WO2017061844A1 - Semiconductor light-emitting device - Google Patents

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전수근
김경민
정동소
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주식회사 세미콘라이트
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Definitions

  • the semiconductor light emitting device 400 includes a reflective material 430 between the bottom portion 411 of the body 410 and the semiconductor light emitting device chip 420. Except for the reflective material 430, the semiconductor light emitting device 300 has the same characteristics as the semiconductor light emitting device 300 of FIG. 5. Since the reflective material 430 is positioned on the side surface of the semiconductor light emitting device chip 420, the light emitted from the side surface of the semiconductor light emitting device chip 420 may be reflected, thereby improving light extraction efficiency of the semiconductor light emitting device 400.
  • the reflective material 430 is preferably a white reflective material. For example, it may be a white silicone resin.
  • the reflective material 430 may be positioned to form a space 431 between the reflective material 430 and the semiconductor light emitting device chip 420.
  • FIG. 11 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
  • 11 (a) and 11 (c) are bottom views
  • FIG. 11 (b) is a cross-sectional view taken along AA ′ of FIG. 11 (a)
  • FIG. 11 (d) shows BB ′ of FIG. 11 (c). It is a cross-sectional view.
  • the semiconductor light emitting device chip 800 used in the semiconductor light emitting device according to the present disclosure includes a non-transmissive growth substrate 810 and a semiconductor light emitting unit 820.
  • FIG. 13 is a view illustrating an example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
  • the semiconductor light emitting device 900 illustrated in FIG. 13A includes a plurality of holes 912 in the bottom portion 911 of the body 910, and each hole 912 includes a semiconductor light emitting device chip illustrated in FIG. 12. 800 may be located.
  • the semiconductor light emitting device chip 800 emits light through the cavity 830 of the non-transparent growth substrate 810.
  • the reflective wall 860 is positioned on the side surface of the semiconductor light emitting device chip 800 as shown in FIG. 12C, light emitted from the semiconductor light emitting device chip 800 may be emitted only through the cavity 830. .
  • the temporary fixing plate 2400 is removed, to form an adhesive portion 2500 (S4).
  • a reinforcing material (not shown) may be formed instead of the adhesive part 2500. If the reinforcement is located between the upper and lower surfaces of the body bottom, the reinforcement may be inserted when the body is made.
  • the order of the manufacturing method of the semiconductor light emitting device according to the present disclosure may be included in the scope of the present disclosure in a range that can be easily changed by those skilled in the art.
  • the side wall 4110 of the body 4100 includes a protrusion 4111, and includes a lens 4200 formed between the protrusions 4111 and on the encapsulant.
  • the protrusion 4111 serves as a boundary jaw so that the lens 4200 is not formed beyond the protrusion 4111 when the lens 4200 is formed.
  • the lens 4200 may be formed using a light transmissive resin after the step S3 of forming the encapsulant in FIG. 14.
  • the bottom portion 4120 of the body 4100 includes a protrusion 4111, and includes a lens 4200 formed between the protrusions 4111 and on the encapsulant. do.
  • a semiconductor light emitting element characterized in that the side surface of the hole is inclined.

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Abstract

Disclosed is a semiconductor light-emitting device comprising: a body having a bottom part and sidewalls, and comprising a cavity formed by the bottom part and the sidewalls, the bottom part having at least one hole formed therein; a semiconductor light-emitting device chip located at each hole and having a plurality of semiconductor layers for generating light through electron-hole recombination, and an electrode electrically connected to the plurality of semiconductor layers; and an encapsulant provided at least in the cavity so as to cover the semiconductor light-emitting device chip, wherein the electrode of the semiconductor light-emitting device chip is exposed in the direction toward the lower surface of the bottom part of the body.

Description

반도체 발광소자Semiconductor light emitting device
본 개시(Disclosure)는 전체적으로 반도체 발광소자(SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE)에 관한 것으로, 특히 광 추출 효율을 향상시킨 반도체 발광소자에 관한 것이다.The present disclosure relates to a semiconductor light emitting device as a whole, and more particularly, to a semiconductor light emitting device having improved light extraction efficiency.
여기서는, 본 개시에 관한 배경기술이 제공되며, 이들이 반드시 공지기술을 의미하는 것은 아니다(This section provides background information related to the present disclosure which is not necessarily prior art). 또한 본 명세서에서 상측/하측, 위/아래 등과 같은 방향 표시는 도면을 기준으로 한다. This section provides background information related to the present disclosure which is not necessarily prior art. In addition, in the present specification, direction indications such as up / down, up / down, etc. are based on the drawings.
도 1은 종래의 반도체 발광소자 칩의 일 예를 나타내는 도면이다.1 is a view showing an example of a conventional semiconductor light emitting device chip.
반도체 발광소자 칩은 성장기판(10; 예: 사파이어 기판), 성장기판(10) 위에, 버퍼층(20), 제1 도전성을 가지는 제1 반도체층(30; 예: n형 GaN층), 전자와 정공의 재결합을 통해 빛을 생성하는 활성층(40; 예; INGaN/(In)GaN MQWs), 제1 도전성과 다른 제2 도전성을 가지는 제2 반도체층(50; 예: p형 GaN층)이 순차로 증착되어 있으며, 그 위에 전류 확산을 위한 투광성 전도막(60)과, 본딩 패드로 역할하는 전극(70)이 형성되어 있고, 식각되어 노출된 제1 반도체층(30) 위에 본딩 패드로 역할하는 전극(80: 예: Cr/Ni/Au 적층 금속 패드)이 형성되어 있다. 도 1과 같은 형태의 반도체 발광소자를 특히 레터럴 칩(Lateral Chip)이라고 한다. 여기서, 성장기판(10) 측이 외부와 전기적으로 연결될 때 장착면이 된다.The semiconductor light emitting device chip may include a growth substrate 10 (eg, a sapphire substrate), a growth layer 10, a buffer layer 20, a first semiconductor layer 30 having a first conductivity (eg, an n-type GaN layer), and electrons. The active layer 40 (eg, INGaN / (In) GaN MQWs) that generates light through recombination of holes, and the second semiconductor layer 50 (eg, p-type GaN layer) having a second conductivity different from the first conductivity are sequentially And a transmissive conductive film 60 for spreading current and an electrode 70 serving as a bonding pad, and serving as a bonding pad on the etched and exposed first semiconductor layer 30. An electrode 80, for example, a Cr / Ni / Au laminated metal pad, is formed. The semiconductor light emitting device of the form as shown in FIG. 1 is particularly called a lateral chip. Here, when the growth substrate 10 side is electrically connected to the outside becomes a mounting surface.
도 2는 미국 등록특허공보 제7,262,436호에 제시된 반도체 발광소자 칩의 다른 예를 나타내는 도면이다. 설명의 편의를 위해 도면기호를 변경하였다.2 is a view showing another example of the semiconductor light emitting device chip disclosed in US Patent No. 7,262,436. For convenience of description, reference numerals have been changed.
반도체 발광소자 칩은 성장기판(10), 성장기판(10) 위에, 제1 도전성을 가지는 제1 반도체층(30), 전자와 정공의 재결합을 통해 빛을 생성하는 활성층(40), 제1 도전성과 다른 제2 도전성을 가지는 제2 반도체층(50)이 순차로 증착되어 있으며, 그 위에 성장기판(10) 측으로 빛을 반사시키기 위한 3층으로 된 전극막(90, 91, 92)이 형성되어 있다. 제1 전극막(90)은 Ag 반사막, 제2 전극막(91)은 Ni 확산 방지막, 제3 전극막(92)은 Au 본딩층일 수 있다. 식각되어 노출된 제1 반도체층(30) 위에 본딩 패드로 기능하는 전극(80)이 형성되어 있다. 여기서, 전극막(92) 측이 외부와 전기적으로 연결될 때 장착면이 된다. 도 2와 같은 형태의 반도체 발광소자 칩을 특히 플립 칩(Flip Chip)이라고 한다. 도 2에 도시된 플립 칩의 경우 제1 반도체층(30) 위에 형성된 전극(80)이 제2 반도체층 위에 형성된 전극막(90, 91, 92)보다 낮은 높이에 있지만, 동일한 높이에 형성될 수 있도록 할 수도 있다. 여기서 높이의 기준은 성장기판(10)으로부터의 높이일 수 있다. The semiconductor light emitting device chip may include a growth substrate 10 and a growth substrate 10, a first semiconductor layer 30 having a first conductivity, an active layer 40 that generates light through recombination of electrons and holes, and a first conductivity. The second semiconductor layer 50 having a second conductivity different from that of the second semiconductor layer 50 is sequentially deposited, and three electrode layers 90, 91, 92 are formed on the growth substrate 10 to reflect light. have. The first electrode film 90 may be an Ag reflecting film, the second electrode film 91 may be a Ni diffusion barrier film, and the third electrode film 92 may be an Au bonding layer. An electrode 80 serving as a bonding pad is formed on the etched and exposed first semiconductor layer 30. Here, when the electrode film 92 side is electrically connected to the outside, it becomes a mounting surface. A semiconductor light emitting device chip of the same type as that of FIG. 2 is particularly referred to as a flip chip. In the flip chip illustrated in FIG. 2, the electrode 80 formed on the first semiconductor layer 30 is at a lower level than the electrode films 90, 91, and 92 formed on the second semiconductor layer, but may be formed at the same height. You can also do that. The height reference may be the height from the growth substrate 10.
도 3은 종래의 반도체 발광소자의 일 예를 나타내는 도면이다.3 is a view showing an example of a conventional semiconductor light emitting device.
반도체 발광소자(100)는 리드 프레임(110, 120), 몰드(130), 그리고 캐비티(140) 내에 수직형 반도체 발광소자 칩(150; Vertical Type Light Emitting Chip)이 구비되어 있고, 캐비티(140)는 파장 변환재(160)를 함유하는 봉지제(170)로 채워져 있다. 수직형 반도체 발광소자 칩(150)의 하면이 리드 프레임(110)에 전기적으로 직접 연결되고, 상면이 와이어(180)에 의해 리드 프레임(120)에 전기적으로 연결되어 있다. 수직형 반도체 발광소자 칩(150)에서 나온 광의 일부가 파장 변환재(160)를 여기 시켜 다른 색의 광을 만들어 두 개의 서로 다른 광이 혼합되어 백색광을 만들 수 있다. 예를 들어 반도체 발광소자 칩(150)은 청색광을 만들고 파장 변환재(160)에 여기 되어 만들어진 광은 황색광이며, 청색광과 황색광이 혼합되어 백색광을 만들 수 있다. 도 3은 수직형 반도체 발광소자 칩(150)을 사용한 반도체 발광소자를 보여주고 있지만 , 도 1 및 도 2에 도시된 반도체 발광소자 칩을 사용하여 도 3과 같은 형태의 반도체 발광소자를 제조할 수도 있다. 그러나 도 3에 기재된 반도체 발광소자(100)는 반도체 발광소자 칩(150)과 리드 프레임(110, 120) 사이에 접합이 필요하며, 특히 도 2에 도시된 플립 칩을 사용하는 경우 리드 프레임(110, 120)에 접합하는 과정에서 플립 칩에서 나오는 광량이 접합물질(예 : solder paste)에 의해 손실될 가능성이 큰 문제가 있었다. 또한 반도체 발광소자(100)를 외부 기판(예 : PCB 기판, 서브마운트 등)과 접합하는 SMT 공정 중 발생하는 열 때문에 반도체 발광소자 칩(150)과 리드 프레임(110, 120) 사이의 접합에 문제가 발생할 수 있었다. The semiconductor light emitting device 100 includes a vertical semiconductor light emitting chip 150 in the lead frames 110 and 120, the mold 130, and the cavity 140, and the cavity 140. Is filled with an encapsulant 170 containing wavelength converting material 160. The lower surface of the vertical semiconductor light emitting device chip 150 is electrically connected directly to the lead frame 110, and the upper surface is electrically connected to the lead frame 120 by the wire 180. A portion of the light emitted from the vertical semiconductor light emitting device chip 150 may excite the wavelength conversion material 160 to produce light of different colors, and two different lights may be mixed to form white light. For example, the semiconductor light emitting device chip 150 may generate blue light, and light generated by being excited by the wavelength converting material 160 may be yellow light, and blue light and yellow light may be mixed to produce white light. 3 illustrates a semiconductor light emitting device using the vertical semiconductor light emitting device chip 150, but a semiconductor light emitting device having a shape similar to that of FIG. 3 may be manufactured using the semiconductor light emitting device chips illustrated in FIGS. 1 and 2. have. However, the semiconductor light emitting device 100 illustrated in FIG. 3 requires bonding between the semiconductor light emitting device chip 150 and the lead frames 110 and 120, and in particular, when the flip chip illustrated in FIG. 2 is used, the lead frame 110 may be used. , 120), the amount of light emitted from the flip chip is likely to be lost by the bonding material (eg, solder paste). In addition, due to heat generated during the SMT process of bonding the semiconductor light emitting device 100 to an external substrate (eg, PCB substrate, submount, etc.), there is a problem in bonding between the semiconductor light emitting device chip 150 and the lead frames 110 and 120. Could occur.
본 개시는 반도체 발광소자에 사용된 반도체 발광소자 칩의 전극이 직접 외부 기판과 접합하는 반도체 발광소자를 제공하고자 한다. 특히 플립 칩을 사용하였음에도 리드 프레임과 플립 칩 사이의 접합에 의해 플립 칩에서 나오는 광량에 손실이 없도록 리드 프레임과 플립 칩 사이에 접합이 필요없는 반도체 발광소자를 제공하고자 한다.The present disclosure provides a semiconductor light emitting device in which an electrode of a semiconductor light emitting device chip used in a semiconductor light emitting device is directly bonded to an external substrate. In particular, even if a flip chip is used, a semiconductor light emitting device does not need to be bonded between the lead frame and the flip chip so that the amount of light emitted from the flip chip is not lost by the bonding between the lead frame and the flip chip.
이에 대하여 '발명을 실시하기 위한 구체적인 내용'의 후단에 기술한다.This will be described later in the section titled 'Details of the Invention.'
여기서는, 본 개시의 전체적인 요약(Summary)이 제공되며, 이것이 본 개시의 외연을 제한하는 것으로 이해되어서는 아니된다(This section provides a general summary of the disclosure and is not a comprehensive disclosure of its full scope or all of its features).This section provides a general summary of the disclosure and is not a comprehensive disclosure of its full scope or all, provided that this is a summary of the disclosure. of its features).
본 개시에 따른 일 태양에 의하면(According to one aspect of the present disclosure), 반도체 발광소자에 있어서, 바닥부와 측벽을 구비하며, 바닥부와 측벽에 의해 형성된 캐비티를 포함하는 몸체;로서, 바닥부에 적어도 하나 이상의 홀이 형성된 몸체; 각각의 홀에 위치하는 반도체 발광소자 칩;으로서, 전자와 정공의 재결합에 의해 빛을 생성하는 복수의 반도체층과, 복수의 반도체층에 전기적으로 연결된 전극을 구비하는 반도체 발광소자 칩; 그리고, 적어도 캐비티에 구비되어 반도체 발광소자 칩을 덮는 봉지재;를 포함하며, 반도체 발광소자 칩의 전극이 몸체 바닥부의 하면 방향으로 노출되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자가 제공된다.According to one aspect of the present disclosure, in a semiconductor light emitting device, a semiconductor light emitting device, comprising: a body having a bottom and sidewalls, the body including a cavity formed by the bottom and sidewalls; A body having at least one hole formed therein; A semiconductor light emitting device chip located in each hole, comprising: a semiconductor light emitting device chip having a plurality of semiconductor layers for generating light by recombination of electrons and holes, and an electrode electrically connected to the plurality of semiconductor layers; And an encapsulant provided at least in the cavity to cover the semiconductor light emitting device chip, wherein the electrode of the semiconductor light emitting device chip is exposed in a lower surface direction of the bottom of the body.
이에 대하여 '발명을 실시하기 위한 구체적인 내용'의 후단에 기술한다.This will be described later in the section titled 'Details of the Invention.'
도 1은 종래의 반도체 발광소자 칩의 일 예를 나타내는 도면,1 is a view showing an example of a conventional semiconductor light emitting device chip;
도 2는 미국 등록특허공보 제7,262,436호에 제시된 반도체 발광소자 칩의 다른 예를 나타내는 도면,2 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device chip disclosed in US Patent No. 7,262,436;
도 3은 종래의 반도체 발광소자의 일 예를 나타내는 도면,3 is a view showing an example of a conventional semiconductor light emitting device;
도 4는 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 일 예를 보여주는 도면,4 illustrates an example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 5는 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 다른 일 예를 보여주는 도면,5 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 6은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면,6 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 7은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면,7 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 8은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면,8 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 9는 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면,9 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 10은 본 개시에 따른 반도체 발광소자에서 보강재의 다양한 실시 예를 보여주는 도면,10 is a view illustrating various embodiments of a reinforcing material in a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 11은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면,11 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 12는 본 개시에 따른 반도체 발광소자에 사용되는 반도체 발광소자 칩의 일 예를 보여주는 도면,12 illustrates an example of a semiconductor light emitting device chip used in a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 13은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면,13 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 14는 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 제조방법을 보여주는 도면,14 is a view showing a method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 15는 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 다른 제조방법을 보여주는 도면,15 is a view showing another manufacturing method of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 16은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면,16 illustrates another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 17은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면,17 illustrates another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 18은 본 개시에 따른 반도체 발광소자에서 몸체 바닥부 상면의 다양한 실시 예를 보여주는 도면,18 is a view illustrating various embodiments of an upper surface of a body bottom part in a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 19는 본 개시에 따른 반도체 발광소자에서 몸체 바닥부 상면이 오목부 및 볼록부 중 적어도 하나를 포함하는 경우 광 추출이 향상되는 원리를 설명하는 도면,19 is a view for explaining a principle that light extraction is improved when the upper surface of the body bottom part includes at least one of a concave portion and a convex portion in the semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 20은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면,20 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure;
도 21은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면.21 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
이하, 본 개시를 첨부된 도면을 참고로 하여 자세하게 설명한다(The present disclosure will now be described in detail with reference to the accompanying drawing(s)). The present disclosure will now be described in detail with reference to the accompanying drawing (s).
도 4는 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 일 예를 보여주는 도면이다.4 is a diagram illustrating an example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
도 4(a)는 사시도이며, 도 4(b)는 AA'에 따른 단면도이다.Fig. 4A is a perspective view and Fig. 4B is a sectional view along AA '.
반도체 발광소자(200)는 몸체(210), 반도체 발광소자 칩(220) 및 봉지재(230)를 포함한다.The semiconductor light emitting device 200 includes a body 210, a semiconductor light emitting device chip 220, and an encapsulant 230.
몸체(210)는 측벽(211) 및 바닥부(212)를 포함한다. 바닥부(212)는 홀(213)을 포함한다. 또한 측벽(211) 및 바닥부(212)에 의해 형성된 캐비티(214)를 포함한다. 바닥부(212)는 상면(215)과 하면(216)을 포함한다. 측벽(211)은 외측면(217)과 내측면(218)을 포함한다. 측벽(211)의 높이(H)는 바닥부(212)의 길이(L)보다 작을 수 있다. 예를 들어 측벽(211)의 높이(H)는 0.1mm 이상 내지 0.6mm 이하 일 수 있으며, 바닥부(212)의 길이(L)는 0.5mm 이상일 수 있다. 또한 측벽(211)은 필요에 따라 없을 수도 있다.(미도시). 홀(213)의 크기는 반도체 발광소자 칩(220)의 크기와 비슷하거나 반도체 발광소자 칩(220)의 크기의 1.5배가 바람직하다. 또한 홀(213)의 측면(240)은 광 추출 효율의 향상을 위해 경사진 것이 바람직하다. Body 210 includes sidewalls 211 and bottom portion 212. The bottom portion 212 includes a hole 213. It also includes a cavity 214 formed by sidewalls 211 and bottom 212. The bottom portion 212 includes an upper surface 215 and a lower surface 216. Sidewall 211 includes an outer side 217 and an inner side 218. The height H of the side wall 211 may be smaller than the length L of the bottom portion 212. For example, the height H of the side wall 211 may be 0.1 mm or more and 0.6 mm or less, and the length L of the bottom portion 212 may be 0.5 mm or more. The side wall 211 may also be absent as needed (not shown). The size of the hole 213 is similar to that of the semiconductor light emitting device chip 220 or 1.5 times the size of the semiconductor light emitting device chip 220. In addition, the side surface 240 of the hole 213 is preferably inclined to improve the light extraction efficiency.
반도체 발광소자 칩(220)은 홀(213)에 위치하고 있다. 반도체 발광소자 칩(220)은 래터럴 칩, 수직 칩 및 플립 칩이 가능하다. 다만 본 개시에서 반도체 발광소자 칩의 전극(221)이 몸체(210) 바닥부(212) 하면(216) 방향으로 노출되어 있는 점에서 플립 칩이 바람직하다. 바닥부(212)의 높이(219)는 반도체 발광소자 칩(220)의 높이(222)보다 낮은 것이 바람직하다. 바닥부(212)의 높이(219)가 반도체 발광소자 칩(220)의 높이(222)보다 높은 경우 반도체 발광소자(200)의 광 추출 효율이 떨어질 수 있기 때문이다. 다만 광 추출 효율이 떨어질 수 있지만, 광 경로 등을 고려하여 바닥부(212)의 높이(219)가 반도체 발광소자 칩(220)의 높이보다 높게 할 수도 있다. 바닥부(212)의 높이(219) 및 반도체 발광소자 칩(220)의 높이(222)는 바닥부(212)의 하면(216)을 기준으로 측정할 수 있다. 반도체 발광소자 칩(220)의 높이(222)는 0.05mm 이상 내지 0.5mm 이하 일 수 있다. 바닥부(212)의 높이(219)는 0.08mm 이상 내지 0.4mm 이하 일 수 있다. The semiconductor light emitting device chip 220 is located in the hole 213. The semiconductor light emitting device chip 220 may be a lateral chip, a vertical chip, and a flip chip. However, in the present disclosure, the flip chip is preferable in that the electrode 221 of the semiconductor light emitting device chip is exposed toward the bottom surface 216 of the bottom portion 212 of the body 210. The height 219 of the bottom portion 212 is preferably lower than the height 222 of the semiconductor light emitting device chip 220. This is because when the height 219 of the bottom 212 is higher than the height 222 of the semiconductor light emitting device chip 220, the light extraction efficiency of the semiconductor light emitting device 200 may decrease. However, although the light extraction efficiency may be reduced, the height 219 of the bottom portion 212 may be higher than the height of the semiconductor light emitting device chip 220 in consideration of an optical path. The height 219 of the bottom part 212 and the height 222 of the semiconductor light emitting device chip 220 may be measured based on the bottom surface 216 of the bottom part 212. The height 222 of the semiconductor light emitting device chip 220 may be 0.05 mm or more and 0.5 mm or less. The height 219 of the bottom 212 may be 0.08 mm or more and 0.4 mm or less.
봉지재(230)는 적어도 캐비티(214)에 구비되어 반도체 발광소자 칩(220)을 덮고 있어서, 홀(213)에 위치하고 있는 반도체 발광소자 칩(220)을 몸체(210)에 고정시킬 수 있다. 봉지재(230)는 투광성을 갖고 있으며, 예를 들어 에폭시 수지 및 실리콘 수지 중 하나로 이루어질 수 있다. 필요한 경우 파장 변환재(231)를 포함할 수 있다. 파장 변환재(231)는 반도체 발광소자 칩(220)의 활성층으로부터 생성되는 빛을 다른 파장의 빛으로 변환하는 것이라면 어떠한 것이라도 좋지만(예: 안료, 염료 등), 광 변환 효율을 고려할 때 형광체(예: YAG, (Sr,Ba,Ca)2SiO4:Eu 등)를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 파장 변환재(231)는 반도체 발광소자에서 나오는 빛의 색에 따라 정해질 수 있으며, 당업자에게 잘 알려져 있다.The encapsulant 230 is provided at least in the cavity 214 to cover the semiconductor light emitting device chip 220, so that the semiconductor light emitting device chip 220 positioned in the hole 213 may be fixed to the body 210. The encapsulant 230 is light-transmissive and may be made of one of an epoxy resin and a silicone resin, for example. If necessary, the wavelength converter 231 may be included. The wavelength converting material 231 may be any type as long as it converts light generated from the active layer of the semiconductor light emitting device chip 220 into light having a different wavelength (eg, a pigment, a dye, etc.). Example: YAG, (Sr, Ba, Ca) 2 SiO 4 : Eu, etc.) is preferably used. In addition, the wavelength conversion material 231 may be determined according to the color of light emitted from the semiconductor light emitting device, and is well known to those skilled in the art.
도 5는 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 다른 일 예를 보여주는 도면이다.5 illustrates another example of the semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
반도체 발광소자(300)는 접합부(330)를 포함한다. 접합부(330)를 제외하고는 도 4에 기재된 반도체 발광소자(200)와 동일한 특성을 갖는다. 접합부(330)는 몸체(310) 바닥부(311)의 하면(312)에 위치한다. 다만 몸체(310) 바닥부(311)의 하면(312) 방향으로 노출된 반도체 발광소자 칩(320)의 전극(321)과 떨어져 위치한다. 접합부(330)로 인하여 반도체 발광소자(300)가 외부 기판과 접합될 때, 전극(321)만으로 접합하는 경우보다 접합력이 향상될 수 있다. 접합부(330)는 금속일 수 있다. 예를 들어 접합부(330)는 은(Ag), 구리(Cu) 및 금(Au) 중 하나일 수 있다. 또한 접합부(330)는 2개 이상의 금속의 조합일 수 있다. 예를 들어 니켈(Ni)과 구리 조합, 크롬(Cr)과 구리 조합, 티타늄(Ti)과 구리 조합 중 하나일 수 있다. 당업자가 용이하게 변경할 수 있는 범위에서 접합부(330)는 다양한 조합이 가능하다. 도 5(b)는 도 5(a)의 저면도이며, 전극(321)과 접합부(330)의 배치를 확인할 수 있다. 또한 도시하지는 않았지만, 필요한 경우에는 접합부(330)가 반도체 발광소자 칩(320)의 전극(321)과 접하여 위치함으로써, 전극 기능을 수행할 수도 있다.The semiconductor light emitting device 300 includes a junction 330. Except for the junction portion 330, the semiconductor light emitting device 200 has the same characteristics as the semiconductor light emitting device 200 of FIG. The junction 330 is located on the bottom 312 of the bottom 311 of the body 310. However, it is located away from the electrode 321 of the semiconductor light emitting device chip 320 exposed in the direction of the bottom 312 of the bottom portion 311 of the body 310. When the semiconductor light emitting device 300 is bonded to the external substrate due to the bonding part 330, the bonding force may be improved compared to the case where the electrode 321 is bonded only. The junction 330 may be metal. For example, the junction 330 may be one of silver (Ag), copper (Cu), and gold (Au). In addition, the junction 330 may be a combination of two or more metals. For example, it may be one of a combination of nickel (Ni) and copper, a combination of chromium (Cr) and copper, and a combination of titanium (Ti) and copper. The junction 330 may be variously combined in a range that can be easily changed by those skilled in the art. FIG. 5B is a bottom view of FIG. 5A, and the arrangement of the electrode 321 and the junction part 330 can be confirmed. Although not shown, if necessary, the junction part 330 may be in contact with the electrode 321 of the semiconductor light emitting device chip 320 to perform an electrode function.
도 6은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면이다.6 is a view illustrating another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
반도체 발광소자(400)는 몸체(410)의 바닥부(411)와 반도체 발광소자 칩(420) 사이에 반사 물질(430)을 포함한다. 반사 물질(430)을 제외하고는 도 5에 기재된 반도체 발광소자(300)와 동일한 특성을 갖는다. 반사 물질(430)이 반도체 발광소자 칩(420)의 측면에 위치함으로써 반도체 발광소자 칩(420)의 측면에서 나오는 빛을 반사시켜, 반도체 발광소자(400)의 광 추출 효율을 향상시킬 수 있다. 반사 물질(430)은 백색 반사 물질이 바람직하다. 예를 들어 백색 실리콘 수지일 수 있다. 또한 도 6(b)와 같이 반사 물질(430)과 반도체 발광소자 칩(420) 사이에 공간(431)이 형성되게 반사 물질(430)이 위치할 수도 있다.The semiconductor light emitting device 400 includes a reflective material 430 between the bottom portion 411 of the body 410 and the semiconductor light emitting device chip 420. Except for the reflective material 430, the semiconductor light emitting device 300 has the same characteristics as the semiconductor light emitting device 300 of FIG. 5. Since the reflective material 430 is positioned on the side surface of the semiconductor light emitting device chip 420, the light emitted from the side surface of the semiconductor light emitting device chip 420 may be reflected, thereby improving light extraction efficiency of the semiconductor light emitting device 400. The reflective material 430 is preferably a white reflective material. For example, it may be a white silicone resin. In addition, as illustrated in FIG. 6B, the reflective material 430 may be positioned to form a space 431 between the reflective material 430 and the semiconductor light emitting device chip 420.
도 7은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면이다.7 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
반도체 발광소자(500)는 몸체(510) 측벽(511)의 내측면(513) 및 바닥부(512)의 상면(514) 중 적어도 하나에 반사층(530)을 포함한다. 반사층(530)을 제외하고는 도 5에 기재된 반도체 발광소자(300)와 동일한 특성을 갖는다. 반사층(530)은 몸체(510) 바닥부(512)의 상면(514) 전체에 형성될 수 있다. 반사층(530)은 예를 들어 알루미늄(Al), 은(Ag), 분포 브래그 리플렉터(DBR : Distributed Bragg Reflector), 고반사 백색 반사물질 등으로 될 수 있다. 특히 도 3과 같은 종래의 반도체 발광소자(100)에는 리드 프레임(110, 120)에 반도체 발광소자 칩(150)이 접합되어야 하기 때문에, 반사효율이 좋은 금속의 반사층이 반도체 발광소자 칩(150)이 접합되는 리드 프레임(110, 120) 상면 전체에 전기적 쇼트 문제로 인하여 형성될 수 없었다. 그러나 본 개시에서는 반도체 발광소자 칩(520)에 접합되는 리드 프레임이 없으며, 또한 바닥부(512)의 상면(514)에 반도체 발광소자 칩(520)이 위치하지 않기 때문에, 반사효율이 높은 금속의 반사층(530)이 바닥부(512)의 상면(514) 전체에 형성될 수 있다. 반사효율이 높은 금속의 반사층(530)을 바닥부(512)의 상면(514) 전체에 형성시킴으로써, 반도체 발광소자(500)의 광 추출 효율을 향상시킬 수 있다. 또한 도시 하지는 않았지만, 반사층(530)은 홀의 측면에 위치할 수도 있다. The semiconductor light emitting device 500 includes a reflective layer 530 on at least one of the inner surface 513 of the sidewall 511 of the body 510 and the upper surface 514 of the bottom 512. Except for the reflective layer 530, the semiconductor light emitting device 300 has the same characteristics as the semiconductor light emitting device 300 of FIG. 5. The reflective layer 530 may be formed on the entire upper surface 514 of the bottom portion 512 of the body 510. The reflective layer 530 may be made of aluminum (Al), silver (Ag), a distributed Bragg reflector (DBR), a highly reflective white reflector, or the like. In particular, since the semiconductor light emitting device chip 150 should be bonded to the lead frames 110 and 120 in the conventional semiconductor light emitting device 100 as shown in FIG. 3, the reflective layer of the metal having good reflection efficiency is the semiconductor light emitting device chip 150. The entire upper surfaces of the lead frames 110 and 120 to be joined could not be formed due to an electrical short problem. However, in the present disclosure, since there is no lead frame bonded to the semiconductor light emitting device chip 520, and the semiconductor light emitting device chip 520 is not positioned on the top surface 514 of the bottom part 512, the metal having high reflection efficiency may be used. The reflective layer 530 may be formed on the entire upper surface 514 of the bottom portion 512. The light extraction efficiency of the semiconductor light emitting device 500 may be improved by forming the metal reflective layer 530 having high reflection efficiency on the entire upper surface 514 of the bottom portion 512. Although not shown, the reflective layer 530 may be located at the side of the hole.
도 8은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면이다.8 is a view illustrating another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
반도체 발광소자(600)는 몸체(610) 바닥부(611)에 복수개의 홀(612)을 포함하며, 각각의 홀(612)에 반도체 발광소자 칩(620)이 위치한다. 복수개의 홀(612) 및 각각의 홀(612)에 반도체 발광소자 칩(620)이 위치하는 것을 제외하고는 도 5에 기재된 반도체 발광소자(300)와 동일한 특성을 갖는다. 도 8에는 2개의 홀이 기재되어 있으나, 2개 이상도 가능하다. 또한 각각의 홀(612)에 위치하는 반도체 발광소자 칩(620)은 서로 다른 색을 발광할 수 있다. The semiconductor light emitting device 600 includes a plurality of holes 612 in the bottom portion 611 of the body 610, and the semiconductor light emitting device chip 620 is positioned in each hole 612. The semiconductor light emitting device 300 has the same characteristics as the semiconductor light emitting device 300 of FIG. 5 except that the semiconductor light emitting device chip 620 is positioned in the plurality of holes 612 and each hole 612. Although two holes are described in FIG. 8, two or more holes are possible. In addition, the semiconductor light emitting device chips 620 disposed in the holes 612 may emit different colors.
도 9는 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면이다. 도 9(a)는 저면도이며, 도 9(b)는 사시도 이다.9 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure. Fig. 9A is a bottom view and Fig. 9B is a perspective view.
반도체 발광소자(700)는 보강재(720)를 포함한다. 보강재(720)를 제외하고는 도 4에 기재된 반도체 발광소자(200)와 동일한 특성을 갖는다. 보강재(720)는 복수 개 일 수 있다. 도 9에 도시된 것처럼 보강재(720)가 2개인 경우 홀(711) 및 홀(711)에 위치하는 반도체 발광소자 칩(730)은 보강재(720) 사이에 위치할 수 있다. 보강재(720)와 홀(711)은 중첩되지 않게 배치하는 것이 바람직하다. 보강재(720)는 몸체(710)의 휨이나 휨에 의한 몸체(710)의 깨짐 문제 등을 보완할 수 있다. 보강재(720)는 금속이 바람직하다. 보강재(720)는 도 3에 기재된 리드 프레임일 수도 있다. 또한 도 9(a)와 같이 위치하는 보강재(720) 및 도 10(b) 내지 도 10(c)와 같이 위치하는 보강재(720)는 도 5에 기재된 접합부의 기능도 가질 수 있다. The semiconductor light emitting device 700 includes a reinforcing material 720. Except for the reinforcing material 720 has the same characteristics as the semiconductor light emitting device 200 shown in FIG. The reinforcing material 720 may be a plurality. As illustrated in FIG. 9, when the reinforcement 720 is two, the hole 711 and the semiconductor light emitting device chip 730 disposed in the hole 711 may be located between the reinforcement 720. The reinforcing material 720 and the hole 711 is preferably disposed so as not to overlap. The reinforcing material 720 may compensate for the problem of breaking the body 710 due to the bending or bending of the body 710. The reinforcing material 720 is preferably a metal. The reinforcement 720 may be the lead frame described in FIG. 3. In addition, the reinforcing member 720 positioned as shown in FIG. 9 (a) and the reinforcing member 720 positioned as shown in FIGS. 10 (b) to 10 (c) may also have a function of the joint of FIG. 5.
도 10은 본 개시에 따른 반도체 발광소자에서 보강재의 다양한 실시 예를 보여주는 도면이다. 도 10(a) 내지 도 10(c)는 사시도이며, 도 10(d)는 저면도이다.10 is a view illustrating various embodiments of a reinforcing material in a semiconductor light emitting device according to the present disclosure. 10 (a) to 10 (c) are perspective views, and FIG. 10 (d) is a bottom view.
도 10(a) 내지 도 10(c)는 보강재(720)의 다양한 실시 예로서 몸체(710)의 바닥부의 상면(712)과 하면(713) 사이에 보강재(720)가 다양하게 위치하는 것을 보여주고 있다. 도 10(a)의 보강재(720)는 몸체(710)에 완전히 삽입되어 있는 것을 보여준다. 도 10(b)의 보강재(720)는 보강재(720)의 하면(721)이 몸체(710) 바닥부의 하면(713)과 일치하는 것을 보여준다. 도 10(c)의 보강재(720)는 보강재(720)의 일부가 몸체(710) 바닥부의 하면(713)에서 돌출되어 있는 것을 보여준다. 또한 도 10(d)를 보면 보강재(720)가 몸체(710)의 길이방향으로 형성되어 있는 도 9(a)와 다르게 보강재(720)가 몸체(710)의 길이방향과 세로방향에 모두 형성되어 있는 것을 보여준다. 즉 보강재(720)가 몸체(710)의 홀과 중첩되지 않게 가능한 넓게 형성되는 것이 몸체(710)의 휨이나 휨에 의한 몸체(710)의 깨짐 문제 등에 바람직하다. 10 (a) to 10 (c) show that the reinforcement 720 is variously positioned between the upper surface 712 and the lower surface 713 of the bottom of the body 710 as various embodiments of the reinforcement 720. Giving. The reinforcement 720 of FIG. 10 (a) shows that it is fully inserted into the body 710. The reinforcement 720 of FIG. 10B shows that the bottom surface 721 of the reinforcement 720 coincides with the bottom surface 713 of the bottom of the body 710. The reinforcement 720 of FIG. 10C shows that a part of the reinforcement 720 protrudes from the bottom surface 713 of the bottom of the body 710. 10 (d), the reinforcement 720 is formed in both the longitudinal direction and the longitudinal direction of the body 710 unlike FIG. 9 (a) in which the reinforcement 720 is formed in the longitudinal direction of the body 710. Show what is there. That is, it is preferable that the reinforcement 720 is formed as wide as possible so as not to overlap with the hole of the body 710, such as a problem of breaking the body 710 due to the bending or the bending of the body 710.
도 11은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면이다. 도 11(a) 및 도 11(c)는 저면도이며, 도 11(b)는 도 11(a)의 AA'를 따라 자른 단면도이고 도 11(d)는 도 11(c)의 BB'를 따라 자른 단면도이다.11 is a view showing another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure. 11 (a) and 11 (c) are bottom views, FIG. 11 (b) is a cross-sectional view taken along AA ′ of FIG. 11 (a), and FIG. 11 (d) shows BB ′ of FIG. 11 (c). It is a cross-sectional view.
보강재(720)를 포함하는 반도체 발광소자(700)는 도 11(a) 및 도 11(b)와 같이 보강재(720)가 반도체 발광소자 칩(730)을 정전기 또는 역방향 전류로부터 보호하기 위한 보호 소자(740; 예: 제너 다이오드, pn 다이오드)를 포함할 수 있다. 또한 도 11(b)와 같이 보강재(720)에 보호 소자(740)가 삽입되어 있다. 보호 소자(740)는 보호 소자(740)의 전극(741)을 제외하고 예를 들어 백색 실리콘 수지(750)로 덮혀 있다. 또한 보호 소자(740)의 위치관계를 명확히 하기 위해 도 11(b)에 몸체(710) 바닥부의 상면(712)을 표시하였다. 다만 보호 소자(740)의 크기가 작기 때문에 외부 기판의 전극에 직접 실장하는 것이 어려울 수 있으며, 이를 해결하기 위해 도 11(c) 및 도 11(d)와 같이 몸체(710)에 보호 소자(740)가 삽입될 수 있다. 보호 소자(740)의 전극(741)이 단락된 보강재(720) 위에 위치하여, 보강재(720)와 전기적으로 연결된다. 보호 소자(740)는 백색 실리콘 수지(750)로 덮혀 있다. 보강재(720)가 외부 기판의 전극에 반도체 발광소자 칩(730)과 함께 연결된다. 쇼트를 방지하기 위해 도 11(c)에 기재된 보강재는 단락(722)되어 있다. 도 11(a) 및 11(c)의 보호 소자(740)는 외부 기판의 전극을 통해 반도체 발광소자 칩(730)과 전기적으로 역방향 병렬연결된다. 다만 도 11(a)에서는 보호 소자(740)가 직접 외부 기판과 전기적으로 연결되지만, 도 11(c)에서는 보호 소자(740)가 보강재(720)를 통해 외부 기판과 전기적으로 연결된다. 도 11(a) 및 도 11(c)에서 반도체 발광소자 칩(730)과 보호 소자(740)가 전기적으로 역방향 병렬연결되도록 하는 외부 기판의 전극 배열은 당업자에게 용이하다.The semiconductor light emitting device 700 including the reinforcing material 720 is a protection device for the reinforcing material 720 to protect the semiconductor light emitting device chip 730 from static electricity or reverse current, as shown in FIGS. 11A and 11B. 740 (eg, a zener diode, a pn diode). In addition, the protection element 740 is inserted into the reinforcing material 720 as shown in FIG. The protection element 740 is covered with, for example, a white silicone resin 750 except for the electrode 741 of the protection element 740. Also, in order to clarify the positional relationship of the protection element 740, the upper surface 712 of the bottom of the body 710 is shown in Fig. 11 (b). However, since the protection element 740 is small in size, it may be difficult to directly mount it on the electrode of the external substrate. To solve this problem, the protection element 740 is provided in the body 710 as shown in FIGS. 11 (c) and 11 (d). ) Can be inserted. An electrode 741 of the protection element 740 is positioned over the shorted reinforcement 720 and electrically connected to the reinforcement 720. The protection element 740 is covered with the white silicone resin 750. The reinforcing material 720 is connected to the electrode of the external substrate together with the semiconductor light emitting device chip 730. In order to prevent a short, the reinforcement described in FIG. 11C is short-circuited 722. 11 (a) and 11 (c), the protection device 740 is electrically connected in parallel with the semiconductor light emitting device chip 730 through an electrode of an external substrate. In FIG. 11A, the protection element 740 is directly connected to the external substrate. In FIG. 11C, the protection element 740 is electrically connected to the external substrate through the reinforcing material 720. 11 (a) and 11 (c), an electrode arrangement of an external substrate for allowing the semiconductor light emitting device chip 730 and the protection device 740 to be electrically reversely connected in parallel is easy for those skilled in the art.
도 12는 본 개시에 따른 반도체 발광소자에 사용되는 반도체 발광소자 칩의 일 예를 보여주는 도면이다.12 is a diagram illustrating an example of a semiconductor light emitting device chip used in a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
도 12(a)는 사시도이며, 도 12(b)는 AA'를 따라 자른 단면도이다.FIG. 12A is a perspective view and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along AA ′.
본 개시에 따른 반도체 발광소자에 사용되는 반도체 발광소자 칩(800)은 비투광성 성장기판(810) 및 반도체 발광부(820)를 포함하고 있다. The semiconductor light emitting device chip 800 used in the semiconductor light emitting device according to the present disclosure includes a non-transmissive growth substrate 810 and a semiconductor light emitting unit 820.
비투광성 성장기판(810)은 복수의 반도체층(822)의 상측(821)이 노출되도록 캐비티(830)를 포함할 수 있다. 비투광성 성장기판(810)이 비투광성이기 때문에 반도체 발광부(820)에서 나온 광은 캐비티(830)를 통해 상측으로 나간다. 캐비티(830)는 식각 공정을 통해 얻을 수 있다. 캐비티(830)의 측면(831)은 반도체 발광부(820)에서 나오는 광을 반사시켜 상측으로 나가도록 하기 위해 경사진 것이 바람직하다. 또한 캐비티(830)의 측면(831)은 광의 반사효율을 향상시키기 위해 반사층(832)을 포함할 수 있다. 반사층(832)의 재료는 반사효율이 좋은 것이라면 무엇이든 가능하다. 예를 들어 알루미늄(Al), 은(Ag), 분포 브래그 리플렉터(DBR : Distributed Bragg Reflector) 등이 있다. 또한 캐비티(830)는 투광성 봉지재(840)로 채워질 수 있다. 투광성 봉지재(840)는 수지(841) 및 파장 변환재(842)를 포함할 수 있다. 파장 변환재(842)는 반도체 발광부(820)에서 나오는 광을 다른 파장의 광으로 변환하는 것이라면 어떠한 것이라도 좋지만(예: 안료, 염료 등), 광 변환 효율을 고려할 때 형광체(예: YAG, (Sr,Ba,Ca)2SiO4:Eu 등)를 사용하는 것이 바람직하다. 수지(841)는 에폭시 수지, 실리콘 수지 등이 이용될 수 있다. 또한 투광성 봉지재(840)는 광 산란재 등이 부가적으로 더 함유될 수 있다. 비투광성 성장기판(810)으로는 실리콘 성장기판이 바람직하다. 반도체 발광부(820)는 복수의 반도체층(822), 제1 전극(826) 및 제2 전극(827)을 포함하고 있다. 복수의 반도체층(822)은 비투광성 성장기판(810)의 하측에서 성장하는 제1 도전성을 가지는 제1 반도체층(823), 제1 도전성과 다른 제2 도전성을 가지는 제2 반도체층(825) 및 제1 반도체층과 제2 반도체층 사이에 개재되며 전자와 정공의 재결합을 통해 빛을 생성하는 활성층(824)을 포함한다. 도시하지 않았지만 필요에 따라 버퍼층을 포함하여 추가의 층들을 포함할 수 있다. 캐비티(830)에 의해 노출되는 복수의 반도체층(822)의 상측(821)은 제1 반도체층(823)일 수 있지만, 버퍼층이 포함되는 경우 노출되는 복수의 반도체층(822)의 상측(821)은 버퍼층이 될 수 있다. 제1 전극(826)은 제1 반도체층(823)과 전기적으로 연통하며 전자와 정공 중 하나를 공급한다. 제1 전극(826)은 도 2에 기재된 것처럼 제1 반도체층(823)과 직접 연결될 수도 있지만, 제1 전극(826)은 제1 반도체층(823)과 전기적으로 연통하기 위해 별도의 전기적 통로(828)를 포함할 수 있다. 다만 전기적 통로(828)를 통해 제1 전극(826)이 제1 반도체층(823)과 전기적으로 연통할 때, 제1 전극(826)이 제2 반도체층(825)과 접촉하는 것을 방지하기 위해서 반도체 발광부(820)는 제2 반도체층(825)과 제1 전극(826) 사이 및 전기적 통로(828)의 측면에 형성된 절연층(850)을 포함할 수 있다. 제2 전극(827)은 제2 반도체층(825)과 전기적으로 연통하며 전자와 정공 중 하나를 공급한다. 절연층(850)이 제2 반도체층(825)과 제2 전극(827) 사이에도 위치하는 경우에는 제2 전극(827)은 제2 전극(827)과 제2 반도체층(825)을 전기적으로 연결하는 전기적 통로(829)를 포함할 수 있다. 제1 전극(826) 및 제2 전극(827)은 복수의 반도체층(822)의 하측에 위치한다. 또한 반사효율을 높이기 위해서 제1 전극(826) 및 제2 전극(827)과 복수의 반도체층(822) 사이에 형성되는절연층(850)이 반사층으로 될 수 있다. 절연층(850)이 반사층으로 기능하는 경우, 제1 전극(826) 및 제2 전극(827)이 형성되지 않은 부분으로 나가는 빛도 반사할 수 있다. 절연층(850)이 반사기능을 갖는 것을 비도전성 반사막(850)이라 할 수 있으며, 비도전성 반사막에 대한 것은 한국등록특허공보 제10-1368720호에 자세히 기재되어 있다. 또는 도시하지는 않았지만 복수의 반도체층(222) 위에 금속 반사층을 포함할 수도 있다. 금속 반사층을 형성하는 방법은 당업자에게 잘 알려져 있어 별도로 기재하지 않는다. 도 12(c)는 반도체 발광소자 칩(800)에서 반도체 발광부(820) 측면에 빛을 반사하는 반사벽(860)이 추가되었다. 비투광성 성장기판(810), 반사벽(860) 및 반사기능을 갖는 절연층(850)에 의해 반도체 발광소자 칩(800)에서 나오는 빛은 캐비티(830)를 통해서만 나갈 수 있다. The non-transparent growth substrate 810 may include a cavity 830 to expose the upper surfaces 821 of the plurality of semiconductor layers 822. Since the non-transparent growth substrate 810 is non-transmissive, the light emitted from the semiconductor light emitting unit 820 exits upward through the cavity 830. The cavity 830 may be obtained through an etching process. The side surface 831 of the cavity 830 is preferably inclined to reflect the light emitted from the semiconductor light emitting unit 820 to go upward. In addition, the side surface 831 of the cavity 830 may include a reflective layer 832 to improve the reflection efficiency of the light. The material of the reflective layer 832 can be anything as long as the reflection efficiency is good. For example, there are aluminum (Al), silver (Ag), distributed Bragg reflector (DBR). In addition, the cavity 830 may be filled with the transparent encapsulant 840. The transparent encapsulant 840 may include a resin 841 and a wavelength converting member 842. The wavelength converting material 842 may be any type as long as it converts the light emitted from the semiconductor light emitting part 820 into light having a different wavelength (eg, a pigment, a dye, etc.). (Sr, Ba, Ca) 2 SiO 4 : Eu, etc.) is preferably used. The resin 841 may be an epoxy resin, a silicone resin, or the like. In addition, the light-transmissive encapsulant 840 may additionally contain a light scattering material or the like. As the non-transparent growth substrate 810, a silicon growth substrate is preferable. The semiconductor light emitting unit 820 includes a plurality of semiconductor layers 822, a first electrode 826, and a second electrode 827. The plurality of semiconductor layers 822 may include a first semiconductor layer 823 having a first conductivity grown under the non-transparent growth substrate 810, and a second semiconductor layer 825 having a second conductivity different from the first conductivity. And an active layer 824 interposed between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer and generating light through recombination of electrons and holes. Although not shown, additional layers may be included, if necessary, including a buffer layer. The upper side 821 of the plurality of semiconductor layers 822 exposed by the cavity 830 may be the first semiconductor layer 823, but the upper side 821 of the plurality of semiconductor layers 822 exposed when the buffer layer is included. ) May be a buffer layer. The first electrode 826 is in electrical communication with the first semiconductor layer 823 and supplies one of electrons and holes. Although the first electrode 826 may be directly connected to the first semiconductor layer 823 as described in FIG. 2, the first electrode 826 may be provided in a separate electrical path for electrical communication with the first semiconductor layer 823. 828). However, to prevent the first electrode 826 from contacting the second semiconductor layer 825 when the first electrode 826 is in electrical communication with the first semiconductor layer 823 through the electrical passage 828. The semiconductor light emitting unit 820 may include an insulating layer 850 formed between the second semiconductor layer 825 and the first electrode 826 and on the side of the electrical passage 828. The second electrode 827 is in electrical communication with the second semiconductor layer 825 and supplies one of electrons and holes. When the insulating layer 850 is also located between the second semiconductor layer 825 and the second electrode 827, the second electrode 827 electrically connects the second electrode 827 and the second semiconductor layer 825. It may include an electrical passage 829 for connecting. The first electrode 826 and the second electrode 827 are positioned under the plurality of semiconductor layers 822. In addition, in order to increase reflection efficiency, the insulating layer 850 formed between the first electrode 826 and the second electrode 827 and the plurality of semiconductor layers 822 may be a reflective layer. When the insulating layer 850 functions as a reflective layer, light exiting to a portion where the first electrode 826 and the second electrode 827 are not formed may be reflected. The insulating layer 850 having a reflective function may be referred to as a non-conductive reflective film 850, and the non-conductive reflective film is described in detail in Korean Patent Publication No. 10-1368720. Alternatively, although not shown, a metal reflective layer may be included on the plurality of semiconductor layers 222. The method of forming the metal reflective layer is well known to those skilled in the art and is not described separately. 12 (c), a reflective wall 860 reflecting light is added to the side surface of the semiconductor light emitting unit 820 in the semiconductor light emitting device chip 800. Light emitted from the semiconductor light emitting device chip 800 by the non-transmissive growth substrate 810, the reflective wall 860, and the insulating layer 850 having the reflective function may be emitted only through the cavity 830.
도 13은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 일 예를 보여주는 도면이다.13 is a view illustrating an example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
도 13(a)는 본 개시에 따른 반도체 발광소자로서 다양한 컬러 및 다양한 색온도의 백색광을 구현할 수 있으며, 연색성이 우수한 반도체 발광소자의 일 예를 보여주는 도면이다. FIG. 13A illustrates a semiconductor light emitting device according to the present disclosure, which may implement white light having various colors and various color temperatures, and has excellent color rendering properties.
도 13(a)에 기재된 반도체 발광소자(900)는 몸체(910) 바닥부(911)에 복수개의 홀(912)을 포함하며, 각각의 홀(912)에는 도 12에 기재된 반도체 발광소자 칩(800)이 위치할 수 있다. 반도체 발광소자 칩(800)은 비투광성 성장기판(810)의 캐비티(830)를 통해서 빛이 나간다. 특히 도 12(c)와 같이 반도체 발광소자 칩(800)의 측면에 반사벽(860)이 위치하는 경우, 반도체 발광소자 칩(800)에서 나오는 빛은 캐비티(830)를 통해서만 빛이 나갈 수 있다. 또한 복수개의 홀(912) 각각에 위치하는 반도체 발광소자 칩(800)이 서로 다른 빛을 발광하도록, 복수개의 홀(912) 각각에 위치하는 반도체 발광소자 칩(800)의 캐비티(830)에 서로 다른 색을 발광하는 파장 변환재(842)를 사용할 수 있다. 예를 들어 도 13(a)와 같이 3개의 반도체 발광소자 칩(800)이 있는 경우, 1개는 청색을 발광하고, 1개는 녹색을 발광하고, 나머지 1개는 적색을 발광하게 할 수 있다. 특히 반도체 발광소자 칩(800)에서 나오는 빛이 캐비티(830)를 통해서만 나갈 수 있는 경우 또는 도 6(a)와 같이 반도체 발광소자 칩(800)과 바닥부(911) 사이에 반사 물질이 있는 경우(미도시)에는 복수개의 반도체 발광소자 칩(800)에서 발광하는 빛이 상호 간에 영향을 미치지 않을 수 있다. 특히 각각의 반도체 발광소자 칩(800)의 캐비티(830) 내에 있는 파장 변환재(842)에 영향을 미치지 않을 수 있다. 따라서 색순도가 높은 다양한 컬러 및 다양한 색온도의 백색광을 구현할 수 있으며, 연색성이 우수한 반도체 발광소자를 얻을 수 있다. 또한 파장 변환재(842)가 반도체 발광소자 칩(800)에 포함되어 있기 때문에, 봉지재(920)는 파장 변환재를 포함하지 않을 수 있다. 도 13(a)에서 설명하지 않은 나머지 특성은 도 8에 기재된 반도체 발광소자(600)와 동일하다.The semiconductor light emitting device 900 illustrated in FIG. 13A includes a plurality of holes 912 in the bottom portion 911 of the body 910, and each hole 912 includes a semiconductor light emitting device chip illustrated in FIG. 12. 800 may be located. The semiconductor light emitting device chip 800 emits light through the cavity 830 of the non-transparent growth substrate 810. In particular, when the reflective wall 860 is positioned on the side surface of the semiconductor light emitting device chip 800 as shown in FIG. 12C, light emitted from the semiconductor light emitting device chip 800 may be emitted only through the cavity 830. . In addition, the semiconductor light emitting device chip 800 positioned in each of the plurality of holes 912 emits different light from each other in the cavity 830 of the semiconductor light emitting device chip 800 located in each of the plurality of holes 912. A wavelength converting material 842 that emits other colors can be used. For example, when there are three semiconductor light emitting device chips 800 as shown in FIG. 13A, one light emits blue, one light emits green, and one light emits red. . In particular, when the light emitted from the semiconductor light emitting device chip 800 can exit only through the cavity 830 or when there is a reflective material between the semiconductor light emitting device chip 800 and the bottom portion 911 as shown in FIG. In the drawings, light emitted from the plurality of semiconductor light emitting device chips 800 may not influence each other. In particular, it may not affect the wavelength conversion material 842 in the cavity 830 of each semiconductor light emitting device chip 800. Therefore, white light having various colors and various color temperatures having high color purity can be realized, and a semiconductor light emitting device having excellent color rendering property can be obtained. In addition, since the wavelength converter 842 is included in the semiconductor light emitting device chip 800, the encapsulant 920 may not include the wavelength converter. The remaining properties, which are not described in FIG. 13A, are the same as those of the semiconductor light emitting device 600 described in FIG. 8.
도 13(b)에 기재된 반도체 발광소자(1000)는 몸체(1100) 바닥부(1110)에 복수개의 홀(1120)을 포함하며, 각각의 홀(1120)에는 반도체 발광소자 칩(1200)이 위치할 수 있다. 또한 몸체(1100)는 복수개의 홀(1120) 사이에 격벽(1130)을 포함하고 있다. 격벽(1130)에 의해 복수개의 홀(1120)에 대응하는 복수개의 캐비티(1140)가 형성된다. 복수개의 캐비티(1140)에 서로 다른 파장 변환재(1310, 1320)을 사용할 수 있다. 예를 들어 도 13(b)에 도시된 것처럼 각각의 홀(1120)에는 청색을 발광하는 3개의 반도체 발광소자 칩(1200)이 위치하고, 1개의 캐비티(1140)에는 파장 변환재가 없는 봉지재(1300)가 사용되고, 1개의 캐비티(1140)에는 청색에 여기되어 녹색을 발광하는 파장 변환재(1310)가 포함된 봉지재(1300)가 사용되고, 나머지 1개의 캐비티(1140)에는 청색에 여기되어 적색을 발광하는 파장 변환재(1320)가 포함된 봉지재(1300)가 사용될 수 있다. 격벽(1130)에 의해 복수개의 캐비티(1140)에서 나오는 빛이 상호 간에 영향을 미치지 않을 수 있다. 특히 복수개의 캐비티(1140)에서 나오는 빛이 각각의 캐비티(1140)내에 있는 파장 변환재(1310, 1320)에 영향을 미치지 않을 수 있다. 따라서 색순도가 높은 다양한 컬러 및 다양한 색온도의 백색광을 구현할 수 있으며, 연색성이 우수한 반도체 발광소자를 얻을 수 있다. 도 13(b)에서 설명하지 않는 나머지 특성은 도 8에 기재된 반도체 발광소자(600)와 동일하다.The semiconductor light emitting device 1000 of FIG. 13B includes a plurality of holes 1120 in the bottom portion 1110 of the body 1100, and the semiconductor light emitting device chip 1200 is positioned in each hole 1120. can do. In addition, the body 1100 includes a partition 1130 between the plurality of holes 1120. A plurality of cavities 1140 corresponding to the plurality of holes 1120 are formed by the partition wall 1130. Different wavelength converting materials 1310 and 1320 may be used for the plurality of cavities 1140. For example, as shown in FIG. 13B, three semiconductor light emitting device chips 1200 emitting blue light are disposed in each hole 1120, and an encapsulant 1300 having no wavelength conversion material in one cavity 1140. ) Is used, an encapsulant 1300 including a wavelength converting material 1310 that is excited by blue and emits green light is used for one cavity 1140, and red is excited by blue in one remaining cavity 1140. The encapsulant 1300 including the wavelength converting material 1320 to emit light may be used. Light emitted from the plurality of cavities 1140 by the barrier rib 1130 may not affect each other. In particular, light from the plurality of cavities 1140 may not affect the wavelength converting materials 1310 and 1320 in each cavity 1140. Therefore, white light having various colors and various color temperatures having high color purity can be realized, and a semiconductor light emitting device having excellent color rendering property can be obtained. The remaining properties, which are not described in FIG. 13B, are the same as those of the semiconductor light emitting device 600 described in FIG. 8.
도 14는 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 제조방법을 보여주는 도면이다.14 is a view illustrating a method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
먼저 바닥부(2100)에 홀(2110)을 포함하는 몸체(2000)를 준비한다(S1). 몸체(2000)는 사출성형을 통해 얻을 수 있다. 홀(2100)에 반도체 발광소자 칩(2200)을 위치시킨다(S2). 이후 반도체 발광소자 칩(2200)을 몸체(2000)에 고정시키기 위해 봉지재(2300)로 반도체 발광소자 칩(2200)을 덮는다(S3). 봉지재(2300)로 반도체 발광소자 칩(2200)을 고정시키기 전에 반도체 발광소자 칩(2200)이 움직이지 않도록 하기 위해 임시고정판(2400)을 사용할 수 있다. 임시고정판(2400)은 일반 접착력있는 테이프이면 가능하다. 예를 들어 블루 테이프일 수 있다. 이후 임시고정판(2400)이 있는 경우, 임시고정판(2400)을 제거하고, 접착부(2500)를 형성한다(S4). 또한 접착부(2500) 대신에 보강재(미도시)를 형성할 수도 있다. 보강재가 몸체 바닥부의 상면 및 하면 사이에 위치하는 경우 몸체를 만들 때 보강재를 넣을 수 있다. 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 제조방법의 순서는 당업자가 용이하게 변경할 수 있는 범위에서는 본 개시의 범위에 포함될 수 있다. First, prepare a body 2000 including a hole 2110 in the bottom portion 2100 (S1). The body 2000 may be obtained through injection molding. The semiconductor light emitting device chip 2200 is positioned in the hole 2100 (S2). Then, the semiconductor light emitting device chip 2200 is covered with the encapsulant 2300 to fix the semiconductor light emitting device chip 2200 to the body 2000 (S3). The temporary fixing plate 2400 may be used to prevent the semiconductor light emitting device chip 2200 from moving before the encapsulant 2300 is fixed to the semiconductor light emitting device chip 2200. Temporary fixing plate 2400 may be a general adhesive tape. For example, it may be a blue tape. Then, if there is a temporary fixing plate 2400, the temporary fixing plate 2400 is removed, to form an adhesive portion 2500 (S4). In addition, a reinforcing material (not shown) may be formed instead of the adhesive part 2500. If the reinforcement is located between the upper and lower surfaces of the body bottom, the reinforcement may be inserted when the body is made. The order of the manufacturing method of the semiconductor light emitting device according to the present disclosure may be included in the scope of the present disclosure in a range that can be easily changed by those skilled in the art.
도 15는 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 다른 제조방법을 보여주는 도면이다.15 illustrates another method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
도 14에 기재된 제조방법에 따라 도 15와 같이 복수의 반도체 발광소자(3000)가 한 번에 제조될 수 있다. 예를 들어 복수의 몸체(3100)가 있는 기판(3200)을 사출성형을 통해 얻은 후 도 14에 기재된 제조방법에 따라 복수의 반도체 발광소자(3000)를 한 번에 제조할 수 있다. 이후 절단선(3300)에 따라 절단하여 각각의 반도체 발광소자(3000)를 만들 수 있다.According to the manufacturing method of FIG. 14, a plurality of semiconductor light emitting devices 3000 may be manufactured at a time, as shown in FIG. 15. For example, after obtaining the substrate 3200 having the plurality of bodies 3100 through injection molding, the plurality of semiconductor light emitting devices 3000 may be manufactured at one time according to the manufacturing method of FIG. 14. Thereafter, the semiconductor light emitting device 3000 may be cut by cutting along the cutting line 3300.
도 16은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면이다.16 illustrates another example of the semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
도 16(a)에 기재된 반도체 발광소자(4000)는 몸체(4100)의 측벽(4110)이 돌출부(4111)를 포함하며, 돌출부(4111) 사이 및 봉지재 위에 형성된 렌즈(4200)를 포함한다. 돌출부(4111)는 렌즈(4200)를 형성할 때, 렌즈(4200)가 돌출부(4111)를 넘어서 형성되지 않도록 하는 경계턱의 역할을 한다. 렌즈(4200)는 도 14에서 봉지재를 형성하는 단계(S3) 이후에 투광성 수지를 사용하여 형성할 수 있다. 또한 도 16(b)에 기재된 반도체 발광소자(4000)는 몸체(4100)의 바닥부(4120)가 돌출부(4111)를 포함하며, 돌출부(4111) 사이 및 봉지재 위에 형성된 렌즈(4200)를 포함한다. 특히 몸체(4100)는 측벽이 없이 바닥부(4120)만을 포함하고, 바닥부(4120)의 높이가 반도체 발광소자 칩(4200)의 높이보다 높다. 렌즈(4200)로 인하여, 빛이 충분히 확산될 수 있기 때문에 도 16(a)와 같이 넓은 바닥부(4120) 및 바닥부(4120)를 전체를 덮는 봉지재(4130)가 필요없어 재료비를 절감할 수 있다. 도 16에서 설명하지 않는 나머지 특성은 도 4에 기재된 반도체 발광소자(200)와 동일하다. In the semiconductor light emitting device 4000 of FIG. 16A, the side wall 4110 of the body 4100 includes a protrusion 4111, and includes a lens 4200 formed between the protrusions 4111 and on the encapsulant. The protrusion 4111 serves as a boundary jaw so that the lens 4200 is not formed beyond the protrusion 4111 when the lens 4200 is formed. The lens 4200 may be formed using a light transmissive resin after the step S3 of forming the encapsulant in FIG. 14. In addition, in the semiconductor light emitting device 4000 of FIG. 16B, the bottom portion 4120 of the body 4100 includes a protrusion 4111, and includes a lens 4200 formed between the protrusions 4111 and on the encapsulant. do. In particular, the body 4100 includes only the bottom portion 4120 without sidewalls, and the height of the bottom portion 4120 is higher than that of the semiconductor light emitting device chip 4200. Due to the lens 4200, since the light can be sufficiently diffused, the material 4 is not required as shown in FIG. 16A, so that the encapsulant 4130 covering the entire bottom portion 4120 and the bottom portion 4120 is not needed. Can be. The remaining characteristics, which are not described in FIG. 16, are the same as those of the semiconductor light emitting device 200 described in FIG. 4.
도 17은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면이다.17 illustrates another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
반도체 발광소자(5000)는 몸체(5100) 바닥부(5110)의 상면(5111)이 오목부 및 볼록부 중 적어도 하나를 포함한다. 즉 몸체(5100) 바닥부(5110)의 상면(5111)이 도 17(a)와 같이 오목부를 포함하거나, 도 17(b)와 같이 볼록부를 포함하거나, 도 17(c)와 같이 연속하여 나타나는 오목부와 볼록부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 바닥부의 상면이 오목부 및 볼록부 중 적어도 하나를 포함하는 경우, 반도체 발광소자(5000)의 광 추출 효율이 높아질 수 있으며, 광 추출 효율이 높아지는 이유는 도 19에서 설명한다. 도 17에서 설명하지 않는 나머지 특성은 도 5에 기재된 반도체 발광소자(300)와 동일하다.In the semiconductor light emitting device 5000, the upper surface 5111 of the bottom portion 5110 of the body 5100 includes at least one of a concave portion and a convex portion. That is, the upper surface 5111 of the bottom portion 5110 of the body 5100 includes a concave portion as shown in FIG. 17 (a), a convex portion as shown in FIG. 17 (b), or continuously appears as shown in FIG. 17 (c). And a concave portion and a convex portion. When the upper surface of the bottom portion includes at least one of the concave portion and the convex portion, the light extraction efficiency of the semiconductor light emitting device 5000 may be increased, and the reason why the light extraction efficiency is increased will be described with reference to FIG. 19. The remaining characteristics not described in FIG. 17 are the same as those of the semiconductor light emitting device 300 described with reference to FIG. 5.
도 18은 본 개시에 따른 반도체 발광소자에서 바닥부 상면의 다양한 실시 예를 보여주는 도면이다.18 is a view illustrating various embodiments of a bottom surface of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
도 18(a)와 같이 몸체(5100) 바닥부(5110)의 상면(5111) 오목부와 몸체(5100)의 측벽(5120)이 연결되는 부분(5121)이 평탄면이 아니라 곡선을 이루고 있다. 또한 몸체(5100) 바닥부(5110)의 상면(5111) 오목부와 몸체(5100)의 홀(5130)이 연결되는 부분(5131)도 평탄면이 아니라 곡선을 이루고 있다. 연결되는 부분(5121, 5131)이 평탄면이 아니라 곡선을 이루기 때문에 광 추출 효율이 높아질 수 있다. 또는 도 18(b)와 같이 몸체(5100) 바닥부(5110)의 상면(5111)이 복수개의 오목부를 포함할 수 있으며, 오목부가 반도체 발광소자 칩(5200)에 가까워질수록 오목부의 크기가 작아진다. 오목부가 클수록 광 추출 효율이 높아질 수 있다. 따라서 반도체 발광소자 칩(5200)에서 먼 곳에 큰 오목부가 위치하고 가까워질수록 작은 오목부가 위치함으로써, 반도체 발광소자(5000)는 전체적으로 균일한 빛을 발광할 수 있다(칩으로부터 먼 곳이 어두울 것이라는 생각에 기재한 내용입니다 맞지 않으면 삭제하겠습니다). 도 18(a) 및 도 18(b)에는 도시하지는 않았지만, 오목부 대신 볼록부인 경우에도 유사한 특성을 가질 수 있다. As shown in FIG. 18A, a portion 5121 to which the upper surface 5111 of the bottom portion 5110 of the body 5100 is recessed and the side wall 5120 of the body 5100 is curved is not a flat surface. In addition, the portion 5131 to which the concave portion of the top surface 5111 of the bottom portion 5110 of the body 5100 and the hole 5130 of the body 5100 are connected also forms a curve instead of a flat surface. Since the connected portions 5121 and 5131 form a curve rather than a flat surface, light extraction efficiency can be increased. Alternatively, as shown in FIG. 18B, the upper surface 5111 of the bottom portion 5110 of the body 5100 may include a plurality of recesses, and the closer the recess is to the semiconductor light emitting device chip 5200, the smaller the recess is. Lose. The larger the recessed portion, the higher the light extraction efficiency can be. Therefore, since the large concave portion is located far from the semiconductor light emitting device chip 5200 and the small concave portion is located closer to the semiconductor light emitting device chip 5, the semiconductor light emitting device 5000 can emit uniform light as a whole. It is the contents which I listed and delete it if it is not correct). Although not shown in FIGS. 18A and 18B, similar characteristics may be applied to convex portions instead of concave portions.
도 19는 본 개시에 따른 반도체 발광소자에서 바닥부 상면이 오목부 및 볼록부 중 적어도 하나를 포함하는 경우 광 추출이 향상되는 원리를 설명하는 도면이다.FIG. 19 is a view illustrating a principle in which light extraction is improved when a bottom surface of the semiconductor light emitting device according to the present disclosure includes at least one of a concave portion and a convex portion.
반도체 발광소자(5000)의 반도체 발광소자 칩(5200)에서 발광하는 빛(5400)은 봉지재(5300)와 외부의 경계(5500)에서 굴절율 차이로 인하여 반사된다. 반사된 빛(5400)은 몸체(5100) 바닥부(5110) 상면(5111)의 오목부에서 점선과 같이 반사되어 반도체 발광소자(5000)로부터 나갈 수 있다. 즉 바닥부(5110)의 상면(5111)이 평탄면일 경우, 반도체 발광소자(5000) 내부에 갇힐 수 있는 빛이 바닥부(5110)의 상면(5111)이 볼록부 및 오목부 중 적어도 하나를 포함함으로써 반도체 발광소자(5000)에서 나갈 수 있게 되어 광 추출 효율을 높일 수 있다. 바람직하게는 바닥부(5110)의 상면(5111)이 오목부를 포함하는 경우 광 추출 효율이 더 좋다. The light 5400 emitted from the semiconductor light emitting device chip 5200 of the semiconductor light emitting device 5000 is reflected by the difference in refractive index between the encapsulant 5300 and the external boundary 5500. The reflected light 5400 may be reflected as a dotted line in the concave portion of the top surface 5111 of the bottom portion 5110 of the body 5100 to exit the semiconductor light emitting device 5000. That is, when the top surface 5111 of the bottom portion 5110 is a flat surface, light that may be trapped inside the semiconductor light emitting device 5000 may include at least one of the convex portion and the concave portion of the top surface 5111 of the bottom portion 5110. As a result, it is possible to exit the semiconductor light emitting device 5000, thereby increasing the light extraction efficiency. Preferably, the light extraction efficiency is better when the upper surface 5111 of the bottom portion 5110 includes a recess.
도 20은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면이다. 도 20(a)는 사시도이며, 도 20(b)는 AA'에 따른 단면도이며, 20(c)는 도 20(b)에 대응하는 다른 실시 예를 보여주는 단면도이며, 도 20(d)는 제조방법을 보여주는 단면도이다.20 illustrates another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure. Figure 20 (a) is a perspective view, Figure 20 (b) is a cross-sectional view along AA ', Figure 20 (c) is a cross-sectional view showing another embodiment corresponding to Figure 20 (b), Figure 20 (d) is a manufacturing A cross section showing how.
반도체 발광소자(6000)는 몸체(6100)의 측벽(6110)이 2개의 개방 구간(6111, 6112)을 포함한다. 2개의 개방 구간(6111, 6112)은 서로 마주보고 있다. 특히 몸체(6100)가 단방향(6113)과 장방향(6114)을 갖는 경우, 2개의 개방 구간(6111, 6112)은 몸체(6100)의 장방향(6114)측에서 서로 마주보고 있는 것이 바람직하다. 반도체 발광소자(6000)는 빛을 반도체 발광소자(6000)의 상측 및 개방 구간(6111, 6112)을 통해 발광할 수 있어, 3면 발광이 가능하다. 또한 도 20(c)와 같이 개방 구간(6111, 6112)의 측벽(6110)이 완전히 제거되는 것이 아니라 일부가 남아서 반도체 발광소자(6000)의 측면으로 나가는 빛의 각도 또는 빛의 양을 조절할 수 있다. 반도체 발광소자(6000)의 제조방법은 도 14에서 S4 단계 이후에 도 20(d)와 같이 절단선(6200)에 따라 절단하여 제작할 수 있다. 도 20에서 설명하지 않은 나머지는 도 5에 기재된 반도체 발광소자(300)와 동일하다. 도 20에는 개방 구간이 2개가 도시되었지만, 필요에 따라 2개 이상 또는 1개도 가능하다.In the semiconductor light emitting device 6000, the sidewall 6110 of the body 6100 includes two open sections 6111 and 6112. The two open sections 6111 and 6112 face each other. In particular, when the body 6100 has a unidirectional 6113 and a long direction 6114, it is preferable that the two open sections 6111 and 6112 face each other on the long direction 6114 side of the body 6100. The semiconductor light emitting device 6000 may emit light through the upper and open sections 6111 and 6112 of the semiconductor light emitting device 6000, thereby enabling three-sided light emission. In addition, as shown in FIG. 20C, the sidewalls 6110 of the open sections 6111 and 6112 are not completely removed, but a portion of the side walls 6110 may be left to adjust the angle of light or the amount of light exiting the side surface of the semiconductor light emitting device 6000. . The method of manufacturing the semiconductor light emitting device 6000 may be manufactured by cutting along the cutting line 6200 as shown in FIG. 20 (d) after step S4 in FIG. 14. The remainder not described in FIG. 20 is the same as the semiconductor light emitting device 300 described in FIG. 5. Although two open sections are shown in FIG. 20, two or more or one can be provided as necessary.
도 21은 본 개시에 따른 반도체 발광소자의 또 다른 일 예를 보여주는 도면이다.21 illustrates another example of a semiconductor light emitting device according to the present disclosure.
반도체 발광소자(7000)는 몸체(7100)의 측벽(7110)이 1개의 개방 구간(7111)을 포함하며, 봉지재(7200) 위에 반사층(7300)을 포함한다. 반사층(7300)은 예를 들어 알루미늄(Al), 은(Ag), 분포 브래그 리플렉터(DBR : Distributed Bragg Reflector), 고반사 백색 반사물질 등으로 될 수 있다. 또한 반사층(7300)과 측벽(7110) 사이로 빛이 나가지 않도록 하기 위해, 반사층(7300)의 높이(7310)는 측벽(7110)의 높이(7112)보다 낮거나 동일한 것이 바람직하다. 반도체 발광소자(7000)는 개방 구간(7111)으로만 발광할 수 있어, 반도체 발광소자(7000)는 측면으로만 발광한다. 도 21에는 개방 구간이 1개만 도시되었지만, 필요에 따라 1개 이상도 가능하다. 도 21에서 설명하지 않은 나머지는 도 5에 기재된 반도체 발광소자(300)와 동일하다. 반도체 발광소자(7000)의 제조방법은 도 14에서 S3 단계 이후에 반사층을 봉지재 위에 형성하고 도 20(d)와 같이 절단선(6200)에 따라 절단하여 제작할 수 있다.In the semiconductor light emitting device 7000, the sidewall 7110 of the body 7100 includes one open section 7111 and includes a reflective layer 7300 on the encapsulant 7200. The reflective layer 7300 may be, for example, aluminum (Al), silver (Ag), a distributed Bragg reflector (DBR), a highly reflective white reflector, or the like. In addition, in order not to emit light between the reflective layer 7300 and the sidewall 7110, the height 7310 of the reflective layer 7300 is preferably lower than or equal to the height 7112 of the sidewall 7110. The semiconductor light emitting device 7000 may emit light only in the open section 7111, so that the semiconductor light emitting device 7000 emits light only to the side surface. Although only one open section is shown in FIG. 21, more than one open section is possible as needed. The remainder not described in FIG. 21 is the same as the semiconductor light emitting device 300 described in FIG. 5. The method of manufacturing the semiconductor light emitting device 7000 may be manufactured by forming a reflective layer on the encapsulant after the step S3 in FIG. 14 and cutting it along the cutting line 6200 as shown in FIG. 20 (d).
본 개시의 다양한 실시 형태에 대하여 설명한다. Various embodiments of the present disclosure will be described.
(1) 반도체 발광소자에 있어서, 바닥부와 측벽을 구비하며, 바닥부와 측벽에 의해 형성된 캐비티를 포함하는 몸체;로서, 바닥부에 적어도 하나 이상의 홀이 형성된 몸체; 각각의 홀에 위치하는 반도체 발광소자 칩;으로서, 전자와 정공의 재결합에 의해 빛을 생성하는 복수의 반도체층과, 복수의 반도체층에 전기적으로 연결된 전극을 구비하는 반도체 발광소자 칩; 그리고, 적어도 캐비티에 구비되어 반도체 발광소자 칩을 덮는 봉지재;를 포함하며, 반도체 발광소자 칩의 전극이 몸체 바닥부의 하면 방향으로 노출되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자. (1) A semiconductor light emitting device comprising: a body having a bottom and sidewalls, the body including a cavity formed by the bottom and sidewalls, the body having at least one hole formed in the bottom; A semiconductor light emitting device chip located in each hole, comprising: a semiconductor light emitting device chip having a plurality of semiconductor layers for generating light by recombination of electrons and holes, and an electrode electrically connected to the plurality of semiconductor layers; And an encapsulant provided at least in the cavity to cover the semiconductor light emitting device chip, wherein the electrode of the semiconductor light emitting device chip is exposed in a lower surface direction of the bottom of the body.
(2) 몸체 측벽의 내측면 및 바닥부의 상면 중 적어도 하나에 반사층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(2) A semiconductor light emitting element, characterized in that a reflective layer is formed on at least one of the inner side surface of the body side wall and the upper surface of the bottom portion.
(3) 반사층이 바닥부의 상면 전체에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(3) A semiconductor light emitting element, wherein the reflective layer is formed on the entire upper surface of the bottom portion.
(4) 반사층이 금속층인 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(4) A semiconductor light emitting element, wherein the reflective layer is a metal layer.
(5) 바닥부의 높이는 반도체 발광소자 칩의 높이 보다 낮은 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(5) The height of the bottom portion is lower than that of the semiconductor light emitting chip.
(6) 바닥부와 반도체 발광소자 칩 사이에 반사 물질이 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(6) A semiconductor light emitting device, characterized in that a reflective material is located between the bottom portion and the semiconductor light emitting device chip.
(7) 반사 물질은 백색 반사 수지인 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(7) A semiconductor light emitting element, wherein the reflecting material is a white reflecting resin.
(8) 몸체 바닥부의 하면에 위치하는 접합부;로서, 몸체 바닥부의 하면 방향으로 노출된 반도체 발광소자 칩의 전극과 떨어져 위치하는 접합부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(8) a junction portion located on the bottom surface of the body bottom portion; a junction portion located away from the electrode of the semiconductor light emitting element chip exposed in the bottom direction of the body bottom portion; semiconductor light emitting device comprising a.
(9) 접합부는 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(9) A semiconductor light emitting element, wherein the junction portion is made of metal.
(10) 홀은 복수개 있으며, 반도체 발광소자 칩이 각각의 홀에 위치하며, 몸체 바닥부의 하면에 위치하는 금속 접합부;로서 몸체 바닥부의 하면 방향으로 노출된 반도체 발광소자 칩의 전극과 떨어져 위치하는 금속 접합부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(10) a plurality of holes, each of the semiconductor light emitting device chip is located in each hole, the metal bonding portion located on the lower surface of the body; the metal located apart from the electrode of the semiconductor light emitting chip exposed in the lower direction of the body bottom Junction portion; semiconductor light emitting device comprising a.
(11) 각각의 홀에 위치하는 반도체 발광소자 칩;은 서로 다른 색을 발광하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(11) a semiconductor light emitting device chip located in each hole; is a semiconductor light emitting device, characterized in that for emitting different colors.
(12) 봉지재가 홀에 위치하는 반도체 발광소자 칩을 몸체에 고정시키는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(12) A semiconductor light emitting device, characterized in that the encapsulant fixes the semiconductor light emitting device chip located in the hole to the body.
(13) 측벽의 높이보다 바닥부의 길이가 큰 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(13) A semiconductor light emitting element, characterized in that the length of the bottom portion is greater than the height of the side walls.
(14) 홀은 복수개 있으며, 홀과 홀 사이에 격벽이 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(14) A semiconductor light emitting element, characterized in that there are a plurality of holes, and partition walls are located between the holes and the holes.
(15) 홀의 측면은 경사진 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(15) A semiconductor light emitting element, characterized in that the side surface of the hole is inclined.
(16) 몸체는 돌출부;를 포함하고, 돌출부 사이 및 봉지재 위에 형성된 렌즈;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(16) the body includes a projection; a semiconductor light emitting device comprising a; formed between the projections and the encapsulant.
(17) 측벽이 적어도 1개 이상의 개방 구간을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자. (17) A semiconductor light emitting device, characterized in that the sidewall includes at least one open section.
(18) 측벽의 개방 구간이 2개이며, 2개의 개방 구간이 서로 마주보고 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(18) A semiconductor light emitting element comprising two open sections of sidewalls and two open sections facing each other.
(19) 몸체 바닥부는 장방향과 단방향을 가지며, 2개의 개방 구간은 몸체 바닥부의 장방향측에서 서로 마주보게 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(19) A semiconductor light emitting device, characterized in that the body bottom portion has a longitudinal direction and a unidirectional direction, and two open sections are formed facing each other on the longitudinal direction side of the body bottom portion.
(20) 봉지재 위에 형성되는 반사층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.20. A semiconductor light emitting device comprising a; reflective layer formed on the encapsulant.
(21) 봉지재 위에 형성되는 반사층은 백색 반사 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(21) A semiconductor light emitting element, characterized in that the reflective layer formed on the encapsulant is formed of a white reflective material.
(22) 봉지재 위에 형성되는 반사층 높이는 측벽 높이보다 낮거나 동일한 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(22) A semiconductor light emitting element, wherein the height of the reflective layer formed on the encapsulant is lower than or equal to the height of the sidewall.
(23) 측벽의 개방 구간이 1개인 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(23) A semiconductor light emitting element comprising one open section of a side wall.
(24) 몸체는 고반사 백색 수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(24) A semiconductor light emitting device, characterized in that the body is made of highly reflective white resin.
(25) 반도체 발광소자에 있어서, 바닥부를 포함하는 몸체;로서, 바닥부에 적어도 하나 이상의 홀이 형성된 몸체; 각각의 홀에 위치하는 반도체 발광소자 칩;으로서, 전자와 정공의 재결합에 의해 빛을 생성하는 복수의 반도체층과, 복수의 반도체층에 전기적으로 연결된 전극을 구비하는 반도체 발광소자 칩; 반도체 발광소자 칩을 덮는 봉지재; 그리고, 몸체 바닥부의 홀과 중첩되지 않게 몸체에 위치하는 적어도 하나 이상의 보강재;를 포함하며, 반도체 발광소자 칩의 전극이 몸체 바닥부의 하면 방향으로 노출되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자. (25) A semiconductor light emitting device comprising: a body including a bottom portion, the body having at least one hole formed in the bottom portion; A semiconductor light emitting device chip located in each hole, comprising: a semiconductor light emitting device chip having a plurality of semiconductor layers for generating light by recombination of electrons and holes, and an electrode electrically connected to the plurality of semiconductor layers; An encapsulant covering a semiconductor light emitting device chip; And at least one reinforcing member positioned in the body so as not to overlap with the hole in the bottom of the body, wherein the electrode of the semiconductor light emitting device chip is exposed in a lower direction of the bottom of the body.
(26) 보강재는 몸체의 길이 방향으로 2개가 형성되며, 홀은 2개의 보강재 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(26) The semiconductor light emitting device, characterized in that two reinforcement is formed in the longitudinal direction of the body, the hole is located between the two reinforcement.
(27) 보강재는 몸체 바닥부의 상면과 하면 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(27) The semiconductor light emitting device, characterized in that the reinforcing material is located between the upper surface and the lower surface of the body bottom portion.
(28) 보강재의 하면이 몸체 바닥부 하면과 일치하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(28) A semiconductor light emitting element, characterized in that the lower surface of the reinforcing material coincides with the lower surface of the body bottom part.
(29) 보강재의 일부가 몸체 바닥부의 하면으로부터 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(29) A semiconductor light emitting element, wherein a part of the reinforcing material protrudes from the lower surface of the body bottom part.
(30) 보강재는 몸체 바닥부의 하면에 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.30. The reinforcing material is a semiconductor light emitting device, characterized in that located on the lower surface of the body.
(31) 보강재는 금속인 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(31) A semiconductor light emitting element, wherein the reinforcing material is metal.
(32) 보강재가 보호 소자;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(32) a semiconductor light emitting device comprising a reinforcing material;
(33) 몸체 바닥부가 보호 소자;를 포함하며, 보호 소자가 보강재 위에 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.33. A semiconductor light emitting device comprising: a body bottom portion protection element, wherein the protection element is located on the reinforcement.
(34) 몸체 바닥부의 상면은 오목부 및 볼록부 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자. (34) The upper surface of the body bottom portion includes at least one of a concave portion and a convex portion.
(35) 바닥부의 상면은 오목부와 볼록부가 연속하여 나타나는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(35) The upper surface of the bottom portion is a semiconductor light emitting element characterized in that the concave portion and the convex portion appear continuously.
(36) 바닥부의 상면은 오목부가 복수 개이고, 오목부의 크기가 반도체 발광소자 칩에 가까워질수록 작아지는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(36) A semiconductor light emitting element characterized in that the upper surface of the bottom portion has a plurality of concave portions, and the size of the concave portion becomes smaller as it approaches the semiconductor light emitting element chip.
(37) 바닥부 상면의 오목부 및 볼록부 중 적어도 하나가 홀과 연결되는 부분은 평탄면이 아닌 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(37) A semiconductor light emitting element according to claim 1, wherein a portion where at least one of the concave portion and the convex portion of the upper surface of the bottom portion is connected to the hole is not a flat surface.
(38) 바닥부 상면의 오목부 및 볼록부 중 적어도 하나가 측벽과 연결되는 부분은 평탄면이 아닌 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.(38) A semiconductor light emitting element according to claim 1, wherein a portion where at least one of the concave portion and the convex portion of the upper surface of the bottom portion is connected to the side wall is not a flat surface.
본 개시에 따르면 반도체 발광소자 칩의 전극이 직접 외부 기판과 접합하는 반도체 발광소자를 얻을 수 있다. According to the present disclosure, a semiconductor light emitting device in which an electrode of a semiconductor light emitting device chip is directly bonded to an external substrate can be obtained.
또한 본 개시에 따르면 플립 칩을 사용하였음에도 리드 프레임과 플립 칩 사이의 접합에 의해 플립 칩에서 나오는 광량에 손실이 없도록 리드 프레임과 플립 칩 사이에 접합이 필요없는 반도체 발광소자를 얻을 수 있다.According to the present disclosure, even when a flip chip is used, a semiconductor light emitting device that does not require bonding between the lead frame and the flip chip may be obtained so that the amount of light emitted from the flip chip is not lost by the bonding between the lead frame and the flip chip.
또한 본 개시에 따르면 반도체 발광소자 내부에서 소실될 수 있는 빛을 반도체 발광소자 외부로 나갈 수 있도록 하여 광 추출 효율을 높일 수 있다.In addition, according to the present disclosure it is possible to increase the light extraction efficiency by allowing the light that can be lost in the semiconductor light emitting device to go outside the semiconductor light emitting device.
또한 본 개시에 따르면 3면 또는 측면 발광의 반도체 발광소자를 얻을 수 있다.Further, according to the present disclosure, a semiconductor light emitting device having three sides or side emission can be obtained.

Claims (16)

  1. 반도체 발광소자에 있어서,In a semiconductor light emitting device,
    바닥부와 측벽을 구비하며, 바닥부와 측벽에 의해 형성된 캐비티를 포함하는 몸체;로서, 바닥부에 적어도 하나 이상의 홀이 형성된 몸체;A body having a bottom and sidewalls, the body including a cavity formed by the bottom and sidewalls, the body having at least one hole formed in the bottom;
    각각의 홀에 위치하는 반도체 발광소자 칩;으로서, 전자와 정공의 재결합에 의해 빛을 생성하는 복수의 반도체층과, 복수의 반도체층에 전기적으로 연결된 전극을 구비하는 반도체 발광소자 칩; 그리고,A semiconductor light emitting device chip located in each hole, comprising: a semiconductor light emitting device chip having a plurality of semiconductor layers for generating light by recombination of electrons and holes, and an electrode electrically connected to the plurality of semiconductor layers; And,
    적어도 캐비티에 구비되어 반도체 발광소자 칩을 덮는 봉지재;를 포함하며,And an encapsulant provided at least in the cavity to cover the semiconductor light emitting device chip.
    반도체 발광소자 칩의 전극이 몸체 바닥부의 하면 방향으로 노출되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자. A semiconductor light emitting element, wherein an electrode of a semiconductor light emitting element chip is exposed in a lower surface direction of a body bottom portion.
  2. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    몸체 측벽의 내측면 및 바닥부의 상면 중 적어도 하나에 반사층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.A reflective layer is formed on at least one of an inner surface of a body side wall and an upper surface of a bottom portion.
  3. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2,
    반사층이 바닥부의 상면 전체에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.A reflective layer is formed over the entire upper surface of the bottom portion.
  4. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3,
    반사층이 금속층인 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.A semiconductor light emitting element, wherein the reflective layer is a metal layer.
  5. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    바닥부의 높이는 반도체 발광소자 칩의 높이 보다 낮은 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.The height of the bottom portion is a semiconductor light emitting device, characterized in that lower than the height of the semiconductor light emitting device chip.
  6. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    바닥부와 반도체 발광소자 칩 사이에 반사 물질이 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.A semiconductor light emitting device, characterized in that the reflective material is located between the bottom and the semiconductor light emitting device chip.
  7. 청구항 6에 있어서,The method according to claim 6,
    반사 물질은 백색 반사 수지인 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.The reflective material is a semiconductor light emitting device, characterized in that the white reflective resin.
  8. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    몸체 바닥부의 하면에 위치하는 접합부;로서, 몸체 바닥부의 하면 방향으로 노출된 반도체 발광소자 칩의 전극과 떨어져 위치하는 접합부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.And a junction part disposed on a bottom surface of the body bottom part, wherein the junction part is spaced apart from an electrode of the semiconductor light emitting device chip exposed in the bottom direction of the body bottom part.
  9. 청구항 8에 있어서,The method according to claim 8,
    접합부는 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.The junction portion is a semiconductor light emitting device, characterized in that made of a metal.
  10. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    홀은 복수개 있으며,There are a plurality of holes,
    반도체 발광소자 칩이 각각의 홀에 위치하며,The semiconductor light emitting device chip is located in each hole,
    몸체 바닥부의 하면에 위치하는 금속 접합부;로서 몸체 바닥부의 하면 방향으로 노출된 반도체 발광소자 칩의 전극과 떨어져 위치하는 금속 접합부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.And a metal junction positioned on a bottom surface of the body bottom portion, wherein the metal junction portion is spaced apart from an electrode of the semiconductor light emitting chip exposed in the bottom direction of the body bottom portion.
  11. 청구항 10에 있어서,The method according to claim 10,
    각각의 홀에 위치하는 반도체 발광소자 칩;은A semiconductor light emitting device chip located in each hole;
    서로 다른 색을 발광하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.A semiconductor light emitting device characterized in that it emits different colors.
  12. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    봉지재가 홀에 위치하는 반도체 발광소자 칩을 몸체에 고정시키는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.A semiconductor light emitting device, characterized in that the encapsulant fixes the semiconductor light emitting device chip located in the hole to the body.
  13. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    측벽의 높이보다 바닥부의 길이가 큰 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.A semiconductor light emitting device, characterized in that the length of the bottom portion is greater than the height of the side wall.
  14. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    홀은 복수개 있으며, 홀과 홀 사이에 격벽이 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.A plurality of holes, the semiconductor light emitting device, characterized in that the partition wall is located between the hole and the hole.
  15. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    홀의 측면은 경사진 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.The side surface of the hole is inclined semiconductor light emitting device.
  16. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    몸체는 돌출부;를 포함하고, 돌출부 사이 및 봉지재 위에 형성된 렌즈;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 발광소자.The body includes a projection; and a lens formed between the projections and the encapsulant; semiconductor light emitting device comprising a.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0983018A (en) * 1995-09-11 1997-03-28 Nippon Denyo Kk Light emitting diode unit
JP2003124525A (en) * 2001-10-09 2003-04-25 Agilent Technologies Japan Ltd Light emitting diode and its manufacturing method
KR20100006630U (en) * 2008-12-15 2010-06-30 와이 치 일렉트로닉스 리미티드 LED Lighting Device
KR20120002104A (en) * 2010-06-30 2012-01-05 서울반도체 주식회사 Method of mounting light emitting diode package
KR20150107086A (en) * 2014-03-13 2015-09-23 주식회사 씨티랩 Semiconductor device structure and method of manufacutruing the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0983018A (en) * 1995-09-11 1997-03-28 Nippon Denyo Kk Light emitting diode unit
JP2003124525A (en) * 2001-10-09 2003-04-25 Agilent Technologies Japan Ltd Light emitting diode and its manufacturing method
KR20100006630U (en) * 2008-12-15 2010-06-30 와이 치 일렉트로닉스 리미티드 LED Lighting Device
KR20120002104A (en) * 2010-06-30 2012-01-05 서울반도체 주식회사 Method of mounting light emitting diode package
KR20150107086A (en) * 2014-03-13 2015-09-23 주식회사 씨티랩 Semiconductor device structure and method of manufacutruing the same

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