WO2016002712A1 - 光デバイスの製造方法及び光デバイス - Google Patents

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WO2016002712A1
WO2016002712A1 PCT/JP2015/068673 JP2015068673W WO2016002712A1 WO 2016002712 A1 WO2016002712 A1 WO 2016002712A1 JP 2015068673 W JP2015068673 W JP 2015068673W WO 2016002712 A1 WO2016002712 A1 WO 2016002712A1
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WO
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optical waveguide
substrate
waveguide core
optical
forming
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Application number
PCT/JP2015/068673
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English (en)
French (fr)
Inventor
寿憲 上村
健一郎 屋敷
Original Assignee
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
    • G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation

Definitions

  • the present invention relates to an optical device manufacturing method and an optical device.
  • 18A and 18B are views showing an example of a method for producing such an optical waveguide core.
  • the spacer 920 is disposed on the substrate 910, the thin glass 930 is placed on the spacer 920 so that a part of the thin glass 930 protrudes from the spacer 920, and further, the substrate 910 sandwiched between the substrate 910 and the thin glass 930.
  • Photocurable resin 940 is supplied to the upper space (FIG. 18A).
  • a mask (not shown) for forming an optical waveguide core is disposed on the thin glass plate 930, and light (for example, UV light) 950 of the photosensitive wavelength is irradiated onto the photocurable resin 940 through the mask.
  • the portion of the photo-curing resin through which the light that has passed through the mask passes is cured, and an optical waveguide core 914 erected perpendicular to the substrate 910 is formed (FIG. 18B).
  • the uncured photocurable resin 940 is washed away with a developer and removed, and the optical waveguide core 914 is filled with a resin for the cladding layer.
  • the optical waveguide core 914 shown in FIG. 18B is fixed to the thin glass 930 and the substrate 910 at the upper end and the lower end, respectively.
  • the fixing portion between the optical waveguide core and the thin glass or substrate may be peeled off. There is. This is because the bonding area between the optical waveguide core and the thin glass and the substrate is not sufficiently large because the area of the fixing portion is small, but the linear expansion coefficient of the resin that is the material of the optical waveguide core and the linear expansion of the substrate and the thin glass. It is considered that one reason is that a relatively large stress may be generated at the interface of the fixing portion because the coefficients are different.
  • the peeling of the fixing portion causes the optical waveguide core to tilt or fall, and as a result, the position of the optical waveguide core deviates from a desired design position.
  • the present invention has been made in view of the above points, and one of its purposes is to prevent or reduce the displacement of the optical waveguide core.
  • one aspect of the present invention is a method of manufacturing an optical device having one or a plurality of optical waveguide cores that are formed vertically or obliquely with respect to a substrate. Forming a first clad portion on the substrate; supplying a photocurable resin to a region adjacent to the first clad portion on the substrate; and applying light to a part of the photocurable resin from above the substrate. And forming the one or more optical waveguide cores such that the side surfaces are in close contact with the first cladding part by irradiation.
  • the method further includes a step of forming a second cladding portion so as to cover a side surface of the one or more optical waveguide cores that is not in contact with the first cladding portion.
  • the method further includes a step of forming a reinforcing portion for reinforcing the first cladding portion on the substrate before forming the first cladding portion.
  • the reinforcing portion is made of an opaque material at a wavelength of signal light that propagates through the one or more optical waveguide cores.
  • the first cladding portion has one or a plurality of recesses, and the one or the plurality of optical waveguide cores each have a side surface of the one or a plurality of recesses. It is formed so as to be in close contact with the inner wall surface.
  • Another aspect of the present invention is a method of manufacturing an optical device having an optical waveguide core formed so as to stand vertically or obliquely with respect to a substrate, wherein the optical waveguide core on the substrate is formed.
  • a step of forming the optical waveguide core by supplying a photocurable resin to the region and irradiating a part of the photocurable resin from above the substrate so as to cover a side surface of the optical waveguide core Forming a clad portion.
  • the restriction portion is made of the same material as the cladding portion.
  • the restriction portion is made of a material that is opaque at a wavelength of signal light that propagates through the optical waveguide core.
  • the plurality of restricting portions are formed such that a gap between two adjacent restricting portions is narrower than a width of the optical waveguide core.
  • At least one of the plurality of restricting portions has a recess, and the optical waveguide core is disposed in the recess.
  • the restriction portion is formed in a shape in which a width of a portion far from the optical waveguide core is wider than a width of a portion close to the optical waveguide core.
  • Another aspect of the present invention is a method of manufacturing an optical device having a plurality of optical waveguide cores formed so as to stand vertically or obliquely with respect to a substrate, the plurality of light guides on the substrate.
  • Forming the plurality of optical waveguide cores by supplying a photocurable resin to a region surrounded by the regulating portion and irradiating a part of the photocurable resin from above the substrate;
  • Forming a clad portion so as to cover each side surface of the optical waveguide core, and the plurality of restricting portions can distribute the photocurable resin along an arrangement direction of the plurality of optical waveguide cores. To have a passage to do It is made.
  • the plurality of restricting portions include a passage that allows the photocurable resin to circulate along a direction intersecting with an arrangement direction of the plurality of optical waveguide cores. Furthermore, it is formed to have.
  • a substrate one or more optical waveguide cores formed to stand perpendicularly or obliquely with respect to the substrate, and side surfaces of the one or more optical waveguide cores.
  • An optical device comprising a clad part partially covered.
  • the resin further includes a cured resin in contact with the clad portion.
  • a substrate one or a plurality of optical waveguide cores formed so as to stand vertically or obliquely with respect to the substrate, and the periphery of the one or more optical waveguide cores are provided.
  • An optical device comprising: a cured resin formed at a predetermined distance from the one or more optical waveguide cores; and a clad portion filled between the one or more optical waveguide cores and the cured resin. .
  • the cured resin is made of an opaque material at a wavelength of signal light that propagates through the one or more optical waveguide cores.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating the method of manufacturing the optical device according to the first embodiment, and shows a top view and a side view of the optical device in each step.
  • step 1 the spacer 20 is disposed on the substrate 10, and the thin glass 30 is placed on the spacer 20 so that part of the thin glass 30 protrudes from the spacer 20, and is further sandwiched between the substrate 10 and the thin glass 30.
  • a photocurable resin for forming the first cladding portion is supplied into the space on the substrate 10.
  • the substrate 10 is, for example, a Si substrate, an SOI substrate, or the like.
  • an optical circuit such as a photodiode or a grating coupler that is optically coupled to the optical waveguide core is formed.
  • the spacer 20 is a member that defines the length of the optical waveguide core in the direction perpendicular to the substrate 10.
  • the thin glass plate 30 is used as an optical interface surface to the optical waveguide core after completion of the optical device.
  • substrate 10 it is good also as the procedure which mounts the thin glass 30 on the spacer 20.
  • step 1 an exposure mask (not shown) for forming the first cladding part is disposed on the thin glass plate 30, and the photosensitive wavelength is applied to the photocurable resin for forming the first cladding part through the exposure mask.
  • the photosensitive wavelength is applied to the photocurable resin for forming the first cladding part through the exposure mask.
  • the photocurable resin for example, UV light.
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the first cladding portion 12-1 having a shape corresponding to the pattern of the exposure mask is formed.
  • the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the side surface of the first cladding portion 12-1 opposite to the spacer 20 is formed in a shape having a semicircular recess 13-1.
  • the recess 13-1 is a portion where the optical waveguide core is formed in the next step 2.
  • the first cladding portion 12-1 is formed to have a significantly larger area than the optical waveguide core when viewed from above.
  • the diameter of the optical waveguide core is about 10 ⁇ m
  • the width measured from the concave portion 13-1 of the first cladding portion 12-1 in the direction of the spacer 20 is several hundred ⁇ m.
  • the first cladding portion 12-1 may be formed so as to be in contact with the spacer 20.
  • the first cladding 12-1 Since it has such a large area, the first cladding 12-1 is firmly fixed to the substrate 10 and the thin glass 30. Therefore, no peeling occurs at the interface between the first cladding 12-1 and the substrate 10 and the thin glass 30. Even if peeling occurs, the first cladding portion 12-1 is not columnar shaped like the optical waveguide core, so it does not tilt or fall down. Does not cause a gap.
  • a photocurable resin for forming an optical waveguide core is supplied to a space on the substrate 10 that is sandwiched between the substrate 10 and the thin glass plate 30 and adjacent to the first cladding portion 12-1.
  • an exposure mask (not shown) for forming an optical waveguide core is disposed on the thin glass plate 30, and light having a photosensitive wavelength (for example, UV) is applied to the photocurable resin for forming the optical waveguide core through the exposure mask.
  • the pattern of the exposure mask is a pattern in which the beam shape of the light that has passed through the exposure mask becomes a circular shape corresponding to the semicircular concave portion 13-1 of the first cladding portion 12-1.
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured in a cylindrical shape, and the optical waveguide core 14-1 having a cylindrical shape is fitted in the concave portion 13-1 of the first cladding portion 12-1. It is formed in a state where it is embedded. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the half of the cylindrical side surface of the optical waveguide core 14-1 on the first cladding portion 12-1 side is a semicircular recess 13 of the first cladding portion 12-1. -1 is in close contact with the surface. Therefore, the contact area between the optical waveguide core 14-1 and the first cladding part 12-1 in the recess 13-1 is the contact area with the thin glass 30 at the upper end of the optical waveguide core 14-1, and the substrate at the lower end. 10 is significantly larger than the contact area with 10. Further, both the optical waveguide core 14-1 and the first cladding portion 12-1 are made of resins having similar components, and the adhesion between these two resins is also high.
  • the optical waveguide core 14-1 is firmly fixed to the semicircular recess 13-1 of the first cladding portion 12-1. ing. Further, since the resin components of the optical waveguide core 14-1 and the first cladding portion 12-1 are close to each other, the difference in linear expansion coefficient between these two resin materials is small. Therefore, there is a low possibility that peeling occurs at the close contact portion between the optical waveguide core 14-1 and the first cladding portion 12-1 in the recess 13-1. Therefore, the optical waveguide core 14-1 is supported in close contact with the concave portion 13-1 of the first cladding portion 12-1, so that the optical waveguide core 14-1 can be supported between the step 2 and the next step 3. Can be prevented. In addition, an optical waveguide core having a smaller diameter than that of the conventional example can be formed.
  • step 3 photocuring for forming the second cladding part is performed in a space between the substrate 10 and the thin glass 30 and adjacent to the optical waveguide core 14-1 and the first cladding part 12-1.
  • a functional resin for example, an exposure mask (not shown) for forming the second cladding part is disposed on the thin glass plate 30, and light (for example, light of the photosensitive wavelength) is applied to the photocurable resin for forming the second cladding part via the exposure mask. UV light).
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the second cladding portion 15-1 is covered with the side surface of the optical waveguide core 14-1 that is not in contact with the first cladding portion 12-1. It is formed.
  • the photocurable resin for forming the second cladding part may be the same resin as the photocurable resin for forming the first cladding part, or a different resin may be used.
  • step 3 can be omitted.
  • air or vacuum
  • FIG. 2 to 6 are views showing a method for manufacturing an optical device according to a modification of the first embodiment, and show top views of the optical device in each step.
  • FIG. 1 Although different points from FIG. 1 will be described, the other points are the same as those of FIG.
  • the first clad portion 12-2 is formed in a shape having a rectangular recess 13-2, and the optical waveguide core 14-2 having a quadrangular prism shape is formed in the recess of the first clad portion 12-2. It is formed in a state fitted in 13-2.
  • the optical waveguide core 14-2 is supported in close contact with the recess 13-2 of the first cladding portion 12-2, thereby preventing the optical waveguide core 14-2 from being displaced.
  • the side surface of the first cladding portion 12-3 opposite to the spacer 20 is formed in a flat shape having no recess, and the optical waveguide core 14-3 having the shape of a quadrangular prism is formed on the side surface. Is formed in close contact with the flat side surface of the first cladding portion 12-3. The optical waveguide core 14-3 is supported in close contact with the flat side surface of the first cladding portion 12-3, thereby preventing the optical waveguide core 14-3 from being displaced.
  • FIGS. 4, 5, and 6 show a multi-channel optical device corresponding to FIGS. 1, 2, and 3, respectively.
  • the first cladding portion 12-4 is formed in a shape having a plurality of semicircular recesses 13-4, and a plurality of optical waveguide cores 14-4 having a cylindrical shape are connected to the first cladding portion 12.
  • -4 is formed in a state of being fitted into each of the plurality of concave portions 13-4.
  • Each optical waveguide core 14-4 is supported in close contact with the corresponding concave portion 13-4 of the first cladding portion 12-4, thereby preventing the positional deviation of each optical waveguide core 14-4. .
  • the positional deviation of the plurality of optical waveguide cores 14-5 and 14-6 is prevented.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating the method of manufacturing the optical device according to the second embodiment, and shows a top view and a side view of the optical device in each step.
  • step 1 the spacer 20 is disposed on the substrate 10, and the thin glass 30 is placed on the spacer 20 so that part of the thin glass 30 protrudes from the spacer 20, and is further sandwiched between the substrate 10 and the thin glass 30.
  • a photocurable resin for forming a reinforcing portion is supplied into the space on the substrate 10.
  • the substrate 10 is, for example, a Si substrate, an SOI substrate, or the like.
  • an optical circuit such as a photodiode or a grating coupler that is optically coupled to the optical waveguide core is formed.
  • the spacer 20 is a member that defines the length of the optical waveguide core in the direction perpendicular to the substrate 10.
  • the thin glass plate 30 is used as an optical interface surface to the optical waveguide core after completion of the optical device. In addition, it is good also as a procedure which mounts the sheet glass 30 on the spacer 20, after supplying the photocurable resin for reinforcement part formation on the board
  • FIG. As the photocurable resin for forming the reinforcing portion, for example, a resin showing high adhesion to the substrate 10 or the thin glass plate 30 after curing may be applied, or the first cladding portion used in the next step 2 is formed. You may apply the same thing as the photocurable resin for use.
  • the same resin as the photocurable resin for forming the optical waveguide core is used as the photocurable resin for forming the reinforcing portion. May be used. Further, a resin that is opaque at the wavelength of the signal light when using the optical device may be used as the photocurable resin for forming the reinforcing portion.
  • step 1 an exposure mask (not shown) for forming a reinforcing portion is disposed on the upper portion of the thin glass plate 30, and light (for example, light of the photosensitive wavelength) is applied to the photocurable resin for forming the reinforcing portion through the exposure mask. UV light).
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the reinforcing portion 16-1 having a shape corresponding to the pattern of the exposure mask is formed.
  • the reinforcing portion 16-1 is used to reinforce the thin first clad portion formed in the next step 2 so as not to be displaced. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the side surface of the reinforcing portion 16-1 opposite to the spacer 20 is formed into a shape having a semicircular recess 13-1.
  • the concave portion 13-1 is a portion that determines the formation position of the optical waveguide core.
  • the reinforcing portion 16-1 is formed to have a significantly larger area than the optical waveguide core in a top view.
  • the diameter of the optical waveguide core is about 10 ⁇ m
  • the width measured from the concave portion 13-1 of the reinforcing portion 16-1 toward the spacer 20 is several hundred ⁇ m.
  • the reinforcing portion 16-1 may be formed in contact with the spacer 20.
  • the reinforcing portion 16-1 Since it has such a large area, the reinforcing portion 16-1 is firmly fixed to the substrate 10 and the thin glass plate 30. Therefore, peeling does not occur at the interface between the reinforcing portion 16-1 and the substrate 10 and the thin glass plate 30. Even if peeling occurs, the reinforcing portion 16-1 is not a columnar shape like the optical waveguide core, so that it does not tilt or fall, and therefore the reinforcing portion 16-1 does not shift in position. .
  • a photocurable resin for forming the first cladding portion is supplied into a space on the substrate 10 that is sandwiched between the substrate 10 and the thin glass plate 30 and adjacent to the reinforcing portion 16-1.
  • an exposure mask (not shown) for forming the first cladding portion is disposed on the thin glass plate 30, and light of the photosensitive wavelength (to the photocurable resin for forming the first cladding portion is passed through the exposure mask.
  • light of the photosensitive wavelength to the photocurable resin for forming the first cladding portion is passed through the exposure mask.
  • UV light is irradiated.
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the first cladding portion 17-1 having a shape corresponding to the pattern of the exposure mask is formed.
  • the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the first cladding portion 17-1 is formed in a thin film shape on the side surface opposite to the spacer 20 of the reinforcing portion 16-1.
  • the thickness of the first clad portion 17-1 may be a thickness sufficient for the first clad portion 17-1 to function as an optical clad for the optical waveguide core, and is, for example, about 10 to 20 ⁇ m.
  • the first cladding portion 17-1 is in surface contact with the side surface of the reinforcing portion 16-1 opposite to the spacer 20, and is firmly fixed to the reinforcing portion 16-1. is doing.
  • the first clad portion 17-1 has a thin film shape. However, as a result of being supported by the reinforcing portion 16-1, no displacement occurs.
  • a photocurable resin for forming an optical waveguide core is supplied to a space on the substrate 10 that is sandwiched between the substrate 10 and the thin glass plate 30 and adjacent to the first cladding portion 17-1.
  • an exposure mask (not shown) for forming an optical waveguide core is disposed on the thin glass plate 30, and light having a photosensitive wavelength (for example, UV) is applied to the photocurable resin for forming the optical waveguide core through the exposure mask.
  • the pattern of the exposure mask is such that the beam shape of the light that has passed through the exposure mask becomes a circular shape corresponding to the semicircular concave portion 13-1 of the first cladding portion 17-1.
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured in a cylindrical shape, and the optical waveguide core 14-1 having a cylindrical shape is fitted in the concave portion 13-1 of the first cladding portion 17-1. It is formed in a state where it is embedded. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the half of the cylindrical side surface of the optical waveguide core 14-1 on the first clad portion 17-1 side is the semicircular recess 13 of the first clad portion 17-1. -1 is in close contact with the surface. Therefore, the contact area between the optical waveguide core 14-1 and the first cladding part 17-1 in the recess 13-1 is the contact area with the thin glass 30 at the upper end of the optical waveguide core 14-1, and the substrate at the lower end. 10 is significantly larger than the contact area with 10. Further, both the optical waveguide core 14-1 and the first cladding portion 17-1 are made of resins having similar components, and the adhesion between these two resins is also high.
  • the optical waveguide core 14-1 is firmly fixed to the semicircular recess 13-1 of the first cladding portion 17-1. ing. Further, since the resin components of the optical waveguide core 14-1 and the first cladding portion 17-1 are close, the difference in linear expansion coefficient between these two resin materials is small. Therefore, there is a low possibility that peeling will occur at the close contact portion between the optical waveguide core 14-1 and the first cladding portion 17-1 in the recess 13-1. Therefore, the optical waveguide core 14-1 is supported in close contact with the concave portion 13-1 of the first cladding portion 17-1, so that the optical waveguide core 14-1 can be supported between the step 3 and the next step 4. Can be prevented. In addition, an optical waveguide core having a smaller diameter than that of the conventional example can be formed.
  • step 4 photocuring for forming the second cladding portion is performed in a space on the substrate 10 that is sandwiched between the substrate 10 and the thin glass plate 30 and adjacent to the optical waveguide core 14-1 and the first cladding portion 17-1.
  • a functional resin to supply a functional resin.
  • an exposure mask (not shown) for forming the second cladding part is disposed on the thin glass plate 30, and light (for example, light of the photosensitive wavelength) is applied to the photocurable resin for forming the second cladding part via the exposure mask. UV light).
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the second cladding portion 15-1 is covered with the side surface of the optical waveguide core 14-1 that is not in contact with the first cladding portion 17-1. It is formed. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the photocurable resin for forming the second cladding part may be the same resin as the photocurable resin for forming the first cladding part, or a different resin may be used.
  • step 4 can be omitted.
  • air or vacuum
  • FIGS. 8 to 12 are diagrams showing an optical device manufacturing method according to a modification of the second embodiment, and show top views of the optical device in each step. 8 to 12, the first cladding portions 12-2 to 12-6 in the respective modifications of FIGS. 2 to 6 are replaced with the reinforcing portions 16-2 to 16-6 and the first cladding portion, respectively. 17-2 to 17-6.
  • the optical waveguide cores 14-2 to 14-6 are supported in close contact with the first cladding portions 17-2 to 17-6, respectively, as in the modifications of FIGS. This prevents the displacement.
  • the reinforcing portions 16-4 to 16-6 are opaque at the wavelength of the signal light.
  • FIG. 13 is a diagram illustrating the method of manufacturing the optical device according to the third embodiment, and shows a top view of the optical device in each step.
  • step 1 the spacer 20 is disposed on the substrate 10, and the thin glass 30 is placed on the spacer 20 so that part of the thin glass 30 protrudes from the spacer 20, and is further sandwiched between the substrate 10 and the thin glass 30.
  • a photocurable resin for forming the restriction portion is supplied to the space on the substrate 10.
  • the substrate 10 is, for example, a Si substrate, an SOI substrate, or the like.
  • an optical circuit such as a photodiode or a grating coupler that is optically coupled to the optical waveguide core is formed.
  • the spacer 20 is a member that defines the length of the optical waveguide core in the direction perpendicular to the substrate 10.
  • the thin glass plate 30 is used as an optical interface surface to the optical waveguide core after completion of the optical device. In addition, it is good also as a procedure which mounts the thin glass 30 on the spacer 20, after supplying the photocurable resin for regulation part formation on the board
  • FIG. As the photocurable resin for forming the restriction portion, for example, a resin showing high adhesion to the substrate 10 or the thin glass plate 30 after curing may be applied, or for forming the cladding portion used in the subsequent step 3. You may apply the same thing as photocurable resin. Moreover, you may use resin opaque at the wavelength of the signal light at the time of using an optical device as photocurable resin for regulation part formation.
  • step 1 an exposure mask (not shown) for forming the restricting portion is arranged on the upper portion of the thin glass plate 30, and light having a photosensitive wavelength (for example, light is applied to the photocurable resin for forming the restricting portion through the exposure mask. UV light).
  • a photosensitive wavelength for example, light
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the regulating portions 18-1 and 18-2 having shapes corresponding to the pattern of the exposure mask are formed.
  • the restricting portions 18-1 and 18-2 are for restricting the movement of the optical waveguide core when the optical waveguide core is inclined or falls during the process. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the restricting portion 18-1 is formed in a shape having a semicircular recess 13-7 on the side surface opposite to the spacer 20.
  • an optical waveguide core is formed in the next step 2.
  • the size of the recess 13-7 is slightly larger than the cross section of the optical waveguide core.
  • the diameter of the optical waveguide core is about 10 ⁇ m
  • the inner diameter of the circular recess 13-7 is 15 to 30 ⁇ m.
  • the restricting portion 18-1 is formed to have a significantly larger area than the optical waveguide core in a top view. Therefore, the restricting portion 18-1 is firmly fixed to the substrate 10 and the thin glass 30.
  • the restricting portion 18-1 is not a columnar shape like the optical waveguide core, and therefore, the restricting portion 18-1 does not tilt or fall down. Therefore, the restricting portion 18-1 does not cause displacement. .
  • the restricting portion 18-2 is formed so as to partially block the opening of the recess 13-7.
  • the two gaps G1 between the restricting portions 18-1 and 18-2 are narrower than the diameter of the optical waveguide core.
  • Step 2 a photocurable resin for forming an optical waveguide core is supplied into the recess 13-7 of the restricting portion 18-1 that is a space sandwiched between the substrate 10 and the thin glass 30 via the gap G1.
  • an exposure mask (not shown) for forming an optical waveguide core is disposed on the thin glass plate 30, and light having a photosensitive wavelength (for example, UV) is applied to the photocurable resin for forming the optical waveguide core through the exposure mask.
  • the pattern of the exposure mask is, for example, a pattern in which the beam shape of light that has passed through the exposure mask is a circle or a rectangle.
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured into a cylindrical shape or a quadrangular prism shape, and an optical waveguide core 14-7 having a cylindrical or quadrangular prism shape is formed. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developing solution through the gap G1 and removed.
  • the inner diameter of the semicircular recess 13-7 is larger than the diameter of the optical waveguide core 14-7.
  • the optical waveguide core 14-7 is erected away from the inner wall surface of the recess 13-7. That is, the optical waveguide core 14-7 is not in contact with the inner wall surface of the recess 13-7 and is not directly supported by the restricting portion 18-1.
  • the optical waveguide core 14-7 is supported only by the fixing portion with the thin glass 30 at the upper end portion of the optical waveguide core 14-7 and the fixing portion with the substrate 10 at the lower end portion of the optical waveguide core 14-7. It is. For this reason, the optical waveguide core 14-7 may be misaligned due to separation of the fixed portion of the upper end portion or the lower end portion thereof as in the conventional case.
  • the displaced optical waveguide core 14-7 hits the inner wall surface of the recess 13-7 of the restricting portion 18-1, and stops. It is limited to the inside of the recess 13-7 at the maximum.
  • the moving range of the optical waveguide core 14-7 that is, the maximum amount of positional deviation depends on the size of the concave portion 13-7 of the restricting portion 18-1. For example, the smaller the recess 13-7, the smaller the amount of positional deviation of the optical waveguide core 14-7. Since this configuration is not a configuration in which the optical waveguide core is supported by adhering to the cladding portion as in the first and second embodiments, the characteristics of the optical waveguide core material and the cladding material are particularly different.
  • this configuration is a configuration in which the optical waveguide core is formed prior to the clad portion, the wall surface of the clad material after development is formed on a rougher surface (large irregularities) than the wall surface of the optical waveguide core.
  • the wall surface of the optical waveguide core can be formed smoothly without being affected by the rough wall surface of the cladding.
  • the optical waveguide core 14-7 When the optical waveguide core 14-7 is displaced in the direction of the opening of the recess 13-7, the movement of the optical waveguide core 14-7 is restricted by the restricting portion 18-2 formed in the opening of the recess 13-7. Is done. As described above, since the gap G1 at the opening of the recess 13-7 is narrower than the diameter of the optical waveguide core 14-7, the shifted optical waveguide core 14-7 exceeds the gap G1 and goes outside the recess 13-7. There is no deviation.
  • the range of movement of the optical waveguide core 14-7 is restricted by the restricting portions 18-1 and 18-2, so that the optical waveguide core 14-7 has a range of movement between the step 2 and the next step 3. Misalignment can be reduced.
  • step 3 the clad is sandwiched between the substrate 10 and the thin glass 30 in the recess 13-7 of the restricting portion 18-1 and around the optical waveguide core 14-7 via the gap G1.
  • a photocurable resin for forming a part is supplied.
  • an exposure mask (not shown) for forming a clad part is arranged on the upper part of the thin glass plate 30, and light (for example, UV light) of the photosensitive wavelength is applied to the photocurable resin for forming the clad part through the exposure mask. Irradiate.
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the cladding portion 15-7 is formed so as to cover the periphery of the optical waveguide core 14-7.
  • FIG. 14 is a diagram illustrating the method of manufacturing the optical device according to the fourth embodiment, and shows a top view of the optical device in each step.
  • step 1 the spacer 20 is disposed on the substrate 10, and the thin glass 30 is placed on the spacer 20 so that part of the thin glass 30 protrudes from the spacer 20, and is further sandwiched between the substrate 10 and the thin glass 30.
  • a photocurable resin for forming the restriction portion is supplied to the space on the substrate 10.
  • the substrate 10 is, for example, a Si substrate, an SOI substrate, or the like.
  • an optical circuit such as a photodiode or a grating coupler that is optically coupled to the optical waveguide core is formed.
  • the spacer 20 is a member that defines the length of the optical waveguide core in the direction perpendicular to the substrate 10.
  • the thin glass plate 30 is used as an optical interface surface to the optical waveguide core after completion of the optical device. In addition, it is good also as a procedure which mounts the thin glass 30 on the spacer 20, after supplying the photocurable resin for regulation part formation on the board
  • FIG. As the photocurable resin for forming the restriction portion, for example, a resin showing high adhesion to the substrate 10 or the thin glass plate 30 after curing may be applied, or for forming the cladding portion used in the subsequent step 3. You may apply the same thing as photocurable resin. Moreover, you may use resin opaque at the wavelength of the signal light at the time of using an optical device as photocurable resin for regulation part formation.
  • step 1 an exposure mask (not shown) for forming the restricting portion is arranged on the upper portion of the thin glass plate 30, and light having a photosensitive wavelength (for example, light is applied to the photocurable resin for forming the restricting portion through the exposure mask. UV light).
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured to form the regulation portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6 having shapes corresponding to the pattern of the exposure mask.
  • the restricting portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6 are for restricting the movement of the optical waveguide core when the optical waveguide core is inclined or falls during the process. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the number of regulation parts is an illustration and is not intended to be limited.
  • the restricting portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6 are formed so as to surround the formation position of the optical waveguide core.
  • the restricting portion 18-3 is formed in a shape having an elongated rectangular cross section when viewed from above, and the side surface corresponding to the long side of the rectangle is in contact with the spacer 20. Thereby, the restricting portion 18-3 is firmly supported by the spacer 20 so as not to be displaced.
  • the restricting portions 18-4, 18-5, and 18-6 are formed in a shape having a trapezoidal cross section when viewed from above.
  • the gap G2 between the restricting portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6 is narrower than the diameter of the optical waveguide core.
  • the optical waveguide core does not shift beyond the gap G2.
  • the restricting portions 18-4, 18-5, and 18-6 have a trapezoidal cross-sectional shape, each of the restricting portions 18-4, 18-5, and 18-6 and the substrate while narrowing the gap G2. 10 and the area of the adhering part with the thin glass plate 30 can be made relatively large. As a result, the restricting portions 18-4, 18-5, and 18-6 can be stably supported.
  • step 2 the optical waveguide core is sandwiched between the substrate 10 and the thin glass plate 30 and surrounded by the regulating portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6 via the gap G2.
  • Supply photocurable resin for forming is disposed on the thin glass plate 30, and light having a photosensitive wavelength (for example, UV) is applied to the photocurable resin for forming the optical waveguide core through the exposure mask.
  • the pattern of the exposure mask is, for example, a pattern in which the beam shape of light that has passed through the exposure mask is a circle or a rectangle.
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured into a cylindrical shape or a quadrangular prism shape, and an optical waveguide core 14-8 having a cylindrical or quadrangular prism shape is formed. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developing solution through the gap G2 and removed. Note that the gap G2 in FIG. 14 has a larger number of passages than the gap G1 in FIG. 13, and therefore it is possible to smoothly supply and remove the resin.
  • the optical waveguide core 14-8 is erected away from the restricting portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6. That is, the optical waveguide core 14-8 is not directly supported by the restricting portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6.
  • the optical waveguide core 14-8 is supported only by the fixing portion with the thin glass 30 at the upper end portion of the optical waveguide core 14-8 and the fixing portion with the substrate 10 at the lower end portion of the optical waveguide core 14-8. It is. For this reason, the optical waveguide core 14-8 may be displaced as a result of the fixed portion at the upper end or the lower end of the optical waveguide core 14-8 peeling off.
  • the misaligned optical waveguide core 14-8 is one of the restricting portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6.
  • the range of movement is limited to the internal space surrounded by the restricting portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6.
  • the gap G2 between the restricting portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6 is narrower than the diameter of the optical waveguide core 14-8. 14-8 does not deviate beyond the gap G2.
  • the moving range of the optical waveguide core 14-8 that is, the maximum amount of positional deviation depends on the size of the internal space surrounded by the restricting portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6.
  • the range of movement of the optical waveguide core 14-8 is restricted by the restricting portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6.
  • the positional deviation of the optical waveguide core 14-8 can be reduced.
  • step 3 the space around the optical waveguide core 14-8 sandwiched between the substrate 10 and the thin glass plate 30 and surrounded by the regulating portions 18-3, 18-4, 18-5, and 18-6.
  • a photocurable resin for forming a cladding portion is supplied through the gap G2.
  • an exposure mask (not shown) for forming a clad part is arranged on the upper part of the thin glass plate 30, and light (for example, UV light) of the photosensitive wavelength is applied to the photocurable resin for forming the clad part through the exposure mask. Irradiate.
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the clad portion 15-8 is formed so as to cover the periphery of the optical waveguide core 14-8.
  • FIG. 15 is a diagram illustrating the method of manufacturing the optical device according to the fifth embodiment, and shows a top view of the optical device in each step.
  • step 1 the spacer 20 is disposed on the substrate 10, and the thin glass 30 is placed on the spacer 20 so that part of the thin glass 30 protrudes from the spacer 20, and is further sandwiched between the substrate 10 and the thin glass 30.
  • a photocurable resin for forming the restriction portion is supplied to the space on the substrate 10.
  • the substrate 10 is, for example, a Si substrate, an SOI substrate, or the like.
  • an optical circuit such as a photodiode or a grating coupler that is optically coupled to the optical waveguide core is formed.
  • the spacer 20 is a member that defines the length of the optical waveguide core in the direction perpendicular to the substrate 10.
  • the thin glass plate 30 is used as an optical interface surface to the optical waveguide core after completion of the optical device. In addition, it is good also as a procedure which mounts the thin glass 30 on the spacer 20, after supplying the photocurable resin for regulation part formation on the board
  • FIG. As the photocurable resin for forming the restriction portion, for example, a resin showing high adhesion to the substrate 10 or the thin glass plate 30 after curing may be applied, or for forming the cladding portion used in the subsequent step 3. You may apply the same thing as photocurable resin. Moreover, you may use resin opaque at the wavelength of the signal light at the time of using an optical device as photocurable resin for regulation part formation.
  • step 1 an exposure mask (not shown) for forming the restricting portion is arranged on the upper portion of the thin glass plate 30, and light having a photosensitive wavelength (for example, light is applied to the photocurable resin for forming the restricting portion through the exposure mask. UV light).
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the regulating portions 18-7 and 18-8 having a shape corresponding to the pattern of the exposure mask are formed.
  • the restricting portions 18-7 and 18-8 are for restricting the movement of the optical waveguide core when the optical waveguide core is inclined or tilted in the middle of the process.
  • a passage for distributing the photocurable resin for forming the waveguide core is formed. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • a photo-curing resin for forming an optical waveguide core is supplied to a path between the regulating portions 18-7 and 18-8 sandwiched between the substrate 10 and the thin glass plate 30.
  • an exposure mask (not shown) for forming an optical waveguide core is disposed on the thin glass plate 30, and light having a photosensitive wavelength (for example, UV) is applied to the photocurable resin for forming the optical waveguide core through the exposure mask. Light).
  • a photosensitive wavelength for example, UV
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and a plurality of optical waveguide cores 14-9 are formed along the path between the restricting portions 18-7 and 18-8.
  • the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the restricting portions 18-7 and 18-8 are made of a resin that is opaque at the wavelength of the signal light, it is possible to reduce the leakage light from one channel from entering other channels as noise. And high channel isolation can be obtained.
  • each of the plurality of optical waveguide cores 14-9 is erected apart from the restricting portions 18-7 and 18-8. That is, each optical waveguide core 14-9 is not directly supported by the restricting portions 18-7 and 18-8. Each optical waveguide core 14-9 is supported only by the fixing portion with the thin glass 30 and the fixing portion with the substrate 10. For this reason, each optical waveguide core 14-9 may be misaligned due to peeling off of the portion fixed to the thin glass 30 or the substrate 10 as in the prior art.
  • the optical waveguide core 14-9 is moved by the restricting portions 18-7 and 18-8 as in the fourth embodiment described above.
  • the range is regulated, so that the positional deviation of the optical waveguide core 14-9 can be reduced between the process 2 and the next process 3.
  • a cladding portion is formed around the plurality of optical waveguide cores 14-9 in the path between the regulating portions 18-7 and 18-8, sandwiched between the substrate 10 and the thin glass 30.
  • Supply photocurable resin Then, an exposure mask (not shown) for forming a clad part is arranged on the upper part of the thin glass plate 30, and light (for example, UV light) of the photosensitive wavelength is applied to the photocurable resin for forming the clad part through the exposure mask. Irradiate. As a result, the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the clad portion 15-9 is formed so as to cover the periphery of each optical waveguide core 14-9.
  • FIG. 16 is a diagram illustrating an optical device manufacturing method according to a modification of the fifth embodiment, and shows a top view of the optical device in each step.
  • the restricting portion 18-8 in FIG. 15 is divided into a plurality of parts, and a passage is formed in a direction crossing the arrangement direction of the plurality of optical waveguide cores 14-9. Thereby, it is possible to smoothly supply and remove the resin in the steps 2 and 3.
  • FIG. 17 is a view showing the method of manufacturing the optical device according to the sixth embodiment, and shows a top view and a side view of the optical device in each step.
  • step 1 the spacer 20 is disposed on the substrate 10, and the thin glass 30 is placed on the spacer 20 so that part of the thin glass 30 protrudes from the spacer 20, and is further sandwiched between the substrate 10 and the thin glass 30.
  • a photocurable resin for forming the first cladding portion is supplied into the space on the substrate 10.
  • the substrate 10 is, for example, a Si substrate, an SOI substrate, or the like.
  • an optical circuit such as a photodiode or a grating coupler that is optically coupled to the optical waveguide core is formed.
  • the spacer 20 is a member that defines the length of the optical waveguide core in the direction perpendicular to the substrate 10.
  • the thin glass plate 30 is used as an optical interface surface to the optical waveguide core after completion of the optical device.
  • substrate 10 it is good also as the procedure which mounts the thin glass 30 on the spacer 20.
  • an exposure mask (not shown) for forming the first cladding part is disposed on the thin glass plate 30, and the photosensitive wavelength is applied to the photocurable resin for forming the first cladding part through the exposure mask.
  • the photosensitive wavelength is applied to the photocurable resin for forming the first cladding part through the exposure mask.
  • the photocurable resin for example, UV light.
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured, and the first cladding portion 12-7 having a shape corresponding to the pattern of the exposure mask is formed.
  • the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the first clad portion 12-7 is not formed in contact with the spacer 20 as in the first clad portion 12-1 (FIG. 1) of the first embodiment, but is located between the spacer 20 and the first clad portion 12-7. It is formed away from the spacer 20 so as to have a gap of a size. This gap is a portion where the optical waveguide core and the second cladding portion are formed in the following process. Further, the side surface of the first cladding portion 12-7 facing the spacer 20 is formed to be an inclined surface overhanging the substrate 10. For example, this inclined surface is a surface inclined by several degrees with respect to the normal line of the substrate 10.
  • the overhanging surface of the first cladding portion 12-7 facing the spacer 20 is formed in a shape having a semicircular recess 13-8.
  • the concave portion 13-8 is a groove having the same depth from the upper end (the thin glass 30 side) to the lower end (the substrate 10 side) of the overhang surface, and is a portion where the optical waveguide core is formed in the next step 2. is there.
  • the first cladding portion 12-7 is formed to have a much larger area than the optical waveguide core in a top view.
  • the diameter of the optical waveguide core is about 10 ⁇ m
  • the width measured from the concave portion 13-8 of the first cladding portion 12-7 toward the spacer 20 is several hundred ⁇ m. Since the first clad part 12-7 has such a large area, it is firmly fixed to the substrate 10 and the thin glass 30. Therefore, no peeling occurs at the interface between the first cladding portion 12-7 and the substrate 10 and the thin glass 30. Even if peeling occurs, the first cladding portion 12-7 does not tilt or fall because the first cladding portion 12-7 does not have a columnar shape like an optical waveguide core. Does not cause a gap.
  • a photocurable resin for forming an optical waveguide core is supplied to a space on the substrate 10 that is sandwiched between the substrate 10 and the thin glass 30 and is adjacent to the overhanging surface of the first cladding portion 12-7.
  • an exposure mask (not shown) for forming an optical waveguide core is disposed on the thin glass plate 30, and light having a photosensitive wavelength (for example, UV) is applied to the photocurable resin for forming the optical waveguide core through the exposure mask.
  • the pattern of the exposure mask is such that the beam shape of the light that has passed through the exposure mask becomes a circular shape corresponding to the semicircular concave portion 13-8 of the first cladding portion 12-7.
  • the light irradiation angle to the photocurable resin for forming the optical waveguide core is adjusted so as to be the same as the inclination angle of the overhanging surface of the first cladding portion 12-7.
  • the light-irradiated portion of the photocurable resin is cured into an obliquely inclined cylindrical shape, and the optical waveguide core 14-10 having a cylindrical shape is formed in the concave portion 13- of the first cladding portion 12-7. 8 is formed in a state of being fitted in the shape. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the half of the cylindrical side surface of the optical waveguide core 14-10 on the first cladding portion 12-7 side is substantially the semicircular recess 13 of the first cladding portion 12-7. It is in close contact with the surface of -8. Therefore, the contact area between the optical waveguide core 14-10 and the first cladding part 12-7 in the recess 13-8 is the contact area with the thin glass 30 at the upper end of the optical waveguide core 14-10 and the substrate at the lower end. 10 is significantly larger than the contact area with 10. Further, both the optical waveguide core 14-10 and the first cladding portion 12-7 are made of resins having similar components, and the adhesion between these two resins is also high.
  • the optical waveguide core 14-10 is firmly fixed to the semicircular concave portion 13-8 of the first cladding portion 12-7. ing. Furthermore, since the resin components of the optical waveguide core 14-10 and the first cladding portion 12-7 are close, the difference in linear expansion coefficient between these two resin materials is small. Therefore, there is a low possibility that peeling will occur at the close contact portion between the optical waveguide core 14-10 and the first cladding portion 12-7 in the recess 13-8. Therefore, the optical waveguide core 14-10 is supported in close contact with the concave portion 13-8 of the first cladding portion 12-7, so that the optical waveguide core 14-10 is provided between the step 2 and the next step 3. Can be prevented. In addition, an optical waveguide core having a smaller diameter than that of the conventional example can be formed.
  • the oblique optical waveguide core 14-10 when light is irradiated to form the optical waveguide core 14-10, the light beam that has passed through the exposure mask is incident on the substrate 10 at an angle and reflected by the surface of the substrate 10. In the first clad portion 12-7 after being already cured.
  • the oblique optical waveguide core is formed by the conventional method of producing the optical waveguide core before the clad, the optical waveguide is reflected by the light reflected obliquely from the substrate 910 as shown in FIG.
  • the photocurable resin for forming the core is cured, and an unnecessary angular structure 915 is formed in addition to the desired optical waveguide core 914.
  • step 3 the second cladding is formed in the space between the substrate 10 and the thin glass 30 and on the substrate 10 between the optical waveguide core 14-10 and the first cladding portion 12-7 and the spacer 20.
  • a photocurable resin for forming a part is supplied.
  • an exposure mask (not shown) for forming the second cladding part is disposed on the thin glass plate 30, and light (for example, light of the photosensitive wavelength) is applied to the photocurable resin for forming the second cladding part via the exposure mask. UV light).
  • the light-irradiated portion of the photo-curing resin is cured, and the second cladding portion 15-10 is covered so as to cover the side surface not in contact with the first cladding portion 12-7 of the optical waveguide core 14-10. It is formed. Thereafter, the uncured photocurable resin is washed away with a developer and removed.
  • the photocurable resin for forming the second cladding part may be the same resin as the photocurable resin for forming the first cladding part, or a different resin may be used.
  • the side surface opposite to the spacer 20 of the first cladding portion 12-1 in the first embodiment may be formed to be an inclined surface overhanging the substrate 10. .
  • the optical waveguide core in each embodiment may be formed in a tapered shape in which the diameter gradually becomes thinner or thicker from the thin glass 30 side toward the substrate 10 side.

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Abstract

　光導波路コアの位置ずれを防止又は低減する。　基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された１又は複数の光導波路コアを有する光デバイスの製造方法であって、前記基板上に第１クラッド部を形成する工程と、前記基板上の前記第１クラッド部に隣接する領域に光硬化性樹脂を供給し、前記基板の上方から前記光硬化性樹脂の一部分に光を照射することによって、側面が部分的に前記第１クラッド部に密着するように前記１又は複数の光導波路コアを形成する工程と、を含む。

Description

光デバイスの製造方法及び光デバイス
　本発明は、光デバイスの製造方法及び光デバイスに関する。
　高密度並列光モジュールの需要があり、適用領域に応じて低コスト化、小型化、高信頼性が求められている。従来、光モジュールの光インターフェースには、多チャンネルで同時に良好な光結合効率を得るためにマイクロレンズアレイが用いられていたが、マイクロレンズアレイは少なくとも３軸で位置合わせする必要があるので、アセンブリコストが大きい。さらに、レンズを用いると、作動距離を必要とする分、光が広がり、狭ピッチ化が困難であった。そのため、光インターフェースの構造が光モジュールの小型化・低コスト化の律速要因の一つとなっていた。そこで、例えば、特許文献１に示すようなポリマー導波路が提案されている。これは、光硬化性樹脂内に当該樹脂の感光波長の光を伝搬させることによって光が通った部分の樹脂を硬化させ、その部分を光導波路コアとするものである。このような導波路であれば、ウェハ上への一括形成、光チャンネルの狭ピッチ化が可能であり、光モジュールの小型化・低コスト化に大きく寄与すると考えられた。図１８Ａ及びＢは、このような光導波路コアの作製方法の一例を示す図である。まず、基板９１０上にスペーサ９２０を配置し、薄板ガラス９３０をその一部がスペーサ９２０から張り出すようにしてスペーサ９２０上に載置し、更に、基板９１０と薄板ガラス９３０で挟まれた基板９１０上の空間に、光硬化性樹脂９４０を供給する（図１８Ａ）。次に、薄板ガラス９３０の上部に光導波路コア形成用のマスク（不図示）を配置し、このマスクを介して光硬化性樹脂９４０にその感光波長の光（例えばＵＶ光）９５０を照射する。これにより、マスクを通過した光が通った部分の光硬化性樹脂が硬化して、基板９１０に対して垂直に立設した光導波路コア９１４が形成される（図１８Ｂ）。その後、未硬化の光硬化性樹脂９４０を現像液で洗い流して除去し、更に光導波路コア９１４の周囲にクラッド層用の樹脂を充填する。
特開２００８－２９９１８０号公報
　このように、図１８Ｂに示される光導波路コア９１４は、その上端部と下端部においてそれぞれ薄板ガラス９３０と基板９１０に固着している。しかしながら、光導波路コア形成後に未硬化の光硬化性樹脂を除去する際や、クラッド層用の樹脂を充填する際などに、光導波路コアと薄板ガラス又は基板との固着部が剥離してしまうことがある。これは、固着部の面積が小さいため、光導波路コアと薄板ガラス及び基板との固着力が十分に大きくない反面、光導波路コアの材質である樹脂の線膨張係数と基板や薄板ガラスの線膨張係数が異なるために、固着部の界面に比較的大きな応力が発生する可能性がある、ということが１つの原因であると考えられる。この固着部の剥離によって、光導波路コアが傾いたり倒れたりし、その結果、光導波路コアの位置が所望の設計位置からずれてしまうことが問題となる。
　本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、その目的の１つは、光導波路コアの位置ずれを防止又は低減することにある。
　上述した課題を解決するために、本発明の一態様は、基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された１又は複数の光導波路コアを有する光デバイスの製造方法であって、前記基板上に第１クラッド部を形成する工程と、前記基板上の前記第１クラッド部に隣接する領域に光硬化性樹脂を供給し、前記基板の上方から前記光硬化性樹脂の一部分に光を照射することによって、側面が部分的に前記第１クラッド部に密着するように前記１又は複数の光導波路コアを形成する工程と、を含む。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記１又は複数の光導波路コアの前記第１クラッド部と接していない側面を覆うように第２クラッド部を形成する工程を更に含む。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記第１クラッド部を形成する前に、前記基板上に前記第１クラッド部を補強するための補強部を形成する工程を更に含む。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記補強部は、前記１又は複数の光導波路コアを伝搬させる信号光の波長において不透明な材質から構成される。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記第１クラッド部は１又は複数の凹部を有し、前記１又は複数の光導波路コアはそれぞれその側面が前記１又は複数の凹部の内壁面に密着するように形成される。
　また、本発明の他の一態様は、基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された光導波路コアを有する光デバイスの製造方法であって、前記基板上の前記光導波路コアが形成されることとなる領域の周囲に、前記領域から所定距離離間して、前記光導波路コアの位置ずれを規制するための複数の規制部を形成する工程と、前記複数の規制部によって囲まれた領域に光硬化性樹脂を供給し、前記基板の上方から前記光硬化性樹脂の一部分に光を照射することによって、前記光導波路コアを形成する工程と、前記光導波路コアの側面を覆うようにクラッド部を形成する工程と、を含む。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記規制部は、前記クラッド部と同じ材質から構成される。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記規制部は、前記光導波路コアを伝搬させる信号光の波長において不透明な材質から構成される。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記複数の規制部は、隣り合う２つの規制部の間の間隙が前記光導波路コアの幅よりも狭くなるように形成される。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記複数の規制部のうちの少なくとも１つは凹部を有し、前記光導波路コアは前記凹部内に配置される。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記規制部は、前記光導波路コアから遠い部分の幅が前記光導波路コアに近い部分の幅よりも広い形状に形成される。
　また、本発明の他の一態様は、基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された複数の光導波路コアを有する光デバイスの製造方法であって、前記基板上の前記複数の光導波路コアが形成されることとなる領域の周囲に、前記領域から所定距離離間して、前記複数の光導波路コアの位置ずれを規制するための複数の規制部を形成する工程と、前記複数の規制部によって囲まれた領域に光硬化性樹脂を供給し、前記基板の上方から前記光硬化性樹脂の一部分に光を照射することによって、前記複数の光導波路コアを形成する工程と、前記複数の光導波路コアの各側面を覆うようにクラッド部を形成する工程と、を含み、前記複数の規制部は、前記複数の光導波路コアの配列方向に沿って前記光硬化性樹脂を流通可能とする通路を有するように形成される。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記複数の規制部は、前記複数の光導波路コアの配列方向と交わる方向に沿って前記光硬化性樹脂を流通可能とする通路を更に有するように形成される。
　また、本発明の他の一態様は、基板と、前記基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された１又は複数の光導波路コアと、前記１又は複数の光導波路コアの側面を部分的に覆うクラッド部と、を備える光デバイスである。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記クラッド部に接した硬化樹脂を更に備える。
　また、本発明の他の一態様は、基板と、前記基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された１又は複数の光導波路コアと、前記１又は複数の光導波路コアの周囲に前記１又は複数の光導波路コアから所定距離離間して形成された硬化樹脂と、前記１又は複数の光導波路コアと前記硬化樹脂との間に充填されたクラッド部と、を備える光デバイスである。
　また、本発明の他の一態様は、上記一態様において、前記硬化樹脂は、前記１又は複数の光導波路コアを伝搬させる信号光の波長において不透明な材質から構成される。
　本発明によれば、光導波路コアの位置ずれを防止又は低減することができる。
第１実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第１実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第１実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第１実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第１実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第１実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第２実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第２実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第２実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第２実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第２実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第２実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第３実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第４実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第５実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第５実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 第６実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図である。 従来の光デバイスの製造方法を示す図である。 従来の光デバイスの製造方法を示す図である。 従来の光デバイスの製造方法を示す図である。
　以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳しく説明する。
＜第１実施形態＞
　図１は、第１実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図であり、各工程における光デバイスの上面図及び側面図を示す。
　まず、工程１において、基板１０上にスペーサ２０を配置し、薄板ガラス３０をその一部がスペーサ２０から張り出すようにしてスペーサ２０上に載置し、更に、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれた基板１０上の空間に、第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給する。基板１０は、例えば、Ｓｉ基板、ＳＯＩ基板等である。基板１０の表面には、光導波路コアと光結合されることとなるフォトダイオードやグレーティングカプラ等の光回路（不図示）が形成されている。スペーサ２０は、基板１０に垂直な方向における光導波路コアの長さを規定する部材である。薄板ガラス３０は、光デバイスの完成後に光導波路コアに対する光学的なインターフェース面として利用される。なお、基板１０上に第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給した後に、薄板ガラス３０をスペーサ２０上に載置する手順としてもよい。
　続いて工程１において、薄板ガラス３０の上部に第１クラッド部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、露光マスクのパターンに応じた形状の第１クラッド部１２－１が形成される。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。
　図１の工程１に示されるように、第１クラッド部１２－１のスペーサ２０と反対側の側面は、半円状の凹部１３－１を有する形状に形成される。この凹部１３－１は、次の工程２において光導波路コアが形成される部分である。また、図１の工程１に示されるように、第１クラッド部１２－１は、上面視において光導波路コアよりも格段に大きい面積を有するように形成される。一例として、光導波路コアの径は１０μｍ程度であり、第１クラッド部１２－１の凹部１３－１からスペーサ２０の方向へ測った幅は数百μｍである。例えば、第１クラッド部１２－１はスペーサ２０と接するように形成されてもよい。このように大面積を有するため、第１クラッド部１２－１は、基板１０及び薄板ガラス３０と強固に固着している。よって、第１クラッド部１２－１と基板１０及び薄板ガラス３０との界面に剥離が生じることはない。また、たとえ剥離が生じたとしても、第１クラッド部１２－１は光導波路コアのような柱状形状ではないため、傾いたり倒れたりすることはなく、したがって、第１クラッド部１２－１は位置ずれを起こさない。
　次に、工程２において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれ、第１クラッド部１２－１に隣接する基板１０上の空間に、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部に光導波路コア形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。露光マスクのパターンは、露光マスクを通過した光のビーム形状が、第１クラッド部１２－１の半円状の凹部１３－１に対応した円状の形状となるようなパターンとする。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が円柱状に硬化して、円柱の形状を持った光導波路コア１４－１が、第１クラッド部１２－１の凹部１３－１に嵌まり込んだ状態で形成される。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。
　図１の工程２に示されるように、光導波路コア１４－１の円柱側面のうちの第１クラッド部１２－１側のほぼ半分が、第１クラッド部１２－１の半円状の凹部１３－１の表面に密着している。そのため、凹部１３－１における光導波路コア１４－１と第１クラッド部１２－１との接触面積は、光導波路コア１４－１の上端部における薄板ガラス３０との接触面積、及び下端部における基板１０との接触面積と比較して著しく大きい。また、光導波路コア１４－１と第１クラッド部１２－１は共に成分の近い樹脂から構成されており、これら２つの樹脂相互間の密着性も高い。このように、接触面積が大きいこと、及び樹脂間の密着性が高いことによって、光導波路コア１４－１は、第１クラッド部１２－１の半円状の凹部１３－１に強固に固着されている。更に、光導波路コア１４－１と第１クラッド部１２－１の樹脂成分が近いことから、これら２つの樹脂材料の線膨張係数差は小さい。そのため、凹部１３－１における光導波路コア１４－１と第１クラッド部１２－１との密着部分に、剥離が生じるおそれは低い。したがって、光導波路コア１４－１は第１クラッド部１２－１の凹部１３－１にしっかりと密着して支持され、これにより、工程２から次の工程３の間に、光導波路コア１４－１の位置ずれを防止することができる。また、従来例よりも小さな径の光導波路コアを形成することが可能となる。
　次に、工程３において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれ、光導波路コア１４－１及び第１クラッド部１２－１に隣接する基板１０上の空間に、第２クラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部に第２クラッド部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して第２クラッド部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、光導波路コア１４－１の第１クラッド部１２－１と接していない側面を覆うように、第２クラッド部１５－１が形成される。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。なお、第２クラッド部形成用の光硬化性樹脂は、第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂と同じ樹脂であってもよいし、別の樹脂を用いてもよい。
　なお、工程３は省略することが可能である。この場合には、樹脂からなる第２クラッド部１５－１の代わりに、光導波路コア１４－１よりも屈折率が低い物質である空気（又は真空）が、第２クラッド部として機能することとなる。
　図２乃至図６は、第１実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図であり、各工程における光デバイスの上面図を示す。以下、図１と異なる点を説明するが、その他の点に関しては図１と同一である。
　図２では、第１クラッド部１２－２は矩形状の凹部１３－２を有する形状に形成され、四角柱の形状を持った光導波路コア１４－２が、第１クラッド部１２－２の凹部１３－２に嵌まり込んだ状態で形成される。光導波路コア１４－２は第１クラッド部１２－２の凹部１３－２にしっかりと密着して支持され、これにより、光導波路コア１４－２の位置ずれが防止される。
　図３では、第１クラッド部１２－３のスペーサ２０と反対側の側面が凹部を有しないフラットな形状に形成され、四角柱の形状を持った光導波路コア１４－３が、その側面のうちの１つを第１クラッド部１２－３の当該フラットな側面に密接させた状態で形成される。光導波路コア１４－３は第１クラッド部１２－３のフラットな側面にしっかりと密着して支持され、これにより、光導波路コア１４－３の位置ずれが防止される。
　図４、図５、及び図６は、それぞれ図１、図２、及び図３に対応する複数チャンネルの光デバイスを示す。図４では、第１クラッド部１２－４は複数の半円状の凹部１３－４を有する形状に形成され、円柱の形状を持った複数の光導波路コア１４－４が、第１クラッド部１２－４の複数の凹部１３－４のそれぞれに嵌まり込んだ状態で形成される。各光導波路コア１４－４は第１クラッド部１２－４の対応するそれぞれの凹部１３－４にしっかりと密着して支持され、これにより、各光導波路コア１４－４の位置ずれが防止される。同様に、図５及び図６においても、複数の光導波路コア１４－５、１４－６の位置ずれが防止される。
＜第２実施形態＞
　図７は、第２実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図であり、各工程における光デバイスの上面図及び側面図を示す。
　まず、工程１において、基板１０上にスペーサ２０を配置し、薄板ガラス３０をその一部がスペーサ２０から張り出すようにしてスペーサ２０上に載置し、更に、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれた基板１０上の空間に、補強部形成用の光硬化性樹脂を供給する。基板１０は、例えば、Ｓｉ基板、ＳＯＩ基板等である。基板１０の表面には、光導波路コアと光結合されることとなるフォトダイオードやグレーティングカプラ等の光回路（不図示）が形成されている。スペーサ２０は、基板１０に垂直な方向における光導波路コアの長さを規定する部材である。薄板ガラス３０は、光デバイスの完成後に光導波路コアに対する光学的なインターフェース面として利用される。なお、基板１０上に補強部形成用の光硬化性樹脂を供給した後に、薄板ガラス３０をスペーサ２０上に載置する手順としてもよい。補強部形成用の光硬化性樹脂としては、例えば、硬化後に基板１０や薄板ガラス３０に対する高い密着性を示す樹脂を適用してもよいし、次の工程２で使用される第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂と同じものを適用してもよい。また、後述のように補強部と光導波路コアとの間に第１クラッド部が形成されるので、補強部形成用の光硬化性樹脂として、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂と同じ樹脂を用いてもよい。更に、補強部形成用の光硬化性樹脂として、光デバイスを使用する際の信号光の波長において不透明な樹脂を用いてもよい。
　続いて工程１において、薄板ガラス３０の上部に補強部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して補強部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、露光マスクのパターンに応じた形状の補強部１６－１が形成される。補強部１６－１は、次の工程２で形成される薄い第１クラッド部が位置ずれを起こさないように補強するためのものである。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。
　図７の工程１に示されるように、補強部１６－１のスペーサ２０と反対側の側面は、半円状の凹部１３－１を有する形状に形成される。この凹部１３－１は、光導波路コアの形成位置を定める部分である。また、図７の工程１に示されるように、補強部１６－１は、上面視において光導波路コアよりも格段に大きい面積を有するように形成される。一例として、光導波路コアの径は１０μｍ程度であり、補強部１６－１の凹部１３－１からスペーサ２０の方向へ測った幅は数百μｍである。例えば、補強部１６－１はスペーサ２０と接するように形成されてもよい。このように大面積を有するため、補強部１６－１は、基板１０及び薄板ガラス３０と強固に固着している。よって、補強部１６－１と基板１０及び薄板ガラス３０との界面に剥離が生じることはない。また、たとえ剥離が生じたとしても、補強部１６－１は光導波路コアのような柱状形状ではないため、傾いたり倒れたりすることはなく、したがって、補強部１６－１は位置ずれを起こさない。
　次に、工程２において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれ、補強部１６－１に隣接する基板１０上の空間に、第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部に第１クラッド部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して、第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、露光マスクのパターンに応じた形状の第１クラッド部１７－１が形成される。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。
　図７の工程２に示されるように、一例として、第１クラッド部１７－１は、補強部１６－１のスペーサ２０と反対側の側面に薄い膜状に形成される。第１クラッド部１７－１の厚さは、第１クラッド部１７－１が光導波路コアに対する光学的なクラッドとして機能するのに十分な厚さであればよく、例えば１０～２０μｍ程度である。また、図７の工程２に示されるように、第１クラッド部１７－１は、補強部１６－１のスペーサ２０と反対側の側面に面接触して、補強部１６－１に強固に固着している。このように、第１クラッド部１７－１は、薄い膜状であるが、補強部１６－１によって支持されている結果、位置ずれを起こすことがない。
　次に、工程３において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれ、第１クラッド部１７－１に隣接する基板１０上の空間に、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部に光導波路コア形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。露光マスクのパターンは、露光マスクを通過した光のビーム形状が、第１クラッド部１７－１の半円状の凹部１３－１に対応した円状の形状となるようなパターンとする。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が円柱状に硬化して、円柱の形状を持った光導波路コア１４－１が、第１クラッド部１７－１の凹部１３－１に嵌まり込んだ状態で形成される。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。
　図７の工程３に示されるように、光導波路コア１４－１の円柱側面のうちの第１クラッド部１７－１側のほぼ半分が、第１クラッド部１７－１の半円状の凹部１３－１の表面に密着している。そのため、凹部１３－１における光導波路コア１４－１と第１クラッド部１７－１との接触面積は、光導波路コア１４－１の上端部における薄板ガラス３０との接触面積、及び下端部における基板１０との接触面積と比較して著しく大きい。また、光導波路コア１４－１と第１クラッド部１７－１は共に成分の近い樹脂から構成されており、これら２つの樹脂相互間の密着性も高い。このように、接触面積が大きいこと、及び樹脂間の密着性が高いことによって、光導波路コア１４－１は、第１クラッド部１７－１の半円状の凹部１３－１に強固に固着されている。更に、光導波路コア１４－１と第１クラッド部１７－１の樹脂成分が近いことから、これら２つの樹脂材料の線膨張係数差は小さい。そのため、凹部１３－１における光導波路コア１４－１と第１クラッド部１７－１との密着部分に、剥離が生じるおそれは低い。したがって、光導波路コア１４－１は第１クラッド部１７－１の凹部１３－１にしっかりと密着して支持され、これにより、工程３から次の工程４の間に、光導波路コア１４－１の位置ずれを防止することができる。また、従来例よりも小さな径の光導波路コアを形成することが可能となる。
　次に、工程４において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれ、光導波路コア１４－１及び第１クラッド部１７－１に隣接する基板１０上の空間に、第２クラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部に第２クラッド部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して第２クラッド部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、光導波路コア１４－１の第１クラッド部１７－１と接していない側面を覆うように、第２クラッド部１５－１が形成される。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。なお、第２クラッド部形成用の光硬化性樹脂は、第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂と同じ樹脂であってもよいし、別の樹脂を用いてもよい。
　なお、工程４は省略することが可能である。この場合には、樹脂からなる第２クラッド部１５－１の代わりに、光導波路コア１４－１よりも屈折率が低い物質である空気（又は真空）が、第２クラッド部として機能することとなる。
　図８乃至図１２は、第２実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図であり、各工程における光デバイスの上面図を示す。図８乃至図１２の各変形例は、それぞれ図２乃至図６の各変形例における第１クラッド部１２－２～１２－６を、それぞれ補強部１６－２～１６－６及び第１クラッド部１７－２～１７－６で置き換えたものである。いずれの変形例においても、各光導波路コア１４－２～１４－６は、図２乃至図６の各変形例と同様にそれぞれ第１クラッド部１７－２～１７－６に密着して支持され、これによりその位置ずれが防止される。なお、図１０、図１１、及び図１２に示された複数の光導波路コア１４－４～１４－６を有する光デバイスにおいて、各補強部１６－４～１６－６が信号光の波長において不透明な樹脂から構成されている場合には、あるチャンネルからの漏れ光が他のチャンネルに雑音として混入してしまうことを低減することができ、高いチャンネル間アイソレーションを得ることができる。特に、図１１に示されるように、各光導波路コア１４－５の三方が不透明な補強部１６－５によって囲まれている場合には、漏れ光の他チャンネルへの混入を低減する効果が高い。
＜第３実施形態＞
　図１３は、第３実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図であり、各工程における光デバイスの上面図を示す。
　まず、工程１において、基板１０上にスペーサ２０を配置し、薄板ガラス３０をその一部がスペーサ２０から張り出すようにしてスペーサ２０上に載置し、更に、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれた基板１０上の空間に、規制部形成用の光硬化性樹脂を供給する。基板１０は、例えば、Ｓｉ基板、ＳＯＩ基板等である。基板１０の表面には、光導波路コアと光結合されることとなるフォトダイオードやグレーティングカプラ等の光回路（不図示）が形成されている。スペーサ２０は、基板１０に垂直な方向における光導波路コアの長さを規定する部材である。薄板ガラス３０は、光デバイスの完成後に光導波路コアに対する光学的なインターフェース面として利用される。なお、基板１０上に規制部形成用の光硬化性樹脂を供給した後に、薄板ガラス３０をスペーサ２０上に載置する手順としてもよい。規制部形成用の光硬化性樹脂としては、例えば、硬化後に基板１０や薄板ガラス３０に対する高い密着性を示す樹脂を適用してもよいし、後の工程３で使用されるクラッド部形成用の光硬化性樹脂と同じものを適用してもよい。また、規制部形成用の光硬化性樹脂として、光デバイスを使用する際の信号光の波長において不透明な樹脂を用いてもよい。
　続いて工程１において、薄板ガラス３０の上部に規制部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して規制部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、露光マスクのパターンに応じた形状の規制部１８－１及び１８－２が形成される。規制部１８－１及び１８－２は、光導波路コアがプロセス途中で傾いたり倒れようとしたりした場合にその動きを規制するためのものである。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。
　図１３の工程１に示されるように、規制部１８－１は、スペーサ２０と反対側の側面に半円状の凹部１３－７を有する形状に形成される。この凹部１３－７の中に、次の工程２において光導波路コアが形成される。上面視において、凹部１３－７の大きさは、光導波路コアの断面よりも一回り大きい大きさである。例えば、光導波路コアの径は１０μｍ程度であり、円状の凹部１３－７の内径は１５～３０μｍである。また、図１３の工程１に示されるように、規制部１８－１は、上面視において光導波路コアよりも格段に大きい面積を有するように形成される。そのため、規制部１８－１は、基板１０及び薄板ガラス３０と強固に固着している。よって、規制部１８－１と基板１０及び薄板ガラス３０との界面に剥離が生じることはない。また、たとえ剥離が生じたとしても、規制部１８－１は光導波路コアのような柱状形状ではないため、傾いたり倒れたりすることはなく、したがって、規制部１８－１は位置ずれを起こさない。
　また、図１３の工程１に示されるように、規制部１８－２は、凹部１３－７の開口を部分的に塞ぐようにして形成される。一例として、規制部１８－１と１８－２との間の２つの間隙Ｇ１は、光導波路コアの径よりも狭い。
　次に、工程２において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれた空間である規制部１８－１の凹部１３－７内に、間隙Ｇ１を介して光導波路コア形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部に光導波路コア形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。露光マスクのパターンは、例えば、露光マスクを通過した光のビーム形状が円又は矩形の形状となるようなパターンとする。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が円柱状又は四角柱状に硬化して、円柱又は四角柱の形状を持った光導波路コア１４－７が形成される。その後、間隙Ｇ１を介して、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。
　上述したように、半円状の凹部１３－７の内径は光導波路コア１４－７の径よりも大きい。これにより、図１３の工程２に示されるように、光導波路コア１４－７は、凹部１３－７の内壁面から離間して立設している。即ち、光導波路コア１４－７は、凹部１３－７の内壁面には接しておらず、規制部１８－１によって直接的に支持されてはいない。光導波路コア１４－７を支持しているのは、光導波路コア１４－７の上端部における薄板ガラス３０との固着部、及び光導波路コア１４－７の下端部における基板１０との固着部のみである。そのため、光導波路コア１４－７は、従来と同様に、その上端部又は下端部の固着部分が剥離して位置ずれを起こす可能性がある。
　しかしながら、光導波路コア１４－７が位置ずれを起こした場合であっても、位置ずれした光導波路コア１４－７は規制部１８－１の凹部１３－７の内壁面に当たって止まるので、その動きは最大でも凹部１３－７の内側に限定される。光導波路コア１４－７の動く範囲、即ち最大の位置ずれ量は、規制部１８－１の凹部１３－７の大きさに依存する。例えば、凹部１３－７が小さいほど、光導波路コア１４－７の位置ずれ量を小さくすることができる。この構成は、第１及び第２実施形態のように光導波路コアをクラッド部に密着させることにより支持する構成ではないため、特に、光導波路コア材料とクラッド材料の特性が大きく異なり光導波路コアとクラッドが互いに剥離しやすい場合に有用である。また、この構成は、クラッド部に先立って光導波路コアを形成する構成であるため、現像後のクラッド材料の壁面が光導波路コアの壁面よりも粗い（凹凸が大きい）面に形成されてしまう場合にも、クラッドの当該粗い壁面の影響を受けることなく、光導波路コアの壁面を平滑に形成することができる。
　光導波路コア１４－７が凹部１３－７の開口の方向へ位置ずれした場合には、光導波路コア１４－７の動きは、凹部１３－７の開口に形成された規制部１８－２によって規制される。上述したように、凹部１３－７の開口における間隙Ｇ１は光導波路コア１４－７の径よりも狭いため、位置ずれした光導波路コア１４－７が間隙Ｇ１を越えて凹部１３－７の外側へ逸脱してしまうことはない。
　このように、光導波路コア１４－７は規制部１８－１及び１８－２によってその動きの範囲を規制され、これにより、工程２から次の工程３の間に、光導波路コア１４－７の位置ずれを低減することができる。
　次に、工程３において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれた、規制部１８－１の凹部１３－７内であって光導波路コア１４－７の周囲の空間に、間隙Ｇ１を介してクラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部にクラッド部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介してクラッド部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、光導波路コア１４－７の周囲を覆うように、クラッド部１５－７が形成される。
＜第４実施形態＞
　図１４は、第４実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図であり、各工程における光デバイスの上面図を示す。
　まず、工程１において、基板１０上にスペーサ２０を配置し、薄板ガラス３０をその一部がスペーサ２０から張り出すようにしてスペーサ２０上に載置し、更に、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれた基板１０上の空間に、規制部形成用の光硬化性樹脂を供給する。基板１０は、例えば、Ｓｉ基板、ＳＯＩ基板等である。基板１０の表面には、光導波路コアと光結合されることとなるフォトダイオードやグレーティングカプラ等の光回路（不図示）が形成されている。スペーサ２０は、基板１０に垂直な方向における光導波路コアの長さを規定する部材である。薄板ガラス３０は、光デバイスの完成後に光導波路コアに対する光学的なインターフェース面として利用される。なお、基板１０上に規制部形成用の光硬化性樹脂を供給した後に、薄板ガラス３０をスペーサ２０上に載置する手順としてもよい。規制部形成用の光硬化性樹脂としては、例えば、硬化後に基板１０や薄板ガラス３０に対する高い密着性を示す樹脂を適用してもよいし、後の工程３で使用されるクラッド部形成用の光硬化性樹脂と同じものを適用してもよい。また、規制部形成用の光硬化性樹脂として、光デバイスを使用する際の信号光の波長において不透明な樹脂を用いてもよい。
　続いて工程１において、薄板ガラス３０の上部に規制部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して規制部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、露光マスクのパターンに応じた形状の規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６が形成される。規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６は、光導波路コアがプロセス途中で傾いたり倒れようとしたりした場合にその動きを規制するためのものである。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。なお、規制部の数は例示であり、限定を意図したものではない。
　図１４の工程１に示されるように、規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６は、光導波路コアの形成位置を取り囲むようにして形成される。規制部１８－３は、上面視において細長い矩形の断面を有する形状に形成され、矩形の長辺に対応する側面がスペーサ２０に接している。これにより、規制部１８－３は、位置ずれしないようスペーサ２０によってしっかりと支持される。規制部１８－４、１８－５、及び１８－６は、上面視において台形の断面を有する形状に形成される。各規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６の間の間隙Ｇ２は、光導波路コアの径よりも狭い。そのため、前述した第３実施形態と同様に、光導波路コアが間隙Ｇ２を越えて位置ずれを起こすことがない。また、規制部１８－４、１８－５、及び１８－６は断面形状が台形であるため、間隙Ｇ２を狭くしつつ、規制部１８－４、１８－５、及び１８－６のそれぞれと基板１０及び薄板ガラス３０との固着部の面積を比較的大きくすることができる。これにより、規制部１８－４、１８－５、及び１８－６を安定に支持することができる。
　次に、工程２において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれ、規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６によって取り囲まれた空間に、間隙Ｇ２を介して光導波路コア形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部に光導波路コア形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。露光マスクのパターンは、例えば、露光マスクを通過した光のビーム形状が円又は矩形の形状となるようなパターンとする。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が円柱状又は四角柱状に硬化して、円柱又は四角柱の形状を持った光導波路コア１４－８が形成される。その後、間隙Ｇ２を介して、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。なお、図１４の間隙Ｇ２は、図１３の間隙Ｇ１と比較して通路の数が多いため、樹脂の供給と除去を円滑に行うことが可能である。
　図１４の工程２に示されるように、光導波路コア１４－８は、各規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６から離間して立設している。即ち、光導波路コア１４－８は、各規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６によって直接的に支持されてはいない。光導波路コア１４－８を支持しているのは、光導波路コア１４－８の上端部における薄板ガラス３０との固着部、及び光導波路コア１４－８の下端部における基板１０との固着部のみである。そのため、光導波路コア１４－８は、従来と同様に、その上端部又は下端部の固着部分が剥離して位置ずれを起こす可能性がある。
　しかしながら、光導波路コア１４－８が位置ずれを起こした場合であっても、位置ずれした光導波路コア１４－８は規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６のいずれかに当たって止まるので、その動きの範囲は各規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６によって取り囲まれた内部空間に限定される。また、上述したように、各規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６間の間隙Ｇ２は光導波路コア１４－８の径よりも狭いため、位置ずれした光導波路コア１４－８が間隙Ｇ２を越えて逸脱してしまうことはない。光導波路コア１４－８の動く範囲、即ち最大の位置ずれ量は、規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６によって取り囲まれた内部空間の大きさに依存する。例えば、この内部空間が小さいほど、光導波路コア１４－８の位置ずれ量を小さくすることができる。この構成は、第１及び第２実施形態のように光導波路コアをクラッド部に密着させることにより支持する構成ではないため、特に、光導波路コア材料とクラッド材料の特性が大きく異なり光導波路コアとクラッドが互いに剥離しやすい場合に有用である。また、この構成は、クラッド部に先立って光導波路コアを形成する構成であるため、現像後のクラッド材料の壁面が光導波路コアの壁面よりも粗い（凹凸が大きい）面に形成されてしまう場合にも、クラッドの当該粗い壁面の影響を受けることなく、光導波路コアの壁面を平滑に形成することができる。
　このように、光導波路コア１４－８は規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６によってその動きの範囲を規制され、これにより、工程２から次の工程３の間に、光導波路コア１４－８の位置ずれを低減することができる。
　次に、工程３において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれ、規制部１８－３、１８－４、１８－５、及び１８－６によって取り囲まれた、光導波路コア１４－８の周囲の空間に、間隙Ｇ２を介してクラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部にクラッド部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介してクラッド部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、光導波路コア１４－８の周囲を覆うように、クラッド部１５－８が形成される。
＜第５実施形態＞
　図１５は、第５実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図であり、各工程における光デバイスの上面図を示す。
　まず、工程１において、基板１０上にスペーサ２０を配置し、薄板ガラス３０をその一部がスペーサ２０から張り出すようにしてスペーサ２０上に載置し、更に、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれた基板１０上の空間に、規制部形成用の光硬化性樹脂を供給する。基板１０は、例えば、Ｓｉ基板、ＳＯＩ基板等である。基板１０の表面には、光導波路コアと光結合されることとなるフォトダイオードやグレーティングカプラ等の光回路（不図示）が形成されている。スペーサ２０は、基板１０に垂直な方向における光導波路コアの長さを規定する部材である。薄板ガラス３０は、光デバイスの完成後に光導波路コアに対する光学的なインターフェース面として利用される。なお、基板１０上に規制部形成用の光硬化性樹脂を供給した後に、薄板ガラス３０をスペーサ２０上に載置する手順としてもよい。規制部形成用の光硬化性樹脂としては、例えば、硬化後に基板１０や薄板ガラス３０に対する高い密着性を示す樹脂を適用してもよいし、後の工程３で使用されるクラッド部形成用の光硬化性樹脂と同じものを適用してもよい。また、規制部形成用の光硬化性樹脂として、光デバイスを使用する際の信号光の波長において不透明な樹脂を用いてもよい。
　続いて工程１において、薄板ガラス３０の上部に規制部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して規制部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、露光マスクのパターンに応じた形状の規制部１８－７及び１８－８が形成される。規制部１８－７及び１８－８は、光導波路コアがプロセス途中で傾いたり倒れようとしたりした場合にその動きを規制するためのものであり、両者の間には、次の工程２で光導波路コア形成用の光硬化性樹脂を流通させるための通路が形作られている。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。
　次に、工程２において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれた、規制部１８－７と１８－８との間の通路に、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部に光導波路コア形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、規制部１８－７と１８－８との間の通路に沿って複数の光導波路コア１４－９が形成される。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。なお、規制部１８－７及び１８－８が信号光の波長において不透明な樹脂から構成されている場合には、あるチャンネルからの漏れ光が他のチャンネルに雑音として混入してしまうことを低減することができ、高いチャンネル間アイソレーションを得ることができる。
　図１５の工程２に示されるように、複数の光導波路コア１４－９のそれぞれは、規制部１８－７及び１８－８から離間して立設している。即ち、各光導波路コア１４－９は、規制部１８－７及び１８－８によって直接的に支持されてはいない。各光導波路コア１４－９を支持しているのは、薄板ガラス３０との固着部及び基板１０との固着部のみである。そのため、各光導波路コア１４－９は、従来と同様に、薄板ガラス３０又は基板１０との固着部分が剥離して位置ずれを起こす可能性がある。
　しかしながら、光導波路コア１４－９が位置ずれを起こした場合であっても、前述した第４実施形態と同様に、光導波路コア１４－９は規制部１８－７及び１８－８によってその動きの範囲を規制され、これにより、工程２から次の工程３の間に、光導波路コア１４－９の位置ずれを低減することができる。
　次に、工程３において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれた、規制部１８－７と１８－８との間の通路における複数の光導波路コア１４－９の周囲に、クラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部にクラッド部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介してクラッド部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、各光導波路コア１４－９の周囲を覆うように、クラッド部１５－９が形成される。
　図１６は、第５実施形態の変形例に係る光デバイスの製造方法を示す図であり、各工程における光デバイスの上面図を示す。図１６では、図１５における規制部１８－８が複数に分割して構成されており、複数の光導波路コア１４－９の配列方向と交わる方向に通路が形成されている。これにより、工程２及び３における樹脂の供給と除去を円滑に行うことが可能である。
＜第６実施形態＞
　図１７は、第６実施形態に係る光デバイスの製造方法を示す図であり、各工程における光デバイスの上面図及び側面図を示す。
　まず、工程１において、基板１０上にスペーサ２０を配置し、薄板ガラス３０をその一部がスペーサ２０から張り出すようにしてスペーサ２０上に載置し、更に、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれた基板１０上の空間に、第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給する。基板１０は、例えば、Ｓｉ基板、ＳＯＩ基板等である。基板１０の表面には、光導波路コアと光結合されることとなるフォトダイオードやグレーティングカプラ等の光回路（不図示）が形成されている。スペーサ２０は、基板１０に垂直な方向における光導波路コアの長さを規定する部材である。薄板ガラス３０は、光デバイスの完成後に光導波路コアに対する光学的なインターフェース面として利用される。なお、基板１０上に第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給した後に、薄板ガラス３０をスペーサ２０上に載置する手順としてもよい。
　続いて工程１において、薄板ガラス３０の上部に第１クラッド部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、露光マスクのパターンに応じた形状の第１クラッド部１２－７が形成される。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。
　ここで、第１クラッド部１２－７は、第１実施形態の第１クラッド部１２－１（図１）のようにスペーサ２０に接して形成されるのではなく、スペーサ２０との間にある大きさの間隙を有するようにスペーサ２０から離して形成される。この間隙は、以下の工程において光導波路コアと第２クラッド部が形成される部分である。また、第１クラッド部１２－７のスペーサ２０と対向する側面は、基板１０に対してオーバーハングした斜面となるように形成される。例えば、この斜面は基板１０の法線に対して数°傾いた面である。このような第１クラッド部１２－７のオーバーハングした側面を形成するには、例えば、第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂に光照射する際に、基板１０に対して斜めに光を照射するようにすればよい。照射角度の調整により、第１クラッド部１２－７のオーバーハング面の傾斜角度を調整することができる。
　また、図１７の工程１に示されるように、第１クラッド部１２－７のスペーサ２０と対向するオーバーハング面は、半円状の凹部１３－８を有する形状に形成される。この凹部１３－８は、オーバーハング面の上端（薄板ガラス３０側）から下端（基板１０側）にわたって同じ深さを有した溝であり、次の工程２において光導波路コアが形成される部分である。また、図１７の工程１に示されるように、第１クラッド部１２－７は、上面視において光導波路コアよりも格段に大きい面積を有するように形成される。一例として、光導波路コアの径は１０μｍ程度であり、第１クラッド部１２－７の凹部１３－８からスペーサ２０の方向へ測った幅は数百μｍである。このように大面積を有するため、第１クラッド部１２－７は、基板１０及び薄板ガラス３０と強固に固着している。よって、第１クラッド部１２－７と基板１０及び薄板ガラス３０との界面に剥離が生じることはない。また、たとえ剥離が生じたとしても、第１クラッド部１２－７は光導波路コアのような柱状形状ではないため、傾いたり倒れたりすることはなく、したがって、第１クラッド部１２－７は位置ずれを起こさない。
　次に、工程２において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれ、第１クラッド部１２－７のオーバーハング面に隣接する基板１０上の空間に、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部に光導波路コア形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して、光導波路コア形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。露光マスクのパターンは、露光マスクを通過した光のビーム形状が、第１クラッド部１２－７の半円状の凹部１３－８に対応した円状の形状となるようなパターンとする。また光導波路コア形成用の光硬化性樹脂への光の照射角度は、第１クラッド部１２－７のオーバーハング面の傾斜角度と同じ角度となるように調整する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が斜めに傾いた円柱状に硬化して、円柱の形状を持った光導波路コア１４－１０が、第１クラッド部１２－７の凹部１３－８に嵌まり込んだ状態で形成される。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。
　図１７の工程２に示されるように、光導波路コア１４－１０の円柱側面のうちの第１クラッド部１２－７側のほぼ半分が、第１クラッド部１２－７の半円状の凹部１３－８の表面に密着している。そのため、凹部１３－８における光導波路コア１４－１０と第１クラッド部１２－７との接触面積は、光導波路コア１４－１０の上端部における薄板ガラス３０との接触面積、及び下端部における基板１０との接触面積と比較して著しく大きい。また、光導波路コア１４－１０と第１クラッド部１２－７は共に成分の近い樹脂から構成されており、これら２つの樹脂相互間の密着性も高い。このように、接触面積が大きいこと、及び樹脂間の密着性が高いことによって、光導波路コア１４－１０は、第１クラッド部１２－７の半円状の凹部１３－８に強固に固着されている。更に、光導波路コア１４－１０と第１クラッド部１２－７の樹脂成分が近いことから、これら２つの樹脂材料の線膨張係数差は小さい。そのため、凹部１３－８における光導波路コア１４－１０と第１クラッド部１２－７との密着部分に、剥離が生じるおそれは低い。したがって、光導波路コア１４－１０は第１クラッド部１２－７の凹部１３－８にしっかりと密着して支持され、これにより、工程２から次の工程３の間に、光導波路コア１４－１０の位置ずれを防止することができる。また、従来例よりも小さな径の光導波路コアを形成することが可能となる。
　更に、光導波路コア１４－１０を形成するために光照射する際、露光マスクを通過した光ビームは基板１０に対して斜めに入射して基板１０表面で反射するが、この反射光は工程１において既に硬化した後の第１クラッド部１２－７の内部に存在する。これに対し、クラッドよりも先に光導波路コアを作製する従来の方法で斜めの光導波路コアを形成する場合には、図１９に示されるように、基板９１０から斜めに反射した光によって光導波路コア形成用の光硬化性樹脂が硬化して、所望の光導波路コア９１４のほかに不要な角状の構造物９１５が形成されてしまう。このように、本実施形態では、不要な角状の構造物を持たない斜めの光導波路コア１４－１０を形成することが可能である。
　次に、工程３において、基板１０と薄板ガラス３０で挟まれ、且つ、光導波路コア１４－１０及び第１クラッド部１２－７とスペーサ２０で挟まれた基板１０上の空間に、第２クラッド部形成用の光硬化性樹脂を供給する。そして、薄板ガラス３０の上部に第２クラッド部形成用の露光マスク（不図示）を配置し、この露光マスクを介して第２クラッド部形成用の光硬化性樹脂にその感光波長の光（例えばＵＶ光）を照射する。これにより、光硬化性樹脂の光照射された部分が硬化して、光導波路コア１４－１０の第１クラッド部１２－７と接していない側面を覆うように、第２クラッド部１５－１０が形成される。その後、未硬化の光硬化性樹脂を現像液で洗い流して除去する。なお、第２クラッド部形成用の光硬化性樹脂は、第１クラッド部形成用の光硬化性樹脂と同じ樹脂であってもよいし、別の樹脂を用いてもよい。
　なお、本実施形態の変形例として、第１実施形態における第１クラッド部１２－１のスペーサ２０と反対側の側面を、基板１０に対してオーバーハングした斜面となるように形成してもよい。
　以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明はこれに限定されず、その要旨を逸脱しない範囲内において様々な変更が可能である。
　例えば、各実施形態における光導波路コアは、薄板ガラス３０側から基板１０側に向かって徐々に径が細く又は太くなるテーパ形状に形成されてもよい。
１０　　　　　　　　基板
１２－１～１２－７　第１クラッド部
１３－１～１３－８　凹部
１４－１～１４－１０　光導波路コア
１５－１～１５－６　第２クラッド部
１５－７～１５－９　クラッド部
１５－１０　　　　　第２クラッド部
１６－１～１６－６　補強部
１７－１～１７－６　第１クラッド部
１８－１～１８－８　規制部
２０　　　　　　　　スペーサ
３０　　　　　　　　薄板ガラス
 

Claims (17)

  1. 　基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された１又は複数の光導波路コアを有する光デバイスの製造方法であって、
    　前記基板上に第１クラッド部を形成する工程と、
    　前記基板上の前記第１クラッド部に隣接する領域に光硬化性樹脂を供給し、前記基板の上方から前記光硬化性樹脂の一部分に光を照射することによって、側面が部分的に前記第１クラッド部に密着するように前記１又は複数の光導波路コアを形成する工程と、
    　を含む、光デバイスの製造方法。
  2. 　前記１又は複数の光導波路コアの前記第１クラッド部と接していない側面を覆うように第２クラッド部を形成する工程を更に含む、請求項１に記載の光デバイスの製造方法。
  3. 　前記第１クラッド部を形成する前に、前記基板上に前記第１クラッド部を補強するための補強部を形成する工程を更に含む、請求項１又は請求項２に記載の光デバイスの製造方法。
  4. 　前記補強部は、前記１又は複数の光導波路コアを伝搬させる信号光の波長において不透明な材質から構成される、請求項３に記載の光デバイスの製造方法。
  5. 　前記第１クラッド部は１又は複数の凹部を有し、前記１又は複数の光導波路コアはそれぞれその側面が前記１又は複数の凹部の内壁面に密着するように形成される、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光デバイスの製造方法。
  6. 　基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された光導波路コアを有する光デバイスの製造方法であって、
    　前記基板上の前記光導波路コアが形成されることとなる領域の周囲に、前記領域から所定距離離間して、前記光導波路コアの位置ずれを規制するための複数の規制部を形成する工程と、
    　前記複数の規制部によって囲まれた領域に光硬化性樹脂を供給し、前記基板の上方から前記光硬化性樹脂の一部分に光を照射することによって、前記光導波路コアを形成する工程と、
    　前記光導波路コアの側面を覆うようにクラッド部を形成する工程と、
    　を含む、光デバイスの製造方法。
  7. 　前記規制部は、前記クラッド部と同じ材質から構成される、請求項６に記載の光デバイスの製造方法。
  8. 　前記規制部は、前記光導波路コアを伝搬させる信号光の波長において不透明な材質から構成される、請求項６に記載の光デバイスの製造方法。
  9. 　前記複数の規制部は、隣り合う２つの規制部の間の間隙が前記光導波路コアの幅よりも狭くなるように形成される、請求項６から請求項８のいずれか１項に記載の光デバイスの製造方法。
  10. 　前記複数の規制部のうちの少なくとも１つは凹部を有し、前記光導波路コアは前記凹部内に配置される、請求項６から請求項９のいずれか１項に記載の光デバイスの製造方法。
  11. 　前記規制部は、前記光導波路コアから遠い部分の幅が前記光導波路コアに近い部分の幅よりも広い形状に形成される、請求項６から請求項９のいずれか１項に記載の光デバイスの製造方法。
  12. 　基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された複数の光導波路コアを有する光デバイスの製造方法であって、
    　前記基板上の前記複数の光導波路コアが形成されることとなる領域の周囲に、前記領域から所定距離離間して、前記複数の光導波路コアの位置ずれを規制するための複数の規制部を形成する工程と、
    　前記複数の規制部によって囲まれた領域に光硬化性樹脂を供給し、前記基板の上方から前記光硬化性樹脂の一部分に光を照射することによって、前記複数の光導波路コアを形成する工程と、
    　前記複数の光導波路コアの各側面を覆うようにクラッド部を形成する工程と、
    　を含み、前記複数の規制部は、前記複数の光導波路コアの配列方向に沿って前記光硬化性樹脂を流通可能とする通路を有するように形成される、光デバイスの製造方法。
  13. 　前記複数の規制部は、前記複数の光導波路コアの配列方向と交わる方向に沿って前記光硬化性樹脂を流通可能とする通路を更に有するように形成される、請求項１２に記載の光デバイスの製造方法。
  14. 　基板と、
    　前記基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された１又は複数の光導波路コアと、
    　前記１又は複数の光導波路コアの側面を部分的に覆うクラッド部と、
    　を備える光デバイス。
  15. 　前記クラッド部に接した硬化樹脂を更に備える請求項１４に記載の光デバイス。
  16. 　基板と、
    　前記基板に対して垂直又は斜めに立設して形成された１又は複数の光導波路コアと、
    　前記１又は複数の光導波路コアの周囲に前記１又は複数の光導波路コアから所定距離離間して形成された硬化樹脂と、
    　前記１又は複数の光導波路コアと前記硬化樹脂との間に充填されたクラッド部と、
    　を備える光デバイス。
  17. 　前記硬化樹脂は、前記１又は複数の光導波路コアを伝搬させる信号光の波長において不透明な材質から構成される、請求項１５又は請求項１６に記載の光デバイス。
     
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