WO2017092938A1 - Anordnung zur bestimmung der tiefe von in oberflächen eines substrates, auf dem mindestens eine schicht aus einem vom substratmaterial abweichenden material ausgebildet ist, ausgebildeten vertiefungen - Google Patents

Anordnung zur bestimmung der tiefe von in oberflächen eines substrates, auf dem mindestens eine schicht aus einem vom substratmaterial abweichenden material ausgebildet ist, ausgebildeten vertiefungen Download PDF

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WO2017092938A1
WO2017092938A1 PCT/EP2016/076083 EP2016076083W WO2017092938A1 WO 2017092938 A1 WO2017092938 A1 WO 2017092938A1 EP 2016076083 W EP2016076083 W EP 2016076083W WO 2017092938 A1 WO2017092938 A1 WO 2017092938A1
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WO
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substrate
detectors
electromagnetic radiation
layer
detected
Prior art date
Application number
PCT/EP2016/076083
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English (en)
French (fr)
Inventor
Philipp Wollmann
Wulf Grählert
Florian Gruber
Original Assignee
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
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Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. filed Critical Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Publication of WO2017092938A1 publication Critical patent/WO2017092938A1/de

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/22—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring depth

Definitions

  • the invention relates to an arrangement for determining the depth of depressions formed in surfaces of a substrate on which at least one layer of a material deviating from the substrate material is formed.
  • a substrate on which at least one layer of a material deviating from the substrate material is formed.
  • These may be substrates which are merely a layer on a surface but also those in which several layers are present one above the other on a surface of a substrate. In this case, all layers can be formed from different materials. It can be the depth of wells, which are distributed scattered over the surface and have a variety of geometries of their inner free cross-sections, such as circular (blind holes) or polygonal shapes determined.
  • Recesses can also be trench-shaped elongated rectilinear or curved. A trench-like formation of depressions is required in the production of organic photovoltaic elements.
  • multi-layer system In one, formed on a substrate, suitable for photovoltaic applications, multi-layer system usually grave-shaped recesses (so-called scribbles) are formed to electrically interconnect individual photovoltaic cells in a specific form, so that in use a desired electrical voltage can be achieved.
  • grave-shaped recesses so-called scribbles
  • a locally selectively achievable material removal of the multilayer system on at least one layer of the multi-layer system a defined electrical insulation can be achieved with the respectively formed grave-shaped depressions.
  • the trench-shaped depressions are formed in this application, preferably with a laser beam. This has the following advantages: o realization of very narrow "isolation trenches",
  • the problem is that an optimum depth of the trench-shaped depressions should be maintained.
  • the recesses should not be too deep to damage an underlying layer (e.g.
  • a serving as a substrate film would then no longer long-term stability. Wells should not be too shallow. In the case of depressions that are not sufficiently deeply formed, it is not possible to achieve adequate segmentation of the regions of individual photovoltaic elements, which in turn would lead to incorrect electrical voltages and excessive losses as a result of increased electrical resistance as well as lower electrical voltage. In order to be able to check the optimal depth (the quality of the scribes), simple test methods should be available, which can also be implemented as inline test systems if possible. This means that the current depth of the scratches can be recorded continuously during the process and the material removal process can be controlled based on their measurement signals.
  • Another feasible option is to detect the emission spectrum of the material (vapor) discharged by the laser ablation process. From this it is possible to determine the material quality and to derive an assignment to the momentary "depth" of a depression or to the current ablated layer, but it is disadvantageous that this can not be achieved in all process pressure ranges It is usually much larger than the laser beam required to form the trench-shaped depressions, so there is no derivation of the actual depth, but only the current area of the material where laser ablation is being performed will be achieved.
  • a plurality of detectors which are designed for spatially resolved spectral analysis of electromagnetic radiation within a wavelength interval, are in one Arranged rows or a row and column arrangement.
  • the detectors are connected to an electronic evaluation unit and arranged such that emitted by a broadband radiation source electromagnetic radiation either after a reflection at the surface of the substrate or a formed on the surface of the substrate layer and / or after passing through the transparent for the electromagnetic radiation Substrate or the substrate with at least one present on a surface layer on the detectors, wherein the irradiation is such that on a surface from which the electromagnetic radiation is reflected or transmitted through the surface, a laterally and temporally homogeneous intensity of the electromagnetic radiation is complied with.
  • irradiation it can be utilized that electromagnetic radiation emitted by the substrate and / or at least one layer formed on the substrate impinges on the detectors as a result of an energy input. For this purpose, options are explained below.
  • the electronic evaluation unit is embodied such that the measurement signals of the detectors detected at location and wavelength resolution can be detected within a wavelength interval for individual location points on a surface of the substrate or a layer formed on a substrate, and measurement signals detected at a plurality of positions in each case correspond to a partial area of the detected area (Hypercube) are assignable.
  • the respective intensities of individual wavelengths can be taken into account.
  • the irradiation of the surface can take place with at least one angle in the range 0 ° to ⁇ 90 ° with respect to the normal of the surface of the irradiated surface of the substrate.
  • the detection and evaluation can advantageously be carried out using at least one polarizer having at least one defined known polarization plane with respect to the plane of incidence or combinations thereof.
  • the detectors and the substrate can be moved relative to one another along at least one axis, and preferably at a constant distance from each other.
  • the radiation source may comprise electromagnetic radiation-forming optical elements.
  • diffuse electromagnetic radiation may be present on the surface emitting radiation source, which is arranged in particular within a hollow body (eg an integrating sphere). Particularly preferred in the beam path of the electromagnetic radiation, the incidence of scattered electromagnetic radiation avoiding aperture arranged in front of the detectors.
  • the series and column arrangement of detectors with optical elements and evaluation electronics can be formed with a hyperspectral camera.
  • the memory should store spectra of reference patterns in which pits are stored in the same way as they were formed in the formation of pits in at least one layer of the substrate. It is advantageous that recesses are each completely formed by a layer, so that the sole of a recess is formed by the material of the next following layer or the substrate material. However, it is also possible to partially remove the layers in order to obtain more comparison patterns, for a more accurate characterization of the respectively formed depression, in particular its depth. Accordingly, in one well, the material of one or more layers should be ablated to a predeterminable depth before the depth of the respective well is determined and used for a control sample.
  • the depth can be determined without an additional measurement, if a complete removal of the material of one or more layers has occurred, and the bottom of the recess or the material of the next layer arranged or Substrate material is formed. Otherwise, the depth of the reference well must be determined by an alternative reference method.
  • a spectrum is then detected with the detectors of an arrangement according to the invention and stored as a comparison pattern in the memory.
  • the wells of different depths acquired spectra can then be used for comparison in studies on a real substrate.
  • a calculation of the spectral angle, or another similarity measure, between the spectra of the hypercube and all measured reference spectra can be performed.
  • the respective spectrum can be assigned to the class of the reference spectrum with which it achieves the greatest match.
  • the totality of the wavelengths resolved at all local points of the respective exposed surface forms a three-dimensional data structure consisting of one wavelength-resolved and two spatially resolved dimensions (hypercube).
  • an evaluation of a spatially resolved optical spectroscopic analysis (hyperspectral imaging, HSI) of the respective sample takes place.
  • a determination of the material composition or of a material of a layer is achieved from the spectra recorded at individual location points, which have been subjected to the energy of the energy beam used. From this, the depth of a formed depression formed in one or more layers can be determined.
  • the quality of the trained depression can be assessed. This applies to their homogeneity, the chemical composition of the indentation sole, the texture of the indentation sols, the influencing of the indentation edges (droplets, ejection), influencing the adjacent sample areas (change by energy input), other geometrical parameters of the respective indentation and the width and shape the depression. It is also possible to determine the position and course of a trench-shaped depression or the parallelism and / or the spacing of depressions. to be determined. It can also areas in which no depression is formed, are detected.
  • hyperspectral technology or imaging spectroscopy enables the areal (laterally resolved) characterization of the areas in which at least one depression is formed and their immediate surroundings on the basis of the evaluation of spectra (transmission and / or reflection) simultaneously at different locations Sample, for example, along a line, were measured.
  • the entire sample or an area of the sample selected for the determination must be homogeneously irradiated with electromagnetic radiation, otherwise lateral intensity fluctuations superimpose the intensity fluctuations caused by the sample. It should be realized a laterally homogeneous light field.
  • a microscope optics / illumination can be used alone or in conjunction with an integrating sphere (integrating sphere) or comparable structures for maintaining a homogeneous light field.
  • the detection of the spectra can be carried out in transmission at an angle of 0 ° with respect to the normal of the respective surface, in reflection at an angle in the range between 0 ° - ⁇ 90 ° with respect to the normal of the respective surface. It can be used for the irradiation polarized electromagnetic radiation.
  • the detection can be done both in reflection, as well as in transmission, from both sides of the substrate. In this case, substrate and layer (s) should be transparent.
  • the substrate and / or at least one layer can be charged with energy, so that electromagnetic radiation is emitted from it.
  • the energy input can be done by heating the sample.
  • predominantly electromagnetic radiation is emitted from the spectrum of NIR and IR radiation.
  • fluorescence excitation can lead to emission.
  • at least one layer or the substrate is formed of or contains a suitable substance.
  • the invention is a continuous extraction of a spatially resolved chemical and geometric information, such as the depth of the recess (s) or the number of layers that are still present in the region of a depression on a substrate after a removal of material by the energy beam, possible. It is also possible to determine the depth of the sole of a depression and the material forming the sole of a depression. With a suitable orientation and arrangement of the detectors, the depth and / or the material at the base point, ie where there is currently a material removal with the energy beam, can be determined. Simultaneously, information can also be obtained from the edge regions of a depression by an optical examination without simultaneous application of energy of the energy beam.
  • the respective processing depth can be continuously obtained, which can be done over the entire surface.
  • Recesses can also be formed mechanically with machining, for example when using a drill or milling tool. However, this is also possible chemically with an etching process, wherein advantageously a combination with a photolithographic process can be used.
  • insulating scribes in photovoltaic and LED production (in general thin-film electronics), in particular on PI, P2 and P3 layers of PV modules.
  • An application is also possible for the detection of so-called “hidden contacts", for layers which are formed from insulating, transparent and / or electrically conductive oxides, as well as for the edge insulation or edge-end layering of substrates, in particular semiconductor substrates.
  • the film is processed with a pulsed laser to obtain a partial removal of the individual layers on the film and thereby electrically isolated regions (scribble the layer).
  • the average width of the recess formed is about 50 ⁇ .
  • the aim of the investigation is to determine the depth of pits based on the spectral signature of each pit.
  • the recesses thus prepared are irradiated with a halogen light source, which is directed to the surface of the film on which the multilayer system is formed.
  • a halogen light source which is directed to the surface of the film on which the multilayer system is formed.
  • the microscope is connected to a total of 1000 x 190 optical detectors in a row-column array. With the optical detectors, a wavelength-resolved detection of the intensities of the radiation reflected by the sample is realized for all local points of the sample.
  • the coated film is moved perpendicular to the optical axes of the detectors to analyze larger sections of the wells can.
  • the captured spectral image of the sample can also be called a hypercube.
  • the spatial resolution is about 1 ⁇ and the spectral resolution about 3 nm.
  • the detected wavelength range is between 400 nm and 1000 nm.
  • the respective spectrum is assigned to the class whose reference spectrum achieves the largest ⁇ value. If none of the reference spectra finds a sufficient match, for which a threshold value is set around an average which is not exceeded or fallen short of allowed, the spectrum is classified as 'defect'. A larger number of reference spectra could increase the accuracy of the classification.
  • the respective depression can be defined, for example, by the previous classification.
  • all spectra are assumed which can not be assigned to the untreated layer system (in this case [1] PET, 20 ⁇ m organic / 150 nm SiN / 130 nm ITO / 100 nm, HDR ').
  • the determination of the width of a depression can be determined by the number of pixels (pixels) detected at a specific position of a sample with the detectors perpendicular to the longitudinal direction of the respective depression.
  • the absolute width of each of the indentations can be calculated from the number of pixels detected by the detectors and the known width of the pixels.
  • the width of the pixels is known because of the optical elements used in the beam path between the respective sample and the respective detector. In the example, this width is 0.8 ⁇ .
  • a calculation of the mean value and the standard deviation of the calculated pit width for a certain range of the wells detected with the detectors can be performed.
  • Faulty recesses can be detected by the fact that the mentioned parameters, eg the mean value and the standard deviation of the calculated Neten recess width for a certain range of the detected with the detector depression, a threshold value of these parameters or below.
  • the mentioned parameters eg the mean value and the standard deviation of the calculated Neten recess width for a certain range of the detected with the detector depression, a threshold value of these parameters or below.
  • the shape of a depression can be determined by calculating geometry parameters, for example the area as a total number of pixels that can be assigned to a depression (for a certain area of the depression detected by the detector), the circumference having the number of pixels (a a certain range of the well detected by the detector) or spatial coordinates of the centroid of the well surface (for a particular range of the well detected by the detector), by comparison with previously determined parameters for a well valued well. For example, deviating ratios of circumference and area, flaking or

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Bestimmung der Tiefe von in Oberflächen eines Substrates, auf dem mindestens eine Schicht ausgebildet ist, ausgebildeten Vertiefungen. Dabei sind mehrere Detektoren, die zur ortsaufgelösten spektralen Analyse elektromagnetischer Strahlung innerhalb eines Wellenlängenintervalls ausgebildet sind, vorhanden. Die Detektoren sind mit einer Auswerteeinheit verbunden und so angeordnet, dass von einer Strahlungsquelle emittierte Strahlung auf die Detektoren auftrifft. Die Bestrahlung erfolgt auf eine Fläche, von der die elektromagnetische Strahlung reflektiert oder durch die Fläche transmittiert wird. Die Auswerteeinheit ist so ausgebildet, dass die orts- und wellenlängenaufgelöst erfassten Messsignale der Detektoren innerhalb eines Wellenlängenintervalls für einzelne Ortspunkte erfassbar sind. An mehreren Positionen erfasste Messsignale werden einem Teilbereich zugeordnet. Anhand dieser orts- und wellenlängenaufgelöst erfassten Messsignale kann ein Vergleich mit vorab ermittelten Messwerten, die in analoger Weise an Vergleichsmustern durchgeführt werden. Bei ausreichender Übereinstimmung kann die Tiefe bestimmt werden.

Description

Anordnung zur Bestimmung der Tiefe von in Oberflächen eines Substrates, auf dem mindestens eine Schicht aus einem vom Substratmaterial abweichenden Material ausgebildet ist, ausgebildeten Vertiefungen
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Bestimmung der Tiefe von in Oberflächen eines Substrates, auf dem mindestens eine Schicht aus einem vom Substratmaterial abweichenden Material ausgebildet ist, ausgebildeten Vertiefungen. Es kann sich dabei um Substrate handeln, die lediglich eine Schicht an einer Oberfläche aber auch um solche handeln, bei denen mehrere Schichten übereinander auf einer Oberfläche eines Substrats vorhanden sind. Dabei können alle Schichten aus unterschiedlichen Materialien gebildet sein. Es kann die Tiefe von Vertiefungen, die vereinzelt über die Oberfläche verteilt angeordnet sind und die verschiedensten Geometrien ihrer inneren freien Querschnitte, wie beispielsweise kreisförmige (Sacklochbohrungen) oder mehreckige Formen aufweisen, bestimmt werden. Vertiefungen können aber auch grabenförmig länglich geradlinig oder gekrümmt ausgebildet sein. Eine grabenförmige Ausbildung von Vertiefungen ist bei der Herstellung organischer photovoltaischer Elemente erforderlich. Bei einem, auf einem Substrat ausgebildeten, für photovoltaische Anwendungen geeigneten, Mehrschichtsystem werden üblicherweise grabenförmige Vertiefungen (so genannte Scribes) ausgebildet, um einzelne photovoltaische Zellen in bestimmter Form elektrisch miteinander zu verschalten, so dass bei der Nutzung eine gewünschte elektrische Spannung erreicht werden kann. Durch einen lokal gezielt erreichbaren Werkstoffabtrag des Mehrschichtsystems an mindestens einer Schicht des Mehrschichtsystems kann mit den jeweils ausgebildeten grabenförmigen Vertiefungen eine definierte elektrische Isolation erreicht werden.
Die grabenförmigen Vertiefungen werden bei dieser Applikation, bevorzugt mit einem Laserstrahl ausgebildet. Dies hat folgende Vorteile: o Realisierung sehr schmaler„Isolationsgräben",
o Somit geringer„Verbrauch" aktiver nutzbarer PV Fläche o höhere geometrische Formfaktoren können erzielt werden.
Problematisch ist es aber, dass eine optimale Tiefe der grabenförmigen Vertiefungen eingehalten werden sollte. Die Vertiefungen dürfen dabei nicht zu tief sein, um Beschädigung einer darunterliegenden Schicht (z.B.
Barriereschicht) zu vermeiden. Eine als Substrat dienende Folie wäre dann nicht mehr langzeitstabil. Vertiefungen sollen aber auch nicht zu flach sein. Bei nicht ausreichend tief ausgebildeten Vertiefungen kann keine hinreichende Segmentierung der Bereiche einzelner photovoltaischer Elemente erreicht werden, was wiederum zu falschen elektrischen Spannungen und zu großen Verlusten durch einen erhöhten elektrischen Widerstand sowie zu geringerer elektrischer Spannung führen würde. Um das Einhalten einer optimalen Tiefe (die Qualität der Scribes) prüfen zu können, sollten einfache Testmethoden verfügbar sein, die möglichst auch als inlinefähige Testsysteme implementiert werden können und daher kontinuierlich im Prozess die aktuelle Scribetiefe erfassen und anhand deren Messsignalen der Werkstoffabtragprozess geregelt werden kann.
Üblicherweise werden bisher optische Mikroskope, Rasterelektronenmikroskope (REM) oder Rasterkraftmikroskope (AFM) dafür eingesetzt.
Es sind auch kamerabasierte Systeme, wie sie beispielsweise in DE 10 2006 000 946 AI beschrieben sind, möglich. Diese sollen dabei aber nur für eine optische Inspektion periodischer Strukturen genutzt werden können. Beim Einsatz von hochauflösenden Kameras kann eine Erfassung mit einer maximalen Auflösung von ca. 6 μιη erreicht werden. Es können allerdings nur Informationen über laterale geometrische Parameter (Form und Breite der Vertiefungen, Lage der Vertiefungen zueinander) aber keine chemischen Informationen und keine Tiefeninformationen gewonnen werden.
Eine weitere einsetzbare Möglichkeit besteht darin, das Emissionsspektrum des durch den Laserabtragprozess ausgetragenen Materials (Dampf) zu erfassen. Daraus kann die Materialqualität bestimmt und eine Zuordnung zur momentanen„Tiefe" einer Vertiefung bzw. zur momentanen abladierten Schicht abgeleitet werden. Dabei ist es aber nachteilig, dass dies nicht in allen Prozessdruckbereichen gelingt. Es ist auch eine hinreichende Laserleistung/- energie zur Anregung der Emission erforderlich. Sie ist in der Regel deutlich größer, als die des Laserstrahls, der für die Ausbildung der grabenförmigen Vertiefungen erforderlich ist. Es kann so auch keine Ableitung der tatsächlichen Tiefe, sondern nur des momentanen Materialbereichs, in dem die Laser- ablation gerade durchgeführt wird, erreicht werden. Es ist daher Aufgabe der Erfindung, Möglichkeiten für eine Bestimmung der Tiefe von ausgebildeten Vertiefungen an Substraten, auf denen mindestens eine Schicht, bevorzugt mehrere Schichten ausgebildet sind, anzugeben, wobei die Bestimmung in kurzer Zeit für große Flächen und bevorzugt so durchgeführt wird, dass eine Regelung des Prozesses der Ausbildung Vertiefungen möglich ist.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe mit einer Anordnung, die die Merkmale des Anspruchs 1 aufweist, gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung können mit in untergeordneten Ansprüchen bezeichneten Merkmalen realisiert werden.
Bei der erfindungsgemäßen Anordnung zur Bestimmung der Tiefe von in Oberflächen eines Substrates, auf dem mindestens eine Schicht aus einem vom Substratmaterial abweichenden Material ausgebildet ist, ausgebildeten Vertiefungen, sind mehrere Detektoren, die zur ortsaufgelösten spektralen Analyse elektromagnetischer Strahlung innerhalb eines Wellenlängenintervalls ausgebildet sind, in einer Reihen oder einer Reihen- und Spaltenanordnung angeordnet.
Die Detektoren sind mit einer elektronischen Auswerteeinheit verbunden und so angeordnet, dass von einer breitbandigen Strahlungsquelle emittierte elektromagnetische Strahlung entweder nach einer Reflexion an der Oberfläche des Substrates oder einer auf der Oberfläche des Substrates ausgebildeten Schicht und/oder nach dem Durchstrahlen des für die elektromagnetische Strahlung transparenten Substrats oder dem Substrat mit mindestens einer an einer Oberfläche vorhandenen Schicht auf die Detektoren auftrifft, wobei die Bestrahlung so erfolgt, dass auf einer Fläche, von der die elektromagnetische Strahlung reflektiert oder durch die Fläche transmittiert wird, eine lateral und zeitlich homogene Intensität der elektromagnetischen Strahlung eingehalten ist. Alternativ zu einer Bestrahlung kann ausgenutzt werden, dass infolge eines Energieeintrages vom Substrat und/oder mindestens einer auf dem Substrat ausgebildeten Schicht emittierte elektromagnetische Strahlung auf die Detektoren auftrifft. Hierzu werden nachfolgend noch Möglichkeiten erläutert.
Die elektronische Auswerteeinheit ist so ausgebildet, dass die orts- und wellenlängenaufgelöst erfassten Messsignale der Detektoren innerhalb eines Wellenlängenintervalls für einzelne Ortspunkte auf einer Oberfläche des Substrats oder einer auf einem Substrat ausgebildeten Schicht erfassbar sind und dabei an mehreren Positionen erfasste Messsignale jeweils einem Teilbereich der detektierten Fläche (Hypercube) zuordenbar sind.
Anhand dieser orts- und wellenlängen-aufgelöst erfassten Messsignale wird ein Vergleich mit in einem elektronischen Speicher abgelegten vorab ermittelten Messwerten, die in analoger Weise an Vergleichsmustern, die mit den gleichen Materialien und den gleichen Schichtdicken hergestellt waren und in denen vorab Vertiefungen mit jeweils definierter Tiefe ausgebildet worden sind, durchgeführt. Dadurch ist bei ausreichender Übereinstimmung von mit der Anordnung an einem Substrat erfassten Spektren und Spektren eines Vergleichsmusters die Tiefe einer Vertiefung bestimmbar.
Für die einzelnen Spektren können die jeweiligen Intensitäten einzelner Wellenlängen berücksichtigt werden.
Die Bestrahlung der Fläche kann mit mindestens einem Winkel im Bereich 0 ° bis < 90 ° in Bezug zur Normalen der Oberfläche des bestrahlten Oberfläche des Substrats erfolgen.
Die Detektion und Auswertung kann vorteilhaft unter Verwendung mindestens eines Polarisators mit mindestens einer definierten bekannten Polarisationsebene in Bezug zur Einfallsebene oder deren Kombinationen durchgeführt werden.
Die Detektoren und das Substrat können entlang mindestens einer Achse relativ und dabei bevorzugt in einem konstanten Abstand zueinander bewegt werden. Die Strahlungsquelle kann elektromagnetische Strahlung formende optische Elemente aufweisen. Es kann aber auch eine elektromagnetische Strahlung diffus auf die Fläche emittierende Strahlungsquelle vorhanden sein, die insbesondere innerhalb eines Hohlkörpers angeordnet ist (z. B. eine Ulbrichtkugel). Besonders bevorzugt ist im Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung eine, den Einfall von gestreuter elektromagnetischer Strahlung vermeidende Blende vor den Detektoren angeordnet.
Die Reihen- und Spaltenanordnung von Detektoren mit optischen Elementen und Auswerteelektronik kann mit einer Hyperspektral-Kamera gebildet sein.
Im Speicher sollten Spektren von Vergleichsmustern, in denen Vertiefungen mit der gleichen Vorgehensweise, wie sie auch bei der Ausbildung von Vertiefungen in mindestens einer Schicht des Substrats ausgebildet worden sind, gespeichert sein. Dabei ist es vorteilhaft, dass Vertiefungen jeweils vollständig durch eine Schicht ausgebildet sind, so dass die Sohle einer Vertiefung vom Material der nächstfolgenden Schicht oder dem Substratmaterial gebildet ist. Es ist aber auch möglich, die Schichten teilweise abzutragen, um mehr Vergleichsmuster, für eine genauere Charakterisierung der jeweils ausgebildeten Vertiefung, insbesondere deren Tiefe, zu erhalten. Dementsprechend sollte in einer Vertiefung das Material einer oder mehrerer Schicht(en) bis zu einer vorgebbaren Tiefe abgetragen sein, bevor die Tiefe der jeweiligen Vertiefung bestimmt und für ein Vergleichsmuster genutzt wird. Bei bekannter Schichtdicke der jeweiligen Schicht(en) bevorzugt kann die Tiefe ohne eine zusätzliche Messung bestimmt werden, wenn ein vollständiger Abtrag des Materials einer oder mehrerer Schichten erfolgt ist, und die Sohle bzw. der Boden der Vertiefung vom Material der nächstfolgend angeordneten Schicht oder dem Substratmaterial gebildet ist. Andernfalls muss die Tiefe der Referenzvertiefung durch eine alternative Referenz-Methode bestimmt werden.
Es ist aber auch eine Tiefenbestimmung mit einem anderen Messverfahren möglich.
Bei bekannter Tiefe von Vertiefungen wird dann ein Spektrum mit den Detektoren einer erfindungsgemäßen Anordnung erfasst und als Vergleichsmuster im Speicher gespeichert. Die von Vertiefungen mit unterschiedlicher Tiefe erfassten Spektren können dann für einen Vergleich bei Untersuchungen an einem realen Substrat genutzt werden.
Mit der elektronischen Auswerteeinheit kann eine Berechnung des spektralen Winkels, oder eines anderen Ähnlichkeitsmaßes, zwischen den Spektren des Hypercubes und allen gemessenen Referenzspektren durchgeführt werden. Das jeweilige Spektrum kann der Klasse des Referenzspektrums zugeordnet werden, mit dem es die größte Übereinstimmung erreicht.
Die Gesamtheit der an allen Ortspunkten der jeweiligen bestrahlten Fläche wellenlängenaufgelöst erfassten Intensitäten bildet eine dreidimensionale Datenstruktur, bestehend aus einer wellenlängenaufgelösten und zwei ortsaufgelösten Dimensionen, ab (Hypercube).
Gemäß der Erfindung erfolgt eine Auswertung einer ortsaufgelösten optisch- spektroskopischen Analyse (Hyperspectral Imaging, HSI) der jeweiligen Probe. Dabei wird aus den an einzelnen Ortspunkten erfassten Spektren, die mit der Energie des eingesetzten Energiestrahls beaufschlagt worden sind, eine Bestimmung der Materialzusammensetzung oder eines Materials einer Schicht erreicht. Daraus kann die Tiefe einer ausgebildeten Vertiefung, die in einer oder in mehreren Schichten ausgebildet worden ist, bestimmt werden.
Darüber hinaus kann die Qualität der ausgebildeten Vertiefung bewertet werden. Dies betrifft deren Homogenität, der chemischen Zusammensetzung der Vertiefungssohle, der Textur der Vertiefungssole, die erfolgte Beeinflussung der Vertiefungsränder (Droplets,„Auswurf), die Beeinflussung der angrenzenden Probenbereiche (Änderung durch Energieeintrag), andere geometrische Parameter der jeweiligen Vertiefung sowie die Breite und Form der Vertiefung. Es können auch die Position und der Verlauf einer grabenförmigen Vertiefung oder die Parallelität und/oder der Abstand von Vertiefungen zueinan- der bestimmt werden. Es können auch Bereiche, in denen keine Vertiefung ausgebildet ist, erkannt werden.
Der Einsatz der Hyperspektraltechnik bzw. bildgebender Spektroskopie ermöglicht die flächige (lateral aufgelöste) Charakterisierung der Bereiche, in denen mindestens eine Vertiefung ausgebildet ist, und deren unmittelbare Umgebung anhand der Auswertung von Spektren (Transmission und/oder Reflexion), die gleichzeitig an unterschiedlichen Orten der Probe, beispielsweise entlang einer Linie, gemessen wurden.
Die gesamte Probe oder ein zur Bestimmung ausgewählter Bereich der Probe muss in einer Alternative homogen mit elektromagnetischer Strahlung bestrahlt werden, sonst überlagern laterale Intensitätsschwankungen, die durch die Probe bedingten Intensitätsschwankungen. Es sollte ein lateral homogenes Lichtfeld realisiert sein.
Beispielsweise kann eine Mikroskop-Optik/Beleuchtung allein oder in Verbindung mit einer Integrationssphäre (Ulbrichtkugel) oder vergleichbaren Aufbauten zur Einhaltung eines homogenen Lichtfelds eingesetzt werden.
Entsprechend den hardwaretechnischen Gegebenheiten und den Probenflächen können zur Realisierung eines optischen Aufbaus unterschiedliche Optiken, Arbeitsabstände und Vergrößerungen genutzt bzw. eingehalten werden.
Die Erfassung der Spektren kann in Transmission mit einem Winkel von 0° in Bezug zur Normalen der jeweiligen Oberfläche, in Reflexion mit einem Winkel im Bereich zwischen 0° - < 90 ° in Bezug zur Normalen der jeweiligen Oberfläche durchgeführt werden. Es kann für die Bestrahlung polarisierte elektromagnetische Strahlung eingesetzt werden. Die Detektion kann sowohl in Reflexion, wie auch in Transmission, von beiden Seiten des Substrats erfolgen. In diesem Fall sollen Substrat und Schicht(en) transparent sein.
Es kann auch eine Detektion, der von einem beschichteten Substrat emittierten elektromagnetischen Strahlung erfolgen. Hierzu kann das Substrat und/oder mindestens eine Schicht mit Energie beaufschlagt werden, so dass von ihr elektromagnetische Strahlung emittiert wird. Der Energieeintrag kann durch eine Erwärmung der Probe erfolgen. In diesem Fall wird überwiegend elektromagnetische Strahlung aus dem Spektrum der NIR- und IR-Strahlung emittiert. In anderer Form kann eine Fluoreszenzanregung zur Emission führen. In diesem Fall ist mindestens eine Schicht oder das Substrat aus einem dazu geeigneten Stoff gebildet oder enthält einen solchen Stoff.
Mit der Erfindung ist eine kontinuierliche Gewinnung einer ortsaufgelösten chemischen und geometrischen Information, wie die Tiefe der Vertiefung(en) bzw. die Anzahl von Schichten, die im Bereich einer Vertiefung noch auf einem Substrat nach einem Abtrag von Material durch den Energiestrahl noch vorhanden sind, möglich. Es kann auch die Tiefe der Sohle einer Vertiefung und das Material, das die Sohle einer Vertiefung bildet, bestimmt werden. Bei geeigneter Ausrichtung und Anordnung der Detektoren kann die Tiefe und/oder das Material am Fußpunkt, also dort wo momentan ein Materialabtrag mit dem Energiestrahl erfolgt, bestimmt werden. Simultan können auch Informationen aus den Randbereichen einer Vertiefung durch eine optische Untersuchung ohne gleichzeitige Beaufschlagung mit Energie des Energiestrahls gewonnen werden.
Mit dem Einsatz einer erfindungsgemä en Anordnung kann eine kontinuierliche vollständige Überwachung und/oder Regelung des Prozesses der Ausbil- dung von Vertiefungen erfolgen. Sie kann aber auch nur für eine Qualitätskontrolle genutzt werden.
Eine Bestimmung der momentanen Bearbeitungstiefe bei
„Entschichtungsprozessen" von optisch hinreichend transparenten Materialsystemen, insbesondere bei Mehrschichtsystemen kann klassifizierend gewonnen werden. Über eine spektrale Analyse des aktuell freigelegten Materials und in Kenntnis des Schichtaufbaus kann die jeweilige Bearbeitungstiefe kontinuierlich gewonnen werden. Dies kann über die gesamte Oberfläche erfolgen.
Als Energiestrahl kann neben dem bereits erwähnten Laserstrahl auch ein Elektronen- oder Plasmastrahl eingesetzt werden. Vertiefungen können aber auch mechanisch mit spanender Bearbeitung, bei beispielsweise Einsatz eines Bohrers oder Fräswerkzeugs ausgebildet werden. Dies ist aber auch chemisch mit einem Ätzverfahren möglich, wobei vorteilhafterweise eine Kombination mit einem photolithografischen Verfahren genutzt werden kann.
Es kann eine Kontrolle der so genannten Isolierscribes in der Photovolta- ischen- und LED-Produktion (allgemein Dünnschichtelektronik), insbesondere an PI-, P2- und P3-Schichten von PV-Modulen durchgeführt werden. Ein Einsatz ist auch zum Erkennen so genannter„verborgener Kontakte", bei Schichten, die aus isolierenden, transparenten und/oder elektrisch leitfähigen Oxiden gebildet sind, sowie bei der Kanten-Isolierung oder Kanten-Endschichtung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, möglich.
Beispiel
Für die Untersuchungen wird eine Folie aus Polyethylen (PET), auf der eine aus einem organischen Werkstoff (Organik) gebildete Schicht mit einer Schichtdicke von 20 μιη, auf der Schicht aus SiN mit einer Schichtdicke von 150 nm, darauf eine Schicht aus Indium-Zinn-Oxid (ITO) mit einer Schichtdicke von 130 nm und wiederum darauf eine organische Schicht (HDR) mit einer Schichtdicke von 100 nm ausgebildet sind, untersucht. Mit dem auf der Folie ausgebildeten Mehrschichtsystem sollen mehrere organische photovoltaische
Elemente ausgebildet werden.
Die Folie wird mit einem gepulsten Laser bearbeitet, um einen teilweisen Abtrag der einzelnen Schichten auf der Folie und dadurch elektrisch voneinander isolierte Bereiche zu erhalten (,scriben' der Schicht). Es werden verschiedene
Einstellungen, sowohl für die Leistung des eingesetzten Laserstrahls oder der einzelnen Laserimpulse, als auch für den Überlapp der einzelnen Laserpunkte gewählt, um unterschiedlich gestaltete grabenförmigen Vertiefungen
(,Scribes') durch einen jeweils gewünschten Werkstoffabtrag zu erhalten. Die durchschnittliche Breite der ausgebildeten Vertiefung liegt bei ca. 50 μιη.
Ziel der Untersuchung ist eine Bestimmung der Tiefe von Vertiefungen anhand der spektralen Signatur der jeweiligen Vertiefung. Die so präparierten Vertiefungen werden mit einer Halogenlichtquelle bestrahlt, die auf die Oberfläche der Folie, auf der das Mehrschichtsystem ausgebildet ist, gerichtet ist. Mithilfe eines optischen Mikroskops mit einer 10- fachen Vergrößerung erfolgt die Untersuchung. Das Mikroskop ist mit insgesamt 1000 x 190 optischen Detektoren in einer Reihen-Spaltenanordnung verbunden. Mit den optischen Detektoren wird für alle Ortspunkte der Probe eine wellenlängenaufgelöste Erfassung der Intensitäten der von der Probe reflektierten Strahlung realisiert.
Die beschichtete Folie wird dabei senkrecht zu den optischen Achsen der De- tektoren bewegt, um größere Abschnitte der Vertiefungen analysieren zu können. Das dabei erfasste, spektrale Bild der Probe kann auch als Hypercube bezeichnet werden. Die räumliche Auflösung beträgt ca. 1 μιη und die spektrale Auflösung ca. 3 nm. Der erfasste Wellenlängenbereich liegt zwischen 400 nm und 1000 nm.
Des Weiteren wurden Referenzspektren für die spätere Auswertung ermittelt. Dafür werden Spektren der folgenden Schichtsysteme ermittelt:
• [1] PET , 20 μιη Organik' / 150 nm SiN / 130 nm ITO / 100 nm ,HDR'
• [2] PET ,20 μιη Organik' / 150 nm SiN / 130 nm ITO
• [3] PET,20 μιη Organik' / 150 nm SiN
Anschließend erfolgt die Bearbeitung und Auswertung des so erhaltenen Hypercubes der untersuchten Vertiefungen.
Die Verarbeitung der Spektren wurde mit folgenden Schritten durchgeführt:
• Mittelwertglättung (11 Punkte) aller Spektren des Hypercubes sowie der Referenzspektren
• Berechnung des spektralen Winkels zwischen den Spektren des
Hypercubes und allen gemessenen Referenzspektren nach:
Figure imgf000013_0001
• mit:
o x ... Spektrum des Hypercubes
o r ... Referenzspektrum
o α ... , Winkel' zwischen den Spektren
Das jeweilige Spektrum wird der Klasse zugeordnet, mit dessen Referenzspektrum es den größten α-Wert erreicht. Wird mit keinem der Referenzspektren eine ausreichende Übereinstimmung gefunden, wofür ein Schwellwert um einen Mittelwert festgelegt wird, der nicht über- oder unterschritten wer- den darf, wird das Spektrum als , Defekt' klassifiziert. Durch eine größere Anzahl an Referenzspektren könnte die Genauigkeit der Klassifizierung erhöht werden.
Anhand der klassifizierten Spektren kann anschließend abgeleitet werden, bis zu welcher Tiefe das Schichtsystem durch den Laser abgetragen wurde. Außerdem ist es möglich, allgemeine Parameter der Vertiefungen, wie Breite und Form, zu berechnen.
Die jeweilige Vertiefung kann beispielsweise durch die vorher erfolgte Klassifizierung definiert werden. Als Vertiefungsbereich werden alle Spektren angenommen, die nicht dem unbehandelten Schichtsystem (hier [1] PET , 20 μιη Organik' / 150 nm SiN / 130 nm ITO / 100 nm ,HDR') zugeordnet werden können.
Die Ermittlung der Breite einer Vertiefung kann durch die Anzahl der an einer bestimmten Position einer Probe mit den Detektoren erfassten Bildpunkte (Pixeln) senkrecht zur Längsrichtung der jeweiligen Vertiefung bestimmt werden.
Die absolute Breite jeweiligen der Vertiefung kann aus der Anzahl der mit den Detektoren erfassten Bildpunkte und der bekannten Breite der Bildpunkte berechnet werden. Die Breite der Bildpunkte ist wegen der im Strahlengang zwischen der jeweiligen Probe und dem jeweiligen Detektor eingesetzten optischen Elemente bekannt. Bei dem Beispiel beträgt diese Breite 0,8 μιη. Zur Verbesserung der Genauigkeit kann eine Berechnung des Mittelwertes und der Standardabweichung der berechneten Vertiefungsbreite für einen bestimmten Bereiches der mit den Detektoren erfassten Vertiefung erfolgen.
Fehlerhafte Vertiefungen können dadurch erkannt werden, dass die genann- ten Parameter, z.B. der Mittelwert und die Standardabweichung der berech- neten Vertiefungsbreite für einen bestimmten Bereich der mit dem Detektor erfassten Vertiefung, einen Schwellwert dieser Parameter über- oder unterschreiten.
Die Form einer Vertiefung kann durch Berechnung von Geometrieparametern, beispielsweise der Fläche als Gesamtzahl an Bildpunkten die einer Vertiefung zugeordnet werden können (für einen bestimmten Bereich der mit dem Detektor erfassten Vertiefung), dem Umfang mit der Anzahl der außen an einer Vertiefung erfassten Bildpunkte (für einen bestimmten Bereich der mit dem Detektor erfassten Vertiefung) oder Ortskoordinaten des Flächenschwerpunktes der Vertiefungsfläche (für einen bestimmten Bereich der mit dem Detektor erfassten Vertiefung), durch Vergleich mit vorher ermittelten Parametern für eine als gut bewertete Vertiefung, beurteilt werden. Beispielsweise zeigen abweichende Verhältnisse von Umfang und Fläche, Abplatzungen bzw.
Delaminierungen oder die Abweichung der Ortskoordinate des Flächenschwerpunkts eine Krümmung der Vertiefung an.

Claims

Patentansprüche
Anordnung zur Bestimmung der Tiefe von in Oberflächen eines Substrates, auf dem mindestens eine Schicht aus einem vom Substratmaterial abweichenden Material ausgebildet ist, ausgebildeten Vertiefungen, bei der
mehrere Detektoren, die zur ortsaufgelösten spektralen Analyse elektromagnetischer Strahlung innerhalb eines Wellenlängenintervalls ausgebildet sind, in einer Reihen oder einer Reihen- und Spaltenanordnung angeordnet und
die Detektoren mit einer elektronischen Auswerteeinheit verbunden und so angeordnet sind, dass von einer breitbandigen Strahlungsquelle emittierte elektromagnetische Strahlung entweder nach einer Reflexion an der Oberfläche des Substrates oder einer auf der Oberfläche des Substrates ausgebildeten Schicht und/oder nach dem Durchstrahlen des für die elektromagnetische Strahlung transparenten Substrats oder dem Substrat mit mindestens einer an einer Oberfläche vorhandenen Schicht auf die Detektoren auftrifft, wobei die Bestrahlung so erfolgt, dass auf einer Fläche, von der die elektromagnetische Strahlung reflektiert oder durch die Fläche transmittiert wird, eine lateral und zeitlich homogene Intensität der elektromagnetischen Strahlung eingehalten ist, oder infolge eines Energieeintrages vom Substrat und/oder mindestens einer auf dem Substrat ausgebildeten Schicht emittierte elektromagnetische Strahlung auf die Detektoren auftrifft und die elektronische Auswerteeinheit so ausgebildet ist, dass die orts- und wellenlängenaufgelöst erfassten Messsignale der Detektoren innerhalb eines Wellenlängenintervalls für einzelne Ortspunkte auf einer Oberfläche des Substrats oder einer auf einem Substrat ausgebildeten Schicht erfassbar sind und dabei an mehreren Positionen erfasste Messsignale jeweils einem Teilbereich der detektierten Fläche (Hyper- cube) zuordenbar sind und anhand dieser orts- und wellenlängenaufgelöst erfassten Messsignale ein Vergleich mit in einem elektronischen Speicher abgelegten vorab ermittelten Messwerten, die in analoger Weise an Vergleichsmustern, die mit den gleichen Materialien und den gleichen Schichtdicken hergestellt waren und in denen vorab Vertiefungen mit jeweils definierter Tiefe ausgebildet worden sind, durchführbar ist, wodurch bei ausreichender Übereinstimmung von mit der Anordnung an einem Substrat erfassten Spektren und Spektren eines Vergleichsmusters die Tiefe einer Vertiefung bestimmbar ist.
Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlung der Fläche mit mindestens einem Winkel im Bereich 0 ° bis < 90 ° in Bezug zur Normalen der Oberfläche des Substrats erfolgt.
Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Detektion und Auswertung unter Verwendung mindestens eines Polarisators mit mindestens einer definierten bekannten Polarisationsebene in Bezug zur Einfallsebene oder deren Kombinationen durchführbar ist.
Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Detektoren und das Substrat entlang mindestens einer Achse relativ und dabei bevorzugt in einem konstanten Abstand zueinander bewegbar sind.
5. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlungsquelle die elektromagnetische Strahlung formende optische Elemente aufweist oder eine elektromagnetische Strahlung diffus auf die Fläche emittierende Strahlungsquelle, die insbesondere innerhalb eines Hohlkörpers angeordnet ist und besonders bevorzugt im Strahlengang der elektromagnetischen Strahlung eine, den Einfall von gestreuter elektromagnetischer Strahlung vermeidende Blende vor den Detektoren angeordnet ist.
6. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass auf dem Substrat ein Mehrschichtaufbau, der bevorzugt mit mehreren aus unterschiedlichen Materialien oder Werkstoffen gebildeten Schichten gebildet ist, vorhanden ist.
7. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Reihen- und Spaltenanordnung von Detektoren mit optischen Elementen und Auswerteelektronik mit einer Hyper- spektral-Kamera gebildet ist.
8. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im Speicher Spektren von Vergleichsmustern, in denen Vertiefungen mit der gleichen Vorgehensweise, wie sie auch bei der Ausbildung von Vertiefungen in mindestens einer Schicht des Substrats ausgebildet worden sind, gespeichert sind.
9. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mit der elektronischen Auswerteeinheit-die Berechnung eines Abstandsmaßes (spektraler Winkel, mittlerer Fehler und weitere Abstandsmaße) zwischen den Spektren des Hypercubes und allen gemessenen Referenzspektren durchführbar ist und das jeweilige Spektrum einer Klasse zuordenbar ist, mit dessen Referenzspektrum der geringste Abstand erreicht wird.
PCT/EP2016/076083 2015-12-01 2016-10-28 Anordnung zur bestimmung der tiefe von in oberflächen eines substrates, auf dem mindestens eine schicht aus einem vom substratmaterial abweichenden material ausgebildet ist, ausgebildeten vertiefungen WO2017092938A1 (de)

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