WO2015029262A1 - 光学部材の製造方法並びに光学部材、光学部材形成用透明部材、光導波路及び光モジュール - Google Patents

光学部材の製造方法並びに光学部材、光学部材形成用透明部材、光導波路及び光モジュール Download PDF

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optical
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transparent
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大地 酒井
雅夫 内ケ崎
黒田 敏裕
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Definitions

  • the present invention relates to an optical member manufacturing method, an optical member, a transparent member for forming an optical member, an optical waveguide, and an optical module.
  • Antireflection members are used in various applications, and in particular, a film-like antireflection member is attached to a device body or member such as a display.
  • the antireflection function includes a high refractive index portion and a low refractive index portion made of a transparent material such as a metal oxide on a transparent base material, and an antireflection film can be formed by forming a multilayer structure of these repeated structures.
  • These multilayer structures can generally be formed by a dry film forming method such as a physical vapor deposition (PVD) method or a chemical vapor deposition (CVD) method.
  • PVD physical vapor deposition
  • CVD chemical vapor deposition
  • optical interconnection technology using optical signals not only for communication fields such as trunk lines and access systems but also for information processing in routers and servers is underway.
  • an opto-electric composite board in which an optical transmission path is combined with an electric wiring board has been developed.
  • an optical transmission line it is desirable to use an optical waveguide that has a higher degree of freedom of wiring and can be densified than an optical fiber, and in particular, an optical waveguide that uses a polymer material with excellent workability and economy. Is promising.
  • this optical waveguide for example, in Patent Document 1, after a lower clad layer is cured and formed on a carrier film, a core pattern forming resin is formed on the lower clad layer, and exposure and etching are performed. Further, there is described a structure in which a core pattern is formed and an upper clad layer is laminated.
  • the antireflection member is formed by using the dry film forming method described above, it is necessary to perform the film formation in a vacuum, so there is a problem of low productivity, and the transparent member is damaged by exposure to the vacuum. If the film shape is curved (including when it is curved during manufacturing), is complicated, or if it is a transparent member with an intricate shape, positional variations in the refractive index may occur. I was concerned. Further, in the case of an optical waveguide in which a core pattern is formed by etching as described in Patent Document 1, the core pattern is caused by the roughness of the interface between the cladding and the core pattern, the non-uniformity of the refractive index in the core pattern due to the etching solution, and the like.
  • the present invention has been made in view of the solution of the above problems, and is excellent in mass productivity.
  • the present inventors have characterized the transparent member to be used.
  • the transparent member used is exposed to a solution, and the refractive index of the exposed exposed portion of the transparent member is set to the transparent member.
  • An optical member manufacturing method comprising the step A of making the refractive index substantially lower than the refractive index of the central portion of the transparent member that is not the exposed portion of the member, and the transparent member for forming an optical member exhibiting such characteristics as a core pattern
  • the step of exposing the transparent member to a solution, and making the refractive index of the surface layer portion of the transparent member exposed to the solution substantially lower than the refractive index of the central portion of the transparent member not exposed to the solution A method for producing an optical member having A.
  • the solution contains a refractive index control agent that exhibits a function of substantially reducing the refractive index of the surface layer portion by being contained in the surface layer portion of the transparent member.
  • the transparent member is made to contain a refractive index control agent that substantially lowers the refractive index of the transparent member in the surface layer portion of the transparent member, and the refractive index of the surface layer portion containing the refractive index control agent is refracted.
  • the manufacturing method of the optical member which has process A 'made substantially lower than the refractive index of the center part of the said transparent member which does not contain the rate control agent.
  • the transparent member is a transparent member that can be etched with an etching solution, and has a process B that is patterned by etching, and the process B is performed simultaneously with the process A or the process A ′, or 5.
  • the transparent resin is a photosensitive transparent resin, and an actinic ray capable of photocuring the photosensitive transparent resin before the step A or the step A ′ or / and before the step B.
  • the optical waveguide according to (15) is an optical waveguide in which a lower clad layer, a core pattern, and an upper clad layer are laminated, and further has a refractive index outside the surface layer portion having the low refractive index.
  • the core pattern having the periphery of two or more sides is a core pattern including at least two sides of both side walls.
  • the refractive index difference between the low refractive index region and the lower cladding layer or / and the upper cladding layer is larger than the refractive index difference between the core pattern center and the low refractive index region around the core pattern.
  • the optical member manufacturing method of the present invention is excellent in mass productivity, and can control the refractive index in the vicinity of the surface layer portion and the central portion of the core pattern of the transparent member with high positional accuracy. It is a manufacturing method of the optical member suitable for. Further, the optical waveguide of the present invention has a low optical propagation loss by using a specific core pattern.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of an optical waveguide according to the present invention.
  • One of the methods for producing an optical member of the present invention is that the transparent member is exposed to a solution, and the refractive index of the exposed exposed portion of the transparent member is substantially higher than the refractive index of the central portion of the transparent member that is not the exposed portion of the transparent member.
  • the process A which makes it low automatically has. Thereby, since the transparent member which has a site
  • transparent in the present invention refers to transparency with respect to the wavelength of light used in the optical member of the present invention, and it is sufficient that it has transparency that does not adversely affect light propagation.
  • the refractive index can be substantially lowered means that the exposed portion of the solution is lowered by exposing the transparent member to the solution, as well as through a subsequent process. Finally, a difference in refractive index is generated, which means that the refractive index becomes relatively low.
  • the step in which the difference in refractive index occurs may be immediately after this step A, or may be after the step B for patterning or the step D for thermosetting, which will be described later.
  • the exposed portion of the optical member can be controlled under a uniform condition.
  • the exposed surface has a low refractive index
  • the refractive index difference between the surface opposite to the subject can be reduced.
  • the type of transparent member is not particularly limited, and any material that can cause a difference in refractive index may be used.
  • Examples of a method of generating a refractive index difference of the transparent resin using a solution include: (a) a method of generating a refractive index difference by creating a sparse and sparse portion at the exposed portion of the transparent member with the solution; ) A method in which a high refractive index component soluble in a solution is previously contained in a transparent member, and the high refractive index soluble component is dissolved in the solution to cause a refractive index difference; (c) a lower refractive index than that of the transparent member There is a method in which a refractive index difference is generated by exposing and impregnating the transparent member with a solution containing the component and fixing the low refractive index component as a refractive index control agent in the transparent member.
  • the molecular structure and the molecular network pattern can be changed through a post-process. Any method may be used as the above-described method for producing the refractive index difference. In the present invention, it is important that the refractive index of the portion exposed and impregnated with the solution is substantially lowered. In addition, the obtained optical member is transparent and may not cause diffusion or scattering of transmitted light.
  • the transparent member may be impregnated with a solution that can substantially reduce the refractive index. Impregnation means to penetrate to an arbitrary depth direction, and the refractive index modulation in the depth direction can be performed by appropriately adjusting the concentration, amount, time, temperature, pressure, etc. of the solution to be exposed.
  • the refractive index from the surface of the optical member to the center direction (exposure direction) is generally formed so that gradation is applied, but the refractive index is uniform up to a certain depth. It may have changed.
  • the transparent member to be described later is a resin
  • the penetration depth due to the exposure of the solution and the penetration amount of the solution tend to be in an inversely proportional tendency, which tends to be the former.
  • the “solution capable of substantially reducing the refractive index” as used in the present invention means a low refractive index that remains in the vicinity of the surface layer portion of a transparent member that is liquid at room temperature and used in the production of gradient index optical components and the like.
  • a liquid consisting of only a monomer group it does not indicate a liquid consisting of only a monomer group.
  • a mixed solution thereof, or other components for example, an alkali component, an acid component, a solution
  • the present invention avoids adverse effects due to dissolution or swelling of the transparent member by using a solution containing water as a main component in step A, the low refractive index of the surface layer portion in a state where the shape of the transparent member is sufficiently retained. It has the advantage that it can be made.
  • the pattern shape formed in the patterning step B described later can be obtained with high accuracy by treating with the aqueous solution.
  • the refractive index of an arbitrary part can be modulated by including a refractive index controlling agent in a part of the transparent member.
  • the present invention is characterized in that a function of substantially reducing the refractive index of the surface layer portion is exhibited by including this refractive index control agent in the surface layer portion of the transparent member.
  • the refractive index control agent is preferably not a substance having an absorption band with respect to the light to be used (transmission reduction factor) or a void (diffusion / scattering factor) from the viewpoint of transparency and haze.
  • a refractive index control agent having an effect capable of substantially lowering the refractive index of the transparent member is preferably contained.
  • the refractive index control agent is simultaneously exposed to and impregnated into the transparent member by exposing and impregnating the solution, and it is easy to form a site where the refractive index is relatively low.
  • a transparent member is made to contain a refractive index control agent that substantially lowers the refractive index of the transparent member in the surface layer portion of the transparent member, and the surface layer portion containing the refractive index control agent.
  • Step A ′ in which the refractive index is substantially lower than the refractive index of the central portion of the transparent member not containing the refractive index control agent.
  • step A ′ a method of preliminarily containing a refractive index control agent in the surface layer of the transparent member at the stage of preparing the transparent member, and preparing the transparent member, and then exposing or impregnating the solution Both methods of inclusion in the surface layer are included.
  • the refractive index of the surface layer portion may be relatively lowered as a result, for example, through a post-process such as thermosetting.
  • a transparent member having a portion having a different refractive index can be formed in the same manner as in step A described above, and therefore, it can be used for an antireflection film member, a core pattern of an optical waveguide to be described later, and the like.
  • the transparent member is a transparent member that can be etched with an etching solution, and if the transparent member has a process B that is patterned by etching, the transparent member can be processed into an arbitrary shape. Further, by performing the above-described step A or step A ′ simultaneously with or after the step B for patterning the transparent member, it is possible to reduce the refractive index in the vicinity of the side wall surface layer portion of the patterned transparent member. It becomes.
  • the transparent member when the transparent member can be etched, a plurality of transparent members can be collectively formed, and the productivity is excellent.
  • the type of transparent member is not particularly limited as long as the refractive index can be substantially lowered by exposure to a solution or the inclusion of a refractive index control agent.
  • the transparent member if the transparent member is a transparent resin, processing is easy. It is preferable from a certain point of view, and when the above-described refractive index control agent is a cation, it is easy to expose and impregnate, and when the solution to which the transparent member is exposed is an alkaline solution, the handleability is good, and the combination thereof is the above. This is preferable because the effect of the production method of the above is easily expressed.
  • a transparent member made of a resin composition in which the cation functions as a refractive index control agent is easily exposed by using a solution containing a cation as an alkaline solution and exposing the transparent member to impregnate the cation.
  • An optical member can be manufactured efficiently.
  • An example of a specific resin composition capable of achieving the present invention will be described later.
  • the above cations are positively charged ions because they are easily exposed and impregnated in the transparent resin and are easily fixed by ionic bonds in the transparent resin.
  • the cation is a monovalent cation, an increase in density due to ionic bond crosslinking in the transparent resin is suppressed, and a substantial reduction in refractive index is easy.
  • divalent or higher cation has a density increase due to ionic crosslinking or generation of a reaction product of polyvalent cation, it is difficult to reduce the refractive index substantially.
  • monovalent cations potassium ions and / or sodium ions are more preferable because they are easy to handle and are generally transparent resins having lower hygroscopicity than other alkali metal ions.
  • a monofunctional compound (monomer) or a compound containing a polymerizable functional group that has a slower curing reaction than the central part of the transparent member (Monomer) may be used as a refractive index controlling agent having the same function as the cation.
  • the monofunctional compound (monomer) is adsorbed or impregnated on the surface layer of the transparent member.
  • subsequent processing such as photocuring or thermosetting, the surface layer portion of the transparent member has a reduced cross-linking density, so that the refractive index is relatively lower than that of the non-impregnated portion.
  • a compound (monomer) containing a polymerizable functional group having a slower curing reaction than the central part of the transparent member the surface layer portion of the transparent member is cured and the crosslinking reaction is suppressed.
  • a portion having a relatively low refractive index can be formed as compared with the central portion of the transparent member.
  • the monofunctional compound (monomer) include a compound having one ethylenically unsaturated bond such as acrylate or methacrylate, an epoxide compound having one epoxy group, and the like.
  • the transparent member used in the present invention is a polyfunctional acrylate having two or more ethylenically unsaturated bonds.
  • a compound having at least one group selected from the group consisting of an addition-polymerizable aryl group, an epoxy group, and an isocyanate group that forms a urethane bond, the reaction of which is slower than that. Can do. If these compounds are materials having a low refractive index, the effect of substantially reducing the refractive index when used as a refractive index control agent is further increased.
  • the compound having such a function for example, a monofunctional compound (monomer) not containing an aromatic ring or an alicyclic ring, or a compound (monomer) containing a polymerizable functional group having a slow curing reaction ).
  • a compound containing a fluorine element may be used.
  • the transparent resin may be further a photosensitive transparent resin.
  • the photosensitive transparent resin may have a step C of irradiating an actinic ray that can be photocured before the above-described step A or step A ′ and / or before the step B.
  • solution resistance improves by photocuring progressing to actinic light.
  • etchant resistance of the etchant when patterning by etching is improved.
  • the process A and the process B can be performed at the same time, so that workability and mass productivity are improved.
  • the transparent resin when the transparent member is a transparent resin and the transparent member can be cured by heat, the transparent resin is heat-cured and near the surface layer portion of the transparent resin after the heat-curing.
  • the step D is to make the refractive index of the transparent resin substantially lower than the refractive index of the central portion of the transparent resin after thermosetting.
  • the material of the transparent resin used at this time it is preferable to select a transparent resin whose refractive index in the vicinity of the surface layer portion after curing can be relatively lower than the refractive index of the central portion by thermosetting.
  • the refractive index control agent may be previously exposed and impregnated on the transparent resin surface layer as described above. good.
  • the refractive index control agent since the curing of the vicinity of the surface layer portion of the transparent resin can be suppressed only by adjusting the ambient atmosphere during the thermosetting of the transparent resin, the refractive index near the surface layer portion becomes lower than the central portion.
  • the change of the cross-linking network and the suppression of the cross-linking reaction are broadly defined as the suppression of the curing.
  • the refractive index difference is expressed by the suppression of the curing, not only the refractive index can be easily controlled but also the refractive index control The latter method is preferable because it can be performed with high accuracy. Examples of material compositions that can exhibit such a phenomenon will be described later.
  • the refractive index difference is generated by thermosetting, the refractive index difference can be stably maintained even if the member is heated in a later step.
  • Step D ′ may include a step of thermosetting the transparent resin after Step A or Step A ′.
  • Step D ′ may be step D described above.
  • the transparent resin as an example used for the transparent member of the present invention is preferably (A) a base resin having a thermopolymerizable functional group and (B) a transparent resin having at least a thermopolymerizable compound.
  • the refractive index difference can be generated by exposing and impregnating, for example, a substance that suppresses the crosslinking reaction of (A) and (B) as the refractive index control agent.
  • (A) has a carboxyl group in the molecule
  • (B) has an epoxy group or the like that thermally crosslinks with the carboxyl group in the molecule, and the refractive index control agent performs a crosslinking reaction between the carboxyl group and the epoxy group.
  • a substance to be suppressed is preferable. More specifically, a crosslinking reaction between a carboxyl group and an epoxy group can be suppressed by using the above-described cation as the carboxyl group and a carboxyl group salt.
  • the exposed and impregnated surface layer part becomes a two-component system of the cross-linked body of (A) and (B), and the central part not subjected to the cross-linking reaction suppression is (A) and (B).
  • the difference in the number of these component systems affects the material density, and generally the density tends to decrease as the number of component systems increases. Therefore, the refractive index at the center is high and the surface layer is low.
  • the refractive index has a first-order correlation between the material density and the polarization).
  • the refractive index can be lowered even if ions such as cations are contained. This effect becomes significant when a monovalent cation is used as the cation.
  • the refractive index difference is caused by thermosetting in the process D, the refractive index after thermal curing (equivalent to the refractive index of the central portion) is 0.003 than the refractive index after exposure (before thermal curing).
  • Higher resins more preferably 0.005 or more, and even more preferably 0.008 or more, are preferred because the effect of curing inhibition by heat on the refractive index is increased.
  • FIG. 1 shows an optical waveguide of the present invention.
  • the optical waveguide of the present invention is an optical waveguide comprising a lower cladding layer 2, a core pattern 3 and an upper cladding layer 4 formed on a substrate 1.
  • the periphery of the core pattern 3 refers to a peripheral portion of the core pattern 3 “inside”. Since the periphery of at least two sides has the low refractive index portion 5 having a refractive index lower than that of the core pattern central portion 4, light propagating through the core pattern can easily propagate through the core pattern central portion 4, and light loss is caused.
  • the light propagating through the core pattern 3 leaks outside the low refractive index portion 5. It is possible to efficiently keep the component to be within the core pattern 3.
  • light propagating through the linear core pattern 3 easily propagates through the core pattern central portion 4 and has low optical loss, and leaks to the outside of the core pattern 3 due to bending of the core pattern 3 or the like. Since the light to be emitted is totally reflected at the interface between the lower clad layer 2 or the upper clad layer 6 and the core pattern 3 having a larger refractive index difference, light loss is less likely to occur.
  • the two sides are both side walls of the core pattern 3, and it is more preferable that the number of sides is three or more because the above-described effect is performed on three or more sides, so that the light loss can be further reduced.
  • the refractive index difference represented by the following formula between the core pattern central portion 4 and the low refractive index portion 5 around the core pattern, the low refractive index portion 5 and the lower cladding layer 2 and / or the upper cladding layer 6 It is preferable that the difference in refractive index is greater because the light component that is about to leak from the low refractive index portion 5 can be more efficiently retained in the core pattern 3.
  • n 1 And n 2 Are the refractive index of the high refractive index region and the refractive index of the low refractive index region, respectively.
  • the core pattern forming method for obtaining the optical waveguide is not particularly limited, but can be formed by the optical member and the optical member manufacturing method of the present invention described above. In particular, when the solution is the same as the etching solution, the core pattern can be formed by etching, and at the same time, the core pattern having the above-described refractive index difference can be formed.
  • the peripheral surface layer of two or more sides substantially forms a low refractive index portion having a lower refractive index than the center of the core pattern.
  • examples thereof include (A) a base resin having a thermopolymerizable functional group and (B) a transparent resin dry film having at least a thermopolymerizable compound.
  • FIG. 1 shows an example of a typical optical waveguide of the present invention, but the optical waveguide according to the present invention is not limited to the film shape example shown in FIG.
  • the present invention can also be applied to an optical waveguide having a core portion and a clad portion of a normal optical fiber, and in the core pattern forming the core portion, at least a part of the periphery of the core pattern is more than the center portion of the core pattern.
  • An optical waveguide having a surface layer portion having a low refractive index can be obtained.
  • the optical waveguide shown in FIG. 1 may be a film-shaped optical waveguide that does not have the lower cladding layer 2.
  • the substrate 1 also serves as the lower cladding layer, and the substrate 1 may be a film substrate as well as a hard substrate such as a silicon substrate, a glass substrate, or a glass epoxy resin substrate.
  • the optical waveguide of the present invention can be used as an optical module optically coupled to an optical fiber, a light emitting element, or a light receiving element.
  • transparent material a material in which the refractive index near the surface layer portion of the transparent member can be substantially lowered, and has transparency within a range that does not adversely affect the wavelength of light used. It is sufficient if it is quartz, glass, resin or the like. From the viewpoint of ease of modulation / control of the refractive index, a transparent resin is preferable.
  • the refractive index at the center of the transparent member is preferably the refractive index of the member itself because the refractive index stability and transparency are easily maintained.
  • the transparent resin used in the present invention is not limited as long as it is a transparent resin having the performance of the transparent member described above.
  • a transparent resin which is an example used for the transparent member of the present invention it is preferable that (A) a base resin having a thermopolymerizable functional group and (B) a transparent resin having at least a thermopolymerizable compound.
  • the exposed, impregnated and contained surface layer part becomes a two-component system of the cross-linked product of (A) and (B), and the central part not subjected to the cross-linking reaction is (A) and ( B) is a one-component system that crosslinks.
  • the difference in the number of these component systems affects the material density, and generally the density tends to decrease as the number of component systems increases. Therefore, the refractive index at the center is high and the surface layer is low.
  • the refractive index has a first-order correlation between the material density and the polarization).
  • the transparent resin may contain (C) a photopolymerizable compound and (D) a photopolymerization initiator. By containing (C) and (D), it can be photocured by the exposure of step C, and can impart resistance to a solution and an etching solution.
  • the number of component systems as described above is a three-component system near the surface layer site and a two-component system at the center, A refractive index difference can be generated in the same manner as described above.
  • the compounds (A) to (D) will be described in detail.
  • the component (A) include a base resin (polymer) having a thermopolymerizable functional group, and a preferable example includes a carboxyl group-containing polymer. This polymer is not particularly limited, Examples thereof include polymers represented by the following (1) to (6).
  • a compound having an hydroxyl group and an ethylenically unsaturated group in the molecule is reacted with a copolymer of an acid anhydride having an ethylenically unsaturated group and another compound having an ethylenically unsaturated group.
  • a carboxyl group-containing alkali-soluble polymer obtained by reacting a polybasic acid anhydride with a polyaddition product of a bifunctional epoxy resin and a dicarboxylic acid or a bifunctional phenol compound.
  • a carboxyl group-containing alkali-soluble polymer obtained by reacting a polybasic acid anhydride with a hydroxyl group of a polyaddition product of a bifunctional oxetane compound and a dicarboxylic acid or a bifunctional phenol compound.
  • the carboxyl group-containing alkali-soluble polymer represented by the above (1) to (4) is preferable from the viewpoint of transparency and solubility in an alkali solution when an alkali solution is used as an etching solution.
  • the polymer is preferably a (meth) acrylic polymer having a (meth) acryloyl group.
  • the (meth) acryloyl group is an acryloyl group and / or methacryloyl group
  • the (meth) acrylic polymer is acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid, methacrylic acid ester, and derivatives thereof as monomers, A polymer obtained by polymerizing this.
  • the (meth) acrylic polymer may be a homopolymer of the above monomer, or may be a copolymer obtained by polymerizing two or more of these monomers. Further, the copolymer may contain the above monomer and, if necessary, a monomer other than the above having an ethylenically unsaturated group other than the (meth) acryloyl group as long as the effects of the present invention are not impaired. Good. Further, it may be a mixture of a plurality of (meth) acrylic polymers.
  • the weight average molecular weight of the component (A) polymer is preferably 1,000 to 3,000,000.
  • the weight average molecular weight of the component (A) is more preferably 3,000 to 2,000,000, and particularly preferably 5,000 to 1,000,000.
  • the weight average molecular weight in this invention is the value which measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted into standard polystyrene.
  • the acid value can be regulated so that etching can be performed with an alkaline solution in the step of forming a pattern by etching.
  • the acid value is preferably 20 to 300 mgKOH / g. If it is 20 mgKOH / g or more, etching is easy, and if it is 300 mgKOH / g or less, the etching solution resistance is not lowered. From the above viewpoint, the acid value is more preferably 30 to 250 mgKOH / g, and particularly preferably 40 to 200 mgKOH / g.
  • the etchant resistance refers to a property in which a portion that becomes a pattern without being removed by etching is not attacked by the etchant.
  • the acid value is preferably 10 to 260 mgKOH / g. If the acid value is 10 mgKOH / g or more, development is easy, and if it is 260 mgKOH / g or less, the etching solution resistance (the property that the portion that becomes a pattern without being removed by etching is not attacked by the etching solution) decreases. There is no.
  • the acid value is more preferably 20 to 250 mgKOH / g, and particularly preferably 30 to 200 mgKOH / g.
  • the blending amount of the component (A) is preferably 10 to 85% by mass with respect to the total amount of the component (A) and the component (B). If it is 10% by mass or more, the strength and flexibility of the cured product of the transparent resin are sufficient, and if it is 85% by mass or less, it is easily entangled by the component (B) at the time of exposure and is resistant to etching. There is no shortage of sex. From the above viewpoint, the blending amount of the component (A) is more preferably 20 to 80% by mass, and particularly preferably 25 to 75% by mass.
  • thermopolymerizable compound of component (B) any compound that can be crosslinked by heat may be used, and examples thereof include compounds having a thermopolymerizable substituent such as an epoxy group.
  • a thermopolymerizable substituent such as an epoxy group.
  • any compound that can be cross-linked by light may be used, and examples thereof include compounds having a photopolymerizable substituent such as an ethylenically unsaturated group.
  • Specific examples include (meth) acrylates, vinylidene halides, vinyl ethers, vinyl esters, vinyl pyridines, vinyl amides, arylated vinyls, etc. Of these, from the viewpoint of transparency, (meth) acrylates and arylated vinyls. It is preferable that As the (meth) acrylate, any of monofunctional, bifunctional, or polyfunctional ones can be used.
  • aliphatic (meth) acrylates such as various alkyl (meth) acrylates and various hydroxyalkyl (meth) acrylates
  • Alicyclic (meth) acrylates such as various alkyl (meth) acrylates and various hydroxyalkyl (meth) acrylates
  • Alicyclic (meth) acrylates such as various alkyl (meth) acrylates and various hydroxyalkyl (meth) acrylates
  • Alicyclic (meth) acrylates such as various alkyl (meth) acrylates and various hydroxyalkyl (meth) acrylates
  • Alicyclic (meth) acrylates such as various alkyl (meth) acrylates and various hydroxyalkyl (meth) acrylates
  • Alicyclic (meth) acrylates such as various alkyl (meth) acrylates and various hydroxyalkyl (meth) acrylates
  • Alicyclic (meth) acrylates such as various alkyl (meth
  • bifunctional (meth) acrylate For example, various aliphatic di (meth) acrylates, such as ethylene glycol di (meth) acrylate; Various cycloaliphatic di (meth) cyclohexane dimethanol di (meth) acrylate, etc.
  • aromatic (meth) acrylates such as bisphenol A di (meth) acrylate; various heterocyclic di (meth) acrylates such as isocyanuric acid di (meth) acrylate; ethoxylated products thereof; propoxylation thereof These ethoxylated propoxy compounds; these caprolactone modified products; various aliphatic epoxy di (meth) acrylates such as neopentyl glycol type epoxy didi (meth) acrylate; various fats such as hydrogenated bisphenol A type epoxy (meth) acrylate Cyclic epoxy di (me ) Acrylate; and various aromatic epoxy di (meth) acrylates such as bisphenol A type epoxy di (meth) acrylate.
  • the trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is not particularly limited, and examples thereof include various aliphatic (meth) acrylates such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate; various heterocyclic rings such as isocyanuric acid tri (meth) acrylate.
  • the above-mentioned monofunctional (meth) acrylate, bifunctional (meth) acrylate, and trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate can be used alone or in combination of two or more.
  • (meth) acrylates having different numbers of functional groups can be used in combination.
  • it can also be used in combination with other polymerizable compounds.
  • the photopolymerization initiator of component (D) a radical photopolymerization initiator, a cationic photopolymerization initiator, or the like is used.
  • crosslinking by photocuring in step B is performed. It is better to reduce the number and suppress the increase in the refractive index due to photocuring.
  • the process of increasing the refractive index of the transparent resin becomes a thermosetting process, and is easily affected by the above-described cross-linking inhibition refractive index, and the refractive index in the vicinity of the surface layer portion of the transparent resin is easily reduced.
  • a radical photocuring agent rather than a cationic photocuring agent.
  • benzoin ketal; ⁇ -hydroxyketone; glyoxyester; ⁇ -aminoketone; phosphine oxide; 2,4,5-triarylimidazole dimer; benzophenone compound; quinone compound; benzoin compound; Compound; N-phenylglycine, coumarin and the like can be mentioned.
  • the substituents of the aryl groups at the two triarylimidazole sites may give the same and symmetric compounds, but give differently asymmetric compounds. May be.
  • the ⁇ -hydroxyketone; the glyoxyester; the oxime ester; and the phosphine oxide are preferable.
  • These photo radical polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more. Furthermore, it can also be used in combination with an appropriate sensitizer.
  • the component (B) and component (C) used in the present invention are more preferably a mixed compound containing both a photopolymerizable ethylenically unsaturated group and a thermally polymerizable epoxy group in one molecule. .
  • one component contains both the component (B) and the component (C).
  • the component system number as described above after the thermosetting as described above is 2 in the vicinity of the surface layer portion.
  • the component system and the central part are a one-component system, and a refractive index difference can be generated in the same manner as described above.
  • the mixed polymerizable compound is an epoxy (meth) acrylate obtained by reacting an epoxy resin having two or more glycidyl groups in the molecule with a (meth) acrylic acid compound, )
  • a reaction product of 0.1 to 0.9 equivalent of an acrylic acid compound is preferable, and 0.2 to 0.8 equivalent is more preferable. 0.4 to 0.6 equivalent is particularly preferable.
  • bifunctional phenol glycidyl ether such as bisphenol A type epoxy (meth) acrylate; hydrogenated bifunctional phenol glycidyl ether such as hydrogenated bisphenol A type epoxy (meth) acrylate, phenol novolac type epoxy (meth) Derived from polyfunctional phenol glycidyl ether such as acrylate; derived from bifunctional aliphatic alcohol glycidyl ether such as polyethylene glycol type epoxy (meth) acrylate; derived from bifunctional alicyclic alcohol glycidyl ether such as cyclohexanedimethanol type epoxy (meth) acrylate; Derived from polyfunctional aliphatic alcohol glycidyl ether such as trimethylolpropane type epoxy (meth) acrylate; bifunctional aromatic glycidyl ester such as diglycidyl phthalate Origin; and difunctional alicyclic glycidyl esters derived from epoxy (meth) acrylo
  • bisphenol A type epoxy (meth) acrylate bisphenol F type epoxy (meth) acrylate, bisphenol AF type epoxy (meth) acrylate, bisphenol AD type epoxy ( Epoxy (meth) acrylates such as (meth) acrylate, biphenyl type epoxy (meth) acrylate, naphthalene type epoxy (meth) acrylate, fluorene type epoxy (meth) acrylate, phenol novolac type epoxy (meth) acrylate, cresol novolak type epoxy (meth) acrylate, etc. ) Acrylate is preferred.
  • the exposed part, the impregnated part, and the part containing the refractive index reducing agent exposed to the transparent member are near the surface part of the transparent member, and the amount and time of exposure / impregnation are adjusted.
  • a layer having a substantially reduced refractive index in an arbitrary depth direction can be formed.
  • the depth is not limited, but is preferably 0.01 ⁇ m to 5 mm, and 0.05 ⁇ m to 1 mm is preferable because the depth control becomes relatively easy.
  • the depth is more preferably 1 ⁇ m to 100 ⁇ m because the depth control becomes easier.
  • the optical loss is further reduced to 0.1 to 30 ⁇ m.
  • the refractive index of all the surfaces exposed to the solution is lowered by the above depth direction.
  • a low refractive index layer is formed on at least both side surfaces and in addition to the upper surface.
  • the transparent member By substantially reducing the refractive index in the vicinity of the surface layer portion of the transparent member using a solution, it is possible to suppress positional variations in refractive index reduction, and the transparent member has a complicated shape or an intricate shape. Also, the substantial refractive index can be lowered.
  • a solution water, organic solvent, alkaline solution, acidic solution, etc. can be used.
  • a solution in which at least a part of the exposed portion is dissolved is used. And can.
  • the high refractive index soluble component is used. It is possible to use a solution that is particularly selectively soluble. Further, in the case of a method in which a solution containing a lower refractive index component than the transparent member is exposed to and impregnated in the transparent member and the low refractive index component is fixed in the transparent member to generate a refractive index difference, the low refractive index component is A solution that can be dissolved and permeated into the transparent resin can be used.
  • the refractive index control agent when using a method in which a refractive index control agent capable of changing the molecular structure and molecular network mode is exposed and impregnated to generate a refractive index difference, the refractive index control agent is dissolved and penetrated into the transparent resin.
  • a solution that can be used can be used.
  • a solution containing water as a main component if a solution containing water as a main component is used, adverse effects due to dissolution or swelling of the transparent member can be avoided, so the shape of the transparent member or the pattern shape formed on the transparent member was maintained with high accuracy.
  • the refractive index can be controlled in the state.
  • the type of the organic solvent an organic solvent that can achieve the above-mentioned purpose may be selected.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, cumene, p-cymene; diethyl ether, tert-butyl Chain ethers such as methyl ether, cyclopentyl methyl ether and dibutyl ether; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol and propylene glycol; acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl Ketones, ketones such as cyclohexanone and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate and ⁇ -butyrolactone; ethylene carbonate Carbonates such as sulfonate and propyl
  • alkaline solution an alkaline solution capable of achieving the above-mentioned purpose may be selected.
  • Alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide; lithium carbonate, sodium carbonate, carbonate
  • Alkali metal carbonates such as potassium
  • alkali metal bicarbonates such as lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate
  • alkali metal phosphates such as potassium phosphate and sodium phosphate
  • Alkali metal pyrophosphates such as sodium tetraborate and sodium metasilicate; ammonium salts such as ammonium carbonate and ammonium hydrogen carbonate; tetramethylammonium hydroxide, triethanolamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, 2-amino-2 -Hide Kishimechiru-1,3-propanediol, solutions base was dissolved in such an organic base such as 1,3-diamino-propanol-2-morpholine. These bases can be used alone or in combination of two or more. As the kind of the acidic solution, an acidic solution that can achieve the above-mentioned purpose may be selected.
  • the water, organic solvent, alkaline solution, and acidic solution described above may contain a refractive index lowering agent that can lower the refractive index of the transparent resin as necessary.
  • a refractive index lowering agent that can lower the refractive index of the transparent resin as necessary.
  • the refractive index control agent that can lower the substantial refractive index near the surface layer portion of the transparent member is not particularly limited as long as it is a material that can substantially lower the refractive index.
  • the refractive index may be reduced by exposing, impregnating, or containing the surface of the material.
  • the present invention has a great feature in that the function of substantially reducing the refractive index of the surface layer portion is exhibited by including the refractive index control agent in the surface layer portion of the transparent member.
  • a cation as a refractive index control agent is preferable because it can effectively lower the substantial refractive index, and a positive monovalent metal ion suppresses ionic crosslinking.
  • a monofunctional compound (monomer) or a polymerizable functional group having a slower curing reaction than the central portion of the transparent member is contained instead of a monovalent metal ion as a refractive index control agent. Even when the compound (monomer) to be used is used, the effect of suppressing the crosslinking reaction can be obtained, and the refractive index in the vicinity of the surface layer portion of the transparent member can be substantially lowered.
  • the optical waveguide of the present invention is an optical waveguide having a lower clad layer, a core pattern, and an upper clad layer, and in the quadrilateral of the cross-sectional shape of the core pattern, the periphery of two or more of the four sides is a core.
  • the optical waveguide has a low refractive index portion having a lower refractive index than the center of the pattern, and further has a lower cladding layer and / or an upper cladding layer having a lower refractive index outside the low refractive index portion.
  • the two sides are preferably both side walls of the core pattern, and more preferably three or more sides.
  • the refractive index difference between the core pattern center and the low refractive index area around the core pattern is preferably 0.01 to 2.0% (the value of the formula is multiplied by 100). From the viewpoint of ease, 0.02 to 2.0% is better, and 0.03 to 1.0% is even better.
  • the difference in refractive index between the low refractive index region and the lower cladding layer or / and the upper cladding layer is in a range larger than the refractive index difference between the core pattern center and the low refractive index region around the core pattern, and is 0.1 to 6 0.0%, preferably from 1.0 to 5.0%, and from 2.0 to 5.0% from the viewpoint of light confinement and ease of controlling the refractive index of the material. And even better.
  • the refractive index of the central portion 4 of the core pattern 3 is preferably the refractive index of the core pattern forming resin cured product itself because it is easy to maintain the refractive index stability and transparency.
  • the optical waveguide of the present invention may be provided with an optical path conversion mirror for converting the optical path in the direction of about 90 ° on the optical axis of the core pattern, and is an optoelectric composite substrate combined with various electric wiring boards. Alternatively, it may be used as an optical cable joined to an optical fiber via a connector or the like.
  • the lower clad layer and the upper clad layer used in the optical waveguide of the present invention are preferably arranged so as to cover at least the lower surface and the upper surface of the core pattern and further to cover both side walls.
  • the method for forming the lower clad layer and the upper clad layer is not particularly limited.
  • a varnish-like clad layer-forming resin layer is applied, or a film-like clad layer-forming resin layer is laminated or pressed.
  • a method of laminating on the subject to form a lower clad layer From the viewpoint of curing after application or lamination, a thermosetting resin, a photocurable resin, a photo / thermal combination curable resin, or the like is preferable.
  • the thickness of the lower clad layer is not particularly limited, but is preferably 5 ⁇ m or more from the viewpoint of light confinement of the core pattern, and is preferably 200 ⁇ m or less from the viewpoint of formability of the thick resin layer.
  • the thickness is more preferably 10 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less from the viewpoint of thickness control, and further preferably 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less from the viewpoint of low profile.
  • the lower clad layer may be a single layer or a plurality of layers, and may be the same material as the upper clad layer described later or a different material.
  • the thickness of the upper clad layer is not particularly limited, but the thickness from the upper surface of the core pattern is preferably 5 ⁇ m or more from the viewpoint of light confinement.
  • the thickness of the resin layer for forming the clad layer used is that of the thick resin layer. From the viewpoint of formability, the thickness is preferably 200 ⁇ m or less.
  • the thickness is more preferably 10 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less from the viewpoint of thickness control, and further preferably 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less from the viewpoint of low profile.
  • the core pattern 3 used in the optical waveguide of the present invention has a higher refractive index than the lower clad layer 2 and the upper clad layer 6, and is a main part through which light propagates. From the above viewpoint, it is sufficient that the wavelength of light propagating is transparent enough not to adversely affect the propagation of light.
  • the core pattern material is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions, such as quartz, glass, and resin. However, when forming as a pattern, a transparent resin is used from the viewpoint of adhesion and formability.
  • the core pattern can be formed by applying a varnish-like core pattern-forming resin on the subject (lower cladding layer) or laminating a film-like core pattern-forming resin by lamination, pressing, etc. Pattern formation is performed using photolithography processing for etching, anisotropic etching (dry etching), or by applying a film- or varnish-shaped core pattern forming resin only to a desired location. It can be done. From the viewpoint of highly accurate alignment, photolithography processing is preferably mentioned. From this viewpoint, the core pattern forming resin is preferably an etchable resin layer, and is a photosensitive resin layer. More preferably.
  • the periphery of two or more sides of the core pattern is a material capable of forming a low refractive index portion having a lower refractive index than the center of the core pattern.
  • the cross-sectional shape of the core pattern may be any shape capable of propagating light, and examples thereof include a rectangle (a quadrilateral), a polygon, a circle, and an ellipse.
  • a polygon other than a rectangle it is preferable that the periphery of two or more sides can form a low-refractive index part, and it is preferable that as many sides as possible be the same.
  • the thickness of the core pattern is not particularly limited. However, when the thickness of the core pattern after the formation is 10 ⁇ m or more, the alignment tolerance in the coupling with the light emitting / receiving element, the optical fiber, or the optical device after the formation of the optical device is increased.
  • the thickness of the core pattern is preferably 10 to 160 ⁇ m, more preferably 20 to 100 ⁇ m, and further preferably in the range of 30 to 80 ⁇ m.
  • the etching solution is not particularly limited, and is an organic solvent-based etching solution such as an organic solvent or a semi-aqueous etching solution composed of an organic solvent and water; an alkaline aqueous solution, an alkaline aqueous solution containing an alkaline aqueous solution and one or more organic solvents.
  • An alkaline etching solution such as The etching temperature is adjusted according to the etching property of the core pattern forming resin layer.
  • the organic solvent is not particularly limited, and examples include the organic solvents listed in the above solution. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • a surface active agent, an antifoaming agent, a refractive index lowering agent and the like may be mixed in the organic solvent.
  • the base of the alkaline aqueous solution is not particularly limited, and examples include the bases listed above. These bases can be used alone or in combination of two or more.
  • the pH of the alkaline aqueous solution used for etching is preferably 9-14.
  • a surfactant, an antifoaming agent, a refractive index lowering agent, or the like may be mixed in the alkaline aqueous solution.
  • the alkaline quasi-aqueous etching solution is not particularly limited as long as it comprises an alkaline aqueous solution and one or more organic solvents.
  • the pH of the alkaline quasi-aqueous etching solution is preferably as low as possible within a range where etching can be sufficiently performed, preferably pH 8 to 13, and more preferably pH 9 to 12.
  • the concentration of the organic solvent is usually preferably 2 to 90% by mass.
  • a small amount of a surfactant, an antifoaming agent or the like may be mixed, or a refractive index lowering agent or the like may be mixed.
  • the organic solvent, a semi-aqueous cleaning solution composed of the organic solvent and water, or water or an acidic solution may be used as necessary.
  • the refractive index reducing agent excessively impregnated in the transparent resin may be removed to some extent.
  • the transparent resin when the transparent resin is washed with an acidic solution, excess potassium ions and sodium ions can be removed, and further, potassium ions and sodium ions in the outermost layer portion can be removed (the carboxylate is an acidic solution).
  • the carboxylic acid is converted to carboxylic acid, the hydrophobicity is increased, and the inside of the resin cannot be replaced with potassium or sodium. Therefore, it is possible to leave potassium ions and sodium ions substantially in the vicinity of the surface layer portion of the transparent resin. Therefore, it is preferable.
  • each process used for the manufacturing method of the optical member of this invention is demonstrated in detail.
  • step A used in the method for producing an optical member of the present invention the transparent member is exposed to a solution, and the refractive index of the exposed exposed portion of the transparent member is determined from the refractive index of the central portion of the transparent member that is not the exposed portion of the transparent member. It can be made substantially lower.
  • the method for exposing the solution is not particularly limited, and examples thereof include a spray method, a dip method, a paddle method, a spin method, a brushing method, and a scraping method. Moreover, you may use these methods together as needed. Thereby, the portions having different refractive indexes exposed to the solution can be formed almost uniformly.
  • step A ′ which is another method for producing an optical member of the present invention, a refractive index control agent that substantially lowers the refractive index of the transparent member is contained in the transparent member in the surface layer portion of the transparent member. Can be made substantially lower than the refractive index of the central part of the transparent member which is a non-part of the transparent member.
  • a method for adding the refractive index control agent a method in which a refractive index control agent is contained in the vicinity of the surface layer portion of the transparent member in advance, or a method in which the refractive index control agent is embedded in the transparent member by various known methods (for example, sputtering). And a method of exposing a liquid refractive index control agent or a refractive index control agent dissolved in a solution to a transparent member as in step A described above, and incorporating the refractive index control agent in the vicinity of the surface layer portion of the transparent member. Can be mentioned.
  • the transparent member has a process B that can be etched with an etchant and patterned by etching. By including the step of patterning by etching, it is preferable because a transparent member having an arbitrary shape can be easily obtained and shape processing can be performed at once.
  • the etching method is not particularly limited, and a portion that can be etched with an etching solution and a portion that cannot be etched are prepared in advance, and the portion that can be etched is removed with an etching solution.
  • a patterned etching resist is formed on a transparent member.
  • the immersion method of the etching solution is not particularly limited, and examples thereof include a spray method, a dipping method, a paddle method, a spin method, a brushing method, and a scraping method. Moreover, you may use these methods together as needed.
  • Step A or step A ′ described above may be performed simultaneously with step B or after step B, whereby the refractive index of the surface layer on the side wall of the patterned transparent member can be substantially reduced.
  • the optical member of the present invention can be efficiently manufactured by continuously performing the etching process and the process of exposing the solution.
  • the process A or the process A ′ It is more preferable to carry out at the same time as B because the work efficiency can be improved by reducing the number of steps.
  • the etching solution may be the same solution or a mixed solution thereof that can substantially reduce the refractive index.
  • the actinic ray used for photocuring of the photosensitive transparent resin may be light having a wavelength capable of curing the photosensitive transparent resin, and examples thereof include ultraviolet rays, visible rays, and infrared rays. If it is ultraviolet rays, it is preferable because photocuring can be performed efficiently.
  • the irradiation amount of the actinic ray is not particularly limited, but is 10 to 10,000 mJ / cm. 2 30-5000mJ / cm 2 Better, 40-4000mJ / cm 2 Even better.
  • photocuring may be performed by irradiating actinic rays after patterning.
  • the irradiation amount at this time is not particularly limited, but is 100 to 10,000 mJ / cm. 2 300-5000mJ / cm 2 Better, 400-4000mJ / cm 2 Even better.
  • the exposure after patterning can improve the adhesion of the pattern.
  • Step D As the process D used in the method for producing another optical member of the present invention, when the transparent member is a transparent resin and the transparent member can be cured by heat, the transparent resin is heat-cured and the transparent resin after the heat-curing The refractive index in the vicinity of the surface layer portion of the transparent resin is substantially lower than the refractive index of the central portion of the transparent resin after thermosetting. Further, as the process D ′, it is preferable to include a process of thermosetting the transparent resin after the process A or the process A ′. When heat-curing, the unreacted photocuring component and thermosetting component are cured by heat, and the exposed and impregnated refractive index lowering agent can be fixed to some extent.
  • the temperature of the step D or step D ′ thermosetting is not particularly limited, but when it is 40 to 280 ° C., it is easy to maintain the transparency of the resin, and when it is 80 to 200 ° C. More preferably, the temperature is 190 ° C. When the heating time is 5 minutes to 5 hours, thermosetting is possible, 20 minutes to 3 hours is better, and 30 minutes to 2 hours is even better.
  • the method for measuring the refractive index of the transparent member of the present invention is not particularly limited, but may be measured by the following method. First, a sample for refractive index measurement can be produced by any of the following methods (1) to (3).
  • Example 1 ⁇ Preparation of resin film for forming transparent member> [Base polymer for forming transparent member; production of (meth) acrylic polymer (P-1)] In a flask equipped with a stirrer, a cooling pipe, a gas introduction pipe, a dropping funnel, and a thermometer, 42 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate and 21 parts by mass of methyl lactate were weighed and stirred while introducing nitrogen gas. .
  • the liquid temperature was raised to 65 ° C., 14.5 parts by mass of N-cyclohexylmaleimide, 20 parts by mass of benzyl acrylate, 39 parts by mass of o-phenylphenol 1.5E0 acrylate, 14 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 12.
  • a mixture of 5 parts by mass, 4 parts by mass of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 37 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate and 21 parts by mass of methyl lactate was added dropwise over 3 hours, and then 65 ° C. For 3 hours, and further continued stirring at 95 ° C.
  • EA-1010N (epoxy equivalent 518 g / eq) 40 parts by mass
  • D As a polymerization initiator, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (Irgacure 2959, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1 part by weight, 1 part by weight of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (Irgacure 819 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was weighed into a wide-mouthed plastic bottle, and the temperature was measured using a stirrer.
  • the mixture was stirred for 6 hours under the conditions of 25 ° C. and a rotation speed of 400 rpm to prepare a resin varnish for forming a core part. Thereafter, using a polyflon filter having a pore size of 2 ⁇ m (PF020 manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.) and a membrane filter having a pore size of 0.5 ⁇ m (J050A manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.) under conditions of a temperature of 25 ° C. and a pressure of 0.4 MPa. Pressure filtered.
  • PF020 manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.
  • a membrane filter having a pore size of 0.5 ⁇ m J050A manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.
  • the obtained resin film for forming a transparent member is cut into 100 mm ⁇ 100 mm, and (wavelength 365 nm) is 3500 mJ / cm 2 using an ultraviolet exposure machine (EXM-1172, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) from the support film side. Irradiated.
  • the support film was peeled off, immersed in a 1.0 mass% potassium carbonate aqueous solution (liquid temperature 30 ° C.) for 3 minutes, and then washed with pure water. Subsequently, it was heated and dried at 160 ° C. for 1 hour and cured, and the protective film was peeled off to form an optical member.
  • the refractive index at a wavelength of 830 nm of the support film surface (potassium carbonate aqueous solution immersion surface) of this optical member was measured using a prism-coupled refractometer (trade name: Model 2020, manufactured by Metricon). The refractive index was 1.556.
  • Example 2 An optical member was produced in the same manner as in Example 1 except that the 1.0 mass% potassium carbonate aqueous solution was changed to a 1.0 mass% sodium carbonate aqueous solution.
  • the refractive index at a wavelength of 830 nm of the support film surface (potassium carbonate aqueous solution immersion surface) of this optical member was measured using a prism-coupled refractometer (trade name: Model 2020, manufactured by Metricon).
  • the refractive index was 1.556. Even when 20 arbitrary locations (locations separated by about 1 cm) were measured, there was no positional variation with the same refractive index. When IR measurement of the surface was performed, a peak of carboxylate anion was observed, and when EDX measurement was performed, sodium was detected.
  • the refractive index of the protective film surface (potassium carbonate aqueous solution non-immersed surface) was 1.558, and there was no positional variation with the same refractive index even when 20 arbitrary locations (locations separated by about 1 cm) were measured. When IR measurement of the surface was performed, there was no peak of the carboxylate anion, and when EDX measurement was performed, sodium was not detected.
  • the liquid temperature was raised to 65 ° C., 47 parts by weight of methyl methacrylate, 33 parts by weight of butyl acrylate, 16 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, 14 parts by weight of methacrylic acid, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile )
  • a mixture of 3 parts by mass, 46 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate and 23 parts by mass of methyl lactate was added dropwise over 3 hours, followed by stirring at 65 ° C. for 3 hours, and further stirring at 95 ° C. for 1 hour.
  • a (meth) acrylic polymer (A-1) solution solid content: 45% by mass
  • the thickness of the resin layer can be arbitrarily adjusted by adjusting the gap of the coating machine.
  • the thicknesses of the lower cladding layer 2 and the upper cladding layer 6 used in the examples are as follows. It describes.
  • the film thickness after hardening of the lower clad layer 2 and the upper clad layer 6 was the same as the film thickness after coating.
  • a clad-forming resin film was laminated on a silicon substrate (size: 60 ⁇ 20 mm, thickness: 0.6 mm) and cured to prepare a sample for refractive index measurement.
  • the refractive index of the sample at a wavelength of 830 nm was measured using a prism-coupled refractometer (manufactured by Metricon, trade name: Model 2020). The measurement was performed at a predetermined constant temperature (for example, 25 ° C.) in the range of 15 to 30 ° C.
  • the refractive index of the cured resin layer was 1.496.
  • the ultraviolet-ray (wavelength 365nm) was irradiated by 3000 mJ / cm ⁇ 2 > from the support film side of the resin film A using the ultraviolet-ray exposure machine (Corporation
  • the support film is peeled off and etched in a 1.0 mass% potassium carbonate aqueous solution (liquid temperature 30 ° C.) for 3 minutes to remove the uncured portion of the core pattern forming resin, and then with 1.0% sulfuric acid and pure water. Washed. Subsequently, it was heated and dried at 160 ° C. for 1 hour and cured to form a core pattern having a height of 50 ⁇ m and a width of 50 ⁇ m.
  • the ultraviolet-ray (wavelength 365nm) was irradiated by 3000 mJ / cm ⁇ 2 > from the support film side of the resin film A using the ultraviolet-ray exposure machine (Corporation
  • the substrate was cut with a dicing saw (DAC552, manufactured by DISCO Corporation) so that the core pattern of the optical waveguide obtained above was 80 mm, and the end face was smoothed to produce an optical waveguide.
  • Example 3 an optical waveguide was produced in the same manner except that the core pattern was formed by etching and then washed with a 1.0% calcium chloride aqueous solution.
  • Optical loss measurement Light having a wavelength of 850 nm is incident from the end face of one core pattern of the obtained optical waveguide using a GI50 optical fiber, and light output from the other end face is received using an optical fiber of SI114, and the light of the optical waveguide is received.
  • the part containing a divalent calcium cation has a higher refractive index than the central part, and it was confirmed that the crosslinking of the transparent member is promoted by ionic crosslinking or the like, unlike the monovalent cation. Therefore, it is considered that the light propagation loss of the optical waveguide is increased and the effect of the present invention cannot be achieved.
  • the optical member manufacturing method of the present invention can provide an optical member with little positional variation in refractive index near the surface layer portion of the transparent member. Moreover, according to the present invention, an optical waveguide with low optical loss can be provided. For this reason, it can be applied to a wide range of fields such as antireflection members, antireflection films, various optical films, various optical devices, optical waveguide members, photoelectric composite members, optical cables, optical interconnections, and the like.

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Abstract

 本発明は、透明部材のコアパターンの表層部位付近及び中心部の屈折率を位置的に高精度で制御できる光学部材の製造方法及び低光損失の光導波路を提供する。本発明の光学部材の製造方法は、透明部材を溶液に曝し、溶液に曝露された透明部材の表層部位の屈折率を、溶液に曝露されていない透明部材の中心部の屈折率より実質的に低くする工程Aを有する。表層部位の実質的な低屈折率化は、透明部材の表層部位に含有させる屈折率制御剤にその機能を発現させることによって達成できる。また、本発明の光導波路は、主に、コア部を形成するコアパターンの2辺以上の周囲が前記コアパターンの中心部よりも低屈折率を有する表層部位を有し、該表層部位が低屈折率化のための屈折率制御剤を含み、さらに、低屈折率を有する表面部位の外側に、より低屈折率の下部クラッド層又は/及び上部クラッド層を有する。

Description

光学部材の製造方法並びに光学部材、光学部材形成用透明部材、光導波路及び光モジュール
 本発明は光学部材の製造方法並びに光学部材、光学部材形成用透明部材、光導波路及び光モジュールに関する。
 反射防止部材は様々な用途に用いられており、特にディスプレイ等のデバイス本体や部材にフィルム状の反射防止部材を貼り付けて使用されている。一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率部位と低屈折率部位からなり、それらの繰り返し構造による多層構造とすることで反射防止フィルムを形成できる。これらの多層構造は、一般的に、物理蒸着(PVD)法や、化学蒸着(CVD)法といった乾式成膜法により形成することができる。上記の方法では低屈折率部位及び高屈折率部位の膜厚を精密に制御できる利点がある。
 また、情報容量の増大に伴い、幹線やアクセス系といった通信分野のみならず、ルータやサーバ内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。具体的には、ルータやサーバ装置内のボード間あるいはボード内の短距離信号伝送に光を用いるために、電気配線板に光伝送路を複合した光電気複合基板の開発がなされている。光伝送路としては、光ファイバに比べ、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも、加工性や経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。
 この光導波路としては、例えば、特許文献1に、キャリアフィルム上に下部クラッド層を硬化形成した後に、下部クラッド層上にコアパターン形成用樹脂を形成し、露光とエッチングを行うことによってパターン化されたコアパターンを形成し、上部クラッド層を積層したものが記載されている。
特開2003−195081号公報
 しかしながら、上記の乾式成膜法を用いて反射防止部材を形成する場合において、成膜を真空中で行う必要があるため、生産性が低い問題があり、真空中に曝すことによる透明部材へダメージの懸念や、フィルム形状が湾曲している場合(製造中に湾曲する場合も含む)や、複雑な場合や、入り組んだ形状の透明部材であると、屈折率の位置的ばらつきが発生することが懸念された。
 また、特許文献1に記載のようにエッチングによってコアパターンを形成する光導波路の場合、クラッド−コアパターン間の界面粗さや、エッチング液によるコアパターン内の屈折率の不均一性等により、コアパターンを伝搬する光損失の悪化が懸念された。
 本発明は、上記問題の解決を鑑みたものであり、量産性に優れ、透明部材の表層部位付近及び中心部の屈折率の制御を位置的に高精度で行うことができる光学部材の製造方法、並びに下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層からなる光導波路のコアパターンに用いることによって低光損失な光導波路を提供することを目的とする。
 本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意研究した結果、用いる透明部材に特徴を持たせ、一例として、溶液を曝し、前記透明部材の曝露された曝露部位の屈折率を、前記透明部材の曝露部位ではない透明部材中心部の屈折率より実質的に低くする工程Aを有する光学部材の製造方法とすること、また、該このような特徴を呈する光学部材形成用透明部材をコアパターン形成用部材とした光導波路とすることで、上記課題を解決し得ることを見出した。本発明は、かかる知見にもとづいて完成したものである。
 すなわち、本発明は、次の各項に関する。
(1)透明部材を溶液に曝し、前記溶液に曝露された前記透明部材の表層部位の屈折率を、前記溶液に暴露されていない前記透明部材の中心部の屈折率より実質的に低くする工程Aを有する光学部材の製造方法。
(2)前記工程Aにおいて、前記の透明部材を溶液に曝すときに、前記溶液を前記透明部材に含浸させる前記(1)に記載の光学部材の製造方法。
(3)前記溶液が、前記透明部材の表層部に含まれることによって前記表層部位の屈折率を実質的に低くする機能を発現する屈折率制御剤を含有する前記(1)又は(2)に記載の光学部材の製造方法。
(4)透明部材に、前記透明部材の屈折率を実質的に低下させる屈折率制御剤を前記透明部材の表層部位に含有させ、前記屈折率制御剤の含有した表層部位の屈折率を、屈折率制御剤の含有していない前記透明部材の中心部の屈折率より、実質的に低くする工程A’を有する光学部材の製造方法。
(5)前記透明部材が、エッチング液によってエッチング可能な透明部材であって、エッチングによってパターン化する工程Bを有し、前記工程Bが、前記工程A又は前記工程A’と同時、又は、前記工程A又は前記工程A’の前に行われる前記(1)~(4)のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
(6)前記透明部材が透明樹脂であって、前記屈折率制御剤が1価のカチオンである前記(1)~(5)のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
(7)前記溶液がアルカリ溶液である請求項6に記載の光学部材の製造方法。
(8)前記1価のカチオンがカリウムイオン及びナトリウムイオンの少なくともいずれかである前記(6)又は(7)に記載の光学部材の製造方法。
(9)前記透明樹脂が感光性透明樹脂であって、前記工程A又は前記工程A’の前に、又は/及び前記工程Bの前に、前記感光性透明樹脂を光硬化し得る活性光線を照射する工程Cを有する前記(6)~(8)のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
(10)前記工程A又は前記工程A’の後に前記透明樹脂を熱硬化する工程D’を有する前記(6)~(9)のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
(11)透明樹脂を熱硬化し、前記透明樹脂の表層部位付近の屈折率を、前記透明樹脂の中心部の屈折率より実質的に低くする工程Dを有する光学部材の製造方法。
(12)前記透明樹脂が、(A)熱重合性の官能基を有するベース樹脂、(B)熱重合性化合物を少なくとも有する前記(10)又は(11)に記載の光学部材の製造方法。
(13)前記(1)~(12)のいずれかに記載の光学部材の製造方法に用いられる光学部材形成用透明部材。
(14)前記(1)~(12)のいずれかに記載の光学部材の製造方法によって得られる光学部材。
(15)コア部及びクラッド部を有する光導波路であって、前記コア部を形成するコアパターンにおいて、前記コアパターンの少なくとも周囲の一部が前記コアパターンの中心部よりも低屈折率を有する表層部位を有する光導波路。
(16)前記(15)に記載の光導波路が、下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層が積層された光導波路であって、前記低屈折率を有する表層部位の外側に、さらに屈折率の低い下部クラッド層又は/及び上部クラッド層を有してなる光導波路。
(17)前記2辺以上の周囲を有するコアパターンが、少なくとも両側壁の2辺を含むコアパターンである前記(15)又は(16)に記載の光導波路。
(18)前記コアパターン中心とコアパターンの周囲の低屈折率部位との屈折率差より、前記低屈折率部位と前記下部クラッド層又は/及び上部クラッド層との屈折率差の方が大きい前記(16)又は(17)に記載の光導波路。
(19)前記(15)~(18)のいずれかに記載の光導波路であって、前記コアパターンが前記(13)に記載の光学部材形成用透明部材によって形成される光導波路。
(20)前記表層部位は低屈折率化のための屈折率制御剤を含む前記(15)~(19)のいずれかに記載の光導波路
(21)前記(15)~(20)のいずれかに記載の光導波路を用いた光モジュール。
(22)下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層が積層された光導波路に用いられるコアパターン形成用透明部材であって、前記コアパターンを形成する際に、2辺以上の周囲が、前記コアパターンの中心部よりも屈折率が低い表層部位を実質的に形成し得るものである光導波路コアパターン形成用透明部材。
発明の効果
 本発明の光学部材の製造方法は、量産性に優れ、透明部材のコアパターンの表層部位付近及び中心部の屈折率の制御を位置的に高精度で行うことができるため、光導波路に好適な光学部材の製造方法である。また、本発明の光導波路は特定のコアパターンを用いることによって低光伝搬損失を有する。
 図1は、本発明の光導波路の断面図である。
 本発明の光学部材の製造方法の1つは、透明部材を、溶液に曝し、透明部材の曝露された曝露部位の屈折率を、透明部材の曝露部位ではない透明部材中心部の屈折率より実質的に低くする工程Aを有する。これにより、屈折率の異なる部位を有する透明部材を形成できるため、反射防止部材や、後述する光導波路のコアパターン等に用いることができる。本発明における「透明」とは、本発明の光学部材に用いる光の波長に対する透明性を指し、光の伝搬に悪影響のない程度の透明性を有していればよい。また、本発明における「屈折率を実質的に低くし得る」とは、透明部材を溶液に曝すことによって溶液の暴露部位が低屈折率化されることだけでなく、後の工程を経ることによって最終的に屈折率差が生じ相対的に屈折率が低くなることを指す。屈折率差が生じる工程は、本工程Aの直後であっても、また、後述するパターン化する工程Bや熱硬化する工程Dの後であってもよい。
 本発明において、溶液を用いて実質的に低屈折率化することにより、光学部材の曝露部位を均一な条件で屈折率制御が可能となる利点がある。また、曝露面が低屈折率化するため、例えば透明部材を被写体に積層した後に、工程Aを行うことによって、該被写体と反対面の屈折率差を低下させることができる。
 透明部材の種類としては、特に限定はなく、屈折率差が生じ得る材料であればよい。溶液を用いて該透明樹脂の屈折率差を生じさせる方法としては、例えば、(a)溶液によって透明部材の曝露部位に疎密の疎の部分を作り出すことによって屈折率差を生じさせる方法、(b)あらかじめ透明部材中に溶液に可溶な高屈折率成分を含有し、溶液によって該高屈折率可溶成分を溶解させて屈折率差を生じさせる方法、(c)透明部材よりも低屈折率成分を含む溶液を該透明部材に曝露・含浸させ屈折率制御剤として低屈折率成分を透明部材中に固定させて屈折率差を生じさせる方法がある。それ以外にも、後述するように(d)分子構造、分子ネットワーク様式を変化させ得る屈折率制御剤を曝露・含浸させて、曝露・含浸された部位とそれ以外の部位の間で屈折率差を生じさせる方法等が挙げられる。この(d)の方式では、後工程を経て分子構造、分子ネットワーク様式を変化させることができる。上述する屈折率差を生じさせる方法はいずれの方法を用いてもよく、本発明において肝要なのは溶液によって曝露・含浸された部位の屈折率が実質的に低下することである。
 また、得られた光学部材は、透明であり、透過する光の拡散や散乱を起こし得ないとよく、例えば、使用する光に対して吸収帯を有する物質(透過率の低下要因)や空隙(拡散・散乱の要因)を透明部材内に可能な限り内在させないことが、透明性、ヘイズ等が良好となるため好ましい。特に空隙を有すると空隙回りの屈折率制御が困難となるため、内在させないことが好ましい。
 工程Aにおいて、透明部材に屈折率を実質的に低下させ得る溶液を含浸させるとよい。含浸とは、任意の深さ方向まで浸透させることを意味し、曝露させる溶液の濃度、量、時間、温度、圧力等を適宜調整することによって、深さ方向の屈折率変調が可能となる。本発明における光学部材の製造方法では、一般的に光学部材表面から中心部方向(曝露方向)にかけての屈折率は、グラデーションがかかるように形成されるのだが、一定深さまで一様に屈折率が変化していてもよい。特に後述する透明部材が樹脂の場合は溶液の曝露による浸透深さと溶液の浸透量は反比例傾向になりやすいため前者になりやすい。なお、本発明でいう「屈折率を実質的に低下させ得る溶液」とは、屈折率分布型光学部品等の作製において使用される室温で液状の、透明部材の表層部付近に残存させる低屈折率モノマー群だけからなる液を指すものではない。本発明においては、後の工程を経ても透明部材の表層部付近に残存しない溶媒としての水や有機溶剤やそれらの混合液等、又はそれらに別の成分(例えば、アルカリ成分、酸成分、溶液調整用添加成分又は後述の屈折率制御剤等)を混合した液のことを指す。
 本発明は、工程Aにおいて水を主成分とする溶液を使用することによって、透明部材の溶解又は膨潤による悪影響が避けられるため、透明部材の形状を十分に保持した状態で表層部位の低屈折率化を行うことができるという利点を有する。さらに、後述のパターン化する工程Bにおいて形成するパターン形状を前記の水溶液で処理することによって高精度で得ることも可能になる。
 本発明において、屈折率制御剤を透明部材の一部に含有させることによって任意の部位の屈折率を変調させることができる。本発明は、この屈折率制御剤を特に透明部材の表層部位に含有させることによって、前記表層部位の屈折率を実質的に低くする機能を発現させる点に特徴を有する。また、屈折率制御剤は、使用する光に対して吸収帯を有する物質(透過率の低下要因)や空隙(拡散・散乱の要因)ではない方が透明性、ヘイズの観点から好ましい。
 溶液中には、透明部材の屈折率を実質的に低下し得る効果を有する屈折率制御剤を含有すると良い。この屈折率制御剤を含有させておくことにより、溶液の曝露・含浸により、屈折率制御剤が同時に透明部材に曝露・含浸され、効率的に屈折率が相対的に低くなる部位を形成しやすい。
 本発明の別の光学部材の製造方法は、透明部材に、透明部材の屈折率を実質的に低下させる屈折率制御剤を透明部材の表層部位に含有させ、屈折率制御剤の含有した表層部位の屈折率を、屈折率制御剤の含有していない透明部材の中心部の屈折率より、実質的に低くする工程A’を有する。工程A’には、透明部材を作製する段階で屈折率制御剤を透明部材の表面層にあらかじめ含有させておく方法と、透明部材を作製し、その後に溶液に暴露や含浸等を行ってその表層に含有させる方法の両者が含まれる。後者の場合、例えば、熱硬化等の後工程を経ることによって、結果として表層部位の屈折率を相対的に低くできるようにしても良い。
 これにより、上述した工程Aと同様に、屈折率の異なる部位を有する透明部材を形成できるため、反射防止フィルム部材や、後述する光導波路のコアパターン等に用いることができる。
 透明部材は、エッチング液によってエッチング可能な透明部材であって、エッチングによってパターン化する工程Bを有していると、任意の形状に該透明部材を加工することができる。さらに、透明部材をパターン化する工程Bと同時又は工程Bの後に、上述した工程A又は工程A’を行うことにより、パターン化した透明部材の側壁表層部位付近の屈折率を低下させることが可能となる。また、エッチング可能な透明部材であると、複数の透明部材を一括して形成することもでき、生産性に優れる。
 透明部材の種類としては、溶液の曝露や、屈折率制御剤の含有によって屈折率が実質的に低下し得る材料であれば特に制限はないが、透明部材が透明樹脂であると加工が容易である観点から好ましく、上述した屈折率制御剤がカチオンであると曝露・含浸させることが容易であり、透明部材を曝す溶液が、アルカリ溶液であると取り扱い性がよく、それらの組み合わせであると上記の製造方法の効果を発現しやすいため好ましい。
 上記の組み合わせであると、該カチオンが屈折率制御剤として機能する樹脂組成からなる透明部材に、アルカリ溶液としてカチオンを含む溶液を用い、曝露して該透明部材にカチオンを含浸させることで容易に、効率的に光学部材が製造できる。本発明を達成し得る具体的な樹脂組成の一例は後述する。
 上記のカチオンは、正の電荷を帯びたイオンであると、透明樹脂内に曝露・含浸させやすく、透明樹脂内でイオン結合等により固定されやすいため好ましい。さらに、1価のカチオンであると透明樹脂内のイオン結合性の架橋による密度上昇を抑制し実質的な低屈折率化が容易である。2価以上のカチオンは、イオン架橋や多価カチオンの反応物の生成による密度上昇があるため、実質的な低屈折率化を行うこが難しい。1価のカチオンの中で、特に、カリウムイオン又は/及びナトリウムイオンであると、取り扱い性が容易であると共に、他のアルカリ金属イオンより一般に吸湿性が低い透明樹脂となるためさらに好ましい。
 本発明においては、前記のカチオンと同じ機能を有する屈折率制御剤として、1官能性の化合物(単量体)又は前記透明部材の中心部よりも硬化反応が遅い重合性官能基を含有する化合物(単量体)を使用しても良い。例えば、1官能性の化合物(単量体)を含む有機溶剤からなる溶液に透明部材を暴露することによって、1官能性の化合物(単量体)が透明部材の表層に吸着又は含浸される。その後の光硬化又は熱硬化等の処理によって、透明部材の表層部位は架橋密度が低下するため、含浸されていない部位と比べて相対的に屈折率が低くなる。同様に、透明部材の中心部よりも硬化反応が遅い重合性官能基を含有する化合物(単量体)を使用する場合も透明部材の表層部位では硬化が遅くなり架橋反応が抑制されるため、透明部材の中心部と比べて相対的に屈折率が低い部位を形成することができる。
 前記の1官能性の化合物(単量体)としては、例えば、アクリレートやメタクリレート等のエチレン性不飽和結合を1分子中に1個有する化合物やエポキシ基を1個有するエポキシド化合物等が挙げられる。透明部材の中心部よりも硬化反応が遅い重合性官能基を含有する化合物(単量体)としては、本発明で使用する透明部材がエチレン性不飽和結合を2個以上有する多官能性のアクリレートやメタクリレート等を少なくとも含む場合は、それよりも反応が遅い付加重合性アリール基、エポキシ基及びウレタン結合を形成するイソシアネート基から選ばれる群のいずれか一つの基だけを有する化合物等を使用することができる。また、これらの化合物が低屈折率の材料であれば、屈折率制御剤として使用したときに実質的に屈折率を低くする効果が一層大きくなる。そのような機能を有する化合物としては、例えば、芳香族環や脂環式環を含まない1官能性の化合物(単量体)又は硬化反応が遅い重合性官能基を含有する化合物(単量体)が挙げられる。それれ以外にも、フッ素元素を含む化合物を使用しても良い。
 透明部材が透明樹脂である場合、該透明樹脂はさらに感光性の透明樹脂であるとよい。さらに、感光性透明樹脂を、上述した工程A又は工程A’の前に、又は/及び工程Bの前に光硬化し得る活性光線を照射する工程Cを有するとよい。これにより、溶液(水溶液、アルカリ溶液又は有機溶剤)に曝露させても活性光線に光硬化が進むことによって耐溶液性が向上する。さらに、エッチングによってパターン化する際のエッチング液の耐エッチング液性が向上する。溶液とエッチング液を同一の液(混合液でも構わない)とすると、工程Aと工程Bを同時に行うことができるため作業性・量産性が向上する。
 本発明の別の光学部材の製造方法は、透明部材が透明樹脂であって、該透明部材が熱によって硬化し得る場合、透明樹脂を加熱硬化し、熱硬化後の該透明樹脂の表層部位付近の屈折率を、熱硬化後の透明樹脂の中心部の屈折率より実質的に低い透明樹脂とする工程Dを有する。このときに使用される透明樹脂の材料は熱硬化によって、硬化後の表層部位付近の屈折率が中心部の屈折率よりも相対的に低くなり得る透明樹脂を選択すると良い。屈折率差は、透明樹脂表層の熱硬化の抑制(例えば酸素による硬化阻害機能等)によって生み出されても、上述したように屈折率制御剤をあらかじめ透明樹脂表層に暴露・含浸させておいても良い。前者の場合、透明樹脂の熱硬化時に周囲の雰囲気を調整するだけで透明樹脂の表層部位付近の硬化を抑制できるため、表層部位付近の屈折率はその中心部より低くなる。後者の場合は、熱による架橋のネットワークを中心部よりも疎の状態に変化し得る屈折率制御剤を用いて架橋反応を抑制させると良い。本発明において、架橋ネットワークの変化や架橋反応の抑制は広義に硬化抑制とし、該硬化抑制によって屈折率差を発現させると屈折率の制御が容易であるだけでなく、屈折率制御を位置的に高精度で行うことができるため、後者の方法が好ましい。このような現象を発現し得る材料組成例は後述する。
 熱硬化によって屈折率差を生じさせると、後の工程で加熱されるような部材であっても安定して屈折率差を保持させることができる。また、工程Dの前に屈折率差を生じさせる場合でも、前者と同様に、加熱工程(工程D)の後の工程で再加熱されるような部材であっても安定して屈折率差を保持させることができる。なお、熱硬化によって屈折率差を生じさせると、屈折率差が確保されやすいためより好ましい。上記の観点から前述した架橋ネットワークの変化が屈折率差に起因する材料組成であるとさらによい。
 工程D’として、工程A又は工程A’の後に透明樹脂を熱硬化する工程を有すると良い。熱硬化すると、未反応な光硬化成分、熱硬化成分を熱によって硬化させるとともに、曝露・含浸させた屈折率低下剤をある程度固定させることができる。工程D’は上述した工程Dであってもよい。
 本発明の透明部材に用いられる一例である透明樹脂としては、(A)熱重合性の官能基を有するベース樹脂、(B)熱重合性化合物を少なくとも有する透明樹脂であると良い。この場合、前記屈折率制御剤として、例えば(A)と(B)の架橋反応を抑制する物質を曝露・含浸させることによって屈折率差を生じさせることが可能となる。特に(A)が分子内にカルボキシル基を有し、(B)が分子内に該カルボキシル基と熱架橋するエポキシ基等を有し、屈折率制御剤がこのカルボキシル基とエポキシ基の架橋反応を抑制させる物質であるのが好ましい。さらに具体的には、上述したカチオンを該カルボキシル基とカルボキシル基塩とすることにより、カルボキシル基−エポキシ基間の架橋反応を抑制させることができる。この架橋反応の抑制により、曝露・含浸された表層部位は(A)と、(B)の架橋体の2成分系となり、架橋反応の抑制を受けていない中心部は(A)と(B)とが架橋する1成分系となる。これらの成分系の数の違いは、材料密度に影響し、一般に成分系の数が多くなるほど密度は低下する傾向にある。そのため、中心部の屈折率は高く、表層は低くなる。なお、一般にカチオン等のイオンが含有されると分極が大きくなり、屈折率は上昇する(屈折率は材料密度と分極におおよそ一次の相関がある)傾向にあるが、上述した架橋密度が屈折率に支配的に寄与する樹脂組成にすると、カチオン等のイオンが含有されていても屈折率を低下させることが可能となる。この効果は、カチオンとして1価のカチオンを使用するときに顕著になる。
 また、工程Dによって、熱硬化によって屈折率差を生じさせる場合は、露光後(熱硬化前)の屈折率よりも、熱硬化後の屈折率(中心部の屈折率に相当)が0.003以上高い樹脂、より好ましくは0.005以上、さらに好ましくは0.008以上高い樹脂であると、熱による硬化阻害が屈折率に与える影響が大きくなるため好ましい。
 次に前記光学部材の具体例として好ましい、光導波路について詳述する。
 本発明の光導波路を図1に示す。図1において、(a)は光導波路の断面図を模式的に表した図であり、(b)は光導波路に形成されたコア部断面の一つ(点線で囲んだ部分)を拡大して撮影した写真である。本発明の光導波路は、図1に示すように、基板1に上に形成される下部クラッド層2、コアパターン3、上部クラッド層4からなる光導波路であって、コアパターン3の周囲のうちの2辺以上(即ちコアパターンの断面形状である四辺形の4辺のうちの2辺以上)が、コアパターンの中心部4よりも屈折率が低い低屈折率部位5を有し、低屈折率部位5の外側に、さらに屈折率の低い下部クラッド層2又は/及び上部クラッド層6を有してなる光導波路である。
 本発明においてコアパターン3の周囲とは、コアパターン3「内」の周辺部位を指す。少なくとも2辺以上の周囲が、コアパターン中心部4よりも屈折率が低い低屈折率部位5を有することにより、コアパターンを伝搬する光が、コアパターン中心部4を伝搬しやすくなり、光損失を低減できる。さらに、低屈折率部位5の外側にさらに屈折率の低い下部クラッド層2や上部クラッド層6を配置することにより、コアパターン3を伝搬する光のうち、低屈折率部位5の外側に漏れ出そうとする成分を効率的にコアパターン3内にとどめることができる。このような光導波路であると、例えば直線状のコアパターン3を伝搬する光はコアパターン中心部4を伝搬しやすく低光損失であり、コアパターン3の曲げ等によってコアパターン3の外側に漏れ出そうとする光は、屈折率差のより大きい下部クラッド層2や上部クラッド層6とコアパターン3との界面で全反射されるため、光損失が発生しにくくなる。
 上記のことから、2辺とはコアパターン3の両側壁であることが好ましく、3辺以上であると上述の効果が3辺以上で行われるためより低光損失化が可能となるためより好ましい。
 なお、コアパターン中心部4とコアパターンの周囲の低屈折率部位5との以下の式で表される屈折率差より、低屈折率部位5と下部クラッド層2又は/及び上部クラッド層6との屈折率差の方が大きいと、低屈折率部位5から漏れだそうとする光成分をより効率的にコアパターン3内にとどめることができるため好ましい。
 [式1]
 (屈折率差)=(n −n 1/2/(2×n
 ここで、n及びnは、それぞれ高屈折率部位の屈折率及び低屈折率部位の屈折率である。
 上記の光導波路を得るためのコアパターンの形成方法としては特に限定はないが、上述した本発明の光学部材及び光学部材の製造方法によって形成できる。特に、溶液をエッチング液と同一の液とすると、エッチングによってコアパターンを形成すると同時に、上述した実質的に屈折率差を有するコアパターンを形成できる。
 この形成に用いられるコアパターン形成用透明部材は、コアパターンを形成した際に、2辺以上の周囲表層が、前記コアパターンの中心よりも屈折率が低い低屈折率部位を実質的に形成し得るものであり、例えば、前述の(A)熱重合性の官能基を有するベース樹脂、(B)熱重合性化合物を少なくとも有する透明樹脂のドライフィルム等が挙げられる。
 図1は本発明の代表的な光導波路の例を示したものであるが、本発明による光導波路は図1に示すフィルム形状の例だけに限定されるものではない。例えば、通常の光ファイバ状のコア部及びクラッド部を有する光導波路にも適用でき、前記コア部を形成するコアパターンにおいて、前記コアパターンの少なくとも周囲の一部が前記コアパターンの中心部よりも低屈折率を有する表層部位を有する光導波路とすることができる。また、図1に示す光導波路において、下部クラッド層2を有さないフィルム状の光導波路とすることもできる。その場合は、基板1が下部クラッド層を兼ねることになり、基板1としてはシリコン基板、ガラス基板又はガラスエポキシ樹脂基板等の硬い基板だけでなく、フィルム基材を使用しても良い。
 本発明の光導波路は、光ファイバや発光素子や受光素子と光学的に結合された光モジュールとして使用することができる。
 以下、本発明に用いられる各部材及び材料について詳細に説明する。
[透明部材]
 本発明に用いられる透明部材の種類としては、透明部材の表層部位付近の屈折率が、実質的に低下し得る材料で、用いる光の波長に対して悪影響の出ない範囲で透明性を有していればよく、石英、ガラス、樹脂等であればよい。屈折率の変調・制御のしやすさの観点から、透明樹脂であることが好ましい。また、透明部材の中心部の屈折率は部材そのものの屈折率であると屈折率の安定性、透過性を保持しやすいため好ましい。
[透明樹脂]
 本発明に用いられる透明樹脂は上記の透明部材の性能を有している透明樹脂であれば制限はない。本発明の透明部材に用いられる一例である透明樹脂としては、(A)熱重合性の官能基を有するベース樹脂、(B)熱重合性化合物を少なくとも有する透明樹脂であると良い。(A)と(B)の架橋反応を抑制する物質を曝露・含浸・含有させることによって屈折率差を生じさせることが可能となる。特に(A)が分子内にカルボキシル基を有し、(B)が分子内に該カルボキシル基と熱架橋するエポキシ基等を有すると、カルボキシル基とエポキシ基との架橋反応を抑制することができ、具体的には上述したカチオンを該カルボキシル基とカルボン酸塩とすることにより、カルボキシル基−エポキシ基間の架橋反応を抑制させることができるので好ましい。この架橋反応の抑制により、曝露・含浸・含有された表層部位は(A)と、(B)の架橋体の2成分系となり、架橋反応の抑制を受けていない中心部は(A)と(B)とが架橋する1成分系となる。これらの成分系の数の違いは、材料密度に影響し、一般に成分系の数が多くなるほど密度は低下する傾向にある。そのため、中心部の屈折率は高く、表層は低くなる。なお、一般にカチオン等のイオンが含有されると分極が大きくなり、屈折率は上昇する(屈折率は材料密度と分極におおよそ一次の相関がある)傾向にあるが、上述した架橋密度が屈折率に支配的に寄与する樹脂組成にすると、カチオン等のイオンが含有されていても屈折率を低下することが可能となる。上記のように本発明の一例を透明樹脂の屈折率差を生じさせる機構を詳細に説明したが、重要な点は屈折率差が生じ、かつ表層部位付近の屈折率が中心部の屈折率よりも小さくなることである。
 また、上記の透明樹脂には(C)光重合性化合物、さらに(D)光重合開始剤を含有するとよい。(C)や(D)を含有することによって、工程Cの露光によって、光硬化でき、溶液やエッチング液に対する耐性を付与することができる。さらに工程Bのエッチング工程を経ることにより、任意の形状に加工が容易となる。なお、(C)を含み、(C)が(A)や(B)と架橋しない場合には、上述したような成分系数は、表層部位付近は3成分系、中心部は2成分系となり、上記と同様に屈折率差を生じさせることが可能となる。
 以下に、前記(A)~(D)の化合物について詳細に説明する。
 (A)成分としては、例えば、熱重合性の官能基を有するベース樹脂(ポリマー)が挙げられ、好ましい例としては、カルボキシル基含有ポリマーが挙げられる。このポリマーとして、特に制限はないが、
例えば、下記(1)~(6)で表されるポリマーなどが挙げられる。
(1)分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物を共重合して得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
(2)分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、側鎖にエチレン性不飽和基を部分的に導入して得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
(3)分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、分子中にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ、生成したヒドロキシル基に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
(4)エチレン性不飽和基を有する酸無水物と、それ以外のエチレン性不飽和基を有する化合物の共重合体に、分子中にヒドロキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
(5)2官能エポキシ樹脂と、ジカルボン酸又は2官能フェノール化合物の重付加体に、多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
(6)2官能オキセタン化合物と、ジカルボン酸又は2官能フェノール化合物の重付加体のヒドロキシル基に、多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマー。
 これらの中で、透明性、エッチング液にアルカリ溶液を用いる場合のアルカリ溶液への溶解性の観点から、上記(1)~(4)で表されるカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーであることが好ましい。なお、前記ポリマーは(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリルポリマーであることが好ましい。ここで、(メタ)アクリロイル基とはアクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を、(メタ)アクリルポリマーとはアクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、及びこれらの誘導体を単量体とし、これを重合してなるポリマーをいう。該(メタ)アクリルポリマーは、上記単量体の単独重合体であってもよいし、また、これらのモノマーの2種以上を重合させた共重合体であってもよい。さらには、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記のモノマーと、必要に応じて(メタ)アクリロイル基以外のエチレン性不飽和基を有する上記以外のモノマーとを含む共重合体であってもよい。また、複数の(メタ)アクリルポリマーの混合物であってもよい。
 (A)成分のポリマーの重量平均分子量は、1,000~3,000,000であることが好ましい。1,000以上であれば分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が十分で、3,000,000以下であれば、アルカリ溶液からなるエッチング液に対する溶解性や(B)重合性化合物との相溶性が良好である。
 以上の観点から、(A)成分の重量平均分子量は3,000~2,000,000とすることがさらに好ましく、5,000~1,000,000であることが特に好ましい。
 なお、本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
 (A)成分としてカルボキシル基含有アルカリ可溶性ポリマーを用いる場合は、エッチングによりパターンを形成する工程において、アルカリ溶液によりエッチング可能となるように酸価を規定することができる。例えば、後述するアルカリ溶液を用いる場合には、酸価が20~300mgKOH/gであることが好ましい。
 20mgKOH/g以上であればエッチングが容易で、300mgKOH/g以下であれば耐エッチング液性が低下することがない。以上の観点から、酸価は30~250mgKOH/gであることがさらに好ましく、40~200mgKOH/gであることが特に好ましい。
 なお、耐エッチング液性とは、エッチングにより除去されずにパターンとなる部分が、エッチング液によって侵されない性質をいう。
 また、アルカリ溶液として、アルカリ性水溶液と1種以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系エッチング液を用いる場合には、酸価が10~260mgKOH/gであることが好ましい。酸価が10mgKOH/g以上であれば現像が容易で、260mgKOH/g以下であれば耐エッチング液性(エッチングにより除去されずにパターンとなる部分が、エッチング液によって侵されない性質)が低下することがない。以上の観点から、酸価は20~250mgKOH/gであることがさらに好ましく、30~200mgKOH/gであることが特に好ましい。
 (A)成分の配合量は、(A)成分及び(B)成分の総量に対して、10~85質量%であることが好ましい。10質量%以上であれば、透明樹脂の硬化物の強度や可撓性が十分で、85質量%以下であれば、露光時に(B)成分によって絡め込まれて容易に硬化し、耐エッチング液性が不足することがない。以上の観点から、(A)成分の配合量は20~80質量%であることがさらに好ましく、25~75質量%であることが特に好ましい。
 (B)成分の熱重合性化合物としては、熱によって架橋し得る化合物であればよく、例えば、エポキシ基などの熱重合性置換基を有する化合物などが好適に挙げられる。
 具体的には、2官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;水添2官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;3官能以上の多官能フェノールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;2官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;2官能脂環式アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;3官能以上の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;2官能芳香族グリシジルエステル;2官能脂環式グリシジルエステル;2官能芳香族グリシジルアミン;3官能以上の多官能芳香族グリシジルアミン;2官能脂環式エポキシ樹脂;3官能以上の多官能脂環式エポキシ樹脂;3官能以上の多官能複素環式エポキシ樹脂;ケイ素含有2官能又は3官能以上の多官能エポキシ樹脂などが挙げられる。
 以上の化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
 (C)成分の光重合性化合物としては、光によって架橋し得る化合物であればよく、例えば、エチレン性不飽和基などの光重合性置換基を有する化合物などが好適に挙げられる。
 具体的には、(メタ)アクリレート、ハロゲン化ビニリデン、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルピリジン、ビニルアミド、アリール化ビニルなどが挙げられるが、これらのうち透明性の観点から、(メタ)アクリレートやアリール化ビニルであることが好ましい。(メタ)アクリレートとして、単官能のもの、2官能のもの又は多官能のもののいずれも用いることができる。
 単官能(メタ)アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、各種アルキル(メタ)アクリレート、各種ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等の脂肪族(メタ)アクリレート;脂環式(メタ)アクリレート;芳香族(メタ)アクリレート;複素環式(メタ)アクリレート;これらのエトキシ化体;これらのプロポキシ化体;これらのエトキシ化プロポキシ化体;これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
 2官能(メタ)アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の各種脂肪族ジ(メタ)アクリレート;シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート等の各種脂環式ジ(メタ)アクリレート;ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等の各種芳香族(メタ)アクリレート;イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート等の各種複素環式ジ(メタ)アクリレート;これらのエトキシ化体;これらのプロポキシ化体;これらのエトキシ化プロポキシ化体;これらのカプロラクトン変性体;ネオペンチルグリコール型エポキシジジ(メタ)アクリレート等の各種脂肪族エポキシジ(メタ)アクリレート;水添ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート等の各種脂環式エポキシジ(メタ)アクリレート;ビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート等の各種芳香族エポキシジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
 3官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の各種脂肪族(メタ)アクリレート;イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート等の各種複素環式(メタ)アクリレート;これらのエトキシ化体;これらのプロポキシ化体;これらのエトキシ化プロポキシ化体;これらのカプロラクトン変性体;フェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート等の各種芳香族エポキシ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
 上述の単官能(メタ)アクリレート、2官能(メタ)アクリレート、3官能以上の多官能(メタ)アクリレートは、それぞれ、単独又は2種類以上組み合わせて使用することができる。また、官能基数の異なる(メタ)アクリレートを組み合わせて用いることもできる。さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
 (D)成分の光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤や光カチオン重合開始剤などが用いられるが、熱硬化阻害による屈折率差を生じさせるためには、工程Bにおける光硬化による架橋数を少なくし、光硬化による屈性率の上昇を抑制するとよい。これにより、透明樹脂の屈折率上昇行程が熱硬化工程となり、上述したような架橋阻害の屈折率に対する影響を受けやすく、透明樹脂の表層部位付近の屈折率を低下させやすい。上記の観点から光カチオン硬化剤よりも光ラジカル硬化剤を用いることが好ましい。具体的には、ベンゾインケタール;α−ヒドロキシケトン;グリオキシエステル;α−アミノケトン;ホスフィンオキシド;2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;ベンゾフェノン化合物;キノン化合物;ベンゾイン化合物;ベンジル化合物;アクリジン化合物;N−フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。
 また、前記2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体において、2つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
 これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記α−ヒドロキシケトン;上記グリオキシエステル;上記オキシムエステル;上記ホスフィンオキシドであることが好ましい。
 以上の光ラジカル重合開始剤は、単独で又は2種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
 本発明に用いられる(B)成分、(C)成分は、一つの分子内に光重合性のエチレン性不飽和基及び熱重合性のエポキシ基を共に含有する混在型の化合物であるとさらによい。本発明では、この場合、1成分で(B)成分及び(C)成分を共に含有するとみなすことができる。
 混在型を含有させることにより、(A)、(B)、(C)の3成分を有していても、上述したような熱硬化後の上述したような成分系数は、表層部位付近は2成分系、中心部は1成分系となり、上記と同様に屈折率差を生じさせることが可能となる。さらに、エチレン性不飽和基の架橋数が少なくなるため、透明樹脂の屈折率は、光硬化による屈折率上昇度より、熱硬化による屈折率上昇度が大きくなる。これにより、熱硬化が抑制されると、屈折率差が生じやすくなる。
 混在型の重合性化合物としては、分子内に2つ以上のグリシジル基を有するエポキシ樹脂を(メタ)アクリル酸化合物と反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート等であり、エポキシ基に対し(メタ)アクリル酸化合物を0.1~0.9当量反応させたものが好ましく、0.2~0.8当量がより好ましい。0.4~0.6当量が特に好ましい。
 具体的にはビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート等の2官能フェノールグリシジルエーテル;水添ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート等の水添2官能フェノールグリシジルエーテル由来のもの、フェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート等の多官能フェノールグリシジルエーテル由来;ポリエチレングリコール型エポキシ(メタ)アクリレート等の2官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル由来;シクロヘキサンジメタノール型エポキシ(メタ)アクリレート等の2官能脂環式アルコールグリシジルエーテル由来;トリメチロールプロパン型エポキシ(メタ)アクリレート等の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル由来;フタル酸ジグリシジルエステル等の2官能芳香族グリシジルエステル由来;テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の2官能脂環式グリシジルエステル由来のエポキシ(メタ)アクロレートなどが挙げられる。
 これらの中で、透明性及び高屈折率、耐熱性の観点から、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAF型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAD型エポキシ(メタ)アクリレート、ビフェニル型エポキシ(メタ)アクリレート、ナフタレン型エポキシ(メタ)アクリレート、フルオレン型エポキシ(メタ)アクリレート、フェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレートが好ましい。
[表層部位付近]
 本発明光学部材において、透明部材の暴露されてなる暴露部位、含浸部位、屈折率低下剤が含有される部位は、透明部材の表層部位付近であって、暴露・含浸させる量や時間を調整することによって、または、含有させる深さを任意に選択することによって任意の深さ方向に実質的に屈折率が低下した層を形成できる。
 その深さ(表層部位付近の厚み)には制限はないが、0.01μm~5mmであるとよく、0.05μm~1mmであると深さ制御が比較的容易となるためよりよく、0.1μm~100μmであると深さ制御がより容易となるためさらによい。光導波路のコアパターンに用いる場合には、さらに、0.1~30μmであると低光損失化が可能となるためよい。
 溶液を用いて実質的な屈折率を低下させる場合には、溶液に曝される全ての面が上記の深さ方向分、屈折率が低下する。光導波路のコアパターンの場合には、少なくとも両側面、加えて上面に低屈折率な層が形成される。
 [溶液]
 本発明の光学部材の製造方法に用いられる溶液としては、透明部材に溶液を暴露した後に該透明部材の表層部位付近の屈折率が実質的に透明部材の中心部の屈折率よりも低下する溶液であればよい。溶液を用いて透明部材の表層部位付近の屈折率を実質的に低下させることによって、屈折率低下の位置的なばらつきを抑制することができ、透明部材が複雑な形状や入り組んだ形状であっても実質的な屈折率を低下させることができる。
 溶液の種類としては、水、有機溶剤、アルカリ溶液、酸性溶液などが利用できる。例えば、上述したように溶液によって透明部材の曝露部位に疎密の疎の部分を作り出すことによって屈折率差を生じさせる方法を用いる場合には、暴露部位の少なくとも一部が溶解するような溶液を用いるとできる。また、透明部材に高屈折率な溶液に可溶成分を含有し、溶液によって該高屈折率可溶成分を溶解させて屈折率差を生じさせる方法を用いる場合には、高屈折率可溶成分を特に選択的に可溶する溶液を用いるとできる。また、透明部材よりも低屈折率成分を含む溶液を該透明部材に曝露・含浸させ低屈折率成分を透明部材中に固定させて屈折率差を生じさせる方法の場合、該低屈折率成分を溶解し、透明樹脂に浸透させ得る溶液を用いるとできる。後述するように分子構造、分子ネットワーク様式を変化させ得る屈折率制御剤を曝露・含浸させて屈折率差を生じさせる方法を用いる場合には、該屈折率制御剤を溶解し、透明樹脂に浸透させ得る溶液を用いるとできる。前記の溶液の中で、水を主成分とする溶液を使用すれば、透明部材の溶解又は膨潤による悪影響が避けられるため、透明部材の形状又は透明部材に形成したパターン形状を高精度で維持した状態で屈折率の制御を行うことができるようになる。
 有機溶剤の種類としては、上記のような目的を達成し得る有機溶剤を選択すればよく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、p−シメン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテル等の鎖状エーテル;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等の環状エーテル;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミドなどが挙げられる。
 これらの有機溶剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。
 アルカリ溶液の種類としては、上記のような目的を達成し得るアルカリ溶液を選択すればよく、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩;リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩;ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩;四ホウ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム等のナトリウム塩;炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム等のアンモニウム塩;水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、2−アミノ−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、1,3−ジアミノプロパノール−2−モルホリン等の有機塩基などの塩基が溶解した溶液が挙げられる。
 これらの塩基は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。
 酸性溶液の種類としては、上記のような目的を達成し得る酸性溶液を選択すればよく、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、過塩素酸、次亜臭素酸、亜臭素酸、臭素酸、過臭素酸、次亜ヨウ素酸、亜ヨウ素酸、ヨウ素酸、過ヨウ素酸、硫酸、フルオロスルホン酸、硝酸、リン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸、テトラフルオロリン酸、クロム酸、ホウ酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ギ酸、酢酸、クエン酸、グルコン酸、乳酸、シュウ酸、酒石酸、アルコルビン酸、メルドラム酸などの酸、それらを2つ以上混合した溶液などが挙げられる。
 また、上述した水、有機溶剤、アルカリ溶液、酸性溶液には、必要に応じて透明樹脂の屈折率を低下し得る屈折率低下剤を含有していてもよい。
[屈折率制御剤]
 本発明において透明部材の表層部位付近の実質的な屈折率を低下し得る屈折率制御剤としては、実質的に屈折率を低下し得る材料であれば特に制限はなく、例えば透明樹脂よりも屈折率が低く、透明樹脂の表面に暴露・含浸・含有により、定着する材料や、後述するように、透明部材が透明樹脂であり、架橋反応の抑制機能を有する物質を屈折率制御剤として透明樹脂の表面に暴露・含浸・含有させて屈折率を低減すればよい。このように、本発明は屈折率制御剤を透明部材の表層部位に含有させることによって、前記表層部位の屈折率を実質的に低くする機能を発現させる点に大きな特徴を有する。上述した樹脂組成物の場合は、屈折率制御剤としてカチオンであると効率的に実質的な屈折率を低下し得るため好ましく、正の1価の金属イオンであると、イオン架橋が抑制される一方で、イオン結合等を用いて定着させることが容易であるためより好ましく、カリウムイオンやナトリウムイオンであるとさらによい。従って、前述のアルカリ溶液を屈折率制御剤として用いることが可能である。
 また、本発明においては、屈折率制御剤として1価の金属イオンの代わりに、1官能性の化合物(単量体)又は前記透明部材の中心部よりも硬化反応が遅い重合性官能基を含有する化合物(単量体)を使用した場合でも、架橋反応の抑制効果が得られ、透明部材の表層部位付近の屈折率を実質的に低くすることができる。
[光導波路]
 本発明の光導波路は、下部クラッド層、コアパターン及び上部クラッド層を有してなる光導波路であって、コアパターンの断面形状の四辺形においてその4辺のうち2辺以上の周囲が、コアパターンの中心よりも屈折率が低い低屈折率部位を有し、低屈折率部位の外側に、さらに屈折率の低い下部クラッド層又は/及び上部クラッド層を有してなる光導波路である。上記の2辺とはコアパターンの両側壁であることが好ましく、3辺以上であるとより好ましい。
 さらに、コアパターン中心とコアパターンの周囲の低屈折率部位との屈折率差(上記の式から算出される値)より、低屈折率部位と下部クラッド層又は/及び上部クラッド層との屈折率差の方を大きくすることが好ましい。それによって、低屈折率部位から漏れだそうとする光成分をより効率的にコアパターン内にとどめることができる。
 コアパターン中心とコアパターンの周囲の低屈折率部位との屈折率差は、0.01~2.0%(式の値に100を乗じている)であると良く、材料の屈折率制御の容易性の観点から、0.02~2.0%であるとより良く、0.03~1.0%であるとさらに良い。
 低屈折率部位と下部クラッド層又は/及び上部クラッド層との屈折率差は、コアパターン中心とコアパターンの周囲の低屈折率部位との屈折率差よりも大きい範囲で、0.1~6.0%であると良く、光閉じ込め性の観点及び材料の屈折率制御の容易性の観点から、1.0~5.0%であるとより良く、2.0~5.0%であるとさらに良い。
 また、コアパターン3の中心部4の屈折率はコアパターン形成用樹脂硬化物そのものの屈折率であると屈折率の安定性、透過性を保持しやすいため好ましい。
 また、本発明の光導波路には、コアパターンの光軸上に光路を約90°方向に変換する光路変換ミラーを設けてもよく、各種電気配線板と複合された光電気複合基板とされていてもよく、コネクタ等を介して光ファイバと接合された光ケーブルとして用いられてもよい。
[下部クラッド層・上部クラッド層]
 本発明の光導波路に用いられる下部クラッド層及び上部クラッド層は少なくともコアパターンの下面及び上面を覆うように配置され、さらに両側壁を覆うように配置されているとよりよい。
 下部クラッド層及び上部クラッド層の形成方法としては特に限定はないが、例えば、ワニス状のクラッド層形成用樹脂層を塗布したり、フィルム状のクラッド層形成用樹脂層をラミネートやプレス等を用いて被写体上に積層したりして下部クラッド層とする方法が挙げられる。塗布や積層した後に硬化する観点から熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、光/熱併用硬化性樹脂等が好ましい。
 下部クラッド層の厚みとしては特に限定はないが、コアパターンの光の閉じ込め性の観点から5μm以上であると好ましく、厚い樹脂層の形成性の観点から200μm以下であると良い。厚みの制御の観点から10μm以上、150μm以下であるとより好ましく、低背化の観点から10μm以上、100μm以下であるとさらに好ましい。
なお、下部クラッド層は、単層であっても、複数層からなっていても良く、後述する上部クラッド層と同じ材料であっても異なる材料であっても良い。
 上部クラッド層の厚みとしては特に限定はないが、コアパターン上面からの厚みが5μm以上であると光の閉じ込め性の観点から好ましく、使用するクラッド層形成用樹脂層の厚みは、厚い樹脂層の形成性の観点から200μm以下であると良い。厚みの制御の観点から10μm以上、150μm以下であるとより好ましく、低背化の観点から10μm以上、100μm以下であるとさらに好ましい。
[コアパターン]
 本発明の光導波路に用いられるコアパターン3は、下部クラッド層2及び上部クラッド層6よりも高屈折率であり、光が伝搬する主要な部位である。
 上記の観点から伝搬する光の波長に対して、光の伝搬に悪影響の出ない程度の透明性を有していればよい。
 コアパターンの材料は、上記を満たすような、石英、ガラス、樹脂等であれば特に限定がないが、パターンとして形成する場合には、密着性の観点、形成性の観点から透明樹脂を用いることが好ましい。コアパターンの形成方法としては、被写体(下部クラッド層)上にワニス状のコアパターン形成用樹脂を塗布したり、フィルム状のコアパターン形成用樹脂をラミネート、プレス等にて積層した後に、露光・エッチングするフォトリソグラフィー加工や、異方性エッチング(ドライエッチング)等を用いてパターン形成したり、所望の箇所のみにフィルム状又はワニス状のコアパターン形成用樹脂を塗布するなどによってパターン形成したりすることでできる。高精度な位置合わせが可能である点から、フォトリソグラフィー加工が好適に挙げられ、その観点から、コアパターン形成用樹脂は、エッチング可能な樹脂層であることが好ましく、感光性の樹脂層であることがさらに好ましい。
 上述の範囲でさらにコアパターンの2辺以上の周囲が、コアパターンの中心よりも屈折率が低い低屈折率部位を形成し得る材料であることが肝要である。
 コアパターンの断面形状としては、光が伝搬可能な形状であればよく、矩形(四辺形)、多角形、円、楕円等が挙げられる。矩形以外の多角形の場合は、その2辺以上の周囲が低い低屈折率部位を形成し得ることが好ましく、できる限り多い辺が同様であることが好ましく、円形や楕円の場合、その周囲の半分以上が低屈折率部位であることが好ましく、全周囲が低屈折率部位であることがより好ましい。上記のフォトリソグラフィー加工で形成する場合には、矩形であると形成しやすいため好ましい。
 コアパターンの厚さについては特に限定されないが、形成後のコアパターンの厚さが、10μm以上であると、光デバイス形成後の受発光素子又は光ファイバ又は光デバイスとの結合において位置合わせトレランスが拡大できるという利点があり、160μm以下であると、光デバイス形成後の受発光素子又は光ファイバ又は光デバイスとの結合において、結合効率が向上し、加えて、全反射によって生じる伝搬光の位相差を小さくする効果があり、光伝搬損失を低減できるという利点がある。以上の観点から、コアパターンの厚さは10~160μmであるとよく、20~100μmであるとよりよく、さらに30~80μmの範囲であることがさらに好ましい。
[エッチング液]
 エッチング液としては、特に制限はなく、有機溶剤又は有機溶剤と水からなる準水系エッチング液等の有機溶剤系エッチング液;アルカリ性水溶液、アルカリ性水溶液と1種類以上の有機溶剤からなるアルカリ性準水系エッチング液等のアルカリ性エッチング液などが挙げられる。また、エッチング温度は、コアパターン形成用樹脂層のエッチング性に合わせて調節される。
 有機溶剤としては、特に制限はなく、上記の溶液に列挙した有機溶剤などが挙げられる。
 それらの有機溶剤は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。また、有機溶剤中には、表面活性剤、消泡剤、屈折率低下剤などを混入させてもよい。
 アルカリ性水溶液の塩基としては、特に制限はないが、上記に列挙した塩基などが挙げられる。
 それらの塩基は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。
 エッチングに用いるアルカリ性水溶液のpHは9~14であることが好ましい。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、屈折率低下剤などを混入させてもよい。
 アルカリ性準水系エッチング液として、アルカリ性水溶液と1種類以上の前記有機溶剤からなるものであれば特に制限はない。アルカリ性準水系エッチング液のpHは、エッチングが十分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、pH8~13であることが好ましく、pH9~12であることがさらに好ましい。
 有機溶剤の濃度は、通常、2~90質量%であることが好ましい。また、アルカリ性準水系エッチング液中には、界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよく、屈折率低下剤などを混入させてもよい。
 エッチング後の処理として、必要に応じて前記有機溶剤、前記有機溶剤と水からなる準水系洗浄液、又は水、酸性溶液を用いて洗浄してもよい。この洗浄により、過剰に透明樹脂中に含浸された屈折率低下剤をある程度除去してもよい。
 上記の透明樹脂の場合、透明樹脂を酸性溶液で洗浄すると過剰なカリウムイオンやナトリウムイオンを除去することができ、さらに最表層部分のカリウムイオンやナトリウムイオンを除去できる(カルボン酸塩が、酸性溶液によってカルボン酸になると、疎水性が上がり、内部までカリウムやナトリウムの置換が行えない)ため、実質的に透明樹脂の表層部位付近にはカリウムイオンやナトリウムイオンを残存させておくことが可能となるため好ましい。
 以下、本発明の光学部材の製造方法に用いられる各工程について詳細に説明する。
[工程A・工程A’]
 本発明の光学部材の製造方法に用いる工程Aとして、透明部材を、溶液に曝し、透明部材の曝露された曝露部位の屈折率を、透明部材の曝露部位ではない透明部材中心部の屈折率より実質的に低くし得るようにする。溶液を曝す方法は、特に限定はなく、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法等が挙げられる。また必要に応じてこれらの方法を併用してもよい。
 これにより、溶液に曝された屈折率の異なる部位をほぼ均一に形成することができる。また、溶液を用いることにより、複雑な形状や入り組んだ形状の透明部材の暴露面であっても屈折率を実質的に低減することができる利点があり、光導波路のコアパターンなどの側面の表層部位付近の屈折率を実質的に低下させることもできる。
 本発明の別の光学部材の製造方法である工程A’として、透明部材に、透明部材の屈折率を実質的に低下させる屈折率制御剤を透明部材の表層部位に含有させ、屈折率制御剤の含有した表層部位の屈折率を、透明部材の非部位である透明部材中心部の屈折率より、実質的に低くし得る。屈折率制御剤の添加方法としては、あらかじめ透明部材の表層部位付近に屈折率制御剤を含有させておく方法や、透明部材に屈折率制御剤を各種既知の方法(例えばスパッタ等)で埋め込んだりする方法や、上述した工程Aのように液状の屈折率制御剤または溶液に溶解させた屈折率制御剤を透明部材に曝し、該屈折率制御剤を透明部材の表層部位付近に含有させる方法が挙げられる。
 あらかじめ含有させておく方法であれば、任意の箇所の屈折率を制御する観点から好ましいが、透明部材の表層を均一な条件で屈折率を低下させる観点から液状の屈折率制御剤または溶液に溶解させた屈折率制御剤を透明部材に曝す方法が好適である。
[工程B]
 本発明の光学部材の製造方法に用いる工程Bとして、透明部材が、エッチング液によってエッチング可能であり、エッチングによってパターン化する工程Bを有している。エッチングでパターン化する工程を有することにより、任意の形状の透明部材を得られやすく、形状加工が一括で可能となるため好ましい。エッチングの方法は、特に限定はなくエッチング液でエッチング可能な部位と不可能な部位をあらかじめ作製し、エッチング可能な部位をエッチング液で除去すればよく、例えばパターン状のエッチングレジストを透明部材上に形成し、エッチングレジストのない部位をエッチングで除去する方法や、光や熱を用い透明部材を未硬化部及び硬化部(光硬化も含む)を作製した後にエッチング液によって未硬化部を除去することによってできる。また、エッチング液の浸漬方法は、特に限定はなく、スプレー法、ディップ法、パドル法、スピン法、ブラッシング法、スクラッピング法等が挙げられる。また必要に応じてこれらの方法を併用してもよい。
 上述した工程A又は工程A’は工程Bと同時又は工程Bの後に行うと良く、これにより、パターン化した透明部材の側壁表層の屈折率を実質的に低下させることが可能となる。工程A又は工程A’は、工程Bの後に行う場合、エッチング処理と溶液を曝す処理を連続して行うと効率的に本発明の光学部材を製造できるが、工程A又は工程A’は、工程Bと同時に行うと、工程数の削減による作業効率の向上が可能となるためより好ましい。上記の観点から工程A又は工程A’と工程Bを同時に行う場合、エッチング液は上述した屈折率を実質的に低下させ得る溶液と同一またはそれらの混合液であるとよい。
[工程C]
 本発明の光学部材の製造方法に用いる工程Cとして、透明部材が感光性透明樹脂である場合、上述した工程A又は工程A’の前に、又は/及び工程Bの前に光硬化し得る活性光線を照射する工程Cを有する。これにより、溶液に曝露させても活性光線に光硬化が進むことによって耐溶液性が向上する。さらに、エッチングによってパターン化する際のエッチング液の耐エッチング液性が向上する。溶液とエッチング液を同一の液(混合液でも構わない)とすることによって、工程Aと工程Bを同時に行うことができるため作業性が向上する。
 感光性透明樹脂の光硬化に用いる活性光線は、該感光性透明樹脂を硬化し得る波長の光であればよく、紫外線、可視光線、赤外線等が好適に挙げられる。紫外線であると効率的に光硬化が行えるためよい。活性光線の照射量は特に制限はないが、10~10000mJ/cmであるとよく、30~5000mJ/cmであるとよりよく、40~4000mJ/cmであるとさらによい。また、エッチングでパターン化する場合には、パターン化した後に、さらに活性光線を照射して光硬化を行ってもよい。このときの照射量は特に制限はないが100~10000mJ/cmであるとよく、300~5000mJ/cmであるとよりよく、400~4000mJ/cmであるとさらによい。パターン化した後の露光によってパターンの密着性の向上等が可能となる。
[工程D]
 本発明の別の光学部材の製造方法に用いる工程Dとして、透明部材が透明樹脂であって、該透明部材が熱によって硬化し得る場合、透明樹脂を加熱硬化し、熱硬化後の該透明樹脂の表層部位付近の屈折率を、熱硬化後の透明樹脂の中心部の屈折率より実質的に低い透明樹脂とする工程を有する。
 また、工程D’として、工程A又は工程A’の後に透明樹脂を熱硬化する工程を有すると良い。熱硬化すると、未反応な光硬化成分、熱硬化成分を熱によって硬化させるとともに、曝露・含浸させた屈折率低下剤をある程度固定させることができる。
 工程D又は工程D’熱硬化の温度は特に制限はないが、40~280℃であると、樹脂の透明性を維持することが容易であり、80~200℃であるとよりよく、100~190℃であるとさらによい。加熱の時間は5分~5時間であると熱硬化が可能であり、20分~3時間であるとよりよく、30分~2時間であるとさらによい。
 本発明の透明部材の屈折率の測定方法は、特に制限はないが、以下の方法で測定するとよい。まず屈折率測定用サンプルは以下(1)~(3)のいずれかの方法で作製できる。
(1)低屈折率化処理(溶液の曝露・含浸、屈折率低下剤の含有)を施していない透明部材と、低屈折率化処理を施したサンプルをそれぞれ作製し、それぞれの屈折率を測定する。
(2)透明部材の一部の表面を被覆したのちに、低屈折率化処理を施し、被覆していない透明部材の屈折率と、被覆を除去した透明部材の屈折率をそれぞれ測定する。
(3)透明部材に低屈折率化処理を行ったのちに、透明部材を破壊し、表層部位付近及び中心部の透明部材の屈折率をそれぞれ測定する。
 屈折率の測定方法は、既知の方法で測定すればよく最小偏角法、臨界角法、干渉法(低コヒーレンス干渉法、位相シフト干渉法等)等を用いればよい。
 以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、これらに限定されない。
{実施例1}
<透明部材形成用樹脂フィルムの作製>
[透明部材形成用ベースポリマー;(メタ)アクリルポリマー(P−1)の作製]
 撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート42質量部及び乳酸メチル21質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65℃に上昇させ、N−シクロヘキシルマレイミド14.5質量部、ベンジルアクリレート20質量部、o−フェニルフェノール1.5E0アクリレート39質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート14質量部、メタクリル酸12.5質量部、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)4質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート37質量部、及び乳酸メチル21質量部の混合物を3時間かけて滴下後、65℃で3時間撹拌し、さらに95℃で1時間撹拌を続けて、(メタ)アクリルポリマー(P−1)溶液(固形分45質量%)を得た。
[酸価の測定]
 P−1の酸価を測定した結果、80mgKOH/gであった。なお、酸価はP−1溶液を中和するのに要した0.1mol/L水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。
[重量平均分子量の測定]
 P−1の重量平均分子量(標準ポリスチレン換算)をGPC(東ソー(株)製「SD−8022」、「DP−8020」、及び「RI−8020」)を用いて測定した結果、3.2×10であった。なお、カラムは日立化成(株)製「Gelpack GL−A150−S」及び「Gelpack GL−A160−S」を使用した。溶離液としてはテトラヒドロフランを用い、サンプル濃度0.5mg/mlとし、溶出速度を1ml/分として測定した。その結果32,000であった。
[透明部材形成用樹脂ワニスの調合]
 (A)主鎖にマレイミド骨格を含むアルカリ可溶性(メタ)アクリルポリマとして、前記P−1溶液(固形分45質量%)60質量部、(B)重合性化合物として、ビスフェノールA型エポキシアクリレート(新中村化学工業(株)製EA−1010N)(エポキシ当量518g/eq)40質量部、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 (D)重合開始剤として、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア2959)1質量部、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア819)1質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度25℃、回転数400rpmの条件で、6時間撹拌して、コア部形成用樹脂ワニスを調合した。その後、孔径2μmのポリフロンフィルタ(アドバンテック東洋(株)製PF020)及び孔径0.5μmのメンブレンフィルタ(アドバンテック東洋(株)製J050A)を用いて、温度25℃、圧力0.4MPaの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度50mmHgの条件で15分間減圧脱泡し、透明部材形成用樹脂ワニスを得た。
[透明部材形成用樹脂フィルムの作製]
 上記透明部材形成用樹脂ワニスを、PETフィルム(東洋紡績(株)製A1517、厚み16μm)の非処理面上に塗工機((株)ヒラノテクシード製マルチコーターTM−MC)を用いて塗布し、100℃で20分乾燥し、次いで保護フィルムとして離型PETフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製A31、厚み25μm)を貼付け、透明部材形成用樹脂フィルムを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、50μmとなるように調節した。
[屈折率の測定]
 得られた透明部材形成用樹脂フィルムを100mm×100mmに裁断し、支持フィルム側から紫外線露光機((株)オーク製作所製、EXM−1172)を用いて、(波長365nm)を3500mJ/cmで照射した。その後、支持フィルムを剥離し、1.0質量%炭酸カリウム水溶液(液温30℃)に3分浸漬し、その後純水で水洗した。次いで160℃で1時間加熱乾燥及び硬化し、保護フィルムを剥離して光学部材を形成した。
 この光学部材の支持フィルム面(炭酸カリウム水溶液浸漬面)の波長830nmにおける屈折率を、プリズム結合式屈折率計(Metricon社製、商品名:Model2020)を用いて測定したところ屈折率は1.556であり、任意の箇所(約1cmごとに離した箇所)20箇所測定しても同じ屈折率で位置的ばらつきはなかった。表面のIR測定を行ったところ、カルボン酸陰イオンのピークが観測され、EDX測定を行ったところ、カリウムが検出された。保護フィルム面(炭酸カリウム水溶液非浸漬面)の屈折率は1.558であり、任意の箇所(約1cmごとに離した箇所)20箇所測定しても同じ屈折率で位置的ばらつきはなかった。表面のIR測定を行ったところ、カルボン酸陰イオンのピークはなく、EDX測定を行ったところ、カリウムは検出されなかった。深さ方向にEDX分析を行ったところ、表面から5μmの位置までカリウムが検出された。さらに、160℃で2時間加熱し、別の任意の箇所を上記と同様の方法を用いて屈折率を測定したところ、支持フィルム面側は1.556、保護フィルム面側は1.558と変化はなかった。
 なお、熱硬化しなかった以外は上記と同様に透明部材形成用樹脂フィルムを作製し、保護フィルムを剥離して光学部材を形成した。支持フィルム面(炭酸カリウム水溶液浸漬面)の波長830nmにおける屈折率を上記と同様の方法で測定したところ1.552であり、保護フィルム面の屈折率は1.549であった。
{実施例2}
 実施例1において1.0質量%炭酸カリウム水溶液を1.0質量%炭酸ナトリウム水溶液にした以外は同様の方法で光学部材を作製した。
 この光学部材の支持フィルム面(炭酸カリウム水溶液浸漬面)の波長830nmにおける屈折率を、プリズム結合式屈折率計(Metricon社製、商品名:Model2020)を用いて測定したところ屈折率は1.556であり、任意の箇所(約1cmごとに離した箇所)20箇所測定しても同じ屈折率で位置的ばらつきはなかった。表面のIR測定を行ったところ、カルボン酸陰イオンのピークが観測され、EDX測定を行ったところ、ナトリウムが検出された。保護フィルム面(炭酸カリウム水溶液非浸漬面)の屈折率は1.558であり、任意の箇所(約1cmごとに離した箇所)20箇所測定しても同じ屈折率で位置的ばらつきはなかった。表面のIR測定を行ったところ、カルボン酸陰イオンのピークはなく、EDX測定を行ったところ、ナトリウムは検出されなかった。深さ方向にEDX分析を行ったところ、表面から5μmの位置までナトリウムが検出された。さらに、160℃で2時間加熱し、別の任意の箇所を上記と同様の方法を用いて屈折率を測定したところ、支持フィルム面側は1.556、保護フィルム面側は1.558と変化はなかった。
 なお、熱硬化しなかった以外は上記と同様に透明部材形成用樹脂フィルムを作製し、保護フィルムを剥離して光学部材を形成した。支持フィルム面(炭酸カリウム水溶液浸漬面)の波長830nmにおける屈折率を上記と同様の方法で測定したところ1.552であり、保護フィルム面の屈折率は1.549であった。
{実施例3}
<クラッド層形成用樹脂フィルムの作製>
[(A)ベースポリマー;(メタ)アクリルポリマー(A−1)の作製]
 撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部及び乳酸メチル23質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を65℃に上昇させ、メチルメタクリレート47質量部、ブチルアクリレート33質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート16質量部、メタクリル酸14質量部、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)3質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート46質量部、及び乳酸メチル23質量部の混合物を3時間かけて滴下後、65℃で3時間撹拌し、さらに95℃で1時間撹拌を続けて、(メタ)アクリルポリマー(A−1)溶液(固形分45質量%)を得た。
[重量平均分子量の測定]
 (A−1)の重量平均分子量(標準ポリスチレン換算)をGPC(東ソー(株)製「SD−8022」、「DP−8020」、及び「RI−8020」)を用いて測定した結果、3.9×10であった。なお、カラムは日立化成(株)製「Gelpack GL−A150−S」及び「Gelpack GL−A160−S」を使用した。
[酸価の測定]
 (A−1)の酸価を測定した結果、79mgKOH/gであった。なお、酸価はA−1溶液を中和するのに要した0.1mol/L水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。
[クラッド層形成用樹脂ワニスの調合]
 (A)ベースポリマーとして、前記(A−1)溶液(固形分45質量%)84質量部(固形分38質量部)、(B)光硬化成分として、ポリエステル骨格を有するウレタン(メタ)アクリレート(新中村化学工業(株)製「U−200AX」)33質量部、及びポリプロピレングリコール骨格を有するウレタン(メタ)アクリレート(新中村化学工業(株)製「UA−4200」)15質量部、(C)熱硬化成分として、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護した多官能ブロックイソシアネート溶液(固形分75質量%)(住化バイエルウレタン(株)製「スミジュールBL3175」)20質量部(固形分15質量部)、(D)光重合開始剤として、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(チバ・ジャパン(株)製「イルガキュア2959」)1質量部、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド(チバ・ジャパン(株)製「イルガキュア819」)1質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート23質量部を攪拌しながら混合した。孔径2μmのポリフロンフィルタ(アドバンテック東洋(株)製「PF020」)を用いて加圧濾過後、減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスを得た。
 上記で得られたクラッド層形成用樹脂組成物を、キャリアフィルムであるPETフィルム(東洋紡績(株)製「コスモシャインA4100」、厚み50μm)の非処理面上に、塗工機(マルチコーターTM−MC、(株)ヒラノテクシード製)を用いて塗布し、100℃で20分乾燥後、カバーフィルムとして表面離型処理PETフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製「ピューレックスA31」、厚み25μm)を貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、本実施例では使用した下部クラッド層2及び上部クラッド層6の厚みに付いては、実施例中に記載する。また、下部クラッド層2及び上部クラッド層6の硬化後の膜厚は塗工後の膜厚と同一であった。
[屈折率の測定]
 シリコン基板(サイズ:60×20mm、厚さ:0.6mm)上にクラッド形成用樹脂フィルムを積層、硬化し、屈折率測定用のサンプルを作製した。このサンプルの波長830nmにおける屈折率を、プリズム結合式屈折率計(Metricon社製、商品名:Model2020)を用いて測定した。測定は、15~30℃の範囲にある所定の一定温度(例えば25℃)に設定して行った。硬化後の樹脂層の屈折率は1.496であった。
<図1の光導波路の作製例>
[下部クラッド層2の形成]
 基板7として100mm×100mmのポリイミドフィルム(ポリイミド:カプトンEN、厚さ;25μm)を用い、一方の面に、上記で得られた15μm厚みのクラッド層形成用樹脂フィルムの保護フィルムを剥離した後に、真空加圧式ラミネータ((株)名機製作所製、MVLP−500)を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度90℃、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着して、ラミネートした。続いて、紫外線露光機((株)オーク製作所製、EXM−1172)を用いて、樹脂フィルムAの支持フィルム側から紫外線(波長365nm)を3000mJ/cmで照射した。その後、支持フィルムを剥離し、170℃で1時間加熱乾燥及び硬化し、下部クラッド層2を形成した。
[コアパターン3の形成]
 上記で得られた下部クラッド層2形成面に、上記で得られた50μm厚みの透明部材形成用樹脂フィルムをコアパターン形成用樹脂フィルムとして、保護フィルムを剥離した後に、ロールラミネータ(日立化成テクノプラント(株)製、HLM−1500)を用い、圧力0.4MPa、温度50℃、ラミネート速度0.2m/minの条件をラミネートし、真空加圧式ラミネータ((株)名機製作所製、MVLP−500)を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度65℃、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着して、ラミネートした。続いて、紫外線露光機((株)オーク製作所製、EXM−1172)を用いて、50μm×90mm×12本(250μmピッチ)の開口部を有するネガ型フォトマスクを介して、紫外線(波長365nm)を3500mJ/cmで照射した。次いで支持フィルムを剥離し、1.0質量%炭酸カリウム水溶液(液温30℃)に3分間エッチングし、コアパターン形成用樹脂の未硬化部を除去し、その後1.0%硫酸及び純水で洗浄した。次いで160℃で1時間加熱乾燥及び硬化し、高さ50μm、幅50μmのコアパターンを形成した。
[上部クラッド層6の形成]
 コアパターン形成面側から、上記で得られた75μm厚みのクラッド層形成用樹脂フィルムの保護フィルムを剥離した後に、真空加圧式ラミネータ((株)名機製作所製、MVLP−500)を用い、500Pa以下に真空引きした後、圧力0.4MPa、温度90℃、加圧時間30秒の条件にて加熱圧着して、ラミネートした。続いて、紫外線露光機((株)オーク製作所製、EXM−1172)を用いて、樹脂フィルムAの支持フィルム側から紫外線(波長365nm)を3000mJ/cmで照射した。その後、支持フィルムを剥離し、170℃で1時間加熱乾燥及び硬化し、上部クラッド層6を形成し、光導波路とした。
[外形加工]
 上記で得られた光導波路のコアパターンを80mmになるようにダイシングソー(DAC552、(株)ディスコ社製)を用いて基板ごと切断し、端面平滑化を行って光導波路を作製した
[光損失測定]
 得られた光導波路の一方のコアパターン端面からGI50の光ファイバを用いて波長850nmの光を入射し、もう一方の端面から出力した光をSI114の光ファイバを用いて受光し、光導波路の光損失を作製した。その結果、平均0.05dB/cmであった。得られた光導波路の一方の面から白色光を入射し、もう一方の面のコアパターン端面を観察したところ、コアパターン中心の輝度が高かった(上辺及び側辺付近(コアパターンと上部クラッド層の界面から5μmの範囲)のコアパターンの輝度は低かった)。断面のEDX測定を行ったところ、両側辺、上辺から5μmの位置にカリウムが検出され、カリウムの検出された箇所の屈折率は1.556で、検出されなかったコアパターン中心部の屈折率は1.558だった。
{比較例1}
 実施例3において、コアパターンをエッチングで形成した後に、1.0%塩化カルシウム水溶液で洗浄した以外は同様の方法で光導波路を作製した。
[光損失測定]
 得られた光導波路の一方のコアパターン端面からGI50の光ファイバを用いて波長850nmの光を入射し、もう一方の端面から出力した光をSI114の光ファイバを用いて受光し、光導波路の光損失を作製した。その結果、平均0.42dB/cmであった。得られた光導波路の一方の面から白色光を入射し、もう一方の面のコアパターン端面を観察したところ、コアパターン中心の輝度が低かった(上辺及び側辺付近のコアパターンの輝度は高かった)。断面のEDX測定を行ったところ、両側辺及び上辺から5μmの位置にカルシウムが検出され、カルシウムの検出された箇所の屈折率は1.559で、検出されなかったコアパターン中心部の屈折率は1.558だった。このように、2価のカルシウムカチオンを含む部位は中心部と比べて屈折率が高くなっており、1価のカチオンと異なり、イオン架橋等によって透明部材の架橋が促進することが確認された。そのため光導波路の光伝搬損失が高くなり、本発明の効果を奏することができなかったものと考えられる。
 本発明の光学部材の製造方法により、透明部材の表層部位付近の屈折率の位置的ばらつきの少ない光学部材を提供できる。また、本発明によれば、低光損失な光導波路を提供できる。このため、反射防止部材、反射防止フィルム、各種光学フィルム、各種光学装置、光導波路部材、光電気複合部材、光ケーブル、光インターコネクションなどの幅広い分野に適用可能である。

Claims (22)

  1. 透明部材を溶液に曝し、前記溶液に曝露された前記透明部材の表層部位の屈折率を、前記溶液に曝露されていない前記透明部材の中心部の屈折率より実質的に低くする工程Aを有する光学部材の製造方法。
  2. 前記工程Aにおいて、前記の透明部材を溶液に曝すときに、前記溶液を前記透明部材に含浸させる請求項1に記載の光学部材の製造方法。
  3. 前記溶液が、前記透明部材の表層部位に含まれることによって前記表層部位の屈折率を実質的に低くする機能を発現する屈折率制御剤を含有する請求項1又は2に記載の光学部材の製造方法。
  4. 透明部材に、前記透明部材の屈折率を実質的に低下させる屈折率制御剤を前記透明部材の表層部位に含有させ、前記屈折率制御剤の含有した表層部位の屈折率を、屈折率制御剤の含有していない前記透明部材の中心部の屈折率より、実質的に低くする工程A’を有する光学部材の製造方法。
  5. 前記透明部材が、エッチング液によってエッチング可能な透明部材であって、エッチングによってパターン化する工程Bを有し、前記工程Bが、前記工程A又は前記工程A’と同時、又は、前記工程A又は前記工程A’の前に行われる請求項1~4のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
  6. 前記透明部材が透明樹脂であって、前記屈折率制御剤が1価のカチオンである請求項1~5のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
  7. 前記溶液がアルカリ溶液である請求項6に記載の光学部材の製造方法。
  8. 前記1価のカチオンがカリウムイオン及びナトリウムイオンの少なくともいずれかである請求項6又は7に記載の光学部材の製造方法。
  9. 前記透明樹脂が感光性透明樹脂であって、前記工程A又は前記工程A’の前に、又は/及び前記工程Bの前に、前記感光性透明樹脂を光硬化し得る活性光線を照射する工程Cを有する請求項6~8のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
  10. 前記工程A又は前記工程A’の後に前記透明樹脂を熱硬化する工程D’を有する請求項6~9のいずれかに記載の光学部材の製造方法。
  11. 透明樹脂を熱硬化し、前記透明樹脂の表層部位付近の屈折率を、前記透明樹脂の中心部の屈折率より実質的に低くする工程Dを有する光学部材の製造方法。
  12. 前記透明樹脂が、(A)熱重合性の官能基を有するベース樹脂、(B)熱重合性化合物を少なくとも有する請求項10又は11に記載の光学部材の製造方法。
  13. 請求項1~12のいずれかに記載の光学部材の製造方法に用いられる光学部材形成用透明部材。
  14. 請求項1~12のいずれかに記載の光学部材の製造方法によって得られる光学部材。
  15. コア部及びクラッド部を有する光導波路であって、前記コア部を形成するコアパターンにおいて、前記コアパターンの少なくとも周囲の一部が前記コアパターンの中心部よりも低屈折率を有する表層部位を有する光導波路。
  16. 請求項15に記載の光導波路が、下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層が積層された光導波路であって、前記低屈折率を有する表層部位の外側に、さらに屈折率の低い下部クラッド層又は/及び上部クラッド層を有してなる光導波路。
  17. 前記2辺以上の周囲を有するコアパターンが、少なくとも両側壁の2辺を含むコアパターンである請求項15又は16に記載の光導波路。
  18. 前記コアパターン中心とコアパターンの周囲の低屈折率部位との屈折率差より、前記低屈折率部位と前記下部クラッド層又は/及び上部クラッド層との屈折率差の力が大きい請求項16又は17に記載の光導波路。
  19. 請求項15~18のいずれかに記載の光導波路であって、前記コアパターンが請求項13に記載の光学部材形成用透明部材によって形成される光導波路。
  20. 前記表層部位は低屈折率化のための屈折率制御剤を含む請求項15~19のいずれかに記載の光導波路
  21. 請求項15~20のいずれかに記載の光導波路を用いた光モジュール。
  22. 下部クラッド層、コアパターン、上部クラッド層が積層された光導波路に用いられるコアパターン形成用透明部材であって、前記コアパターンを形成する際に、2辺以上の周囲が、前記コアパターンの中心部よりも屈折率が低い表層部位を実質的に形成し得るものである光導波路コアパターン形成用透明部材。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023514315A (ja) * 2020-02-18 2023-04-05 ローワン・ユニバーシティ 逐次硬化相互侵入ポリマーによる付加製造高ガラス転移温度材料の網目構造強靭化

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5897006A (ja) * 1981-12-04 1983-06-09 Nec Corp 光導波路の製造方法
JPS63125904A (ja) * 1986-11-17 1988-05-30 Hitachi Ltd 高分子光導波路及びその製造方法
JP2003195081A (ja) * 2001-12-26 2003-07-09 Jsr Corp 光導波路の形成方法
JP2007072129A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 National Univ Corp Shizuoka Univ 光導波路及びその製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4817727B1 (ja) * 1970-12-17 1973-05-31
JPS4817727U (ja) * 1971-07-08 1973-02-28
JPH0735270B2 (ja) * 1987-03-24 1995-04-19 日本板硝子株式会社 ガラスのイオン交換処理方法
US6870987B2 (en) * 2002-08-20 2005-03-22 Lnl Technologies, Inc. Embedded mode converter
US20040202429A1 (en) * 2003-04-10 2004-10-14 Lambda Crossing Ltd. Planar optical component for coupling light to a high index waveguide, and method of its manufacture
CN101592759B (zh) * 2004-10-07 2013-06-12 日立化成株式会社 光学材料用树脂组合物、光学材料用树脂薄膜及使用其的光导

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5897006A (ja) * 1981-12-04 1983-06-09 Nec Corp 光導波路の製造方法
JPS63125904A (ja) * 1986-11-17 1988-05-30 Hitachi Ltd 高分子光導波路及びその製造方法
JP2003195081A (ja) * 2001-12-26 2003-07-09 Jsr Corp 光導波路の形成方法
JP2007072129A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 National Univ Corp Shizuoka Univ 光導波路及びその製造方法

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