WO2014077569A1 - 안과용 치료장치 및 이의 제어방법 - Google Patents

안과용 치료장치 및 이의 제어방법 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to an ophthalmic treatment device and a control method thereof, and more particularly, to an ophthalmic treatment device and a control method for treating an ocular disease.
  • Ophthalmic treatment device is a device for treating various lesions or diseases occurring in the eye.
  • an ophthalmic treatment device is a device for irradiating a therapeutic beam to treat a lesion or disease such as glaucoma, cataract or macular degeneration generated in the eye.
  • a laser beam of various wavelengths may be used as a therapeutic beam output from an ophthalmic treatment apparatus.
  • ophthalmic treatment devices should be irradiated with lasers of various wavelengths according to treatment targets such as glaucoma with increased intraocular pressure, cataract with whitening of the lens, and macular degeneration in the retina.
  • the ophthalmic treatment device is generated by taking an image of the eye to distinguish the eye area from which the disease occurred and the normal eye area.
  • the ophthalmic treatment device irradiates a therapeutic beam to the lesion area of the diseased eye based on the generated eye image.
  • a conventional treatment apparatus is disclosed in "SELECTIVE LASER TARGETING OF PIGMENTED OCULAR CELLS", "US Patent No. US 5,549,596B1". Disclosed is a technique capable of shortening the treatment time by irradiating a plurality of lasers in a pattern of a predetermined area.
  • the treatment apparatus disclosed in the prior art document is irradiating the treatment laser to the lesion area in a plurality of spots in the pattern shape in order to shorten the treatment time, but the lesion area of various shapes does not coincide with a predetermined pattern shape. Since the pattern is formed only on a portion of the lesion area and the treatment laser is irradiated to the remaining lesion area arbitrarily, the treatment time may be increased.
  • An object of the present invention is to provide an ophthalmic treatment apparatus and a control method thereof having an improved structure to minimize the time for irradiating a therapeutic beam to a lesion area of an eye having various shapes.
  • the ophthalmic treatment apparatus having a beam generating unit for generating a therapeutic beam and a beam delivery unit for guiding the therapeutic beam to the eye, generating an image of the eye to be treated
  • An image unit for displaying an image of the eyeball, a pattern unit overlapping a predetermined pattern shape with an image area of a lesion among the images of the eyeball, and any one of the inside of the lesion and the outside of the lesion based on an outline of the lesion image. It is made by an ophthalmic treatment device comprising an input unit for setting the irradiation position of the therapeutic beam by applying an input signal to selectively set the pattern shape overlapped in one.
  • control unit for controlling the operation of the beam generating unit and the beam delivery unit to irradiate the therapeutic beam to the irradiation position for the lesion image may further include. have.
  • control unit is configured to irradiate the therapeutic beam to the unselected pattern shape when the pattern shape overlapping the outside of the lesion is selectively set based on the outline of the lesion image by the input unit. And it can control the operation of the beam delivery unit.
  • control unit Preferably, the control unit generates the beam so that the treatment beam is irradiated to the set pattern shape when the pattern shape overlapping the inside of the lesion is selectively set by the input unit based on the outline of the lesion image.
  • the operation of the unit and the beam delivery unit can be controlled.
  • the input unit may include at least one of a mouse and a digitizer for applying an input signal to selectively set the pattern shape.
  • the pattern unit includes a pattern storage unit for storing a plurality of preset pattern shapes, and any one of the pattern shapes corresponding to the image of the lesion among the plurality of preset pattern shapes stored in the pattern storage unit in the image of the lesion. It may include an overlapping pattern forming unit.
  • the image unit photographs the eyeball to generate an image of the eyeball and the image of the lesion, an image of the eyeball and the image of the lesion generated by the imager, and displays the image by the pattern storage unit. It may include a display unit for displaying the pattern shape overlapping the image area of the lesion.
  • the control method of the ophthalmic treatment apparatus having a beam generating unit for generating a therapeutic beam and a beam delivery unit for guiding the therapeutic beam to the eye, (a Generating an image of the eyeball and an image of the eyeball to be treated; (b) overlapping a predetermined pattern shape on the image of the lesion; and (c) the image of the eyeball based on an outline of the lesion image. It is also made by the control method of the ophthalmic treatment device comprising the step of setting the irradiation position of the therapeutic beam by selectively setting the pattern shape overlapping any one of the inside of the lesion and the outside of the lesion.
  • the irradiation position of the therapeutic beam is set (d) further comprising the step of controlling the operation of the beam generating unit and the beam delivery unit to irradiate the therapeutic beam to the irradiation position with respect to the lesion image Can be.
  • the beam generating unit may irradiate the therapeutic beam to the unselected pattern shape. And it can control the operation of the beam delivery unit.
  • the step (d) may include the beam generation unit and the beam so that the therapeutic beam is irradiated to the set pattern shape when the pattern shape overlapping the inside of the lesion is selectively set based on the outline of the lesion image.
  • the operation of the beam delivery unit can be controlled.
  • the ophthalmic treatment apparatus may include at least one of a mouse and a digitizer for applying an input signal to selectively set the pattern shape in the step (c).
  • the ophthalmic treatment apparatus and control method thereof according to the present invention can set the irradiation position of the beam for treatment by selectively setting the patterns based on the outer line of the lesion after overlapping the predetermined pattern shape on the image of the lesion of various shapes Therefore, the treatment time can be minimized.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an ophthalmic treatment device according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a control block diagram of an ophthalmic treatment device according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 3 is a front view illustrating the display unit of FIG. 1;
  • FIG. 4 is a view showing an irradiation pattern stored in a pattern unit
  • FIG. 5 is a schematic diagram of selecting a pattern in a state in which a preset irradiation pattern overlaps the lesion area in FIG. 3 according to the first embodiment of the present invention
  • FIG. 6 is a schematic diagram of selecting a pattern in a state in which a preset irradiation pattern overlaps a lesion area in FIG. 3 according to a second embodiment of the present invention
  • FIG. 7 is a control flowchart of an ophthalmic treatment device according to embodiments of the present invention.
  • the ophthalmic treatment apparatus Prior to the description, the ophthalmic treatment apparatus according to the embodiments of the present invention is divided into the first and second embodiments, but it is noted that the same components are described with the same reference numerals.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an ophthalmic treatment device according to embodiments of the present invention
  • Figure 2 is a control block diagram of an ophthalmic treatment device according to embodiments of the present invention.
  • the ophthalmic treatment apparatus 10 may include a beam generation unit 100, a beam delivery unit 200, an image unit 300, and a pattern unit 500. ) And an input unit 700.
  • Ophthalmic treatment device 10 according to embodiments of the present invention is described below to treat the retina (R) of the eye (O), but can also be applied to the cornea (Cr) or lens (Co) of the eye (O) have.
  • the beam generating unit 100 is provided to generate a therapeutic beam.
  • the beam generating unit 100 may use Q-switched Nd: YAG as an embodiment.
  • the beam generating unit 100 used as the Q-switched Nd: YAG is only one embodiment and may be used in other manners known in the art.
  • the beam generating unit 100 generates a laser which is a therapeutic beam.
  • the beam generating unit 100 includes components such as a laser diode (not shown) to oscillate a laser generated as a therapeutic beam.
  • the beam generation unit 100 preferably generates a beam for treatment of the wavelength band according to the tissue of the eyeball (O).
  • the beam delivery unit 200 includes an XY scanner 220, a collimation unit 240, and a beam splitter 260.
  • the beam delivery unit 200 guides the therapeutic beam provided from the beam generating unit 100 to the treatment area of the eyeball O, that is, the lesion area.
  • the beam generating unit 100 and the beam delivery unit 200 described above are operated by the control of the controller 900 to be described later.
  • the XY scanner 220 treats an optical axis of the therapeutic beam irradiated to the retina R through the cornea Cr and the lens Co as Z-axis. It is provided to form a spot of the dragon beam.
  • the XY scanner 220 includes a plurality of reflecting mirrors (not shown) installed to be rotatable based on different rotation axes. Thus, the XY scanner 220 is composed of at least two reflecting mirrors to move the spot of the treatment beam in the X-axis or Y-axis direction on the XY plane.
  • the collimation unit 240 is disposed between the eyeball O and the XY scanner 220 to collimate the beam for treatment incident from the XY scanner 220 to the treatment area of the eyeball O.
  • the collimation unit 240 is composed of an objective lens composed of a plurality of lenses.
  • the beam splitter 260 is disposed between the XY scanner 220 and the collimation unit 240 to guide the therapeutic beam from the XY scanner 220 to the collimation unit 240.
  • FIG. 3 is a front view illustrating a display unit in FIG. 1
  • FIG. 4 is a diagram illustrating an irradiation pattern stored in a pattern unit
  • FIG. 5 is an irradiation pattern preset in a lesion area in FIG. 3 according to a first embodiment of the present invention.
  • 6 is a schematic diagram of selecting a pattern in the overlapped state
  • FIG. 6 is a schematic diagram of selecting a pattern in a state in which the irradiation pattern preset in the lesion area in FIG. 3 is overlapped according to the second embodiment of the present invention.
  • the image unit 300 generates a fundus image of the eyeball O to display a fundus image of the eyeball O.
  • the image unit 300 generates and displays the image I of the lesion area to be treated together with the overall fundus image of the eyeball O.
  • the image unit 300 includes an image unit 320 and a display unit 340.
  • the imaging unit 320 is used to photograph the fundus image including the lesion area I generated in the patient's fundus such as macular degeneration.
  • the imaging unit 320 may include at least one of an optical coherence tomography (OCT) and a photographing device such as a digital camera to photograph the tomography of the eyeball O.
  • OCT optical coherence tomography
  • a photographing device such as a digital camera to photograph the tomography of the eyeball O.
  • the display unit 340 displays an image of the eyeball O photographed by the imaging unit 320 to the user.
  • an eye fundus image captured by the imaging unit 320 may be displayed.
  • the fundus image may include the lesion area I to be treated, through which the operator may recognize the treatment area.
  • the display unit 340 may display a plurality of irradiation patterns P previously stored in the pattern unit 500 to be described later, so that the operator may select the irradiation pattern. Furthermore, when the user selects one irradiation pattern from among the plurality of irradiation patterns, the selected irradiation pattern may be selectively overlapped and displayed on the image I of the lesion area.
  • the pattern unit 500 is configured to form a pattern overlapping the image (I) region of the lesion generated by the image unit 300.
  • the pattern unit 500 includes a pattern storage unit 520 and a pattern forming unit 540.
  • the pattern storage unit 520 stores various pattern shapes different from each other to which the therapeutic beam can be irradiated.
  • the irradiation pattern P may include a quadrangle, a triangle, and a circle, and may be configured as an oval or various types of irradiation patterns.
  • Each irradiation pattern P is composed of a plurality of spots to which the therapeutic beam is irradiated, and the size of each spot and the interval between the spots may be adjusted by a user's setting.
  • Irradiation patterns stored in the pattern storage unit 520 may be stored at the beginning of the product, or may be added through an update later.
  • the pattern forming unit 540 overlaps the pattern shape on the image I of the lesion by using a selected pattern shape among a plurality of preset pattern shapes stored in the pattern storage unit 520.
  • the user may select and set one irradiation pattern among a plurality of irradiation patterns previously stored in the pattern storage unit.
  • the user may select an irradiation pattern having a similar shape corresponding to the shape of the treatment area.
  • the preset irradiation pattern may be overlapped and displayed on the fundus image of the display unit.
  • the user may adjust the position of the irradiation pattern displayed on the display to overlap the lesion area corresponding to the treatment area.
  • the pattern shape overlapped with the image I of the lesion by the pattern forming unit 540 is not overlapped with the image I of the lesion on the basis of the outline Io of the lesion and disposed outside the treatment area.
  • the first pattern P1 and the image I of the lesion overlap with each other and the pattern (including a spot overlapping the outline Io line of the lesion) is separated into the second pattern P2. do.
  • the input unit 700 applies an input signal to selectively set the overlapped pattern shape to either the inside of the lesion or the outside of the lesion based on the outer line Io of the image I of the lesion. In this way, the irradiation position of the beam for treatment is set based on the input signal selectively set by the input unit 700.
  • the input unit 700 may automatically apply an input signal so that any one of the patterns outside and inside the lesion is selected based on the Io line of the lesion, and at least one of a digitizer and a mouse. It may include a manual input signal by the operator, including.
  • a pattern comparison unit (not shown) for comparing the number of patterns on the outside and the inside of the lesion based on the Io line of the lesion. Do.
  • the input unit 700 compares the number of patterns inside the lesion with the outside of the lesion, for example, the number of the first pattern P1 and the second pattern P2, based on the Io line of the selected lesion. Apply an input signal to select.
  • the input unit 700 is located inside the lesion rather than the number of first patterns P1 overlapping the outside of the lesion based on the Io line of the lesion. If it is determined that the number of the second patterns P2 overlapped with is large, an input signal is applied to select the first pattern. Then, the controller 900 to be described below controls the operation of the beam generating unit 100 and the beam delivery unit 200 to irradiate the beam for treatment with the second pattern P2 except for the selected first pattern P1. .
  • the input unit 700 overlaps the inside of the lesion rather than the number of first patterns P1 overlapping the outside of the lesion based on the outer line (Io) of the lesion. If it is determined that the number of the second patterns P2 is small, an input signal is applied to select the second patterns P2. Then, the control unit 900 to be described later controls the operation of the beam generating unit 100 and the beam delivery unit 200 to irradiate the beam for treatment with the selected second pattern (P2).
  • the treatment beam is irradiated so as to correspond to the pattern by directly selecting a pattern composed of portions overlapping with the treatment area, that is, the area of the treatment area and the spots inside the treatment area, without going through the above process. It is also possible to set it up.
  • the outline of the treatment area may be set based on information directly input by the user (operator) with reference to the fundus image.
  • the user may set the outline of the treatment area by directly drawing the outline of the lesion area using the above-described input unit such as a digitizer and a mouse.
  • the outline may be set based on information input by the user through a component provided separately from the input unit.
  • the outline of the treatment area may be configured to automatically set the outline based on the image information of the fundus image. For example, an area having an image parameter such as color, brightness, or saturation among the fundus images having a value different from the normal range may be selected, and an outline may be set by automatically detecting a treatment area based on this.
  • the user may configure the outline easily by recommending the calculated outline to the user through the display unit.
  • the image unit of the image unit or a separate processor may be configured to perform such image processing.
  • the ophthalmic treatment apparatus 10 further includes a controller 900.
  • the control unit 900 may generate a beam generating unit 100 and a beam delivery unit 200 to irradiate a therapeutic beam to an irradiation position of the therapeutic beam with respect to the image I of the lesion based on the input signal of the input unit 700. To control the operation.
  • the controller 900 may store operation control contents of the optimal beam generation unit 100 and the beam delivery unit 200 according to each pattern, corresponding to the plurality of patterns stored in the pattern unit 500. . If one irradiation pattern is selected, the controller refers to the operation control content corresponding to the corresponding irradiation pattern, and optimizes the operation to exclude the pattern excluded from the preset irradiation pattern set by the pattern unit 500 and the input unit 700.
  • the control content may be partially adjusted to control the operation of the beam generating unit and the beam delivery unit.
  • the controller 900 selects the second patterns P2 that are not selected. Control the operation of the beam generating unit 100 and the beam delivery unit 200 so that the therapeutic beam can be irradiated.
  • the control unit 900 when the input signal applied by the input unit 700 selects the second patterns P2, the control unit 900 includes a beam for treatment in the selected second patterns P2. It controls the operation of the beam generating unit 100 and the beam delivery unit 200 so that it can be irradiated.
  • controller 900 may distinguish the first pattern P1 and the second pattern P2 by recognizing the outer line Io of the lesion so that the above-described control process can be performed.
  • FIG. 7 is a control flowchart of an ophthalmic treatment apparatus according to embodiments of the present invention.
  • an image of the eyeball O is generated using the image unit 300 (S100).
  • the image I of the lesion is generated together with the image of the eyeball O generated in step S100.
  • the pattern unit 500 overlaps any one of the predetermined pattern shapes in the image I of the lesion (S300).
  • the pattern shape that overlaps the image I of the lesion is a first pattern P1 outside the lesion, a line Io of the lesion, and a second pattern P2 inside the lesion, based on the line Io of the lesion. Are distinguished.
  • the number of patterns inside the lesion is compared with the number of patterns outside the lesion (S500). That is, the number of first patterns P1 and the number of second patterns P2 are compared.
  • One of the first pattern P1 and the second pattern P2 is selectively set (S700).
  • the input signal applied by the input unit 700 is applied so that a smaller one is selected when comparing the number of the first patterns P1 and the number of the second patterns P2.
  • the treatment beam is irradiated based on the input signal applied from the input unit 700 (S900).
  • the control unit 900 beams the beam generating unit 100 and the beam to irradiate the therapeutic beam to the unselected second patterns P2.
  • the control unit 900 controls the operation of the delivery unit 200, while the control unit 900 controls the beam to be irradiated to the second pattern P2 when the second pattern P2 is selected as in the second embodiment of the present invention.
  • the operation of the generation unit 100 and the beam delivery unit 200 is controlled.
  • the irradiation pattern having a shape similar to the shape of the treatment area among the plurality of previously stored irradiation patterns is used, but a part of the pattern (spots outside the outline) that is located outside the treatment area and does not overlap
  • a part of the pattern spots outside the outline
  • the present invention it is possible to minimize the time required for the design of the pattern by using a previously stored irradiation pattern, and to perform a correction to exclude a portion of the previously stored irradiation pattern that does not overlap the treatment area. It is possible to prevent the radiation from occurring by treating the therapeutic beam.
  • the controller stores the optimal motion control contents for controlling the beam delivery unit in response to the previously stored irradiation patterns, and the controller excludes only patterns that do not overlap with some treatment areas based on the motion control contents.
  • the beam delivery can be controlled to operate as
  • the control unit since the irradiation pattern is newly designed for each procedure, the control unit has difficulty in controlling the beam delivery unit for the optimum operation for each pattern, which may delay the light irradiation time slightly. Optimal control is possible to minimize treatment time.
  • an ophthalmic treatment apparatus may be configured using a conventional slit lamp that does not include a separate image unit.
  • the user can check the image of the fundus by using light reflected from the fundus through the alternative lens of the slit lamp rather than the image unit.
  • the irradiation pattern of the pattern unit may be configured such that the user can check the fundus image together with the alternative lens.
  • a separate optical system for irradiating the pattern beam to the treatment area to correspond to the irradiation pattern set by the user may be configured to overlap the irradiation pattern in the treatment area.
  • a separate head-up display capable of projecting an image of the irradiation pattern set by the user on an optical path reflected from the fundus to the user, and configured to allow the user to check an image in which the irradiation pattern overlaps on the fundus It is also possible.

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Abstract

본 발명은 다양한 형상을 갖는 안구의 병변 영역에 대해 치료용 빔을 조사하는 시간을 최소화할 수 있도록 구조가 개선된 안과용 치료장치 및 이의 제어방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 치료용 빔을 생성하는 빔 생성유닛 및 치료용 빔을 안구로 인도하는 빔 딜리버리유닛을 갖는 안과용 치료장치는 치료 대상 안구의 이미지를 생성하여 안구의 이미지를 디스플레이 하는 이미지유닛, 기설정된 패턴 형상을 안구의 이미지 중 병변의 이미지 영역에 오버랩 하는 패턴유닛 및 병변 이미지의 외곽선을 기준으로 병변 내부와 병변 외부 중 어느 하나에 오버랩된 패턴 형상을 선택적으로 설정하도록 입력신호를 인가하여 치료용 빔의 조사위치를 설정하는 입력유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

안과용 치료장치 및 이의 제어방법
본 발명은 안과용 치료장치 및 이의 제어방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 안구의 질환을 치료하기 위한 안과용 치료장치 및 이의 제어방법에 관한 것이다.
안과용 치료장치는 안구에 발생되는 다양한 병변 또는 질환을 치료하기 위한 장치이다. 예를 들어, 안과용 치료장치는 안구에 발생되는 녹내장, 백내장 또는 황반 변성 등과 같은 병변 또는 질환을 치료하기 위해 치료용 빔을 조사하는 장치이다. 일반적으로 안과용 치료장치로부터 출력되는 치료용 빔은 다양한 파장의 레이저가 사용될 수 있다.
이러한 안과용 치료장치는 유리체의 안압이 증가되는 녹내장, 수정체의 백화 현상이 진행되는 백내장, 그리고 망막에 발생되는 황반 변성 등의 치료 대상에 따라 다양항 파장 대역의 레이저를 조사해야 한다. 여기서, 안과용 치료장치는 질환이 발생된 안구 영역과 정상적인 안구 영역을 구분하기 위해 안구의 이미지를 촬영하여 생성한다. 안과용 치료장치는 생성된 안구의 이미지를 기초로 하여 질환이 발생된 안구의 병변 영역에 치료용 빔을 조사한다.
한편, 종래의 치료장치는 "미국 등록특허공보 US 5,549,596B1"인 "눈 세포 색소의 선택적인 레이저 타켓팅(SELECTIVE LASER TARGETING OF PIGMENTED OCULAR CELLS"에 개시되어 있다. 상술한 선행 기술문헌은 환자의 병변에 일정 영역의 패턴으로 복수개의 레이저를 조사하여 치료 시간을 단축시킬 수 있는 기술을 개시하고 있다.
그런데, 종래의 선행 기술문헌에 개시된 치료장치는 치료 시간을 단축시키기 위해 패턴 형상으로 병변 영역에 복수개의 스팟으로 치료용 레이저를 조사하고 있으나, 실질적으로 다양한 형상의 병변 영역과 일정한 패턴 형상이 일치하지 않기 때문에 병변 영역의 일부 영역에만 패턴을 형성하고 나머지 병변 영역에는 임의적으로 치료용 레이저를 조사해야 함에 따라 치료 시간이 증대될 수 있는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 다양한 형상을 갖는 안구의 병변 영역에 대해 치료용 빔을 조사하는 시간을 최소화할 수 있도록 구조가 개선된 안과용 치료장치 및 이의 제어방법을 제공하는 것이다.
상기 과제의 해결 수단은, 본 발명에 따라, 치료용 빔을 생성하는 빔 생성유닛 및 상기 치료용 빔을 안구로 인도하는 빔 딜리버리유닛을 갖는 안과용 치료장치에 있어서, 치료 대상 안구의 이미지를 생성하여 상기 안구의 이미지를 디스플레이 하는 이미지유닛과, 기설정된 패턴 형상을 상기 안구의 이미지 중 병변의 이미지 영역에 오버랩 하는 패턴유닛과, 상기 병변 이미지의 외곽선을 기준으로 상기 병변 내부와 상기 병변 외부 중 어느 하나에 오버랩된 상기 패턴 형상을 선택적으로 설정하도록 입력신호를 인가하여 상기 치료용 빔의 조사위치를 설정하는 입력유닛을 포함하는 안과용 치료장치에 의해 이루어진다.
여기서, 상기 입력유닛에 의해 입력된 신호에 기초하여, 상기 병변 이미지에 대한 상기 조사위치에 상기 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 생성유닛 및 상기 빔 딜리버리유닛의 작동을 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.
바람직하게 상기 제어부는 상기 입력유닛에 의해 상기 병변 이미지의 외곽선을 기준으로 상기 병변 외부에 오버랩된 상기 패턴 형상이 선택적으로 설정되면 선택되지 않은 상기 패턴 형상에 상기 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 생성부 및 상기 빔 딜리버리유닛의 작동을 제어할 수 있다.
또한, 바람직하게 상기 제어부는 상기 입력유닛에 의해 상기 병변 이미지의 외곽선을 기준으로 상기 병변 내부에 오버랩된 상기 패턴 형상이 선택적으로 설정되면, 설정된 상기 패턴 형상에 상기 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 생성부 및 상기 빔 딜리버리유닛의 작동을 제어할 수 있다.
그리고, 상기 입력유닛은 상기 패턴 형상을 선택적으로 설정하도록 입력신호를 인가하는 마우스와 디지타이저(digitizer) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 패턴유닛은 복수의 기설정된 패턴 형상을 저장하는 패턴저장부와, 상기 패턴저장부에 저장된 복수의 기설정된 상기 패턴 형상 중 상기 병변의 이미지에 상응하는 어느 하나의 패턴 형상을 상기 병변의 이미지에 오버랩하는 패턴형성부를 포함할 수 있다.
상기 이미지유닛은 상기 안구를 촬영하여 상기 안구의 이미지 및 상기 병변의 이미지를 생성하는 영상부와, 상기 영상부에서 생성된 상기 안구의 이미지 및 상기 병변의 이미지를 표시하고 상기 패턴저장유닛에 의해 상기 병변의 이미지 영역에 오버랩된 상기 패턴 형상을 표시하는 디스플레이부를 포함할 수 있다.
한편, 상기 과제의 해결수단은, 본 발명에 따라, 치료용 빔을 생성하는 빔 생성유닛 및 상기 치료용 빔을 안구로 인도하는 빔 딜리버리유닛을 갖는 안과용 치료장치의 제어방법에 있어서, (a) 치료 대상인 안구의 이미지 및 상기 안구의 병변의 이미지를 생성하는 단계와, (b) 상기 병변의 이미지 상에 기설정된 패턴 형상을 오버랩 하는 단계와, (c) 상기 병변 이미지의 외곽선을 기준으로 상기 병변 내부와 상기 병변 외부 중 어느 하나에 오버랩된 상기 패턴 형상을 선택적으로 설정하여 상기 치료용 빔의 조사위치를 설정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치의 제어방법에 의해서도 이루어진다.
여기서, 상기 치료용 빔의 조사위치가 설정되면 (d) 상기 병변 이미지에 대한 상기 조사위치에 상기 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 생성유닛 및 상기 빔 딜리버리유닛의 작동을 제어하는 단계를 더 포함할 수 있다.
그리고, 바람직하게 상기 (d) 단계는 상기 병변 이미지의 외곽선을 기준으로 상기 병변 외부에 오버랩된 상기 패턴 형상이 선택적으로 설정되면 선택되지 않은 상기 패턴 형상에 상기 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 생성부 및 상기 빔 딜리버리유닛의 작동을 제어할 수 있다.
또한, 바람직하게 상기 (d) 단계는 상기 병변 이미지의 외곽선을 기준으로 상기 병변 내부에 오버랩된 상기 패턴 형상이 선택적으로 설정되면 설정된 상기 패턴 형상에 상기 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 생성부 및 상기 빔 딜리버리유닛의 작동을 제어할 수 있다.
상기 안과용 치료장치는 상기 (c) 단계에서 상기 패턴 형상을 선택적으로 설정하도록 입력신호를 인가하는 마우스와 디지타이저(digitizer) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
기타 실시 예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명에 따른 안과용 치료장치 및 이의 제어방법은 다양한 형상의 병변의 이미지에 기설정된 패턴 형상을 오버랩한 후 병변의 외곽 라인을 기준으로 패턴들을 선택적으로 설정하여 치료용 빔의 조사위치를 설정할 수 있으므로, 치료 시간을 최소화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치의 개략 구성도,
도 2는 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치의 제어 블록도,
도 3은 도 1에서 디스플레이부를 도시한 정면도,
도 4는 패턴 유닛에 저장된 조사 패턴을 도시한 도면,
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따라 도 3에서 병변 영역에 기 설정된 조사 패턴이 오버랩된 상태에서 패턴을 선택하는 개략도,
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따라 도 3에서 병변 영역에 기 설정된 조사 패턴이 오버랩된 상태에서 패턴을 선택하는 개략도,
도 7은 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치의 제어흐름도이다.
이하, 본 발명의 실시 예에 따른 안과용 치료장치 및 이의 제어방법에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
설명하기에 앞서, 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치는 제1 및 제2실시 예로 구분되나, 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면부호로 기재되었음을 미리 밝혀둔다.
도 1은 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치의 개략 구성도이고, 도 2는 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치의 제어 블록도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치(10)는 빔 생성유닛(100), 빔 딜리버리유닛(200), 이미지유닛(300), 패턴유닛(500) 및 입력유닛(700)을 포함한다. 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치(10)는 이하에서 안구(O)의 망막(R)을 치료하는 것으로 설명되나, 안구(O)의 각막(Cr) 또는 수정체(Co)에도 적용될 수 있다.
빔 생성유닛(100)은 치료용 빔을 생성하도록 마련된다. 예를 들어, 빔 생성유닛(100)은 일 실시 예로서 Q-switched Nd:YAG가 사용될 수 있다. 물론, Q-switched Nd:YAG로 사용되는 빔 생성유닛(100)은 일 실시 예일 뿐 공지된 다른 방식으로도 사용될 수 있다. 빔 생성유닛(100)은 치료용 빔인 레이저를 생성한다. 빔 생성유닛(100)은 치료용 빔으로 생성되는 레이저를 발진할 수 있도록 레이저 다이오드(미도시)와 같은 구성들을 포함한다. 여기서, 빔 생성유닛(100)은 안구(O)의 조직에 따른 파장 대역의 치료용 빔을 생성하는 것이 바람직하다.
빔 딜리버리유닛(200)은 XY 스캐너(220), 시준유닛(240) 및 빔 스플리터(260)를 포함한다. 빔 딜리버리유닛(200)은 빔 생성유닛(100)으로부터 제공된 치료용 빔을 안구(O)의 치료 영역, 즉 병변 영역으로 인도한다. 전술한 빔 생성유닛(100)과 빔 딜리버리유닛(200)은 후술할 제어부(900)의 제어에 의해 작동된다.
XY 스캐너(220)는 치료용 빔이 각막(Cr) 및 수정체(Co)를 통해 망막(R)으로 조사되는 치료용 빔의 광 축선을 Z축이라 할 때 Z축의 가로 방향인 XY 평면 상에 치료용 빔의 스팟을 형성하도록 마련된다. XY 스캐너(220)는 서로 다른 회전축을 기준으로 회전 가능하게 설치되는 복수의 반사미러(미도시)를 포함한다. 이렇게 XY 스캐너(220)는 적어도 2개의 반사미러로 구성되어 치료용 빔의 스팟을 XY 평면 상에서 X축 또는 Y축 방향으로 이동시킬 수 있다.
시준유닛(240)은 안구(O)와 XY 스캐너(220) 사이에 배치되어 XY 스캐너(220)로부터 입사된 치료용 빔을 안구(O)의 치료 영역으로 시준 한다. 시준유닛(240)은 복수개의 렌즈로 구성된 대물렌즈로 구성된다. 빔 스플리터(260)는 XY 스캐너(220)와 시준유닛(240) 사이에 배치되어 XY 스캐너(220)로부터의 치료용 빔을 시준유닛(240)으로 안내한다.
도 3은 도 1에서 디스플레이부를 도시한 정면도이고, 도 4는 패턴 유닛에 저장된 조사 패턴을 도시한 도면이며, 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따라 도 3에서 병변 영역에 기 설정된 조사 패턴이 오버랩된 상태에서 패턴을 선택하는 개략도이고, 그리고 도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따라 도 3에서 병변 영역에 기 설정된 조사 패턴이 오버랩된 상태에서 패턴을 선택하는 개략도이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 이미지유닛(300)은 안구(O)의 안저 이미지를 생성하여 안구(O)의 안저 이미지를 디스플레이 한다. 여기서, 이미지유닛(300)은 안구(O)의 전체적인 안저 이미지와 함께 치료가 필요한 병변 영역의 이미지(I)도 함께 생성하여 디스플레이 한다. 이미지유닛(300)은 영상부(320) 및 디스플레이부(340)를 포함한다.
영상부(320)는 황반 변성 등 환자의 안저에 발생된 병변 영역(I)을 포함한 안저 이미지를 촬영하기 위해 사용된다. 영상부(320)는 안구(O)의 단층을 촬영하기 위한 OCT(Optical Coherence Tomography)와 디지털 카메라와 같은 촬영장치 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
디스플레이부(340)는 영상부(320)에 의해 촬영되어 형성된 안구(O)의 이미지를 사용자에게 디스플레이 한다. 구체적으로, 도 3에 도시된 바와 같이, 영상부(320)에 의해 촬영되어 생성된 안구의 안저 이미지를 디스플레이할 수 있다. 여기서, 안저 이미지는 치료 대상인 병변 영역(I)을 포함할 수 있으며, 이를 통해 시술자가 치료 영역을 시인할 수 있다.
여기서, 디스플레이부(340)는 후술할 패턴 유닛(500)에 기 저장된 복수개의 조사 패턴(P)을 표시하여, 시술자가 조사 패턴을 선택할 수 있도록 구성할 수 있다. 나아가, 사용자가 복수개의 조사 패턴 중 하나의 조사 패턴을 선택하면 병변 영역의 이미지(I)상에 선택된 조사 패턴을 선택적으로 오버랩시켜 표시하도록 구성할 수 있다.
한편, 패턴유닛(500)은 이미지유닛(300)에 의해 생성된 병변의 이미지(I) 영역에 오버랩 되는 패턴을 형성할 수 있도록 구성된다. 본 발명의 실시 예들로서, 패턴유닛(500)은 패턴저장부(520)와 패턴형성부(540)를 포함한다.
패턴저장부(520)는 치료용 빔이 조사될 수 있는 서로 상이한 다양한 패턴 형상을 저장한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 이러한 조사 패턴(P)은 사각형, 삼각형, 원형을 포함할 수 있고 이외에도 타원형 또는 다양한 형상의 조사 패턴으로 구성될 수 있다. 각각의 조사 패턴(P)은 치료용 빔이 조사되는 복수개의 스팟으로 구성되며, 각 스팟의 크기 및 스팟 사이의 간격은 사용자의 설정에 의해 조절될 수 있다. 이러한 패턴저장부(520)에 저장되는 조사 패턴들은 제품 초기에 저장될 수 도 있고, 추후 업데이트를 통해서 추가될 수도 있다.
한편, 패턴형성부(540)는 패턴저장부(520)에 저장된 복수의 기설정된 패턴 형상 중 선택된 패턴 형상을 이용하여 병변의 이미지(I)에 패턴 형상을 오버랩 한다.
구체적으로, 패턴저장부에 기 저장되어 있는 복수개의 조사 패턴 중 사용자가 하나의 조사패턴을 선택하여 설정할 수 있다. 이때 사용자는 치료 영역의 형태에 대응되는 유사한 형상의 조사 패턴을 선택할 수 있다. 사용자가 하나의 조사 패턴을 설정하면, 도 3에 도시된 바와 같이 디스플레이부의 안저 이미지 상에 기 설정된 조사 패턴이 오버랩되어 표시될 수 있다. 그리고, 사용자는 디스플레이부에 표시되는 조사 패턴의 위치를 조절하여 치료 영역에 해당하는 병변 영역에 오버랩시킬 수 있다.
여기서, 패턴형성부(540)에 의해 병변의 이미지(I)에 오버랩된 패턴 형상은 병변의 외곽선(Io)을 기준으로 하여 병변의 이미지(I)와 오버랩되지 못하고 치료 영역의 외측에 배치되는 패턴을 제1패턴(P1), 그리고 병변의 이미지(I)와 오버랩되어 외곽선(Io)의 내측에 있는 패턴(병변의 외곽(Io)선에 겹쳐 있는 스팟 포함)을 제2패턴(P2)으로 구분한다.
입력유닛(700)은 병변의 이미지(I)의 외곽(Io) 라인을 기준으로 병변 내부와 병변 외부 중 어느 하나에 오버랩된 패턴 형상을 선택적으로 설정하도록 입력 신호를 인가한다. 이렇게 입력유닛(700)에 의해 선택적으로 설정된 입력 신호에 기초하여 치료용 빔의 조사위치가 설정된다. 이러한 입력유닛(700)은 병변의 외곽(Io) 라인을 기준으로 병변 외부와 내부의 패턴들 중 어느 하나가 선택되도록 자동으로 입력 신호를 인가할 수도 있고, 디지타이저(digitizer)와 마우스 중 적어도 어느 하나를 포함하여 시술자에 의해 수동적으로 입력 신호를 인가할 수도 있다. 여기서, 입력유닛(700)이 자동으로 입력 신호를 인가할 때는 병변의 외곽(Io) 라인을 기준으로 병변 외부와 내부의 패턴들의 개수를 비교하는 패턴비교부(미도시)를 더 포함하는 것이 바람직하다.
입력유닛(700)은 선택된 병변의 외곽(Io) 라인을 기준으로 병변 내부와 병변 외부의 패턴 개수, 예를 들어 제1패턴(P1)과 제2패턴(P2) 개수를 비교하여 선택적으로 패턴을 선택하도록 입력 신호를 인가한다.
예를 들어, 도 2에 도시된 본 발명의 제1실시 예의 경우, 입력유닛(700)은 병변의 외곽(Io) 라인을 기준으로 병변 외부에 오버랩된 제1패턴(P1)의 개수 보다 병변 내부에 오버랩된 제2패턴(P2)의 개수가 많은 것으로 판단되면 제1패턴을 선택하도록 입력신호를 인가한다. 그러면, 후술할 제어부(900)는 선택된 제1패턴(P1)을 제외한 제2패턴(P2)들로 치료용 빔을 조사하도록 빔 생성유닛(100)과 빔 딜리버리유닛(200)의 작동을 제어한다.
한편, 도 5에 도시된 본 발명의 제2실시 예의 경우, 입력유닛(700)은 병변의 외곽(Io) 라인을 기준으로 병변 외부에 오버랩된 제1패턴(P1)의 개수 보다 병변 내부에 오버랩된 제2패턴(P2)의 개수가 적은 것으로 판단되면 제2패턴(P2)을 선택하도록 입력신호를 인가한다. 그러면, 후술할 제어부(900)는 선택된 제2패턴(P2)들로 치료용 빔을 조사하도록 빔 생성유닛(100)과 빔 딜리버리유닛(200)의 작동을 제어한다.
다만, 위와 같은 과정을 거치지 않고 조사 패턴 중 치료 영역과 오버랩된 부분 즉 치료 영역의 외곽선 및 치료 영역의 내부에 위치하는 스팟들로 이루어진 패턴을 바로 선택하여, 해당 패턴에 대응되도록 치료용 빔을 조사하도록 설정하는 것도 가능하다.
한편, 치료 영역의 외곽선은 사용자(시술자)가 안저 이미지를 참고하여 직접적으로 입력하는 정보에 근거하여 설정될 수 있다. 예를 들어, 사용자는 전술한 디지타이저와 마우스와 같은 입력유닛을 이용하여 병변 영역의 외곽선을 직접 그림으로서 치료 영역의 외곽선을 설정할 수 있다. 또는 입력 유닛과 별도로 구비되는 구성요소를 통해 사용자가 입력한 정보에 근거하여 외곽선이 설정될 수도 있다.
또는, 치료 영역의 외곽선은 안저 이미지의 이미지 정보에 기초하여 자동적으로 외곽선을 설정하도록 구성하는 것도 가능하다. 예를 들어, 안저 이미지 중 색상, 명도 또는 채도 등의 이미지 파라미터가 정상 범위와 상이한 값을 갖는 영역을 선택하여, 이를 기초로 하여 치료 영역을 자동적으로 감지하여 외곽선을 설정할 수 있다. 또는 연산된 외곽선을 디스플레이부를 통해 사용자에게 추천하여 사용자가 용이하게 외곽선을 설정하도록 구성할 수 있다. 본 실시예의 경우 이미지 유닛의 영상부 또는 별도의 프로세서에서 이러한 이미지 처리를 수행하도록 구성할 수 있다.
한편, 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치(10)는 제어부(900)를 더 포함한다. 제어부(900)는 입력유닛(700)의 입력신호에 기초하여 병변의 이미지(I)에 대한 치료용 빔의 조사위치에 치료용 빔이 조사되도록 빔 생성유닛(100) 및 빔 딜리버리유닛(200)의 동작을 제어한다.
이때, 제어부(900)는 패턴 유닛(500)에 저장된 복수개의 패턴에 대응하여, 각 패턴에 따른 최적의 빔 생성유닛(100) 및 빔 딜리버리유닛(200)의 동작 제어 내용을 저장하고 있을 수 있다. 그리고, 제어부는 하나의 조사 패턴이 선택되면 해당 조사 패턴에 대응되는 동작 제어 내용을 참조하되, 패턴 유닛(500) 및 입력 유닛(700)에 의해 기 설정된 조사 패턴 중 제외되는 패턴을 제외하도록 최적 동작 제어 내용을 일부 조정하여 빔 생성유닛 및 빔 딜리버리 유닛의 동작을 제어할 수 있다.
구체적으로, 제어부(900)는 본 발명의 제1실시 예에서는 입력유닛(700)에 의해 인가된 입력 신호가 제1패턴(P1)들을 선택하는 경우, 선택되어지지 않은 제2패턴(P2)들에 치료용 빔이 조사될 수 있도록 빔 생성유닛(100)과 빔 딜리버리유닛(200)의 작동을 제어한다.
반면, 제어부(900)는 본 발명의 제2실시 예에서는 입력유닛(700)에 의해 인가된 입력 신호가 제2패턴(P2)들을 선택하는 경우, 선택된 제2패턴(P2)들에 치료용 빔이 조사될 수 있도록 빔 생성유닛(100)과 빔 딜리버리유닛(200)의 작동을 제어한다.
물론, 제어부(900)는 상술한 제어과정이 이루어질 수 있도록 병변의 외곽(Io) 라인을 인식하여 제1패턴(P1)과 제2패턴(P2)을 구분할 수 있다.
마지막으로 도 7은 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치의 제어흐름도이다.
이러한 구성에 의해 본 발명의 실시 예들에 따른 안과용 치료장치(10)의 제어방법에 대해 이하에서 살펴보면 다음과 같다.
우선, 이미지유닛(300)을 이용하여 안구(O)의 이미지를 생성한다(S100). 여기서, 'S100'단계에서 생성하는 안구(O)의 이미지에는 병변의 이미지(I)가 함께 생성된다. 패턴유닛(500)을 이용하여 병변의 이미지(I)에 기설정된 패턴 형상들 중 어느 하나를 오버랩 한다(S300). 병변의 이미지(I)에 오버랩된 패턴 형상은 병변의 외곽(Io) 라인을 기준으로 병변 외부의 제1패턴(P1)과 병변의 외곽(Io) 라인 및 병변 내부의 제2패턴(P2)으로 구분된다.
병변 내부의 패턴 개수와 병변 외부의 패턴 개수를 비교한다(S500). 즉, 제1패턴(P1)의 개수와 제2패턴(P2)의 개수를 비교한다. 제1패턴(P1)과 제2패턴(P2) 중 어느 하나를 선택적으로 설정한다(S700). 여기서, 입력유닛(700)에 의해 인가되는 입력 신호는 제1패턴(P1)의 개수와 제2패턴(P2)의 개수 비교 시 보다 적은 쪽이 선택되도록 인가된다.
마지막으로 입력유닛(700)으로부터 인가된 입력신호에 기초하여 치료용 빔을 조사한다(S900). 이때, 제어부(900)는 본 발명의 제1실시 예와 같이 제1패턴(P1)들이 선택되면 선택되지 않은 제2패턴(P2)들에 치료용 빔을 조사하도록 빔 생성유닛(100)과 빔 딜리버리유닛(200)의 작동을 제어하고, 반면 제어부(900)는 본 발명의 제2실시 예와 같이 제2패턴(P2)들이 선택되면 제2패턴(P2)들에 치료용 빔이 조사되도록 빔 생성유닛(100)과 빔 딜리버리유닛(200)의 작동을 제어한다.
이와 같이, 본 발명에 의할 경우 기 저장된 복수개의 조사 패턴 중 치료 영역의 형상과 유사한 형상의 조사 패턴을 이용하되, 치료 영역의 외측에 위치하여 오버랩되지 않는 일부의 패턴(외곽선 외측의 스팟들)을 제외함으로서 치료용 빔이 조사되는 패턴을 설정하는 것이 가능하다. 종전의 경우, 환자마다 상이한 치료 영역에 대응하여 매번 조사 패턴을 설계하는데 어려움이 있고 설계에 소요되는 시간도 지연되는 문제가 있었다. 다만, 본 발명에 의할 경우 기 저장된 조사 패턴을 이용함으로서 패턴 설계에 소요되는 시간을 최소화시킬 수 있고, 또한 기 저장된 조사 패턴 중 치료 영역에 오버랩되지 않는 부분은 제외시키는 보정을 수행함으로서 치료 영역 이외에 치료용 빔이 조사되어 손상이 발생되는 것을 방지하는 것이 가능하다.
나아가, 기 저장된 조사 패턴에 대응하여 제어부가 빔 딜리버리 유닛을 제어하는 최적의 동작 제어 내용을 각각 저장하고 있고, 제어부는 이러한 동작 제어 내용에 기준으로하여 일부 치료 영역과 오버랩되지 않는 패턴만을 제외시킨 상태로 동작하도록 빔 딜리버리를 제어할 수 있다. 종래의 경우, 조사 패턴을 시술마다 새롭게 설계하기 때문에 제어부는 각각의 패턴에 대해 빔 딜리버리 유닛을 최적 동작으로 제어하는 것이 곤란하여 광 조사시간이 다소 지연될 우려가 있었으나, 본 실시예에 의할 경우 최적 제어가 가능하여 치료 시간을 최소화시킬 수 있다.
한편, 이상에서는 안저의 이미지를 표시하는 별도의 이미지 유닛을 포함하여 구성된 실시예를 기준으로 설명하였다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 별도의 이미지 유닛을 구비하지 않는 종래의 슬릿 램프를 이용하여 안과용 치료장치를 구성할 수 있다. 이 경우, 사용자는 이미지 유닛이 아닌 슬릿 램프의 대안 렌즈를 통해 안저로부터 반사되는 광을 이용하여 안저의 이미지를 확인할 수 있다. 그리고, 패턴 유닛의 조사 패턴은 사용자가 대안 렌즈를 통해 안저 이미지와 함께 확인할 수 있도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 사용자가 설정한 조사 패턴에 대응되도록 치료 영역에 패턴 빔을 조사하는 별도의 광학계를 포함하여 치료 영역에 조사 패턴이 오버랩되도록 구성할 수 있다. 또는 안저로부터 반사되어 사용자에게 전달되는 광 경로 상에 사용자가 설정한 조사 패턴의 이미지를 투영할 수 있는 별도의 헤드 업 디스플레이를 구비하여, 사용자가 안저 상에 조사 패턴이 오버랩되는 이미지를 확인하도록 구성하는 것도 가능하다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징들이 변경되지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것으로 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (19)

  1. 치료용 빔을 생성하는 빔 생성유닛;
    생성된 치료용 빔을 안저의 치료 영역으로 전달하는 빔 딜리버리 유닛;
    상기 치료 영역을 포함하는 안저 이미지를 표시하는 이미지 유닛;
    상기 치료용 빔이 조사될 수 있는 조사 패턴이 저장된 패턴 유닛;
    상기 조사 패턴 중 상기 치료 영역과 오버랩 된 영역의 패턴에 대응하여 상기 치료용 빔을 조사하도록 상기 빔 생성유닛 및 상기 빔 딜리버리 유닛을 제어하는 제어부;를 포함하는 안과용 치료 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 패턴 유닛의 상기 조사 패턴은 상기 치료 영역의 외곽선을 기준으로 치료 영역의 외측에 위치하는 제1 패턴과 상기 치료 영역의 내측에 위치하는 제2 패턴을 구분되고,
    상기 치료용 빔은 상기 제2 패턴에 대응하여 상기 치료 영역으로 조사되는 것을 특징으로 하는 안과용 치료 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 패턴 유닛은 상기 치료용 빔이 조사될 수 있는 서로 다른 복수개의 조사 패턴을 저장하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 이미지 유닛은 상기 치료 영역의 이미지 상에 상기 패턴 유닛의 패턴을 선택적으로 오버랩시켜 표시할 수 있는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 치료 영역의 외곽선은 사용자가 입력한 정보에 기초하여 설정되는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 치료 영역의 외곽선은 상기 안저 이미지의 이미지 정보를 기초로 자동적으로 연산하여 설정되는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치.
  7. 치료용 빔을 생성하는 빔 생성유닛 및 상기 치료용 빔을 안구로 인도하는 빔 딜리버리유닛을 갖는 안과용 치료장치에 있어서,
    치료 대상 안구의 이미지를 생성하여, 상기 안구의 이미지를 디스플레이 하는 이미지유닛과;
    기설정된 패턴 형상을 상기 안구의 이미지 중 병변의 이미지 영역에 오버랩 하는 패턴유닛과;
    상기 병변 이미지의 외곽선을 기준으로 상기 병변 내부와 상기 병변 외부 중 어느 하나에 오버랩된 상기 패턴 형상을 선택적으로 설정하도록 입력신호를 인가하여, 상기 치료용 빔의 조사위치를 설정하는 입력유닛을 포함하는 안과용 치료장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 입력유닛에 의해 입력된 신호에 기초하여, 상기 병변 이미지에 대한 상기 조사위치에 상기 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 생성유닛 및 상기 빔 딜리버리유닛의 작동을 제어하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 입력유닛에 의해 상기 병변 이미지의 외곽선을 기준으로 상기 병변 외부에 오버랩된 상기 패턴 형상이 선택적으로 설정되면, 선택되지 않은 상기 패턴 형상에 상기 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 생성부 및 상기 빔 딜리버리유닛의 작동을 제어하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 입력유닛에 의해 상기 병변 이미지의 외곽선을 기준으로 상기 병변 내부에 오버랩 된 상기 패턴 형상이 선택적으로 설정되면, 설정된 상기 패턴 형상에 상기 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 생성부 및 상기 빔 딜리버리유닛의 작동을 제어하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 입력유닛은 상기 패턴 형상을 선택적으로 설정하도록 입력신호를 인가하는 마우스와 디지타이저(digitizer) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치.
  12. 제8항에 있어서,
    상기 패턴유닛은,
    복수의 기설정된 패턴 형상을 저장하는 패턴저장부와
    상기 패턴저장부에 저장된 복수의 기설정된 상기 패턴 형상 중 상기 병변의 이미지에 상응하는 어느 하나의 패턴 형상을 상기 병변의 이미지에 오버랩하는 패턴형성부를 포함하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치.
  13. 제8항에 있어서,
    상기 이미지유닛은,
    상기 안구를 촬영하여 상기 안구의 이미지 및 상기 병변의 이미지를 생성하는 영상부와;
    상기 영상부에서 생성된 상기 안구의 이미지 및 상기 병변의 이미지를 표시하고, 상기 패턴저장유닛에 의해 상기 병변의 이미지 영역에 오버랩된 상기 패턴 형상을 표시하는 디스플레이부를 포함하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치.
  14. 치료용 빔을 생성하는 빔 생성유닛 및 상기 치료용 빔을 안구로 인도하는 빔 딜리버리유닛을 갖는 안과용 치료장치의 제어방법에 있어서,
    (a) 병변 영역을 포함하는 안구의 이미지를 생성하는 단계와;
    (b) 상기 병변 영역에 기 설정된 조사 패턴 형상을 오버랩시키는 단계와;
    (c) 상기 기 설정된 조사 패턴 중 상기 병변 영역와 오버랩된 영역의 패턴을 선택하여 상기 치료용 빔의 조사위치를 설정하는 단계를 포함하는 안과용 치료장치의 제어방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 치료용 빔의 조사위치가 설정되면,
    (d) 상기 설정된 조사 위치로 상기 치료용 빔이 조사되도록 상기 빔 생성유닛 및 상기 빔 딜리버리유닛의 동작을 제어하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치의 제어방법.
  16. 제15항에서,
    상기 (c) 단계는 상기 기 설정된 조사 패턴 중 상기 병변 영역의 외곽선을 기준으로 상기 외곽선 외측에 위치하는 패턴을 제외시켜 상기 치료용 빔의 조사위치를 설정하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치의 제어방법.
  17. 제15항에 있어서,
    상기 병변 영역의 외곽선을 설정하는 단계를 더 포함하고, 상기 외곽선을 설정하는 단계는 사용자가 입력한 정보에 기초하여 설정되는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치의 제어방법.
  18. 제15항에 있어서,
    상기 병변 영역의 외곽선을 설정하는 단계를 더 포함하고, 상기 병변 영역을 포함하는 상기 안구의 이미지의 이미지 정보를 기초로 자동적으로 연산하여 설정되는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치의 제어방법.
  19. 제14항에 있어서,
    상기 안과용 치료장치는,
    상기 (c) 단계에서 상기 패턴 형상을 선택적으로 설정하도록 입력신호를 인가하는 마우스와 디지타이저(digitizer) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 안과용 치료장치의 제어방법.
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