WO2017104424A1 - 体積ホログラム製造用感光性組成物、体積ホログラムの製造方法、体積ホログラム及びホログラフィック光学素子 - Google Patents

体積ホログラム製造用感光性組成物、体積ホログラムの製造方法、体積ホログラム及びホログラフィック光学素子 Download PDF

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volume hologram
polarity
photosensitive composition
resin
refractive index
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平岡 三郎
賢一 尾中
大輔 渡邉
雄也 久保
希志臣 田村
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コニカミノルタ株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive composition for producing a volume hologram, a method for producing a volume hologram, a volume hologram, and a holographic optical element.
  • the present invention relates to a volume hologram excellent in diffraction efficiency and durability, a photosensitive composition for volume hologram production used for producing the volume hologram, a method for producing the volume hologram, and a holographic device including the volume hologram.
  • the present invention relates to an optical element.
  • the holographic optical element is an optical element including a volume hologram in which a grating (diffraction grating) of a high refractive index region and a low refractive index region is formed in a layer. Further, the holographic optical element can reflect or diffract light of a specific wavelength according to the form of the diffraction grating, and has a function of an optical combiner.
  • Volume holograms are generally produced by performing interference wave exposure on a photosensitive film made of a photosensitive composition containing a radical polymerizable monomer having a characteristic in refractive index (see, for example, Patent Document 1). That is, in the photosensitive film that has been subjected to interference wave exposure, in the bright part of the interference wave, the polymerization reaction proceeds and the radical polymerizable monomer is consumed, and the radical polymerizable monomer remaining in the photosensitive film with the consumption is consumed. It moves to the bright part by diffusion movement. The radical polymerizable monomer moved to the bright part is further consumed as the polymerization reaction proceeds.
  • the radical polymerizable monomer in the photosensitive layer moves to the bright part to form a polymer, thereby forming a domain having a high (or low) refractive index.
  • a domain having a low refractive index (or a high refractive index) is formed in the dark part, and a diffraction grating is formed.
  • holographic optical elements including volume holograms are applied to, for example, optical lenses, display elements, and the like, and the demand is increasing.
  • the holographic optical element since it has a feature of excellent transparency, it is used as a see-through type display element (for example, a display element used for a head-mounted display or a head-up display) (for example, Patent Documents). 2).
  • volume holograms are not sufficient, and they sufficiently respond to the performance and quality required with the increasing demand for display elements and diversification of applications. Not done.
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned problems and situations, and its solution is a volume hologram excellent in diffraction efficiency and durability, a photosensitive composition for volume hologram production used for producing the volume hologram, It is providing the manufacturing method of the said volume hologram, and the holographic optical element provided with the said volume hologram.
  • the photosensitive composition for volume hologram production contains at least the following (a) to (c). It has been found that a volume hologram with excellent durability can be obtained. That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.
  • a photosensitive composition for producing a volume hologram comprising at least the following (a) to (c): (A) Resin that converts polarity from hydrophobic to hydrophilic or from hydrophilic to hydrophobic due to the presence of at least one of heat, acid, and base (b) A material that generates at least one of heat, acid, and base by light (C) Compound having a refractive index in the range of 1.55 to 2.70, which is the same as the polarity before hydrophilicity and hydrophobicity (a) before polarity conversion
  • the (a) includes a resin having a functional group that changes polarity from hydrophobicity to hydrophilicity or a functional group that changes polarity from hydrophilicity to hydrophobicity by the presence of at least one of heat, acid, and base.
  • the photosensitive composition for volume hologram manufacture as described in 1 above.
  • the first or second item wherein (b) includes at least one of a photoacid generator, a photobase generator, a photothermal generator, and a combination of a photothermal generator and a thermal acid generator.
  • the photosensitive composition for volume hologram manufacture as described in 2.
  • a volume hologram comprising a photosensitive film comprising a photosensitive composition for volume hologram production containing at least the following (a) to (c) to form a diffraction grating by performing interference wave exposure with at least coherent light: Manufacturing method.
  • C Compound having a refractive index in the range of 1.55 to 2.70, which is the same as the polarity before hydrophilicity and hydrophobicity (a) before polarity conversion
  • the (a) causes a polarity conversion from hydrophobicity to hydrophilicity, or a polarity conversion from hydrophilicity to hydrophobicity, and the polarity difference generated according to the polarity conversion causes the 7.
  • the difference between the frictional force between the high refractive index region and the hydroxy group-modified probe probe and the frictional force between the low refractive index region and the probe probe according to the Chemical Force Microscope method is 0.5-3.
  • a holographic optical element comprising the volume hologram according to any one of items 8 to 11.
  • a volume hologram excellent in diffraction efficiency and durability a photosensitive composition for volume hologram production used for producing the volume hologram, a method for producing the volume hologram, and a holographic device including the volume hologram
  • An optical element can be provided.
  • the expression mechanism or action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.
  • the volume hologram of the present invention comprises at least (a) a resin that converts polarity from hydrophobic to hydrophilic, or from hydrophilic to hydrophobic, due to the presence of at least one of heat, acid and base, and (b) heat, acid by light And a material that generates at least one kind of base, and (c) a range of hydrophilicity and hydrophobicity that is the same as the polarity before the polarity conversion of (a) and has a refractive index of 1.55 to 2.70 It can be produced by forming a diffraction grating on a photosensitive film made of a photosensitive composition for volume hologram production containing a compound in the above by performing interference wave exposure with at least coherent light.
  • an interference wave is produced using the photosensitive composition for volume hologram production of the present invention.
  • a diffraction grating formed by exposure exhibits high diffraction efficiency.
  • the formed diffraction grating has a large polarity difference between the high refractive index region and the low refractive index region, the high refractive index region and the low refractive index region are separated even during long-term storage. It is less turbid and can maintain high diffraction efficiency.
  • the holographic optical element including the volume hologram of the present invention can exhibit high optical performance over a long period of time.
  • Schematic block diagram showing an example of an exposure apparatus used for interference wave exposure Schematic configuration diagram of holographic optical element manufactured in the example
  • the photosensitive composition for volume hologram production of the present invention comprises at least (a) a resin that changes polarity from hydrophobic to hydrophilic or from hydrophilic to hydrophobic by the presence of at least one of heat, acid and base, (b) ) A material that generates at least one of heat, acid and base by light; and (c) hydrophilicity and hydrophobicity that are the same as the polarity before the polarity conversion of (a), and the refractive index is 1.55. Containing a compound in the range of ⁇ 2.70. This feature is a technical feature common to or corresponding to each claim.
  • the above (a) is polar from hydrophobic to hydrophilic due to the presence of at least one of heat, acid and base. It is preferable to include a resin having a functional group for conversion or a functional group for polarity conversion from hydrophilic to hydrophobic.
  • the (b) includes at least one of a photoacid generator, a photobase generator, a photothermal generator, and a combination of a photothermal generator and a thermal acid generator. preferable.
  • the (c) includes at least one of aromatic ring-containing compounds, organic fine particles, and metal fine particles, and more preferably includes at least one of organic fine particles and metal fine particles.
  • the (c) includes at least one of aromatic ring-containing compounds, organic fine particles, and metal fine particles, and more preferably includes at least one of organic fine particles and metal fine particles.
  • a high refractive index region in a volume hologram can be formed as a structure in which organic fine particles or metal fine particles have a volume, and a stronger diffraction grating can be formed. Therefore, the durability of the volume hologram is further improved.
  • the method for producing a volume hologram of the present invention comprises at least (a) a resin that converts the polarity from hydrophobic to hydrophilic, or from hydrophilic to hydrophobic, by the presence of at least one of heat, acid and base, (b) A material that generates at least one of heat, acid and base by light, and (c) the same polarity as before (a) of the hydrophilicity and hydrophobicity, and a refractive index of 1.55 to A diffraction grating is formed by performing interference wave exposure with at least coherent light on a photosensitive film comprising a photosensitive composition for volume hologram production containing a compound within the range of 2.70.
  • the polarity conversion from hydrophobic to hydrophilic or the polarity conversion from hydrophilic to hydrophobic is caused in (a), and the polarity conversion is performed. It is preferable to form the diffraction grating by moving the (c) within the photosensitive film by the polarity difference generated accordingly.
  • the volume hologram of the present invention is characterized in that there is a polarity difference due to hydrophilicity and hydrophobicity between the high refractive region and the low refractive region of the diffraction grating.
  • the frictional force between the high refractive index region and the hydroxy group-modified probe probe by the Chemical Force Microscopy method (CFM method), the low refractive index region, and the probe probe The difference from the frictional force is preferably in the range of 0.5 to 3.0 nN.
  • the difference in the frictional force is preferably in the range of 1.0 to 3.0 nN, and more preferably in the range of 2.5 to 3.0 nN.
  • the holographic optical element of the present invention is characterized by comprising the volume hologram.
  • is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
  • the photosensitive composition for volume hologram production of the present invention is characterized by containing at least the following (a) to (c).
  • a resin that changes polarity from hydrophobicity to hydrophilicity or from hydrophilicity to hydrophobicity by the presence of one kind is a hydrophobicity to hydrophilicity due to the presence of at least one of heat and acid.
  • Any known resin can be used as long as it is a resin that converts the polarity into hydrophilicity or the polarity that changes from hydrophilic to hydrophobic.
  • Resin that converts polarity from hydrophobic to hydrophilic by the presence of at least one of heat, acid, and base As such a resin, the main chain is decomposed by the presence of at least one of heat, acid, and base.
  • a resin capable of forming a hydrophilic functional group at the decomposition part and a resin having a functional group capable of converting the polarity from hydrophobic to hydrophilic.
  • Resin capable of decomposing main chain to form hydrophilic functional group for example, hydrolyzable main chain
  • bondings is mentioned.
  • the hydrolyzable bond include an ester bond and a urethane bond.
  • such a resin include polyester, polyhydroxyalkanoate, polyurethane and the like, and those having low crystallinity and high hydrolyzability are preferable, and polyhydroxyalkanoate having low crystallinity is preferable.
  • the crystallinity of the resin can be determined by the following observation. That is, 10 parts of the resin bulk is immersed in 1000 parts of tetrahydrofuran for 1 hour. The insoluble content of the resin bulk contained in the tetrahydrofuran is filtered off with a mesh, the insoluble content is dried at room temperature for 12 hours, and the mass X (part by mass) is measured. When the ratio of insoluble matter calculated
  • required by a following formula is 5 mass% or more, it considers that the said resin is high crystallinity. Insoluble content ratio (mass%) X / 10
  • Resin having a functional group capable of converting polarity from hydrophobic to hydrophilic examples include, for example, alkyl sulfonate groups and carboxylic acids.
  • a resin having an ester group may be mentioned.
  • Such an alkylsulfonic acid ester group Ra is represented by the following general formula (1).
  • R 1 and R 2 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, and form a ring with the secondary carbon atom (CH) to which R 1 and R 2 are bonded. May be.
  • L represents a polyvalent linking group composed of a nonmetallic atom.
  • the alkyl group is, for example, a linear or branched group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, or a cyclohexyl group.
  • a cyclic alkyl group is exemplified, and those having 1 to 25 carbon atoms are preferably used.
  • R 1 and R 2 represent a substituted alkyl group
  • substituents include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom A halogen-substituted alkyl group such as a trifluoromethyl group or a trichloromethyl group; an alkoxycarbonyl group having 2 to 15 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a t-butyloxycarbonyl group, or a p-chlorophenyloxycarbonyl group; A hydroxyl group; an acyloxy group such as acetyloxy, benzoyloxy, p-diphenylaminobenzoyloxy; a carbonate group such as t-butyloxycarbonyloxy group; a t-
  • Ether group substituted or unsubstituted amino group such as amino group, dimethylamino group, diphenylamino group, morpholino group and acetylamino group; thioether group such as methylthio group and phenylthio group; alkenyl group such as vinyl group and steryl group; Nitro group; cyano group; acyl group such as formyl group, acetyl group and benzoyl group; aryl group such as phenyl group and naphthyl group; heteroaryl group such as pyridyl group and the like.
  • an alkyl group substituted with an electron-withdrawing group such as an alkoxy group, a carbonyl group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group or a halogen group, an alkyl group such as a cyclohexyl group or a norbornyl group is preferable.
  • the polyvalent linking group composed of a non-metal atom represented by L in the general formula (1) is 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, and 0 to 50 oxygen atoms. It consists of 1 to 100 hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms. More specific examples of the linking group include those formed by combining the following structural units.
  • Examples of the polyvalent linking group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, a hydroxy group, a carboxy group, and a sulfonamide.
  • N-sulfonylamido group acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms such as acetoxy group, alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group, halogen atom such as chlorine and bromine, methoxycarbonyl And a C2-C7 alkoxycarbonyl group such as an ethoxycarbonyl group and a cyclohexyloxycarbonyl group, a cyano group, and a carbonate group such as t-butyl carbonate.
  • the carboxylic ester group Rb is represented by the following general formula (2).
  • R 3 represents a hydrogen atom
  • R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 18 or less carbon atoms
  • R 5 represents an alkyl group having 18 or less carbon atoms. Two of R 3 , R 4 and R 5 may be bonded to form a ring.
  • R 3 , R 4 and R 5 may combine to form a ring, but in particular, R 4 and R 5 combine to form a 5-membered or 6-membered ring. Is preferred.
  • the resin having a functional group capable of converting the polarity from hydrophobic to hydrophilic does not have a monomer or macromonomer having the polar conversion group Ra or Rb and the polar conversion groups Ra and Rb, and has a polarity conversion property. It can be obtained by polymerizing a polymerizable composition containing a monomer or a macromonomer that does not have a monomer.
  • the monomer in the present invention means a monomer having a molecular weight of less than 1000, and the macromonomer has a molecular weight that is somewhat large, for example, a weight average molecular weight of 1000 or more and less than 10,000.
  • the monomer or macromonomer having no polarity conversion property is not particularly limited.
  • a method of irradiating active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, a radical polymerization initiator or a cationic polymerization initiator.
  • a monomer or macromonomer that is polymerized (cured) is preferably used by adding and starting the curing reaction with light or heat.
  • styrene monomer styrene macromonomer
  • (meth) acrylic monomer (meth) acrylic macromonomer
  • vinyltoluene monomer vinyltoluene macromonomer
  • vinyl acetate monomer vinyl acetate macromonomer
  • N-vinylpyrrolidone monomer N-vinylpyrrolidone macromonomer and the like.
  • These monomers or macromonomers may be used alone or in combination of two or more.
  • a (meth) acrylic macromonomer is more preferred.
  • the (meth) acrylic monomer may be a monofunctional (meth) acrylic monomer or a polyfunctional (meth) acrylic monomer.
  • monofunctional (meth) acrylic monomers include 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl phthalate, and 2- (meth) acryloyloxyethyl.
  • polyfunctional (meth) acrylic monomer examples include 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol F di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, hexahydrophthalic acid di (meth) acrylate, neopentyl hydroxypivalate Glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate phthalate Polyethylene glycol di (meth) acrylate, poly(
  • the ratio of the monomer or macromonomer containing the polar conversion group Ra or Rb is preferably within a range of 5 to 100 mol%, and preferably within a range of 20 to 100 mol%, of all monomers. More preferred. Within this range, the polarity conversion group is sufficiently present in the resin, and the polarity can be more reliably converted by the presence of heat or acid.
  • the component (a) is preferably a resin having a functional group capable of converting the polarity from hydrophobic to hydrophilic.
  • Resin that converts polarity from hydrophilicity to hydrophobicity by the presence of at least one of heat, acid, and base Such a resin includes a hydrophilic functional group that can be cross-linked by the presence of at least one of heat, acid, and base. Examples thereof include a single resin or a plurality of resins containing a combination of groups, and a resin having a functional group capable of converting the polarity from hydrophobic to hydrophilic.
  • [1-2-1] Single or plural resins including a combination of hydrophilic functional groups capable of crosslinking
  • the resin include a combination of a carboxy group and a hydroxy group, a combination of a carboxy group and an amino group, a combination of a blocked isocyanate group modified with a hydrophilic group and a hydroxy group, and a blocked isocyanate modified with a hydrophilic group.
  • a single resin or a resin group containing a hydrophilic functional group composed of a combination of a group and an amino group in a single resin or a plurality of resins is used.
  • Examples of the resin or resin group include a combination of polyvinyl alcohol and poly (meth) acrylic acid, a (meth) acrylic acid hydroxy group-containing acrylic monomer copolymer, a combination of poly (meth) acrylic acid and polysulfonamide, and carboxy modification.
  • Examples include polyvinyl alcohol, a combination of a blocked isocyanate-containing resin modified with a hydrophilic group and polyvinyl alcohol, a combination of a blocked isocyanate-containing resin modified with a hydrophilic group and polysulfonamide, and the like.
  • Examples of the block polyisocyanate-containing resin modified with the hydrophilic group include, for example, a block polyisocyanate compound described in International Publication No. 2012/137811, a sulfite of a polyisocyanate compound, and Daiichi Kogyo Seiyaku as a commercial product. Examples include Elastron (registered trademark) series of Co., Ltd.
  • Resin having a functional group capable of converting polarity from hydrophilic to hydrophobic As a resin having a functional group capable of converting polarity from hydrophilic to hydrophobic, for example, a resin having a polar conversion group Rc is used. Can be mentioned.
  • the polarity converting group Rc is represented by the following general formula (3).
  • X represents —O—, —S—, —Se—, —NR 8 —, —CO—, —SO—, —SO 2 —, —PO—, —SiR 8 R 9 —. , -CS-, and R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a monovalent group.
  • M represents an ion having a positive charge.
  • R 6 , R 7 , R 8 and R 9 for example, —F, —Cl, —Br, —I, —CN, —R 10 , —OR 10 , —OCOR 10 , —OCOOR 10 , —OCONR 10 R 11 , —OSO 2 R 10 , —COR 10 , —COOR 10 , —CONR 10 R 11 , —NR 10 R 11 , —NR 10 —COR 11 , —NR 10 —COOR 11 , —NR 10 —CONR 11 R 12 , —SR 10 , —SOR 10 , —SO 2 R 10 , —SO 3 R 10 and the like.
  • R 10 , R 11 and R 12 each independently represent hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group or an alkynyl group.
  • R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are preferably hydrogen, an alkyl group, an aryl group, an alkynyl group or an alkenyl group.
  • M is selected from, for example, K + , Na + , NH 4 + and N (CH 3 ) 4 + .
  • the resin having a functional group capable of converting polarity from hydrophilic to hydrophobic can be prepared in the same manner as the resin having a functional group capable of converting polarity from hydrophobic to hydrophilic.
  • Whether the resin used is hydrophilic or hydrophobic, and whether or not it has polarity convertibility due to the presence of at least one of heat, acid and base, is determined by measuring the contact angle of the resin film with pure water. can do. Specifically, it is determined by the following method. The resin to be measured is made into a film and left to stand in an environment of 20 ° C. and 50% RH for 12 hours. Using one of the contact angle meter system DropMaster series (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) under the same environment (for example, DM-901), 0.1 mL of pure water was dropped onto the film, and the solution after 30 seconds The contact angle measured from the droplet shape image is defined as the contact angle of the resin with respect to pure water.
  • DropMaster series manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.
  • the resin can be regarded as hydrophilic. On the other hand, when the contact angle is 50 ° or more, the resin can be regarded as hydrophobic. Further, the film is immersed in 0.1 N hydrochloric acid for 3 minutes. After immersion, after standing for 12 hours in an environment of 20 ° C. and 50% RH, the contact angle is measured as described above in the same environment, and the contact angle increases (or decreases) at the boundary of 50 ° to be 30 ° or more. When changed, the resin can be regarded as having undergone polarity conversion by acid. On the other hand, the film is put in a thermostat at 150 ° C. for 60 seconds and heat-treated.
  • the resin can be regarded as having undergone polarity conversion by heat.
  • the film is immersed in a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution for 3 minutes.
  • the contact angle is measured as described above in the same environment, and the contact angle increases (or decreases) at 50 ° as a boundary, and 30 ° or more
  • the resin can be regarded as having undergone polarity conversion by the base.
  • the content ratio of the component (a) is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 30 to 60% by mass, based on the total solid content. Within this range, the physical properties of the photosensitive film can be ensured, and the refractive index modulation of the volume hologram to be produced increases.
  • the component (a) is preferably a resin having a functional group capable of converting the polarity from hydrophilic to hydrophobic in the side chain from the viewpoint of the magnitude of the polarity change accompanying the polarity conversion and maintaining the strength of the resin.
  • a material that generates heat by light can be a compound that can absorb a specific wavelength and generate heat. Examples of such a compound include known pigment compounds and dyes.
  • azo dyes metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, azurenium dyes, croconium dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, thiopyrylium dyes, metal thiolate complexes And the like.
  • a material that generates an acid by light includes a known photoacid generator, a combination of a photoacid generator and a sensitizing dye, or the photothermal generator and the thermal acid generator. A combination of these can be used.
  • Usable photoacid generators include, for example, triazines such as trichloromethyl-s-triazine, diazomethane compounds, imide sulfonate compounds, oxime sulfonate compounds, diazonium salts, diaryl iodonium salts, triaryl sulfonium salts, quaternary ammonium Examples thereof include salts, onium salts such as selenonium salts and arsonium salts, iron-allene complexes, silanol-metal chelate complexes, and the like.
  • triazines such as trichloromethyl-s-triazine, diazomethane compounds, imide sulfonate compounds, oxime sulfonate compounds, diazonium salts, diaryl iodonium salts, triaryl sulfonium salts, quaternary ammonium Examples thereof include salts, onium salts such as selenonium salts and
  • Usable thermal acid generators include, for example, oxime ester compounds of organic sulfonic acids, 2,4,4,6-tetrabromocyclohexadienone, benzoin tosylate, 2-nitrobenzyl tosylate, and other organic sulfonic acids And alkyl esters thereof. Further, sulfonium salts, iodonium salts, benzothiazonium salts, ammonium salts, onium salts such as phosphonium salts, and the like can be appropriately used as the thermal acid generator.
  • a known photobase generator or a combination of a photobase generator and a sensitizing dye can be used as a material that generates a base by light.
  • the photobase generator usable in the present invention include acyclic acyloxyimino compounds, acyclic carbamoyloxime compounds, carbamoylhydroxylamine compounds, carbamic acid compounds, formamide compounds, acetamide compounds, carbamate compounds, and benzylcarbamate compounds.
  • the sensitizing dye has an absorption maximum wavelength in the range of 400 to 800 nm, particularly 450 to 700 nm, absorbs the emission wavelength of recording light used for holographic exposure described later, and provides electron donation, electron attraction, It is a substance having an action of improving energy generation efficiency of the photoacid generator by supplying energy to the photoacid generator by generation or the like, and is used in combination with the photoacid generator.
  • sensitizing dyes include polymethine compounds such as cyanine dyes and styryl dyes, xanthene compounds such as rhodamine B, rhodamine 6G, and pyronin GY, phenazine compounds such as safranin O, cresyl violet, Phenoxazine compounds such as brilliant cresyl blue, phenothiazine compounds such as methylene blue and new methylene blue, diarylmethane compounds such as auramine, triarylmethane compounds such as crystal violet, brilliant green and lissamine green, (thio) pyrylium Examples thereof include salt compounds, squarylium compounds, coumarin dyes, thioxanthene dyes, acene dyes, merocyanine dyes, thiazolium dyes, and the like.
  • sensitizing dyes act as sensitizing dyes in documents such as “Development Technology of Polymer Additives” (CMC Publishing Co., Ltd., supervised by Junichi Daikatsu). Substances may be applied. These sensitizing dyes may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of component (b) is preferably in the range of 0.01 to 5% by mass of the total solid content from the viewpoint of sensitivity and film strength of the photosensitive film. A range of 0.1 to 2% by mass is more preferable.
  • component (c) Compound having a refractive index within the range of 1.55 to 2.70, which is the same as the polarity before hydrophilicity and hydrophobicity of component (a) before polarity conversion (C) a compound having a refractive index within the range of 1.55 to 2.70 (hereinafter referred to as component (c)), which is the same as the polarity before hydrophilicity and hydrophobicity before component (a) undergoes polarity conversion It is also preferable to include at least one of known aromatic ring-containing compounds, organic fine particles, and metal fine particles.
  • the refractive index can be measured as follows. That is, first, solutions are prepared by using a solvent capable of dissolving and dispersing the material to be measured so that the solid content concentration of the material becomes 0 mass%, 20 mass%, and 40 mass%. With respect to the solutions adjusted to the respective concentrations, the refractive index is measured at a wavelength of 525 nm using a Kalnew precision refractometer KPR-3000, and a solid content concentration-solution refractive index plot is created. From the created plot, the extrapolated value of the refractive index at a solid content of 100% by mass is taken as the refractive index of the material.
  • the aromatic ring-containing compound examples include compounds containing an aromatic ring (that is, a ring in which the number of ⁇ electrons satisfies 4n + 2 (n is a natural number)).
  • the aromatic ring may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle, such as a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, azulene ring, phenanthrene ring, triphenylene ring, pyrene ring, chrysene ring, naphthacene ring, perylene ring, Pentacene ring, hexacene ring, coronene ring, trinaphthylene ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring, 1,2,4-triazole ring, 1,2,3-triazole ring, oxazole ring, thiazole
  • the hydrogen atom bonded to the aromatic ring may be substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a trifluoromethyl group, or an alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms. good. Further, it may be substituted with a group having an acryloyl group at the terminal through an oxyethylene chain, an oxypropylene chain, a urethane bond, an amide bond or the like.
  • aromatic ring-containing compounds examples include N-ethylcarbazole derivatives such as N-ethylcarbazole and 4-hydroxyethylcarbazole, fluorene derivatives such as 9,9-diarylfluorenebisphenolfluorene, bisphenol derivatives, triphenylmethane derivatives, triphenylmethane derivatives, Examples thereof include, but are not limited to, phenylphosphate derivatives and triphenylthiophosphate derivatives.
  • a hydrogen atom bonded to the aromatic ring of the aromatic ring-containing compound is, for example, a hydroxy group, an oxyethylene group, an oxyethylene group, a sulfonic acid group, a carboxy group, and It can be substituted with a hydrophilic group such as a phosphate group.
  • organic fine particles having the structure of the aromatic ring-containing compound can be used.
  • organic fine particles include hyperbranched polymers, dendrimers, starburst polymers, fullerenes, nanodiamonds, etc., and dendrimers, starburst polymers, and hyperbranched polymers that are highly branched main chains are dispersible. Particularly preferred from the viewpoints of transparency and economy.
  • These organic fine particles form a high refractive index region in a volume hologram as a structure having a volume, and contribute to the formation of a stronger diffraction grating. Therefore, the durability of the volume hologram is further improved.
  • the average particle size of the organic fine particles is preferably within the range of 10 to 50 nm.
  • metal fine particles those having an average particle size of 50 nm or less can be used.
  • the metal fine particles include titanium oxide, silicon oxide, zinc oxide, aluminum oxide, antimony oxide, chromium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, zirconium oxide, tin oxide, copper oxide, iron oxide, magnesium oxide, and manganese oxide.
  • Metal oxides such as holmium oxide, bismuth oxide, cobalt oxide, erbium oxide, gadolinium oxide, indium oxide, nickel oxide, strontium oxide, ytterbium oxide, nitrides such as silicon nitride, titanium nitride, zirconium nitride, niobium nitride, carbonization Dielectric fine particles such as carbides such as silicon, titanium carbide, molybdenum carbide, tungsten carbide, IV group semiconductors such as Si and Ge, II-VI group semiconductor fine particles such as CdS, CdSe, ZnSe, CdTe, ZnS, HgS, HgSe, GaAs, I III-V semiconductor fine particles such as P and InSb, IV-VI semiconductor fine particles such as PbS and PbSe, and metal fine particles such as gold, silver, copper, nickel, aluminum, iron, cobalt, tungsten, molybdenum and niobium, etc
  • the surface may be chemically modified at the time of preparing the metal fine particles.
  • metal fine particles are used as the component (c)
  • a high refractive index region in a volume hologram is formed as a structure in which the metal fine particles have a volume, and a stronger diffraction grating is formed. Can be formed. Therefore, the durability of the volume hologram is further improved.
  • the average particle diameter of the organic fine particles and metal fine particles is obtained as a simple average value (number average) by observing the particles with an electron microscope and determining the particle diameters of 100 arbitrary primary particles. Each particle diameter is expressed by a diameter assuming a circle equal to the projected area.
  • component (c) it is necessary to appropriately select whether it is hydrophilic or hydrophobic depending on the configuration of the component (a). That is, when component (a) undergoes polarity conversion from hydrophobic to hydrophilic, component (c) must be hydrophobic, and when component (a) undergoes polarity conversion from hydrophilic to hydrophobic Component (c) must be hydrophilic.
  • the material to be used is hydrophilic or hydrophobic
  • it can be determined by adding the target material to pure water and infiltrating it. Specifically, a container containing 100 mL of pure water is prepared, and 0.1 g of the target material is added. The container is placed on an ultrasonic disperser for 3 minutes and then visually confirmed. If the material is infiltrated, it is determined to be hydrophilic, and if it is not infiltrated and floats on the surface of pure water in the container, it is determined to be hydrophobic. can do.
  • the content of component (c) is preferably in the range of 10 to 70% by mass, more preferably in the range of 30 to 60% by mass of the total solid content.
  • the photosensitive composition for volume hologram production of the present invention may be a plasticizer, a compatibilizer, a polymerization inhibitor, a surfactant, a silane cup, if necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. You may further contain additives, such as a ring agent, an antifoamer, a peeling agent, a stabilizer, antioxidant, a flame retardant, an optical brightener, and an ultraviolet absorber. Moreover, the photosensitive composition for volume hologram manufacture of this invention may further contain the solvent etc. which are mentioned later as needed, unless the effect of this invention is impaired.
  • the photosensitive composition for volume hologram production can be obtained by mixing the above-described components all together or sequentially.
  • the apparatus used for mixing include stirring or mixing apparatuses such as a magnetic stirrer, homodisper, quick homomixer, and planetary mixer.
  • the obtained photosensitive composition for volume hologram production may be used after filtration, if necessary.
  • the volume hologram manufacturing method of the present invention is characterized in that a diffraction grating is formed by performing interference exposure with at least coherent light on a photosensitive film made of the photosensitive composition for volume hologram manufacturing.
  • a method for producing the photosensitive film for example, a method of preparing a coating solution containing the above-mentioned photosensitive composition for volume hologram production, applying the prepared coating solution on a substrate, and drying is preferable.
  • a transparent substrate is preferably used.
  • glass acrylic resin, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthoate, polyethylene, polypropylene, amorphous polyolefin, cellulose acetate, hydrated cellulose, cellulose nitrate,
  • a substrate selected from cycloolefin polymer, polystyrene, polyepoxide, polysulfone, cellulose acylate, polyamide, polyimide, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polyvinyl butyral, polydicyclopentanediene and the like is used.
  • the form may be, for example, a sheet or film having a thickness of 10 to 500 ⁇ m, or a prism.
  • a known solvent is used as necessary for the preparation of the coating solution containing the photosensitive composition for volume hologram production.
  • a solvent may not be used.
  • the photosensitive composition for volume hologram manufacture of this invention is good also as a thing containing a solvent.
  • the solvent examples include aliphatic solvents such as n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, cyclohexane, and methylcyclohexane; ketone solvents such as methyl ethyl ketone (2-butanone), acetone, and cyclohexanone; Ether solvents such as diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, anisole, phenetole; ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol diacetate Ester solvents such as toluene; Aromatic solvents such as toluene and xylene; Methyl cellosolve
  • known methods can be used, for example, spray method, spin coating method, wire bar method, dip coating method, air knife coating method, roll coating method, blade coating method. And a doctor roll coat method.
  • drying temperature can be selected within a range that does not impair the photosensitivity of the photosensitive composition for volume hologram production. For example, it is within the range of 10 to 80 ° C., and the drying time is not particularly limited, for example within the range of 1 to 60 minutes. It is.
  • the thickness of the photosensitive film formed on the substrate after drying is preferably 5 to 100 ⁇ m.
  • the photosensitive film formed on the base material may be laminated
  • FIG. 1 is a schematic block diagram showing an example of an exposure apparatus used for exposure to a photosensitive film.
  • a light beam (coherent light, recording light) emitted from a laser light source 201 is guided to a suitable position in an exposure system by beam steerers 202a and 202b composed of two pairs of mirrors. .
  • the shutter 203 controls ON / OFF of the light beam emitted from the laser light source 201.
  • the beam expander 204 has a function of expanding the beam diameter and changing the aperture ratio (NA) according to the exposure area of the photosensitive film.
  • the light beam (recording light) that has passed through the beam expander 204 is divided into two light beams by the beam splitter 205.
  • the divided light beams (recording light) are guided to the spatial filters 211 and 212 by the mirrors 206 and 207 and the mirrors 208 and 209, respectively.
  • Spatial filters 211 and 212 are composed of a lens and a pinhole, and collect the light beam (recording light) with the lens and guide the light beam (recording light) to the manufacturing optical system 213 through the pinhole.
  • the production optical system 213 is configured so that a sample such as a prism having a photosensitive film serving as a volume hologram can be installed and fixed at a suitable position so that the reflection angle of the light beam of the holographic optical element can be controlled.
  • a photosensitive film provided on a prism or the like fixed to the manufacturing optical system 213 is divided into two light beams, and holographic exposure (interference wave exposure) is performed by light beams (recording light) guided through spatial filters 211 and 212, respectively. )
  • only one laser light source 201 is provided.
  • a glory mirror is inserted in the optical path before the shutter 203, and a plurality of laser light sources 201 are provided. You may comprise so that the laser beam emitted from the provided laser light source may be synthesize
  • the recording light used for holographic exposure can be selected according to the application of the volume hologram to be manufactured.
  • an argon ion laser (458 nm, 488 nm, 514 nm), a krypton ion laser (647.1 nm), a helium-neon laser (633 nm), a YAG laser (532 nm), a semiconductor laser (830 nm), or the like can be used.
  • the irradiation energy amount (exposure amount) at the time of hologram recording is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 250 mJ / cm 2 .
  • the hologram recording method includes a polarization collinear hologram recording method, a reference light incident angle multiplexing type hologram recording method, and the like.
  • any recording method can be used with the photosensitive composition for volume hologram production of the present invention. It is possible to provide quality.
  • the volume hologram recording layer is further subjected to processing such as full-scale exposure by ultraviolet rays, humidity adjustment, and heating.
  • processing such as full-scale exposure by ultraviolet rays, humidity adjustment, and heating.
  • a light source used for the entire surface exposure for example, a light source emitting ultraviolet rays such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon arc lamp, a metal halide lamp, or the like can be used.
  • the irradiation energy amount in the case of performing the entire surface exposure with ultraviolet rays is preferably 50 to 200 J / cm 2 .
  • a heating temperature such that the temperature of the volume hologram is 50 to 150 ° C. is preferable, and the treatment time is preferably 30 minutes to 3 hours.
  • the order is not particularly limited, and the whole surface exposure may be performed first, or the heat treatment may be performed first.
  • the component (b) In the photosensitive film thus exposed to interference wave, the component (b) generates heat or acid in the bright part of the interference wave in the photosensitive film, and the component (a) is changed from hydrophilic to hydrophobic. Or a polarity conversion from hydrophobic to hydrophilic.
  • the component (c) is moved in the photosensitive film by the polarity difference generated according to the polarity conversion. That is, the component (c) is moved to the dark part using the affinity generated by the difference in polarity in the bright part as a driving force.
  • a diffraction grating having a hydrophilic high refractive index region (or low refractive index region) and a hydrophobic low refractive index region (or high refractive index region) corresponding to the bright part and dark part of the interference wave. Can be formed.
  • the volume hologram produced as described above includes a diffraction grating having a hydrophilic high refractive index region (or low refractive index region) and a hydrophobic low refractive index region (or high refractive index region), There is a polarity difference due to hydrophilicity and hydrophobicity between the high refractive region and the low refractive region of the diffraction grating. Since there is a difference in surface energy characteristics in each region, there is little deterioration in quality as an optical element even after long-term use and storage.
  • the degree of hydrophilicity or hydrophobicity and the difference in polarity in the high refractive index region and low refractive index region of the volume hologram are obtained by modifying the probe probe of the scanning probe microscope with a hydroxy group that is a hydrophilic group. Then, it can be confirmed by measuring the frictional force between the probe tip and the substance (Chemical Force Microscope method; hereinafter CFM method).
  • the produced volume hologram surface is cut and sampled so as to be exposed, the frictional force is measured at a scanning distance of 20000 nm or more by the CMF method, and the scanning distance-frictional force is plotted.
  • the reason why the scanning distance is 20000 nm or more is to reliably measure 10 or more frictional forces in the high refractive index region and the low refractive index region of the diffraction grating of the volume hologram.
  • A is the hydrophilicity of the high refractive index region (or low refractive index region) in the diffraction grating.
  • B is the hydrophobic level of the low refractive index region (or high refractive index region) in the diffraction grating.
  • the above A is preferably 1.0 to 4.0 nN.
  • A is 1.0 nN or more, a diffraction grating having a high refractive index region and a low refractive region having a polarity difference is formed in the diffraction grating, and the durability thereof is improved.
  • A is 4.0 nN or less, the hydrophilicity does not become too high, and the durability under high humidity is improved.
  • B is preferably 0.0 nN or more and less than 1.0 nN.
  • the difference between A and B is in the range of 0.5 to 3.0 nN, the high refractive region of the diffraction grating of the volume hologram It can be said that it has a polarity difference due to hydrophilicity and hydrophobicity with the low refractive region.
  • the difference between A and B is preferably 1.0 to 3.0 nN, more preferably 2.5 to 3.0 nN, from the viewpoint of manifesting the effects of the present invention.
  • the holographic optical element of the present invention may be configured to include the volume hologram, and includes, for example, a volume hologram and an adjacent layer provided on one or both sides of the volume hologram.
  • the adjacent layer for example, the above base material can be used.
  • the constituent materials and thicknesses of both may be the same or different.
  • the holographic optical element manufactured in this way is, for example, a head mounted display (HMD), a head-up display (HUD), an optical memory, an optical disk pickup lens, a liquid crystal color filter, a reflective liquid crystal reflector, a lens, a diffraction It can be used for gratings, interference filters, optical fiber couplers, facsimile light polarizers, architectural window glass, and the like.
  • HMD head mounted display
  • HUD head-up display
  • an optical memory for example, a head mounted display (HMD), a head-up display (HUD), an optical memory, an optical disk pickup lens, a liquid crystal color filter, a reflective liquid crystal reflector, a lens, a diffraction It can be used for gratings, interference filters, optical fiber couplers, facsimile light polarizers, architectural window glass, and the like.
  • the refractive indexes of the component (a), the component (c) and other resins and compounds according to the examples were calculated as follows. Solutions were prepared with a solvent capable of dissolving and dispersing the material to be measured such that the solid content concentration of the material was 0% by mass, 20% by mass, and 40% by mass. The refractive index of the solution adjusted to each concentration was measured at a wavelength of 525 nm using a Kalnew precision refractometer KPR-3000, and a solid content concentration-solution refractive index plot was prepared. From the created plot, the extrapolated refractive index at a solid content of 100% by mass was taken as the refractive index of the material. Tables 1 to 6 show the refractive indexes of the respective materials.
  • composition of mixture 1 n-Butyl acrylate 46.0 parts Methyl methacrylate 54.0 parts Polymerization initiator (Product name V-65; manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 1.5 parts PEGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) 98.5 parts
  • the prepared resin 1 solution was coated with a blade coater to form a film.
  • the film was allowed to stand in an environment of 20 ° C. and 50% RH for 12 hours, and then the contact angle with pure water was measured using a contact angle measurement system DM-901 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) (measurement conditions; Measurement environment: 20 ° C., 50% RH, pure water dropping amount: 0.1 mL, contact angle measurement timing: 30 seconds after dropping pure water) was 77 °.
  • the measurement results are shown in the “Pre-treatment” column of the pure water contact angle in Table 1.
  • composition of mixture 10 Polarization converting group-containing polymerizable monomer (Compound E below) 10.3 parts Methoxypolyethylene glycol # 400 acrylate 41.3 parts Methyl methacrylate 48.4 parts Polymerization initiator (Product name V-65; manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 5 parts Pure water / n-propanol mixed solvent (mass mixing ratio 1: 1) 98.5 parts
  • the prepared resin 15 was bulked and dissolved in tetrahydrofuran to confirm the crystallinity. As a result, the ratio of the insoluble content was 9% by mass, and the crystallinity was high. Moreover, when the prepared resin 15 solution was made into a film and the contact angles before treatment, after acid treatment and after heat treatment were measured, they were 81 °, 76 ° and 82 °, respectively.
  • the prepared resin 16 was bulked and dissolved in tetrahydrofuran to confirm the crystallinity. As a result, the ratio of insoluble matter was 0% by mass, and the crystallinity was low. Moreover, when the prepared resin 16 solution was made into a film and the contact angles before treatment, after acid treatment and after heat treatment were measured, they were 71 °, 49 ° and 56 °, respectively.
  • the prepared resin 17 solution was applied with a blade coater to form a film.
  • the film was allowed to stand in an environment of 20 ° C. and 50% RH for 12 hours, and then the contact angle with pure water was measured using a contact angle measurement system DM-901 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) (measurement conditions; Measurement environment: 20 ° C., 50% RH, pure water dropping amount: 0.1 mL, contact angle measurement timing: 30 seconds after dropping pure water) was 28 °.
  • the separately prepared film was immersed in a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution for 3 minutes, and then allowed to stand in an environment of 20 ° C. and 50% RH for 12 hours, and then contacted with pure water in the same manner as described above. The angle was measured and found to be 51 °.
  • a separately prepared film was put in a thermostatic bath at 150 ° C. for 60 seconds and heat-treated, and then allowed to stand in an environment of 20 ° C. and 50% RH for 12 hours, and then contacted with pure water by the same method as described above. Was measured to be 67 °.
  • Example 1 ⁇ Production of Holographic Optical Element 1 >> Under a dark room, the following photosensitive composition 1 for volume hologram production was put into a container, stirred for 30 minutes at room temperature, and the resulting solution was filtered through a mesh. In addition, N-ethylcarbazole contained as component (c) in photosensitive composition 1 for volume hologram production was added to a container together with pure water, and mixing was attempted for 3 minutes with an ultrasonic disperser. Observation revealed that the N-ethylcarbazole did not infiltrate at all and was hydrophobic.
  • the photosensitive composition 1 for volume hologram production after filtration is applied onto a PET film having a thickness of 100 ⁇ m by a blade coater and dried for 30 minutes in an environment of 20 ° C. and 50% RH, and the photosensitive property having a thickness of 20 ⁇ m. A film was obtained. Then, the 70-micrometer-thick poly cellulose acetate film was piled up so that it might contact with a photosensitive film, and it laminated by the roller, and obtained the laminated body containing a photosensitive film.
  • FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the holographic optical element 100. Specifically, only the PET film was peeled off from the produced laminate, and was attached so that the photosensitive film 104 was in close contact with the surface of the prism base 101a as shown in FIG.
  • the prism substrate 101b provided with the silicone adhesive 102 was pressure-bonded to the surface of the prism substrate 101a on which the poly (cellulose acetate) film 103 and the photosensitive film 104 were adhered to obtain a holographic optical element base.
  • the obtained holographic optical element base is installed in the exposure apparatus of FIG. 1 using a YAG laser (emission wavelength of 532 nm) as a light source so that the exposure wavelength is 532 nm and the energy amount on the photosensitive film surface is 24 mJ / cm 2.
  • the exposure was performed. Thereafter, heat treatment was performed at 60 ° C. for 3 hours in a dark room, and then placed at a position of 15 cm from a high-pressure mercury lamp (illuminance: 100 W) for 60 seconds to obtain a holographic optical element 1 having a volume hologram.
  • holographic optical element 2 Production of holographic optical element 2
  • the holographic optical element 2 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 2 for volume hologram production described below.
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • Sensitizing dye 1 0.40 part
  • a holographic optical element 3 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 1 except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 3 for volume hologram production described below.
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • Sensitizing dye 1 0.40 part
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • Sensitizing dye 1 0.40 part
  • holographic optical element 5 ⁇ Production of holographic optical element 5 >> In producing the holographic optical element 1, the holographic optical element 5 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 5 for volume hologram production described below.
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • Sensitizing dye 1 0.40 part
  • holographic optical element 6 Production of holographic optical element 6
  • the holographic optical element 6 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 6 for volume hologram production described below.
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • Sensitizing dye 1 0.40 part
  • the holographic optical element 7 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 1 except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 7 for volume hologram production described below.
  • Photosensitive composition 7 for volume hologram production Component (a): Resin 7 solution (resin that converts polarity from hydrophobic to hydrophilic, refractive index 1.42, solid content 40% by mass) 67.00 parts
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • Sensitizing dye 1 0.40 part
  • Photosensitive composition 8 for volume hologram production Component (a): Resin 8 solution (resin that converts polarity from hydrophobic to hydrophilic, refractive index 1.45, solid content 40% by mass) 67.00 parts
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • Sensitizing dye 1 0.40 part
  • holographic optical element 9 Production of holographic optical element 9
  • the holographic optical element 9 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the following photosensitive composition 9 for volume hologram production.
  • Photosensitive composition 9 for volume hologram production Component (a): Resin 9 solution (resin that converts polarity from hydrophobic to hydrophilic, refractive index 1.47, solid content 40% by mass) 67.00 parts
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • Sensitizing dye 1 0.40 part
  • ⁇ Preparation of Holographic Optical Element 10 In producing the holographic optical element 1, the holographic optical element 10 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 10 for volume hologram production described below.
  • Photosensitive composition 10 for volume hologram production Component (a): Resin 9 solution (resin that converts polarity from hydrophobic to hydrophilic, refractive index 1.47, solid content 40% by mass) 67.00 parts
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • holographic optical element 12 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 12 for volume hologram production described below.
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • a holographic optical element 13 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 1 except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 13 for volume hologram production described below.
  • Photosensitive composition 14 for volume hologram production Component (a): Resin 9 solution (resin that converts polarity from hydrophobic to hydrophilic, refractive index 1.47, solid content 40% by mass) 67.00 parts rutile titania particles (average particle size 12 nm, refractive index 2. 70, fine metal particles) 12.00 parts Fluorosurfactant (Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part Sensitizing dye 1 0.40 part
  • ⁇ Preparation of Holographic Optical Element 15 In the production of the holographic optical element 1, the holographic optical element 15 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 15 for volume hologram production described below.
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • a holographic optical element 16 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 1 except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 16 for volume hologram production described below.
  • Fluorosurfactant Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part
  • ⁇ Preparation of Holographic Optical Element 17 In the production of the holographic optical element 1, the holographic optical element 17 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 17 for volume hologram production described below.
  • a holographic optical element 18 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 18 for volume hologram production described below.
  • a holographic optical element 19 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 1 except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the following photosensitive composition 19 for volume hologram production.
  • ⁇ Production of Holographic Optical Element 20 In producing the holographic optical element 1, the holographic optical element 20 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 20 for volume hologram production described below.
  • a holographic optical element 21 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 21 for volume hologram production described below.
  • a holographic optical element 22 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 22 for volume hologram production described below.
  • Fluorosurfactant (Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part Rhodamine b 0.40 part
  • a holographic optical element 23 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 1 except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 23 for volume hologram production described below.
  • Fluorosurfactant (Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part Rhodamine b 0.40 part
  • a holographic optical element 24 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 24 for volume hologram production described below.
  • Photosensitive composition 24 for volume hologram production Component (a): Resin 13 solution (resin that converts polarity from hydrophilic to hydrophobic, refractive index 1.46, solid content 40% by mass) 67.00 parts titania (average particle size 10 nm, octylsilane treated, refractive index 2.70, metal fine particles) 12.00 parts Fluorosurfactant (Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part Rhodamine b 0.40 part
  • a holographic optical element 25 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 1, except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 25 for volume hologram production described below.
  • Photosensitive composition 25 for volume hologram production Component (a): Resin 13 solution (resin that converts polarity from hydrophilic to hydrophobic, refractive index 1.46, solid content 40% by mass) 67.00 parts Ethoxylated bisphenol A (refractive index 1.52, containing aromatic ring) Compound) 12.00 parts Fluorosurfactant (Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 part Rhodamine b 0.40 part
  • a holographic optical element 26 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 1 except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 26 for volume hologram production described below.
  • a holographic optical element 27 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 1 except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 27 for volume hologram production described below.
  • Photosensitive composition 27 for volume hologram production Component (a): Resin 16 solution (ester group-containing amorphous polyhydroxyalkanoate resin, refractive index 1.42, solid content 40% by mass) 67.0 parts
  • a holographic optical element 28 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 1 except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 28 for volume hologram production described below.
  • Photosensitive composition 28 for volume hologram production Component (a): Resin 17 solution (mixed aqueous solution of blocked isocyanate-containing polyether resin and polyvinyl alcohol, refractive index 1.45, solid content 20% by mass) 67.00 parts Component (c): Compound G (refractive index) 1.68, aromatic ring-containing compound) 12.00 parts Component (b): The following photobase generator 0.20 parts Rhodamine b 0.40 parts Fluorosurfactant (Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 parts Pure water / n-propanol mixed solvent (mass mixing ratio 1: 1) 6.36 parts
  • the produced holographic optical element was frozen by exposure to liquid nitrogen, and was cut using a cutter so that the volume hologram surface was exposed to obtain a measurement sample.
  • the prepared measurement sample was placed in a scanning probe microscope system SPM-9000.
  • a probe modified with a hydroxy group, which is a hydrophilic group, was installed as a probe, the frictional force at a scanning distance of 10,000 nm was measured, and the scanning distance-frictional force was plotted. From the plot, an average value A (nN) of 10 local maximum values and an average value B (nN) of 10 local minimum values were calculated.
  • the average values A and B are 1.0 nN or more, it can be judged that the hydrophilicity is obtained, and when the average values A and B are less than 1.0 nN, it can be judged that the treatment is hydrophobic. Further, the difference between A and B is a hydrophilic and hydrophobic polarity difference between the high refractive index region and the low refractive index region. A and B and their difference (AB) are shown in Tables 4 and 5.
  • the calculated diffraction efficiency is 75% or more, for example, when an LED light source is used as a light source of reproduction light, there is a possibility that the power consumption of the LED light source can be reduced.
  • the diffraction efficiency is low, such as less than 61%, it is necessary to increase the light emission intensity of the LED light source, so that problems such as increased power consumption tend to occur.
  • A The reduction rate of the diffraction efficiency is 2% or less.
  • The reduction rate of the diffraction efficiency is more than 2%, 5% or less.
  • The reduction rate of the diffraction efficiency is more than 5%, 10% or less.
  • the holographic optical element has durability and high reliability.
  • the reduction rate of the diffraction efficiency exceeds 10%, there is no durability at all, and the quality as an optical element cannot be obtained.
  • Example 2 Production of Holographic Optical Element 29 >> In the production of the holographic optical element 1 of Example 1, the original holographic optical element was obtained in the same manner except that the photosensitive composition 1 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 29 for volume hologram production described below. It was.
  • the obtained holographic optical element base is installed in the exposure apparatus of FIG. 1 using a semiconductor laser (emission wavelength: 830 nm) as a light source so that the exposure wavelength is 830 nm and the energy amount on the photosensitive film surface is 80 mJ / cm 2 The exposure was performed. Then, the holographic optical element 29 provided with the volume hologram was obtained by arrange
  • ⁇ Production of Holographic Optical Element 30 In producing the holographic optical element 29, the holographic optical element 30 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 29 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 30 for volume hologram production described below.
  • a holographic optical element 31 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 29 except that the photosensitive composition 29 for producing volume holograms was changed to the photosensitive composition 31 for producing volume holograms described below.
  • ⁇ Production of Holographic Optical Element 32 In the production of the holographic optical element 29, a holographic optical element 32 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 29 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 32 for volume hologram production described below.
  • a holographic optical element 33 was produced in the same manner as in the production of the holographic optical element 29 except that the photosensitive composition 29 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 33 for volume hologram production described below.
  • a holographic optical element 34 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 29 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 34 for volume hologram production described below.
  • ⁇ Production of Holographic Optical Element 35 In the production of the holographic optical element 29, a holographic optical element 35 was produced in the same manner except that the photosensitive composition 29 for volume hologram production was changed to the photosensitive composition 35 for volume hologram production described below.
  • Photosensitive composition 36 for volume hologram production Component (a): Resin 17 solution (mixed aqueous solution of blocked isocyanate-containing polyether resin and polyvinyl alcohol, refractive index 1.45, solid content 20% by mass) 67.00 parts Component (c): Compound G (refractive index) 1.68, aromatic ring-containing compound) 12.00 parts Component (b): Photothermal conversion dye 2 (photothermal generator) 1.20 parts Rhodamine b 0.40 parts Fluorosurfactant (Megafac F-554; manufactured by DIC) 0.04 parts Pure water / n-propanol mixed solvent (mass mixing ratio 1: 1) 6.36 parts
  • the holographic optical element of the present invention produced using the photosensitive composition for volume hologram production containing the components (a) to (c) has the components (a) to ( It was confirmed that the diffraction efficiency and the durability were excellent as compared with the holographic optical element of the comparative example produced using the photosensitive composition for volume hologram production not containing c). From comparison of the holographic optical elements 2 to 9 and 27, the greater the amount of the component (a) of the polarity conversion group, the greater the polarity change of the polarity conversion group, the higher the diffraction efficiency and the better the durability. Can be confirmed.
  • the volume hologram quality is better as the polarity difference between hydrophilicity and hydrophobicity of the high refractive index region and the low refractive region of the diffraction grating is larger.
  • the durability of the volume hologram quality is particularly excellent when the component (c) is organic fine particles or metal fine particles. .
  • the contrast between the holographic optical elements 2 to 12, 15 and 27 and the holographic optical elements 17 to 23 and 28 indicates that the change in polarity of the component (a) is from hydrophobic to hydrophobic. Even if it is nature, it can be confirmed that a volume hologram is formed and the effects of the present invention are exhibited. Further, it can be confirmed from the holographic optical element 28 that even if the component (b) is a photobase generator, a volume hologram is formed and the effects of the present invention are exhibited.
  • a volume hologram is formed, and the effects of the present invention are achieved. It can be confirmed that it is expressed.
  • the present invention includes a volume hologram having excellent diffraction efficiency and durability, a photosensitive composition for volume hologram production used for producing the volume hologram, a method for producing the volume hologram, and the volume hologram. It is suitable for providing a holographic optical element.

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Abstract

解決しようとする課題は、回折効率及び耐久性に優れた体積ホログラムの製造に用いられる体積ホログラム製造用感光性組成物を提供することである。上記課題は、体積ホログラム製造用感光性組成物が、少なくとも(a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、(b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料、及び(c)親水性及び疎水性のうち前記(a)が極性変換する前の極性と同一であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物、を含有することによって解決される。

Description

体積ホログラム製造用感光性組成物、体積ホログラムの製造方法、体積ホログラム及びホログラフィック光学素子
 本発明は、体積ホログラム製造用感光性組成物、体積ホログラムの製造方法、体積ホログラム及びホログラフィック光学素子に関する。特に、本発明は、回折効率及び耐久性に優れた体積ホログラム、当該体積ホログラムの製造に用いられる体積ホログラム製造用感光性組成物、当該体積ホログラムの製造方法、及び当該体積ホログラムを備えたホログラフィック光学素子に関する。
 ホログラフィック光学素子は、高屈折率領域と低屈折率領域の格子(回折格子)が層内に形成された体積ホログラムを含む光学用素子である。また、ホログラフィック光学素子は、回折格子の形態に応じて、特定の波長の光を反射や回折させることができ、光コンバイナーの機能を有する。
 体積ホログラムは、一般的に、屈折率に特徴を有するラジカル重合性モノマーを含む感光性組成物よりなる感光性フィルムに干渉波露光を行うことによって製造される(例えば、特許文献1参照。)。すなわち、干渉波露光された感光性フィルムにおいて、干渉波の明部では、重合反応が進行してラジカル重合性モノマーが消費され、その消費に伴って感光性フィルム内に残存するラジカル重合性モノマーが拡散移動によって明部に移動する。当該明部に移動したラジカル重合性モノマーは、重合反応が進行することによって更に消費される。このようにして、感光層中のラジカル重合性モノマーは明部に移動して重合体を形成することにより屈折率が高い(又は低い)ドメインを形成する。一方、暗部においてはラジカル重合性モノマーが少ない屈折率が低い(又は高い)ドメインが形成されて、回折格子となる。
 近年、体積ホログラムを含むホログラフィック光学素子は、例えば、光学レンズ、表示素子等に応用され、需要が高まりつつある。特に、当該ホログラフィック光学素子は、透明性に優れるという特徴を有するため、シースルータイプの表示素子(例えば、ヘッドマウントディスプレイやヘッドアップディスプレイに用いられる表示素子)として用いられている(例えば、特許文献2参照。)。
 しかしながら、上記従来の技術によれば、体積ホログラムの回折効率及び耐久性が十分とはいえず、表示素子の需要の高まりや用途の多様化に伴って求められる性能・品質に対して十分に対応できていない。
特開平6-43634号公報 特開2014-215410号公報
 本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、回折効率及び耐久性に優れた体積ホログラム、当該体積ホログラムの製造に用いられる体積ホログラム製造用感光性組成物、当該体積ホログラムの製造方法、及び当該体積ホログラムを備えたホログラフィック光学素子を提供することである。
 上記課題を解決すべく、本発明者らは上記問題の原因等について検討した結果、体積ホログラム製造用感光性組成物が、少なくとも下記(a)~(c)を含有することで、回折効率及び耐久性に優れた体積ホログラムを得ることができることを見いだした。
 すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
 1.少なくとも下記(a)~(c)を含有することを特徴とする体積ホログラム製造用感光性組成物。
 (a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂
 (b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料
 (c)親水性及び疎水性のうち前記(a)が極性変換する前の極性と同一であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物
 2.前記(a)が、熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ極性変換する官能基、又は親水性から疎水性へ極性変換する官能基を有する樹脂を含むことを特徴とする第1項に記載の体積ホログラム製造用感光性組成物。
 3.前記(b)が、光酸発生剤、光塩基発生剤、光熱発生剤、及び光熱発生剤と熱酸発生剤との組み合わせのうち少なくとも一種を含むことを特徴とする第1項又は第2項に記載の体積ホログラム製造用感光性組成物。
 4.前記(c)が、芳香環含有化合物、有機微粒子及び金属微粒子のうち少なくとも一種を含むことを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の体積ホログラム製造用感光性組成物。
 5.前記(c)が、有機微粒子及び金属微粒子のうち少なくとも一種を含むことを特徴とする第4項に記載の体積ホログラム製造用感光性組成物。
 6.少なくとも下記(a)~(c)を含有する体積ホログラム製造用感光性組成物よりなる感光性フィルムに、少なくともコヒーレント光による干渉波露光を行うことにより回折格子を形成することを特徴とする体積ホログラムの製造方法。
 (a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂
 (b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料
 (c)親水性及び疎水性のうち前記(a)が極性変換する前の極性と同一であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物
 7.前記コヒーレント光による干渉波露光によって、前記(a)に疎水性から親水性への極性変換、又は親水性から疎水性への極性変換を生じさせ、当該極性変換に応じて生じた極性差により前記(c)を前記感光性フィルム内で移動させることにより前記回折格子を形成することを特徴とする第6項に記載の体積ホログラムの製造方法。
 8.回折格子の高屈折領域と低屈折領域との間に、親水性及び疎水性による極性差を有することを特徴とする体積ホログラム。
 9.Chemical Force Microscopy法による、前記高屈折率領域とヒドロキシ基修飾されたプローブ探針との摩擦力と、前記低屈折率領域と前記プローブ探針との摩擦力との差分が、0.5~3.0nNの範囲内であることを特徴とする第8項に項記載の体積ホログラム。
 10.前記摩擦力の差分が、1.0~3.0nNの範囲内であることを特徴とする第9項に記載の体積ホログラム。
 11.前記摩擦力の差分が、2.5~3.0nNの範囲内であることを特徴とする第9項又は第10項に記載の体積ホログラム。
 12.第8項から第11項までのいずれか一項に記載の体積ホログラムを備えることを特徴とするホログラフィック光学素子。
 本発明によれば、回折効率及び耐久性に優れた体積ホログラム、当該体積ホログラムの製造に用いられる体積ホログラム製造用感光性組成物、当該体積ホログラムの製造方法、及び当該体積ホログラムを備えたホログラフィック光学素子を提供することができる。
 本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
 本発明の体積ホログラムは、少なくとも(a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、(b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料、及び(c)親水性及び疎水性のうち前記(a)が極性変換する前の極性と同一であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物、を含有する体積ホログラム製造用感光性組成物よりなる感光性フィルムに、少なくともコヒーレント光による干渉波露光を行うことにより回折格子を形成することで製造され得る。
 具体的には、干渉波露光された感光性フィルムのうち干渉波の明部において、上記(b)が熱、酸又は塩基を発生し、上記(a)の極性を親水性から疎水性へ、又は疎水性から親水性へ極性変換する。上記(c)は、明部において極性の違いによって生じる親和力(反発力又は斥力)を駆動力として暗部に移動する。これにより、干渉波の明部と暗部とにそれぞれ高屈折率領域と低屈折率領域とを形成し、それらの高屈折領域と低屈折領域とからなる回折格子を形成することができる。
 極性の差異に応じて形成される高屈折率領域と低屈折率領域との間には明確な界面を形成することができるため、本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物を用いて干渉波露光によって形成された回折格子は、高い回折効率を発現する。
 更に、形成された回折格子は、高屈折率領域と低屈折率領域との間に大きな極性差を有することになるため、長期に亘る保管に際しても、高屈折率領域と低屈折率領域とが混濁しにくく、高い回折効率を維持することができる。
 このように本発明の体積ホログラムを含むホログラフィック光学素子は、高い光学性能を長期に亘って発揮することが可能である。
干渉波露光に用いられる露光装置の一例を示す概略構成図 実施例で作製するホログラフィック光学素子の概略構成図
 本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物は、少なくとも(a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、(b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料、及び(c)親水性及び疎水性のうち前記(a)が極性変換する前の極性と同一であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物、を含有することを特徴とする。この特徴は、各請求項に共通する又は対応する技術的特徴である。
 本実施形態の一例としては、極性変換に伴う極性変化の大きさと樹脂の強度維持の観点から、前記(a)が、熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ極性変換する官能基、又は親水性から疎水性へ極性変換する官能基を有する樹脂を含むことが好ましい。
 また、本実施形態の一例としては、前記(b)が、光酸発生剤、光塩基発生剤、光熱発生剤、及び光熱発生剤と熱酸発生剤との組み合わせのうち少なくとも一種を含むことが好ましい。
 また、本実施形態の一例としては、前記(c)が、芳香環含有化合物、有機微粒子及び金属微粒子のうち少なくとも一種を含むことが好ましく、有機微粒子及び金属微粒子のうち少なくとも一種を含むことがより好ましい。有機微粒子及び金属微粒子のうち少なくとも一種を含むことで、有機微粒子又は金属微粒子が体積を持つ構造体として体積ホログラムにおける高屈折率領域を形成し、より強固な回折格子を形成することができる。そのため、体積ホログラムの耐久性がより高められる。
 また、本発明の体積ホログラムの製造方法は、少なくとも(a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、(b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料、及び(c)親水性及び疎水性のうち前記(a)が極性変換する前の極性と同一であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物、を含有する体積ホログラム製造用感光性組成物よりなる感光性フィルムに、少なくともコヒーレント光による干渉波露光を行うことにより回折格子を形成することを特徴とする。
 本実施形態の一例としては、前記コヒーレント光による干渉波露光によって、前記(a)に疎水性から親水性への極性変換、又は親水性から疎水性への極性変換を生じさせ、当該極性変換に応じて生じた極性差により前記(c)を前記感光性フィルム内で移動させることにより前記回折格子を形成することが好ましい。
 また、本発明の体積ホログラムは、回折格子の高屈折領域と低屈折領域との間に、親水性及び疎水性による極性差を有することを特徴とする。
 本実施形態の一例としては、Chemical Force Microscopy法(CFM法)による、前記高屈折率領域とヒドロキシ基修飾されたプローブ探針との摩擦力と、前記低屈折率領域と前記プローブ探針との摩擦力との差分が、0.5~3.0nNの範囲内であることが好ましい。
 また、本実施形態の一例としては、前記摩擦力の差分が、1.0~3.0nNの範囲内であることが好ましく、2.5~3.0nNの範囲内であることがより好ましい。
 また、本発明のホログラフィック光学素子は、上記体積ホログラムを備えることを特徴とする。
 以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「~」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
《体積ホログラム製造用感光性組成物》
 本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物は、少なくとも下記(a)~(c)を含有することを特徴とする。
 (a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂
 (b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料
 (c)親水性又は疎水性であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物
 以下、本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物を構成する各材料について詳細に説明する。
[1](a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂
 本発明に係る(a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂(以下、成分(a)ともいう。)とは、熱及び酸の少なくとも一方の存在により疎水性から親水性へ極性変換、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂であれば、公知の樹脂が利用できる。
[1-1]熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ極性変換する樹脂
 かかる樹脂としては、熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在によって、主鎖が分解してその分解部に親水性の官能基を形成し得る樹脂や、疎水性から親水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂等が挙げられる。
[1-1-1]主鎖が分解して親水性の官能基を形成し得る樹脂
 主鎖が分解して親水性の官能基を形成し得る樹脂としては、例えば、主鎖に加水分解性の結合を有する樹脂が挙げられる。加水分解性の結合としては、例えば、エステル結合又はウレタン結合等が挙げられる。かかる樹脂としては、例えば、ポリエステルやポリヒドロキシアルカノエート、ポリウレタン等が挙げられ、結晶性が低く加水分解性が高いものが好ましく、結晶性の低いポリヒドロキシアルカノエートが好ましい。
 ここで、樹脂の結晶性は以下の観察により判断できる。すなわち、当該樹脂バルク10部をテトラヒドロフラン1000部に1時間浸漬する。かかるテトラヒドロフランに含まれる樹脂バルクの不溶分をメッシュで濾し取り、当該不溶分を12時間室温で乾燥させてその質量X(質量部)を計測する。下記式にて求められる不溶分の比率が5質量%以上の場合、当該樹脂は結晶性が高いとみなす。
  不溶分の比率(質量%)=X/10
[1-1-2]疎水性から親水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂
 疎水性から親水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル基やカルボン酸エステル基を有する樹脂が挙げられる。かかるアルキルスルホン酸エステル基Raは、下記一般式(1)で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 一般式(1)中、R及びRは、それぞれ独立に、置換又は非置換のアルキル基を表し、R及びRが結合している2級炭素原子(CH)とともに環を形成しても良い。Lは、非金属原子からなる多価の連結基を表す。
 R及びRで表される置換又は非置換のアルキル基において、そのアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が挙げられ、炭素数1~25のものが好適に用いられる。
 R及びRが置換アルキル基を表す場合において、その置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1~10のアルコキシ基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基のようなハロゲン置換されたアルキル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、t-ブチルオキシカルボニル基、p-クロロフェニルオキシカルボニル基等の炭素数2~15のアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基;ヒドロキシ基;アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、p-ジフェニルアミノベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基;t-ブチルオキシカルボニルオキシ基等のカルボネート基;t-ブチルオキシカルボニルメチルオキシ基、2-ピラニルオキシ基等のエーテル基;アミノ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、モルフォリノ基、アセチルアミノ基等の置換又は非置換のアミノ基;メチルチオ基、フェニルチオ基等のチオエーテル基;ビニル基、ステリル基等のアルケニル基;ニトロ基;シアノ基;ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基;フェニル基、ナフチル基のようなアリール基;ピリジル基のようなヘテロアリール基等を挙げることができる。中でも、アルコキシ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基若しくはハロゲン基等の電子吸引性基で置換されたアルキル基、シクロヘキシル基又はノルボルニル基等のアルキル基が好ましい。
 また、前記一般式(1)のLで表される非金属原子からなる多価の連結基とは、1~60個の炭素原子、0~10個の窒素原子、0~50個の酸素原子、1~100個の水素原子及び0~20個の硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連結基としては、下記の構造単位が組み合わさって構成されるものを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 上記多価の連結基は、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1~20のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6~16のアリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、N-スルホニルアミド基、アセトキシ基のような炭素数1~6のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基のような炭素数1~6のアルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基のような炭素数2~7のアルコキシカルボニル基、シアノ基、t-ブチルカーボネートのような炭酸エステル基等を含有していても良い。
 また、カルボン酸エステル基Rbは、下記一般式(2)で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 一般式(2)中、Rは、水素原子を表し、Rは、水素原子又は炭素数18個以下のアルキル基を表し、Rは、炭素数18個以下のアルキル基を表す。また、R、R及びRのうちの二つが結合して環を形成していても良い。
 R、R及びRのうちの二つが結合して環を形成していても良いが、特に、R及びRが結合して5員環又は6員環を形成していることが好ましい。
 一般式(1)又は(2)で表される、疎水性から親水性へ極性変換する極性変換基Raの具体例を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 上記疎水性から親水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂は、上記極性変換基Ra又はRbを有するモノマー又はマクロモノマーと、上記極性変換基Ra及びRbをいずれも有さず、極性変換性を有さないモノマー又はマクロモノマーと、を含む重合性組成物を重合することによって得られる。ここで、本発明においてモノマーとは、分子量が1000未満のものをいい、マクロモノマーは、ある程度分子量の大きい、例えば重量平均分子量が1000以上10000未満のものをいう。
 上記極性変換性を有さないモノマー又はマクロモノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射する方法や、ラジカル重合開始剤又はカチオン重合開始剤を添加して光や熱で硬化反応を開始させる方法により、重合(硬化)するモノマー又はマクロモノマーが好適に用いられる。具体的には、例えば、スチレンモノマー、スチレンマクロモノマー、(メタ)アクリルモノマー、(メタ)アクリルマクロモノマー、ビニルトルエンモノマー、ビニルトルエンマクロモノマー、酢酸ビニルモノマー、酢酸ビニルマクロモノマー、N-ビニルピロリドンモノマー、N-ビニルピロリドンマクロモノマー等が挙げられる。これらのモノマー又はマクロモノマーは、単独で用いられても良いし2種以上が組み合わされて用いられても良い。
 中でも、少ない光量又は短時間での硬化が可能であることから、アクリロイル基(CH=CHCO-)又はメタクリロイル基(CH=CCHCO-)を有するラジカル重合性の(メタ)アクリルモノマー又は(メタ)アクリルマクロモノマーがより好ましい。(メタ)アクリルモノマーとしては、単官能(メタ)アクリルモノマーであっても良いし多官能(メタ)アクリルモノマーであっても良い。
 単官能(メタ)アクリルモノマーとして、具体的には、2-(メタ)アクリロイロキシエチルフタレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチル-2-ヒドロキシエチルフタレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、2-(メタ)アクリロイロキシプロピルフタレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシルカルビトール(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、3-メトキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、カプロラクトン(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、クレゾール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレ-ト、パラクミルフェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、コハク酸(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート、ω-カルボキシ-ポリカプロラクトン(メタ)アクリレート、及びこれらの誘導体、変性品等が挙げられる。
 多官能(メタ)アクリルモノマーとして、具体的には、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレ-ト、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリグリセロールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエートトリ(メタ)アクリレート、トリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジ(メタ)アクリル化イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、及びこれらの誘導体、変性品等が挙げられる。
 上記疎水性から親水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂を調製する方法としては、公知の方法が利用できる。その際、極性変換基Ra又はRbを含有するモノマー又はマクロモノマーの比率は、全モノマーのうち5~100モル%の範囲内であることが好ましく、20~100モル%の範囲内であることがより好ましい。この範囲内であると、樹脂内に極性変換基が充分に存在し、熱又は酸の存在によってより確実に極性変換させることができる。
 このようにして調製される、疎水性から親水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂は、重量平均分子量5万~20万の範囲内であることが好ましい。この範囲内であると、当該樹脂を含有する体積ホログラム製造用感光性組成物をフィルム化した際の感光性フィルムや、これを用いて製造される体積ホログラムやホログラフィック光学素子の物理的強度が確保される。
 極性変換に伴う極性変化の大きさと樹脂の強度維持の観点から、成分(a)としては、疎水性から親水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂が好ましい。
[1-2]熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、親水性から疎水性へ極性変換する樹脂
 かかる樹脂としては、熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在によって、架橋し得る親水性官能基の組み合わせを含む単一又は複数の樹脂や、疎水性から親水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂等が挙げられる。
[1-2-1]架橋し得る親水性官能基の組み合わせを含む単一又は複数の樹脂
 熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在によって架橋し得る親水性官能基の組み合わせを含む単一又は複数の樹脂としては、例えば、カルボキシ基とヒドロキシ基の組み合わせ、カルボキシ基とアミノ基の組み合わせ、親水性基で修飾されたブロックドイソシアネート基とヒドロキシ基の組み合わせ、親水性基で修飾されたブロックドイソシアネート基とアミノ基の組み合わせ等よりなる親水性官能基を単一又は複数の樹脂に含む単一樹脂又は樹脂群が用いられる。
 当該樹脂又は樹脂群としては、例えば、ポリビニルアルコールとポリ(メタ)アクリル酸の組み合わせ、(メタ)アクリル酸ヒドロキシ基含有アクリルモノマー共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸とポリスルホンアミドの組み合わせ、カルボキシ変性ポリビニルアルコール、親水性基で修飾されたブロックドイソシアネート含有樹脂とポリビニルアルコールの組み合わせ、親水性基で修飾されたブロックドイソシアネート含有樹脂とポリスルホンアミドの組み合わせ等が挙げられる。
 上記した親水性基で修飾されたブロックポリイソシアネート含有樹脂としては、例えば、国際公開第2012/137881号に記載のブロックポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物の亜硫酸塩、及び、市販品として第一工業製薬株式会社のエラストロン(登録商標)シリーズ等が挙げられる。
[1-2-2]親水性から疎水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂
 親水性から疎水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂としては、例えば、極性変換基Rcを有する樹脂が挙げられる。かかる極性変換基Rcは、下記一般式(3)で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 一般式(3)中、Xは、-O-、-S-、-Se-、-NR-、-CO-、-SO-、-SO-、-PO-、-SiR-、-CS-を表し、R、R、R及びRは、それぞれ独立して、1価の基を表す。Mは、陽電荷を有するイオンを表す。
 R、R、R及びRとしては、例えば、-F、-Cl、-Br、-I、-CN、-R10、-OR10、-OCOR10、-OCOOR10、-OCONR1011、-OSO10、-COR10、-COOR10、-CONR1011、-NR1011、-NR10-COR11、-NR10-COOR11、-NR10-CONR1112、-SR10、-SOR10、-SO10、-SO10等が挙げられる。R10、R11及びR12は、それぞれ独立に、水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基を表す。
 これらのうち、R、R、R及びRとしては、水素、アルキル基、アリール基、アルキニル基、アルケニル基であることが好ましい。
 Mとしては、例えば、K、Na、NH 及びN(CH から選ばれる。
 一般式(3)で表される、親水性から疎水性へ極性変換する極性変換基Rcの具体例を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 以上、親水性から疎水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂は、上記した疎水性から親水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂と同様の方法で調製することができる。
 使用する樹脂が親水性であるか疎水性であるか、更に、熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在による極性変換性を有するか否かは、当該樹脂フィルムの純水に対する接触角測定によって判断することができる。
 具体的には、以下の方法によって判断される。
 測定対象の樹脂をフィルム化し、20℃50%RHの環境下にて12時間静置する。同一環境下にて接触角計システムDropMasterシリーズ(協和界面科学(株)製)のいずれか(例えば、DM-901)を用い、当該フィルムに純水0.1mLを滴下し、30秒後の液滴形状画像から計測される接触角をその樹脂の純水に対する接触角とする。かかる接触角が50°未満であれば当該樹脂は親水性であるとみなせる。一方、接触角が50°以上である場合は、当該樹脂は疎水性であるとみなせる。
 更に、当該フィルムを0.1規定の塩酸に3分間浸漬する。浸漬後、20℃50%RHの環境下で12時間静置した後、同一環境下で前述のごとく接触角を測定し、接触角が50°を境に上昇(又は低下)して30°以上変化した場合に、当該樹脂は酸によって極性変換したとみなせる。
 他方、当該フィルムを150℃の恒温槽に60秒間入れて熱処理する。その後、20℃50%RHの環境下にて12時間静置する。同一環境下で前述のごとく接触角を測定し、接触角が50°を境に上昇(又は低下)して30°以上変化した場合に、当該樹脂は熱によって極性変換したとみなせる。
 また、当該フィルムを0.1規定の水酸化ナトリウム水溶液に3分間浸漬する。その後、20℃50%RHの環境下にて12時間静置した後、同一環境下で前述のごとく接触角を測定し、接触角が50°を境に上昇(又は低下)して30°以上変化した場合に、当該樹脂は塩基によって極性変換したとみなせる。
 本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物における、成分(a)の含有比率は全固形分のうち20~80質量%が好ましく、30~60質量%であることがより好ましい。この範囲内であると、感光性フィルムとしての物性が確保でき、製造される体積ホログラムの屈折率変調が大きくなる。
 本発明において、極性変換に伴う極性変化の大きさと樹脂の強度維持の観点から、成分(a)としては、側鎖に親水性から疎水性へ極性変換し得る官能基を有する樹脂が好ましい。
[2](b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料
 本発明に係る(b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料(以下、成分(b)ともいう。)のうち、光によって熱を発生する材料としては、特定の波長を吸収して発熱し得る化合物が利用でき、かかる化合物としては公知の色素化合物又は染料が挙げられる。
 具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、アズレニウム染料、クロコニウム染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、チオピリリウム染料、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。これらは、例えば、特開昭58-125246号公報、特開昭59-84356号公報、特開昭59-202829号公報、特開昭60-78787号公報、特開昭58-173696号公報、特開昭58-181690号公報、特開昭58-194595号公報、特開昭58-112793号公報、特開昭58-224793号公報、特開昭59-48187号公報、特開昭59-73996号公報、特開昭60-52940号公報、特開昭60-63744号公報及び特開昭58-112792号公報等に記載されている。
 また、米国特許第5156938号明細書に記載の近赤外吸収増感剤、米国特許第4756993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料も挙げることができる。
 また、成分(b)のうち、光によって酸を発生する材料には、公知の光酸発生剤、光酸発生剤と増感色素との組み合わせ、又は、上記光熱発生剤と熱酸発生剤との組み合わせ等が利用できる。
 利用可能な光酸発生剤としては、例えば、トリクロロメチル-s-トリアジン等のトリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物、ジアゾニウム塩類、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、第四級アンモニウム塩類、セレノニウム塩やアルソニウム塩等のオニウム塩、鉄-アレン錯体類、シラノール-金属キレート錯体類等を挙げることができる。
 利用可能な熱酸発生剤としては、例えば、有機スルホン酸のオキシムエステル化合物、2,4,4,6-テトラブロモシクロヘキサジエノン、ベンゾイントシラート、2-ニトロベンジルトシラート、その他の有機スルホン酸のアルキルエステル等が挙げられる。また、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩等のオニウム塩等も熱酸発生剤として適宜使用することが可能である。
 また、成分(b)のうち、光によって塩基を発生する材料には、公知の光塩基発生剤、又は、光塩基発生剤と増感色素との組み合わせ等が利用できる。
 本発明に利用可能な光塩基発生剤としては、例えば、非環状のアシルオキシイミノ化合物、非環状のカルバモイルオキシム化合物、カルバモイルヒドロキシルアミン化合物、カルバミン酸化合物、ホルムアミド化合物、アセトアミド化合物、カルバメート化合物、ベンジルカルバメート化合物、ニトロベンジルカルバメート化合物、スルホンアミド化合物、イミダゾール誘導体化合物、アミンイミド化合物、ピリジン誘導体化合物、α-アミノアセトフェノン誘導体化合物、4級アンモニウム塩誘導体化合物、α-ラクトン環誘導体化合物、アミンイミド化合物、フタルイミド誘導体化合物等が挙げられる。
 増感色素とは、400~800nm、特に450~700nmの範囲に吸収極大波長を有し、後述するホログラフィック露光に用いられる記録光の発光波長を吸収して、電子供与、電子吸引、熱の発生等により光酸発生剤にエネルギーを供与して、光酸発生剤の酸の発生効率を向上させる作用を有する物質であり、上記光酸発生剤と組み合わせて使用される。
 このような増感色素としては、例えば、シアニン系色素、スチリル系色素等のポリメチン系化合物、ローダミンB、ローダミン6G、ピロニンGY等のキサンテン系化合物、サフラニンO等のフェナジン系化合物、クレシルバイオレット、ブリリアントクレシルブルー等のフェノキサジン系化合物、メチレンブルー、ニューメチレンブルー等のフェノチアジン系化合物、オーラミン等のジアリールメタン系化合物、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリーン、リサミングリーン等のトリアリールメタン系化合物、(チオ)ピリリウム塩系化合物、スクアリリウム系化合物、クマリン系色素、チオキサンテン系色素、アセン系色素、メロシアニン系色素、チアゾリウム系色素等が挙げられる。
 また、増感色素としては、上述の化合物の他、「高分子添加剤の開発技術」(シーエムシー出版、大勝靖一監修)等の文献で増感色素として作用することが周知になっている物質を適用しても良い。
 これら増感色素は、単独でも又は2種以上組み合わせて使用しても良い。
 本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物における、成分(b)の含有量は、感度や感光性フィルムの膜強度の観点から、全固形分の0.01~5質量%の範囲内が好ましく、0.1~2質量%の範囲内がより好ましい。
[3](c)親水性及び疎水性のうち成分(a)が極性変換する前の極性と同一であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物
 本発明に係る(c)親水性及び疎水性のうち成分(a)が極性変換する前の極性と同一であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物(以下、成分(c)ともいう。)としては、公知の芳香環含有化合物、有機微粒子及び金属微粒子のうち少なくとも一種を含むことが好ましい。
 上記屈折率は、次のようにして測定することができる。
 すなわち、まず、測定対象の材料を溶解、分散可能な溶媒によって、当該材料の固形分濃度が0質量%、20質量%、40質量%となるように溶液をそれぞれ調製する。それぞれの濃度に調整した溶液に対し、カルニュー精密屈折計KPR-3000を用いて、波長525nmにて屈折率を測定し、固形分濃度-溶液屈折率のプロットを作成する。作成したプロットから、固形分100質量%での屈折率外挿値をその材料の屈折率とする。
 芳香環含有化合物としては、芳香環(すなわちπ電子の数が4n+2(nは自然数)を満たす環)を含む化合物が挙げられる。芳香環としては、芳香族炭化水素環でも芳香族複素環でも良く、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、アズレン環、フェナントレン環、トリフェニレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、ペリレン環、ペンタセン環、ヘキサセン環、コロネン環、トリナフチレン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、1,2,4-トリアゾール環、1,2,3-トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、フラザン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、キノリン環、イソインドール環、インドール環、イソキノリン環、フタラジン環、プリン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、ペリミジン環、フェナントロリン環、フェナジン環等が挙げられる。
 芳香環含有化合物は、一つの化合物が1種又は複数種の芳香環を有していても良い。
 また、これら芳香環含有化合物は、その芳香環に結合する水素原子が、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、トリフルオロメチル基又は炭素数1~6のアルキルチオ基で置換されていても良い。また、オキシエチレン鎖、オキシプロピレン鎖、ウレタン結合、アミド結合等を介して末端にアクリロイル基を有する基で置換されていても良い。
 かかる芳香環含有化合物の例としては、N-エチルカルバゾール及び4-ヒドロキシエチルカルバゾール等のN-エチルカルバゾール誘導体、9,9-ジアリールフルオレンビスフェノールフルオレン等のフルオレン誘導体、ビスフェノール誘導体、トリフェニルメタン誘導体、トリフェニルフォスフェート誘導体、トリフェニルチオリン酸誘導体等が挙げられるが、これらに限られるものではない。
 また、芳香環含有化合物に親水性を付与するために、上記芳香環含有化合物の芳香環に結合する水素原子を、例えば、ヒドロキシ基、オキシエチレン基、オキシエチレン基、スルホン酸基、カルボキシ基及びリン酸基等の親水性基で置換することができる。
 屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物としては、上記芳香環含有化合物をその構造に有する有機微粒子が利用できる。かかる有機微粒子としては、例えば、ハイパーブランチポリマー、デンドリマー、スターバーストポリマー、フラーレン、ナノダイヤ等が挙げられ、主鎖が高度に分岐した高分子であるデンドリマー、スターバーストポリマー及びハイパーブランチポリマーが分散性、透明性及び経済性の面から特に好ましい。
 これら有機微粒子は体積を持つ構造体として体積ホログラムにおける高屈折率領域を形成し、より強固な回折格子形成に寄与する。そのため、体積ホログラムの耐久性がより高められる。
 有機微粒子の平均粒径としては、10~50nmの範囲内であることが好ましい。
 金属微粒子としては、平均粒径50nm以下のものが利用できる。また、金属微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化クロム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化銅、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化ホルミウム、酸化ビスマス、酸化コバルト、酸化エルビウム、酸化ガドリニウム、酸化インジウム、酸化ニッケル、酸化ストロンチウム、酸化イッテルビウム等の金属酸化物、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ニオブ等の窒化物、炭化ケイ素、炭化チタン、炭化モリブデン、炭化タングステン等の炭化物などの誘電体微粒子、Si、Ge等のIV族半導体、CdS、CdSe、ZnSe、CdTe、ZnS、HgS、HgSe等のII-VI族半導体微粒子、GaAs、InP、InSb等のIII-V族半導体微粒子、PbS、PbSe等のIV-VI族半導体微粒子、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、ニオブ等の金属微粒子等が挙げられ、上記成分(a)に均一に分散可能であれば、特に限定されない。
 また、金属微粒子を親水化又は疎水化するために、金属微粒子作製時に表面に化学修飾を施しても良い。
 成分(c)として金属微粒子を用いた場合にも、上記有機微粒子を用いた場合と同様、金属微粒子が体積を持つ構造体として体積ホログラムにおける高屈折率領域を形成し、より強固な回折格子を形成することができる。そのため、体積ホログラムの耐久性がより高められる。
 上記有機微粒子及び金属微粒子の平均粒径は、粒子を電子顕微鏡で観察し、100個の任意の一次粒子の粒径を求め、その単純平均値(個数平均)として求められる。個々の粒子径はその投影面積に等しい円を仮定した時の直径で表したものである。
 以上のような成分(c)においては、成分(a)の構成に応じて、親水性であるか又は疎水性であるかを適宜選択する必要がある。すなわち、成分(a)が疎水性から親水性へ極性変換する場合には、成分(c)は疎水性である必要があり、成分(a)が親水性から疎水性へ極性変換する場合には、成分(c)は親水性である必要がある。
 使用する材料が親水性であるか、疎水性であるかを確認する方法としては、純水に対象の材料を添加し、浸潤するかどうかで判断できる。
 具体的には、100mLの純水の入った容器を用意し、対象の材料を0.1g添加する。当該容器を超音波分散器に3分間かけた後、目視にて確認し、当該材料が浸潤していれば親水性、浸潤せず容器内の純水表面に浮遊していれば疎水性と判断することができる。
 本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物における、成分(c)の含有量は、全固形分の10~70質量%の範囲内が好ましく、30~60質量%の範囲内がより好ましい。
[4]その他の材料
 本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物は、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて、可塑剤、相溶化剤、重合抑制剤、界面活性剤、シランカップリング剤、消泡剤、剥離剤、安定化剤、酸化防止剤、難燃剤、光学増白剤、紫外線吸収剤等の添加剤を更に含有していても良い。
 また、本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物は、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて、後述する溶媒等を更に含有していても良い。
[5]体積ホログラム製造用感光性組成物の製造方法
 体積ホログラム製造用感光性組成物は、上記した各成分を一括又は順次混合することにより得ることができる。混合の際に用いる装置としては、例えば、マグネチックスターラー、ホモディスパー、クイックホモミキサー、プラネタリーミキサー等の撹拌又は混合装置が挙げられる。得られた体積ホログラム製造用感光性組成物は、必要に応じて、濾過してから用いても良い。
《体積ホログラムの製造方法》
 本発明の体積ホログラムの製造方法は、上記体積ホログラム製造用感光性組成物よりなる感光性フィルムに、少なくともコヒーレント光による干渉露光を行うことにより回折格子を形成することを特徴とする。
 感光性フィルムの作製方法としては、例えば、上記体積ホログラム製造用感光性組成物を含有する塗布液を調製し、調製した塗布液を基材上に塗布し、乾燥する方法が好ましい。
 基材としては、透明基材が好ましく用いられ、例えば、ガラス、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフトエート、ポリエチレン、ポリプロピレン、アモルファスポリオレフィン、酢酸セルロース、水和セルロース、硝酸セルロース、シクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、ポリエポキシド、ポリスルホン、セルロースアシレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチラール、ポリジシクロペンタンジエン等から選ばれる基材が用いられる。その形態は、例えば、厚さ10~500μmのシート状又はフィルム状であっても良いし、プリズム形状であっても良い。
 体積ホログラム製造用感光性組成物を含有する塗布液の調製には、必要に応じて公知の溶媒が用いられる。ただし、常温・常圧において体積ホログラム製造用感光性組成物が上記透明基材上に塗布可能な程度の液状である場合は、溶媒が用いられなくても良い。なお、本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物は、溶媒を含む構成であるものとしても良い。
 上記溶媒としては、例えば、n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂肪族系溶媒;メチルエチルケトン(2-ブタノン)、アセトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトール等のエーテル系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールジアセテート等のエステル系溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒;ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒;アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒;N-メチル-2-ピロリドン、N-エチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等の極性溶媒等が挙げられる。これら溶媒は、単独で用いられても良いし、2種以上が組み合わされて用いられても良い。
 上記塗布液を基材上に塗布する方法としては、公知の方法を利用でき、例えば、スプレー法、スピンコート法、ワイヤーバー法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロールコート法等が挙げられる。
 上記塗布液を塗布した後の乾燥方法としては、例えば、ホットプレート、オーブン、ベルト炉等を用いた従来公知の種々の方法を採用することができる。乾燥温度は体積ホログラム製造用感光性組成物の感光性が損なわれない範囲で選択でき、例えば10~80℃の範囲内であり、乾燥時間は特に制限されず、例えば1~60分の範囲内である。
 基材上に形成される感光性フィルムの乾燥後の厚さは、5~100μmであることが好ましい。
 また、基材上に形成された感光性フィルムには、当該基材と同様の材料で構成された部材が積層されて感光性フィルム表面が被覆されても良い。
 このようにして作製された基材上の感光性フィルムに対しては、図1に示すような露光装置を用いてコヒーレント光による干渉波露光(ホログラフィ露光)を行う。図1は、感光性フィルムに対する露光に用いられる露光装置の一例を示す概略構成図である。
 図1に示す露光装置200においては、レーザー光源201から出射された光線(コヒーレント光、記録光)は、2対のミラーよりなるビームステアラー202a、202bによって露光系の適した位置に誘導される。シャッター203は、レーザー光源201から出射された光線のON/OFFを制御する。ビームエキスパンダー204は、感光性フィルムの露光面積に応じて、光束径を広げ、開口率(NA)を変化させる機能を有する。
 ビームエキスパンダー204を通った光線(記録光)は、ビームスプリッター205で二光束に分けられる。分けられた光線(記録光)は、それぞれミラー206、207及びミラー208、209によってスペイシャルフィルター211、212に誘導される。スペイシャルフィルター211、212はレンズとピンホールとから構成され、当該レンズで光線(記録光)を集光し、ピンホールを介して製造光学系213に光線(記録光)を誘導する。
 製造光学系213は、ホログラフィック光学素子の光線の反射角を制御できるように、体積ホログラムとなる感光性フィルムを具備したプリズム等のサンプルを好適な位置に設置及び固定することができるように構成されている。
 製造光学系213に固定されたプリズム等に具備された感光性フィルムは、二光束に分けられ、各々スペイシャルフィルター211、212を介して誘導された光線(記録光)によってホログラフィ露光(干渉波露光)される。
 なお、図示例ではレーザー光源201は一つのみ設けられているが、異なる波長を有する複数のレーザー光源を用いてホログラフィ露光する場合には、シャッター203手前の光路にグロイックミラーを挿入し、複数設けられたレーザー光源から発せられるレーザー光線を段階的に合成させるように構成されていても良い。
 ホログラフィック露光に用いられる記録光は、製造される体積ホログラムの用途に応じて選択することができる。例えば、アルゴンイオンレーザー(458nm、488nm、514nm)、クリプトンイオンレーザー(647.1nm)、ヘリウム-ネオンレーザー(633nm)、YAGレーザー(532nm)、半導体レーザー(830nm)等を使用することができる。
 ホログラム記録時の照射エネルギー量(露光量)としては、特に制限されないが、10~250mJ/cmの範囲であることが好ましい。
 また、ホログラム記録方式としては、偏光コリニアホログラム記録方式、参照光入射角多重型ホログラム記録方式等があるが、本発明の体積ホログラム製造用感光性組成物によればいずれの記録方式でも良好な記録品質を提供することが可能である。
 ホログラフィック露光をした後、屈折率変調の促進や、成分(b)の機能を失活させるために、体積ホログラム記録層に対して、更に紫外線による全面露光や湿度調整、加熱等の処理を適宜行っても良い。
 全面露光で用いられる光源としては、例えば、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、カーボンアークランプ、キセノンアークランプ、メタルハライドランプ等の紫外線を発する光源を用いることができる。紫外線による全面露光を行う場合の照射エネルギー量としては、50~200J/cmが好ましい。
 また、加熱処理を行う場合には、体積ホログラムの温度が50~150℃となるような加熱温度が好ましく、処理時間は30分間~3時間が好ましい。
 全面露光と加熱処理とをともに行う場合、その順序は特に制限されず、全面露光を先に行っても良いし、加熱処理を先に行っても良い。
 このようにして干渉波露光された感光性フィルムは、当該感光性フィルムのうち干渉波の明部において、成分(b)が熱又は酸を発生し、成分(a)に親水性から疎水性への極性変換、又は疎水性から親水性へ極性変換を生じさせる。次いで、当該極性変換に応じて生じた極性差により成分(c)を感光性フィルム内で移動させる。すなわち、成分(c)を、明部における極性の違いによって生じる親和力を駆動力として暗部に移動させる。これにより、干渉波の明部と暗部とに対応して、親水性の高屈折率領域(又は低屈折率領域)と疎水性の低屈折率領域(又は高屈折率領域)とを有する回折格子を形成することができる。
 以上のようにして作製された体積ホログラムは、親水性の高屈折率領域(又は低屈折率領域)と、疎水性の低屈折率領域(又は高屈折率領域)とを有する回折格子を備え、当該回折格子の高屈折領域と低屈折領域との間に、親水性及び疎水性による極性差を有している。各領域の表面エネルギー的性質に差があるため、長期の使用や保管によっても光学素子としての品質の劣化が少ない。
 体積ホログラムの高屈折率領域及び低屈折率領域における、親水性又は疎水性の程度及びその極性の差異は、走査型プローブ顕微鏡のプローブ探針を親水性基であるヒドロキシ基で修飾したものを用いて、プローブ探針と物質間の摩擦力測定(Chemical Force Microscope法;以下CFM法)により確認できる。
 まず、作製した体積ホログラム面を露出するように断裁してサンプリングし、CMF法により断裁面を走査距離20000nm以上にて摩擦力を計測し、走査距離-摩擦力をプロットする。走査距離を20000nm以上とするのは、体積ホログラムの回折格子の高屈折率領域と低屈折率領域とのそれぞれの摩擦力を確実に10点以上測定するためである。
 プロットからその極大値10点の平均値A(nN)及び極小値10点の平均値B(nN)を算出し、Aを回折格子における高屈折率領域(又は低屈折率領域)の親水性のレベルとし、Bを回折格子における低屈折率領域(又は高屈折率領域)の疎水性のレベルとする。A及びBがそれぞれ1.0nN以上であると親水性であり、1.0nN未満であると疎水性であると判断できる。
 上記Aは1.0~4.0nNであることが好ましい。Aが1.0nN以上であると、回折格子に極性差のある高屈折率領域と低屈折領域の回折格子が形成されており、その耐久性が向上する。一方、Aが4.0nN以下であると、親水性が高くなり過ぎず、高湿下での耐久性が向上する。また、Bは0.0nN以上1.0nN未満であることが好ましい。
 また、上記A及びBが上記数値を満たす範囲内において、AとBの差分(A-B)が0.5~3.0nNの範囲内であると、体積ホログラムの回折格子の高屈折領域と低屈折領域との間に親水性及び疎水性による極性差を有する、ということができる。また、AとBの差分は、本発明の効果発現の観点から、1.0~3.0nNであることが好ましく、更には2.5~3.0nNであることがより好ましい。
《ホログラフィック光学素子》
 本発明のホログラフィック光学素子は、上記体積ホログラムを備えて構成されていれば良く、例えば、体積ホログラムと、体積ホログラムの片面又は両面に設けられる隣接層と、を備えて構成される。当該隣接層としては、例えば上記基材を用いることができる。体積ホログラムの両面に隣接層が設けられる場合には、両者の構成材料及び厚さは互いに同じであっても良いし異なっていても良い。
 このようにして作製されるホログラフィック光学素子は、例えば、ヘッドマウントディスプレイ(HMD)、ヘッドアップディスプレイ(HUD)、光メモリ、光ディスク用ピックアップレンズ、液晶用カラーフィルター、反射型液晶反射板、レンズ、回折格子、干渉フィルター、光ファイバー用結合器、ファクシミリ用光偏光器又は建築用窓ガラス等に利用することができる。
 以下、本発明の具体的な実施例を比較例とともに説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記実施例及び比較例において「部」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」を表す。
《屈折率の測定》
 実施例に係る成分(a)、成分(c)及びその他の樹脂や化合物の屈折率は、以下のように算出した。
 測定対象の材料を溶解、分散可能な溶媒によって、当該材料の固形分濃度が0質量%、20質量%、40質量%となるように溶液をそれぞれ調製した。それぞれの濃度に調整した溶液を、カルニュー精密屈折計KPR-3000を用いて、波長525nmにて屈折率を測定し、固形分濃度-溶液屈折率のプロットを作成した。作成したプロットから、固形分100質量%での屈折率外挿値をその材料の屈折率とした。
 各材料の屈折率を表1~表6に示す。
《樹脂1の合成》
 三ツ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、PEGMEAと記載)20部を入れ、55℃に昇温した。その後、下記組成の混合物1を1時間かけて滴下した後、60℃で3時間の反応を行った。反応後、PEGMEAを添加して固形分を40質量%に調整し、樹脂1溶液を得た。樹脂1は、極性変換基を有さず、ポリスチレン換算で重量平均分子量Mw=10.2万であった。また、その屈折率は1.44であった。
(混合物1の組成)
 n-ブチルアクリレート          46.0部
 メタクリル酸メチル            54.0部
 重合開始剤(製品名V-65;和光純薬製)  1.5部
 PEGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
                      98.5部
 調製した樹脂1溶液をブレードコーターで塗布してフィルム化した。このフィルムを20℃50%RHの環境下に12時間静置した後、接触角計測システムDM-901(協和界面科学(株)製)を用いて、純水に対する接触角を測定(測定条件;測定環境:20℃50%RH、純水滴下量:0.1mL、接触角計測タイミング:純水滴下後30秒後)したところ、77°であった。この計測結果を表1の純水接触角の「処理前」の欄に示す。
 次いで、別途作製したフィルムを0.1規定の塩酸に3分間浸漬した後、20℃50%RHの環境下にて12時間静置した後、前述と同様の方法で純水に対する接触角を測定したところ、74°であって、接触角はほとんど変化していなかった。この計測結果を表1の純水接触角の「酸処理後」の欄に示す。
 また、別途作製したフィルムを150℃の恒温槽に60秒間入れて熱処理し、その後20℃50%RHの環境下にて12時間静置してから、前述と同様の方法で純水に対する接触角を測定したところ、79°であり、接触角はほとんど変化していなかった。この計測結果を表1の純水接触角の「熱処理後」の欄に示す。以下、樹脂2~16についてそれぞれ同様の方法で接触角を測定し、測定結果をそれぞれ表1に示す。
《樹脂2~9の合成》
 上記樹脂1の合成において、混合物1を表1及び表2に記載のとおりに変更した以外は同様にして、樹脂2~9溶液をそれぞれ合成した。樹脂2~9の極性変換性の有無、極性変換基のモル数、重量平均分子量Mw、屈折率、並びに処理前、酸処理後及び熱処理後の接触角を表1及び表2に示す。なお、表1及び表2中の極性変換基のモル数は、各混合物2~9における、極性変換基を有するモノマーのモノマー比をモル数で表したものである。また、各混合物2~9に含有される化合物A~Dを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
《樹脂10の合成》
 三ツ口フラスコに、純水10部及びn-プロパノール10部を入れ、50℃に昇温した。その後、下記混合物10を1時間かけて滴下した後、50℃で3時間の反応を行った。反応後、純水・n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1)を添加して固形分40質量%に調整し、極性変換基4モル%の樹脂10溶液を得た。樹脂10はポリスチレン換算で重量平均分子量Mw=8.2万であった。また、その屈折率は1.45であった。また、樹脂10を用いたフィルムの純水接触角は、処理前で24°、塩酸処理後で58°、熱処理後で54°であり、親水性から疎水性に変化したことが確認できた。
(混合物10の組成)
 極性変換基含有重合性モノマー(下記化合物E)     10.3部
 メトキシポリエチレングリコール#400アクリレート  41.3部
 メタクリル酸メチル                  48.4部
 重合開始剤(製品名V-65;和光純薬製)        1.5部
 純水・n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1)  98.5部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
《樹脂11~14の合成》
 上記樹脂10の合成において、混合物10を表3に記載のとおりに変更した以外は同様にして、樹脂11~14溶液をそれぞれ合成した。樹脂11~14の極性変換性の有無、極性変換基のモル数、重量平均分子量Mw、屈折率、並びに処理前、酸処理後及び熱処理後の接触角を表2に示す。なお、表2中の極性変換基のモル数は、各混合物10~14における、極性変換基を有するモノマーのモノマー比をモル数で表したものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
《樹脂15の合成(結晶性のポリエステル樹脂の合成)》
 三ツ口フラスコに、下記組成の混合物15を投入後、触媒としてテトラブトキシチタネートを0.5部添加した。その後、容器内を減圧し、更に容器内の空気を窒素ガスで置換して不活性雰囲気にし、容器内の混合液を撹拌しながら230℃に加温して、生成する水を留去しながら5時間反応させた。その後、空冷して、容器内の減圧を解除して反応を停止させ、酢酸エチルを添加して固形分40質量%に調整し、エステル基含有の結晶性ポリエステルからなる樹脂15溶液を得た。樹脂15は、ポリスチレン換算で重量平均分子量Mw=72000であった。また、その屈折率は1.51であった。
(混合物15の組成)
 コハク酸           30部
 1,2-プロパンジカルボン酸 33部
 エチレングリコール      15部
 プロピレングリコール     18部
 PEG-600(重量平均分子量Mw=600のポリエチレングリコール)                4部
 調製した樹脂15をバルク化し、テトラヒドロフランに溶解して結晶性を確認したところ、不溶分の比率は9質量%であり、結晶性が高いという結果が得られた。また、調製した樹脂15溶液をフィルム化し、処理前、酸処理後及び熱処理後の接触角を測定したところ、それぞれ81°、76°、82°であった。
《樹脂16の合成(非結晶性ポリヒドロキシアルカノエート樹脂の合成)》
 上記樹脂15の合成において、混合物15を下記組成の混合物16に変更した以外は同様にして、樹脂16溶液を得た。樹脂16は、ポリスチレン換算で重量平均分子量Mw=76000であった。また、その屈折率は1.46であった。
(混合物16の組成)
 下記化合物F        46部
 3-ヒドロキシプロピオン酸 46部
 PEG-600(重量平均分子量Mw=600のポリエチレングリコール)               8部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 調製した樹脂16をバルク化し、テトラヒドロフランに溶解して結晶性を確認したところ、不溶分の比率は0質量%であり、結晶性が低いという結果が得られた。また、調製した樹脂16溶液をフィルム化し、処理前、酸処理後及び熱処理後の接触角を測定したところ、それぞれ71°、49°、56°であった。
《樹脂17の合成(水系ブロックドイソシアネート樹脂とポリビニルアルコールの混合樹脂)》
 下記組成の混合物17をスターラーによって撹拌して均一化させて固形分20質量%の樹脂17溶液を得た。樹脂17の屈折率は1.45であった。
(混合物17の組成)
 ブロックドイソシアネート含有ポリエーテル樹脂溶液(製品名:エラストロンBAP(第一工業製薬製)、重量平均分子量Mw=5000、屈折率1.43、固形分20質量%) 20.0部
 ポリビニルアルコール樹脂(製品名:デンカポバールW20N(電気化学工業(株)製)、重量平均分子量Mw=106500、屈折率1.48)
              10.0部
 純水           70.0部
 調製した樹脂17溶液をブレードコーターで塗布してフィルム化した。このフィルムを20℃50%RHの環境下に12時間静置した後、接触角計測システムDM-901(協和界面科学(株)製)を用いて、純水に対する接触角を測定(測定条件;測定環境:20℃50%RH、純水滴下量:0.1mL、接触角計測タイミング:純水滴下後30秒後)したところ、28°であった。
 次いで、別途作製したフィルムを0.1規定の水酸化ナトリウム水溶液に3分間浸漬した後、20℃50%RHの環境下にて12時間静置した後、前述と同様の方法で純水に対する接触角を測定したところ、51°であった。
 また、別途作製したフィルムを150℃の恒温槽に60秒間入れて熱処理し、その後20℃50%RHの環境下にて12時間静置してから、前述と同様の方法で純水に対する接触角を測定したところ、67°であった。
[実施例1]
《ホログラフィック光学素子1の作製》
 暗室下で、下記体積ホログラム製造用感光性組成物1を容器に投入し、30分間室温で撹拌し、得られた溶液をメッシュで濾過した。なお、体積ホログラム製造用感光性組成物1に成分(c)として含有されるN-エチルカルバゾールを、純水とともに容器に添加し、超音波分散器にて3分間の混合を試み、目視にて観察したところ、当該N-エチルカルバゾールは全く浸潤せず、疎水性であることを確認した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物1)
 樹脂1溶液(極性変換性なし、屈折率1.44、固形分40質量%)
                       67.0部
 N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                       12.0部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 下記増感色素1                0.4部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)   0.8部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 ブレードコーターにより、厚さ100μmのPETフィルム上に上記濾過後の体積ホログラム製造用感光性組成物1を塗布し、20℃、50%RHの環境下で30分間乾燥させ、厚さ20μmの感光性フィルムを得た。その後、感光性フィルムに厚さ70μmのポリ酢酸セルロースフィルムを接するように重ねて、ローラーによってラミネートし、感光性フィルムを含む積層体を得た。
 次いで、図2に示すホログラフィック光学素子100を作製した。図2は、ホログラフィック光学素子100の概略構成図である。
 具体的には、上記作製した積層体からPETフィルムのみを剥離し、図2に示すように、プリズム基体101aの面に感光性フィルム104が密着するように貼付した。プリズム基体101aのポリ酢酸セルロースフィルム103及び感光性フィルム104が貼付された面に、シリコーン粘着剤102が設けられたプリズム基体101bを圧着させて、ホログラフィック光学素子原体を得た。
 YAGレーザー(発光波長532nm)を光源とする図1の露光装置に、得られたホログラフィック光学素子原体を設置し、露光波長532nm、感光性フィルム面におけるエネルギー量が24mJ/cmとなるように露光を行った。
 その後、暗室下のまま60℃で3時間の熱処理を行い、次いで高圧水銀ランプ(照度100W)から15cmの位置に60秒間配置することで、体積ホログラムを備えるホログラフィック光学素子1を得た。
《ホログラフィック光学素子2の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物2に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子2を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物2)
 成分(a):樹脂2溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.44、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)                    12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子3の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物3に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子3を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物3)
 成分(a):樹脂3溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.44、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)                    12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子4の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物4に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子4を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物4)
 成分(a):樹脂4溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.43、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)                    12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子5の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物5に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子5を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物5)
 成分(a):樹脂5溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.42、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)                    12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子6の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物6に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子6を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物6)
 成分(a):樹脂6溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.42、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)                    12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子7の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物7に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子7を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物7)
 成分(a):樹脂7溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.42、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)                    12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子8の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物8に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子8を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物8)
 成分(a):樹脂8溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.45、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)                    12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子9の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物9に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子9を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物9)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)                    12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子10の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物10に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子10を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物10)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):フルオレン(屈折率1.63、芳香環含有化合物)
                      12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子11の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物11に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子11を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物11)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):ポリフェニレンデンドリマー(平均粒径50nm、屈折率1.67、有機微粒子)            12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子12の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物12に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子12を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物12)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):ルチル型チタニア粒子(平均粒径10nm、オクチルシラン処理済、屈折率2.70、金属微粒子)    12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子13の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物13に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子13を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物13)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)        67.00部
 4-ヒドロキシカルバゾール(屈折率1.69、芳香環含有化合物)
                      12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子14の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物14に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子14を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物14)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)        67.00部
 ルチル型チタニア粒子(平均粒径12nm、屈折率2.70、金属微粒子)                     12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):光酸発生剤(s-トリアジン)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子15の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物15に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子15を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物15)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)        67.00部
 成分(c):シリカ粒子(平均粒径15nm、オクチルシラン処理済、屈折率1.55、金属微粒子)         12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1               0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)  0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                      19.76部
《ホログラフィック光学素子16の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物16に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子16を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物16)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)          67.00部
 成分(c):ポリプロピレン粒子のトルエン分散体(平均粒径30nm、固形分50質量%、屈折率1.52、有機微粒子) 24.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                         0.04部
 上記増感色素1                 0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)    0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                         7.76部
《ホログラフィック光学素子17の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物17に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子17を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物17)
 成分(a):樹脂10溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.45、固形分40質量%)            67.00部
 成分(c):下記化合物G(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                           12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 ローダミンb                     0.40部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(光酸発生剤)   0.80部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
《ホログラフィック光学素子18の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物18に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子18を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物18)
 成分(a):樹脂11溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.45、固形分40質量%)            67.00部
 成分(c):上記化合物G(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                           12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 ローダミンb                     0.40部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(光酸発生剤)   0.80部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
《ホログラフィック光学素子19の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物19に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子19を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物19)
 成分(a):樹脂12溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.45、固形分40質量%)            67.00部
 成分(c):上記化合物G(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                           12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 ローダミンb                     0.40部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(光酸発生剤)   0.80部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
《ホログラフィック光学素子20の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物20に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子20を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物20)
 成分(a):樹脂13溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.46、固形分40質量%)            67.00部
 成分(c):上記化合物G(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                           12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 ローダミンb                     0.40部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(光酸発生剤)   0.80部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
《ホログラフィック光学素子21の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物21に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子21を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物21)
 成分(a):樹脂14溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.46、固形分40質量%)            67.00部
 成分(c):上記化合物G(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                           12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 ローダミンb                     0.40部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(光酸発生剤)   0.80部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
《ホログラフィック光学素子22の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物22に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子22を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物22)
 成分(a):樹脂13溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.46、固形分40質量%)            67.00部
 成分(c):ポリフェニレンサルファイドデンドリマー(平均粒径40nm、屈折率1.70、有機微粒子)           12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 ローダミンb                     0.40部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(光酸発生剤)   0.80部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
《ホログラフィック光学素子23の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物23に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子23を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物23)
 成分(a):樹脂13溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.46、固形分40質量%)            67.00部
 成分(c):チタニア(平均粒径12nm、屈折率2.70、金属微粒子)                          12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 ローダミンb                     0.40部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(光酸発生剤)   0.80部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
《ホログラフィック光学素子24の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物24に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子24を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物24)
 成分(a):樹脂13溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.46、固形分40質量%)            67.00部
 チタニア(平均粒径10nm、オクチルシラン処理済、屈折率2.70、金属微粒子)                     12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 ローダミンb                     0.40部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(光酸発生剤)   0.80部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
《ホログラフィック光学素子25の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物25に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子25を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物25)
 成分(a):樹脂13溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.46、固形分40質量%)            67.00部
 エトキシ化ビスフェノールA(屈折率1.52、芳香環含有化合物)
                           12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 ローダミンb                     0.40部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(光酸発生剤)   0.80部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
《ホログラフィック光学素子26の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物26に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子26を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物26)
 樹脂15溶液(エステル基含有結晶性ポリエステル樹脂、屈折率1.51、固形分40質量%)             67.0部
 N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                       12.0部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                       0.04部
 上記増感色素1                0.4部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)   0.8部
 酢酸エチル                19.76部
《ホログラフィック光学素子27の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物27に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子27を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物27)
 成分(a):樹脂16溶液(エステル基含有非結晶性ポリヒドロキシアルカノエート樹脂、屈折率1.42、固形分40質量%)  67.0部
 成分(c):N-エチルカルバゾール(屈折率1.68、芳香環含有化合物)                         12.0部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                           0.04部
 上記増感色素1                   0.40部
 成分(b):s-トリアジン(光酸発生剤)      0.80部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                          19.76部
《ホログラフィック光学素子28の作製》
 上記ホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物28に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子28を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物28)
 成分(a):樹脂17溶液(ブロックドイソシアネート含有ポリエーテル樹脂とポリビニルアルコールの混合水溶液、屈折率1.45、固形分20質量%)                        67.00部
 成分(c):上記化合物G(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                           12.00部
 成分(b):下記光塩基発生剤             0.20部
 ローダミンb                     0.40部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1)  6.36部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
《ホログラフィック光学素子1~28の評価》
 作製したホログラフィック光学素子1~28について、以下の評価を行った。評価結果を表4及び表5に示す。
(体積ホログラムの回折格子の物性測定)
 作製したホログラフィック光学素子を液体窒素に曝して凍結し、カッターを用いて体積ホログラム面が露出するように断裁し、測定用サンプルとした。作製した測定用サンプルを走査型プローブ顕微鏡システムSPM-9000に設置した。プローブとして親水性基であるヒドロキシ基で修飾された探針を設置し、走査距離10000nmにおける摩擦力を計測し、走査距離-摩擦力をプロットした。プロットからその極大値10点の平均値A(nN)及び極小値10点の平均値B(nN)を算出した。平均値A及びBが1.0nN以上であると親水性であり、1.0nN未満であると疎水性であると判断できる。また、AとBとの差分が、高屈折率領域と低屈折率領域との間の、親水性及び疎水性の極性差である。A、B及びそれらの差分(A-B)を表4及び表5に示す。
(回折効率の評価)
 作製したホログラフィック光学素子について、分光光度計U-3900(株式会社日立製作所製)を用い、以下の条件で透過率を測定した。
 スキャン範囲  :900~400nm
 スキャンスピード:600nm/min
 ホログラフィック光学素子1~28について、得られた透過率データの波長600~460nmの透過率よりベースラインを算出し、波長535~520nmにおける透過率の極小値Tとベースライン透過率Bとの値から、回折効率を以下の式により算出した。
 回折効率=[(B-T)/B]×100(%)
 算出された回折効率が75%以上であると、例えば再生光の光源としてLED光源を用いた場合、LED光源の消費電力を削減することができる可能性がある。一方、回折効率が61%未満のように低い場合は、LED光源の発光強度を高める必要があるため、消費電力が増える等の不具合が生じやすい。
(耐久性の評価)
 作製したホログラフィック光学素子を85℃の恒温槽に100時間静置する耐久試験を行った後、上記回折効率の評価と同様にして回折効率を測定した。耐久試験前後で回折効率の低下率を以下の式より求め、その値を下記基準に基づき評価した。
 回折効率の低下率=[(耐久試験前の回折効率-耐久試験後の回折効率)/耐久試験前の回折効率]×100(%)
  ◎:回折効率の低下率が2%以下
  ○:回折効率の低下率が2%超、5%以下
  △:回折効率の低下率が5%超、10%以下
  ×:回折効率の低下率が10%超
 回折効率の低下率が2%以下であると、ホログラフィック光学素子は耐久性があって信頼性が高いものとなる。一方、回折効率の低下率が10%を超えると耐久性は全くなく、光学素子としての品質が得られなくなる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
[実施例2]
《ホログラフィック光学素子29の作製》
 実施例1のホログラフィック光学素子1の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物1を下記体積ホログラム製造用感光性組成物29に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子原体を得た。
(体積ホログラム製造用感光性組成物29)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)          67.00部
 成分(c):フルオレン(屈折率1.65、芳香環含有化合物)
                        12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                         0.04部
 成分(b):下記光熱変換色素1(光熱発生剤)  1.20部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                        19.76部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 半導体レーザー(発光波長830nm)を光源とする図1の露光装置に、得られたホログラフィック光学素子原体を設置し、露光波長830nm、感光性フィルム面におけるエネルギー量が80mJ/cmとなるように露光を行った。
 その後、高圧水銀ランプ(照度100W)から15cmの位置に60秒間配置することで、体積ホログラムを備えるホログラフィック光学素子29を得た。
《ホログラフィック光学素子30の作製》
 上記ホログラフィック光学素子29の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物29を下記体積ホログラム製造用感光性組成物30に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子30を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物30)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)          67.00部
 成分(c):フルオレン(屈折率1.65、芳香環含有化合物)
                        12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                         0.04部
 成分(b):上記光熱変換色素1(光熱発生剤)  1.00部
 成分(b):2,4,4,6-テトラブロモシクロヘキサジエノン(熱酸発生剤)                     0.20部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                        19.76部
《ホログラフィック光学素子31の作製》
 上記ホログラフィック光学素子29の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物29を下記体積ホログラム製造用感光性組成物31に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子31を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物31)
 成分(a):樹脂9溶液(疎水性から親水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.47、固形分40質量%)          67.00部
 成分(c):ポリフェニレンデンドリマー(平均粒径50nm、屈折率1.67、有機微粒子)              12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                         0.04部
 成分(b):上記光熱変換色素1(光熱発生剤)  1.00部
 成分(b):2,4,4,6-テトラブロモシクロヘキサジエノン(熱酸発生剤)                     0.20部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                        19.76部
《ホログラフィック光学素子32の作製》
 上記ホログラフィック光学素子29の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物29を下記体積ホログラム製造用感光性組成物32に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子32を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物32)
 樹脂1溶液(極性変換性なし、屈折率1.44、固形分40質量%)
                        67.00部
 成分(c):フルオレン(屈折率1.65、芳香環含有化合物)
                        12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                         0.04部
 成分(b):上記光熱変換色素1(光熱発生剤)  1.00部
 成分(b):2,4,4,6-テトラブロモシクロヘキサジエノン(熱酸発生剤)                     0.20部
 メチルエチルケトン/トルエン混合溶媒(質量混合比8:2)
                        19.76部
《ホログラフィック光学素子33の作製》
 上記ホログラフィック光学素子29の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物29を下記体積ホログラム製造用感光性組成物33に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子33を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物33)
 成分(a):樹脂13溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.46、固形分40質量%             67.00部
 成分(c):上記化合物G(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                           12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 成分(b):下記光熱変換色素2(光熱発生剤)     1.20部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
《ホログラフィック光学素子34の作製》
 上記ホログラフィック光学素子29の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物29を下記体積ホログラム製造用感光性組成物34に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子34を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物34)
 成分(a):樹脂13溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.46、固形分40質量%)            67.00部
 成分(c):上記化合物G(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                           12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 成分(b):上記光熱変換色素2(光熱発生剤)     1.00部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(熱酸発生剤)   0.20部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
《ホログラフィック光学素子35の作製》
 上記ホログラフィック光学素子29の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物29を下記体積ホログラム製造用感光性組成物35に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子35を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物35)
 成分(a):樹脂13溶液(親水性から疎水性へ極性変換する樹脂、屈折率1.46、固形分40質量%)            67.00部
 成分(c):チタニア(平均粒径12nm、屈折率2.70、金属微粒子)                          12.00部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 成分(b):上記光熱変換色素2(光熱発生剤)     1.00部
 成分(b):ジフェニルヨードニウム(熱酸発生剤)   0.20部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1) 19.76部
《ホログラフィック光学素子36の作製》
 上記ホログラフィック光学素子29の作製において、体積ホログラム製造用感光性組成物29を下記体積ホログラム製造用感光性組成物36に変更した以外は同様にして、ホログラフィック光学素子36を作製した。
(体積ホログラム製造用感光性組成物36)
 成分(a):樹脂17溶液(ブロックドイソシアネート含有ポリエーテル樹脂とポリビニルアルコールの混合水溶液、屈折率1.45、固形分20質量%)                        67.00部
 成分(c):上記化合物G(屈折率1.68、芳香環含有化合物)
                           12.00部
 成分(b):上記光熱変換色素2(光熱発生剤)     1.20部
 ローダミンb                     0.40部
 フッ素系界面活性剤(メガファックF-554;DIC製)
                            0.04部
 純水/n-プロパノール混合溶媒(質量混合比1:1)  6.36部
《ホログラフィック光学素子29~36の評価》
 作製したホログラフィック光学素子29~36について、以下の評価を行った。評価結果を表6に示す。
(体積ホログラムの回折格子の物性測定)
 実施例1と同様にして体積ホログラムの回折格子の物性測定を行った。
(回折効率の評価)
 作製したホログラフィック光学素子について、分光光度計U-3900(株式会社日立製作所製)を用い、実施例1と同様にして、透過率を測定した。
 ホログラフィック光学素子29~36について、得られた透過率データの波長900~750nmの透過率よりベースラインを算出し、波長840~800nmにおける透過率の最小値Tとベースライン透過率Bとの値から、回折効率を以下の式により算出した。
 回折効率=[(B-T)/B]×100(%)
(耐久性の評価)
 実施例1と同様にして耐久性の評価を行った。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
 表4~表6に示すように、成分(a)~(c)を含有する体積ホログラム製造用感光性組成物を用いて作製された本発明のホログラフィック光学素子は、成分(a)~(c)を含有しない体積ホログラム製造用感光性組成物を用いて作製された比較例のホログラフィック光学素子に比べて、回折効率及び耐久性に優れていることが確認された。
 ホログラフィック光学素子2~9、27の比較より、成分(a)の極性変換基の量が多い程、極性変換基の極性変化が大きい程、回折効率が高く、その耐久性が優れていることが確認できる。その際、CFM法による、できあがった回折格子の高屈折率領域、低屈折領域の親水性基修飾によるプローブ探針との摩擦力の差分が大きいほど回折効率が良好で、耐久性が優れている。これは回折格子の高屈折率領域、低屈折領域の親水性から疎水性の極性差が大きいほど、体積ホログラム品質が良好であることを示している。
 また、ホログラフィック光学素子10と、ホログラフィック光学素子11、12との対比より、成分(c)が有機微粒子又は金属微粒子であると、体積ホログラム品質の耐久性がとりわけ優れていることが確認できる。
 更に、ホログラフィック光学素子2~12、15、27と、ホログラフィック光学素子17~23、28との対比より、成分(a)の極性変化が疎水性から親水性であっても親水性から疎水性であっても、体積ホログラムは形成され、本発明の効果を発現することが確認できる。
 また、ホログラフィック光学素子28より、成分(b)が光塩基発生剤であっても、体積ホログラムは形成され、本発明の効果を発現することが確認できる。
 また、ホログラフィック光学素子29~36より、成分(b)が、光熱発生剤、又は、光熱発生剤と熱酸発生剤との組み合わせであっても、体積ホログラムは形成され、本発明の効果を発現することが確認できる。
 以上のように、本発明は、回折効率及び耐久性に優れた体積ホログラム、当該体積ホログラムの製造に用いられる体積ホログラム製造用感光性組成物、当該体積ホログラムの製造方法、及び当該体積ホログラムを備えたホログラフィック光学素子を提供することに適している。
 100 ホログラフィック光学素子
 101a、101b プリズム基体
 102 シリコーン粘着剤
 103 ポリ酢酸セルロースフィルム
 104 感光性フィルム
 200 露光装置
 201 レーザー光源
 202a、202b ビームステアラー
 203 シャッター
 204 ビームエキスパンダー
 205 ビームスプリッター
 206、207、208、209 ミラー
 211、212 スペイシャルフィルター
 213 製造光学系

Claims (12)

  1.  少なくとも下記(a)~(c)を含有することを特徴とする体積ホログラム製造用感光性組成物。
     (a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂
     (b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料
     (c)親水性及び疎水性のうち前記(a)が極性変換する前の極性と同一であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物
  2.  前記(a)が、熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ極性変換する官能基、又は親水性から疎水性へ極性変換する官能基を有する樹脂を含むことを特徴とする請求項1に記載の体積ホログラム製造用感光性組成物。
  3.  前記(b)が、光酸発生剤、光塩基発生剤、光熱発生剤、及び光熱発生剤と熱酸発生剤との組み合わせのうち少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の体積ホログラム製造用感光性組成物。
  4.  前記(c)が、芳香環含有化合物、有機微粒子及び金属微粒子のうち少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の体積ホログラム製造用感光性組成物。
  5.  前記(c)が、有機微粒子及び金属微粒子のうち少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項4に記載の体積ホログラム製造用感光性組成物。
  6.  少なくとも下記(a)~(c)を含有する体積ホログラム製造用感光性組成物よりなる感光性フィルムに、少なくともコヒーレント光による干渉波露光を行うことにより回折格子を形成することを特徴とする体積ホログラムの製造方法。
     (a)熱、酸及び塩基の少なくとも一種の存在により、疎水性から親水性へ、又は親水性から疎水性へ極性変換する樹脂
     (b)光によって熱、酸及び塩基の少なくとも一種を発生する材料
     (c)親水性及び疎水性のうち前記(a)が極性変換する前の極性と同一であって、屈折率が1.55~2.70の範囲内である化合物
  7.  前記コヒーレント光による干渉波露光によって、前記(a)に疎水性から親水性への極性変換、又は親水性から疎水性への極性変換を生じさせ、当該極性変換に応じて生じた極性差により前記(c)を前記感光性フィルム内で移動させることにより前記回折格子を形成することを特徴とする請求項6に記載の体積ホログラムの製造方法。
  8.  回折格子の高屈折領域と低屈折領域との間に、親水性及び疎水性による極性差を有することを特徴とする体積ホログラム。
  9.  Chemical Force Microscopy法による、前記高屈折率領域とヒドロキシ基修飾されたプローブ探針との摩擦力と、前記低屈折率領域と前記プローブ探針との摩擦力との差分が、0.5~3.0nNの範囲内であることを特徴とする請求項8に項記載の体積ホログラム。
  10.  前記摩擦力の差分が、1.0~3.0nNの範囲内であることを特徴とする請求項9に記載の体積ホログラム。
  11.  前記摩擦力の差分が、2.5~3.0nNの範囲内であることを特徴とする請求項9又は請求項10に記載の体積ホログラム。
  12.  請求項8から請求項11までのいずれか一項に記載の体積ホログラムを備えることを特徴とするホログラフィック光学素子。
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