WO2015093397A1 - 透明電極静電容量センサ及びその製造方法 - Google Patents

透明電極静電容量センサ及びその製造方法 Download PDF

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WO2015093397A1
WO2015093397A1 PCT/JP2014/082942 JP2014082942W WO2015093397A1 WO 2015093397 A1 WO2015093397 A1 WO 2015093397A1 JP 2014082942 W JP2014082942 W JP 2014082942W WO 2015093397 A1 WO2015093397 A1 WO 2015093397A1
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transparent
electrode
auxiliary electrode
pseudo auxiliary
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PCT/JP2014/082942
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野崎 智浩
小松 博登
川村 崇
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信越ポリマー株式会社
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    • GPHYSICS
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    • G06F2203/04112Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Definitions

  • the present invention relates to a transparent electrode capacitance sensor and a manufacturing method thereof.
  • One type of touch sensor detection method is a capacitance method in which a sensor reacts to electricity flowing in a finger that touches the screen and converts the movement of the finger into a calculation command.
  • a capacitive sensor using this capacitive method an auxiliary electrode having an electrical resistance lower than that of the transparent electrode is disclosed on at least a part of the outer periphery of the transparent electrode in order to suppress variation in detection sensitivity. (For example, refer to Patent Document 1).
  • An ink containing metal particles, an ink containing carbon or graphite, a metal foil, or the like is used.
  • the present invention has been made in view of the above problems, has excellent design properties, ensures a wide view area, and further reduces the step between the transparent electrode and the auxiliary electrode, thereby preventing bubble generation and parasitic capacitance.
  • An object of the present invention is to provide a transparent electrode capacitive sensor with reduced reliability, excellent reliability and reduced material cost, and a method for manufacturing the same.
  • a first aspect of the present invention is a transparent electrode capacitance sensor, comprising: a transparent resin base material; at least one transparent electrode provided on the transparent resin base material; and an outer periphery of the transparent electrode.
  • a pseudo auxiliary electrode provided at least in part and a lead wiring connected to the pseudo auxiliary electrode, the pseudo auxiliary electrode being thicker than the transparent electrode and including the same material as the transparent electrode, To do.
  • the lead-out wiring may be provided on the transparent resin base material and may include a metal vapor deposited thin film.
  • the lead-out wiring may be connected to the pseudo auxiliary electrode through a transparent electrode.
  • the pseudo auxiliary electrode may be formed thicker than the thickness of the transparent electrode within a range not exceeding the thickness of the transparent electrode plus 6 ⁇ m. Good.
  • the pseudo auxiliary electrode may be formed thicker than the thickness of the transparent electrode within a range not exceeding 4 ⁇ m plus the thickness of the transparent electrode.
  • the pseudo auxiliary electrode may be provided in a range of 1/7 or more of the outer periphery of the transparent electrode.
  • the lead wiring may be formed to a thickness of 0.1 ⁇ m or more and 3 ⁇ m or less.
  • the lead wiring may be provided with a carbon layer in a portion connected to the pseudo auxiliary electrode, and the lead wiring and the pseudo auxiliary electrode may be connected via the carbon layer.
  • the pseudo auxiliary electrode and the lead wiring may be separated by a distance of 1 to 10 times the thickness of the lead wiring in plan view.
  • a carbon layer may be further provided on the lead wiring, and a portion of the lead wiring provided with the carbon layer may be connected to the pseudo auxiliary electrode via a transparent electrode.
  • a second aspect of the present invention is a method for manufacturing a transparent electrode capacitance sensor, wherein a transparent conductive material having a viscosity that causes a coffee ring phenomenon on a transparent resin base material is provided.
  • a step 1B2 for increasing the thickness of at least part of the pseudo auxiliary electrode is provided, and the step 1B2 includes a layer containing the same transparent conductive material on the pseudo auxiliary electrode. It may be a step of forming at least a part by a printing method.
  • a third aspect of the present invention is a method for manufacturing a transparent electrode capacitance sensor, which includes a process 3A for forming a lead-out wiring including a metal-deposited thin film on a transparent resin substrate, and a transparent resin substrate.
  • a step 3A1 for forming a carbon layer so as to cover a part of the lead wiring, and a layer containing the same transparent conductive material after the step 3C are formed on the pseudo auxiliary electrode.
  • a step 3C2 of increasing the thickness of at least a part of the step, and the step 3C2 may be a step of forming a layer containing the same transparent conductive material on at least a part of the pseudo auxiliary electrode by a printing method.
  • the design is excellent, a wide view area is ensured, and furthermore, by reducing the step between the transparent electrode and the auxiliary electrode, the generation of bubbles is prevented, and the parasitic capacitance is reduced. It is possible to provide a transparent electrode capacitance sensor and a method for manufacturing the same, which are excellent in performance and reduced in material cost.
  • FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.
  • A It is a top view of the transparent electrode capacitive sensor which concerns on 1st Embodiment of this invention.
  • FIG.5 It is a flowchart of the manufacturing process of the transparent electrode capacitive sensor which concerns on 1st Embodiment of this invention. It is a flowchart of the manufacturing process of the transparent electrode capacitive sensor which concerns on 2nd Embodiment of this invention. It is a flowchart of the modification of the manufacturing process of the transparent electrode capacitive sensor which concerns on 2nd Embodiment of this invention.
  • A It is a top view of the transparent electrode capacitive sensor which concerns on 3rd Embodiment of this invention.
  • (B) It is AA arrow sectional drawing of Fig.1 (a).
  • FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.
  • A It is a top view of the transparent electrode capacitive sensor which concerns on 3rd Embodiment of this invention.
  • B It is CC sectional view taken on the line of Fig.5 (a). It is a flowchart of the manufacturing process of the transparent electrode capacitive sensor which concerns on 3rd Embodiment of this invention.
  • FIG. 1 is a top view of a transparent electrode capacitive sensor according to a fifth embodiment of the present invention
  • (b) is a cross-sectional view taken along the line AA of (a)
  • (c) is the same. It is an enlarged view of the circled part of a figure (b). It is a figure explaining the manufacturing method which concerns on 5th Embodiment of this invention.
  • FIG. 1 (a) is a top view of the transparent electrode capacitance sensor according to the first embodiment of the present invention
  • FIG. 1 (b) is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 1 (a).
  • FIG.1 (c) is an enlarged view of the encircled part of FIG.1 (b).
  • the transparent electrode capacitance sensor 1 includes a transparent resin base material 11, a transparent electrode 12a provided on one side of the transparent resin base material 11, a pseudo auxiliary electrode 12b provided on the outer periphery of the transparent electrode 12a, and a pseudo auxiliary.
  • a lead wire 13 having one end connected to the electrode 12b and an adhesive layer 14 provided on the upper surface of FIG.
  • the pseudo auxiliary electrode 12b is provided larger by the amount of the step t p from the transparent electrode 12a.
  • the pseudo auxiliary electrode 12b and the transparent electrode 12a include the same material.
  • the transparent resin base material 11 is a film-like, sheet-like, or plate-like member made of a light-transmitting insulating material.
  • a material containing a hard material such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), acrylic resin, or an elastic material such as thermoplastic polyurethane, thermosetting polyurethane, or silicone rubber is suitable.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PC polycarbonate
  • acrylic resin acrylic resin
  • an elastic material such as thermoplastic polyurethane, thermosetting polyurethane, or silicone rubber is suitable.
  • polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polybutylene terephthalate (PBT), polyvinylidene fluoride Resin materials such as polyarylate, cycloolefin polymer (COP), and cycloolefin copolymer (COC) can be preferably used.
  • resin materials such as polyarylate, cycloolefin polymer (COP), and cycloolefin copolymer (COC) can be preferably used.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PC polycarbonate
  • the thickness of the transparent resin substrate 11 is preferably 10 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less. If the thickness of the transparent resin substrate 11 is 10 ⁇ m or more, the transparent resin substrate 11 is not easily broken, and if the thickness of the transparent resin substrate 11 is 200 ⁇ m or less, the transparent electrode capacitance sensor 1 can be thinned. .
  • the transparent electrode 12a is made of dispersed conductive polymer having transparency such as ITO (indium tin oxide), FTO (fluorine doped tin oxide), polythiophene, polyaniline, and metal (Ag, Cu, Ni, Au, etc.) nanowires. It is formed in a rectangular shape on the transparent resin substrate 11 by printing, coating, or the like using a light-transmitting conductive material such as polymer. Note that the shape of the transparent electrode itself is not necessarily limited to a rectangular shape, and may be a shape such as a circle or an ellipse. It is formed in an oval shape.
  • the material of the transparent electrode 12a includes polypyrrole, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylthiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene) ) (PEDOT) or the like can be preferably used.
  • a water-dispersed polythiophene derivative (PEDOT / PSS) using polystyrene sulfonic acid (PSS) as a water-soluble polymer is preferable because it is water-soluble and can form a conductive polymer coating film by a simple coating process.
  • the thickness of the conductive coating film constituting the transparent electrode 12a is preferably 0.05 ⁇ m or more and 5 ⁇ m or less, and more preferably 0.1 ⁇ m or more and 1 ⁇ m or less. If the thickness of the conductive coating film is 0.05 ⁇ m or more, the conductivity can be suitably secured, and if it is 0.1 ⁇ m or more, a sufficient surface resistance of 600 ⁇ / ⁇ or less can be stably obtained as detection sensitivity. . Moreover, if the thickness of a conductive coating film is 5 micrometers or less, a coating film can be formed easily.
  • the lead-out wiring 13 is made of a material having an electric resistance lower than that of the transparent electrode 12a, and an Ag paste is preferably used.
  • an Ag paste is preferably used.
  • a material having the same or similar material resistance as that used for the lead-out wiring to suppress variation in detection sensitivity is used as the auxiliary electrode material, and the auxiliary electrode is transparent to the lead-out wiring. It is interposed between the electrodes.
  • a material having the same or similar material resistance as that used for the lead wire in order to suppress variation in detection sensitivity is used as the auxiliary electrode material, and this auxiliary electrode is interposed between the lead wire and the transparent electrode.
  • a silver auxiliary electrode is used in consideration of the entire state such as a resistance value and design properties, and a silver paste is used to form the silver auxiliary electrode.
  • This silver paste is a material having a high solid content ratio between silver particles and a resin binder for high-definition printing and a low volatile content such as a solvent. For this reason, there is little change in the thickness after printing.
  • a screen printing method using a screen printing plate using a general SUS mesh usually has a thickness of 40 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • 1 / The limit is about 4 to 1/5.
  • This coating thickness determines the coating thickness of the silver paste at the time of printing. Since the silver paste has a small amount of volatile components as described above in a process such as drying, the thickness cannot be reduced very much. Furthermore, in order to make the auxiliary electrode thinner, it is not impossible to reduce the thickness by a thin super high mesh or the like, but in this case, handling becomes very delicate and handling becomes worse. For these reasons, considering mass productivity, it is difficult for the background art to sufficiently reduce the step between the transparent electrode and the auxiliary electrode.
  • variation in detection sensitivity is caused by interposing a pseudo auxiliary electrode 12b made of the same material as the transparent electrode 12a between the lead-out wiring 13 and the transparent electrode 12a and having a larger thickness than the transparent electrode 12a. Suppressed. That is, in the present invention, since the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b are formed of the same material, the electrical resistance in composition of the material is the same. However, as shown in FIG. 1 (c), the electrical resistance is the electrical resistance of the transparent electrodes 12a part as pseudo auxiliary electrode 12b portion since the pseudo auxiliary electrode 12b is as thick as the step t p min than the transparent electrode 12a Lower than.
  • the step t p is 6 ⁇ m or less is preferable, 4 ⁇ m or less is more preferable, and 3 ⁇ m or less is most preferable.
  • the transparent electrode material is generally a material that can be printed and applied thinly, the portion of the pseudo auxiliary electrode 12b is thicker than the transparent electrode 12a. Compared to an auxiliary electrode formed of silver paste or the like, the auxiliary electrode can be made sufficiently thin. Therefore, the step between the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b can be sufficiently reduced.
  • the adhesive layer 14 is a layer for protection or the like formed so as to cover the transparent electrode 12a, the pseudo auxiliary electrode 12b, and the lead-out wiring 13.
  • the pressure-sensitive adhesive layer 14 is a layer having a pressure-sensitive adhesive on one side of a light-transmitting resin film and attached to the transparent electrode 12a, the pseudo auxiliary electrode 12b, and the lead-out wiring 13 by the pressure-sensitive adhesive.
  • the adhesive layer 14 can also be formed using, for example, a photosensitive dry film, a UV curable resist material, a heat curable resist material, or the like.
  • the resin film constituting the adhesive layer 14 examples include polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), acrylic resin, polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, and polybutylene terephthalate. (PBT), polyvinylidene fluoride, polyarylate, or the like is used as a material.
  • the adhesive layer 14 may be provided with a film made of glass, transparent metal oxide, or the like instead of the resin film or in addition to the resin film.
  • an acrylic resin can be mentioned as a specific example of an adhesive.
  • the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b are configured using the same PEDOT / PSS.
  • the portion is less conspicuous and is therefore good in terms of design.
  • the techniques described later in detail in the first embodiment of the present invention, as described above, since the level difference t p in FIG. 1 (c) may be a 6 ⁇ m or less, when the coating of the adhesive layer 44 The bubble generation problem is eliminated and the parasitic capacitance is reduced.
  • material costs can be reduced compared to using expensive materials such as silver.
  • the pseudo auxiliary electrode 12b is formed over the entire circumference of the transparent electrode 12a.
  • the transparent electrode capacitance sensor 1 of the present invention is applied to a touch panel or the like, the transparent electrode 12a is formed. It has been confirmed that it is sufficient that the pseudo auxiliary electrode 12b having a thickness greater than 1/7 of the circumference of the transparent electrode 12a is not less than 1/7. By reducing the area of the pseudo auxiliary electrode portion, a wide view area is secured.
  • FIG. 5 is a flowchart showing manufacturing steps of the transparent electrode capacitive sensor according to the first embodiment of the present invention.
  • Step 11 (S11)> (also referred to as Step 1A)
  • a transparent electrode 12a made of a transparent conductive material such as PEDOT / PSS is formed on one surface of a transparent polymer substrate 11 such as polyethylene terephthalate (PET) by inkjet printing or screen printing. Form.
  • Step 12 (S12)> (also referred to as Step 1B)
  • the substrate 11 having the transparent electrode 12a on one side formed in step 11 (S11) is subjected to a low temperature drying treatment to cause a coffee ring (framing) phenomenon in the transparent electrode 12a including PEDOT / PSS, etc.
  • FIG. to produce a level difference t p of (c) thickness than the transparent electrode 12a is formed on the outer periphery of a thick pseudo auxiliary electrode 12b.
  • the coffee ring (framing) phenomenon will be described with reference to FIG.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining a coffee ring (framing) phenomenon according to the first embodiment of the present invention.
  • a transparent electrode 12a is formed on one side of a substrate 11 containing polyethylene terephthalate (PET) or the like by applying ink-jet printing or screen printing with a paint such as PEDOT / PSS, and then dried at about 60 ° C. as a drying condition. If it does, paints, such as PEDOT / PSS, will move to an outer peripheral part. As a result, the thickness of the outer peripheral portion can be increased.
  • This phenomenon is a phenomenon called coffee ring (framing) which is observed in the process of drying a liquid material. Thereafter, drying and baking are performed at about 120 ° C., and the formation of a portion having the thick pseudo auxiliary electrode 12b containing the same material as the transparent electrode 12a on the outer periphery of the transparent electrode 12a is completed.
  • the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b are formed by using the PEDOT / PSS for the transparent electrode 12a and causing a coffee ring phenomenon by a low-temperature drying process.
  • the thickness is large, the pseudo auxiliary electrode 12b having a sufficiently small difference in thickness can be formed.
  • the step t p in Fig. 1 (c), 6 [mu] m or less, more can be formed to 3 ⁇ m or less.
  • step 1B a coffee ring (framing) phenomenon is caused in the transparent electrode 12a including PEDOT / PSS and the like, and the pseudo auxiliary electrode 12b is formed on the outer periphery. Then, the PEDOT / PSS is further formed on the pseudo auxiliary electrode 12b.
  • step t p also referred to as a step 1B2
  • the material used for the transparent electrode is relatively thin as compared to the material used for the conventional auxiliary electrode, so that the step with the transparent electrode 12a is kept small, And it can be set as the pseudo auxiliary electrode 12b thicker than the transparent electrode 12a. Even in this case, it is possible to keep the step sufficiently smaller than 3 ⁇ m.
  • Step 13 (S13)> (also referred to as Step 1C)
  • the lead wiring 13 containing Ag paste or the like is formed by screen printing so that one end overlaps the pseudo auxiliary electrode 12b.
  • a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) is coated so as to cover the transparent resin base material 11, the transparent electrode 12a, the pseudo auxiliary electrode 12b, and the lead-out wiring 13.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a transparent electrode 12a containing PEDOT / PSS or the like is formed on one side of the base material 11 containing PET or the like in step 1 (S11), and subjected to a low temperature drying process in step 2 (S12) to provide a pseudo auxiliary electrode.
  • the lead wiring 13 is formed in step 3 (S13).
  • the step of forming the lead wiring 13 on one side of the substrate 11 containing PET or the like may be performed first.
  • a transparent electrode capacitance sensor according to a second embodiment of the present invention will be described. Since the geometric configuration and constituent materials of the transparent electrode capacitive sensor according to the second embodiment of the present invention are the same as the geometric configuration and constituent materials of the transparent electrode capacitive sensor according to the first embodiment. Description is omitted.
  • the transparent electrode capacitive sensor according to the second embodiment also has the geometric configuration shown in FIGS. 1 (a), (b), and (c).
  • FIG. 6 is a flowchart showing a manufacturing process of the transparent electrode capacitive sensor according to the second embodiment of the present invention.
  • Step 21 (S21)> In the method for producing a transparent electrode capacitive sensor according to the second embodiment of the present invention, first, PEDOT / screen printing is performed on one side of a transparent polymer substrate 11 containing polyethylene terephthalate (PET) or the like by inkjet printing or screen printing. A transparent electrode 12a made of a transparent conductive material such as PSS is formed.
  • Step 22 (S22)> A transparent conductive material such as PEDOT / PSS, which is the same as the transparent electrode 12a, is applied (overcoated) one or more times to at least a part of the outer periphery of the transparent electrode 12a by ink jet printing or screen printing, and the step t p in FIG.
  • the pseudo auxiliary electrode 12b that is thicker than the transparent electrode 12a is formed.
  • Step 23 (S23)> As shown in FIG. 1A, the lead wiring 13 containing Ag paste or the like is formed by screen printing so that one end overlaps the pseudo auxiliary electrode 12b.
  • a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) is coated so as to cover the base material 11, the transparent electrode 12a, the pseudo auxiliary electrode 12b, and the lead wiring 13.
  • PET polyethylene terephthalate
  • FIG. 7 is a flowchart showing a modification of the manufacturing process of the transparent electrode capacitive sensor according to the second embodiment of the present invention.
  • Step 211 (S211)>
  • the pseudo auxiliary electrode 12b on one side of the transparent polymer substrate 11 containing polyethylene terephthalate (PET) or the like is formed.
  • PEDOT / PSS or the like is applied to at least a part of the portion one or more times by inkjet printing or screen printing.
  • Step 221 (S221)> PEDOT / PSS or the like is applied to both the pseudo auxiliary electrode 12b and the transparent electrode 12a at least once by inkjet printing or screen printing. Portion of the pseudo auxiliary electrode 12b becomes a superimposition manner such PEDOT / PSS, step t p in FIG. 1 (c) is formed.
  • Step 231 (S231)> As shown in FIG. 1A, the lead wiring 13 containing Ag paste or the like is formed by screen printing so that one end overlaps the pseudo auxiliary electrode 12b.
  • a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) is coated so as to cover the base material 11, the transparent electrode 12a, the pseudo auxiliary electrode 12b, and the lead wiring 13.
  • PET polyethylene terephthalate
  • step t p in FIG. 1 (c) may be a 6 ⁇ m or less, Further, it can be set to 3 ⁇ m or less.
  • FIG. 8A is a top view of a transparent electrode capacitance sensor according to the third embodiment of the present invention
  • FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 8A.
  • the transparent electrode capacitance sensor 1 includes a transparent resin base material 11, a transparent electrode 12a provided on one side of the transparent resin base material 11, a pseudo auxiliary electrode 12b provided on the outer periphery of the transparent electrode 12a, and a pseudo auxiliary.
  • One end (part) of the electrode 12b is connected, the lead-out wiring 13 disposed between the pseudo auxiliary electrode 12b and the transparent resin base material 11, and the adhesive layer 14 provided on the upper surface of FIG. Prepare.
  • the properties, materials, preferred thicknesses, and the like of the transparent resin substrate 11 and the transparent electrode 12a are the same as in the first embodiment.
  • the lead-out wiring 13 is composed of a metal vapor-deposited thin film containing Cu, Al, Ni, Ag, Au, or the like having an electric resistance lower than that of the transparent electrode 12a or an alloy thereof. Further, a laminated structure in which the above metals are laminated, for example, the base may be Cu, a Ni intermediate layer may be provided thereon, and Au may be provided thereon as a coat layer.
  • the thickness of the lead wiring 13 is 0.1 to 3 ⁇ m, preferably 0.1 to 1 ⁇ m, and more preferably 0.1 to 0.5 ⁇ m. If the thickness is 0.1 ⁇ m or more, stable conductivity can be ensured without attenuating the resistance value of the transparent electrode 12a. If the thickness is 3 ⁇ m or less, the step with the transparent electrode 12a is sufficiently small, and further 1 ⁇ m or less. Is less than 0.5 ⁇ m, the step is smaller.
  • a variation in detection sensitivity is suppressed by interposing a pseudo auxiliary electrode 12b made of the same material as the transparent electrode 12a and thicker than the transparent electrode 12a between the lead-out wiring 13 and the transparent electrode 12a.
  • the properties and materials of the adhesive layer 14 are the same as those in the first embodiment.
  • the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b are configured using the same PEDOT / PSS.
  • the portion is less conspicuous and is therefore good in terms of design.
  • the pseudo auxiliary electrode 12b can be formed thin.
  • the lead-out wiring 13 and the pseudo auxiliary electrode 12b overlap at the connection portion. Therefore, the lead-out wiring 13 is not formed using Ag paste as in the prior art, but is formed from a metal vapor-deposited thin film such as Cu, and the thickness of the lead-out wiring 13 is 0.1 ⁇ m to 3 ⁇ m. Yes. For this reason, due to the influence of the thickness of the lead-out wiring 13, it is possible to suppress the occurrence of a large step in the connection portion where the lead-out wiring 13 and the pseudo auxiliary electrode 12b overlap as compared with the pseudo auxiliary electrode 12b other than the connection portion. It is possible. As a result, the level difference t p (see FIG.
  • the pseudo auxiliary electrode 12b including the connection portion can be reduced to 6 ⁇ m or less, so that bubbles generated when the adhesive layer 14 is covered due to the level difference.
  • the problem is solved and the parasitic capacitance is reduced.
  • material costs can be reduced compared to using expensive materials such as silver.
  • the pseudo auxiliary electrode 12b is formed over the entire circumference of the transparent electrode 12a.
  • the transparent electrode capacitance sensor 1 of the present invention is applied to a touch panel or the like, the transparent electrode 12a is formed. It has been confirmed that it is sufficient that the pseudo auxiliary electrode 12b having a thickness greater than 1/7 of the circumference of the transparent electrode 12a is not less than 1/7. By reducing the area of the pseudo auxiliary electrode portion, a wide view area is secured.
  • FIG. 12 is a flowchart showing manufacturing steps of the transparent electrode capacitive sensor according to the third embodiment of the present invention.
  • Step 31 (S31)> (also referred to as step 3A)
  • a metal vapor deposition film such as Cu, Al, Ag or Au was deposited to a thickness of 0.1 to 3 ⁇ m on the entire surface of one side of a transparent resin substrate 11 of a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) by a vacuum deposition method or the like.
  • Etching is performed by dry etching or wet etching on the transparent resin substrate film with a metal vapor-deposited thin film, and the metal vapor-deposited thin film is partially removed to form the lead wiring 13.
  • Step 32 (S32)> (also referred to as Step 3B)
  • a transparent electrode 12a made of a transparent conductive material such as PEDOT / PSS is formed on the surface of the transparent resin substrate 11 on the side of the lead wiring 13 formed in step 31 (S31) by ink jet printing or screen printing. It is formed so as to cover (part).
  • Step 33 (S33)> (also referred to as Step 3C)
  • the transparent resin base material 11 having the lead wiring 13 and the transparent electrode 12a on one side is subjected to a low temperature drying treatment to cause a coffee ring (framing) phenomenon in the transparent electrode 12a including PEDOT / PSS, etc.
  • FIG. to produce a level difference t p, thickness than the transparent electrode 12a is formed on the outer periphery of a thick pseudo auxiliary electrode 12b.
  • the coffee ring (framing) phenomenon will be described with reference to FIG.
  • FIG. 9 is a diagram for explaining a coffee ring (framing) phenomenon according to the third embodiment of the present invention.
  • a transparent electrode 12a After forming a transparent electrode 12a by applying a coating such as PEDOT / PSS by inkjet printing or screen printing on one side of the transparent resin substrate 11 including polyethylene terephthalate (PET) or the like disposed on the jig plate 15,
  • PET polyethylene terephthalate
  • a paint such as PEDOT / PSS moves to the outer periphery.
  • the thickness of the outer peripheral portion can be increased.
  • This phenomenon is a phenomenon called coffee ring (framing) which is observed in the process of drying a liquid material.
  • drying and baking are performed at about 120 ° C., and the formation of a portion having the thick pseudo auxiliary electrode 12b containing the same material as the transparent electrode 12a on the outer periphery of the transparent electrode 12a is completed.
  • the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b are formed by using the PEDOT / PSS for the transparent electrode 12a and causing a coffee ring phenomenon by a low-temperature drying process.
  • the thickness is large, the pseudo auxiliary electrode 12b having a sufficiently small difference in thickness can be formed.
  • the step t p in Fig. 8 (b), 6 [mu] m or less, more can be formed to 3 ⁇ m or less.
  • the end of the lead wiring 13 including a metal vapor-deposited thin film having a thickness of 0.1 to 0.3 ⁇ m
  • the part (part) is disposed between the pseudo auxiliary electrode 12b and the transparent resin base material 11, as shown in FIG.
  • step 3C the transparent electrode 12a containing PEDOT / PSS or the like is caused to have a coffee ring (framing) phenomenon, and the pseudo auxiliary electrode 12b is formed on the outer periphery. Then, the PEDOT / PSS is further formed on the pseudo auxiliary electrode 12b.
  • step t p also referred to as a step 3C2
  • the material used for the transparent electrode is relatively thin as compared to the material used for the conventional auxiliary electrode, so that the step with the transparent electrode 12a is kept small, And it can be set as the pseudo auxiliary electrode 12b thicker than the transparent electrode 12a. Even in this case, it is possible to keep the step sufficiently smaller than 3 ⁇ m.
  • a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) is coated so as to cover the transparent resin base material 11, the transparent electrode 12a, the pseudo auxiliary electrode 12b, and the lead wiring 13.
  • PET polyethylene terephthalate
  • pseudo-auxiliary containing a transparent conductive paint such as PEDOT / PSS is formed on the end portion (part) of the lead-out wiring 13 formed on the transparent resin substrate 11.
  • the electrode 12b is disposed so as to directly contact and cover the end portion of the lead wiring 13. Since the solvent of this transparent conductive paint is acidic, the end (part) of the lead-out wiring 13 including the metal vapor deposited thin film may be oxidized. Therefore, after step 3A, as shown in FIGS. 10A and 10B, a carbon layer 23a is formed by a printing method or the like between the end (part) of the lead-out wiring 23b and the pseudo auxiliary electrode 22b. (Also referred to as step 3A2), by avoiding direct contact between the end (part) of the lead-out wiring 23b and the pseudo auxiliary electrode 22b, it is possible to avoid oxidation and to improve the reliability of the connection portion. it can.
  • a transparent conductive paint such as PEDOT / PSS is formed on the end portion (part) of the
  • a transparent electrode capacitive sensor according to a fourth embodiment of the present invention will be described.
  • the configuration and materials of the transparent electrode capacitive sensor according to the fourth embodiment of the present invention are the configurations of the transparent electrode capacitive sensor according to the third embodiment described with reference to FIGS. The description of the same parts is omitted. Since the transparent electrode capacitance sensor according to the fourth embodiment and the transparent electrode capacitance sensor according to the third embodiment are mainly different in terms of the manufacturing method, the manufacturing method will be mainly described below.
  • FIG. 13 is a flowchart showing manufacturing steps of the transparent electrode capacitive sensor according to the fourth embodiment of the present invention.
  • Step 41 (S41)> A metal vapor deposition film such as Cu, Al, Ag, or Au was deposited to a thickness of 0.1 to 3 ⁇ m on the front surface of one side of a transparent resin substrate 11 of a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) by a vacuum deposition method or the like. Etching is performed by dry etching or wet etching on the transparent resin substrate film with a metal vapor-deposited thin film, and the metal vapor-deposited thin film is partially removed to form the lead wiring 13.
  • a metal vapor deposition film such as Cu, Al, Ag, or Au was deposited to a thickness of 0.1 to 3 ⁇ m on the front surface of one side of a transparent resin substrate 11 of a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) by a vacuum deposition method or the like. Etching is performed by dry etching or wet etching on the transparent resin substrate film with a metal vapor-deposited thin film, and the metal vapor-deposited thin film is
  • a transparent electrode 12a made of a transparent conductive material such as PEDOT / PSS is formed on the surface of the transparent resin substrate 11 on the side of the lead wiring 13 formed in step 41 (S41) by ink jet printing or screen printing. It is formed so as to cover (part).
  • Step 43 (S43)> A transparent conductive material such as PEDOT / PSS, which is the same as the transparent electrode 12a, is applied (overcoated) one or more times to at least a part of the outer periphery of the transparent electrode 12a by ink jet printing or screen printing, and the level difference t p in FIG.
  • the pseudo auxiliary electrode 12b that is thicker than the transparent electrode 12a is formed.
  • a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) is coated so as to cover the transparent resin base material 11, the transparent electrode 12a, the pseudo auxiliary electrode 12b, and the lead wiring 13.
  • PET polyethylene terephthalate
  • FIG. 14 is a flowchart showing a modification of the manufacturing process of the transparent electrode capacitive sensor according to the fourth embodiment of the present invention.
  • Step 411 (S411)> A metal vapor deposition film such as Cu, Al, Ag, or Au was deposited to a thickness of 0.1 to 3 ⁇ m on the front surface of one side of a transparent resin substrate 11 of a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) by a vacuum deposition method or the like. Etching is performed by dry etching or wet etching on the transparent resin substrate film with a metal vapor-deposited thin film, and the metal vapor-deposited thin film is partially removed to form the lead wiring 13.
  • a metal vapor deposition film such as Cu, Al, Ag, or Au was deposited to a thickness of 0.1 to 3 ⁇ m on the front surface of one side of a transparent resin substrate 11 of a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) by a vacuum deposition method or the like. Etching is performed by dry etching or wet etching on the transparent resin substrate film with a metal vapor-deposited thin film, and the metal vapor-deposited thin film
  • PEDOT / PSS or the like is applied once or more by inkjet printing or screen printing to a portion where the pseudo auxiliary electrode 12b on one side of the transparent resin base material 11 containing PET or the like is formed.
  • Step 431 (S431)> PEDOT / PSS or the like is applied to both the pseudo auxiliary electrode 12b and the transparent electrode 12a at least once by inkjet printing or screen printing. Portion of the pseudo auxiliary electrode 12b becomes a superimposition manner such PEDOT / PSS, step t p in Fig. 8 (b) is formed.
  • Step 441 (S441)> As shown in FIGS. 8A and 8B, the transparent resin base material 11, the transparent electrode 12a, the pseudo auxiliary electrode 12b, and the lead-out wiring 13 are covered, and a transparent polymer such as PET is coated to form an adhesive layer. 14 is formed.
  • step t p in Fig. 8 (b) can be a 6 ⁇ m or less, further, 3 [mu] m It is also possible to: Moreover, also in the manufacturing method of the transparent electrode capacitive sensor according to the fourth embodiment of the present invention, the lead wire 13 is provided by providing a carbon layer in the portion of the lead wire 13 where the pseudo auxiliary electrode 12b is provided. Oxidation can be avoided, and a transparent electrode capacitance sensor with high reliability of the connection portion can be manufactured.
  • FIG. 15A is a top view of a transparent electrode capacitive sensor according to a fifth embodiment of the present invention
  • FIG. 15B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
  • FIG.15 (c) is an enlarged view of the circled part of FIG.15 (b).
  • the transparent electrode capacitance sensor 1 includes a transparent resin base material 11, a transparent electrode 12a provided on the transparent resin base material 11, and an outer peripheral portion of the transparent electrode 12a.
  • a pseudo auxiliary electrode 12b having one end, a lead wire 13 having one end connected to the transparent electrode 12a in the notch 12c, and an adhesive layer 14 provided on the upper surface of FIG. 15B.
  • the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b are made of the same material.
  • the properties, materials, preferred thicknesses, and the like of the transparent resin substrate 11 and the transparent electrode 12a are the same as in the first embodiment.
  • a cutout portion 12c is provided in a part of the pseudo auxiliary electrode 12b so that the lead wiring 13 is not directly connected to the pseudo auxiliary electrode 12b. It is connected to the transparent electrode 12a of the notch 12c.
  • the separation distance between the pseudo auxiliary electrode 12b and the lead wire 13 is 1 of the thickness of the lead wire 13 in the plan view shown in FIG. It is preferably 10 to 10 times, more preferably 2 to 5 times. If the distance between the pseudo auxiliary electrode 12b and the lead-out wiring 13 is less than one times the thickness of the lead-out wiring 13, there is a possibility that air bubbles may be mixed.
  • the lead wire 13 is connected to an end of the transparent electrode 12a, the connecting portion, the lead wire 13 is thicker than the amount corresponding transparent electrode 12a of the step t p.
  • the lead wiring 13 is made of a material having an electric resistance lower than that of the transparent electrode 12a.
  • the lead wiring 13 may be configured using Ag paste.
  • the lead-out wiring 13 may be composed of a metal thin film containing Cu, Al, Ni, Ag, Au, or the like or an alloy thereof, and a metal such as the above (Cu, Al, Ni, Ag, Au, or the like).
  • the lead-out wiring 13 may have a laminated structure, for example, a structure in which the base is Cu, a Ni intermediate layer is provided thereon, and Au is provided thereon as a coat layer.
  • the thickness of the lead wiring 13 is 0.1 to 3 ⁇ m, preferably 0.1 to 1 ⁇ m, and more preferably 0.1 to 0.5 ⁇ m. If the thickness is 0.1 ⁇ m or more, stable conductivity can be ensured without attenuating the resistance value of the transparent electrode 12a. If the thickness is 3 ⁇ m or less, the step with the transparent electrode 12a is sufficiently small, 1 ⁇ m or more. If it is 0.5 ⁇ m or less, the step is smaller. As described above, the lead-out wiring 13 is preferably a metal thin film from the viewpoint of reducing the step while ensuring conductivity.
  • auxiliary electrode material a material having the same or similar material resistance as that used for the lead-out wiring in order to suppress variation in detection sensitivity is used as the auxiliary electrode material, and this auxiliary electrode is provided between the lead-out wiring and the transparent electrode. Is intervening.
  • a silver auxiliary electrode is often used in consideration of the entire state such as resistance value and design, and a silver paste is used to form the silver auxiliary electrode.
  • This silver paste is a material having a high solid content ratio between silver particles and a resin binder for high-definition printing and a low volatile content such as a solvent. For this reason, there is little change in the thickness after printing.
  • a screen printing method using a screen printing plate using a general SUS mesh usually has a film thickness of 20 ⁇ m to 50 ⁇ m. Further, even when considering reducing the film thickness, considering mass productivity, The limit is about 4 to 1/5.
  • the coating thickness of the silver paste at the time of printing is determined by this film thickness, and the silver paste cannot be made very thin because of the small amount of volatile components as described above in a process such as drying. Furthermore, in order to make the auxiliary electrode thin, it is not impossible to make the film thickness thin with a thin ultra-high mesh or the like, but in this case, handling becomes very delicate and handling properties are deteriorated. For these reasons, it is difficult to sufficiently reduce the level difference between the transparent electrode and the auxiliary electrode in the prior art in consideration of mass productivity.
  • the present invention variation in detection sensitivity is suppressed by providing the pseudo auxiliary electrode 12b made of the same material as the transparent electrode 12a and having a thickness larger than that of the transparent electrode 12a on the outer peripheral portion of the transparent electrode 12a. That is, in the present invention, since the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b are formed of the same material, the electrical resistance in composition of the material is the same. However, since the pseudo auxiliary electrode 12b is thicker than the transparent electrode 12a, the electric resistance of the pseudo auxiliary electrode 12b is lower than the electric resistance of the transparent electrode 12a.
  • the step between the pseudo auxiliary electrode 12b and the transparent electrode 12a increases, and there is a problem of bubbles, and even if the same material as the transparent electrode 12a is used, the thickness increases. Since the transparency is lowered, leading to a reduction in design, the step between the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b is preferably 6 ⁇ m or less, more preferably 4 ⁇ m or less, and most preferably 3 ⁇ m or less.
  • the transparent electrode material is generally a material that can be printed and applied thinly, the portion of the pseudo auxiliary electrode 12b is thicker than the transparent electrode 12a. Compared to an auxiliary electrode formed of silver paste or the like, the auxiliary electrode can be made sufficiently thin.
  • the step between the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b can be sufficiently reduced. Therefore, a step with a risk of bubble generation is t p in FIG. 15 (c), the the step generation site, as shown in FIG. 15 (c), the connection portion of the lead wire 13 and the transparent electrode 12a Limited to narrow areas.
  • the extraction wiring 13 is formed of a metal thin film
  • the extraction wiring 13 is formed by vapor-depositing a metal on the transparent resin base material 11, and then the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b are formed.
  • the solution of the transparent electrode material such as PEDOT / PSS is acidic, if the transparent electrode material is applied so as to be in direct contact with the lead wiring 13, the lead wiring 13 may be oxidized.
  • the carbon layer is formed on the lead wiring 13 by a printing method or the like and the transparent electrode 12a is formed on the carbon layer, the oxidation of the lead wiring 13 as described above can be avoided. For this reason, the reliability of a connection state can be improved by interposing a carbon layer between the lead-out wiring 13 and the transparent electrode 12a.
  • the properties and materials of the adhesive layer 14 are the same as those in the first embodiment.
  • the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b are configured using the same PEDOT / PSS, the portion of the pseudo auxiliary electrode 12b is noticeable when used for a touch panel or the like. Therefore, it is good in terms of design.
  • the step between the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b can be 6 ⁇ m or less. As described above, the region is limited to a narrow region of the connection portion between the lead-out wiring 13 and the transparent electrode 12a shown in FIG. Therefore, the problem of bubble generation at the time of covering the adhesive layer 14 is solved, and the parasitic capacitance is reduced. In addition, material costs can be reduced compared to using expensive materials such as silver.
  • the pseudo auxiliary electrode 12b is formed over substantially the entire circumference except for a part of the outer circumference of the transparent electrode 12a.
  • the transparent electrode capacitance sensor 1 of the present invention is applied to a touch panel or the like.
  • the pseudo auxiliary electrode 12b having a thickness larger than that of the transparent electrode 12a is 1/7 or more of the circumference of the outer periphery of the transparent electrode 12a.
  • FIG. 22 is a flowchart showing manufacturing steps of the transparent electrode capacitive sensor according to the fifth embodiment of the present invention.
  • a transparent electrode 12a is formed by applying a transparent conductive material such as PEDOT / PSS to one side of a transparent resin substrate 11 of a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) using a printing method so as to form a predetermined pattern.
  • a transparent conductive material such as PEDOT / PSS
  • PET polyethylene terephthalate
  • a printing method a general method such as ink jet printing, screen printing, PAD printing, flexographic printing, or the like can be used.
  • inkjet printing is preferable because the degree of freedom of the coating pattern to be formed is high.
  • the application pattern of the transparent electrode material may be applied so as to be a predetermined pattern, and after applying the transparent electrode material, dry etching or the like is performed so that the predetermined pattern is obtained. In this case, patterning may be performed.
  • Step 52 (S52)> As shown in FIG. 16, on the transparent electrode 12a formed in step 51 (S51), the same as that used in step 1 by using a printing method on the outer periphery of the transparent electrode 12a so as to form a notch 12c. A transparent electrode material (such as PEDOT / PSS) is applied to form a pseudo auxiliary electrode 12b. Thus, the portion of the pseudo auxiliary electrode 12b is thicker than the transparent electrode 12a because the transparent electrode material is overcoated.
  • PEDOT / PSS a transparent electrode material
  • the pseudo auxiliary electrode 12b is a portion thicker than the transparent electrode 12a by applying a transparent electrode material on the transparent electrode 12a, there is a step between the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b. it can.
  • the transparent electrode material can be applied sufficiently thinly compared to the conventional silver paste or the like, the step between the pseudo auxiliary electrode 12b and the transparent electrode 12a formed as described above. Can also be reduced. Accordingly, the formation of bubbles at the stepped portion when the adhesive layer 14 is formed can be suppressed, and the parasitic capacitance associated with the bubbles can be reduced, so that a decrease in sensitivity of the transparent electrode capacitance sensor can be prevented.
  • the step between the pseudo auxiliary electrode 12b and the transparent electrode 12a can be formed to 6 ⁇ m or less, and further to 3 ⁇ m or less.
  • the transparent electrode material is applied once has been described.
  • the number of times of application is not particularly limited, and in order to form the transparent electrode 12a.
  • the transparent electrode material may be applied a plurality of times (twice or more), or the transparent electrode material may be applied a plurality of times (twice or more) to form the pseudo auxiliary electrode 12b.
  • the thickness of the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b It is easier to finely control the thickness of the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b by applying a thinner coating several times than by obtaining a predetermined state by applying the transparent electrode material once.
  • the number of times of application of the transparent electrode material increases, labor is also increased. Therefore, how many times the transparent electrode material is applied to form the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b depends on the thickness, etc. It may be determined appropriately in consideration of improvement in controllability and increase in labor.
  • the lead-out wiring 13 containing Ag paste or the like is formed by screen printing so as to overlap the transparent electrode 12a at the notch 12c.
  • the lead wire 13 containing Ag paste has a thickness of 5 to 20 ⁇ m.
  • a transparent polymer such as polyethylene terephthalate (PET) is coated so as to cover the transparent resin base material 11, the transparent electrode 12a, the pseudo auxiliary electrode 12b, and the lead wiring 13.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the lead-out wiring 13 may be formed on the transparent resin substrate 11 first.
  • a metal thin film is formed on the transparent resin substrate 11 by metal vapor deposition, a predetermined lead wiring 13 is formed by dry etching, and then Step 1 (formation of the transparent electrode 12a) and Step 2 (of the pseudo auxiliary electrode 12b)
  • the transparent electrode material may be applied so as to perform (formation).
  • a carbon layer is formed on the part of the lead-out wiring 13 to which the transparent electrode material is applied by a printing method or the like, It is preferable that the electrode material does not directly touch the lead wiring 13.
  • Example 1 After the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b are formed on the polyethylene terephthalate (PET) base material 11 using the PEDOT / PSS in the configuration of FIGS. 1A, 1B, and 1C, Ag is used. A paste lead-out wiring 13 was formed.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a PET film having a thickness of 50 [mu] m, and the PEDOT / PSS solution viscosity of about 10C p to form a transparent electrode 12a is applied to a predetermined pattern using an inkjet device. After slowly drying it on a hot plate at about 60 ° C., it is baked at 120 ° C. for about 5 minutes to cause a coffee ring (framing) phenomenon, and a PEDOT / PSS pseudo auxiliary electrode on the outer periphery of the transparent electrode 12a 12b was formed.
  • Example 2 After forming the transparent electrode 12a and the pseudo auxiliary electrode 12b using the PEDOT / PSS on the base material 11 of polyethylene naphthalate (PEN) in the configuration of FIGS. 1 (a), (b), and (c), The lead wiring 13 of Ag paste was formed.
  • PEN polyethylene naphthalate
  • the PEN film having a thickness of 75 [mu] m, and the PEDOT / PSS solution viscosity of about 10C p to form a transparent electrode 12a is applied to a predetermined pattern using an inkjet device. After slowly drying it on a hot plate at about 60 ° C., it is baked at 120 ° C. for about 5 minutes to cause a coffee ring (framing) phenomenon, and a PEDOT / PSS pseudo auxiliary electrode on the outer periphery of the transparent electrode 12a 12b was formed.
  • Example 3 (Example 3) 1A, 1B and 1C, a transparent electrode 12a and a pseudo auxiliary electrode 12b are formed on a polycarbonate (PC) substrate 11 using PEDOT / PSS, and then an Ag paste.
  • the lead wiring 13 was formed.
  • a PC film having a thickness of 100 [mu] m, and the PEDOT / PSS solution viscosity of about 10C p to form a transparent electrode 12a is applied to a predetermined pattern using an inkjet device. After slowly drying it on a hot plate at about 60 ° C., it is baked at 120 ° C. for about 5 minutes to cause a coffee ring (framing) phenomenon, and a PEDOT / PSS pseudo auxiliary electrode on the outer periphery of the transparent electrode 12a 12b was formed.
  • Example 4 3A and 3B an Ag paste lead-out wiring 23 is formed on a polyethylene terephthalate (PET) base material 21, and then a transparent electrode 22a and a pseudo auxiliary electrode are formed using PEDOT / PSS. 22b was formed.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the transparent electrode 22a was formed by applying to the pattern. After slowly drying it on a hot plate at about 60 ° C., it is baked at 120 ° C. for about 5 minutes to cause a coffee ring (framing) phenomenon, and a PEDOT / PSS pseudo auxiliary electrode is formed on the outer periphery of the transparent electrode 22a. After forming 22b, the adhesive layer 24 was formed on the entire surface to obtain the transparent electrode capacitance sensor 2.
  • the thickness of the transparent electrode 22a is about 0.2 ⁇ m
  • the thickness of the pseudo auxiliary electrode 22b is about 1.0 ⁇ m.
  • an Ag paste lead-out wiring 33 is formed on a polyethylene terephthalate (PET) base material 31 and carbon printing 33a is applied to the end thereof, and then PEDOT / The transparent electrode 32a and the pseudo auxiliary electrode 32b were formed using PSS.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a lead wire 33b is formed on a PET film having a thickness of 50 ⁇ m using an Ag paste by a screen printing method, and a carbon printing 33a is applied to a terminal portion of about 2 mm by a PAD printing method, and further overlapped by about 1 mm on the carbon printing 33a.
  • position PEDOT / PSS solution viscosity of about 10C p to form a transparent electrode 32a is applied to a predetermined pattern using an inkjet device.
  • the carbon printed portion has a surface resistance of about 100 ⁇ / ⁇ . After slowly drying it on a hot plate at about 60 ° C., it is baked at 120 ° C.
  • the adhesive layer 34 was formed on the entire surface, and the transparent electrode capacitance sensor 3 was obtained.
  • the thickness of the transparent electrode 32a is about 0.2 ⁇ m
  • the thickness of the pseudo auxiliary electrode 32b is about 1.0 ⁇ m.
  • Example 3 by using a PC film as a base material, in addition to the common effects of Examples 1 and 2, a transparent electrode capacitive sensor having small birefringence and excellent optical characteristics is formed. We were able to.
  • Example 5 carbon printing is further interposed in the connection part of PEDOT / PSS and Ag lead-out wiring in the configuration of Example 4. Since the PEDOT / PSS solution is acidic, when an Ag lead wiring is first formed, the PEDOT / PSS solution may be oxidized by contact between the solution and the Ag lead wiring. Therefore, as in Example 5, by interposing carbon printing in the portion in contact with the solution, it was possible to avoid the oxidation of the Ag lead-out wiring and further improve the reliability of the connection portion. .
  • the pseudo auxiliary electrode varies depending on the thickness thereof, for example, the surface resistance can be about 200 ⁇ / ⁇ .
  • the pseudo auxiliary electrode is preferably formed to have a thickness of 0.1 ⁇ m or more, 0.2 ⁇ m or more, and more preferably 0.5 ⁇ m or more thicker than the transparent electrode.
  • the transparent electrode portion and the pseudo auxiliary electrode portion are made of the same material, the electrical resistance of the pseudo auxiliary electrode portion can be lowered.
  • a lead wire 13 made of a metal-deposited thin film of Cu is formed on a transparent resin substrate 11 of polyethylene terephthalate (PET), and then a transparent electrode is formed using PEDOT / PSS. 12a and pseudo auxiliary electrode 12b were formed.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a PEDOT / PSS solution having a viscosity of about 10 Cp was applied in a predetermined pattern using an ink jet apparatus so that the end portion of the lead wire 13 overlapped by about 1 mm. It is slowly dried on a hot plate at about 60 ° C. and then baked at 120 ° C. for about 5 minutes to cause a coffee ring (framing) phenomenon, and the PEDOT / PSS pseudo auxiliary electrode 12b is formed on the outer periphery of the transparent electrode 12a. Formed. Next, the adhesive layer 14 was formed on the entire surface to obtain the transparent electrode capacitance sensor 1.
  • Example 7 10 (a) and 10 (b), a lead wire 23b of a Cu metal-deposited thin film is formed on a transparent resin substrate 21 of PET, and a carbon layer is formed so as to cover the end of the lead wire 23b.
  • the transparent electrode 22a and the pseudo auxiliary electrode 22b were formed using PEDOT / PSS.
  • Etching is performed after depositing Cu on the entire surface of a PET film having a thickness of 50 ⁇ m to form a lead wire 23b of a metal vapor deposition thin film of Cu, and a carbon layer is formed on the end portion of the lead wire 23b by a PAD printing method at about 2 mm.
  • 23a was formed.
  • the PEDOT / PSS solution was applied using an ink jet apparatus so that the end of the carbon layer 23a was overlapped by about 1 mm. At this time, the outer peripheral portion was applied so as to be thick with a width of 0.5 mm.
  • the transparent electrode 22a and the pseudo auxiliary electrode 22b were formed by baking at 120 degreeC for about 5 minutes.
  • the adhesive layer 24 was formed on the entire surface to obtain the transparent electrode capacitance sensor 2.
  • Example 8 11 (a) and 11 (b), Cu metal-deposited thin film lead wires 33c and 33b are formed on a PET transparent resin substrate 31, and transparent electrodes are formed using Ag nanowire-dispersed PEDOT / PSS. 32a and 32e and pseudo auxiliary electrodes 32b and 32d were formed.
  • the Ag nanowire-dispersed PEDOT / PSS solution is formed in a predetermined pattern in which the transmitting electrode and the receiving electrode are integrated using an ink jet device so that the end portion of the lead wiring 13 is overlapped by about 1 mm. It was applied so as to be thick, and pre-baked at a low temperature, and then UV cured.
  • Example 7 by interposing a carbon layer between the Cu vapor-deposited thin film of Example 1 and the PEDOT / PSS pseudo auxiliary electrode, oxidation of the lead-out wiring can be avoided. Furthermore, a transparent electrode capacitance sensor with a high reliability of the connection portion could be manufactured.
  • the pseudo auxiliary electrode varies depending on the thickness and the like, but for example, the surface resistance can be about 200 ⁇ / ⁇ .
  • the resistance value can be further reduced.
  • the surface resistance of the transparent electrode is, for example, about 80 ⁇ / ⁇ .
  • the surface resistance of the pseudo auxiliary electrode can be, for example, about 40 to 50 ⁇ / ⁇ .
  • the pseudo auxiliary electrode is preferably formed to have a thickness of 0.1 ⁇ m or more, 0.2 ⁇ m or more, and more preferably 0.5 ⁇ m or more thicker than the transparent electrode.
  • the transparent electrode portion and the pseudo auxiliary electrode portion are made of the same material, the electrical resistance of the pseudo auxiliary electrode portion can be lowered.
  • Example 9 17A and 17B after forming the transparent electrode 22a and the pseudo auxiliary electrode 22b on the transparent resin base material 21 of polyethylene terephthalate (PET) using PEDOT / PSS, the pseudo auxiliary electrode
  • the lead wiring 23 of Ag paste connected to the transparent electrode 22a left on the outer side (right side in FIG. 17A) of one side of 22b was formed.
  • a transparent resin substrate 21 of a PET film having a thickness of 50 [mu] m, to form a transparent electrode 22a is coated with a PEDOT / PSS solution viscosity of about 10C p to a predetermined pattern by using an ink jet method. Thereafter, a PEDOT / PSS solution having the same viscosity of about 10 Cp is left by using the ink jet method so that the transparent electrode 22a is left outside (on the right side of) the one side of the pseudo auxiliary electrode 22b as shown in FIG. 17 (a). Thus, the pseudo auxiliary electrode 22b was formed.
  • the lead-out wiring 23 is formed using an Ag paste having a lower electrical resistance than the transparent electrode 22a so as to overlap with a part of the transparent electrode 22a left outside one side of the pseudo auxiliary electrode 22b. Was formed on the entire surface to obtain a transparent electrode capacitance sensor 2.
  • the thickness of the transparent electrode 22a is 0.05 to 5 ⁇ m
  • the additional thickness of the pseudo auxiliary electrode 22b on the transparent electrode 22a is 0.3 to 3 ⁇ m
  • the thickness of the lead wire 23 for Ag paste is 5 to 20 ⁇ m.
  • Example 10 18 (a) and 18 (b), a transparent electrode 32a and an outer side of one side (on the right side of FIG. 18 (a)) on a transparent resin substrate 31 of polyethylene terephthalate (PET) using PEDOT / PSS. ), A pseudo auxiliary electrode 32b having a pair of projections 32c is formed, and then an Ag paste lead-out wiring 33 connected to the transparent electrode 32a provided between the pair of projections 32c of the pseudo auxiliary electrode 32b. Formed.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a transparent resin substrate 31 of a PET film having a thickness of 50 [mu] m, and the PEDOT / PSS solution viscosity of about 10C p to form a transparent electrode 32a is applied to a predetermined pattern using an inkjet device. Thereafter, a PEDOT / PSS solution having the same viscosity of about 10 Cp is left by using the inkjet method so that the transparent electrode 32a is left outside (on the right side of) the one side of the pseudo auxiliary electrode 32b as shown in FIG. 18 (a).
  • a pseudo auxiliary electrode 32b having a pair of protrusions 32c was formed.
  • the lead-out wiring 33 is formed using an Ag paste having a lower electrical resistance than the transparent electrode 32a so as to overlap a part of the transparent electrode 32a between the pair of projections 32c of the pseudo auxiliary electrode, and then the adhesive layer 34 is formed.
  • the adhesive layer 34 is formed on the entire surface to obtain a transparent electrode capacitance sensor 3.
  • the thickness of the transparent electrode 32a is 0.05 to 5 ⁇ m
  • the additional thickness of the pair of protrusions 32c of the pseudo auxiliary electrode 32b is 0.3 to 3 ⁇ m
  • the thickness of the lead wiring 33 for Ag paste is 5 to 20 ⁇ m. .
  • Example 11 19 (a) and 19 (b), on the transparent resin substrate 41 of polyethylene terephthalate (PET), the transparent electrode 42a and the outer side of one side using PEDOT / PSS (the right side of FIG. 19 (a)).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEDOT polyethylene terephthalate
  • a pattern of the lead-out wiring 43 was previously formed by Cu vapor deposition at a portion between the pair of protrusions 42c of the pseudo auxiliary electrode 42b, and the transparent electrode 42a was formed thereon.
  • the transparent electrode 42a was formed. Thereafter, the PEDOT / PSS solution having the same viscosity of about 10 Cp is applied to the portion where the lead-out wiring 43 on the outer side (right side in the drawing) of one side of the pseudo auxiliary electrode 42b is located, as shown in FIG. A pseudo auxiliary electrode 42b having a pair of protrusions 42c was formed so as to leave the transparent electrode 42a.
  • One end of the lead-out wiring 43 formed by Cu vapor deposition having a lower electrical resistance than the transparent electrode 42a previously formed on the transparent resin substrate 41 is the end of the transparent electrode 42a between the pair of protrusions 42c of the pseudo auxiliary electrode 42b. Are arranged so as to overlap 1 mm. Next, an adhesive layer 44 was formed on the entire surface to obtain a transparent electrode capacitance sensor 4.
  • the thickness of the transparent electrode 32a is 0.05 to 5 ⁇ m
  • the additional thickness of the pair of protrusions 32c of the pseudo auxiliary electrode 32b is 0.3 to 3 ⁇ m
  • the thickness of the lead wiring 43 by Cu deposition is 0.1 to 3 ⁇ m. It is.
  • Example 12 After forming the transparent electrode 52a and the pseudo auxiliary electrode 52b using the PEDOT / PSS on the polyethylene terephthalate (PET) transparent resin base material 51 in the configuration of FIGS. 20A and 20B, the pseudo auxiliary electrode is formed.
  • the lead wiring 53 of Ag paste connected to the transparent electrode 52a provided in the part between the pair of protrusions 52c of 52b was formed.
  • a transparent resin substrate 51 of a PET film having a thickness of 50 [mu] m, to form a transparent electrode 52a is applied to a predetermined pattern by ink jet method PEDOT / PSS is used a solution of a viscosity of about 10C p. Then, a PEDOT / PSS solution of the same viscosity of about 10C p by an inkjet method to form a pseudo auxiliary electrode 52b and a pair of protrusions 52c in the form of PEDOT / PSS shown in FIG. 20 (a).
  • the thickness of the pseudo auxiliary electrode 52b provided inside the transparent electrode 52a of FIG. 20A is the outer peripheral portion of the transparent electrodes 22a and 32a in Examples 9 and 10 (FIGS. 17A and 18A).
  • the pseudo auxiliary electrodes 22b and 32b are formed thinner than the thickness of the pseudo auxiliary electrodes 22b and 32b.
  • the thickness of the pair of projections 52c of the pseudo auxiliary electrode in FIG. 20A is formed on the outer peripheral portion of the transparent electrodes 22a and 32a in Examples 9 and 10 (FIGS. 17A and 18A).
  • the pseudo auxiliary electrodes 22b and 32b have the same thickness.
  • an adhesive is formed.
  • the layer 54 was formed on the entire surface to obtain the transparent electrode capacitance sensor 5.
  • the thickness of the transparent electrode 52a is 0.05 to 5 ⁇ m
  • the additional thickness of the pair of projections 52c of the pseudo auxiliary electrode 32b is 0.3 to 3 ⁇ m
  • the thickness of the lead wiring 33 for Ag paste is 5 to 20 ⁇ m. .
  • a transparent electrode 62a of Ag nanowire-dispersed PEDOT / PSS and a pseudo auxiliary electrode 62b of Ag nanowire-dispersed PEDOT / PSS are formed on a transparent resin substrate 61 of polyethylene terephthalate (PET).
  • PET polyethylene terephthalate
  • a transparent resin substrate 61 of a PET film having a thickness of 50 [mu] m, to form a transparent electrode 62a is applied to a predetermined pattern by ink jet method using Ag nanowire dispersion PEDOT / PSS solution viscosity of about 10C p.
  • a pseudo auxiliary electrode 62b having a shape shown in FIG. 21A and a pair of protrusions 62c were formed by an inkjet method using an Ag nanowire-dispersed PEDOT / PSS solution.
  • the thickness of the pseudo auxiliary electrode 62b provided inside the transparent electrode 62a of FIG. 21A is the outer peripheral portion of the transparent electrodes 22a and 32a in Example 9, q0 (FIGS. 17A and 18A).
  • the pseudo auxiliary electrodes 22b and 32b are formed thinner than the thickness of the pseudo auxiliary electrodes 22b and 32b.
  • the thickness of the pair of projections 62c of the pseudo auxiliary electrode of FIG. 21A was also formed on the outer peripheral portion of the transparent electrodes 22a and 32a in Examples 9 and 10 (FIGS. 17A and 18A). It was made thinner than the thickness of the pseudo auxiliary electrodes 22b and 32b.
  • An adhesive layer 64 was formed on the entire surface to obtain a transparent electrode capacitance sensor 6.
  • the thickness of the transparent electrode 62a is 0.05 to 5 ⁇ m
  • the additional thickness of the pair of protrusions 62c of the pseudo auxiliary electrode including the Ag nanowire is 0.1 to 1 ⁇ m
  • the thickness of the lead wiring 63 of the Ag paste is 5 to 5 ⁇ m. 20 ⁇ m.
  • Example 12 In Example 12, compared to Examples 9 and 10, it was possible to stabilize the characteristics of the central portion of the transparent electrode portion.
  • D In Example 13, compared to Example 11, by using Ag nanowire-dispersed PEDOT / PSS with high conductivity for the pseudo auxiliary electrode, the pseudo auxiliary electrode in the center portion can be made less noticeable and the design is improved. did it.
  • the pseudo auxiliary electrode varies depending on the thickness and the like, but for example, the surface resistance can be about 200 ⁇ / ⁇ .
  • the resistance value can be further reduced.
  • the surface resistance of the transparent electrode is, for example, about 80 ⁇ / ⁇ .
  • the surface resistance of the pseudo auxiliary electrode can be, for example, about 40 to 50 ⁇ / ⁇ .
  • the pseudo auxiliary electrode is preferably formed to have a thickness of 0.1 ⁇ m or more, 0.2 ⁇ m or more, and more preferably 0.5 ⁇ m or more thicker than the transparent electrode.
  • the transparent electrode portion and the pseudo auxiliary electrode portion are made of the same material, the electrical resistance of the pseudo auxiliary electrode portion can be lowered.
  • the step between the transparent electrode and the pseudo auxiliary electrode can be set to 6 ⁇ m or less by the method for manufacturing the transparent electrode capacitance sensor according to the embodiment of the present invention, and can also be set to 3 ⁇ m or less. It is.
  • the auxiliary electrode provided on a part of the outer periphery of the transparent electrode is formed of a pseudo auxiliary electrode containing the same material as the transparent electrode.
  • the pseudo auxiliary electrode is the same material as the transparent electrode, so that the material cost can be suppressed.
  • the pseudo auxiliary electrode is considerably different.
  • the level difference between the transparent electrode and the pseudo auxiliary electrode is extremely small. Therefore, the generation of bubbles at the time of forming the adhesive layer due to the level difference is suppressed, and the parasitic capacitance can be reduced.
  • the degree of freedom with respect to the range in which the pseudo auxiliary electrode is formed is high, the area of the pseudo auxiliary electrode can be reduced and the view area can be suitably enlarged.
  • the transparent electrode and the pseudo auxiliary electrode may be formed by printing the material used for the transparent electrode several times.
  • the material used for each printing (application) is basically the same material (the same transparent electrode material).
  • the material is not applied until the application and the drying process are completed.
  • the amount of the diluent or the like may be adjusted so as to obtain an appropriate viscosity. Diluents and the like are basically vaporized in a drying process and the like, and almost no components are left, but a small amount of components may remain. However, this degree of difference is understood as the same material.
  • the above specific description has been made by exemplifying the ink jet printing method and the screen printing method, but other than that, a PAD printing method, a flexographic printing method, and the like can be used. Obviously, it can be used.
  • the case where Ag nanowires are dispersed in the PEDOT / PSS solution forming the conductive polymer has been shown. However, since the Ag nanowire itself exhibits conductivity, a non-conductive polymer is used. It may be a solution that forms.
  • the transparent electrode 62a, the pseudo auxiliary electrode 62b (including the protrusion 62c), and the like may be formed using only Ag nanowires.

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Abstract

 意匠性に優れ、広いビューエリアが確保され、さらに、透明電極と補助電極の間の段差を低減することにより、気泡発生が防止され、寄生容量が低減された、信頼性に優れるとともに材料コストを低減した透明電極静電容量センサ及びその製造方法を提供する。透明樹脂基材11と、透明樹脂基材11上に設けられた少なくとも1以上の透明電極12aと、透明電極12aの外周の少なくとも一部に設けられた疑似補助電極12bと、疑似補助電極12bに接続された引出配線13と、を備え、疑似補助電極12bは透明電極12aよりも厚さが厚くかつ透明電極12aと同じ材料を含む透明電極静電容量センサ1とその製造方法である。

Description

透明電極静電容量センサ及びその製造方法
 本発明は、透明電極静電容量センサ及びその製造方法に関する。
 タッチ・センサの検出方式の1種として、画面に接触する指に流れる電気にセンサが反応して、その指の動きを演算命令に変換する静電容量方式がある。この静電容量方式を用いた静電容量センサとして、検出感度のばらつきを抑えるために、透明電極の外周の少なくとも一部に、透明電極よりも電気抵抗が低い補助電極を設けたものが開示されている(例えば、特許文献1参照)。
 しかし、特許文献1に記載のセンサは、その製造工程中に透明電極と補助電極との位置ずれが生じた場合に、透明電極と補助電極との導通面積がずれ量に応じてばらつくおそれがあるが、透明電極と補助電極との導通面積がずれ量に応じてばらつくのを防ぐために透明電極と補助電極とを高精度に位置決めしようとすると、製造工程が煩雑となってしまうという問題があった。この問題を克服するために、補助電極により覆われない透明電極の輪郭線上に光透過性レジストの輪郭線を位置させることにより、補助電極と透明電極との位置決め精度を高める方法が開示されている(例えば、特許文献2参照)。
 しかしながら、補助電極の材料として、特許文献1の発明では、銀インクなどの低抵抗の導電性金属材料を含む導電性ペーストや金属膜、特許文献2の発明では、銀、銅、あるいは金などの金属粒子を含有するインクや、カーボンまたはグラファイトを含有するインク、金属箔などを用いている。このように透明電極材料と異なる材料から補助電極を形成する場合、透明電極外周部の補助電極部が目立って意匠性が低下する、透明電極と補助電極の間で大きな段差が形成され、それら電極をカバーするカバー層を形成するときに気泡が発生しやすくなりそのために寄生容量が増加する、補助電極部により透明電極のビューエリアが小さくなるといった問題が内在する。また、銀や金といった材料は価格が高いので、これらを用いると材料コストが上昇するという問題もある。
特開2012-133673号公報 特開2012-178149号公報
 本発明は、上記問題を鑑みなされたもので、意匠性に優れ、広いビューエリアが確保され、さらに、透明電極と補助電極の間の段差を低減することにより、気泡発生が防止され、寄生容量が低減された、信頼性に優れるとともに材料コストを低減した透明電極静電容量センサ及びその製造方法を提供することを目的とする。
(1)本発明の第1の観点は、透明電極静電容量センサであって、透明樹脂基材と、透明樹脂基材上に設けられた少なくとも1以上の透明電極と、透明電極の外周の少なくとも一部に設けられた疑似補助電極と、疑似補助電極に接続された引出配線と、を備え、疑似補助電極は透明電極よりも厚さが厚くかつ透明電極と同じ材料を含むことを特徴とする。
(2)上記(1)において、引出配線が透明樹脂基材上に設けられ、かつ、金属蒸着薄膜を含んでもよい。
(3)上記(1)又は(2)において、引出配線が透明電極を介して疑似補助電極に接続されてもよい。
(4)上記(1)ないし(3)のいずれかにおいて、疑似補助電極は、透明電極の厚さに6μmを加えた厚さを超えない範囲で、透明電極の厚さよりも厚く形成されてもよい。
(5)上記(1)又は(2)において、疑似補助電極は、透明電極の厚さに4μmを加えた厚さを超えない範囲で、透明電極の厚さよりも厚く形成されてもよい。
(6)上記(1)ないし(3)のいずれかにおいて、疑似補助電極は透明電極の外周の1/7以上の範囲に設けられてもよい。
(7)上記(2)又は(3)において、引出配線が0.1μm以上3μm以下の厚みに形成されてもよい。
(8)上記(2)において、引出配線には、疑似補助電極と接続される部分にカーボン層が設けられ、引出配線と疑似補助電極との接続がカーボン層を介して行われてもよい。
(9)上記(3)において、疑似補助電極と引出配線とは、平面視で引出配線の厚さの1ないし10倍の距離だけ離間してもよい。
(10)上記(3)において、引出配線上にさらにカーボン層が設けられ、カーボン層の設けられた引出配線の部分が、透明電極を介して疑似補助電極に接続されてもよい。
(11)本発明の第2の観点は、透明電極静電容量センサの製造方法であって、透明樹脂基材上にコーヒーリング現象を起こす粘度を有する透明導電材料を設ける工程1Aと、透明導電材料をコーヒーリング現象が起きる乾燥条件で乾燥硬化させ、透明電極と、透明電極の外周に透明電極よりも厚さが厚い疑似補助電極とを形成する工程1Bと、疑似補助電極に接続した引出配線を形成する工程1Cと、を備えることを特徴とする。
(12)上記(11)において、工程1Bの後に、疑似補助電極上の少なくとも一部の厚みを厚くする工程1B2を備え、工程1B2は、同じ透明導電材料を含む層を、疑似補助電極上の少なくとも一部に印刷法で形成する工程であってもよい。
(13)本発明の第3の観点は、透明電極静電容量センサの製造方法であって、透明樹脂基材上に金属蒸着薄膜を含む引出配線を形成する工程3Aと、透明樹脂基材上にコーヒーリング現象を起こす粘度を有する透明導電材料を一部が引出配線の一部と重なるように設ける工程3Bと、透明導電材料をコーヒーリング現象が起きる乾燥条件で乾燥硬化させ、透明電極と、透明電極の外周に透明電極よりも厚さが厚い疑似補助電極とを形成する工程3Cと、を備えることを特徴とする。
(14)上記(13)において、工程3Aの後に、引出配線の一部を覆うようにカーボン層を形成する工程3A1と、工程3Cの後に、同じ透明導電材料を含む層を、疑似補助電極上の少なくとも一部の厚みを厚くする工程3C2と、を備え、工程3C2は、同じ透明導電材料を含む層を、疑似補助電極上の少なくとも一部に印刷法で形成する工程であってもよい。
 本発明によれば、意匠性に優れ、広いビューエリアが確保され、さらに、透明電極と補助電極の間の段差を低減することにより、気泡発生が防止され、寄生容量が低減された、信頼性に優れるとともに材料コストを低減した透明電極静電容量センサ及びその製造方法を提供することができる。
(a)本発明の第1実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図である。(b)図1(a)のA-A矢視断面図である。(c)図1(b)の丸囲み部の拡大図である。 本発明の第1実施形態に係るコーヒーリング(フレーミング)現象を説明する図である。 (a)本発明の第1実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図である。(b)図4(a)のB-B矢視断面図である。 (a)本発明の第1実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図である。(b)図5(a)のC-C矢視断面図である。 本発明の第1実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程のフロー図である。 本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程のフロー図である。 本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程の変形例のフロー図である。 (a)本発明の第3実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図である。(b)図1(a)のA-A矢視断面図である。 本発明の第3実施形態に係るコーヒーリング(フレーミング)現象を説明する図である。 (a)本発明の第3実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図である。(b)図4(a)のB-B矢視断面図である。 (a)本発明の第3実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図である。(b)図5(a)のC-C矢視断面図である。 本発明の第3実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程のフロー図である。 本発明の第4実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程のフロー図である。 本発明の第4実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程の変形例のフロー図である。 (a)は本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図であり、(b)は同図(a)のA-A矢視断面図であり、(c)は同図(b)の丸囲み部の拡大図である。 本発明の第5実施形態に係る製造方法を説明する図である。 (a)本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図であり、(b)は同図(a)のB-B矢視断面図である。 (a)本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図であり、(b)は同図(a)のC-C矢視断面図である。 (a)本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図であり、(b)は同図(a)のD-D矢視断面図である。 (a)本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図であり、(b)は同図(a)のE-E矢視断面図である。 (a)本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図であり、(b)は同図(a)のF-F矢視断面図である。 本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程を示すフロー図である。
 以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための形態(以下、実施形態という。)について詳細に説明する。
(第1実施形態)
 本発明の第1実施形態に係る透明電極静電容量センサについて説明する。図1(a)は、本発明の第1実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図であり、図1(b)は図1(a)のA-A矢視断面図であり、図1(c)は図1(b)の丸囲み部の拡大図である。
 透明電極静電容量センサ1は、透明樹脂基材11と、透明樹脂基材11の片面に設けられた透明電極12aと、透明電極12aの外周部に設けられた疑似補助電極12bと、疑似補助電極12bに一端が接続された引出配線13と、図1(b)の上面に設けられた粘着層14と、を備える。
 図1(c)に示したように、疑似補助電極12bは透明電極12aより段差tの分だけ厚く設けられている。ここで、疑似補助電極12bと透明電極12aは同じ材料を含む。
 透明樹脂基材11は、光透過性を有する絶縁性材料によって形成されたフィルム状、シート状、若しくは板状の部材である。透明樹脂基材11の材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、アクリル系樹脂などの硬質材料や、熱可塑性ポリウレタン、熱硬化性ポリウレタン、シリコーンゴムなどの弾性材料を含むものを好適に用いることができる。
 より具体的には、透明樹脂基材11の材料として、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリフッ化ビニリデン、ポリアリレート、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)などの樹脂材料を好適に用いることができる。これらの樹脂材料の中でも、強度等の点から、透明樹脂基材11の材料としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)が好ましい。また、透明樹脂基材11の材料として、ガラス、透明金属酸化物を採用することもできる。透明樹脂基材11の厚さは10μm以上200μm以下であることが好ましい。透明樹脂基材11の厚さが10μm以上であれば、透明樹脂基材11が破断しにくく、透明樹脂基材11の厚さが200μm以下であれば、透明電極静電容量センサ1を薄くできる。
 透明電極12aは、ITO(酸化インジウムスズ)、FTO(フッ素ドープ酸化スズ)などや、ポリチオフェン、ポリアニリンなどの透明性を有する導電性ポリマーや、金属(Ag、Cu、Ni、Au等)ナノワイヤを分散したポリマーといった光透過性を有する導電性材料を用いて、印刷や塗布などにより透明樹脂基材11上に矩形状に形成されている。なお、透明電極自体の形状は、矩形状に限定される必要はなく、円形や楕円形といった形状であってもよいので、この場合は、印刷や塗布などにより透明樹脂基材11上に円形や楕円形に形成される。
 導電性ポリマーの場合、透明電極12aの材料としては、ポリピロール、ポリ(N-メチルピロール)、ポリ(3-メチルチオフェン)、ポリ(3-メトキシチオフェン)、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)等を好適に用いることができる。水溶性高分子にポリスチレンスルホン酸(PSS)を用いた水分散ポリチオフェン誘導体(PEDOT/PSS)は、水溶性であるために、単純な塗布工程で導電性ポリマーの塗膜を形成できるので好ましい。
 透明電極12aが印刷や塗布によって形成される場合、透明電極12aを構成する導電性塗膜の厚さは0.05μm以上5μm以下であることが好ましく、0.1μm以上1μm以下がより好ましい。導電性塗膜の厚さが0.05μm以上であれば、導電性を好適に確保でき、0.1μm以上であれば検出感度として十分な表面抵抗である600Ω/□以下が安定的に得られる。また導電性塗膜の厚さが5μm以下であれば、容易に塗膜を形成できる。
 引出配線13は、透明電極12aよりも低い電気抵抗を有する材料で構成され、Agペーストが好ましく用いられる。ここで、冒頭で述べた背景技術では、検出感度のばらつきを抑制するために引出配線に用いられるのと同一又は類似の材料抵抗を有する材料を補助電極材料とし、この補助電極を引出配線と透明電極との間に介在させている。
 背景技術では、検出感度のばらつきを抑制するために引出配線に用いられるのと同一又は類似の材料抵抗を有する材料を補助電極材料とし、この補助電極を引出配線と透明電極との間に介在させている。抵抗値や意匠性等といった全体の状態を考慮して銀の補助電極とされる場合が多く、この銀の補助電極を形成するために、銀ペーストが使用される。この銀ペーストは高精細印刷のために銀粒子と樹脂バインダの固形分比が高く、溶剤等の揮発分が少ない材料である。このため印刷後の厚みの変化が少ない。一般的なSUSメッシュによるスクリーン印刷版を用いたスクリーン印刷法では、通常、40μmから50μmの紗厚があり、さらに、紗厚を小さくすることを考えても、量産性を考慮すると、その1/4から1/5程度が限界となる。この抄厚によって印刷時の銀ペーストの塗布厚が決まり、銀ペーストは乾燥等の工程において、上述の通り、揮発成分が少ないため厚みがあまり薄くできない。また、さらに、補助電極を薄くするために、薄い超ハイメッシュなどで抄厚を薄くすることができなくはないが、この場合、非常に取り扱いがデリケートになりハンドリング性が悪くなる。これらのことから、量産性を考慮すれば、背景技術では透明電極と補助電極との間の段差を十分に小さくすることが難しい。
 一方、本発明では、引出配線13と透明電極12aとの間に、透明電極12aと同じ材料からなり、透明電極12aよりも厚みを厚くした疑似補助電極12bを介在させることで検出感度のばらつきを抑制している。つまり、本発明では、透明電極12aと疑似補助電極12bとを同じ材料で形成しているため、材料の組成上の電気抵抗は同じである。しかしながら、図1(c)に示したように、疑似補助電極12bを透明電極12aよりも段差t分だけ厚くしているので疑似補助電極12b部分としての電気抵抗は透明電極12a部分の電気抵抗よりも低くなる。但し、段差が大きくなると、気泡の問題があることや、透明電極12aと同じ材料であっても厚みの増加により透明性が低下するため、意匠性の低下につながることから、段差tは、6μm以下が好ましく、4μm以下がより好ましく、3μm以下がもっとも好ましい。ここで、透明電極材料は、一般に、薄く印刷や塗布を行うことができる材料であることから、疑似補助電極12bの部分が透明電極12aより厚みがあるものとされるといっても、従来の銀ペーストなどにより形成される補助電極と比較すれば、十分に薄く構成することが可能であり、このため透明電極12aと疑似補助電極12bとの段差も十分に小さくすることができる。
 粘着層14は、透明電極12a、疑似補助電極12b、及び引出配線13を覆うように形成される保護等のための層である。粘着層14は、光透過性を有する樹脂フィルムの片面に粘着剤を有し、その粘着剤によって、透明電極12a、疑似補助電極12b、及び引出配線13上に添着された層である。また、粘着層14を、たとえば、感光性ドライフィルム、UV硬化型レジスト材、加熱硬化型レジスト材などを用いて形成することもできる。
 粘着層14を構成する樹脂フィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、アクリル系樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリフッ化ビニリデン、ポリアリレート、等の樹脂を材料として構成される。また、粘着層14は、樹脂フィルムに代えて、又は樹脂フィルムに加えて、ガラスや透明金属酸化物などによるフィルムを備えていてもよい。また、粘着剤の具体例としては、アクリル系樹脂を挙げることができる。
 背景技術に対し、本発明の第1実施形態においては、透明電極12aと疑似補助電極12bを同じPEDOT/PSSを用いて構成しているため、タッチパネル等に使用したときに、疑似補助電極12bの部分が目立つことが少なく、従って意匠性の面で良好である。さらに、後ほど詳細に説明する手法によって、本発明の第1実施形態においては、上記のように、図1(c)の段差tは6μm以下とすることができるので、粘着層44の被覆時の気泡発生の問題は解消し、寄生容量は低減される。加えて、銀のような高価な材料を使用するのに比べて材料コストを低減することが可能である。
 また、図1(a)では、疑似補助電極12bは、透明電極12aの外周全周にわたって形成されているが、本発明の透明電極静電容量センサ1をタッチパネル等に応用した場合、透明電極12aよりも厚さが厚い疑似補助電極12bの長さは、透明電極12aの外周の周長の1/7以上あれば十分であることが確認されている。疑似補助電極部の面積を減らすことにより、広いビューエリアが確保される。
 次に、本発明の第1実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法について図1(a)、(b)、(c)、図2、図5により説明する。図5は、本発明の第1実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程を示すフロー図である。
<ステップ11(S11)>(工程1Aともいう) ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーの基材11の片面に、インクジェット印刷又はスクリーン印刷により、PEDOT/PSS等の透明導電材料の透明電極12aを形成する。
<ステップ12(S12)>(工程1Bともいう)
 ステップ11(S11)で形成した、透明電極12aを片面に備えた基材11に低温乾燥処理を施して、PEDOT/PSS等を含む透明電極12aにコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、図1(c)の段差tを生じるように、透明電極12aよりも厚さが厚い疑似補助電極12bを外周に形成する。ここで、図2によりコーヒーリング(フレーミング)現象について説明する。
 図2は、本発明の第1実施形態に係るコーヒーリング(フレーミング)現象を説明する図である。ポリエチレンテレフタレート(PET)等を含む基材11の片面に、PEDOT/PSS等の塗料をインクジェット印刷又はスクリーン印刷により塗工して透明電極12aを形成した後、乾燥条件として約60℃で低温乾燥硬化させると、PEDOT/PSS等の塗料は外周部へ移動する。これによって外周部分の厚みを厚くすることができる。この現象は、液体物が乾燥する過程で見られるコーヒーリング(フレーミング)と呼ばれる現象である。その後、約120℃で乾燥焼成を行い、透明電極12aの外周に透明電極12aと同じ材料を含む厚みの厚い疑似補助電極12bを有する部分の形成が完了する。
 上記の手法によれば、透明電極12aにPEDOT/PSSを用い、低温乾燥処理によってコーヒーリング現象を起させることで、透明電極12aと疑似補助電極12bを形成しているので、透明電極12aよりも厚さが厚いながらも、その厚みの差自体は十分に小さい疑似補助電極12bを形成することができる。具体的には、図1(c)の段差tは、6μm以下、さらには、3μm以下に形成することが可能である。
 なお、工程1Bにおいて、PEDOT/PSS等を含む透明電極12aにコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、外周に疑似補助電極12bを形成した後に、さらに、この疑似補助電極12bの部分にPEDOT/PSS等の同じ材料をインクジェット印刷又はスクリーン印刷で塗布することにより、段差tを調製することもできる(工程1B2ともいう)。この場合でも、透明電極に使用される材料は、従来の補助電極に使用されているような材料に比べ、比較的薄く形成可能な材料が多いため、透明電極12aとの段差を小さく抑えつつ、かつ、透明電極12aよりも厚みがある疑似補助電極12bとすることができる。なお、この場合でも、十分に3μm以下の段差に留めることが可能である。
<ステップ13(S13)>(工程1Cともいう)
 図1(a)に示したように、Agペースト等を含む引出配線13をスクリーン印刷により、一端が疑似補助電極12bと重なるようにして形成する。
<ステップ14(S14)>
 図1(a)、(b)に示したように、透明樹脂基材11、透明電極12a、疑似補助電極12b及び引出配線13を覆うようにして、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーを被覆して粘着層14を形成する。
 ここでは、ステップ1(S11)でPET等を含む基材11の片面に、PEDOT/PSS等を含む透明電極12aを形成し、これにステップ2(S12)で低温乾燥処理を施して疑似補助電極12bを形成した後、ステップ3(S13)で引出配線13を形成したが、PET等を含む基材11の片面に引出配線13を形成するステップを最初に行ってもよい。
(第2実施形態)
 次に、本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサについて説明する。本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサの幾何学的構成及び構成材料は、第1実施形態に係る透明電極静電容量センサの幾何学的構成及び構成材料と同様であるので説明を省略する。第2実施形態に係る透明電極静電容量センサも、図1(a)、(b)、(c)に示した幾何学的構成を有する。
 本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法について図1(a)、(b)、(c)、図6により説明する。図6は、本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程を示すフロー図である。
<ステップ21(S21)>
 本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法においては、まず、ポリエチレンテレフタレート(PET)等を含む透明ポリマーの基材11の片面に、インクジェット印刷又はスクリーン印刷により、PEDOT/PSS等の透明導電材料の透明電極12aを形成する。
<ステップ22(S22)>
 透明電極12aの外周の少なくとも一部に、インクジェット印刷又はスクリーン印刷で透明電極12aと同じPEDOT/PSS等の透明導電材料を1回以上塗布(重ね塗り)し、図1(c)の段差tを生じるように、透明電極12aよりも厚さが厚い疑似補助電極12bを形成する。
<ステップ23(S23)>
 図1(a)に示したように、Agペースト等を含む引出配線13をスクリーン印刷により、一端が疑似補助電極12bと重なるようにして形成する。
<ステップ24(S24)>
 図1(a)、(b)に示したように、基材11、透明電極12a、疑似補助電極12b及び引出配線13を覆うようにして、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーを被覆して粘着層14を形成する。
 次に、本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法の変形例について図1(a)、(b)、(c)、図7により説明する。図7は、本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程の変形例を示すフロー図である。
<ステップ211(S211)>
 本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法の変形例においては、まず、ポリエチレンテレフタレート(PET)等を含む透明ポリマーの基材11の片面の疑似補助電極12bを形成する部分の少なくとも一部に、インクジェット印刷又はスクリーン印刷により、PEDOT/PSS等を1回以上塗布する。
<ステップ221(S221)>
 疑似補助電極12bの部分及び透明電極12aの部分の両方にインクジェット印刷又はスクリーン印刷により、PEDOT/PSS等を1回以上塗布する。疑似補助電極12bの部分はPEDOT/PSS等の重ね塗り状態となり、図1(c)の段差tが形成される。
<ステップ231(S231)>
 図1(a)に示したように、Agペースト等を含む引出配線13をスクリーン印刷により、一端が疑似補助電極12bと重なるようにして形成する。
<ステップ241(S241)>
 図1(a)、(b)に示したように、基材11、透明電極12a、疑似補助電極12b及び引出配線13を覆うようにして、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーを被覆して粘着層14を形成する。
 上記の、本発明の第2実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法、その変形例のいずれの方法によっても、図1(c)の段差tは6μm以下とすることができ、さらに、3μm以下とすることも可能である。
(第3実施形態)
 次に、本発明の第3実施形態に係る透明電極静電容量センサについて説明する。図8(a)は、本発明の第3実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図であり、図8(b)は図8(a)のA-A矢視断面図である。
 透明電極静電容量センサ1は、透明樹脂基材11と、透明樹脂基材11の片面に設けられた透明電極12aと、透明電極12aの外周部に設けられた疑似補助電極12bと、疑似補助電極12bに一端(一部)が接続され、疑似補助電極12bと透明樹脂基材11の間に配置された引出配線13と、図8(b)の上面に設けられた粘着層14と、を備える。透明樹脂基材11及び透明電極12aの性状、材料、好ましい厚さなどは、第1実施形態と同様である。
 引出配線13は、透明電極12aよりも低い電気抵抗を有するCu、Al、Ni、Ag又はAu等やそれらの合金を含む金属蒸着薄膜で構成される。また、上記のような金属を積層したような積層構造、例えば、下地をCuとして、その上にNiの中間層を設け、その上にコート層としてAuを設けるようにしてもよい。引出配線13の厚さは0.1ないし3μmであり、好ましくは、0.1ないし1μmであり、更に好ましくは0.1ないし0.5μmである。厚さが0.1μm以上であれば透明電極12aの抵抗値を減衰せずに安定した導電性を確保することができ、3μm以下であれば透明電極12aとの段差も充分小さく、1μm以下更には0.5μm以下であれば段差はより小さい。
 引出配線13と透明電極12aとの間に、透明電極12aと同じ材料からなり、透明電極12aよりも厚みを厚くした疑似補助電極12bを介在させることで検出感度のばらつきを抑制している点や、粘着層14の性状及び材料等は、第1実施形態と同様である。
 背景技術に対し、本発明の第3実施形態においては、透明電極12aと疑似補助電極12bを同じPEDOT/PSSを用いて構成しているため、タッチパネル等に使用したときに、疑似補助電極12bの部分が目立つことが少なく、従って意匠性の面で良好である。また、前述したように、一般に、透明電極に用いられる材料は薄く形成することが可能であるので、疑似補助電極12bを薄く形成できる。
 さらに、図8(b)に示すように、引出配線13と疑似補助電極12bとは、接続部で重なることになる。そこで、引出配線13を従来のようにAgペーストを用いて形成するのではなく、Cuなどの金属蒸着薄膜で形成するようにし、その厚さが0.1μm以上3μm以下と極めて薄い引出配線13としている。このため、引出配線13の厚みの影響で、引出配線13と疑似補助電極12bとが重なることになる接続部に接続部以外の疑似補助電極12bと比較して大きな段差が発生することを抑制することが可能である。この結果、接続部も含めた疑似補助電極12bの段差t(図8(b)参照)は、6μm以下と小さくできるので、この段差に起因して粘着層14を被覆する時に発生する気泡の問題が解消され、寄生容量が低減される。加えて、銀のような高価な材料を使用するのに比べて材料コストを低減することが可能である。
 また、図8(a)では、疑似補助電極12bは、透明電極12aの外周全周にわたって形成されているが、本発明の透明電極静電容量センサ1をタッチパネル等に応用した場合、透明電極12aよりも厚さが厚い疑似補助電極12bの長さは、透明電極12aの外周の周長の1/7以上あれば十分であることが確認されている。疑似補助電極部の面積を減らすことにより、広いビューエリアが確保される。
 次に、本発明の第3実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法について図8(a)、(b)図9、図12により説明する。図12は、本発明の第3実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程を示すフロー図である。
<ステップ31(S31)>(工程3Aともいう。)
 ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーの透明樹脂基材11の片面全面に真空蒸着法等の蒸着法によりCu、Al、Ag又はAu等の金属蒸着膜を厚さ0.1ないし3μm堆積させた金属蒸着薄膜付き透明樹脂基材フィルムにドライエッチング又はウエットエッチングでエッチングを施して金属蒸着薄膜を部分的に除去して引出配線13を形成する。
<ステップ32(S32)>(工程3Bともいう。)
 透明樹脂基材11のステップ31(S31)で形成した引出配線13の側の表面に、インクジェット印刷又はスクリーン印刷により、PEDOT/PSS等の透明導電材料の透明電極12aを、引出配線13の端部(一部)を覆うように形成する。
<ステップ33(S33)>(工程3Cともいう。)
 引出配線13及び透明電極12aを片面に備えた透明樹脂基材11に低温乾燥処理を施して、PEDOT/PSS等を含む透明電極12aにコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、図8(b)の段差tを生じるように、透明電極12aよりも厚さが厚い疑似補助電極12bを外周に形成する。ここで、図9によりコーヒーリング(フレーミング)現象について説明する。
 図9は、本発明の第3実施形態に係るコーヒーリング(フレーミング)現象を説明する図である。治具板15上に配置したポリエチレンテレフタレート(PET)等を含む透明樹脂基材11の片面に、PEDOT/PSS等の塗料をインクジェット印刷又はスクリーン印刷により塗工して透明電極12aを形成した後、乾燥条件として約60℃で低温乾燥硬化させると、PEDOT/PSS等の塗料は外周部へ移動する。これによって外周部分の厚みを厚くすることができる。この現象は、液体物が乾燥する過程で見られるコーヒーリング(フレーミング)と呼ばれる現象である。その後、約120℃で乾燥焼成を行い、透明電極12aの外周に透明電極12aと同じ材料を含む厚みの厚い疑似補助電極12bを有する部分の形成が完了する。
 上記の手法によれば、透明電極12aにPEDOT/PSSを用い、低温乾燥処理によってコーヒーリング現象を起させることで、透明電極12aと疑似補助電極12bを形成しているので、透明電極12aよりも厚さが厚いながらも、その厚みの差自体は十分に小さい疑似補助電極12bを形成することができる。具体的には、図8(b)の段差tは、6μm以下、さらには、3μm以下に形成することが可能である。
 PEDOT/PSS等を含む透明電極12aにコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、外周に疑似補助電極12bを形成すると、厚さ0.1ないし0.3μmの金属蒸着薄膜を含む引出配線13の端部(一部)は、図8(b)に示したように、疑似補助電極12bと透明樹脂基材11の間に配置される。
 なお、工程3Cにおいて、PEDOT/PSS等を含む透明電極12aにコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、外周に疑似補助電極12bを形成した後に、さらに、この疑似補助電極12bの部分にPEDOT/PSS等の同じ材料をインクジェット印刷又はスクリーン印刷で塗布することにより、段差tを調製することもできる(工程3C2ともいう)。この場合でも、透明電極に使用される材料は、従来の補助電極に使用されているような材料に比べ、比較的薄く形成可能な材料が多いため、透明電極12aとの段差を小さく抑えつつ、かつ、透明電極12aよりも厚みがある疑似補助電極12bとすることができる。なお、この場合でも、十分に3μm以下の段差に留めることが可能である。
<ステップ34(S34)>
 図8(a)、(b)に示したように、透明樹脂基材11、透明電極12a、疑似補助電極12b及び引出配線13を覆うようにして、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーを被覆して粘着層14を形成する。
 なお、図8(b)に示した配置では、透明樹脂基材11上に形成された引出配線13の端部(一部)上には、PEDOT/PSS等の透明導電性塗料を含む疑似補助電極12bが引出配線13の端部に直接接触して覆うように配置されている。この透明導電性塗料の溶媒は酸性であるため、金属蒸着薄膜を含む引出配線13の端部(一部)が酸化される可能性がある。そこで、工程3Aの後に、図10(a)、(b)に示したように、引出配線23bの端部(一部)と疑似補助電極22bの間に印刷法等によってカーボン層23aを形成し(工程3A2ともいう)、引出配線23bの端部(一部)と疑似補助電極22bとが直接接触しないようにすることで酸化されることを回避し、この接続部の信頼性を高めることができる。
(第4実施形態)
 次に、本発明の第4実施形態に係る透明電極静電容量センサについて説明する。本発明の第4実施形態に係る透明電極静電容量センサの構成及び材料は、図8(a)、(b)を参照しながら説明した第3実施形態に係る透明電極静電容量センサの構成及び材料と同様であり、同様の部分については説明を省略する。第4実施形態に係る透明電極静電容量センサと第3実施形態に係る透明電極静電容量センサとは製造方法の点で主に異なるので、以下では製造方法について主に説明する。
 本発明の第4実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法について図8(a)、(b)、及び図13を参酌しながら説明を行う。図13は、本発明の第4実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程を示すフロー図である。
<ステップ41(S41)>
 ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーの透明樹脂基材11の片面前面に真空蒸着法等の蒸着法によりCu、Al、Ag又はAu等の金属蒸着膜を厚さ0.1ないし3μm堆積させた金属蒸着薄膜付き透明樹脂基材フィルムにドライエッチング又はウエットエッチングでエッチングを施して金属蒸着薄膜を部分的に除去して引出配線13を形成する。
<ステップ42(S42)>
 透明樹脂基材11のステップ41(S41)で形成した引出配線13の側の表面に、インクジェット印刷又はスクリーン印刷により、PEDOT/PSS等の透明導電材料の透明電極12aを、引出配線13の端部(一部)を覆うように形成する。
<ステップ43(S43)>
 透明電極12aの外周の少なくとも一部に、インクジェット印刷又はスクリーン印刷で透明電極12aと同じPEDOT/PSS等の透明導電材料を1回以上塗布(重ね塗り)し、図8(b)の段差tを生じるように、透明電極12aよりも厚さが厚い疑似補助電極12bを形成する。
<ステップ44(S44)>
 図8(a)、(b)に示したように、透明樹脂基材11、透明電極12a、疑似補助電極12b及び引出配線13を覆うようにして、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーを被覆して粘着層14を形成する。
 次に、本発明の第4実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法の変形例について図8(a)、(b)及び図14を参照しながら説明を行う。図14は、本発明の第4実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程の変形例を示すフロー図である。
<ステップ411(S411)>
 ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーの透明樹脂基材11の片面前面に真空蒸着法等の蒸着法によりCu、Al、Ag又はAu等の金属蒸着膜を厚さ0.1ないし3μm堆積させた金属蒸着薄膜付き透明樹脂基材フィルムにドライエッチング又はウエットエッチングでエッチングを施して金属蒸着薄膜を部分的に除去して引出配線13を形成する。
<ステップ421(S421)>
 PET等を含む透明樹脂基材11の片面の疑似補助電極12bを形成する部分に、インクジェット印刷又はスクリーン印刷により、PEDOT/PSS等を1回以上塗布する。
<ステップ431(S431)>
 疑似補助電極12bの部分及び透明電極12aの部分の両方にインクジェット印刷又はスクリーン印刷により、PEDOT/PSS等を1回以上塗布する。疑似補助電極12bの部分はPEDOT/PSS等の重ね塗り状態となり、図8(b)の段差tが形成される。
<ステップ441(S441)>
 図8(a)、(b)に示したように、透明樹脂基材11、透明電極12a、疑似補助電極12b及び引出配線13を覆うようにして、PET等の透明ポリマーを被覆して粘着層14を形成する。
 本発明の第4実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法、その変形例のいずれの方法によっても、図8(b)の段差tは6μm以下とすることができ、さらに、3μm以下とすることも可能である。また、本発明の第4実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法においても、引出配線13の疑似補助電極12bが設けられる部分に、カーボン層を設けるようにすることで、引出配線13が酸化することを避けることができ、接続部の信頼性の高い透明電極静電容量センサを製造することができる。
(第5実施形態)
 次に、本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサについて説明する。図15(a)は、本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサの上面図であり、図15(b)は図15(a)のA-A矢視断面図であり、図15(c)は図15(b)の丸囲み部の拡大図である。
 透明電極静電容量センサ1は、透明樹脂基材11と、透明樹脂基材11上に設けられた透明電極12aと、透明電極12aの外周部に設けられ、外周の一部に切欠き部12cを有する疑似補助電極12bと、切欠き部12cにおいて透明電極12aに一端が接続された引出配線13と、図15(b)の上面に設けられた粘着層14と、を備える。透明電極12aと疑似補助電極12bは、同じ材料から形成されている。透明樹脂基材11及び透明電極12aの性状、材料、好ましい厚さなどは、第1実施形態と同様である。
 第5実施形態においては、引出配線13を疑似補助電極12bに直接接続しないようにするために、疑似補助電極12bの一部に切欠き部12cが設けられており、引出配線13は、この切欠き部12cの透明電極12aに接続されている。
 切欠き部12cにおける引出配線13と透明電極12aの接続部において、疑似補助電極12bと引出配線13の離間距離は、図15(a)に示した平面視で、引出配線13の厚さの1ないし10倍であることが好ましく、2ないし5倍であることがより好ましい。疑似補助電極12bと引出配線13の離間距離が引出配線13の厚さの1倍未満では気泡が混入するおそれがあり、10倍を超えると疑似補助電極12bの効果が小さくなる。
 図15(c)に示したように、引出配線13は透明電極12aの端部に接続されており、接続部では、引出配線13は段差tの分だけ透明電極12aより厚くなっている。
 引出配線13は、透明電極12aよりも低い電気抵抗を有する材料で構成される。例えば、引出配線13は、Agペーストを用いて構成してもよい。また、引出配線13は、Cu、Al、Ni、Ag又はAu等やそれらの合金を含む金属薄膜で構成してもよく、上記のような金属(Cu、Al、Ni、Ag又はAu等)を積層した積層構造、例えば、下地をCuとして、その上にNiの中間層を設け、その上にコート層としてAuを設けるような構造である引出配線13としてもよい。引出配線13が金属薄膜である場合、引出配線13の厚みは、0.1ないし3μm、好ましくは、0.1ないし1μm、更に好ましくは0.1ないし0.5μmである。厚さが0.1μm以上であれば透明電極12aの抵抗値を減衰せずに安定した導電性を確保することができ、3μm以下であれば透明電極12aとの段差も充分小さく、1μm更には0.5μm以下であれば段差はより小さい。このように、引出配線13は、導電性を確保しつつ、段差を小さくするという観点から金属薄膜とすることが好適である。ここで、背景技術では、検出感度のばらつきを抑制するために引出配線に用いられるのと同一又は類似の材料抵抗を有する材料を補助電極材料とし、この補助電極を引出配線と透明電極との間に介在させている。
 従来技術では、抵抗値や意匠性等といった全体の状態を考慮して銀の補助電極とされる場合が多く、この銀の補助電極を形成するために、銀ペーストが使用される。この銀ペーストは高精細印刷のために銀粒子と樹脂バインダの固形分比が高く、溶剤等の揮発分が少ない材料である。このため印刷後の厚みの変化が少ない。一般的なSUSメッシュによるスクリーン印刷版を用いたスクリーン印刷法では、通常、20μmから50μmの膜厚があり、さらに、膜厚を小さくすることを考えても、量産性を考慮すると、その1/4から1/5程度が限界となる。この膜厚によって印刷時の銀ペーストの塗布厚が決まり、銀ペーストは乾燥等の工程において、上述の通り、揮発成分が少ないため厚みがあまり薄くできない。また、さらに、補助電極を薄くするために、薄い超ハイメッシュなどで膜厚を薄くすることができなくはないが、この場合、非常に取り扱いがデリケートになりハンドリング性が悪くなる。これらのことから、量産性を考慮すれば、従来技術では透明電極と補助電極との間の段差を十分に小さくすることが難しい。
 一方、本発明では、透明電極12aの外周部に透明電極12aと同じ材料からなり、透明電極12aよりも厚みを厚くした疑似補助電極12bを設けることで検出感度のばらつきを抑制している。つまり、本発明では、透明電極12aと疑似補助電極12bとを同じ材料で形成しているため、材料の組成上の電気抵抗は同じである。しかしながら、疑似補助電極12bを透明電極12aよりも厚くしているので疑似補助電極12b部分としての電気抵抗は透明電極12a部分の電気抵抗よりも低くなる。但し、疑似補助電極12bの厚みが厚くなるのに従って疑似補助電極12bと透明電極12aとの段差が大きくなり、気泡の問題があることや、透明電極12aと同じ材料であっても厚みの増加により透明性が低下するため、意匠性の低下につながることから、透明電極12aと疑似補助電極12bの段差は、6μm以下が好ましく、4μm以下がより好ましく、3μm以下がもっとも好ましい。ここで、透明電極材料は、一般に、薄く印刷や塗布を行うことができる材料であることから、疑似補助電極12bの部分が透明電極12aより厚みがあるものとされるといっても、従来の銀ペーストなどにより形成される補助電極と比較すれば、十分に薄く構成することが可能であり、このため透明電極12aと疑似補助電極12bとの段差も十分に小さくすることができる。従って、気泡発生のおそれのある段差は、図15(c)のtであり、その段差発生部位は、図15(c)に示したように、引出配線13と透明電極12aの接続部の狭い領域に限定される。
 一方、引出配線13を金属薄膜で構成する場合には、透明樹脂基材11に金属を蒸着することで引出配線13を形成し、その後、透明電極12aや疑似補助電極12bを形成する。この場合、PEDOT/PSSを含む透明電極12aに引出配線13が直接接着しないように、引出配線13上にカーボン層を設け、そのカーボン層上に透明電極12aを設けるようにするのが好適である。PEDOT/PSS等の透明電極材料の溶液が酸性であるため、引出配線13上に直接接触するように透明電極材料を塗布すると引出配線13が酸化される可能性がある。そこで、引出配線13上に印刷法等によってカーボン層を形成し、そのカーボン層上に透明電極12aを形成するようにすると、上記のような引出配線13の酸化を回避することができる。このため、引出配線13と透明電極12aとの間にカーボン層を介在させるようにすることで接続状態の信頼性を高めることができる。粘着層14の性状及び材料等は、第1実施形態と同様である。
 背景技術に対し、第5実施形態においては、透明電極12aと疑似補助電極12bを同じPEDOT/PSSを用いて構成しているため、タッチパネル等に使用したときに、疑似補助電極12bの部分が目立つことが少なく、従って意匠性の面で良好である。さらに、後ほど詳細に説明する手法によって、第5実施形態においては、上記のように、透明電極12aと疑似補助電極12bの段差は6μm以下とすることができるので、気泡を生じる段差発生部は、上述のように、図15(a)に示した引出配線13と透明電極12aの接続部の狭い領域に限定される。従って、粘着層14の被覆時の気泡発生の問題は解消し、寄生容量は低減される。加えて、銀のような高価な材料を使用するのに比べて材料コストを低減することが可能である。
 また、図15(a)では、疑似補助電極12bは、透明電極12aの外周の一部を除き略全周にわたって形成されているが、本発明の透明電極静電容量センサ1をタッチパネル等に応用した場合、透明電極12aよりも厚さが厚い疑似補助電極12bの長さは、透明電極12aの外周の周長の1/7以上あれば十分であることが確認されている。疑似補助電極部の面積を減らすことにより、広いビューエリアが確保される。
 次に、本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法について図15(a)、(b)、(c)、図16、図22により説明する。図22は、本発明の第5実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造工程を示すフロー図である。
<ステップ51(S51)>
 ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーの透明樹脂基材11の片面に、印刷法を用いて所定のパターンとなるようにPEDOT/PSS等の透明導電材料を塗布して透明電極12aを形成する。
 なお、印刷法としては、インクジェット印刷、スクリーン印刷、PAD印刷、フレキソ印刷等の一般的な方法を用いることができる。この中でも、インクジェット印刷は形成する塗布パターンの自由度が高いので好適である。また、所定のパターンとするために、透明電極材料の塗布パターンを所定のパターンとなるように塗布するようにしてもよく、透明電極材料を塗布した後に、所定のパターンとなるようにドライエッチングなどでパターンニングを行うようにしてもよい。
<ステップ52(S52)>
 ステップ51(S51)で形成した透明電極12a上に、図16に示すように、切欠き部12cを形成するように、透明電極12aの外周に印刷法を用いてステップ1で用いたのと同じ材料の透明電極材料(PEDOT/PSS等)を塗布し、疑似補助電極12bを形成する。このように、疑似補助電極12bの部分は、透明電極材料が重ね塗りされるので透明電極12aよりも厚さが厚くなる。
 疑似補助電極12bは、透明電極12a上に透明電極材料を重ね塗りして透明電極12aよりも厚みが厚い部分とされているので、透明電極12aと疑似補助電極12bとの間には、段差ができる。しかしながら、透明電極材料は、前述したように、従来の銀ペースト等に比べ十分に薄く塗布することができるので、上記のようにして形成された疑似補助電極12bと透明電極12aとの間の段差も小さくすることが可能である。したがって、粘着層14を形成するときに段差部分に気泡が発生することが抑制され、その気泡に伴う寄生容量の低減ができるため透明電極静電容量センサの感度低下を防ぐことができる。疑似補助電極12bと透明電極12aとの間の段差は、6μm以下、さらには、3μm以下に形成することが可能である。
 なお、上記ステップ1及びステップ2では、それぞれ、透明電極材料の塗布を1回ずつ行った場合で説明したが、塗布の回数は、特に限定されるものではなく、透明電極12aを形成するために複数回(2回以上)の透明電極材料の塗布を行ってもよく、疑似補助電極12bを形成するために複数回(2回以上)の透明電極材料の塗布を行ってもよい。
 1回の透明電極材料の塗布によって所定の状態を得るよりも、より薄い塗布を複数回行うようにする方が、透明電極12aや疑似補助電極12bの厚みの細かい制御が行い易くなる。一方で、透明電極材料の塗布回数が増えると手間も増えることになるので、透明電極12aや疑似補助電極12bを形成するのに、それぞれ何回の透明電極材料の塗布を行うかは、厚み等の制御性の向上と手間の増加とを考慮して適切に定めればよい。
<ステップ53(S53)>
 図15(a)に示したように、Agペースト等を含む引出配線13をスクリーン印刷により、切欠き部12cで透明電極12aと重なるようにして形成する。Agペーストを含む引出配線13の厚さは、5ないし20μmである。
<ステップ54(S54)>
 図15(a)、(b)に示したように、透明樹脂基材11、透明電極12a、疑似補助電極12b及び引出配線13を覆うようにして、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明ポリマーを被覆して粘着層14を形成する。
 なお、上記では、透明電極12a及び疑似補助電極12bを形成した後に引出配線13を形成する手順を示したが、透明樹脂基材11上に先に引出配線13を形成してもよい。例えば、透明樹脂基材11上に金属蒸着で金属薄膜を形成し、ドライエッチングで所定の引出配線13を形成し、その後、ステップ1(透明電極12aの形成)及びステップ2(疑似補助電極12bの形成)を行うように透明電極材料の塗布を実施してもよい。この場合、上述したように、引出配線13の酸化を回避するために、透明電極材料が塗布されることとなる引出配線13の部分には、印刷法などによりカーボン層を形成しておき、透明電極材料が、直接、引出配線13に触れないようにしておくのが好適である。
 まず、上記した第1及び第2実施形態に係る実施例1ないし5について説明する。
(実施例1)
 図1(a)、(b)、(c)の構成で、ポリエチレンテレフタレート(PET)の基材11の上に、PEDOT/PSSを用いて透明電極12a及び疑似補助電極12bを形成した後、Agペーストの引出配線13を形成した。
 厚さ50μmのPETフィルムに、粘度約10CのPEDOT/PSS溶液をインクジェット装置を用いて所定のパターンに塗布して透明電極12aを形成した。それを約60℃の熱板上でゆっくり乾燥させたのち、120℃で約5分焼成することでコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、透明電極12aの外周部にPEDOT/PSSの疑似補助電極12bを形成した。次いで、疑似補助電極12bの一部に重なる形で、透明電極12aより電気抵抗が低いAgペーストを用いて引出配線13を形成した後、粘着層14を全面に形成して透明電極静電容量センサ1を得た。
(実施例2)
 図1(a)、(b)、(c)の構成で、ポリエチレンナフタレート(PEN)の基材11の上に、PEDOT/PSSを用いて透明電極12a及び疑似補助電極12bを形成した後、Agペーストの引出配線13を形成した。
 厚さ75μmのPENフィルムに、粘度約10CのPEDOT/PSS溶液をインクジェット装置を用いて所定のパターンに塗布して透明電極12aを形成した。それを約60℃の熱板上でゆっくり乾燥させたのち、120℃で約5分焼成することでコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、透明電極12aの外周部にPEDOT/PSSの疑似補助電極12bを形成した。次いで、疑似補助電極12bの一部に重なる形で、透明電極12aより電気抵抗が低いAgペーストを用いて引出配線13を形成した後、粘着層14を全面に形成して透明電極静電容量センサ1を得た。
(実施例3)
 図1(a)、(b)、(c)の構成で、ポリカーボネート(PC)の基材11の上に、PEDOT/PSSを用いて透明電極12a及び疑似補助電極12bを形成した後、Agペーストの引出配線13を形成した。
 厚さ100μmのPCフィルムに、粘度約10CのPEDOT/PSS溶液をインクジェット装置を用いて所定のパターンに塗布して透明電極12aを形成した。それを約60℃の熱板上でゆっくり乾燥させたのち、120℃で約5分焼成することでコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、透明電極12aの外周部にPEDOT/PSSの疑似補助電極12bを形成した。次いで、疑似補助電極12bの一部に重なる形で、透明電極12aより電気抵抗が低いAgペーストを用いて引出配線13を形成した後、粘着層14を全面に形成して透明電極静電容量センサ1を得た。
(実施例4)
 図3(a)、(b)の構成で、ポリエチレンテレフタレート(PET)の基材21の上に、Agペーストの引出配線23を形成した後、PEDOT/PSSを用いて透明電極22a及び疑似補助電極22bを形成した。
 厚さ50μmのPETフィルムに、スクリーン印刷法によりAgペーストを用いて引出配線23を形成し、その末端部に約1mm重なる位置に粘度約10CのPEDOT/PSS溶液をインクジェット装置を用いて所定のパターンに塗布して透明電極22aを形成した。それを約60℃の熱板上でゆっくり乾燥させたのち、120℃で約5分焼成することでコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、透明電極22aの外周部にPEDOT/PSSの疑似補助電極22bを形成した後、粘着層24を全面に形成して透明電極静電容量センサ2を得た。透明電極22aの厚みは約0.2μmであり、疑似補助電極22bの厚みは約1.0μmである。
(実施例5)
 図4(a)、(b)の構成で、ポリエチレンテレフタレート(PET)の基材31の上に、Agペーストの引出配線33を形成し、その端部にカーボン印刷33aを施した後、PEDOT/PSSを用いて透明電極32a及び疑似補助電極32bを形成した。
 厚さ50μmのPETフィルムに、スクリーン印刷法によりAgペーストを用いて引出配線33bを形成し、その末端部約2mmにPAD印刷法によりカーボン印刷33aを施し、さらにそのカーボン印刷33a上に約1mm重なる位置に粘度約10CのPEDOT/PSS溶液をインクジェット装置を用いて所定のパターンに塗布して透明電極32aを形成した。なお、カーボン印刷部分は約100Ω/□程度の表面抵抗である。それを約60℃の熱板上でゆっくり乾燥させたのち、120℃で約5分焼成することでコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、透明電極32aの外周部にPEDOT/PSSの疑似補助電極32bを形成した後、粘着層34を全面に形成して透明電極静電容量センサ3を得た。透明電極32aの厚みは約0.2μmであり、疑似補助電極32bの厚みは約1.0μmである。
 実施例1ないし5から、以下の(イ)、(ロ)、(ハ)の効果が得られることが明らかとなった。
(イ)実施例1、2、4においては、Agペースト等から形成された従来の補助電極と比べ、薄肉でかつ光透過性を有する疑似補助電極を形成することができ、透明電極と補助電極の段差が大きく低減され、粘着層形成時の気泡発生が抑制され、静電容量センサとして寄生容量の低減を図ることができた。また、補助電極が目立たなくなり、意匠性向上も達成できた。さらに、実施例2では、上記効果に加え、PENフィルムを基材と使用しているため、基材側のUV吸収性およびガスバリア性を向上させることができるので、基材側からのUVやガスによる影響を抑制することができた。
(ロ)実施例3においては、PCフィルムを基材として使用することで、実施例1、2の共通の効果に加えて、複屈折が小さく光学特性に優れた透明電極静電容量センサを形成することができた。
(ハ)実施例5では、実施例4の構成に、さらにPEDOT/PSSとAg引出配線の接続部にカーボン印刷を介在させている。PEDOT/PSS溶液は、酸性であるため、先に、Ag引出配線を形成するような場合には、この溶液とAg引出配線とが接触することで酸化される可能性がある。そこで、実施例5のように、この溶液と接触する部分にカーボン印刷を介在させることで、Ag引出配線が酸化することを避けることができ、この接続部の信頼性をさらに高めることができた。
 なお、疑似補助電極は、その厚み等によって変わるが、例えば、表面抵抗を約200Ω/□とすることができる。また、疑似補助電極は、透明電極よりも0.1μm以上、0.2μm以上、さらには、0.5μm以上厚い厚みを有するように形成されることが好適であり、このようにすることで、透明電極部分と疑似補助電極部分とが同じ材料でありながら、疑似補助電極部分の電気抵抗を低くできる。
 次に、上記した第3及び第4実施形態に係る実施例6ないし8について説明する。
(実施例6)
 図8(a)、(b)の構成で、ポリエチレンテレフタレート(PET)の透明樹脂基材11の上に、Cuの金属蒸着薄膜の引出配線13を形成した後、PEDOT/PSSを用いて透明電極12a及び疑似補助電極12bを形成した。
 厚さ50μmのPETフィルム上に全面にCuを蒸着してからエッチングを施して、Cuの金属蒸着薄膜の引出配線13を形成した。さらに、引出配線13の末端部約1mmだけ重なるように、インクジェット装置を用いて粘度約10CpのPEDOT/PSS溶液を所定のパターンで塗布した。それを約60℃の熱板上でゆっくり乾燥させた後120℃で約5分焼成することでコーヒーリング(フレーミング)現象を起させ、透明電極12aの外周部にPEDOT/PSSの疑似補助電極12bを形成した。次いで、粘着層14を全面に形成して透明電極静電容量センサ1を得た。
(実施例7)
 図10(a)、(b)の構成で、PETの透明樹脂基材21の上に、Cuの金属蒸着薄膜の引出配線23bを形成し、さらに引出配線23bの端部を覆うようにカーボン層23aを形成した後、PEDOT/PSSを用いて透明電極22a及び疑似補助電極22bを形成した。
 厚さ50μmのPETフィルム上に全面にCuを蒸着してからエッチングを施して、Cuの金属蒸着薄膜の引出配線23bを形成し、その引出配線23bの端部約2mmにPAD印刷法によりカーボン層23aを形成した。さらに、カーボン層23aの端部約1mmだけ重なるように、インクジェット装置を用いてPEDOT/PSS溶液を塗布した。このとき外周部は0.5mmの幅で厚肉となるように塗布した。そして、120℃で約5分焼成することで透明電極22a及び疑似補助電極22bを形成した。次いで、粘着層24を全面に形成して透明電極静電容量センサ2を得た。
(実施例8)
 図11(a)、(b)の構成で、PETの透明樹脂基材31の上に、Cuの金属蒸着薄膜の引出配線33c、33bを形成し、Agナノワイヤ分散PEDOT/PSSを用いて透明電極32a、32e及び疑似補助電極32b、32dを形成した。
 厚さ100μmのPETフィルム上に全面にCuを蒸着してからエッチングを施して、Cuの金属蒸着薄膜の引出配線33c、33bを形成した。さらに、引出配線13の末端部約1mmだけ重なるように、インクジェット装置を用いてAgナノワイヤ分散PEDOT/PSS溶液を送信電極と受信電極が一体化した所定のパターンで外周部の0.5mmの幅について厚肉となるように塗布し、低温で仮焼成を行った後、UV硬化させた。その後、ドライエッチングを施してAgナノワイヤ分散PEDOT/PSSを含む透明電極32a(送信側)と疑似補助電極32b、及び透明電極32e(受信側)と疑似補助電極32dを分割形成した。次いで、粘着層34を全面に形成して透明電極静電容量センサ3を得た。
 実施例6ないし8から、以下の(イ)、(ロ)の効果が得られることが明らかとなった。
(イ)実施例6、8においては、PETフィルム上にあらかじめ設けたCu蒸着薄膜を引出配線として用いることで、引出配線と疑似補助電極との接続部も含め疑似補助電極に極めて段差の少ない引出配線を高精細に施すことが可能になり、ビューエリア割合が大きく、屈曲性が非常によい透明電極静電容量センサを製造できた。
(ロ)実施例7においては、実施例1のCu蒸着薄膜とPEDOT/PSS疑似補助電極の間にカーボン層を介在させることにより、引出配線が酸化することを避けることができ、実施例6よりさらに接続部の信頼性の高い透明電極静電容量センサを製造することができた。
 なお、疑似補助電極は、PEDOT/PSSの場合、その厚み等によっても変わるが、例えば、表面抵抗を約200Ω/□とすることができる。一方、Agナノワイヤ分散PEDOT/PSSの場合には、さらに、抵抗値を低くすることができ、Agナノワイヤ分散PEDOT/PSSを透明電極に使用すると、透明電極の表面抵抗を、例えば、約80Ω/□とすることができ、疑似補助電極に使用すると、疑似補助電極の表面抵抗を、例えば、約40ないし50Ω/□とすることができる。また、疑似補助電極は、透明電極よりも0.1μm以上、0.2μm以上、さらには、0.5μm以上厚い厚みを有するように形成されることが好適であり、このようにすることで、透明電極部分と疑似補助電極部分とが同じ材料でありながら、疑似補助電極部分の電気抵抗を低くできる。
 次に、上記した第5実施形態に係る実施例9ないし13について説明する。
(実施例9)
 図17(a)、(b)の構成で、ポリエチレンテレフタレート(PET)の透明樹脂基材21の上に、PEDOT/PSSを用いて透明電極22a及び疑似補助電極22bを形成した後、疑似補助電極22bの1辺の外側(図17(a)の右側)に残した透明電極22aに接続されたAgペーストの引出配線23を形成した。
 厚さ50μmのPETフィルムの透明樹脂基材21に、粘度約10CのPEDOT/PSS溶液をインクジェット法を用いて所定のパターンに塗布して透明電極22aを形成した。その後、同じ粘度約10CpのPEDOT/PSS溶液をインクジェット法を用いて、図17(a)に示すように、疑似補助電極22bの1辺の外側(図右側)に、透明電極22aを残すようにして疑似補助電極22bを形成した。次いで、疑似補助電極22bの1辺の外側に残された透明電極22aの一部に重なる形で、透明電極22aより電気抵抗が低いAgペーストを用いて引出配線23を形成した後、粘着層24を全面に形成して透明電極静電容量センサ2を得た。
 透明電極22aの厚さは0.05ないし5μm、疑似補助電極22bの透明電極22a上の追加厚さは0.3ないし3μm、Agペーストの引出配線23の厚さは5ないし20μmである。
(実施例10)
 図18(a)、(b)の構成で、ポリエチレンテレフタレート(PET)の透明樹脂基材31の上に、PEDOT/PSSを用いて透明電極32a及び1辺の外側(図18(a)の右側)に1対の突起部32cを有する疑似補助電極32bを形成した後、疑似補助電極32bの1対の突起部32cの間の部分に設けた透明電極32aに接続されたAgペーストの引出配線33を形成した。
 厚さ50μmのPETフィルムの透明樹脂基材31に、粘度約10CのPEDOT/PSS溶液をインクジェット装置を用いて所定のパターンに塗布して透明電極32aを形成した。その後、同じ粘度約10CpのPEDOT/PSS溶液をインクジェット法を用いて、図18(a)に示すように、疑似補助電極32bの1辺の外側(図右側)に、透明電極32aを残すように、1対の突起部32cを有する疑似補助電極32bを形成した。次いで、疑似補助電極の1対の突起部32cの間の透明電極32aの一部に重なる形で、透明電極32aより電気抵抗が低いAgペーストを用いて引出配線33を形成した後、粘着層34を全面に形成して透明電極静電容量センサ3を得た。
 透明電極32aの厚さは0.05ないし5μm、疑似補助電極32bの1対の突起部32cの追加厚さは0.3ないし3μm、Agペーストの引出配線33の厚さは5ないし20μmである。
(実施例11)
 図19(a)、(b)の構成で、ポリエチレンテレフタレート(PET)の透明樹脂基材41の上に、PEDOT/PSSを用いて透明電極42a及び1辺の外側(図19(a)の右側)に1対の突起部42cを有する疑似補助電極42bを形成した。疑似補助電極42bの1対の突起部42cの間の部位にあらかじめCu蒸着により引出配線43のパターンを形成しておき、その上に透明電極42aを形成した。
 厚さ50μmのPETフィルムの透明樹脂基材41の所定の部位にCu蒸着により引出配線43のパターンを形成した後、粘度約10CのPEDOT/PSS溶液をインクジェット装置を用いて所定のパターンに塗布して透明電極42aを形成した。その後、同じ粘度約10CpのPEDOT/PSS溶液をインクジェット法を用いて、図19(a)に示すように、疑似補助電極42bの1辺の外側(図右側)の引出配線43が位置する部分の透明電極42aを残すように、1対の突起部42cを有する疑似補助電極42bを形成した。透明樹脂基材41上にあらかじめ形成された透明電極42aより電気抵抗が低いCu蒸着による引出配線43の1端は、疑似補助電極42bの1対の突起部42cの間の透明電極42aの端部に1mm重なる形で配置されている。次いで、粘着層44を全面に形成して透明電極静電容量センサ4を得た。
 透明電極32aの厚さは0.05ないし5μm、疑似補助電極32bの1対の突起部32cの追加厚さは0.3ないし3μm、Cu蒸着による引出配線43の厚さは0.1ないし3μmである。
(実施例12)
 図20(a)、(b)の構成で、ポリエチレンテレフタレート(PET)の透明樹脂基材51の上に、PEDOT/PSSを用いて透明電極52a及び疑似補助電極52bを形成した後、疑似補助電極52bの1対の突起部52cの間の部分に設けた透明電極52aに接続されたAgペーストの引出配線53を形成した。
 厚さ50μmのPETフィルムの透明樹脂基材51に、粘度約10CのPEDOT/PSS溶液を用いてインクジェット法により所定のパターンに塗布して透明電極52aを形成した。次いで、同じ粘度約10CのPEDOT/PSS溶液をインクジェット法により、図20(a)に示した形状のPEDOT/PSSの疑似補助電極52bと1対の突起部52cを形成した。図20(a)の透明電極52aの内部に設けた疑似補助電極52bの厚さは、実施例9、10(図17(a)、図18(a))で透明電極22a、32aの外周部に形成した疑似補助電極22b、32bの厚さより薄く形成した。図20(a)の疑似補助電極の1対の突起部52cの厚さは、実施例9、10(図17(a)、図18(a))で透明電極22a、32aの外周部に形成した疑似補助電極22b、32bの厚さと同等とした。次いで、疑似補助電極の1対の突起部52cの間に設けた透明電極52aの一部に重なる形で、透明電極32aより電気抵抗が低いAgペーストを用いて引出配線53を形成した後、粘着層54を全面に形成して透明電極静電容量センサ5を得た。
 透明電極52aの厚さは0.05ないし5μm、疑似補助電極32bの1対の突起部52cの追加厚さは0.3ないし3μm、Agペーストの引出配線33の厚さは5ないし20μmである。
(実施例13)
 図21(a)、(b)の構成で、ポリエチレンテレフタレート(PET)の透明樹脂基材61の上に、Agナノワイヤ分散PEDOT/PSSの透明電極62a及びAgナノワイヤ分散PEDOT/PSSの疑似補助電極62bを形成した後、疑似補助電極の1対の突起部62cの間の部分に設けられた透明電極62aに接続されたAgペーストの引出配線63を形成した。
 厚さ50μmのPETフィルムの透明樹脂基材61に、粘度約10CのAgナノワイヤ分散PEDOT/PSS溶液を用いてインクジェット法により所定のパターンに塗布して透明電極62aを形成した。次いで、Agナノワイヤ分散PEDOT/PSS溶液を用いてインクジェット法により、図21(a)に示した形状の疑似補助電極62bと1対の突起部62cを形成した。図21(a)の透明電極62aの内部に設けた疑似補助電極62bの厚さは、実施例9、q0(図17(a)、図18(a))で透明電極22a、32aの外周部に形成した疑似補助電極22b、32bの厚さより薄く形成した。図21(a)の疑似補助電極の1対の突起部62cの厚さも、実施例9、10(図17(a)、図18(a))で透明電極22a、32aの外周部に形成した疑似補助電極22b、32bの厚さより薄くした。次いで、疑似補助電極の1対の突起部62cの間に設けられた透明電極62aの一部に重なる形で、透明電極62aより電気抵抗が低いAgペーストを用いて引出配線63を形成した後、粘着層64を全面に形成して透明電極静電容量センサ6を得た。
 透明電極62aの厚さは0.05ないし5μm、Agナノワイヤを含む疑似補助電極の1対の突起部62cの追加厚さは0.1ないし1μm、Agペーストの引出配線63の厚さは5ないし20μmである。
 実施例9ないし13から、以下の(イ)、(ロ)、(ハ)、(ニ)の効果が得られることが明らかとなった。
(イ)実施例9、10においては、従来の銀インク等による補助電極に比べ、薄肉で且つ光透過性を持った疑似補助電極を形成することで、補助電極との段差発生部分が大きく縮小され、それによるOCA層との界面の気泡抑制と寄生容量の低減を図ることができた。また、引出配線が電極のビューエリアより外側に配置することにより目立たなくなり意匠性向上も達成できた。
(ロ)実施例11においては、実施例9、10に比べてCu蒸着膜から引出配線が薄いため、段差発生部分をほとんどなくすことができた。
(ハ)実施例12においては、実施例9、10に比べて透明電極部の中央部分の特性安定化が可能となった。
(ニ)実施例13においては、実施例11に比べ、導電性の高いAgナノワイヤ分散PEDOT/PSSを疑似補助電極に用いることで、中央部の疑似補助電極をさらに目立たなくでき、意匠性を向上できた。
 なお、疑似補助電極は、PEDOT/PSSの場合、その厚み等によっても変わるが、例えば、表面抵抗を約200Ω/□とすることができる。一方、Agナノワイヤ分散PEDOT/PSSの場合には、さらに、抵抗値を低くすることができ、Agナノワイヤ分散PEDOT/PSSを透明電極に使用すると、透明電極の表面抵抗を、例えば、約80Ω/□とすることができ、疑似補助電極に使用すると、疑似補助電極の表面抵抗を、例えば、約40ないし50Ω/□とすることができる。また、疑似補助電極は、透明電極よりも0.1μm以上、0.2μm以上、さらには、0.5μm以上厚い厚みを有するように形成されることが好適であり、このようにすることで、透明電極部分と疑似補助電極部分とが同じ材料でありながら、疑似補助電極部分の電気抵抗を低くできる。
 上記で説明した通り、本発明の実施形態に係る透明電極静電容量センサの製造方法によって、透明電極と疑似補助電極の段差は6μm以下とすることができ、さらに、3μm以下とすることも可能である。
(実施形態の効果)
 上記で説明してきたとおり、本発明に係る各実施形態は、背景技術と異なり、透明電極の外周の一部に設ける補助電極を透明電極と同じ材料を含む疑似補助電極で形成している。このため、従来の補助電極に比べ、透明性があり目立たないので意匠性に優れる。また、補助電極に銀などの高価な材料を使用しているものと比較すると、疑似補助電極は透明電極と同じ材料であるため材料コストを抑えることができる。さらに、透明電極と同じ材料を用いて構成していることで透明電極よりも厚みが厚くされるといっても、従来の補助電極に用いられている材料と比較すれば、疑似補助電極は、かなり薄く形成できるので透明電極と疑似補助電極との段差は、極めて小さく、このため段差に起因する粘着層形成時の気泡の発生が抑制され、寄生容量の低減が可能である。加えて、スクリーン印刷やインクジェット印刷で形成する場合には、疑似補助電極を形成する範囲に対する自由度も高いので疑似補助電極の面積を減らし、ビューエリアの拡大も好適に行うことができる。
 なお、上記でも説明してきたとおり、透明電極に使用される材料を何度か印刷することで透明電極と疑似補助電極が形成される場合がある。この場合、各印刷(塗布)毎に用いられる材料は、基本的に同じ材料(同じ透明電極用材料)を用いるが、例えば、塗布し、乾燥工程が終わるまでの間に材料が塗布していないところに流れ出たりすることを防止するために粘度を調節する必要がある場合などがあり、このときには適切な粘度となるように希釈剤などの分量を調整してもよい。希釈剤などは、基本的に、乾燥工程などで気化し、ほとんど残らないが微量に成分が残ることもあり得る。しかしながら、この程度の差は、同じ材料と解されるものである。
 また、上記の具体的な説明は、インクジェット印刷法やスクリーン印刷法を例示して行ってきたが、それ以外にもPAD印刷法やフレキソ印刷法なども用いることができ、一般的な印刷法を用いることが可能であることは明らかである。さらに、第3及び第4実施形態では、導電性ポリマーを形成するPEDOT/PSS溶液にAgナノワイヤを分散させた場合を示したが、Agナノワイヤ自体が導電性を発揮するので、導電性でないポリマーを形成するような溶液でもよい。加えて、第5実施形態では、透明電極62aや疑似補助電極62b(突起部62c含む)などをAgナノワイヤのみで形成するようにしてもよい。
 以上、実施形態を用いて本発明を説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されないことは言うまでもない。上記実施形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。またその様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
1、2、3、4、5、6、7…透明電極静電容量センサ;
11、21、31、41、51、61、71…透明樹脂基材;
12a、22a、32a、42a、52a、62a、72…透明電極;
12b、22b、32b、32d、42b、52b、62b、73a…疑似補助電極;
12c…切欠き部;
13、23、23b、33、33b、33c、43、43b、53、63、73b…引出配線;
14、24、34、44、54、64、74…粘着層;
15…治具板;
23a…カーボン層;
32a…透明電極(送信側);
32e…透明電極(受信側);
33a…カーボン印刷;
32c、42c、52c、62c…1対の突起部;
43a…補助電極;
、t…段差;
 

Claims (14)

  1.  透明樹脂基材と、
     前記透明樹脂基材上に設けられた少なくとも1以上の透明電極と、
     前記透明電極の外周の少なくとも一部に設けられた疑似補助電極と、
     前記疑似補助電極に接続された引出配線と、を備え、
     前記疑似補助電極は前記透明電極よりも厚さが厚くかつ前記透明電極と同じ材料を含むことを特徴とする透明電極静電容量センサ。
  2.  前記引出配線が前記透明樹脂基材上に設けられ、かつ、金属蒸着薄膜を含むことを特徴とする請求項1に記載の透明電極静電容量センサ。
  3.  前記引出配線が前記透明電極を介して前記疑似補助電極に接続されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明電極静電容量センサ。
  4.  前記疑似補助電極は、前記透明電極の厚さに6μmを加えた厚さを超えない範囲で、前記透明電極の厚さよりも厚く形成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の透明電極静電容量センサ。
  5.  前記疑似補助電極は、前記透明電極の厚さに4μmを加えた厚さを超えない範囲で、前記透明電極の厚さよりも厚く形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明電極静電容量センサ。
  6.  前記疑似補助電極は前記透明電極の外周の1/7以上の範囲に設けられていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の透明電極静電容量センサ。
  7.  前記引出配線が0.1μm以上3μm以下の厚みに形成されていることを特徴とする請求項2又は3に記載の透明電極静電容量センサ。
  8.  前記引出配線には、前記疑似補助電極と接続される部分にカーボン層が設けられ、前記引出配線と前記疑似補助電極との前記接続がカーボン層を介して行われることを特徴とする請求項2に記載の透明電極静電容量センサ。
  9.  前記疑似補助電極と前記引出配線とは、平面視で前記引出配線の厚さの1ないし10倍の距離だけ離間していることを特徴とする請求項3に記載の透明電極静電容量センサ。
  10.  前記引出配線上に、さらにカーボン層が設けられ、
     前記カーボン層の設けられた前記引出配線の部分が、前記透明電極を介して前記疑似補助電極に接続されていることを特徴とする請求項3に記載の透明電極静電容量センサ。
  11.  透明樹脂基材上にコーヒーリング現象を起こす粘度を有する透明導電材料を設ける工程1Aと、
     前記透明導電材料をコーヒーリング現象が起きる乾燥条件で乾燥硬化させ、透明電極と、前記透明電極の外周に前記透明電極よりも厚さが厚い疑似補助電極とを形成する工程1Bと、
     前記疑似補助電極に接続した引出配線を形成する工程1Cと、を備えることを特徴とする透明電極静電容量センサの製造方法。
  12.  前記工程1Bの後に、前記疑似補助電極上の少なくとも一部の厚みを厚くする工程1B2を備え、
     前記工程1B2は、同じ前記透明導電材料を含む層を、前記疑似補助電極上の少なくとも一部に印刷法で形成する工程であることを特徴とする請求項11に記載の透明電極静電容量センサの製造方法。
  13.  透明電極静電容量センサの製造方法であって、
     透明樹脂基材上に金属蒸着薄膜を含む引出配線を形成する工程3Aと、
     前記透明樹脂基材上にコーヒーリング現象を起こす粘度を有する透明導電材料を一部が前記引出配線の一部と重なるように設ける工程3Bと、
     前記透明導電材料をコーヒーリング現象が起きる乾燥条件で乾燥硬化させ、透明電極と、前記透明電極の外周に前記透明電極よりも厚さが厚い疑似補助電極とを形成する工程3Cと、を備えることを特徴とする透明電極静電容量センサの製造方法。
  14.  前記工程3Aの後に、前記引出配線の前記一部を覆うようにカーボン層を形成する工程3A1と、
     前記工程3Cの後に、同じ前記透明導電材料を含む層を、前記疑似補助電極上の少なくとも一部の厚みを厚くする工程3C2と、を備え、
     前記工程3C2は、同じ前記透明導電材料を含む層を、前記疑似補助電極上の少なくとも一部に印刷法で形成する工程であることを特徴とする請求項13に記載の透明電極静電容量センサの製造方法。
     
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