WO2014107907A1 - 一种基板涂布机的管路排泡方法、管路排泡装置及相应的涂布机 - Google Patents

一种基板涂布机的管路排泡方法、管路排泡装置及相应的涂布机 Download PDF

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syringe pump
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李良
柯智胜
徐彬
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TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D19/00—Degasification of liquids
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor

Definitions

  • the invention relates to a process technology of a thin film transistor liquid crystal display (TFT-LCD), in particular to a pipeline discharging method and device of a substrate coating machine and a corresponding coating machine.
  • TFT-LCD thin film transistor liquid crystal display
  • the lower version is a TFT P OLED process glass
  • the upper version is a color filter (Color). Filter, CF) process glass.
  • the coating process is required on both glasses, and the photoresist needs to be applied to both glass substrates. Since there are more or less bubbles in the Coater line, the bubble removal process is first required.
  • the defoaming treatment of the pipeline is generally carried out by means of multiple defoaming and segmental defoaming, wherein the number of bubbling is usually determined by empirical values, but these two methods can usually be large.
  • the bubbles are discharged, but the tiny bubbles usually gather at the interface with the piping system and adhere to the wall of the tube and cannot be discharged. Therefore, in the existing method, there may be a situation in which the bubble is not exhausted or a plurality of bubble extraction processes are required to exhaust the bubble.
  • the passage usually leads to the passage.
  • the final coating effect of the nozzle on the substrate is uneven, which causes abnormal product quality and even leads to product failure.
  • the technical problem to be solved by the present invention is to provide a method and a device for discharging a pipeline of a substrate coating machine, and a corresponding coating machine, which can improve light when discharging a pipeline of a substrate coating machine.
  • the utilization efficiency of the resistance is to provide a method and a device for discharging a pipeline of a substrate coating machine, and a corresponding coating machine, which can improve light when discharging a pipeline of a substrate coating machine.
  • an aspect of an embodiment of the present invention provides a pipeline discharging device of a substrate coating machine, wherein the pipeline discharging device comprises:
  • a syringe pump for injecting the photoresist from the storage container into the coater pipe of the coater; a control unit for starting the syringe pump for a first time, driving the photoresist in the coater pipe of the coater Flowing, performing a defoaming process; and, after the end of a defoaming process, closing the syringe pump for a second time; and after the small bubbles in the applicator tube accumulate in the second time, initiating the injection again Pump, repeat the defoaming process until all small bubbles in the coater tube are bubbled out.
  • the control unit further includes:
  • a syringe pump start control subunit for starting the syringe pump for a first time, driving the photoresist to flow in the coater pipe of the coater;
  • a syringe pump shutdown control subunit for shutting down the syringe pump for a second time after the end of one bubble evacuation process
  • the judging processing sub-unit is configured to judge whether the bubbling is completed. If the judgment result is that the defoaming has not been completed, the syringe pump control unit is controlled to restart the injection after the syringe pump closing control subunit turns off the syringe pump for a second time. Pump.
  • the control unit further includes:
  • a vibrating device for providing a shock wave to the coater pipe for a second time.
  • the control unit further includes:
  • the vibration device control subunit is configured to drive the vibration device to provide a shock wave to the coater pipe when the judgment processing subunit determines that the bubble discharge is not completed.
  • a substrate coating machine capable of discharging a pipe, which comprises at least a coater pipe, a spray head connected to the coater pipe, and a pipe discharge device, wherein , the pipeline defoaming device includes:
  • a syringe pump for injecting the photoresist from the storage container into the coater pipe of the coater; a control unit for starting the syringe pump for a first time, driving the photoresist to coat the coater Flowing through the pipe, performing a bubble discharging process; and after the end of one bubble discharging process, closing the syringe pump for a second time; and after the small bubbles in the coater pipe accumulate in the second time, Start the syringe pump again and repeat the defoaming process until all small air bubbles in the coater tubing are complete.
  • the control unit further includes:
  • a syringe pump start control subunit for starting the syringe pump for a first time, driving the photoresist to flow in the coater pipe of the coater;
  • a syringe pump shutdown control subunit for shutting down the syringe pump for a second time after the end of one bubble evacuation process
  • the judging processing sub-unit is configured to judge whether the bubbling is completed. If the judgment result is that the defoaming has not been completed, the syringe pump control unit is controlled to restart the injection after the syringe pump closing control subunit turns off the syringe pump for a second time. Pump.
  • the control unit further includes:
  • a vibrating device for providing a shock wave to the coater pipe for a second time.
  • the control unit further includes:
  • the vibration device control subunit is configured to drive the vibration device to provide a shock wave to the coater pipe when the judgment processing subunit determines that the bubble discharge is not completed.
  • a method for discharging a pipeline of a substrate coating machine includes at least the following steps:
  • the syringe pump injects the photoresist from the storage container into the coater tube of the coater;
  • the method further includes: presetting the first time and the second time.
  • the bubble discharging process includes a segmentation bubble discharging process.
  • the step of accumulating small bubbles in the coating machine pipe at the second time is specifically: in the second time, the coater pipe is allowed to stand to accumulate small bubbles; or
  • a shock wave is supplied to the coater pipe to accumulate small bubbles.
  • a second time interval setting is added, so that the microbubbles can accumulate as large bubbles in the time interval, and then the step of discharging the bubbles can be the same.
  • the light-dissipating efficiency is improved under the amount of photoresist, so that the bubbles in the pipeline of the substrate coating machine are well drained, the photoresist can be saved, and the utilization efficiency of the photoresist can be improved.
  • FIG. 1 is a schematic structural view of a first embodiment of a coating machine of the present invention
  • FIG. 2 is a schematic structural view of the control unit of Figure 1;
  • FIG. 3 is a schematic structural view of a second embodiment of a coating machine of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic structural view of the control unit of Figure 3;
  • Figure 5 is a flow chart showing an embodiment of a pipe discharging method of a substrate coating machine of the present invention
  • Fig. 6 is a timing chart showing the time period in which the bubble discharge process is performed in the present invention.
  • the coater 1 of the present invention comprises at least:
  • the coater pipe 11 is a pipe through which the light resistance passes, wherein air bubbles remain for various reasons; the spray head 12 is disposed at the end of the coater pipe 11 for uniformly coating the glass substrate to be coated Light resistance
  • the line defoaming device 10 is connected to the coater pipe 11 for discharging the coater pipe 11 and includes: a syringe pump 100 for injecting a photoresist from the storage container 2 into the coater tube 11 of the coater 1;
  • the control unit 101 is configured to start the syringe pump for a first time, drive the photoresist to flow in the coater pipe of the coater, perform a bubble discharging process, and close the syringe pump after the end of one bubble discharging process After a second time period; and after the small bubbles in the coater pipe accumulate in the second time, the syringe pump is started again, and the aforementioned bubble discharging process is repeated until all the small bubbles in the coater pipe are completely discharged.
  • the control unit 101 further includes:
  • a syringe pump start control subunit 102 for starting the syringe pump 100 for a first time to drive the photoresist to flow in the coater tube of the coater;
  • a syringe pump closing control subunit 103 configured to close the injection pump 100 for a second time after the end of a single bubble discharging process
  • the judgment processing sub-unit 104 is configured to determine whether the bubble discharge is completed. If the judgment result is that the bubble discharge is not completed, the syringe pump start control sub-unit is controlled after the syringe pump shutdown control sub-unit 103 turns off the syringe pump 100 for a second time. 102 start the syringe pump and re-discharge;
  • the setting subunit 105 is configured to set the first time and the second time value.
  • FIG. 3 and 4 there is shown a schematic view of the structure of a second embodiment of a coater of the present invention.
  • the coater of the second embodiment differs from the first embodiment shown in Figs. 1 and 2 in that the line discharge device 10 further includes:
  • the vibrating device 106 is configured to supply a shock wave to the coater pipe 11 for a second time to accelerate the accumulation of small bubbles in the coater pipe 11, and in one embodiment, the shock wave may be, for example, an ultrasonic wave.
  • control unit 101 further includes:
  • the vibration device control sub-unit 107 is configured to drive the vibration device 106 to supply the shock wave to the coater pipe 11 when the judgment processing sub-unit 104 determines that the bubble discharge has not been completed.
  • FIG. 5 it is a flow chart of an embodiment of a pipe discharging method of a substrate coater of the present invention; as can be seen from the figure, the method includes at least the following steps:
  • Step S60 starting the syringe pump for a first time, the syringe pump injects the photoresist from the storage container into the coater pipe of the coater; Step S61, driving the photoresist to flow in the coater pipe of the coater, performing a bubble discharging process;
  • Step S62 after the end of the defoaming process, the syringe pump is turned off and continues for a second time; step S63, it is judged whether the defoaming process is completed, and if the judgment result is yes, the process ends; if the judgment result is no, then Go to step S64;
  • Step S64 accumulating small bubbles in the coater pipe at the second time, specifically, in the second time, the coater pipe is allowed to stand to accumulate small bubbles; or in a second time, coating
  • the machine pipe provides shock waves to accumulate small bubbles.
  • step S60 the syringe pump is started again, and the foregoing process is repeated until all the small bubbles in the coater pipe are discharged.
  • Fig. 6 it is a time period diagram of performing a plurality of bubble discharging processes in the present invention. In one embodiment, it is assumed that multiple defoaming operations are required on the tubing of the coater.
  • the high line segment represents the syringe pump start and the low line segment represents the syringe pump shut down.
  • the high line segment represents that the bubble discharge operation is in progress, and the low line segment proxy discharge operation is stopped.
  • time T1 represents the time of single start of the syringe pump
  • time T2 represents the time of one bubble discharge in the coater line, and there is a certain time difference between the start time and the start time of the injection pump
  • time T3 represents the injection pump once.
  • the delay time from when the startup is completed until the coater line completes one bubble discharge, and the time T4 is a newly added time interval between the two bubble discharges (ie, the aforementioned second time), in the newly added time interval,
  • a second time interval setting is added, so that the microbubbles can accumulate as large bubbles in the time interval, and then the step of discharging the bubbles again can be the same.
  • the light-dissipating efficiency is improved under the amount of photoresist, so that the bubbles in the pipeline of the substrate coating machine are well drained, the photoresist can be saved, and the utilization efficiency of the photoresist can be improved.

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Abstract

一种基板涂布机的管路排泡方法、管路排泡装置（10）及相应的涂布机（1），其中管路排泡方法至少包括如下步骤：启动注射泵（100）持续一第一时间，所述注射泵（100）将光阻从储存容器（2）注射到涂布机（1）的涂布机管道（11）中；驱动所述光阻在所述涂布机（1）的涂布机管道（11）中流动，进行一次排泡处理过程；在该次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵（100）持续一第二时间；待所述涂布机管道（11）中的小气泡在该第二时间积聚后，再次启动注射泵（100），重复排泡过程，直至所述涂布机管道（11）中的所有小气泡排泡完成。通过上述排泡方法，可以提高管路的排泡效率，并能节省光阻。

Description

一种基板涂布机的管路排泡方法、 管路排泡装置及相应的涂布机
本申请要求于 2013 年 1 月 11 日提交中国专利局、 申请号为 201310009567.0、 发明名称为 "一种基板涂布机的管路排泡方法、 装置及相 应的涂布机" 的中国专利申请的优先权， 上述专利的全部内容通过引用结合 在本申请中。 技术领域
本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器（ Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD )的制程技术， 特别涉及一种基板涂布机的管路排泡方法、 装置及相应的涂布机。
背景技术
在现有的 TFT-LCD产品的生产制程中， 一般需要对上版及下版进行处 理， 下版为 TFT P车歹l ( TFT Array )制程玻璃， 而上版则是彩色滤光片（Color Filter, CF )制程玻璃。 在这两种玻璃上均需要进行涂布的过程， 需要将光阻 涂布于两种玻璃基板上。 由于涂布机（Coater ) 的管路中或多或少会存在气 泡， 故首先需要进行排泡处理。
在现有涂布机中对管道进行排泡处理一般采用多次排泡和分段排泡的 方式来完成， 其中排泡次数通常由经验值进行确定， 但是这两种方式通常可 以将大颗气泡排出，但是微小气泡通常聚集与管路系统的接口和附着在管壁 上无法排出。 因此， 在现有的方式中， 会出现排泡不尽的情形或者需要艮多 次的排泡过程才能将气泡排尽， 在第一种情形中， 如果管道中排泡不尽通常 会导致通过喷嘴向基板最终的涂布效果不均勾， 使得产品品质发生异常， 甚 至导致产品失败， 而处理这些异常无疑会导致产能下降； 在另一种情形中， 如果需而很多次的排泡过程， 则需要进行多次的排泡过程， 每次的排泡过程 均需要光阻在管道中流动， 故会导致光阻的浪费。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于， 提供一种基板涂布机的管路排泡方 法、 装置及相应的涂布机， 可以在对基板涂布机的管路进行排泡时， 提高光 阻的利用效率。
为了解决上述技术问题， 本发明的实施例的一方面提供一种基板涂布机 的管路排泡装置， 管路排泡装置包括：
注射泵， 用于将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中； 控制单元， 用于启动注射泵持续一第一时间， 驱动光阻在涂布机的涂布 机管道中流动， 进行一次排泡处理过程； 以及在一次排泡处理过程结束后， 关闭注射泵持续一第二时间； 并在涂布机管道中的小气泡在该第二时间内积 聚后， 再次启动注射泵， 重复排泡过程， 直至涂布机管道中的所有小气泡排 泡完成。
其中， 控制单元进一步包括：
注射泵启动控制子单元， 用于启动注射泵持续一第一时间， 驱动光阻在 涂布机的涂布机管道中流动；
注射泵关闭控制子单元， 用于在一次排泡处理过程结束后， 关闭注射泵 持续一第二时间；
判断处理子单元， 用于判断排泡是否完成， 如果判断结果为排泡尚未完 成， 则在注射泵关闭控制子单元关闭注射泵并持续第二时间后， 控制注射泵 启动控制子单元重新启动注射泵。
其中， 控制单元进一步包括：
设置子单元， 用于设置第一时间和第二时间值。
其中， 进一步包括：
振动装置， 用于在第二时间内， 为涂布机管道提供震动波。
其中， 控制单元进一步包括：
振动装置控制子单元， 用于在判断处理子单元判断到排泡尚未完成时， 驱动振动装置向涂布机管道提供震动波。
本发明实施例的另一方面， 提供一种基板涂布机， 可以实现对管道的排 泡， 其至少包括涂布机管道、 连接在涂布机管道上的喷头以及管路排泡装 置， 其中， 管路排泡装置包括：
注射泵， 用于将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中； 控制单元， 用于启动注射泵持续一第一时间， 驱动光阻在涂布机的涂布 机管道中流动， 进行一次排泡处理过程； 以及在一次排泡处理过程结束后， 关闭注射泵持续一第二时间； 并在涂布机管道中的小气泡在该第二时间内积 聚后， 再次启动注射泵， 重复排泡过程， 直至涂布机管道中的所有小气泡排 泡完成。
其中， 控制单元进一步包括：
注射泵启动控制子单元， 用于启动注射泵持续一第一时间， 驱动光阻在 涂布机的涂布机管道中流动；
注射泵关闭控制子单元， 用于在一次排泡处理过程结束后， 关闭注射泵 持续一第二时间；
判断处理子单元， 用于判断排泡是否完成， 如果判断结果为排泡尚未完 成， 则在注射泵关闭控制子单元关闭注射泵并持续第二时间后， 控制注射泵 启动控制子单元重新启动注射泵。
其中， 控制单元进一步包括：
设置子单元， 用于设置第一时间和第二时间值。
其中， 进一步包括：
振动装置， 用于在第二时间内， 为涂布机管道提供震动波。
其中， 控制单元进一步包括：
振动装置控制子单元， 用于在判断处理子单元判断到排泡尚未完成时， 驱动振动装置向涂布机管道提供震动波。
本发明实施例的再一方面， 提供一种基板涂布机的管路排泡方法， 至少 包括如下步骤：
启动注射泵持续一第一时间， 注射泵将光阻从储存容器注射到涂布机的 涂布机管道中；
驱动光阻在涂布机的涂布机管道中流动， 进行一次排泡处理过程； 在该次排泡处理过程结束后， 关闭注射泵并持续一第二时间； 待涂布机管道中的小气泡在第二时间内积聚后， 再次启动注射泵， 重复 排泡过程， 直至涂布机管道中的所有小气泡排泡完成。
其中， 进一步包括： 预先设置第一时间与第二时间。
其中， 排泡过程包括分段排泡过程。 其中， 涂布机管道中的小气泡在该第二时间积聚的步骤具体为： 在第二时间内， 静置涂布机管道， 使小气泡积聚； 或者
在第二时间内， 向涂布机管道提供震动波， 使小气泡积聚。
实施本发明实施例， 具有如下有益效果：
本发明实施例中， 通过在一次排泡完成后， 增加一个第二时间的间隔设 定， 使微小气泡在此时间间隔内可以积聚为大颗气泡， 之后再进行排泡的步 骤， 可在相同光阻用量下提高排泡效率， 从而很好地将基板涂布机的管路中 的气泡排尽， 并能节省光阻， 提高光阻的利用效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案， 下面将对实 施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍， 显而易见地， 下面 描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例， 对于本领域普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动的前提下， 还可以根据这些附图获得其他的附图。
图 1为本发明的一种涂布机第一实施例的结构示意图；
图 2是图 1中的控制单元的结构示意图；
图 3为本发明的一种涂布机第二实施例的结构示意图；
图 4是图 3中的控制单元的结构示意图；
图 5 是本发明的一种基板涂布机的管路排泡方法的一个实施例的流程 图；
图 6是本发明中进行多次排泡过程的时间周期示意图。
具体实施方式
下面参考附图对本发明的优选实施例进行描述。
请参照图 1和图 2所示， 示出了本发明的一种涂布机第一实施例的结构 示意图。 从中可以看出， 本发明的涂布机 1至少包括：
涂布机管道 11 , 是供光阻通过的管道， 其中会因各种原因残存有气泡； 喷头 12, 设置在涂布机管道 11的端部， 用于向待涂布的玻璃基板上均 匀涂布光阻；
管路排泡装置 10, 与涂布机管道 11相连， 用于为涂布机管道 11进行排 泡， 其包括： 注射泵 100, 用于将光阻从储存容器 2中注射到涂布机 1的涂布机管道 11中；
控制单元 101 , 用于启动注射泵持续一第一时间， 驱动光阻在涂布机的 涂布机管道中流动， 进行一次排泡处理过程； 以及在一次排泡处理过程结束 后， 关闭注射泵持续一第二时间； 并在涂布机管道中的小气泡在该第二时间 积聚后， 再次启动注射泵， 重复前述排泡过程， 直至涂布机管道中的所有小 气泡排泡完成。
其中， 控制单元 101进一步包括：
注射泵启动控制子单元 102, 用于启动注射泵 100持续一第一时间， 驱 动光阻在涂布机的涂布机管道中流动；
注射泵关闭控制子单元 103 , 用于在一次排泡处理过程结束后， 关闭注 射泵 100持续一第二时间；
判断处理子单元 104, 用于判断排泡是否完成， 如果判断结果为排泡尚 未完成，则在注射泵关闭控制子单元 103关闭注射泵 100并持续第二时间后， 控制注射泵启动控制子单元 102启动注射泵， 重新进行排泡；
设置子单元 105 , 用于设置第一时间和第二时间值。
请参照图 3和图 4所示， 示出了本发明的一种涂布机第二实施例的结构 示意图。 从中可以看出， 与图 1和图 2示出的第一实施例相比， 第二实施例 中的涂布机的区别在于， 其中， 管路排泡装置 10进一步包括有：
振动装置 106, 用于在第二时间内， 为涂布机管道 11提供震动波， 以加 快涂布机管道 11 中的小气泡的聚集， 在一个实施例中， 该震动波可以为诸 如超声波。
相应地， 控制单元 101中进一步包括：
振动装置控制子单元 107, 用于在判断处理子单元 104判断到排泡尚未 完成时， 驱动振动装置 106向涂布机管道 11提供震动波。
如图 5所示，是本发明的一种基板涂布机的管路排泡方法的一个实施例 的流程图； 从图中可以看出， 该方法至少包括如下步骤：
步骤 S60, 启动注射泵持续一第一时间， 注射泵将光阻从储存容器中注 射到涂布机的涂布机管道中； 步骤 S61 , 驱动光阻在涂布机的涂布机管道中流动， 进行一次排泡处理 过程；
步骤 S62,在该次排泡处理过程结束后，关闭注射泵并持续一第二时间； 步骤 S63 , 判断排泡过程是否完成， 如果判断结果为是， 则流程结束； 如果判断结果是否， 则转至步骤 S64;
步骤 S64, 使涂布机管道中的小气泡在该第二时间积聚， 具体地， 在第 二时间内， 静置涂布机管道， 使小气泡积聚； 或者在第二时间内， 向涂布机 管道提供震动波， 使小气泡积聚。
转至步骤 S60, 再次启动注射泵， 重复前述过程， 直至涂布机管道中的 所有小气泡全部被排出。
可以理解的是， 需要首先预先设置第一时间与第二时间。
如图 6所示， 是本发明中进行多次排泡过程的时间周期示意图。 在一个 实施例中， 假设需要对涂布机的管道进行多次排泡操作。 在图 6中的注射泵 的启动时间周期图中，高位线段代表注射泵启动，低位线段代表注射泵关闭。 在排泡的时间周期图中， 高位线段代表排泡操作在进行中， 低位线段代理排 泡操作停止。
其中， 时间 T1代表注射泵单次启动的时间； 时间 T2代表在涂布机管路 中进行一次排泡的时间， 其开始时间与注射泵开始启动时间存在一定的时间 差； 时间 T3代表注射泵一次启动完成至涂布机管路完成一次排泡的延迟时 间， 时间 T4为两次排泡之间新增加的时间间隔 （即前述提及的第二时间）， 在该新增的时间间隔中， 通过对涂布机管道进行静置， 或者向涂布机管道提 供震动波， 可以使在涂布机管道中残存的微小气泡有时间进行凝结增大体 积， 在下次进行排泡操作时， 可以增加排泡的成功率。
实施本发明实施例， 具有如下有益效果：
本发明实施例中， 通过在一次排泡完成后， 增加一个第二时间的间隔设 定， 使微小气泡在此时间间隔内可以积聚为大颗气泡， 之后再次进行排泡的 步骤， 可在相同光阻用量下提高排泡效率， 从而很好地将基板涂布机的管路 中的气泡排尽， 并能节省光阻， 提高光阻的利用效率。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已， 当然不能以此来限定本发明 之权利范围， 因此等同变化， 仍属本发明所涵盖的范围。

Claims

权 利 要 求
1、 一种基板涂布机的管路排泡装置， 其中， 所述管路排泡装置包括： 注射泵， 用于将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中； 控制单元， 用于启动注射泵持续一第一时间， 驱动所述光阻在所述涂布 机的涂布机管道中流动， 进行一次排泡处理过程； 以及在一次排泡处理过程 结束后， 关闭所述注射泵持续一第二时间； 并在所述涂布机管道中的小气泡 在该第二时间内积聚后， 再次启动注射泵， 重复排泡过程， 直至所述涂布机 管道中的所有小气泡排泡完成。
2、 如权利要求 1 所述的管路排泡装置， 其中， 所述控制单元进一步包 括：
注射泵启动控制子单元， 用于启动注射泵持续一第一时间， 驱动所述光 阻在所述涂布机的涂布机管道中流动；
注射泵关闭控制子单元， 用于在一次排泡处理过程结束后， 关闭所述注 射泵并持续一第二时间；
判断处理子单元， 用于判断排泡是否完成， 如果判断结果为排泡尚未完 成， 则在所述注射泵关闭控制子单元关闭所述注射泵并持续第二时间后， 控 制所述注射泵启动控制子单元重新启动所述注射泵。
3、 如权利要求 2所述的管路排泡装置， 其中， 进一步包括：
振动装置， 用于在所述第二时间内， 为所述涂布机管道提供震动波。
4、 如所述权利要求 3所述的管路排泡装置， 其中， 所述控制单元进一 步包括：
振动装置控制子单元，用于在所述判断处理子单元判断到所述排泡尚未 完成时， 驱动所述振动装置向所述涂布机管道提供震动波。
5、 如权利要求 4所述的管路排泡装置， 其中， 所述控制单元进一步包 括：
设置子单元， 用于设置所述第一时间和所述第二时间值。
6、 一种基板涂布机， 可以实现对管道的排泡， 其至少包括涂布机管道、 连接在所述涂布机管道上的喷头以及管路排泡装置， 其中， 所述管路排泡 装置包括： 注射泵， 用于将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中； 控制单元， 用于启动注射泵持续一第一时间， 驱动所述光阻在所述涂布 机的涂布机管道中流动， 进行一次排泡处理过程； 以及在一次排泡处理过程 结束后， 关闭所述注射泵持续一第二时间； 并在所述涂布机管道中的小气泡 在该第二时间内积聚后， 再次启动注射泵， 重复排泡过程， 直至所述涂布机 管道中的所有小气泡排泡完成。
7、 如权利要求 6所述的基板涂布机， 其中， 所述控制单元进一步包括： 注射泵启动控制子单元， 用于启动注射泵持续一第一时间， 驱动所述光 阻在所述涂布机的涂布机管道中流动；
注射泵关闭控制子单元， 用于在一次排泡处理过程结束后， 关闭所述注 射泵并持续一第二时间；
判断处理子单元， 用于判断排泡是否完成， 如果判断结果为排泡尚未完 成， 则在所述注射泵关闭控制子单元关闭所述注射泵并持续第二时间后， 控 制所述注射泵启动控制子单元重新启动所述注射泵。
8、 如权利要求 7所述的基板涂布机， 其中， 所述控制单元进一步包括： 设置子单元， 用于设置所述第一时间和所述第二时间值。
9、 如权利要求 8所述的基板涂布机， 其中， 进一步包括：
振动装置， 用于在所述第二时间内， 为所述涂布机管道提供震动波。
10、 如所述权利要求 9所述的基板涂布机， 其中， 所述控制单元进一步 包括：
振动装置控制子单元，用于在所述判断处理子单元判断到所述排泡尚未 完成时， 驱动所述振动装置向所述涂布机管道提供震动波。
11、 一种基板涂布机的管路排泡方法， 其中， 至少包括如下步骤： 启动注射泵持续一第一时间， 所述注射泵将光阻从储存容器注射到涂布 机的涂布机管道中；
驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动， 进行一次排泡处理过 程；
在该次排泡处理过程结束后， 关闭所述注射泵并持续一第二时间； 待所述涂布机管道中的小气泡在所述第二时间内积聚后，再次启动注射 泵， 重复排泡过程， 直至所述涂布机管道中的所有小气泡排泡完成。
12、 如权利要求 11所述的管路排泡方法， 其中， 进一步包括： 预先设置所述第一时间与所述第二时间。
13、 如权利要求 12所述的管路排泡方法， 其中， 所述排泡过程包括分 段排泡过程。
14、 如权利要求 11 所述的管路排泡方法， 其中， 所述涂布机管道中的 小气泡在该第二时间积聚的步骤具体为：
在所述第二时间内， 静置所述涂布机管道， 使所述小气泡积聚； 或者 在所述第二时间内 ,向所述涂布机管道提供震动波，使所述小气泡积聚。
15、 如权利要求 12所述的管路排泡方法， 其中， 所述涂布机管道中的 小气泡在该第二时间积聚的步骤具体为：
在所述第二时间内， 静置所述涂布机管道， 使所述小气泡积聚； 或者 在所述第二时间内 ,向所述涂布机管道提供震动波，使所述小气泡积聚。
16、 如权利要求 13所述的管路排泡方法， 其中， 所述涂布机管道中的 小气泡在该第二时间积聚的步骤具体为：
在所述第二时间内， 静置所述涂布机管道， 使所述小气泡积聚； 或者 在所述第二时间内，向所述涂布机管道提供震动波，使所述小气泡积聚。
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