WO2016158727A1 - 樹脂膜形成用シート、及び樹脂膜形成用複合シート - Google Patents
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Abstract
Description
一般的に、この樹脂膜付きチップは、樹脂を含む組成物の溶液をスピンコート法等により、ウエハの裏面に塗布して塗膜を形成した後、当該塗膜を乾燥及び硬化させて、樹脂膜を形成し、得られた樹脂膜付きウエハをダイシングすることで製造される。
例えば、特許文献1には、アクリル系共重合体からなるポリマー成分、エネルギー線硬化性成分、染料又は顔料、無機充填材、及び光重合開始剤を含むエネルギー線硬化型保護膜形成層が2枚の剥離シートに挟持された構成を有するチップ保護用フィルムが開示されている。
特許文献1の記載によれば、当該チップ保護用フィルムは、エネルギー線の照射によって、レーザーマーキング認識性、硬度、及びウエハとの密着性を向上させた保護膜を形成することが可能であり、従来のチップ保護用フィルムに比べて、工程の簡略化が可能とされている。
特許文献2の記載によれば、当該ウエハ裏面保護フィルムは、半導体ウエハのダイシング工程において、半導体ウエハとの優れた保持力を発揮することが可能とされている。
特許文献1及び2に開示された保護フィルムは、貼付時のウエハとの密着性や、貼付後のウエハとの保持力の向上を目的としたものであるため、ウエハ上に一旦貼り付くと、ウエハとの密着性が高いために、リワーク性に問題がある。ウエハ上に一度貼付した保護フィルムを強引に剥がそうとすると、剥がす力によってウエハが破損したり、ウエハ上に保護フィルムの一部が残存してしまう場合がある。そのため、一度保護フィルムと貼付したウエハを再利用することは難しい。
つまり、特許文献1及び2では、記載された保護フィルムについて、貼付時のウエハとの密着性や、貼付後のウエハとの保持力の観点からの検討はされているものの、保護フィルムのリワーク性についての検討は一切なされていない。
〔1〕シリコンウエハに貼付され、当該シリコンウエハ上に樹脂膜を形成するためのシートであって、
シリコンウエハと貼付される側の当該シートの表面(α)の表面粗さ(Ra)が40nm以上である、樹脂膜形成用シート。
〔2〕重合体成分(A)及び硬化性成分(B)を含む、上記〔1〕に記載の樹脂膜形成用シート。
〔3〕重合体成分(A)が、アクリル系重合体(A1)を含む、上記〔2〕に記載の樹脂膜形成用シート。
〔4〕熱硬化性成分(B1)を含む、上記〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載の樹脂膜形成用シート。
〔5〕充填材(C)を含む、上記〔1〕~〔4〕のいずれか1項に記載の樹脂膜形成用シート。
〔6〕充填材(C)の含有量が、前記樹脂膜形成用シートの全量に対して、10~80質量%である、上記〔5〕に記載の樹脂膜形成用シート。
〔7〕充填材(C)の平均粒子径が、100~1000nmである、上記〔5〕又は〔6〕に記載の樹脂膜形成用シート。
〔8〕シリコンウエハ上に保護膜を形成するための保護膜形成用シートである、上記〔1〕~〔7〕のいずれか1項に記載の樹脂膜形成用シート。
〔9〕前記樹脂膜形成用シートの表面(α)をシリコンウエハに貼付後、当該樹脂膜形成用シートから形成された樹脂膜の当該シリコンウエハとは反対側の表面(β’)から測定したグロス値が25以上となる、上記〔1〕~〔8〕のいずれか1項に記載の樹脂膜形成用シート。
〔10〕上記〔1〕~〔9〕のいずれか1項に記載の樹脂膜形成用シートと、支持体とを有する、樹脂膜形成用複合シート。
〔11〕シリコンウエハに貼付され、当該シリコンウエハ上に樹脂膜を形成するための樹脂膜形成用シートと、支持体(I)とを有し、
シリコンウエハと貼付される側の前記樹脂膜形成用シートの表面(α)と、表面粗さが40nm以上の支持体(I)の表面(i)とが直接積層した構成を有する、樹脂膜形成用複合シート。
〔12〕前記樹脂膜形成用複合シートが有する支持体(I)を除去した際に表出する前記樹脂膜形成用シートの表面(α)の表面粗さ(Ra)が40nm以上である、上記〔11〕に記載の樹脂膜形成用複合シート。
〔13〕前記樹脂膜形成用シートが、熱硬化性成分(B1)を含む、上記〔11〕又は〔12〕に記載の樹脂膜形成用複合シート。
〔14〕前記樹脂膜形成用シートの表面(α)とは反対側の表面(β)上に、さらに第2の支持体(II)が直接積層した構成を有し、
前記樹脂膜形成用シートが熱硬化性成分(B1)を含有する、上記〔11〕又は〔12〕に記載の樹脂膜形成用複合シート。
〔15〕支持体(II)が、粘着剤層を有する粘着シートであり、当該粘着剤層と前記樹脂膜形成用シートの表面(β)とが直接積層した構成を有する、上記〔14〕に記載の樹脂膜形成用複合シート。
また、本明細書において、例えば「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」の双方を示す語として用いており、他の類似用語についても同様である。
さらに、本明細書において、「エネルギー線」とは、例えば、紫外線や電子線等を指す。
本発明の樹脂膜形成用シートは、シリコンウエハに貼付され、当該シリコンウエハ上に樹脂膜を形成するためのシートであって、シリコンウエハと貼付される側の当該シートの表面(α)の表面粗さ(Ra)(以下、単に「表面(α)の表面粗さ(Ra)」ともいう)が40nm以上である。
一方、表面(α)の表面粗さ(Ra)が40nm未満の樹脂膜形成用シートをシリコンウエハに貼付後に剥離しようとすると、シリコンウエハ上に当該樹脂膜形成用シートの残渣が発生してしまう場合がある。また、強引に剥離しようとすると、シリコンウエハが破損してしまう場合もある。
ただし、シリコンウエハとの密着性が良好となる樹脂膜形成用シートとする観点から、本発明の樹脂膜形成用シートの表面(α)の表面粗さ(Ra)は、好ましくは150nm以下、より好ましくは100nm以下、更に好ましくは80nm以下である。
また、表面(α)の表面粗さ(Ra)は、例えば、樹脂膜形成用シート中に含まれ得る充填材や着色剤等の微粒子成分の種類、平均粒径、及び含有量等を適宜設定することで調整可能である。また、表面の粗い支持体を貼り合せることでも調整できる。
当該範囲内であれば、樹脂膜形成用シートから形成した後述する樹脂膜の表面(β’)のグロス値を高く調整することが容易となる。また、樹脂膜形成用シートから形成された樹脂膜を有するシリコンウエハや、シリコンウエハから得られるチップ等に対して、赤外線等の電磁波による検査を行う場合に、電磁波の透過性を高くすることができる。
樹脂膜の表面(β’)のグロス値が25以上であれば、レーザー印字の視認性に優れた樹脂膜とすることができる。
当該光線透過率が25%以上であれば、赤外線の透過性が良好になり、樹脂膜形成用シートもしくは当該樹脂膜形成用シートから形成された樹脂膜を備えるシリコンウエハ又はチップに対して、赤外線検査を行うことできる。つまり、樹脂膜形成用シートもしくは樹脂膜を介して、シリコンウエハ又はチップに生じたクラック等を容易に発見することができるため、製品歩留まりを向上させることができる。
なお、樹脂膜形成用シートの波長1250nmの光線透過率は、実施例に記載の方法により測定された値を意味する。
また、本発明の樹脂膜形成用シートは、1種の組成物から形成された単層体でもよく、2種以上の組成物から形成された複層体であってもよい。
なお、本発明の一態様の樹脂膜形成用シートが複層体である場合、表面(α)側の形成材料である組成物(α’)は、表面(α)の表面粗さ(Ra)が上記範囲となるように、成分の種類や配合量を調整することが好ましい。
また、特に樹脂膜形成用シートが貼付されるシリコンウエハの厚さが薄い場合には、樹脂膜形成用シートの厚さとしては、好ましくは1~20μm、より好ましくは3~15μmである。
なお、樹脂膜形成用シートが2層以上から構成された複層体である場合も、当該複層体の総厚が上記範囲であることが好ましい。
本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、表面(α)の表面粗さ(Ra)が上記範囲となるものであれば、構成成分は特に制限はされない。
ただし、シート状の形状維持性を良好である樹脂膜形成用シートとする観点から、本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、重合体成分(A)及び硬化性成分(B)を含むものであることが好ましい。
また、表面(α)の表面粗さ(Ra)を上記範囲に調整する観点、並びに、樹脂膜形成用シートから形成される樹脂膜の熱膨張係数を適度な範囲に調整する観点から、本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、充填材(C)を含むことが好ましい。
さらに、本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに着色剤(D)、カップリング剤(E)、及び汎用添加剤(F)から選ばれる1種以上を含んでいてもよい。
以下、本発明の一態様の樹脂膜形成用シートの構成成分となり得る、上記成分(A)~(F)について説明する。
本明細書において、「重合体成分」とは、重合反応により得られる高分子量体であり、少なくとも1種の繰り返し単位を有する化合物を意味する。
本発明の一態様で用いる樹脂膜形成用シートは、重合体成分(A)を含有することで、可とう性が容易に付与され、シート状の形状維持性を良好とすることができる。その結果、樹脂膜形成用シートの貯蔵弾性率を上述の範囲に調整することができる。
重合体成分(A)の質量平均分子量(Mw)としては、得られる樹脂膜形成用シートの貯蔵弾性率を上述の範囲に調整する観点から、好ましくは2万以上、より好ましくは2万~300万、更に好ましくは10万~200万、より更に好ましくは15万~150万である。
さらに、上記の「有効成分」とは、組成物中の溶媒等の直接的及び間接的に反応や形成されるシートの物性に影響を与えない物質を除いた成分を意味し、具体的には、水及び有機溶媒等の溶媒以外の成分を意味する。
また、重合体成分(A)は、アクリル系重合体(A1)と共に、非アクリル系重合体(A2)が含まれていてもよい。
これらの重合体成分は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
アクリル系重合体(A1)の質量平均分子量(Mw)は、樹脂膜形成用シートに可とう性及び造膜性を付与し、樹脂膜形成用シートの貯蔵弾性率を上述の範囲に調整する観点から、好ましくは2万~300万、より好ましくは10万~150万、更に好ましくは15万~120万、より更に好ましくは25万~100万である。
また、アクリル系重合体(A1)が共重合体である場合、当該共重合体の形態は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。
構成単位(a1)を構成するアルキル(メタ)アクリレートのアルキル基の炭素数としては、樹脂膜形成用シートに可とう性及び造膜性を付与する観点から、好ましくは1~18であり、より好ましくは1~12、更に好ましくは1~8である。
なお、これらのアルキル(メタ)アクリレートは、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
アクリル系重合体(A1)中の炭素数1~3のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位(a11)の含有量は、アクリル系重合体(A1)の全構造単位(100質量%)に対して、好ましくは5~80質量%、より好ましくは15~70質量%、更に好ましくは25~60質量%である。
アクリル系重合体(A1)中の炭素数4~12のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位(a12)の含有量は、アクリル系重合体(A1)の全構造単位(100質量%)に対して、好ましくは5~80質量%、より好ましくは15~70質量%、更に好ましくは20~60質量%である。
当該アクリル系共重合体の構成単位(a11)と構成単位(a12)との含有比〔(a11)/(a12)〕(質量比)としては、好ましくは20/80~95/5、より好ましくは30/70~90/10、更に好ましくは40/60~85/15、より更に好ましくは52/48~75/25である。
本発明の一態様で用いるアクリル系重合体(A1)は、本発明の効果を損なわない範囲において、上記の構成単位(a1)以外の他の構成単位(a2)を有していてもよい。
構成単位(a2)を構成するモノマーとしては、例えば、ヒドロキシ基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー等の官能基含有モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類モノマー;エチレン、プロピレン、イソブチレン等のオレフィン類モノマー;スチレン、メチルスチレン、ビニルトルエン等の芳香族ビニルモノマー:ブタジエン、イソプレン等のジエン系モノマー;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル系モノマー等が挙げられる。
これらの中でも、官能基含有モノマーが好ましく、ヒドロキシ基含有モノマー及びエポキシ基含有モノマーから選ばれる1種以上が好ましい。
これらの中でも、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートが好ましい。
なお、エポキシ基含有モノマーに由来する構成単位を有するMwが2万以上のアクリル系重合体は、熱硬化性を有しているが、硬化性成分(B)ではなく、重合体成分(A)の概念に含まれるものとする。
アクリル系重合体(A1)中のヒドロキシ基含有モノマーに由来する構成単位(a21)の含有量は、アクリル系重合体(A1)の全構造単位(100質量%)に対して、好ましくは1~40質量%、より好ましくは5~30質量%、更に好ましくは8~25質量%、より更に好ましくは10~20質量%である。
アクリル系重合体(A1)中のエポキシ基含有モノマーに由来する構成単位(a22)の含有量は、アクリル系重合体(A1)の全構造単位(100質量%)に対して、好ましくは1~40質量%、より好ましくは5~30質量%、更に好ましくは8~25質量%である。
硬化性成分(B)としてエポキシ系熱硬化性成分を用いる場合、カルボキシ基含有モノマーに由来する構造単位の含有量は、アクリル系重合体(A1)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは0~10質量%、より好ましくは0~5質量%、更に好ましくは0~2質量%、より更に好ましくは0質量%である。
本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、必要に応じて、上述のアクリル系重合体(A1)以外の重合体成分として、非アクリル系重合体(A2)を含有してもよい。
非アクリル系重合体(A2)としては、例えば、ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリシロキサン、ゴム系重合体等が挙げられる。
これらの非アクリル系重合体(A2)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
硬化性成分(B)は、樹脂膜形成用シートを硬化させて、硬質の樹脂膜を形成する役割を担うものであり、質量平均分子量(Mw)が2万未満の化合物である。
本発明で用いる樹脂膜形成用シートは、硬化性成分(B)として、熱硬化性成分(B1)及びエネルギー線硬化性成分(B2)の少なくとも一方を含むことが好ましく、硬化反応を十分に進行させる観点、及びコスト低減の観点から、少なくとも熱硬化性成分(B1)を含むことがより好ましい。
熱硬化性成分(B1)としては、少なくとも加熱により反応する官能基を有する化合物を含有することが好ましい。
また、エネルギー線硬化性成分(B2)は、エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21)を含有し、エネルギー線の照射を受けると重合硬化する。
これらの硬化性成分が有する官能基同士が反応し、三次元網目構造が形成されることにより硬化が実現される。
硬化性成分(B)の質量平均分子量(Mw)は、成分(A)と組み合わせて用いることで、樹脂膜形成用シートを形成する組成物の粘度を抑制し、取り扱い性を向上させる等の観点から、好ましくは20,000未満、より好ましくは10,000以下、更に好ましくは100~10,000である。
熱硬化性成分(B1)としては、エポキシ系熱硬化性成分が好ましい。
エポキシ系熱硬化性成分は、エポキシ基を有する化合物(B11)と共に、熱硬化剤(B12)を組み合わせたものを用いることが好ましい。
これらのエポキシ化合物(B11)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、ノボラック型エポキシ樹脂、及びビフェニル型エポキシ樹脂から選ばれる1種以上を含むことが好ましい。
エポキシ化合物(B11)が液状エポキシ化合物を含むことで、樹脂膜形成用シートの破断伸度の値を上昇させることができ、リワーク性に優れた樹脂膜形成用シートとすることができる。
本発明の一態様において、上記観点から、液状エポキシ化合物の含有量は、樹脂膜形成用シート中のエポキシ化合物(B11)の全量(100質量%)に対して、好ましくは10質量%以上、より好ましくは15質量%以上、更に好ましくは30質量%以上、より更に好ましくは40質量%以上である。
一方、樹脂膜形成用シートを用いて製造した樹脂膜付きチップの信頼性向上の観点から、液状エポキシ化合物の含有量は、樹脂膜形成用シート中のエポキシ化合物(B11)の全量(100質量%)に対して、好ましくは90質量%以下、より好ましくは80質量%以下、更に好ましくは75質量%以下、より更に好ましくは70質量%以下である。
なお、本明細書において、「液状エポキシ化合物」とは、25℃における粘度が40Pa・s以下のエポキシ化合物を意味する。また、本明細書において、エポキシ化合物の25℃における粘度は、JIS Z 8803に準じて、E型粘度計を用いて25℃にて測定した値である。
熱硬化剤(B12)は、エポキシ化合物(B11)に対する硬化剤として機能する。
熱硬化剤としては、1分子中にエポキシ基と反応し得る官能基を2個以上有する化合物が好ましい。
当該官能基としてはフェノール性水酸基、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、及び酸無水物等が挙げられる。これらの中でも、フェノール性水酸基、アミノ基、又は酸無水物が好ましく、フェノール性水酸基、又はアミノ基がより好ましく、アミノ基が更に好ましい。
アミノ基を有するアミン系熱硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミド(DICY)等が挙げられる。
これらの熱硬化剤(B12)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、アミン系熱硬化剤を含むことが好ましい。
本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、当該シートの加熱による硬化速度を調整する観点から、硬化促進剤(B13)を含有してもよい。
硬化促進剤(B13)は、熱硬化性成分(B1)として、エポキシ化合物(B11)と併用することが好ましい。
これらの硬化促進剤(B13)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
エネルギー線硬化性成分(B2)としては、エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21)を単独で用いてもよいが、化合物(B21)と共に、光重合開始剤(B22)を組み合わせて用いることが好ましい。なお、エネルギー線硬化性成分(B2)は、紫外線で硬化するものが好ましい。
エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21)(以下、「エネルギー線反応性化合物(B21)」ともいう)としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、オリゴエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、イタコン酸オリゴマー等が挙げられる。
これらのエネルギー線反応性化合物(B21)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、エネルギー線反応性化合物(B21)の質量平均分子量(Mw)は、好ましくは100~30,000、より好ましくは200~20,000、更に好ましくは300~10,000である。
上述のエネルギー線反応性化合物(B21)と共に、光重合開始剤(B22)を併用することで、重合硬化時間を短くし、光線照射量を少なくても、樹脂膜形成用シートの硬化を進行させることができる。
より具体的な光重合開始剤としては、例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β-クロールアンスラキノン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、上記の「硬化性成分(B)の含有量」は、上述のエポキシ化合物(B11)、熱硬化剤(B12)、及び硬化促進剤(B13)を含む熱硬化性成分(B1)、並びに、エネルギー線反応性化合物(B21)、及び光重合開始剤(B22)を含むエネルギー線硬化性成分(B2)の合計含有量を指す。
本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、充填材(C)を含むことが好ましい。
充填材(C)を含むことで、樹脂膜形成用シートの表面(α)の表面粗さ(Ra)を上述の範囲に調整し易くなる。
また、充填材(C)を含む樹脂膜形成用シートは、形成される樹脂膜の熱膨張係数を適度な範囲に調整することが可能となり、樹脂膜付きチップの熱膨張係数を最適化することで、当該チップが組み込まれた半導体装置の信頼性を向上させることができる。また、当該樹脂膜形成用シートから形成される樹脂膜の吸湿率を低減させることも可能となる。
これらの充填材(C)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、樹脂膜形成用シートが熱硬化性である場合に、耐熱性に優れる等の観点から、無機充填材が好ましく、シリカ、又はアルミナがより好ましい。
平均粒径が上記範囲の充填材であれば、充填材(C)の含有量が比較的少ない場合でも、形成される樹脂膜形成用シートの表面(α)の表面粗さ(Ra)を上記範囲に容易に調整することができる。
上記の場合における、充填材(C)の平均粒径としては、好ましくは100~1000nm、より好ましくは200~900nm、更に好ましくは200~800nm、より更に好ましくは300~750nm、より更に好ましくは400~700nmである。
充填材(C)の平均粒径が100nm以上であれば、充填材(C)の含有量を調整することで、樹脂膜形成用シートの表面(α)の表面粗さ(Ra)を上記範囲に調整し易い。
(1)樹脂膜形成用シートの表面(α)をシリコンウエハに貼付後、当該樹脂膜形成用シートから形成された樹脂膜の当該シリコンウエハとは反対側の表面(β’)から測定したグロス値を高くすることができる。
(2)樹脂膜形成用シート及び上記樹脂層の赤外線等の電磁波の透過性を向上させることが容易となる。その結果、樹脂膜形成用シート及び樹脂層を有するシリコンウエハやチップ等に対して、電磁波による検査を行う場合に、電磁波の透過性が高いため、検査作業の効率が良くなる。
(3)樹脂膜形成用シート及び上記樹脂膜を有するシリコンウエハにレーザーを照射するプロセスにおいて、樹脂膜形成用シート及び樹脂膜の存在に起因したレーザーが拡散するという問題を回避し易くなる。
(4)例えば、20μm以下の厚さが薄い樹脂膜形成用シートを製造する際に、樹脂膜形成用シートの形成材料である組成物の塗布工程において、粒径の大きい充填材に起因した塗膜の形成不良等の弊害を回避し易い。
一方で、表面(β)側の形成材料である組成物は、樹脂膜形成用シートから形成された樹脂膜の当該シリコンウエハとは反対側の表面(β’)から測定したグロス値を向上させる観点から、上述の範囲とは異なる小さい平均粒径を有する充填材(C’)を配合することが好ましい。
充填材(C’)の平均粒径としては、通常1~400nm、好ましくは1~250nm、より好ましくは1~100nmである。
本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、さらに着色剤(D)を含んでいてもよい。
樹脂膜形成用シートに着色剤(D)を含有することで、樹脂膜形成用シートから形成される樹脂膜を有する半導体チップを機器に組み込んだ際、半導体ウエハの研削の際に生じた研削痕が視認されにくくしたり、半導体チップの外観を整えたりすることができる。
染料としては、例えば、酸性染料、反応染料、直接染料、分散染料、カチオン染料等のいずれの染料であっても用いることが可能である。
また、顔料としては、特に制限されず、公知の顔料から適宜選択して用いることができ、例えば、フタロシアニン系青色顔料、イソインドリノン系黄色顔料、及びジケトピロロピロール系赤色顔料や、カーボンブラック、酸化鉄、二酸化マンガン、アニリンブラック、活性炭等の黒色顔料等が挙げられる。
これらの着色剤(D)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、フタロシアニン系青色顔料、イソインドリノン系黄色顔料、及びジケトピロロピロール系赤色顔料を混合して用いることで、赤外領域の光線の透過性を向上させつつ、可視光の透過性が低い樹脂膜を得ることが容易である。
本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、さらにカップリング剤(E)を含んでいてもよい。
カップリング剤(E)を含むことで、得られる樹脂膜形成用シートから形成される樹脂膜の耐熱性を損なうことなく、耐水性を向上させることもできる。また、シリコンウエハとの貼付後の端部密着性の向上にも寄与する。
シランカップリング剤としては、例えば、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-6-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-6-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、イミダゾールシラン等が挙げられる。
これらのカップリング剤(E)は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
オリゴマータイプのカップリング剤も含めたカップリング剤(E)の分子量としては、好ましくは100~15000、より好ましくは150~10000、更に好ましくは200~5000、より更に好ましくは250~3000、より更に好ましくは350~2000である。
本発明の一態様で用いる樹脂膜形成用シートは、本発明の効果を損なわない範囲において、上記の成分の他に、必要に応じて汎用添加剤(F)を含有してもよい。
汎用添加剤(F)としては、例えば、架橋剤、可塑剤、レベリング剤、帯電防止剤、酸化防止剤、イオン捕捉剤、ゲッタリング剤、連鎖移動剤等が挙げられる。
本発明の樹脂膜形成用シートの製造方法としては、特に制限はなく、公知の方法により製造することができる。
例えば、樹脂膜形成用シートの形成材料となる、上述の各成分を含む樹脂膜形成用組成物を調製した後、適宜有機溶媒を加えて希釈し、樹脂膜形成用組成物の溶液を得る。そして、当該樹脂膜形成用組成物の溶液を、後述の支持体上に公知の塗布方法により塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させることで、樹脂膜形成用シートを製造することができる。
上記の樹脂膜形成用組成物は、適宜溶媒を加えて希釈し、樹脂膜形成用組成物の溶液の形態としてもよい。
また、上記の支持体が有する当該表面の表面粗さ(Ra)としては、好ましくは40nm以上、より好ましくは70nm以上、更に好ましくは100nm以上、より更に好ましくは200nm以上、より更に好ましくは300nm以上であり、また、好ましくは1000nm以下、より好ましくは800nm以下、更に好ましくは500nm以下である。
有機溶媒を配合した場合の樹脂膜形成用組成物の溶液の固形分濃度は、好ましくは10~80質量%、より好ましくは20~70質量%、更に好ましくは30~65質量%である。
塗布方法としては、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ロールナイフコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、フェースダウン方式のチップ用半導体ウエハや半導体チップ等のシリコンウエハ等のワークの裏面に貼付され、ワーク上に樹脂膜を形成することができる。この樹脂膜は、半導体ウエハや半導体チップ等のワークの裏面を保護する保護膜としての機能を有する。例えば、半導体ウエハに貼付した場合には、樹脂膜がウエハを補強する機能を有するためにウエハの破損等を防止し得る。
つまり、本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、シリコンウエハ上に保護膜を形成するための保護膜形成用シートであることが好ましい。
つまり、本発明の一態様の樹脂膜形成用シートは、シリコンウエハ上に接着膜を形成するための接着膜形成用シートとすることもできる。
本発明の樹脂膜形成用複合シート(以下、単に「複合シート」ともいう)は、本発明の樹脂膜形成用シートと、支持体とを有する。
なお、本発明の一態様の複合シートの形態については、特に制限は無く、例えば、長尺テープ状、単葉のラベル等の形態であってもよい。
図1は、本発明の一態様の樹脂膜形成用複合シートの断面図である。
本発明の一態様の複合シートとしては、図1(a)に示すような、支持体11上に、樹脂膜形成用シート10が直接積層した構成を有する複合シート1aが挙げられる。
本発明の一態様の複合シートの樹脂膜形成用シート10の形状としては、被着体であるシリコンウエハと略同一形状もしくはシリコンウエハの形状を含むことのできる形状であればよい。
リング状の治具接着層12は、リングフレーム等の治具と接着する際に、当該治具に対する接着力を向上させる目的で設けられるものであり、基材(芯材)を有する両面粘着シートや、粘着剤から形成することができる。
なお、図1(c)に示された複合シート1cでは、図1(a)の複合シート1aに対して、さらに治具接着層12を設けた構成を示しているが、本発明の一態様の複合シートとしては、図1(b)の複合シート1bの支持体11の面上に、治具接着層12を設けた構成の複合シートも挙げられる。
なお、複合シート1dの構成と同様に、図1(b)の複合シート1bの表出している樹脂膜形成用シート10の面上に、支持体11とは別の支持体を設けてもよい。
また、同様に、図1(c)に示す複合シート1cの樹脂膜形成用シート10の面上及び治具接着層12の面上に、支持体11とは別の支持体を設けてもよい。
本発明の一態様の複合シートが有する支持体は、樹脂膜形成用シートの表面にホコリ等の付着を防止する剥離シート、もしくは、ダイシング工程等で樹脂膜形成用シートの表面を保護するためのダイシングシート等の役割を果たすものである。
当該樹脂フィルムとしては、例えば、低密度ポリエチレン(LDPE)フィルムや直鎖低密度ポリエチレン(LLDPE)フィルム等のポリエチレンフィルム、エチレン・プロピレン共重合体フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体フィルム、アイオノマー樹脂フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム等が挙げられる。
本発明の一態様で用いる基材は、1種類の樹脂フィルムからなる単層フィルムであってもよく、2種以上の樹脂フィルムを積層した積層フィルムであってもよい。
また、これらの樹脂フィルムを着色したもの、又は印刷を施したもの等も使用できる。
さらに、樹脂フィルムは、熱可塑性樹脂を押出形成によりシート化したものであってもよく、延伸されたものであってもよく、硬化性樹脂を所定手段により薄膜化及び硬化してシート化したものが使われてもよい。
なお、ポリプロピレンフィルムを含む基材の構成としては、ポリプロピレンフィルムのみからなる単層構造であってもよく、ポリプロピレンフィルムと他の樹脂フィルムとからなる複層構造であってもよい。
樹脂膜形成用シートが熱硬化性である場合、基材を構成する樹脂フィルムが耐熱性を有することで、基材の熱によるダメージを抑制し、半導体装置の製造プロセスにおける不具合の発生を抑制できる。
当該剥離処理の方法としては、上述の樹脂フィルムの表面上に、剥離剤から形成した剥離膜を設ける方法が好ましい。
当該剥離剤としては、例えば、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ワックス系樹脂等から選ばれる樹脂を含む剥離剤等が挙げられる。
当該粘着剤に含まれる粘着性樹脂としては、粘着性樹脂の構造に着目した場合、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、ビニルエーテル系樹脂等が挙げられ、機能に着目した場合、例えば、エネルギー線硬化型樹脂等が挙げられる。
本発明の一態様において、ピックアップ性を良好とする観点から、エネルギー線硬化型樹脂を含む粘着剤が好ましい。
なお、上記の支持体の厚さには、支持体を構成する樹脂フィルムの厚さだけでなく、粘着剤層又は剥離膜を有する場合には、当該粘着剤層又は剥離膜の厚さも含む。
治具接着層は、基材(芯材)を有する両面粘着シートや、粘着剤を含む粘着剤組成物から形成することができる。
当該基材(芯材)としては、上述の基材として使用できる樹脂フィルムが挙げられ、ポリプロピレンフィルムが好ましい。
また、上記粘着剤としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、ビニルエーテル系樹脂等が挙げられる。
治具接着層の厚さは、好ましくは1~80μm、より好ましくは5~60μm、更に好ましくは10~40μmである。
本発明の別態様として、以下の樹脂膜形成用複合シート(以下、「複合シート(1)」ともいう)が挙げられる。
本発明の一態様である複合シート(1)は、シリコンウエハに貼付され、当該シリコンウエハ上に樹脂膜を形成するための樹脂膜形成用シートと支持体(I)とを有するものであり、上述の図1に示す複合シート1a~1dと同じ構成である。
ただし、複合シート(1)は、シリコンウエハと貼付される側の前記樹脂膜形成用シートの表面(α)と、表面粗さが40nm以上の支持体(I)の表面(i)とが直接積層した構成を有する。
複合シート(1)から支持体(I)を除去した際に表出する前記樹脂膜形成用シートの表面(α)には、支持体(I)の表面(i)上に形成された表面粗さ(Ra)が40nm以上の凹凸が同程度に、もしくは、支持体(I)の表面(i)上に形成された表面粗さ(Ra)よりも小さい表面粗さ(Ra)を示すように、移行されるものと考えられる。
そのため、複合シート(1)から支持体(I)を除去した後の樹脂膜形成用シートの表面(α)の表面粗さ(Ra)は、リワーク性の改善効果が奏する程の所定値以上であると考えられ、上述の本発明の樹脂膜形成用シートと同様にリワーク性の改善効果を有する。
熱硬化性を有する樹脂膜形成用シートであれば、当該樹脂膜形成用シートをシリコンウエハに貼付した後の加熱工程において、樹脂膜形成用シートの表面(α)の凹凸形状が変形し易く、シリコンウエハとの界面に、樹脂膜形成用シートの表面(α)の凹凸形状に起因した空隙が発生し難い。その結果、シリコンウエハ上に形成された樹脂膜において、当該空隙に起因した光線の散乱を抑制することができ、目視や赤外線等の電磁波によって、樹脂膜を有するシリコンウエハやチップの検査等の観察が容易となる。
本発明の一態様である複合シート(1)が有する樹脂膜形成用シートは、熱硬化性を付与する観点から、上述の熱硬化性成分(B1)を含有することが好ましい。
また、支持体(I)が、溶融押出しにより製造される樹脂フィルムから構成されている場合、溶融された樹脂を粗い表面形状のロール上に射出して、表面粗さ(Ra)を上記範囲に調整された樹脂フィルムとしてもよい。
他に、支持体(I)の形成材料として、紙や不織布等のその性質上表面が粗くなる材料を用いて、支持体(I)の表面(i)の表面粗さ(Ra)を調整してもよい。
この複合シートが有する樹脂膜形成用シートは、熱硬化性を有することが好ましい。そのため、当該樹脂膜形成用シートは、上述の熱硬化性成分(B1)を含有することが好ましい。
つまり、例えば、充填材(C)として平均粒径が大きい充填材を用いたこと等に起因して、樹脂膜の表面(β’)のグロス値が低くなる場合であっても、複合シート(1)をシリコンウエハに貼付後、支持体(II)を剥離せず、当該支持体(II)と樹脂膜形成用シートとが積層した状態で、当該樹脂膜形成用シートを熱硬化させることで、レーザー印字の視認性の高い樹脂膜を形成することができる。
樹脂膜形成用シートを、熱硬化性を有するものとするには、樹脂膜形成用シートに上述の熱硬化性成分(B1)を含有させればよい。
なお、支持体(II)が、粘着剤層を有する粘着シートである場合、複合シート(1)は、当該粘着剤層と前記樹脂膜形成用シートの表面(β)とが直接積層した構成を有することが好ましい。当該構成において、粘着剤層を、エネルギー線硬化型樹脂を含む粘着剤から形成し、予めエネルギー線照射を行い硬化させて粘着剤層とし、当該支持体(II)と樹脂膜形成用シートとが積層した状態で、当該樹脂膜形成用シートを熱硬化させることで、形成される樹脂膜の表面(β’)のグロス値を向上させることができる。
シリコンウエハと本発明の樹脂膜形成用シートの表面(α)とが貼付された積層体から当該樹脂膜形成用シートを剥離してシリコンウエハを再生する方法としては、例えば、下記工程(1)~(2)を有するシリコンウエハの再生方法が挙げられる。
工程(1):基材及び粘着剤層を有する粘着シートの当該粘着剤層を、前記積層体の樹脂膜形成用シートのシリコンウエハと貼付された表面(α)とは反対側の表面(β)上に貼付する工程
工程(2):工程(1)で貼付した前記粘着シートを引っ張って、前記シリコンウエハに貼付された前記樹脂膜形成用シートを剥離する工程
なお、このシリコンウエハの再生方法は、シリコンウエハと本発明の樹脂膜形成用シートの表面(α)とを貼付した直後の積層体だけでなく、貼付してから24時間程度経過して、シリコンウエハと樹脂膜形成用シートとの密着性が向上した状態の積層体に対しても適用することができる。
工程(1)では、基材及び粘着剤層を有する粘着シートの当該粘着剤層を、前記積層体の樹脂膜形成用シートのシリコンウエハと貼付された表面(α)とは反対側の表面(β)上に貼付する工程である。
シリコンウエハは、個片化する前のウエハに限られず、たとえば先ダイシング法、すなわち、シリコンウエハの研削する面とは逆側の面から溝を設け、溝に達するまで研削を行うことでシリコンウエハをチップに個片化する方法により、すでに個片化されているものであってもよい。
当該基材としては、樹脂フィルムが好ましく、上述の支持体の項目で例示した樹脂フィルムが挙げられる。
当該粘着剤層を形成する粘着剤としては、工程(2)において樹脂膜形成用シートをシリコンウエハから剥離し得る程度の粘着力を有するものであれば特に制限はない。
具体的な粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤等が挙げられる。
工程(2)では、工程(1)で貼付した前記粘着シートを引っ張って、前記シリコンウエハに貼付された前記樹脂膜形成用シートを剥離する工程である。
本工程においては、本発明の樹脂膜形成用シートのシリコンウエハに貼付された表面(α)の表面粗さ(Ra)が前記範囲に調整されているため、工程(1)で表面(β)に貼付した粘着シートを引っ張ることで、樹脂膜形成用シートも一緒に引き摺られ、当該樹脂膜形成用シートをシリコンウエハから剥離することができる。
また、本工程において、機械を用いて粘着シートを引っ張ってもよいが、操作性の観点から、手作業で粘着シートを引っ張って、前記樹脂膜形成用シートをシリコンウエハから剥離することが好ましい。
以上の工程を経ることで、一度樹脂膜形成用シートが貼付したシリコンウエハを再生することができる。
ゲル浸透クロマトグラフ装置(東ソー株式会社製、製品名「HLC-8220GPC」)を用いて、下記の条件下で測定し、標準ポリスチレン換算にて測定した値を用いた。
(測定条件)
・カラム:「TSK guard column HXL-L」「TSK gel GMHXL(×2)」「TSK gel G2000HXL」(いずれも東ソー株式会社製)を順次連結したもの
・カラム温度:40℃
・展開溶媒:テトラヒドロフラン
・流速:1.0mL/min
動的光散乱式粒度分布計(日機装株式会社製、製品名「Nanotrack Wave-UT151」)を用いて測定した。
光干渉式表面形状測定装置(Veeco Metrology Group社製、製品名「WYKO WT1100」)を用いて、PSIモードで倍率10倍にて、測定対象の表面の表面粗さ(Ra)を測定した。
実施例及び比較例で作製した樹脂膜形成用複合シートが有する支持体(I)を除去し、表出した樹脂膜形成用シートの表面(α)を、#2000研磨したシリコンウエハ(直径:200mm、厚さ:280μm)の研磨面上に、積層し、テープマウンター(リンテック株式会社製、製品名「Adwill RAD-3600 F/12」)を用いて、70℃に加熱しながら貼付した。
貼付後、室温(25℃)にて、樹脂膜形成用複合シートの支持体(II)も除去し、表出した樹脂膜形成用シートの表面上に、市販の汎用ダイシングテープ(リンテック株式会社製、商品名「Adwill D-510T」)の粘着剤層面を貼り付けた。
そして、手作業で当該汎用ダイシングテープを引っ張ることで、一緒に樹脂膜形成用シートをシリコンウエハから剥離できたか否か、及び、剥離後のシリコンウエハの表面の残存物の有無を観察し、以下の基準により、樹脂膜形成用シートのリワーク性を評価した。
A:樹脂膜形成用シートをシリコンウエハから完全に剥がすことができた。剥離後のシリコンウエハには、目視で確認できる樹脂膜形成用シートの残存物は見られなかった。
B:樹脂膜形成用シートをシリコンウエハから剥がすことができた。剥離後のシリコンウエハには、若干の樹脂膜形成用シートの残存物が見られたが、エタノールで拭き取れば完全に除去できる程度であった。
C:剥離中にシリコンウエハが破損してしまう、もしくは、シリコンウエハを破損せずに剥離したとしても、剥離後のシリコンウエハには、エタノールで拭き取ることが難しい程の樹脂膜形成用シートの残存物が確認された。
実施例及び比較例で作製した樹脂膜形成用複合シートが有する支持体(I)を除去し、表出した樹脂膜形成用シートの表面(α)を、#2000研磨したシリコンウエハ(直径200mm、厚さ280μm)の研磨面上に積層し、テープマウンター(リンテック株式会社製、製品名「Adwill RAD-3600 F/12」)を用いて、70℃に加熱しながら貼付した。
貼付後、樹脂膜形成用複合シートの支持体(II)も除去し、130℃の加熱オーブンに2時間投入して、樹脂膜形成用シートを硬化させ、シリコンウエハ上に樹脂膜を形成した。
そして、光沢計(日本電色工業株式会社製、製品名「VG 2000」)を用いて、JIS Z 8741に準じ、シリコンウエハがある側とは反対側から形成した樹脂膜の表面の60度の鏡面光沢度を測定した。当該鏡面光沢度の値を樹脂膜のグロス値とした。
実施例及び比較例で作製した樹脂膜形成用複合シートが有する支持体(I)を除去し、表出した樹脂膜形成用シートの表面(α)を、厚さ2mmのガラス板の平坦面上に積層し、ラミネーターを用いて、70℃に加熱しながら貼付した。
貼付後、樹脂膜形成用複合シートの支持体(II)も除去し、130℃の加熱オーブンに2時間投入して、樹脂膜形成用シートを硬化させ、ガラス板上に樹脂膜を形成した。
そして、分光光度計(株式会社島津製作所製、製品名「UV-VIS-NIR SPECTROPHOTOMETER UV-3600」)を用いて、上記ガラス板上の樹脂膜の透過率を測定し、波長1250nmの光線透過率(%)を抽出した。
測定には、上記分光光度計に付属の大形試料室「MPC-3100」(製品名)を用い、内蔵の積分球を使用せずに測定を行った。予め測定したガラス板のみの波長1250nmの光線透過率との差分をとって、樹脂膜の波長1250nmの光線透過率を算出した。
表1に示す種類及び配合量の各成分を添加し、メチルエチルケトンで希釈して、有効成分濃度51質量%の樹脂膜形成用組成物の溶液を調製した。
そして、支持体(II)として、剥離処理が施されたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(リンテック株式会社製、商品名「SP-PET381031」、厚さ:38μm)の剥離処理面上に、上記の樹脂膜形成用組成物の溶液を塗布し、乾燥して、厚さ25μmの樹脂膜形成用シートを形成した。
さらに、形成した樹脂膜形成用シートの表出している表面上に、支持体(I)として、剥離紙(リンテック株式会社製、商品名「SP-8LKアオ」、厚さ:88μm、グラシン紙をポリオレフィン被覆し、シリコーン剥離処理を施したもの、剥離処理面の表面粗さ(Ra)=370nm)の剥離処理面を貼り合わせ、ラミネーター(大成ラミネーター株式会社製、製品名「VA-400」)を用いて、室温(25℃)でラミネートし、支持体(I)/樹脂膜形成用シート/支持体(II)から構成された樹脂膜形成用複合シートを作製した。
実施例1と同様にして形成した樹脂膜形成用シートの表出している表面上に、支持体(I)として、剥離処理が施されたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(リンテック株式会社製、商品名「SP-PET251130」、厚さ:25μm)の剥離処理面を貼り合せた以外は、実施例1と同様にして、支持体(I)/樹脂膜形成用シート/支持体(II)から構成された樹脂膜形成用複合シートを作製した。
<重合体成分(A)>
・(A-1):メチルアクリレート(MA)、n-ブチルアクリレート(BA)、グリシジルメタクリレート(GMA)、及び2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)を共重合して得られるアクリル共重合体(BA/MA/GMA/HEA=37/28/20/15(質量%)、Mw=80万、Tg=-10.1℃)。
<硬化性成分(B)>
・(B-1):ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製、商品名「jER828」、エポキシ当量=184~194g/eq、Mn=370、25℃における粘度=120~150P(12~15Pa・s)、液状エポキシ樹脂、前記成分(B11)に該当する化合物)。
・(B-2):ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学株式会社製、商品名「jER1055」、エポキシ当量=800~900g/eq、Mn=1600、固体エポキシ樹脂、前記成分(B11)に該当する化合物)。
・(B-3)ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC株式会社製、商品名「エピクロンHP-7200HH」、エポキシ当量=255~260g/eq、Mwが2万未満の化合物、固体エポキシ樹脂、前記成分(B11)に該当する化合物)。
・(B-4):ジシアンジアミド(株式会社ADEKA製、商品名「アデカハードナーEH-3636AS」、アミン系硬化剤、活性水素量=21g/eq、前記成分(B12)に該当する化合物)。
・(B-5):2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール(四国化成工業株式会社製、商品名「キュアゾール2PHZ」、硬化促進剤、前記成分(B13)に該当する化合物)。
<充填材(C)>
・(C-1):シリカフィラー(株式会社アドマテックス製、商品名「SC2050MA」、平均粒径=500nm)。
<着色剤(D)>
・(D-1):カーボンブラック(三菱化学株式会社製、商品名「#MA650」、平均粒径=28nm)。
<シランカップリング剤(E)>
・(E-1):シランカップリング剤(3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業株式会社製、商品名「KBM-402」、Mn=220.3)。
一方、比較例1で作製した樹脂膜形成用複合シートが有する樹脂膜形成用シートは、表面(α)の表面粗さ(Ra)の値が小さいために、シリコンウエハに貼付後に剥離することが難しく、リワーク性が劣る結果となった。
10 樹脂膜形成用シート
11、11’ 支持体
12 治具接着層
Claims (15)
- シリコンウエハに貼付され、当該シリコンウエハ上に樹脂膜を形成するためのシートであって、
シリコンウエハと貼付される側の当該シートの表面(α)の表面粗さ(Ra)が40nm以上である、樹脂膜形成用シート。 - 重合体成分(A)及び硬化性成分(B)を含む、請求項1に記載の樹脂膜形成用シート。
- 重合体成分(A)が、アクリル系重合体(A1)を含む、請求項2に記載の樹脂膜形成用シート。
- 熱硬化性成分(B1)を含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の樹脂膜形成用シート。
- 充填材(C)を含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の樹脂膜形成用シート。
- 充填材(C)の含有量が、前記樹脂膜形成用シートの全量に対して、10~80質量%である、請求項5に記載の樹脂膜形成用シート。
- 充填材(C)の平均粒子径が、100~1000nmである、請求項5又は6に記載の樹脂膜形成用シート。
- シリコンウエハ上に保護膜を形成するための保護膜形成用シートである、請求項1~7のいずれか1項に記載の樹脂膜形成用シート。
- 前記樹脂膜形成用シートの表面(α)をシリコンウエハに貼付後、当該樹脂膜形成用シートから形成された樹脂膜の当該シリコンウエハとは反対側の表面(β’)から測定したグロス値が25以上となる、請求項1~8のいずれか1項に記載の樹脂膜形成用シート。
- 請求項1~9のいずれか1項に記載の樹脂膜形成用シートと、支持体とを有する、樹脂膜形成用複合シート。
- シリコンウエハに貼付され、当該シリコンウエハ上に樹脂膜を形成するための樹脂膜形成用シートと、支持体(I)とを有し、
シリコンウエハと貼付される側の前記樹脂膜形成用シートの表面(α)と、表面粗さが40nm以上の支持体(I)の表面(i)とが直接積層した構成を有する、樹脂膜形成用複合シート。 - 前記樹脂膜形成用複合シートが有する支持体(I)を除去した際に表出する前記樹脂膜形成用シートの表面(α)の表面粗さ(Ra)が40nm以上である、請求項11に記載の樹脂膜形成用複合シート。
- 前記樹脂膜形成用シートが、熱硬化性成分(B1)を含む、請求項11又は12に記載の樹脂膜形成用複合シート。
- 前記樹脂膜形成用シートの表面(α)とは反対側の表面(β)上に、さらに第2の支持体(II)が直接積層した構成を有し、
前記樹脂膜形成用シートが熱硬化性成分(B1)を含有する、請求項11又は12に記載の樹脂膜形成用複合シート。 - 支持体(II)が、粘着剤層を有する粘着シートであり、当該粘着剤層と前記樹脂膜形成用シートの表面(β)とが直接積層した構成を有する、請求項14に記載の樹脂膜形成用複合シート。
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