WO2016206134A1 - 一种阵列基板及其制造方法 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to the field of semiconductor processing, and in particular to an array substrate and a method of fabricating the same.
  • the COA technology can reduce the line width of the black matrix on the liquid crystal display substrate and increase the aperture ratio of the liquid crystal display substrate, and the transmittance of the corresponding liquid crystal display substrate is also greatly improved.
  • the drive circuit region comprises a thin film transistor circuit.
  • a method of fabricating an array substrate comprising an array substrate construction step and a color filter color resist coating step, the array substrate comprising a display area and a non-display area,
  • the color filter color blocking step In the color filter color blocking step:
  • Color filter color blocking completely covers the display area
  • the non-display area includes a driving circuit region, and in the color filter color resisting step, the color filter color resist is not covered by the driving circuit region.
  • the non-display area includes a trace area, and in the color filter color resisting step, the color filter color resist portion is caused to cover the trace area.
  • FIG. 1 is a plan view showing a portion of an array substrate according to an embodiment of the invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a portion of an array substrate in accordance with an embodiment of the present invention.
  • the transmittance of light is greatly reduced. This results in defects or defects in the detection and repair of the array that will not be easily detected and cannot be repaired, ultimately reducing the yield.
  • the array substrate can be divided into a plurality of regions having different structures/functions according to different structural functions, including: a driving circuit region including a driving circuit (thin film transistor circuit), and a trace including a trace (data line/scanning line).
  • a driving circuit region including a driving circuit (thin film transistor circuit)
  • a trace including a trace (data line/scanning line).
  • the division of the above regions is mainly based on different structures/functions of different regions on the array substrate, and each region does not completely have a clear boundary in an ideal state.
  • the role of the trace area is to connect the drive circuit area and the display area, which causes some areas of the trace area to coincide with other areas.
  • the color filter color resist is only covered on the display area.
  • the mere coverage here is still based on the premise of ensuring the normal function of the array substrate. example For example, in the boundary of the display area and the overlap of the display area and other areas (such as the wiring area), in order to ensure the normal function of the array substrate (no light leakage), the boundary of the display area and the display area and other areas (such as the routing area) The overlap of the color needs to be covered by color filter.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a portion of an array substrate in accordance with an embodiment of the present invention.
  • the lowermost 201 is a glass substrate
  • 202 is a gate line
  • 203 is a data line
  • a dashed line frame 220 is a thin film transistor
  • a black area 204 is a color filter color resistor.

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Abstract

一种阵列基板及其制造方法。所述阵列基板包括显示区（153）以及非显示区且阵列基板设置有彩色滤光色阻（101、102、103、204），其中：彩色滤光色阻（101、102、103、204）完全覆盖显示区（153）；彩色滤光色阻（101、102、103、204）不覆盖/部分覆盖非显示区。与现有技术相比，该阵列基板的结构更加便于进行阵列检测/修补，根据该阵列基板制造方法可以大大提高阵列基板的良品率。

Description

一种阵列基板及其制造方法
相关技术的交叉引用
本申请要求享有2015年06月26日提交的名称为：“一种阵列基板及其制造方法”的中国专利申请CN201510362901.X的优先权，其全部内容通过引用并入本文中。
技术领域
本发明涉及半导体加工领域，具体说涉及一种阵列基板及其制造方法。
背景技术
随着液晶显示屏制造技术的发展，当前越来越多的阵列基板使用了彩色滤光片集成技术(Color-filter on Array，COA)。COA技术是将彩色滤光片(Color-filter，CF)与阵列基板(Array)集成在一起的一种集成技术。采用COA技术的阵列基板具有以下优点：
1)上下基板自对准。在传统结构下，当前后两片玻璃基板上分别加工完成薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列和彩色滤光色阻后，需要将两片玻璃基板上相应的像素位置对准后再封盒。即存在一个对准工艺，对准工艺的准确性将直接影响显示器的质量。采用COA技术后，因TFT阵列以及彩色滤光色阻都在一片玻璃基板上，可以自对准，省却了对准工艺，简化了加工过程，提高了产品质量。
2)降低成本。彩色滤光片在液晶显示器的成本中占有很大的比重，将彩色滤光片集成制备在阵列基板上可以减少彩色滤光片的制造工艺，有效降低成本。另外，彩色滤光片和阵列基板往往由不同厂商生产，在配合上需要消耗人力物力，质量也难以保证。而COA技术可以解决上述问题，降低成本。
3)提高产品性能。采用COA技术可将降低液晶显示屏基板上黑色矩阵(black matrix)的线宽，提高液晶显示屏基板的开口率，相应的液晶显示屏基板的透过率也被大大提高。
在液晶显示屏的制造过程中，在阵列基板完成后，需要进行阵列检测和修补来提高良品率。阵列检测和修补是通过测试设备检测后，通过人寻找缺陷或者不良的位置进行修补。
对于采用COA技术的阵列基板，由于在阵列基板上集成有彩色滤光色阻，因此阵列检测和修补只能针对有彩色滤光色阻覆盖的阵列基板进行。但是，彩色滤光色阻会对阵列检测和修补产生干扰，提高缺陷或者不良的位置的发现难度，最终影响阵列基板的良品率。 相对于没有采用COA技术的阵列基板，采用COA技术的阵列基板的良品率相对偏低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是采用COA技术的阵列基板的良品率相对偏低的问题。为解决上述问题，本发明的一个实施例首先提供了一种阵列基板，所述阵列基板设置有彩色滤光色阻，所述阵列基板包括显示区以及非显示区，在所述阵列基板上：
所述彩色滤光色阻完全覆盖所述显示区；
所述彩色滤光色阻不覆盖/部分覆盖所述非显示区。
根据本发明的一个实施例，所述非显示区包括驱动电路区，其中，所述彩色滤光色阻不覆盖所述驱动电路区。
根据本发明的一个实施例，所述驱动电路区包括薄膜晶体管电路。
根据本发明的一个实施例，所述非显示区包括走线区，所述彩色滤光色阻不覆盖所述走线区。
根据本发明的一个实施例，所述非显示区包括走线区，所述彩色滤光色阻部分覆盖所述走线区。
根据本发明的一个实施例，所述走线区包括用于传输扫描信号的扫描线以及用于传输数据信号的数据线，所述彩色滤光色阻不覆盖所述扫描线和/或所述数据线。
根据本发明的一个实施例，所述彩色滤光色阻仅仅覆盖所述显示区。
根据本发明的另一方面，还提供了一种阵列基板的制造方法，所述方法包含阵列基板构造步骤以及彩色滤光色阻覆盖步骤，所述阵列基板包含显示区以及非显示区，在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中：
将彩色滤光色阻完全覆盖所述显示区；
令所述彩色滤光色阻不覆盖/部分覆盖所述非显示区。
根据本发明的一个实施例，所述非显示区包括驱动电路区，在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中，令所述彩色滤光色阻不覆盖所述驱动电路区。
根据本发明的一个实施例，在所述阵列基板构造步骤中，在所述驱动电路区构造薄膜晶体管电路。
根据本发明的一个实施例，所述非显示区包括走线区，在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中，令所述彩色滤光色阻不覆盖所述走线区。
根据本发明的一个实施例，所述非显示区包括走线区，在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中，令所述彩色滤光色阻部分覆盖所述走线区。
根据本发明的一个实施例：
在所述阵列基板构造步骤中，在所述走线区构造用于传输扫描信号的扫描线以及用于传输数据信号的数据线；
在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中，令所述彩色滤光色阻不覆盖所述扫描线和/或所述数据线。
根据本发明的一个实施例，在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中，令所述彩色滤光色阻仅仅覆盖所述显示区。
与现有技术相比，本发明的阵列基板降低了彩色滤光色阻的覆盖率从而减少了彩色滤光色阻对阵列检测/修补的干扰。本发明的阵列基板的结构更加便于进行阵列检测/修补，根据本发明的阵列基板以及阵列基板制造方法可以大大提高集成了彩色滤光片的阵列基板的良品率。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要的附图做简单的介绍：
图1是根据本发明一实施例的阵列基板一部分的平面示意图；
图2是根据本发明一实施例的阵列基板一部分的截面示意图。
具体实施方式
以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式，借此本发明的实施人员可以充分理解本发明如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程并依据上述实现过程具体实施本发明。需要说明的是，只要不构成冲突，本发明中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合，所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。
同时，在以下说明中，出于解释的目的而阐述了许多具体细节，以提供对本发明实施例的彻底理解。然而，对本领域的技术人员来说显而易见的是，本发明可以不用这里的具体细节或者所描述的特定方式来实施。
在当前的液晶基板生产过程中，相对于没有采用COA技术的阵列基板，采用COA技术的阵列基板的良品率相对偏低。其主要原因在于液晶显示屏基板上的彩色滤光色阻干 扰了对阵列的检测和修补。
具体的，对于集成了彩色滤光色阻的阵列基板，由于彩色滤光色阻覆盖在阵列基板之上，使得光的透过率将大大降低。这就导致了在进行阵列的检测和修补时缺陷或者不良将不容易被发现而无法修补，最终降低了良品率。
为了解决采用COA技术的液晶显示屏基板的良品率相对偏低的问题，本发明提出了一种基于彩色滤光片集成技术的阵列基板。本发明的目的是尽可能的降低彩色滤光色阻对阵列检测/修补的干扰。
基于上述思路，本发明采用部分覆盖的方式来构造彩色滤光色阻。彩色滤光色阻覆盖在阵列基板的一部分区域上，即，在维持阵列基板正常功能的前提下在阵列基板的特定区域上不覆盖彩色滤光色阻以降低彩色滤光色阻的覆盖率。
对应本发明提出的阵列基板，本发明还提出了一种阵列基板的制造方法。本发明的方法主要包含阵列基板构造步骤以及彩色滤光色阻覆盖步骤。彩色滤光色阻覆盖步骤是基于COA技术将彩色滤光色阻部分覆盖在阵列基板上以形成彩色滤光色阻。
在本发明的一实施例中，采用了如下步骤来实现彩色滤光色阻的部分覆盖。首先将彩色滤光色阻覆盖在阵列基板上以构成全覆盖的彩色滤光色阻；然后对全覆盖的彩色滤光色阻进行处理，去除阵列基板上特定的一个或多个区域处的彩色滤光色阻。
阵列基板根据结构功能的不同从平面上可划分为多个具有不同结构/功能的区域，包括：包含驱动电路(薄膜晶体管电路)的驱动电路区、包含走线(数据线/扫描线)的走线区以及用于控制光线透射的显示区。这里需要说明的是，以上各区的划分主要是基于阵列基板上不同区域的不同结构/功能，各个区域并不完全具有理想状态下的明确边界。(例如走线区的作用是连接驱动电路区以及显示区，这就导致走线区的某些区域会和其他区域重合。)
彩色滤光色阻的功能是改变透过阵列基板的光线的颜色。在阵列基板上，实现控制光线透射功能的区域为显示区(将显示区以外的区域定义为非显示区)。因此，只要保证彩色滤光色阻覆盖在显示区就能维持阵列基板(彩色滤光色阻)的正常功能。非显示区上是否覆盖彩色滤光色阻并不影响阵列基板(彩色滤光色阻)的正常功能。
基于上述分析，为了降低彩色滤光色阻的覆盖率，提高缺陷或者不良被发现的几率，在本发明的一实施例的阵列基板上，彩色滤光色阻完全覆盖显示区，并且彩色滤光色阻不覆盖/部分覆盖非显示区。
为了尽可能低的降低彩色滤光色阻的覆盖率，在本发明的另一实施例中，彩色滤光色阻仅仅覆盖在显示区上。在这里的仅仅覆盖依然是以保证阵列基板正常功能为前提的。例 如在显示区的边界以及显示区与其他区域(如走线区)的重合处，为保证阵列基板正常功能(不漏光)，在显示区的边界以及显示区与其他区域(如走线区)的重合处需要有彩色滤光色阻覆盖。
阵列基板上的驱动电路区包含驱动电路(薄膜晶体管电路)。在液晶显示屏基板的制造过程中，缺陷或者不良会出现在驱动电路区，阵列检测/修补也主要针对驱动电路区的缺陷。同时，驱动电路区是否覆盖彩色滤光色阻并不影响阵列基板的正常功能。因此在本发明的一实施例中，彩色滤光色阻不覆盖驱动电路区。
进一步的，缺陷或者不良会出现在走线区且走线区是否覆盖彩色滤光色阻并不影响彩色滤光色阻的正常功能。因此在本发明的一实施例中，彩色滤光色阻不覆盖走线区。同时，在本发明的另一实施例中，彩色滤光色阻部分覆盖走线区。
进一步细化，走线区包含用于传输数据信号的数据线(Data)以及用于传输扫描信号的扫描(Gate)线。根据实际情况在本发明的一实施例中，彩色滤光色阻不覆盖数据线和/或扫描线。
接下来以根据本发明的一阵列基板来具体描述本发明的实施效果。图1为根据本发明一实施例的阵列基板一部分的平面示意图。在图1中，113处构造有薄膜晶体管，因此113处属于驱动电路区；123代表一扫描线；133代表一数据线；虚线框153所代表的区域为显示区。
填充区域101、102、103分别代表红(R)、绿(G)、蓝(B)三种彩色滤光色阻所覆盖的区域。如图1所示，从平面上看，每种彩色滤光色阻(101、102或103)的覆盖区并不是完整的一个区域，而是分为了多个多边形区域(由于图1只显示基板的一部分，因此在图1中每种彩色滤光色阻对应两个多边形区)。即在图1中，彩色滤光色阻(101、102、103)实现了不完全覆盖，相较完全覆盖，图1的彩色滤光色阻的覆盖率大大降低。
为了方便描述，接下来主要针对一种颜色的彩色滤光色阻(103)的覆盖情况进行描述，其他两种颜色的彩色滤光色阻(101以及102)与103的情况相同，就不再赘述。
图1中，驱动电路区113以及扫描线123所处的位置没有覆盖彩色滤光色阻103。这样，彩色滤光色阻103就不会干扰到针对驱动电路区113以及扫描线123进行的阵列检测/修补。
接下来以截面图具体描述彩色滤光色阻的覆盖情况。图2为根据本发明一实施例的阵列基板一部分的截面示意图。在图2中，最下方的201为玻璃基板，202为扫描(Gate)线，203为数据线，虚线框220内为薄膜晶体管，黑色的区域204为彩色滤光色阻。
如图2所示，在扫描(Gate)线202、数据线203以及薄膜晶体管220上方并没有覆 盖彩色滤光色阻204。也就是说，从平面上看，彩色滤光色阻204没有覆盖扫描(Gate)线202、数据线203以及薄膜晶体管220对应的区域。
综上，与现有技术相比，本发明的阵列基板降低了彩色滤光色阻的覆盖率从而减少了彩色滤光色阻对阵列检测/修补的干扰。本发明的阵列基板的结构更加便于进行阵列检测/修补，根据本发明的阵列基板以及阵列基板制造方法可以大大提高集成了彩色滤光片的阵列基板的良品率。
虽然本发明所公开的实施方式如上，但所述的内容只是为了便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。本发明所述的方法还可有其他多种实施例。在不背离本发明实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变或变形，但这些相应的改变或变形都应属于本发明的权利要求的保护范围。

Claims (14)

  1. 一种阵列基板，所述阵列基板设置有彩色滤光色阻，所述阵列基板包括显示区以及非显示区，在所述阵列基板上：
    所述彩色滤光色阻完全覆盖所述显示区；
    所述彩色滤光色阻不覆盖/部分覆盖所述非显示区。
  2. 根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述非显示区包括驱动电路区，所述彩色滤光色阻不覆盖所述驱动电路区。
  3. 根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述驱动电路区包括薄膜晶体管电路。
  4. 根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述非显示区包括走线区，所述彩色滤光色阻不覆盖所述走线区。
  5. 根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述非显示区包括走线区，所述彩色滤光色阻部分覆盖所述走线区。
  6. 根据权利要求5所述的阵列基板，其中，所述走线区包括用于传输扫描信号的扫描线以及用于传输数据信号的数据线，所述彩色滤光色阻不覆盖所述扫描线和/或所述数据线。
  7. 根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述彩色滤光色阻仅仅覆盖所述显示区。
  8. 一种阵列基板的制造方法，所述方法包含阵列基板构造步骤以及彩色滤光色阻覆盖步骤，所述阵列基板包含显示区以及非显示区，在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中：
    将彩色滤光色阻完全覆盖所述显示区；
    令所述彩色滤光色阻不覆盖/部分覆盖所述非显示区。
  9. 根据权利要求8所述的方法，其中，所述非显示区包括驱动电路区，在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中，令所述彩色滤光色阻不覆盖所述驱动电路区。
  10. 根据权利要求9所述的方法，其中，在所述阵列基板构造步骤中，在所述驱动电路区构造薄膜晶体管电路。
  11. 根据权利要求8所述的方法，其中，所述非显示区包括走线区，在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中，令所述彩色滤光色阻不覆盖所述走线区。
  12. 根据权利要求8所述的方法，其中，所述非显示区包括走线区，在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中，令所述彩色滤光色阻部分覆盖所述走线区。
  13. 根据权利要求12所述的方法，其中：
    在所述阵列基板构造步骤中，在所述走线区构造用于传输扫描信号的扫描线以及用于传输数据信号的数据线；
    在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中，令所述彩色滤光色阻不覆盖所述扫描线和/或所述数据线。
  14. 根据权利要求8所述的方法，其中，在所述彩色滤光色阻覆盖步骤中，令所述彩色滤光色阻仅仅覆盖所述显示区。
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