KR20170015904A - Photocurable resin composition - Google Patents

Photocurable resin composition Download PDF

Info

Publication number
KR20170015904A
KR20170015904A KR1020167033667A KR20167033667A KR20170015904A KR 20170015904 A KR20170015904 A KR 20170015904A KR 1020167033667 A KR1020167033667 A KR 1020167033667A KR 20167033667 A KR20167033667 A KR 20167033667A KR 20170015904 A KR20170015904 A KR 20170015904A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
meth
component
acrylate
resin composition
mass
Prior art date
Application number
KR1020167033667A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102206665B1 (en
Inventor
요시츠구 고토
겐지 후카오
다카코 호시노
기미히코 요다
Original Assignee
덴카 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 덴카 주식회사 filed Critical 덴카 주식회사
Publication of KR20170015904A publication Critical patent/KR20170015904A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102206665B1 publication Critical patent/KR102206665B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/30Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/102Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
    • C08F222/1025Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate of aromatic dialcohols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/541Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5415Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/06Non-macromolecular additives organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/26Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/30Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/301Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety and one oxygen in the alcohol moiety

Abstract

높은 굴절률과 높은 투명성을 가지며 고착 시간이 짧은 광경화성 수지 조성물의 제공. (A)성분으로서 특정의 플루오렌계 화합물, (B)성분으로서 지환식 탄화수소기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트, (C)성분으로서 하나의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트, (D)성분으로서 광라디칼 중합 개시제를 함유하고, (A)~(C)성분의 합계 100질량부 중 상기 (A)성분의 함유 비율이 10~70질량부이고, 상기 (B)성분의 함유 비율이 5~65질량부이며, 상기 (C)성분의 함유 비율이 5~65질량부인 광경화성 수지 조성물.Provided is a photocurable resin composition having high refractive index and high transparency and having a short fixing time. (Meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group as the component (B), a monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring as the component (C), (meth) (A) is contained in an amount of 10 to 70 parts by mass and the content of the component (B) in a total amount of 100 parts by mass of the components (A) to (C) Is 5 to 65 parts by mass, and the content of the component (C) is 5 to 65 parts by mass.

Description

광경화성 수지 조성물{Photocurable resin composition}Photocurable resin composition [0002]

본 발명은 광경화성 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a photo-curable resin composition.

종래 CCD, CMOS 등의 센서 소자나 디스플레이 등의 표시 소자에 이용되는 유리, 필름 및 시트의 표면에는 표면을 보호하는 목적으로 무기물 또는 유기물로 이루어지는 피복층이 설치되어 있다. 최근에는 상기 표면 보호층에 반사 방지나 광도파 등의 기능을 부여하는 목적으로 고굴절률층과 저굴절률층을 교대로 적층한 피복층 등이 이용되고 있다. 이 고굴절률층에는 티타니아, 지르코니아 및 알루미나 등의 세라믹스를 증착 등에 의해 형성한 고굴절률 무기막이나, 비스페놀 A형 에폭시(메타)아크릴레이트나 우레탄(메타)아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 모노머를 배합하여 도포한 후에 자외선 등의 에너지선을 조사하여 경화막으로 하는 고굴절률 유기막이 목적에 따라 이용되고 있다. 전자의 무기막에서는 베이스재(基材)가 필름이나 시트인 경우에 밀착성이 부족하거나 막이 부서지기 쉬워 필름을 구부렸을 때에 갈라져 버리는 등의 과제가 있었다. 최근에는 라디칼 중합성 모노머를 배합한 광경화형 고굴절률 유기막이 널리 사용되게 되어 있다.Conventionally, on the surfaces of glass, film and sheet used for a sensor element such as a CCD or a CMOS or a display element such as a display, a coating layer made of an inorganic substance or an organic substance is provided for protecting the surface. In recent years, a coating layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated is used for the purpose of imparting functions such as antireflection and optical wave to the surface protective layer. The high refractive index layer is formed by mixing a high refractive index inorganic film formed by vapor deposition of ceramics such as titania, zirconia and alumina or a radical polymerizable monomer such as bisphenol A epoxy (meth) acrylate or urethane (meth) A high refractive index organic film which is irradiated with energy rays such as ultraviolet rays to form a cured film has been used according to purposes. In the case of the former inorganic film, when the base material is a film or a sheet, there is a problem such that the film is liable to be insufficiently adhered or the film is easily broken. In recent years, a photo-curable high refractive index organic film containing a radical polymerizable monomer has been widely used.

카메라나 현미경 등의 광학 기기의 조립에서는 렌즈나 프리즘 등을 접합하기 위해 발삼이나 에폭시 수지 등의 투명 수지가 접착제로서 이용되었다. 최근 옵토 일렉트로닉스 산업의 발전에 따라 광파이버나 마이크로 렌즈 등의 고도의 광학 기능을 가진 광학 소자류를 접합하는 용도가 증대되고 있다. 광학 소자류를 접합하기 위해 비스페놀 A형 에폭시(메타)아크릴레이트나 우레탄(메타)아크릴레이트 등의 라디칼 중합성 모노머를 배합한 접착제도 널리 사용되게 되어 있다. 특히, 광도파로 소자와 마이크로 렌즈나 광파이버 등을 접합하여 광변조기나 광스위치 등의 광 회로를 제작하는 경우나, 박형 렌즈의 접합 등의 고도의 광학 특성을 필요로 하는 광학 부품을 접합하는 경우에 있어서 고굴절률을 갖는 접착제가 필요로 되고 있다.In assembling optical devices such as a camera or a microscope, a transparent resin such as balsam or epoxy resin is used as an adhesive in order to bond a lens or a prism. BACKGROUND ART [0002] With the development of the optoelectronics industry in recent years, applications for bonding optical elements having high optical functions such as optical fibers and microlenses have been increasing. Adhesives blended with radical polymerizable monomers such as bisphenol A type epoxy (meth) acrylate or urethane (meth) acrylate have been widely used for bonding optical elements. Particularly, when an optical circuit such as an optical modulator or an optical switch is manufactured by joining an optical waveguide element and a microlens or an optical fiber or an optical component requiring a high optical characteristic such as bonding of a thin lens is bonded An adhesive having a high refractive index is required.

상술한 바와 같은 반사 방지막이나 광도파로 막에 이용되는 고굴절률층에 적용 가능한 고굴절률을 갖는 수지 조성물이나 접착제에 이용되는 수지 조성물로서는 유황 함유 (메타)아크릴레이트를 이용한 접착제 조성물 및 광경화성 수지 조성물이 알려져 있다(특허문헌 1~3). 특허문헌 4에는 디페닐술폰 구조를 갖는 우레탄(메타)아크릴레이트를 이용한 활성 에너지선 경화성 조성물이 개시되어 있다.As a resin composition for use in a resin composition or an adhesive having a high refractive index applicable to the high refractive index layer used in the antireflection film or optical waveguide film as described above, an adhesive composition using a sulfur-containing (meth) acrylate and a photo- (Patent Literatures 1 to 3). Patent Document 4 discloses an active energy ray curable composition using a urethane (meth) acrylate having a diphenyl sulfone structure.

또한, 높은 굴절률을 갖는 화합물로서 플루오렌 골격을 갖는 (메타)아크릴레이트를 이용한 광경화성 수지 조성물이 개시되어 있다(특허문헌 5~9).Further, a photo-curable resin composition using (meth) acrylate having a fluorene skeleton as a compound having a high refractive index has been disclosed (Patent Documents 5 to 9).

또한, 특허문헌 5~9에는 희석 등의 목적으로 단관능 (메타)아크릴레이트를 사용할 수 있다는 취지의 기재가 있다.Further, Patent Documents 5 to 9 disclose that monofunctional (meth) acrylate can be used for the purpose of dilution or the like.

특허문헌 1: 일본공개특허 평11-5952호 공보Patent Document 1: JP-A-11-5952 특허문헌 2: 일본공개특허 2002-97224호 공보Patent Document 2: JP-A-2002-97224 특허문헌 3: 일본공표특허 2006-526037호 공보Patent Document 3: Japanese Published Patent Application No. 2006-526037 특허문헌 4: 일본공개특허 2011-157543호 공보Patent Document 4: Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-157543 특허문헌 5: 일본공개특허 2004-294720호 공보Patent Document 5: JP-A-2004-294720 특허문헌 6: 일본공개특허 2008-94987호 공보Patent Document 6: JP-A-2008-94987 특허문헌 7: 일본공개특허 2010-248358호 공보Patent Document 7: JP-A-2010-248358 특허문헌 8: 일본공개특허 2011-39165호 공보Patent Document 8: Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-39165 특허문헌 9: 일본공개특허 2012-111931호 공보Patent Document 9: Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2012-111931

그러나, 특허문헌 1부터 4에 기재된 주성분인 유황 함유 (메타)아크릴레이트나 디페닐술폰 구조를 갖는 우레탄(메타)아크릴레이트, 4,4'-디메르캅토 디페닐설파이드 디메타크릴레이트는 비스페놀 A형 에폭시(메타)아크릴레이트 등의 방향환을 갖는 화합물보다는 높은 굴절률을 갖고는 있지만, 이들 화합물은 일반적으로 파장 450nm 이하의 광을 흡수하기 때문에 노랗게 착색되어 투명성이 저하되기 쉽고 필름과 밀착하기 어려운 등의 과제가 있었다.However, urethane (meth) acrylate and 4,4'-dimercapto diphenyl sulfide dimethacrylate having a sulfur-containing (meth) acrylate or diphenyl sulfone structure as main components described in Patent Documents 1 to 4 are bisphenol A (Meth) acrylate. However, since these compounds generally absorb light having a wavelength of 450 nm or less, they are colored in yellow, so transparency tends to be lowered, and it is difficult to adhere to the film There was a problem of.

한편, 특허문헌 5의 실시예는 플루오렌 골격을 갖는 (메타)아크릴레이트 이외의 성분으로서 에틸렌글리콜쇄를 갖는 디메타크릴레이트 및/또는 비스페놀 F 에틸렌옥사이드 변성 아크릴레이트를 사용하고 있기 때문에 밀착성, 내광성이 낮은 등의 과제가 있었다.On the other hand, the embodiment of Patent Document 5 uses dimethacrylate having an ethylene glycol chain and / or bisphenol F ethylene oxide modified acrylate as a component other than (meth) acrylate having a fluorene skeleton, And the like.

특허문헌 6의 실시예는 플루오렌 골격을 갖는 (메타)아크릴레이트 이외의 성분으로서 2개의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물을 사용하고 있기 때문에 높은 굴절률은 얻어졌지만 밀착성, 투명성, 내광성이 낮은 등의 과제가 있었다.In the example of Patent Document 6, since a monofunctional (meth) acrylate compound having two aromatic rings is used as a component other than the (meth) acrylate having a fluorene skeleton, a high refractive index was obtained, but the adhesiveness, transparency, And the like.

특허문헌 7의 실시예는 플루오렌 골격을 갖는 (메타)아크릴레이트 이외의 성분으로서 2개의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트 및/또는 하나의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트를 사용하고 있기 때문에 높은 굴절률은 얻어졌지만 밀착성, 투명성, 내광성이 낮은 등의 과제가 있었다.The embodiment of Patent Document 7 is a method for producing a fluoroelastomer having a monofunctional (meth) acrylate having two aromatic rings as a component other than the (meth) acrylate having a fluorene skeleton and / or a monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring A high refractive index was obtained, but there were problems such as adhesion, transparency, and low light resistance.

특허문헌 8의 실시예는 플루오렌 골격을 갖는 (메타)아크릴레이트 이외의 성분으로서 분자 내에 카르복실기 및 에틸렌성 불포화기를 갖는 (메타)아크릴레이트 공중합체인 알칼리 가용성 수지 및 실리카 미립자를 사용하고 있기 때문에 굴절률이 낮아지는 등의 과제가 있었다.Since the embodiment of Patent Document 8 uses an alkali-soluble resin and a silica fine particle as the (meth) acrylate copolymer having a carboxyl group and an ethylenic unsaturated group in the molecule as a component other than the (meth) acrylate having a fluorene skeleton, And the like.

특허문헌 9의 실시예는 플루오렌 골격을 갖는 (메타)아크릴레이트 이외의 성분으로서 분자 내에 3개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 다관능 경화성 모노머를 사용하고 있기 때문에 밀착성, 접착성이 낮은 등의 과제가 있었다.In the example of Patent Document 9, since a multifunctional curable monomer having three or more (meth) acryloyl groups in the molecule is used as a component other than (meth) acrylate having a fluorene skeleton, adhesion, There was a problem of.

특허문헌 5~9에는 단관능 (메타)아크릴레이트의 조성비에 관한 기재는 없다.Patent Documents 5 to 9 do not describe the composition ratio of monofunctional (meth) acrylate.

본 발명은 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것이다. 본 발명은 특정량의 단관능 (메타)아크릴레이트를 사용한다. 본 발명에 의해 특허문헌 5~9에 기재된 에틸렌글리콜쇄를 갖는 디메타크릴레이트, 비스페놀 F 에틸렌옥사이드 변성 아크릴레이트, 2개의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트, 분자 내에 카르복실기 및 에틸렌성 불포화기를 갖는 (메타)아크릴레이트 공중합체인 알칼리 가용성 수지 및 실리카 미립자, 분자 내에 3개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 다관능 경화성 모노머를 사용하지 않아도 우수한 효과를 가진다. 본 발명은 높은 굴절률과 높은 투명성을 가지며 고착 시간이 짧은 광경화성 수지 조성물을 제공한다.The present invention has been made in view of such circumstances. The present invention uses a specific amount of monofunctional (meth) acrylate. According to the present invention, it is possible to use dimethacrylate having an ethylene glycol chain described in Patent Documents 5 to 9, bisphenol F ethylene oxide modified acrylate, monofunctional (meth) acrylate having two aromatic rings, carboxyl group and ethylenically unsaturated (Meth) acrylate copolymer and silica fine particles and a polyfunctional curable monomer having three or more (meth) acryloyl groups in the molecule are not used. The present invention provides a photocurable resin composition having a high refractive index and high transparency and having a short fixing time.

본 발명은 이하와 같다.The present invention is as follows.

<1> (A)성분으로서 하기 일반식(1)으로 나타나는 플루오렌계 화합물,<1> A fluorene-based compound represented by the following general formula (1) as the component (A)

[화학식 2](2)

Figure pct00001
Figure pct00001

(일반식(1) 중, R1, R2, R3, R4는 수소 원자 또는 메틸기, a 및 b는 각각 1~4의 정수를 나타낸다. 또, 각각의 치환기는 벤젠환에서의 치환 가능한 탄소 원자 중 어느 것과 결합해도 된다.)(In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and a and b each represent an integer of 1 to 4. Each substituent may be a substitutable Carbon atom.)

(B)성분으로서 지환식 탄화수소기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트,(Meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group as the component (B)

(C)성분으로서 하나의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트,(Meth) acrylate having one aromatic ring as the component (C)

(D)성분으로서 광라디칼 중합 개시제(D) as a photo radical polymerization initiator

를 함유하고, (A)~(C)성분의 합계 100질량부 중 상기 (A)성분의 함유 비율이 10~70질량부이고, 상기 (B)성분의 함유 비율이 5~65질량부이며, 상기 (C)성분의 함유 비율이 5~65질량부인 광경화성 수지 조성물이다., The content of the component (A) is 10 to 70 parts by mass, the content of the component (B) is 5 to 65 parts by mass, the content of the component (A) is 100 parts by mass, And the content of the component (C) is 5 to 65 parts by mass.

<2> (B)성분은 호모폴리머의 유리 전이 온도가 40℃ 이상 180℃ 이하인 것이 바람직하다.&Lt; 2 > The component (B) preferably has a homopolymer having a glass transition temperature of not lower than 40 DEG C but not higher than 180 DEG C.

<3> (E)성분으로서 실란 커플링제를 더 함유하는 것이 바람직하다.<3> It is preferable that a component (E) further contains a silane coupling agent.

<4> (E)성분은 페닐기 또는 (메타)아크릴로일기에서 선택되는 하나 이상의 관능기를 갖는 실란 커플링제인 것이 바람직하다.<4> The component (E) is preferably a silane coupling agent having at least one functional group selected from a phenyl group or a (meth) acryloyl group.

<5> 온도 25℃, 파장 589nm에서의 액굴절률이 1.50 이상이고, 경화물 굴절률이 1.53 이상인 것이 바람직하다.&Lt; 5 > It is preferable that the liquid refractive index at a temperature of 25 DEG C and a wavelength of 589 nm is 1.50 or more, and a cured product refractive index is 1.53 or more.

<6> 광경화성 수지 조성물로 이루어지는 피복재인 것이 바람직하다.&Lt; 6 > A cover material made of a photo-curable resin composition is preferable.

<7> 피복재를 갖는 베이스재인 것이 바람직하다.<7> Preferably, the base material has a covering material.

<8> 광경화성 수지 조성물로 이루어지는 층을 기판 상에 형성한 후에 상기 광경화성 수지 조성물보다 낮은 굴절률을 갖는 층을 형성하여 이루어지는 막인 것이 바람직하다.<8> It is preferable that the film is formed by forming a layer made of a photo-curing resin composition on a substrate and then forming a layer having a refractive index lower than that of the photo-curable resin composition.

<9> 막을 갖는 베이스재인 것이 바람직하다.It is preferable that the base material has a film.

<10> 베이스재를 갖는 소자인 것이 바람직하다.<10> It is preferable that the element has a base material.

<11> 광경화성 수지 조성물로 이루어지는 접착제인 것이 바람직하다.<11> It is preferable that the adhesive is composed of a photocurable resin composition.

<12> 접착제로 접착된 접합체인 것이 바람직하다.<12> It is preferable that the bonded body is bonded with an adhesive.

<13> 접합체를 갖는 광학 부품인 것이 바람직하다.<13> An optical component having a junction body is preferable.

본원 발명자들은 상기 일반식(1)으로 나타나는 플루오렌계 화합물을 이용한 광경화성 수지 조성물의 연구 개발을 행하였다. 그 결과, 희석 등의 목적으로 사용되는 단관능 (메타)아크릴레이트를 이용하여 상기 플루오렌계 화합물의 광경화성 수지 조성물을 작성한 바, 보다 굴절률이 높고 보다 투명성이 높고 보다 고착 시간이 짧은 광경화성 수지 조성물이 얻어지는 것을 발견하였다. 더욱 연구를 거듭한 바, 지환식 탄화수소기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트와 하나의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트를 특정의 함유 비율로 혼합함으로써 상술한 효과를 발휘하는 광경화성 수지 조성물이 얻어지는 것을 밝혀내어 본 발명을 완성하였다.The present inventors have conducted research and development of a photo-curing resin composition using the fluorene compound represented by the above general formula (1). As a result, the photo-curable resin composition of the fluorene compound was prepared using the monofunctional (meth) acrylate used for the purpose of dilution or the like. As a result, the photo-curing resin composition having a higher refractive index, higher transparency, A composition was obtained. As a result of further studies, it has been found that by mixing a monofunctional (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group and a monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring at a specified content ratio, The present inventors have completed the present invention.

본 발명은 높은 굴절률과 높은 투명성을 가지며 고착 시간이 짧은 등의 효과를 얻을 수 있다.The present invention can provide effects such as high refractive index, high transparency, and short fixing time.

<용어의 설명><Explanation of Terms>

본 명세서에 있어서, 피복재란 유리 기판, 플라스틱 필름, 플라스틱 시트 등의 베이스재 상을 표면 보호나 의장성을 부여하거나 반사 방지나 광도파 등의 기능성을 부여하는 것을 목적으로 피복하는 재료를 의미한다.In the present specification, the covering material means a material which covers the surface of a base material such as a glass substrate, a plastic film, or a plastic sheet for the purpose of imparting surface protection or designability, or imparting functions such as antireflection and optical wave.

본 명세서에 있어서, 접착제란 부품과 부품 등을 붙여 맞추기 위한 접착제, 특히 광학 부품의 접착에 적합하게 이용되는 접착제를 의미한다.In the present specification, the term &quot; adhesive &quot; means an adhesive for sticking parts and components, particularly, an adhesive suitably used for bonding optical components.

본 발명의 일 실시형태에 관한 수지 조성물의 성분에 대해 설명한다. 본 실시형태의 광경화성 수지 조성물은 광경화성 수지 조성물 100질량부 중 (A)~(C)성분의 합계가 70질량부 이상인 것이 바람직하고, 90질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 93질량부 이상인 것이 더욱 바람직하고, 95질량부 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또, 상기 광경화성 수지 조성물은 광경화성 수지 조성물 100질량부 중 상기 (A)~(C)성분의 합계가 예를 들어 60, 65, 70, 75, 80, 85, 88, 90, 92, 93, 95, 96, 97, 98, 99 또는 100질량부이어도 되고, 이들 중 어느 2개의 값의 범위 내이어도 된다.The components of the resin composition according to one embodiment of the present invention will be described. The total amount of the components (A) to (C) in 100 parts by mass of the photocurable resin composition of the present embodiment is preferably 70 parts by mass or more, more preferably 90 parts by mass or more, and more preferably 93 parts by mass or more And still more preferably 95 parts by mass or more. The total amount of the components (A) to (C) in the 100 parts by mass of the photocurable resin composition is 60, 65, 70, 75, 80, 85, 88, 90, 92, 93 , 95, 96, 97, 98, 99, or 100 parts by mass, and may be within the range of any two of these values.

<(A)성분: 플루오렌계 화합물>&Lt; Component (A): Fluorene compound >

본 실시형태의 수지 조성물은 (A)성분으로서 하기 일반식(1)로 나타나는 플루오렌계 화합물을 가진다.The resin composition of the present embodiment has a fluorene-based compound represented by the following general formula (1) as the component (A).

[화학식 3](3)

Figure pct00002
Figure pct00002

(일반식(1) 중, R1, R2, R3, R4는 수소 원자 또는 메틸기, a 및 b는 각각 1~4의 정수를 나타낸다. 또, 각각의 치환기는 벤젠환에서의 치환 가능한 탄소 원자 중 어느 것과 결합해도 된다.)(In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and a and b each represent an integer of 1 to 4. Each substituent may be a substitutable Carbon atom.)

상기 플루오렌계 화합물로서는 9,9-비스[4-((메타)아크릴로일옥시)페닐]플루오렌 등의 9,9-비스[(메타)아크릴로일옥시페닐]플루오렌류; 9,9-비스[4-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌, 9,9-비스[4-(2-(메타)아크릴로일옥시프로폭시)페닐]플루오렌 등의 9,9-비스[((메타)아크릴로일옥시 C2-4 알콕시)페닐]플루오렌류; 9,9-비스[3-메틸-4-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌, 9,9-비스[3-메틸-4-(2-(메타)아크릴로일옥시프로폭시)페닐]플루오렌, 9,9-비스[3,5-디메틸-4-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 등의 9,9-비스[모노 또는 디 C1-4 알킬-(2-(메타)아크릴로일옥시 C2-4 알콕시)페닐]플루오렌; 9,9-비스[3,4-디(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌, 9,9-비스[3,5-디(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 등의 9,9-비스[디(2-(메타)아크릴로일옥시 C2-4 알콕시)페닐]플루오렌류; 9,9-비스[3,4,5-트리스(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 등의 9,9-비스[트리(2-(메타)아크릴로일옥시 C2-4 알콕시)페닐]플루오렌류; 이들의 화합물에 있어서 C2-4 알콕시기가 폴리알콕시기(디에톡시, 트리에톡시기 등)로 치환된 화합물(9,9-비스[(메타)아크릴로일옥시 C2-4 알콕시)페닐]플루오렌류; 9,9-비스[4-(2-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)에톡시)페닐]플루오렌, 9,9-비스[3,5-디메틸-4-(2-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)에톡시)페닐]플루오렌 등의 9,9-비스[((메타)아크릴로일옥시 C2-4 알콕시 C2-4 알콕시)페닐]플루오렌류 등); 더욱이 이들의 화합물에 있어서 페닐기를 비페닐기로 치환하여 비페닐기를 형성한 화합물(9,9-비스[3-페닐-4-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 등의 9,9-비스[페닐-(메타)아크릴로일옥시 C2-4 알콕시페닐]플루오렌류 등); 이들의 화합물에 있어서 나프틸기인 화합물(9,9-비스[5 또는 6-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)-2-나프틸)]플루오렌, 9,9-비스[5 또는 6-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)-1 또는 2-나프틸)]플루오렌 등의 9,9-비스[((메타)아크릴로일옥시 C2-4 알콕시)나프틸]플루오렌류 등) 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 투명성, 베이스재와의 밀착성의 점에서 9,9-비스[4-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 및/또는 9,9-비스[4-(2-(메타)아크릴로일옥시폴리에톡시)페닐]플루오렌이 바람직하다. 여기서, C는 탄소를 말한다. 예를 들어, C1-4란 탄소수가 1~4개인 것을 말한다.Examples of the fluorene compound include 9,9-bis [(meth) acryloyloxyphenyl] fluorenes such as 9,9-bis [4 - ((meth) acryloyloxy) phenyl] fluorene; Phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [((meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxy) phenyl] fluorenes such as omega; (3-methyl-4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [ Bis [mono (meth) acrylate] such as 9,9-bis [3,5-dimethyl- Or diC1-4alkyl- (2- (meth) acryloyloxyC2-4alkoxy) phenyl] fluorene; Di [2- (meth) acryloyloxyethoxy] phenyl] fluorene, 9,9-bis [ Di (2- (meth) acryloyloxyC2-4alkoxy) phenyl] fluorenes such as ethoxy) phenyl] fluorene; (Meth) acryloyloxy C2 (meth) acrylate such as 9,9-bis [3,4,5-tris (2- (meth) acryloyloxyethoxy) -4-alkoxy) phenyl] fluorenes; (9,9-bis [(meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxy) phenyl] fluorene in which a C 2-4 alkoxy group is substituted with a polyalkoxy group (diethoxy, triethoxy group, etc.) Ryu; 9,9-bis [3,5-dimethyl-4- (2- ((meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy) phenyl] fluorene, (Meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxy C 2-4 alkoxy) phenyl] fluorenes such as 2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy) phenyl] ); Further, in these compounds, the compound (9,9-bis [3-phenyl-4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene 9,9-bis [phenyl- (meth) acryloyloxy C2-4 alkoxyphenyl] fluorenes, etc.); In these compounds, a compound which is a naphthyl group (9,9-bis [5 or 6- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) -2-naphthyl)] fluorene, 9,9- (Meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxy) naphthyl such as 6- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) -1 or 2-naphthyl) ] Fluorenes) and the like. Among these, 9,9-bis [4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene and / or 9,9-bis [4- 2- (meth) acryloyloxypolyethoxy) phenyl] fluorene are preferable. Here, C is carbon. For example, C1-4 means C1-4 carbon atoms.

(A)성분의 함유 비율은 굴절률, 투명성, 밀착성의 점에서 수지 조성물의 총량((A)~(C)의 합계 100질량부)에 대해 10~70질량부가 바람직하고, 20~60질량부가 보다 바람직하며, 30~50질량부가 가장 바람직하다. 또, 상기 (A)성분의 함유 비율은 예를 들어 10, 20, 30, 40, 50, 60 또는 70질량부이어도 되고, 이들 중 어느 2개의 값의 범위 내이어도 된다.The content of the component (A) is preferably from 10 to 70 parts by mass, more preferably from 20 to 60 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the resin composition (from 100 parts by mass of the total of the components (A) to (C)) from the viewpoints of refractive index, transparency, And most preferably 30 to 50 parts by mass. The content of the component (A) may be, for example, 10, 20, 30, 40, 50, 60 or 70 parts by mass, and may be in the range of any two values.

상기 플루오렌계 화합물은 공지의 제조 방법으로 제조된 것을 사용할 수 있다. 구체적으로 오사카 가스 케미컬사 제품의 오크졸 시리즈나 신나카무라 화학공업사 제품의 「NK 에스테르 A-BPFE」 등을 이용할 수 있다.As the fluorene compound, those prepared by a known production method may be used. Specifically, it is possible to use "ozol series" manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd. and "NK Ester A-BPFE" manufactured by Shin Nakamura Chemical Industries Co.,

<(B)성분: 지환식 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴레이트>&Lt; Component (B): (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group >

본 실시형태의 수지 조성물은 (B)성분으로서 지환식 탄화수소기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트를 함유한다.The resin composition of this embodiment contains a monofunctional (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group as the component (B).

상기 단관능 (메타)아크릴레이트로서는 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 보닐(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 모노(메타)아크릴레이트, 수소 첨가 비스페놀 F형 에폭시 모노(메타)아크릴레이트, 수소 첨가 비페닐형 에폭시 모노(메타)아크릴레이트 및 이들 에폭시 모노(메타)아크릴레이트의 EO(에틸렌옥사이드) 변성체 또는 PO(프로필렌옥사이드) 변성체 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 굴절률, 투명성, 밀착성의 점에서 이소보닐(메타)아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군 중 1종 이상이 바람직하고, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군 중 1종 이상이 보다 바람직하다.Examples of the monofunctional (meth) acrylate include dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) Acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol A (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, (Ethylene oxide) modified product of these epoxy mono (meth) acrylates, hydrogenated bisphenol F type epoxy mono (meth) acrylate, hydrogenated biphenyl type epoxy mono (meth) acrylate, and epoxy mono Or a PO (propylene oxide) modified product. Among them, isobonyl (meth) acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate and the like are preferable from the viewpoints of refractive index, transparency, (Meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate, and is preferably at least one selected from the group consisting of isobonyl (Meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate.

(B)성분은 밀착성, 내광성의 점에서 호모폴리머의 유리 전이 온도(이하, Tg라고 함)가 40℃ 이상 180℃ 이하인 것이 바람직하다.(B) preferably has a glass transition temperature (hereinafter referred to as Tg) of from 40 캜 to 180 캜 in terms of adhesion and light resistance.

(메타)아크릴레이트의 호모폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는 J.Brandrup, E.H.Immergut, Polymer Handbook, 2nd Ed., J.Wiley, New York 1975, 광경화 기술 데이터북(테크노넷북스사) 등에 기재되어 있다. 본 실시형태는 광경화 기술 데이터북에 기재된 값을 사용하였다.The glass transition temperature (Tg) of the homopolymer of (meth) acrylate is determined by the method described in J. Brandrup, EHImmergut, Polymer Handbook, 2nd Ed., J. Wiley, New York 1975, . In this embodiment, the values described in the photocuring technology data book are used.

유리 전이 온도의 측정은 시차 열량계(이하, DSC라고 함)나 동적 점탄성(이하, DMA라고 함) 등 공지의 수법으로 측정할 수 있지만, DSC를 이용한 측정이 바람직하다.The glass transition temperature can be measured by a known method such as differential calorimetry (hereinafter referred to as DSC) or dynamic viscoelasticity (hereinafter referred to as DMA), but measurement using DSC is preferable.

(B)성분의 함유 비율은 굴절률, 투명성, 베이스재와의 밀착성의 점에서 수지 조성물의 총량((A)~(C)의 합계 100질량부)에 대해 5~65질량부가 바람직하고, 15~55질량부가 보다 바람직하며, 25~45질량부가 가장 바람직하다. 또, 상기 (B)성분의 함유 비율은 예를 들어 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60 또는 65질량부이어도 되고, 이들 중 어느 2개의 값의 범위 내이어도 된다.The content of the component (B) is preferably from 5 to 65 parts by mass, more preferably from 15 to 60 parts by mass based on the total amount of the resin composition (100 parts by mass in total of the components (A) to (C)) from the viewpoints of refractive index, transparency, More preferably 55 parts by mass, and most preferably 25 to 45 parts by mass. The content of the component (B) may be, for example, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60 or 65 parts by mass, .

<(C)성분: 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트><Component (C): monofunctional (meth) acrylate having an aromatic ring>

본 실시형태의 수지 조성물은 (C)성분으로서 보다 굴절률을 높이는 것을 목적으로 하나의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트를 함유한다.The resin composition of the present embodiment contains a monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring for the purpose of further increasing the refractive index as the component (C).

상기 하나의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트로서는 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시테트라에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시헥사에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 노닐페닐(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 노닐페닐(메타)아크릴레이트, 프탈산 변성 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 (A)성분과의 상용성, 굴절률, 투명성의 점에서 벤질(메타)아크릴레이트 및/또는 페녹시에틸(메타)아크릴레이트가 바람직하다.Examples of the monofunctional (meth) acrylate having one aromatic ring include benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetraethylene glycol (Meth) acrylate, nonylphenyl (meth) acrylate, ethylene oxide-modified nonylphenyl (meth) acrylate, phthalic acid-modified (meth) acrylate and the like. Among these, benzyl (meth) acrylate and / or phenoxyethyl (meth) acrylate are preferable from the viewpoint of compatibility with component (A), refractive index and transparency.

(C)성분의 함유 비율은 굴절률, 투명성, 밀착성, 내광성의 점에서 수지 조성물의 총량((A)~(C)의 합계 100질량부)에 대해 5~65질량부가 바람직하고, 10~55질량부가 보다 바람직하며, 15~45질량부가 가장 바람직하다. 또, 상기 (C)성분의 함유 비율은 예를 들어 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60 또는 65질량부이어도 되고, 이들 중 어느 2개의 값의 범위 내이어도 된다.The content of the component (C) is preferably 5 to 65 parts by mass, more preferably 10 to 55 parts by mass with respect to the total amount (100 parts by mass in total of the components (A) to (C)) of the resin composition in terms of refractive index, transparency, More preferably 15 to 45 parts by mass, and most preferably 15 to 45 parts by mass. The content of the component (C) may be, for example, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60 or 65 parts by mass, .

<(D)성분: 광라디칼 중합 개시제>&Lt; Component (D): photo radical polymerization initiator >

본 실시의 수지 조성물은 (D) 광라디칼 중합 개시제를 함유한다. 광라디칼 중합 개시제는 에너지선을 조사함으로써 라디칼이 발생하는 화합물이면 특별히 제한되지 않는다.The resin composition of the present embodiment contains (D) a photo radical polymerization initiator. The photo radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound which generates a radical by irradiation of an energy ray.

상기 광라디칼 중합 개시제로서는 벤질, 벤조인, 벤조인 안식향산, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인 유도체, 벤조페논, 4-페닐벤조페논 등의 벤조페논 유도체, 2,2-디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈 등의 알킬아세토페논 유도체, 1-히드록시-시클로헥실페닐케톤, 1-(4-이소프로필페닐)2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-(2-히드록시에톡시)-페닐)-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 등의 α-히드록시아세토페논 유도체, 비스디에틸아미노벤조페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논-1 등의 α-아미노알킬아세토페논 유도체, 이소부티릴-메틸포스핀산 메틸에스테르, 이소부티릴-페닐포스핀산 메틸에스테르, 피발로일-페닐포스핀산 메틸에스테르, 2-에틸헥사노일-페닐포스핀산 메틸에스테르, 피발로일-페닐포스핀산 이소프로필에스테르, p-톨루일-페닐포스핀산 메틸에스테르, o-톨루일-페닐포스핀산 메틸에스테르, 2,4-디메틸벤조일-페닐포스핀산 메틸에스테르, p-3급 부틸벤조일-페닐포스핀산 이소프로필에스테르, 피발로일-(4-메틸페닐)-포스핀산 메틸에스테르, 피발로일-페닐포스핀산 비닐에스테르, 아크릴로일-페닐포스핀산 메틸에스테르, 이소부티릴-디페닐포스핀옥사이드, 피발로일-디페닐포스핀옥사이드, 1-메틸-1-시클로헥사노일-디페닐포스핀옥사이드, 2-에틸헥사노일-디페닐포스핀옥사이드, ρ-톨루일-디페닐포스핀옥사이드, ο-톨루일-디페닐포스핀옥사이드, ρ-3급 부틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, (메타)아크릴로일 디페닐포스핀옥사이드, 벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2,2-디메틸-헵타노일-디페닐포스핀옥사이드, 테레프탈로일-비스-디페닐포스핀옥사이드, 아디포일-비스-디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디메톡시벤조일-페닐포스핀산 메틸에스테르, 2,6-디메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디메톡시벤조일-디포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일-페닐포스핀산 메틸에스테르, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2,3,6-트리메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일-트리포스핀산 메틸에스테르, 2,4,6-트리메톡시벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디클로로벤조일-페닐포스핀산 에스테르, 2,6-디클로로벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2,3,4,6-테트라메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디브롬벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 2,6-디메틸벤조일 디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일-페닐포스핀산 메틸에스테르, 2,6-디클로로벤조일- 혹은 2,6-디메톡시벤조일-디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸-펜틸포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드 유도체, 1,2-옥탄디온, 1-〔-4-(페닐티오)-, 2-(O-벤조일옥심)〕, 에타논 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심) 등의 옥심에스테르 화합물을 들 수 있다. 이들 중에서는 반응성, 투명성이 우수한 점에서 알킬아세토페논 유도체, α-히드록시아세토페논 유도체, 아실포스핀옥사이드 유도체로 이루어지는 1종 이상이 바람직하다. 이들은 1종 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the photo radical polymerization initiator include benzoin derivatives such as benzyl, benzoin, benzoin benzoic acid, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether; benzophenone derivatives such as benzophenone and 4-phenylbenzophenone , Alkyl acetophenone derivatives such as 2,2-diethoxyacetophenone and benzyl dimethyl ketal, ketone derivatives such as 1-hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone, 1- (4-isopropylphenyl) 2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1-one, 2- Aminoalkyl acetophenone derivatives such as benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone-1, isobutyryl-methylphosphinic acid methyl ester, isobutyryl- Fins acid methyl ester , Pivaloyl-phenylphosphinic acid methyl ester, 2-ethylhexanoylphenylphosphinic acid methyl ester, pivaloyl-phenylphosphinic acid isopropyl ester, p-tolyl-phenylphosphinic acid methyl ester, o-tolyl- P-tert-butylbenzoyl-phenylphosphinic acid isopropyl ester, pivaloyl- (4-methylphenyl) -phosphinic acid methyl ester, pivaloylphenylphosphinic acid methyl ester, Phenylphosphinic acid methyl ester, isobutyryl-diphenylphosphine oxide, pivaloyl-diphenylphosphine oxide, 1-methyl-1-cyclohexanoyl-diphenyl Tert-butylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2-ethylhexanoyl-diphenylphosphine oxide, p-toluyl-diphenylphosphine oxide, o-tolyl-diphenylphosphine oxide, , (Meth) acryloyldiphenylphosphine oxide, benzo Diphenylphosphine oxide, 2,2-dimethyl-heptanoyl-diphenylphosphine oxide, terephthaloyl-bis-diphenylphosphine oxide, adipoyl-bis-diphenylphosphine oxide, 2,6- Benzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoyl-phenylphosphinic acid methyl ester, 2,6-dimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,6-dimethoxybenzoyl-diphosphine oxide, 2,4 , 6-trimethylbenzoyl-phenylphosphinic acid methyl ester, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,3,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl 2-methylbenzoyl-phenylphosphinic acid ester, 2,6-dichlorobenzoyl-diphenylphosphinic acid, 2, 6-dichlorobenzoyl-diphenylphosphinic acid ester, , 3,4,6-tetramethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,6-dibromobenzoyl-diphenylphosphine oxide, 2,6-dimethyl 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-phenylphosphinic acid methyl ester, 2,6-dichlorobenzoyl- or 2,6-dimethoxy Bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide and bis Acylphosphine oxide derivative, 1,2- octanedione, 1- [4- (phenylthio) -, 2- (O-benzoyloxime)], ethanone 1- [ Benzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime). Of these, at least one selected from the group consisting of alkyl acetophenone derivatives,? -Hydroxyacetophenone derivatives and acylphosphine oxide derivatives is preferable in view of excellent reactivity and transparency. These may be used alone or in combination of two or more.

(D)성분의 함유 비율은 수지 조성물의 총량((A)~(C)의 합계 100질량부)에 대해 0.1~10질량부가 바람직하고, 0.5~5질량부가 보다 바람직하다. 0.1~10질량부의 범위에 있으면 경화성이 나빠지는 일도 없고 투명성도 저하시키는 일도 없다. 또, 상기 (D)성분의 함유 비율은 예를 들어 0.1, 0.5, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10질량부이어도 되고, 이들 중 어느 2개의 값의 범위 내이어도 된다.The content of the component (D) is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.5 to 5 parts by mass, based on the total amount of the resin composition (100 parts by mass in total of (A) to (C)). When the amount is in the range of 0.1 to 10 parts by mass, the curability does not deteriorate and the transparency does not deteriorate either. The content of the component (D) may be, for example, 0.1, 0.5, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 parts by mass, It can be inside.

<(E)성분: 실란 커플링제>&Lt; Component (E): Silane coupling agent >

본 발명의 일 실시형태로서 수지 조성물은 유리면에의 밀착성을 한층 더 향상시키는 것을 목적으로 (E)성분으로서 실란 커플링제를 더 함유할 수 있다. 실란 커플링으로서는 γ-클로로프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리클로로실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐-트리스(β-메톡시에톡시)실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-유레이도프로필트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, ρ-스티릴트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 (메타)아크릴로일기를 갖는 실란 커플링제, 에폭시기를 갖는 실란 커플링제, 페닐기를 갖는 실란 커플링제로 이루어지는 군 중 1종 이상이 바람직하고, (메타)아크릴로일기를 갖는 실란 커플링제와 페닐기를 갖는 실란 커플링제로 이루어지는 군 중 1종 이상이 보다 바람직하다. (메타)아크릴로일기를 갖는 실란 커플링제로서는 γ-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, γ-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 에폭시기를 갖는 실란 커플링제로서는 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 페닐기를 갖는 실란 커플링제로서는 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란 등을 들 수 있다.As one embodiment of the present invention, the resin composition may further contain a silane coupling agent as the component (E) for the purpose of further improving the adhesion to the glass surface. Examples of the silane coupling include γ-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (? -Methoxyethoxy) silane,? -Methacryloxypropyltri Methacryloxypropyltrimethoxysilane,? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane,? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane,? -Mercaptopropyltri Aminopropyltrimethoxysilane, N -? - (aminoethyl) -? - aminopropyltrimethoxysilane, N -? - (aminoethyl) -? - aminopropylmethyldimethoxysilane,? -Ureido propyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, and the like. Among these, at least one member selected from the group consisting of a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group, a silane coupling agent having an epoxy group, and a silane coupling agent having a phenyl group is preferable, and a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group And a silane coupling agent having a phenyl group are more preferable. Examples of the silane coupling agent having a (meth) acryloyl group include? -Methacryloyloxypropyltrimethoxysilane and? -Acryloyloxypropyltrimethoxysilane. Examples of the silane coupling agent having an epoxy group include? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane and? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Examples of the silane coupling agent having a phenyl group include phenyltrimethoxysilane and phenyltriethoxysilane.

(E)성분의 함유 비율은 굴절률, 투명성, 밀착성의 점에서 수지 조성물의 총량((A)~(C)의 합계 100질량부)에 대해 0.1~10질량부가 바람직하고, 0.5~5질량부가 보다 바람직하다. 또, 상기 (E)성분의 함유 비율은 예를 들어 0.1, 0.5, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10질량부이어도 되고, 이들 중 어느 2개의 값의 범위 내이어도 된다.The content of the component (E) is preferably from 0.1 to 10 parts by mass, more preferably from 0.5 to 5 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the resin composition (100 parts by mass in total of the components (A) to (C)) from the viewpoints of refractive index, transparency, desirable. The content of the component (E) may be, for example, 0.1, 0.5, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 parts by mass, It can be inside.

본 실시형태의 수지 조성물에는 본 실시형태의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 상기 이외의 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물이나 다관능 (메타)아크릴레이트를 함유해도 된다.The resin composition of the present embodiment may contain a monofunctional (meth) acrylate compound or a polyfunctional (meth) acrylate other than the above in addition to the effects of the present embodiment.

<그 밖의 첨가제><Other additives>

본 실시형태의 목적을 손상시키지 않는 범위에서 산화 방지제, 아크릴 고무, 우레탄 고무 등의 각종 엘라스토머, 광증감제, 광안정제, 용제, 증량재, 충전제, 보강재, 가소제, 증점제, 염료, 안료, 난연제 및 계면활성제 등의 첨가제를 함유해도 된다.Various additives such as an antioxidant, an acrylic rubber, a urethane rubber, etc., a photosensitizer, a light stabilizer, a solvent, an increasing agent, a filler, a reinforcing agent, a plasticizer, a thickener, a dye, a pigment, An additive such as a surfactant may be contained.

본 실시형태에 관한 수지 조성물의 제조 방법에 대해서는 상기 재료를 충분히 혼합할 수 있으면 특별히 제한은 없다. 재료의 혼합 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만, 프로펠러의 회전에 따른 교반력을 이용하는 교반법, 자전 공전에 의한 유성식 교반기 등의 통상의 분산기를 이용하는 방법 등을 들 수 있다. 이들 혼합 방법은 저비용으로 안정된 혼합을 행할 수 있으므로 바람직하다.The method for producing the resin composition according to the present embodiment is not particularly limited as long as the above materials can be sufficiently mixed. The method of mixing the materials is not particularly limited, and examples thereof include a stirring method using an agitating force in accordance with the rotation of the propeller, and a method using a conventional dispersing machine such as a planetary stirrer by rotating revolution. These mixing methods are preferable because stable mixing can be performed at a low cost.

상기 혼합을 행한 후, 하기의 광원을 이용한 에너지선의 조사에 의해 수지 조성물의 경화를 행할 수 있다.After the above mixing, the resin composition can be cured by irradiation of energy rays using the following light source.

본 실시형태에 있어서, 수지 조성물의 경화에 이용되는 광원으로서는 특별히 한정되지 않지만, 할로겐 램프, 메탈 할라이드 램프, 하이파워 메탈 할라이드 램프(인듐 등을 함유함), 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 크세논 램프, 크세논 엑시머 램프, 크세논 플래시 램프, 라이트 이미팅 다이오드(이하, LED라고 함) 등을 들 수 있다. 이들 광원은 각각의 광라디칼 중합 개시제의 반응 파장에 대응한 에너지선의 조사를 효율적으로 행하는 점에서 바람직하다.In the present embodiment, the light source used for curing the resin composition is not particularly limited, but a halogen lamp, a metal halide lamp, a high power metal halide lamp (including indium), a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, A lamp, a xenon lamp, a xenon excimer lamp, a xenon flash lamp, and a light-emitter diode (hereinafter referred to as an LED). These light sources are preferable in that irradiation of energy rays corresponding to the reaction wavelength of each photo radical polymerization initiator is efficiently performed.

상기 광원은 각각 방사 파장, 에너지 분포가 다르다. 그 때문에 상기 광원은 광중합 개시제의 반응 파장 등에 의해 적절히 선택된다. 또한, 자연광(태양광)도 반응 개시 광원이 될 수 있다.The light sources have different emission wavelengths and energy distributions, respectively. Therefore, the light source is appropriately selected depending on the reaction wavelength of the photopolymerization initiator and the like. Natural light (sunlight) can also be a reaction-initiating light source.

상기 광원은 직접 조사, 반사경 등에 의한 집광 조사, 파이버 등에 의한 집광 조사를 행해도 된다. 저파장 커트 필터, 열선 커트 필터, 콜드 미러 등도 이용할 수도 있다.The light source may be subjected to direct irradiation, light irradiation with a reflector or the like, or light irradiation with a fiber or the like. A low-wavelength cut filter, a hot-wire cut filter, a cold mirror, or the like may also be used.

상기 구성으로 이루어지는 수지 조성물은 에너지선의 조사에 의해 신속하게 경화하기 때문에 고투명성, 고굴절률 등의 광학 특성이 우수한 경화체를 제공할 수 있다.The resin composition having the above-described constitution can be rapidly cured by irradiation with energy rays, and thus can provide a cured product having excellent optical properties such as high transparency and high refractive index.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 수지 조성물의 굴절률은 온도 25℃, 파장 589nm에서의 액굴절률이 1.50 이상인 것이 바람직하고, 1.51 이상인 것이 보다 바람직하며, 1.52 이상인 것이 가장 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the refractive index of the resin composition is preferably 1.50 or more, more preferably 1.51 or more, and most preferably 1.52 or more, at a temperature of 25 DEG C and a wavelength of 589 nm.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 수지 조성물의 굴절률은 온도 25℃, 파장 589nm에서의 경화물 굴절률이 1.53 이상인 것이 바람직하고, 1.54 이상인 것이 보다 바람직하며, 1.55 이상인 것이 가장 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the refractive index of the resin composition is preferably 1.53 or more, more preferably 1.54 or more, and most preferably 1.55 or more, at a temperature of 25 DEG C and a wavelength of 589 nm.

굴절률 측정은 아베식 굴절률계, 프리즘 커플러, 엘립소미터 등 공지의 수법으로 측정할 수 있다. 이들 중에서는 아베식 굴절률계를 이용한 측정이 바람직하다.The refractive index can be measured by a known method such as Abbe's refractometer, prism coupler, and ellipsometer. Of these, measurement using an Abbe's type refractive index meter is preferable.

상기 구성으로 이루어지는 수지 조성물은 고투명성, 고굴절률 등의 광학 특성이 우수하고 유리, 플라스틱 필름, 플라스틱 시트 등의 베이스재에의 밀착성이 우수하기 때문에 이들 베이스재의 피복재로서 제공할 수 있다.The resin composition having the above composition is excellent in optical properties such as high transparency and high refractive index and is excellent in adhesion to base materials such as glass, plastic film and plastic sheet, and thus can be provided as a covering material for these base materials.

상기 구성으로 이루어지는 수지 조성물은 고투명성, 고굴절률 등 광학 특성이 우수하기 때문에 반사 방지막이나 광도파막의 고굴절률층으로서 이용할 수 있다. 그 때문에 상기 구성으로 이루어지는 수지 조성물은 우수한 반사 방지막이나 광도파로막을 제공할 수 있다.The resin composition having the above structure can be used as a high refractive index layer of an antireflection film or a waveguide film because of its excellent optical properties such as high transparency and high refractive index. Therefore, the resin composition having the above-described constitution can provide an excellent antireflection film or optical waveguide film.

반사 방지막 및 광도파로막은 유리, 플라스틱 필름, 플라스틱 시트 등의 각종 베이스재 상에 본 실시형태의 수지 조성물로 이루어지는 층(이하, 고굴절률층이라고 함)을 도포하고 에너지선 조사에 의해 경화한 후, 고굴절률층 상에 고굴절률층보다 낮은 굴절률을 갖는 층(이하, 저굴절률층이라고 함)을 형성함으로써 제작된다.The antireflection film and the optical waveguide film are formed by applying a layer made of the resin composition of the present embodiment (hereinafter referred to as a high refractive index layer) on various base materials such as glass, plastic film and plastic sheet, curing the film by energy ray irradiation, (Hereinafter referred to as a low refractive index layer) on the high refractive index layer with a refractive index lower than that of the high refractive index layer.

베이스재로서는 무알칼리 유리, 알칼리 유리, 붕규산 유리, 석영 등의 유리 베이스재나 실리카, 알루미나, 질화 규소 등의 세라믹스 베이스재, 실리콘, 알루미늄, 스테인레스, 철, 구리, 은 등의 금속 베이스재, 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 카보네이트계 수지, 올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지, 불소계 수지, 셀룰로오스계 수지 등의 수지로 이루어지는 필름 베이스재, 시트 베이스재 등을 이용할 수 있다.Examples of the base material include glass base materials such as alkali-free glass, alkali glass, borosilicate glass and quartz, ceramic base materials such as silica, alumina and silicon nitride, metal base materials such as silicon, aluminum, stainless steel, iron, copper and silver, , A film base material made of a resin such as a styrene resin, a carbonate resin, an olefin resin, a polyester resin, a polyimide resin, a polyamide resin, an epoxy resin, a silicone resin, a fluorine resin, A sheet base material or the like can be used.

저굴절률층으로서는 무기막이나 유기막을 들 수 있다. 무기막으로서는 불화 마그네슘, 불화 칼륨 등의 알칼리 금속의 불화물이나 실리카 등을 들 수 있다. 유기막으로서는 폴리퍼플루오로에틸렌, 퍼플루오로시클로올레핀 등의 불소 수지, 폴리에틸렌글리콜 등의 폴리에테르 수지, 실리콘 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지 및 이들의 불소 변성 수지 등을 들 수 있다.The low refractive index layer may be an inorganic film or an organic film. Examples of the inorganic film include fluorides of alkali metals such as magnesium fluoride and potassium fluoride, and silica. Examples of the organic film include fluorine resins such as polyperfluoroethylene and perfluorocycloolefin; polyether resins such as polyethylene glycol; silicone resins; acrylic resins; epoxy resins; urethane resins; and fluorine-modified resins thereof.

상기 구성으로 이루어지는 수지 조성물은 고투명성, 고굴절률 등 광학 특성이 우수하기 때문에 액정 패널, 유기 일렉트로루미네센스 패널, 터치 패널, 프로젝터, 스마트폰, 휴대전화, 디지털 카메라, 디지털 무비의 표시 소자나 CCD, CMOS, 바이오 칩 등의 각종 센서 부품, 플래시 메모리, DRAM, 반도체 레이저 등의 반도체 소자의 피복재, 나아가 반사 방지막이나 광도파막의 고굴절률층으로서 이용할 수 있다.Since the resin composition having the above composition is excellent in optical characteristics such as high transparency and high refractive index, it can be used as a display element of a liquid crystal panel, an organic electroluminescence panel, a touch panel, a projector, a smart phone, , CMOS, and biochip, coating materials for semiconductor devices such as flash memory, DRAM, and semiconductor lasers, and further as a high refractive index layer of antireflection film or optical waveguide film.

상기 구성으로 이루어지는 수지 조성물은 높은 굴절률과 높은 투명성을 겸비하기 때문에 광학 부품을 접착하는 데에 적합한 접착제를 제공할 수 있다.The resin composition having the above-described constitution has a high refractive index and high transparency, and therefore, it is possible to provide an adhesive suitable for bonding an optical component.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited thereto.

실시예에서는 이하의 화합물을 사용하였다.The following compounds were used in the Examples.

(A) 플루오렌계 화합물(A) a fluorene compound

(A-1) 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌(오사카 가스 케미컬사 제품 「BPFEA」)(BPFEA) manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) (A-1) 9,9-Bis [4- (2- acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene

(A-2) 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시디에톡시)페닐]플루오렌(오사카 가스 케미컬사 제품 「오크졸 EA-0200」)(A-2) 9,9-bis [4- (2-acryloyloxydiethoxy) phenyl] fluorene ("Oak Sol EA-0200" manufactured by Osaka Gas Chemical Co.,

(B) 지환식 탄화수소기를 갖는 (메타)아크릴레이트(B) a (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group

(B-1) 디시클로펜테닐옥시에틸메타크릴레이트(히타치 화성공업사 제품 「판크릴 FA-512M」, 호모폴리머 Tg: 46℃)(B-1) dicyclopentenyloxyethyl methacrylate ("Pancryl FA-512M" manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., homopolymer Tg: 46 ° C)

(B-2) 시클로헥실메타크릴레이트(쿄에이샤 화학사 제품 「라이트 에스테르 CH」, 호모폴리머 Tg: 66℃)(B-2) cyclohexyl methacrylate ("Light Ester CH" manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., homopolymer Tg: 66 ° C)

(B-3) 이소보닐아크릴레이트(쿄에이샤 화학사 제품 「라이트 아크릴레이트 IB-XA」, 호모폴리머 Tg: 94℃)(B-3) isobornyl acrylate ("Light Acrylate IB-XA" manufactured by Kyowa Chemical Co., Ltd., homopolymer Tg: 94 ° C)

(B-4) 디시클로펜테닐아크릴레이트(히타치 화성공업사 제품 「판크릴 FA-511AS」, 호모폴리머 Tg: 120℃)(B-4) dicyclopentenyl acrylate ("Pancryl FA-511AS" manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., homopolymer Tg: 120 ° C)

(B-5) 2-메틸-2-아다만틸메타크릴레이트(이데미츠코산사 제품 「아다만테이트 MM」, 호모폴리머 Tg: 170℃)(B-5) 2-methyl-2-adamantyl methacrylate ("Adamantate MM" manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd., homopolymer Tg: 170 ° C)

(B-6) 디시클로펜타닐메타크릴레이트(히타치 화성공업사 제품 「판크릴 FA-513M」, 호모폴리머 Tg: 175℃)(B-6) dicyclopentyl methacrylate ("Pancryl FA-513M" manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., homopolymer Tg: 175 ° C)

(B-7) 이소보닐메타크릴레이트(쿄에이샤 화학사 제품 「라이트 에스테르 IB-X」, 호모폴리머 Tg: 180℃)(B-7) isobornyl methacrylate ("Light Ester IB-X" manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., homopolymer Tg: 180 ° C.)

(C) 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트(C) a monofunctional (meth) acrylate having an aromatic ring

(C-1) 페녹시에틸아크릴레이트(쿄에이샤 화학사 제품 「라이트 아크릴레이트 PO-A」)(C-1) phenoxyethyl acrylate ("Light Acrylate PO-A" manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.)

(C-2) 페녹시에틸메타크릴레이트(쿄에이샤 화학사 제품 「라이트 에스테르 PO」)(C-2) Phenoxyethyl methacrylate ("LIGHT ESTER PO" manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.)

(C-3) 벤질아크릴레이트(오사카 유기화학공업사 제품 「비스코트 #160」)(C-3) benzyl acrylate ("Viscot # 160" manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)

(C-4) 벤질메타크릴레이트(쿄에이샤 화학사 제품 「라이트 에스테르 BZ」)(C-4) benzyl methacrylate (&quot; Lite Ester BZ &quot; manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.)

(D) 광라디칼 중합 개시제(D) a photo radical polymerization initiator

(D-1) 1-히드록시-시클로헥실페닐케톤(BASF사 제품 「이르가큐어 184」)(D-1) 1-Hydroxy-cyclohexyl phenyl ketone ("Irgacure 184" manufactured by BASF)

(D-2) 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드(BASF사 제품 「이르가큐어 819」)(D-2) bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide ("Irgacure 819" manufactured by BASF)

(D-3) 벤질디메틸케탈(BASF사 제품 「이르가큐어 651」)(D-3) benzyl dimethyl ketal ("Irgacure 651" manufactured by BASF)

(E) 실란 커플링제(E) Silane coupling agent

(E-1) γ-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란(신에츠 실리콘사 제품 「KBM-503」)(E-1)? -Methacryloyloxypropyltrimethoxysilane ("KBM-503" manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)

(E-2) 페닐트리메톡시실란(신에츠 실리콘사 제품 「KBM-103」)(E-2) phenyltrimethoxysilane (KBM-103 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)

(E-3) 페닐트리에톡시실란(신에츠 실리콘사 제품 「KBE-103」)(E-3) phenyltriethoxysilane (KBE-103 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)

비교예로서 상기 (B) 및 (C)에 해당하지 않는 하기 (메타)아크릴레이트를 이용하였다.As comparative examples, the following (meth) acrylates not corresponding to the above (B) and (C) were used.

(F-1) 2-에틸헥실메타크릴레이트(쿄에이샤 화학사 제품 「라이트 에스테르 EH」, 호모폴리머 Tg: -10℃)(F-1) 2-ethylhexyl methacrylate ("Light Ester EH" manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., homopolymer Tg: -10 ° C)

(F-2) 비스페놀 A 에틸렌옥사이드 변성 디아크릴레이트(토아 합성사 제품 「아로닉스 M-211B」)(F-2) bisphenol A ethylene oxide-modified diacrylate (ARONIX M-211B manufactured by Toa Synthesis Co., Ltd.)

(F-3) 비스페놀 F 에틸렌옥사이드 변성 디아크릴레이트(토아 합성사 제품 「아로닉스 M-208」)(F-3) bisphenol F ethylene oxide-modified diacrylate (Aronix M-208 manufactured by Toa Synthesis Co., Ltd.)

(F-4) 에틸렌글리콜디메타크릴레이트(신나카무라 화학공업사 제품 「NK 에스테르 1G」(F-4) Ethylene glycol dimethacrylate ("NK ester 1G" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)

(F-5) 2-(ο-페닐페녹시)에틸아크릴레이트(신나카무라 화학공업사 제품 「NK 에스테르 A-LEN-10」)(F-5) 2- (ο-phenylphenoxy) ethyl acrylate ("NK Ester A-LEN-10" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)

(실시예 1~30, 비교예 1~10)(Examples 1 to 30 and Comparative Examples 1 to 10)

표 1~표 4에 나타내는 종류의 원재료를 표 1~표 4에 나타내는 함유 비율(단위는 질량부)로 혼합하여 피복재용 수지 조성물을 조제하고 후술하는 평가를 실시하였다. 각종 평가 결과를 표 1~표 4에 나타낸다. 특기하지 않는 한, 23℃, 습도 50%의 환경 하에서 실시하였다.The raw materials of the kinds shown in Tables 1 to 4 were mixed in the content ratios (units: parts by mass) shown in Tables 1 to 4 to prepare resin compositions for coating materials and evaluation described later. The various evaluation results are shown in Tables 1 to 4. Unless otherwise specified, was conducted in an environment of 23 ° C and a humidity of 50%.

Figure pct00003
Figure pct00003

Figure pct00004
Figure pct00004

Figure pct00005
Figure pct00005

Figure pct00006
Figure pct00006

〔평가 방법〕〔Assessment Methods〕

〔점도〕〔Viscosity〕

E형 점도계를 이용하여 온도 25℃일 때의 점도를 측정하였다.The viscosity at 25 ° C was measured using an E-type viscometer.

〔고착 시간〕[Fixing time]

내열 유리(상품명 「내열 파이렉스(등록상표) 유리」, 25mm×25mm×2.0mm)를 사용하였다. 한쪽의 내열 유리에 접착제를 막두께 30μm로 도포한 후에 다른 쪽의 내열 유리를 겹쳤다. 초고압 수은 램프 탑재 장치(HOYA사 제품 「UL-750」)에서 365nm의 파장의 조사 강도 30mW/㎠의 조건으로 자외선을 조사시키면서 내열 유리에 4kg의 하중을 부하하여 내열 유리를 움직이게 하였다. 자외선을 조사하고 나서 하중을 부하해도 내열 유리가 움직이지 못하게 될 때까지의 시간을 측정하였다.Heat-resistant glass (trade name "Heat-resistant Pyrex (registered trademark) glass", 25 mm × 25 mm × 2.0 mm) was used. The adhesive was applied to one heat-resistant glass with a film thickness of 30 m, and then the other heat-resistant glass was overlapped. A load of 4 kg was applied to the heat-resistant glass while irradiating ultraviolet rays under the condition of an irradiation intensity of 30 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm in an ultra-high pressure mercury lamp mounted device ("UL-750" The time from when the ultraviolet ray was irradiated until the heat-resistant glass can not move even when the load is applied is measured.

〔굴절률 평가〕[Evaluation of refractive index]

(1) 액굴절률(1) liquid refractive index

액굴절률 평가는 다파장 아베 굴절률계(아타고사 제품 「DR-M2」)를 이용하여 온도 25℃, 파장 589nm에서의 굴절률을 측정하였다.The refractive index of the liquid was measured at a temperature of 25 DEG C and a wavelength of 589 nm by using a multi-wavelength Abbe's refractometer ("DR-M2" manufactured by ATAGO Co., Ltd.).

(2) 경화물 굴절률(2) Cured product refractive index

접착제 조성물을 용적 15mm×15mm×1.0mm의 실리콘 고무제 형틀에 흘려 넣었다. 초고압 수은 램프 탑재 장치(HOYA사 제품 「UL-750」)에서 365nm의 파장의 조사 강도 30mW/㎠, 적산 광량 3,000mJ/㎠의 조건으로 경화한 경화물 시험편을 제작하고 굴절률을 평가하였다. 굴절률 평가는 다파장 아베 굴절률계(아타고사 제품 「DR-M2」)를 이용하여 온도 25℃, 파장 589nm에서의 굴절률을 측정하였다.The adhesive composition was poured into a mold made of silicone rubber having a volume of 15 mm x 15 mm x 1.0 mm. A cured product specimen was cured under the conditions of an irradiation intensity of 30 mW / cm 2 and a cumulative light quantity of 3,000 mJ / cm 2 at a wavelength of 365 nm in an ultrahigh-pressure mercury lamp mounting apparatus ("UL-750" manufactured by HOYA Corporation) and the refractive index was evaluated. The refractive index was measured at a temperature of 25 DEG C and a wavelength of 589 nm using a multi-wavelength Abbe's refractometer ("AT-M2" manufactured by Atagosa Co., Ltd.).

〔분광 투과율 평가〕[Evaluation of spectral transmittance]

수지 조성물을 내열 유리(상품명 「내열 파이렉스(등록상표) 유리」, 25mm×25mm×2.0mm) 상에 막두께 30μm로 도포한 후에 초고압 수은 램프 탑재 장치(HOYA사 제품 「UL-750」)에서 365nm의 파장의 조사 강도 30mW/㎠, 적산 광량 3,000mJ/㎠의 조건으로 경화한 시험편을 제작하였다. 자외-가시 분광 광도계(시마즈 제작소 제품 「UV-2550」)를 이용하여 레퍼런스를 내열 유리로 하여 400nm의 투과율을 측정하였다.The resin composition was coated on a heat-resistant glass (trade name: "Heat-resistant Pyrex (registered trademark) glass", 25 mm × 25 mm × 2.0 mm) to a film thickness of 30 μm and then exposed to ultraviolet light at 365 nm And a total intensity of 3,000 mJ / cm &lt; 2 &gt;. Using a UV-visible spectrophotometer ("UV-2550" manufactured by Shimadzu Corporation), the transmittance of 400 nm was measured using heat-resistant glass as a reference.

〔밀착성 평가(크로스커트 시험)〕[Evaluation of adhesion (cross-cut test)]

125μm 두께의 폴리에스테르 필름(토요 방적사 제품 「코스모샤인 A4100」) 상에 초고압 수은 램프 탑재 장치(HOYA사 제품 「UL-750」)에서 365nm의 파장의 조사 강도 30mW/㎠, 적산 광량 3,000mJ/㎠, 질소 분위기 하의 조건으로 수지 조성물을 경화하여 형상이 20mm×20mm×80μm인 수지 조성물의 경화막을 형성한 시험편을 제작하였다.High-pressure mercury lamp mounting device (UL-750 manufactured by HOYA Corporation) was irradiated with ultraviolet light having a wavelength of 365 nm at an irradiation intensity of 30 mW / cm 2 and a cumulative light quantity of 3,000 mJ / cm 2 on a 125 μm thick polyester film (Cosmo Shine A4100, , And the resin composition was cured under a nitrogen atmosphere to prepare a test piece having a cured film of a resin composition of 20 mm x 20 mm x 80 m in shape.

이와 같이 하여 얻어진 각 시험편에 대해 온도 23℃, 상대습도 50%의 환경 하에서 경화막에 세로 2mm×가로 2mm×25 매스가 되도록 커트라인을 넣은 후, 셀로판테이프(니치반사 제품 형식 CT-405AP: 폭 24mm, 점착력 23N/10mm)를 붙여 180° 박리를 실시하였다. 180° 박리 후에 남은 매스의 수를 세어 평가하였다. 그 밖에 특별히 명시가 없는 조건은 JIS K 5600-5-6에 따랐다.Each of the thus-obtained test pieces was subjected to a cut line so as to have a length of 2 mm x 2 mm x 25 mm in a cured film under an environment of a temperature of 23 캜 and a relative humidity of 50%. A cellophane tape (Nichirei Reflective Model CT-405AP: , Adhesive force of 23 N / 10 mm) was attached to the plate to perform 180 ° peeling. The number of the remaining masses after 180 ° peeling was counted and evaluated. Other conditions not otherwise specified are in accordance with JIS K 5600-5-6.

〔인장 전단 접착 강도의 평가〕[Evaluation of tensile shear bond strength]

내열 유리(상품명 「내열 파이렉스(등록상표) 유리」, 25mm×25mm×2.0mm) 상에 수지 조성물을 직경 8mm의 원형상으로 막두께 80μm로 도포한 후에 초고압 수은 램프 탑재 장치(HOYA사 제품 「UL-750」)에서 365nm의 파장의 조사 강도 30mW/㎠, 적산 광량 3,000mJ/㎠의 조건으로 경화한 시험편을 제작하였다. 제작한 시험편은 23℃, 습도 50% RH의 환경에서 인장 시험기를 사용하여 인장 속도 10mm/분으로 인장 전단 접착 강도를 측정하였다.The resin composition was applied to a circular shape having a diameter of 8 mm on a heat-resistant glass (trade name: "Heat-resistant Pyrex (registered trademark) glass", 25 mm × 25 mm × 2.0 mm) at a thickness of 80 μm and then mounted on a super high pressure mercury lamp mounting device -750 &quot;) with a wavelength of 365 nm at an irradiation intensity of 30 mW / cm &lt; 2 &gt; and an accumulated light quantity of 3,000 mJ / cm & The tensile shear bond strength was measured at a tensile speed of 10 mm / min using a tensile tester in an environment of 23 ° C and a humidity of 50% RH.

〔내광성 평가(내광 시험)〕[Evaluation of light resistance (light fastness test)]

내열 유리(상품명 「내열 파이렉스(등록상표) 유리」, 25mm×25mm×2.0mm) 상에 수지 조성물을 막두께 30μm로 도포한 후에 초고압 수은 램프 탑재 장치(HOYA사 제품 「UL-750」)에서 365nm의 파장의 조사 강도 30mW/㎠, 적산 광량 3,000mJ/㎠의 조건으로 경화한 시험편을 제작하였다. 내광 시험기(스가 시험기사 제품 「크세논 웨더미터 X75」)를 이용하여 조도 50W/㎡의 광을 제작한 시험편의 수지 측에 100시간 연속 조사하였다. 조사 후의 시험편에 대해 자외-가시 분광 광도계(시마즈 제작소 제품 「UV-2550」)를 이용하여 400nm의 투과율을 측정하였다. 또, 레퍼런스에는 내열 유리를 이용하였다.The resin composition was coated on a heat-resistant glass (product name: "Heat-resistant Pyrex (registered trademark)", 25 mm × 25 mm × 2.0 mm) with a film thickness of 30 μm and then exposed to ultraviolet light at 365 nm And a total intensity of 3,000 mJ / cm &lt; 2 &gt;. The resin side of the test piece, which had been made into a light having an illuminance of 50 W / m &lt; 2 &gt;, was continuously irradiated for 100 hours using a light resistance tester (Xenon Weatherometer X75, product of Suga Test Instruments Co., Ltd.). The transmittance of the specimen after irradiation was measured at 400 nm using an ultraviolet-visible spectrophotometer ("UV-2550" manufactured by Shimadzu Corporation). Heat-resistant glass was used as a reference.

실험예 1~30의 수지 조성물은 높은 굴절률과 높은 투명성을 가지며 고착 시간이 짧고 밀착성 및 내광성이 우수하였다. 또한, 경화 전의 이러한 조성물은 저점도이기 때문에 작업성이 우수하였다. 나아가 실험예 1~30의 수지 조성물과 비교하여 (C)성분 대신에 2개의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트를 사용하여 얻어진 수지 조성물은 점도가 높고 투과율, 밀착성 및 접착 강도가 낮았다(비교예 10).The resin compositions of Experimental Examples 1 to 30 had high refractive index and high transparency, had a short fixation time, and were excellent in adhesion and light resistance. Further, such a composition before curing had excellent workability because it had a low viscosity. Furthermore, the resin composition obtained by using the monofunctional (meth) acrylate having two aromatic rings in place of the component (C) in comparison with the resin compositions of Experimental Examples 1 to 30 showed high viscosity and low transmittance, adhesion and adhesive strength ( Comparative Example 10).

본 발명은 높은 굴절률과 높은 투명성을 가지며 고착 시간이 짧고 밀착성 및 내광성이 우수하다. 본 발명은 저점도로서 작업성이 우수하다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention has high refractive index and high transparency, has a short fixing time, and is excellent in adhesion and light resistance. The present invention has low viscosity and excellent workability.

본 발명은 각종 센서 소자, 표시 소자, 광학 부품 등에 이용된다. 본 발명은 센서 소자, 표시 소자 등의 표면 보호나 반사 방지막, 광도파로막 및 광학 부품의 접착제 등에 이용된다. 본 발명은 반사 방지막이나 광도파로막의 고굴절률층에 이용된다. 본 발명은 광렌즈, 프리즘, 광도파로 등의 광학 소자의 접착에 이용하는 광학 부품용 접착제 조성물에 이용된다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is applicable to various sensor elements, display elements, optical components and the like. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is used for a surface protection of a sensor element, a display element and the like, an antireflection film, an optical waveguide film and an adhesive of an optical component. The present invention is applied to a high refractive index layer of an antireflection film or an optical waveguide film. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is applied to an adhesive composition for optical parts used for bonding optical elements such as optical lenses, prisms, and optical waveguides.

본 발명의 수지 조성물은 고투명성, 고굴절률 등 광학 특성이 우수하기 때문에 액정 패널, 유기 일렉트로루미네센스 패널, 터치 패널, 프로젝터, 스마트폰, 휴대전화, 디지털 카메라, 디지털 무비 등의 표시 소자나 CCD, CMOS, 바이오 칩 등의 각종 센서 부품의 센서 소자, 플래시 메모리, DRAM, 반도체 레이저 등의 반도체 소자에 이용되는 피복재, 나아가서는 반사 방지막이나 광도파막의 고굴절률층으로서 적합하게 이용할 수 있다. 본 발명의 수지 조성물은 밀착성, 내광성이 우수하기 때문에 광학 부품용 접착제로서도 적합하게 이용할 수 있다. 본 발명은 산업상 매우 유용하다.Since the resin composition of the present invention has excellent optical properties such as high transparency and high refractive index, it can be used as a display element such as a liquid crystal panel, an organic electroluminescence panel, a touch panel, a projector, a smart phone, a mobile phone, a digital camera, A cover material used for a semiconductor device such as a flash memory, a DRAM, and a semiconductor laser, and further, as a high refractive index layer of an antireflection film or a waveguide film. Since the resin composition of the present invention is excellent in adhesion and light resistance, it can be suitably used as an adhesive for optical parts. The present invention is very useful in industry.

Claims (13)

(A)성분으로서 하기 일반식(1)으로 나타나는 플루오렌계 화합물,
[화학식 1]
Figure pct00007

(일반식(1) 중, R1, R2, R3, R4는 수소 원자 또는 메틸기, a 및 b는 각각 1~4의 정수를 나타낸다. 또, 각각의 치환기는 벤젠환에서의 치환 가능한 탄소 원자 중 어느 것과 결합해도 된다.)
(B)성분으로서 지환식 탄화수소기를 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트,
(C)성분으로서 하나의 방향환을 갖는 단관능 (메타)아크릴레이트,
(D)성분으로서 광라디칼 중합 개시제
를 함유하고, (A)~(C)성분의 합계 100질량부 중 상기 (A)성분의 함유 비율이 10~70질량부이고, 상기 (B)성분의 함유 비율이 5~65질량부이며, 상기 (C)성분의 함유 비율이 5~65질량부인 광경화성 수지 조성물.
As the component (A), a fluorene-based compound represented by the following general formula (1)
[Chemical Formula 1]
Figure pct00007

(In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a methyl group, and a and b each represent an integer of 1 to 4. Each substituent may be a substitutable Carbon atom.)
(Meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group as the component (B)
(Meth) acrylate having one aromatic ring as the component (C)
(D) as a photo radical polymerization initiator
, The content of the component (A) is 10 to 70 parts by mass, the content of the component (B) is 5 to 65 parts by mass, the content of the component (A) is 100 parts by mass, Wherein the content of the component (C) is 5 to 65 parts by mass.
청구항 1에 있어서,
(B)성분은 호모폴리머의 유리 전이 온도가 40℃ 이상 180℃ 이하인 광경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
(B) is a homopolymer having a glass transition temperature of not less than 40 ° C and not more than 180 ° C.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
(E)성분으로서 실란 커플링제를 더 함유하는 광경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
And a silane coupling agent as a component (E).
청구항 3에 있어서,
(E)성분은 페닐기 또는 (메타)아크릴로일기에서 선택되는 하나 이상의 관능기를 갖는 실란 커플링제인 광경화성 수지 조성물.
The method of claim 3,
(E) is a silane coupling agent having at least one functional group selected from a phenyl group or a (meth) acryloyl group.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
온도 25℃, 파장 589nm에서의 액굴절률이 1.50 이상이고, 경화물 굴절률이 1.53 이상인 광경화성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 4,
A liquid refractive index at a temperature of 25 DEG C and a wavelength of 589 nm of 1.50 or more, and a cured product refractive index of 1.53 or more.
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 광경화성 수지 조성물로 이루어지는 피복재.A covering material comprising the photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 5. 청구항 6에 기재된 피복재를 갖는 베이스재.A base material having the coating material according to claim 6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 광경화성 수지 조성물로 이루어지는 층을 기판 상에 형성한 후에 상기 광경화성 수지 조성물보다 낮은 굴절률을 갖는 층을 형성하여 이루어지는 막.A film formed by forming a layer made of the photo-curable resin composition according to any one of claims 1 to 5 on a substrate and then forming a layer having a refractive index lower than that of the photo-curable resin composition. 청구항 8에 기재된 막을 갖는 베이스재.A base material having the film according to claim 8. 청구항 9에 기재된 베이스재를 갖는 소자.An element having the base material according to claim 9. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 광경화성 수지 조성물로 이루어지는 접착제.An adhesive comprising the photo-curable resin composition according to any one of claims 1 to 5. 청구항 11에 기재된 접착제로 접착된 접합체.A bonded body adhered with the adhesive according to claim 11. 청구항 12에 기재된 접합체를 갖는 광학 부품.An optical component having the bonded body according to claim 12.
KR1020167033667A 2014-05-30 2014-05-30 Photocurable resin composition KR102206665B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2014/064534 WO2015181984A1 (en) 2014-05-30 2014-05-30 Photocurable resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170015904A true KR20170015904A (en) 2017-02-10
KR102206665B1 KR102206665B1 (en) 2021-01-22

Family

ID=54698356

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167033667A KR102206665B1 (en) 2014-05-30 2014-05-30 Photocurable resin composition

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPWO2015181984A1 (en)
KR (1) KR102206665B1 (en)
CN (1) CN106414525B (en)
WO (1) WO2015181984A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018199467A1 (en) * 2017-04-25 2018-11-01 주식회사 엘지화학 Photopolymer composition
US10633486B2 (en) 2017-03-03 2020-04-28 Lg Chem, Ltd. Polymer resin compound and photosensitive resin composition for black bank comprising same

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017170668A1 (en) * 2016-03-31 2017-10-05 日産化学工業株式会社 Resin composition for forming high refractive index cured film
CN112759701B (en) * 2019-10-21 2022-12-30 杭州光粒科技有限公司 Photopolymer composition, reflective diffraction grating and preparation method thereof
JPWO2021085241A1 (en) * 2019-10-29 2021-05-06
CN112745463B (en) * 2019-10-31 2023-11-03 威斯坦(厦门)实业有限公司 Photo-curing resin and preparation method thereof
MX2022010970A (en) * 2020-03-03 2022-10-07 Denka Company Ltd Composition.
CN113527930B (en) * 2020-04-20 2023-04-07 杭州光粒科技有限公司 Photopolymer composition, grating and preparation method thereof
CN114214022B (en) * 2021-12-17 2023-11-07 Oppo广东移动通信有限公司 Photocurable adhesive, shell and electronic equipment

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH115952A (en) 1997-06-19 1999-01-12 Aader:Kk Optical adhesive composition
JP2002097224A (en) 2000-09-26 2002-04-02 Mitsubishi Chemicals Corp Photosetting composition and its cured product
JP2004294720A (en) 2003-03-26 2004-10-21 Matsushita Electric Works Ltd Polymer optical waveguide and its manufacture method
JP2006526037A (en) 2003-04-17 2006-11-16 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック Photocurable adhesive composition and its use in optical field
JP2008094987A (en) 2006-10-13 2008-04-24 Nippon Kayaku Co Ltd Resin composition with high refractive index for optical material and its cured article
JP2010248358A (en) 2009-04-15 2010-11-04 Kyoeisha Chem Co Ltd Resin composition for optical material
JP2011039165A (en) 2009-08-07 2011-02-24 Hitachi Chem Co Ltd Alkali-soluble photocurable composition, cured coating film using the composition and transparent member
JP2011157543A (en) 2010-01-07 2011-08-18 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Actinic radiation curable composition and use thereof
JP2012111931A (en) 2010-11-01 2012-06-14 Osaka Gas Chem Kk Hard coating resin composition and cured product of the same
JP2012523485A (en) * 2009-04-10 2012-10-04 ピクセルオプティクス, インコーポレイテッド Curable adhesive composition

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006152115A (en) * 2004-11-29 2006-06-15 Omron Corp Curable resin composition, light-resistant optical component and optical equipment
EP2221326A4 (en) * 2007-12-14 2011-04-13 Asahi Kasei E Materials Corp Photosensitive resin composition
JP2012140551A (en) * 2011-01-05 2012-07-26 Seiko Epson Corp Ultraviolet-curing inkjet ink composition
WO2013022065A1 (en) * 2011-08-11 2013-02-14 大阪ガスケミカル株式会社 Multifunctional (meth)acrylate having fluorene skeleton and curable composition containing same
JP2013181075A (en) * 2012-02-29 2013-09-12 Idemitsu Kosan Co Ltd (meth)acrylate-based composition, resin, and molded article
JP2013181077A (en) * 2012-02-29 2013-09-12 Idemitsu Kosan Co Ltd (meth)acrylate-based composition, resin, and molded article
JP5898551B2 (en) * 2012-03-29 2016-04-06 富士フイルム株式会社 Semi-cured product, cured product and production method thereof, optical component, cured resin composition
JP2013227392A (en) * 2012-04-25 2013-11-07 Nippon Kayaku Co Ltd Energy ray-curable resin composition for optical lens sheet and cured product of the same
JP6063228B2 (en) * 2012-11-30 2017-01-18 デンカ株式会社 Photocurable resin composition

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH115952A (en) 1997-06-19 1999-01-12 Aader:Kk Optical adhesive composition
JP2002097224A (en) 2000-09-26 2002-04-02 Mitsubishi Chemicals Corp Photosetting composition and its cured product
JP2004294720A (en) 2003-03-26 2004-10-21 Matsushita Electric Works Ltd Polymer optical waveguide and its manufacture method
JP2006526037A (en) 2003-04-17 2006-11-16 エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック Photocurable adhesive composition and its use in optical field
JP2008094987A (en) 2006-10-13 2008-04-24 Nippon Kayaku Co Ltd Resin composition with high refractive index for optical material and its cured article
JP2012523485A (en) * 2009-04-10 2012-10-04 ピクセルオプティクス, インコーポレイテッド Curable adhesive composition
JP2010248358A (en) 2009-04-15 2010-11-04 Kyoeisha Chem Co Ltd Resin composition for optical material
JP2011039165A (en) 2009-08-07 2011-02-24 Hitachi Chem Co Ltd Alkali-soluble photocurable composition, cured coating film using the composition and transparent member
JP2011157543A (en) 2010-01-07 2011-08-18 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Actinic radiation curable composition and use thereof
JP2012111931A (en) 2010-11-01 2012-06-14 Osaka Gas Chem Kk Hard coating resin composition and cured product of the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10633486B2 (en) 2017-03-03 2020-04-28 Lg Chem, Ltd. Polymer resin compound and photosensitive resin composition for black bank comprising same
WO2018199467A1 (en) * 2017-04-25 2018-11-01 주식회사 엘지화학 Photopolymer composition
US11126081B2 (en) 2017-04-25 2021-09-21 Lg Chem, Ltd. Photopolymer composition

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015181984A1 (en) 2015-12-03
CN106414525A (en) 2017-02-15
JPWO2015181984A1 (en) 2017-04-20
CN106414525B (en) 2021-09-21
KR102206665B1 (en) 2021-01-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102206665B1 (en) Photocurable resin composition
JP6063228B2 (en) Photocurable resin composition
CN104520337B (en) Optics of liquids adhesive composition
TWI488910B (en) Photocurable resin composition, method of fabricating optical film using the same, and optical film including the same
JP5878830B2 (en) Adhesive composition for optical parts
JP5779039B2 (en) Hard coat resin composition and cured product thereof
KR102135467B1 (en) Resin composition for coating materials
JP5793855B2 (en) Photo-curable adhesive and display element
KR102006993B1 (en) Energy-beam-curable resin composition
KR20140130040A (en) Resin laminate
KR102637049B1 (en) Flexible nanoparticle optical coating composition
JP7002237B2 (en) Photocurable high refractive index resin composition
JP2003238904A (en) Photocuring adhesive composition for optical use
JP5754233B2 (en) Curable composition and optical adhesive
TW201518384A (en) Coating material resin composition
KR101246684B1 (en) Resin composition for optical film, optical film using the same and method for preparing thereof
JP5573405B2 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive resin varnish, photosensitive resin film, photosensitive resin cured product, and visible light guide
JPH115952A (en) Optical adhesive composition
JP7196596B2 (en) Active energy ray-curable adhesive composition, adhesive composition for polarizing plate, adhesive for polarizing plate, and polarizing plate using the same
JP2005320435A (en) Ultraviolet-curable resin composition
JP2016141731A (en) Resin composition and optical member
JP2021055051A (en) Ultraviolet curable resin composition, light-emitting device, and method for manufacturing light-emitting device
JP2011105804A (en) (meth)acrylic curable composition, (meth)acrylic composite sheet, (meth)acrylic cured product, and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant