WO2017052076A1 - 이중 슬릿 노즐을 이용한 약액 도포 장치 - Google Patents

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WO2017052076A1
WO2017052076A1 PCT/KR2016/009062 KR2016009062W WO2017052076A1 WO 2017052076 A1 WO2017052076 A1 WO 2017052076A1 KR 2016009062 W KR2016009062 W KR 2016009062W WO 2017052076 A1 WO2017052076 A1 WO 2017052076A1
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WO
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cleaning liquid
slit nozzle
chemical liquid
slit
chemical
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Application number
PCT/KR2016/009062
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English (en)
French (fr)
Inventor
남지영
Original Assignee
남지영
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material

Definitions

  • the present invention relates to a chemical liquid applying apparatus, and more particularly, to a chemical liquid applying apparatus using a double slit nozzle used for chemical liquid application.
  • substrates to be processed Surfaces of liquid crystal glass substrates, semiconductor substrates, film liquid crystal flexible substrates, photomask substrates, color filter substrates, solar cell substrates, organic EL substrates (hereinafter referred to as substrates to be processed) in the manufacture of electronic devices.
  • coating a chemical liquid (or slurry), such as a photoresist or an adhesive agent is required.
  • the chemical liquid applying apparatus for applying the chemical liquid includes a slit nozzle for applying the chemical liquid.
  • the slit nozzle discharges the chemical liquid to the slit discharge port of the slit shape.
  • the chemical liquid is laminated and adhered to the slit discharge port due to the viscosity of the chemical liquid, so that the aperture may be reduced or even the slit discharge port may be blocked.
  • the problem to be solved by the present invention is to provide a chemical liquid applying apparatus using a double slit nozzle that can prevent the slit discharge port diameter is reduced or blocked.
  • the chemical liquid applying apparatus is located on the base plate cleaning liquid delivery member that can deliver the cleaning liquid;
  • a cleaning liquid spray nozzle disposed below the cleaning liquid delivery member;
  • a cover member installed on the lower and both sides of the base plate to cover the cleaning liquid jet nozzle;
  • a double slit nozzle connected at the front end of the cleaning liquid delivery member through the base plate and the connecting member to discharge the cleaning liquid and the chemical liquid.
  • the double slit nozzle has a chemical liquid discharge passage for guiding the chemical liquid to the slit discharge port, the chemical liquid slit nozzle portion for discharging the chemical liquid to the outside;
  • a cleaning liquid slit nozzle unit positioned on one side of the chemical liquid slit nozzle unit, the cleaning liquid discharge passage guiding the cleaning liquid into the slit discharge port, and cleaning the inside of the slit discharge port;
  • a slit nozzle fastening part for fastening the chemical liquid slit nozzle part and the cleaning liquid slit nozzle part.
  • the chemical liquid discharge passage may be connected to the chemical liquid inlet, the chemical liquid discharge passage may include a first space region provided inside the chemical liquid slit nozzle.
  • the first space region constituting the chemical liquid discharge passage may be configured to be inclined in a multi-step form from the chemical liquid inlet toward the slit discharge opening.
  • the cleaning liquid slit nozzle portion In one embodiment of the present invention, the cleaning liquid slit nozzle portion,
  • a cleaning liquid slit nozzle body portion fastened with an inside of the chemical liquid slit nozzle portion and having a first cleaning liquid discharge flow path leading to a cleaning liquid into the slit discharge port, and inside of the cleaning liquid slit nozzle body part, and being connected to the first cleaning liquid discharge flow path.
  • a slit nozzle cover portion which is connected to and defines a second cleaning liquid discharge flow path leading the cleaning liquid into the slit discharge port.
  • the first cleaning liquid discharge passage may be connected to a cleaning liquid inlet, and the first cleaning liquid discharge passage may include a second space region provided inside the cleaning liquid slit nozzle body.
  • the inner lower portion of the cleaning liquid slit nozzle body portion includes a body inclined portion inclined toward the slit discharge port, and the inner lower portion of the slit nozzle cover portion includes a cover inclined portion corresponding to the body inclined portion.
  • the second cleaning liquid discharge passage may be an interface between the main body inclined portion and the cover inclined portion.
  • Chemical liquid applying apparatus is located on the base plate cleaning liquid delivery member capable of delivering the cleaning liquid; A cleaning liquid spray nozzle disposed below the cleaning liquid delivery member; A cover member installed on the lower and both sides of the base plate to cover the cleaning liquid jet nozzle; And a double slit nozzle connected at the front end of the cleaning liquid delivery member through the base plate and the connecting member to discharge the cleaning liquid and the chemical liquid.
  • the double slit nozzle is a slit discharge port having a discharge length in the longitudinal direction at the bottom and a discharge width in the width direction to guide the chemical liquid from the upper chemical liquid inlet and have a chemical liquid discharge passage in the discharge length direction, and discharge the chemical liquid to the outside.
  • Chemical liquid slit nozzle unit A cleaning liquid slit nozzle portion which is engaged with the chemical liquid slit nozzle portion and has a cleaning liquid discharge flow path leading to the cleaning liquid into the slit discharge port, and cleans the inside of the slit discharge port; And a slit nozzle fastening part for fastening the chemical liquid slit nozzle part and the cleaning liquid slit nozzle part.
  • the cleaning liquid slit nozzle body is fastened to the inside of the chemical liquid slit nozzle part and guides the cleaning liquid from the upper cleaning liquid inlet to the inside of the lower slit discharge port and has a first cleaning liquid discharge flow path in the discharge length direction.
  • a slit nozzle which is engaged with an inner side of the cleaning liquid slit nozzle main body, is connected to a lower end of the first cleaning liquid discharge flow path, guides the cleaning liquid into the slit discharge port, and defines a second cleaning liquid discharge flow path in the discharge length direction. It includes a cover.
  • the chemical liquid discharge passage is formed inside the chemical liquid slit nozzle unit, the chemical liquid discharge passage includes a first space region inside the chemical liquid slit nozzle unit, and the first space region is It may be configured to be inclined in the form of a multi-step in the direction of the slit discharge port from the chemical liquid inlet.
  • the outer side of the cleaning liquid slit nozzle body portion is in contact with the chemical liquid discharge flow path of the chemical liquid slit nozzle body, the inside of the cleaning liquid slit nozzle body portion may be provided with a second space region through which the cleaning liquid passes. have.
  • the inside of the slit nozzle cover portion may contact the second space region of the cleaning liquid slit nozzle body portion, and the inside of the slit nozzle cover portion may define the second cleaning liquid discharge passage.
  • a chemical liquid applying apparatus includes a cleaning liquid delivery member positioned on a base plate and capable of delivering a cleaning liquid, a cleaning liquid spray nozzle disposed below the cleaning liquid delivery member, and a lower portion and both sides of the base plate. And a cover member installed to cover the cleaning liquid injection nozzle, and a double slit nozzle connected at the front end of the cleaning liquid delivery member through the base plate and the connecting member to discharge the cleaning liquid and the chemical liquid.
  • the double slit nozzle may include: a chemical liquid slit nozzle unit having a chemical liquid discharge flow path leading the chemical liquid to the slit discharge port and discharging the chemical liquid to the outside; A cleaning liquid slit nozzle unit positioned on one side of the chemical liquid slit nozzle unit, the cleaning liquid discharge passage guiding the cleaning liquid into the slit discharge port, and cleaning the inside of the slit discharge port; And a slit nozzle fastening part for fastening the chemical liquid slit nozzle part and the cleaning liquid slit nozzle part.
  • a nozzle cleaning liquid supply line is connected to the cleaning liquid delivery member, and the nozzle cleaning liquid supply line is connected to a cleaning liquid inlet of the double slit nozzle, and a check valve is installed at the cleaning liquid inlet to prevent backflow of chemical liquid.
  • the double slit nozzle is provided with a chemical liquid inlet
  • the chemical liquid inlet may be connected to the chemical liquid supply line for supplying the chemical liquid
  • the double slit nozzle can move in the horizontal direction and the rotation direction through the guide groove installed in the connecting member.
  • the double slit nozzle used in the chemical liquid applying apparatus is a cleaning liquid slit having a chemical liquid slit nozzle portion having a chemical liquid discharge flow path leading the chemical liquid to the slit discharge port, and a cleaning liquid discharge flow path leading the cleaning liquid to the slit discharge port. It includes a nozzle unit.
  • the double slit nozzle used in the chemical liquid applying apparatus includes the cleaning liquid slit nozzle portion, so that the chemical liquid is stacked on the slit discharge port so that the diameter of the slit discharge port is reduced or blocked. can do.
  • a double slit nozzle is connected at the front end of the cleaning liquid delivery member, and a check valve (C / V) is installed at the nozzle cleaning liquid supply line 626 to countercurrently flow to the nozzle cleaning liquid supply line. It can prevent the drug solution.
  • FIG. 1 is a partial cross-sectional view for explaining a double slit nozzle of a chemical liquid applying apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an exploded perspective view of the double slit nozzle of FIG. 1.
  • 3A to 3C are perspective views illustrating a chemical liquid slit nozzle unit and a cleaning liquid slit nozzle unit constituting the double slit nozzle of FIG. 2.
  • Figure 4a is a cross-sectional view for explaining the flow of the chemical liquid and the cleaning liquid of the double slit nozzle of the chemical liquid application apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4B is a cross-sectional view of a comparative example for comparison with FIG. 4A.
  • Figure 5 is a schematic diagram showing a chemical liquid applying apparatus including a double slit nozzle according to an embodiment of the present invention.
  • 6A and 6B are views for explaining a chemical liquid applying process and a cleaning liquid cleaning process of the chemical liquid applying apparatus including the double slit nozzle of FIG. 5.
  • FIGS. 7A to 7D are diagrams illustrating a chemical liquid applying apparatus including a double slit nozzle according to an embodiment of the present invention.
  • FIGS. 7A to 7D are views illustrating the component members of FIGS. 7A to 7D individually.
  • FIGS. 7A to 7D are cross-sectional views for explaining the flow of the chemical liquid and the cleaning liquid of the double slit nozzle by the chemical liquid application device shown in FIGS. 7A to 7D.
  • FIG. 10 is a piping diagram showing the flow of the chemical liquid and the cleaning liquid of the chemical liquid applying apparatus of FIGS. 9A and 9B.
  • first, second, etc. are used herein to describe various members, parts, regions, layers, and / or parts, these members, parts, regions, layers, and / or parts are defined by these terms. It is obvious that not. These terms are only used to distinguish one member, part, region, layer or portion from another region, layer or portion. Accordingly, the first member, part, region, layer or portion, which will be described below, may refer to the second member, component, region, layer or portion without departing from the teachings of the present invention.
  • top or “above” and “bottom” or “bottom” may be used herein to describe the relationship of certain elements to other elements as illustrated in the figures. It may be understood that relative terms are intended to include other directions of the device in addition to the direction depicted in the figures. For example, if the device is turned over in the figures, elements depicted as present on the face of the top of the other elements are oriented on the face of the bottom of the other elements. Thus, the exemplary term “top” may include both “bottom” and “top” directions depending on the particular direction of the figure. If the device faces in the other direction (rotated 90 degrees relative to the other direction), the relative descriptions used herein can be interpreted accordingly.
  • FIG. 1 is a partial cross-sectional view illustrating a double slit nozzle of a chemical liquid applying apparatus according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is an exploded perspective view of the double slit nozzle of FIG. 1
  • FIGS. 3A to 3C are double views of FIG. 2. It is a perspective view which shows the chemical liquid slit nozzle part and cleaning liquid slit nozzle part which comprise a slit nozzle.
  • the double slit nozzle 100 may discharge a cleaning liquid, for example, an organic solvent, to clean the chemical liquid, for example, a chemical liquid slit nozzle unit 110 for discharging a photoresist or an adhesive, and a chemical liquid adhered or stacked on the slit discharge port 106. It may include a cleaning liquid slit nozzle unit 150, and a slit nozzle coupling unit 160 for fastening the chemical liquid slit nozzle unit 110 and the cleaning liquid slit nozzle unit 150.
  • a cleaning liquid for example, an organic solvent
  • the double slit nozzle 100 is composed of two slit nozzle parts, that is, the chemical liquid slit nozzle unit 110 for discharging the chemical liquid and the cleaning liquid slit nozzle unit 150 for discharging the cleaning liquid.
  • the X-axis direction is the discharge length direction for discharging the chemical liquid or the cleaning liquid
  • the Y-axis direction is the discharge width direction for discharging the chemical liquid or the cleaning liquid
  • the Z-axis direction may be the direction in which the chemical liquid or the cleaning liquid flows from the top to the bottom.
  • the slit discharge port 106 may have a discharge length in the lower direction and a discharge width in the width direction.
  • the chemical liquid slit nozzle unit 110 may have a chemical liquid discharge passage 104 that receives the chemical liquid from the chemical liquid supply unit and guides the chemical liquid to the slit discharge port 106.
  • the chemical liquid discharge passage 104 may be provided in the discharge longitudinal direction (X-axis direction). 3A illustrates the chemical liquid slit nozzle unit 110.
  • the chemical liquid discharge passage 104 may be connected to the chemical liquid inlet 102.
  • the chemical liquid inlet 102 may be a portion receiving the chemical liquid.
  • the chemical liquid discharge passage 104 may be installed inside the chemical liquid slit nozzle unit 110 (107 of FIGS. 2 and 3A).
  • the chemical liquid discharge passage 104 may include a first space region 1S provided in the chemical liquid slit nozzle unit 110.
  • the first space region 1S constituting the chemical liquid discharge passage 104 may be larger than the cross-sectional area of the chemical liquid inlet 102.
  • the cross-sectional area of the first space region 1S is larger than the cross-sectional area of the chemical liquid inlet 102 so that the chemical liquid can be smoothly transferred to the slit discharge port 106 and discharged.
  • the first space region 1S constituting the chemical liquid discharge passage 104 may be configured to be inclined in a multi-step form from the chemical liquid inlet 102 toward the slit discharge port 106.
  • the chemical liquid can be smoothly transferred to the slit discharge port 106 and discharged.
  • the cleaning liquid slit nozzle unit 150 may have cleaning liquid discharge flow paths 124 and 126 positioned on one side of the chemical liquid slit nozzle unit 110 and leading the cleaning liquid to the slit discharge port 106.
  • the cleaning liquid discharge flow paths 124 and 126 may be provided in the discharge longitudinal direction (X-axis direction).
  • the cleaning liquid slit nozzle unit 150 may include a cleaning liquid slit nozzle main body 130 and a slit nozzle cover unit 140.
  • FIG. 3B illustrates the cleaning liquid slit nozzle body unit 130 constituting the cleaning liquid slit nozzle unit 150
  • FIG. 3C illustrates the slit nozzle cover unit 140 constituting the cleaning liquid slit nozzle unit 150. .
  • the cleaning liquid slit nozzle main body 130 includes a first cleaning liquid discharge flow path 124 which is engaged with the inside of the chemical liquid slit nozzle unit 110 (107 of FIGS. 2 and 3A) and guides the cleaning liquid to the slit discharge port 106. can do.
  • the first cleaning liquid discharge passage 124 may be installed in the discharge length direction (X-axis direction).
  • the outer side (125 of FIGS. 2 and 3B) of the cleaning liquid slit nozzle main body 130 may be fastened in contact with the inner side (107 of FIGS. 2 and 3A) of the chemical liquid slit nozzle unit 110.
  • the lower portion of the inner side of the cleaning liquid slit nozzle main body (127 of FIGS.
  • the cleaning liquid slit nozzle body 130 may include a main body inclined portion (129 of FIGS. 2 and 3B) inclined toward the slit discharge port 106.
  • the inner side (107 of FIGS. 2 and 3A) of the chemical liquid slit nozzle unit 110 is described corresponding to the portion through which the chemical liquid passes.
  • the inside of the cleaning liquid slit nozzle body 130 is described corresponding to the portion through which the cleaning liquid passes.
  • the first cleaning liquid discharge passage 124 may be connected to the cleaning liquid inlet 122.
  • the cleaning solution inlet 122 may be a portion that receives the cleaning solution.
  • the first cleaning liquid discharge channel 124 may include a second space region 2S provided in the cleaning liquid slit nozzle body 130. A second space region 2S through which the cleaning liquid passes may be provided inside the cleaning liquid slit nozzle main body 130 (127 in FIGS. 2 and 3B).
  • the second space region 2S constituting the first cleaning liquid discharge passage 124 may be configured to be larger than the cross-sectional area of the cleaning liquid inlet 122.
  • the cross-sectional area of the second space region 2S is larger than the cross-sectional area of the cleaning liquid inlet 122, so that the cleaning liquid can be smoothly transferred to the slit discharge port 106 and discharged.
  • the slit nozzle cover portion 140 is fastened to the inner side of the cleaning liquid slit nozzle main body 130 (127 in FIGS. 2 and 3B), and is connected to the first cleaning liquid discharge passage 124 to transfer the cleaning liquid to the slit discharge port 106.
  • the second cleaning liquid discharge flow path 126 to be guided can be defined. As described above, the second cleaning liquid discharge flow path 126 may be installed in the discharge length direction (X-axis direction).
  • the inner side (144 of FIGS. 2 and 3C) of the slit nozzle cover unit 140 may be fastened in contact with the inner side (127 of FIGS. 2 and 3B) of the cleaning liquid slit nozzle body unit 130.
  • the inner side (144 of FIGS. 2 and 3C) of the slit nozzle cover part 140 is in contact with the second space region 2S of the cleaning liquid slit nozzle body part 130, and the inner side of the slit nozzle cover part 140 (FIG. 2).
  • And 144 of FIG. 3C may define the second cleaning liquid discharge flow path 126.
  • the lower end of the slit nozzle cover part 140 may contact the chemical slit nozzle part 110 to define the slit discharge port 106.
  • the inner side of the slit nozzle cover portion 140 (144 in FIGS. 2 and 3C) is lower than the inclined portion of the cleaning liquid slit nozzle body portion (129 in FIGS. 2 and 3B) of the cover inclined portion (FIGS. 2 and 3C). 142).
  • the second cleaning liquid discharge flow path 126 may be an interface between the main body slope (129 of FIGS. 2 and 3B) and the cover slope (142 of FIGS. 2 and 3C) of the cleaning liquid slit nozzle body part.
  • the inner side (144 of FIGS. 2 and 3C) of the slit nozzle cover portion 140 is described corresponding to the portion through which the cleaning liquid passes.
  • the slit nozzle fastening unit 160 may be a member for fastening the chemical liquid slit nozzle unit 110 and the cleaning liquid slit nozzle unit 150.
  • the slit nozzle coupling unit 160 may be a fastening means formed in the fastener 162 formed in the chemical liquid slit nozzle unit 110 and the cleaning liquid slit nozzle unit 150.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining the flow of the chemical liquid and the cleaning liquid of the double slit nozzle of the chemical liquid application apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • the chemical liquid 506 may be introduced into the chemical liquid inlet 102 of the chemical liquid slit nozzle unit 110 from the chemical liquid supply unit 170. have.
  • the introduced chemical liquid 506 may be discharged to the outside through the slit discharge port 106 via the chemical liquid discharge passage 104.
  • the chemical liquid discharge passage 104 may be a first space region 1S provided in the chemical liquid slit nozzle unit 110.
  • the cleaning liquid 507 may flow from the cleaning liquid supply unit 180 to the cleaning liquid inlet 122 of the cleaning liquid slit nozzle unit 150.
  • the cleaning liquid slit nozzle unit 150 may include the cleaning liquid slit nozzle main body 130 and the slit nozzle cover part 140.
  • the introduced cleaning liquid 507 is externally passed through the slit discharge port 106 through the first and second cleaning liquid discharge flow paths 124 and 126 defined by the cleaning liquid slit nozzle main body 130 and the slit nozzle cover 140. May be discharged.
  • the first cleaning liquid discharge passage 124 may be a second space region 2S provided in the cleaning liquid slit nozzle body 130.
  • the cleaning liquid slit nozzle unit 150 having the cleaning liquid discharge passages 124 and 126 leading the cleaning liquid 507 to the slit discharge port 106 may be included.
  • the chemical liquid 506 is laminated and attached to the slit discharge port 106 due to the viscosity of the chemical liquid 506, so that the diameter of the slit discharge hole 106 is increased. Even if it is reduced or clogged, the cleaning solution 507 may be introduced and cleaned through the cleaning solution slit nozzle unit 150.
  • the double slit nozzle 100 according to an embodiment of the present invention can solve the problem that the diameter of the slit discharge port 106 is reduced or blocked.
  • FIG. 5 is a schematic view showing a chemical liquid applying apparatus including a double slit nozzle according to an embodiment of the present invention
  • Figures 6a and 6b is a chemical liquid applying process and cleaning solution of the chemical liquid applying apparatus including a double slit nozzle of FIG. It is a figure for demonstrating a washing process.
  • the chemical liquid applying apparatus 500 including the double slit nozzle 100 will be described.
  • the X-axis direction is the discharge length direction for discharging the chemical liquid or the cleaning liquid
  • the Y-axis direction is the discharge width direction for discharging the chemical liquid or the cleaning liquid
  • the Z-axis direction may be the direction in which the chemical liquid or the cleaning liquid flows from the top to the bottom.
  • the slit discharge port 106 may have a discharge length in the lower direction and a discharge width in the width direction.
  • the chemical liquid applying apparatus 500 may have various configurations.
  • the chemical liquid applying apparatus 500 uses the moving means 518 to move the double slit nozzle 100 on the substrate 504 as shown in FIG. 5, and the chemical liquid 506 on the substrate 504.
  • Application and cleaning process of the cleaning liquid 507 may be performed.
  • the application of the chemical liquid 506 and the cleaning of the cleaning liquid 507 on the substrate 504 while moving the stage 502 on which the substrate 504 is mounted while the double slit nozzle 100 is fixed.
  • the process can also be carried out.
  • the chemical liquid applying apparatus 500 may include a stage 502 for supporting the substrate 504.
  • a slit nozzle 100 which is formed on the substrate 504 to be as long as the length (or width) of the substrate 504 and applies the chemical liquid 506 to a surface of the substrate 504 to a predetermined thickness, and a slit
  • the chemical liquid supply unit 170 may supply a chemical liquid 506 to the nozzle 100.
  • the chemical liquid 506 supplied from the chemical liquid supply unit 170 may be introduced into the chemical liquid inlet 102 of the slit nozzle 100 through the chemical liquid supply lines 508, 512, and 516.
  • the chemical liquid 506 introduced from the chemical liquid supply unit 170 may be introduced into the chemical liquid inlet 102 of the slit nozzle 100 through the buffer tank 510 and the pump 514.
  • the chemical liquid on / off valve 526 may be installed in the chemical liquid supply lines 508, 512, and 516, and in FIG. 6A, the final chemical liquid supply line of the chemical liquid supply lines 508, 512, and 516 may be installed. 516 is shown only for convenience.
  • the chemical liquid 506 introduced into the chemical liquid inlet 102 may be applied onto the processing target substrate 504 via the chemical liquid discharge passages 104 and 1S via the slit discharge port 106.
  • the chemical liquid applying apparatus 500 may include a cleaning liquid supply unit 180 supplying the cleaning liquid 507 to the slit nozzle 100.
  • the cleaning liquid 507 supplied from the cleaning liquid supply unit 180 may flow into the cleaning liquid inlet 122 of the slit nozzle 100 through the cleaning liquid supply lines 520, 522, and 524.
  • the cleaning solution 507 introduced from the cleaning solution supply unit 180 may be introduced into the cleaning solution inlet 122 of the slit nozzle 100 through the buffer tank 510 and the pump 514.
  • the cleaning solution on / off valve 528 may be installed in the cleaning solution supply lines 520, 522, and 524.
  • the final cleaning solution supply line (the Only 524 is shown for convenience.
  • the cleaning liquid 507 introduced into the cleaning liquid inlet 122 may be discharged to the outside through the slit discharge port 106 through the cleaning liquid discharge passages 204 and 2S.
  • the chemical liquid 506 is stacked and attached to the slit discharge port 106 so that the diameter of the slit discharge hole 106 is increased. Even if it is reduced or clogged, the cleaning solution 507 may be introduced and cleaned. As a result, the chemical liquid applying apparatus 500 having the double slit nozzle 100 according to the embodiment of the present invention may solve the problem of reducing or blocking the diameter of the slit discharge port 106.
  • FIGS. 7A to 7D are views illustrating a chemical liquid applying apparatus including a double slit nozzle according to an embodiment of the present invention
  • FIGS. 8A to 8E are views illustrating the components of FIGS. 7A to 7D individually.
  • FIG. 7A is a perspective view of the chemical liquid applying apparatus 600
  • FIG. 7B is a rear view of the chemical liquid applying apparatus 600
  • FIG. 7C is a plan view of the chemical liquid applying apparatus 600, viewed from above.
  • 7d is a perspective view of the chemical liquid applying apparatus 600 showing a state where the cover member is removed.
  • the chemical liquid applying apparatus 600 may include a base plate 602, a cleaning liquid delivery member 606, a cleaning liquid injection nozzle 608, a cover member 610, and a double slit nozzle 100.
  • the base plate 602 has a plate shape as shown in FIG. 8A, and a plurality of through holes 604 are provided therein.
  • the cleaning liquid delivery member 606 may be installed on the base plate 602 to transfer the cleaning liquid through the horizontal adjusting member 603.
  • the cleaning liquid delivery member 606 may be configured in the form of a pipe as shown in FIGS. 7A, 7D, and 8B.
  • the cleaning solution supply member 606 may be connected to the cleaning solution supply unit 180 that supplies the cleaning solution through the cleaning solution supply line 644.
  • the cleaning solution supply unit 180 may supply the cleaning solution to the cleaning solution delivery member 606.
  • the cleaning liquid supply line 644 may be provided with a valve 601 for turning on and off the supply of the cleaning liquid.
  • a cleaning liquid spray nozzle 608 capable of spraying the cleaning liquid to the outside may be installed at the lower portion of the cleaning liquid delivery member 606 as shown in FIGS. 7D and 8B.
  • the cleaning liquid spray nozzles 608 may be provided in plural numbers apart from the cleaning liquid delivery member 606.
  • the cleaning liquid spray nozzle 608 may also be installed at the very front of the cleaning liquid delivery member 606.
  • the cleaning liquid spray nozzle 608 may be inserted into the through hole 604 of the base plate 602. 7D and 8B, reference numeral 612 denotes a fastening member capable of fastening the cleaning liquid jet nozzle to the base plate 602.
  • a cover member 610 may be installed on the lower and both sides of the base plate 602 to cover the cleaning liquid injection nozzle 608.
  • the cover member 610 may include both side walls 614a and 614b and top walls 614c positioned on both side walls 614a and 614b as shown in FIGS. 8D and 8E.
  • the through hole 616 may be formed in the upper wall 614c.
  • the through hole 616 may be a portion where the cleaning liquid injection nozzle 608 is installed.
  • a double slit nozzle 100 connected to the base plate 602 and the connecting members 618 and 620 and discharging the cleaning liquid and the chemical liquid may be installed at the front end of the cleaning liquid delivery member 606.
  • the connecting members 618 and 620 may include the connecting plate 618 and the connecting pin 620 shown in FIG. 8C.
  • the first and second guide grooves 622 and 624 may be installed in the connection plate 618 as shown in FIG. 8C.
  • a plurality of first guide grooves 622 may be installed, and the double slit nozzle 100 may be moved in the horizontal direction as the first guide groove 622 is coupled to the base plate 602.
  • the second guide groove 624 may move the double slit nozzle 100 in the rotational direction by sliding the connecting pin 620.
  • the nozzle cleaning liquid supply line 626 is connected to the cleaning liquid delivery member 606.
  • the nozzle cleaning liquid supply line 626 is connected to the cleaning liquid inlet 630 of the double slit nozzle 100, and a check valve C / V is installed at the cleaning liquid inlet 630 to prevent backflow of the chemical liquid.
  • the check valve C / V may be installed to prevent the chemical liquid flowing back to the nozzle cleaning liquid supply line 626 when the cleaning liquid delivery member 606 does not have the cleaning liquid.
  • a chemical liquid inlet 632 is installed in the double slit nozzle 100, a chemical liquid supply line 640 is connected to the chemical liquid inlet 632, and a chemical liquid supply unit 170 may be connected to the chemical liquid supply line 640. .
  • the chemical liquid supply unit 170 may supply the chemical liquid to the double slit nozzle 100 through the chemical liquid supply line 640.
  • FIGS. 9A and 9B are cross-sectional views illustrating the flow of the chemical liquid and the cleaning liquid of the double slit nozzle by the chemical liquid applying apparatus shown in FIGS. 7A to 7D
  • FIG. 10 is a chemical liquid of the chemical liquid applying apparatus of FIGS. 9A and 9B.
  • a piping diagram showing the flow of the cleaning liquid.
  • the chemical liquid 506 may flow from the chemical liquid supply unit 170 to the chemical liquid inlet 632 of the slit nozzle unit 110 through the chemical liquid supply line 640. If necessary, some of the chemical liquid introduced from the chemical liquid supply unit 170 may be discharged to the chemical liquid discharge unit 175 through the chemical liquid discharge line 642.
  • the A / V may be an air valve for turning on and off the flow of the chemical liquid.
  • the introduced chemical liquid 506 may be discharged to the outside through the slit discharge port 106 via the chemical liquid discharge passage 104.
  • the chemical liquid discharge passage 104 may be a first space region 1S provided in the chemical liquid slit nozzle unit 110.
  • the cleaning liquid 507 may flow from the cleaning liquid supply unit 180 to the cleaning liquid inlet 630 of the cleaning liquid slit nozzle unit 150 through the nozzle cleaning liquid supply line 626.
  • the cleaning liquid slit nozzle unit 150 may include a cleaning liquid slit nozzle main body 130 and a slit nozzle cover unit 140.
  • the introduced cleaning liquid 507 is externally passed through the slit discharge port 106 through the first and second cleaning liquid discharge flow paths 124 and 126 defined by the cleaning liquid slit nozzle main body 130 and the slit nozzle cover 140. May be discharged.
  • the first cleaning liquid discharge passage 124 may be a second space region 2S provided in the cleaning liquid slit nozzle main body 130.
  • the nozzle cleaning liquid supply line 626 is provided with a check valve (C / V) for preventing the back flow of the chemical liquid.
  • the check valve C / V may be installed in the nozzle cleaning liquid supply line 626 or may be directly installed in the double slit nozzle 100 as necessary.
  • the check valve C / V may be installed to prevent the chemical liquid flowing back to the nozzle cleaning liquid supply line 626 when the cleaning liquid delivery member 606 does not have the cleaning liquid.
  • the chemical liquid applying apparatus 600 includes the double slit nozzle 100 so that the chemical liquid 506 is stacked and attached to the slit discharge port 106 to reduce the diameter of the slit discharge port 106.
  • the cleaning liquid 507 may be introduced and cleaned through the cleaning liquid slit nozzle unit 150.
  • the chemical liquid applying apparatus 600 according to an embodiment of the present invention may prevent the chemical liquid flowing back to the nozzle cleaning liquid supply line 626 by installing a check valve (C / V) on the nozzle cleaning liquid supply line 626. have.

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Abstract

약액 도포 장치는 베이스 플레이트 상에 위치하여 세정액을 전달할 수 있는 세정액 전달 부재; 상기 세정액 전달 부재의 하부에 설치된 세정액 분사 노즐; 상기 베이스 플레이트의 하부 및 양측부에 설치되어 상기 세정액 분사 노즐을 커버하는 커버 부재; 및 상기 세정액 전달 부재의 전단부에서 상기 베이스 플레이트와 연결 부재를 통하여 연결되고 세정액 및 약액을 토출할 수 있는 이중 슬릿 노즐을 포함한다. 상기 이중 슬릿 노즐은 슬릿 토출구로 약액을 인도하는 약액 토출 유로를 가지며, 약액을 외부로 토출하는 약액 슬릿 노즐부; 상기 약액 슬릿 노즐부의 일측에 위치하고 상기 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하는 세정액 토출 유로를 가지며, 상기 슬릿 토출구의 내부를 세정하는 세정액 슬릿 노즐부; 및 상기 약액 슬릿 노즐부 및 세정액 슬릿 노즐부를 체결하는 슬릿 노즐 체결부를 포함한다.

Description

이중 슬릿 노즐을 이용한 약액 도포 장치
본 발명은 약액 도포 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 약액 도포에 이용되는 이중 슬릿 노즐을 이용한 약액 도포 장치에 관한 것이다.
전자 소자의 제조에 있어서 액정용 유리 기판, 반도체 기판, 필름 액정용 플렉시블 기판, 포토 마스크용 기판, 컬러 필터용 기판, 태양 전지용 기판, 유기 EL용 기판 등(이하, 피처리 기판이라고 한다)의 표면에 약액(또는 슬러리), 예컨대 포토레지스트나 접착제 등을 도포하는 공정이 필요하다.
약액을 도포하는 약액 도포 장치는 약액을 도포하는 슬릿 노즐을 포함한다. 슬릿 노즐은 슬릿 형상의 슬릿 토출구로 약액을 토출한다. 그런데, 슬릿 노즐의 하부에 위치하는 슬릿 토출구는 도포 공정을 진행함에 따라서 약액의 점도로 인하여 슬릿 토출구에 약액이 적층 및 부착되어 구경이 작아지거나 심지어는 슬릿 토출구가 막힐 수 있다.
본 발명이 해결하려는 과제는 슬릿 토출구의 구경이 작아지거나 막히는 현상을 방지할 수 있는 이중 슬릿 노즐을 이용한 약액 도포 장치를 제공하는 데 있다.
상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치는 베이스 플레이트 상에 위치하여 세정액을 전달할 수 있는 세정액 전달 부재; 상기 세정액 전달 부재의 하부에 설치된 세정액 분사 노즐; 상기 베이스 플레이트의 하부 및 양측부에 설치되어 상기 세정액 분사 노즐을 커버하는 커버 부재; 및 상기 세정액 전달 부재의 전단부에서 상기 베이스 플레이트와 연결 부재를 통하여 연결되고 세정액 및 약액을 토출할 수 있는 이중 슬릿 노즐을 포함한다.
상기 이중 슬릿 노즐은, 이중 슬릿 노즐은 슬릿 토출구로 약액을 인도하는 약액 토출 유로를 가지며, 약액을 외부로 토출하는 약액 슬릿 노즐부; 상기 약액 슬릿 노즐부의 일측에 위치하고 상기 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하는 세정액 토출 유로를 가지며, 상기 슬릿 토출구의 내부를 세정하는 세정액 슬릿 노즐부; 및 상기 약액 슬릿 노즐부 및 세정액 슬릿 노즐부를 체결하는 슬릿 노즐 체결부를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 약액 토출 유로는 약액 유입구와 연결되어 있고, 상기 약액 토출 유로는 약액 슬릿 노즐부의 내부에 설치된 제1 공간 영역을 포함할 수 있다. 상기 약액 토출 유로를 구성하는 제1 공간 영역은 상기 약액 유입구로부터 상기 슬릿 토출구 방향으로 다단의 계단 형태로 경사지게 구성되어 있을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 세정액 슬릿 노즐부는,
상기 약액 슬릿 노즐부의 내측과 체결되고 상기 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하는 제1 세정액 토출 유로를 가지는 세정액 슬릿 노즐 본체부와, 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내측과 체결되고, 상기 제1 세정액 토출 유로와 연결되어 상기 세정액을 상기 슬릿 토출구의 내부로 인도하는 제2 세정액 토출 유로를 한정하는 슬릿 노즐 덮개부를 포함할 수 있다. 상기 제1 세정액 토출 유로는 세정액 유입구와 연결되어 있고, 상기 제1 세정액 토출 유로는 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내부에 설치된 제2 공간 영역을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내측 하부는 상기 슬릿 토출구 방향으로 경사진 본체 경사부를 포함하고, 상기 슬릿 노즐 덮개부의 내측 하부는 상기 본체 경사부와 대응하여 덮개 경사부를 포함하고, 상기 제2 세정액 토출 유로는 상기 본체 경사부와 상기 덮개 경사부의 경계면일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치는 베이스 플레이트 상에 위치하여 세정액을 전달할 수 있는 세정액 전달 부재; 상기 세정액 전달 부재의 하부에 설치된 세정액 분사 노즐; 상기 베이스 플레이트의 하부 및 양측부에 설치되어 상기 세정액 분사 노즐을 커버하는 커버 부재; 및 상기 세정액 전달 부재의 전단부에서 상기 베이스 플레이트와 연결 부재를 통하여 연결되고 세정액 및 약액을 토출할 수 있는 이중 슬릿 노즐을 포함한다.
상기 이중 슬릿 노즐은 하부에 길이 방향으로 토출 길이를 가지고 폭 방향으로 토출 폭을 가지는 슬릿 토출구로 상부의 약액 유입구로부터 약액을 인도하고 상기 토출 길이 방향으로 약액 토출 유로를 가지며, 약액을 외부로 토출하는 약액 슬릿 노즐부; 상기 약액 슬릿 노즐부와 체결되고 상기 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하는 세정액 토출 유로를 가지며, 상기 슬릿 토출구의 내부를 세정하는 세정액 슬릿 노즐부; 상기 약액 슬릿 노즐부 및 세정액 슬릿 노즐부를 체결하는 슬릿 노즐 체결부를 포함한다.
상기 세정액 슬릿 노즐부는, 상기 약액 슬릿 노즐부의 내측과 체결되고, 상부의 세정액 유입구로부터 상기 하부의 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하고 상기 토출 길이 방향으로 제1 세정액 토출 유로를 가지는 세정액 슬릿 노즐 본체부와, 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내측과 체결되고, 상기 제1 세정액 토출 유로의 하단부와 연결되어 상기 세정액을 상기 슬릿 토출구의 내부로 인도하고 상기 토출 길이 방향으로 제2 세정액 토출 유로를 한정하는 슬릿 노즐 덮개부를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 약액 슬릿 노즐부의 내측에 상기 약액 토출 유로를 형성하고, 상기 약액 토출 유로는 상기 약액 슬릿 노즐부의 내부에 제1 공간 영역을 포함하고, 상기 제1 공간 영역은 상기 약액 유입구로부터 상기 슬릿 토출구 방향으로 다단의 계단 형태로 경사지게 구성되어 있을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 외측은 상기 약액 슬릿 노즐부의 약액 토출 유로와 접하고, 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내측은 상기 세정액이 통과하는 제2 공간 영역이 설치되어 있을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 슬릿 노즐 덮개부의 내측은 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 제2 공간 영역과 접하고, 상기 슬릿 노즐 덮개부의 내측은 상기 제2 세정액 토출 유로를 한정할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치는 베이스 플레이트 상에 위치하여 세정액을 전달할 수 있는 세정액 전달 부재와, 상기 세정액 전달 부재의 하부에 설치된 세정액 분사 노즐과, 상기 베이스 플레이트의 하부 및 양측부에 설치되어 상기 세정액 분사 노즐을 커버하는 커버 부재와, 상기 세정액 전달 부재의 전단부에서 상기 베이스 플레이트와 연결 부재를 통하여 연결되고 세정액 및 약액을 토출할 수 있는 이중 슬릿 노즐을 포함한다.
상기 이중 슬릿 노즐은, 슬릿 토출구로 약액을 인도하는 약액 토출 유로를 가지며, 약액을 외부로 토출하는 약액 슬릿 노즐부; 상기 약액 슬릿 노즐부의 일측에 위치하고 상기 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하는 세정액 토출 유로를 가지며, 상기 슬릿 토출구의 내부를 세정하는 세정액 슬릿 노즐부; 및 상기 약액 슬릿 노즐부 및 세정액 슬릿 노즐부를 체결하는 슬릿 노즐 체결부를 포함한다. 상기 세정액 전달 부재에는 노즐 세정액 공급 라인이 연결되어 있고, 상기 노즐 세정액 공급 라인은 상기 이중 슬릿 노즐의 세정액 유입구와 연결되고, 상기 세정액 유입구에는 약액의 역류를 방지하는 체크 밸브가 설치되어 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 이중 슬릿 노즐에는 약액 유입구가 설치되어 있고, 상기 약액 유입구에는 약액을 공급하는 약액 공급 라인이 연결되어 있을 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 이중 슬릿 노즐은 연결 부재에 설치된 가이드홈을 통하여 수평 방향 및 회전 방향으로 이동할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치에 이용되는 이중 슬릿 노즐은 슬릿 토출구로 약액을 인도하는 약액 토출 유로를 가지는 약액 슬릿 노즐부와, 슬릿 토출구로 세정액을 인도하는 세정액 토출 유로를 가지는 세정액 슬릿 노즐부를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치에 이용되는 이중 슬릿 노즐은 세정액 슬릿 노즐부를 포함함으로써 슬릿 토출구에 약액이 적층되어 슬릿 토출구의 직경이 줄어들거나 막히더라도 세정액 슬릿 노즐부를 통하여 세정액을 유입하여 세정할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치는 세정액 전달 부재의 전단부에서 이중 슬릿 노즐을 연결하고, 노즐 세정액 공급 라인(626)에 체크 밸브(C/V)를 설치하여 노즐 세정액 공급 라인으로 역류하는 약액을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치의 이중 슬릿 노즐을 설명하기 위한 일부 단면도이다.
도 2는 도 1의 이중 슬릿 노즐의 분해 사시도이다.
도 3a 내지 도 3c는 도 2의 이중 슬릿 노즐을 구성하는 약액 슬릿 노즐부 및 세정액 슬릿 노즐부를 도시한 사시도들이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치의 이중 슬릿 노즐의 약액 및 세정액의 흐름을 설명하기 위하여 도시한 단면도이다.
도 4b는 도 4a와 비교를 위한 비교예의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 이중 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치를 도시한 개략도이다.
도 6a 및 도 6b는 도 5의 이중 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치의 약액 도포 공정 및 세정액 세정 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 7a 내지 7d는 본 발명의 일 실시예에 의한 이중 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치를 도시한 도면들이다.
도 8a 내지 도 8e는 도 7a 내지 도 7d의 구성 부재들을 개별적으로 도시한 도면들이다.
도 9a 및 도 9b는 도 7a 내지 7d에 도시한 약액 도포 장치에 의한 이중 슬릿 노즐의 약액 및 세정액의 흐름을 설명하기 위하여 도시한 단면도이다.
도 10은 도 9a 및 도 9b의 약액 도포 장치의 약액 및 세정액의 흐름을 도시한 배관도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 기술적 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.
명세서 전체에 걸쳐서, 막, 영역 또는 기판 등과 같은 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "상에", "연결되어", 또는 "커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 상기 하나의 구성요소가 직접적으로 다른 구성요소 "상에", "연결되어", 또는 "커플링되어" 접촉하거나, 그 사이에 개재되는 또 다른 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 반면에, 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "직접적으로 상에", "직접 연결되어", 또는 "직접 커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 그 사이에 개재되는 다른 구성요소들이 존재하지 않는다고 해석된다. 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
본 명세서에서 제1, 제2등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제1부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제2부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.
또한, "상의" 또는 "위의" 및 "하의" 또는 "아래의"와 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면(turned over), 다른 요소들의 상부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상기 다른 요소들의 하부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "하의" 및 "상의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 소자가 다른 방향으로 향한다면(다른 방향에 대하여 90도 회전), 본 명세서에 사용되는 상대적인 설명들은 이에 따라 해석될 수 있다.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.
이하의 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다. 이하의 본 발명의 실시예들은 어느 하나로 구현될 수 있으며, 또한, 이하의 실시예들은 하나 이상을 조합하여 구현될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치의 이중 슬릿 노즐을 설명하기 위한 일부 단면도이고, 도 2는 도 1의 이중 슬릿 노즐의 분해 사시도이고, 도 3a 내지 도 3c는 도 2의 이중 슬릿 노즐을 구성하는 약액 슬릿 노즐부 및 세정액 슬릿 노즐부를 도시한 사시도들이다.
구체적으로, 이중 슬릿 노즐(100)은 약액, 예컨대 포토레지스트나 접착제를 토출하는 약액 슬릿 노즐부(110), 슬릿 토출구(106)에 접착되거나 적층된 약액을 세정하도록 세정액, 예컨대 유기 용매를 토출할 수 있는 세정액 슬릿 노즐부(150), 및 약액 슬릿 노즐부(110) 및 세정액 슬릿 노즐부(150)를 체결하는 슬릿 노즐 체결부(160)를 포함할 수 있다.
본 실시예에서, 이중 슬릿 노즐(100)은 두개의 슬릿 노즐부, 즉 약액을 토출하는 약액 슬릿 노즐부(110)와 세정액을 토출할 수 있는 세정액 슬릿 노즐부(150)를 별도로 구성되어 있는 것을 의미할 수 있다.
도 1에서, X축 방향은 약액이나 세정액을 토출하는 토출 길이 방향이고, Y축 방향은 약액이나 세정액을 토출하는 토출 폭 방향이고, Z축 방향은 약액이나 세정액이 상부에서 하부로 흐르는 방향일 수 있다. 슬릿 토출구(106)는 하부에 길이 방향으로 토출 길이를 가지고 폭 방향으로 토출 폭을 가질 수 있다.
약액 슬릿 노즐부(110)는 약액을 약액 공급부로부터 공급받아 슬릿 토출구(106)로 약액을 인도하는 약액 토출 유로(104)를 가질 수 있다. 약액 토출 유로(104)는 토출 길이 방향(X축 방향)으로 설치될 수 있다. 도 3a는 약액 슬릿 노즐부(110)를 도시한 것이다. 약액 토출 유로(104)는 약액 유입구(102)와 연결되어 있을 수 있다. 약액 유입구(102)는 약액을 공급받는 부분일 수 있다.
약액 토출 유로(104)는 약액 슬릿 노즐부(110)의 내측(도 2 및 도 3a의 107)에 설치될 수 있다. 약액 토출 유로(104)는 약액 슬릿 노즐부(110)의 내부에 설치된 제1 공간 영역(1S)을 포함할 수 있다. 약액 토출 유로(104)를 구성하는 제1 공간 영역(1S)은 약액 유입구(102)의 단면적보다 크게 구성할 수 있다. 제1 공간 영역(1S)의 단면적을 약액 유입구(102)의 단면적보다 크게 구성하여 약액을 원활하게 슬릿 토출구(106)로 이송하여 토출할 수 있다.
약액 토출 유로(104)를 구성하는 제1 공간 영역(1S)은 약액 유입구(102)로부터 슬릿 토출구(106) 방향으로 다단의 계단 형태로 경사지게 구성될 수 있다. 약액 토출 유로(104)를 구성하는 제1 공간 영역(1S)을 다단의 계단 형태로 구성할 경우 약액을 원활하게 슬릿 토출구(106)로 이송하여 토출할 수 있다.
세정액 슬릿 노즐부(150)는 약액 슬릿 노즐부(110)의 일측에 위치하고 슬릿 토출구(106)로 세정액을 인도하는 세정액 토출 유로(124, 126)를 가질 수 있다. 세정액 토출 유로(124, 126)는 토출 길이 방향(X축 방향)으로 설치될 수 있다. 세정액 슬릿 노즐부(150)는 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)와 슬릿 노즐 덮개부(140)를 포함할 수 있다. 도 3b는 세정액 슬릿 노즐부(150)를 구성하는 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)를 도시한 것이고, 도 3c는 세정액 슬릿 노즐부(150)를 구성하는 슬릿 노즐 덮개부(140)를 도시한 것이다.
세정액 슬릿 노즐 본체부(130)는 약액 슬릿 노즐부(110)의 내측(도 2 및 도 3a의 107)과 체결되고 슬릿 토출구(106)로 세정액을 인도하는 제1 세정액 토출 유로(124)를 포함할 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이 제1 세정액 토출 유로(124)는 토출 길이 방향(X축 방향)으로 설치될 수 있다. 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)의 외측(도 2 및 도 3b의 125)은 약액 슬릿 노즐부(110)의 내측(도 2 및 도 3a의 107)과 접하여 체결될 수 있다. 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내측(도 2 및 도 3b의 127) 하부는 슬릿 토출구(106) 방향으로 경사진 본체 경사부(도 2 및 도 3b의 129)를 포함할 수 있다. 본 실시예에서, 약액 슬릿 노즐부(110)의 내측(도 2 및 도 3a의 107)은 약액이 통과하는 부분에 대응하여 설명한 것이다. 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)의 내측은 세정액이 통과하는 부분에 대응하여 설명한 것이다.
제1 세정액 토출 유로(124)는 세정액 유입구(122)와 연결되어 있을 수 있다. 세정액 유입구(122)는 세정액을 공급받는 부분일 수 있다. 제1 세정액 토출 유로(124)는 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)의 내부에 설치된 제2 공간 영역(2S)을 포함할 수 있다. 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)의 내측(도 2 및 도 3b의 127)은 세정액이 통과하는 제2 공간 영역(2S)이 설치되어 있을 수 있다.
제1 세정액 토출 유로(124)를 구성하는 제2 공간 영역(2S)은 세정액 유입구(122)의 단면적보다 크게 구성할 수 있다. 제2 공간 영역(2S)의 단면적을 세정액 유입구(122)의 단면적보다 크게 구성하여 세정액을 원활하게 슬릿 토출구(106)로 이송하여 토출할 수 있다.
슬릿 노즐 덮개부(140)는 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)의 내측(도 2 및 도 3b의 127)과 체결되고, 제1 세정액 토출 유로(124)와 연결되어 세정액을 슬릿 토출구(106)로 인도하는 제2 세정액 토출 유로(126)를 한정할 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이 제2 세정액 토출 유로(126)는 토출 길이 방향(X축 방향)으로 설치될 수 있다.
슬릿 노즐 덮개부(140)의 내측(도 2 및 도 3c의 144)은 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)의 내측(도 2 및 도 3b의 127)과 접하여 체결될 수 있다. 슬릿 노즐 덮개부(140)의 내측(도 2 및 도 3c의 144)은 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)의 제2 공간 영역(2S)과 접하고, 슬릿 노즐 덮개부(140)의 내측(도 2 및 도 3c의 144)은 제2 세정액 토출 유로(126)를 한정할 수 있다. 슬릿 노즐 덮개부(140)의 하단부는 약액 슬릿 노즐부(110)와 접하여 슬릿 토출구(106)를 한정할 수 있다.
슬릿 노즐 덮개부(140)의 내측(도 2 및 도 3c의 144) 하부는 세정액 슬릿 노즐 본체부의 본체 경사부(도 2 및 도 3b의 129)와 대응하여 덮개 경사부(도 2 및 도 3c의 142)를 포함할 수 있다. 제2 세정액 토출 유로(126)는 세정액 슬릿 노즐 본체부의 본체 경사부(도 2 및 도 3b의 129)와 덮개 경사부(도 2 및 도 3c의 142) 경계면일 수 있다. 본 실시예에서, 슬릿 노즐 덮개부(140)의 내측(도 2 및 도 3c의 144)은 세정액이 통과하는 부분에 대응하여 설명한 것이다.
슬릿 노즐 체결부(160)는 약액 슬릿 노즐부(110) 및 세정액 슬릿 노즐부(150)를 체결하는 부재일 수 있다. 슬릿 노즐 체결부(160)는 약액 슬릿 노즐부(110) 및 세정액 슬릿 노즐부(150)에 형성된 체결구(162)에 형성된 체결 수단일 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치의 이중 슬릿 노즐의 약액 및 세정액의 흐름을 설명하기 위하여 도시한 단면도이다.
구체적으로, 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치의 이중 슬릿 노즐(100)에서는 약액 공급부(170)로부터 약액 슬릿 노즐부(110)의 약액 유입구(102)로 약액(506)이 유입될 수 있다. 유입된 약액(506)은 약액 토출 유로(104)를 거쳐 슬릿 토출구(106)를 통하여 외부로 배출될 수 있다. 약액 토출 유로(104)는 앞서 설명한 바와 같이 약액 슬릿 노즐부(110)의 내부에 설치된 제1 공간 영역(1S)일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치의 이중 슬릿 노즐(100)에서는 세정액 공급부(180)로부터 세정액 슬릿 노즐부(150)의 세정액 유입구(122)로 세정액(507)이 유입될 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이 세정액 슬릿 노즐부(150)는 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)와 슬릿 노즐 덮개부(140)를 포함할 수 있다.
유입된 세정액(507)은 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)와 슬릿 노즐 덮개부(140)에 의하여 한정된 제1 및 제2 세정액 토출 유로(124, 126)를 거쳐 슬릿 토출구(106)를 통하여 외부로 배출될 수 있다. 제1 세정액 토출 유로(124)는 앞서 설명한 바와 같이 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)의 내부에 설치된 제2 공간 영역(2S)일 수 있다.
이와 같이 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치의 이중 슬릿 노즐(100)에서는 슬릿 토출구(106)로 약액(506)을 인도하는 약액 토출 유로(104)를 가지는 약액 슬릿 노즐부(110)뿐만 아니라 슬릿 토출구(106)로 세정액(507)을 인도하는 세정액 토출 유로(124, 126)를 가지는 세정액 슬릿 노즐부(150)를 포함할 수 있다.
이에 따라, 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치의 이중 슬릿 노즐은 약액(506)의 점도로 인하여 슬릿 토출구(106)에 약액(506)이 적층 및 부착되어 슬릿 토출구(106)의 직경이 줄어들거나 막히더라도 세정액 슬릿 노즐부(150)를 통하여 세정액(507)을 유입하여 세정할 수 있다. 결과적으로, 본 발명의 일실시예에 의한 이중 슬릿 노즐(100)은 슬릿 토출구(106)의 직경이 줄어들거나 막히는 문제점을 해결할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 이중 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치를 도시한 개략도이고, 도 6a 및 도 6b는 도 5의 이중 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치의 약액 도포 공정 및 세정액 세정 공정을 설명하기 위한 도면이다.
구체적으로, 본 발명의 일 실시예에 의한 이중 슬릿 노즐(100)을 포함하는 약액 도포 장치(500)를 설명한다. 도 5에서, X축 방향은 약액이나 세정액을 토출하는 토출 길이 방향이고, Y축 방향은 약액이나 세정액을 토출하는 토출 폭 방향이고, Z축 방향은 약액이나 세정액이 상부에서 하부로 흐르는 방향일 수 있다. 슬릿 토출구(106)는 하부에 길이 방향으로 토출 길이를 가지고 폭 방향으로 토출 폭을 가질 수 있다.
약액 도포 장치(500)는 다양한 구성을 가질 수 있다. 약액 도포 장치(500)는 도 5에 도시한 바와 같이 이동 수단(518)을 이용하여 이중 슬릿 노즐(100)을 피처리 기판(504) 상에서 이동시키면서 피처리 기판(504) 상에 약액(506)의 도포 및 세정액(507)의 세정 공정을 수행할 수 있다. 물론, 이중 슬릿 노즐(100)이 고정된 상태에서 피처리 기판(504)이 탑재된 스테이지(502)를 이동시키면서 피처리 기판(504) 상에 약액(506)의 도포 및 세정액(507)의 세정 공정을 수행할 수도 있다.
약액 도포 장치(500)는 피처리 기판(504)을 지지하는 스테이지(502)를 포함할 수 있다. 피처리 기판(504) 상에는 피처리 기판(504)의 길이(또는 폭)만큼 길게 형성되고 피처리 기판(504)의 표면에 약액(506)을 일정 두께로 도포하는 슬릿 노즐(100)과, 슬릿 노즐(100)에 약액(506)을 공급하는 약액 공급부(170)를 포함할 수 있다.
약액 공급부(170)에서 공급되는 약액(506)은 약액 공급 라인(508, 512, 516)을 통하여 슬릿 노즐(100)의 약액 유입구(102)로 유입될 수 있다. 약액 공급부(170)로부터 유입된 약액(506)은 버퍼 탱크(510) 및 펌프(514)를 통하여 슬릿 노즐(100)의 약액 유입구(102)로 유입될 수 있다.
도 6a에 도시된 바와 같이 약액 공급 라인(508, 512, 516)에는 약액 온오프 밸브(526)가 설치될 수 있고, 도 6a에서는 약액 공급 라인(508, 512, 516)중 최종 약액 공급 라인(516)만을 편의상 도시한다. 약액 유입구(102)로 유입된 약액(506)은 약액 토출 유로(104, 1S)를 통하여 슬릿 토출구(106)를 거쳐 피처리 기판(504) 상에 도포될 수 있다.
약액 도포 장치(500)는 슬릿 노즐(100)에 세정액(507)을 공급하는 세정액 공급부(180)를 포함할 수 있다. 세정액 공급부(180)에서 공급되는 세정액(507)은 세정액 공급 라인(520, 522, 524)을 통하여 슬릿 노즐(100)의 세정액 유입구(122)로 유입될 수 있다. 세정액 공급부(180)로부터 유입된 세정액(507)은 버퍼 탱크(510) 및 펌프(514)를 통하여 슬릿 노즐(100)의 세정액 유입구(122)로 유입될 수 있다.
도 6b에 도시된 바와 같이 세정액 공급 라인(520, 522, 524)에는 세정액 온오프 밸브(528)가 설치될 수 있고, 도 6b에서는 세정액 공급 라인(520, 522, 524)중 최종 세정액 공급 라인(524)만을 편의상 도시한다. 세정액 유입구(122)로 유입된 세정액(507)은 세정액 토출 유로(204, 2S)를 통하여 슬릿 토출구(106)를 거쳐 외부로 배출될 수 있다.
본 발명의 일실시예에 의한 이중 슬릿 노즐(100)을 갖는 약액 도포 장치(500)는 앞서 설명한 바와 같이 슬릿 토출구(106)에 약액(506)이 적층 및 부착되어 슬릿 토출구(106)의 직경이 줄어들거나 막히더라도 세정액(507)을 유입하여 세정할 수 있다. 결과적으로, 본 발명의 일실시예에 의한 이중 슬릿 노즐(100)을 갖는 약액 도포 장치(500)는 슬릿 토출구(106)의 직경이 줄어들거나 막히는 문제점을 해결할 수 있다.
도 7a 내지 7d는 본 발명의 일 실시예에 의한 이중 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치를 도시한 도면들이고, 도 8a 내지 도 8e는 도 7a 내지 도 7d의 구성 부재들을 개별적으로 도시한 도면들이다.
구체적으로, 도 7a는 약액 도포 장치(600)의 사시도이고, 도 7b는 약액 도포장치(600)를 아래에서 바라본 배면도이고, 도 7c는 약액 도포 장치(600)를 위에서 바라면 평면도이고, 도 7d는 커버 부재를 제거한 상태를 도시한 약액 도포 장치(600)의 사시도이다.
약액 도포 장치(600)는 베이스 플레이트(602), 세정액 전달 부재(606), 세정액 분사 노즐(608), 커버 부재(610) 및 이중 슬릿 노즐(100)을 포함할 수 있다. 베이스 플레이트(602)는 도 8a에 도시한 바와 같이 판형으로 구성되며, 내부에 복수개의 관통홀들(604)이 설치되어 있다.
베이스 플레이트(602) 상에는 수평 조절 부재(603)를 개재하여 세정액을 전달할 수 있는 세정액 전달 부재(606)가 설치될 수 있다. 세정액 전달 부재(606)는 도 7a, 7d 및 도 8b에 도시한 바와 같이 파이프 형태로 구성될 수 있다. 세정액 전달 부재(606)에는 세정액 공급 라인(644)을 통하여 세정액을 공급하는 세정액 공급부(180)가 연결될 수 있다. 다시 말해, 세정액 공급부(180)는 세정액 전달 부재(606)에 세정액을 공급할 수 있다. 세정액 공급 라인(644)에는 세정액의 공급을 온오프하는 밸브(601)가 설치될 수 있다.
세정액 전달 부재(606)의 하부에는 도 7d 및 도 8b에 도시한 바와 같이 세정액을 외부로 분사할 수 있는 세정액 분사 노즐(608)이 설치될 수 있다. 세정액 분사 노즐(608)은 세정액 전달 부재(606)에 서로 떨어져서 복수개 설치될 수 있다. 세정액 분사 노즐(608)은 세정액 전달 부재(606)의 맨 앞부분에도 설치될 수 있다. 세정액 분사 노즐(608)은 베이스 플레이트(602)의 관통홀(604)에 삽입되어 설치될 수 있다. 도 7d 및 도 8b에서 참조번호 612는 베이스 플레이트(602)에 세정액 분사 노즐을 체결할 수 있는 체결 부재를 나타낸다.
베이스 플레이트(602)의 하부 및 양측부에는 세정액 분사 노즐(608)을 커버하는 커버 부재(610)가 설치될 수 있다. 커버 부재(610)는 도 8d 및 8e에 도시한 바아 같이 양측벽들(614a, 614b) 및 양측벽들(614a, 614b) 상에 위치하는 상부벽(614c)을 포함할 수 있다. 상부벽(614c)에는 관통홀(616)이 형성될 수 있다. 관통홀(616)은 세정액 분사 노즐(608)이 설치되는 부분일 수 있다.
세정액 전달 부재(606)의 전단부에는 베이스 플레이트(602)와 연결 부재(618, 620)를 통하여 연결되고 세정액 및 약액을 토출할 수 있는 이중 슬릿 노즐(100)이 설치될 수 있다. 연결 부재(618, 620)는 도 8c에 도시한 연결 플레이트(618)와 연결핀(620)을 포함할 수 있다.
연결 플레이트(618)에는 도 8c에 도시한 바와 같이 제1 및 제2 가이드홈(622, 624)이 설치될 수 있다. 제1 가이드홈(622)은 복수개 설치될 수 있으며, 베이스 플레이트(602)와의 체결됨에 따라서 수평 방향으로 이중 슬릿 노즐(100)을 이동시킬 수 있다. 제2 가이드홈(624)은 연결핀(620)이 슬라이딩하여 이동함으로써 회전 방향으로 이중 슬릿 노즐(100)을 이동시킬 수 있다.
세정액 전달 부재(606)에는 노즐 세정액 공급 라인(626)이 연결되어 있다. 노즐 세정액 공급 라인(626)은 이중 슬릿 노즐(100)의 세정액 유입구(630)와 연결되고, 세정액 유입구(630)에는 약액의 역류를 방지하는 체크 밸브(C/V)가 설치되어 있다. 체크 밸브(C/V)는 세정액 전달 부재(606)에 세정액이 없을 경우 노즐 세정액 공급 라인(626)으로 역류하는 약액을 방지하기 위하여 설치될 수 있다.
이중 슬릿 노즐(100)에는 약액 유입구(632)가 설치되어 있고, 약액 유입구(632)에는 약액 공급 라인(640)이 연결되어 있고, 약액 공급 라인(640)은 약액 공급부(170)가 연결될 수 있다. 약액 공급부(170)는 약액 공급 라인(640)을 통하여 이중 슬릿 노즐(100)에 약액을 공급할 수 있다.
도 9a 및 도 9b는 도 7a 내지 7d에 도시한 약액 도포 장치에 의한 이중 슬릿 노즐의 약액 및 세정액의 흐름을 설명하기 위하여 도시한 단면도이고, 도 10은 도 9a 및 도 9b의 약액 도포 장치의 약액 및 세정액의 흐름을 도시한 배관도이다.
구체적으로, 도 9a 및 도 9b에서 도 4와 동일한 참조번호는 동일한 부재를 나타낸다. 도 9a 및 도 9b에서 도 4에서 설명한 내용은 간략히 설명하거나 생략한다. 이중 슬릿 노즐(100)에서는 약액 공급부(170)로부터 약액 공급 라인(640)을 통하여 슬릿 노즐부(110)의 약액 유입구(632)로 약액(506)이 유입될 수 있다. 필요에 따라서 약액 공급부(170)로부터 유입된 약액중 일부는 약액 배출 라인(642)를 통하여 약액 배출부(175)로 배출될 수 있다. 도 10에서, A/V는 약액의 흐름을 온오프하는 에어 밸브일 수 있다.
유입된 약액(506)은 약액 토출 유로(104)를 거쳐 슬릿 토출구(106)를 통하여 외부로 배출될 수 있다. 약액 토출 유로(104)는 약액 슬릿 노즐부(110)의 내부에 설치된 제1 공간 영역(1S)일 수 있다.
이중 슬릿 노즐(100)에서는 세정액 공급부(180)로부터 노즐 세정액 공급 라인(626)을 통하여 세정액 슬릿 노즐부(150)의 세정액 유입구(630)로 세정액(507)이 유입될 수 있다. 세정액 슬릿 노즐부(150)는 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)와 슬릿 노즐 덮개부(140)를 포함할 수 있다.
유입된 세정액(507)은 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)와 슬릿 노즐 덮개부(140)에 의하여 한정된 제1 및 제2 세정액 토출 유로(124, 126)를 거쳐 슬릿 토출구(106)를 통하여 외부로 배출될 수 있다. 제1 세정액 토출 유로(124)는 세정액 슬릿 노즐 본체부(130)의 내부에 설치된 제2 공간 영역(2S)일 수 있다.
노즐 세정액 공급 라인(626)에는 약액의 역류를 방지하는 체크 밸브(C/V)가 설치되어 있다. 체크 밸브(C/V)는 노즐 세정액 공급 라인(626)에 설치되거나, 필요에 따라서 이중 슬릿 노즐(100)에 바로 설치될 수도 있다. 체크 밸브(C/V)는 세정액 전달 부재(606)에 세정액이 없을 경우 노즐 세정액 공급 라인(626)으로 역류하는 약액을 방지하기 위하여 설치될 수 있다.
이와 같이 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치(600)는 이중 슬릿 노즐(100)을 포함하여 슬릿 토출구(106)에 약액(506)이 적층 및 부착되어 슬릿 토출구(106)의 직경이 줄어들거나 막히더라도 세정액 슬릿 노즐부(150)를 통하여 세정액(507)을 유입하여 세정할 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 의한 약액 도포 장치(600)는 노즐 세정액 공급 라인(626)에 체크 밸브(C/V)를 설치하여 노즐 세정액 공급 라인(626)으로 역류하는 약액을 방지할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 개략적으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
본 발명을 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형, 치환 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해하여야 한다. 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
100: 이중 슬릿 노즐
102: 약액 유입구
104: 약액 토출 유로
106: 슬릿 토출구
110: 약액 슬릿 노즐부
122: 세정액 유입구
124, 126: 세정액 토출 유로
130: 세정액 슬릿 노즐 본체부
140: 슬릿 덮개부
150: 세정액 슬릿 노즐부
160: 슬릿 노즐 체결부

Claims (13)

  1. 베이스 플레이트 상에 위치하여 세정액을 전달할 수 있는 세정액 전달 부재;
    상기 세정액 전달 부재의 하부에 설치된 세정액 분사 노즐;
    상기 베이스 플레이트의 하부 및 양측부에 설치되어 상기 세정액 분사 노즐을 커버하는 커버 부재; 및
    상기 세정액 전달 부재의 전단부에서 상기 베이스 플레이트와 연결 부재를 통하여 연결되고 세정액 및 약액을 토출할 수 있는 이중 슬릿 노즐을 포함하되,
    상기 이중 슬릿 노즐은,
    슬릿 토출구로 약액을 인도하는 약액 토출 유로를 가지며, 약액을 외부로 토출하는 약액 슬릿 노즐부;
    상기 약액 슬릿 노즐부의 일측에 위치하고 상기 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하는 세정액 토출 유로를 가지며, 상기 슬릿 토출구의 내부를 세정하는 세정액 슬릿 노즐부; 및
    상기 약액 슬릿 노즐부 및 세정액 슬릿 노즐부를 체결하는 슬릿 노즐 체결부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 약액 토출 유로는 약액 유입구와 연결되어 있고, 상기 약액 토출 유로는 약액 슬릿 노즐부의 내부에 설치된 제1 공간 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 약액 토출 유로를 구성하는 제1 공간 영역은 상기 약액 유입구로부터 상기 슬릿 토출구 방향으로 다단의 계단 형태로 경사지게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 세정액 슬릿 노즐부는,
    상기 약액 슬릿 노즐부의 내측과 체결되고 상기 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하는 제1 세정액 토출 유로를 가지는 세정액 슬릿 노즐 본체부와,
    상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내측과 체결되고, 상기 제1 세정액 토출 유로와 연결되어 상기 세정액을 상기 슬릿 토출구의 내부로 인도하는 제2 세정액 토출 유로를 한정하는 슬릿 노즐 덮개부를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1 세정액 토출 유로는 세정액 유입구와 연결되어 있고, 상기 제1 세정액 토출 유로는 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내부에 설치된 제2 공간 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내측 하부는 상기 슬릿 토출구 방향으로 경사진 본체 경사부를 포함하고, 상기 슬릿 노즐 덮개부의 내측 하부는 상기 본체 경사부와 대응하여 덮개 경사부를 포함하고, 상기 제2 세정액 토출 유로는 상기 본체 경사부와 상기 덮개 경사부의 경계면인 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  7. 베이스 플레이트 상에 위치하여 세정액을 전달할 수 있는 세정액 전달 부재;
    상기 세정액 전달 부재의 하부에 설치된 세정액 분사 노즐;
    상기 베이스 플레이트의 하부 및 양측부에 설치되어 상기 세정액 분사 노즐을 커버하는 커버 부재; 및
    상기 세정액 전달 부재의 전단부에서 상기 베이스 플레이트와 연결 부재를 통하여 연결되고 세정액 및 약액을 토출할 수 있는 이중 슬릿 노즐을 포함하되,
    상기 이중 슬릿 노즐은,
    하부에 길이 방향으로 토출 길이를 가지고 폭 방향으로 토출 폭을 가지는 슬릿 토출구로 상부의 약액 유입구로부터 약액을 인도하고, 상기 토출 길이 방향으로 약액 토출 유로를 가지며, 약액을 외부로 토출하는 약액 슬릿 노즐부;
    상기 약액 슬릿 노즐부와 체결되고 상기 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하는 세정액 토출 유로를 가지며, 상기 슬릿 토출구의 내부를 세정하는 세정액 슬릿 노즐부; 및
    상기 약액 슬릿 노즐부 및 세정액 슬릿 노즐부를 체결하는 슬릿 노즐 체결부를 포함하고
    상기 세정액 슬릿 노즐부는,
    상기 약액 슬릿 노즐부의 내측과 체결되고, 상부의 세정액 유입구로부터 상기 하부의 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하고 상기 토출 길이 방향으로 제1 세정액 토출 유로를 가지는 세정액 슬릿 노즐 본체부와,
    상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내측과 체결되고, 상기 제1 세정액 토출 유로의 하단부와 연결되어 상기 세정액을 상기 슬릿 토출구의 내부로 인도하고 상기 토출 길이 방향으로 제2 세정액 토출 유로를 한정하는 슬릿 노즐 덮개부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 약액 슬릿 노즐부의 내측에 상기 약액 토출 유로를 형성하고, 상기 약액 토출 유로는 상기 약액 슬릿 노즐부의 내부에 제1 공간 영역을 포함하고, 상기 제1 공간 영역은 상기 약액 유입구로부터 상기 슬릿 토출구 방향으로 다단의 계단 형태로 경사지게 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 외측은 상기 약액 슬릿 노즐부의 약액 토출 유로와 접하고, 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 내측은 상기 세정액이 통과하는 제2 공간 영역이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 슬릿 노즐 덮개부의 내측은 상기 세정액 슬릿 노즐 본체부의 제2 공간 영역과 접하고, 상기 슬릿 노즐 덮개부의 내측은 상기 제2 세정액 토출 유로를 한정하는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  11. 베이스 플레이트 상에 위치하여 세정액을 전달할 수 있는 세정액 전달 부재;
    상기 세정액 전달 부재의 하부에 설치된 세정액 분사 노즐;
    상기 베이스 플레이트의 하부 및 양측부에 설치되어 상기 세정액 분사 노즐을 커버하는 커버 부재; 및
    상기 세정액 전달 부재의 전단부에서 상기 베이스 플레이트와 연결 부재를 통하여 연결되고 세정액 및 약액을 토출할 수 있는 이중 슬릿 노즐을 포함하되,
    상기 이중 슬릿 노즐은,
    슬릿 토출구로 약액을 인도하는 약액 토출 유로를 가지며, 약액을 외부로 토출하는 약액 슬릿 노즐부;
    상기 약액 슬릿 노즐부의 일측에 위치하고 상기 슬릿 토출구의 내부로 세정액을 인도하는 세정액 토출 유로를 가지며, 상기 슬릿 토출구의 내부를 세정하는 세정액 슬릿 노즐부; 및
    상기 약액 슬릿 노즐부 및 세정액 슬릿 노즐부를 체결하는 슬릿 노즐 체결부를 포함하고,
    상기 세정액 전달 부재에는 노즐 세정액 공급 라인이 연결되어 있고,
    상기 노즐 세정액 공급 라인은 상기 이중 슬릿 노즐의 세정액 유입구와 연결되고, 상기 세정액 유입구에는 약액의 역류를 방지하는 체크 밸브가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 이중 슬릿 노즐에는 약액 유입구가 설치되어 있고, 상기 약액 유입구에는 약액을 공급하는 약액 공급 라인이 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 이중 슬릿 노즐은 연결 부재에 설치된 가이드홈을 통하여 수평 방향 및 회전 방향으로 이동할 수 있는 것을 특징으로 하는 약액 도포 장치.
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