WO2017013790A1 - 試料ステージおよびそれを用いた荷電粒子線装置 - Google Patents

試料ステージおよびそれを用いた荷電粒子線装置 Download PDF

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charged particle
spherical fulcrum
sample stage
spherical
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Inventor
志亜之 小野
幸二 金杉
Original Assignee
株式会社日立製作所
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support

Definitions

  • the present invention relates to a sample stage and a charged particle beam apparatus using the sample stage.
  • Charged particle beam devices such as transmission electron microscopes have high spatial resolution to obtain knowledge about structures and compositions with high resolution in the micrometer ( ⁇ m), nanometer (nm), and sub-nanometer (sub-nm) regions. It is very effective as a tool.
  • an electron characterized by having a higher accelerating voltage than ever before, for the purpose of application research in materials science, medicine, biology, development of equipment and observation methods, etc., taking advantage of excellent sample permeability
  • a microscope hereinafter referred to as an ultra high voltage electron microscope
  • a method in which an observation sample is supported by a sample holder having a sample holder at the tip, and the sample is supported and moved together with the sample holder by a sample positioning device For example, there is known a side entry type sample stage including at least a cylindrical main body cylinder portion, a spherical fulcrum portion that rotatably supports the sample support portion, and a spherical fulcrum support portion that supports the spherical fulcrum.
  • Patent Documents 1 to 4 disclose a side entry type sample stage and a charged particle beam apparatus including the side entry type sample stage.
  • stage control performance In order to obtain information on the structure and composition of the observation sample with high resolution, it is also necessary to improve the stage control performance.
  • stage control performance include the ability to move the stage with good reproducibility during the observation visual field search and the ability to keep the stage stationary during sample observation.
  • stage control performance far exceeding that of a general-purpose charged particle beam apparatus other than the ultra high voltage electron microscope is required.
  • the ability to move the stage with sub-nanometer order with good reproducibility and the ability to stand still with the order of several tens of picometers are required.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating a spherical fulcrum part 100, a spherical fulcrum receiving part 110 that supports the spherical fulcrum part, and a force acting between them.
  • the vacuum sealing O-ring 120 maintains atmospheric pressure on the right side of the spherical fulcrum 100 and vacuum on the left side of the spherical fulcrum 100.
  • the “atmospheric pressure” is formed between the spherical fulcrum 100 and the spherical fulcrum support 110 in a direction perpendicular to the direction in which gravity acts.
  • the resultant force of “pressing force 140” by “vacuum sealing O-ring repulsive force 142” acts, and the spherical fulcrum portion 100 is pressed against the spherical fulcrum receiving portion 110 connected to the body 150 of the electron microscope.
  • the sliding part 102 is in contact.
  • the “push-by atmospheric pressure” generated in the direction perpendicular to the direction in which the gravity works is used.
  • the “force 141 due to the weight of the sample stage” generated in a direction parallel to the direction in which the gravity acts is suppressed, and the spherical fulcrum 100 It is desirable to make the surface pressure at the spherical fulcrum receiving portion 110 uniform.
  • the resultant force of “pressing force 140 by atmospheric pressure” and “repulsive force 142 of the vacuum sealing O-ring” is proportional to the cross-sectional area of the sample stage main body.
  • the “force 141 due to the weight of the sample stage” is proportional to the product of the volume of the sample stage (that is, the product of the cross-sectional area and the total length) and the specific gravity of the material constituting the sample stage. Therefore, when the sample stage is increased in size, the weight of the sample stage increases at a rate exceeding the increase in the cross-sectional area of the sample stage.
  • the gravity force is compared with the resultant force of “pressing force 140 by atmospheric pressure” and “repulsive force 142 of the vacuum sealing O-ring” generated in a direction perpendicular to the direction in which gravity acts. It is desirable that the “force 141 due to the sample stage's own weight” generated in a direction parallel to the direction in which the pressure acts is kept small, and the surface pressure at the spherical fulcrum portion 100 and the spherical fulcrum support portion 110 is made uniform.
  • the sample stage's own weight further increases.
  • the stage force can be controlled by suppressing the “force 141 due to the weight of the sample stage itself” in a direction parallel to the direction in which the gravity acts, and making the surface pressure at the spherical fulcrum part 100 and the spherical fulcrum support part 110 uniform. It is important to maintain performance.
  • Patent Documents 2 and 3 disclose that a force in the same direction as or opposite to the pressing force applied to the stage by atmospheric pressure is applied by a pressing spring. In addition, it describes about the method of adjusting the pressing force applied between a spherical fulcrum part and a spherical fulcrum receiving part. Patent Document 2 describes a method for generating an elastic force by a vacuum sealing O-ring installed near a spherical fulcrum receiving portion.
  • the sample holder weight tends to increase due to the addition of the evaluation observation function. Since the sample holder is mounted on the sample stage during the sample observation, the influence of the increase in the weight of the sample holder between the spherical fulcrum part and the spherical fulcrum receiving part is the same as the increase in the weight of the sample stage. Therefore, even in a general-purpose charged particle beam apparatus other than the ultra-high voltage electron microscope, there is a possibility that the stage control performance is hindered due to an increase in the weight of the sample holder.
  • An object of the present invention is to provide a sample stage or a charged particle beam apparatus with high resolution capable of performing a rotational motion of a spherical fulcrum with high accuracy even when a sample stage having a spherical fulcrum is increased in size and weight. Is to provide.
  • a charged particle beam apparatus including a side entry type sample stage, A sample holder, A spherical fulcrum for rotatably supporting the sample holder; A spherical fulcrum receiving portion that serves as a bearing for the rotation; A vacuum sealing member that is disposed between the spherical fulcrum part and the spherical fulcrum receiving part and seals the sample holding part in a vacuum; a support adjustment part that supports the weight of the spherical fulcrum part;
  • a charged particle beam apparatus comprising:
  • a side entry type sample stage that is mounted on a charged particle beam apparatus and includes a cylindrical portion in which a sample holder is disposed and a spherical fulcrum portion that is disposed at a tip portion of the cylindrical portion
  • the spherical fulcrum portion has a groove structure in which a support adjusting portion for supporting the own weight of the spherical fulcrum portion is disposed.
  • the sample stage which has a spherical fulcrum part enlarges and weight increases, the sample stage which can perform the rotational motion of a spherical fulcrum part with high precision, and a charged particle beam apparatus with high resolution Can be provided.
  • FIG. 1 is a schematic overall cross-sectional view of a charged particle beam apparatus (transmission electron microscope) according to each embodiment of the present invention.
  • an Example demonstrates a transmission electron microscope to an example, it is not limited to this. Further, the present invention can be applied to various charged particle beam devices such as a microscope and an analysis device using ions. Moreover, the same code
  • a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
  • the electron beam 202 generated by the electron gun 201 is accelerated in the direction of the electron lens by the anode 203, converged by the focusing lens 204, and irradiated on the sample 205.
  • the sample 205 is thinned to a thickness that allows the electron beam 202 to pass through, and is attached to a sample holder (mesh) 206 of the side entry type sample stage 211.
  • the sample holder 206 (mesh) 206 is supported by a transmission electron microscope sample holder 207 having a sample holder at the tip.
  • the electron beam 202 that has passed through the sample 205 is magnified by the objective lens 208 and the imaging lens 209 and projected onto the fluorescent screen 210.
  • the measurer can observe an image appearing on the fluorescent plate 210.
  • a sample holder 207 for transmission electron microscope is mounted on the sample stage 211, and is passed through the sample stage 211 by a sample positioning device (not shown).
  • the sample 205 can be moved along with the transmission electron microscope sample holder 207.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part of the charged particle beam apparatus according to the present embodiment, for explaining the configuration in the case where the support adjustment unit 160 is provided between the spherical fulcrum unit 100 and the spherical fulcrum receiving unit 110.
  • FIG. FIG. 2 shows a cross section near the tip of the side entry type sample stage.
  • the sample stage includes at least a cylindrical stage tube portion 103 and a spherical fulcrum portion 100 that rotatably supports the sample holder 130. .
  • a spherical fulcrum receiving portion 110 that supports the spherical fulcrum portion 100 is disposed on the mirror body 150 side.
  • the sample holder 130 includes at least a rod-shaped member 131 that penetrates the cylindrical main body cylinder portion 103 and the spherical fulcrum portion 100 of the sample stage, and a sample holding portion 132.
  • the observation sample is structured to move together with the sample holder 130 via a sample stage by a sample positioning device (not shown), and is supported by the sample holder 132 in a vacuum (sample chamber) during observation. Irradiated by a particle beam (here, electron beam) 151.
  • the vacuum sealing O-ring 120 provided between the spherical fulcrum part 100 and the spherical fulcrum receiving part 110 maintains an atmospheric pressure on the right side and a vacuum on the left side of the vacuum sealing O-ring 120. Due to the pressure difference, the spherical fulcrum part 100 comes into direct contact with the spherical fulcrum receiving part 110.
  • the vacuum sealing O-ring 120 has a structure for holding the vacuum sealing O-ring provided in the spherical fulcrum receiving part 110 (here, a groove structure) and a support adjusting part provided in the spherical fulcrum receiving part 110. It is held by a structure for holding 160 (here, a groove structure).
  • the support adjustment unit 160 When the support adjustment unit 160 is provided on the right side of the O-ring 120 for vacuum sealing, the support adjustment unit 160 exists in the atmosphere. At this time, if the support adjustment unit 160 is installed near the center of gravity of the sample stage, it is mechanically stable.
  • the material of the support adjustment unit 160 is not particularly limited as a member for sliding the spherical fulcrum unit 100. Select materials with elastic and friction coefficients necessary for support adjustment from various materials such as rubber, Teflon (registered trademark), polyether ether ketone, polyamide material, plastic, Vespel (registered trademark) do it. It is desirable that the elastic modulus is larger than that of the vacuum sealing O-ring. Thereby, the sinking by the dead weight of a sample stage can be suppressed small.
  • the support adjusting portion 160 may be provided between the vacuum sealing O-ring 120 and the sliding portion 102 of the spherical fulcrum portion 100 and the spherical fulcrum receiving portion 110. At this time, since the support adjustment unit 160 exists in a vacuum, the contact between the spherical fulcrum unit 100 and the spherical fulcrum support unit 110 is stabilized.
  • the material of the support adjustment portion 160 is not particularly limited as a member for sliding the spherical fulcrum portion 100. However, since the support adjustment portion 160 exists in a vacuum, it does not affect the vacuum and is vacuum sealed. It is desirable to select a material having a larger elastic modulus than the stop O-ring.
  • the spherical fulcrum receiving part 110 in the sliding part 102 may be a straight line (plane) as shown in FIG. 2, it may be a concave surface on the spherical fulcrum part side. In the cross-sectional view of FIG. 2, it is desirable that the spherical fulcrum portion and the spherical fulcrum receiving portion are in contact with each other at a point.
  • a method of changing the shape of the spherical fulcrum receiving portion 110 is also conceivable.
  • the amount of sinking of the spherical fulcrum part 100 due to the weight of the sample stage is estimated in advance, and a method of manufacturing the spherical fulcrum part 100 or the spherical fulcrum receiving part 110 to which a thickness corresponding to the amount of sinking is added, or the spherical fulcrum part 100
  • a method of forming a film having a thickness corresponding to the sinking amount of the spherical fulcrum part 100 after the spherical fulcrum receiving part 110 is processed may be considered.
  • a method of pushing up the spherical fulcrum 100 using a plate spring or a coil spring as the support adjustment unit 160 is also conceivable.
  • a plate spring or a coil spring it is difficult to push up the spherical fulcrum portion 100 with good reproducibility.
  • the support adjustment part 160 it is most preferable to support the sample stage's own weight by the support adjustment part 160. It is considered effective. Regardless of the sample stage, even if the weight of the sample holder increases, providing the support adjusting unit 160 having an appropriate material and dimensions and the O-ring 120 for vacuum sealing can achieve both stage control performance and vacuum. .
  • the sample stage having the spherical fulcrum portion is increased in size and weight, the sample stage having the sample stage capable of performing the rotational motion of the spherical fulcrum portion with high accuracy is provided.
  • a charged particle beam apparatus can be provided.
  • FIG. 3 is a diagram for explaining the shape of the support adjusting portion in the charged particle beam apparatus according to the present embodiment (when the support adjusting portion is provided between the spherical fulcrum portion and the spherical fulcrum receiving portion).
  • (a) is a cross-sectional view of a spherical fulcrum part and a spherical fulcrum receiving part
  • (b), (c), (d), and (e) are cross-sectional views showing various shapes of the support adjusting part in the AB line of (a).
  • the thickness of the support adjustment unit 160 may be made uneven, a part of the spherical fulcrum part 100 may be covered instead of the entire circumference, or a plurality of support adjustment units 160 may be provided.
  • the rotational center axes of the spherical fulcrum part 100 and the spherical fulcrum receiving part 110 need to coincide with each other on the order of micrometers.
  • the eccentric amount of the rotation center axis in the spherical fulcrum part 100 can be adjusted, and the rotation center axes of the spherical fulcrum part 100 and the spherical fulcrum support part 110 can be easily matched.
  • the rotation of the support adjustment unit 160 can be performed, for example, during the maintenance of the sample stage.
  • the sample stage having the spherical fulcrum portion is increased in size and weight, the sample stage having the sample stage capable of performing the rotational motion of the spherical fulcrum portion with high accuracy is provided.
  • a charged particle beam apparatus can be provided. Further, by deflecting the shape of the support adjusting portion, it is possible to finely adjust the eccentric amount of the rotation center axis at the spherical fulcrum portion.
  • a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Note that matters described in the first or second embodiment but not described in the present embodiment can also be applied to the present embodiment unless there are special circumstances.
  • FIG. 4 shows a configuration in which the vacuum sealing O-ring 120 according to the first embodiment is provided also on the sample holding unit side with the support adjustment unit 160 interposed therebetween, and a region partitioned by the O-ring is used as a preliminary exhaust chamber.
  • the preliminary exhaust chamber in which the support adjusting portion and the sliding portion are arranged can be set to atmospheric pressure or vacuum.
  • the stage control performance (the ability to move and stand still with high reproducibility) was obtained. It was possible to increase the resolution and to observe with high resolution.
  • the sample stage having the spherical fulcrum portion is increased in size and weight, the sample stage having the sample stage capable of performing the rotational motion of the spherical fulcrum portion with high accuracy is provided.
  • a charged particle beam apparatus can be provided.
  • the availability of the charged particle beam apparatus can be improved by providing the preliminary exhaust chamber.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of an essential part of the charged particle beam device (in the case where the rigidity of the spherical fulcrum part and the spherical fulcrum receiving part are enhanced and the thermal expansion is reduced) according to the present embodiment.
  • a material for the spherical fulcrum part 100 and the spherical fulcrum receiving part 110 in the first embodiment it is desirable to select a material having a high density, a high rigidity, and a low thermal expansion coefficient. At least in the transmission electron microscope, considering that it is necessary to select components so as not to cause aberration in the objective lens, the material of the spherical fulcrum portion 104 and the spherical fulcrum support portion 111 shown in FIG. Tungsten, the body's heavy metal, can be selected.
  • plating 105 is applied to a part of the surface of a spherical fulcrum 104 made of heavy metal is shown.
  • the entire or a part of the surface thereof is plated 105 to prevent contact between metal materials or similar materials in the sliding part 102 and wear. It can be suppressed.
  • the plating material for example, resin, electroless nickel (Kanizen (registered trademark)) or the like can be selected, but diamond-like carbon (DLC) can also be selected. Since DLC has a high elastic coefficient and excellent mechanical rigidity, external noise related to vibration and sound is not easily transmitted to the sample mounting surface, and strain accumulation in DLC plating can be suppressed when the sample stage is moved. As a result, it is possible to suppress the release of strain after the sample stage is moved, which leads to improvement in static performance during sample observation. If DLC having a low hydrogen content is selected, surface roughness due to hydrogen loss from DLC plating can be suppressed, and stage control performance can be maintained over a long period of time.
  • the stage control performance (the ability to move and stand still with high reproducibility) was obtained. It was possible to increase the resolution and to observe with high resolution.
  • the sample stage having the spherical fulcrum portion is increased in size and weight, the sample stage having the sample stage capable of performing the rotational motion of the spherical fulcrum portion with high accuracy is provided.
  • a charged particle beam apparatus can be provided.
  • the stage control performance can be maintained over a long period of time by forming plating on the sliding portion.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of an essential part of the charged particle beam apparatus according to the present embodiment (when the vacuum sealing O-ring is held by the spherical fulcrum receiving part and the support adjusting part is held by the spherical fulcrum part).
  • a structure (here, a groove structure) 121 for holding the vacuum sealing O-ring is provided in the spherical fulcrum receiving portion, and a structure (here, the holding adjustment portion) is held.
  • (Groove structure) 161 was provided at the spherical fulcrum.
  • the sample stage having the spherical fulcrum portion is increased in size and weight, the sample stage capable of performing the rotational motion of the spherical fulcrum portion with high accuracy and charged particles with high resolution.
  • a wire device can be provided.
  • the support adjusting portion can be disposed without processing the conventional charged particle beam device main body side.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the main part of the charged particle beam apparatus according to the present embodiment (when the vacuum sealing O-ring and the support adjusting part are held by a spherical fulcrum part).
  • a structure 121 for holding the vacuum sealing O-ring and a structure 161 for holding the support adjusting portion are provided on the spherical fulcrum portion.
  • the sample stage having the spherical fulcrum portion is increased in size and weight, the sample stage capable of performing the rotational motion of the spherical fulcrum portion with high accuracy and charged particles with high resolution.
  • a wire device can be provided.
  • the structure 121 for holding the vacuum sealing O-ring and the structure 161 for holding the support adjusting portion are provided on the spherical fulcrum portion, so that the vacuum sealing O-ring 120 and the support adjusting portion are provided. 160 inspection and adjustment, lubricant application, replacement, and the like can be performed quickly.
  • this invention is not limited to the above-mentioned Example, Various modifications are included.
  • the above-described embodiments have been described in detail for easy understanding of the present invention, and are not necessarily limited to those having all the configurations described.
  • a part of the configuration of a certain embodiment can be replaced with the configuration of another embodiment, and the configuration of another embodiment can be added to the configuration of a certain embodiment.

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Abstract

サイドエントリ型試料ステージの球形支点部の回転運動を高精度に行うことのできる分解能の高い荷電粒子線装置を提供するために、試料保持部(132)と、試料保持部(132)を回転可能に支持する球形支点部(100)と、回転の軸受となる球形支点受け部(110)と、球形支点部(100)と球形支点受け部(110)との間に配置された、試料保持部(132)を真空に封止する真空封止部材(120)と球形支点部(100)の自重を支持する支持調整部(160)と、を備えた荷電粒子線装置とする。

Description

試料ステージおよびそれを用いた荷電粒子線装置
 本発明は、試料ステージおよびそれを用いた荷電粒子線装置に関する。
 透過電子顕微鏡をはじめとする荷電粒子線装置は空間分解能が高く、マイクロメートル(μm)、ナノメートル(nm)、サブナノメートル(sub-nm)領域の高い分解能で構造や組成に関する知識を得るためのツールとして非常に有効である。最近では、優れた試料透過能を活かし、材料科学や医学、生物学への応用研究、ならびに装置・観察手法の開発等を目的として、従来に比べて高い加速電圧を有することを特徴とする電子顕微鏡(以下、超高圧電子顕微鏡と呼ぶ。)が開発されている。
 前記超高圧電子顕微鏡を含む荷電粒子線装置では、先端に試料保持部を有する試料ホールダによって観察試料が支持され、試料位置決め装置によって試料ホールダごと試料の支持および移動する方法もある。例えば、少なくとも、円筒形の本体筒部と、当該試料支持部を回動可能に支持する球形支点部と、当該球形支点を支持する球形支点受け部を備えたサイドエントリ型試料ステージが知られている。サイドエントリ型試料ステージやそれを備えた荷電粒子線装置については、例えば特許文献1~4に開示されている。
 超高圧電子顕微鏡においては、汎用の荷電粒子線装置にくらべてはるかに高いエネルギーで電子を加速する必要があるため、レンズ、加速管や鏡体の大型化し、例えば直径50センチメートルをこえる鏡体が実際に製作されている。前記鏡体に搭載する試料ホールダや試料ステージも大型化し、全長が50センチメートルを超える試料ホールダや、全長が40センチメートルをこえる試料ステージが製作されている。
 そして、高い分解能で観察試料の構造や組成に関する情報を得るためには、ステージ制御性能を高めることも必要である。ステージ制御性能としては、観察視野探索中にステージを再現性良く移動する能力、試料観察中にステージを静止する能力などがあげられる。
特開2009-81080号公報 特開2004-259448号公報 特開2005-197003号公報 特開2013-157168号公報
 超高圧電子顕微鏡において原子レベルの観察を行うためには、超高圧電子顕微鏡以外の汎用の荷電粒子線装置をはるかに上回るステージ制御性能が求められる。例えばサブナノメートルオーダーでステージを再現性良く移動する能力、数10ピコメートルオーダーでステージを静止する能力が必要とされる。このようなステージ制御性能を実現するためには、外的な分解能劣化要因を極限まで抑える必要がある。そのためには、試料ステージを構成する部品に弾性係数の高い材料を使用することが有効である。弾性係数の高い材料を使用することで、試料ステージ動作時に試料ステージに蓄積するひずみが抑制できる。その結果としてひずみの開放を抑えられ、ステージ制御性能(特に試料観察中にステージを静止する能力)の向上が期待される。
 ここまで、超高圧電子顕微鏡において試料ステージの大型化が避けられないこと、試料ステージを構成する部品に弾性係数の高い材料(=硬い=重い)を使用することが望ましいことを説明したが、いずれの場合も、試料ステージの重量増大は避けて通ることができない問題となる。
 発明者等は、試料ステージの重量増大によっても、ステージ制御性能を維持できる方法を検討したので以下説明する。図1は、球形支点部100と、当該球形支点部を支持する球形支点受け部110と、両者間に働く力を説明する図である。真空封止用Oリング120によって、球形支点部100の右側は大気圧、球形支点部100の左側は真空が保たれる。真空封止用Oリング120が、球形支点部中心軸線101よりも右側にある場合、球形支点部100と球形支点受け部110との間には、重力が働く方向に垂直な方向に「大気圧による押圧力140」と「真空封止用Oリングの反発力142」の合力が働き、球形支点部100は、電子顕微鏡の鏡体150に接続された球形支点受け部110に押し付けられ、両者は摺動部102にて接触している。
 このとき、重力が働く方向と平行な方向に「試料ステージ自重による力141」が加わる。この力によって真空封止用Oリング120の下側が押しつぶされ、球形支点部100が沈みこみ、球形支点部100の回転中心と球形支点受け部110の回転中心がずれる可能性を検討した。その結果、球形支点部100と、固定端である球形支点受け部110との接触面にかかる面圧が不均一となることが分かった。
 このように、球形支点部100を中心とした高精度な回転運動を実現し、電子顕微鏡におけるステージ制御性能を維持するためには、重力が働く方向に垂直な方向に発生する「大気圧による押圧力140」と「真空封止用Oリングの反発力142」の合力と比較して、重力が働く方向と平行な方向に発生する「試料ステージ自重による力141」を小さく抑え、球形支点部100と球形支点受け部110における面圧を均一化することが望ましい。
 一般に「大気圧による押圧力140」と「真空封止用Oリングの反発力142」の合力は、試料ステージ本体の断面積に比例する。また「試料ステージ自重による力141」は、試料ステージの体積(すなわち断面積と全長の積)と、試料ステージを構成する材料の比重の積に比例する。したがって、試料ステージが大型化すると、試料ステージの断面積の増加を上回る割合で試料ステージ自重が増加する。ステージ制御性能を維持するためには、重力が働く方向に垂直な方向に発生する「大気圧による押圧力140」と「真空封止用Oリングの反発力142」の合力と比較して、重力が働く方向と平行な方向に発生する「試料ステージ自重による力141」を小さく抑え、球形支点部100と球形支点受け部110における面圧を均一化することが望ましい。
 また、試料ステージに弾性係数の高い材料を使用すると試料ステージ自重はさらに増加する。超高圧電子顕微鏡においては、試料ステージ自重が増加しても、重力が働く方向に垂直な方向に発生する「大気圧による押圧力140」と「真空封止用Oリングの反発力142」の合力と比較して、重力が働く方向と平行な方向に発生する「試料ステージ自重による力141」を小さく抑え、球形支点部100と球形支点受け部110における面圧を均一化することが、ステージ制御性能を維持するうえで重要である。
 重力が働く方向に垂直な方向に発生する力と比較して、重力が働く方向と平行な方向に発生する力を小さく抑えるための一つの手段として、重力が働く方向に垂直な方向に発生する力を増大する方法が考えられる。前記、重力が働く方向に垂直な方向に発生する力を調整する例として、特許文献2、特許文献3には、大気圧がステージに与える押圧力と同方向または逆方向の力を押ばねで加え、球形支点部と球形支点受け部との間にかかる押圧力を調整する方法に関して記載されている。また、特許文献2には、球形支点受け部付近に設置した真空封止用Oリングによる弾性力を発生させる方法について記載されている。
 しかし、重力が働く方向に垂直な方向に発生する力を増大すると、球形支点部と球形支点受け部との間にかかる面圧が増大する。その結果、面圧によって試料ステージにおける変形やひずみが増大し、ステージ制御性能を低下する懼れがある。また、面圧増大によって、球形支点部と球形支点受け部との接触部に発生する摩擦力が増大し、球形支点部や球形支点受け部の接触部における磨耗が発生し、寿命が低下する懼れがある。
 重力が働く方向に垂直な方向に発生する力と比較して、重力が働く方向と平行な方向に発生する力を小さく抑えるためのもう一つの手段として、重力が働く方向に平行な方向に発生する力をキャンセルする方法が考えられる。しかし、特許文献4に記載されているように、球形支点部に複数の球体からなる摺動部材を設け、真空保持用Oリングを複数設けることによっても全長が40センチメートルをこえるような超高圧電子顕微鏡用の試料ステージは、超高圧電子顕微鏡以外の汎用の荷電粒子線装置における試料ステージにくらべて2倍以上重くなっており、試料ステージ自重を十分に支えることが出来ない。
 さらに、超高圧電子顕微鏡以外の汎用の荷電粒子線装置においても、評価観察機能の追加によって試料ホールダ重量が増大する傾向がある。試料観察時には試料ホールダを試料ステージに搭載するので、試料ホールダの重量増大が球形支点部および球形支点受け部との間に与える影響は、試料ステージの重量増大と同じである。よって、超高圧電子顕微鏡以外の汎用の荷電粒子線装置においても、試料ホールダの重量増大によってステージ制御性能を阻害する懼れがある。
 試料ステージの自重によって、球形支点部と球形支点受け部の真空封止用Oリングの下側が押しつぶされることで球形支点部が沈みこみ、球形支点部の回転中心と球形支点受け部の回転中心軸がずれる。その結果、球形支点部と、固定端である球形支点受け部との接触面にかかる面圧が不均一となり、球形支点部を中心とした高精度な回転運動が実現できず、荷電粒子線装置におけるステージ制御性能を阻害する懼れがある。
 本発明の目的は、球形支点部を有する試料ステージが大型化し重量が増大した場合であっても、球形支点部の回転運動を高精度に行うことのできる試料ステージや分解能の高い荷電粒子線装置を提供することにある。
 上記目的を達成するための一実施形態として、サイドエントリ型の試料ステージを備えた荷電粒子線装置において、
  試料保持部と、
  前記試料保持部を回転可能に支持する球形支点部と、
  前記回転の軸受となる球形支点受け部と、
  前記球形支点部と前記球形支点受け部との間に配置された、前記試料保持部を真空に封止する真空封止部材と、前記球形支点部の自重を支持する支持調整部と、
を備えることを特徴とする荷電粒子線装置とする。
 また、荷電粒子線装置に搭載され、試料ホールダが内部に配置される筒部と前記筒部の先端部に配置された球形支点部とを備えたサイドエントリ型の試料ステージにおいて、
  前記球形支点部は、前記球形支点部の自重を支持する支持調整部が配置される溝構造を有することを特徴とする試料ステージとする。
 本発明によれば、球形支点部を有する試料ステージが大型化し重量が増大した場合であっても、球形支点部の回転運動を高精度に行うことのできる試料ステージや分解能の高い荷電粒子線装置を提供することができる。
球形支点部と、球形支点部を支持する球形支点受け部と、両者間に働く力を説明するための試料ステージの要部断面図である。 本発明の第1の実施例に係る荷電粒子線装置(球形支点部と球形支点受け部との間に支持調整部を設けた場合)の要部断面図である。 本発明の第2の実施例に係る荷電粒子線装置(球形支点部と球形支点受け部との間に支持調整部を設けた場合)における支持調整部の形状を説明するための図であり、(a)は球形支点部と球形支点受け部の断面図、(b)(c)(d)(e)は(a)のA-Bラインにおける支持調整部の各種形状を示す断面図である。 本発明の第3の実施例に係る荷電粒子線装置(Oリングで仕切られた予備排気室を設けた場合)の要部断面図である。 本発明の第4の実施例に係る荷電粒子線装置(球形支点部、球形支点受け部の部品剛性強化、低熱膨張化を図った場合)の要部断面図である。 本発明の第5の実施例に係る荷電粒子線装置(真空封止用Oリングを球形支点受け部で保持し、支持調整部を球形支点部で保持した場合)の要部断面図である。 本発明の第6の実施例に係る荷電粒子線装置(真空封止用Oリングと支持調整部を球形支点部で保持した場合)の要部断面図である。 本発明の各実施例に係る荷電粒子線装置(透過電子顕微鏡)の概略全体構成断面図である。
 以下、本発明を実施例により説明する。なお、実施例では透過電子顕微鏡を例に説明するがこれに限定されない。また、イオンを用いた顕微鏡や分析装置等、各種荷電粒子線装置に適用することができる。また、同一符号は同一構成要素を示す。
 本発明の第1の実施例について、図1と図8を用いて説明する。先ず、本発明に係る荷電粒子線装置の一例として、図8を用いて透過電子顕微鏡200の概略を説明する。電子銃201にて発生した電子線202は、アノード203で電子レンズの方向に加速され、集束レンズ204で収束された上で試料205に照射される。試料205は、電子線202が透過できる程度の厚さに薄膜化され、サイドエントリ型試料ステージ211の試料保持台(メッシュ)206に取り付けられている。このとき、試料保持台(メッシュ)206は、先端に試料保持部を有する透過電子顕微鏡用試料ホールダ207によって支持される。試料205を透過した電子線202を、対物レンズ208、結像レンズ209で拡大し、これを蛍光板210上に投影する。測定者は、蛍光板210上に現れる像を観察できる。透過電子顕微鏡内部で試料を移動させ所望の観察視野を得るための手段として、透過電子顕微鏡用試料ホールダ207を試料ステージ211に搭載し、試料位置決め装置(図示せず)によって試料ステージ211を介して透過電子顕微鏡用試料ホールダ207ごと試料205を移動することができる。
 次に、サイドエントリ型試料ステージの構成部品である球形支点部および球形支点受け部において、試料ステージの自重を支持する機構について説明する。
 図2は、本実施例に係る荷電粒子線装置の要部断面図であり、球形支点部100と球形支点受け部110との間に支持調整部160を設けた場合の構成を説明するための図である。図2は、サイドエントリ型試料ステージの先端部付近の断面を示しており、前記試料ステージは少なくとも、円筒形のステージ筒部103と、試料ホールダ130を回動可能に支持する球形支点部100と、を備える。当該球形支点部100を支持する球形支点受け部110は鏡体150側に配置されている。試料ホールダ130は、少なくとも、前記試料ステージの円筒形の本体筒部103および球形支点部100を貫通する棒状部材131と、試料保持部132とを備えている。観察試料は、試料位置決め装置(図示せず)によって試料ステージを介して試料ホールダ130ごと移動する構造となっており、観察時には真空中(試料室)において、前記試料保持部132によって支持され、荷電粒子線(ここでは電子線)151によって照射される。
 球形支点部100と球形支点受け部110との間に設けられた真空封止用Oリング120によって、前記真空封止用Oリング120より右側は大気圧に、左側は真空が保たれている。その圧力差によって、球形支点部100は、球形支点受け部110で直接接触する。 このとき、前記球形支点部100と前記球形支点受け部110との間に設けた支持調整部160により、前記球形支点部100を押し上げることで、試料ステージの自重による沈み込みがキャンセルされ、試料ステージの重量増大にかかわらず、前記球形支点部100や球形支点受け部110の回転中心軸を一致させることができる。これにより、球形支点部と球形支点受け部における接触力が均一化され、ステージ制御性能を確保することができる。なお、真空封止用Oリング120は、球形支点受け部110に設けた真空封止用Oリングを保持するための構造(ここでは溝構造)と、球形支点受け部110に設けた支持調整部160を保持するための構造(ここでは溝構造)によって保持される。
 前記支持調整部160を、前記真空封止用Oリング120よりも右側に設けた場合、前記支持調整部160は大気中に存在する。このとき、試料ステージの重心近くに前記支持調整部160を設置すれば力学的に安定する。前記支持調整部160の材料としては、球形支点部100を摺動させる部材としては特に限定されない。ゴム、テフロン(登録商標)、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド材、プラスチック、べスペル(登録商標)をはじめとする多種の材料の中から、支持調整に必要な弾性係数や摩擦係数を持つ材料を選択すればよい。なお、真空封止用Oリングよりも弾性係数が大きい方が望ましい。これにより、試料ステージの自重による沈み込みを小さく抑えることができる。
 図2に示すように、前記支持調整部160は、前記真空封止用Oリング120と、球形支点部100及び球形支点受け部110の摺動部102との間に設けても差し支えない。このとき、前記支持調整部160は真空中に存在するので、前記球形支点部100や球形支点受け部110との間の接触が安定する。前記支持調整部160の材料としては、球形支点部100を摺動させる部材としては特に限定されないが、前記支持調整部160は真空中に存在するため、真空に影響を与えにくく、かつ、真空封止用Oリングよりも弾性係数の大きな材料を選択するのが望ましい。なお、摺動部102における球形支点受け部110は図2に示すように直線(平面)であってもよいが、球形支点部側で凹面形状とすることもできる。図2の断面図上では、球形支点部と球形支点受け部とは点で接することが望ましい。
 前記試料ステージの自重による沈み込みをキャンセルする他の方法として、球形支点受け部110の形状を変更する方法も考えられる。例えば、試料ステージの自重による球形支点部100の沈み込み量をあらかじめ見積もり、前記沈み込み量に相当する厚みを追加した球形支点部100または球形支点受け部110を製作する方法や、球形支点部100または球形支点受け部110の加工後に前記球形支点部100の沈み込み量に相当する厚さの皮膜を蒸着やめっき処理で形成する方法などが考えられる。しかしながら、球形支点部100や球形支点受け部110を全く同じ寸法で加工したり、全く同じ寸法の皮膜を形成したりすることは実際には不可能であるので、試料ステージの定期メンテナンスなどで、球形支点部100や球形支点受け部110を交換したときに、両者を再現性よく精密に組み合わせることは難しい。
 前記試料ステージの自重による沈み込みをキャンセルする他の方法として、前記支持調整部160として板ばねやコイルばねを用いて、球形支点部100を押し上げる方法も考えられる。しかしながら、板ばねやコイルばねでは、前記球形支点部100を再現性よく押し上げることは難しい。
 よって、前記試料ステージの自重による沈み込みをキャンセルし、前記球形支点部100や球形支点受け部110の回転中心軸を一致させるためには、前記支持調整部160によって試料ステージ自重を支えることがもっとも有効と考えられる。試料ステージに限らず、試料ホールダ自重が増大しても、適切な材料および寸法の前記支持調整部160と、真空封止用Oリング120とを設けることで、ステージ制御性能と真空とを両立できる。
 図2に示す球形支点部と球形支点受け部とを備えた図8に示す荷電粒子線装置を用いて試料観察を行ったところ、ステージ制御性(再現性良く移動する、又静止する能力)を高めることができ高分解能な観察を行うことができた。
 以上本実施例によれば、球形支点部を有する試料ステージが大型化し重量が増大した場合であっても、球形支点部の回転運動を高精度に行うことのできる試料ステージを備えた分解能の高い荷電粒子線装置を提供することができる。
 本発明の第2の実施例について、図3を用いて説明する。なお、実施例1に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情が無い限り本実施例にも適用することができる。
 図3は、本実施例に係る荷電粒子線装置(球形支点部と球形支点受け部との間に支持調整部を設けた場合)における支持調整部の形状を説明するための図であり、(a)は球形支点部と球形支点受け部の断面図、(b)(c)(d)(e)は(a)のA-Bラインにおける支持調整部の各種形状を示す断面図である。例えば、支持調整部160の厚みを不均一にしたり、球形支点部100の全周ではなく一部をカバーしたり、支持調整部160を複数個備えたりして差し支えない。
 これまでの発明者らの実験検討の結果、球形支点部100と球形支点受け部110の回転中心軸をマイクロメートルオーダで一致させる必要があることが分かった。そのためには、前記球形支点部100を押し上げる力を調整できることが望ましい。支持調整部160を回転することにより、球形支点部100における回転中心軸の偏芯量を調整することができ、球形支点部100と球形支点受け部110の回転中心軸を一致させることが容易となる。支持調整部160の回転は、例えば試料ステージのメンテナンスの際に行うことができる。
 図3に示す支持調整部と球形支点部と球形支点受け部とを備えた図8に示す荷電粒子線装置を用いて試料観察を行ったところ、ステージ制御性(再現性良く移動する、又静止する能力)を高めることができ高分解能な観察を行うことができた。
 以上本実施例によれば、球形支点部を有する試料ステージが大型化し重量が増大した場合であっても、球形支点部の回転運動を高精度に行うことのできる試料ステージを備えた分解能の高い荷電粒子線装置を提供することができる。また、支持調整部の形状を偏向することにより、球形支点部における回転中心軸の偏芯量を微調整することが可能となる。
 本発明の第3の実施例について、図4を用いて説明する。なお、実施例1又は2に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情が無い限り本実施例にも適用することができる。
 図4は、実施例1における真空封止用Oリング120を、支持調整部160を挟んで試料保持部側にも設け、Oリングで仕切られた領域を予備排気室とした構成を示す。Oリングで仕切られた領域に真空排気装置を接続することにより、支持調整部や摺動部が配置された予備排気室内を大気圧としたり真空としたりすることができる。予備排気室を設けることで、試料交換、試料ステージや試料ホールダの定期メンテナンスなどが容易かつ迅速に行え、試料観察のスループットや、荷電粒子線装置の稼働率が向上する。
 図4に示す球形支点部と球形支点受け部とを備えた図8に示す荷電粒子線装置を用いて試料観察を行ったところ、ステージ制御性能(再現性良く移動する、又静止する能力)を高めることができ高分解能な観察を行うことができた。
 以上本実施例によれば、球形支点部を有する試料ステージが大型化し重量が増大した場合であっても、球形支点部の回転運動を高精度に行うことのできる試料ステージを備えた分解能の高い荷電粒子線装置を提供することができる。また、予備排気室を設けることにより、荷電粒子線装置の稼働率を向上することができる。
 本発明の第4の実施例について、図5を用いて説明する。なお、実施例1乃至3の何れかに記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情が無い限り本実施例にも適用することができる。図5は、本実施例に係る荷電粒子線装置(球形支点部、球形支点受け部の部品剛性強化、低熱膨張化を図った場合)の要部断面図である。
 図5を用いて部品剛性強化(振動固有周波数増大、振動振幅抑制)、低熱膨張化(周囲温度変化による試料ドリフト抑制)を行い、ステージ制御性能の向上を図った例について説明する。実施例1における球形支点部100と球形支点受け部110の材料として、高密度、高剛性かつ低熱膨張率である材料を選択することが望ましい。少なくとも透過電子顕微鏡においては、対物レンズに収差を発生させないように部品を選択する必要があることを考慮すると、図5に示す球形支点部104と球形支点受け部111の材料として、例えば、非磁性体のヘビーメタルであるタングステンが選択できる。
 ステージ制御性能を長期間にわたって維持するためには,ヘビーメタル製の球形支点部104と、ヘビーメタル製の球形支点部104との摺動部102における摺動性能を長期間にわたって確保する必要がある。ステージ制御性能を低下する要因の一つとして摺動部102の磨耗があげられる。
 本実施例では、一例として、ヘビーメタル製の球形支点部104の表面の一部にめっき105を施した例を示している。球形支点部104と、球形支点部104の一方または両方において、その表面の全部または一部にめっき105を施すことにより、摺動部102における金属材料同士、同種材同士の接触を防ぎ、磨耗を抑えられる。
 めっきの厚さは、膜状となる厚さであれば薄いほど望ましい。めっき材としては、例えば樹脂、無電解ニッケル(カニゼン(登録商標))などが選択可能であるが、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)を選択することもできる。DLCは弾性係数が高く機械的剛性に優れるため、振動や音響に関する外部ノイズが試料搭載面に伝わりにくくなるだけでなく、試料ステージ移動時にDLCめっきにおけるひずみの蓄積を抑制できる。その結果、試料ステージ移動後のひずみの開放も抑制できるので、試料観察時の静止性能の向上につながる。また、水素含有率の低いDLCを選択すれば、DLCめっきからの水素抜けによる表面荒れを抑えられるので、ステージ制御性能を長期間にわたって維持できる。
 図5に示す球形支点部と球形支点受け部とを備えた図8に示す荷電粒子線装置を用いて試料観察を行ったところ、ステージ制御性能(再現性良く移動する、又静止する能力)を高めることができ高分解能な観察を行うことができた。
 以上本実施例によれば、球形支点部を有する試料ステージが大型化し重量が増大した場合であっても、球形支点部の回転運動を高精度に行うことのできる試料ステージを備えた分解能の高い荷電粒子線装置を提供することができる。また、摺動部にめっきを形成することにより、ステージ制御性能を長期間にわたって維持できる。
 本発明の第5の実施例について、図6を用いて説明する。なお、実施例1乃至4の何れかに記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情が無い限り本実施例にも適用することができる。図6は、本実施例に係る荷電粒子線装置(真空封止用Oリングを球形支点受け部で保持し、支持調整部を球形支点部で保持した場合)の要部断面図である。
 図6に示すように本実施例では、真空封止用Oリングを保持するための構造(ここでは溝構造)121を球形支点受け部に設け、支持調整部を保持するための構造(ここでは溝構造)161を球形支点部に設けた。これにより、支持調整部160を保持するための構造を球形支点部に設けない従来の試料ステージや、支持調整部を保持するための構造161を球形支点部に設けた試料ステージを、球形支点受け部を交換することなく取り付けることができる。
 以上本実施例によれば、球形支点部を有する試料ステージが大型化し重量が増大した場合であっても、球形支点部の回転運動を高精度に行うことのできる試料ステージおよび分解能の高い荷電粒子線装置を提供することができる。また、支持調整部を保持するための構造を球形支点部に設けることにより、従来の荷電粒子線装置本体側を加工することなく支持調整部を配置することができる。
 本発明の第6の実施例について、図7を用いて説明する。なお、実施例1乃至4の何れかに記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情が無い限り本実施例にも適用することができる。図7は、本実施例に係る荷電粒子線装置(真空封止用Oリングと支持調整部を球形支点部で保持した場合)の要部断面図である。
 図7に示すように本実施例では、真空封止用Oリングを保持するための構造121と、支持調整部を保持するための構造161とを、球形支点部に設けた。定期的な装置メンテナンス時に、試料ステージを荷電粒子線装置から取り外すと、真空封止用Oリング120と、支持調整部160も試料ステージと一体となって同時に取り外せるので、真空封止用Oリング120と、支持調整部160の点検調整、潤滑材塗布、交換などを迅速に行うことができる。
 以上本実施例によれば、球形支点部を有する試料ステージが大型化し重量が増大した場合であっても、球形支点部の回転運動を高精度に行うことのできる試料ステージおよび分解能の高い荷電粒子線装置を提供することができる。また、真空封止用Oリングを保持するための構造121と、支持調整部を保持するための構造161とを、球形支点部に設けることにより、真空封止用Oリング120と、支持調整部160の点検調整、潤滑材塗布、交換などを迅速に行うことができる。
 なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることも可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
100…球形支点部、101…球形支点部中心軸線、102…摺動部、103…ステージ筒部、104…ヘビーメタル製の球形支点部、105…めっき、110…球形支点受け部、111…ヘビーメタル製の球形支点受け部、120…真空封止用Oリング、121…真空封止用Oリングを保持するための構造、130…試料ホールダ、131…棒状部材、132…試料保持部、140…大気圧による押圧力、141…試料ステージ自重による力、142…真空封止用Oリングの反発力、150…鏡体、151…荷電粒子線、160…支持調整部、161…支持調整部を保持するための構造、200…透過電子顕微鏡、201…電子銃、202…電子線、203…アノード、204…集束レンズ、205…試料、206…試料保持台、207…透過電子顕微鏡用試料ホールダ、208…対物レンズ、209…結像レンズ、210…蛍光板、211…試料ステージ。

Claims (15)

  1.  サイドエントリ型の試料ステージを備えた荷電粒子線装置において、
      試料保持部と、
      前記試料保持部を回転可能に支持する球形支点部と、
      前記回転の軸受となる球形支点受け部と、
      前記球形支点部と前記球形支点受け部との間に配置された、前記試料保持部を真空に封止する真空封止部材と、前記球形支点部の自重を支持する支持調整部と、
    を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
  2.  請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
      前記支持調整部を構成する材料は、前記真空封止部材よりも弾性係数が大きいことを特徴とする荷電粒子線装置。
  3.  請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
      前記支持調整部は、前記球形支点の下側に配置されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
  4.  請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
      前記真空封止部材は少なくとも2つ設けられ、前記支持調整部材と、前記球形支点部および前記球形支点受け部の摺動部と挟んでその外側に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  5.  請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
      前記球形支点部および前記球形支点受け部の摺動部はめっきされていることを特徴とする荷電粒子線装置。
  6.  請求項5に記載の荷電粒子線装置において、
      前記めっきは、ダイヤモンドライクカーボンめっき又は無電解ニッケルめっきであることを特徴とする荷電粒子線装置。
  7.  請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
      前記支持調整部は、前記真空封止部材よりも試料保持部側に配置されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
  8.  請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
      前記真空封止部材は、前記支持調整部よりも試料保持部側に配置されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
  9.  請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
      前記支持調整部および前記真空封止部材は、前記球形支点受け部に形成された溝構造の内部に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  10.  請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
      前記真空封止部材は、前記球形支点受け部に形成された溝構造の内部に配置され、
      前記支持調整部は、前記球形支点部に形成された溝構造の内部に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  11.  請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
      前記支持調整部および前記真空封止部材は、前記球形支点部に形成された溝構造の内部に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  12.  荷電粒子線装置に搭載され、試料ホールダが内部に配置される筒部と前記筒部の先端部に配置された球形支点とを備えたサイドエントリ型の試料ステージにおいて、
      前記球形支点部は、前記球形支点部の自重を支持する支持調整部が配置される溝構造を有することを特徴とする試料ステージ。
  13.  請求項12に記載の試料ステージにおいて、
      前記球形支点部は、前記荷電粒子線装置の本体に配置された球形支点受け部と前記試料ステージとの間を真空封止するための真空封止部材が配置される溝構造を更に有することを特徴とする試料ステージ。
  14.  請求項13に記載の試料ステージにおいて、
      前記支持調整部を構成する材料は、前記真空封止部材よりも弾性係数が大きいことを特徴とする試料ステージ。
  15.  請求項12に記載の試料ステージにおいて、
      前記球形支点部および前記荷電粒子線装置の本体に配置された球形支点受け部の摺動部はめっきされていることを特徴とする試料ステージ。
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