WO2014038263A1

WO2014038263A1 - アルミニウムめっき装置及びこれを用いたアルミニウム膜の製造方法

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Publication number: WO2014038263A1
Application number: PCT/JP2013/066294
Authority: WO
Inventors: 西村　淳一; 細江　晃久; 奥野　一樹; 弘太郎木村; 健吾後藤; 英彰境田
Original assignee: 住友電気工業株式会社
Priority date: 2012-09-05
Filing date: 2013-06-13
Publication date: 2014-03-13
Also published as: CN104603332A; JP2014051687A; DE112013004355T5; US20150211143A1; JP5880364B2; KR20150046013A

Abstract

表面に絶縁性あるいは導電性が低い金属酸化膜等が形成されている基体の表面にも良好にアルミニウムめっきを形成することができるアルミニウムめっき装置を提供する。めっき槽中に基体を搬送させて、該基体上にアルミニウムを電着させるアルミニウムめっき装置であって、前記めっき槽は、前記基体が搬送される上流側から順に、第一の電解室と第二の電解室とに仕切り板により分けられており、前記第一の電解室中では、前記基体が陽極として作用するように、第一の電解室中に設けられた負極と前記基体とが電気的に接続されており、前記第二の電解室中では、前記基体が陰極として作用するように、前記第二の電解室中に設けられた陽極と前記基体とが電気的に接続されているアルミニウムめっき装置。

Description

アルミニウムめっき装置及びこれを用いたアルミニウム膜の製造方法

　本発明は基体表面にアルミニウムを電気めっきするアルミニウムめっき装置及びこれを用いたアルミニウム膜の製造方法に関する。

　アルミニウムは表面に緻密な酸化膜を形成することにより不動態化し優れた耐食性を発揮する。このため鋼帯などの表面にアルミニウムめっきを施して耐食性を高めることが行われている。
　鋼帯表面にアルミニウムめっきをするには、まず、コンダクタロールを通じて鋼帯をめっき槽内に連続的に送給し、めっき槽内のめっき液に浸漬された陽極内を走行させる。この時、鋼帯自体は陰極として作用するように電気的に接続されていることから、陽極と陰極である鋼帯との間で電解が起こり、鋼帯の表面にアルミニウムが電着し、アルミニウムめっきが形成される。めっき液内を走行する鋼帯はターンロールによって方向変更され、今度は上向きに走行するが、この場合にも陽極との間でめっきが行われる。アルミニウムめっきが形成された鋼帯はめっき槽を出てからコンダクタロールを経て系外に取り出される（特開平０５－２２２５９９号公報（特許文献１））。

　また、三次元網目構造を有する金属多孔体としてアルミニウムからなる多孔体は、リチウムイオン電池の正極の容量を向上させるものとして有望である。現在では、アルミニウムの導電性、耐腐食性、軽量などの優れた特徴を生かして、アルミニウム箔の表面にコバルト酸リチウム等の活物質を塗布したものがリチウムイオン電池の正極として使用されている。この正極をアルミニウムからなる多孔体により形成することで、表面積を大きくし、アルミニウムの内部にも活物質を充填することが可能となる。これにより、電極を厚くしても活物質の利用率が減少することがなくなり、単位面積当たりの活物質の利用率が向上し、正極の容量を向上させることが可能となる。

　本出願人は、上記のようなアルミニウム多孔体の製造方法として、三次元網目構造を有する樹脂成形体にアルミニウムを電気めっきする方法を提案している（特開２０１２－００７２３３号公報（特許文献２））。従来のアルミニウム溶融塩浴は高温にする必要があるため、樹脂成形体表面にアルミニウムを電気めっきしようとすると、樹脂が高温に耐えられず溶解してしまうなどの問題があった。しかしながら特許文献２に記載の方法によれば、１－エチル－３－メチルイミダゾリウムクロリド（ＥＭＩＣ）や、１－ブチルピリジニウムクロリド（ＢＰＣ）などの有機塩化物塩と塩化アルミニウム（ＡlＣl₃）とを混合することで、室温で液体のアルミニウム浴が形成され、樹脂成形体へのアルミニウムの電気めっきが可能となる。特に、ＥＭＩＣ－ＡlＣl₃系では液の特性が良好であり、アルミめっき液として有用である。

　上記のような、アルミニウムめっきが形成された鋼帯や三次元網目構造を有するアルミニウム多孔体において、より光沢性に優れた表面にしたり、アルミニウムのめっき層の厚さをより厚くしたりするには、表面がアルミニウムの基体に更にアルミニウムをめっきする必要がある。
　しかしながら、上記のようにアルミニウムの表面には酸化膜が形成されているため、アルミニウムを電着させようとしても表面に均質に通電させることができず、島状にめっきが形成されてしまうという問題がある。

特開平０５－２２２５９９号公報特開２０１２－００７２３３号公報

　本発明は前記問題点に鑑みて、表面に絶縁性あるいは導電性が低い金属酸化膜等が形成されている基体の表面にも良好にアルミニウムめっきを形成することができるアルミニウムめっき装置を提供することを課題とする。

　本発明者等は上記課題を解決すべく鋭意探求を重ねた結果、めっき槽内において、酸化膜が形成された金属表面を電解除去してからアルミニウムをめっきすることが有効であることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の構成を有する。

（１）めっき槽中に基体を搬送させて、該基体上にアルミニウムを電着させるアルミニウムめっき装置であって、
前記めっき槽は、前記基体が搬送される上流側から順に、第一の電解室と第二の電解室とに仕切り板により分けられており、
前記第一の電解室中では、前記基体が陽極として作用するように、前記第一の電解室中に設けられた陰極と前記基体とが電気的に接続されており、
前記第二の電解室中では、前記基体が陰極として作用するように、前記第二の電解室中に設けられた陽極と前記基体とが電気的に接続されている
アルミニウムめっき装置。
　上記（１）に記載のアルミニウムめっき装置は、第一の電解室において逆電解を行うため、基体表面に絶縁性あるいは導電性が低い金属酸化膜等が形成されていてもこれを電解除去することができ、続く第二の電解室において良好にアルミニウムを電着させることができる。
（２）前記第一の電解室の入口の上流側に、前記基体に電位を付与すると同時に基体を搬送する第一の給電ローラを有する上記（１）に記載のアルミニウムめっき装置。
　上記（２）に記載の発明によれば、基体を搬送しつつ、第一の電解室近傍で基体に電位を付与することができる。
（３）前記第二の電解室の出口の下流側に、前記基体に電位を付与すると同時に基体を搬送する第二の給電ローラを有する上記（１）又は（２）に記載のアルミニウムめっき装置。
　上記（３）に記載の発明によれば、基体を搬送しつつ、第二の電解室近傍で基体に電位を付与することができる。
（４）前記めっき槽に、塩化アルミニウムを主成分とする溶融塩浴が収容されている上記（１）～（３）のいずれか一項に記載のアルミニウムめっき装置。
　上記（４）に記載の発明によれば、従来の塩化アルミニウムを主成分とする溶融塩浴を用いることができ、良質なアルミニウム膜を得ることができる。
（５）前記基体が、導電化処理された三次元網目構造を有する樹脂成形体からなるシートである上記（１）～（４）のいずれか一項に記載のアルミニウムめっき装置。
　上記（５）に記載の発明によれば、三次元網目構造を有する樹脂成形体の表面にアルミニウム膜を有する樹脂構造体を連続的に製造することができる。
（６）上記（１）～（５）のいずれか一項に記載のアルミニウムめっき装置が、前記基体の搬送方向に直列に２以上設けられているアルミニウムめっき装置。
　上記（６）に記載の発明によれば、基体のサプライや巻き取り等の付帯設備が１台分で済み、設備投資額を非常に安価にすることができる。
（７）上記（１）～（６）のいずれか一項に記載のアルミニウムめっき装置の前記基体の搬送方向の最上流に、
めっき槽中に前記基体を搬送させて、前記基体上にアルミニウムを電着させるアルミニウムめっき装置であって、該めっき槽中では前記基体が陰極として作用するように、該めっき槽中に設けられた陽極と前記基体とが電気的に接続されているアルミニウムめっき装置が設けられているアルミニウムめっき装置。
　上記（７）に記載の発明によれば、表面に絶縁性あるいは導電性が低い金属酸化膜等が形成されていない基体を用いる場合に、基体の搬送方向の最上流に従来のアルミニウムめっき装置を用いることができる。また、基体のサプライや巻き取り等の付帯設備が１台分で済み、設備投資額を非常に安価にすることができる。
（８）上記（１）～（７）のいずれか一項に記載のアルミニウムめっき装置を用いて基体上にアルミニウムを電着させるアルミニウム膜の製造方法。
　上記（８）に記載のアルミニウム膜の製造方法は、表面に絶縁性あるいは導電性が低い金属酸化膜等が形成されている基体であっても、その表面に良質なアルミニウム膜を形成することができる。

　本発明により、表面に絶縁性あるいは導電性が低い金属酸化膜等が形成されている基体の表面にも良好にアルミニウムめっきを形成することができるアルミニウムめっき装置を提供することができる。

本発明のアルミニウムめっき装置の一例を示す図である。本発明のアルミニウムめっき装置の別の一例を示す図である。

　本発明に係るアルミニウムめっき装置は、めっき槽中に基体を搬送させて、該基体上にアルミニウムを電着させるアルミニウムめっき装置であって、前記めっき槽は、前記基体が搬送される上流側から順に、第一の電解室と第二の電解室とに仕切り板により分けられており、前記第一の電解室中では、前記基体が陽極として作用するように、第一の電解室中に設けられた陰極と前記基体とが電気的に接続されており、前記第二の電解室中では、前記基体が陰極として作用するように、前記第二の電解室中に設けられた陽極と前記基体とが電気的に接続されているアルミニウムめっき装置である。

　前記基体は特に限定されるものではないが、表面に金属酸化膜（不働態膜）が形成されている金属のように、従来のアルミニウムめっき装置では上手くアルミニウムを電着させることができないような基体の場合に、顕著な効果が発揮される。このような基体としては、例えば、鋼帯（鋼板）、三次元網目構造を有するアルミニウム多孔体、ＳＵＳ板、ＣuあるいはＣu合金板、ＺnあるいはＺn合金板などが挙げられる。

　前記めっき槽にはめっき液が収容されるが、当該めっき液はアルミニウムを電気めっきすることが可能な組成であれば特に限定されるものではない。アルミニウムは酸素に対する親和力が大きく、電位が水素より低いため、水溶液系のめっき浴では電気めっきを行うことが困難であるため、溶融塩浴を用いる。溶融塩浴としては塩化アルミニウムを主成分とするものを好適に用いることができる。

　溶融塩としては、有機系ハロゲン化物とアルミニウムハロゲン化物の共晶塩である有機溶融塩、アルカリ金属のハロゲン化物とアルミニウムハロゲン化物の共晶塩である無機溶融塩を使用することができる。比較的低温で溶融する有機溶融塩浴を使用すると、基材である樹脂成形体を分解することなくめっきができ好ましい。有機系ハロゲン化物としてはイミダゾリウム塩、ピリジニウム塩等が使用でき、具体的には１－エチル－３－メチルイミダゾリウムクロリド（ＥＭＩＣ）、ブチルピリジニウムクロリド（ＢＰＣ）が好ましい。
　溶融塩中に水分や酸素が混入すると溶融塩が劣化するため、めっきは窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で、かつ密閉した環境下で行うことが好ましい。

　溶融塩浴としては窒素を含有した溶融塩浴が好ましい。前記基体として三次元網目構造を有する樹脂成形体を用いる際に、溶融塩として高温で溶融する塩を使用した場合は、めっき層の成長よりも樹脂が溶融塩中に溶解や分解する方が早くなり、樹脂成形体表面にめっき層を形成することができない。この場合にはイミダゾリウム塩浴を好ましく用いることができる。イミダゾリウム塩浴は比較的低温であっても樹脂に影響を与えず使用可能である。

　イミダゾリウム塩として、１，３位にアルキル基を持つイミダゾリウムカチオンを含む塩が好ましく用いられ、特に塩化アルミニウム－１－エチル－３－メチルイミダゾリウムクロリド（ＡlＣl₃－ＥＭＩＣ）系溶融塩が、安定性が高く分解し難いことから最も好ましく用いられる。発泡ウレタン樹脂や発泡メラミン樹脂などへのめっきが可能であり、溶融塩浴の温度は１０℃～１００℃、好ましくは２５℃～４５℃である。低温になる程めっき可能な電流密度範囲が狭くなり、樹脂成形体表面全体へのめっきが難しくなる。１００℃を超える高温では基体樹脂の形状が損なわれる不具合が生じやすい。

　また、基体として鋼帯のように融点の高いものを用いる場合には、溶融塩として無機塩浴を用いることもできる。無機塩浴とは、代表的にはＡlＣl₃－ＸＣl（Ｘ：アルカリ金属）の２成分系あるいは多成分系の塩である。このような無機塩浴はイミダゾリウム塩浴のような有機塩浴に比べて一般に溶融温度は高いが、水分や酸素など環境条件の制約が少なく、全体に低コストでの実用化が可能である。

　基体表面に形成されるアルミニウムめっき膜の平滑性、光沢性の向上を目的として、キシレン、ベンゼン、トルエン、１，１０－フェナントロリン等の添加剤を加えてもよい。
特に１，１０－フェナントロリンを好ましく用いることができる。このような添加剤の添加量は、０．２５～７ｇ／Ｌが好ましい。０．２５ｇ／Ｌ以上とすることで充分に平滑なアルミニウムめっき膜が得られ、また７ｇ／Ｌ以下とすることでめっき効率の低下を抑制することができる。

　以下、適宜図面を参照しながら本件発明をより詳細に説明する。
　図１は本発明のアルミニウムめっき装置の構成の一例を表す図である。図１に示すように本発明のアルミニウムめっき装置は、めっき液が収容されるめっき槽（１０２）が仕切り板（１０３）によって第一の電解室（１０４）と第二の電解室（１０５）とに分けられている。そして、基体（１０１）は第一の電解室（１０４）から第二の電解室（１０５）へと連続的に搬送される。

　仕切り板（１０３）は第一の電解室（１０４）と第二の電解室（１０５）とを電気的に隔てる目的で設けるものであり、絶縁性のものを好ましく用いることができる。例えば、テフロン（登録商標）、セラミックス、ガラス、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）などのスーパーエンジニアリングプラスチック、耐熱塩化ビニル樹脂等を用いることができる。
　また、仕切り板（１０３）には基体の通り口が設けられているが、当該通り口は基体が通ることのできる最小限のものであることが好ましい。例えば、基体の通り口をスリット状にすることが好ましい。

　基体（１０１）が最初に搬送される第一の電解室（１０４）には陰極（１０７）が設けられており、第一の電解室（１０４）の中で基体（１０１）が陽極として作用するように電気的に接続されている。これにより陰極（１０７）と基体（１０１）との間で電解が生じ、基体（１０１）の表面に形成されていた金属酸化膜が電解除去され、基体（１０１）を構成している金属表面が露出する。
　陰極（１０７）は特に限定される物ではなく、例えば、アルミニウム、チタン、銅等を好ましく用いることができる。

　図１では陰極（１０７）は基体（１０１）の上下方向に２つ設けた場合が例示されているが、陰極（１０７）の数は特に限定されるものではなく、１つでも、３つ以上でも構わない。また、陰極（１０７）を設ける位置も特に限定される物ではないが、なるべく基体（１０１）の近傍に位置するように設けた方が効率よく電解が起こるため好ましい。

　第一の電解室（１０４）の中で基体（１０１）が陽極として作用するようにするためには、陰極（１０７）と接続されている電源の陽極端子と、基体（１０１）とを接続すればよい。このとき、基体（１０１）は第一の電解室（１０４）の入口近傍の上流側で陽極と接続されていると、効率よく電解が起こるため好ましい。

　図１は第一の電解室（１０４）の入口の上流側に第一の給電ローラ（１０６）を設け、当該第一の給電ローラ（１０６）と電源の陽極とを接続している場合を示している。これにより、基体（１０１）は、第一の給電ローラ（１０６）と第一の搬送ローラ（１１０）によって連続的に搬送されつつ第一の給電ローラ（１０６）から電位が付与され、第一の電解室（１０４）の中で陽極として作用するようになる。なお、図１では第一の給電ローラ（１０６）の向かい側に第一の搬送ローラ（１１０）を設けた場合を示しているが、第一の搬送ローラ（１１０）の代わりに、陽極と接続された給電ローラを設けてもよい。

　第一の電解室（１０４）において電解除去する金属酸化膜の量は、基体（１０１）上に形成されている酸化膜の量に応じて適宜調整すればよい。例えば、基体がアルミニウムである場合には、アルミニウムの析出量又は溶解量は次式に基づいて調整することができる。
　　アルミニウム析出量／溶解量［ｇ］
　　　　　　　＝０．３３５２×Ｉ［Ａ］×ｔ［Ｈｒ］　　　　　　　（式）
　上記式においてＩは電流値、ｔは時間を表し、定数０．３３５２はアルミニウムに特有の定数であり、基体が他の金属の場合には、その金属に特有の定数に変更して計算すればよい。

　上記のようにして金属酸化膜が除去された基体（１０１）は、続いて仕切り板（１０３）に設けられたスリットを通じて第二の電解室（１０５）へと搬送される。第二の電解室（１０５）には陽極（１０９）が設けられており、第二の電解室（１０５）の中で基体（１０１）が陰極として作用するように電気的に接続されている。これにより、陽極（１０９）と基体（１０１）との間で電解が生じ、基体（１０１）の表面にアルミニウムが電着する。

　前記のように基体（１０１）の表面に形成されていた金属酸化膜は第一の電解室（１０４）において除去されているため、第二の電解室（１０５）では基体（１０１）の表面に均一なアルミニウムめっきを形成することが可能である。
　陽極（１０９）は特に限定されるものではなく、例えば、アルミニウム、チタン、銅等を好ましく用いることができる。

　陰極（１０７）と同様に図１では陽極（１０９）を基体（１０１）の上下方向に２つ設けた場合を例示しているが、陽極（１０９）の数は特に限定されるものではなく、１つでも、３つ以上でも構わない。また、陽極（１０９）を設ける位置も特に限定される物ではないが、なるべく基体（１０１）の近傍に位置するように設けた方が効率よく電解が起こるため好ましい。

　第二の電解室（１０５）の中で基体（１０１）が陰極として作用するようにするためには、陽極（１０９）と接続されている電源の陰極端子と、基体（１０１）とを接続すればよい。このとき、基体（１０１）は第二の電解室（１０５）の出口近傍の下流側で陰極と接続されていると、効率よく電解が起こるため好ましい。

　図１は第二の電解室（１０５）の出口の下流側に第二の給電ローラ（１０８）を設け、当該第二の給電ローラ（１０８）と電源の陰極とを接続している場合を示している。これにより、基体（１０１）は、第二の給電ローラ（１０８）と第二の搬送ローラ（１１１）によって連続的に搬送されつつ第二の給電ローラ（１０８）から電位が付与され、第二の電解室（１０５）の中で陰極として作用するようになる。なお、図１では第二の給電ローラ（１０８）の向かい側に第二の搬送ローラ（１１１）を設けた場合を示しているが、第二の搬送ローラ（１１１）の代わりに、陰極と接続された給電ローラを設けてもよい。

　第二の電解室（１０５）において析出させるアルミニウムの量は、上記式によって計算することができる。従って、所望のアルミニウムが基体（１０１）表面に電着するように、電流値、及び時間を調整すればよい。時間は基体（１０１）の搬送速度を変更することで調整することができる。

　以上のように、本発明のアルミニウムめっき装置を用いることにより、表面に絶縁性あるいは導電性が低い金属酸化膜等が形成されている基体の表面にも良好にアルミニウムめっきを形成することができる。
　また、鋼帯や三次元網目構造を有する樹脂成形体からなるシートのように、長尺の基体にアルミニウムめっきをする場合には、本発明のアルミニウムめっき装置を用いることにより、線速を上げて効率よく製品を製造することができる。

　従来のめっき槽が一槽のアルミニウムめっき装置で線速を上げて生産能力を高めようとするには、例えば、重力方向にめっきする場合はめっき槽を深くする、水平方向にめっきする場合はめっき槽を長くする等により、陽極を長くすることが考えられる。しかしながら、実際には、めっきに有効な陽極の長さには限界がある。つまり、コンダクタロールに近い箇所では高電流密度でめっきされるが、コンダクタロールから遠い所ではめっきされないことから、めっき槽が一槽の装置では線速向上に限界があり、生産能力を高めることはできない。
　このため、めっき槽を２槽以上で構成して線速を上げることが考えられるが、従来のめっき装置を２槽以上タンデムに配置して連続処理を行ったとしても、アルミニウムのように表面に酸化膜を形成しやすい金属の場合には、前のめっき槽で形成した皮膜上にアルミニウムを上手くめっき出来ないという問題がある。すなわち、めっき槽間でアルミニウムの表面に酸化膜が形成されてしまい、酸化膜があると、アルミニウムが島状に析出してしまい、うまくめっきをすることができない。なお、めっき槽の間をＮ₂等の不活性雰囲気にしたとしても、完全に酸素を除去することはできず酸素がｐｐｍオーダーで存在し、この程度の微量の酸素に曝された場合であってもアルミニウムの表面には酸化膜（不働態膜）が形成されてしまう。

　上記のような問題に対して、本発明のアルミニウムめっき装置はアルミニウム表面に形成されている酸化膜を第一の電解室の中で除去することができるものであるから、基体の搬送方向に直列に２つ以上設けることにより、２槽目以降も平滑で良質なアルミニウムめっきを形成することができる。このような、前記アルミニウムめっき装置が前記基体の搬送方向に直列に２以上設けられているアルミニウムめっき装置により基体の線速を上げることが可能となり、製品の生産効率を高めることができる。更に、当該アルミニウムめっき装置は、複数のアルミニウムめっき装置を用いて連続的にアルミニウムめっきを行うため、基体のサプライや巻き取り等の付帯設備が１台分で済み、設備投資額を非常に安価にすることができる。

　直列に設けるアルミニウム装置の数は特に限定されず、形成するアルミニウムめっき膜の厚さ等、目的に応じて適宜選択すればよい。例えば、基体として三次元網目構造を有する樹脂成形体を用いる場合には、２～２０程度配置することにより効率よくアルミニウム多孔体を作製することができる。

　また、基体としてカーボン塗布等により導電化処理をした三次元網目構造を有する樹脂成形体を用いる場合には、前記本発明のアルミニウムめっき装置の基体の搬送方向の最上流に従来のアルミニウムめっき装置を設けてもよい。従来のアルミニウムめっき装置としては、図２に示すような、めっき槽（２０２）中に基体（１０１）を通過させて該基体上にアルミニウムを電着させるアルミニウムめっき装置であって、該めっき槽（２０２）中では前記基体（１０１）が陰極として作用するように、該めっき槽（２０２）中に設けられた陽極（２０９）と前記基体（１０１）とが電気的に接続されているアルミニウムめっき装置を好ましく用いることができる。
　すなわち、本発明に係るアルミニウムめっき装置は、前記アルミニウムめっき装置の前記基体の搬送方向の最上流に、めっき槽中に前記基体を搬送させて、前記基体上にアルミニウムを電着させるアルミニウムめっき装置であって、該めっき槽中では前記基体が陰極として作用するように、該めっき槽中に設けられた陽極と前記基体とが電気的に接続されているアルミニウムめっき装置が設けられているアルミニウムめっき装置である。このような、直列に設けられた２番目以降のアルミニウムめっき装置に、逆電解を行う第一の電解室を備える前記本発明のアルミニウムめっき装置を直列的に配置してアルミニウムめっきを行うことにより、基体上に均質で良質なアルミニウムめっきを効率よく形成することが可能となる。また、前記のように、本発明のアルミニウムめっき装置は、基体のサプライや巻き取り等の付帯設備が１台分で済むため、設備投資額を非常に安価にすることができる。

　以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、これらの実施例は例示であって、本発明のアルミニウムめっき装置等はこれらに限定されるものではない。本発明の範囲は特許請求の範囲の範囲によって示され、特許請求の範囲の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれる。

［実施例１］
　図１に示す本発明のアルミニウム装置を１０個直列に配置して基体にアルミニウムめっき膜を形成した。
－基体－
　基体としてスパッタリング法により表面にアルミニウム膜を形成した三次元網目構造を有する樹脂成形体を用いた。
　三次元網目構造を有する樹脂成形体として、気孔率９５％、１インチ当たりの気孔数（セル数）約５０個、気孔径約５５０μｍ、幅５００ｍｍ、厚さ１ｍｍの発泡ウレタン樹脂成形体を用いた。当該発泡ウレタン樹脂成形体に、スパッタリング法により目付量１０ｇ／ｍ²のアルミニウム膜を形成して導電化処理した。
　樹脂成形体表面のアルミニウム膜には３０ｎｍの酸化アルミニウム膜が形成されていることが確認された。

－アルミニウムめっき装置－
　図１に示すアルミニウム装置を１０個用意して直列に配置した。各アルミニウムめっき装置同士の間が不活性雰囲気になるように窒素を充填した。搬送される基体の線速が０．１～１．０ｍ／ｍｉｎとなるようにローラの回転速度を調整した。各アルミニウム装置の構成は次の通りとした。

（溶融塩浴）
　窒素雰囲気で、３３ｍｏｌ％ＥＭＩＣ－６７ｍｏｌ％ＡlＣl₃となるように混合して溶融塩浴を作製した。更に１，１０－フェナントロリンを０．５ｇ／Ｌとなるように添加した。
　また、めっき液中には窒素を導入して、アルミニウムが電着している最中に酸化膜が形成されないようにした。
（仕切り板）
　めっき槽内にテフロン（登録商標）製の仕切り板を配置して、めっき槽を第一の電解室と第二の電解室とに区画した。仕切り板には基体の通り口となる５６０ｍｍ幅×５ｍｍ高さのスリットを形成した。

（第一の給電ローラ）
　ローラの中心が電源の陽極端子と接続されたアルミニウム製の第一の給電ローラを用いた。
（陰極）
　第一の電解室の中にアルミニウム製の陰極を設けた。陰極は図１に示すように基体の上面側と下面側の２箇所に配置した。
（第一の電解室）
　第一の電解室において、基体と陰極との間で電解が生じて電流密度が１０Ａ／ｄｍ²となるようにした。

（第二の給電ローラ）
　ローラの中心が電源の陰極端子と接続されたアルミニウム製の第二の給電ローラを用いた。
（陽極）
　第二の電解室の中にアルミニウム製の陽極を設けた。陽極は図１に示すように基体の上面側と下面側の２箇所に配置した。
（第二の電解室）
　第二の電解室において、基体と陽極との間で電解が生じて電流密度が５Ａ／ｄｍ²となるようにした。

　上記の電電化処理した基体を上記の構成の１０個のアルミニウム装置に連続的に搬送し、基体表面にアルミニウムめっき膜を形成した。これにより基体表面には１０μｍのアルミニウム膜が形成された。また、形成されためっき膜は均質であり良質な膜であった。

　以上により、本発明のアルミニウムめっき装置を用いることで、表面に酸化アルミニウム膜が形成されている基体であっても、良質なアルミニウムめっき膜を更に形成することができることが確認された。

［実施例２］
　図２に示すように、基体の搬送方向に対して最上流側に従来のアルミニウムめっき装置を配置した。そしてその下流側に実施例１で用いた本発明のアルミニウム装置を９個直列に配置して基体にアルミニウムめっき膜を形成した。
－基体－
　実施例１と同様の三次元網目構造を有する樹脂成形体を用いた。
　樹脂成形体の導電化処理は、導電性塗料としてのカーボン塗料を樹脂多孔他表面に塗布することにより行った。カーボン塗料の成分は、カーボン粒子２５％を含み、樹脂バインダー、浸透剤、消泡剤を含む。カーボンブラックの粒径は０．５μｍとした。

－アルミニウムめっき装置－
　基体の搬送方向に対して最上流側に配置した従来のアルミニウムめっき装置は、実施例１で用いたアルミニウムめっき装置における第二の電解室と同様の構成とした。即ち、めっき液、給電ローラ、陽極をそれぞれ、実施例１のめっき液、第二の給電ローラ、陽極と同一の構成にした。
　２番目以降のアルミニウムめっき装置は、実施例１で用いたアルミニウムめっき装置と同一の構成とし、当該装置を９個直列に配置した。

　表面にアルミニウムめっき膜が形成された基体を観察したところ、基体表面には１０μｍのアルミニウム膜が形成さており、形成されためっき膜は均質で良質な膜であった。

［比較例１］
　アルミニウムめっき装置として従来のアルミニウムめっき装置を１０個直列に配置して用いた以外は実施例１と全く同様にして基体表面にアルミニウムめっき膜を形成した。従来のアルミニウムめっき装置としては、実施例２で最上流側に配置したアルミニウムめっき装置を用いた。なお、アルミニウムめっき装置同士の間を窒素で満たして不活性雰囲気にすることも実施例１と同様の条件とした。
　基体表面に形成されたアルミニウムめっき膜を観察したところ、島状に析出しており、実施例１の装置を用いて形成した膜よりも品質的に劣るものであった。

［比較例２］
　アルミニウムめっき装置として従来のアルミニウムめっき装置を１０個直列に配置して用いた以外は実施例２と全く同様にして基体表面にアルミニウムめっき膜を形成した。従来のアルミニウムめっき装置としては、実施例２で最上流側に配置したアルミニウムめっき装置を用いた。なお、アルミニウムめっき装置同士の間を窒素で満たして不活性雰囲気にすることも実施例２と同様の条件とした。
　基体表面に形成されたアルミニウムめっき膜を観察したところ、島状に析出しており、実施例２の装置を用いて形成した膜よりも品質的に劣るものであった。

　１０１　基体
　１０２　めっき槽
　１０３　仕切り板
　１０４　第一の電解室
　１０５　第二の電解室
　１０６　第一の給電ローラ
　１０７　陰極
　１０８　第二の給電ローラ
　１０９　陽極
　１１０　第二の搬送ローラ
　１１１　第二の搬送ローラ
　２０２　めっき槽
　２０８　給電ローラ
　２０９　陽極

Claims

　めっき槽中に基体を搬送させて、該基体上にアルミニウムを電着させるアルミニウムめっき装置であって、
前記めっき槽は、前記基体が搬送される上流側から順に、第一の電解室と第二の電解室とに仕切り板により分けられており、
前記第一の電解室中では、前記基体が陽極として作用するように、前記第一の電解室中に設けられた陰極と前記基体とが電気的に接続されており、
前記第二の電解室中では、前記基体が陰極として作用するように、前記第二の電解室中に設けられた陽極と前記基体とが電気的に接続されている
アルミニウムめっき装置。
　前記第一の電解室の入口の上流側に、前記基体に電位を付与すると同時に基体を搬送する第一の給電ローラを有する請求項１に記載のアルミニウムめっき装置。
　前記第二の電解室の出口の下流側に、前記基体に電位を付与すると同時に基体を搬送する第二の給電ローラを有する請求項１又は２に記載のアルミニウムめっき装置。
　前記めっき槽に、塩化アルミニウムを主成分とする溶融塩浴が収容されている請求項１～３のいずれか一項に記載のアルミニウムめっき装置。
　前記基体が、導電化処理された三次元網目構造を有する樹脂成形体からなるシートである請求項１～４のいずれか一項に記載のアルミニウムめっき装置。
　請求項１～５のいずれか一項に記載のアルミニウムめっき装置が、前記基体の搬送方向に直列に２以上設けられているアルミニウムめっき装置。
　請求項１～６のいずれか一項に記載のアルミニウムめっき装置の前記基体の搬送方向の最上流に、
めっき槽中に前記基体を搬送させて、前記基体上にアルミニウムを電着させるアルミニウムめっき装置であって、該めっき槽中では前記基体が陰極として作用するように、該めっき槽中に設けられた陽極と前記基体とが電気的に接続されているアルミニウムめっき装置が設けられているアルミニウムめっき装置。
　請求項１～７のいずれか一項に記載のアルミニウムめっき装置を用いて基体上にアルミニウムを電着させるアルミニウム膜の製造方法。