine line pattern 2 provided on the back surface have the same arrangement pitch in the X direction of the geometric figure thin lines 31 and the The arrangement pitch in the Y direction of the academic figure thin line 31 is also the same.
  • 19 and 20 are diagrams conceptually illustrating the functional thin line pattern of the reference example.
  • FIGS. 19 and 20 both show a plan view of the base material 101 from the same side (surface side).
  • 19A shows only the functional thin line pattern 102 provided on the surface of the substrate 101
  • FIG. 19B shows only the functional thin line pattern 102 provided on the back surface of the substrate 101.
  • FIG. 20 shows a state in which the functional thin line patterns 102 and 102 provided on the front surface and the back surface of the base material 101 overlap each other.
  • the arrangement pitch of the geometric figure thin lines 131 is not held across the plurality of pattern portions 103 by providing the gap 104. . That is, when viewed only within one pattern portion 103, the arrangement pitch of the geometric figure fine lines 131 is the same, but the geometric figure fine lines constituting the other pattern part 103 are interposed by the gap 104. The phase is different from the arrangement pitch of 131, and the arrangement pitch is not held across the plurality of pattern portions 103.
  • the geometry constituting one pattern portion 103 in the direction across the plurality of pattern portions 103 (Y direction in the illustrated example).
  • the arrangement pitch of the geometrical figure fine wire 131 constituting the other of the pattern portion 103 does not match the scale S Y.
  • the geometry constituting one pattern portion 103 in the direction across the plurality of pattern portions 103 (X direction in the illustrated example).
  • the arrangement pitch of the geometric figure thin lines 131 constituting the other pattern portion 103 does not match the scale S X.
  • the interval between the fine lines of the functional thin line patterns 102 and 102 provided on the front surface and the back surface of the substrate 101 is large for each part. It is different, it is easy to visually recognize each part, and it can be seen that low visibility of the pattern is difficult to obtain.
  • the distance between the fine wires of the functional fine wire patterns 2 and 2 provided on the front surface and the back surface of the substrate 1 is uniform regardless of the portion. It is difficult to visually recognize each part, and it can be seen that the low visibility of the pattern is improved.
  • the arrangement pitch in the X direction of the geometric figure fine lines 31 is shifted by a half pitch between the functional fine line patterns 2 and 2 provided on the front and back surfaces of the base material 1. It is not limited to.
  • the arrangement pitch in the Y direction of the geometric figure fine lines 31 may be shifted by a half pitch between the functional thin line patterns 2 and 2 provided on the front surface and the back surface of the base material 1, and the arrangement in the X direction and the Y direction
  • the pitch may be shifted by a half pitch.
  • it is not limited to a half pitch and can be shifted by any predetermined amount. Moreover, you may superimpose without shifting arrangement pitch.
  • the pattern part 3 can be suitably used as a transparent conductive film by using a conductive material as a functional material. That the transparent conductive film is “transparent” means that light can be transmitted through the pattern portion 3 through a portion where the geometric figure fine line 31 is not provided. Therefore, the conductive material itself does not need to be transparent, and even a non-transparent conductive material can be suitably used.
  • the transparent conductive film composed of the pattern portion 3 can be suitably used as, for example, a position detection electrode in a touch panel sensor.
  • the pattern portion 3 formed on the surface of the base material 1 can be used as a Y electrode for detecting the position in the Y direction, and the pattern portion formed on the back surface of the base material 1. 3 can be used as an X electrode for detecting a position in the X direction.
  • These pattern portions 3 can be connected to a control circuit (not shown) by lead wires 5 provided on each surface of the substrate 1.
  • the shape of the geometric figure fine line 31 ′ is set in a predetermined direction, specifically, a plurality of pattern parts 3. Compressed in the side-by-side direction.
  • the entire one of the geometric figure thin lines 31' may be evenly compressed, or the one geometric figure thin line 31 'may be partially uncompressed. You may compress equally.
  • the geometric figure is a polygon, it is preferable to selectively compress the sides arranged on the gap 4 side. For example, when one vertex of a geometric figure is arranged toward the gap 4, it is preferable to compress two sides sandwiching the vertex.
  • the shape of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap part 4 may be completely different from the shape of the geometric figure fine line 31 not adjacent to the gap part 4. 4 and 5, the shape of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap part 4 is completely different in shape from the shape of the geometric figure thin line 31 not adjacent to the gap part 4. An example of the case will be described.
  • 4 and 5 are diagrams conceptually illustrating another example of the first mode of the functional thin line pattern of the present invention. 4 and 5, the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 3 have the same configuration, and the description with reference to FIGS. 1 and 3 can be used.
  • FIGS. 4 and 5 both show a plan view of the base material 1 from the same side (surface side).
  • 4A shows only the functional thin line pattern 2 provided on the surface of the base material 1
  • FIG. 4B shows only the functional thin line pattern 2 provided on the back surface of the base material 1 through the base material 1.
  • FIG. 5 shows a state in which the functional thin line patterns 2 and 2 provided on the front surface and the back surface of the base material 1 overlap each other.
  • the shape of the geometric figure fine line 31 not adjacent to the gap 4 is a quadrangular shape as in the examples of FIGS.
  • the shape of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap 4 is a pentagon.
  • the pentagonal shape given to the geometric figure fine wire 31 ′ is cut off the vertices oriented to the gap 4 side among the four vertices constituting the quadrangle shape given to the geometric figure thin line 31. It corresponds to the shape.
  • the shape of the geometric figure thin line 31 ′ is a completely different shape having a smaller width than the shape of the geometric figure fine line 31 not adjacent to the gap 4.
  • the geometric figure fine line 31 is used as the shape to be given to the geometric figure thin line 31 ′ adjacent to the gap part 4.
  • interval part 4 side among the some vertexes which comprise the polygonal shape provided to can be provided.
  • the shape of the geometric figure fine wire 31 ′ can be made into a completely different shape having a smaller width than the shape of the geometric figure fine line 31 not adjacent to the gap 4.
  • the width in the Y direction of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap 4 is adjacent to the gap 4.
  • the gap 4 is formed by being smaller than the width of the geometric figure fine line 31 in the Y direction.
  • the width in the X direction of the geometric figure thin line 31 ′ adjacent to the gap 4 is adjacent to the gap 4.
  • the gap 4 is formed by being smaller than the width in the X direction of the geometric figure fine line 31 that is not to be formed.
  • the arrangement pitch in the Y direction of the geometric figure fine lines 31 constituting the functional thin line pattern 2 is set to the same value as the arrangement pitch in the X direction on each of the front and back surfaces of the substrate 1.
  • the arrangement pitch in the Y direction of the geometric figure fine lines 31 constituting the functional fine line pattern 2 is set on each of the front surface and the back surface of the substrate 1.
  • a value different from the arrangement pitch in the X direction may be set.
  • FIGS. 1 and 3 are diagrams conceptually illustrating the second aspect of the functional thin line pattern of the present invention. 6 and 7, the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 3 have the same configuration, and the description with reference to FIGS. 1 and 3 can be used.
  • FIGS. 6 and 7 both show a state in which the base material 1 is viewed in plan from the same side (surface side).
  • 6A is a perspective view of only the functional fine line pattern 2 provided on the surface of the base material 1
  • FIG. 6B is a perspective view of only the functional fine line pattern 2 provided on the back surface of the base material 1.
  • FIG. 7 shows a state in which the functional thin line patterns 2 and 2 provided on the front surface and the back surface of the substrate 1 overlap each other.
  • a rhombus is used as the shape of the geometric figure thin line 31 constituting the functional thin line pattern 2.
  • the width of the geometric figure fine wire 31 made of rhombus is larger than the width in the X direction
  • the arrangement pitch in the Y direction is the arrangement pitch in the X direction. Is set larger than.
  • the width in the Y direction of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap 4 is adjacent to the gap 4.
  • the gap 4 is formed by being smaller than the width of the geometric figure fine line 31 in the Y direction.
  • the width in the X direction of the geometric figure thin line 31 ′ adjacent to the gap 4 is adjacent to the gap 4.
  • the gap 4 is formed by being smaller than the width in the X direction of the geometric figure fine line 31 that is not to be formed.
  • the gap 4 is provided so as to hold the arrangement pitch of the geometric figure fine wires 31 over the plurality of pattern portions 3, so that the surface of the substrate 1 and In the state where the functional thin line patterns 2 and 2 provided on the back surface are overlapped, an effect of improving the low visibility of the pattern is obtained.
  • the geometric figure fine line 31 is a quadrangle is mainly shown, but the present invention is not limited to this.
  • the geometric figure thin line 31 may be a polygon other than a rectangle, for example, a triangle, a hexagon, an octagon, or the like.
  • FIG.8 and FIG.9 the example in case the geometric figure thin line 31 is a hexagon is demonstrated as a 3rd aspect.
  • FIGS. 1 and 3 are diagrams for conceptually explaining the third aspect of the functional thin line pattern of the present invention. 8 and 9, the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 3 have the same configuration, and the description with reference to FIGS. 1 and 3 can be used.
  • the functional fine line pattern 2 is provided on both surfaces of the base material 1
  • FIGS. 8 and 9 both show the base material 1 as viewed from the same side (surface side).
  • 8A shows only the functional thin line pattern 2 provided on the surface of the substrate 1
  • FIG. 8B shows only the functional thin line pattern 2 provided on the back surface of the substrate 1.
  • 9 shows a state in which the functional thin line patterns 2 and 2 provided on the front surface and the back surface of the base material 1 are overlapped.
  • a hexagon is used as the shape of the geometric figure fine line 31 constituting the functional fine line pattern 2.
  • adjacent geometric figure thin lines 31 are connected at two intersections by intersecting both sides sandwiching the vertex of the hexagon.
  • the rows of geometric figure fine lines 31 in the Y direction are arranged in the Y direction with respect to the rows adjacent in the X direction. Is half pitch off. Thereby, the geometric figure thin line 31 is arrange
  • the rows of geometric figure fine lines 31 in the Y direction are arranged in the Y direction with respect to the rows adjacent in the X direction.
  • the pitch is shifted by a half pitch.
  • the geometric figure thin line 31 is arrange
  • the width in the Y direction of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap 4 is adjacent to the gap 4.
  • the gap corresponding to the gap 4 is formed by being smaller than the width of the geometric figure fine wire 31 in the Y direction.
  • the width in the X direction of the geometric figure thin line 31 ′ adjacent to the gap 4 is adjacent to the gap 4.
  • the gap corresponding to the gap 4 is formed by being smaller than the width of the geometric figure fine wire 31 in the X direction.
  • the gap 4 is provided so as to hold the arrangement pitch of the geometric figure fine lines 31 over the plurality of pattern portions 3, so that the surface of the substrate 1 and In the state where the functional thin line patterns 2 and 2 provided on the back surface are overlapped, an effect of improving the low visibility of the pattern is obtained.
  • the case where the geometric figure thin line 31 is a polygon is mainly shown, but the present invention is not limited to this.
  • the geometric figure thin line 31 may include a curved element such as a circle or an ellipse.
  • line 31 is circular is demonstrated as a 4th aspect.
  • 10 and 11 are diagrams for conceptually explaining the fourth aspect of the functional thin line pattern of the present invention. 10 and 11, the same reference numerals as those in FIGS. 1 and 3 have the same configuration, and the description with reference to FIGS. 1 and 3 can be used.
  • FIGS. 10 and 11 both show a plan view of the base material 1 from the same side (surface side).
  • 10A is a perspective view of only the functional fine line pattern 2 provided on the surface of the base material 1
  • FIG. 10B is a perspective view of only the functional thin line pattern 2 provided on the back surface of the base material 1.
  • FIG. 11 shows a state in which the functional thin line patterns 2 and 2 provided on the front surface and the back surface of the substrate 1 overlap each other.
  • a circular shape is used as the shape of the geometric figure fine line 31 constituting the functional fine line pattern 2.
  • adjacent geometric figure fine lines 31 are connected at two intersections by intersecting circular circumferences.
  • the width in the Y direction of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap 4 is adjacent to the gap 4.
  • the gap corresponding to the gap 4 is formed by being smaller than the width of the geometric figure fine wire 31 in the Y direction.
  • the width in the X direction of the geometric figure thin line 31 ′ adjacent to the gap 4 is adjacent to the gap 4.
  • the gap corresponding to the gap 4 is formed by being smaller than the width of the geometric figure fine wire 31 in the X direction.
  • the functional thin line patterns 2 and 2 when the functional thin line patterns 2 and 2 are provided on both surfaces of the substrate 1, the functional thin line patterns 2 and 2 may be formed on both surfaces of the single substrate 1 sequentially or simultaneously.
  • the first base material on which the functional fine line pattern 2 is formed and the second base material on which the functional thin line pattern 2 is formed may be bonded together.
  • the substrate 1 can be composed of a laminate of a first substrate and a second substrate.
  • the functional thin line pattern is provided on both surfaces of the base material, but the present invention is not limited to this. It is also preferable to provide a functional fine line pattern on any one surface of the substrate. Even in the case where the functional fine line pattern is provided on any one surface of the base material, the effect of improving the low visibility can be obtained.
  • the functional fine line pattern of the present invention is provided with a gap portion so as to hold the arrangement pitch of the geometric figure fine lines over a plurality of pattern portions.
  • the functional thin line pattern and the element array (for example, pixel array) of the device When incorporated, it is possible to prevent the occurrence of moire between the functional thin line pattern and the element array (for example, pixel array) of the device, and the low visibility can be improved. This effect is suitably exhibited not only when the functional thin line pattern is provided on both surfaces of the substrate, but also when the functional thin line pattern is provided on any one surface.
  • the geometric figure fine line 31 does not include a linear component along the X direction and a linear component along the Y direction.
  • part of the sides of the polygon (here hexagon) constituting the geometric figure fine line 31 is arranged along the Y direction. That is, the geometric figure thin line 31 includes a linear component along the Y direction.
  • the geometric figure fine line 31 does not include the linear component along the X direction and the linear component along the Y direction. Therefore, compared with the third aspect, an effect of further preventing moire between the functional thin line pattern and the element array of the device can be obtained.
  • the width of the geometric figure fine line 31 is preferably in the range of 0.1 mm to 5 mm, more preferably in the range of 0.5 mm to 3 mm in each of the X direction and the Y direction.
  • the width of the gap 4 provided between the adjacent pattern portions 3 is preferably in the range of 5 ⁇ m to 300 ⁇ m, and more preferably in the range of 20 ⁇ m to 150 ⁇ m.
  • the width of the gap 4 (the width in the Y direction) is preferably smaller than the width in the Y direction of the geometric figure thin line 31. More preferably, it is not more than half of the width in the Y direction.
  • the width of the gap 4 (the width in the X direction) is preferably smaller than the width of the geometric figure thin line 31 in the X direction. More preferably, it is not more than half the width of 31 in the X direction.
  • the width of the geometric figure thin line 31 here is the width of the geometric figure thin line 31 not adjacent to the gap 4.
  • the number of the geometric figure thin lines 31 arranged in parallel in the X direction in the pattern part 3 is not particularly limited.
  • the number of geometric figure fine lines 31 arranged in parallel in the X direction in the pattern portion 3 is not particularly limited, but is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more.
  • the number of the geometric figure fine lines 31 arranged in parallel in the Y direction in the pattern part 3 is not particularly limited.
  • the number of the geometric figure fine lines 31 arranged in parallel in the Y direction in the pattern part 3 is not particularly limited, but is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more.
  • the width of the geometric figure fine lines 31 ′ and 31 ′ adjacent to the gap portion 4 is reduced. It is not limited.
  • the width of the geometric figure fine line 31 'adjacent to the gap portion 4 may be reduced.
  • the width of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap part 4 can be the same as the width of the geometric figure fine line 31 not adjacent to the gap part 4.
  • the widths of the geometric figure fine lines 31 ′ and 31 ′ adjacent to the gap portion 4 may be reduced by different values.
  • the substrate on which the functional thin line pattern is provided is not particularly limited, but glass, plastic (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, acrylic, polyester, polyamide, etc.), metal (copper, nickel, aluminum, iron, etc.) Or an alloy), a ceramic, etc. can be mentioned, These may be used independently and may be used in the bonded state.
  • plastic is preferable, and polyethylene terephthalate, polyolefin such as polyethylene and polypropylene, and the like are preferable. From the viewpoint of remarkably exhibiting the effects of the present invention, it is particularly preferable to use a transparent substrate as the substrate.
  • the functional material constituting the geometric figure fine line of the functional fine line pattern is not particularly limited as long as it is a material for imparting a specific function to the base material. Giving a specific function means, for example, imparting conductivity to a substrate using a conductive material, or imparting insulation to a substrate using an insulating material.
  • the functional material is preferably a material different from the material constituting the substrate surface to which the functional material is applied.
  • Preferred examples of the functional material include a conductive material, an insulating material, a semiconductor material, an optical filter material, and a dielectric material.
  • the functional material is preferably a conductive material or a conductive material precursor.
  • An electroconductive material precursor refers to what can be changed into an electroconductive material by performing an appropriate process.
  • Preferred examples of the conductive material include conductive fine particles and conductive polymers.
  • the conductive fine particles are not particularly limited, but Au, Pt, Ag, Cu, Ni, Cr, Rh, Pd, Zn, Co, Mo, Ru, W, Os, Ir, Fe, Mn, Ge, Sn, Ga, Fine particles such as In can be preferably exemplified, and among them, it is preferable to use fine metal particles such as Au, Ag, and Cu because they can form thin wires having low electric resistance and strong against corrosion. From the viewpoint of cost and stability, metal fine particles containing Ag are most preferable.
  • the average particle diameter of these metal fine particles is preferably in the range of 1 to 100 nm, more preferably in the range of 3 to 50 nm.
  • the average particle diameter is a volume average particle diameter, and can be measured by “Zeta Sizer 1000HS” manufactured by Malvern.
  • carbon fine particles are used as the conductive fine particles.
  • the carbon fine particles include graphite fine particles, carbon nanotubes, fullerenes and the like.
  • the conductive polymer is not particularly limited, but a ⁇ -conjugated conductive polymer can be preferably exemplified.
  • Examples of the ⁇ -conjugated conductive polymer include polythiophenes, polypyrroles, polyindoles, polycarbazoles, polyanilines, polyacetylenes, polyfurans, polyparaphenylenes, polyparaphenylene vinylenes, polyparaphenylene sulfide.
  • Chain conductive polymers such as polyazenes, polyazulenes, polyisothianaphthenes, and polythiazyl compounds can be used.
  • polythiophenes and polyanilines are preferable in that high conductivity can be obtained. Most preferred is polyethylene dioxythiophene.
  • the conductive polymer more preferably comprises the above-described ⁇ -conjugated conductive polymer and polyanion.
  • a conductive polymer can be easily produced by chemical oxidative polymerization of a precursor monomer that forms a ⁇ -conjugated conductive polymer in the presence of an appropriate oxidizing agent, an oxidation catalyst, and a polyanion.
  • a commercially available material can be preferably used as the conductive polymer.
  • a conductive polymer (abbreviated as PEDOT / PSS) made of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid is used in H.264. C. It is commercially available as “CLEVIOS series” from Starck, as “PEDOT-PASS 483095” and “PEDOT-PASS 560598” from Aldrich as “Denatron series” from Nagase Chemtex. Polyaniline is also commercially available from Nissan Chemical Company as “ORMECON series”.
  • a square is formed as a closed geometric figure on the base material 1 by the first line-shaped liquid 6 containing a conductive material.
  • a plurality of quadrangular first line-shaped liquids 6 are arranged on the base material 1 at a predetermined pitch in the longitudinal direction (up and down direction in the figure) and the width direction (left and right direction in the figure) of the base material. Yes.
  • four first line-like liquids 6 are illustrated.
  • the line-shaped liquid 6 is composed of a liquid containing a conductive material as a functional material.
  • the liquid containing the functional material for example, one kind or a combination of two or more kinds such as water and an organic solvent can be used.
  • the organic solvent is not particularly limited.
  • alcohols such as 1,2-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, propylene glycol
  • ethers such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, and dipropylene glycol monoethyl ether.
  • Application of the line-shaped liquid 6 onto the substrate 1 can be performed by an ink jet method. Specifically, while moving an inkjet head included in a droplet ejection device (not shown) relative to the substrate, ink containing a functional material is ejected from the nozzles of the inkjet head, and the ejected ink droplets are placed on the substrate. To form a line-shaped liquid 6.
  • the droplet discharge method of the inkjet head is not particularly limited, and for example, a piezo method or a thermal method can be used. In the case of using an inkjet method or other printing methods, etc., various additives such as a surfactant may be included in the liquid for forming the line-shaped liquid in consideration of ink discharge properties, coating properties, and the like. .
  • the first line-shaped liquid 6 applied on the substrate 1 includes an inner edge 61 and an outer edge 62 that are independent from each other as an edge by including a region 60 to which no liquid is applied.
  • the first thin wire unit 7 including the inner fine wire 30 and the outer fine wire 31 is formed.
  • the fine wires 30 and 31 constituting the first fine wire unit 7 are formed in a square shape.
  • the outer fine line 31 will later constitute the geometric figure fine line 31 in the functional fine line pattern, it is given the same symbol.
  • a quadrangle is formed as a closed geometric figure on the substrate 1 by the second line-shaped liquid 6 containing a conductive material.
  • a plurality of quadrangular second line-shaped liquids 6 are arranged on the substrate 1 at a predetermined pitch in the longitudinal direction and the width direction of the substrate.
  • five second line-shaped liquids 6 are illustrated.
  • the second line-shaped liquid 6 applied on the base material 1 includes an inner edge 61 and an outer edge 62 that are independent from each other as an edge by including a region 60 to which no liquid is applied.
  • the second line-shaped liquid 6 is formed at a position sandwiched between the four first thin line units 7.
  • the vicinity of each vertex of the quadrangle made of the second line-shaped liquid 6 is disposed so as to contact the outer fine line 31 of the adjacent first fine line unit 7.
  • Each square vertex of the second line-shaped liquid 6 is arranged in a region between the inner thin line 30 and the outer thin line 31 of the adjacent first thin line unit 7.
  • the second fine line unit 7 composed of the inner fine line 30 and the outer fine line 31 can be formed.
  • the fine wires 30 and 31 constituting the second fine wire unit 7 are formed in a square shape.
  • the first fine wire unit 7 and the second fine wire unit 7 are alternately formed on the base material 1 in the longitudinal direction and the width direction of the base material 1.
  • the outer thin wire 31 of the first thin wire unit 7 and the outer thin wire 31 of the second thin wire unit 7 are connected to each other, and the inner thin wire 30 of the first thin wire unit 7 and the inner thin wire 30 of the second thin wire unit 7 are not connected to each other.
  • line unit 7 is formed.
  • the inner fine wire 30 is not connected to other inner fine wires 30 but is also not connected to other outer fine wires 31.
  • a pattern composed of the fine line units 7 connected to each other by the outer fine lines 31 is formed on the base material 1.
  • the obtained pattern is energized and electroplated.
  • an energization path including the plurality of outer fine wires 31 is formed in a mesh shape.
  • electrolytic plating is performed on the outer thin wire 31 in the energization path.
  • the inner thin wire 30 is not connected to the other inner thin wire 30 and the outer thin wire 31 and is formed independently, the energization path like the outer thin wire 31 described above is not formed.
  • the inner thin wire 30 can be subjected to electrolytic plating, but the other inner thin wire 30 is not energized and is not subjected to electrolytic plating.
  • the power feeding member is not brought into contact with the inner thin wire 30, no electrolytic plating is applied to any inner thin wire 30.
  • the outer fine wire 31 can be selectively subjected to electrolytic plating.
  • “selective” means that at least the number of outer fine wires 31 to which electrolytic plating is applied is larger than the number of inner fine wires 30 to be subjected to electrolytic plating.
  • the film thickness of the outer fine wire 31 that has been subjected to electrolytic plating can be increased compared to the inner thin wire 30 that has not been subjected to electrolytic plating.
  • the functional fine line pattern 2 is formed by the connected outer fine lines (geometric figure thin lines) 31 that remain without being removed. Can be formed.
  • the outer thin wire 31 becomes difficult to remove, and the inner thin wire 30 not subjected to electrolytic plating can be removed relatively easily. Is obtained.
  • the method of removing the inner thin wire 30 is not particularly limited, but it is preferable to use, for example, a method of irradiating an energy beam such as a laser beam or a method of chemically etching.
  • a method of removing the inner fine wires 30 with a plating solution when electrolytic plating is performed on the outer fine wires 31 can also be used.
  • a plating solution that can dissolve or decompose the conductive material constituting the inner thin wire 30 to be removed can be used.
  • a thin wire unit 7 composed of an inner thin wire 30 and an outer thin wire 31 is formed using silver nanoparticles as a conductive material. Then, a copper plating layer is selectively provided on the outer thin wire 31 as the first electrolytic plating, and then a nickel plating layer is provided on the copper plating layer as the second electrolytic plating. At this time, the inner fine wire 30 made of silver not subjected to the first electrolytic plating can be dissolved or decomposed and removed by the plating solution of the second electrolytic plating (electrolytic nickel plating). As described above, it is preferable that the electrolytic plating on the outer fine wire 31 and the removal of the inner fine wire 30 proceed simultaneously.
  • the substrate 1 is immersed in the plating solution for a time sufficient for removing the inner thin wire 30 to be removed, preferably for 1 to 30 minutes. It is also preferable to keep it.
  • the line-like liquid 6 includes the region 60 to which no liquid is applied, so that the amount of liquid applied can be reduced and the drying load can be reduced. Thereby, tact time can be shortened and production efficiency can be improved.
  • the line-like liquid 6 includes the region 60 to which no liquid is applied, the total amount of heat of vaporization accompanying the drying of the liquid becomes relatively small. Therefore, changes in the substrate temperature and non-uniformity due to drying are suppressed, and the above-described internal flow can be stably formed.
  • the line-like liquid 6 includes an area 60 to which no liquid is applied, thereby shortening the average moving distance until the functional material reaches the edges 61 and 62 due to internal flow in the coffee stain phenomenon. can do.
  • the coffee stain phenomenon can be stably expressed, and the formation of the inner fine wire 30 and the outer fine wire 31 can be stabilized.
  • the effect that the outer side fine line (geometric figure fine line) 31 which comprises the functional fine line pattern 2 can be stably formed with high freedom is acquired.
  • the arrangement interval of the fine lines in the functional fine line pattern 2 composed of the outer fine lines (geometric figure fine lines) 31 that remain without being removed can be adjusted with a high degree of freedom.
  • the functional fine line pattern 2 of the present invention first, a geometric figure closed by a line-like liquid 6 containing a functional material is formed on the substrate 1. Then, by drying the line-shaped liquid 6 and depositing the functional material along the edge, the functional thin line unit 7 including the inner thin line 30 and the outer thin line 31 containing the functional material is formed. Form.
  • a functional thin line pattern precursor is formed by arranging a plurality of such thin line units 7 on the substrate.
  • the outer fine lines 31 that remain without being removed by removing the inner fine lines 30 are used.
  • the geometric figure fine line 31 of the functional fine line pattern 2 can be formed.
  • various functional fine line patterns 2 as shown in FIGS. 1 to 11 can be suitably formed.
  • a pattern formed by arranging a plurality of functional thin wire units 7 composed of the inner fine wire 30 and the outer fine wire 31 (that is, the functional fine wire pattern precursor described above) itself has a functionality. It can also be a fine line pattern.
  • the outer fine line 31 forms a geometric figure thin line connected to each other at a plurality of intersections.
  • the inner thin line 30 is a graphic element provided in addition to the geometric graphic thin line formed by the outer thin line 31. Even in the case where such an additional graphic element is provided, the gap portion is provided so as to hold the arrangement pitch of the geometric figure fine lines composed of the outer fine lines 31 over the plurality of pattern portions, thereby enabling the present invention.
  • the mode of the functional thin line pattern including the additional graphic element will be described in detail with reference to FIGS.
  • 15 and 16 are diagrams for conceptually explaining the fifth aspect of the functional thin line pattern of the present invention.
  • FIGS. 15 and 16 both show the base material 1 viewed in plan from the same side (surface side).
  • 15A shows only the functional thin line pattern 2 provided on the surface of the substrate 1
  • FIG. 15B shows only the functional thin line pattern 2 provided on the back surface of the substrate 1.
  • FIG. 16 shows a state in which the functional thin line patterns 2 and 2 provided on the front surface and the back surface of the substrate 1 overlap each other.
  • the functional fine line pattern 2 is configured by arranging a plurality of units 7 each including a geometric figure fine line 31 made of an outer fine line and an additional figure element made of an inner fine line 30.
  • the unit 7 corresponds to the unit 7 shown in FIG. 13B, and each unit 7 is formed by the coffee stain phenomenon and has not yet been plated.
  • the geometric figure fine lines 31 composed of outer fine lines are arranged so that the adjacent geometric figure fine lines 31 are connected to each other in the same manner as in the first to fourth aspects described above. Since the above-described explanation can be used for the arrangement of the geometric figure thin line 31, the detailed explanation is omitted here.
  • the inner thin line 30 that is an additional figure element is different from the geometric figure thin line 31 in that adjacent inner thin lines 30 are not connected to each other.
  • the gap 4 is provided so as to hold the arrangement pitch of the geometric figure fine lines composed of the outer fine lines 31 over a plurality of pattern parts.
  • each additional graphic element composed of the inner thin line 30 is held across the plurality of pattern portions 3 in the same manner as the geometric graphic thin line 31 from the viewpoint of low visibility of the pattern. It is preferable.
  • the shape of the inner fine line 30 ′ adjacent to the gap 4 is similar to that of the geometric figure fine line 31 ′ adjacent to the gap 4 from the viewpoint of low visibility of the pattern. It is preferable that the shape of the inner thin wires 30 that are not adjacent to each other is different.
  • the shape of the geometric figure thin line 31 ′ is a pentagonal shape having a smaller width than the square shape of the geometric figure thin line 31 not adjacent to the gap 4.
  • the shape of the inner thin wire 30 ′ is a pentagonal shape having a smaller width than the rectangular shape of the inner thin wire 30 that is not adjacent to the gap 4.
  • the shape of the additional graphic element approximates the shape of the geometric graphic thin line 31 or has a similar relationship.
  • the approximate shape means that if the geometric figure thin line 31 is an n-gon, the additional figure element is also an n-gon, and if the geometric figure thin line 31 is a circle or an ellipse, It means that the additional graphic element is also circular or elliptical.
  • the additional graphic element is preferably arranged inside the geometric figure fine line 31 and is preferably arranged in the same direction as the geometric figure fine line 31.
  • 17 and 18 are diagrams for conceptually explaining the sixth aspect of the functional thin line pattern of the present invention.
  • FIGS. 17 and 18 both show a state in which the base material 1 is viewed in plan from the same side (surface side).
  • 17A shows only the functional thin line pattern 2 provided on the surface of the base material 1
  • FIG. 17B shows only the functional thin line pattern 2 provided on the back surface of the base material 1 through the base material 1.
  • FIG. 18 shows a state in which the functional thin line patterns 2 and 2 provided on the front surface and the back surface of the base material 1 overlap each other.
  • the functional thin line pattern 2 includes a plurality of units 7 each including a geometric figure fine line 31 composed of an outer thin line and an additional figure element 30 composed of an inner thin line, as in the fifth aspect described above. It is configured.
  • the unit 7 corresponds to the unit 7 shown in FIG. 14A, and each unit 7 is formed by the coffee stain phenomenon.
  • the outer thin line (geometric figure thin line) 31 is electroplated. As a result of the processing, the film thickness of the outer fine line (geometric graphic thin line) 31 is larger than the film thickness of the inner thin line (additional graphic element) 30.
  • the gap 4 is formed so as to hold the arrangement pitch of the geometric figure fine line 31 over a plurality of pattern parts.
  • the method for producing the functional fine line pattern precursor is not limited to the method described above, and can be formed by various methods. It is particularly preferable to form the geometric figure fine line 31 by utilizing the coffee stain phenomenon.
  • the additional graphic element 30 is also preferably formed using the coffee stain phenomenon.
  • the functional material contained in the thin wire is preferably a conductive material as described above.
  • a conductive material By using a conductive material, a pattern formed of the aggregate of thin wires can be suitably used as a transparent conductive film (also referred to as an electrode film or a transparent electrode).
  • the use of the substrate with a transparent conductive film is not particularly limited, it can be used for various devices included in various electronic devices. From the viewpoint of remarkably exhibiting the effects of the present invention, for example, as a transparent electrode for displays of various systems such as liquid crystal, plasma, organic electroluminescence, field emission, etc., or as a touch panel, mobile phone, electronic paper, various solar cells, various electro It can be suitably used as a transparent electrode used in a luminescence light control element or the like. It is particularly preferable to use a substrate with a transparent conductive film as a touch panel sensor for electronic devices such as smartphones and tablet terminals. When used as a touch panel sensor, it is preferable to use the above-described thin line pattern as the transparent conductive film (X electrode and Y electrode) on both sides of the transparent substrate.
  • Example 1 Sensor pattern (i)
  • the sensor pattern (i) of Example 1 includes a functional fine line pattern 2 similar to that shown in FIGS. 15 and 16 and a lead wiring 5 on both surfaces of the substrate 1.
  • the dimensions and the number of the pattern portions 3 constituting the sensor pattern (i) are as follows.
  • ⁇ Dimension of sensor pattern (i)> (1) Top sensor (surface pattern of substrate 1) Sensor width (pattern part 3 width): 4.935 mm Sensor length (pattern part 3 length): 169.2705 mm Sensor pitch (arrangement pitch in the direction in which pattern portions 3 are arranged): 5.076 mm -Number of channels (number of patterns arranged in parallel): 10 (2) Bottom sensor (pattern on the back surface of the substrate 1) Sensor width (pattern part 3 width): 4.935 mm Sensor length (pattern part 3 length): 169.2705 mm Sensor pitch (arrangement pitch in the direction in which pattern portions 3 are arranged): 5.076 mm Number of channels (number of pattern units 3 arranged in parallel): 10
  • the sensor pattern (i) was produced by the following method.
  • Silver nanoparticles (average particle size: 20 nm): 0.23 wt%
  • Surfactant (manufactured by Big Chemie “BYK348”): 0.05 wt% ⁇ Diethylene glycol monobutyl ether (dispersion medium): 20 wt% ⁇ Water (dispersion medium): remaining amount
  • Silver nanoparticles (average particle size: 20 nm): 13 wt% -Surfactant ("BYK348" manufactured by Big Chemie): 0.5 wt% ⁇ 1,3-butanediol (dispersion medium): 20 wt% ⁇ Water (dispersion medium): remaining amount
  • Substrate As a substrate, a 50 ⁇ m thick PET substrate that was surface-treated so that the contact angle of the pattern portion forming ink was 20.3 ° was prepared. As the surface treatment, corona discharge treatment was performed using “PS-1M” manufactured by Shinko Electric Instrumentation Co., Ltd.
  • the pattern part 3 was formed with the above-mentioned Top sensor dimensions, and the inner fine line 30 ′ and the outer fine line 31 ′ adjacent to the gap part 4 were formed in a pentagon shape so as to be insulated between the pattern parts 3.
  • drying of the line-shaped liquid is promoted by forming a pattern on the substrate 1 disposed on a stage heated to 70 ° C.
  • the lead wires 5 are formed after the positions are aligned so that each lead wire 5 is connected to the pattern portion 3.
  • the drying of the line-shaped liquid is promoted by forming a pattern on the base material 1 disposed on the stage heated to 70 ° C.
  • the line width is an average value of the line widths measured for arbitrary 10 points by observation with an optical microscope.
  • the dimension of the gap 4 is an average value of the dimensions measured for any 10 gaps 4 by optical microscope observation.
  • the transmittance is a value measured as a total light transmittance of the functional fine line pattern 2 in accordance with JIS K7136 using a haze meter (“NDH7000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
  • the inter-terminal resistance value is an average value of values obtained by measuring the electrical resistance ( ⁇ ) from one end to the other end of 10 terminals of the pattern unit 3 using “CD770” manufactured by Sanwa Electric Instruments Co., Ltd.
  • Example 2 Sensor pattern (ii)
  • the sensor pattern (ii) of Example 2 includes the functional thin line pattern 2 similar to that shown in FIGS. 17 and 18 and the lead wiring 5 on both surfaces of the substrate 1.
  • the dimensions and the number of arranged pattern portions 3 constituting the sensor pattern (ii) are the same as those of the sensor pattern (i) of the first embodiment.
  • the sensor pattern (ii) was produced by the following method.
  • the base material 1 on which the sensor pattern (i) of Example 1 was formed was supplied with power from the lead-out wiring 5, and copper sulfate pentahydrate 20g, 1N hydrochloric acid, 1.3g, a gloss-imparting agent (manufactured by Meltex) “ST901C”) 5 g was subjected to electroplating in a plating bath prepared with ion-exchanged water so as to be 1000 mL.
  • the anode was connected to a copper plate for plating, and the substrate 1 and the copper plate were placed 30 mm apart in the plating bath. Copper electrolytic plating treatment was performed at a constant current of 0.2 A for 12 minutes. After the completion of plating, the substrate 1 was washed with water and dried.
  • the sensor pattern (iii) of Example 2 includes the functional thin wire pattern 2 similar to that shown in FIGS. 4 and 5 and the lead wiring 5 on both surfaces of the substrate 1. That is, the sensor pattern (iii) is a state in which the inner thin line 30 in the sensor pattern (ii) of Example 2 is removed. The size and the number of the pattern portions 3 constituting the sensor pattern (iii) are the same as those of the sensor pattern (i) of the first embodiment.
  • the sensor pattern (iii) was produced by the following method.
  • the low visibility is that the sample is visually observed from a position 50 cm away on the light table, and the low visibility is so excellent that the thin line cannot be visually recognized.
  • the thin line was evaluated as “B” when the fine line was slightly visible but had no practical problem, and the thin line was clearly evaluated as “C”. Note that none of the sensor patterns (i) to (iii) correspond to the “C” evaluation.
  • Substrate 2 Functional fine line pattern 3: Pattern part 31: Geometric figure fine line 4: Gap part 5: Lead-out wiring 6: Line-shaped liquid 7: Functional fine line unit

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

本発明は、パターンの低視認性を向上できる機能性細線パターン及び機能性細線パターンの製造方法を提供することを課題とし、基材１上に、機能性材料を含む閉じられた幾何学図形細線３１を、隣り合う幾何学図形細線３１同士が互いに複数の交点で接続されるように、二次元的に複数並設してなる複数のパターン部３と、隣り合うパターン部３間に設けられた間隙部４と、により構成され、幾何学図形細線３１の配置ピッチを複数のパターン部３に渡って保持するように間隙部４が設けられていることで解決される。

Description

機能性細線パターン及び機能性細線パターンの製造方法
　本発明は、機能性細線パターン及び機能性細線パターンの製造方法に関し、より詳しくは、パターンの低視認性を向上できる機能性細線パターン及び機能性細線パターンの製造方法に関する。
　特許文献１～３には、基材上に付与された導電性材料を含有する液滴を乾燥する際に、コーヒーステイン現象を利用して、該液滴の周縁部に選択的に導電性材料を堆積させる技術が開示されている。特許文献１は、液滴をドット状に付与することにより、該液滴の周縁部にリング状の導電性細線を形成している。また、特許文献２、３は、液滴を線状に付与することにより、該液滴の周縁部に直線状の導電性細線を形成している。
ＷＯ２０１１／０５１９５２ 特開２００５－９５７８７号公報 特開２０１４－３８９９２号公報
　しかしながら、従来の技術には、導電性細線により構成されるパターンの低視認性（視認されにくい性質）を向上する観点で、更なる改善の余地が見出された。
　導電性細線の場合に限らず、種々の機能性細線により構成されるパターンの低視認性を向上することができれば、視覚的な違和感が軽減ないし解消されたパターンを得ることができる。
　そこで本発明の課題は、パターンの低視認性を向上できる機能性細線パターン及び機能性細線パターンの製造方法を提供することにある。
　また本発明の他の課題は、以下の記載によって明らかとなる。
　上記課題は、以下の各発明によって解決される。
１．
　基材上に、機能性材料を含む閉じられた幾何学図形細線を、隣り合う前記幾何学図形細線同士が互いに複数の交点で接続されるように、二次元的に複数並設してなる複数のパターン部と、
　隣り合う前記パターン部間に設けられた間隙部と、により構成され、
　前記幾何学図形細線の配置ピッチを複数の前記パターン部に渡って保持するように前記間隙部が設けられている機能性細線パターン。
２．
　前記間隙部の幅が、前記配置ピッチよりも狭い前記１記載の機能性細線パターン。
３．
　前記パターン部を構成する前記幾何学図形細線のうち、前記間隙部に隣接する前記幾何学図形細線の形状が、前記間隙部に隣接しない前記幾何学図形細線の形状と異なることによって前記間隙部が設けられている前記１又は２記載の機能性細線パターン。
４．
　前記幾何学図形細線の形状が、多角形である前記１～３の何れかに記載の機能性細線パターン。
５．
　前記パターン部は、前記基材の長手方向に対して各辺が傾斜した四角形である前記幾何学図形細線を、該基材の長手方向及び幅方向のそれぞれに並設してなる前記１～４の何れかに記載の機能性細線パターン。
６．
　前記基材の両面に形成された前記１～５の何れかに記載の機能性細線パターン。
７．
　基材上に、機能性材料を含む閉じられた幾何学図形細線を、隣り合う前記幾何学図形細線同士が互いに複数の交点で接続されるように、二次元的に複数並設してなる複数のパターン部と、
　隣り合う前記パターン部間に設けられた間隙部と、により構成され、
　前記幾何学図形細線の配置ピッチを複数の前記パターン部に渡って保持するように前記間隙部が設けられている機能性細線パターンを製造する機能性細線パターンの製造方法であって、
　前記幾何学図形細線を、コーヒーステイン現象を利用して形成する機能性細線パターンの製造方法。
８．
　前記間隙部の幅を、前記配置ピッチよりも狭くする前記７記載の機能性細線パターンの製造方法。
９．
　前記パターン部を構成する前記幾何学図形細線のうち、前記間隙部に隣接する前記幾何学図形細線の形状を、前記間隙部に隣接しない前記幾何学図形細線の形状と異ならせることによって前記間隙部を形成する前記７又は８記載の機能性細線パターンの製造方法。
１０．
　前記幾何学図形細線の形状を多角形に形成する前記７～９の何れかに記載の機能性細線パターンの製造方法。
１１．
　前記パターン部を、前記基材の長手方向に対して各辺が傾斜した四角形である前記幾何学図形細線を、該基材の長手方向及び幅方向のそれぞれに並設して形成する前記７～１０の何れかに記載の機能性細線パターンの製造方法。
１２．
　基材上に、機能性材料を含む第１ライン状液体によって、閉じられた幾何学図形を形成し、前記第１ライン状液体を乾燥して、前記機能性材料を縁部に沿って堆積させることにより、前記機能性材料を含む内側細線と外側細線からなる第１機能性細線パターン前駆体を形成し、
　次いで、前記基材上に、機能性材料を含む第２ライン状液体によって、閉じられた幾何学図形を形成し、前記第２ライン状液体を乾燥して、前記機能性材料を縁部に沿って堆積させることにより、前記機能性材料を含む内側細線と外側細線からなる第２機能性細線パターン前駆体を形成する際に、
　少なくとも一組の前記第１機能性細線パターン前駆体と前記第２機能性細線パターン前駆体において、前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線と、前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線とが接続され、且つ前記第１機能性細線パターン前駆体の前記内側細線と、前記第２機能性細線パターン前駆体の前記内側細線とが接続されないように、前記第１機能性細線パターン前駆体及び前記第２機能性細線パターン前駆体を形成し、
　次いで、前記機能性細線パターン前駆体の前記内側細線を除去することにより、除去せず残留させる前記外側細線によって前記幾何学図形細線を形成する前記７～１１の何れかに記載の機能性細線パターンの製造方法。
１３．
　前記機能性材料として導電性材料を用い、互いに接続された前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線と前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線とからなる通電経路を通して通電することによって、前記外側細線に電解めっきを施し、
　次いで、前記機能性細線パターン前駆体の前記内側細線を除去することにより、除去せず残留させる前記外側細線によって前記幾何学図形細線を形成する前記１２記載の機能性細線パターンの製造方法。
１４．
　前記基材の両面に前記機能性細線パターンを形成する前記７～１３の何れかに記載の機能性細線パターンの製造方法。
　本発明によれば、パターンの低視認性を向上できる機能性細線パターン及び機能性細線パターンの製造方法を提供することができる。
本発明の機能性細線パターンの第１態様を概念的に説明する図であって、（ａ）は基材の表面に設けられた機能性細線パターンのみを、（ｂ）は基材の裏面に設けられた機能性細線パターンのみを基材を透視して見た様子を、それぞれ示す 図１（ａ）の要部拡大図 本発明の機能性細線パターンの第１態様を概念的に説明する図であって、基材の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターンが重なった状態を示す 本発明の機能性細線パターンの第１態様の他の例を概念的に説明する図であって、（ａ）は基材の表面に設けられた機能性細線パターンのみを、（ｂ）は基材の裏面に設けられた機能性細線パターンのみを基材を透視して見た様子を、それぞれ示す 本発明の機能性細線パターンの第１態様の他の例を概念的に説明する図であって、基材の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターンが重なった状態を示す 本発明の機能性細線パターンの第２態様を概念的に説明する図であって、（ａ）は基材の表面に設けられた機能性細線パターンのみを、（ｂ）は基材の裏面に設けられた機能性細線パターンのみを基材を透視して見た様子を、それぞれ示す 本発明の機能性細線パターンの第２態様を概念的に説明する図であって、基材の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターンが重なった状態を示す 本発明の機能性細線パターンの第３態様を概念的に説明する図であって、（ａ）は基材の表面に設けられた機能性細線パターンのみを、（ｂ）は基材の裏面に設けられた機能性細線パターンのみを基材を透視して見た様子を、それぞれ示す 本発明の機能性細線パターンの第３態様を概念的に説明する図であって、基材の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターンが重なった状態を示す 本発明の機能性細線パターンの第４態様を概念的に説明する図であって、（ａ）は基材の表面に設けられた機能性細線パターンのみを、（ｂ）は基材の裏面に設けられた機能性細線パターンのみを基材を透視して見た様子を、それぞれ示す 本発明の機能性細線パターンの第４態様を概念的に説明する図であって、基材の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターンが重なった状態を示す 本発明の機能性細線パターンの製造方法の一例を説明する図 本発明の機能性細線パターンの製造方法の一例を説明する図 本発明の機能性細線パターンの製造方法の一例を説明する図 本発明の機能性細線パターンの第５態様を概念的に説明する図であって、（ａ）は基材の表面に設けられた機能性細線パターンのみを、（ｂ）は基材の裏面に設けられた機能性細線パターンのみを基材を透視して見た様子を、それぞれ示す 本発明の機能性細線パターンの第５態様を概念的に説明する図であって、基材の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターンが重なった状態を示す 本発明の機能性細線パターンの第６態様を概念的に説明する図であって、（ａ）は基材の表面に設けられた機能性細線パターンのみを、（ｂ）は基材の裏面に設けられた機能性細線パターンのみを基材を透視して見た様子を、それぞれ示す 本発明の機能性細線パターンの第６態様を概念的に説明する図であって、基材の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターンが重なった状態を示す 参考例の機能性細線パターンを概念的に説明する図であって、（ａ）は基材の表面に設けられた機能性細線パターンのみを、（ｂ）は基材の裏面に設けられた機能性細線パターンのみを基材を透視して見た様子を、それぞれ示す 参考例の機能性細線パターンの第４態様を概念的に説明する図であって、基材の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターンが重なった状態を示す
　以下に、本発明を実施するための形態について説明する。
　本発明の機能性細線パターンは、基材上に、機能性材料を含む閉じられた幾何学図形細線を複数組み合わせてなる複数のパターン部と、隣り合う前記パターン部間に設けられた間隙部と、により構成される。前記パターン部は、前記幾何学図形細線を、二次元的に複数並設して構成することができる。このとき、隣り合う前記幾何学図形細線同士が互いに複数の交点で接続されるように、前記幾何学図形細線を形成することができる。
　本発明は、前記幾何学図形細線の配置ピッチを複数の前記パターン部に渡って保持するように前記間隙部が設けられていることを一つの特徴とする。
　これにより、パターンの低視認性を向上できる効果が得られる。
　以下に、図１～図３を参照して、機能性細線パターンをタッチパネルセンサーに用いる場合を例に挙げて、本発明について更に詳しく説明する。
　図１～図３は、本発明の機能性細線パターンの第１態様を概念的に説明する図である。
　ここでは、基材１の両面に機能性細線パターン２が設けられており、図１～図３は、何れも基材１を同じ側（表面側）から平面視した様子を示している。図１（ａ）は基材１の表面に設けられた機能性細線パターン２のみを、図１（ｂ）は基材１の裏面に設けられた機能性細線パターン２のみを基材１を透視して見た様子を、図３は基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態を、それぞれ示している。図２は、図１（ａ）における破線で囲まれた領域Ａを拡大した様子を示す要部拡大図である。
　図１（ａ）に示すように、機能性細線パターン２は、基材１上に設けられた複数のパターン部３と、隣り合うパターン部３間に設けられた間隙部４とにより構成されている。
　各々のパターン部３は、基材１上に、機能性材料を含む閉じられた幾何学図形細線３１を、隣り合う前記幾何学図形細線３１同士が互いに接続されるように、二次元的に所定ピッチで複数並設して構成されている。図示するように、パターン部３において、隣り合う幾何学図形細線３１同士は、互いに複数の交点で接続されていることが好ましい。また、Ｘ方向に隣り合う幾何学図形細線３１同士が互いに接続されると共に、Ｙ方向に隣り合う幾何学図形細線３１同士も互いに接続されることが好ましい。
　閉じられた幾何学図形細線３１は、始点と終点が一致した幾何学図形を、機能性材料を含む細線によって形成したものである。図示の例では、閉じられた幾何学図形細線３１として、基材１の長手方向（図示の例ではＸ方向）に対して各辺が傾斜した四角形である四角形状細線を、基材１の長手方向及び幅方向（図示の例ではＹ方向）のそれぞれに複数並設してパターン部３を構成している。ここでは、隣り合う幾何学図形細線３１同士は、四角形の頂点を挟む両辺同士を交差させて２点の交点で接続されている。このように、隣り合う幾何学図形細線３１同士が互いに複数（図示の例では２点）の交点で接続されることによって、機能性材料によって付与される機能を、互いに接続された幾何学図形細線３１全体で、好適に発揮できるようになる。特に機能性材料として導電性材料を用いる場合には、幾何学図形細線３１同士の電気的接続が確実なものとなり、パターン部３を低抵抗化することができる。
　各々のパターン部３は、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれに複数の幾何学図形細線３１を配置して構成され、全体としてＸ方向に延びる帯状に設けられている。
　各々のパターン部３は、Ｘ方向に延びる帯状の間隙部４によってＹ方向に互いに隔離され、独立した島状に設けられている。間隙部４は、例えば、機能性材料として導電性材料を用いる場合には、パターン部３間を絶縁する絶縁部を構成し得る。
　機能性細線パターン２は、幾何学図形細線３１の配置ピッチを複数のパターン部３に渡って保持するように間隙部４が設けられていることを一つの特徴とする。
　「幾何学図形細線３１の配置ピッチを複数のパターン部３に渡って保持する」というのは、複数のパターン部３に渡る方向（即ち、複数のパターン部３が並設される方向であって、図示の例ではＹ方向）において、一つのパターン部３を構成する幾何学図形細線３１の配置ピッチが、他のパターン部３を構成する幾何学図形細線３１の配置ピッチと同じであると共に、これら配置ピッチの位相も同じであることを意味する。言い換えれば、複数のパターン部３に渡る方向（図示の例ではＹ方向）に向けて、一つのパターン部３を構成する幾何学図形細線３１の配置ピッチで仮想的な目盛りＳＹを延設した際に、他のパターン部３を構成する幾何学図形細線３１の配置ピッチが、目盛りＳＹと一致することを意味する。
　このとき、複数のパターン部３を構成する全ての幾何学図形細線３１の配置ピッチ及び位相が同じである必要はなく、一部の領域で配置ピッチ及び位相が異なっていてもよい。本発明の効果を顕著に発揮させる観点では、各々のパターン部３を構成する幾何学図形細線３１のうち半数以上の幾何学図形細線３１の配置ピッチ及び位相が、複数のパターン部３間で同じであることが好ましい。
　ここでは、特に図２に示すように、パターン部３を構成する幾何学図形細線３１のうち、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の形状を、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の形状と異ならせている。即ち、図２中、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’に対して、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の形状を破線で仮想的に重ね合わせているが、両者の形状は一致せず、異なるものになっている。その結果、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の配置ピッチ及び位相は、パターン部３の内部に配置される幾何学図形細線３１（即ち間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１）の配置ピッチ及び位相と若干異なるが、パターン部３の内部に配置される幾何学図形細線３１の配置ピッチ及び位相が複数のパターン部３間で同じであることによって、本発明の効果を顕著に発揮することができる。
　図２に示したように、パターン部３を構成する幾何学図形細線３１のうち、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の形状を、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の形状と異ならせることは好ましいことである。ここでは、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＹ方向の幅を、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１のＹ方向の幅よりも小さくすることによって、幾何学図形細線３１の配置ピッチを複数のパターン部３に渡って保持するように間隙部４を形成している。
　間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の幅を小さくせずに、例えばＸ方向に沿う１列又は複数列の幾何学図形細線３１を設けない（省略するともいう）ことによっても、間隙部４を形成することができる。しかし、この場合は、間隙部４の幅を、省略される幾何学図形細線３１の幅に対応する飛び飛びの値にしか設定できない。また、幾何学図形細線３１のＹ方向の配置ピッチよりも狭い幅の間隙部４を形成することが困難である。
　これに対して、上述したように、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＹ方向の幅を小さくすることによって間隙部４を形成する場合は、該幾何学図形細線３１’のＹ方向の幅の設定によって、間隙部４の幅を細かく自在に設定できる効果が得られる。また、幾何学図形細線３１のＹ方向の配置ピッチよりも狭い幅の間隙部４を好適に形成できる効果も得られる。間隙部４の幅というのは、間隙部４の全体としての形成方向（図示の例ではＸ方向）に対して直交する方向（図示の例ではＹ方向）の幅が最小になる部位における幅である。
　図１（ｂ）に示すように、基材１の裏面に設けられた機能性細線パターン２は、Ｘ方向及びＹ方向の関係が逆であること以外は基本的に基材１の表面に設けられた機能性細線パターン２と同様の構成を備えており、表面についてした説明を援用できる。
　基材１の裏面に設けられた機能性細線パターン２もまた、幾何学図形細線３１を配置するピッチを複数のパターン部３に渡って保持するように間隙部４が設けられている。
　即ち、複数のパターン部３に渡る方向（図示の例ではＸ方向）において、一つのパターン部３を構成する幾何学図形細線３１の配置ピッチが、他のパターン部３を構成する幾何学図形細線３１の配置ピッチと同じであると共に、これら配置ピッチの位相も同じである。言い換えれば、複数のパターン部３に渡る方向（図示の例ではＸ方向）に向けて、一つのパターン部３を構成する幾何学図形細線３１の配置ピッチで仮想的な目盛りＳＸを延設した際に、他のパターン部３を構成する幾何学図形細線３１の配置ピッチが、目盛りＳＸと一致する。
　ここでは、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＸ方向の幅が、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１のＸ方向の幅よりも小さいことによって、間隙部４に相当する間隙が形成されている。
　ここでは、基材１の表面に設けられた機能性細線パターン２と、裏面に設けられた機能性細線パターン２とで、幾何学図形細線３１のＸ方向の配置ピッチが同じであり、且つ幾何学図形細線３１のＹ方向の配置ピッチも同じである。
　上述したように、幾何学図形細線３１の配置ピッチを複数のパターン部３に渡って保持するように間隙部４が設けられていることによって、図３に示すように、基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態において、パターンの低視認性を向上できる効果が得られる。
　本発明について、参考例との対比で更に詳しく説明する
　図１９及び図２０は、参考例の機能性細線パターンを概念的に説明する図である。
　ここでは、基材１０１の両面に機能性細線パターン１０２が設けられており、図１９及び図２０は、何れも基材１０１を同じ側（表面側）から平面視した様子を示している。図１９（ａ）は基材１０１の表面に設けられた機能性細線パターン１０２のみを、図１９（ｂ）は基材１０１の裏面に設けられた機能性細線パターン１０２のみを基材１０１を透視して見た様子を、図２０は基材１０１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン１０２、１０２が重なった状態を、それぞれ示している。
　図１９及び図２０に示す参考例の機能性細線パターン１０２では、間隙部１０４が設けられていることによって、幾何学図形細線１３１の配置ピッチが複数のパターン部１０３に渡って保持されなくなっている。即ち、一つのパターン部１０３内だけで見た場合に、幾何学図形細線１３１の配置ピッチは同じであるが、間隙部１０４が介在することによって、他のパターン部１０３を構成する幾何学図形細線１３１の配置ピッチとは位相が異なっており、複数のパターン部１０３に渡って配置ピッチが保持されていない。
　言い換えれば、図１９（ａ）に示すように、基材１０１の表面において、複数のパターン部１０３に渡る方向（図示の例ではＹ方向）に向けて、一つのパターン部１０３を構成する幾何学図形細線１３１の配置ピッチで仮想的な目盛りＳＹを延設した際に、他のパターン部１０３を構成する幾何学図形細線１３１の配置ピッチが、目盛りＳＹと一致しない。同様に、図１９（ｂ）に示すように、基材１０１の裏面において、複数のパターン部１０３に渡る方向（図示の例ではＸ方向）に向けて、一つのパターン部１０３を構成する幾何学図形細線１３１の配置ピッチで仮想的な目盛りＳＸを延設した際に、他のパターン部１０３を構成する幾何学図形細線１３１の配置ピッチが、目盛りＳＸと一致しない。
　その結果、参考例の機能性細線パターン１０２、１０２は、図２０に示すように、基材１０１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン１０２、１０２の細線間の間隔が部位ごとに大きく異なっており、各部位を視覚的に認識することが容易であり、パターンの低視認性が得られ難いことがわかる。
　これに対して、本発明によれば、図３に示したように、基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２の細線間の間隔が部位によらず均一であり、各部位を視覚的に認識することが困難であり、パターンの低視認性が向上することがわかる。
　図３の例において、基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２間で、幾何学図形細線３１のＸ方向の配置ピッチを半ピッチずらして重ね合わせているが、これに限定されるものではない。例えば、基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２間で、幾何学図形細線３１のＹ方向の配置ピッチを半ピッチずらしてもよいし、Ｘ方向及びＹ方向の配置ピッチを半ピッチずらしてもよい。配置ピッチをずらして重ね合わせる場合は、半ピッチに限定されず、任意の所定量ずらすことができる。また、配置ピッチをずらさずに重ね合わせてもよい。
　パターン部３は、機能性材料として導電性材料を用いることにより、透明導電膜として好適に用いることができる。透明導電膜が「透明」であるというのは、幾何学図形細線３１が設けられていない部分を介して、パターン部３を光が透過可能であることを意味する。従って、導電性材料自体が透明である必要はなく、透明でない導電性材料であっても好適に用いることができる。　
　パターン部３からなる透明導電膜は、例えば、タッチパネルセンサーにおける位置検出電極として好適に用いることができる。図１及び図３の例では、基材１の表面に形成されたパターン部３をＹ方向の位置を検出するためのＹ電極として用いることができ、基材１の裏面に形成されたパターン部３をＸ方向の位置を検出するためのＸ電極として用いることができる。これらパターン部３は、基材１の各面に設けられた引出し配線５によって、図示しない制御回路に接続することができる。
　以上に説明した態様では、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の幅を小さくする方法として、該幾何学図形細線３１’の形状を所定方向、具体的には複数のパターン部３の並設方向に圧縮している。このように幾何学図形細線３１’の形状を圧縮する場合は、１つの幾何学図形細線３１’全体を均等に圧縮してもよいし、１つの幾何学図形細線３１’を部分的に、不均等に圧縮してもよい。上述した第１態様のように、幾何学図形を多角形にする場合は、間隙部４側に配置される辺を選択的に圧縮することが好ましい。例えば、幾何学図形の一つの頂点を間隙部４に向けて配置する場合は、該頂点を挟む２辺を圧縮することが好ましい。
　以上の説明では、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の幅を小さくする方法として、該幾何学図形細線３１’の形状を所定方向に圧縮する場合について示したが、これに限定されるものではない。例えば、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の形状を、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の形状よりも幅が小さい全く異なる形状にしてもよい。以下に、図４及び図５を参照して、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の形状を、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の形状よりも幅が小さい全く異なる形状にする場合の一例について説明する。
　図４及び図５は、本発明の機能性細線パターンの第１態様の他の例を概念的に説明する図である。図４及び図５において図１及び図３と同符号は同構成であり、図１及び図３を参照してした説明を援用することができる。
　ここでは、基材１の両面に機能性細線パターン２が設けられており、図４及び図５は、何れも基材１を同じ側（表面側）から平面視した様子を示している。図４（ａ）は基材１の表面に設けられた機能性細線パターン２のみを、図４（ｂ）は基材１の裏面に設けられた機能性細線パターン２のみを基材１を透視して見た様子を、図５は基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態を、それぞれ示している。
　この例では、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の形状は図１及び図３の例と同様に四角形状である。一方、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の形状は五角形状である。ここでは、幾何学図形細線３１’に付与されている五角形状は、幾何学図形細線３１に付与されている四角形状を構成する４つの頂点のうち間隙部４側に配向される頂点を切り落とした形状に対応している。その結果、幾何学図形細線３１’の形状は、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の形状よりも幅が小さい全く異なる形状になっている。
　この例のように、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の形状を多角形状にする場合は、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’に付与する形状として、幾何学図形細線３１に付与されている多角形状を構成する複数の頂点のうち間隙部４側に配向される１又は２以上の頂点を切り落とした形状を付与することができる。これにより、幾何学図形細線３１’の形状を、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の形状よりも幅が小さい全く異なる形状にすることができる。
　ここでも、図４（ａ）に示すように、基材１の表面の機能性細線パターン２において、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＹ方向の幅が、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１のＹ方向の幅よりも小さいことによって、間隙部４が形成されている。
　同様に、図４（ｂ）に示すように、基材１の裏面の機能性細線パターン２において、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＸ方向の幅が、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１のＸ方向の幅よりも小さいことによって、間隙部４が形成されている。
　このようにして、幾何学図形細線３１の配置ピッチを複数のパターン部３に渡って保持するように間隙部４が設けられていることによって、図５に示すように、基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態において、パターンの低視認性を向上できる効果が得られる。
　上述した第１態様では、基材１の表面及び裏面のそれぞれにおいて、機能性細線パターン２を構成する幾何学図形細線３１のＹ方向の配置ピッチを、Ｘ方向の配置ピッチと同じ値に設定しているが、これに限定されるものではない。例えば、以下に図６を参照して説明する第２態様のように、基材１の表面及び裏面のそれぞれにおいて、機能性細線パターン２を構成する幾何学図形細線３１のＹ方向の配置ピッチを、Ｘ方向の配置ピッチと異なる値に設定してもよい。
　図６及び図７は、本発明の機能性細線パターンの第２態様を概念的に説明する図である。図６及び図７において図１及び図３と同符号は同構成であり、図１及び図３を参照してした説明を援用することができる。
　ここでは、基材１の両面に機能性細線パターン２が設けられており、図６及び図７は、何れも基材１を同じ側（表面側）から平面視した様子を示している。図６（ａ）は基材１の表面に設けられた機能性細線パターン２のみを、図６（ｂ）は基材１の裏面に設けられた機能性細線パターン２のみを基材１を透視して見た様子を、図７は基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態を、それぞれ示している。
　本態様では、機能性細線パターン２を構成する幾何学図形細線３１の形状として菱形を用いている。基材１の表面及び裏面のそれぞれにおいて、菱形からなる幾何学図形細線３１のＹ方向の幅は、Ｘ方向の幅よりも大きく設けられており、Ｙ方向の配置ピッチは、Ｘ方向の配置ピッチよりも大きく設定されている。このように、Ｙ方向の配置ピッチをＸ方向の配置ピッチと異ならせる場合は、幾何学図形細線３１のＹ方向の幅をＸ方向の幅と異ならせることが好ましい。
　ここでも、図６（ａ）に示すように、基材１の表面の機能性細線パターン２において、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＹ方向の幅が、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１のＹ方向の幅よりも小さいことによって、間隙部４が形成されている。
　同様に、図６（ｂ）に示すように、基材１の裏面の機能性細線パターン２において、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＸ方向の幅が、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１のＸ方向の幅よりも小さいことによって、間隙部４が形成されている。
　このようにして、幾何学図形細線３１の配置ピッチを複数のパターン部３に渡って保持するように間隙部４が設けられていることによって、図７に示すように、基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態において、パターンの低視認性を向上できる効果が得られる。
　上述した第１態様及び第２態様では、幾何学図形細線３１が四角形である場合について主に示したが、これに限定されるものではない。幾何学図形細線３１は、四角形以外の多角形、例えば三角形、六角形、八角形等であってもよい。以下に、図８及び図９を参照して、第３態様として、幾何学図形細線３１が六角形である場合の例について説明する。
　図８及び図９は、本発明の機能性細線パターンの第３態様を概念的に説明する図である。図８及び図９において図１及び図３と同符号は同構成であり、図１及び図３を参照してした説明を援用することができる。
　ここでは、基材１の両面に機能性細線パターン２が設けられており、図８及び図９は、何れも基材１を同じ側（表面側）から平面視した様子を示している。図８（ａ）は基材１の表面に設けられた機能性細線パターン２のみを、図８（ｂ）は基材１の裏面に設けられた機能性細線パターン２のみを基材１を透視して見た様子を、図９は基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態を、それぞれ示している。
　本態様では、機能性細線パターン２を構成する幾何学図形細線３１の形状として六角形を用いている。ここでは、隣り合う幾何学図形細線３１同士は、六角形の頂点を挟む両辺同士を交差させて２点の交点で接続されている。
　図８（ａ）に示すように、基材１の表面の機能性細線パターン２において、Ｙ方向の幾何学図形細線３１の列は、Ｘ方向に隣り合う列に対して、Ｙ方向の配置ピッチが半ピッチずれている。これにより、幾何学図形細線３１は千鳥状に配置されている。
　図８（ｂ）に示すように、基材１の裏面の機能性細線パターン２においても、Ｙ方向の幾何学図形細線３１の列は、Ｘ方向に隣り合う列に対して、Ｙ方向の配置ピッチが半ピッチずれている。これにより、幾何学図形細線３１は千鳥状に配置されている。
　ここでも、図８（ａ）に示すように、基材１の表面の機能性細線パターン２において、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＹ方向の幅が、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１のＹ方向の幅よりも小さいことによって、間隙部４に相当する間隙が形成されている。
　同様に、図８（ｂ）に示すように、基材１の裏面の機能性細線パターン２において、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＸ方向の幅が、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１のＸ方向の幅よりも小さいことによって、間隙部４に相当する間隙が形成されている。
　このようにして、幾何学図形細線３１の配置ピッチを複数のパターン部３に渡って保持するように間隙部４が設けられていることによって、図９に示すように、基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態において、パターンの低視認性を向上できる効果が得られる。
　上述した第１態様～第３態様では、幾何学図形細線３１が多角形である場合について主に示したが、これに限定されるものではない。幾何学図形細線３１は、例えば円形や楕円形などのように曲線要素を含むものであってもよい。以下に、図１０及び図１１を参照して、第４態様として、幾何学図形細線３１が円形である場合の例について説明する。
　図１０及び図１１は、本発明の機能性細線パターンの第４態様を概念的に説明する図である。図１０及び図１１において図１及び図３と同符号は同構成であり、図１及び図３を参照してした説明を援用することができる。
　ここでは、基材１の両面に機能性細線パターン２が設けられており、図１０及び図１１は、何れも基材１を同じ側（表面側）から平面視した様子を示している。図１０（ａ）は基材１の表面に設けられた機能性細線パターン２のみを、図１０（ｂ）は基材１の裏面に設けられた機能性細線パターン２のみを基材１を透視して見た様子を、図１１は基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態を、それぞれ示している。
　本態様では、機能性細線パターン２を構成する幾何学図形細線３１の形状として円形を用いている。ここでは、隣り合う幾何学図形細線３１同士は、円形の円周同士を交差させて２点の交点で接続されている。
　ここでも、図１０（ａ）に示すように、基材１の表面の機能性細線パターン２において、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＹ方向の幅が、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１のＹ方向の幅よりも小さいことによって、間隙部４に相当する間隙が形成されている。
　同様に、図１０（ｂ）に示すように、基材１の裏面の機能性細線パターン２において、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’のＸ方向の幅が、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１のＸ方向の幅よりも小さいことによって、間隙部４に相当する間隙が形成されている。
　このようにして、幾何学図形細線３１の配置ピッチを複数のパターン部３に渡って保持するように間隙部４が設けられていることによって、図１１に示すように、基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態において、パターンの低視認性を向上できる効果が得られる。
　以上に説明したように基材１の両面に機能性細線パターン２、２を設ける場合は、１枚の基材１の両面に順次又は同時に機能性細線パターン２、２を形成してもよいし、機能性細線パターン２が形成された第１基材と、機能性細線パターン２が形成された第２基材とを張り合わせてもよい。後者の場合、基材１は、第１基材と第２基材の積層体により構成され得る。
　以上の説明では、基材の両面に機能性細線パターンを設ける場合について主に示したが、これに限定されるものではない。基材の何れか一方の面に機能性細線パターンを設けることも好ましいことである。基材の何れか一方の面に機能性細線パターンを設ける場合においても、低視認性を向上できる効果が得られる。
　即ち、本発明の機能性細線パターンは、幾何学図形細線の配置ピッチを複数のパターン部に渡って保持するように間隙部が設けられていることによって、例えば、該機能性細線パターンをデバイスに組み込んだ際に、機能性細線パターンと、デバイスの素子アレイ（例えば画素アレイ）との間でモアレが発生することを防止することができ、低視認性を向上できる。この効果は、基材の両面に機能性細線パターンを設ける場合だけでなく、何れか一方の面に機能性細線パターンを設ける場合においても好適に発揮される。
　上述した機能性細線パターンとデバイスの素子アレイとの間のモアレを更に防止する観点では、幾何学図形細線３１が、Ｘ方向に沿う直線成分及びＹ方向に沿う直線成分を含まないことが好ましい。
　例えば、上述した第３態様では、幾何学図形細線３１を構成する多角形（ここでは六角形）の辺の一部を、Ｙ方向に沿うように配置している。即ち、幾何学図形細線３１が、Ｙ方向に沿う直線成分を含んでいる。
　これに対して、上述した第１態様、第２態様及び第４態様では、幾何学図形細線３１が、Ｘ方向に沿う直線成分及びＹ方向に沿う直線成分を含まない。そのため、第３態様と比較して、機能性細線パターンとデバイスの素子アレイとの間のモアレを更に防止する効果が得られる。
　次に、機能性細線パターンに付与される好ましい寸法の例について説明する。
　幾何学図形細線３１の幅は、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれにおいて、０．１ｍｍ～５ｍｍの範囲であることが好ましく、０．５ｍｍ～３ｍｍの範囲であることが更に好ましい。なお、上述したように間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の幅を小さくする場合は、上記の好ましい範囲よりも小さい幅を付与することも好ましい。
　隣り合うパターン部３間に設けられる間隙部４の幅は、５μｍ～３００μｍの範囲であることが好ましく、２０μｍ～１５０μｍの範囲であることが更に好ましい。
　間隙部４がＸ方向に延設される場合、該間隙部４の幅（Ｙ方向の幅）は、幾何学図形細線３１のＹ方向の幅よりも小さいことが好ましく、幾何学図形細線３１のＹ方向の幅の半分以下であることが更に好ましい。また、間隙部４がＹ方向に延設される場合、該間隙部４の幅（Ｘ方向の幅）は、幾何学図形細線３１のＸ方向の幅よりも小さいことが好ましく、幾何学図形細線３１のＸ方向の幅の半分以下であることが更に好ましい。ここでいう幾何学図形細線３１の幅は、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の幅である。
　パターン部３がＸ方向に延設される場合、該パターン部３内においてＸ方向に並設される幾何学図形細線３１の数は格別限定されない。一方、該パターン部３内においてＸ方向に並設される幾何学図形細線３１の数は格別限定されないが、２以上であることが好ましく、３以上であることが更に好ましい。また、パターン部３がＹ方向に延設される場合、該パターン部３内においてＹ方向に並設される幾何学図形細線３１の数は格別限定されない。一方、該パターン部３内においてＹ方向に並設される幾何学図形細線３１の数は格別限定されないが、２以上であることが好ましく、３以上であることが更に好ましい。
　以上の説明では、間隙部４を挟む両側のパターン部３、３のそれぞれにおいて、該間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’、３１’の幅を小さくする場合について示したが、これに限定されない。例えば、間隙部４を挟む両側のパターン部３、３のうち一方のパターン部３において、該間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の幅を小さくするようにしてもよい。このとき、他方のパターン部３において、該間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の幅は、該間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の幅と同じにすることができる。あるいは、間隙部４を挟む両側のパターン部３、３において、該間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’、３１’の幅を互いに異なる値で小さくするようにしてもよい。
　機能性細線パターンが設けられる基材は格別限定されないが、ガラス、プラスチック（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル、ポリエステル、ポリアミド等）、金属（銅、ニッケル、アルミ、鉄等や、あるいは合金）、セラミックなどを挙げることができ、これらは単独で用いてもよいし、貼り合せた状態で用いてもよい。中でも、プラスチックが好ましく、ポリエチレンテレフタレートや、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィンなどが好適である。本発明の効果を顕著に発揮する観点で、基材として透明基材を用いることは特に好ましいことである。
　機能性細線パターンの幾何学図形細線を構成する機能性材料は、基材に特定の機能を付与するための材料であれば格別限定されない。特定の機能を付与するとは、例えば、導電性材料を用いて基材に導電性を付与することや、絶縁性材料を用いて基材に絶縁性を付与することをいう。機能性材料は、該機能性材料が付与される基材表面を構成する材料とは異なる材料であることが好ましい。機能性材料として、例えば導電性材料、絶縁性材料、半導体材料、光学フィルター材料、誘電体材料等を好ましく例示できる。特に機能性材料は導電性材料または導電性材料前駆体であることが好ましい。導電性材料前駆体は、適宜処理を施すことによって導電性材料に変化させることができるものを指す。
　導電性材料としては、例えば、導電性微粒子、導電性ポリマー等を好ましく例示できる。
　導電性微粒子としては格別限定されないが、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ等の微粒子を好ましく例示でき、中でも、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのような金属微粒子を用いると、電気抵抗が低く、且つ腐食に強い細線を形成することができるので好ましい。コスト及び安定性の観点から、Ａｇを含む金属微粒子が最も好ましい。これらの金属微粒子の平均粒子径は、好ましくは１～１００ｎｍの範囲、より好ましくは３～５０ｎｍの範囲である。平均粒子径は、体積平均粒子径であり、マルバーン社製「ゼータサイザ１０００ＨＳ」により測定することができる。
　また、導電性微粒子として、カーボン微粒子を用いることも好ましい。カーボン微粒子としては、グラファイト微粒子、カーボンナノチューブ、フラーレン等を好ましく例示できる。
　導電性ポリマーとしては格別限定されないが、π共役系導電性高分子を好ましく挙げることができる。
　π共役系導電性高分子としては、例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリアズレン類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。中でも、高い導電性が得られる点で、ポリチオフェン類やポリアニリン類が好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンであることが最も好ましい。
　導電性ポリマーは、より好ましくは、上述したπ共役系導電性高分子とポリアニオンとを含んで成ることである。こうした導電性ポリマーは、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と、ポリアニオンの存在下で化学酸化重合することによって容易に製造できる。
　導電性ポリマーは市販の材料も好ましく利用できる。例えば、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと略す）が、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社から「ＣＬＥＶＩＯＳシリーズ」として、Ａｌｄｒｉｃｈ社から「ＰＥＤＯＴ－ＰＡＳＳ４８３０９５」、「ＰＥＤＯＴ－ＰＡＳＳ５６０５９８」として、Ｎａｇａｓｅ　Ｃｈｅｍｔｅｘ社から「Ｄｅｎａｔｒｏｎシリーズ」として市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学社から「ＯＲＭＥＣＯＮシリーズ」として市販されている。
　次に、機能性細線パターンを形成するための好ましい方法について、図１２～図１４を参照して詳しく説明する。ここでは、一例として、上述した第１態様に係る機能性細線パターンを形成する場合について説明する。
　まず、図１２（ａ）に示すように、基材１上に、導電性材料を含む第１ライン状液体６によって、閉じられた幾何学図形として四角形を形成する。ここでは、基材１上に、四角形である第１ライン状液体６を基材の長手方向（図中、上下方向）及び幅方向（図中、左右方向）に所定ピッチで複数並設している。ここでは、便宜上、４つの第１ライン状液体６を図示している。
　ライン状液体６は、ここでは、機能性材料として導電性材料を含む液体によって構成されている。機能性材料を含有させる液体としては、例えば水や有機溶剤等の１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。有機溶剤は、格別限定されないが、例えば、１，２－ヘキサンジオール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、プロピレングリコールなどのアルコール類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類等を例示できる。
　基材１上へのライン状液体６の付与は、インクジェット法により行うことができる。具体的には、図示しない液滴吐出装置が備えるインクジェットヘッドを基材に対して相対移動させながら、インクジェットヘッドのノズルから機能性材料を含むインクを吐出し、吐出されたインク滴を基材上で合一させて、ライン状液体６を形成することができる。インクジェットヘッドの液滴吐出方式は格別限定されず、例えば、ピエゾ方式やサーマル方式などを用いることができる。インクジェット法やその他の印刷法等を用いる場合等においては、インク吐出性や塗布性等を考慮して、ライン状液体を形成するための液体中に界面活性剤など種々の添加剤を含んでもよい。
　基材１上に付与された第１ライン状液体６は、液体が付与されていない領域６０を内部に包含することにより、縁として、互いに独立した内側縁６１と外側縁６２とを有する。
　次いで、第１ライン状液体６を乾燥させる際にコーヒーステイン現象を生起させて、第１ライン状液体６の内部流動によって、導電性材料をライン状液体６の内側縁６１及び外側縁６２に沿って選択的に堆積させる。
　これにより、図１２（ｂ）に示すように、内側細線３０と外側細線３１からなる第１細線ユニット７が形成される。第１細線ユニット７を構成する細線３０、３１は、四角形状に形成されている。ここで、外側細線３１は、後に機能性細線パターンにおける幾何学図形細線３１を構成するものであるため、同符号を付している。
　次いで、図１３（ａ）に示すように、基材１上に、導電性材料を含む第２ライン状液体６によって、閉じられた幾何学図形として四角形を形成する。ここでは、基材１上に、四角形である第２ライン状液体６を基材の長手方向及び幅方向に所定ピッチで複数並設している。ここでは、便宜上、５つの第２ライン状液体６を図示している。
　基材１上に付与された第２ライン状液体６は、液体が付与されていない領域６０を内部に包含することにより、縁として、互いに独立した内側縁６１と外側縁６２とを有する。
　本態様では、第２ライン状液体６を、４つの第１細線ユニット７の間に挟まれる位置に形成している。第２ライン状液体６からなる四角形の各頂点近傍は、隣接する第１細線ユニット７の外側細線３１と接触するように配置されている。第２ライン状液体６からなる四角形の各頂点は、隣接する第１細線ユニット７の内側細線３０と外側細線３１の間の領域に配置されている。
　次いで、第２ライン状液体６を乾燥させる際にコーヒーステイン現象を生起させて、第２ライン状液体６の内部流動によって、導電性材料を第２ライン状液体６の内側縁６１及び外側縁６２に沿って選択的に堆積させる。
　これにより、図１３（ｂ）に示すように、内側細線３０と外側細線３１からなる第２細線ユニット７を形成することができる。第２細線ユニット７を構成する細線３０、３１は、四角形状に形成されている。
　本態様では、基材１上に、第１細線ユニット７と第２細線ユニット７を、基材１の長手方向及び幅方向に交互に形成している。第１細線ユニット７の外側細線３１と第２細線ユニット７の外側細線３１とは互いに接続され、第１細線ユニット７の内側細線３０と、第２細線ユニット７の内側細線３０とは互いに接続されないように、各細線ユニット７を形成している。内側細線３０は、他の内側細線３０と接続されていないだけでなく、他の外側細線３１とも接続されていない。
　以上のようにして、基材１上に、外側細線３１によって互いに接続された細線ユニット７からなるパターンが形成される。
　次いで、得られたパターンに通電して電解めっきを施す。このとき、外側細線３１同士が互いに接続されていることにより、複数の外側細線３１からなる通電経路が網目状に形成される。図示しない給電部材から該通電経路を通して通電することで、該通電経路内の外側細線３１に電解めっきが施される。
　一方、内側細線３０は、他の内側細線３０及び外側細線３１と互いに接続されておらず、各々が独立して形成されているため、上述した外側細線３１のような通電経路が形成されない。給電部材と直接接触する内側細線３０が存在する場合は、該内側細線３０に電解めっきが施され得るが、それ以外の内側細線３０には通電されず、電解めっきが施されない。給電部材を内側細線３０に接触させない場合は、何れの内側細線３０にも電解めっきが施されない。
　このようにして、外側細線３１に対して通電経路を通して通電することで、該外側細線３１に対して選択的に電解めっきを施すことができる。ここで、「選択的」というのは、少なくとも、電解めっきが施される外側細線３１の本数が、電解めっきが施される内側細線３０の本数よりも多いことをいう。
　このようにして、図１４（ａ）に示すように、電解めっきが施された外側細線３１の膜厚を、電解めっきが施されていない内側細線３０と比較して増大させることができる。
　次いで、細線ユニット７の内側細線３０を除去することによって、図１４（ｂ）に示すように、除去せず残留させる互いに接続された外側細線（幾何学図形細線）３１によって、機能性細線パターン２を形成することができる。
　上述したように外側細線３１に電解めっきを施して膜厚を増大させておくことにより、外側細線３１は除去されにくくなり、電解めっきが施されていない内側細線３０は比較的容易に除去できる効果が得られる。
　内側細線３０を除去する方法は格別限定されないが、例えば、レーザー光等のようなエネルギー線を照射する方法や、化学的にエッチング処理する方法等を用いることが好ましい。
　また、細線を除去する好ましい方法として、外側細線３１に電解めっきを施す際に、内側細線３０をめっき液によって除去する方法を用いることもできる。この場合、めっき液として、除去対象となる内側細線３０を構成する導電性材料を溶解又は分解可能なものを用いることができる。
　具体例として、まず、導電性材料として銀ナノ粒子を用いて、内側細線３０及び外側細線３１からなる細線ユニット７を形成する。そして、第１電解めっきとして外側細線３１に選択的に銅めっき層を設け、次いで、第２電解めっきとして該銅めっき層上にニッケルめっき層を設ける。このとき、第２電解めっき（電解ニッケルめっき）のめっき液によって、第１電解めっきが施されていない銀からなる内側細線３０を溶解又は分解して除去することができる。このように、外側細線３１に対する電解めっきと、内側細線３０の除去を同時に進行させることは好ましいことである。
　また、例えば、電解めっきのための給電を停止した後、除去対象となる内側細線３０を除去するのに十分な時間、好ましくは１分～３０分の時間、基材１をめっき液に浸漬させておくことも好ましいことである。
　本態様では、ライン状液体６が、液体が付与されていない領域６０を内部に包含することにより、液体の付与量を削減でき、乾燥負荷を低減することができる。これにより、タクトタイムを短縮して生産効率を向上することができる。
　更に、ライン状液体６は、液体が付与されていない領域６０を内部に包含することにより、液体の乾燥に伴う気化熱の総量が比較的小さくなる。そのため、乾燥に伴う基材温度の変化や不均一化が抑制され、上述した内部流動を安定に形成することができる。
　また更に、ライン状液体６は、液体が付与されていない領域６０を内部に包含することにより、コーヒーステイン現象における内部流動によって機能性材料が縁６１、６２に到達するまでの平均移動距離を短縮することができる。
　これらの結果、比較的大きい径でライン状液体６を形成する場合においても、コーヒーステイン現象を安定に発現することができ、内側細線３０及び外側細線３１の形成を安定化することができる。これにより、機能性細線パターン２を構成する外側細線（幾何学図形細線）３１を自由度高く安定に形成できる効果が得られる。そして、内側細線３０を除去することによって、除去せず残留させる外側細線（幾何学図形細線）３１からなる機能性細線パターン２における細線の配置間隔を自由度高く調整することができる。
　以上に説明したとおり、本発明の機能性細線パターン２を形成するための好ましい方法においては、まず、基材１上に、機能性材料を含むライン状液体６によって、閉じられた幾何学図形を形成し、次いで、前記ライン状液体６を乾燥して、前記機能性材料を縁部に沿って堆積させることにより、機能性材料を含む内側細線３０と外側細線３１からなる機能性細線ユニット７を形成する。かかる細線ユニット７を基材上に複数並設することで機能性細線パターン前駆体が形成される。
　次いで、機能性細線パターン前駆体の機能性細線ユニット７を構成する内側細線３０と外側細線３１からなる機能性細線のうち、内側細線３０を除去することにより、除去せず残留させる外側細線３１によって、機能性細線パターン２の幾何学図形細線３１を形成することができる。
　図１２～図１４の例では、複数の外側細線３１を同じ形状で形成する場合について示しているが、各ライン状液体６の形状によって各外側細線３１に所望の形状を付与できる。このため、以上の方法を用いれば、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’の形状を、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の形状と異ならせることも容易である。特にインクジェット法を用いれば、所望の形状で幾何学図形細線３１を形成することができ、所望する形状の幾何学図形細線３１を、基材１上の所望する位置に適宜形成することができる。そのため、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’を精度良く幅狭にすることができ、これにより、間隙部４を信頼性高く形成することができる。
　以上のようにして、例えば図１～図１１に示したような種々の機能性細線パターン２を好適に形成することができる。
　本発明の他の態様においては、内側細線３０と外側細線３１からなる機能性細線ユニット７を複数並設することで形成されるパターン（即ち上述した機能性細線パターン前駆体）自体を、機能性細線パターンとすることもできる。この場合、外側細線３１によって、互いに複数の交点で接続される幾何学図形細線が構成される。内側細線３０は、外側細線３１からなる幾何学図形細線に対して付加的に設けられる図形要素である。このような付加的図形要素が設けられる場合においても、外側細線３１からなる幾何学図形細線の配置ピッチを複数のパターン部に渡って保持するように間隙部が設けられていることによって、本発明の効果が奏される。以下に、付加的図形要素を含む機能性細線パターンの態様について、図１５～図１８を参照して詳しく説明する。
　図１５及び図１６は、本発明の機能性細線パターンの第５態様を概念的に説明する図である。
　ここでは、基材１の両面に機能性細線パターン２が設けられており、図１５及び図１６は、何れも基材１を同じ側（表面側）から平面視した様子を示している。図１５（ａ）は基材１の表面に設けられた機能性細線パターン２のみを、図１５（ｂ）は基材１の裏面に設けられた機能性細線パターン２のみを基材１を透視して見た様子を、図１６は基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態を、それぞれ示している。
　本態様では、機能性細線パターン２は、外側細線からなる幾何学図形細線３１と、内側細線３０からなる付加的図形要素とによって構成されたユニット７を複数並設して構成されている。かかるユニット７は、図１３（ｂ）に示したユニット７に対応しており、各々がコーヒーステイン現象によって形成されたものであって、未だめっき処理が施されていないものである。
　外側細線からなる幾何学図形細線３１は、上述した第１態様～第４態様と同様に、隣り合う幾何学図形細線３１同士が互いに接続されるように配置されている。幾何学図形細線３１の配置については、上述した説明を援用することができるため、ここでの詳しい説明は省略する。
　付加的図形要素である内側細線３０は、隣り合う内側細線３０同士が互いに接続されていない点で、幾何学図形細線３１とは異なっている。
　このような付加的図形要素が機能性細線パターン２中に設けられる場合においても、外側細線３１からなる幾何学図形細線の配置ピッチを複数のパターン部に渡って保持するように間隙部４が設けられていることによって、図１６に示すように、基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態において、パターンの低視認性を向上できる効果が得られる。
　図示するように、内側細線３０からなる各々の付加的図形要素は、パターンの低視認性の観点から、幾何学図形細線３１と同様に、その配置ピッチが複数のパターン部３に渡って保持されていることが好ましい。
　また、図示するように、間隙部４に隣接する内側細線３０’の形状は、パターンの低視認性の観点から、間隙部４に隣接する幾何学図形細線３１’と同様に、間隙部４に隣接しない内側細線３０の形状とは異なっていることが好ましい。この例では、幾何学図形細線３１’の形状は、間隙部４に隣接しない幾何学図形細線３１の四角形状よりも幅が小さい五角形状になっている。また、内側細線３０’の形状は、間隙部４に隣接しない内側細線３０の四角形状よりも幅が小さい五角形状になっている。
　パターンの低視認性の観点から、付加的図形要素の形状は、幾何学図形細線３１の形状と近似しているか、あるいは相似の関係にあることが好ましい。形状が近似しているというのは、幾何学図形細線３１がｎ角形であれば、付加的図形要素もｎ角形であることを意味し、幾何学図形細線３１が円形又は楕円形であれば、付加的図形要素も円形又は楕円形であることを意味する。付加的図形要素は、幾何学図形細線３１の内側に配置されることが好ましく、幾何学図形細線３１と同じ向きに配置されることが好ましい。
　図１７及び図１８は、本発明の機能性細線パターンの第６態様を概念的に説明する図である。
　ここでは、基材１の両面に機能性細線パターン２が設けられており、図１７及び図１８は、何れも基材１を同じ側（表面側）から平面視した様子を示している。図１７（ａ）は基材１の表面に設けられた機能性細線パターン２のみを、図１７（ｂ）は基材１の裏面に設けられた機能性細線パターン２のみを基材１を透視して見た様子を、図１８は基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態を、それぞれ示している。
　本態様では、機能性細線パターン２は、上述した第５態様と同様に、外側細線からなる幾何学図形細線３１と、内側細線からなる付加的図形要素３０とによって構成されたユニット７を複数並設して構成されている。かかるユニット７は、図１４（ａ）に示したユニット７に対応しており、各々がコーヒーステイン現象によって形成されたものであって、更に外側細線（幾何学図形細線）３１に対して電解めっき処理が施されたことによって、外側細線（幾何学図形細線）３１の膜厚が内側細線（付加的図形要素）３０の膜厚よりも大きくなったものである。
　このように、幾何学図形細線３１と付加的図形要素３０とが異なる膜厚を有する場合においても、幾何学図形細線３１の配置ピッチを複数のパターン部に渡って保持するように間隙部４が設けられていることによって、図１８に示すように、基材１の表面及び裏面に設けられた機能性細線パターン２、２が重なった状態において、パターンの低視認性を向上できる効果が得られる。また、幾何学図形細線３１と付加的図形要素３０とが異なる線幅を有する場合においても、同様の効果が得られる。
　上述した第５態様あるいは第６態様における機能性細線パターン２の付加的図形要素３０、３０’を除去することによって、図４及び図５に示したものと同様の機能性細線パターン２を得ることができる。
　機能性細線パターン前駆体の製造方法は、以上に説明した方法に限定されず、種々の方法で形成することができる。幾何学図形細線３１を、コーヒーステイン現象を利用して形成することは特に好ましいことである。付加的図形要素３０もまた、コーヒーステイン現象を利用して形成することが好ましい。
　細線に含まれる機能性材料は、上述したように導電性材料であることが好ましい。導電性材料を用いることで、該細線の集合体により構成されるパターンを透明導電膜（電極膜あるいは透明電極ともいう）として好適に用いることができる。
　透明導電膜付き基材の用途は、格別限定されないが、種々の電子機器が備える種々のデバイスに用いることができる。本発明の効果を顕著に奏する観点で、例えば、液晶、プラズマ、有機エレクトロルミネッセンス、フィールドエミッション等の各種方式のディスプレイ用透明電極として、あるいは、タッチパネルや携帯電話、電子ペーパー、各種太陽電池、各種エレクトロルミネッセンス調光素子等に用いられる透明電極として好適に用いることができる。スマートフォン、タブレット端末等のような電子機器のタッチパネルセンサーとして透明導電膜付き基材を用いることは特に好ましい。タッチパネルセンサーとして用いる場合は、透明基材の両面の透明導電膜（Ｘ電極及びＹ電極）として、上述した細線パターンを用いることが好ましい。
　以上の説明において、一つの態様について説明された構成は、他の態様に適宜適用することができる。
　以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。
（実施例１）
１．センサーパターン（ｉ）
　実施例１のセンサーパターン（ｉ）は、図１５及び図１６に示したものと同様の機能性細線パターン２と、引出し配線５とを基材１の両面に備えている。センサーパターン（ｉ）を構成するパターン部３の寸法及び並設数は、以下の通りである。
＜センサーパターン（ｉ）の寸法＞
（１）Ｔｏｐセンサー（基材１の表面のパターン）
　・センサー幅（パターン部３の幅）：４．９３５ｍｍ
　・センサー長さ（パターン部３の長さ）：１６９．２７０５ｍｍ
　・センサーピッチ（パターン部３の並設方向の配置ピッチ）：５．０７６ｍｍ
　・ｃｈ数（パターン部の並設数）：１０
（２）Ｂｏｔｔｏｍセンサー（基材１の裏面のパターン）
　・センサー幅（パターン部３の幅）：４．９３５ｍｍ
　・センサー長さ（パターン部３の長さ）：１６９．２７０５ｍｍ
　・センサーピッチ（パターン部３の並設方向の配置ピッチ）：５．０７６ｍｍ
　・ｃｈ数（パターン部３の並設数）：１０
　かかるセンサーパターン（ｉ）は、下記の方法により作製された。
２．センサーパターン（ｉ）の作製
（１）インクの調製
　インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成を有するパターン部形成用インクと引き出し配線形成用インクをそれぞれ調製した。
＜パターン部形成用インク＞
　・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．２３ｗｔ％
　・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
　・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（分散媒）：２０ｗｔ％
　・水（分散媒）：残量
＜引き出し配線形成用インク＞
　・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：１３ｗｔ％
　・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．５ｗｔ％
　・１，３－ブタンジオール（分散媒）：２０ｗｔ％
　・水（分散媒）：残量
（２）基材の用意
　基材として、パターン部形成用インクの接触角が２０．３°となるように表面処理が施された５０μｍ厚ＰＥＴ基材を用意した。表面処理としては、信光電気計装社製「ＰＳ－１Ｍ」を用いてコロナ放電処理を行った。
３．パターンの形成
（１）機能性細線パターンの形成
　液滴吐出装置（コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ｉＬＨＥ－３０」（標準液滴容量３０ｐＬ））を基材１に対して相対移動させながら該液滴吐出装置からインクを吐出し、ライン状液体を蒸発させ、乾燥させることにより、該ライン状液体の縁に機能性材料を選択的に堆積させて、２本線間中心で一辺１．０９ｍｍとなる四角形状の内側細線３０と外側細線３１とからなる細線ユニット７を２パスに分けて形成し、機能性細線パターン２を形成した。パターン部３は、上述したＴｏｐセンサー寸法で形成し、間隙部４に隣接する内側細線３０’及び外側細線３１’は、パターン部３間で絶縁が取れるように五角形状に形成した。ここでは、７０℃に加熱されたステージ上に配置した基材１にパターン形成することにより、ライン状液体の乾燥を促進させている。
（２）引き出し配線の形成
　上記機能性細線パターンを形成した後、液滴吐出装置（コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ｉＳＨＥ」（標準液滴容量６ｐＬ））を基材１に対して相対移動させながら該液滴吐出装置からインクを吐出し、ライン状液体を蒸発させ、乾燥させることにより、Ｌ／Ｓ＝６０μｍ／６０μｍの複数の引き出し配線５を形成した。ここでは、各々の引き出し配線５が上記パターン部３に接続されるように、位置の位置合わせを行った上で引き出し配線５を形成している。また、７０℃に加熱されたステージ上に配置した基材１にパターン形成することにより、ライン状液体の乾燥を促進させている。
（３）裏面へのパターンの形成
　上記のようにして、基材１の表面に機能性細線パターン２及び引き出し配線５を形成した後、基材１の裏面に同様に機能性細線パターン２及び引き出し配線５を上述したＢｏｔｔｏｍセンサー寸法で形成した。ここでは、基材１の表面のパターン形成の後、裏面のパターン形成を行う前に、画像変更（Ｂｏｔｔｏｍパターン）と、表裏パターン形成位置の位置合わせを行っている。
（４）焼成
　１２０℃で１０分間、オーブンで基材１を加熱することによって、上記により形成されたパターンに加熱焼成処理を施した。
（５）物性値
　以上により得られたセンサーパターン（ｉ）の物性値は下記の通りであった。
・外側細線（幾何学図形細線）３１の線幅：５．４５μｍ
・内側細線（付加的図形要素）３０の線幅：５．４５μｍ
・間隙部４の寸法：６３．４μｍ
・機能性細線パターン２の透過率：８７．３７％
・パターン部３の端子間抵抗値：６６７ｋΩ
　ここで、線幅は、光学顕微鏡観察により任意の１０点について測定された線幅の平均値である。間隙部４の寸法は、光学顕微鏡観察により任意の１０点の間隙部４について測定された寸法の平均値である。透過率は、ヘイズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ７０００」）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じ、機能性細線パターン２の全光線透過率と
して測定された値である。端子間抵抗値は、三和電気計器株式会社製「ＣＤ７７０」を用いてパターン部３の１０端子について一端から他端までの電気抵抗（Ω）を測定した値の平均値である。
（実施例２）
１．センサーパターン（ｉｉ）
　実施例２のセンサーパターン（ｉｉ）は、図１７及び図１８に示したものと同様の機能性細線パターン２と、引出し配線５とを基材１の両面に備えている。センサーパターン（ｉｉ）を構成するパターン部３の寸法及び並設数は、実施例１のセンサーパターン（ｉ）と同様である。
　かかるセンサーパターン（ｉｉ）は、下記の方法により作製された。
２．センサーパターン（ｉｉ）の作製
（１）銅電解めっき
　実施例１のセンサーパターン（ｉ）に下記めっき条件で、外側細線３１に対して選択的に銅電解めっきを施した。その結果、外側細線３１の線幅及び膜厚は、内側細線の線幅及び膜厚よりも大きくなった。
＜めっき条件＞
　実施例１のセンサーパターン（ｉ）が形成された基材１に対して、引き出し配線５から給電し、硫酸銅五水和物２０ｇ、１Ｎ塩酸、１．３ｇ、光沢付与剤（メルテックス社製「ＳＴ９０１Ｃ」）５ｇを、イオン交換水で１０００ｍＬとなるように調製してなるめっき浴内で電解めっきを行った。アノードをめっき用銅板と接続し、めっき浴内で基材１と銅板が３０ｍｍ離間するように設置した。０．２Ａの定電流で１２分間、銅電解めっき処理を施した。めっき終了後、基材１を水洗し、乾燥した。
（２）物性値
　以上により得られたセンサーパターン（ｉｉ）の物性値は下記の通りであった。
・外側細線（幾何学図形細線）３１の線幅：５．８４μｍ
・内側細線（付加的図形要素）３０の線幅：５．４５μｍ
・間隙部４の寸法：６３．４μｍ
・機能性細線パターン２の透過率：８７．３６％
・パターン部３の端子間抵抗値：２４０Ω
（実施例３）
１．センサーパターン（ｉｉｉ）
　実施例２のセンサーパターン（ｉｉｉ）は、図４及び図５に示したものと同様の機能性細線パターン２と、引出し配線５とを基材１の両面に備えている。即ち、センサーパターン（ｉｉｉ）は、実施例２のセンサーパターン（ｉｉ）における内側細線３０が除去された状態である。センサーパターン（ｉｉｉ）を構成するパターン部３の寸法及び並設数は、実施例１のセンサーパターン（ｉ）と同様である。
　かかるセンサーパターン（ｉｉｉ）は、下記の方法により作製された。
２．センサーパターン（ｉｉｉ）の作製
（１）ニッケル電解めっき
　実施例２のセンサーパターン（ｉｉ）に下記めっき条件で、ニッケル電解めっきを施した。その結果、外側細線３１に選択的にニッケル電解メッキが施され、一方、内側細線３０は除去された。
＜めっき条件＞
　実施例２のセンサーパターン（ｉｉ）が形成された基材１に対して、引き出し配線５から給電し、硫酸ニッケル２４０ｇ、塩化ニッケル４５ｇ、ホウ酸３０ｇを、イオン交換水で１０００ｍＬとなるように調製してなるめっき浴内で電解めっきを行った。アノードをめっき用ニッケル板と接続し、めっき浴内で基材とニッケル板が３０ｍｍ離間するように設置した。０．２Ａの定電流で３分間、ニッケル電解めっき処理を施した。更に、めっき終了後、めっき浴内で１０分間、基材１を放置した後、水洗し、乾燥した。
（２）物性値
　以上により得られたセンサーパターン（ｉｉｉ）の物性値は下記の通りであった。
・外側細線（幾何学図形細線）３１の線幅：６．４０μｍ
・間隙部４の寸法：６３．４μｍ
・機能性細線パターン２の透過率：８８．５３％
・パターン部３の端子間抵抗値：１２６Ω
＜低視認性評価＞
　以上により得られたセンサーパターン（ｉ）～（ｉｉｉ）の各々について、下記の評価基準で、低視認性を評価した。
［評価基準］
　低視認性は、サンプルをライトテーブル上で５０ｃｍ離れた位置から目視し、細線が視認できないほど低視認性に優れるとするものであり、具体的には、細線が視認できないものを「Ａ」、細線が若干視認できるが実用上問題ないものを「Ｂ」、細線がはっきりと視認できるものを「Ｃ」と評価した。なお、センサーパターン（ｉ）～（ｉｉｉ）のうち、「Ｃ」評価に該当するものはなかった。
　評価結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　１：基材
　２：機能性細線パターン
　３：パターン部
　　３１：幾何学図形細線
　４：間隙部
　５：引き出し配線
　６：ライン状液体
　７：機能性細線ユニット

Claims (14)

  1. 　基材上に、機能性材料を含む閉じられた幾何学図形細線を、隣り合う前記幾何学図形細線同士が互いに複数の交点で接続されるように、二次元的に複数並設してなる複数のパターン部と、
    　隣り合う前記パターン部間に設けられた間隙部と、により構成され、
    　前記幾何学図形細線の配置ピッチを複数の前記パターン部に渡って保持するように前記間隙部が設けられている機能性細線パターン。
  2. 　前記間隙部の幅が、前記配置ピッチよりも狭い請求項１記載の機能性細線パターン。
  3. 　前記パターン部を構成する前記幾何学図形細線のうち、前記間隙部に隣接する前記幾何学図形細線の形状が、前記間隙部に隣接しない前記幾何学図形細線の形状と異なることによって前記間隙部が設けられている請求項１又は２記載の機能性細線パターン。
  4. 　前記幾何学図形細線の形状が、多角形である請求項１～３の何れかに記載の機能性細線パターン。
  5. 　前記パターン部は、前記基材の長手方向に対して各辺が傾斜した四角形である前記幾何学図形細線を、該基材の長手方向及び幅方向のそれぞれに並設してなる請求項１～４の何れかに記載の機能性細線パターン。
  6. 　前記基材の両面に形成された請求項１～５の何れかに記載の機能性細線パターン。
  7. 　基材上に、機能性材料を含む閉じられた幾何学図形細線を、隣り合う前記幾何学図形細線同士が互いに複数の交点で接続されるように、二次元的に複数並設してなる複数のパターン部と、
    　隣り合う前記パターン部間に設けられた間隙部と、により構成され、
    　前記幾何学図形細線の配置ピッチを複数の前記パターン部に渡って保持するように前記間隙部が設けられている機能性細線パターンを製造する機能性細線パターンの製造方法であって、
    　前記幾何学図形細線を、コーヒーステイン現象を利用して形成する機能性細線パターンの製造方法。
  8. 　前記間隙部の幅を、前記配置ピッチよりも狭くする請求項７記載の機能性細線パターンの製造方法。
  9. 　前記パターン部を構成する前記幾何学図形細線のうち、前記間隙部に隣接する前記幾何学図形細線の形状を、前記間隙部に隣接しない前記幾何学図形細線の形状と異ならせることによって前記間隙部を形成する請求項７又は８記載の機能性細線パターンの製造方法。
  10. 　前記幾何学図形細線の形状を多角形に形成する請求項７～９の何れかに記載の機能性細線パターンの製造方法。
  11. 　前記パターン部を、前記基材の長手方向に対して各辺が傾斜した四角形である前記幾何学図形細線を、該基材の長手方向及び幅方向のそれぞれに並設して形成する請求項７～１０の何れかに記載の機能性細線パターンの製造方法。
  12. 　基材上に、機能性材料を含む第１ライン状液体によって、閉じられた幾何学図形を形成し、前記第１ライン状液体を乾燥して、前記機能性材料を縁部に沿って堆積させることにより、前記機能性材料を含む内側細線と外側細線からなる第１機能性細線パターン前駆体を形成し、
    　次いで、前記基材上に、機能性材料を含む第２ライン状液体によって、閉じられた幾何学図形を形成し、前記第２ライン状液体を乾燥して、前記機能性材料を縁部に沿って堆積させることにより、前記機能性材料を含む内側細線と外側細線からなる第２機能性細線パターン前駆体を形成する際に、
    　少なくとも一組の前記第１機能性細線パターン前駆体と前記第２機能性細線パターン前駆体において、前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線と、前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線とが接続され、且つ前記第１機能性細線パターン前駆体の前記内側細線と、前記第２機能性細線パターン前駆体の前記内側細線とが接続されないように、前記第１機能性細線パターン前駆体及び前記第２機能性細線パターン前駆体を形成し、
    　次いで、前記機能性細線パターン前駆体の前記内側細線を除去することにより、除去せず残留させる前記外側細線によって前記幾何学図形細線を形成する請求項７～１１の何れかに記載の機能性細線パターンの製造方法。
  13. 　前記機能性材料として導電性材料を用い、互いに接続された前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線と前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線とからなる通電経路を通して通電することによって、前記外側細線に電解めっきを施し、
    　次いで、前記機能性細線パターン前駆体の前記内側細線を除去することにより、除去せず残留させる前記外側細線によって前記幾何学図形細線を形成する請求項１２記載の機能性細線パターンの製造方法。
  14. 　前記基材の両面に前記機能性細線パターンを形成する請求項７～１３の何れかに記載の機能性細線パターンの製造方法。
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