WO2015181984A1 - Photocurable resin composition - Google Patents

Photocurable resin composition Download PDF

Info

Publication number
WO2015181984A1
WO2015181984A1 PCT/JP2014/064534 JP2014064534W WO2015181984A1 WO 2015181984 A1 WO2015181984 A1 WO 2015181984A1 JP 2014064534 W JP2014064534 W JP 2014064534W WO 2015181984 A1 WO2015181984 A1 WO 2015181984A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
component
meth
resin composition
acrylate
photocurable resin
Prior art date
Application number
PCT/JP2014/064534
Other languages
French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
慶次 後藤
健司 深尾
貴子 星野
公彦 依田
Original Assignee
電気化学工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 電気化学工業株式会社 filed Critical 電気化学工業株式会社
Priority to JP2016523085A priority Critical patent/JPWO2015181984A1/en
Priority to KR1020167033667A priority patent/KR102206665B1/en
Priority to CN201480079438.1A priority patent/CN106414525B/en
Priority to PCT/JP2014/064534 priority patent/WO2015181984A1/en
Publication of WO2015181984A1 publication Critical patent/WO2015181984A1/en

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/102Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
    • C08F222/1025Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate of aromatic dialcohols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/541Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5415Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/06Non-macromolecular additives organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/30Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/301Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety and one oxygen in the alcohol moiety

Abstract

 Provided is a short setting-time photocurable resin composition having a high refractive index and high transparency. A photocurable resin composition containing a specific fluorene compound as component (A), a monofunctional (meth)acrylate having an alicyclic hydrocarbon group as component (B), a monofunctional (meth)acrylate having one aromatic ring as component (C), and a photo-radical polymerization initiator as component (D), the content of component (A) being 10-70 parts by mass, the content of component (B) being 5-65 parts by mass, and the content of component (C) being 5-65 parts by mass per 100 total parts by mass of components (A)-(C).

Description

光硬化性樹脂組成物Photocurable resin composition
 本発明は、光硬化性樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a photocurable resin composition.
 従来、CCD、CMOS等のセンサー素子や、ディスプレイ等の表示素子に用いられるガラス、フィルム及びシートの表面には、表面を保護する目的で、無機物又は有機物からなる被覆層が設けられている。近年では、前記の表面保護層に、反射防止や光導波等の機能を付与する目的で高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した被覆層等が用いられている。この高屈折率層には、チタニア、ジルコニア及びアルミナといったセラミックスを蒸着等により形成した高屈折率無機膜や、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレートやウレタン(メタ)アクリレート等のラジカル重合性モノマーを配合し、塗布した後に、紫外線等のエネルギー線を照射して硬化膜とする高屈折率有機膜が、目的に応じて用いられている。前者の無機膜では、基材がフィルムやシートの場合に、密着性が不足したり、膜が脆く、フィルムを曲げた際に割れてしまったりする等の課題があった。近年ではラジカル重合性モノマーを配合した光硬化型の高屈折率有機膜が広く使用されるようになっている。 Conventionally, a coating layer made of an inorganic material or an organic material is provided on the surfaces of glass, films and sheets used for sensor elements such as CCDs and CMOSs and display elements such as displays. In recent years, a coating layer or the like in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated is used for the purpose of imparting functions such as antireflection and optical waveguide to the surface protective layer. This high refractive index layer contains a high refractive index inorganic film formed by vapor deposition of ceramics such as titania, zirconia and alumina, and radical polymerizable monomers such as bisphenol A type epoxy (meth) acrylate and urethane (meth) acrylate. Then, after coating, a high refractive index organic film that is irradiated with an energy ray such as ultraviolet rays to form a cured film is used depending on the purpose. In the former inorganic film, when the substrate is a film or sheet, there are problems such as insufficient adhesion, and the film is fragile and breaks when the film is bent. In recent years, a photo-curing type high refractive index organic film containing a radical polymerizable monomer has been widely used.
 カメラや顕微鏡等の光学機器の組立てにおいては、レンズやプリズム等を接合するため、バルサムやエポキシ樹脂等の透明樹脂が接着剤として用いられていた。近年、オプトエレクトロニクス産業の発展に伴い、光ファイバーやマイクロレンズ等の高度な光学機能を持った光学素子類を接合する用途が増大している。光学素子類を接合するために、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレートやウレタン(メタ)アクリレート等のラジカル重合性モノマーを配合した接着剤も広く使用されるようになっている。特に、光導波路素子とマイクロレンズや光ファイバー等を接合して、光変調器や光スイッチ等の光回路を作製する場合や、薄型レンズの接合等の、高度な光学特性を必要とする光学部品を接合する場合において、高屈折率を有する接着剤が必要とされている。 In the assembly of optical devices such as cameras and microscopes, transparent resins such as balsam and epoxy resin have been used as adhesives to join lenses and prisms. In recent years, with the development of the optoelectronics industry, applications for joining optical elements having advanced optical functions such as optical fibers and microlenses are increasing. In order to join optical elements, an adhesive containing a radical polymerizable monomer such as bisphenol A type epoxy (meth) acrylate or urethane (meth) acrylate is also widely used. In particular, when optical circuits such as optical modulators and optical switches are manufactured by bonding optical waveguide elements and microlenses, optical fibers, etc., and optical components that require advanced optical characteristics such as bonding thin lenses. In the case of joining, an adhesive having a high refractive index is required.
 上述のような反射防止膜や光導波路膜に用いられる高屈折率層に適用可能な、高屈折率を有する樹脂組成物や、接着剤に用いられる樹脂組成物としては、硫黄含有(メタ)アクリレートを用いた接着剤組成物及び光硬化性樹脂組成物が知られている(特許文献1~3)。特許文献4には、ジフェニルスルフォン構造を有するウレタン(メタ)アクリレートを用いた活性エネルギー線硬化性組成物が開示されている。 Examples of the resin composition having a high refractive index that can be applied to the high refractive index layer used in the antireflection film and the optical waveguide film as described above, and the resin composition used in the adhesive include sulfur-containing (meth) acrylates. An adhesive composition and a photo-curable resin composition using the above are known (Patent Documents 1 to 3). Patent Document 4 discloses an active energy ray-curable composition using urethane (meth) acrylate having a diphenylsulfone structure.
 また、高い屈折率を有する化合物として、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレートを用いた光硬化性樹脂組成物が開示されている(特許文献5~9)。 Also, photocurable resin compositions using (meth) acrylates having a fluorene skeleton as compounds having a high refractive index are disclosed (Patent Documents 5 to 9).
 また、特許文献5~9には、希釈等の目的で単官能(メタ)アクリレートを使用できる旨の記載がある。 Patent Documents 5 to 9 have a description that monofunctional (meth) acrylate can be used for the purpose of dilution or the like.
特開平11-5952号公報JP-A-11-5952 特開2002-97224号公報JP 2002-97224 A 特表2006-526037号公報JP 2006-526037 Gazette 特開2011-157543号公報JP 2011-157543 A 特開2004-294720号公報JP 2004-294720 A 特開2008-94987号公報JP 2008-94987 A 特開2010-248358号公報JP 2010-248358 A 特開2011-39165号公報JP 2011-39165 A 特開2012-111931号公報JP 2012-111931 A
 しかしながら、特許文献1から4に記載の主成分である、硫黄含有(メタ)アクリレートや、ジフェニルスルフォン構造を有するウレタン(メタ)アクリレート、4,4’-ジメルカプトジフェニルサルファイドジメタクリレートは、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート等の芳香環を有する化合物よりは高い屈折率を有してはいるものの、これら化合物は一般に波長450nm以下の光を吸収するため、黄色く着色し、透明性が低下しやすい、フィルムと密着しにくいといった課題があった。 However, sulfur-containing (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates having a diphenylsulfone structure, and 4,4′-dimercaptodiphenyl sulfide dimethacrylate, which are the main components described in Patent Documents 1 to 4, are bisphenol A type Although it has a higher refractive index than compounds having an aromatic ring such as epoxy (meth) acrylate, these compounds generally absorb light with a wavelength of 450 nm or less, so they are colored yellow and transparency tends to decrease. There was a problem that it was difficult to adhere to the film.
 一方、特許文献5の実施例は、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート以外の成分として、エチレングリコール鎖を有するジメタクリレート及び/又はビスフェノールFエチレンオキサイド変性アクリレートを使用しているため、密着性、耐光性が低いといった課題があった。 On the other hand, since the Example of patent document 5 uses the dimethacrylate and / or bisphenol F ethylene oxide modified acrylate which have ethylene glycol chain as components other than the (meth) acrylate which has a fluorene skeleton, adhesiveness, light resistance There was a problem of low nature.
 特許文献6の実施例は、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート以外の成分として、2つの芳香環を有する単官能(メタ)アクリレート化合物を使用しているため、高い屈折率は得られているものの、密着性、透明性、耐光性が低いといった課題があった。 Although the Example of patent document 6 uses the monofunctional (meth) acrylate compound which has two aromatic rings as components other than the (meth) acrylate which has a fluorene skeleton, although a high refractive index is obtained. There are problems such as low adhesion, transparency and light resistance.
 特許文献7の実施例は、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート以外の成分として、2つの芳香環を有する単官能(メタ)アクリレート及び/又は1つの芳香環を有する単官能(メタ)アクリレートを使用しているため、高い屈折率は得られているものの、密着性、透明性、耐光性が低いといった課題があった。 In Examples of Patent Document 7, monofunctional (meth) acrylate having two aromatic rings and / or monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring are used as components other than (meth) acrylate having a fluorene skeleton. Therefore, although a high refractive index is obtained, there is a problem that adhesion, transparency, and light resistance are low.
 特許文献8の実施例は、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート以外の成分として、分子内にカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する(メタ)アクリレート共重合体であるアルカリ可溶性樹脂及びシリカ微粒子を使用しているため、屈折率が低くなるといった課題があった。 In Examples of Patent Document 8, alkali-soluble resins and silica fine particles, which are (meth) acrylate copolymers having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group in the molecule, as components other than (meth) acrylate having a fluorene skeleton are used. Since it was used, there was a problem that the refractive index was lowered.
 特許文献9の実施例は、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート以外の成分として、分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能硬化性モノマーを使用しているため、密着性、接着性が低いといった課題があった。 Since the Example of patent document 9 uses the polyfunctional curable monomer which has a 3 or more (meth) acryloyl group in a molecule | numerator as components other than (meth) acrylate which has a fluorene skeleton, adhesiveness, There was a problem that adhesiveness was low.
 特許文献5~9には、単官能(メタ)アクリレートの組成比に関する記載はない。 Patent Documents 5 to 9 do not describe the composition ratio of monofunctional (meth) acrylate.
 本発明はこのような事情に鑑みてなされたものである。本発明は、特定量の単官能(メタ)アクリレートを使用する。本発明により、特許文献5~9記載の、エチレングリコール鎖を有するジメタクリレート、ビスフェノールFエチレンオキサイド変性アクリレート、2つの芳香環を有する単官能(メタ)アクリレート、分子内にカルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する(メタ)アクリレート共重合体であるアルカリ可溶性樹脂及びシリカ微粒子、分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能硬化性モノマーを使用しなくても、優れた効果を有する。本発明は、高い屈折率と高い透明性を有し、固着時間が短い光硬化性樹脂組成物を提供する。 The present invention has been made in view of such circumstances. The present invention uses a specific amount of monofunctional (meth) acrylate. According to the present invention, dimethacrylate having an ethylene glycol chain, bisphenol F ethylene oxide modified acrylate, monofunctional (meth) acrylate having two aromatic rings, carboxyl group in the molecule and ethylenic unsaturation described in Patent Documents 5 to 9 Even if it does not use the alkali-soluble resin and silica fine particles which are (meth) acrylate copolymer having a group, and a polyfunctional curable monomer having 3 or more (meth) acryloyl groups in the molecule, it has an excellent effect. . The present invention provides a photocurable resin composition having a high refractive index and high transparency and a short fixing time.
 本発明は、以下の通りである。
<1>(A)成分として、下記一般式(1)で表されるフルオレン系化合物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(一般式(1)中、R、R、R、Rは水素原子又はメチル基、a及びbは、それぞれ1~4の整数を表す。尚、それぞれの置換基はベンゼン環における置換可能な炭素原子のいずれと結合してもよい。)
 (B)成分として、脂環式炭化水素基を有する単官能(メタ)アクリレート
 (C)成分として、1個の芳香環を有する単官能(メタ)アクリレート
 (D)成分として、光ラジカル重合開始剤、
を含有し、(A)~(C)成分の合計100質量部中、前記(A)成分の含有割合が10~70質量部であり、前記(B)成分の含有割合が5~65質量部であり、前記(C)成分の含有割合が5~65質量部である光硬化性樹脂組成物である。
<2>(B)成分は、ホモポリマーのガラス転移温度が40℃以上180℃以下であることが好ましい。
<3>更に(E)成分として、シランカップリング剤を含有することが好ましい。
<4>(E)成分は、フェニル基又は(メタ)アクリロイル基から選ばれる1個以上の官能基を有するシランカップリング剤であることが好ましい。
<5>温度25℃、波長589nmでの液屈折率が1.50以上であり、硬化物屈折率が1.53以上であることが好ましい。
<6>光硬化性樹脂組成物からなる被覆材であることが好ましい。
<7>被覆材を有する基材であることが好ましい。
<8>光硬化性樹脂組成物からなる層を基板上に形成した後に、前記の光硬化性樹脂組成物より低い屈折率を有する層を形成してなる膜であることが好ましい。
<9>膜を有する基材であることが好ましい。
<10>基材を有する素子であることが好ましい。
<11>光硬化性樹脂組成物からなる接着剤であることが好ましい。
<12>接着剤で接着された接合体であることが好ましい。
<13>接合体を有する光学部品であることが好ましい。
The present invention is as follows.
<1> As a component (A), a fluorene compound represented by the following general formula (1),
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and a and b each represent an integer of 1 to 4. Note that each substituent is a benzene ring. It may be bonded to any substitutable carbon atom.)
(B) Monofunctional (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group as component (C) Monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring as component (C) Photoradical polymerization initiator as component (D) ,
In a total of 100 parts by mass of the components (A) to (C), the content of the component (A) is 10 to 70 parts by mass, and the content of the component (B) is 5 to 65 parts by mass. And a content ratio of the component (C) is 5 to 65 parts by mass.
As for <2> (B) component, it is preferable that the glass transition temperature of a homopolymer is 40 degreeC or more and 180 degrees C or less.
<3> Furthermore, it is preferable to contain a silane coupling agent as a component (E).
<4> The component (E) is preferably a silane coupling agent having one or more functional groups selected from a phenyl group or a (meth) acryloyl group.
<5> The liquid refractive index at a temperature of 25 ° C. and a wavelength of 589 nm is preferably 1.50 or more, and the cured product refractive index is preferably 1.53 or more.
It is preferable that it is a coating material which consists of a <6> photocurable resin composition.
It is preferable that it is a base material which has a <7> coating material.
<8> A film formed by forming a layer made of a photocurable resin composition on a substrate and then forming a layer having a refractive index lower than that of the photocurable resin composition.
<9> A substrate having a film is preferred.
It is preferable that it is an element which has a <10> base material.
It is preferable that it is an adhesive agent which consists of a <11> photocurable resin composition.
<12> A bonded body bonded with an adhesive is preferable.
<13> An optical component having a joined body is preferable.
 本願発明者らは、上記一般式(1)で表されるフルオレン系化合物を用いた光硬化性樹脂組成物の研究開発を行った。その結果、希釈等の目的で使用される単官能(メタ)アクリレートを用いて、上記フルオレン系化合物の光硬化性樹脂組成物を作成したところ、より屈折率が高く、より透明性が高く、より固着時間が短い光硬化性樹脂組成物が得られることを発見た。さらに研究を重ねた所、脂環式炭化水素基を有する単官能(メタ)アクリレートと1個の芳香環を有する単官能(メタ)アクリレートとを特定の含有割合で混合することによって、上述した効果を発揮する光硬化性樹脂組成物が得られることを明らかにし、本発明を完成した。 The inventors of the present application conducted research and development on a photocurable resin composition using the fluorene-based compound represented by the general formula (1). As a result, using a monofunctional (meth) acrylate used for the purpose of dilution and the like, a photocurable resin composition of the above fluorene compound was created. The higher the refractive index, the higher the transparency, and the more It was discovered that a photocurable resin composition having a short fixing time can be obtained. After further research, the effects described above are obtained by mixing a monofunctional (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group and a monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring in a specific content ratio. The present invention was completed by clarifying that a photo-curable resin composition exhibiting the above can be obtained.
 本発明は、高い屈折率と高い透明性を有し、固着時間が短い、といった効果が得られる。 The present invention has the effects of having a high refractive index and high transparency and a short fixing time.
<用語の説明>
 本明細書において、被覆材とは、ガラス基板、プラスチックフィルム、プラスチックシート等の基材上を、表面保護や意匠性を付与したり、及び反射防止や光導波といった機能性を付与したりすることを目的に被覆する材料を意味する。
<Explanation of terms>
In the present specification, the covering material is to impart surface protection, designability, or functionality such as antireflection or optical waveguide on a substrate such as a glass substrate, a plastic film, or a plastic sheet. It means a material coated for the purpose.
 本明細書において、接着剤とは、部品と部品等を貼り合わせるための接着剤、特に光学部品の接着に好適に用いられる接着剤を意味する。 In the present specification, the adhesive means an adhesive for bonding components to each other, particularly an adhesive suitably used for bonding optical components.
 本発明の一実施形態に係る樹脂組成物の成分について説明する。本実施形態の光硬化性樹脂組成物は、光硬化性樹脂組成物100質量部中、(A)~(C)成分の合計が、70質量部以上であることが好ましく、90質量部以上であることがより好ましく、93質量部以上であることが更に好ましく、95質量部以上であることが尚更好ましい。なお、上記光硬化性樹脂組成物は、光硬化性樹脂組成物100質量部中、上記(A)~(C)成分の合計が、例えば、60、65、70、75、80、85、88、90、92、93、95、96、97、98、99又は100質量部であってもよく、それらいずれか2つの値の範囲内であってもよい。 The components of the resin composition according to one embodiment of the present invention will be described. In the photocurable resin composition of the present embodiment, the total of the components (A) to (C) is preferably 70 parts by mass or more, and 90 parts by mass or more in 100 parts by mass of the photocurable resin composition. More preferably, it is 93 parts by mass or more, still more preferably 95 parts by mass or more. In the photocurable resin composition, the total of the components (A) to (C) is, for example, 60, 65, 70, 75, 80, 85, 88 in 100 parts by mass of the photocurable resin composition. , 90, 92, 93, 95, 96, 97, 98, 99, or 100 parts by mass, or any of these two values.
<(A)成分:フルオレン系化合物>
 本実施形態の樹脂組成物は、(A)成分として、下記一般式(1)で表されるフルオレン系化合物を有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(一般式(1)中、R、R、R、Rは水素原子又はメチル基、a及びbは、それぞれ1~4の整数を表す。尚、それぞれの置換基はベンゼン環における置換可能な炭素原子のいずれと結合してもよい。)
<(A) component: fluorene compound>
The resin composition of this embodiment has a fluorene compound represented by the following general formula (1) as the component (A).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and a and b each represent an integer of 1 to 4. Note that each substituent is a benzene ring. It may be bonded to any substitutable carbon atom.)
 上記フルオレン系化合物としては、9,9-ビス[4-((メタ)アクリロイルオキシ)フェニル]フルオレン等の9,9-ビス[(メタ)アクリロイルオキシフェニル]フルオレン類;9,9-ビス[4-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9-ビス[4-(2-(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ)フェニル]フルオレン等の9,9-ビス[((メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)フェニル]フルオレン類;9,9-ビス[3-メチル-4-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9-ビス[3-メチル-4-(2-(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ)フェニル]フルオレン、9,9-ビス[3,5-ジメチル-4-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン等の9,9-ビス[モノ又はジC1-4アルキル-(2-(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)フェニル]フルオレン;9,9-ビス[3,4-ジ(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9-ビス[3,5-ジ(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン等の9,9-ビス[ジ(2-(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)フェニル]フルオレン類;9,9-ビス[3,4,5-トリス(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン等の9,9-ビス[トリ(2-(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)フェニル]フルオレン類;これらの化合物においてC2-4アルコキシ基がポリアルコキシ基(ジエトキシ、トリエトキシ基等)で置換された化合物(9,9-ビス[(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)フェニル]フルオレン類;9,9-ビス[4-(2-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ)フェニル]フルオレン、9,9-ビス[3,5-ジメチル-4-(2-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ)フェニル]フルオレン等の9,9-ビス[((メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシC2-4アルコキシ)フェニル]フルオレン類等);更にはこれらの化合物において、フェニル基をビフェニル基で置換してビフェニル基を形成した化合物(9,9-ビス[3-フェニル-4-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン等の9,9-ビス[フェニル-(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシフェニル]フルオレン類等);これらの化合物においてナフチル基である化合物(9,9-ビス[5又は6-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)-2-ナフチル)]フルオレン、9,9-ビス[5又は6-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)-1又は2-ナフチル)]フルオレン等の9,9-ビス[((メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)ナフチル]フルオレン類等)等が挙げられる。これらの中では、透明性、基材との密着性の点で、9,9-ビス[4-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、及び/又は、9,9-ビス[4-(2-(メタ)アクリロイルオキシポリエトキシ)フェニル]フルオレンが好ましい。ここで、Cは炭素をいう。例えば、C1-4とは、炭素数が1~4個であることをいう。 Examples of the fluorene compounds include 9,9-bis [(meth) acryloyloxyphenyl] fluorenes such as 9,9-bis [4-((meth) acryloyloxy) phenyl] fluorene; 9,9-bis [4 9,9-bis [((meth) acryloyloxy such as-(2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2- (meth) acryloyloxypropoxy) phenyl] fluorene C2-4 alkoxy) phenyl] fluorenes; 9,9-bis [3-methyl-4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [3-methyl-4- (2 -(Meth) acryloyloxypropoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [3,5-dimethyl-4- (2- (meth) a 9,9-bis [mono or diC1-4alkyl- (2- (meth) acryloyloxyC2-4alkoxy) phenyl] fluorene such as liloyloxyethoxy) phenyl] fluorene; 9,9-bis [3,4 9,9-bis [di (di (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [3,5-di (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene) 2- (meth) acryloyloxy C2-4 alkoxy) phenyl] fluorenes; 9,9-bis such as 9,9-bis [3,4,5-tris (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene [Tri (2- (meth) acryloyloxy C2-4alkoxy) phenyl] fluorenes; C2-4 alkoxy in these compounds Compound (9,9-bis [(meth) acryloyloxy C2-4alkoxy) phenyl] fluorenes in which the group is substituted with a polyalkoxy group (diethoxy, triethoxy group, etc.); 9,9-bis [4- (2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [3,5-dimethyl-4- (2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy) phenyl] fluorene, etc. 9,9-bis [((meth) acryloyloxy C2-4alkoxyC2-4alkoxy) phenyl] fluorenes, etc.); furthermore, in these compounds, the phenyl group is substituted with a biphenyl group to form a biphenyl group (9,9-bis [3-phenyl-4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluore 9,9-bis [phenyl- (meth) acryloyloxy C2-4alkoxyphenyl] fluorenes, etc.) such as, and the like; compounds in these compounds that are naphthyl groups (9,9-bis [5 or 6- (2- (Meth) acryloyloxyethoxy) -2-naphthyl)] fluorene, 9,9-bis [5 or 6- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) -1 or 2-naphthyl)] fluorene, 9,9- Bis [((meth) acryloyloxy C2-4alkoxy) naphthyl] fluorenes) and the like. Among them, 9,9-bis [4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene and / or 9,9-bis [ 4- (2- (Meth) acryloyloxypolyethoxy) phenyl] fluorene is preferred. Here, C refers to carbon. For example, C1-4 means having 1 to 4 carbon atoms.
 (A)成分の含有割合は、屈折率、透明性、密着性の点で、樹脂組成物の総量((A)~(C)の合計100質量部)に対して10~70質量部が好ましく、20~60質量部がより好ましく、30~50質量部が最も好ましい。なお、上記(A)成分の含有割合は、例えば、10、20、30、40、50、60又は70質量部であってもよく、それらいずれか2つの値の範囲内であってもよい。 The content of the component (A) is preferably 10 to 70 parts by mass with respect to the total amount of the resin composition (100 parts by mass in total of (A) to (C)) in terms of refractive index, transparency and adhesion. 20 to 60 parts by mass is more preferable, and 30 to 50 parts by mass is most preferable. In addition, the content rate of the said (A) component may be 10, 20, 30, 40, 50, 60, or 70 mass parts, for example, and may exist in the range of those two values.
 上記フルオレン系化合物は、公知の製造方法をもって製造されたものを使用できる。具体的には大阪ガスケミカル社製のオクゾールシリーズや、新中村化学工業社製の「NKエステル A-BPFE」等を用いることができる。 As the fluorene compound, those produced by a known production method can be used. Specifically, an oxsol series manufactured by Osaka Gas Chemical Company, “NK Ester A-BPFE” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., or the like can be used.
<(B)成分:脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリレート>
 本実施形態の樹脂組成物は(B)成分として、脂環式炭化水素基を有する単官能(メタ)アクリレートを含有する。
<(B) component: (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group>
The resin composition of this embodiment contains the monofunctional (meth) acrylate which has an alicyclic hydrocarbon group as (B) component.
 上記単官能(メタ)アクリレートとしては、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、水素添加ビスフェノールA型エポキシモノ(メタ)アクリレート、水素添加ビスフェノールF型エポキシモノ(メタ)アクリレート、水素添加ビフェニル型エポキシモノ(メタ)アクリレート、及び、これらエポキシモノ(メタ)アクリレートのEO(エチレンオキシド)変性体又はPO(プロピレンオキシド)変性体等が挙げられる。これらの中では、屈折率、透明性、密着性の点で、イソボルニル(メタ)アクリレート、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレートからなる群のうちの1種以上が好ましく、イソボルニル(メタ)アクリレート、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレートからなる群のうちの1種以上がより好ましい。 Examples of the monofunctional (meth) acrylate include dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, and isobornyl. (Meth) acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol A type epoxy mono (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol F type epoxy Mono (meth) acrylate, hydrogenated biphenyl type epoxy mono (meth) acrylate, and EO (ethylene oxide) modified product of these epoxy mono (meth) acrylates or PO (propylene) N'okishido) modified products and the like. Of these, isobornyl (meth) acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyl (meth) in terms of refractive index, transparency, and adhesion. One or more members selected from the group consisting of acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate are preferred. Isobornyl (meth) acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth) acrylate, dicyclopenta One or more members selected from the group consisting of nyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate are more preferable.
 (B)成分は、密着性、耐光性の点で、ホモポリマーのガラス転移温度(以下、Tgという)が、40℃以上180℃以下であることが好ましい。 The component (B) preferably has a glass transition temperature (hereinafter referred to as Tg) of 40 ° C. or higher and 180 ° C. or lower in terms of adhesion and light resistance.
(メタ)アクリレートのホモポリマーのガラス転移温度(Tg)は、J.Brandrup, E. H. Immergut, Polymer Handbook, 2nd Ed.,J. Wiley, New York 1975、光硬化技術データブック(テクノネットブックス社)等に記載されている。本実施形態は、光硬化技術データブック記載の値を使用した。 The glass transition temperature (Tg) of the (meth) acrylate homopolymer is described in J. Org. Brandrup, E. H. Immergut, Polymer Handbook, 2nd Ed. , J .; Wiley, New York 1975, photocuring technology data book (Technonet Books, Inc.) and the like. In this embodiment, values described in the photocuring technology data book are used.
 ガラス転移温度の測定は、示差熱量計(以下、DSCという)や動的粘弾性(以下、DMAという)等公知の手法で測定できるが、DSCを用いた測定が好ましい。 The glass transition temperature can be measured by a known method such as a differential calorimeter (hereinafter referred to as DSC) or dynamic viscoelasticity (hereinafter referred to as DMA), but measurement using DSC is preferable.
 (B)成分の含有割合は、屈折率、透明性、基材との密着性の点で、樹脂組成物の総量((A)~(C)の合計100質量部)に対して5~65質量部が好ましく、15~55質量部がより好ましく、25~45質量部が最も好ましい。なお、上記(B)成分の含有割合は、例えば、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60又は65質量部であってもよく、それらいずれか2つの値の範囲内であってもよい。 The content of the component (B) is 5 to 65 with respect to the total amount of the resin composition (total 100 parts by mass of (A) to (C)) in terms of refractive index, transparency, and adhesion to the substrate. Part by mass is preferred, 15 to 55 parts by mass is more preferred, and 25 to 45 parts by mass is most preferred. The content ratio of the component (B) may be, for example, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60, or 65 parts by mass, or any of them. It may be within a range of two values.
<(C)成分:芳香環を有する単官能(メタ)アクリレート>
 本実施形態の樹脂組成物は(C)成分として、より屈折率を高めることを目的に1個の芳香環を有する単官能(メタ)アクリレートを含有する。
<(C) component: monofunctional (meth) acrylate having an aromatic ring>
The resin composition of this embodiment contains a monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring for the purpose of further increasing the refractive index as the component (C).
 上記1個の芳香環を有する単官能(メタ)アクリレートとしては、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェニル(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェニル(メタ)アクリレート、フタル酸変性(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中では、(A)成分との相溶性、屈折率、透明性の点で、ベンジル(メタ)アクリレート及び/又はフェノキシエチル(メタ)アクリレートが好ましい。 Examples of the monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring include benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, and phenoxyhexaethylene glycol. (Meth) acrylate, nonylphenyl (meth) acrylate, ethylene oxide modified nonylphenyl (meth) acrylate, phthalic acid modified (meth) acrylate, and the like. Among these, benzyl (meth) acrylate and / or phenoxyethyl (meth) acrylate are preferable in view of compatibility with the component (A), refractive index, and transparency.
 (C)成分の含有割合は、屈折率、透明性、密着性、耐光性の点で、樹脂組成物の総量((A)~(C)の合計100質量部)に対して5~65質量部が好ましく、10~55質量部がより好ましく、15~45質量部が最も好ましい。なお、上記(C)成分の含有割合は、例えば、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60又は65質量部であってもよく、それらいずれか2つの値の範囲内であってもよい。 The content ratio of the component (C) is 5 to 65 masses with respect to the total amount of the resin composition (100 mass parts in total of (A) to (C)) in terms of refractive index, transparency, adhesion, and light resistance. Part is preferred, 10 to 55 parts by weight is more preferred, and 15 to 45 parts by weight is most preferred. The content ratio of the component (C) may be, for example, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60, or 65 parts by mass. It may be within a range of two values.
<(D)成分:光ラジカル重合開始剤>
 本実施の樹脂組成物は、(D)光ラジカル重合開始剤を含有する。光ラジカル重合開始剤は、エネルギー線を照射することによりラジカルが発生する化合物であれば、特に制限されない。
<(D) component: radical photopolymerization initiator>
The resin composition of the present embodiment contains (D) a radical photopolymerization initiator. The radical photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that generates radicals when irradiated with energy rays.
 上記光ラジカル重合開始剤としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾイン安息香酸、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン、4-フェニルベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2-ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等のアルキルアセトフェノン誘導体、1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-(4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン等のα-ヒドロキシアセトフェノン誘導体、ビスジエチルアミノベンゾフェノン、2-メチル-1-(4-(メチルチオ)フェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-1-ブタノン-1等のα-アミノアルキルアセトフェノン誘導体、イソブチリル-メチルフォスフィン酸メチルエステル、イソブチリル-フェニルフォスフィン酸メチルエステル、ピバロイル-フェニルフォスフィン酸メチルエステル、2-エチルヘキサノイル-フェニルフォスフィン酸メチルエステル、ピバロイル-フェニルフォスフィン酸イソプロピルエステル、p-トルイル-フェニルフォスフィン酸メチルエステル、o-トルイル-フェニルフォスフィン酸メチルエステル、2,4-ジメチルベンゾイル-フェニルフォスフィン酸メチルエステル、p-3級ブチルベンゾイル-フェニルフォスフィン酸イソプロピルエステル、ビバロイル-(4-メチルフェニル)-フォスフィン酸メチルエステル、ピバロイル-フェニルフォスフィン酸ビニルエステル、アクリロイル-フェニルフォスフィン酸メチルエステル、イソブチリル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、ピバロイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、1-メチル-1-シクロヘキサノイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2-エチルヘキサノイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、p-トルイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、o-トルイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、p-3級ブチルベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、(メタ)アクリロイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,2-ジメチル-ヘプタノイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、テレフタロイル-ビス-ジフェニルフォスフィンオキサイド、アジポイル-ビス-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,6-ジメチルベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,6-ジメトキシベンゾイル-フェニルフォスフィン酸メチルエステル、2,6-ジメチルベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,6-ジメトキシベンゾイル-ジフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィン酸メチルエステル、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,3,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-トリフォスフィン酸メチルエステル、2,4,6-トリメトキシベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,6-ジクロルベンゾイル-フェニルフォスフィン酸エステル、2,6-ジクロルベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,3,4,6-テトラメチルベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,6-ジブロムベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、2,6-ジメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイル-フェニルフォスフィン酸メチルエステル、2,6-ジクロルベンゾイル-若しくは2,6-ジメトキシベンゾイル-ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド誘導体、1,2-オクタンジオン,1-〔-4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)〕、エタノン1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-1-(O-アセチルオキシム)等のオキシムエステル化合物が挙げられる。これらの中では、反応性、透明性に優れる点で、アルキルアセトフェノン誘導体、α-ヒドロキシアセトフェノン誘導体、アシルフォスフィンオキサイド誘導体からなる1種以上が好ましい。これらは1種又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Examples of the photo radical polymerization initiator include benzyl derivatives such as benzyl, benzoin, benzoin benzoic acid, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether, benzophenone derivatives such as benzophenone and 4-phenylbenzophenone, and 2,2-diethoxy Alkylacetophenone derivatives such as acetophenone, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4- (2-hydroxyethoxy) Α-hydroxyacetophenone derivatives such as) -phenyl) -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, etc. Bisdiethylaminobenzophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1 Α-aminoalkylacetophenone derivatives such as butanone-1, isobutyryl-methylphosphinic acid methyl ester, isobutyryl-phenylphosphinic acid methyl ester, pivaloyl-phenylphosphinic acid methyl ester, 2-ethylhexanoyl-phenylphosphinic acid Methyl ester, pivaloyl-phenylphosphinic acid isopropyl ester, p-toluyl-phenylphosphinic acid methyl ester, o-toluyl-phenylphosphinic acid methyl ester, 2,4-dimethylbenzoyl-phenylphosphite Acid methyl ester, p-3 tertiary butylbenzoyl-phenylphosphinic acid isopropyl ester, bivaloyl- (4-methylphenyl) -phosphinic acid methyl ester, pivaloyl-phenylphosphinic acid vinyl ester, acryloyl-phenylphosphinic acid methyl ester, Isobutyryl-diphenylphosphine oxide, pivaloyl-diphenylphosphine oxide, 1-methyl-1-cyclohexanoyl-diphenylphosphine oxide, 2-ethylhexanoyl-diphenylphosphine oxide, p-toluyl-diphenylphosphine oxide, o -Toluyl-diphenylphosphine oxide, p-tert-butylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, (meth) acryloyldiphenyl Phosphine oxide, benzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,2-dimethyl-heptanoyl-diphenylphosphine oxide, terephthaloyl-bis-diphenylphosphine oxide, adipoyl-bis-diphenylphosphine oxide, 2,6-dimethylbenzoyl-diphenyl Phosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoyl-phenylphosphinic acid methyl ester, 2,6-dimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoyl-diphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl -Phenylphosphinic acid methyl ester, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,3,6-trimethylbenzoyl-di Phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-triphosphinic acid methyl ester, 2,4,6-trimethoxybenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,6-dichlorobenzoyl-phenylphosphinic acid ester, 2 , 6-Dichlorobenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,3,4,6-tetramethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,6-dibromobenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine Fin oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-phenylphosphinic acid methyl ester, 2,6-dichlorobenzoyl-or 2, -Dimethoxybenzoyl-diphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, etc. Acylphosphine oxide derivatives, 1,2-octanedione, 1-[-4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) And oxime ester compounds such as -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime). Among these, at least one kind of alkyl acetophenone derivative, α-hydroxyacetophenone derivative, and acylphosphine oxide derivative is preferable from the viewpoint of excellent reactivity and transparency. These can be used alone or in combination of two or more.
 (D)成分の含有割合は、樹脂組成物の総量((A)~(C)の合計100質量部)に対して、0.1~10質量部が好ましく、0.5~5質量部がより好ましい。0.1~10質量部の範囲にあれば硬化性が悪くなることもないし、透明性も低下させることもない。なお、上記(D)成分の含有割合は、例えば、0.1、0.5、1、2、3、4、5、6、7、8、9又は10質量部であってもよく、それらいずれか2つの値の範囲内であってもよい。 The content ratio of the component (D) is preferably 0.1 to 10 parts by weight, and preferably 0.5 to 5 parts by weight with respect to the total amount of the resin composition (total 100 parts by weight of (A) to (C)). More preferred. If it is in the range of 0.1 to 10 parts by mass, the curability will not be deteriorated and the transparency will not be lowered. In addition, the content rate of the said (D) component may be 0.1, 0.5, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 mass parts, for example, It may be within the range of any two values.
<(E)成分:シランカップリング剤>
 本発明の一実施形態として、樹脂組成物は、ガラス面への密着性を一層向上させることを目的に、(E)成分として、シランカップリング剤を更に含有することができる。シランカップリングとしては、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル-トリス(β-メトキシエトキシ)シラン、γ-メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-ユレイドプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの中では、(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤、エポキシ基を有するシランカップリング剤、フェニル基を有するシランカップリング剤からなる群のうちの1種以上が好ましく、(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤とフェニル基を有するシランカップリング剤からなる群のうちの1種以上がより好ましい。(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤としては、γ-メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。エポキシ基を有するシランカップリング剤としては、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等が挙げられる。フェニル基を有するシランカップリング剤としては、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられる。
<(E) component: Silane coupling agent>
As one embodiment of the present invention, the resin composition can further contain a silane coupling agent as the component (E) for the purpose of further improving the adhesion to the glass surface. Silane coupling includes γ-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ -Acryloyloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, E sulfonyl triethoxysilane, p- styryltrimethoxysilane and the like. In these, 1 or more types in the group which consists of the silane coupling agent which has a (meth) acryloyl group, the silane coupling agent which has an epoxy group, and the silane coupling agent which has a phenyl group is preferable, (meth) acryloyl One or more members selected from the group consisting of a silane coupling agent having a group and a silane coupling agent having a phenyl group are more preferred. Examples of the silane coupling agent having a (meth) acryloyl group include γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the silane coupling agent having an epoxy group include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the silane coupling agent having a phenyl group include phenyltrimethoxysilane and phenyltriethoxysilane.
 (E)成分の含有割合は、屈折率、透明性、密着性の点で、樹脂組成物の総量((A)~(C)の合計100質量部)に対して0.1~10質量部が好ましく、0.5~5質量部がより好ましい。なお、上記(E)成分の含有割合は、例えば、0.1、0.5、1、2、3、4、5、6、7、8、9又は10質量部であってもよく、それらいずれか2つの値の範囲内であってもよい。 The content ratio of the component (E) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to the total amount of the resin composition (total 100 parts by mass of (A) to (C)) in terms of refractive index, transparency and adhesion. Is preferable, and 0.5 to 5 parts by mass is more preferable. In addition, the content rate of the said (E) component may be 0.1, 0.5, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 mass parts, for example, It may be within the range of any two values.
 本実施形態の樹脂組成物には、本実施形態の効果を損なわない範囲で、上記以外の単官能(メタ)アクリレート化合物や、多官能の(メタ)アクリレートを含有しても良い。 The resin composition of the present embodiment may contain a monofunctional (meth) acrylate compound other than the above or a polyfunctional (meth) acrylate as long as the effects of the present embodiment are not impaired.
<その他の添加剤>
 本実施形態の目的を損なわない範囲で、酸化防止剤、アクリルゴム、ウレタンゴム等の各種エラストマー、光増感剤、光安定剤、溶剤、増量材、充填剤、補強材、可塑剤、増粘剤、染料、顔料、難燃剤及び界面活性剤等の添加剤を含有しても良い。
<Other additives>
As long as the purpose of the present embodiment is not impaired, various elastomers such as antioxidants, acrylic rubbers, urethane rubbers, photosensitizers, light stabilizers, solvents, fillers, fillers, reinforcing materials, plasticizers, thickeners You may contain additives, such as an agent, dye, a pigment, a flame retardant, and surfactant.
 本実施形態に係る樹脂組成物の製造方法については、上記の材料を十分に混合できれば特に制限はない。材料の混合方法としては、特に限定されないが、プロペラの回転に伴う撹拌力を利用する撹拌法、自転公転による遊星式撹拌機等の通常の分散機を利用する方法等が挙げられる。これらの混合方法は、低コストで、安定した混合を行えるので好ましい。 The method for producing the resin composition according to this embodiment is not particularly limited as long as the above materials can be sufficiently mixed. The mixing method of the material is not particularly limited, and examples thereof include a stirring method using a stirring force accompanying rotation of a propeller, a method using a normal disperser such as a planetary stirrer by rotation and revolution, and the like. These mixing methods are preferable because stable mixing can be performed at low cost.
 上記の混合を行った後、下記の光源を用いたエネルギー線の照射により、樹脂組成物の硬化を行うことができる。 After the above mixing, the resin composition can be cured by irradiation with energy rays using the following light source.
 本実施形態において、樹脂組成物の硬化に用いられる光源としては、特に限定されないが、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、ハイパワーメタルハライドランプ(インジウム等を含有する)、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、キセノンエキシマランプ、キセノンフラッシュランプ、ライトエミッティングダイオード(以下、LEDという)等が挙げられる。これらの光源は、それぞれの光ラジカル重合開始剤の反応波長に対応したエネルギー線の照射を効率よく行う点で、好ましい。 In the present embodiment, the light source used for curing the resin composition is not particularly limited, but is a halogen lamp, a metal halide lamp, a high-power metal halide lamp (containing indium or the like), a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, or an ultra-high pressure. Examples thereof include a mercury lamp, a xenon lamp, a xenon excimer lamp, a xenon flash lamp, and a light emitting diode (hereinafter referred to as LED). These light sources are preferable in that the irradiation of energy rays corresponding to the reaction wavelength of each photo radical polymerization initiator is efficiently performed.
 上記光源は、各々放射波長、エネルギー分布が異なる。そのため、上記光源は光重合開始剤の反応波長等により適宜選択される。又、自然光(太陽光)も反応開始光源になり得る。 The above light sources have different emission wavelengths and energy distributions. Therefore, the light source is appropriately selected depending on the reaction wavelength of the photopolymerization initiator. Natural light (sunlight) can also be a reaction initiation light source.
 上記光源は、直接照射、反射鏡等による集光照射、ファイバー等による集光照射を行ってもよい。低波長カットフィルター、熱線カットフィルター、コールドミラー等も用いることもできる。 The light source may perform direct irradiation, focused irradiation with a reflecting mirror or the like, or focused irradiation with a fiber or the like. A low wavelength cut filter, a heat ray cut filter, a cold mirror, or the like can also be used.
 上記構成からなる樹脂組成物は、エネルギー線の照射により速やかに硬化するため、高透明性、高屈折率等の光学特性に優れた硬化体を提供することができる。 Since the resin composition having the above-mentioned structure is quickly cured by irradiation with energy rays, a cured product excellent in optical properties such as high transparency and high refractive index can be provided.
 本発明の一実施形態において、樹脂組成物の屈折率は、温度25℃、波長589nmでの液屈折率が1.50以上であることが好ましく、1.51以上であることがより好ましく、1.52以上であることが最も好ましい。 In one embodiment of the present invention, the refractive index of the resin composition is preferably a liquid refractive index at a temperature of 25 ° C. and a wavelength of 589 nm of 1.50 or more, more preferably 1.51 or more. Most preferred is .52 or more.
 本発明の一実施形態において、樹脂組成物の屈折率は、温度25℃、波長589nmでの硬化物屈折率が1.53以上であることが好ましく、1.54以上であることがより好ましく、1.55以上であることが最も好ましい。 In one embodiment of the present invention, the refractive index of the resin composition is preferably a cured product refractive index at a temperature of 25 ° C. and a wavelength of 589 nm of 1.53 or more, more preferably 1.54 or more, Most preferably, it is 1.55 or more.
 屈折率の測定は、アッベ式屈折率計、プリズムカプラー、エリプソメーター等、公知の手法にて測定できる。これらの中では、アッベ式屈折率計を用いた測定が好ましい。 The refractive index can be measured by a known method such as an Abbe refractometer, a prism coupler, or an ellipsometer. Among these, measurement using an Abbe refractometer is preferable.
 上記構成からなる樹脂組成物は、高透明性、高屈折率等の光学特性に優れ、ガラス、プラスチックフィルム、プラスチックシート等の基材への密着性が優れるため、これら基材の被覆材として提供することができる。 The resin composition having the above structure is excellent in optical properties such as high transparency and high refractive index, and has excellent adhesion to substrates such as glass, plastic film, plastic sheet, etc. can do.
 上記構成からなる樹脂組成物は、高透明性、高屈折率等、光学特性に優れるため、反射防止膜や光導波膜の高屈折率層として用いることができる。そのため、上記構成からなる樹脂組成物は、優れた反射防止膜や光導波路膜を提供できる。 The resin composition having the above structure is excellent in optical properties such as high transparency and high refractive index, and therefore can be used as a high refractive index layer of an antireflection film or an optical waveguide film. Therefore, the resin composition having the above configuration can provide an excellent antireflection film or optical waveguide film.
 反射防止膜及び光導波路膜は、ガラス、プラスチックフィルム、プラスチックシート等の各種基材の上に、本実施形態の樹脂組成物からなる層(以下、高屈折率層という)を塗布し、エネルギー線照射により硬化した後、高屈折率層上に、高屈折率層より低い屈折率を有する層(以下、低屈折率層という)を形成することにより、作製される。 The antireflection film and the optical waveguide film are formed by applying a layer made of the resin composition of the present embodiment (hereinafter referred to as a high refractive index layer) on various substrates such as glass, plastic film, plastic sheet, etc. After curing by irradiation, a layer having a refractive index lower than that of the high refractive index layer (hereinafter referred to as a low refractive index layer) is formed on the high refractive index layer.
 基材としては、無アルカリガラス、アルカリガラス、硼珪酸ガラス、石英等のガラス基材や、シリカ、アルミナ、窒化珪素等のセラミックス基材、シリコーン、アルミ、ステンレス、鉄、銅、銀等の金属基材、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、カーボネート系樹脂、オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、セルロース系樹脂等の樹脂からなるフィルム基材、シート基材等を用いることができる。 Base materials include glass base materials such as alkali-free glass, alkali glass, borosilicate glass, and quartz, ceramic base materials such as silica, alumina, and silicon nitride, and metals such as silicone, aluminum, stainless steel, iron, copper, and silver. From resins such as base materials, acrylic resins, styrene resins, carbonate resins, olefin resins, polyester resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, silicone resins, fluorine resins, and cellulose resins A film base material, a sheet base material, or the like can be used.
 低屈折率層としては、無機膜や有機膜が挙げられる。無機膜としては、フッ化マグネシウム、フッ化カリウム等のアルカリ金属のフッ化物や、シリカ等が挙げられる。有機膜としては、ポリパーフルオロエチレン、パーフルオロシクロオレフィン等のフッ素樹脂、ポリエチレングリコール等のポリエーテル樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、及び、それらのフッ素変性樹脂等が挙げられる。 Examples of the low refractive index layer include inorganic films and organic films. Examples of the inorganic film include fluorides of alkali metals such as magnesium fluoride and potassium fluoride, silica, and the like. Examples of the organic film include fluorine resins such as polyperfluoroethylene and perfluorocycloolefin, polyether resins such as polyethylene glycol, silicone resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, and fluorine-modified resins thereof. .
 上記構成からなる樹脂組成物は、高透明性、高屈折率等光学特性に優れるため、液晶パネル、有機エレクトロルミネッセンスパネル、タッチパネル、プロジェクター、スマートフォン、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルムービーの表示素子や、CCD、CMOS、バイオチップ等の各種センサー部品、フラッシュメモリー、DRAM、半導体レーザー等の半導体素子の被覆材、更には反射防止膜や光導波膜の高屈折率層として用いることができる。 The resin composition having the above structure is excellent in optical properties such as high transparency and high refractive index, so a liquid crystal panel, an organic electroluminescence panel, a touch panel, a projector, a smartphone, a mobile phone, a digital camera, a digital movie display element, It can be used as various sensor parts such as CCD, CMOS, biochip, coating material for semiconductor elements such as flash memory, DRAM, semiconductor laser, and also as a high refractive index layer for antireflection film and optical waveguide film.
 上記構成からなる樹脂組成物は、高い屈折率と高い透明性を兼ね備えることから、光学部品を接着するのに好適な接着剤を提供できる。 Since the resin composition having the above configuration has both a high refractive index and high transparency, an adhesive suitable for bonding optical components can be provided.
 以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳細に説明する。本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. The present invention is not limited to these.
 実施例では、以下の化合物を使用した。 In the examples, the following compounds were used.
(A)フルオレン系化合物
(A-1)9,9-ビス[4-(2-アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン(大阪ガスケミカル社製「BPFEA」)
(A-2)9,9-ビス[4-(2-アクリロイルオキシジエトキシ)フェニル]フルオレン(大阪ガスケミカル社製「オクゾールEA-0200」)
(A) Fluorene compound (A-1) 9,9-bis [4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene (Osaka Gas Chemical Co., Ltd. “BPFEA”)
(A-2) 9,9-bis [4- (2-acryloyloxydiethoxy) phenyl] fluorene (“Ocsol EA-0200” manufactured by Osaka Gas Chemical Company)
(B)脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリレート
(B-1)ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート(日立化成工業社製「ファンクリルFA-512M」、ホモポリマーTg:46℃)
(B-2)シクロヘキシルメタクリレート(共栄社化学社製「ライトエステルCH」、ホモポリマーTg:66℃)
(B-3)イソボルニルアクリレート(共栄社化学社製「ライトアクリレートIB-XA」、ホモポリマーTg:94℃)
(B-4)ジシクロペンテニルアクリレート(日立化成工業社製「ファンクリルFA-511AS」、ホモポリマーTg:120℃)
(B-5)2-メチル-2-アダマンチルメタクリレート(出光興産社製「アダマンテートMM」、ホモポリマーTg:170℃)
(B-6)ジシクロペンタニルメタクリレート(日立化成工業社製「ファンクリルFA-513M」、ホモポリマーTg:175℃)
(B-7)イソボルニルメタクリレート(共栄社化学社製「ライトエステルIB-X」、ホモポリマーTg:180℃)
(B) (Meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group (B-1) dicyclopentenyloxyethyl methacrylate (“Fancryl FA-512M” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., homopolymer Tg: 46 ° C.)
(B-2) Cyclohexyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd. “Light Ester CH”, homopolymer Tg: 66 ° C.)
(B-3) Isobornyl acrylate (“Light acrylate IB-XA” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., homopolymer Tg: 94 ° C.)
(B-4) Dicyclopentenyl acrylate (“Fancryl FA-511AS” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., homopolymer Tg: 120 ° C.)
(B-5) 2-Methyl-2-adamantyl methacrylate (“Adamantate MM” manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd., homopolymer Tg: 170 ° C.)
(B-6) Dicyclopentanyl methacrylate (“Fancryl FA-513M” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., homopolymer Tg: 175 ° C.)
(B-7) Isobornyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd. “Light Ester IB-X”, homopolymer Tg: 180 ° C.)
(C)芳香環を有する単官能(メタ)アクリレート
(C-1)フェノキシエチルアクリレート(共栄社化学社製「ライトアクリレートPO-A」)
(C-2)フェノキシエチルメタクリレート(共栄社化学社製「ライトエステルPO」)
(C-3)ベンジルアクリレート(大阪有機化学工業社製「ビスコート#160」)
(C-4)ベンジルメタクリレート(共栄社化学社製「ライトエステルBZ」)
(C) Monofunctional (meth) acrylate having aromatic ring (C-1) Phenoxyethyl acrylate (“Light acrylate PO-A” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
(C-2) Phenoxyethyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd. “Light Ester PO”)
(C-3) Benzyl acrylate (Osaka Organic Chemical Co., Ltd. “Biscoat # 160”)
(C-4) benzyl methacrylate (“Light Ester BZ” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
(D)光ラジカル重合開始剤
(D-1)1-ヒドロキシ-シクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製「イルガキュアー184」)
(D-2)ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド(BASF社製「イルガキュアー819」)
(D-3)ベンジルジメチルケタール(BASF社製「イルガキュアー651」)
(D) Photoradical polymerization initiator (D-1) 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone (“IRGACURE 184” manufactured by BASF)
(D-2) Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide (“Irgacure 819” manufactured by BASF)
(D-3) Benzyldimethyl ketal ("Irgacure 651" manufactured by BASF)
(E)シランカップリング剤
(E-1)γ-メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製「KBM-503」)
(E-2)フェニルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製「KBM-103」)
(E-3)フェニルトリエトキシシラン(信越シリコーン社製「KBE-103」)
(E) Silane coupling agent (E-1) γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (“KBM-503” manufactured by Shin-Etsu Silicone)
(E-2) Phenyltrimethoxysilane (“KBM-103” manufactured by Shin-Etsu Silicone)
(E-3) Phenyltriethoxysilane (“KBE-103” manufactured by Shin-Etsu Silicone)
 比較例として、上記(B)及び(C)に該当しない下記(メタ)アクリレートを用いた。
(F-1)2-エチルヘキシルメタクリレート(共栄社化学社製「ライトエステルEH」、ホモポリマーTg:-10℃)
(F-2)ビスフェノールAエチレンオキサイド変性ジアクリレート(東亞合成社製「アロニックスM-211B」)
(F-3)ビスフェノールFエチレンオキサイド変性ジアクリレート(東亞合成社製「アロニックスM-208」)
(F-4)エチレングリコールジメタクリレート(新中村化学工業社製「NKエステル1G」
(F-5)2-(o-フェニルフェノキシ)エチルアクリレート(新中村化学工業社製「NKエステルA-LEN-10」)
As a comparative example, the following (meth) acrylate not corresponding to the above (B) and (C) was used.
(F-1) 2-Ethylhexyl methacrylate (“Eye ester EH” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., homopolymer Tg: −10 ° C.)
(F-2) Bisphenol A ethylene oxide-modified diacrylate (“Aronix M-211B” manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
(F-3) Bisphenol F ethylene oxide modified diacrylate (“Aronix M-208” manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
(F-4) Ethylene glycol dimethacrylate (“Nk ester 1G” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
(F-5) 2- (o-phenylphenoxy) ethyl acrylate (“NK Ester A-LEN-10” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
(実施例1~30、比較例1~10)
 表1~表4に示す種類の原材料を、表1~表4に示す含有割合(単位は質量部)で混合し、被覆材用樹脂組成物を調製し、後述の評価を実施した。各種評価結果を表1~表4に示す。特記しない限り、23℃、湿度50%の環境下で実施した。
(Examples 1 to 30, Comparative Examples 1 to 10)
The raw materials of the types shown in Tables 1 to 4 were mixed in the content ratios (units are parts by mass) shown in Tables 1 to 4 to prepare a resin composition for a coating material, and the evaluation described below was performed. Various evaluation results are shown in Tables 1 to 4. Unless otherwise specified, the test was carried out in an environment of 23 ° C. and 50% humidity.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
〔評価方法〕
〔粘度〕
 E型粘度計を用いて、温度25℃のときの粘度を測定した。
〔固着時間〕
 耐熱ガラス(商品名「耐熱パイレックス(登録商標)ガラス」、25mm×25mm×2.0mm)を使用した。一方の耐熱ガラスに接着剤を膜厚30μmで塗布した後に、他方の耐熱ガラスを重ねた。超高圧水銀ランプ搭載装置(HOYA社製「UL-750」)にて、365nmの波長の照射強度30mW/cmの条件で、紫外線を照射させながら、耐熱ガラスに4kgの荷重を負荷し、耐熱ガラスを動かした。紫外線を照射してから、荷重を負荷しても耐熱ガラスが動かなくなるまでの時間を測定した。
〔Evaluation methods〕
〔viscosity〕
The viscosity at a temperature of 25 ° C. was measured using an E-type viscometer.
[Fixing time]
Heat-resistant glass (trade name “Heat-resistant Pyrex (registered trademark) glass”, 25 mm × 25 mm × 2.0 mm) was used. After applying the adhesive to one heat-resistant glass with a film thickness of 30 μm, the other heat-resistant glass was stacked. A 4 kg load was applied to the heat-resistant glass while irradiating it with ultraviolet rays under the condition of an irradiation intensity of 30 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm with an ultra-high pressure mercury lamp mounting device (“UL-750” manufactured by HOYA). I moved the glass. The time until the heat-resistant glass stopped moving even when a load was applied was measured after irradiation with ultraviolet rays.
〔屈折率の評価〕
(1)液屈折率
 液屈折率の評価は、多波長アッベ屈折率計(アタゴ社製「DR-M2」)を用いて、温度25℃、波長589nmにおける屈折率を測定した。
(2)硬化物屈折率
 接着剤組成物を容積15mm×15mm×1.0mmのシリコーンゴム製の型枠に流し込んだ。超高圧水銀ランプ搭載装置(HOYA社製「UL-750」)にて、365nmの波長の照射強度30mW/cm、積算光量3,000mJ/cmの条件にて硬化した硬化物試験片を作製し、屈折率を評価した。屈折率の評価は、多波長アッベ屈折率計(アタゴ社製「DR-M2」)を用いて、温度25℃、波長589nmにおける屈折率を測定した。
(Evaluation of refractive index)
(1) Liquid Refractive Index The liquid refractive index was evaluated by measuring the refractive index at a temperature of 25 ° C. and a wavelength of 589 nm using a multi-wavelength Abbe refractometer (“DR-M2” manufactured by Atago Co., Ltd.).
(2) Cured Product Refractive Index The adhesive composition was poured into a silicone rubber mold having a volume of 15 mm × 15 mm × 1.0 mm. A cured product test piece cured under the conditions of an irradiation intensity of 30 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm and an integrated light quantity of 3,000 mJ / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp mounting device (“UL-750” manufactured by HOYA) And the refractive index was evaluated. The refractive index was evaluated by measuring the refractive index at a temperature of 25 ° C. and a wavelength of 589 nm using a multiwavelength Abbe refractometer (“DR-M2” manufactured by Atago Co., Ltd.).
〔分光透過率の評価〕
 樹脂組成物を耐熱ガラス(商品名「耐熱パイレックス(登録商標)ガラス」、25mm×25mm×2.0mm)上に膜厚30μmで塗布した後に、超高圧水銀ランプ搭載装置(HOYA社製「UL-750」)にて、365nmの波長の照射強度30mW/cm、積算光量3,000mJ/cmの条件にて硬化した試験片を作製した。紫外-可視分光光度計(島津製作所社製「UV-2550」)を用いて、リファレンスを耐熱ガラスとして、400nmの透過率を測定した。
[Evaluation of spectral transmittance]
The resin composition was applied on a heat-resistant glass (trade name “heat-resistant Pyrex (registered trademark) glass”, 25 mm × 25 mm × 2.0 mm) with a film thickness of 30 μm, and then an ultra-high pressure mercury lamp mounting device (“UL-” manufactured by HOYA). 750 "), a test piece cured under conditions of an irradiation intensity of a wavelength of 365 nm of 30 mW / cm 2 and an integrated light amount of 3,000 mJ / cm 2 was produced. Using a UV-visible spectrophotometer (“UV-2550” manufactured by Shimadzu Corporation), the transmittance was measured at 400 nm using heat resistant glass as a reference.
〔密着性評価(クロスカット試験)〕
 125μm厚のポリエステルフィルム(東洋紡績社製「コスモシャインA4100」)上に、超高圧水銀ランプ搭載装置(HOYA社製「UL-750」)にて、365nmの波長の照射強度30mW/cm、積算光量3,000mJ/cm、窒素雰囲気下の条件にて、樹脂組成物を硬化し、形状が20mm×20mm×80μmの樹脂組成物の硬化膜を形成した試験片を作製した。
 このようにして得られた各試験片に対して、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、硬化膜に縦2mm×横2mm×25マスになるようにカットラインを入れた後、セロファンテープ(ニチバン社製型式CT-405AP:幅24mm、粘着力23N/10mm)を貼り付けて180°剥離を実施した。180°剥離後に残ったマスの数を数え、評価した。その他、特に明示のない条件はJIS K 5600-5-6に従った。
[Adhesion evaluation (cross cut test)]
On a 125 μm-thick polyester film (“Cosmo Shine A4100” manufactured by Toyobo Co., Ltd.), with an ultra-high pressure mercury lamp mounting device (“UL-750” manufactured by HOYA), irradiation intensity of a wavelength of 365 nm is 30 mW / cm 2 . A test piece in which the resin composition was cured under the conditions of a light intensity of 3,000 mJ / cm 2 and a nitrogen atmosphere to form a cured film of the resin composition having a shape of 20 mm × 20 mm × 80 μm was produced.
For each test piece obtained in this manner, a cut line was placed in the cured film so as to be 2 mm long × 2 mm wide × 25 squares in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and then cellophane. A tape (model CT-405AP manufactured by Nichiban Co., Ltd .: width 24 mm, adhesive strength 23 N / 10 mm) was applied and 180 ° peeling was performed. The number of cells remaining after 180 ° peeling was counted and evaluated. Other conditions that were not specified were in accordance with JIS K 5600-5-6.
〔引張剪断接着強さの評価〕
 耐熱ガラス(商品名「耐熱パイレックス(登録商標)ガラス」、25mm×25mm×2.0mm)上に、樹脂組成物を、直径8mmの円状に膜厚80μmで塗布した後に、超高圧水銀ランプ搭載装置(HOYA社製「UL-750」)にて、365nmの波長の照射強度30mW/cm、積算光量3,000mJ/cmの条件にて硬化した試験片を作製した。作製した試験片は、23℃、湿度50%RHの環境で、引張試験機を使用して、引張速度10mm/分で引張せん断接着強さを測定した。
[Evaluation of tensile shear bond strength]
A resin composition is applied to a heat-resistant glass (trade name “heat-resistant Pyrex (registered trademark) glass”, 25 mm × 25 mm × 2.0 mm) in a circular shape with a diameter of 8 mm and a film thickness of 80 μm, and then mounted on an ultra-high pressure mercury lamp. A cured test piece was prepared with an apparatus (“UL-750” manufactured by HOYA) under conditions of an irradiation intensity of a wavelength of 365 nm of 30 mW / cm 2 and an integrated light amount of 3,000 mJ / cm 2 . The produced test piece was measured for tensile shear bond strength at a tensile rate of 10 mm / min using a tensile tester in an environment of 23 ° C. and humidity 50% RH.
〔耐光性の評価(耐光試験)〕
 耐熱ガラス(商品名「耐熱パイレックス(登録商標)ガラス」、25mm×25mm×2.0mm)上に、樹脂組成物を、膜厚30μmで塗布した後に、超高圧水銀ランプ搭載装置(HOYA社製「UL-750」)にて、365nmの波長の照射強度30mW/cm、積算光量3,000mJ/cmの条件にて硬化した試験片を作製した。耐光試験機(スガ試験機社製「キセノンウェザメーターX75」)を用いて、照度50W/mの光を、作製した試験片の樹脂側に100時間連続照射した。照射後の試験片について、紫外-可視分光光度計(島津製作所社製「UV-2550」)を用いて、400nmの透過率を測定した。尚、リファレンスには耐熱ガラスを用いた。
[Evaluation of light resistance (light resistance test)]
After applying the resin composition to heat-resistant glass (trade name “heat-resistant Pyrex (registered trademark) glass”, 25 mm × 25 mm × 2.0 mm) with a film thickness of 30 μm, an ultra-high pressure mercury lamp mounting device (manufactured by HOYA “ UL-750 "), a test piece cured under conditions of an irradiation intensity of a wavelength of 365 nm of 30 mW / cm 2 and an integrated light amount of 3,000 mJ / cm 2 was produced. Using a light resistance tester (“Xenon Weather Meter X75” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), light having an illuminance of 50 W / m 2 was continuously irradiated to the resin side of the prepared test piece for 100 hours. About the test piece after irradiation, the transmittance | permeability of 400 nm was measured using the ultraviolet-visible spectrophotometer (Shimadzu Corporation "UV-2550"). In addition, heat resistant glass was used for the reference.
 実験例1~30の樹脂組成物は、高い屈折率と高い透明性を有し、固着時間が短く、密着性及び耐光性に優れていた。また、硬化前のかかる組成物は、低粘度であるため、作業性に優れていた。更に、実験例1~30の樹脂組成物と比較して、(C)成分の代わりに、2個の芳香環を有する単官能(メタ)アクリレートを使用して得られた樹脂組成物は、粘度が高く、透過率、密着性及び接着強さが低かった(比較例10)。 The resin compositions of Experimental Examples 1 to 30 had a high refractive index and high transparency, a short fixing time, and excellent adhesion and light resistance. Moreover, since this composition before hardening is low-viscosity, it was excellent in workability | operativity. Furthermore, as compared with the resin compositions of Experimental Examples 1 to 30, the resin compositions obtained using a monofunctional (meth) acrylate having two aromatic rings instead of the component (C) have a viscosity of And the transmittance, adhesion and adhesive strength were low (Comparative Example 10).
 本発明は、高い屈折率と高い透明性を有し、固着時間が短く、密着性及び耐光性に優れる。本発明は、低粘度であり、作業性に優れる。 The present invention has a high refractive index and high transparency, a short fixing time, and excellent adhesion and light resistance. The present invention has a low viscosity and excellent workability.
 本発明は、各種センサー素子、表示素子、光学部品等に用いられる。本発明は、センサー素子、表示素子等の表面保護や、反射防止膜、光導波路膜及び光学部品の接着剤等に用いられる。本発明は、反射防止膜や光導波路膜の高屈折率層に用いられる。本発明は、光レンズ、プリズム、光導波路等の光学素子の接着に用いる光学部品用接着剤組成物に用いられる。 The present invention is used for various sensor elements, display elements, optical components, and the like. The present invention is used for surface protection of sensor elements, display elements, etc., and anti-reflection films, optical waveguide films, and adhesives for optical components. The present invention is used for a high refractive index layer of an antireflection film or an optical waveguide film. The present invention is used for an adhesive composition for optical parts used for bonding optical elements such as optical lenses, prisms, and optical waveguides.
本発明の樹脂組成物は、高透明性、高屈折率等光学特性に優れるため、液晶パネル、有機エレクトロルミネッセンスパネル、タッチパネル、プロジェクター、スマートフォン、携帯電話、デジタルカメラ、デジタルムービー等の表示素子や、CCD、CMOS、バイオチップ等の各種センサー部品のセンサー素子、フラッシュメモリー、DRAM、半導体レーザー等の半導体素子に用いられる被覆材、更には反射防止膜や光導波膜の高屈折率層として好適に用いることができる。本発明の樹脂組成物は、密着性、耐光性に優れるため、光学部品用の接着剤としても好適に用いることができる。本発明は、産業上非常に有用である。 Since the resin composition of the present invention is excellent in optical properties such as high transparency and high refractive index, display elements such as liquid crystal panels, organic electroluminescence panels, touch panels, projectors, smartphones, mobile phones, digital cameras, digital movies, Suitable for use as sensor elements for various sensor components such as CCD, CMOS, and biochip, coating materials used for semiconductor elements such as flash memory, DRAM, and semiconductor laser, and also as a high refractive index layer for antireflection films and optical waveguide films. be able to. Since the resin composition of this invention is excellent in adhesiveness and light resistance, it can be used suitably also as an adhesive agent for optical components. The present invention is very useful in industry.

Claims (13)

  1.  (A)成分として、下記一般式(1)で表されるフルオレン系化合物、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (一般式(1)中、R、R、R、Rは水素原子又はメチル基、a及びbは、それぞれ1~4の整数を表す。尚、それぞれの置換基はベンゼン環における置換可能な炭素原子のいずれと結合してもよい。)
     (B)成分として、脂環式炭化水素基を有する単官能(メタ)アクリレート
     (C)成分として、1個の芳香環を有する単官能(メタ)アクリレート
     (D)成分として、光ラジカル重合開始剤、
    を含有し、(A)~(C)成分の合計100質量部中、前記(A)成分の含有割合が10~70質量部であり、前記(B)成分の含有割合が5~65質量部であり、前記(C)成分の含有割合が5~65質量部である光硬化性樹脂組成物。
    As the component (A), a fluorene compound represented by the following general formula (1),
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and a and b each represent an integer of 1 to 4. Note that each substituent is a benzene ring. It may be bonded to any substitutable carbon atom.)
    (B) Monofunctional (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group as component (C) Monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring as component (C) Photoradical polymerization initiator as component (D) ,
    In a total of 100 parts by mass of the components (A) to (C), the content of the component (A) is 10 to 70 parts by mass, and the content of the component (B) is 5 to 65 parts by mass. A photocurable resin composition wherein the content of the component (C) is 5 to 65 parts by mass.
  2.  (B)成分は、ホモポリマーのガラス転移温度が40℃以上180℃以下である請求項1に記載の光硬化性樹脂組成物。 The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the component (B) has a glass transition temperature of the homopolymer of 40 ° C or higher and 180 ° C or lower.
  3.  更に(E)成分として、シランカップリング剤を含有する請求項1~2のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物。 The photocurable resin composition according to claim 1, further comprising a silane coupling agent as component (E).
  4.  (E)成分は、フェニル基又は(メタ)アクリロイル基から選ばれる1個以上の官能基を有するシランカップリング剤である請求項3に記載の光硬化性樹脂組成物。 The photocurable resin composition according to claim 3, wherein the component (E) is a silane coupling agent having one or more functional groups selected from a phenyl group or a (meth) acryloyl group.
  5.  温度25℃、波長589nmでの液屈折率が1.50以上であり、硬化物屈折率が1.53以上である請求項1~4のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物。 The photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the liquid refractive index at a temperature of 25 ° C and a wavelength of 589 nm is 1.50 or more and the refractive index of the cured product is 1.53 or more.
  6.  請求項1~5のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物からなる被覆材。 A coating material comprising the photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 5.
  7.  請求項6に記載の被覆材を有する基材。 A base material having the coating material according to claim 6.
  8.  請求項1~5のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物からなる層を基板上に形成した後に、前記の光硬化性樹脂組成物より低い屈折率を有する層を形成してなる膜。 A layer having a refractive index lower than that of the photocurable resin composition is formed after a layer made of the photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 5 is formed on a substrate. film.
  9.  請求項8に記載の膜を有する基材。 A substrate having the film according to claim 8.
  10.  請求項9に記載の基材を有する素子。 An element having the base material according to claim 9.
  11.  請求項1~5のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物からなる接着剤。 An adhesive comprising the photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 5.
  12.  請求項11に記載の接着剤で接着された接合体。 A joined body bonded with the adhesive according to claim 11.
  13.  請求項12に記載の接合体を有する光学部品。 An optical component having the joined body according to claim 12.
PCT/JP2014/064534 2014-05-30 2014-05-30 Photocurable resin composition WO2015181984A1 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016523085A JPWO2015181984A1 (en) 2014-05-30 2014-05-30 Photocurable resin composition
KR1020167033667A KR102206665B1 (en) 2014-05-30 2014-05-30 Photocurable resin composition
CN201480079438.1A CN106414525B (en) 2014-05-30 2014-05-30 Photocurable resin composition
PCT/JP2014/064534 WO2015181984A1 (en) 2014-05-30 2014-05-30 Photocurable resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2014/064534 WO2015181984A1 (en) 2014-05-30 2014-05-30 Photocurable resin composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2015181984A1 true WO2015181984A1 (en) 2015-12-03

Family

ID=54698356

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2014/064534 WO2015181984A1 (en) 2014-05-30 2014-05-30 Photocurable resin composition

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPWO2015181984A1 (en)
KR (1) KR102206665B1 (en)
CN (1) CN106414525B (en)
WO (1) WO2015181984A1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017170668A1 (en) * 2016-03-31 2017-10-05 日産化学工業株式会社 Resin composition for forming high refractive index cured film
CN114214022A (en) * 2021-12-17 2022-03-22 Oppo广东移动通信有限公司 Light-cured adhesive, shell and electronic equipment
CN114585658A (en) * 2019-10-29 2022-06-03 积水化学工业株式会社 Photocurable resin composition for electronic device

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102054045B1 (en) 2017-03-03 2019-12-09 주식회사 엘지화학 Polymer resion compound and photosensitive resin composition for black bank
KR102009421B1 (en) * 2017-04-25 2019-08-12 주식회사 엘지화학 Photopolymer composition
CN112759701B (en) * 2019-10-21 2022-12-30 杭州光粒科技有限公司 Photopolymer composition, reflective diffraction grating and preparation method thereof
CN112745463B (en) * 2019-10-31 2023-11-03 威斯坦(厦门)实业有限公司 Photo-curing resin and preparation method thereof
CN114787210A (en) * 2020-03-03 2022-07-22 电化株式会社 Composition comprising a metal oxide and a metal oxide
CN113527930B (en) * 2020-04-20 2023-04-07 杭州光粒科技有限公司 Photopolymer composition, grating and preparation method thereof

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006152115A (en) * 2004-11-29 2006-06-15 Omron Corp Curable resin composition, light-resistant optical component and optical equipment
JP2010248358A (en) * 2009-04-15 2010-11-04 Kyoeisha Chem Co Ltd Resin composition for optical material
JP2012140551A (en) * 2011-01-05 2012-07-26 Seiko Epson Corp Ultraviolet-curing inkjet ink composition
WO2013022065A1 (en) * 2011-08-11 2013-02-14 大阪ガスケミカル株式会社 Multifunctional (meth)acrylate having fluorene skeleton and curable composition containing same
JP2013181077A (en) * 2012-02-29 2013-09-12 Idemitsu Kosan Co Ltd (meth)acrylate-based composition, resin, and molded article
JP2013227392A (en) * 2012-04-25 2013-11-07 Nippon Kayaku Co Ltd Energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and cured product of the same
JP2014108983A (en) * 2012-11-30 2014-06-12 Denki Kagaku Kogyo Kk Photocurable resin composition

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3990004B2 (en) * 1997-06-19 2007-10-10 株式会社 アーデル Optical adhesive composition
JP3956597B2 (en) 2000-09-26 2007-08-08 三菱化学株式会社 Photocurable composition and cured product thereof
JP2004294720A (en) 2003-03-26 2004-10-21 Matsushita Electric Works Ltd Polymer optical waveguide and its manufacture method
ES2314392T3 (en) 2003-04-17 2009-03-16 Essilor International Compagnie Generale D'optique FOTOCURABLE ADHESIVE COMPOSITION AND ITS USE IN THE OPTICAL FIELD.
JP2008094987A (en) 2006-10-13 2008-04-24 Nippon Kayaku Co Ltd Resin composition with high refractive index for optical material and its cured article
KR101408573B1 (en) * 2007-12-14 2014-06-17 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 Photosensitive resin composition
EP2417210B1 (en) * 2009-04-10 2013-03-06 Pixeloptics Inc. Curable adhesive compositions
JP2011039165A (en) 2009-08-07 2011-02-24 Hitachi Chem Co Ltd Alkali-soluble photocurable composition, cured coating film using the composition and transparent member
KR20120105557A (en) 2010-01-07 2012-09-25 닛폰고세이가가쿠고교 가부시키가이샤 Actinic-radiation curable composition and uses thereof
JP5779039B2 (en) 2010-11-01 2015-09-16 大阪ガスケミカル株式会社 Hard coat resin composition and cured product thereof
JP2013181075A (en) * 2012-02-29 2013-09-12 Idemitsu Kosan Co Ltd (meth)acrylate-based composition, resin, and molded article
JP5898551B2 (en) * 2012-03-29 2016-04-06 富士フイルム株式会社 Semi-cured product, cured product and production method thereof, optical component, cured resin composition

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006152115A (en) * 2004-11-29 2006-06-15 Omron Corp Curable resin composition, light-resistant optical component and optical equipment
JP2010248358A (en) * 2009-04-15 2010-11-04 Kyoeisha Chem Co Ltd Resin composition for optical material
JP2012140551A (en) * 2011-01-05 2012-07-26 Seiko Epson Corp Ultraviolet-curing inkjet ink composition
WO2013022065A1 (en) * 2011-08-11 2013-02-14 大阪ガスケミカル株式会社 Multifunctional (meth)acrylate having fluorene skeleton and curable composition containing same
JP2013181077A (en) * 2012-02-29 2013-09-12 Idemitsu Kosan Co Ltd (meth)acrylate-based composition, resin, and molded article
JP2013227392A (en) * 2012-04-25 2013-11-07 Nippon Kayaku Co Ltd Energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and cured product of the same
JP2014108983A (en) * 2012-11-30 2014-06-12 Denki Kagaku Kogyo Kk Photocurable resin composition

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017170668A1 (en) * 2016-03-31 2017-10-05 日産化学工業株式会社 Resin composition for forming high refractive index cured film
CN114585658A (en) * 2019-10-29 2022-06-03 积水化学工业株式会社 Photocurable resin composition for electronic device
CN114214022A (en) * 2021-12-17 2022-03-22 Oppo广东移动通信有限公司 Light-cured adhesive, shell and electronic equipment
CN114214022B (en) * 2021-12-17 2023-11-07 Oppo广东移动通信有限公司 Photocurable adhesive, shell and electronic equipment

Also Published As

Publication number Publication date
CN106414525A (en) 2017-02-15
KR102206665B1 (en) 2021-01-22
CN106414525B (en) 2021-09-21
KR20170015904A (en) 2017-02-10
JPWO2015181984A1 (en) 2017-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6063228B2 (en) Photocurable resin composition
KR102206665B1 (en) Photocurable resin composition
JP5046721B2 (en) Active energy ray-curable adhesive composition, polarizing plate using the same, and method for producing the same
TWI488910B (en) Photocurable resin composition, method of fabricating optical film using the same, and optical film including the same
JP5793855B2 (en) Photo-curable adhesive and display element
TW201229168A (en) UV-curable optical resin adhesive composition
JP5779039B2 (en) Hard coat resin composition and cured product thereof
JP2008174667A (en) Active energy ray-curable adhesive composition and polarizing plate using the same
JP2012052098A (en) Curable resin composition, and cured material of the same
JP5878830B2 (en) Adhesive composition for optical parts
JP6105574B2 (en) Resin composition for coating material
TWI700303B (en) A light-curable resin composition
TW201726876A (en) Photocurable resin composition and method for producing picture display device
WO2018038221A1 (en) Curable resin composition, image display device and manufacturing method of image display device
JP2013184997A (en) Liquid photocurable resin composition, image display device using the same, and method of manufacturing the same
JP5444177B2 (en) Curable composite composition and cured product thereof
JP7002237B2 (en) Photocurable high refractive index resin composition
JP5754233B2 (en) Curable composition and optical adhesive
JP5502791B2 (en) Curable resin composition, cured product and optical material
JP2003238904A (en) Photocuring adhesive composition for optical use
JP2016098248A (en) Curable resin composition, cured article, optical member, lens and camera module
JP5573329B2 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin varnish, photosensitive resin film, photosensitive resin cured product, and visible light guide
JP2008062571A (en) Photo-curable pressure-sensitive adhesive film
JP5573405B2 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin varnish, photosensitive resin film, photosensitive resin cured product, and visible light guide
JP5760833B2 (en) Photocurable resin composition and optical member using the same

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 14892960

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2016523085

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20167033667

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 14892960

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1